JP2009069802A - Lithographic printing plate precursor, and plate making method - Google Patents

Lithographic printing plate precursor, and plate making method Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing plate precursor capable of recording an image by laser beams, excelling in on-machine developability, gum developability and printing durability and improved particularly in soiling property. <P>SOLUTION: The lithographic printing plate precursor has an intermediate layer and an image recording layer in this order on an aluminum support, has at least one functional group interacting with the aluminum support, in one molecule, and comprises a compound with polymerization-inhibiting ability in the intermediate layer or the image recording layer. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、平版印刷版原版に関する。詳しくは、レーザーによる画像記録が可能であり、機上現像またはガム現像が可能な平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor. More specifically, the present invention relates to a lithographic printing plate precursor capable of image recording with a laser and capable of on-press development or gum development.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を通した露光を行った後、画像部に対応する画像記録層を残存させ、非画像部に対応する不要な画像記録層をアルカリ性現像液または有機溶剤含有現像液によって溶解除去し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image area that receives dampening water. Lithographic printing utilizes the property that water and oil-based inks repel each other, so that the oleophilic image area of the lithographic printing plate is the ink receiving area and the hydrophilic non-image area is dampened with the water receiving area (ink non-receiving area). As described above, a difference in ink adhesion is caused on the surface of a lithographic printing plate, and after ink is applied only to an image portion, the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed.
In order to produce this lithographic printing plate, conventionally, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Usually, after exposing the lithographic printing plate precursor through an original image such as a lithographic film, the image recording layer corresponding to the image portion remains, and the unnecessary image recording layer corresponding to the non-image portion is removed with an alkaline developer. Alternatively, the lithographic printing plate is obtained by dissolving and removing with an organic solvent-containing developer and exposing the surface of the hydrophilic support to form a non-image portion to form a non-image portion.

従来の平版印刷版原版の製版工程においては、露光の後、不要な画像記録層を現像液などによって溶解除去する工程が必要であるが、このような付加的に行われる湿式処理を不要化または簡易化することが課題の一つとして挙げられている。特に、近年、地球環境への配慮から湿式処理に伴って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな関心事となっているので、上記課題の解決の要請は一層強くなってきている。   In the conventional plate making process of a lithographic printing plate precursor, a step of dissolving and removing an unnecessary image recording layer with a developer or the like is necessary after exposure. However, such additional wet processing is unnecessary or Simplification is cited as one of the issues. In particular, in recent years, disposal of waste liquids discharged with wet processing has become a major concern for the entire industry due to consideration for the global environment, and therefore, the demand for solving the above-mentioned problems has become stronger.

これに対して、簡易な製版方法の一つとして、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の中で行えるような画像記録層を用い、露光後、印刷機上で画像記録層の不要部分を除去して平版印刷版を得る、機上現像と呼ばれる方法が提案されている。
機上現像の具体的方法としては、例えば、湿し水、インキ溶剤または湿し水とインキとの乳化物に溶解しまたは分散することが可能な画像記録層を有する平版印刷版原版を用いる方法、印刷機のローラ類やブランケットとの接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法、湿し水、インキ溶剤などの浸透によって画像記録層の凝集力または画像記録層と支持体との接着力を弱めた後、ローラ類やブランケットとの接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法が挙げられる。
また、簡易な製版方法のもう一つの方法として、現像処理工程における画像記録層不要部分の除去を、従来の高アルカリ性現像液に替えて、従来アルカリ現像の後に施されていたフィニッシング処理用のガム液で行うガム現像と呼ばれる方法も提案されている。
なお、本発明においては、特別な説明がない限り、「現像処理工程」とは、印刷機以外の装置(通常は自動現像機)を使用し、液体(通常はアルカリ性現像液)を接触させることにより、平版印刷版原版の未露光部分の画像記録層を除去し、親水性支持体表面を露出させる工程を指し、「機上現像」とは、印刷機を用いて、液体(通常は印刷インキおよび/または湿し水)を接触させることにより、平版印刷版原版の未露光部分の画像記録層を除去し、親水性支持体表面を露出させる方法および工程を指す。
上記「現像処理工程」を経る処理のうち、現像液としてガム液を使用する現像を特に「ガム現像」と呼ぶ。
On the other hand, as one simple plate making method, an image recording layer that can remove unnecessary portions of the image recording layer in a normal printing process is used. A method called on-press development has been proposed in which unnecessary portions are removed to obtain a lithographic printing plate.
As a specific method for on-press development, for example, a method using a lithographic printing plate precursor having an image recording layer that can be dissolved or dispersed in a dampening water, an ink solvent, or an emulsion of a dampening water and an ink. , Method of mechanically removing the image recording layer by contact with rollers or blankets of a printing press, cohesion of the image recording layer or adhesion between the image recording layer and the support by penetration of dampening water, ink solvent, etc. There is a method in which after the force is weakened, the image recording layer is mechanically removed by contact with rollers or a blanket.
Further, as another simple plate-making method, the removal of the unnecessary portion of the image recording layer in the development processing step is replaced with a conventional highly alkaline developer, and a finishing gum conventionally applied after alkali development. A method called gum development performed with a solution has also been proposed.
In the present invention, unless otherwise specified, the “development process step” means using a device other than a printing press (usually an automatic developing machine) and contacting a liquid (usually an alkaline developer). Refers to the process of removing the image recording layer of the unexposed portion of the lithographic printing plate precursor and exposing the surface of the hydrophilic support. And / or fountain solution) to remove the image recording layer of the unexposed portion of the lithographic printing plate precursor and to expose the surface of the hydrophilic support.
Of the processes through the “development process step”, development using a gum solution as a developer is particularly referred to as “gum development”.

一方、近年、画像情報をコンピュータで電子的に処理し、蓄積し、出力する、デジタル化技術が広く普及してきており、このようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきている。これに伴い、レーザー光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版原版を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート技術が注目されてきている。したがって、このような技術に適応した平版印刷版原版を得ることが重要な技術課題の一つとなっている。   On the other hand, in recent years, digitization technology for electronically processing, storing, and outputting image information by a computer has become widespread, and various new image output methods corresponding to such digitization technology will be put into practical use. It is becoming. Along with this, digitized image information is carried by high-convergence radiation such as laser light, and the lithographic printing plate precursor is scanned and exposed with that light, directly without using a lithographic film. Computer-to-plate technology for manufacturing is attracting attention. Therefore, obtaining a lithographic printing plate precursor adapted to such a technique is one of the important technical issues.

上述したような製版作業の簡素化、乾式化または無処理化では、露光後の画像記録層が現像処理によって定着されていないので感光性を有し、印刷までの間にかぶってしまう可能性があるため、明室または黄色灯下で取り扱い可能な画像記録層および光源が必要とされる。
そのようなレーザー光源としては、波長760〜1200nmの赤外線を放射する半導体レーザーおよびYAGレーザー等の固体レーザーは、高出力且つ小型のものを安価に入手できるようになったことから、極めて有用である。また、UVレーザーも用いることができる。
In the above-described simplification, dry-type or non-processing of the plate-making operation, the image recording layer after exposure is not fixed by development processing, and thus has photosensitivity and may be covered before printing. Therefore, there is a need for an image recording layer and a light source that can be handled in a bright room or under a yellow light.
As such a laser light source, a solid-state laser such as a semiconductor laser and a YAG laser that emits infrared light having a wavelength of 760 to 1200 nm is extremely useful because a high-power and small-sized laser can be obtained at low cost. . A UV laser can also be used.

この赤外線レーザーで画像記録をする機上現像型の平版印刷版原版として、例えば、特許文献1には、親水性結合剤中に疎水性熱可塑性重合体粒子を分散させた画像形成層を親水性支持体上に設けた平版印刷版原版が記載されている。この特許文献1には、上記平版印刷版原版を赤外線レーザーにより露光して、疎水性熱可塑性重合体粒子を熱により合体させて画像を形成させた後、印刷機のシリンダー上に取り付け、湿し水および/またはインキにより機上現像することが可能である旨記載されている。
このように微粒子の単なる熱融着による合体で画像を形成させる方法は、良好な機上現像性を示すものの、画像強度が極めて弱く、耐刷性が不十分であるという問題を有していた。
As an on-press development type lithographic printing plate precursor for recording an image with an infrared laser, for example, Patent Document 1 discloses that an image forming layer in which hydrophobic thermoplastic polymer particles are dispersed in a hydrophilic binder is hydrophilic. A lithographic printing plate precursor provided on a support is described. In this Patent Document 1, the above lithographic printing plate precursor is exposed by an infrared laser, and the hydrophobic thermoplastic polymer particles are coalesced by heat to form an image, which is then mounted on a cylinder of a printing machine and moistened. It is described that it can be developed on-press with water and / or ink.
As described above, the method of forming an image by merging the fine particles by simple thermal fusion has a problem that the image strength is extremely weak and the printing durability is insufficient, although it exhibits good on-press developability. .

また、特許文献2および3には、親水性支持体上に、重合性化合物を内包するマイクロカプセルを含む平版印刷版原版が記載されている。
さらに、特許文献4には、支持体上に、赤外線吸収剤とラジカル重合開始剤と重合性化合物とを含有する感光層を設けた平版印刷版原版が記載されている。
Patent Documents 2 and 3 describe lithographic printing plate precursors containing microcapsules encapsulating a polymerizable compound on a hydrophilic support.
Furthermore, Patent Document 4 describes a lithographic printing plate precursor in which a photosensitive layer containing an infrared absorber, a radical polymerization initiator, and a polymerizable compound is provided on a support.

このように重合反応を用いる方法は、重合体微粒子の熱融着により形成される画像部に比べ、画像部の化学結合密度が高いため画像強度が比較的良好であるという特徴を有するが、耐刷性、機上現像性および汚れ性を満足させるためには支持体と画像記録層の間に中間層を設ける必要があった。
この目的に用いられる中間層として、親水性を付与した水溶性樹脂が用いられることは一般に知られており、特許文献5には、基板吸着性基、重合性基、親水性基を持つポリマー中間層を設けた機上現像型の平版印刷版原版が記載されている。
The method using the polymerization reaction as described above has a feature that the image strength is relatively good because the chemical bond density of the image portion is higher than that of the image portion formed by thermal fusion of the polymer fine particles. In order to satisfy the printability, on-press development property, and stain resistance, it is necessary to provide an intermediate layer between the support and the image recording layer.
As an intermediate layer used for this purpose, it is generally known that a water-soluble resin imparted with hydrophilicity is used. Patent Document 5 discloses a polymer intermediate having a substrate adsorbing group, a polymerizable group, and a hydrophilic group. An on-press development type lithographic printing plate precursor provided with a layer is described.

また、重合反応を用いる場合には、平版印刷版原版の製造時や保存経時中の不要な熱重合を防止するため、画像記録層にベンゾキノンなどの重合禁止剤を含有させることも知られている(特許文献2〜5参照。)。   In addition, when a polymerization reaction is used, it is also known to contain a polymerization inhibitor such as benzoquinone in the image recording layer in order to prevent unnecessary thermal polymerization during the production of the lithographic printing plate precursor and during storage. (See Patent Documents 2 to 5.)

しかしながら、機上現像およびガム現像などの簡易な製版方法の場合には、これらの中間層を設けた平版印刷版原版でも非画像部の汚れ性は未だ不十分であり、特に数μm〜数千μmの円形状の汚れ(以下ポツ汚れと表現する)の改良が必要であった。   However, in the case of a simple plate making method such as on-press development and gum development, the lithographic printing plate precursor provided with these intermediate layers still has insufficient stain resistance in the non-image area, particularly several μm to several thousand. It was necessary to improve the μm circular dirt (hereinafter referred to as “pot dirt”).

特許第2938397号明細書Japanese Patent No. 2938397 特開2001−277740号公報JP 2001-277740 A 特開2001−277742号公報JP 2001-277742 A 特開2002−287334号公報JP 2002-287334 A 特開2005−125749号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-125749

本発明は、上記従来技術に鑑みてなされたものであって、レーザー光により画像記録が可能であり、機上現像性またはガム現像性、および耐刷性に優れ、汚れ性、特にポツ汚れが改良された平版印刷版原版およびそれを用いた製版方法を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above-described prior art, and can record an image with a laser beam, has excellent on-machine developability or gum developability, and printing durability, and has stain resistance, particularly pot stain. An object of the present invention is to provide an improved lithographic printing plate precursor and a plate making method using the same.

本発明者らは、種々検討した結果、アルミニウム支持体と相互作用する官能基を少なくとも一つ有し、且つ重合禁止能を有する化合物を用いることにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明に到達した。
本発明は以下の通りである。
As a result of various studies, the present inventors have found that the above object can be achieved by using a compound having at least one functional group that interacts with an aluminum support and having a polymerization inhibiting ability. Reached.
The present invention is as follows.

1.アルミニウム支持体上に、中間層および画像記録層をこの順に有し、一分子内にアルミニウム支持体と相互作用する官能基を少なくとも一つ有し、且つ重合禁止能を有する化合物を中間層または画像記録層に含有することを特徴とする平版印刷版原版。
2.上記重合禁止能を有する化合物が、キノン化合物であることを特徴とする請求項1記載の平版印刷版原版。
3.アルミニウム支持体上に、中間層および画像記録層をこの順に有し、一分子内にアルミニウム支持体と相互作用する官能基を少なくとも一つ有し、且つ重合禁止能を有する化合物を中間層に含有することを特徴とする請求項1または2に記載の平版印刷版原版。
4.アルミニウム支持体と相互作用する官能基が、フェノール性ヒドロキシル基、カルボキシル基、−SOH、−OSOH、−PO、−OPO、−CONHSO−、−SONHSO−、−COCHCOCH3、もしくはこれら酸基の金属塩、トリアルコキシシリル基、または、オニウム基であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の平版印刷版原版。
1. On the aluminum support, an intermediate layer and an image recording layer are arranged in this order, and a compound having at least one functional group that interacts with the aluminum support in one molecule and having a polymerization inhibiting ability is added to the intermediate layer or the image. A lithographic printing plate precursor, which is contained in a recording layer.
2. 2. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the compound having the ability to inhibit polymerization is a quinone compound.
3. An intermediate layer and an image recording layer are arranged in this order on an aluminum support, and the intermediate layer contains a compound having at least one functional group that interacts with the aluminum support in one molecule and having a polymerization inhibiting ability. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1 or 2, wherein:
4). Functional group capable of interacting with the aluminum support, a phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, -SO 3 H, -OSO 3 H , -PO 3 H 2, -OPO 3 H 2, -CONHSO 2 -, - SO 2 NHSO 2 -, - COCH 2 COCH 3 or metal salts of these acidic groups, a trialkoxysilyl group or a lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 3, characterized in that an onium group.

5.前記キノン化合物が下記一般式(1)で表されることを特徴とする請求項2に記載の平版印刷版原版。   5). The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 2, wherein the quinone compound is represented by the following general formula (1).

Figure 2009069802
Figure 2009069802

一般式(1)中、R〜Rは、水素原子、ハロゲン原子または一価の有機基を表す。ただし、R〜Rの少なくとも一つは上記一般式(2)で表される。
一般式(2)中、Xは、O、S、NH、またはNRを表す。Rは、アルキル基またはアリール基を表す。Lは単結合または二価の連結基を表す。Zは、フェノール性ヒドロキシル基、カルボキシル基、−SOH、−OSOH、−PO、−OPO、−CONHSO−、−SONHSO−、−COCHCOCH3、もしくはこれら酸基の金属塩、トリアルコキシシリル基、またはオニウム基を表す。
In General Formula (1), R 1 to R 4 represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group. However, at least one of R 1 to R 4 is represented by the general formula (2).
In the general formula (2), X represents O, S, NH, or NR 5 . R 5 represents an alkyl group or an aryl group. L represents a single bond or a divalent linking group. Z is phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, -SO 3 H, -OSO 3 H , -PO 3 H 2, -OPO 3 H 2, -CONHSO 2 -, - SO 2 NHSO 2 -, - COCH 2 COCH 3 or it represents a metal salt, a trialkoxysilyl group or an onium group, of these acids groups.

6.前記中間層が、基板吸着性基、重合性基、および親水性基を有するポリマーを含有することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の平版印刷版原版
7.前記画像記録層が、(A)赤外線吸収剤、(B)重合開始剤、および(C)重合性化合物を含有することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の平版印刷版原版。
8.前記画像記録層が、さらに、バインダーポリマーを含有することを特徴とする前記1〜7のいずれかに記載の平版印刷版原版。
9.前記画像記録層が、さらに マイクロカプセルまたはミクロゲルを含有することを
特徴とする前記1〜8のいずれかに記載の平版印刷版原版。
10.前記画像記録層が、露光後に印刷機上で印刷インキと湿し水とを供給して未露光部分を除去することにより画像形成可能な画像記録層であることを特徴とする前記1〜9のいずれかに記載の平版印刷版原版。
11.前記10に記載の平版印刷版原版を、画像露光した後に印刷機に装着するか印刷機に装着した後に画像露光し、印刷インキと湿し水とを供給して機上現像処理を行い、印刷することを特徴とする製版方法。
12.前記1〜9のいずれか一項に記載の平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、露光後の平版印刷版原版をガム液で現像することにより平版印刷版原版の未露光部分を除去する現像工程とを有することを特徴とする平版印刷版原版の製版方法。
6). 6. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the intermediate layer contains a polymer having a substrate adsorptive group, a polymerizable group, and a hydrophilic group. The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 6, wherein the image recording layer contains (A) an infrared absorber, (B) a polymerization initiator, and (C) a polymerizable compound. .
8). The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 7 above, wherein the image recording layer further contains a binder polymer.
9. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 8 above, wherein the image recording layer further contains a microcapsule or a microgel.
10. 1 to 9 above, wherein the image recording layer is an image recording layer capable of forming an image by supplying printing ink and dampening water on a printing machine after exposure to remove an unexposed portion. The lithographic printing plate precursor as described in any one of the above.
11. The lithographic printing plate precursor as described in 10 above is image-exposed and then mounted on a printing press or image-exposed after being mounted on a printing press, printing ink and fountain solution are supplied to perform on-press development, and printing A plate making method characterized by:
12 The step of exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of the above 1 to 9 imagewise, and removing the unexposed portion of the lithographic printing plate precursor by developing the exposed lithographic printing plate precursor with a gum solution A lithographic printing plate precursor making method comprising the steps of:

13.下記一般式(1a)で表されることを特徴とするキノン化合物。   13. A quinone compound represented by the following general formula (1a):

Figure 2009069802
Figure 2009069802

一般式(1a)中、R01〜R04は、水素原子、ハロゲン原子または一価の有機基を表す。ただし、R01〜R04の少なくとも一つは上記一般式(3)で表されることを特徴とする。一般式(3)中、Xは、O、S、NH、またはNR05を表す。R05はアルキル基またはアリール基を表す。Lは単結合または二価の連結基を表す。R06はアルキル基を表す。 In the general formula (1a), R 01 to R 04 represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group. However, at least one of R 01 to R 04 is represented by the general formula (3). In the general formula (3), X represents O, S, NH, or NR 05 . R 05 represents an alkyl group or an aryl group. L represents a single bond or a divalent linking group. R 06 represents an alkyl group.

本発明では中間層または画像記録層に、アルミニウム支持体と相互作用する官能基を少なくとも一つ有し、且つ重合禁止能を有する化合物を含有することにより、ポツ汚れを改良できた。本発明のこの作用機構は明確ではないが、アルミニウム支持体と相互作用する官能基を有すことにより、重合禁止能を有する化合物が基板界面に吸着し、平版印刷版原版の保存経時中に発生する基板界面付近での重合反応を抑制することで、経時中の印刷汚れの劣化を抑制していると推定している。   In the present invention, the spot stain can be improved by including in the intermediate layer or image recording layer a compound having at least one functional group that interacts with the aluminum support and having a polymerization inhibiting ability. Although this mechanism of action of the present invention is not clear, by having a functional group that interacts with the aluminum support, a compound having a polymerization-inhibiting ability is adsorbed on the substrate interface and is generated during the storage period of the lithographic printing plate precursor By suppressing the polymerization reaction in the vicinity of the substrate interface, it is presumed that the deterioration of printing stains over time is suppressed.

本発明によれば、レーザー光により画像記録が可能であり、機上現像性またはガム現像性、および耐刷性に優れ、汚れ性(特にポツ汚れ)が良化した平版印刷版原版およびそれを用いた平版印刷方法を提供できる。   According to the present invention, a lithographic printing plate precursor capable of recording an image with a laser beam, having excellent on-machine developability or gum developability, printing durability, and improved stain resistance (especially spot stain) and The lithographic printing method used can be provided.

[平版印刷版原版]
本発明の平版印刷版原版は、アルミニウム支持体上に中間層および画像記録層をこの順に有し、一分子内にアルミニウム支持体と相互作用する官能基を少なくとも一つ有し、且つ重合禁止能を有する化合物を中間層または画像記録層に含有することを特徴とする。
また、本発明では、中間層が、基板吸着性基、重合性基および親水性基を有するポリマーを含有することが好ましい。また、本発明の画像記録層は、(A)増感色素、(B)重合開始剤、および(C)重合性化合物を含有することが好ましい。さらに、画像記録層は、印刷インキおよび/または湿し水で未露光部分が除去可能で、機上現像可能な平版印刷版を構成できることが特に好ましい。
以下、本発明を詳細に説明する。
[Lithographic printing plate precursor]
The lithographic printing plate precursor of the present invention has an intermediate layer and an image recording layer in this order on an aluminum support, has at least one functional group that interacts with the aluminum support in one molecule, and has a polymerization inhibiting ability. It is characterized by containing a compound having the above in the intermediate layer or the image recording layer.
In the present invention, the intermediate layer preferably contains a polymer having a substrate adsorptive group, a polymerizable group and a hydrophilic group. The image recording layer of the present invention preferably contains (A) a sensitizing dye, (B) a polymerization initiator, and (C) a polymerizable compound. Furthermore, it is particularly preferable that the image recording layer can form a lithographic printing plate that can be removed from the unexposed portion with printing ink and / or fountain solution and can be developed on the machine.
Hereinafter, the present invention will be described in detail.

<重合禁止能を有する化合物>
本発明のアルミニウム支持体と相互作用する官能基を少なくとも一つ有し、且つ重合禁止能を有する化合物は、中間層または画像記録層に含有される。その他の任意に設けられる層に含有させることもできる。基板界面の重合を抑制するという観点からは、基板界面に近い中間層中に含有されることがより好ましい。
以下では、アルミニウム支持体と相互作用する官能基を少なくとも一つ有し、且つ重合禁止能を有する化合物を特定化合物と称す。
<Compound having polymerization inhibiting ability>
The compound having at least one functional group that interacts with the aluminum support of the present invention and having the ability to inhibit polymerization is contained in the intermediate layer or the image recording layer. It can also be contained in other arbitrarily provided layers. From the viewpoint of suppressing polymerization at the substrate interface, it is more preferable to be contained in an intermediate layer close to the substrate interface.
Hereinafter, a compound having at least one functional group that interacts with the aluminum support and having a polymerization inhibiting ability is referred to as a specific compound.

ここで、アルミニウム支持体とは、陽極酸化処理または親水化処理を施したアルミニウム支持体を意味し、相互作用する官能基とは、該アルミニウム支持体上に存在する金属、金属酸化物、ヒドロキシル基などと、共有結合、イオン結合、水素結合、極性相互作用、ファンデルワールズ相互作用などの相互作用する官能基を意味する。
そのようなアルミニウム支持体と相互作用する官能基の具体例としては、フェノール性ヒドロキシル基、カルボキシル基、−SOH、−OSOH、−PO、−OPO、−CONHSO−、−SONHSO−、−COCHCOCH、もしくはこれら酸基の金属塩、トリアルコキシシリル基、またはオニウム基が挙げられ、カルボキシル基、−PO、−OPO、もしくはこれら酸基の金属塩、トリアルコキシシリル基、またはオニウム基であることが好ましく、カルボキシル基、トリアルコキシシリル基、またはオニウム基であることが最も好ましい。
Here, the aluminum support means an anodized or hydrophilized aluminum support, and the interacting functional group means a metal, metal oxide, hydroxyl group present on the aluminum support. And the like means an interacting functional group such as a covalent bond, an ionic bond, a hydrogen bond, a polar interaction, and a van der Waals interaction.
Specific examples of functional groups that interact with such an aluminum support include phenolic hydroxyl groups, carboxyl groups, —SO 3 H, —OSO 3 H, —PO 3 H 2 , —OPO 3 H 2 , —CONHSO. 2 -, - SO 2 NHSO 2 -, - COCH 2 COCH 3 or metal salts of these acidic groups, a trialkoxysilyl group or an onium group, and a carboxyl group, -PO 3 H 2, -OPO 3 H 2 Or a metal salt of these acid groups, a trialkoxysilyl group, or an onium group, and most preferably a carboxyl group, a trialkoxysilyl group, or an onium group.

トリアルコキシシリル基としては、炭素原子数1〜18のトリアルコキシシリル基が好ましく、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基であることが特に好ましい。   The trialkoxysilyl group is preferably a trialkoxysilyl group having 1 to 18 carbon atoms, particularly preferably a trimethoxysilyl group or a triethoxysilyl group.

オニウム基としては、アンモニウム基およびホスホニウム基が好ましく、アンモニウム基が最も好ましい。オニウム基の好ましい対アニオンとしては、ハロゲン化物イオン(例えば塩素イオン、臭素イオン)、スルホン酸イオン(例えばメタンスルホン酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオン)、カルボン酸イオン(例えば酢酸イオン、プロピオン酸イオン)、水酸化物イオン、硫酸モノアルキルイオン(硫酸モノメチルイオン、硫酸モノエチルイオン)、PF 6 - 、BF 4 - 等が挙げられる。これらの中では、PF 6 - 、B
4 -、スルホン酸イオン、カルボン酸イオンが特に好ましい。
アンモニウム基およびホスホニウム基の好ましい具体例を下記に示す。
As the onium group, an ammonium group and a phosphonium group are preferable, and an ammonium group is most preferable. Preferred counter anions of the onium group include halide ions (for example, chlorine ions, bromine ions), sulfonate ions (for example, methanesulfonate ions, p-toluenesulfonate ions), carboxylate ions (for example, acetate ions, propionate ions). ), Hydroxide ions, monoalkyl sulfate ions (monomethyl sulfate ions, monoethyl sulfate ions), PF 6 , BF 4 − and the like. Among these, PF 6 , B
F 4 , sulfonate ion, and carboxylate ion are particularly preferable.
Preferred specific examples of the ammonium group and the phosphonium group are shown below.

Figure 2009069802
Figure 2009069802

本明細書中、重合禁止能を有する化合物とは、その化合物がラジカルと反応し、生じたラジカルを安定化し、重合を行わない状態とするか、またはラジカルの重合反応を非常に抑制し、反応を極めて遅くする機能を有する化合物を指す。本発明に好適に使用できる重合禁止能を有する化合物としては、キノン化合物、フェノール系ヒドロキシル基含有化合物、N−オキシド化合物、ピペリジン 1−オキシル フリーラジカル化合物、スルフィド基含有化合物、ニトロ基含有化合物が挙げられる。重合禁止能を有する化合物としては、キノン化合物であることが最も好ましい。   In the present specification, the compound having a polymerization inhibiting ability means that the compound reacts with a radical, stabilizes the generated radical, and does not perform polymerization, or the radical polymerization reaction is extremely suppressed, Refers to a compound having a function of extremely slowing down. Examples of the compound having a polymerization inhibiting ability that can be suitably used in the present invention include quinone compounds, phenolic hydroxyl group-containing compounds, N-oxide compounds, piperidine 1-oxyl free radical compounds, sulfide group-containing compounds, and nitro group-containing compounds. It is done. The compound having a polymerization inhibiting ability is most preferably a quinone compound.

本発明の特定化合物がキノン化合物である場合、下記一般式(1)で表される化合物が特に好ましい。   When the specific compound of the present invention is a quinone compound, a compound represented by the following general formula (1) is particularly preferable.

Figure 2009069802
Figure 2009069802

一般式(1)中、R〜Rは、水素原子、ハロゲン原子または一価の有機基を表す。ただし、R〜Rの少なくとも一つは上記一般式(2)で表されることを特徴とする。
一般式(2)中、Xは、O、S、NH、またはNRを表す。Rは、アルキル基またはアリール基を表し、炭素原子数が1から18であることが好ましい。Lは単結合または二価の連結基を表す。Zは、フェノール性ヒドロキシル基、カルボキシル基、−SOH、−OSOH、−PO、−OPO、−CONHSO−、−SONHSO−、−COCHCOCH3、もしくはこれら酸基の金属塩、トリアルコキシシリル基、またはオニウム基を表す。
In General Formula (1), R 1 to R 4 represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group. However, at least one of R 1 to R 4 is represented by the general formula (2).
In the general formula (2), X represents O, S, NH, or NR 5 . R 5 represents an alkyl group or an aryl group, and preferably has 1 to 18 carbon atoms. L represents a single bond or a divalent linking group. Z is phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, -SO 3 H, -OSO 3 H , -PO 3 H 2, -OPO 3 H 2, -CONHSO 2 -, - SO 2 NHSO 2 -, - COCH 2 COCH 3 or it represents a metal salt, a trialkoxysilyl group or an onium group, of these acids groups.

〜Rで表される一価の有機基としては、アミノ基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、置換カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、置換スルファモイル基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、などが挙げられ、なかでも置換基を有してもよいアルキル基が最も好ましい。 Examples of the monovalent organic group represented by R 1 to R 4 include an amino group, an acyl group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a substituted carbamoyl group, a sulfo group, an alkylsulfonyl group, and an aryl group. Sulfonyl group, sulfamoyl group, substituted sulfamoyl group, nitro group, cyano group, optionally substituted alkyl group, optionally substituted alkenyl group, optionally substituted alkynyl group, substituted An aryl group that may have a group, an alkoxy group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, and the like, among them, an alkyl group that may have a substituent Is most preferred.

1〜Rで表されるアルキル基としては、炭素原子数が1から20までの直鎖状、分
岐状または環状のアルキル基を挙げることができる。これらの中でも、炭素原子数1から12までの直鎖状のアルキル基、炭素原子数3から12までの分岐状のアルキル基、および炭素原子数5から10までの環状のアルキル基がより好ましい。その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、および2−ノルボルニル基を挙げられる。
Examples of the alkyl group represented by R 1 to R 4 include linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. Among these, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, and a cyclic alkyl group having 5 to 10 carbon atoms are more preferable. Specific examples thereof include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group. , Eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group , And 2-norbornyl groups.

1〜Rで表されアルキル基が置換基を有する場合(すなわち、置換アルキル基であ
る場合)、置換アルキル基のアルキル部分の好ましい炭素原子数の範囲は上記アルキル基と同様である。
When the alkyl group represented by R 1 to R 4 has a substituent (that is, a substituted alkyl group), the preferred range of the number of carbon atoms in the alkyl portion of the substituted alkyl group is the same as the above alkyl group.

1〜Rで表されアルキル基が置換アルキル基である場合の、好ましい具体例として
は、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシカルボニルメチル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、s−ブトキシブチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、アセチルオキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、ピリジルメチル基、テトラメチルピペリジニルメチル基、N−アセチルテトラメチルピペリジニルメチル基、トリメチルシリルメチル基、メトキシエチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、
Preferable specific examples when the alkyl group represented by R 1 to R 4 is a substituted alkyl group include chloromethyl group, bromomethyl group, 2-chloroethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, methoxycarbonylmethyl group , Isopropoxymethyl group, butoxymethyl group, s-butoxybutyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, acetyloxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, pyridylmethyl group, tetramethyl Piperidinylmethyl group, N-acetyltetramethylpiperidinylmethyl group, trimethylsilylmethyl group, methoxyethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N- Shi Chlohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxy Carbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl group,

カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスホノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナトブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナトヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル基、等を挙げることができる。 Carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group Sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyl Octyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxy Propyl group, phosphona Oxybutyl group, a benzyl group, phenethyl group, alpha-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p- methylbenzyl, and the like.

1〜Rで表されるアルキル基に導入可能な置換基としては、上記置換アルキル基の
説明中に記載された置換基の他、以下に例示する非金属原子から構成される1価の置換基も挙げられる。上述した置換基を含む好ましい例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N'−アルキルウレイド基、N',N'−ジアルキルウレイ
ド基、N'−アリールウレイド基、N',N'−ジアリールウレイド基、N'−アルキル−N'−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N'−アルキル−N−アルキルウレイド基、N'−アルキル−N−アリールウレイド基、N',N'−
ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N',N'−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N'−アリール−N−アルキルウレイド基、N'−アリール−N−アリールウレイド基、N',N'−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N',N'−ジアリール−N−アリールウレイド基、N'−アルキル−N'−アリール−N−アルキルウレイド基、N'−アルキル
−N'−アリール−N−アリールウレイド基、
Examples of the substituent that can be introduced into the alkyl group represented by R 1 to R 4 include a monovalent composed of the nonmetallic atoms exemplified below in addition to the substituents described in the description of the substituted alkyl group. Substituents are also included. Preferred examples including the above-described substituent include a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryl. Dithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, aryl Sulfoxy group, acylthio group, acylamino group, -Alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N'-alkylureido group, N ', N'-dialkylureido group, N'-arylureido group, N', N'-diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N-arylureido group, N ′, N '−
Dialkyl-N-alkylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-arylureido group, N′-aryl-N-alkylureido group, N′-aryl-N-arylureido group, N ′, N′- Diaryl-N-alkylureido group, N ′, N′-diaryl-N-arylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N— Arylureido groups,

アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3
)およびその共役塩基基(スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィイナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、
Alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N -Aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (—SO 3 H
) And conjugated base groups thereof (referred to as sulfonate groups), alkoxysulfonyl groups, aryloxysulfonyl groups, sulfinamoyl groups, N-alkylsulfinamoyl groups, N, N-dialkylsulfinamoyl groups, N-arylsulfinamoyl groups Group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfa A moyl group, an N, N-diarylsulfamoyl group, an N-alkyl-N-arylsulfamoyl group,

ホスホノ基(−PO32)およびその共役塩基基(ホスホナト基と称する。)、ジアルキルホスホノ基(−PO3(alkyl)2)「alkyl=アルキル基、以下同」、ジアリールホスホノ基(−PO3(aryl)2)「aryl=アリール基、以下同」、アルキルアリールホスホノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノ基(−PO3H(alkyl))およびその共役塩基基(アルキルホスホナト基と称する。)、モノアリールホスホノ基(−PO3H(aryl))およびその共役塩基基(アリールホスホナト基と称する。)、ホスホノオキシ基(−OPO32)およびその共役塩基基(ホスホナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスホノオキシ基(−OPO3H(alkyl)2)、ジアリールホスホノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPO3H(alkyl))およびその共役塩基基(アルキルホスホナトオキシ基と称する。)、モノアリールホスホノオキシ基(−OPO3H(aryl))およびその共役塩基基(アリールホスホナトオキシ基と称する。)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、複素環基、シリル基、等が挙げられる。 A phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (referred to as a phosphonate group), a dialkylphosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ) “alkyl = alkyl group, hereinafter the same”, a diarylphosphono group ( —PO 3 (aryl) 2 ) “aryl = aryl group, hereinafter the same”, alkylarylphosphono group (—PO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkylphosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and Its conjugate base group (referred to as alkylphosphonate group), monoarylphosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (referred to as arylphosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H) 2) and its conjugated base group (referred to as phosphonatooxy group), dialkylphosphono group (-OPO 3 H (alkyl) 2), Jiari Phosphonooxy group (-OPO 3 (aryl) 2) , alkylaryl phosphono group (-OPO 3 (alkyl) (aryl )), monoalkyl phosphono group (-OPO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group (Referred to as alkylphosphonatoxy group), monoarylphosphonooxy group (—OPO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (referred to as arylphosphonatoxy group), cyano group, nitro group, aryl group Alkenyl group, alkynyl group, heterocyclic group, silyl group, and the like.

1〜Rで表されるアルキル基に導入可能な置換基におけるアルキル部分の具体例と
しては、上述したR1〜Rが置換アルキル基である場合と同様であり、好ましい範囲も
同様である。
また、R1〜Rで表されるアルキル基に導入可能な置換基におけるアリール部分の具
体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基、等を挙げることができる。
Specific examples of the alkyl moiety in the substituent that may be introduced into the alkyl group represented by R 1 to R 4 are the same as in the case R 1 to R 4 described above is a substituted alkyl group, the preferred range is also the same is there.
Specific examples of the aryl moiety in the substituent that can be introduced into the alkyl group represented by R 1 to R 4 include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group, a cumenyl group, and a chlorophenyl group. Group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylaminophenyl group Dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl group, cyanophenyl group, sulfone Examples thereof include an phenyl group, a sulfonatophenyl group, a phosphonophenyl group, and a phosphonatophenyl group.

1〜Rで表されるアルケニル基の具体例としては、シンナミル基、アリル基、1−
プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチルプロペニルメチル基、等を挙げることができる。R1〜Rで表されるアルキニル基の具体例としては、
2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、等を挙げることができる。
Specific examples of the alkenyl group represented by R 1 to R 4 include a cinnamyl group, an allyl group, 1-
A propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, etc. can be mentioned. Specific examples of the alkynyl group represented by R 1 to R 4 include
A 2-propynyl group, a 2-butynyl group, a 3-butynyl group, and the like can be given.

1〜Rで表されるアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基等が挙げられる。
1〜Rで表されるアシル基の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイ
ル基、ジメチルアミノフェニルエテニルカルボニル基、メトキシカルボニルメトキシカルボニル基が挙げられ、アルコキシまたはアリールオキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェニルオキシカルボニル基が挙げられ、置換カルバモイル基としては、N−メチルカルバモイル基、N−フェニルカルバモイル基、N,N−ジエチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基等が挙げられる。
Specific examples of the amino group represented by R 1 to R 4 include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, morpholino group, piperidino group, pyrrolidino group, phenylamino group, benzoylamino group, acetylamino group and the like. Can be mentioned.
Specific examples of the acyl group represented by R 1 to R 4 include a formyl group, an acetyl group, a benzoyl group, a dimethylaminophenylethenylcarbonyl group, and a methoxycarbonylmethoxycarbonyl group. As an alkoxy or aryloxycarbonyl group, Includes a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an allyloxycarbonyl group, and a phenyloxycarbonyl group. Examples of the substituted carbamoyl group include an N-methylcarbamoyl group, an N-phenylcarbamoyl group, an N, N-diethylcarbamoyl group, and a morpholino group. A carbonyl group etc. are mentioned.

1〜Rで表されるアルキルまたはアリールスルホニル基の具体例としては、ブチル
スルホニル基、フェニルスルホニル基、クロロフェニルスルホニル基が挙げられ、置換スルファモイル基としては、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、等が挙げられる。
1〜Rで表される置換基を有していてもよいアリール基としては、フェニル基、ナ
フチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基が挙げられる。
Specific examples of the alkyl or arylsulfonyl group represented by R 1 to R 4 include a butylsulfonyl group, a phenylsulfonyl group, and a chlorophenylsulfonyl group. Examples of the substituted sulfamoyl group include an N-alkylsulfamoyl group, N , N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, and the like.
Examples of the aryl group which may have a substituent represented by R 1 to R 4 include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group.

1〜Rで表される置換基を有していてもよいアルコキシ基、および置換基を有して
いてもよいアリールオキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、メシチルオキシ基、クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニルオキシ基が挙げられる。
Examples of the alkoxy group which may have a substituent represented by R 1 to R 4 and the aryloxy group which may have a substituent include a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group and an isopropyloxy group. Butyloxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, dodecyloxy group, benzyloxy group, allyloxy group, phenethyloxy group, carboxyethyloxy group, methoxycarbonylethyloxy group, ethoxycarbonylethyloxy group, methoxyethoxy group, phenoxyethoxy Group, methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, morpholinoethoxy group, morpholinopropyloxy group, allyloxyethoxyethoxy group, phenoxy group, tolyloxy group, xylyloxy group, mesityloxy group, mesityloxy group, cumenyl Examples thereof include an oxy group, a methoxyphenyloxy group, an ethoxyphenyloxy group, a chlorophenyloxy group, and a bromophenyloxy group.

1〜Rは任意にそれぞれが連結し、環構造を形成してもよい。 R 1 to R 4 may be optionally connected to each other to form a ring structure.

1〜Rが一般式(2)で表される基でない場合、最も好ましいのは水素原子または
置換基を有してもよいアルキル基である。
When R 1 to R 4 are not a group represented by the general formula (2), a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent is most preferable.

一般式(2)のRで表されるアルキル基またはアリール基の具体例としては、上記R1〜Rで表される置換基の置換基を有してもよいアルキル基および置換基を有してもよ
いアリール基の具体例と同じものが挙げられ、炭素原子数が1から18が好ましい。
Specific examples of the alkyl group or aryl group represented by R 5 in the general formula (2) include an alkyl group and a substituent which may have a substituent of the substituent represented by R 1 to R 4. The same thing as the specific example of the aryl group which may have is mentioned, and C1-C18 is preferable.

一般式(2)のLは、単結合または二価の有機連結基を表し、Lで表される二価の有機連結基は、1から60個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1個から100個までの水素原子、および0個から20個までの硫黄原子から成り立つものである。より具体的な連結基としては、下記の構造単位が組み合わさって構成されるものを挙げることができる。   L in the general formula (2) represents a single bond or a divalent organic linking group, and the divalent organic linking group represented by L is 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 carbon atoms. It consists of nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 100 hydrogen atoms, and 0 to 20 sulfur atoms. More specific examples of the linking group include those formed by combining the following structural units.

Figure 2009069802
Figure 2009069802

Lで表される二価の有機連結基は、炭素原子数1〜10のアルキレン鎖であることが好ましい。   The divalent organic linking group represented by L is preferably an alkylene chain having 1 to 10 carbon atoms.

上記一般式(1)で表される化合物の中で、Zがトリアルコキシシリル基で表されるキノン化合物は、下記の一般式(1a)で表される。   Among the compounds represented by the general formula (1), a quinone compound in which Z is a trialkoxysilyl group is represented by the following general formula (1a).

Figure 2009069802
Figure 2009069802

一般式(1a)中、R01〜R04は、水素原子、ハロゲン原子または一価の有機基を表す。ただし、R01〜R04の少なくとも一つは上記一般式(3)で表されることを特徴とする。R01〜R04で表される一価の有機基は、一般式(1)のR〜Rで表される一価の有機基と同義である。
一般式(3)中、Xは、O、S、NH、またはNR05を表す。R05はアルキル基またはアリール基を表す。Lは単結合または二価の連結基を表す。R05で表されるアルキル基およびアリール基は、それぞれ一般式(2)のR05で表されるアルキル基およびアリール基と同義である。Lで表される二価の連結基は、それぞれ一般式(2)のLで表される二価の連結基と同義である。R06はアルキル基を表す。
In the general formula (1a), R 01 to R 04 represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group. However, at least one of R 01 to R 04 is represented by the general formula (3). The monovalent organic group represented by R 01 to R 04 has the same meaning as the monovalent organic group represented by R 1 to R 4 in the general formula (1).
In the general formula (3), X represents O, S, NH, or NR 05 . R 05 represents an alkyl group or an aryl group. L represents a single bond or a divalent linking group. Alkyl and aryl groups represented by R 05 are the same meaning as the alkyl group and aryl group represented by R 05 in formula (2). The divalent linking group represented by L has the same meaning as the divalent linking group represented by L in the general formula (2). R 06 represents an alkyl group.

上記の中でも、R01〜R04は、一般式(3)で表される基でない場合に好ましいのは水素原子または置換基を有してもよいアルキル基であり、より好ましいのは水素原子または炭素原子数1〜6のアルキル基であり、最も好ましいのは水素原子である。R01とR02またはR03とR04が結合して縮合ベンゼン環を構成してもよい。Xは、より好ましくはSまたはNHであり、最も好ましくはSである。Lで表される二価の連結基は、炭素原子数1〜10のアルキレン鎖であることが好ましく、炭素原子数1〜6のアルキレン鎖であることがより好ましい。R06は炭素原子数1〜10アルキル基が好ましく、炭素原子数1〜6アルキル基がより好ましく、メチル基またはエチル基が最も好ましい。 Among these, R 01 to R 04 are preferably a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent, and more preferably a hydrogen atom or a group that is not a group represented by the general formula (3). An alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and most preferably a hydrogen atom. R 01 and R 02 or R 03 and R 04 may combine to form a condensed benzene ring. X is more preferably S or NH, and most preferably S. The divalent linking group represented by L is preferably an alkylene chain having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably an alkylene chain having 1 to 6 carbon atoms. R 06 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and most preferably a methyl group or an ethyl group.

本発明の特定化合物の具体例を以下に示すが、これらに限定されない。特定化合物がキノン化合物である場合の具体例としては、下記化合物が挙げられる。   Although the specific example of the specific compound of this invention is shown below, it is not limited to these. Specific examples in the case where the specific compound is a quinone compound include the following compounds.

Figure 2009069802
Figure 2009069802

Figure 2009069802
Figure 2009069802

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Figure 2009069802

Figure 2009069802
Figure 2009069802

本発明の特定化合物がフェノール系ヒドロキシル基含有化合物である場合の具体例としては、下記化合物が挙げられる。   Specific examples in the case where the specific compound of the present invention is a phenolic hydroxyl group-containing compound include the following compounds.

Figure 2009069802
Figure 2009069802

本発明の特定化合物がN−オキシド化合物である場合の具体例としては、下記化合物が挙げられる。   Specific examples in the case where the specific compound of the present invention is an N-oxide compound include the following compounds.

Figure 2009069802
Figure 2009069802

本発明の特定化合物がピペリジン 1−オキシル フリーラジカル化合物である場合の具体例としては、下記化合物が挙げられる。   Specific examples in the case where the specific compound of the present invention is a piperidine 1-oxyl free radical compound include the following compounds.

Figure 2009069802
Figure 2009069802

本発明の特定化合物がニトロ基含有化合物である場合の具体例としては、下記化合物が挙げられる。   Specific examples in the case where the specific compound of the present invention is a nitro group-containing compound include the following compounds.

Figure 2009069802
Figure 2009069802

本発明の平版印刷版原版に含まれる特定化合物の含有量は、中間層または画像記録層に1〜100mg/m2となるように含有することが好ましく、3〜50mg/m2がより好ましく、5〜30mg/m2となるように含有することが最も好ましい。この範囲内で、良好な機上現像性またはガム現像性、および耐刷性を維持しつつ、優れた汚れ改良効果が得られる。 The content of the specific compound contained in the lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably 1 to 100 mg / m 2 in the intermediate layer or the image recording layer, more preferably 3 to 50 mg / m 2 , Most preferably, the content is 5 to 30 mg / m 2 . Within this range, excellent on-press developability or gum developability and printing durability can be maintained, and an excellent stain improving effect can be obtained.

(中間層)
本発明の平版印刷版原版において画像記録層と支持体との間に設けられる中間層は、上記の一分子内にアルミニウム支持体と相互作用する官能基を少なくとも一つ、および重合禁止能を有する化合物(特定化合物)を含有する。さらに、本発明の中間層は、基板吸着性基、重合性基、および親水性基を有するポリマーを含有することが好ましい。また、中間層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/mであるのが好ましく、1〜50mg/mであるのが耐刷性および汚れにくさを両立させる観点より好ましい。
このような中間層によって、汚れ性(特にポツ汚れ)が良化し、機上現像性、ガム現像性、耐刷性、および汚れ性を共に満足させることができる。
(Middle layer)
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, the intermediate layer provided between the image recording layer and the support has at least one functional group that interacts with the aluminum support in one molecule and has a polymerization-inhibiting ability. Contains compounds (specific compounds). Furthermore, the intermediate layer of the present invention preferably contains a polymer having a substrate adsorptive group, a polymerizable group, and a hydrophilic group. The coating amount (solid content) of the intermediate layer is preferably 0.1 to 100 mg / m 2 , and preferably 1 to 50 mg / m 2 from the viewpoint of achieving both printing durability and resistance to stains. .
By such an intermediate layer, the soiling property (especially pot soiling) is improved, and on-machine developability, gum developability, printing durability, and soiling properties can all be satisfied.

従来から中間層は、未露光部において画像記録層の剥離を生じやすくさせ、機上現像性を向上させる機能が期待されている。また、赤外線レーザー露光の場合は、中間層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散せず効率よく利用されるようになるため、高感度化が図れるという利点がある。さらに、印刷後も基板に残存し、且つ親水的であることから汚れ性を良好に保つ機能がある。
本発明においても、このような中間層の機能を発揮させる素材を用いることができる。このような素材としては、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物等が挙げられる。本発明で最も好ましい化合物としては、下記の、基板吸着性基、重合性基、および親水性基を有するポリマーが挙げられる。
Conventionally, the intermediate layer is expected to have a function of easily peeling the image recording layer in an unexposed portion and improving on-press developability. In addition, in the case of infrared laser exposure, since the intermediate layer functions as a heat insulating layer, the heat generated by the exposure does not diffuse to the support and can be used efficiently, so that the sensitivity can be increased. is there. Furthermore, since it remains on the substrate after printing and is hydrophilic, it has a function of maintaining good stain resistance.
Also in the present invention, a material that exhibits such a function of the intermediate layer can be used. Examples of such materials include silane coupling agents having addition polymerizable ethylenic double bond reactive groups described in JP-A-10-282679 and ethylene described in JP-A-2-304441. And phosphorus compounds having a reactive double bond reactive group. Examples of the most preferable compound in the present invention include the following polymers having a substrate-adsorbing group, a polymerizable group, and a hydrophilic group.

<基板吸着性基、重合性基、および親水性基を有するポリマー>
本発明の中間層に好適な、基板吸着性基、重合性基、および親水性基を有するポリマーとしては、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー、および架橋性基を有するモノマーを共重合したポリマーが挙げられる。
<Polymer having substrate adsorptive group, polymerizable group, and hydrophilic group>
As the polymer having a substrate adsorptive group, a polymerizable group, and a hydrophilic group suitable for the intermediate layer of the present invention, a monomer having an adsorptive group, a monomer having a hydrophilic group, and a monomer having a crosslinkable group are used. A copolymerized polymer may be mentioned.

中間層用ポリマーの基板吸着性基は、親水性支持体表面への吸着性基であり、親水性支持体表面への吸着性の有無に関しては、例えば以下のような方法で判断できる。
試験化合物を易溶性の溶媒に溶解させた塗布夜を作製し、その塗布夜を乾燥後の塗布量が30mg/m2となるように支持体上に塗布・乾燥させる。次に試験化合物を塗布した
支持体を、易溶性溶媒を用いて十分に洗浄した後、洗浄除去されなかった試験化合物の残存量を測定して支持体吸着量を算出する。ここで残存量の測定は、残存化合物量を直接定量してもよいし、洗浄液中に溶解した試験化合物量を定量して算出してもよい。化合物の定量は、例えば蛍光X線測定、反射分光吸光度測定、液体クロマトグラフィー測定などで実施できる。支持体吸着性がある化合物は、上記のような洗浄処理を行っても1mg/m2以上残存する化合物である。
The substrate adsorbing group of the intermediate layer polymer is an adsorbing group on the surface of the hydrophilic support, and the presence or absence of adsorbability on the surface of the hydrophilic support can be determined, for example, by the following method.
A coating night is prepared by dissolving the test compound in a readily soluble solvent, and the coating night is coated and dried on the support so that the coating amount after drying is 30 mg / m 2 . Next, the support on which the test compound is applied is sufficiently washed with an easily soluble solvent, and then the residual amount of the test compound that has not been removed by washing is measured to calculate the amount of adsorption of the support. Here, the measurement of the remaining amount may be performed by directly quantifying the amount of the remaining compound or by quantifying the amount of the test compound dissolved in the cleaning liquid. The compound can be quantified by, for example, fluorescent X-ray measurement, reflection spectral absorbance measurement, liquid chromatography measurement and the like. A compound having a support adsorptivity is a compound that remains at 1 mg / m 2 or more even after the washing treatment as described above.

親水性支持体表面への吸着性基は、親水性支持体表面に存在する物質(例えば、金属、金属酸化物)あるいは官能基(例えば、ヒドロキシル基)と、化学結合(例えば、イオン結
合、水素結合、配位結合、分子間力による結合)を引き起こすことができる官能基である
。吸着性基は、酸基またはカチオン性基が好ましい。
酸基は、酸解離定数(pKa)が7以下であることが好ましい。酸基の例は、フェノール性ヒドロキシル基、カルボキシル基、−SOH、−OSOH、−PO、−OPO、−CONHSO−、−SONHSO−およびCOCHCOCHを含む。なかでも−OPOおよびPOが特に好ましい。またこれら酸基は、金属塩であっても構わない。
カチオン性基は、オニウム基であることが好ましい。オニウム基の例は、アンモニウム基、ホスホニウム基、アルソニウム基、スチボニウム基、オキソニウム基、スルホニウム基、セレノニウム基、スタンノニウム基、ヨードニウム基を含む。アンモニウム基、ホスホニウム基およびスルホニウム基が好ましく、アンモニウム基およびホスホニウム基がさらに好ましく、アンモニウム基が最も好ましい。
The adsorptive group on the surface of the hydrophilic support is a substance (for example, metal, metal oxide) or a functional group (for example, hydroxyl group) existing on the surface of the hydrophilic support and a chemical bond (for example, ionic bond, hydrogen). Bond, coordination bond, bond by intermolecular force). The adsorptive group is preferably an acid group or a cationic group.
The acid group preferably has an acid dissociation constant (pKa) of 7 or less. Examples of acid groups are phenolic hydroxyl groups, carboxyl groups, —SO 3 H, —OSO 3 H, —PO 3 H 2 , —OPO 3 H 2 , —CONHSO 2 —, —SO 2 NHSO 2 — and COCH 2. COCH 3 is included. Among them -OPO 3 H 2 and PO 3 H 2 are particularly preferred. These acid groups may be metal salts.
The cationic group is preferably an onium group. Examples of the onium group include an ammonium group, a phosphonium group, an arsonium group, a stibonium group, an oxonium group, a sulfonium group, a selenonium group, a stannonium group, and an iodonium group. An ammonium group, a phosphonium group and a sulfonium group are preferred, an ammonium group and a phosphonium group are more preferred, and an ammonium group is most preferred.

吸着性基を有するモノマーの特に好ましい例としては、下記式(U1)または(U2)で表される化合物が挙げられる。   Particularly preferable examples of the monomer having an adsorptive group include compounds represented by the following formula (U1) or (U2).

Figure 2009069802
Figure 2009069802

上式中、R、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が1乃至6のアルキル基である。R、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数が1乃至6のアルキル基であることが好ましく、水素原子または
炭素原子数が1乃至3のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子またはメチル
基であることが最も好ましい。RおよびRは、水素原子であることが特に好ましい。Zは、親水性支持体表面に吸着する官能基である。
式(U1)において、Xは、酸素原子(−O−)またはイミノ(−NH−)である。Xは、酸素原子であることがさらに好ましい。式(U1)において、Lは、2価の連結基である。Lは、2価の脂肪族基(アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基)、2価の芳香族基(アリレン基、置換アリレン基)または2価の複素環基であるか、あるいはそれらと、酸素原子(−O−)、硫黄原子(―S―)、イミノ(−NH−)、置換イミノ(−NR−、Rは脂肪族基、芳香族基または複素環基)またはカルボニル(−CO−)との組み合わせであることが好ましい。
脂肪族基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素原子数は、1乃至20が好ましく、1乃至15がさらに好ましく、1乃至10が最も好ましい。脂肪族基は、不飽和脂肪族基よりも飽和脂肪族基の方が好ましい。脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、芳香族基および複素環基を含む。
芳香族基の炭素原子数は、6乃至20が好ましく、6乃至15がさらに好ましく、6乃至10が最も好ましい。芳香族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、脂肪族基、芳香族基および複素環基を含む。
複素環基は、複素環として5員環または6員環を有することが好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環または芳香族環が縮合していてもよい。複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、オキソ基(=O)、チオキソ基(=S)、イミノ基(=NH)、置換イミノ基(=N−R、Rは脂肪族基、芳香族基または複素環基)、脂肪族基、芳香族基および複素環基を含む。
Lは、複数のポリオキシアルキレン構造を含む二価の連結基であることが好ましい。ポリオキシアルキレン構造は、ポリオキシエチレン構造であることがさらに好ましい。言い換えると、Lは、−(OCHCH)−(nは2以上の整数)を含むことが好ましい。
式(U2)において、Yは炭素原子または窒素原子である。Y=窒素原子でY上にLが連結し四級ピリジニウム基になった場合、それ自体が吸着性を示すことからZは必須ではなく、Zが水素原子でもよい。Lは式(U1)の場合と同じ2価の連結基または単結合を表す。
In the above formula, R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 1 , R 2 and R 3 are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. More preferred is a hydrogen atom or a methyl group. R 2 and R 3 are particularly preferably a hydrogen atom. Z is a functional group that adsorbs to the surface of the hydrophilic support.
In the formula (U1), X is an oxygen atom (—O—) or imino (—NH—). X is more preferably an oxygen atom. In the formula (U1), L is a divalent linking group. L is a divalent aliphatic group (alkylene group, substituted alkylene group, alkenylene group, substituted alkenylene group, alkynylene group, substituted alkynylene group), divalent aromatic group (arylene group, substituted arylene group) or divalent Or an oxygen atom (—O—), a sulfur atom (—S—), an imino (—NH—), a substituted imino (—NR—, where R is an aliphatic group, an aromatic group. Or a combination with a heterocyclic group) or carbonyl (—CO—).
The aliphatic group may have a cyclic structure or a branched structure. The number of carbon atoms in the aliphatic group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, and most preferably 1 to 10. The aliphatic group is preferably a saturated aliphatic group rather than an unsaturated aliphatic group. The aliphatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aromatic group, and a heterocyclic group.
The number of carbon atoms in the aromatic group is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 15, and most preferably 6 to 10. The aromatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aliphatic group, an aromatic group, and a heterocyclic group.
The heterocyclic group preferably has a 5-membered or 6-membered ring as the heterocycle. The heterocycle may be condensed with another heterocycle, aliphatic ring or aromatic ring. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of substituents include halogen atoms, hydroxyl groups, oxo groups (═O), thioxo groups (═S), imino groups (═NH), substituted imino groups (═N—R, R is an aliphatic group, aromatic Group or heterocyclic group), aliphatic group, aromatic group and heterocyclic group.
L is preferably a divalent linking group containing a plurality of polyoxyalkylene structures. The polyoxyalkylene structure is more preferably a polyoxyethylene structure. In other words, L preferably contains — (OCH 2 CH 2 ) n — (n is an integer of 2 or more).
In the formula (U2), Y is a carbon atom or a nitrogen atom. When Y is a nitrogen atom and L is linked to Y to form a quaternary pyridinium group, Z itself is adsorbable, so Z is not essential, and Z may be a hydrogen atom. L represents the same divalent linking group or single bond as in formula (U1).

吸着性の官能基については、前述した通りである。
以下に、式(U1)または(U2)で表される代表的な化合物の例を示す。
The adsorptive functional group is as described above.
Examples of typical compounds represented by formula (U1) or (U2) are shown below.

Figure 2009069802
Figure 2009069802

本発明に用いることができる中間層用ポリマーの親水性基としては、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホ基、リン酸基等が好適に挙げられる。なかでも高親水性を示すスルホ基を有するモノマーが好ましい。スルホ基を有するモノマーの具体例としては、メタリルオキシベンゼンスルホン酸, アリルオキシベンゼンスルホン酸、アリルスルホン酸、ビニルスルホン酸、p-スチレンスルホン酸、メタリルスルホン酸、アクリルアミドt-ブチルスルホン酸、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、(3−アクリロイルオキシプロピル)ブチルスルホン酸のナトリウム塩、アミン塩が挙げられる。なかでも親水性能および合成の取り扱いから2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸ナトリウム塩が好ましい。   Examples of the hydrophilic group of the intermediate layer polymer that can be used in the present invention include a hydroxyl group, a carboxyl group, a carboxylate group, a hydroxyethyl group, a polyoxyethyl group, a hydroxypropyl group, a polyoxypropyl group, and an amino group. Aminoethyl group, aminopropyl group, ammonium group, amide group, carboxymethyl group, sulfo group, phosphoric acid group and the like are preferable. Among these, a monomer having a sulfo group exhibiting high hydrophilicity is preferable. Specific examples of the monomer having a sulfo group include methallyloxybenzenesulfonic acid, allyloxybenzenesulfonic acid, allylsulfonic acid, vinylsulfonic acid, p-styrenesulfonic acid, methallylsulfonic acid, acrylamide t-butylsulfonic acid, Examples include 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, (3-acryloyloxypropyl) butylsulfonic acid sodium salt, and amine salt. Of these, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid sodium salt is preferred in view of hydrophilic performance and handling of synthesis.

本発明の中間層用の水溶性ポリマーは、架橋性基を有することが好ましい。架橋性基によって画像部との密着の向上が得られる。中間層用のポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の側鎖中に導入したり、ポリマーの極性置換基と対荷電を有する置換基とエチレン性不飽和結合を有する化合物で塩構造を形成させたりして導入することができる。   The water-soluble polymer for the intermediate layer of the present invention preferably has a crosslinkable group. The crosslinkable group can improve the adhesion with the image area. In order to make the polymer for the intermediate layer crosslinkable, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond is introduced into the side chain of the polymer, or a substituent having a counter charge with the polar substituent of the polymer. And a compound having an ethylenically unsaturated bond can be introduced by forming a salt structure.

分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドのポリマーであって、エステルまたはアミドの残基(−COORまたは−CONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。   Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule are polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid where the ester or amide residue (R of -COOR or -CONHR) is Mention may be made of polymers having an ethylenically unsaturated bond.

エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、−(CH)CR=CR、−(CHO)CHCR=CR、−(CHCHO)CHCR=CR、−(CH)NH−CO−O−CHCR=CR、−(CH)−O−CO−CR=CR、および(CHCHO)−X(式中、R〜Rはそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、RとRまたはRとは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。
エステル残基の具体例としては、−CHCH=CH(特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CHCHO−CHCH=CH、−CHC(CH)=CH、−CHCH=CH−C、−CHCHOCOCH=CH−C、−CHCHNHCOO−CHCH=CH、およびCHCHO−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基の具体例としては、−CHCH=CH、−CHCHO−Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CHCHOCO−CH=CHが挙げられる。
中間層用ポリマーの架橋性基を有するモノマーとしては、上記架橋性基を有するアクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドが好適である。
Examples of the residue (the R) having an ethylenically unsaturated bond, - (CH 2) n CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n -O-CO —CR 1 ═CR 2 R 3 and (CH 2 CH 2 O) 2 —X (wherein R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group. Represents an alkoxy group or an aryloxy group, and R 1 and R 2 or R 3 may be bonded to each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents dicyclopentadi An enyl residue).
Specific examples of the ester residue include —CH 2 CH═CH 2 (described in JP-B-7-21633), —CH 2 CH 2 O—CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 C. (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 NHCOO-CH 2 CH = CH 2, and CH 2 CH 2 O—X (wherein X represents a dicyclopentadienyl residue).
Specific examples of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 O—Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH 2 CH 2 OCO—CH═CH 2. Is mentioned.
As the monomer having a crosslinkable group of the intermediate layer polymer, an ester or amide of acrylic acid or methacrylic acid having the above crosslinkable group is suitable.

中間層用ポリマー中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、ポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と汚れ性の両立、および良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group in the intermediate layer polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodometric titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1. 0 to 7.0 mmol, most preferably 2.0 to 5.5 mmol. Within this range, both good sensitivity and dirtiness and good storage stability can be obtained.

中間層用のポリマーは、質量平均モル質量が5000(g/mol)以上であるのが好ましく、1万〜30万(g/mol)であるのがより好ましく、また、数平均モル質量が
1000(g/mol)以上であるのが好ましく、2000〜25万(g/mol)であるのがより好ましい。多分散度(質量平均モル質量/数平均モル質量)は、1.1〜10であるのが好ましい。
中間層用のポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。
The polymer for the intermediate layer preferably has a mass average molar mass of 5000 (g / mol) or more, more preferably 10,000 to 300,000 (g / mol), and a number average molar mass of 1000. (G / mol) or more is preferable, and 2000 to 250,000 (g / mol) is more preferable. The polydispersity (mass average molar mass / number average molar mass) is preferably 1.1 to 10.
The polymer for the intermediate layer may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, etc., but is preferably a random polymer.

中間用ポリマーは単独で用いても2種以上を混合して用いてもよく、中間層用ポリマーは単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。中間層用ポリマーの中間層への添加量は、中間層固形分の100〜10質量%が好ましく、80〜20質量%がさらに好ましく、70〜30質量%が最も好ましい。   The intermediate polymer may be used alone or in admixture of two or more, and the intermediate layer polymer may be used alone or in admixture of two or more. The amount of the intermediate layer polymer added to the intermediate layer is preferably 100 to 10% by mass, more preferably 80 to 20% by mass, and most preferably 70 to 30% by mass of the solid content of the intermediate layer.

<中間層の形成>
中間層用塗布液は、前記重合禁止剤および中間層用のポリマーを有機溶媒(例えばメタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトンなど)および/または水に溶解して得られる。中間層用塗布液には、赤外線吸収剤を含有させることもできる。
中間層塗布液を支持体に塗布する方法としては、公知の種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
<Formation of intermediate layer>
The intermediate layer coating solution is obtained by dissolving the polymerization inhibitor and the intermediate layer polymer in an organic solvent (for example, methanol, ethanol, acetone, methyl ethyl ketone, etc.) and / or water. The intermediate layer coating solution may contain an infrared absorber.
Various known methods can be used as a method of applying the intermediate layer coating solution to the support. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

(画像記録層)
本発明の画像記録層に含まれる画像形成要素および成分に関して詳細に説明する。
好ましく使用可能な画像形成要素は、(イ)重合を利用する画像形成要素、および(ロ)疎水化前駆体の熱融着や熱反応を利用する画像形成要素の少なくともいずれかである。(イ)重合を利用する画像形成要素としては、(A)赤外線吸収剤と(B)重合開始剤と(C)重合性化合物とを含有し、赤外線レーザーで画像記録が可能であるものが好ましい。また、(ロ)疎水化前駆体の熱融着や熱反応を利用する画像形成要素としては、(A)赤外線吸収剤と(D)疎水化前駆体とを含有し、赤外線レーザーで画像記録が可能であるものが好ましい。また、(イ)の画像形成要素に付加的に(D)疎水化前駆体を含有させてもよい。
このような画像形成要素を主成分とする画像記録層は、印刷インキおよび/または湿し水によって未露光部分を除去可能で、機上現像可能な平版印刷版原版を構成できる。また、ガム現像のような簡易な現像にも好適である。
以下、画像記録層構成成分および画像記録層の形成について説明する。
(Image recording layer)
The image forming elements and components contained in the image recording layer of the present invention will be described in detail.
The imaging element preferably usable is at least one of (a) an imaging element utilizing polymerization and (b) an imaging element utilizing thermal fusion or thermal reaction of a hydrophobized precursor. (A) As an image-forming element utilizing polymerization, an element containing (A) an infrared absorber, (B) a polymerization initiator, and (C) a polymerizable compound, and capable of image recording with an infrared laser is preferable. . In addition, (b) as an image forming element utilizing thermal fusion or thermal reaction of a hydrophobized precursor, it contains (A) an infrared absorber and (D) a hydrophobized precursor, and image recording can be performed with an infrared laser. What is possible is preferred. Further, (D) a hydrophobizing precursor may be additionally contained in the image forming element (a).
Such an image recording layer containing an image forming element as a main component can form a lithographic printing plate precursor capable of removing unexposed portions with printing ink and / or fountain solution and developing on-press. It is also suitable for simple development such as gum development.
Hereinafter, formation of the image recording layer constituent components and the image recording layer will be described.

<A>赤外線吸収剤
本発明の平版印刷版原版を、760〜1200nmの赤外線を発するレーザーを光源にして画像形成する場合には、通常、赤外線吸収剤を用いることが必須である。赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能と赤外線により励起して後述の重合開始剤(ラジカル発生剤)に電子移動/エネルギー移動する機能を有する。本発明において使用され
る赤外線吸収剤は、波長760〜1200nmに吸収極大を有する染料または顔料である。
<A> Infrared Absorber When an image of the lithographic printing plate precursor according to the invention is formed using a laser emitting infrared light of 760 to 1200 nm as a light source, it is usually essential to use an infrared absorber. The infrared absorber has a function of converting the absorbed infrared rays into heat and a function of being excited by infrared rays and transferring electrons / energy to a polymerization initiator (radical generator) described later. The infrared absorber used in the present invention is a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 to 1200 nm.

染料としては、市販の染料および例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭60−78787号等の公報に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等の公報に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等の公報に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号公報等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許第434,875号明細書記載のシアニン染料等を挙げることができる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.
Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, The methine dyes described in JP-A-58-181690 and JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, Naphthoquinone dyes described in JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, and the like, squarylium dyes described in JP-A-58-112792, and the like; And cyanine dyes described in British Patent No. 434,875.

また、米国特許第5,156,938号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号明細書記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号明細書)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号の各公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号の各公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)および(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
また、本発明の赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特開2002−278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
In addition, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also suitable. ) Pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59- No. 41363, No. 59-84248, No. 59-84249, No. 59-146063, No. 59-146061, and Pyrlium compounds described in JP-A-59-216146. And pentamethine thiopyrylium salts described in US Pat. No. 4,283,475, and Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702. Pyrylium compounds shown also preferably used. Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).
Other preferable examples of the infrared absorbing dye of the present invention include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 as exemplified below.

Figure 2009069802
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これらの染料のうち、なかでも好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。さらに、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい一つの例として下記一般式(i)で示されるシアニン色素が挙げられる。   Among these dyes, preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferable, and one particularly preferable example is a cyanine dye represented by the following general formula (i).

Figure 2009069802
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一般式(i)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1または下記構造式で表される基を表す。ここで、X2は酸素原子、窒素原子、または硫黄原子を示し、
1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を
含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、ハロゲン原子、セレン原子を示す。Raは、水素原子、アルキル基
、アリール基、置換または無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表し、X -は後述するZ -と同様に定義される。
In formula (i), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, X 2 -L 1 or a group represented by the following structural formula. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom,
L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom. In addition, a hetero atom here shows a nitrogen atom, a sulfur atom, an oxygen atom, a halogen atom, and a selenium atom. R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, a substituted amino group and a halogen atom, X a - is Z a to be described later - is the same definition.

Figure 2009069802
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およびRは、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、RおよびRは、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、RとRとは互いに結合し、5員環または6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. In view of storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

ArおよびArは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられ、炭素原子数12個以下の炭化水素基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が最も好ましい。YおよびYは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子または炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。RおよびRは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられ、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が最も好ましい。R、R、RおよびRは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Z は、対アニオンを示す。ただし、一般式(i)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZ は必要ない。好ましいZ は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Preferred substituents include a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, a halogen atom, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, and 12 carbon atoms. Most preferred are not more than alkoxy groups. Y 1 and Y 2, which may be the same or different, each represent a sulfur or carbon atom number of 12 or less a dialkyl methylene group. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferable substituents include an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, a carboxyl group, and a sulfo group, and an alkoxy group having 12 or less carbon atoms is most preferable. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Z a represents a counter anion. However, when the cyanine dye represented by formula (i) has an anionic substituent in the structure thereof, Z a is does not require charge neutralization - is not necessary. Preferred Z a is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, from the storage stability of the recording layer coating solution. Tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, and aryl sulfonate ion.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(i)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969公報の段落番号[0017]から[0019]に記載されたものを挙げることができる。
また、特に好ましい他の例としてさらに、前記した特開2002−278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Specific examples of cyanine dyes represented by formula (i) that can be suitably used in the present invention include those described in paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. Can do.
Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 described above.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Application of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。この範囲で、顔料分散物の画像記録層塗布液中での良好な安定性と画像記録層の良好な均一性が得られる。   The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Within this range, good stability of the pigment dispersion in the image recording layer coating solution and good uniformity of the image recording layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インキ製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の画像記録層を設けそこへ添加してもよいが、ネガ型平版印刷版原版を作製した際に、画像記録層の波長760nm〜1200nmの範囲における極大吸収波長での吸光度が、反射測定法で0.3〜1.2の範囲にあるように添加する。好ましくは、0.4〜1.1の範囲である。この範囲で、画像記録層の深さ方向での均一な重合反応が進行し、良好な画像部の膜強度と支持体に対する密着性が得られる。
画像記録層の吸光度は、画像記録層に添加する赤外線吸収剤の量と画像記録層の厚みにより調整することができる。吸光度の測定は常法により行うことができる。測定方法としては、例えば、アルミニウム等の反射性の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定された厚みの画像記録層を形成し、反射濃度を光学濃度計で測定する方法、積分球を用いた反射法により分光光度計で測定する方法等が挙げられる。
These infrared absorbers may be added to the same layer as other components, or may be added to another image recording layer provided, but when preparing a negative lithographic printing plate precursor, The image recording layer is added so that the absorbance at the maximum absorption wavelength in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm is in the range of 0.3 to 1.2 by the reflection measurement method. Preferably, it is the range of 0.4-1.1. Within this range, a uniform polymerization reaction proceeds in the depth direction of the image recording layer, and good film strength of the image area and adhesion to the support can be obtained.
The absorbance of the image recording layer can be adjusted by the amount of infrared absorber added to the image recording layer and the thickness of the image recording layer. Absorbance can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, on a reflective support such as aluminum, an image recording layer having a thickness appropriately determined in a range in which the coating amount after drying is necessary as a lithographic printing plate is formed, and the reflection density is set to the optical density. And a method of measuring with a spectrophotometer by a reflection method using an integrating sphere.

<(B)重合開始剤>
本発明に用いられる重合開始剤としては、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する化合物を示す。本発明に使用できる重合開始剤としては、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを使用することができ、本発明において好適に用いられるラジカルを発生する化合物は、熱エネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を、開始、促進させる化合物を指す。本発明に係る熱ラジカル発生剤としては、公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを、適宜、選択して用いることとができる。また、ラジカルを発生する化合物は、単独または2種以上を併用して用いることができる。
<(B) Polymerization initiator>
The polymerization initiator used in the present invention is a compound that generates radicals by light, heat, or both, and initiates and accelerates polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group. As the polymerization initiator that can be used in the present invention, a known thermal polymerization initiator, a compound having a bond with a small bond dissociation energy, a photopolymerization initiator, or the like can be used, and a radical that is suitably used in the present invention is generated. The compound to be used refers to a compound that initiates and accelerates polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group by generating radicals by thermal energy. As the thermal radical generator according to the present invention, a known polymerization initiator, a compound having a bond with a small bond dissociation energy, or the like can be appropriately selected and used. Moreover, the compound which generate | occur | produces a radical can be used individually or in combination of 2 or more types.

ラジカルを発生する化合物としては、例えば、有機ハロゲン化物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸塩化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、が挙げられる。   Examples of the radical generating compound include organic halides, carbonyl compounds, organic peroxides, azo polymerization initiators, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic borate compounds, disulfone compounds, oximes. Examples thereof include ester compounds and onium salt compounds.

上記有機ハロゲン化物としては、具体的には、若林等、「Bull Chem.Soc
Japan」42、2924(1969)、米国特許第3,905,815号明細書、特公昭46−4605号、特開昭48−36281号、特開昭55−32070号、特開昭60−239736号、特開昭61−169835号、特開昭61−169837号、特開昭62−58241号、特開昭62−212401号、特開昭63−70243号、特開昭63−298339号の各公報、M.P.Hutt“Jurnal of Heterocyclic Chemistry”1(No3),(1970)」等に記載の化合物が挙げられ、特に好ましいものとして、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物、s−トリアジン化合物が挙げられる。
Specific examples of the organic halide include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc.
Japan 42, 2924 (1969), U.S. Pat. No. 3,905,815, JP-B 46-4605, JP-A 48-36281, JP-A 55-32070, JP-A 60-239736 , JP-A 61-169835, JP-A 61-169437, JP-A 62-58241, JP-A 62-212401, JP-A 63-70243, JP-A 63-298339 Each publication, M.C. P. Examples include compounds described in Hutt “Journal of Heterocyclic Chemistry” 1 (No 3), (1970) ”, and particularly preferable examples include oxazole compounds substituted with a trihalomethyl group and s-triazine compounds.

より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、またはトリハロゲン置換メチル基が結合したs−トリアジン誘導体およびオキサジアゾール誘導体が挙げられる。具体的には、例えば、2,4,6−トリス(モノクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2―n−プロピル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフェニル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−ブロモフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−フルオロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリフルオロメチルフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2,6−ジクロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2,6−ジフルオロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2,6−ジブロモフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−ビフェニリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4’−クロロ−4−ビフェニリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−シアノフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−アセチルフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−エトキシカルボニルフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−フェノキシカルボニルフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メチルスルホニルフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−ジメチルスルホニウムフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン・テトラフルオロボレート、2−(2,4−ジフルオロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−ジエトキシホスホリルフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔4−(4−ヒドロキシフェニルカルボニルアミノ)フェニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔4−(p−メトキシフェニル)−1,3−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−i−プロピルオキシスチリル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ベンジルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−(o−メトキシスチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−(3,4−エポキシスチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−〔1−フェニル−2−(4−メトキシフェニル)ビニル〕−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−(p−ヒドロキシスチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−(3,4−ジヒドロキシスチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−(p−t−ブトキシスチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール等が挙げられる。   More preferred examples include s-triazine derivatives and oxadiazole derivatives to which at least one mono, di, or trihalogen-substituted methyl group is bonded. Specifically, for example, 2,4,6-tris (monochloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -S-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6 -Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3,4-epoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6- (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-bromophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-fluorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) ) -S-triazine, 2- (p-trifluoromethylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (2,6-dichlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (2,6-difluorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (2,6-dibromophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (4-biphenylyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-chloro-4-biphenylyl) -4,6 Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-cyanophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-acetylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) ) -S-triazine, 2- (p-ethoxycarbonylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-phenoxycarbonylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl)- s-triazine, 2- (p-methylsulfonylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-dimethylsulfoniumphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s- Triazine tetrafluoroborate, 2- (2,4-difluorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-tria Gin, 2- (p-diethoxyphosphorylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [4- (4-hydroxyphenylcarbonylamino) phenyl] -4,6-bis (trichloro) Methyl) -s-triazine, 2- [4- (p-methoxyphenyl) -1,3-butadienyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-styryl-4,6-bis ( Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (pi-propyloxystyryl) -4, 6-bis (trichloro) Methyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphthyl) -4,6-bi (Trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-benzylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6 -Tris (dibromomethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methoxy -4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2- (o-methoxystyryl) -5-trichloromethyl-1,3,4-oxadiazole, 2- (3,4-epoxystyryl) -5-trichloromethyl-1,3,4-oxadiazole, 2- [1-phenyl-2- (4-methoxyphenyl) vinyl] -5-trichloromethyl-1,3 4-oxadiazole, 2- (p-hydroxystyryl) -5-trichloromethyl-1,3,4-oxadiazole, 2- (3,4-dihydroxystyryl) -5-trichloromethyl-1,3 4-oxadiazole, 2- (pt-butoxystyryl) -5-trichloromethyl-1,3,4-oxadiazole and the like.

上記カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチルー(4’−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。   Examples of the carbonyl compound include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone and other benzophenone derivatives, 2,2-dimethoxy- 2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1- Hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 ′-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylpheny ) Acetophenone derivatives such as ketones, thioxanthone derivatives such as thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, p And benzoic acid ester derivatives such as ethyl dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate.

上記アゾ化合物としては例えば、特開平8−108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。   As the azo compound, for example, an azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.

上記有機過酸化物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ブタン、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−オキサノイルパーオキサイド、過酸化コハク酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバレート、tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシオクタノエート、tert−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、3,3’,4,4’−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等が挙げられる。   Examples of the organic peroxide include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butyl). Peroxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydro Peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, tert-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, 2, -Oxanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate , Dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, tert- Butyl peroxyoctanoate, tert-butyl peroxylaurate, tersyl carbonate, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4 '-Tetra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate) , Carbonyldi (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate) and the like.

上記メタロセン化合物としては、特開昭59−152396号公報、特開昭61−151197号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249号公報、特開平2−4705号公報、特開平5−83588号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロ−3−(ピロール−1−イル)フェニ−1−イル、特開平1−304453号公報、特開平1−152109号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。   Examples of the metallocene compound include JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, JP-A-2-4705, Various titanocene compounds described in JP-A-5-83588, such as di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di- -Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-penta Fluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluoropheny -1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4 , 5,6-pentafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluoro-3- (pyrrol-1-yl) phen-1-yl, JP-A-1-304453 And iron-arene complexes described in JP-A-1-152109.

上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平6−29285号公報、米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,286号等の明細書に記載の種々の化合物、具体的には、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル))4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(m−メトキシフェニル)ビイジダゾール、2,2’−ビス(o,o’−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。   Examples of the hexaarylbiimidazole compound include, for example, Japanese Patent Publication No. 6-29285, U.S. Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, and 4,622,286. And, specifically, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-bromophenyl) )) 4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2 ′ -Bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (m-methoxyphenyl) biidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4', 5,5 '-Tetrafeni Biimidazole, 2,2′-bis (o-nitrophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-methylphenyl) -4,4 ′, 5 , 5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, and the like.

上記有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開昭62−143044号、特開昭62−150242号、特開平9−188685号、特開平9−188686号、特開平9−188710号、特開2000−131837号、特開2002−107916号、特許第2764769号明細書、特開2002−116539号公報、および、Kunz,Martin”Rad Tech’98.Proceeding April 19−22,1998,Chicago”等に記載される有機ホウ酸塩、特開平6−157623号公報、特開平6−175564号公報、特開平6−175561号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体あるいは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平6−175554号公報、特開平6−175553号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平9−188710号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−306527号公報、特開平7−292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。   Examples of the organic borate compounds include JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-9-188585, JP-A-9-188686, JP-A-9-188710, and JP-A-9-188710. 2000-131837, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-107916, Japanese Patent No. 2764769, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-116539, and Kunz, Martin “Rad Tech'98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago”, etc. The organic borate described in JP-A-6-157623, JP-A-6-175564, JP-A-6-175561, or organic boron oxosulfonium complex, JP-A-6-175554 No. 6, JP-A-6-17555 Organoboron iodonium complex described in JP-A-9-188, organoboron phosphonium complex described in JP-A-9-188710, JP-A-6-34811, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, Specific examples include organoboron transition metal coordination complexes such as Kaihei 7-306527 and JP-A-7-292014.

上記ジスルホン化合物としては、特開昭61−166544号、特開2003−328465号公報等に記載の化合物が挙げられる。   Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A Nos. 61-166544 and 2003-328465.

上記オキシムエステル化合物としては、J.C.S. Perkin II (1979 )1653-1660)、J.C.S.Perkin II (1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202-232、特開2000−66385号公報記載の化合物、特開2000−80068号公報記載の化合物が挙げられる。具体例としては下記の構造式で示される化合物が挙げられる。   Examples of the oxime ester compound include JCS Perkin II (1979) 1653-1660), JCSPerkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, and JP-A 2000-66385. And compounds described in JP 2000-80068 A. Specific examples thereof include compounds represented by the following structural formula.

Figure 2009069802
Figure 2009069802

上記オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許第339,049号、同第410,201号の各明細書、特開平2−150848号、特開平2−296514号の各公報に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、同390,214号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同161,811号、同410,201号、同339,049号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。   Examples of the onium salt compound include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. 18, 387 (1974), T .; S. Diazonium salts described in Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), ammonium salts described in US Pat. No. 4,069,055, JP-A-4-365049, etc., US Pat. No. 4,069 , 055 and 4,069,056, phosphonium salts described in European Patent Nos. 104 and 143, U.S. Pat. Nos. 339,049 and 410,201, 2-150848, JP-A-2-296514, iodonium salts, European Patent Nos. 370,693, 390,214, 233,567, 297,443, and 297,442 U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 161,811, 410,201, 339,049, 4,760,013, 4,73 No. 4,444, 2,833,827, German Patent Nos. 2,904,626, 3,604,580, and 3,604,581, the sulfonium salts described in J . V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), and onium salts such as arsonium salts.

特に反応性、安定性の面から上記オキシムエステル化合物あるいはジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩が好適なものとして挙げられる。本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、イオン性のラジカル重合開始剤として機能する。
本発明に好適なオニウム塩は、下記一般式(RI−I)〜(RI−III)で表されるオ
ニウム塩である。
In particular, the oxime ester compound, diazonium salt, iodonium salt, and sulfonium salt are preferable from the viewpoint of reactivity and stability. In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as ionic radical polymerization initiators.
Preferred onium salts for the present invention are onium salts represented by the following general formulas (RI-I) to (RI-III).

Figure 2009069802
Figure 2009069802

式(RI−I)中、Ar11は置換基を1〜6有していてもよい炭素原子数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数1〜12のアルケニル基、炭素原子数1〜12のアルキニル基、炭素原子数1〜12のアリール基、炭素原子数1〜12のアルコキシ基、炭素原子数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数1〜12のアルキルアミノ基、炭素原子数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素原子数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素原子数1〜12のチオアルキル基、炭素原子数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z11−は1価の陰イオンを表し、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性、焼き出し画像の視認性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオンが好ましい。 In formula (RI-I), Ar 11 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, carbon An alkenyl group having 1 to 12 atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, halogen Atom, alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, carbonyl group, carboxyl group, cyano group, sulfonyl group , A thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 11- represents a monovalent anion, a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, sulfate ion, stability, Perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, and sulfinate ion are preferable from the viewpoint of the visibility of the printout image.

式(RI−II)中、Ar21、Ar22は各々独立に置換基を1〜6有していてもよい炭素原子数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数1〜12のアルケニル基、炭素原子数1〜12のアルキニル基、炭素原子数1〜12のアリール基、炭素原子数1〜12のアルコキシ基、炭素原子数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数1〜12のアルキルアミノ基、炭素原子数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素原子数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素原子数1〜12のチオアルキル基、炭素原子数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z21−は1価の陰イオンを表し、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性、焼き出し画像の視認性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。 In formula (RI-II), Ar 21 and Ar 22 each independently represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include 1 to 1 carbon atoms. 12 alkyl groups, alkenyl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkynyl groups having 1 to 12 carbon atoms, aryl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms, 1 to 1 carbon atoms 12 aryloxy groups, halogen atoms, alkylamino groups having 1 to 12 carbon atoms, dialkylamino groups having 1 to 12 carbon atoms, alkylamide groups or arylamide groups having 1 to 12 carbon atoms, carbonyl groups, carboxyl groups , A cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 21- represents a monovalent anion, which is a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, sulfate ion, Perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoint of the visibility of the printout image.

式(RI−III)中、R31、R32、R33は各々独立に置換基を1〜6有していてもよい炭素原子数20以下のアリール基またはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基を表し、好ましくは反応性、安定性の面から、アリール基であることが望ましい。好ましい置換基としては炭素原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数1〜12のアルケニル基、炭素原子数1〜12のアルキニル基、炭素原子数1〜12のアリール基、炭素原子数1〜12のアルコキシ基、炭素原子数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数1〜12のアルキルアミノ基、炭素原子数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素原子数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素原子数1〜12のチオアルキル基、炭素原子数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z31−は1価の陰イオンを表し、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性、焼き出し画像の視認性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましく、より好ましいものとして特開2001−343742号公報記載のカルボン酸イオン、特に好ましくは特開2002−148790号公報記載のカルボン酸イオンが挙げられる。
以下に、本発明において重合開始剤として好適に用いられるオニウム塩の例を挙げるが、本発明はこれら制限されるものではない。
In the formula (RI-III), R 31 , R 32 and R 33 each independently represents an aryl group having 20 or less carbon atoms, an alkyl group, an alkenyl group or an alkynyl group which may have 1 to 6 substituents. In view of reactivity and stability, an aryl group is desirable. Preferred substituents include alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkenyl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkynyl groups having 1 to 12 carbon atoms, aryl groups having 1 to 12 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atoms. 12 alkoxy groups, aryloxy groups having 1 to 12 carbon atoms, halogen atoms, alkylamino groups having 1 to 12 carbon atoms, dialkylamino groups having 1 to 12 carbon atoms, alkylamide groups having 1 to 12 carbon atoms Alternatively, an arylamide group, a carbonyl group, a carboxyl group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms can be given. Z 31- represents a monovalent anion, which is a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, sulfate ion, Perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoint of the visibility of the printout image, and more preferable examples are described in JP-A-2001-343742. Carboxylate ions, particularly preferably the carboxylate ions described in JP-A No. 2002-148790.
Examples of onium salts that can be suitably used as a polymerization initiator in the present invention will be given below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2009069802
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Figure 2009069802
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重合開始剤としては、上記に限定されないが、特に反応性、安定性の面から、トリアジン系開始剤、有機ハロゲン化合物、オキシムエステル化合物、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩がより好ましい。また、これらの重合開始剤の中でも赤外線吸収剤との組み合わせで焼き出し画像の視認性向上を図る観点からは、オニウム塩であって、対イオンとして無機アニオン、例えば、PF 、BF など、を有するものが好ましい。さらに、発色に優れていることから、オニウムとしては、ジアリールヨードニウムが好ましい。 The polymerization initiator is not limited to the above, but a triazine-based initiator, an organic halogen compound, an oxime ester compound, a diazonium salt, an iodonium salt, and a sulfonium salt are more preferable from the viewpoints of reactivity and stability. Among these polymerization initiators, from the viewpoint of improving the visibility of the printout image in combination with an infrared absorber, the onium salt is an inorganic anion such as PF 6 or BF 4 as a counter ion. Etc. are preferred. Furthermore, diaryliodonium is preferred as the onium because of its excellent color development.

これらの重合開始剤は、各々画像記録層を構成する全固形分に対し0.1〜50質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは0.8〜20質量%の割合で添加することができる。この範囲で、良好な感度と印刷時の非画像部の良好な汚れ難さが得られる。これらの重合開始剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、これらの重合開始剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこに添加してもよい。   These polymerization initiators are each preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, and particularly preferably 0.8 to 20% by mass with respect to the total solid content constituting the image recording layer. Can be added at a ratio of Within this range, good sensitivity and good stain resistance of the non-image area during printing can be obtained. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Moreover, these polymerization initiators may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

<(C)重合性化合物>
本発明に用いることができる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、さらにハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
<(C) Polymerizable compound>
The polymerizable compound that can be used in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and is a compound having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more. To be elected. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and a monofunctional or polyfunctional compound. A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or Also suitable are substitution reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a leaving substituent such as a tosyloxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines or thiols. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, isocyanuric acid There are EO-modified triacrylate and the like.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号の各公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号の各公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。さらに、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include, for example, aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, and JP-A-59-5241. And those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

また、イソシアネートとヒドロキシル基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(ii)で示されるヒドロキシル基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   Further, urethane-based addition polymerizable compounds produced using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable. Specific examples of such compounds are described in, for example, Japanese Patent Publication No. 48-41708. It contains two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (ii) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in the molecule. A vinyl urethane compound etc. are mentioned.

CH=C(R)COOCHCH(R)OH (ii)
(ただし、RおよびRは、それぞれHまたはCHを示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (ii)
(However, R 4 and R 5 each represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号の各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号の各公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。さらに、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号の各公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Further, urethane acrylates as described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654 And urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418. Furthermore, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used. Depending on the case, it is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂とアクリル酸もしくはメタクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号、各公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and acrylic acid or methacrylic acid described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-B-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. In addition, JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, specific unsaturated compounds described in each gazette, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like are also included. Can be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの付加重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、さらに、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、画像記録層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板や後述の保護層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
付加重合性化合物は、画像記録層中の不揮発性成分に対して、好ましくは5〜80質量%、さらに好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。そのほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、さらに場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。
About these addition polymerizable compounds, the details of usage, such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and furthermore, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrenic compound, vinyl ether type). A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.
Further, the selection and use method of the addition polymerization compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.) in the image recording layer. In some cases, the compatibility can be improved by using a low-purity compound or by using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the substrate and the protective layer described later.
The addition polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass, with respect to the non-volatile component in the image recording layer. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the use method of the addition polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface adhesiveness, etc. Depending on the case, a layer configuration and coating method such as undercoating and overcoating can be performed.

<(D)疎水化前駆体>
本発明において疎水性化前駆体とは、熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できる微粒子である。この微粒子としては、疎水性熱可塑性ポリマー微粒子、および熱反応性ポリマー微粒子から選ばれる少なくともひとつの粒子であることが好ましい。
<(D) Hydrophobized precursor>
In the present invention, the hydrophobized precursor is a fine particle capable of converting the image recording layer to hydrophobic when heat is applied. The fine particles are preferably at least one particle selected from hydrophobic thermoplastic polymer fine particles and heat-reactive polymer fine particles.

上記画像記録層に用いられる疎水性熱可塑性ポリマー微粒子としては、1992年1月のResearch Disclosure No.33303、特開平9−123387号公報、同9−131
850号公報、同9−171249号公報、同9−171250号公報および欧州特許第931647号明細書などに記載の疎水性熱可塑性ポリマー微粒子を好適なものとして挙げることができる。かかるポリマー微粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾールなどのモノマーのホモポリマーもしくはコポリマーまたはそれらの混合物を挙げることができる。その中で、より好適なものとして、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。
Examples of the hydrophobic thermoplastic polymer fine particles used in the image recording layer include Research Disclosure No. 33303, Jan. 1992, JP-A-9-123387, 9-131.
Hydrophobic thermoplastic polymer fine particles described in, for example, 850, 9-171249, 9-171250, and European Patent 931647 can be mentioned as preferable examples. Specific examples of the polymer constituting such polymer fine particles include homopolymers of monomers such as ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinyl carbazole, or the like. Mention may be made of copolymers or mixtures thereof. Among them, more preferred are polystyrene and polymethyl methacrylate.

本発明に用いられる疎水性熱可塑性ポリマー微粒子の平均粒径は0.01〜2.0μmが好ましい。このような疎水性熱可塑性ポリマー微粒子の合成方法としては、乳化重合法、懸濁重合法の他に、これら化合物を非水溶性の有機溶剤に溶解し、これを分散剤が入った水溶液と混合乳化し、さらに熱をかけて、有機溶剤を飛ばしながら微粒子状に固化させる方法(溶解分散法)がある。   The average particle diameter of the hydrophobic thermoplastic polymer fine particles used in the present invention is preferably 0.01 to 2.0 μm. As a method for synthesizing such hydrophobic thermoplastic polymer fine particles, in addition to emulsion polymerization and suspension polymerization, these compounds are dissolved in a water-insoluble organic solvent and mixed with an aqueous solution containing a dispersant. There is a method of emulsifying and further solidifying into fine particles while heating the organic solvent (dissolution dispersion method).

本発明に用いられる熱反応性ポリマー微粒子としては、熱硬化性ポリマー微粒子および熱反応性基を有するポリマー微粒子が挙げられる。   Examples of the heat-reactive polymer fine particles used in the present invention include thermosetting polymer fine particles and polymer fine particles having a heat-reactive group.

上記熱硬化性ポリマーとしては、フェノール骨格を有する樹脂、尿素系樹脂(例えば、尿素またはメトキシメチル化尿素など尿素誘導体をホルムアルデヒドなどのアルデヒド類により樹脂化したもの)、メラミン系樹脂(例えば、メラミンまたはその誘導体をホルムアルデヒドなどのアルデヒド類により樹脂化したもの)、アルキド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等を挙げることができる。なかでも、特に好ましいのは、フェノール骨格を有する樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂およびエポキシ樹脂である。   Examples of the thermosetting polymer include a resin having a phenol skeleton, a urea resin (for example, urea or a derivatized urea derivative such as methoxymethylated urea with an aldehyde such as formaldehyde), a melamine resin (for example, melamine or Examples thereof include those obtained by converting the derivatives into resins with aldehydes such as formaldehyde, alkyd resins, unsaturated polyester resins, polyurethane resins, and epoxy resins. Among these, resins having a phenol skeleton, melamine resins, urea resins and epoxy resins are particularly preferable.

好適なフェノール骨格を有する樹脂としては、例えば、フェノール、クレゾールなどをホルムアルデヒドなどのアルデヒド類により樹脂化したフェノール樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、およびN−(p−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、p−ヒドロキシフェニルメタクリレートなどのフェノール骨格を有するメタクリルアミドもしくはアクリルアミドまたはメタクリレートもしくはアクリレートの重合体または共重合体を挙げることができる。   Suitable resins having a phenol skeleton include, for example, phenol resins obtained by converting phenol, cresol and the like with aldehydes such as formaldehyde, hydroxystyrene resins, N- (p-hydroxyphenyl) methacrylamide, and p-hydroxyphenyl methacrylate. Examples thereof include a polymer or copolymer of methacrylamide or acrylamide or methacrylate or acrylate having a phenol skeleton.

本発明に用いられる熱硬化性ポリマー微粒子の平均粒径は0.01〜2.0μmが好ましい。このような熱硬化性ポリマー微粒子は、溶解分散法で容易に得られるが、熱硬化性ポリマーを合成する際に微粒子化してもよい。しかし、これらの方法に限らない。   The average particle diameter of the thermosetting polymer fine particles used in the present invention is preferably 0.01 to 2.0 μm. Such thermosetting polymer fine particles can be easily obtained by a solution dispersion method, but may be formed into fine particles when the thermosetting polymer is synthesized. However, it is not restricted to these methods.

本発明に用いる熱反応性基を有するポリマー微粒子の熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、カチオン重合性基(例えば、ビニル基、ビニルオキシ基など)、付加反応を行うイソシアナート基またはそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基およびこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基など)、縮合反応を行うカルボキシル基および反応相手であるヒドロキシル基またはアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物および反応相手であるアミノ基またはヒドロキシル基などを好適なものとして挙げることができる。   The thermally reactive group of the polymer fine particle having a thermally reactive group used in the present invention may be any functional group that undergoes a reaction as long as a chemical bond is formed, but is an ethylenically unsaturated group that undergoes a radical polymerization reaction. Group (for example, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, etc.), cationically polymerizable group (for example, vinyl group, vinyloxy group, etc.), isocyanate group that performs addition reaction or its block, epoxy group, vinyloxy group And a functional group having an active hydrogen atom as a reaction partner thereof (for example, an amino group, a hydroxyl group, a carboxyl group, etc.), a carboxyl group for performing a condensation reaction, a hydroxyl group or an amino group as a reaction partner, a ring-opening addition reaction Suitable acid anhydride and reaction partner amino group or hydroxyl group It can gel.

これらの官能基のポリマー微粒子への導入は、重合時に行ってもよいし、重合後に高分子反応を利用して行ってもよい。
重合時に導入する場合は、上記の官能基を有するモノマーを乳化重合または懸濁重合ることが好ましい。上記の官能基を有するモノマーの具体例として、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、ビニルメタクリレート、ビニルアクリレート、2−(ビニルオキシ)エチルメタクリレート、p−ビニルオキシスチレン、p−{2−(ビニルオキシ)エチル}スチレン、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、2−イソシアナートエチルメタクリレートまたはそのアルコールなどによるブロックイソシアナート、2−イソシアナートエチルアクリレートまたはそのアルコールなどによるブロックイソシアナート、2−アミノエチルメタクリレート、2−アミノエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、2官能アクリレート、2官能メタクリレートなどが挙げられるが、これらに限定されない。
The introduction of these functional groups into the polymer fine particles may be performed at the time of polymerization, or may be performed using a polymer reaction after the polymerization.
When introduced at the time of polymerization, it is preferable to carry out emulsion polymerization or suspension polymerization of the monomer having the above functional group. Specific examples of the monomer having the above functional group include allyl methacrylate, allyl acrylate, vinyl methacrylate, vinyl acrylate, 2- (vinyloxy) ethyl methacrylate, p-vinyloxystyrene, p- {2- (vinyloxy) ethyl} styrene, Block isocyanate with glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, 2-isocyanatoethyl methacrylate or alcohol thereof, block isocyanate with 2-isocyanatoethyl acrylate or alcohol, 2-aminoethyl methacrylate, 2-aminoethyl acrylate, 2- Hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, bifunctional acrylate, Such as functional methacrylates include, but are not limited to.

本発明では、これらのモノマーと、これらのモノマーと共重合可能な、熱反応性基をもたないモノマーとの共重合体も用いることができる。熱反応性基をもたない共重合モノマーとしては、例えば、スチレン、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、アクリロニトリル、酢酸ビニルなどを挙げることができるが、熱反応性基をもたないモノマーであれば、これらに限定されない。   In the present invention, a copolymer of these monomers and a monomer that is copolymerizable with these monomers and does not have a thermally reactive group can also be used. Examples of the copolymer monomer having no heat-reactive group include styrene, alkyl acrylate, alkyl methacrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, and the like. It is not limited to.

熱反応性基の導入を重合後に行う場合に用いる高分子反応としては、例えば、国際公開第96/34316号パンフレットに記載されている高分子反応を挙げることができる。   Examples of the polymer reaction used when the introduction of the thermally reactive group is carried out after the polymerization include the polymer reaction described in International Publication No. 96/34316 pamphlet.

上記熱反応性基を有するポリマー微粒子の中で、ポリマー微粒子同志が熱により合体するものが好ましく、その表面は親水性で水に分散するものが特に好ましい。ポリマー微粒子のみを塗布し、凝固温度よりも低い温度で乾燥して作製した皮膜の接触角(空中水滴)が、凝固温度より高い温度で乾燥して作製した皮膜の接触角(空中水滴)よりも低くなることが好ましい。このようにポリマー微粒子表面を親水性にするには、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールなどの親水性ポリマーもしくはオリゴマーまたは親水性低分子化合物をポリマー微粒子表面に吸着させてやればよい。しかし、表面親水化の方法は、これに限定されない。   Among the polymer fine particles having a heat-reactive group, those in which the polymer fine particles are coalesced by heat are preferable, and those having a hydrophilic surface and being dispersed in water are particularly preferable. The contact angle (water droplets) of the film prepared by applying only polymer fine particles and drying at a temperature lower than the solidification temperature is higher than the contact angle (water droplets) of the film prepared by drying at a temperature higher than the solidification temperature. It is preferable to lower. In order to make the surface of the polymer fine particles hydrophilic in this way, a hydrophilic polymer or oligomer such as polyvinyl alcohol or polyethylene glycol or a hydrophilic low molecular weight compound may be adsorbed on the surface of the polymer fine particles. However, the surface hydrophilization method is not limited to this.

これらの熱反応性基を有するポリマー微粒子の凝固温度は、70℃以上が好ましいが、経時安定性を考えると100℃以上がさらに好ましい。ポリマー微粒子の平均粒径は、0.01〜2.0μmが好ましいが、その中でも0.05〜2.0μmがさらに好ましく、特に0.1〜1.0μmが最適である。この範囲内で良好な解像度および経時安定性が得られる。   The solidification temperature of the polymer fine particles having these thermoreactive groups is preferably 70 ° C. or higher, but more preferably 100 ° C. or higher in view of the stability over time. The average particle size of the polymer fine particles is preferably 0.01 to 2.0 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and most preferably 0.1 to 1.0 μm. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

<マイクロカプセルおよび/またはミクロゲル>
本発明においては、上記の画像記録層構成成分(A)〜(C)および後述のその他構成成分を画像記録層に含有させる方法として、いくつかの態様を用いることができる。一つは、例えば、特開2002−287334号公報に記載のごとく、該構成成分を適当な溶媒に溶解して塗布する分子分散型画像記録層である。他の一つの態様は、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、該構成成分の全てまたは一部をマイクロカプセルに内包させて画像記録層に含有させるマイクロカプセル型画像記録層である。さらに、マイクロカプセル型画像記録層において、該構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。ここで、マイクロカプセル型画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。
さらに他の態様として、画像記録層に架橋樹脂粒子、すなわちミクロゲルを含有する態様が挙げられる。該ミクロゲルは、その中および/または表面に該構成成分(A)〜(C)の一部を含有することが出来る。特に(C)重合性化合物をその表面に有することによって反応性ミクロゲルとした態様が、画像形成感度や耐刷性の観点から特に好ましい。
より良好な機上現像性またはガム現像性を得るためには、画像記録層は、マイクロカプセル型もしくはミクロゲル型画像記録層であることが好ましい。
<Microcapsules and / or microgels>
In the present invention, several modes can be used as a method for incorporating the above-mentioned image recording layer constituent components (A) to (C) and other constituent components described later into the image recording layer. One is a molecular dispersion type image recording layer in which the constituent components are dissolved and applied in an appropriate solvent as described in, for example, JP-A-2002-287334. In another embodiment, for example, as described in JP-A Nos. 2001-277740 and 2001-277742, all or a part of the constituent components are encapsulated in microcapsules and contained in the image recording layer. It is a microcapsule type image recording layer. Further, in the microcapsule type image recording layer, the constituent component can be contained outside the microcapsule. Here, it is preferable that the microcapsule-type image recording layer includes a hydrophobic constituent component in the microcapsule and a hydrophilic constituent component outside the microcapsule.
As still another embodiment, an embodiment in which the image recording layer contains crosslinked resin particles, that is, microgel, can be mentioned. The microgel can contain a part of the constituent components (A) to (C) in and / or on the surface thereof. In particular, an embodiment in which (C) a reactive microgel is formed by having a polymerizable compound on the surface thereof is particularly preferable from the viewpoint of image forming sensitivity and printing durability.
In order to obtain better on-press developability or gum developability, the image recording layer is preferably a microcapsule type or microgel type image recording layer.

画像記録層構成成分をマイクロカプセル化、もしくはミクロゲル化する方法としては、公知の方法が適用できる。   As a method for microencapsulating or microgelling the components of the image recording layer, known methods can be applied.

例えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第2800457号、同第2800458号明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第3287154号の各明細書、特公昭38−19574号、同42−446号の各公報にみられる界面重合法による方法、米国特許第3418250号、同第3660304号明細書にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第3796669号明細書に見られるイソシアナートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第3914511号明細書に見られるイソシアナート壁材料を用いる方法、米国特許第4001140号、同第4087376号、同第4089802号の各明細書にみられる尿素―ホルムアルデヒド系または尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第4025445号明細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭36−9163号、同51−9079号の各公報にみられるモノマー重合によるin situ法、英国特許第930422号、米国特許第3111407号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第952807号、同第967074号の各明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。   For example, as a method for producing microcapsules, a method using coacervation found in U.S. Pat. Nos. 2,800,547 and 2,800,498, U.S. Pat. No. 3,287,154, JP-B-38-19574, 42-446 by the interfacial polymerization method, US Pat. No. 3,418,250, US Pat. No. 3,660,304 by polymer precipitation method, US Pat. No. 3,796,669, isocyanate polyol A method using a wall material, a method using an isocyanate wall material found in US Pat. No. 3,914,511, and a urea-formaldehyde system found in US Pat. Nos. 4,001,140, 4,087,376 and 4,089,802. Or urea formaldehyde-resorcino A method using a wall forming material, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin and hydroxycellulose, as shown in US Pat. No. 4,025,445, and Japanese Patent Publication Nos. 36-9163 and 51-9079. In situ method using monomer polymerization, spray drying method found in British Patent No. 930422, US Pat. No. 3,111,407, electrolytic dispersion cooling method seen in British Patent Nos. 952807 and 967074, etc. However, it is not limited to these.

本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に、後述のバインダーポリマーに導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を有する化合物を導入してもよい。   A preferable microcapsule wall used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. Moreover, you may introduce | transduce into the microcapsule wall the compound which has crosslinkable functional groups, such as an ethylenically unsaturated bond which can be introduce | transduced into the binder polymer mentioned later.

一方、ミクロゲルを調製する方法としては、特公昭38−19574号、同42−446号明細書に記載されている界面重合による造粒、特開平5−61214号明細書に記載されているような非水系分散重合による造粒を利用することが可能である。但し、これらの方法に限定されるものではない。
上記界面重合を利用する方法としては、上述した公知のマイクロカプセル製造方法を応用することができる。
On the other hand, as a method for preparing the microgel, granulation by interfacial polymerization described in JP-B-38-19574 and JP-A-42-446, as described in JP-A-5-61214, etc. It is possible to utilize granulation by non-aqueous dispersion polymerization. However, it is not limited to these methods.
As the method using the interfacial polymerization, the known microcapsule production method described above can be applied.

本発明に用いられる好ましいミクロゲルは、界面重合により造粒され3次元架橋を有するものである。このような観点から、使用する素材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。   Preferred microgels used in the present invention are those granulated by interfacial polymerization and having three-dimensional crosslinking. From such a viewpoint, the material to be used is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and polyurea and polyurethane are particularly preferable.

上記のマイクロカプセルやミクロゲルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい。0.05〜2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。   The average particle size of the microcapsules or microgel is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is further more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

<その他の画像記録層成分>
本発明の画像記録層には、さらに、必要に応じて種々の添加剤を含有させることができる。以下、それらについて説明する。
<Other image recording layer components>
The image recording layer of the present invention can further contain various additives as required. These will be described below.

<1>バインダーポリマー
本発明の画像記録層には、画像記録層の膜強度を向上させるため、バインダーポリマーを用いることができる。本発明に用いることができるバインダーポリマーは、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有するポリマーが好ましい。このようなバインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられる。
バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していてもよい。バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよい。
分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、ポリ−1,4−ブタジエン、ポリ−1,4−イソプレン等が挙げられる。
分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドのポリマーであって、エステルまたはアミドの残基(−COORまたは−CONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。
<1> Binder polymer In the image recording layer of the present invention, a binder polymer can be used in order to improve the film strength of the image recording layer. As the binder polymer that can be used in the present invention, conventionally known binder polymers can be used without limitation, and polymers having film properties are preferred. Examples of such binder polymers include acrylic resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyurea resins, polyimide resins, polyamide resins, epoxy resins, methacrylic resins, polystyrene resins, novolac phenolic resins, polyester resins, and synthetic rubbers. And natural rubber.
The binder polymer may have crosslinkability in order to improve the film strength of the image area. In order to impart crosslinkability to the binder polymer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization.
Examples of the polymer having an ethylenically unsaturated bond in the main chain of the molecule include poly-1,4-butadiene and poly-1,4-isoprene.
Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule are polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid where the ester or amide residue (R of -COOR or -CONHR) is Mention may be made of polymers having an ethylenically unsaturated bond.

エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、−(CH2 n CR1 =CR2 3 、−(CH2 O)n CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 CH2 O)n CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 n NH−CO−O−CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 n −O−CO−CR1 =CR2 3 および(CH2 CH2 O)2 −X(式中、R1 〜R3 はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、R1 とR2 またはR3 とは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。
エステル残基の具体例としては、−CH2 CH=CH2 (特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CH2 CH2 O−CH2 CH=CH2 、−CH2 C(CH3 )=CH2 、−CH2 CH=CH−C6 5 、−CH2 CH2 OCOCH=CH−C6 5 、−CH2 CH2 −NHCOO−CH2 CH=CH2 およびCH2 CH2 O−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基の具体例としては、−CH2 CH=CH2 、−CH2 CH2 −Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CH2 CH2 −OCO−CH=CH2 が挙げられる。
Examples of the residue (the R) having an ethylenically unsaturated bond, - (CH 2) n CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n -O-CO —CR 1 ═CR 2 R 3 and (CH 2 CH 2 O) 2 —X (wherein R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, Represents an alkoxy group or an aryloxy group, and R 1 and R 2 or R 3 may combine with each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents dicyclopentadienyl. Represents a residue).
Specific examples of the ester residue, -CH 2 CH = CH 2, ( described in JP Kokoku 7-21633.) - CH 2 CH 2 O-CH 2 CH = CH 2, -CH 2 C (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 -NHCOO-CH 2 CH = CH 2 and CH 2 CH 2 O—X (wherein X represents a dicyclopentadienyl residue).
Specific examples of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 —Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH 2 CH 2 —OCO—CH═CH 2. Is mentioned.

架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接にまたは重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。   In the case of a binder polymer having crosslinkability, for example, free radicals (polymerization initiation radicals or growth radicals in the polymerization process of a polymerizable compound) are added to the crosslinkable functional group, and a polymerization chain of a polymerizable compound is formed directly between polymers. Through addition polymerization, a cross-link is formed between the polymer molecules and cured. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded to each other so that crosslinking between the polymer molecules occurs. Forms and cures.

バインダーポリマー中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1.0, per 1 g of the binder polymer. -7.0 mmol, most preferably 2.0-5.5 mmol. Within this range, good sensitivity and good storage stability can be obtained.

また、画像記録層未露光部の機上現像性向上の観点から、バインダーポリマーは、インキおよび/または湿し水に対する溶解性または分散性が高いことが好ましい。インキに対する溶解性または分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親油的な方が好ましく、湿し水に対する溶解性または分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親水的な方が好ましい。このため、本発明においては、親油的なバインダーポリマーと親水的なバインダーポリマーを併用することも有効である。   Further, from the viewpoint of improving the on-press developability of the image recording layer unexposed portion, the binder polymer preferably has high solubility or dispersibility in ink and / or fountain solution. In order to improve the solubility or dispersibility in ink, the binder polymer is preferably lipophilic, and in order to improve the solubility or dispersibility in dampening water, the binder polymer is hydrophilic. Is preferred. For this reason, in the present invention, it is also effective to use a lipophilic binder polymer and a hydrophilic binder polymer in combination.

親水的なバインダーポリマーとしては、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホ基、リン酸基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。   Examples of the hydrophilic binder polymer include hydroxyl group, carboxyl group, carboxylate group, hydroxyethyl group, polyoxyethyl group, hydroxypropyl group, polyoxypropyl group, amino group, aminoethyl group, aminopropyl group, and ammonium. Preferred examples include those having a hydrophilic group such as a group, an amide group, a carboxymethyl group, a sulfo group, or a phosphoric acid group.

具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60モル%以上、好ましくは80モル%以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げられる。   Specific examples include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and their salts, Polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, homopolymers of hydroxybutyl methacrylate Polymers and copolymers, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate Polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers having a hydrolysis degree of 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more , Homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, polyvinylpyrrolidone, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, etc. Is mentioned.

バインダーポリマーは、質量平均モル質量が5000(g/mol)以上であるのが好ましく、1万〜30万(g/mol)であるのがより好ましく、また、数平均モル質量が
1000(g/mol)以上であるのが好ましく、2000〜25万(g/mol)であるのがより好ましい。多分散度(質量平均モル質量/数平均モル質量)は、1.1〜10であるのが好ましい。
The binder polymer preferably has a mass average molar mass of 5000 (g / mol) or more, more preferably 10,000 to 300,000 (g / mol), and a number average molar mass of 1000 (g / mol). mol) or more, and more preferably 2000 to 250,000 (g / mol). The polydispersity (mass average molar mass / number average molar mass) is preferably 1.1 to 10.

バインダーポリマーは、市販品を購入するか、あるいは公知の方法で合成することによって入手できる。   The binder polymer can be obtained by purchasing a commercial product or synthesizing it by a known method.

バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全固形分に対して、5〜90質量%であり、5〜80質量%であるのが好ましく、10〜70質量%であるのがより好ましい。この範囲で、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。
また、(C)重合性化合物とバインダーポリマーは、質量比で0.5/1〜4/1となる
量で用いるのが好ましい。
The content of the binder polymer is 5 to 90% by mass, preferably 5 to 80% by mass, and more preferably 10 to 70% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. Within this range, good image area strength and image formability can be obtained.
Further, (C) the polymerizable compound and the binder polymer are preferably used in a mass ratio of 0.5 / 1 to 4/1.

<2>界面活性剤
本発明の画像記録層には、現像性を促進するため、および塗布面状を向上させるため界面活性剤を用いることができる。界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
<2> Surfactant In the image recording layer of the present invention, a surfactant can be used in order to promote developability and improve the coated surface state. Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorosurfactants. Surfactant may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

本発明に用いられるノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体が挙げられる。   The nonionic surfactant used for this invention is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. For example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol Fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, Polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N N- bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polyethylene glycol, copolymers of polyethylene glycol and polypropylene glycol.

本発明に用いられるアニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。   The anionic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known anionic surfactants can be used. For example, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate esters, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy poly Oxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alcohol Ruphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride Examples thereof include partial saponification products of polymers, partial saponification products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates.

本発明に用いられるカチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
本発明に用いられる両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。
The cationic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
The amphoteric surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known amphoteric surfactants can be used. Examples thereof include carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, and imidazolines.

なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。   Of the above surfactants, the term “polyoxyethylene” can be read as “polyoxyalkylene” such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, etc. These surfactants can also be used.

さらに好ましい界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル等のアニオン型;パーフルオロアルキルベタイン等の両性型;パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型;パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するウレタン等のノニオン型が挙げられる。また、特開昭62−170950号、同62−226143号および同60−168144号の各公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適に挙げられる。   More preferable surfactants include fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Examples of such fluorosurfactants include anionic types such as perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, and perfluoroalkyl phosphates; amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines; Cation type such as trimethylammonium salt; perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, oligomer containing perfluoroalkyl group and hydrophilic group, oligomer containing perfluoroalkyl group and lipophilic group, perfluoroalkyl Nonionic types such as an oligomer containing a group, a hydrophilic group and a lipophilic group, and a urethane containing a perfluoroalkyl group and a lipophilic group. Moreover, the fluorine-type surfactant described in each gazette of Unexamined-Japanese-Patent No. 62-170950, 62-226143, and 60-168144 is also mentioned suitably.

界面活性剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、0.001〜10質量%であるのが好ましく、0.01〜5質量%であるのがより好ましい。
Surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.
The content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass and more preferably 0.01 to 5% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<3>着色剤
本発明の画像記録層には、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)等、および特開昭62−293247号に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料も好適に用いることができる。
これらの着色剤を用いると、画像形成後の画像部と非画像部の区別がつきやすくなるので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、0.01〜10質量%の割合である。
<3> Colorant In the image recording layer of the present invention, a dye having large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), etc., and JP-A-62-2 And dyes described in No. 293247. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium oxide, etc. can be suitably used.
When these colorants are used, it is easy to distinguish between an image area after image formation and a non-image area, so it is preferable to add them. The addition amount is 0.01 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording material.

<4>焼き出し剤
本発明の画像記録層には、焼き出し画像生成のため、酸またはラジカルによって変色する化合物を添加することができる。このような化合物としては、例えばジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンスラキノン系、イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられる。
<4> Print-out agent To the image-recording layer of the invention, a compound that changes color by an acid or a radical can be added in order to produce a print-out image. As such a compound, for example, various dyes such as diphenylmethane, triphenylmethane, thiazine, oxazine, xanthene, anthraquinone, iminoquinone, azo, and azomethine are effectively used.

具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン4B、α−ナフチルレッド、ナイルブルー2B、ナイルブルーA、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルーBOH[保土ケ谷化学(株)製]、オイルブルー#603[オリエント化学工業(株)製]、オイルピンク#312[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッド5B[オリエント化学工業(株)製]、オイルスカーレット#308[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドOG[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドRR[オリエント化学工業(株)製]、オイルグリーン#502[オリエント化学工業(株)製]、スピロンレッドBEHスペシャル[保土ケ谷化学工業(株)製]、m−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンB、ローダミン6G、スルホローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシアニリノ−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシステアリルアミノ−4−p−N,N−ビス(ヒドロキシエチル)アミノ−フェニルイミノナフトキノン、1−フェニル−3−メチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン等の染料やp,p',p"−ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン(ロイコクリスタルバイオレット)、Pergascript Blue SRB(チバガイギー社製)等のロイコ染料が挙げられる。   Specific examples include brilliant green, ethyl violet, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, methyl violet 2B, quinaldine red, rose bengal, methanyl yellow, thymol sulfophthalein, xylenol blue, methyl orange, paramethyl red, Congo Fred, Benzopurpurin 4B, α-Naphthyl Red, Nile Blue 2B, Nile Blue A, Methyl Violet, Malachite Green, Parafuchsin, Victoria Pure Blue BOH [manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Oil Blue # 603 [Orient Chemical Industry Co., Ltd.], Oil Pink # 312 [Made by Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red 5B [Made by Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Scarlet # 308 [Orient Gaku Kogyo Co., Ltd.], Oil Red OG [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red RR [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Green # 502 [Orient Chemical Co., Ltd.], Spiron Red BEH Special [made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], m-cresol purple, cresol red, rhodamine B, rhodamine 6G, sulforhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxyanilino-4-p- Diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxystearylamino-4-pN, N-bis (hydroxyethyl) amino-phenyliminonaphthoquinone, 1-phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone, 1-β-naphthyl-4- - dyes and p of diethylamino phenyl imino-5-pyrazolone, p ', p "- hexamethyl triamnotriphenylmethane (leuco crystal violet), and a leuco dye such as Pergascript Blue SRB (manufactured by Ciba-Geigy).

上記の他に、感熱紙や感圧紙用の素材として知られているロイコ染料も好適なものとして挙げられる。具体例としては、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、2−(N−フェニル−N−メチルアミノ)−6−(N−p−トリル−N−エチル)アミノ−フルオラン、2−アニリノ−3−メチル−6−(N−エチル−p−トルイジノ)フルオラン、3,6−ジメトキシフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−5−メチル−7−(N,N−ジベンジルアミノ)−フルオラン、3−(N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチルー7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メトキシ−7−アミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−(4−クロロアニリノ)フルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−ベンジルアミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7,8−ベンゾフロオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3,3−ビス(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(1−n−ブチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド、3−(4−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−ザフタリド、3−(4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、などが挙げられる。   In addition to the above, a leuco dye known as a material for thermal paper or pressure-sensitive paper is also suitable. Specific examples include crystal violet lactone, malachite green lactone, benzoylleucomethylene blue, 2- (N-phenyl-N-methylamino) -6- (Np-tolyl-N-ethyl) amino-fluorane, 2-anilino. -3-methyl-6- (N-ethyl-p-toluidino) fluorane, 3,6-dimethoxyfluorane, 3- (N, N-diethylamino) -5-methyl-7- (N, N-dibenzylamino) ) -Fluorane, 3- (N-cyclohexyl-N-methylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3 -(N, N-diethylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-chloro Fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methoxy-7-aminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7- (4-chloroanilino) fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-chlorofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-benzylaminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7,8-benzofluorane, 3- (N, N-dibutyl) Amino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-dibutylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluorane 3-pyrrolidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3,3-bis (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1-n-butyl- -Methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-diethylamino-2-ethoxyphenyl) -3- (1-ethyl- 2-methylindol-3-yl) -4-zaphthalide, 3- (4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, and the like.

酸またはラジカルによって変色する染料の好適な添加量は、画像記録層固形分に対して0.01〜10質量%の割合である。   A suitable addition amount of the dye that changes color by an acid or radical is 0.01 to 10% by mass with respect to the solid content of the image recording layer.

<5>重合禁止剤
本発明の画像記録層には、画像記録層の製造中または保存中において(C)重合性化合物の不要な熱重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩が好適に挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、画像記録層の全固形分に対して、約0.01〜約5質量%であるのが好ましい。
<5> Polymerization inhibitor A small amount of a thermal polymerization inhibitor is added to the image recording layer of the present invention to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound (C) during the production or storage of the image recording layer. It is preferable to do this.
Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t- (Butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt are preferred. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to about 5% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<6>高級脂肪酸誘導体等
本発明の画像記録層には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で画像記録層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、画像記録層の全固形分に対して、約0.1〜約10質量%であるのが好ましい。
<6> Higher fatty acid derivatives and the like In the image recording layer of the present invention, in order to prevent polymerization inhibition by oxygen, higher fatty acid derivatives such as behenic acid and behenic acid amide are added, and the drying process after coating is performed. May be unevenly distributed on the surface of the image recording layer. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.1 to about 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<7>可塑剤
本発明の画像記録層は、現像性を向上させるために、可塑剤を含有してもよい。
可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類;ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類;トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類;ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類;ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適に挙げられる。
可塑剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、約30質量%以下であるのが好ましい。
<7> Plasticizer The image recording layer of the present invention may contain a plasticizer in order to improve developability.
Examples of the plasticizer include phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diallyl phthalate; Glycol esters such as glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene glycol dicaprylate; Phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate Diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioct Ruazereto, aliphatic dibasic acid esters such as dibutyl maleate; polyglycidyl methacrylate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, butyl laurate in.
The plasticizer content is preferably about 30% by mass or less based on the total solid content of the image recording layer.

<8>無機微粒子
本発明の画像記録層は、硬化皮膜強度向上および機上現像性またはガム現像性向上のために、無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムまたはこれらの混合物が好適に挙げられる。これらは皮膜の強化、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いることができる。
無機微粒子は、平均粒径が5nm〜10μmであるのが好ましく、0.5μm〜3μmであるのがより好ましい。上記範囲であると、画像記録層中に安定に分散して、画像記録層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成することができる。
上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手することができる。
無機微粒子の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、40質量%以下であるのが好ましく、30質量%以下であるのがより好ましい。
<8> Inorganic fine particles The image recording layer of the present invention may contain inorganic fine particles for the purpose of improving the strength of the cured film and improving the on-press developability or gum developability.
As the inorganic fine particles, for example, silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate or a mixture thereof can be preferably mentioned. These can be used for strengthening the film, strengthening the interfacial adhesion by surface roughening, and the like.
The inorganic fine particles preferably have an average particle size of 5 nm to 10 μm, and more preferably 0.5 μm to 3 μm. Within the above range, it is possible to form a non-image portion having excellent hydrophilicity, which is stably dispersed in the image recording layer, sufficiently retains the film strength of the image recording layer, and hardly causes stains during printing.
The inorganic fine particles as described above can be easily obtained as a commercial product such as a colloidal silica dispersion.
The content of the inorganic fine particles is preferably 40% by mass or less, and more preferably 30% by mass or less, based on the total solid content of the image recording layer.

<9>低分子親水性化合物
本発明の画像記録層は、機上現像性またはガム現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有してもよい。親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類およびそのエーテルまたはエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類およびその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類およびその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類およびその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類およびその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類およびその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類およびその塩等が挙げられる。
<9> Low molecular weight hydrophilic compound The image-recording layer of the invention may contain a hydrophilic low molecular weight compound in order to improve the on-press developability or gum developability. Examples of the hydrophilic low-molecular compound include water-soluble organic compounds such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like, and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyhydroxys such as pentaerythritol, organic amines such as triethanolamine and diethanolamine monoethanolamine and salts thereof, organic sulfonic acids such as alkylsulfonic acid, toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid and salts thereof, alkylsulfamic acid and the like Organic sulfamic acids and salts thereof, organic sulfuric acids and salts thereof such as alkyl sulfuric acid and alkyl ether sulfuric acid, organic phosphonic acids and salts thereof such as phenylphosphonic acid, Stone acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid, organic carboxylic acids and salts thereof such as amino acids and the like.

これらの中でも有機スルホン酸、有機スルファミン酸や有機硫酸のナトリウム塩やリチウム塩が好ましく使用される。これらの化合物を画像記録層に含有することにより、耐刷性を低下させることなく機上現像性またはガム現像性を向上させることが可能になる。   Among these, organic sulfonic acid, organic sulfamic acid, and sodium salt or lithium salt of organic sulfuric acid are preferably used. By containing these compounds in the image recording layer, it is possible to improve the on-press developability or gum developability without reducing printing durability.

有機スルホン酸塩の具体的な化合物としては、ノルマルブチルスルホン酸ナトリウム、イソブチルスルホン酸ナトリウム、sec−ブチルスルホン酸ナトリウム、tert−ブチルスルホン酸ナトリウム、ノルマルペンチルスルホン酸ナトリウム、1−エチルプロピルスルホン酸ナトリウム、ノルマルヘキシルスルホン酸ナトリウム、1、2−ジメチルプロピルスルホン酸ナトリウム、2−エチルブチルスルホン酸ナトリウム、シクロヘキシルスルホン酸ナトリウム、ノルマルヘプチルスルホン酸ナトリウム、ノルマルオクチルスルホン酸ナトリウム、tert−オクチルスルホン酸ナトリウム、ノルマルノニルスルホン酸ナトリウム、アリルスルホン酸ナトリウム、2−メチルアリルスルホン酸ナトリウム、ベンゼンスルホン酸ナトリウム、p−トルエンスルホン酸ナトリウム、p−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム、p−スチレンスルホン酸ナトリウム、イソフタル酸ジメチル−5−スルホン酸ナトリウム、1,3−ベンゼンジスルホン酸ジナトリウム、1,3,5−ベンゼントリスルホン酸トリナトリウム、p−クロロベンゼンスルホン酸ナトリウム、3,4−ジクロロベンゼンスルホン酸ナトリウム、1−ナフチルスルホン酸ナトリウム、2−ナフチルスルホン酸ナトリウム、4−ヒドロキシナフチルスルホン酸ナトリウム、1,5−ナフチルジスルホン酸ジナトリウム、2,6−ナフチルジスルホン酸ジナトリウム、1,3,6−ナフチルトリスルホン酸トリナトリウム、およびこれらのリチウム塩交換体などが挙げられる。   Specific examples of organic sulfonates include sodium normal butyl sulfonate, sodium isobutyl sulfonate, sodium sec-butyl sulfonate, sodium tert-butyl sulfonate, sodium normal pentyl sulfonate, and sodium 1-ethylpropyl sulfonate. Sodium hexyl sulfonate, sodium 1,2-dimethylpropyl sulfonate, sodium 2-ethylbutyl sulfonate, sodium cyclohexyl sulfonate, sodium normal heptyl sulfonate, sodium normal octyl sulfonate, sodium tert-octyl sulfonate, normal Sodium nonyl sulfonate, sodium allyl sulfonate, sodium 2-methylallyl sulfonate, sodium benzene sulfonate Sodium p-toluenesulfonate, sodium p-hydroxybenzenesulfonate, sodium p-styrenesulfonate, dimethyl-5-sulfonate sodium isophthalate, disodium 1,3-benzenedisulfonate, 1,3,5-benzenetri Trisodium sulfonate, sodium p-chlorobenzenesulfonate, sodium 3,4-dichlorobenzenesulfonate, sodium 1-naphthylsulfonate, sodium 2-naphthylsulfonate, sodium 4-hydroxynaphthylsulfonate, 1,5-naphthyldisulfone Examples thereof include disodium acid, disodium 2,6-naphthyldisulfonate, trisodium 1,3,6-naphthyltrisulfonate, and lithium salt exchangers thereof.

有機スルファミン酸塩の具体的な化合物としては、ノルマルブチルスルファミン酸ナトリウム、イソブチルスルファミン酸ナトリウム、tert−ブチルスルファミン酸ナトリウム、ノルマルペンチルスルファミン酸ナトリウム、1−エチルプロピルスルファミン酸ナトリウム、ノルマルヘキシルスルファミン酸ナトリウム、1、2−ジメチルプロピルスルファミン酸ナトリウム、2−エチルブチルスルファミン酸ナトリウム、シクロヘキシルスルファミン酸ナトリウム、およびこれらのリチウム塩交換体などが挙げられる。   Specific examples of the organic sulfamate include sodium normal butyl sulfamate, sodium isobutyl sulfamate, sodium tert-butyl sulfamate, sodium normal pentyl sulfamate, sodium 1-ethylpropyl sulfamate, sodium normal hexyl sulfamate, Examples include sodium 1,2-dimethylpropylsulfamate, sodium 2-ethylbutylsulfamate, sodium cyclohexylsulfamate, and lithium salt exchangers thereof.

これらの化合物は疎水性部分の構造が小さくて界面活性作用がほとんどなく、長鎖アルキルスルホン酸塩や長鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩などが良好に用いられる前述の界面活性剤とは明確に区別される。   These compounds have a small hydrophobic part structure and almost no surface-active action, and are clearly distinguished from the above-mentioned surfactants in which long-chain alkyl sulfonates and long-chain alkyl benzene sulfonates are used favorably. .

有機硫酸塩としては特に下記一般式(iii)で示される化合物が好ましく使用される。   As the organic sulfate, a compound represented by the following general formula (iii) is preferably used.

Figure 2009069802
Figure 2009069802

上記一般式(iii)中、Rは、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アリール基または複素環基を表し、mは1〜4の整数を表し、Xはナトリウム、カリウムまたはリチウムを表す。
In the general formula (iii), R represents a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group or heterocyclic group, m represents an integer of 1 to 4, and X represents sodium or potassium. Or represents lithium.

Rは、好ましくは、置換もしくは無置換の、直鎖状、分岐状または環状の炭素原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数1〜12のアルケニル基、炭素原子数1〜12のアルキニル基、炭素原子数20以下のアリール基が挙げられる。置換基としては、直鎖状、分岐状または環状の炭素原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数1〜12のアルケニル基、炭素原子数1〜12のアルキニル基、ハロゲン原子、炭素原子数20以下のアリール基が挙げられる。   R is preferably a substituted or unsubstituted, linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, and an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms. And an aryl group having 20 or less carbon atoms. Examples of the substituent include a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen atom, and the number of carbon atoms. Examples include 20 or less aryl groups.

一般式(iii)で表される化合物の好ましい例としては、オキシエチレン−2−エチル
ヘキシルエーテル硫酸ナトリウム、ジオキシエチレン−2−エチルヘキシルエーテル硫酸ナトリウム、ジオキシエチレン−2−エチルヘキシルエーテル硫酸カリウム、ジオキシエチレン−2−エチルヘキシルエーテル硫酸リチウム、トリオキシエチレン−2−エチルヘキシルエーテル硫酸ナトリウム、テトラオキシエチレン−2−エチルヘキシルエーテル硫酸ナトリウム、ジオキシエチレンヘキシルエーテル硫酸ナトリウム、ジオキシエチレンオクチルエーテル硫酸ナトリウム、ジオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム等が挙げられる。最も好ましい化合物としては、ジオキシエチレン−2−エチルヘキシルエーテル硫酸ナトリウム、ジオキシエチレン−2−エチルヘキシルエーテル硫酸カリウム、ジオキシエチレン−2−エチルヘキシルエーテル硫酸リチウムが挙げられる。
Preferred examples of the compound represented by the general formula (iii) include sodium oxyethylene-2-ethylhexyl ether sulfate, sodium dioxyethylene-2-ethylhexyl ether sulfate, potassium dioxyethylene-2-ethylhexyl ether sulfate, dioxy Ethylene-2-ethylhexyl ether lithium sulfate, trioxyethylene-2-ethylhexyl ether sodium sulfate, tetraoxyethylene-2-ethylhexyl ether sodium sulfate, dioxyethylene hexyl ether sodium sulfate, dioxyethylene octyl ether sodium sulfate, dioxyethylene Examples include sodium lauryl ether sulfate. Most preferred compounds include sodium dioxyethylene-2-ethylhexyl ether sulfate, potassium dioxyethylene-2-ethylhexyl ether sulfate, and lithium dioxyethylene-2-ethylhexyl ether sulfate.

これら低分子親水性化合物の画像記録層への添加量は、画像記録層全固形分量の0.5質量%以上20質量%以下であることが好ましい。より好ましくは1質量%以上10質量%以下であり、さらに好ましくは2質量%以上8質量%以下である。この範囲で良好な機上現像性またはガム現像性と耐刷性が得られる。
これらの化合物は単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
The amount of these low molecular weight hydrophilic compounds added to the image recording layer is preferably 0.5% by mass or more and 20% by mass or less of the total solid content of the image recording layer. More preferably, they are 1 mass% or more and 10 mass% or less, More preferably, they are 2 mass% or more and 8 mass% or less. Within this range, good on-press developability or gum developability and printing durability can be obtained.
These compounds may be used alone or in combination of two or more.

<10>感脂化剤
後述の保護層に無機質層状化合物を含有させる場合は、着肉性を向上させるために、ホスホニウム化合物を併用することが好ましい。ホスホニウム化合物は無機質層状化合物の表面被覆剤(感脂化剤)として機能し、無機質層状化合物による印刷途中の着肉性低下を防止する。
好ましいホスホニウム化合物の例としては以下の一般式(iv)または一般式(v)で表される化合物を挙げることができる。より好ましいホスホニウム化合物としては、一般式(iv)で表される化合物が挙げられる。
<10> Grease sensitizing agent When an inorganic layered compound is contained in the protective layer described later, it is preferable to use a phosphonium compound in combination in order to improve the inking property. The phosphonium compound functions as a surface coating agent (grease sensitizing agent) for the inorganic stratiform compound, and prevents deterioration of the inking property during printing by the inorganic stratiform compound.
Examples of preferred phosphonium compounds include compounds represented by the following general formula (iv) or general formula (v). More preferable phosphonium compounds include compounds represented by the general formula (iv).

Figure 2009069802
Figure 2009069802

式(iv)中、Ar1〜Ar6は、各々独立にアリール基または複素環基を表し、Lは2価の連結基を表し、Xn−はn価のカウンターアニオンを表し、nは1〜3の整数を表し、mはn x m=2を満たす数を表す。 In formula (iv), Ar 1 to Ar 6 each independently represents an aryl group or a heterocyclic group, L represents a divalent linking group, X n− represents an n-valent counter anion, and n represents 1 Represents an integer of ˜3, and m represents a number satisfying nx m = 2.

ここでアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ジメチルアミノフェニル基などが好適なものとして挙げられる。複素環基としては、ピリジル基、キノリル基、ピリミジニル基、チエニル基、フリル基などが挙げられる。Lは炭素原子数が6〜15の連結基中であることが好ましく、より好ましくは、炭素原子数6〜12の連結基である。   Here, as the aryl group, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, dimethoxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, dimethylaminophenyl A group and the like are preferable. Examples of the heterocyclic group include a pyridyl group, a quinolyl group, a pyrimidinyl group, a thienyl group, and a furyl group. L is preferably a linking group having 6 to 15 carbon atoms, and more preferably a linking group having 6 to 12 carbon atoms.

n−の好ましいものとしては、Cl、Br、Iなどのハロゲンアニオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、硫酸エステルアニオン、PF 、BF 、過塩素酸アニオンなどが挙げられる。なかでも、Cl、Br、Iなどのハロゲンアニオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンが特に好ましい。 Preferable examples of X n− include halogen anions such as Cl , Br and I , sulfonate anions, carboxylate anions, sulfate anions, PF 6 , BF 4 and perchlorate anions. . Of these, halogen anions such as Cl , Br and I , sulfonate anions, and carboxylate anions are particularly preferable.

一般式(iv)で表されるホスホニウム化合物の具体例を以下に示す。   Specific examples of the phosphonium compound represented by the general formula (iv) are shown below.

Figure 2009069802
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Figure 2009069802
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Figure 2009069802
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上記一般式(v)において、R1〜R4は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、複素環基または水素原子を表す。R1〜R4の少なくとも2つが結合して環を形成してもよい。Xはカウンターアニオンを示す。
ここで、R1〜R4がアルキル基、アルコキシ基またはアルキルチオ基であるときの炭素原子数は通常1〜20、アルケニル基またはアルキニル基であるときの炭素原子数は通常2〜15、シクロアルキル基であるときの炭素原子数は通常3〜8であり、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基等が、アリールオキシ基としてはフェノキシ基、ナフチルオキシ基等が、アリールチオ基としてはフェニルチオ基等が、複素環基としてはフリル基、チエニル基等が、それぞれ挙げられる。また、これらの有してもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、スルフィノ基、スルホ基、ホスフィノ基、ホスホリル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基およびハロゲン原子等が挙げられる。なお、これらの置換基はさらに置換基を有していてもよい。
- の表すアニオンとしては、Cl、Br、Iなどのハロゲン化物イオン、C
lO4 -、PF6 -、SO 2−などの無機酸アニオン、有機カルボン酸アニオン、有機スルホン酸アニオンが挙げられる。有機カルボン酸アニオン、有機スルホン酸アニオンの有機基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、フェニル、メトキシフェニル、ナフチル、フルオロフェニル、ジフルオロフェニル、ペンタフルオロフェニル、チエニル、ピロリル等が挙げられる。これらの中で、Cl- 、Br- 、I- 、ClO4 - 、PF6 - 等が好ましい。一般式(v)で表されるホスホニウム化合物の具体例を以下に示す。
In the general formula (v), R 1 to R 4 are each independently an alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, which may have a substituent, Represents an alkylthio group, a heterocyclic group or a hydrogen atom; At least two of R 1 to R 4 may combine to form a ring. X represents a counter anion.
Here, when R 1 to R 4 are an alkyl group, an alkoxy group, or an alkylthio group, the number of carbon atoms is usually 1 to 20, and when it is an alkenyl group or an alkynyl group, the number of carbon atoms is usually 2 to 15, cycloalkyl. The number of carbon atoms in the case of a group is usually 3 to 8, the aryl group is a phenyl group, a naphthyl group, etc., the aryloxy group is a phenoxy group, a naphthyloxy group, etc., and the arylthio group is a phenylthio group, etc. Examples of the heterocyclic group include a furyl group and a thienyl group. Examples of the substituent that may be present include, for example, alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, cycloalkyl groups, alkoxy groups, alkoxycarbonyl groups, acyl groups, alkylthio groups, aryl groups, aryloxy groups, arylthio groups. Group, sulfino group, sulfo group, phosphino group, phosphoryl group, amino group, nitro group, cyano group, hydroxyl group, halogen atom and the like. These substituents may further have a substituent.
Examples of the anion represented by X include halide ions such as Cl , Br and I , C
Examples thereof include inorganic acid anions such as lO 4 , PF 6 and SO 4 2− , organic carboxylic acid anions, and organic sulfonate anions. Examples of the organic group of the organic carboxylate anion and organic sulfonate anion include methyl, ethyl, propyl, butyl, phenyl, methoxyphenyl, naphthyl, fluorophenyl, difluorophenyl, pentafluorophenyl, thienyl, pyrrolyl and the like. Among these, Cl , Br , I , ClO 4 , PF 6 − and the like are preferable. Specific examples of the phosphonium compound represented by the general formula (v) are shown below.

Figure 2009069802
Figure 2009069802

画像記録層への上記ホスホニウム化合物の添加量は、画像記録層固形分の0.01〜20質量%が好ましく、0.05〜10質量%がさらに好ましく、0.1〜5質量%が最も好ましい。これらの範囲内で印刷途中の良好なインキ着肉性が得られる。   The amount of the phosphonium compound added to the image recording layer is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.05 to 10% by mass, and most preferably 0.1 to 5% by mass based on the solid content of the image recording layer. . Within these ranges, good ink fillability during printing can be obtained.

本感脂化剤は、画像記録層だけではなく保護層に添加することもできる。   The present sensitizer can be added not only to the image recording layer but also to the protective layer.

<画像記録層の形成>
本発明の画像記録層は、必要な上記各成分を溶剤に分散または溶解して塗布液を調製し、塗布される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
本発明の画像記録層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散または溶解した塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。
<Formation of image recording layer>
The image recording layer of the present invention is applied by preparing a coating solution by dispersing or dissolving each of the necessary components in a solvent. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.
The image recording layer of the present invention can be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeating a plurality of coatings and dryings.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像
記録層の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等が挙げられる。
Further, the coating amount (solid content) of the image recording layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but generally 0.3 to 3.0 g / m 2 is preferable. Within this range, good sensitivity and good film properties of the image recording layer can be obtained.
Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

(保護層)
本発明の平版印刷版原版には、画像記録層の上に保護層(オーバーコート層)を設けることが好ましい。保護層は酸素遮断によって画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層での傷の発生防止、高照度レーザー露光時のアブレーション防止などの機能も有する。
(Protective layer)
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a protective layer (overcoat layer) is preferably provided on the image recording layer. In addition to the function of suppressing the image formation inhibition reaction by blocking oxygen, the protective layer also has functions such as preventing scratches in the image recording layer and preventing ablation during high-illuminance laser exposure.

通常、平版印刷版の露光処理は大気中で実施する。露光処理によって生じる画像記録層中での画像形成反応は、大気中に存在する酸素、塩基性物質等の低分子化合物によって阻害され得る。保護層は、この酸素、塩基性物質等の低分子化合物が画像記録層へ混入することを防止し、結果として大気中での画像形成阻害反応を抑制する。従って、保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性を低くすることであり、さらに、露光に用いられる光の透過性が良好で、画像記録層との密着性に優れ、且つ、露光後の機上現像又はガム現像で容易に除去することができるものである。このような特性を有する保護層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書および特公昭55−49729号公報に記載されている。   Usually, the exposure processing of a lithographic printing plate is carried out in the atmosphere. The image forming reaction in the image recording layer caused by the exposure process can be inhibited by low molecular compounds such as oxygen and basic substances present in the atmosphere. The protective layer prevents low molecular compounds such as oxygen and basic substances from entering the image recording layer, and as a result, suppresses image formation inhibition reaction in the air. Therefore, the property desired for the protective layer is to reduce the permeability of low-molecular compounds such as oxygen, and furthermore, the transparency of light used for exposure is good, and the adhesiveness with the image recording layer is excellent. In addition, it can be easily removed by on-press development or gum development after exposure. The protective layer having such characteristics is described in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

保護層に用いられる材料としては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができる。具体的には例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリ酢酸ビニルの部分鹸化物、エチレン−ビニルアルコール共重合体、水溶性セルロース誘導体、ゼラチン、デンプン誘導体、アラビアゴム等の水溶性ポリマーや、ポリ塩化ビニリデン、ポリ(メタ)アクリロニトリル、ポリサルホン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアミド、セロハン等のポリマー等が挙げられる。これらは、必要に応じて2種以上を併用して用いることもできる。   As a material used for the protective layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used. Specifically, for example, polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl imidazole, polyacrylic acid, polyacrylamide, partially saponified product of polyvinyl acetate, ethylene-vinyl alcohol copolymer, water-soluble cellulose derivative, gelatin, starch Examples thereof include water-soluble polymers such as derivatives and gum arabic, and polymers such as polyvinylidene chloride, poly (meth) acrylonitrile, polysulfone, polyvinyl chloride, polyethylene, polycarbonate, polystyrene, polyamide, and cellophane. These may be used in combination of two or more as required.

上記材料中で比較的有用な素材としては、結晶性に優れる水溶性高分子化合物が挙げられる。具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾール、ポリアクリル酸等の水溶性アクリル樹脂、ゼラチン、アラビアゴム等が好適であり、なかでも、水を溶媒として塗布可能であり、かつ、印刷時における湿し水により容易に除去されるという観点から、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾールが好ましい。その中でも、ポリビニルアルコール(PVA)は、酸素遮断性、現像除去性等の基本的な特性に対して最も良好な結果を与える。   A relatively useful material among the above materials includes water-soluble polymer compounds having excellent crystallinity. Specifically, water-soluble acrylic resins such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl imidazole, and polyacrylic acid, gelatin, gum arabic, and the like are suitable. Among these, water can be applied as a solvent, and at the time of printing Polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, and polyvinyl imidazole are preferable from the viewpoint that they are easily removed by the fountain solution. Among them, polyvinyl alcohol (PVA) gives the best results for basic properties such as oxygen barrier properties and development removability.

保護層に用い得るポリビニルアルコールは、必要な水溶性を有する実質的量の未置換ビニルアルコール単位を含有するかぎり、一部がエステル、エーテル、およびアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を含有していてもよい。例えば、カルボキシル基、スルホ基等のアニオンで変性されたアニオン変性部位、アミノ基、アンモニウム基等のカチオンで変性されたカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位等種々の親水性変性部位をランダムに有す各種重合度のポリビニルアルコール、前記のアニオン変性部位、前記のカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位、さらにはアルコキシル変性部位、スルフィド変性部位、ビニルアルコールと各種有機酸とのエステル変性部位、前記アニオン変性部位とアルコール類等とのエステル変性部位、エポキシ変性部位等種々の変性部位をポリマー鎖末端に有す各種重合度のポリビニルアルコール等も好ましく用いられる。   The polyvinyl alcohol that can be used in the protective layer may be partially substituted with esters, ethers, and acetals as long as they contain a substantial amount of unsubstituted vinyl alcohol units having the required water solubility. Similarly, a part may contain other copolymerization components. For example, various hydrophilic modification sites such as anion modification sites modified with anions such as carboxyl groups and sulfo groups, cation modification sites modified with cations such as amino groups and ammonium groups, silanol modification sites, and thiol modification sites are randomly selected. Polyvinyl alcohol having various degrees of polymerization, the anion-modified site, the cation-modified site, the silanol-modified site, the thiol-modified site, the alkoxyl-modified site, the sulfide-modified site, and the ester modification of vinyl alcohol and various organic acids. Polyvinyl alcohol having various degrees of polymerization having various modified sites such as a site, an ester-modified site of the anion-modified site and alcohols, an epoxy-modified site, etc. at the polymer chain end is also preferably used.

これら変性ポリビニルアルコールは71〜100モル%加水分解された重合度300〜2400の範囲の化合物が好適に挙げられる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105,PVA−110, PVA−117, PVA−117H,PVA−120,PVA−124, PVA−124H, PVA−CS, PVA−CST, PVA−HC, PVA−203, PVA−204, PVA−205, PVA−210, PVA−217, PVA−220, PVA−224, PVA−217EE, PVA−217E, PVA−220E,
PVA−224E, PVA−405, PVA−420, PVA−613, L−8等が挙げられる。また変性ポリビニルアルコールとしては、アニオン変性部位を有すKL−318、KL−118、KM−618、KM−118、SK−5102、カチオン変性部位を有すC−318、C−118、CM−318、末端チオール変性部位を有すM−205、M−115、末端スルフィド変性部位を有すMP−103、MP−203、MP−102、MP−202、高級脂肪酸とのエステル変性部位を末端に有すHL−12E、HL−1203、その他反応性シラン変性部位を有すR−1130、R−2105、R−2130等が挙げられる。
Suitable examples of the modified polyvinyl alcohol include compounds having a hydrolysis degree of 71 to 100 mol% and a polymerization degree in the range of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E,
PVA-224E, PVA-405, PVA-420, PVA-613, L-8 etc. are mentioned. Examples of the modified polyvinyl alcohol include KL-318, KL-118, KM-618, KM-118, SK-5102 having an anion-modified site, C-318, C-118, and CM-318 having a cation-modified site. M-205 and M-115 having terminal thiol modification sites, MP-103, MP-203, MP-102, MP-202 having terminal sulfide modification sites, and ester modification sites with higher fatty acids HL-12E, HL-1203, and other reactive silane-modified R-1130, R-2105, R-2130, and the like.

また保護層には無機質の層状化合物を含有することが好ましい。層状化合物とは薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、下記一般式
A(B,C)2−510(OH,F,O)
〔ただし、AはLi,K,Na,Ca,Mg,有機カチオンの何れか、BおよびCはFe(II),Fe(III),Mn,Al,Mg,Vの何れかであり、DはSiまたはAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、式3MgO・4SiO・HOで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウムなどが挙げられる。
上記天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母および鱗雲母が挙げられる。また、合成雲母としては、フッ素金雲母KMg(AlSi10)F、カリ四ケイ素雲母KMg2.5Si10)F等の非膨潤性雲母、およびNaテトラシリリックマイカNaMg2.5(Si10)F、NaまたはLiテニオライト(Na,Li)MgLi(Si10)F、モンモリロナイト系のNaまたはLiヘクトライト(Na,Li)1/8Mg2/5Li1/8(Si10)F等の膨潤性雲母等が挙げられる。また合成スメクタイトも有用である。
The protective layer preferably contains an inorganic stratiform compound. The layered compound is a particle having a thin plate-like shape. For example, the following general formula A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2
[However, A is any of Li, K, Na, Ca, Mg, organic cation, B and C are any of Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg, V, and D is Si or Al. And mica groups such as natural mica and synthetic mica, talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, zirconium phosphate and the like represented by the formula 3MgO.4SiO.H 2 O.
Examples of the natural mica include muscovite, soda mica, phlogopite, biotite and sericite. In addition, examples of the synthetic mica include non-swelling mica such as fluorine phlogopite mica 3 (AlSi 3 O 10 ) F 2 , potassium tetrasilicon mica KMg 2.5 Si 4 O 10 ) F 2 , and Na tetrasilicic mica NaMg 2.5 (Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li Teniolite (Na, Li) Mg 2 Li (Si 4 O 10 ) F 2 , Montmorillonite-based Na or Li Hectorite (Na, Li) 1/8 Mg Swellable mica such as 2/5 Li 1/8 (Si 4 O 10 ) F 2 can be used. Synthetic smectite is also useful.

上記の層状化合物の中でも、合成の層状化合物であるフッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、雲母、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ベントナイト等の膨潤性粘土鉱物類等は、10〜15Å程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘度鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にLi、Na、Ca2+、Mg2+、アミン塩、第4級アンモニウム塩、ホスホニウム塩およびスルホニウム塩等の有機カチオンの陽イオンを吸着している。これらの層状化合物は水により膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。ベントナイトおよび膨潤性合成雲母はこの傾向が強い。 Among the above layered compounds, fluorine-based swellable mica which is a synthetic layered compound is particularly useful. That is, swellable clay minerals such as mica, montmorillonite, saponite, hectorite, bentonite, etc. have a laminated structure composed of unit crystal lattice layers with a thickness of about 10 to 15 mm, and metal atom substitution in the lattice is other than Significantly greater than viscous minerals. As a result, the lattice layer is deficient in positive charge, and in order to compensate for it, organic cations such as Li + , Na + , Ca 2+ , Mg 2+ , amine salts, quaternary ammonium salts, phosphonium salts and sulfonium salts are used between Adsorbs cations. These layered compounds swell with water. If shear is applied in this state, it will be easily cleaved to form a stable sol in water. Bentonite and swelling synthetic mica have this tendency.

層状化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きいほどよい。従って、アスペクト比は20以上であり、好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。
層状化合物の粒子径は、その平均長径が0.3〜20μm、好ましくは0.5〜10μm、特に好ましくは1〜5μmである。粒子径が0.3μmよりも小さいと酸素や水分の透過の抑制が不十分であり、効果を十分に発揮できない。また20μmよりも大きいと塗布液中での分散安定性が不十分であり、安定的な塗布を行うことができない問題が生じる。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下、好ましくは、0.05μm以下、特に好ましくは、0.01μm以下である。例えば、無機質の層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが1〜50nm、面サイズが1〜20μm程度である。
As the shape of the layered compound, from the viewpoint of diffusion control, the thinner the better, the better the plane size as long as the smoothness of the coated surface and the transmittance of actinic rays are not impaired. Accordingly, the aspect ratio is 20 or more, preferably 100 or more, particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured, for example, from a projected view of the particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.
As for the particle diameter of the layered compound, the average major axis is 0.3 to 20 μm, preferably 0.5 to 10 μm, particularly preferably 1 to 5 μm. When the particle diameter is smaller than 0.3 μm, the suppression of permeation of oxygen and moisture is insufficient, and the effect cannot be sufficiently exhibited. On the other hand, if it is larger than 20 μm, the dispersion stability in the coating solution is insufficient, resulting in a problem that stable coating cannot be performed. The average thickness of the particles is 0.1 μm or less, preferably 0.05 μm or less, and particularly preferably 0.01 μm or less. For example, among the inorganic layered compounds, the size of the swellable synthetic mica that is a representative compound is about 1 to 50 nm in thickness and about 1 to 20 μm in surface size.

このようにアスペクト比が大きい無機質の層状化合物の粒子を保護層に含有させると、塗膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防止しうるため、変形などによる保護層の劣化を防止し、高湿条件下において長期間保存しても、湿度の変化による平版印刷版原版における画像形成性の低下もなく保存安定性に優れる。   When the inorganic layered compound particles having such a large aspect ratio are contained in the protective layer, the coating film strength is improved, and the permeation of oxygen and moisture can be effectively prevented. Deterioration is prevented, and even when stored for a long time under high-humidity conditions, the storage stability of the planographic printing plate precursor does not deteriorate due to changes in humidity, and the storage stability is excellent.

次に、層状化合物を保護層に用いる場合の一般的な分散方法の例について述べる。まず、水100質量部に先に層状化合物の好ましいものとして挙げた膨潤性の層状化合物を5〜10質量部添加し、充分水になじませ、膨潤させた後、分散機にかけて分散する。ここで用いる分散機としては、機械的に直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機等が挙げられる。具体的には、ボールミル、サンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上記の方法で分散した無機質層状化合物の5〜10質量%の分散物は高粘度あるいはゲル状であり、保存安定性は極めて良好である。この分散物を用いて保護層塗布液を調製する際には、水で希釈し、充分攪拌した後、バインダー溶液と配合して調製するのが好ましい。   Next, an example of a general dispersion method when a layered compound is used for the protective layer will be described. First, 5 to 10 parts by mass of the swellable laminar compound mentioned above as a preferred laminar compound is added to 100 parts by mass of water, and the mixture is thoroughly swelled and swollen. Examples of the disperser used here include various mills that disperse mechanically by applying a direct force, a high-speed stirring disperser having a large shearing force, and a disperser that provides high-intensity ultrasonic energy. Specifically, ball mill, sand grinder mill, visco mill, colloid mill, homogenizer, tisol bar, polytron, homomixer, homo blender, ketdy mill, jet agitator, capillary emulsifier, liquid siren, electrostrictive ultrasonic generator, An emulsifying device having a Paulman whistle can be used. A dispersion of 5 to 10% by mass of the inorganic stratiform compound dispersed by the above method is highly viscous or gelled and has very good storage stability. When preparing the protective layer coating solution using this dispersion, it is preferably prepared by diluting with water and stirring sufficiently, and then blending with the binder solution.

保護層中の無機質層状化合物の含有量は、保護層に使用されるバインダーの量に対し、質量比で5/1〜1/100であることが好ましい。複数種の無機質の層状化合物を併用した場合でも、これら無機質の層状化合物の合計量が上記の質量比であることが好ましい。   It is preferable that content of the inorganic stratiform compound in a protective layer is 5/1-1/100 by mass ratio with respect to the quantity of the binder used for a protective layer. Even when a plurality of types of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of these inorganic layered compounds is preferably the above-described mass ratio.

上記無機層状化合物は、保護層だけではなく画像記録層に添加することもできる。無機層状化合物の画像記録層への添加は、耐刷性、重合効率(感度)および経時安定性の向上に有用である。
画像記録層への無機層状化合物の添加量は、画像記録層の固形分に対して0.1〜50質量%が好ましく、0.3〜30質量%がさらに好ましく、1〜10質量%が最も好ましい。
The inorganic layered compound can be added not only to the protective layer but also to the image recording layer. Addition of an inorganic layered compound to the image recording layer is useful for improving printing durability, polymerization efficiency (sensitivity), and stability over time.
The amount of the inorganic stratiform compound added to the image recording layer is preferably from 0.1 to 50 mass%, more preferably from 0.3 to 30 mass%, most preferably from 1 to 10 mass%, based on the solid content of the image recording layer. preferable.

保護層の他の添加物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を上記水溶性または水不溶性ポリマーに対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を添加することができる。これら活性剤の添加量は上記水溶性または水不溶性ポリマーに対して0.1〜100質量%添加することができる。   As other additives for the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the water-soluble or water-insoluble polymer to give flexibility. Anionic surfactants such as sodium alkyl sulfonate; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylate and alkylaminodicarboxylate; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ether can be added. These active agents can be added in an amount of 0.1 to 100% by mass with respect to the water-soluble or water-insoluble polymer.

また、画像部との密着性を良化させるため、例えば、特開昭49−70702号公報および英国特許出願公開第1303578号明細書には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルション、水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体等を20〜60質量%混合させ、画像記録層上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明においては、これらの公知の技術をいずれも用いることができる。   In order to improve the adhesion to the image area, for example, JP-A-49-70702 and British Patent Application No. 1303578 include an acrylic polymer in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesion can be obtained by mixing 20 to 60% by mass of a water-based emulsion, a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer and the like, and laminating the mixture on an image recording layer. Any of these known techniques can be used in the present invention.

さらに、保護層には、他の機能を付与することもできる。例えば、露光に用いられる赤外線の透過性に優れ、且つ、それ以外の波長の光を効率よく吸収しうる、着色剤(例えば、水溶性染料)の添加により、感度低下を引き起こすことなく、セーフライト適性を向上させることができる。   Furthermore, other functions can be imparted to the protective layer. For example, by adding a colorant (for example, a water-soluble dye) that is excellent in the transparency of infrared rays used for exposure and can efficiently absorb light of other wavelengths, it is safe light without causing a decrease in sensitivity. Suitability can be improved.

保護層の形成は、上記保護層成分を溶媒に分散または溶解して調製された保護層塗布液を、画像記録層上に塗布、乾燥して行われる。塗布溶剤はバインダーとの関連において適宜選択することができるが、水溶性ポリマーを用いる場合には、蒸留水、精製水を用いることが好ましい。
この保護層塗布液には、塗布性を向上させためのアニオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、フッ素系界面活性剤や皮膜の物性改良のため水溶性可塑剤などの公知の添加剤を加えることができる。水溶性の可塑剤としては、例えば、プロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等が挙げられる。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマーを加えることもできる。さらに、この塗布液には、画像記録層との密着性、塗布液の経時安定性を向上するための公知の添加剤を加えてもよい。
保護層の塗布方法は、特に制限されるものではなく、米国特許第3,458,311号明細書または特公昭55−49729号公報に記載されている方法など公知の方法を適用することができる。具体的には、例えば、保護層は、ブレード塗布法、エアナイフ塗布法、グラビア塗布法、ロールコーティング塗布法、スプレー塗布法、ディップ塗布法、バー塗布法等が挙げられる。
The protective layer is formed by applying and drying a protective layer coating solution prepared by dispersing or dissolving the protective layer component in a solvent on the image recording layer. The coating solvent can be appropriately selected in relation to the binder, but when a water-soluble polymer is used, it is preferable to use distilled water or purified water.
This protective layer coating solution includes known anionic surfactants, nonionic surfactants, cationic surfactants, fluorosurfactants and water-soluble plasticizers for improving the physical properties of the coating. Additives can be added. Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, sorbitol and the like. A water-soluble (meth) acrylic polymer can also be added. Furthermore, a known additive for improving the adhesion with the image recording layer and the temporal stability of the coating solution may be added to the coating solution.
The method for applying the protective layer is not particularly limited, and a known method such as the method described in US Pat. No. 3,458,311 or Japanese Patent Publication No. 55-49729 can be applied. . Specific examples of the protective layer include blade coating, air knife coating, gravure coating, roll coating coating, spray coating, dip coating, and bar coating.

保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.01〜10g/mの範囲であることが好ましく、0.02〜3g/mの範囲がより好ましく、最も好ましくは0.02〜1g/mの範囲である。 The coating amount of the protective layer of the coating amount after drying is preferably in the range of 0.01 to 10 g / m 2, more preferably in the range of 0.02 to 3 g / m 2, and most preferably 0. in the range of 02~1g / m 2.

(支持体)
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、アルミニウム板を用いる。
(Support)
The support used for the lithographic printing plate precursor according to the invention uses an aluminum plate.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、または、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。   The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましい。   The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm.

アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すのが好ましい。表面処理により、親水性の向上および画像記録層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。   Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, it is easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the image recording layer and the support. Prior to the roughening treatment of the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.

アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。また、アルミニウムの圧延段階において凹凸を設けたロールで凹凸形状を転写する転写法も用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment for dissolving the surface electrochemically), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Moreover, the transcription | transfer method which transfers an uneven | corrugated shape with the roll which provided the unevenness | corrugation in the rolling stage of aluminum can also be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.

粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、さらに、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。   The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸またはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温5〜70℃、電流密度5〜60A/dm、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であるのが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/mであるのが好ましく、1.5〜4.0g/mであるのがより好ましい。この範囲で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られる。
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions of anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferable. The amount of the anodized film formed is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2, and more preferably 1.5 to 4.0 g / m 2. Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained.

本発明で用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板そのままでもよいが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、断熱性などを一層改良するため、必要に応じて、特開2001−253181号公報や特開2001−322365号公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理や封孔処理、および親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。もちろん、これら拡大処理、封孔処理はこれらに記載のものに限られたものではなく従来公知の何れも方法も行うことができる。例えば、封孔処理としては、蒸気封孔のほかフッ化ジルコン酸の単独処理、フッ化ナトリウムによる処理、塩化リチウムを添加した蒸気封孔でも可能である。   As the support used in the present invention, the substrate having the above-mentioned surface treatment and having an anodized film may be used as it is. However, in order to further improve the adhesiveness with the upper layer, hydrophilicity, dirt resistance, heat insulation and the like. If necessary, it is immersed in an aqueous solution containing a hydrophilic compound and a micropore enlargement treatment or sealing treatment of an anodized film described in JP-A-2001-253181 or JP-A-2001-322365. The surface hydrophilization treatment to be performed can be appropriately selected and performed. Of course, the enlargement process and the sealing process are not limited to those described above, and any conventionally known methods can be performed. For example, as the sealing treatment, in addition to the vapor sealing, a single treatment with fluorinated zirconic acid, a treatment with sodium fluoride, and a vapor sealing with addition of lithium chloride are possible.

本発明に用いられる封孔処理は、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができるが、なかでも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理および熱水による封孔処理が好ましい。以下にそれぞれ説明する。   The sealing treatment used in the present invention is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. Among them, sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, sealing treatment with water vapor, and hot water. Sealing treatment is preferred. Each will be described below.

<1>無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理
無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理に用いられる無機フッ素化合物としては、金属フッ化物が好適に挙げられる。
具体的には、例えば、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸カリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸アンモニウム、フッ化チタン酸アンモニウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸、ヘキサフルオロケイ酸、フッ化ニッケル、フッ化鉄、フッ化リン酸、フッ化リン酸アンモニウムが挙げられる。なかでも、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸が好ましい。
<1> Sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound As the inorganic fluorine compound used for the sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, a metal fluoride is preferably exemplified.
Specifically, for example, sodium fluoride, potassium fluoride, calcium fluoride, magnesium fluoride, sodium fluoride zirconate, potassium fluoride zirconate, sodium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, zircon fluoride Ammonium acid, ammonium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, zirconate fluoride, titanate fluoride, hexafluorosilicic acid, nickel fluoride, iron fluoride, phosphor fluoride, ammonium fluoride phosphate It is done. Of these, sodium fluorinated zirconate, sodium fluorinated titanate, fluorinated zirconic acid, and fluorinated titanic acid are preferable.

水溶液中の無機フッ素化合物の濃度は、陽極酸化皮膜のマイクロポアの封孔を十分に行う点で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.05質量%以上であるのがより好ましく、また、耐汚れ性の点で、1質量%以下であるのが好ましく、0.5質量%以下であるのがより好ましい。   The concentration of the inorganic fluorine compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more, from the viewpoint of sufficiently sealing the micropores of the anodized film. Further, in terms of stain resistance, it is preferably 1% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or less.

無機フッ素化合物を含有する水溶液は、さらに、リン酸塩化合物を含有するのが好ましい。リン酸塩化合物を含有すると、陽極酸化皮膜の表面の親水性が向上するため、機上現像性またはガム現像性および耐汚れ性を向上させることができる。   It is preferable that the aqueous solution containing the inorganic fluorine compound further contains a phosphate compound. When the phosphate compound is contained, the hydrophilicity of the surface of the anodized film is improved, so that the on-machine developability or gum developability and stain resistance can be improved.

リン酸塩化合物としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の金属のリン酸塩が好適に挙げられる。
具体的には、例えば、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸一アンモニウム、リン酸一カリウム、リン酸一ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸カルシウム、リン酸水素アンモニウムナトリウム、リン酸水素マグネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸第一鉄、リン酸第二鉄、リン酸二水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸鉛、リン酸二アンモニウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム、亜リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウムが挙げられる。なかでも、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウムが好ましい。
無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の組み合わせは、特に限定されないが、水溶液が、無機フッ素化合物として、少なくともフッ化ジルコン酸ナトリウムを含有し、リン酸塩化合物として、少なくともリン酸二水素ナトリウムを含有するのが好ましい。
Suitable examples of the phosphate compound include phosphates of metals such as alkali metals and alkaline earth metals.
Specifically, for example, zinc phosphate, aluminum phosphate, ammonium phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, monoammonium phosphate, monopotassium phosphate, monosodium phosphate, dihydrogen phosphate Potassium, dipotassium hydrogen phosphate, calcium phosphate, sodium ammonium hydrogen phosphate, magnesium hydrogen phosphate, magnesium phosphate, ferrous phosphate, ferric phosphate, sodium dihydrogen phosphate, sodium phosphate, hydrogen phosphate Disodium, lead phosphate, diammonium phosphate, calcium dihydrogen phosphate, lithium phosphate, phosphotungstic acid, phosphotungstic acid, sodium phosphotungstate, ammonium phosphomolybdate, sodium phosphomolybdate, sodium phosphite , Tripolyphosphate Potassium, and sodium pyrophosphate. Of these, sodium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, and dipotassium hydrogen phosphate are preferable.
The combination of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is not particularly limited, but the aqueous solution contains at least sodium zirconate fluoride as the inorganic fluorine compound and contains at least sodium dihydrogen phosphate as the phosphate compound. Is preferred.

水溶液中のリン酸塩化合物の濃度は、機上現像性またはガム現像性および耐汚れ性の向上の点で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.1質量%以上であるのがより好ましく、また、溶解性の点で、20質量%以下であるのが好ましく、5質量%以下であるのがより好ましい。   The concentration of the phosphate compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, and 0.1% by mass or more in terms of improving on-press developability or gum developability and stain resistance. In view of solubility, it is preferably 20% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less.

水溶液中の各化合物の割合は、特に限定されないが、無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の質量比が、1/200〜10/1であるのが好ましく、1/30〜2/1であるのがより好ましい。
また、水溶液の温度は、20℃以上であるのが好ましく、40℃以上であるのがより好ましく、また、100℃以下であるのが好ましく、80℃以下であるのがより好ましい。
また、水溶液は、pH1以上であるのが好ましく、pH2以上であるのがより好ましく、また、pH11以下であるのが好ましく、pH5以下であるのがより好ましい。
無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理の方法は、特に限定されず、例えば、浸漬法、スプレー法が挙げられる。これらは単独で1回または複数回用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
なかでも、浸漬法が好ましい。浸漬法を用いて処理する場合、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
The ratio of each compound in the aqueous solution is not particularly limited, but the mass ratio of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is preferably 1/200 to 10/1, and preferably 1/30 to 2/1. Is more preferable.
The temperature of the aqueous solution is preferably 20 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or lower.
The aqueous solution preferably has a pH of 1 or more, more preferably has a pH of 2 or more, preferably has a pH of 11 or less, and more preferably has a pH of 5 or less.
The method for sealing with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound is not particularly limited, and examples thereof include an immersion method and a spray method. These may be used alone or in combination, or may be used in combination of two or more.
Of these, the dipping method is preferred. When the treatment is performed using the dipping method, the treatment time is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, and preferably 100 seconds or shorter, and 20 seconds or shorter. More preferred.

<2>水蒸気による封孔処理
水蒸気による封孔処理は、例えば、加圧または常圧の水蒸気を連続的にまたは非連続的に、陽極酸化皮膜に接触させる方法が挙げられる。
水蒸気の温度は、80℃以上であるのが好ましく、95℃以上であるのがより好ましく、また、105℃以下であるのが好ましい。
水蒸気の圧力は、(大気圧−50mmAq)から(大気圧+300mmAq)までの範囲(1.008×105 〜1.043×105 Pa)であるのが好ましい。
また、水蒸気を接触させる時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
<2> Sealing treatment with water vapor Sealing treatment with water vapor includes, for example, a method in which pressurized or normal pressure water vapor is brought into contact with the anodized film continuously or discontinuously.
The temperature of the water vapor is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 95 ° C. or higher, and preferably 105 ° C. or lower.
The water vapor pressure is preferably in the range (1.008 × 10 5 to 1.043 × 10 5 Pa) from (atmospheric pressure−50 mmAq) to (atmospheric pressure + 300 mmAq).
Further, the time for which the water vapor is contacted is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, 100 seconds or shorter, more preferably 20 seconds or shorter.

<3>熱水による封孔処理
熱水による封孔処理としては、例えば、陽極酸化皮膜を形成させたアルミニウム板を熱水に浸漬させる方法が挙げられる。
熱水は、無機塩(例えば、リン酸塩)または有機塩を含有していてもよい。
熱水の温度は、80℃以上であるのが好ましく、95℃以上であるのがより好ましく、また、100℃以下であるのが好ましい。
また、熱水に浸漬させる時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
<3> Sealing treatment with hot water Examples of the sealing treatment with hot water include a method of immersing an aluminum plate on which an anodized film is formed in hot water.
The hot water may contain an inorganic salt (for example, phosphate) or an organic salt.
The temperature of the hot water is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 95 ° C. or higher, and preferably 100 ° C. or lower.
Further, the time of immersion in hot water is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, more preferably 100 seconds or shorter, and even more preferably 20 seconds or shorter.

本発明において、好ましい親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号および同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液で浸漬処理または電解処理する。そのほかに、特公昭36−22063号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号および同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。   In the present invention, preferred hydrophilization treatments include US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734, and 3,902,734. There is an alkali metal silicate method as described in the book. In this method, the support is subjected to immersion treatment or electrolytic treatment with an aqueous solution such as sodium silicate. In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinylphosphonic acid as described in each specification of No.272.

支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。この範囲で、画像記録層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。   The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the image recording layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.

(バックコート層)
支持体に表面処理を施した後または中間層を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコート層を設けることができる。
バックコート層としては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。なかでも、Si(OCH、Si(OC、Si(OC、Si(OC等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
(Back coat layer)
After the surface treatment is performed on the support or the intermediate layer is formed, a backcoat layer can be provided on the back surface of the support, if necessary.
Examples of the back coat layer include hydrolysis and polycondensation of organic polymer compounds described in JP-A-5-45885, organic metal compounds or inorganic metal compounds described in JP-A-6-35174, and the like. Preferable examples include a coating layer made of a metal oxide. Of these, the use of silicon alkoxy compounds such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4 is inexpensive. It is preferable in that it is easily available.

〔製版方法〕
本発明の平版印刷版原版の製版方法には2通りの態様がある。1つ目は機上現像であり、2つ目はガム現像である。
[Plate making method]
There are two modes for the plate making method of the lithographic printing plate precursor according to the invention. The first is on-press development and the second is gum development.

(機上現像方法)
平版印刷版原版を画像露光する工程と、露光後の平版印刷版原版になんらの現像処理を施すことなく、印刷インキと湿し水とを供給して、印刷する印刷工程とを有し、該印刷工程の途上において平版印刷版原版の未露光部分が除去されることを特徴とする。画像様の露光は、まず、平版印刷版原版を印刷機に装着して行ってもよく、露光後の平版印刷版原版を印刷機に装着してもよく、その後、該印刷機を用い、印刷インキと湿し水とを供給してそのまま印刷することにより、印刷途上の初期の段階で機上現像処理、すなわち、未露光領域の画像記録層が除去され、それに伴って親水性支持体表面が露出して湿し水受容領域となり、印刷することができる。
以下、さらに詳細に説明する。
(On-press development method)
A step of performing image exposure of the lithographic printing plate precursor, and a printing step of printing by supplying printing ink and dampening water without performing any development treatment on the exposed lithographic printing plate precursor, An unexposed portion of the lithographic printing plate precursor is removed during the printing process. The imagewise exposure may be performed by first mounting the lithographic printing plate precursor on a printing machine, or the exposed lithographic printing plate precursor may be mounted on a printing machine, and then printing using the printing machine. By supplying ink and fountain solution and printing as it is, on-machine development processing at the initial stage of printing, that is, the image recording layer in the unexposed area is removed, and accordingly the hydrophilic support surface is formed. Exposed to become dampening water receiving area and can be printed.
This will be described in more detail below.

本発明において画像露光に用いられる光源としては、レーザーが好ましい。本発明に用いられるレーザーは、特に限定されないが、波長760〜1200nmの赤外線を照射する固体レーザーおよび半導体レーザーなどが好適に挙げられる。
赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10〜300mJ/cmであるのが好ましい。レーザーにおいては、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いるのが好ましい。
In the present invention, the light source used for image exposure is preferably a laser. Although the laser used for this invention is not specifically limited, The solid laser and semiconductor laser etc. which irradiate infrared rays with a wavelength of 760-1200 nm are mentioned suitably.
Regarding the infrared laser, the output is preferably 100 mW or more, the exposure time per pixel is preferably within 20 microseconds, and the irradiation energy amount is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 . In the laser, it is preferable to use a multi-beam laser device in order to shorten the exposure time.

露光された平版印刷版原版は、印刷機の版胴に装着される。レーザー露光装置付きの印刷機の場合は、平版印刷版原版を印刷機の版胴に装着したのち画像露光される。   The exposed lithographic printing plate precursor is mounted on a plate cylinder of a printing press. In the case of a printing press equipped with a laser exposure device, image exposure is performed after a lithographic printing plate precursor is mounted on a plate cylinder of the printing press.

平版印刷版原版を赤外線レーザーで画像様に露光した後、湿式現像処理工程等の現像処理工程を経ることなく湿し水と印刷インキとを供給して印刷すると、画像記録層の露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する印刷インキ受容部を形成する。一方、未露光部においては、供給された湿し水および/または印刷インキによって、未硬化の画像記録層が溶解または分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。その結果、湿し水は露出した親水性の表面に付着し、印刷インキは露光領域の画像記録層に着肉して印刷が開始される。   After exposing the lithographic printing plate precursor imagewise with an infrared laser and supplying it with dampening water and printing ink without going through a development process such as a wet development process, the exposed part of the image recording layer The image recording layer cured by exposure forms a printing ink receiving portion having an oleophilic surface. On the other hand, in the unexposed area, the uncured image recording layer is removed by dissolution or dispersion by the supplied dampening water and / or printing ink, and a hydrophilic surface is exposed in that area. As a result, the fountain solution adheres to the exposed hydrophilic surface, and the printing ink is deposited on the image recording layer in the exposed area and printing is started.

ここで、最初に版面に供給されるのは、湿し水でもよく、印刷インキでもよいが、湿し水が除去された画像記録層成分によって汚染されることを防止する点で、最初に印刷インキを供給するのが好ましい。湿し水および印刷インキとしては、通常の平版印刷用の湿し水と印刷インキが用いられる。
このようにして、平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。
Here, dampening water or printing ink may be supplied to the printing plate first, but printing is first performed in order to prevent the dampening water from being contaminated by the removed image recording layer components. It is preferable to supply ink. As the fountain solution and printing ink, normal lithographic fountain solution and printing ink are used.
In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on an offset printing machine and used as it is for printing a large number of sheets.

(ガム現像方法)
画像様露光後、ガム液を用いて未露光部画像記録層の除去(現像)を行ってもよい。その後印刷に用いられる。本発明において、ガム液とは親水性樹脂を含有する水溶液を意味する。親水性樹脂を含有させることにより、未露光部画像記録層が除去され露出した親水性支持体を保護したり、画像部を保護したりすることが可能である。
ガム液には一般的に不感脂化作用の強いアラビアガムがしばしば使われ、アラビアガムの約15〜20%の水溶液をガム液とすることが多い。アラビアガム以外にも種々の水溶性樹脂が不感脂化剤として用いられる。例えば、デキストリン、ステラビック、ストラクタン、アルギン酸塩類、ポリアクリル酸塩類、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、カルボキシアルキルセルロース塩、大豆のオカラから抽出した水溶性多糖類が好ましく、また、プルランまたはプルラン誘導体、ポリビニルアルコールも好ましい。
(Gum development method)
After imagewise exposure, the unexposed area image recording layer may be removed (developed) using a gum solution. It is then used for printing. In the present invention, the gum solution means an aqueous solution containing a hydrophilic resin. By including a hydrophilic resin, it is possible to protect the exposed hydrophilic support from which the unexposed image recording layer has been removed, or to protect the image area.
Generally gum arabic having a strong desensitizing action is often used for the gum solution, and an aqueous solution of about 15 to 20% of gum arabic is often used as the gum solution. In addition to gum arabic, various water-soluble resins are used as a desensitizing agent. For example, water-soluble polysaccharides extracted from dextrin, steravic, structan, alginates, polyacrylates, hydroxyethylcellulose, polyvinylpyrrolidone, polyacrylamide, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, hydroxymethylcellulose, carboxyalkylcellulose salts, soybean okara In addition, pullulan or pullulan derivatives and polyvinyl alcohol are also preferable.

さらに、変成澱粉誘導体としてブリティッシュガム等の焙焼澱粉、酵素デキストリンおよびシャーディンガーデキストリン等の酵素変成デキストリン、可溶化澱粉に示される酸化澱粉、変成アルファー化澱粉および無変成アルファー化澱粉等のアルファー化澱粉、燐酸澱粉、脂肪澱粉、硫酸澱粉、硝酸澱粉、キサントゲン酸澱粉およびカルバミン酸澱粉等のエステル化澱粉、カルボキシアルキル澱粉、ヒドロキシアルキル澱粉、スルフォアルキル澱粉、シアノエチル澱粉、アリル澱粉、ベンジル澱粉、カルバミルエチル澱粉、ジアルキルアミノ澱粉等のエーテル化澱粉、メチロール架橋澱粉、ヒドロキシアルキル架橋澱粉、燐酸架橋澱粉、ジカルボン酸架橋澱粉等の架橋澱粉、澱粉ポリアクリロアミド共重合体、澱粉ポリアクリル酸共重合体、澱粉ポリ酢酸ビニル共重合体、澱粉ポリアクリロニトリル共重合体、カオチン性澱粉ポリアクリル酸エステル共重合体、カオチン性澱粉ビニルポリマー共重合体、澱粉ポリスチレンマレイン酸共重合体、澱粉ポリエチレンオキサイド共重合体、澱粉ポリプロピレン共重合体等の澱粉グラフト重合体が好ましい。   Further, as modified starch derivatives, roasted starch such as British gum, enzyme modified dextrins such as enzyme dextrin and shardinger dextrin, oxidized starch shown in solubilized starch, modified starch pregelatinized and unmodified gelatinized starch , Phosphate starch, fat starch, sulfate starch, nitrate starch, xanthate starch, carbamic acid starch and other esterified starch, carboxyalkyl starch, hydroxyalkyl starch, sulfoalkyl starch, cyanoethyl starch, allyl starch, benzyl starch, carbamyl Etherified starch such as ethyl starch and dialkylamino starch, methylol cross-linked starch, hydroxyalkyl cross-linked starch, cross-linked starch such as phosphoric acid cross-linked starch and dicarboxylic acid cross-linked starch, starch polyacrylamide copolymer, starch polyacrylic acid copolymer Starch polyvinyl acetate copolymer, starch polyacrylonitrile copolymer, chaotic starch polyacrylate copolymer, chaotic starch vinyl polymer copolymer, starch polystyrene maleic acid copolymer, starch polyethylene oxide copolymer, Starch graft polymers such as starch polypropylene copolymers are preferred.

また天然高分子化合物としては、かんしょ澱粉、ばれいしょ澱粉、タピオカ澱粉、小麦澱粉およびコーンスターチ等の澱粉類、カラジーナン、ラミナラン、海ソウマンナン、ふのり、アイリッシュモス、寒天およびアルギン酸ナトリウム等の藻類から得られるもの、トロロアオイ、マンナン、クインスシード、ペクチン、トラガカントガム、カラヤガム、キサンチンガム、グアービンガム、ローカストビンガム、キャロブガム、ベンゾインガム等の植物性粘質物、デキストラン、グルカン、レバン等のホモ多糖ならびにサクシノグルカンおよびサンタンガム等のヘトロ多糖等の微生物粘質物、にかわ、ゼラチン、カゼインおよびコラーゲン等の蛋白質が好ましい。   Natural polymers include starches such as candy starch, potato starch, tapioca starch, wheat starch and corn starch, carrageenan, laminaran, seaweed mannan, funari, Irish moss, agar and algae such as sodium alginate. , Plant mucilage such as troroaoy, mannan, quince seed, pectin, tragacanth gum, karaya gum, xanthine gum, guar bin gum, locust bin gum, carob gum, benzoin gum, homopolysaccharides such as dextran, glucan, levan and succinoglucan and santangum Preferred are microbial mucilages such as hetropolysaccharides, proteins such as glue, gelatin, casein and collagen.

これらの水溶性樹脂は2種以上組み合わせても使用でき、ガム液中に好ましくは1〜50質量%、より好ましくは3〜30質量%の範囲で含有させることができる。   These water-soluble resins can be used in combination of two or more, and can be contained in the gum solution in an amount of preferably 1 to 50% by mass, more preferably 3 to 30% by mass.

本発明に使用されるガム液には、上記の不感脂化剤の他にpH調整剤、界面活性剤、防腐剤、防黴剤、親油性物質、湿潤剤、キレート剤、消泡剤などを含有させておくことができる。 The gum solution used in the present invention contains a pH adjuster, surfactant, preservative, antifungal agent, lipophilic substance, wetting agent, chelating agent, antifoaming agent, etc. in addition to the above desensitizing agent. It can be contained.

ガム液はpH3〜12の範囲で使用することが有利であり、そのため一般にpH調整剤が添加されている。pHを中性〜弱酸性にするためには一般的にガム液中に鉱酸、有機酸または無機塩等を添加し調節する。その添加量は0.01〜2質量%である。例えば鉱酸としては硝酸、硫酸、リン酸、メタリン酸等が挙げられる。有機酸としては酢酸、蓚酸、マロン酸、p−トルエンスルホン酸、レブリン酸、フィチン酸、有機ホスホン酸、またグリシン、α−アラニン、β−アラニンなどのアミノ酸等が挙げられる。無機塩としては硝酸マグネシウム、第1リン酸ナトリウム、第2リン酸ナトリウム、硫酸ニッケル、ヘキサメタリン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム等が挙げられる。鉱酸、有機酸または無機塩等の少なくとも1種もしくは2種以上を併用してもよい。また、pHを中性〜弱アルカリにするためには、水酸化ナトリウムなどによりpHを調整することができる。   The gum solution is advantageously used in a pH range of 3 to 12, and therefore a pH adjuster is generally added. In order to make the pH neutral to weakly acidic, a mineral acid, organic acid, inorganic salt or the like is generally added to the gum solution and adjusted. The addition amount is 0.01-2 mass%. For example, the mineral acid includes nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, metaphosphoric acid and the like. Examples of the organic acid include acetic acid, succinic acid, malonic acid, p-toluenesulfonic acid, levulinic acid, phytic acid, organic phosphonic acid, and amino acids such as glycine, α-alanine, and β-alanine. Inorganic salts include magnesium nitrate, primary sodium phosphate, secondary sodium phosphate, nickel sulfate, sodium hexametaphosphate, sodium tripolyphosphate, and the like. You may use together at least 1 sort (s) or 2 or more types, such as a mineral acid, an organic acid, or an inorganic salt. In order to make the pH neutral to weakly alkaline, the pH can be adjusted with sodium hydroxide or the like.

本発明のガム液に含有させる界面活性剤としては、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤およびノニオン界面活性剤が挙げられる。アニオン界面活性剤としては脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、α−オレフィンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。これらのなかでもジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類およびアルキルナフタレンスルホン酸塩類およびα−オレフィンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩類、が特に好ましく用いられる。   Examples of the surfactant contained in the gum solution of the present invention include anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and nonionic surfactants. Anionic surfactants include fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, α-olefin sulfonates, dialkyl sulfosuccinates, alkyl diphenyl ether disulfonates, linear alkyl benzene sulfonates, branched Chain alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, sodium N-methyl-N-oleyl taurate, disodium N-alkylsulfosuccinate monoamide Salts, petroleum sulfonates, sulfated castor oil, sulfated beef tallow oil, fatty acid alkyl ester sulfate esters, alkyl sulfate esters, polyoxy Ethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene Examples thereof include alkyl phenyl ether phosphate esters, partially saponified products of styrene-maleic anhydride copolymers, partially saponified products of olefin-maleic anhydride copolymers, naphthalene sulfonate formalin condensates, and the like. Among these, dialkyl sulfosuccinates, alkyl sulfate esters, alkyl naphthalene sulfonates, α-olefin sulfonates, and alkyl diphenyl ether disulfonates are particularly preferably used.

カチオン界面活性剤としては、アルキルアミン塩類、第4級アンモニウム塩類等が用いられる。   As the cationic surfactant, alkylamine salts, quaternary ammonium salts and the like are used.

両性界面活性剤としては、アルキルカルボキシベタイン類、アルキルイミダゾリン類、アルキルアミノカルボン酸類等が用いられる。   As the amphoteric surfactant, alkyl carboxybetaines, alkyl imidazolines, alkylaminocarboxylic acids and the like are used.

ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド、ポリプロピレングリコールの分子量200〜5000、トリメチロールプロパン、グリセリンまたはソルビトールのポリオキシエチレンまたはポリオキシプロピレンの付加物、アセチレングリコール系等が挙げられる。又、弗素系、シリコン系のノニオン界面活性剤も同様に使用することができる。   Nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ether, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters , Pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol monofatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters , Polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanol Mido, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamine, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polypropylene glycol molecular weight 200-5000, trimethylolpropane, glycerin or sorbitol poly Examples include adducts of oxyethylene or polyoxypropylene, and acetylene glycols. Fluorine-based and silicon-based nonionic surfactants can also be used in the same manner.

該界面活性剤は二種以上併用することができる。使用量は特に限定する必要はないが、好ましい範囲としてはガム液の全質量に基づいて0.01〜20質量%が適当であり、好ましくは0.05〜10質量%である。   Two or more surfactants can be used in combination. The amount used is not particularly limited, but a preferable range is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 10% by mass based on the total mass of the gum solution.

また、防腐剤としては繊維、木材加工、食品、医薬、化粧品、農薬分野等で使用されている公知の物が使用できる。例えば第4級アンモニウム塩、一価フェノール誘導体、二価フェノール誘導体、多価フェノール誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾロピリミジン誘導体、一価ナフトール、カーボネート類、スルホン誘導体、有機スズ化合物、シクロペンタン誘導体、フェニル誘導体、フェノールエーテル誘導体、フェノールエステル誘導体、ヒドロキシルアミン誘導体、ニトリル誘導体、ナフタリン類、ピロール誘導体、キノリン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、第2級アミン、1,3,5トリアジン誘導体、チアジアゾール誘導体、アニリド誘導体、ピロール誘導体、ハロゲン誘導体、二価アルコール誘導体、ジチオール類、シアン酸誘導体、チオカルバミド酸誘導体、ジアミン誘導体、イソチアゾール誘導体、一価アルコール、飽和アルデヒド、不飽和モノカルボン酸、飽和エーテル、不飽和エーテル、ラクトン類、アミノ酸誘導体、ヒダントイン、シアヌール酸誘導体、グアニジン誘導体、ピリジン誘導体、飽和モノカルボン酸、ベンゼンカルボン酸誘導体、ヒドロキシカルボン酸誘導体、ビフェニル、ヒドロキサム酸誘導体、芳香族アルコール、ハロゲノフェノール誘導体、ベンゼンカルボン酸誘導体、メルカプトカルボン酸誘導体、第4級アンモニウム塩誘導体、トリフェニルメタン誘導体、ヒノキチオール、フラン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、イソキノリン誘導体、アルシン誘導体、チオカルバミン酸誘導体、リン酸エステル、ハロゲノベンゼン誘導体、キノン誘導体、ベンゼンスルホン酸誘導体、モノアミン誘導体、有機リン酸エステル、ピペラジン誘導体、フェナジン誘導体、ピリミジン誘導体、チオファネート誘導体、イミダゾリン誘導体、イソオキサゾール誘導体、アンモニウム塩誘導体等の公知の防腐剤が使用できる。特に好ましい防腐剤として、ピリジンチオール−1−オキシドの塩、サリチル酸およびその塩、1,3,5−トリスヒドロキシエチルヘキサヒドロ−S−トリアジン、1,3,5−トリスヒドロキシメチルヘキサヒドロ−S−トリアジン、1,2−ベンズイソチアゾリン−3−オン、5−クロル−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン、2−ブロモ−2−ニトロ−1,3−プロパンジオールが挙げられる。好ましい添加量は、細菌、カビ、酵母等に対して、安定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、酵母の種類によっても異なるが、使用時のガム液に対して0.01〜4質量%の範囲が好ましく、また種々のカビ、細菌に対して効力のあるように2種以上の防腐剤を併用することが好ましい。   As the preservative, known materials used in the fields of fiber, wood processing, food, medicine, cosmetics, agricultural chemicals and the like can be used. For example, quaternary ammonium salts, monohydric phenol derivatives, dihydric phenol derivatives, polyhydric phenol derivatives, imidazole derivatives, pyrazolopyrimidine derivatives, monovalent naphthols, carbonates, sulfone derivatives, organotin compounds, cyclopentane derivatives, phenyl derivatives , Phenol ether derivatives, phenol ester derivatives, hydroxylamine derivatives, nitrile derivatives, naphthalenes, pyrrole derivatives, quinoline derivatives, benzothiazole derivatives, secondary amines, 1,3,5 triazine derivatives, thiadiazole derivatives, anilide derivatives, pyrrole derivatives , Halogen derivatives, dihydric alcohol derivatives, dithiols, cyanic acid derivatives, thiocarbamic acid derivatives, diamine derivatives, isothiazole derivatives, monohydric alcohols, saturated aldehydes, Japanese monocarboxylic acid, saturated ether, unsaturated ether, lactone, amino acid derivative, hydantoin, cyanuric acid derivative, guanidine derivative, pyridine derivative, saturated monocarboxylic acid, benzenecarboxylic acid derivative, hydroxycarboxylic acid derivative, biphenyl, hydroxamic acid derivative , Aromatic alcohols, halogenophenol derivatives, benzenecarboxylic acid derivatives, mercaptocarboxylic acid derivatives, quaternary ammonium salt derivatives, triphenylmethane derivatives, hinokitiol, furan derivatives, benzofuran derivatives, acridine derivatives, isoquinoline derivatives, arsine derivatives, thiocarbamine Acid derivatives, phosphate esters, halogenobenzene derivatives, quinone derivatives, benzenesulfonic acid derivatives, monoamine derivatives, organophosphate esters, piperazine derivatives , Phenazine derivatives, pyrimidine derivatives, thiophanate derivatives, imidazoline derivatives, isoxazole derivatives, known preservatives such as ammonium salt derivatives can be used. Particularly preferred preservatives include pyridinethiol-1-oxide salts, salicylic acid and its salts, 1,3,5-trishydroxyethylhexahydro-S-triazine, 1,3,5-trishydroxymethylhexahydro-S- Examples include triazine, 1,2-benzisothiazolin-3-one, 5-chloro-2-methyl-4-isothiazolin-3-one, and 2-bromo-2-nitro-1,3-propanediol. The preferred addition amount is an amount that exerts stability against bacteria, molds, yeasts, etc., and varies depending on the types of bacteria, molds, yeasts, but 0.01 to The range of 4% by mass is preferable, and it is preferable to use two or more preservatives in combination so as to be effective against various molds and bacteria.

ガム液には親油性物質を含有させておくこともできる。好ましい親油性物質には、例えばオレイン酸、ラノリン酸、吉草酸、ノニル酸、カプリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸などのような炭素数が5〜25の有機カルボン酸、ひまし油などが含まれる。これらの親油性物質は単独もしくは2以上を組み合わせて使用することができる。ガム液中に含ませる親油性物質は、その総質量に対して0.005〜10質量%、より好ましくは0.05〜5質量%の範囲である。   The gum solution can also contain a lipophilic substance. Preferred lipophilic substances include organic carboxylic acids having 5 to 25 carbon atoms such as oleic acid, lanolinic acid, valeric acid, nonylic acid, capric acid, myristic acid, palmitic acid, castor oil and the like. These lipophilic substances can be used alone or in combination of two or more. The lipophilic substance contained in the gum solution is in the range of 0.005 to 10% by mass, more preferably 0.05 to 5% by mass, based on the total mass.

その他、ガム液には必要により湿潤剤としてグリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジグリセリン等を添加することができる。これらの湿潤剤は単独で用いてもよいが、2種以上併用してもよい。これらの湿潤剤の好ましい使用量としては0.1〜5質量%である。   In addition, glycerin, ethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, butylene glycol, hexylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, diglycerin, etc. may be added as a wetting agent to the gum solution as necessary. it can. These wetting agents may be used alone or in combination of two or more. The preferred use amount of these wetting agents is 0.1 to 5% by mass.

また、ガム液にはキレート化合物を添加してもよい。通常、ガム液は通常濃縮液として市販され、使用時に水道水、井戸水等を加えて希釈して使用される。この希釈する水道水や井戸水に含まれているカルシウムイオン等が印刷に悪影響を与え、印刷物を汚れ易くする原因となることもあるので、キレート化合物を添加して、上記欠点を解消することができる。好ましいキレート化合物としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類あるいはホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げることが出来る。上記キレート剤のナトリウム塩、カリウム塩の代りに有機アミンの塩も有効である。これらキレート剤はガム液組成中に安定に存在し、印刷性を阻害しないものが選ばれる。添加量としては使用時のガム液に対して0.001〜1.0質量%が適当である。   A chelate compound may be added to the gum solution. Usually, the gum solution is usually marketed as a concentrated solution, and is used after being diluted by adding tap water, well water or the like at the time of use. Calcium ions contained in the diluted tap water and well water may adversely affect printing and may cause the printed matter to become dirty. Therefore, the above disadvantages can be eliminated by adding a chelate compound. . Preferred chelate compounds include, for example, ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; diethylenetriaminepentaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; triethylenetetraminehexaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt, hydroxyethylethylenediaminetrimethyl Acetic acid, potassium salt, sodium salt; nitrilotriacetic acid, sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, potassium salt, sodium salt; aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt, sodium Examples thereof include organic phosphonic acids such as salts and phosphonoalkanetricarboxylic acids. Organic amine salts are also effective in place of the sodium and potassium salts of the chelating agents. These chelating agents are selected so that they are stably present in the gum solution composition and do not impair the printability. The addition amount is suitably 0.001 to 1.0 mass% with respect to the gum solution at the time of use.

また、ガム液には消泡剤を添加することもでき、特にシリコン消泡剤が好ましい。その中で乳化分散型および可溶化型等がいずれも使用できる。好ましくは使用時のガム液に対して0.001〜1.0質量%の範囲が最適である。   An antifoaming agent can be added to the gum solution, and a silicon antifoaming agent is particularly preferable. Among them, an emulsified dispersion type and a solubilized type can be used. Preferably, the range of 0.001 to 1.0 mass% is optimal with respect to the gum solution at the time of use.

ガム液の残余の成分は水である。ガム液は、使用時よりも水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に水で希釈するようにしておくことが運搬上有利である。この場合の濃縮度は各成分が分離や析出を起こさない程度が適当である。ガム液は乳化分散型として調製してもよく、その油相としては有機溶剤が用いられ、又、前述したような界面活性剤の助けを借りて、可溶化型(乳化型)にしてもよい。   The remaining component of the gum solution is water. It is advantageous in terms of transportation that the gum solution is a concentrated solution in which the water content is less than at the time of use, and is diluted with water at the time of use. In this case, the degree of concentration is appropriate such that each component does not cause separation or precipitation. The gum solution may be prepared as an emulsified dispersion type, an organic solvent is used as its oil phase, and it may be made into a solubilized type (emulsified type) with the aid of a surfactant as described above. .

有機溶剤としては、20℃で水に対する溶解性が5質量%以下で沸点160℃以上の有機溶剤であることが好ましい。例えば、ジブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジ−n−オクチルフタレート、ジ(2−エチルヘキシル)フタレート、ジノニルフタレート、ジデシルフタレート、ジラウリルフタレート、ブチルベンジルフタレートなどのフタル酸ジエステル剤、例えば、ジオクチルアジペート、ブチルグリコールアジペート、ジオクチルアゼレート、ジブチルセバケート、ジ(2−エチルヘキシル)セバケート、ジオクチルセバケートなどの脂肪族二塩基酸エステル類、例えば、エポキシ化大豆油などのエポキシ化トリグリセリド類、例えば、トリクレジルホスフェート、トリオクチルフォスフェート、トリスクロルエチルフォスフェートなどの燐酸エステル類、例えば、安息香酸ベンジルなどの安息香酸エステル類などの凝固点が15℃以下で、1気圧下での沸点が300℃以上の可塑剤が含まれる。   The organic solvent is preferably an organic solvent having a solubility in water at 20 ° C. of 5% by mass or less and a boiling point of 160 ° C. or more. For example, phthalic acid diester agents such as dibutyl phthalate, diheptyl phthalate, di-n-octyl phthalate, di (2-ethylhexyl) phthalate, dinonyl phthalate, didecyl phthalate, dilauryl phthalate, butyl benzyl phthalate, etc. , Aliphatic dibasic esters such as butyl glycol adipate, dioctyl azelate, dibutyl sebacate, di (2-ethylhexyl) sebacate, dioctyl sebacate, for example, epoxidized triglycerides such as epoxidized soybean oil, The freezing point of phosphoric acid esters such as cresyl phosphate, trioctyl phosphate, trischlor ethyl phosphate, for example, benzoic acid esters such as benzyl benzoate is 15 ° C. or less, Boiling point at atmospheric pressure include 300 ° C. or more plasticizers.

その他アルコール系としては、2−オクタノール、2−エチルヘキサノール、ノナノール、n−デカノール、ウンデカノール、n−ドデカノール、トリメチルノニルアルコール、テトラデカノール、ベンジルアルコール等が挙げられる。グリコール系としてはエチレングリコールイソアミルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールベンジルエーテルエチレングリコールヘキシルエーテル、オクチレングリコール等が挙げられる。   Examples of other alcohols include 2-octanol, 2-ethylhexanol, nonanol, n-decanol, undecanol, n-dodecanol, trimethylnonyl alcohol, tetradecanol, and benzyl alcohol. Examples of glycols include ethylene glycol isoamyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol benzyl ether, ethylene glycol hexyl ether, and octylene glycol.

上記化合物を選択するときの条件としては臭気が特に挙げられる。これら溶剤の使用量の好ましい範囲は版面保護剤の0.1〜5質量%でより好ましい範囲は0.5〜3質量%である。これらの溶剤は1種もしくは2種以上併用することもできる。   Odor is particularly mentioned as a condition when selecting the compound. A preferable range of the amount of these solvents used is 0.1 to 5% by mass of the plate surface protecting agent, and a more preferable range is 0.5 to 3% by mass. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

本発明に用いられるガム液は、水相を温度40℃±5℃に調製し、高速攪拌し、水相の中に調製した油相をゆっくり滴下し充分攪拌後、圧力式のホモジナイザーを通して乳化 分散することによって作製される。   The gum solution used in the present invention is prepared by preparing a water phase at a temperature of 40 ° C. ± 5 ° C., stirring at a high speed, slowly dropping the prepared oil phase into the water phase, stirring sufficiently, and then emulsifying and dispersing through a pressure type homogenizer. It is produced by doing.

本発明の製版方法としては、上記のガム液を用いた未露光部画像記録層の除去工程に続いて、水洗工程や、さらに引き続いてガム液による非画像部の不感脂化工程、を適宜行うことが出来る。   As the plate making method of the present invention, following the removal process of the unexposed area image recording layer using the above-described gum solution, a water washing process and further a desensitization process of the non-image area with the gum liquid are appropriately performed. I can do it.

本発明のガム現像処理は、ガム液などの供給手段および擦り部材を備えた自動処理機により好適に実施することができる。自動処理機としては、例えば、画像記録後の平版印刷版原版を搬送しながら擦り処理を行う、特開2006−235227号公報等に記載の自動処理機等が挙げられる。なかでも、擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動処理機が特に好ましい。   The gum development processing of the present invention can be suitably carried out by an automatic processor equipped with a supply means such as a gum solution and a rubbing member. Examples of the automatic processor include an automatic processor described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-235227 that performs rubbing while conveying a lithographic printing plate precursor after image recording. Among these, an automatic processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable.

本発明に好ましく使用できる回転ブラシロールは、画像部の傷つき難さ、さらには、平版印刷版原版支持体の腰の強さ等を考慮して適宜選択することができる。
上記回転ブラシロールとしては、ブラシ素材をプラスチックまたは金属のロールに植え付けて形成された公知のものが使用できる。例えば、特開昭58−159533号公報や、特開平3−100554号公報記載のものや、実公昭62−167253号公報に記載されているような、ブラシ素材を列状に植え込んだ金属またはプラスチックの溝型材を芯となるプラスチックまたは金属のロールに隙間なく放射状に巻き付けたブラシロールが使用できる。
また、ブラシ素材としては、プラスチック繊維(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系、ナイロン6.6、ナイロン6.10等のポリアミド系、ポリアクリロニトリル、ポリ(メタ)アクリル酸アルキル等のポリアクリル系、および、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系の合成繊維)を使用することができ、例えば、繊維の毛の直径は、20〜400μm、毛の長さは、5〜30mmのものが好適に使用できる。
さらに、回転ブラシロールの外径は、30〜200mmが好ましく、版面を擦るブラシの先端の周速は、0.1〜5m/secが好ましい。
The rotating brush roll that can be preferably used in the present invention can be appropriately selected in consideration of the difficulty of scratching the image area and the stiffness of the lithographic printing plate precursor support.
As the rotating brush roll, a known one formed by planting a brush material on a plastic or metal roll can be used. For example, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-159533, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-100554, or Japanese Utility Model Publication No. 62-167253, metal or plastic in which brush materials are implanted in rows. A brush roll can be used in which the groove mold material is radially wound around a plastic or metal roll as a core without a gap.
The brush material includes plastic fibers (for example, polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyamides such as nylon 6.6 and nylon 6.10, polyacrylonitrile, poly (meth) acrylate, etc. Acrylic and polyolefin synthetic fibers such as polypropylene and polystyrene) can be used. For example, the fiber has a hair diameter of 20 to 400 μm and a hair length of 5 to 30 mm. Can be used.
Furthermore, the outer diameter of the rotating brush roll is preferably 30 to 200 mm, and the peripheral speed at the tip of the brush rubbing the plate surface is preferably 0.1 to 5 m / sec.

本発明に用いる回転ブラシロールの回転方向は、本発明の平版印刷版原版の搬送方向に対し、同一方向であっても、逆方向であってもよいが、図1に例示した自動処理機のように、2本以上の回転ブラシロールを使用する場合は、少なくとも1本の回転ブラシロールが、同一方向に回転し、少なくとも1本の回転ブラシロールが、逆方向に回転することが好ましい。これにより、未露光部の画像記録層の除去が、さらに確実となる。さらに、回転ブラシロールを、ブラシロールの回転軸方向に揺動させることも効果的である。   The rotating direction of the rotating brush roll used in the present invention may be the same or opposite to the conveying direction of the planographic printing plate precursor of the present invention. Thus, when two or more rotating brush rolls are used, it is preferable that at least one rotating brush roll rotates in the same direction and at least one rotating brush roll rotates in the opposite direction. This further ensures the removal of the image recording layer in the unexposed area. Furthermore, it is also effective to swing the rotating brush roll in the direction of the rotation axis of the brush roll.

本発明のガム現像に用いられるガム液や、後工程の水洗水の温度は、それぞれ別々に任意の温度で使用できるが、好ましくは10℃〜50℃である。
本発明においては、ガム液で現像処理すると同時に不感脂化処理を行なうため、他の処理を行なわず、乾燥処理をすることになるが、場合によっては、水洗処理あるいは不感脂化処理を付加的に行ってもよい。
The gum solution used in the gum development of the present invention and the temperature of the washing water in the post-process can be used separately at any temperature, but are preferably 10 ° C to 50 ° C.
In the present invention, since the desensitization treatment is performed at the same time as the development with the gum solution, the drying treatment is performed without performing other treatments. However, in some cases, a washing treatment or a desensitization treatment is additionally performed. You may go to

なお、本発明のガム現像方法において、ガム現像後の任意の場所に乾燥工程を設けることも可能である。乾燥工程は、一般にローラーニップで処理液のほとんどを除去した後に、任意の温度の乾燥風を吹き付けることにより行われる。   In the gum development method of the present invention, it is possible to provide a drying step at any location after gum development. The drying step is generally performed by blowing a drying air having an arbitrary temperature after most of the processing liquid is removed by a roller nip.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.

[特定構造を有するキノン化合物(A−1)の合成方法]
ベンゾキノン2.16g(東京化成工業(株)製)のエタノール10mlの懸濁液に、水冷下で、(3−メルカプロプロピル)トリメトキシシラン(東京化成工業(株)製)を1.96g滴下した。滴下後、室温で2時間撹拌後、析出した結晶をろ過し、エタノール10mlで洗浄、乾燥し、特定構造を有するキノン化合物(A−1)1.1g(収率33%)を得た。得られた特定構造を有するキノン化合物(A−1)は、1H-NMR(CDCl3)により同定を行った。
[Synthesis Method of Quinone Compound (A-1) Having Specific Structure]
1.96 g of (3-mercapropropyl) trimethoxysilane (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was dropped into a suspension of 2.16 g of benzoquinone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) in 10 ml of ethanol under water cooling. did. After dropping, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours, and then the precipitated crystals were filtered, washed with 10 ml of ethanol and dried to obtain 1.1 g (yield 33%) of a quinone compound (A-1) having a specific structure. The obtained quinone compound (A-1) having a specific structure was identified by 1H-NMR (CDCl3).

1H−NMR(400 MHz, DMSO-d6): δ 6.79(d, J= 7.0 Hz, 1H), 6.71 (d, J= 7.0 Hz, 1H), 6.42(s, 1H), 3.58 (s, 3H), 2.81(dd, J = 7.0, 7.0 Hz, 2H), 1.86 (dddd, J=7.0, 7.0, 7.0, 7.0 Hz, 2H), 0.80 (dd, J=7.0, 7.0Hz, 2H). 1 H-NMR (400 MHz, DMSO-d6): δ 6.79 (d, J = 7.0 Hz, 1H), 6.71 (d, J = 7.0 Hz, 1H), 6.42 (s, 1H), 3.58 (s, 3H ), 2.81 (dd, J = 7.0, 7.0 Hz, 2H), 1.86 (dddd, J = 7.0, 7.0, 7.0, 7.0 Hz, 2H), 0.80 (dd, J = 7.0, 7.0Hz, 2H).

1.平版印刷版原版(1)〜(19)および(R−1)〜(R−3)の作製
(1)支持体の作製(その1)
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質JIS A 1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄し
た。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
1. Production of lithographic printing plate precursors (1) to (19) and (R-1) to (R-3) (1) Production of support (part 1)
In order to remove rolling oil on the surface of an aluminum plate (material JIS A 1050) having a thickness of 0.3 mm, a degreasing treatment was performed at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution, and then the hair diameter was adjusted to 0. The aluminum surface was grained using three 3 mm bundle-planted nylon brushes and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) having a median diameter of 25 μm and washed well with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20 mass% nitric acid at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .

次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。
硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった
。その後、スプレーによる水洗を行った。
Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
The amount of electricity in the nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と
同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
次に、この板に15質量%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥して支持体(1)を作製した。
Next, a 0.5% by mass hydrochloric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. and nitric acid electrolysis under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate is an anode. In the same manner as above, an electrochemical surface roughening treatment was performed, followed by washing with water by spraying.
Next, the plate was provided with a DC anodized film of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using 15% by mass sulfuric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) as an electrolyte, and then washed with water. It dried and produced the support body (1).

非画像部の親水性を確保するための親水化処理は2通りの方法で行った。一つは、支持体(1)に1.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて70℃で12秒間、シリケート処理を施した。蛍光X線でSi量を定量すると、Siの付着量は6mg/m2であった。
その後、水洗して、支持体(2)を得た。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。
Hydrophilization treatment for ensuring the hydrophilicity of the non-image area was performed by two methods. First, the support (1) was subjected to a silicate treatment at 70 ° C. for 12 seconds using a 1.5 mass% No. 3 sodium silicate aqueous solution. When the amount of Si was quantified by fluorescent X-ray, the amount of Si deposited was 6 mg / m 2 .
Then, it washed with water and the support body (2) was obtained. The centerline average roughness (Ra) of this substrate was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm.

もう一つは、支持体(1)を、液温50℃のポリビニルホスホン酸1質量%水溶液の入った処理槽中に10秒間浸漬させ、支持体(3)を得た。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。   In the other, the support (1) was immersed for 10 seconds in a treatment tank containing a 1% by mass aqueous solution of polyvinylphosphonic acid having a liquid temperature of 50 ° C. to obtain a support (3). The centerline average roughness (Ra) of this substrate was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm.

(2)中間層の形成
表1記載の支持体上に、下記組成の中間層塗布液を作製し、乾燥塗布量が8mg/m2
になるように塗布した。
(2) Formation of intermediate layer On the support described in Table 1, an intermediate layer coating solution having the following composition was prepared, and the dry coating amount was 8 mg / m 2.
It applied so that it might become.

〔中間層塗布液〕
・下記の中間層用ポリマー(1) 0.017g
・メタノール 9.00g
・蒸留水 1.00g
・表1に記載の特定化合物 Xg
[Intermediate layer coating solution]
-The following intermediate layer polymer (1) 0.017 g
・ Methanol 9.00 g
・ Distilled water 1.00g
Specific compounds listed in Table 1 Xg

Figure 2009069802
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(3)画像記録層の形成
上記のように形成した中間層上に、下記組成の画像記録層塗布液をバー塗布した後、100℃60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形成した。
画像記録層塗布液は下記組成の感光液およびミクロゲル液(1)を塗布直前に混合し攪拌することにより得た。
(3) Formation of image recording layer An image recording layer coating solution having the following composition was bar-coated on the intermediate layer formed as described above, followed by oven drying at 100 ° C for 60 seconds, and a dry coating amount of 1.0 g / m. Two image recording layers were formed.
The image recording layer coating solution was obtained by mixing and stirring a photosensitive solution and a microgel solution (1) having the following composition immediately before coating.

〔感光液〕
・下記のバインダーポリマー(1)(固形分換算) 0.162g
・下記の赤外線吸収剤(1) 0.030g
・下記の重合開始剤(1) 0.162g
・重合性化合物(アロニックスM215、東亞合成(株)製) 0.385g
・パイオニンA−20(竹本油脂(株)製) 0.055g
・下記の感脂化剤(1) 0.044g
・下記のフッ素系界面活性剤(1) 0.008g
・表1記載の特定化合物 Yg
・メチルエチルケトン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.609g
[Photosensitive solution]
・ The following binder polymer (1) (solid content conversion) 0.162 g
・ The following infrared absorber (1) 0.030 g
・ The following polymerization initiator (1) 0.162 g
・ Polymerizable compound (Aronix M215, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 0.385 g
・ Pionine A-20 (Takemoto Yushi Co., Ltd.) 0.055g
・ The following oil sensitizer (1) 0.044 g
・ The following fluorosurfactant (1) 0.008 g
Specific compounds listed in Table 1 Yg
・ Methyl ethyl ketone 1.091g
・ 1-methoxy-2-propanol 8.609g

〔ミクロゲル液(1)〕
・下記の通り合成したミクロゲル(1) 2.640g
・蒸留水 2.425g
[Microgel solution (1)]
-Microgel (1) synthesized as follows: 2.640 g
・ Distilled water 2.425g

Figure 2009069802
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(ミクロゲル(1)の合成)
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武田ケミカル(株)製、タケネートD−110N)10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、SR444)3.15g、およびパイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、50℃で3時間攪拌した。このようにして得られたミクロゲル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈した。平均粒径は0.2μmであった。
(Synthesis of microgel (1))
As oil phase components, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N) 10 g, pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., SR444) 3.15 g, And 0.1 g of Pionein A-41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) was dissolved in 17 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 40 g of a 4% by mass aqueous solution of PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12,000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 50 ° C. for 3 hours. The solid content concentration of the microgel solution thus obtained was diluted with distilled water so as to be 15% by mass. The average particle size was 0.2 μm.

(4)保護層の形成
上記画像記録層上に、さらに下記組成の保護層塗布液(1)をバー塗布した後、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2の保護層を形成して平版印刷
版原版(1)〜(19)と比較例用の平版印刷版原版(R−1)〜(R−3)を得た。
(4) Formation of protective layer A protective layer coating solution (1) having the following composition was further bar-coated on the image recording layer, followed by oven drying at 120 ° C. for 60 seconds, and a dry coating amount of 0.15 g / m 2. The protective layers were formed to obtain lithographic printing plate precursors (1) to (19) and lithographic printing plate precursors (R-1) to (R-3) for comparative examples.

〔保護層塗布液(1)〕
・下記の通り調製した無機質層状化合物分散液(1) 1.5g
・ポリビニルアルコール(日本合成化学工業(株)製CKS50、スルホン酸変性、
けん化度99モル%以上、 重合度300)6質量%水溶液 0.55g
・ポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA-405、けん化度81.5モル% 、
重合度500)6質量%水溶液 0.03g
・日本エマルジョン(株)製界面活性剤(エマレックス710)、
1質量%水溶液 8.60g
・イオン交換水 6.0g
[Protective layer coating solution (1)]
-1.5 g of inorganic layered compound dispersion (1) prepared as follows
・ Polyvinyl alcohol (Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. CKS50, sulfonic acid modified,
Saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300) 6% by mass aqueous solution 0.55 g
・ Polyvinyl alcohol (PVA-405 manufactured by Kuraray Co., Ltd., saponification degree: 81.5 mol%,
Polymerization degree 500) 6% by mass aqueous solution 0.03 g
・ Nippon Emulsion Co., Ltd. surfactant (Emalex 710),
1 mass% aqueous solution 8.60g
・ Ion-exchanged water 6.0g

(無機質層状化合物分散液(1)の調製)
イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
(Preparation of inorganic layered compound dispersion (1))
6.4 g of synthetic mica Somasif ME-100 (manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) was added to 193.6 g of ion-exchanged water, and dispersed using an homogenizer until the average particle size (laser scattering method) became 3 μm. The aspect ratio of the obtained dispersed particles was 100 or more.

2.平版印刷版原版(20)〜(22)の作製
表1に記載した中間層上に、下記画像記録層塗布液をバー塗布した後、70℃、60秒
でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.6g/m2の画像記録層を作製した。
2. Preparation of lithographic printing plate precursors (20) to (22) The following image recording layer coating solution was bar-coated on the intermediate layer described in Table 1, and then oven-dried at 70 ° C. for 60 seconds. An image recording layer of 6 g / m 2 was produced.

〔画像記録層塗布液〕
・下記の通り製造したポリマー微粒子(疎水化前駆体)水分散液 33.0g
・下記の赤外線吸収剤(3) 1.0g
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート 0.5g
・1,5−ナフチルジスルホン酸ジナトリウム 0.1g
・メタノール 16.0g
[Image recording layer coating solution]
-Polymer fine particles (hydrophobized precursor) aqueous dispersion prepared as follows: 33.0 g
・ The following infrared absorber (3) 1.0 g
・ Pentaerythritol tetraacrylate 0.5g
・ 0.15-g disodium 1,5-naphthyl disulfonate
・ Methanol 16.0g

Figure 2009069802
Figure 2009069802

(ポリマー微粒子(疎水化前駆体)水分散液の製造)
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ蒸留水350mLを加えて内温が80℃となるまで加熱した。分散剤としてドデシル硫酸ナトリウム3.0gを1.5g添加し、さらに開始剤として過硫化アンモニウム0.45gを添加し、次いでグリシジルメタクリレート45.0gとスチレン45.0gとの混合物を滴下ロートから約1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反応単量体を除去した。その後冷却しアンモニア水でpH6に調整し、最後に不揮発分が15質量%となるように純水を添加してポリマー微粒子(疎水化前駆体)水分散液を得た。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径60nmに極大値を有していた。
(Production of polymer fine particle (hydrophobized precursor) aqueous dispersion)
A stirrer, thermometer, dropping funnel, nitrogen inlet tube, reflux condenser is applied to a 1000 ml four-necked flask, and 350 mL of distilled water is added while deoxygenating by introducing nitrogen gas, and the internal temperature becomes 80 ° C. Until heated. Add 1.5 g of sodium dodecyl sulfate as a dispersant, 0.45 g of ammonium persulfide as an initiator, then add a mixture of 45.0 g of glycidyl methacrylate and 45.0 g of styrene from a dropping funnel to about 1 It was added dropwise over time. After the completion of the dropping, the reaction was continued as it was for 5 hours, and then the unreacted monomer was removed by steam distillation. Thereafter, the mixture was cooled and adjusted to pH 6 with ammonia water, and finally pure water was added so that the nonvolatile content was 15% by mass to obtain an aqueous dispersion of polymer fine particles (hydrophobized precursor). The particle size distribution of the polymer fine particles had a maximum value at a particle size of 60 nm.

ここで、粒径分布は、ポリマー微粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で微粒子の粒径を総計で5000個測定し、得られた粒径測定値の最大値から0の間を対数目盛で50分割して各粒径の出現頻度をプロットして求めた。なお非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を持つ球形粒子の粒径値を粒径とした。   Here, the particle size distribution is obtained by taking an electron micrograph of polymer fine particles, measuring a total of 5000 fine particle sizes on the photograph, and a logarithmic scale between 0 and the maximum value of the obtained particle size measurement values. The frequency of appearance of each particle size was plotted and divided into 50. For non-spherical particles, the particle size of spherical particles having the same particle area as that on the photograph was used as the particle size.

上記のようにして形成した画像記録層上に下記保護層塗布液(2)をバー塗布した後、60℃、120秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.3g/m2の保護層を形成して平版
印刷版原版(20)〜(22)を得た。
The following protective layer coating solution (2) is bar-coated on the image recording layer formed as described above, followed by oven drying at 60 ° C. for 120 seconds to form a protective layer having a dry coating amount of 0.3 g / m 2. Thus, lithographic printing plate precursors (20) to (22) were obtained.

〔保護層塗布液(2)〕
・カルボキシメチルセルロース(質量平均モル質量2万(g/mol)) 5.0g
・水 50.0g
[Protective layer coating solution (2)]
・ Carboxymethylcellulose (mass average molar mass 20,000 (g / mol)) 5.0 g
・ Water 50.0g

3.平版印刷版原版の評価−機上現像−
[実施例1〜22および比較例1〜3]
得られた平版印刷版原版(1)〜(22)および(R−1)〜(R−3)を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにて、外面ドラム回転数1000rpm、レーザー出力70%、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像および20μmドットFMスクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity−2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とValues−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10000枚の印刷速度で、特菱アート(76.5kg)紙に印刷を100枚行った。
3. Evaluation of planographic printing plate precursors-On-machine development-
[Examples 1 to 22 and Comparative Examples 1 to 3]
The resulting lithographic printing plate precursors (1) to (22) and (R-1) to (R-3) were subjected to external drum rotation speed with a Luxel PLANETSETTER T-6000III manufactured by Fuji Film Co., Ltd. equipped with an infrared semiconductor laser. The exposure was performed under the conditions of 1000 rpm, laser output 70%, and resolution 2400 dpi. The exposure image included a solid image and a 50% dot chart of a 20 μm dot FM screen.
The obtained exposed original plate was attached to a plate cylinder of a printing machine LITHRONE 26 manufactured by Komori Corporation without developing. Equality-2 (manufactured by FUJIFILM Corporation) / tap water = 2/98 (volume ratio) dampening water and Values-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) After dampening water and ink were supplied by the standard automatic printing start method of LITHRONE 26 and developed on the machine, 100 sheets were printed on Tokuhishi Art (76.5 kg) paper at a printing speed of 10,000 sheets per hour.

(A)機上現像性
画像記録層未露光部の印刷機上での除去(機上現像)が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測した。結果を表1に示す。
(A) On-machine developability The number of sheets of printing paper required until the removal of the unexposed area of the image recording layer on the printing machine (on-machine development) is completed and no ink is transferred to the non-image area is obtained. Measured as top developability. The results are shown in Table 1.

(B)耐刷性
機上現像性の評価を行った後、さらに印刷を続けた。印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるFMスクリーン50%網点の網点面積率をグレタグ濃度計での計測値が印刷100枚目の計測値よりも5%低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。結果を表1に示す。
(B) Printing durability After evaluation of on-press developability, printing was further continued. As the number of printed sheets was increased, the image recording layer was gradually worn out, so that the ink density on the printed material decreased. Printing durability was evaluated using the number of copies printed when the measured value of the dot density of the 50% halftone dot of the FM screen in the printed material was 5% lower than the measured value of the 100th printed sheet. . The results are shown in Table 1.

(C) 汚れ性
得られた平版印刷版原版を、60℃相対湿度75%に設定した恒温恒湿槽中に2日間放置した後、上記と同様にして露光、印刷し、非画像部に表れたポツ状の汚れを目視でカウントした。結果を表1に示す。
(C) Stains The obtained lithographic printing plate precursor is left in a constant temperature and humidity chamber set at 60 ° C. and a relative humidity of 75% for 2 days, then exposed and printed in the same manner as described above, and appears in the non-image area. Spot-like stains were counted visually. The results are shown in Table 1.

Figure 2009069802
Figure 2009069802

表1からわかるように本発明の平版印刷版原版は、良好な耐刷性および機上現像性有し、汚れ性(ポツ汚れ)を大幅に改良されることを示した。   As can be seen from Table 1, the lithographic printing plate precursor of the present invention has good printing durability and on-press developability, and shows that the stain resistance (spot stain) is greatly improved.

4.平版印刷版原版の評価(2)−ガム現像(1)−
[実施例23〜44および比較例4〜6]
得られた平版印刷版原版(1)〜(22)および(R−1)〜(R−3)を下記のように露光した後、ガム現像し、細線再現性(現像性)、耐刷性および汚れ性の印刷評価を行った。
4). Evaluation of planographic printing plate precursor (2) -Gum development (1)-
[Examples 23 to 44 and Comparative Examples 4 to 6]
The obtained lithographic printing plate precursors (1) to (22) and (R-1) to (R-3) were exposed as described below, and then developed with gum to produce fine line reproducibility (developability) and printing durability. In addition, printing evaluation of stain resistance was performed.

(A)細線再現性(現像性)
赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにて、出力6.4Wで外面ドラム回転数150rpm、解像度2400dpiの条件で、得られた平版印刷版原版に画像露光した。露光画像にはベタ画像および細線画像を含むようにした。
(A) Fine line reproducibility (developability)
The resulting lithographic printing plate precursor was image-exposed with a Trend setter 3244VX manufactured by Creo equipped with an infrared semiconductor laser under the conditions of an output of 6.4 W, an outer drum rotation speed of 150 rpm, and a resolution of 2400 dpi. The exposure image includes a solid image and a fine line image.

得られた露光済み原版を、図1に示す自動現像装置を使用し、図中14の現像部に現像液として下記ガム液を用いて現像および不感脂化を同時に行ない、図中の16および図中の18の水洗および不感脂化処理は行なわず、図中20にて乾燥処理を行なった。
〔ガム液〕
・アラビアガム 1.6質量%
・酵素変成馬鈴薯澱粉 8.8質量%
・燐酸化ワキシー玉蜀黍澱粉 0.80質量%
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.10質量%
・クエン酸 0.14質量%
・αアラニン 0.11質量%
・EDTA−四ナトリウム塩 0.10質量%
・ドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸2Na塩 0.18質量%
・エチレングリコール 0.72質量%
・ベンジルアルコール 0.87質量%
・デヒドロ酢酸ナトリウム 0.04質量%
・エマルジョン型シリコン消泡剤 0.01質量%
・水を加えて 全量を100質量%とする
pH 5.0
The obtained exposed original plate is developed and desensitized simultaneously using the following gum solution as a developer in the developing section 14 in the drawing using the automatic developing apparatus shown in FIG. The water washing and desensitization treatment of No. 18 were not carried out, and a drying treatment was carried out at 20 in the figure.
[Gum solution]
・ Gum arabic 1.6% by mass
・ Enzyme-modified potato starch 8.8% by mass
・ Phosphorylated waxy onion starch 0.80% by mass
-Sodium salt of dioctylsulfosuccinate 0.10% by mass
・ Citric acid 0.14% by mass
・ Α-alanine 0.11% by mass
・ EDTA-tetrasodium salt 0.10% by mass
・ Dodecyl diphenyl ether disulfonic acid 2Na salt 0.18% by mass
・ Ethylene glycol 0.72% by mass
・ Benzyl alcohol 0.87% by mass
・ Dehydrosodium acetate 0.04% by mass
・ Emulsion type silicon antifoaming agent 0.01% by mass
・ Add water to make 100% by mass
pH 5.0

上記のように製版して得た平版印刷版をハイデルベルグ社製印刷機Speedmaster52のシリンダーに取り付け、湿し水〔IF102(富士フイルム(株)製エッチ液)/水=3/97(容量比)〕とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、湿し水とインキを供給した後、毎時6000枚の印刷速度で印刷を100枚行った。   The lithographic printing plate obtained by making the plate as described above is attached to the cylinder of the Speedmaster 52 printing machine manufactured by Heidelberg, and dampening water [IF102 (Etchi solution manufactured by FUJIFILM Corporation) / water = 3/97 (volume ratio)]. And TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), and after supplying dampening water and ink, 100 sheets were printed at a printing speed of 6000 sheets per hour.

上記現像処理で画像記録層未露光部の除去が所望の画像通りに行われているかどうかを評価する手法として、露光された細線画像(10μmから50μmまで2μmおきに白細線(画像部の中の細線状非画像部)の太さを変えたテストチャート)が印刷用紙上でどの太さの白細線まで再現できているかを、印刷用紙を目視して再現している白細線の太さで評価した。すなわち、値が小さい方がより細い細線まで良好に現像されていることを表しており好ましい結果を示す。これらの結果を表2に示す。   As a technique for evaluating whether or not the unexposed portion of the image recording layer has been removed as desired by the above development processing, an exposed fine line image (white fine line (in the image part from 10 μm to 50 μm) is taken every 2 μm. Evaluate the thickness of the white thin line that is reproduced by visually observing the printing paper to determine how thick the white thin line can be reproduced on the printing paper. did. That is, a smaller value indicates that a finer fine line is well developed, and a preferable result is shown. These results are shown in Table 2.

(B)耐刷性
上述した細線再現性の評価を行った後、さらに印刷を続け、前述の機上現像した印刷版の場合と同様に耐刷性を評価した。結果を表2に示す。
(B) Printing durability After the above-described evaluation of fine line reproducibility, printing was further continued, and printing durability was evaluated in the same manner as in the case of the above-described on-press developed printing plate. The results are shown in Table 2.

(C) 汚れ性
実施例1の場合と同様に、平版印刷版原版を、60℃相対湿度75%に設定した恒温恒湿槽中に2日間放置した後、上記細線再現性の評価と同様にして露光、ガム現像による製版および印刷を行い、非画像部に表れたポツ状の汚れを目視でカウントした。結果を表2に示す。
(C) Dirtiness As in the case of Example 1, the lithographic printing plate precursor was left in a constant temperature and humidity chamber set at 60 ° C. and a relative humidity of 75% for 2 days, and then the evaluation of fine line reproducibility was performed in the same manner. Then, plate making and printing were performed by exposure, gum development, and spot-like stains appearing on the non-image area were visually counted. The results are shown in Table 2.

Figure 2009069802
Figure 2009069802

5.平版印刷版原版の評価(3)−ガム現像(2)−
[実施例45〜60および比較例6および7]
現像部に使用したガム液を弱アルカリ性ガム液に代えた以外は実施例23〜44と同様にして平版印刷版原版(1)〜(16)および(R−1)〜(R−2)を製版し、細線再現性(現像性)、耐刷性および汚れ性を評価した。なお、弱アルカリ性ガム液は、実施例23に使用したガム液に水酸化ナトリウムを添加することによりpH9.7にしたものを用いた。評価結果を表3に示す。
5). Evaluation of planographic printing plate precursor (3) -Gum development (2)-
[Examples 45 to 60 and Comparative Examples 6 and 7]
The lithographic printing plate precursors (1) to (16) and (R-1) to (R-2) were prepared in the same manner as in Examples 23 to 44 except that the gum solution used in the developing unit was replaced with a weak alkaline gum solution. The plate was made and evaluated for fine line reproducibility (developability), printing durability and stain resistance. The weak alkaline gum solution used was adjusted to pH 9.7 by adding sodium hydroxide to the gum solution used in Example 23. The evaluation results are shown in Table 3.

Figure 2009069802
Figure 2009069802

表3からわかるように本発明によれば、良好なガム現像性(細線再現性)と耐刷性を示し、汚れ性を向上させた平版印刷版原版を提供可能である。   As can be seen from Table 3, according to the present invention, it is possible to provide a lithographic printing plate precursor exhibiting good gum developability (thin line reproducibility) and printing durability and improved stain resistance.

本発明に係る平版印刷版の自動現像装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the automatic image development apparatus of the lithographic printing plate which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 自動現像装置
10 現像処理部
12 印刷版
14 現像部
16 水洗部
18 不感脂化処理部
20 乾燥部
24 現像槽
141,142 ブラシローラ(擦り部材)
200前処理部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Automatic developing device 10 Development processing part 12 Printing plate 14 Developing part 16 Washing part 18 Desensitizing treatment part 20 Drying part 24 Developing tank 141, 142 Brush roller (rubbing member)
200 pre-processing unit

Claims (13)

アルミニウム支持体上に、中間層および画像記録層をこの順に有し、一分子内にアルミニウム支持体と相互作用する官能基を少なくとも一つ有し、且つ重合禁止能を有する化合物を中間層または画像記録層に含有することを特徴とする平版印刷版原版。   On the aluminum support, an intermediate layer and an image recording layer are provided in this order, and a compound having at least one functional group that interacts with the aluminum support in one molecule and having a polymerization inhibiting ability is added to the intermediate layer or the image. A lithographic printing plate precursor, which is contained in a recording layer. 上記重合禁止能を有する化合物が、キノン化合物であることを特徴とする請求項1記載の平版印刷版原版。   2. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the compound having the ability to inhibit polymerization is a quinone compound. アルミニウム支持体上に、中間層および画像記録層をこの順に有し、一分子内にアルミニウム支持体と相互作用する官能基を少なくとも一つ有し、且つ重合禁止能を有する化合物を中間層に含有することを特徴とする請求項1または2に記載の平版印刷版原版。   An intermediate layer and an image recording layer are arranged in this order on an aluminum support, and the intermediate layer contains a compound having at least one functional group that interacts with the aluminum support in one molecule and having a polymerization inhibiting ability. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1 or 2, wherein: アルミニウム支持体と相互作用する官能基が、フェノール性ヒドロキシル基、カルボキシル基、−SOH、−OSOH、−PO、−OPO、−CONHSO−、−SONHSO−、−COCHCOCH3、もしくはこれら酸基の金属塩、トリアルコキシシリル基、または、オニウム基であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の平版印刷版原版。 Functional group capable of interacting with the aluminum support, a phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, -SO 3 H, -OSO 3 H , -PO 3 H 2, -OPO 3 H 2, -CONHSO 2 -, - SO 2 NHSO 2 -, - COCH 2 COCH 3 or metal salts of these acidic groups, a trialkoxysilyl group or a lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 3, characterized in that an onium group. 前記キノン化合物が下記一般式(1)で表されることを特徴とする請求項2に記載の平版印刷版原版。
Figure 2009069802
一般式(1)中、R〜Rは、水素原子、ハロゲン原子または一価の有機基を表す。ただし、R〜Rの少なくとも一つは上記一般式(2)で表される。
一般式(2)中、Xは、O、S、NH、またはNRを表す。Rは、アルキル基またはアリール基を表す。Lは単結合または二価の連結基を表す。Zは、フェノール性ヒドロキシル基、カルボキシル基、−SOH、−OSOH、−PO、−OPO、−CONHSO−、−SONHSO−、−COCHCOCH3、もしくはこれら酸基の金属塩、トリアルコキシシリル基、またはオニウム基を表す。
The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 2, wherein the quinone compound is represented by the following general formula (1).
Figure 2009069802
In General Formula (1), R 1 to R 4 represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group. However, at least one of R 1 to R 4 is represented by the general formula (2).
In the general formula (2), X represents O, S, NH, or NR 5 . R 5 represents an alkyl group or an aryl group. L represents a single bond or a divalent linking group. Z is phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, -SO 3 H, -OSO 3 H , -PO 3 H 2, -OPO 3 H 2, -CONHSO 2 -, - SO 2 NHSO 2 -, - COCH 2 COCH 3 or it represents a metal salt, a trialkoxysilyl group or an onium group, of these acids groups.
前記中間層が、基板吸着性基、重合性基、および親水性基を有するポリマーを含有することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 5, wherein the intermediate layer contains a polymer having a substrate adsorptive group, a polymerizable group, and a hydrophilic group. 前記画像記録層が、(A)赤外線吸収剤、(B)重合開始剤、および(C)重合性化合物を含有することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 6, wherein the image recording layer contains (A) an infrared absorber, (B) a polymerization initiator, and (C) a polymerizable compound. . 前記画像記録層が、さらに、バインダーポリマーを含有することを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 7, wherein the image recording layer further contains a binder polymer. 前記画像記録層が、さらに マイクロカプセルまたはミクロゲルを含有することを特徴
とする請求項1〜8のいずれかに記載の平版印刷版原版。
The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 8, wherein the image recording layer further contains a microcapsule or a microgel.
前記画像記録層が、露光後に印刷機上で印刷インキと湿し水とを供給して未露光部分を除去することにより画像形成可能な画像記録層であることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の平版印刷版原版。   The image recording layer is an image recording layer capable of forming an image by supplying printing ink and fountain solution on a printing machine after exposure to remove an unexposed portion. A lithographic printing plate precursor as described in any of the above. 請求項10に記載の平版印刷版原版を、画像露光した後に印刷機に装着するか印刷機に装着した後に画像露光し、印刷インキと湿し水とを供給して機上現像処理を行い、印刷することを特徴とする製版方法。   The lithographic printing plate precursor according to claim 10 is image-exposed after being exposed to an image after being exposed to an image, or image-exposed after being attached to a printer, and is subjected to on-machine development by supplying printing ink and fountain solution, A plate making method characterized by printing. 請求項1〜9のいずれか一項に記載の平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、露光後の平版印刷版原版をガム液で現像することにより平版印刷版原版の未露光部分を除去する現像工程とを有することを特徴とする平版印刷版原版の製版方法。   An imagewise exposure of the lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 9, and an unexposed portion of the lithographic printing plate precursor by developing the exposed lithographic printing plate precursor with a gum solution And a development step for removing the lithographic printing plate precursor. 下記一般式(1a)で表されることを特徴とするキノン化合物。
Figure 2009069802
一般式(1a)中、R01〜R04は、水素原子、ハロゲン原子、または一価の有機基を表す。ただし、R01〜R04の少なくとも一つは上記一般式(3)で表されることを特徴とする。一般式(3)中、Xは、O、S、NH、またはNR05を表す。R05はアルキル基またはアリール基を表す。Lは単結合または二価の連結基を表す。R06はアルキル基を表す。
A quinone compound represented by the following general formula (1a):
Figure 2009069802
In the general formula (1a), R 01 to R 04 represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group. However, at least one of R 01 to R 04 is represented by the general formula (3). In the general formula (3), X represents O, S, NH, or NR 05 . R 05 represents an alkyl group or an aryl group. L represents a single bond or a divalent linking group. R 06 represents an alkyl group.
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