JP2007168191A - Manufacturing method of printed matter, and printed matter obtained by the method - Google Patents
Manufacturing method of printed matter, and printed matter obtained by the method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007168191A JP2007168191A JP2005366914A JP2005366914A JP2007168191A JP 2007168191 A JP2007168191 A JP 2007168191A JP 2005366914 A JP2005366914 A JP 2005366914A JP 2005366914 A JP2005366914 A JP 2005366914A JP 2007168191 A JP2007168191 A JP 2007168191A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- varnish composition
- overprint varnish
- active energy
- energy ray
- composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
Description
本発明は、印刷物の表面に凹凸模様を形成するためのエンボス加工方法、およびその方法を用いて得られる凹凸模様が形成された印刷物に関する。 The present invention relates to an embossing method for forming a concavo-convex pattern on the surface of a printed matter, and a printed matter on which a concavo-convex pattern obtained using the method is formed.
従来より、印刷物の表面に凹凸模様を形成することにより、立体感と深みのある意匠性に優れる印刷物が得られることが知られている。 Conventionally, it is known that a printed matter having excellent three-dimensional effect and deep design can be obtained by forming an uneven pattern on the surface of the printed matter.
例えば、基材表面に撥液性インキで印刷を施し、次いで架橋性透明樹脂にてコーティングし硬化させた後、エンボス版を用いて熱エンボスを施し凹凸模様を形成する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。 For example, a method has been proposed in which a substrate surface is printed with a liquid-repellent ink, then coated with a crosslinkable transparent resin and cured, and then embossed with a heat emboss to form an uneven pattern ( For example, see Patent Document 1).
また、基材に撥液性インキを用いて絵柄層を形成し、電離放射線重合性オリゴマー、電離放射線重合性モノマーおよび離型剤を含有する電離放射線硬化型塗料組成物を塗工し、絵柄層と塗工層との間の撥液作用によって絵柄層の上部の塗工層に凹部を形成させることにより、塗工層を電離放射線で硬化させた時に、絵柄層に同調した凹凸模様を形成する方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。 Also, a pattern layer is formed on the substrate using a liquid repellent ink, and an ionizing radiation curable coating composition containing an ionizing radiation polymerizable oligomer, an ionizing radiation polymerizable monomer and a release agent is applied, and the pattern layer is coated When the coating layer is cured with ionizing radiation, a concavo-convex pattern synchronized with the pattern layer is formed by forming a recess in the coating layer on the top of the pattern layer by a liquid repellent action between the coating layer and the coating layer. A method has been proposed (see, for example, Patent Document 2).
また、基材に水性または油性インキを印刷し、次いで電子線または紫外線硬化型クリアー塗料を塗工し、電子線または紫外線照射し硬化してなる印刷物の形成において、インキの表面張力を電子線または紫外線硬化型クリアー塗料より小さくすることにより凹凸模様を形成する方法が提案されている（例えば、特許文献３参照）。 In addition, the surface tension of the ink is changed to an electron beam or an ultraviolet ray in the formation of a printed matter obtained by printing an aqueous or oil-based ink on a substrate, then applying an electron beam or an ultraviolet curable clear coating, and irradiating and curing with an electron beam or ultraviolet ray A method for forming a concavo-convex pattern by making it smaller than an ultraviolet curable clear paint has been proposed (see, for example, Patent Document 3).
しかしながら、上記の方法で得られるエンボス形成皮膜は、架橋性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂等で形成されており、利用できる材料の幅が限定されるために画一的な性能となりやすい。 However, the embossed film obtained by the above method is formed of a crosslinkable resin, an active energy ray curable resin, or the like, and is likely to have uniform performance because the width of usable materials is limited.
そこで、本発明の課題は、樹脂等の材料面でも非常に幅広く、皮膜物性の他にも、粘度その他のニスとしての特性値を調整するのが簡単である水性オーバープリントニス組成物を利用して、凹凸模様を形成する新規なエンボス加工方法およびその印刷物を提供することである。 Therefore, the object of the present invention is to use an aqueous overprint varnish composition that is very wide in terms of materials such as resins, and in addition to film properties, it is easy to adjust viscosity and other characteristic values as varnish. Thus, a novel embossing method for forming an uneven pattern and a printed product thereof are provided.
本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意検討した結果、印刷面の一部分または全面に、活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物と、水性オーバープリントニス組成物の皮膜を重ねて設け、その表面張力の差を特定の値以上とすることにより、水性オーバープリントニス組成物皮膜に凹凸模様を形成できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above-described problems, the inventors of the present invention applied an active energy ray-curable overprint varnish composition and a film of an aqueous overprint varnish composition on a part or the whole of the printed surface. It was found that when the difference in surface tension was set to a specific value or more, an uneven pattern could be formed on the aqueous overprint varnish composition film, and the present invention was completed.
すなわち本発明は、（１）インキを用いて情報を印刷した基材の印刷面側の一部分または全面に、光重合性化合物、離型剤、光重合性開始剤を含有する活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物（Ａ）を印刷または塗工し、さらにウエット状態の活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物（Ａ）の印刷または塗工面上に、下記の条件１を満足する水性オーバープリントニス組成物（Ｂ）を塗工した後、上記活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物（Ａ）および水性オーバープリントニス組成物（Ｂ）を硬化乾燥させ、凹凸模様の水性オーバープリントニス組成物皮膜を形成することを特徴とする印刷物の製造方法に関する。
条件１：上記活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物（Ａ）４０質量部に、トリメチロールプロパントリアクリレート６０質量部を加えて希釈した希釈物の表面張力より５ｍＮ／ｍ以上高い表面張力を有する。
That is, the present invention is (1) an active energy ray curable type containing a photopolymerizable compound, a release agent, and a photopolymerization initiator on a part or the whole of the printed surface side of a substrate on which information is printed using ink. The overprint varnish composition (A) is printed or coated, and the aqueous overprint satisfying the following condition 1 on the printed or coated surface of the wet active energy ray-curable overprint varnish composition (A) After coating the varnish composition (B), the active energy ray-curable overprint varnish composition (A) and the aqueous overprint varnish composition (B) are cured and dried to form an uneven overprint varnish composition. The present invention relates to a method for producing a printed matter characterized by forming a film.
Condition 1: The surface tension of the active energy ray-curable overprint varnish composition (A) 40 parts by mass is higher than the surface tension of a diluted product obtained by adding 60 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate and having a surface tension higher than 5 mN / m. .
また、本発明は、（２）上記インキが、油性インキまたは活性エネルギー線硬化型インキ組成物である上記（１）項に記載の印刷物の製造方法に関する。 Moreover, this invention relates to the manufacturing method of the printed matter as described in said (1) term whose (2) said ink is oil-based ink or an active energy ray hardening-type ink composition.
また、本発明は、（３）上記（１）項または（２）項に記載の製造方法で得られる凹凸模様が形成された印刷物に関する。 The present invention also relates to (3) a printed matter on which a concavo-convex pattern obtained by the production method described in (1) or (2) is formed.
印刷面の一部分または全面に、活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物と、水性オーバープリントニス組成物の皮膜を重ねて設け、その表面張力の差を特定の値以上とすることにより、水性オーバープリントニス組成物皮膜に良好な凹凸模様を形成できる。それにより、樹脂等の材料面でも非常に幅広く、皮膜物性の他にも、粘度その他のニスとしての特性値を調整するのが簡単である水性オーバープリントニス組成物を利用して、凹凸模様を有する印刷物を製造することが可能になった。 An active energy ray-curable overprint varnish composition and an aqueous overprint varnish composition film are provided on a part or the whole of the printing surface in an overlapping manner, and the surface tension difference is set to a specific value or more, thereby increasing the An excellent uneven pattern can be formed on the print varnish composition film. As a result, the surface of the material such as resin is very wide, and in addition to the film properties, it is easy to adjust the viscosity and other varnish characteristic values. It has become possible to produce printed matter having the same.
以下、本発明についてさらに詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
本発明の印刷物の製造方法は、インキを用いて情報を印刷した基材の印刷面上の一部分または全面に、光重合性化合物、離型剤、光重合性開始剤を含有する活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物（Ａ）を印刷または塗工し、さらにウエット状態の活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物（Ａ）の印刷または塗工面上に、条件１（上記活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物（Ａ）４０質量部に、トリメチロールプロパントリアクリレート６０質量部を加えて希釈した希釈物の表面張力より５ｍＮ／ｍ以上高い表面張力を有する）を満足する水性オーバープリントニス組成物（Ｂ）を塗工した後、上記活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物（Ａ）および水性オーバープリントニス組成物（Ｂ）を硬化乾燥させ、凹凸模様を形成させることを特徴とする。 The method for producing a printed material according to the present invention includes an active energy ray curing containing a photopolymerizable compound, a release agent, and a photopolymerization initiator on a part or the whole of a printed surface of a substrate on which information is printed using ink. A mold overprint varnish composition (A) is printed or applied, and further on the printed or coated surface of the wet active energy ray curable overprint varnish composition (A), the condition 1 (the above active energy ray curable mold) An aqueous overprint varnish composition satisfying a surface tension of at least 5 mN / m higher than the surface tension of a diluted product obtained by adding 60 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate to 40 parts by mass of the overprint varnish composition (A). After coating the product (B), the above active energy ray-curable overprint varnish composition (A) and the aqueous overprint varnish composition B) allowed to cure dry, characterized in that to form the uneven pattern.
以下において、印刷物上に上記の方法により凹凸模様を形成する方法をエンボス加工方法という場合がある。 Hereinafter, the method of forming a concavo-convex pattern on the printed material by the above method may be referred to as an embossing method.
まず、エンボス加工方法に使用する材料について説明する。 First, materials used for the embossing method will be described.
本発明のエンボス加工方法は、インキを用いて情報を印刷した基材の印刷面側に、活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物と水性オーバープリントニス組成物を印刷、塗工して、印刷物表面にエンボス加工を施すものである。 In the embossing method of the present invention, an active energy ray-curable overprint varnish composition and an aqueous overprint varnish composition are printed and coated on the printing surface side of a substrate on which information is printed using ink, and a printed material is obtained. The surface is embossed.
まず、エンボス加工を施す印刷物の基材としては、コート紙、コートボール紙、合成紙、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などのフィルム類等が挙げられる。 First, examples of the substrate of the printed material to be embossed include films such as coated paper, coated cardboard, synthetic paper, and polyethylene terephthalate (PET).
また、エンボス加工を施す印刷物のインキとしては、オフセット印刷インキ等の油性インキ、紫外線硬化型印刷インキ、電子線硬化型印刷インキ、紫外線硬化機構と酸化重合機構を併用したハイブリッド型の活性エネルギー線硬化型印刷インキ組成物等が挙げられる。 In addition, as inks for printed materials to be embossed, oil-based inks such as offset printing inks, UV curable printing inks, electron beam curable printing inks, and hybrid active energy ray curing using both UV curing and oxidation polymerization mechanisms. Mold printing ink compositions and the like.
また、エンボス加工方法に使用する活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物（Ａ）としては、光重合性化合物、離型剤、光重合性開始剤を含有する活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物が挙げられる。活性エネルギー線としては、紫外線、電子線等があげられる。 The active energy ray-curable overprint varnish composition (A) used in the embossing method includes an active energy ray-curable overprint varnish composition containing a photopolymerizable compound, a release agent, and a photopolymerization initiator. Things. Examples of the active energy rays include ultraviolet rays and electron beams.
ここで、光重合性化合物としては、（メタ）アクリロイル基を少なくとも１個有する光重合性化合物が好ましく、このよう光重合性化合物としては、分子内に（メタ）アクリロイル基を少なくとも１つ有するモノマー、オリゴマー等が挙げられる。 Here, as the photopolymerizable compound, a photopolymerizable compound having at least one (meth) acryloyl group is preferable, and as such a photopolymerizable compound, a monomer having at least one (meth) acryloyl group in the molecule. And oligomers.
分子内に（メタ）アクリロイル基を1個有するモノマーとしては、例えば、メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、メチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレートなどのアルキル（メタ）アクリレート類；ベンジルメタクリレート、ベンジルアクリレートなどのアラルキル（メタ）アクリレート類；ブトキシエチルメタクリレート、ブトキシエチルアクリレートなどのアルコキシアルキル（メタ）アクリレート類；ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのポリアルキレングリコールモノアルキルエーテルの（メタ）アクリル酸エステル類；ヘキサエチレングリコールモノフェニルエーテルなどのポリアルキレングリコールモノアリールエーテルの（メタ）アクリル酸エステル類；イソボニル（メタ）アクリレート類；グリセロールモノ（メタ）アクリレート類；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキル（メタ）アルキレート類等が挙げられる。 Examples of monomers having one (meth) acryloyl group in the molecule include alkyl (meth) acrylates such as methyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, methyl acrylate, butyl acrylate, and 2-ethylhexyl acrylate; benzyl methacrylate Aralkyl (meth) acrylates such as benzyl acrylate; Alkoxyalkyl (meth) acrylates such as butoxyethyl methacrylate and butoxyethyl acrylate; Polyalkylene glycols such as diethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monobutyl ether and dipropylene glycol monomethyl ether (Meth) acrylic esters of monoalkyl ethers; hexaethylene glycol (Meth) acrylic esters of polyalkylene glycol monoaryl ethers such as rumonophenyl ether; isobonyl (meth) acrylates; glycerol mono (meth) acrylates; hydroxyalkyl (meth) such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate Examples include alkylates.
分子内に（メタ）アクリロイル基を２個以上有するモノマーとしては、例えば、ビスフェノールＡジ（メタ）アククリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、およびこれらのアルキレンオキサイドで変性されたもの等が例示できる。 Examples of monomers having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule include bisphenol A di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, and 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate. , Diethylene glycol di (meth) acrylate, glycerol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, tri Methylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate , Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and the like that have been modified with these alkylene oxides can be exemplified.
分子内に（メタ）アクリロイル基を少なくとも１個有するオリゴマーとしては、上記モノマーの１種または２種以上を適宜重合させて得られたものを用いることができる。上記光重合性化合物は、1種または２種以上を用いることができる。 As the oligomer having at least one (meth) acryloyl group in the molecule, one obtained by appropriately polymerizing one or more of the above monomers can be used. The said photopolymerizable compound can use 1 type (s) or 2 or more types.
また、離型剤としては、ジメチルシロキサン、変性ジメチルシロキサン等のシリコーン系界面活性剤等が挙げられる。好ましいシリコーン系界面活性剤としては、Ｔｅｇｏ Ｒａｄ２７００（ＴｅｇｏＲａｄ社製）、ＥＢ３５０（ダイセルサイテック（株）製）等が例示できる。 Examples of the release agent include silicone surfactants such as dimethylsiloxane and modified dimethylsiloxane. Examples of preferable silicone surfactants include Tego Rad2700 (manufactured by TegoRad) and EB350 (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.).
活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物中の離型剤の含有量は、０．１〜２０質量％であり、好ましくは１〜１０質量％である。離型剤の含有量が前記範囲未満であると、凹凸性が低下する傾向があり、一方離型剤の含有量が前記範囲を超えると、ニスの経時安定性が低下する傾向がある。 Content of the mold release agent in an active energy ray hardening-type overprint varnish composition is 0.1-20 mass%, Preferably it is 1-10 mass%. When the content of the release agent is less than the above range, the unevenness tends to decrease, and when the content of the release agent exceeds the above range, the varnish stability tends to decrease.
また、光重合性開始剤としては、活性エネルギー線照射によって容易に開裂して２個のラジカルができる光開裂型および／または水素引き抜き型、あるいはこれらを混合して使用することができる。これらの化合物としては、例えば、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、ｐ，ｐ'−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−ｎ−プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインジメチルケタール、チオキサントン、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２，２−ジメトキシ−１、２−ジフェニルエタノンなどが挙げられる。光重合性開始剤は、1種または2種以上を用いることができる。 As the photopolymerizable initiator, a photocleavable type and / or a hydrogen abstracting type that can be easily cleaved by irradiation with active energy rays to form two radicals, or a mixture thereof can be used. Examples of these compounds include acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, p, p'-bisdiethylaminobenzophenone, benzoin ethyl ether, benzoin-n-propyl ether. , Benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin n-butyl ether, benzoin dimethyl ketal, thioxanthone, p-isopropyl-α-hydroxyisobutylphenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2 -Methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl Bread-1-one, 2,4,6-trimethyl benzophenone, 4-methylbenzophenone, such as 2,2-dimethoxy-1,2-diphenyl-ethanone and the like. One or two or more photopolymerizable initiators can be used.
光重合性開始剤の使用量は、上記光重合性化合物と下記に記載する必要に応じて使用するイナートレジンの合計量１００質量部に対して、２〜１５質量部の範囲が好ましい。 The use amount of the photopolymerizable initiator is preferably in the range of 2 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the above-mentioned photopolymerizable compound and the inert resin used as necessary.
また、活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物には、必要に応じて、上記インキとの密着性を向上させるため、および／または、オフセット印刷適性を付与するために、イナートレジンを含有させることもできる。イナートレジンとしては、アクリル系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂等が例示できる。 In addition, the active energy ray-curable overprint varnish composition may contain an inert resin, if necessary, in order to improve adhesion with the ink and / or to impart offset printing suitability. You can also. Examples of the inert resin include acrylic resins, diallyl phthalate resins, polyester resins, and epoxy resins.
活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物には、必要に応じて、上記成分以外に、炭酸カルシウム、タルク、シリカ等の体質顔料等の添加剤を加えてもよい。 In addition to the above components, additives such as extender pigments such as calcium carbonate, talc, and silica may be added to the active energy ray-curable overprint varnish composition as necessary.
つぎに、本発明のエンボス加工方法に使用する水性オーバープリントニス組成物（Ｂ）としては、下記の条件１を満足するものであれば、通常の水性オーバープリントニス組成物が特に制限なく使用できる。
条件１：上記活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物（Ａ）の希釈物（上記活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物（Ａ）４０質量部に、トリメチロールプロパントリアクリレート６０質量部を加えて希釈した希釈物）の表面張力より５ｍＮ／ｍ以上高い表面張力を有するものである。水性オーバープリントニス組成物の表面張力が５ｍＮ／ｍより低い場合は、良好な凹凸模様が得られない。なお、水性オーバープリントニス組成物（Ｂ）の表面張力が前記希釈物の表面張力よりかなり高くてもとくに弊害はなく、むしろ差が大きいほど細かくはじき良好な凹凸模様が得られる。
Next, as the aqueous overprint varnish composition (B) used in the embossing method of the present invention, a normal aqueous overprint varnish composition can be used without particular limitation as long as the following condition 1 is satisfied. .
Condition 1: dilution of the active energy ray-curable overprint varnish composition (A) (60 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate was added to 40 parts by mass of the active energy ray-curable overprint varnish composition (A). The surface tension of the diluted diluted product) is 5 mN / m or higher. When the surface tension of the aqueous overprint varnish composition is lower than 5 mN / m, a good uneven pattern cannot be obtained. It should be noted that even if the surface tension of the aqueous overprint varnish composition (B) is considerably higher than the surface tension of the diluted product, there is no particular adverse effect. Rather, the larger the difference, the finer and better the uneven pattern is obtained.
上記水性オーバープリントニス組成物としては、水分散型樹脂組成物、水溶性樹脂ワニス、表面調整剤、水性溶剤を含有するものが好ましいものとして挙げられる。 Preferred examples of the aqueous overprint varnish composition include a water-dispersed resin composition, a water-soluble resin varnish, a surface conditioner, and an aqueous solvent.
水分散型樹脂組成物としては、特に制限はないが、アクリル系モノマーを含む2種以上の重合性モノマーを重合して得られるものが好ましい。なかでも、塗膜物性が良好な点から、アクリル系モノマーとスチレン系モノマーの共重合体が好ましい。 The water-dispersed resin composition is not particularly limited, but is preferably obtained by polymerizing two or more polymerizable monomers including an acrylic monomer. Especially, the copolymer of an acrylic monomer and a styrene monomer is preferable from the point with a favorable coating-film physical property.
上記アクリル系モノマーとしては、特に限定されないが、（メタ）アクリル酸エステル類が好ましい。（メタ）アクリル酸エステル類しては、エステル部分が炭素数１〜２０の炭化水素基からなるものが好ましく、具体的には、アクリル酸メチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｓ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ラウリル等のアクリル酸アルキルエステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｓ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸アルキルエステル類、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート等のアラルキル（メタ）アルキレート類等が挙げられる。その他、メタクリル酸、アクリル酸等を挙げることができる。 The acrylic monomer is not particularly limited, but (meth) acrylic acid esters are preferable. As the (meth) acrylic acid esters, those in which the ester portion is composed of a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms are preferable. Specifically, methyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, acrylic acid n-butyl, s-butyl acrylate, t-butyl acrylate, hexyl acrylate, lauryl acrylate, and other alkyl acrylates, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, methacryl Examples include methacrylic acid alkyl esters such as n-butyl acid, s-butyl methacrylate, t-butyl methacrylate, hexyl methacrylate and lauryl methacrylate, and aralkyl (meth) alkylates such as benzyl acrylate and benzyl methacrylate. . Other examples include methacrylic acid and acrylic acid.
上記アクリル系モノマー以外のモノマーとしては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、シトコラン酸、シトコラン酸モノアルキルエステル等のカルボキシル基含有不飽和モノマー等を挙げることができる。 Examples of monomers other than the acrylic monomers include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene, carboxyl groups such as itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, maleic acid monoalkyl ester, cytocoranoic acid, and cytocolic acid monoalkyl ester. Examples thereof include unsaturated monomers.
上記水分散型樹脂組成物を製造するには、上記モノマーの2種以上を、過酸化アンモニウム、過硫酸カリウム、過酸化水素等の親水性触媒またはレドックス系触媒を用いて、通常用いられている条件下で乳化重合を行えばよい。共重合体を水中に安定に分散させるために、必要に応じて乳化剤を加えることが好ましい。 In order to produce the water-dispersed resin composition, two or more of the above monomers are usually used by using a hydrophilic catalyst or redox catalyst such as ammonium peroxide, potassium persulfate, or hydrogen peroxide. Emulsion polymerization may be performed under the conditions. In order to stably disperse the copolymer in water, it is preferable to add an emulsifier as necessary.
上記乳化剤としては、特に限定されないが、例えば、アニオン性界面活性剤、ノニオン系界面活性剤等が挙げられる。塗膜の耐水性を向上させる場合には、高分子アニオン性界面活性剤が好ましい。上記アニオン性界面活性剤としては、特に限定されないが、例えば、シェラック、カルボキシル基を有するアクリル酸系共重合体、カルボキシル基を有するマレイン酸系共重合体等が挙げられる。上記乳化重合にあたっては、上記高分子アニオン界面活性剤そのものを用いてもよいが、上記高分子アニオン界面活性剤のアルカリ水溶液を用いてもよい。 The emulsifier is not particularly limited, and examples thereof include an anionic surfactant and a nonionic surfactant. When improving the water resistance of a coating film, a polymeric anionic surfactant is preferable. Although it does not specifically limit as said anionic surfactant, For example, shellac, the acrylic acid type copolymer which has a carboxyl group, the maleic acid type copolymer which has a carboxyl group, etc. are mentioned. In the emulsion polymerization, the polymer anionic surfactant itself may be used, or an alkaline aqueous solution of the polymer anionic surfactant may be used.
また、上記水溶性樹脂ワニスとしては、特に制限はないが、上記水分散型樹脂組成物で例示したモノマー（ただし、カルボキシル基含有アクリル系モノマー、および／または、その他のカルボキシル基含有不飽和単量体モノマーを必須成分として含有する）を共重合して得られるアルカリ可溶型共重合体を塩基性化合物を用いて中和または部分中和し水中に溶解したものが好ましい。なかでも、塗膜物性が良好な点からアルカリ可溶型スチレン−アクリル共重合体を塩基性化合物を用いて水中に溶解したのものが好ましい。 Further, the water-soluble resin varnish is not particularly limited, but the monomers exemplified in the water-dispersed resin composition (however, carboxyl group-containing acrylic monomers and / or other carboxyl group-containing unsaturated monomers) And an alkali-soluble copolymer obtained by copolymerizing a base monomer as an essential component and neutralized or partially neutralized with a basic compound and dissolved in water. Especially, what melt | dissolved the alkali-soluble styrene-acryl copolymer in water using the basic compound from the point with favorable coating-film physical property is preferable.
アルカリ可溶型共重合体を中和または部分中和する塩基性化合物としては、ジエチルアミン、トリエチルアミン等のアルキルアミン、モノエタノールアミン、エチルエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属酸化物、アンモニア等が例示できる。 Basic compounds that neutralize or partially neutralize the alkali-soluble copolymer include alkylamines such as diethylamine and triethylamine, alkanolamines such as monoethanolamine, ethylethanolamine, diethylethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. And alkali metal oxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, and ammonia.
上記水性オーバープリントニス組成物においては、光沢、耐摩擦性、耐ブロッキング性などの塗膜物性や印刷適性の点から、樹脂成分として、水分散型樹脂組成物と水溶性樹脂ワニスを併用するのが好ましい。この点から、上記水分散型樹脂組成物と水溶性樹脂ワニスの比率（固形物換算）は、両者の合計量１００質量％に基づいて、前者７０〜９５質量％、後者５〜２５質量％の範囲が好ましい。上記水溶性樹脂ワニスの合計量が５質量％未満では、レベリング性、光沢、耐摩擦性、耐ブロッキング適性などの塗膜物性や印刷適性が劣る傾向があり、一方２５質量％を超えると、乾燥性や凹凸模様形成性能が劣る傾向がある。 In the aqueous overprint varnish composition, a water-dispersed resin composition and a water-soluble resin varnish are used in combination as a resin component from the viewpoint of coating properties such as gloss, friction resistance, and blocking resistance and printability. Is preferred. From this point, the ratio of the water-dispersed resin composition to the water-soluble resin varnish (in terms of solids) is based on the total amount of 100% by mass of the former 70 to 95% by mass and the latter 5 to 25% by mass. A range is preferred. If the total amount of the water-soluble resin varnish is less than 5% by mass, the coating properties such as leveling properties, gloss, friction resistance, and blocking resistance, and printability tend to be inferior. Tend to be inferior in performance and uneven pattern forming performance.
上記表面調整剤は、特にその表面張力の調整という機能に基づいて、上記水性オーバープリントニス組成物の凹凸模様の形成に寄与するものである。かかる表面調整剤としては、特に制限はないが、アセチレン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等を用いることができる。なかでも、アセチレン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤が好ましい。 The surface conditioner contributes to the formation of the concavo-convex pattern of the aqueous overprint varnish composition, particularly based on the function of adjusting the surface tension. Such a surface conditioner is not particularly limited, and acetylene surfactants, fluorine surfactants, silicone surfactants, and the like can be used. Of these, acetylene surfactants and silicone surfactants are preferred.
アセチレン系界面活性剤としては、アセチレングリコール類、アセチレンアルコール類等が挙げられ、好ましくは、アセチレン基とアルキレンオキサイド鎖を有する界面活性剤であり、例えば、サーフィノール系界面活性剤（日信化学工業（株）製）を挙げることができる。シリコーン系界面活性剤としては、ジメチルポリシロキサン等を挙げることができる。 Examples of the acetylene-based surfactant include acetylene glycols and acetylene alcohols. Preferred are surfactants having an acetylene group and an alkylene oxide chain. For example, Surfynol-based surfactants (Nisshin Chemical Industry) (Made by Co., Ltd.). Examples of silicone surfactants include dimethylpolysiloxane.
表面調整剤を使用する場合、表面調整剤の使用量は、水性オーバープリントニス組成物の固形物全量に基づいて１０質量％以下であるのが好ましく、特に好ましくは０．１〜１０質量％である。表面調整剤の含有量が１０質量％を超えると、水性オーバープリントニス組成物の凹凸模様が形成されない可能性がある。 When using the surface conditioner, the amount of the surface conditioner used is preferably 10% by mass or less, particularly preferably 0.1 to 10% by mass, based on the total amount of the solid matter of the aqueous overprint varnish composition. is there. When the content of the surface modifier exceeds 10% by mass, the uneven pattern of the aqueous overprint varnish composition may not be formed.
上記水性溶剤としては、特に限定されないが、水と水混和性有機溶剤の混合物が好ましい。なお、上記水分散型樹脂組成物、水溶性樹脂ワニスに含有されている水分で充分なときは別途水を加える必要はない。水混和性有機溶剤としては、メチルアルコール、エチルアルコール等の１価アルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノペンチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノヘキシルエーテル等のアルキレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールメチルブチルエーテル、エチレングリコールエチルブチルエーテル等のアルキレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノメチルエステル、エチレングリコールモノエチルエステル、エチレングリコールモノブチルエステル、エチレングリコールモノペンチルエステル、プロピレングリコールモノメチルエステル、プロピレングリコールモノエチルエステル、プロピレングリコールモノブチルエステル、プロピレングリコールモノヘキシルエステル等のアルキレングリコールモノアルキルエステル類等が挙げられる。 The aqueous solvent is not particularly limited, but a mixture of water and a water-miscible organic solvent is preferable. In addition, when the water contained in the water-dispersed resin composition and the water-soluble resin varnish is sufficient, it is not necessary to add water separately. Examples of water-miscible organic solvents include monohydric alcohols such as methyl alcohol and ethyl alcohol, polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, and glycerin, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, and ethylene glycol mono Alkylene glycol monoalkyl ethers such as butyl ether, ethylene glycol monopentyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol di Butyl ether, ethylene glycol Alkylene glycol dialkyl ethers such as tilethyl ether, ethylene glycol methyl butyl ether, ethylene glycol ethyl butyl ether, ethylene glycol monomethyl ester, ethylene glycol monoethyl ester, ethylene glycol monobutyl ester, ethylene glycol monopentyl ester, propylene glycol monomethyl ester, propylene Examples include alkylene glycol monoalkyl esters such as glycol monoethyl ester, propylene glycol monobutyl ester, and propylene glycol monohexyl ester.
本発明におけるエンボス形成方法では、水性オーバープリントニス組成物の皮膜が乾燥して流動性がなくなるまでの間に、活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物との表面張力の差によって、皮膜の凹凸（エンボス模様）を形成するものであり、使用する材料や塗工条件、特に皮膜の膜厚や表面張力の差などにしたがって、水性オーバープリントニス組成物の粘度や乾燥性等は適度に調整することが好ましい。しかし、一般的には水性オーバープリントニス組成物は、ザーンカップＲ＃４を使用する２５℃ での粘度が１０〜３５秒の範囲にあるのが好ましく、このような粘度のニスを乾燥後塗布量０．５〜８ｇ／ｍ2の範囲で塗布するのが好ましい。 According to the embossing method of the present invention, the unevenness of the film is caused by the difference in surface tension with the active energy ray-curable overprint varnish composition until the film of the aqueous overprint varnish composition is dried and loses fluidity. (Embossed pattern) is formed, and the viscosity and drying properties of the aqueous overprint varnish composition are appropriately adjusted according to the materials used and coating conditions, particularly the difference in film thickness and surface tension. It is preferable. However, in general, the aqueous overprint varnish composition preferably has a viscosity at 25 ° C. using Zahn Cup R # 4 in the range of 10 to 35 seconds, and the varnish having such viscosity is applied after drying. It is preferable to apply in an amount of 0.5 to 8 g / m 2 .
次に、エンボス加工方法について具体的に説明する。なお、本発明は、具体的に説明したエンボス加工方法に限定されるものではなく、本発明の概念にしたがって凹凸模様が形成されるエンボス加工方法は本発明の範囲に含まれる。 Next, the embossing method will be specifically described. In addition, this invention is not limited to the embossing method demonstrated concretely, The embossing method in which an uneven | corrugated pattern is formed according to the concept of this invention is contained in the scope of the present invention.
本発明のエンボス加工方法の具体例を説明すると、例えばまず、基材に、情報をオフセット印刷インキ組成物または活性エネルギー線硬化型インキ組成物をオフセット印刷機等を用いて印刷する。その基材の印刷面上の一部分または全面に上記活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物をオフセット印刷機等で印刷するか、またはロールコーター、フレキソコーター、グラビアコーター、エアナイフ等の塗工機を用いて塗工し、ウエット状態の活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物の印刷または塗工面上に上記水性オーバープリントニス組成物をロールコーター、フレキソコーター、グラビアコーター、エアナイフ等の塗工機を用いて塗工する。ついで、例えば、コンベア式光線照射装置を用いて活性エネルギー線を照射して活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物を硬化させ（例えば、通常の高圧水銀ランプ、メタルハライドランプなどを備えた紫外線照射装置を用いて、８０〜２８０Ｗ／ｃｍの照射強度で紫外線を照射させ活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物を硬化させる）、同時に、水性オーバープリントニス組成物の塗膜を乾燥させる（活性エネルギー線の照射時の熱で乾燥する）。必要により、その他の各種乾燥手段を用いてさらに水性オーバープリントニス組成物の塗膜を乾燥させてもよい。このようにして、凹凸模様を有する水性オーバープリントニス組成物の乾燥皮膜が形成される。 A specific example of the embossing method of the present invention will be described. For example, information is first printed on a substrate using an offset printing ink composition or an active energy ray-curable ink composition using an offset printing machine or the like. The active energy ray-curable overprint varnish composition is printed on a part or the whole of the printing surface of the base material with an offset printing machine, or a coating machine such as a roll coater, flexo coater, gravure coater, air knife, etc. Apply the wet-type active energy ray-curable overprint varnish composition to the wet surface or apply the aqueous overprint varnish composition onto the coating surface using a coater such as a roll coater, flexo coater, gravure coater, air knife, etc. Use to coat. Next, for example, the active energy ray curable overprint varnish composition is cured by irradiating the active energy ray using a conveyor type light irradiation device (for example, an ultraviolet irradiation device equipped with a normal high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, etc. Is used to cure the active energy ray-curable overprint varnish composition by irradiating ultraviolet rays at an irradiation intensity of 80 to 280 W / cm, and at the same time, dry the coating film of the aqueous overprint varnish composition (active energy ray) Dry with heat during irradiation). If necessary, the coating film of the aqueous overprint varnish composition may be further dried using other various drying means. In this manner, a dry film of the aqueous overprint varnish composition having an uneven pattern is formed.
以下に実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「％」は「質量％」を意味し、「部」は質量部を意味する。 The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to these examples. Unless otherwise specified, “%” means “mass%” and “part” means mass part.
実施例１
活性エネルギー線硬化型墨インキ組成物（東洋インキ（株）製のカルトンＡＣＥ）を王子製紙製ＵＦコートに０．１５ｃｃ／２０４ｃｍ2となるようにＲＩ展色機（（株）明製作所製）により展色し、インラインで下記組成の活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物を下記水性オーバープリントニス組成物をはじきたい箇所に０．１５ｃｃ／２０４ｃｍ２となるようにＲＩ展色機（（株）明製作所製）で展色し、さらにインラインでハンドプルーファー２００線／ｉｎｃｈにより下記組成の水性オーバープリントニス組成物を展色し、高圧水銀ランプを備えたコンベア式紫外線照射装置を用いて、１６０Ｗ／ｃｍの照射強度で活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物を硬化させ、同時に水性オーバープリントニス組成物の塗膜を乾燥させて、印刷物１を得た。
Example 1
An active energy ray curable black ink composition (Carton ACE manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) was applied to an Oji Paper UF coat by an RI color developing machine (manufactured by Meiko Seisakusho Co., Ltd.) so as to be 0.15 cc / 204 cm 2. The color developing and in-line active energy ray curable overprint varnish composition of the following composition is RI color developing machine (Akira Co., Ltd.) at 0.15 cc / 204 cm2 where it is desired to repel the following aqueous overprint varnish composition. (Manufactured by Seisakusho Co., Ltd.), and in-line, using a hand proofer 200 lines / inch, an aqueous overprint varnish composition having the following composition is developed, and a conveyor type ultraviolet irradiation device equipped with a high-pressure mercury lamp is used. The active energy ray-curable overprint varnish composition is cured with an irradiation intensity of cm, and at the same time an aqueous overprint varnish assembly Drying the coating of the object to obtain a printed matter 1.
水性オーバープリントニス組成物の粘度は、（株）離合社製のザーンカップＲ＃４を使用し、２５℃で測定した。 The viscosity of the aqueous overprint varnish composition was measured at 25 ° C. using a Zaan cup R # 4 manufactured by Kosei Co., Ltd.
活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物
・エポキシアクリレート ５０部
（ビスフェノールＡジアクリレート）
・ＰＯ変性グリセロールプロポキシトリアクリレート ２５部
・ジアリルフタレート樹脂 ５部
・炭酸カルシウム ５部
・開始剤（ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン） １０部
・Ｒａｄ２７００ ５部
Active energy ray-curable overprint varnish composition / epoxy acrylate 50 parts (bisphenol A diacrylate)
・ PO-modified glycerol propoxytriacrylate 25 parts ・ Diallyl phthalate resin 5 parts ・ Calcium carbonate 5 parts ・ Initiator (hydroxycyclohexyl phenyl ketone) 10 parts ・ Rad2700 5 parts
水性オーバープリントニス組成物（粘度：１７秒）
・アクリルエマルジョン ６０．５部
（ジョンソンポリマー製ジョンクリル３５２、固形分濃度４５％）
・スチレン−アクリル樹脂溶解ワニス ３０部
（ジョンソンポリマー製ジョンクリル３５４、固形分濃度３５％）
・消泡剤（ジメチルシロキサン系） ０．３部
・エタノール ４部
・水 ５部
・アセチレングリコール ０．２部
Aqueous overprint varnish composition (viscosity: 17 seconds)
Acrylic emulsion 60.5 parts (John Crill 352, Johnson polymer, solid content concentration 45%)
-30 parts of styrene-acrylic resin-dissolving varnish (John Crill 354 manufactured by Johnson Polymer, solid content concentration 35%)
・ Defoamer (dimethylsiloxane) 0.3 part ・ Ethanol 4 parts ・ Water 5 parts ・ Acetylene glycol 0.2 part
実施例２
実施例１の活性エネルギー線硬化性オーバープリントニス組成物を下記組成の活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物に代えたほかは、実施例１と同様な加工方法で印刷物２を得た。
Example 2
Printed matter 2 was obtained by the same processing method as in Example 1 except that the active energy ray-curable overprint varnish composition of Example 1 was replaced with the active energy ray-curable overprint varnish composition having the following composition.
活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物
・エポキシアクリレート ４０部
（ビスフェノールＡジアクリレート）
・ＰＯ変性グリセロールプロポキシトリアクリレート ２５部
・ジアリルフタレート樹脂 ５部
・炭酸カルシウム ５部
・開始剤（ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン） １０部
・Ｒａｄ２７００ １５部
Active energy ray-curable overprint varnish composition / epoxy acrylate 40 parts (bisphenol A diacrylate)
・ PO-modified glycerol propoxytriacrylate 25 parts ・ Diallyl phthalate resin 5 parts ・ Calcium carbonate 5 parts ・ Initiator (hydroxycyclohexyl phenyl ketone) 10 parts ・ Rad2700 15 parts
実施例３
実施例１の水性オーバープリントニス組成物を下記組成の水性オーバープリントニス組成物に代えたほかは、実施例１と同様な加工方法で印刷物３を得た。
Example 3
Printed matter 3 was obtained by the same processing method as in Example 1 except that the aqueous overprint varnish composition of Example 1 was replaced with the aqueous overprint varnish composition having the following composition.
水性オーバープリントニス組成物（粘度：１７秒）
・アクリルエマルジョン ６０．４部
（ジョンソンポリマー製ジョンクリル３５２、固形分濃度４５％）
・スチレン−アクリル樹脂溶解ワニス ３０部
（ジョンソンポリマー製ジョンクリル３５４、固形分濃度３５％）
・消泡剤（ジメチルシロキサン系） ０．３部
・エタノール ４部
・水 ５部
・アセチレングリコール ０．２部
・ジメチルポリシロキサン ０．１部
Aqueous overprint varnish composition (viscosity: 17 seconds)
Acrylic emulsion 60.4 parts (John Crill 352 made by Johnson Polymer, solid content concentration 45%)
-30 parts of styrene-acrylic resin-dissolving varnish (John Crill 354 manufactured by Johnson Polymer, solid content concentration 35%)
・ Defoamer (dimethylsiloxane) 0.3 part ・ Ethanol 4 parts ・ Water 5 parts ・ Acetylene glycol 0.2 part ・ Dimethylpolysiloxane 0.1 part
実施例４
実施例１の水性オーバープリントニス組成物を下記組成の水性オーバープリントニス組成物に代えたほかは、実施例１と同様な加工方法で印刷物４を得た。
Example 4
Printed matter 4 was obtained by the same processing method as in Example 1 except that the aqueous overprint varnish composition of Example 1 was replaced with the aqueous overprint varnish composition having the following composition.
水性オーバープリントニス（粘度：１７秒）
・アクリルエマルジョン ６１部
（ジョンソンポリマー製ジョンクリル３５２、固形分濃度４５％）
・スチレン−アクリル樹脂溶解ワニス ３０部
（ジョンソンポリマー製ジョンクリル３５４、固形分濃度３５％）
・エタノール ４部
・水 ５部
Aqueous overprint varnish (viscosity: 17 seconds)
・ Acrylic emulsion 61 parts (John Crill 352, Johnson polymer, solid content concentration 45%)
-30 parts of styrene-acrylic resin-dissolving varnish (John Crill 354 manufactured by Johnson Polymer, solid content concentration 35%)
・ Ethanol 4 parts ・ Water 5 parts
比較例１
実施例１の活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物を下記組成の活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物に代えたほかは、実施例１と同様な加工方法で印刷物５を得た。
Comparative Example 1
Printed matter 5 was obtained by the same processing method as in Example 1, except that the active energy ray-curable overprint varnish composition of Example 1 was replaced with the active energy ray-curable overprint varnish composition having the following composition.
活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物
・エポキシアクリレート ５０部
（ビスフェノールＡジアクリレート）
・ＰＯ変性グリセロールプロポキシトリアクリレート ２９．９５部
・ジアリルフタレート樹脂 ５部
・炭酸カルシウム ５部
・開始剤（ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン） １０部
・Ｒａｄ２７００ ０．０５部
Active energy ray-curable overprint varnish composition / epoxy acrylate 50 parts (bisphenol A diacrylate)
・ PO-modified glycerol propoxy triacrylate 29.95 parts ・ Diallyl phthalate resin 5 parts ・ Calcium carbonate 5 parts ・ Initiator (hydroxycyclohexyl phenyl ketone) 10 parts ・ Rad2700 0.05 parts
比較例２
実施例１の水性オーバープリントニス組成物を下記組成の水性オーバープリントニス組成物に代えたほかは、実施例１と同様な加工方法で印刷物６を得た。
Comparative Example 2
Printed matter 6 was obtained by the same processing method as in Example 1 except that the aqueous overprint varnish composition of Example 1 was replaced with the aqueous overprint varnish composition having the following composition.
水性オーバープリントニス組成物（粘度：１７秒）
・アクリルエマルジョン ５７部
（ジョンソンポリマー製ジョンクリル３５２、固形分濃度４５％）
・スチレン−アクリル樹脂溶解ワニス ３０．７部
（ジョンソンポリマー製ジョンクリル３５４、固形分濃度３５％）
・消泡剤（ジメチルシロキサン系） ０．３部
・エタノール ４部
・水 ５部
・アセチレングリコール ３部
Aqueous overprint varnish composition (viscosity: 17 seconds)
・ 57 parts acrylic emulsion (John Crill 352, Johnson polymer, solid content 45%)
-Styrene-acrylic resin-dissolving varnish 30.7 parts (John Crill 354 made by Johnson Polymer, solid content concentration 35%)
・ Defoamer (dimethylsiloxane) 0.3 part ・ Ethanol 4 parts ・ Water 5 parts ・ Acetylene glycol 3 parts
比較例３
実施例１の水性オーバープリントニス組成物を下記組成の水性オーバープリントニス組成物に代えたほかは、実施例１と同様な加工方法で印刷物７を得た。
Comparative Example 3
Printed matter 7 was obtained by the same processing method as in Example 1 except that the aqueous overprint varnish composition of Example 1 was replaced with the aqueous overprint varnish composition having the following composition.
水性オーバープリントニス組成物（粘度：１７秒）
・アクリルエマルジョン ６０部
（ジョンソンポリマー製ジョンクリル３５２、固形分濃度４５％）
・スチレン−アクリル樹脂溶解ワニス ２９．７部
（ジョンソンポリマー製ジョンクリル３５４、固形分濃度３５％）
・消泡剤（ジメチルシロキサン系） ０．３部
・エタノール ４部
・水 ５部
・ジメチルポリシロキサン １部
Aqueous overprint varnish composition (viscosity: 17 seconds)
・ Acrylic emulsion 60 parts (John Crill 352, Johnson polymer, solid content 45%)
29.7 parts of styrene-acrylic resin-dissolving varnish (John Crill 354 manufactured by Johnson Polymer, solid content concentration 35%)
・ Defoamer (dimethylsiloxane) 0.3 part ・ Ethanol 4 parts ・ Water 5 parts ・ Dimethylpolysiloxane 1 part
＜評価＞
（表面張力）
活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物（Ａ）の希釈物（活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物（Ａ）をトリメチロールプロパントリアクリレートで、活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物／トリメチロールプロパントリアクリレート＝４０／６０質量比となるように希釈した希釈物）の表面張力、水性オーバープリントニス組成物（Ｂ）の表面張力を、表面張力計（（株）協和科学製、型式Ａ３）により白金プレートを使用して２５℃で測定し、それらの差を求めた。その結果を表１に示す。
<Evaluation>
(surface tension)
Dilution of active energy ray curable overprint varnish composition (A) (active energy ray curable overprint varnish composition (A) with trimethylolpropane triacrylate, active energy ray curable overprint varnish composition / tri The surface tension of the methylolpropane triacrylate = dilution diluted to 40/60 mass ratio) and the surface tension of the aqueous overprint varnish composition (B) were measured with a surface tension meter (Kyowa Kagaku Co., Ltd., model A3). ) Was measured at 25 ° C. using a platinum plate, and the difference between them was determined. The results are shown in Table 1.
（印刷物１〜７の凹凸性評価）
実施例１〜４、比較例１〜３のエンボス加工方法で得られた印刷物１〜７の凹凸性を目視にて評価した。評価結果を表１に示す。
(Evaluation of unevenness of printed materials 1 to 7)
The unevenness of the printed materials 1 to 7 obtained by the embossing methods of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 was visually evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.
評価基準
○：凹凸模様が明確で、良好なエンボス調の表面が得られる。
△：凹凸模様が不明確で、良好なエンボス調の表面が得られていない。
×：ほとんど凹凸模様が得られていない。
Evaluation standard (circle): The uneven | corrugated pattern is clear and the surface of favorable embossing is obtained.
Δ: Uneven pattern is unclear, and a good embossed surface is not obtained.
X: An uneven | corrugated pattern is hardly obtained.
Claims (3)
条件１：上記活性エネルギー線硬化型オーバープリントニス組成物（Ａ）４０質量部に、トリメチロールプロパントリアクリレート６０質量部を加えて希釈した希釈物の表面張力より５ｍＮ／ｍ以上高い表面張力を有する。 An active energy ray-curable overprint varnish composition (A) containing a photopolymerizable compound, a release agent, and a photopolymerization initiator on a part or the whole of the printing surface side of a substrate on which information is printed using ink. The aqueous overprint varnish composition (B) satisfying the following condition 1 is applied onto the printed or coated surface of the wet active energy ray-curable overprint varnish composition (A). After the processing, the active energy ray-curable overprint varnish composition (A) and the aqueous overprint varnish composition (B) are cured and dried to form an aqueous overprint varnish composition film having an uneven pattern. To produce printed matter.
Condition 1: The surface tension of the active energy ray-curable overprint varnish composition (A) 40 parts by mass is higher than the surface tension of a diluted product obtained by adding 60 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate and having a surface tension higher than 5 mN / m. .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005366914A JP4758755B2 (en) | 2005-12-20 | 2005-12-20 | Method for producing printed matter and printed matter obtained by the method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005366914A JP4758755B2 (en) | 2005-12-20 | 2005-12-20 | Method for producing printed matter and printed matter obtained by the method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007168191A true JP2007168191A (en) | 2007-07-05 |
| JP4758755B2 JP4758755B2 (en) | 2011-08-31 |
Family
ID=38295396
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005366914A Active JP4758755B2 (en) | 2005-12-20 | 2005-12-20 | Method for producing printed matter and printed matter obtained by the method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4758755B2 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102834188A (en) * | 2010-04-09 | 2012-12-19 | 株式会社理光 | Method of producing film by inkjet process, and film |
| JP2020147730A (en) * | 2019-03-15 | 2020-09-17 | サカタインクス株式会社 | Electron beam-curable printing ink composition and electron beam-curable overprint varnish composition |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06278354A (en) * | 1992-11-10 | 1994-10-04 | Shinsuidou:Kk | Surface processed print painted matter having uneven pattern |
| JPH07108752A (en) * | 1993-10-08 | 1995-04-25 | Toppan Printing Co Ltd | Decorative sheet having surface embossed patterns |
| JP2003181370A (en) * | 2001-12-20 | 2003-07-02 | Dainippon Printing Co Ltd | Matted print with rugged touch and its processing method |
| JP2005153163A (en) * | 2003-11-20 | 2005-06-16 | Dainippon Printing Co Ltd | Matted printed matter and working method thereof |
-
2005
- 2005-12-20 JP JP2005366914A patent/JP4758755B2/en active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06278354A (en) * | 1992-11-10 | 1994-10-04 | Shinsuidou:Kk | Surface processed print painted matter having uneven pattern |
| JPH07108752A (en) * | 1993-10-08 | 1995-04-25 | Toppan Printing Co Ltd | Decorative sheet having surface embossed patterns |
| JP2003181370A (en) * | 2001-12-20 | 2003-07-02 | Dainippon Printing Co Ltd | Matted print with rugged touch and its processing method |
| JP2005153163A (en) * | 2003-11-20 | 2005-06-16 | Dainippon Printing Co Ltd | Matted printed matter and working method thereof |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102834188A (en) * | 2010-04-09 | 2012-12-19 | 株式会社理光 | Method of producing film by inkjet process, and film |
| CN102834188B (en) * | 2010-04-09 | 2014-12-03 | 株式会社理光 | Method of producing film by inkjet process, and film |
| JP2020147730A (en) * | 2019-03-15 | 2020-09-17 | サカタインクス株式会社 | Electron beam-curable printing ink composition and electron beam-curable overprint varnish composition |
| WO2020189234A1 (en) * | 2019-03-15 | 2020-09-24 | サカタインクス株式会社 | Electron beam curable printing ink composition and electron beam curable overprint varnish composition |
| CN113544222A (en) * | 2019-03-15 | 2021-10-22 | 阪田油墨股份有限公司 | Electron beam-curable printing ink composition and electron beam-curable overprint varnish composition |
| JP7342329B2 (en) | 2019-03-15 | 2023-09-12 | サカタインクス株式会社 | Electron beam curable printing ink composition and electron beam curable overprint varnish composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4758755B2 (en) | 2011-08-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102792223B (en) | Photosensitve resin composition, printing plate precursor and flexible printing plate | |
| JP2018188671A (en) | Lithographic printing ink, varnish for lithographic inks, and method for producing printed matter using the same | |
| JP6071163B2 (en) | Liquid composition, ink jet recording method, ink jet recording apparatus, and recorded image | |
| JP2008037100A (en) | Manufacturing process of printed matter and printed matter obtained by its method | |
| JP2019509962A (en) | Method of producing an etched glass product | |
| JP6514836B2 (en) | Active energy ray curable printing ink composition and printing method using the same | |
| JPWO2017090663A1 (en) | Ink for lithographic printing | |
| KR102200851B1 (en) | Method of manufacturing printed matter | |
| JP2019218454A (en) | Active energy ray-curable print ink composition and printing method using the same | |
| JP7381774B2 (en) | Methods for improving actinic curing of energy curable inks and coatings | |
| JP4758755B2 (en) | Method for producing printed matter and printed matter obtained by the method | |
| CA3182388A1 (en) | Caustic washable compositions for printing | |
| JP2004189930A (en) | Water-based photosetting ink, ink composition for inkjet recording using the ink and image-forming method | |
| JP6524579B2 (en) | UV curable composition for inkjet etching resist | |
| JP6683208B2 (en) | Photosensitive resin composition and photosensitive resin plate original plate | |
| CN113956779B (en) | Active energy ray-curable coating agent and coated building material using same | |
| JP2019098698A (en) | Ultraviolet curing printed matter, and manufacturing method of ultraviolet curing printed matter | |
| JP2004314615A (en) | Highly antifouling thin decorative sheet using primer and its production method | |
| JP2009209248A (en) | Photocurable coating composition, overprint and method for producing the same | |
| JP2020138990A (en) | Active-energy-ray-polymerizable initiator, active-energy-ray-polymerizable composition, active-energy-ray-polymerizable ink, ink storage container, image forming method, and image forming apparatus | |
| JP2017109420A (en) | Lithographic printing method using aqueous ink composition and ultraviolet curable varnish composition, and printed matter | |
| JP2019005992A (en) | Method for producing coated object, coating device, and active energy ray-curable ink | |
| JPS6143592A (en) | Sheet for water base ink recording | |
| JP2019172969A (en) | Active energy ray curable composition and cured article thereof | |
| JP6339925B2 (en) | UV curable composition for inkjet etching resist |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081212 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20100517 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110510 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110603 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4758755 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140610 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |