JP2007313674A - Surface hydrophilic member, its manufacturing method and lithographic printing plate original plate employing surface hydrophilic member - Google Patents

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JP2007313674A JP2006142995A JP2006142995A JP2007313674A JP 2007313674 A JP2007313674 A JP 2007313674A JP 2006142995 A JP2006142995 A JP 2006142995A JP 2006142995 A JP2006142995 A JP 2006142995A JP 2007313674 A JP2007313674 A JP 2007313674A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface hydrophilic member, the hydrophilic nature of which is high and also durability of the hydrophilic layer of which is favorable, a simple manufacturing method thereof and a lithographic printing plate original plate, by which printing scumming properties are improved and, even under severe printing conditions, no smudging develops in a printing material. <P>SOLUTION: This surface hydrophilic member has an amino propyl silane condensed layer, a polymerization initiating layer, which is formed by bonding a compound having a polymerization initiating site enabling to initiate radical polymerization and a support bonding part with the base material of a support through the support bonding part, and a hydrophilic layer, which is formed of a hydrophilic group and an unsaturated compound having a radical polymerizable part and turning into a graft polymer directly bonded with the polymerization initiating layer, in the order named on the base material. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は親水性層を有する新規な表面親水性部材、その製造方法及び表面親水性部材を用いた平版印刷版原版に関し、特に、感度及び汚れ性に優れる平版印刷版の支持体として有用な表面親水性部材、その製造方法及び表面親水性部材を用いた平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a novel surface hydrophilic member having a hydrophilic layer, a method for producing the same, and a lithographic printing plate precursor using the surface hydrophilic member, and in particular, a surface useful as a support for a lithographic printing plate having excellent sensitivity and stain resistance. The present invention relates to a hydrophilic member, a method for producing the same, and a lithographic printing plate precursor using a surface hydrophilic member.

従来、平版印刷版に用いる親水性基板又は親水性層としては、陽極酸化されたアルミニウム基板、若しくはさらに親水性を上げるため、この陽極酸化されたアルミニウム基板をシリケート、ポリビニルホスホン酸(例えば、特許文献1参照)、ポリビニル安息香酸などの下塗り剤で処理された基板又は親水性層が用いられてきた。
これらアルミニウム支持体を用いた親水化基板若しくは親水性層に関する研究が盛んに行われている。また、感光層の下塗り層としてスルホン酸基を有するポリマーを使用する技術が知られている(例えば、特許文献2参照)。
Conventionally, as a hydrophilic substrate or a hydrophilic layer used in a lithographic printing plate, an anodized aluminum substrate, or an anodized aluminum substrate for further improving hydrophilicity, silicate, polyvinylphosphonic acid (for example, Patent Document 1), substrates or hydrophilic layers treated with a primer such as polyvinylbenzoic acid have been used.
Research on hydrophilic substrates or hydrophilic layers using these aluminum supports has been actively conducted. In addition, a technique using a polymer having a sulfonic acid group as an undercoat layer of a photosensitive layer is known (for example, see Patent Document 2).

一方、アルミニウムのような金属支持体を用いずPET(ポリエチレンフタレート)、セルロースアセテートなどのフレキシブルな支持体を用いたときの親水性層に関しては、親水性ポリマーと疎水性ポリマーとからなる膨潤親水層(例えば、特許文献3参照)、マイクロポーラスな親水性架橋シリケート表面を有するPET支持体(例えば、特許文献4参照)、親水性ポリマーを含有し加水分解されたテトラアルキルオルソシリケートで硬化された親水性層(例えば、特許文献5、特許文献6参照)、等の技術が知られている。
また、基材に水酸基、カルボキシル基などを生成して親水性を向上させるためのコロナ処理、グロー処理、プラズマ処理などの表面処理には、高額な装置が必要であるので、より簡便な平版印刷版用支持体の製造方法も望まれていた。
On the other hand, with respect to the hydrophilic layer when a flexible support such as PET (polyethylene phthalate) or cellulose acetate is used without using a metal support such as aluminum, a swollen hydrophilic layer composed of a hydrophilic polymer and a hydrophobic polymer. (See, for example, Patent Document 3), PET support having a microporous hydrophilic cross-linked silicate surface (see, for example, Patent Document 4), hydrophilic material containing a hydrophilic polymer and cured with a hydrolyzed tetraalkylorthosilicate Techniques such as an adhesive layer (see, for example, Patent Document 5 and Patent Document 6) are known.
In addition, surface treatment such as corona treatment, glow treatment, and plasma treatment to improve the hydrophilicity by generating hydroxyl groups, carboxyl groups, etc. on the base material requires expensive equipment, so simpler lithographic printing A method for producing a plate support has also been desired.

このように、たとえば平版印刷版用支持体の表面には優れた親水性を有する表面部材が必須である。また、より厳しい印刷条件においても、汚れの生じない印刷物が得られる平版印刷版原版が望まれていた。
特開平7−1853号公報 特開昭59−101651号公報 特開平8−292558号公報 欧州特許出願公開第0709228号明細書 特開平8−272087号公報 特開平8−507727号公報
Thus, for example, a surface member having excellent hydrophilicity is essential on the surface of a lithographic printing plate support. Further, there has been a demand for a lithographic printing plate precursor capable of obtaining a printed matter that does not cause stains even under more severe printing conditions.
JP-A-7-1853 JP 59-101651 A JP-A-8-292558 European Patent Application No. 0709228 JP-A-8-272087 JP-A-8-507727

上記問題点を考慮した本発明の目的は、親水性が高く、親水性層の耐久性も良好な表面親水性部材、また、簡便な方法で該部材を製造することができる製造方法を提供することにある。
他の目的としては、印刷汚れ性が改善され、厳しい印刷条件においても、汚れが生じない印刷物が得られる平版印刷版原版を提供することにある。
The object of the present invention in consideration of the above problems is to provide a surface hydrophilic member having high hydrophilicity and good durability of the hydrophilic layer, and a production method capable of producing the member by a simple method. There is.
Another object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor which has improved printing smearing properties and can provide a printed matter that does not cause smudging even under severe printing conditions.

前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
<1> 基材上に、アミノプロピルシラン縮合層と、ラジカル重合を開始しうる重合開始部位と支持体結合部位とを有する化合物が支持体結合部位を介して支持体基材と結合して構成された重合開始層と、親水性基とラジカル重合性部位とを有する不飽和化合物により形成され、該重合開始層と直接結合したグラフトポリマーからなる親水性層と、を順次有することを特徴とする表面親水性部材。
<2> 前記基材が、ポリエチレンテレフタレート、又はポリエチレンナフタレートであることを特徴とする<1>に記載の表面親水性部材。
<3> 基材上に該基材をアミノプロピルシランで表面処理してアミノプロピルシラン縮合層を形成する工程と、ラジカル重合を開始しうる重合開始部位と支持体結合部位とを有する化合物の支持体結合部位を支持体基材と結合させて重合開始層を形成する工程と、親水性基とラジカル重合性部位とを有する不飽和化合物を該重合開始層から発生したラジカルを起点として重合させて、グラフトポリマーからなる親水性層を形成する工程と、を有することを特徴とする表面親水性部材の製造方法。
<4> <1>又は<2>に記載の表面親水性部材上に、画像形成層を有することを特徴とする平版印刷版原版。
Means for solving the above-mentioned problems are as follows.
<1> Consists of a compound having an aminopropylsilane condensation layer, a polymerization initiation site capable of initiating radical polymerization, and a support binding site bonded to the support base material via the support binding site on the base material And a hydrophilic layer made of a graft polymer formed by an unsaturated compound having a hydrophilic group and a radically polymerizable site and directly bonded to the polymerization initiation layer. Surface hydrophilic member.
<2> The surface hydrophilic member according to <1>, wherein the base material is polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate.
<3> Supporting a compound having a step of forming an aminopropylsilane condensed layer by surface-treating the substrate with aminopropylsilane on the substrate, a polymerization initiation site capable of initiating radical polymerization, and a support binding site A step of forming a polymerization initiating layer by bonding a body binding site to a support substrate, and an unsaturated compound having a hydrophilic group and a radical polymerizable site is polymerized starting from the radical generated from the polymerization initiating layer. And a step of forming a hydrophilic layer made of a graft polymer.
<4> A lithographic printing plate precursor comprising an image forming layer on the surface hydrophilic member according to <1> or <2>.

本発明によれば、親水性が高く、親水性層の耐久性も良好な表面親水性部材、また、簡便な方法で該部材を製造することができる製造方法を提供することができる。
他の目的としては、印刷汚れ性が改善され、厳しい印刷条件においても、汚れが生じない印刷物が得られる平版印刷版原版を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a surface hydrophilic member having high hydrophilicity and good durability of the hydrophilic layer, and a production method capable of producing the member by a simple method.
As another object, it is possible to provide a lithographic printing plate precursor that has improved printing stain resistance and that can obtain a printed matter that does not cause stain even under severe printing conditions.

以下に本発明について詳細に説明する。
<表面親水性部材、その製造方法>
本発明の表面親水性部材は、基材上に、アミノプロピルシラン縮合層と、ラジカル重合を開始しうる重合開始部位と支持体結合部位とを有する化合物が支持体結合部位を介して支持体基材と結合して構成された重合開始層と、親水性基とラジカル重合性部位とを有する不飽和化合物により形成され、該重合開始層と直接結合したグラフトポリマーからなる親水性層と、を順次有することを特徴とする。
また、本発明の表面親水性部材の製造方法は、基材上に該基材をアミノプロピルシランで表面処理したアミノプロピルシラン縮合層を形成する工程と、ラジカル重合を開始しうる重合開始部位と支持体結合部位とを有する化合物の支持体結合部位を支持体基材と結合させて重合開始層を形成する工程と、親水性基とラジカル重合性部位とを有する不飽和化合物を該重合開始層から発生したラジカルを起点として重合させて、グラフトポリマーからなる親水性層を形成する工程と、を有することを特徴とする。
以下に、本発明の表面親水性部材を構成する、基材、アミノプロピルシラン縮合層、重合開始層、及びグラフトポリマーからなる親水性層、並びにこれらの製造方法について具体的に説明する。
なお、本明細書中、表面親水性部材を構成する基材であって、アミノプロピルシランで表面処理をする前のものを「基材」、該表面処理後のものを「支持体基材」、重合開始層を有するものを「支持体」と称する。
The present invention is described in detail below.
<Surface hydrophilic member, production method thereof>
The surface hydrophilic member of the present invention comprises an aminopropylsilane condensation layer on a substrate, a compound having a polymerization initiation site capable of initiating radical polymerization and a support binding site, via a support binding site. A polymerization initiating layer formed by bonding with a material, and a hydrophilic layer formed of an unsaturated compound having a hydrophilic group and a radical polymerizable site, and made of a graft polymer directly bonded to the polymerization initiating layer, It is characterized by having.
Further, the method for producing a surface hydrophilic member of the present invention comprises a step of forming an aminopropylsilane condensation layer obtained by surface-treating the base material with aminopropylsilane on the base material, and a polymerization initiation site capable of initiating radical polymerization. A step of bonding a support binding site of a compound having a support binding site to a support substrate to form a polymerization initiating layer; and an unsaturated compound having a hydrophilic group and a radical polymerizable site to form the polymerization initiating layer. And a step of polymerizing the radical generated from the starting point to form a hydrophilic layer made of a graft polymer.
Below, the hydrophilic layer which consists of a base material, an aminopropylsilane condensation layer, a polymerization start layer, and a graft polymer which comprises the surface hydrophilic member of this invention, and these manufacturing methods are demonstrated concretely.
In the present specification, the base material constituting the surface hydrophilic member is a “base material” before the surface treatment with aminopropylsilane, and the “base material” after the surface treatment. Those having a polymerization initiating layer are referred to as “supports”.

〔アミノプロピルシラン縮合層、基材〕
本発明の表面親水性部材は、基材表面に水酸基を生成させるため、基材上にアミノプロピルシラン縮合層を有する。
以下に、アミノプロピルシラン、その溶剤、基材、及び基材の表面処理方法について具体的に説明する。
[Aminopropylsilane condensation layer, base material]
The surface hydrophilic member of the present invention has an aminopropylsilane condensation layer on the substrate in order to generate hydroxyl groups on the substrate surface.
Below, aminopropylsilane, its solvent, a base material, and the surface treatment method of a base material are demonstrated concretely.

(アミノプロピルシラン)
本発明において、表面処理するために用いられるアミノプロピルシランとしては、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリブチロキシシラン、2−アミノエチルトリメトキシシラン、2−アミノエチルトリエトキシシランが挙げられ、中でも好ましくは3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシランが挙げられ、特に好ましくは3−アミノプロピルトリメトキシシランが挙げられる。
(Aminopropylsilane)
In the present invention, aminopropylsilane used for surface treatment includes 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltributyloxysilane, 2-aminoethyltrimethoxysilane, 2-aminoethyltriethoxysilane is exemplified, among which 3-aminopropyltrimethoxysilane and 3-aminopropyltriethoxysilane are preferred, and 3-aminopropyltrimethoxysilane is particularly preferred.

アミノプロピルシランの含有量は、縮合反応性の観点から、前記アミノプロピルシランを下記溶剤で溶解した溶液の体積に対して、0.01〜30体積%が好ましく、0.1〜10体積%がより好ましい。   From the viewpoint of condensation reactivity, the content of aminopropylsilane is preferably 0.01 to 30% by volume, and preferably 0.1 to 10% by volume with respect to the volume of the solution obtained by dissolving the aminopropylsilane with the following solvent. More preferred.

(溶剤)
前記アミノプロピルシランを溶解、分散するための溶剤としては、アミノプロピルシランが分散され、基材にアミノプロピルシラン縮合層を均一に官能基が形成される観点から、アセトン、メチルエチルケトン、エタノール、メタノール、トルエン、2−メトキシエタノール、1−メトキシ2−プロパノールなどが挙げられ、アセトンが好ましい溶剤として挙げられる。
(solvent)
As a solvent for dissolving and dispersing the aminopropylsilane, aminopropylsilane is dispersed, and from the viewpoint of uniformly forming the aminopropylsilane condensation layer on the base material, acetone, methyl ethyl ketone, ethanol, methanol, Examples include toluene, 2-methoxyethanol, 1-methoxy-2-propanol, and acetone is a preferable solvent.

(基材)
本発明で用いる基材(以下、適宜、「フィルム」と称する)は、前記アミノプロピルシランで表面処理することによりアミノプロピルシリルと強固な結合をし、かつ表面に高い濃度の水酸基、アミノ基などを形成するものであれば、有機材料、若しくは有機材料と無機材料とのハイブリッド材料のいずれでもよい。これらの中でも、特に効果を発揮する基材としては、有機材料が好ましい。
本発明で用いる基材を構成する有機材料としては、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレートなどのようなポリエステル樹脂、エピコート(商品名:油化シェルエポキシ(株)製)などの市販品に代表されるエポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ノボラック樹脂、フェノール樹脂などを適宜使用することができる。
また、その他の有機材料としては、セルロースエステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリアミド、ポリスチレン(例、シンジオタクチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン)、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、及びポリエーテルケトンなどが挙げられる。
これらの中でも、実用性の観点から、柔軟性がある基材が好ましく、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートであることが好ましい基材として挙げられる。
また、一般的には、平板状の基材が用いられるが、必ずしも平板状の基材に限定されず、円筒形などの任意の形状の基材においても、同様に用いることができる。
(Base material)
The substrate used in the present invention (hereinafter referred to as “film” as appropriate) has a strong bond with aminopropylsilyl by surface treatment with the aminopropylsilane, and has a high concentration of hydroxyl groups, amino groups, etc. on the surface. Any of organic materials or hybrid materials of organic and inorganic materials can be used. Among these, an organic material is preferable as a base material that exhibits the effect.
As an organic material constituting the substrate used in the present invention, acrylic resin such as polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane- Polyester resins such as 4,4′-dicarboxylate and polybutylene terephthalate, epoxy resins represented by commercial products such as Epicoat (trade name: manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), polycarbonate resins, polyimide resins, A novolac resin, a phenol resin, etc. can be used suitably.
Other organic materials include cellulose esters (eg, triacetylcellulose, diacetylcellulose, propionylcellulose, butyrylcellulose, acetylpropionylcellulose, nitrocellulose), polyamide, polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin ( Examples include polypropylene, polyethylene, polymethylpentene), polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyetherimide, and polyetherketone.
Among these, from the viewpoint of practicality, a flexible substrate is preferable, and polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferable.
In general, a flat base material is used, but the base material is not necessarily limited to a flat base material, and a base material having an arbitrary shape such as a cylindrical shape can be used similarly.

(基材上に該基材をアミノプロピルシランで表面処理したアミノプロピルシラン縮合層を形成する工程)
本発明において、基材はアミノプロピルシランで表面処理される。以下に1例を示すが、これらに限定されるものではない。
上記アミノプロピルシランを上記溶剤に添加して、0.1〜10.0体積%の溶液を作製する。これを、縮合反応を進行させる観点から0.5〜20日間室温にて放置する。反応は加熱により促進されるため、30℃から60℃の加熱条件下では放置時間を0.5時間から3日間までに短縮することができる。次に、基材を蒸留水、エタノール及びアセトンで超音波洗浄等をした後に乾燥する。この基材を、前記溶液に1〜60分間浸漬した後取り出し、室温〜160℃で0.5〜30分間焼成し、基材上に水酸基を生成させる。さらに好ましくはUVオゾン処理により表面に残存する有機物を分解し、表面親水性をあげることが好ましい。
このように、基材上に高密度に水酸基を生成させることで、グラフト重合を行うための重合開始層を支持体基材上に結合しうるようになる。
(Process of forming an aminopropylsilane condensation layer on the substrate with the surface treated with aminopropylsilane)
In the present invention, the substrate is surface-treated with aminopropylsilane. One example is shown below, but is not limited thereto.
The aminopropylsilane is added to the solvent to make a 0.1-10.0% by volume solution. This is left at room temperature for 0.5 to 20 days from the viewpoint of allowing the condensation reaction to proceed. Since the reaction is accelerated by heating, the standing time can be shortened from 0.5 hours to 3 days under heating conditions of 30 ° C. to 60 ° C. Next, the substrate is dried after being ultrasonically cleaned with distilled water, ethanol and acetone. This substrate is immersed in the solution for 1 to 60 minutes and then taken out and baked at room temperature to 160 ° C. for 0.5 to 30 minutes to generate a hydroxyl group on the substrate. More preferably, the organic matter remaining on the surface is decomposed by UV ozone treatment to increase surface hydrophilicity.
In this way, by generating hydroxyl groups at a high density on the substrate, a polymerization initiating layer for performing graft polymerization can be bonded onto the support substrate.

<ラジカル重合を開始しうる重合開始部位と支持体結合部位とを有する化合物が、支持体結合部位を介して支持体基材と結合して構成された重合開始層>
本発明の表面親水性部材は、ラジカル重合を開始しうる重合開始部位と支持体結合部位とを有する化合物が、前記支持体基材結合部位を介して支持体基材と結合して構成された重合開始層を有する。
以下に、特定化合物、及び重合開始層を形成する工程について具体的に記載する。
<Polymerization initiating layer constituted by a compound having a polymerization initiation site capable of initiating radical polymerization and a support binding site bonded to a support substrate via the support binding site>
The surface hydrophilic member of the present invention is composed of a compound having a polymerization initiation site capable of initiating radical polymerization and a support binding site bonded to a support substrate via the support substrate binding site. It has a polymerization initiating layer.
Below, it describes concretely about the process of forming a specific compound and a polymerization start layer.

〔ラジカル重合を開始しうる重合開始部位と支持体結合部位とを有する化合物〕
本発明における重合開始層は、ラジカル重合を開始しうる重合開始部位と支持体結合部位とを有する化合物(以下、適宜、「特定化合物」と称する)を有する。
以下に、特定化合物の支持体結合部位、重合開始部位について具体的に記載する。
[Compound having a polymerization initiation site capable of initiating radical polymerization and a support binding site]
The polymerization initiating layer in the present invention includes a compound having a polymerization initiation site capable of initiating radical polymerization and a support binding site (hereinafter, referred to as “specific compound” as appropriate).
The support binding site and polymerization initiation site of the specific compound are specifically described below.

(支持体結合部位)
支持体結合部位としては、支持体表面に存在する官能基(本発明においては主としてアミノプロピルシラン縮合層における水酸基)と反応して結合しうる反応性基で構成され、その反応性基としては、具体的には、以下に示すような基が挙げられる。
(Support binding site)
The support binding site is composed of a reactive group capable of reacting and binding with a functional group present on the surface of the support (mainly a hydroxyl group in the aminopropylsilane condensation layer in the present invention). As the reactive group, Specific examples include the following groups.

Figure 2007313674
Figure 2007313674

以下に詳述する重合開始部位と支持体結合部位とは直接結合していてもよいし、連結基を介して結合していてもよい。この連結基としては、炭素、窒素、酸素、及び硫黄からなる群より選択される原子を含む連結基が挙げられ、具体的には、飽和炭素基、芳香族基、エステル基、アミド基、ウレイド基、エーテル基、アミノ基、スルホンアミド基、等が挙げられる。また、この連結基は更に置換基を有していてもよく、その導入可能な置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、等が挙げられる。   The polymerization initiation site and support binding site described in detail below may be directly bonded or may be bonded via a linking group. Examples of this linking group include a linking group containing an atom selected from the group consisting of carbon, nitrogen, oxygen, and sulfur. Specifically, a saturated carbon group, aromatic group, ester group, amide group, ureido Group, ether group, amino group, sulfonamide group, and the like. The linking group may further have a substituent, and examples of the substituent that can be introduced include an alkyl group, an alkoxy group, and a halogen atom.

(重合開始部位)
本発明における重合開始部位は、重合性化合物と重合可能な重合開始部位を有するものであれば特に限定されることはないが、例えば、水素引き抜き型のラジカル重合開始部位、光開裂型のラジカル重合開始部位等を挙げることができる。
−水素引き抜き型のラジカル重合開始部位−
水素引き抜き型のラジカル重合開始部位を有する化合物は、分子内に前記支持体結合部位を有するものであれば、低分子のラジカル重合開始剤でも高分子のラジカル重合開始剤でもよく、一般に公知のものが使用される。
低分子のラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのケトン、ベンゾイルベンゾエート、ベンゾイン類、α−アシロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、トリクロロメチルトリアジンおよびチオキサントン等の公知のラジカル発生剤を使用できる。また通常、光酸発生剤として用いられるスルホニウム塩やヨードニウム塩なども光照射によりラジカル発生剤として作用するため、本発明ではこれらを用いてもよい。
高分子のラジカル重合開始剤としては、特開平9−77891号段落番号〔0012〕〜〔0030〕や、特開平10−45927号段落番号〔0020〕〜〔0073〕に記載の活性カルボニル基を側鎖に有する高分子化合物などを使用することができる。
(Polymerization start site)
The polymerization initiation site in the present invention is not particularly limited as long as it has a polymerization initiation site that can be polymerized with a polymerizable compound. For example, hydrogen abstraction type radical polymerization initiation site, photocleavage type radical polymerization Examples include a start site.
-Hydrogen abstraction-type radical polymerization initiation site-
The compound having a hydrogen abstraction-type radical polymerization initiation site may be a low-molecular radical polymerization initiator or a high-molecular radical polymerization initiator as long as it has the support-binding site in the molecule, and is generally known. Is used.
Examples of the low-molecular radical polymerization initiator include known radicals such as acetophenones, benzophenones, Michler's ketone, benzoylbenzoate, benzoins, α-acyloxime ester, tetramethylthiuram monosulfide, trichloromethyltriazine, and thioxanthone. Generators can be used. In addition, since sulfonium salts and iodonium salts used as photoacid generators usually act as radical generators upon irradiation with light, they may be used in the present invention.
As the radical polymerization initiator for the polymer, the active carbonyl group described in paragraphs [0012] to [0030] of JP-A-9-77891 and paragraphs [0020] to [0073] of JP-A-10-45927 can be used. A polymer compound having a chain can be used.

前記ラジカル重合開始剤の含有量は、基材の種類、所望のグラフトポリマーの生成量などを考慮して適宜、選択できるが、一般的には、低分子の場合、0.1〜40重量%の範囲であり、高分子の場合、1.0〜50重量%の範囲であることが好ましい。   The content of the radical polymerization initiator can be appropriately selected in consideration of the type of base material, the amount of desired graft polymer produced, and the like, but generally 0.1 to 40% by weight in the case of a low molecule. In the case of a polymer, the range is preferably 1.0 to 50% by weight.

また、感度を高める目的で、ラジカル発生剤に加えて増感剤を含有させることもできる。このような増感剤としては、例えば、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、およびチオキサントン誘導体等が含まれる。
増感剤は、ラジカル重合開始剤に対して、50〜200重量%程度の量で含有させることが好ましい。
Further, for the purpose of increasing sensitivity, a sensitizer can be contained in addition to the radical generator. Examples of such sensitizers include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, and thioxanthone derivatives.
The sensitizer is preferably contained in an amount of about 50 to 200% by weight with respect to the radical polymerization initiator.

−光開裂型のラジカル重合開始部位−
光開裂型のラジカル重合開始部位は、光により開裂する単結合を含む構造である。
光により開裂する単結合としては、カルボニルのα開裂、β海裂反応、光フリー転移反応、フェナシルエステルの開裂反応、スルホンイミド開裂反応、スルホニルエステル開裂反応、N−ヒドロキシスルホニルエステル開裂反応、ベンジルイミド開裂反応、活性ハロゲン化合物の開裂反応、などを利用した開裂が可能な単結合が挙げられる。これらの反応により、光により開裂しうる単結合が切断される。この開裂しうる単結合としては、C−C結合、C−O結合、S−N結合、C−N結合、N−O結合及びC−Cl結合等が挙げられる。
-Photocleavage type radical polymerization initiation site-
The photocleavable radical polymerization initiation site is a structure containing a single bond that is cleaved by light.
Single bonds that can be cleaved by light include carbonyl α-cleavage, β-cleavage reaction, light-free transfer reaction, phenacyl ester cleavage reaction, sulfonimide cleavage reaction, sulfonyl ester cleavage reaction, N-hydroxysulfonyl ester cleavage reaction, benzyl Examples thereof include a single bond that can be cleaved using an imide cleavage reaction, a cleavage reaction of an active halogen compound, and the like. These reactions break a single bond that can be cleaved by light. Examples of the single bond that can be cleaved include a C—C bond, a C—O bond, a S—N bond, a C—N bond, a N—O bond, and a C—Cl bond.

また、これらの光により開裂しうる単結合を含む重合開始部位は、グラフトポリマー生成工程におけるグラフト重合の起点となることから、光により開裂しうる単結合が開裂すると、その開裂反応によりラジカルを発生させる機能を有する。このように、光により開裂しうる単結合を有し、かつ、ラジカルを発生可能な重合開始部位の構造としては、以下に挙げる基を含む構造が挙げられる。   In addition, since the polymerization initiation site containing a single bond that can be cleaved by light is the starting point of graft polymerization in the graft polymer production process, when the single bond that can be cleaved by light is cleaved, a radical is generated by the cleavage reaction. It has a function to make it. As described above, examples of the structure of the polymerization initiation site having a single bond that can be cleaved by light and capable of generating radicals include structures containing the following groups.

例えば、芳香族ケトン基、フェナシルエステル基、スルホンイミド基、スルホニルエステル基、N−ヒドロキシスルホニルエステル基、ベンジルイミド基、トリクロロメチル基、ベンジルクロライド基、などが挙げられる。   Examples include aromatic ketone groups, phenacyl ester groups, sulfonimide groups, sulfonyl ester groups, N-hydroxysulfonyl ester groups, benzylimide groups, trichloromethyl groups, benzyl chloride groups, and the like.

このような重合開始部位は、露光により開裂して、ラジカルが発生すると、そのラジカル周辺に重合可能な化合物が存在する場合には、このラジカルがグラフト重合反応の起点として機能し、所望のグラフトポリマーを生成することができる。   When such a polymerization initiation site is cleaved by exposure and a radical is generated, if there is a polymerizable compound around the radical, this radical functions as a starting point for the graft polymerization reaction, and the desired graft polymer. Can be generated.

ラジカル重合を開始しうる重合開始部位と支持体結合部位とを有する化合物の例である光開列型の重合開始剤の具体例〔1〜16〕を、開裂部と共に以下に示すが、本発明はこれらに制限されるものではない。   Specific examples [1 to 16] of a photo-opening type polymerization initiator which is an example of a compound having a polymerization initiation site capable of initiating radical polymerization and a support binding site are shown below together with the cleavage portion. However, it is not limited to these.

Figure 2007313674
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(溶剤)
前記特定化合物を溶解するための溶剤としては、トルエン、ヘキサン、アセトンなどを用いることができる。
このとき、溶液中又は分散液の化合物の濃度としては、0.01質量%〜30質量%が好ましく、特に0.1質量%〜15質量%であることが好ましい。接触させる場合の液温としては、0℃〜100℃が好ましい。接触時間としては、1秒〜50時間が好ましく、10秒〜10時間がより好ましい。
(solvent)
As a solvent for dissolving the specific compound, toluene, hexane, acetone or the like can be used.
At this time, the concentration of the compound in the solution or the dispersion is preferably 0.01% by mass to 30% by mass, and particularly preferably 0.1% by mass to 15% by mass. As a liquid temperature in making it contact, 0 to 100 degreeC is preferable. The contact time is preferably 1 second to 50 hours, and more preferably 10 seconds to 10 hours.

〔重合開始層を形成する工程〕
本発明において、重合開始層を形成する工程は、前記支持体基材を、以下に示す方法で重合開始層を形成することが好ましいが、これらに限定されるものではない。
上記特定化合物を前記溶剤で溶かし、該特定化合物の濃度が0.01〜10質量%の溶液を作製し、前記支持体基材上に均一塗布する。前記塗布後に室温〜130℃で5〜120秒間加熱し、スピンコート後の支持体基材をトルエン及びアセトンで洗浄する。
なお、前記均一塗布する方法は特に限定されないが、スピンコート、ディップコート等が挙げられる。
この重合開始層を有することにより、下記に説明する親水性基とラジカル重合性部位とを有する不飽和化合物を、重合開始層から発生したラジカルを起点として重合させることにより、重合開始層上にグラフトポリマーからなる親水性層を形成することができる。
[Step of forming polymerization initiation layer]
In the present invention, the step of forming the polymerization initiating layer is preferably, but not limited to, forming the polymerization initiating layer on the support substrate by the method described below.
The said specific compound is dissolved with the said solvent, the density | concentration of this specific compound produces 0.01-10 mass%, and it apply | coats uniformly on the said support body base material. After the coating, the substrate is heated at room temperature to 130 ° C. for 5 to 120 seconds, and the support substrate after spin coating is washed with toluene and acetone.
The uniform coating method is not particularly limited, and examples thereof include spin coating and dip coating.
By having this polymerization initiating layer, an unsaturated compound having a hydrophilic group and a radical polymerizable site, which will be described below, is polymerized from the radical generated from the polymerization initiating layer as a starting point, and grafted onto the polymerization initiating layer. A hydrophilic layer made of a polymer can be formed.

<親水性基とラジカル重合性部位とを有する不飽和化合物により形成され、該重合開始層と直接結合したグラフトポリマーからなる親水性層>
本発明の表面親水性部材は、親水性基とラジカル重合性部位を有する不飽和化合物(以下、適宜、「特定不飽和化合物」と称する)により形成され、該重合開始層と直接結合したグラフトポリマーからなる親水性層を有する。
以下に、特定不飽和化合物、及び親水性層の形成工程について記載する。
<Hydrophilic layer formed of an unsaturated compound having a hydrophilic group and a radical polymerizable site, and comprising a graft polymer directly bonded to the polymerization initiation layer>
The surface hydrophilic member of the present invention is a graft polymer formed of an unsaturated compound having a hydrophilic group and a radical polymerizable moiety (hereinafter, referred to as “specific unsaturated compound” as appropriate) and directly bonded to the polymerization initiating layer. The hydrophilic layer which consists of.
Below, it describes about the formation process of a specific unsaturated compound and a hydrophilic layer.

〔親水性基とラジカル重合性部位とを有する不飽和化合物〕
本発明において、特定不飽和化合物としては、ラジカル重合性部位を有する化合物であれば、如何なるものも用いることができるが、例えば、親水性モノマー、疎水性モノマー、マクロマー、オリゴマー、重合性不飽和基を有するポリマーなどが挙げられる。本発明においては、特に、導電性素材の親水性の観点から、極性基である親水性基を有する、親水性ポリマー、親水性マクロモノマー、親水性モノマーなどが好ましい。
以下に、本発明で好適に用いられる、ラジカル重合可能な不飽和化合物について具体的に例示する。
[Unsaturated compound having hydrophilic group and radical polymerizable moiety]
In the present invention, as the specific unsaturated compound, any compound having a radical polymerizable moiety can be used. For example, a hydrophilic monomer, a hydrophobic monomer, a macromer, an oligomer, a polymerizable unsaturated group can be used. The polymer etc. which have are mentioned. In the present invention, from the viewpoint of the hydrophilicity of the conductive material, a hydrophilic polymer, a hydrophilic macromonomer, a hydrophilic monomer or the like having a hydrophilic group that is a polar group is particularly preferable.
Specific examples of the unsaturated polymerizable compound preferably used in the present invention are shown below.

(親水性ポリマー)
本発明における親水性ポリマーとは、分子内に、ビニル基、アリル基、(メタ)アクリル基などのエチレン付加重合性不飽和基が導入された、ラジカル重合性部位を有するラジカル重合性基含有親水性ポリマーを指す。このラジカル重合性基含有親水性ポリマーは、重合性基を主鎖末端及び/又は側鎖に有することを要し、その双方に重合性基を有することが好ましい。以下、重合性基を(主鎖末端及び/又は側鎖に)有する親水性ポリマーを、ラジカル重合性基含有親水性ポリマーと称する。
(Hydrophilic polymer)
The hydrophilic polymer in the present invention is a radically polymerizable group-containing hydrophilic polymer having a radically polymerizable moiety into which an ethylene addition polymerizable unsaturated group such as a vinyl group, an allyl group, or a (meth) acryl group is introduced in the molecule. Refers to a functional polymer. This radical polymerizable group-containing hydrophilic polymer needs to have a polymerizable group at the main chain end and / or side chain, and preferably has a polymerizable group at both of them. Hereinafter, a hydrophilic polymer having a polymerizable group (at the main chain end and / or side chain) is referred to as a radical polymerizable group-containing hydrophilic polymer.

このようなラジカル重合性基含有親水性ポリマーは以下のようにして合成することができる。
合成方法としては、(a)親水性モノマーとエチレン付加重合性不飽和基を有するモノマーとを共重合する方法、(b)親水性モノマーと二重結合前駆体を有するモノマーとを共重合させ、次に塩基などの処理により二重結合を導入する方法、(c)親水性ポリマーの官能基とエチレン付加重合性不飽和基を有するモノマーとを反応させる方法、が挙げられる。これらの中でも、特に好ましいのは、合成適性の観点から、(c)親水性ポリマーの官能基とエチレン付加重合性不飽和基を有するモノマーとを反応させる方法である。
Such a radically polymerizable group-containing hydrophilic polymer can be synthesized as follows.
As a synthesis method, (a) a method of copolymerizing a hydrophilic monomer and a monomer having an ethylene addition polymerizable unsaturated group, (b) copolymerizing a hydrophilic monomer and a monomer having a double bond precursor, Next, a method of introducing a double bond by treatment with a base or the like, and (c) a method of reacting a functional group of a hydrophilic polymer with a monomer having an ethylene addition polymerizable unsaturated group. Among these, from the viewpoint of synthesis suitability, (c) a method of reacting a functional group of a hydrophilic polymer with a monomer having an ethylene addition polymerizable unsaturated group is particularly preferable.

上記(a)や(b)の方法において、ラジカル重合性基含有親水性ポリマーの合成に用いられる親水性モノマーとしては、(メタ)アクリル酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、イタコン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、N−モノメチロール(メタ)アクリルアミド、N−ジメチロール(メタ)アクリルアミド、アリルアミン若しくはそのハロゲン化水素酸塩、3−ビニルプロピオン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、ビニルスルホン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、2−スルホエチル(メタ)アクリレート、ポリオキシエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートなどの、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、アミノ基若しくはそれらの塩、水酸基、アミド基及びエーテル基などの親水性基を有するモノマーが挙げられる。
また、(c)の方法で用いられる親水性ポリマーとしては、これらの親水性モノマーから選ばれる少なくとも一種を用いて得られる親水性ホモポリマー若しくはコポリマーが用いられる。
In the methods (a) and (b), the hydrophilic monomer used for the synthesis of the radical polymerizable group-containing hydrophilic polymer includes (meth) acrylic acid or its alkali metal salt and amine salt, itaconic acid or its alkali. Metal salt and amine salt, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, N-monomethylol (meth) acrylamide, N-dimethylol (meth) acrylamide, allylamine or its hydrohalide, 3-vinylpropion Acid or alkali metal salt and amine salt thereof, vinyl sulfonic acid or alkali metal salt and amine salt thereof, 2-sulfoethyl (meth) acrylate, polyoxyethylene glycol mono (meth) acrylate, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfone Monomers having hydrophilic groups such as carboxyl groups, sulfonic acid groups, phosphoric acid groups, amino groups or salts thereof, hydroxyl groups, amide groups and ether groups, such as acid phosphooxypolyoxyethylene glycol mono (meth) acrylate Can be mentioned.
As the hydrophilic polymer used in the method (c), a hydrophilic homopolymer or copolymer obtained using at least one selected from these hydrophilic monomers is used.

(a)の方法でラジカル重合性基含有親水性ポリマーを合成する際、親水性モノマーと共重合するエチレン付加重合性不飽和基を有するモノマーとしては、例えば、アリル基含有モノマーがあり、具体的には、アリル(メタ)アクリレート、2−アリルオキシエチルメタクリレートが挙げられる。   When the radically polymerizable group-containing hydrophilic polymer is synthesized by the method (a), examples of the monomer having an ethylene addition polymerizable unsaturated group that is copolymerized with the hydrophilic monomer include an allyl group-containing monomer. Examples include allyl (meth) acrylate and 2-allyloxyethyl methacrylate.

また、(b)の方法でラジカル重合性基含有親水性ポリマーを合成する際、親水性モノマーと共重合する二重結合前駆体を有するモノマーとしては、2−(3−クロロ−1−オキソプロポキシ)エチルメタクリレー卜が挙げられる。   Further, when the radical polymerizable group-containing hydrophilic polymer is synthesized by the method (b), a monomer having a double bond precursor that is copolymerized with a hydrophilic monomer is 2- (3-chloro-1-oxopropoxy). ) Ethyl methacrylate.

更に、(c)の方法でラジカル重合性基含有親水性ポリマーを合成する際、親水性ポリマー中のカルボキシル基、アミノ基若しくはそれらの塩と、水酸基及びエポキシ基などの官能基と、の反応を利用して不飽和基を導入することが好ましい。このために用いられる付加重合性不飽和基を有するモノマーとしては、(メタ)アクリル酸、グリシジル(メタ)アクリレート、アリルグリシジルエーテル、2−イソシアナトエチル(メタ)アクリレートなど挙げられる。   Further, when the radical polymerizable group-containing hydrophilic polymer is synthesized by the method (c), a reaction between a carboxyl group, an amino group or a salt thereof in the hydrophilic polymer and a functional group such as a hydroxyl group and an epoxy group is performed. It is preferable to introduce an unsaturated group using it. Examples of the monomer having an addition polymerizable unsaturated group used for this purpose include (meth) acrylic acid, glycidyl (meth) acrylate, allyl glycidyl ether, and 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate.

(親水性マクロモノマー)
本発明において用い得るマクロモノマーの製造方法は、例えば、平成1年9月20日にアイピーシー出版局発行の「マクロモノマーの化学と工業」(編集者 山下雄也)の第2章「マクロモノマーの合成」に各種の製法が提案されている。
本発明で用い得る親水性マクロモノマーで特に有用なものとしては、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシル基含有のモノマーから誘導されるマクロモノマー、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、ビニルステレンスルホン酸、及びその塩のモノマーから誘導されるスルホン酸系マクロモノマー、(メタ)アクリルアミド、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルカルボン酸アミドモノマーから誘導されるアミド系マクロモノマー、ヒドロキシエチルメタクリレー卜、ヒドロキシエチルアクリレート、グリセロールモノメタクリレートなどの水酸基含有モノマーから誘導されるマクロモノマー、メトキシエチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレートなどのアルコキシ基若しくはエチレンオキシド基含有モノマーから誘導されるマクロモノマーである。またポリエチレングリコール鎖若しくはポリプロピレングリコール鎖を有するモノマーも本発明のマクロモノマーとして有用に使用することができる。
これらの親水性マクロモノマーのうち有用なものの分子量は、250〜10万の範囲で、特に好ましい範囲は400〜3万である。
(Hydrophilic macromonomer)
The method for producing a macromonomer that can be used in the present invention is described in, for example, Chapter 2 of “Macromonomer Chemistry and Industry” (Editor, Yuya Yamashita) published on September 20, 1999 by the IP Publishing Bureau. Various production methods have been proposed in “Synthesis”.
Particularly useful hydrophilic macromonomers that can be used in the present invention include macromonomers derived from carboxyl group-containing monomers such as acrylic acid and methacrylic acid, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, vinylsterene sulfone. Sulfonic acid macromonomer derived from monomer of acid and its salt, (meth) acrylamide, N-vinylacetamide, N-vinylformamide, amide macromonomer derived from N-vinylcarboxylic amide monomer, hydroxyethyl Macromonomers derived from hydroxyl group-containing monomers such as methacrylic acid, hydroxyethyl acrylate, glycerol monomethacrylate, methoxyethyl acrylate, methoxypolyethylene glycol acrylate, polyethylene glycol Macromonomers derived from alkoxy group or ethylene oxide group-containing monomers such Lumpur acrylate. A monomer having a polyethylene glycol chain or a polypropylene glycol chain can also be usefully used as the macromonomer of the present invention.
Among these hydrophilic macromonomers, useful ones have a molecular weight in the range of 250 to 100,000, and a particularly preferable range is 400 to 30,000.

(親水性モノマー)
親水性モノマーとしては、アンモニウム、ホスホニウムなどの正の荷電を有するモノマー、若しくは、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基、ホスホン酸基などの負の荷電を有するか負の荷電に解離しうる酸性基を有するモノマーが挙げられるが、その他にも、例えば、水酸基、アミド基、スルホンアミド基、アルコキシ基、シアノ基などの非イオン性の基を有する親水性モノマーを用いることもできる。
(Hydrophilic monomer)
The hydrophilic monomer may be a monomer having a positive charge such as ammonium or phosphonium, or an acid having a negative charge such as a sulfonic acid group, a carboxyl group, a phosphoric acid group or a phosphonic acid group or capable of dissociating into a negative charge. Examples thereof include monomers having a group, but other hydrophilic monomers having a nonionic group such as a hydroxyl group, an amide group, a sulfonamide group, an alkoxy group, and a cyano group can also be used.

本発明において用いうる親水性モノマーの具体例としては、次のモノマーを挙げることができる。
例えば、(メタ)アクリル酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、イタコン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、アリルアミン若しくはそのハロゲン化水素酸塩、3−ビニルプロピオン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、ビニルスルホン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、スチレンスルホン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、2−スルホエチレン(メタ)アクリレート、3−スルホプロピレン(メタ)アクリレート若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート若しくはそれらの塩、2−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート若しくはそのハロゲン化水素酸塩、3−トリメチルアンモニウムプロピル(メタ)アクリレート、3−トリメチルアンモニウムプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N,N−トリメチル−N−(2−ヒドロキシ−3−メタクリロイルオキシプロピル)アンモニウムクロライド、などを使用することができる。また、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、N−モノメチロール(メタ)アクリルアミド、N−ジメチロール(メタ)アクリルアミド、N−ビニルピロリドン、N−ビニルアセトアミド、ポリオキシエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートなども有用である。
Specific examples of the hydrophilic monomer that can be used in the present invention include the following monomers.
For example, (meth) acrylic acid or its alkali metal salt and amine salt, itaconic acid or its alkali metal salt and amine salt, allylamine or its hydrohalide salt, 3-vinylpropionic acid or its alkali metal salt and amine salt, Vinyl sulfonic acid or its alkali metal salt and amine salt, styrene sulfonic acid or its alkali metal salt and amine salt, 2-sulfoethylene (meth) acrylate, 3-sulfopropylene (meth) acrylate or its alkali metal salt and amine salt, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid or alkali metal salts and amine salts thereof, acid phosphooxypolyoxyethylene glycol mono (meth) acrylate or salts thereof, 2-dimethylaminoethyl (meta Acrylate or its hydrohalide, 3-trimethylammoniumpropyl (meth) acrylate, 3-trimethylammoniumpropyl (meth) acrylamide, N, N, N-trimethyl-N- (2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl) Ammonium chloride, etc. can be used. In addition, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, N-monomethylol (meth) acrylamide, N-dimethylol (meth) acrylamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylacetamide, polyoxyethylene glycol mono (meth) ) Acrylate is also useful.

(溶剤)
上述の特定不飽和化合物を溶解、分散するための溶剤としては、該特定不飽和化合物や必要に応じて添加される添加剤が溶解可能ならば特に制限はない。
例えば、親水性モノマー等の親水性の化合物が適用される場合であれば、水、水溶性溶剤などの水性溶剤が好ましく、これらの混合物や、溶剤に更に界面活性剤を添加したものなどが好ましい。水溶性溶剤は、水と任意の割合で混和しうる溶剤を言い、そのような水溶性溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、グリセリンの如きアルコール系溶剤、酢酸の如き酸、アセトンの如きケトン系溶剤、ホルムアミドの如きアミド系溶剤、などが挙げられる。
また、疎水性モノマー等の疎水性の化合物が適用される場合であれば、メタノール、エタノール、1−メトキシ−2−プロパノールの如きアルコール系の溶剤、メチルエチルケトンの如きケトン系の溶剤、トルエンの如き芳香族炭化水素系の溶剤などが好ましい。
(solvent)
The solvent for dissolving and dispersing the above-mentioned specific unsaturated compound is not particularly limited as long as the specific unsaturated compound and additives added as necessary can be dissolved.
For example, when a hydrophilic compound such as a hydrophilic monomer is applied, an aqueous solvent such as water or a water-soluble solvent is preferable, and a mixture thereof or a solvent in which a surfactant is further added is preferable. . The water-soluble solvent refers to a solvent miscible with water in an arbitrary ratio, and examples of such a water-soluble solvent include alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol, and glycerin, acids such as acetic acid, Examples thereof include ketone solvents such as acetone, amide solvents such as formamide, and the like.
When hydrophobic compounds such as hydrophobic monomers are applied, alcohol solvents such as methanol, ethanol, 1-methoxy-2-propanol, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, and aromatics such as toluene. A group hydrocarbon solvent is preferred.

〔親水性層の膜厚〕
上記親水性層の膜厚は、0.05〜5μmが好ましく、0.1〜1μmがより好ましい。0.05μmより少ない場合、親水性の効果が発現しない。また、5μmより多いと画像形成層との密着が悪くなり、耐刷性が低下する。
[Film thickness of hydrophilic layer]
The thickness of the hydrophilic layer is preferably 0.05 to 5 μm, more preferably 0.1 to 1 μm. When it is less than 0.05 μm, the hydrophilic effect is not exhibited. On the other hand, when the thickness is more than 5 μm, the adhesion with the image forming layer is deteriorated and the printing durability is lowered.

〔親水性層を形成する工程〕
本発明におけるグラフトポリマーからなる親水性層を形成する工程は、具体的には、下記の方法で行われることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
上記親水性モノマー等が1〜100質量%に希釈された水溶液中に、上記の重合開始層を有する支持体を浸漬し、露光装置を用いて1秒〜60分間露光し、支持体を取り出す。その後、蒸留水で十分洗浄し、親水性層を有する表面親水性部材を得ることができる。
なお、露光装置としては、特に限定されないが、高圧水銀灯、低圧水銀灯、ハロゲンランプ、超高圧水銀灯、キセノンランプ、タングステンランプ等を用いることができる。
[Step of forming hydrophilic layer]
Specifically, the step of forming the hydrophilic layer composed of the graft polymer in the present invention is preferably performed by the following method, but is not limited thereto.
The support having the polymerization initiation layer is immersed in an aqueous solution in which the hydrophilic monomer or the like is diluted to 1 to 100% by mass, and exposed to light for 1 second to 60 minutes using an exposure apparatus, and the support is taken out. Thereafter, the surface hydrophilic member having a hydrophilic layer can be obtained by sufficiently washing with distilled water.
The exposure apparatus is not particularly limited, and a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a halogen lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a xenon lamp, a tungsten lamp, or the like can be used.

以上のように、本発明の表面親水性部材は、基材上に、アミノプロピルシラン縮合層と、重合開始層と、親水性層と、を順次有することにより、表面親水性とその耐久性に優れることから、汚れが生じない印刷物が得られる平版印刷版の支持体として特に有用である。   As described above, the surface hydrophilic member of the present invention has surface hydrophilicity and durability by sequentially having an aminopropylsilane condensation layer, a polymerization initiating layer, and a hydrophilic layer on a substrate. Since it is excellent, it is particularly useful as a support for a lithographic printing plate from which a printed matter free from smudges can be obtained.

<平版印刷版原版>
本発明の平版印刷版原版は、上記で得られた表面親水性部材に、画像形成層(感光層、もしくは感熱層)を有するものである。
以下に、画像形成層について説明する。
<Lithographic printing plate precursor>
The lithographic printing plate precursor according to the invention has an image forming layer (photosensitive layer or heat-sensitive layer) on the surface hydrophilic member obtained above.
The image forming layer will be described below.

〔画像形成層〕
本発明の平版印刷版原版が有する画像形成層(感光層、もしくは感熱層)は、ポジ作用感応性組成物又はネガ作用感応性組成物を含有してなる。
(ポジ作用感応性組成物)
本発明において、ポジ作用感応性組成物としては、以下に示す従来公知のポジ作用感応性組成物[(a)〜(b)]を用いることが好適である。
(Image forming layer)
The image forming layer (photosensitive layer or heat-sensitive layer) of the lithographic printing plate precursor according to the invention contains a positive action sensitive composition or a negative action sensitive composition.
(Positive action sensitive composition)
In the present invention, it is preferable to use the following conventionally known positive action sensitive compositions [(a) to (b)] as the positive action sensitive composition.

(a)ナフトキノンジアジドとノボラック樹脂とを含有してなる従来から用いられているコンベンショナルポジ作用感光性組成物。
(b)酸分解性基で保護されたアルカリ可溶性化合物と酸発生剤との組み合わせを含有してなる化学増幅型ポジ作用感光性組成物。
(A) Conventionally used positive working photosensitive composition comprising naphthoquinone diazide and a novolac resin.
(B) A chemically amplified positive working photosensitive composition comprising a combination of an alkali-soluble compound protected with an acid-decomposable group and an acid generator.

上記(a)及び(b)は、いずれも当分野においてはよく知られたものであるが、以下に示すポジ作用感応性組成物((c)〜(f))と組み合わせて用いることがさらに好適である。   Both (a) and (b) are well known in the art, but are further used in combination with the positive action sensitive compositions ((c) to (f)) shown below. Is preferred.

(c)特開平10−282672号に記載の現像処理不要な平版印刷版を作製することが出来る、スルホン酸エステルポリマーと赤外線吸収剤とを含有ししてなるレーザー感応性ポジ組成物。
(d)欧州特許出願公開第652483号明細書、特開平6−502260号に記載の現像処理不要な平版印刷版を作製することが出来る、カルボン酸エステルポリマーと、酸発生剤若しくは赤外線吸収剤とを含有してなるレーザー感応性ポジ組成物。
(e)特開平11−095421号に記載のアルカリ可溶性化合物、及び熱分解性でありかつ分解しない状態ではアルカリ可溶性化合物の溶解性を実質的に低下させる物質を含有してなるレーザー感応性ポジ組成物。
(f)アルカリ現像溶出型ポジ平版印刷版を作製することができる、赤外線吸収剤、ノボラック樹脂、及び溶解抑止剤を含有してなるアルカリ現像溶出ポジ型組成物。
(C) A laser-sensitive positive composition comprising a sulfonic acid ester polymer and an infrared absorber, which can produce a lithographic printing plate that does not require development processing described in JP-A-10-282672.
(D) a carboxylic acid ester polymer capable of producing a lithographic printing plate which does not require development processing described in European Patent Application No. 652483 and JP-A-6-502260, an acid generator or an infrared absorber; A laser-sensitive positive composition comprising:
(E) a laser-sensitive positive composition comprising an alkali-soluble compound described in JP-A No. 11-095421 and a substance that is thermally decomposable and substantially reduces the solubility of the alkali-soluble compound when not decomposed. object.
(F) An alkali development elution positive composition comprising an infrared absorber, a novolak resin, and a dissolution inhibitor, which can produce an alkali development elution type positive lithographic printing plate.

上記(a)〜(f)で示したポジ作用感応性組成物で用いられる化合物を以下に説明する。
−酸発生剤−
ポジ作用感応性組成物において使用される酸発生剤は、熱若しくは光により酸を発生する化合物であり、一般的には、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、マイクロレジスト等に使用されている公知の光により酸を発生する化合物及びそれらの混合物等を挙げることができ、これらを適宜選択して使用することができる。
The compounds used in the positive action sensitive compositions shown in the above (a) to (f) will be described below.
-Acid generator-
The acid generator used in the positive action sensitive composition is a compound that generates an acid by heat or light, and is generally a photoinitiator for photocationic polymerization, a photoinitiator for photoradical polymerization, or dyes. The compound which generate | occur | produces an acid by the well-known light currently used for the photo-decoloring agent of this, a photochromic agent, a microresist, etc., those mixtures, etc. can be mentioned, These can be selected suitably and can be used.

本発明において、酸発生剤の添加量は、感光性層若しくは感熱性層の全固形分に対し、通常0.001〜40重量%程度であり、0.01〜20重量%が好ましく、0.1〜5重量%がさらに好ましい。   In the present invention, the addition amount of the acid generator is usually about 0.001 to 40% by weight, preferably 0.01 to 20% by weight, based on the total solid content of the photosensitive layer or heat-sensitive layer. 1 to 5% by weight is more preferable.

−アルカリ可溶性化合物−
ポジ作用感応性組成物において使用されるアルカリ可溶性化合物は、ポジ型に適用される場合には、溶解抑止剤との共存下によりアルカリ可溶性が低下し、溶解抑止剤の分解により、アルカリ可溶性が回復するアルカリ可溶性化合物である。
-Alkali-soluble compounds-
When the alkali-soluble compound used in the positive action sensitive composition is applied to the positive type, the alkali solubility is reduced by coexistence with the dissolution inhibitor, and the alkali solubility is restored by the decomposition of the dissolution inhibitor. It is an alkali-soluble compound.

ポジ作用感応性組成物において使用されるアルカリ可溶性化合物としては、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン、アクリル樹脂等を挙げることができる。本発明で使用されるノボラック樹脂は、フェノール類とアルデヒド類を、酸性条件下で縮合させて得られる樹脂である。好ましいノボラック樹脂としては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、m−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、p−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、o−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、オクチルフェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、m−/p−混合クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、フェノール/クレゾール(o−、m−、p−又はm−/p−、m−/o−、o−/p−混合のいずれでもよい)の混合物とホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂等が挙げられる。これらのノボラック樹脂は、重量平均分子量が800〜200,000で、数平均分子量が400〜60,000のものが好ましい。   Examples of the alkali-soluble compound used in the positive action sensitive composition include novolac resin, polyhydroxystyrene, and acrylic resin. The novolak resin used in the present invention is a resin obtained by condensing phenols and aldehydes under acidic conditions. Preferred novolak resins include, for example, novolak resins obtained from phenol and formaldehyde, novolak resins obtained from m-cresol and formaldehyde, novolak resins obtained from p-cresol and formaldehyde, novolak resins obtained from o-cresol and formaldehyde, Novolak resin obtained from octylphenol and formaldehyde, novolak resin obtained from m- / p-mixed cresol and formaldehyde, phenol / cresol (o-, m-, p- or m- / p-, m- / o-, o And any novolak resin obtained from formaldehyde. These novolak resins preferably have a weight average molecular weight of 800 to 200,000 and a number average molecular weight of 400 to 60,000.

ポジ作用感応性組成物において使用されるノボラック樹脂以外のアルカリ可溶性化合物としては、例えばポリヒドロキシスチレン類、ヒドロキシスチレン−N−置換マレイミド共重合体、ヒドロキシスチレン−無水マレイン酸共重合体、アルカリ可溶性基を有するアクリル系ポリマー、アルカリ可溶性基を有するウレタン型ポリマー等が挙げられる。ここでアルカリ可溶性基としてはカルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、イミド基等が挙げられる。   Examples of alkali-soluble compounds other than the novolak resin used in the positive action sensitive composition include polyhydroxystyrenes, hydroxystyrene-N-substituted maleimide copolymers, hydroxystyrene-maleic anhydride copolymers, and alkali-soluble groups. And an acrylic polymer having an alkali-soluble group. Here, examples of the alkali-soluble group include a carboxyl group, a phenolic hydroxyl group, a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, and an imide group.

また、ポリ−p−ヒドロキシスチレン、ポリ−m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン−N−置換マレイミド共重合体、p−ヒドロキシスチレン−無水マレイン酸共重合体等のヒドロキシスチレン系ポリマーを用いる場合には重量平均分子量が2,000〜500,000、さらに、4,000〜300,000のものが好ましい。   In addition, when a hydroxystyrene polymer such as poly-p-hydroxystyrene, poly-m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene-N-substituted maleimide copolymer, p-hydroxystyrene-maleic anhydride copolymer is used. Preferably have a weight average molecular weight of 2,000 to 500,000, more preferably 4,000 to 300,000.

アルカリ可溶性基を有するアクリル系ポリマーの例としては、メタクリル酸−ベンジルメタクリレート共重合体、ポリ(ヒドロキシフェニルメタクリルアミド)、ポリ(ヒドロキシフェニルカルボニルオキシエチルアクリレート)、ポリ(2、4−ジヒドロキシフェニルカルボニルオキシエチルアクリレート)や、特願平8−211731明細書に記載のポリマー等が挙げられる。これらのアクリル系ポリマーは重量平均分子量が2,000〜500,000、好ましくは4,000〜300,000のものが好ましい。   Examples of acrylic polymers having alkali-soluble groups include methacrylic acid-benzyl methacrylate copolymer, poly (hydroxyphenylmethacrylamide), poly (hydroxyphenylcarbonyloxyethyl acrylate), poly (2,4-dihydroxyphenylcarbonyloxy). Ethyl acrylate), polymers described in Japanese Patent Application No. 8-211731, and the like. These acrylic polymers have a weight average molecular weight of 2,000 to 500,000, preferably 4,000 to 300,000.

アルカリ可溶性基を有するウレタン型ポリマーの例としては、ジフェニルメタンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネート、テトラエチレングリコール、2、2一ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸を反応させて得られる樹脂等が挙げられる。これらのアルカリ可溶性ポリマーのうち、ヒドロキシスチレン系ポリマー及びアルカリ可溶性基を有するアクリル系共重合体は現像性の点で好ましい。   Examples of urethane type polymers having alkali-soluble groups include resins obtained by reacting diphenylmethane diisocyanate with hexamethylene diisocyanate, tetraethylene glycol, and 2, 21 bis (hydroxymethyl) propionic acid. Of these alkali-soluble polymers, hydroxystyrene-based polymers and acrylic copolymers having alkali-soluble groups are preferred in terms of developability.

本発明において、アルカリ可溶性化合物は、酸分解性基で保護されていてもよく、該酸分解性基としては、エステル基、カーバメイト基等が挙げられる。   In the present invention, the alkali-soluble compound may be protected with an acid-decomposable group, and examples of the acid-decomposable group include an ester group and a carbamate group.

本発明において、これらのアルカリ可溶性化合物の含有量は、感光性層若しくは感熱性層の全固形分中、10〜90重量%程度であり、20〜85重量%が好ましく、30〜80重量%がさらに好ましい。アルカリ可溶性化合物の含有量が10重量%未満であると感光性層若しくは感熱性層の耐久性が悪化し、また、90重量%を越えると感度、耐久性の両面で好ましくない。また、これらのアルカリ可溶性化合物は、1種類のみで使用してもよいし、あるいは2種類以上を組み合わせて使用してもよい。   In the present invention, the content of these alkali-soluble compounds is about 10 to 90% by weight, preferably 20 to 85% by weight, and 30 to 80% by weight in the total solid content of the photosensitive layer or the heat-sensitive layer. Further preferred. When the content of the alkali-soluble compound is less than 10% by weight, the durability of the photosensitive layer or the heat-sensitive layer is deteriorated, and when it exceeds 90% by weight, it is not preferable in terms of both sensitivity and durability. Moreover, these alkali-soluble compounds may be used alone or in combination of two or more.

−溶解阻止剤−
ポジ作用感応性組成物において使用される溶解阻止剤とは、酸の作用により分解しアルカリ可溶性となる化合物である。該溶解阻止剤としては、t−ブチルエステル、t−ブチルカーバーメート、アルコキシエチルエステル、等のレジスト分野で用いられている化学増幅系の酸分解性基で保護されたカルボン酸、フェノール化合物等が挙げられる。
-Dissolution inhibitor-
The dissolution inhibitor used in the positive action sensitive composition is a compound that decomposes and becomes alkali-soluble by the action of an acid. Examples of the dissolution inhibitor include a carboxylic acid protected with an acid-decomposable group of a chemical amplification system used in the resist field such as t-butyl ester, t-butyl carbamate, and alkoxyethyl ester, a phenol compound, and the like. Can be mentioned.

本発明において、溶解阻止剤の含有量は、感光性層若しくは感熱性層の全固形分中、5〜90重量%程度であり、10〜80重量%が好ましい。   In the present invention, the content of the dissolution inhibitor is about 5 to 90% by weight, preferably 10 to 80% by weight, based on the total solid content of the photosensitive layer or heat-sensitive layer.

好適なキノンジアジド化合物類としては、o−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解によりアルカリ可溶性化合物の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により、感材系の溶解性を助ける。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」(John Wiley & Sons.Inc. )第339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403号公報に記載されているようなベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120号明細書及び同第3,188,210号明細書等に記載されているベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。   Suitable quinonediazide compounds include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and compounds having various structures can be used. That is, o-quinonediazide assists the solubility of the sensitive material system by both the effects of losing the ability to suppress dissolution of the alkali-soluble compound by thermal decomposition and the change of o-quinonediazide itself into an alkali-soluble substance. Examples of the o-quinonediazide compound used in the present invention include J. The compounds described in pages 339 to 352 of “Light-Sensitive Systems” (John Wiley & Sons. Inc.) by Korser can be used, and in particular, o reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. -Sulfonic acid esters or sulfonic acid amides of quinonediazides are preferred. Further, benzoquinone- (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin as described in JP-B-43-28403. Benzoquinone- (1,2) -diazidosulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1 described in US Pat. Nos. 3,046,120 and 3,188,210, etc. , 2) -Diazide-5-sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin are also preferably used.

さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許関連の文献に報告があり知られている。例えば、特開昭47−5303号公報、特開昭48−63802号公報、特開昭48−63803号公報、特開昭48−96575号公報、特開昭49−38701号公報、特開昭48−13354号公報、特公昭41−11222号公報、特公昭45−9610号公報、特公昭49−17481号公報、米国特許第2,797,213号明細書、同第3,454,400号明細書、同第3,544,323号明細書、同第3,573,917号明細書、同第3,674,495号明細書、同第3,785,825号明細書、英国特許第1,227,602号明細書、同第1,251,345号明細書、同第1,267,005号明細書、同第1,329,888号明細書、同第1,330,932号明細書、独国特許発明第854,890号明細書等に記載されているものを挙げることができる。   Further esters of naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride with phenol-formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin Similarly, the esters are also preferably used. Other useful o-quinonediazide compounds have been reported in many patent-related literatures. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-96575, JP-A-49-38701, JP-A-49-38701 No. 48-13354, Japanese Examined Patent Publication No. 41-11222, Japanese Examined Patent Publication No. 45-9610, Japanese Examined Patent Publication No. 49-17478, US Pat. No. 2,797,213, No. 3,454,400. No. 3,544,323, No. 3,573,917, No. 3,674,495, No. 3,785,825, British Patent No. No. 1,227,602, No. 1,251,345, No. 1,267,005, No. 1,329,888, No. 1,330,932 Description, German Patent Invention No. 854,890 It may be mentioned those described in the specification or the like.

本発明において、o−キノンジアジド化合物の含有量は、感光性層若しくは感熱性層の全固形分中、1〜50重量%程度であり5〜30重量%が好ましく、10〜30重量%がさらに好ましい。これらの化合物は単独で使用することができるが、数種の混合物として使用してもよい。o−キノンジアジド化合物の含有量が1重量%未満であると画像の記録性が悪化し、一方、50重量%を超えると画像部の耐久性が劣化したり感度が低下したりする。   In the present invention, the content of the o-quinonediazide compound is about 1 to 50% by weight, preferably 5 to 30% by weight, and more preferably 10 to 30% by weight in the total solid content of the photosensitive layer or the heat-sensitive layer. . These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds. When the content of the o-quinonediazide compound is less than 1% by weight, the image recording property is deteriorated. On the other hand, when it exceeds 50% by weight, the durability of the image portion is deteriorated or the sensitivity is lowered.

本発明において、o−キノンジアジド化合物以外の上記化合物の含有量は、感光性層若しくは感熱性層の全固形分中、1〜50重量%程度であり、5〜30重量%が好ましく、10〜30重量%が好ましい。   In the present invention, the content of the above-mentioned compound other than the o-quinonediazide compound is about 1 to 50% by weight, preferably 5 to 30% by weight, and preferably 10 to 30% in the total solid content of the photosensitive layer or the heat-sensitive layer. % By weight is preferred.

(ネガ作用感応性組成物)
本発明において、ネガ作用感応性組成物としては、以下に示す従来公知のネガ作用感応性組成物((g)〜(h))を用いることができる。
(Negative action sensitive composition)
In the present invention, conventionally known negative action sensitive compositions ((g) to (h)) shown below can be used as the negative action sensitive composition.

(g)光架橋性基を有するポリマー、アジド化合物を含有してなるネガ作用感応性組成物。
(h)特開昭59−101651号公報に記載のジアゾ化合物を含有してなるネガ作用感応性組成物。
(i)米国特許第262276号明細書、特開平2−63054号公報に記載の光重合開始剤、付加重合性不飽和化合物を含有してなる光重合性ネガ作用感応性組成物。
(h)特開平11−095421号公報記載のアルカリ可溶性化合物、酸発生剤、酸架橋性化合物を含有してなるネガ作用感応性組成物。
(G) A negative action sensitive composition comprising a polymer having a photocrosslinkable group and an azide compound.
(H) A negative action sensitive composition comprising the diazo compound described in JP-A-59-101651.
(I) A photopolymerizable negative action sensitive composition comprising a photopolymerization initiator and an addition polymerizable unsaturated compound described in US Pat. No. 262276 and JP-A-2-63054.
(H) A negative action sensitive composition comprising an alkali-soluble compound, an acid generator and an acid crosslinkable compound described in JP-A-11-095421.

上記(g)〜(h)で示したネガ作用感応性組成物で用いられる化合物を以下に説明する。   The compounds used in the negative action sensitive compositions shown in the above (g) to (h) will be described below.

−光架橋性基を有するポリマー−
ネガ作用感応性組成物において使用される光架橋性基を有するポリマーは、水性アルカリ現像液に対して親和性を持つ光架橋性基を有するポリマーが好ましく、例えば、米国特許第5064747号明細書に記載び分子の主鎖又は側鎖に−CH=CH−CO−のような光架橋性基を有するポリマー;特公昭54−15711号公報に記載の桂皮酸基とカルボキシル基を有する共重合体;特開昭60−165646号公報に記載のフェニレンジアクリル酸残基とカルボキシル基を有するポリエステル樹脂;特開昭60−203630号公報に記載のフェニレンジアクリル酸残基とフェノール性水酸基を有するポリエステル樹脂;特公昭57−42858号公報に記載のフェニレンジアクリル酸残基とナトリウムイミノジスルホニル基を有するポリエテル樹脂;特開昭59−208552号公報に記載の側鎖にアジド基とカルボキシル基を有する重合体等が使用できる。本発明において、光架橋性基を有するポリマーの含有量は、感光性層若しくは感熱性層の全固形分中、5〜100重量%程度であり、10〜95重量%が好ましく、20〜90重量%が好ましい。
-Polymer having photocrosslinkable group-
The polymer having a photocrosslinkable group used in the negative action sensitive composition is preferably a polymer having a photocrosslinkable group having an affinity for an aqueous alkaline developer, for example, in US Pat. No. 5,064,747. A polymer having a photocrosslinkable group such as —CH═CH—CO— in the main chain or side chain of the molecule; a copolymer having a cinnamic acid group and a carboxyl group described in JP-B-54-15711; Polyester resin having phenylene diacrylic acid residue and carboxyl group described in JP-A-60-165646; Polyester resin having phenylene diacrylic acid residue and phenolic hydroxyl group described in JP-A-60-203630 A polymer having a phenylene diacrylic acid residue and a sodium iminodisulfonyl group described in JP-B-57-42858. Ether resins; polymers like in a side chain described in JP 59-208552 Laid having an azide group and a carboxyl group can be used. In the present invention, the content of the polymer having a photocrosslinkable group is about 5 to 100% by weight, preferably 10 to 95% by weight, and preferably 20 to 90% by weight in the total solid content of the photosensitive layer or heat-sensitive layer. % Is preferred.

−アジド化合物−
ネガ作用感応性組成物において使用されるアジド化合物としては、2,6−ビス(4−アジドベンザール)−4−メチルシクロヘキサノン、4,4’−ジアジドジフェニルスルフィド等が挙げられる。本発明において、アジド化合物の含有量は、感光性層若しくは感熱性層の全固形分中、5〜95重量%程度であり、10〜90重量%が好ましく、20〜80重量%がさらに好ましい。
-Azide compound-
Examples of the azide compound used in the negative action sensitive composition include 2,6-bis (4-azidobenzal) -4-methylcyclohexanone, 4,4′-diazidodiphenyl sulfide, and the like. In this invention, content of an azide compound is about 5-95 weight% in the total solid of a photosensitive layer or a heat-sensitive layer, 10-90 weight% is preferable and 20-80 weight% is further more preferable.

−アルカリ可溶性化合物−
ネガ作用感応性組成物において使用されるアルカリ可溶性化合物は、前記ポジ作用感応性組成物に用いられるアルカリ可溶性化合物と同様である。
-Alkali-soluble compounds-
The alkali-soluble compound used in the negative action sensitive composition is the same as the alkali-soluble compound used in the positive action sensitive composition.

−ジアゾ化合物−
ネガ作用感応性組成物において使用されるジアゾ樹脂としては、例えばジアゾジアリールアミンと活性カルボニル化合物との縮合物の塩に代表されるジアゾ樹脂があり、感光性、水不溶性で有機溶剤可溶性のものが好ましい。特に好適なジアゾ樹脂としては、例えば4−ジアゾジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−メチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−4’−メチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−3’−メチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−4’−メトキシジフェニルアミン4−ジアゾ−3−メチル−4’−エトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−メトキシジフェニルアミン等とホルムアルデヒド、バラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、4,4’−ビス−メトキシメチルジフェニルエーテル等との縮合物の有機酸塩または無機酸塩である。この際の有機酸としては、例えばメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、プロピルナフタレンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸等が挙げられ、無機酸としては、ヘキサフルオロリン酸、テトラフルオロホウ酸、チオシアン酸等が挙げられる。
-Diazo compounds-
Examples of the diazo resin used in the negative action sensitive composition include a diazo resin typified by a salt of a condensate of diazodiarylamine and an active carbonyl compound, which is photosensitive, water-insoluble and organic solvent-soluble. preferable. Particularly suitable diazo resins include, for example, 4-diazodiphenylamine, 4-diazo-3-methyldiphenylamine, 4-diazo-4'-methyldiphenylamine, 4-diazo-3'-methyldiphenylamine, 4-diazo-4'- Condensation products of methoxydiphenylamine 4-diazo-3-methyl-4'-ethoxydiphenylamine, 4-diazo-3-methoxydiphenylamine and the like with formaldehyde, paraformaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, 4,4'-bis-methoxymethyldiphenyl ether, etc. Organic acid salt or inorganic acid salt. Examples of organic acids at this time include methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, propylnaphthalenesulfonic acid, and 1-naphthol-5-sulfone. Acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, etc., and inorganic acids include hexafluorophosphoric acid, tetrafluoroboric acid, thiocyanic acid, etc. Is mentioned.

更に、特開昭54−30121号公報に記載の主鎖がポリエステル基であるジアゾ樹脂;特開昭61−273538号公報に記載の無水カルボン酸残基を有する重合体と、ヒドロキシル基を有するジアゾ化合物を反応してなるジアゾ樹脂;ポリイソシアネート化合物とヒドロキシル基を有するジアゾ化合物を反応してなるジアゾ樹脂等も使用しうる。   Further, a diazo resin whose main chain is a polyester group described in JP-A No. 54-30121; a polymer having a carboxylic anhydride residue described in JP-A No. 61-273538; and a diazo resin having a hydroxyl group A diazo resin obtained by reacting a compound; a diazo resin obtained by reacting a polyisocyanate compound and a diazo compound having a hydroxyl group can also be used.

本発明において、ジアゾ樹脂の含有量は、感光性層若しくは感熱性層全固形分に対して、0〜40重量%程度が好ましい。また必要に応じて、2種以上のジアゾ樹脂を併用してもよい。   In the present invention, the content of the diazo resin is preferably about 0 to 40% by weight with respect to the total solid content of the photosensitive layer or heat-sensitive layer. Moreover, you may use together 2 or more types of diazo resins as needed.

−光重合開始剤及び付加重合性不飽和化合物−
ネガ作用感応性組成物において使用される付加重合性不飽和化合物及び光重合開始剤としては、米国特許第2,760,863号明細書、同第3,060,023号明細書、特開昭62−121448号公報等に記載の2個またはそれ以上の末端エチレン基を有する付加重合性不飽和化合物及び光重合開始剤が挙げられる。
-Photopolymerization initiator and addition polymerizable unsaturated compound-
As the addition polymerizable unsaturated compound and photopolymerization initiator used in the negative action sensitive composition, US Pat. No. 2,760,863, US Pat. No. 3,060,023, JP Examples thereof include addition-polymerizable unsaturated compounds having two or more terminal ethylene groups and a photopolymerization initiator described in JP-A No. 62-121448.

本発明において、付加重合性不飽和化合物の含有量は、感光性層若しくは感熱性層全固形分に対して、5〜95重量%程度であり、5〜80重量%が好ましい。また、光重合開始剤の含有量は、感光性層若しくは感熱性層全固形分に対して、1〜80重量%程度であり、5〜50重量%が好ましい。   In the present invention, the content of the addition polymerizable unsaturated compound is about 5 to 95% by weight, preferably 5 to 80% by weight, based on the total solid content of the photosensitive layer or heat-sensitive layer. Moreover, content of a photoinitiator is about 1 to 80 weight% with respect to a photosensitive layer or a heat sensitive layer total solid, and 5 to 50 weight% is preferable.

−酸発生剤−
ネガ作用感応性組成物において使用される酸発生剤は、前記ポジ作用感応性組成物で用いられる酸発生剤と同様である。
-Acid generator-
The acid generator used in the negative action sensitive composition is the same as the acid generator used in the positive action sensitive composition.

−酸架橋性化合物−
ネガ作用感応性組成物において使用される酸架橋性化合物とは、酸の存在下で架橋する化合物を指し、例えば、ヒドロキシメチル基、アセトキシメチル基、若しくはアルコキシメチル基でポリ置換されている芳香族化合物及び複素環化合物が挙げられるが、その中でも好ましい例として、フェノール類とアルデヒド類を塩基性条件下で縮合させた化合物が挙げられる。前記の化合物のうち好ましいものとしては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドを前記のように塩基性条件下で縮合させた化合物、同様にして、m−クレゾールとホルムアルデヒドから得られる化合物、ビスフェノールAとホルムアルデヒドから得られる化合物、4,4’−ビスフェノールとホルムアルデヒドから得られる化合物、その他、英国特許出願公開第2,082,339号明細書にレゾール樹脂として開示された化合物等が挙げられる。これらの酸架橋性化合物は、重量平均分子量が500〜100,000で数平均分子量が200〜50,000のものが好ましい。
-Acid crosslinkable compound-
The acid crosslinkable compound used in the negative action sensitive composition refers to a compound that crosslinks in the presence of an acid, for example, an aromatic poly-substituted with a hydroxymethyl group, an acetoxymethyl group, or an alkoxymethyl group. Among them, a compound and a heterocyclic compound are preferable, and a preferable example is a compound obtained by condensing phenols and aldehydes under basic conditions. Among the above compounds, preferred are, for example, compounds obtained by condensing phenol and formaldehyde under basic conditions as described above, similarly, compounds obtained from m-cresol and formaldehyde, and compounds obtained from bisphenol A and formaldehyde. Compounds obtained from 4,4′-bisphenol and formaldehyde, and other compounds disclosed as a resole resin in British Patent Application No. 2,082,339. These acid crosslinkable compounds preferably have a weight average molecular weight of 500 to 100,000 and a number average molecular weight of 200 to 50,000.

他の好ましい例としては、欧州特許出願公開第0,212,482号明細書に開示されているアルコキシメチル又はオキシラニルメチル基で置換された芳香族化合物、欧州特許出願公開第0,133,216号明細書、西独国特許出願公開第3,634,671号明細書、西独国特許第3,711,264号明細書に開示された単量体及びオリゴマーメラミン−ホルムアルデヒド縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、欧州特許出願公開第0,212,482号明細書に開示されたアルコキシ置換化合物等がある。さらに他の好ましい例は、例えば、少なくとも2個の遊離N−ヒドロキシメチル、N−アルコキシメチル又はN−アシルオキシメチル基を有するメラミン−ホルムアルデヒド誘導体である。このなかでは、N−アルコキシメチル誘導体が特に好ましい。また、低分子量又はオリゴマーシラノールは、ケイ素含有架橋剤として使用できる。これらの例は、ジメチル−及びジフェニル−シランジオール、並びに既に予備縮合され且つこれらの単位を含有するオリゴマーであり、例えば、欧州特許出願公開第0,377,155号明細書に開示されたものを使用できる。   Other preferred examples include aromatic compounds substituted with an alkoxymethyl or oxiranylmethyl group disclosed in EP-A-0,212,482, EP-A-0,133, Monomer and oligomer melamine-formaldehyde condensates and urea-formaldehyde disclosed in No. 216, West German Patent Application No. 3,634,671, West German Patent No. 3,711,264 Condensates, alkoxy-substituted compounds disclosed in EP 0,212,482, and the like. Yet another preferred example is a melamine-formaldehyde derivative having, for example, at least two free N-hydroxymethyl, N-alkoxymethyl or N-acyloxymethyl groups. Of these, N-alkoxymethyl derivatives are particularly preferred. Low molecular weight or oligomeric silanols can also be used as silicon-containing crosslinking agents. Examples of these are dimethyl- and diphenyl-silanediols and oligomers that have already been precondensed and contain these units, for example those disclosed in EP 0,377,155. Can be used.

〔その他の成分〕
本発明の平版印刷原版の感光性層若しくは感熱性層には、種々の平版印刷版の特性を得るため、必要に応じて上記以外に種々の化合物を添加してもよい。
[Other ingredients]
In order to obtain various lithographic printing plate characteristics, various compounds other than those described above may be added to the photosensitive layer or heat-sensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention.

本発明の平版印刷原版の感光性層若しくは感熱性層には、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的にはオイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)など、あるいは特開昭62−293247号公報に記載されている染料を挙げることができる。これらの染料は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。尚、添加量は、感光性層若しくは感熱性層の全固形分に対し、0.01〜10重量%の割合である。   In the photosensitive layer or heat-sensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. Specifically, oil yellow # 101, oil yellow # 103, oil pink # 312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-505 (oriental chemical industry) Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI52015), etc., or JP-A 62-293247 And dyes described in Japanese Patent Publication No. These dyes are preferably added after image formation because they can be easily distinguished from image portions and non-image portions. The amount added is 0.01 to 10% by weight with respect to the total solid content of the photosensitive layer or heat-sensitive layer.

また、本発明の平版印刷原版の感光性層若しくは感熱性層には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加することができる。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられる。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の平版印刷原版の感光性層若しくは感熱性層に占める割合は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。   Further, the photosensitive layer or heat-sensitive layer of the lithographic printing original plate according to the present invention is described in JP-A Nos. 62-251740 and 3-208514 in order to increase the processing stability against development conditions. Nonionic surfactants such as those described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like. Specific examples of the double-sided activator include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Examples thereof include trade names (for example, trade name Amorgen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.). The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the photosensitive layer or heat-sensitive layer of the lithographic printing original plate is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight. .

更に本発明の平版印刷原版の感光性層若しくは感熱性層には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジへキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタアクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。   Furthermore, a plasticizer is added to the photosensitive layer or heat-sensitive layer of the lithographic printing original plate according to the present invention, if necessary, in order to impart flexibility of the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or An oligomer or polymer of methacrylic acid is used.

これら以外にも、前述のオニウム塩やハロアルキル置換されたs−トリアジン、及びエポキシ化合物、ビニルエーテル類、さらには特願平7−18120号に記載のヒドロキシメチル基を持つフェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合物等を添加してもよい。   In addition to these, the onium salts and haloalkyl-substituted s-triazines, epoxy compounds, vinyl ethers, phenol compounds having hydroxymethyl groups described in Japanese Patent Application No. 7-18120, and alkoxymethyl groups. A phenol compound or the like may be added.

本発明において、感光性層若しくは感熱性層は、通常前記各成分を溶媒に溶かして、親水性層上に塗布することにより形成される。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等をあげることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%である。また塗布、乾燥後に得られる親水性層上の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、平版印刷原版について言えば一般的に0.5〜5.0g/mが好ましい。塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、画像記録膜の皮膜特性は低下する。 In the present invention, the photosensitive layer or the heat-sensitive layer is usually formed by dissolving the above components in a solvent and coating the solution on the hydrophilic layer. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, it is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The concentration of the above components (total solid content including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. In addition, the coating amount (solid content) on the hydrophilic layer obtained after coating and drying varies depending on the use, but generally speaking, it is preferably 0.5 to 5.0 g / m 2 for a lithographic printing original plate. Various methods can be used as the coating method, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the image recording film deteriorate.

(光熱変換物質)
なお、本発明の平版印刷版原版をIRレーザーなどで画像記録する場合には、該光エネルギーを熱エネルギーに変換するための光熱変換物質を該平版印刷版原版のどこかに含有させておくことが好ましい。該光熱変換物質を含有させておく部分としては、例えば、親水性層、重合開始層、のいずれかもしくは基材と重合開始層との間、重合開始層と親水性層との間に添加してもよい。
(Photothermal conversion material)
In the case of recording an image of the lithographic printing plate precursor according to the present invention with an IR laser or the like, a photothermal conversion substance for converting the light energy into heat energy should be included somewhere in the lithographic printing plate precursor. Is preferred. Examples of the part to contain the photothermal conversion substance include a hydrophilic layer, a polymerization initiation layer, or between the substrate and the polymerization initiation layer, and between the polymerization initiation layer and the hydrophilic layer. May be.

本発明の平版印刷版原版において、含有させてもよい光熱変換物質としては、紫外線、可視光線、赤外線、白色光線等の光を吸収して熱に変換し得る物質ならば全て使用でき、例えば、カーボンブラック、カーボングラファイト、顔料、フタロシアニン系顔料、鉄粉、黒鉛粉末、酸化鉄粉、酸化鉛、酸化銀、酸化クロム、硫化鉄、硫化クロム等が挙げられる。特に、好ましいのは、波長760nmから1200nmの赤外線を有効に吸収する染料、顔料または金属である。   In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the photothermal conversion material that may be contained can be any material that can be converted into heat by absorbing light such as ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, white rays, etc., for example, Examples thereof include carbon black, carbon graphite, pigment, phthalocyanine pigment, iron powder, graphite powder, iron oxide powder, lead oxide, silver oxide, chromium oxide, iron sulfide, and chromium sulfide. Particularly preferred are dyes, pigments or metals that effectively absorb infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm.

染料としては、市販の染料及び文献(例えば、「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。   As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literature (for example, “Dye Handbook” edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, and metal thiolate complexes. Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and the like. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59- 48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc., naphthoquinone dyes, JP-A-58-112792, etc. And cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、米国特許第5,156,938号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号明細書記載の置換アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号明細書)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号公報、同58−220143号公報、同59−41363号公報、同59−84248号公報、同59−84249号公報、同59−146063号公報、同59−146061号公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号公報、同5−19702号公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、好ましい別の染料の例として、米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。   Further, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium described in US Pat. No. 3,881,924 is also preferred. Salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, JP-A-58-2220143, JP-A-59- No. 41363, No. 59-84248, No. 59-84249, No. 59-146063, No. 59-146061, and Pyryllium compounds described in JP-A-59-216146. Cyanine dyes, pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, etc., and Japanese Patent Publication No. 5-13514, 5-19 Pyrylium compounds Nos disclosed in Japanese 02 is also preferably used. Examples of other preferable dyes include near infrared absorbing dyes described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993. Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used. Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これらの染料又は顔料は、光熱変換物質含有層全固形分の0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜10重量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10重量%、顔料の場合特に好ましくは3.1〜10重量%の割合で使用することができる。顔料又は染料の添加量が0.01重量%未満であると感度が低くなり、また50重量%を越えると光熱変換物質含有層の膜強度が弱くなる。   These dyes or pigments are 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight of the total solid content of the photothermal conversion substance-containing layer, particularly preferably 0.5 to 10% by weight in the case of dyes. In this case, it can be particularly preferably used in a proportion of 3.1 to 10% by weight. When the added amount of the pigment or dye is less than 0.01% by weight, the sensitivity is low, and when it exceeds 50% by weight, the film strength of the photothermal conversion substance-containing layer is weakened.

本発明における平版印刷原版の感光性層若しくは感熱性層には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−170950号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、感光性層若しくは感熱性層の全固形分中、0.01〜1重量%が好ましく、0.05〜0.5重量%がさらに好ましい。   For the photosensitive layer or heat-sensitive layer of the lithographic printing original plate in the present invention, a surfactant for improving the coating property, for example, a fluorosurfactant as described in JP-A-62-170950 Can be added. A preferable addition amount is preferably 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight in the total solid content of the photosensitive layer or the heat-sensitive layer.

(平版印刷版原版の露光)
上記のようにして作製された本発明の平版印刷版原版に、通常、像露光、現像処理を施すことで、平版印刷版が得られる。
像露光に用いられる活性光線の光源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。放射線としては、X線、イオンビーム、遠赤外線などがある。また、i線、高密度エネルギービーム(レーザービーム)も使用される。レーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプトンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrFエキシマレーザー等が挙げられる。本発明においては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザー、半導体レーザーが特に好ましい。
(Exposure of planographic printing plate precursor)
The lithographic printing plate precursor of the present invention produced as described above is usually subjected to image exposure and development treatment to obtain a lithographic printing plate.
Examples of the active light source used for image exposure include a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, and a carbon arc lamp. Examples of radiation include X-rays, ion beams, and far infrared rays. Further, i-line and high-density energy beam (laser beam) are also used. Examples of the laser beam include a helium / neon laser, an argon laser, a krypton laser, a helium / cadmium laser, and a KrF excimer laser. In the present invention, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid laser or a semiconductor laser is particularly preferable.

また、レーザーの出力は100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましい。ネガ型画像形成層に照射されるエネルギーは10〜300mJ/cmであることが好ましい。 The laser output is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used in order to shorten the exposure time. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. The energy applied to the negative image forming layer is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 .

(平版印刷版原版の現像)
前記像露光後、本発明の平版印刷版原版は、好ましくは、水又はアルカリ性水溶液にて現像される。
現像に用いられる現像液及び補充液としては、従来から知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、第3リン酸ナトリウム、第3リン酸カリウム、第3リン酸アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、第2リン酸カリウム、第2リン酸アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ほう酸ナトリウム、ほう酸カリウム、ほう酸アンモニウム、水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム、水酸化カリウム及び水酸化リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。
これらのアルカリ剤は単独若しくは2種以上を組み合わせて用いられる。
(Development of planographic printing plate precursor)
After the image exposure, the lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably developed with water or an alkaline aqueous solution.
As the developer and replenisher used for development, conventionally known alkaline aqueous solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium silicate, tribasic sodium phosphate, tertiary potassium phosphate, tertiary ammonium phosphate, secondary sodium phosphate, secondary potassium phosphate, secondary ammonium phosphate, sodium carbonate, carbonic acid Examples include inorganic alkali salts such as potassium, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, ammonium borate, sodium hydroxide, ammonium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide. In addition, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used.
These alkali agents are used alone or in combination of two or more.

更に、自動現像機を用いて現像する場合には、現像液と同じもの又は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、多量の平版印刷版原版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。   Further, when developing using an automatic developing machine, the developer in the developing tank for a long time is added to the developer by adding an aqueous solution (replenisher) that is the same as the developer or higher in alkali strength than the developer. It is known that a large amount of a lithographic printing plate precursor can be processed without replacing the plate. This replenishment method is also preferably applied in the present invention.

現像液及び補充液には現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等を添加できる。
現像液中には界面活性剤を1〜20重量%加えることが好ましく、より好ましくは、3〜10重量%の範囲である。界面活性剤の添加量が1重量%未満であると現像性向上効果が充分に得られず、20重量%を超えて添加すると画像の耐摩耗性など強度が低下するなどの弊害が出やすくなる。
Various surfactants, organic solvents, and the like can be added to the developer and the replenisher as necessary for the purpose of promoting and suppressing developability, dispersing development residue, and improving the ink affinity of the printing plate image area.
The surfactant is preferably added in an amount of 1 to 20% by weight, more preferably in the range of 3 to 10% by weight. If the addition amount of the surfactant is less than 1% by weight, the effect of improving the developability cannot be sufficiently obtained, and if it is added in excess of 20% by weight, it tends to cause problems such as a reduction in strength such as image abrasion resistance. .

このように、画像露光、現像し、水洗及び/又はリンスして得られた平版印刷版は、必要に応じて、不必要な画像部の消去処理、不感脂化ガムの塗布、バーニング処理等、従来から行われている後処理を施され、オフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。   In this way, the lithographic printing plate obtained by image exposure, development, washing with water and / or rinsing, if necessary, erasing treatment of unnecessary image areas, application of desensitized gum, burning treatment, etc. The post-processing conventionally performed is performed, it applies to an offset printing machine etc., and it is used for printing of many sheets.

以下、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
〔実施例1〕
<表面親水性部材の作製>
(基材をアミノプロピルシランで表面処理する工程)
3−アミノプロピルトリメトキシシランをアセトンに添加して1体積%の溶液を作製した。この溶液を室温で10日間置いた。次に、PETフィルム(A4100、東洋紡(株)社製)を蒸留水、エタノールおよびアセトンで5分間超音波洗浄し120℃で5分間乾燥させた。このPET基板を前述の10日間放置した溶液に5分間浸漬した後、溶液から取り出して150℃のオーブンで10分間焼成し、支持体表面にアミノプロピルシランの処理を行った。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.
[Example 1]
<Production of surface hydrophilic member>
(Step of surface treatment of substrate with aminopropylsilane)
3-Aminopropyltrimethoxysilane was added to acetone to make a 1% by volume solution. The solution was left at room temperature for 10 days. Next, the PET film (A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was ultrasonically washed with distilled water, ethanol and acetone for 5 minutes and dried at 120 ° C. for 5 minutes. This PET substrate was immersed in the solution left for 10 days, and then taken out of the solution and baked in an oven at 150 ° C. for 10 minutes to treat the surface of the support with aminopropylsilane.

(重合開始層を形成する工程)
下記に示す、上記特定化合物の具体例6を脱水トルエンに溶かして1.0質量%の溶液とし、上記の支持体上にスピンコートした。スピンコートは、まず30rpmで5秒回転させ次に300rpmで20秒間回転させた。スピンコート後に100℃で60秒間加熱し、表面をトルエンおよびアセトンで洗浄し、重合開始層を形成した。
(Step of forming a polymerization initiation layer)
Specific example 6 of the specific compound shown below was dissolved in dehydrated toluene to make a 1.0 mass% solution, and spin-coated on the support. The spin coat was first rotated at 30 rpm for 5 seconds and then at 300 rpm for 20 seconds. After spin coating, heating was performed at 100 ° C. for 60 seconds, and the surface was washed with toluene and acetone to form a polymerization initiation layer.

Figure 2007313674
Figure 2007313674

(親水性層を形成する工程)
窒素バブルしたアクリル酸水溶液(10質量%)の溶液の中に、上記の開始剤を結合させたPETフィルムを浸漬し、高圧水銀灯(UVX0251S1LP01、ウシオ社製)を用いて10分間露光したのち、フィルムを取りだし、蒸留水で十分洗浄を行い、アクリル酸がグラフトされた表面親水性部材を得た。
耐水接触角の評価結果を下記表1に示す。
(Step of forming a hydrophilic layer)
A PET film combined with the above initiator is immersed in a nitrogen bubbled acrylic acid aqueous solution (10% by mass), and exposed to a high-pressure mercury lamp (UVX0251S1LP01, manufactured by Ushio Corporation) for 10 minutes. And washed sufficiently with distilled water to obtain a hydrophilic surface member grafted with acrylic acid.
The evaluation results of the water resistant contact angle are shown in Table 1 below.

〔実施例2〕
実施例1において、支持体をPENに変更した以外は同じ方法で表面親水性部材を得た。耐水接触角の評価結果を下記表1に示す。
[Example 2]
In Example 1, a surface hydrophilic member was obtained by the same method except that the support was changed to PEN. The evaluation results of the water resistant contact angle are shown in Table 1 below.

〔比較例1〕
アミノプロピルシラン処理をしない他は実施例1と同様の工程で表面親水性部材を得た。耐水接触角の評価結果を下記表1に示す。
[Comparative Example 1]
A surface hydrophilic member was obtained by the same process as in Example 1 except that aminopropylsilane treatment was not performed. The evaluation results of the water resistant contact angle are shown in Table 1 below.

〔比較例2〕
PETフィルム(A4100、東洋紡(株)社製)を蒸留水、エタノールおよびアセトンで5分間超音波洗浄し120℃で5分間乾燥させた。このPET基板をUVオゾンクリーナー(UV42、日本レーザー電子社製)を用いて5分間UVオゾン処理を行った。このフィルムを実施例1と同じ方法で重合開始層を形成した後、親水性層を形成する工程を行い、表面親水性部材を得た。耐水接触角の評価結果を下記表1に示す。
[Comparative Example 2]
A PET film (A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was ultrasonically washed with distilled water, ethanol and acetone for 5 minutes and dried at 120 ° C. for 5 minutes. This PET substrate was subjected to UV ozone treatment for 5 minutes using a UV ozone cleaner (UV42, manufactured by Nippon Laser Electronics Co., Ltd.). After forming a polymerization initiation layer on this film in the same manner as in Example 1, a step of forming a hydrophilic layer was performed to obtain a surface hydrophilic member. The evaluation results of the water resistant contact angle are shown in Table 1 below.

〔比較例3〕
支持体をPETに変更し、重合開始層を形成する工程及び親水性層を形成する工程を行わない以外は実施例1と同様の工程で表面親水性部材を得た。耐水接触角の評価結果を下記表1に示す。
[Comparative Example 3]
The support was changed to PET, and a surface hydrophilic member was obtained in the same process as in Example 1 except that the process of forming a polymerization initiation layer and the process of forming a hydrophilic layer were not performed. The evaluation results of the water resistant contact angle are shown in Table 1 below.

(評価)
−親水性層の耐水接触角−
上記ようにして得られた表面親水性部材の水に対する接触角を、協和界面科学(株)製、CA−Zにより測定した。
(Evaluation)
-Water resistant contact angle of hydrophilic layer-
The contact angle with respect to water of the surface hydrophilic member obtained as described above was measured by CA-Z manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.

Figure 2007313674
Figure 2007313674

表1の結果より、本発明の実施例1及び実施例2の表面親水性部材は、優れた表面親水性を有することがわかる。他方、基材表面にアミノプロピルシラン処理を行わず、親水性層を形成した比較例1の支持体は、十分な表面親水性が得られなかった。また、基材表面に従来公知のUVオゾン処理を施した後、親水性層を形成した比較例2の支持体、および、重合開始層及び親水性層を有さない比較例3の支持体は、実施例とほぼ同等の表面親水性層を発現することがわかる。   From the results in Table 1, it can be seen that the surface hydrophilic members of Examples 1 and 2 of the present invention have excellent surface hydrophilicity. On the other hand, the support of Comparative Example 1 in which the surface of the base material was not subjected to aminopropylsilane treatment and a hydrophilic layer was formed did not have sufficient surface hydrophilicity. In addition, the support of Comparative Example 2 in which a hydrophilic layer was formed after the conventionally known UV ozone treatment on the substrate surface, and the support of Comparative Example 3 having no polymerization initiation layer and hydrophilic layer were It can be seen that a surface hydrophilic layer substantially the same as the example is developed.

〔実施例3、比較例4〜比較例6〕
<平版印刷用原版の作製>
実施例1及び比較例1〜比較例3で得られた表面親水性部材にポジの感光層として以下の画像形成層を塗布し、ポジ型感光性平版印刷版原版を作製し、露光、現像および印刷性評価を行った。
[Example 3, Comparative Example 4 to Comparative Example 6]
<Preparation of original plate for lithographic printing>
The following image forming layer was applied as a positive photosensitive layer to the surface hydrophilic member obtained in Example 1 and Comparative Examples 1 to 3, to produce a positive photosensitive lithographic printing plate precursor, and exposure, development and Printability evaluation was performed.

(画像形成層処方)
(アルカリ可溶性ポリマー・ナフトキノン−1,2−ジアジド系(コンベンショナルポジ系))ナフトキノンー1,2−ジアジド−4−スルホニルクロリドとピロガロールーアセトン樹脂とのエステル化合物0.9g、ビクトリアピュアーブルーBOH、0.05g、クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂(メタ.パラ比6:4、重量平均分子量1800)2.0g、メチルエチルケトン20g、メチルアルコール7gからなる組成物を前記の親水性に塗布したものをポジ型平版印刷版原版とした。
(Image forming layer prescription)
(Alkali-soluble polymer / naphthoquinone-1,2-diazide type (conventional positive type)) 0.9 g of an ester compound of naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonyl chloride and pyrogallol-acetone resin, Victoria Pure Blue BOH, 0. 05 g, a novolak resin (meta.para ratio 6: 4, weight average molecular weight 1800) 2.0 g obtained from cresol and formaldehyde, 20 g of methyl ethyl ketone, and 7 g of methyl alcohol applied to the above hydrophilic property in a positive type A lithographic printing plate precursor was used.

(露光、現像)
得られたポジ型平版印刷版原版を、富士フィルム社製ステップガイドを通してPSライトで露光した後、富士フィルム社製現像液DP−4(1:8)を仕込んだ自動現像機を通して処理した。ついで、ハイデルKOR−D印刷機で印刷した。
前記印刷を継続し、画像部に汚れのない良好な印刷物のできる枚数を計測した。印刷物の汚れは、目視で汚れの有無を確認した。汚れのない良好な印刷物の枚数が多いほど、平版印刷版原版の親水性の耐久性に優れると評価する。
(Exposure, development)
The obtained positive type lithographic printing plate precursor was exposed with PS light through a step guide manufactured by Fuji Film, and then processed through an automatic processor charged with developer DP-4 (1: 8) manufactured by Fuji Film. Subsequently, it printed with the Heidel KOR-D printing machine.
The printing was continued, and the number of prints with good prints without smudges in the image area was measured. The printed material was visually checked for contamination. It is evaluated that the greater the number of good prints without stains, the better the hydrophilic durability of the lithographic printing plate precursor.

Figure 2007313674
表2より、アミノプロピルシランで表面処理した支持体で画像形成層を塗布した実施例3では、非画像部に汚れのない良好な印刷物が8,000枚以上得られ、満足すべき結果を得た。
これに対し、表面親水性に劣る比較例1の支持体を用いた比較例4の平版印刷版では、非画像部に汚れが発生し、良好な印刷物が得られなかった。また、UVオゾン処理を施した後、親水性層を形成した比較例2の支持体を用いた比較例5の平版印刷版は、2000枚を印刷した後、非画像部に汚れが発生し、親水性層の耐久性に劣ることがわかる。さらに、重合開始層及び親水性層を有さない比較例3の支持体用いた比較例5の平版印刷版は、1000枚を印刷した後、非画像部に汚れが発生し、親水性層の耐久性に劣ることがわかる。
比較例が実施例より親水性、耐刷性に劣る原因は明確ではないが、以下の点が推測される。
比較例1、4では、アミノプロピルシラン処理をしていないため、十分な量の開始剤が表面に結合せず、グラフトが形成できないことから、親水性が劣り、汚れがない印刷物を得ることができない。
比較例2、5では、PET表面をUVオゾン処理して表面にある程度の水酸基、カルボキシル基を発生させ開始剤を結合させたが、それでも結合量は十分でなく、したがってグラフトが十分でなく親水性が劣り、耐刷性も劣るものと思われる。
比較例3、6では、アミノプロピルシラン処理だけであり、グラフトポリマーからなる親水性層を形成していなく、印刷に必要な表面親水性が十分形成できないため、親水性、耐刷性に劣るものと考えられる。
以上の結果は、本発明で用いられるグラフト処理が有効であることを示すものである。
Figure 2007313674
From Table 2, in Example 3 in which the image forming layer was coated with a support surface-treated with aminopropylsilane, 8,000 or more good prints having no stain on the non-image area were obtained, and satisfactory results were obtained. It was.
On the other hand, in the planographic printing plate of Comparative Example 4 using the support of Comparative Example 1 having poor surface hydrophilicity, stains were generated in the non-image area, and a good printed matter could not be obtained. In addition, after the UV ozone treatment, the planographic printing plate of Comparative Example 5 using the support of Comparative Example 2 in which the hydrophilic layer was formed, after 2000 sheets were printed, the non-image area was stained, It can be seen that the hydrophilic layer is inferior in durability. Furthermore, in the planographic printing plate of Comparative Example 5 using the support of Comparative Example 3 having no polymerization initiation layer and hydrophilic layer, after printing 1000 sheets, the non-image area was stained, and the hydrophilic layer It turns out that it is inferior to durability.
The reason why the comparative example is inferior in hydrophilicity and printing durability to the example is not clear, but the following points are presumed.
In Comparative Examples 1 and 4, since aminopropylsilane treatment was not performed, a sufficient amount of initiator did not bind to the surface, and a graft could not be formed. Thus, a printed matter having poor hydrophilicity and no stain could be obtained. Can not.
In Comparative Examples 2 and 5, the surface of PET was treated with UV ozone to generate a certain amount of hydroxyl group and carboxyl group on the surface to bind the initiator. However, the amount of bonding was still insufficient, and therefore the graft was not sufficient and hydrophilic. Is inferior in printing durability.
In Comparative Examples 3 and 6, only the aminopropylsilane treatment is performed, the hydrophilic layer made of the graft polymer is not formed, and the surface hydrophilicity necessary for printing cannot be sufficiently formed, so that the hydrophilicity and the printing durability are inferior. it is conceivable that.
The above results show that the grafting treatment used in the present invention is effective.

Claims (4)

基材上に、アミノプロピルシラン縮合層と、ラジカル重合を開始しうる重合開始部位と支持体結合部位とを有する化合物が支持体結合部位を介して支持体基材と結合して構成された重合開始層と、親水性基とラジカル重合性部位とを有する不飽和化合物により形成され、該重合開始層と直接結合したグラフトポリマーからなる親水性層と、を順次有することを特徴とする表面親水性部材。   A polymerization in which an aminopropylsilane condensation layer, a compound having a polymerization initiation site capable of initiating radical polymerization, and a support binding site are bonded to the support base material via the support binding site on the base material. Surface hydrophilicity characterized by sequentially comprising an initiator layer, and a hydrophilic layer formed of an unsaturated compound having a hydrophilic group and a radically polymerizable site, and comprising a graft polymer directly bonded to the initiator layer Element. 前記基材が、ポリエチレンテレフタレート、又はポリエチレンナフタレートであることを特徴とする請求項1に記載の表面親水性部材。   The surface hydrophilic member according to claim 1, wherein the base material is polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate. 基材上に該基材をアミノプロピルシランで表面処理してアミノプロピルシラン縮合層を形成する工程と、ラジカル重合を開始しうる重合開始部位と支持体結合部位とを有する化合物の支持体結合部位を支持体基材と結合させて重合開始層を形成する工程と、親水性基とラジカル重合性部位とを有する不飽和化合物を該重合開始層から発生したラジカルを起点として重合させて、グラフトポリマーからなる親水性層を形成する工程と、を有することを特徴とする表面親水性部材の製造方法。   A substrate-binding site of a compound having a step of forming an aminopropylsilane condensation layer by surface-treating the substrate with aminopropylsilane on the substrate, a polymerization initiation site capable of initiating radical polymerization, and a substrate-binding site To form a polymerization initiating layer by bonding to a support substrate, and to polymerize an unsaturated compound having a hydrophilic group and a radical polymerizable site from the radical generated from the polymerization initiating layer as a starting point, Forming a hydrophilic layer comprising: a method for producing a surface hydrophilic member. 請求項1又は請求項2に記載の表面親水性部材上に、画像形成層を有することを特徴とする平版印刷版原版。   A lithographic printing plate precursor comprising an image forming layer on the surface hydrophilic member according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2009116612A1 (en) 2008-03-21 2009-09-24 三井化学株式会社 Hydrophilic film
US9512034B2 (en) 2008-03-21 2016-12-06 Mitsui Chemicals, Inc. Hydrophilic film

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