JP2007188092A - Multi-beam scanner, multibeam scanning method, light source unit, and image forming apparatus - Google Patents

Multi-beam scanner, multibeam scanning method, light source unit, and image forming apparatus Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To individually detect a plurality of deflected light beams, using a synchronous photodetector in multibeam scanning. <P>SOLUTION: The multi-beam scanner is provided with the synchronous photodetectors 22, 24 for detecting deflected light beams traveling toward, the scanning region of a surface 20 to be scanned. The light source unit 10 for emitting a plurality of light beams is provided with N pieces of semiconductor lasers 1a-1c and N pieces of coupling lenses 2a-2c, corresponding thereto at 1:1 ratio. The coupling lenses are of the same structure and are set mutually nonparallel in the optical axes in the main scanning direction. In the light-receiving face position of the synchronous photodetectors, where two arbitrary deflected light beams adjacent to each other are B<SB>i</SB>, B<SB>i+1</SB>(i=1 to N-1), an angle ϕ<SB>i</SB>, formed in the main scanning direction by the optical axis of the coupling lens corresponding to the semiconductor laser that emits the beams B<SB>i</SB>, B<SB>i+1</SB>, is set so that the interval in the main scanning direction of the beams B<SB>i</SB>, B<SB>i+1</SB>becomes equal to or larger than the resolution Δ of the synchronous photodetectors. Thus, in the structure of the multi-beam scanner, each deflected light beam can be detected individually by the synchronous photodetectors. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

この発明は、マルチビーム走査装置・マルチビーム走査方法・光源装置・画像形成装置に関する。   The present invention relates to a multi-beam scanning device, a multi-beam scanning method, a light source device, and an image forming apparatus.

光源装置から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、共通の走査結像光学系により被走査面に向かって集光し、上記被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査装置は、従来から種々のものが提案され、光走査の高能率化の観点から、近来、その実現が意図されている。
マルチビーム走査を行うには複数の光ビームが必要であり、この光ビーム数に対応する数の発光部を光源装置に必要とする。
このような複数の発光部としては、半導体レーザアレイを用いることもできるし、複数の独立した半導体レーザを用いることもできる。
半導体レーザアレイは、アレイ配列した各発光部が互いに近接しているので、隣接する発光部の発光強度が互いに影響し合う所謂「クロストーク」の問題があるため、高精度の光量制御を行うことが難しい。
独立した複数の半導体レーザを発光部とする場合にはクロストークの問題はなく、個々の半導体レーザの光量制御を高精度に行うことができる。
マルチビーム走査の場合、被走査面の複数ラインが同時に走査されるので「偏向光ビームごとの走査開始位置」を揃える必要がある。これを行うのに、複数の偏向光ビームが形成する光スポットが「副走査方向へ1列に配列する」ようにし、光スポットの任意の1を「走査開始用の同期光検出手段」により検出し、全ての光スポットに対して同一の同期制御を行う方法が考えられる。
A plurality of deflected light beams that are radiated and deflected from the light source device are condensed toward the scanned surface by a common scanning imaging optical system, and are separated from each other in the sub-scanning direction on the scanned surface. Various types of multi-beam scanning devices that form a light spot and simultaneously scan a plurality of lines with the plurality of light spots have been proposed, and have recently been intended to be realized from the viewpoint of improving the efficiency of light scanning. ing.
In order to perform multi-beam scanning, a plurality of light beams are required, and the number of light emitting units corresponding to the number of light beams is required for the light source device.
As such a plurality of light emitting units, a semiconductor laser array can be used, or a plurality of independent semiconductor lasers can be used.
In the semiconductor laser array, since the arrayed light emitting sections are close to each other, there is a problem of so-called “crosstalk” in which the light emission intensities of adjacent light emitting sections affect each other. Is difficult.
When a plurality of independent semiconductor lasers are used as the light emitting section, there is no problem of crosstalk, and the light quantity control of each semiconductor laser can be performed with high accuracy.
In the case of multi-beam scanning, since a plurality of lines on the surface to be scanned are simultaneously scanned, it is necessary to align the “scanning start position for each deflected light beam”. To do this, the light spots formed by a plurality of deflected light beams are arranged in a line in the sub-scanning direction, and any one of the light spots is detected by the “synchronous light detecting means for starting scanning”. A method of performing the same synchronization control for all the light spots can be considered.

複数の光スポットが主走査方向に分離している場合は、「隣接する光スポット間の主走査方向の分離量」を予め設計条件として定めておき、最先に走査を開始する光スポットを上記同期光検出手段で検出し、検出信号に基づき「最先に走査を開始する光スポット」の走査開始の同期を取り、以下、後続する光スポットと「最先に走査を開始する光スポット」との、主走査方向の分離量に応じた遅延時間により、後続する光スポットの走査開始の同期信号を逐次に発生させる方法がある。
光源装置の発光部として「独立した複数の半導体レーザ」を用いる場合、機械的振動や環境変動に伴い、光学系の機械的精度が経時的に劣化して、光スポット相互の位置関係が経時的に変動すると、上述「光スポットの1つを基準として他の光スポットの走査開始の同期を取る方法」では、光スポット間の走査開始位置に経時的に「ずれ」を生じて書込まれる画像を劣化させる問題が考えられる。
従って、このような問題を回避するには、特許文献1に開示されている発明のように、複数の光スポットを主走査方向に分離して、個々の光スポットを個別的に検出し、複数の光スポットに対して個別的に走査開始の同期を取るようにするのが良い。
When a plurality of light spots are separated in the main scanning direction, the “separation amount in the main scanning direction between adjacent light spots” is set in advance as a design condition, and the light spot that starts scanning first is Based on the detection signal, the scanning start of the “light spot that starts scanning first” is synchronized, and the following light spot and “light spot that starts scanning first” are referred to below. There is a method of sequentially generating a synchronization signal for starting scanning of a subsequent light spot with a delay time corresponding to the separation amount in the main scanning direction.
When using “independent semiconductor lasers” as the light emitting part of the light source device, the mechanical accuracy of the optical system deteriorates with time due to mechanical vibration and environmental fluctuations, and the positional relationship between the light spots changes over time. In the above-described “method of synchronizing the start of scanning of another light spot with reference to one of the light spots”, an image is written with a “shift” in the scanning start position between the light spots with time. The problem of degrading can be considered.
Therefore, in order to avoid such a problem, as in the invention disclosed in Patent Document 1, a plurality of light spots are separated in the main scanning direction, and each light spot is individually detected, and a plurality of light spots are detected. It is preferable to synchronize the start of scanning individually with respect to the light spot.

特開平8−179229号公報JP-A-8-179229

この発明は、マルチビーム走査において、光源装置の発光部として、独立した複数の半導体レーザを用いる場合に、複数の偏向光ビームを同期光検出手段により個別的に検出できる、新規なマルチビーム走査装置およびマルチビーム走査方法、上記マルチビーム走査装置に用いられる新規な光源装置、上記マルチビーム走査装置を用いる新規な画像形成装置の実現を課題とする。   The present invention provides a novel multi-beam scanning device capable of individually detecting a plurality of deflected light beams by a synchronous light detecting means when a plurality of independent semiconductor lasers are used as light emitting units of a light source device in multi-beam scanning. Another object of the present invention is to realize a multi-beam scanning method, a novel light source device used in the multi-beam scanning device, and a novel image forming apparatus using the multi-beam scanning device.

この発明のマルチビーム走査装置は基本的に「光源装置から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系により被走査面に向かって集光し、被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査装置」であって、各偏向光ビームによる走査開始の同期をとるために「被走査面の走査領域へ向かう偏向光ビームを検出する同期光検出手段」を有する。
複数の偏向光ビームを被走査面に向かって集光し、光スポットを形成させるための「走査結像光学系」は、1枚のレンズで構成することも、2枚以上のレンズで構成することもでき、1枚以上のレンズと「結像機能を持つ1以上のミラー」を含む構成とすることもできる。
同期光検出手段は、上記の如く、被走査面の走査領域へ向かう偏向光ビームを検出する。従って、同期光検出手段は「受光手段」を有し、受光手段により偏向光ビームを受光して受光信号を発生する。受光手段の受光面は、例えば「被走査面と等価で、上記走査領域へ向かう光ビームを受光できる位置」に配備される。被走査面と等価な位置とは「受光面に受光される光ビームが、少なくとも主走査方向において、受光面上に実質的に集光するような位置」である。
The multi-beam scanning device according to the present invention basically “condenses a plurality of deflected light beams emitted and deflected from the light source device toward the surface to be scanned by the scanning imaging optical system, and on the surface to be scanned, A multi-beam scanning device that forms a plurality of light spots separated from each other in the sub-scanning direction, and simultaneously scans a plurality of lines with the plurality of light spots. A synchronizing light detecting means for detecting a deflected light beam directed toward the scanning region of the surface to be scanned.
The “scanning imaging optical system” for condensing a plurality of deflected light beams toward the surface to be scanned and forming a light spot is configured with one lens or with two or more lenses. It is also possible to adopt a configuration including one or more lenses and “one or more mirrors having an imaging function”.
As described above, the synchronization light detecting means detects the deflected light beam directed to the scanning region of the surface to be scanned. Therefore, the synchronization light detecting means has a “light receiving means”, and receives the deflected light beam by the light receiving means to generate a light receiving signal. The light receiving surface of the light receiving means is disposed at, for example, “a position equivalent to the surface to be scanned and capable of receiving a light beam directed to the scanning region”. The position equivalent to the surface to be scanned is “a position where the light beam received by the light receiving surface is substantially condensed on the light receiving surface at least in the main scanning direction”.

例えば、上記被走査面と等価な位置に受光面を配置し「走査結像光学系を通過した光ビーム」が受光面に入射するようにすれば、受光面上には被走査面におけると同様の光スポットが形成される。
走査結像光学系はしばしば、最も被走査面に近い位置に「回転多面鏡の面倒れや像面湾曲を補正するために、主走査方向に実質的にパワーを持たない長尺のトロイダルレンズやシリンドリカルレンズ」を有する。このような場合、長尺のトロイダルレンズやシリンドリカルレンズは主走査方向に実質的なパワーを持たないので、光スポットは、主走査方向に関しては、走査結像光学系のうち「上記トロイダルレンズやシリンドリカルレンズを除く部分」により形成されることになる。
このような場合、被走査面と等価な位置に同期光検出手段の受光面をおき、走査結像光学系のうち「上記トロイダルレンズやシリンドリカルレンズを除いた部分を通過した偏向光ビーム」を受光面で受光するようにすると、受光面上に形成されるのは「主走査方向に光スポットと同等の幅を持ち、副走査方向には長い長円形状のスポット」になるが、このようなスポットでも同期光として用いるのに十分である。この場合、上記受光面の近傍にシリンドリカルレンズを配して、光ビームを受光面上に、副走査方向においても集光させることもできる。
勿論、走査領域へ向かって偏向する光ビームを、走査結像光学系を介することなく、専用の光学系により、同期光検出手段の受光手段の受光面上に「少なくとも主走査方向に集光させる」ように構成してもよい。
For example, if the light receiving surface is arranged at a position equivalent to the scanned surface and the “light beam that has passed through the scanning imaging optical system” is incident on the light receiving surface, the light receiving surface is the same as that on the scanned surface. Light spots are formed.
The scanning imaging optical system often has a long toroidal lens that has substantially no power in the main scanning direction in order to correct surface tilt and field curvature of the rotating polygon mirror. It has a “cylindrical lens”. In such a case, since the long toroidal lens or cylindrical lens does not have substantial power in the main scanning direction, the light spot in the main scanning direction is “the above-mentioned toroidal lens or cylindrical lens in the scanning imaging optical system”. It is formed by the “part excluding the lens”.
In such a case, the light receiving surface of the synchronizing light detection means is placed at a position equivalent to the surface to be scanned, and the "deflected light beam that has passed through the scanning imaging optical system excluding the toroidal lens and cylindrical lens" is received. When the light is received by the surface, what is formed on the light receiving surface is a “long oval spot having a width equivalent to the light spot in the main scanning direction and long in the sub scanning direction”. Even a spot is sufficient for use as synchronized light. In this case, a cylindrical lens can be disposed in the vicinity of the light receiving surface, and the light beam can be condensed on the light receiving surface also in the sub-scanning direction.
Of course, the light beam deflected toward the scanning region is “condensed at least in the main scanning direction on the light receiving surface of the light receiving unit of the synchronous light detecting unit by the dedicated optical system without using the scanning imaging optical system. It may be configured as follows.

請求項1以下の発明を説明するのに先立ち、マルチビーム走査装置の参考例をいくつか説明する。
第1の参考例(以下、参考例1という。)のマルチビーム走査装置は、複数の光ビームを放射する光源装置が、N(≧2)個の半導体レーザ及び、これら半導体レーザの個々と1:1に対応するN個のカップリングレンズとを少なくとも有する。
上記N個のカップリングレンズは、同一の構成で、光軸を、主走査方向に関して平行にされる。即ち、N個のカップリングレンズの光軸は、これらを副走査方向から見ると互いに平行である。
同期光検出手段の上記受光面位置において、互いに隣接する任意の2つの偏向光ビームをBi、Bi+1(i=1〜N−1)とする。これらビームBi、Bi+1を放射する半導体レーザの発光部は、対応するカップリングレンズの光軸から主走査方向に、ずれ量:ζi,ζi+1だけずらされている。各半導体レーザと上記受光面位置との間に配置される光学系の主走査方向の横倍率をM(主)とするとき、同期光検出手段の分解能:Δに対し上記ずれ量:ζi,ζi+1は、
Δ≦M(主)・|ζi−ζi+1
を満足するように設定され、各偏向光ビームは同期光検出手段により個別的に検出可能である。
上記ずれ量:ζi,ζi+1(i=1〜N−1)のうちには「0であるもの」が含まれていてもよい。
「同期検出手段の分解能:Δ」は、同期光検出手段が、主走査方向に隣接した2つの偏向光ビームを「別個の光ビームとして分離して検出できる」ために、上記2つの偏向光ビームに要求される「受光面上における主走査方向の分離量の限界」を言う。この分解能は、典型的な受光手段であるフォトセンサで0.5mm程度である。
Prior to explaining the invention of claim 1 and below, some reference examples of the multi-beam scanning device will be explained.
The multi-beam scanning apparatus of the first reference example (hereinafter referred to as reference example 1) has N (≧ 2) semiconductor lasers, and each of the semiconductor lasers 1 and 1 emits a plurality of light beams. And at least N coupling lenses corresponding to 1.
The N coupling lenses have the same configuration, and the optical axes are made parallel with respect to the main scanning direction. That is, the optical axes of the N coupling lenses are parallel to each other when viewed from the sub-scanning direction.
Arbitrary two deflected light beams adjacent to each other at the light receiving surface position of the synchronous light detecting means are denoted as B i and B i + 1 (i = 1 to N−1). The light emitting portions of the semiconductor lasers that emit these beams B i and B i + 1 are shifted by shift amounts: ζ i and ζ i + 1 from the optical axis of the corresponding coupling lens in the main scanning direction. When the lateral magnification in the main scanning direction of the optical system arranged between each semiconductor laser and the light receiving surface position is M (main), the shift amount: ζ i , with respect to the resolution: Δ of the synchronous light detection means, ζ i + 1 is
Δ ≦ M (Main) ・ | ζ i −ζ i + 1
And each deflected light beam can be individually detected by the synchronous light detecting means.
Of the deviation amounts: ζ i and ζ i + 1 (i = 1 to N−1), “zero” may be included.
“Resolution of the synchronization detection means: Δ” means that the synchronization light detection means can “separately detect two polarized light beams adjacent to each other in the main scanning direction as separate light beams”. The “limit of the amount of separation in the main scanning direction on the light receiving surface” is required. This resolution is about 0.5 mm in a photosensor which is a typical light receiving means.

第2の参考例(以下、参考例2とう。)のマルチビーム走査装置は、複数の光ビームを放射する光源装置が、第1光源部、第2光源部およびビーム合成手段を有する。
「第1光源部」は、n(≧2)個の半導体レーザと、これら半導体レーザの個々と1:1に対応するn個のカップリングレンズと、これらn個の半導体レーザおよびn個のカップリングレンズを、n個のカップリングレンズの光軸を主走査方向に関して互いに平行にして、所定の位置関係に保って一体的に保持する保持体とを有する。
「第2光源部」は、m(≧2)個の半導体レーザと、これら半導体レーザの個々と1:1に対応するm個のカップリングレンズと、これらm個の半導体レーザおよびm個のカップリングレンズを、m個のカップリングレンズの光軸を主走査方向に関して互いに平行にして、所定の位置関係に保って一体的に保持する保持体とを有する。
「ビーム合成手段」は、第1光源部から放射されるn本の光ビームと、第2光源部から放射されるm本の光ビームを、互いに近接する光ビームとして合成する手段である。
第1光源部における任意の半導体レーザの発光部の、対応するカップリングレンズの光軸からの主走査方向のずれ量:ζi(i=1〜n)と、第2光源部における任意の半導体レーザの発光部の、対応するカップリングレンズの光軸からの主走査方向のずれ量:ζk(k=1〜m)と、第1及び第2光源部とビーム合成手段の位置関係とが、「同期光検出手段の受光面位置において、互いに隣接する偏向光ビームが、主走査方向に互いに上記分解能:Δ以上の距離分離する」ように設定され、各偏向光ビームは同期光検出手段により個別的に検出可能である。
In the multi-beam scanning device of the second reference example (hereinafter referred to as reference example 2), a light source device that emits a plurality of light beams has a first light source unit, a second light source unit, and beam combining means.
The “first light source unit” includes n (≧ 2) semiconductor lasers, n coupling lenses corresponding to each of these semiconductor lasers, and the n semiconductor lasers and n cups. The ring lens includes a holding body that integrally holds the n lens coupling lenses in a predetermined positional relationship with the optical axes of the n coupling lenses parallel to each other in the main scanning direction.
The “second light source section” includes m (≧ 2) semiconductor lasers, m coupling lenses corresponding to each of these semiconductor lasers, and the m semiconductor lasers and m cups. The ring lens includes a holding body that integrally holds the m lens coupling lenses in a predetermined positional relationship with the optical axes of the m coupling lenses parallel to each other in the main scanning direction.
The “beam combining unit” is a unit that combines the n light beams emitted from the first light source unit and the m light beams emitted from the second light source unit as light beams that are close to each other.
Deviation in the main scanning direction from the optical axis of the corresponding coupling lens of the light emitting part of an arbitrary semiconductor laser in the first light source part: ζ i (i = 1 to n), and an arbitrary semiconductor in the second light source part The amount of deviation in the main scanning direction from the optical axis of the corresponding coupling lens of the laser light emitting unit: ζ k (k = 1 to m), and the positional relationship between the first and second light source units and the beam combining means. , "At the light receiving surface position of the synchronization light detection means, the deflection light beams adjacent to each other are separated from each other in the main scanning direction by the above resolution: Δ or more". It can be detected individually.

この参考例2のマルチビーム走査装置でn=mとし、第1光源部と第2光源部を同一構造のものとすることができ、この場合「光源装置の第1、第2光源部における各半導体レーザを、対応する保持体の保持孔に圧入固定し、各カップリングレンズを対応する保持体に接着樹脂により固定し、上記接着樹脂により、対応する半導体レーザの発光部に対する光軸位置を調整する」ように構成できる。また、この場合、n=m=2とすることができる。上記「接着樹脂」としては例えば「紫外線硬化樹脂」を用いることができる。
カップリングレンズを保持体に固定するのに接着樹脂を用い、接着樹脂(の量等)により、半導体レーザの発光部に対する光軸位置を調整する場合、接着樹脂は「温度や湿度の変動」により体積変化を生じるので、上記発光部とカップリングレンズ光軸との相対的な関係が環境変化により変動する。このような場合、1個の光スポットのみを同期光検出手段で検出し、この光スポットを基準として、他の光スポットの走査開始位置の同期を固定的に制御すると、前述した「光スポット間の走査開始位置の経時的なずれ」を発生する虞があるが、同期光検出手段により「光ビームを個別的に検出」すれば、光ビームごとに走査開始の適正なタイミングを与えることができる。
In the multi-beam scanning device of Reference Example 2, n = m, and the first light source unit and the second light source unit can have the same structure. In this case, “each of the first and second light source units of the light source device” The semiconductor laser is press-fitted and fixed in the holding hole of the corresponding holding body, each coupling lens is fixed to the corresponding holding body with an adhesive resin, and the optical axis position with respect to the light emitting part of the corresponding semiconductor laser is adjusted by the adhesive resin. Can be configured. In this case, n = m = 2. As the “adhesive resin”, for example, “ultraviolet curable resin” can be used.
When the adhesive resin is used to fix the coupling lens to the holding body, and the optical axis position relative to the light emitting part of the semiconductor laser is adjusted by the adhesive resin (amount, etc.), the adhesive resin depends on “changes in temperature and humidity”. Since the volume changes, the relative relationship between the light emitting part and the optical axis of the coupling lens varies due to environmental changes. In such a case, if only one light spot is detected by the synchronization light detection means, and the synchronization of the scanning start positions of other light spots is fixedly controlled based on this light spot, the above-described “between light spots” However, if the light beam is detected individually by the synchronous light detection means, an appropriate timing for starting the scanning can be provided for each light beam. .

請求項1記載のマルチビーム走査装置は、以下の如き特徴を有する。
即ち、複数の光ビームを放射する光源装置が、N(≧2)個の半導体レーザ及び、これら半導体レーザの個々と1:1に対応するN個のカップリングレンズとを、少なくとも有する。
N個のカップリングレンズは同一の構成で「光軸を主走査方向に関して互いに非平行」にされる。
同期光検出手段の受光面位置において、互いに隣接する任意の2つの偏向光ビームをBi、Bi+1(i=1〜N−1)とするとき、これらビームBi、Bi+1を放射する半導体レーザに対応するカップリングレンズの光軸が主走査方向になす角:φiは、ビームBi、Bi+1の主走査方向の間隔が、前述の同期光検出手段の分解能:Δ以上となるように設定される。従って、各偏向光ビームを同期光検出手段により個別的に検出できる。
請求項2記載のマルチビーム走査装置は、以下の如き特徴を有する。
即ち、複数の光ビームを放射する光源装置が、第1光源部、第2光源部およびビーム合成手段を有する。
「第1光源部」は、n(≧2)個の半導体レーザと、これら半導体レーザの個々と1:1に対応するn個のカップリングレンズと、n個の半導体レーザ及びn個のカップリングレンズを、n個のカップリングレンズの光軸が、主走査方向において互いに所定の角をなすようにして、所定の位置関係に保って一体的に保持する保持体とを有する。
The multi-beam scanning device according to claim 1 has the following characteristics.
That is, a light source device that emits a plurality of light beams includes at least N (≧ 2) semiconductor lasers and N coupling lenses corresponding to each of these semiconductor lasers and 1: 1.
The N coupling lenses have the same configuration and “the optical axes are not parallel to each other in the main scanning direction”.
A semiconductor that emits beams B i and B i + 1 when any two deflected light beams adjacent to each other at the light receiving surface position of the synchronous light detecting means are B i and B i + 1 (i = 1 to N−1). The angle formed by the optical axis of the coupling lens corresponding to the laser in the main scanning direction: φ i is such that the interval between the beams B i and B i + 1 in the main scanning direction is equal to or greater than the resolution of the above-mentioned synchronizing light detecting means: Δ. Set to Accordingly, each deflected light beam can be individually detected by the synchronous light detecting means.
The multi-beam scanning device according to claim 2 has the following characteristics.
That is, a light source device that emits a plurality of light beams has a first light source unit, a second light source unit, and beam combining means.
The “first light source unit” includes n (≧ 2) semiconductor lasers, n coupling lenses corresponding to each of these semiconductor lasers, and n semiconductor lasers and n couplings. A holding body that integrally holds the lens in a predetermined positional relationship so that the optical axes of the n coupling lenses form a predetermined angle with each other in the main scanning direction.

「第2光源部」は、m(≧2)個の半導体レーザと、これら半導体レーザの個々と1:1に対応するm個のカップリングレンズと、m個の半導体レーザ及びm個のカップリングレンズを、m個のカップリングレンズの光軸が、主走査方向において互いに所定の角をなすようにして、所定の位置関係に保って一体的に保持する保持体とを有する。
「ビーム合成手段」は、第1光源部から放射されるn本の光ビームと、第2光源部から放射されるm本の光ビームを互いに近接する光ビームとして合成する手段である。
そして、第1および第2光源部における各カップリングレンズの光軸方向、第1及び第2光源部とビーム合成手段の相互の位置関係が「互いに隣接する偏向光ビームが主走査方向に互いに、前記分解能:Δ以上の距離分離する」ように設定される。従って、各偏向光ビームを同期光検出手段により個別的に検出できる。
この請求項2記載のマルチビーム走査装置において、n=mとし、第1光源部と第2光源部を同一構成のものとすることができる(請求項3)。
請求項3記載のマルチビーム走査装置においては、光源装置における各半導体レーザの発光部を、対応するカップリングレンズの光軸上に配備することができる(請求項4)。また、請求項3記載のマルチビーム走査装置において、n=m=2とすることができる(請求項5)。
上述の請求項1記載のマルチビーム走査装置においては、N(≧2)個の半導体レーザのうち、少なくともP(2≦P≦N)個の発光部を、対応するカップリングレンズの光軸から主走査方向にずらして配置することができる(請求項6)。
請求項2記載のマルチビーム走査装置においては、n+m個の半導体レーザのうち、少なくともP(2≦P≦n+m)個の発光部を、対応するカップリングレンズの光軸から主走査方向にずらして配置することができる(請求項7)。この場合に、n=mとし、第1光源部と第2光源部を同一構成のものとすることができる(請求項8)。この請求項8記載のマルチビーム走査装置において、n=m=2とすることができる(請求項9)。
The “second light source unit” includes m (≧ 2) semiconductor lasers, m coupling lenses corresponding to each of these semiconductor lasers, 1: 1, m semiconductor lasers, and m couplings. And a holding body that integrally holds the lens in a predetermined positional relationship so that the optical axes of the m coupling lenses form a predetermined angle with each other in the main scanning direction.
The “beam combining unit” is a unit that combines n light beams emitted from the first light source unit and m light beams emitted from the second light source unit as light beams close to each other.
Then, the optical axis direction of each coupling lens in the first and second light source units, and the mutual positional relationship between the first and second light source units and the beam combining unit is “the mutually adjacent deflected light beams are mutually in the main scanning direction, The resolution is set to be separated by a distance greater than Δ. Accordingly, each deflected light beam can be individually detected by the synchronous light detecting means.
In the multi-beam scanning device according to claim 2, n = m, and the first light source unit and the second light source unit can have the same configuration (claim 3).
In the multi-beam scanning device according to claim 3, the light emitting portion of each semiconductor laser in the light source device can be arranged on the optical axis of the corresponding coupling lens (claim 4). Further, in the multi-beam scanning device according to claim 3, n = m = 2 can be set (claim 5).
In the multi-beam scanning device according to claim 1, of the N (≧ 2) semiconductor lasers, at least P (2 ≦ P ≦ N) light emitting units are arranged from the optical axis of the corresponding coupling lens. They can be shifted in the main scanning direction.
3. The multi-beam scanning device according to claim 2, wherein at least P (2 ≦ P ≦ n + m) light emitting units among n + m semiconductor lasers are shifted from the optical axis of the corresponding coupling lens in the main scanning direction. (Claim 7). In this case, n = m, and the first light source unit and the second light source unit can have the same configuration (claim 8). In the multi-beam scanning device according to claim 8, n = m = 2 can be set (claim 9).

請求項10記載のマルチビーム走査装置は、上記請求項1〜9の任意の1に記載のマルチビーム走査装置において、光源装置から放射される複数の光ビームが、光偏向器の同一の偏向反射面で同時に偏向されるように構成され、上記複数の光ビームが上記偏向反射面の近傍において、主走査方向に交叉するように光源装置が構成されたことを特徴とする。 請求項11記載のマルチビーム走査装置は、上記請求項1〜10の任意の1に記載のマルチビーム走査装置において、光源装置から放射される複数の光ビームが、光偏向器の同一の偏向反射面で同時に偏向されるように構成され、光源装置と光偏向器との間に、光源装置からの複数の光ビームを、上記偏向反射面の近傍に、互いに副走査方向に分離した「主走査方向に長い線像」として結像させる線像結像光学系を有し、走査結像光学系が、偏向反射面位置と被走査面位置とを、副走査方向において幾何光学的な共役関係とするアナモフィックなものであることを特徴とする。マルチビーム走査装置を、このような構成とすることにより、偏向反射面の面倒れを補正することができる。
この発明の「光源装置」は、マルチビーム走査装置に用いられる光源装置であって、請求項1〜11の任意の1に記載された構成を有することを特徴とする(請求項12)。
この発明の「マルチビーム走査方法」は、光源装置から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系により被走査面に向かって集光し、被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査方法である。
The multi-beam scanning device according to claim 10 is the multi-beam scanning device according to any one of claims 1 to 9, wherein the plurality of light beams emitted from the light source device have the same deflection reflection of the optical deflector. The light source device is configured to be deflected at the same time, and is configured such that the plurality of light beams cross in the main scanning direction in the vicinity of the deflection reflection surface. The multi-beam scanning device according to claim 11 is the multi-beam scanning device according to any one of claims 1 to 10, wherein the plurality of light beams emitted from the light source device are the same deflection reflection of the optical deflector. The main scanning is configured such that a plurality of light beams from the light source device are separated in the sub-scanning direction in the vicinity of the deflection reflection surface between the light source device and the optical deflector. Line image forming optical system that forms an image as a line image that is long in the direction, and the scanning image forming optical system has a geometric optical conjugate relationship between the position of the deflecting reflection surface and the surface to be scanned in the sub-scanning direction. It is characterized by being anamorphic. By adopting such a configuration for the multi-beam scanning device, it is possible to correct surface tilt of the deflecting reflecting surface.
The “light source device” of the present invention is a light source device used in a multi-beam scanning device, and has the configuration described in any one of claims 1 to 11 (claim 12).
In the “multi-beam scanning method” of the present invention, a plurality of deflected light beams emitted and deflected from a light source device are condensed toward a surface to be scanned by a scanning imaging optical system, This is a multi-beam scanning method in which a plurality of light spots separated in the sub-scanning direction are formed and a plurality of lines are simultaneously scanned by the plurality of light spots.

請求項13記載のマルチビーム走査方法は、上記請求項1〜10の任意の1に記載のマルチビーム走査装置を用いて行うことを特徴とする。また、請求項14記載のマルチビーム走査方法は、上記請求項11記載のマルチビーム走査装置を用いて行うことを特徴とする。
この発明の画像形成装置は「潜像担持体に光走査により潜像を形成し、この潜像を可視化して所望の記録画像を得る画像形成装置」である。
請求項15記載の画像形成装置は、潜像担持体を光走査する光走査装置として、上記請求項1〜10の任意の1に記載のマルチビーム走査装置を用いることを特徴とし、請求項16記載の画像形成装置は、潜像担持体を光走査する光走査装置として、請求項11記載のマルチビーム走査装置を用いることを特徴とする。
上記請求項15または16記載の画像形成装置において、潜像担持体を光導電性の感光体とし、その均一帯電と光走査とにより静電潜像を形成し、形成された静電潜像をトナー画像として可視化するように構成することができる(請求項17)。トナー画像は、シート状の記録媒体(転写紙やオーバヘッドプロジェクタ用のプラスチックシート)に定着される。
請求項15または16記載の画像形成装置では、感光媒体として、例えば銀塩写真フィルムを用いることもできる。この場合、マルチビーム走査装置による光走査で形成された潜像は、通常の銀塩写真プロセスの現像手法で可視化できる。
このような画像形成装置は例えば「光製版装置」として実施できる。
また請求項17記載の画像形成装置は、具体的にはレーザプリンタやレーザプロッタ、デジタル複写機、ファクシミリ装置等として実施できる。
上に説明したように、マルチビーム走査装置では、複数の光スポットは、被走査面上において、互いに副走査方向に分離していなくてはならない。複数の光スポットを被走査面上において、副走査方向に分離するには種々の方法が可能である。
上に説明した各マルチビーム走査装置におけるように、光源装置が複数の半導体レーザと、これら半導体レーザに1:1に対応する複数のカップリングレンズとを有する場合、例えば、カップリングレンズの光軸に対し、対応する半導体レーザの発光部を副走査方向にずらし、半導体レーザとカップリングレンズとの対ごとの「カップリングレンズ光軸に対する発光部の副走査方向へのずれ量」を調整することによって、光スポットが互いに副走査方向に分離するようにしてもよいし、個々のカップリングレンズの光軸が、副走査方向において互いに微小角をなすようにし、各光軸が副走査方向になす角を調整することによって、光スポットが互いに副走査方向に分離するようにすることもでき、あるいは、上記光軸の方向と「発光部の光軸からの副走査方向のずれ量」とを調整することによって、
光スポットが互いに副走査方向に分離するようにしてもよい。
A multi-beam scanning method according to claim 13 is performed using the multi-beam scanning apparatus according to any one of claims 1 to 10. A multi-beam scanning method according to claim 14 is performed using the multi-beam scanning apparatus according to claim 11.
The image forming apparatus of the present invention is an “image forming apparatus that forms a latent image on a latent image carrier by optical scanning and visualizes the latent image to obtain a desired recorded image”.
An image forming apparatus according to a fifteenth aspect uses the multi-beam scanning apparatus according to any one of the first to tenth aspects as an optical scanning apparatus that optically scans a latent image carrier. The image forming apparatus described above is characterized in that the multi-beam scanning device according to claim 11 is used as an optical scanning device that optically scans the latent image carrier.
17. The image forming apparatus according to claim 15 or 16, wherein the latent image carrier is a photoconductive photosensitive member, and an electrostatic latent image is formed by uniform charging and optical scanning, and the formed electrostatic latent image is It can be configured to be visualized as a toner image. The toner image is fixed on a sheet-like recording medium (transfer paper or a plastic sheet for an overhead projector).
In the image forming apparatus according to claim 15 or 16, for example, a silver salt photographic film may be used as the photosensitive medium. In this case, the latent image formed by the optical scanning by the multi-beam scanning device can be visualized by a developing method of a normal silver salt photographic process.
Such an image forming apparatus can be implemented as, for example, an “optical plate making apparatus”.
The image forming apparatus according to claim 17 can be implemented specifically as a laser printer, a laser plotter, a digital copying machine, a facsimile machine, or the like.
As described above, in the multi-beam scanning device, a plurality of light spots must be separated from each other in the sub-scanning direction on the surface to be scanned. Various methods can be used to separate a plurality of light spots on the surface to be scanned in the sub-scanning direction.
When the light source device has a plurality of semiconductor lasers and a plurality of coupling lenses corresponding to the semiconductor lasers, as in each of the multi-beam scanning devices described above, for example, the optical axis of the coupling lens On the other hand, the light emitting part of the corresponding semiconductor laser is shifted in the sub-scanning direction, and the “deviation amount of the light emitting part in the sub-scanning direction with respect to the optical axis of the coupling lens” is adjusted for each pair of the semiconductor laser and the coupling lens. Accordingly, the light spots may be separated from each other in the sub-scanning direction, or the optical axes of the individual coupling lenses may form a minute angle in the sub-scanning direction, and each optical axis may be in the sub-scanning direction. By adjusting the angle, the light spots can be separated from each other in the sub-scanning direction, or the direction of the optical axis and the “optical axis of the light emitting unit” By adjusting the sub-scanning direction shift amount "of al,
The light spots may be separated from each other in the sub-scanning direction.

なお、上の説明におけるカップリングレンズのカップリング作用は、対応する半導体レーザの発光部からの発散性の光束を、平行ビームとする作用でも良いし、発散性もしくは集束性の光ビームとする作用でもよい。   In addition, the coupling action of the coupling lens in the above description may be an action of making a divergent light beam from the light emitting part of the corresponding semiconductor laser a parallel beam, or an action of making a divergent or convergent light beam. But you can.

以上に説明したように、この発明によれば、新規なマルチビーム走査装置・マルチビーム走査方法・光源装置・画像形成装置を実現できる。
この発明のマルチビーム走査装置・マルチビーム走査方法では、被走査面を同時走査するべく走査領域へ向かう複数の偏向光ビームを、同期光検出手段により個別的に検出できるので、走査開始のタイミングを各偏向光ビームごとに独立して設定でき、同時走査により書込まれる画像の書込み開始位置を全偏向光ビームに対して揃えることができるので、極めて良好な画像書込みを実現できる。
また、この発明の光源装置は、同時に走査される複数の偏向光ビームを、走査領域へ向かう途上で個別的に検出できるように、主走査方向に分離するので、上記良好な画像書込みを可能ならしめることができる。また、この発明の画像形成装置は、上記マルチビーム走査装置を用いて画像書込みを行うので、高速且つ良好な画像形成が可能である。
また、請求項3、5記載のマルチビーム走査装置のように、光源装置に用いる第1、第2光源部を同一構造のものとすることにより、部品の共通化により、光源装置の低コスト化を図ることができる。
As described above, according to the present invention, a novel multi-beam scanning device, multi-beam scanning method, light source device, and image forming apparatus can be realized.
In the multi-beam scanning apparatus and the multi-beam scanning method of the present invention, since the plurality of deflected light beams directed to the scanning region to simultaneously scan the surface to be scanned can be individually detected by the synchronous light detecting means, the scanning start timing is set. Since each deflection light beam can be set independently and the writing start position of an image written by simultaneous scanning can be aligned with respect to all the deflection light beams, extremely good image writing can be realized.
In addition, the light source device of the present invention separates a plurality of simultaneously deflected light beams in the main scanning direction so that they can be individually detected on the way to the scanning region. It can be tightened. In addition, since the image forming apparatus of the present invention performs image writing using the multi-beam scanning device, high-speed and good image formation is possible.
Further, as in the multi-beam scanning device according to claims 3 and 5, the first and second light source parts used in the light source device have the same structure, so that the cost of the light source device can be reduced by sharing parts. Can be achieved.

先に説明した参考例1のマルチビーム走査装置の例に即して、マルチビーム走査を説明する。図1(a)に示したマルチビーム走査装置の構成は、上記参考例1、2やこの発明のマルチビーム走査装置の基本的な構成の1例である。
図1(a)において、符号10で示す光源装置からは、3本の光ビームが放射される(図の繁雑化を避けるため、光源装置10から放射される光ビームの1本のみを描いている)。放射された各光ビーム(実質的な平行ビームである)は、線像結像光学系としてのシリンドリカルレンズ12に入射する。シリンドリカルレンズ12は副走査方向にのみ正のパワーを有し、入射してくる3本の光ビームを副走査方向にのみ集束させ、光偏向器としての回転多面鏡14の偏向反射面の近傍に、主走査方向に長い線像として結像させる。線像は、各光ビームごとに結像され、各線像は副走査方向に互いに分離している。
図示されないモータにより回転多面鏡14が矢印方向に等速回転されると、偏向反射面で反射された3本の光ビームは、それぞれ偏向光ビームとなって等角速度的に偏向する。
各偏向光ビームは、偏向しつつ走査結像光学系としてのfθレンズ16に入射し、fθレンズ16を透過すると、長尺平面鏡である折り返しミラー18により反射されて光路を屈曲され、被走査面の実体をなす感光体20の周面上に、fθレンズ16の作用により光スポットとして集光する。
被走査面上に形成される3個の光スポットは、互いに副走査方向に分離しており、図に示す如く、1度に被走査面の3ラインを同時に走査する。
折り返しミラー18の長手方向の「走査開始側端部」近傍に平面鏡22が配置されている。平面鏡22の配置されている部位は、偏向光ビームが被走査面の有効走査領域を走査するに必要な有効偏向領域外である。平面鏡22により反射された偏向光ビームは同期光検出のための受光手段であるフォトセンサ24に入射する。即ち、各偏向光ビームは、偏向しつつ被走査面の走査領域へ向かう途上において、先ず平面鏡22に入射して反射され、フォトセンサ24に入射して受光される。フォトセンサ24の受光面は「光学的に被走査面と等価な位置」に配置されている。平面鏡22に入射する各偏向光ビームはfθレンズ16の光学作用を受けているので、各偏向光ビームは、フォトセンサ24の受光面上に被走査面におけると同様の光スポットとして集光する。
この装置例において、平面鏡22とフォトセンサ24とは「同期光検出手段」を構成している。フォトセンサ24の受光面の受光領域は、主走査方向に分解能:Δ(例えば0.5mm)を有するような大きさを有している。
The multi-beam scanning will be described based on the example of the multi-beam scanning apparatus of Reference Example 1 described above. The configuration of the multi-beam scanning device shown in FIG. 1A is an example of the basic configuration of the reference examples 1 and 2 and the multi-beam scanning device of the present invention.
In FIG. 1A, three light beams are emitted from the light source device indicated by reference numeral 10 (only one light beam emitted from the light source device 10 is drawn in order to avoid complication of the drawing). ) Each emitted light beam (which is a substantially parallel beam) enters a cylindrical lens 12 as a line image imaging optical system. The cylindrical lens 12 has a positive power only in the sub-scanning direction, converges the three incident light beams only in the sub-scanning direction, and is in the vicinity of the deflection reflection surface of the rotary polygon mirror 14 as an optical deflector. Then, it is formed as a long line image in the main scanning direction. A line image is formed for each light beam, and each line image is separated from each other in the sub-scanning direction.
When the rotary polygon mirror 14 is rotated at a constant speed in the direction of the arrow by a motor (not shown), the three light beams reflected by the deflecting / reflecting surface are respectively deflected light beams and deflected at an equal angular velocity.
Each deflected light beam is incident on an fθ lens 16 serving as a scanning imaging optical system while being deflected, and after passing through the fθ lens 16, is reflected by a folding mirror 18 that is a long plane mirror to bend an optical path, thereby scanning a surface to be scanned. Is condensed as a light spot by the action of the fθ lens 16 on the peripheral surface of the photoconductor 20 forming the above structure.
The three light spots formed on the surface to be scanned are separated from each other in the sub-scanning direction, and three lines on the surface to be scanned are simultaneously scanned at a time as shown in the figure.
A plane mirror 22 is disposed in the vicinity of the “scanning start side end” in the longitudinal direction of the folding mirror 18. The portion where the plane mirror 22 is disposed is outside the effective deflection area necessary for the deflection light beam to scan the effective scanning area of the surface to be scanned. The deflected light beam reflected by the plane mirror 22 enters a photosensor 24 that is a light receiving means for detecting synchronous light. That is, each deflected light beam is incident on the plane mirror 22 and reflected on the way to the scanning area of the surface to be scanned while being deflected, and is incident on the photosensor 24 and received. The light receiving surface of the photosensor 24 is arranged at “a position optically equivalent to the surface to be scanned”. Since each deflected light beam incident on the plane mirror 22 is subjected to the optical action of the fθ lens 16, each deflected light beam is condensed on the light receiving surface of the photosensor 24 as a light spot similar to that on the scanned surface.
In this apparatus example, the plane mirror 22 and the photosensor 24 constitute “synchronous light detection means”. The light receiving area of the light receiving surface of the photosensor 24 has such a size as to have a resolution: Δ (for example, 0.5 mm) in the main scanning direction.

図1(b)は、図1(a)における光源装置10の1例の要部を、説明図的に示している。光源装置10の要部は、光源として3個の半導体レーザ1a、1b、1cと、これら半導体レーザに1:1に対応するカップリングレンズ2a、2b、2cとを有している。これら半導体レーザ1a〜1cとカップリングレンズ2a〜2cとは、相互の位置関係を定められて、図示されない適宜の保持手段により一体に保持されている。
半導体レーザ1a〜1cおよびカップリングレンズ2a〜2cは、同一構成のものであり、それぞれ、大略主走査方向に配列されている。また、カップリングレンズ2a〜2cは、対応する半導体レーザ1a〜1cの各発光部からの発散性の光束を「実質的な平行ビーム」に変換する。
即ち、各半導体レーザの発光部は、実質的に、対応するカップリングレンズの焦点面上に位置される。
図1(c)は、カップリングレンズ2a〜2cが主走査方向に配列した状態を示している。各カップリングレンズの中心部に描かれた「+印」は、光軸位置を示している。カップリングレンズ2a〜2cの各光軸は互いに平行であり、図1(c)において図面に直交する方向である。符号Ha、Hb、Hcは、カップリングレンズ2a、2b、2cにそれぞれ対応する半導体レーザ1a、1b、1cの発光部を表している。
発光部Hbはカップリングレンズ2bの光軸上に位置する。これに対し、発光部Haは、カップリングレンズ1aの光軸から主走査方向に「ζa」、副走査方向に「ξa」だけずれている。同様に、発光部Hcは、カップリングレンズ1cの光軸から主走査方向に「ζc」、副走査方向に「ξc」だけずれている。このような発光部と光軸との位置関係は冶具を用いて精度良く設定される。
図1(d)は、各発光部Ha、Hb,Hcから放射された光束の主光線の挙動を示している。
発光部Hbはカップリングレンズ2bの光軸上(の焦点位置)に位置するので、発光部Hbから放射された光束は、カップリングレンズ2bにより平行ビーム化され、主光線はカップリングレンズ2bの光軸に合致して進行する。
これに対し、発光部Ha、Hcは、対応するカップリングレンズ2a、2cの光軸からずれているため、これら発光部からの光束は、対応するカップリングレンズにより平行ビーム化されるが、主光線の方向は、図中に実線で示されたように、カップリングレンズにより屈折される。このためカップリングレンズ2a、2cにより平行ビーム化された光ビームの主光線の方向は、カップリングレンズ2a、2cの光軸に対して傾きを持つことになる。
FIG. 1B illustrates an essential part of one example of the light source device 10 in FIG. The main part of the light source device 10 includes three semiconductor lasers 1a, 1b, and 1c as light sources, and coupling lenses 2a, 2b, and 2c corresponding to these semiconductor lasers in a ratio of 1: 1. The semiconductor lasers 1a to 1c and the coupling lenses 2a to 2c have a mutual positional relationship and are held together by an appropriate holding means (not shown).
The semiconductor lasers 1a to 1c and the coupling lenses 2a to 2c have the same configuration, and are generally arranged in the main scanning direction. Further, the coupling lenses 2a to 2c convert the divergent light beams from the respective light emitting portions of the corresponding semiconductor lasers 1a to 1c into “substantially parallel beams”.
That is, the light emitting portion of each semiconductor laser is substantially located on the focal plane of the corresponding coupling lens.
FIG. 1C shows a state in which the coupling lenses 2a to 2c are arranged in the main scanning direction. The “+ sign” drawn at the center of each coupling lens indicates the optical axis position. The optical axes of the coupling lenses 2a to 2c are parallel to each other, and are directions orthogonal to the drawing in FIG. Reference numerals Ha, Hb, and Hc represent light emitting portions of the semiconductor lasers 1a, 1b, and 1c corresponding to the coupling lenses 2a, 2b, and 2c, respectively.
The light emitting part Hb is located on the optical axis of the coupling lens 2b. On the other hand, the light emitting portion Ha is shifted from the optical axis of the coupling lens 1a by “ζa” in the main scanning direction and “ξa” in the sub-scanning direction. Similarly, the light emitting portion Hc is shifted from the optical axis of the coupling lens 1c by “ζc” in the main scanning direction and “ξc” in the sub scanning direction. Such a positional relationship between the light emitting unit and the optical axis is set with high accuracy using a jig.
FIG. 1 (d) shows the behavior of the chief ray of the light beam emitted from each light emitting portion Ha, Hb, Hc.
Since the light emitting part Hb is located on the optical axis (the focal position) of the coupling lens 2b, the light beam emitted from the light emitting part Hb is converted into a parallel beam by the coupling lens 2b, and the principal ray is emitted from the coupling lens 2b. Proceeds along the optical axis.
On the other hand, since the light emitting portions Ha and Hc are shifted from the optical axes of the corresponding coupling lenses 2a and 2c, the light beams from these light emitting portions are converted into parallel beams by the corresponding coupling lenses. The direction of the light beam is refracted by the coupling lens, as indicated by the solid line in the figure. Therefore, the direction of the principal ray of the light beam converted into a parallel beam by the coupling lenses 2a and 2c is inclined with respect to the optical axis of the coupling lenses 2a and 2c.

光源装置10から放射された3本の光ビームは、前述のごとくして被走査面上およびフォトセンサ24の受光面上に光スポットを形成する。
図1(e)は、フォトセンサ24の受光面上における光スポットの様子を、説明図として示している。被走査面上に形成される光スポットの様子もこれと同様である。
図1(e)において、符号Sa、Sb、Scで示す「光スポット」は、それぞれ半導体レーザ1a、1b、1cから放射された光ビームにより形成されたものである。これら光スポットSa、Sb、Scは光学的には、カップリングレンズ2a、2b、2cとシリンドリカルレンズ12、fθレンズ16とによる、発光部Ha、Hb,Hcの像である。なお、各光スポットは、光源と光偏向器との間の適宜の位置に配置されるビーム整形用アパーチュアの「開口部の大きさ」の調整により、副走査方向にやや長い「楕円形状」にされている。
図1(e)に示すように、光スポットSbを中心として、光スポットSaは主走査方向に「δab」だけずれ、副走査方向に「ηab」だけずれ、光スポットScは、主走査方向に「δbc」だけずれ、副走査方向に「ηbc」だけずれている。
カップリングレンズ2a〜2c(前述の如くこれらは光学的に等価なものである)とシリンドリカルレンズ12、fθレンズ16との「合成光学系」を考えてみると、この合成光学系は主走査方向と副走査方向のパワーの異なるアナモフィックな光学系であり、結像の横倍率を主走査方向につきM(主)、副走査方向につきM(副)とすると、上述のδab、δbc、ηab、ηbcは、それぞれ、
δab=M(主)・ζa、δbc=M(主)・ζc
ηab=M(副)・ξa、ηbc=M(副)・ξc
で与えられる。
ηab、ηbcは、同時に走査される隣接2ライン間の走査線間隔であるから、「ηab=ηbc」となるように、即ち、|ξa|=|ξc|となるように、発光部Ha、Hcの「カップリングレンズ光軸に対する副走査方向のずれ量」が設定される。
The three light beams emitted from the light source device 10 form light spots on the scanned surface and the light receiving surface of the photosensor 24 as described above.
FIG. 1E shows the state of the light spot on the light receiving surface of the photosensor 24 as an explanatory diagram. The state of the light spot formed on the surface to be scanned is similar to this.
In FIG. 1E, “light spots” denoted by reference characters Sa, Sb, and Sc are formed by light beams emitted from the semiconductor lasers 1a, 1b, and 1c, respectively. These optical spots Sa, Sb, and Sc are optically images of the light emitting portions Ha, Hb, and Hc by the coupling lenses 2a, 2b, and 2c, the cylindrical lens 12, and the fθ lens 16. Each light spot is made into an “elliptical shape” that is slightly longer in the sub-scanning direction by adjusting the “aperture size” of the beam shaping aperture disposed at an appropriate position between the light source and the optical deflector. Has been.
As shown in FIG. 1E, with the light spot Sb as the center, the light spot Sa is shifted by “δab” in the main scanning direction, is shifted by “ηab” in the sub-scanning direction, and the light spot Sc is shifted in the main scanning direction. It is shifted by “δbc” and shifted by “ηbc” in the sub-scanning direction.
Considering a “combining optical system” of the coupling lenses 2a to 2c (which are optically equivalent as described above), the cylindrical lens 12 and the fθ lens 16, this combining optical system is in the main scanning direction. And the above-described δab, δbc, ηab, ηbc, where the horizontal magnification of image formation is M (main) in the main scanning direction and M (sub) in the subscanning direction. Respectively
δab = M (main) · ζa, δbc = M (main) · ζc
ηab = M (sub) · ξa, ηbc = M (sub) · ξc
Given in.
Since ηab and ηbc are scanning line intervals between adjacent two lines that are scanned simultaneously, the light emitting portions Ha and Hc are set so that “ηab = ηbc”, that is, | ξa | = | ξc |. “The amount of deviation in the sub-scanning direction with respect to the optical axis of the coupling lens” is set.

一方、δab、δbcについては、各偏向光ビームがフォトセンサ24の受光面上に形成する光スポットが、フォトセンサ24により別個に検出される必要があるから、上記δab、δbcは、フォトセンサ24における主走査方向の分解能:Δよりも大きくなければならない。即ち、
Δ≦δab、且つ、Δ≦δbc
を満足するように、上記ζa、ζcを定めることにより、3本の偏向光ビームの各光スポットを同一のフォトセンサ24により別個に検出できるので、その検出結果に基づき、各偏向光ビームによる走査の開始位置を独立に制御でき、上記開始位置を偏向光ビームごとに高精度に「同一位置に揃える」ことができる。
なお、ζa、ζcは「Δ≦δab、且つ、Δ≦δbc」が満足される限りにおいて、ξa=ξcとしてもよいし、ζa≠ζcとしてもよい。
上記合成光学系は主走査方向に関してはアフォーカル系であるので、上記主走査方向の横倍率は、カップリングレンズ2a〜2cの焦点距離をf、fθレンズ16の主走査方向の焦点距離をFとすれば、M(主)=F/fで与えられる。
上に説明した実施の形態においては、半導体レーザ1bの発光部Hbの、カップリングレンズ2bの光軸からの主走査方向のずれ量:ζbを0としたが、ζbは0以外の有限の値としてもよい。
ζb≠0であるときには、
Δ≦F/f|ζa―ζb|、且つ、Δ≦F/f|ζc―ζb|
が成り立つように、ζa、ζb、ζcを設定すればよい。なお、この場合、ζa、ζb、ζcは、図1(c)において、光軸より右側にある場合を正、左にある場合を負とする。
On the other hand, with respect to δab and δbc, since the light spot formed by each deflected light beam on the light receiving surface of the photosensor 24 needs to be detected separately by the photosensor 24, the above δab and δbc are the photosensor 24. In the main scanning direction, the resolution must be greater than Δ. That is,
Δ ≦ δab and Δ ≦ δbc
By satisfying ζa and ζc so as to satisfy the above, each light spot of the three deflected light beams can be separately detected by the same photosensor 24, so that scanning by each deflected light beam is performed based on the detection result. The start position can be controlled independently, and the start position can be “aligned to the same position” with high accuracy for each deflected light beam.
As long as “Δ ≦ δab and Δ ≦ δbc” is satisfied, ζa and ζc may be ξa = ξc, or ζa ≠ ζc.
Since the composite optical system is an afocal system in the main scanning direction, the lateral magnification in the main scanning direction is f for the focal length of the coupling lenses 2a to 2c and F for the focal length of the fθ lens 16 in the main scanning direction. Then, M (main) = F / f.
In the embodiment described above, the deviation amount ζb of the light emitting portion Hb of the semiconductor laser 1b from the optical axis of the coupling lens 2b is set to 0, but ζb is a finite value other than 0. It is good.
When ζb ≠ 0,
Δ ≦ F / f | ζa−ζb | and Δ ≦ F / f | ζc−ζb |
Ζa, ζb, and ζc may be set so that In this case, ζa, ζb, and ζc in FIG. 1C are positive when they are on the right side of the optical axis and negative when they are on the left.

上に説明したマルチビーム走査装置(参考例)は、光源装置10から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系16により被走査面20に向かって集光し、被走査面20上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査装置において、各偏向光ビームによる走査開始の同期をとるために、被走査面の走査領域へ向かう偏向光ビームを検出する同期光検出手段22,24を有し、複数の光ビームを放射する光源装置10が、N(=3)個の半導体レーザ1a〜1c及び、これら半導体レーザの個々と1:1に対応するN個のカップリングレンズ2a〜2cとを少なくとも有し、N個のカップリングレンズ2a〜2cは同一の構成で、主走査方向に関して光軸を互いに平行にされ、対応する半導体レーザからの光束を実質的な平行ビームとするものであり、同期光検出手段の受光面位置において、互いに隣接する任意の2つの偏向光ビームをBi,Bi+1(i=1〜2)とし、これらビームBi,Bi+1を放射する半導体レーザの発光部の、対応するカップリングレンズの光軸から主走査方向のずれ量をζi、ζi+1(ζa〜ζc)するとき、各半導体レーザと受光面位置との間に配置される光学系の、主走査方向の横倍率:M(主)と、同期光検出手段の分解能:Δとに対し、ずれ量:ζi,ζi+1が、関係:Δ≦M(主)・|ζi−ζi+1|を満足するように設定されることにより、各偏向光ビームを同期光検出手段により個別的に検出できるように構成したマルチビーム走査装置である。
なお、上の装置例では、カップリングレンズ2a〜2cの光軸を互いに平行としたが、これらを主走査方向に関してのみ、互いに平行(即ち、副走査方向から見て互いに平行)となるようにし、副走査方向に関しては、光軸相互が微小な角をなすようにしても良く、このようにする場合は、上記ずれ量をξa=ξb=ξc=0と設定しても、光軸のなす微小角の調整により、光スポットを副走査方向に分離することができる。
The multi-beam scanning device (reference example) described above condenses a plurality of deflected light beams emitted and deflected from the light source device 10 toward the surface to be scanned 20 by the scanning imaging optical system 16, and In a multi-beam scanning apparatus that forms a plurality of light spots separated in the sub-scanning direction on the scanning surface 20 and simultaneously scans a plurality of lines with the plurality of light spots, the scanning start of each deflected light beam is synchronized. For this purpose, the light source device 10 that has the synchronized light detection means 22 and 24 for detecting the deflected light beam directed toward the scanning region of the surface to be scanned and emits a plurality of light beams has N (= 3) semiconductor lasers 1a. -1c and each of these semiconductor lasers and N coupling lenses 2a-2c corresponding to 1: 1, and the N coupling lenses 2a-2c have the same configuration. The optical axes are parallel to each other with respect to the main scanning direction, and the light beams from the corresponding semiconductor lasers are made into substantially parallel beams. The beams are B i and B i + 1 (i = 1 to 2), and the amount of deviation in the main scanning direction from the optical axis of the corresponding coupling lens of the light emitting part of the semiconductor laser that emits these beams B i and B i + 1 is ζ. When i , ζ i + 1 (ζa to ζc), the horizontal magnification in the main scanning direction: M (main) and the resolution of the synchronous light detection means of the optical system arranged between each semiconductor laser and the light receiving surface position: With respect to Δ, the deviation amounts: ζ i , ζ i + 1 are set so as to satisfy the relationship: Δ ≦ M (main) · | ζ i −ζ i + 1 | Multi-beam running that can be individually detected by means Inspection device.
In the above apparatus example, the optical axes of the coupling lenses 2a to 2c are parallel to each other. However, they are parallel to each other only in the main scanning direction (that is, parallel to each other when viewed from the sub scanning direction). With respect to the sub-scanning direction, the optical axes may form a minute angle. In this case, even if the shift amount is set as ξa = ξb = ξc = 0, the optical axes form. By adjusting the small angle, the light spot can be separated in the sub-scanning direction.

図2および図3は、図1(a)に示すマルチビーム走査装置の光源装置として使用可能な光源装置の例を説明するための図である。なお、繁雑を避けるため、混同の虞がないと思われるものについては、図1以下、全図面を通じて同一の符号を用いる。
図2(a)は、この光源装置の要部の構造を説明するための図である。
符号1a、1b、1c、1dは半導体レーザを示し、符号2a、2b、2c、2dは「半導体レーザ1a、1b、1c、1dの個々と1:1に対応するカップリングレンズ」を示す。また、符号3A,3Bは保持体を示し、符号4はビーム合成手段としてのプリズムを示している。
半導体レーザ1a、1b、1c、1dは同一構成のものであり、カップリングレンズ2a、2b、2c、2dも同一構成のものである。各カップリングレンズは、対応する半導体レーザからの光束を平行ビーム化するように設定される。
また、保持体3A,3Bも同一構成のものである。
保持体3Aと半導体レーザ1a、1bと、カップリングレンズ2a、2bとは「第1光源部」を構成する。また、保持体3Bと半導体レーザ1c、1dと、カップリングレンズ2c、2dとは「第2光源部」を構成する。
第1および第2光源部は「同様の構成」であるので、第1光源部を例にとって説明する。図2(b)は、第1光源部の保持体3Aを正面側から見た図であり、同図のC−C’断面を、半導体レーザおよびカップリングレンズとともに描いたのが図2(c)である。
図2(b)、(c)に示す如く、保持体3Aの基部300は板状で、その中央部分にレンズ保持用の凸部301が形成され、凸部301の両側に、光ビーム通過用の貫通孔302,303が、凸部301を挟むように穿設されている。貫通孔302,303は基部300を厚み方向に貫通し「互いに平行」である。貫通孔302,303の、基部300の裏側出口近傍は孔径を拡大され、この部分に半導体レーザ1a、1bが圧入されて固定されている(図2(c))。従って、半導体レーザ1a、1bの発光部の位置は、貫通孔302,303に対して一義的に定まる。
2 and 3 are diagrams for explaining an example of a light source device that can be used as the light source device of the multi-beam scanning device shown in FIG. In addition, in order to avoid complication, the same code | symbol is used throughout FIG.
FIG. 2A is a diagram for explaining the structure of the main part of the light source device.
Reference numerals 1a, 1b, 1c, and 1d indicate semiconductor lasers, and reference numerals 2a, 2b, 2c, and 2d indicate "coupling lenses corresponding to each of the semiconductor lasers 1a, 1b, 1c, and 1d and 1: 1". Reference numerals 3A and 3B denote holders, and reference numeral 4 denotes a prism as beam combining means.
The semiconductor lasers 1a, 1b, 1c, and 1d have the same configuration, and the coupling lenses 2a, 2b, 2c, and 2d also have the same configuration. Each coupling lens is set so that the light beam from the corresponding semiconductor laser is converted into a parallel beam.
The holding bodies 3A and 3B have the same configuration.
The holding body 3A, the semiconductor lasers 1a and 1b, and the coupling lenses 2a and 2b constitute a “first light source unit”. The holding body 3B, the semiconductor lasers 1c and 1d, and the coupling lenses 2c and 2d constitute a “second light source unit”.
Since the first and second light source units have “similar configurations”, the first light source unit will be described as an example. FIG. 2B is a view of the holding body 3A of the first light source unit as viewed from the front side, and the CC ′ section of FIG. 2B is drawn together with the semiconductor laser and the coupling lens. ).
As shown in FIGS. 2B and 2C, the base portion 300 of the holding body 3A has a plate shape, and a convex portion 301 for holding a lens is formed at the center portion thereof, and light beam passing through both sides of the convex portion 301 are formed. Through-holes 302 and 303 are formed so as to sandwich the convex portion 301 therebetween. The through holes 302 and 303 penetrate the base 300 in the thickness direction and are “parallel to each other”. The diameters of the through holes 302 and 303 in the vicinity of the rear side outlet of the base 300 are enlarged, and the semiconductor lasers 1a and 1b are press-fitted and fixed to these portions (FIG. 2 (c)). Therefore, the positions of the light emitting portions of the semiconductor lasers 1a and 1b are uniquely determined with respect to the through holes 302 and 303.

また、凸部301には、これを挟むようにしてカップリングレンズ2a、2bが、光軸を互いに平行にして固定的に設けられる。なお、図2(b)、(c)において、符号304,305は固定用のねじ孔を示す。
第2光源部は、半導体レーザ1c、1dとカップリングレンズ2c、2d(図2(a)参照)を、第1光源部と同様、保持体3Bに固定的に保持することにより構成される。
第1光源部および第2光源部は、それぞれのカップリングレンズの光軸を互いに平行にして、プリズム4の入射側面に対向するように配置される。
図3(a)を参照すると、この図は、保持体へのカップリングレンズの取りつけ状態を、保持体3Aへのカップリングレンズ2bの取りつけ状態を例として説明するための図である。図に示すように凸部301の側面は、凹の円筒面に形成され、この円筒面はカップリングレンズ2bの取りつけ基準面になっている。
カップリングレンズ2bは、そのコバ部分に紫外線硬化樹脂310を塗布されて、紫外線硬化樹脂310を上記円筒面部分に接触させられる。カップリングレンズ2bは、光軸(「+」印で表す)と半導体レーザ1bの発光部Hb(保持体3Aに固定された定位置である)との位置関係(主走査方向のずれ量:ζb、副走査方向のずれ量:ξb)および光軸方向の位置を、冶具(図示されず)により調整される。このように位置調整された状態で、紫外線硬化樹脂310に紫外線を照射し、樹脂を硬化させると、カップリングレンズ2bは凸部301に固定的に接着される。他のカップリングレンズ2a、2c、2dの「対応する保持体への保持」も同様に行われる。
図3(b)は、プリズム4によるビーム合成の様子を、発光部Ha,Hcから放射された光ビームにつき説明するための図である。プリズム4は、図3(b)に示す如き側面形状を有する。プリズム4は平行四辺形のプリズムと直角プリズムとを組み合せた構成を持ち、両プリズムの接合部には偏光反射膜401が形成されている。また、発光部Hcからの光ビームが入射する部位(図示されていないが発光部Hdからの光ビームも入射する)には、1/2波長板403が設けられている。
In addition, coupling lenses 2a and 2b are fixedly provided on the convex portion 301 so as to sandwich the convex portion 301 with their optical axes parallel to each other. 2B and 2C, reference numerals 304 and 305 denote fixing screw holes.
The second light source unit is configured by fixedly holding the semiconductor lasers 1c and 1d and the coupling lenses 2c and 2d (see FIG. 2A) on the holding body 3B, like the first light source unit.
The first light source unit and the second light source unit are arranged to face the incident side surface of the prism 4 with the optical axes of the respective coupling lenses being parallel to each other.
Referring to FIG. 3 (a), this figure is a diagram for explaining the attachment state of the coupling lens to the holding body as an example of the attachment state of the coupling lens 2b to the holding body 3A. As shown in the drawing, the side surface of the convex portion 301 is formed as a concave cylindrical surface, and this cylindrical surface is a reference surface for mounting the coupling lens 2b.
The coupling lens 2b is coated with an ultraviolet curable resin 310 on the edge portion thereof, and the ultraviolet curable resin 310 is brought into contact with the cylindrical surface portion. The coupling lens 2b has a positional relationship (shift amount in the main scanning direction: ζb) between the optical axis (denoted by “+”) and the light emitting portion Hb of the semiconductor laser 1b (fixed position fixed to the holding body 3A). The amount of deviation in the sub-scanning direction: ξb) and the position in the optical axis direction are adjusted by a jig (not shown). When the ultraviolet curable resin 310 is irradiated with ultraviolet rays and the resin is cured with the position adjusted in this manner, the coupling lens 2b is fixedly bonded to the convex portion 301. The “holding on the corresponding holding body” of the other coupling lenses 2a, 2c, and 2d is performed in the same manner.
FIG. 3B is a diagram for explaining the state of beam synthesis by the prism 4 with respect to the light beams emitted from the light emitting portions Ha and Hc. The prism 4 has a side shape as shown in FIG. The prism 4 has a configuration in which a parallelogram prism and a right-angle prism are combined, and a polarizing reflection film 401 is formed at a joint portion between both prisms. Further, a half-wave plate 403 is provided at a site where the light beam from the light emitting unit Hc is incident (not shown, but also the light beam from the light emitting unit Hd is incident).

発光部Ha,Hbから放射される光は、何れも偏光反射膜401に対してP偏光となるように光源の態位が定められている。従って、発光部Haから放射され、カップリングレンズ2aにより平行ビーム化された光ビーム(図示されていないが発光部Hbから放射され、カップリングレンズ2bにより平行ビーム化された光ビームも)は、プリズム4に入射すると偏光反射膜401を透過してプリズム4から射出する。一方、発光部Hcから放射され、カップリングレンズ2cにより平行ビーム化された光ビーム(図示されていないが発光部Hdから放射され、カップリングレンズ2dにより平行ビーム化された光ビームも)は、1/2波長板403を透過することにより、偏光反射膜401に対してS偏光となる。そしてプリズム4のプリズム面402で全反射され、さらに偏光反射膜401で全反射されてプリズム4から入射する。
このようにして、プリズム4から射出する4本の光ビーム(何れも平行ビームである)は、互いに近接する光ビームとして合成される。
なお、プリズム4から射出する4本の光ビームのうち2本がS偏光、他の2本がP偏光となり、互いに偏光面が直交することになる。周知の如く、反射面による反射率は、入射角の変化と共にS偏光とP偏光とで異なる変化をするので「上記のまま」であると、光源装置から放射された4本の光ビームが、図1(a)における回転多面鏡14の偏向反射面や折り返しミラー18等で反射されるとき、反射率の変化により、被走査面上の光スポットの光強度が光ビーム2本ごとに異なる変動をするので、このような問題を避けるために、プリズム4によりビーム合成された4本の光ビームをして、1/4波長板を通過せしめて4本の光ビームを共に「円偏光状態」とすることが好ましい。
図3(c)は、光源装置10を斜め後方から見た状態を示している。符号5で示す箱状のケーシング内には、前記プリズム4が所定の態位に調整されて収納され、ケーシング5の後側板には、半導体レーザ1a、1b、カップリングレンズ2a、2b(図示されず)を一体化された保持体3Aと、半導体レーザ1c、1d、カップリングレンズ2c、2d(図示されず)を一体化された保持体3Bとが、上記後側板に穿設された係合孔に(カップリングレンズを固定された)保持体凸部を嵌合させ、取付け態位を調整されて固定されている。ビーム合成された4本の光ビーム(平行ビーム)は、ケーシング5に形成されている円筒状の射出口5Aから射出する。射出口5Aには、前述の「1/4波長板」と、ビーム整形を行うためのアパーチュアが設けられている。従って、光源装置10から射出する4本の平行光ビームは何れもビーム整形され、円偏光とされている。
The position of the light source is determined so that the light emitted from the light emitting portions Ha and Hb is both P-polarized with respect to the polarization reflection film 401. Therefore, a light beam emitted from the light emitting unit Ha and converted into a parallel beam by the coupling lens 2a (not shown, but also a light beam emitted from the light emitting unit Hb and converted into a parallel beam by the coupling lens 2b) When entering the prism 4, the light passes through the polarization reflection film 401 and exits from the prism 4. On the other hand, a light beam emitted from the light emitting part Hc and converted into a parallel beam by the coupling lens 2c (not shown, but also a light beam emitted from the light emitting part Hd and converted into a parallel beam by the coupling lens 2d) By passing through the half-wave plate 403, the polarized light reflecting film 401 becomes S-polarized light. Then, the light is totally reflected by the prism surface 402 of the prism 4, further totally reflected by the polarization reflection film 401, and enters from the prism 4.
In this way, the four light beams emitted from the prism 4 (all of which are parallel beams) are combined as light beams that are close to each other.
Of the four light beams emitted from the prism 4, two are S-polarized light and the other two are P-polarized light, and their polarization planes are orthogonal to each other. As is well known, the reflectivity by the reflecting surface changes differently between S-polarized light and P-polarized light as the incident angle changes. Therefore, if it is “as above”, the four light beams emitted from the light source device are When reflected by the deflecting reflecting surface of the rotary polygon mirror 14 or the folding mirror 18 in FIG. 1A, the light intensity of the light spot on the scanned surface varies depending on the two light beams due to the change in reflectance. Therefore, in order to avoid such a problem, the four light beams synthesized by the prism 4 are passed through the quarter wavelength plate, and the four light beams are both “circularly polarized”. It is preferable that
FIG. 3C shows a state in which the light source device 10 is viewed obliquely from the rear. The prism 4 is accommodated in a box-like casing indicated by reference numeral 5 in a predetermined state. The rear plate of the casing 5 is provided with semiconductor lasers 1a and 1b and coupling lenses 2a and 2b (not shown). 3A) and a holding body 3B in which the semiconductor lasers 1c and 1d and the coupling lenses 2c and 2d (not shown) are integrated are formed in the rear plate. The convex part of the holding body (with the coupling lens fixed) is fitted into the hole, and the mounting state is adjusted and fixed. The four combined light beams (parallel beams) are emitted from a cylindrical injection port 5 </ b> A formed in the casing 5. The exit 5A is provided with the above-described “¼ wavelength plate” and an aperture for performing beam shaping. Therefore, all of the four parallel light beams emitted from the light source device 10 are shaped into circularly polarized light.

光源装置10から放射された4本の光ビームは、図1(a)に示す如く、シリンドリカルレンズ12により、回転多面鏡14の偏向反射面近傍に、互いに副走査方向に分離した「主走査方向に長い線像」に結像し、回転多面鏡により偏向光ビームとされ、fθレンズ16の作用により、感光体20の周面である被走査面上に副走査方向に分離した光スポットを形成する。そして、これら4つの光スポットにより被走査面の4ライン(4走査線)が同時に走査される。
図4(a)は、プリズム4の合成状態を説明図的に示している。プリズム4による合成は、プリズム4の合成側から見た状態において、カップリングレンズ2a、2bの光軸間中心と、カップリングレンズ2c、2dの光軸間中心とが、図に示す位置:qとして合致するように行われるものとする。図の繁雑を避けるため、カップリングレンズ2aとカップリングレンズ2cとを互いに重ねて描き、カップリングレンズ2bとカップリングレンズ2dとを重ねて描いた。カップリングレンズの光軸が互いに平行で、カップリング作用が半導体レーザからの光束を平行ビーム化するものであるので、上記光軸間中心が位置:qで合致している限り、個々のカップリングレンズの位置はどこにあっても良く、従って、図4(a)のように、カップリングレンズを2個ずつ重ねて描いても、以下の説明の一般性は失われない。
カップリングレンズ2a、2cの光軸(「+」印で示す)に相対的な、半導体レーザ1a、1cの発光部Ha,Hcのずれ量を、主走査方向に関してζa、ζc、副走査方向に関してξa、ξcとする。同様に、カップリングレンズ2b、2dの光軸(「+」印で示す)に相対的な、半導体レーザ1b、1dの発光部Hb,Hdのずれ量を、主走査方向に関してζb、ζd、副走査方向に関してξb、ξdとする。
このとき、3|ζa|=|ζc|、3|ζb|=|ζd|とし、3|ξa|=|ξc|、3|ξb|=|ξd|となるようにすると、被走査面(同様にフォトセンサ24の受光面)に形成される光スポットSa、Sb、Sc、Sdの様子は、図4(b)に示す如くになる。「Q」は、シリンドリカルレンズ12とfθレンズ16による前記の位置:qの像である。
The four light beams emitted from the light source device 10 are separated from each other in the sub-scanning direction by the cylindrical lens 12 in the vicinity of the deflection reflection surface of the rotary polygon mirror 14 as shown in FIG. Is formed into a "long line image", is converted into a deflected light beam by a rotating polygon mirror, and a light spot separated in the sub-scanning direction is formed on the surface to be scanned, which is the peripheral surface of the photoreceptor 20, by the action of the fθ lens 16. To do. Then, four lines (four scanning lines) on the surface to be scanned are simultaneously scanned by these four light spots.
FIG. 4A illustrates the combined state of the prisms 4 in an explanatory manner. When the prism 4 is combined, the center between the optical axes of the coupling lenses 2a and 2b and the center between the optical axes of the coupling lenses 2c and 2d are in the position shown in FIG. As follows. In order to avoid complication of the drawing, the coupling lens 2a and the coupling lens 2c are drawn to overlap each other, and the coupling lens 2b and the coupling lens 2d are drawn to overlap each other. Since the optical axes of the coupling lenses are parallel to each other, and the coupling action is to convert the light beam from the semiconductor laser into a parallel beam, as long as the center between the optical axes coincides at the position q, the individual couplings The position of the lens may be anywhere, and therefore the generality of the following description is not lost even if two coupling lenses are drawn one by one as shown in FIG.
The shift amounts of the light emitting portions Ha and Hc of the semiconductor lasers 1a and 1c relative to the optical axes (indicated by “+” marks) of the coupling lenses 2a and 2c are related to ζa and ζc and the sub-scanning direction with respect to the main scanning direction. Let ξa and ξc. Similarly, the shift amounts of the light emitting portions Hb, Hd of the semiconductor lasers 1b, 1d relative to the optical axes (indicated by “+” marks) of the coupling lenses 2b, 2d are ζb, ζd, Let ξb and ξd be related to the scanning direction.
At this time, if 3 | ζa | = | ζc |, 3 | ζb | = | ζd |, and 3 | ξa | = | ξc |, 3 | ξb | = | ξd | In addition, the light spots Sa, Sb, Sc, and Sd formed on the light receiving surface of the photosensor 24 are as shown in FIG. “Q” is an image of the position: q by the cylindrical lens 12 and the fθ lens 16.

隣接する光スポット間の「主走査方向の間隔」を、図の如く、δab、δac、δbdとすると、これらは、前述の結像倍率:M(主)(=F/f)を用いて以下のように表される。
δab=M(主)|ζb−ζa|
δac=M(主)|ζc−ζa|
δbd=M(主)|ζd−ζb|
フォトセンサ24における主走査方向の分解能:Δを用いると、個々の光スポットがフォトセンサ24により別個に検出されるためには、
δab≦Δ、δac≦Δ、δbd≦Δ
の3条件が独立して満足されればよい。換言すれば、上記結像倍率:M(主)に応じて、上記条件が満足されるように、ずれ量:ζa、ζc、ζb、ζdを、それぞれ設定すればよい。
副走査方向のずれ量:ξa、ξb、ξc、ξdは、光スポットSa、Sb、Sc,Sdの副走査方向の隣接間隔が、所定の走査線ピッチに合致するように、副走査方向の結像倍率:M(副)に応じて設定する。
図4(c)は、図4(a)における発光部HbとHdとの位置を入れ替えた場合である。このとき被走査面上における光スポットSa、Sb、Sc、Sdの配列は、図4(d)に示す如くになる。即ち、発光部とカップリングレンズ光軸との位置関係の調整により、光スポットSa、Sb、Sc、Sdの配列状態は適宜に調整可能である。
図4(d)の光スポット配列の場合において、各光スポットをフォトセンサ24により個別に検出できる条件が、
δad≦Δ、δac≦Δ、δbd≦Δ
となることは、上の説明に照らして容易に理解されるであろう。
If the “intervals in the main scanning direction” between adjacent light spots are δab, δac, and δbd as shown in the figure, these are described below using the imaging magnification: M (main) (= F / f). It is expressed as
δab = M (main) | ζb−ζa |
δac = M (main) | ζc−ζa |
δbd = M (main) | ζd−ζb |
In order to detect individual light spots separately by the photosensor 24 using the resolution in the main scanning direction: Δ in the photosensor 24,
δab ≦ Δ, δac ≦ Δ, δbd ≦ Δ
It is sufficient that the three conditions are satisfied independently. In other words, the shift amounts: ζa, ζc, ζb, and ζd may be set in accordance with the imaging magnification: M (main) so that the above condition is satisfied.
Deviation amounts in the sub-scanning direction: ξa, ξb, ξc, and ξd are connected in the sub-scanning direction so that the adjacent intervals in the sub-scanning direction of the light spots Sa, Sb, Sc, and Sd match a predetermined scanning line pitch. Image magnification: Set according to M (sub).
FIG. 4C shows a case where the positions of the light emitting portions Hb and Hd in FIG. At this time, the arrangement of the light spots Sa, Sb, Sc, Sd on the surface to be scanned is as shown in FIG. That is, the arrangement state of the light spots Sa, Sb, Sc, and Sd can be appropriately adjusted by adjusting the positional relationship between the light emitting unit and the optical axis of the coupling lens.
In the case of the light spot arrangement in FIG. 4D, the conditions under which each light spot can be individually detected by the photosensor 24 are
δad ≦ Δ, δac ≦ Δ, δbd ≦ Δ
It will be easily understood in light of the above explanation.

図1(A)に示すマルチビーム走査装置における光源装置10として「図2〜図4に実施の形態を説明した光源装置」を用いたものは、光源装置10から放射され、同時に偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系16により被走査面20に向かって集光し、被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより、複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査装置において、各偏向光ビームによる走査開始のため同期をとるために、被走査面の走査領域へ向かう偏向光ビームを検出する同期光検出手段22,24を有し、複数の光ビームを放射する光源装置10が、n(=2)個の半導体レーザ1a、1bと、これら半導体レーザの個々と1:1に対応するn個のカップリングレンズ2a、2bと、n個の半導体レーザ及びn個のカップリングレンズを、n個のカップリングレンズの光軸を、主走査方向に関して互いに平行にして、所定の位置関係に保って一体的に保持する保持体3Aとを有する第1光源部と、m(=2)個の半導体レーザ1c、1dと、これら半導体レーザの個々と1:1に対応するm個のカップリングレンズ2c、2dと、m個の半導体レーザ及びm個のカップリングレンズを、m個のカップリングレンズの光軸を、主走査方向に関して互いに平行にして、所定の位置関係に保って一体的に保持する保持体3Bとを有する第2光源部と、第1光源部3Aから放射されるn(=2)本の光ビームと、第2光源部から放射されるm(=2)本の光ビームを互いに近接する光ビームとして合成するビーム合成手段4とを有し、第1光源部における任意の半導体レーザの発光部の、対応するカップリングレンズの光軸からの
主走査方向のずれ量:ζi(ζa、ζb)と、第2光源部における任意の半導体レーザの発光部の、対応するカップリングレンズの光軸からの主走査方向のずれ量:ζk(ζc、ζd)と、第1、第2光源部とビーム合成手段4の位置関係とを、同期光検出手段の受光面位置において、互いに隣接する偏向光ビームが、主走査方向に、同期光検出手段の分解能:Δ以上の距離分離するように設定することにより、各偏向光ビームを同期光検出手段により個別的に検出できるように構成した参考例2のマルチビーム走査装置である。
As the light source device 10 in the multi-beam scanning device shown in FIG. 1A, a device using the “light source device whose embodiment is described in FIGS. 2 to 4” is emitted from the light source device 10 and simultaneously deflected. Are deflected toward the scanning surface 20 by the scanning imaging optical system 16, and a plurality of light spots separated in the sub-scanning direction are formed on the scanning surface. Thus, in the multi-beam scanning device that scans a plurality of lines simultaneously, synchronous light detection means 22 and 24 for detecting the deflected light beam toward the scanning region of the surface to be scanned in order to synchronize for the start of scanning by each deflected light beam. The light source device 10 that emits a plurality of light beams includes n (= 2) semiconductor lasers 1a and 1b and n coupling lasers corresponding to each of these semiconductor lasers in a ratio of 1: 1. 2a, 2b, n semiconductor lasers and n coupling lenses, with the optical axes of the n coupling lenses being parallel to each other in the main scanning direction and maintaining a predetermined positional relationship. A first light source unit having a holding body 3A for holding, m (= 2) semiconductor lasers 1c and 1d, and m coupling lenses 2c and 2d corresponding to each of these semiconductor lasers 1: 1. A holding body 3B that integrally holds the m semiconductor lasers and the m coupling lenses while keeping the optical axes of the m coupling lenses parallel to each other in the main scanning direction and maintaining a predetermined positional relationship. A second light source unit having n, n (= 2) light beams emitted from the first light source unit 3A, and m (= 2) light beams emitted from the second light source unit are close to each other. Beam to be combined as a light beam And a forming unit 4, the light emitting portion of any of the semiconductor laser in the first light source unit, a main scanning direction of the shift amount from the optical axis of the corresponding coupling lenses: ζ i (ζa, ζb) and, second Deviation amount in the main scanning direction of the light emitting part of an arbitrary semiconductor laser in the light source part from the optical axis of the corresponding coupling lens: ζ k (ζc, ζd), first and second light source parts, and beam combining means 4 Is set so that the deflection light beams adjacent to each other at the position of the light receiving surface of the synchronization light detection means are separated in the main scanning direction by a distance equal to or greater than the resolution of the synchronization light detection means: Δ. It is the multi-beam scanning apparatus of the reference example 2 comprised so that a deflection | deviation light beam could be detected separately by a synchronous light detection means.

また、図2〜図4に即して説明した光源装置は、n=mで、第1光源部と第2光源部が同一構造のものであり、光源装置の第1、第2光源部における各半導体レーザは、対応する保持体の保持孔に圧入固定され、各カップリングレンズは対応する保持体に接着樹脂により固定され(図3参照)、接着樹脂により、対応する半導体レーザの発光部に対する光軸位置を調整され、n=m=2である。
上に説明した例では、カップリングレンズ2a〜2dの光軸を互いに平行としたが、これら光軸を「主走査方向に関して」平行とし、副走査方向に関しては、相互に微小角をなすようにしてもよい。このように、各カップリングレンズの光軸が副走査方向に関して微小角をなすようにする場合には、各発光部の副走査方向のずれ量:ξa〜ξdを「0」とすることもできる。
また、図2〜図4に説明した例を、半導体レーザやカップリングレンズの数:n、mを3以上の場合に敷衍することも容易である。
図1〜図4に即して説明した例では、例えば、カップリングレンズ2a、2bの光軸に対する発光部Ha、Hbのずれの方向を「互いに離れる向き」として説明したが「ずれの方向」は、このような「互いに離れる向き」に限られない。
図5を参照して、カップリングレンズ2a、2bの光軸に対する発光部Ha、Hbのずれの場合を例にとって説明すると、発光部Ha、Hbを、図5(a)に示す場合のように、互いに主走査方向に近づくようにずらしてもよい。この場合には、カップリングレンズ2a、2bにより平行ビーム化された光ビームの主光線は、主走査方向において互いに離れる向きに進む。また、図5(b)に示すように、発光部Ha、Hbを「同じ向き」にずらしてもよい。この場合には、主走査方向のずれ量:ζa、ζbの大小関係に応じて、カップリングされた光ビームの進行方向は、主走査方向において、互いに交叉する向きに進むようにも、互いに離れる向きに進むようにもできる。
The light source device described with reference to FIGS. 2 to 4 has n = m, the first light source unit and the second light source unit have the same structure, and the first and second light source units of the light source device have the same structure. Each semiconductor laser is press-fitted and fixed in the holding hole of the corresponding holding body, and each coupling lens is fixed to the corresponding holding body with an adhesive resin (see FIG. 3). The optical axis position is adjusted and n = m = 2.
In the example described above, the optical axes of the coupling lenses 2a to 2d are parallel to each other. However, these optical axes are parallel to the “main scanning direction”, and the sub-scanning direction forms a minute angle with each other. May be. As described above, when the optical axes of the coupling lenses form a minute angle with respect to the sub-scanning direction, the deviation amounts ξa to ξd of the light emitting units in the sub-scanning direction can be set to “0”. .
It is also easy to spread the example described in FIGS. 2 to 4 when the number of semiconductor lasers and coupling lenses: n and m are 3 or more.
In the example described with reference to FIGS. 1 to 4, for example, the direction of deviation of the light emitting portions Ha and Hb with respect to the optical axes of the coupling lenses 2 a and 2 b has been described as “direction away from each other”. Is not limited to such a “direction away from each other”.
With reference to FIG. 5, the case where the light emitting portions Ha and Hb are displaced with respect to the optical axes of the coupling lenses 2a and 2b will be described as an example. The light emitting portions Ha and Hb are as shown in FIG. Alternatively, they may be shifted so as to approach each other in the main scanning direction. In this case, the principal rays of the light beams converted into parallel beams by the coupling lenses 2a and 2b travel in directions away from each other in the main scanning direction. Further, as shown in FIG. 5B, the light emitting portions Ha and Hb may be shifted in the “same direction”. In this case, the traveling directions of the coupled light beams are separated from each other so as to advance in directions intersecting with each other in the main scanning direction according to the magnitude relationship between the shift amounts ζa and ζb in the main scanning direction. You can also go in the direction.

上に説明した各例では、基本的にカップリング光軸相互の関係は、主走査方向に関して互いに平行であり、半導体レーザの発光部は、対応するカップリングレンズの光軸に対して主走査方向にずれた位置に位置される。
この場合、同時走査に用いられる偏向光ビームの数が大きくなると、発光部の一部は、カップリングレンズの光軸から「大きく離れた位置」に配置されることになる。このような発光部からの光束は対応するカップリングレンズの周辺部を通ることになるので、カップリングされた光ビームにおける波面収差が大きくなる。このような波面収差がある程度大きくなると、この光ビームが被走査面上に形成する光スポットのスポット径を増大させる。このような光スポットで画像書込みがなされると、書込み形成された画像の画質が所期の品質を実現できないこともあり得る。
このような問題を避ける方策として「各カップリングレンズの光軸の方向を、主走査方向において互いに非平行とする」ことが考えられる。
図6は、このような光源装置の1例を概念的に示している。
光源装置10Aの要部は、2個の半導体レーザ1a、1bと、これらと1:1に対応するカップリングレンズ2a、2bとを有している。図は、光源装置10Aを副走査方向から見た状態である。図の如く、カップリングレンズ2a、2bの光軸は「主走査方向に関して非平行」である。上記光軸は、副走査方向に関しては共に同一面内にある。
半導体レーザ1a、1bの発光部を従前通りHa、Hbとし、これら発光部のカップリングレンズ2a、2bの光軸からのずれ量を、主走査方向につきζa、ζb、副走査方向につきξa、ξbとすると、ζa=ζb=0であり、ξaとξbとは被走査面上の光スポットが副走査方向に走査線ピッチ分だけ分離するように定められている。このようにすると、発光部をカップリングレンズ光軸から大きく離して配置する必要はなく、上述の波面収差劣化の問題を有効に回避できる(半導体レーザとカップリングレンズの数が多くなっても同様である)。
In each example described above, the relationship between the coupling optical axes is basically parallel to the main scanning direction, and the light emitting part of the semiconductor laser is in the main scanning direction with respect to the optical axis of the corresponding coupling lens. It is located at a position shifted.
In this case, when the number of deflected light beams used for the simultaneous scanning is increased, a part of the light emitting portion is disposed at a “position far away from the optical axis of the coupling lens”. Since the light flux from such a light emitting part passes through the peripheral part of the corresponding coupling lens, the wavefront aberration in the coupled light beam is increased. When such wavefront aberration increases to some extent, the spot diameter of the light spot formed on the surface to be scanned by this light beam is increased. If an image is written with such a light spot, the image quality of the written image may not achieve the desired quality.
As a measure for avoiding such a problem, it is conceivable to “make the directions of the optical axes of the coupling lenses non-parallel to each other in the main scanning direction”.
FIG. 6 conceptually shows an example of such a light source device.
The main part of the light source device 10A includes two semiconductor lasers 1a and 1b, and coupling lenses 2a and 2b corresponding to them 1: 1. The figure shows the light source device 10A as viewed from the sub-scanning direction. As shown in the figure, the optical axes of the coupling lenses 2a and 2b are "non-parallel with respect to the main scanning direction". The optical axes are in the same plane with respect to the sub-scanning direction.
The light emitting portions of the semiconductor lasers 1a and 1b are assumed to be Ha and Hb as before, and the deviation amounts of these light emitting portions from the optical axes of the coupling lenses 2a and 2b are ζa and ζb in the main scanning direction and ξa and ξb in the sub scanning direction. Then, ζa = ζb = 0, and ξa and ξb are determined so that the light spot on the scanned surface is separated by the scanning line pitch in the sub-scanning direction. In this way, it is not necessary to dispose the light emitting part far away from the optical axis of the coupling lens, and the above-mentioned problem of wavefront aberration degradation can be effectively avoided (even if the number of semiconductor lasers and coupling lenses increases) Is).

このような光源装置を図1(a)に示す如きマルチビーム走査装置の光源装置として用いた場合に、被走査面と等価なフォトセンサ24の受光面上で光スポットを個別的に検出できる条件を説明すると、以下のようになる。
図7において、符号16は「図1(a)に示すfθレンズ16」を合成し、単一化して示している。図に示すように、fθレンズ16に主走査方向(図の上下方向)において集束角:φをもった光束が入射した場合を考えてみると、入射光束は、fθレンズ16により集束角を「γφ」に変換され、図中のP点に結像する。そして、結像点Pから距離:Sだけ離れた被走査面20上では、主走査方向に「δ」だけ広がることになる。上記「γ」を、fθレンズ16の「主走査方向の角倍率」と呼ぶ。角倍率:γはfθレンズ16に応じて一義的に定まる。
ここで、図7における集束角:φを、図6に示す光源装置10Aから放射された2本の光ビームの主光線が「主走査方向においてなす角」と考えてみる。
すると、上記2本の光ビームの主光線同士はP点において交叉するが、各光ビーム(偏向光ビーム)が結像するのは被走査面20の位置である。従って、被走査面上に結像により形成される2つの光スポットは、主走査方向に距離:δだけ分離することになる。距離:δは、図7の角:γφと距離:Sとを用いて、
δ=2S・tan(γφ/2)
と表すことができる。
従って、2つの光スポットを個別的に検出できる条件は、フォトセンサ24の分解能:Δに対し、
Δ≦δ=2S・tan(γφ/2)
が成り立つことである。
fθレンズ16の使用態様は設計条件として定まり、角倍率:γもfθレンズ16の特性として定まる。また、上記角:φが定まれば、P点の位置、従って距離:Sが定まることになる。従って、上記条件「Δ≦δ=2S・tan(γφ/2)」を満足するように、角:φを設定すればよい。
上に説明したところは、光ビームの数が3以上のばあいにも容易に敷衍することができる。
When such a light source device is used as a light source device of a multi-beam scanning device as shown in FIG. 1A, conditions under which light spots can be individually detected on the light receiving surface of the photosensor 24 equivalent to the surface to be scanned Is described as follows.
In FIG. 7, reference numeral 16 indicates a combined and unified “fθ lens 16 illustrated in FIG. 1A”. As shown in the drawing, when a light beam having a focusing angle: φ is incident on the fθ lens 16 in the main scanning direction (vertical direction in the drawing), the incident light beam has a focusing angle “ It is converted to “γφ” and imaged at a point P in the figure. Then, on the surface to be scanned 20 that is separated from the image forming point P by the distance: S, it is spread by “δ” in the main scanning direction. The “γ” is referred to as “angular magnification in the main scanning direction” of the fθ lens 16. Angular magnification: γ is uniquely determined according to the fθ lens 16.
Here, let us consider the focusing angle: φ in FIG. 7 as an “angle formed in the main scanning direction” by the principal rays of the two light beams emitted from the light source device 10A shown in FIG.
Then, the principal rays of the two light beams intersect at point P, but each light beam (deflected light beam) forms an image at the position of the scanning surface 20. Therefore, the two light spots formed by imaging on the surface to be scanned are separated by a distance δ in the main scanning direction. The distance: δ uses the angle: γφ and the distance: S in FIG.
δ = 2S · tan (γφ / 2)
It can be expressed as.
Therefore, the condition for individually detecting the two light spots is that the resolution of the photosensor 24: Δ
Δ ≦ δ = 2S · tan (γφ / 2)
Is true.
The usage mode of the fθ lens 16 is determined as a design condition, and the angular magnification: γ is also determined as a characteristic of the fθ lens 16. If the angle φ is determined, the position of the point P, and thus the distance S, is determined. Accordingly, the angle φ may be set so as to satisfy the above condition “Δ ≦ δ = 2S · tan (γφ / 2)”.
As described above, even when the number of light beams is three or more, it can be easily spread.

即ち、複数の光ビームを放射する光源装置が、N(≧3)個の半導体レーザ及び、これら半導体レーザの個々と1:1に対応するN個のカップリングレンズとを、少なくとも有し、N個のカップリングレンズは同一の構成で、光軸を主走査方向に関して互いに非平行にされるものである場合には、同期光検出手段の受光面位置において、互いに隣接する任意の2つの偏向光ビームをBi、Bi+1(i=1〜N−1)とするとき、これらのビームBi、Bi+1を放射する半導体レーザに対応するカップリングレンズの光軸が主走査方向になす角:φiを「ビームBi、Bi+1の主走査方向の間隔が同期光検出手段の分解能:Δ以上とする」ように設定すれば良いのである(請求項1)。
例えば、光源装置から放射される光ビーム数が4本であり、これらビームをビームB1〜B4とし、同期光検出手段の受光面位置において、これらが順次に隣接するものとすれば、光ビームB1,B2が主走査方向に角:φ12をなしてfθレンズに入射し、同様に、光ビームB2,B3が主走査方向に角:φ23をなしてfθレンズに入射し、光ビームB3,B4が主走査方向に角:φ34をなしてfθレンズに入射するものとし、また、光ビームB1,B2の主光線が交叉する位置から受光面に至る距離をS12、光ビームB2,B3の主光線が交叉する位置から受光面に至る距離をS23、光ビームB3,B4の主光線が交叉する位置から受光面に至る距離をS34とすれば、各光スポットを個別的に検出できるようにするには、同期光検出手段の分解能:Δに対して、
Δ≦2S12・tan(γφ12/2)
Δ≦2S23・tan(γφ23/2)
Δ≦2S34・tan(γφ34/2)
を満足するように、光源装置を構成すればよい。各半導体レーザの発光部が対応するカップリングレンズの光軸に対して主走査方向に「ずらされない(ζ=0)」場合には、各カップリングレンズの光軸が主走査方向になす角が上記の角:φ12、φ23、φ34となるように設定すれば良い。
That is, a light source device that emits a plurality of light beams has at least N (≧ 3) semiconductor lasers and N coupling lenses corresponding to each of these semiconductor lasers and 1: 1, and N When the coupling lenses have the same configuration and the optical axes are made non-parallel to each other in the main scanning direction, any two deflected lights adjacent to each other at the position of the light receiving surface of the synchronous light detecting means. When the beams are B i and B i + 1 (i = 1 to N−1), the angle formed by the optical axis of the coupling lens corresponding to the semiconductor laser emitting these beams B i and B i + 1 in the main scanning direction: φ i may be set so that “the interval between the beams B i and B i + 1 in the main scanning direction is equal to or greater than the resolution of the synchronous light detection means: Δ”.
For example, if the number of light beams emitted from the light source device is four, these beams are designated as beams B 1 to B 4 , and they are sequentially adjacent at the position of the light receiving surface of the synchronous light detecting means. beam B 1, B 2 corner in the main scanning direction: entering the phi 12 f [theta] lens forms a likewise light beam B 2, B 3 corners in the main scanning direction: entering the f [theta] lens forms a phi 23 The light beams B 3 and B 4 are incident on the fθ lens at an angle of φ 34 in the main scanning direction, and reach the light receiving surface from the position where the chief rays of the light beams B 1 and B 2 intersect. The distance is S 12 , the distance from the position where the chief rays of the light beams B 2 and B 3 intersect to the light receiving surface is S 23 , and the distance from the position where the chief rays of the light beams B 3 and B 4 intersect is the light receiving surface. if S 34, to make each light spot can be detected individually, the resolution of the synchronization light detecting means: For Δ
Δ ≦ 2S 12 · tan (γφ 12/2)
Δ ≦ 2S 23 · tan (γφ 23/2)
Δ ≦ 2S 34 · tan (γφ 34/2)
What is necessary is just to comprise a light source device so that it may satisfy | fill. When the light emitting portion of each semiconductor laser is “not shifted (ζ = 0)” in the main scanning direction with respect to the optical axis of the corresponding coupling lens, the angle formed by the optical axis of each coupling lens in the main scanning direction is What is necessary is just to set so that it may become said angle | corner: (phi) 12 , (phi) 23 , and (phi) 34 .

図8は、図6で示した如き光源装置の具体的な1例を示している。
符号30で示す保持体には厚み方向に互いに角度をなして2つの貫通孔302’、303’が穿設され、貫通孔の端部に半導体レーザ1a、1bが圧入固定されている。保持体30の中央部に突設された凸部には、各半導体レーザ1a、1bに対応するカップリングレンズ2a、2bが、図3に即して説明したのと同様の方法で接着固定されている。ただし、この例では、半導体レーザの各発光部が対応するカップリングレンズの光軸上に位置するように、各カップリングレンズの位置が調整されている。そして、カップリングレンズ2a、2bの光軸は、図に示す如く主走査方向において互いに非平行であり、且つ、各光ビームの形成する光スポットが被走査面上で副走査方向に分離するように、副走査方向において互いに微小角をなしている(このようにする代わり、上記両光軸が主走査方向に平行な同一面にあるようにし、各カップリングレンズに対応する半導体レーザの発光部を、上記光軸位置から副走査方向に変位させて位置させてもよい)。
このようにして、主走査方向に互いに非平行な2本の光ビームが得られる。
各カップリングレンズは光学的に同一で、発光部からの発散光束を平行ビームに変換する。
図8に示す如き光源装置は、同様のものを2つ用い、これらを第1、第2光源部として前述のプリズム4とともに、図2に即して説明したのと同様の光源装置として構成し、第1、第2光源部からの各2本の光ビームをプリズム4により合成して互いに近接する4本の平行光ビームとして射出させることができる。
図9は、このような光源装置を説明するための図である。
図9において、符号3Cで示すのは、図8に示した光源であり、第1光源部である。符号3Dは、第1光源部3Cと同様の構成の第2光源部を示す。第1光源部3C、第2光源部3Dは、図の如く、主走査方向に「L」だけ離れて配置され、第1光源部3Cから放射される光ビームB1,B3と、第2光源部3Dから放射される光ビームB2,B4が主走査方向に交互に配列するように組み合わせられる(図9には図示されていないが、このようにするために、第1光源部3Cと第2光源部3Dとは、図9の面に平行な面内で、各光源部における「2つのカップリングレンズの光軸のなす角を2等分する直線」が、互いに角をなしている)。これら4本の光ビームは図示されないプリズム(ビーム合成手段 図2に示すプリズム4と同様のもの)により合成される。
FIG. 8 shows a specific example of the light source device as shown in FIG.
Two holding holes 302 ′ and 303 ′ are formed in the holding body indicated by reference numeral 30 at an angle in the thickness direction, and the semiconductor lasers 1 a and 1 b are press-fitted and fixed to the end portions of the through holes. Coupling lenses 2a and 2b corresponding to the respective semiconductor lasers 1a and 1b are bonded and fixed to the convex portion projecting from the central portion of the holding body 30 in the same manner as described with reference to FIG. ing. However, in this example, the position of each coupling lens is adjusted so that each light emitting part of the semiconductor laser is positioned on the optical axis of the corresponding coupling lens. The optical axes of the coupling lenses 2a and 2b are non-parallel to each other in the main scanning direction as shown in the figure, and the light spots formed by the respective light beams are separated in the sub scanning direction on the surface to be scanned. In addition, the light emitting portions of the semiconductor laser corresponding to each coupling lens are formed so as to form a small angle with each other in the sub-scanning direction (instead of doing so, the two optical axes are on the same plane parallel to the main scanning direction). May be displaced from the optical axis position in the sub-scanning direction).
In this way, two light beams that are non-parallel to each other in the main scanning direction are obtained.
Each coupling lens is optically the same, and converts the divergent light beam from the light emitting section into a parallel beam.
The two light source devices as shown in FIG. 8 are used, and these are used as the first and second light source sections together with the prism 4 described above as a light source device similar to that described with reference to FIG. The two light beams from the first and second light source units can be combined by the prism 4 and emitted as four parallel light beams close to each other.
FIG. 9 is a diagram for explaining such a light source device.
In FIG. 9, reference numeral 3C denotes the light source shown in FIG. 8, which is the first light source unit. Reference numeral 3D denotes a second light source unit having a configuration similar to that of the first light source unit 3C. As shown in the figure, the first light source unit 3C and the second light source unit 3D are arranged apart by “L” in the main scanning direction, and the light beams B 1 and B 3 emitted from the first light source unit 3C and the second The light beams B 2 and B 4 emitted from the light source unit 3D are combined so as to be alternately arranged in the main scanning direction (not shown in FIG. 9, but in order to do so, the first light source unit 3C And the second light source unit 3D, in a plane parallel to the plane of FIG. 9, "straight lines that bisect the angle formed by the optical axes of the two coupling lenses" in each light source unit form an angle with each other. ) These four light beams are synthesized by a prism (not shown) (same as the prism 4 shown in FIG. 2).

これら光ビームB1,B2,B3,B4が、被走査面(および同期光検出手段の受光面上)で、図9の右図のように、互いにビームの配列と同配列の光スポットS1,S2,S3,S4を形成するものとすれば、これら光スポットを個別的に検出できる条件は、図9に示す光ビームが主走査方向においてなす角:φ12、φ23、φ34が、fθレンズの角倍率:γ、同期光検出手段の分解能:Δに対して、前述の条件:
Δ≦2S12・tan(γφ12/2)
Δ≦2S23・tan(γφ23/2)
Δ≦2S34・tan(γφ34/2)
を満足することであり、このように光源装置を構成することにより、4本の光ビームを個別的に検出することができる。
図9に即して説明した光源装置を、図1(a)に示すマルチビーム走査装置の光源装置10として使用することにより、感光体20の周面である被走査面を、同時に4本ずつ走査することができる。
即ち、このようなマルチビーム走査装置は、光源装置10から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系16により被走査面20に向かって集光し、被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査装置において、各偏向光ビームによる走査開始のため同期をとるために、被走査面の走査領域へと向かう偏向光ビームを検出する同期光検出手段22,24を有し、複数の光ビームを放射する光源装置が、n(=2)個の半導体レーザと、これら半導体レーザの個々と1:1に対応するn個のカップリングレンズと、n個の半導体レーザ及びn個のカップリングレンズを、n個のカップリングレンズの光軸が、主走査方向において互いに所定の角をなすようにして、所定の位置関
係に保って一体的に保持する保持体とを有する第1光源部3Cと、m(=2)個の半導体レーザと、これら半導体レーザの個々と1:1に対応するm個のカップリングレンズと、m個の半導体レーザ及びm個のカップリングレンズを、m個のカップリングレンズの光軸が、主走査方向において互いに所定の角をなすようにして、所定の位置関係に保って一体的に保持する保持体とを有する第2光源部3Dと、第1光源部3Cから放射されるn本の光ビームと、第2光源部3Dから放射されるm本の光ビームを互いに近接する光ビームとして合成するビーム合成手段とを有し、第1および第2光源部における各カップリングレンズの光軸方向、第1及び第2光源部と上記ビーム合成手段の相互の位置関係を、互いに隣接する偏向光ビームが主走査方向に、互いに同期光検出手段の分解能:Δ以上の距離分離するように設定し、各偏向光ビームを同期光検出手段により個別的に検出できるように構成されたものである(請求項2)。
These light beams B 1 , B 2 , B 3 , B 4 are light beams having the same arrangement as the beam arrangement on the scanned surface (and on the light receiving surface of the synchronous light detecting means) as shown in the right figure of FIG. If the spots S 1 , S 2 , S 3 , S 4 are to be formed, the conditions for individually detecting these light spots are the angles formed by the light beam shown in FIG. 9 in the main scanning direction: φ 12 , φ 23, phi 34 is the fθ lens angular magnification: gamma, resolution of synchronous optical detection means: relative delta, the above conditions:
Δ ≦ 2S 12 · tan (γφ 12/2)
Δ ≦ 2S 23 · tan (γφ 23/2)
Δ ≦ 2S 34 · tan (γφ 34/2)
By configuring the light source device in this way, four light beams can be detected individually.
By using the light source device described with reference to FIG. 9 as the light source device 10 of the multi-beam scanning device shown in FIG. 1A, four surfaces to be scanned, which are peripheral surfaces of the photoconductor 20, are simultaneously provided. Can be scanned.
That is, in such a multi-beam scanning device, a plurality of deflected light beams emitted and deflected from the light source device 10 are condensed toward the scanned surface 20 by the scanning imaging optical system 16, and In addition, in a multi-beam scanning device that forms a plurality of light spots separated from each other in the sub-scanning direction and simultaneously scans a plurality of lines with the plurality of light spots, in order to synchronize for the start of scanning with each deflected light beam, A light source device that has synchronized light detection means 22 and 24 for detecting a deflected light beam directed toward a scanning region of a surface to be scanned and emits a plurality of light beams includes n (= 2) semiconductor lasers and these semiconductors. Each of the lasers has n coupling lenses corresponding to 1: 1, n semiconductor lasers and n coupling lenses, and the optical axes of the n coupling lenses are in the main scanning direction. A first light source unit 3C having a holding body that integrally holds a predetermined positional relationship so as to form a predetermined angle with each other, m (= 2) semiconductor lasers, and these semiconductor lasers Each of the m coupling lenses corresponding to 1: 1 and the m semiconductor lasers and the m coupling lenses have an optical axis of the m coupling lenses at a predetermined angle in the main scanning direction. The second light source unit 3D having a holding body that is integrally held in a predetermined positional relationship, the n light beams emitted from the first light source unit 3C, and the second light source unit Beam combining means for combining m light beams emitted from 3D as light beams close to each other, and the optical axis direction of each coupling lens in the first and second light source units, the first and second light sources And beam combining means The mutual positional relationship is set so that the deflected light beams adjacent to each other are separated from each other in the main scanning direction by a distance equal to or greater than the resolution of the synchronization light detection means: Δ, and each deflection light beam is individually detected by the synchronization light detection means. It is configured so that it can be detected (claim 2).

またn=mで、第1光源部3Cと第2光源部3Dが同一構成であり(請求項3)、光源装置における各半導体レーザの発光部が、対応するカップリングレンズの光軸上に配備され(請求項4)、且つ、n=m=2である(請求項5)。
上に説明した請求項1記載の発明に用いる光源装置では、一般に、N(≧2)個の半導体レーザのうち、少なくともP(2≦P≦N)個の発光部を、対応するカップリングレンズの光軸から主走査方向にずらして位置させることができる(請求項6)。
同様に、図9に即して説明した光源装置においても、n+m個の半導体レーザのうち、少なくともP(2≦P≦n+m)個の発光部を、対応するカップリングレンズの光軸から主走査方向にずらして配置することができ(請求項7)、このような場合にも、n=mで、第1光源部と第2光源部を同一構成のものとして構成し(請求項8)、且つ、n=m=2とすることができる。
半導体レーザの発光部を、対応するカップリングレンズの光軸から主走査方向にずらして配置することにより、平行ビーム化された光ビームの主光線の方向をカップリングレンズの光軸方向から主走査方向に逸らすことができるので、光ビーム相互が主走査方向でなす角(前記の角:φ23等)を容易に調整できる。
ところで、上に説明した各光源装置においては、半導体レーザから射出された全ての光ビームを「回転多面鏡14の偏向反射面近傍で主走査方向において交差させる」のが好ましい。
図10を参照して説明する。図10で上下方向が主走査方向である。
図10(a)では、例えば、発光部Ha、Hbからの光ビームが互いに広がりつつ回転多面鏡の偏向反射面14Aに入射している。回転多面鏡の回転方向が矢印方向であるとして、被走査面20における主走査方向のG点を考えてみると、発光部Haからの光ビームの光スポットがG点に位置するとき、偏向反射面14Aは実線の位置にあり、光ビームは「実線で示す光路」を通ってG点に到達する。
一方、発光部Hbからの光ビームがG点に光スポットを形成する時点では、偏向反射面14Aは破線の態位まで回転しており、光ビームは「破線で示す光路」を通ってG点に達する。
この図から分かるように、「発光部Ha、Hbからの光ビームが偏向反射面14Aに入射する位置」が離れていると、2つの光ビームは「かなり異なった光路」を通り、fθレンズ16の異なる位置を通過するため、G点に結像する各光ビームに対するfθレンズ16の光学作用が同一にならない。このため、被走査面20上で主走査方向の同じ像高に達する2つの光ビームに対し、収差等の光学特性が異なったものとなり、走査線に曲がりを生じ、走査線ピッチの像高間変動の原因となる虞がある。
Further, when n = m, the first light source unit 3C and the second light source unit 3D have the same configuration (Claim 3), and the light emitting unit of each semiconductor laser in the light source device is arranged on the optical axis of the corresponding coupling lens. (Claim 4) and n = m = 2 (Claim 5).
In the light source device used in the invention described in claim 1 described above, generally, at least P (2 ≦ P ≦ N) of the light emitting units among the N (≧ 2) semiconductor lasers correspond to the corresponding coupling lens. The optical axis can be shifted from the optical axis in the main scanning direction.
Similarly, in the light source device described with reference to FIG. 9, at least P (2 ≦ P ≦ n + m) light emitting units among n + m semiconductor lasers are main-scanned from the optical axis of the corresponding coupling lens. In such a case, the first light source unit and the second light source unit are configured to have the same configuration with n = m (Claim 8). In addition, n = m = 2.
By displacing the light emitting part of the semiconductor laser in the main scanning direction from the optical axis of the corresponding coupling lens, the main beam direction of the collimated light beam is main scanned from the optical axis direction of the coupling lens. Since it can be deflected in the direction, the angle formed by the light beams in the main scanning direction (the aforementioned angle: φ 23 or the like) can be easily adjusted.
By the way, in each of the light source devices described above, it is preferable that all the light beams emitted from the semiconductor laser are “crossed in the main scanning direction in the vicinity of the deflection reflection surface of the rotary polygon mirror 14”.
This will be described with reference to FIG. In FIG. 10, the vertical direction is the main scanning direction.
In FIG. 10A, for example, light beams from the light emitting portions Ha and Hb are incident on the deflecting / reflecting surface 14A of the rotary polygon mirror while spreading each other. Considering the point G in the main scanning direction on the surface to be scanned 20 assuming that the rotation direction of the rotary polygon mirror is the arrow direction, when the light spot of the light beam from the light emitting portion Ha is located at the point G, deflection reflection The surface 14A is at the position of the solid line, and the light beam passes through the “optical path indicated by the solid line” to reach the point G.
On the other hand, when the light beam from the light emitting portion Hb forms a light spot at the point G, the deflecting / reflecting surface 14A is rotated to the broken line position, and the light beam passes through the “optical path indicated by the broken line” to the point G. To reach.
As can be seen from this figure, when the “positions at which the light beams from the light emitting portions Ha and Hb are incident on the deflecting / reflecting surface 14A” are separated, the two light beams pass through “substantially different optical paths”, and the fθ lens 16 Therefore, the optical action of the fθ lens 16 on each light beam imaged at the point G is not the same. For this reason, optical characteristics such as aberration differ for two light beams that reach the same image height in the main scanning direction on the surface to be scanned 20, causing the scanning lines to bend, and between the image heights of the scanning line pitch. May cause fluctuations.

これに対し、図10(b)に示すように、発光部Ha、Hbからの光ビームが偏向反射面14Aの近傍において、主走査方向に交叉するようにすれば、被走査面20の同一像高に向かう光ビーム(偏向光ビーム)は、実質的に同じ光路を通ることになり、上記の如き走査線曲がりや、これに伴う「走査線ピッチの像高間変動」の問題は生じない。また、光源装置からの全ての光ビームを、偏向反射面近傍で主走査方向に交叉させる構成とすることにより、回転多面鏡14の内接円半径を小さくでき、回転多面鏡の高速回転が可能となるので、走査の高速化に有利となる。
請求項10記載のマルチビーム走査装置は、上に実施の形態を種々説明したマルチビーム走査装置において、光源装置から放射される複数の光ビームが、光偏向器の同一の偏向反射面で同時に偏向されるように構成され、複数の光ビームが、偏向反射面の近傍において、主走査方向に交叉するように光源装置が構成されたものである。
このようなマルチビーム走査装置に用いられる光源装置を、例えば、図9に示した光源装置で実現する場合であれば、図における角:φ12、φ23、φ34の調整により、光ビームB1,B2,B3,B4が偏向反射面近傍で主走査方向に交叉するようにすればよい。
また、図2に即して説明したような光源装置で実現するには、図11に示すように、保持体3A,3B(簡略化して示している)を主走査方向(図の上下方向)に距離:Lだけ離し、発光部Ha,Hbから放射された光ビームBa,Bbと発光部Hc,Hdから放射された光ビームBc,Bdが、主走査方向に交互に配列し、且つ、これらが偏向反射面14Aの近傍で交叉するようにすることができる。
図11(b)は、カップリングレンズ2a、2b、2c、2dの位置関係と、発光部Ha,Hb,Hc,Hdの関係の1例を示している。カップリングレンズおよび半導体レーザを保持する保持体3A,3Bとしては同一のものを用いるので、発光部Ha,Hb間の間隔;Aabと、発光部Hc,Hd間の間隔:Acdは同一である。各発光部と対応するカップリングレンズの光軸との相対的な位置関係は、カップリングレンズの接着固定の際に適宜設定する。
On the other hand, as shown in FIG. 10B, if the light beams from the light emitting portions Ha and Hb cross in the main scanning direction in the vicinity of the deflecting / reflecting surface 14A, the same image of the scanned surface 20 is obtained. The light beam (deflected light beam) heading high passes substantially the same optical path, and the above-mentioned problem of the bending of the scanning line and the accompanying “fluctuation between the image heights of the scanning line pitch” does not occur. In addition, by making all the light beams from the light source device cross in the main scanning direction in the vicinity of the deflecting reflecting surface, the inscribed circle radius of the rotating polygon mirror 14 can be reduced, and the rotating polygon mirror can be rotated at high speed. Therefore, it is advantageous for increasing the scanning speed.
The multi-beam scanning device according to claim 10, wherein a plurality of light beams emitted from the light source device are simultaneously deflected by the same deflecting reflection surface of the optical deflector in the multi-beam scanning device having various embodiments described above. The light source device is configured such that a plurality of light beams cross in the main scanning direction in the vicinity of the deflecting reflection surface.
If the light source device used in such a multi-beam scanning device is realized by, for example, the light source device shown in FIG. 9, the light beam B is adjusted by adjusting the angles: φ 12 , φ 23 , φ 34 in the figure. What is necessary is just to make 1 , B 2 , B 3 , and B 4 cross in the main scanning direction in the vicinity of the deflecting reflecting surface.
Further, in order to realize the light source device as described with reference to FIG. 2, as shown in FIG. 11, the holding bodies 3A and 3B (shown in a simplified manner) are set in the main scanning direction (vertical direction in the figure). The light beams Ba and Bb emitted from the light emitting portions Ha and Hb and the light beams Bc and Bd emitted from the light emitting portions Hc and Hd are alternately arranged in the main scanning direction, and are separated by a distance L. Can cross in the vicinity of the deflecting and reflecting surface 14A.
FIG. 11B shows an example of the positional relationship between the coupling lenses 2a, 2b, 2c, and 2d and the relationship between the light emitting portions Ha, Hb, Hc, and Hd. Since the same holders 3A and 3B for holding the coupling lens and the semiconductor laser are used, the interval between the light emitting portions Ha and Hb; the interval between Aab and the light emitting portions Hc and Hd: Acd is the same. The relative positional relationship between each light emitting portion and the optical axis of the corresponding coupling lens is set as appropriate when the coupling lens is bonded and fixed.

図11(b)に示す例では、カップリングレンズ2a、2bを保持する保持体3Aに対し、カップリングレンズ2c、2dを保持する保持体3Bが、長手方向において傾けられている。
図11(c)は、図11(b)に示す如き発光部配置を、ビーム合成手段であるプリズム4(図2参照)で合成した状態を示している。符号2は合成された仮想的なカップリングレンズを示す。このとき、発光部Ha,Hb,Hc,Hdから放射された光ビームが被走査面(および同期光検出手段の受光面上)に形成する4つの光スポットSa,Sb,Sc,Sdの様子を図11(d)に示す。
上に説明した各光源装置を光源装置10として用いる図1(a)のマルチビーム走査装置は、光源装置10から放射される複数の光ビームが、光偏向器14の同一の偏向反射面で同時に偏向されるように構成され、光源装置10と光偏向器14との間に、光源装置からの複数の光ビームを偏向反射面の近傍に、互いに副走査方向に分離した主走査方向に長い線像として結像させる線像結像光学系12を有し、走査結像光学系16は、偏向反射面位置と被走査面位置とを、副走査方向において幾何光学的な共役関係とするアナモフィックなものである(請求項11)。そして、上に種々説明した光源装置は、マルチビーム走査装置に用いられる光源装置であって、請求項1〜11の任意の1に記載された構成を有するものである(請求項12)。
上に実施の形態を説明した如き、マルチビーム走査装置を用いることにより、光源装置から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系により被走査面に向かって集光し、被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査方法を実現できる(請求項13、14)。
In the example shown in FIG. 11B, the holding body 3B that holds the coupling lenses 2c and 2d is tilted in the longitudinal direction with respect to the holding body 3A that holds the coupling lenses 2a and 2b.
FIG. 11C shows a state in which the light emitting unit arrangement as shown in FIG. 11B is synthesized by the prism 4 (see FIG. 2) which is a beam synthesis unit. Reference numeral 2 denotes a combined virtual coupling lens. At this time, the four light spots Sa, Sb, Sc, Sd formed on the scanned surface (and on the light receiving surface of the synchronous light detecting means) by the light beams emitted from the light emitting portions Ha, Hb, Hc, Hd are shown. As shown in FIG.
In the multi-beam scanning device of FIG. 1A using each of the light source devices described above as the light source device 10, a plurality of light beams emitted from the light source device 10 are simultaneously transmitted on the same deflecting reflection surface of the optical deflector 14. A line which is configured to be deflected and which is long in the main scanning direction between the light source device 10 and the optical deflector 14 and which separates a plurality of light beams from the light source device in the sub-scanning direction in the vicinity of the deflection reflection surface. The scanning image forming optical system 16 includes a line image forming optical system 12 that forms an image, and the scanning image forming optical system 16 has an anamorphic conjugate relationship in which the deflection reflection surface position and the scanned surface position are geometrically optically conjugate in the sub-scanning direction. (Claim 11). The various light source devices described above are light source devices used in a multi-beam scanning device, and have the configuration described in any one of claims 1 to 11 (claim 12).
By using a multi-beam scanning device as described in the above embodiment, a plurality of deflected light beams emitted and deflected from the light source device are condensed toward the surface to be scanned by the scanning imaging optical system. Further, it is possible to realize a multi-beam scanning method in which a plurality of light spots separated from each other in the sub-scanning direction are formed on the surface to be scanned, and a plurality of lines are simultaneously scanned by the plurality of light spots.

具体的な例の1つとして、図1に即して説明した参考例1の装置の具体例を挙げる。
光源装置10における各カップリングレンズの焦点距離:f=27mm、fθレンズ16の主走査方向の焦点距離:F=225.3mmである。したがって、前述の主走査方向の結像倍率:M(主)(=F/f)=8.34倍である。
このとき、図1(e)に示す光スポットSa、Sb、Scが個別的に検出可能である条件は、フォトセンサ24の分解能:Δ=0.5mmとして、図のδab,δbcを用いて、前述の如く、Δ≦δab=M(主)・ζa、Δ≦δbc=M(主)・ζcである。M(主)=8.34倍を考慮すると、発光部Ha,Hcのカップリングレンズ光軸に対する主走査方向のずれ量:ζa、ζcはそれぞれ、ζa=ζc≧0.06mm(=0.5/8.34)であれば良いことになる。
As one specific example, a specific example of the apparatus of Reference Example 1 described with reference to FIG. 1 is given.
The focal length of each coupling lens in the light source device 10 is f = 27 mm, and the focal length of the fθ lens 16 in the main scanning direction is F = 225.3 mm. Therefore, the imaging magnification in the main scanning direction is M (main) (= F / f) = 8.34 times.
At this time, the condition that the light spots Sa, Sb, Sc shown in FIG. 1 (e) can be individually detected is that the resolution of the photosensor 24 is Δ = 0.5 mm, and δab, δbc in the figure is used. As described above, Δ ≦ δab = M (main) · ζa and Δ ≦ δbc = M (main) · ζc. In consideration of M (main) = 8.34 times, the shift amounts in the main scanning direction of the light emitting portions Ha and Hc with respect to the optical axis of the coupling lens: ζa and ζc are respectively ζa = ζc ≧ 0.06 mm (= 0.5). /8.34).

図12は、この発明の画像形成装置の実施の1形態を示している。
潜像担持体としての光導電性の感光体20は、円筒状に形成されて矢印方向へ等速回転し、帯電手段(帯電ローラによる接触式のものを示しているが、コロナ放電式のものとしてもよい)112により均一帯電され、マルチビーム走査装置114の光走査による書込みで静電潜像を形成される。この静電潜像は、現像手段116により現像され、現像により得られたトナー画像は、転写手段(転写・分離チャージャ式のものを示しているが、ローラ式のものとしてもよい)120によりシート状の記録媒体(転写紙やオーバヘッドプロジェクタ用のプラスチックシート等)Sに転写される。記録媒体Sは、転写されたトナー画像を定着手段122により定着されて装置外へ排出される。トナー画像転写後の感光体20は、クリーニング装置124により、残留トナーや紙粉等を除去される。
マルチビーム走査装置114としては、上に実施の形態を説明した請求項1〜11の任意の1に記載のものが用いられる。
即ち、図12に示す画像形成装置は、潜像担持体20に光走査により潜像を形成し、潜像を可視化して所望の記録画像を得る画像形成装置において、潜像担持体を光走査する光走査装置として、請求項1〜10または請求項11記載のマルチビーム走査装置を用いたものであり(請求項16,17)、潜像担持体20は光導電性の感光体であり、その均一帯電と光走査とにより静電潜像が形成され、形成された静電潜像がトナー画像として可視化される(請求項18)。
FIG. 12 shows an embodiment of an image forming apparatus according to the present invention.
A photoconductive photosensitive member 20 as a latent image carrier is formed in a cylindrical shape and rotates at a constant speed in the direction of an arrow, and charging means (showing a contact type by a charging roller, but a corona discharge type) And the electrostatic latent image is formed by writing by optical scanning of the multi-beam scanning device 114. The electrostatic latent image is developed by the developing unit 116, and the toner image obtained by the development is a sheet by a transfer unit (transfer / separation charger type, but may be a roller type) 120. Is transferred onto a recording medium S (transfer paper, a plastic sheet for an overhead projector, etc.) S. On the recording medium S, the transferred toner image is fixed by the fixing unit 122 and discharged out of the apparatus. Residual toner, paper dust, and the like are removed from the photoreceptor 20 after the toner image transfer by the cleaning device 124.
As the multi-beam scanning device 114, the one described in any one of claims 1 to 11 described above is used.
That is, in the image forming apparatus shown in FIG. 12, a latent image is formed on the latent image carrier 20 by optical scanning, and the latent image is visualized to obtain a desired recorded image. As the optical scanning device, the multi-beam scanning device according to claim 1 to 10 or claim 11 is used (claims 16 and 17), and the latent image carrier 20 is a photoconductive photoconductor, An electrostatic latent image is formed by the uniform charging and optical scanning, and the formed electrostatic latent image is visualized as a toner image.

マルチビーム走査装置の参考例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the reference example of a multi-beam scanning apparatus. 光源装置の1形態例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating one example of a light source device. 図2の形態例の光源装置を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the light source device of the form example of FIG. 図2,3に示す光源装置を用いたときの光スポットの形成状態の1例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of the formation state of the light spot when the light source device shown in FIG.2, 3 is used. 図2,3に示す光源装置における発光部とカップリングレンズの位置関係の別例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating another example of the positional relationship of the light emission part and coupling lens in the light source device shown to FIG. 請求項1記載の発明における、光源装置の実施の形態を説明するための図である。It is a figure for demonstrating embodiment of the light source device in invention of Claim 1. 請求項1記載の発明における、各光ビームの個別的な検出の条件を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the conditions of the separate detection of each light beam in invention of Claim 1. 請求項1記載の発明における光源装置の具体的1例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating one specific example of the light source device in invention of Claim 1. 図8の光源装置を2個組み合わせ、ビーム合成手段であるプリズムでビーム合成する光源装置の1例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of the light source device which combines two light source devices of FIG. 8, and combines a beam with the prism which is a beam synthetic | combination means. 請求項10記載の発明の利点を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the advantage of the invention of Claim 10. 請求項10記載のマルチビーム走査装置における光源装置の1例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of the light source device in the multi-beam scanning apparatus of Claim 10. 画像形成装置の実施の1形態を説明するための図である。It is a figure for demonstrating one Embodiment of an image forming apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1a、1b、1c 半導体レーザ
2a、2b、2c カップリングレンズ
10 光源装置
12 シリンドリカルレンズ(線像結像光学系)
14 回転多面鏡(光偏向器)
16 fθレンズ(走査結像光学系)
20 感光体(被走査面の実体をなす)
22 平面鏡
24 フォトセンサ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1a, 1b, 1c Semiconductor laser 2a, 2b, 2c Coupling lens 10 Light source device 12 Cylindrical lens (line image imaging optical system)
14 Rotating polygon mirror (optical deflector)
16 fθ lens (scanning imaging optical system)
20 photoconductor (acts as the surface to be scanned)
22 Plane mirror 24 Photo sensor

Claims (17)

光源装置から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系により被走査面に向かって集光し、上記被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査装置において、
各偏向光ビームによる走査開始の同期をとるために、被走査面の走査領域へ向かう偏向光ビームを検出する同期光検出手段を有し、
複数の光ビームを放射する光源装置が、
N(≧2)個の半導体レーザ及び、これら半導体レーザの個々と1:1に対応するN個のカップリングレンズとを、少なくとも有し、
上記N個のカップリングレンズは同一の構成で、光軸を主走査方向に関して互いに非平行にされ、
同期光検出手段の受光面位置において、互いに隣接する任意の2つの偏向光ビームをBi、Bi+1(i=1〜N−1)とするとき、これらビームBi、Bi+1を放射する半導体レーザに対応するカップリングレンズの光軸が主走査方向になす角:φiを、上記ビームBi、Bi+1の主走査方向の間隔が、上記同期光検出手段の分解能:Δ以上となるように設定し、上記各偏向光ビームを上記同期光検出手段により個別的に検出できるように構成したことを特徴とするマルチビーム走査装置。
A plurality of deflected light beams radiated and deflected from the light source device are condensed toward the surface to be scanned by the scanning imaging optical system, and a plurality of light spots separated from each other in the sub-scanning direction on the surface to be scanned In a multi-beam scanning apparatus that simultaneously scans a plurality of lines with these plurality of light spots,
In order to synchronize the scanning start by each deflected light beam, it has a synchronized light detecting means for detecting the deflected light beam directed to the scanning area of the scanned surface,
A light source device that emits a plurality of light beams,
At least N (≧ 2) semiconductor lasers and N coupling lenses corresponding to each of these semiconductor lasers and 1: 1,
The N coupling lenses have the same configuration, the optical axes are made non-parallel to each other in the main scanning direction,
When arbitrary two deflected light beams adjacent to each other at the light receiving surface position of the synchronous light detecting means are B i and B i + 1 (i = 1 to N−1), these beams B i and B i + 1. The angle formed by the optical axis of the coupling lens corresponding to the semiconductor laser emitting the laser beam in the main scanning direction is φ i , and the interval between the beams B i and B i + 1 in the main scanning direction is the resolution of the synchronous light detecting means. A multi-beam scanning device, wherein the multi-beam scanning device is configured to be set to be equal to or greater than Δ and to detect each of the deflected light beams individually by the synchronous light detecting means.
光源装置から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系により被走査面に向かって集光し、上記被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査装置において、
各偏向光ビームによる走査開始の同期をとるために、被走査面の走査領域へ向かう偏向光ビームを検出する同期光検出手段を有し、
複数の光ビームを放射する光源装置が、
n(≧2)個の半導体レーザと、これら半導体レーザの個々と1:1に対応するn個のカップリングレンズと、上記n個の半導体レーザ及びn個のカップリングレンズを、上記n個のカップリングレンズの光軸が主走査方向において互いに所定の角をなすようにして、所定の位置関係に保って一体的に保持する保持体とを有する第1光源部と、
m(≧2)個の半導体レーザと、これら半導体レーザの個々と1:1に対応するm個のカップリングレンズと、上記m個の半導体レーザ及びm個のカップリングレンズを、上記m個のカップリングレンズの光軸が主走査方向において互いに所定の角をなすようにして、所定の位置関係に保って一体的に保持する保持体とを有する第2光源部と、
上記第1光源部から放射されるn本の光ビームと、上記第2光源部から放射されるm本の光ビームを互いに近接する光ビームとして合成するビーム合成手段とを有し、
上記第1および第2光源部における各カップリングレンズの光軸方向、第1及び第2光源部と上記ビーム合成手段の相互の位置関係を、互いに隣接する偏向光ビームが主走査方向に、互いに上記同期光検出手段の分解能:Δ以上の距離分離するように設定し、上記各偏向光ビームを上記同期光検出手段により個別的に検出できるように構成したことを特徴とするマルチビーム走査装置。
A plurality of deflected light beams radiated and deflected from the light source device are condensed toward the surface to be scanned by the scanning imaging optical system, and a plurality of light spots separated from each other in the sub-scanning direction on the surface to be scanned In a multi-beam scanning apparatus that simultaneously scans a plurality of lines with these plurality of light spots,
In order to synchronize the scanning start by each deflected light beam, it has a synchronized light detecting means for detecting the deflected light beam directed to the scanning area of the scanned surface,
A light source device that emits a plurality of light beams,
n (≧ 2) semiconductor lasers, n coupling lenses corresponding to each of these semiconductor lasers, and the n semiconductor lasers and the n coupling lenses are connected to the n semiconductor lasers. A first light source unit having a holding body that is integrally held in a predetermined positional relationship such that the optical axes of the coupling lenses form a predetermined angle with each other in the main scanning direction;
m (≧ 2) semiconductor lasers, m coupling lenses corresponding to each of these semiconductor lasers 1: 1, the m semiconductor lasers and the m coupling lenses, A second light source unit having a holding body that is integrally held in a predetermined positional relationship such that the optical axes of the coupling lenses form a predetermined angle with each other in the main scanning direction;
Beam combining means for combining the n light beams emitted from the first light source unit and the m light beams emitted from the second light source unit as light beams close to each other;
The optical axis direction of each coupling lens in the first and second light source units, the mutual positional relationship between the first and second light source units and the beam combining unit, the deflection light beams adjacent to each other in the main scanning direction, The multi-beam scanning apparatus according to claim 1, wherein a resolution of the synchronizing light detecting means is set so as to be separated by a distance of Δ or more, and the respective deflected light beams can be individually detected by the synchronizing light detecting means.
請求項2記載のマルチビーム走査装置において、
n=mで、第1光源部と第2光源部が同一構成のものであることを特徴とするマルチビーム走査装置。
The multi-beam scanning device according to claim 2.
A multi-beam scanning device, wherein n = m and the first light source unit and the second light source unit have the same configuration.
請求項3記載のマルチビーム走査装置において、
光源装置における各半導体レーザの発光部が、対応するカップリングレンズの光軸上に配備されることを特徴とするマルチビーム走査装置。
The multi-beam scanning device according to claim 3.
A multi-beam scanning device, wherein a light emitting portion of each semiconductor laser in a light source device is arranged on an optical axis of a corresponding coupling lens.
請求項3記載のマルチビーム走査装置において、
n=m=2であることを特徴とするマルチビーム走査装置。
The multi-beam scanning device according to claim 3.
n = m = 2, A multi-beam scanning device, wherein
請求項1記載のマルチビーム走査装置において、
N(≧2)個の半導体レーザのうち、少なくともP(2≦P≦N)個の発光部が、対応するカップリングレンズの光軸から主走査方向にずれていることを特徴とするマルチビーム走査装置。
The multi-beam scanning device according to claim 1.
Of the N (≧ 2) semiconductor lasers, at least P (2 ≦ P ≦ N) light emitting portions are shifted in the main scanning direction from the optical axis of the corresponding coupling lens. Scanning device.
請求項2記載のマルチビーム走査装置において、
n+m個の半導体レーザのうち、少なくともP(2≦P≦n+m)個の発光部が、対応するカップリングレンズの光軸から主走査方向にずれていることを特徴とするマルチビーム走査装置。
The multi-beam scanning device according to claim 2.
A multi-beam scanning device characterized in that at least P (2 ≦ P ≦ n + m) light emitting portions among n + m semiconductor lasers are displaced in the main scanning direction from the optical axis of the corresponding coupling lens.
請求項7記載のマルチビーム走査装置において、
n=mで、第1光源部と第2光源部が同一構成のものであることを特徴とするマルチビーム走査装置。
The multi-beam scanning device according to claim 7.
A multi-beam scanning device, wherein n = m and the first light source unit and the second light source unit have the same configuration.
請求項8記載のマルチビーム走査装置において、
n=m=2であることを特徴とするマルチビーム走査装置。
The multi-beam scanning device according to claim 8.
n = m = 2, A multi-beam scanning device, wherein
請求項1〜9の任意の1に記載のマルチビーム走査装置において、
光源装置から放射される複数の光ビームが、光偏向器の同一の偏向反射面で同時に偏向されるように構成され、
上記複数の光ビームが、上記偏向反射面の近傍において、主走査方向に交叉するように、上記光源装置が構成されたことを特徴とするマルチビーム走査装置。
The multi-beam scanning device according to any one of claims 1 to 9,
A plurality of light beams emitted from the light source device are configured to be simultaneously deflected by the same deflecting reflection surface of the optical deflector,
The multi-beam scanning device, wherein the light source device is configured such that the plurality of light beams cross in the main scanning direction in the vicinity of the deflecting reflection surface.
請求項1〜10の任意の1に記載のマルチビーム走査装置において、
光源装置から放射される複数の光ビームが、光偏向器の同一の偏向反射面で同時に偏向されるように構成され、
光源装置と光偏向器との間に、光源装置からの複数の光ビームを、上記偏向反射面の近傍に、互いに副走査方向に分離した主走査方向に長い線像として結像させる線像結像光学系を有し、
上記走査結像光学系が、上記偏向反射面位置と被走査面位置とを、副走査方向において幾何光学的な共役関係とするアナモフィックなものであることを特徴とするマルチビーム走査装置。
The multi-beam scanning device according to any one of claims 1 to 10,
A plurality of light beams emitted from the light source device are configured to be simultaneously deflected by the same deflecting reflection surface of the optical deflector,
A line image is formed between the light source device and the optical deflector so that a plurality of light beams from the light source device are formed in the vicinity of the deflection reflection surface as long line images in the main scanning direction separated from each other in the sub scanning direction. An image optical system,
The multi-beam scanning device according to claim 1, wherein the scanning imaging optical system is an anamorphic one in which the deflection reflection surface position and the scanning surface position are geometrically optically conjugate in the sub-scanning direction.
マルチビーム走査装置に用いられる光源装置であって、
請求項1〜11の任意の1に記載された構成を有することを特徴とする光源装置。
A light source device used in a multi-beam scanning device,
It has the structure described in any 1 of Claims 1-11, The light source device characterized by the above-mentioned.
光源装置から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系により被走査面に向かって集光し、上記被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査方法であって、
請求項1〜10の任意の1に記載のマルチビーム走査装置を用いて行うことを特徴とするマルチビーム走査方法。
A plurality of deflected light beams radiated and deflected from the light source device are condensed toward the surface to be scanned by the scanning imaging optical system, and a plurality of light spots separated from each other in the sub-scanning direction on the surface to be scanned A multi-beam scanning method of simultaneously scanning a plurality of lines with the plurality of light spots,
A multi-beam scanning method, which is performed using the multi-beam scanning device according to claim 1.
光源装置から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系により被走査面に向かって集光し、上記被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査方法であって、
請求項11記載のマルチビーム走査装置を用いて行うことを特徴とするマルチビーム走査方法。
A plurality of deflected light beams radiated and deflected from the light source device are condensed toward the surface to be scanned by the scanning imaging optical system, and a plurality of light spots separated from each other in the sub-scanning direction on the surface to be scanned A multi-beam scanning method of simultaneously scanning a plurality of lines with the plurality of light spots,
A multi-beam scanning method, which is performed using the multi-beam scanning device according to claim 11.
潜像担持体に光走査により潜像を形成し、上記潜像を可視化して所望の記録画像を得る画像形成装置において、
潜像担持体を光走査する光走査装置として、請求項1〜10の任意の1に記載のマルチビーム走査装置を用いることを特徴とする画像形成装置。
In an image forming apparatus that forms a latent image on a latent image carrier by optical scanning and visualizes the latent image to obtain a desired recorded image.
An image forming apparatus using the multi-beam scanning device according to claim 1 as an optical scanning device for optically scanning a latent image carrier.
潜像担持体に光走査により潜像を形成し、上記潜像を可視化して所望の記録画像を得る画像形成装置において、
潜像担持体を光走査する光走査装置として、請求項11記載のマルチビーム走査装置を用いることを特徴とする画像形成装置。
In an image forming apparatus that forms a latent image on a latent image carrier by optical scanning and visualizes the latent image to obtain a desired recorded image.
An image forming apparatus using the multi-beam scanning device according to claim 11 as an optical scanning device for optically scanning a latent image carrier.
請求項15または16記載の画像形成装置において、
潜像担持体が、光導電性の感光体であり、その均一帯電と光走査とにより静電潜像が形成され、形成された静電潜像をトナー画像として可視化することを特徴とする画像形成装置。
The image forming apparatus according to claim 15 or 16,
The latent image carrier is a photoconductive photosensitive member, and an electrostatic latent image is formed by uniform charging and optical scanning, and the formed electrostatic latent image is visualized as a toner image. Forming equipment.
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