JP2007128393A - Ic card and optically variable device transfer foil - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem wherein static electricity developed as an IC card is fed through a card reader may damage an IC chip or generate noise to cause abnormal data reading and recording, specifically, static electricity developed owing to friction between rubber rollers used for the feeding and the plastic card may reach and discharge at a voltage of several thousand volts to damage the IC chip. <P>SOLUTION: An IC card having at least an optically variable device (OVD) on a substrate has a conductive layer formed as a part of layers constituting the optically variable device. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、偽造防止効果を必要とするクレジットカードやキャッシュカード等に利用されるICカードおよび光学可変デバイス転写箔に関する。さらに詳しくは前記ICカードに偽造防止効果を付与するためOVD画像を形成したICカードおよび光学可変デバイス転写箔に関わる。   The present invention relates to an IC card and an optically variable device transfer foil used for a credit card, a cash card, etc. that require a forgery preventing effect. More specifically, the present invention relates to an IC card on which an OVD image is formed and an optical variable device transfer foil in order to impart an anti-counterfeit effect to the IC card.

光の干渉を用いて立体画像や特殊な装飾画像を表現し得る、ホログラムや回折格子、光学特性の異なる薄膜を重ねることにより、見る角度により色の変化(カラーシフト)を生じる多層薄膜のような光学可変デバイス(OVD(Optically Variable Device))の開発が進められている。   A multilayer film that can express stereoscopic images and special decorative images using light interference, such as a multilayer film that produces a color change (color shift) depending on the viewing angle, by superimposing holograms, diffraction gratings, and thin films with different optical properties. Development of an optical variable device (OVD (Optically Variable Device)) is underway.

ホログラムや回折格子のごときOVDは、微細な凹凸パターンや、屈折率の異なる縞状パターンなどの回折構造からなっており、これにより光の回折と干渉により見る角度(すなわち、ホログラムを支持している角度)に応じて、固有の像や色の変化(カラーシフト)を生じる。一方、多層薄膜は光学特性の異なるセラミックスや金属材料を幾重にも積層した構造でなる。この多層薄膜は構成する材料の光学特性と膜厚により得られる光の干渉作用を利用した表示技術であり、特定の波長域に反射・透過特性を有しているため、観察する角度により色の変化(カラーシフト)を生じる。   An OVD such as a hologram or a diffraction grating has a diffractive structure such as a fine concavo-convex pattern or a striped pattern having a different refractive index, thereby supporting the viewing angle by light diffraction and interference (ie, the hologram). Depending on the angle, a unique image or color change (color shift) occurs. On the other hand, the multilayer thin film has a structure in which ceramics and metal materials having different optical properties are laminated in layers. This multi-layered thin film is a display technology that uses the interference effect of light obtained by the optical characteristics and film thickness of the constituent materials, and has reflection / transmission characteristics in a specific wavelength range. A change (color shift) occurs.

本明細書においてはホログラムおよび回折格子や多層薄膜などの光の干渉を利用した表示デバイスを総称して光学可変デバイス(OVD)と称することとする。光学可変デバイスは、一般に、光学可変層、接着層からなっているが、光学可変デバイス転写箔の場合は剥離層、光学可変層、接着層その他の層からなっている。   In this specification, a display device using interference of light such as a hologram, a diffraction grating, and a multilayer thin film is generically referred to as an optical variable device (OVD). The optically variable device generally includes an optically variable layer and an adhesive layer. In the case of an optically variable device transfer foil, the optically variable device includes a release layer, an optically variable layer, an adhesive layer, and other layers.

一方、クレジットカード、キャッシュカードに代表されるプラスチックカードは、従来から、買い物や預金引き出し等に広く使用されている。以前は使用されるカードに関する情報はカード上に設けられた磁気テープ上に保存され、取引時に読み取ることで認証を行い、取引を成立させている。   On the other hand, plastic cards represented by credit cards and cash cards have been widely used for shopping and deposit withdrawals. In the past, information about the card used is stored on a magnetic tape provided on the card, and is authenticated by reading it at the time of transaction, thereby completing the transaction.

近年では、磁気テープに代わってICチップ内に情報を記録したICカードが急速に普及してきている。これには、通信のための端子が表面に露出し、端末の通信端子と接触して通信を行う接触式ICカードと、通信はカード内のアンテナを通して行う非接触式ICカードがある。   In recent years, IC cards in which information is recorded in IC chips instead of magnetic tape are rapidly spreading. There are a contact IC card in which a terminal for communication is exposed on the surface and contacts the communication terminal of the terminal for communication, and a non-contact IC card for communication through an antenna in the card.

これらプラスチックカードの偽造防止効果を向上および意匠性を向上させるべく、前述のOVDを全面あるいは一部に設ける提案がなされている。   In order to improve the anti-counterfeiting effect of these plastic cards and to improve the design, proposals have been made to provide the above-mentioned OVD over the entire surface or a part thereof.

特許文献は以下の通り。
特開平9−300863号公報
The patent literature is as follows.
JP-A-9-300863

しかしながら、上記の技術は、ICのない磁気カードでは問題は生じないが、ICを設けたカードにおいては、不具合を生じる。   However, the above technique does not cause a problem in a magnetic card without an IC, but causes a problem in a card provided with an IC.

すなわち、カードリーダーにおいてカードの搬送時に静電気が生じ、ICチップを破壊する、もしくはノイズを発生させデータの読み出し、および記録に異常を生じさせてしまう。これは、搬送に使われるゴムロールとプラスチックカードの摩擦によって生じた静電気によるものであり、場合によっては数千ボルトの電圧に達して放電し、ICチップを破壊することもある。   That is, static electricity is generated when the card is transported by the card reader, and the IC chip is destroyed or noise is generated, causing abnormal data reading and recording. This is due to static electricity generated by the friction between the rubber roll used for conveyance and the plastic card. In some cases, it reaches a voltage of several thousand volts and is discharged, which may destroy the IC chip.

本発明は、上記の課題を解決するためになされた発明であって、請求項1に記載の発明は基材上に少なくとも光学可変デバイス(OVD)を有するICカードにおいて、光学可変デバイスを構成する層の一部に導電性を有する導電層を形成してなるICカードである。   The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and the invention according to claim 1 constitutes an optically variable device in an IC card having at least an optically variable device (OVD) on a substrate. It is an IC card in which a conductive layer having conductivity is formed on a part of the layer.

請求項2に記載の発明は該導電層において、その表面の表面抵抗率が1011Ω以下で形成してなることを特徴とする請求項1のICカードである。 The invention according to claim 2 is the IC card according to claim 1, wherein the conductive layer is formed with a surface resistivity of 10 11 Ω or less.

請求項3に記載の発明は、支持体上に少なくとも剥離層、光学可変層、接着層およびいずれかの層間に導電層を有したことを特徴とした光学可変デバイス転写箔である。   According to a third aspect of the present invention, there is provided an optical variable device transfer foil characterized by having at least a release layer, an optical variable layer, an adhesive layer, and a conductive layer between any of the layers on a support.

請求項4に記載の発明は該導電層において、その表面の表面抵抗率が1011Ω以下で形成してなることを特徴とする請求項3の光学可変デバイス転写箔である。 The invention according to claim 4 is the optical variable device transfer foil according to claim 3, wherein the conductive layer is formed with a surface resistivity of 10 11 Ω or less.

以下に、本発明の実施の形態を詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

図1は本発明のICカードの構成を示す図であり、図2は本発明のOVD転写箔の一実施例を示す断面図である。図に示したように、本発明によるICカードは、少なくとも、基材11にIC部10、および光学可変デバイスからなり、この光学可変デバイスは、光学可変層4、導電層3を有してなり、図のような保護層2や、層間の接着を促す接着層、接着アンカー層を適宜選択し設けることが可能である。   FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an IC card of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing an embodiment of an OVD transfer foil of the present invention. As shown in the figure, the IC card according to the present invention comprises at least an IC part 10 and an optically variable device on a substrate 11, and this optically variable device has an optically variable layer 4 and a conductive layer 3. It is possible to appropriately select and provide a protective layer 2 as shown, an adhesive layer that promotes adhesion between layers, and an adhesive anchor layer.

以降、図1の本発明のICカードの構成にて詳細に説明する。   Hereinafter, the configuration of the IC card of the present invention in FIG. 1 will be described in detail.

保護層2はICカード上カードの最表面に形成され、擦りや薬品からカードを保護する機能を有しており、材料としては従来公知の樹脂が使用可能であり、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、エポキシ系樹脂等の熱可塑樹脂をはじめ、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等の公知の高分子材料が使用可能である。   The protective layer 2 is formed on the outermost surface of the card on the IC card, and has a function of protecting the card from rubbing and chemicals. As a material, a conventionally known resin can be used, and an acrylic resin, a polyester resin In addition, known polymer materials such as an ultraviolet curable resin and a thermosetting resin can be used as well as thermoplastic resins such as urethane resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, and epoxy resin.

保護層2の組成としては、箔時に上層となる導電層3との相性を考慮し、十分な密着力を有する材料であることが必要である。また、保護層2は、機械的強度、耐摩擦性、薬品耐性が高い材料であることが好ましい。さらには、耐摩擦性を向上させるための滑剤成分として、ワックス類や金属石鹸等を添加することも可能である。   The composition of the protective layer 2 needs to be a material having sufficient adhesion in consideration of compatibility with the upper conductive layer 3 when foil is formed. The protective layer 2 is preferably a material having high mechanical strength, friction resistance, and chemical resistance. Furthermore, it is also possible to add waxes or metal soaps as a lubricant component for improving the friction resistance.

導電層3は本発明において重要な役割を果たす層であり、発生した静電気を逃がすための導通層として機能する層である。導電材料としては、従来公知の無機系導電材料、有機系導電材料が使用可能である。特に好ましいのは着色力の弱い導電材料であり、例えば無機系としては酸化スズ、アンチモン添加酸化スズ、インジウム添加酸化スズ、アンチモン酸亜鉛、五酸化アンチモンといった材料が使用可能であり、有機系としてはポリチアジル系、ポリアセチレン系、ポリビニロール系、ポリアニリン系、ポリチオフェン系、ポリフェニレンビニレン系、4級アンモニウム塩共重合アクリル系といった有機高分子材料が使
用可能である。
The conductive layer 3 is a layer that plays an important role in the present invention, and is a layer that functions as a conductive layer for releasing generated static electricity. As the conductive material, conventionally known inorganic conductive materials and organic conductive materials can be used. Particularly preferred is a conductive material with weak coloring power. For example, inorganic materials such as tin oxide, antimony-added tin oxide, indium-added tin oxide, zinc antimonate, and antimony pentoxide can be used. Organic polymer materials such as polythiazyl series, polyacetylene series, polyvinylol series, polyaniline series, polythiophene series, polyphenylene vinylene series, quaternary ammonium salt copolymer acrylic series can be used.

また、着色力が強い導電材料は下地にくる印刷絵柄への影響がない限りにおいて使用可能であって、例えば、カーボンブラック、硫化銅、酸化亜鉛等の導電材料が使用可能である。   In addition, a conductive material having a strong coloring power can be used as long as it does not affect the printed pattern that comes to the base. For example, a conductive material such as carbon black, copper sulfide, or zinc oxide can be used.

導電性材料は単独でもよいが、適切な樹脂材料に添加もしくは混合して用いるのが好ましい。この樹脂材料としては、従来公知のアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、エポキシ系樹脂等の熱可塑性樹脂や、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等の公知の高分子材料が使用可能である。   The conductive material may be used alone, but is preferably added to or mixed with an appropriate resin material. As this resin material, conventionally known acrylic resins, polyester resins, urethane resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resins, epoxy resins and other thermoplastic resins, ultraviolet curable resins, thermosetting resins and the like are known. The polymer material can be used.

前記した導電材料と樹脂材料の混合比率は任意であり、要求される導電性のほか加工適性、機械的強度、密着強度、薬品耐性、保存性等を考慮し、適宜設定することが望まれる。   The mixing ratio of the above-described conductive material and resin material is arbitrary, and it is desirable to set it appropriately in consideration of required conductivity, processability, mechanical strength, adhesion strength, chemical resistance, storage stability, and the like.

導電層3を設ける方法としては、従来公知の印刷法、コーティング法が使用可能であり、例えば、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、フレキソ印刷法、ロールコーティング法、マイクログラビアコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スピンコート法等が使用可能である。   As a method for providing the conductive layer 3, conventionally known printing methods and coating methods can be used. For example, a gravure printing method, a screen printing method, an offset printing method, a flexographic printing method, a roll coating method, a micro gravure coating method, A die coating method, a curtain coating method, a spin coating method, or the like can be used.

また導電層3の厚みは任意であって、要求される導電性が得られる厚みであれば使用可能である。必要とする導電性は、表面抵抗率が1011Ω以下であり、この範囲であれば、ICカード上に転写した場合に静電気障害を防止することができる。 The thickness of the conductive layer 3 is arbitrary, and any thickness can be used as long as the required conductivity is obtained. The required conductivity is that the surface resistivity is 10 11 Ω or less, and if it is within this range, electrostatic failure can be prevented when transferred onto an IC card.

次に光学可変層4に関して説明する。   Next, the optical variable layer 4 will be described.

この光学可変層により光学可変効果を持つ光学可変デバイス(OVD)とは光の干渉を利用した画像であり、立体画像の表現や見る角度により色が変化するカラーシフトを生じる表示体である。その中でホログラムや回折格子のごとき光学可変デバイス(OVD)としては、光の干渉縞を微細な凹凸パターンとして平面に記録するレリーフ型や体積方向に干渉縞を記録する体積型が挙げられる。一方、ホログラムや回折格子と手法が異なり、光学特性の異なるセラミックスや金属材料の薄膜を積層し、見る角度により色の変化(カラーシフト)を生じる多層膜方式もその例である。   An optical variable device (OVD) having an optical variable effect by the optical variable layer is an image using interference of light, and is a display body that generates a color shift in which the color changes depending on the representation of a stereoscopic image and the viewing angle. Among them, examples of the optical variable device (OVD) such as a hologram and a diffraction grating include a relief type that records light interference fringes as a fine uneven pattern on a plane and a volume type that records interference fringes in a volume direction. On the other hand, a multilayer film system in which a thin film made of ceramics or a metal material having different optical characteristics and a method different from that of a hologram or a diffraction grating is laminated to cause a color change (color shift) depending on the viewing angle is an example.

これら、光学可変デバイス(OVD)の中でも量産性やコストを考慮した場合には、レリーフ型ホログラム(回折格子)や多層薄膜方式のものが好ましく、一般にこれらの光学可変デバイス(OVD)が広く利用されている。   Among these optically variable devices (OVD), when considering mass productivity and cost, a relief type hologram (diffraction grating) or a multilayer thin film type is preferable. Generally, these optically variable devices (OVD) are widely used. ing.

レリーフ型のホログラム(回折格子)は光学的な撮影方式により、微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のマスター版を作製し、電気メッキ法によりパターンを複製したニッケル製のプレス版にて量産を行う。すなわち、このプレス版を加熱し光学可変デバイス(OVD)形成層4a(図2)に押し当て、凹凸パターンを複製する。   Relief-type holograms (diffraction gratings) are produced by producing a relief-type master plate consisting of fine concavo-convex patterns by an optical photographing method, and mass-producing them on nickel press plates in which the patterns are duplicated by electroplating. That is, this press plate is heated and pressed against the optical variable device (OVD) forming layer 4a (FIG. 2) to replicate the uneven pattern.

光学可変デバイス(OVD)形成層4aは、プレス版にて成形可能であるという性能が要求され、その材質は熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂のいずれであっても良い。例を挙げれば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂や熱硬化樹脂、紫外線あるいは電子線硬化樹脂を単独もしくはこれらを複合して使用できる。また上記以外のものであっても、光学可変デバイス(OVD)画像を形成可能である公知の材料であれば、使用可能である。   The optical variable device (OVD) forming layer 4a is required to be capable of being molded by a press plate, and the material thereof may be any of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ultraviolet ray, or an electron beam curable resin. good. For example, thermoplastic resins such as acrylic resins, epoxy resins, cellulose resins, and vinyl resins, thermosetting resins, ultraviolet rays, or electron beam curable resins may be used alone or in combination. Other than the above materials, any known material capable of forming an optically variable device (OVD) image can be used.

これらの画像技術としては立体的画像を再現する3Dホログラムや回折格子を微小なドットで表現し、高い輝感を与えるグレーティングイメージ等の撮影技術が挙げられる。最近では回折格子の微小なドットを星型等の特定形状で形成する手法や、マイクロ文字と言われる肉眼では見えない細かな文字を描画する手法や、写真のように被写体の色彩を忠実に再現する手法や、見る角度でまったく違う複数の画像を表現するチェンジングと呼ばれる手法、光回折効率の高いブレーズド格子と呼ばれる鋸刃状に形成する技術等が開発されており、本発明においてはこれらの画像表現法のみならず、公知の画像表現方法であれば利用可能である。   Examples of these image technologies include 3D holograms that reproduce a three-dimensional image, and imaging technologies such as a grating image that expresses a diffractive grating with fine dots and gives high brightness. Recently, a method of forming minute dots of a diffraction grating with a specific shape such as a star shape, a method of drawing fine characters that cannot be seen with the naked eye, called micro characters, and a faithful reproduction of the color of a subject like a photograph Have been developed, a technique called changing that expresses a plurality of images that are completely different depending on the viewing angle, a technique of forming a saw blade shape called a blazed grating with high light diffraction efficiency, etc. Not only the expression method but also any known image expression method can be used.

光学可変効果層4bは光学可変デバイス(OVD)画像の回折効率を高めるためレリーフ面を構成する高分子材料と屈折率の異なる材料からなる。また、本発明の偽造防止媒体においては、検証時に特定の光を与え発光を観察する媒体であるため、光の透過性を有した材料あるいは部分的には光を透過する構成にて設ける必要がある。   The optical variable effect layer 4b is made of a material having a refractive index different from that of the polymer material constituting the relief surface in order to increase the diffraction efficiency of the optical variable device (OVD) image. In addition, the anti-counterfeit medium of the present invention is a medium that emits specific light and observes light emission at the time of verification. Therefore, it is necessary to provide a light-transmitting material or a structure that partially transmits light. is there.

用いる材料としては、光学可変デバイス(OVD)形成層2aと屈折率の異なり、かつ透明なTiO2、Si23、SiO、Fe23、ZnS、などの高屈折率材料や、より反射効果の高いAl、Sn、Cr、Ni、Cu、Au等の金属材料が挙げられる。これら金属材料を用いた場合には導電層3を兼ねることも可能である。 As a material to be used, a high refractive index material such as TiO 2 , Si 2 O 3 , SiO, Fe 2 O 3 , ZnS, which is different in refractive index from the optical variable device (OVD) forming layer 2 a and transparent, and more reflective is used. Examples thereof include metal materials such as Al, Sn, Cr, Ni, Cu, and Au, which are highly effective. When these metal materials are used, the conductive layer 3 can also be used.

さらには、光学可変効果層4bは一面に設けられていても良いが、絵柄、数字、文字等の情報を有するパターンで形成され、意匠性を向上すると共に、加工を複雑にし、より高い偽造防止効果を付与することができる。   Furthermore, although the optical variable effect layer 4b may be provided on one side, it is formed with a pattern having information such as pictures, numbers, characters, etc., improving design and making processing more complicated, and higher forgery prevention An effect can be imparted.

その手法としては、1)光学可変デバイス(OVD)形成層に溶解性の樹脂をパターン状に形成、金属薄膜を設けた後、溶解性樹脂とその部分の金属薄膜層を洗浄し除去する手法、2)金属薄膜層に耐酸あるいは耐アルカリ性樹脂を用いてパターンを印刷した後、金属薄膜を酸やアルカリでエッチングする方法、3)さらには光を露光することによって、溶解するあるいは溶解し難くなる樹脂材料を塗布、所望のパターン状のマスク越しに露光した後、不要部分を洗浄あるいはエッチングで除去する手法、4)微粒化した光学可変デバイス(OVD)形成層材料を各種印刷技術により部分的に印刷する手法等が挙げられる。以上は一例であり、これらに限定されるものではなく、公知の部分的に金属薄膜を形成する技術であれば適宜利用可能である。   As the method, 1) a method in which a soluble resin is formed in a pattern on an optical variable device (OVD) formation layer, a metal thin film is provided, and then the soluble resin and the metal thin film layer in that portion are washed and removed; 2) A method of etching a metal thin film with an acid or alkali after printing a pattern on the metal thin film layer using an acid-resistant or alkali-resistant resin, and 3) a resin that dissolves or becomes difficult to dissolve when exposed to light. After applying the material, exposing it through a mask with the desired pattern, and then removing unnecessary parts by cleaning or etching. 4) Partially printing the atomized optical variable device (OVD) forming layer material using various printing techniques. And the like. The above is an example, and the present invention is not limited to these. Any known technique for partially forming a metal thin film can be used as appropriate.

一方、多層薄膜方式を用いる場合、前述したように、光学可変層は異なる光学適性を有する多数の薄膜層からなり、金属薄膜、セラミックス薄膜またはそれらを併設してなる複合薄膜として積層形成される。例えば屈折率の異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜を組み合わせても良く、また特定の組み合わせを交互に積層するようにしてもよい。用いられる材料の屈折率、反射率、透過率等の光学特性や耐候性、層間密着性などに基づき適宜選択され、それらの組み合わせにより、所望の多層薄膜を得ることができる。形成手段としては、膜厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚(=n・d、n:屈折率、d:膜厚)などの制御が可能な、通常の真空蒸着法、スパッタリング法にて形成する手法が好ましいが、公知の手段であれば適宜使用可能であり、こららに限定されるものではない。多層薄膜方式においても先のホログラムや回折格子の例で述べたように、一部分を任意の絵柄、図形、文字、数字等の情報パターンで形成することにより、情報を付与させることや、海島構造で設けることや、その微細な薄膜を情報パターンとすることも可能である。   On the other hand, when the multilayer thin film method is used, as described above, the optical variable layer is composed of a large number of thin film layers having different optical suitability, and is formed as a metal thin film, a ceramic thin film, or a composite thin film formed by combining them. For example, when thin films having different refractive indexes are stacked, a high refractive index thin film and a low refractive index thin film may be combined, or a specific combination may be stacked alternately. The material is appropriately selected on the basis of optical properties such as refractive index, reflectance, and transmittance, weather resistance, interlayer adhesion, and the like, and a desired multilayer thin film can be obtained by a combination thereof. As a forming means, a normal vacuum deposition method or sputtering method capable of controlling the film thickness, film forming speed, number of layers, or optical film thickness (= n · d, n: refractive index, d: film thickness), etc. However, any known means can be used as appropriate, and the method is not limited thereto. Even in the multilayer thin film method, as described in the example of the hologram and diffraction grating above, by forming a part with an information pattern such as an arbitrary pattern, figure, letter, number, etc. It is also possible to provide an information pattern.

次に、図2に示した本発明の偽造防止媒体を容易に製造可能とする転写箔に関して説明する。図のように本発明の転写箔は支持体11に剥離保護層5、導電層3、光学可変層4、接着層6を順次積層してなる。   Next, the transfer foil that makes it possible to easily manufacture the anti-counterfeit medium of the present invention shown in FIG. 2 will be described. As shown in the figure, the transfer foil of the present invention is obtained by sequentially laminating a peeling protective layer 5, a conductive layer 3, an optical variable layer 4, and an adhesive layer 6 on a support 11.

本転写箔を用いれば、ホットスタンプや熱ロールを用いて任意の形状に本発明の偽造防止体を形成可能となる。すなわち基材と接着層を熱および圧で接着させた後、不要な支持体11を剥し、形成する。そのため、剥離保護層5は支持体11から剥がれる層であり、その後光学可変層を保護する目的も兼ねる。接着層6は基材1に熱および圧力で接着する機能を有している。これら、支持体11、剥離保護層5、接着層6は公知の転写箔の製造に用いられる材料および手法が適宜選択され使用可能である。   If this transfer foil is used, it becomes possible to form the forgery prevention body of this invention in arbitrary shapes using a hot stamp or a heat roll. That is, after bonding the base material and the adhesive layer with heat and pressure, the unnecessary support 11 is peeled off and formed. Therefore, the peeling protection layer 5 is a layer that is peeled off from the support 11, and also serves to protect the optical variable layer thereafter. The adhesive layer 6 has a function of adhering to the substrate 1 with heat and pressure. These support 11, release protective layer 5, and adhesive layer 6 can be used by appropriately selecting materials and methods used for manufacturing known transfer foils.

実施例として図2の光学可変デバイス(OVD)転写箔を用いた製造方法において詳細に説明する。   As an example, a manufacturing method using the optical variable device (OVD) transfer foil of FIG. 2 will be described in detail.

基材11として、25μm厚の透明ポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ(株)製ルミラー25F65)を使用した。この上に、下記、剥離層保護層(5)インキの組成におけるインキをグラビア法にて1μmの厚みで設けた。   As the substrate 11, a transparent polyethylene terephthalate film (Lumirror 25F65 manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 25 μm was used. On this, the ink in the composition of the following peeling layer protective layer (5) ink was provided with a thickness of 1 μm by the gravure method.

<剥離保護層用インキ>
・アクリル樹脂 15重量部
・ワックス分散体 2重量部
・トルエン 40重量部
・メチルエチルケトン 43重量部
次に、この上に、下記、組成における導電層(3)用インキをグラビア法にて1μmの厚みで設けた。この導電性樹脂の表面抵抗率は109Ωであった。
<Ink for peeling protective layer>
-15 parts by weight of acrylic resin-2 parts by weight of wax dispersion-40 parts by weight of toluene-43 parts by weight of methyl ethyl ketone Next, on this, the ink for the conductive layer (3) in the composition described below is formed in a thickness of 1 μm by the gravure method. Provided. The surface resistivity of this conductive resin was 10 9 Ω.

<導電層用インキ>
・導電性樹脂 ジュリマーSP−50TF(日本純薬(株)製) 100重量部
さらに、以下の組成でなる光学可変デバイス(OVD)形成層(4a)をグラビア法で1μm、光学可変効果層(4b)としてTiO2を真空蒸着にて500Å成形した後、ロールエンボス法を用いて140℃に熱したレリーフレインボーホログラムのスタンパーを押し当て、レインボーホログラムパターンを形成した。
<Ink for conductive layer>
-Conductive resin Jurimer SP-50TF (manufactured by Nippon Pure Chemicals Co., Ltd.) 100 parts by weight Further, an optical variable device (OVD) forming layer (4a) having the following composition is 1 μm by the gravure method, optical variable effect layer (4b) ) 2 was formed by vacuum deposition, and then a rainbow hologram pattern was formed by pressing a relief rainbow hologram stamper heated to 140 ° C. using a roll embossing method.

<OVD形成層>
ポリエステル 20重量部
HMDI(ヘキサメチレンジイソシアネート) 5重量部
MEK(メチルエチルケトン) 50重量部
さらにこの上に下記、組成からなる接着層(6)用インキをグラビア法にて1μmの厚みで設けた。
<OVD formation layer>
Polyester 20 parts by weight HMDI (hexamethylene diisocyanate) 5 parts by weight MEK (methyl ethyl ketone) 50 parts by weight Further, an ink for an adhesive layer (6) having the following composition was provided thereon with a thickness of 1 μm by a gravure method.

<接着層用インキ>
・アクリル樹脂 10重量部
・塩酢ビ樹脂 5重量部
・トルエン 40重量部
・メチルエチルケトン 45重量部
以上のようにして得た光学可変デバイス(OVD)転写箔を、予め絵柄印刷を施した厚み0.76mmの塩化ビニル製カードと重ね、熱ロールを用いて、120℃にて10m/分の速度で加熱した後、支持体(11)を表面から剥がして光学可変デバイス(OVD)を形成したカードを得た。その後、塩化ビニルシートの光学可変デバイス(OVD)を設けた面にICモジュール(10)形状に合わせた穴を空け、モジュールを接着剤で固定してICカードを得た。
<Ink for adhesive layer>
Acrylic resin 10 parts by weight ・ Vinyl chloride resin 5 parts by weight ・ Toluene 40 parts by weight ・ Methyl ethyl ketone 45 parts by weight The thickness of the optical variable device (OVD) transfer foil obtained as described above was subjected to pattern printing in advance. A card on which an optically variable device (OVD) is formed by overlapping a 76 mm vinyl chloride card and heating it at 120 ° C. at a rate of 10 m / min after peeling off the support (11) from the surface. Obtained. Thereafter, a hole corresponding to the shape of the IC module (10) was formed on the surface provided with the optically variable device (OVD) of the vinyl chloride sheet, and the module was fixed with an adhesive to obtain an IC card.

<比較例1>
比較例として、導電層のないカードを作成した。導電層以外を構成する材料は実施例と同じもの用いた。表1に実施例および比較例の評価結果を示した。
<Comparative Example 1>
As a comparative example, a card without a conductive layer was created. The materials other than the conductive layer were the same as in the examples. Table 1 shows the evaluation results of Examples and Comparative Examples.

Figure 2007128393
Figure 2007128393

本発明は、有価証券媒体および製品パッケージの認証分野において用いられる、可視化などの潜像保表示方法、真偽判定方法および情報伝達方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a latent image keeping display method such as visualization, a true / false determination method, and an information transmission method used in the authentication field of securities media and product packages.

表1からわかるように、ICカード上に導電層を持たない比較例は帯電防止性がなく、搬送テスト途中で通信不能となることがわかる。   As can be seen from Table 1, the comparative example having no conductive layer on the IC card has no antistatic property, and communication is not possible during the conveyance test.

一方、実施例ではそのような不具合は生じない。したがって、本発明によってなるICカードは、従来技術に比して優位であることがわかる。   On the other hand, such a problem does not occur in the embodiment. Therefore, it can be seen that the IC card according to the present invention is superior to the prior art.

本発明のICカードの構成を示す断面図であるIt is sectional drawing which shows the structure of the IC card of this invention. 本発明の光学可変デバイス(OVD)転写箔の一実施例を示す断面図であるIt is sectional drawing which shows one Example of the optical variable device (OVD) transfer foil of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 基材
2 保護層
3 導電層
4 光学可変層
4a 光学可変デバイス(OVD)形成層
4b 光学可変効果層
10 ICモジュール
11 支持体
5 剥離保護層
6 接着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base material 2 Protective layer 3 Conductive layer 4 Optical variable layer 4a Optical variable device (OVD) formation layer 4b Optical variable effect layer 10 IC module 11 Support body 5 Peeling protective layer 6 Adhesive layer

Claims (4)

基材上に少なくとも光学可変デバイス(OVD)を有するICカードにおいて、光学可変デバイスを構成する層の一部に導電性を有する導電層を形成してなるICカード。   An IC card having at least an optically variable device (OVD) on a substrate, wherein an electrically conductive layer is formed on a part of a layer constituting the optically variable device. 該導電層において、その表面の表面抵抗率が1011Ω以下で形成してなることを特徴とする請求項1のICカード。 2. The IC card according to claim 1, wherein the conductive layer is formed with a surface resistivity of 10 < 11 > [Omega] or less. 支持体上に少なくとも剥離層、光学可変層、接着層およびいずれかの層間に導電層を有したことを特徴とした光学可変デバイス転写箔。   1. An optical variable device transfer foil comprising a support having at least a release layer, an optical variable layer, an adhesive layer, and a conductive layer between any of the layers. 該導電層において、その表面の表面抵抗率が1011Ω以下で形成してなることを特徴とする請求項3の光学可変デバイス転写箔。 4. The optical variable device transfer foil according to claim 3, wherein the conductive layer is formed with a surface resistivity of 10 < 11 > [Omega] or less.
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