JP2007102185A - Optical recording medium, method of producing same, optical recording method and optical reproducing method - Google Patents

Optical recording medium, method of producing same, optical recording method and optical reproducing method Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: a hologram type optical recording medium capable of performing high-density recording and preventing noise even when information light and reference light leaks from filter layers formed of wavelength-selective reflection films; a method of producing the medium; an optical recording method; and an optical reproducing method using the optical recording medium. <P>SOLUTION: The optical recording medium includes a first substrate, a recording layer to record information by using holography, a filter layer, a light absorbing layer and a second substrate in this order. The method of producing the optical medium, the optical recording method and the reproducing method on the optical recording medium are also provided. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、高密度画像記録が可能なホログラム型の光記録媒体及び該光記録媒体の製造方法、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法に関する。   The present invention relates to a hologram type optical recording medium capable of high-density image recording, a method for manufacturing the optical recording medium, and an optical recording method and an optical reproducing method using the optical recording medium.

高密度画像データ等の大容量の情報を書き込み可能な記録媒体の一つとして光記録媒体が挙げられる。この光記録媒体としては、例えば、光磁気ディスク、相変化型光ディスク等の書換型光記録媒体やCD−R等の追記型光記録媒体については既に実用化されているが、光記録媒体の更なる大容量化に対する要求は高まる一方である。しかし、従来から提案されている光記録媒体は全て二次元記録であり、記録容量の増大化には限界があった。そこで、近時、三次元的に情報を記録可能なホログラム型の光記録媒体が注目されている。   An optical recording medium is one of recording media capable of writing a large amount of information such as high-density image data. As this optical recording medium, for example, a rewritable optical recording medium such as a magneto-optical disk and a phase change optical disk and a write-once optical recording medium such as a CD-R have already been put into practical use. The demand for larger capacity is increasing. However, all conventionally proposed optical recording media are two-dimensional recording, and there is a limit to increasing the recording capacity. Therefore, recently, a hologram type optical recording medium capable of recording information three-dimensionally has attracted attention.

前記ホログラム型光記録媒体は、一般に、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉パターンを利用して記録層内部に屈折率などの光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す(再生する)際には、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、該記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する回折光として該記録層から出射させる。
このホログラム型光記録媒体では、記録層内に光学特性分布が三次元的に形成されるので、一の情報光により情報が書き込まれた領域と、他の情報光により情報が書き込まれた領域とを部分的に重ね合わせること、即ち多重記録が可能である。コンピュータにより合成されるデジタルボリュームホログラフィを利用した場合には、1スポットの信号対雑音比(SN比)は極めて高くなるので、重ね書きによりSN比が多少低くなっても元の情報を忠実に再現できる。その結果、多重記録回数が数百回までに及び、光記録媒体の記録容量を著しく増大させることができる(特許文献1参照)。
In general, the hologram type optical recording medium is formed by superimposing information light given a two-dimensional intensity distribution and information light and reference light having a substantially constant intensity inside a photosensitive recording layer. Information is recorded by generating a distribution of optical characteristics such as a refractive index in the recording layer using an interference pattern. On the other hand, when reading (reproducing) written information, the recording layer is irradiated with only the reference light in the same arrangement as in recording, and has an intensity distribution corresponding to the optical characteristic distribution formed in the recording layer. The light is emitted from the recording layer as diffracted light.
In this hologram type optical recording medium, since the optical characteristic distribution is three-dimensionally formed in the recording layer, an area where information is written by one information light, an area where information is written by other information light, and Can be partially overlapped, that is, multiple recording can be performed. When digital volume holography synthesized by a computer is used, the signal-to-noise ratio (S / N ratio) of one spot is extremely high, so the original information is faithfully reproduced even if the S / N ratio is somewhat lowered by overwriting. it can. As a result, the number of times of multiple recording reaches several hundreds, and the recording capacity of the optical recording medium can be remarkably increased (see Patent Document 1).

このようなホログラム型の光記録媒体としては、例えば、図1に示すように、第二の基板1表面にサーボピットパターン3を設け、このサーボピットパターン表面にアルミニウム等からなる反射膜2と、この反射膜上に記録層4と、この記録層上に第一の基板5とを有する光記録媒体20が提案されている(特許文献2参照)。   As such a hologram type optical recording medium, for example, as shown in FIG. 1, a servo pit pattern 3 is provided on the surface of the second substrate 1, and a reflective film 2 made of aluminum or the like is provided on the surface of the servo pit pattern. An optical recording medium 20 having a recording layer 4 on the reflective film and a first substrate 5 on the recording layer has been proposed (see Patent Document 2).

しかし、図1に示す構成の光記録媒体20では、サーボゾーンと記録ゾーンとが面内で分かれており、その分、記録密度が半減してしまうという問題がある。
このため、図2に示す光記録媒体20aでは、情報光及び参照光として円偏光を用い、記録層4と反射膜2との間に、第二の基板1の平滑化のためのギャップ層8、フィルタ層6としてのコレステリック液晶層又はダイクロイックミラー層、4分の1波長板10を設け、記録層とサーボ層を厚み方向に重ねている(特許文献3参照)。この手法により記録密度は倍増する。また、前記フィルタ層として情報光の円偏光と同じ旋回方向を螺旋構造に持つ単層のコレステリック液晶層を用いると、生産性に優れ、光記録媒体を安価に大量生産することができ、垂直入射0°におけるフィルタ効果は良好となる。
しかし、この提案では、入射角が変化し、入射光が10°以上傾くと、選択反射波長にずれが生じ、情報光及び参照光がフィルタ層を通過して反射膜まで到達して反射され、ノイズが生じる原因となることがある。この現象は、レンズで絞った±10°以上の通常の光記録媒体におけるレンズ光学系の入射光には適用できないという問題がある。
前記入射角が、10°以内の場合には、本来は図3に示すように、情報光及び参照光35は、フィルタ層6で、その全てが選択反射され、戻り光となるが、図4に示すように、情報光及び参照光35は、フィルタ層6で、その全てが反射せず、点線で示すように、僅かにフィルタ層から漏れて、反射膜2まで到達し、該反射膜で反射し、反射光35aとなって回折光に混入し、ノイズの原因となることがある。
However, the optical recording medium 20 having the configuration shown in FIG. 1 has a problem that the servo zone and the recording zone are separated in the plane, and the recording density is halved accordingly.
Therefore, in the optical recording medium 20a shown in FIG. 2, circularly polarized light is used as the information light and the reference light, and the gap layer 8 for smoothing the second substrate 1 is interposed between the recording layer 4 and the reflective film 2. A cholesteric liquid crystal layer or dichroic mirror layer as a filter layer 6 and a quarter-wave plate 10 are provided, and the recording layer and the servo layer are stacked in the thickness direction (see Patent Document 3). This technique doubles the recording density. In addition, when a single-layer cholesteric liquid crystal layer having the same rotation direction as the circular polarization of information light in a spiral structure is used as the filter layer, it is excellent in productivity and enables mass production of an optical recording medium at a low cost. The filter effect at 0 ° is good.
However, in this proposal, when the incident angle changes and the incident light is tilted by 10 ° or more, the selective reflection wavelength shifts, and the information light and the reference light pass through the filter layer and reach the reflection film and are reflected, It may cause noise. This phenomenon has a problem that it cannot be applied to incident light of a lens optical system in an ordinary optical recording medium of ± 10 ° or more that is narrowed by a lens.
When the incident angle is within 10 °, as shown in FIG. 3, the information light and the reference light 35 are all selectively reflected by the filter layer 6 and become return light. As shown, the information light and the reference light 35 are not all reflected by the filter layer 6, but slightly leak from the filter layer and reach the reflection film 2 as shown by the dotted line. The light is reflected and becomes reflected light 35a, which is mixed into the diffracted light and may cause noise.

したがって、選択反射層から、情報光及び参照光の光漏れが生じても、ノイズの発生を防止することが可能なホログラム型の光記録媒体を効率よく低コストに大量生産することは未だ実現されておらず、その速やかな提供が望まれているのが現状である。   Therefore, it is still possible to efficiently mass-produce a hologram type optical recording medium capable of preventing the generation of noise even when information light and reference light leak from the selective reflection layer. The current situation is that prompt provision is desired.

特開2002−123949号公報JP 2002-123949 A 特開平11−311936号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-311936 特開2004−265472号公報JP 2004-265472 A

本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、波長選択反射膜からなるフィルタ層から情報光及び参照光の光漏れが生じても、ノイズの発生を防止でき、高密度記録可能なホログラム型の光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく低コストで製造できる光記録媒体の製造方法、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the conventional problems and achieve the following objects. That is, the present invention provides a hologram type optical recording medium capable of preventing noise from occurring even when information light and reference light leak from a filter layer made of a wavelength selective reflection film, and capable of high-density recording, and the optical recording It is an object of the present invention to provide an optical recording medium manufacturing method capable of manufacturing a medium efficiently and at low cost, and an optical recording method and an optical reproducing method using the optical recording medium.

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
<1> 第一の基板と、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、フィルタ層と、光吸収層と、第二の基板とをこの順に有することを特徴とする光記録媒体である。
該<1>に記載の光記録媒体においては、第一の基板と、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、フィルタ層と、光吸収層と、第二の基板とをこの順に有することにより、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、記録又は再生時に用いられる情報光及び参照光、さらに再生光は、反射膜に到達しないので、反射面上での乱反射による拡散光が発生することを防ぐことができる。したがって、この拡散光によって生じるノイズが再生像に重畳されてCMOSセンサ又はCCD上で検出されることもなく、再生像が少なくともエラー訂正可能な程度に検出することができる。前記拡散光によるノイズ成分はホログラムの多重度が大きくなればなるほど大きな問題となる。つまり、多重度が大きくなればなるほど、例えば多重度が10以上になると、1つのホログラムからの回折効率が極めて小さくなり、拡散ノイズがあると再生像の検出が非常に困難となる。本発明によれば、このような困難性は除去することができ、今までにない高密度画像記録が実現できる。また、フィルタ層と第二の基板との間に光吸収層を形成したことにより、前記フィルタ層から漏れる記録光が吸収され、歪みのない再生像が再現される。
<2> 光吸収層が、350nm以上600nm未満のいずれかの波長の第一の光を吸収し、600〜900nmのいずれかの波長の第二の光を透過する前記<1>に記載の光記録媒体である。
<3> 光吸収層の組成物が、光吸収層の組成物が、色素及び顔料のいずれかを含み、該色素及び顔料が、シアニン色素、フタロシアニン色素、及びアゾ色素の少なくともいずれかを含む前記<1>から<2>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<4> 光吸収層の厚みが、0.1〜200μmである前記<1>から<3>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<5> 光吸収層が、第一の光に対する光透過率が、0.001〜50%であり、かつ第二の光に対する光透過率が、50〜100%である前記<1>から<4>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<6> 光吸収層と第二の基板との間に、ギャップ層を有する前記<1>から<5>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<7> 光吸収層及びギャップ層の合計厚みが、1〜200μmである前記<1>から<6>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<8> フィルタ層が、色材含有層、誘電体蒸着層及びコレステリック液晶層の少なくともいずれかからなる前記<1>から<7>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<9> フィルタ層が、コレステリック液晶層からなり、該コレステリック液晶層が、少なくともネマチック液晶化合物、及び光反応型カイラル化合物を含有する前記<1>から<8>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<10> 光反応型カイラル化合物が、キラル部位と、光反応性基とを有し、該キラル部位がイソソルビド化合物、イソマンニド化合物及びビナフトール化合物から選択される少なくとも1種である前記<9>に記載の光記録媒体である。
<11> 光反応性基が、光照射により炭素−炭素二重結合のトランスからシスへの異性化を生じる基である前記<10>に記載の光記録媒体である。
<12> コレステリック液晶層を、2層以上積層してなる前記<8>から<11>のいずれかに記載の光記録媒体である。
該<12>に記載の光記録媒体においては、コレステリック液晶層を2層以上積層することによって、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、照射光反射の角度依存性を解消することができる。
<13> コレステリック液晶層が、円偏光分離特性を有する前記<8>から<12>に記載の光記録媒体である。
<14> コレステリック液晶層における螺旋の回転方向が互いに同じである前記<8>から<13>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<15> コレステリック液晶層における選択反射中心波長が、互いに異なる前記<8>から<14>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<16> コレステリック液晶層における選択反射波長帯域が、連続的である前記<8>から<15>のいずれかに記載の光記録媒体である。
該<13>から<16>のいずれかに記載の光記録媒体においては、コレステリック液晶層が、円偏光分離特性を有し、螺旋の回転方向が互いに同じであり、選択反射中心波長が互いに異なり、選択反射波長帯域が連続的であることにより、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、照射光反射の角度依存性を解消でき、波長選択反射膜として好適に用いられる。
<17> フィルタ層が、第一の光を反射し、該第一の光と異なる第二の光を透過する前記<1>から<16>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<18> フィルタ層のλ〜λ/cos20°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が、40%以上である前記<1>から<17>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<19> フィルタ層のλ〜λ/cos40°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が、40%以上である前記<1>から<18>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<20> 第一の基板が、サーボピットパターンを有する前記<1>から<19>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<21> サーボピットパターン表面に、反射膜を有する前記<20>に記載の光記録媒体である。
<22> 反射膜が、金属反射膜である前記<21>に記載の光記録媒体である。
<23> 記録層とフィルタ層との間に、第二ギャップ層を有する前記<1>から<22>のいずれかに記載の光記録媒体である。
該<23>に記載の光記録媒体においては、前記第二ギャップ層を設けて、情報光及び再生光がフォーカシングするポイントを存在させることができる。このエリアをフォトポリマーで埋めていると過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こり多重記録能が下がってしまう。そこで、無反応で透明な第二ギャップ層を設けることが有効となる。
<24> フィルタ層が、ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられる前記<1>から<23>のいずれかに記載の光記録媒体である。
Means for solving the problems are as follows. That is,
<1> An optical recording medium comprising a first substrate, a recording layer for recording information using holography, a filter layer, a light absorption layer, and a second substrate in this order. .
The optical recording medium according to <1> includes a first substrate, a recording layer for recording information using holography, a filter layer, a light absorption layer, and a second substrate in this order. Therefore, even if the incident angle changes, the selective reflection wavelength does not shift, and the information light and the reference light used during recording or reproduction, and the reproduction light do not reach the reflection film. It is possible to prevent diffused light from being generated. Therefore, the noise generated by the diffused light is not superimposed on the reproduced image and detected on the CMOS sensor or CCD, but can be detected to the extent that the reproduced image can be corrected at least. The noise component due to the diffused light becomes a serious problem as the multiplicity of the hologram increases. That is, as the multiplicity increases, for example, when the multiplicity is 10 or more, the diffraction efficiency from one hologram becomes extremely small, and the presence of diffusion noise makes it very difficult to detect a reproduced image. According to the present invention, such difficulty can be eliminated, and unprecedented high-density image recording can be realized. Further, since the light absorption layer is formed between the filter layer and the second substrate, the recording light leaking from the filter layer is absorbed, and a reproduced image without distortion is reproduced.
<2> The light according to <1>, wherein the light absorption layer absorbs the first light having any wavelength of 350 nm or more and less than 600 nm and transmits the second light having any wavelength of 600 to 900 nm. It is a recording medium.
<3> The composition of the light absorption layer, the composition of the light absorption layer includes any one of a dye and a pigment, and the dye and the pigment include at least one of a cyanine dye, a phthalocyanine dye, and an azo dye. The optical recording medium according to any one of <1> to <2>.
<4> The optical recording medium according to any one of <1> to <3>, wherein the light absorption layer has a thickness of 0.1 to 200 μm.
<5> The light absorption layer has a light transmittance of 0.001 to 50% with respect to the first light and a light transmittance of 50 to 100% with respect to the second light. 4>. The optical recording medium according to any one of 4).
<6> The optical recording medium according to any one of <1> to <5>, wherein a gap layer is provided between the light absorption layer and the second substrate.
<7> The optical recording medium according to any one of <1> to <6>, wherein the total thickness of the light absorption layer and the gap layer is 1 to 200 μm.
<8> The optical recording medium according to any one of <1> to <7>, wherein the filter layer includes at least one of a colorant-containing layer, a dielectric vapor deposition layer, and a cholesteric liquid crystal layer.
<9> The optical recording medium according to any one of <1> to <8>, wherein the filter layer includes a cholesteric liquid crystal layer, and the cholesteric liquid crystal layer contains at least a nematic liquid crystal compound and a photoreactive chiral compound. It is.
<10> The <9>, wherein the photoreactive chiral compound has a chiral moiety and a photoreactive group, and the chiral moiety is at least one selected from an isosorbide compound, an isomannide compound, and a binaphthol compound. This is an optical recording medium.
<11> The optical recording medium according to <10>, wherein the photoreactive group is a group that causes isomerization of a carbon-carbon double bond from trans to cis by light irradiation.
<12> The optical recording medium according to any one of <8> to <11>, wherein two or more cholesteric liquid crystal layers are laminated.
In the optical recording medium according to <12>, by laminating two or more cholesteric liquid crystal layers, the angle dependency of reflected light is reduced without causing a shift in the selective reflection wavelength even when the incident angle is changed. Can be resolved.
<13> The optical recording medium according to <8> to <12>, wherein the cholesteric liquid crystal layer has circularly polarized light separation characteristics.
<14> The optical recording medium according to any one of <8> to <13>, wherein the rotation directions of the spirals in the cholesteric liquid crystal layer are the same.
<15> The optical recording medium according to any one of <8> to <14>, wherein the selective reflection center wavelengths in the cholesteric liquid crystal layer are different from each other.
<16> The optical recording medium according to any one of <8> to <15>, wherein the selective reflection wavelength band in the cholesteric liquid crystal layer is continuous.
In the optical recording medium according to any one of <13> to <16>, the cholesteric liquid crystal layer has a circularly polarized light separation property, the rotational directions of the spirals are the same, and the selective reflection center wavelengths are different from each other. Since the selective reflection wavelength band is continuous, the angle dependency of irradiation light reflection can be eliminated without causing a shift in the selective reflection wavelength even when the incident angle changes, and it can be suitably used as a wavelength selective reflection film. .
<17> The optical recording medium according to any one of <1> to <16>, wherein the filter layer reflects the first light and transmits a second light different from the first light.
<18> λ 0 ~λ 0 / cos20 ° filter layer (where, lambda 0 represents a wavelength of the irradiated light) light reflectance at the, wherein the 40% or more to any one of <1> to <17> This is an optical recording medium.
<19> λ 0 ~λ 0 / cos40 ° filter layer (where, lambda 0 represents a wavelength of the irradiated light) light reflectance at the, wherein the 40% or more to any one of <1> to <18> This is an optical recording medium.
<20> The optical recording medium according to any one of <1> to <19>, wherein the first substrate has a servo pit pattern.
<21> The optical recording medium according to <20>, wherein the servo pit pattern has a reflective film on the surface.
<22> The optical recording medium according to <21>, wherein the reflective film is a metal reflective film.
<23> The optical recording medium according to any one of <1> to <22>, wherein a second gap layer is provided between the recording layer and the filter layer.
In the optical recording medium described in <23>, the second gap layer may be provided to have a point where information light and reproduction light are focused. If this area is filled with a photopolymer, excessive consumption of monomers due to overexposure occurs, resulting in a decrease in multiple recording capability. Therefore, it is effective to provide a non-reactive and transparent second gap layer.
<24> The optical recording medium according to any one of <1> to <23>, wherein the filter layer is used as a selective reflection film of an optical recording medium that records information using holography.

<25> 基材上に、フィルタ層を積層してなることを特徴とする光記録媒体用フィルタである。
<26> フィルタ層が、色材含有層、誘電体蒸着層及びコレステリック液晶層の少なくともいずれかからなる前記<25>に記載の光記録媒体用フィルタである。
<27> フィルタ層が、コレステリック液晶層からなり、該コレステリック液晶層が、少なくともネマチック液晶化合物、及び光反応型カイラル化合物を含有する前記<25>から<26>のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
<28> 光反応型カイラル化合物が、キラル部位と、光反応性基とを有し、該キラル部位がイソソルビド化合物、イソマンニド化合物及びビナフトール化合物から選択される少なくとも1種である前記<27>に記載の光記録媒体用フィルタである。
<29> 光反応性基が、光照射により炭素−炭素二重結合のトランスからシスへの異性化を生じる基である前記<28>に記載の光記録媒体用フィルタである。
<30> コレステリック液晶層を、2層以上積層してなる前記<27>から<29>のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
<31> コレステリック液晶層が、円偏光分離特性を有する前記<27>から<30>に記載の光記録媒体用フィルタである。
<32> コレステリック液晶層における螺旋の回転方向が互いに同じである前記<27>から<31>のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
<33> コレステリック液晶層における選択反射中心波長が、互いに異なる前記<27>から<32>のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
<34> コレステリック液晶層における選択反射波長帯域が、連続的である前記<27>から<33>のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
<35> フィルタ層が、第一の光を反射し、該第一の光と異なる第二の光を透過する前記<25>から<34>のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
<36> フィルタ層のλ〜λ/cos20°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が、40%以上である前記<25>から<35>のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
<37> フィルタ層のλ〜λ/cos40°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が、40%以上である前記<25>から<35>のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
<38> ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられる前記<25>から<37>のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
<39> 光記録媒体に対する情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行なわれ、該情報光と該参照光との干渉により生成される干渉パターンによって情報が記録層に記録される前記<25>から<38>のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
<25> A filter for optical recording media, wherein a filter layer is laminated on a substrate.
<26> The optical recording medium filter according to <25>, wherein the filter layer includes at least one of a colorant-containing layer, a dielectric vapor deposition layer, and a cholesteric liquid crystal layer.
<27> The optical recording medium according to any one of <25> to <26>, wherein the filter layer includes a cholesteric liquid crystal layer, and the cholesteric liquid crystal layer contains at least a nematic liquid crystal compound and a photoreactive chiral compound. It is a filter for.
<28> The <27>, wherein the photoreactive chiral compound has a chiral moiety and a photoreactive group, and the chiral moiety is at least one selected from an isosorbide compound, an isomannide compound, and a binaphthol compound. This is a filter for optical recording media.
<29> The optical recording medium filter according to <28>, wherein the photoreactive group is a group that causes isomerization of a carbon-carbon double bond from trans to cis by light irradiation.
<30> The filter for optical recording media according to any one of <27> to <29>, wherein two or more cholesteric liquid crystal layers are laminated.
<31> The filter for optical recording media according to <27> to <30>, wherein the cholesteric liquid crystal layer has circularly polarized light separation characteristics.
<32> The filter for optical recording media according to any one of <27> to <31>, wherein the rotation directions of the spirals in the cholesteric liquid crystal layer are the same.
<33> The optical recording medium filter according to any one of <27> to <32>, wherein the selective reflection center wavelengths in the cholesteric liquid crystal layer are different from each other.
<34> The optical recording medium filter according to any one of <27> to <33>, wherein the selective reflection wavelength band in the cholesteric liquid crystal layer is continuous.
<35> The filter for optical recording media according to any one of <25> to <34>, wherein the filter layer reflects the first light and transmits the second light different from the first light. .
<36> λ 0 ~λ 0 / cos20 ° filter layer (where, lambda 0 represents a wavelength of the irradiated light) light reflectance at the, wherein the 40% or more from the <25> to any one of <35> This is a filter for optical recording media.
<37> λ 0 ~λ 0 / cos40 ° filter layer (where, lambda 0 represents a wavelength of the irradiated light) light reflectance at the, wherein the 40% or more from the <25> to any one of <35> This is a filter for optical recording media.
<38> The optical recording medium filter according to any one of <25> to <37>, which is used as a selective reflection film of an optical recording medium that records information using holography.
<39> Irradiation of the information light and the reference light to the optical recording medium is performed such that the optical axis of the information light and the optical axis of the reference light are coaxial, and interference between the information light and the reference light The filter for optical recording media according to any one of <25> to <38>, wherein information is recorded on the recording layer by the interference pattern generated by the method.

<40> 前記<1>から<24>のいずれかに記載の光記録媒体を製造する方法であって、第二の基板上に、光吸収層を積層する光吸収層積層工程と、該光吸収層上に、フィルタ層を形成するフィルタ層形成工程とを少なくとも含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
該<40>に記載の光記録媒体の製造方法においては、前記フィルタ層形成工程により、第二の基板上にコレステリック液晶層を積層した積層体からなるフィルタ層を形成する。その結果、塗布等の簡便な方法により、効率よく光記録媒体を低コストで大量生産することができる。
<41> コレステリック液晶層が2層以上からなるフィルタ層を形成するフィルタ層形成工程を含む前記<40>に記載の光記録媒体の製造方法である。
<40> A method for producing the optical recording medium according to any one of <1> to <24>, wherein a light absorption layer is laminated on a second substrate, and the light A method for producing an optical recording medium comprising at least a filter layer forming step of forming a filter layer on an absorption layer.
In the method for producing an optical recording medium according to <40>, a filter layer formed of a laminate in which a cholesteric liquid crystal layer is laminated on a second substrate is formed by the filter layer forming step. As a result, an optical recording medium can be efficiently mass-produced at a low cost by a simple method such as coating.
<41> The method for producing an optical recording medium according to <40>, including a filter layer forming step of forming a filter layer including two or more cholesteric liquid crystal layers.

<42> 前記<1>から<24>のいずれかに記載の光記録媒体に対し情報光及び参照光の照射を、前記情報光の光軸と前記参照光の光軸とが同軸になるようにして行い、前記情報光と前記参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録することを特徴とする光記録方法である。
該<42>に記載の光記録方法においては、本発明の光記録媒体を用いて、情報光及び参照光の照射が、前記情報光の光軸と前記参照光の光軸とが同軸になるようにして行われ、前記情報光と前記参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録することにより、今までにない高密度記録を実現することができる。
<42> When the optical recording medium according to any one of <1> to <24> is irradiated with information light and reference light, the optical axis of the information light and the optical axis of the reference light are coaxial. And recording information on a recording layer by an interference pattern due to interference between the information light and the reference light.
In the optical recording method according to <42>, the optical axis of the information light and the optical axis of the reference light are coaxially irradiated with the information light and the reference light using the optical recording medium of the present invention. In this way, by recording information on the recording layer with an interference pattern due to interference between the information light and the reference light, unprecedented high-density recording can be realized.

<43> 前記<42>に記載の光記録方法により記録層に記録された干渉パターンに、参照光と同じ再生光を照射して情報を再生することを特徴とする光再生方法である。
該<43>に記載の光再生方法においては、本発明の前記光記録方法により記録層に記録された干渉パターンを効率よく、正確に読み取って高密度記録情報を再生することができる。
<44> 再生光が、光記録媒体の記録に用いられた参照光と同じ角度になるようにして、該再生光を干渉パターンに照射して記録情報を再生する前記<43>に記載の光再生方法である。
<43> An optical reproduction method, wherein information is reproduced by irradiating the interference pattern recorded on the recording layer by the optical recording method according to <42> with the same reproduction light as the reference light.
In the optical reproduction method according to <43>, the interference pattern recorded on the recording layer by the optical recording method of the present invention can be efficiently and accurately read to reproduce high-density recorded information.
<44> The light according to <43>, wherein the reproduction information is reproduced at the same angle as the reference light used for recording on the optical recording medium, and the reproduction information is irradiated to the interference pattern to reproduce the recorded information. It is a playback method.

本発明によると、従来における諸問題を解決でき、波長選択反射膜からなるフィルタ層から情報光及び参照光の光漏れが生じても、ノイズの発生を防止でき、高密度記録可能なホログラム型の光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく低コストで製造できる光記録媒体の製造方法、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法を提供することができる。   According to the present invention, various problems in the prior art can be solved, and even if information light and reference light leak from a filter layer made of a wavelength selective reflection film, the generation of noise can be prevented and high-density recording is possible. It is possible to provide an optical recording medium, an optical recording medium manufacturing method capable of manufacturing the optical recording medium efficiently and at low cost, and an optical recording method and an optical reproducing method using the optical recording medium.

(光記録媒体)
本発明の光記録媒体は、第一の基板と、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、フィルタ層と、光吸収層と、第二の基板とをこの順に有し、必要に応じて適宜選択したその他の層を有する光記録媒体である。
(Optical recording medium)
The optical recording medium of the present invention has a first substrate, a recording layer for recording information using holography, a filter layer, a light absorption layer, and a second substrate in this order, and if necessary The optical recording medium has other layers appropriately selected.

<光吸収層>
前記光吸収層は、前記フィルタ層における波長選択反射が不充分で、反射しきれなかった光(図5の矢印部分)を吸収し、フィルタ層から漏れた光の回折光への混入を防止し、信号対雑音比(SN比)を高める機能がある。そのため、前記光吸収層の形成位置は、前記フィルタ層と前記第二の基板との間に形成することが好ましい。
<Light absorption layer>
The light absorption layer absorbs light (indicated by an arrow in FIG. 5) that has not been sufficiently reflected by the wavelength selective reflection at the filter layer, and prevents light leaking from the filter layer from being mixed into the diffracted light. There is a function to increase the signal-to-noise ratio (SN ratio). Therefore, it is preferable to form the light absorption layer between the filter layer and the second substrate.

前記光吸収層が吸収する光(以下、第一の光と称することがある)の波長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、波長は、350nm以上600nm未満が好ましく、400〜550nmがより好ましい。前記波長が、350nm未満であると、安定した吸収を持続するのが困難であり、600nm以上である場合も、安定した吸収を持続するのが困難である。
前記光吸収層は、波長600〜900nmの光(以下、第二の光と称することがある)を透過する性質も合わせ保有している。前記透過する光の波長としては、650〜850nmがより好ましい。
前記光吸収層の光透過率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記吸収する波長に対しては、平均透過率が、0.001〜50%が好ましく、0.01〜20%がより好ましい。前記平均光透過率が、0.001%未満であると、色材の量が増え長期安定性に欠けることがあり、50%を超えると、本発明の目的の光吸収機能が充分発揮できなくなることがある。
前記吸収する波長以外のトラッキングサーボ光の波長に対しては、平均透過率が、50〜100%が好ましく、60〜95%がより好ましい。前記光透過率が、50%未満であると、トラッキングサーボ光量が少なくなることがある。これらの数値限定範囲は、好ましい波長域全域についてではなく、記録再生やトラッキングサーボ光の波長についてのみが対象となる。
前記光透過率の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、大きさ2cm×2cm、厚み10μmの試験片を用いて、分光光度計により測定することができる。
前記光透過率の測定器としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、可視光線透過率測定器、分光光度計などが挙げられる。
There is no restriction | limiting in particular as a wavelength of the light (henceforth a 1st light) which the said light absorption layer absorbs, According to the objective, it can select suitably, For example, a wavelength is 350 nm or more and 600 nm Is preferably less than 400, more preferably 400 to 550 nm. When the wavelength is less than 350 nm, it is difficult to maintain stable absorption, and when it is 600 nm or more, it is difficult to maintain stable absorption.
The light absorption layer also has a property of transmitting light having a wavelength of 600 to 900 nm (hereinafter sometimes referred to as second light). The wavelength of the transmitted light is more preferably 650 to 850 nm.
There is no restriction | limiting in particular as the light transmittance of the said light absorption layer, According to the objective, it can select suitably, For example, the average transmittance is 0.001-50% with respect to the said wavelength to absorb. Preferably, 0.01 to 20% is more preferable. When the average light transmittance is less than 0.001%, the amount of the color material increases and the long-term stability may be lacking. When the average light transmittance exceeds 50%, the light absorption function of the object of the present invention cannot be sufficiently exhibited. Sometimes.
For the wavelength of the tracking servo light other than the wavelength to be absorbed, the average transmittance is preferably 50 to 100%, and more preferably 60 to 95%. If the light transmittance is less than 50%, the amount of tracking servo light may decrease. These numerical limit ranges are not limited to the entire preferable wavelength range but only for the wavelength of recording / reproducing and tracking servo light.
There is no restriction | limiting in particular as the measuring method of the said light transmittance, According to the objective, it can select suitably, For example, it measures with a spectrophotometer using a test piece of size 2cm x 2cm and thickness 10micrometer. Can do.
The light transmittance measuring device is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include a visible light transmittance measuring device and a spectrophotometer.

前記光吸収層の組成物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、色素、顔料などの色材、更に必要に応じて、バインダーなどのその他の成分が挙げられる。
前記色材としては、フタロシアニン色素、シアニン色素、アゾ色素、キノフタロン色素、フラバントロン色素、アントラキノン色素、イソインドリン色素、ペリレン色素、マンガン色素などが挙げられる。これらの中でも、フタロシアニン色素、シアニン色素、アゾ色素などが好ましい。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。また、既に着色された市販のスクリーン印刷インキなども好ましい。前記市販のスクリーン印刷インキとしては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができるが、UV印刷インキ(「DAICURE SSD TF106 PINK」;大日本インキ株式会社製)、などが挙げられる。
前記バインダーとしては、例えば、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂;ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物、などの合成有機高分子を挙げることができる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
前記バインダーを光吸収層に添加する場合、その添加量としては、前記色材100質量部に対して、一般的には20質量部以下であり、10質量部以下が好ましく、5質量部以下がより好ましい。
また、前記その他の成分として、前記光吸収層形成用の塗布液には、必要に応じて、退色防止剤、結合剤を添加してもよいし、更に、目的に応じて、酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を添加してもよい。
前記退色防止剤としては、例えば、ニトロソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩が挙げられる。これらの例は、例えば、特開平2−300288号、同3−224793号、及び同4−146189号等の各公報に記載されている。
There is no restriction | limiting in particular as a composition of the said light absorption layer, According to the objective, it can select suitably, For example, coloring materials, such as a pigment | dye and a pigment, Furthermore, other components, such as a binder, are mentioned as needed. It is done.
Examples of the coloring material include phthalocyanine dyes, cyanine dyes, azo dyes, quinophthalone dyes, flavantron dyes, anthraquinone dyes, isoindoline dyes, perylene dyes, manganese dyes, and the like. Of these, phthalocyanine dyes, cyanine dyes, azo dyes and the like are preferable. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, commercially available screen printing inks that are already colored are also preferred. The commercially available screen printing ink is not particularly limited and may be appropriately selected from known ones. Examples thereof include UV printing ink ("DAICURE SSD TF106 PINK"; manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.). .
Examples of the binder include natural organic polymer materials such as gelatin, cellulose derivatives, dextran, rosin, and rubber; hydrocarbon resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, and polyisobutylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, and polychlorinated chloride. Vinyl resins such as vinyl / polyvinyl acetate copolymers; acrylic resins such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate; polyvinyl alcohol, chlorinated polyethylene, epoxy resins, butyral resins, rubber derivatives, phenol / formaldehyde resins, etc. Examples thereof include synthetic organic polymers such as an initial condensate of a thermosetting resin. These may be used alone or in combination of two or more.
When the binder is added to the light-absorbing layer, the amount added is generally 20 parts by mass or less, preferably 10 parts by mass or less, and preferably 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the coloring material. More preferred.
Further, as the other components, the light absorbing layer forming coating solution may be added with an anti-fading agent and a binder, if necessary, and, depending on the purpose, an antioxidant, Various additives such as a UV absorber, a plasticizer, and a lubricant may be added.
Examples of the anti-fading agent include nitroso compounds, metal complexes, diimmonium salts, and aminium salts. Examples of these are described in, for example, JP-A-2-300288, JP-A-3-224793, and JP-A-4-146189.

前記光吸収層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、0.1〜200μmが好ましく、1〜100μmがより好ましく、2〜40μmが特に好ましい。
前記ギャップ層(後述する第一ギャップ層)を、該光吸収層と第二の基板との間に形成する場合には、前記光吸収層及び前記ギャップ層との合計厚みが、1〜200μmが好ましく、5〜150μmがより好ましく、10〜100μmが特に好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said light absorption layer, According to the objective, it can select suitably, For example, 0.1-200 micrometers is preferable, 1-100 micrometers is more preferable, and 2-40 micrometers is especially preferable.
When the gap layer (first gap layer described later) is formed between the light absorption layer and the second substrate, the total thickness of the light absorption layer and the gap layer is 1 to 200 μm. Preferably, 5-150 μm is more preferable, and 10-100 μm is particularly preferable.

<フィルタ層>
前記フィルタ層は、複数種の光線の中から特定の波長の光のみを反射する、波長選択反射機能を有する。特に、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止する機能もあり、前記光記録媒体に前記フィルタ層を積層することにより、高解像度、回折効率の優れた光記録が得られる。
前記フィルタ層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ダイクロイックミラー層、色材含有層を有し、誘電体蒸着層、単層又は2層以上のコレステリック層及び必要に応じて適宜選択したその他の層の少なくともいずれかを積層した積層体により形成される。前記フィルタ層は、色材含有層、誘電体蒸着層及びコレステリック液晶層の少なくともいずれかからなることが好ましい。
前記フィルタ層は、直接記録層など共に、基板上に塗布などにより積層してもよく、フィルムなどの基材上に積層して光記録媒体用フィルタを作製し、該光記録媒体用フィルタを、基板上に積層してもよい。
<Filter layer>
The filter layer has a wavelength selective reflection function of reflecting only light of a specific wavelength from among a plurality of types of light rays. In particular, the selective reflection wavelength does not shift even when the incident angle changes, and the function of preventing irregular reflection from the reflection film of the optical recording medium by the information light and the reference light, and also preventing the occurrence of noise. By laminating the filter layer on the recording medium, optical recording with high resolution and excellent diffraction efficiency can be obtained.
The filter layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, the filter layer has a dichroic mirror layer, a color material-containing layer, a dielectric vapor deposition layer, a single layer, or two or more cholesteric layers. And it forms with the laminated body which laminated | stacked at least any one of the other layer suitably selected as needed. The filter layer is preferably composed of at least one of a colorant-containing layer, a dielectric vapor deposition layer, and a cholesteric liquid crystal layer.
The filter layer may be laminated together with a direct recording layer or the like on a substrate by coating or the like, and is laminated on a substrate such as a film to produce an optical recording medium filter. It may be laminated on a substrate.

−ダイクロイックミラー層−
前記ダイクロイックミラー層は、波長選択反射膜とするためには、複数層積層することが好ましい。前記積層数は、1〜50層が好ましく、2〜40層がより好ましく、2〜30層が特に好ましい。前記積層数が、50層を超えると、多層蒸着により生産効率性が低下し、分光透過率特性の変化が小さくなり層数を増加するだけの効果は小さくなる。
-Dichroic mirror layer-
The dichroic mirror layer is preferably laminated in a plurality of layers to be a wavelength selective reflection film. The number of stacked layers is preferably 1 to 50 layers, more preferably 2 to 40 layers, and particularly preferably 2 to 30 layers. When the number of stacked layers exceeds 50 layers, production efficiency decreases due to multi-layer deposition, the change in spectral transmittance characteristics decreases, and the effect of increasing the number of layers decreases.

前記ダイクロイックミラー層の積層方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イオンプレーティング、イオンビーム等の真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相成長法(PVD法)、化学的気相成長法(CVD法)、などが挙げられる。これらの中でも、真空蒸着法、スパッタリングが好ましく、スパッタリングがより好ましい。
前記スパッタリングとしては、成膜レートの高いDCスパッタリング法が好ましい。なお、DCスパッタリング法においては、導電性が高い材料を用いることが好ましい。
また、前記スパッタリングにより多層成膜する方法としては、例えば、(1)1つのチャンバで複数のターゲットから交互又は順番に成膜する1チャンバ法、(2)複数のチャンバで連続的に成膜するマルチチャンバ法とがある。これらの中でも、生産性及び材料コンタミネーションを防ぐ観点から、マルチチャンバ法が特に好ましい。
前記ダイクロイックミラー層の厚みとしては、光学波長オーダーで、λ/16〜λの膜厚が好ましく、λ/8〜3λ/4がより好ましく、λ/6〜3λ/8がより好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as a lamination | stacking method of the said dichroic mirror layer, According to the objective, it can select suitably, For example, physical vapor deposition methods (Vapor deposition methods, such as ion plating and an ion beam, sputtering) ( PVD method), chemical vapor deposition method (CVD method), and the like. Among these, vacuum deposition and sputtering are preferable, and sputtering is more preferable.
As the sputtering, a DC sputtering method having a high film formation rate is preferable. In the DC sputtering method, it is preferable to use a material having high conductivity.
In addition, as a method for forming a multilayer film by sputtering, for example, (1) a one-chamber method in which a plurality of targets are alternately or sequentially formed in one chamber, and (2) continuous film formation in a plurality of chambers. There is a multi-chamber method. Among these, the multi-chamber method is particularly preferable from the viewpoint of preventing productivity and material contamination.
The thickness of the dichroic mirror layer is preferably λ / 16 to λ, more preferably λ / 8 to 3λ / 4, and more preferably λ / 6 to 3λ / 8 in the optical wavelength order.

−色材含有層−
前記色材含有層は、色材、バインダー樹脂、溶剤及び必要に応じてその他の成分により形成される。
-Color material-containing layer-
The color material-containing layer is formed of a color material, a binder resin, a solvent, and other components as necessary.

前記色材としては、顔料及び染料の少なくともいずれかが好適に挙げられ、これらの中でも、532nmの光を吸収し、655nm若しくは780nmのサーボ光を透過させる観点から、赤色染料、赤色顔料が好ましく、赤色顔料が特に好ましい。   As the coloring material, at least one of a pigment and a dye is preferably exemplified, and among these, a red dye and a red pigment are preferable from the viewpoint of absorbing light at 532 nm and transmitting servo light at 655 nm or 780 nm, Red pigments are particularly preferred.

前記赤色染料としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、C.I.アシッドレッド1、C.I.アシッドレッド8、C.I.アシッドレッド13、C.I.アシッドレッド14、C.I.アシッドレッド18、C.I.アシッドレッド26、C.I.アシッドレッド27、C.I.アシッドレッド35、C.I.アシッドレッド37、C.I.アシッドレッド42、C.I.アシッドレッド52、C.I.アシッドレッド82、C.I.アシッドレッド87、C.I.アシッドレッド89、C.I.アシッドレッド92、C.I.アシッドレッド97、C.I.アシッドレッド106、C.I.アシッドレッド111、C.I.アシッドレッド114、C.I.アシッドレッド115、C.I.アシッドレッド134、C.I.アシッドレッド186、C.I.アシッドレッド249、C.I.アシッドレッド254、C.I.アシッドレッド289等の酸性染料;C.I.ベーシックレッド2、C.I.ベーシックレッド12、C.I.ベーシックレッド13、C.I.ベーシックレッド14、C.I.ベーシックレッド15、C.I.ベーシックレッド18、C.I.ベーシックレッド22、C.I.ベーシックレッド23、C.I.ベーシックレッド24、C.I.ベーシックレッド27、C.I.ベーシックレッド29、C.I.ベーシックレッド35、C.I.ベーシックレッド36、C.I.ベーシックレッド38、C.I.ベーシックレッド39、C.I.ベーシックレッド46、C.I.ベーシックレッド49、C.I.ベーシックレッド51、C.I.ベーシックレッド52、C.I.ベーシックレッド54、C.I.ベーシックレッド59、C.I.ベーシックレッド68、C.I.ベーシックレッド69、C.I.ベーシックレッド70、C.I.ベーシックレッド73、C.I.ベーシックレッド78、C.I.ベーシックレッド82、C.I.ベーシックレッド102、C.I.ベーシックレッド104、C.I.ベーシックレッド109、C.I.ベーシックレッド112等の塩基性染料;C.I.リアクティブレッド1、リアクティブレッド14、リアクティブレッド17、リアクティブレッド25、リアクティブレッド26、リアクティブレッド32、リアクティブレッド37、リアクティブレッド44、リアクティブレッド46、リアクティブレッド55、リアクティブレッド60、リアクティブレッド66、リアクティブレッド74、リアクティブレッド79、リアクティブレッド96、リアクティブレッド97等の反応性染料、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   There is no restriction | limiting in particular as said red dye, According to the objective, it can select suitably from well-known things, for example, C.I. I. Acid Red 1, C.I. I. Acid Red 8, C.I. I. Acid Red 13, C.I. I. Acid Red 14, C.I. I. Acid Red 18, C.I. I. Acid Red 26, C.I. I. Acid Red 27, C.I. I. Acid Red 35, C.I. I. Acid Red 37, C.I. I. Acid Red 42, C.I. I. Acid Red 52, C.I. I. Acid Red 82, C.I. I. Acid Red 87, C.I. I. Acid Red 89, C.I. I. Acid Red 92, C.I. I. Acid Red 97, C.I. I. Acid Red 106, C.I. I. Acid Red 111, C.I. I. Acid Red 114, C.I. I. Acid Red 115, C.I. I. Acid Red 134, C.I. I. Acid Red 186, C.I. I. Acid Red 249, C.I. I. Acid Red 254, C.I. I. Acid dyes such as Acid Red 289; C.I. I. Basic Red 2, C.I. I. Basic Red 12, C.I. I. Basic Red 13, C.I. I. Basic Red 14, C.I. I. Basic Red 15, C.I. I. Basic Red 18, C.I. I. Basic Red 22, C.I. I. Basic Red 23, C.I. I. Basic Red 24, C.I. I. Basic Red 27, C.I. I. Basic Red 29, C.I. I. Basic Red 35, C.I. I. Basic Red 36, C.I. I. Basic Red 38, C.I. I. Basic Red 39, C.I. I. Basic Red 46, C.I. I. Basic Red 49, C.I. I. Basic Red 51, C.I. I. Basic Red 52, C.I. I. Basic Red 54, C.I. I. Basic Red 59, C.I. I. Basic Red 68, C.I. I. Basic Red 69, C.I. I. Basic Red 70, C.I. I. Basic Red 73, C.I. I. Basic Red 78, C.I. I. Basic Red 82, C.I. I. Basic Red 102, C.I. I. Basic Red 104, C.I. I. Basic Red 109, C.I. I. Basic dyes such as Basic Red 112; I. Reactive Red 1, Reactive Red 14, Reactive Red 17, Reactive Red 25, Reactive Red 26, Reactive Red 32, Reactive Red 37, Reactive Red 44, Reactive Red 46, Reactive Red 55, And reactive dyes such as reactive red 60, reactive red 66, reactive red 74, reactive red 79, reactive red 96, reactive red 97, and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

前記赤色顔料としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、C.I.ピグメントレッド9、C.I.ピグメントレッド97、C.I.ピグメントレッド122、C.I.ピグメントレッド123、C.I.ピグメントレッド149、C.I.ピグメントレッド168、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピグメントレッド180、C.I.ピグメントレッド192、C.I.ピグメントレッド209、C.I.ピグメントレッド215、C.I.ピグメントレッド216、C.I.ピグメントレッド217、C.I.ピグメントレッド220、C.I.ピグメントレッド223、C.I.ピグメントレッド224、C.I.ピグメントレッド226、C.I.ピグメントレッド227、C.I.ピグメントレッド228、C.I.ピグメントレッド240、C.I.ピグメントレッド48:1、パーマネント・カーミンFBB(C.I.ピグメントレッド146)、パーマネント・ルビーFBH(C.I.ピグメントレッド11)、ファステル・ピンクBスプラ(C.I.ピグメントレッド81)、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   There is no restriction | limiting in particular as said red pigment, According to the objective, it can select suitably from well-known things, for example, C.I. I. Pigment red 9, C.I. I. Pigment red 97, C.I. I. Pigment red 122, C.I. I. Pigment red 123, C.I. I. Pigment red 149, C.I. I. Pigment red 168, C.I. I. Pigment red 177, C.I. I. Pigment red 180, C.I. I. Pigment red 192, C.I. I. Pigment red 209, C.I. I. Pigment red 215, C.I. I. Pigment red 216, C.I. I. Pigment red 217, C.I. I. Pigment red 220, C.I. I. Pigment red 223, C.I. I. Pigment red 224, C.I. I. Pigment red 226, C.I. I. Pigment red 227, C.I. I. Pigment red 228, C.I. I. Pigment red 240, C.I. I. Pigment Red 48: 1, Permanent Carmine FBB (CI Pigment Red 146), Permanent Ruby FBH (CI Pigment Red 11), Fastel Pink B Splash (CI Pigment Red 81), etc. Is mentioned. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

これらの中でも、532nmの光に対する透過率が10%以下であり、かつ655nmの光に対する透過率が90%以上である透過スペクトルを示す赤色顔料が特に好ましく用いられる。   Among these, a red pigment exhibiting a transmission spectrum in which the transmittance for 532 nm light is 10% or less and the transmittance for 655 nm light is 90% or more is particularly preferably used.

前記色材の含有量としては、前記色材含有層の全固形質量に対し0.05〜90質量%が好ましく、0.1〜70質量%がより好ましい。前記含有量が0.05質量%未満であると、色材含有層の厚みが500μm以上必要となってしまうことがあり、90質量%を超えると、色材含有層の自己支持性がなくなり、色材含有層の作製工程中に膜が崩れてしまうことがある。   As content of the said color material, 0.05-90 mass% is preferable with respect to the total solid mass of the said color material content layer, and 0.1-70 mass% is more preferable. When the content is less than 0.05% by mass, the thickness of the color material-containing layer may be required to be 500 μm or more, and when it exceeds 90% by mass, the self-supporting property of the color material-containing layer is lost. The film may collapse during the color material-containing layer manufacturing process.

−バインダー樹脂−
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール樹脂、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体;塩化ビニル、酢酸ビニルとビニルアルコール、マレイン酸及びアクリル酸の少なくともいずれかとの共重合体;塩化ビニル/塩化ビニリデン共重合体;塩化ビニル/アクリロニロリル共重合体;エチレン/酢酸ビニル共重合体;ニトロセルロース樹脂等のセルロース誘導体;ポリアクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
また、分散性及び耐久性を更に高めるため、以上に挙げたバインダー樹脂分子中に、極性基(エポキシ基、COH、OH、NH、SOM、OSOM、PO、OPO(ただし、Mは水素原子、アルカリ金属、又はアンモニウムであり、一つの基の中に複数のMがあるときは互いに異なっていてもよい)を導入したものが好ましい。該極性基の含有量としては、バインダー樹脂1グラム当り10−6〜10−4当量が好ましい。
以上列挙したバインダー樹脂は、イソシアネート系の公知の架橋剤を添加して硬化処理されることが好ましい。
-Binder resin-
There is no restriction | limiting in particular as said binder resin, According to the objective, it can select suitably according to the objective, For example, polyvinyl alcohol resin, a vinyl chloride / vinyl acetate copolymer; Vinyl chloride, vinyl acetate, and vinyl alcohol Copolymer with at least one of styrene, maleic acid and acrylic acid; vinyl chloride / vinylidene chloride copolymer; vinyl chloride / acrylonylyl copolymer; ethylene / vinyl acetate copolymer; cellulose derivative such as nitrocellulose resin; Examples thereof include resins, polyvinyl acetal resins, polyvinyl butyral resins, epoxy resins, phenoxy resins, polyurethane resins, and polycarbonate resins. These may be used alone or in combination of two or more.
Further, in order to further improve dispersibility and durability, the binder resin molecules listed above include polar groups (epoxy groups, CO 2 H, OH, NH 2 , SO 3 M, OSO 3 M, PO 3 M 2 , Those having introduced OPO 3 M 2 (wherein M is a hydrogen atom, an alkali metal, or ammonium and may be different from each other when a plurality of M are present in one group) are preferred. The content of is preferably 10 −6 to 10 −4 equivalent per gram of binder resin.
The binder resins listed above are preferably cured by adding an isocyanate-based known crosslinking agent.

前記バインダー樹脂の含有量としては、前記色材含有層の全固形質量に対し10〜99.95質量%が好ましく、30〜99.9質量%がより好ましい。   As content of the said binder resin, 10-99.95 mass% is preferable with respect to the total solid mass of the said color material content layer, and 30-99.9 mass% is more preferable.

前記各成分は、適当な溶媒に溶解乃至は分散し、塗布液に調製し、この塗布液を所望の塗布方法により後述する基材上に塗布することにより、色材含有層を形成することができる。
前記溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水、3−メトキシプロピオン酸メチルエステル、3−メトキシプロピオン酸エチルエステル、3−メトキシプロピオン酸プロピルエステル、3−エトキシプロピオン酸メチルエステル、3−エトキシプロピオン酸エチルエステル、3−エトキシプロピオン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類;2−メトキシプロピルアセテート、2−エトキシプロピルアセテート、3−メトキシブチルアセテート等のアルコキシアルコールのエステル類;乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類;γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、テトラヒドロフラン、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
Each of the above components is dissolved or dispersed in an appropriate solvent, prepared as a coating solution, and this coating solution is applied onto a substrate described later by a desired coating method to form a color material-containing layer. it can.
The solvent is not particularly limited and may be appropriately selected from known solvents according to the purpose. Examples thereof include water, 3-methoxypropionic acid methyl ester, 3-methoxypropionic acid ethyl ester, and 3-methoxypropion. Alkoxypropionic acid esters such as acid propyl ester, 3-ethoxypropionic acid methyl ester, 3-ethoxypropionic acid ethyl ester, 3-ethoxypropionic acid propyl ester; 2-methoxypropyl acetate, 2-ethoxypropyl acetate, 3-methoxy Esters of alkoxy alcohols such as butyl acetate; Lactic acid esters such as methyl lactate and ethyl lactate; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone and methylcyclohexanone; γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone Dimethyl sulfoxide, chloroform, tetrahydrofuran, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

前記塗布方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法、などが挙げられる。   The coating method is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, the inkjet method, spin coating method, kneader coating method, bar coating method, blade coating method, casting method, dip method, curtain And coating method.

前記色材含有層の厚みは、例えば、0.5〜200μmが好ましく、1.0〜100μmがより好ましい。前記厚みが、0.5μm未満であると、色材を包んで膜とするためのバインダー樹脂を十分な量添加することができなくなることがあり、200μmを超えると、フィルタの厚みが大きくなりすぎて、照射光及びサーボ光の光学系として過大なものが必要になることがある。   The thickness of the color material-containing layer is, for example, preferably 0.5 to 200 μm, and more preferably 1.0 to 100 μm. When the thickness is less than 0.5 μm, it may not be possible to add a sufficient amount of a binder resin for wrapping the color material to form a film. When the thickness exceeds 200 μm, the thickness of the filter becomes too large. Thus, an excessively large optical system for irradiation light and servo light may be required.

−誘電体蒸着層−
前記誘電体蒸着層は、前記色材含有層上に形成され、互いに屈折率の異なる誘電体薄層を複数層積層してなり、波長選択反射膜とするためには、高屈折率の誘電体薄層と低屈折率の誘電体薄層とを交互に複数層積層することが好ましいが、2種以上に限定されず、それ以上の種類であってもよい。
前記積層数は、2〜20層が好ましく、2〜12層がより好ましく、4〜10層が更に好ましく、6〜8層が特に好ましい。前記積層数が、20層を超えると、多層蒸着により生産効率性が低下し、本発明の目的及び効果を達成できなくなることがある。
-Dielectric deposition layer-
The dielectric vapor-deposited layer is formed on the colorant-containing layer, and is formed by laminating a plurality of thin dielectric layers having different refractive indexes. In order to obtain a wavelength selective reflection film, a dielectric material having a high refractive index is used. It is preferable to laminate a plurality of thin layers and low-refractive-index dielectric thin layers alternately, but the number of layers is not limited to two or more and may be more.
The number of stacked layers is preferably 2 to 20 layers, more preferably 2 to 12 layers, still more preferably 4 to 10 layers, and particularly preferably 6 to 8 layers. If the number of stacked layers exceeds 20, the production efficiency may decrease due to multi-layer deposition, and the objects and effects of the present invention may not be achieved.

前記誘電体薄層の積層順については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、隣接する膜の屈折率が高い場合にはそれより低い屈折率の膜を最初に積層する。その逆に隣接する層の屈折率が低い場合にはそれより高い屈折率の膜を最初に積層する。前記屈折率が高いか低いかを決めるしきい値としては1.8が好ましい。なお、屈折率が高いか低いかは絶対的なものではなく、高屈折率の材料の中でも、相対的に屈折率の大きいものと小さいものとが存在してもよく、これらを交互に使用してもよい。   The stacking order of the dielectric thin layers is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, when the refractive index of an adjacent film is high, a film having a lower refractive index is first selected. Laminate. Conversely, when the refractive index of the adjacent layer is low, a film having a higher refractive index is first laminated. The threshold value for determining whether the refractive index is high or low is preferably 1.8. Note that whether the refractive index is high or low is not absolute. Among high-refractive-index materials, there may be a material with a relatively high refractive index and a material with a relatively low refractive index, which are used alternately. May be.

前記高屈折率の誘電体薄層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Sb、Sb、Bi、CeO、CeF、HfO、La、Nd、Pr11、Sc、SiO、Ta、TiO、TlCl、Y、ZnSe、ZnS、ZrO、などが挙げられる。これらの中でも、Bi、CeO、CeF、HfO、SiO、Ta、TiO、Y、ZnSe、ZnS、ZrOが好ましく、これらの中でも、SiO、Ta、TiO、Y、ZnSe、ZnS、ZrOがより好ましい。 The material for the high refractive index dielectric thin layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, Sb 2 O 3 , Sb 2 S 3 , Bi 2 O 3 , CeO 2 , CeF 3 , HfO 2 , La 2 O 3 , Nd 2 O 3 , Pr 6 O 11 , Sc 2 O 3 , SiO, Ta 2 O 5 , TiO 2 , TlCl, Y 2 O 3 , ZnSe, ZnS, ZrO 2 , Etc. Among these, Bi 2 O 3 , CeO 2 , CeF 3 , HfO 2 , SiO, Ta 2 O 5 , TiO 2 , Y 2 O 3 , ZnSe, ZnS, ZrO 2 are preferable, and among these, SiO, Ta 2 O 5 , TiO 2 , Y 2 O 3 , ZnSe, ZnS, and ZrO 2 are more preferable.

前記低屈折率の誘電体薄層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Al、BiF、CaF、LaF、PbCl、PbF、LiF、MgF、MgO、NdF、SiO、Si、NaF、ThO、ThF、などが挙げられる。これらの中でも、Al、BiF、CaF、MgF、MgO、SiO、Siが好ましく、これらの中でも、Al、CaF、MgF、MgO、SiO、Siがより好ましい。
なお、前記誘電体薄層の材料においては、原子比についても特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、成膜時に雰囲気ガス濃度を変えることにより、原子比を調整することができる。
The material for the low refractive index dielectric thin layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, Al 2 O 3 , BiF 3 , CaF 2 , LaF 3 , PbCl 2 , PbF 2 , LiF, MgF 2 , MgO, NdF 3 , SiO 2 , Si 2 O 3 , NaF, ThO 2 , ThF 4 , and the like. Among these, Al 2 O 3 , BiF 3 , CaF 2 , MgF 2 , MgO, SiO 2 , Si 2 O 3 are preferable, and among these, Al 2 O 3 , CaF 2 , MgF 2 , MgO, SiO 2 , Si 2 O 3 is more preferable.
The material of the dielectric thin layer is not particularly limited as to the atomic ratio, and can be appropriately selected according to the purpose. The atomic ratio can be adjusted by changing the atmospheric gas concentration during film formation. it can.

前記誘電体薄層の積層方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記ダイクロイックミラー層の積層に用いた積層方法と同様の方法を用いることができる。
前記誘電体薄層の厚みとしては、光学波長オーダーで、λ/16〜λの膜厚が好ましく、λ/8〜3λ/4がより好ましく、λ/6〜3λ/8がより好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as a lamination | stacking method of the said dielectric material thin layer, According to the objective, it can select suitably, For example, the method similar to the lamination | stacking method used for lamination | stacking of the said dichroic mirror layer can be used.
The thickness of the dielectric thin layer is preferably λ / 16 to λ, more preferably λ / 8 to 3λ / 4, and more preferably λ / 6 to 3λ / 8 in the optical wavelength order.

前記誘電体蒸着層においては、該誘電体蒸着層中を伝播する光の一部が、各誘電体薄層毎に多重反射し、それらの反射光が干渉するため、誘電体薄層の厚さと光に対する膜の屈折率との積で決まる波長の光のみが選択的に透過されることになる。また、誘電体蒸着層の中心透過波長は入射光に対して角度依存性を有しており、入射光を変化させると透過波長を変えることができる。
ただし、前記誘電体蒸着層の積層数を20層以下としたことにより、数%〜数十%の選択反射波長光がフィルタを漏れて透過するが、該漏れ光を前記誘電体蒸着層の直下に仕込んだ色材含有層で吸収してしまう。なお、前記色材含有層は赤色顔料や赤色染料を含んでいるので、350nm以上600nm未満の光は吸収するが、サーボ光として使用する600〜900nmの光は透過する。
前記色材含有層と前記誘電体蒸着層とを有する光記録媒体用フィルタの機能は、第一の光を反射し、該第一の光と異なる第二の光を透過することが好ましく、前記第一の光の波長が350nm以上600nm未満であり、かつ第二の光の波長が600〜900nmであることが好ましい。そのためには、光学系側から見て、記録層、誘電体蒸着層、色材含有層、及びサーボビットパターンの順に積層されている構造の光記録媒体であることが好ましい。
In the dielectric vapor deposition layer, a part of the light propagating in the dielectric vapor deposition layer is multiple-reflected for each dielectric thin layer, and the reflected light interferes with each other. Only light having a wavelength determined by the product of the refractive index of the film with respect to the light is selectively transmitted. Further, the central transmission wavelength of the dielectric vapor deposition layer has an angle dependency with respect to the incident light, and the transmission wavelength can be changed by changing the incident light.
However, when the number of laminated layers of the dielectric vapor deposition layer is 20 or less, several% to several tens of% selective reflection wavelength light leaks through the filter and passes through the filter. It is absorbed by the color material-containing layer charged in. Since the color material-containing layer contains a red pigment or a red dye, it absorbs light of 350 nm or more and less than 600 nm, but transmits light of 600 to 900 nm used as servo light.
The function of the filter for an optical recording medium having the color material-containing layer and the dielectric vapor-deposited layer preferably reflects the first light and transmits the second light different from the first light. It is preferable that the wavelength of the first light is 350 nm or more and less than 600 nm, and the wavelength of the second light is 600 to 900 nm. For this purpose, it is preferable that the optical recording medium has a structure in which a recording layer, a dielectric deposition layer, a color material-containing layer, and a servo bit pattern are laminated in this order as viewed from the optical system side.

また、前記フィルタ層は、入射角度±40°における、655nmでの光透過率が50%以上であり、80%以上が好ましく、かつ532nmでの光反射率が30%以上であり、40%以上が好ましい。   The filter layer has a light transmittance at 655 nm of 50% or more, preferably 80% or more, and a light reflectance at 532 nm of 30% or more and 40% or more at an incident angle of ± 40 °. Is preferred.

−コレステリック液晶層−
前記コレステリック液晶層は、少なくともネマチック液晶化合物、及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
-Cholesteric liquid crystal layer-
The cholesteric liquid crystal layer contains at least a nematic liquid crystal compound and a chiral compound, and contains a polymerizable monomer and, if necessary, other components.

前記コレステリック液晶層は、1層でもよく、2層以上が積層されていてもよい。該2層以上の積層数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、2〜10層が好ましい。前記積層数が10層を超えると、却って塗布による生産効率性が低下し、本発明の目的及び効果を達成できなくなることがある。   The cholesteric liquid crystal layer may be a single layer, or two or more layers may be laminated. There is no restriction | limiting in particular as the number of lamination | stacking of this 2 or more layers, According to the objective, it can select suitably, For example, 2-10 layers are preferable. On the other hand, when the number of laminated layers exceeds 10, the production efficiency by coating may decrease, and the object and effect of the present invention may not be achieved.

前記コレステリック液晶層としては、円偏光分離機能を有するものが好ましい。前記円偏光分離機能を有するコレステリック液晶層は、液晶の螺旋の回転方向(右回り又は左回り)と円偏光方向とが一致し、波長が液晶の螺旋ピッチであるような円偏光成分の光だけを反射する選択反射特性を有する。このコレステリック液晶層の選択反射特性を利用して、一定の波長帯域の自然光から特定波長の円偏光のみを透過分離し、その残りを反射する。
したがって、前記各コレステリック液晶層は、第一の光を反射し、該第一の光と異なる第二の光を透過することが好ましく、前記第一の光の波長が350nm以上600nm未満であり、かつ前記第二の光の波長が600〜900nmであることが好ましい。
The cholesteric liquid crystal layer preferably has a circularly polarized light separation function. The cholesteric liquid crystal layer having the function of separating circularly polarized light has only a circularly polarized light component in which the rotation direction (clockwise or counterclockwise) of the liquid crystal is coincident with the circular polarization direction and the wavelength is the helical pitch of the liquid crystal. Has a selective reflection characteristic of reflecting the light. Using the selective reflection characteristics of the cholesteric liquid crystal layer, only circularly polarized light having a specific wavelength is transmitted and separated from natural light in a certain wavelength band, and the rest is reflected.
Therefore, each of the cholesteric liquid crystal layers preferably reflects the first light and transmits the second light different from the first light, and the wavelength of the first light is 350 nm or more and less than 600 nm, And it is preferable that the wavelength of said 2nd light is 600-900 nm.

前記コレステリック液晶層の選択反射特性は、特定の波長帯域のみに限定され、可視光域をカバーすることは困難である。即ち、前記コレステリック液晶層の選択反射波長領域幅Δλは、下記数式1で表される。
<数式1>
Δλ=2λ(ne−no)/(ne+no)
ただし、前記数式1中、noは、コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶分子の正常光に対する屈折率を表す。neは、該ネマチック液晶分子の異常光に対する屈折率を表す。λは、選択反射の中心波長を表す。
The selective reflection characteristic of the cholesteric liquid crystal layer is limited to a specific wavelength band, and it is difficult to cover the visible light range. That is, the selective reflection wavelength region width Δλ of the cholesteric liquid crystal layer is expressed by the following formula 1.
<Formula 1>
Δλ = 2λ (ne−no) / (ne + no)
In Equation 1, no represents the refractive index of nematic liquid crystal molecules contained in the cholesteric liquid crystal layer with respect to normal light. ne represents the refractive index of the nematic liquid crystal molecules with respect to extraordinary light. λ represents the center wavelength of selective reflection.

前記数式1で示すように、前記選択反射波長帯域幅Δλは、ネマチック液晶そのものの分子構造に依存する。前記数式1から、(ne−no)を大きくすれば、前記選択反射波長帯域幅Δλを拡げられるが、(ne−no)は通常0.3以下であり、0.3より大きくなると、液晶としてのその他の機能、例えば、配向特性、液晶温度等が不十分となり、実用化が困難となる。したがって、現実にはコレステリック液晶層の選択反射波長帯域幅Δλは、最大でも150nm程度であり、通常30〜100nm程度が好ましい。   As shown in Equation 1, the selective reflection wavelength bandwidth Δλ depends on the molecular structure of the nematic liquid crystal itself. From Equation 1, if (ne−no) is increased, the selective reflection wavelength bandwidth Δλ can be expanded. However, (ne−no) is usually 0.3 or less, and when it is greater than 0.3, the liquid crystal Other functions such as alignment characteristics, liquid crystal temperature, etc. are insufficient, making it difficult to put into practical use. Therefore, in reality, the selective reflection wavelength bandwidth Δλ of the cholesteric liquid crystal layer is about 150 nm at the maximum, and usually about 30 to 100 nm is preferable.

また、前記コレステリック液晶層の選択反射中心波長λは、下記数式2で表される。
<数式2>
λ=(ne+no)P/2
ただし、前記数式2中、ne及びnoは上記数式1と同じ意味を表す。Pは、コレステリック液晶層の一回転ねじれに要する螺旋ピッチ長を表す。
The selective reflection center wavelength λ of the cholesteric liquid crystal layer is expressed by the following formula 2.
<Formula 2>
λ = (ne + no) P / 2
However, in the said Numerical formula 2, ne and no represent the same meaning as the said Numerical formula 1. P represents the helical pitch length required for one rotation twist of the cholesteric liquid crystal layer.

前記数式2で示すように、前記選択反射中心波長λは、コレステリック液晶層の螺旋ピッチが一定であれば、コレステリック液晶層の平均屈折率と螺旋ピッチ長Pに依存する。それ故、コレステリック液晶層の選択反射特性を拡げるには、前記各コレステリック液晶層の選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向(右回り又は左回り)が互いに同じであることが好ましい。また、各コレステリック液晶層の選択反射波長帯域は連続的であることが好ましい。ここで、前記「連続的」とは、2つの選択反射波長帯域間にギャップがなく、実質的にこの範囲の反射率が40%以上であることを意味する。
したがって、各コレステリック液晶層の選択反射中心波長λ間の距離は、各選択反射波長帯域が少なくとも1つの他の選択反射波長帯域と連続となる範囲内であることが好ましい。
As shown in Equation 2, the selective reflection center wavelength λ depends on the average refractive index and the helical pitch length P of the cholesteric liquid crystal layer if the helical pitch of the cholesteric liquid crystal layer is constant. Therefore, in order to expand the selective reflection characteristics of the cholesteric liquid crystal layer, the selective reflection center wavelengths of the cholesteric liquid crystal layers are different from each other, and the rotational directions (clockwise or counterclockwise) of the spirals of the cholesteric liquid crystal layers are the same. Preferably there is. The selective reflection wavelength band of each cholesteric liquid crystal layer is preferably continuous. Here, the “continuous” means that there is no gap between the two selective reflection wavelength bands, and the reflectance in this range is substantially 40% or more.
Therefore, the distance between the selective reflection center wavelengths λ of each cholesteric liquid crystal layer is preferably within a range in which each selective reflection wavelength band is continuous with at least one other selective reflection wavelength band.

前記フィルタ層は、垂直入射を0°とし±20°の範囲であるλ〜λ/cos20°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が40%以上であることが好ましく、垂直入射を0°とし±40°の範囲であるλ〜λ/cos40°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が40%以上であることが特に好ましい。
前記λ〜λ/cos20°、特にλ〜λ/cos40°(ただし、λは照射光波長を表す)の範囲における光反射率が40%以上であれば、照射光反射の角度依存性を解消でき、通常の光記録媒体に用いられているレンズ光学系を採用することができる。
The filter layer is a normal incidence 0 ° and to be in the range of ± 20 ° λ 0 ~λ 0 / cos20 ° ( However, lambda 0 represents a wavelength of the irradiated light) that light reflectance at not less than 40% preferably, lambda 0 to [lambda] a perpendicular incidence in the range of ± 40 ° and 0 ° 0 / cos40 ° (However, lambda 0 represents a wavelength of the irradiated light) is particularly preferred light reflectance at not less than 40%.
Wherein λ 0 0 / cos20 °, especially λ 0 0 / cos40 ° (However, lambda 0 represents a wavelength of the irradiated light) as long as the light reflectance of 40% or more in the range of the angle of the irradiation light reflected The dependency can be eliminated, and a lens optical system used in a normal optical recording medium can be employed.

具体的には、選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向が互いに同じであるコレステリック液晶層を3層積層すると、図10に示すような反射特性を有するフィルタ層が得られる。この図10は正面(0°)からの垂直入射光に対する反射特性が40%以上であることを示している。これに対し、斜め方向からの入射光になると次第に短波長側にシフトしていき、液晶層内で40°傾斜した時は図10に示すような反射特性を示す。
同様に、選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向が互いに同じであるコレステリック液晶層を2層積層すると、図12に示すような反射特性を有するフィルタ層が得られる。この図12は正面(0°)からの垂直入射光に対する反射特性が40%以上であることを示している。これに対し、斜め方向からの入射光になると次第に短波長側にシフトしていき、液晶層内で20°傾斜した時は図11に示すような反射特性を示す。
Specifically, when three cholesteric liquid crystal layers having different selective reflection center wavelengths and the same spiral rotation directions of the cholesteric liquid crystal layers are stacked, a filter layer having reflection characteristics as shown in FIG. can get. FIG. 10 shows that the reflection characteristic with respect to vertically incident light from the front (0 °) is 40% or more. On the other hand, when it becomes the incident light from the oblique direction, it gradually shifts to the short wavelength side, and when tilted by 40 ° in the liquid crystal layer, the reflection characteristic as shown in FIG. 10 is shown.
Similarly, when two cholesteric liquid crystal layers having different selective reflection center wavelengths and the same spiral rotation directions of the cholesteric liquid crystal layers are laminated, a filter layer having reflection characteristics as shown in FIG. 12 is obtained. . FIG. 12 shows that the reflection characteristic for vertically incident light from the front (0 °) is 40% or more. On the other hand, when it becomes the incident light from the oblique direction, it gradually shifts to the short wavelength side, and when tilted by 20 ° in the liquid crystal layer, the reflection characteristic as shown in FIG. 11 is shown.

なお、図10に示したλ〜1.3λの反射域は、λ=532nmのとき1.3λ=692nmとなり、サーボ光が655nmの場合はサーボ光を反射してしまう。ここに示すλ〜1.3λの範囲は光記録媒体用フィルタにおける±40°入射光への適性であるが、実際にそうした大きな斜め光まで使用する場合は、入射角±20°以内のサーボ光をマスキングして使用すれば支障なくサーボ制御できる。また、使用するフィルタにおける各コレステリック液晶層の平均屈折率を十分大きくすれば、光記録媒体用フィルタ内での入射角を±20°以内で全て設計することも容易であり、その場合は図12に示すλ〜1.1λのコレステリック液晶層を2層積層することでよいので、サーボ光透過には全く支障がなくなる。
したがって、図10〜図13の結果から、本発明の光記録媒体用フィルタ内においては、入射波長が0°〜20°(好ましくは0°〜40°)傾斜しても40%以上の反射率が確保できているので、信号読み取りには何ら支障のないフィルタ層が得られる。
Note that the reflection range of λ 0 to 1.3λ 0 shown in FIG. 10 is 1.3λ 0 = 692 nm when λ 0 = 532 nm, and the servo light is reflected when the servo light is 655 nm. The range of λ 0 to 1.3λ 0 shown here is suitability for ± 40 ° incident light in an optical recording medium filter. However, when actually using such a large oblique light, the incident angle is within ± 20 °. If servo light is masked and used, servo control can be performed without any problem. If the average refractive index of each cholesteric liquid crystal layer in the filter to be used is sufficiently large, it is easy to design all the incident angles within ± 20 ° in the optical recording medium filter, in which case FIG. It is sufficient to stack two cholesteric liquid crystal layers of λ 0 to 1.1λ 0 shown in FIG.
Accordingly, from the results shown in FIGS. 10 to 13, in the filter for optical recording media of the present invention, even when the incident wavelength is inclined by 0 ° to 20 ° (preferably 0 ° to 40 °), the reflectance is 40% or more. Therefore, it is possible to obtain a filter layer that does not interfere with signal reading.

前記各コレステリック液晶層は、上記特性を満たせば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、上述したように、ネマチック液晶化合物、及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。   Each cholesteric liquid crystal layer is not particularly limited as long as it satisfies the above characteristics, and can be appropriately selected according to the purpose. As described above, the cholesteric liquid crystal layer contains a nematic liquid crystal compound and a chiral compound. Further, it contains other components as required.

−−ネマチック液晶化合物−−
前記ネマチック液晶化合物は、液晶転移温度以下ではその液晶相が固定化することを特徴とし、その屈折率異方性Δnが、0.10〜0.40の液晶化合物、高分子液晶化合物、及び重合性液晶化合物の中から目的に応じて適宜選択することができる。溶融時の液晶状態にある間に、例えば、ラビング処理等の配向処理を施した配向基板を用いる等により配向させ、そのまま冷却等して固定化させることにより固相として使用することができる。
-Nematic liquid crystal compound-
The nematic liquid crystal compound is characterized in that the liquid crystal phase is fixed below the liquid crystal transition temperature, the liquid crystal compound having a refractive index anisotropy Δn of 0.10 to 0.40, a polymer liquid crystal compound, and polymerization The liquid crystal compound can be appropriately selected according to the purpose. While it is in the liquid crystal state at the time of melting, it can be used as a solid phase by, for example, aligning by using an alignment substrate subjected to alignment treatment such as rubbing, and then cooling and fixing as it is.

前記ネマチック液晶化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記の化合物などを挙げることができる。   There is no restriction | limiting in particular as said nematic liquid crystal compound, According to the objective, it can select suitably, For example, the following compound etc. can be mentioned.

Figure 2007102185
Figure 2007102185

Figure 2007102185
Figure 2007102185

Figure 2007102185
Figure 2007102185

前記式中において、nは1〜1,000の整数を表す。なお、前記各例示化合物においては、その側鎖連結基を、以下の構造に変えたものも同様に好適なものとして挙げることができる。   In the above formula, n represents an integer of 1 to 1,000. In addition, in each of the exemplified compounds, those in which the side chain linking group is changed to the following structure can also be cited as suitable.

Figure 2007102185
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上記の各例示化合物のうち、ネマチック液晶化合物としては、十分な硬化性を確保する観点から、分子内に重合性基を有するネマチック液晶化合物が好ましく、これらの中でも、紫外線(UV)重合性液晶が好適である。該UV重合性液晶としては、市販品を用いることができ、例えば、BASF社製の商品名PALIOCOLOR LC242;Merck社製の商品名E7;Wacker−Chem社製の商品名LC−Sllicon−CC3767;高砂香料株式会社製の商品名L35、L42、L55、L59、L63、L79、L83、などが挙げられる。   Among the above exemplified compounds, the nematic liquid crystal compound is preferably a nematic liquid crystal compound having a polymerizable group in the molecule from the viewpoint of ensuring sufficient curability, and among these, an ultraviolet (UV) polymerizable liquid crystal is preferable. Is preferred. Commercially available products can be used as the UV polymerizable liquid crystal, for example, trade name PALIOCOLOR LC242 manufactured by BASF; trade name E7 manufactured by Merck; trade name LC-Slicon-CC3767 manufactured by Wacker-Chem; Takasago Examples include trade names L35, L42, L55, L59, L63, L79, and L83 manufactured by Perfume Co., Ltd.

前記ネマチック液晶化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し30〜99質量%が好ましく、50〜99質量%がより好ましい。前記含有量が30質量%未満であると、ネマチック液晶化合物の配向が不十分となることがある。   As content of the said nematic liquid crystal compound, 30-99 mass% is preferable with respect to the total solid content mass of each said cholesteric liquid crystal layer, and 50-99 mass% is more preferable. When the content is less than 30% by mass, the alignment of the nematic liquid crystal compound may be insufficient.

−−カイラル化合物−−
前記カイラル化合物としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、液晶化合物の色相、色純度改良の観点から、例えば、イソマニード化合物、カテキン化合物、イソソルビド化合物、フェンコン化合物、カルボン化合物、等の他、以下に示す化合物などを挙げることができる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
--Chiral compound--
The chiral compound is not particularly limited and can be appropriately selected from known compounds according to the purpose. From the viewpoint of improving the hue and color purity of the liquid crystal compound, for example, an isomalide compound, a catechin compound, an isosorbide compound, In addition to the Fencon compound, the carboxylic compound, etc., the following compounds can be exemplified. These may be used alone or in combination of two or more.

Figure 2007102185
Figure 2007102185

Figure 2007102185
Figure 2007102185

また、前記カイラル化合物としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、Merck社製の商品名S101、R811、CB15;BASF社製の商品名PALIOCOLOR LC756、などが挙げられる。   Moreover, a commercial item can be used as said chiral compound, As this commercial item, the brand name S101, R811, CB15 by Merck, and the brand name PALIOCOLOR LC756 by BASF, etc. are mentioned, for example.

前記カイラル化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し30質量%以下が好ましく、20質量%以下がより好ましい。前記含有量が30質量%を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。   As content of the said chiral compound, 30 mass% or less is preferable with respect to the total solid content mass of each said cholesteric liquid crystal layer, and 20 mass% or less is more preferable. When the content exceeds 30% by mass, the orientation of the cholesteric liquid crystal layer may be insufficient.

−−重合性モノマー−−
前記コレステリック液晶層には、例えば、膜強度等の硬化の程度を向上させる目的で重合性モノマーを併用することができる。該重合性モノマーを併用すると、光照射による液晶の捻れ力を変化(パターンニング)させた後(例えば、選択反射波長の分布を形成した後)、その螺旋構造(選択反射性)を固定化し、固定化後のコレステリック液晶層の強度をより向上させることができる。ただし、前記液晶化合物が同一分子内に重合性基を有する場合には、必ずしも添加する必要はない。
前記重合性モノマーとしては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレン性不飽和結合を持つモノマー等が挙げられ、具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能モノマーが挙げられる。
前記エチレン性不飽和結合を持つモノマーの具体例としては、以下に示す化合物を挙げることができる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
--Polymerizable monomer--
In the cholesteric liquid crystal layer, for example, a polymerizable monomer can be used in combination for the purpose of improving the degree of curing such as film strength. When the polymerizable monomer is used in combination, after changing the twisting force of the liquid crystal by light irradiation (patterning) (for example, after forming a selective reflection wavelength distribution), the helical structure (selective reflectivity) is fixed, The strength of the cholesteric liquid crystal layer after fixation can be further improved. However, when the liquid crystal compound has a polymerizable group in the same molecule, it is not necessarily added.
The polymerizable monomer is not particularly limited and may be appropriately selected from known ones according to the purpose. Examples thereof include monomers having an ethylenically unsaturated bond, and specifically, pentaerythritol. Examples thereof include polyfunctional monomers such as tetraacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate.
Specific examples of the monomer having an ethylenically unsaturated bond include the following compounds. These may be used alone or in combination of two or more.

Figure 2007102185
Figure 2007102185

前記重合性モノマーの添加量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し50質量%以下が好ましく、1〜20質量%がより好ましい。前記添加量が50質量%を超えると、コレステリック液晶層の配向を阻害することがある。   As addition amount of the said polymerizable monomer, 50 mass% or less is preferable with respect to the total solid content mass of each said cholesteric liquid crystal layer, and 1-20 mass% is more preferable. When the addition amount exceeds 50% by mass, the orientation of the cholesteric liquid crystal layer may be inhibited.

−−その他の成分−−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光重合開始剤、増感剤、バインダー樹脂、重合禁止剤、溶媒、界面活性剤、増粘剤、色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤、などが挙げられる。
-Other ingredients-
The other components are not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, photopolymerization initiator, sensitizer, binder resin, polymerization inhibitor, solvent, surfactant, thickener , Dyes, pigments, ultraviolet absorbers, gelling agents, and the like.

前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、p−メトキシフェニル−2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−ブトキシスチリル)−5−トリクロロメチル1,3,4−オキサジアゾール、9−フェニルアクリジン、9,10−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン/ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール/メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン/アミン、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名イルガキュア907、イルガキュア369、イルガキュア784、イルガキュア814;BASF社製の商品名ルシリンTPO、などが挙げられる。
There is no restriction | limiting in particular as said photoinitiator, According to the objective, it can select suitably according to the objective, For example, p-methoxyphenyl-2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-butoxystyryl) -5-trichloromethyl 1,3,4-oxadiazole, 9-phenylacridine, 9,10-dimethylbenzphenazine, benzophenone / Michler's ketone, hexaarylbiimidazole / mercaptobenzimidazole, benzyl Examples thereof include dimethyl ketal and thioxanthone / amine. These may be used alone or in combination of two or more.
As the photopolymerization initiator, commercially available products can be used. Examples of the commercially available products include trade names of Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 784, and Irgacure 814 manufactured by Ciba Specialty Chemicals; And Lucylin TPO.

前記光重合開始剤の添加量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し0.1〜20質量%が好ましく、0.5〜5質量%がより好ましい。前記添加量が0.1質量%未満であると、光照射時の硬化効率が低いため長時間を要することがあり、20質量%を超えると、紫外線領域から可視光領域での光透過率が劣ることがある。   As addition amount of the said photoinitiator, 0.1-20 mass% is preferable with respect to the total solid content mass of each said cholesteric liquid crystal layer, and 0.5-5 mass% is more preferable. When the addition amount is less than 0.1% by mass, it may take a long time because the curing efficiency at the time of light irradiation is low, and when it exceeds 20% by mass, the light transmittance from the ultraviolet region to the visible light region is increased. May be inferior.

前記増感剤は、必要に応じてコレステリック液晶層の硬化度を上げるために添加される。
前記増感剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、などが挙げられる。
前記増感剤の添加量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し0.001〜1.0質量%が好ましい。
The sensitizer is added as necessary to increase the degree of cure of the cholesteric liquid crystal layer.
There is no restriction | limiting in particular as said sensitizer, According to the objective, it can select suitably according to the objective, For example, diethyl thioxanthone, isopropyl thioxanthone, etc. are mentioned.
The addition amount of the sensitizer is preferably 0.001 to 1.0% by mass with respect to the total solid mass of each cholesteric liquid crystal layer.

前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール;ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のポリスチレン化合物;メチルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース等のセルロース樹脂;側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体;ポリビニルフォルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂;メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体;アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマー;その他の水酸基を有するポリマー、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマーにおけるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、などが挙げられる。
前記その他の水酸基を有するポリマーとしては、例えば、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタアクリル酸のホモポリマー)アクリル酸共重合体、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/他のモノマーの多元共重合体、などが挙げられる。
There is no restriction | limiting in particular as said binder resin, According to the objective, it can select suitably according to the objective, For example, Polyvinyl alcohol; Polystyrene compounds, such as a polystyrene and poly-alpha-methylstyrene; Methylcellulose, ethylcellulose, acetyl Cellulose resins such as cellulose; acidic cellulose derivatives having a carboxyl group in the side chain; acetal resins such as polyvinyl formal and polyvinyl butyral; methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer Examples thereof include a polymer, a maleic acid copolymer, a partially esterified maleic acid copolymer; a homopolymer of acrylic acid alkyl ester or a homopolymer of alkyl methacrylate, and other polymers having a hydroxyl group. These may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the alkyl group in the homopolymer of acrylic acid alkyl ester or homopolymer of methacrylic acid alkyl ester include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, and n-hexyl group. Cyclohexyl group, 2-ethylhexyl group, and the like.
Examples of the other polymer having a hydroxyl group include benzyl (meth) acrylate / (homopolymer of methacrylic acid) acrylic acid copolymer, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / multiple monomers of other monomers. Polymer, and the like.

前記バインダー樹脂の添加量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形質量に対し80質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましい。前記添加量が80質量%を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。   As addition amount of the said binder resin, 80 mass% or less is preferable with respect to the total solid mass of each said cholesteric liquid crystal layer, and 50 mass% or less is more preferable. When the addition amount exceeds 80% by mass, the orientation of the cholesteric liquid crystal layer may be insufficient.

前記重合禁止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、ベンゾキノン、又はこれらの誘導体、などが挙げられる。
前記重合禁止剤の添加量としては、前記重合性モノマーの固形分に対し10質量%以下が好ましく、100ppm〜1質量%がより好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as said polymerization inhibitor, According to the objective, it can select suitably, For example, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, phenothiazine, benzoquinone, or these derivatives etc. are mentioned.
As addition amount of the said polymerization inhibitor, 10 mass% or less is preferable with respect to solid content of the said polymerizable monomer, and 100 ppm-1 mass% is more preferable.

前記溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、3−メトキシプロピオン酸メチルエステル、3−メトキシプロピオン酸エチルエステル、3−メトキシプロピオン酸プロピルエステル、3−エトキシプロピオン酸メチルエステル、3−エトキシプロピオン酸エチルエステル、3−エトキシプロピオン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類;2−メトキシプロピルアセテート、2−エトキシプロピルアセテート、3−メトキシブチルアセテート等のアルコキシアルコールのエステル類;乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類;γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、テトラヒドロフラン、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   The solvent is not particularly limited and may be appropriately selected from known solvents according to the purpose. For example, 3-methoxypropionic acid methyl ester, 3-methoxypropionic acid ethyl ester, 3-methoxypropionic acid propyl Esters, alkoxypropionic acid esters such as 3-ethoxypropionic acid methyl ester, 3-ethoxypropionic acid ethyl ester, 3-ethoxypropionic acid propyl ester; 2-methoxypropyl acetate, 2-ethoxypropyl acetate, 3-methoxybutyl acetate Esters of alkoxy alcohols such as: Lactic acid esters such as methyl lactate and ethyl lactate; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone and methylcyclohexanone; γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone, di Sulfoxide, chloroform, tetrahydrofuran, and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

<光記録媒体用フィルタ>
前記光記録媒体用フィルタは、基材上に前記フィルタ層及び必要に応じて適宜選択したその他の層を積層した積層体である。
<Filter for optical recording media>
The filter for optical recording media is a laminate in which the filter layer and other layers appropriately selected as necessary are laminated on a base material.

−基材−
前記基材としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば平板状、シート状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもいし、積層構造であってもよく、前記大きさとしては、前記光記録媒体用フィルタの大きさ等に応じて適宜選択することができる。
-Base material-
The shape, structure, size and the like of the substrate are not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. Examples of the shape include a flat plate shape and a sheet shape. The structure may be a single layer structure or a laminated structure, and the size can be appropriately selected according to the size of the filter for optical recording media.

前記基材の材料としては、特に制限はなく、無機材料及び有機材料のいずれをも好適に用いることができる。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、などが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
There is no restriction | limiting in particular as a material of the said base material, Both an inorganic material and an organic material can be used suitably.
Examples of the inorganic material include glass, quartz, silicon, and the like.
Examples of the organic material include acetate resins such as triacetyl cellulose, polyester resins, polyethersulfone resins, polysulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, and acrylic resins. , Polynorbornene resins, cellulose resins, polyarylate resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polyacrylic resins, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

前記基材は、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、10〜500μmが好ましく、50〜300μmがより好ましい。前記基材の厚みが、10μm未満であると、基板の撓みにより密着性が低下することがある。一方、500μmを超えると、情報光と参照光の焦点位置を大きくずらさなければならなくなり、光学系サイズが大きくなってしまうことがある。
The base material may be appropriately synthesized, or a commercially available product may be used.
There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said base material, According to the objective, it can select suitably, 10-500 micrometers is preferable and 50-300 micrometers is more preferable. When the thickness of the base material is less than 10 μm, the adhesion may be lowered due to the bending of the substrate. On the other hand, if it exceeds 500 μm, the focal positions of the information light and the reference light must be largely shifted, and the optical system size may be increased.

前記光記録媒体用フィルタの形成方法としては、後述する本発明の光記録媒体の製造方法により好適に製造することができ、例えば、前記溶媒を用いて調製した各コレステリック液晶層用塗布液を前記基材上に所望の塗布方法により塗布することによって、各コレステリック液晶層を形成することができる。
最も量産適性のよい手法としては、前記基材をロール状に巻いた形で準備しておき、該基材上に各コレステリック液晶層用塗布液をバーコート、ダイコート、ブレードコート、カーテンコートのような長尺連続コーターにて塗布する形式が好ましい。
As a method for forming the filter for an optical recording medium, it can be suitably manufactured by the method for manufacturing an optical recording medium of the present invention, which will be described later. For example, each cholesteric liquid crystal layer coating solution prepared using the solvent described above Each cholesteric liquid crystal layer can be formed by coating on a substrate by a desired coating method.
The most suitable method for mass production is to prepare the base material in the form of a roll, and apply each cholesteric liquid crystal layer coating solution onto the base material, such as bar coating, die coating, blade coating, curtain coating, etc. A type in which coating is performed with a long continuous coater is preferable.

前記各コレステリック液晶層の厚みは、例えば、1〜10μmが好ましく、2〜7μmがより好ましい。前記厚みが1μm未満であると、選択反射率が十分でなくなることがあり、10μmを超えると、液晶層の均一配向が乱れてしまうことがある。
また、前記光記録媒体用フィルタの厚み(基材を除く各コレステリック液晶層の合計厚み)は、例えば、1〜30μmが好ましく、3〜10μmがより好ましい。
The thickness of each cholesteric liquid crystal layer is, for example, preferably 1 to 10 μm, and more preferably 2 to 7 μm. When the thickness is less than 1 μm, the selective reflectance may not be sufficient, and when it exceeds 10 μm, the uniform alignment of the liquid crystal layer may be disturbed.
In addition, the thickness of the optical recording medium filter (total thickness of each cholesteric liquid crystal layer excluding the base material) is preferably 1 to 30 μm, and more preferably 3 to 10 μm, for example.

前記各コレステリック液晶層は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記基材上に各コレステリック液晶層用塗布液を塗布し、配向し、固化され、基材ごとディスク形状に打ち抜かれて、第二の基板上に配置されるのが好ましい。なお、光記録媒体のフィルタ層に用いる場合には、基材を介さず直接第二の基板上に設けることもできる。   Each cholesteric liquid crystal layer is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. The cholesteric liquid crystal layer coating liquid is applied on the base material, aligned, solidified, and disk-shaped with the base material. And is preferably placed on the second substrate. In addition, when using for the filter layer of an optical recording medium, it can also provide directly on a 2nd board | substrate not via a base material.

本発明の光記録媒体用フィルタは、各種分野において使用することができ、ホログラム型の光記録媒体の形成乃至製造に好適に使用することができ、以下の本発明のホログラム型の光記録媒体及びその製造方法並びに光記録方法及び光再生方法に特に好適に使用することができる。   The optical recording medium filter of the present invention can be used in various fields, and can be suitably used for forming or manufacturing a hologram type optical recording medium. The following hologram type optical recording medium of the present invention and It can be particularly suitably used for the production method, optical recording method and optical reproduction method.

<記録層>
前記記録層は、ホログラフィを利用して情報が記録され得るものであり、所定の波長の電磁波を照射すると、その強度に応じて吸光係数や屈折率などの光学特性が変化する材料が用いられる。
<Recording layer>
The recording layer can record information using holography, and a material whose optical characteristics such as an extinction coefficient and a refractive index change according to the intensity of the recording layer when irradiated with an electromagnetic wave having a predetermined wavelength is used.

前記記録層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、(1)光照射で重合反応が起こり高分子化するフォトポリマー、(2)フォトリフラクティブ効果(光照射で空間電荷分布が生じて屈折率が変調する)を示すフォトリフラクティブ材料、(3)光照射で分子の異性化が起こり屈折率が変調するフォトクロミック材料、(4)ニオブ酸リチウム、チタン酸バリウム等の無機材料、(5)カルコゲン材料、などが挙げられる。   The material of the recording layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, (1) a photopolymer that undergoes polymerization reaction upon irradiation with light and becomes a polymer, (2) a photorefractive effect ( (3) Photochromic material in which molecular isomerization occurs due to light irradiation and the refractive index is modulated, (4) Lithium niobate, titanic acid Examples thereof include inorganic materials such as barium, and (5) chalcogen materials.

前記(1)のフォトポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、モノマー、及び光開始剤を含有してなり、更に必要に応じて増感剤、オリゴマー等のその他の成分を含有してなる。   The photopolymer (1) is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, the photopolymer contains a monomer and a photoinitiator, and further a sensitizer or oligomer as necessary. It contains other components such as.

前記フォトポリマーとしては、例えば、「フォトポリマーハンドブック」(工業調査会、1989年)、「フォトポリマーテクノロジー」(日刊工業新聞社、1989年)、SPIE予稿集 Vol.3010 p354−372(1997)、及びSPIE予稿集 Vol.3291 p89−103(1998)に記載されているものを用いることができる。また、米国特許第5,759,721号明細書、同第4,942,112号明細書、同第4,959,284号明細書、同第6,221,536号明細書、国際公開第97/44714号パンフレット、同第97/13183号パンフレット、同第99/26112号パンフレット、同第97/13183号パンフレット、特許第2880342号公報、同第2873126号公報、同第2849021号公報、同第3057082号公報、同第3161230号公報、特開2001−316416号公報、特開2000−275859号公報などに記載されているフォトポリマーを用いることができる。   Examples of the photopolymer include “Photopolymer Handbook” (Industry Research Society, 1989), “Photopolymer Technology” (Nikkan Kogyo Shimbun, 1989), SPIE Proceedings Vol. 3010 p354-372 (1997), and SPIE Proceedings Vol. 3291 p89-103 (1998) can be used. Also, US Pat. Nos. 5,759,721, 4,942,112, 4,959,284, 6,221,536, International Publication No. No. 97/44714, No. 97/13183, No. 99/26112, No. 97/13183, No. 2880342, No. 2873126, No. 2849021, No. Photopolymers described in JP-A-3057082, JP-A-3161230, JP-A-2001-316416, JP-A-2000-275859, and the like can be used.

前記フォトポリマーに記録光を照射して光学特性を変化させる方法としては、低分子成分の拡散を利用した方法などが挙げられる。また、重合時の体積変化を緩和するため、重合成分とは逆方向へ拡散する成分を添加してもよく、或いは、酸開裂構造を有する化合物を重合体のほかに別途添加してもよい。なお、前記低分子成分を含むフォトポリマーを用いて記録層を形成する場合には、記録層中に液体を保持可能な構造を必要とすることがある。また、前記酸開裂構造を有する化合物を添加する場合には、その開裂によって生じる膨張と、モノマーの重合によって生じる収縮とを補償させることにより体積変化を抑制してもよい。   Examples of a method for changing the optical characteristics by irradiating the photopolymer with recording light include a method using diffusion of a low molecular component. Moreover, in order to relieve the volume change at the time of superposition | polymerization, the component which diffuses in the reverse direction to a superposition | polymerization component may be added, or the compound which has an acid cleavage structure may be added separately besides a polymer. In the case where the recording layer is formed using the photopolymer containing the low molecular component, a structure capable of holding the liquid in the recording layer may be required. Moreover, when adding the compound which has the said acid cleavage structure, you may suppress a volume change by compensating the expansion | swelling which arises by the cleavage, and the shrinkage which arises by superposition | polymerization of a monomer.

前記モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル基やメタクリル基のような不飽和結合を有するラジカル重合型のモノマー、エポキシ環やオキセタン環のようなエーテル構造を有するカチオン重合型系モノマーなどが挙げられる。これらのモノマーは、単官能であっても多官能であってもよい。また、光架橋反応を利用したものであってもよい。   The monomer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, a radical polymerization type monomer having an unsaturated bond such as an acryl group or a methacryl group, an epoxy ring or an oxetane ring. Examples thereof include a cationic polymerization type monomer having an ether structure. These monomers may be monofunctional or polyfunctional. Moreover, what utilized the photocrosslinking reaction may be used.

前記ラジカル重合型のモノマーとしては、例えば、アクリロイルモルホリン、フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールPO変性ジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、EO変性ビスフェノールAジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、EO変性グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、2−ナフト−1−オキシエチルアクリレート、2−カルバゾイル−9−イルエチルアクリレート、(トリメチルシリルオキシ)ジメチルシリルプロピルアクリレート、ビニル−1−ナフトエート、N−ビニルカルバゾールなどが挙げられる。
前記カチオン重合型系モノマーとしては、例えば、ビスフェノールAエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、1,6−ヘキサングリシジルエーテル、ビニルトリメトキシシラン、4−ビニルフェニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、下記構造式(A)〜(E)で表される化合物などが挙げられる。
これらモノマーは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。

Figure 2007102185
Examples of the radical polymerization type monomer include acryloylmorpholine, phenoxyethyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, neo Pentyl glycol PO-modified diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol diacrylate, EO-modified bisphenol A diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol hexa Acrylate, EO-modified glycerol triacrylate, trimethylol pro Triacrylate, EO-modified trimethylolpropane triacrylate, 2-naphth-1-oxyethyl acrylate, 2-carbazoyl-9-ylethyl acrylate, (trimethylsilyloxy) dimethylsilylpropyl acrylate, vinyl-1-naphthoate, N-vinylcarbazole Etc.
Examples of the cationic polymerization type monomer include bisphenol A epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, glycerol triglycidyl ether, 1,6-hexane glycidyl ether, vinyltrimethoxysilane, 4-vinylphenyltrimethoxysilane, and γ-methacrylic acid. Examples include roxypropyltriethoxysilane and compounds represented by the following structural formulas (A) to (E).
These monomers may be used alone or in combination of two or more.
Figure 2007102185

前記光開始剤としては、記録光に感度を有するものであれば特に制限はなく、光照射によりラジカル重合、カチオン重合、架橋反応などを引き起こす材料などが挙げられる。
前記光開始剤としては、例えば、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,1’−ビイミダゾール、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシフェニルビニル)−1,3,5−トリアジン、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、4,4’−ジ−t−ブチルジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、4−ジエチルアミノフェニルベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゾイン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−2−オン、ベンゾフェノン、チオキサントン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルアシルホスフィンオキシド、トリフェニルブチルボレートテトラエチルアンモニウム、下記構造式で表されるチタノセン化合物などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。また、照射する光の波長に合わせて増感色素を併用してもよい。

Figure 2007102185
The photoinitiator is not particularly limited as long as it has sensitivity to recording light, and examples thereof include materials that cause radical polymerization, cationic polymerization, crosslinking reaction, and the like by light irradiation.
Examples of the photoinitiator include 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,1′-biimidazole, 2,4,6-tris ( Trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (p-methoxyphenylvinyl) -1,3,5-triazine, diphenyliodonium tetrafluoroborate, diphenyliodonium hexafluoro Phosphate, 4,4'-di-t-butyldiphenyliodonium tetrafluoroborate, 4-diethylaminophenylbenzenediazonium hexafluorophosphate, benzoin, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-2-one, benzophenone, thioxanthone 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenyla Examples thereof include silphosphine oxide, triphenylbutyl borate tetraethylammonium, and a titanocene compound represented by the following structural formula. These may be used alone or in combination of two or more. Moreover, you may use a sensitizing dye together according to the wavelength of the light to irradiate.
Figure 2007102185

前記フォトポリマーは、前記モノマー、前記光開始剤、更に必要に応じてその他の成分を攪拌混合し、反応させることによって得られる。得られたフォトポリマーが十分低い粘度ならばキャスティングすることによって記録層を形成することができる。一方、キャスティングできない高粘度フォトポリマーである場合には、ディスペンサーを用いて第二の基板にフォトポリマーを盛りつけ、このフォトポリマー上に第一の基板で蓋をするように押し付けて、全面に広げて記録層を形成することができる。   The photopolymer can be obtained by stirring and mixing the monomer, the photoinitiator, and, if necessary, other components and reacting them. If the obtained photopolymer has a sufficiently low viscosity, a recording layer can be formed by casting. On the other hand, in the case of a high-viscosity photopolymer that cannot be cast, the photopolymer is placed on the second substrate using a dispenser, and the photopolymer is pressed to cover the first substrate and spread over the entire surface. A recording layer can be formed.

前記(2)のフォトリフラクティブ材料としては、フォトリフラクティブ効果を示すものであるならば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電荷発生材、及び電荷輸送材を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。   The photorefractive material (2) is not particularly limited as long as it exhibits a photorefractive effect, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, it contains a charge generation material and a charge transport material. And further contains other components as necessary.

前記電荷発生材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン、又はそれらの誘導体等のフタロシアニン色素/顔料;ナフタロシアニン色素/顔料;モノアゾ、ジスアゾ、トリスアゾ等のアゾ系色素/顔料;ペリレン系染料/顔料;インジゴ系染料/顔料;キナクリドン系染料/顔料;アントラキノン、アントアントロン等の多環キノン系染料/顔料;シアニン系染料/顔料;TTF−TCNQで代表されるような電子受容性物質と電子供与性物質とからなる電荷移動錯体;アズレニウム塩;C60及びC70で代表されるフラーレン並びにその誘導体であるメタノフラーレン、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。 The charge generation material is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include phthalocyanine dyes / pigments such as metal phthalocyanine, metal-free phthalocyanine, or derivatives thereof; naphthalocyanine dye / pigment; monoazo Azo dyes / pigments such as diazo and trisazo; perylene dyes / pigments; indigo dyes / pigments; quinacridone dyes / pigments; polycyclic quinone dyes / pigments such as anthraquinone and anthanthrone; cyanine dyes / pigments; Examples include a charge transfer complex composed of an electron accepting substance and an electron donating substance represented by TTF-TCNQ; an azurenium salt; a fullerene represented by C 60 and C 70 and a methanofullerene which is a derivative thereof. . These may be used alone or in combination of two or more.

前記電荷輸送材は、ホール又はエレクトロンを輸送する材料であり、低分子化合物であってもよく、又は高分子化合物であってもよい。
前記電荷輸送材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インドール、カルバゾール、オキサゾール、インオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサアジアゾール、ピラゾリン、チアチアゾール、トリアゾール等の含窒素環式化合物、又はその誘導体;ヒドラゾン化合物;トリフェニルアミン類;トリフェニルメタン類;ブタジエン類;スチルベン類;アントラキノンジフェノキノン等のキノン化合物、又はその誘導体;C60及びC70等のフラーレン並びにその誘導体;ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン等のπ共役系高分子又はオリゴマー;ポリシラン、ポリゲルマン等のσ共役系高分子又はオリゴマー;アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネン等の多環芳香族化合物、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
The charge transport material is a material that transports holes or electrons, and may be a low molecular compound or a high molecular compound.
The charge transport material is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, indole, carbazole, oxazole, inoxazole, thiazole, imidazole, pyrazole, oxadiazole, pyrazoline, thiathiazole, triazole Nitrogen-containing cyclic compounds such as, or derivatives thereof; hydrazone compounds; triphenylamines; triphenylmethanes; butadienes; stilbenes; quinone compounds such as anthraquinone diphenoquinone, or derivatives thereof; C 60 and C 70, etc. Fullerenes and derivatives thereof; π-conjugated polymers or oligomers such as polyacetylene, polypyrrole, polythiophene, and polyaniline; σ-conjugated polymers or oligomers such as polysilane and polygermane; anthracene, pyrene, phenanthrene, Polycyclic aromatic compounds such Ronen, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

前記フォトリフラクティブ材料を用いて記録層を形成方法としては、例えば、前記フォトリフラクティブ材料を溶媒中に溶解乃至は分散させてなる塗布液を用いて塗膜を形成し、この塗膜から溶媒を除去することにより記録層を形成することができる。また、加熱して流動化させた前記フォトリフラクティブ材料を用いて塗膜を形成し、この塗膜を急冷することにより記録層を形成することもできる。   As a method for forming a recording layer using the photorefractive material, for example, a coating film is formed using a coating solution obtained by dissolving or dispersing the photorefractive material in a solvent, and the solvent is removed from the coating film. By doing so, a recording layer can be formed. Alternatively, the recording layer can be formed by forming a coating film using the photorefractive material that has been heated and fluidized and rapidly cooling the coating film.

前記(3)のフォトクロミック材料は、フォトクロミック反応を起こす材料であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アゾベンゼン化合物、スチルベン化合物、インジゴ化合物、チオインジゴ化合物、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、フルキド化合物、アントラセン化合物、ヒドラゾン化合物、桂皮酸化合物、などが挙げられる。これらの中でも、光照射によりシス−トランス異性化により構造変化を起こすアゾベンゼン誘導体、スチルベン誘導体、光照射により開環−閉環の構造変化を起こすスピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体が特に好ましい。   The photochromic material (3) is not particularly limited as long as it is a material that causes a photochromic reaction, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, an azobenzene compound, a stilbene compound, an indigo compound, a thioindigo compound, a spiropyran compound, Examples include spirooxazine compounds, fluoride compounds, anthracene compounds, hydrazone compounds, and cinnamic acid compounds. Among these, azobenzene derivatives and stilbene derivatives that cause a structural change by cis-trans isomerization by light irradiation, spiropyran derivatives and spirooxazine derivatives that cause a ring-opening and ring-closing structural change by light irradiation are particularly preferable.

前記(5)のカルコゲン材料としては、例えば、カルコゲン元素を含むカルコゲナイドガラスと、このカルコゲナイドガラス中に分散されており光の照射によりカルコゲナイドガラス中に拡散可能な金属からなる金属粒子とを含む材料、などが挙げられる。
前記カルコゲナイドガラスは、S、Te又はSeのカルコゲン元素を含む非酸化物系の非晶質材料から構成されるものであり、金属粒子の光ドープが可能なものであれば特に限定されない。
前記カルコゲン元素を含む非晶質材料としては、例えば、Ge−S系ガラス、As−S系ガラス、As−Se系ガラス、As−Se−Ce系ガラス等が挙げられ、これらの中ではGe−S系ガラスが好ましい。前記カルコゲナイドガラスとしてGe−S系ガラスを用いる場合には、ガラスを構成するGe及びSの組成比は照射する光の波長に応じて任意に変化させることができるが、主としてGeSで表される化学組成を有するカルコゲナイドガラスが好ましい。
前記金属粒子は、光の照射によりカルコゲナイドガラス中に光ドープされる特性を有するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Al、Au、Cu、Cr、Ni、Pt、Sn、In、Pd、Ti、Fe、Ta、W、Zn、Ag等が挙げられる。これらの中では、Ag、Au又はCuが光ドープをより生じやすい特性を有しており、Agは光ドープを顕著に生じるため特に好ましい。
前記カルコゲナイドガラスに分散されている金属粒子の含有量としては、前記記録層の全体積基準で0.1〜2体積%が好ましく、0.1〜1.0体積%がより好ましい。前記金属粒子の含有量が0.1体積%未満であると、光ドープによる透過率変化が不充分となって記録の精度が低下することがあり、2体積%を超えると、記録材料の光透過率が低下して光ドープを充分に生じさせることが困難となることがある。
Examples of the chalcogen material of (5) include, for example, a material containing a chalcogenide glass containing a chalcogen element and metal particles made of a metal that is dispersed in the chalcogenide glass and can be diffused in the chalcogenide glass by light irradiation, Etc.
The chalcogenide glass is composed of a non-oxide type amorphous material containing a chalcogen element of S, Te, or Se, and is not particularly limited as long as it can dope metal particles.
Examples of the amorphous material containing the chalcogen element include Ge—S glass, As—S glass, As—Se glass, As—Se—Ce glass, and the like. S-based glass is preferred. When Ge—S glass is used as the chalcogenide glass, the composition ratio of Ge and S constituting the glass can be arbitrarily changed according to the wavelength of light to be irradiated, but is mainly represented by GeS 2. A chalcogenide glass having a chemical composition is preferred.
The metal particles are not particularly limited as long as they have the property of being light-doped into chalcogenide glass by light irradiation, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, Al, Au, Cu, Cr, Ni, Pt, Sn, In, Pd, Ti, Fe, Ta, W, Zn, Ag, etc. are mentioned. Among these, Ag, Au, or Cu has a characteristic that it is more likely to cause light doping, and Ag is particularly preferable because it significantly causes light doping.
The content of the metal particles dispersed in the chalcogenide glass is preferably 0.1 to 2% by volume, more preferably 0.1 to 1.0% by volume based on the total volume of the recording layer. If the content of the metal particles is less than 0.1% by volume, the change in transmittance due to light doping may be insufficient, and the recording accuracy may decrease. The transmittance may be lowered, and it may be difficult to sufficiently generate light dope.

前記記録層は、材料に応じて公知の方法に従って形成することができるが、例えば、蒸着法、湿式成膜法、MBE(分子線エピタキシー)法、クラスターイオンビーム法、分子積層法、LB法、印刷法、転写法、などにより好適に形成することができる。これらの中でも、蒸着法、湿式成膜法が好ましい。   The recording layer can be formed according to a known method depending on the material. For example, a vapor deposition method, a wet film formation method, an MBE (molecular beam epitaxy) method, a cluster ion beam method, a molecular lamination method, an LB method, It can be suitably formed by a printing method, a transfer method, or the like. Among these, a vapor deposition method and a wet film-forming method are preferable.

前記蒸着法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができるが、例えば、真空蒸着法、抵抗加熱蒸着、化学蒸着法、物理蒸着法、などが挙げられる。該化学蒸着法としては、例えば、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、ガスソースCVD法、などが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as said vapor deposition method, Although it can select suitably from well-known things according to the objective, For example, a vacuum evaporation method, resistance heating vapor deposition, chemical vapor deposition method, physical vapor deposition method etc. are mentioned. . Examples of the chemical vapor deposition method include a plasma CVD method, a laser CVD method, a thermal CVD method, and a gas source CVD method.

前記湿式成膜法による前記記録層の形成は、例えば、前記記録層材料を溶剤に溶解乃至分散させた溶液(塗布液)を用いる(塗布し乾燥する)ことにより、好適に行うことができる。該湿式成膜法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法などが挙げられる。   Formation of the recording layer by the wet film formation method can be suitably performed by using (coating and drying) a solution (coating liquid) in which the recording layer material is dissolved or dispersed in a solvent. The wet film forming method is not particularly limited and can be appropriately selected from known ones according to the purpose. For example, an ink jet method, a spin coating method, a kneader coating method, a bar coating method, a blade coating method, Examples thereof include a casting method, a dip method, and a curtain coating method.

前記記録層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、1〜1,000μmが好ましく、100〜700μmがより好ましい。
前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、10〜300多重のシフト多重を行っても十分なS/N比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said recording layer, According to the objective, it can select suitably, 1-1000 micrometers is preferable and 100-700 micrometers is more preferable.
When the thickness of the recording layer is within the preferable numerical range, a sufficient S / N ratio can be obtained even when 10 to 300 multiple shift multiplexing is performed, and when the thickness is within the more preferable numerical range, this is remarkable. It is advantageous in some respects.

<第一の基板及び第二の基板>
前記第一の基板及び第二の基板としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、同じ基板でもよく、異なる基板でもよいが、少なくとも形状及び大きさは同じものであることが好ましい。また、前記基板の形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状などが挙げられ、光記録媒体の機械的強度を確保できる材料のものを選定する必要がある。また、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
前記第一の基板及び第二の基板の材料としては、いずれも通常、ガラス、セラミックス、樹脂、などが用いられるが、成形性、コストの点から、樹脂が特に好適である。
前記樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂、などが挙げられる。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂が特に好ましい。
前記第一の基板及び第二の基板は、いずれも適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
<First substrate and second substrate>
There is no restriction | limiting in particular as said 1st board | substrate and 2nd board | substrate, According to the objective, it can select suitably, For example, the same board | substrate may be sufficient and a different board | substrate may be sufficient, but at least the shape and magnitude | size are the same It is preferable that Further, the shape, structure, size and the like of the substrate are not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. Examples of the shape include a disk shape and a card shape. It is necessary to select a material that can ensure the mechanical strength of the medium. In addition, when light used for recording and reproduction enters through the substrate, it is necessary to be sufficiently transparent in the wavelength region of the light used.
As the material for the first substrate and the second substrate, glass, ceramics, resin, and the like are usually used. Resin is particularly preferable from the viewpoint of moldability and cost.
Examples of the resin include polycarbonate resin, acrylic resin, epoxy resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer, polyethylene resin, polypropylene resin, silicone resin, fluorine resin, ABS resin, and urethane resin. Among these, polycarbonate resin and acrylic resin are particularly preferable from the viewpoints of moldability, optical characteristics, and cost.
Both the first substrate and the second substrate may be appropriately synthesized, or commercially available products may be used.

前記第二の基板には、半径方向に線状に延びる複数の位置決め領域としてのアドレス−サーボエリアが所定の角度間隔で設けられ、隣り合うアドレス−サーボエリア間の扇形の区間がデータエリアになっている。アドレス−サーボエリアには、サンプルドサーボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス情報とが、予めエンボスピット(サーボピット)等によって記録されている(プリフォーマット)。なお、フォーカスサーボは、反射膜の反射面を用いて行うことができる。トラッキングサーボを行うための情報としては、例えば、ウォブルピットを用いることができる。なお、光記録媒体がカード形状の場合には、サーボピットパターンは無くてもよい。   In the second substrate, address-servo areas as a plurality of positioning areas extending linearly in the radial direction are provided at predetermined angular intervals, and a sector-shaped section between adjacent address-servo areas becomes a data area. ing. In the address-servo area, information for performing focus servo and tracking servo by the sampled servo method and address information are recorded in advance by embossed pits (servo pits) (preformat). Note that the focus servo can be performed using the reflective surface of the reflective film. As information for performing the tracking servo, for example, a wobble pit can be used. If the optical recording medium has a card shape, the servo pit pattern may be omitted.

前記第一の基板及び第二の基板の厚みとしては、いずれも特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、0.1〜5mmが好ましく、0.3〜2mmがより好ましい。前記基板の厚みが、0.1mm未満であると、ディスク保存時の形状の歪みを抑えられなくなることがあり、5mmを超えると、ディスク全体の重量が大きくなってドライブモーターに過剰な負荷をかけることがある。   There is no restriction | limiting in particular as thickness of said 1st board | substrate and a 2nd board | substrate, According to the objective, it can select suitably, 0.1-5 mm is preferable and 0.3-2 mm is more preferable. If the thickness of the substrate is less than 0.1 mm, distortion of the shape during storage of the disk may not be suppressed. If the thickness exceeds 5 mm, the weight of the entire disk increases and an excessive load is applied to the drive motor. Sometimes.

−反射膜−
前記反射膜は、前記第二の基板のサーボピットパターン表面に形成される。
前記反射膜の材料としては、記録光や参照光に対して高い反射率を有する材料を用いることが好ましい。使用する光の波長が400〜780nmである場合には、例えば、Al、Al合金、Ag、Ag合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が650nm以上である場合には、Al、Al合金、Ag、Ag合金、Au、Cu合金、TiN、などを使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な光記録媒体、例えば、DVD(ディジタル ビデオ ディスク)などを用い、ホログラムをどのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などをホログラムに影響を与えずに追記及び書き換えすることも可能となる。
-Reflective film-
The reflective film is formed on the servo pit pattern surface of the second substrate.
As the material of the reflective film, a material having a high reflectance with respect to recording light or reference light is preferably used. When the wavelength of light to be used is 400 to 780 nm, for example, Al, Al alloy, Ag, Ag alloy, etc. are preferably used. When the wavelength of light to be used is 650 nm or more, it is preferable to use Al, Al alloy, Ag, Ag alloy, Au, Cu alloy, TiN, or the like.
As the reflective film, an optical recording medium that reflects light and can be written or erased, such as a DVD (digital video disk), is used. It is also possible to add and rewrite directory information such as information on which part has an error and how replacement processing is performed without affecting the hologram.

前記反射膜の形成は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、各種気相成長法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマCVD法、光CVD法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などが用いられる。これらの中でも、スパッタリング法が、量産性、膜質等の点で優れている。
前記反射膜の厚みは、十分な反射率を実現し得るように、50nm以上が好ましく、100nm以上がより好ましい。
The formation of the reflective film is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. Various vapor deposition methods such as vacuum deposition, sputtering, plasma CVD, photo CVD, ion plating An electron beam evaporation method or the like is used. Among these, the sputtering method is excellent in terms of mass productivity and film quality.
The thickness of the reflective film is preferably 50 nm or more, and more preferably 100 nm or more so that sufficient reflectance can be realized.

<その他の層>
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ギャップ層が挙げられる。前記ギャップ層としては、例えば、第一ギャップ層、第二ギャップ層が挙げられる。
<Other layers>
There is no restriction | limiting in particular as said other layer, According to the objective, it can select suitably, For example, a gap layer is mentioned. Examples of the gap layer include a first gap layer and a second gap layer.

−第一ギャップ層−
前記第一ギャップ層は、必要に応じて、光吸収層と第二の基板との間に設けられ、第二の基板表面を平滑化する目的で形成される。また、記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整するのにも有効である。即ち、前記記録層は、記録用参照光及び情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるので、前記記録層とサーボピットパターンとの間にギャップを設けることが有効となる。
前記第一ギャップ層は、例えば、サーボピットパターンの上から紫外線硬化樹脂等の材料をスピンコート等で塗布し、硬化させることにより形成することができる。
前記第一ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、1〜100μmが好ましい。
-First gap layer-
The first gap layer is provided between the light absorption layer and the second substrate as necessary, and is formed for the purpose of smoothing the surface of the second substrate. It is also effective for adjusting the size of the hologram generated in the recording layer. That is, since it is necessary for the recording layer to form an interference region for recording reference light and information light to a certain size, it is effective to provide a gap between the recording layer and the servo pit pattern.
The first gap layer can be formed, for example, by applying a material such as an ultraviolet curable resin on the servo pit pattern by spin coating or the like and curing it.
There is no restriction | limiting in particular as thickness of said 1st gap layer, According to the objective, it can select suitably, 1-100 micrometers is preferable.

−第二ギャップ層−
前記第二ギャップ層は、必要に応じて記録層とフィルタ層との間に設けられる。該第二ギャップ層は、情報光及び参照光がフォーカシングするポイントの部分をフォトポリマーで埋めていると、過剰露光がされた場合に、モノマーの過剰消費が起こり、多重記録能力が低下することがあり、この弊害を防止する機能がある。
前記第二ギャップ層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタラート(PET)、ポリスチレン(PS)、ポリスルホン(PSF)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリメタクリル酸メチル=ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のような透明樹脂フィルム、又は、JSR社製商品名ARTONフィルムや日本ゼオン社製商品名ゼオノアのような、ノルボルネン系樹脂フィルム、などが挙げられる。これらの中でも、等方性の高いものが好ましく、TAC、PC、商品名ARTON、及び商品名ゼオノアが特に好ましい。
前記第二ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、1〜200μmが好ましい。
-Second gap layer-
The second gap layer is provided between the recording layer and the filter layer as necessary. In the second gap layer, if the portion of the point where the information light and the reference light are focused is filled with a photopolymer, excessive exposure of the monomer occurs when the overexposure is performed, and the multiple recording capability may be reduced. There is a function to prevent this harmful effect.
There is no restriction | limiting in particular as a material of said 2nd gap layer, According to the objective, it can select suitably, For example, a triacetyl cellulose (TAC), a polycarbonate (PC), a polyethylene terephthalate (PET), polystyrene (PS) ), Transparent resin films such as polysulfone (PSF), polyvinyl alcohol (PVA), polymethyl methacrylate = polymethyl methacrylate (PMMA), etc., or JSR brand name ARTON film or Nippon Zeon brand name ZEONOR And norbornene-based resin films. Among these, those having high isotropic properties are preferred, and TAC, PC, trade name ARTON, and trade name ZEONOR are particularly preferred.
There is no restriction | limiting in particular as thickness of said 2nd gap layer, According to the objective, it can select suitably, 1-200 micrometers is preferable.

ここで、本発明の光記録媒体について、図面を参照して更に詳しく説明する。
<第一の実施形態>
図7は、本発明の第一の実施形態における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この第一の実施形態に係る光記録媒体21では、ポリカーボネート樹脂又はガラス材からなる第二の基板1にサーボピットパターン3が形成され、該サーボピットパターン3上にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜2が設けられている。なお、図7では第二の基板1全面にサーボピットパターン3が形成されているが、図1に示すように周期的に形成されていてもよい。また、このサーボピットの高さは最大1,750Å(175nm)であり、第二の基板を始め他の層の厚みに比べて充分に小さいものである。
Here, the optical recording medium of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.
<First embodiment>
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the optical recording medium in the first embodiment of the present invention. In the optical recording medium 21 according to the first embodiment, the servo pit pattern 3 is formed on the second substrate 1 made of polycarbonate resin or glass material, and the servo pit pattern 3 is coated with aluminum, gold, platinum, or the like. Thus, the reflective film 2 is provided. In FIG. 7, the servo pit pattern 3 is formed on the entire surface of the second substrate 1. However, it may be formed periodically as shown in FIG. The maximum height of the servo pit is 1,750 mm (175 nm), which is sufficiently smaller than the thickness of the other layers including the second substrate.

光吸収層9は、スクリーン印刷インキ等の材料を第二の基板1の反射膜2上にスクリーン印刷やスピンコート等により塗布して形成される。
光吸収層9上にはフィルタ層6が設けられ、該フィルタ層6の上に記録層4が設けられ、第一の基板5及び第二の基板1(ポリカーボネート樹脂基板やガラス基板)とによって、光吸収層9、フィルタ層6及び記録層4を挟むことによって光記録媒体21が構成される。
The light absorbing layer 9 is formed by applying a material such as screen printing ink on the reflective film 2 of the second substrate 1 by screen printing or spin coating.
A filter layer 6 is provided on the light absorption layer 9, a recording layer 4 is provided on the filter layer 6, and the first substrate 5 and the second substrate 1 (polycarbonate resin substrate or glass substrate) An optical recording medium 21 is configured by sandwiching the light absorption layer 9, the filter layer 6, and the recording layer 4.

図7において、フィルタ層6は、赤色光のみを透過し、それ以外の色の光を通さないものである。したがって、情報光、記録及び再生用参照光は緑色又は青色の光であるので、フィルタ層6を透過せず、反射膜2まで達することなく、戻り光となり、入出射面Aから出射することになる。
このフィルタ層6は、コレステリック液晶層6a、6b及び6cが3層積層された積層体である。このコレステリック液晶層の積層体であるフィルタ層6は、光吸収層9上に塗布によって直接形成してもよいし、基材上に4層積層したコレステリック液晶層を形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜いて配置してもよい。コレステリック液晶層を3層積層することによって、λ〜λ/cos20°、特にλ〜λ/cos40°(ただし、λは照射光波長を表す)における光反射率が40%以上となり、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることがなくなる。
光吸収層9は、コレステリック液晶層6a、6b及び6cのように3層形成された本形態では、第二の基板1とコレステリック液晶層6cとの間に形成され、前記コレステリック液晶層6cから漏れる情報光及び参照光を吸収するので、再生像に歪みは生ずることはない。
In FIG. 7, the filter layer 6 transmits only red light and does not transmit light of other colors. Therefore, since the information light, the recording and reproduction reference light are green or blue light, the light does not pass through the filter layer 6 and does not reach the reflection film 2 but becomes return light and is emitted from the incident / exit surface A. Become.
The filter layer 6 is a laminate in which three cholesteric liquid crystal layers 6a, 6b, and 6c are laminated. The filter layer 6 which is a laminate of the cholesteric liquid crystal layers may be directly formed on the light absorbing layer 9 by coating, or a film in which four cholesteric liquid crystal layers are laminated on a substrate is formed into an optical recording medium shape. It may be arranged by punching into By three-layer cholesteric liquid crystal layer, λ 0 ~λ 0 / cos20 ° , especially λ 0 0 / cos40 ° (However, lambda 0 represents a wavelength of the irradiated light) light reflectance is 40% or more in Even if the incident angle changes, the selective reflection wavelength does not shift.
In this embodiment in which the light absorption layer 9 is formed in three layers like the cholesteric liquid crystal layers 6a, 6b and 6c, it is formed between the second substrate 1 and the cholesteric liquid crystal layer 6c and leaks from the cholesteric liquid crystal layer 6c. Since the information light and the reference light are absorbed, the reproduced image is not distorted.

本第一の実施形態における光記録媒体21は、ディスク形状でもいいし、カード形状であってもよい。カード形状の場合にはサーボピットパターンは無くてもよい。また、この光記録媒体21では、第二の基板1は0.6mm、光吸収層9は100μm、フィルタ層6は2〜3μm、記録層4は0.6mm、第一の基板5は0.6mmの厚みであって、合計厚みは約1.93mmとなっている。
また、本第一の実施形態には、図6及び図8に示すように、フィルタ層6と記録層4との間に第二ギャップ層7を形成した光記録媒体22も含まれる。前記第二ギャップ層7は、情報光及び参照光のフォーカシングエリアをフォトポリマーで埋まっていると過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こり多重記録能が下がってしまうのを防止するために設けた層である。
The optical recording medium 21 in the first embodiment may be disk-shaped or card-shaped. In the case of a card shape, there is no need for the servo pit pattern. Further, in this optical recording medium 21, the second substrate 1 is 0.6 mm, the light absorption layer 9 is 100 μm, the filter layer 6 is 2 to 3 μm, the recording layer 4 is 0.6 mm, and the first substrate 5 is 0.2 mm. The thickness is 6 mm, and the total thickness is about 1.93 mm.
The first embodiment also includes an optical recording medium 22 in which a second gap layer 7 is formed between the filter layer 6 and the recording layer 4 as shown in FIGS. The second gap layer 7 is a layer provided to prevent the multiple recording ability from being reduced due to excessive consumption of monomer due to overexposure when the focusing area of the information light and the reference light is filled with a photopolymer. is there.

次に、図14を参照して、光記録媒体21周辺での光学的動作を説明する。まず、サーボ用レーザーから出射した光(赤色光)は、ダイクロイックミラー13でほぼ100%反射して、対物レンズ12を通過する。対物レンズ12によってサーボ用光は反射膜2上で焦点を結ぶように光記録媒体21に対して照射される。つまり、ダイクロイックミラー13は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ100%反射させるようになっている。光記録媒体21の光の入出射面Aから入射したサーボ用光は、第一の基板5、記録層4、フィルタ層6、及び光吸収層9を通過し、反射膜2で反射され、再度、光吸収層9、フィルタ層6、記録層4、及び第一の基板5を透過して入出射面Aから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ12を通過し、ダイクロイックミラー13でほぼ100%反射して、サーボ情報検出器(不図示)でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。記録層4を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層4を通過したり、サーボ用光が反射膜2で乱反射したとしても、記録層4には影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜2による戻り光は、ダイクロイックミラー13によってほぼ100%反射するようになっているので、サーボ用光が再生像検出のためのCMOSセンサ又はCCD14で検出されることはなく、回折光に対してノイズとなることもない。
なお、図10に示したλ〜1.3λの反射域は、λ=532nmのとき1.3λ=692nmとなり、サーボ光が655nmの場合はサーボ光を反射してしまう。ここに示すλ〜1.3λの範囲はフィルタ層における±40°入射光への適性であるが、実際にそうした大きな斜め光まで使用する場合は、入射角±20°以内のサーボ光をマスキングして使用すれば支障なくサーボ制御できる。また、使用するフィルタ層における各コレステリック液晶層の平均屈折率を十分大きくすれば、フィルタ層内での入射角を±20°以内で全て設計することも容易であり、その場合には図12に示すλ〜1.1λのコレステリック液晶層を2層積層することでよいので、サーボ光透過には全く支障がなくなる。
Next, the optical operation around the optical recording medium 21 will be described with reference to FIG. First, light (red light) emitted from the servo laser is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13 and passes through the objective lens 12. Servo light is applied to the optical recording medium 21 by the objective lens 12 so as to be focused on the reflective film 2. That is, the dichroic mirror 13 transmits light having a wavelength of green or blue, and reflects light having a wavelength of red by almost 100%. The servo light incident from the light incident / exit surface A of the optical recording medium 21 passes through the first substrate 5, the recording layer 4, the filter layer 6, and the light absorption layer 9, is reflected by the reflective film 2, and again The light absorption layer 9, the filter layer 6, the recording layer 4, and the first substrate 5 are transmitted through the incident / exit surface A. The returned return light passes through the objective lens 12, is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13, and servo information is detected by a servo information detector (not shown). The detected servo information is used for focus servo, tracking servo, slide servo, and the like. Since the hologram material constituting the recording layer 4 is not sensitive to red light, even if the servo light passes through the recording layer 4 or the servo light is irregularly reflected by the reflective film 2, the recording layer 4 is not affected. In addition, since the return light of the servo light reflected by the reflection film 2 is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13, the servo light is not detected by the CMOS sensor or the CCD 14 for detecting the reproduced image. There is no noise with respect to the diffracted light.
Note that the reflection range of λ 0 to 1.3λ 0 shown in FIG. 10 is 1.3λ 0 = 692 nm when λ 0 = 532 nm, and the servo light is reflected when the servo light is 655 nm. The range of λ 0 to 1.3λ 0 shown here is suitability for ± 40 ° incident light in the filter layer, but when actually using such a large oblique light, servo light with an incident angle within ± 20 ° is used. Servo control can be performed without hindrance if masked. If the average refractive index of each cholesteric liquid crystal layer in the filter layer to be used is sufficiently large, it is easy to design all the incident angles within ± 20 ° in the filter layer. Since two cholesteric liquid crystal layers of λ 0 to 1.1λ 0 shown in FIG.

また、記録用/再生用レーザーから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板16を通過して線偏光となりハーフミラー17を通過して1/4波長板15を通った時点で円偏光になる。ダイクロイックミラー13を透過し、対物レンズ12によって情報光と記録用参照光が記録層4内で干渉パターンを生成するように光記録媒体21に照射される。情報光及び記録用参照光は入出射面Aから入射し、記録層4で干渉し合って干渉パターンをそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は記録層4、フィルタ層6に入射するが、該フィルタ層6の底面までの間に反射されて戻り光となる。つまり、情報光と記録用参照光は反射膜2までは到達しない。フィルタ層6はコレステリック液晶層が3層積層され、赤色光のみを透過する性質を有するからである。フィルタ層6を漏れて通過する光があっても、光吸収層9により吸収されるので回折光へ混じることはなく、高品質の回折光が得られる。本第一の実施の形態において、図8に示すように、記録層4とフィルタ層6との間に第二ギャップ層7を設けることも有効である。前記第二ギャップ層を設けることにより、情報光及び参照光がフォーカシングするポイントの部分をフォトポリマーで埋めている場合の過剰露光がされた際のモノマーの過剰消費による多重記録能力が低下するという弊害を防止することができる。   The information light and the recording reference light generated from the recording / reproducing laser pass through the polarizing plate 16 to become linearly polarized light, pass through the half mirror 17 and pass through the quarter-wave plate 15 at a time. Become polarized. The optical recording medium 21 is irradiated with information light and recording reference light through the dichroic mirror 13 so as to generate an interference pattern in the recording layer 4 by the objective lens 12. The information light and the recording reference light are incident from the incident / exit surface A and interfere with each other in the recording layer 4 to generate an interference pattern there. Thereafter, the information light and the recording reference light enter the recording layer 4 and the filter layer 6, but are reflected between the bottom of the filter layer 6 and become return light. That is, the information light and the recording reference light do not reach the reflective film 2. This is because the filter layer 6 has three cholesteric liquid crystal layers stacked and has a property of transmitting only red light. Even if there is light that leaks through the filter layer 6, it is absorbed by the light absorption layer 9, so that it is not mixed with the diffracted light, and high-quality diffracted light is obtained. In the first embodiment, it is also effective to provide the second gap layer 7 between the recording layer 4 and the filter layer 6 as shown in FIG. The provision of the second gap layer has the adverse effect of reducing the multiplex recording capability due to excessive consumption of monomers when overexposure is performed when the portion where information light and reference light are focused is filled with a photopolymer. Can be prevented.

<第二の実施形態>
図9は、本発明の第二の実施形態における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この第二の実施形態に係る光記録媒体23では、ポリカーボネート樹脂又はガラス材料から第二の基板1にサーボピットパターン3が形成され、該サーボピットパターン3表面にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜2が設けられている。また、このサーボピットパターン3の高さは、通常1,750Å(175nm)である点については、第一の実施形態と同様である。
<Second Embodiment>
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the optical recording medium in the second embodiment of the present invention. In the optical recording medium 23 according to the second embodiment, the servo pit pattern 3 is formed on the second substrate 1 from a polycarbonate resin or a glass material, and the surface of the servo pit pattern 3 is coated with aluminum, gold, platinum, or the like. A reflective film 2 is provided. The servo pit pattern 3 has the same height as that of the first embodiment in that the height is usually 1,750 mm (175 nm).

第二の実施形態と第一の実施形態の構造の差異は、第二の実施形態に係る光記録媒体23では、第二の基板1とフィルタ層6との間に、第一ギャップ層8が設けられ、該第一ギャップ層8とフィルタ層6の間に光吸収層9が形成されていることである。即ち、第二の実施の形態では、第一ギャップ層8の一部が光吸収層9となっている点が、第一の実施の形態とは異なる。   The difference in structure between the second embodiment and the first embodiment is that, in the optical recording medium 23 according to the second embodiment, the first gap layer 8 is provided between the second substrate 1 and the filter layer 6. And a light absorption layer 9 is formed between the first gap layer 8 and the filter layer 6. That is, the second embodiment is different from the first embodiment in that a part of the first gap layer 8 is the light absorption layer 9.

コレステリック液晶層の3層積層体であるフィルタ層6は、第一ギャップ層8を形成した後、該第一ギャップ層8上に光吸収層9を形成し該光吸収層9上に形成され、前記第一実施形態と同様のものを用いて形成することができる。   The filter layer 6, which is a three-layer laminate of cholesteric liquid crystal layers, is formed on the light absorption layer 9 by forming the light absorption layer 9 on the first gap layer 8 after forming the first gap layer 8. It can form using the thing similar to said 1st embodiment.

第二ギャップ層7は、前述のように、記情報光及び参照光がフォーカシングするポイントが存在する。このエリアをフォトポリマーで埋めていると過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こり多重記録能が下がってしまう。そこで、無反応で透明な第二ギャップ層を設けることが有効となる。   As described above, the second gap layer 7 has a point where the information light and the reference light are focused. If this area is filled with a photopolymer, excessive consumption of monomers due to overexposure occurs, resulting in a decrease in multiple recording capability. Therefore, it is effective to provide a non-reactive and transparent second gap layer.

また、光記録媒体23では、第二の基板1は1.0mm、第一ギャップ層8は90μm、光吸収層9は、10μm、フィルタ層6は3〜5μm、第二ギャップ層7は100μm、記録層4は0.6mm、第一の基板5は0.4mmの厚みであって、合計厚みは約2.22mmとなっている。   In the optical recording medium 23, the second substrate 1 is 1.0 mm, the first gap layer 8 is 90 μm, the light absorption layer 9 is 10 μm, the filter layer 6 is 3 to 5 μm, the second gap layer 7 is 100 μm, The recording layer 4 has a thickness of 0.6 mm, the first substrate 5 has a thickness of 0.4 mm, and the total thickness is about 2.22 mm.

情報の記録又は再生を行う場合、このような構造を有する光記録媒体23に対して、赤色のサーボ用光及び緑色の情報光並びに記録及び再生用参照光が照射される。サーボ用光は、入出射面Aから入射し、記録層4、第二ギャップ層7、フィルタ層6、光吸収層9及び第一ギャップ層8を通過して反射膜2で反射して戻り光となる。この戻り光は、再度、第一ギャップ層8、光吸収層9、フィルタ層6、第二ギャップ層7、記録層4及び第一の基板5をこの順序で通過して、入出射面Aより出射する。出射した戻り光は、フォーカスサーボやトラッキングサーボ等に用いられる。記録層4を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層4を通過したり、サーボ用光が反射膜2で乱反射したとしても、記録層4には影響を与えない。緑色の情報光等は、入出射面Aから入射し、記録層4、第二ギャップ層7を通過して、フィルタ層6で反射して戻り光となる。この戻り光は、再度、第二ギャップ層7、記録層4及び第一の基板5をこの順序で通過して、入出射面Aより出射する。また、再生時についても再生用参照光はもちろん、再生用参照光を記録層4に照射することによって発生する回折光も反射膜2に到達せずに入出射面Aから出射する。なお、光記録媒体23周辺(図14における対物レンズ12、フィルタ層6、検出器たるCMOSセンサ又はCCD14)での光学的動作は、第一の実施形態(図7)と同様なので説明を省略する。 When recording or reproducing information, the optical recording medium 23 having such a structure is irradiated with red servo light, green information light, and recording and reproduction reference light. The servo light enters from the incident / exit surface A, passes through the recording layer 4, the second gap layer 7, the filter layer 6, the light absorption layer 9, and the first gap layer 8, and is reflected by the reflective film 2 to return light. It becomes. The return light again passes through the first gap layer 8, the light absorption layer 9, the filter layer 6, the second gap layer 7, the recording layer 4, and the first substrate 5 in this order, and from the incident / exit surface A. Exit. The emitted return light is used for focus servo, tracking servo, and the like. Since the hologram material constituting the recording layer 4 is not sensitive to red light, even if the servo light passes through the recording layer 4 or the servo light is irregularly reflected by the reflective film 2, the recording layer 4 is not affected. Green information light or the like enters from the incident / exit surface A, passes through the recording layer 4 and the second gap layer 7, is reflected by the filter layer 6, and becomes return light. The return light again passes through the second gap layer 7, the recording layer 4, and the first substrate 5 in this order, and is emitted from the incident / exit surface A. Also during reproduction, not only the reproduction reference light but also the diffracted light generated by irradiating the recording reference light with the reproduction reference light is emitted from the incident / exit surface A without reaching the reflection film 2. The optical operation in the vicinity of the optical recording medium 23 (the objective lens 12, the filter layer 6, the CMOS sensor or the CCD 14 as a detector in FIG. 14) is the same as in the first embodiment (FIG. 7), and the description thereof is omitted. .

(光記録媒体の製造方法)
本発明の光記録媒体の製造方法は、本発明の前記光記録媒体を製造する方法であって、光吸収層積層工程及びフィルタ層形成工程を少なくとも含んでなり、反射膜形成工程、記録層形成工程、第一ギャップ層形成工程、第二ギャップ層形成工程、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
(Method for producing optical recording medium)
The method for producing an optical recording medium of the present invention is a method for producing the optical recording medium of the present invention, comprising at least a light absorption layer laminating step and a filter layer forming step. A process, a 1st gap layer formation process, a 2nd gap layer formation process, and also the other process as needed.

−光吸収層積層工程−
前記光吸収層積層工程は、第二の基板上に、光吸収層材料を塗設することにより光吸収層を積層する工程である。また、前記第二の基板上に反射膜が形成されている場合には、該反射膜上に光吸収層を積層する。前記第二の基板上に第一ギャップ層が積層されている場合には、該第一ギャップ層上に光吸収層を積層する。
前記塗設方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層、コレステリック液晶層などの塗布に用いられる塗布方法などが挙げられる。前記塗布方法に用いられる塗布液としては、例えば、スクリーン印刷インキ(大日本インキ株式会社製マゼンタ)などが挙げられる。
前記光吸収層材料としては、前記光記録媒体の説明において述べたものを使用することができる。
-Light absorption layer lamination process-
The light absorption layer laminating step is a step of laminating the light absorption layer by coating the light absorption layer material on the second substrate. When a reflective film is formed on the second substrate, a light absorption layer is laminated on the reflective film. When the first gap layer is laminated on the second substrate, a light absorption layer is laminated on the first gap layer.
There is no restriction | limiting in particular as said coating method, According to the objective, it can select suitably, For example, the coating method etc. which are used for application | coating of the said recording layer, a cholesteric liquid crystal layer, etc. are mentioned. Examples of the coating solution used in the coating method include screen printing ink (magenta manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.).
As the light absorbing layer material, those described in the description of the optical recording medium can be used.

−フィルタ層形成工程−
前記フィルタ層形成工程は、前記光吸収層上に、前記ダイクロイックミラー層、色材含有層、誘電体蒸着層、コレステリック層などの少なくともいずれかを積層した積層体からなるフィルタ層を形成する工程である。
-Filter layer formation process-
The filter layer forming step is a step of forming a filter layer made of a laminate in which at least one of the dichroic mirror layer, a color material-containing layer, a dielectric vapor deposition layer, a cholesteric layer, and the like is laminated on the light absorption layer. is there.

前記フィルタ層形成工程としては、本発明の前記光記録媒体用フィルタを光記録媒体形状に加工し、該加工したフィルタを前記光吸収層に貼り合わせてフィルタ層を形成することが、生産性の点から好ましい。
前記光記録媒体の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、ディスク形状、カード形状、などが挙げられる。
前記加工としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プレスカッターによる切り出し加工、打ち抜きカッターによる打ち抜き加工、レーザーカッターによる焼き切り加工、などが挙げられる。
前記貼り合わせでは、例えば、接着剤、粘着剤、などを用いて気泡が入らないようにフィルタを基板に貼り付ける。
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、UV硬化型、エマルジョン型、一液硬化型、二液硬化型等の各種接着剤が挙げられ、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤、などが挙げられる。
As the filter layer forming step, the optical recording medium filter of the present invention is processed into an optical recording medium shape, and the processed filter is bonded to the light absorbing layer to form a filter layer. It is preferable from the point.
There is no restriction | limiting in particular as a shape of the said optical recording medium, According to the objective, it can select suitably, A disk shape, a card | curd shape, etc. are mentioned.
There is no restriction | limiting in particular as said process, According to the objective, it can select suitably, For example, the cutting process by a press cutter, the punching process by a punch cutter, the baking process by a laser cutter, etc. are mentioned.
In the bonding, for example, an adhesive, a pressure-sensitive adhesive, or the like is used to attach a filter to the substrate so that bubbles do not enter.
The adhesive is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include various adhesives such as a UV curable type, an emulsion type, a one-component curable type, and a two-component curable type, Known adhesives can be used in any combination.
There is no restriction | limiting in particular as said adhesive, According to the objective, it can select suitably, For example, a rubber adhesive, an acrylic adhesive, a silicone adhesive, a urethane adhesive, a vinyl alkyl ether adhesive , Polyvinyl alcohol pressure sensitive adhesive, polyvinyl pyrrolidone pressure sensitive adhesive, polyacrylamide pressure sensitive adhesive, cellulose pressure sensitive adhesive, and the like.

前記各コレステリック液晶層を積層する方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、(1)別個に作製された各コレステリック液晶層を、接着剤又は粘着剤を介して積層する方法、(2)別個に作製した前記コレステリック液晶層を熱圧着して積層する方法、(3)別個に作製された各コレステリック液晶層を界面の相溶により積層する方法、(4)塗布成膜されたコレステリック液晶層の上へ、さらにコレステリック液晶層を塗布成膜することにより積層する方法、(5)透明基材上に成膜されたコレステリック液晶層の上に、ポバール(ポリビニルアルコール:PVA)膜を塗設し、ラビング処理をした後、コレステリック液晶層を塗布して配向熟成処理する方法、などが挙げられる。これらの中でも、生産性及び経済性の点から、前記(5)の塗布方法が特に好ましい。   The method of laminating each cholesteric liquid crystal layer is not particularly limited and can be appropriately selected from known methods according to the purpose. For example, (1) each cholesteric liquid crystal layer produced separately is A method of laminating via an adhesive or a pressure-sensitive adhesive, (2) a method of laminating the separately prepared cholesteric liquid crystal layers by thermocompression bonding, and (3) each separately prepared cholesteric liquid crystal layer by interfacial compatibility. A method of laminating, (4) a method of laminating a cholesteric liquid crystal layer on a cholesteric liquid crystal layer formed by coating, and (5) a cholesteric liquid crystal layer deposited on a transparent substrate. On top of this, there is a method in which a poval (polyvinyl alcohol: PVA) film is applied and rubbed, and then a cholesteric liquid crystal layer is applied and an alignment aging treatment is performed. That. Among these, the coating method (5) is particularly preferable from the viewpoints of productivity and economy.

前記(1)の積層方法では、前記接着剤及び粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、UV硬化型接着剤、アクリル系粘着剤、などが好適である。前記接着剤又は前記粘着剤の塗布厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学特性や薄型化の観点から、接着剤の場合、0.1〜10μmが好ましく、0.1〜5μmがより好ましい。また、粘着剤の場合、1〜50μmが好ましく、2〜30μmがより好ましい。   In the laminating method (1), the adhesive and the pressure-sensitive adhesive are not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. For example, a UV curable adhesive and an acrylic pressure-sensitive adhesive are suitable. It is. The application thickness of the adhesive or the pressure-sensitive adhesive is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. From the viewpoint of optical properties and thinning, 0.1 to 10 μm is preferable in the case of an adhesive, 0.1-5 micrometers is more preferable. Moreover, in the case of an adhesive, 1-50 micrometers is preferable and 2-30 micrometers is more preferable.

前記(2)の積層方法では、前記熱圧着の方法としては、例えば、ヒートシール法、超音波法、インパルスシール法、高周波接合法、などが挙げられる。   In the laminating method (2), examples of the thermocompression bonding method include a heat sealing method, an ultrasonic method, an impulse sealing method, and a high frequency bonding method.

前記(3)の積層方法では、前記相溶の方法としては、例えば、前記コレステリック液晶層をわずかに溶解乃至膨潤させる溶媒を塗布し、界面の相溶により一体化させる方法等が挙げられる。
前記コレステリック液晶層をわずかに溶解乃至膨潤させる溶媒としては、例えば、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族類;メタノール、エタノール等のアルコール類;シクロヘキサン、シクロペンタン等の環状炭化水素;アセトン、メチルエチルケトン(MEK)等のケトン類;イソプロピルエーテル等のエーテル類;酢酸エチル等のエステル類;クロロホルム、ジクロロメタン等の塩素系溶媒、等が挙げられ、これらの中でも、トルエン、シクロヘキサン、シクロペンタン、メチルエチルケトン(MEK)、イソプロピルアルコールが特に好ましい。
In the layering method (3), examples of the compatibility method include a method of applying a solvent that slightly dissolves or swells the cholesteric liquid crystal layer and integrating them by compatibility at the interface.
Solvents that slightly dissolve or swell the cholesteric liquid crystal layer include, for example, aromatics such as toluene, benzene and xylene; alcohols such as methanol and ethanol; cyclic hydrocarbons such as cyclohexane and cyclopentane; acetone and methyl ethyl ketone ( Ketones such as MEK); ethers such as isopropyl ether; esters such as ethyl acetate; chlorinated solvents such as chloroform and dichloromethane; among these, toluene, cyclohexane, cyclopentane, methyl ethyl ketone (MEK) Isopropyl alcohol is particularly preferred.

前記(4)の積層方法では、前記塗布方法が用いられ、該塗布方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ダイコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法、などが挙げられる。
前記塗布方法によるコレステリック液晶層の形成は、例えば、前記コレステリック液晶層材料を溶剤に溶液(塗布液)を用いる(塗布し乾燥する)ことにより、好適に行うことができる。
更に必要に応じて塗布膜を紫外線硬化させる場合の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、照射紫外線は、160〜380nmが好ましく、250〜380nmがより好ましい。露光時間としては、例えば、露光照度が10mW/cmであれば、例えば、10〜600秒間が好ましく、10〜300秒間がより好ましい。また、露光照度を1mW/cmに減らす場合、通常、前記反応開始剤の量が増やしているので、露光時間としてはあまり変化せず、例えば、10〜600秒間が好ましく、10〜300秒間がより好ましい。
In the laminating method (4), the coating method is used, and the coating method is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, an inkjet method, a spin coating method, a kneader coating method , Bar coating method, die coating method, blade coating method, casting method, dipping method, curtain coating method, and the like.
Formation of the cholesteric liquid crystal layer by the coating method can be suitably performed, for example, by using a solution (coating liquid) in the cholesteric liquid crystal layer material as a solvent (coating and drying).
Furthermore, there are no particular limitations on the conditions for UV curing the coating film as necessary, and it can be appropriately selected according to the purpose. For example, the irradiation ultraviolet rays are preferably 160 to 380 nm, more preferably 250 to 380 nm. preferable. For example, when the exposure illuminance is 10 mW / cm 2 , the exposure time is preferably 10 to 600 seconds, and more preferably 10 to 300 seconds. Further, when the exposure illuminance is reduced to 1 mW / cm 2 , since the amount of the reaction initiator is usually increased, the exposure time does not change so much, for example, 10 to 600 seconds are preferable, and 10 to 300 seconds are preferable. More preferred.

前記(5)の積層方法では、前記透明基材の材料としては、無機材料及び有機材料のいずれでも用いることができる。前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコンなどが挙げられる。前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   In the lamination method (5), as the material for the transparent substrate, either an inorganic material or an organic material can be used. Examples of the inorganic material include glass, quartz, and silicon. Examples of the organic material include acetate resins such as triacetyl cellulose, polyester resins, polyethersulfone resins, polysulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, and acrylic resins. , Polynorbornene resins, cellulose resins, polyarylate resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polyacrylic resins, and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

(追加)
前記反射膜形成工程は、前記第二の基板上に、反射膜を形成する工程であり、材料、形成方法などの詳細は、前記光記録媒体の説明において述べたとおりである。
前記記録層形成工程は、前記フィルタ層上に、記録層を形成する工程であり、材料、形成方法などの詳細は、前記光記録媒体の説明において述べたとおりである。
前記第一ギャップ層形成工程は、前記第二の基板上に、第一ギャップ層を形成する工程であり、第二の基板上に、反射膜が形成されている場合は、該反射膜上に形成される。第一ギャップ層の材料、形成方法などの詳細は、前記光記録媒体の説明において述べたとおりである。
前記第二ギャップ層形成工程は、前記フィルタ層上に、第二ギャップ層を形成する工程であり、第二ギャップ層の材料、形成方法などの詳細は、前記光記録媒体の説明において述べたとおりである。
(add to)
The reflective film forming step is a step of forming a reflective film on the second substrate, and details of materials, forming methods, and the like are as described in the description of the optical recording medium.
The recording layer forming step is a step of forming a recording layer on the filter layer, and details of materials, forming methods and the like are as described in the description of the optical recording medium.
The first gap layer forming step is a step of forming a first gap layer on the second substrate. When a reflective film is formed on the second substrate, the first gap layer is formed on the reflective film. It is formed. Details of the material and the forming method of the first gap layer are as described in the description of the optical recording medium.
The second gap layer forming step is a step of forming a second gap layer on the filter layer, and details of the material and forming method of the second gap layer are as described in the description of the optical recording medium. It is.

(光記録方法及び光再生方法)
本発明の光記録方法は、本発明の前記光記録媒体に情報光及び参照光を同軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録する。
本発明の光再生方法は、本発明の前記光記録方法により記録層に記録された干渉パターンに再生光を照射して情報を再生する。
(Optical recording method and optical reproduction method)
In the optical recording method of the present invention, the optical recording medium of the present invention is irradiated with information light and reference light as a coaxial light beam, and information is recorded on the recording layer by an interference pattern due to interference between the information light and the reference light.
In the optical reproducing method of the present invention, information is reproduced by irradiating the interference pattern recorded on the recording layer with the reproducing light by the optical recording method of the present invention.

本発明の光記録方法及び光再生方法では、上述したように、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉パターンを利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す(再生する)際には、記録時と同様の配置で参照光(再生光)のみを記録層に照射することで、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する回折光として記録層から出射され、該回折光から情報を再生する。
ここで、本発明の光記録方法及び光再生方法は、以下に説明する本発明の光記録再生装置を用いて行われる。
In the optical recording method and the optical reproduction method of the present invention, as described above, the information light provided with a two-dimensional intensity distribution and the information light and the reference light having a substantially constant intensity are transferred into the photosensitive recording layer. Information is recorded by generating an optical characteristic distribution inside the recording layer by using the interference pattern formed by the above. On the other hand, when the written information is read (reproduced), the recording layer is irradiated with only the reference light (reproduced light) in the same arrangement as during recording, so that it corresponds to the optical characteristic distribution formed inside the recording layer. The diffracted light having the intensity distribution is emitted from the recording layer, and information is reproduced from the diffracted light.
Here, the optical recording method and the optical reproducing method of the present invention are performed using the optical recording / reproducing apparatus of the present invention described below.

本発明の光記録方法及び光再生方法に使用される光記録再生装置について図15を参照して説明する。
図15は、本発明の一実施形態に係る光記録再生装置の全体構成図である。なお、光記録再生装置は、光記録装置と光再生装置を含んでなる。
この光記録再生装置100は、光記録媒体21が取り付けられるスピンドル81と、このスピンドル81を回転させるスピンドルモータ82と、光記録媒体21の回転数を所定の値に保つようにスピンドルモータ82を制御するスピンドルサーボ回路83とを備えている。
また、光記録再生装置100は、光記録媒体21に対して情報光と記録用参照光とを照射して情報を記録すると共に、光記録媒体21に対して再生用参照光(再生光)を照射し、回折光を検出して、光記録媒体21に記録されている情報を再生するためのピックアップ31と、このピックアップ31を光記録媒体21の半径方向に移動可能とする駆動装置84とを備えている。
An optical recording / reproducing apparatus used in the optical recording method and the optical reproducing method of the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 15 is an overall configuration diagram of an optical recording / reproducing apparatus according to an embodiment of the present invention. The optical recording / reproducing apparatus includes an optical recording apparatus and an optical reproducing apparatus.
The optical recording / reproducing apparatus 100 controls a spindle 81 to which the optical recording medium 21 is attached, a spindle motor 82 for rotating the spindle 81, and the spindle motor 82 so as to keep the rotational speed of the optical recording medium 21 at a predetermined value. A spindle servo circuit 83.
The optical recording / reproducing apparatus 100 records information by irradiating the optical recording medium 21 with information light and recording reference light, and also reproduces reference light (reproducing light) for the optical recording medium 21. A pickup 31 for irradiating and detecting diffracted light to reproduce information recorded on the optical recording medium 21, and a drive device 84 that enables the pickup 31 to move in the radial direction of the optical recording medium 21. I have.

光記録再生装置100は、ピックアップ31の出力信号よりフォーカスエラー信号FE、トラッキングエラー信号TE、及び再生信号RFを検出するための検出回路85と、この検出回路85によって検出されるフォーカスエラー信号FEに基づいて、ピックアップ31内のアクチュエータを駆動して対物レンズ(不図示)を光記録媒体21の厚み方向に移動させてフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路86と、検出回路85によって検出されるトラッキングエラー信号TEに基づいてピックアップ31内のアクチュエータを駆動して対物レンズを光記録媒体21の半径方向に移動させてトラッキングサーボを行うトラッキングサーボ回路87と、トラッキングエラー信号TE及び後述するコントローラからの指令に基づいて駆動装置84を制御してピックアップ31を光記録媒体21の半径方向に移動させるスライドサーボを行うスライドサーボ回路88とを備えている。   The optical recording / reproducing apparatus 100 uses a detection circuit 85 for detecting a focus error signal FE, a tracking error signal TE, and a reproduction signal RF from an output signal of the pickup 31, and a focus error signal FE detected by the detection circuit 85. Based on this, the actuator in the pickup 31 is driven to move the objective lens (not shown) in the thickness direction of the optical recording medium 21 to perform focus servo, and the tracking error signal detected by the detection circuit 85. Based on TE, a tracking servo circuit 87 that drives an actuator in the pickup 31 to move the objective lens in the radial direction of the optical recording medium 21 to perform tracking servo, a tracking error signal TE, and a command from a controller to be described later. Drive 84 controlled by a and a slide servo circuit 88 for performing a slide servo for moving the pickup 31 in the radial direction of the optical recording medium 21.

光記録再生装置100は、更に、ピックアップ31内の後述するCMOS又はCCDアレイの出力データをデコードして、光記録媒体21のデータエリアに記録されたデータを再生したり、検出回路85からの再生信号RFより基本クロックを再生したりアドレスを判別したりする信号処理回路89と、光記録再生装置100の全体を制御するコントローラ90と、このコントローラ90に対して種々の指示を与える操作部91とを備えている。
コントローラ90は、信号処理回路89より出力される基本クロックやアドレス情報を入力すると共に、ピックアップ31、スピンドルサーボ回路83、及びスライドサーボ回路88等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路83は、信号処理回路89より出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ90は、CPU(中央処理装置)、ROM(リード オンリ メモリ)、及びRAM(ランダム アクセス メモリ)を有し、CPUが、RAMを作業領域として、ROMに格納されたプログラムを実行することによって、コントローラ90の機能を実現するようになっている。
The optical recording / reproducing apparatus 100 further decodes output data of a later-described CMOS or CCD array in the pickup 31 to reproduce data recorded in the data area of the optical recording medium 21 or reproduce from the detection circuit 85. A signal processing circuit 89 that reproduces a basic clock and discriminates an address from the signal RF, a controller 90 that controls the entire optical recording / reproducing apparatus 100, and an operation unit 91 that gives various instructions to the controller 90; It has.
The controller 90 inputs the basic clock and address information output from the signal processing circuit 89, and controls the pickup 31, spindle servo circuit 83, slide servo circuit 88, and the like. The spindle servo circuit 83 receives the basic clock output from the signal processing circuit 89. The controller 90 includes a CPU (Central Processing Unit), a ROM (Read Only Memory), and a RAM (Random Access Memory), and the CPU executes a program stored in the ROM using the RAM as a work area. The function of the controller 90 is realized.

本発明の光記録方法及び光再生方法に使用される光記録再生装置は、本発明の前記光記録媒体を用いているので、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、フィルタ層から漏れた光を光吸収層が吸収することにより、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止することができ、今までにない高密度記録を実現することができる。   Since the optical recording and reproducing apparatus used in the optical recording method and the optical reproducing method of the present invention uses the optical recording medium of the present invention, the selective reflection wavelength does not shift even if the incident angle changes. The light absorption layer absorbs light leaking from the filter layer, thereby preventing irregular reflection from the reflection film of the optical recording medium by information light and reference light, and preventing the generation of noise. Density recording can be realized.

以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
−光記録媒体用フィルタの作製−
基材として、ポリカーボネートフィルム(帝人化成(株)製)厚み80μmを用い、前記基材に、真空蒸着により、高屈折率の誘電体薄層と低屈折率の誘電体薄層とを交互に複数層積層し、誘電体蒸着層からなる光記録媒体用フィルタを作製した。
前記高屈折率の誘電体層の材料として、TiOを用い、前記低屈折率の誘電体薄層の材料として、SiOを用いて、DC酸素リアクティブスパッタリングにより、交互に9層(TiO/SiO/TiO/SiO/TiO/SiO/TiO/SiO/TiO)積層した。各層の厚みは、532nm/4nであり、nはTiOでは2.5、SiOでは1.5とした。
Example 1
-Production of filters for optical recording media-
A polycarbonate film (manufactured by Teijin Kasei Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm is used as the substrate, and a plurality of dielectric thin layers having a high refractive index and thin dielectric layers having a low refractive index are alternately formed on the substrate by vacuum deposition. The layers were laminated to produce a filter for an optical recording medium comprising a dielectric vapor deposition layer.
Nine layers (TiO 2) are alternately formed by DC oxygen reactive sputtering using TiO 2 as the material for the high refractive index dielectric layer and SiO 2 as the material for the low refractive index dielectric thin layer. / SiO 2 / TiO 2 / SiO 2 / TiO 2 / SiO 2 / TiO 2 / SiO 2 / TiO 2 ). The thickness of each layer was 532 nm / 4n, and n was 2.5 for TiO 2 and 1.5 for SiO 2 .

−光反射特性の評価−
得られた各光記録媒体用フィルタについて、光反射特性を分光反射測定器(光源として浜松ホトニクス株式会社製、L−5662、フォトマルチチャンネルアナライザーとして浜松ホトニクス株式会社製、PMA−11)を用いて測定した。
その結果、光記録媒体用フィルタは、入射角度±20°以内の光に対して選択波長である532nm光を40%以上反射できることが認められた。
-Evaluation of light reflection characteristics-
For each of the obtained filters for optical recording media, the light reflection characteristics were measured using a spectroscopic reflection measuring device (Hamamatsu Photonics, L-5562 as a light source, and Hamamatsu Photonics, PMA-11 as a photo multichannel analyzer). It was measured.
As a result, it was confirmed that the optical recording medium filter can reflect 40% or more of 532 nm light, which is the selected wavelength, with respect to light having an incident angle within ± 20 °.

−光記録媒体の作製−
第二の基板としては、直径120mm、板厚0.6mmのDVD+RW用に用いられている一般的なポリカーボネート樹脂製基板を使用した。この基板表面には、全面にわたってサーボピットパターンが形成されており、そのトラックピッチは0.74μmであり、溝深さは175nm、溝幅は300nmである。
まず、第二の基板のサーボピットパターン表面に反射膜を成膜した。反射膜材料にはアルミニウム(Al)を用いた。成膜はDCマグネトロンスパッタリング法により膜厚200nmのAl反射膜を成膜した。
-Production of optical recording media-
As the second substrate, a general polycarbonate resin substrate used for DVD + RW having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm was used. A servo pit pattern is formed on the entire surface of the substrate, the track pitch is 0.74 μm, the groove depth is 175 nm, and the groove width is 300 nm.
First, a reflective film was formed on the servo pit pattern surface of the second substrate. Aluminum (Al) was used as the reflective film material. A 200 nm-thick Al reflective film was formed by DC magnetron sputtering.

次に、前記反射膜上に、第一ギャップ層として、厚み90μmのポリカーボネートフィルムを紫外線硬化樹脂にて接着した。該第一ギャップ層上に、光吸収層材料として、マゼンタクリアからなるUV印刷インキ(大日本インキ株式会社製、DAICURE SSD TF106 PINK)を、スクリーン印刷機を用いて、厚み10μmの光吸収層を塗布することにより積層した。
なお、記録用の情報光及び参照光、並びに、再生用の再生光(第一の光)として、波長532nmのものを用い、サーボ用光(第二の光)として、650nmのものを用いるが、前記光吸収層における前記第一の光及び第二の光の光透過率を表1に示す。
なお、前記光透過率は、株式会社島津製作所製のUV130により測定した。
Next, a polycarbonate film having a thickness of 90 μm was adhered to the reflective film with an ultraviolet curable resin as a first gap layer. On the first gap layer, UV absorbing ink made of magenta clear (DAICURE SSD TF106 PINK) made of magenta clear is used as a light absorbing layer material, and a light absorbing layer having a thickness of 10 μm is formed using a screen printer. It laminated | stacked by apply | coating.
The recording information light and reference light, and the reproduction light (first light) for reproduction use light having a wavelength of 532 nm, and the servo light (second light) uses light of 650 nm. Table 1 shows light transmittances of the first light and the second light in the light absorption layer.
The light transmittance was measured by UV130 manufactured by Shimadzu Corporation.

次に、作製した光記録媒体用フィルタを前記基板に設置できるように所定のディスクサイズに打ち抜き、前記基材面に光吸収層側にして貼り付けた。貼り合わせには紫外線硬化性樹脂や粘着剤を用いて気泡が入らないようにして行った。以上によりフィルタ層を形成した。   Next, the produced optical recording medium filter was punched into a predetermined disk size so that it could be placed on the substrate, and was pasted on the base material surface so as to face the light absorption layer. The bonding was performed using an ultraviolet curable resin or an adhesive so that no air bubbles would enter. The filter layer was formed as described above.

−−フォトポリマー塗布液の調製−−
次に、記録層材料としては、下記組成のフォトポリマー塗布液を調製した。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・ジ(ウレタンアクリレート)オリゴマー(Echo Resins社製、
ALU−351)・・・59質量部
・イソボルニルアクリレート・・・30質量部
・ビニルベンゾエート・・・10質量部
・重合開始剤(チバスペシャルティケミカルズ社製、イルガキュア784)・・・1質量部
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
-Preparation of photopolymer coating liquid-
Next, as a recording layer material, a photopolymer coating solution having the following composition was prepared.
----------------------------------
・ Di (urethane acrylate) oligomer (manufactured by Echo Resins,
ALU-351) 59 parts by mass Isobornyl acrylate 30 parts by mass Vinyl benzoate 10 parts by mass Polymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals, Irgacure 784) 1 part by mass ----------------------------------

得られたフォトポリマー塗布液を前記フィルタ層上にディスペンサーを用いて盛りつけ、このフォトポリマー上に、直径12cm、厚み0.6mmのポリカーボネート樹脂製の第一の基板を押し付けながらディスク端部と該第一の基板を接着剤で貼り合せた。なお、ディスク端部には、該フォトポリマー層が厚み500μmとなるようにフランジ部が設けてあり、ここに、前記第一の基板を接着することによってフォトポリマー層の厚みは決定され、余分なフォトポリマーはあふれ出て、除去される。以上により、光記録媒体を作製した。なお、図7は、本実施例に類似の形態を示す概略断面図である。   The obtained photopolymer coating solution was placed on the filter layer using a dispenser, and a first substrate made of a polycarbonate resin having a diameter of 12 cm and a thickness of 0.6 mm was pressed onto the photopolymer while the end of the disc and the One substrate was bonded with an adhesive. Note that a flange portion is provided at the end of the disc so that the photopolymer layer has a thickness of 500 μm. The thickness of the photopolymer layer is determined by bonding the first substrate to the flange, and an extra portion is provided. The photopolymer overflows and is removed. Thus, an optical recording medium was produced. FIG. 7 is a schematic sectional view showing a form similar to the present embodiment.

<性能評価>
次に、得られた光記録媒体について、図15に示すような光記録再生装置に搭載して、実際に情報の記録及び再生を行い、再生像のエラー数(個/フレーム)、で評価した。結果を表1に示す。
<Performance evaluation>
Next, the obtained optical recording medium was mounted on an optical recording / reproducing apparatus as shown in FIG. 15, information was actually recorded and reproduced, and evaluated by the number of reproduced image errors (pieces / frame). . The results are shown in Table 1.

(実施例2)
実施例1において、光吸収層の厚みを5μmとし、第一ギャップ層の厚みを95μmとしたこと以外は、は実施例1と同様に実施例2の光記録媒体を作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示す。
(Example 2)
In Example 1, except that the thickness of the light absorption layer was 5 μm and the thickness of the first gap layer was 95 μm, an optical recording medium of Example 2 was produced in the same manner as in Example 1, and Evaluation was performed in the same manner. The results are shown in Table 1.

(実施例3)
実施例1において、光吸収層の厚みを20μmとし、第一ギャップ層の厚みを80μmとしたこと以外は、実施例1と同様に実施例2の光記録媒体を作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示す。
(Example 3)
In Example 1, the optical recording medium of Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the light absorption layer was 20 μm and the thickness of the first gap layer was 80 μm. Evaluated. The results are shown in Table 1.

(実施例4)
実施例1において、光吸収層の厚みを3μmとし、第一ギャップ層の厚みを10μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして、実施例4の光記録媒体を作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示す。
Example 4
In Example 1, the optical recording medium of Example 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the light absorption layer was 3 μm and the thickness of the first gap layer was 10 μm. And evaluated in the same manner. The results are shown in Table 1.

(比較例1)
実施例1において、光吸収層を形成せず、厚み100μmの第一ギャップ層のみを形成したこと以外は、実施例1と同様にして、比較例1の光記録媒体を作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
In Example 1, an optical recording medium of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the light absorption layer was not formed and only the first gap layer having a thickness of 100 μm was formed. It was evaluated in the same manner as above. The results are shown in Table 1.

Figure 2007102185
表1の結果から、実施例1〜実施例4の光記録媒体は、光吸収層を積層することで、誘電体蒸着層からなるフィルタ層で反射しきれなかった情報光及び参照光を効果的に吸収することができ、比較例1に対して、エラーが極めて少なく、ノイズの発生がなく、歪みのない高画質な再生像が得られることが判った。
Figure 2007102185
From the results shown in Table 1, the optical recording media of Examples 1 to 4 effectively stack information light and reference light that could not be reflected by the filter layer composed of the dielectric deposition layer by laminating the light absorption layer. As compared with Comparative Example 1, it was found that there was very little error, no noise was generated, and a high-quality reproduced image without distortion was obtained.

本発明の光記録媒体は、波長選択反射膜からなるフィルタ層から情報光及び参照光の光漏れが生じても、ノイズの発生を防止でき、高密度記録可能なホログラム型の各種光記録媒体として幅広く用いられる。
本発明の光記録媒体の製造方法は、ノイズの発生を防止でき、今までにない高密度画像記録が可能なホログラム型の各種光記録媒体の製造方法として好適に用いられる。
本発明の光記録方法は、ノイズの発生を防止でき、今までにない高密度画像記録が可能で、ホログラム型の各種光記録媒体の記録方法として好適に用いられる。
本発明の光再生方法は、ノイズの発生を防止でき、今までにない高密度画像の再生が可能で、ホログラム型の各種光記録媒体の再生方法として好適に用いられる。
The optical recording medium of the present invention is a hologram type optical recording medium capable of preventing noise from being generated and capable of high-density recording even if information light and reference light leak from a filter layer made of a wavelength selective reflection film. Widely used.
The method for producing an optical recording medium of the present invention can be suitably used as a method for producing various hologram type optical recording media capable of preventing the generation of noise and capable of recording an unprecedented high-density image.
The optical recording method of the present invention can prevent the generation of noise and can record an unprecedented high density image, and is suitably used as a recording method for various hologram type optical recording media.
The optical reproducing method of the present invention can prevent the generation of noise, can reproduce an unprecedented high density image, and is suitably used as a reproducing method for various hologram type optical recording media.

図1は、従来の光記録媒体の構造を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view showing the structure of a conventional optical recording medium. 図2は、従来のフィルタ層を有する光記録媒体の構造を示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing the structure of an optical recording medium having a conventional filter layer. 図3は、光記録媒体の情報光及びサーボ用光の照射を説明する概念図である。FIG. 3 is a conceptual diagram illustrating irradiation of information light and servo light on the optical recording medium. 図4は、従来の光記録媒体の光反射を説明する概念図である。FIG. 4 is a conceptual diagram illustrating light reflection of a conventional optical recording medium. 図5は、本発明による光記録媒体の光吸収層の機能を説明する概念図である。FIG. 5 is a conceptual diagram illustrating the function of the light absorption layer of the optical recording medium according to the present invention. 図6は、本発明による光記録媒体の一部を切り取った斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of a part of the optical recording medium according to the present invention. 図7は、本発明による第一の実施形態に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。FIG. 7 is a schematic sectional view showing an example of the optical recording medium according to the first embodiment of the present invention. 図8は、本発明による第一の実施形態に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。FIG. 8 is a schematic sectional view showing an example of the optical recording medium according to the first embodiment of the present invention. 図9は、本発明による第二の実施形態に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。FIG. 9 is a schematic sectional view showing an example of an optical recording medium according to the second embodiment of the present invention. 図10は、コレステリック液晶層を3層積層したフィルタの正面(0°)からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。FIG. 10 is a graph showing reflection characteristics with respect to incident light from the front (0 °) of a filter in which three cholesteric liquid crystal layers are laminated. 図11は、コレステリック液晶層を3層積層したフィルタ層内の40°傾斜方向からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。FIG. 11 is a graph showing reflection characteristics with respect to incident light from a 40 ° tilt direction in a filter layer in which three cholesteric liquid crystal layers are laminated. 図12は、コレステリック液晶層を2層積層したフィルタの正面(0°)からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。FIG. 12 is a graph showing reflection characteristics with respect to incident light from the front (0 °) of a filter in which two cholesteric liquid crystal layers are laminated. 図13は、コレステリック液晶層を2層積層したフィルタ層内の20°傾斜方向からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。FIG. 13 is a graph showing reflection characteristics with respect to incident light from a 20 ° tilt direction in a filter layer in which two cholesteric liquid crystal layers are laminated. 図14は、本発明による光記録媒体周辺の光学系の一例を示す説明図である。FIG. 14 is an explanatory diagram showing an example of an optical system around the optical recording medium according to the present invention. 図15は、本発明の光記録再生装置の全体構成の一例を表すブロック図である。FIG. 15 is a block diagram showing an example of the overall configuration of the optical recording / reproducing apparatus of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 第二の基板
2 反射膜
3 サーボピットパターン
4 記録層
5 第一の基板
6 フィルタ層
6a、6b、6c コレステリック液晶層
6d 4分の1波長板層
7 第二ギャップ層
8 第一ギャップ層
9 光吸収層
10 1/4波長板
12 対物レンズ
13 ダイクロイックミラー
14 検出器
15 1/4波長板
16 偏光板
17 ハーフミラー
20、20a、21、22、23 光記録媒体
31 ピックアップ
33 サーボ用光
35 情報光及び参照光
35a 反射光
81 スピンドル
82 スピンドルモータ
83 スピンドルサーボ回路
84 駆動装置
85 検出回路
86 フォーカスサーボ回路
87 トラッキングサーボ回路
88 スライドサーボ回路
89 信号処理回路
90 コントローラ
91 操作部
100 光記録再生装置
A 入出射面
FE フォーカスエラー信号
TE トラッキングエラー信号
RF 再生信号
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 2nd board | substrate 2 Reflecting film 3 Servo pit pattern 4 Recording layer 5 1st board | substrate 6 Filter layer 6a, 6b, 6c Cholesteric liquid crystal layer 6d Quarter wave plate layer 7 Second gap layer 8 First gap layer 9 Light absorbing layer 10 1/4 wavelength plate 12 Objective lens 13 Dichroic mirror 14 Detector 15 1/4 wavelength plate 16 Polarizing plate 17 Half mirror 20, 20a, 21, 22, 23 Optical recording medium 31 Pickup 33 Light for servo 35 Information Light and reference light 35a Reflected light 81 Spindle 82 Spindle motor 83 Spindle servo circuit 84 Drive device 85 Detection circuit 86 Focus servo circuit 87 Tracking servo circuit 88 Slide servo circuit 89 Signal processing circuit 90 Controller 91 Operation unit 100 Optical recording / reproducing device A Input Outgoing surface FE Focus Error signal TE tracking error signal RF playback signal

Claims (14)

第一の基板と、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、フィルタ層と、光吸収層と、第二の基板とをこの順に有することを特徴とする光記録媒体。   An optical recording medium comprising a first substrate, a recording layer for recording information using holography, a filter layer, a light absorption layer, and a second substrate in this order. 光吸収層が、350nm以上600nm未満のいずれかの波長の第一の光を吸収し、600〜900nmのいずれかの波長の第二の光を透過する請求項1に記載の光記録媒体。   The optical recording medium according to claim 1, wherein the light absorption layer absorbs first light having any wavelength of 350 nm or more and less than 600 nm and transmits second light having any wavelength of 600 to 900 nm. 光吸収層の組成物が、色素及び顔料のいずれかを含み、該色素及び顔料が、シアニン色素、フタロシアニン色素、及びアゾ色素の少なくともいずれかを含む請求項1から2のいずれかに記載の光記録媒体。   The light according to any one of claims 1 to 2, wherein the composition of the light absorption layer includes any one of a dye and a pigment, and the dye and the pigment include at least one of a cyanine dye, a phthalocyanine dye, and an azo dye. recoding media. 光吸収層の厚みが、0.1〜200μmである請求項1から3のいずれかに記載の光記録媒体。   The optical recording medium according to claim 1, wherein the light absorption layer has a thickness of 0.1 to 200 μm. 光吸収層が、第一の光に対する光透過率が、0.001〜50%であり、かつ第二の光に対する光透過率が、50〜100%である請求項1から4のいずれかに記載の光記録媒体。   5. The light absorption layer according to claim 1, wherein the light transmittance for the first light is 0.001 to 50%, and the light transmittance for the second light is 50 to 100%. The optical recording medium described. 光吸収層と第二の基板との間に、ギャップ層を有する請求項1から5のいずれかに記載の光記録媒体。   6. The optical recording medium according to claim 1, further comprising a gap layer between the light absorption layer and the second substrate. 光吸収層及びギャップ層の合計厚みが、1〜200μmである請求項1から6のいずれかに記載の光記録媒体。   The optical recording medium according to claim 1, wherein the total thickness of the light absorption layer and the gap layer is 1 to 200 μm. フィルタ層が、第一の光を反射し、該第一の光と異なる第二の光を透過する請求項1から7のいずれかに記載の光記録媒体。   The optical recording medium according to claim 1, wherein the filter layer reflects the first light and transmits a second light different from the first light. フィルタ層が、色材含有層、誘電体蒸着層及びコレステリック液晶層の少なくともいずれかからなる請求項1から8のいずれかに記載の光記録媒体。   The optical recording medium according to any one of claims 1 to 8, wherein the filter layer comprises at least one of a colorant-containing layer, a dielectric vapor deposition layer, and a cholesteric liquid crystal layer. 第一の基板が、サーボピットパターンを有する請求項1から9のいずれかに記載の光記録媒体。   The optical recording medium according to claim 1, wherein the first substrate has a servo pit pattern. 請求項1から10のいずれかに記載の光記録媒体を製造する方法であって、第二の基板上に、光吸収層を積層する光吸収層積層工程と、該光吸収層上に、フィルタ層を形成するフィルタ層形成工程とを少なくとも含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。   11. A method for producing an optical recording medium according to claim 1, wherein a light absorbing layer laminating step of laminating a light absorbing layer on a second substrate, and a filter on the light absorbing layer. A method for producing an optical recording medium, comprising at least a filter layer forming step of forming a layer. 請求項1から10のいずれかに記載の光記録媒体に対し、情報光及び参照光の照射を、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行い、前記情報光と前記参照光との干渉により生成される干渉パターンによって情報を記録層に記録することを特徴とする光記録方法。   Irradiation of information light and reference light to the optical recording medium according to any one of claims 1 to 10 is performed so that an optical axis of the information light and an optical axis of the reference light are coaxial, An optical recording method, wherein information is recorded on a recording layer by an interference pattern generated by interference between information light and the reference light. 請求項12に記載の光記録方法により記録層に記録された干渉パターンに、参照光と同じ再生光を照射して記録情報を再生することを特徴とする光再生方法。   13. An optical reproducing method, wherein the recorded information is reproduced by irradiating the interference pattern recorded on the recording layer by the optical recording method according to claim 12 with the same reproducing light as the reference light. 再生光が、光記録媒体の記録に用いられた参照光と同じ角度になるようにして、該再生光を干渉パターンに照射して記録情報を再生する請求項13に記載の光再生方法。
The optical reproduction method according to claim 13, wherein the reproduction information is reproduced by irradiating the reproduction light on the interference pattern so that the reproduction light has the same angle as the reference light used for recording on the optical recording medium.
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