JP2008004806A - Method for managing result of processing of wafer - Google Patents

Method for managing result of processing of wafer Download PDF

Info

Publication number
JP2008004806A
JP2008004806A JP2006173729A JP2006173729A JP2008004806A JP 2008004806 A JP2008004806 A JP 2008004806A JP 2006173729 A JP2006173729 A JP 2006173729A JP 2006173729 A JP2006173729 A JP 2006173729A JP 2008004806 A JP2008004806 A JP 2008004806A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
information
cutting
processing
cutting groove
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006173729A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5134216B2 (en
Inventor
Satoshi Miyata
諭 宮田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2006173729A priority Critical patent/JP5134216B2/en
Priority to TW96121402A priority patent/TWI404153B/en
Priority to CN2007101120960A priority patent/CN101092049B/en
Publication of JP2008004806A publication Critical patent/JP2008004806A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5134216B2 publication Critical patent/JP5134216B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Dicing (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for managing the results of processing of a wafer in which the quality of processing can be managed easily at the time of mass production and variation in surface quality with time can be confirmed visually at a desired time. <P>SOLUTION: Kerf data generated every time of kerf inspection for imaging a formed kerf while positioning at an imaging means (step S108) is stored accumulatively in a storage means together with image information in association with its positional information (step S110). On the other hand, the schematic view of the profile of a wafer and the scheduled cut line is displayed as a wafer map, and a mark indicating the positional information of kerf check is also displayed on the wafer map (step S111) so that the image information can be reproduced on a display panel together with the kerf data by specifying a desired kerf check position utilizing that mark. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、切削装置等の加工装置におけるウエーハの加工結果管理方法に関するものである。   The present invention relates to a wafer processing result management method in a processing apparatus such as a cutting apparatus.

IC、LSI等のデバイスが複数形成されたウエーハは裏面が研削されて所定の厚さに形成され、ダイシング装置等の加工装置によって個々のデバイスに分割されて携帯電話機、パソコン等の電子機器に利用される。ここで、ダイシング装置にてブレードでウエーハを切断する際、切断面に欠け(チッピング)が生じたり、スピンドルまたはブレードの熱変形の影響を受けて、切削溝(カーフ)の位置がヘアラインの中心からずれてしまうことがある。   A wafer on which a plurality of devices such as IC and LSI are formed has its back surface ground to a predetermined thickness, and is divided into individual devices by a processing device such as a dicing device and used for electronic devices such as mobile phones and personal computers. Is done. Here, when the wafer is cut with a blade by a dicing machine, chipping (chipping) occurs on the cut surface, or the position of the cutting groove (kerf) is moved from the center of the hairline due to the influence of thermal deformation of the spindle or blade. It may shift.

このため、ダイシング装置では、予め設定されたタイミングでブレードのカーフチェックを行うようにしている。切削状況監視のためのカーフチェック機能は、ブレードで切削された切削溝(カーフ)を電子顕微鏡で撮像し、撮像された画像情報を画像処理してカーフ位置の計測値を割り出し、予め設定されている基準位置(ヘアライン)とずれている場合には、自動で補正する(ヘアライン合わせ)ようにしている。また、カーフ幅やチッピングの大きさも計測するようにしている。このようなカーフチェックの際には、オペレータが確認できるように、表示画面上にカーフ位置と基準値のずれ量(オフセンタ量)、カーフ幅、チッピングサイズ等の情報が表示される。   For this reason, in the dicing apparatus, the kerf check of the blade is performed at a preset timing. The kerf check function for monitoring the cutting situation is pre-set by taking an image of the cutting groove (kerf) cut by the blade with an electron microscope, processing the imaged image information, and calculating the measured value of the kerf position. When the position is different from the reference position (hairline), correction is automatically performed (hairline alignment). The kerf width and chipping size are also measured. In such a kerf check, information such as a deviation amount (off-center amount) between the kerf position and the reference value, a kerf width, and a chipping size is displayed on the display screen so that the operator can confirm.

特開平7−130806号公報JP-A-7-130806

しかしながら、従来にあっては、ヘアライン合わせを行うためにカーフチェック機能を実行させており、カーフチェック機能を実行する毎に詳細なカーフチェック計測データは更新され、数値データのみがログデータとして記録されているに過ぎない。よって、量産工程での品質確認等の生産管理にカーフチェック計測データを利用するには、ログデータからカーフチェック計測データを抽出して出力させるしかなく、手間がかかる。また、カーフチェック位置の画像情報はないため、管理する際に不可欠な表面品質の再確認を行うことができず、品質管理に使用する観点では、カーフチェック計測データを使用するには信頼性に問題がある。   However, in the past, the kerf check function was executed in order to perform hairline alignment. Every time the kerf check function is executed, detailed kerf check measurement data is updated, and only numerical data is recorded as log data. It ’s just that. Therefore, in order to use the kerf check measurement data for production management such as quality confirmation in the mass production process, it is necessary to extract and output the kerf check measurement data from the log data. In addition, since there is no image information at the kerf check position, it is impossible to re-check the surface quality, which is indispensable for management. From the viewpoint of use in quality control, it is reliable to use kerf check measurement data. There's a problem.

本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、量産時の加工品質の管理が容易な上に表面品質の経時変化を所望時に目視で確認することができるウエーハの加工結果管理方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above, and provides a wafer processing result management method capable of easily checking the processing quality at the time of mass production and visually confirming a change in surface quality over time when desired. The purpose is to do.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係るウエーハの加工結果管理方法は、ウエーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハを撮像する撮像手段と、該撮像手段が撮像した画像を表示する表示パネルと、前記チャックテーブルに保持されたウエーハを加工する加工手段と、該加工手段と前記チャックテーブルとを相対的にX軸方向に加工送りする加工送り手段と、前記加工手段と前記チャックテーブルとを相対的にY軸方向に割り出し送りする割り出し送り手段と、を備える加工装置におけるウエーハの加工結果管理方法であって、前記加工送り手段および前記割り出し送り手段を作動して前記加工手段でウエーハの分割予定ラインに切削溝を形成する切削ステップと、該切削ステップで切削された前記切削溝を定期的またはランダムに前記撮像手段に位置付けて該切削溝を撮像して画像情報を生成するとともに切削溝データを生成し、前記撮像手段とウエーハとの位置をXY座標で示す位置情報に関連して前記画像情報と前記切削溝データとを記憶手段に記憶する記憶ステップと、前記表示パネルにウエーハの形状と分割予定ラインの模式図をウエーハマップとして表示するとともに前記記憶ステップで記憶された前記位置情報を示すマークを表示する表示ステップと、該表示ステップで表示された前記マークを指定して対応する前記画像情報と前記切削溝データとを前記表示パネルに再生する再生ステップと、を備えることを特徴とする。   In order to solve the above-described problems and achieve the object, a wafer processing result management method according to the present invention includes a chuck table that holds a wafer, an imaging unit that images the wafer held by the chuck table, A display panel for displaying an image captured by the imaging means, a processing means for processing the wafer held on the chuck table, and a processing feed means for processing and feeding the processing means and the chuck table relatively in the X-axis direction And a processing result management method for a wafer in a processing apparatus, the indexing means for indexing and feeding the processing means and the chuck table relatively in the Y-axis direction, wherein the processing feeding means and the indexing feeding means A cutting step for forming a cutting groove in a predetermined dividing line of the wafer by the processing means, and the cutting step The cut groove is periodically or randomly positioned on the image pickup means, the cut groove is picked up to generate image information and cut groove data, and the position of the image pickup means and the wafer is expressed in XY coordinates. A storage step of storing the image information and the cutting groove data in a storage unit in relation to the position information to be displayed; and a display of a wafer map on the display panel and a schematic diagram of the division planned line, and the storage step A display step for displaying the mark indicating the position information stored in step S3, and a reproduction step for reproducing the image information corresponding to the mark displayed in the display step and the cutting groove data on the display panel. And.

本発明に係るウエーハの加工結果管理方法は、上記発明において、ウエーハを特定するID情報とともに、ウエーハ毎に前記ウエーハマップと前記画像情報と前記切削溝データとのウエーハ情報が前記記憶手段に記憶され、指定された前記ID情報に基づいて対応するウエーハの前記ウエーハ情報を前記記憶手段から前記表示パネルに出力することを特徴とする。   In the wafer processing result management method according to the present invention, in the above-described invention, wafer information of the wafer map, the image information, and the cutting groove data is stored in the storage unit for each wafer together with ID information for specifying the wafer. The wafer information of the corresponding wafer is output from the storage means to the display panel based on the designated ID information.

本発明に係るウエーハの加工結果管理方法は、上記発明において、前記記憶ステップおよび前記表示ステップで記憶された情報が可搬性を有する記憶媒体に記憶されることを特徴とする。   The wafer processing result management method according to the present invention is characterized in that, in the above invention, the information stored in the storage step and the display step is stored in a portable storage medium.

本発明に係るウエーハの加工結果管理方法は、上記発明において、前記切削溝データは、前記撮像手段の中心位置を示すヘアラインと切削溝中心とのずれ量であることを特徴とする。   The wafer processing result management method according to the present invention is characterized in that, in the above invention, the cutting groove data is a deviation amount between a hairline indicating a center position of the imaging means and a cutting groove center.

本発明に係るウエーハの加工結果管理方法は、上記発明において、前記切削溝データは、切削溝の幅、チッピングの大きさのいずれかを含むことを特徴とする。   The wafer processing result management method according to the present invention is characterized in that, in the above invention, the cutting groove data includes one of a width of a cutting groove and a size of chipping.

本発明に係るウエーハの加工結果管理方法によれば、形成された切削溝を撮像手段に位置付けて撮像するカーフチェック毎に生成される切削溝データを画像情報とともにその位置情報に関連して記憶手段に累積的に記憶させておくので、複数枚のウエーハに対して連続的に加工処理する量産時の加工品質の管理がしやすくなり、また、カーフチェック毎に画像情報も記憶され、ウエーハの形状と分割予定ラインの模式図をウエーハマップとして表示するとともにカーフチェックの位置情報を示すマークもウエーハマップ上に併せて表示させ、該マークを利用した判りやすい所望のカーフチェック箇所の指定により切削溝データとともに画像情報を表示パネル上に再生するので、加工中或いは加工後の所望時において表面品質の経時変化を目視で確認することができ、後の加工に反映させる等の利用も可能になるという効果を奏する。   According to the wafer processing result management method of the present invention, the cutting groove data generated for each kerf check for imaging by positioning the formed cutting groove on the imaging means is stored in association with the position information together with the image information. Since it is stored in a cumulative manner, it is easy to manage the processing quality during mass production for continuous processing of multiple wafers, and image information is also stored for each kerf check, and the shape of the wafer A schematic diagram of the line to be divided is displayed as a wafer map, and a mark indicating the position information of the kerf check is also displayed on the wafer map, and the groove groove data can be specified by designating a desired kerf check point using the mark. At the same time, since the image information is reproduced on the display panel, the surface quality over time can be visually checked during processing or after processing. It can be confirmed, an effect that utilization also allows such to be reflected in subsequent processing.

また、本発明に係るウエーハの加工結果管理方法によれば、例えば複数枚のウエーハをカセット単位で連続的に加工処理する上で、ウエーハを特定するID情報とともに、ウエーハ毎にウエーハマップと画像情報と切削溝データとのウエーハ情報が記憶手段に記憶され、指定されたID情報に基づいて対応するウエーハのウエーハ情報を記憶手段から表示パネルに出力することで、同一カセット内の加工済みの所望のウエーハに関して所望時に該ウエーハのID情報を指定すれば画像情報を含むカーフチェック結果を表示パネル上に再現することができるという効果を奏する。   Further, according to the wafer processing result management method of the present invention, for example, when processing a plurality of wafers continuously in units of cassettes, the wafer map and image information for each wafer together with ID information for specifying the wafer. Is stored in the storage means, and the wafer information of the corresponding wafer is output from the storage means to the display panel on the basis of the designated ID information. If the wafer ID information is designated at the desired time for the wafer, the kerf check result including the image information can be reproduced on the display panel.

以下、本発明を実施するための最良の形態であるウエーハの加工結果管理方法について図面を参照して説明する。   Hereinafter, a wafer processing result management method which is the best mode for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の実施の形態のウエーハの加工結果管理方法を実施する加工装置の構成例を示す概略斜視図であり、図2は、本実施の形態に適用されるウエーハの構成例を示す平面図であり、図3は、加工手段等の構成例を示す概略正面図である。本実施の形態の加工装置10は、ウエーハWを分割予定ラインに沿って切削するデュアルカット方式の切削装置に適用したものであり、基本的な構成として、ウエーハWを保持するチャックテーブル11、撮像手段12、表示パネル13、加工手段14、加工送り手段15(図4参照)、割り出し送り手段16(図3参照)、搬出入手段17、搬送手段18、洗浄手段19、および搬送手段20を備える。   FIG. 1 is a schematic perspective view showing a configuration example of a processing apparatus for performing a wafer processing result management method according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a configuration example of a wafer applied to the present embodiment. FIG. 3 is a schematic front view showing a configuration example of processing means and the like. The processing apparatus 10 according to the present embodiment is applied to a dual-cut type cutting apparatus that cuts a wafer W along a planned division line. As a basic configuration, a chuck table 11 that holds the wafer W, an image pickup device, and the like. Means 12, display panel 13, processing means 14, processing feed means 15 (see FIG. 4), index feed means 16 (see FIG. 3), carry-in / out means 17, transport means 18, cleaning means 19, and transport means 20 are provided. .

まず、ウエーハWは、図2に示すように、環状のフレームFに装着された粘着テープTの表面に貼着されており、粘着テープTを介して環状のフレームFに支持された状態でカセット21に収容される。ここで、1つのカセット21は、例えば25枚のウエーハWが収容可能であり、2つのカセット21を2段重ねにすることで、最大50枚のウエーハWのセットが可能とされている。ウエーハWは、図2に示すように、表面Waに格子状に形成された複数の分割予定ラインSによって複数の領域が区画され、この区画された領域にIC,LSI等の半導体チップ22が形成されている。このように構成されたウエーハWは、環状のフレームFに装着された粘着テープTに表面Waを上側にして裏面が貼着される。   First, as shown in FIG. 2, the wafer W is attached to the surface of the adhesive tape T attached to the annular frame F and is supported by the annular frame F via the adhesive tape T. 21. Here, one cassette 21 can accommodate, for example, 25 wafers W, and by setting the two cassettes 21 in two stages, a maximum of 50 wafers W can be set. As shown in FIG. 2, the wafer W is divided into a plurality of regions by a plurality of division lines S formed in a lattice pattern on the surface Wa, and a semiconductor chip 22 such as an IC or LSI is formed in the divided regions. Has been. The wafer W configured as described above is attached to the adhesive tape T mounted on the annular frame F with the front surface Wa facing up.

搬出入手段17は、カセット21に収納されたウエーハWを搬送手段18が搬送可能な載置領域に搬出するとともに、切削処理済みのウエーハWをカセット21に搬入する。搬送手段18は、搬出入手段17によって載置領域に搬出されたウエーハWをチャックテーブル11上に搬送する。また、洗浄手段19は、加工手段14による処理済みのウエーハWを洗浄する。搬送手段20は、加工手段14による処理済みのウエーハWをチャックテーブル11上から洗浄手段19へ搬送する。   The carry-in / out means 17 carries out the wafer W stored in the cassette 21 to a placement area that can be carried by the carrying means 18 and carries the wafer W after the cutting process into the cassette 21. The transport means 18 transports the wafer W carried out to the placement area by the carry-in / out means 17 onto the chuck table 11. The cleaning means 19 cleans the wafer W that has been processed by the processing means 14. The transport unit 20 transports the wafer W processed by the processing unit 14 from the chuck table 11 to the cleaning unit 19.

チャックテーブル11は、図示しない駆動源に連結されて回転可能である。また、チャックテーブル11は、ボールネジ、ナット、パルスモータ等による周知構成の加工送り手段15によってX軸方向に移動可能に設けられ、搭載されたウエーハWを加工手段14に対して相対的にX軸方向に加工送りする。   The chuck table 11 is connected to a drive source (not shown) and is rotatable. Further, the chuck table 11 is provided so as to be movable in the X-axis direction by a processing feed means 15 having a known configuration such as a ball screw, a nut, a pulse motor, etc., and the mounted wafer W is moved relative to the processing means 14 in the X-axis direction. Process feed in the direction.

撮像手段12は、チャックテーブル11に保持されたウエーハWの表面Waを撮像するCCDカメラ等を搭載した電子顕微鏡であり、アライメント用およびカーフチェック用に共用される。ここで、アライメント用の場合であれば、撮像手段12によって取得した画像情報を基に切削すべき領域部分を検出し、加工手段14による加工動作の位置付けに供する。また、カーフチェック用の場合であれば、切削された切削溝を撮像手段12の撮像位置に位置付けることで該切削溝を撮像して画像情報を生成するとともに、画像処理による切削溝データの生成に供する。   The imaging means 12 is an electron microscope equipped with a CCD camera or the like that images the surface Wa of the wafer W held on the chuck table 11, and is shared for alignment and kerf check. Here, in the case of alignment, an area portion to be cut is detected based on the image information acquired by the imaging unit 12 and used for positioning of the processing operation by the processing unit 14. In the case of kerf check, the cut groove is positioned at the image pickup position of the image pickup means 12 to pick up the image of the cut groove and generate image information, and to generate cut groove data by image processing. Provide.

加工手段14は、図3に示すように、チャックテーブル11に保持されたウエーハWを回転するリング形状の極薄の切削ブレード22a,22bによって同時にまたは単独で分割予定ラインSに沿って切削するデュアルカット構成のもので、切削ブレード22a,22bが先端に装着された一対のスピンドル23a,23bを備える。一対のスピンドル23a,23bは、切削ブレード22a,22bが平行に対峙するように略同一直線上に配設され、それぞれボールネジ、ナット、パルスモータ等による切り込み送り手段24a,24bによって独立してZ軸方向に移動可能に設けられている。また、チャックテーブル11に対して加工手段14を相対的にY軸方向に割り出し送りする割り出し送り手段16は、ボールネジ、ナット、パルスモータ等からなり切削ブレード22a,22bを個別にY軸方向に割り出し送りする個別割り出し送り機構16a,16bと、加工手段14全体をY軸方向に割り出し送りする全体割り出し送り機構16cとからなる。   As shown in FIG. 3, the processing means 14 is a dual that cuts the wafer W held by the chuck table 11 along the planned division line S simultaneously or independently by the ring-shaped ultrathin cutting blades 22 a and 22 b. It has a cut configuration and includes a pair of spindles 23a and 23b with cutting blades 22a and 22b attached to the tips. The pair of spindles 23a and 23b are arranged on substantially the same straight line so that the cutting blades 22a and 22b face each other in parallel, and are independently Z-axis by cutting feed means 24a and 24b using ball screws, nuts, pulse motors, or the like. It is provided to be movable in the direction. The index feeding means 16 for indexing and feeding the processing means 14 relative to the chuck table 11 in the Y-axis direction includes a ball screw, a nut, a pulse motor, etc., and individually indexes the cutting blades 22a and 22b in the Y-axis direction. It consists of individual indexing and feeding mechanisms 16a and 16b for feeding and an entire indexing and feeding mechanism 16c for indexing and feeding the entire processing means 14 in the Y-axis direction.

表示パネル13は、加工装置10において見やすくて操作しやすい箇所に配設されて、撮像手段12が撮像した画像の他、加工処理等に伴う必要な各種情報を表示するとともに、加工処理等に必要な入力操作を行うためのキー表示も行い操作パネルを兼用するタッチパネル構成のものである。   The display panel 13 is disposed in a place that is easy to see and operate on the processing apparatus 10, displays various information necessary for the processing process in addition to the image captured by the imaging unit 12, and is necessary for the processing process and the like. The touch panel has a key display for performing various input operations and also serves as an operation panel.

このような構成の加工装置10は、高速回転させた切削ブレード22a,22bをウエーハWに所定の切り込み深さで切り込ませながら、加工手段14に対してチャックテーブル11を加工送り手段15でX軸方向に相対的に加工送りさせることで、ウエーハW上の2本の分割予定ラインSを同時に切削加工して切削溝(カーフ)を形成することができる。そこで、例えば切削ブレード22a,22bをウエーハWの外周側から内周側に向けて(あるいは、逆に内周側から外周側に向けて)分割予定ラインSの間隔で順次割り出し送り手段16でY軸方向に相対的に割り出し送りさせることで、同一方向の全ての分割予定ラインS(チャンネル1)について切削溝を形成することができる。この後、チャックテーブル11の回転によりウエーハWを90°回転させ、新たにX軸方向に配された全ての分割予定ラインS(チャンネル2)について加工手段14で同様の切削加工を繰り返すことにより、個々の半導体チップ22に分割することができる。   The processing apparatus 10 having such a configuration allows the chuck table 11 to be moved to the processing means 14 by the processing feed means 15 while the cutting blades 22a and 22b rotated at high speed are cut into the wafer W at a predetermined cutting depth. By cutting and feeding relatively in the axial direction, the two division lines S on the wafer W can be cut simultaneously to form a cutting groove (kerf). Therefore, for example, the cutting blades 22a and 22b are sequentially moved from the outer peripheral side to the inner peripheral side of the wafer W (or conversely from the inner peripheral side to the outer peripheral side) at intervals of the scheduled dividing lines S by the index feeding means 16 By relatively indexing and feeding in the axial direction, it is possible to form cutting grooves for all the division lines S (channel 1) in the same direction. Thereafter, the wafer W is rotated by 90 ° by the rotation of the chuck table 11, and the same cutting process is repeated by the processing means 14 for all the division planned lines S (channel 2) newly arranged in the X-axis direction. It can be divided into individual semiconductor chips 22.

次に、本実施の形態の加工装置10が内蔵する制御系の構成について説明する。図4は、本実施の形態の加工装置10が内蔵する制御部30の構成例を示す概略ブロック図である。制御部30は、例えばCPU等で構成された演算処理装置やROM、RAM等を備え加工装置10全体の制御を司るマイクロプロセッサ31と記憶手段32とを主体に構成されている。加工手段14、加工送り手段15、割り出し送り手段16および切り込み送り手段24a,24bはマイクロプロセッサ31に接続されてマイクロプロセッサ31により加工動作等の動作が制御される。また、マイクロプロセッサ31は、表示パネル13に対して必要な表示情報を記憶手段32やパネル表示パターン記憶部33から読み出して表示制御部34を介して表示内容を制御するとともに、表示パネル13上で指示操作された入力情報を解析し、各部の動作制御、表示制御等に供する。   Next, the configuration of the control system built in the processing apparatus 10 of the present embodiment will be described. FIG. 4 is a schematic block diagram illustrating a configuration example of the control unit 30 built in the processing apparatus 10 according to the present embodiment. The control unit 30 includes, for example, an arithmetic processing unit configured by a CPU or the like, a ROM, a RAM, and the like, and is configured mainly by a microprocessor 31 and a storage unit 32 that control the entire processing apparatus 10. The processing means 14, the processing feed means 15, the index feed means 16 and the cutting feed means 24 a and 24 b are connected to the microprocessor 31, and operations such as processing operations are controlled by the microprocessor 31. Further, the microprocessor 31 reads necessary display information for the display panel 13 from the storage means 32 and the panel display pattern storage unit 33 and controls the display contents via the display control unit 34, and on the display panel 13. The input information that has been instructed is analyzed and used for operation control and display control of each unit.

また、マイクロプロセッサ31は、撮像手段12に対してアライメント時やカーフチェック時の撮像動作を制御するとともに、撮像手段12が撮像した画像情報の処理制御を行う。この画像情報の処理制御として、撮像手段12が撮像した画像情報をそのまま記憶手段32に記憶させる制御や、画像情報を画像処理部35で画像処理させて切削溝データ等を生成させ、生成された該切削溝データ等を記憶手段32に記憶させる制御を行う。ここで、画像処理部35の画像処理に伴い生成される切削溝データとして、本実施の形態では、撮像手段12の中心位置を示すヘアラインと形成された切削溝中心とのずれ量を意味するヘアラインズレ量[mm]、形成された切削溝の幅[mm]、チッピングの大きさを意味するチッピング最大値[mm]、およびその領域[pix]が含まれている。また、外部接続ポート36には、記憶手段32に記憶されたデータのダウンロードが可能な可搬性を有する記憶媒体37が接続自在に設けられている。本実施の形態では、記憶媒体37として例えばUSBメモリが用いられている。   Further, the microprocessor 31 controls the image pickup unit 12 in an image pickup operation at the time of alignment or kerf check, and controls processing of image information picked up by the image pickup unit 12. As the processing control of this image information, the control is performed by storing the image information captured by the imaging unit 12 in the storage unit 32 as it is, or the image processing unit 35 performs image processing on the image information to generate cutting groove data and the like. Control for storing the cutting groove data and the like in the storage means 32 is performed. Here, as the cutting groove data generated along with the image processing of the image processing unit 35, in the present embodiment, a hairline that represents the amount of deviation between the hairline indicating the center position of the imaging means 12 and the formed cutting groove center. The deviation amount [mm], the width of the formed cutting groove [mm], the maximum chipping value [mm] indicating the size of chipping, and the region [pix] are included. The external connection port 36 is provided with a portable storage medium 37 that can download data stored in the storage means 32. In the present embodiment, for example, a USB memory is used as the storage medium 37.

また、記憶手段32は、データメモリ部32aと画像メモリ部32bとウエーハマップメモリ部32cとを備える。画像メモリ部32bは、情報量の多い画像情報を記憶するためのものであり、本実施の形態では、カーフチェック毎に撮像手段12で撮像された画像情報を順次記憶する。ウエーハマップメモリ部32cは、ワークイメージ上で切削ブレード22a(Z1軸),22b(Z2軸)による切削の進行状況を確認するために予め生成された各ウエーハWの輪郭形状(円形状)と分割予定ラインSの模式図をウエーハマップのデータとして各ウエーハWのチャンネル毎に記憶する。   The storage means 32 includes a data memory unit 32a, an image memory unit 32b, and a wafer map memory unit 32c. The image memory unit 32b is for storing image information with a large amount of information. In the present embodiment, the image memory unit 32b sequentially stores the image information captured by the imaging unit 12 for each kerf check. The wafer map memory unit 32c and the contour shape (circular shape) and division of each wafer W generated in advance to confirm the cutting progress by the cutting blades 22a (Z1 axis) and 22b (Z2 axis) on the workpiece image. A schematic diagram of the planned line S is stored for each channel of each wafer W as wafer map data.

データメモリ部32aは、主にカーフチェックに伴う切削溝データなる数値データを記憶するためのものである。本実施の形態では、カーフチェック毎に撮像手段12が撮像した画像情報を画像処理部35で画像処理して得られた計測結果から算出された切削溝データとして、前述のヘアラインズレ量[mm]、切削溝幅[mm]、チッピング最大値[mm]、およびその領域[pix]をデータメモリ部32aに記憶する。   The data memory unit 32a is for storing numerical data, which is cutting groove data mainly accompanying kerf check. In the present embodiment, the above-mentioned hairline shift amount [mm] is used as the cutting groove data calculated from the measurement result obtained by performing image processing on the image information captured by the imaging unit 12 for each kerf check by the image processing unit 35. The cutting groove width [mm], the maximum chipping value [mm], and the area [pix] are stored in the data memory unit 32a.

ここで、本実施の形態では、2カセット分の最大50枚のウエーハに対応するため、データメモリ部32aには、図5に示すように、カセット欄a,ウエーハID欄b、チャンネル欄c、カーフチェック座標(X,Y)欄d、ヘアラインズレ量欄e、切削溝幅欄f、チッピング最大値欄g、チッピングエリア欄h、カーフチェック画像ポインタ欄i、およびウエーハマップポインタ欄jが設定され、カーフチェック毎に各欄に対応するデータを記憶させるように設定されている。すなわち、カーフチェックを行ったXY座標(X,Y座標は、いずれもチャックテーブル11の中心を0とした相対座標)で示す位置情報をカーフチェック座標(X,Y)欄dに記憶させ、該位置情報に関連して各切削データを対応する各欄e,f,g,hに記憶させ、さらに、対応する画像情報を特定するためにカーフチェック画像ポインタ欄iに図6に示すような画像メモリ部32b上に記憶されている画像情報の格納箇所を示すポインタを記憶させ、さらに、対応するウエーハマップを特定するためにウエーハマップポインタ欄jに図7に示すようなウエーハマップメモリ部32c上に記憶されているウエーハマップデータの格納箇所を示すポインタを記憶させるものである。   Here, in the present embodiment, since it corresponds to a maximum of 50 wafers for two cassettes, the data memory unit 32a includes a cassette column a, a wafer ID column b, a channel column c, as shown in FIG. A kerf check coordinate (X, Y) column d, a hairline misalignment column e, a cutting groove width column f, a chipping maximum value column g, a chipping area column h, a kerf check image pointer column i, and a wafer map pointer column j are set. The data corresponding to each column is stored for each kerf check. That is, position information indicated by XY coordinates (X and Y coordinates are relative coordinates with the center of the chuck table 11 being 0) subjected to kerf check is stored in the kerf check coordinate (X, Y) column d, Each cutting data is stored in the corresponding fields e, f, g, h in relation to the position information, and an image as shown in FIG. 6 is displayed in the kerf check image pointer field i in order to specify the corresponding image information. A pointer indicating the storage location of the image information stored on the memory unit 32b is stored, and in addition, a wafer map pointer field j is stored in the wafer map memory unit 32c as shown in FIG. 7 in order to specify the corresponding wafer map. A pointer indicating the storage location of the wafer map data stored in is stored.

さらに、最大50枚分のウエーハに関して、切削溝データの対応をとるために、各ウエーハを特定するID情報であるウエーハID情報、カセットの違い、チャンネルの違いに関するデータもそれぞれ対応する欄a,b,cに記憶させるように設定されている。ここで、ウエーハID情報としては、例えば2つのカセット21に収容されて上方から下方に向けて(逆順でもよい)順に番号付けされたウエーハ番号が用いられている。カセット21は、上段が1、下段が2とされている(逆でもよい)。   Further, in order to support cutting groove data for a maximum of 50 wafers, wafer ID information which is ID information for specifying each wafer, data on cassette differences, and data on channel differences are also provided in corresponding columns a and b. , C are set to be stored. Here, as the wafer ID information, for example, wafer numbers housed in two cassettes 21 and numbered in order from the top to the bottom (or in reverse order) are used. The cassette 21 has an upper level of 1 and a lower level of 2 (or vice versa).

次に、マイクロプロセッサ31により実行されるウエーハWの分割予定ラインに沿った切削加工動作に伴うウエーハの加工結果管理方法について図8〜図12を参照して説明する。図8は、切削加工動作に伴うウエーハの加工結果管理方法を示す概略フローチャートであり、図9は、図8の処理に対して割り込み可能なカーフ情報表示割り込み処理例を示す概略フローチャートであり、図10は、加工処理中における表示パネル13の表示例を示す概略正面図であり、図11は、カーフチェックデータ表示中の表示パネル13の表示例を示す概略正面図であり、図12は、カーフチェック結果選択用の表示パネル13の表示例を示す概略正面図である。   Next, a wafer processing result management method that accompanies the cutting operation along the scheduled division line of the wafer W executed by the microprocessor 31 will be described with reference to FIGS. FIG. 8 is a schematic flowchart showing a wafer processing result management method associated with a cutting operation, and FIG. 9 is a schematic flowchart showing an example of kerf information display interrupt processing that can interrupt the processing of FIG. 10 is a schematic front view showing a display example of the display panel 13 during processing, FIG. 11 is a schematic front view showing a display example of the display panel 13 during kerf check data display, and FIG. It is a schematic front view which shows the example of a display of the display panel 13 for check result selection.

まず、加工処理に先立ち、各ウエーハW毎にデバイスデータを作成するものであり、デバイスデータ作成のための条件設定が終了しているか否かを判断する(ステップS101)。この際、入力すべきデータ類としては、ウエーハWに対する加工条件やオートアライメント用データの他に、カーフチェックデータの設定が含まれる。カーフチェックデータの設定としては、分割予定ラインSの何ライン置きにカーフチェックを行うか、チャンネル1/2毎に何回ずつカーフチェックを行うか等の設定が含まれる。本実施の形態では、例えば、各チャンネル1/2毎、並びに各ウエーハW毎にウエーハWの外周側から3ライン目の2箇所で定期的にカーフチェックを行うように設定されているものとする。   First, prior to processing, device data is created for each wafer W, and it is determined whether or not the condition setting for creating device data has been completed (step S101). At this time, the data to be input includes setting of kerf check data in addition to the processing conditions for the wafer W and data for auto alignment. The setting of the kerf check data includes settings such as how many lines of the scheduled division line S are to be checked, how many times the kerf check is to be performed for each channel 1/2. In the present embodiment, for example, it is assumed that the kerf check is periodically performed at two locations on the third line from the outer peripheral side of the wafer W for each channel 1/2 and for each wafer W. .

条件設定が終了している場合には(ステップS101,Yes)、表示パネル13の初期画面上に表示されているフルオートボタンが押下されたか否かを判断し(ステップS102)、押下されていれば(ステップS102,Yes)、分割予定ラインSに沿って切削加工を自動的に行うフルオート動作に移行する。   If the condition setting has been completed (step S101, Yes), it is determined whether or not the full auto button displayed on the initial screen of the display panel 13 has been pressed (step S102). If so (step S102, Yes), the process shifts to a fully automatic operation in which cutting is automatically performed along the division line S.

まず、切削加工の対象となるウエーハWをカセット21からチャックテーブル11上に搬入する(ステップS103)。そして、搬入されたウエーハWを撮像手段12に位置付けて撮像し、撮像手段12によって取得した画像情報を基に切削すべき分割予定ラインSを検出し、割り出し送り手段16を作動させるオートアライメント(加工位置認識)処理を実行させる(ステップS104)。この処理は、チャンネル1,2について行う。次いで、切り込み送り手段24a,24bおよび加工送り手段15を作動させて対象となる分割予定ラインSに切削ブレード22a,22bで切削溝を生成する切削処理を実行させる(ステップS105;切削ステップ)。   First, the wafer W to be cut is carried from the cassette 21 onto the chuck table 11 (step S103). Then, the loaded wafer W is imaged by being positioned on the imaging unit 12, the division planned line S to be cut is detected based on the image information acquired by the imaging unit 12, and the automatic alignment (processing) for operating the indexing feeding unit 16 is performed. A position recognition process is executed (step S104). This process is performed for channels 1 and 2. Next, the cutting feed means 24a and 24b and the machining feed means 15 are operated to execute a cutting process for generating a cutting groove with the cutting blades 22a and 22b on the target division line S (step S105; cutting step).

このような加工処理中は、ウエーハマップ−ラインモードに設定され、表示パネル13上に、ウエーハマップを表示する(ステップS106)。加工処理中の表示例を示す図10を参照すれば、表示パネル13のメインエリア41内の周辺部に配設表示されたカーフイメージボタン41a,チェックポイントボタン41b,ウエーハマップボタン41c,XIS(Extended Interface System)ボタン41d,ワークモード用ボタン41e,ラインモード用ボタン41f,上スクロールボタン41g,下スクロールボタン41h、カット一時停止ボタン41i、カーフチェックデータ表示ボタン41j等のうち、チェックポイントボタン41b,ウエーハマップボタン41c,ラインモード用ボタン41fおよびカーフチェックデータ表示ボタン41jが表示されるウエーハマップ−ラインモードとなっており、該メインエリア41内の中央にはウエーハマップ−ラインモードのウエーハマップ42が表示される。ウエーハマップ42は、ウエーハWの形状(円形状)と分割予定ライン(複数本の横線)の模式図を示すものであって、ウエーハイメージ上での切削ブレード22a,22bの切削の進行状況を目視可能に示すものである。図示例では、ウエーハマップ42上、斜線を施して示す領域42aが切削ブレード22a(Z1軸)による分割予定ラインSの切削完了済み領域を示し、異なる斜線を施して示す領域42bが切削ブレード22b(Z2軸)による分割予定ラインSの切削完了済み領域を示している(実際には、例えば領域42aが青色表示で示され、領域42bが緑色表示で示され、切削されていない分割予定ラインSは灰色表示で示される)。   During such processing, the wafer map-line mode is set, and the wafer map is displayed on the display panel 13 (step S106). Referring to FIG. 10 showing a display example during processing, a kerf image button 41a, a checkpoint button 41b, a wafer map button 41c, and an XIS (Extended) are arranged and displayed in the periphery of the main area 41 of the display panel 13. Interface system) button 41d, work mode button 41e, line mode button 41f, up scroll button 41g, down scroll button 41h, cut pause button 41i, calf check data display button 41j, etc., check point button 41b, wafer A wafer map-line mode is displayed in which a map button 41c, a line mode button 41f, and a kerf check data display button 41j are displayed. In the center of the main area 41, a wafer map-line mode wafer map 4 is displayed. 2 is displayed. The wafer map 42 shows a schematic diagram of the shape (circular shape) of the wafer W and the lines (several horizontal lines) to be divided, and the cutting progress of the cutting blades 22a and 22b on the wafer image is visually observed. It is shown as possible. In the illustrated example, a region 42a indicated by hatching on the wafer map 42 indicates a region where cutting of the planned division line S by the cutting blade 22a (Z1 axis) has been completed, and a region 42b indicated by different hatching indicates the cutting blade 22b ( The cutting-completed area of the division line S by the Z2 axis is shown (in practice, for example, the area 42a is shown in blue, the area 42b is shown in green, and the division-scheduled line S that has not been cut is (Shown in gray).

なお、図10において、カーフイメージボタン41aは、カット動作停止中においてメインエリア41の背景に撮像手段12の撮像画像を表示するかしないかを選択するボタンである。チェックポイントボタン41bは、メインエリア41に表示されているウエーハマップ42のライン上に表示すべきイベントを選択するボタンであり、本実施の形態では、カーフチェックが実行されたライン(分割予定ライン)上に位置情報を示すマークとして、例えば星印を表示させるように設定されているものとする。ウエーハマップボタン41cは、ウエーハマップを表示させるモードに切り換えるボタンであり、XISボタン41dは、カット動作停止中において撮像手段12に関して光量調整、フォーカス調整等を行うためのXISモード表示に切り換えるボタンである。ワークモード用ボタン41eは、ウエーハマップモード中で、オートアライメント用のティーチ時にターゲットを探す等のためのモード設定用ボタンであり、ラインモード用ボタン41fは、図10に示すようなウエーハマップ42を表示させるモード設定用ボタンである。上スクロールボタン41gは、カット動作停止中においてウエーハマップ42上の選択ラインを1ライン上に移動させるためのボタンであり、下スクロールボタン41hは、カット動作停止中においてウエーハマップ42上の選択ラインを1ライン下に移動させるためのボタンである。カーフチェックデータ表示ボタン41jは、ウエーハマップ42上で選択されたラインに関する詳細情報を表示させるためのボタンである。   In FIG. 10, the kerf image button 41 a is a button for selecting whether or not to display the captured image of the imaging unit 12 in the background of the main area 41 while the cutting operation is stopped. The check point button 41b is a button for selecting an event to be displayed on the line of the wafer map 42 displayed in the main area 41. In the present embodiment, the line on which the kerf check is executed (division planned line) It is assumed that, for example, a star is displayed as a mark indicating the position information on the top. The wafer map button 41c is a button for switching to a mode for displaying a wafer map, and the XIS button 41d is a button for switching to an XIS mode display for performing light amount adjustment, focus adjustment, etc. with respect to the imaging means 12 while the cutting operation is stopped. . The work mode button 41e is a mode setting button for searching for a target at the time of teaching for auto alignment in the wafer map mode, and the line mode button 41f is a wafer map 42 as shown in FIG. This is a mode setting button to be displayed. The up scroll button 41g is a button for moving the selected line on the wafer map 42 up by one line when the cutting operation is stopped, and the down scroll button 41h is used to move the selected line on the wafer map 42 when the cutting operation is stopped. This is a button for moving down one line. The kerf check data display button 41j is a button for displaying detailed information regarding the line selected on the wafer map.

また、図10において、表示パネル13の下欄領域は、例えば4つの機能切り換えボタン43の操作に従いキー機能がソフトウエアによって切り換えられる機能キーF1〜F10を備えるソフトウエアキーボード領域44とされている。   In FIG. 10, the lower area of the display panel 13 is a software keyboard area 44 including function keys F1 to F10 whose key functions are switched by software according to the operation of four function switching buttons 43, for example.

その後、所定の分割予定ラインSについて切削加工後に該分割予定ラインSが予め設定されているカーフチェックラインであれば(ステップS107,Yes)、チャックテーブル11の位置を移動させることで当該分割予定ラインSに形成された切削溝を撮像手段12に位置付けて撮像手段12で切削溝を撮像し、カーフチェック処理を行う(ステップS108)。すなわち、撮像手段12で切削溝を撮像して画像情報を生成し、さらに該画像情報を画像処理部35で画像処理して切削溝データ(ヘアラインズレ量、切削溝幅、チッビング最大値およびチッピングエリア)を生成するとともに、該カーフチェックを行った撮像手段12とウエーハWとの位置関係をXY座標で示す位置情報を生成する。このように生成された該カーフチェック位置の画像情報、並びに切削溝データ等を、表示パネル13のメインエリア41に表示させる(ステップS109)。この場合の表示は、後述の図11の場合と同様である。   After that, if the predetermined division line S is a kerf check line that has been set in advance after cutting (step S107, Yes), the position of the chuck table 11 is moved to move the predetermined division line. The cutting groove formed in S is positioned on the image pickup means 12, and the image pickup means 12 picks up an image of the cutting groove and performs a kerf check process (step S108). That is, image information is generated by picking up an image of the cutting groove with the image pickup means 12, and further processing the image information with the image processing unit 35 to obtain cutting groove data (hairline shift amount, cutting groove width, maximum chipping value and chipping area). ) And position information indicating, in XY coordinates, the positional relationship between the imaging unit 12 that performed the kerf check and the wafer W. The image information of the kerf check position generated in this way, the cutting groove data, and the like are displayed on the main area 41 of the display panel 13 (step S109). The display in this case is the same as in the case of FIG.

さらに、カーフチェックを行った今回の画像情報、切削溝データをXY座標で示す位置情報に関連して記憶手段32に記憶させる(ステップS110;記憶ステップ)。この際、当該切削溝の切削加工中のウエーハWに関する情報として、供給されたカセット21の種別、ウエーハID、チャンネル情報を取得し、図5に示すように、ウエーハIDに対応付けて今回の画像情報、切削溝データ、さらにはウエーハマップ情報を記憶手段32に記憶させる。このような情報の記憶において、情報量の多い画像情報やウエーハマップ情報は、それぞれ図6、図7に示すように、画像メモリ部32bやウエーハマップメモリ部32cに格納され、データメモリ部32a上では画像メモリ部32bやウエーハマップメモリ部32c上の格納位置を示すポインタ情報を格納させることで、位置情報に関連付けられる。   Further, the current image information and cutting groove data subjected to the kerf check are stored in the storage means 32 in association with the position information indicated by the XY coordinates (step S110; storage step). At this time, the type, wafer ID, and channel information of the supplied cassette 21 are acquired as information about the wafer W during the cutting of the cutting groove, and the current image is associated with the wafer ID as shown in FIG. Information, cutting groove data, and wafer map information are stored in the storage means 32. In storing such information, image information and wafer map information having a large amount of information are stored in an image memory unit 32b and a wafer map memory unit 32c as shown in FIGS. 6 and 7, respectively, on the data memory unit 32a. In this case, pointer information indicating the storage position on the image memory unit 32b or the wafer map memory unit 32c is stored to be associated with the position information.

また、表示パネル13に表示されているウエーハマップ42のカーフチェックを行った分割予定ライン(切削溝)上のカーフチェック位置に星印のカーフチェックマーク45をアイコン表示させる(ステップS111;表示ステップ)。   Further, a star-shaped kerf check mark 45 is displayed as an icon at the kerf check position on the division line (cutting groove) where the kerf check of the wafer map 42 displayed on the display panel 13 is performed (step S111; display step). .

この後、または、カーフチェックラインでなかった場合(ステップS107,No)、チャンネル1用の全ての分割予定ラインSに関する切削溝の形成が終了しているか否かを判断し(ステップS112)、終了していない場合には(ステップS112,No)、後続の分割予定ラインSに対する切削加工処理に戻る(ステップS105)。   After this, or when it is not a kerf check line (step S107, No), it is determined whether or not the formation of the cutting groove for all the division planned lines S for channel 1 has been completed (step S112), and the process ends. If not (No at Step S112), the process returns to the cutting process for the subsequent division line S (Step S105).

チャンネル1分の処理が終了したら(ステップS112,Yes)、チャンネル2分の処理が終了しているか否かを判断し(ステップS113)、終了していない場合には(ステップS113,No)、該ウエーハWに関して90°回転済みであるか否かを判断する(ステップS114)。90°回転済みでない場合には(ステップS114,No)、チャンネル1用の対応するウエーハマップ情報をウエーハマップメモリ部32cに更新記録するとともに(ステップS115)、チャックテーブル11を90°回転させてウエーハWを90°回転させる(ステップS116)。ステップS115では、全ライン切削完了済みでカーフチェック箇所にマーク45が付与されたウエーハマップ42のデータとしてウエーハマップメモリ部32cに更新格納される。ウエーハWが90°回転済みの場合や90°回転させた後は(ステップS114,Yes、ステップS116)、チャンネル2用の切削処理に戻る(ステップS105)。   When the processing for the channel 1 is completed (step S112, Yes), it is determined whether or not the processing for the channel 2 is completed (step S113). If the processing is not completed (step S113, No), It is determined whether the wafer W has been rotated by 90 ° (step S114). If it has not been rotated by 90 ° (step S114, No), the corresponding wafer map information for channel 1 is updated and recorded in the wafer map memory unit 32c (step S115), and the chuck table 11 is rotated by 90 ° and the wafer is rotated. W is rotated by 90 ° (step S116). In step S115, the wafer map memory 32c is updated and stored as data of the wafer map 42 in which all lines have been cut and the mark 45 is added to the kerf check location. When the wafer W has been rotated by 90 ° or after being rotated by 90 ° (step S114, Yes, step S116), the process returns to the cutting process for the channel 2 (step S105).

チャンネル2分の処理が終了したら(ステップS113,Yes)、チャンネル2用の対応するウエーハマップ情報をウエーハマップメモリ部32cに更新記録する(ステップS117)。すなわち、全ライン切削完了済みでカーフチェック箇所にマーク45が付与されたウエーハマップ42のデータとしてウエーハマップメモリ部32cに更新格納される。   When the process for the channel 2 is completed (step S113, Yes), the corresponding wafer map information for the channel 2 is updated and recorded in the wafer map memory unit 32c (step S117). That is, it is updated and stored in the wafer map memory unit 32c as data of the wafer map 42 in which all the lines have been cut and the mark 45 is added to the kerf check location.

この後、切削処理が完了したウエーハWは、チャックテーブル11上から搬出して洗浄工程等を経てカセット21内に搬入される(ステップS118)。ついで、カセット21内に未処理のウエーハWが残っているか否かを判断し(ステップS119)、残っている場合には(ステップS119,Yes)、上述のステップS103〜S118の処理を同様に繰り返す。そして、カセット21内の全てのウエーハWについて切削加工が終了し、カセット21内に未処理のウエーハWが残っていない場合には(ステップS119,No)、一連のフルオート処理を終了する。   Thereafter, the wafer W that has been subjected to the cutting process is unloaded from the chuck table 11 and loaded into the cassette 21 through a cleaning process or the like (step S118). Next, it is determined whether or not an unprocessed wafer W remains in the cassette 21 (step S119). If it remains (step S119, Yes), the processes of steps S103 to S118 are repeated in the same manner. . Then, when all the wafers W in the cassette 21 have been cut and no unprocessed wafers W remain in the cassette 21 (step S119, No), a series of full-auto processes are terminated.

なお、これら一連の処理中において、オペレータが所望のタイミングで外付けの記憶媒体37へのデータセーブを指示すると、記憶手段32に格納された記憶データは外付けの記憶媒体37にセーブされる。   Note that during these series of processes, when the operator instructs data saving to the external storage medium 37 at a desired timing, the storage data stored in the storage means 32 is saved to the external storage medium 37.

このような処理が終了すると、データメモリ部32aや画像メモリ部32bやウエーハマップメモリ部32cには、図5〜図7に示すように、全てのカーフチェック箇所に関するカーフチェック結果であるウエーハ情報が格納された状態となる。加工途中であれば、その段階までの全てのカーフチェック箇所に関するカーフチェック結果であるウエーハ情報が格納された状態となる。   When such processing is completed, the data memory unit 32a, the image memory unit 32b, and the wafer map memory unit 32c store wafer information as kerf check results for all kerf check locations, as shown in FIGS. Stored state. If processing is in progress, the wafer information that is the result of kerf check for all kerf check points up to that stage is stored.

次に、図8で示したような加工処理中あるいは加工処理後の任意の時点で割り込み可能なカーフ情報表示割り込み処理例について図9を参照して説明する。例えば、図10に示すようなウエーハマップ42の表示中において、ウエーハマップ42外でメインエリア41内に指46が触れた場合、指46が触れた位置のX方向の延長線上のラインが選択されたことになる。このように分割予定ラインS(切削溝)の選択が可能であり、マーク45がアイコン表示された分割予定ラインS(切削溝)を選択した場合には、カーフチェックラインが選択指示されたこととなる。ライン選択は、上スクロールボタン41gや下スクロールボタン41hの操作であってもよい。選択されたラインは、例えば赤色表示で明示される。   Next, an example of kerf information display interrupt processing that can be interrupted at any time during or after the processing as shown in FIG. 8 will be described with reference to FIG. For example, when the finger 46 touches the main area 41 outside the wafer map 42 while the wafer map 42 is displayed as shown in FIG. 10, the line on the extension line in the X direction at the position touched by the finger 46 is selected. That's right. In this way, the planned division line S (cutting groove) can be selected, and when the planned division line S (cutting groove) with the mark 45 displayed as an icon is selected, the selection of the kerf check line is instructed. Become. The line selection may be an operation of the up scroll button 41g or the down scroll button 41h. The selected line is clearly displayed in red, for example.

そこで、カーフチェックラインの選択指示があったか否かを監視し(ステップS201)、マーク45がアイコン表示された分割予定ラインS(切削溝)の選択指示があった場合には(ステップS201,Yes)、マーク45がアイコン表示されているカーフチェック位置の位置情報(X,Y)を基に記憶手段42内のデータを検索し、対応する画像情報を画像メモリ部32bから読み出してメインエリア41上に再生表示させる(ステップS202;再生ステップ)。さらに、詳細表示用のカーフチェックデータ表示ボタン41jが押下されたか否かを判断し(ステップS203)、押下された場合には(ステップS203,Yes)、選択指示されたカーフチェック位置情報に対応する切削溝データを記憶手段32中のデータメモリ部32aから読み出してメインエリア41上に再生表示させる(ステップS204;再生ステップ)。   Therefore, it is monitored whether or not a selection instruction for the kerf check line has been given (step S201), and if there is a selection instruction for the division planned line S (cutting groove) with the mark 45 displayed as an icon (step S201, Yes). , The data in the storage means 42 is searched based on the position information (X, Y) of the kerf check position where the mark 45 is displayed as an icon, and the corresponding image information is read from the image memory unit 32b and stored on the main area 41. Reproduction display is performed (step S202; reproduction step). Further, it is determined whether or not the kerf check data display button 41j for detailed display has been pressed (step S203), and if pressed (step S203, Yes), it corresponds to the kerf check position information instructed to be selected. The cutting groove data is read from the data memory unit 32a in the storage means 32 and reproduced and displayed on the main area 41 (step S204; reproduction step).

カーフチェックデータ表示中の表示パネル13の表示例を示す図11を参照すれば、メインエリア41に撮像手段12で撮像されたカーフチェック結果の画像情報51が表示される。画像情報51中、51aは、半導体チップ部分を示し、51bは、分割予定ラインを切削して生成された切削溝を示し、51cは、撮像手段12の中心位置を示すヘアラインであり、51dは、切削溝中心を示している。また、切削溝データは、切削溝部分を避けた画像情報51の一部を利用して表示される。また、画像情報51の右側は、例えば何ライン目のカットであるか、X軸上のカット開始位置、X軸上のカット終了位置、カット時のY座標、ブレード高さ、送り速度等のカット結果を表示する結果表示欄52とされている。また、結果表示欄52の上部には、現在表示中の情報が切削ブレード22a(Z1軸)による結果であるか、切削ブレード22b(Z2軸)による結果であるかを示すZ1軸/Z2軸表示欄53とされている。   Referring to FIG. 11 showing a display example of the display panel 13 during kerf check data display, image information 51 of the kerf check result imaged by the imaging unit 12 is displayed in the main area 41. In the image information 51, 51a indicates a semiconductor chip portion, 51b indicates a cutting groove generated by cutting a division-scheduled line, 51c indicates a hairline indicating the center position of the imaging means 12, and 51d indicates The center of the cutting groove is shown. The cutting groove data is displayed using a part of the image information 51 that avoids the cutting groove portion. On the right side of the image information 51, for example, what line the cut is, the cut start position on the X axis, the cut end position on the X axis, the Y coordinate at the time of cutting, the blade height, the feed speed, etc. The result display field 52 displays the result. In the upper part of the result display column 52, a Z1 axis / Z2 axis display indicating whether the currently displayed information is a result of the cutting blade 22a (Z1 axis) or a result of the cutting blade 22b (Z2 axis). This is a column 53.

そして、カーフチェックデータ表示ボタン41jが再び押下された場合には(ステップS205,Yes)、図10に示すような元のウエーハマップ表示状態に復帰する(ステップS206)。   When the kerf check data display button 41j is pressed again (step S205, Yes), the original wafer map display state as shown in FIG. 10 is restored (step S206).

一方、例えば、図10に示すようなウエーハマップ42の表示中において、ソフトウエアキーボード領域44の機能キーF1〜F10中の、例えば機能キーF1に割り当てられたカーフチェック結果ボタンが押下された否かを監視し(ステップS207)、カーフチェック結果ボタンが押下された場合には(ステップS207,Yes)、図12に示すようなカーフチェック結果選択画面を表示パネル13に表示させる(ステップS208)。すなわち、カーフチェック結果の表示を所望するカセット21やウエーハWやチャンネルを選択するために、カセット選択操作欄61a、ウエーハID選択操作欄61b、チャンネル選択操作欄61cを表示させる。61dは、表示処理を指示するための表示ボタンであり、61eは、図10のような通常表示に戻すためのイクジットボタンである。   On the other hand, for example, whether or not the kerf check result button assigned to the function key F1 in the function keys F1 to F10 in the software keyboard area 44 is pressed while the wafer map 42 as shown in FIG. 10 is displayed. (Step S207), and when the kerf check result button is pressed (step S207, Yes), a kerf check result selection screen as shown in FIG. 12 is displayed on the display panel 13 (step S208). That is, the cassette selection operation column 61a, wafer ID selection operation column 61b, and channel selection operation column 61c are displayed in order to select the cassette 21, wafer W, or channel for which the kerf check result is desired to be displayed. 61d is a display button for instructing display processing, and 61e is an exit button for returning to the normal display as shown in FIG.

そして、カセット選択操作欄61a、ウエーハID選択操作欄61b、チャンネル選択操作欄61cに関する操作で、所望のカセット21、ウエーハID、チャンネルの選択指示があり(ステップS209,Yes)、表示ボタン61dが押下されると(ステップS210,Yes)、選択指示されたカセット21、ウエーハID、チャンネルに対応するウエーハWのウエーハマップ情報を記憶手段32から読み出してメインエリア41にウエーハマップ42を表示させる(ステップS211)。図12に示すウエーハマップ42は、既に全体が加工処理済みのウエーハWに対応する表示例を示し、領域42a,42bで二分されている。また、カーフチェック位置を示すマーク45も再生表示される。   Then, in the operations related to the cassette selection operation field 61a, wafer ID selection operation field 61b, and channel selection operation field 61c, there is an instruction to select a desired cassette 21, wafer ID, and channel (step S209, Yes), and the display button 61d is pressed. When it is done (step S210, Yes), the wafer map information of the wafer W corresponding to the selected cassette 21, wafer ID, and channel is read from the storage means 32 and the wafer map 42 is displayed in the main area 41 (step S211). ). A wafer map 42 shown in FIG. 12 shows a display example corresponding to the wafer W that has already been processed as a whole, and is divided into two regions 42a and 42b. A mark 45 indicating the kerf check position is also reproduced and displayed.

そこで、イクジットボタン61eを押下しなければ(ステップS212,No)、ステップS201の判定処理に戻り、メインエリア41に表示されているウエーハマップ42に対するカーフチェックラインの選択指示がマーク45の位置を目安に可能となる。すなわち、前述したようなステップS201〜S204の処理が可能となる。これにより、所望時に、カセット21内に搬入された既に加工処理済みのウエーハWに関するカーフチェック結果をその画像を含めて再生させることができる。   Therefore, if the exit button 61e is not pressed (No in step S212), the process returns to the determination process in step S201, and the instruction for selecting the kerf check line for the wafer map 42 displayed in the main area 41 indicates the position of the mark 45 as a guide. It becomes possible. That is, the processing in steps S201 to S204 as described above can be performed. As a result, the kerf check result relating to the already processed wafer W carried into the cassette 21 can be reproduced, including the image, when desired.

このように、本実施の形態によれば、形成された切削溝を撮像手段12に位置付けて撮像するカーフチェック毎に生成される切削溝データを画像情報とともにその位置情報に関連して記憶手段32に累積的に記憶させておくので、複数枚のウエーハWに対して連続的に加工処理する量産時の加工品質の管理がしやすくなる。また、カーフチェック毎に画像情報も記憶され、ウエーハの形状と分割予定ラインの模式図をウエーハマップ42として表示するとともにカーフチェックの位置情報を示すマーク45もウエーハマップ42上に併せて表示させ、マーク45を利用した判りやすい所望のカーフチェック箇所の指定により切削溝データとともに画像情報を表示パネル13上に再生するので、加工中或いは加工後の所望時において表面品質の経時変化を目視で確認することができ、後の加工に反映させる等の利用も可能になる。特に、複数枚のウエーハWをカセット21単位で連続的に加工処理する上で、ウエーハWを特定するID情報とともに、ウエーハW毎にウエーハマップと画像情報と切削溝データとのウエーハ情報が記憶手段32に記憶され、指定されたID情報に基づいて対応するウエーハWのウエーハ情報を記憶手段32から表示パネル13に出力することで、同一カセット21内の加工済みの所望のウエーハに関して所望時に該ウエーハのID情報を指定すれば画像情報を含むカーフチェック結果を表示パネル13上に再現することができる。   As described above, according to the present embodiment, the cutting groove data generated for each kerf check for imaging by positioning the formed cutting groove on the imaging means 12 is stored in association with the position information together with the image information. Therefore, it is easy to manage the processing quality at the time of mass production in which a plurality of wafers W are continuously processed. In addition, image information is also stored for each kerf check, and a schematic diagram of the wafer shape and the line to be divided is displayed as a wafer map 42, and a mark 45 indicating position information of the kerf check is also displayed on the wafer map 42. Since the image information is reproduced on the display panel 13 together with the cutting groove data by designating a desired kerf check location that is easy to understand using the mark 45, the temporal change of the surface quality can be visually confirmed during processing or after processing. It is possible to use such as reflecting in later processing. In particular, when continuously processing a plurality of wafers W in units of cassettes 21, the wafer information of the wafer map, image information, and cutting groove data is stored for each wafer W together with ID information for specifying the wafer W. 32, the wafer information of the corresponding wafer W is output from the storage means 32 to the display panel 13 based on the designated ID information, so that the processed wafer in the same cassette 21 can be processed at a desired time. If the ID information is designated, the kerf check result including the image information can be reproduced on the display panel 13.

また、本実施の形態によれば、記憶手段32に記憶された画像情報を含むカーフチェックに関する各種情報は、USBメモリ等の記憶媒体37にも記憶されるので、当該加工装置10以外の所望のパソコン等において任意の時点で、画像情報を含むカーフチェック結果を再現することができる。   In addition, according to the present embodiment, various information related to the kerf check including the image information stored in the storage unit 32 is also stored in the storage medium 37 such as a USB memory. A kerf check result including image information can be reproduced at an arbitrary time on a personal computer or the like.

なお、本実施の形態では、デュアルカット方式の加工装置への適用例として説明したが、2つの切削ブレードを用いて同一の分割予定ラインを2段階に切削処理するステップカット方式の加工装置や、1つの切削ブレードを用いるシングルカット方式の加工装置の場合であっても同様に適用できる。   In this embodiment, as an example of application to a dual-cut type processing apparatus, a step-cut type processing apparatus that cuts the same division line in two stages using two cutting blades, Even in the case of a single-cut type processing apparatus using a single cutting blade, the same applies.

また、カーフチェック処理を定期的に行う場合に限らず、ランダムに行う方式の場合にも同様に適用することができる。また、チャンネル毎やウエーハ毎にカーフチェック処理のタイミング、回数を変えるようにしてもよい。さらには、カセット21は2段重ねの場合に限らず、1個のカセット21のみを使用する場合であってもよい。また、記憶媒体37としても、USBメモリに限らず、CD−R、DVD−Rその他の各種記憶媒体を用いることができ、対応するドライブ装置を使用するようにすればよい。さらには、記憶媒体37は、有線/無線LANで記憶手段32のデータを外部パソコン等に転送して記憶管理するようにしてもよい。   Further, the present invention is not limited to the case where the kerf check process is periodically performed, but can be similarly applied to a case where the kerf check process is performed randomly. Further, the timing and number of kerf check processes may be changed for each channel or wafer. Furthermore, the cassette 21 is not limited to a two-stage stack, and only one cassette 21 may be used. Further, the storage medium 37 is not limited to the USB memory, and various other storage media such as a CD-R, a DVD-R, etc. may be used, and a corresponding drive device may be used. Furthermore, the storage medium 37 may store and manage the data stored in the storage means 32 by transferring it to an external personal computer or the like via a wired / wireless LAN.

本発明の実施の形態のウエーハの加工結果管理方法を実施する加工装置の構成例を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the structural example of the processing apparatus which enforces the processing result management method of the wafer of embodiment of this invention. 本実施の形態に適用されるウエーハの構成例を示す平面図である。It is a top view which shows the structural example of the wafer applied to this Embodiment. 加工手段等の構成例を示す概略正面図である。It is a schematic front view which shows the structural examples, such as a process means. 本実施の形態の加工装置が内蔵する制御部の構成例を示す概略ブロック図である。It is a schematic block diagram which shows the structural example of the control part which the processing apparatus of this Embodiment incorporates. データメモリ部のデータ格納例を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the example of data storage of a data memory part typically. 画像メモリ部のデータ格納例を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the example of data storage of an image memory part. ウエーハマップモリ部のデータ格納例を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the example of data storage of a wafer map memory part. 切削加工動作に伴うウエーハの加工結果管理方法を示す概略フローチャートである。It is a schematic flowchart which shows the processing result management method of the wafer accompanying cutting operation. 図8の処理に対して割り込み可能なカーフ情報表示割り込み処理例を示す概略フローチャートである。It is a schematic flowchart which shows the example of a kerf information display interruption process which can be interrupted with respect to the process of FIG. 加工処理中における表示パネルの表示例を示す概略正面図である。It is a schematic front view which shows the example of a display of the display panel during a process. カーフチェックデータ表示中の表示パネルの表示例を示す概略正面図である。It is a schematic front view which shows the example of a display of the display panel during kerf check data display. カーフチェック結果選択用の表示パネルの表示例を示す概略正面図である。It is a schematic front view which shows the example of a display of the display panel for a kerf check result selection.

符号の説明Explanation of symbols

10 加工装置
11 チャックテーブル
12 撮像手段
13 表示パネル
14 加工手段
15 加工送り手段
16 割り出し送り手段
32 記憶手段
37 記憶媒体
42 ウエーハマップ
45 マーク
S105 切削ステップ
S110 記憶ステップ
S111 表示ステップ
S202,S204 再生ステップ
S 分割予定ライン
W ウエーハ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Processing apparatus 11 Chuck table 12 Imaging means 13 Display panel 14 Processing means 15 Processing feed means 16 Index feed means 32 Storage means 37 Storage medium 42 Wafer map 45 Mark S105 Cutting step S110 Storage step S111 Display step S202, S204 Reproduction step S Division Planned line W wafer

Claims (5)

ウエーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハを撮像する撮像手段と、該撮像手段が撮像した画像を表示する表示パネルと、前記チャックテーブルに保持されたウエーハを加工する加工手段と、該加工手段と前記チャックテーブルとを相対的にX軸方向に加工送りする加工送り手段と、前記加工手段と前記チャックテーブルとを相対的にY軸方向に割り出し送りする割り出し送り手段と、を備える加工装置におけるウエーハの加工結果管理方法であって、
前記加工送り手段および前記割り出し送り手段を作動して前記加工手段でウエーハの分割予定ラインに切削溝を形成する切削ステップと、
該切削ステップで切削された前記切削溝を定期的またはランダムに前記撮像手段に位置付けて該切削溝を撮像して画像情報を生成するとともに切削溝データを生成し、前記撮像手段とウエーハとの位置をXY座標で示す位置情報に関連して前記画像情報と前記切削溝データとを記憶手段に記憶する記憶ステップと、
前記表示パネルにウエーハの形状と分割予定ラインの模式図をウエーハマップとして表示するとともに前記記憶ステップで記憶された前記位置情報を示すマークを表示する表示ステップと、
該表示ステップで表示された前記マークを指定して対応する前記画像情報と前記切削溝データとを前記表示パネルに再生する再生ステップと、
を備えることを特徴とするウエーハの加工結果管理方法。
A chuck table for holding a wafer, an imaging means for imaging a wafer held on the chuck table, a display panel for displaying an image taken by the imaging means, and a processing means for processing the wafer held on the chuck table Machining feed means for machining and feeding the machining means and the chuck table relatively in the X-axis direction; index feeding means for indexing and feeding the machining means and the chuck table in the Y-axis direction; A wafer processing result management method in a processing apparatus comprising:
A cutting step in which the machining feed means and the index feed means are operated to form a cutting groove in a division schedule line of the wafer by the machining means;
The cutting grooves cut in the cutting step are periodically or randomly positioned on the image pickup means, the cutting grooves are picked up to generate image information and cutting groove data, and the positions of the image pickup means and the wafer. A storage step of storing the image information and the cutting groove data in a storage means in relation to the position information indicated by XY coordinates;
A display step for displaying on the display panel a schematic diagram of the shape of the wafer and a line to be divided as a wafer map and displaying a mark indicating the position information stored in the storage step;
A reproduction step of reproducing the corresponding image information and the cutting groove data on the display panel by designating the mark displayed in the display step;
A wafer processing result management method characterized by comprising:
ウエーハを特定するID情報とともに、ウエーハ毎に前記ウエーハマップと前記画像情報と前記切削溝データとのウエーハ情報が前記記憶手段に記憶され、指定された前記ID情報に基づいて対応するウエーハの前記ウエーハ情報を前記記憶手段から前記表示パネルに出力することを特徴とする請求項1に記載のウエーハの加工結果管理方法。   Wafer information of the wafer map, the image information, and the cutting groove data is stored in the storage means for each wafer together with ID information for specifying a wafer, and the wafer of the corresponding wafer based on the specified ID information is stored. 2. The wafer processing result management method according to claim 1, wherein information is output from the storage means to the display panel. 前記記憶ステップおよび前記表示ステップで記憶された情報が可搬性を有する記憶媒体に記憶されることを特徴とする請求項1または2に記載のウエーハの加工結果管理方法。   3. The wafer processing result management method according to claim 1, wherein the information stored in the storage step and the display step is stored in a portable storage medium. 前記切削溝データは、前記撮像手段の中心位置を示すヘアラインと切削溝中心とのずれ量であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載のウエーハの加工結果管理方法。   The wafer cutting result management method according to any one of claims 1 to 3, wherein the cutting groove data is a deviation amount between a hairline indicating a center position of the imaging means and a cutting groove center. 前記切削溝データは、切削溝の幅、チッピングの大きさのいずれかを含むことを特徴とする請求項4に記載のウエーハの加工結果管理方法。   5. The wafer processing result management method according to claim 4, wherein the cutting groove data includes one of a width of a cutting groove and a size of chipping.
JP2006173729A 2006-06-23 2006-06-23 Wafer processing result management method Active JP5134216B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006173729A JP5134216B2 (en) 2006-06-23 2006-06-23 Wafer processing result management method
TW96121402A TWI404153B (en) 2006-06-23 2007-06-13 Method for managing wafer processing results
CN2007101120960A CN101092049B (en) 2006-06-23 2007-06-22 Method of managing the processing result of wafer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006173729A JP5134216B2 (en) 2006-06-23 2006-06-23 Wafer processing result management method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008004806A true JP2008004806A (en) 2008-01-10
JP5134216B2 JP5134216B2 (en) 2013-01-30

Family

ID=38990575

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006173729A Active JP5134216B2 (en) 2006-06-23 2006-06-23 Wafer processing result management method

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5134216B2 (en)
CN (1) CN101092049B (en)
TW (1) TWI404153B (en)

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009194326A (en) * 2008-02-18 2009-08-27 Disco Abrasive Syst Ltd Processing device
JP2009253017A (en) * 2008-04-07 2009-10-29 Tokyo Seimitsu Co Ltd Dicing method
JP2012190987A (en) * 2011-03-10 2012-10-04 Toshiba Mach Co Ltd Method of displaying workpiece cutting line
KR20160119694A (en) * 2015-04-06 2016-10-14 가부시기가이샤 디스코 Processing apparatus
KR20160138899A (en) * 2015-05-26 2016-12-06 가부시기가이샤 디스코 Machining system
JP2018147913A (en) * 2017-03-01 2018-09-20 株式会社ディスコ Cutting device
JP2019186447A (en) * 2018-04-13 2019-10-24 株式会社ディスコ Processing apparatus
JP2019212760A (en) * 2018-06-05 2019-12-12 株式会社ディスコ Processing apparatus
JP2019212797A (en) * 2018-06-06 2019-12-12 株式会社ディスコ Wafer processing method and grinding device
JP2020092207A (en) * 2018-12-06 2020-06-11 株式会社ディスコ Processing system and processing apparatus
JP2020136555A (en) * 2019-02-22 2020-08-31 株式会社ディスコ Processing device
JP2020145439A (en) * 2015-05-26 2020-09-10 株式会社ディスコ Processing system
JP2020177994A (en) * 2019-04-17 2020-10-29 株式会社ディスコ Wafer processing method
JP2020205333A (en) * 2019-06-17 2020-12-24 株式会社ディスコ Processing device
JP2021034468A (en) * 2019-08-21 2021-03-01 株式会社ディスコ Processing device
JP2021034403A (en) * 2019-08-15 2021-03-01 株式会社ディスコ Processing device
JP2021098253A (en) * 2019-12-20 2021-07-01 株式会社ディスコ Processing device
JP2021114502A (en) * 2020-01-16 2021-08-05 株式会社ディスコ Processing device
CN114746232A (en) * 2019-12-16 2022-07-12 Towa株式会社 Statistical data generation method, cutting device and system

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6422355B2 (en) * 2015-01-29 2018-11-14 株式会社ディスコ Alignment method
CN105171938B (en) * 2015-09-19 2017-07-11 哈尔滨奥瑞德光电技术有限公司 C is to quick determinations of the sapphire ingot a to flat side and processing method
JP6600267B2 (en) * 2016-03-15 2019-10-30 株式会社ディスコ Workpiece cutting method
CN106256477A (en) * 2016-08-31 2016-12-28 安徽芯瑞达电子科技有限公司 Dark portion determining method laser cutting method
JP7032050B2 (en) * 2017-03-14 2022-03-08 株式会社ディスコ Laser processing equipment
JP7064887B2 (en) * 2018-01-12 2022-05-11 株式会社ディスコ Processing equipment management method and processing equipment
JP7404009B2 (en) * 2019-09-19 2023-12-25 キオクシア株式会社 Processing information management system and processing information management method

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02164016A (en) * 1988-12-19 1990-06-25 Hitachi Ltd Treatment of wafer and apparatus therefor
JPH03236260A (en) * 1990-02-14 1991-10-22 Sumitomo Electric Ind Ltd Dicing apparatus for semiconductor wafer
JPH04199733A (en) * 1990-11-29 1992-07-20 Tokyo Seimitsu Co Ltd Manufacture of semiconductor chip and device therefore
JPH05326700A (en) * 1992-05-15 1993-12-10 Disco Abrasive Syst Ltd Automatic dicing system based on curf check
JPH06326187A (en) * 1993-05-11 1994-11-25 Tokyo Seimitsu Co Ltd Controlling method for dicing processing and processing quality-control system
JPH08305425A (en) * 1995-05-11 1996-11-22 Amada Co Ltd Display method for working progress of nc machine
JPH09199451A (en) * 1996-01-12 1997-07-31 Disco Abrasive Syst Ltd Method and device for dicing
JPH10109226A (en) * 1996-10-04 1998-04-28 Sodick Co Ltd Device and method for restoring broken wire of wire electrical discharge machining device
JPH10156668A (en) * 1996-12-03 1998-06-16 Seiko Seiki Co Ltd Machining state display device for dicing device
JPH10288585A (en) * 1997-04-13 1998-10-27 Inspectech Ltd Method and device for analyzing cut part
JP2004004262A (en) * 2002-05-31 2004-01-08 Alpine Electronics Inc Method for displaying stores in facilities in map display system
JP2005257913A (en) * 2004-03-10 2005-09-22 Alpine Electronics Inc Building information display apparatus
JP2005300314A (en) * 2004-04-09 2005-10-27 Toshiba Corp Measurement data managing device, measurement data management method and measurement data management program

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3646781B2 (en) * 1999-11-08 2005-05-11 株式会社東京精密 Dicing method, kerf check method of dicing apparatus, and kerf check system
JP4238041B2 (en) * 2003-02-06 2009-03-11 アドバンスト ダイシング テクノロジース リミテッド Dicing apparatus, dicing method, and manufacturing method of semiconductor device
JP4554265B2 (en) * 2004-04-21 2010-09-29 株式会社ディスコ Method for detecting misalignment of cutting blade
JP4741822B2 (en) * 2004-09-02 2011-08-10 ルネサスエレクトロニクス株式会社 Manufacturing method of semiconductor device

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02164016A (en) * 1988-12-19 1990-06-25 Hitachi Ltd Treatment of wafer and apparatus therefor
JPH03236260A (en) * 1990-02-14 1991-10-22 Sumitomo Electric Ind Ltd Dicing apparatus for semiconductor wafer
JPH04199733A (en) * 1990-11-29 1992-07-20 Tokyo Seimitsu Co Ltd Manufacture of semiconductor chip and device therefore
JPH05326700A (en) * 1992-05-15 1993-12-10 Disco Abrasive Syst Ltd Automatic dicing system based on curf check
JPH06326187A (en) * 1993-05-11 1994-11-25 Tokyo Seimitsu Co Ltd Controlling method for dicing processing and processing quality-control system
JPH08305425A (en) * 1995-05-11 1996-11-22 Amada Co Ltd Display method for working progress of nc machine
JPH09199451A (en) * 1996-01-12 1997-07-31 Disco Abrasive Syst Ltd Method and device for dicing
JPH10109226A (en) * 1996-10-04 1998-04-28 Sodick Co Ltd Device and method for restoring broken wire of wire electrical discharge machining device
JPH10156668A (en) * 1996-12-03 1998-06-16 Seiko Seiki Co Ltd Machining state display device for dicing device
JPH10288585A (en) * 1997-04-13 1998-10-27 Inspectech Ltd Method and device for analyzing cut part
JP2004004262A (en) * 2002-05-31 2004-01-08 Alpine Electronics Inc Method for displaying stores in facilities in map display system
JP2005257913A (en) * 2004-03-10 2005-09-22 Alpine Electronics Inc Building information display apparatus
JP2005300314A (en) * 2004-04-09 2005-10-27 Toshiba Corp Measurement data managing device, measurement data management method and measurement data management program

Cited By (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009194326A (en) * 2008-02-18 2009-08-27 Disco Abrasive Syst Ltd Processing device
JP2009253017A (en) * 2008-04-07 2009-10-29 Tokyo Seimitsu Co Ltd Dicing method
JP2012190987A (en) * 2011-03-10 2012-10-04 Toshiba Mach Co Ltd Method of displaying workpiece cutting line
KR102409604B1 (en) * 2015-04-06 2022-06-17 가부시기가이샤 디스코 Processing apparatus
KR20160119694A (en) * 2015-04-06 2016-10-14 가부시기가이샤 디스코 Processing apparatus
JP2016197702A (en) * 2015-04-06 2016-11-24 株式会社ディスコ Processing apparatus
KR20160138899A (en) * 2015-05-26 2016-12-06 가부시기가이샤 디스코 Machining system
JP2020145439A (en) * 2015-05-26 2020-09-10 株式会社ディスコ Processing system
KR102446758B1 (en) * 2015-05-26 2022-09-22 가부시기가이샤 디스코 Machining system
JP2018147913A (en) * 2017-03-01 2018-09-20 株式会社ディスコ Cutting device
JP2019186447A (en) * 2018-04-13 2019-10-24 株式会社ディスコ Processing apparatus
JP2019212760A (en) * 2018-06-05 2019-12-12 株式会社ディスコ Processing apparatus
JP2019212797A (en) * 2018-06-06 2019-12-12 株式会社ディスコ Wafer processing method and grinding device
US10937697B2 (en) 2018-06-06 2021-03-02 Disco Corporation Method of processing a semiconductor wafer that involves cutting to form grooves along the dicing lines and grinding reverse side of the wafer
JP2020092207A (en) * 2018-12-06 2020-06-11 株式会社ディスコ Processing system and processing apparatus
JP7166727B2 (en) 2018-12-06 2022-11-08 株式会社ディスコ Processing system and processing equipment
JP7232077B2 (en) 2019-02-22 2023-03-02 株式会社ディスコ processing equipment
JP2020136555A (en) * 2019-02-22 2020-08-31 株式会社ディスコ Processing device
JP7368098B2 (en) 2019-04-17 2023-10-24 株式会社ディスコ Wafer processing method
JP2020177994A (en) * 2019-04-17 2020-10-29 株式会社ディスコ Wafer processing method
JP2020205333A (en) * 2019-06-17 2020-12-24 株式会社ディスコ Processing device
JP2021034403A (en) * 2019-08-15 2021-03-01 株式会社ディスコ Processing device
JP7368138B2 (en) 2019-08-15 2023-10-24 株式会社ディスコ processing equipment
JP2021034468A (en) * 2019-08-21 2021-03-01 株式会社ディスコ Processing device
CN114746232A (en) * 2019-12-16 2022-07-12 Towa株式会社 Statistical data generation method, cutting device and system
KR20220109463A (en) 2019-12-16 2022-08-04 토와 가부시기가이샤 Statistical data generation method, cutting device and system
CN114746232B (en) * 2019-12-16 2024-03-19 Towa株式会社 Statistical data generation method, cutting device and system
JP2021098253A (en) * 2019-12-20 2021-07-01 株式会社ディスコ Processing device
JP7408235B2 (en) 2019-12-20 2024-01-05 株式会社ディスコ processing equipment
JP2021114502A (en) * 2020-01-16 2021-08-05 株式会社ディスコ Processing device
JP7460272B2 (en) 2020-01-16 2024-04-02 株式会社ディスコ Processing Equipment

Also Published As

Publication number Publication date
TWI404153B (en) 2013-08-01
JP5134216B2 (en) 2013-01-30
TW200818366A (en) 2008-04-16
CN101092049B (en) 2011-12-28
CN101092049A (en) 2007-12-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5134216B2 (en) Wafer processing result management method
JP6935168B2 (en) Processing equipment
US20080102542A1 (en) Wafer processing method
JP2009117776A (en) Processing apparatus
JP2017013199A (en) Cutting device
JP2001332515A (en) Device for detecting position of rotary blade
US20160370905A1 (en) Processing system
JP6108806B2 (en) Processing equipment
JP2009278029A (en) Dicing apparatus
JP2009206206A (en) Processing device
JP4342807B2 (en) Alignment method and alignment apparatus
JP2020053477A (en) Processing device
JP2011181623A (en) Processing method of plate-like object
US11682569B2 (en) Workpiece cutting method
JP4485771B2 (en) Method of aligning rotation axis of chuck table and center of microscope in cutting apparatus
JP2018187707A (en) Cutting device
US11256406B2 (en) Processing apparatus
JP7368138B2 (en) processing equipment
US11768478B2 (en) Processing apparatus
JP6649708B2 (en) Machine tools and machining unloading methods
CN114551233A (en) Processing device
JP2020098831A (en) Division method for workpiece
JP2022164003A (en) Substrate processing apparatus
JP2016127118A (en) Processing device
JP2023068917A (en) Processing device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090520

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110620

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110628

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110819

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120214

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120411

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121030

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121109

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151116

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5134216

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151116

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250