JP2007329329A - Device, method and program for extracting defective factor, and recording medium storing program for extracting defective factor - Google Patents

Device, method and program for extracting defective factor, and recording medium storing program for extracting defective factor Download PDF

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宏司 相馬
Hiroyuki Mori
弘之 森
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device for extracting a defective factor, which judges the defective factor of a product in a manufacturing device from a wide view point. <P>SOLUTION: When a change in feature quantity data is outputted to judge the defective factor of a substrate of an entire electronic component packaging device, data varying in time about one feature quantity are outputted (S21). Next, about one feature quantity, a change in data on one substrate is outputted (S22). Then, about one feature quantity, a change in data on a plurality of substrates is outputted (S23). <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

この発明は、不良要因抽出装置、不良要因抽出方法、不良要因抽出用プログラム、および不良要因抽出用プログラムを記録した記録媒体に関し、特に、複数の工程を経て基板の上に部品を実装する電子部品実装装置の各工程における品質改善のための特徴量を抽出できる、不良要因抽出装置、不良要因抽出方法、不良要因抽出用プログラム、および不良要因抽出用プログラムを記録した記録媒体に関する。   The present invention relates to a defect factor extraction device, a defect factor extraction method, a defect factor extraction program, and a recording medium on which a defect factor extraction program is recorded, and in particular, an electronic component that mounts a component on a substrate through a plurality of steps The present invention relates to a defect factor extracting device, a defect factor extracting method, a defect factor extracting program, and a recording medium on which a defect factor extracting program is recorded, which can extract feature quantities for quality improvement in each process of the mounting apparatus.

従来の表面実装装置における品質の改善のための、基板の不良要因の抽出方法が、たとえば、特開平11−298200号公報(特許文献1)、特開平10−284900号公報(特許文献2)、および、特開平7−212098号公報(特許文献3)等に開示されている。特許文献1によれば、表面実装装置の各工程ごとに品質管理を行って、不良処置が取られた場合の各工程での測定データを予めデータベース化しておき、不良が生じた場合は、その際の測定データを利用してデータベースを参照し、対応する処置を行うという点を開示している。特許文献2によれば、マウント工程における吸/装着エラーの集計結果と、設備実装条件の変更記録とから、不良原因を推定する不良原因推定方法を開示している。特許文献3によれば、計測値を管理する計測値データベースに基づいて評価表を作成し、評価範囲に対応する実装位置の集合を求め、実装位置の集合の共通部分を求め、評価範囲間の相関度数を求めている。
特開平11−298200号公報(要約) 特開平10−284900号公報(要約) 特開平7−212098号公報(要約)
For example, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 11-298200 (Patent Document 1), Japanese Laid-Open Patent Publication No. 10-284900 (Patent Document 2), and the like are methods for extracting the cause of a substrate defect for improving the quality of a conventional surface mounting apparatus. And it is disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 7-212098 (patent document 3) etc. According to Patent Document 1, quality control is performed for each process of the surface mounting device, and measurement data in each process when a defect measure is taken is stored in a database in advance. It is disclosed that a corresponding treatment is performed by referring to a database using measurement data at the time. According to Patent Document 2, a failure cause estimation method for estimating a failure cause is disclosed based on a result of counting suction / mounting errors in a mounting process and a change record of equipment mounting conditions. According to Patent Document 3, an evaluation table is created on the basis of a measurement value database that manages measurement values, a set of mounting positions corresponding to the evaluation range is obtained, a common part of the set of mounting positions is obtained, and between evaluation ranges The correlation frequency is obtained.
JP 11-298200 A (summary) JP 10-284900 A (summary) JP-A-7-212098 (summary)

従来の電子部品実装装置における基板の不良要因の推定は上記のように行われていた。特許文献1および2においては、要因抽出が自動化されていないため、要因の抽出に時間がかかるとともに、単に時間的変化に伴う測定データの異常の有無を監視しているだけであるので、要因を特定できない場合がある。また、特許文献3によれば、要因の推定は自動的に行われるが、マウント工程での検査しか行っていないため、電子部品実装装置全体における不良の要因の抽出ができない、という問題があった。したがって、従来においては、ある不良が発生した時に、どこから取り掛かるべきか分からないとか、その不良が全体からみてどの程度重要なのかが分からない、という問題があった。   The estimation of the cause of the defect of the substrate in the conventional electronic component mounting apparatus has been performed as described above. In Patent Documents 1 and 2, since factor extraction is not automated, it takes time to extract the factor and only monitors whether there is an abnormality in the measurement data due to temporal changes. It may not be possible to identify. Further, according to Patent Document 3, although the factor is automatically estimated, there is a problem in that the failure factor cannot be extracted in the entire electronic component mounting apparatus because only the inspection in the mounting process is performed. . Therefore, in the prior art, there is a problem that when a certain defect occurs, it is not known where to start, or how important the defect is from the whole.

この発明は、上記のような問題点に着目してなされたもので、電子部品実装装置のような製造装置における基板のような製造物の不良の要因を広い視点から判断できる、不良要因抽出装置、不良要因抽出方法、不良要因抽出用プログラム、および不良要因抽出用プログラムを格納した記録媒体を提供することを目的とする。   The present invention has been made paying attention to the above-described problems, and a failure factor extraction device that can determine a factor of a failure of a product such as a substrate in a manufacturing device such as an electronic component mounting device from a wide viewpoint. An object of the present invention is to provide a failure factor extraction method, a failure factor extraction program, and a recording medium storing the failure factor extraction program.

この発明に係る、複数の工程を経て製造物を製造する製造装置における、製造物の不良要因を抽出する不良要因抽出装置は、複数の工程の少なくとも1つに設けられた検査機から、前記不良の要因に関連する特徴量データを入力する入力手段と、入力手段が入力した特徴量データの、時間的変化を検出する時間的変化検出手段、入力手段が入力した特徴量データの、1つの製造物上の位置に応じた変化を検出する位置的変化検出手段、および、入力手段が入力した特徴量データの、複数の製造物上の位置に応じた変化を検出する複数製造物上位置的変化検出手段、のうちの少なくとも2つの検出手段とを備え、時間的変化検出手段と、位置的変化検出手段と、複数製造物上位置的変化検出手段の中の、少なくとも、いずれか2つの検出手段からの特徴量データを出力する出力手段とを含む。   According to the present invention, in a manufacturing apparatus that manufactures a product through a plurality of steps, a defect factor extraction device that extracts a defect factor of a product is obtained from an inspection machine provided in at least one of a plurality of steps. One of the input means for inputting feature quantity data related to the cause of the above, the temporal change detection means for detecting temporal changes in the feature quantity data inputted by the input means, and the production of the feature quantity data inputted by the input means Positional change detecting means for detecting a change according to a position on a product, and a positional change on a plurality of products for detecting a change according to a position on a plurality of products of feature amount data inputted by the input means At least two of the detection means, and at least any two of the temporal change detection means, the positional change detection means, and the on-product positional change detection means. Or And an output means for outputting the feature data.

不良の要因に関連する特徴量データの、時間的変化、1つの製造物上の位置に応じた変化、および、複数の製造物上の位置に応じた変化の中の、少なくとも、いずれか2つの特徴量データを出力するため、ユーザは、1つの観点から見たデータだけでなく、複数の観点からみた特徴量データの変化の傾向を知ることができる。   At least any two of the temporal change, the change according to the position on one product, and the change according to the position on a plurality of products in the feature amount data related to the cause of the defect Since the feature amount data is output, the user can know not only the data viewed from one point of view, but also the change tendency of the feature amount data from a plurality of points of view.

その結果、製造装置における製造物の不良の要因を広い視点から判断できる不良要因抽出装置を提供できる。   As a result, it is possible to provide a failure factor extraction device that can determine a factor of a product defect in a manufacturing device from a wide viewpoint.

好ましくは、製造装置は、電子部品実装装置であり、製造物は基板である。   Preferably, the manufacturing apparatus is an electronic component mounting apparatus, and the product is a substrate.

さらに好ましくは、出力手段は、特徴量データをグラフとして表示する。   More preferably, the output means displays the feature amount data as a graph.

さらに好ましくは、特徴量データを正規化する正規化手段を含み、出力手段は正規化手段の正規化したデータを出力する。   More preferably, it includes normalizing means for normalizing the feature data, and the output means outputs the data normalized by the normalizing means.

さらに好ましくは、正規化データに基づいて、不良の要因を抽出する抽出手段を含む。   More preferably, an extraction means for extracting a factor of failure based on the normalized data is included.

正規化手段は、複数の異なる指標で特徴量データを正規化し、抽出手段は、複数の異なる指標に基づく正規化データに基づいて、重点的に対処すべき不良要因を抽出する。   The normalizing means normalizes the feature amount data with a plurality of different indices, and the extracting means extracts defect factors to be dealt with on the basis of the normalized data based on the plurality of different indices.

なお、特徴量データは、基板の上に部品を実装する際に用いる装置情報を含んでもよい。
この発明の他の局面によれば、複数の工程を経て製造物を製造する製造装置の製造物の不良要因を抽出する不良要因抽出方法は、複数の工程の各々に設けられた検査機から、製造物の不良の要因に関連する特徴量データを入力するステップと、入力された特徴量データの、時間的変化を検出するステップと、入力された特徴量データの、1つの製造物上の位置に応じた変化を検出するステップと、入力された特徴量データの、複数の製造物上の位置に応じた変化を検出するステップと、検出された、時間的変化、1つの製造物上の位置に応じた変化、および、複数の製造物上の位置に応じた変化のうちの、いずれか2つの変化を検出するステップと、検出された特徴量データの変化を出力するステップとを含む。
The feature amount data may include device information used when a component is mounted on the board.
According to another aspect of the present invention, a defect factor extraction method for extracting a defect factor of a product of a manufacturing apparatus that manufactures a product through a plurality of steps is performed by an inspection machine provided in each of the plurality of steps. A step of inputting feature value data related to a cause of a defect in the product; a step of detecting temporal changes in the input feature value data; and a position of the input feature value data on one product. A step of detecting a change in accordance with the step, a step of detecting a change in the input feature value data in accordance with a position on a plurality of products, and a detected temporal change, a position on one product. Detecting a change in any two of the change in accordance with the position and the change in accordance with the position on the plurality of products, and a step of outputting the change in the detected feature amount data.

好ましくは、製造装置は電子部品実装装置であり、製造物は基板である。   Preferably, the manufacturing apparatus is an electronic component mounting apparatus, and the product is a substrate.

好ましくは、さらに、特徴量データを正規化するステップと、正規化された特徴量データに基づいて不良の要因を抽出するステップとを含む。   Preferably, the method further includes a step of normalizing the feature amount data and a step of extracting a factor of failure based on the normalized feature amount data.

この発明の他の局面によれば、不良要因抽出用プログラムは、上記の不良要因抽出方法をコンピュータに実行させる。   According to another aspect of the present invention, a failure factor extraction program causes a computer to execute the above-described failure factor extraction method.

なお、上記不良要因抽出用プログラムは、コンピュータ読み取り可能記録媒体に格納されていてもよい。   The defect factor extraction program may be stored in a computer-readable recording medium.

以下、この発明の一実施の形態を,図面を参照して説明する。ここでは、この発明に係る不良要因抽出装置が適用される製造装置および製造物の不良として、電子部品実装装置における基板の不良を例にあげて説明する。図1は、電子部品実装装置周りの構成を示す図である。図1を参照して、電子部品実装装置10は、電子部品が実装される基板の流れる上流側から下流側に向かって配列された印刷工程と、マウント工程と、リフロー工程とを含む。各工程間は、コンベヤ、ロボット、その他の搬送装置によって連結されている。各工程には、その工程の処理を行なうための装置が設けられている。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Here, the defect of the substrate in the electronic component mounting apparatus will be described as an example of the defect of the manufacturing apparatus and the product to which the defect factor extracting apparatus according to the present invention is applied. FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration around an electronic component mounting apparatus. Referring to FIG. 1, electronic component mounting apparatus 10 includes a printing process, a mounting process, and a reflow process arranged from the upstream side to the downstream side of the substrate on which the electronic component is mounted. Each process is connected by a conveyor, a robot, and other transfer devices. Each process is provided with an apparatus for performing the process.

印刷工程には、基板にランドを印刷するための印刷機11と、印刷後の検査を行なう印刷後検査機12とが設けられる。マウント工程には、基板に部品をマウントするためのマウンタ13と、マウント後の検査を行なうマウント後検査機14とが設けられる。リフロー工程には、部品の端子をランドにハンダ付けをするためのリフロー炉15とハンダ付け後の検査を行なうリフロー後検査機16とが設けられる。   In the printing process, a printing machine 11 for printing lands on a substrate and a post-printing inspection machine 12 for performing an inspection after printing are provided. In the mounting process, a mounter 13 for mounting a component on a substrate and a post-mount inspection machine 14 for performing an inspection after mounting are provided. In the reflow process, a reflow furnace 15 for soldering the terminal of the component to the land and an after-reflow inspection machine 16 for performing an inspection after soldering are provided.

印刷機11、印刷後検査機12、マウンタ13、マウント後検査機14およびリフロー炉15およびリフロー後検査機16は、それぞれ、ネットワーク17を介して不良要因抽出装置20に接続されている。   The printing machine 11, the post-printing inspection machine 12, the mounter 13, the post-mounting inspection machine 14, the reflow furnace 15, and the post-reflow inspection machine 16 are connected to the defect factor extraction device 20 via the network 17.

印刷後検査機12からは、印刷機11における検査データが、マウンタ13からは、使用ヘッド、使用ノズルおよび使用フィーダのようなマウンタ13の使用する装置に関する装置情報が、マウント後検査機14からは、マウンタ13における検査結果を示すデータが、リフロー後検査機16からは、リフロー後検査結果を示すデータが、それぞれ不良要因抽出装置20に入力される。   From the post-printing inspection machine 12, inspection data in the printing machine 11 is received. From the mounter 13, apparatus information relating to devices used by the mounter 13 such as a used head, a used nozzle and a used feeder is received from the post-mounting inspection machine 14. The data indicating the inspection result in the mounter 13 and the data indicating the inspection result after reflow are input from the post-reflow inspection machine 16 to the defect factor extracting device 20, respectively.

ここで、各検査機12,14,16で測定される検査データとしては各種のものがあるが、これらの検査データ、基板上の位置状態や基板を特定する基板ID等と組み合わせたものが特徴量データとなる。   Here, there are various types of inspection data measured by each of the inspection machines 12, 14, and 16, but these inspection data, a combination of a position state on the substrate, a substrate ID for specifying the substrate, and the like are characteristic. It becomes quantity data.

したがって、印刷後検査機12で測定される特徴量データとしては、印刷面積や印刷ずれデータを基板の位置情報と組み合わせたもの等がある。マウント後検査機14で測定される特徴量データとしては、マウンタ13の使用する装置情報と実装後部品の位置ずれ情報との組み合わせ等がある。   Accordingly, the feature amount data measured by the post-printing inspection machine 12 includes a combination of print area and print deviation data with substrate position information. The feature amount data measured by the post-mounting inspection machine 14 includes a combination of device information used by the mounter 13 and positional deviation information of mounted components.

次に、不良要因抽出装置20の構成について説明する。図2は、不良要因抽出装置20の構成を示すブロック図である。図2を参照して、不良要因抽出装置20は、基本的にはパーソナルコンピュータ(以下「パソコン」という)と同様である。不良要因抽出装置20は、装置全体を制御するCPU21と、CPU21に対してインターフェイス22を介して接続された、ROM,RAM(図示無し)、表示装置23、ハードディスク24、キーボード25、マウス26、ネットワーク接続装置27等を含む。このネットワーク接続装置27によって、不良要因抽出装置20は、上記した各印刷機11、印刷後検査機12、マウンタ13、マウント後検査機14およびリフロー炉15およびリフロー後検査機16に接続され、それらから、特徴量データを入力する。したがって、ネットワーク接続装置27入力手段として機能する。   Next, the configuration of the failure factor extraction device 20 will be described. FIG. 2 is a block diagram illustrating a configuration of the failure factor extraction device 20. Referring to FIG. 2, failure factor extraction device 20 is basically the same as a personal computer (hereinafter referred to as “personal computer”). The failure factor extraction device 20 includes a CPU 21 that controls the entire device, and a ROM, RAM (not shown), a display device 23, a hard disk 24, a keyboard 25, a mouse 26, and a network connected to the CPU 21 via an interface 22. Including the connecting device 27 and the like. By this network connection device 27, the failure factor extraction device 20 is connected to each of the printing machines 11, the post-printing inspection machine 12, the mounter 13, the post-mounting inspection machine 14, the reflow furnace 15, and the post-reflow inspection machine 16. To input feature data. Therefore, it functions as the network connection device 27 input means.

次に、この実施の形態における不良要因抽出装置20における基本的な考え方について説明する。この実施の形態では、不良要因抽出装置20は、以下の観点で、検査機12,14,16から収集したータを分析する。
(1)ある一つの特徴量の変化を複数の基板で見る。
(2)ある一つの特徴量の変化を1枚の基板全体で見る。
(3)ある一つの特徴量の変化を複数の基板上で見る。
Next, a basic concept in the defect factor extraction device 20 in this embodiment will be described. In this embodiment, the failure factor extraction device 20 analyzes data collected from the inspection machines 12, 14, and 16 from the following viewpoints.
(1) A change in a certain feature value is seen on a plurality of substrates.
(2) A change in a certain feature amount is seen over the entire board.
(3) A change in one characteristic amount is observed on a plurality of substrates.

このようにして、広い観点から基板の不良の要因となりうる特徴量データを分析することで、不良の要因をより広い観点から捉えることができる。   In this way, by analyzing the feature amount data that can be a cause of substrate failure from a wide viewpoint, it is possible to grasp the cause of failure from a wider viewpoint.

なお、ここで説明した3つの全ての観点から特徴量データを分析するのが好ましいが、これらのうちの少なくとも2つの観点から特徴量データを分析してもよい。   Note that it is preferable to analyze the feature data from all three viewpoints described here, but the feature data may be analyzed from at least two of these viewpoints.

次に、不良要因抽出装置20のCPU21が行なう、具体的な処理手順について説明する。図3は、上記した3つの観点から特徴量データを収集する際の基礎となる特徴量データの変化を知るための具体的な処理内容を示すフローチャートである。   Next, a specific processing procedure performed by the CPU 21 of the failure factor extraction device 20 will be described. FIG. 3 is a flowchart showing the specific processing contents for knowing the change of the feature amount data as the basis when collecting the feature amount data from the above three viewpoints.

図3を参照して、まず、各特徴量ごとに計算する部品選択を自動または、手動で行う(ステップS11、以下「ステップ」を省略する)。具体的には、ハードディスク24には予め、処理された複数の部品データが格納されており、その内容が表示装置23に表示される。ユーザは、その中から所望の部品を、マウス26等を用いて選択する。   Referring to FIG. 3, first, component selection calculated for each feature amount is automatically or manually performed (step S <b> 11, hereinafter “step” is omitted). Specifically, a plurality of processed component data are stored in advance in the hard disk 24, and the contents are displayed on the display device 23. The user selects a desired part from among them using the mouse 26 or the like.

次に、ハードディスク24に格納された、上記した各検査機12,14,16から特徴量データに関連する検査データを読み出す(S12)。次に、選択された特徴量データについての変化の様子を演算しグラフ化して、たとえば、表示装置23に表示することによって出力する(S13)。したがって、表示装置は出力手段として機能する。   Next, the inspection data related to the feature data is read from each of the inspection machines 12, 14, 16 stored in the hard disk 24 (S12). Next, the change state of the selected feature amount data is calculated and graphed, and output by, for example, displaying on the display device 23 (S13). Therefore, the display device functions as output means.

ユーザは特徴量データの変化を見て、不良要因の抽出が必要か否かを判断する(S14)。必要であると判断したときは、不良要因を抽出する(S15)。具体的には、表示装置23は特徴量データの変化を表示した後、不良要因の抽出の要否の問合せを表示する。これに対して、ユーザが回答する。S14で不良要因抽出を行わないときは、そのまま処理を終了する。   The user sees the change in the feature amount data, and determines whether or not it is necessary to extract a defect factor (S14). When it is determined that it is necessary, a failure factor is extracted (S15). Specifically, after the display device 23 displays the change in the feature amount data, the display device 23 displays an inquiry as to whether or not to extract the defect factor. In response, the user answers. If the defect factor extraction is not performed in S14, the process is terminated as it is.

ここで、特徴量データの変化出力と不良要因の抽出とを分けたのは、まず、特徴量データの変化の程度をユーザに判断させるためである。   Here, the reason why the change output of the feature amount data and the extraction of the defect factor are separated is to first allow the user to determine the degree of change of the feature amount data.

なお、所定の閾値を定めておき、不良要因の抽出の要否を自動的に判断するようにしてもよい。   It should be noted that a predetermined threshold value may be set to automatically determine whether or not a defect factor needs to be extracted.

次に、図3のS13で示した変化データ出力の処理内容について図4を参照して説明する。図4を参照して、この処理においては、まず、1つの特徴量についての時間的な変化データを出力する(S21)。この特徴量の出力は、上記の(1)に対応する。次に1つの特徴量について、1枚の基板上でのデータの変化を出力する(S22)。これが上記の(2)に対応する。次に、1つの特徴量についての、複数の基板上でのデータの変化を出力する(S23)。これが上記の(3)に対応する。   Next, the processing contents of the change data output shown in S13 of FIG. 3 will be described with reference to FIG. Referring to FIG. 4, in this process, first, temporal change data for one feature amount is output (S21). The output of this feature amount corresponds to the above (1). Next, a change in data on one substrate is output for one feature amount (S22). This corresponds to the above (2). Next, a change in data on a plurality of substrates for one feature amount is output (S23). This corresponds to the above (3).

したがって、CPU21は、時間的変化検出手段、位置的変化検出手段、および、複数基板上位置変化検出手段、として機能する。   Therefore, the CPU 21 functions as a temporal change detection unit, a positional change detection unit, and a multiple substrate position change detection unit.

次に、S21〜S23で説明した、時間的データの変化、1枚の基板上でのデータの変化、および、複数の基板上でのデータの変化における、注目点について説明する。時間的変化データの出力を見るときには、ある特徴量の測定値の変動が時間的に突発的に生じたものか、徐々に変化してきたものかを見るとともに、測定値のばらつき度合いもチェックする。   Next, the points of interest in the temporal data change, the data change on one substrate, and the data change on a plurality of substrates described in S21 to S23 will be described. When viewing the output of the temporal change data, it is checked whether the variation of the measurement value of a certain feature amount has occurred suddenly or has changed gradually, and the degree of variation of the measurement value is also checked.

1枚の基板上でのデータの変化を見るときは、場所による大きさの度合いや、測定値のばらつき度合いや、同じようなものと比較したときの差の度合いや、同じもので場所による比較をしたときの差の度合いや、場所による突発度合い等をチェックする。   When looking at changes in data on a single substrate, the degree of size by location, the degree of variation in measured values, the degree of difference when compared to similar items, and the comparison by location with the same Check the degree of difference when you shoot, the degree of outbreak depending on the location, etc.

複数の基板上でのデータの変化を見るときは、同じもので場所による比較をした場合の測定値の差の度合いや、場所による大きさの度合い等とチェックする。   When viewing changes in data on a plurality of substrates, check the degree of difference in measured values and the degree of size according to location when comparing the same with each other.

次に、図3のS15で示した不良要因抽出処理内容について説明する。図5は、この場合のCPU21が行う動作を示すフローチャートである。図5を参照して、不良要因抽出処理内容においては、まず、選択された特徴量データを統計的手法で正規化する(S31)。次に正規化したデータから、所定の範囲外の異常データの有無を判断する(S32)。所定の範囲外のデータであれば(S32でYES)、そのデータを基に特徴量を表示して、要因を抽出する(S33)。この要因抽出は、予め準備されたデータベースを参照して行う。したがって、CPU21は正規化手段、および抽出手段として機能する。   Next, the content of the defect factor extraction process shown in S15 of FIG. 3 will be described. FIG. 5 is a flowchart showing the operation performed by the CPU 21 in this case. Referring to FIG. 5, in the failure factor extraction processing content, first, the selected feature data is normalized by a statistical method (S31). Next, the presence / absence of abnormal data outside a predetermined range is determined from the normalized data (S32). If the data is outside the predetermined range (YES in S32), the feature amount is displayed based on the data and the factor is extracted (S33). This factor extraction is performed with reference to a database prepared in advance. Therefore, the CPU 21 functions as a normalizing unit and an extracting unit.

ここで正規化したデータから、そのデータが所定の範囲内か、範囲外かは、一般的な統計処理における手法である、たとえば、標準偏差σを用いて行う。すなわち、検出された特徴量データが、3σ内であれば、許容値と判断できるが、それを外れると、所定の範囲外であるとして、「異常度が高い」という旨の出力を表示装置23に行うとともに、要因の抽出を行う。   Here, from the normalized data, whether the data is within a predetermined range or out of the range is performed by using a standard statistical method, for example, a standard deviation σ. That is, if the detected feature amount data is within 3σ, it can be determined as an allowable value. If the detected feature amount data is outside the predetermined range, the display device 23 outputs an output indicating that the degree of abnormality is high, assuming that it is outside the predetermined range. And extract factors.

このように、単なる測定値ではなく、それを正規化した値を用いて不良の要因の抽出を行うため、重要な不良要因であるか否かを容易に判断できる。また、要因抽出においては、複数の不良要因について正規化された値を求めて、それらを相互に比較すれば、不良要因としての貢献の程度を判断できる。したがって、基板の不良が生じたときに、どの部分から対処するのがより効率的であるかを容易に判断できる。   As described above, since the cause of failure is extracted using not a measured value but a value obtained by normalizing it, it can be easily determined whether or not it is an important failure factor. Further, in factor extraction, the degree of contribution as a defect factor can be determined by obtaining normalized values for a plurality of defect factors and comparing them with each other. Therefore, it is possible to easily determine from which part it is more efficient to deal with when a substrate defect occurs.

次に、図4のS21で示した時間的変化データの具体例について、印刷工程における印刷検査機12が検出した、印刷面積の変化を例にあげて説明する。図6は、表示装置23が表示した、印刷面積の変化を示すグラフである。図6において、横軸は基板枚数であり、縦軸は印刷面積を示す。このようなグラフを見て、ユーザは、不良要因の抽出の要否を判断する。   Next, a specific example of the temporal change data shown in S21 of FIG. 4 will be described taking as an example the change in the print area detected by the print inspection machine 12 in the printing process. FIG. 6 is a graph showing the change in the print area displayed by the display device 23. In FIG. 6, the horizontal axis represents the number of substrates, and the vertical axis represents the printing area. By looking at such a graph, the user determines whether or not it is necessary to extract a defect factor.

図6に示した例では、ある時点で、急に印刷面積が増加しているため、ユーザは、この変化が、どの程度、時間的に突発的な変化であるのかを知りたいと思う。このとき、ユーザは不良要因抽出装置10に対して、不良要因の抽出を行わせる。不良要因抽出装置10は、図5で説明した処理を行って、「印刷面積」についての時間的な突発性の診断を行う。不良要因抽出装置10は、上記したように、統計的手法を用いて、検出されたデータが時間的に突発であるか否かを判断する。具体的には、不良要因抽出装置10は、次の式(1)で時間的突発度を計算する。   In the example shown in FIG. 6, since the printing area suddenly increases at a certain point, the user wants to know how much this change is abrupt in time. At this time, the user causes the failure factor extraction apparatus 10 to extract the failure factor. The defect factor extraction apparatus 10 performs the process described with reference to FIG. 5 to diagnose temporal suddenness of “printing area”. As described above, the failure factor extraction apparatus 10 determines whether or not the detected data is temporally abrupt using a statistical method. Specifically, the failure factor extraction device 10 calculates the temporal suddenness according to the following equation (1).

突発度=|平均値−測定値|/σ・・・・・・(1)
ここでσ:標準偏差である。
Suddenness = | Average value−Measured value | / σ (1)
Where σ is the standard deviation.

上記したように、たとえば、突発度が3を超えると、異常であると判断し、不良要因の抽出を行う。   As described above, for example, if the degree of suddenness exceeds 3, it is determined that there is an abnormality, and a failure factor is extracted.

図7は、時間的変化データの他の例として、データが徐々に変化している場合のグラフを示す。図7においても、横軸は基板枚数であり、縦軸は印刷面積を示す。ここでは、徐々に変化している度合いは、最小2乗法によって近似直線の傾きを求めることによって検出する。この値についても他のデータを基に正規化を行い、上記と同様に、標準偏差の3倍以上となると、異常であると判断し、その旨を表示装置23に表示して、不良要因の抽出を行う。   FIG. 7 shows a graph when the data is gradually changing as another example of the temporal change data. Also in FIG. 7, the horizontal axis represents the number of substrates, and the vertical axis represents the printing area. Here, the degree of gradual change is detected by obtaining the slope of the approximate line by the least square method. This value is also normalized based on other data, and if it is 3 times or more of the standard deviation as described above, it is determined to be abnormal, and that fact is displayed on the display device 23 and Perform extraction.

図8は、時間的変化データの一例として、データのばらつき度合いを示す図である。図8を参照して、ここでも、ばらつき度合いはデータの標準偏差σを基に計算し、上記と同様に、標準偏差の3倍以上となると、異常であると判断し、不良要因の抽出を行う。   FIG. 8 is a diagram illustrating the degree of data variation as an example of temporal change data. Referring to FIG. 8, here again, the degree of variation is calculated based on the standard deviation σ of the data. Similarly to the above, when the standard deviation is three times or more of the standard deviation, it is determined that there is an abnormality, and defect factors are extracted. Do.

次に、図4のS22で示した基板上の位置による変化の度合いについて説明する。図9は、横軸が基板の位置(基板のX座標、またはY座標)であり、縦軸が上記と同様の、たとえば、印刷面積とする。図9を参照して、ここでは、基板上の位置に応じて、印刷面積が徐々に増加している。この増加量も、最小2乗法で近似直線の傾きを求める等する。   Next, the degree of change depending on the position on the substrate shown in S22 of FIG. 4 will be described. In FIG. 9, the horizontal axis is the position of the substrate (X coordinate or Y coordinate of the substrate), and the vertical axis is the same as the above, for example, the printing area. Referring to FIG. 9, here, the printing area gradually increases according to the position on the substrate. This increase amount is also obtained by, for example, obtaining the slope of the approximate line by the least square method.

ここで、基板上の位置について説明する。図10は、基板30を示す図である。図10において、たとえば、基板上の位置は、太矢印A方向から見た、図中、矢印Xで示す位置に対応する。すなわち、図10において、矢印Xで示す方向が図9におけるX軸に対応する(図10において、値小とかいてある方の値が小さい)。なお、この位置は、X軸に限らず、図10において太矢印B方向から見たYで示す方向において検出してもよい。   Here, the position on the substrate will be described. FIG. 10 is a diagram illustrating the substrate 30. In FIG. 10, for example, the position on the substrate corresponds to the position indicated by the arrow X in the figure as seen from the direction of the thick arrow A. That is, in FIG. 10, the direction indicated by arrow X corresponds to the X axis in FIG. 9 (the smaller value in FIG. 10 is smaller). This position is not limited to the X axis, and may be detected in the direction indicated by Y as viewed from the direction of the thick arrow B in FIG.

図11は、基板上の位置による変化の度合いとして、測定値のばらつきを示す図である。ここでも、ばらつきの程度は標準偏差σを用いて求める。   FIG. 11 is a diagram showing variations in measured values as the degree of change depending on the position on the substrate. Again, the degree of variation is determined using the standard deviation σ.

次に、基板上の異なる位置における、特徴量データとしての印刷面積を確率密度で比較する場合について説明する。図12は、基板を上下方向(図10においてY方向)に3等分したときに、基板上部の1/3(図10において値小と記載している側)にある部分と、基板下部の1/3(図10において値大と記載している側)にある部分とに分けた場合の、それぞれの位置における、印刷面積の分布を表す確率密度を示すグラフである。   Next, a description will be given of a case where the print areas as feature amount data at different positions on the substrate are compared with probability density. FIG. 12 shows that when the substrate is divided into three equal parts in the vertical direction (Y direction in FIG. 10), the portion at the upper third of the substrate (the side indicated as small in FIG. 10) and the lower portion of the substrate It is a graph which shows the probability density showing distribution of the printing area in each position when it divides | segments into the part which exists in 1/3 (the side described as large value in FIG. 10).

図12を参照して、ここでは、それぞれのデータは正規分布し、基板上部に比べて基板下部の印刷面積が全体的に大きくなっており、それぞれの中心値は差dだけ離れていることがわかる。このようなデータが出力されたときは、その差dが統計的にどの程度異常であるのかを判別して、このような現象の生じている不良要因の抽出を行う。   Referring to FIG. 12, here, the respective data are normally distributed, the printing area of the lower part of the substrate is generally larger than that of the upper part of the substrate, and the respective center values are separated by a difference d. Recognize. When such data is output, it is determined how much the difference d is statistically abnormal, and defective factors causing such a phenomenon are extracted.

次に、図4のS23で示した複数の基板上での変化データについて説明する。図13は、図12に示した印刷面積のデータを、複数の基板について求めた場合の一例である。図13を参照して、複数の基板について求めた場合でも、同様の結果が得られている。この場合も、図12と同様の処理を行う。   Next, change data on a plurality of substrates shown in S23 of FIG. 4 will be described. FIG. 13 is an example when the print area data shown in FIG. 12 is obtained for a plurality of substrates. Referring to FIG. 13, similar results are obtained even when a plurality of substrates are obtained. In this case, the same processing as in FIG. 12 is performed.

次に、図9で示した、1枚の基板における基板位置による印刷面積の変化を表す傾きを、複数の基板について見た場合の結果を図14に示す。図14を参照して、基板の位置は図9の場合と同じである。Y軸は、図9で得られた傾きを示している。この場合においても、最小2乗法で近似直線の傾きを求める。   Next, FIG. 14 shows a result when the inclination representing the change of the printing area depending on the substrate position in one substrate shown in FIG. 9 is viewed for a plurality of substrates. Referring to FIG. 14, the position of the substrate is the same as in FIG. The Y axis indicates the slope obtained in FIG. Even in this case, the slope of the approximate straight line is obtained by the method of least squares.

次に、基板上の位置が異なる場合の特徴量の変化データを用いて、位置的に突発的な変動が生じた否かを判断する例について説明する。この例は、時間的に突発的な変動が生じたかどうかを判断した図6の例に対応する。この場合の出力データの例を図15に示す。ここでも、位置的に突発であるか否かは、上記の式(1)で計算する。   Next, an example will be described in which it is determined whether or not a sudden change in position has occurred using feature value change data when the positions on the substrate are different. This example corresponds to the example of FIG. 6 in which it is determined whether or not a sudden change occurs in time. An example of output data in this case is shown in FIG. Again, whether or not there is a sudden outage is calculated by the above equation (1).

次に、図9に示した基板上の位置ごとの印刷面積を、複数の基板について出力した場合について説明する。この場合の出力例を図16に示す。図16を参照して、X軸は、図9と同様であり、Y軸は基板ごとの、各位置における印刷面積をプロットしたものである。図16を参照して、このように特徴量データを整理すると、複数の基板における基板上の位置に応じた印刷面積の変化を把握することができる。   Next, a case where the printing area for each position on the substrate shown in FIG. 9 is output for a plurality of substrates will be described. An output example in this case is shown in FIG. Referring to FIG. 16, the X axis is the same as in FIG. 9, and the Y axis is a plot of the print area at each position for each substrate. Referring to FIG. 16, when the feature amount data is arranged in this way, it is possible to grasp the change in the print area according to the position on the plurality of substrates.

次に、図5のS31で示した各特徴量を正規化する他の例について説明する。上記実施の形態においては、統計的手法を用いて正規化を行った。この実施の形態においては、エキスパートがその知見に基づいて、正規化された数値を定める。   Next, another example of normalizing each feature amount shown in S31 of FIG. 5 will be described. In the above embodiment, normalization is performed using a statistical method. In this embodiment, the expert determines a normalized numerical value based on the knowledge.

図17は、たとえば、特徴量データとして印刷面積を用いて、エキスパートがデータを正規化する手順を説明するための図である。図17を参照して、ここでは、X軸に、たとえば、印刷面積のばらつき度合いを示し、Y軸に正規化後の値を示す。エキスパートは、ばらつきが、a1からa3まで分布しているときに、a1およびa3に対応して、b1およびb3を正規化された値として決定する。この決定に基づいて、ばらつきの計測データがたとえば、a2であれば、正規化後の値としてb2を求める。すなわち、エキスパートが定めた図17のグラフを用いれば、ばらつき度合いから正規化後の対応する値を計算できる。   FIG. 17 is a diagram for explaining a procedure for an expert to normalize data using, for example, a print area as feature amount data. Referring to FIG. 17, here, for example, the degree of variation in the printing area is shown on the X axis, and the normalized value is shown on the Y axis. When the variation is distributed from a1 to a3, the expert determines b1 and b3 as normalized values corresponding to a1 and a3. Based on this determination, if the variation measurement data is a2, for example, b2 is obtained as a normalized value. That is, if the graph of FIG. 17 defined by the expert is used, the corresponding value after normalization can be calculated from the degree of variation.

次に、乖離度を用いて正規化する方法について説明する。乖離度とは、0であれば同じと判断され、1であれば、全く異なると判断される正規化のための指標である。図18(A)は、印刷面積の変動を基板の上部(この位置は図10で説明したのと同じであり、図中実線で示す)と下部(点線で示す)とに分けて示した図であり、図18(B)は、図18(A)に示したデータに基づいて、正規化したグラフを示す。   Next, a method for normalization using the degree of divergence will be described. The divergence degree is an index for normalization that is determined to be the same if it is 0 and is completely different if it is 1. FIG. 18A is a diagram showing the variation of the printing area divided into an upper part of the substrate (this position is the same as described in FIG. 10 and indicated by a solid line in the figure) and a lower part (indicated by a dotted line). FIG. 18B shows a graph normalized based on the data shown in FIG.

図18(A)を参照して、基板の上部と下部とで特徴量の乖離度を計算すると0.188であったとする。これをMF(メンバシップ関数)によって正規化すると、乖離度は0.384となる。このように正規化すると、図18(B)に示すように、正常な部分と異なる部分が明確になるとともに、乖離度が一番大きい箇所を探せば、そこが、最も不良に関連する特徴量であることがわかる。   Referring to FIG. 18A, it is assumed that the degree of deviation of the feature amount between the upper part and the lower part of the substrate is 0.188. When this is normalized by MF (membership function), the degree of divergence becomes 0.384. When normalization is performed in this way, as shown in FIG. 18B, a portion different from the normal portion is clarified, and if a portion having the largest divergence is found, this is the feature quantity most related to the defect. It can be seen that it is.

さらに、このように、標準偏差や、乖離度のように異なる指標で正規化された複数のデータを比較すると、より広範囲の特徴量データの中から、対処すべき不良要因を抽出可能になる。   Furthermore, when a plurality of data normalized with different indexes such as standard deviation and divergence are compared in this way, it is possible to extract a failure factor to be dealt with from a wider range of feature amount data.

次に、図5のS33で示した要因抽出方法について説明する。上記したように、不良要因抽出装置10は、検査機12,14,16から得られた測定データに基づいて特徴量データの変化を示す値をグラフとともに表示する。その値を正規化して、改善対象を決める。具体的には、人が異常度合いを推測し、どこから手を付けるか検討する。一方、閾値を予め定めておいて、それを超えたときは、自動的にデータの正規化を行い、複数の指標について最も大きな不良の要因を抽出して、どこから手をつけるべきかを表示するようにしてもよい。   Next, the factor extraction method shown in S33 of FIG. 5 will be described. As described above, the failure factor extraction device 10 displays a value indicating a change in the feature amount data together with the graph based on the measurement data obtained from the inspection machines 12, 14, and 16. Normalize the value to determine the improvement target. Specifically, the person estimates the degree of abnormality and considers where to start. On the other hand, if a threshold value is set in advance and the threshold value is exceeded, data is automatically normalized, the largest failure factor is extracted for a plurality of indicators, and where to start is displayed. You may do it.

具体的な要因抽出例については、別に準備されたデータベースを用いて行う。ここでは、そのいくつかの例について説明する。まず、時間的な変化に基づく例としては、次のような場合がある。たとえば、測定値(印刷面積)が徐々に増加しているというのは、印圧が高すぎることが原因である。突然印刷面積が大きくなっているのは、ごみなどの突発不良が原因であると判断される。   A specific factor extraction example is performed using a separately prepared database. Here, some examples will be described. First, there are the following cases as examples based on temporal changes. For example, the measured value (printing area) gradually increases because the printing pressure is too high. It is determined that the sudden increase in the printing area is caused by sudden failure such as dust.

一枚の基板全体のデータを見たときの例としては、たとえば、基板の上部、または、下部によって測定値(たとえば、印刷面積)の乖離度を計算する。基板の上部から下部にかけての測定値の近似直線に傾きがあれば、印圧の突発的な不均衡、たとえば、基板のそり、ごみなどによる傾き等が考えられる。   As an example when viewing the data for the entire substrate, for example, the degree of divergence of the measured value (for example, print area) is calculated by the upper or lower portion of the substrate. If there is an inclination in the approximate straight line of the measured value from the upper part to the lower part of the substrate, an unexpected imbalance of the printing pressure, for example, an inclination caused by warpage of the substrate, dust, or the like can be considered.

複数の基板全体のデータを見たときは、継続的な不良が確認できる。たとえば、基板の上部、または、下部によって測定値(印刷面積)の乖離度を計算する。基板の上部から下部にかけての測定値の近似直線の傾きは、印圧のロット内の不均衡(たとえば、下型の傾き)が要因と考えられる。   When looking at the data of the entire plurality of substrates, continuous defects can be confirmed. For example, the degree of deviation of the measured value (printing area) is calculated by the upper part or the lower part of the substrate. The inclination of the approximate straight line of the measured value from the upper part to the lower part of the substrate is considered to be caused by imbalance (for example, the lower mold inclination) within the lot of printing pressure.

同じ部品種(チップ抵抗等0603サイズ等)で、異なる定数でのずれ量の違い。異なるノズルでのずれ量の違いが継続的に発生している場合、フィーダの設定不良や、ノズルの磨耗等が要因として考えることが可能である。   Difference in deviation amount with the same component type (chip resistance etc. 0603 size etc.) with different constants. In the case where a difference in deviation amount between different nozzles is continuously generated, it is possible to consider factors such as poor feeder settings and nozzle wear.

なお、上記実施の形態においては、特徴量データとして、印刷工程における印刷面積を例にあげて説明したが、マウント工程における、装置情報と実装後部品の位置ずれや、リフロー工程におけるデータについても同様の処理が行われる。   In the above embodiment, the feature area data has been described by taking the printing area in the printing process as an example. However, the same applies to the positional deviation between the device information and the mounted component in the mounting process and the data in the reflow process. Is performed.

また、上記実施の形態においては、3つの工程のそれぞれに設けられた検査機を用いた場合について説明したが、これに限らず、少なくとも1つの工程に設けられた検査機を用いてもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the case where the inspection machine provided in each of three processes was used was demonstrated, you may use the inspection machine provided in not only this but at least 1 process.

なお、上記実施の形態においては、特徴量データを、標準偏差や乖離度で正規化して不良要因となる「異常」を検出したが、これに限らず、各特徴量ごとに、基準となる値を設定しておいて、その基準値に比べて、大きな変化があった特徴量から、「異常度が高い」と提示してもよい。   In the above embodiment, feature data is normalized by standard deviation and divergence to detect “abnormality” that is a failure factor. However, the present invention is not limited to this, and a reference value for each feature is used. , And “high degree of abnormality” may be presented based on the feature amount that has changed significantly compared to the reference value.

また、上記実施の形態においては、特徴量を抽出するのに用いた統計的手法としては、標準偏差や乖離度を用いた場合について説明したが、これに限らず、平均差や、相関比や、ずれ量については、ずれのばらつき度合いの原点からの距離の比等の任意のものを用いてもよい。   In the above embodiment, the statistical method used to extract the feature amount has been described using the standard deviation and the degree of divergence. However, the present invention is not limited to this, and the average difference, the correlation ratio, As the deviation amount, an arbitrary amount such as a ratio of the distance from the origin of the deviation degree of deviation may be used.

また、上記実施の形態においては、不良要因を判別する部品について、ユーザが所望のものを選択する場合について説明したが、これに限らず、CPUが、正規化されたデータの中から、関連のありそうな特定の部品を分析対象として表示するようにしてもよい。   In the above-described embodiment, the case where the user selects a desired part for determining the failure factor has been described. However, the present invention is not limited to this, and the CPU may be related from the normalized data. Specific parts that are likely to be displayed may be displayed as analysis targets.

また、上記実施の形態では、不良要因抽出装置を電子部品実装装置における基板の不良の要因抽出に適用した場合について説明したが、これに限らず、任意の製造装置における製造不良の要因抽出に適用してもよい。   Further, in the above-described embodiment, the case where the defect factor extraction device is applied to the extraction of the cause of the substrate defect in the electronic component mounting apparatus has been described. However, the present invention is not limited to this, and is applicable to the factor extraction of the manufacturing defect in an arbitrary manufacturing apparatus. May be.

また、上記実施の形態においては、不良要因抽出装置がその専用装置である場合について説明したが、これに限らず、不良要因抽出装置を汎用のパソコンとし、上記の動作を全て不良要因抽出用プログラムとして、パソコンをそのプログラムで作動させるようにしてもよい。この場合、この不良要因抽出用プログラムは、光ディスクやハードディスクのような記録媒体で提供してもよいし、ネットワークを介して、ネット上のサーバからダウンロードするようにしてもよい。   In the above embodiment, the case where the failure factor extraction device is the dedicated device has been described. However, the present invention is not limited to this, and the failure factor extraction device is a general-purpose personal computer, and all the above operations are performed as a failure factor extraction program. The personal computer may be operated by the program. In this case, the defect factor extraction program may be provided on a recording medium such as an optical disk or a hard disk, or may be downloaded from a server on the network via a network.

以上、図面を参照してこの発明の実施形態を説明したが、この発明は、図示した実施形態のものに限定されない。図示された実施形態に対して、この発明と同一の範囲内において、あるいは均等の範囲内において、種々の修正や変形を加えることが可能である。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described with reference to drawings, this invention is not limited to the thing of embodiment shown in figure. Various modifications and variations can be made to the illustrated embodiment within the same range or equivalent range as the present invention.

電子部品実装装置の全体構成を示す図である。It is a figure which shows the whole structure of an electronic component mounting apparatus. 不良要因抽出装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of a defect factor extraction apparatus. 不良要因抽出装置のCPUが行なう動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the operation | movement which CPU of a defect factor extraction apparatus performs. 変化データの出力処理において行われる動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the operation | movement performed in the output process of change data. 不良要因抽出処理において行われる動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the operation | movement performed in a defect factor extraction process. 印刷面積の突発的な時間的変化を示すグラフである。It is a graph which shows the sudden time change of a printing area. 印刷面積の時間的変化を示すグラフである。It is a graph which shows the time change of a printing area. 印刷面積の時間的変化を示すグラフである。It is a graph which shows the time change of a printing area. 1枚の基板上における印刷面積の位置的変化を示すグラフである。It is a graph which shows the positional change of the printing area on one board | substrate. 基板上の位置を示す図である。It is a figure which shows the position on a board | substrate. 1枚の基板上における印刷面積の位置的変化を示すグラフである。It is a graph which shows the positional change of the printing area on one board | substrate. 基板上の異なる位置における印刷面積を、確率密度で比較した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which compared the printing area in the different position on a board | substrate with probability density. 基板上の異なる位置における印刷面積を、複数の基板のデータを用いて確率密度で比較した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which compared the printing area in the different position on a board | substrate with the probability density using the data of several board | substrates. 複数の基板上における印刷面積の位置的変化を示すグラフである。It is a graph which shows the positional change of the printing area on a some board | substrate. 印刷面積の突発的な位置的変化を示すグラフである。It is a graph which shows the sudden positional change of a printing area. 基板上の位置ごとの印刷面積を、複数の基板について出力した場合のグラフである。It is a graph at the time of outputting the printing area for every position on a substrate about a plurality of substrates. 特徴量データとして印刷面積を用いたときのデータの正規化を説明するための図である。It is a figure for demonstrating normalization of data when a printing area is used as feature-value data. 乖離度を用いて正規化する方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the method normalized using a deviation degree.

符号の説明Explanation of symbols

10 電子部品実装装置、11 印刷機、12 印刷後検査機、13 マウンタ、14 マウント後検査機、15 リフロー炉、16 リフロー後検査機、17 ネットワーク、20 不良要因抽出装置、21 CPU、22 インターフェイス、23 表示装置、24 ハードディスク、25 キーボード、26 マウス、27 ネットワーク通信装置。 10 electronic component mounting apparatus, 11 printing machine, 12 post-printing inspection machine, 13 mounter, 14 post-mounting inspection machine, 15 reflow furnace, 16 post-reflow inspection machine, 17 network, 20 defect factor extraction device, 21 CPU, 22 interface, 23 display device, 24 hard disk, 25 keyboard, 26 mouse, 27 network communication device.

Claims (12)

複数の工程を経て製造物を製造する製造装置における、製造物の不良要因を抽出する不良要因抽出装置であって、
前記複数の工程の少なくとも1つに設けられた検査機から、前記不良の要因に関連する特徴量データを入力する入力手段と、
前記入力手段が入力した特徴量データの、時間的変化を検出する時間的変化検出手段、前記入力手段が入力した特徴量データの、1つの製造物上の位置に応じた変化を検出する位置的変化検出手段、および、前記入力手段が入力した特徴量データの、複数の製造物上の位置に応じた変化を検出する複数製造物上位置的変化検出手段、のうちの少なくとも2つの検出手段とを備え、
前記時間的変化検出手段と、前記位置的変化検出手段と、複数製造物上位置的変化検出手段の中の、少なくとも、いずれか2つの検出手段からの特徴量データを出力する出力手段とを含む、不良要因抽出装置。
In a manufacturing apparatus that manufactures a product through a plurality of processes, a defect factor extracting device that extracts a defect factor of the product,
Input means for inputting feature value data related to the cause of the defect from an inspection machine provided in at least one of the plurality of steps;
Temporal change detecting means for detecting temporal changes in the feature amount data input by the input means, and positional detection for detecting changes in the feature amount data input by the input means according to the position on one product. At least two detection means among a change detection means, and a position change detection means on the plurality of products for detecting a change of the feature amount data input by the input means according to the position on the plurality of products; and With
Including: temporal change detection means; positional change detection means; and output means for outputting feature data from at least any two of the plurality of product positional change detection means. , Defect factor extraction device.
前記製造装置は、電子部品実装装置であり、前記製造物は基板である、請求項1に記載の不良要因抽出装置。 The defect factor extraction device according to claim 1, wherein the manufacturing apparatus is an electronic component mounting apparatus, and the product is a substrate. 前記出力手段は、前記特徴量データをグラフとして表示する、請求項1または2に記載の不良要因抽出装置。 The defect factor extraction device according to claim 1, wherein the output unit displays the feature amount data as a graph. 前記特徴量データを正規化する正規化手段を含み、前記出力手段は前記正規化手段の正規化したデータを出力する、請求項1から3のいずれかに記載の不良要因抽出装置。 4. The failure factor extraction device according to claim 1, further comprising normalization means for normalizing the feature amount data, wherein the output means outputs data normalized by the normalization means. 前記正規化手段の正規化したデータに基づいて、前記不良の要因を抽出する抽出手段を含む、請求項4に記載の不良要因抽出装置。 5. The failure factor extraction device according to claim 4, further comprising an extraction unit that extracts the cause of the failure based on data normalized by the normalization unit. 前記正規化手段は、複数の異なる指標で前記特徴量データを正規化し、
前記抽出手段は、前記複数の異なる指標に基づく正規化データに基づいて、重点的に対処すべき不良要因を抽出する、請求項5に記載の不良要因抽出装置。
The normalization means normalizes the feature amount data with a plurality of different indexes,
6. The failure factor extraction device according to claim 5, wherein the extraction unit extracts failure factors to be dealt with on the basis of normalized data based on the plurality of different indexes.
前記特徴量データは、前記基板の上に部品を実装する際に用いる装置情報を含む、請求項1から6のいずれかに記載の不良要因抽出装置。 The defect factor extraction device according to claim 1, wherein the feature amount data includes device information used when a component is mounted on the substrate. 複数の工程を経て製造物を製造する製造装置の製造物の不良要因を抽出する不良要因抽出方法であって、
複数の工程の各々に設けられた検査機から、製造物の不良の要因に関連する特徴量データを入力するステップと、
入力された特徴量データの、時間的変化を検出するステップと、
入力された特徴量データの、1つの製造物上の位置に応じた変化を検出するステップと、
入力された特徴量データの、複数の製造物上の位置に応じた変化を検出するステップと、
検出された、時間的変化、1つの製造物上の位置に応じた変化、および、複数の製造物上の位置に応じた変化のうちの、いずれか2つの変化を検出するステップと、
検出された特徴量データの変化を出力するステップとを含む、不良要因抽出方法。
A defect factor extraction method for extracting a defect factor of a product of a manufacturing apparatus that manufactures a product through a plurality of steps,
Inputting feature value data related to the cause of product defects from an inspection machine provided in each of the plurality of processes;
Detecting a temporal change in the input feature data;
Detecting a change in input feature data according to a position on one product;
Detecting a change in input feature data according to positions on a plurality of products;
Detecting any two of the detected temporal change, a change according to a position on one product, and a change according to a position on a plurality of products;
Outputting a change in the detected feature value data.
前記製造装置は電子部品実装装置であり、前記製造物は基板である、請求項8に記載の不良要因抽出方法。 The defect factor extraction method according to claim 8, wherein the manufacturing apparatus is an electronic component mounting apparatus, and the product is a substrate. さらに、特徴量データを正規化するステップと、
正規化された特徴量データに基づいて不良の要因を抽出するステップとを含む、請求項8または9に記載の不良要因抽出方法。
Furthermore, normalizing the feature data,
The failure factor extraction method according to claim 8, further comprising a step of extracting a failure factor based on the normalized feature amount data.
請求項7から9のいずれかに記載の不良要因抽出方法をコンピュータに実行させる不良要因抽出用プログラム。 A failure factor extraction program for causing a computer to execute the failure factor extraction method according to claim 7. 請求項11に記載の不良要因抽出用プログラムを格納したコンピュータ読取可能記録媒体。

A computer-readable recording medium storing the defect factor extraction program according to claim 11.

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