JP2007073194A - Direct backlight device and thin display device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a direct backlight device capable of enhancing directivity of light emitted from respecting light emitting areas when a strip-like luminance distribution is provided in a display screen of a liquid crystal display device by forming the plurality of light emitting areas with a plurality of light sources and independently controlling luminance of the respective light emitting areas, high in luminance uniformity in the display screen of the liquid crystal display device when all the light emitting areas are lit, and having a simple structure. <P>SOLUTION: A plurality of cylindrical light sources 2 capable of forming a plurality of light emitting areas, and allowing luminance of the respective light emitting areas to be independently adjusted are arranged in parallel with each other between a diffusion layer 4 for diffusing and emitting light entered therein and a planar reflecting plate 3a for reflecting light which are arranged oppositely to each other; reflecting walls 5 each having a height in the normal direction from the reflecting plate 3a is mounted on the reflecting plate 3a so as to be positioned between the cylindrical light sources 2 when viewed from a plane parallel with the reflecting plate 3a; the height (e) of the reflecting wall 5 located at both ends is set smaller than the height (d) of the reflecting walls 5 located at positions other than both the ends. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、独立に輝度調整が可能な複数の円柱光源を備えた直下型バックライト装置の構造およびこの直下型バックライト装置を用いた液晶TV、液晶モニタ等の薄型表示装置に関するものである。   The present invention relates to a structure of a direct type backlight device including a plurality of cylindrical light sources capable of independently adjusting brightness, and a thin display device such as a liquid crystal TV and a liquid crystal monitor using the direct type backlight device.

従来の液晶表示装置に用いる直下型バックライト装置においては、液晶表示装置を使用する時には常に全光源を点灯しているため、例えば表示画面内の大部分を暗い領域が占める画像を表示する際には白浮きするなど、コントラストが十分に取れないという問題があった。   In a direct backlight device used in a conventional liquid crystal display device, all light sources are always turned on when the liquid crystal display device is used. For example, when displaying an image in which a dark region occupies most of the display screen. There was a problem that the contrast could not be taken sufficiently, such as white floating.

また、液晶表示装置の表示画面内の平均輝度に応じて、全光源の輝度の調整を行った場合でも、コントラストの向上は得られないという問題があった。例えば、表示画面内の大部分を暗い領域が占める場合、全光源の輝度を低下させることにより見かけ上のコントラストの向上を図ることは可能である。しかし、明るい領域も暗い領域と同レベルの輝度調整が行われるため、表示画面内の相対輝度は変化せず、事実上コントラストは向上しない。   Further, there is a problem that the contrast cannot be improved even when the luminance of all light sources is adjusted according to the average luminance in the display screen of the liquid crystal display device. For example, when a dark region occupies most of the display screen, it is possible to improve the apparent contrast by reducing the luminance of all light sources. However, since the brightness adjustment of the bright area is performed at the same level as that of the dark area, the relative brightness in the display screen does not change, and the contrast is not effectively improved.

上述のような課題を解決するために、液晶表示装置のバックライトが複数の発光領域を有し、これらの各発光領域には蛍光ランプが設けられ、各蛍光ランプを1本ずつ順次点灯および消灯させる液晶表示装置が開示されている(例えば、特許文献1参照)。   In order to solve the above-described problems, the backlight of the liquid crystal display device has a plurality of light emitting regions, and each of these light emitting regions is provided with a fluorescent lamp, and each fluorescent lamp is sequentially turned on and off one by one. A liquid crystal display device is disclosed (for example, see Patent Document 1).

このような装置では、複数の円柱光源を各発光領域に分割し、各発光領域の輝度を独立に調整することにより、表示画面内に帯状の輝度分布を持たせ、表示画面内のコントラストを向上させることができる。例えば、液晶表示装置の表示画面内の大部分を暗い領域が占める場合、暗い領域の輝度のみ低下させ、明るい領域の輝度を変化させないことにより、液晶表示装置の表示画面内のコントラストは向上する。ここでは、この各発光領域の円柱光源を輝度調整することにより表示画面内に帯状の輝度分布を持たせることを帯状制御と呼ぶ。   In such a device, a plurality of cylindrical light sources are divided into each light emitting area, and the brightness of each light emitting area is adjusted independently, thereby providing a band-like luminance distribution in the display screen and improving the contrast in the display screen. Can be made. For example, when a dark region occupies most of the display screen of the liquid crystal display device, only the brightness of the dark region is reduced and the brightness of the bright region is not changed, thereby improving the contrast in the display screen of the liquid crystal display device. Here, providing the striped luminance distribution in the display screen by adjusting the luminance of the cylindrical light source in each light emitting region is referred to as strip-shaped control.

帯状制御を行う場合、発光領域から射出される光の指向性が低いと、発光領域外に光が分散し、消灯している他の領域で光が重畳するため、表示画面内のコントラストが低下する。一方、各発光領域から射出される光の指向性が高いと、消灯している他の領域に光が分散しないため、表示画面内のコントラストが向上する。ここで、指向性とは各発光領域の表示画面上における輝度分布の広がりを示し、輝度分布の広がりが狭くなることを指向性が高くなるという。   When performing strip-shaped control, if the directivity of light emitted from the light emitting area is low, the light is dispersed outside the light emitting area, and light is superimposed on other areas that are turned off, so the contrast in the display screen decreases. To do. On the other hand, when the directivity of the light emitted from each light emitting area is high, the light is not dispersed in other areas that are turned off, so that the contrast in the display screen is improved. Here, the directivity indicates the spread of the luminance distribution on the display screen of each light emitting area, and the directivity increases when the spread of the luminance distribution becomes narrow.

帯状制御を行う場合に各発光領域の指向性を高めるために、特許文献2では、基板に複数の放物面を設け、それぞれの放物面によって規定される空間内に複数の光源を設け、この光源上に遮光層を設けた直下型バックライト装置が開示されている。なお、遮光層は、光源の放物面開口部に面した表面上に形成される。これにより、光源から開口部の方向に発せられる光を遮り、指向性の高い、明るい照明手段を提供できる。   In order to increase the directivity of each light emitting region when performing strip-shaped control, in Patent Document 2, a plurality of paraboloids are provided on a substrate, and a plurality of light sources are provided in a space defined by each paraboloid, A direct type backlight device in which a light shielding layer is provided on the light source is disclosed. The light shielding layer is formed on the surface facing the parabolic opening of the light source. Thereby, the light emitted from the light source in the direction of the opening can be blocked, and a bright illumination means with high directivity can be provided.

特開平11−202286号公報(第4頁、図1)Japanese Patent Laid-Open No. 11-202286 (page 4, FIG. 1) 特開2002−278470号公報(第5頁、図3)JP 2002-278470 A (5th page, FIG. 3)

しかし、特許文献2に開示されている直下型バックライト装置は、構造が複雑なため、製造が困難な上、コストが高くなるという問題がある。また、全発光領域を点灯させた場合に、表示画面において各放物面の接触部が局所的な暗部となり、表示画面内の輝度均一性が悪くなるという問題がある。なお、この暗部による問題を解決するには、放物面と光拡散板との間隔を広くしたり、光拡散板を多数用いたりして、暗部を拡散させる等の対処が必要であり、装置の厚型化、光学部材の増加等の別の問題が発生する。   However, the direct type backlight device disclosed in Patent Document 2 has a problem in that it is difficult to manufacture and has a high cost due to its complicated structure. Further, when all the light emitting areas are turned on, there is a problem that the contact portion of each paraboloid becomes a local dark portion on the display screen, and the luminance uniformity in the display screen is deteriorated. In order to solve the problem caused by the dark part, it is necessary to take measures such as widening the distance between the paraboloid and the light diffusing plate or using a large number of light diffusing plates to diffuse the dark part. Other problems such as thickening of the substrate and an increase in optical members occur.

この発明は、上述のような問題を解消するためになされたもので、帯状制御を行う場合に、各発光領域から射出される光の指向性を高めるとともに、全発光領域を点灯させたときの液晶表示装置の表示画面内の輝度均一性が高く、単純な構造の直下型バックライト装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems. When performing strip-shaped control, the directivity of light emitted from each light emitting area is improved and all the light emitting areas are turned on. An object of the present invention is to provide a direct type backlight device having a simple structure with high luminance uniformity in the display screen of a liquid crystal display device.

この発明に係る直下型バックライト装置は、拡散層と反射板との間に、独立に輝度調節が可能な複数本の円柱光源を平行に配列し、反射板から法線方向に高さを持つ反射壁を、円柱光源の間に位置するよう反射板上に配置し、複数配置された反射壁の内、両端に位置する反射壁の高さが両端以外に位置する反射壁の高さより低いことを特徴とする。   In the direct type backlight device according to the present invention, a plurality of cylindrical light sources capable of independently adjusting brightness are arranged in parallel between the diffusion layer and the reflecting plate, and have a height in the normal direction from the reflecting plate. The reflecting wall is arranged on the reflecting plate so as to be positioned between the cylindrical light sources, and the height of the reflecting walls located at both ends of the plurality of reflecting walls is lower than the height of the reflecting wall located at other than both ends. It is characterized by.

また、この発明に係る直下型バックライト装置は、拡散層と反射板との間に、独立に輝度調節が可能な複数本の円柱光源を平行に配列し、反射板から法線方向に高さを持つ反射壁を、円柱光源の間に位置するよう反射板上に配置し、全ての反射壁の高さは反射板と円柱光源との最短距離と円柱光源の管径との和以下であることを特徴とする。   In the direct type backlight device according to the present invention, a plurality of cylindrical light sources capable of independently adjusting the brightness are arranged in parallel between the diffusion layer and the reflecting plate, and the height from the reflecting plate in the normal direction is set. A reflecting wall having a thickness of 2 is placed on the reflecting plate so as to be positioned between the cylindrical light sources, and the height of all the reflecting walls is equal to or less than the sum of the shortest distance between the reflecting plate and the cylindrical light source and the tube diameter of the cylindrical light source. It is characterized by that.

この発明によれば、帯状制御を用いる場合において、液晶表示装置のコントラストが向上し、かつ表示画面内の輝度均一性が高い、単純な構造の直下型バックライト装置を実現できる。   According to the present invention, when the strip-like control is used, it is possible to realize a direct type backlight device having a simple structure in which the contrast of the liquid crystal display device is improved and the luminance uniformity in the display screen is high.

この発明に係る直下型バックライト装置は、平行に配列された円柱光源を備えたあらゆるバックライト装置に適用することができるが、以降では液晶パネルを備えた液晶表示装置に適用した場合を想定し、液晶表示装置において一般的である冷陰極管を円柱光源として使用する場合について説明する。   The direct type backlight device according to the present invention can be applied to any backlight device including columnar light sources arranged in parallel, but hereinafter, it is assumed to be applied to a liquid crystal display device including a liquid crystal panel. A case where a cold cathode tube that is common in a liquid crystal display device is used as a cylindrical light source will be described.

実施の形態1.
図1は、この発明の実施の形態1に係る直下型バックライト装置1(以降、本装置1と称す)の基本構成を示す概略構成図である。なお、この実施の形態1全体において、説明の便宜上、図1(a)に示すように紙面向かって左右の方向をX方向または縦方向、紙面に垂直な方向をY方向または横方向、紙面向かって上下の方向をZ方向または上下方向とする。本装置1は、独立に輝度調節が可能な円柱光源である冷陰極管2、反射板3、拡散層4および反射壁5から構成され、本装置1のX−Y平面における大きさは、対角約30インチ(縦 384mm×横 644mm)である。なお、反射板3の底面部3aと拡散層4は所定距離だけ離れて対面し、反射板3の底面部3aと拡散層4との間に冷陰極管2が位置している。
Embodiment 1 FIG.
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a basic configuration of a direct type backlight device 1 (hereinafter referred to as the present device 1) according to Embodiment 1 of the present invention. In the entire embodiment 1, for convenience of explanation, as shown in FIG. 1 (a), the left and right directions with respect to the paper surface are the X direction or the vertical direction, the direction perpendicular to the paper surface is the Y direction or the horizontal direction, and the paper surface. Thus, the vertical direction is defined as the Z direction or the vertical direction. The apparatus 1 includes a cold cathode tube 2, which is a cylindrical light source capable of independently adjusting the brightness, a reflector 3, a diffusion layer 4, and a reflecting wall 5. The size of the apparatus 1 in the XY plane is The angle is about 30 inches (length 384 mm × width 644 mm). The bottom surface portion 3 a of the reflector 3 and the diffusion layer 4 face each other with a predetermined distance, and the cold cathode tube 2 is located between the bottom surface portion 3 a of the reflection plate 3 and the diffusion layer 4.

冷陰極管2は、管径が4mmであり、Y方向を長手方向として16本が平行に配列され、光を射出する。また、この実施の形態1では、2本の冷陰極管2を1ユニットとして8ユニットが形成され、ユニット毎にインバータ制御を行う。   The cold cathode tubes 2 have a tube diameter of 4 mm, 16 are arranged in parallel with the Y direction as the longitudinal direction, and emit light. In the first embodiment, eight units are formed with two cold cathode tubes 2 as one unit, and inverter control is performed for each unit.

反射板3は、底面部3aと側面部3bから構成されており、冷陰極管2から射出される光を拡散層4に向け反射する。反射板3のうち、底面部3aは冷陰極管2の下面にX−Y平面に平行に配置され、側面部3bは底面部3aと角度α=60°をなして傾斜して配置されている。   The reflecting plate 3 is composed of a bottom surface portion 3 a and a side surface portion 3 b and reflects light emitted from the cold cathode tube 2 toward the diffusion layer 4. Of the reflector 3, the bottom surface portion 3a is disposed on the lower surface of the cold cathode tube 2 in parallel with the XY plane, and the side surface portion 3b is disposed at an angle α = 60 ° with respect to the bottom surface portion 3a. .

拡散層4は、厚さ約2mmの光拡散板の上に厚さ約0.2mmの集光型の拡散シート2枚を重ねたものであり、冷陰極管2の上面にX−Y平面に平行に配置されている。拡散層4は、冷陰極管2を間にして反射板3の底面部3aと向かい合っており、冷陰極管2から射出された光のうち、拡散層4の方向へ直接向かう光、および反射板3の底面部3aと側面部3bとにより拡散層4の方向へ反射された光は、この拡散層4に入射した後、拡散シートを通過しながら拡散され、更に拡散層4の上方に配置された液晶パネル(図示せず)に向かう。   The diffusion layer 4 is a light diffusion plate having a thickness of about 2 mm and two light-concentrating diffusion sheets having a thickness of about 0.2 mm stacked on the upper surface of the cold cathode tube 2 in an XY plane. They are arranged in parallel. The diffusion layer 4 faces the bottom surface portion 3a of the reflector 3 with the cold cathode tube 2 in between, and the light directly emitted in the direction of the diffusion layer 4 out of the light emitted from the cold cathode tube 2, and the reflector The light reflected in the direction of the diffusion layer 4 by the bottom surface portion 3a and the side surface portion 3b of 3 is incident on the diffusion layer 4, is diffused while passing through the diffusion sheet, and is further disposed above the diffusion layer 4. Head to the LCD panel (not shown).

反射壁5は、冷陰極管2からなる各ユニット間の中央に位置する平面で、反射板3の底面部3aに直立して、つまりY−Z平面に平行に配置されている。具体的には、反射壁5は、反射板3の底面部3aから法線方向に所定の高さを持ち且つY方向に延在する、薄い板状の部材であり、表面には冷陰極管2から射出された光を反射する反射膜がコーティングされている。従って、冷陰極管2から射出された光は、反射板3に加え、反射壁5にも反射される。また、本装置1には複数枚の反射壁5が設置され、複数の発光領域のそれぞれを仕切るように配置されている。この実施の形態1では、反射壁5により区切られた8つのユニットを発光領域E1〜E8とする。この発光領域E1〜E8のX方向の間隔はそれぞれ48mmである。   The reflecting wall 5 is a flat surface located at the center between the respective units composed of the cold cathode fluorescent lamps 2 and is disposed upright on the bottom surface portion 3a of the reflecting plate 3, that is, parallel to the YZ plane. Specifically, the reflecting wall 5 is a thin plate-like member having a predetermined height in the normal direction from the bottom surface portion 3a of the reflecting plate 3 and extending in the Y direction. A reflective film that reflects the light emitted from 2 is coated. Therefore, the light emitted from the cold cathode fluorescent lamp 2 is reflected by the reflection wall 5 in addition to the reflection plate 3. In addition, a plurality of reflection walls 5 are installed in the apparatus 1 and are arranged so as to partition each of the plurality of light emitting regions. In the first embodiment, eight units divided by the reflecting wall 5 are defined as light emitting areas E1 to E8. The intervals in the X direction of the light emitting areas E1 to E8 are 48 mm, respectively.

図1(a)では、冷陰極管2の反射板3の底面部3aに最も近い位置までの反射板3の底面部3aから法線方向の間隔、つまり反射板3の底面部3aと冷陰極管2との最短距離をa、冷陰極管2の管径をb、冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置までの拡散層4から法線方向の間隔、つまり拡散層4と冷陰極管2との最短距離をc、複数の反射壁5のうち各発光領域E2〜E7を仕切る反射壁5、つまり両端以外に位置する反射壁5の高さをd、発光領域E1とE2、およびE7とE8を仕切る反射壁5、つまり両端に位置する反射壁5の高さをe、反射板3の底面部3aと反射板3の側面部3bとのなす角度をαと記している。本装置1においては、aは4mm、bは前述の通り4mm、cは18mm、αは前述の通り60°である。   In FIG. 1A, the distance in the normal direction from the bottom surface portion 3a of the reflector 3 to the position closest to the bottom surface portion 3a of the reflector 3 of the cold cathode tube 2, that is, the bottom surface portion 3a of the reflector 3 and the cold cathode. The shortest distance from the tube 2 is a, the tube diameter of the cold cathode tube 2 is b, and the distance from the diffusion layer 4 to the normal line to the position closest to the diffusion layer 4 of the cold cathode tube 2, that is, the diffusion layer 4 and the cold cathode. C is the shortest distance from the tube 2, d is the height of the reflecting wall 5 that partitions the light emitting regions E2 to E7 among the plurality of reflecting walls 5, that is, the reflecting walls 5 located at both ends, and the light emitting regions E1 and E2. The height of the reflecting wall 5 that partitions E7 and E8, that is, the height of the reflecting wall 5 located at both ends is denoted by e, and the angle formed by the bottom surface portion 3a of the reflecting plate 3 and the side surface portion 3b of the reflecting plate 3 is denoted by α. In the present apparatus 1, a is 4 mm, b is 4 mm as described above, c is 18 mm, and α is 60 ° as described above.

次に、図2および図3を用いて、冷陰極管2から射出する光の軌跡に対する反射壁5の作用を説明する。
図2は、図1(a)の本装置1において、反射壁5を備えない場合の1ユニットの拡大図であり、従来の一般的な直下型バックライト装置を表すものとする。図2において、一対の冷陰極管2が反射板3の底面部3aと拡散層4に対し並設されており、201〜204は冷陰極管2から射出された光の軌跡を示す。
Next, the action of the reflecting wall 5 on the locus of light emitted from the cold cathode tube 2 will be described with reference to FIGS. 2 and 3.
FIG. 2 is an enlarged view of one unit when the reflection wall 5 is not provided in the apparatus 1 of FIG. 1A, and represents a conventional general direct type backlight apparatus. In FIG. 2, a pair of cold cathode tubes 2 are arranged in parallel with respect to the bottom surface portion 3 a of the reflector 3 and the diffusion layer 4, and 201 to 204 indicate the trajectories of light emitted from the cold cathode tubes 2.

図2において、冷陰極管2から射出された光は201や204のように反射板3の底面部3aで反射した後、または202や203のように直接拡散層4に向かい、X方向に大きく分散した後、拡散層4に到達する。   In FIG. 2, the light emitted from the cold cathode tube 2 is reflected by the bottom surface portion 3a of the reflector 3 as 201 and 204, or directly toward the diffusion layer 4 as 202 and 203, and greatly increases in the X direction. After the dispersion, the diffusion layer 4 is reached.

図3は、図1(a)の本装置1において、反射壁5を備えた場合の1ユニットの拡大図であり、図2のように設置した一対の冷陰極管2に加え、この一対の冷陰極管2のX方向における外側に反射壁5を1枚ずつ設けている。所定の高さを持った2枚の反射壁5は、反射板3の底面部3aに直立するように設置されている。図3における301〜306は冷陰極管2から射出された光の軌跡を示す。   FIG. 3 is an enlarged view of one unit when the reflection wall 5 is provided in the apparatus 1 of FIG. 1A. In addition to the pair of cold cathode tubes 2 installed as shown in FIG. One reflection wall 5 is provided outside the cold cathode tube 2 in the X direction. The two reflecting walls 5 having a predetermined height are installed so as to stand upright on the bottom surface portion 3 a of the reflecting plate 3. Reference numerals 301 to 306 in FIG. 3 indicate the trajectory of light emitted from the cold cathode fluorescent lamp 2.

図3において、301や306のように、冷陰極管2から射出された後に反射壁5のZ方向における上端部より上を通過する光のみが拡散層4に直接到達する。反射壁5が高くなると反射壁5の上端部を通過できる光の量は制限され、また反射壁5の上端部を通過できた光のX方向への分散は抑制される。一方、302〜305のように、反射壁5や反射板3の底面部3aに反射された光は、反射された後に反射壁5の上端部より上を通過できるようになった光のみが拡散層4に到達する。従って、拡散層4に到達するいずれの光とも、反射壁5によりX方向への分散が抑制されて、当該ユニットの上方の拡散層4に集中して到達する。   In FIG. 3, only light that has passed through the upper end of the reflecting wall 5 in the Z direction after being emitted from the cold cathode fluorescent lamp 2 directly reaches the diffusion layer 4 as indicated by 301 and 306. When the reflecting wall 5 becomes high, the amount of light that can pass through the upper end of the reflecting wall 5 is limited, and the dispersion in the X direction of the light that can pass through the upper end of the reflecting wall 5 is suppressed. On the other hand, the light reflected by the reflecting wall 5 and the bottom surface portion 3a of the reflecting plate 3 is diffused only after being reflected so that it can pass above the upper end of the reflecting wall 5 as in 302 to 305. Reach layer 4. Therefore, any light that reaches the diffusion layer 4 is suppressed from being dispersed in the X direction by the reflection wall 5 and concentrated on the diffusion layer 4 above the unit.

図4は、図2および図3の場合の一般的な輝度分布を説明するグラフである。縦軸は拡散層4から射出される光の輝度を示し、横軸は拡散層4におけるX方向の位置を示す。401は反射壁5を備えない場合、402は反射壁5を備えた場合の輝度分布を示す。横軸において、輝度分布401または402の輝度がピークとなる拡散層4の位置付近に、図2または図3における1ユニットが位置している。図4において、輝度分布402に示すように、反射壁5を備えると、反射壁5を備えない場合の輝度分布401に比べて、当該ユニットの位置付近での拡散層4上の輝度が高まり、X方向への輝度の広がりが抑えられて指向性が向上する。   FIG. 4 is a graph for explaining a general luminance distribution in the case of FIG. 2 and FIG. The vertical axis indicates the luminance of light emitted from the diffusion layer 4, and the horizontal axis indicates the position in the X direction in the diffusion layer 4. Reference numeral 401 denotes a luminance distribution when the reflection wall 5 is not provided, and reference numeral 402 denotes a luminance distribution when the reflection wall 5 is provided. On the horizontal axis, one unit in FIG. 2 or FIG. 3 is located near the position of the diffusion layer 4 where the luminance of the luminance distribution 401 or 402 peaks. In FIG. 4, as shown in the luminance distribution 402, when the reflection wall 5 is provided, the luminance on the diffusion layer 4 near the position of the unit is increased compared to the luminance distribution 401 without the reflection wall 5. The spread of luminance in the X direction is suppressed and directivity is improved.

更に、図5および図6を用いて、この発明における反射壁5により得られる指向性の向上について詳しく説明する。   Furthermore, the directivity improvement obtained by the reflecting wall 5 in the present invention will be described in detail with reference to FIGS.

図5は、図1(a)の本装置1において、反射壁5の高さを変化させた場合の輝度分布を示すグラフである。縦軸は拡散層4上の輝度を示し、横軸は拡散層4におけるX方向の位置を示す。ここでは、発光領域E4の冷陰極管2のみ点灯し、拡散層4上の輝度を、Y方向の位置を中央部に固定し、X方向の各位置で測定したものである。図5において、501は反射壁5を備えない場合、502は反射壁5の高さが全て8mmの場合、503は反射壁5の高さが全て12mmの場合、504は反射壁5の高さが全て16mmの場合の輝度分布を示す。   FIG. 5 is a graph showing the luminance distribution when the height of the reflecting wall 5 is changed in the apparatus 1 of FIG. The vertical axis represents the luminance on the diffusion layer 4, and the horizontal axis represents the position in the X direction in the diffusion layer 4. Here, only the cold-cathode tube 2 in the light-emitting region E4 is turned on, and the luminance on the diffusion layer 4 is measured at each position in the X direction with the Y-direction position fixed at the center. In FIG. 5, 501 does not include the reflecting wall 5, 502 indicates that the height of the reflecting wall 5 is 8 mm, 503 indicates that the height of the reflecting wall 5 is 12 mm, and 504 indicates the height of the reflecting wall 5. Shows the luminance distribution in the case where all are 16 mm.

図5では、反射壁5の高さが高くなると、輝度のピーク値が上がり、横軸方向における輝度の広がりが狭まっている。なお、拡散層4が、拡散シート2枚を用いず光拡散板のみからなる場合においても、図5と同様の輝度分布となる。   In FIG. 5, when the height of the reflecting wall 5 is increased, the peak value of the luminance is increased, and the spread of the luminance in the horizontal axis direction is narrowed. Even when the diffusing layer 4 is composed of only a light diffusing plate without using two diffusing sheets, the luminance distribution is the same as in FIG.

図6は、図5の場合の輝度の半値幅を示すグラフであり、縦軸は拡散層4上の輝度の半値幅を示し、横軸は反射壁5の高さを示す。ここでは、反射壁5を備えない場合(高さ0mm)、反射壁5の高さを全て4mm、8mm、12mm、16mmにした場合に測定した輝度から半値幅を求めている。図6において、反射壁5を高くするほど半値幅が狭くなっている。   FIG. 6 is a graph showing the half-value width of the luminance in the case of FIG. 5, the vertical axis shows the half-value width of the luminance on the diffusion layer 4, and the horizontal axis shows the height of the reflecting wall 5. Here, when the reflecting wall 5 is not provided (height 0 mm), the full width at half maximum is obtained from the luminance measured when the height of the reflecting wall 5 is all 4 mm, 8 mm, 12 mm, and 16 mm. In FIG. 6, the full width at half maximum becomes narrower as the reflecting wall 5 is made higher.

図5および図6が示すように、図1(a)の本装置1のように反射壁5を設けることで、冷陰極管2から射出される光の指向性を高めることができ、更に反射壁5の高さを高くするほど、輝度の半値幅が狭くなり、指向性が更に高い輝度分布を得ることができる。   As shown in FIGS. 5 and 6, by providing the reflecting wall 5 as in the present apparatus 1 in FIG. 1A, the directivity of light emitted from the cold cathode tube 2 can be improved, and further reflected. As the height of the wall 5 is increased, the half width of the luminance is narrowed, and a luminance distribution with higher directivity can be obtained.

次に、反射壁5の帯状制御に対する作用を説明する。帯状制御は、液晶表示装置の表示画面内の輝度分布に応じて各発光領域の輝度を調整することにより、表示画面内のコントラストを向上させることを目的とするものである。帯状制御の制御性は各発光領域における最大レベルでの点灯時と消灯時との輝度の差で判断でき、帯状制御の制御性が良ければ、各発光領域における輝度の明暗の差が大きくなり、ひいては表示画面内の明部と暗部の輝度差が大きくなり、コントラストが向上する。   Next, the effect | action with respect to strip | belt-shaped control of the reflective wall 5 is demonstrated. The band-shaped control is intended to improve the contrast in the display screen by adjusting the luminance of each light emitting area in accordance with the luminance distribution in the display screen of the liquid crystal display device. The controllability of the band-shaped control can be determined by the difference in brightness between when the light emission is at the maximum level and when the light is turned off in each light-emitting area. If the controllability of the band-shaped control is good, the difference in brightness between the light-emitting areas increases. As a result, the brightness difference between the bright part and the dark part in the display screen is increased, and the contrast is improved.

図3に示すように、反射壁5は拡散層4に到達する光のX方向への分散を抑制するため、当該ユニットの冷陰極管2の輝度が拡散層4上における輝度に強く反映される。従って、コントラストが向上する。   As shown in FIG. 3, the reflection wall 5 suppresses the dispersion of the light reaching the diffusion layer 4 in the X direction, so that the luminance of the cold cathode tube 2 of the unit is strongly reflected in the luminance on the diffusion layer 4. . Therefore, the contrast is improved.

図7は、図1(a)の本装置1において、発光領域E1、E2、E5およびE6の冷陰極管2を消灯し、発光領域E3、E4、E7およびE8の冷陰極管2を点灯した場合の相対輝度の分布を示すグラフである。縦軸は相対輝度を示し、横軸は拡散層4のX方向の位置を示す。ここでは、図5で輝度を測定した箇所と同様の箇所で輝度を測定し、拡散層4上での最大輝度を1として相対輝度を求めている。この横軸におけるE1〜E8は、図1(a)の本装置1の発光領域E1〜E8に対応している。701の実線は反射壁5を備えない場合、702の点線は反射壁5の高さを全て8mmにした場合の相対輝度分布を示す。なお、発光領域E3およびE4における相対輝度の最大値をm、発光領域E5およびE6における相対輝度の最小値をnとして、発光領域E3〜E6のコントラストであるm/nを評価する。   FIG. 7 shows that the cold cathode tubes 2 in the light emitting areas E1, E2, E5 and E6 are turned off and the cold cathode tubes 2 in the light emitting areas E3, E4, E7 and E8 are turned on in the apparatus 1 of FIG. It is a graph which shows distribution of relative luminance in the case. The vertical axis represents relative luminance, and the horizontal axis represents the position of the diffusion layer 4 in the X direction. Here, the luminance is measured at the same location as the location where the luminance is measured in FIG. 5, and the relative luminance is obtained with the maximum luminance on the diffusion layer 4 being 1. E1 to E8 on the horizontal axis correspond to the light emitting areas E1 to E8 of the apparatus 1 in FIG. A solid line 701 indicates the relative luminance distribution when the reflecting wall 5 is not provided, and a dotted line 702 indicates the relative luminance distribution when the height of the reflecting wall 5 is all 8 mm. Note that m / n, which is the contrast of the light emitting regions E3 to E6, is evaluated with the maximum value of the relative luminance in the light emitting regions E3 and E4 as m and the minimum value of the relative luminance in the light emitting regions E5 and E6 as n.

図7において、相対輝度の最大値mは、反射壁5を備えない場合よりも反射壁5の高さを全て8mmにした場合の方が大きく、相対輝度の最小値nは、反射壁5を備えない場合よりも反射壁5の高さを全て8mmにした場合の方が小さい。すなわち、反射壁5を備えない場合よりも反射壁5を備えた場合の方が、m/nの値が大きく、拡散層4上のE3〜E6領域におけるコントラストが高くなる。   In FIG. 7, the maximum value m of the relative luminance is larger when the height of the reflecting wall 5 is all 8 mm than when the reflecting wall 5 is not provided, and the minimum value n of the relative luminance is that of the reflecting wall 5. It is smaller when the height of the reflecting wall 5 is all 8 mm than when it is not provided. That is, the value of m / n is larger when the reflecting wall 5 is provided than when the reflecting wall 5 is not provided, and the contrast in the E3 to E6 region on the diffusion layer 4 is increased.

図8は、図1(a)の本装置1において、反射壁5の高さを変化させた場合のm/nの値を示すグラフである。縦軸は、発光領域E3〜E6におけるm/nを示し、横軸は反射壁5の高さを示す。点灯および消灯する発光領域、輝度の測定箇所、mとnの選出方法は図7と同じである。ここでは、全ての反射壁5の高さを0mm、4mm、8mm、12mm、13mm、14mm、16mmにした場合のm/nを測定した。なお、反射壁5の高さが0mmとは、反射壁5を備えない場合を示す。   FIG. 8 is a graph showing the value of m / n when the height of the reflecting wall 5 is changed in the apparatus 1 of FIG. The vertical axis represents m / n in the light emitting regions E3 to E6, and the horizontal axis represents the height of the reflecting wall 5. The light emitting area to be turned on and off, the luminance measurement location, and the selection method of m and n are the same as in FIG. Here, m / n was measured when the height of all the reflection walls 5 was 0 mm, 4 mm, 8 mm, 12 mm, 13 mm, 14 mm, and 16 mm. In addition, the height of the reflecting wall 5 indicates that the reflecting wall 5 is not provided.

図8において、反射壁5の高さが高くなると、m/nの値が高くなり、コントラストが向上していることが分かる。   In FIG. 8, it can be seen that as the height of the reflecting wall 5 increases, the value of m / n increases and the contrast is improved.

図9は、図7における状態のときに拡散層4上で観察される相対輝度分布のイメージを示したものである。これは、図7で得られたY方向の中央部でのX方向の各位置における拡散層4上の相対輝度をもとに、冷陰極管2の長手方向となるY方向に相対輝度を引き伸ばして表したものであり、帯状制御をした場合の拡散層4のX−Y平面を模している。なお、このイメージ図は、図7の相対輝度の最大値である1をR=B=G=255とした256階調のグレースケールで表している。図9のE1およびE8は、図1(a)の発光領域E1およびE8に対応している。   FIG. 9 shows an image of the relative luminance distribution observed on the diffusion layer 4 in the state shown in FIG. This is achieved by extending the relative luminance in the Y direction, which is the longitudinal direction of the cold cathode tube 2, based on the relative luminance on the diffusion layer 4 at each position in the X direction at the center of the Y direction obtained in FIG. This represents the XY plane of the diffusion layer 4 when the strip control is performed. This image diagram is represented by a gray scale of 256 gradations where 1 which is the maximum value of the relative luminance in FIG. 7 is R = B = G = 255. E1 and E8 in FIG. 9 correspond to the light emitting areas E1 and E8 in FIG.

図9(a)は図7の相対輝度701から求めたもので反射壁5を備えない場合の相対輝度分布のイメージを示し、図9(b)は図7の相対輝度702から求めたもので反射壁5の高さを全て8mmにした場合の相対輝度分布のイメージを示す。図9より、反射壁5を備えない場合は2つある明部の広がりが大きいが、反射壁5を備えた場合は、2つの明部の広がりが狭く、特に中央部の暗部での暗さが強まり、コントラストが向上していることが視覚的にも確認できる。   FIG. 9A shows an image of the relative luminance distribution obtained from the relative luminance 701 in FIG. 7 and without the reflection wall 5, and FIG. 9B is obtained from the relative luminance 702 in FIG. An image of the relative luminance distribution when the height of the reflection wall 5 is all 8 mm is shown. From FIG. 9, when the reflecting wall 5 is not provided, the spread of the two bright portions is large. However, when the reflecting wall 5 is provided, the two bright portions are narrowly spread, particularly in the dark portion at the central portion. It can be visually confirmed that the contrast is enhanced and the contrast is improved.

図7から図9に示すように、図1(a)の本装置1のように反射壁5を設けることで帯状制御の制御性を向上させることができ、更に反射壁5の高さを高くするほど、帯状制御の制御性を高くすることができる。   As shown in FIGS. 7 to 9, by providing the reflecting wall 5 as in the present apparatus 1 in FIG. 1A, the controllability of the strip control can be improved, and the height of the reflecting wall 5 is further increased. The higher the control, the higher the controllability of the belt-like control.

次に、本装置1の輝度の均一性の効果について説明する。   Next, the effect of luminance uniformity of the apparatus 1 will be described.

図3に示すように、反射壁5を設けることで冷陰極管2から射出される光のX方向の分散を抑制できるが、光は各発光領域上の拡散層4に集光されるため、1つの発光領域上の拡散層4に他の発光領域から到達する光が減る。従来から、全発光領域の輝度を同じにした場合は、拡散層4の中央部より両端部の方が重畳する光の量は少なかったが、反射壁5により他の発光領域から到達する光が減って光の重畳が抑制されることで、反射壁5を備えない場合と比較して端部の輝度の低下が大きくなり、それが拡散層4上の輝度むらとして観察される可能性がある。また、拡散層4の反射壁5の真上部分に進入する光が減少するため、拡散層4上に局所的な暗部が発生し、これにより輝度むらが観察される可能性がある。なお、反射壁5の高さを高くする程、冷陰極管2からの光のX方向への分散が抑制されて端部の輝度の低下が大きくなり、また拡散層4の反射壁5の真上部分に進入する光が減少して拡散層4上の局所的な暗部が発生し易くなり、輝度むらが観察される可能性が高くなると考えられる。   As shown in FIG. 3, by providing the reflecting wall 5, dispersion of light emitted from the cold cathode fluorescent lamp 2 in the X direction can be suppressed, but the light is condensed on the diffusion layer 4 on each light emitting region. The light reaching the diffusion layer 4 on one light emitting region from another light emitting region is reduced. Conventionally, when the luminance of all the light emitting areas is the same, the amount of light superimposed on both ends is smaller than the central part of the diffusion layer 4, but the light reaching from the other light emitting areas is reflected by the reflecting wall 5. Since the overlap of light is suppressed and the reflection wall 5 is not provided, a decrease in luminance at the end is larger than that in the case where the reflection wall 5 is not provided, and this may be observed as luminance unevenness on the diffusion layer 4. . In addition, since the light entering the portion directly above the reflecting wall 5 of the diffusing layer 4 is reduced, a local dark portion is generated on the diffusing layer 4, which may cause uneven brightness. Note that as the height of the reflecting wall 5 is increased, the dispersion of light from the cold cathode fluorescent lamp 2 in the X direction is suppressed and the luminance of the end portion is greatly reduced. It is considered that the light entering the upper portion is reduced and local dark portions on the diffusion layer 4 are likely to be generated, and the possibility of uneven luminance is increased.

図10は、本装置1において反射壁5を備えない場合および反射壁5の高さを全て8mmにした場合の相対輝度の分布を示すグラフである。縦軸、横軸、輝度の測定箇所および相対輝度の求め方は図7と同じであるため説明を省略する。ここでは、全ての冷陰極管2を点灯させている。なお、図1(a)において、反射板3の底面部3aから冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置までの間隔a+bが8mmである。   FIG. 10 is a graph showing a relative luminance distribution when the reflection wall 5 is not provided in the apparatus 1 and when the height of the reflection wall 5 is all 8 mm. Since the vertical axis, the horizontal axis, the measurement location of the luminance, and the method of obtaining the relative luminance are the same as those in FIG. Here, all the cold cathode fluorescent lamps 2 are turned on. In FIG. 1A, the distance a + b from the bottom surface portion 3a of the reflector 3 to the position closest to the diffusion layer 4 of the cold cathode tube 2 is 8 mm.

図10において、1001の実線は反射壁5を備えない場合の相対輝度分布を示し、1002の点線は反射壁5の高さを全て8mmにした場合の相対輝度分布を示す。図10が示すように、反射壁5を備えた場合の相対輝度分布1002は、反射壁5を備えない場合の相対輝度分布1001と略等しい。従って、反射壁5の高さが8mmの場合、輝度むらが発生せず、反射壁5を備えない場合と同程度の輝度の均一性を保てることが分かる。   In FIG. 10, a solid line 1001 indicates a relative luminance distribution when the reflecting wall 5 is not provided, and a dotted line 1002 indicates a relative luminance distribution when the height of the reflecting wall 5 is all 8 mm. As shown in FIG. 10, the relative luminance distribution 1002 when the reflecting wall 5 is provided is substantially equal to the relative luminance distribution 1001 when the reflecting wall 5 is not provided. Therefore, it can be seen that when the height of the reflecting wall 5 is 8 mm, the luminance unevenness does not occur, and the same luminance uniformity as that without the reflecting wall 5 can be maintained.

次に、この状態を拡散層4上で観察した場合を説明する。
図11は、本装置1において反射壁5を備えない場合および反射壁5の高さを全て8mmにした場合の拡散層4上で観察される相対輝度分布のイメージを示したものである。これは、図10における相対輝度から、図9と同様の方法により求めたものであり、図11(a)は反射壁5を備えない場合の相対輝度分布のイメージ、図11(b)は反射壁5の高さを全て8mmにした場合の相対輝度分布のイメージを示す。
Next, the case where this state is observed on the diffusion layer 4 will be described.
FIG. 11 shows an image of the relative luminance distribution observed on the diffusion layer 4 when the reflection wall 5 is not provided in the apparatus 1 and when the height of the reflection wall 5 is all 8 mm. This is obtained from the relative luminance in FIG. 10 by the same method as in FIG. 9. FIG. 11A shows an image of the relative luminance distribution when the reflecting wall 5 is not provided, and FIG. An image of the relative luminance distribution when the height of the wall 5 is all 8 mm is shown.

図11(b)を目視した場合も輝度むらが観察されず、図11(a)と(b)とは略等しく、視覚的にも輝度の均一性を保っていることが分かる。   When viewing FIG. 11 (b), luminance unevenness is not observed, and FIGS. 11 (a) and 11 (b) are substantially equal, and it can be seen that the luminance uniformity is maintained visually.

反射壁5の設置により、拡散層4の両端部に到達する光や、反射壁5の真上部分に進入する光が減少して輝度むらが観察される可能性が考えられたが、上記のように、反射壁5の高さが冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置の高さのときにおいても、拡散層4の端部や拡散層4の反射壁5の真上部分の輝度の低下は発生せず、輝度むらが観察されない。従って、全て同じ高さの反射壁5を設置する場合、反射壁5の高さは、反射板3の底面部3aから冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置までの高さ、つまり反射板3の底面部3aと冷陰極管2との最短距離aと冷陰極管2の管径bとの和以下であれば、どのような高さにしても、反射壁5を設けない場合と同様の相対輝度の分布となり、同程度の輝度の均一性を保つことができる。   Although the light reaching the both end portions of the diffusing layer 4 and the light entering the portion directly above the reflective wall 5 may be reduced due to the installation of the reflective wall 5, there is a possibility that uneven luminance is observed. As described above, even when the height of the reflection wall 5 is the height closest to the diffusion layer 4 of the cold cathode tube 2, the luminance of the end portion of the diffusion layer 4 or the portion directly above the reflection wall 5 of the diffusion layer 4. The decrease in brightness does not occur, and uneven brightness is not observed. Therefore, when the reflecting walls 5 having the same height are installed, the height of the reflecting wall 5 is the height from the bottom surface portion 3a of the reflecting plate 3 to the position closest to the diffusion layer 4 of the cold cathode tube 2, that is, reflecting. As long as it is less than the sum of the shortest distance a between the bottom surface portion 3a of the plate 3 and the cold cathode tube 2 and the tube diameter b of the cold cathode tube 2, the reflective wall 5 is not provided at any height. The same relative luminance distribution is obtained, and the same luminance uniformity can be maintained.

図1(a)における反射板3の底面部3aと冷陰極管2との最短距離a、冷陰極管2の管径b、両端以外に位置する反射壁5の高さd、両端に位置する反射壁5の高さeを用いると、全て同じ高さの反射壁5を設置する場合に輝度の均一性を保つことができる反射壁5の高さdおよびeの条件は、次の式(1)で表すことができる。
0≦d=e≦a+b 式(1)
なお、輝度の均一性を保ちつつ、指向性およびコントラストを最大にするためには、反射壁5の高さを冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置の高さ、つまりa+bにすることが望ましい。図1(b)に、反射壁5の高さを冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置の高さにした場合の概略構成図を示す。なお、図中において図1(a)と同一の構成には同一の符号を付し、その説明は省略する。
In FIG. 1A, the shortest distance a between the bottom surface portion 3a of the reflector 3 and the cold cathode tube 2, the tube diameter b of the cold cathode tube 2, the height d of the reflecting wall 5 located at both ends, and located at both ends. When the height e of the reflecting wall 5 is used, the conditions of the heights d and e of the reflecting wall 5 that can maintain the uniformity of the brightness when the reflecting walls 5 having the same height are installed are as follows: 1).
0 ≦ d = e ≦ a + b Formula (1)
In order to maximize the directivity and contrast while maintaining the uniformity of brightness, the height of the reflecting wall 5 is set to the height closest to the diffusion layer 4 of the cold cathode tube 2, that is, a + b. Is desirable. FIG. 1B shows a schematic configuration diagram in the case where the height of the reflection wall 5 is set to the height closest to the diffusion layer 4 of the cold cathode tube 2. In addition, in the figure, the same code | symbol is attached | subjected to the structure same as FIG. 1 (a), and the description is abbreviate | omitted.

上記では反射壁5の高さが全て同じ場合について述べたが、全て同じ高さの反射壁5が冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置の高さであるときに、輝度の低下による輝度むらが観察されないことから、複数配置された反射壁5のうち一部の反射壁5の高さが冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置より低くしても、輝度の低下による輝度むらは観察されないと考えられる。つまり、反射壁5の高さが反射板3の底面部3aと冷陰極管2との最短距離aと冷陰極管2の管径bとの和以下でありさえすれば、反射壁5の高さが全て同じでなくても、輝度むらは観察されないと考えられる。   In the above description, the reflection walls 5 have the same height. However, when the reflection walls 5 having the same height are at the height closest to the diffusion layer 4 of the cold-cathode tube 2, the brightness is reduced. Since luminance unevenness is not observed, even if the height of some of the plurality of reflection walls 5 is lower than the position closest to the diffusion layer 4 of the cold cathode tube 2, the luminance due to the decrease in luminance It is thought that unevenness is not observed. That is, as long as the height of the reflecting wall 5 is not more than the sum of the shortest distance a between the bottom surface portion 3a of the reflecting plate 3 and the cold cathode tube 2 and the tube diameter b of the cold cathode tube 2, the height of the reflecting wall 5 is increased. Even if the lengths are not all the same, it is considered that uneven brightness is not observed.

以上のように、この実施の形態1によれば、反射壁5を設けることにより、指向性と帯状制御の制御性を示すコントラストが高い直下型バックライト装置を得ることができる。そして、この反射壁5を高くすることで、指向性および帯状制御の制御性を更に高めることができる。   As described above, according to the first embodiment, by providing the reflecting wall 5, it is possible to obtain a direct type backlight device having a high contrast showing directivity and controllability of strip-shaped control. And the controllability of directivity and strip | belt-shaped control can further be improved by making this reflective wall 5 high.

また、反射板3に反射壁5を備えるという単純な構造のため、指向性および帯状制御の制御性の高い直下型バックライト装置を、低コストでかつ簡単に製造することができる。   In addition, the simple structure in which the reflecting plate 3 includes the reflecting wall 5 makes it possible to easily manufacture a direct type backlight device having high directivity and high controllability for strip-shaped control at low cost.

更に、反射壁5の高さを全て同じ高さにする場合は、冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置の高さ以下にすることで、輝度の均一性を十分保った直下型バックライト装置を得ることができる。   Further, when the height of the reflecting walls 5 is all the same, a direct type back with sufficient uniformity of luminance is maintained by making it equal to or less than the height closest to the diffusion layer 4 of the cold cathode tube 2. A light device can be obtained.

上述のような直下型バックライト装置を薄型表示装置の1つである液晶表示装置に適用すれば、指向性および帯状制御の制御性が高く、輝度の均一性を十分保った液晶表示装置を得ることができる。また、このような液晶表示装置を低コストでかつ簡単に製造することができる。   By applying the direct type backlight device as described above to a liquid crystal display device which is one of thin display devices, a liquid crystal display device with high directivity and controllability of band-like control and sufficiently uniform luminance can be obtained. be able to. Further, such a liquid crystal display device can be easily manufactured at low cost.

実施の形態2.
実施の形態1では、全ての反射壁5の高さが同じである場合について述べたが、反射壁5の高さを異なるようにしても良い。この実施の形態2では、X方向に平行に並んだ反射壁5の内、両端に位置する反射壁5が、両端以外に位置する反射壁5よりも低く、両端以外に位置する反射壁5の高さdが、冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置よりも高い場合について述べる。
Embodiment 2. FIG.
In Embodiment 1, although the case where all the reflection walls 5 were the same height was described, you may make it the height of the reflection walls 5 differ. In the second embodiment, among the reflecting walls 5 arranged in parallel in the X direction, the reflecting walls 5 positioned at both ends are lower than the reflecting walls 5 positioned at both ends, and the reflecting walls 5 positioned at the ends other than the both ends. A case where the height d is higher than the position closest to the diffusion layer 4 of the cold cathode tube 2 will be described.

図12は、この発明の実施の形態2に係る本装置1の基本構成を示す概略構成図である。図中において実施の形態1と同一の構成には同一の符号を付し、その説明は省略する。実施の形態2は、実施の形態1の基本構成を示す図1(a)における発光領域E1とE2,およびE7とE8を仕切る反射壁5、つまり両端に位置する反射壁5の高さeを、各発光領域E2〜E7を仕切る反射壁5、つまり両端以外に位置する反射壁5の高さdよりも低くしたものである。   FIG. 12 is a schematic configuration diagram showing a basic configuration of the device 1 according to the second embodiment of the present invention. In the figure, the same components as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. In the second embodiment, the height e of the reflection walls 5 that divide the light emitting regions E1 and E2, and E7 and E8 in FIG. The height of the reflection wall 5 that partitions the light emitting regions E2 to E7, that is, the height d of the reflection wall 5 positioned at both ends is lower.

第1に、図13および図14を用いて、この実施の形態2における反射壁5の冷陰極管2から射出する光の軌跡に対する作用を説明する。
図13は、図1(a)における本装置1の右側を拡大した図であり、反射壁5の高さが全て等しく、また冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置よりも高い場合を示す。
図14は、図12における本装置1の右側を拡大した図であり、右端に位置する反射壁5が右端以外に位置する反射壁5よりも低く、また右端以外に位置する反射壁5の高さが冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置よりも高い場合を示す。
First, with reference to FIG. 13 and FIG. 14, the action of the reflection wall 5 in the second embodiment on the locus of light emitted from the cold cathode tube 2 will be described.
FIG. 13 is an enlarged view of the right side of the present apparatus 1 in FIG. 1 (a), where the height of the reflection wall 5 is all equal and higher than the position closest to the diffusion layer 4 of the cold cathode tube 2. Show.
FIG. 14 is an enlarged view of the right side of the apparatus 1 in FIG. 12, and the reflection wall 5 located at the right end is lower than the reflection wall 5 located outside the right end, and the height of the reflection wall 5 located outside the right end is shown. The case where is higher than the position closest to the diffusion layer 4 of the cold cathode tube 2 is shown.

図13において、各発光領域からの光は、反射壁5でX方向への広がりが抑制されるため、1301で示す拡散層4の右端の領域に他の領域から到達する光が減少する。これにより、拡散層4において、右端の輝度が低下して輝度の均一性が損なわれ、輝度むらが発生する可能性がある。   In FIG. 13, the light from each light emitting region is suppressed from spreading in the X direction by the reflection wall 5, and thus the light reaching the right end region of the diffusion layer 4 indicated by 1301 from other regions is reduced. Thereby, in the diffusion layer 4, the luminance at the right end is lowered, the luminance uniformity is impaired, and luminance unevenness may occur.

一方、図14においては、右端に位置する反射壁5の高さが、図13における右端に位置する反射壁5よりも低いため、図13よりも他の領域から到達する光が重畳されやすくなり、多くの光が、1401で示す拡散層4の右端の領域まで到達する。従って、反射壁5の高さが全て同じ高さの場合よりも拡散層4の右端の輝度低下を防ぐことができる。   On the other hand, in FIG. 14, the height of the reflecting wall 5 located at the right end is lower than that of the reflecting wall 5 located at the right end in FIG. A lot of light reaches the right end region of the diffusion layer 4 indicated by 1401. Accordingly, it is possible to prevent a decrease in luminance at the right end of the diffusion layer 4 as compared with the case where the heights of the reflection walls 5 are all the same.

このような両端に位置する反射壁5の高さeを、両端以外に位置する反射壁5の高さdよりも低くする場合の例として、高さdを12mmにして以下に説明する。   As an example in which the height e of the reflecting wall 5 positioned at both ends is set lower than the height d of the reflecting wall 5 positioned other than both ends, the height d is set to 12 mm and will be described below.

図15乃至図17は、相対輝度の分布を示すグラフである。縦軸、横軸、輝度の測定箇所および相対輝度の求め方は、実施の形態1における図7と同じであるため説明を省略する。ここでは、全ての冷陰極管2を点灯させている。   15 to 17 are graphs showing the distribution of relative luminance. Since the vertical axis, the horizontal axis, the measurement location of the luminance, and the method of obtaining the relative luminance are the same as those in FIG. Here, all the cold cathode fluorescent lamps 2 are turned on.

図15において、1501の実線は反射壁5を備えない場合、1502の点線は反射壁5の高さを全て12mmにした場合の相対輝度分布を示し、図16において、1601の実線は反射壁5を備えない場合、1602の点線は両端以外に位置する反射壁5の高さdを12mmかつ両端に位置する反射壁5の高さeを0mmにした場合の相対輝度の分布を示し、図17において、1701の実線は反射壁5を備えない場合、1702の点線は両端以外に位置する反射壁5の高さdを12mmかつ両端に位置する反射壁5の高さeを4mmにした場合の相対輝度の分布を示す。   15, the solid line 1501 indicates the relative luminance distribution when the reflecting wall 5 is not provided, the dotted line 1502 indicates the relative luminance distribution when the height of the reflecting wall 5 is all 12 mm, and the solid line 1601 indicates the reflecting wall 5 in FIG. 17, the dotted line 1602 shows the distribution of relative luminance when the height d of the reflecting wall 5 positioned at both ends is 12 mm and the height e of the reflecting wall 5 positioned at both ends is 0 mm. , The solid line 1701 does not include the reflecting wall 5, and the dotted line 1702 indicates that the height d of the reflecting wall 5 positioned at both ends is 12 mm and the height e of the reflecting wall 5 positioned at both ends is 4 mm. The distribution of relative luminance is shown.

図15において、反射壁5の高さを全て12mmにした場合の相対輝度分布1502は、反射壁5を備えない場合の相対輝度分布1501と比べると、拡散層4中央部、例えば発光領域E3からE6では、一部低下しているものの、大幅な輝度低下ではなく、滑らかな曲線であるため輝度むらの問題はない。しかし、拡散層4の両端部では、輝度が大幅に低下しており、輝度むらとして観察される。   In FIG. 15, the relative luminance distribution 1502 when the height of the reflecting wall 5 is all 12 mm is compared with the relative luminance distribution 1501 when the reflecting wall 5 is not provided, from the central portion of the diffusion layer 4, for example, the light emitting region E <b> 3. In E6, although there is a partial decrease, there is no problem of uneven brightness because it is not a significant decrease in brightness but a smooth curve. However, the luminance is greatly reduced at both ends of the diffusion layer 4 and is observed as luminance unevenness.

図16において、両端以外に位置する反射壁5の高さdを12mmかつ両端に位置する反射壁5を備えない(高さ0mm)場合の相対輝度分布1602は、図15における反射壁5の高さを全て12mmにした場合の相対輝度分布1502に比べて、相対輝度が全体的に向上して、反射壁5を備えない場合の相対輝度分布1601に近づくため、このような反射壁5の高さの設定は、低下した相対輝度を高くする効果がある。なお、発光領域E2やE7など、拡散層4の両端部における相対輝度が中央部における相対輝度よりも高くなる箇所があり、相対輝度分布は滑らかではないが、許容範囲内の輝度の均一性は示している。   In FIG. 16, the relative luminance distribution 1602 when the height d of the reflecting wall 5 positioned at both ends is 12 mm and the reflecting wall 5 positioned at both ends is not provided (the height is 0 mm) is the height of the reflecting wall 5 in FIG. 15. Compared to the relative luminance distribution 1502 when the thickness is all 12 mm, the relative luminance is improved as a whole and approaches the relative luminance distribution 1601 when the reflecting wall 5 is not provided. This setting has the effect of increasing the lowered relative luminance. Note that there are places where the relative luminance at both ends of the diffusion layer 4 is higher than the relative luminance at the central portion, such as the light emitting regions E2 and E7, and the relative luminance distribution is not smooth, but the luminance uniformity within the allowable range is Show.

図17において、両端以外に位置する反射壁5の高さdを12mmかつ両端に位置する反射壁5の高さeを4mmにした場合の相対輝度分布1702は、図15における反射壁5の高さを全て12mmにした場合の相対輝度分布1502が示すような拡散層4の両端における相対輝度の低下が改善されており、図16における両端以外に位置する反射壁5の高さdを12mmかつ両端に位置する反射壁5を備えない(高さ0mm)場合の相対輝度分布1602が示すような拡散層4の両端部の相対輝度の上昇が発生しておらず、相対輝度分布が滑らかな曲線になっている。また、反射壁5を備えない場合の相対輝度分布1701と同様の形の相対輝度分布となっている。従って輝度むらは観察されず、反射壁5を備えない場合と同程度の輝度の均一性を保つことができる。   In FIG. 17, the relative luminance distribution 1702 when the height d of the reflecting wall 5 positioned at both ends is 12 mm and the height e of the reflecting wall 5 positioned at both ends is 4 mm is the height of the reflecting wall 5 in FIG. The reduction of the relative luminance at both ends of the diffusion layer 4 as shown by the relative luminance distribution 1502 when the thickness is all 12 mm is improved, and the height d of the reflecting wall 5 positioned at both ends in FIG. A curve in which the relative luminance distribution does not increase as shown by the relative luminance distribution 1602 when the reflecting walls 5 located at both ends are not provided (height 0 mm), and the relative luminance distribution is smooth. It has become. Further, the relative luminance distribution has the same shape as the relative luminance distribution 1701 when the reflecting wall 5 is not provided. Accordingly, the luminance unevenness is not observed, and the same luminance uniformity as that in the case where the reflecting wall 5 is not provided can be maintained.

上記では、両端以外に位置する反射壁5の高さdを12mmにして、両端に位置する反射壁5の高さeを0mmにした場合と4mmにした場合について述べたが、両端以外に位置する反射壁5の高さdを12mmにする場合は、両端に位置する反射壁5の高さeを4mmにしたときに最も良好な相対輝度分布を示す。   In the above description, the case where the height d of the reflecting wall 5 positioned at both ends is set to 12 mm and the height e of the reflecting wall 5 positioned at both ends is set to 0 mm and 4 mm is described. When the height d of the reflecting wall 5 to be set is 12 mm, the best relative luminance distribution is shown when the height e of the reflecting wall 5 located at both ends is set to 4 mm.

実施の形態1では輝度の均一性を保つための反射壁5の高さは「反射壁5の高さを冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置以下」という制限が存在したが、図15乃至図17が示すように、反射壁5の高さが冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置より高い場合でも、両端に位置する反射壁5の高さeを両端以外に位置する反射壁5の高さdよりも低くすることで、輝度の均一性を保つための反射壁5の高さの制限を広げることができる。   In the first embodiment, there is a restriction that the height of the reflecting wall 5 for maintaining the uniformity of luminance is “the height of the reflecting wall 5 is equal to or less than the position closest to the diffusion layer 4 of the cold cathode tube 2”. As shown in FIGS. 15 to 17, even when the height of the reflection wall 5 is higher than the position closest to the diffusion layer 4 of the cold cathode tube 2, the height e of the reflection wall 5 located at both ends is located at other than the both ends. By making the height lower than the height d of the reflecting wall 5, it is possible to widen the restriction on the height of the reflecting wall 5 for maintaining the uniformity of luminance.

なお、実施の形態1で説明したように、反射壁5の高さを全て同じにする場合は、反射壁5の高さを冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置以下にすれば拡散層4の両端部の輝度が低下しないことから、この実施の形態2における両端に位置する反射壁5の高さeも、輝度の均一性を保つためには冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置以下にすることが望ましい。   As described in the first embodiment, when the heights of the reflection walls 5 are all the same, diffusion is achieved by setting the height of the reflection walls 5 to be equal to or less than the position closest to the diffusion layer 4 of the cold cathode tube 2. Since the luminance at both ends of the layer 4 does not decrease, the height e of the reflection walls 5 located at both ends in the second embodiment is also applied to the diffusion layer 4 of the cold cathode tube 2 in order to keep the luminance uniform. It is desirable to be below the closest position.

更に、両端に位置する反射壁5の高さeを調節することで、反射壁5を備えない場合と同程度の相対輝度分布に近づけることができる。この実施の形態2の装置のサイズにおいては、図17に示すように、両端以外に位置する反射壁5の高さdが12mmの場合は、両端に位置する反射壁5の高さeを4mmにするのが望ましい。   Furthermore, by adjusting the height e of the reflecting walls 5 located at both ends, it is possible to bring the relative luminance distribution to the same level as when the reflecting walls 5 are not provided. In the size of the apparatus of the second embodiment, as shown in FIG. 17, when the height d of the reflecting wall 5 located at both ends is 12 mm, the height e of the reflecting wall 5 located at both ends is 4 mm. It is desirable to make it.

このときの帯状制御の制御性について、図18を用いて説明する。
図18は、図7と同様の帯状制御を行った場合の相対輝度の分布を示すグラフである。点灯または消灯する発光領域、縦軸、横軸、輝度の測定箇所および相対輝度の求め方は、実施の形態1における図7と同じであるため説明を省略する。1801の実線は反射壁5の高さを全て8mmにした場合の相対輝度分布を示し、1802の点線は両端以外に位置する反射壁5の高さdを12mmかつ両端に位置する反射壁5の高さeを4mmにした場合の相対輝度分布を示す。
The controllability of the strip control at this time will be described with reference to FIG.
FIG. 18 is a graph showing the distribution of relative luminance when the strip control similar to that in FIG. 7 is performed. Since the light emitting area to be turned on or off, the vertical axis, the horizontal axis, the measurement location of the luminance, and the method for obtaining the relative luminance are the same as those in FIG. The solid line 1801 indicates the relative luminance distribution when the height of the reflecting wall 5 is all 8 mm, and the dotted line 1802 indicates the height d of the reflecting wall 5 located at both ends of the reflecting wall 5 and 12 mm. The relative luminance distribution when the height e is 4 mm is shown.

図18において、相対輝度の最大値mと最小値nとの差は、反射壁5の高さを全て8mmにした場合よりも両端以外に位置する反射壁5の高さを12mmかつ両端に位置する反射壁5の高さeを4mmとした場合の方が大きく、帯状制御の制御性が良い。またm/nの値が大きく、拡散層4上の発光領域E3〜E6におけるコントラストは、反射壁5の高さを全て8mmとするよりも、両端以外に位置する反射壁5の高さdを12mmかつ両端に位置する反射壁5の高さeを4mmとした場合の方が高くなる。   In FIG. 18, the difference between the maximum value m and the minimum value n of the relative luminance is that the height of the reflection wall 5 located at both ends is 12 mm and the positions at both ends, compared to the case where the height of the reflection wall 5 is all 8 mm. The height when the height e of the reflecting wall 5 is 4 mm is larger, and the controllability of the strip-shaped control is good. Moreover, the value of m / n is large, and the contrast in the light emitting regions E3 to E6 on the diffusion layer 4 is such that the height d of the reflecting wall 5 located at both ends is set to be higher than the height of the reflecting walls 5 being 8 mm. The height becomes 12 mm when the height e of the reflecting wall 5 located at both ends is 4 mm.

また、図8より、反射壁5の高さを全て12mmとした場合のm/n値は約3.8である。一方、図18より、両端以外に位置する反射壁5の高さを12mmかつ両端に位置する反射壁5の高さeを4mmとした場合のm/n値も約3.8である。このように、両端に位置する反射壁5の高さeを低くしたことによるコントラストへの影響はない。   Further, from FIG. 8, the m / n value when the height of the reflecting wall 5 is all 12 mm is about 3.8. On the other hand, from FIG. 18, the m / n value is about 3.8 when the height of the reflecting wall 5 located at both ends is 12 mm and the height e of the reflecting wall 5 located at both ends is 4 mm. Thus, there is no influence on the contrast by reducing the height e of the reflecting walls 5 located at both ends.

上記では、反射壁5の高さを冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置よりも高くする場合の例として、両端以外に位置する反射壁5の高さdを12mmにした場合を説明したが、両端以外に位置する反射壁5の高さdを12mm以外にしても、両端に位置する反射壁5の高さeを調節することで、輝度の均一性を保つことができる。以降に、両端以外に位置する反射壁5の高さdが12mm以外である場合について説明する。
表1は、図12における直下型バックライト装置において、両端以外に位置する反射壁5の高さdに対して、輝度の均一性が最良となるときの両端に位置する反射壁5の高さeを示すものである。
In the above description, the case where the height d of the reflecting wall 5 positioned at both ends is set to 12 mm is described as an example of the case where the height of the reflecting wall 5 is set higher than the position closest to the diffusion layer 4 of the cold cathode tube 2. However, even if the height d of the reflecting wall 5 positioned at both ends is other than 12 mm, the brightness uniformity can be maintained by adjusting the height e of the reflecting wall 5 positioned at both ends. Hereinafter, the case where the height d of the reflecting wall 5 located at both ends other than 12 mm is other than 12 mm will be described.
Table 1 shows the heights of the reflecting walls 5 positioned at both ends when the luminance uniformity is the best with respect to the height d of the reflecting walls 5 positioned at other than the both ends in the direct type backlight device in FIG. e.

Figure 2007073194
Figure 2007073194

表1において、1段目は両端以外に位置する反射壁5の高さdを示し、2段目は、両端以外に位置する反射壁5が1段目に示す高さの場合に、目視にて輝度むらが観察されない場合に両端に位置する反射壁5の高さeを示すものである。
表1で、両端以外に位置する反射壁5の高さdが12mmの時に、両端に位置する反射壁5の高さeで輝度の均一性を保つ最良の高さが4mmであることは、前述の図17で示す通りである。
また、両端以外に位置する反射壁5の高さdが8mmの時に、両端に位置する反射壁5の高さeが8mmであることは、反射壁5の高さが全て8mmであることを示し、実施の形態1で説明した輝度の均一性を保つための条件と同様である。
In Table 1, the first level indicates the height d of the reflecting wall 5 located at both ends, and the second level is visually observed when the reflecting wall 5 positioned at both ends is at the height indicated by the first level. When the luminance unevenness is not observed, the height e of the reflecting walls 5 positioned at both ends is shown.
In Table 1, when the height d of the reflecting wall 5 located at both ends is 12 mm, the best height for maintaining the uniformity of the brightness at the height e of the reflecting wall 5 located at both ends is 4 mm. This is as shown in FIG.
Further, when the height d of the reflecting wall 5 located at both ends is 8 mm, the height e of the reflecting wall 5 located at both ends is 8 mm. This means that the height of the reflecting wall 5 is all 8 mm. This is the same as the condition for maintaining the uniformity of luminance described in the first embodiment.

両端以外に位置する反射壁5の高さdが10mmの場合、および13mmの場合の輝度均一性を保つ最良の高さは、それぞれ6mm、4mmだが、この詳細を、図19および図20を用いて以下に説明する。
図19および図20は、相対輝度の分布を示すグラフである。縦軸、横軸、輝度の測定箇所および相対輝度の求め方は、実施の形態1における図7と同じであるため説明を省略する。ここでは、全ての冷陰極管2を点灯させている。
When the height d of the reflecting wall 5 located at both ends is 10 mm and 13 mm, the best heights for maintaining the luminance uniformity are 6 mm and 4 mm, respectively. Will be described below.
19 and 20 are graphs showing the distribution of relative luminance. Since the vertical axis, the horizontal axis, the measurement location of the luminance, and the method of obtaining the relative luminance are the same as those in FIG. Here, all the cold cathode fluorescent lamps 2 are turned on.

図19において、1901の実線は反射壁5の高さを全て10mmにした場合、1902の点線は両端以外に位置する反射壁5の高さdを10mmかつ両端に位置する反射壁5の高さeを6mmにした場合の相対輝度分布を示す。   In FIG. 19, the solid line 1901 indicates that the height of the reflecting wall 5 is all 10 mm, and the dotted line 1902 indicates the height d of the reflecting wall 5 located at both ends other than 10 mm and the height of the reflecting wall 5 positioned at both ends. The relative luminance distribution when e is 6 mm is shown.

図19より、反射壁5の高さを全て10mmにした場合には低下していた拡散層4の両端部の相対輝度が、両端以外に位置する反射壁5の高さdを10mmかつ両端に位置する反射壁5の高さeを6mmにした場合には改善し、これにより相対輝度の曲線が滑らかになっている。   From FIG. 19, the relative luminance at both ends of the diffusion layer 4, which had been reduced when the height of the reflecting wall 5 was all 10 mm, is 10 mm and the height d of the reflecting wall 5 located at both ends is 10 mm. When the height e of the reflecting wall 5 is 6 mm, the improvement is made, and the curve of relative luminance becomes smooth.

図20において、2001の実線は反射壁5の高さを全て13mmにした場合、2002の点線は両端以外に位置する反射壁5の高さdを13mmかつ両端に位置する反射壁5の高さeを0mmにした場合、2003の一点鎖線は両端以外に位置する反射壁5の高さdを13mmかつ両端に位置する反射壁5の高さeを4mmにした場合の相対輝度分布を示す。   In FIG. 20, the solid line 2001 indicates that the height of the reflecting wall 5 is all 13 mm, and the dotted line 2002 indicates that the height d of the reflecting wall 5 located at both ends is 13 mm and the height of the reflecting wall 5 positioned at both ends. When e is set to 0 mm, a one-dot chain line in 2003 indicates a relative luminance distribution when the height d of the reflecting wall 5 positioned at both ends is 13 mm and the height e of the reflecting wall 5 positioned at both ends is set to 4 mm.

図20より、反射壁5の高さを全て13mmにした場合には低下していた拡散層4の両端部の相対輝度が、両端以外に位置する反射壁5の高さdを13mmかつ両端に位置する反射壁5の高さeを0mmまたは4mmにした場合には改善しており、このような反射壁5の設定で両端の急激な輝度低下による輝度むらを防ぐことができる。
なお、両端以外に位置する反射壁5の高さdを12mmかつ両端に位置する反射壁5の高さeを0mmにした時の図16と同様に、両端に位置する反射壁5の高さeを0mmにした場合は、拡散層4の両端、例えば発光領域E7付近の相対輝度がやや高く、相対輝度分布は滑らかではないが、許容範囲内の輝度の均一性は示している。また、両端以外に位置する反射壁5の高さdを12mmかつ両端に位置する反射壁5の高さeを4mmにした時の図17と同様に、両端に位置する反射壁5の高さeを4mmにした場合の方が相対輝度分布の曲線がより滑らかであり、輝度の均一性が更に良い相対輝度分布を得ることができる。
From FIG. 20, the relative luminance at both ends of the diffusion layer 4, which had been reduced when the height of the reflecting wall 5 was all 13 mm, is such that the height d of the reflecting wall 5 positioned at both ends is 13 mm and at both ends. When the height e of the reflection wall 5 is set to 0 mm or 4 mm, the reflection wall 5 is improved. By setting the reflection wall 5 as described above, it is possible to prevent uneven brightness due to a sharp decrease in luminance at both ends.
In addition, the height of the reflecting wall 5 located at both ends is the same as in FIG. 16 when the height d of the reflecting wall 5 located at both ends is 12 mm and the height e of the reflecting wall 5 located at both ends is 0 mm. When e is set to 0 mm, the relative luminance at both ends of the diffusion layer 4, for example, the vicinity of the light emitting region E7 is slightly high, and the relative luminance distribution is not smooth, but the luminance uniformity within the allowable range is shown. Similarly to FIG. 17 when the height d of the reflecting wall 5 positioned at both ends is 12 mm and the height e of the reflecting wall 5 positioned at both ends is 4 mm, the height of the reflecting wall 5 positioned at both ends is the same as in FIG. When e is 4 mm, the relative luminance distribution curve is smoother, and a relative luminance distribution with better luminance uniformity can be obtained.

更に、反射壁5の高さを14mmにした場合について図21を用いて以下に説明する。
図21は、相対輝度の分布を示すグラフであり、反射壁5の高さ以外は、図19、図20と全く同じである。図21において、2101の実線は反射壁5の高さを全て14mmにした場合、2102の点線は両端以外に位置する反射壁5の高さdを14mmかつ両端に位置する反射壁5の高さeを0mmにした場合、2103の一点鎖線は両端以外に位置する反射壁5の高さdを14mmかつ両端に位置する反射壁5の高さeを4mmにした場合の相対輝度分布を示す。
Furthermore, the case where the height of the reflecting wall 5 is set to 14 mm will be described below with reference to FIG.
FIG. 21 is a graph showing the distribution of relative luminance, which is exactly the same as FIGS. 19 and 20 except for the height of the reflecting wall 5. In FIG. 21, the solid line 2101 indicates that the height of the reflection wall 5 is 14 mm, and the dotted line 2102 indicates the height d of the reflection wall 5 located at both ends other than both ends is 14 mm and the height of the reflection wall 5 located at both ends. When e is 0 mm, the alternate long and two short dashes line 2103 indicates the relative luminance distribution when the height d of the reflecting wall 5 positioned at both ends is 14 mm and the height e of the reflecting wall 5 positioned at both ends is 4 mm.

図21より、両端に位置する反射壁5の高さeを0mmおよび4mmにした場合の相対輝度分布2102および2103は、図17、図19および図20における相対輝度分布1702、1902および2003に比べて曲線が滑らかではないため、両端以外に位置する反射壁5の高さdを10mm、12mmまたは13mmにした場合に比べると、輝度むらが観察される可能性がある。しかし、反射壁5の高さを全て14mmにした場合には低下していた拡散層4の両端部の相対輝度が、両端以外に位置する反射壁5の高さdを14mmかつ両端に位置する反射壁5の高さeを0mmまたは4mmにした場合には改善しており、相対輝度分布の曲線がより滑らかになっている。   From FIG. 21, the relative luminance distributions 2102 and 2103 when the height e of the reflecting wall 5 located at both ends is 0 mm and 4 mm are compared with the relative luminance distributions 1702, 1902 and 2003 in FIGS. Since the curve is not smooth, uneven brightness may be observed as compared with the case where the height d of the reflecting wall 5 located at both ends is 10 mm, 12 mm, or 13 mm. However, when the height of the reflecting wall 5 is all 14 mm, the relative luminance at both ends of the diffusion layer 4 is lowered, and the height d of the reflecting wall 5 located at both ends is 14 mm and located at both ends. When the height e of the reflection wall 5 is 0 mm or 4 mm, the reflection wall 5 is improved, and the curve of the relative luminance distribution is smoother.

以上のように、この実施の形態1または2の本装置1において、反射壁5の高さが全て同じ場合は、輝度の均一性を保つ限界の反射壁5の高さは、冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置である8mmであったが、両端に位置する反射壁5の高さeを両端以外に位置する反射壁5の高さdより低くすれば、輝度の均一性を保つ限界の反射壁5の高さを、両端以外の反射壁5において13mmまで高くすることができる。なお、両端以外に位置する反射壁5の高さdが14mmの場合においても、拡散層4の両端部における輝度の低下を改善することはできるため、ある程度の輝度の均一性を維持することができる。また、本装置1のサイズで両端以外に位置する反射壁5の高さdを10、12、13mmにする場合、両端に位置する反射壁5の高さeは、各々6mm、4mm、4mmが適していることが確認できた。   As described above, in the present apparatus 1 according to the first or second embodiment, when the heights of the reflecting walls 5 are all the same, the height of the reflecting wall 5 that maintains the uniformity of the brightness is the cold cathode tube 2. However, if the height e of the reflecting wall 5 located at both ends is made lower than the height d of the reflecting wall 5 located at both ends, the luminance uniformity can be improved. The height of the reflecting wall 5 that is the limit to be maintained can be increased to 13 mm in the reflecting walls 5 other than both ends. In addition, even when the height d of the reflection wall 5 located at both ends is 14 mm, the luminance reduction at both ends of the diffusion layer 4 can be improved, so that a certain level of luminance uniformity can be maintained. it can. In addition, when the height d of the reflection wall 5 located at the other end than the both ends is set to 10, 12, 13 mm in the size of the apparatus 1, the height e of the reflection wall 5 located at both ends is 6 mm, 4 mm, and 4 mm, respectively. It was confirmed that it was suitable.

上記では、両端に位置する反射壁5の高さeについて、輝度の均一性を保つ上で最適の高さを示した。それらより、両端以外に位置する反射壁5の高さdが、冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置の高さより大きい場合、つまり反射板3の底面部3aと冷陰極管2との最短距離aと冷陰極管2の管径bとの和、a+bより大きい場合は、両端に位置する反射壁5の高さeが、冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置の高さより小さい、つまり反射板3の底面部3aと冷陰極管2との最短距離aと冷陰極管2の管径bとの和、a+b未満であれば、輝度の均一性を保てることが分かる。しかし、実施の形態1で説明したように、反射壁5の高さが全て同じ場合に輝度の均一性を保つ反射壁5の高さの条件は、冷陰極管2の拡散層4に最も近い位置の高さ以下、つまり反射板3の底面部3aと冷陰極管2との最短距離aと冷陰極管2の管径bとの和、a+b以下であることから、実施の形態2において、輝度の均一性を保つための両端に位置する反射壁5の高さeの上限もa+bであると考えられる。   In the above description, the height e of the reflecting wall 5 positioned at both ends is the optimum height for maintaining the luminance uniformity. Accordingly, when the height d of the reflection wall 5 located at both ends other than both ends is larger than the height at the position closest to the diffusion layer 4 of the cold cathode tube 2, that is, between the bottom surface portion 3 a of the reflector 3 and the cold cathode tube 2. When the sum of the shortest distance a and the tube diameter b of the cold-cathode tube 2 is larger than a + b, the height e of the reflection walls 5 located at both ends is higher than the height of the position closest to the diffusion layer 4 of the cold-cathode tube 2. It can be seen that the luminance uniformity can be maintained if the distance is small, that is, the sum of the shortest distance a between the bottom surface portion 3a of the reflecting plate 3 and the cold cathode tube 2 and the tube diameter b of the cold cathode tube 2 is less than a + b. However, as described in the first embodiment, the condition of the height of the reflecting wall 5 that maintains the uniformity of luminance when the heights of the reflecting walls 5 are all the same is closest to the diffusion layer 4 of the cold cathode tube 2. Since the sum of the shortest distance a between the bottom surface portion 3a of the reflector 3 and the cold cathode tube 2 and the tube diameter b of the cold cathode tube 2 is equal to or less than a + b, in Embodiment 2, It is considered that the upper limit of the height e of the reflection walls 5 positioned at both ends for maintaining the uniformity of luminance is also a + b.

ここで、図12における反射板3の底面部3aと冷陰極管2との最短距離a、冷陰極管2の管径b、拡散層4と冷陰極管2との最短距離c、両端以外に位置する反射壁5の高さd、両端に位置する反射壁5の高さeを用いると、指向性および帯状制御の制御性が実施の形態1よりも高く、かつ輝度の均一性を保つことができる反射壁5の高さの条件は、次の式(2)および式(3)で表すことができる。   Here, the shortest distance a between the bottom surface portion 3a of the reflector 3 and the cold cathode tube 2 in FIG. 12, the tube diameter b of the cold cathode tube 2, the shortest distance c between the diffusion layer 4 and the cold cathode tube 2, When the height d of the reflecting wall 5 positioned and the height e of the reflecting wall 5 positioned at both ends are used, the directivity and the controllability of the strip-shaped control are higher than in the first embodiment, and the luminance uniformity is maintained. The condition of the height of the reflecting wall 5 that can be expressed by the following expressions (2) and (3).

a+b<d 式(2)
0≦e≦a+b 式(3)
図12の本装置1において、a+bは8mmである。
a + b <d Formula (2)
0 ≦ e ≦ a + b Formula (3)
In the present apparatus 1 in FIG. 12, a + b is 8 mm.

なお、図12の本装置1において、拡散層4と冷陰極管2との最短距離cは18mmである。また上述のように輝度の均一性を十分保つことができる、両端以外に位置する反射壁5の高さdは14mm未満であることから、式(2)ついて両端以外に位置する反射壁5の高さdの上限を定め、式(4)のように表すことができる。   In the present apparatus 1 of FIG. 12, the shortest distance c between the diffusion layer 4 and the cold cathode tube 2 is 18 mm. Further, as described above, the height d of the reflecting wall 5 located at both ends other than both ends, which can sufficiently maintain the luminance uniformity, is less than 14 mm. The upper limit of the height d is determined and can be expressed as in equation (4).

a+b<d<a+b+c/3 式(4)
図12の本装置1において、a+b+c/3は14mmである。
a + b <d <a + b + c / 3 Formula (4)
In the present apparatus 1 in FIG. 12, a + b + c / 3 is 14 mm.

式(4)では両端以外に位置する反射壁5の高さdを(a+b+c/3)未満としたが、反射板3の底面部3aと冷陰極管2との最短距離a、および冷陰極管2の管径bの大きさを変えずに、拡散層4と冷陰極管2との最短距離cを増した場合は、dの上限を、例えば(a+b+c/2)のように高くすることができる。拡散層4と冷陰極管2との最短距離cを大きくすれば、反射壁5と拡散層4との空間が広がり、冷陰極管2から射出された光が拡散層4の反射壁5の真上部分に進入しやすいため、局所的な暗部が発生しにくくなるからである。   In the formula (4), the height d of the reflecting wall 5 positioned at both ends is less than (a + b + c / 3), but the shortest distance a between the bottom surface portion 3a of the reflecting plate 3 and the cold cathode tube 2, and the cold cathode tube When the shortest distance c between the diffusion layer 4 and the cold cathode tube 2 is increased without changing the size of the tube diameter b of 2, the upper limit of d can be increased as, for example, (a + b + c / 2). it can. If the shortest distance c between the diffusion layer 4 and the cold cathode tube 2 is increased, the space between the reflection wall 5 and the diffusion layer 4 is expanded, and light emitted from the cold cathode tube 2 is reflected on the reflection wall 5 of the diffusion layer 4. This is because it is difficult to generate a local dark portion because it easily enters the upper portion.

以上のように、この実施の形態2によれば、両端に位置する反射壁5の高さeを両端以外に位置する反射壁5の高さdより低くすることにより、輝度の均一性を保つことができる反射壁5の高さの制限を、反射壁5の高さが全て同じである場合より広げることができる。従って、この構成のように両端以外に位置する反射壁5の高さdを高くして、指向性および帯状制御の制御性を更に向上させることができる。   As described above, according to the second embodiment, the uniformity of luminance is maintained by making the height e of the reflecting wall 5 located at both ends lower than the height d of the reflecting wall 5 located at both ends. The height limitation of the reflection wall 5 that can be made can be broader than when the heights of the reflection walls 5 are all the same. Therefore, the directivity and the controllability of the strip-shaped control can be further improved by increasing the height d of the reflecting wall 5 located at the positions other than both ends as in this configuration.

実施の形態3.
実施の形態2では、両端に位置する反射壁5の高さeを、両端以外に位置する反射壁5の高さdよりも低くする場合について述べ、両端以外に位置する反射壁5の高さdはそれぞれ同じ高さである場合を例として説明したが、反射壁5の高さを、「高い」と「低い」の2段階の高さでなく、更に複数段階の高さを持つようにしても良い。この実施の形態3では、X方向に平行に並んだ反射壁5の高さを、本装置1のX方向における中央部に近い程、高くする場合について述べる。
Embodiment 3 FIG.
In the second embodiment, the case where the height e of the reflecting wall 5 positioned at both ends is set lower than the height d of the reflecting wall 5 positioned at both ends, and the height of the reflecting wall 5 positioned at both ends is described. The case where d is the same height has been described as an example. However, the height of the reflecting wall 5 is not two-stage height of “high” and “low”, but has a plurality of heights. May be. In the third embodiment, a case will be described in which the height of the reflection walls 5 arranged in parallel to the X direction is increased as the height of the reflection wall 5 is closer to the center in the X direction.

図22は、この発明の実施の形態3に係る本装置1の基本構成を示す概略構成図である。図中において実施の形態2と同一の構成には同一の符号を付し、その説明は省略する。実施の形態3は、実施の形態2の基本構成を示す図12における発光領域E1とE2,およびE7とE8を仕切る反射壁5の高さを5a、発光領域E2とE3,およびE6とE7を仕切る反射壁5の高さを5b、発光領域E3とE4,およびE5とE6を仕切る反射壁5の高さを5c、発光領域E4とE5を仕切る反射壁5の高さを5dとし、両端に近い反射壁5より本装置1の中央部に近い反射壁5の方が高いように、つまり5a<5b<5c<5dとなるようにしたものである。
ここでは、最も高い反射壁5の高さは5d=16mmであり、実施の形態2では言及していなかった高さである。
FIG. 22 is a schematic configuration diagram showing a basic configuration of the device 1 according to the third embodiment of the present invention. In the figure, the same components as those of the second embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. In the third embodiment, the height of the reflecting wall 5 that partitions the light emitting areas E1 and E2, and E7 and E8 in FIG. 12 showing the basic configuration of the second embodiment is set to 5a, the light emitting areas E2 and E3, and E6 and E7. The height of the reflecting wall 5 for partitioning is 5b, the height of the reflecting wall 5 for partitioning the light emitting regions E3 and E4 and E5 and E6 is 5c, and the height of the reflecting wall 5 for partitioning the light emitting regions E4 and E5 is 5d. The reflection wall 5 near the center of the apparatus 1 is higher than the near reflection wall 5, that is, 5a <5b <5c <5d.
Here, the height of the highest reflecting wall 5 is 5d = 16 mm, which is a height not mentioned in the second embodiment.

図23は、図22に示す本装置1における相対輝度の分布を示すグラフである。図23において、2301の実線は反射壁5の高さを全て16mmにした場合の相対輝度分布、2302の点線は反射壁5の高さを5a=4mm、5b=8mm、5c=12mm、5d=16mmにした場合の相対輝度分布を示している。縦軸、横軸、輝度の測定箇所および相対輝度の求め方は、実施の形態1における図7と同じであるため説明を省略する。ここでは、全ての冷陰極管2を点灯させている。   FIG. 23 is a graph showing a distribution of relative luminance in the apparatus 1 shown in FIG. In FIG. 23, the solid line 2301 indicates the relative luminance distribution when the height of the reflecting wall 5 is all 16 mm, and the dotted line 2302 indicates the height of the reflecting wall 5 5a = 4 mm, 5b = 8 mm, 5c = 12 mm, 5d = The relative luminance distribution in the case of 16 mm is shown. Since the vertical axis, the horizontal axis, the measurement location of the luminance, and the method of obtaining the relative luminance are the same as those in FIG. Here, all the cold cathode fluorescent lamps 2 are turned on.

図23において、反射壁5の高さが全て16mmの場合には、拡散層4の左端と各反射壁5の上部で相対輝度が低下している。それらにより、相対輝度分布の曲線は、段階的な変化が目立つ。このため、拡散層4の左端および反射壁5の上部分で暗部が発生し、輝度むらが観察される可能性が高い。
一方、反射壁5の高さを5a、5b、5cおよび5dのように徐々に変化させた場合は、反射壁5の高さが全て16mmである場合に対して、拡散層4の左端および反射壁5の部分、特に発光領域E5とE6、E6とE7、E7とE8の間の反射壁5の部分の相対輝度の低下が改善され、相対輝度の曲線が滑らかになっている。また、発光領域E1からE4にかけては、反射壁5を全て16mmにした場合に比べて、相対輝度は全体的に低くなっているが、反射壁5の上部分での相対輝度の低下がないため、滑らかになっている。従って、反射壁5の高さを徐々に変化させた場合は、輝度むらが観察されない。
In FIG. 23, when the heights of the reflection walls 5 are all 16 mm, the relative luminance is reduced at the left end of the diffusion layer 4 and the upper portions of the reflection walls 5. As a result, the step of the relative luminance distribution curve is conspicuous. For this reason, a dark part is generated at the left end of the diffusion layer 4 and the upper part of the reflection wall 5, and there is a high possibility that luminance unevenness is observed.
On the other hand, when the height of the reflecting wall 5 is gradually changed like 5a, 5b, 5c and 5d, the left end of the diffusing layer 4 and the reflection are compared with the case where the height of the reflecting wall 5 is all 16 mm. The decrease in relative luminance of the wall 5 portion, particularly the portions of the reflecting wall 5 between the light emitting regions E5 and E6, E6 and E7, and E7 and E8 is improved, and the curve of relative luminance is smoothed. In addition, in the light emitting areas E1 to E4, the relative luminance is lower overall as compared with the case where all the reflecting walls 5 are 16 mm, but there is no decrease in the relative luminance in the upper part of the reflecting walls 5. Is smooth. Therefore, when the height of the reflecting wall 5 is gradually changed, uneven brightness is not observed.

このように、両端から本装置1の中央部に向かうに連れて反射壁5の高さを徐々に高くすれば、輝度の均一性を保ちつつ、装置中央部に位置する反射壁5の高さ5dを実施の形態2における両端以外に位置する反射壁5の高さdよりも高くすることができる。   Thus, if the height of the reflecting wall 5 is gradually increased from both ends toward the center of the apparatus 1, the height of the reflecting wall 5 located at the center of the apparatus is maintained while maintaining the uniformity of luminance. 5d can be made higher than the height d of the reflecting wall 5 located at the positions other than both ends in the second embodiment.

次に、図24を用いて、コントラストが向上していることを説明する。
図24は、反射壁5の高さが全て8mmの場合、および、反射壁5の高さが図22に示すように5a=4mm、5b=8mm、5c=12mm、5d=16mmの場合の相対輝度分布を示すグラフであり、図24における2401の実線が前者の場合の相対輝度分布を示し、2402の点線が後者の場合の相対輝度分布を示す。なお、縦軸、横軸、輝度の測定箇所および相対輝度の求め方は、実施の形態1における図7と同じであるため説明を省略する。なお、点灯または消灯する発光領域は、この実施の形態3においては、E1、E3、E5、E7を消灯し、E2、E4、E6、E8を点灯させた。
Next, the improvement in contrast will be described with reference to FIG.
FIG. 24 shows the relative values when the height of the reflecting wall 5 is 8 mm and when the height of the reflecting wall 5 is 5a = 4 mm, 5b = 8 mm, 5c = 12 mm, and 5d = 16 mm as shown in FIG. 25 is a graph showing a luminance distribution, in which a solid line 2401 in FIG. 24 indicates the relative luminance distribution in the former case, and a dotted line in 2402 indicates the relative luminance distribution in the latter case. The vertical axis, the horizontal axis, the measurement location of luminance, and the method of obtaining relative luminance are the same as those in FIG. In the light emitting region to be turned on or off, in the third embodiment, E1, E3, E5, and E7 are turned off, and E2, E4, E6, and E8 are turned on.

図24において、2402のように反射壁5の高さを5a<5b<5c<5dとした場合は、反射壁5の高さを全て8mmにした場合に比べて、発光領域E1〜E3、およびE6〜E8の相対輝度の差に大きな違いはないものの、拡散層4の中央部、つまり発光領域E3〜E6において、相対輝度の差が大きくなっている。これは、反射壁5の中央部の高さ5dを最も高くしたからであり、拡散層4の中央部で反射壁5の高さを高くすることによるコントラスト向上の効果が大きく現れているからである。   In FIG. 24, when the height of the reflecting wall 5 is 5a <5b <5c <5d as in 2402, the light emitting regions E1 to E3 and the height of the reflecting wall 5 are all 8 mm, and Although there is no significant difference in the relative luminance of E6 to E8, the relative luminance difference is large in the central portion of the diffusion layer 4, that is, the light emitting regions E3 to E6. This is because the height 5d of the central portion of the reflecting wall 5 is made the highest, and the effect of improving the contrast by increasing the height of the reflecting wall 5 at the central portion of the diffusion layer 4 appears greatly. is there.

以上のように、この実施の形態3に示すように、両端から本装置1の中央部に向かうにつれて、反射壁5の高さを高くすることにより、輝度の均一性を保持しながら、帯状制御の制御性を更に向上させることができる。特に画面表示装置の中央部で、コントラストが良くなる直下型バックライト装置を得ることができる。   As described above, as shown in the third embodiment, the strip-shaped control is performed while maintaining the uniformity of luminance by increasing the height of the reflection wall 5 from both ends toward the center of the apparatus 1. The controllability can be further improved. In particular, it is possible to obtain a direct type backlight device having a good contrast at the center of the screen display device.

なお、上記では本装置1の中央部に位置する反射壁5の高さ5dを最も高くした場合について説明したが、本装置1の中央側の反射壁5c、5dの高さを等しくしても良い。このようにすると、コントラストの高い領域が広くなり、拡散層4中央部における帯状制御の制御性が更に向上する。その場合、5aや5bなど、5cや5d以外の反射壁5の高さを低くする等、工夫をする必要がある。   In the above description, the case where the height 5d of the reflecting wall 5 located at the center of the apparatus 1 is set to the highest height has been described. However, even if the height of the reflecting walls 5c and 5d on the center side of the apparatus 1 is made equal. good. In this way, the high contrast region is widened, and the controllability of the belt-like control at the center of the diffusion layer 4 is further improved. In that case, it is necessary to devise such as reducing the height of the reflecting wall 5 other than 5c and 5d, such as 5a and 5b.

実施の形態4
実施の形態1から3では、図1、図12、図22で示すように、平面状の反射壁5を反射板3の底面部3aに等間隔に直立させる場合について述べたが、反射壁5同士の間隔を変化させたり、反射壁5を斜めに設置したりしても良い。
Embodiment 4
In the first to third embodiments, as shown in FIGS. 1, 12, and 22, the planar reflecting wall 5 is described as standing upright at equal intervals on the bottom surface portion 3 a of the reflecting plate 3. The interval between them may be changed, or the reflection wall 5 may be installed obliquely.

図25は、この発明の実施の形態4に係る本装置1の基本構成の一例を示す概略構成図である。図中において実施の形態2と同一の構成には同一の符号を付し、その説明は省略する。実施の形態4は、実施の形態2の基本構成を示す図12において直立して設置されていた平板状の反射壁5の替わりに、断面が逆V字形で冷陰極管2から射出された光を表面が反射するY方向に延在する反射部材を反射壁5として、反射板3の底面部3a上に設置したものである。実施の形態2と同様に、両端に位置する2枚の反射壁5の高さeは、両端以外に位置する反射壁5の高さdより低い。   FIG. 25 is a schematic configuration diagram showing an example of a basic configuration of the device 1 according to the fourth embodiment of the present invention. In the figure, the same components as those of the second embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. In the fourth embodiment, light emitted from the cold-cathode tube 2 has an inverted V-shaped cross section instead of the flat reflecting wall 5 installed upright in FIG. 12 showing the basic configuration of the second embodiment. A reflecting member extending in the Y direction, the surface of which is reflected, is used as the reflecting wall 5 and is installed on the bottom surface portion 3 a of the reflecting plate 3. Similar to the second embodiment, the height e of the two reflecting walls 5 positioned at both ends is lower than the height d of the reflecting walls 5 positioned at both ends.

この場合、実施の形態2に示すように輝度の均一性を保ちながら、斜めにして設置した反射壁5の反射板3の底面部3aに対する角度や長さを変化させて、指向性や帯状制御の制御性の向上を図ることができる。   In this case, as shown in the second embodiment, the angle and the length of the reflecting wall 5 installed obliquely with respect to the bottom surface portion 3a of the reflecting plate 3 are changed while maintaining the uniformity of luminance, thereby controlling the directivity and the band shape. It is possible to improve the controllability.

また、これらの反射壁5の高さは、実施の形態1や3に示すように、全て同じ高さにしたり、反射壁5の設置される位置により高さを変化させても良い。その場合は、実施の形態1や実施の形態3で示すように輝度の均一性を保ちながら、反射壁5の角度や長さを変化させて、更に指向性や帯状制御の制御性の向上を図ることができる。   Further, as shown in the first and third embodiments, the heights of these reflection walls 5 may all be the same, or may be changed depending on the positions where the reflection walls 5 are installed. In that case, as shown in the first embodiment or the third embodiment, the angle and length of the reflecting wall 5 are changed while maintaining the uniformity of the brightness, and the directivity and the controllability of the strip-shaped control are further improved. Can be planned.

以上のように、この実施の形態4によれば、実施の形態1から3で述べたような指向性や帯状制御の制御性を向上させ、更に反射壁5の形状を変化させて光路の制御を行うことで更に指向性の良い直下型バックライト装置を得ることができる。   As described above, according to the fourth embodiment, the directivity and the controllability of the strip-like control as described in the first to third embodiments are improved, and the shape of the reflecting wall 5 is further changed to control the optical path. By performing the above, it is possible to obtain a direct type backlight device with better directivity.

ところで、上記説明では、本装置1における拡散層4を光拡散板の上に拡散シート2枚を重ねる場合について述べたが、拡散層4はどのような構成にしても良い。例えば、拡散層4の反射板3側に集光型の拡散シートを備えてもよく、光拡散板のみで構成してもよい。また、光拡散板および観測者側に集光効果のあるプリズムシートを用いた構成にしてもよい。   By the way, in the above description, the diffusion layer 4 in the present apparatus 1 is described as a case where two diffusion sheets are stacked on the light diffusion plate, but the diffusion layer 4 may have any configuration. For example, a condensing type diffusion sheet may be provided on the reflection layer 3 side of the diffusion layer 4, or the light diffusion plate may be used alone. Further, a configuration using a light diffusion plate and a prism sheet having a light condensing effect on the observer side may be used.

また、冷陰極管2が2本で1ユニットとして、ユニットごとに同一輝度の制御を行う場合について述べたが、冷陰極管2を1本ずつ帯状制御を行っても良い。このようにすると、冷陰極管2を2本ごとに制御した場合よりも、より精細な輝度分布を持たせることが可能となる。   Moreover, although the case where two cold cathode tubes 2 are used as one unit and the same luminance control is performed for each unit has been described, the cold cathode tubes 2 may be subjected to band-like control one by one. This makes it possible to have a finer luminance distribution than when the cold cathode fluorescent lamps 2 are controlled every two.

また、冷陰極管2が3本以上で1ユニットとしたり、1ユニットにおける冷陰極管2の本数を本装置1における位置によって異なるようにしたり、発光領域に合わせて冷陰極管2の本数を変えたりなど、冷陰極管2の本数を任意に変更しても良い。また反射壁5の高さを、発光領域の位置や広さに合わせて変えても良い。このように、表示画面の場所により異なった輝度制御を行えば、更に精細な直下型バックライト装置を得ることができる。   Further, the number of the cold cathode tubes 2 is three or more to be one unit, the number of the cold cathode tubes 2 in one unit is varied depending on the position in the apparatus 1, or the number of the cold cathode tubes 2 is changed in accordance with the light emitting region. The number of cold cathode fluorescent lamps 2 may be arbitrarily changed. Further, the height of the reflecting wall 5 may be changed in accordance with the position and area of the light emitting region. In this way, a finer direct type backlight device can be obtained by performing different brightness control depending on the location of the display screen.

更に、円柱光源として直管の冷陰極管2の替わりにU字型の冷陰極管2で直下型バックライト装置を構成しても良い。このようにすることにより、本装置1を大型化したとき、輝度むらの少ない良好な画像を実現することができる。   Furthermore, a direct type backlight device may be configured with a U-shaped cold cathode tube 2 instead of the straight tube cold cathode tube 2 as a cylindrical light source. By doing in this way, when this apparatus 1 is enlarged, a favorable image with little brightness nonuniformity is realizable.

また、ここでは、この発明を円柱光源を用いたバックライト装置に適用する場合について述べたが、円柱光源を並列に配列することを模して、LED光源を直線状、かつ並列に配列したバックライト装置等に適用しても良い。   Also, here, the case where the present invention is applied to a backlight device using a cylindrical light source has been described, but a backlight in which LED light sources are linearly arranged in parallel is simulated by arranging the cylindrical light sources in parallel. You may apply to a light apparatus etc.

この発明の実施の形態1に係る本装置を示す概略構成図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic block diagram which shows this apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1において光路を示す拡大図である。It is an enlarged view which shows an optical path in Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1において光路を示す拡大図である。It is an enlarged view which shows an optical path in Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1において一般的な輝度分布を説明するためのグラフである。It is a graph for demonstrating general luminance distribution in Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1に係る本装置の輝度分布を示すグラフである。It is a graph which shows the luminance distribution of this apparatus concerning Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1に係る本装置の輝度の半値幅を示すグラフである。It is a graph which shows the half value width of the brightness | luminance of this apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1におけるコントラストを説明するためのグラフである。It is a graph for demonstrating the contrast in Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1に係る本装置のコントラストを示すグラフである。It is a graph which shows the contrast of this apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1において拡散層4上で観察されるコントラストのイメージを示す図である。It is a figure which shows the image of the contrast observed on the diffusion layer 4 in Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1における輝度の均一性を説明するためのグラフである。It is a graph for demonstrating the uniformity of the brightness | luminance in Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1において拡散層4上で観察される輝度の均一性のイメージを示す図である。It is a figure which shows the image of the uniformity of the brightness | luminance observed on the diffusion layer 4 in Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態2に係る本装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows this apparatus which concerns on Embodiment 2 of this invention. この発明の実施の形態2において光路を示す拡大図である。It is an enlarged view which shows an optical path in Embodiment 2 of this invention. この発明の実施の形態2において光路を示す拡大図である。It is an enlarged view which shows an optical path in Embodiment 2 of this invention. この発明の実施の形態2における輝度の均一性を説明するためのグラフである。It is a graph for demonstrating the uniformity of the brightness | luminance in Embodiment 2 of this invention. この発明の実施の形態2における輝度の均一性を説明するためのグラフである。It is a graph for demonstrating the uniformity of the brightness | luminance in Embodiment 2 of this invention. この発明の実施の形態2における輝度の均一性を説明するためのグラフである。It is a graph for demonstrating the uniformity of the brightness | luminance in Embodiment 2 of this invention. この発明の実施の形態2におけるコントラストを説明するためのグラフである。It is a graph for demonstrating the contrast in Embodiment 2 of this invention. この発明の実施の形態2における輝度の均一性を説明するためのグラフである。It is a graph for demonstrating the uniformity of the brightness | luminance in Embodiment 2 of this invention. この発明の実施の形態2における輝度の均一性を説明するためのグラフである。It is a graph for demonstrating the uniformity of the brightness | luminance in Embodiment 2 of this invention. この発明の実施の形態2における輝度の均一性を説明するためのグラフである。It is a graph for demonstrating the uniformity of the brightness | luminance in Embodiment 2 of this invention. この発明の実施の形態3に係る本装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows this apparatus which concerns on Embodiment 3 of this invention. この発明の実施の形態3における輝度の均一性を説明するためのグラフである。It is a graph for demonstrating the uniformity of the brightness | luminance in Embodiment 3 of this invention. この発明の実施の形態3におけるコントラストを説明するためのグラフである。It is a graph for demonstrating the contrast in Embodiment 3 of this invention. この発明の実施の形態4に係る本装置の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of this apparatus which concerns on Embodiment 4 of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 直下型バックライト装置
2 冷陰極管
3a 反射板の底面部
4 拡散層
5 反射壁
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Direct type backlight apparatus 2 Cold cathode tube 3a Bottom part of reflecting plate 4 Diffusion layer 5 Reflecting wall

Claims (10)

独立に輝度調節が可能な複数の円柱光源が拡散層と反射板との間に並列した直下型バックライト装置であって、
前記反射板から法線方向に高さを持つ反射壁を前記円柱光源の間の前記反射板上に配置し、
複数配置された前記反射壁の内、両端に位置する前記反射壁の高さが両端以外に位置する前記反射壁より低いことを特徴とする直下型バックライト装置。
A direct-type backlight device in which a plurality of cylindrical light sources capable of independently adjusting brightness are arranged in parallel between a diffusion layer and a reflector,
A reflecting wall having a height in the normal direction from the reflecting plate is disposed on the reflecting plate between the cylindrical light sources,
A direct type backlight device characterized in that, among the plurality of reflection walls, the height of the reflection wall located at both ends is lower than that of the reflection wall located outside the both ends.
両端に位置する反射壁の高さが反射板と円柱光源との最短距離と前記円柱光源の管径との和以下であることを特徴とする、請求項1に記載の直下型バックライト装置。   2. The direct type backlight device according to claim 1, wherein the height of the reflecting walls located at both ends is equal to or less than a sum of a shortest distance between the reflecting plate and the cylindrical light source and a tube diameter of the cylindrical light source. 独立に輝度調節が可能な複数の円柱光源が拡散層と反射板との間に並列した直下型バックライト装置であって、
前記反射板から法線方向に高さを持つ反射壁を前記円柱光源の間の前記反射板上に配置し、
全ての前記反射壁の高さが、前記反射板と前記円柱光源との最短距離と前記円柱光源の管径との和以下であることを特徴とする直下型バックライト装置。
A direct-type backlight device in which a plurality of cylindrical light sources capable of independently adjusting brightness are arranged in parallel between a diffusion layer and a reflector,
A reflecting wall having a height in the normal direction from the reflecting plate is disposed on the reflecting plate between the cylindrical light sources,
A direct type backlight device characterized in that the height of all the reflecting walls is equal to or less than the sum of the shortest distance between the reflecting plate and the cylindrical light source and the tube diameter of the cylindrical light source.
両端以外に位置する反射壁の高さが反射板と円柱光源との最短距離と前記円柱光源の管径との和より高いことを特徴とする、請求項2に記載の直下型バックライト装置。   The direct-type backlight device according to claim 2, wherein the height of the reflecting wall located at other than both ends is higher than the sum of the shortest distance between the reflecting plate and the cylindrical light source and the tube diameter of the cylindrical light source. 反射板と円柱光源との最短距離をa、
前記円柱光源の管径をb、
拡散層と前記円柱光源との最短距離をc、
両端以外に位置する反射壁の高さをdとすると、
d<a+b+c/3を満たすことを特徴とする、請求項4に記載の直下型バックライト装置。
The shortest distance between the reflector and the cylindrical light source is a,
The tube diameter of the cylindrical light source is b,
The shortest distance between the diffusion layer and the cylindrical light source is c,
If the height of the reflection wall located at both ends is d,
The direct-type backlight device according to claim 4, wherein d <a + b + c / 3 is satisfied.
複数の反射壁の配置された位置が両端から中央部に向かうに連れて、前記反射壁の高さが高くなることを特徴とする、請求項1および請求項3のいずれか1項に記載の直下型バックライト装置。   4. The height of the reflection wall is increased as the positions where the plurality of reflection walls are arranged from both ends toward the central portion. 5. Direct type backlight device. 連続して隣り合い且つ同一の輝度調節を行う円柱光源を1ユニットとし、前記ユニット間に反射壁を備えたことを特徴とする、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の直下型バックライト装置。   The cylindrical light source which adjoins continuously and performs the same brightness | luminance adjustment is made into 1 unit, The reflective wall was provided between the said units, The direct bottom of any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned. Type backlight device. 円柱光源が直管型の冷陰極管であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の直下型バックライト装置。   The direct type backlight device according to any one of claims 1 to 6, wherein the cylindrical light source is a straight tube type cold cathode tube. 円柱光源がU字型の冷陰極管であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の直下型バックライト装置。   The direct type backlight device according to any one of claims 1 to 6, wherein the cylindrical light source is a U-shaped cold cathode tube. 請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の直下型バックライト装置に液晶パネルを配置し、前記液晶パネルと前記直下型バックライト装置の反射板との間に前記直下型バックライト装置の拡散層が位置することを特徴とする薄型表示装置。
A liquid crystal panel is arranged in the direct type backlight device according to any one of claims 1 to 9, and the direct type backlight device is disposed between the liquid crystal panel and a reflector of the direct type backlight device. A thin display device characterized in that a diffusion layer is located.
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