JP2008065977A - Program method for multi-level non-volatile memory device - Google Patents

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Dong-Hyuk Chae
蔡 東 ▲ヒュク▼
Daishaku Hen
邊 大 錫
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a program method for a multi-level non-volatile memory device. <P>SOLUTION: The device includes flag cells of at least one or more, and a plurality of multi-bit cells, preserved data includes the least significant bit and the highest order bit. The program method includes a step for programming a cell with the least significant bit so that threshold voltage of the programmed cell is higher than VR1 when reference voltage VR1, VR2, and VR3 are made VR1<VR2<VR3, a step for changing so that the threshold voltage of the programmed cell is higher than VR2 when the programmed cell preserves the third value or the fourth value, and a step for programming the cell with the highest order bit so as to have the threshold voltage being lower than the reference voltage VR1, the threshold voltage being higher than VR1 and lower than VR2, the threshold voltage being higher than VR2 and lower than the reference voltage VR3, and threshold voltage being higher than the reference voltage VR3 when the first value, the second value, the third value, and the fourth value are preserved. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、不揮発性メモリ装置に係り、特にマルチレベル不揮発性メモリ装置でのプログラム方法に関する。   The present invention relates to a nonvolatile memory device, and more particularly to a programming method in a multi-level nonvolatile memory device.

フラッシュメモリは、電力消費なしでデータを維持する形態のコンピュータメモリであって、不揮発性メモリとして特徴づけられる。フラッシュメモリは、ブロック単位でプログラム及び消去される。
フラッシュメモリは、セルと呼ばれるフローティングゲートトランジスタのアレイにデータを保存する。シングルレベルフラッシュメモリは、各セルにデータを一ビットずつ保存する。一方、マルチレベルフラッシュメモリは、セルのフローティングゲートに保存される電荷の量を多様にすることによって、各セルにデータを一ビット以上保存する。
Flash memory is a form of computer memory that maintains data without power consumption and is characterized as non-volatile memory. The flash memory is programmed and erased in units of blocks.
Flash memory stores data in an array of floating gate transistors called cells. A single level flash memory stores one bit of data in each cell. On the other hand, the multi-level flash memory stores one bit or more of data in each cell by diversifying the amount of charge stored in the floating gate of the cell.

図1は、フラッシュメモリの単一セル10を示す図である。フラッシュメモリは、ホウ素イオンなどでドーピングされたp型半導体基板11を備える。n型ソース領域12とn型ドレイン領域13とは、半導体基板11にリン、ヒ素またはアンチモンをドーピングして形成される。フローティングゲート14は、基板11上に形成され、基板と絶縁される。コントロールゲート15は、フローティングゲート14上に形成され、フローティングゲート14と絶縁される。フローティングゲート14は完全に絶縁されるため、フローティングゲートに保存される電荷はトラップされ、また、電力消費なしにフローティングゲートにデータを維持できる。   FIG. 1 is a diagram showing a single cell 10 of a flash memory. The flash memory includes a p-type semiconductor substrate 11 doped with boron ions or the like. The n-type source region 12 and the n-type drain region 13 are formed by doping the semiconductor substrate 11 with phosphorus, arsenic or antimony. The floating gate 14 is formed on the substrate 11 and insulated from the substrate. The control gate 15 is formed on the floating gate 14 and is insulated from the floating gate 14. Since the floating gate 14 is completely insulated, charges stored in the floating gate are trapped and data can be maintained in the floating gate without power consumption.

フラッシュメモリは、NORメモリまたはNANDメモリでありうる。フラッシュメモリの各形態は、各自の特徴を有する。例えば、NORフラッシュは、フローティングゲートに電荷をトラップするためにホットエレクトロン注入方式を使用し、そのフローティングゲートを放電するために量子トンネリング現象を必要とする。NANDフラッシュは、電荷のトラップ及び放電にいずれも量子トンネリング現象を利用する。   The flash memory can be a NOR memory or a NAND memory. Each form of flash memory has its own characteristics. For example, NOR flash uses a hot electron injection scheme to trap charge on the floating gate and requires a quantum tunneling phenomenon to discharge the floating gate. NAND flash utilizes quantum tunneling for both charge trapping and discharge.

NANDフラッシュメモリ装置は、ストリングで構成される。図2は、NANDフラッシュメモリのストリングの一例を示す図である。ストリングは、実際に200Aのように形成され、それを電気的に示せば、200Bのように表す。各ストリングは、直列に連結されたセルのグループである。各ストリングは、16個または32個のセルを備える。各ストリングは、ビットラインコンタクト210と連結されるビットラインを備える。そして、各ストリングは、ストリングを除去するための少なくとも一つ以上のゲートを備える。例えば、各ストリングは、選択ゲート220とコントロールゲート230とを備える。また、ストリングは、フローティングゲート240及びセルソースライン250を備える。   The NAND flash memory device is composed of strings. FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a string of the NAND flash memory. The string is actually formed as 200A, and if it is electrically shown, it is expressed as 200B. Each string is a group of cells connected in series. Each string comprises 16 or 32 cells. Each string includes a bit line connected to the bit line contact 210. Each string includes at least one gate for removing the string. For example, each string includes a selection gate 220 and a control gate 230. The string includes a floating gate 240 and a cell source line 250.

複数のストリングは、ページ形態で連結される。ワードラインは、ページの各ストリングのセルを連結する。複数のページは、ブロックで組み合わされる。図3は、フラッシュメモリブロックの一例を示す図である。フラッシュメモリ100は、ワードラインWL、ストリング選択ラインSSL及びグラウンド選択ラインGSLの電圧を制御するXデコーダ130を備える。フラッシュメモリ100は、また、ビットラインBLの電圧を制御するために、ページバッファ回路150を備える。フラッシュメモリ100は、ストリングで構成されるブロック110を備える。図3は、ストリング110_1,110_2及び110_Mのみを示しているが、ストリング110_2と110_Mとの間に他のストリングがさらに備えられる。ストリング110_1はビットラインBLeを、ストリング110_2はビットラインBLoを備える。フラッシュメモリ100はまた、ページで構成される。一つのページの例が110pで示される。   Multiple strings are concatenated in page form. A word line connects cells of each string on the page. Multiple pages are combined in blocks. FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a flash memory block. The flash memory 100 includes an X decoder 130 that controls the voltages of the word line WL, the string selection line SSL, and the ground selection line GSL. The flash memory 100 also includes a page buffer circuit 150 in order to control the voltage of the bit line BL. The flash memory 100 includes a block 110 composed of strings. FIG. 3 shows only the strings 110_1, 110_2, and 110_M, but another string is further provided between the strings 110_2 and 110_M. The string 110_1 includes a bit line BLe, and the string 110_2 includes a bit line BLo. The flash memory 100 is also composed of pages. An example of one page is shown at 110p.

各ストリングは、ストリング選択ラインSSL、グラウンド選択ラインGSL、WL<N−1>ないしWL<0>で番号が付けられたワードラインWL、及び共通ソースラインCSLに連結される。また、各ストリングは、ストリング選択トランジスタSST、グラウンド選択トランジスタGST、及びMCT<N−1>ないしMCT<0>で番号が付けられたメモリセルトランジスタMCTを備える。   Each string is connected to a string selection line SSL, a ground selection line GSL, a word line WL numbered by WL <N-1> to WL <0>, and a common source line CSL. Each string includes a string selection transistor SST, a ground selection transistor GST, and memory cell transistors MCT numbered by MCT <N−1> to MCT <0>.

フラッシュメモリ装置において、フローティングゲートの電荷の存在及び電荷量は、セルのしきい電圧に影響を及ぼす。セルのしきい電圧は、ソースとドレインとの間に電流が流れるためにコントロールゲートに印加されねばならない最小電圧を意味する。したがって、セルは、コントロールゲートに所定の電圧が印加され、ソースとドレインとの間に電流が流れるか否かにより読み取られる。実際に、センスアンプは、電流のフローを感知し、それを増幅するために使われる。   In flash memory devices, the presence and amount of charge on the floating gate affects the threshold voltage of the cell. The cell threshold voltage refers to the minimum voltage that must be applied to the control gate in order for current to flow between the source and drain. Therefore, the cell is read based on whether a predetermined voltage is applied to the control gate and a current flows between the source and the drain. In practice, the sense amplifier is used to sense and amplify the current flow.

マルチレベルフラッシュにおいて、電荷は、多様なレベルの量でセルのフローティングゲートに保存される。例えば、2ビットマルチレベルフラッシュにおいて、セルのフローティングゲートに保存される4個の区別された電荷量が存在しうる。この場合、セルは、フローティングゲートにトラップされた電荷のレベルによって、4個のしきい電圧のうちの一つで存在しうる。セルに保存された電荷の量(保存されたデータ値)は、コントロールゲートにテスト電圧を印加し、セルに電流のフロー如何を確認することによって決定される。2ビットマルチレベルフラッシュにおいて、セルの状態を決定するために、少なくとも3個以上の区別された読み取り電圧に対して電流が流れるか否かをテストする必要がある。   In multi-level flash, charge is stored in the cell's floating gate in various levels of quantities. For example, in a 2-bit multi-level flash, there can be four distinct charge quantities stored in the cell's floating gate. In this case, the cell can exist at one of four threshold voltages depending on the level of charge trapped in the floating gate. The amount of charge stored in the cell (stored data value) is determined by applying a test voltage to the control gate and checking the current flow through the cell. In 2-bit multilevel flash, it is necessary to test whether current flows for at least three or more distinct read voltages in order to determine the state of the cell.

マルチレベルフラッシュは、一つのメモリセルに2ビット以上を保存できる(2ビットフラッシュメモリ)。例えば、マルチレベルフラッシュは、一つのメモリセルに3ビットまたはそれ以上のビットを保存できる(nビットフラッシュメモリ、n、は3以上の自然数)。3ビットフラッシュメモリは、各セルごとに8(2)個の状態を有し、4ビットフラッシュは、16(2)個の状態を有する。同様に、5ビットフラッシュメモリは、各セルごとに32(2)個の状態を有する。かかるマルチレベルフラッシュの動作しきい電圧それぞれは、特定の範囲を超えるように設定されなければならず、隣接したしきい電圧間には、マージン以上の電圧差が存在しなければならない。したがって、マルチレベルフラッシュは、一つのセルに保存するビット数が多いほど、データ値によるフローティングゲートに保存される電荷量はさらに狭い範囲に設定されなければならず、さらに狭いマージンを有さなければならない。かかる狭い範囲とマージンとを具現するために、電荷がセルに正確に満たされなければならない。セルに電荷を供給することを“プログラムする”という。したがって、マルチレベルフラッシュメモリでのプログラムは、高度の正確性を要求する。 Multi-level flash can store 2 bits or more in one memory cell (2-bit flash memory). For example, multi-level flash can store 3 bits or more in one memory cell (n-bit flash memory, n is a natural number of 3 or more). A 3-bit flash memory has 8 (2 3 ) states for each cell, and a 4-bit flash has 16 (2 4 ) states. Similarly, a 5-bit flash memory has 32 (2 5 ) states for each cell. Each of the operation threshold voltages of such multi-level flash must be set to exceed a specific range, and there must be a voltage difference greater than a margin between adjacent threshold voltages. Therefore, in the multi-level flash, as the number of bits stored in one cell increases, the amount of charge stored in the floating gate according to the data value must be set to a narrower range and have a narrower margin. Don't be. In order to implement such a narrow range and margin, the cell must be accurately charged to the cell. Supplying a charge to a cell is called “programming”. Therefore, programming in multilevel flash memory requires a high degree of accuracy.

フラッシュメモリをプログラムするとき、プログラム動作が妨害されうる。例えば、電力が喪失されるか、またはフラッシュメモリ装置が不完全に分離されうる。かかる状況で、データは読み取り不能になる。したがって、フラッシュメモリ、特にマルチレベルフラッシュメモリをプログラムするのは、メモリ損失をもたらす。   When programming the flash memory, the program operation can be disturbed. For example, power may be lost or the flash memory device may be incompletely isolated. In such a situation, the data becomes unreadable. Therefore, programming flash memory, especially multi-level flash memory, results in memory loss.

本発明が解決しようとする課題は、高度の正確性でプログラムできるマルチレベル不揮発性メモリ装置でのプログラム方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a programming method in a multi-level non-volatile memory device that can be programmed with high accuracy.

前記課題を解決するための、少なくとも一つ以上のフラッグセルと複数個のマルチビット保存セルとを備え、各マルチビット保存セルは、表そうとするデータに使われる電荷の量を異ならせて保存でき、前記データは、最下位ビット(Least Significant Bit:LSB)及び最上位ビット(Most Significant Bit:MSB)を備える本発明の実施形態によるマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法は、基準電圧VR1、VR2及びVR3の大きさがVR1<VR2<VR3のとき、前記保存セルがプログラムされる場合、プログラムされた保存セルのしきい電圧が前記電圧VR1より高いように、前記保存セルを前記LSBでプログラムするステップと、前記プログラムされた保存セルが、それぞれ前記保存セルに第3値または第4値を保存することが要求される場合、前記プログラムされた保存セルのしきい電圧が前記電圧VR2より高いように、前記プログラムされた保存セルのしきい電圧を変更するステップと、前記保存セルに第1値を保存しようとする場合、前記電圧VR1より低いしきい電圧を有し、前記保存セルに第2値を保存しようとする場合、前記電圧VR1より高くて前記電圧VR2より低いしきい電圧を有し、前記保存セルに前記第3値を保存しようとする場合、前記電圧VR2より高くて前記電圧VR3より低いしきい電圧を有し、前記保存セルに前記第4値を保存しようとする場合、前記電圧VR3より高いしきい電圧を有するように、前記保存セルを前記MSBでプログラムするステップと、を含む。   In order to solve the above problems, the multi-bit storage cell includes at least one flag cell and a plurality of multi-bit storage cells, and each multi-bit storage cell stores different amounts of charge used for data to be represented. The data includes a least significant bit (LSB) and a most significant bit (MSB), and the programming method in the multi-level non-volatile memory according to the embodiment of the present invention may include a reference voltage VR1, When the storage cell is programmed when the magnitudes of VR2 and VR3 are VR1 <VR2 <VR3, the storage cell is programmed with the LSB so that the threshold voltage of the programmed storage cell is higher than the voltage VR1. And the programmed storage cell comprises: If it is required to store a third value or a fourth value in the storage cell, respectively, the programmed storage cell has a threshold voltage higher than the voltage VR2. A step of changing a threshold voltage, and when storing a first value in the storage cell, having a threshold voltage lower than the voltage VR1, and storing a second value in the storage cell, A threshold voltage higher than the voltage VR1 and lower than the voltage VR2, and when storing the third value in the storage cell, the threshold voltage is higher than the voltage VR2 and lower than the voltage VR3; If the storage cell is to store the fourth value, the storage cell is programmed with the MSB to have a threshold voltage higher than the voltage VR3.

前記課題を解決するための、少なくとも一つ以上のフラッグセルと複数個のマルチビット保存セルとを備え、各マルチビット保存セルは、表そうとするデータに使われる電荷の量を異ならせて保存でき、前記データは、LSB及びMSBを備えるマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法によってメモリを制御する本発明の実施形態による制御器は、前記プログラム方法が、基準電圧VR1、VR2及びVR3の大きさがVR1<VR2<VR3のとき、前記保存セルがプログラムされる場合、プログラムされた保存セルのしきい電圧が前記電圧VR1より高いように、前記保存セルを前記LSBでプログラムするステップと、前記プログラムされた保存セルが、それぞれ前記保存セルに第3値または第4値を保存することが要求される場合、前記プログラムされた保存セルのしきい電圧が前記電圧VR2より高いように、前記プログラムされた保存セルのしきい電圧を変更するステップと、前記保存セルに第1値を保存しようとする場合、前記電圧VR1より低いしきい電圧を有し、前記保存セルに第2値を保存しようとする場合、前記電圧VR1より高くて前記電圧VR2より低いしきい電圧を有し、前記保存セルに前記第3値を保存しようとする場合、前記電圧VR2より高くて前記電圧VR3より低いしきい電圧を有し、前記保存セルに前記第4値を保存しようとする場合、前記電圧VR3より高いしきい電圧を有するように、前記保存セルを前記MSBでプログラムするステップと、を含む。   In order to solve the above problems, the multi-bit storage cell includes at least one flag cell and a plurality of multi-bit storage cells, and each multi-bit storage cell stores different amounts of charge used for data to be represented. The controller controls the memory by a programming method in a multi-level non-volatile memory including LSB and MSB. The controller according to the embodiment of the present invention may be configured such that the programming method has a magnitude of the reference voltages VR1, VR2, and VR3. If the storage cell is programmed when VR1 <VR2 <VR3, the storage cell is programmed with the LSB so that the threshold voltage of the programmed storage cell is higher than the voltage VR1, and the program Each stored cell is required to store a third value or a fourth value in the storage cell, respectively. And changing the threshold voltage of the programmed storage cell such that the threshold voltage of the programmed storage cell is higher than the voltage VR2, and storing the first value in the storage cell. And having a threshold voltage lower than the voltage VR1 and storing the second value in the storage cell, the threshold voltage is higher than the voltage VR1 and lower than the voltage VR2, and the storage cell has the threshold voltage When the third value is to be stored, the threshold value is higher than the voltage VR2 and lower than the voltage VR3, and when the fourth value is stored in the storage cell, the threshold value is higher than the voltage VR3. Programming the storage cell with the MSB to have a voltage.

前記課題を解決するための、少なくとも一つ以上のフラッグセルと複数個のマルチビット保存セルとを備え、各マルチビット保存セルは、表そうとするデータに使われる電荷の量を異ならせて保存でき、前記データは、複数個のデータページにより表現される、本発明の実施形態によるマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法は、各プログラムされた保存セルが第1範囲及び複数個の続く範囲を含む複数個のしきい電圧範囲のうち一つに属するしきい電圧を有するように、前記複数個のデータページのうち少なくとも一つ以上のデータページを連続的にプログラムするステップと、前進した保存セルのしきい電圧が、先にプログラムされたセルの検証電圧より高い次の検証電圧より高いか、または同一にプログラムされるように、前記プログラムされたセルのしきい電圧を前進させるステップと、少なくとも一つ以上のフラッグセルを、プログラムされるデータページの情報を表すしきい電圧範囲に属するしきい電圧でプログラムするステップと、を含む。このとき、前記複数個の続く範囲は、それぞれ各自の検証電圧以上であり、それぞれ各自の読み取り電圧で読み取られ、所定の範囲に対応する読み取り電圧は、対応する検証電圧よりマージンMだけ低い。また、前記フラッグセルのしきい電圧範囲は、フラッグセルの検証電圧以上であり、フラッグセル読み取り電圧で読み取られ、前記フラッグセル読み取り電圧は、前記マージンより大きい増大したマージンだけ低い。   In order to solve the above problems, the multi-bit storage cell includes at least one flag cell and a plurality of multi-bit storage cells, and each multi-bit storage cell stores different amounts of charge used for data to be represented. The programming method in the multi-level non-volatile memory according to an embodiment of the present invention, wherein the data is represented by a plurality of data pages, each programmed storage cell includes a first range and a plurality of subsequent ranges. A step of continuously programming at least one data page of the plurality of data pages to have a threshold voltage belonging to one of a plurality of threshold voltage ranges, and an advanced storage cell; The previous threshold voltage is programmed higher than or equal to the next verification voltage higher than the verification voltage of the previously programmed cell. Comprising advancing a threshold voltage of the programmed cell, the method comprising: programming at least one or more flag cells in threshold voltage belonging to the threshold voltage ranges representing information of the data page to be programmed, the. At this time, each of the plurality of subsequent ranges is equal to or higher than the respective verification voltage, and is read at the respective read voltage, and the read voltage corresponding to the predetermined range is lower by the margin M than the corresponding verification voltage. Also, the threshold voltage range of the flag cell is equal to or higher than the verification voltage of the flag cell, and is read at the flag cell read voltage, and the flag cell read voltage is lower by an increased margin than the margin.

前記課題を解決するための、少なくとも一つ以上のフラッグセルと複数個のマルチビット保存セルとを備え、各マルチビット保存セルは、表そうとするデータに使われる電荷の量を異ならせて保存でき、前記データは、複数個のデータページにより表現されるマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法によってメモリを制御する本発明の実施形態による制御器は、前記プログラムが、各プログラムされた保存セルが第1範囲及び複数個の続く範囲を含む複数個のしきい電圧範囲のうちの一つに属するしきい電圧を有するように、前記複数個のデータページのうち少なくとも一つ以上のデータページを連続的にプログラムするステップと、前進した保存セルのしきい電圧が、先にプログラムされたセルの検証電圧より高い次の検証電圧より高いか、または同一にプログラムされるように、前記プログラムされたセルのしきい電圧を前進させるステップと、少なくとも一つ以上のフラッグセルを、プログラムされるデータページの情報を表すしきい電圧範囲に属するしきい電圧でプログラムするステップと、を含む。このとき、前記複数個の続く範囲は、それぞれ各自の検証電圧以上であり、それぞれ各自の読み取り電圧で読み取られ、所定の範囲に対応する読み取り電圧は、対応する検証電圧よりマージンMだけ低い。また、前記フラッグセルのしきい電圧範囲は、フラッグセルの検証電圧以上であり、フラッグセル読み取り電圧で読み取られ、前記フラッグセル読み取り電圧は、前記マージンより大きい増大したマージンだけ低い。   In order to solve the above problems, the multi-bit storage cell includes at least one flag cell and a plurality of multi-bit storage cells, and each multi-bit storage cell stores different amounts of charge used for data to be represented. The controller controls the memory by a programming method in a multi-level non-volatile memory represented by a plurality of data pages. The controller according to the embodiment of the present invention includes: At least one data page of the plurality of data pages is consecutive so as to have a threshold voltage belonging to one of a plurality of threshold voltage ranges including a first range and a plurality of subsequent ranges. Programmatically and the next verification voltage where the threshold voltage of the advanced storage cell is higher than the verification voltage of the previously programmed cell. Advancing a threshold voltage of the programmed cell to be programmed to be high or identical, and at least one or more flag cells to a threshold voltage range representing information of a data page to be programmed. Programming with the threshold voltage to which it belongs. At this time, each of the plurality of subsequent ranges is equal to or higher than the respective verification voltage, and is read at the respective read voltage, and the read voltage corresponding to the predetermined range is lower by the margin M than the corresponding verification voltage. Also, the threshold voltage range of the flag cell is equal to or higher than the verification voltage of the flag cell, and is read at the flag cell read voltage, and the flag cell read voltage is lower by an increased margin than the margin.

本発明によれば、マルチレベル不揮発性メモリ装置で高度の正確性でプログラムできる。   According to the present invention, a multi-level nonvolatile memory device can be programmed with a high degree of accuracy.

本発明と、本発明の動作上の利点及び本発明の実施によって達成される目的を十分に理解するためには、本発明の望ましい実施形態を例示する添付図面及び図面に記載された内容を参照しなければならない。
以下、添付された図面を参照して本発明の望ましい実施形態を説明することにより、本発明を詳細に説明する。各図面に付された同一参照符号は同一部材を示す。
本発明の実施形態は、二ビット以上のフラッシュメモリのようなマルチレベルフラッシュメモリ装置での高度の正確なプログラムを行う方法に関する。
For a full understanding of the present invention and the operational advantages of the present invention and the objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings illustrating the preferred embodiments of the invention and the contents described in the drawings. Must.
Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The same reference numerals in the drawings denote the same members.
Embodiments of the present invention relate to a method for highly accurate programming in a multi-level flash memory device, such as a two or more bit flash memory.

図4は、2ビットマルチレベルフラッシュでのセルのしきい電圧に対する四つの状態を示す図である。グラフ400で、x軸は、しきい電圧を表し、y軸は、プログラムされたセルのしきい電圧の確率分布を表す。セルのしきい電圧は、確率分布として表れ、セルの電荷についての状態は、特定の状態によりプログラムされたセルが特定のしきい電圧を有することを表す曲線で表れる。   FIG. 4 is a diagram illustrating four states for the threshold voltage of a cell in 2-bit multilevel flash. In graph 400, the x-axis represents the threshold voltage and the y-axis represents the probability distribution of the programmed cell threshold voltage. The threshold voltage of the cell appears as a probability distribution, and the state for the charge of the cell appears as a curve representing that the cell programmed with a particular state has a particular threshold voltage.

所定のセルのしきい電圧確率曲線は、それぞれ第1状態、第2状態、第3状態及び第4状態で表れる確率曲線410,420,430及び440の四つの可能なしきい電圧確率曲線のうちの一つのように分布される。理想的な場合、しきい電圧確率曲線410を有するセルは、テスト電圧VR1,VR2及びVR3のうちいずれか一つの電圧が印加されても電流を生成しない。また、しきい電圧確率曲線420を有するセルは、読み取り電圧VR1が印加されれば、電流を生成するが、読み取り電圧VR2及びVR3によってはそうではない。同様に、しきい電圧確率曲線430を有するセルは、読み取り電圧VR1及びVR2により電流を生成するが、読み取り電圧VR3によってはそうでなく、しきい電圧確率曲線440を有するセルは、いかなる読み取り電圧VR1,VR2及びVR3が印加されても電流を生成する。したがって、理想的な場合、三つの電圧VR1,VR2及びVR3それぞれに対してセルを読み取ることによって、セルが四つの状態のうちどの状態にあるかを区別できる。   The threshold voltage probability curve of a given cell is one of the four possible threshold voltage probability curves of probability curves 410, 420, 430, and 440 that are represented by the first state, the second state, the third state, and the fourth state, respectively. Distributed as one. In an ideal case, the cell having the threshold voltage probability curve 410 does not generate current even when any one of the test voltages VR1, VR2 and VR3 is applied. In addition, the cell having the threshold voltage probability curve 420 generates a current when the read voltage VR1 is applied, but this is not the case depending on the read voltages VR2 and VR3. Similarly, a cell with threshold voltage probability curve 430 will generate current with read voltages VR1 and VR2, but not with read voltage VR3, a cell with threshold voltage probability curve 440 will have any read voltage VR1. , VR2 and VR3 generate current even when applied. Therefore, in an ideal case, by reading the cell for each of the three voltages VR1, VR2 and VR3, it is possible to distinguish which of the four states the cell is in.

しきい電圧範囲420,430及び440と測定電圧VR1,VR2及びVR3との間にそれぞれマージンをおくことが望ましい。このマージンは、ディスタンスMで示される。このとき、ディスタンスMは、測定電圧からしきい電圧範囲420,430及び440それぞれの開始を表す隣接検証電圧VF1,VF2及びVF3までの距離を表す。   It is desirable to provide margins between the threshold voltage ranges 420, 430 and 440 and the measured voltages VR1, VR2 and VR3, respectively. This margin is indicated by a distance M. At this time, the distance M represents the distance from the measured voltage to the adjacent verification voltages VF1, VF2, and VF3 that represent the start of the threshold voltage ranges 420, 430, and 440, respectively.

正確なしきい電圧範囲が設計及び工程制約によって選択される一方、具体的な電圧は、単に例として提供される。そして、セルの状態は、いずれかの電圧範囲によって設定されるように計画される。例えば、第1状態410は、約−2V以下のしきい電圧を有するセルにより表れる。また、第2状態420は、約0.3ないし0.7Vの範囲のしきい電圧を有するセルにより表れる。同様に、第3状態430は、約1.3ないし1.7Vの範囲のしきい電圧を有するセルにより、第4状態440は、約2.3ないし2.7Vの範囲のしきい電圧を有するセルにより表れる。   While the exact threshold voltage range is selected by design and process constraints, the specific voltages are provided as examples only. The cell state is then planned to be set by any voltage range. For example, the first state 410 is represented by a cell having a threshold voltage of about −2V or less. The second state 420 is represented by a cell having a threshold voltage in the range of about 0.3 to 0.7V. Similarly, the third state 430 has a threshold voltage in the range of about 1.3 to 1.7V, and the fourth state 440 has a threshold voltage in the range of about 2.3 to 2.7V. Appears by cell.

前述したように、セルの可能なメモリ状態の個数が増加するにつれて、所定の状態に対応するしきい電圧範囲はさらに狭くなる。しきい電圧を測定電圧から区別させるマージンもそうである。したがって、高度の正確性によりセルそれぞれをプログラムするのが何より重要になる。
プログラムの正確性を向上させる方法のうち一つがISPP(Incremental Step Pulse Programming)方式である。図5は、ISPP方式を使用しない一般的なプログラム電圧の曲線形態を示す図である。
As described above, as the number of possible memory states of a cell increases, the threshold voltage range corresponding to a given state becomes even narrower. So is the margin that distinguishes the threshold voltage from the measured voltage. Therefore, it is of utmost importance to program each cell with a high degree of accuracy.
One of the methods for improving the accuracy of the program is the ISPP (Incremental Step Pulse Programming) method. FIG. 5 is a diagram showing a curve form of a general program voltage not using the ISPP method.

図6は、本発明の実施形態によるISPP方式によるプログラム電圧の波形を示す図である。図6に示した波形の使用は、図5の波形を使用する場合より、セルのしきい電圧の変動を減らすのに容易である。図6において、電気的信号600(Vpgm)は、パルスを備え、各パルスは、プログラム区間620を構成する時間だけの幅を有する。各パルスは、検証区間640を構成する時間だけの差をおいて発生しうる。連続的なパルスの各電圧は、例えば電圧630(ΔVpgm)だけずつ高くなる。このとき、電圧630(ΔVpgm)は、0.5Vでありうる。また、最初のパルス610は、15Vでありうる。連続的なパルスは、最大電圧650まで増大する。このとき、最大電圧650は、19Vでありうる。セルのしきい電圧は、適切なしきい電圧に達するかが分かるように、各パルスごとに、または3個のパルスごとにテストする場合のように周期的にテストされる。もし、適切なしきい電圧に達していなければ、追加的なパルスがセルに印加される。   FIG. 6 is a diagram illustrating a waveform of a program voltage according to the ISPP method according to an embodiment of the present invention. The use of the waveform shown in FIG. 6 is easier to reduce cell threshold voltage variations than when using the waveform of FIG. In FIG. 6, the electric signal 600 (Vpgm) includes a pulse, and each pulse has a width corresponding to the time constituting the program section 620. Each pulse may be generated with a difference of only the time constituting the verification interval 640. Each voltage of the continuous pulse is increased by, for example, a voltage 630 (ΔVpgm). At this time, the voltage 630 (ΔVpgm) may be 0.5V. Also, the first pulse 610 can be 15V. Continuous pulses increase to a maximum voltage of 650. At this time, the maximum voltage 650 may be 19V. The cell threshold voltage is tested periodically, such as when testing every pulse, or every three pulses, to see if an appropriate threshold voltage is reached. If the appropriate threshold voltage is not reached, an additional pulse is applied to the cell.

セルがプログラムされた後、セルは、セルが正確にプログラムされたか否かを確認するために読み取られる。例えば、しきい電圧は、十分に高く設定されたかが分かるためにテストされる。もし、そうでなければ、しきい電圧が十分に高くなるまで追加的なパルスが印加される。   After the cell is programmed, the cell is read to see if the cell was programmed correctly. For example, the threshold voltage is tested to see if it was set high enough. If not, additional pulses are applied until the threshold voltage is sufficiently high.

証明テスト電圧は、プログラムされたしきい電圧を検査するために使われる。検証電圧VFは、セルを読み取るために使われる読み取り電圧VRと異なる。例えば、前述したディスタンスMと関連して説明された検証電圧VF1,VF2及びVF3は、それぞれ対応する読み取り電圧VR1,VR2及びVR3より高い(図4参照)。   The verification test voltage is used to check the programmed threshold voltage. The verification voltage VF is different from the read voltage VR used to read the cell. For example, the verification voltages VF1, VF2, and VF3 described in connection with the distance M are higher than the corresponding read voltages VR1, VR2, and VR3 (see FIG. 4).

マルチビットメモリ装置の各セルの状態は、数字で表現される。例えば、2ビットフラッシュメモリにおいて、四つの可能なそれぞれの状態は、2ビット二進数で表現される。例えば、第1アンプログラム状態は、“11”で表現され、第2状態は、“01”で表現され、第3状態は、“10”で表現され、第4状態は、“00”で表現される。図7は、本発明の実施形態による2ビットメモリでの四つの状態を示す図面である。四つのそれぞれの状態に対する図7のしきい電圧確率分布700が示される。所定のセルが一つの時点で一つのしきい電圧を有し、しきい電圧は、四つの状態のうち一つに設定される。このとき、正確なしきい電圧は、確率曲線に対応する状態の分布を有する。   The state of each cell of the multi-bit memory device is represented by a number. For example, in a 2-bit flash memory, each of the four possible states is represented by a 2-bit binary number. For example, the first unprogrammed state is represented by “11”, the second state is represented by “01”, the third state is represented by “10”, and the fourth state is represented by “00”. Is done. FIG. 7 is a diagram illustrating four states in a 2-bit memory according to an embodiment of the present invention. The threshold voltage probability distribution 700 of FIG. 7 for each of the four states is shown. A given cell has one threshold voltage at one time, and the threshold voltage is set to one of four states. At this time, the accurate threshold voltage has a distribution of states corresponding to the probability curve.

2ビット二進数は、MSB及びLSBを含む。第1アンプログラム状態710で、MSB 712は“1”であり、LSB 718は“1”である。また、第2状態720で、MSB 722は“0”であり、LSB 728は“1”である。同様に、第3状態730で、MSB 732及びLSB 738はそれぞれ“1”及び“0”であり、第4状態740で、MSB 742及びLSB 748はそれぞれ“0”である。   The 2-bit binary number includes MSB and LSB. In the first unprogrammed state 710, the MSB 712 is “1” and the LSB 718 is “1”. Also, in the second state 720, the MSB 722 is “0” and the LSB 728 is “1”. Similarly, in the third state 730, the MSB 732 and LSB 738 are “1” and “0”, respectively, and in the fourth state 740, the MSB 742 and LSB 748 are each “0”.

前述したように、所望の範囲(前記四つの状態のうち一つ)のしきい電圧を有するようにフローティングゲートに対応する量の電荷を供給することによって、データは、セルに保存される。したがって、データは、セルをプログラムすることによって保存されるが、2ビットメモリでは、2ビットデータが各セルに保存される。要求されるならば、2ビットメモリセルは、データの一ビットのみでプログラムされることもある。また、データの最初のビットのみでプログラムされたセルは、後にデータの二番目のビットでプログラムされる。一つのセルに一つのビットがプログラムされるとき、そのセルは、LSBデータのみを含む。2ビットデータが一つのセルにプログラムされるとき、そのセルは、LSBデータ及びMSBデータをいずれも含む。必要な場合、セルにLSBデータを先にプログラム(及び検証)した後、MSBデータをプログラム(及び検証)する。このとき、プログラムは、ページ単位で行われる。このとき、物理的なページのLSBセルは、LSB論理ページと考慮され、物理的なページのMSBセルは、MSB論理ページと考慮される。したがって、物理的なページをプログラムする過程は、先にLSB論理ページをプログラム(及び検証)するステップと、次いでMSB論理ページをプログラム(及び検証)するステップと、を含む。   As described above, data is stored in the cell by supplying a corresponding amount of charge to the floating gate to have a threshold voltage in the desired range (one of the four states). Thus, data is stored by programming the cell, but in 2-bit memory, 2-bit data is stored in each cell. If required, a 2-bit memory cell may be programmed with only one bit of data. Also, a cell programmed with only the first bit of data is later programmed with the second bit of data. When one bit is programmed in one cell, that cell contains only LSB data. When 2-bit data is programmed into one cell, that cell contains both LSB data and MSB data. If necessary, the cell is first programmed (and verified) with LSB data and then the MSB data is programmed (and verified). At this time, the program is executed in units of pages. At this time, the LSB cell of the physical page is considered as the LSB logical page, and the MSB cell of the physical page is considered as the MSB logical page. Thus, the process of programming the physical page includes first programming (and verifying) the LSB logical page and then programming (and verifying) the MSB logical page.

図8は、本発明の実施形態によるセルにプログラムする方法を示す図である。ライン800Aは、セルにLSBデータのみがプログラムされる場合を表す。LSBデータのアンプログラム状態は、“1”である。そのセルにデータ“0”を保存しようとする場合、セルは、しきい電圧が“0”状態の範囲(>VF2)内に達したことが検証されるまでプログラムされる。かかるプログラムステップがP1で示される。 FIG. 8 is a diagram illustrating a method for programming a cell according to an embodiment of the present invention. Line 800A represents the case where only LSB data is programmed into the cell. The unprogrammed state of the LSB data is “1”. If data “0” is to be stored in the cell, the cell is programmed until the threshold voltage is verified to be within the range of the “0” state (> VF2 * ). Such a program step is indicated by P1.

LSBデータのみがセルに保存される場合、セルは、一つの電圧VR1により読み取られる。読み取り電圧VR1でセルに電流が流れれば、セルは、アンプログラム状態“1”と読み取られる。一方、読み取り電圧VR1でセルに電流が流れなければ、セルは“0”と読み取られる。   If only LSB data is stored in the cell, the cell is read with one voltage VR1. If a current flows through the cell at the read voltage VR1, the cell is read as an unprogrammed state “1”. On the other hand, if no current flows through the cell at the read voltage VR1, the cell is read as “0”.

隣接したセルが非常に近く位置するにつれて、隣接したセルについてのプログラムは、所定のセルのしきい電圧に影響を及ぼす。かかる現象をカップリング現象という。カップリング現象の影響を受けたセルのしきい電圧に対する電荷の電位により、確率曲線は広くなる。ライン800Bは、セルにLSBデータのみがプログラムされ、しきい電圧確率曲線がD1だけ拡張された場合を表す。   As adjacent cells are located very close, the program for the adjacent cells affects the threshold voltage of a given cell. Such a phenomenon is called a coupling phenomenon. The probability curve is broadened by the electric potential of the charge with respect to the threshold voltage of the cell affected by the coupling phenomenon. Line 800B represents the case where only LSB data is programmed into the cell and the threshold voltage probability curve is extended by D1.

本発明の実施形態によれば、LSBページがプログラムされた後にMSBページがプログラムされるとき、ライン800BのLSBデータ“1”は、ライン800Cのデータ“11”状態に対応し、P2で示されるプログラムステップを通じて、しきい電圧がライン800Cの“01”状態の範囲(>VF1)内に該当することが検証されるまでプログラムされる。また、ライン800BのLSBデータ“0”は、P3で示されるプログラムステップを通じて、しきい電圧がライン800Cの“10”状態の範囲(>VF2)内に該当することが検証されるまでプログラムされる。同様に、ライン800BのLSBデータ“0”は、P4で示されるプログラムステップを通じて、しきい電圧がライン800Cの“00”状態の範囲(>VF3)内に該当することが検証されるまでプログラムされる。各プログラムステップは、前述したISPP方式を使用できる。   According to the embodiment of the present invention, when the MSB page is programmed after the LSB page is programmed, the LSB data “1” of the line 800B corresponds to the data “11” state of the line 800C and is indicated by P2. Through the program steps, the threshold voltage is programmed until it is verified that it falls within the “01” state range (> VF1) of line 800C. Also, the LSB data “0” of the line 800B is programmed through the program step indicated by P3 until it is verified that the threshold voltage falls within the “10” state range (> VF2) of the line 800C. . Similarly, the LSB data “0” on line 800B is programmed through the program step indicated by P4 until it is verified that the threshold voltage falls within the “00” state range (> VF3) of line 800C. The Each program step can use the ISPP method described above.

メモリ装置からデータを読み取るとき、セルにLSBデータのみが保存されているか、またはLSBデータ及びMSBデータがいずれも保存されているかが分かる必要がある。なぜならば、例えば、単にLSBデータのみを読み取るためには、一つの読み取り電圧VR1を要求する一方、LSBデータ及びMSBデータをいずれも読み取るためには、三つの読み取り電圧VR1,VR2及びVR3が要求される。さらに、ライン800Bに示したように、LSBデータの“0”状態は、VR2の両側を含みうる。   When reading data from the memory device, it is necessary to know whether only LSB data is stored in the cell, or whether both LSB data and MSB data are stored. For example, to read only LSB data, one read voltage VR1 is required, while to read both LSB data and MSB data, three read voltages VR1, VR2, and VR3 are required. The Further, as indicated by line 800B, the “0” state of the LSB data can include both sides of VR2.

VF1は、VR1よりマージンMだけ高い。同様に、VF2及びVF3は、それぞれVR2及びVR3よりマージンMだけずつ高い。このとき、マージンMは、いずれも同じでありうる。マージンの存在は、メモリ装置の読み取りの正確性を向上させる。
したがって、本発明の実施形態は、MSBデータが保存されているかを表すセルを備える。このとき、かかるセルをMSBフラッグセルという。MSBフラッグセルと区別して、残りのセルは、データ保存セルという。MSBフラッグセルは、LSBデータのみが保存されているか、またはLSBデータ及びMSBデータがいずれも保存されているかに関係なく、保存されたデータを正確に読み取るために読み取られる。MSBデータがページに保存されているかを表すために、各ページは、少なくとも一つ以上のMSBフラッグセルを備える。
VF1 is higher than VR1 by a margin M. Similarly, VF2 and VF3 are higher by a margin M than VR2 and VR3, respectively. At this time, the margins M can be the same. The presence of the margin improves the reading accuracy of the memory device.
Accordingly, embodiments of the present invention comprise a cell that indicates whether MSB data is stored. At this time, such a cell is called an MSB flag cell. Different from the MSB flag cell, the remaining cells are called data storage cells. The MSB flag cell is read to accurately read the stored data regardless of whether only the LSB data is stored or whether both the LSB data and the MSB data are stored. Each page includes at least one MSB flag cell to indicate whether the MSB data is stored on the page.

ライン800Dは、アンプログラム状態“1”のMSBフラッグセルを示す。この状態は、MSBデータがプログラムされていないことを表すために使われる。ライン800Eは、“0”状態のMSBフラッグセルを示す。この状態は、MSBデータがプログラムされていることを表すために使われる。このとき、セルは、P5で示されるプログラムステップを通じて、しきい電圧がライン“0”状態の範囲(>VF3)内に該当することが検証されるまでプログラムされる。   Line 800D shows the MSB flag cell in the unprogrammed state “1”. This state is used to indicate that the MSB data is not programmed. Line 800E shows the MSB flag cell in the “0” state. This state is used to indicate that the MSB data is being programmed. At this time, the cell is programmed through the program step indicated by P5 until it is verified that the threshold voltage falls within the range of the line “0” state (> VF3).

前述したように、MSBフラッグの“0”状態は、MSBフラッグセルのしきい電圧がVF3より高くなるまでプログラムされる。この状態のしきい電圧がVR3よりマージンMだけ高いとしても、MSBフラッグは、VR2から増大したマージンだけの電圧で読み取られる。ここで、増大したマージンは、MEnhancedで示される。 As described above, the “0” state of the MSB flag is programmed until the threshold voltage of the MSB flag cell is higher than VF3. Even if the threshold voltage in this state is higher than VR3 by a margin M, the MSB flag is read with a voltage of only the margin increased from VR2. Here, the increased margin is indicated by M Enhanced .

意図しないにもかかわらず、セルのフローティングゲートから電荷が漏れることによって、“電荷損失”現象が発生しうる。電荷は、絶縁層の欠乏などの原因により損失されうる。電荷の損失は、しきい電圧が要求されるレベルより低くなる恐れがある。これは、しきい電圧の確率曲線を低い電圧方向に分布されるものとして表れる。   Despite unintentional, charge leakage from the cell's floating gate can cause a “charge loss” phenomenon. The charge can be lost due to a lack of an insulating layer. The loss of charge can be such that the threshold voltage is below the required level. This appears as a threshold voltage probability curve distributed in the lower voltage direction.

保存セルは、MSBフラッグセルより高いレベルのエラー訂正手段を有する。さらに、一つの保存セルでの電荷損失は、そのセルを読み取られなくするだけであるが、MSBフラッグセルでの電荷損失は、全体のページを読み取られなくする。したがって、MSBフラッグセルでの電荷損失は特に問題となりうる。   The storage cell has a higher level of error correction means than the MSB flag cell. Furthermore, charge loss in one storage cell only makes the cell unreadable, but charge loss in the MSB flag cell makes the entire page unreadable. Therefore, charge loss in the MSB flag cell can be a particular problem.

かかる理由により、増大したマージンMEnhancedは、MSBフラッグセルのフローティングゲートから電荷損失が発生しても、MSBフラッグセルを正確に読み取るために十分に大きく設定される。本発明の実施形態によれば、増大したマージンMEnhancedは、保存セルの“00”状態(ライン800Cの“00”)と同じ分布曲線を有するように、MSBフラッグの“0”状態が位置する。MSBフラッグセルの“0”状態を前記のように定義することによって、MSBフラッグセルは、電荷損失が発生しても正確に読み取られる。 For this reason, the increased margin M Enhanced is set sufficiently large to accurately read the MSB flag cell even if charge loss occurs from the floating gate of the MSB flag cell. According to the embodiment of the present invention, the MSB flag “0” state is positioned so that the increased margin M Enhanced has the same distribution curve as the storage cell “00” state (line 800C “00”). . By defining the “0” state of the MSB flag cell as described above, the MSB flag cell can be accurately read even if charge loss occurs.

図9は、本発明の実施形態によるマルチレベル不揮発性メモリ装置でのプログラム方法を示す図である。まず、保存セルのLSBデータがプログラムされる(S910)。前述したように、セルに“0”状態を保存するために、LSB論理ページは、しきい電圧がVF2より高いということが検証されるまでISPP方式によりプログラムされる。もし“1”状態が要求されるならば、別途のプログラムステップを行う必要がない。次いで、MSBデータは、“00”状態をプログラムするために使われるが(S920A)、同様に、しきい電圧がV3より高いということが検証されるまでISPP方式によりプログラムされる。このプログラムステップは、LSB状態“0”に電荷をさらに供給するためのISPP方式を使用する。 FIG. 9 is a diagram illustrating a programming method in a multi-level nonvolatile memory device according to an embodiment of the present invention. First, the LSB data of the storage cell is programmed (S910). As described above, to save the “0” state in the cell, the LSB logical page is programmed by the ISPP method until it is verified that the threshold voltage is higher than VF2 * . If a “1” state is required, there is no need to perform a separate program step. The MSB data is then used to program the "00" state (S920A), but is similarly programmed by the ISPP method until it is verified that the threshold voltage is higher than V3. This program step uses an ISPP scheme to further supply charge to the LSB state “0”.

MSBフラッグセルは、MSBデータがプログラムされたか否かを表すために、プログラムされていない“1”状態からプログラム状態“0”までプログラムされる。このプログラムステップは、“0”状態に達するように“1”状態に追加的な電荷を供給するためのISPP方式を含む。前述したように、MSBフラッグセルの“0”状態は、しきい電圧がVR3より高いということが検証されるまでプログラムされる。ステップS920A及びS920Bは、同じVR3電圧を使用して行われる。   The MSB flag cell is programmed from an unprogrammed “1” state to a programmed state “0” to indicate whether the MSB data has been programmed. This program step includes an ISPP scheme for supplying additional charge to the “1” state to reach the “0” state. As described above, the “0” state of the MSB flag cell is programmed until it is verified that the threshold voltage is higher than VR3. Steps S920A and S920B are performed using the same VR3 voltage.

次いで、MSBデータは、“01”及び“10”状態をプログラムするために使われる(S930)。このプログラムステップは、しきい電圧がそれぞれVF1及びVF2より高いということが検証されるまでプログラムすることによって、それぞれ“01”及び“10”状態に達するように、“1”及び“0”状態に追加的な電荷を供給するためのISPP方式を含む。“11”状態は、“1”状態のセルを残すことによって形成される。   The MSB data is then used to program the “01” and “10” states (S930). This programming step sets the “1” and “0” states to reach the “01” and “10” states, respectively, by programming until the threshold voltages are verified to be higher than VF1 and VF2, respectively. Includes ISPP scheme for supplying additional charge. The “11” state is formed by leaving a cell in the “1” state.

前述したように、フラッシュメモリのプログラム、特にマルチレベルフラッシュメモリのプログラムは、メモリ損失の危険を有する。特に、メモリ装置への電力中断及び/またはメモリ装置の不完全な分離などの場合にそうである。本発明の実施形態は、プログラム時に少なくとも一つ以上の追加的なステップを行うことによって、前記のような危険を減らす方法を提示する。   As described above, flash memory programs, especially multi-level flash memory programs, have a risk of memory loss. This is especially the case in the case of power interruption to the memory device and / or incomplete separation of the memory device. Embodiments of the present invention present a method for reducing such danger by performing at least one or more additional steps during programming.

本発明の実施形態は、次のメインメモリセルをプログラムする方法と、メインメモリセルがプログラムされる時にフラッグセルをプログラムする方法とをいずれも考慮する。後述するメインメモリセルをプログラムする方法及びフラッグセルをプログラムする方法は、互いに必ずしも相互依存的であるか、または結合関係を要するものではない。特に、後述するメインメモリセルをプログラムする方法は、後述するフラッグセルにプログラムする方法でない他の周知のフラッグセルのプログラム方法と結合できる。同様に、後述するフラッグセルをプログラムする方法は、後述するメインメモリセルにプログラムする方法でない他の周知のメインメモリセルのプログラム方法と結合できる。   Embodiments of the present invention consider both the method of programming the next main memory cell and the method of programming the flag cell when the main memory cell is programmed. The method for programming the main memory cell and the method for programming the flag cell, which will be described later, are not necessarily mutually dependent or require a coupling relationship. In particular, the method of programming the main memory cell described later can be combined with another known flag cell programming method that is not a method of programming the flag cell described later. Similarly, a method for programming a flag cell, which will be described later, can be combined with another known main memory cell programming method which is not a method for programming a main memory cell, which will be described later.

図10及び図11は、本発明の実施形態によるマルチレベル不揮発性メモリ装置でのプログラム方法を示す図である。まず、LSBデータが前述した方法によりプログラムされる(S1010、ライン1100A)。次いで、しきい電圧がVF2より高いということが検証されるまで、“0”状態がアドバンスト状態“A”に形成される(S1020、ライン1100B)。VF2でプログラムされた状態は、状態を“10”状態と定義する。ただし、この状態は、“10”または“00”状態が要求される時に形成される。MSBフラッグセルは、このステップでアンプログラム状態に残される(1110B)。次いで、“00”状態が要求される場合、しきい電圧がVF3より高いということが検証されるまで“A”状態をプログラムすることによって、“00”状態がプログラムされるか、または“10”状態が要求される場合、追加的なプログラムが行われない(S1030A、ライン1110C)。このとき、MSBフラッグは、しきい電圧がVF3より高いということが検証されるまで、MSBフラッグセルをプログラムすることによってプログラムされる(S1030B、ライン1110C)。プログラムステップS1030A及びS1030Bは、同時に行われるか、またはほぼ同時に行われる。最後に、“01”状態は、しきい電圧がVF1より高いということが検証されるまで、“1”状態をプログラムすることによってプログラムされる(S1040A、ライン1100D)。   10 and 11 are diagrams illustrating a programming method in a multi-level nonvolatile memory device according to an embodiment of the present invention. First, the LSB data is programmed by the method described above (S1010, line 1100A). The “0” state is then formed into the advanced state “A” until it is verified that the threshold voltage is higher than VF2 (S1020, line 1100B). The state programmed in VF2 defines the state as “10” state. However, this state is formed when a “10” or “00” state is required. The MSB flag cell is left unprogrammed at this step (1110B). Then, if the “00” state is required, the “00” state is programmed by programming the “A” state until it is verified that the threshold voltage is higher than VF3, or “10”. If the status is required, no additional programming is done (S1030A, line 1110C). At this time, the MSB flag is programmed by programming the MSB flag cell until it is verified that the threshold voltage is higher than VF3 (S1030B, line 1110C). Program steps S1030A and S1030B are performed simultaneously or nearly simultaneously. Finally, the “01” state is programmed by programming the “1” state until it is verified that the threshold voltage is higher than VF1 (S1040A, line 1100D).

図12は、本発明の実施形態によるLSBページについてのプログラム方法をさらに詳細に示す図である。まず、LSBデータがページバッファにロードされる(S1210)。このステップの実行において、ページバッファに備えられるラッチは、データが“0”であれば、プログラムが許容され、データが“1”であれば、プログラムが禁止されるように、LSBデータによって設定される。セルへのプログラムを禁止するために、適切なビットラインに電圧Vccが印加される。次いで、カウンタ“N”は、“1”に設定される(S1220)。セルは、適切なワードラインに電圧Vpgmを印加することによってプログラムされる(S1230)。プログラムされたワードラインの各セルは、そのセルのビットラインが禁止されていなければ、“0”にプログラムされる。   FIG. 12 is a diagram illustrating in more detail the programming method for the LSB page according to the embodiment of the present invention. First, LSB data is loaded into the page buffer (S1210). In executing this step, the latch provided in the page buffer is set by the LSB data so that if the data is “0”, the program is allowed, and if the data is “1”, the program is prohibited. The A voltage Vcc is applied to the appropriate bit line to inhibit programming to the cell. Next, the counter “N” is set to “1” (S1220). The cell is programmed by applying a voltage Vpgm to the appropriate word line (S1230). Each cell of the programmed word line is programmed to “0” if the bit line of that cell is not inhibited.

電圧Vpgmは、前述したISPP方式により定義される。例えば、第1プログラム試み(N=1)において、電圧は、図6の第1電圧レベル610に設定される。このプログラムステップが行われた後、テスト電圧VF2によるセル検証動作が行われる(S1240)。もしプログラムが終了すれば、すなわちしきい電圧は要求されるレベル(≧VF2)にあると検証されれば(S1250のYES)、プログラムは成功する(S1260)。一方、しきい電圧が成功的に検証されなければ(S1250のNO)、Nが最大Vpgm電圧(図6の630)に対応する最大レベルにあるかを決定する(S1270)。もし、Nが最大レベルになければ(S1270のNO)、Nは一つ増加し(S1280)、電圧Vpgmは、ΔVpgm(図6の630)だけ高くなる。そして、セルは、高くなったVpgmによりプログラムされる(S1230)。もし、Nが最大レベルにあるならば(S1270のYES)、プログラムは失敗する(S1290)。 The voltage Vpgm is defined by the ISPP method described above. For example, in the first program attempt (N = 1), the voltage is set to the first voltage level 610 of FIG. After this program step is performed, a cell verification operation using the test voltage VF2 * is performed (S1240). If the program ends, that is, if the threshold voltage is verified to be at the required level (≧ VF2 * ) (YES in S1250), the program will succeed (S1260). On the other hand, if the threshold voltage is not successfully verified (NO in S1250), it is determined whether N is at the maximum level corresponding to the maximum Vpgm voltage (630 in FIG. 6) (S1270). If N is not at the maximum level (NO in S1270), N increases by 1 (S1280), and the voltage Vpgm increases by ΔVpgm (630 in FIG. 6). The cell is then programmed with the increased Vpgm (S1230). If N is at the maximum level (YES in S1270), the program fails (S1290).

フラッシュメモリ装置は、プログラムの失敗が発生したページ及び/またはブロックのテーブルを備える。そして、このページ/ブロックは、不良でマークされ、ファイルシステムは、このページ/ブロックの使用を禁止する。   The flash memory device includes a table of pages and / or blocks in which a program failure has occurred. The page / block is then marked as bad and the file system prohibits the use of the page / block.

図13は、本発明の実施形態によるMSBページについてのプログラム方法をさらに詳細に示す図である。まず、MSBデータがページバッファにロードされる(S1310)。次いで、プログラムされたLSBデータの“0”状態がプログラムされるセルにより、しきい電圧がVF2より高いということが検証されるまで前進できる(S1311)。このステップS1311は、前述した図10及び図11の実施形態のように、本発明の実施形態によって使われる選択的なステップでありうる。前述した図8及び図9のような他の実施形態では、このステップを使わない。   FIG. 13 is a diagram illustrating in more detail a programming method for an MSB page according to an embodiment of the present invention. First, MSB data is loaded into the page buffer (S1310). The programmed LSB data “0” state can then be advanced by the programmed cell until it is verified that the threshold voltage is higher than VF2 (S1311). This step S1311 may be an optional step used by the embodiment of the present invention, such as the embodiment of FIGS. 10 and 11 described above. In other embodiments such as FIGS. 8 and 9 described above, this step is not used.

ページバッファは、“00”状態に設定される(S1312)。フラッグセルページバッファは、“0”のデータ状態をロードする(S1313)。次いで、カウンタNが“1”に設定される(S1314)。保存セル及びフラッグセルを備えるセルは、適切なワードラインにプログラム電圧Vpgmを印加することによってプログラムされる(S1315)。各セルは、そのセルのビットラインが禁止されていなければ“0”にプログラムされる。電圧Vpgmは、前述したISPP方式により定義される。このプログラムステップが行われた後、テスト電圧VF3によるセル検証動作が行われる(S1316)。もしプログラムが終了すれば、すなわち、しきい電圧は要求されるレベル(≧VF3)にあると検証されれば(S1317のYES)、プログラムは成功する。   The page buffer is set to the “00” state (S1312). The flag cell page buffer is loaded with a data state of “0” (S1313). Next, the counter N is set to “1” (S1314). The cell including the storage cell and the flag cell is programmed by applying the program voltage Vpgm to an appropriate word line (S1315). Each cell is programmed to “0” if the bit line of that cell is not inhibited. The voltage Vpgm is defined by the ISPP method described above. After this program step is performed, a cell verification operation using the test voltage VF3 is performed (S1316). If the program ends, that is, if it is verified that the threshold voltage is at the required level (≧ VF3) (YES in S1317), the program is successful.

一方、しきい電圧が成功的に検証されていなければ(S1317のNO)、Nが最大Vpgm電圧(図6の630)に対応する最大レベルにあるかを決定する(S1318)。もし、Nが最大レベルになければ(S1318のNO)、Nは一つ増加し(S1319)、電圧VpgmはΔVpgm(図6の630)だけ高くなる。そして、セルは、高くなったVpgmによりプログラムされる(S1315)。もし、Nが最大レベルにあるならば(S1318のYES)、プログラムは失敗する(S1327)。   On the other hand, if the threshold voltage has not been successfully verified (NO in S1317), it is determined whether N is at the maximum level corresponding to the maximum Vpgm voltage (630 in FIG. 6) (S1318). If N is not at the maximum level (NO in S1318), N increases by 1 (S1319), and the voltage Vpgm is increased by ΔVpgm (630 in FIG. 6). The cell is then programmed with the increased Vpgm (S1315). If N is at the maximum level (YES in S1318), the program fails (S1327).

プログラムが終了するか(S1317のYES)、またはプログラムが失敗した(S1318のYES)後に、ページバッファは、“01”及び“10”状態を有するように設定される(S1320)。次いで、Nが“1”に設定される(S1320b)。セルは、前述した方法でプログラムされる(S1321)。“01”状態についての証明がVF1により行われ、“10”状態についての証明がVF2により行われる(S1322)。もしプログラムが終了すれば(S1323のYES)、プログラムは成功する(S1324)。もしプログラムが終了しなければ(S1323のNO)、例えば、適切な電圧で証明されなければ、Nが最大レベルにあるかを決定する(S1325)。もし、Nが最大レベルになければ(S1325のNO)、Nは前進し、Vpgmは高くなり(S1326)、プログラムが再び行われる(S1321)。もし、Nが最大レベルにあるならば(S1325のYES)、プログラムは失敗する(S1327)。   After the program ends (YES in S1317) or the program fails (YES in S1318), the page buffer is set to have “01” and “10” states (S1320). Next, N is set to “1” (S1320b). The cell is programmed by the method described above (S1321). The proof for the “01” state is performed by VF1, and the proof for the “10” state is performed by VF2 (S1322). If the program ends (YES in S1323), the program succeeds (S1324). If the program does not end (NO in S1323), for example, if it is not proved by an appropriate voltage, it is determined whether N is at the maximum level (S1325). If N is not at the maximum level (NO in S1325), N moves forward, Vpgm increases (S1326), and the program is executed again (S1321). If N is at the maximum level (YES in S1325), the program fails (S1327).

前述した本発明の実施形態が2ビットマルチレベル不揮発性メモリ装置について記述されているが、これに限定されず、いかなるビットのマルチレベル不揮発性メモリ装置に対しても適用できる。例えば、本発明は、3ビットマルチレベル不揮発性メモリ装置にも適用される。3ビット装置の各セルは、“111”,“011”,“101”,“001”,“110”,“010”,“100”及び“000”の8個の状態を有する。3ビットメモリ装置は、LSBページ及びMSBページの代わりに、第1論理ページ、第2論理ページ及び第3論理ページを備える。このとき、3ビットメモリ装置は、第2ページがプログラムされる時を表す第1フラッグセル、及び第3ページがプログラムされる時を表す第2フラッグセルを備える。二つのフラッグセルが使われる実施形態において、例えば第1フラッグセルが、第2データページがプログラムされることを表すために“0”状態にプログラムされ、第2フラッグセルが、第3データページがプログラムされることを表すために“0”状態にプログラムされる。   Although the above-described embodiments of the present invention have been described for a 2-bit multi-level nonvolatile memory device, the present invention is not limited to this and can be applied to any bit multi-level nonvolatile memory device. For example, the present invention is also applied to a 3-bit multi-level nonvolatile memory device. Each cell of the 3-bit device has eight states of “111”, “011”, “101”, “001”, “110”, “010”, “100”, and “000”. The 3-bit memory device includes a first logical page, a second logical page, and a third logical page instead of the LSB page and the MSB page. At this time, the 3-bit memory device includes a first flag cell indicating when the second page is programmed and a second flag cell indicating when the third page is programmed. In an embodiment in which two flag cells are used, for example, the first flag cell is programmed to a “0” state to indicate that the second data page is programmed, and the second flag cell is programmed to the third data page. Programmed to "0" state to indicate that it is being programmed.

一方、第2ページがプログラムされる時及び第3ページがプログラムされる時を表す単一フラッグセルが備えられる。単一フラッグセルは、例えば最初に第2及び第3データページのうちいずれでもプログラムされていないことを表すアンプログラム“111”状態に設定される。また、フラッグセルは、第2データページがロードされることを表すための“010”状態にプログラムされ、第3データページがロードされることを表すための“000”状態にプログラムされる。本発明は、二つの場合にいずれも適用されるが、説明の便宜のために単一フラッグセルを備える場合について記述する。
3ビット以上のメモリ装置では、8個以上の状態が存在し、3個以上のフラッグセルが存在するか、または単一フラッグセルに3個以上の状態が存在する。
Meanwhile, a single flag cell is provided that represents when the second page is programmed and when the third page is programmed. The single flag cell is set to an unprogrammed “111” state, for example, indicating that it is not initially programmed in either the second or third data page. The flag cell is programmed to a “010” state to indicate that the second data page is loaded, and is programmed to a “000” state to indicate that the third data page is loaded. Although the present invention is applied to both cases, the case where a single flag cell is provided will be described for convenience of explanation.
In a memory device of 3 bits or more, there are 8 or more states and there are 3 or more flag cells, or there are 3 or more states in a single flag cell.

図14A及び図14Bは、本発明の実施形態による3ビットメモリ装置を示す図である。セルをどのようにプログラムするかについてのさらに詳細な説明は、前述した実施形態と類似している。かかる実施形態の特徴から、3ビットより多いビットのメモリ装置が推定される。   14A and 14B are diagrams illustrating a 3-bit memory device according to an embodiment of the present invention. A more detailed description of how to program a cell is similar to the previously described embodiment. From the features of such embodiments, memory devices with more than 3 bits are estimated.

図14A及び図14Bに示すように、まず、第1ページがプログラムされる(ライン1400、S1410)。フラッグセルは、最初に“111”状態を有する(ライン1401)。第1ページデータを予想しないインタラプトの発生から保護するために、“0”ビットが前進する(ライン1402、S1411)。このとき、フラッグセルは、“111”状態を維持する(ライン1403)。次いで、第2ページデータがプログラムされ(ライン1404、S1412)、フラッグセルは、第2データページがプログラムされることを表すレベルにプログラムされる(ライン1405、S1413)。例えば、フラッグセルは、“010”状態にプログラムされる。プログラムステップS1412及びS1413は、同時にまたはほぼ同時に発生しうる。   As shown in FIGS. 14A and 14B, first, the first page is programmed (lines 1400, S1410). The flag cell initially has a “111” state (line 1401). In order to protect the first page data from the occurrence of an unexpected interrupt, the “0” bit is advanced (lines 1402, S1411). At this time, the flag cell maintains the “111” state (line 1403). The second page data is then programmed (lines 1404, S1412) and the flag cell is programmed to a level that represents that the second data page is programmed (lines 1405, S1413). For example, the flag cell is programmed to the “010” state. Program steps S1412 and S1413 may occur simultaneously or nearly simultaneously.

第2ページデータ状態“01”,“10”及び“00”は、第2ページデータが予想しないインタラプトの発生によるデータ崩壊を防止するために前進できる(ライン1406、S1414)。このとき、フラッグセルはプログラムされない(ライン1407)。第3データページがプログラムされ(ライン1408、S1415)、フラッグセルは、第3データページがプログラムされることを表すレベルにプログラムされる(ライン1409、S1416)。例えば、フラッグセルは、“000”状態にプログラムされる。プログラムステップS1415及びS1416も、同時にまたはほぼ同時に発生しうる。   The second page data states “01”, “10”, and “00” can be advanced to prevent data corruption due to an unexpected interrupt of the second page data (lines 1406, S1414). At this time, the flag cell is not programmed (line 1407). The third data page is programmed (lines 1408, S1415) and the flag cell is programmed to a level indicating that the third data page is programmed (lines 1409, S1416). For example, the flag cell is programmed to the “000” state. Program steps S1415 and S1416 may also occur simultaneously or nearly simultaneously.

マルチレベル不揮発性メモリ装置は、データセルのプログラムに適用可能な構造を使用できる。図15は、本発明の実施形態による2ビットマルチレベル不揮発性メモリ装置を制御するバイアス条件を示す図表である。この図表は、本発明の実施形態による保存セル及びフラッグセルの消去、プログラム、禁止、読み取り及び検証に使われる。   The multi-level non-volatile memory device can use a structure applicable to data cell programming. FIG. 15 is a table showing bias conditions for controlling a 2-bit multi-level nonvolatile memory device according to an embodiment of the present invention. This chart is used for erasing, programming, inhibiting, reading and verifying storage cells and flag cells according to embodiments of the present invention.

図15の図表は、本発明の実施形態によるメモリセルアレイを動作するために印加される電圧を要約する。表の上位列は、行われるメモリ動作を定義する。この動作は、メモリの消去、メモリのプログラム、メモリのプログラムの禁止及びLSB、MSB、フラッグセルデータの読み取りを含む。各動作に対して、最初の行は、要求される動作の実行に使われる電圧が印加される各ラインを分類する。表の残りの列及び行は、上位列に列挙された要求される動作を行うために、最初の行に列挙された各ラインに印加される電圧を定義する。電圧は、0Vまたは20Vのように具体的な電圧で記述される。電圧は、また、VccまたはVpgmのように信号の形態で記述される。“Floating”は、該ラインが特別な電圧に設定されていないことを表す。“H”または“L”は、該ラインにハイ信号またはロー信号が伝達されることを表す。Vreadは、データを読み取るとき、選択されていないワードラインに印加される。Vpassは、プログラムするとき、選択されていないワードラインに印加される。   The diagram of FIG. 15 summarizes the voltages applied to operate a memory cell array according to an embodiment of the present invention. The upper column of the table defines the memory operation to be performed. This operation includes erasing the memory, programming the memory, prohibiting the memory program and reading the LSB, MSB, and flag cell data. For each operation, the first row classifies each line to which the voltage used to perform the required operation is applied. The remaining columns and rows of the table define the voltage applied to each line listed in the first row to perform the required action listed in the upper column. The voltage is described as a specific voltage such as 0V or 20V. The voltage is also described in the form of a signal, such as Vcc or Vpgm. “Floating” indicates that the line is not set to a special voltage. “H” or “L” indicates that a high signal or a low signal is transmitted to the line. Vread is applied to an unselected word line when reading data. Vpass is applied to unselected word lines when programming.

図16は、本発明の実施形態によるフラッシュメモリを備えるメモリシステムを示す図である。メモリシステムは、フラッシュメモリ1600及びメモリ制御器1610を備える。メモリ制御器1610は、フラッシュメモリ1600の動作を制御する。   FIG. 16 is a diagram illustrating a memory system including a flash memory according to an embodiment of the present invention. The memory system includes a flash memory 1600 and a memory controller 1610. The memory controller 1610 controls the operation of the flash memory 1600.

多くの図面が複数のしきい電圧曲線を有するセルを示し、この複数のしきい電圧曲線は、可能な状態をいずれも表現するために示される。そして、ある特定のセルは、特定の時間に一つのしきい電圧範囲を有することを理解せねばならない。さらに、プログラム状態に関する場合、プログラムは、単に要求される範囲で行われることを理解しなければならない。したがって、例えばプログラムセルが“00”状態でプログラムするステップが記述される場合、このプログラムステップは、単にかかる状態が要求された場合に限って行われる。要求される状態が既に達成された場合、セルは、それ以上の状態をプログラムしないことを理解しなければならない。   Many drawings show a cell having a plurality of threshold voltage curves, which are shown to represent any possible state. It should be understood that a particular cell has a threshold voltage range at a particular time. Furthermore, when it comes to program state, it must be understood that the program is simply done to the extent required. Thus, for example, if a program step is described in which the program cell is in the “00” state, this program step is performed only if such a state is required. It must be understood that if the required state has already been achieved, the cell will not program any further states.

以上のように、図面と明細書で最適の実施形態が開示された。ここで、特定の用語が使われたが、これは、単に本発明を説明するための目的で使われたものであり、意味限定や特許請求の範囲に記載された本発明の範囲を制限するために使われたものではない。したがって、当業者であれば、これから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的な保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想により決まらなければならない。   As described above, the optimal embodiment has been disclosed in the drawings and specification. Although specific terms are used herein, they are merely used to describe the present invention and limit the scope of the invention as defined in the meaning and claims. It was not used for that purpose. Accordingly, those skilled in the art will appreciate that various modifications and equivalent other embodiments are possible from this. Therefore, the true technical protection scope of the present invention must be determined by the technical idea of the claims.

本発明は、不揮発性メモリ装置関連の技術分野に適用可能である。   The present invention is applicable to a technical field related to a nonvolatile memory device.

フラッシュメモリの単一セルを示す図である。It is a figure which shows the single cell of flash memory. NANDフラッシュメモリのストリングの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the string of NAND flash memory. フラッシュメモリブロックの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a flash memory block. 2ビットマルチレベルフラッシュでのセルのしきい電圧についての四つの状態を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing four states for the threshold voltage of a cell in 2-bit multilevel flash. ISPP方式を使用しない一般的なプログラム電圧の曲線形態を示す図である。It is a figure which shows the curve form of the general program voltage which does not use an ISPP system. 本発明の実施形態によるISPP方式によるプログラム電圧の波形を示す図である。It is a figure which shows the waveform of the program voltage by the ISPP system by embodiment of this invention. 本発明の実施形態による2ビットメモリでの四つの状態を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating four states in a 2-bit memory according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態によるセルにプログラムする方法を示す図である。FIG. 4 illustrates a method for programming a cell according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態によるマルチレベル不揮発性メモリ装置でのプログラム方法を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a programming method in a multi-level nonvolatile memory device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態によるマルチレベル不揮発性メモリ装置でのプログラム方法を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a programming method in a multi-level nonvolatile memory device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態によるマルチレベル不揮発性メモリ装置でのプログラム方法を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a programming method in a multi-level nonvolatile memory device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態によるLSBページについてのプログラム方法をさらに詳細に示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating in more detail a programming method for an LSB page according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態によるMSBページについてのプログラム方法をさらに詳細に示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating in more detail a programming method for an MSB page according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態による3ビットメモリ装置を示す図である。FIG. 3 illustrates a 3-bit memory device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態による3ビットメモリ装置を示す図である。FIG. 3 illustrates a 3-bit memory device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態による2ビットマルチレベル不揮発性メモリ装置を制御するバイアス条件を示す図表である。6 is a chart showing bias conditions for controlling a 2-bit multi-level nonvolatile memory device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態によるフラッシュメモリを備えるメモリシステムを示す図である。1 is a diagram illustrating a memory system including a flash memory according to an embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

VF1,VF2,VF3 検証電圧
VR1,VR2,VR3 基準電圧
VF1, VF2, VF3 Verification voltage VR1, VR2, VR3 Reference voltage

Claims (28)

少なくとも一つ以上のフラッグセルと複数個のマルチビット保存セルとを備え、各マルチビット保存セルは、表そうとするデータに使われる電荷の量を異ならせて保存でき、前記データは、最下位ビット及び最上位ビットを備えるマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法において、
基準電圧VR1、VR2及びVR3の大きさがVR1<VR2<VR3のとき、
前記保存セルがプログラムされる場合、プログラムされた保存セルのしきい電圧が前記電圧VR1より高いように、前記保存セルを前記最下位ビットでプログラムするステップと、
前記プログラムされた保存セルが、それぞれ前記保存セルに第3値または第4値を保存することが要求される場合、前記プログラムされた保存セルのしきい電圧が前記電圧VR2より高いように、前記プログラムされた保存セルのしきい電圧を変更するステップと、
前記保存セルに第1値を保存しようとする場合、前記電圧VR1より低いしきい電圧を有し、
前記保存セルに第2値を保存しようとする場合、前記電圧VR1より高くて前記電圧VR2より低いしきい電圧を有し、
前記保存セルに前記第3値を保存しようとする場合、前記電圧VR2より高くて前記電圧VR3より低いしきい電圧を有し、
前記保存セルに前記第4値を保存しようとする場合、前記電圧VR3より高いしきい電圧を有するように、前記保存セルを前記最上位ビットでプログラムするステップと、を含み、
前記フラッグセルは、
前記最上位ビットがプログラムされるか否かを表すようにプログラムされることを特徴とするマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法。
The multi-bit storage cell includes at least one flag cell and a plurality of multi-bit storage cells, and each multi-bit storage cell can store different amounts of charge used for data to be represented. In a programming method in a multi-level non-volatile memory comprising a bit and a most significant bit,
When the magnitudes of the reference voltages VR1, VR2, and VR3 are VR1 <VR2 <VR3,
When the storage cell is programmed, programming the storage cell with the least significant bit such that a threshold voltage of the programmed storage cell is higher than the voltage VR1;
When the programmed storage cell is required to store a third value or a fourth value in the storage cell, respectively, the threshold voltage of the programmed storage cell is higher than the voltage VR2. Changing the threshold voltage of the programmed storage cell;
When the first value is stored in the storage cell, the threshold voltage is lower than the voltage VR1.
When storing the second value in the storage cell, the storage cell has a threshold voltage higher than the voltage VR1 and lower than the voltage VR2.
When storing the third value in the storage cell, the storage cell has a threshold voltage higher than the voltage VR2 and lower than the voltage VR3;
When storing the fourth value in the storage cell, programming the storage cell with the most significant bit to have a threshold voltage higher than the voltage VR3;
The flag cell is
A programming method in a multi-level nonvolatile memory, wherein the programming is performed to indicate whether the most significant bit is programmed.
前記プログラム方法は、
前記保存セルの最上位ビットデータがプログラムされることを表すために、前記電圧V3より高いしきい電圧を有するように前記フラッグセルをプログラムするステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法。
The programming method is:
The method of claim 1, further comprising: programming the flag cell to have a threshold voltage higher than the voltage V3 to indicate that the most significant bit data of the storage cell is programmed. Programming method in multi-level non-volatile memory.
前記フラッグセルをプログラムするステップは、
前記プログラムされた保存セルのしきい電圧を変更するステップが行われた後に行われることを特徴とする請求項1に記載のマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法。
The step of programming the flag cell comprises:
The method according to claim 1, wherein the programming is performed after the step of changing a threshold voltage of the programmed storage cell is performed.
前記保存セルを最上位ビットでプログラムするステップは、前記フラッグセルをプログラムするステップと同時に行われることを特徴とする請求項3に記載のマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法。   The method of claim 3, wherein the step of programming the storage cell with the most significant bit is performed simultaneously with the step of programming the flag cell. 前記フラッグセルをプログラムするステップは、前記変更するステップが行われた後に行われ、
前記最上位ビットデータをプログラムするステップは、前記フラッグセルをプログラムするステップが行われた後に行われることを特徴とする請求項1に記載のマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法。
The step of programming the flag cell is performed after the step of changing is performed,
The method of claim 1, wherein the step of programming the most significant bit data is performed after the step of programming the flag cell is performed.
前記マルチレベル不揮発性メモリは、フラッシュメモリであることを特徴とする請求項1に記載のマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法。   The method according to claim 1, wherein the multi-level non-volatile memory is a flash memory. 前記マルチレベル不揮発性メモリは、NANDメモリであることを特徴とする請求項6に記載のマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法。   7. The method of programming in a multi-level non-volatile memory according to claim 6, wherein the multi-level non-volatile memory is a NAND memory. 前記最下位ビット及び最上位ビットをプログラムするステップは、
それぞれISPP方式でプログラムされることを特徴とする請求項1に記載のマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法。
Programming the least significant bit and the most significant bit comprises:
The method of programming in a multi-level non-volatile memory according to claim 1, wherein each is programmed by the ISPP method.
前記プログラムされたセルのしきい電圧を変更するステップは、
ISPP方式でプログラムされることを特徴とする請求項1に記載のマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法。
Changing the threshold voltage of the programmed cell comprises:
The programming method in a multi-level nonvolatile memory according to claim 1, wherein the programming method is performed by an ISPP method.
前記プログラム方法は、
前記フラッグセルが、前記最上位ビットデータがプログラムされることを表す場合、前記最上位ビットデータを先に前記電圧VR1により読み取り、次いで、前記電圧VR2により読み取り、次いで、前記電圧VR3により読み取るステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法。
The programming method is:
If the flag cell indicates that the most significant bit data is to be programmed, the most significant bit data is read first by the voltage VR1, then by the voltage VR2, and then by the voltage VR3. The program method in the multi-level nonvolatile memory according to claim 1, further comprising:
前記フラッグセルは、VR1により読み取られることを特徴とする請求項10に記載のマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法。   The method of claim 10, wherein the flag cell is read by VR1. 前記フラッグセルは、VR2により読み取られることを特徴とする請求項10に記載のマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法。   The method of claim 10, wherein the flag cell is read by VR2. 前記電圧VR1は0Vであり、
前記電圧VR2は1ないし2Vであり、
前記電圧VR3は2.5ないし3.5Vであることを特徴とする請求項1に記載のマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法。
The voltage VR1 is 0V,
The voltage VR2 is 1 to 2V,
The method of claim 1, wherein the voltage VR3 is 2.5 to 3.5V.
少なくとも一つ以上のフラッグセルと複数個のマルチビット保存セルとを備え、各マルチビット保存セルは、表そうとするデータに使われる電荷の量を異ならせて保存でき、前記データは、最下位ビット及び最上位ビットを備える、マルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法によってメモリを制御する制御器において、
前記プログラム方法は、
基準電圧VR1、VR2及びVR3の大きさがVR1<VR2<VR3のとき、
前記保存セルがプログラムされる場合、プログラムされた保存セルのしきい電圧が前記電圧VR1より高いように、前記保存セルを前記最下位ビットでプログラムするステップと、
前記プログラムされた保存セルが、それぞれ前記保存セルに第3値または第4値を保存することが要求される場合、前記プログラムされた保存セルのしきい電圧が前記電圧VR2より高いように、前記プログラムされた保存セルのしきい電圧を変更するステップと、
前記保存セルに第1値を保存しようとする場合、前記電圧VR1より低いしきい電圧を有し、
前記保存セルに第2値を保存しようとする場合、前記電圧VR1より高くて前記電圧VR2より低いしきい電圧を有し、
前記保存セルに前記第3値を保存しようとする場合、前記電圧VR2より高くて前記電圧VR3より低いしきい電圧を有し、
前記保存セルに前記第4値を保存しようとする場合、前記電圧VR3より高いしきい電圧を有するように、前記保存セルを前記最上位ビットでプログラムするステップと、を含み、
前記フラッグセルは、前記最上位ビットがプログラムされるかを表すようにプログラムされることを特徴とする制御器。
The multi-bit storage cell includes at least one flag cell and a plurality of multi-bit storage cells, and each multi-bit storage cell can store different amounts of charge used for data to be represented. In a controller for controlling a memory by a programming method in a multi-level non-volatile memory, comprising a bit and a most significant bit,
The programming method is:
When the magnitudes of the reference voltages VR1, VR2, and VR3 are VR1 <VR2 <VR3,
When the storage cell is programmed, programming the storage cell with the least significant bit such that a threshold voltage of the programmed storage cell is higher than the voltage VR1;
When the programmed storage cell is required to store a third value or a fourth value in the storage cell, respectively, the threshold voltage of the programmed storage cell is higher than the voltage VR2. Changing the threshold voltage of the programmed storage cell;
When the first value is stored in the storage cell, the threshold voltage is lower than the voltage VR1.
When storing the second value in the storage cell, the storage cell has a threshold voltage higher than the voltage VR1 and lower than the voltage VR2.
When storing the third value in the storage cell, the storage cell has a threshold voltage higher than the voltage VR2 and lower than the voltage VR3;
When storing the fourth value in the storage cell, programming the storage cell with the most significant bit to have a threshold voltage higher than the voltage VR3;
The controller, wherein the flag cell is programmed to indicate whether the most significant bit is programmed.
前記プログラム方法は、
前記保存セルの最上位ビットデータがプログラムされることを表すために、前記電圧V3より高いしきい電圧を有するように前記フラッグセルをプログラムするステップをさらに含むことを特徴とする請求項14に記載の制御器。
The programming method is:
The method of claim 14, further comprising: programming the flag cell to have a threshold voltage higher than the voltage V3 to indicate that the most significant bit data of the storage cell is programmed. Controller.
前記フラッグセルをプログラムするステップは、
前記プログラムされた保存セルのしきい電圧を変更するステップが行われた後に行われることを特徴とする請求項15に記載の制御器。
The step of programming the flag cell comprises:
The controller of claim 15, wherein the controller is performed after a step of changing a threshold voltage of the programmed storage cell is performed.
前記保存セルを最上位ビットでプログラムするステップは、前記フラッグセルをプログラムするステップと同時に行われることを特徴とする請求項16に記載の制御器。   The controller of claim 16, wherein the step of programming the storage cell with the most significant bit is performed simultaneously with the step of programming the flag cell. 前記フラッグセルをプログラムするステップは、前記変更するステップが行われた後に行われ、
前記最上位ビットデータをプログラムするステップは、前記フラッグセルをプログラムするステップが行われた後に行われることを特徴とする請求項15に記載の制御器。
The step of programming the flag cell is performed after the step of changing is performed,
The controller of claim 15, wherein the step of programming the most significant bit data is performed after the step of programming the flag cell is performed.
前記マルチレベル不揮発性メモリは、フラッシュメモリであることを特徴とする請求項14に記載の制御器。   The controller of claim 14, wherein the multi-level non-volatile memory is a flash memory. 前記マルチレベル不揮発性メモリは、NANDメモリであることを特徴とする請求項19に記載の制御器。   The controller of claim 19, wherein the multi-level nonvolatile memory is a NAND memory. 少なくとも一つ以上のフラッグセルと複数個のマルチビット保存セルとを備え、各マルチビット保存セルは、表そうとするデータに使われる電荷の量を異ならせて保存でき、前記データは、複数個のデータページにより表現されるマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法において、
各プログラムされた保存セルが第1範囲及び複数個の続く範囲を含む複数個のしきい電圧範囲のうちの一つに属するしきい電圧を有するように、前記複数個のデータページのうち少なくとも一つ以上のデータページを連続的にプログラムするステップと、
前進した保存セルのしきい電圧が、先にプログラムされたセルの検証電圧より高い次の検証電圧より高いか、または同一にプログラムされるように、前記プログラムされたセルのしきい電圧を前進させるステップと、
少なくとも一つ以上のフラッグセルを、プログラムされるデータページの情報を表すしきい電圧範囲に属するしきい電圧でプログラムするステップと、を含み、
前記複数個の続く範囲は、
それぞれ各自の検証電圧以上であり、それぞれ各自の読み取り電圧で読み取られ、所定の範囲に対応する読み取り電圧は、対応する検証電圧よりマージンMだけ低く、
前記フラッグセルのしきい電圧範囲は、
フラッグセルの検証電圧以上であり、フラッグセル読み取り電圧で読み取られ、前記フラッグセル読み取り電圧は、前記マージンより大きい増大したマージンだけ低いことを特徴とするマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法。
The multi-bit storage cell includes at least one flag cell and a plurality of multi-bit storage cells, and each multi-bit storage cell can store different amounts of charge used for data to be represented. In a program method in a multi-level non-volatile memory represented by a data page of
At least one of the plurality of data pages such that each programmed storage cell has a threshold voltage that belongs to one of a plurality of threshold voltage ranges including a first range and a plurality of subsequent ranges. Continuously programming one or more data pages;
Advance the threshold voltage of the programmed cell so that the threshold voltage of the advanced storage cell is programmed higher than or equal to the next verification voltage higher than the verification voltage of the previously programmed cell. Steps,
Programming at least one or more flag cells with a threshold voltage belonging to a threshold voltage range representing information of a data page to be programmed;
The plurality of subsequent ranges are:
Each read voltage is equal to or higher than its own verification voltage, each read at its own read voltage, and the read voltage corresponding to the predetermined range is lower than the corresponding verification voltage by a margin M,
The threshold voltage range of the flag cell is
A programming method in a multi-level non-volatile memory, which is equal to or higher than a verification voltage of a flag cell, is read at a flag cell read voltage, and the flag cell read voltage is lower by an increased margin than the margin.
前記少なくとも一つ以上のフラッグセルは、
前記保存セルのしきい電圧が前進した後にプログラムされることを特徴とする請求項21に記載のマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法。
The at least one or more flag cells are
The method of claim 21, wherein the threshold voltage of the storage cell is programmed after advancing.
前記データページをプログラムするステップは、
前記少なくとも一つのフラッグセルをプログラムするステップと同時に行われることを特徴とする請求項21に記載のマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法。
The step of programming the data page comprises:
The method of claim 21, wherein the method is performed simultaneously with the step of programming the at least one flag cell.
前記少なくとも一つのフラッグセルをプログラムするステップは、
前記前進させるステップが行われた後に行われることを特徴とする請求項21に記載のマルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法。
Programming the at least one flag cell comprises:
The method of claim 21, wherein the step of advancing is performed after the step of advancing.
少なくとも一つ以上のフラッグセルと複数個のマルチビット保存セルとを備え、各マルチビット保存セルは、表そうとするデータに使われる電荷の量を異ならせて保存でき、前記データは、複数個のデータページにより表現される、マルチレベル不揮発性メモリでのプログラム方法によりメモリを制御する制御器において、
前記プログラム方法は、
各プログラムされた保存セルが第1範囲及び複数個の続く範囲を含む複数個のしきい電圧範囲のうちの一つに属するしきい電圧を有するように、前記複数個のデータページのうち少なくとも一つ以上のデータページを連続的にプログラムするステップと、
前進した保存セルのしきい電圧が、先にプログラムされたセルの検証電圧より高い次の検証電圧より高いか、または同一にプログラムされるように、前記プログラムされたセルのしきい電圧を前進させるステップと、
少なくとも一つ以上のフラッグセルを、プログラムされるデータページの情報を表すしきい電圧範囲に属するしきい電圧でプログラムするステップと、を含み、
前記複数個の続く範囲は、
それぞれ各自の検証電圧以上であり、それぞれ各自の読み取り電圧で読み取られ、所定の範囲に対応する読み取り電圧は、対応する検証電圧よりマージンMだけ低く、
前記フラッグセルのしきい電圧範囲は、
フラッグセルの検証電圧以上であり、フラッグセル読み取り電圧で読み取られ、前記フラッグセル読み取り電圧は、前記マージンより大きい増大したマージンだけ低いことを特徴とする制御器。
The multi-bit storage cell includes at least one flag cell and a plurality of multi-bit storage cells, and each multi-bit storage cell can store different amounts of charge used for data to be represented. In a controller for controlling a memory by a programming method in a multi-level nonvolatile memory represented by a data page of
The programming method is:
At least one of the plurality of data pages such that each programmed storage cell has a threshold voltage that belongs to one of a plurality of threshold voltage ranges including a first range and a plurality of subsequent ranges. Continuously programming one or more data pages;
Advance the threshold voltage of the programmed cell so that the threshold voltage of the advanced storage cell is programmed higher than or equal to the next verification voltage higher than the verification voltage of the previously programmed cell. Steps,
Programming at least one or more flag cells with a threshold voltage belonging to a threshold voltage range representing information of a data page to be programmed;
The plurality of subsequent ranges are:
Each read voltage is equal to or higher than its own verification voltage, each read at its own read voltage, and the read voltage corresponding to the predetermined range is lower than the corresponding verification voltage by a margin M,
The threshold voltage range of the flag cell is
A controller that is greater than or equal to a flag cell verification voltage and is read at a flag cell read voltage, the flag cell read voltage being lower by an increased margin than the margin.
前記少なくとも一つ以上のフラッグセルは、
前記保存セルのしきい電圧が前進した後にプログラムされることを特徴とする請求項25に記載の制御器。
The at least one or more flag cells are
26. The controller of claim 25, wherein the threshold voltage of the storage cell is programmed after advancing.
前記データページをプログラムするステップは、
前記少なくとも一つのフラッグセルをプログラムするステップと同時に行われることを特徴とする請求項25に記載の制御器。
The step of programming the data page comprises:
The controller of claim 25, wherein the controller is performed concurrently with the step of programming the at least one flag cell.
前記少なくとも一つのフラッグセルをプログラムするステップは、
前記前進させるステップが行われた後に行われることを特徴とする請求項25に記載の制御器。
Programming the at least one flag cell comprises:
26. The controller of claim 25, wherein the controller is performed after the advancing step is performed.
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