JP2009123634A - Image display device - Google Patents

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Hiroyuki Ito
博之 伊藤
Nobuhiko Hosoya
信彦 細谷
Akira Hatori
明 羽鳥
Takashi Naito
内藤  孝
Hirotaka Yamamoto
浩貴 山本
Yuichi Sawai
裕一 沢井
Osamu Shiono
修 塩野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plane image display device in which a color mixture on a fluorescent surface is prevented and a high luminance and a long life are realized. <P>SOLUTION: The plate image display device is provided with a lot of fine pointed projections of a small secondary electron emission factor on a side surface of a spacer. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、自発光型フラットパネル型画像表示装置に係り、特に薄膜型電子源をマトリクス状に配列した画像表示装置に関する。   The present invention relates to a self-luminous flat panel image display device, and more particularly to an image display device in which thin film electron sources are arranged in a matrix.

マトリクス状に配置した電子源を有する自発光型フラットパネルディスプレイ(FPD)の一つとして、微少で集積可能な冷陰極を利用する電界放出型画像表示装置(FED:Field Emission Display)や電子放出型画像表示装置が知られている。
この冷陰極には、スピント型電子源、表面伝導型電子源、カーボンナノチューブ型電子源、金属―絶縁体―金属を積層したMIM(Metal−Insulator−Metal)型、金属―絶縁体―半導体を積層したMIS(Metal−Insulator−Semiconductor)型、あるいは金属―絶縁体―半導体−金属型等の薄膜型電子源などがある。
As one of self-luminous flat panel displays (FPDs) having electron sources arranged in a matrix, a field emission image display (FED: Field Emission Display) using a small and stackable cold cathode or an electron emission type An image display device is known.
This cold cathode has a Spindt type electron source, surface conduction type electron source, carbon nanotube type electron source, MIM (Metal-Insulator-Metal) type in which metal-insulator-metal is laminated, and metal-insulator-semiconductor. MIS (Metal-Insulator-Semiconductor) type or thin-film type electron source such as metal-insulator-semiconductor-metal type.

一般的な自発光型FPDは、上記のような電子源をガラス板等の絶縁板上に備えた背面基板と、蛍光体層及びこの蛍光体層に前記電子源から放出される電子を射突させるための電界を形成する陽極とをガラスを好適とする光透過性の材料からなる板上に備えた前面基板と、両基板の対向する内部空間を所定の間隔に保持する枠体とを備え、前記両基板と枠体で形成される表示領域を含む内部空間を真空状態に保持する表示パネル構成とし、この表示パネルに駆動回路を組み合わせて構成される。   A general self-luminous FPD has a rear substrate provided with an electron source as described above on an insulating plate such as a glass plate, a phosphor layer, and electrons emitted from the electron source to the phosphor layer. A front substrate provided with an anode for forming an electric field on a plate made of a light-transmitting material suitable for glass, and a frame body that holds internal spaces facing each other at a predetermined interval. The display panel is configured to hold the internal space including the display area formed by the two substrates and the frame in a vacuum state, and the display panel is configured by combining a drive circuit.

又、前記背面基板上には、一方向に延在し該一方向と直交する他方向に並設された複数の映像信号配線と、この映像信号配線を覆って形成された絶縁膜と、この絶縁膜上で前記他方向に延在し前記映像信号配線に交差する如く前記一方向に並設され走査信号が順次印加される複数の走査信号配線を備えている。加えて前記走査信号配線と映像信号配線の交差部付近に上記の電子源がそれぞれ設けられ、走査信号配線と電子源とは給電電極で接続され、走査信号配線から電子源に電流が供給される構成が一般的である。   Further, on the back substrate, a plurality of video signal wirings extending in one direction and arranged in parallel in the other direction perpendicular to the one direction, an insulating film formed to cover the video signal wirings, A plurality of scanning signal wirings are arranged on the insulating film in the other direction and arranged in parallel in the one direction so as to cross the video signal wiring, and sequentially applied with scanning signals. In addition, the electron sources are provided in the vicinity of the intersection of the scanning signal wiring and the video signal wiring, and the scanning signal wiring and the electron source are connected by a feeding electrode, and current is supplied from the scanning signal wiring to the electron source. The configuration is common.

更に、前記個々の電子源は前記前面基板上に配置された対応する蛍光体層と対になって単位画素を構成する。通常は、赤(R)、緑(G)、青(B)の3色の単位画素で一つの画素(カラー画素、ピクセル)が構成される。なお、カラー画素の場合、単位画素は副画素(サブピクセル)とも呼ばれる。   Further, the individual electron sources constitute a unit pixel paired with a corresponding phosphor layer disposed on the front substrate. Usually, one pixel (color pixel, pixel) is composed of unit pixels of three colors of red (R), green (G), and blue (B). In the case of a color pixel, the unit pixel is also called a sub-pixel (sub-pixel).

上述の構成に加え、前述したような画像表示装置では、背面基板と前面基板間の前記枠体で囲繞された表示領域を含む真空領域内に複数の間隔保持部材(スペーサ)が配置固定され、前記両基板間の間隔を前記枠体と協働して所定間隔に保持している。このスペーサは、一般にはガラスやセラミックスなどの絶縁材あるいは幾分かの導電性を有する部材で形成した板状体からなり、通常、複数の画素ごとに画素の動作を妨げない位置に設置される。   In addition to the above-described configuration, in the image display device as described above, a plurality of spacing members (spacers) are arranged and fixed in a vacuum region including a display region surrounded by the frame body between the rear substrate and the front substrate, The distance between the two substrates is held at a predetermined distance in cooperation with the frame. This spacer is generally composed of a plate-like body formed of an insulating material such as glass or ceramics or a member having some conductivity, and is usually installed at a position where the operation of the pixel is not hindered for each of a plurality of pixels. .

又、封止枠となる枠体は背面基板と前面基板との内周縁にフリットガラスなどの封着部材で固着され、この固着部が気密封着され封止領域となっている。両基板と枠体とで形成される真空領域内部の真空度は、例えば10-5〜10-7Torr程度である。 The frame body serving as a sealing frame is fixed to the inner peripheral edge of the back substrate and the front substrate with a sealing member such as frit glass, and the fixing portion is hermetically sealed to form a sealing region. The degree of vacuum inside the vacuum region formed by both the substrates and the frame is, for example, about 10 −5 to 10 −7 Torr.

更に、前記枠体と背面基板との封止領域には、背面基板に形成された走査信号配線につながる走査信号配線引出端子や画像信号配線につながる画像信号配線引出端子がそれぞれ貫通する。   Further, a scanning signal wiring lead terminal connected to the scanning signal wiring formed on the back substrate and an image signal wiring lead terminal connected to the image signal wiring pass through the sealing region between the frame body and the back substrate.

前述したMIM型電子源については、例えば特許文献1に開示されている。MIM型電子源の構造と動作の概要は以下のとおりである。
すなわち、上部電極と下部電極との間に絶縁層を介在させた構造を有し、上部電極と下部電極との間に電圧を印加することで、下部電極中のフェルミ準位近傍の電子がトンネル現象により障壁を透過し、電子加速層である絶縁層の伝導帯へ注入されホットエレクトロンとなり、上部電極の伝導帯へ流入する。これらのホットエレクトロンのうち、上部電極の仕事関数φ以上のエネルギーをもって上部電極表面に達したものが真空中に放出される。
特開2004−363075号公報 特開平10−302677号公報 特開2002−157959号公報 特開2000−311633号公報
The aforementioned MIM type electron source is disclosed in, for example, Patent Document 1. An outline of the structure and operation of the MIM type electron source is as follows.
That is, it has a structure in which an insulating layer is interposed between the upper electrode and the lower electrode, and by applying a voltage between the upper electrode and the lower electrode, electrons in the vicinity of the Fermi level in the lower electrode are tunneled. Due to the phenomenon, it passes through the barrier, is injected into the conduction band of the insulating layer, which is the electron acceleration layer, becomes hot electrons, and flows into the conduction band of the upper electrode. Among these hot electrons, those that reach the surface of the upper electrode with energy equal to or higher than the work function φ of the upper electrode are released into the vacuum.
JP 2004-363075 A JP-A-10-302676 JP 2002-157959 A JP 2000-31633 A

前記特許文献1に開示されたような構成の画像表示装置では、前面基板の蛍光体層に、背面基板側に配置された電子源から発射された電子ビームを加速して射突させ、励起することで当該蛍光体層の発光特性に応じた色光で発色する構成となっている。
このような構成において、前記両基板間に強電界が印加されるため、前記スペーサと基板間等での放電の発生及びスペーサの帯電に伴う電子軌道の曲がりの発生等により、色純度の低下及び輝度低下を招く等表示品位を損なう問題があった。
In the image display device configured as disclosed in Patent Document 1, an electron beam emitted from an electron source disposed on the rear substrate side is accelerated and projected onto the phosphor layer of the front substrate, and excited. As a result, the phosphor layer is configured to emit color with colored light corresponding to the light emission characteristics of the phosphor layer.
In such a configuration, since a strong electric field is applied between the two substrates, the color purity is reduced due to the occurrence of discharge between the spacer and the substrate and the occurrence of bending of the electron trajectory accompanying the charging of the spacer. There has been a problem of deteriorating the display quality such as lowering the luminance.

この問題解決の一つの手段として、前記特許文献2ではスペーサの基材表面全面を酸化物サーメット膜で被覆する発明が開示されている。又、特許文献3では前記特許文献2の酸化物サーメット膜等の被膜の形成方法の発明が開示されている。更に、特許文献4ではスペーサの固定構造の発明が開示されている。   As one means for solving this problem, Patent Document 2 discloses an invention in which the entire substrate surface of a spacer is covered with an oxide cermet film. Patent Document 3 discloses an invention of a method for forming a film such as an oxide cermet film of Patent Document 2 described above. Further, Patent Document 4 discloses an invention of a spacer fixing structure.

本発明の目的は、混色及び放電の発生を防止し、色純度の確保と高輝度化を可能とし、表示品位の優れた信頼性の高い長寿命の平面型画像表示装置を提供することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a flat image display device that prevents color mixing and discharge, ensures color purity and increases brightness, has excellent display quality, and has a long life. .

上記目的を達成するため本発明は、第1の方向に延在してこの第1の方向と交差する第2の方向に並設された複数の映像信号配線と、前記第2の方向に延在して前記第1の方向に並設された複数の走査信号配線と、前記映像信号配線と走査信号配線間に介挿された絶縁膜と、前記映像信号配線と前記走査信号配線との交叉部近傍に設けられ、前記走査信号配線と接続した複数の電子源とを有する背面基板と、この背面基板と対向する内表面に複数のBM窓部を備えて配置されたブラックマトリクス膜と、このブラックマトリクス膜の前記複数のBM窓部を覆って前記前面基板の前記内表面に配置され前記電子源からの電子の励起で発光する蛍光体層を有する蛍光膜と、この蛍光膜を覆うメタルバック層を有し、前記背面基板と所定の間隔を隔てて対向配置された前面基板と、前記背面基板と前記前面基板間に配置され前記両基板を所定の間隔に保持する枠体と、前記背面基板と前記前面基板間で前記枠体と略平行に配置固定された複数のスペーサと、前記枠体の端面と前記前面基板及び背面基板とを気密封着する封着部材とを具備する画像表示装置であって、前記スペーサは、このスペーサ側面に多数の独立した細点状突起を備えた構成とした。   In order to achieve the above object, the present invention provides a plurality of video signal wirings extending in a first direction and arranged in parallel in a second direction intersecting the first direction, and extending in the second direction. A plurality of scanning signal wirings arranged in parallel in the first direction, an insulating film interposed between the video signal wiring and the scanning signal wiring, and a crossover of the video signal wiring and the scanning signal wiring. A back substrate having a plurality of electron sources connected to the scanning signal wiring and provided with a plurality of BM windows on the inner surface facing the back substrate, A phosphor film that covers the plurality of BM windows of the black matrix film and has a phosphor layer that is disposed on the inner surface of the front substrate and emits light by excitation of electrons from the electron source, and a metal back that covers the phosphor film And a predetermined distance from the back substrate. A front substrate disposed oppositely, a frame disposed between the back substrate and the front substrate and holding the both substrates at a predetermined interval, and substantially parallel to the frame between the back substrate and the front substrate An image display device comprising: a plurality of spacers arranged and fixed; and a sealing member that hermetically seals an end surface of the frame body and the front substrate and the rear substrate. It was set as the structure provided with the following independent fine dot-like process.

又、本発明は、第1の方向に延在してこの第1の方向と交差する第2の方向に並設された複数の映像信号配線と、前記第2の方向に延在して前記第1の方向に並設された複数の走査信号配線と、前記映像信号配線と走査信号配線間に介挿された絶縁膜と、前記映像信号配線と前記走査信号配線との交叉部近傍に設けられ、前記走査信号配線と接続した複数の電子源とを有する背面基板と、この背面基板と対向する内表面に複数のBM窓部を備えて配置されたブラックマトリクス膜と、このブラックマトリクス膜の前記複数のBM窓部を覆って前記前面基板の前記内表面に配置され前記電子源からの電子の励起で発光する蛍光体層を有する蛍光膜と、この蛍光膜を覆うメタルバック層を有し、前記背面基板と所定の間隔を隔てて対向配置された前面基板と、前記背面基板と前記前面基板間に配置され前記両基板を所定の間隔に保持する枠体と、前記背面基板と前記前面基板間で前記枠体と略平行に配置固定された複数のスペーサと、前記枠体の端面と前記前面基板及び背面基板とを気密封着する封着部材とを具備する画像表示装置であって、前記スペーサは、このスペーサ端面を多層の導電膜及び接合部材を介して前記基板と接合した構成とした。
これらの構成とした平面型画像表示装置に、画像信号駆動回路、走査信号駆動回路、その他の周辺回路を組み込んで自発光平面表示装置を構成する。
The present invention also provides a plurality of video signal wirings extending in a first direction and arranged in parallel in a second direction intersecting the first direction, and extending in the second direction. Provided in the vicinity of the intersection of the plurality of scanning signal wirings arranged in parallel in the first direction, the insulating film interposed between the video signal wiring and the scanning signal wiring, and the video signal wiring and the scanning signal wiring A back substrate having a plurality of electron sources connected to the scanning signal wiring, a black matrix film arranged with a plurality of BM windows on an inner surface facing the back substrate, and a black matrix film A fluorescent film that covers the plurality of BM windows and is disposed on the inner surface of the front substrate and has a phosphor layer that emits light by excitation of electrons from the electron source; and a metal back layer that covers the fluorescent film. The rear substrate is disposed opposite to the rear substrate with a predetermined interval. A surface substrate, a frame disposed between the back substrate and the front substrate and holding the two substrates at a predetermined interval, and a plurality of substrates disposed and fixed substantially parallel to the frame between the back substrate and the front substrate. And a sealing member that hermetically seals the end surface of the frame body and the front substrate and the rear substrate, wherein the spacer end surface is joined to a multilayer conductive film and a bonding member. It was set as the structure joined to the said board | substrate through the member.
A self-luminous flat display device is configured by incorporating an image signal driving circuit, a scanning signal driving circuit, and other peripheral circuits into the flat-type image display device configured as described above.

放電及び混色の発生を防止し、色純度の確保と高輝度化を可能とし、表示品位の優れた信頼性の高い長寿命の平面型画像表示装置を得ることが出来る。   The occurrence of discharge and color mixing can be prevented, the color purity can be ensured and the luminance can be increased, and a flat image display device with excellent display quality and high reliability can be obtained.

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1乃至図4は本発明の平面型画像表示装置の一実施例を説明するための図で、図1(a)は前面基板側から見た模式平面図、図1(b)は図1(a)の模式側面図、図2は図1(b)のA−A線に沿った模式平面図、図3は図2のB−B線に沿った背面基板の模式断面図とその背面基板と対応する部分の前面基板の模式断面図、図4は図2の一部の模式側面図及び模式拡大図である。   1 to 4 are diagrams for explaining an embodiment of the flat image display device of the present invention. FIG. 1 (a) is a schematic plan view seen from the front substrate side, and FIG. 1 (b) is FIG. 2A is a schematic side view, FIG. 2 is a schematic plan view along the line AA in FIG. 1B, and FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the back substrate along the line BB in FIG. FIG. 4 is a schematic side view of a part of FIG. 2 and a schematic enlarged view of a portion of the front substrate corresponding to the substrate.

図1乃至図4において、参照符号1は背面基板、2は前面基板、3は枠体、4は排気管、5は封着部材、6は表示領域を含む真空領域、7は貫通孔、8は映像信号配線、9は走査信号配線、10は電子源、11は接続配線、12はスペーサ、13は接着部材、14は層間絶縁膜、15は蛍光体層、16は遮光用のBM(ブラックマトリクス)膜、17は金属薄膜からなるメタルバック(陽極電極)である。   1 to 4, reference numeral 1 is a rear substrate, 2 is a front substrate, 3 is a frame, 4 is an exhaust pipe, 5 is a sealing member, 6 is a vacuum region including a display region, 7 is a through hole, 8 Is a video signal wiring, 9 is a scanning signal wiring, 10 is an electron source, 11 is a connection wiring, 12 is a spacer, 13 is an adhesive member, 14 is an interlayer insulating film, 15 is a phosphor layer, and 16 is a light-shielding BM (black) A matrix) film 17 is a metal back (anode electrode) made of a metal thin film.

参照符号1で示す背面基板と前面基板2は略矩形状を呈し、厚さ数mm、例えば1〜10mm程度のガラス板からそれぞれ構成されている。
3は枠状を呈する枠体で、この枠体3は例えばフリットガラスの燒結体或いはガラス板等から構成され、単体で若しくは複数部材の組み合わせで略矩形状とされ、前記両基板1、2間に介挿されている。
この枠体3は、前記両基板1、2間の周縁部に介挿され、両端面が両基板1、2と気密接合されている。この枠体3の厚さは数mm〜数十mm、その高さは両基板1、2間の前記間隔に略等しい寸法に設定されている。
4は排気管で、この排気管4は前記背面基板1に固着されている。
5は封着部材で、この封着部材5は例えば低融点フリットガラス、例えばPbO:75〜80wt%、B2 O3 :約10wt%、その他:10〜15wt%等の組成からなり、かつ非晶質タイプのフリットガラスを含むガラス材料からなるもの等が知られており、前記枠体3と両基板1、2間を接合して気密封着している。
The back substrate and the front substrate 2 indicated by reference numeral 1 have a substantially rectangular shape, and are each composed of a glass plate having a thickness of several mm, for example, about 1 to 10 mm.
Reference numeral 3 denotes a frame having a frame shape. The frame body 3 is made of, for example, a sintered body of frit glass or a glass plate, and is formed into a substantially rectangular shape by itself or a combination of a plurality of members. Is inserted.
The frame 3 is inserted in a peripheral portion between the substrates 1 and 2 and both end surfaces are airtightly joined to the substrates 1 and 2. The thickness of the frame 3 is set to several mm to several tens mm, and the height thereof is set to a dimension substantially equal to the distance between the substrates 1 and 2.
An exhaust pipe 4 is fixed to the back substrate 1.
5 is a sealing member, and this sealing member 5 is composed of, for example, a low melting point frit glass such as PbO: 75-80 wt%, B2 O3: about 10 wt%, others: 10-15 wt%, etc. A glass material including a frit type glass is known, and the frame 3 and the substrates 1 and 2 are joined and hermetically sealed.

前記枠体3と両基板1、2及び封着部材5で囲まれた表示領域を含む真空領域6は前記排気管4を介して排気され、例えば10-5〜10-7Torrの真空度を保持している。又、前記排気管4は前述のように前記背面基板1の外表面に取り付けられ、この背面基板1を貫通して穿設された貫通孔7に連通しており、排気完了後前記排気管4は封止される。 A vacuum region 6 including a display region surrounded by the frame 3, both substrates 1 and 2, and the sealing member 5 is exhausted through the exhaust pipe 4, and has a vacuum degree of 10 −5 to 10 −7 Torr, for example. keeping. The exhaust pipe 4 is attached to the outer surface of the rear substrate 1 as described above, and communicates with a through hole 7 formed through the rear substrate 1 so that the exhaust pipe 4 is exhausted after exhausting is completed. Is sealed.

参照符号8はストライプ状の映像信号配線で、この映像信号配線8は例えばアルミニウム(Al)膜、アルミニウムとネオジムの合金(Al−Nd)膜等からなり、前記背面基板1の内面に第1の方向(Y方向)に延在し第2の方向(X方向)に並設されている。
この映像信号配線8の上面には後述する電子源に対応する位置にそれぞれトンネル絶縁膜82を備え、残部は図示しないフィールド絶縁膜で覆われている。又、この映像信号配線8は真空領域6から枠体3と背面基板1との接合領域を気密に貫通し、背面基板1の長辺側の端部まで延在し、その先端部を映像信号配線引出端子81としている。
Reference numeral 8 denotes a stripe-shaped video signal wiring. The video signal wiring 8 is made of, for example, an aluminum (Al) film, an alloy of aluminum and neodymium (Al—Nd), and the like. It extends in the direction (Y direction) and is arranged in parallel in the second direction (X direction).
The upper surface of the video signal wiring 8 is provided with a tunnel insulating film 82 at a position corresponding to an electron source described later, and the remaining part is covered with a field insulating film (not shown). The video signal wiring 8 airtightly penetrates from the vacuum region 6 to the joining region between the frame 3 and the back substrate 1 and extends to the end on the long side of the back substrate 1. The wiring lead terminal 81 is used.

参照符号9はストライプ状の走査信号配線で、この走査信号配線9は前記映像信号配線8上でこれと交差する前記第2の方向(X方向)に延在し前記第1の方向(Y方向)に並設されている。この走査信号配線9はアルミニウム膜或はアルミニウムを主成分とするアルミニウム合金膜等から構成されている。又、この走査信号配線9は真空領域6から枠体3と背面基板1との接合領域を気密に貫通し、背面基板1の短辺側の端部まで延在し、その先端部を走査信号配線引出端子91としている。   Reference numeral 9 denotes a stripe-shaped scanning signal wiring. The scanning signal wiring 9 extends on the video signal wiring 8 in the second direction (X direction) intersecting with the first signal (Y direction). ). The scanning signal wiring 9 is made of an aluminum film or an aluminum alloy film containing aluminum as a main component. The scanning signal wiring 9 airtightly penetrates from the vacuum region 6 to the joining region between the frame 3 and the rear substrate 1 and extends to the end portion on the short side of the rear substrate 1, and the tip portion is scanned with the scanning signal. The wiring lead terminal 91 is used.

又、前記映像信号配線8と、前記走査信号配線9間には層間絶縁膜14が配置されている。この層間絶縁膜14としては、例えばシリコン酸化物やシリコン窒化物、シリコンなどを用いることができる。この層間絶縁膜14は、前記映像信号配線8表面に陽極酸化で形成するフィールド絶縁膜にピンホールがあった場合、その欠陥を埋め、映像信号配線8と走査信号配線9間の絶縁を保つ役割を果たす。   An interlayer insulating film 14 is disposed between the video signal wiring 8 and the scanning signal wiring 9. As the interlayer insulating film 14, for example, silicon oxide, silicon nitride, silicon or the like can be used. The interlayer insulating film 14 fills in defects when a field insulating film formed by anodic oxidation on the surface of the video signal wiring 8 has a pinhole and maintains insulation between the video signal wiring 8 and the scanning signal wiring 9. Fulfill.

次に、参照符号10は電子源で、この電子源10は例えば特許文献1に開示された電子源の一種のMIM型電子源で、この電子源10は前記走査信号配線9と映像信号配線8の交差部近傍で、前記映像信号配線8の前記トンネル絶縁膜82に設けられている。この電子源10は前記走査信号配線9と接続配線11で接続されている。   Next, reference numeral 10 denotes an electron source. This electron source 10 is, for example, a kind of MIM type electron source disclosed in Patent Document 1, and the electron source 10 includes the scanning signal wiring 9 and the video signal wiring 8. Is provided in the tunnel insulating film 82 of the video signal wiring 8 in the vicinity of the crossing portion. The electron source 10 is connected to the scanning signal wiring 9 by a connection wiring 11.

次に、参照符号12はスペーサで、このスペーサ12は略長方形の薄板形状に整形されたスペーサ基体121と、このスペーサ基体121の側面に配置されたそれぞれ独立した多数の細点状突起122との組み合わせから構成され、スペーサ12の表面は多数の凹凸が形成された構成となっている。   Next, reference numeral 12 denotes a spacer. The spacer 12 is formed by a spacer base 121 shaped into a substantially rectangular thin plate shape, and a plurality of independent fine dot-like protrusions 122 arranged on the side surface of the spacer base 121. It is constituted by a combination, and the surface of the spacer 12 has a structure in which a large number of irregularities are formed.

この様な構成で、前記それぞれ独立した多数の細点状突起122の被覆総面積は、被着される前記スペーサ基体121の側面面積の30%〜70%が望ましい。
この比率が30%未満では電子ビームのエミッション電流依存性が残存して電子軌道の曲がりの発生が見られ、一方70%を超えると熱暴走によるスペーサ基体121の損傷の恐れがある。40%〜50%が最も好ましい。
又、前記細点状突起122の高さHは0.5μm〜3μmが望ましい。
この高さHが0.5μm未満ではホッピング伝導抑制効果を期待できない恐れがあり、又3μmを超えると剥離の恐れがある。1μm〜2μmが最も好ましい。
With such a configuration, the total covering area of the plurality of independent fine dot-like protrusions 122 is preferably 30% to 70% of the side surface area of the spacer base 121 to be deposited.
If this ratio is less than 30%, the emission current dependency of the electron beam remains and bending of the electron trajectory is observed. On the other hand, if it exceeds 70%, the spacer base 121 may be damaged due to thermal runaway. 40% to 50% is most preferable.
Further, the height H of the fine dot-like projections 122 is preferably 0.5 μm to 3 μm.
If this height H is less than 0.5 μm, the effect of suppressing hopping conduction may not be expected, and if it exceeds 3 μm, peeling may occur. Most preferable is 1 μm to 2 μm.

このような構成において、前記スペーサ基体121は例えばガラス材料、例えばWO3:30wt%、V25:15wt%、P25:30wt%、BaO:15wt%、MoO3:10wt%の組成からなり体積抵抗率が108Ω・cm〜1010Ω・cmのガラス材料から構成されている。
一方、前記細点状突起122は前記スペーサ基体121と同様にガラス材から構成されるが、その組成は例えばV25:55wt%、P25:20wt%、BaO:5wt%、Sb23:20wt%の基本組成を有し、これに更にY23とZnOを加え、その比率を基本組成:50wt%、Y23:33wt%、ZnO:17wt%とし、前記体積抵抗率が102Ω・cm〜107Ω・cmのガラス材料からなっている。
In such a configuration, the spacer base 121 is composed of, for example, a glass material such as WO 3 : 30 wt%, V 2 O 5 : 15 wt%, P 2 O 5 : 30 wt%, BaO: 15 wt%, MoO 3 : 10 wt%. And a volume resistivity of 10 8 Ω · cm to 10 10 Ω · cm.
On the other hand, the fine dot-like protrusions 122 are made of a glass material like the spacer base 121, and the composition thereof is, for example, V 2 O 5 : 55 wt%, P 2 O 5 : 20 wt%, BaO: 5 wt%, Sb. 2 O 3: having a basic composition of 20 wt%, which further Y 2 O 3 and ZnO were added, the ratio basic composition: 50wt%, Y 2 O 3 : 33wt%, ZnO: and 17 wt%, the volume It consists of a glass material having a resistivity of 10 2 Ω · cm to 10 7 Ω · cm.

又、前述のような構成からなる前記細点状突起122は前記スペーサ基体121に比べ二次電子放出係数が約20%程度低くなっている。
前記細点状突起122は吹き付け、印刷等により形成できる。又、各細点状突起122の面積及び高さは略均一が望ましい。
Further, the fine dot-shaped protrusion 122 having the above-described configuration has a secondary electron emission coefficient lower by about 20% than the spacer base 121.
The fine dot-shaped protrusion 122 can be formed by spraying, printing, or the like. Further, it is desirable that the area and height of each fine dot-like projection 122 be substantially uniform.

前述の様な構成からなるスペーサ12は、前記枠体3と略平行で走査信号配線9上に1本おきに直立配置され、接着部材13で両基板1、2と接着固定している。
このスペーサ12の基板との接着固定は一端側のみでも良く、更にその配置は通常、複数の画素毎に画素の動作を妨げない位置に設置される。
The spacers 12 having the above-described configuration are arranged upright every other on the scanning signal wiring 9 substantially in parallel with the frame 3, and are bonded and fixed to the both substrates 1 and 2 by an adhesive member 13.
The spacer 12 may be bonded and fixed to the substrate only at one end side, and the arrangement is usually set at a position that does not hinder the operation of each pixel.

このスペーサ12の寸法は基板寸法、枠体3の高さ、基板素材、スペーサの配置間隔、スペーサ素材等により設定されるが、一般的には高さは前述した枠体3と略同一寸法、厚さは数十μm〜数mm以下、長さは20mm乃至1000mm程度、更にはそれ以上の長尺も可能であるが、好ましくは80mm乃至300mm程度が実用的な値となる。   The dimensions of the spacer 12 are set according to the substrate dimensions, the height of the frame 3, the substrate material, the spacer spacing, the spacer material, etc. Generally, the height is substantially the same as the frame 3 described above, The thickness can be several tens of μm to several mm or less, the length can be about 20 mm to 1000 mm, and even longer, but a practical value is preferably about 80 mm to 300 mm.

一方、前記スペーサ12の一端側が固定された前面基板2の内面には、赤色、緑色、青色用の蛍光体層15が遮光用のBM(ブラックマトリクス)膜16で区画されたBM窓部161に配置され、これらを覆うように金属薄膜からなるメタルバック(陽極電極)17が例えば蒸着方法で設けられて、蛍光面を形成している。
このメタルバック17は前面基板2と反対側、つまり背面基板1側への発光を前面基板2側へ向け反射させ、発光の取り出し効率を上げる為の光反射膜であると共に蛍光体粒子の表面の帯電を防ぐ機能も合わせ持っている。
又、このメタルバック17は面電極として示してあるが、走査信号配線9と交差して画素列ごとに分割されたストライプ状電極とすることもできる。
On the other hand, on the inner surface of the front substrate 2 to which one end of the spacer 12 is fixed, a red, green, and blue phosphor layer 15 is formed in a BM window 161 that is partitioned by a light-shielding BM (black matrix) film 16. A metal back (anode electrode) 17 made of a metal thin film is provided so as to cover them, for example, by a vapor deposition method to form a phosphor screen.
The metal back 17 is a light reflecting film for reflecting the light emitted to the side opposite to the front substrate 2, that is, the back substrate 1 side, toward the front substrate 2 side to increase the light extraction efficiency, and on the surface of the phosphor particles. It also has a function to prevent electrification.
Further, although the metal back 17 is shown as a surface electrode, it may be a stripe electrode that intersects the scanning signal wiring 9 and is divided for each pixel column.

前記蛍光体としては、例えば赤色用としてY23:Eu、Y22S:Euを、又、緑色用としてZnS:Cu,Al、Y2SiO5:Tb、更に、青色用としてZnS:Ag,Cl、ZnS:Ag,Al等を用いることができる。この蛍光体層15は蛍光体粒子の平均粒径は例えば4μm〜9μm、膜厚は例えば10μm〜20μm程度となっている。 Examples of the phosphor include Y 2 O 3 : Eu and Y 2 O 2 S: Eu for red, ZnS: Cu, Al, Y 2 SiO 5 : Tb for green, and ZnS for blue. : Ag, Cl, ZnS: Ag, Al, etc. can be used. The phosphor layer 15 has an average particle diameter of phosphor particles of, for example, 4 μm to 9 μm, and a film thickness of, for example, about 10 μm to 20 μm.

この蛍光面構成を更に詳細に説明すると、前面基板2の内面にブラックマトリクス膜16が複数のBM窓部161を備えて被着形成されている。
このブラックマトリクス膜16のBM窓部161は、前記映像信号配線8の延在方向に長辺、前記走査信号配線9の延在方向に短辺を持つ略矩形状に形成されており、この矩形状を呈するBM窓部161の中心点を重心とし、この重心位置を前記走査信号配線9の延在方向に揃えて順次配置されている。
このブラックマトリクス膜16のBM窓部161を塞ぎ、かつ背面の一部まで延在して蛍光体層15がそれぞれ前記所定のBM窓部に配置されている。
このBM窓部161と、これに対向して背面基板1側に配置された前記電子源10との相対位置は、電子源重心位置を前記BM窓部161の重心位置に合致させた配置としている。
The phosphor screen structure will be described in more detail. A black matrix film 16 is formed on the inner surface of the front substrate 2 with a plurality of BM window portions 161.
The BM window 161 of the black matrix film 16 is formed in a substantially rectangular shape having a long side in the extending direction of the video signal wiring 8 and a short side in the extending direction of the scanning signal wiring 9. The center point of the BM window 161 having a shape is set as the center of gravity, and the center of gravity is sequentially arranged in the extending direction of the scanning signal wiring 9.
The black matrix film 16 covers the BM window 161 and extends to a part of the back surface, and the phosphor layers 15 are respectively disposed in the predetermined BM window.
The relative positions of the BM window 161 and the electron source 10 disposed on the back substrate 1 side so as to be opposed to the BM window 161 are arranged such that the position of the center of gravity of the electron source matches the position of the center of gravity of the BM window 161. .

この実施例1の構成では、スペーサ12がスペーサ基体121の側面にそれぞれ独立した多数の細点状突起122を配置して表面に凹凸を形成したことにより、表面の凹凸処理を行うとホッピング伝導を抑制する効果があることから、凹凸処理を行っていないスペーサに比べ帯電量が小さく、電子ビーム偏向量も小さく出来る。
更に、これに加えてスペーサ表面の平滑部と凸部における二次電子放出係数δが平滑部>凸部の関係で約20%程度凸部が低くなることから、エミッション電流による電子ビーム偏向への依存性を抑えることが可能となる。
In the configuration of the first embodiment, the spacer 12 has a large number of fine dot-like protrusions 122 arranged on the side surfaces of the spacer base 121 to form irregularities on the surface, and thus when the irregularity treatment on the surface is performed, hopping conduction is performed. Due to the suppression effect, the charge amount is small and the electron beam deflection amount can be reduced as compared with the spacer not subjected to the unevenness treatment.
In addition, since the secondary electron emission coefficient δ at the smooth portion and the convex portion of the spacer surface is about 20% lower due to the relationship of smooth portion> convex portion, the electron beam deflection due to the emission current is reduced. It becomes possible to suppress the dependency.

ここで、この実施例1ではスペーサ基体121と細点状突起122とを異なる特性を持つガラス材料で構成したが、スペーサ基体121と細点状突起122の二次電子放出係数δが略同一材料でも凹凸効果によるホッピング伝導抑制効果は期待できる。この場合、二次電子放出係数δが小さいことが望ましい。 Here, in the first embodiment, the spacer base 121 and the fine dot protrusion 122 are made of glass materials having different characteristics. However, the secondary electron emission coefficient δ of the spacer base 121 and the fine dot protrusion 122 is substantially the same. However, the effect of suppressing hopping conduction by the unevenness effect can be expected. In this case, it is desirable that the secondary electron emission coefficient δ is small.

図5は本発明の画像表示装置の他の実施例を説明する図3に対応する模式断面図で、前述した図と同じ部分には同一記号を付してある。
図5において、スペーサ12はスペーサ基体121の外面と細点状突起122を覆う帯電防止膜123を備え、この帯電防止膜123は上記独立した多数の細点状突起122による表面の凹凸形状に沿った構成である。その他の構成は実施例1と略同一である。
このような構成で、前記帯電防止膜123は例えば酸化鉄(Fe23)と酸化ガリウム(Ga23)の混合材料から形成され、その被覆厚さは50nm程度となっている。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view corresponding to FIG. 3 for explaining another embodiment of the image display device of the present invention.
In FIG. 5, the spacer 12 includes an antistatic film 123 that covers the outer surface of the spacer base 121 and the fine dot-like protrusions 122, and the antistatic film 123 follows the uneven shape of the surface by the numerous independent fine dot-like protrusions 122. It is a configuration. Other configurations are substantially the same as those of the first embodiment.
With such a configuration, the antistatic film 123 is formed of, for example, a mixed material of iron oxide (Fe 2 O 3 ) and gallium oxide (Ga 2 O 3 ), and the coating thickness is about 50 nm.

この実施例2の構成では、実施例1の構成に加えて帯電防止膜123を配置したことにより、スペーサの帯電量を更に小さく出来る。   In the configuration of the second embodiment, the charge amount of the spacer can be further reduced by arranging the antistatic film 123 in addition to the configuration of the first embodiment.

図6は本発明の画像表示装置の更に他の実施例を説明する図3に対応する模式断面図で、前述した図と同じ部分には同一記号を付してある。
図6において、スペーサ12は両基板1、2との接合部に多層、この例では2層の導電膜23を配置し、この多層導電膜23を接合部材13と接合する構成として両基板1,2と接合固定する構成としたものである。
この多層導電膜23は、スペーサ基体121の端面に接して例えば膜厚100nmのCr(クロム)膜231を配置し、その上側を例えば膜厚200nmのAl(アルミニウム)膜で覆う構成としたものである。これら各膜は例えばスパッタリングにより成膜することが出来る。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view corresponding to FIG. 3 for explaining still another embodiment of the image display apparatus of the present invention.
In FIG. 6, the spacer 12 has a multi-layered, in this example, two-layer conductive film 23 disposed at the joint between the two substrates 1 and 2, and the multilayer conductive film 23 is bonded to the bonding member 13. 2 is configured to be joined and fixed.
This multilayer conductive film 23 has a structure in which, for example, a 100 nm-thickness Cr (chromium) film 231 is disposed in contact with the end surface of the spacer base 121 and the upper side thereof is covered with, for example, a 200 nm-thickness Al (aluminum) film. is there. Each of these films can be formed by sputtering, for example.

この実施例3の構成では、前述のようにCr膜をAl膜で覆う構成とした。
一方、スペーサを使用するこの種の画像表示装置では、スペーサと両基板との接着、接続状態を安定にし、スペーサ近傍での電子ビーム偏向量の低減を図る目的でスペーサの端面と接合部材間に単層Cr膜を配置することが提案されている。
Cr膜はパネル製造工程中における加熱プロセスにて表面酸化皮膜を形成し膜ムラが生じてしまう。これによりCr膜の抵抗も増大し、1枚のスペーサ内での抵抗均一性が無くなり、電子ビーム偏向にも影響を与える問題がある。
この実施例3では前述のようにCr膜をAl膜で覆うことでCr膜の酸化を防ぎ、抵抗の均一性を図っている。具体例として前述した各膜厚で単層Cr膜と実施例の2層膜とをそれぞれ460℃、30分間加熱後の抵抗値変化を確認した結果、単層Cr膜では抵抗値の変動幅が3倍を超える大きなばらつきを示したのに対し、実施例の構成では抵抗値のばらつきは発生せず安定した性状を保持出来た。
ここで、実施例3ではスペーサの両端共に多層膜を配置したが、電位勾配を考慮して背面基板1側を省略することも可能で、この構成ではスペーサ近傍での電子ビーム偏向量低減にも効果を奏するが、スペーサ接続に起因する電界集中が防止でき、ストレーエミッション発生を抑制することが可能となる。
In the configuration of Example 3, the Cr film was covered with the Al film as described above.
On the other hand, in this type of image display device using spacers, the spacers are bonded between the end surfaces of the spacers and the joining members in order to stabilize the adhesion and connection between the two substrates and reduce the amount of electron beam deflection in the vicinity of the spacers. It has been proposed to arrange a single layer Cr film.
The Cr film forms a surface oxide film by a heating process in the panel manufacturing process, and film unevenness occurs. As a result, the resistance of the Cr film is also increased, the resistance uniformity within one spacer is lost, and there is a problem that the electron beam deflection is also affected.
In Example 3, as described above, the Cr film is covered with an Al film to prevent the Cr film from being oxidized and to achieve uniform resistance. As a specific example, as a result of confirming the change in resistance value after heating the single-layer Cr film and the two-layer film of the example at 460 ° C. for 30 minutes with the respective film thicknesses described above, the single-layer Cr film has a fluctuation range of the resistance value. While a large variation exceeding three times was exhibited, the configuration of the example did not cause a variation in resistance value and could maintain a stable property.
Here, in Example 3, the multilayer film is disposed at both ends of the spacer. However, the back substrate 1 side can be omitted in consideration of the potential gradient, and this configuration also reduces the amount of electron beam deflection in the vicinity of the spacer. Although effective, it is possible to prevent electric field concentration due to the spacer connection and to suppress the generation of stray emissions.

図7は本発明の画像表示装置の更に他の実施例を説明する図3に対応する模式断面図で、前述した図と同じ部分には同一記号を付してある。
図7において、スペーサ12はスペーサ基体121とこのスペーサ基体121の側面に配置されたそれぞれ独立した多数の細点状突起122との組み合わせから構成され、更に、このスペーサ12は両基板1、2との接合部に多層、この例では2層の導電膜23を配置し、この多層導電膜23を接合部材13と接合する構成として両基板1,2と接合固定する構成としたものである。その他の構成は実施例1、3と略同一である。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view corresponding to FIG. 3 for explaining still another embodiment of the image display apparatus of the present invention.
In FIG. 7, the spacer 12 is composed of a combination of a spacer base 121 and a large number of independent fine dot-like protrusions 122 arranged on the side surfaces of the spacer base 121. In this example, a multi-layered, two-layered conductive film 23 is disposed in the joint, and the multi-layered conductive film 23 is joined to the substrates 1 and 2 as a construction to be joined to the joining member 13. Other configurations are substantially the same as those of the first and third embodiments.

図8は、本発明の構成を適用した平面型画像表示装置の等価回路例の説明図である。図8中に破線で示した領域は表示領域を含む真空領域6であり、この真空領域6にn本の映像信号配線8とm本の走査信号配線9が互いに交差して配置されてn×mのマトリクスが形成されている。マトリクスの各交差部は副画素を構成し、図中の3つの単位画素(あるいは、副画素)"R","G","B"の1グループでカラー1画素を構成する。なお、電子源の構成は図示を省いた。映像信号配線8は、映像信号配線引出端子81で映像信号駆動回路DDRに接続され、走査信号配線9は走査信号配線引出端子91で走査信号駆動回路SDRに接続されている。映像信号駆動回路DDRには外部信号源から映像信号NSが入力され、走査信号駆動回路SDRには同様に走査信号SSが入力される。   FIG. 8 is an explanatory diagram of an equivalent circuit example of a flat-type image display device to which the configuration of the present invention is applied. A region indicated by a broken line in FIG. 8 is a vacuum region 6 including a display region. In this vacuum region 6, n video signal wirings 8 and m scanning signal wirings 9 are arranged so as to cross each other, and n × A matrix of m is formed. Each intersection of the matrix constitutes a sub-pixel, and one group of three unit pixels (or sub-pixels) “R”, “G”, and “B” in the figure constitutes one color pixel. The configuration of the electron source is not shown. The video signal line 8 is connected to the video signal drive circuit DDR at the video signal line lead terminal 81, and the scan signal line 9 is connected to the scan signal drive circuit SDR at the scan signal line lead terminal 91. The video signal NS is input from the external signal source to the video signal driving circuit DDR, and the scanning signal SS is similarly input to the scanning signal driving circuit SDR.

これにより、順次選択される走査信号配線9に交差する映像信号配線8に映像信号を供給することで、二次元のフルカラー画像を表示することができる。   Accordingly, a two-dimensional full-color image can be displayed by supplying a video signal to the video signal wiring 8 that intersects the scanning signal wiring 9 that is sequentially selected.

以上の実施例では、電子源にMIM型を用いた構造を例としたが、本発明はこれに限定されるものではなく、前記した各種の電子源を用いた自発光型FPDに対しても同様に適用できるものである。
又、細点状突起の平面形状を円形としたが、他の形状でも同様に適用できるものである。
更に、多層導電膜もCr、Alに限定されないことは勿論である。
In the above embodiment, the structure using the MIM type as the electron source is taken as an example. However, the present invention is not limited to this, and the present invention is also applicable to the self-luminous FPD using the various electron sources described above. The same applies.
Further, although the planar shape of the fine dot-like projections is circular, other shapes can be applied in the same manner.
Furthermore, it goes without saying that the multilayer conductive film is not limited to Cr or Al.

本発明の平面型画像表示装置の一実施例を説明するための図で、図1(a)は前 面基板側から見た模式平面図、図1(b)は図1(a)の模式側面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a diagram for explaining one embodiment of a flat image display device of the present invention, in which FIG. 1 (a) is a schematic plan view seen from the front substrate side, and FIG. 1 (b) is a schematic diagram of FIG. It is a side view. 図1(b)のA―A線に沿った模式平面図である。It is a schematic plan view along the AA line of FIG.1 (b). 図2のB−B線に沿った背面基板の模式断面図とその背面基板と対応する部分の 前面基板の模式断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a back substrate taken along line BB in FIG. 2 and a schematic cross-sectional view of a front substrate corresponding to the back substrate. 図2の一部の模式側面図及び模式拡大図である。FIG. 3 is a partial schematic side view and a schematic enlarged view of FIG. 2. 本発明の平面型画像表示装置の他の実施例の図3に対応する模式断面図である。It is a schematic cross section corresponding to FIG. 3 of the other Example of the flat type image display apparatus of this invention. 本発明の平面型画像表示装置の更に他の実施例の図3に対応する模式断面図であ る。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view corresponding to FIG. 3 of still another embodiment of the flat image display device of the present invention. 本発明の平面型画像表示装置の更に他の実施例の図3に対応する模式断面図であ る。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view corresponding to FIG. 3 of still another embodiment of the flat image display device of the present invention. 本発明の構成を適用した平面型画像表示装置の等価回路例の説明図である。It is explanatory drawing of the equivalent circuit example of the flat type image display apparatus to which the structure of this invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・背面基板、2・・・前面基板、3・・・枠体、4・・・排気管、5・・・封着部材、6・・・表示領域を含む真空領域、7・・・貫通孔、8・・・映像信号配線、82・・・トンネル絶縁層、9・・・走査信号配線、10・・・電子源、11・・・接続配線、12・・・スペーサ、121・・・スペーサ基体、122・・・細点状突起、123・・・帯電防止膜、13・・・接着部材、14・・・層間絶縁膜、15・・・蛍光体層、16・・・遮光用のBM(ブラックマトリクス)膜、17・・・金属薄膜からなるメタルバック(陽極電極)、23・・・多層導電膜。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Back substrate, 2 ... Front substrate, 3 ... Frame, 4 ... Exhaust pipe, 5 ... Sealing member, 6 ... Vacuum region including display region, 7 ... -Through hole, 8 ... Video signal wiring, 82 ... Tunnel insulating layer, 9 ... Scanning signal wiring, 10 ... Electron source, 11 ... Connection wiring, 12 ... Spacer, 121 ... ..Spacer base, 122... Dots, 123 .Antistatic film, 13 .adhesive member, 14 .. interlayer insulating film, 15... Phosphor layer, 16. BM (black matrix) film, 17 ... metal back (anode electrode) made of a metal thin film, 23 ... multilayer conductive film.

Claims (12)

第1の方向に延在してこの第1の方向と交差する第2の方向に並設された複数の映像信号配線と、前記第2の方向に延在して前記第1の方向に並設された複数の走査信号配線と、前記映像信号配線と走査信号配線間に介挿された絶縁膜と、前記映像信号配線と前記走査信号配線との交叉部近傍に設けられ、前記走査信号配線と接続した複数の電子源とを有する背面基板と、
この背面基板と対向する内表面に複数のBM窓部を備えて配置されたブラックマトリクス膜と、このブラックマトリクス膜の前記複数のBM窓部を覆って前記内表面に配置され前記電子源からの電子の励起で発光する蛍光体層を有する蛍光膜と、この蛍光膜を覆うメタルバック層を有し、前記背面基板と所定の間隔を隔てて対向配置された前面基板と、
前記背面基板と前記前面基板間に配置され前記両基板を所定の間隔に保持する枠体と、
前記背面基板と前記前面基板間で前記枠体と略平行に配置固定された複数のスペーサと、
前記枠体の端面と前記前面基板及び背面基板とを気密封着する封着部材とを具備する画像表示装置であって、
前記スペーサは、このスペーサ側面に多数の独立した細点状突起を備えたことを特徴とする画像表示装置。
A plurality of video signal wirings extending in the first direction and arranged in parallel in a second direction intersecting the first direction, and extending in the second direction and aligned in the first direction. A plurality of scanning signal wirings provided; an insulating film interposed between the video signal wirings and the scanning signal wirings; and the scanning signal wirings provided in the vicinity of an intersection of the video signal wirings and the scanning signal wirings. A back substrate having a plurality of electron sources connected to
A black matrix film provided with a plurality of BM window portions on the inner surface facing the back substrate, and a plurality of BM window portions of the black matrix film covering the plurality of BM window portions and arranged on the inner surface from the electron source A phosphor film having a phosphor layer that emits light by excitation of electrons, a metal back layer covering the phosphor film, and a front substrate disposed opposite to the back substrate at a predetermined interval;
A frame disposed between the back substrate and the front substrate to hold the substrates at a predetermined interval;
A plurality of spacers arranged and fixed substantially parallel to the frame body between the back substrate and the front substrate;
An image display device comprising a sealing member that hermetically seals the end face of the frame and the front substrate and the rear substrate,
The image display apparatus, wherein the spacer includes a large number of independent fine-point protrusions on a side surface of the spacer.
前記スペーサはスペーサ基体とこのスペーサ基体の側面に被着された多数の独立した細点状突起とを備えたことを特徴とする請求項1に記載の画像表示装置。   2. The image display device according to claim 1, wherein the spacer includes a spacer base and a large number of independent fine dot-like projections attached to side surfaces of the spacer base. 前記スペーサ基体は前記細点状突起と二次電子放出係数が異なることを特徴とする請求項1又は2に記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 1, wherein the spacer base has a secondary electron emission coefficient different from that of the fine dot-like projections. 前記スペーサ基体は前記細点状突起と体積抵抗率が異なることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 1, wherein the spacer base has a volume resistivity different from that of the fine dot-like projections. 前記スペーサは前記スペーサ基体の側面の30%〜70%を前記細点状突起で覆ってなることを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載の画像表示装置。   5. The image display device according to claim 1, wherein the spacer covers 30% to 70% of a side surface of the spacer base with the fine dot-like projections. 前記細点状突起の高さは0.5μm〜3μmであることを特徴とする請求項1乃至5の何れかに記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 1, wherein a height of the fine dot-like projections is 0.5 μm to 3 μm. 前記スペーサ基体はタングステンとリンとを主成分として含むガラスからなり、前記細点状突起はバナジウムとリンとを主成分として含むガラスからなることを特徴とする請求項2乃至6の何れかに記載の画像表示装置。   7. The spacer base is made of glass containing tungsten and phosphorus as main components, and the fine dot-like projections are made of glass containing vanadium and phosphorus as main components. Image display device. 前記スペーサは前記スペーサ基体の前記側面と前記細点状突起が帯電防止膜で覆われた構成であることを特徴とする請求項2乃至7の何れかに記載の画像表示装置。   8. The image display device according to claim 2, wherein the spacer has a configuration in which the side surface of the spacer base and the fine dot-like projections are covered with an antistatic film. 第1の方向に延在してこの第1の方向と交差する第2の方向に並設された複数の映像信号配線と、前記第2の方向に延在して前記第1の方向に並設された複数の走査信号配線と、前記映像信号配線と走査信号配線間に介挿された絶縁膜と、前記映像信号配線と前記走査信号配線との交叉部近傍に設けられ、前記走査信号配線と接続した複数の電子源とを有する背面基板と、
この背面基板と対向する内表面に複数のBM窓部を備えて配置されたブラックマトリクス膜と、このブラックマトリクス膜の前記複数のBM窓部を覆って前記内表面に配置され前記電子源からの電子の励起で発光する蛍光体層を有する蛍光膜と、この蛍光膜を覆うメタルバック層を有し、前記背面基板と所定の間隔を隔てて対向配置された前面基板と、
前記背面基板と前記前面基板間に配置され前記両基板を所定の間隔に保持する枠体と、
前記背面基板と前記前面基板間で前記枠体と略平行に配置固定された複数のスペーサと、
前記枠体の端面と前記前面基板及び背面基板とを気密封着する封着部材とを具備する画像表示装置であって、
前記スペーサは、このスペーサ端面を多層導電膜及び接合部材を介して前記基板と接合してなることを特徴とする画像表示装置。
A plurality of video signal wirings extending in the first direction and arranged in parallel in a second direction intersecting the first direction, and extending in the second direction and aligned in the first direction. A plurality of scanning signal wirings provided; an insulating film interposed between the video signal wirings and the scanning signal wirings; and the scanning signal wirings provided in the vicinity of an intersection of the video signal wirings and the scanning signal wirings. A back substrate having a plurality of electron sources connected to
A black matrix film provided with a plurality of BM window portions on the inner surface facing the back substrate, and a plurality of BM window portions of the black matrix film covering the plurality of BM window portions and arranged on the inner surface from the electron source A phosphor film having a phosphor layer that emits light by excitation of electrons, a metal back layer covering the phosphor film, and a front substrate disposed opposite to the back substrate at a predetermined interval;
A frame disposed between the back substrate and the front substrate to hold the substrates at a predetermined interval;
A plurality of spacers arranged and fixed substantially parallel to the frame body between the back substrate and the front substrate;
An image display device comprising a sealing member that hermetically seals the end face of the frame and the front substrate and the rear substrate,
The image display device, wherein the spacer is formed by bonding the end face of the spacer to the substrate via a multilayer conductive film and a bonding member.
前記多層導電膜はスペーサ端面側の第1層にCr膜、第2層にAl膜の2層膜構造であることを特徴とする請求項9に記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 9, wherein the multilayer conductive film has a two-layer film structure in which a first layer on a spacer end face side is a Cr film and a second layer is an Al film. 前記スペーサはスペーサ基体の側面を多数の独立した細点状突起で覆ってなることを特徴とする請求項9又は10に記載の画像表示装置。   11. The image display device according to claim 9, wherein the spacer is formed by covering the side surface of the spacer base with a number of independent fine-point protrusions. 前記電子源が、下部電極と上部電極及びこれら下部電極と上部電極との間に挟持される電子加速層を有し、前記下部電極と上部電極間に電圧を印加することで前記上部電極より電子を放出する薄膜型電子源アレイであることを特徴とする請求項1乃至11の何れかに記載の画像表示装置。   The electron source has a lower electrode, an upper electrode, and an electron acceleration layer sandwiched between the lower electrode and the upper electrode, and an electron is applied from the upper electrode by applying a voltage between the lower electrode and the upper electrode. The image display device according to claim 1, wherein the image display device is a thin film electron source array that emits light.
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