JP2007213654A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device Download PDF

Info

Publication number
JP2007213654A
JP2007213654A JP2006030210A JP2006030210A JP2007213654A JP 2007213654 A JP2007213654 A JP 2007213654A JP 2006030210 A JP2006030210 A JP 2006030210A JP 2006030210 A JP2006030210 A JP 2006030210A JP 2007213654 A JP2007213654 A JP 2007213654A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
semiconductor device
input
output
semiconductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006030210A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayoshi Hirata
昌義 平田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Electronics Corp
Original Assignee
NEC Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Electronics Corp filed Critical NEC Electronics Corp
Priority to JP2006030210A priority Critical patent/JP2007213654A/en
Publication of JP2007213654A publication Critical patent/JP2007213654A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which can easily impart an identification signal to each semiconductor chip. <P>SOLUTION: The semiconductor device 1 includes several semiconductor chips 11 to 14. A generation circuit 20 is formed in each of the semiconductor chips 11 to 14. The generation circuit 20 generates an identification signal unique to each of the semiconductor chips 11 to 14. Concerning two semiconductor chips among the semiconductor chips 11 to 14, the generation circuit 20 arranged in one semiconductor chip receives the identification signal generated by the generation circuit arranged in the other semiconductor chip, and generates the identification signal for the above one semiconductor chip based on the received identification signal. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor device.

従来の半導体装置としては、例えば特許文献1に記載されたものがある。同文献に記載の半導体装置においては、互いに積層された複数のメモリチップを区別すべく、各メモリチップに、当該メモリチップに固有の識別コードを格納するシフトレジスタが設けられている。また、メモリチップとは別に、識別コード発生回路と発振器とが設けられている。   As a conventional semiconductor device, for example, there is one described in Patent Document 1. In the semiconductor device described in this document, in order to distinguish between a plurality of memory chips stacked on each other, each memory chip is provided with a shift register that stores an identification code unique to the memory chip. In addition to the memory chip, an identification code generation circuit and an oscillator are provided.

なお、本発明に関連する先行技術文献としては、特許文献1の他に、特許文献2,3が挙げられる。
特開平10−97463号公報 特開平11−135711号公報 特開2000−137645号公報
In addition to Patent Document 1, Patent Documents 2 and 3 are cited as prior art documents related to the present invention.
Japanese Patent Laid-Open No. 10-97463 Japanese Patent Laid-Open No. 11-135711 JP 2000-137645 A

上記半導体装置において、識別コード発生回路からの識別コードは、発振器が出力するクロック信号に従ってシフトレジスタに送られる。それにより、各メモリチップのシフトレジスタに識別コードが格納される。これでは、各メモリチップに識別コードを付与するのに手間がかかってしまう。このように、従来の半導体装置には、識別コード付与の簡素化という面で向上の余地がある。   In the semiconductor device, the identification code from the identification code generation circuit is sent to the shift register in accordance with the clock signal output from the oscillator. Thereby, the identification code is stored in the shift register of each memory chip. This takes time and effort to assign the identification code to each memory chip. Thus, the conventional semiconductor device has room for improvement in terms of simplifying the provision of the identification code.

本発明による半導体装置は、複数の半導体チップと、上記各半導体チップ内に設けられ、当該各半導体チップに固有な識別信号を生成する生成回路と、を備え、上記複数の半導体チップのうちの2つの半導体チップについて、一方の半導体チップ内に設けられた上記生成回路は、もう一方の半導体チップ内に設けられた上記生成回路が生成した上記識別信号を入力し、当該入力した識別信号に基づいて上記識別信号を生成するように構成されていることを特徴とする。   A semiconductor device according to the present invention includes a plurality of semiconductor chips, and a generation circuit that is provided in each of the semiconductor chips and generates an identification signal unique to each of the semiconductor chips. For one semiconductor chip, the generation circuit provided in one semiconductor chip inputs the identification signal generated by the generation circuit provided in the other semiconductor chip, and based on the input identification signal The identification signal is generated.

この半導体装置においては、複数の半導体チップの各々に生成回路が設けられている。ある半導体チップ内の生成回路は、別の半導体チップの識別信号を入力して、その識別信号に基づいて当該生成回路が設けられた半導体チップの識別信号を生成する。したがって、生成回路どうしを接続することにより、各半導体チップ内で次々と識別信号が生成される。このため、この半導体装置によれば、各半導体チップに識別信号を容易に付与することができる。   In this semiconductor device, a generation circuit is provided in each of a plurality of semiconductor chips. A generation circuit in a semiconductor chip receives an identification signal of another semiconductor chip, and generates an identification signal of the semiconductor chip provided with the generation circuit based on the identification signal. Therefore, by connecting the generation circuits, identification signals are generated one after another in each semiconductor chip. For this reason, according to this semiconductor device, an identification signal can be easily given to each semiconductor chip.

本発明によれば、各半導体チップへの識別信号の付与が容易な半導体装置が実現される。   According to the present invention, a semiconductor device in which an identification signal can be easily given to each semiconductor chip is realized.

以下、図面を参照しつつ、本発明による半導体装置の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面の説明においては、同一要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。   Hereinafter, preferred embodiments of a semiconductor device according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the description of the drawings, the same reference numerals are assigned to the same elements, and duplicate descriptions are omitted.

図1は、本発明による半導体装置の一実施形態を模式的に示す斜視図である。半導体装置1は、複数(本例においては4つ)の半導体チップ11〜14を備えている。半導体チップ11〜14は、例えばメモリチップであり、互いに同一の回路構成を有している。これらの半導体チップ11〜14は、インターポーザ90を介して、互いに積層されている。インターポーザ90には、半導体チップ11〜14間を電気的に接続する配線が形成されている。インターポーザ90の材料としては、例えば樹脂またはシリコン等を用いることができる。   FIG. 1 is a perspective view schematically showing one embodiment of a semiconductor device according to the present invention. The semiconductor device 1 includes a plurality (four in this example) of semiconductor chips 11 to 14. The semiconductor chips 11 to 14 are memory chips, for example, and have the same circuit configuration. These semiconductor chips 11 to 14 are stacked on each other via an interposer 90. In the interposer 90, wirings for electrically connecting the semiconductor chips 11 to 14 are formed. As a material of the interposer 90, for example, resin or silicon can be used.

図2に示すように、各半導体チップ11〜14内には、生成回路20および選択回路30が形成されている。生成回路20は、各半導体チップ11〜14に固有な識別信号を生成する回路である。生成回路20は、n(nは2以上の整数、本例においてはn=2)ビットの入力信号(Y0,Y1)を入力して、nビットの出力信号(P0,P1)をその生成回路20が設けられた半導体チップの識別信号として出力する。   As shown in FIG. 2, a generation circuit 20 and a selection circuit 30 are formed in each of the semiconductor chips 11 to 14. The generation circuit 20 is a circuit that generates an identification signal unique to each of the semiconductor chips 11 to 14. The generation circuit 20 inputs an input signal (Y0, Y1) of n (n is an integer of 2 or more, in this example, n = 2) bit, and generates an output signal (P0, P1) of n bit. 20 is output as an identification signal of the semiconductor chip provided.

図3に示すように、半導体チップ11〜14のそれぞれに設けられた生成回路20は、直列に接続されている。同図においては、半導体チップ11〜14に設けられた生成回路20をそれぞれ、便宜的に生成回路21〜24と表している。これらの生成回路21〜24は、互いに同一の回路構成を有している。また、半導体チップ11〜14の識別信号をそれぞれ、(p10,p11)、(p20,p21)、(p30,p31)および(p40,p41)と表している。   As shown in FIG. 3, the generation circuit 20 provided in each of the semiconductor chips 11 to 14 is connected in series. In the drawing, the generation circuits 20 provided in the semiconductor chips 11 to 14 are respectively represented as generation circuits 21 to 24 for convenience. These generation circuits 21 to 24 have the same circuit configuration. Further, the identification signals of the semiconductor chips 11 to 14 are represented as (p10, p11), (p20, p21), (p30, p31) and (p40, p41), respectively.

同図からわかるように、半導体チップ11〜14のうちの2つの半導体チップについて、一方の半導体チップ内に設けられた生成回路20は、もう一方の半導体チップ内に設けられた生成回路20が生成した識別信号を入力し、その入力した識別信号に基づいて、上記一方の半導体チップの識別信号を生成する。例えば、半導体チップ11および半導体チップ12について見ると、半導体チップ12内に設けられた生成回路22は、半導体チップ11内に設けられた生成回路21が生成した識別信号(p10,p11)を入力し、その識別信号(p10,p11)に基づいて半導体チップ12の識別信号(p20,p21)を生成する。なお、生成回路21には、所定の信号(本例では、(1,1))が入力信号として与えられる。この信号は、例えば、電源端子やグランド端子から与えられる。   As can be seen from the figure, for two of the semiconductor chips 11 to 14, the generation circuit 20 provided in one semiconductor chip is generated by the generation circuit 20 provided in the other semiconductor chip. The identification signal of the one semiconductor chip is generated based on the input identification signal. For example, regarding the semiconductor chip 11 and the semiconductor chip 12, the generation circuit 22 provided in the semiconductor chip 12 inputs the identification signals (p10, p11) generated by the generation circuit 21 provided in the semiconductor chip 11. Based on the identification signals (p10, p11), the identification signals (p20, p21) of the semiconductor chip 12 are generated. Note that a predetermined signal (in this example, (1, 1)) is given to the generation circuit 21 as an input signal. This signal is given from, for example, a power supply terminal or a ground terminal.

生成回路20は、n個の半加算器201,202(図中、「HA」と記載)を含んでいる。各半加算器201,202のX端子(第1入力端子)に上記入力信号の各ビット値が入力されるとともに、各半加算器201,202のS端子(和出力端子)から上記出力信号の各ビット値が出力される。また、2つの半加算器201および半加算器202について、一方の半加算器201のC端子(桁上げ出力端子)からの出力が、もう一方の半加算器202のY端子(第2入力端子)に入力されるように構成されている。なお、半加算器201のY端子には、所定の信号(本例では、「1」)が与えられる。この信号は、例えば、電源端子やグランド端子から与えられる。   The generation circuit 20 includes n half adders 201 and 202 (denoted as “HA” in the drawing). Each bit value of the input signal is input to the X terminal (first input terminal) of each half adder 201, 202, and the output signal is output from the S terminal (sum output terminal) of each half adder 201, 202. Each bit value is output. For the two half adders 201 and 202, the output from the C terminal (carry output terminal) of one half adder 201 is the Y terminal (second input terminal) of the other half adder 202. ). A predetermined signal (“1” in this example) is given to the Y terminal of the half adder 201. This signal is given from, for example, a power supply terminal or a ground terminal.

図4は、図3の生成回路20における入力信号(Y0,Y1)と出力信号(P0,P1)との関係を示す真理値表である。Y0およびY1は、それぞれ半加算器201および半加算器202のX端子に入力されるビット値である。また、P0およびP1は、それぞれ半加算器201および半加算器202のS端子から出力されるビット値である。この真理値表においては、下記条件(a)〜(c)の全てが満たされている。
(a)入力信号と出力信号とは1対1に対応する
(b)入力信号と出力信号とは相異なる
(c)入力信号と出力信号とは不可逆的である
FIG. 4 is a truth table showing the relationship between the input signals (Y0, Y1) and the output signals (P0, P1) in the generation circuit 20 of FIG. Y0 and Y1 are bit values input to the X terminals of the half adder 201 and the half adder 202, respectively. P0 and P1 are bit values output from the S terminals of the half adder 201 and the half adder 202, respectively. In this truth table, all of the following conditions (a) to (c) are satisfied.
(A) There is a one-to-one correspondence between the input signal and the output signal. (B) The input signal and the output signal are different. (C) The input signal and the output signal are irreversible.

なお、入力信号と出力信号とが不可逆的であるとは、全ての入力信号(本例では、(0,0)、(0,1)、(1,0)および(1,1)の4種類)について、入力信号と出力信号とを入れ替えたものが当該真理値表中に存在しないということである。例えば、入力信号が(0,0)であるとき、出力信号は(1,0)である。このとき、当該真理値表中には、入力信号と出力信号とを入れ替えた関係、すなわち(1,0)→(0,0)という関係は存在していない。他の入力信号(0,1)、(1,0)および(1,1)についても同様である。したがって、図4の真理値表においては、入力信号と出力信号とが不可逆的であると言える。   Note that the input signal and the output signal are irreversible means that all input signals (in this example, (0, 0), (0, 1), (1, 0), and (1, 1) 4). Type) means that the input signal and the output signal are not exchanged in the truth table. For example, when the input signal is (0, 0), the output signal is (1, 0). At this time, there is no relationship in which the input signal and the output signal are interchanged, that is, the relationship (1, 0) → (0, 0). The same applies to the other input signals (0, 1), (1, 0) and (1, 1). Therefore, in the truth table of FIG. 4, it can be said that the input signal and the output signal are irreversible.

図5は、各半加算器201,202の一例を示す回路構成図である。同図の半加算器は、4つのNAND回路と1つのインバータ回路とから構成されている。   FIG. 5 is a circuit configuration diagram showing an example of the half adders 201 and 202. The half adder shown in the figure is composed of four NAND circuits and one inverter circuit.

図2に戻って、選択回路30は、生成回路20が生成した識別信号(P0,P1)と半導体チップ11〜14のうち何れか一つを指定するアドレス信号(A0,A1)とを入力する。アドレス信号は、例えば、半導体装置1中に、半導体チップ11〜14とは別に設けられたロジック回路(図示せず)から与えられる。選択回路30は、アドレス信号が当該選択回路30の設けられた半導体チップを指定するものであるときに第1の値をもつ選択信号Sを出力し、アドレス信号が当該選択回路の設けられていない半導体チップを指定するものであるときに第2の値をもつ選択信号Sを出力する。ここで、第1および第2の値は、例えば、それぞれ「1」および「0」である。ただし、第1の値が「0」、第2の値が「1」であってもよい。   Returning to FIG. 2, the selection circuit 30 inputs the identification signal (P0, P1) generated by the generation circuit 20 and the address signal (A0, A1) for designating one of the semiconductor chips 11-14. . The address signal is given from, for example, a logic circuit (not shown) provided in the semiconductor device 1 separately from the semiconductor chips 11 to 14. The selection circuit 30 outputs a selection signal S having a first value when the address signal designates a semiconductor chip provided with the selection circuit 30, and the address signal is not provided with the selection circuit. When specifying a semiconductor chip, a selection signal S having a second value is output. Here, the first and second values are, for example, “1” and “0”, respectively. However, the first value may be “0” and the second value may be “1”.

図6は、選択回路30の一例を示す回路構成図である。同図においては、半導体チップ11〜14に設けられた選択回路30をそれぞれ、便宜的に選択回路31〜34と表している。これらの選択回路31〜34は、互いに同一の回路構成を有している。また、半導体チップ11〜14それぞれの識別信号ID1〜ID4(すなわち生成回路21〜24が生成した識別信号)を概念的に図示している。   FIG. 6 is a circuit configuration diagram illustrating an example of the selection circuit 30. In the figure, the selection circuits 30 provided in the semiconductor chips 11 to 14 are respectively represented as selection circuits 31 to 34 for convenience. These selection circuits 31 to 34 have the same circuit configuration. In addition, identification signals ID1 to ID4 (that is, identification signals generated by the generation circuits 21 to 24) of the semiconductor chips 11 to 14 are conceptually illustrated.

同図中の各選択回路30は、n個のEOR回路を含んでいる。各EOR回路の第1入力端子に識別信号の各ビット値が入力されるとともに、第2入力端子にアドレス信号の各ビット値が入力される。各EOR回路からの出力は、AND回路に入力される。このAND回路は、上記選択信号Sを出力する。なお、AND回路の代わりに、NAND回路を用いてもよい。同図においては、選択回路31〜34から出力される選択信号Sをそれぞれ、便宜的に選択信号S1〜S4と表している。これらの選択信号S1〜S4のうち、1つが上記第1の値となり、残りの3つが上記第2の値となるように構成されている。   Each selection circuit 30 in the figure includes n EOR circuits. Each bit value of the identification signal is input to the first input terminal of each EOR circuit, and each bit value of the address signal is input to the second input terminal. The output from each EOR circuit is input to the AND circuit. The AND circuit outputs the selection signal S. Note that a NAND circuit may be used instead of the AND circuit. In the figure, the selection signals S output from the selection circuits 31 to 34 are respectively represented as selection signals S1 to S4 for convenience. Among these selection signals S1 to S4, one is configured to be the first value, and the remaining three are configured to be the second value.

図3および図6でそれぞれ説明した生成回路20および選択回路30を用いた場合、図2のブロック図に相当する回路構成図は、図7のようになる。   When the generation circuit 20 and the selection circuit 30 described in FIGS. 3 and 6 are used, a circuit configuration diagram corresponding to the block diagram of FIG. 2 is as shown in FIG.

図1に戻って、各半導体チップ11〜14には、電極パッド71〜74が設けられている。電極パッド71は、生成回路20への入力信号を入力するパッドである。電極パッド72は、生成回路20からの出力信号を出力するパッドである。電極パッド73は、選択回路30へのアドレス信号を入力するパッドである。また、電極パッド74は、選択回路30からの選択信号を出力するパッドである。これらのうち電極パッド71〜73は、nビット分、すなわちn個ずつ設けられている。   Returning to FIG. 1, electrode pads 71 to 74 are provided on the respective semiconductor chips 11 to 14. The electrode pad 71 is a pad for inputting an input signal to the generation circuit 20. The electrode pad 72 is a pad that outputs an output signal from the generation circuit 20. The electrode pad 73 is a pad for inputting an address signal to the selection circuit 30. The electrode pad 74 is a pad that outputs a selection signal from the selection circuit 30. Among these, the electrode pads 71 to 73 are provided for n bits, that is, n.

各インターポーザ90には、電極パッド81〜83が設けられている。電極パッド81〜83もn個ずつ設けられており、それぞれ電極パッド71〜73と接続されている。隣り合う2つのインターポーザ90について、一方のインターポーザ90に設けられた電極パッド81は、もう一方のインターポーザ90に設けられた電極パッド82に接続されている。また、隣り合う2つのインターポーザ90間で、電極パッド83どうしは互いに接続されている。   Each interposer 90 is provided with electrode pads 81-83. There are also n electrode pads 81 to 83, which are connected to the electrode pads 71 to 73, respectively. For two adjacent interposers 90, the electrode pad 81 provided on one interposer 90 is connected to the electrode pad 82 provided on the other interposer 90. Further, the electrode pads 83 are connected to each other between two adjacent interposers 90.

続いて、本実施形態の効果を説明する。半導体装置1においては、複数の半導体チップ11〜14の各々に生成回路20が設けられている。ある半導体チップ内の生成回路20は、別の半導体チップの識別信号を入力して、その識別信号に基づいて当該生成回路20が設けられた半導体チップの識別信号を生成する。したがって、生成回路20どうしを直列に接続することにより、各半導体チップ11〜14内で次々と識別信号が生成される。このため、この半導体装置1によれば、各半導体チップ11〜14に識別信号を容易に付与することができる。   Then, the effect of this embodiment is demonstrated. In the semiconductor device 1, the generation circuit 20 is provided in each of the plurality of semiconductor chips 11 to 14. The generation circuit 20 in a certain semiconductor chip receives an identification signal of another semiconductor chip, and generates an identification signal of the semiconductor chip provided with the generation circuit 20 based on the identification signal. Therefore, by connecting the generating circuits 20 in series, identification signals are generated one after another in each of the semiconductor chips 11-14. For this reason, according to this semiconductor device 1, an identification signal can be easily given to each semiconductor chip 11-14.

例えば、図3において、生成回路21に(1,1)という入力信号を与えた場合、生成回路21〜24は、それぞれ(0,0)、(1,0)、(0,1)および(1,1)という出力信号を出力する。これらの出力信号が、それぞれ半導体チップ11〜14の識別信号となる。なお、上記初期値が(1,1)であることは必須ではなく、(0,0)、(0,1)および(1,0)の何れであってもよい。   For example, in FIG. 3, when an input signal (1, 1) is given to the generation circuit 21, the generation circuits 21 to 24 have (0, 0), (1, 0), (0, 1), and ( 1, 1) is output. These output signals become identification signals for the semiconductor chips 11 to 14, respectively. Note that the initial value is not necessarily (1, 1), and may be any of (0, 0), (0, 1), and (1, 0).

生成回路20を図3のように構成した場合、簡素な回路構成で生成回路20を実現することができる。   When the generation circuit 20 is configured as shown in FIG. 3, the generation circuit 20 can be realized with a simple circuit configuration.

生成回路20についての真理値表において上記条件(a)〜(c)の全てが満たされている。これにより、直列に接続された2個の生成回路20からの出力信号が重複することはなくなる。したがって、nビット構成では理論上最大である2通りの識別信号を生成することができる。 In the truth table for the generation circuit 20, all of the above conditions (a) to (c) are satisfied. As a result, output signals from the 2 n generation circuits 20 connected in series do not overlap. Therefore, it is possible to generate an identification signal of 2 n as a theoretically maximum at n bits.

各半導体チップ11〜14には、選択回路30が設けられている。選択回路30は、それ自身の設けられた半導体チップがアドレス信号によって指定されるときに第1の値をもつ選択信号を出力し、他の半導体チップが指定されるときに第2の値をもつ選択信号を出力する。これにより、半導体チップ11〜14の中から所望の半導体チップを容易に選択することができる。   Each semiconductor chip 11 to 14 is provided with a selection circuit 30. The selection circuit 30 outputs a selection signal having a first value when a semiconductor chip provided on the selection circuit 30 is specified by an address signal, and has a second value when another semiconductor chip is specified. Outputs a selection signal. Thereby, a desired semiconductor chip can be easily selected from the semiconductor chips 11 to 14.

例えば、図6において、アドレス信号(A0,A1)を(1,1)、(0,1)、(1,0)および(0,0)としたとき、選択信号の組合せ(S1,S2,S3,S4)はそれぞれ(1,0,0,0)、(0,1,0,0)、(0,0,1,0)および(0,0,0,1)となる。すなわち、それぞれ半導体チップ11、半導体チップ12、半導体チップ13および半導体チップ14が選択されることになる。   For example, in FIG. 6, when the address signal (A0, A1) is (1, 1), (0, 1), (1, 0) and (0, 0), the combination of the selection signals (S1, S2, S3, S4) become (1, 0, 0, 0), (0, 1, 0, 0), (0, 0, 1, 0) and (0, 0, 0, 1), respectively. That is, the semiconductor chip 11, the semiconductor chip 12, the semiconductor chip 13, and the semiconductor chip 14 are selected, respectively.

選択回路30を図6のように構成した場合、簡素な回路構成で選択回路30を実現することができる。   When the selection circuit 30 is configured as shown in FIG. 6, the selection circuit 30 can be realized with a simple circuit configuration.

相異なる半導体チップ11〜14に設けられた生成回路21〜24が互いに同一の回路構成を有している。これにより、生成回路21〜24の回路構成が相異なる場合に比して、半導体チップ11〜14の製造を簡素化することができる。   The generation circuits 21 to 24 provided in different semiconductor chips 11 to 14 have the same circuit configuration. Thereby, the manufacturing of the semiconductor chips 11 to 14 can be simplified as compared with the case where the circuit configurations of the generation circuits 21 to 24 are different.

さらに、本実施形態においては、半導体チップ11〜14全体としても互いに同一の回路構成を有しているため、これらの半導体チップ11〜14の製造が一層簡素化されている。一方で、同一の回路構成を有する複数の半導体チップが1つの半導体装置に設けられている場合、それらの半導体チップを区別するために、各半導体チップに固有の識別信号を付与する必要がある。したがって、かかる場合、識別信号を容易に付与することのできる半導体装置1が特に有用となる。   Furthermore, in this embodiment, since the semiconductor chips 11 to 14 as a whole have the same circuit configuration, the manufacture of these semiconductor chips 11 to 14 is further simplified. On the other hand, when a plurality of semiconductor chips having the same circuit configuration are provided in one semiconductor device, it is necessary to give a unique identification signal to each semiconductor chip in order to distinguish the semiconductor chips. Therefore, in such a case, the semiconductor device 1 that can easily give an identification signal is particularly useful.

ところで、特許文献2にも、互いに積層された複数の半導体チップを備える半導体装置が開示されている。図15に示すように、同文献に記載の半導体装置100においては、同一構造の複数の半導体チップ101〜104が、インターポーザ190を介して互いに積層されている。インターポーザ190内の配線は、表裏で位置がずれるように形成されている。また、最下層に位置するインターポーザ190には、外部端子111〜114が形成されている。これらの外部端子111〜114は、それぞれ電極パッド131〜134と電気的に接続されている。電極パッド131〜134は、それぞれ半導体チップ101〜104内に設けられており、各半導体チップ101〜104から出力されるべき選択信号S1〜S4を出力するパッドである。   Incidentally, Patent Document 2 also discloses a semiconductor device including a plurality of semiconductor chips stacked on each other. As shown in FIG. 15, in the semiconductor device 100 described in the same document, a plurality of semiconductor chips 101 to 104 having the same structure are stacked on each other via an interposer 190. The wiring in the interposer 190 is formed so that the position is shifted between the front and back sides. In addition, external terminals 111 to 114 are formed on the interposer 190 located at the lowest layer. These external terminals 111 to 114 are electrically connected to electrode pads 131 to 134, respectively. The electrode pads 131 to 134 are provided in the semiconductor chips 101 to 104, respectively, and are pads that output selection signals S1 to S4 to be output from the semiconductor chips 101 to 104, respectively.

この半導体装置100においては、ロジック回路121内に設けられたデコード回路122によって、半導体チップ101〜104それぞれの選択信号S1〜S4が生成される。それらの選択信号S1〜S4はそれぞれ、最下層に位置するインターポーザ190の外部端子111〜114に与えられる。これにより、電極パッド131〜134から、所望の選択信号S1〜S4が出力されることになる。   In the semiconductor device 100, selection signals S1 to S4 of the semiconductor chips 101 to 104 are generated by a decode circuit 122 provided in the logic circuit 121. These selection signals S1 to S4 are respectively applied to the external terminals 111 to 114 of the interposer 190 located in the lowest layer. Thus, desired selection signals S1 to S4 are output from the electrode pads 131 to 134.

しかしながら、半導体装置100の場合、構造上、配線エリアの面積が大きくなってしまう。なぜなら、多段になればなるほど(並列接続の数が多くなればなるほど)、その分の配線エリアが必要となるからである。また、各半導体チップ101〜104に識別信号を持たせることができないため、選択信号S1〜S4を生成するデコード回路122を設ける必要がある。さらに、選択信号S1〜S4間で、選択信号線の長さが大きく相違するため、配線容量値および抵抗値に大きな差が生じ、それによりスキュー(信号入力タイミングのずれ)が大きくなってしまう。このことは、チップの動作マージンの悪化につながる。なお、選択信号線とは、外部端子111〜114のそれぞれから電極パッド131〜134にまで至る信号線を指している。   However, in the case of the semiconductor device 100, the area of the wiring area increases due to the structure. This is because the number of wiring areas is increased as the number of stages increases (the number of parallel connections increases). In addition, since each semiconductor chip 101-104 cannot have an identification signal, it is necessary to provide a decode circuit 122 that generates selection signals S1-S4. Furthermore, since the lengths of the selection signal lines are greatly different among the selection signals S1 to S4, a large difference occurs in the wiring capacitance value and the resistance value, thereby increasing the skew (shift in signal input timing). This leads to deterioration of the operating margin of the chip. Note that the selection signal line refers to a signal line extending from each of the external terminals 111 to 114 to the electrode pads 131 to 134.

これに対して、半導体装置1においては、半導体チップの個数をXとしたとき、必要な信号線の数Nは、N=2・logXで与えられる。例えば、X=8の場合、N=6(アドレス信号用に3本、識別信号用に3本)となり、図15の半導体装置100よりも2本少なくすることができる。よって、配線エリアの面積を小さく抑えることができる。また、各半導体チップ11〜14自身が生成回路20および選択回路30を備えているため、半導体装置100とは異なり、外部から選択信号S1〜S4を与える必要がない。したがって、半導体チップ11〜14の外部にデコード回路を設ける必要がない分、半導体装置全体の構成を簡素化することができる。さらに、選択信号S1〜S4間でのスキューも小さく抑えることができる。 On the other hand, in the semiconductor device 1, when the number of semiconductor chips is X, the required number N of signal lines is given by N = 2 · log 2 X. For example, when X = 8, N = 6 (three for the address signal and three for the identification signal), which is two less than the semiconductor device 100 of FIG. Therefore, the area of the wiring area can be kept small. Further, since each of the semiconductor chips 11 to 14 itself includes the generation circuit 20 and the selection circuit 30, unlike the semiconductor device 100, it is not necessary to apply the selection signals S1 to S4 from the outside. Therefore, since it is not necessary to provide a decode circuit outside the semiconductor chips 11 to 14, the configuration of the entire semiconductor device can be simplified. Further, the skew between the selection signals S1 to S4 can be suppressed to be small.

本発明による半導体装置は、上記実施形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。例えば、上記実施形態においては半加算器を用いて生成回路20を構成する例を示したが、図8に示すように、半減算器を用いて生成回路20を構成してもよい。同図中の生成回路20は、n個の半減算器206,207(図中、「HS」と記載)を含んでいる。各半減算器206,207のX端子(第1入力端子)に入力信号の各ビット値が入力されるとともに、各半減算器206,207のD端子(差出力端子)から出力信号の各ビット値が出力される。また、2つの半減算器206および半減算器207について、一方の半減算器206のB端子(借り出力端子)からの出力が、もう一方の半減算器207のY端子(第2入力端子)に入力されるように構成されている。なお、半減算器206のY端子には、所定の信号(本例では、「1」)が与えられる。   The semiconductor device according to the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications are possible. For example, in the above-described embodiment, an example in which the generation circuit 20 is configured using a half adder has been described. However, as illustrated in FIG. 8, the generation circuit 20 may be configured using a half subtractor. The generation circuit 20 in the figure includes n half subtractors 206 and 207 (denoted as “HS” in the figure). Each bit value of the input signal is input to the X terminal (first input terminal) of each half subtractor 206, 207, and each bit of the output signal from the D terminal (difference output terminal) of each half subtractor 206, 207. The value is output. For the two half subtractors 206 and 207, the output from the B terminal (borrowed output terminal) of one half subtractor 206 is the Y terminal (second input terminal) of the other half subtractor 207. It is comprised so that it may be input. A predetermined signal (“1” in this example) is given to the Y terminal of the half subtractor 206.

図9は、図8の生成回路20における入力信号(Y0,Y1)と出力信号(P0,P1)との関係を示す真理値表である。この真理値表においても、上記条件(a)〜(c)の全てが満たされている。図10は、各半減算器206,207の一例を示す回路構成図である。同図の半減算器は、3つのNAND回路と3つのインバータ回路とから構成されている。   FIG. 9 is a truth table showing the relationship between the input signals (Y0, Y1) and the output signals (P0, P1) in the generation circuit 20 of FIG. Also in this truth table, all of the above conditions (a) to (c) are satisfied. FIG. 10 is a circuit configuration diagram showing an example of each of the half subtracters 206 and 207. The half subtracter shown in the figure is composed of three NAND circuits and three inverter circuits.

また、上記実施形態においてはn=2の場合の例を示したが、nは2以上の整数であればいくつであってもよい。例えば、n=3の場合であれば、図11に示すように生成回路20を構成することができる。同図においては、8個の生成回路20が直列に接続されている。各生成回路20は、3個の半加算器201,202,203を含んでいる。これらの半加算器201,202,203間の接続関係は、図3の場合と同様である。   Moreover, although the example in the case of n = 2 was shown in the said embodiment, as long as n is an integer greater than or equal to 2, any number may be sufficient. For example, if n = 3, the generation circuit 20 can be configured as shown in FIG. In the figure, eight generation circuits 20 are connected in series. Each generation circuit 20 includes three half adders 201, 202, and 203. The connection relationship between these half adders 201, 202, and 203 is the same as in FIG.

図12は、図11の生成回路20における入力信号(Y0,Y1,Y2)と出力信号(P0,P1,P2)との関係を示す真理値表である。Y2は半加算器203のX端子に入力されるビット値であり、P2は半加算器203のS端子から出力されるビット値である。この真理値表においても、上記条件(a)〜(c)の全てが満たされている。   FIG. 12 is a truth table showing the relationship between the input signals (Y0, Y1, Y2) and the output signals (P0, P1, P2) in the generation circuit 20 of FIG. Y2 is a bit value input to the X terminal of the half adder 203, and P2 is a bit value output from the S terminal of the half adder 203. Also in this truth table, all of the above conditions (a) to (c) are satisfied.

また、上記実施形態においてはインターポーザを介して複数の半導体チップを積層する例を示したが、図13に示すように、半導体チップどうしを直接に積層してもよい。同図においては、半導体チップ16〜19が、インターポーザを介さずに互いに積層される。隣り合う半導体チップ間は、例えば半田バンプによって電気的に接続することができる。図示しないが、各半導体チップ16〜19内には、生成回路20および選択回路30が形成されている。   Moreover, although the example which laminates | stacks several semiconductor chips via an interposer was shown in the said embodiment, as shown in FIG. 13, you may laminate | stack a semiconductor chip directly. In the figure, semiconductor chips 16 to 19 are stacked on each other without using an interposer. Adjacent semiconductor chips can be electrically connected by, for example, solder bumps. Although not shown, a generation circuit 20 and a selection circuit 30 are formed in each of the semiconductor chips 16-19.

各半導体チップ16〜19は、図14に示すように、所定の回路が形成された半導体基板41と、その回路形成面41a上に設けられた再配線層42とを含んでいる。半導体基板41には、貫通電極43および配線44が形成されている。また、再配線層42には、再配線45が形成されている。これらの貫通電極43および再配線45を通じて、隣り合う半導体チップの配線44どうしが電気的に接続されている。   As shown in FIG. 14, each of the semiconductor chips 16 to 19 includes a semiconductor substrate 41 on which a predetermined circuit is formed, and a rewiring layer 42 provided on the circuit formation surface 41a. A through electrode 43 and a wiring 44 are formed in the semiconductor substrate 41. A rewiring 45 is formed in the rewiring layer 42. The wirings 44 of adjacent semiconductor chips are electrically connected to each other through the through electrode 43 and the rewiring 45.

また、上記実施形態においては複数の半導体チップが互いに積層された例を示したが、複数の半導体チップが積層されていることは必須ではない。例えば、複数の半導体チップが同一平面上に配置されていてもよい。   In the above embodiment, an example in which a plurality of semiconductor chips are stacked on each other has been described. However, it is not essential that a plurality of semiconductor chips be stacked. For example, a plurality of semiconductor chips may be arranged on the same plane.

また、上記実施形態においては生成回路21に与える入力信号が固定信号である場合の例を示したが、その入力信号は可変信号であってもよい。その場合、その入力信号を適宜変えることにより、アドレス信号を固定しても、所望の半導体チップを選択することが可能となる。   Moreover, although the example in which the input signal supplied to the generation circuit 21 is a fixed signal has been described in the above embodiment, the input signal may be a variable signal. In that case, by appropriately changing the input signal, a desired semiconductor chip can be selected even if the address signal is fixed.

また、半導体チップはパッケージ化されたものであってもよい。すなわち、本明細書においては、いわゆる半導体パッケージも、半導体チップという概念に含むものとする。   The semiconductor chip may be packaged. That is, in this specification, a so-called semiconductor package is also included in the concept of a semiconductor chip.

本発明による半導体装置の一実施形態を模式的に示す斜視図である。1 is a perspective view schematically showing an embodiment of a semiconductor device according to the present invention. 生成回路および選択回路を示すブロック図である。It is a block diagram showing a generation circuit and a selection circuit. 生成回路の一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of a production | generation circuit. 図3の生成回路についての真理値表である。4 is a truth table for the generation circuit of FIG. 3. 半加算器の一例を示す回路構成図である。It is a circuit block diagram which shows an example of a half adder. 選択回路の一例を示す回路構成図である。It is a circuit block diagram which shows an example of a selection circuit. 生成回路および選択回路の一例を示す回路構成図である。It is a circuit block diagram which shows an example of a production | generation circuit and a selection circuit. 生成回路の一変形例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the modification of a production | generation circuit. 図8の生成回路についての真理値表である。9 is a truth table for the generation circuit of FIG. 半減算器の一例を示す回路構成図である。It is a circuit block diagram which shows an example of a half subtractor. 生成回路の他の変形例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the other modification of a production | generation circuit. 図11の生成回路についての真理値表である。12 is a truth table for the generation circuit of FIG. 半導体チップの一変形例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows one modification of a semiconductor chip. 図13の半導体チップの構成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the structure of the semiconductor chip of FIG. 特許文献2に記載の半導体装置を説明するための図である。10 is a diagram for explaining a semiconductor device described in Patent Document 2. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 半導体装置
11 半導体チップ
12 半導体チップ
13 半導体チップ
14 半導体チップ
20 生成回路
21 生成回路
22 生成回路
23 生成回路
24 生成回路
30 選択回路
31 選択回路
32 選択回路
33 選択回路
34 選択回路
41 半導体基板
41a 回路形成面
42 再配線層
43 貫通電極
44 配線
45 再配線
71 電極パッド
72 電極パッド
73 電極パッド
74 電極パッド
81 電極パッド
82 電極パッド
83 電極パッド
90 インターポーザ
201 半加算器
202 半加算器
203 半加算器
206 半減算器
207 半減算器
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor device 11 Semiconductor chip 12 Semiconductor chip 13 Semiconductor chip 14 Semiconductor chip 20 Generation circuit 21 Generation circuit 22 Generation circuit 23 Generation circuit 24 Generation circuit 30 Selection circuit 31 Selection circuit 32 Selection circuit 33 Selection circuit 34 Selection circuit 41 Semiconductor substrate 41a Circuit Formation surface 42 Rewiring layer 43 Through electrode 44 Wiring 45 Rewiring 71 Electrode pad 72 Electrode pad 73 Electrode pad 74 Electrode pad 81 Electrode pad 82 Electrode pad 83 Electrode pad 90 Interposer 201 Half adder 202 Half adder 203 Half adder 206 Half subtractor 207 Half subtractor

Claims (10)

複数の半導体チップと、
前記各半導体チップ内に設けられ、当該各半導体チップに固有な識別信号を生成する生成回路と、を備え、
前記複数の半導体チップのうちの2つの半導体チップについて、一方の半導体チップ内に設けられた前記生成回路は、もう一方の半導体チップ内に設けられた前記生成回路が生成した前記識別信号を入力し、当該入力した識別信号に基づいて前記識別信号を生成するように構成されていることを特徴とする半導体装置。
A plurality of semiconductor chips;
A generation circuit that is provided in each semiconductor chip and generates an identification signal unique to each semiconductor chip;
For two semiconductor chips of the plurality of semiconductor chips, the generation circuit provided in one semiconductor chip inputs the identification signal generated by the generation circuit provided in the other semiconductor chip. The semiconductor device is configured to generate the identification signal based on the input identification signal.
請求項1に記載の半導体装置において、
前記複数の半導体チップ内に設けられた前記生成回路は、互いに同一の回路構成を有している半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
The generation circuit provided in the plurality of semiconductor chips is a semiconductor device having the same circuit configuration.
請求項1または2に記載の半導体装置において、
前記複数の半導体チップは、互いに同一の回路構成を有している半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1 or 2,
The plurality of semiconductor chips are semiconductor devices having the same circuit configuration.
請求項1乃至3いずれかに記載の半導体装置において、
前記生成回路は、n(nは2以上の整数)ビットの入力信号を入力して、前記nビットの出力信号を前記識別信号として出力するように構成されており、
前記入力信号と前記出力信号との関係を表した真理値表においては、条件(a)〜(c):
(a)前記入力信号と前記出力信号とは1対1に対応する、
(b)前記入力信号と前記出力信号とは相異なる、
(c)前記入力信号と前記出力信号とは不可逆的である、
の全てが満たされる半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
The generation circuit is configured to input an input signal of n (n is an integer of 2 or more) bits and output the output signal of n bits as the identification signal,
In the truth table representing the relationship between the input signal and the output signal, the conditions (a) to (c):
(A) The input signal and the output signal have a one-to-one correspondence.
(B) The input signal and the output signal are different.
(C) The input signal and the output signal are irreversible.
A semiconductor device that satisfies all of the above.
請求項4に記載の半導体装置において、
前記生成回路は、前記n個の半加算器を含んでおり、
前記各半加算器の第1入力端子に、前記nビットの前記入力信号の各ビット値が入力され、
前記各半加算器の和出力端子から、前記nビットの前記出力信号の各ビット値が出力され、
前記n個の半加算器のうちの2つの半加算器について、一方の半加算器の桁上げ出力端子からの出力が、もう一方の半加算器の第2入力端子に入力されるように構成されている半導体装置。
The semiconductor device according to claim 4,
The generation circuit includes the n half adders,
Each bit value of the n-bit input signal is input to the first input terminal of each half adder,
Each bit value of the output signal of n bits is output from the sum output terminal of each half adder,
The two half adders of the n half adders are configured such that the output from the carry output terminal of one half adder is input to the second input terminal of the other half adder. Semiconductor device.
請求項4に記載の半導体装置において、
前記生成回路は、前記n個の半減算器を含んでおり、
前記各半減算器の第1入力端子に、前記nビットの前記入力信号の各ビット値が入力され、
前記各半減算器の差出力端子から、前記nビットの前記出力信号の各ビット値が出力され、
前記n個の半減算器のうちの2つの半減算器について、一方の半減算器の借り出力端子からの出力が、もう一方の半減算器の第2入力端子に入力されるように構成されている半導体装置。
The semiconductor device according to claim 4,
The generation circuit includes the n half subtractors,
Each bit value of the n-bit input signal is input to a first input terminal of each half subtractor,
Each bit value of the output signal of n bits is output from the difference output terminal of each half subtractor,
Two of the n half subtractors are configured such that an output from a borrow output terminal of one half subtractor is input to a second input terminal of the other half subtractor. Semiconductor device.
請求項1乃至6いずれかに記載の半導体装置において、
前記各半導体チップ内に設けられた選択回路を備え、
前記選択回路は、前記生成回路が生成した前記識別信号と前記複数の半導体チップのうち何れか一つを指定するアドレス信号とを入力し、前記アドレス信号が当該選択回路の設けられた前記半導体チップを指定するものであるときに第1の値をもつ選択信号を出力し、前記アドレス信号が当該選択回路の設けられていない前記半導体チップを指定するものであるときに第2の値をもつ選択信号を出力するように構成されている半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
A selection circuit provided in each of the semiconductor chips,
The selection circuit receives the identification signal generated by the generation circuit and an address signal designating any one of the plurality of semiconductor chips, and the semiconductor chip in which the selection circuit is provided A selection signal having a first value is output when the address signal is to be specified, and a selection signal having a second value is selected when the address signal is to specify the semiconductor chip not provided with the selection circuit. A semiconductor device configured to output a signal.
請求項7に記載の半導体装置において、
前記選択回路は、複数のEOR回路を含んでおり、
前記各EOR回路の第1入力端子には、前記識別信号の各ビット値が入力され、
前記各EOR回路の第2入力端子には、前記アドレス信号の各ビット値が入力されるように構成されている半導体装置。
The semiconductor device according to claim 7,
The selection circuit includes a plurality of EOR circuits,
Each bit value of the identification signal is input to the first input terminal of each EOR circuit,
A semiconductor device configured such that each bit value of the address signal is input to a second input terminal of each EOR circuit.
請求項8に記載の半導体装置において、
前記選択回路は、前記各EOR回路からの出力を入力し、前記選択信号を出力するAND回路またはNAND回路を含んでいる半導体装置。
The semiconductor device according to claim 8,
The semiconductor device includes an AND circuit or a NAND circuit that receives an output from each EOR circuit and outputs the selection signal.
請求項1乃至9いずれかに記載の半導体装置において、
前記複数の半導体チップは、互いに積層されている半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
The semiconductor device in which the plurality of semiconductor chips are stacked on each other.
JP2006030210A 2006-02-07 2006-02-07 Semiconductor device Pending JP2007213654A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006030210A JP2007213654A (en) 2006-02-07 2006-02-07 Semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006030210A JP2007213654A (en) 2006-02-07 2006-02-07 Semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007213654A true JP2007213654A (en) 2007-08-23

Family

ID=38491947

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006030210A Pending JP2007213654A (en) 2006-02-07 2006-02-07 Semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007213654A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011081881A (en) * 2009-10-09 2011-04-21 Elpida Memory Inc Semiconductor memory device and data processing system
US10153006B2 (en) 2015-10-14 2018-12-11 Fujitsu Limited Stacked semiconductor device and control method for the same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000133000A (en) * 1998-10-28 2000-05-12 Toshiba Corp Memory hybrid logic lsi
JP2007157266A (en) * 2005-12-06 2007-06-21 Elpida Memory Inc Laminated type semiconductor device and chip selection circuit

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000133000A (en) * 1998-10-28 2000-05-12 Toshiba Corp Memory hybrid logic lsi
JP2007157266A (en) * 2005-12-06 2007-06-21 Elpida Memory Inc Laminated type semiconductor device and chip selection circuit

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011081881A (en) * 2009-10-09 2011-04-21 Elpida Memory Inc Semiconductor memory device and data processing system
US10153006B2 (en) 2015-10-14 2018-12-11 Fujitsu Limited Stacked semiconductor device and control method for the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8076764B2 (en) Stacked type semiconductor memory device and chip selection circuit
JP4577688B2 (en) Semiconductor chip selection method, semiconductor chip, and semiconductor integrated circuit device
JP2009200101A (en) Semiconductor chip and semiconductor device
JP2013504183A (en) Use of discontinuous Si through-electrodes in integrated circuits adapted for stacking
JP5932267B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2005141829A (en) Stacked memory, memory module, and memory system
TWI793384B (en) Stacked device , memory die , and addressing method
US20110260331A1 (en) Stacked semiconductor device
KR102605145B1 (en) Semiconductor apparatus including a plurality of dies operating as a plurality of channels
TWI443802B (en) Pulse type layer-id detector for 3d-ic and method of the same
JP2012222326A (en) Semiconductor device
JP5197080B2 (en) Semiconductor device and data processor
JP2007213654A (en) Semiconductor device
KR100799158B1 (en) Semiconductor and semiconductor memory module having the same
JP2017076685A (en) Semiconductor device and semiconductor device control method
JP2011166026A (en) Semiconductor device
CN105074704A (en) Integrated circuit floorplan for compact clock distribution
JP2014220473A (en) Integrated circuit device and method of constructing the same
KR20170082798A (en) Memory module
US7643366B2 (en) Semiconductor integrated circuit
JP2008159815A (en) Manufacturing method for semiconductor device
JP2021061078A (en) Semiconductor device
US9941192B2 (en) Semiconductor device having repairable penetration electrode
JP5473649B2 (en) Semiconductor device and semiconductor module
JP2023095485A (en) Semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081113

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100921

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110201