JP2008130897A - 集積回路のパターンレイアウト - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 一定間隔の固定ピッチ上にライン11とスペース12が固定線幅で周期的に繰り返し配置された第1のデバイスパターン10と、第1のデバイスパターン10の配列方向端部に離間配置され、ライン11の幅よりも2倍以上大きいライン21とスペース12の幅よりも2倍以上大きいスペース22が非周期的に配置された第2のデバイスパターン20とを具備した集積回路のパターンレイアウトにおいて、第1のデバイスパターン10の第2のデバイスパターン20に隣接する領域で、ライン31,33とスペース32の幅を広げることで露光量及びフォーカス変動に対するリソグラフィ・マージンを最大化するようにレイアウトを最適化した。
【選択図】 図2
Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係わる集積回路のレイアウトパターン(修正前)を示す平面図である。
なお、本発明は上述した実施形態に限定されるものではない。実施形態ではNANDフラッシュメモリの例を説明したが、周期的なライン&スペースパターンを有するものであれば、NANDフラッシュメモリに限らず各種の集積回路パターンに適用することができる。
11…補正前の制御ゲート配線(ワードライン)
12…補正前のスペース
13…補正前の選択ゲート脇ワードライン
20…第2のデバイスパターン
21…選択ゲート配線
22…選択ゲート間スペース
23…選択ゲート−ワードライン間スペース
31…補正後の制御ゲート配線(ワードライン)
32…補正後のスペース
33…補正後の選択ゲート脇ワードライン
100…第1タイプ形状
200…第2タイプ形状
Claims (5)
- 一定間隔の固定ピッチ上にラインとスペースが固定線幅で周期的に繰り返し配置された第1のデバイスパターンと、
第1のデバイスパターンの配列方向端部に隣接して配置され、前記ラインの幅よりも2倍以上大きいラインと前記スペースの幅よりも2倍以上大きいスペースが非周期的に配置された第2のデバイスパターンと、
を具備し、
前記第1のデバイスパターンの前記第2のデバイスパターンに隣接する領域で、前記ラインとスペースの幅を広げることにより、露光量及びフォーカス変動に対するリソグラフィ・マージンを最大化するようにレイアウトを最適化していることを特徴とする集積回路のパターンレイアウト。 - 前記第1のデバイスパターンは、前記ラインとスペースがリソグラフィの最小寸法で形成され、且つ両端に前記ラインを配置していることを特徴とする請求項1記載の集積回路のパターンレイアウト。
- 前記第2のデバイスパターンは、前記ラインとスペースが前記最小寸法の2〜10倍の寸法を有しており、且つ両端に前記スペースを配置していることを特徴とする請求項2記載の集積回路のパターンレイアウト。
- 前記第1のデバイスパターンの前記第2のデバイスパターンに隣接する領域で広げられた前記ラインと前記スペースの幅は、前記最小寸法の120%以下であることを特徴とする請求項2記載の集積回路のパターンレイアウト。
- 前記第1のデバイスパターンは、NANDフラッシュメモリのメモリセル部の制御ゲート配線であり、前記第2のデバイスパターンは、前記フラッシュメモリの選択ゲート配線であることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の集積回路のパターンレイアウト。
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