JP2007334362A - Electron beam device - Google Patents

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弘典 手操
Ichiro Honjo
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electron beam device capable of recording information with high accuracy necessary for forming pits in a disk for producing a master. <P>SOLUTION: The electron beam device is equipped with: a disk rotation center detection unit 9 that detects a rotation center of a disk for producing a master held by a holding means 3 for a disk for producing a master; and an aligning means 5, 10 that align the rotation center of the disk 2 for producing a master held by the disk holding means 3 to the rotatory asymmetry center of information recording electron beam lens-barrels 21-1 to 21-4, 22-1 to 22-4, 23-1 to 23-4, and 24-1 to 24-4. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、光ディスクを作製するために必要な原盤を作製する場合に使用される電子ビーム装置に関する。   The present invention relates to an electron beam apparatus used for producing a master disk necessary for producing an optical disk.

電子情報処理装置において、情報記録媒体として使用されるディスクのうち、CD−ROMや光磁気ディスク(MO)等の光ディスクは、可搬型の大容量記録媒体であることを特徴とし、広く使用されている。   Among electronic disks used as information recording media in electronic information processing apparatuses, optical disks such as CD-ROMs and magneto-optical disks (MO) are portable large-capacity recording media and are widely used. Yes.

これらの光ディスクは、ピット(凹部)を有することから、たとえば、ガラス基板にレジスト層を形成してなる原盤作製用ディスクを用意し、この原盤作製用ディスクのレジスト層を加工して原盤を作製し、更に、この原盤を使用してスタンパと呼ばれる金型を作製した後、この金型を使用して作製される。   Since these optical discs have pits (recesses), for example, a master disc is prepared by forming a resist layer on a glass substrate, and the master layer is manufactured by processing the resist layer of the master disc. In addition, a mold called a stamper is manufactured using this master disk, and then manufactured using this mold.

従来、原盤は、光ディスクに記憶すべきデジタル情報に応じたレーザビームを原盤作製用ディスクのレジスト層に照射し、原盤作製用ディスクに必要なピットを形成することにより作製されていた。   Conventionally, a master has been manufactured by irradiating a resist layer of a master disk with a laser beam corresponding to digital information to be stored on the optical disk to form pits necessary for the master disk.

しかし、レーザビームを使用する原盤の作製では、更なる高記録密度化が困難であると考えられることから、電子ビームを使用する原盤の作製が検討されており、原盤作製に使用される種々の電子ビーム装置が提案されている(特許文献1、特許文献2、非特許文献1)。   However, since it is considered difficult to further increase the recording density in the production of a master using a laser beam, the production of a master using an electron beam has been studied. An electron beam apparatus has been proposed (Patent Document 1, Patent Document 2, Non-Patent Document 1).

特に、特許文献1及び特許文献2においては、原盤作製用ディスクの電子ビーム照射箇所を一括照射できないことに起因する電子ビーム装置の欠点である低スループットを改善することを目的として、小型の電子ビーム鏡筒を2次元に配列し、原盤作製用ディスクに対して同時に複数の電子ビームを照射することができるようにした電子ビーム装置が記載されている。
特開平2−214046号公報 特開平4−335226号公報 第44回春季応用物理学会予稿集(1997)31a−NF−9
In particular, in Patent Document 1 and Patent Document 2, a small electron beam is used for the purpose of improving the low throughput, which is a drawback of the electron beam apparatus due to the inability to collectively irradiate the electron beam irradiated portions of the master disk. There is described an electron beam apparatus in which lens barrels are two-dimensionally arranged so that a plurality of electron beams can be simultaneously irradiated onto a master disc.
JP-A-2-214046 JP-A-4-335226 44th Annual Meeting of the Japan Society of Applied Physics (1997) 31a-NF-9

しかし、特許文献1に記載されている電子ビーム装置や、特許文献2に記載されている電子ビーム装置においては、動作不良の電子ビーム鏡筒を検出することができず、動作不良の電子ビーム鏡筒が発生した場合、直ちに、これに対応することができず、作業効率の大幅な低下を招いてしまうという問題点があった。   However, in the electron beam device described in Patent Document 1 and the electron beam device described in Patent Document 2, a malfunctioning electron beam column cannot be detected, and the malfunctioning electron beam mirror is not detected. When a cylinder is generated, it is not possible to immediately cope with this, and there is a problem in that work efficiency is greatly reduced.

また、従来の電子ビーム装置においては、原盤作製用ディスクと電子ビーム鏡筒群との位置合わせは、原盤作製用ディスクを保持するステージ機構系の精度に依存したものであり、原盤作製用ディスクと電子ビーム鏡筒群とを積極的に整合させる手段を有していなかったので、ピットの形成を高精度に行うことができない場合があるという問題点があった。   In the conventional electron beam apparatus, the alignment of the master disk and the electron beam barrel group depends on the accuracy of the stage mechanism system that holds the master disk, and the master disk and Since there was no means for positively aligning the electron beam column group, there was a problem that pits could not be formed with high accuracy.

本発明は、かかる点に鑑み、複数の電子ビームを配置してなる電子ビーム鏡筒群を備え、スループットの向上を図ることができると共に、不良の電子ビーム鏡筒が発生した場合においても、作業効率の低下を最小限に抑えることができるようにした電子ビーム装置を提供することを第1の目的とする。   In view of such points, the present invention includes an electron beam column group in which a plurality of electron beams are arranged, and can improve throughput, and even when a defective electron beam column is generated, It is a first object of the present invention to provide an electron beam apparatus capable of minimizing a decrease in efficiency.

また、本発明は、複数の電子ビームを配置してなる電子ビーム鏡筒群を備え、スループットの向上を図ることができると共に、不良の電子ビーム鏡筒が発生した場合においても、作業効率の低下を最小限に抑えることができ、しかも、原盤作製用ディスクと電子ビーム鏡筒群との整合を図ることができ、原盤作製用ディスクに対するピット形成に必要な情報の記録を高精度に行うことができるようにした電子ビーム装置を提供することを第2の目的とする。   In addition, the present invention includes an electron beam column group in which a plurality of electron beams are arranged, so that throughput can be improved and work efficiency is reduced even when a defective electron beam column is generated. In addition, the master disc can be aligned with the electron beam column group, and information necessary for pit formation on the master disc can be recorded with high accuracy. A second object of the present invention is to provide an electron beam apparatus which can be used.

本発明中、第1の発明の電子ビーム装置は、原盤作製用ディスクを保持させて回転させるための原盤作製用ディスク保持手段と、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクの回転中心から異なる半径方向距離ごとに複数の情報記録用電子ビーム鏡筒を回転対称に配置してなる情報記録用電子ビーム鏡筒群と、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出する不良情報記録用電子ビーム鏡筒検出手段とを備えているというものである。   In the present invention, the electron beam apparatus according to the first aspect of the present invention includes a master disk preparation means for holding and rotating a master disk, and a rotation of the master disk held by the master disk holder. An information recording electron beam column group in which a plurality of information recording electron beam barrels are arranged rotationally symmetrically at different radial distances from the center, and defective information recording for detecting defective information recording electron beam column And electron beam column detection means.

本発明中、第1の発明の電子ビーム装置によれば、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクの回転中心から異なる半径方向距離ごとに複数の情報記録用電子ビーム鏡筒を回転対称に配置してなる情報記録用電子ビーム鏡筒群を備えているので、原盤作製用ディスクの電子ビーム照射箇所に対する電子ビームの照射を回転対称にある複数の情報記録用電子ビーム鏡筒で分担し、並行して行うことができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the first invention, a plurality of information recording electron beam barrels are provided at different radial distances from the rotation center of the master disc that is held by the master disc holder. Since the information recording electron beam column group is provided in a rotationally symmetrical manner, the electron beam irradiation to the electron beam irradiation location of the master disk is made by a plurality of information recording electron beam column columns that are rotationally symmetric. Can be shared and performed in parallel.

また、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出する不良情報記録用電子ビーム鏡筒検出手段を備えているので、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を自動的に検出することができ、しかも、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクの異なる半径方向距離ごとに複数の情報記録用電子ビーム鏡筒を回転対称に配置してなる情報記録用電子ビーム鏡筒群を備えているので、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出したときは、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が分担する電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を回転対称にある他の情報記録用電子ビーム鏡筒を使用して行うことができる。   In addition, since a defect information recording electron beam column detecting means for detecting a defective information recording electron beam column is provided, a defective information recording electron beam column can be automatically detected. And an information recording electron beam column group in which a plurality of information recording electron beam column tubes are rotationally symmetrically arranged at different radial distances of the master plate manufacturing disc held by the master disk manufacturing disc holding means. Therefore, when a defective information recording electron beam column is detected, another electron beam for information recording that is rotationally symmetric with respect to the electron beam irradiation site shared by the defective information recording electron beam column This can be done using a lens barrel.

本発明中、第2の発明の電子ビーム装置は、第1の発明において、複数の情報記録用電子ビーム鏡筒の各々に対応させて予備の情報記録用電子ビーム鏡筒を備えているというものである。   In the present invention, the electron beam apparatus according to the second aspect of the present invention is the electron beam apparatus according to the first aspect, comprising a spare information recording electron beam column corresponding to each of the plurality of information recording electron beam columns. It is.

本発明中、第2の発明の電子ビーム装置によれば、第1の発明の電子ビーム装置と同様に、原盤作製用ディスクの電子ビーム照射箇所に対する電子ビームの照射を回転対称にある複数の情報記録用電子ビーム鏡筒で分担し、並行して行うことができると共に、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出したときは、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が分担する電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を予備の情報記録用電子ビーム鏡筒を使用して行うことができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the second invention, similarly to the electron beam apparatus of the first invention, a plurality of pieces of information in which the irradiation of the electron beam to the electron beam irradiation portion of the master disk is rotationally symmetric. It can be shared by the recording electron beam column and can be performed in parallel, and when a defective information recording electron beam column is detected, the electron beam irradiation location shared by the defective information recording electron beam column Can be performed using a spare information recording electron beam column.

本発明中、第3の発明の電子ビーム装置は、第1又は第2の発明において、不良情報記録用電子ビーム鏡筒検出手段は、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクからの反射電子又は2次電子の検出量により、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出するように構成されているというものである。   In the present invention, the electron beam apparatus according to the third aspect of the present invention is the first or second aspect of the invention, wherein the defect information recording electron beam column detecting means is an original disk producing disk held by the original disk producing disk holding means. The configuration is such that a defective information recording electron beam column is detected based on the amount of reflected electrons or secondary electrons detected.

本発明中、第3の発明の電子ビーム装置によれば、第1又は第2の発明の電子ビーム装置と同様の作用を得ることができると共に、簡単な構成で、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出することができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the third aspect of the present invention, the same operation as that of the electron beam apparatus of the first or second aspect of the invention can be obtained, and a defective information recording electron beam can be obtained with a simple configuration. The lens barrel can be detected.

本発明中、第4の発明の電子ビーム装置は、第1又は第2の発明において、不良情報記録用電子ビーム鏡筒検出手段は、電子ビーム電流の漏れ量を検出することにより、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出するように構成されているというものである。   In the present invention, the electron beam apparatus according to the fourth aspect of the present invention is the first or second aspect of the invention, wherein the defect information recording electron beam column detecting means detects the amount of defect of the electron beam current by detecting the leakage amount of the electron beam current. It is configured to detect a recording electron beam column.

本発明中、第4の発明の電子ビーム装置によれば、第1又は第2の発明の電子ビーム装置と同様の作用を得ることができると共に、簡単な構成で、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出することができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the fourth aspect of the present invention, the same operation as that of the electron beam apparatus of the first or second aspect of the invention can be obtained, and a defective information recording electron beam can be obtained with a simple configuration. The lens barrel can be detected.

本発明中、第5の発明の電子ビーム装置は、第1、第2、第3又は第4の発明において、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させた場合における原盤作製用ディスクの半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を出来る限り均等化する電子ビーム照射量均等化手段を備えているというものである。   In the present invention, the electron beam apparatus according to the fifth aspect of the present invention is the first, second, third, or fourth aspect of the present invention, wherein the master disc prepared by the master disc preparation means is rotated at a constant angular velocity. In this case, there is provided an electron beam irradiation amount equalizing means for equalizing the electron beam irradiation amount per unit area at each point in the radial direction of the master disc.

本発明中、第5の発明の電子ビーム装置によれば、第1、第2、第3又は第4の発明と同様の作用を得ることができると共に、原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させる場合においても、原盤作製用ディスクに対するピット形成に必要な情報の記録を高精度に行うことができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the fifth invention, the same operation as that of the first, second, third or fourth invention can be obtained, and the master disk is rotated at a constant angular velocity. Even in this case, information necessary for forming pits on the master disk can be recorded with high accuracy.

本発明中、第6の発明の電子ビーム装置は、第5の発明において、電子ビーム照射量均等化手段は、原盤作製用ディスクの1ピット形成部分を1個以上の情報記録用電子ビーム鏡筒で電子ビーム照射するものとし、原盤作製用ディスクの1ピット形成部分を照射する情報記録用電子ビーム鏡筒の数が原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクの内周部から外周部にかけて多くなるように情報記録用電子ビーム鏡筒を配置させることを含めて構成されているというものである。   In the present invention, the electron beam apparatus according to a sixth aspect of the present invention is the electron beam irradiation amount equalizing means according to the fifth aspect, wherein the electron beam irradiation amount equalizing means comprises one or more information recording electron beam barrels in one pit formation portion of the master disc. The number of the information recording electron beam barrels that irradiate one pit formation portion of the master disc is the outer circumference from the inner circumference of the master disc that is held by the master disc holder. It is configured to include the arrangement of the information recording electron beam column so that the number increases over the portion.

本発明中、第6の発明の電子ビーム装置によれば、第5の発明と同様の作用を得ることができると共に、電子ビーム照射量均等化手段を簡単な構成とすることができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the sixth invention, the same operation as that of the fifth invention can be obtained, and the electron beam irradiation amount equalizing means can have a simple configuration.

本発明中、第7の発明の電子ビーム装置は、第5の発明において、電子ビーム照射量均等化手段は、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクに照射される電子ビームの電流量を制御することにより、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させた場合における原盤作製用ディスクの半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を出来る限り均等化するように構成されているというものである。   According to a seventh aspect of the present invention, the electron beam apparatus according to the seventh aspect of the present invention is the electron beam irradiation amount equalizing means according to the fifth aspect, wherein the electron beam irradiation amount equalizing means Electron beam irradiation per unit area at each point in the radial direction of the master disc when the master disc is rotated at a constant angular velocity by controlling the amount of current. It is designed to make the quantity as uniform as possible.

本発明中、第7の発明の電子ビーム装置によれば、第5の発明と同様の作用を得ることができると共に、電子ビーム照射量均等化手段を簡単な構成とすることができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the seventh invention, the same operation as that of the fifth invention can be obtained, and the electron beam irradiation amount equalizing means can have a simple configuration.

本発明中、第8の発明の電子ビーム装置は、第5の発明において、電子ビーム照射量均等化手段は、原盤作製用ディスクの1ピット形成部分に照射する電子ビームの照射回数を制御することにより、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させた場合における原盤作製用ディスクの半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を出来る限り均等化するように構成されているというものである。   In the present invention, in the electron beam apparatus according to the eighth aspect based on the fifth aspect, the electron beam irradiation amount equalizing means controls the number of times the electron beam is irradiated to the 1 pit forming portion of the master disk. Makes it possible to equalize the electron beam irradiation amount per unit area as much as possible at each point in the radial direction of the master disc when the master disc is held at a constant angular velocity. It is configured to do.

本発明中、第8の発明の電子ビーム装置によれば、第5の発明と同様の作用を得ることができると共に、電子ビーム照射量均等化手段を簡単な構成とすることができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the eighth invention, the same operation as that of the fifth invention can be obtained, and the electron beam irradiation amount equalizing means can be simply configured.

本発明中、第9の発明の電子ビーム装置は、第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7又は第8の発明において、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクの回転中心を検出する原盤作製用ディスク回転中心検出手段と、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクの回転中心と複数の情報記録用電子ビーム鏡筒の回転対称中心とを整合させる整合手段とを備えているというものである。   In the present invention, the electron beam apparatus according to the ninth aspect is held by the master disk-producing disk holding means in the first, second, third, fourth, fifth, sixth, seventh or eighth invention. A rotation center detecting means for detecting a rotation of the master disk, a rotation center of the disk for holding the master disk held by the disk holding means for rotating the master disk, and rotation of a plurality of information recording electron beam columns. It has an alignment means for aligning the center of symmetry.

本発明中、第9の発明の電子ビーム装置によれば、第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7又は第8の発明と同様の作用を得ることができると共に、原盤作製用ディスクに対するピット形成に必要な情報の記録を高精度に行うことができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the ninth invention, the same operation as that of the first, second, third, fourth, fifth, sixth, seventh or eighth invention can be obtained. At the same time, information necessary for forming pits on the master disc can be recorded with high accuracy.

本発明中、第10の発明の電子ビーム装置は、第9の発明において、原盤作製用ディスク回転中心検出手段は、原盤作製用ディスク保持手段の原盤作製用ディスク搭載面の原盤作製用ディスク搭載箇所の外側に原盤作製用ディスクの回転中心を回転対称中心として回転対称に形成され、かつ、原盤作製用ディスクの回転方向に沿った幅が原盤作製用ディスクの回転中心からの距離によって異なる同一形状の複数の原盤作製用ディスク回転中心検出用マークと、複数の原盤作製用ディスク回転中心検出用マークに電子ビームを照射して複数の原盤作製用ディスク回転中心検出用マークからの反射電子又は2次電子を検出する手段を有する原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒とを含めて構成されているというものである。   In the present invention, the electron beam apparatus according to the tenth aspect of the present invention is based on the ninth aspect, wherein the disk rotation center detecting means for preparing the master disk is mounted on the disk mounting surface of the master disk manufacturing disk mounting surface of the disk manufacturing disk holding means. Are formed in a rotationally symmetrical manner with the center of rotation of the master disk as the center of rotational symmetry, and the width along the rotation direction of the master disk is the same as that of the master disk, depending on the distance from the center of rotation. Reflected electrons or secondary electrons from a plurality of master disk-producing disk rotation center detection marks by irradiating an electron beam to the plurality of master-disk-producing disk rotation center detection marks. And an electron beam column for detecting the center of rotation of the disk for producing the master disk.

本発明中、第10の発明の電子ビーム装置によれば、第9の発明と同様の作用を得ることができると共に、原盤作製用ディスクの回転中心位置を簡単な構成で、かつ、高精度に検出することができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the tenth invention, it is possible to obtain the same operation as that of the ninth invention, and the rotation center position of the master disk is simple and highly accurate. Can be detected.

本発明中、第11の発明の電子ビーム装置は、第9の発明において、原盤作製用ディスク回転中心検出手段は、原盤作製用ディスクに原盤作製用ディスクの回転中心を回転対称中心として回転対称に形成され、かつ、原盤作製用ディスクの回転方向に沿った幅が原盤作製用ディスクの回転中心からの距離によって異なる同一形状の複数の原盤作製用ディスク回転中心検出用マークに電子ビームを照射して原盤作製用ディスク回転中心検出用マークからの反射電子又は2次電子を検出する手段を有する原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒とを含めて構成されているというものである。   According to an eleventh aspect of the present invention, the electron beam apparatus according to the eleventh aspect of the invention is based on the ninth aspect, wherein the disk rotation center detecting means for rotating the master disk is rotationally symmetric with the rotation center of the disk for disk recording as the rotational symmetry center. Irradiate an electron beam onto a plurality of master disk manufacturing center detection marks that are formed and have different widths along the rotational direction of the master disk, depending on the distance from the center of rotation of the master disk. This includes an electron beam column for detecting a disk rotation center for producing a master and having a means for detecting reflected electrons or secondary electrons from the disk rotation center detecting mark for producing the master.

本発明中、第11の発明の電子ビーム装置によれば、第9の発明と同様の作用を得ることができると共に、原盤作製用ディスクの回転中心を簡単な構成で、かつ、高精度に検出することができる。   According to the eleventh aspect of the present invention, the electron beam apparatus according to the eleventh aspect of the invention can obtain the same operation as that of the ninth aspect of the invention, and can detect the rotation center of the master disk with a simple configuration and with high accuracy. can do.

本発明中、第12の発明の電子ビーム装置は、第10又は第11の発明において、原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒として、原盤作製用ディスク回転中心検出用マークと同一数の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が複数の情報記録用電子ビーム鏡筒の回転対称中心を回転対称中心として回転対称に配置されているというものである。   In the present invention, the electron beam apparatus according to the twelfth aspect of the present invention is the same as the tenth or eleventh aspect of the present invention, as the disk rotation center detection electron beam column for master production, the same number as the disk rotation center detection mark for master production. The disk rotation center detection electron beam column for producing the master disk is arranged rotationally symmetrically with the rotational symmetry center of the plurality of information recording electron beam barrels as the rotational symmetry center.

本発明中、第12の発明の電子ビーム装置によれば、第10又は第11の発明と同様の作用を得ることができると共に、複数の原盤作製用ディスク回転中心検出用マークの検出信号を同時に得ることができるので、原盤作製用ディスクの回転中心を効率的に検出することができる。   According to the electron beam apparatus of the twelfth aspect of the present invention, the same operation as that of the tenth or eleventh aspect of the invention can be obtained, and the detection signals of a plurality of master disk production disc rotation center detection marks can be simultaneously transmitted. Therefore, the rotation center of the master disc can be efficiently detected.

本発明中、第13の発明の電子ビーム装置は、第10、第11又は第12の発明において、原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒に対応させて予備の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が配置されているというものである。   In the present invention, an electron beam apparatus according to a thirteenth aspect of the present invention is the auxiliary disk rotation center for preparing a master disk corresponding to the electron beam column for detecting the disk rotation center for disk recording in the tenth, eleventh or twelfth invention. A detection electron beam column is arranged.

本発明中、第13の発明の電子ビーム装置によれば、不良の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が発生した場合には、予備の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒を使用することができる。   According to the electron beam apparatus of the thirteenth aspect of the present invention, if a defective master disk manufacturing disk rotation center detection electron beam column is generated, a spare master disk manufacturing center of rotation electron beam mirror is detected. A tube can be used.

本発明中、第14の発明の電子ビーム装置は、第9、第10、第11、第12又は第13の発明において、整合手段は、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクの回転中心と、複数の情報記録用電子ビーム鏡筒の回転対称中心とが一致するように、原盤作製用ディスク保持手段又は情報記録用電子ビーム鏡筒群を移動する移動手段を含めて構成されているというものである。   According to a fourteenth aspect of the present invention, the electron beam apparatus according to the fourteenth aspect of the invention is based on the ninth, tenth, eleventh, twelfth or thirteenth aspect, wherein the alignment means is held by the original disk preparation disk holding means. And a moving means for moving the information recording electron beam column group so that the center of rotation of the optical disk and the rotational symmetry center of the plurality of information recording electron beam column columns coincide with each other. It is that.

本発明中、第14の発明の電子ビーム装置によれば、第9、第10、第11、第12又は第13の発明と同様の作用を得ることができると共に、簡単な構成で、原盤作製用ディスクと電子ビーム鏡筒群との整合を図ることができる。   According to the electron beam apparatus of the fourteenth aspect of the present invention, the same operation as that of the ninth, tenth, eleventh, twelfth or thirteenth aspect of the invention can be obtained, and the master can be manufactured with a simple configuration. The disk for use and the electron beam column group can be aligned.

本発明中、第15の発明の電子ビーム装置は、第9、第10、第11、第12又は第13の発明において、整合手段は、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクの回転中心と、情報記録用電子ビーム鏡筒の回転対称中心とが一致している場合と同様の電子ビーム照射を行うことができるように、複数の情報記録用電子ビーム鏡筒内の偏向器に供給する偏向信号を補正する補正手段を含めて構成されているというものである。   According to the fifteenth aspect of the present invention, the electron beam apparatus according to the fifteenth aspect of the present invention is the master disc making disk according to the ninth, tenth, eleventh, twelfth or thirteenth aspect, wherein the alignment means is held by the master disc making disc holding means. And a plurality of deflectors in the information recording electron beam column so that the same electron beam irradiation as that in the case where the rotation center of the information recording beam coincides with the rotational symmetry center of the information recording electron beam column can be performed. It is comprised including the correction means which correct | amends the deflection | deviation signal supplied to.

本発明中、第15の発明の電子ビーム装置によれば、第9、第10、第11、第12又は第13の発明と同様の作用を得ることができると共に、簡単な構成で、原盤作製用ディスクと電子ビーム鏡筒群との整合を図ることができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the fifteenth aspect of the invention, the same operation as that of the ninth, tenth, eleventh, twelfth or thirteenth aspect of the invention can be obtained, and the master can be manufactured with a simple configuration. The disk for use and the electron beam column group can be aligned.

本発明中、第1の発明の電子ビーム装置によれば、原盤作製用ディスクの電子ビーム照射箇所に対する電子ビームの照射を回転対称にある複数の情報記録用電子ビーム鏡筒で分担し、並行して行うことができるので、スループットの向上を図ることができると共に、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出したときは、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が分担する電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を回転対称にある他の情報記録用電子ビーム鏡筒を使用して行うことができるので、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が発生した場合においても、作業効率の低下を最小限に抑えることができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the first invention, the electron beam irradiation to the electron beam irradiation portion of the master disc is shared by a plurality of information recording electron beam barrels that are rotationally symmetric, and in parallel. Therefore, the throughput can be improved, and when a defective information recording electron beam column is detected, the electrons to the electron beam irradiation location shared by the defective information recording electron beam column are detected. Since beam irradiation can be performed using another information recording electron beam column that is rotationally symmetric, even if a defective information recording electron beam column is generated, the reduction in work efficiency is minimized. Can be suppressed.

また、本発明中、第2の発明の電子ビーム装置によれば、第1の発明の電子ビーム装置と同様に、原盤作製用ディスクの電子ビーム照射箇所に対する電子ビームの照射を回転対称にある複数の情報記録用電子ビーム鏡筒で分担し、並行して行うことができるので、スループットの向上を図ることができると共に、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出したときは、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が分担する電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を予備の情報記録用電子ビーム鏡筒を使用して行うことができるので、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が発生した場合においても、作業効率の低下を最小限に抑えることができる。   Further, in the present invention, according to the electron beam apparatus of the second invention, similarly to the electron beam apparatus of the first invention, a plurality of electron beams irradiated to the electron beam irradiation site of the master disk are rotationally symmetrical. The information recording electron beam column can be shared and performed in parallel, so that throughput can be improved, and when a defective information recording electron beam column is detected, defective information recording is performed. Electron beam irradiation can be performed on the electron beam irradiation location shared by the electron beam column for the use of the electron beam column for spare information recording. In addition, a decrease in work efficiency can be minimized.

また、本発明中、第3の発明の電子ビーム装置によれば、第1又は第2の発明の電子ビーム装置と同様の効果を得ることができると共に、不良情報記録用電子ビーム鏡筒検出手段は、原盤作製用ディスクからの反射電子又は2次電子の検出量により、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出するように構成するとしているので、簡単な構成で、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出することができるという格別の効果を得ることができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the third invention, the same effect as that of the electron beam apparatus of the first or second invention can be obtained, and defect information recording electron beam column detecting means is provided. Is configured to detect a defective information recording electron beam column based on the amount of reflected electrons or secondary electrons detected from the master disk, so that it is possible to detect defective information recording electrons with a simple configuration. A special effect that the beam barrel can be detected can be obtained.

また、本発明中、第4の発明の電子ビーム装置によれば、第1又は第2の発明の電子ビーム装置と同様の効果を得ることができると共に、不良情報記録用電子ビーム鏡筒検出手段は、電子ビーム電流の漏れ量を検出することにより、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出するように構成するとしているので、簡単な構成で、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出することができるという格別の効果を得ることができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the fourth invention, the same effect as the electron beam apparatus of the first or second invention can be obtained, and an electron beam column detecting means for recording defective information. Is configured to detect a defective information recording electron beam column by detecting the leakage amount of the electron beam current, so it can detect a defective information recording electron beam column with a simple configuration. The special effect of being able to do it can be acquired.

また、本発明中、第5の発明の電子ビーム装置によれば、第1、第2、第3又は第4の発明の電子ビーム装置と同様の効果を得ることができると共に、原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させた場合における原盤作製用ディスクの半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を出来る限り均等化する電子ビーム照射量均等化手段を備えるとしているので、原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させる場合においても、原盤作製用ディスクに対するピット形成に必要な情報の記録を高精度に行うことができるという格別の効果を得ることができる。   Further, in the present invention, the electron beam apparatus according to the fifth aspect of the present invention can obtain the same effects as those of the electron beam apparatus according to the first, second, third or fourth aspect of the invention, and can also be used for producing a master disk. Is prepared with electron beam irradiation amount equalizing means for equalizing the electron beam irradiation amount per unit area at each point in the radial direction of the master disk when rotating at a constant angular velocity. Even when the recording disk is rotated at a constant angular velocity, it is possible to obtain a special effect that information necessary for pit formation on the master disk can be recorded with high accuracy.

また、本発明中、第6の発明の電子ビーム装置によれば、第5の発明の電子ビーム装置と同様の効果を得ることができると共に、電子ビーム照射量均等化手段は、原盤作製用ディスクの1ピット形成部分を1個以上の情報記録用電子ビーム鏡筒で電子ビーム照射するものとし、原盤作製用ディスクの1ピット形成部分を照射する情報記録用電子ビーム鏡筒の数が原盤作製用ディスクの内周部から外周部にかけて多くなるように情報記録用電子ビーム鏡筒を配置させることを含めて構成するとしているので、電子ビーム照射量均等化手段を簡単な構成とすることができるという格別の効果を得ることができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the sixth aspect of the present invention, the same effect as the electron beam apparatus of the fifth aspect of the invention can be obtained, and the electron beam irradiation amount equalizing means is a master disk manufacturing disk. One pit formation portion is irradiated with an electron beam by one or more information recording electron beam barrels, and the number of information recording electron beam barrels irradiating one pit formation portion of the master disc is the number for master production. Since the information recording electron beam column is arranged so as to increase from the inner periphery to the outer periphery of the disk, the electron beam irradiation amount equalizing means can be simplified. A special effect can be obtained.

また、本発明中、第7の発明の電子ビーム装置によれば、第5の発明の電子ビーム装置と同様の効果を得ることができると共に、電子ビーム照射量均等化手段は、原盤作製用ディスクに照射される電子ビームの電流量を制御することにより、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させた場合における原盤作製用ディスクの半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を出来る限り均等化するように構成するとしているので、電子ビーム照射量均等化手段を簡単な構成とすることができるという格別の効果を得ることができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the seventh invention, the same effect as the electron beam apparatus of the fifth invention can be obtained, and the electron beam irradiation amount equalizing means is a master disk production disk. By controlling the amount of current of the electron beam applied to the disk, the master disk produced by the master disk holder is rotated at a constant angular velocity at each point in the radial direction of the master disk. Since the electron beam irradiation amount per unit area is configured to be equalized as much as possible, it is possible to obtain a special effect that the electron beam irradiation amount equalizing unit can have a simple configuration.

また、本発明中、第8の発明の電子ビーム装置によれば、第5の発明の電子ビーム装置と同様の効果を得ることができると共に、電子ビーム照射量均等化手段は、原盤作製用ディスクの1ピット形成部分に照射する電子ビームの照射回数を制御することにより、原盤作製用ディスク保持手段に保持させた原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させた場合における原盤作製用ディスクの半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を出来る限り均等化するように構成するとしているので、電子ビーム照射量均等化手段を簡単な構成とすることができるという格別の効果を得ることができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the eighth invention, the same effect as that of the electron beam apparatus of the fifth invention can be obtained. By controlling the number of times of irradiation of the electron beam irradiating one pit forming portion of the master disk, the master disk is held in the radial direction of the master disk when it is rotated at a constant angular velocity. Since the electron beam irradiation amount per unit area at each point is configured to be equalized as much as possible, it is possible to obtain a special effect that the electron beam irradiation amount equalizing means can be simplified. it can.

また、本発明中、第9の発明の電子ビーム装置によれば、第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7又は第8の発明と同様の効果を得ることができると共に、原盤作製用ディスクの回転中心と複数の情報記録用電子ビーム鏡筒の回転対称中心とを整合させる整合手段とを備えているので、原盤作製用ディスクに対するピット形成に必要な情報の記録を高精度に行うことができるという格別の効果を得ることができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the ninth invention, the same effects as those of the first, second, third, fourth, fifth, sixth, seventh or eighth invention can be obtained. And an alignment means for aligning the rotation center of the master disk and the rotational symmetry centers of the plurality of information recording electron beam barrels. A special effect that recording can be performed with high accuracy can be obtained.

また、本発明中、第10の発明の電子ビーム装置によれば、第9の発明と同様の効果を得ることができると共に、原盤作製用ディスク回転中心検出手段は、原盤作製用ディスク保持手段の原盤作製用ディスク搭載面に形成された複数の原盤作製用ディスク回転中心検出用マークと、複数の原盤作製用ディスク回転中心検出用マークに電子ビームを照射して反射電子又は2次電子を検出する手段を有する原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒とを含めて構成するとしているので、原盤作製用ディスクの回転中心位置を簡単な構成で、かつ、高精度に検出することができるという格別の効果を得ることができる。   In the present invention, according to the electron beam apparatus of the tenth invention, the same effect as that of the ninth invention can be obtained, and the master disk preparation rotation center detecting means is the master disk preparation disk holding means. Irradiating an electron beam to a plurality of master disk-producing disk rotation center detection marks formed on the master disk-producing disk mounting surface and a plurality of master-producing disk rotation center detection marks to detect reflected electrons or secondary electrons. Since it is configured to include an electron beam column for detecting the center of rotation of the master disk for manufacturing the master disk, it is possible to detect the rotation center position of the disk for master disk manufacturing with a simple configuration and with high accuracy. A special effect can be obtained.

また、本発明中、第11の発明の電子ビーム装置によれば、第9の発明と同様の効果を得ることができると共に、原盤作製用ディスク回転中心検出手段は、原盤作製用ディスクに形成された複数の原盤作製用ディスク回転中心検出用マークに電子ビームを照射して反射電子又は2次電子を検出する手段を有する原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒を含めて構成するとしているので、原盤作製用ディスクの回転中心位置を簡単な構成で、かつ、高精度に検出することができるという格別の効果を得ることができる。   According to the eleventh aspect of the present invention, the electron beam apparatus according to the eleventh aspect of the invention can obtain the same effects as those of the ninth aspect of the invention, and the master-preparing disk rotation center detecting means is formed on the master-preparing disk. In addition, a plurality of master disk-producing disk rotation center detection marks are configured to include a master disk-producing disk rotation center detection electron beam column having means for irradiating an electron beam to detect reflected electrons or secondary electrons. Therefore, it is possible to obtain a special effect that the rotation center position of the master disk can be detected with a simple configuration and high accuracy.

また、本発明中、第12の発明の電子ビーム装置によれば、第10又は第11の発明と同様の作用を得ることができると共に、原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒として、原盤作製用ディスク回転中心検出用マークと同一数の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が複数の情報記録用電子ビーム鏡筒の回転対称中心を回転対称中心として回転対称に配置するとしているので、複数の原盤作製用ディスク回転中心検出用マークの検出信号を同時に得ることができ、原盤作製用ディスクの回転中心を効率的に検出することができる。   Further, in the present invention, according to the electron beam apparatus of the twelfth aspect of the invention, it is possible to obtain the same operation as that of the tenth or eleventh aspect of the invention. Suppose that the same number of disc rotation center detection electron beam column as the master disc production center detection mark are arranged in rotational symmetry with the rotational symmetry centers of the plurality of information recording electron beam barrels as rotational symmetry centers. Therefore, it is possible to simultaneously obtain detection signals for a plurality of master disk production disc rotation center detection marks, and to efficiently detect the rotation center of the master production disk.

また、本発明中、第13の発明の電子ビーム装置によれば、第10、第11又は第12の発明の電子ビーム装置と同様の効果を得ることができると共に、原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒に対応させて予備の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒を配置するとしているので、不良の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が発生した場合には、予備の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒を使用することができ、この点からも、スループットの向上を図ることができるという格別の効果を得ることができる。   Further, in the present invention, the electron beam device according to the thirteenth invention can obtain the same effects as those of the electron beam device according to the tenth, eleventh or twelfth invention, and can detect the center of rotation of the disk for producing the master disk. In this case, if a defective master disk preparation disk rotation center detection electron beam column is generated, a spare disk rotation center detection electron beam column detection disk is arranged in correspondence with the electron beam column. Therefore, a spare disk rotation center detection electron beam column for preparing a master can be used, and from this point, it is possible to obtain a special effect that the throughput can be improved.

また、本発明中、第14の発明の電子ビーム装置によれば、第9、第10、第11、第12又は第13の発明と同様の効果を得ることができると共に、整合手段は、原盤作製用ディスクの回転中心と、複数の情報記録用電子ビーム鏡筒の回転対称中心とが一致するように、原盤作製用ディスク保持手段又は情報記録用電子ビーム鏡筒群を移動する移動手段を含めて構成するとしているので、簡単な構成で、原盤作製用ディスクと電子ビーム鏡筒群との整合を図ることができるという格別の効果を得ることができる。   According to the electron beam apparatus of the fourteenth aspect of the present invention, the same effects as those of the ninth, tenth, eleventh, twelfth or thirteenth aspects of the invention can be obtained, and the aligning means is a master disk. Including a moving means for moving the master disk manufacturing disk holding means or the information recording electron beam column group so that the rotation center of the manufacturing disk and the rotational symmetry center of the plurality of information recording electron beam lens columns coincide with each other. Therefore, it is possible to obtain a special effect that the master disk and the electron beam column group can be aligned with a simple structure.

また、本発明中、第15の発明の電子ビーム装置によれば、第9、第10、第11、第12又は第13の発明と同様の効果を得ることができると共に、整合手段は、原盤作製用ディスクの回転中心と、情報記録用電子ビーム鏡筒の回転対称中心とが一致している場合と同様の電子ビーム照射を行うことができるように、複数の情報記録用電子ビーム鏡筒内の偏向器に供給する偏向信号を補正する補正手段を含めて構成するとしているので、簡単な構成で、原盤作製用ディスクと電子ビーム鏡筒群との整合を図ることができるという格別の効果を得ることができる。   According to the fifteenth aspect of the present invention, the electron beam apparatus according to the fifteenth aspect can obtain the same effects as those of the ninth, tenth, eleventh, twelfth or thirteenth aspects. In the plurality of information recording electron beam column so that the same electron beam irradiation as that in the case where the rotation center of the disc for production coincides with the rotational symmetry center of the information recording electron beam column can be performed. Since the correction means for correcting the deflection signal to be supplied to the deflector is configured, it is possible to achieve the special effect that the master disk and the electron beam column group can be aligned with a simple configuration. Obtainable.

以下、図1〜図11を参照して、本発明の第1実施形態及び第2実施形態について説明する。   Hereinafter, a first embodiment and a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

(第1実施形態・・図1〜図10)
図1は本発明の第1実施形態の概念図である。図1中、1は真空室、2は光ディスクを作製するために必要な原盤を作製するための原盤作製用ディスクであり、原盤作製用ディスク2は、たとえば、ガラス基板に電子ビームレジストを塗布して構成される。
(First embodiment. FIG. 1 to FIG. 10)
FIG. 1 is a conceptual diagram of a first embodiment of the present invention. In FIG. 1, 1 is a vacuum chamber, 2 is a master disk for manufacturing a master disk necessary for manufacturing an optical disk, and the master disk 2 is formed by, for example, applying an electron beam resist to a glass substrate. Configured.

また、3は原盤作製用ディスク2を水平に保持させて回転させるための原盤作製用ディスク保持手段、4は原盤作製用ディスク保持手段3の回転、移動を行うステージ、5はステージ4の回転、移動を制御するステージ制御部である。   Further, 3 is a disk-producing disk holding means for holding and rotating the disk-producing disk 2 horizontally, 4 is a stage for rotating and moving the disk-producing disk holding means 3, and 5 is a rotation of the stage 4. It is a stage control unit that controls movement.

なお、原盤作製用ディスク保持手段3が原盤作製用ディスク2を回転させる機構を備えるようにし、ステージ4は、原盤作製用ディスク保持手段3の移動のみを行うように構成しても良い。   The master disk preparation means 3 may be provided with a mechanism for rotating the master record disk 2, and the stage 4 may be configured to only move the master disk preparation means 3.

また、6は原盤作製用ディスク2に対してピットを形成するために必要な情報の記録を行う複数の情報記録用電子ビーム鏡筒と、原盤作製用ディスク2の回転中心を検出するための複数の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒とが配置されている電子ビーム鏡筒群である。   Reference numeral 6 denotes a plurality of information recording electron beam barrels for recording information necessary for forming pits on the master disc 2 and a plurality of centers for detecting the rotation center of the master disc 2. This is an electron beam column group in which an original beam manufacturing disk rotation center detection electron beam column is arranged.

また、7は電子ビーム鏡筒群6を構成する情報記録用電子ビーム鏡筒及び原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒による原盤作製用ディスク2に対する電子ビーム照射を制御する電子ビーム照射制御部である。   Reference numeral 7 denotes an electron beam irradiation control for controlling the irradiation of the electron beam to the master disk 2 by the information recording electron beam lens barrel and the master disk-producing disk rotation center detecting electron beam cylinder constituting the electron beam column group 6. Part.

また、8は情報記録用電子ビーム鏡筒及び原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が備える反射電子検出器を介して得られる反射電子検出量から不良の電子ビーム鏡筒を検出する不良電子ビーム鏡筒検出部である。   Reference numeral 8 denotes a defect in which a defective electron beam column is detected from a reflected electron detection amount obtained through a reflected electron detector provided in the information recording electron beam column and the disk rotation center detection electron beam column for producing the master disc. This is an electron beam column detector.

また、9は原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が備える反射電子検出器を介して得られる反射電子検出信号から原盤作製用ディスクの回転中心を検出する原盤作製用ディスク回転中心検出部である。   Reference numeral 9 denotes a master disk manufacturing center for detecting the rotation center of a master disk from a reflected electron detection signal obtained via a backscattered electron detector included in the master disk manufacturing center of rotation electron beam column. It is.

また、10はステージ制御部5及び電子ビーム照射制御部7の制御など、装置の全体的な制御を行うシステムコントローラである。   Reference numeral 10 denotes a system controller that performs overall control of the apparatus such as control of the stage control unit 5 and the electron beam irradiation control unit 7.

図2は原盤作製用ディスク保持手段3の概略的平面図である。図2中、12は原盤作製用ディスク搭載面、13は原盤作製用ディスク搭載箇所、14は原盤作製用ディスク搭載面12の回転中心、即ち、原盤作製用ディスク2の回転中心であり、矢印Aは、原盤作製用ディスク保持手段3の回転方向、即ち、原盤作製用ディスク2の回転方向を示している。   FIG. 2 is a schematic plan view of the disk holding means 3 for producing a master disk. In FIG. 2, 12 is a disk mounting surface for master recording, 13 is a disk mounting location for master recording, 14 is a rotation center of the disk mounting surface 12 for master recording, that is, a rotation center of the disk 2 for master recording, and arrow A Indicates the rotation direction of the master disk-producing disk holding means 3, that is, the rotation direction of the master disk-producing disk 2.

また、15−1〜15−4は原盤作製用ディスク搭載面12の原盤作製用ディスク搭載箇所13の外周部に原盤作製用ディスク2の回転中心14に対して90°の間隔をもって回転対称に形成された同一形状の原盤作製用ディスク回転中心検出用マークである。   Further, 15-1 to 15-4 are formed in a rotationally symmetrical manner at an interval of 90 ° with respect to the rotation center 14 of the master disc 2 on the outer peripheral portion of the master disc-mounting portion 13 on the master disc-mounting surface 12. This is a disc rotation center detection mark for producing a master of the same shape.

図3は図2のB−B線に沿った概略的断面図であり、原盤作製用ディスク回転中心検出用マーク15−1〜15−4は、高さを一定とする凸状とし、かつ、平面形状を二等辺三角形とし、二等辺三角形の高さ方向が原盤作製用ディスク搭載面12に搭載された原盤作製用ディスク2の半径方向と一致するように形成されている。   FIG. 3 is a schematic cross-sectional view along the line BB in FIG. 2, and the disk rotation center detection marks 15-1 to 15-4 for forming a master disk have a convex shape with a constant height, and The planar shape is an isosceles triangle, and the height direction of the isosceles triangle is formed so as to coincide with the radial direction of the master disc 2 mounted on the master disc mounting surface 12.

図4は電子ビーム鏡筒群6の平面構成を示す模式図である。図4中、17は電子ビーム鏡筒配置円板、18は原盤作製用ディスク2の回転中心14を一致させるべき電子ビーム鏡筒群6の中心である。   FIG. 4 is a schematic diagram showing a planar configuration of the electron beam column group 6. In FIG. 4, 17 is an electron beam column arrangement disk, and 18 is the center of the electron beam column group 6 in which the center of rotation 14 of the master disk 2 is to coincide.

また、19−1〜19−4は情報記録用電子ビーム鏡筒が配置されている情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロックであり、これら情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック19−1〜19−4は、原盤作製用ディスク2の電子ビーム照射面に対応する部分であり、電子ビーム鏡筒群6の中心18を回転対称中心として回転対称に設定されたものである。   Reference numerals 19-1 to 19-4 denote information recording electron beam barrel arrangement blocks on which information recording electron beam barrels are arranged. These information recording electron beam barrel arrangement blocks 19-1 to 19- Reference numeral 4 denotes a portion corresponding to the electron beam irradiation surface of the master disc 2 and is set to be rotationally symmetric with the center 18 of the electron beam column group 6 as the rotational symmetry center.

また、20−1〜20−4は原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が配置されている原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒配置ブロックであり、これら原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒配置ブロック20−1〜20−4も、電子ビーム鏡筒群6の中心18を回転対称中心として回転対称に設定されたものである。   Reference numerals 20-1 to 20-4 are electron beam column arrangement blocks for disc rotation center detection for master disc production in which electron beam barrels for disc rotation center detection for master disc production are arranged. The center detection electron beam barrel arrangement blocks 20-1 to 20-4 are also set to be rotationally symmetric with the center 18 of the electron beam barrel group 6 as the rotational symmetry center.

また、21−1〜24−1は情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック19−1に配置された情報記録用電子ビーム鏡筒、25−1は原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒配置ブロック20−1に配置された原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒である。   Reference numerals 21-1 to 24-1 denote an information recording electron beam column arranged in the information recording electron beam column arrangement block 19-1, and reference numeral 25-1 denotes an electron beam column for detecting a disk rotation center for producing a master. This is an electron beam column for detecting the center of rotation of a master for producing a master arranged in the arrangement block 20-1.

また、21−2〜24−2は情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック19−2に配置された情報記録用電子ビーム鏡筒、25−2は原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒配置ブロック20−2に配置された原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒である。   Reference numerals 21-2 to 24-2 denote an information recording electron beam column arranged in the information recording electron beam column arrangement block 19-2, and reference numeral 25-2 denotes an electron beam column for detecting a disk rotation center for producing a master. This is an electron beam column for detecting a disk rotation center for producing a master, which is arranged in the arrangement block 20-2.

また、21−3〜24−3は情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック19−3に配置された情報記録用電子ビーム鏡筒、25−3は原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒配置ブロック20−3に配置された原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒である。   Reference numerals 21-3 to 24-3 denote information recording electron beam barrels arranged in the information recording electron beam barrel arrangement block 19-3, and reference numeral 25-3 denotes an electron beam barrel for detecting a disk rotation center for producing a master. This is an electron beam column for detecting a disk rotation center for producing a master, which is arranged in the arrangement block 20-3.

また、21−4〜24−4は情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック19−4に配置された情報記録用電子ビーム鏡筒、25−4は原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒配置ブロック20−4に配置された原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒である。   Reference numerals 21-4 to 24-4 denote information recording electron beam barrels arranged in the information recording electron beam barrel arrangement block 19-4, and reference numeral 25-4 denotes an electron beam barrel for detecting a disk rotation center for producing a master. This is an electron beam column for detecting the center of rotation of a master for producing a master arranged in the arrangement block 20-4.

なお、情報記録用電子ビーム鏡筒21−1〜21−4は、同一トラック群の電子ビーム照射を分担できるようにし、電子ビーム鏡筒群6の中心18を回転対称中心として90°の間隔をもって回転対称に配置されている。   The information recording electron beam column 21-1 to 21-4 can share the electron beam irradiation of the same track group, and the center 18 of the electron beam column group 6 has a rotational symmetry center at an interval of 90 °. Arranged in rotational symmetry.

また、情報記録用電子ビーム鏡筒22−1〜22−4は、同一トラック群の電子ビーム照射を分担できるようにし、電子ビーム鏡筒群6の中心18を回転対称中心として90°の間隔をもって回転対称に配置されている。   Further, the information recording electron beam barrels 22-1 to 22-4 can share the electron beam irradiation of the same track group, with the center 18 of the electron beam barrel group 6 being a rotationally symmetric center at an interval of 90 °. Arranged in rotational symmetry.

また、情報記録用電子ビーム鏡筒23−1〜23−4は、同一トラック群の電子ビーム照射を分担できるようにし、電子ビーム鏡筒群6の中心18を回転対称中心として90°の間隔をもって回転対称に配置されている。   The information recording electron beam barrels 23-1 to 23-4 can share the electron beam irradiation of the same track group, and the center 18 of the electron beam barrel group 6 has a rotational symmetry center at an interval of 90 °. Arranged in rotational symmetry.

また、情報記録用電子ビーム鏡筒24−1〜24−4は、同一トラック群の電子ビーム照射を分担できるようにし、電子ビーム鏡筒群6の中心18を回転対称中心として90°の間隔をもって回転対称に配置されている。   The information recording electron beam column 24-1 to 24-4 can share the electron beam irradiation of the same track group, and the center 18 of the electron beam column group 6 has a rotational symmetry center at an interval of 90 °. Arranged in rotational symmetry.

また、原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒25−1〜25−4は、原盤作製用ディスク回転中心検出用マーク15−1〜15−4に対応させて、電子ビーム鏡筒群6の中心18を回転対称中心として90°の間隔をもって回転対称に配置されている。   Further, the electron beam column 25-1 to 25-4 for disc rotation center detection for master disc production correspond to the marks 15-1 to 15-4 for disc rotation center detection for master disc production, and the electron beam barrel group 6 Are arranged in a rotationally symmetric manner with an interval of 90 °, with the center 18 of the rotation being the center of rotational symmetry.

即ち、本発明の第1実施形態においては、電子ビーム鏡筒配置円板17に、原盤作製用ディスク保持手段3に保持させた原盤作製用ディスク2の回転中心14から異なる4個の半径方向距離ごとに4個の情報記録用電子ビーム鏡筒21−1〜21−4、22−1〜22−4、23−1〜23−4、24−1〜24−4を回転対称に配置するとしている。   That is, in the first embodiment of the present invention, four different radial distances from the rotation center 14 of the master disk 2 held by the master disk holder 3 on the electron beam column-arranged disk 17. Each of the four information recording electron beam barrels 21-1 to 21-4, 222-1 to 22-4, 23-1 to 23-4, 24-1 to 24-4 is arranged rotationally symmetrically. Yes.

なお、たとえば、図5に示すように、情報記録用電子ビーム鏡筒21−1〜21−4、22−1〜22−4、23−1〜23−4、24−1〜24−4に対応させて、予備の情報記録用電子ビーム鏡筒26−1〜26−4、27−1〜27−4、28−1〜28−4、29−1〜29−4を設けるようにしても良い。   For example, as shown in FIG. 5, the information recording electron beam barrels 21-1 to 21-4, 22-1 to 22-4, 23-1 to 23-4, 24-1 to 24-4 Correspondingly, spare information recording electron beam barrels 26-1 to 26-4, 27-1 to 27-4, 28-1 to 28-4, 29-1 to 29-4 may be provided. good.

また、たとえば、図6に示すように、原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒25−1〜25−4に対応させて、予備の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒30−1〜30−4を配置させるようにしても良い。   Further, for example, as shown in FIG. 6, a disk rotation center detecting electron beam column 30 for spare master disk production is associated with the disk rotation center detecting electron beam column 25-1 to 25-4 for master disk production. -1 to 30-4 may be arranged.

なお、原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒は、作業効率を考慮しなければ、1個あれば足りるものである。   It should be noted that one electron beam column for detecting the disk rotation center for producing the master disk is sufficient if the work efficiency is not taken into consideration.

また、図示は省略するが、予備の電子ビーム鏡筒として、たとえば、図5に示す予備の情報記録用電子ビーム鏡筒26−1〜26−4、27−1〜27−4、28−1〜28−4、29−1〜29−4と、たとえば、図6に示す予備の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒30−1〜30−4との両方を設けるようにしても良い。   Further, although not shown, as spare electron beam barrels, for example, spare information recording electron beam barrels 26-1 to 26-4, 27-1 to 27-4, 28-1 shown in FIG. ˜28-4, 29-1 to 29-4, and, for example, a spare master production disk rotation center detection electron beam column 30-1 to 30-4 shown in FIG. 6 may be provided. good.

図7は情報記録用電子ビーム鏡筒21−1の概念図であり、他の情報記録用電子ビーム鏡筒21−2〜21−4、22−1〜22−4、23−1〜23−4、24−1〜24−4及び原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒25−1〜25−4も同一構造とされている。   FIG. 7 is a conceptual diagram of the information recording electron beam column 21-1, and other information recording electron beam column 21-2 to 21-4, 222-1 to 22-4, 23-1 to 23-. 4, 24-1 to 24-4 and the disk rotation center detection electron beam column 25-1 to 25-4 for producing the master disc have the same structure.

なお、予備の情報記録用電子ビーム鏡筒26−1〜26−4、27−1〜27−4、28−1〜28−4、29−1〜29−4及び予備の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒30−1〜30−4を設ける場合には、これらも同一構造とされる。   It should be noted that spare information recording electron beam barrels 26-1 to 26-4, 27-1 to 27-4, 28-1 to 28-4, 29-1 to 29-4, and spare master disk rotation When the center detection electron beam column 30-1 to 30-4 are provided, they are also of the same structure.

図7中、32は電子源であり、33は電子源32から電子ビーム形成のための電子を引き出すゲート電極、34は電子源33から引き出した電子を加速して電子ビーム35とするアノード電極である。   In FIG. 7, 32 is an electron source, 33 is a gate electrode that extracts electrons for forming an electron beam from the electron source 32, and 34 is an anode electrode that accelerates electrons extracted from the electron source 33 to form an electron beam 35. is there.

また、36は電子ビーム35の径を制御して後述する電子ビーム径制限絞りと相まって原盤作製用ディスク2に照射する電子ビームの電流量を制御する電子ビーム径制御レンズ、37は電子ビーム35の原盤作製用ディスク2への照射、非照射を制御するブランカであり、38はブランキング電極、39は開口板である。   Reference numeral 36 denotes an electron beam diameter control lens that controls the diameter of the electron beam 35 and controls the current amount of the electron beam applied to the master disc 2 in combination with an electron beam diameter limiting aperture described later. A blanker for controlling irradiation and non-irradiation to the master disk 2, 38 is a blanking electrode, and 39 is an aperture plate.

また、40は電子ビーム35の径を制限する電子ビーム径制限絞り、41は電子ビーム35を原盤作製用ディスク2の電子ビームレジスト面に集束させる集束レンズである。   Reference numeral 40 denotes an electron beam diameter limiting aperture for limiting the diameter of the electron beam 35, and reference numeral 41 denotes a focusing lens that focuses the electron beam 35 on the electron beam resist surface of the master disk 2.

また、42は電子ビーム35を偏向して原盤作製用ディスク2に対する照射位置を制御する偏向器、43は電子ビーム35を原盤作製用ディスク2に照射した場合の原盤作製用ディスク2からの反射電子を検出する反射電子検出器である。   Further, 42 is a deflector for deflecting the electron beam 35 to control the irradiation position on the master disk 2 and 43 is a reflected electron from the master disk 2 when the electron beam 35 is irradiated to the master disk 2. Is a backscattered electron detector.

このように構成された本発明の第1実施形態においては、原盤作製用ディスク2に対するピット形成に必要な情報の記録のための電子ビーム照射を行う前に、原盤作製用ディスク保持手段3の原盤作製用ディスク搭載面12の原盤作製用ディスク搭載箇所13に搭載した原盤作製用ディスク2の回転中心14を検出し、原盤作製用ディスク2の回転中心14と電子ビーム鏡筒群6の中心18との整合を行うことができる。   In the first embodiment of the present invention configured as described above, the master disc of the master disc preparation means 3 is irradiated before the electron beam irradiation for recording information necessary for pit formation on the master disc 2 is performed. The rotation center 14 of the master disk 2 mounted on the master disk preparation location 13 on the master disk mounting surface 12 is detected, and the rotation center 14 of the master disk 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 are detected. Can be matched.

ここに、原盤作製用ディスク2の回転中心14の検出を行う場合には、原盤作製用ディスク保持手段3を1/4回転させながら、原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒25−1〜25−4を使用して電子ビームを同時に原盤作製用ディスク保持手段3の原盤作製用ディスク搭載面12に照射する。   Here, when the rotation center 14 of the master disk 2 is detected, the master disk-rotating center detection electron beam column 25-1 is rotated while the master disk holder 3 is rotated by 1/4. ˜25-4 is used to simultaneously irradiate the disk-mounting surface 12 for producing a master of the master-producing disk holding means 3 with an electron beam.

このようにすると、原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒25−1〜25−4においては、それぞれ、反射電子検出器を介して、原盤作製用ディスク回転中心検出用マーク15−1〜15−4からの反射電子を検出してなる反射電子検出信号S1〜S4を得ることができる。   In this way, in the master disk preparation disk rotation center detection electron beam column 25-1 to 25-4, the master disk preparation disk rotation center detection marks 15-1 to 15-5 are respectively connected via the backscattered electron detector. The reflected electron detection signals S1 to S4 obtained by detecting the reflected electrons from 15-4 can be obtained.

このようにした場合において、原盤作製用ディスク2の回転中心14と、電子ビーム鏡筒群6の中心18とが一致している場合には、反射電子検出信号S1〜S4は、図8に示すように、Hレベル幅T1〜T4を同一とする信号となる。   In this case, when the rotation center 14 of the master disk 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 coincide with each other, the reflected electron detection signals S1 to S4 are shown in FIG. Thus, the signals have the same H level width T1 to T4.

これに対して、たとえば、図9に示すように、原盤作製用ディスク2の回転中心14が電子ビーム鏡筒群6の中心18に対して矢印Cの方向に位置ずれしている場合には、反射電子検出信号S1〜S4は、図10に示すように、Hレベル幅T1〜T4を、T1<T2<T3>T4とする信号となる。   On the other hand, for example, as shown in FIG. 9, when the rotation center 14 of the master disk 2 is displaced in the direction of arrow C with respect to the center 18 of the electron beam column group 6, As shown in FIG. 10, the reflected electron detection signals S1 to S4 are signals in which the H level widths T1 to T4 are set to T1 <T2 <T3> T4.

そこで、この場合には、原盤作製用ディスク回転中心検出部9は、反射電子検出信号S1〜S4の幅T1〜T4から原盤作製用ディスク2の回転中心14の位置を算出して、これをシステムコントローラ10に転送する。   Therefore, in this case, the master disk preparation disk rotation center detection unit 9 calculates the position of the rotation center 14 of the master disk preparation disk 2 from the widths T1 to T4 of the reflected electron detection signals S1 to S4, and this is used as a system. Transfer to the controller 10.

そこで、システムコントローラ10は、原盤作製用ディスク回転中心検出部9から転送された原盤作製用ディスク2の回転中心14の位置の算出値に基づいて反射電子検出信号S1〜S4のHレベル幅T1〜T4が同一となるであろう位置、即ち、原盤作製用ディスク2の回転中心14と電子ビーム鏡筒群の中心18とが一致するように、原盤作製用ディスク保持手段3を移動させるようにステージ制御部5を制御し、ステージ制御部5は、原盤作製用ディスク2の回転中心14と電子ビーム鏡筒群の中心18とが一致するようにステージ4を移動することになる。   Therefore, the system controller 10 determines the H level width T1 of the reflected electron detection signals S1 to S4 based on the calculated value of the position of the rotation center 14 of the master disk 2 that has been transferred from the master disk rotation center detector 9. A stage so that the disk-producing disk holding means 3 is moved so that T4 will be the same, that is, the rotation center 14 of the disk-producing disk 2 and the center 18 of the electron beam column group coincide with each other. By controlling the control unit 5, the stage control unit 5 moves the stage 4 so that the rotation center 14 of the master disk production disk 2 and the center 18 of the electron beam column group coincide with each other.

そして、当初から原盤作製用ディスク2の回転中心14と電子ビーム鏡筒群6の中心18とが一致している場合、あるいは、原盤作製用ディスク2の回転中心14と電子ビーム鏡筒群6の中心18とを一致させた後には、原盤作製用ディスク2にピットを形成のために必要な情報の記録を行うための電子ビーム照射が行われる。   From the beginning, the rotation center 14 of the master disk 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 coincide with each other, or the rotation center 14 of the master disk disk 2 and the electron beam column group 6 After matching the center 18, the electron beam irradiation for recording information necessary for forming pits on the master disc 2 is performed.

原盤作製用ディスク2にピットを形成のために必要な情報の記録を行うための電子ビーム照射は、情報記録用電子ビーム鏡筒21−1〜21−4、22−1〜22−4、23−1〜23−4、24−1〜24−4を同時に使用して原盤作製用ディスク2の電子ビーム照射箇所を分担し、並行して行われる。   Electron beam irradiation for recording information necessary for forming pits on the master disk 2 is performed by information recording electron beam column 21-1 to 21-4, 222-1 to 22-4, 23. -1 to 23-4 and 24-1 to 24-4 are used at the same time to share the electron beam irradiation spot of the master disk 2 and are performed in parallel.

ここに、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が発生した場合には、不良電子ビーム鏡筒検出部8により、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が検出され、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒がシステムコントローラ10に通知されることになる。   Here, when a defective information recording electron beam column is generated, the defective information recording electron beam column is detected by the defective electron beam column detector 8, and the defective information recording electron beam column is detected. The cylinder is notified to the system controller 10.

この場合、システムコントローラ10は、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が分担する電子ビーム照射箇所と回転対称にある他の情報記録用電子ビーム鏡筒を使用して電子ビームで照射するようにステージ制御部5及び電子ビーム照射制御部7を制御することになる。   In this case, the system controller 10 uses the other information recording electron beam column that is rotationally symmetric with the electron beam irradiation position shared by the defective information recording electron beam column to irradiate with the electron beam. The controller 5 and the electron beam irradiation controller 7 are controlled.

たとえば、システムコントローラ10は、情報記録用電子ビーム鏡筒22−1が不良となった場合には、たとえば、情報記録用電子ビーム鏡筒22−2を使用して、情報記録用電子ビーム鏡筒22−1が電子ビーム照射を分担する箇所を電子ビーム照射するように制御する。   For example, when the information recording electron beam column 22-1 becomes defective, the system controller 10 uses the information recording electron beam column 22-2, for example, and uses the information recording electron beam column 22-2. 22-1 controls to irradiate the electron beam irradiation to the part which shares the electron beam irradiation.

このように、本発明の第1実施形態によれば、情報記録用電子ビーム鏡筒21−1〜21−4、22−1〜22−4、23−1〜23−4、24−1〜24−4を同時に使用して原盤作製用ディスク2の電子ビーム照射箇所を分担し、並行して照射することができるので、スループットの向上を図ることができる。   Thus, according to the first embodiment of the present invention, the information recording electron beam column 21-1 to 21-4, 222-1 to 22-4, 233-1 to 23-4, 24-1 are used. 24-4 can be used at the same time to share the electron beam irradiation location of the master disc 2 and irradiate it in parallel, so that the throughput can be improved.

また、本発明の第1実施形態によれば、原盤作製用ディスク2に電子ビーム照射を行う前に、原盤作製用ディスク2の回転中心を検出し、ステージ4を移動させることにより、原盤作製用ディスク2の回転中心14と電子ビーム鏡筒群6の中心18とを整合させることができるので、原盤作製用ディスク2に対するピット形成に必要な情報の記録を高精度に行うことができる。なお、原盤作製用ディスク保持手段3を移動させる構成とする代わりに、電子ビーム鏡筒群6を移動させる構成としても良い。   In addition, according to the first embodiment of the present invention, before the master disk 2 is irradiated with the electron beam, the center of rotation of the master disk 2 is detected and the stage 4 is moved to detect the master disk. Since the rotation center 14 of the disc 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 can be aligned, information necessary for pit formation on the master disc 2 can be recorded with high accuracy. Instead of moving the master disk-producing disk holding means 3, the electron beam column group 6 may be moved.

なお、原盤作製用ディスク2の回転中心14と電子ビーム鏡筒群6の中心18とが一致していない場合には、原盤作製用ディスク2の回転中心14と電子ビーム鏡筒群6の中心18とが一致している場合と同様の電子ビーム照射を行うことができるように、情報記録用電子ビーム鏡筒21−1〜21−4、22−1〜22−4、23−1〜23−4、24−1〜24−4内の偏向器に供給する偏向信号を補正する補正手段を設けることにより、原盤作製用ディスク2の回転中心14と電子ビーム鏡筒群6の中心18との整合を行うように構成しても良い。   If the rotation center 14 of the master disk 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 do not coincide with each other, the rotation center 14 of the master disk disk 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 are the same. Are matched with each other so that the same electron beam irradiation can be performed as in the information recording electron beam barrels 21-1 to 21-4, 222-1 to 22-4, 23-1 to 23-. 4 and 24-1 to 24-4, by providing a correction means for correcting the deflection signal supplied to the deflector, the rotation center 14 of the master disc 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 are aligned. You may comprise so that it may perform.

また、本発明の第1実施形態によれば、原盤作製用ディスク保持手段3の原盤作製用ディスク搭載面12に原盤作製用ディスク回転中心検出用マーク15−1〜15−4を設けると共に、原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒25−1〜25−4を設けるようにしているので、原盤作製用ディスク2の回転中心14を簡単な構成で、かつ、高精度に検出することができる。   In addition, according to the first embodiment of the present invention, the master disk preparation disk rotation center detection marks 15-1 to 15-4 are provided on the master disk preparation disk mounting surface 12 of the master disk preparation disk holding means 3, and the master disk is provided. Since the production disk rotation center detection electron beam column 25-1 to 25-4 is provided, the rotation center 14 of the master disk production disk 2 can be detected with a simple configuration and high accuracy. it can.

また、本発明の第1実施形態によれば、不良電子ビーム鏡筒検出部8を備えているので、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒及び不良の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒を自動的に検出することができる。   In addition, according to the first embodiment of the present invention, since the defective electron beam column detector 8 is provided, a defective information recording electron beam column and a defective master disk producing disk rotation center detecting electron beam mirror are provided. The cylinder can be automatically detected.

そして、電子ビーム鏡筒配置円板17に、原盤作製用ディスク保持手段3の原盤作製用ディスク搭載面12の原盤作製用ディスク搭載箇所13に搭載した原盤作製用ディスク2の回転中心14から異なる4個の半径方向距離ごとに4個の情報記録用電子ビーム鏡筒21−1〜21−4、22−1〜22−4、23−1〜23−4、24−1〜24−4を回転対称に配置すると共に、4個の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒25−1、25−2、25−3、25−4を回転対称に配置するとしている。   Then, the electron beam column-arranged disk 17 is different from the rotation center 14 of the master disk 2 mounted on the master disk-mounting portion 13 of the master disk-mounting surface 12 of the master disk-holding means 3 of the master disk 4. Four information recording electron beam barrels 21-1 to 21-4, 222-1 to 22-4, 233-1 to 23-4, 24-1 to 24-4 are rotated for each radial distance. In addition to arranging them symmetrically, the four electron beam barrels 25-1, 25-2, 25-3, 25-4 for detecting the disk rotation center for producing the master disk are arranged rotationally symmetrically.

したがって、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出したときは、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が分担する電子ビーム照射箇所の電子ビーム照射を回転対称にある他の情報記録用電子ビーム鏡筒を使用して行うことができるので、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が発生した場合においても、作業効率の低下を最小限に抑えることができる。   Therefore, when a defective information recording electron beam column is detected, other information recording electron beam mirrors that are rotationally symmetric with respect to the electron beam irradiation location that the defective information recording electron beam column shares Since a cylinder can be used, even when a defective information recording electron beam column is generated, a reduction in work efficiency can be minimized.

また、不良の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒を検出したときは、不良の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が分担する電子ビーム照射箇所の電子ビーム照射を回転対称にある他の情報記録用電子ビーム鏡筒を使用して行うことができるので、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が発生した場合においても、作業効率の低下を最小限に抑えることができる。   In addition, when an electron beam column for detecting the rotation center of a defective master disk is detected, the electron beam irradiation at the electron beam irradiation part shared by the disk rotation center detection electron beam column for manufacturing a defective master disk is rotationally symmetrical. Therefore, even if a defective information recording electron beam column is generated, a reduction in work efficiency can be minimized.

また、本発明の第1実施形態によれば、情報記録用電子ビーム鏡筒21−1〜21−4、22−1〜22−4、23−1〜23−4、24−1〜24−4及び原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒25−1〜25−4に原盤作製用ディスク2からの反射電子を検出する反射電子検出器を備えると共に、反射電子の検出量から不良の電子ビーム鏡筒の検出を行う不良電子ビーム鏡筒検出部8を備えているので、簡単な構成で、不良の電子ビーム鏡筒を検出することができる。   Further, according to the first embodiment of the present invention, the information recording electron beam column 21-1 to 21-4, 222-1 to 22-4, 233-1 to 23-4, 24-1 to 24- 4 and the electron beam column 25-1 to 25-4 for detecting the center of rotation of the disk for producing the master disk are provided with a backscattered electron detector for detecting the reflected electrons from the disk 2 for making the master disk. Since the defective electron beam column detector 8 for detecting the electron beam column is provided, it is possible to detect a defective electron beam column with a simple configuration.

なお、情報記録用電子ビーム鏡筒21−1〜21−4、22−1〜22−4、23−1〜23−4、24−1〜24−4及び原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒25−1〜25−4に原盤作製用ディスク2からの2次電子を検出する2次電子検出器を備えると共に、2次電子検出量から不良の電子ビーム鏡筒の検出を行う不良電子ビーム鏡筒検出部を備えて、不良の電子ビーム鏡筒を検出するように構成しても良い。   The information recording electron beam column 21-1 to 21-4, 22-1 to 22-4, 23-1 to 23-4, 24-1 to 24-4, and the disk rotation center detection electron for producing the master disc The beam barrels 25-1 to 25-4 are provided with secondary electron detectors for detecting secondary electrons from the master disk 2 and a defective electron beam column is detected from the detected amount of secondary electrons. An electron beam column detector may be provided to detect a defective electron beam column.

また、たとえば、電子ビーム鏡筒内に設けられるゲート電極33や、アノード電極34や、電子ビーム径制限絞り40等に漏れる電子ビーム電流を検出する漏れ電子ビーム電流検出器を設けて、電子ビーム電流の漏れ量を検出することにより、不良の電子ビーム鏡筒を検出するようにしても良い。   Further, for example, a leakage electron beam current detector for detecting an electron beam current leaking to the gate electrode 33, the anode electrode 34, the electron beam diameter limiting aperture 40, etc. provided in the electron beam column is provided, and the electron beam current is provided. By detecting the amount of leakage, a defective electron beam column may be detected.

(第2実施形態・・図11)
図11は本発明の第2実施形態の要部を示す図であり、本発明の第2実施形態が備える電子ビーム鏡筒群45の平面構成を示す模式図である。なお、図11において、図4に対応する部分には同一符号を付し、その重複説明は省略する。
Second Embodiment FIG. 11
FIG. 11 is a diagram showing a main part of the second embodiment of the present invention, and is a schematic diagram showing a planar configuration of the electron beam column group 45 provided in the second embodiment of the present invention. In FIG. 11, parts corresponding to those in FIG. 4 are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof is omitted.

本発明の第2実施形態は、原盤作製用ディスク2を一定角速度で回転させる場合に適用して好適な電子ビーム装置であり、図11に示す電子ビーム鏡筒群45を備え、その他については、概ね、図1に示す本発明の第1実施形態と同様に構成したものである。   The second embodiment of the present invention is an electron beam apparatus suitable for application to the case where the master disk 2 is rotated at a constant angular velocity, and includes an electron beam column group 45 shown in FIG. The configuration is generally the same as that of the first embodiment of the present invention shown in FIG.

図11中、46−1〜55−1は情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック19−1に配置された情報記録用電子ビーム鏡筒、46−2〜55−2は情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック19−2に配置された情報記録用電子ビーム鏡筒、46−3〜55−3は情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック19−3に配置された情報記録用電子ビーム鏡筒、46−4〜55−4は情報記録用電子ビーム鏡筒配置ブロック19−4に配置された情報記録用電子ビーム鏡筒である。   In FIG. 11, reference numerals 46-1 to 55-1 denote information recording electron beam barrels arranged in the information recording electron beam barrel arrangement block 19-1, and reference numerals 46-2 to 55-2 denote information recording electron beam mirrors. An information recording electron beam column arranged in the cylinder arrangement block 19-2, 46-3 to 55-3 are information recording electron beam column arranged in the information recording electron beam column arrangement block 19-3, Reference numerals 46-4 to 55-4 denote information recording electron beam barrels arranged in the information recording electron beam barrel arrangement block 19-4.

これら情報記録用電子ビーム鏡筒46−1〜55−1、46−2〜55−2、46−3〜55−3、46−4〜55−4は、本発明の第1実施形態が備える情報記録用電子ビーム鏡筒と同様に構成されている。   These information recording electron beam barrels 46-1 to 55-1, 46-2 to 55-2, 46-3 to 55-3, and 46-4 to 55-4 are included in the first embodiment of the present invention. The configuration is the same as that of the information recording electron beam column.

ここに、情報記録用電子ビーム鏡筒46−P(但し、P=1、2、3、4)は、1個で原盤作製用ディスク2の1ピット形成部分に対する電子ビーム照射を行うものであるが、情報記録用電子ビーム鏡筒47−P、48−Pは、これら2個で原盤作製用ディスク2の1ピット形成部分に対する電子ビーム照射を行う情報記録用電子ビーム鏡筒小群を構成している。   Here, the information recording electron beam column 46-P (where P = 1, 2, 3, 4) is used to irradiate the 1-pit forming portion of the master disc 2 with an electron beam. However, the information recording electron beam column 47-P and 48-P constitute a small group of information recording electron beam columns that irradiate an electron beam onto the 1 pit formation portion of the master disc 2 with these two. ing.

また、情報記録用電子ビーム鏡筒49−P、50−P、51−Pは、これら3個で原盤作製用ディスク2の1ピット形成部分に対する電子ビーム照射を行う情報記録用電子ビーム鏡筒小群を構成している。   Further, the information recording electron beam column 49-P, 50-P, 51-P is a small information recording electron beam column that irradiates an electron beam to the 1 pit formation portion of the master disc 2 with these three. It constitutes a group.

また、情報記録用電子ビーム鏡筒52−P、53−P、54−P、55−Pは、これら4個で原盤作製用ディスク2の1ピット形成部分に対する電子ビーム照射を行う情報記録用電子ビーム鏡筒小群を構成している。   The information recording electron beam column 52-P, 53-P, 54-P, 55-P is an information recording electron that irradiates the 1-pit forming portion of the master disk 2 with these four. It constitutes a small group of beam barrels.

また、情報記録用電子ビーム鏡筒46−1〜46−4は、原盤作製用ディスク2の同一トラック群の電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を分担できるように、電子ビーム鏡筒群45の中心18を回転対称中心として90°の間隔をもって回転対称に配置されている。   Further, the information recording electron beam column 46-1 to 46-4 are arranged at the center of the electron beam column group 45 so that the electron beam irradiation can be shared with respect to the electron beam irradiation point of the same track group of the master disc 2. They are arranged in a rotationally symmetric manner with an interval of 90 ° with 18 as a rotationally symmetric center.

また、情報記録用電子ビーム鏡筒47−1、48−1からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、情報記録用電子ビーム鏡筒47−2、48−2からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、情報記録用電子ビーム鏡筒47−3、48−3からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、及び、情報記録用電子ビーム鏡筒47−4、48−4からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群は、原盤作製用ディスク2の同一トラック群の電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を分担できるように、電子ビーム鏡筒群45の中心18を回転対称中心として90°の間隔をもって回転対称に配置されている。   Also, an information recording electron beam mirror subgroup consisting of information recording electron beam barrels 47-1, 48-1 and an information recording electron beam mirror consisting of information recording electron beam barrels 47-2, 48-2. Information recording comprising an information recording electron beam column small group consisting of a small tube group, information recording electron beam column tubes 47-3 and 48-3, and information recording electron beam column 47-4 and 48-4 The electron beam column small group is 90 ° with the center 18 of the electron beam column group 45 as the rotational symmetry center so that the electron beam irradiation can be shared with the electron beam irradiation point of the same track group of the master disk 2. Arranged rotationally symmetrically at intervals.

また、情報記録用電子ビーム鏡筒49−1、50−1、51−1からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、情報記録用電子ビーム鏡筒49−2、50−2、51−2からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、情報記録用電子ビーム鏡筒49−3、50−3、51−3からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、及び、情報記録用電子ビーム鏡筒49−4、50−4、51−4からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群は、原盤作製用ディスク2の同一トラック群の電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を分担できるように、電子ビーム鏡筒群45の中心18を回転対称中心として90°の間隔をもって回転対称に配置されている。   In addition, an information recording electron beam column subgroup consisting of information recording electron beam column 49-1, 50-1, 51-1, information recording electron beam column 49-2, 50-2, 51-2. Information recording electron beam column subgroup consisting of information recording electron beam column subgroups 49-3, 50-3, 51-3, and information recording electron beam mirror The information recording electron beam column subgroup consisting of the cylinders 49-4, 50-4, 51-4 is arranged so as to share the electron beam irradiation with respect to the electron beam irradiation positions of the same track group of the master disc 2. The beam barrel groups 45 are arranged rotationally symmetrically at intervals of 90 ° with the center 18 of the beam barrel group 45 as the rotationally symmetric center.

また、情報記録用電子ビーム鏡筒52−1、53−1、54−1、55−1からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、情報記録用電子ビーム鏡筒52−2、53−2、54−2、55−2からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、情報記録用電子ビーム鏡筒52−3、53−3、54−3、55−3からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群、及び、情報記録用電子ビーム鏡筒52−4、53−4、54−4、55−4からなる情報記録用電子ビーム鏡筒小群は、原盤作製用ディスク2の同一トラック群の電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を分担できるように、電子ビーム鏡筒群45の中心18を回転対称中心として90°の間隔をもって回転対称に配置されている。   Further, an information recording electron beam column subgroup consisting of information recording electron beam column 52-1, 53-1, 54-1, 55-1, information recording electron beam column 52-2, 53-2. , 54-2, 55-2, an information recording electron beam column sub-group, and an information recording electron beam column 52-3, 53-3, 54-3, 55-3. The information recording electron beam column small group consisting of the tube small group and the information recording electron beam column 52-4, 53-4, 54-4, 55-4 is the same track group of the master disc 2 Are arranged in a rotationally symmetrical manner with an interval of 90 ° with the center 18 of the electron beam column group 45 as a rotationally symmetric center so that the electron beam irradiation can be shared with respect to the electron beam irradiated portions.

即ち、本発明の第2実施形態は、原盤作製用ディスク2の1ピット形成部分を1個以上の情報記録用電子ビーム鏡筒で電子ビーム照射するものとし、原盤作製用ディスク2の1ピット形成部分を照射する情報記録用電子ビーム鏡筒の数が原盤作製用ディスク2の内周部から外周部にかけて多くなるように情報記録用電子ビーム鏡筒を配置させるように構成するというものである。   That is, in the second embodiment of the present invention, one pit formation portion of the master disc 2 is irradiated with an electron beam by one or more information recording electron beam barrels, and one pit formation of the master disc 2 is formed. The information recording electron beam column is arranged so that the number of the information recording electron beam column irradiating the portion increases from the inner peripheral part to the outer peripheral part of the master disk production disk 2.

このように構成された本発明の第2実施形態によれば、情報記録用電子ビーム鏡筒46−1〜55−1、46−2〜55−2、46−3〜55−3、46−4〜55−4を同時に使用して原盤作製用ディスク2の電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を分担し、並行して行うことができるので、スループットの向上を図ることができる。   According to the second embodiment of the present invention thus configured, the information recording electron beam barrels 46-1 to 55-1, 46-2 to 55-2, 46-3 to 55-3, 46- 4 to 55-4 can be used simultaneously to share the electron beam irradiation on the electron beam irradiation portion of the master disk 2 and perform it in parallel, so that the throughput can be improved.

また、原盤作製用ディスク2を一定角速度で回転させる場合、原盤作製用ディスク2においては、内周部よりも外周部の方が線速度は速くなってしまうが、本発明の第2実施形態によれば、原盤作製用ディスク2の1ピット形成部分を照射する情報記録用電子ビーム鏡筒の数が内周部から外周部にかけて多くなるように情報記録用電子ビーム鏡筒を配置させているので、原盤作製用ディスク2を一定角速度で回転させる場合においても、原盤作製用ディスク2の半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を出来る限り均等化することができ、この結果、原盤作製用ディスク2に対するピット形成に必要な情報の記録を高精度に行うことができる。   Further, when the master disk 2 is rotated at a constant angular velocity, the linear speed of the master disk 2 is higher in the outer peripheral portion than in the inner peripheral portion, but the second embodiment of the present invention is used. According to the present invention, the information recording electron beam column is arranged so that the number of information recording electron beam columns for irradiating one pit formation portion of the master disc 2 is increased from the inner periphery to the outer periphery. Even when the master disk 2 is rotated at a constant angular velocity, the electron beam irradiation amount per unit area at each point in the radial direction of the master disk 2 can be equalized as much as possible. Information necessary for pit formation on the master disc 2 can be recorded with high accuracy.

なお、情報記録用電子ビーム鏡筒46−1〜55−1、46−2〜55−2、46−3〜55−3、46−4〜55−4の内部に設けられる電子ビーム径制御レンズを制御して、原盤作製用ディスク2に照射する電子ビームの電流量を制御することにより、原盤作製用ディスク2の半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を出来る限り均等化するように構成しても良い。   Electron beam diameter control lenses provided in the information recording electron beam barrels 46-1 to 55-1, 46-2 to 55-2, 46-3 to 55-3, and 46-4 to 55-4. To control the amount of electron beam current applied to the master disc 2 to equalize the electron beam dose per unit area at each point in the radial direction of the master disc 2 as much as possible. You may comprise so that it may do.

また、情報記録用電子ビーム鏡筒46−1〜55−1、46−2〜55−2、46−3〜55−3、46−4〜55−4の内部に設けられるブランキング電極を制御し、1ピット形成部分に対する電子ビームの照射回数を制御することにより、原盤作製用ディスク2の半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を出来る限り均等化するように構成しても良い。   Further, blanking electrodes provided in the information recording electron beam barrels 46-1 to 55-1, 46-2 to 55-2, 46-3 to 55-3, and 46-4 to 55-4 are controlled. In addition, by controlling the number of times the electron beam is irradiated to the pit formation portion, the electron beam irradiation amount per unit area at each point in the radial direction of the master disk 2 is configured to be as uniform as possible. Also good.

また、本発明の第2実施形態によれば、本発明の第1実施形態と同様に、原盤作製用ディスク2に対する電子ビーム照射を行う前に、原盤作製用ディスク2の回転中心14を検出し、原盤作製用ディスク2の回転中心14と電子ビーム鏡筒群6の中心18との整合を行うことができるので、この点からしても、原盤作製用ディスク2に対するピット形成に必要な情報の記録を高精度に行うことができる。   Further, according to the second embodiment of the present invention, as in the first embodiment of the present invention, the center of rotation 14 of the master disc 2 is detected before the electron beam irradiation to the master disc 2 is performed. Since the center of rotation 14 of the master disk 2 and the center 18 of the electron beam column group 6 can be aligned, the information necessary for pit formation on the master disk 2 can be obtained from this point. Recording can be performed with high accuracy.

また、本発明の第2実施形態によれば、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒を検出した場合において、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が情報記録用電子ビーム鏡筒小群を構成しない情報記録用電子ビーム鏡筒である場合には、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が分担する電子ビーム照射箇所に対する電子ビーム照射を、情報記録用電子ビーム鏡筒小群を構成しない回転対称にある他の情報記録用電子ビーム鏡筒を使用して行うことができ、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が情報記録用電子ビーム鏡筒小群を構成する情報記録用電子ビーム鏡筒である場合には、回転対称にある他の情報記録用電子ビーム鏡筒小群を使用して行うことができるので、不良の情報記録用電子ビーム鏡筒が発生した場合においても、作業効率の低下を最小限に抑えることができる。   Further, according to the second embodiment of the present invention, when a defective information recording electron beam column is detected, the defective information recording electron beam column does not constitute an information recording electron beam column small group. In the case of the information recording electron beam column, the electron beam irradiation to the electron beam irradiation portion shared by the defective information recording electron beam column is made rotationally symmetric without constituting the information recording electron beam column group. The information recording electron beam column can be performed by using some other information recording electron beam column, and the defective information recording electron beam column is a group of information recording electron beam columns. In this case, since it can be performed by using another information recording electron beam column small group which is rotationally symmetric, even when a defective information recording electron beam column is generated, the work efficiency is reduced. Minimize It is possible.

なお、本発明の第2実施形態においても、情報記録用電子ビーム鏡筒小群を構成しない情報記録用電子ビーム鏡筒に対応させて予備の情報記録用電子ビーム鏡筒を設けると共に、情報記録用電子ビーム鏡筒小群に対応させて予備の情報記録用電子ビーム鏡筒小群を設けるようにしても良いし、予備の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒を設けるようにしても良い。   Also in the second embodiment of the present invention, a spare information recording electron beam column is provided corresponding to the information recording electron beam column that does not constitute the information recording electron beam column subgroup, and the information recording is performed. A spare information recording electron beam barrel small group may be provided in correspondence with the electron beam barrel small group, or a spare disk rotation center detection electron beam barrel for preparing a master disk may be provided. Also good.

本発明の第1実施形態の概念図である。1 is a conceptual diagram of a first embodiment of the present invention. 本発明の第1実施形態が備える原盤作製用ディスク保持手段の概略的平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view of a master disc-producing disc holding means provided in the first embodiment of the present invention. 図2のB−B線に沿った概略的断面図である。It is a schematic sectional drawing in alignment with the BB line of FIG. 本発明の第1実施形態が備える電子ビーム鏡筒群の平面構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the planar structure of the electron beam column group with which 1st Embodiment of this invention is provided. 本発明の第1実施形態が備える電子ビーム鏡筒配置円板に予備の情報記録用電子ビーム鏡筒を配置する例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the example which arrange | positions the preliminary | backup electron beam barrel for information recording to the electron beam barrel arrangement | positioning disk with which 1st Embodiment of this invention is provided. 本発明の第1実施形態が備える電子ビーム鏡筒配置円板に予備の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒を配置する例を示す模式図である。It is a schematic diagram showing an example in which an electron beam column for detecting a disk rotation center for preparing a master disk is arranged on an electron beam column arrangement disk provided in the first embodiment of the present invention. 本発明の第1実施形態が備える情報記録用電子ビーム鏡筒の概念図である。1 is a conceptual diagram of an information recording electron beam column included in a first embodiment of the present invention. 本発明の第1実施形態が備える原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒の反射電子検出器を介して得られる反射電子検出信号の一例を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows an example of the backscattered electron detection signal obtained via the backscattered electron detector of the electron beam column for disc rotation center detection for master disc preparation provided in the first embodiment of the present invention. 本発明の第1実施形態における原盤作製用ディスクの回転中心の検出方法を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the detection method of the rotation center of the disc for master recording in 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態が備える原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒の反射電子検出器を介して得られる反射電子検出信号の他の例を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows the other example of the backscattered electron detection signal obtained via the backscattered electron detector of the electron beam column for disk rotation center detection for master disk preparation with which 1st Embodiment of this invention is provided. 本発明の第2実施形態の要部を示す模式図(本発明の第2実施形態が備える電子ビーム鏡筒群の平面構成を示す模式図)である。It is a schematic diagram which shows the principal part of 2nd Embodiment of this invention (schematic diagram which shows the planar structure of the electron beam barrel group with which 2nd Embodiment of this invention is provided).

符号の説明Explanation of symbols

1 真空室
2 原盤作製用ディスク
3 原盤作製用ディスク保持手段
4 ステージ
5 ステージ制御部
6 電子ビーム鏡筒群
7 電子ビーム照射制御部
8 不良電子ビーム鏡筒検出部
9 原盤作製用ディスク回転中心検出部
10 システムコントローラ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vacuum chamber 2 Disc for producing master discs 3 Disc holding means for producing master discs 4 Stage 5 Stage controller 6 Electron beam column group 7 Electron beam irradiation controller 8 Defective electron beam column detector 9 9 Disc rotation center detector for producing master disc 10 System controller

Claims (9)

原盤作製用ディスクを保持させて回転させるための原盤作製用ディスク保持手段と、
前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクの回転中心から異なる半径方向距離ごとに複数の情報記録用電子ビーム鏡筒を回転対称に配置してなる情報記録用電子ビーム鏡筒群と、
前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させた場合における前記原盤作製用ディスクの半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を均等化する電子ビーム照射量均等化手段と、
前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクの回転中心を検出する原盤作製用ディスク回転中心検出手段と、
前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクの回転中心と前記複数の情報記録用電子ビーム鏡筒の回転対称中心とを整合させる整合手段を備えていること
を特徴とする電子ビーム装置。
A master-producing disc holding means for holding and rotating the master-producing disc;
An information recording electron beam column in which a plurality of information recording electron beam columns are rotationally symmetrically arranged at different radial distances from the center of rotation of the master plate manufacturing disk held by the master disk manufacturing disk holding means. Group,
Equalizing the electron beam irradiation amount per unit area at each point in the radial direction of the master disk when the master disk is held at a constant angular velocity when held on the master disk holding means. Electron beam irradiation leveling means;
A master rotation disc detection center detecting means for detecting a rotation center of the master copy disc held by the master preparation disc holding means;
An electron comprising alignment means for aligning a rotation center of the master disk manufacturing disk held by the master disk manufacturing disk holding means with a rotational symmetry center of the plurality of information recording electron beam column. Beam device.
前記電子ビーム照射量均等化手段は、前記原盤作製用ディスクの1ピット形成部分を1個以上の情報記録用電子ビーム鏡筒で電子ビーム照射するものとし、前記原盤作製用ディスクの1ピット形成部分を照射する情報記録用電子ビーム鏡筒の数が前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクの内周部から外周部にかけて多くなるように情報記録用電子ビーム鏡筒を配置させることを含めて構成されていること
を特徴とする請求項1記載の電子ビーム装置。
The electron beam irradiation amount equalizing means irradiates one pit formation portion of the master disc with one or more information recording electron beam columns, and forms one pit portion of the master disc. The information recording electron beam column is arranged so that the number of the information recording electron beam column that irradiates is increased from the inner periphery to the outer periphery of the master disc that is held by the master disc holder. The electron beam apparatus according to claim 1, comprising:
前記電子ビーム照射量均等化手段は、前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクに照射される電子ビームの電流量を制御することにより、前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させた場合における前記原盤作製用ディスクの半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を均等化するように構成されていること
を特徴とする請求項1記載の電子ビーム装置。
The electron beam irradiation amount equalizing means is held by the master disk preparation disk holding means by controlling the amount of electron beam current irradiated to the master disk preparation disk held by the master disk preparation disk holding means. The electron beam irradiation amount per unit area at each radial point of the master disk when the master disk is rotated at a constant angular velocity is equalized. The electron beam apparatus according to claim 1.
前記電子ビーム照射量均等化手段は、前記原盤作製用ディスクの1ピット形成部分に照射する電子ビームの照射回数を制御することにより、前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクを一定角速度で回転させた場合における前記原盤作製用ディスクの半径方向の各点での単位面積あたりの電子ビーム照射量を均等化するように構成されていること
を特徴とする請求項1記載の電子ビーム装置。
The electron beam irradiation amount equalizing means controls the number of times of irradiation of the electron beam applied to one pit formation portion of the master disk making disk, thereby holding the master disk making disk held by the master making disk holding means. 2. The electron beam irradiation amount per unit area at each point in the radial direction of the master disk when the disk is rotated at a constant angular velocity is configured to be equalized. Electron beam device.
前記原盤作製用ディスク回転中心検出手段は、
前記原盤作製用ディスク保持手段の原盤作製用ディスク搭載面の原盤作製用ディスク搭載箇所の外側に前記原盤作製用ディスクの回転中心を回転対称中心として回転対称に形成され、かつ、前記原盤作製用ディスクの回転方向に沿った幅が前記原盤作製用ディスクの回転中心からの距離によって異なる同一形状の複数の原盤作製用ディスク回転中心検出用マークと、
前記複数の原盤作製用ディスク回転中心検出用マークに電子ビームを照射して前記複数の原盤作製用ディスク回転中心検出用マークからの反射電子又は2次電子を検出する手段を有する原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒とを含めて構成されていること
を特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の電子ビーム装置。
The master disk making disk rotation center detecting means,
The master disk is formed in a rotationally symmetric manner with the center of rotation of the master disk as a rotational symmetry center outside the master disk-mounting portion of the master disk for mounting the master disk. A plurality of master disk production center rotation mark detection marks of the same shape whose width along the rotation direction differs depending on the distance from the rotation center of the master disk production disk,
Rotating master disk for rotation having a means for detecting reflected electrons or secondary electrons from the plurality of master disk-producing disk rotation center detection marks by irradiating the plurality of master disk-producing disk rotation center detection marks with an electron beam. The electron beam apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the electron beam apparatus includes a center detection electron beam column.
前記原盤作製用ディスク回転中心検出手段は、前記原盤作製用ディスクに前記原盤作製用ディスクの回転中心を回転対称中心として回転対称に形成され、かつ、前記原盤作製用ディスクの回転方向に沿った幅が前記原盤作製用ディスクの回転中心からの距離によって異なる同一形状の複数の原盤作製用ディスク回転中心検出用マークに電子ビームを照射して前記原盤作製用ディスク回転中心検出用マークからの反射電子又は2次電子を検出する手段を有する原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒を含めて構成されていること
を特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の電子ビーム装置。
The master production disk rotation center detecting means is formed on the master production disk in a rotational symmetry with the rotation center of the master production disk as a rotational symmetry center, and a width along a rotation direction of the master production disk. Irradiates an electron beam to a plurality of master disk manufacturing disk rotation center detection marks having the same shape, which differ depending on the distance from the rotation center of the master disk manufacturing disk, and reflected electrons from the master disk manufacturing disk rotation center detection mark or The electron beam apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the electron beam apparatus is configured to include an electron beam column for detecting a disk rotation center for producing a master disk having means for detecting secondary electrons.
前記原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒として、前記原盤作製用ディスク回転中心検出用マークと同一数の原盤作製用ディスク回転中心検出用電子ビーム鏡筒が前記複数の情報記録用電子ビーム鏡筒の回転対称中心を回転対称中心として回転対称に配置されていること
を特徴とする請求項5又は6記載の電子ビーム装置。
As the electron beam column for detecting the center of rotation of the master disk, the same number of electron beam columns for detecting the center of rotation of the master disk as the number of marks for detecting the center of rotation of the master disk, the plurality of information recording electron beams 7. The electron beam apparatus according to claim 5, wherein the electron beam apparatus is arranged in a rotational symmetry with the rotational symmetry center of the lens barrel as a rotational symmetry center.
前記整合手段は、前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクの回転中心と、前記複数の情報記録用電子ビーム鏡筒の回転対称中心とが一致するように、前記原盤作製用ディスク保持手段又は前記情報記録用電子ビーム鏡筒群を移動する移動手段を含めて構成されていること
を特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の電子ビーム装置。
The aligning means is configured to produce the master so that the center of rotation of the master disk making disk held by the master disk making disk holding means matches the rotational symmetry center of the plurality of information recording electron beam column. 8. The electron beam apparatus according to claim 1, further comprising a moving means for moving the information disk holding means or the information recording electron beam column group.
前記整合手段は、前記原盤作製用ディスク保持手段に保持させた前記原盤作製用ディスクの回転中心と、前記情報記録用電子ビーム鏡筒の回転対称中心とが一致している場合と同様の電子ビーム照射を行うことができるように、前記複数の情報記録用電子ビーム鏡筒内の偏向器に供給する偏向信号を補正する補正手段を含めて構成されていること
を特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の電子ビーム装置。
The aligning means is an electron beam similar to the case where the center of rotation of the master disk preparation disk held by the master disk preparation disk holding means is coincident with the rotational symmetry center of the information recording electron beam column. 8. A correction means for correcting a deflection signal supplied to a deflector in the plurality of information recording electron beam column so as to perform irradiation is configured. The electron beam apparatus according to any one of the above.
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