JP2009237332A - Original plate of planographic printing plate - Google Patents

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Takayuki Nakamura
貴之 中村
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original plate of a planographic printing plate having high sensitivity and making compatible both high printing durability and the suppression of the generation of a development scum. <P>SOLUTION: The original plate of the planographic printing plate comprises a photosensitive layer containing a sensitized dye, a polymerization initiator, a polymerizable compound and a binder polymer successively layered on a support, wherein the binder polymer contains a polyurethane resin having a reduced specific viscosity of 50 ml/g to 250 ml/g. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、平版印刷版原版に関する。より詳細には、レーザー光による高感度な書き込みが可能な、ネガ型平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor. More specifically, the present invention relates to a negative type lithographic printing plate precursor capable of writing with high sensitivity by laser light.

従来、感光性平版印刷版原版としては、親水性支持体上に親油性の感光性樹脂層を設けた構成を有するPS版が広く用いられている。その製版方法として、通常は、リスフイルムを介してマスク露光(面露光)後、非画像部を溶解除去することにより所望の印刷版を得ていた。   Conventionally, PS plates having a structure in which a lipophilic photosensitive resin layer is provided on a hydrophilic support have been widely used as photosensitive lithographic printing plate precursors. As the plate making method, a desired printing plate is usually obtained by dissolving and removing non-image parts after mask exposure (surface exposure) through a lithographic film.

近年、画像情報を、コンピューターを用いて電子的に処理、蓄積、出力する、デジタル化技術が広く普及してきている。そして、そのようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきた。その結果、レーザー光のような指向性の高い光をデジタル化された画像情報に従って走査し、リスフイルムを介することなく、直接印刷版を製造するコンピューター トゥ プレート(CTP)技術が注目されており、これに適応した平版印刷版原版を得ることが重要な技術課題となっている。   In recent years, digitization techniques that electronically process, store, and output image information using a computer have become widespread. Various new image output methods corresponding to such digitization techniques have come into practical use. As a result, computer-to-plate (CTP) technology that scans highly directional light such as laser light according to digitized image information and directly manufactures printing plates without going through a lithographic film has attracted attention. Obtaining a lithographic printing plate precursor adapted to this is an important technical issue.

このような走査露光可能な平版印刷版原版としては、親水性支持体上にレーザー露光によりラジカルやブロンズテッド酸などの活性種を発生しうる感光性化合物を含有した親油性感光性樹脂層(以下、感光層ともいう)を設けた構成が提案され、既に上市されている。この平版印刷版原版をデジタル情報に基づきレーザー走査露光してレーザー照射領域のみに活性種を発生せしめ、その作用によって感光層に物理的、或いは化学的な変化を起こし不溶化させ、引き続き現像処理することによってネガ型の平版印刷版を得ることができる。特に、親水性支持体上に、感光スピードに優れる光重合開始剤、重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、及びアルカリ現像液に可溶なバインダーポリマーを含有する光重合型の感光層、さらに、必要に応じて酸素遮断性の保護層を設けた平版印刷版原版は、生産性に優れ、更に現像処理が簡便であり、解像度や着肉性もよいといった利点から、望ましい印刷性能を有する刷版となりうる。   As such a lithographic printing plate precursor capable of scanning exposure, an oleophilic photosensitive resin layer containing a photosensitive compound capable of generating active species such as radicals and bronzed acids by laser exposure on a hydrophilic support (hereinafter referred to as “lithographic printing plate precursor”) , Which is also referred to as a photosensitive layer) has been proposed and is already on the market. This lithographic printing plate precursor is subjected to laser scanning exposure based on digital information to generate active species only in the laser irradiation area, which causes physical or chemical changes in the photosensitive layer and insolubilization, and subsequent development processing. A negative lithographic printing plate can be obtained. In particular, a photopolymerization type photosensitizer comprising a photopolymerization initiator excellent in photosensitive speed, a compound having a polymerizable ethylenically unsaturated double bond, and a binder polymer soluble in an alkali developer on a hydrophilic support. A lithographic printing plate precursor provided with a layer, and optionally an oxygen-blocking protective layer, is excellent in productivity, is easy to develop, and has good printing performance because of its advantages such as good resolution and thickness. A printing plate having

このような平版印刷版原版の感光層を形成する重合性組成物は、エネルギー付与領域が速やかに硬化して高強度の皮膜を形成するとともに、未露光部においては、アルカリ現像液により速やかに溶解除去される性質が求められる。   The polymerizable composition that forms the photosensitive layer of such a lithographic printing plate precursor rapidly cures the energy application region to form a high-strength film, and dissolves quickly in an unexposed area with an alkali developer. The property to be removed is required.

従来、硬化被膜強度を向上させ、平版印刷版における画像領域を高耐刷化する目的で、このような感光性重合性組成物には、アルカリ可溶性基を含むポリウレタン樹脂バインダーが用いられてきた(例えば、特許文献1、2参照。)。このようなポリウレタン樹脂バインダーに含まれるアルカリ可溶性基としては、ジメチロールプロピオン酸や、ジメチロールブタン酸が一般的に用いられているが、ポリウレタン樹脂バインダーは、ウレタン結合部分に起因する高い凝集性のために現像性が十分ではなく、また、現像層において経時的に現像カスが析出し、製版後の平版に付着して汚れを生じる懸念などもあり、平版印刷版原版の感光層に用いる際に、優れた画像形成性が得難いという問題があった。   Conventionally, a polyurethane resin binder containing an alkali-soluble group has been used in such a photosensitive polymerizable composition for the purpose of improving the cured film strength and increasing the printing durability of an image area in a lithographic printing plate ( For example, see Patent Documents 1 and 2.) As the alkali-soluble group contained in such a polyurethane resin binder, dimethylolpropionic acid and dimethylolbutanoic acid are generally used, but the polyurethane resin binder has a high cohesiveness attributed to the urethane bond portion. Therefore, the developability is not sufficient, and there is a concern that development residue is deposited over time in the development layer and may adhere to the lithographic plate after plate making and cause stains. When used in the photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor There is a problem that it is difficult to obtain excellent image forming properties.

このような問題点に対し、例えば、ウレタン樹脂において、アルカリ現像性向上を目的に、特定構造を有するカルボン酸ユニットを用いる、或いは、加水分解により酸基を生成する化合物を原料に用いるなどの方法により、ウレタン樹脂に現像液溶解性補助を目的としたユニットを導入する技術が提案されている(例えば、特許文献3参照。)。このような方法により得られたウレタン樹脂を含有する重合性組成物においては、アルカリ現像性が向上し、現像液中における現像カスなどの経時析出が効果的に抑制される。しかしながら、アルカリ現像液に対する溶解性を改良することで、ポリウレタン樹脂の本来有する優れた被膜特性に影響が及び、得られた被膜の膜性が低下し、平版印刷版原版の感光層として用いる場合、耐刷性が低下するなどの問題を生じる懸念がある。   For such problems, for example, in urethane resin, for the purpose of improving alkali developability, a method such as using a carboxylic acid unit having a specific structure or using a compound that generates an acid group by hydrolysis as a raw material. Thus, a technique for introducing a unit for the purpose of assisting developer solubility in a urethane resin has been proposed (see, for example, Patent Document 3). In the polymerizable composition containing the urethane resin obtained by such a method, alkali developability is improved, and precipitation with time such as development residue in the developer is effectively suppressed. However, by improving the solubility in an alkali developer, it affects the excellent film properties inherently possessed by the polyurethane resin, and the film properties of the resulting film are reduced. When used as the photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor, There is a concern of problems such as a decrease in printing durability.

さらに、FMスクリーン印刷においては、円筒外面露光方式による多チャンネルレーザー記録を行う場合、走査ピッチと同期した記録ムラが印刷物に現れる現象、すなわち、バンディングがおこるという問題があった。   Further, in FM screen printing, when performing multi-channel laser recording by the cylindrical outer surface exposure method, there is a problem that recording unevenness synchronized with the scanning pitch appears in the printed matter, that is, banding occurs.

このように、硬化膜の強度と未硬化領域の現像性とは一般的に相反する特性であるが、平版印刷版原版の感光層として用いる重合性組成物の特性が、画像部の耐刷性、非画像部の汚れ性に影響を与えるため、これらを両立しうる重合性組成物を用いた平版印刷版原版が切望されているのが現状である。
特公平8−12424号公報 特開平1−271741号公報 特開2006−225432号公報
Thus, the strength of the cured film and the developability of the uncured area are generally contradictory properties, but the characteristics of the polymerizable composition used as the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor are the printing durability of the image area. In order to affect the soiling property of the non-image area, a lithographic printing plate precursor using a polymerizable composition capable of satisfying both of these conditions is desired.
Japanese Patent Publication No.8-12424 Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-271741 JP 2006-225432 A

前記従来技術における問題点を考慮してなされた本発明の目的は、高感度であり、高耐刷性と現像カス発生の抑制とを両立する平版印刷版原版を提供することにある。   An object of the present invention, which has been made in consideration of the problems in the prior art, is to provide a lithographic printing plate precursor that has high sensitivity and achieves both high printing durability and suppression of development residue.

本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、特定の還元比粘度を持つポリウレタン樹脂を用いることにより、上記目的が達成されることを見出し、本発明を成すに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has found that the above object can be achieved by using a polyurethane resin having a specific reduced specific viscosity, and has achieved the present invention.

即ち、本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、増感色素、重合開始剤、重合性化合物、及びバインダーポリマーを含む感光層と、を順次積層してなり、
前記バインダーポリマーが、還元比粘度が50ml/g〜250ml/gのポリウレタン樹脂を含むことを特徴とする。
That is, the lithographic printing plate precursor of the present invention is obtained by sequentially laminating a sensitizing dye, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a photosensitive layer containing a binder polymer on a support,
The binder polymer contains a polyurethane resin having a reduced specific viscosity of 50 ml / g to 250 ml / g.

本発明において、前記バインダーポリマーがさらにアクリル樹脂を含み、前記バインダーポリマー中に含まれる前記ポリウレタン樹脂と前記アクリル樹脂との質量比が1:9〜5:5の範囲であるであることが好ましい。   In the present invention, it is preferable that the binder polymer further contains an acrylic resin, and the mass ratio of the polyurethane resin and the acrylic resin contained in the binder polymer is in the range of 1: 9 to 5: 5.

本発明において、前記感光層が有機顔料を含有することが好ましい。
また本発明において、前記感光層上に、さらに保護層を積層してなることが好ましい。
In the present invention, the photosensitive layer preferably contains an organic pigment.
In the present invention, it is preferable that a protective layer is further laminated on the photosensitive layer.

本発明の作用機構は明確ではないが、以下のように推測される。
本発明の平版印刷版原版は、感光層に含まれるバインダーポリマーが、特定の還元比粘度を持つポリウレタン樹脂を含むことにより、感光層が高感度で硬化し、現像時における現像カス発生が抑制され、平版印刷版の高耐刷性が得られる。
その理由は明らかではないが、ポリウレタン樹脂が本発明の規定範囲以上の還元比粘度にあることで十分な膜強度・耐刷性を有し、また規定範囲以下の還元比粘度にあることでポリマー鎖間の凝集力を必要以上に高めず、優れた現像性を維持するためと推測される。
Although the mechanism of action of the present invention is not clear, it is presumed as follows.
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, the binder polymer contained in the photosensitive layer contains a polyurethane resin having a specific reduced specific viscosity, so that the photosensitive layer is cured with high sensitivity, and development debris generation during development is suppressed. The high printing durability of the lithographic printing plate can be obtained.
The reason for this is not clear, but the polyurethane resin has a reduced specific viscosity exceeding the specified range of the present invention, so that the film has sufficient film strength and printing durability, and the reduced specific viscosity below the specified range is a polymer. It is presumed that the cohesive force between the chains is not increased more than necessary, and excellent developability is maintained.

一方、本発明の平版印刷版原版の好ましい態様において、バインダーポリマーがさらにアクリル樹脂を含み、バインダーポリマー中に含まれるポリウレタン樹脂とアクリル樹脂との質量比が前記範囲である場合には、ポリウレタン樹脂の優れた膜強度による高耐刷性と、重合性化合物との相溶性、重合性に優れるアクリル樹脂による高感度を両立できる。
その理由は明らかではないが、ポリウレタン樹脂は樹脂鎖間の凝集力が非常に強いため重合性化合物と相溶性が低く、ポリウレタン樹脂単独で用いた場合には重合性化合物による架橋が膜硬化に効率的に働かない場合があるためと推測される。
On the other hand, in a preferred embodiment of the lithographic printing plate precursor according to the invention, the binder polymer further contains an acrylic resin, and when the mass ratio of the polyurethane resin and the acrylic resin contained in the binder polymer is in the above range, High printing durability due to excellent film strength, compatibility with polymerizable compounds, and high sensitivity due to acrylic resin with excellent polymerizability can be achieved.
The reason for this is not clear, but polyurethane resin has a very strong cohesive force between resin chains, so it is poorly compatible with polymerizable compounds. When polyurethane resin is used alone, crosslinking with the polymerizable compound is efficient for film curing. It is presumed that it may not work.

さらに、本発明の平版印刷版原版の好ましい態様において、感光層が有機顔料を含有する場合には、高感度を有し、また長期保管時にも優れた現像性を維持する。
その理由は明らかではないが、有機顔料は着色染料のような重合禁止作用が少ないため高感度であり、また有機顔料が現像液の浸透パスを形成し優れた現像性を発揮すると推測される。
Furthermore, in a preferred embodiment of the lithographic printing plate precursor according to the invention, when the photosensitive layer contains an organic pigment, it has high sensitivity and maintains excellent developability even during long-term storage.
The reason for this is not clear, but it is presumed that organic pigments are highly sensitive because they have little polymerization inhibiting action like colored dyes, and that organic pigments form an infiltration path for a developer and exhibit excellent developability.

本発明によれば、高感度であり、高耐刷性と現像カス発生の抑制とを両立する平版印刷版原版を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a lithographic printing plate precursor that has high sensitivity and achieves both high printing durability and suppression of development debris generation.

以下、本発明について詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、増感色素、重合開始剤、重合性化合物、及びバインダーポリマーを含む感光層と、を順次積層してなり、バインダーポリマーが、還元比粘度が50ml/g〜250ml/gのポリウレタン樹脂を含む。
平版印刷版原版が上記構成であることにより、エネルギー付与により高感度で硬化して高強度の皮膜を形成し、対刷性を向上するとともに、現像後の現像液中における現像カス発生を抑制する。
The lithographic printing plate precursor according to the invention is obtained by sequentially laminating a sensitizing dye, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a photosensitive layer containing a binder polymer on a support, and the binder polymer has a reduced specific viscosity. Contains 50 ml / g to 250 ml / g of polyurethane resin.
When the lithographic printing plate precursor has the above-described configuration, it is cured with high sensitivity by applying energy to form a high-strength film, improving the printing ability and suppressing development debris generation in the developer after development. .

また、このような平版印刷版原版は、FMスクリーン印刷にも好適に適用できる。
ここで、FMスクリーン(Freguency Modulation Screening)とは、周波数変調技術を利用した網点パターンによる印刷方式で、点の密度で濃淡を表わすものである。具体的には、規則性を持たない不定形ドットの集合密度によって記録画像の濃淡を表現するものであり、例えば、2×2の合計4ドット等、比較的少数で微小なドットで構成された画像を2次元平面状に分散させて階調表現を行う。
Moreover, such a lithographic printing plate precursor can be suitably applied to FM screen printing.
Here, the FM screen (Frequency Modulation Screening) is a printing method based on a halftone dot pattern using a frequency modulation technique, and expresses shading with the density of dots. Specifically, the density of the recorded image is expressed by the collection density of irregular dots having no regularity, and is composed of relatively small and small dots such as 2 × 2 total 4 dots. Gradation is expressed by dispersing the image in a two-dimensional plane.

FMスクリーン印刷においては、円筒外面露光方式による多チャンネルレーザー記録を行う場合、走査ピッチと同期した記録ムラが印刷物に現れる現象、すなわちバンディングが起こる場合がある。このバンディングは、ドラム1周ごとに複数チャンネルを走査する際の、チャンネル間における出力のバラツキや、多チャンネルにおける走査ピッチの重なり等に起因すると考えられる。   In FM screen printing, when multi-channel laser recording is performed by a cylindrical outer surface exposure method, a phenomenon in which recording unevenness synchronized with a scanning pitch appears on a printed matter, that is, banding may occur. This banding is considered to be caused by variations in output between channels when scanning a plurality of channels for each drum revolution, overlapping of scanning pitches in multiple channels, and the like.

一方、本発明の平版印刷版原版をFMスクリーン印刷に用いることにより、バンディングの発生が抑制される。
その理由は、明らかではないが、以下のように推測される。
FMバンディングの発生機構として下記の2つが考えられる。[1]平版印刷版の小点耐刷力が不十分なために、チャンネル間の出力バラツキの中で十分な露光エネルギーが与えられなかったチャンネル上のドットが印刷中に消失し、印刷物上で白スジとなる。[2]平版印刷版の現像性が不十分であるため、露光で硬化したドット周囲に半硬化部が現像不良気味に残存し、これが印刷時に不均一に除去されてスジムラとなる。
本発明では感光層に適切な範囲のポリウレタン樹脂を含有することで十分な感度と小点耐刷性を有すため、上記[1]によるバンディングを抑制できていると考えられる。更に、ポリウレタン樹脂の還元比粘度を本発明の範囲とすることで良好な耐刷性と現像性を両立し、上記[2]によるバンディングを抑制できていると考えられる。
On the other hand, by using the planographic printing plate precursor of the present invention for FM screen printing, the occurrence of banding is suppressed.
The reason is not clear, but is presumed as follows.
The following two are considered as generation mechanisms of FM banding. [1] Due to insufficient small dot printing durability of the lithographic printing plate, dots on the channel for which sufficient exposure energy was not given due to output variation between channels disappeared during printing, and on the printed matter. White streaks. [2] Since the developability of the lithographic printing plate is insufficient, a semi-cured portion remains in a poorly developed area around the dots cured by exposure, and this is unevenly removed during printing and becomes uneven.
In the present invention, it is considered that the banding due to the above [1] can be suppressed because the photosensitive layer contains a polyurethane resin in an appropriate range to have sufficient sensitivity and small dot printing durability. Furthermore, it is considered that by setting the reduced specific viscosity of the polyurethane resin within the range of the present invention, both good printing durability and developability can be achieved, and banding due to the above [2] can be suppressed.

以下、平版印刷版原版を構成する各要素について順次説明する。   Hereinafter, each element constituting the planographic printing plate precursor will be sequentially described.

[感光層]
感光層は、前記の通り、増感色素、重合開始剤、重合性化合物、及びバインダーポリマーを含み、必要に応じてその他の成分を含んでもよい。
前記バインダーポリマーが、還元比粘度が50〜250ml/gのポリウレタン樹脂を含むことを特徴とする。
以下、感光層を構成する各成分について順次説明する。
[Photosensitive layer]
As described above, the photosensitive layer contains a sensitizing dye, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a binder polymer, and may contain other components as necessary.
The binder polymer includes a polyurethane resin having a reduced specific viscosity of 50 to 250 ml / g.
Hereinafter, each component constituting the photosensitive layer will be sequentially described.

<バインダーポリマー>
―特定ポリウレタン樹脂―
前記の通りバインダーポリマーは、還元比粘度が50〜250ml/gのポリウレタン樹脂(以下、「特定ポリウレタン樹脂」と称する場合がある。)を含み、必要に応じてその他の樹脂を含む。
また、特定ポリウレタン樹脂の還元比粘度は、50〜250ml/gが好ましく、75〜225ml/gが更に好ましく、100〜200ml/gがより好ましい。
本明細書における還元比粘度は、以下の測定方法により測定された値である。
<Binder polymer>
―Specific polyurethane resin―
As described above, the binder polymer includes a polyurethane resin having a reduced specific viscosity of 50 to 250 ml / g (hereinafter sometimes referred to as “specific polyurethane resin”), and includes other resins as necessary.
Further, the reduced specific viscosity of the specific polyurethane resin is preferably 50 to 250 ml / g, more preferably 75 to 225 ml / g, and more preferably 100 to 200 ml / g.
The reduced specific viscosity in this specification is a value measured by the following measuring method.

(還元比粘度の測定方法)
試料となるポリウレタン樹脂をメチルエチルケトン(MEK)に溶かし15wt(%)の溶液とすることにより「サンプル溶液」を調製する。
(Measurement method of reduced specific viscosity)
A “sample solution” is prepared by dissolving a polyurethane resin as a sample in methyl ethyl ketone (MEK) to obtain a 15 wt (%) solution.

上記「サンプル溶液」20.00gを50mlメスフラスコに入れ、0.0001gの位まで正確に手早く秤量する。その後、メチルエチルケトン(MEK)15mlをホールピペットでメスフラスコに入れてから、栓をしてさらにシーロンテープで密封する。
そして該溶液及びメスアップに用いるMEKを25℃恒温槽で20分間静置させてから、25℃に調温されたMEKを用いて50mlにメスアップし、「希釈サンプル溶液」を調製する。
この「希釈サンプル溶液」をろ過せずにウベローデ粘度計に入れ(2本の標線の中央にくる量)、シーロンテープで粘度計の口を全て塞いだ状態で30℃恒温槽中に30分間静置し、「希釈サンプル溶液」の流出時間を測定する。測定は3回実施し、その平均値をt(s)とする。
また、メチルエチルケトンのみ(これを「ブランク液」とする)についても同様の測定を行い、3回測定した平均値をt(s)とする。
20.00 g of the above “sample solution” is placed in a 50 ml volumetric flask and weighed accurately and quickly to the nearest 0.0001 g. Thereafter, 15 ml of methyl ethyl ketone (MEK) is put into a volumetric flask with a whole pipette, and then stoppered and further sealed with Cylon tape.
Then, the solution and MEK used for measuring up are allowed to stand for 20 minutes in a constant temperature bath at 25 ° C., and then measured up to 50 ml using MEK adjusted to 25 ° C. to prepare a “diluted sample solution”.
Put this “diluted sample solution” into the Ubbelohde viscometer without filtration (the amount at the center of the two marked lines), and cover the viscometer with a ceilon tape for 30 minutes in a thermostatic chamber at 30 ° C. Allow to stand and measure the outflow time of the “diluted sample solution”. The measurement is carried out three times, and the average value is defined as t s (s).
Moreover, the same measurement is performed only for methyl ethyl ketone (this is referred to as “blank liquid”), and an average value measured three times is defined as t b (s).

還元比粘度ηred(ml/g)は、下記式により求められる。
式 : ηred = (t−t)/(t×c)
ここでcは、「希釈サンプル溶液」中に含まれるポリウレタン樹脂の濃度(g/ml)であり、上記「サンプル溶液」の秤量値(g)と「サンプル溶液」に含まれるポリウレタン樹脂の濃度(質量%)から求められる。
The reduced specific viscosity η red (ml / g) is obtained by the following formula.
Formula: η red = (t s -t b) / (t b × c)
Here, c is the concentration (g / ml) of the polyurethane resin contained in the “diluted sample solution”. The weighed value (g) of the “sample solution” and the concentration of the polyurethane resin contained in the “sample solution” ( Mass%).

((還元比粘度の調整方法)
特定の還元比粘度を持つポリウレタン樹脂を得る方法としては、ウレタン化反応の反応温度を調整する方法、あるいは、反応時間を調整する方法などがある。反応温度としては50〜180℃が好ましく、60〜150℃、がより好ましく、60〜130℃が特に好ましい。反応時間としては2〜10時間が好ましく、4〜10時間がより好ましく、6〜10時間が特に好ましい。ウレタン化反応を上記のような条件で行うことによりゲル化を抑制しつつ、現像性および耐刷性に優れた本発明の還元比粘度を有するポリウレタン樹脂が得られる。
((Method for adjusting the reduced specific viscosity)
As a method for obtaining a polyurethane resin having a specific reduced specific viscosity, there are a method for adjusting the reaction temperature of the urethanization reaction, a method for adjusting the reaction time, and the like. The reaction temperature is preferably 50 to 180 ° C, more preferably 60 to 150 ° C, and particularly preferably 60 to 130 ° C. The reaction time is preferably 2 to 10 hours, more preferably 4 to 10 hours, and particularly preferably 6 to 10 hours. By performing the urethanization reaction under the above conditions, the polyurethane resin having the reduced specific viscosity of the present invention excellent in developability and printing durability can be obtained while suppressing gelation.

(ポリウレタン樹脂)
特定ポリウレタン樹脂は、還元比粘度が前記範囲のポリウレタン樹脂である。このようなポリウレタン樹脂としては、ジイソシアネート化合物とジオール化合物とから構成されるポリウレタン樹脂を用いることができる。具体的には、特定ポリウレタン樹脂は、下記一般式(1)で表されるジイソシアネート化合物の少なくとも1種と、一般式(2)で表されるジオール化合物の少なくとも1種と、の反応生成物で表される構造単位を基本骨格とする。
OCN−X−NCO (1)
HO−Y−OH (2)
一般式(1)及び(2)中、X、Yは、それぞれ独立に2価の有機残基を表す。
(Polyurethane resin)
The specific polyurethane resin is a polyurethane resin having a reduced specific viscosity within the above range. As such a polyurethane resin, a polyurethane resin composed of a diisocyanate compound and a diol compound can be used. Specifically, the specific polyurethane resin is a reaction product of at least one diisocyanate compound represented by the following general formula (1) and at least one diol compound represented by the general formula (2). The structural unit represented is the basic skeleton.
OCN-X 0 -NCO (1)
HO-Y 0 -OH (2)
In the general formulas (1) and (2), X 0 and Y 0 each independently represent a divalent organic residue.

その中でも本発明において好ましく用いられる特定ポリウレタン樹脂としては、以下のようなものが挙げられる。
具体的には、例えば、ジイソシアネート化合物、少なくとも1つのカルボキシル基を有するジオール化合物、カルボキシル基を有さないその他のジオール化合物、を重付加反応させて得られたポリウレタン樹脂が挙げられる。
また、本発明においては、側鎖に重合性基(架橋性基)を有するポリウレタン樹脂を用いることができる。側鎖に架橋性基を導入することによって高耐刷性が得られる。
ここで架橋性基とは、ネガ型平版印刷版を露光した際に記録層中で起こるラジカル重合反応の過程でバインダーを架橋させる基のことである。このような機能の基であれば特に限定されないが、例えば、付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が挙げられる。また光照射によりラジカルになり得る官能基であってもよく、そのような架橋性基としては、例えば、チオール基、ハロゲン基、オニウム塩構造等が挙げられる。なかでも、エチレン性不飽和結合基が好ましく、下記一般式(41)〜(43)で表される官能基が特に好ましい。
Among these, specific polyurethane resins preferably used in the present invention include the following.
Specific examples include polyurethane resins obtained by polyaddition reaction of a diisocyanate compound, a diol compound having at least one carboxyl group, and other diol compounds having no carboxyl group.
Moreover, in this invention, the polyurethane resin which has a polymeric group (crosslinkable group) in a side chain can be used. High press life can be obtained by introducing a crosslinkable group into the side chain.
Here, the crosslinkable group is a group that crosslinks the binder in the course of a radical polymerization reaction that occurs in the recording layer when the negative lithographic printing plate is exposed. Although it will not specifically limit if it is a group of such a function, For example, an ethylenically unsaturated bond group, an amino group, an epoxy group etc. are mentioned as a functional group which can be addition-polymerized. Moreover, the functional group which can become a radical by light irradiation may be sufficient, and as such a crosslinkable group, a thiol group, a halogen group, an onium salt structure etc. are mentioned, for example. Especially, an ethylenically unsaturated bond group is preferable and the functional group represented by the following general formula (41)-(43) is especially preferable.


前記一般式(41)において、Rl〜R3はそれぞれ独立に、水素原子または1価の有機基を表すが、R1としては、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性の高いことから好ましい。また、R2、R3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性の高いことから好ましい。 In the general formula (41), R 1 to R 3 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and R 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl which may have a substituent. A hydrogen atom or a methyl group is preferable because of high radical reactivity. R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an optionally substituted alkyl group, or a substituted group. An aryl group that may have a group, an alkoxy group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, an alkylamino group that may have a substituent, and a substituent An arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, and the like. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituent An alkyl group which may have a substituent and an aryl group which may have a substituent are preferable because of high radical reactivity.

前記一般式(41)において、Xは、酸素原子、硫黄原子、またはN(R12)−を表し、R12は、水素原子、または1価の有機基を表す。ここで、R12は、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性の高いことから好ましい。 In the general formula (41), X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or N (R 12 ) —, and R 12 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group. Here, R 12 includes a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, and the like, and among them, a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group are preferable because of high radical reactivity.

ここで、アルキル基を置換する置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられる。
前記一般式(42)において、R4〜R8は、それぞれ独立に水素原子、1価の有機基を表すが、R4〜R8は、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。
Here, the substituent for substituting the alkyl group includes alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, halogen atom, amino group, alkylamino group, arylamino group, carboxyl group, alkoxycarbonyl. Group, sulfo group, nitro group, cyano group, amide group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group and the like.
In the general formula (42), R 4 to R 8 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and R 4 to R 8 are preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, or a dialkyl. Amino group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, alkyl group which may have a substituent, aryl group which may have a substituent, alkoxy which may have a substituent A group, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylamino group which may have a substituent, an arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, Examples include an arylsulfonyl group which may have a substituent. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group which may have a substituent, and an aryl which may have a substituent Groups are preferred.

4〜R8において、更に置換する置換基としては、一般式(41)における更に置換する置換基と同様のものが例示される。また、Yは、酸素原子、硫黄原子、またはN(R12)を表す。R12は、一般式(41)のR12の場合と同義であり、好ましい例も同様である。 In R 4 to R 8 , the substituent further substituted is exemplified by the same substituents as those further substituted in the general formula (41). Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, or N (R 12 ). R 12, when the R 12 of the general formula (41) and are synonymous, and preferred examples are also the same.

前記一般式(43)において、R9としては、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、またはメチル基がラジカル反応性の高いことから好ましい。R10、R11は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性の高いことから好ましい。 In the general formula (43), R 9 preferably includes a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent, and in particular, a hydrogen atom or a methyl group has high radical reactivity. To preferred. R 10 and R 11 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, or an alkyl group which may have a substituent. An aryl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylamino group which may have a substituent, a substituent An arylamino group that may have, an alkylsulfonyl group that may have a substituent, an arylsulfonyl group that may have a substituent, and the like, among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, An alkyl group which may have a substituent and an aryl group which may have a substituent are preferable because of high radical reactivity.

ここで、R10、R11において、更に置換する置換基としては、一般式(41)における更に置換する置換基と同様のものが例示される。また、Zは、酸素原子、硫黄原子、N(R12)、または置換基を有してもよいフェニレン基を表す。R12は、一般式(41)のR12の場合と同義であり、好ましい例も同様である。
以下に上記ポリウレタン樹脂の原料であるジイソシアネート化合物およびジオール化合物について説明する。
Here, in R 10 and R 11 , the substituent further substituted is exemplified by the same substituents as those further substituted in the general formula (41). Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, N (R 12 ), or an optionally substituted phenylene group. R 12, when the R 12 of the general formula (41) and are synonymous, and preferred examples are also the same.
The diisocyanate compound and diol compound, which are raw materials for the polyurethane resin, will be described below.

(i)ジイソシアネート化合物
ジイソシアネート化合物としては、下記式(4)で表されるジイソシアネート化合物が挙げられる。
(I) Diisocyanate Compound Examples of the diisocyanate compound include diisocyanate compounds represented by the following formula (4).

OCN−L−NCO (4) OCN-L-NCO (4)

式(4)中、Lは置換基を有していてもよい2価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示す。必要に応じ、Lはイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド基を有していてもよい。より具体的にはLは、単結合、置換基(例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノの各基が好ましい。)を有していてもよい2価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示す。好ましくは炭素数1〜20個のアルキレン基、炭素数6〜15個のアリレン基、さらに好ましくは炭素数1〜8個のアルキレン基を示す。また必要に応じ、L中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド、エーテル基を有していてもよい。   In formula (4), L represents a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. If necessary, L may have other functional groups that do not react with isocyanate groups, such as carbonyl, ester, urethane, amide, and ureido groups. More specifically, L is a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group which may have a single bond or a substituent (for example, alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy and halogeno groups are preferred). Indicates. Preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an arylene group having 6 to 15 carbon atoms, and more preferably an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms is shown. If necessary, L may have another functional group that does not react with an isocyanate group, for example, carbonyl, ester, urethane, amide, ureido, or ether group.

具体的には以下に示すものが挙げられる。すなわち、2,4−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネートの二量体、2,6−トリレンジレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイソシアネート等のような芳香族ジイソシアネート化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等のような脂肪族ジイソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、メチルシクロヘキサン−2,4(または2,6)ジイソシアネート、1,3−(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等のような脂環式ジイソシアネート化合物;1,3−ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシアネート2モルとの付加体等のようなジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物等が挙げられる。   Specific examples include the following. That is, 2,4-tolylene diisocyanate, dimer of 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate Aromatic diisocyanate compounds such as 1,5-naphthylene diisocyanate, 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate; hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, dimer acid diisocyanate, etc. Aliphatic diisocyanate compounds; isophorone diisocyanate, 4,4′-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), methylcyclohexane-2,4 (or 2,6) diisocyanate Nitrate, cycloaliphatic diisocyanate compounds such as 1,3- (isocyanatomethyl) cyclohexane, etc .; reaction product of diol and diisocyanate such as adduct of 1 mol of 1,3-butylene glycol and 2 mol of tolylene diisocyanate The diisocyanate compound etc. which are are mentioned.

ジイソシアネート化合物は単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。耐刷性と汚れ性のバランスの点で、2種以上を組み合わせて用いるのが好ましく、芳香族ジイソシアネート化合物(Lが芳香族基)と脂肪族ジイソシアネート化合物(Lが脂肪族基)をそれぞれ少なくとも1種ずつ用いることが特に好ましい。   A diisocyanate compound may be used independently and may be used in combination of 2 or more type. It is preferable to use a combination of two or more in terms of the balance between printing durability and stain resistance, and at least one aromatic diisocyanate compound (L is an aromatic group) and aliphatic diisocyanate compound (L is an aliphatic group). It is particularly preferred to use each species.

ジイソシアネートの使用量は、モル比で、ジオール化合物の総量を1としたときに、好ましくは0.8〜1.2、より好ましくは0.9〜1.1である。ジイソシアネート化合物をジオール化合物に対して過剰に用い、ポリマー末端にイソシアネート基が残存するような場合には、ウレタン化反応終了後にアルコール類またはアミン類等で処理することにより、最終的にイソシアネート基が残存しない形で合成されることが好ましい。   The amount of diisocyanate used is preferably 0.8 to 1.2, more preferably 0.9 to 1.1, when the total amount of diol compounds is 1 in terms of molar ratio. If the diisocyanate compound is used in excess relative to the diol compound, and the isocyanate group remains at the polymer end, the isocyanate group finally remains by treating with an alcohol or amine after completion of the urethanization reaction. It is preferable that they are synthesized in a form that does not.

(ii)少なくとも1つのカルボキシル基を有するジオール化合物
少なくとも1つのカルボキシル基を有するジオール化合物としては、式(5)、(6)、(7)のジオール化合物および/または、テトラカルボン酸2無水物をジオール化合物で開環させた化合物が挙げられる。カルボン酸2無水物を開環させるために使用されるジオール化合物を使用することができる。
(Ii) Diol compound having at least one carboxyl group As the diol compound having at least one carboxyl group, the diol compound of formula (5), (6), (7) and / or tetracarboxylic dianhydride is used. Examples thereof include compounds opened with a diol compound. The diol compound used to ring-open the carboxylic dianhydride can be used.


式(5)〜(7)中、R1は水素原子、置換基(例えば、シアノ、ニトロ、ハロゲン原子(−F、−Cl、−Br、−I)、−CONH2、−COOR113、−OR113、−NHCONHR113、−NHCOOR113、−NHCOR113、−OCONHR113(ここで、R113は炭素数1〜10のアルキル基、炭素数7〜15のアラルキル基を示す。)などの各基が含まれる。)を有していてもよいアルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ基を示し、好ましくは水素原子、炭素数1〜8個のアルキル、炭素数6〜15個のアリール基を示す。L10、L11、L12はそれぞれ同一でも相違していてもよく、単結合、置換基(例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノの各基が好ましい。)を有していてもよい2価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示す。好ましくは炭素数1〜20個のアルキレン基、炭素数6〜15個のアリレン基、さらに好ましくは炭素数1〜8個のアルキレン基を示す。また必要に応じ、L10、L11、L12中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド、エーテル基を有していてもよい。なおR1、L10、L11、L12のうちの2または3個で環を形成してもよい。Arは置換基を有していてもよい三価の芳香族炭化水素基を示し、好ましくは炭素数6〜15個の芳香族基を示す。 In the formulas (5) to (7), R 1 is a hydrogen atom, a substituent (for example, cyano, nitro, halogen atom (—F, —Cl, —Br, —I), —CONH 2 , —COOR 113 , — Each group such as OR 113 , —NHCONHR 113 , —NHCOOR 113 , —NHCOR 113 , —OCONHR 113 (wherein R 113 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms). An alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group, which may have a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 15 carbon atoms. . L 10 , L 11 and L 12 may be the same or different, and may have a single bond or a substituent (for example, alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy and halogeno groups are preferred). A divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group is shown. Preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an arylene group having 6 to 15 carbon atoms, and more preferably an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms is shown. If necessary, L 10 , L 11 , and L 12 may have other functional groups that do not react with isocyanate groups, such as carbonyl, ester, urethane, amide, ureido, and ether groups. A ring may be formed by 2 or 3 of R 1 , L 10 , L 11 and L 12 . Ar represents a trivalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, preferably an aromatic group having 6 to 15 carbon atoms.

式(5)、(6)または(7)で示されるカルボキシル基を有するジオール化合物としては具体的には以下に示すものが含まれる。   Specific examples of the diol compound having a carboxyl group represented by the formula (5), (6) or (7) include those shown below.

すなわち、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(2−ヒドロキシエチル)プロピオン酸、2,2−ビス(3−ヒドロキシプロピル)プロピオン酸、ビス(ヒドロキシメチル)酢酸、ビス(4−ヒドロキシフェニル)酢酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)酪酸、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸、酒石酸、N,N−ジヒドロキシエチルグリシン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−カルボキシ−プロピオンアミド等が挙げられる。   3,5-dihydroxybenzoic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2-bis (2-hydroxyethyl) propionic acid, 2,2-bis (3-hydroxypropyl) propionic acid, Bis (hydroxymethyl) acetic acid, bis (4-hydroxyphenyl) acetic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) butyric acid, 4,4-bis (4-hydroxyphenyl) pentanoic acid, tartaric acid, N, N-dihydroxyethylglycine N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-carboxy-propionamide and the like.

また、少なくとも1つのカルボキシル基を有する少なくとも1種のジオール化合物の生成において用いられる好ましいテトラカルボン酸2無水物としては、式(8)、(9)、(10)で示されるものが挙げられる。   Moreover, as a preferable tetracarboxylic dianhydride used in the production | generation of the at least 1 sort (s) of diol compound which has an at least 1 carboxyl group, what is shown by Formula (8), (9), (10) is mentioned.


式(8)〜(10)中、L21は単結合、置換基(例えばアルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノ、エステル、アミドの各基が好ましい。)を有していてもよい二価の脂肪族または芳香族炭化水素基、−CO−、−SO−、−SO2−、−O−または−S−を示す。好ましくは単結合、炭素数1〜15個の二価の脂肪族炭化水素基、−CO−、−SO2−、−O−または−S−を示す。R2、R3は同一でも相違していてもよく、水素原子、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、またはハロゲノ基を示す。好ましくは、水素原子、炭素数1〜8個のアルキル、炭素数6〜15個のアリール、炭素数1〜8個のアルコキシ、またはハロゲノ基を示す。またL21、R2、R3のうちの2つが結合して環を形成してもよい。R4、R5は同一でも相違していてもよく、水素原子、アルキル、アラルキル、アリールまたはハロゲノ基を示す。好ましくは水素原子、炭素数1〜8個のアルキル、または炭素数6〜15個のアリール基を示す。またL21、R4、R5のうちの2つが結合して環を形成してもよい。L22、L23は同一でも相違していてもよく、単結合、二重結合、または二価の脂肪族炭化水素基を示す。好ましくは単結合、二重結合、またはメチレン基を示す。Aは単核または多核の芳香環を示す。好ましくは炭素数6〜18個の芳香環を示す。 In the formulas (8) to (10), L 21 may have a single bond or a substituent (for example, alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy, halogeno, ester, or amide groups are preferred). An aliphatic or aromatic hydrocarbon group, —CO—, —SO—, —SO 2 —, —O— or —S— is shown. Preferably, it represents a single bond, a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, —CO—, —SO 2 —, —O— or —S—. R 2 and R 3 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy, or halogeno group. Preferably, a hydrogen atom, a C1-C8 alkyl, a C6-C15 aryl, a C1-C8 alkoxy, or a halogeno group is shown. Two of L 21 , R 2 and R 3 may be bonded to form a ring. R 4 and R 5 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, alkyl, aralkyl, aryl or halogeno group. Preferably a hydrogen atom, a C1-C8 alkyl, or a C6-C15 aryl group is shown. Two of L 21 , R 4 and R 5 may be bonded to form a ring. L 22 and L 23 may be the same or different and each represents a single bond, a double bond, or a divalent aliphatic hydrocarbon group. Preferably a single bond, a double bond, or a methylene group is shown. A represents a mononuclear or polynuclear aromatic ring. An aromatic ring having 6 to 18 carbon atoms is preferable.

式(8)、(9)または(10)で示される化合物としては、具体的には以下に示すものが含まれる。
すなわち、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,
6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、4,4’−スルホニルジフタル酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、4,4’−[3,3’−(アルキルホスホリルジフェニレン)−ビス(イミ
ノカルボニル)]ジフタル酸二無水物、ヒドロキノンジアセテートとトリメット酸無水物の付加体、ジアセチルジアミンとトリメット酸無水物の付加体などの芳香族テトラカルボン酸二無水物;5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物(大日本インキ化学工業(株)製、エピクロンB−4400)、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物などの脂環族テトラカルボン酸二無水物;1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−ペンタンテトラカルボン酸二無水物などの脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
Specific examples of the compound represented by the formula (8), (9) or (10) include those shown below.
That is, pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,
6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 4,4′-sulfonyldiphthalic dianhydride, 2,2-bis (3,4 -Dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, 4,4 '-[3,3'-(alkylphosphoryldiphenylene) -bis (iminocarbonyl)] diphthal Aromatic tetracarboxylic dianhydrides such as acid dianhydrides, adducts of hydroquinone diacetate and trimet acid anhydride, adducts of diacetyldiamine and trimet acid anhydride; 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3-Methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride (Dainippon Ink and Chemicals, Epicron B-4400), 1,2,3,4 Alicyclic tetracarboxylic dianhydrides such as clopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, tetrahydrofuran tetracarboxylic dianhydride; Examples thereof include aliphatic tetracarboxylic dianhydrides such as 4-butanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,4,5-pentanetetracarboxylic dianhydride.

これらのテトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環することにより、(ii)少なくとも一つのカルボキシル基を有する少なくとも1種のジオール化合物を合成することができる。ただし、ジオール化合物と(i)ジイソシアネート化合物との反応を初めに行い、この反応物と上記テトラカルボン酸二無水物とを反応させることにより本発明のポリウレタン樹脂を合成することも可能であり、この方法も本発明の観点に包含される。すなわち、テトラカルボン酸二無水物とジオール化合物から由来する構造単位をポリウレタン樹脂中に導入する方法としては、以下の方法がある。   By ring-opening these tetracarboxylic dianhydrides with a diol compound, (ii) at least one diol compound having at least one carboxyl group can be synthesized. However, it is also possible to synthesize the polyurethane resin of the present invention by first reacting the diol compound with (i) the diisocyanate compound and reacting this reactant with the tetracarboxylic dianhydride. Methods are also encompassed by aspects of the present invention. That is, as a method for introducing a structural unit derived from tetracarboxylic dianhydride and a diol compound into a polyurethane resin, there are the following methods.

a)テトラカルボン酸二無水物をジオール化合物で開環させて得られたアルコール末端の化合物と、ジイソシアネート化合物とを反応させる方法。
b)ジイソシアネート化合物をジオール化合物過剰の条件下で反応させ得られたアルコール末端のウレタン化合物と、テトラカルボン酸二無水物とを反応させる方法。
a) A method of reacting an alcohol-terminated compound obtained by ring-opening tetracarboxylic dianhydride with a diol compound and a diisocyanate compound.
b) A method of reacting an alcohol-terminated urethane compound obtained by reacting a diisocyanate compound under an excess of a diol compound with tetracarboxylic dianhydride.

少なくとも1つのカルボキシル基を有する少なくとも1種のジオール化合物のうち、一般式(5)で表される化合物は、溶剤溶解性が高く、合成が容易であるためより好ましい。また、少なくとも1つのカルボキシル基を有する少なくとも1種のジオール化合物は、該ポリウレタン樹脂バインダーがカルボキシル基を0.2〜4.0meq/g、好ましくは0.3〜3.0meq/g、さらに好ましくは0.4〜2.0meq/g、特に好ましくは0.5〜1.5meq/g、最も好ましくは0.6〜1.2meq/gの範囲で有するような量においてポリウレタン樹脂バインダーに導入される。従って、少なくとも一つのカルボキシル基を有する少なくとも1種のジオール化合物由来の構造のポリウレタン樹脂バインダー中における含有量は、カルボキシル基の数、他のジオール成分として何を用いるか、得られるポリウレタン樹脂バインダーの酸価や分子量、現像液の組成やpH等によって適宜選択されるが、例えば、5〜45モル%、好ましくは10〜40モル%、より好ましくは15〜35モル%である。   Of the at least one diol compound having at least one carboxyl group, the compound represented by the general formula (5) is more preferable because of high solvent solubility and easy synthesis. Further, at least one diol compound having at least one carboxyl group, the polyurethane resin binder has a carboxyl group of 0.2 to 4.0 meq / g, preferably 0.3 to 3.0 meq / g, more preferably Introduced into the polyurethane resin binder in such an amount as having a range of 0.4 to 2.0 meq / g, particularly preferably 0.5 to 1.5 meq / g, most preferably 0.6 to 1.2 meq / g. . Accordingly, the content in the polyurethane resin binder having a structure derived from at least one diol compound having at least one carboxyl group is the number of carboxyl groups, what is used as the other diol component, and the acid of the polyurethane resin binder obtained. Although it is appropriately selected depending on the value, molecular weight, developer composition, pH, etc., for example, it is 5 to 45 mol%, preferably 10 to 40 mol%, more preferably 15 to 35 mol%.

(iii)架橋性基を有するジイソシアネート化合物
架橋性基を有するジイソシアネート化合物としては、例えば、トリイソシアネート化合物と、架橋性基を有する単官能のアルコールまたは単官能のアミン化合物1当量とを付加反応させて得られる生成物がある。
トリイソシアネート化合物としては、例えば下記に示すものが挙げられるが、これに限定されるものではない。
(Iii) Diisocyanate compound having a crosslinkable group As the diisocyanate compound having a crosslinkable group, for example, a triisocyanate compound and 1 equivalent of a monofunctional alcohol or monofunctional amine compound having a crosslinkable group are subjected to an addition reaction. There is a product obtained.
Examples of the triisocyanate compound include those shown below, but are not limited thereto.



架橋性基を有する単官能のアルコールまたは単官能のアミン化合物としては、例えば下記に示すものが挙げられるが、これに限定されるものではない。   Examples of the monofunctional alcohol or monofunctional amine compound having a crosslinkable group include those shown below, but are not limited thereto.





ここで、ポリウレタン樹脂の側鎖に架橋性基を導入する方法としては、ポリウレタン樹脂製造の原料として、側鎖に架橋性基を含有するジイソシアネート化合物を用いる方法が好適である。トリイソシアネート化合物と架橋性基を有する単官能のアルコールまたは単官能のアミン化合物1当量とを付加反応させることにより得ることできるジイソシアネート化合物であって、側鎖に架橋性基を有するものとしては、例えば、下記に示すものが挙げられるが、これに限定されるものではない。   Here, as a method for introducing a crosslinkable group into the side chain of the polyurethane resin, a method using a diisocyanate compound containing a crosslinkable group in the side chain as a raw material for producing the polyurethane resin is suitable. Examples of the diisocyanate compound that can be obtained by addition reaction of a triisocyanate compound and one equivalent of a monofunctional alcohol having a crosslinkable group or a monofunctional amine compound having a crosslinkable group in the side chain include, for example, Although the following are mentioned, it is not limited to this.









(iv)その他のジオール化合物
ポリウレタン樹脂の側鎖に不飽和基を導入する方法としては、前述の方法の他に、ポリウレタン樹脂製造の原料として、側鎖に不飽和基を含有するジオール化合物を用いる方法も好適である。そのようなジオール化合物は、例えば、トリメチロールプロパンモノアリルエーテルのように市販されているものでもよいし、ハロゲン化ジオール化合物、トリオール化合物、アミノジオール化合物と、不飽和基を含有するカルボン酸、酸塩化物、イソシアネート、アルコール、アミン、チオール、ハロゲン化アルキル化合物との反応により容易に製造される化合物であってもよい。これら化合物の具体的な例として、下記に示す化合物が挙げられるが、これに限定されるものではない。
(Iv) Other diol compound As a method for introducing an unsaturated group into the side chain of the polyurethane resin, in addition to the above-described method, a diol compound containing an unsaturated group in the side chain is used as a raw material for polyurethane resin production. A method is also suitable. Such a diol compound may be a commercially available one such as trimethylolpropane monoallyl ether, a halogenated diol compound, a triol compound, an aminodiol compound, a carboxylic acid containing an unsaturated group, and an acid. It may be a compound that is easily produced by a reaction with a chloride, isocyanate, alcohol, amine, thiol, or alkyl halide compound. Specific examples of these compounds include, but are not limited to, the compounds shown below.





さらに別のその他のジオール化合物としては下記一般式(A’)で表されるエチレングリコール化合物を挙げることができる。
HO−(CH2CH2O)n−H (A’)
(式中、nは1以上の整数を表す。)
Still another diol compound includes an ethylene glycol compound represented by the following general formula (A ′).
HO— (CH 2 CH 2 O) n —H (A ′)
(In the formula, n represents an integer of 1 or more.)

また、末端に水酸基を有するエチレンオキシドとプロピレンオキシドのランダム共重合体やブロック共重合体も挙げられる。   Moreover, the random copolymer and block copolymer of ethylene oxide and propylene oxide which have a hydroxyl group at the terminal are also mentioned.

さらに、ビスフェノールAのエチレンオキシド付加体(エチレンオキシドの付加数が27以上100以下)、ビスフェノールFのエチレンオキシド付加体(エチレンオキシドの付加数が22以上100以下)、水添ビスフェノールAのエチレンオキシド付加体(エチレンオキシドの付加数が23以上100以下)、水添ビスフェノールFのエチレンオキシド付加体(エチレンオキシドの付加数が18以上100以下)も用いることができる。
より具体的には、前記一般式(A’)で表されるエチレングリコール化合物が汚れ性の点で好ましく、nが2〜50のエチレングリコール化合物がより好ましく、nが3〜30のエチレングリコール化合物がさらに好ましく、nが4〜10のエチレングリコール化合物が特に好ましい。
Furthermore, ethylene oxide adducts of bisphenol A (addition number of ethylene oxide 27 to 100), ethylene oxide adducts of bisphenol F (ethylene oxide addition number of 22 to 100), ethylene oxide adducts of hydrogenated bisphenol A (addition of ethylene oxide) The ethylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol F (the number of addition of ethylene oxide is 18 or more and 100 or less) can also be used.
More specifically, the ethylene glycol compound represented by the general formula (A ′) is preferable in terms of dirtiness, an ethylene glycol compound in which n is 2 to 50 is more preferable, and an ethylene glycol compound in which n is 3 to 30 Are more preferable, and an ethylene glycol compound in which n is 4 to 10 is particularly preferable.

具体的には、1,2−プロピレングリコール、ジ−1,2−プロピレングリコール、トリ−1,2−プロピレングリコール、テトラ−1,2−プロピレングリコール、ヘキサ−1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、ジ−1,3−プロピレングリコール、トリ−1,3−プロピレングリコール、テトラ−1,3−プロピレングリコール、1,3−ブチレングリコール、ジ−1,3−ブチレングリコール、トリ−1,3−ブチレングリコール、ヘキサ−1,3−ブチレングリコール、平均分子量400のポリプロピレングリコール、平均分子量700のポリプロピレングリコール、平均分子量1000のポリプロピレングリコール、平均分子量2000のポリプロピレングリコール、平均分子量3000のポリプロピレングリコール、平均分子量4000のポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、2−ブテン−1,4−ジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、1,4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF、ビスフェノールAのエチレンオキシド付加体(エチレンオキシドの付加数が26以下)、ビスフェノールFのエチレンオキシド付加体(エチレンオキシドの付加数が21以下)、水添ビスフェノールAのエチレンオキシド付加体(エチレンオキシドの付加数が22以下)、水添ビスフェノールFのエチレンオキシド付加体(エチレンオキシドの付加数が17以下)、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジヒドロキシエチルエーテル、p−キシリレングリコール、ジヒドロキシエチルスルホン、ビス(2−ヒドロキシエチル)−2,4−トリレンジカルバメート、2,4−トリレン−ビス(2−ヒドロキシエチルカルバミド)、ビス(2−ヒドロキシエチル)−m−キシリレンジカルバメート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソフタレート等が挙げられる。   Specifically, 1,2-propylene glycol, di-1,2-propylene glycol, tri-1,2-propylene glycol, tetra-1,2-propylene glycol, hexa-1,2-propylene glycol, 1, 3-propylene glycol, di-1,3-propylene glycol, tri-1,3-propylene glycol, tetra-1,3-propylene glycol, 1,3-butylene glycol, di-1,3-butylene glycol, tri- 1,3-butylene glycol, hexa-1,3-butylene glycol, polypropylene glycol having an average molecular weight of 400, polypropylene glycol having an average molecular weight of 700, polypropylene glycol having an average molecular weight of 1000, polypropylene glycol having an average molecular weight of 2000, and polypropylene having an average molecular weight of 3000 Glycol, average molecular weight 4000 polypropylene glycol, neopentyl glycol, 2-butene-1,4-diol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 1,4-bis-β-hydroxyethoxycyclohexane 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, cyclohexanedimethanol, tricyclodecane dimethanol, hydrogenated bisphenol A , Hydrogenated bisphenol F, ethylene oxide adduct of bisphenol A (addition number of ethylene oxide is 26 or less), ethylene oxide adduct of bisphenol F (addition number of ethylene oxide is 21 or less), ethylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A (ethyleneoxy ), Hydrogenated bisphenol F ethylene oxide adduct (ethylene oxide addition number 17 or less), bisphenol A propylene oxide adduct, bisphenol F propylene oxide adduct, hydrogenated bisphenol A propylene oxide Adduct, propylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol F, hydroquinone dihydroxyethyl ether, p-xylylene glycol, dihydroxyethyl sulfone, bis (2-hydroxyethyl) -2,4-tolylene dicarbamate, 2,4-tolylene- Examples thereof include bis (2-hydroxyethylcarbamide), bis (2-hydroxyethyl) -m-xylylene dicarbamate, and bis (2-hydroxyethyl) isophthalate.

また、式(A)、(B)、(C)、(D)、(E)で表される化合物のポリエーテルジオール化合物も好適に用いることができる。   Moreover, the polyether diol compound of the compound represented by Formula (A), (B), (C), (D), (E) can also be used suitably.


式(A)〜(E)中、R6は水素原子またはメチル基を表す。ただし、式(A)においては、R6はメチル基を表す。また、Xは、以下の基を表す。 In formulas (A) to (E), R 6 represents a hydrogen atom or a methyl group. However, in the formula (A), R 6 represents a methyl group. X represents the following group.


式(A)〜(E)中、a,b,c,d,e,f,gはそれぞれ2以上の整数を示す。好ましくは2〜100の整数である。   In formulas (A) to (E), a, b, c, d, e, f, and g each represent an integer of 2 or more. Preferably it is an integer of 2-100.

さらに、式(11)、(12)で表されるポリエステルジオール化合物も具体例として挙げることができる。   Furthermore, the polyester diol compound represented by Formula (11), (12) can also be mentioned as a specific example.


式(11)〜(12)中、L1、L2およびL3はそれぞれ同一でも相違してもよく2価の脂肪族または芳香
族炭化水素基を示し、L4は2価の脂肪族炭化水素基を示す。好ましくは、L1、L2、L3はそれぞれアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリレン基を示し、L4はアルキレン基を示す。またLl、L2、L3、L4中にはイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエーテル、カルボニル、エステル、シアノ、オレフィン、ウレタン、アミド、ウレイド基またはハロゲン原子等が存在していてもよい。n1、n2はそれぞれ2以上の整数であり、好ましくは2〜100の整数を示す。
In formulas (11) to (12), L 1 , L 2 and L 3 may be the same or different and each represents a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and L 4 represents a divalent aliphatic carbonization. Indicates a hydrogen group. Preferably, L 1 , L 2 and L 3 each represents an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group or an arylene group, and L 4 represents an alkylene group. In addition, L 1 , L 2 , L 3 , and L 4 contain other functional groups that do not react with isocyanate groups, such as ether, carbonyl, ester, cyano, olefin, urethane, amide, ureido group, or halogen atoms. May be. n1 and n2 are each an integer of 2 or more, preferably an integer of 2 to 100.

さらに、式(13)で表されるポリカーボネートジオール化合物も具体例として挙げることができる。   Furthermore, the polycarbonate diol compound represented by Formula (13) can also be mentioned as a specific example.


式(13)中、L5はそれぞれ同一でも相違してもよく2価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示す。好ましくは、L5はアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリレン基を示す。またL5中にはイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエーテル、カルボニル、エステル、シアノ、オレフィン、ウレタン、アミド、ウレイド基またはハロゲン原子等が存在していてもよい。n3はそれぞれ2以上の整数であり、好ましくは2〜100の整数を示す。 In the formula (13), L 5 may be the same or different and each represents a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group. Preferably, L 5 represents an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group or an arylene group. In addition, other functional groups that do not react with the isocyanate group, such as ether, carbonyl, ester, cyano, olefin, urethane, amide, ureido group or halogen atom may be present in L 5 . n3 is an integer greater than or equal to 2, respectively, Preferably the integer of 2-100 is shown.

式(11)、(12)または(13)で示されるジオール化合物としては具体的には以下に示すものが含まれる。具体例中のnは2以上の整数である。   Specific examples of the diol compound represented by the formula (11), (12) or (13) include those shown below. N in the specific examples is an integer of 2 or more.




また更に、カルボキシル基を有せず、イソシアネートと反応しない他の置換基を有してもよいジオール化合物を用いることもできる。   Furthermore, a diol compound that does not have a carboxyl group and may have another substituent that does not react with isocyanate can also be used.

このようなジオール化合物としては、下記式(14)、(15)に示すものが含まれる。
HO−L6−O−CO−L7−CO−O−L6−OH (14)
HO−L7−CO−O−L6−OH (15)
Such diol compounds include those represented by the following formulas (14) and (15).
HO-L 6 -O-CO- L 7 -CO-O-L 6 -OH (14)
HO-L 7 -CO-O- L 6 -OH (15)

式(14)、(15)中、L6、L7はそれぞれ同一でも相違していてもよく、置換基(例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ、ハロゲン原子(−F、−Cl、−Br、−I)、などの各基が含まれる。)を有していてもよい2価の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または複素環基を示す。必要に応じ、L6、L7中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド基などを有していてもよい。なおL6、L7で環を形成してもよい。 In the formulas (14) and (15), L 6 and L 7 may be the same or different, and each may have a substituent (for example, alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy, aryloxy, halogen atom (—F, —Cl, -Br, -I), and the like, which may have a divalent aliphatic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group or heterocyclic group. If necessary, L 6 and L 7 may have another functional group that does not react with an isocyanate group, for example, carbonyl, ester, urethane, amide, ureido group and the like. Note that L 6 and L 7 may form a ring.

式(14)または(15)で示される化合物の具体例としては以下に示すものが含まれる。   Specific examples of the compound represented by the formula (14) or (15) include those shown below.





また、下記式(16)〜(18)に示すジオール化合物も好適に使用できる。   Moreover, the diol compound shown to following formula (16)-(18) can also be used conveniently.


式(16)中、R7、R8はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、置換基を有してもよいアルキル基、好ましくは、シアノ、ニトロ、ハロゲン原子(−F、−Cl、−Br、−I)、−CONH2、−COOR、−OR、(ここで、Rは互いに同一でも異なっていてもよく、炭素数が1〜10のアルキル基、炭素数7〜15のアリ−ル基、アラルキル基を示す。)などの各基を置換基として有していてもよい炭素数1〜10のアルキル基を示す。
式(16)で示されるジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが挙げられる。
In the formula (16), R 7 and R 8 may be the same or different and may have a substituent, preferably a cyano, nitro, halogen atom (—F, —Cl, —Br). , -I), - CONH 2, -COOR, -OR, ( wherein, R represents may be the same or different from each other, alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, ants having 7 to 15 carbon atoms - Le group Represents an aralkyl group.) Represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have each group as a substituent.
Specific examples of the diol compound represented by the formula (16) include those shown below.


式(17)としては、2−ブチン−1,4−ジオール、式(18)としては、cis−2−ブテン−1,4−ジオール、trans−2−ブテン−1,4−ジオール等が挙げられる。
また、下記式(19)、(20)に示すジオール化合物も好適に使用できる。
HO−L8−NH−CO−L9−CO−NH−L8−OH (19)
HO−L9−CO−NH−L8−OH (20)
Examples of the formula (17) include 2-butyne-1,4-diol, and examples of the formula (18) include cis-2-butene-1,4-diol and trans-2-butene-1,4-diol. It is done.
Moreover, the diol compound shown to following formula (19), (20) can also be used conveniently.
HO-L 8 -NH-CO- L 9 -CO-NH-L 8 -OH (19)
HO-L 9 -CO-NH- L 8 -OH (20)

式(19)、(20)中、L8、L9はそれぞれ同一でも相違していてもよく、置換基(例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ、ハロゲン原子(−F、−Cl、−Br、−I)、などの各基が含まれる。)を有していてもよい2価の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または複素環基を示す。必要に応じ、L8、L9中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド基などを有していてもよい。なおL8、L9で環を形成してもよい。
式(19)または(20)で示される化合物の具体例としては以下に示すものが含まれる。
In formulas (19) and (20), L 8 and L 9 may be the same or different, and each may have a substituent (for example, alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy, aryloxy, halogen atom (—F, —Cl, -Br, -I), and the like, which may have a divalent aliphatic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group or heterocyclic group. If necessary, L 8 and L 9 may have other functional groups that do not react with isocyanate groups, such as carbonyl, ester, urethane, amide, ureido groups and the like. Note that L 8 and L 9 may form a ring.
Specific examples of the compound represented by the formula (19) or (20) include those shown below.



さらに、下記式(21)、(22)に示すジオール化合物も好適に使用できる。
HO−Ar2−(L16−Ar3n−OH (21)
HO−Ar2−L16−OH (22)
式(21)〜(22)中、L16は置換基(例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ、ハロゲノの各基が好ましい。)を有していてもよい2価の脂肪族炭化水素基を示す。必要に応じ、L16中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエステル、ウレタン、アミド、ウレイド基を有していてもよい。
Ar2、Ar3は同一でも相違していてもよく、置換基を有していてもよい2価の芳香族炭化水素基を示し、好ましくは炭素数6〜15個の芳香族基を示す。nは0〜10の整数を示す。
Furthermore, diol compounds represented by the following formulas (21) and (22) can also be suitably used.
HO-Ar 2 - (L 16 -Ar 3) n -OH (21)
HO-Ar 2 -L 16 -OH ( 22)
In formulas (21) to (22), L 16 is a divalent aliphatic hydrocarbon which may have a substituent (for example, alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy, aryloxy and halogeno groups are preferred). Indicates a group. If necessary, L 16 may have another functional group that does not react with an isocyanate group, such as an ester, urethane, amide, or ureido group.
Ar 2 and Ar 3 may be the same or different and each represents a divalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, preferably an aromatic group having 6 to 15 carbon atoms. n represents an integer of 0 to 10.

式(21)または(22)で示されるジオール化合物としては具体的には以下に示すものが含まれる。
すなわち、カテコール、レゾルシン、ハイドロキノン、4−メチルカテコール、4−t−ブチルカテコール、4−アセチルカテコール、3−メトキシカテコール、4−フェニルカテコール、4−メチルレゾルシン、4−エチルレゾルシン、4−t−ブチルレゾルシン、4−ヘキシルレゾルシン、4−クロロレゾルシン、4−ベンジルレゾルシン、4−アセチルレゾルシン、4−カルボメトキシレゾルシン、2−メチルレゾルシン、5−メチルレゾルシン、t−ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−t−ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−t−アミルハイドロキノン、テトラメチルハイドロキノン、テトラクロロハイドロキノン、メチルカルボアミノハイドロキノン、メチルウレイドハイドロキノン、メチルチオハイドロキノン、ベンゾノルボルネン−3,6−ジオール、ビスフェノールA、ビスフェノールS、3,3’−ジクロロビスフェノールS、4,4’−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−チオジフェノール、2,2’−ジ
ヒドロキシジフェニルメタン、3,4−ビス(p−ヒドロキシフェニル)ヘキサン、1,4−ビス(2−(p−ヒドロキシフェニル)プロピル)ベンゼン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メチルアミン、1,3−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシアントラキノン、2−ヒドロキシベンジルアルコール、4−ヒドロキシベンジルアルコール、2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジルアルコール、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジルアルコール、4−ヒドロキシフェネチルアルコール、2−ヒドロキシエチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−ヒドロキシエチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート、レゾルシンモノ−2−ヒドロキシエチルエーテル等が挙げられる。下記に示すジオール化合物も好適に使用できる。
Specific examples of the diol compound represented by the formula (21) or (22) include those shown below.
That is, catechol, resorcin, hydroquinone, 4-methylcatechol, 4-t-butylcatechol, 4-acetylcatechol, 3-methoxycatechol, 4-phenylcatechol, 4-methylresorcin, 4-ethylresorcin, 4-t-butyl Resorcin, 4-hexyl resorcin, 4-chlororesorcin, 4-benzyl resorcin, 4-acetyl resorcin, 4-carbomethoxy resorcin, 2-methyl resorcin, 5-methyl resorcin, t-butyl hydroquinone, 2,5-di-t -Butylhydroquinone, 2,5-di-t-amylhydroquinone, tetramethylhydroquinone, tetrachlorohydroquinone, methylcarboaminohydroquinone, methylureidohydroquinone, methylthiohydroquinone, benzonor Runene-3,6-diol, bisphenol A, bisphenol S, 3,3′-dichlorobisphenol S, 4,4′-dihydroxybenzophenone, 4,4′-dihydroxybiphenyl, 4,4′-thiodiphenol, 2, 2′-dihydroxydiphenylmethane, 3,4-bis (p-hydroxyphenyl) hexane, 1,4-bis (2- (p-hydroxyphenyl) propyl) benzene, bis (4-hydroxyphenyl) methylamine, 1,3 -Dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxyanthraquinone, 2-hydroxybenzyl alcohol, 4-hydroxybenzyl alcohol, 2-hydroxy-3, 5-di-t-butylbenzyl Alcohol, 4-hydroxy-3,5-di-t-butylbenzyl alcohol, 4-hydroxyphenethyl alcohol, 2-hydroxyethyl-4-hydroxybenzoate, 2-hydroxyethyl-4-hydroxyphenyl acetate, resorcin mono-2- And hydroxyethyl ether. The diol compound shown below can also be used conveniently.

(v)その他のアミノ基含有化合物
本発明の特定ポリウレタン樹脂では、さらに下記式(31)、(32)に示すアミノ基含有化合物を組み合わせてジイソシアネート化合物と反応させ、ウレア構造を形成してポリウレタン樹脂の構造に組み込んでもよい。
(V) Other amino group-containing compounds In the specific polyurethane resin of the present invention, the amino group-containing compounds represented by the following formulas (31) and (32) are further combined and reacted with a diisocyanate compound to form a urea structure to form a polyurethane resin. It may be incorporated into the structure.


式(31)、(32)中、R106A、R106Bはそれぞれ同一でも相違していてもよく、水素原子、置換基(例えば、アルコキシ、ハロゲン原子(−F、−Cl、−Br、−I)、エステル、カルボキシル基などの各基が含まれる。)を有していてもよいアルキル、アラルキル、アリール基を示し、好ましくは水素原子、置換基としてカルボキシル基を有していてもよい炭素数1〜8個のアルキル、炭素数6〜15個のアリール基を示す。L17は置換基(例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ、ハロゲン原子(−F、−Cl、−Br、−I)、カルボキシル基などの各基が含まれる。)を有していてもよい2価の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または複素環基を示す。必要に応じ、L17中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド基などを有していてもよい。なおR106A、L17、R106Bのうちの2個で環を形成してもよい。 In formulas (31) and (32), R 106A and R 106B may be the same as or different from each other, and may be a hydrogen atom, a substituent (for example, alkoxy, halogen atom (—F, —Cl, —Br, —I). ), An ester, a carboxyl group, and the like. An alkyl group, an aralkyl group, and an aryl group that may have a hydrogen atom and a carbon number that may have a carboxyl group as a substituent. 1 to 8 alkyl, and an aryl group having 6 to 15 carbon atoms. L 17 has a substituent (for example, each group such as alkyl, aralkyl, aryl, alkoxy, aryloxy, halogen atom (—F, —Cl, —Br, —I), carboxyl group and the like is included). And a divalent aliphatic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group or heterocyclic group. If necessary, L 17 may have another functional group that does not react with an isocyanate group, such as a carbonyl group, an ester group, a urethane group or an amide group. Two of R 106A , L 17 and R 106B may form a ring.

式(31)、(32)で示される化合物の具体例としては以下に示すものが含まれる。
すなわち、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミン、プロパン−1,2−ジアミン、ビス(3−アミノプロピル)メチルアミン、1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルシロキサン、ピペラジン、2,5−ジメチルピペラジン、N−(2−アミノエチル)ピペラジン、4−アミノ−2,2−6,6−テトラメチルピペリジン、N,N−ジメチルエチレンジアミン、リジン、L−シスチン、イソホロンジアミン等のような脂肪族ジアミン化合物;o−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、2,4−トリレンジアミン、ベンジジン、o−ジトルイジン、o−ジアニシジン、4−ニトロ−m−フェニレンジアミン、2,5−ジメトキシ−p−フェニレンジアミン、ビス−(4−アミノフェニル)スルホン、4−カルボキシ−o−フェニレンジアミン、3−カルボキシ−m−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノフェニルエーテル、1,8−ナフタレンジアミン等のような芳香族ジアミン化合物;2−アミノイミダゾール、3−アミノトリアゾール、5−アミノ−1H−テトラゾール、4−アミノピラゾール、2−アミノベンズイミダゾール、2−アミノ−5−カルボキシ−トリアゾール、2,4−ジアミノ−6−メチル−S−トリアジン、2,6−ジアミノピリジン、L−ヒスチジン、DL−トリプトファン、アデニン等のような複素環アミン化合物;エタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミン、1−アミノ−2−プロパノール、1−アミノ−3−プロパノール、2−アミノエトキシエタノール、2−アミノチオエトキシエタノール、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール、p−アミノフェノール、m−アミノフェノール、o−アミノフェノール、4−メチル−2−アミノフェノール、2−クロロ−4−アミノフェノール、4−メトキシ−3−アミノフェノール、4−ヒドロキシベンジルアミン、4−アミノ−1−ナフトール、4−アミノサリチル酸、4−ヒドロキシ−N−フェニルグリシン、2−アミノベンジルアルコール、4−アミノフェネチルアルコール、2−カルボキシ−5−アミノ−1−ナフトール、L−チロシン等のようなアミノアルコールまたはアミノフェノール化合物。
Specific examples of the compounds represented by the formulas (31) and (32) include those shown below.
That is, ethylenediamine, propylenediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, dodecamethylenediamine, propane-1,2-diamine, bis (3-aminopropyl) methylamine, 1 , 3-bis (3-aminopropyl) tetramethylsiloxane, piperazine, 2,5-dimethylpiperazine, N- (2-aminoethyl) piperazine, 4-amino-2,2-6,6-tetramethylpiperidine, N , N-dimethylethylenediamine, lysine, L-cystine, isophoronediamine, and the like; o-phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 2,4-tolylenediamine, benzidine, o- Toluidine, o-dianisidine, 4-nitro-m-phenylenediamine, 2,5-dimethoxy-p-phenylenediamine, bis- (4-aminophenyl) sulfone, 4-carboxy-o-phenylenediamine, 3-carboxy-m -Aromatic diamine compounds such as phenylenediamine, 4,4'-diaminophenyl ether, 1,8-naphthalenediamine, etc .; 2-aminoimidazole, 3-aminotriazole, 5-amino-1H-tetrazole, 4-aminopyrazole 2-aminobenzimidazole, 2-amino-5-carboxy-triazole, 2,4-diamino-6-methyl-S-triazine, 2,6-diaminopyridine, L-histidine, DL-tryptophan, adenine, etc. Heterocyclic amine compounds; ethanolamine, N- Tylethanolamine, N-ethylethanolamine, 1-amino-2-propanol, 1-amino-3-propanol, 2-aminoethoxyethanol, 2-aminothioethoxyethanol, 2-amino-2-methyl-1-propanol P-aminophenol, m-aminophenol, o-aminophenol, 4-methyl-2-aminophenol, 2-chloro-4-aminophenol, 4-methoxy-3-aminophenol, 4-hydroxybenzylamine, 4 -Amino-1-naphthol, 4-aminosalicylic acid, 4-hydroxy-N-phenylglycine, 2-aminobenzyl alcohol, 4-aminophenethyl alcohol, 2-carboxy-5-amino-1-naphthol, L-tyrosine, etc. Such as amino alcohol or amino Lumpur compound.

本発明に係る特定ポリウレタン樹脂は、単独で使用してもよいし、複数を組み合わせて使用してもよい。また、感光層中における特定ポリウレタン樹脂の含有量は、1〜30質量%が好ましく、3〜20質量%がより好ましく、5〜10質量%がさらに好ましい。   The specific polyurethane resin according to the present invention may be used alone or in combination of two or more. Moreover, 1-30 mass% is preferable, as for content of the specific polyurethane resin in a photosensitive layer, 3-20 mass% is more preferable, and 5-10 mass% is further more preferable.

―アクリル樹脂―
本発明に係るバインダーポリマーは、特定ポリウレタン樹脂の他に、アクリル樹脂を含有することが好ましい。また、特定ポリウレタン樹脂とアクリル樹脂との質量比は、感度、耐刷性、現像性のバランスの観点から、1:9〜5:5が好ましく、1:9〜4:6がより好ましく、1:9〜3:7がさらに好ましい。
-acrylic resin-
The binder polymer according to the present invention preferably contains an acrylic resin in addition to the specific polyurethane resin. In addition, the mass ratio of the specific polyurethane resin and the acrylic resin is preferably 1: 9 to 5: 5, more preferably 1: 9 to 4: 6, from the viewpoint of balance of sensitivity, printing durability, and developability. : 9 to 3: 7 is more preferable.

アクリル樹脂としては、種々の公知のアクリル樹脂を使用することがすることができる。中でも、本発明において好適なアクリル樹脂としては、下記一般式(i)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物である。以下、一般式(i)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物を詳細に説明する。   As the acrylic resin, various known acrylic resins can be used. Among them, a preferable acrylic resin in the present invention is a polymer compound having a repeating unit represented by the following general formula (i). Hereinafter, the polymer compound having a repeating unit represented by formula (i) will be described in detail.


(一般式(i)中、R23は水素原子又はメチル基を表し、R24は炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子からなる群より選択される1以上の原子から構成される連結基を表す。Bは酸素原子又は−NR22−を表し、R22は水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。mは1〜5の整数を表す。) (In General Formula (i), R 23 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 24 is composed of one or more atoms selected from the group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom. B represents an oxygen atom or —NR 22 —, R 22 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and m represents an integer of 1 to 5. )

一般式(i)におけるR23は、水素原子又はメチル基を表し、特にメチル基が好ましい。
一般式(i)におけるR24で表される連結基は、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子からなる群から選択される1以上の原子から構成されるもので、その置換基を除く原子数が2〜82であることが好ましい。具体的には、R24で表される連結基の主骨格を構成する原子数が、1〜30であることが好ましく、3〜25であることがより好ましく、4〜20であることが更に好ましく、5〜10であることが最も好ましい。なお、本発明における「連結基の主骨格」とは、一般式(i)におけるBと末端COOHとを連結するためのみに使用される原子又は原子団を指し、特に、連結経路が複数ある場合には、使用される原子数が最も少ない経路を構成する原子又は原子団を指す。したがって、連結基内に環構造を有する場合、その連結部位(例えば、o−、m−、p−など)により算入されるべき原子数が異なる。
R 23 in the general formula (i) represents a hydrogen atom or a methyl group, and a methyl group is particularly preferable.
The linking group represented by R 24 in the general formula (i) is composed of one or more atoms selected from the group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom. The number of atoms excluding substituents is preferably 2 to 82. Specifically, the number of atoms constituting the main skeleton of the linking group represented by R 24 is preferably 1 to 30, more preferably 3 to 25, and further preferably 4 to 20. Preferably, it is 5-10. The “main skeleton of the linking group” in the present invention refers to an atom or an atomic group used only for linking B and the terminal COOH in the general formula (i), and in particular, when there are a plurality of linking paths. Refers to an atom or atomic group that constitutes a path with the least number of atoms used. Therefore, when a linking group has a ring structure, the number of atoms to be included differs depending on the linking site (for example, o-, m-, p-, etc.).

また、より具体的には、アルキレン、置換アルキレン、アリーレン、置換アリーレンなどが挙げられ、これらの2価の基がアミド結合やエステル結合で複数連結された構造を有していてもよい。
鎖状構造の連結基としては、エチレン、プロピレン等が挙げられる。また、これらのアルキレンがエステル結合を介して連結されている構造もまた好ましいものとして例示することができる。
More specific examples include alkylene, substituted alkylene, arylene, substituted arylene, and the like, and a structure in which a plurality of these divalent groups are linked by an amide bond or an ester bond may be used.
Examples of the linking group having a chain structure include ethylene and propylene. A structure in which these alkylenes are linked via an ester bond can also be exemplified as a preferable example.

この中でも、一般式(i)におけるR24で表される連結基は、炭素原子数3から30までの脂肪族環状構造を有する(n+1)価の炭化水素基であることが好ましい。より具体的には、任意の置換基によって一個以上置換されていてもよいシクロプロパン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、ジシクロヘキシル、ターシクロヘキシル、ノルボルナン等の脂肪族環状構造を有する化合物を構成する任意の炭素原子上の水素原子を(n+1)個除き、(n+1)価の炭化水素基としたものを挙げることができる。また、R24は、置換基を含めて炭素数3から30であることが好ましい。 Among these, the linking group represented by R 24 in the general formula (i) is preferably an (n + 1) -valent hydrocarbon group having an aliphatic cyclic structure having 3 to 30 carbon atoms. More specifically, a compound having an aliphatic cyclic structure such as cyclopropane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, cyclodecane, dicyclohexyl, tercyclohexyl, norbornane and the like, which may be substituted one or more by any substituent. And (n + 1) valent hydrocarbon groups by removing (n + 1) hydrogen atoms on an arbitrary carbon atom constituting. R 24 preferably has 3 to 30 carbon atoms including a substituent.

脂肪族環状構造を構成する化合物の任意の炭素原子は、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子から選ばれるヘテロ原子で、一個以上置き換えられていてもよい。耐刷性の点で、R24は縮合多環脂肪族炭化水素、橋架け環脂肪族炭化水素、スピロ脂肪族炭化水素、脂肪族炭化水素環集合(複数の環が結合又は連結基でつながったもの)等、2個以上の環を含有してなる炭素原子数5から30までの置換基を有していてもよい脂肪族環状構造を有する(n+1)価の炭化水素基であることが好ましい。この場合も炭素数は置換基が有する炭素原子を含めてのものである。 One or more arbitrary carbon atoms of the compound constituting the aliphatic cyclic structure may be replaced with a heteroatom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom. In terms of printing durability, R 24 is a condensed polycyclic aliphatic hydrocarbon, a bridged cyclic aliphatic hydrocarbon, a spiro aliphatic hydrocarbon, an aliphatic hydrocarbon ring assembly (a plurality of rings are connected by a bond or a linking group). A (n + 1) valent hydrocarbon group having an aliphatic cyclic structure which may have a substituent of 5 to 30 carbon atoms containing two or more rings. . Also in this case, the carbon number includes the carbon atom of the substituent.

24で表される連結基としては、特に、連結基の主骨格を構成する原子数が5〜10のものが好ましく、構造的には、鎖状構造であって、その構造中にエステル結合を有するものや、前記の如き環状構造を有するものが好ましい。 As the linking group represented by R 24 , those having 5 to 10 atoms constituting the main skeleton of the linking group are particularly preferable, and are structurally a chain structure, and an ester bond in the structure. And those having a cyclic structure as described above are preferred.

一般式(i)におけるBがNR22−である場合のR22は、水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。このR22で表される炭素数1〜10までの一価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
下記に具体例を挙げるがこれらに限定されるものではない。
R 22 when B in the general formula (i) is NR 22- represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 22 include an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.
Although a specific example is given below, it is not limited to these.




一般式(i)で表される繰り返し単位は、高分子化合物中に1種類だけであってもよいし、2種類以上含有していてもよい。本発明で使用可能なアクリル樹脂は、一般式(i)で表される繰り返し単位だけからなっていてもよいが、通常、他の共重合成分と組み合わされ、コポリマーとして使用される。コポリマーにおける一般式(i)で表される繰り返し単位の総含有量は、その構造や、感光層組成物の設計等によって適宜決められるが、好ましくはポリマー成分の総モル量に対し、1〜99モル%、より好ましくは5〜40モル%、更に好ましくは5〜20モル%の範囲で含有される。   One type of repeating unit represented by the general formula (i) may be contained in the polymer compound, or two or more types may be contained. The acrylic resin that can be used in the present invention may be composed of only the repeating unit represented by the general formula (i), but is usually used as a copolymer in combination with other copolymerization components. The total content of the repeating unit represented by the general formula (i) in the copolymer is appropriately determined depending on its structure, the design of the photosensitive layer composition, etc., but preferably 1 to 99 with respect to the total molar amount of the polymer component. It is contained in the range of mol%, more preferably 5 to 40 mol%, still more preferably 5 to 20 mol%.

コポリマーとして用いる場合の共重合成分としては、ラジカル重合可能なモノマーであれば従来公知のものを制限なく使用できる。具体的には、「高分子データハンドブック−基礎編−(高分子学会編、培風館、1986)」記載のモノマー類が挙げられる。このような共重合成分は1種類であってもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。   As a copolymerization component in the case of using as a copolymer, a conventionally well-known thing can be used without a restriction | limiting, if it is a monomer which can be radically polymerized. Specific examples include monomers described in “Polymer Data Handbook—Basic Edition” (Edition of Polymer Society, Bafukan, 1986). One type of such copolymerization component may be used, or two or more types may be used in combination.

本発明において好ましく使用されるアクリル樹脂の分子量は、画像形成性や耐刷性の観点から適宜決定される。好ましい分子量としては、2,000〜1,000,000、より好ましくは5,000〜500,000、更に好ましくは10,000〜200,000の範囲である。   The molecular weight of the acrylic resin preferably used in the present invention is appropriately determined from the viewpoint of image formability and printing durability. The molecular weight is preferably in the range of 2,000 to 1,000,000, more preferably 5,000 to 500,000, and still more preferably 10,000 to 200,000.

―その他の樹脂―
本発明に係るバインダーポリマーは、特定ポリウレタン樹脂やアクリル樹脂の他に、必要に応じて、その他の樹脂を含んでもよい。
その他の樹脂としては、具体的には、例えば、アセタール変性ポリビニルアルコール系樹脂(ブチラール樹脂など)等が挙げられる。
バインダーポリマー中におけるその他の樹脂の含有量は、0〜20質量%が好ましく、0〜15質量%がより好ましく、0〜10質量%がさらに好ましい。
また感光層中におけるバインダーポリマーの含有量は、5〜90質量%が好ましく、10〜70質量%がより好ましく、10〜60質量%がさらに好ましい。
―Other resins―
The binder polymer according to the present invention may contain other resins in addition to the specific polyurethane resin and acrylic resin, if necessary.
Specific examples of the other resins include acetal-modified polyvinyl alcohol resins (butyral resin and the like).
0-20 mass% is preferable, as for content of the other resin in a binder polymer, 0-15 mass% is more preferable, and 0-10 mass% is further more preferable.
Moreover, 5-90 mass% is preferable, as for content of the binder polymer in a photosensitive layer, 10-70 mass% is more preferable, and 10-60 mass% is further more preferable.

<増感色素>
本発明の感光層には、増感色素を含有させる。例えば300〜450nmに極大吸収を有する増感色素や、500〜600nmに極大吸収を有する増感色素、750〜1400nmに極大吸収を有する赤外線吸収剤を添加することで、各々、当業界で通常用いられている405nmのバイオレットレーザ、532nmのグリーンレーザ、803nmのIRレーザに対応した高感度な平版印刷版を提供することができる。
<Sensitizing dye>
The photosensitive layer of the present invention contains a sensitizing dye. For example, by adding a sensitizing dye having a maximum absorption at 300 to 450 nm, a sensitizing dye having a maximum absorption at 500 to 600 nm, and an infrared absorber having a maximum absorption at 750 to 1400 nm, each is normally used in the industry. It is possible to provide a high-sensitivity lithographic printing plate corresponding to the 405 nm violet laser, 532 nm green laser, and 803 nm IR laser.

まず、350〜450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素について説明する。
この様な増感色素としては、例えば、メロシアニン色素類、ベンゾピラン類、クマリン類、芳香族ケトン類、アントラセン類、等を挙げることができる。
First, a sensitizing dye having a maximum absorption in the wavelength region of 350 to 450 nm will be described.
Examples of such a sensitizing dye include merocyanine dyes, benzopyrans, coumarins, aromatic ketones, anthracenes, and the like.

350nmから450nmの波長域に吸収極大を持つ増感色素のうち、高感度の観点からより好ましい色素は下記一般式(IX)で表される色素である。   Among the sensitizing dyes having an absorption maximum in the wavelength range of 350 nm to 450 nm, a dye more preferable from the viewpoint of high sensitivity is a dye represented by the following general formula (IX).


一般式(IX)中、Aは置換基を有してもよい芳香族環基またはヘテロ環基を表し、Xは酸素原子、硫黄原子またはN−(R)をあらわす。R、RおよびRは、それぞれ独立に、一価の非金属原子団を表し、AとRおよびRとRはそれぞれ互いに結合して、脂肪族性または芳香族性の環を形成してもよい。 In General Formula (IX), A represents an aromatic ring group or a heterocyclic group which may have a substituent, and X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or N— (R 3 ). R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a monovalent nonmetallic atomic group, and A and R 1 and R 2 and R 3 are bonded to each other to form an aliphatic or aromatic ring. May be formed.

一般式(IX)について更に詳しく説明する。R、RおよびRは、それぞれ独立に、一価の非金属原子団であり、好ましくは、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換の芳香族複素環残基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子を表す。 General formula (IX) will be described in more detail. R 1 , R 2 and R 3 are each independently a monovalent nonmetallic atomic group, preferably a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group Represents a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic residue, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, a hydroxyl group, or a halogen atom.

次に、一般式(IX)におけるAについて説明する。Aは置換基を有してもよい芳香族環基またはヘテロ環基を表し、置換基を有してもよい芳香族環またはヘテロ環の具体例としては、一般式(IX)中のR、RおよびRで記載したものと同様のものが挙げられる。 Next, A in the general formula (IX) will be described. A represents an aromatic ring group or a heterocyclic group which may have a substituent. Specific examples of the aromatic ring or heterocyclic ring which may have a substituent include R 1 in formula (IX). , R 2 and R 3 are the same.

このような増感色素の具体例としては特開2007−58170の段落0047〜0053に記載の化合物が好ましく用いられる。 As specific examples of such a sensitizing dye, compounds described in paragraphs 0047 to 0053 of JP-A-2007-58170 are preferably used.

さらに、下記一般式(V)〜(VII)で示される増感色素も用いることができる。   Furthermore, sensitizing dyes represented by the following general formulas (V) to (VII) can also be used.



式(V)中、R〜R14は各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R〜R10の少なくとも一つは炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
式(VI)中、R15〜R32は各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R15〜R24の少なくとも一つは炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
In formula (V), R 1 to R 14 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a halogen atom. However, at least one of R 1 to R 10 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
In formula (VI), R 15 to R 32 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a halogen atom. However, at least one of R 15 to R 24 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.


式(VII)中、R、RおよびRは各々独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、−NR基または−OR基を表し、R、RおよびRは各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、k、mおよびnは各々0〜5の整数を表す。 In formula (VII), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a halogen atom, alkyl group, aryl group, aralkyl group, —NR 4 R 5 group or —OR 6 group, and R 4 , R 5 And R 6 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, and k, m and n each represents an integer of 0 to 5.

また、特開2007−171406、特開2007−206216、特開2007−206217、特開2007−225701、特開2007−225702、特開2007−316582、特開2007−328243に記載の増感色素も好ましく用いることができる。
300〜450nmに極大吸収を有する増感色素の添加量は、感光層の全固形分100質量部に対し、好ましくは0.05〜30質量部、更に好ましくは0.1〜20質量部、最も好ましくは0.2〜10質量部の範囲である。
Also, there are sensitizing dyes described in JP2007-171406, JP2007-206216, JP2007-206217, JP2007-225701, JP2007-225702, JP2007-316582, and JP2007-328243. It can be preferably used.
The addition amount of the sensitizing dye having the maximum absorption at 300 to 450 nm is preferably 0.05 to 30 parts by mass, more preferably 0.1 to 20 parts by mass, most preferably 100 parts by mass of the total solid content of the photosensitive layer. Preferably it is the range of 0.2-10 mass parts.

500〜600nmに極大吸収を有する増感色素の添加量についても同様に、感光層の全固形分100質量部に対し、好ましくは0.05〜30質量部、更に好ましくは0.1〜20質量部、最も好ましくは0.2〜10質量部の範囲である。   Similarly, the addition amount of the sensitizing dye having the maximum absorption at 500 to 600 nm is preferably 0.05 to 30 parts by mass, more preferably 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the photosensitive layer. Parts, most preferably in the range of 0.2 to 10 parts by weight.

続いて、本発明にて好適に用いられる750〜1400nmに極大吸収を有する増感色素(赤外線吸収剤)について詳述する。
ここに使用される増感色素は、赤外線レーザの照射(露光)に対し高感度で電子励起状態となり、かかる電子励起状態に係る電子移動、エネルギー移動、発熱(光熱変換機能)などが、感光層中に併存する重合開始剤に作用して、該重合開始剤に化学変化を生起させてラジカルを生成させるものと推定されている。いずれせよ、750〜1400nmに極大吸収を有する増感色素を添加することは、750nm〜1400nmの波長を有する赤外線レーザ光での直接描画される製版に特に好適であり、従来の平版印刷版原版に比べ、高い画像形成性を発現することができる。
Then, the sensitizing dye (infrared absorber) which has maximum absorption in 750-1400 nm used suitably by this invention is explained in full detail.
The sensitizing dye used here is highly sensitive to infrared laser irradiation (exposure) and is in an electronically excited state. The electron transfer, energy transfer, heat generation (photothermal conversion function), etc., associated with the electronically excited state are the photosensitive layer. It is presumed that it acts on a polymerization initiator coexisting therein to cause a chemical change in the polymerization initiator to generate a radical. In any case, the addition of a sensitizing dye having a maximum absorption at 750 to 1400 nm is particularly suitable for plate making directly drawn with an infrared laser beam having a wavelength of 750 to 1400 nm, and the conventional lithographic printing plate precursor Compared with this, high image forming properties can be exhibited.

赤外線吸収剤は、750nm〜1400nmの波長に吸収極大を有する染料または顔料であることが好ましい。   The infrared absorber is preferably a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 750 nm to 1400 nm.

染料としては、市販の染料および例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記一般式(a)で示されるシアニン色素が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.
Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and particularly preferred examples include cyanine dyes represented by the following general formula (a).


一般式(a)中、Xは、水素原子、ハロゲン原子、−NPh、X−Lまたは以下に示す基を表す。ここで、Xは酸素原子、窒素原子、または硫黄原子を示し、Lは、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。X は後述するZ と同様に定義され、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In general formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2 , X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 to 1 carbon atom including a hetero atom. 12 hydrocarbon groups are shown. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se. X a - is Z a which will be described below - has the same definition as, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

およびRは、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。感光層塗布液の保存安定性から、RおよびRは、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、RとRとは互いに結合し、5員環または6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. In view of storage stability of the photosensitive layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar、Arは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。
、Yは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子または炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。
、Rは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。
、R、RおよびRは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。
Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned.
Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms.
R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups.
R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred.

また、Z は、対アニオンを示す。ただし、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZ は必要ない。好ましいZ は、感光層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。尚、対イオンとして、ハロゲンイオンを含有してないものが特に好ましい。 Z a represents a counter anion. However, when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in the structure thereof, Z a is does not require charge neutralization - is not necessary. Preferred Z a is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, from the storage stability of the photosensitive layer coating solution. Hexafluorophosphate ions and aryl sulfonate ions. In addition, the thing which does not contain a halogen ion as a counter ion is especially preferable.

好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969公報の段落番号[0017]から[0019]に記載されたものを挙げることができる。
また、特に好ましい他の例として更に、前記した特願平2001−6326、特願平2001−237840明細書に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
但し、対イオンとして、ハロゲンイオンを含有してないものが特に好ましい。
Specific examples of the cyanine dye represented by formula (a) that can be suitably used include those described in paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969.
Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in Japanese Patent Application Nos. 2001-6326 and 2001-237840 described above.
However, those containing no halogen ion as the counter ion are particularly preferred.

顔料としては、市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of pigments include commercially available pigment and color index (CI) manuals, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology” (published by CMC, published in 1986), “Printing” The pigments described in "Ink Technology", published by CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Application of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることが更に好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。この好ましい粒径の範囲において、感光層中における顔料の優れた分散安定性が得られ、均一な感光層が得られる。   The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Within this preferred particle size range, excellent dispersion stability of the pigment in the photosensitive layer can be obtained, and a uniform photosensitive layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。   These infrared absorbers may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

これらの赤外線吸収剤は、感光層中における均一性や感光層の耐久性の観点から、感光層を構成する全固形分に対し0.01〜50質量%、好ましくは0.1〜10質量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10質量%、顔料の場合特に好ましくは0.1〜10質量%の割合で添加することができる。   From the viewpoint of uniformity in the photosensitive layer and durability of the photosensitive layer, these infrared absorbers are 0.01 to 50% by mass, preferably 0.1 to 10% by mass, based on the total solid content constituting the photosensitive layer. In the case of a dye, it is particularly preferably 0.5 to 10% by mass, and in the case of a pigment, it is particularly preferably 0.1 to 10% by mass.

<重合開始剤>
本発明の感光層は重合開始剤(以下、開始剤化合物とも称する)を含有する。開始剤化合物は増感色素の電子励起状態に起因する電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用をうけて、化学変化を生じ、ラジカル、酸及び塩基から選択される少なくとも1種を生成する化合物である。以下、このようにして生じたラジカル、酸、塩基を単に活性種と呼ぶ。開始剤化合物が存在しない場合や、開始剤化合物のみを単独で用いた場合には、実用上十分な感度が得られない。増感色素と開始剤化合物を併用する一つの態様として、これらを、適切な化学的方法(増感色素と開始剤化合物との化学結合による連結等)によって単一の化合物として利用することも可能である。
<Polymerization initiator>
The photosensitive layer of the present invention contains a polymerization initiator (hereinafter also referred to as an initiator compound). The initiator compound is a compound that undergoes a chemical change through the action of electron transfer, energy transfer, heat generation, etc. caused by the electronic excitation state of the sensitizing dye, and generates at least one selected from radicals, acids, and bases. is there. Hereinafter, radicals, acids, and bases generated in this way are simply referred to as active species. When the initiator compound is not present or when only the initiator compound is used alone, practically sufficient sensitivity cannot be obtained. As one mode in which a sensitizing dye and an initiator compound are used in combination, they can be used as a single compound by an appropriate chemical method (such as linking a sensitizing dye and an initiator compound through a chemical bond). It is.

通常これらの開始剤化合物の多くは、次の(1)から(3)に代表される初期化学プロセスをへて、活性種を生成するものと考えられる。即ち、(1)増感色素の電子励起状態から開始剤化合物への電子移動反応に基づく、開始剤化合物の還元的分解、(2)開始剤化合物から増感色素の電子励起状態への電子移動に基づく、開始剤化合物の酸化的分解、(3)増感色素の電子励起状態から開始剤化合物へのエネルギー移動に基づく、開始剤化合物の電子励起状態からの分解である。個々の開始剤化合物が(1)から(3)のどのタイプに属するかに関しては、曖昧な場合も多いが、本発明における増感色素は、これら何れのタイプの開始剤化合物と組み合わせても非常に高い増感効果を示す。   Usually, many of these initiator compounds are considered to generate active species through the initial chemical processes represented by the following (1) to (3). (1) Reductive decomposition of the initiator compound based on the electron transfer reaction from the electronically excited state of the sensitizing dye to the initiator compound, (2) Electron transfer from the initiator compound to the electronically excited state of the sensitizing dye (3) decomposition of the initiator compound from the electronically excited state based on energy transfer from the electronically excited state of the sensitizing dye to the initiator compound. Although it is often ambiguous as to which type of (1) to (3) each individual initiator compound belongs, the sensitizing dye in the present invention is extremely in combination with any of these types of initiator compounds. Shows a high sensitizing effect.

本発明における開始剤化合物としては、当業者間で公知のものを制限なく使用でき、具体的には、例えば、トリハロメチル化合物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、鉄アレーン錯体が挙げられる。なかでも、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物、オニウム塩、トリハロメチル化合物およびメタロセン化合物からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、特にヘキサアリールビイミダゾール系化合物が好ましい。上記の重合開始剤は、2種以上を適宜併用することもできる。   As the initiator compound in the present invention, those known to those skilled in the art can be used without limitation, and specifically include, for example, trihalomethyl compounds, carbonyl compounds, organic peroxides, azo compounds, azide compounds, metallocene compounds. , Hexaarylbiimidazole compounds, organic boron compounds, disulfone compounds, oxime ester compounds, onium salt compounds, and iron arene complexes. Among these, at least one selected from the group consisting of hexaarylbiimidazole compounds, onium salts, trihalomethyl compounds, and metallocene compounds is preferable, and hexaarylbiimidazole compounds are particularly preferable. Two or more of the above polymerization initiators can be used in combination as appropriate.

ヘキサアリールビイミダゾール系化合物としては、特公昭45−37377号、特公昭44−86516号の各公報記載のロフィンダイマー類、例えば2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
ヘキサアリールビイミダゾール系化合物は、300〜450nmに極大吸収を有する増感色素と併用して用いられることが特に好ましい。
Examples of the hexaarylbiimidazole compounds include lophine dimers described in JP-B Nos. 45-37377 and 44-86516, such as 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5. , 5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole, 2, 2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-nitrophenyl) -4,4', 5,5 ' -Te Raphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole and the like.
The hexaarylbiimidazole compound is particularly preferably used in combination with a sensitizing dye having a maximum absorption at 300 to 450 nm.

本発明において好適に用いられるオニウム塩(本発明においては、酸発生剤としてではなく、イオン性の重合開始剤として機能する)は、下記一般式(RI−I)〜(RI−III)で表されるオニウム塩である。   The onium salt suitably used in the present invention (in the present invention, functions as an ionic polymerization initiator, not as an acid generator) is represented by the following general formulas (RI-I) to (RI-III). Onium salt.


式(RI−I)中、Ar11は置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z11 は1価の陰イオンを表し、具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオンおよびスルフィン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-I), Ar 11 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a carbon number. 1-12 alkenyl group, C1-C12 alkynyl group, C1-C12 aryl group, C1-C12 alkoxy group, C1-C12 aryloxy group, halogen atom, C1-C1 12 alkylamino groups, C1-C12 dialkylamino groups, C1-C12 alkylamide groups or arylamide groups, carbonyl groups, carboxyl groups, cyano groups, sulfonyl groups, C1-C12 thioalkyl groups And a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 11 represents a monovalent anion, and specific examples include halogen ions, perchlorate ions, haloborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Of these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion and sulfinate ion are preferable from the viewpoint of stability.

式(RI−II)中、Ar21およびAr22は、各々独立に置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z21 は1価の陰イオンを表す。具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-II), Ar 21 and Ar 22 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include 1 to 1 carbon atoms. 12 alkyl groups, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, Halogen atom, C1-C12 alkylamino group, C1-C12 dialkylamino group, C1-C12 alkylamide group or arylamide group, carbonyl group, carboxyl group, cyano group, sulfonyl group, carbon Examples thereof include a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 21 represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Among them, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable in terms of stability and reactivity.

式(RI−III)中、R31、R32およびR33は、各々独立に置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基、アルキル基、アルケニル基、またはアルキニル基を表す。中でも反応性、安定性の面から好ましいのは、アリール基である。置換基としては、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z31 は1価の陰イオンを表す。具体例としては、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性、反応性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。より好ましいものとして特開2001−343742号公報記載のカルボン酸イオン、特に好ましいものとして特開2002−148790号公報記載のカルボン酸イオンが挙げられる。
オニウム塩は、750〜1400nmに極大吸収を有する赤外線吸収剤と併用して用いられることが特に好ましい。
In the formula (RI-III), R 31 , R 32 and R 33 are each independently an aryl group, alkyl group, alkenyl group or alkynyl having 20 or less carbon atoms, which may have 1 to 6 substituents. Represents a group. Among them, an aryl group is preferable from the viewpoint of reactivity and stability. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, Aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, halogen atom, alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, carbonyl group, carboxyl Group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 31 - represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoints of stability and reactivity. More preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2001-343742, and particularly preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2002-148790.
The onium salt is particularly preferably used in combination with an infrared absorber having a maximum absorption at 750 to 1400 nm.

その他の重合開始剤としては、特開2007−171406、特開2007−206216、特開2007−206217、特開2007−225701、特開2007−225702、特開2007−316582、特開2007−328243に記載の重合開始剤を好ましく用いることができる。   Examples of other polymerization initiators include JP 2007-171406, JP 2007-206216, JP 2007-206217, JP 2007-225701, JP 2007-225702, JP 2007-316582, and JP 2007-328243. The polymerization initiators described can be preferably used.

本発明における重合開始剤は単独もしくは2種以上の併用によって好適に用いられる。
本発明における感光層中の重合開始剤の使用量は感光層全固形分の質量に対し、好ましくは0.01〜20質量%、より好ましくは0.1〜15質量%である。さらに好ましくは1.0質量%〜10質量%である。
The polymerization initiator in the present invention is preferably used alone or in combination of two or more.
The amount of the polymerization initiator used in the photosensitive layer in the present invention is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, based on the total solid content of the photosensitive layer. More preferably, it is 1.0 mass%-10 mass%.

<重合性化合物>
本発明における感光層に用いる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの共重合体、またはそれらの混合物などの化学的形態をもつ。
<Polymerizable compound>
The polymerizable compound used for the photosensitive layer in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and is a compound having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more. To be elected. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or copolymers thereof, or mixtures thereof.

モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。   Examples of monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof, preferably unsaturated carboxylic acids. An ester of an acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound are used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、イソシアヌール酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) Examples include modified triacrylates and polyester acrylate oligomers.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号の各公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号の各公報に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。
更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。
Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59- Those having an aromatic skeleton described in JP-A No. 5241 and JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used.
Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(Z)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   Further, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable. Specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (Z) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups Etc.

CH=C(R)COOCHCH(R)OH (Z)
(ただし、RおよびRは、HまたはCHを示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (Z)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62−39418号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号公報、特開昭63−260909号公報、特開平1−105238号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56- Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in Japanese Patent No. 17654, Japanese Patent Publication No. 62-39417, and Japanese Patent Publication No. 62-39418 are also suitable. Furthermore, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used. Depending on the case, it is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号各公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. In addition, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid-based compounds described in JP-A-2-25493 are also included. Can be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
About these polymerizable compounds, the details of usage such as the structure, single use or combination, addition amount and the like can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable. A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.

また、感光層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、重合開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、支持体や後述の保護層等との密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。そのほか、重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も考慮され得る。   In addition, the compatibility and dispersibility with other components in the photosensitive layer (for example, binder polymer, polymerization initiator, colorant, etc.), the selection and use method of the polymerizable compound is an important factor. In some cases, the compatibility can be improved by using a low-purity compound or by using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving adhesion to a support or a protective layer described later. In addition, the usage of the polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface adhesiveness, etc. The layer construction and coating method such as undercoating and overcoating can be considered.

上記の重合性化合物は、感光層の全固形分に対して、好ましくは5〜75質量%、更に好ましくは25〜70質量%、特に好ましくは30〜60質量%の範囲で使用される。   The polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 75% by mass, more preferably 25 to 70% by mass, and particularly preferably 30 to 60% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive layer.

<着色剤>
本発明に係る感光層は、その着色を目的として、着色剤を含有することが好ましく、着色剤の中でも、顔料を含有することが好ましい。
顔料としては、例えば、黒色顔料、黄色顔料、マゼンタ顔料、シアン顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。さらに具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、ジスアゾ縮合系顔料、ジスアゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、アントアントロン系顔料、アミノアントラキノン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、インダントロン系顔料、トリアリールカルボニウム系顔料、キナクリドン系顔料、キナクリドンキノン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料、イソビオラントロン系顔料、ピラントロン系顔料、キノフタロン系顔料、ベンズイミダゾロン系顔料、チオインジゴ系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が挙げられる。
また、顔料の中でも、有機顔料が好ましく、具体的には、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、ジオキサジン系顔料、キナクドリン系顔料等がより好ましく、フタロシアニン系顔料がさらに好ましい。
<Colorant>
The photosensitive layer according to the present invention preferably contains a colorant for the purpose of coloring, and among the colorants, it preferably contains a pigment.
Examples of pigments include black pigments, yellow pigments, magenta pigments, cyan pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded pigments. Can be mentioned. More specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, disazo condensed pigments, disazo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, anthanthrone pigments, aminoanthraquinone pigments, diketopyrrolo Pyrrole pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, indanthrone pigments, triarylcarbonium pigments, quinacridone pigments, quinacridone quinone pigments, dioxazine pigments, isoindoline pigments, isoindolinone pigments, Isoviolanthrone pigments, pyranthrone pigments, quinophthalone pigments, benzimidazolone pigments, thioindigo pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon bras Click, and the like.
Among the pigments, organic pigments are preferable, specifically, phthalocyanine pigments, azo pigments, dioxazine pigments, quinacrine pigments, and the like are more preferable, and phthalocyanine pigments are more preferable.

本発明の顔料は、露光・現像処理した後、印刷する前の平版印刷版の原稿(文字・絵)の視認性(検版性)を付与するために使用する。視認性付与のためには、顔料が500nm以上の波長領域で光吸収するもの、すなわち、マゼンタ・レッド・シアン・ブルー・グリーン顔料が好ましく用いられる。逆に、たとえば500nm以下の波長領域でしか光吸収しないイエローは適さない。フタロシアニン顔料はブルー、グリーン、ジオキサジン顔料はバイオレット、ジケトピロロピロール顔料はレッド、キナクリドン顔料はマゼンタ、といずれも500nm以上の波長領域で光吸収する特性を有し、視認性付与に適している。
有機顔料を感光層に含有させる方法としては、例えば、有機顔料を分散媒に分散させた有機顔料分散物を、感光層用塗布液に添加する方法が挙げられる。
感光層中に含まれる有機顔料の含有量は、感光層の全固形分に対して、0.5質量%〜15質量%が好ましく、0.8質量%〜10質量%がより好ましく、1.0質量%〜10質量%がさらに好ましい。
The pigment of the present invention is used for imparting visibility (plate inspection) to an original (character / picture) of a lithographic printing plate after exposure / development processing and before printing. In order to impart visibility, pigments that absorb light in a wavelength region of 500 nm or more, that is, magenta, red, cyan, blue, and green pigments are preferably used. On the contrary, for example, yellow that absorbs light only in a wavelength region of 500 nm or less is not suitable. The phthalocyanine pigment absorbs light in a wavelength region of 500 nm or more, and is suitable for imparting visibility, such as blue, green, dioxazine pigment, violet, diketopyrrolopyrrole pigment, red, and quinacridone pigment, magenta.
Examples of the method for containing the organic pigment in the photosensitive layer include a method in which an organic pigment dispersion in which an organic pigment is dispersed in a dispersion medium is added to the photosensitive layer coating solution.
The content of the organic pigment contained in the photosensitive layer is preferably 0.5% by mass to 15% by mass, more preferably 0.8% by mass to 10% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive layer. 0 mass%-10 mass% are further more preferable.

<その他の感光層成分>
本発明の感光層には、さらに、必要に応じて種々の添加剤を含有させることができる。添加剤としては、現像性の促進および塗布面状を向上させるための界面活性剤、現像性の向上やマイクロカプセルの分散安定性向上などのための親水性ポリマー、画像部と非画像部を視認するための着色剤や焼き出し剤、感光層の製造中または保存中のラジカル重合性化合物の不要な熱重合を防止するための重合禁止剤、酸素による重合阻害を防止するための高級脂肪誘導体、画像部の硬化皮膜強度向上のための無機微粒子、現像性向上のための親水性低分子化合物、感度向上の為の共増感剤や連鎖移動剤、可塑性向上のための可塑剤等を添加することができる。
<Other photosensitive layer components>
The photosensitive layer of the present invention can further contain various additives as required. Additives include surfactants for promoting developability and improving the surface of the coating, hydrophilic polymers for improving developability and dispersion stability of microcapsules, and visual and non-image areas visible A coloring agent and a print-out agent, a polymerization inhibitor for preventing unnecessary thermal polymerization of radically polymerizable compounds during production or storage of the photosensitive layer, a higher fat derivative for preventing polymerization inhibition by oxygen, Add inorganic fine particles to improve the strength of the cured film in the image area, hydrophilic low molecular weight compounds to improve developability, co-sensitizers and chain transfer agents to improve sensitivity, plasticizers to improve plasticity, etc. be able to.

これの化合物はいずれも公知のものを使用でき、例えば、特開2007−171406、特開2007−206216、特開2007−206217、特開2007−225701、特開2007−225702、特開2007−316582、特開2007−328243に記載の化合物を使用することができる。   Any of these compounds can be used, for example, JP 2007-171406, JP 2007-206216, JP 2007-206217, JP 2007-225701, JP 2007-225702, JP 2007-316582. The compounds described in JP-A-2007-328243 can be used.

―連鎖移動剤―
連鎖移動剤として作用する化合物としては、例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成しうる。
―Chain transfer agent―
As the compound that acts as a chain transfer agent, for example, a compound group having SH, PH, SiH, GeH in the molecule is used. These can donate hydrogen to low-activity radical species to generate radicals, or can be oxidized and then deprotonated to generate radicals.

本発明の感光層には、特に、チオール化合物(例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール類、2−メルカプトベンズチアゾール類、2−メルカプトベンズオキサゾール類、3−メルカプトトリアゾール類、5−メルカプトテトラゾール類、等)を連鎖移動剤として好ましく用いることができる。   In the photosensitive layer of the present invention, in particular, a thiol compound (for example, 2-mercaptobenzimidazoles, 2-mercaptobenzthiazoles, 2-mercaptobenzoxazoles, 3-mercaptotriazoles, 5-mercaptotetrazoles, etc.) Can be preferably used as a chain transfer agent.

なかでも、下記一般式(IV)で表されるチオール化合物が特に好適に使用される。連鎖移動剤としてこのチオール化合物を用いることによって、臭気の問題、および感光層から蒸発や他の層への拡散による感度減少を回避し、保存安定性に優れ、さらには高感度で高耐刷の平版印刷版原版が得られる。   Especially, the thiol compound represented by the following general formula (IV) is used especially suitably. By using this thiol compound as a chain transfer agent, the problem of odor and sensitivity reduction due to evaporation from the photosensitive layer and diffusion to other layers are avoided, and it has excellent storage stability and high sensitivity and high printing durability. A lithographic printing plate precursor is obtained.

一般式(IV)中、Rは置換基を有してもよいアルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を表し、AはN=C−N部分と共に炭素原子を有する5員環または6員環のヘテロ環を形成する原子団を表し、Aはさらに置換基を有してもよい。   In general formula (IV), R represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent, and A represents a 5-membered ring having a carbon atom together with an N = CN moiety or It represents an atomic group that forms a 6-membered heterocycle, and A may further have a substituent.

<感光層の形成>
本発明の感光層は、必要な上記各成分を溶剤に分散または溶解して塗布液を調製し、塗布して形成される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
本発明の感光層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散、または溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。
<Formation of photosensitive layer>
The photosensitive layer of the present invention is formed by preparing or applying a coating solution by dispersing or dissolving the necessary components described above in a solvent. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.
The photosensitive layer of the present invention can be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeatedly applying and drying a plurality of times.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の感光層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/mが好ましい。この範囲内で、良好な感度と感光層の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。
Moreover, although the photosensitive layer coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, it is generally preferably 0.3 to 3.0 g / m 2 . Within this range, good sensitivity and good film properties of the photosensitive layer can be obtained.
Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

[保護層]
本発明の平版印刷版原版には、露光時の重合反応を妨害する酸素の拡散侵入を遮断するため、感光層上に保護層(酸素遮断層)が設けられることが好ましい。本発明に用いられる保護層は、単層であってもよいし、多層構造であってもよい。また本発明に用いられる保護層は25℃、1気圧下における酸素透過性Aが1.0≦A≦20(mL/m・day)であることが好ましい。酸素透過性Aが1.0(mL/m・day)未満で極端に低い場合は、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。逆に、酸素透過性Aが20(mL/m・day)を超えて高すぎる場合は感度の低下を招く。酸素透過性Aは、より好ましくは1.5≦A≦12(mL/m・day)、更に好ましくは2.0≦A≦10.0(mL/m・day)の範囲である。また、保護層に望まれる特性としては、上記酸素透過性以外に、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、感光層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる事が望ましい。この様な保護層に関する工夫が従来なされており、米国特許第3,458,311号明細書、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。
[Protective layer]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a protective layer (oxygen blocking layer) is preferably provided on the photosensitive layer in order to block diffusion and penetration of oxygen that hinders the polymerization reaction during exposure. The protective layer used in the present invention may be a single layer or a multilayer structure. The protective layer used in the present invention preferably has an oxygen permeability A at 25 ° C. and 1 atm of 1.0 ≦ A ≦ 20 (mL / m 2 · day). If the oxygen permeability A is less than 1.0 (mL / m 2 · day) and extremely low, unnecessary polymerization reaction occurs during production and raw storage, and unnecessary fogging and image streaking occur during image exposure. The problem that fatness arises arises. On the contrary, when the oxygen permeability A exceeds 20 (mL / m 2 · day) and is too high, the sensitivity is lowered. The oxygen permeability A is more preferably in the range of 1.5 ≦ A ≦ 12 (mL / m 2 · day), more preferably 2.0 ≦ A ≦ 10.0 (mL / m 2 · day). In addition to the oxygen permeability described above, the properties desired for the protective layer further do not substantially inhibit the transmission of light used for exposure, have excellent adhesion to the photosensitive layer, and are easy in the development process after exposure. It is desirable that it can be removed. The device concerning such a protective layer has been conventionally made, and is described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

保護層に使用できる材料としては例えば、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが好ましく、具体的には、ポリビニルアルコール、ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミドなどのような水溶性ポリマーが挙げられ、これらは単独または混合して使用できる。これらの内、ポリビニルアルコールを主成分として用いる事が、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。   As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity is preferably used. Specifically, polyvinyl alcohol, vinyl alcohol / vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / vinyl are used. Examples include water-soluble polymers such as alcohol / vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / crotonic acid copolymer, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, polyacrylic acid, polyacrylamide, etc. Or they can be mixed. Of these, the use of polyvinyl alcohol as the main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability.

保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、およびアセタールで置換されていても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を有していても良い。ポリビニルアルコールの具体例としては71〜100モル%加水分解され、重合繰り返し単位が300から2400の範囲のものをあげる事ができる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8等が挙げられ、これらは単独または混合して使用できる。好ましい態様としてはポリビニルアルコールの保護層中の含有率が20〜95質量%、より好ましくは、30〜90質量%である。   The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether, and an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components. Specific examples of polyvinyl alcohol include those that are hydrolyzed by 71 to 100 mol% and have a polymerization repeating unit in the range of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- 420, PVA-613, L-8 and the like, and these can be used alone or in combination. In a preferred embodiment, the content of polyvinyl alcohol in the protective layer is 20 to 95% by mass, and more preferably 30 to 90% by mass.

また、公知の変性ポリビニルアルコールも好ましく用いることができる。例えば、カルボキシル基、スルホ基等のアニオンで変性されたアニオン変性部位、アミノ基、アンモニウム基等のカチオンで変性されたカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位等種々の親水性変性部位をランダムに有す各種重合度のポリビニルアルコール、前記のアニオン変性部位、前記のカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位、更にはアルコキシル変性部位、スルフィド変性部位、ビニルアルコールと各種有機酸とのエステル変性部位、前記アニオン変性部位とアルコール類等とのエステル変性部位、エポキシ変性部位等種々の変性部位をポリマー鎖末端に有す各種重合度のポリビニルアルコール等が挙げられる。   Moreover, well-known modified polyvinyl alcohol can also be used preferably. For example, various hydrophilic modification sites such as anion modification sites modified with anions such as carboxyl groups and sulfo groups, cation modification sites modified with cations such as amino groups and ammonium groups, silanol modification sites, and thiol modification sites are randomly selected. Polyvinyl alcohol having various degrees of polymerization, the anion-modified site, the cation-modified site, the silanol-modified site, the thiol-modified site, the alkoxyl-modified site, the sulfide-modified site, and the ester modification of vinyl alcohol and various organic acids. Examples thereof include polyvinyl alcohol having various polymerization degrees having various modified sites such as a site, an ester-modified site of the anion-modified site and alcohols, an epoxy-modified site, and the like.

ポリビニルアルコールと混合して使用する成分としてはポリビニルピロリドンまたはその変性物が酸素遮断性、現像除去性といった観点から好ましく、保護層中の含有率が3.5〜80質量%、好ましくは10〜60質量%、さらに好ましくは15〜30質量%である。   As a component used by mixing with polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone or a modified product thereof is preferable from the viewpoint of oxygen barrier properties and development removability, and the content in the protective layer is 3.5 to 80% by mass, preferably 10 to 60%. It is 15 mass%, More preferably, it is 15-30 mass%.

保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には使用するPVAの加水分解率が高い程(保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚が厚い程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。上記ポリビニルアルコール(PVA)等の(共)重合体の分子量は、2000〜1000万の範囲のものが使用でき、好ましくは2万〜300万範囲のものが適当である。   Components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, and the like are selected in consideration of fogging, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removability. In general, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer), the higher the film thickness, the higher the oxygen barrier property and the more advantageous in terms of sensitivity. The molecular weight of the (co) polymer such as polyvinyl alcohol (PVA) can be in the range of 2000 to 10 million, preferably in the range of 20,000 to 3 million.

保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を(共)重合体に対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を(共)重合体に対して数質量%添加することができる。   As another composition of the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the (co) polymer to provide flexibility. Anionic surfactants such as sodium acid salts; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers to the (co) polymer Mass% can be added.

また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い上極めて重要である。すなわち、水溶性ポリマーからなる親水性の層を親油性の感光層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。これに対し、これら2層間の接着性を改良すべく種々の提案がなされている。例えば米国特許出願番号第292,501号、米国特許出願番号第44,563号には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョンまたは水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを20〜60質量%混合し、感光層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用することができる。このような保護層の塗布方法については、例えば米国特許第3,458,311号明細書、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。   In addition, adhesion to the image area and scratch resistance are extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on an oleophilic photosensitive layer, film peeling due to insufficient adhesion tends to occur, and the peeled part causes defects such as poor film hardening due to inhibition of oxygen polymerization. On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between these two layers. For example, in U.S. Patent Application No. 292,501 and U.S. Patent Application No. 44,563, an acrylic emulsion or a water-insoluble vinyl pyrrolidone-vinyl acetate copolymer is contained in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by mass and laminating on a photosensitive layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. Such a coating method for the protective layer is described in detail in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729.

さらに、本発明の平版印刷版原版における保護層には、酸素遮断性や感光層表面保護性を向上させる目的で、無機質の層状化合物を含有させることも好ましい。
ここで無機質の層状化合物とは、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、下記一般式
A(B,C)−5D10(OH,F,O)
〔ただし、AはK,Na,Caの何れか、BおよびCはFe(II),Fe(III),Mn,Al,Mg,Vの何れかであり、DはSiまたはAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、式3MgO・4SiO・HOで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、りん酸ジルコニウムなどが挙げられる。
Furthermore, the protective layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention preferably contains an inorganic stratiform compound for the purpose of improving oxygen barrier properties and photosensitive layer surface protection.
Here, the inorganic layered compound is a particle having a thin flat plate shape, for example, the following general formula A (B, C) 2 -5D 4 O 10 (OH, F, O) 2.
[However, A is any one of K, Na, and Ca, B and C are any of Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg, and V, and D is Si or Al. And mica groups such as natural mica and synthetic mica, talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, zirconium phosphate and the like represented by the formula 3MgO · 4SiO · H 2 O.

本発明においては、上記の無機質の層状化合物の中でも、合成の無機質の層状化合物であるフッ素系の膨潤性合成雲母が特に有用である。
本発明の無機質の層状化合物のアスペクト比は、好ましくは20以上であり、さらに好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。
In the present invention, among the inorganic layered compounds described above, fluorine-based swellable synthetic mica that is a synthetic inorganic layered compound is particularly useful.
The aspect ratio of the inorganic layered compound of the present invention is preferably 20 or more, more preferably 100 or more, and particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured, for example, from a projected view of the particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.

本発明で使用する無機質の層状化合物の粒子径は、その平均長径が0.3〜20μm、好ましくは0.5〜10μm、特に好ましくは1〜5μmである。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下、好ましくは、0.05μm以下、特に好ましくは、0.01μm以下である。例えば、無機質の層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが1〜50nm、面サイズが1〜20μm程度である。   As for the particle diameter of the inorganic stratiform compound used in the present invention, the average major axis is 0.3 to 20 μm, preferably 0.5 to 10 μm, particularly preferably 1 to 5 μm. The average thickness of the particles is 0.1 μm or less, preferably 0.05 μm or less, particularly preferably 0.01 μm or less. For example, among inorganic layered compounds, the size of the swellable synthetic mica that is a representative compound is about 1 to 50 nm in thickness and about 1 to 20 μm in surface size.

このようにアスペクト比が大きい無機質の層状化合物の粒子を保護層に含有させると、塗膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防止しうるため、変形などによる保護層の劣化を防止し、高湿条件下において長期間保存しても、湿度の変化による平版印刷版原版における画像形成性の低下もなく保存安定性に優れる。   When the inorganic layered compound particles having such a large aspect ratio are contained in the protective layer, the coating film strength is improved, and the permeation of oxygen and moisture can be effectively prevented. Deterioration is prevented, and even when stored for a long time under high-humidity conditions, the storage stability of the planographic printing plate precursor does not deteriorate due to changes in humidity, and the storage stability is excellent.

多層構造の保護層の好ましい態様としては、感光層に近接して無機質の層状化合物を含有する保護層を下部保護層として設け、その表面にフィラーを含有する保護層を上部保護層として、これらを順次積層する態様が挙げられる。
このような積層構造の保護層を設けることによって、最上層の保護層において、フィラーに起因する耐傷性、耐接着性の利点を十分に生かしながら、下部保護層の優れた酸素遮断性と相俟って、傷の発生及び所望されない酸素透過のいずれに起因する画像欠損も効果的に防止することができる。
As a preferable embodiment of the protective layer having a multilayer structure, a protective layer containing an inorganic layered compound is provided as a lower protective layer in the vicinity of the photosensitive layer, and a protective layer containing a filler on the surface thereof is used as an upper protective layer. The aspect which laminates | stacks sequentially is mentioned.
By providing a protective layer having such a laminated structure, the uppermost protective layer has the excellent oxygen barrier properties and compatibility with the lower protective layer while fully utilizing the advantages of scratch resistance and adhesion resistance due to the filler. Thus, it is possible to effectively prevent image defects due to both the generation of scratches and undesired oxygen permeation.

保護層中の無機質層状化合物の含有量は、保護層に使用されるバインダーの量に対し、質量比で5/1〜1/100であることが好ましい。複数種の無機質の層状化合物を併用した場合でも、これら無機質の層状化合物の合計量が上記の質量比であることが好ましい。   It is preferable that content of the inorganic stratiform compound in a protective layer is 5/1-1/100 by mass ratio with respect to the quantity of the binder used for a protective layer. Even when a plurality of types of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of these inorganic layered compounds is preferably the above-described mass ratio.

保護層に用いる無機質層状化合物の分散方法は、特開2007−171406、特開2007−206216、特開2007−206217、特開2007−225701、特開2007−225702、特開2007−316582、特開2007−328243等に記載の方法が用いられる。   The dispersion method of the inorganic stratiform compound used for the protective layer is disclosed in JP 2007-171406, JP 2007-206216, JP 2007-206217, JP 2007-225701, JP 2007-225702, JP 2007-316582, JP The method described in 2007-328243 etc. is used.

保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.05〜10g/m2 の範囲であることが好ましく、無機質の層状化合物を含有する場合には、0.1〜0.5g/m2の範囲であることがさらに好ましく、無機質の層状化合物を含有しない場合には、0.5〜5g/m2の範囲であることがさらに好ましい。   The coating amount of the protective layer is preferably in the range of 0.05 to 10 g / m 2 in terms of the coating amount after drying. When the inorganic layered compound is contained, it is 0.1 to 0.5 g / m 2. In the case where the inorganic layered compound is not contained, the range of 0.5 to 5 g / m 2 is further preferable.

[支持体]
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状な親水性支持体であればよい。例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上述した金属がラミネートされまたは蒸着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルムおよびアルミニウム板が挙げられる。中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が好ましい。
[Support]
The support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like hydrophilic support. For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or deposited. Preferable supports include a polyester film and an aluminum plate. Among these, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、または、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。   The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましく、0.2〜0.3mmであるのが更に好ましい。   The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm, and even more preferably from 0.2 to 0.3 mm.

アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すのが好ましい。表面処理により、親水性の向上および感光層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。   Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, it becomes easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the photosensitive layer and the support. Prior to the roughening treatment of the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.

アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment for dissolving the surface electrochemically), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.

粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、更に、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。   The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸またはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温度5〜70℃、電流密度5〜60A/dm、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であるのが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/mであるのが好ましく、1.5〜4.0g/mであるのがより好ましい。この範囲内で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られる。
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, an electrolyte concentration of 1 to 80% by mass solution, a liquid temperature of 5 to 70 ° C., a current density of 5 to 60 A / dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferable. The amount of the anodized film formed is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2, and more preferably 1.5 to 4.0 g / m 2. Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained.

本発明で用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板そのままでもよいが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、断熱性などの一層改良のため、必要に応じて、特開2001−253181号や特開2001−322365号の公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理、マイクロポアの封孔処理、および親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。もちろんこれら拡大処理、封孔処理は、これらに記載のものに限られたものではなく従来公知の何れも方法も行うことができる。   As the support used in the present invention, the substrate having the above-mentioned surface treatment and having an anodized film may be used as it is, but for further improvement in adhesion to the upper layer, hydrophilicity, resistance to contamination, heat insulation and the like. If necessary, it contains a micropore enlargement treatment, a micropore sealing treatment, and a hydrophilic compound described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-253181 and 2001-322365. A surface hydrophilization treatment immersed in an aqueous solution can be selected as appropriate. Of course, these enlargement processing and sealing processing are not limited to those described above, and any conventionally known method can be performed.

封孔処理としては、蒸気封孔のほかフッ化ジルコン酸の単独処理、フッ化ナトリウムによる処理など無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、塩化リチウムを添加した蒸気封孔、熱水による封孔処理でも可能である。
なかでも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理および熱水による封孔処理が好ましい。
Sealing treatment includes vapor sealing, single treatment with zirconic fluoride, treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound such as treatment with sodium fluoride, vapor sealing with addition of lithium chloride, sealing with hot water. Hole processing is also possible.
Of these, sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, sealing treatment with water vapor, and sealing treatment with hot water are preferable.

親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号および同第3,902,734号の明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液で浸漬処理し、または電解処理する。
そのほかに、特公昭36−22063号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号および同第4,689,272号の明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。
The hydrophilization treatment is described in the specifications of US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734, and 3,902,734. There are such alkali metal silicate methods. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated.
In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinylphosphonic acid as described in the specification of No. 272.

本発明の支持体としてポリエステルフィルムなど表面の親水性が不十分な支持体を用いる場合は、親水層を塗布して表面を親水性にすることが望ましい。
親水層としては、特開2001−199175号公報に記載の、ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属から選択される少なくとも一つの元素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層や、特開2002−79772号公報に記載の、有機親水性ポリマーを架橋あるいは疑似架橋することにより得られる有機親水性マトリックスを有する親水層や、ポリアルコキシシラン、チタネート、ジルコネートまたはアルミネートの加水分解、縮合反応からなるゾル−ゲル変換により得られる無機親水性マトリックスを有する親水層、あるいは、金属酸化物を含有する表面を有する無機薄膜からなる親水層が好ましい。中でも、珪素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層が好ましい。
When using a support with insufficient surface hydrophilicity such as a polyester film as the support of the present invention, it is desirable to apply a hydrophilic layer to make the surface hydrophilic.
As the hydrophilic layer, at least one element selected from beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony, and a transition metal described in JP-A-2001-199175 A hydrophilic layer obtained by coating a coating solution containing a colloid of oxide or hydroxide, or an organic hydrophilic polymer obtained by crosslinking or pseudo-crosslinking an organic hydrophilic polymer described in JP-A No. 2002-79772 A hydrophilic layer having a hydrophilic matrix, a hydrophilic layer having an inorganic hydrophilic matrix obtained by sol-gel conversion comprising hydrolysis, condensation reaction of polyalkoxysilane, titanate, zirconate or aluminate, or a metal oxide A hydrophilic layer made of an inorganic thin film having a surface is preferred. Arbitrariness. Among these, a hydrophilic layer formed by applying a coating solution containing a silicon oxide or hydroxide colloid is preferable.

また、本発明の支持体としてポリエステルフィルム等を用いる場合には、支持体の親水性層側または反対側、あるいは両側に、帯電防止層を設けるのが好ましい。帯電防止層を支持体と親水性層との間に設けた場合には、親水性層との密着性向上にも寄与する。帯電防止層としては、特開2002−79772号公報に記載の、金属酸化物微粒子やマット剤を分散したポリマー層等が使用できる。   Moreover, when using a polyester film etc. as a support body of this invention, it is preferable to provide an antistatic layer in the hydrophilic layer side of a support body, the opposite side, or both sides. In the case where the antistatic layer is provided between the support and the hydrophilic layer, it also contributes to improving the adhesion with the hydrophilic layer. As the antistatic layer, a polymer layer in which metal oxide fine particles or a matting agent are dispersed as described in JP-A-2002-79772 can be used.

支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。この範囲内で、感光層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。
また、支持体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.65であるのが好ましい。この範囲内で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。
The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the photosensitive layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.
The color density of the support is preferably 0.15 to 0.65 as the reflection density value. Within this range, good image formability by preventing halation during image exposure and good plate inspection after development can be obtained.

[下塗り層]
本発明の平版印刷版原版においては、支持体上に重合性基を含有する化合物の下塗り層を設けることが好ましい。下塗り層が用いられるときは、感光層は下塗り層の上に設けられる。下塗り層は、露光部においては支持体と感光層との密着性を強化し、また、未露光部においては、感光層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、現像性が向上する。
下塗り層としては、具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物などが好適に挙げられる。特に好ましい化合物として、メタクリル基、アリル基などの重合性基とスルホン酸基、リン酸基、リン酸エステルなどの支持体吸着性基を有する化合物が挙げられる。重合性基と支持体吸着性基に加えてエチレンオキシド基などの親水性付与基を有する化合物も好適な化合物として挙げることができる。
下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/mであるのが好ましく、1〜30mg/mであるのがより好ましい。
[Undercoat layer]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, it is preferable to provide an undercoat layer of a compound containing a polymerizable group on a support. When an undercoat layer is used, the photosensitive layer is provided on the undercoat layer. The undercoat layer reinforces the adhesion between the support and the photosensitive layer in the exposed area, and easily peels the photosensitive layer from the support in the unexposed area, thereby improving the developability.
As the undercoat layer, specifically, a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679, JP-A-2-304441. The phosphorus compound etc. which have the ethylenic double bond reactive group of description are mentioned suitably. Particularly preferable compounds include compounds having a polymerizable group such as a methacryl group or an allyl group and a support adsorbing group such as a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, or a phosphoric acid ester. A compound having a hydrophilicity-imparting group such as an ethylene oxide group in addition to the polymerizable group and the support-adsorbing group can also be exemplified as a suitable compound.
The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1 to 100 mg / m 2 , and more preferably from 1 to 30 mg / m 2 .

[バックコート層]
支持体に表面処理を施した後または下塗り層を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコートを設けることができる。
バックコートとしては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Si(OCH、Si(OC、Si(OC、Si(OC等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
[Back coat layer]
After the surface treatment is performed on the support or after the undercoat layer is formed, a back coat can be provided on the back surface of the support, if necessary.
Examples of the back coat include hydrolysis and polycondensation of organic polymer compounds described in JP-A-5-45885, organometallic compounds or inorganic metal compounds described in JP-A-6-35174. A coating layer made of a metal oxide obtained in this manner is preferred. Of these, the use of silicon alkoxy compounds such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4, etc. is inexpensive. It is preferable in terms of easy availability.

[平版印刷版原版の製版]
本発明の平版印刷版原版を製版するためには、少なくとも、露光及び現像のプロセスが行われる。
本発明のネガ型平版印刷版原版を露光する光源としては、公知のものを制限なく用いることができる。望ましい光源の波長は300nmから1200nmであり、具体的には各種レーザーを光源として用いることが好適であり、中でも、波長780nm〜1200nmの赤外線レーザー及び波長350nm〜450nmのバイオレット光レーザーが好適に用いられる。
露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。
[Plate making of lithographic printing plate precursor]
In order to make a lithographic printing plate precursor according to the present invention, at least exposure and development processes are performed.
As a light source for exposing the negative planographic printing plate precursor of the present invention, a known light source can be used without limitation. The desirable wavelength of the light source is 300 nm to 1200 nm. Specifically, it is preferable to use various lasers as the light source. Among them, an infrared laser having a wavelength of 780 nm to 1200 nm and a violet light laser having a wavelength of 350 nm to 450 nm are preferably used. .
The exposure mechanism may be any of an internal drum system, an external drum system, a flat bed system, and the like.

また、本発明の平版印刷版原版に対するその他の露光光線としては、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯、可視及び紫外の各種レーザーランプ、蛍光灯、タングステン灯、太陽光等も使用できる。   In addition, as other exposure beams for the lithographic printing plate precursor of the present invention, ultra-high pressure, high pressure, medium pressure, low pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, various visible and ultraviolet laser lamps Fluorescent lamps, tungsten lamps, sunlight, etc. can also be used.

本発明の平版印刷版原版は、露光された後、現像処理される。かかる現像処理においては、蒸留水、pH14以下のアルカリ水溶液あるいは特開昭54−8002号公報、同55−115045号公報、同59−58431号公報等に記載の水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液を用いることができる。
現像液としては、pH14以下のアルカリ水溶液が特に好ましく、より好ましくはアニオン系界面活性剤を含有するpH8〜12のアルカリ水溶液が使用される。例えば、第三リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムなどの無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は、単独若しくは2種以上を組み合わせて用いられる。
The lithographic printing plate precursor according to the invention is developed after being exposed. In such development processing, distilled water, an alkaline aqueous solution having a pH of 14 or less, or washing water, a surfactant and the like described in JP-A Nos. 54-8002, 55-11545, and 59-58431 are contained. Rinsing liquid, desensitizing liquid containing gum arabic or starch derivatives can be used.
As the developer, an alkaline aqueous solution having a pH of 14 or less is particularly preferable, and an alkaline aqueous solution having a pH of 8 to 12 containing an anionic surfactant is more preferably used. For example, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium borate, Examples include inorganic alkaline agents such as potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium. In addition, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used. These alkali agents are used alone or in combination of two or more.

また、本発明の平版印刷版原版の現像処理においては、現像液中にアニオン界面活性剤を1〜20質量%加えるが、より好ましくは、3〜10質量%で使用される。少なすぎると現像性が悪化し、多すぎると画像の耐摩耗性などの強度が劣化するなどの弊害が出る。
アニオン界面活性剤としては、例えば、ラウリルアルコールサルフェートのナトリウム塩、ラウリルアルコールサルフェートのアンモニウム塩、オクチルアルコールサルフェートのナトリウム塩、例えば、イソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、イソブチルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、ポリオキシエチレングリコールモノナフチルエーテル硫酸エステルのナトリウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、メタニトロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩などのようなアルキルアリールスルホン酸塩、第2ナトリウムアルキルサルフェートなどの炭素数8〜22の高級アルコール硫酸エステル類、セチルアルコールリン酸エステルのナトリウム塩などの様な脂肪族アルコールリン酸エステル塩類、例えば、C1733CON(CH)CHCHSONaなどのようなアルキルアミドのスルホン酸塩類、例えば、ナトリウムスルホコハク酸ジオクチルエステル、ナトリウムスルホコハク酸ジヘキシルエステルなどの二塩基性脂肪族エステルのスルホン酸塩類などが含まれる。
In the development processing of the lithographic printing plate precursor according to the invention, 1 to 20% by mass of an anionic surfactant is added to the developer, and more preferably 3 to 10% by mass. If the amount is too small, the developability deteriorates. If the amount is too large, the strength such as the abrasion resistance of the image deteriorates.
Examples of the anionic surfactant include sodium salt of lauryl alcohol sulfate, ammonium salt of lauryl alcohol sulfate, sodium salt of octyl alcohol sulfate, such as sodium salt of isopropyl naphthalene sulfonic acid, sodium salt of isobutyl naphthalene sulfonic acid, polyoxy Higher carbon number such as sodium salt of ethylene glycol mononaphthyl ether sulfate ester, sodium salt of dodecylbenzene sulfonic acid, alkylaryl sulfonate such as sodium salt of metanitrobenzene sulfonic acid, secondary sodium alkyl sulfate, etc. Aliphatic alcohol phosphates such as alcohol sulfates, sodium salts of cetyl alcohol phosphates, eg C 17 H 33 CON (CH 3) CH 2 CH 2 SO 3 sulfonates of alkylamides such as Na, for example, sodium sulfosuccinate dioctyl ester, sulfonate of dibasic aliphatic esters such as sodium sulfosuccinate dihexyl ester Salts are included.

必要に応じてベンジルアルコール等の水と混合するような有機溶媒を現像液に加えてもよい。有機溶媒としては、水に対する溶解度が約10質量%以下のものが適しており、好ましくは5質量%以下のものから選ばれる。例えば、1−フェニルエタノール、2−フェニルエタノール、3−フェニルプロパノール、1,4−フェニルブタノール、2,2−フェニルブタノール、1,2−フェノキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノール、o−メトキシベンジルアルコール、m−メトキシベンジルアルコール、p−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘクサノール、4−メチルシクロヘクサノール及び3−メチルシクロヘクサノール等を挙げることができる。
有機溶媒の含有量は、使用時の現像液の総質量に対して1〜5質量%が好適である。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶媒の量が増すにつれ、アニオン界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これはアニオン界面活性剤の量が少ない状態で、有機溶媒の量を多く用いると有機溶媒が溶解せず、従って良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。
If necessary, an organic solvent such as benzyl alcohol mixed with water may be added to the developer. As the organic solvent, those having a solubility in water of about 10% by mass or less are suitable, and preferably selected from those having 5% by mass or less. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenylpropanol, 1,4-phenylbutanol, 2,2-phenylbutanol, 1,2-phenoxyethanol, 2-benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m -Methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol and the like can be mentioned.
The content of the organic solvent is preferably 1 to 5% by mass with respect to the total mass of the developer during use. The amount used is closely related to the amount of surfactant used, and it is preferable to increase the amount of anionic surfactant as the amount of organic solvent increases. This is because when the amount of the organic solvent is large and the amount of the anionic surfactant is small, the organic solvent is not dissolved, so that it is impossible to expect good developability.

また、更に必要に応じ、消泡剤及び硬水軟化剤のような添加剤を含有させることもできる。硬水軟化剤としては、例えば、Na、Na、Na、NaP(NaOP)PONa、カルゴン(ポリメタリン酸ナトリウム)などのポリリン酸塩、アミノポリカルボン酸類(例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩)、他のポリカルボン酸類(例えば、2−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;2一ホスホノブタノントリカルボン酸−2,3,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩など)、有機ホスホン酸類(例えば、1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,2,2、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩など)を挙げることができる。
このような硬水軟化剤の最適量は使用される硬水の硬度及びその使用量に応じて変化するが、一般的には、使用時の現像液中に0.01〜5質量%、より好ましくは0.01〜0.5質量%の範囲で含有させられる。
Furthermore, additives such as an antifoaming agent and a hard water softening agent can be further contained as necessary. Examples of the hard water softener include Na 2 P 2 O 7 , Na 5 P 3 O 3 , Na 3 P 3 O 9 , Na 2 O 4 P (NaO 3 P) PO 3 Na 2 , and Calgon (sodium polymetaphosphate). Such as polyphosphates, aminopolycarboxylic acids (eg, ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; diethylenetriaminepentaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; triethylenetetraminehexaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt Hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; nitrilotriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; 1,3-diamino-2 -Propanol tetraacetic acid , Its potassium salt, its sodium salt), other polycarboxylic acids (for example, 2-phosphonobutanetricarboxylic acid-1,2,4, its potassium salt, its sodium salt; 2 monophosphonobutanone tricarboxylic acid-2, 3,4, its potassium salt, its sodium salt, etc.), organic phosphonic acids (eg, 1-phosphonoethanetricarboxylic acid-1,2,2, its potassium salt, its sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1 -Diphosphonic acid, its potassium salt, its sodium salt; aminotri (methylenephosphonic acid), its potassium salt, its sodium salt, etc.).
The optimum amount of such a hard water softener varies depending on the hardness of the hard water used and the amount used, but is generally 0.01 to 5% by weight, more preferably in the developer at the time of use. It is made to contain in 0.01-0.5 mass%.

更に、自動現像機を用いて、本発明の平版印刷版原版を現像する場合には、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。この場合、米国特許第4,882,246号に記載されている方法で補充することが好ましい。また、特開昭50−26601号、同58−54341号、特公昭56−39464号、同56−42860号、同57−7427号の各公報に記載されている現像液も好ましい。   Further, when the lithographic printing plate precursor of the present invention is developed using an automatic developing machine, the developing solution becomes fatigued according to the processing amount, so that the replenishing solution or a fresh developing solution is used to increase the processing capacity. It may be recovered. In this case, it is preferable to replenish by the method described in US Pat. No. 4,882,246. Developers described in JP-A-50-26601, 58-54341, JP-B-56-39464, 56-42860, and 57-7427 are also preferable.

このようにして現像処理された平版印刷版原版は、特開昭54−8002号、同55−115045号、同59−58431号等の各公報に記載されているように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理されてもよい。本発明の平版印刷版原版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。   The lithographic printing plate precursor thus developed is subjected to washing water, surface activity as described in JP-A Nos. 54-8002, 55-11545, 59-58431, and the like. It may be post-treated with a rinsing liquid containing an agent, a desensitizing liquid containing gum arabic, starch derivatives, and the like. These treatments can be used in various combinations for the post-treatment of the lithographic printing plate precursor according to the invention.

本発明の平版印刷版原版の製版プロセスとして、必要に応じ、露光前、露光中、露光から現像までの間に、全面を加熱してもよい。このような加熱により、感光層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上、感度の安定化といった利点が生じ得る。更に、画像強度・耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱若しくは、全面露光を行うことも有効である。
通常、現像前の加熱は、所望されない硬化反応の発生の観点から、150℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。また、現像後の加熱には非常に強い条件を利用することができる。通常は、画像強化作用や画像部の熱分解の発生の観点から、加熱温度が200〜500℃の範囲で実施される。
As the plate-making process of the lithographic printing plate precursor according to the invention, the entire surface may be heated before exposure, during exposure, and between exposure and development, if necessary. By such heating, the image forming reaction in the photosensitive layer is promoted, and advantages such as improvement in sensitivity and printing durability and stabilization of sensitivity may occur. Further, for the purpose of improving the image strength and printing durability, it is also effective to subject the developed image to full post heating or full exposure.
Usually, heating before development is preferably performed under mild conditions of 150 ° C. or less from the viewpoint of occurrence of an undesired curing reaction. Also, very strong conditions can be used for heating after development. Usually, the heating temperature is in the range of 200 to 500 ° C. from the viewpoint of image strengthening action and thermal decomposition of the image area.

以上の処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
なお、印刷に供された平版印刷版の耐汚れは、プレートクリーナーにより除去することができる。印刷時、版上の耐汚れ除去のため使用するプレートクリーナーとしては、従来より知られているPS版用プレートクリーナーが使用され、例えば、CL−1、CL−2、CP、CN−4、CN、CG−1、PC−1、SR、IC(富士写真フイルム株式会社製)等が挙げられる。
The planographic printing plate obtained by the above processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.
The stain resistance of the lithographic printing plate subjected to printing can be removed by a plate cleaner. As plate cleaners used for removing stain resistance on printing plates, conventionally known plate cleaners for PS plates are used. For example, CL-1, CL-2, CP, CN-4, CN CG-1, PC-1, SR, IC (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) and the like.

以下、実施例によって本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these.

[ポリウレタン樹脂の合成]
<合成例1:ポリウレタン樹脂(P−1)>
本発明に係る特定ポリウレタン樹脂である「ポリウレタン樹脂(P−1)」を以下のごとく合成した。
コンデンサー、攪拌機を取り付けた500mlの三口丸底フラスコに、ジフェニルメタンジイソシアネート(100.10g、和光純薬(製))、ヘキサメチレンジイソシアネート(16.82g、和光純薬(株)製)、下記化合物1(41.32g)、平均分子量1000のポリプロピレングリコール(100.00g、和光純薬(製))、下記化合物2(21.14g)、下記化合物3(1.18g)、N,N−ジメチルアセトアミド(800g、和光純薬(製))、及びジラウリン酸ジ−n−ブチルスズ(5滴、東京化成工業(株)製)を入れ、100℃で8時間加熱した。その後、メタノール(100ml)、N,N−ジメチルアセトアミド(800g)にて希釈した。反応溶液を水(4L)中に攪拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させた。このポリマーをろ別し、水で洗浄後、真空乾燥させることにより、下記ポリウレタン樹脂(P−1)(51.35g)を得た。
得られたポリウレタン樹脂(P−1)の還元比粘度を明細中記載の方法により測定したところ180ml/gであった。
[Synthesis of polyurethane resin]
<Synthesis Example 1: Polyurethane resin (P-1)>
"Polyurethane resin (P-1)" which is a specific polyurethane resin according to the present invention was synthesized as follows.
In a 500 ml three-necked round bottom flask equipped with a condenser and a stirrer, diphenylmethane diisocyanate (100.10 g, Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), hexamethylene diisocyanate (16.82 g, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), the following compound 1 ( 41.32 g), polypropylene glycol having an average molecular weight of 1000 (100.00 g, Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), the following compound 2 (21.14 g), the following compound 3 (1.18 g), N, N-dimethylacetamide (800 g) , Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and di-n-butyltin dilaurate (5 drops, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were heated at 100 ° C. for 8 hours. Then, it diluted with methanol (100 ml) and N, N-dimethylacetamide (800 g). The reaction solution was poured into water (4 L) with stirring to precipitate a white polymer. The polymer was filtered off, washed with water, and then vacuum dried to obtain the following polyurethane resin (P-1) (51.35 g).
The reduced specific viscosity of the obtained polyurethane resin (P-1) was measured by the method described in the specification, and found to be 180 ml / g.



<合成例2:ポリウレタン樹脂(P−2)>
100℃で8時間加熱する代わりに、100℃で2時間加熱した以外は、合成例1と同様にして、ポリウレタン樹脂(P−2)を得た。
得られたポリウレタン樹脂(P−2)の還元比粘度を明細中記載の方法により測定したところ50ml/gであった。
<Synthesis Example 2: Polyurethane resin (P-2)>
Instead of heating at 100 ° C. for 8 hours, a polyurethane resin (P-2) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1, except that heating was performed at 100 ° C. for 2 hours.
It was 50 ml / g when the reduced specific viscosity of the obtained polyurethane resin (P-2) was measured by the method as described in a specification.

<合成例3:ポリウレタン樹脂(P−3)>
100℃で8時間加熱する代わりに、100℃で4時間加熱した以外は、合成例1と同様にして、ポリウレタン樹脂(P−3)を得た。
得られたポリウレタン樹脂(P−3)の還元比粘度を明細中記載の方法により測定したところ80ml/gであった。
<Synthesis Example 3: Polyurethane resin (P-3)>
Instead of heating at 100 ° C. for 8 hours, a polyurethane resin (P-3) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that heating was performed at 100 ° C. for 4 hours.
The reduced specific viscosity of the obtained polyurethane resin (P-3) was measured by the method described in the specification and found to be 80 ml / g.

<合成例4:ポリウレタン樹脂(P−4)>
100℃で8時間加熱する代わりに、100℃で10時間加熱した以外は、合成例1と同様にして、ポリウレタン樹脂(P−4)を得た。
得られたポリウレタン樹脂(P−4)の還元比粘度を明細中記載の方法により測定したところ250ml/gであった。
<Synthesis Example 4: Polyurethane resin (P-4)>
Instead of heating at 100 ° C. for 8 hours, a polyurethane resin (P-4) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that heating was performed at 100 ° C. for 10 hours.
It was 250 ml / g when the reduction | restoration specific viscosity of the obtained polyurethane resin (P-4) was measured by the method as described in a specification.

<合成例5:比較ポリウレタン樹脂(CP−1)>
100℃で8時間加熱する代わりに、100℃で1.5時間加熱した以外は、合成例1と同様にして、ポリウレタン樹脂(CP−1)を得た。
得られたポリウレタン樹脂(CP−1)の還元比粘度を明細中記載の方法により測定したところ30ml/gであった。
<Synthesis Example 5: Comparative polyurethane resin (CP-1)>
Instead of heating at 100 ° C. for 8 hours, a polyurethane resin (CP-1) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that heating was performed at 100 ° C. for 1.5 hours.
The reduced specific viscosity of the obtained polyurethane resin (CP-1) was measured by the method described in the specification and found to be 30 ml / g.

<合成例6:比較ポリウレタン樹脂(CP−2)>
100℃で8時間加熱する代わりに、100℃で13時間加熱した以外は、合成例1と同様にして、ポリウレタン樹脂(CP−2)を得た。
得られたポリウレタン樹脂(CP−2)の還元比粘度を明細中記載の方法により測定したところ300ml/gであった。
<Synthesis Example 6: Comparative polyurethane resin (CP-2)>
Instead of heating at 100 ° C. for 8 hours, a polyurethane resin (CP-2) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1, except that heating was performed at 100 ° C. for 13 hours.
The reduced specific viscosity of the obtained polyurethane resin (CP-2) was measured by the method described in the specification and found to be 300 ml / g.

結果を表1に示す。   The results are shown in Table 1.

[平版印刷版原版の作製]
<実施例1>
以下の手順で、ネガ型平版印刷版原版を作製し、評価した。結果を表2〜4に併記する。
[Preparation of lithographic printing plate precursor]
<Example 1>
A negative lithographic printing plate precursor was prepared and evaluated by the following procedure. The results are also shown in Tables 2-4.

―支持体の作製―
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質1050)を用いて以下の(a)〜(e)の各種処理を連続的に行った。なお、各処理及び水洗の後にはニップローラで液切りを行った。
-Production of support-
Various treatments (a) to (e) below were continuously performed using an aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.3 mm. In addition, after each process and water washing, the liquid was drained with the nip roller.

(処理(a))
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径30μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm)を用いブラシ回転数250rpmでアルミ表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。
(Process (a))
In order to remove rolling oil on the surface of an aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.3 mm, a degreasing treatment was performed at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution, and then the hair diameter was 0.3 mm. Using three bundle-planted nylon brushes and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) having a median diameter of 30 μm, the aluminum surface was grained at a brush rotation speed of 250 rpm, and washed thoroughly with water.

(処理(b))
この板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60℃で20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/mであった。
(Process (b))
This plate was etched by being immersed in a 25% aqueous sodium hydroxide solution at 45 ° C. for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20% nitric acid at 60 ° C. for 20 seconds, and washed with water. At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 .

(処理(c))
次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dmであった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(Process (c))
Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

(処理(d))
次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dmの条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
(Process (d))
Next, a 0.5% by mass hydrochloric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. and nitric acid electrolysis under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate is an anode. In the same manner as above, an electrochemical surface roughening treatment was performed, followed by washing with water by spraying.

(処理(e))
この板を、15%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dmで2.5g/mの直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗、乾燥し支持体Aとした。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。
以上のようにしてアルミニウム支持体を作製した。
(Process (e))
The plate was provided with a direct current anodic oxide coating of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using 15% sulfuric acid (containing 0.5 mass% of aluminum ions) as an electrolyte, and then washed with water, dried and supported. Body A. The centerline average roughness (Ra) of this substrate was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm.
An aluminum support was produced as described above.

―中間層の形成―
次に、このアルミニウム支持体の表面に下記中間層用塗布液をワイヤーバーにて塗布し、100℃10秒間乾燥して中間層を形成した。塗布量は5mg/mであった。
―Formation of intermediate layer―
Next, the following intermediate layer coating solution was applied to the surface of the aluminum support with a wire bar and dried at 100 ° C. for 10 seconds to form an intermediate layer. The coating amount was 5 mg / m 2 .

(中間層用塗布液)
・下記構造の高分子化合物a−1(Mw:35,000) 0.05g
・メタノール 27g
・イオン交換水 3g
(Coating liquid for intermediate layer)
-Polymer compound a-1 having the following structure (Mw: 35,000) 0.05 g
・ Methanol 27g
・ Ion exchange water 3g


―感光層の形成―
得られた中間層の上に、下記組成の感光層用塗布液を調製し、ワイヤーバーを用いて乾燥後の塗布量が1.0g/mとなるように塗布し、温風式乾燥装置にて115℃で34秒間乾燥して感光層を形成した。
-Formation of photosensitive layer-
On the obtained intermediate layer, a coating solution for the photosensitive layer having the following composition is prepared and applied using a wire bar so that the coating amount after drying is 1.0 g / m 2. And dried at 115 ° C. for 34 seconds to form a photosensitive layer.

(感光層用塗布液1)
・赤外線吸収剤(下記IR−1) 0.040g
・重合開始剤A(下記S−1) 0.104g
・重合開始剤B(下記I−1) 0.153g
・メルカプト化合物(下記SH−1) 0.038g
・増感助剤(下記T−1) 0.121g
・重合性化合物(下記M−1) 0.535g
・ウレタン系バインダーポリマーA
(前記ポリウレタン樹脂(P−1)、Mw:100000) 0.107g
・アクリル系バインダーポリマーB
(下記アクリル樹脂B−1、Mw:100000) 0.267g
・アクリル系バインダーポリマーC
(下記アクリル樹脂C−1、Mw:100000) 0.160g
・銅フタロシアニン顔料分散物
(C.I.Pigment Blue 15:6、
分散溶媒:MEK/MFG/MA=2/2/1、顔料固形分15wt%)0.775g
・重合禁止剤(下記Q−1) 0.0015g
・フッ素系界面活性剤
(メガファックF−780−F 大日本インキ化学工業(株)、
メチルイソブチルケトン(MIBK)30質量%溶液) 0.016g
・メチルエチルケトン 6.481g
・メタノール 2.738g
・1−メトキシ−2−プロパノール 5.119g
(Coating solution 1 for photosensitive layer)
・ Infrared absorber (IR-1 below) 0.040g
・ Polymerization initiator A (S-1 below) 0.104 g
・ Polymerization initiator B (I-1 below) 0.153g
・ Mercapto compound (SH-1 below) 0.038 g
-Sensitization aid (T-1 below) 0.121g
・ Polymerizable compound (M-1 below) 0.535g
・ Urethane binder polymer A
(Polyurethane resin (P-1), Mw: 100,000) 0.107 g
・ Acrylic binder polymer B
(The following acrylic resin B-1, Mw: 100,000) 0.267 g
・ Acrylic binder polymer C
(The following acrylic resin C-1, Mw: 100,000) 0.160 g
Copper phthalocyanine pigment dispersion (CI Pigment Blue 15: 6,
Dispersion solvent: MEK / MFG / MA = 2/2/1, pigment solid content 15 wt%) 0.775 g
・ Polymerization inhibitor (Q-1 below) 0.0015g
-Fluorosurfactant (Megafac F-780-F Dainippon Ink & Chemicals,
0.016 g of methyl isobutyl ketone (MIBK) 30% by mass solution)
・ Methyl ethyl ketone 6.481g
・ Methanol 2.738g
・ 5-119 g of 1-methoxy-2-propanol





―下部保護層の形成―
上記のようにして得られた感光層表面に、合成雲母(ソマシフMEB−3L、3.2%水分散液、コープケミカル(株)製)、ポリビニルアルコール(ゴーセランCKS−50:ケン化度99モル%、重合度300、スルホン酸変性ポリビニルアルコール日本合成化学工業株式会社製)界面活性剤A(日本エマルジョン社製、エマレックス710)及び界面活性剤B(アデカプルロニックP−84:旭電化工業株式会社製)の混合水溶液(保護層用塗布液)をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて125℃で30秒間乾燥させた。
この混合水溶液(保護層用塗布液)中の合成雲母(固形分)/ポリビニルアルコール/界面活性剤A/界面活性剤Bの含有量割合は、7.5/89/2/1.5(質量%)であり、塗布量は(乾燥後の被覆量)は0.5g/mであった。
―Formation of lower protective layer―
On the surface of the photosensitive layer obtained as described above, synthetic mica (Somasif MEB-3L, 3.2% aqueous dispersion, manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.), polyvinyl alcohol (Goselan CKS-50: degree of saponification 99 mol) %, Polymerization degree 300, sulfonic acid-modified polyvinyl alcohol Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) Surfactant A (Nihon Emulsion Co., Emalex 710) and Surfactant B (Adeka Pluronic P-84: Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) Manufactured aqueous solution (coating solution for protective layer) was applied with a wire bar, and dried at 125 ° C. for 30 seconds with a hot air dryer.
The content ratio of synthetic mica (solid content) / polyvinyl alcohol / surfactant A / surfactant B in the mixed aqueous solution (coating liquid for protective layer) was 7.5 / 89/2 / 1.5 (mass). The coating amount (the coating amount after drying) was 0.5 g / m 2 .

―上部保護層の形成―
下部保護層表面に、有機フィラー(アートパールJ−7P、根上工業(株)製)、合成雲母(ソマシフMEB−3L、3.2%水分散液、コープケミカル(株)製)、ポリビニルアルコール(L−3266:ケン化度87モル%、重合度300、スルホン酸変性ポリビニルアルコール日本合成化学工業株式会社製)、増粘剤(セロゲンFS−B、第一工業製薬(株)製)、高分子化合物A(下記構造)、及び界面活性剤(日本エマルジョン社製、エマレックス710)の混合水溶液(保護層用塗布液)をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて125℃で30秒間乾燥させた。
この混合水溶液(保護層用塗布液)中の有機フィラー/合成雲母(固形分)/ポリビニルアルコール/増粘剤/高分子化合物A/界面活性剤の含有量割合は、4.7/2.8/67.4/18.6/2.3/4.2(質量%)であり、塗布量は(乾燥後の被覆量)は1.8g/mであった。
このようにして、実施例1の平版印刷版原版を得た。
-Formation of upper protective layer-
On the surface of the lower protective layer, an organic filler (Art Pearl J-7P, manufactured by Negami Industrial Co., Ltd.), synthetic mica (Somasif MEB-3L, 3.2% aqueous dispersion, manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.), polyvinyl alcohol ( L-3266: Saponification degree 87 mol%, polymerization degree 300, sulfonic acid-modified polyvinyl alcohol, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., thickener (Serogen FS-B, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), polymer A mixed aqueous solution (coating solution for protective layer) of Compound A (structure shown below) and a surfactant (manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd., Emalex 710) is applied with a wire bar, and heated at 125 ° C. for 30 seconds with a hot air dryer. Dried.
The content ratio of the organic filler / synthetic mica (solid content) / polyvinyl alcohol / thickener / polymer compound A / surfactant in the mixed aqueous solution (protective layer coating solution) is 4.7 / 2.8. /67.4/18.6/2.3/4.2 (mass%), and the coating amount (the coating amount after drying) was 1.8 g / m 2 .
Thus, the planographic printing plate precursor of Example 1 was obtained.


<実施例2〜実施例4>
感光層用塗布液1に用いたポリウレタン樹脂(P−1)の代わりに、それぞれポリウレタン樹脂(P−2)〜ポリウレタン樹脂(P−4)を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例2〜実施例4の平版印刷版原版を得た。
<Example 2 to Example 4>
Except for using polyurethane resin (P-2) to polyurethane resin (P-4) instead of polyurethane resin (P-1) used in photosensitive layer coating solution 1, respectively, The planographic printing plate precursors of Examples 2 to 4 were obtained.

<実施例5〜実施例7>
感光層用塗布液1に用いたウレタン系バインダーポリマーA、アクリル系バインダーポリマーB、及びアクリル系バインダーポリマーCの量を、下記表2のように変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例5〜実施例7の平版印刷版原版を得た。
<Example 5 to Example 7>
Except for changing the amounts of the urethane-based binder polymer A, the acrylic-based binder polymer B, and the acrylic-based binder polymer C used in the photosensitive layer coating solution 1 as shown in Table 2 below, in the same manner as in Example 1, The planographic printing plate precursors of Examples 5 to 7 were obtained.

<比較例1〜比較例2>
感光層用塗布液1に用いたポリウレタン樹脂(P−1)の代わりに、それぞれ比較ポリウレタン樹脂(CP−1)〜比較ポリウレタン樹脂(CP−2)を用いた以外は、実施例1と同様にして、比較例1〜比較例2の平版印刷版原版を得た。
<Comparative Examples 1 to 2>
Instead of the polyurethane resin (P-1) used in the coating solution 1 for the photosensitive layer, the same procedure as in Example 1 was conducted except that the comparative polyurethane resin (CP-1) to the comparative polyurethane resin (CP-2) were used. Thus, lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 1 and 2 were obtained.

<比較例3〜比較例4>
感光層用塗布液1に用いたポリウレタン樹脂(P−1)の代わりに比較ポリウレタン樹脂(CP−1)を用い、感光層用塗布液1に用いたウレタン系バインダーポリマーA、アクリル系バインダーポリマーB、及びアクリル系バインダーポリマーCの量を、下記表3のように変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例3〜比較例4の平版印刷版原版を得た。
<Comparative Example 3 to Comparative Example 4>
A comparative polyurethane resin (CP-1) is used in place of the polyurethane resin (P-1) used in the photosensitive layer coating solution 1, and the urethane binder polymer A and acrylic binder polymer B used in the photosensitive layer coating solution 1 are used. The lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 3 to 4 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the acrylic binder polymer C was changed as shown in Table 3 below.

<比較例5〜比較例6>
感光層用塗布液1に用いたポリウレタン樹脂(P−1)の代わりに比較ポリウレタン樹脂(CP−2)を用い、感光層用塗布液1に用いたウレタン系バインダーポリマーA、アクリル系バインダーポリマーB、及びアクリル系バインダーポリマーCの量を、下記表3のように変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例5〜比較例6の平版印刷版原版を得た。
<Comparative Example 5 to Comparative Example 6>
A comparative polyurethane resin (CP-2) is used in place of the polyurethane resin (P-1) used in the photosensitive layer coating solution 1, and the urethane binder polymer A and the acrylic binder polymer B used in the photosensitive layer coating solution 1 are used. The lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 5 to 6 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the acrylic binder polymer C was changed as shown in Table 3 below.

<比較例7>
感光層用塗布液1にウレタン系バインダーポリマーAを用いず、感光層用塗布液1に用いたアクリル系バインダーポリマーB及びアクリル系バインダーポリマーCの量を、下記表3のように変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例7の平版印刷版原版を得た。
<Comparative Example 7>
Except for changing the amounts of the acrylic binder polymer B and the acrylic binder polymer C used in the photosensitive layer coating solution 1 as shown in Table 3 below without using the urethane binder polymer A in the photosensitive layer coating solution 1. In the same manner as in Example 1, a planographic printing plate precursor of Comparative Example 7 was obtained.

<実施例8>
感光層用塗布液1に用いたウレタン系バインダーポリマーA、アクリル系バインダーポリマーB、及びアクリル系バインダーポリマーCの量を、下記表3のように変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例8の平版印刷版原版を得た。
<Example 8>
Except for changing the amounts of the urethane-based binder polymer A, the acrylic-based binder polymer B, and the acrylic-based binder polymer C used in the photosensitive layer coating solution 1 as shown in Table 3 below, in the same manner as in Example 1, The planographic printing plate precursor of Example 8 was obtained.

<実施例9>
感光層用塗布液1に用いた銅フタロシアニン顔料分散物の代わりに、下記(EV−1)を0.021g用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例9の平版印刷版原版を得た。
<Example 9>
The lithographic printing plate precursor of Example 9 was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.021 g of the following (EV-1) was used instead of the copper phthalocyanine pigment dispersion used in the coating solution 1 for photosensitive layer. Obtained.


[平版印刷版原版の評価]
<実施例1〜実施例9、比較例1〜比較例7>
―現像カスの評価―
得られた平版印刷版原版を、NEC社製Amzisetterにて、解像度1200dpi、外面ドラム回転数360rpm、出力19.5WでFM50%平網露光した。なお、露光は25℃50%RHの条件下で行った。露光後、加熱処理、水洗処理は行わず、富士フイルム(株)社製自動現像機LP−1310HIIを用い搬送速度(ライン速度)2m/分で、現像液はDH−Nの1:4(質量比)を用いて処理した。なお、強制条件での評価を行うため現像温度は25℃で、現像液pHは仕込み液基準−0.5まで炭酸ガスで液疲労させて処理した。
現像して得られた平版印刷版の非画像部に現像カスの付着が無いものを○、現像カス付着発生したものを×と評価した。
[Evaluation of lithographic printing plate precursor]
<Example 1 to Example 9, Comparative Example 1 to Comparative Example 7>
―Evaluation of development residue―
The resulting lithographic printing plate precursor was exposed to an FM 50% flat screen at a resolution of 1200 dpi, an outer drum rotation speed of 360 rpm, and an output of 19.5 W using an Amzetter manufactured by NEC. The exposure was performed under conditions of 25 ° C. and 50% RH. After the exposure, neither heat treatment nor water washing treatment is performed, and the developer is DH-N 1: 4 (mass) at a conveyance speed (line speed) of 2 m / min using an automatic developing machine LP-1310HII manufactured by FUJIFILM Corporation. Ratio). In order to perform evaluation under the compulsory conditions, the developing temperature was 25 ° C., and the developer pH was processed with carbon dioxide gas until the charged solution standard was −0.5.
In the lithographic printing plate obtained by development, a non-image portion having no development residue adhered was evaluated as “◯”, and a development residue adhering occurrence was evaluated as “×”.

―感度の評価(現像性の評価)―
得られた平版印刷版原版を、NEC社製Amzisetterにて、解像度1200dpi、外面ドラム回転数360rpm、出力0〜21Wの範囲でlogEで0.15ずつ変化させて露光した。なお、露光は25℃50%RHの条件下で行った。露光後、加熱処理、水洗処理は行わず、富士フイルム(株)社製自動現像機LP−1310HIIを用い搬送速度(ライン速度)2m/分、現像温度30℃で現像処理した。なお、現像液はDH−Nの1:4(質量比)水希釈液を用い、現像補充液はFCT−421の1:1.4(質量比)水希釈液、フィニッシャーは富士フイルム(株)社製GN−2Kの1:1(質量比)水希釈液を用いた。
―Evaluation of sensitivity (Evaluation of developability) ―
The resulting lithographic printing plate precursor was exposed on an Amzisetter manufactured by NEC Corporation with a resolution of 1200 dpi, an outer drum rotation speed of 360 rpm, and an output of 0 to 21 W with a log E of 0.15. The exposure was performed under conditions of 25 ° C. and 50% RH. After the exposure, neither heat treatment nor water washing treatment was performed, and development processing was performed at a conveyance speed (line speed) of 2 m / min and a development temperature of 30 ° C. using an automatic developing machine LP-1310HII manufactured by FUJIFILM Corporation. The developer used was a 1: 4 (mass ratio) water dilution of DH-N, the developer replenisher was a 1: 1.4 (mass ratio) water dilution of FCT-421, and the finisher was FUJIFILM Corporation. A 1: 1 (mass ratio) water dilution of GN-2K manufactured by KK was used.

現像して得られた平版印刷版の画像部濃度を、マクベス反射濃度計RD−918を使用し、該濃度計に装備されている赤フィルターを用いてシアン濃度を測定した。測定した濃度が0.9を得るのに必要な露光量の逆数を感度の指標とした。なお、評価結果は、実施例1で得られた平版印刷版の感度を基準(100)とし、他の平版印刷版の感度はその相対評価とした。値が大きいほど、感度が優れていることになる。   The density of the image portion of the lithographic printing plate obtained by development was measured using a Macbeth reflection densitometer RD-918, and the cyan density using a red filter equipped in the densitometer. The reciprocal of the exposure necessary to obtain a measured density of 0.9 was used as an index of sensitivity. The evaluation results were based on the sensitivity of the lithographic printing plate obtained in Example 1 as a standard (100), and the sensitivity of other lithographic printing plates was a relative evaluation thereof. The larger the value, the better the sensitivity.

―耐刷性の評価―
得られた平版印刷版原版を、NEC社製Amzisetterにて、解像度1200dpi、外面ドラム回転数360rpm、出力19.5Wで露光した。なお、露光は25℃50%RHの条件下で行った。露光後、加熱処理、水洗処理は行わず、富士フイルム(株)社製自動現像機LP−1310HIIを用い搬送速度(ライン速度)2m/分、現像温度30℃で現像処理した。なお、現像液はDH−Nの1:4(質量比)水希釈液を用い、現像補充液はFCT−421の1:1.4(質量比)水希釈液、フィニッシャーは富士フイルム(株)社製GN−2Kの1:1(質量比)水希釈液を用いた。
―Evaluation of printing durability―
The obtained lithographic printing plate precursor was exposed at an resolution of 1200 dpi, an outer drum rotation speed of 360 rpm, and an output of 19.5 W using an Amzetter manufactured by NEC. The exposure was performed under conditions of 25 ° C. and 50% RH. After the exposure, neither heat treatment nor water washing treatment was performed, and development processing was performed at a conveyance speed (line speed) of 2 m / min and a development temperature of 30 ° C. using an automatic developing machine LP-1310HII manufactured by FUJIFILM Corporation. The developer used was a 1: 4 (mass ratio) water dilution of DH-N, the developer replenisher was a 1: 1.4 (mass ratio) water dilution of FCT-421, and the finisher was FUJIFILM Corporation. A 1: 1 (mass ratio) water dilution of GN-2K manufactured by KK was used.

得られた平版印刷版を、小森コーポレーション社製のリスロン印刷機で、大日本インキ化学工業社製のDIC−GEOS(N)墨のインキを用いて印刷し、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数を指標とした。なお、この評価結果は、実施例1で得られた平版印刷版の印刷枚数を基準(100)とし、他の平版印刷版の耐刷性はその相対評価とした。値が大きいほど、耐刷性が優れていることになる。   The resulting lithographic printing plate was printed on a Lithrone printing machine manufactured by Komori Corporation using DIC-GEOS (N) black ink manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. The number of printed sheets when visually recognized was used as an index. In this evaluation result, the printing number of the lithographic printing plate obtained in Example 1 was used as a reference (100), and the printing durability of other lithographic printing plates was evaluated as a relative evaluation. The larger the value, the better the printing durability.

―FMスクリーン印刷におけるバンディング(FMバンディング)の評価―
FMバンディングとは、円筒外面露光方式による多チャンネルレーザー記録ではドラム1周ごとに複数チャンネルを走査するが、チャンネル間の出力にバラツキがあったり、多チャンネルの走査ピッチに重なりがあったりした場合に、走査ピッチと同期した記録ムラが印刷物に現れる現象のことである。従って平版印刷版のFMバンディング発生し難さを評価するには、セッター露光時に「スロープ値」というパラメーターを意図的に振ってチャンネル間の出力に傾きを与え、得られた版を印刷し、印刷物のバンディング程度を目視評価する。
-Evaluation of banding (FM banding) in FM screen printing-
FM banding is a case where multi-channel laser recording using the cylindrical outer surface exposure method scans a plurality of channels for each drum revolution, but when there is variation in the output between channels or when the multi-channel scanning pitch overlaps. This is a phenomenon in which recording unevenness synchronized with the scanning pitch appears on the printed matter. Therefore, to evaluate the difficulty of occurrence of FM banding in a lithographic printing plate, the parameter “slope value” is intentionally shaken during setter exposure to incline the output between channels, print the obtained plate, and print Visually evaluate the degree of banding.

得られた平版印刷版原版を、NEC社製Amzisetterにて、解像度1200dpi、外面ドラム回転数360rpm、出力19.5Wで、スロープ値を標準(多チャンネルの出力が均等となるよう調整した状態)±12%の範囲で3%ずつ振って露光した。なお、露光は25℃50%RHの条件下で行った。露光後、加熱処理、水洗処理は行わず、富士フイルム(株)社製自動現像機LP−1310HIIを用い搬送速度(ライン速度)2m/分、現像温度30℃で現像処理した。なお、現像液はDH−Nの1:4(質量比)水希釈液を用い、現像補充液はFCT−421の1:1.4(質量比)水希釈液、フィニッシャーは富士フイルム(株)社製GN−2Kの1:1(質量比)水希釈液を用いた。   The obtained lithographic printing plate precursor was standardized with a resolution of 1200 dpi, outer drum rotation speed of 360 rpm, and output of 19.5 W on an Amzisetter manufactured by NEC (in a state adjusted so that multi-channel output is uniform) ± The exposure was shaken by 3% within a range of 12%. The exposure was performed under conditions of 25 ° C. and 50% RH. After the exposure, neither heat treatment nor water washing treatment was performed, and development processing was performed at a conveyance speed (line speed) of 2 m / min and a development temperature of 30 ° C. using an automatic developing machine LP-1310HII manufactured by FUJIFILM Corporation. The developer used was a 1: 4 (mass ratio) water dilution of DH-N, the developer replenisher was a 1: 1.4 (mass ratio) water dilution of FCT-421, and the finisher was FUJIFILM Corporation. A 1: 1 (mass ratio) water dilution of GN-2K manufactured by KK was used.

得られた平版印刷版を、小森コーポレーション社製のスプリント印刷機で、大日本インキ化学工業社製のDIC−Fusion−G(N)墨のインキを用いて印刷し、300枚目印刷物のバンディング程度を5段階評価した。
5:標準スロープ値±12%の範囲でバンディングが見られない
4:標準スロープ値±6%の範囲でバンディングが見られない
3:標準スロープ値±3%の範囲でバンディングが見られない(実用上許容下限レベル)
2:標準スロープ値でバンディングが見られない
1:標準スロープ値でバンディング発生
The obtained lithographic printing plate is printed on a sprint printing machine made by Komori Corporation using DIC-Fusion-G (N) ink made by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd. Was rated on a five-point scale.
5: Banding is not seen in the range of standard slope value ± 12% 4: Banding is not seen in the range of standard slope value ± 6% 3: Banding is not seen in the range of standard slope value ± 3% Upper / lower permissible level)
2: Banding is not seen with standard slope value 1: Banding occurs with standard slope value

[平版印刷版原版の作製]
<実施例10>
感光層用塗布液1の代わりに、下記感光層用塗布液2を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例10の平版印刷版原版を得た。
[Preparation of lithographic printing plate precursor]
<Example 10>
A lithographic printing plate precursor of Example 10 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following photosensitive layer coating liquid 2 was used instead of the photosensitive layer coating liquid 1.

(感光層用塗布液2)
・エチレン性不飽和結合含有化合物(下記M−2) 0.535g
・ウレタン系バインダーポリマーA(上記ポリウレタン樹脂(P−1)) 0.228g
・アクリル系バインダーポリマーB(上記アクリル樹脂B−1) 0.228g
・増感剤(下記S−2) 0.040g
・重合開始剤(下記I−2) 0.088g
・連鎖移動剤(前記T−1) 0.052g
・銅フタロシアニン顔料分散物
(C.I.Pigment Blue 15:6、
分散溶媒:MEK/MFG/MA=2/2/1、顔料固形分15wt%) 0.38g
・重合禁止剤(上記Q−1) 0.0015g
・フッ素系ノニオン界面活性剤メガファックF780 0.0062g
(大日本インキ化学工業(株)製)
・メチルエチルケトン 7.718g
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 7.192g
(Photosensitive layer coating solution 2)
-Ethylenically unsaturated bond-containing compound (M-2 below) 0.535 g
-Urethane binder polymer A (the polyurethane resin (P-1)) 0.228 g
・ Acrylic binder polymer B (above acrylic resin B-1) 0.228 g
・ Sensitizer (S-2 below) 0.040g
・ Polymerization initiator (I-2 below) 0.088g
・ Chain transfer agent (T-1) 0.052g
Copper phthalocyanine pigment dispersion (CI Pigment Blue 15: 6,
Dispersion solvent: MEK / MFG / MA = 2/2/1, pigment solid content 15 wt%) 0.38 g
・ Polymerization inhibitor (Q-1 above) 0.0015g
・ Fluorine-based nonionic surfactant Megafac F780 0.0062g
(Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.)
・ Methyl ethyl ketone 7.718g
・ Propylene glycol monomethyl ether acetate 7.192 g


<実施例11〜実施例12>
感光層用塗布液2に用いたポリウレタン樹脂(P−1)の代わりに、それぞれポリウレタン樹脂(P−2)及びポリウレタン樹脂(P−4)を用いた以外は、実施例10と同様にして、実施例11〜実施例12の平版印刷版原版を得た。
<Example 11 to Example 12>
Except for using polyurethane resin (P-2) and polyurethane resin (P-4), respectively, instead of polyurethane resin (P-1) used in photosensitive layer coating solution 2, in the same manner as in Example 10, The planographic printing plate precursors of Examples 11 to 12 were obtained.

<比較例8〜比較例9>
感光層用塗布液2に用いたポリウレタン樹脂(P−1)の代わりに、それぞれ比較ポリウレタン樹脂(CP−1)〜比較ポリウレタン樹脂(CP−2)を用いた以外は、実施例10と同様にして、比較例8〜比較例9の平版印刷版原版を得た。
<Comparative Example 8 to Comparative Example 9>
Instead of the polyurethane resin (P-1) used in the coating solution 2 for the photosensitive layer, the same procedure as in Example 10 was conducted, except that comparative polyurethane resin (CP-1) to comparative polyurethane resin (CP-2) were used. Thus, lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 8 to 9 were obtained.

<比較例10>
感光層用塗布液2にウレタン系バインダーポリマーAを用いず、感光層用塗布液2に用いたアクリル系バインダーポリマーBの量を、下記表4のように変更した以外は、実施例10と同様にして、比較例10の平版印刷版原版を得た。
<Comparative Example 10>
The same as in Example 10 except that the urethane binder polymer A was not used in the photosensitive layer coating solution 2 and the amount of the acrylic binder polymer B used in the photosensitive layer coating solution 2 was changed as shown in Table 4 below. Thus, a planographic printing plate precursor of Comparative Example 10 was obtained.

<実施例13>
感光層用塗布液2に用いたウレタン系バインダーポリマーA及びアクリル系バインダーポリマーBの量を、下記表4のように変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例13の平版印刷版原版を得た。
<Example 13>
The planographic printing plate of Example 13 was the same as Example 1 except that the amounts of the urethane binder polymer A and the acrylic binder polymer B used in the photosensitive layer coating solution 2 were changed as shown in Table 4 below. I got the original version.

[平版印刷版原版の評価]
<実施例10〜実施例13、比較例8〜比較例10>
―現像カスの評価―
得られた平版印刷版原版を、富士写真フイルム(株)製Vx9600CTP(光源波長:405nm)にて平網露光した。なお、露光は25℃50%RHの条件下で行った。露光後、加熱処理、水洗処理は行わず、富士フイルム(株)社製自動現像機LP−1310HIIを用い搬送速度(ライン速度)2m/分で、現像液はDH−Nの1:4(質量比)を用いて処理した。なお、強制条件での評価を行うため現像温度は25℃で、現像液pHは仕込み液基準−0.5まで炭酸ガスで液疲労させて処理した。
現像して得られた平版印刷版の非画像部に現像カスの付着が無いものを○、現像カス付着発生したものを×と評価した。
[Evaluation of lithographic printing plate precursor]
<Example 10 to Example 13, Comparative Example 8 to Comparative Example 10>
―Evaluation of development residue―
The resulting lithographic printing plate precursor was subjected to a flat screen exposure using Vx9600CTP (light source wavelength: 405 nm) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. The exposure was performed under conditions of 25 ° C. and 50% RH. After the exposure, heat treatment and washing with water were not performed, and the developer was DH-N 1: 4 (mass) at a conveyance speed (line speed) of 2 m / min using an automatic developing machine LP-1310HII manufactured by FUJIFILM Corporation. Ratio). In order to perform evaluation under the compulsory conditions, the developing temperature was 25 ° C., and the developer pH was processed with carbon dioxide gas until the charged solution standard was −0.5.
In the lithographic printing plate obtained by development, a non-image portion having no development residue adhered was evaluated as “◯”, and a development residue adhering occurrence was evaluated as “×”.

―感度の評価(現像性の評価)―
得られた感光性平版印刷版上に富士写真フイルム(株)製の富士ステップガイド(ΔD=0.15で不連続に透過光学濃度が変化するグレースケール)を密着させ、富士写真フイルム(株)製Vx9600CTP(光源波長:405nm)にて露光を行った。
―Evaluation of sensitivity (Evaluation of developability) ―
Fuji Photo Film Co., Ltd. Fuji step guide (gray scale whose transmission optical density changes discontinuously at ΔD = 0.15) was brought into intimate contact with the obtained photosensitive lithographic printing plate, and Fuji Photo Film Co., Ltd. Exposure was performed with Vx9600CTP (light source wavelength: 405 nm).

その後、下記組成のアルカリ現像液を仕込んだG&J製PSプロセッサーIP850HDを用い、115℃に版を加熱した後に25℃の現像液で20秒現像した。画像が完全に除去される最高の段数を読み、その露光エネルギー量を求め感度を算出した。なお、評価結果は、実施例10で得られた平版印刷版の感度を基準(100)とし、他の平版印刷版の感度はその相対評価とした。値が大きいほど、感度が優れていることになる。   Thereafter, the plate was heated to 115 ° C. using a G & J PS processor IP850HD charged with an alkali developer having the following composition, and then developed with a developer at 25 ° C. for 20 seconds. The maximum number of steps at which the image was completely removed was read, the amount of exposure energy was obtained, and the sensitivity was calculated. The evaluation results were based on the sensitivity of the lithographic printing plate obtained in Example 10 as a reference (100), and the sensitivity of other lithographic printing plates was a relative evaluation thereof. The larger the value, the better the sensitivity.

(アルカリ現像液組成)
水酸化カリウム 0.15g
ポリオキシエチレンナフチルエーテル(n=13) 5.0g
キレスト400(キレート剤) 0.1g
水 94.75g
(Alkali developer composition)
Potassium hydroxide 0.15g
Polyoxyethylene naphthyl ether (n = 13) 5.0 g
Kirest 400 (chelating agent) 0.1g
94.75 g of water

―耐刷性の評価―
得られた平版印刷版原版を、富士写真フイルム(株)製Vx9600CTP(光源波長:405nm)にて露光量50μJ/cm2で画像露光した。なお、露光は25℃50%RHの条件下で行った。露光後、加熱処理、水洗処理は行わず、富士フイルム(株)社製自動現像機LP−1310HIIを用い搬送速度(ライン速度)2m/分、現像温度30℃で現像処理した。なお、現像液はDH−Nの1:4(質量比)水希釈液を用い、現像補充液はFCT−421の1:1.4(質量比)水希釈液、フィニッシャーは富士フイルム(株)社製GN−2Kの1:1(質量比)水希釈液を用いた。
―Evaluation of printing durability―
The resulting lithographic printing plate precursor was image-exposed with an exposure amount of 50 μJ / cm 2 using Vx9600CTP (light source wavelength: 405 nm) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. The exposure was performed under conditions of 25 ° C. and 50% RH. After the exposure, neither heat treatment nor water washing treatment was performed, and development processing was performed at a conveyance speed (line speed) of 2 m / min and a development temperature of 30 ° C. using an automatic developing machine LP-1310HII manufactured by FUJIFILM Corporation. The developer used was a 1: 4 (mass ratio) water dilution of DH-N, the developer replenisher was a 1: 1.4 (mass ratio) water dilution of FCT-421, and the finisher was FUJIFILM Corporation. A 1: 1 (mass ratio) water dilution of GN-2K manufactured by KK was used.

得られた平版印刷版を、小森コーポレーション社製のリスロン印刷機で、大日本インキ化学工業社製のDIC−GEOS(N)墨のインキを用いて印刷し、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数を指標とした。なお、この評価結果は、実施例10で得られた平版印刷版の印刷枚数を基準(100)とし、他の平版印刷版の耐刷性はその相対評価とした。値が大きいほど、耐刷性が優れていることになる。   The resulting lithographic printing plate was printed on a Lithrone printing machine manufactured by Komori Corporation using DIC-GEOS (N) black ink manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. The number of printed sheets when visually recognized was used as an index. This evaluation result was based on the number of printed lithographic printing plates obtained in Example 10 as a reference (100), and the printing durability of other lithographic printing plates was a relative evaluation thereof. The larger the value, the better the printing durability.

表2、表4から明らかなように、実施例の平版印刷版原版は現像カスの発生し難さ、感度、耐刷性、FMバンディングの発生し難さ、全てにおいてバランスが良いことが分かる。
これに対し表3、表4より、ウレタンバインダーの還元比粘度が低い場合は、耐刷性が劣り、またFMバンディングが発生した。還元比粘度が高い場合は、強制条件において現像カスが発生した。ウレタンバインダー比率を50%より多くした場合では、ウレタンバインダー比率が前記範囲にあるものに比べ、感度が低く、かつFMバンディングも悪かった。有機顔料の代わりに染料を用いた場合は、有機顔料を用いた場合に比べ、感度、耐刷性が低く、FMバンディングも悪い結果であった。
As is clear from Tables 2 and 4, it can be seen that the planographic printing plate precursors of the examples have a good balance in all of the difficulty of developing residue, sensitivity, printing durability, and difficulty of FM banding.
On the other hand, from Tables 3 and 4, when the reduced specific viscosity of the urethane binder was low, the printing durability was inferior and FM banding occurred. When the reduced specific viscosity was high, development residue was generated under forced conditions. When the urethane binder ratio was more than 50%, the sensitivity was low and the FM banding was poor as compared with the urethane binder ratio in the above range. When a dye was used instead of the organic pigment, the sensitivity and printing durability were lower and the FM banding was worse than when an organic pigment was used.

Claims (4)

支持体上に、増感色素、重合開始剤、重合性化合物、及びバインダーポリマーを含む感光層と、を順次積層してなり、
前記バインダーポリマーが、還元比粘度が50ml/g〜250ml/gのポリウレタン樹脂を含むことを特徴とする平版印刷版原版。
A sensitizing dye, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a photosensitive layer containing a binder polymer are sequentially laminated on the support,
The lithographic printing plate precursor, wherein the binder polymer contains a polyurethane resin having a reduced specific viscosity of 50 ml / g to 250 ml / g.
前記バインダーポリマーが、さらにアクリル樹脂を含み、
前記ポリウレタン樹脂と前記アクリル樹脂との質量比が1:9〜5:5の範囲であることを特徴とする、請求項1に記載の平版印刷版原版。
The binder polymer further includes an acrylic resin,
The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein a mass ratio of the polyurethane resin to the acrylic resin is in the range of 1: 9 to 5: 5.
前記感光層が、有機顔料を含有することを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the photosensitive layer contains an organic pigment. 前記感光層上に、さらに保護層を積層してなることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 3, wherein a protective layer is further laminated on the photosensitive layer.
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