JP2008033306A - Defect correcting device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板上の欠陥に対してレーザーを照射することによって、欠陥を修正する欠陥修正装置に関する。 The present invention relates to a defect correction apparatus that corrects a defect by irradiating a laser on the defect on a substrate.
液晶表示装置等フラットパネルディスプレイ(FPD)や半導体ウエハを製造するフォトリソグラフィの製造工程において、大型ガラス基板や半導体基板等の基板上に発生した欠陥を、レーザー光によって修正する欠陥修正装置が一般的に用いられている(例えば特許文献1参照)。従来の欠陥修正装置において、製造工程で製造された基板を検査装置により欠陥部の画像データを画像処理し、基板上の欠陥が次製造工程に影響を与えない擬似欠陥か、修正が必要な真の欠陥かを自動的に判断し、この判断結果に基づいて欠陥を修正するものがある。しかし、欠陥検査装置は、欠陥の種類、大きさ、位置などの判定基準の設定条件によって誤判定を避けることができず、欠陥分類の判定精度に限界があった。そこで、オペレータがマクロ検査により検出された欠陥を顕微鏡等のミクロ検査装置を用いて詳細な観察(レビュー)をし、マクロ検査時に検出された欠陥の中から、修正する欠陥を選択することが行われている。
従来において、オペレータは全ての欠陥をレビューし、その欠陥を修正するのか、しないのかを判断し、修正する場合には、欠陥修正装置を操作して欠陥箇所にレーザー光を照射し、欠陥を修正している。各欠陥のレビュー時には、基板が載置されたステージをXY方向に移動させ、修正するか否かの判断の対象となる全ての欠陥を顕微鏡の観察位置に移動させて観察している。オペレータは常に欠陥修正装置の前で作業を行い、欠陥修正装置の操作と欠陥観察に気を使わなければならないため、オペレータの負荷が大きい。また、欠陥修正装置のタクトタイムは、処理する欠陥の数に依存しており、レビューと修正必要性有無の判断と欠陥の修正とをこの順で繰り返すのは非効率的である。 Conventionally, an operator reviews all defects, decides whether or not to correct the defect, and when correcting the defect, operates the defect correcting device to irradiate the defective portion with laser light to correct the defect. is doing. At the time of reviewing each defect, the stage on which the substrate is placed is moved in the X and Y directions, and all the defects to be determined whether or not to correct are moved to the observation position of the microscope and observed. Since the operator always works in front of the defect correction apparatus and has to be careful about the operation of the defect correction apparatus and the defect observation, the load on the operator is large. Further, the tact time of the defect correcting device depends on the number of defects to be processed, and it is inefficient to repeat the review, determination of necessity of correction, and correction of the defect in this order.
本発明は、上述した問題点に鑑みてなされたものであって、オペレータの負荷を軽減し、欠陥を効率的に修正することができる欠陥修正装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and it is an object of the present invention to provide a defect correction apparatus that can reduce the load on an operator and efficiently correct a defect.
本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので、基板上の欠陥を修正する欠陥修正装置において、修正工程よりも前の検査工程で検査された前記基板の検査データの欠陥位置情報に基づいて、レビュー対象となる欠陥を撮像する撮像部と、前記撮像部により撮像された各欠陥レビュー検査画像を縮小して一覧表示する表示部と、前記表示部により一覧表示された前期レビュー検査画像から修正する欠陥を選択する欠陥選択部と、前記欠陥選択部により選択された前期欠陥を修正する欠陥修正部と、前記撮像部と前記表示部と前記欠陥修正部を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and in a defect correction apparatus for correcting a defect on a substrate, defect position information of inspection data of the substrate inspected in an inspection process prior to the correction process. Based on the above, an imaging unit that images the defect to be reviewed, a display unit that displays a reduced list of each defect review inspection image captured by the imaging unit, and a previous review inspection that is displayed as a list by the display unit A defect selection unit that selects a defect to be corrected from an image, a defect correction unit that corrects a previous defect selected by the defect selection unit, a control unit that controls the imaging unit, the display unit, and the defect correction unit; It is provided with.
本発明によれば、オペレータの負荷を軽減し、欠陥を効率的に修正することができるという効果が得られる。 According to the present invention, it is possible to reduce an operator's load and to effectively correct a defect.
以下、図面を参照し、本発明を実施するための最良の形態について説明する。図1は、本発明の一実施形態による欠陥修正装置の構成を示すブロック図である。基板1は、修正の対象となるFPD用ガラス基板や半導体ウエハ基板等である。ステージ2は、基板1を支持すると共に、互いに直交するX方向およびY方向に基板1を移動させる二次元移動機構を備えている。照明光源3は欠陥観察用の光源である。照明光源3からの光は、レンズ12を透過し、ビームスプリッタ13によって反射され、対物レンズ14を介して基板1に照射される。これら照明光源3、レンズ12、ビームスプリッタ13、対物レンズ14の少なくとも照明光源3と対物レンズ14により欠陥を拡大視するレビュー検査部が構成されている。
The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a defect correction apparatus according to an embodiment of the present invention. The substrate 1 is an FPD glass substrate, a semiconductor wafer substrate, or the like to be corrected. The
レーザー光源4は、欠陥を修正するためのレーザー光を出力する。レーザー光源4からのレーザー光は、ミラー8によって反射され、レンズ9およびビームスプリッタ11,13を透過し、対物レンズ14を介して基板1上の欠陥に照射される。これらレーザー光源4、ミラー8、ビームスプリッタ11、13、対物レンズ14の少なくともレーザー光源4と対物レンズ14により、欠陥修正部が構成される。カメラ5は、例えばCCD(Charge Coupled Device)等の撮像素子を備えた撮像装置であり、被写体(基板1)の光像に基づいた画像信号を生成する。基板1の表面で反射した照明光源3からの光は、対物レンズ14、ビームスプリッタ13,11、およびレンズ10を介してカメラ5の受光面に入射する。
The
制御装置6は、欠陥修正装置全体を制御する機能を有しており、レーザー制御部61、画像処理部62、ステージ制御部63、操作部64、主制御部65、および記憶部66を備えている。また、制御装置6は、図示していないが、外部装置(例えば修正工程よりも前の上流源側の検査工程で検査された検査結果を示す検査データを管理する検査データサーバ)と通信を行うための通信インタフェース等の構成を備えている。
The
制御装置6において、レーザー制御部61は、レーザー光源4に印加される電圧を制御する等によって、レーザー光源4のon・offの制御や、on時に出力されるレーザー光のエネルギーの制御等を行う。画像処理部62は、カメラ5から出力された欠陥画像信号を間引き等により、縮小されたサムネイル画像データを生成する。ステージ制御部63はステージ2の駆動を制御する。
In the
操作部64は、オペレータによって操作されるキーボードやマウス等を備えており、操作結果に基づいた信号を生成する。主制御部65は、上記の構成を含む制御装置6の全体を制御するための演算やデータの入出力制御等を行う。記憶部66は各欠陥の検査データやサムネイル画像データ等が格納される半導体メモリまたはハードディスクドライブ等である。ディスプレイ7はサムネイル画像や欠陥データ等を表示するCRT(Cathode Ray Tube)ディスプレイまたは液晶表示ディスプレイ等の表示手段である。
The
次に、本実施形態による欠陥修正装置の動作を説明する。図2は、欠陥修正装置の動作を示すフローチャートである。欠陥修正装置の制御装置6は、図示せぬ通信回線を介して、検査データサーバから修正工程より上流側の検査工程で検査された基板全体の検査データ(欠陥リスト、欠陥データ)を取得し、記憶部66に格納する(ステップS201)。この検査データには、欠陥の位置を示す座標(位置情報)、欠陥の大きさ、および欠陥の種類を示すデータが含まれている。オペレータが操作部64を操作してレビュー検査を指示すると、操作部64は、オペレータによる指示に基づいた信号を主制御部65へ出力する。主制御部65は、この信号を検出すると、制御装置6の各部に対して動作の指示を出力する。
Next, the operation of the defect correction apparatus according to the present embodiment will be described. FIG. 2 is a flowchart showing the operation of the defect correction apparatus. The
主制御部65は記憶部66から基板1の検査データを読み出し、欠陥の大きさや位置等のデータに基づいて修正が不要な擬似欠陥と修正が必要な真の欠陥に分類し、検査データによって示される欠陥の中から、修正が必要なレビュー対象となる欠陥を選択する。主制御部65は、選択した欠陥の中の1つの欠陥の座標をステージ制御部63に通知すると共に、ステージ2の移動を指示する。指示を受けたステージ制御部63はステージ2を駆動し、通知された欠陥座標に基づいて、移動量を制御する。ステージ2は、選択された欠陥が対物レンズ14の視野領域に入る位置に基板1を移動する(ステップS202)。
The
照明光源3からの光は基板1によって反射され、前述したようにカメラ5の受光面に入射する。カメラ5は、対物レンズ14により所定の倍率に拡大された欠陥を撮像し、このレビュー検査画像信号を生成し、制御装置6へ出力する。制御装置6に入力されたレビュー検査画像信号は画像処理部62に入力される。画像処理部62は、レビュー検査画像信号に基づいてサムネイル画像データを生成し、主制御部65へ出力する。主制御部65はレビュー検査画像のサムネイル画像データを欠陥データと関連付けて記憶部66に格納する(ステップS203)。
The light from the
続いて、主制御部65は、上記の画像保存をまだ行っていないレビュー対象の欠陥があるか否かを判定する(ステップS204)。レビュー対象の欠陥がまだ残っている場合、処理はステップS202に戻り、上記の処理が繰り返される。一方、レビュー対象として選択された全欠陥のサムネイル画像データが記憶部66に保存された場合には、レビュー動作を終了し、処理は次のステップS205に進む。上述したように、前検査工程で検出されたレビュー対象欠陥の位置情報に基づいて全ての欠陥を撮像してレビュー検査画像を保存するレビュー動作が自動で行われる。
Subsequently, the
修正開始の指示が出された場合、主制御部65は記憶部66から全てのレビュー対象欠陥のサムネイル画像データ(あるいは一部のサムネイル画像データであってもよい)を読み出して、ディスプレイ7へ出力する。ディスプレイ7は、入力されたサムネイル画像データに基づいて、各欠陥のレビュー検査画像308を、縮小したサムネイル画像として、例えば図3に示すように一覧形式で表示する(ステップS205)。オペレータは、一覧表示されたレビュー検査画像のサムネイル画像を目視により確認し、操作部64のマウスを操作しながら、修正対象となる欠陥が表示されたレビュー検査画像にカーソル300を移動させて選択する。この際、オペレータは一覧表示されたレビュー検査画像から修正を必要とする複数の欠陥を選択することが可能である。操作部64からは、オペレータによる操作に基づいた信号が主制御部65に出力される。主制御部65は、その信号に基づいて、修正対象の欠陥を選択する(ステップS206)。
When a correction start instruction is issued, the
続いて、主制御部65は、選択した欠陥の中の1つの欠陥の座標をステージ制御部63に通知すると共に、ステージ2の移動を指示する。指示を受けたステージ制御部63はステージ2を駆動し、通知された欠陥座標に基づいて、移動量を制御する。ステージ2は、選択された欠陥が対物レンズ14の視野領域に入る位置に基板1を移動する(ステップS207)。続いて、主制御部65は、欠陥に対するレーザーの照射位置、形状をレーザー制御部61に指示する。指示を受けたレーザー制御部61は、レーザー光源4によるレーザー出力を制御する。レーザー光源4からのレーザーが基板1上の欠陥に照射され、所望の欠陥修正が行われる(ステップS208)。
Subsequently, the
続いて、主制御部65は、上記の欠陥修正をまだ行っていない修正対象の欠陥があるか否かを判定する(ステップS209)。修正対象の欠陥がまだ残っている場合、処理はステップS207に戻り、上記の処理が繰り返される。一方、修正対象として選択された全欠陥に対するレーザー光の照射が終了した場合には、一連の動作が終了する。
Subsequently, the
前述したように、従来においては、個々の欠陥を1つ1つ顕微鏡でレビューし、その都度、欠陥修正の必要性の判断を行っていたため、オペレータは常に欠陥修正装置の前で作業を行い、オペレータの負荷が大きかった。これに対して、本実施形態によれば、上流側の検査装置で検出された各欠陥の座標データに基づいて、各欠陥のレビュー動作が自動で行われて、そのレビュー動作で撮像された欠陥のサムネイル画像がディスプレイ7上に一覧表示され、その表示に基づいて、オペレータが修正対象の欠陥を一度に選択するようにしたので、オペレータによる操作の負担を軽減することができる。
As mentioned above, in the past, each defect was reviewed one by one with a microscope and the necessity of defect correction was determined each time, so the operator always worked in front of the defect correction device, The operator's load was heavy. On the other hand, according to this embodiment, based on the coordinate data of each defect detected by the upstream inspection apparatus, the defect review operation is automatically performed, and the defect imaged by the review operation is performed. Thumbnail images are displayed as a list on the
また、欠陥修正装置が前検査工程で検出された欠陥座標データに基づいて欠陥を自動的にレビューして撮像を行っている間は、オペレータは欠陥修正装置の前にいる必要がなくなるので、レビュー動作の間に他の装置を操作すること等ができるようになり、作業を効率的に行うことができる。当然、1人のオペレータが複数台の欠陥修正装置を操作することも可能となるので、欠陥修正を効率的に行うことができる。 In addition, the operator does not need to be in front of the defect correction device while the defect correction device automatically reviews and images the defect based on the defect coordinate data detected in the previous inspection process. It becomes possible to operate other devices during the operation, and the work can be performed efficiently. Of course, since one operator can operate a plurality of defect correction devices, defect correction can be performed efficiently.
また、レビューで撮像された各欠陥のサムネイル画像をディスプレイ7上に一覧表示することによって、オペレータは欠陥数や欠陥の様子・傾向等を視覚的に把握することができる。製造工程においては、欠陥修正に要する時間(修正処理時間)を短時間とすることが望まれるが、上記のように、欠陥数や欠陥の様子・傾向等の把握を可能としたことによって、オペレータが修正処理時間を考慮して修正対象の欠陥を効率的に選択することができる。例えば、修正処理時間を最短としなければならない場合には、オペレータは必要最低限、後の製造工程で問題となる重要な欠陥のみを選択すればよく、また、時間に余裕がある場合には、重要な欠陥以外の欠陥も選択すればよい。
In addition, by displaying thumbnail images of each defect imaged in the review on the
なお、ステップS208において、レーザー光を照射して欠陥を修正する前後の基板1をカメラ5で撮像した修正前画像と修正後画像のサムネイル画像を生成してもよい。この場合、レーザー制御部61はレーザー光源4のレーザー出力をoffとする。カメラ5はレーザー照射前後の基板1の表面を撮像して画像信号を生成し、制御装置6へ出力する。制御装置6の画像処理部62は、画像信号に基づいて欠陥修正前後のサムネイル画像データを生成し、主制御部65へ出力する。主制御部65はそのサムネイル画像データを、レーザー照射前のサムネイル画像データと関連付けたレーザー照射後のサムネイル画像データとして記憶部66に格納する。
In step S208, thumbnail images of the pre-correction image and the post-correction image obtained by capturing the substrate 1 before and after correcting the defect by irradiating the laser beam with the
主制御部65は、例えば修正対象の全欠陥に対するレーザー光の照射後、記憶部66からレーザー照射後のサムネイル画像データを読み出してディスプレイ7へ出力する。ディスプレイ7は、このサムネイル画像データに基づいて、修正後画像後のサムネイル画像310を、図3に示すよう一覧形式で修正前画像のサムネイル画像312と共に表示する。これによって、オペレータは、修正後画像を目視し、修正が正しく行われたか否かを確認することができる。再度の修正が必要な欠陥がある場合には、その欠陥を修正対象の欠陥として再登録し、前述した処理を再度繰り返せばよい。
The
次に、ディスプレイ7に表示される画面の例を説明する。図3は、表示画面の一例を示している。リペア開始ボタン301は、選択した欠陥に対するレーザー修正の開始を入力するためのボタンである。オペレータが例えばマウスを操作してカーソル300をリペア開始ボタン301に合わせ、マウスをクリックすると、図2のステップS206以降の処理が開始される。リペア中断ボタン302は、レーザー修正の中断を入力するためのボタンである。オペレータが上記と同様にカーソル300をリペア中断ボタン302に合わせ、マウスをクリックすると、レーザー光の照射が中断される。
Next, an example of a screen displayed on the
追加ボタン303は、修正対象の欠陥を欠陥修正装置に登録(追加)するためのボタンである。選択削除ボタン304は、修正対象の欠陥として欠陥修正装置に登録された欠陥の中から任意の欠陥の登録を解除するためのボタンである。全削除ボタン305は、選択削除ボタン304と同様の機能を持ち、修正対象の欠陥として欠陥修正装置に登録された全欠陥の登録を解除するためのボタンである。終了ボタン306は、全動作を終了するためのボタンである。
The
レビュー検査画像欄307は、レビュー動作時にカメラ5によって、処理対象の欠陥を撮像したレビュー検査画像を表示する領域である。図3においては、レビュー検査画像を縮小したサムネイル画像308a〜308eが一覧表示されている。オペレータが欠陥選択部であるマウスを操作してカーソル300をサムネイル画像308a〜308eのいずれかに合わせてマウスをクリックし、さらにカーソル300を追加ボタン303に合わせてマウスをクリックすると、指定したレビュー検査画像308cに表示された修正対象の欠陥が欠陥修正装置に登録され、登録されたサムネイル画像の枠が色や太線等で強調表示される。図3においては、枠が太線で強調表示されたサムネイル画像308a、308c、および308dが修正対象の欠陥として登録されている。
The review
リペア開始ボタン301がクリックされた場合にはレビュー検査画像欄307で選択されたサムネイル画像に表示されている欠陥に対して、欠陥修正が行われる。レビュー検査画像308a〜308eの選択の際には、オペレータがディスプレイ7上に一覧表示されたレビュー検査画像のサムネイル画像にカーソル300を合わせてクリックすることによって1つのレビュー検査画像を選択してもよいし、オペレータがマウスをドラッグして複数のレビュー検査画像を選択してもよい。
When the
修正前画像欄309は、修正対象として登録された欠陥にレーザー光を照射する前にカメラ5で撮像した欠陥修正前のサムネイル画像をレビュー検査画像308に対応付けて表示する領域である。図3においては、サムネイル308a、308c、および308dに対応したサムネイル310a、310c、および310dが表示されている。修正後画像欄311は、修正対象として登録された欠陥の修正後(レーザー照射後)のサムネイル画像をレビュー検査画像または修正前画像に対応付けて表示する領域である。図3においては、サムネイル310a、310c、および310dに対応した修正後のサムネイル312a、312c、および312dが表示されている。
The
欠陥リスト欄313は、レビュー検査画像欄307に表示されている各サムネイルに対応した欠陥データ(座標や大きさ等)を表示する領域である。修正対象として登録されたサムネイルに対応した欠陥データは、例えば未登録のサムネイルに対応した欠陥データとは異なる色で表示される。
The
なお、サムネイル画像中の欠陥が小さくて見にくい場合に、オペレータがカーソル300をレビュー検査画像欄307上の任意のサムネイル画像に合わせてダブルクリックするなど拡大指定すると、そのサムネイルに対応する縮小処理前のレビュー検査画像が記憶部66から読み出されて拡大表示されるようにしてもよい。あるいは、オペレータがカーソル300をレビュー検査画像欄307上のサムネイルに合わせてダブルクリックすると、そのサムネイル画像に表示された欠陥がカメラ5により再度撮像され、欠陥のレビュー検査画像が表示されるようにしてもよい。
Note that when the defect in the thumbnail image is small and difficult to see, if the operator designates enlargement by double-clicking the
欠陥の画像が再度表示される場合には、主制御部65は、操作部64から出力された信号を検出し、その信号に基づいて、どの欠陥が再度の撮像対象として選択されたのかを判断する。主制御部65は、記憶部66に格納されている検査データに基づいて、その欠陥の座標を識別し、その座標をステージ制御部63に通知すると共に、ステージ2の移動を指示する。指示を受けたステージ制御部63はステージ2を駆動し、通知された欠陥座標に基づいて、移動量を制御する。ステージ2は、選択された欠陥が対物レンズ14の視野領域に入る位置に基板1を移動する。
When the image of the defect is displayed again, the
カメラ5は基板1の表面を撮像して画像信号を生成し、制御装置6へ出力する。制御装置6の画像処理部62は、画像信号に基づいた画像データを主制御部65へ出力する。主制御部65はその画像データをディスプレイ7へ出力する。ディスプレイ7は、この画像データに基づいて、基板1の表面画像を表示する。これによって、オペレータは、新たに撮像されたレビュー検査画像内の欠陥を再度確認することができる。
The
以上、図面を参照して本発明の実施形態について詳述してきたが、具体的な構成はこれらの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。例えば、上述した実施形態においては、基板1を支持するステージ2が移動するとしたが、対物レンズ14を含む光学系が基板1上をXY移動してもよいし、ステージ2と対物レンズ14を含む検査ヘッドがX方向とY方向にそれぞれ一軸方向に相対移動しても良い。また、対物レンズ14は、基板1の観察用とレーザー照射用とで同じ倍率としてもよいし、異なる倍率としてもよい。また、カメラ5によって撮像された縮小前の元画像データをサムネイル画像データと共に記録してもよい。
As described above, the embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the drawings. However, the specific configuration is not limited to these embodiments, and includes design changes and the like without departing from the gist of the present invention. . For example, in the above-described embodiment, the
1・・・基板、2・・・ステージ、3・・・照明光源、4・・・レーザー光源、5・・・カメラ、6・・・制御装置、7・・・ディスプレイ、8・・・ミラー、9,10,12・・・レンズ、11,13・・・ビームスプリッタ、14・・・対物レンズ、61・・・レーザー制御部、62・・・画像処理部、63・・・ステージ制御部、64・・・操作部、65・・・主制御部、66・・・記憶部。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Board | substrate, 2 ... Stage, 3 ... Illumination light source, 4 ... Laser light source, 5 ... Camera, 6 ... Control apparatus, 7 ... Display, 8 ... Mirror , 9, 10, 12 ... lenses, 11, 13 ... beam splitter, 14 ... objective lens, 61 ... laser control unit, 62 ... image processing unit, 63 ... stage control unit , 64 ... operation unit, 65 ... main control unit, 66 ... storage unit.
Claims (6)
修正工程よりも前の検査工程で検査された前記基板の検査データの欠陥位置情報に基づいて、レビュー対象となる欠陥を撮像する撮像部と、
前記撮像部により撮像された各欠陥レビュー検査画像を縮小して一覧表示する表示部と、
前記表示部により一覧表示された前期レビュー検査画像から修正する欠陥を選択する欠陥選択部と、
前記欠陥選択部により選択された前期欠陥を修正する欠陥修正部と、
前記撮像部と前記表示部と前記欠陥修正部を制御する制御部と、を備えた欠陥修正装置。 In a defect correction apparatus for correcting defects on a substrate,
Based on the defect position information of the inspection data of the substrate inspected in the inspection process prior to the correction process, an imaging unit that images the defect to be reviewed,
A display unit that reduces and displays a list of each defect review inspection image captured by the imaging unit;
A defect selection unit for selecting defects to be corrected from the previous review image displayed in a list by the display unit;
A defect correcting unit that corrects the previous defect selected by the defect selecting unit;
A defect correction apparatus comprising: the imaging unit, the display unit, and a control unit that controls the defect correction unit.
請求項1に記載の欠陥修正装置。 Based on the defect position information of the inspection data, the control unit causes the imaging unit to capture all defects to be reviewed before defect correction of the defect correcting unit, and the review inspection image is reduced by the image processing unit. And generating the reduced image in association with the defect data, storing the reduced image in the storage unit, and reading the reduced image of the review inspection image from the storage unit and displaying the list on the display unit based on a correction start command. Item 2. The defect correction apparatus according to Item 1.
請求項1〜2のいずれかに記載の欠陥修正装置。 The control unit causes the imaging unit to capture an image after correction of the defect corrected by the defect correction unit, and reduces the corrected image captured by the imaging unit to the display unit. The defect correction apparatus according to claim 1, wherein control is performed in association with the review defect image.
請求項1〜2のいずれかに記載の欠陥修正装置。 The control unit causes the imaging unit to capture images before and after the correction of the defect corrected by the defect correction unit, and causes the display unit to reduce the images before and after the correction to reduce the review. The defect correction apparatus according to claim 1, wherein the display is performed in association with a defect image.
請求項1に記載の欠陥修正装置。 The control unit acquires inspection data of the substrate inspected in an inspection process from an external device, selects a defect to be reviewed that needs to be corrected based on the inspection data, and selects the defect to be reviewed The defect correction apparatus according to claim 1, wherein each defect selected as a review target by the imaging unit is imaged based on position information.
請求項1に記載の欠陥修正装置。 Based on the defect position information of the inspection data, the control unit causes the imaging unit to capture all defects to be reviewed before defect correction of the defect correction unit, and reduces the review inspection image and the reduced review inspection image. The review inspection image before the reduction process is read out from the storage unit and enlarged and displayed by specifying the review inspection image displayed in a reduced list on the display unit. The defect correcting apparatus according to 1.
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010117285A (en) * | 2008-11-14 | 2010-05-27 | Omron Corp | Defect inspection device for substrate |
CN103978306A (en) * | 2014-04-23 | 2014-08-13 | 成都精密光学工程研究中心 | Laser repair device and repair method of fused quartz optical element |
CN112018000A (en) * | 2020-08-06 | 2020-12-01 | 武汉大学 | Device with crystal structure detects and normal position restoration function |
CN113390877A (en) * | 2020-03-13 | 2021-09-14 | 由田新技股份有限公司 | Symbiotic reinspection system and symbiotic reinspection method |
WO2024029048A1 (en) * | 2022-08-04 | 2024-02-08 | 株式会社Fuji | Image output device and image output system |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000206480A (en) * | 1999-01-14 | 2000-07-28 | Advanced Display Inc | Repair support apparatus for liquid crystal display device and method therefor |
JP2002196257A (en) * | 2000-12-25 | 2002-07-12 | Nikon Corp | Image processor, computer readable recording medium and microscopic system |
JP2004257824A (en) * | 2003-02-25 | 2004-09-16 | Shimadzu Corp | Liquid crystal substrate management device |
JP2005024312A (en) * | 2003-06-30 | 2005-01-27 | Olympus Corp | Defect display device |
-
2007
- 2007-07-03 JP JP2007175161A patent/JP2008033306A/en active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000206480A (en) * | 1999-01-14 | 2000-07-28 | Advanced Display Inc | Repair support apparatus for liquid crystal display device and method therefor |
JP2002196257A (en) * | 2000-12-25 | 2002-07-12 | Nikon Corp | Image processor, computer readable recording medium and microscopic system |
JP2004257824A (en) * | 2003-02-25 | 2004-09-16 | Shimadzu Corp | Liquid crystal substrate management device |
JP2005024312A (en) * | 2003-06-30 | 2005-01-27 | Olympus Corp | Defect display device |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010117285A (en) * | 2008-11-14 | 2010-05-27 | Omron Corp | Defect inspection device for substrate |
CN103978306A (en) * | 2014-04-23 | 2014-08-13 | 成都精密光学工程研究中心 | Laser repair device and repair method of fused quartz optical element |
CN113390877A (en) * | 2020-03-13 | 2021-09-14 | 由田新技股份有限公司 | Symbiotic reinspection system and symbiotic reinspection method |
CN112018000A (en) * | 2020-08-06 | 2020-12-01 | 武汉大学 | Device with crystal structure detects and normal position restoration function |
CN112018000B (en) * | 2020-08-06 | 2021-07-20 | 武汉大学 | Device with crystal structure detects and normal position restoration function |
WO2024029048A1 (en) * | 2022-08-04 | 2024-02-08 | 株式会社Fuji | Image output device and image output system |
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