JP2009053472A - Liquid crystal device and electronic apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、横電界により液晶を駆動する液晶装置、およびこの液晶装置を備えた電子機器に関するものである。 The present invention relates to a liquid crystal device that drives a liquid crystal by a lateral electric field, and an electronic apparatus including the liquid crystal device.
近年、携帯電話機やモバイルコンピュータなどに用いられる液晶装置の広視野角化を実現することを目的に、いわゆるフリンジフィールドスイッチング(以下、FFS(Fring Field Switching)という)方式やインプレンスイッチング(以下、IPS(In Plane Switching)という)方式等、横電界により液晶を駆動するタイプの液晶装置が実用化されつつある。 In recent years, a so-called fringe field switching (hereinafter referred to as FFS (Fring Field Switching)) system or in-plane switching (hereinafter referred to as IPS) is aimed at realizing a wide viewing angle of a liquid crystal device used in a mobile phone or a mobile computer. A liquid crystal device of a type that drives a liquid crystal by a lateral electric field, such as a method (called “In Plane Switching”), is being put into practical use.
かかるタイプの液晶装置において、液晶を駆動するための画素電極および共通電極は、いずれも素子基板側に形成されており、共通電極は対向基板の側に形成されていない。このため、対向基板は外部からの静電気の侵入に対してシールド機能を備えていないので、静電気によって液晶の配向が乱れ、適正な表示を行なえなくなるという問題点がある。 In this type of liquid crystal device, the pixel electrode and the common electrode for driving the liquid crystal are both formed on the element substrate side, and the common electrode is not formed on the counter substrate side. For this reason, since the counter substrate does not have a shielding function against the intrusion of static electricity from the outside, there is a problem that the alignment of the liquid crystal is disturbed by the static electricity and proper display cannot be performed.
そこで、対向基板において液晶が位置する側とは反対側の外面の全面に透光性のシールド用導電膜を形成し、かかるシールド用導電膜を外部と電気的に接続しておく構成が提案されている(特許文献1参照)。
対向基板の外面に形成したシールド用導電膜を外部と電気的に接続するにあたっては、例えば、図9(a)、(b)に示す構成を採用することができる。図9(a)、(b)に示す構成では、素子基板10において対向基板20の基板縁20cから張り出した張り出し領域10sに基板間接続用電極106を形成する一方、対向基板20の外面にシールド用導電膜25を形成しておき、張り出し領域10sおよび対向基板20の基板縁20cに跨って導電ペースト60を塗布して基板間接続用電極106とシールド用導電膜25とを塗布型導電膜61により電気的に接続する。なお、図9(a)、(b)に示す構成は、従来技術ではなく、本願発明者が、本発明との差異を明確化するために構成した参考例である。
In electrically connecting the shielding conductive film formed on the outer surface of the counter substrate to the outside, for example, the configuration shown in FIGS. 9A and 9B can be employed. In the configuration shown in FIGS. 9A and 9B, the
しかしながら、図9(a)、(b)に示すように構成すると、以下の問題点がある。まず、対向基板20に対して偏光板51を粘着剤55により接合した後、塗布型導電膜61を形成する際に導電ペースト60が偏光板51と接触する位置まで塗布されてしまうことがある。このような場合、導電ペースト60に含まれていた有機溶剤によって偏光板51が劣化し白濁するという不具合や、偏光板51を接合していた粘着剤55が侵されて偏光板51が部分的に剥がれるという不具合が発生する。かかる不具合は、表示光の出射が部分的に妨げる原因となるため、好ましくない。
However, the configuration as shown in FIGS. 9A and 9B has the following problems. First, after the polarizing
また、塗布型導電膜61を形成して基板間接続用電極106とシールド用導電膜25とを電気的に接続した後、対向基板20に対して偏光板51を接合する場合でも、導電ペースト60が偏光板51の接合領域まではみ出していると、対向基板20と偏光板51との間に塗布型導電膜61がはみ出してしまう。かかる事態が発生した場合も表示光の出射が部分的に妨げる原因となるため、好ましくない。
Even when the polarizing
それ故、図9(a)、(b)に示す構成を採用する場合には、対向基板20の基板縁20cから十分な距離d0、例えば1mm以上を隔てた位置に偏光板51を配置せざるを得ないため、表示に直接、寄与しない領域が広くなってしまうという問題点がある。
Therefore, when the configuration shown in FIGS. 9A and 9B is adopted, the polarizing
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、第1基板に形成した基板間接続用電極と対向基板の外面に形成したシールド用導電膜とを塗布型導電膜によって電気的に接続する場合でも、塗布型導電膜を所定の範囲内に形成することのできる液晶装置、およびこの液晶装置を備えた電子機器を提供することにある。 In view of the above problems, an object of the present invention is to electrically connect the inter-substrate connection electrode formed on the first substrate and the shielding conductive film formed on the outer surface of the counter substrate by a coating-type conductive film. However, it is an object to provide a liquid crystal device capable of forming a coating-type conductive film within a predetermined range, and an electronic apparatus including the liquid crystal device.
上記課題を解決するために、本発明では、複数の画素の各々に形成された画素電極、および該画素電極との間に電界を形成する共通電極を備えた第1基板と、該第1基板に対して対向配置された第2基板と、該第2基板と前記第1基板との間に保持された液晶層と、を有する液晶装置において、前記第1基板において前記第2基板の基板縁から張り出した張り出し領域に基板間接続用電極が形成され、前記第2基板において前記液晶層が位置する内面側とは反対側に位置する外面側の全面あるいは略全面に透光性のシールド用導電膜が形成され、前記第2基板の外面側において前記基板縁から所定の距離だけ隔てた位置には前記シールド用導電膜を覆うように偏光板が接合され、前記第1基板の前記張り出し領域および前記第2基板の前記基板縁に跨って前記基板間接続用電極と前記シールド用導電膜とを電気的に接続する塗布型導電膜が形成され、前記第2基板の外面側には、前記偏光板と前記塗布型導電膜との間で当該塗布型導電膜の前記偏光板側における塗布範囲を制限する撥液処理層が形成されていることを特徴とする。 In order to solve the above problems, in the present invention, a first substrate including a pixel electrode formed in each of a plurality of pixels, and a common electrode that forms an electric field between the pixel electrode, and the first substrate And a liquid crystal layer held between the second substrate and the first substrate. In the liquid crystal device, a substrate edge of the second substrate in the first substrate An inter-substrate connection electrode is formed in an overhang region projecting from the second substrate, and a translucent shielding conductive material is formed on the entire or substantially entire surface of the second substrate on the opposite side to the inner surface where the liquid crystal layer is located. A film is formed, and a polarizing plate is bonded to the outer surface side of the second substrate at a predetermined distance from the substrate edge so as to cover the shielding conductive film, and the overhang region of the first substrate and The base of the second substrate; A coating-type conductive film that electrically connects the inter-substrate connection electrode and the shielding conductive film is formed across an edge, and the polarizing plate and the coating-type conductive film are formed on the outer surface side of the second substrate. A liquid-repellent treatment layer that restricts the coating range of the coating-type conductive film on the polarizing plate side is formed between the coating-type conductive film and the coating-type conductive film.
本発明において、「第2基板の外面側の「略全面」に透光性のシールド用導電膜が形成されている」とは、シールド用導電膜が全面に形成されていなくても、例えばシールド用導電膜の構成においてシールド用導電膜が格子状に形成されている、或いは、シールド用導電膜が形成される領域において少なくとも表示領域を含む領域にシールド用導電膜が形成されていて、静電気に対するシールド効果を有していればよいことを意味する。 In the present invention, “a translucent shielding conductive film is formed on“ substantially the entire surface ”on the outer surface side of the second substrate” means that, for example, a shield is formed even if the shielding conductive film is not formed on the entire surface. In the configuration of the conductive film, the conductive film for shielding is formed in a lattice pattern, or the conductive film for shielding is formed in a region including at least the display region in the region where the conductive film for shielding is formed, This means that it only needs to have a shielding effect.
本発明では、シールド用導電膜を外部と電気的に接続するにあたっては、第1基板の張り出し領域に基板間接続用電極を形成しておき、張り出し領域および第2基板の基板縁に跨って導電ペーストなどの塗布材料を塗布して基板間接続用電極とシールド用導電膜とを塗布型導電膜により電気的に接続する。ここで、第2基板の外面側には、偏光板と塗布型導電膜との間で塗布型導電膜の偏光板側における塗布範囲を制限する撥液処理層が形成されているため、塗布型導電膜を所定の範囲内に形成することができる。それ故、液晶装置を製造する際、第2基板に対して偏光板を接合した後、塗布型導電膜を形成する場合、導電ペーストなどの塗布材料が偏光板と接触する位置まで塗布されてしまうことがないので、塗布材料に含まれていた溶剤によって偏光板が白濁するなどの問題が発生しない。また、塗布型導電膜を形成して基板間接続用電極とシールド用導電膜とを電気的に接続した後、第2基板に対して偏光板を接合する場合でも、導電ペーストなどの塗布材料が偏光板の接合領域まではみ出してしまうことがないので、第2基板と偏光板との間に塗布型導電膜がはみ出してしまうことがない。それ故、塗布型導電膜のはみ出しが原因で表示光の出射が部分的に妨げるといった事態の発生を回避することができる。よって、偏光板については第2基板の基板縁から短い距離を隔てた位置に接合すればよいので、表示に直接、寄与しない領域を狭くすることができる。 In the present invention, when the shield conductive film is electrically connected to the outside, an inter-substrate connection electrode is formed in the extended region of the first substrate, and the conductive film is formed across the extended region and the substrate edge of the second substrate. A coating material such as a paste is applied to electrically connect the inter-substrate connection electrode and the shielding conductive film with a coating-type conductive film. Here, on the outer surface side of the second substrate, a liquid-repellent treatment layer is formed between the polarizing plate and the coating type conductive film to limit the coating range on the polarizing plate side of the coating type conductive film. The conductive film can be formed within a predetermined range. Therefore, when manufacturing a liquid crystal device, after forming a coating-type conductive film after bonding a polarizing plate to the second substrate, a coating material such as a conductive paste is applied to a position in contact with the polarizing plate. Therefore, the problem that the polarizing plate becomes clouded by the solvent contained in the coating material does not occur. Even when a polarizing plate is bonded to the second substrate after forming a coating-type conductive film and electrically connecting the inter-substrate connection electrode and the shielding conductive film, a coating material such as a conductive paste is used. Since the bonding region of the polarizing plate does not protrude, the coating type conductive film does not protrude between the second substrate and the polarizing plate. Therefore, it is possible to avoid a situation in which the emission of display light is partially hindered due to the protrusion of the coating-type conductive film. Therefore, the polarizing plate may be bonded to a position spaced a short distance from the substrate edge of the second substrate, so that a region that does not directly contribute to display can be narrowed.
本発明において、前記塗布型導電膜は、例えば、導電粒子をバインダ樹脂とともに有機溶剤に分散させてなる塗布材料を塗布後、硬化させてなる。 In the present invention, the coating-type conductive film is formed, for example, by applying a coating material in which conductive particles are dispersed in an organic solvent together with a binder resin and then curing the coating material.
本発明において、前記撥液処理層は、少なくとも前記第2基板の外面に形成されている構成を採用することができる。このように構成すると、撥液処理層を容易に形成することができる。 In the present invention, the liquid repellent layer may employ a configuration formed on at least the outer surface of the second substrate. If comprised in this way, a liquid-repellent process layer can be formed easily.
本発明において、前記撥液処理層は、少なくとも前記偏光板の側端面に形成されている構成を採用してもよい。このように構成すると、撥液処理層と偏光板の側端面との間に無駄なスペースが発生しないので、表示に直接、寄与しない領域を狭くすることができる。 In the present invention, the liquid repellent treatment layer may adopt a configuration formed at least on the side end face of the polarizing plate. If comprised in this way, since a useless space does not generate | occur | produce between a liquid repellent process layer and the side end surface of a polarizing plate, the area | region which does not contribute directly to a display can be narrowed.
本発明において、前記撥液処理層は、前記偏光板の側端面に沿って直線状に形成されていることが好ましい。このように構成すると、塗布型導電膜を形成するための塗布材料の塗布範囲が撥液処理層によって確実に制限されるため、塗布材料のはみ出しを確実に防止することができ、かつ、撥液処理層を容易に形成することができる。 In the present invention, the liquid repellent treatment layer is preferably formed in a straight line along the side end face of the polarizing plate. If comprised in this way, since the application | coating range of the coating material for forming a coating type electrically conductive film is restrict | limited reliably by a liquid repellent treatment layer, the protrusion of a coating material can be prevented reliably, and liquid repellent A treatment layer can be easily formed.
本発明において、前記撥液処理層は、前記偏光板の側端面に沿って直線状に延びた第1部分と、該第1部分から前記対向基板の前記基板縁に向けて延びた第2部分とを備えていることが好ましい。このように構成すると、撥液処理層の第1部分および第2部分で囲まれた内側に塗布材料が塗布されるため、塗布材料が第1部分を回り込んで偏光板が配置される側にはみ出すといった事態の発生を確実に回避することができる。 In the present invention, the liquid repellent layer includes a first portion extending linearly along a side end surface of the polarizing plate, and a second portion extending from the first portion toward the substrate edge of the counter substrate. Are preferably provided. If comprised in this way, since a coating material is apply | coated to the inner side surrounded by the 1st part and 2nd part of a liquid repellent process layer, a coating material wraps around the 1st part and the side by which a polarizing plate is arrange | positioned It is possible to reliably avoid the occurrence of a situation that protrudes.
本発明を適用した液晶装置は、FFS方式およびIPS方式のいずれにも適用することができる。但し、FFS方式の液晶装置の場合、共通電極をベタに形成することができるとともに、蓄積容量を別途形成する必要がないなどの利点があるので、本発明は、FFS方式の液晶装置に適用することが好ましい。 The liquid crystal device to which the present invention is applied can be applied to both the FFS mode and the IPS mode. However, in the case of the FFS type liquid crystal device, the common electrode can be formed in a solid shape and there is an advantage that it is not necessary to separately form a storage capacitor. Therefore, the present invention is applied to the FFS type liquid crystal device. It is preferable.
本発明を適用した液晶装置は、携帯電話機あるいはモバイルコンピュータなどの電子機器の表示部などとして用いられる。 A liquid crystal device to which the present invention is applied is used as a display unit of an electronic device such as a mobile phone or a mobile computer.
以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。 Embodiments of the present invention will be described below. In the drawings to be referred to in the following description, the scales are different for each layer and each member so that each layer and each member have a size that can be recognized on the drawing.
[実施の形態1]
(全体構成)
図1(a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1に係る液晶装置をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図、およびそのH−H′断面図である。
[Embodiment 1]
(overall structure)
1A and 1B are plan views of the liquid crystal device according to the first embodiment of the present invention as viewed from the side of the counter substrate together with the components formed thereon, and HH ′ thereof. It is sectional drawing.
図1(a)、(b)において、本形態の液晶装置100は、透過型のアクティブマトリクス型液晶装置であり、液晶パネル100pは、素子基板10(第1基板)と、素子基板10に対して対向配置された対向基板20(第2基板)と、対向基板20と素子基板10との間でホモジニアス配向された液晶層50とを備えている。素子基板10の上には、シール材103が対向基板20の縁に沿うように形成されており、対向基板20と素子基板10とはシール材103によって貼り合わされている。液晶層50は、配向方向の誘電率がその法線方向よりも大きい正の誘電率異方性を示す液晶組成物であり、広い温度範囲においてネマチック相を示す。
1A and 1B, a
対向基板20は素子基板10よりも小さく、素子基板10は、対向基板20の基板縁20cより張り出した張り出し領域10sを備えている。張り出し領域10sにおいて、素子基板10の一辺に沿っては、データ線駆動回路101および走査線駆動回路104が構成された駆動用IC102が実装されている。また、張り出し領域10sにおいて、素子基板10の一辺に沿っては、複数の端子108が形成されており、かかる端子108にはフレキシブル基板(図示せず)が接続され、外部との電気的な接続が行なわれる。
The
詳しくは後述するが、素子基板10には、複数の画素電極7aがマトリクス状に形成されている。これに対して、対向基板20には、シール材103の内側領域に遮光性材料からなる額縁状の遮光層23aが形成され、その内側が画像表示領域10aになっている。対向基板20では、素子基板10の画素電極7aの縦横の画素境界領域と対向する領域にブラックマトリクス、あるいはブラックストライプなどと称せられる遮光層23bが形成されている。
As will be described in detail later, a plurality of
本形態の液晶装置100は、液晶層50をFFSモードで駆動する。このため、素子基板10の上には、画素電極7aに加えて、後述する共通電極(図1(a)、(b)には図示せず)も形成されており、対向基板20には対向電極が形成されていない。
The
このように構成した液晶装置100において、液晶パネル100pは、対向基板20が表示光の出射側に位置するように配置されており、液晶パネル100pに対して対向基板20側および素子基板10側の各々に第1の偏光板51および第2の偏光板52が粘着剤により接合されている。さらに、液晶パネル100pに対して素子基板10側にはバックライト装置(図示せず)が配置されている。
In the
(液晶装置100の電気的な構成)
図2は、本発明を適用した液晶装置100に用いた素子基板10の画像表示領域10aの電気的な構成を示す等価回路図である。図2に示すように、液晶装置100の画像表示領域10aには複数の画素100aがマトリクス状に形成されている。複数の画素100aの各々には、画素電極7a、および画素電極7aを制御するための画素スイッチング用の薄膜トランジスタ30が形成されている。また、複数の画素100aの各々には、画素電極7aとの間で横電界を形成するための共通電極9aが形成されており、かかる共通電極9aは共通配線3cに電気的に接続されている。なお、図2では、共通電極9aが共通配線3cに接続された構成を示してあるが、共通電極9aが素子基板10の画像表示領域10aの略全面に形成された構成を採用することもある。
(Electrical configuration of the liquid crystal device 100)
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram showing an electrical configuration of the
薄膜トランジスタ30のソースにはデータ線5aが電気的に接続されており、データ線5aは、データ線駆動回路101からデータ信号が線順次で供給される。また、薄膜トランジスタ30のゲートには走査線3aが電気的に接続されており、走査線3aは、走査線駆動回路104から走査信号が線順次で供給される。画素電極7aは、薄膜トランジスタ30のドレインに電気的に接続されており、薄膜トランジスタ30を一定期間だけそのオン状態とすることにより、データ線5aから供給されるデータ信号を各画素100aに所定のタイミングで書き込む。このようにして画素電極7aを介して、液晶層50に書き込まれた所定レベルの画素信号は、素子基板10に形成された共通電極9aとの間で一定期間保持される。ここで、画素電極7aと共通電極9aとの間には保持容量6aが形成されており、画素電極7aの電圧は、例えば、ソース電圧が印加された時間よりも3桁も長い時間だけ保持される。これにより、電荷の保持特性は改善され、コントラスト比の高い表示を行うことのできる液晶装置100が実現できる。
The
(各画素の構成)
図3(a)、(b)、(c)は各々、本発明の実施の形態1に係る液晶装置100の画素1つ分の断面図、その平面図、および偏光板の配置方向などを示す説明図であり、図3(a)は、図3(b)のA−A′線に相当する位置で液晶装置100を切断したときの断面図に相当する。なお、図3(b)では、画素電極7aは太くて長い点線で示し、走査線3aおよびそれと同時形成された配線などは二点鎖線で示し、データ線5aおよびそれと同時形成された薄膜などは細い実線で示し、共通電極9aは太い実線で示してある。
(Configuration of each pixel)
3A, 3B, and 3C each show a cross-sectional view of one pixel of the
図3(a)、(b)に示すように、素子基板10上には、マトリクス状にITO(Indium Tin Oxide)膜からなる透明な画素電極7aが各画素100a毎に形成されている。画素電極7aの縦横の画素境界領域に沿っては、薄膜トランジスタ30(画素スイッチング素子)に電気的に接続されたデータ線5aおよび走査線3aが形成されている。また、走査線3aと並列するように共通配線3cが形成されており、共通配線3cは、走査線3aと同時形成された配線層である。共通配線3cには、ITO膜からなる透明な共通電極9aが電気的に接続されている。ここで、共通電極9aは、ベタに形成されている一方、画素電極7aには、スリット状の開口部7b(太くて長い点線で示す)が複数、形成されている。
As shown in FIGS. 3A and 3B, on the
図3(a)において、素子基板10の基体は、石英基板や耐熱性のガラス基板などの透光性基板10bからなり、対向基板20の基体は、石英基板や耐熱性のガラス基板などの透光性基板20bからなる。本形態では、透光性基板10b、20bのいずれについてもガラス基板が用いられている。
In FIG. 3A, the base of the
再び図3(a)、(b)において、素子基板10には、透光性基板10bの表面にシリコン酸化膜などからなる下地保護膜(図示せず)が形成されているとともに、その表面側において、各画素電極7aに隣接する位置にボトムゲート構造の薄膜トランジスタ30が形成されている。薄膜トランジスタ30には、走査線3aの一部からなるゲート電極、ゲート絶縁層2、薄膜トランジスタ30の能動層を構成するアモルファスシリコン膜からなる半導体層1a、およびコンタクト層(図示せず)がこの順に積層されている。半導体層1aのうち、ソース側の端部には、コンタクト層を介してデータ線5aがソース電極として重なっており、ドレイン側の端部には、コンタクト層を介してドレイン電極5bが重なっている。データ線5aおよびドレイン電極5bは同時形成された導電膜からなる。データ線5aおよびドレイン電極5bの表面側にはシリコン窒化膜などからなる絶縁保護膜4が形成されている。絶縁保護膜4の上層には、ITO膜からなる画素電極7aが形成されており、画素電極7bにはスリット状の開口部が複数、形成されている。絶縁保護膜4においてドレイン電極5bと重なる領域にはコンタクトホール8aが形成されており、画素電極7aは、コンタクトホール8aを介してドレイン電極5bに電気的に接続されている。画素電極7aの表面側には配向膜16が形成されている。配向膜16は、直線的なラビング処理により配向処理されたポリイミド樹脂膜であり、液晶層50において配向膜16に近接する部分をラビング方向に従って配向させる。
3A and 3B again, the
素子基板10には、透光性基板10bの表面に共通配線3cが形成されている。共通配線3cの上層には、ベタのITO膜からなる共通電極9aが形成されており、共通電極9aは共通配線3cに電気的に接続されている。共通電極9aの表面には、ゲート絶縁層および絶縁保護膜4が形成されている。共通電極9aと画素電極7aとはゲート絶縁層2および絶縁保護膜4を介して対向しており、ゲート絶縁層2および絶縁保護膜4を誘電体膜とする保持容量6aが形成されている。また、画素電極7aと共通電極9aとの間に形成された横電界によって、スリット状の開口部7b、およびその周辺で液晶層50を駆動する。
In the
対向基板20では、透光性基板20bの内面20e(液晶層50が位置する側の面)に、薄膜トランジスタ30に対向するように遮光層23bが形成され、遮光層23bで囲まれた領域内には各色のカラーフィルタ22が形成されている。遮光層23bおよびカラーフィルタ22は絶縁保護膜24で覆われ、絶縁保護膜24の表面側には配向膜26が形成されている。配向膜26は、直線的なラビング処理により配向処理されたポリイミド樹脂膜であり、液晶層50において配向膜26に近接する部分をラビング方向に従って配向させる。ここで、配向膜16、26に対するラビング処理はアンチパラレルであり、配向膜16に対するラビング方向と、配向膜26に対するラビング方向とは逆向きである。このため、液晶層50をホモジニアス配向することができる。
In the
なお、図3(b)に示すように、素子基板10と対向基板20との間には、感光性樹脂によって、素子基板10に対して柱状突起13(図3(a)には、図示せず)が形成されており、この柱状突起13によって、素子基板10と対向基板20との間隔が所定の値に設定される。
As shown in FIG. 3B, a columnar protrusion 13 (not shown in FIG. 3A) is formed between the
ここで、液晶装置100を法線方向からみると、複数のスリット状の開口部7bは、互いに平行に形成されているが、走査線3aに対して5度の傾きをもって延びている。図3(c)に示すように、対向基板20側の配向膜26に対しては、走査線3aと平行にラビング処理が施されており、素子基板10側の配向膜16に対しては、配向膜26に対するラビング方向と逆向きのラビング処理が施されている。このため、配向膜16、26に対しては、開口部7bが延びている方向に5度の角度をもってラビング処理が施されていることになる。第1の偏光板51および第2の偏光板52は、互いの偏光軸が直交するように配置されており、第1の偏光板51の偏光軸は、配向膜16、26に対するラビング方向と直交し、第2の偏光板52の偏光軸は、配向膜16、26に対するラビング方向と平行である。
Here, when the
このように構成した液晶装置100において、バックライト装置(図示せず)から出射されたバックライト光は、素子基板10の側から入射して対向基板20の側から表示光として出射される間に液晶層50によって光変調され、画像を表示する。
In the
(シールド構造)
図4(a)、(b)は、本発明の実施の形態1に係る液晶装置100の端部を拡大して示す断面図、および平面図である。
(Shield structure)
4A and 4B are an enlarged cross-sectional view and a plan view showing an end portion of the
本形態の液晶装置100において、液晶層50を駆動するための画素電極7aおよび共通電極9aは、いずれも素子基板10側に形成されており、共通電極9aは対向基板20の側に形成されていない。このため、対向基板20は外部からの静電気の侵入に対してシールド機能を備えていないので、静電気によって液晶層50の配向が乱れ、適正な表示を行なえなくなるという問題点がある。そこで、本形態では、図4(a)、(b)に示すように、対向基板20の外面20fの全面あるいは略全面にITO膜からなる透光性のシールド用導電膜25が形成されている。一方、素子基板10において張り出し領域10sには、基板間接続用電極106が形成されており、基板間接続用電極106から延びた配線107は、複数の端子108のうち、端子108aに接続している。また、対向基板20の外面20f側において基板縁20cから所定の距離d1だけ隔てた位置には、シールド用導電膜25を覆うように、樹脂フィルムからなるシート偏光板51が粘着剤55により接合されており、対向基板20の基板縁20c付近では、シールド用導電膜25が露出した状態にある。さらに、素子基板10の張り出し領域10sおよび対向基板20の基板縁20cに跨るように塗布型導電膜61が形成されており、基板間接続用電極106とシールド用導電膜25とは塗布型導電膜61により電気的に接続されている。従って、素子基板10の張り出し領域10sにおいて端子108にフレキシブル基板(図示せず)を接続すると、シールド用導電膜25が素子基板10およびフレキシブル基板を介してグランドに接続されるので、静電気を外部に逃がすことができ、静電気の侵入によって液晶層50の配向が乱れることを防止することができる。
In the
ここで、塗布型導電膜61は、常温硬化性の導電ペースト60(塗布材料)を、印刷法、ディスペンサーからの吐出法、マスクで部分的に被った状態でのスプレー法などの方法で塗布後、常温硬化させてなる層である。かかる導電ペースト60は、銀粉やカーボン粉などの導電粒子をバインダ樹脂とともにトルエンなどの芳香族系溶剤やアルコール系溶剤などからなる有機溶剤に分散させた組成を有している。このため、導電ペースト60を塗布する際、導電ペースト60が偏光板51の接合領域にはみ出すおそれがある。そこで、本形態では、対向基板20の外面20fの側には、偏光板51と塗布型導電膜61との間で塗布型導電膜61の偏光板51側における塗布範囲を制限する撥液処理層28が形成されている。本形態において、撥液処理層28は、フッ素系樹脂あるいはシリコン系樹脂などの撥液性樹脂からなり、対向基板20の外面20fにおいて、偏光板51の側端面511に所定の隙間を隔てた位置で側端面511に沿って直線状に形成されている。
Here, the coating-type conductive film 61 is applied after a room-temperature curable conductive paste 60 (coating material) is applied by a printing method, a discharge method from a dispenser, or a spray method in a state of being partially covered with a mask. It is a layer obtained by curing at room temperature. The
(液晶装置100の製造方法1、および本形態の主な効果)
本形態の液晶装置100を製造するにあたっては、素子基板10および対向基板20を各々多数枚取りできる大型基板の状態で各種薄膜を形成した後、大型基板同士を貼り合わせ、しかる後に単品サイズの液晶パネル100pに切り出していく方法、あるいは単品サイズの素子基板10および対向基板20を貼り合わせて、液晶パネル100pを得る方法が採用される。これらのいずれの方法でも、対向基板20の外面20fにITO膜をスパッタ法により形成してシールド用導電膜25を形成しておき、液晶パネル100pの状態で、対向基板20の外面20fに対する偏光板51の接合工程、および塗布型導電膜61の形成を行なう。撥液処理層28の形成は、塗布型導電膜61の形成工程の前であれば、素子基板10と対向基板20とを貼り合わる前、あるいは素子基板10と対向基板20とを貼り合わせて液晶パネル100pとした後のいずれであってもよい。但し、偏光板51を対向基板20に粘着剤55で接合した後、撥液処理層28を形成する場合、撥液処理層28を形成する際に偏光板51や粘着剤55が侵されないように、流動性の低い樹脂材料、有機溶剤を一切、含まない無溶剤タイプの樹脂材料、有機溶剤が少量の少溶剤タイプの樹脂材料、比較的樹脂材料に対する膨潤性が低い弱溶剤タイプの樹脂材料を用いる。
(Manufacturing method 1 of the
In manufacturing the
このような製造方法のうち、例えば、上記の各工程を以下の順
(1)偏光板51の接合工程
(2)撥液処理層28の形成工程
(3)塗布型導電膜61の形成工程
に行なう場合、塗布型導電膜61の形成工程において、塗布型導電膜61を形成するための導電ペースト60を塗布する際、対向基板20の外面20fの側には、偏光板51の側端面511に沿って撥液処理層28が直線状に形成されている。このため、導電ペースト60は、偏光板51が接合されている側まではみ出すことがない。それ故、偏光板51が導電ペースト60と接触することがないので、導電ペースト60に含まれていた有機溶剤によって偏光板51が部分的に白濁するなどの問題点が発生しない。それ故、偏光板51については、対向基板20の基板縁20cから短い距離d1を隔てた位置に配置することができ、表示に直接、寄与しない領域を狭くすることができる。
In such a manufacturing method, for example, the above steps are performed in the following order: (1) bonding step of polarizing plate 51 (2) formation step of liquid repellent treatment layer 28 (3) formation step of coating type conductive film 61 When performing, in the formation process of the coating type conductive film 61, when the
(液晶装置100の製造方法2、および本形態の主な効果)
本形態の液晶装置100を製造するにあたっては、上記の工程を以下の順
(1)撥液処理層28の形成工程
(2)偏光板51の接合工程
(3)塗布型導電膜61の形成工程
に行なう場合でも、塗布型導電膜61の形成工程において、塗布型導電膜61を形成するための導電ペースト60を塗布する際、対向基板20の外面20fの側には、偏光板51の側端面511に沿って撥液処理層28が直線状に形成されている。このため、導電ペースト60は、偏光板51が接合されている側まではみ出すことがない。それ故、偏光板51が導電ペースト60と接触することがないので、導電ペースト60に含まれていた有機溶剤によって偏光板51が部分的に白濁するなどの問題点が発生しない。それ故、偏光板51については、対向基板20の基板縁20cから短い距離d1を隔てた位置に配置することができ、表示に直接、寄与しない領域を狭くすることができる。
(
In manufacturing the
また、偏光板51を接合する前に撥液処理層28を形成するため、撥液処理層28を形成するための材料として、有機溶剤を含んでいる材料を用いても、撥液処理層28を形成し終えた段階で有機溶剤が除去されていれば、偏光板51が劣化するおそれがないという利点がある。
Further, since the liquid
(液晶装置100の製造方法3、および本形態の主な効果)
本形態の液晶装置100を製造するにあたっては、上記の工程を以下の順
(1)撥液処理層28の形成工程
(2)塗布型導電膜61の形成工程
(3)偏光板51の接合工程
に行なう場合には、塗布型導電膜61の形成工程において、塗布型導電膜61を形成するための導電ペースト60を塗布する際、対向基板20の外面20fの側には、偏光板51を接合すべき領域の端縁に沿って撥液処理層28が直線状に形成されている。このため、導電ペースト60は、偏光板51を接合すべき領域まではみ出すことがない。従って、偏光板51と対向基板20との間に塗布型導電膜61が入り込んだ状態となることを確実に防止することができる。それ故、偏光板51については、対向基板20の基板縁20cから短い距離d1を隔てた位置に配置することができ、表示に直接、寄与しない領域を狭くすることができる。また、偏光板51を接合する前に撥液処理層28を形成するため、撥液処理層28を形成するための材料として、有機溶剤を含んでいる材料を用いても、撥液処理層28を形成し終えた段階で有機溶剤が除去されていれば、偏光板51が劣化するおそれがないという利点がある。
(Manufacturing method 3 of the
In manufacturing the
[実施の形態2]
図5(a)、(b)は、本発明の実施の形態2に係る液晶装置100の端部を拡大して示す断面図、および平面図である。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示し、それらの説明を省略する。
[Embodiment 2]
FIGS. 5A and 5B are an enlarged cross-sectional view and a plan view showing an end portion of the
図5(a)、(b)に示すように、本形態の液晶装置100においても、実施の形態1と同様、対向基板20には共通電極が形成されていないので、対向基板20において液晶層50が位置する内面20e側とは反対側の外面20fの全面あるいは略全面にITO膜からなる透光性のシールド用導電膜25を形成してある。一方、素子基板10において張り出し領域10sには、基板間接続用電極106が形成されており、基板間接続用電極106から延びた配線107は、複数の端子108のうち、端子108aに接続している。また、張り出し領域10sおよび対向基板20の基板縁20cに跨るように塗布型導電膜61が形成されており、基板間接続用電極106とシールド用導電膜25とは塗布型導電膜61により電気的に接続されている。
As shown in FIGS. 5A and 5B, in the
このような構成を採用するにあたって、本形態では、対向基板20の外面20fの側には、偏光板51と塗布型導電膜61との間で塗布型導電膜61の偏光板51側における塗布範囲を制限する撥液処理層28が形成されている。
In adopting such a configuration, in this embodiment, the coating range on the
本形態において、撥液処理層28は、フッ素系樹脂あるいはシリコン系樹脂からなり、対向基板20の外面20fにおいて、偏光板51の側端面511に所定の隙間を隔てた位置で側端面511に沿って直線状に延びた第1部分281と、第1部分281から対向基板20の基板縁20cに向けて延びた一対の第2部分282とを備えている。従って、対向基板20の外面20fにおいて、塗布型導電膜61は、第1部分281と第2部分282とにより囲まれた領域内に形成されている。
In the present embodiment, the liquid
このように構成した場合も、実施の形態1と同様、以下に示す順
(1)偏光板51の接合工程
(2)撥液処理層28の形成工程
(3)塗布型導電膜61の形成工程
で各工程を行なうと、塗布型導電膜61の形成工程において、塗布型導電膜61を形成するための導電ペースト60を塗布する際、対向基板20の外面20fの側には、偏光板51の側端面511に沿って撥液処理層28が形成されているため、導電ペースト60は、偏光板51が接合されている側まではみ出すことがない。しかも、撥液処理層28は、偏光板51の側端面511に沿って直線状に延びた第1部分281と、第1部分281から対向基板20の基板縁20cに向けて延びた第2部分282とを備えているため、導電ペース60が第1部分281を回り込んで偏光板51が配置される側にはみ出すといった事態の発生を確実に回避することができる。従って、偏光板51が導電ペースト60と接触することがないので、導電ペースト60に含まれていた有機溶剤によって偏光板51が部分的に白濁するなどの問題点が発生しない。それ故、偏光板51については、対向基板20の基板縁20cから短い距離d1を隔てた位置に配置することができ、表示に直接、寄与しない領域を狭くすることができるなど、実施の形態1と同様な効果を奏する。
Even in this configuration, as in the first embodiment, the following order (1) Bonding process of polarizing plate 51 (2) Formation process of liquid repellent treatment layer 28 (3) Formation process of coating type conductive film 61 In each step, when applying the
また、以下に示す順
(1)撥液処理層28の形成工程
(2)偏光板51の接合工程
(3)塗布型導電膜61の形成工程
で各工程を行なう場合も、塗布型導電膜61の形成工程において、塗布型導電膜61を形成するための導電ペースト60を塗布する際、対向基板20の外面20fの側には、偏光板51の側端面511に沿って撥液処理層28が形成されているため、導電ペースト60は、偏光板51が接合されている側まではみ出すことがない。それ故、偏光板51が導電ペースト60と接触することがないので、導電ペースト60に含まれていた有機溶剤によって偏光板51が部分的に白濁するなどの問題点が発生しない。また、偏光板51を接合する前に撥液処理層28を形成するため、撥液処理層28を形成するための材料として、有機溶剤を含んでいる材料を用いても、かかる有機溶剤によって、偏光板51が劣化するおそれがないという利点がある。
Further, the following order (1) Step of forming the liquid-repellent treatment layer 28 (2) Step of bonding the polarizing plate 51 (3) When performing each step in the step of forming the coating type conductive film 61, the coating type conductive film 61 In the forming step, when applying the
さらに、以下に示す順
(1)撥液処理層28の形成工程
(2)塗布型導電膜61の形成工程
(3)偏光板51の接合工程
で各工程を行なうと、塗布型導電膜61の形成工程において、塗布型導電膜61を形成するための導電ペースト60を塗布する際、対向基板20の外面20fの側には、偏光板51を接合すべき領域の端縁に沿って撥液処理層28が形成されているため、導電ペースト60は、偏光板51を接合すべき領域まではみ出すことがない。それ故、偏光板51と対向基板20との間に塗布型導電膜61が入り込んだ状態となることを確実に防止することができる。
Further, in the following order: (1) Step of forming the liquid repellent treatment layer 28 (2) Step of forming the coating type conductive film 61 (3) When each step is performed in the bonding step of the
[実施の形態3]
図6(a)、(b)は、本発明の実施の形態3に係る液晶装置100の端部を拡大して示す断面図、および平面図である。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示し、それらの説明を省略する。
[Embodiment 3]
FIGS. 6A and 6B are an enlarged cross-sectional view and a plan view showing an end portion of the
図6(a)、(b)に示すように、本形態の液晶装置100においても、実施の形態1と同様、対向基板20には共通電極が形成されていないので、対向基板20において液晶層50が位置する内面20e側とは反対側の外面20fの全面にITO膜からなる透光性のシールド用導電膜25を形成してある。一方、素子基板10において張り出し領域10sには、基板間接続用電極106が形成されており、基板間接続用電極106から延びた配線107は、複数の端子108のうち、端子108aに接続している。また、張り出し領域10sおよび対向基板20の基板縁20cに跨るように塗布型導電膜61が形成されており、基板間接続用電極106とシールド用導電膜25とは塗布型導電膜61により電気的に接続されている。
As shown in FIGS. 6A and 6B, in the
このような構成を採用するにあたって、本形態では、対向基板20の外面20fの側には、偏光板51と塗布型導電膜61との間で塗布型導電膜61の偏光板51側における塗布範囲を制限する撥液処理層28が形成されている。
In adopting such a configuration, in this embodiment, the coating range on the
本形態において、撥液処理層28は、フッ素系樹脂あるいはシリコン系樹脂からなり、対向基板20の外面20f側において、偏光板51の側端面511に覆うように直線状に形成されている。ここで、撥液処理層28は、偏光板51を対向基板20に接合する前、あるいは偏光板51を対向基板20に接合した後に形成された層である。ここで、撥液処理層28を形成する際、偏光板51や粘着剤が侵されないように、有機溶剤を一切、含まない無溶剤タイプの樹脂材料、有機溶剤が少量の少溶剤タイプの樹脂材料、比較的樹脂材料に対する膨潤性が低い弱溶剤タイプの樹脂材料を用いる。
In this embodiment, the liquid
このように構成した場合も、以下に示す順
(1)偏光板51の接合工程
(2)偏光板51の側端面511への撥液処理層28の形成工程
(3)塗布型導電膜61の形成工程
で各工程を行なうと、塗布型導電膜61の形成工程において、塗布型導電膜61を形成するための導電ペースト60を塗布する際、対向基板20の外面20fの側には、偏光板51の側端面511に沿って撥液処理層28が形成されているため、導電ペースト60は、偏光板51が接合されている側まではみ出すことがない。それ故、偏光板51が導電ペースト60と接触することがないので、導電ペースト60に含まれていた有機溶剤によって偏光板51が部分的に白濁するなどの問題点が発生しない。それ故、偏光板51については、対向基板20の基板縁20cから短い距離d1を隔てた位置に配置することができ、表示に直接、寄与しない領域を狭くすることができるなど、実施の形態1と同様な効果を奏する。しかも、撥液処理層28と偏光板51の側端面511との間に無駄なスペースが発生しないので、偏光板51については、実施の形態1に比較してもさらに短い距離d1を隔てた位置に配置することができ、表示に直接、寄与しない領域を狭くすることができる。
Even in such a configuration, the following order (1) Bonding step of polarizing plate 51 (2) Formation step of liquid
また、以下に示す順
(1)偏光板51の側端面511への撥液処理層28の形成工程
(2)偏光板51の接合工程
(3)塗布型導電膜61の形成工程
で各工程を行なう場合でも、塗布型導電膜61の形成工程において、塗布型導電膜61を形成するための導電ペースト60を塗布する際、対向基板20の外面20fの側には、偏光板51の側端面511に沿って撥液処理層28が形成されているため、導電ペースト60は、偏光板51が接合されている側まではみ出すことがない。それ故、偏光板51が導電ペースト60と接触することがないので、導電ペースト60に含まれていた有機溶剤によって偏光板51が部分的に白濁するなどの問題点が発生しない。
Further, in the following order: (1) Step of forming the
[実施の形態4]
図7(a)、(b)は、本発明の実施の形態4に係る液晶装置100の端部を拡大して示す断面図、および平面図である。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示し、それらの説明を省略する。
[Embodiment 4]
7A and 7B are an enlarged cross-sectional view and a plan view of an end portion of the
図7(a)、(b)に示すように、本形態の液晶装置100においても、実施の形態1と同様、対向基板20には共通電極が形成されていないので、対向基板20において液晶層50が位置する内面20e側とは反対側の外面20fの全面にITO膜からなる透光性のシールド用導電膜25を形成してある。一方、素子基板10において張り出し領域10sには、基板間接続用電極106が形成されており、基板間接続用電極106から延びた配線107は、複数の端子108のうち、端子108aに接続している。また、張り出し領域10sおよび対向基板20の基板縁20cに跨るように塗布型導電膜61が形成されており、基板間接続用電極106とシールド用導電膜25とは塗布型導電膜61により電気的に接続されている。
As shown in FIGS. 7A and 7B, in the
このような構成を採用するにあたって、本形態では、対向基板20の外面20fの側には、偏光板51と塗布型導電膜61との間で塗布型導電膜61の偏光板51側における塗布範囲を制限する撥液処理層28が形成されている。
In adopting such a configuration, in this embodiment, the coating range on the
本形態において、撥液処理層28は、フッ素系樹脂あるいはシリコン系樹脂からなり、偏光板51の側端面511に覆うように形成された直線状の第1部分286と、対向基板20の外面20fにおいて第1部分286から対向基板20の基板縁20cに向けて延びた一対の第2部分287とを備えている。従って、対向基板20の外面20fにおいて、塗布型導電膜61は、第1部分286と第2部分287とにより囲まれた領域内に形成されている。
In this embodiment, the liquid
ここで、撥液処理層28は、偏光板51を対向基板20に粘着剤55により接合する前、あるいは偏光板51を対向基板20に粘着剤55により接合した後に形成された層である。なお、撥液処理層28の第1部分286を形成する際、偏光板51や粘着剤55が侵されないように、有機溶剤を一切、含まない無溶剤タイプの樹脂材料、有機溶剤が少量の少溶剤タイプの樹脂材料、比較的樹脂材料に対する膨潤性が低い弱溶剤タイプの樹脂材料を用いる。また、撥液処理層28の第2部分287を形成する際、偏光板51や粘着剤55が侵されないように、流動性の低い樹脂材料、有機溶剤を一切、含まない無溶剤タイプの樹脂材料、有機溶剤が少量の少溶剤タイプの樹脂材料、比較的樹脂材料に対する膨潤性が低い弱溶剤タイプの樹脂材料を用いる。
Here, the
このように構成した場合も、以下に示す順
(1)偏光板51の接合工程
(2)偏光板51の側端面511および対向基板20への撥液処理層28の形成工程
(3)塗布型導電膜61の形成工程
で各工程を行なうと、塗布型導電膜61の形成工程において、塗布型導電膜61を形成するための導電ペースト60を塗布する際、対向基板20の外面20fの側には撥液処理層28が形成されているため、導電ペースト60は、偏光板51が接合されている側まではみ出すことがない。しかも、撥液処理層28は、偏光板51の側端面511に沿って直線状に延びた第1部分286と、第1部分286から対向基板20の基板縁20cに向けて延びた第2部分287とを備えているため、導電ペース60が第1部分286を回り込んで偏光板51が配置される側にはみ出すといった事態の発生を確実に回避することができる。従って、偏光板51が導電ペースト60と接触することがないので、導電ペースト60に含まれていた有機溶剤によって偏光板51が部分的に白濁するなどの問題点が発生しない。それ故、偏光板51については、対向基板20の基板縁20cから短い距離d1を隔てた位置に配置することができ、表示に直接、寄与しない領域を狭くすることができるなど、実施の形態1と同様な効果を奏する。
Even in such a configuration, the following order (1) Bonding process of polarizing plate 51 (2) Forming process of liquid
また、以下に示す順
(1)偏光板51の側端面511への第1部分286の形成工程
(2)偏光板51の接合工程
(3)対向基板20への第2部分287の形成工程
(4)塗布型導電膜61の形成工程
で各工程を行なう場合でも、塗布型導電膜61の形成工程において、塗布型導電膜61を形成するための導電ペースト60を塗布する際、対向基板20の外面20fの側には撥液処理層28が形成されているため、導電ペースト60は、偏光板51が接合されている側まではみ出すことがない。それ故、偏光板51が導電ペースト60と接触することがないので、導電ペースト60に含まれていた有機溶剤によって偏光板51が部分的に白濁するなどの問題点が発生しない。
Further, the following order (1) Step of forming first portion 286 on
さらに、以下に示す順
(1)偏光板51の側端面511への第1部分286の形成工程
(2)対向基板20への第2部分287の形成工程
(3)偏光板51の接合工程
(4)塗布型導電膜61の形成工程
で各工程を行なう場合でも、塗布型導電膜61の形成工程において、塗布型導電膜61を形成するための導電ペースト60を塗布する際、対向基板20の外面20fの側には撥液処理層28が形成されているため、導電ペースト60は、偏光板51が接合されている側まではみ出すことがない。それ故、偏光板51が導電ペースト60と接触することがないので、導電ペースト60に含まれていた有機溶剤によって偏光板51が部分的に白濁するなどの問題点が発生しない。
Further, the following order: (1) Step of forming first portion 286 on
[その他の実施の形態]
上記実施の形態では、横電界を利用するタイプとしてFFS方式の液晶装置100に本発明を適用した例を説明したが、IPS方式の半透過反射型の液晶装置に本発明を適用してもよい。かかるIPS方式の液晶装置においては、共通の絶縁層の表面上には、薄膜トランジスタに接続された櫛歯状の画素電極と、複数の画素に跨って形成された櫛歯状の共通電極とが形成されている。
[Other embodiments]
In the above-described embodiment, an example in which the present invention is applied to the FFS
また、上記実施の形態では、半導体膜としてアモルファスシリコン膜を用いた例であったが、ポリシリコン膜や単結晶シリコン層を用いた素子基板10に本発明を適用してもよい。また、画素スイッチング素子として薄膜ダイオード素子(非線形素子)を用いた液晶装置に本発明を適用してもよい。
In the above embodiment, an amorphous silicon film is used as the semiconductor film. However, the present invention may be applied to the
[電子機器への搭載例]
次に、上述した実施形態に係る液晶装置100を適用した電子機器について説明する。図8(a)に、液晶装置100を備えたモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ2000は、表示ユニットとしての液晶装置100と本体部2010を備える。本体部2010には、電源スイッチ2001及びキーボード2002が設けられている。図8(b)に、液晶装置100を備えた携帯電話機の構成を示す。携帯電話機3000は、複数の操作ボタン3001及びスクロールボタン3002、並びに表示ユニットとしての液晶装置100を備える。スクロールボタン3002を操作することによって、液晶装置100に表示される画面がスクロールされる。図8(c)に、液晶装置100を適用した情報携帯端末(PDA:Personal Digital Assistants)の構成を示す。情報携帯端末4000は、複数の操作ボタン4001及び電源スイッチ4002、並びに表示ユニットとしての液晶装置100を備える。電源スイッチ4002を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が液晶装置100に表示される。
[Example of mounting on electronic equipment]
Next, an electronic apparatus to which the
なお、液晶装置100が適用される電子機器としては、図8に示すものの他、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、前述した液晶装置100が適用可能である。
Electronic devices to which the
7a・・画素電極、9a・・共通電極、10・・素子基板(第1基板)、10s・・素子基板の張り出し領域、20・・対向基板(第2基板)、20c・・対向基板の基板縁、25・・シールド用導電層、28・・撥液処理層、50・・液晶層、51・・第1の偏光板、52・・第2の偏光板、30・・薄膜トランジスタ(画素スイッチング素子)、100・・液晶装置、100a・・画素、106・・基板間接続用電極、281、286・・撥液処理層の第1部分、282、287・・撥液処理層の第2部分、511・・偏光板の側端面 7a ... Pixel electrode, 9a ... Common electrode, 10 ... Element substrate (first substrate), 10s ... Projection area of element substrate, 20 ... Counter substrate (second substrate), 20c ... Substrate of counter substrate Edge, 25... Conductive layer for shielding, 28... Liquid repellent layer, 50 .. Liquid crystal layer, 51 .. First polarizing plate, 52 .. Second polarizing plate, 30. ), 100... Liquid crystal device, 100 a... Pixel, 106.. Inter-substrate connection electrode 281, 286... First part of liquid repellent treatment layer, 282, 287. 511 .. Side end surface of polarizing plate
Claims (7)
前記第1基板において前記第2基板の基板縁から張り出した張り出し領域に基板間接続用電極が形成され、
前記第2基板において前記液晶層が位置する内面側とは反対側に位置する外面側に透光性のシールド用導電膜が形成され、
前記第2基板の外面側において前記基板縁から所定の距離だけ隔てた位置には前記シールド用導電膜を覆うように偏光板が接合され、
前記第1基板の前記張り出し領域および前記第2基板の前記基板縁に跨って前記基板間接続用電極と前記シールド用導電膜とを電気的に接続する塗布型導電膜が形成され、
前記第2基板の外面側には、前記偏光板と前記塗布型導電膜との間で当該塗布型導電膜の前記偏光板側における塗布範囲を制限する撥液処理層が形成されていることを特徴とする液晶装置。 A first substrate provided with a pixel electrode formed in each of a plurality of pixels, and a common electrode for forming an electric field between the pixel electrode, a second substrate disposed opposite to the first substrate, In a liquid crystal device having a liquid crystal layer held between the second substrate and the first substrate,
In the first substrate, an inter-substrate connection electrode is formed in a projecting region projecting from a substrate edge of the second substrate,
A translucent shielding conductive film is formed on the outer surface side opposite to the inner surface side on which the liquid crystal layer is positioned in the second substrate,
On the outer surface side of the second substrate, a polarizing plate is bonded so as to cover the shielding conductive film at a position separated by a predetermined distance from the substrate edge,
A coating-type conductive film is formed to electrically connect the inter-substrate connection electrode and the shield conductive film across the overhang region of the first substrate and the substrate edge of the second substrate;
On the outer surface side of the second substrate, a liquid repellent treatment layer is formed between the polarizing plate and the coating-type conductive film to limit a coating range on the polarizing plate side of the coating-type conductive film. A characteristic liquid crystal device.
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