JP2007024817A - Radiological image conversion panel and its manufacturing method - Google Patents

Radiological image conversion panel and its manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP2007024817A
JP2007024817A JP2005211145A JP2005211145A JP2007024817A JP 2007024817 A JP2007024817 A JP 2007024817A JP 2005211145 A JP2005211145 A JP 2005211145A JP 2005211145 A JP2005211145 A JP 2005211145A JP 2007024817 A JP2007024817 A JP 2007024817A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
image conversion
conversion panel
phosphor layer
radiation image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005211145A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Okamura
真一 岡村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Original Assignee
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Medical and Graphic Inc filed Critical Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Priority to JP2005211145A priority Critical patent/JP2007024817A/en
Publication of JP2007024817A publication Critical patent/JP2007024817A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a radiological image conversion panel capable of forming a uniform stimulable phosphor layer by suppressing small a temperature difference due to the position in a substrate, concerning a manufacturing method of the radiological image conversion panel having the stimulable phosphor layer on the substrate, and the radiological image conversion panel, wherein uniformity of a brightness distribution and the number of image defects are improved significantly. <P>SOLUTION: The substrate 1 is made to adhere to a metal block 103 via a pressure-sensitive sheet 102 and an insulating material 130, and is installed on a substrate support inside a deposition device, and then the stimulable phosphor layer is formed on the substrate surface by a vapor-phase growth. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、輝尽性蛍光体を用いた放射線画像変換パネル及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a radiation image conversion panel using a photostimulable phosphor and a manufacturing method thereof.

X線画像のような放射線画像は、病気診断用などの分野で多く用いられている。このX線画像を得る方法としては、被写体を通過したX線を蛍光体層(蛍光スクリーン)に照射し、これにより可視光を生じさせた後、この可視光を通常の写真を撮るときと同様にして、ハロゲン化銀写真感光材料(以下、単に感光材料ともいう)に照射し、次いで現像処理を施して可視銀画像を得る、いわゆる放射線写真方式が広く利用されている。   Radiation images such as X-ray images are often used in fields such as disease diagnosis. The X-ray image is obtained by irradiating the phosphor layer (phosphor screen) with X-rays that have passed through the subject, thereby generating visible light, and then using this visible light as when taking a normal photograph. Thus, a so-called radiographic method in which a silver halide photographic light-sensitive material (hereinafter also simply referred to as a light-sensitive material) is irradiated and then developed to obtain a visible silver image is widely used.

しかしながら、近年では、ハロゲン化銀塩を有する感光材料による画像形成方法に代わり、蛍光体層から直接画像を取り出す新たな方法が開示されている。この方法としては被写体を透過した放射線を蛍光体に吸収せしめ、しかる後この蛍光体を例えば光または熱エネルギーで励起することにより、この蛍光体が上記吸収により蓄積している放射線エネルギーを蛍光として放射せしめ、この蛍光を検出し画像化する方法がある。具体的には、例えば、米国特許第3,859,527号及び特開昭55−12144号公報等に記載されているような輝尽性蛍光体を用いる放射線画像変換方法が知られている。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換パネルを使用するもので、この放射線像変換パネルの輝尽性蛍光体層に被写体を透過した放射線を当てて、被写体各部の放射線透過密度に対応する放射線エネルギーを蓄積させて、その後、輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線などの電磁波(励起光)で時系列的に励起することにより、輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射線エネルギーを輝尽発光として放出させ、この光の強弱による信号を、例えば、光電変換して、電気信号を得て、この信号を感光材料等の記録材料、CRT等の表示装置上に可視像として再生するものである。   However, in recent years, a new method for directly extracting an image from a phosphor layer has been disclosed in place of an image forming method using a light-sensitive material having a silver halide salt. In this method, the radiation transmitted through the subject is absorbed by the phosphor, and then the phosphor is excited by light or thermal energy, for example, so that the radiation energy accumulated by the phosphor is emitted as fluorescence. There is a method of detecting and imaging this fluorescence. Specifically, for example, a radiation image conversion method using a photostimulable phosphor as described in US Pat. No. 3,859,527 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-12144 is known. This method uses a radiation image conversion panel using a stimulable phosphor containing a stimulable phosphor, and the radiation transmitted through the subject is applied to the stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel. , By storing radiation energy corresponding to the radiation transmission density of each part of the subject and then exciting the stimulable phosphor in time series with electromagnetic waves (excitation light) such as visible light and infrared light. Radiation energy accumulated in the body is emitted as stimulated emission, and a signal based on the intensity of this light is photoelectrically converted to obtain an electrical signal, which is used as a recording material such as a photosensitive material, CRT, etc. The image is reproduced as a visible image on the display device.

上記の放射線画像の再生方法によれば、従来の放射線写真フィルムと増感紙との組合せによる放射線写真法と比較して、はるかに少ない被曝線量で、情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利点を有している。   According to the above radiographic image reproduction method, it is possible to obtain a radiographic image with a large amount of information with a much smaller exposure dose as compared with a radiographic method using a combination of a conventional radiographic film and an intensifying screen. It has the advantage of being able to.

これらの輝尽性蛍光体を使用した放射線画像変換パネルは、放射線画像情報を蓄積した後、励起光の走査によって蓄積エネルギーを放出するので、走査後に再度放射線画像の蓄積を行うことができ、繰返し使用が可能である。つまり従来の放射線写真法では、一回の撮影ごとに放射線写真フィルムを消費するのに対して、この放射線画像変換方法では放射線画像変換パネルを繰り返し使用するので、資源保護、経済効率の面からも有利である。   Radiation image conversion panels using these photostimulable phosphors, after accumulating radiation image information, release accumulated energy by scanning excitation light, so that radiation images can be accumulated again after scanning, and repeated Can be used. In other words, the conventional radiographic method consumes a radiographic film for each photographing, whereas this radiographic image conversion method repeatedly uses a radiographic image conversion panel, so that also from the viewpoint of resource protection and economic efficiency. It is advantageous.

更に、近年、診断画像の解析においてより高鮮鋭性の放射線画像変換パネルが要求されている。鮮鋭性改善の為の手段として、例えば、形成される輝尽性蛍光体の形状そのものをコントロールし、感度及び鮮鋭性の改良を図る試みがされている。これらの試みの1つとして、例えば、特開昭61−142497号公報に記載されている微細な凹凸パターンを有する支持体上に輝尽性蛍光体を堆積させ形成した微細な擬柱状ブロックからなる輝尽性蛍光体層を用いる方法がある。   Furthermore, in recent years, a radiographic image conversion panel with higher sharpness has been required for analysis of diagnostic images. As means for improving the sharpness, for example, an attempt has been made to improve the sensitivity and sharpness by controlling the shape of the photostimulable phosphor itself. As one of these attempts, for example, it is composed of a fine pseudo-columnar block formed by depositing a photostimulable phosphor on a support having a fine concavo-convex pattern described in JP-A No. 61-142497. There is a method using a stimulable phosphor layer.

また、特開昭61−142500号公報に記載のように微細なパターンを有する支持体上に、輝尽性蛍光体を堆積させて得た柱状ブロック間のクラックをショック処理を施して、更に発達させた輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルを用いる方法、更には支持体の面に形成された輝尽性蛍光体層にその表面側から亀裂を生じさせ擬柱状とした放射線画像変換パネルを用いる方法(特許文献1参照)、更には支持体の上面に蒸着により空洞を有する輝尽性蛍光体層を形成した後、加熱処理によって空洞を成長させ亀裂を設ける方法等も提案されている(特許文献2参照)。更に、気相成長法によって支持体上に、支持体の法線方向に対し一定の傾きをもった細長い柱状結晶を形成した輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルが提案されている(特許文献3参照)。   Further, as described in JP-A-61-142500, a crack between columnar blocks obtained by depositing a photostimulable phosphor on a support having a fine pattern is subjected to shock treatment for further development. Method using a radiation image conversion panel having a photostimulable phosphor layer formed, and further, radiation image conversion in which a photostimulable phosphor layer formed on the surface of a support is cracked from the surface side to form a pseudo columnar shape A method using a panel (see Patent Document 1), a method of forming a stimulable phosphor layer having a cavity by vapor deposition on the upper surface of a support, and then growing a cavity by heat treatment to provide a crack are proposed. (See Patent Document 2). Furthermore, a radiation image conversion panel having a photostimulable phosphor layer in which elongated columnar crystals having a certain inclination with respect to the normal direction of the support are formed on the support by vapor phase epitaxy has been proposed ( (See Patent Document 3).

最近では、CsBrなどのハロゲン化アルカリを母体にEuを賦活した輝尽性蛍光体を用いた放射線画像変換パネルが提案され、特にEuを賦活剤とすることで従来得られていなかった高いX線変換効率を導き出すことが可能となった。   Recently, a radiation image conversion panel using a stimulable phosphor activated with Eu based on an alkali halide such as CsBr has been proposed, and in particular, high X-rays that have not been obtained by using Eu as an activator. It became possible to derive the conversion efficiency.

また、基板としてアルミニウムのような高反射率材料を選択することにより、励起光や輝尽発光が反射され、高輝度の放射線画像変換パネルが得られることが知られている。   Further, it is known that a high-luminance radiation image conversion panel can be obtained by selecting excitation light or stimulated light emission by selecting a high reflectance material such as aluminum as the substrate.

しかしながら、一般に放射線画像変換パネルの作製に使用される基板は基板面の面積が大きく(例えば300mm×300mm以上)、上記基板面の面積に比して厚さが薄いため、蒸着装置内に支持されて輝尽性蛍光体の蒸着が施される際に、基板の中央部が重力により下方に撓んでしまい、均一な輝尽性蛍光体層を基板上に形成することが難しいという問題がある。   However, since the substrate used for producing the radiation image conversion panel generally has a large substrate surface area (for example, 300 mm × 300 mm or more) and is thinner than the substrate surface area, it is supported in the vapor deposition apparatus. When the photostimulable phosphor is deposited, the central portion of the substrate is bent downward due to gravity, and it is difficult to form a uniform photostimulable phosphor layer on the substrate.

すなわち、蒸着装置内での基板への蒸着に際し、この基板を支持している基板支持部から熱伝導等によって伝えられる熱により基板の温度を所定の温度に高めてから蒸着が施されるが、上記基板は基板支持部によりこの基板の周縁部で支持されているので基板の中央部が下方に撓んでしまい、基板支持部から基板の中央部へ熱伝導によって直接熱が伝えられることはない。そのため、基板の中央部に伝えられる熱は、基板支持部から基板の周縁部を通して伝えられ、基板の中央部に伝わるまでに輻射等によって熱が失われてしまい基板の中央部の温度は周縁部ほど高くならない。したがって、この基板内に温度分布が生じ、基板内の位置によって蒸着条件の差が生じる。これにより、上記のように均一な輝尽性蛍光体層を基板上に形成することが難しくなる。
特開昭62−39737号公報 特開昭62−110200号公報 特開平2−58000号公報
That is, when vapor-depositing on the substrate in the vapor deposition apparatus, the temperature of the substrate is raised to a predetermined temperature by heat transmitted by the heat conduction etc. from the substrate support part supporting this substrate, but vapor deposition is performed. Since the substrate is supported at the peripheral edge of the substrate by the substrate support portion, the center portion of the substrate is bent downward, and heat is not directly transferred from the substrate support portion to the center portion of the substrate by heat conduction. Therefore, the heat transmitted to the central part of the substrate is transmitted from the substrate support part through the peripheral part of the substrate, and the heat is lost by radiation or the like until it is transmitted to the central part of the substrate, and the temperature of the central part of the substrate is the peripheral part. It wo n’t be as expensive. Therefore, a temperature distribution is generated in the substrate, and a difference in vapor deposition conditions occurs depending on the position in the substrate. This makes it difficult to form a uniform stimulable phosphor layer on the substrate as described above.
JP 62-39737 A JP-A-62-110200 JP-A-2-58000

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、基板上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルの製造方法において、当該基板内の位置による温度の差をより小さく抑えることにより均一な輝尽性蛍光体層を形成することができる放射線画像変換パネルの製造方法と輝度分布の均一性及び画像欠陥数が大幅に改良された放射線画像変換パネルを提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is a method of manufacturing a radiation image conversion panel having a stimulable phosphor layer on a substrate, and a temperature difference depending on a position in the substrate. The present invention provides a radiation image conversion panel manufacturing method capable of forming a uniform photostimulable phosphor layer by suppressing the size of the image, and a radiation image conversion panel in which the uniformity of luminance distribution and the number of image defects are greatly improved. There is.

本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

(請求項1)
基板上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルの製造方法において、当該基板を金属ブロックに密着させ、蒸着装置内の基板支持体に設置後、気相成長法により当該基板表面に輝尽性蛍光体層を形成させることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
(Claim 1)
In a method for producing a radiation image conversion panel having a photostimulable phosphor layer on a substrate, the substrate is brought into close contact with a metal block, placed on a substrate support in a vapor deposition apparatus, and then illuminated on the substrate surface by vapor phase growth. A method for producing a radiation image conversion panel, comprising forming a stimulable phosphor layer.

(請求項2)
基板と金属ブロックとの間に粘着材を有することを特徴とする請求項1に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
(Claim 2)
The method for producing a radiation image conversion panel according to claim 1, further comprising an adhesive material between the substrate and the metal block.

(請求項3)
金属ブロック上に粘着材を設置後、当該粘着材上に基板を乗せ、当該基板上の画像領域に接触させずに当該基板を当該金属ブロックに密着させることを特徴とする請求項1又は2に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
(Claim 3)
3. The method according to claim 1, wherein after the adhesive material is installed on the metal block, the substrate is placed on the adhesive material, and the substrate is brought into close contact with the metal block without contacting an image region on the substrate. The manufacturing method of the radiation image conversion panel of description.

(請求項4)
金属ブロック上に粘着材を設置後、当該粘着材上に基板を乗せ、当該基板と当該粘着剤との接触部の領域を減圧することにより当該基板を当該金属ブロックに密着させることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
(Claim 4)
After the adhesive material is placed on the metal block, the substrate is placed on the adhesive material, and the region of the contact portion between the substrate and the adhesive is reduced in pressure so that the substrate is brought into close contact with the metal block. The manufacturing method of the radiographic image conversion panel of any one of Claims 1-3.

(請求項5)
請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法によって製造された放射線画像変換パネルであって、当該放射線画像変換パネルが有する輝尽性蛍光体層が下記一般式(1)で表されるハロゲン化アルカリを母体とする輝尽性蛍光体を含有することを特徴とする放射線画像変換パネル。
一般式(1) M1X・aM2X′2:eA、A″
(式中、M1はLi、Na、K、Rb及びCsからなる群から選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiの各原子から選ばれる少なくとも1種の二価金属原子であり、X、X′はF、Cl、Br及びIからなる群から選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、A及びA″はEu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm及びYからなる群から選ばれる少なくとも1種の希土類元素であり、またa、eはそれぞれ0≦a<0.5、0<e≦0.2の範囲の数値を表す。)
(Claim 5)
It is a radiographic image conversion panel manufactured by the manufacturing method of any one of Claims 1-4, Comprising: The photostimulable phosphor layer which the said radiographic image conversion panel has is represented by following General formula (1). A radiation image conversion panel comprising a stimulable phosphor based on an alkali halide.
General formula (1) M 1 X · aM 2 X ′ 2 : eA, A ″
(Wherein M 1 is at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs, and M 2 is Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu and Ni. At least one divalent metal atom selected from each atom of X, X ′ is at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br and I, and A and A ″ are Eu, Tb , In, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, and Y, and a and e are each 0 ≦ a <Represents numerical values in the range of 0.5 and 0 <e ≦ 0.2.)

本発明の上記構成により、基板上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルの製造方法において、当該基板内の位置による温度の差をより小さく抑えることにより均一な輝尽性蛍光体層が形成可能な放射線画像変換パネルの製造方法と輝度分布の均一性及び画像欠陥数が大幅に改良された放射線画像変換パネルを提供することができる。   According to the above configuration of the present invention, in a method for manufacturing a radiation image conversion panel having a photostimulable phosphor layer on a substrate, a uniform photostimulable phosphor layer can be obtained by suppressing a temperature difference depending on a position in the substrate. Can be provided, and a radiation image conversion panel in which the uniformity of the luminance distribution and the number of image defects are greatly improved can be provided.

本発明の放射線画像変換パネルの製造方法は、基板上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、当該基板を金属ブロックに密着させ、蒸着装置内の基板支持体に設置後、気相成長法により当該基板表面に輝尽性蛍光体層を形成させることを特徴とする。また、当該金属ブロック上に粘着材を設置後、当該粘着材上に基板を乗せ、当該基板上の画像領域に接触させずに当該基板を当該金属ブロックに密着させることを特徴とする。以下本発明及び構成要素等について詳細に説明する。   In the method for producing a radiation image conversion panel of the present invention, in a radiation image conversion panel having a photostimulable phosphor layer on a substrate, the substrate is brought into close contact with a metal block and placed on a substrate support in a vapor deposition apparatus. A stimulable phosphor layer is formed on the surface of the substrate by a phase growth method. In addition, after the adhesive material is installed on the metal block, the substrate is placed on the adhesive material, and the substrate is brought into close contact with the metal block without contacting the image area on the substrate. Hereinafter, the present invention and components will be described in detail.

(放射線画像変換パネルの製造方法)
〔基板支持部〕
本発明においては、基板支持部(基板ホルダ)が金属ブロックで、基板と金属ブロックが密着されていることにより、蒸着時に基板変形が抑制され、基板支持部から基板への熱伝導が基板面内に均一にすることが可能となる。さらに、基板支持部から基板への熱伝導性を制御するために、上記粘着材と基板間に断熱効果を有する部材を挟んでもよい。
(Method for manufacturing radiation image conversion panel)
[Substrate support section]
In the present invention, since the substrate support part (substrate holder) is a metal block and the substrate and the metal block are in close contact with each other, deformation of the substrate is suppressed during vapor deposition, and heat conduction from the substrate support part to the substrate is within the substrate surface. Can be made uniform. Furthermore, in order to control the thermal conductivity from the substrate support portion to the substrate, a member having a heat insulation effect may be sandwiched between the adhesive material and the substrate.

本発明に係る金属ブロックとしては、熱伝導率が高く、重力で部分的に変形を生じない程度に厚みを有していれば特に制限ない。コスト、強度の両立性の観点からアルミが好ましい。   The metal block according to the present invention is not particularly limited as long as it has a high thermal conductivity and has a thickness that does not cause partial deformation due to gravity. Aluminum is preferable from the viewpoint of compatibility between cost and strength.

〔粘着材〕
本発明に係る粘着材は基板を金属ブロックに密着させる際、基板面内が均一に金属ブロックに密着させるために有効である。粘着材としては、作業性、環境性の観点から、粘着性シートが好ましい。
[Adhesive]
The pressure-sensitive adhesive material according to the present invention is effective in uniformly bringing the substrate surface into close contact with the metal block when the substrate is in close contact with the metal block. As the adhesive material, an adhesive sheet is preferable from the viewpoint of workability and environmental performance.

粘着シートを金属ブロックに貼り付けた後、その上に基板を貼り付ける手段として、手で直接基板に触れて押し付けると、基板面内に凹凸が生じたり、基板表面に異物を付着させ、その結果蒸着により得られた画像変換パネルに画像欠陥が生じることがある。従って、異物付着を抑制する手段として、粘着シート上に基板を乗せた後、基板表面上にシート状のものを乗せ、その上から押し付ける手段が好ましい。さらに、基板上の画像領域に接触させずに基板を金属ブロックに密着させる手段を用いるとより好ましい。この方法を用いると、貼付け時に生じる基板表面の凹凸をも抑制することが可能となる。そのほかに貼付け時に生じる基板表面の凹凸抑制手段として、基板上の画像領域外、即ち基板周辺部を押し付ける方法がある。基板上の画像領域に接触させずに基板を金属ブロックに密着させる手段として、より好ましくは基板と粘着材との接触部の領域を減圧することが挙げられる。   After attaching the adhesive sheet to the metal block, as a means of attaching the substrate on it, touching and pressing the substrate directly by hand will cause irregularities in the substrate surface or cause foreign matter to adhere to the substrate surface, and as a result An image defect may occur in an image conversion panel obtained by vapor deposition. Therefore, as a means for suppressing adhesion of foreign matter, a means for placing a substrate on the adhesive sheet, placing a sheet-like material on the surface of the substrate, and pressing from above is preferable. Furthermore, it is more preferable to use means for bringing the substrate into close contact with the metal block without contacting the image area on the substrate. When this method is used, it is possible to suppress unevenness of the substrate surface that occurs during pasting. In addition, there is a method of pressing the outside of the image area on the substrate, that is, the peripheral portion of the substrate, as means for suppressing unevenness of the substrate surface that occurs during pasting. As a means for bringing the substrate into close contact with the metal block without being brought into contact with the image region on the substrate, it is more preferable to depressurize the region of the contact portion between the substrate and the adhesive material.

減圧貼付け方法について図面を用いて説明する。金属ブロック上に粘着シート、基板を乗せた後(以降「金属ブロック〜基板の積層物を積層物」と呼ぶ。)、該積層物(図4)を吸引貼付け治具104に設置する。吸引貼付け治具に積層物を設置した時の断面図、真上から見た図をそれぞれ図5、図6に示す。このとき基板接触部105は基板の非画像領域111と接触するよう寸法調整しておく。次に吸引口106に吸引装置例えば真空ポンプを接続し吸引すると、吸引貼付け治具と基板で閉じられた領域が減圧領域107となる。すると基板表面部に大気圧が均一にかかり、基板の画像領域112(図7)に触れることなく、基板を粘着シートに密着させることができる。このとき、基板支持部から基板への熱伝導性を制御するために、上記粘着シートと基板間に断熱効果を有する部材130を挟んでもよい。   The vacuum pasting method will be described with reference to the drawings. After the pressure-sensitive adhesive sheet and the substrate are placed on the metal block (hereinafter referred to as “a laminate of the metal block and the substrate”), the laminate (FIG. 4) is placed on the suction and attachment jig 104. FIG. 5 and FIG. 6 show a cross-sectional view when a laminate is placed on the suction sticking jig and a view seen from directly above, respectively. At this time, the substrate contact portion 105 is dimensionally adjusted so as to contact the non-image area 111 of the substrate. Next, when a suction device such as a vacuum pump is connected to the suction port 106 and sucked, the region closed by the suction sticking jig and the substrate becomes the decompression region 107. Then, atmospheric pressure is uniformly applied to the substrate surface, and the substrate can be brought into close contact with the adhesive sheet without touching the image area 112 (FIG. 7) of the substrate. At this time, in order to control the thermal conductivity from the substrate support part to the substrate, a member 130 having a heat insulating effect may be sandwiched between the adhesive sheet and the substrate.

〔基板〕
本発明に係る放射線画像変換パネルに用いられる基板としては、各種のガラス、高分子材料、金属等が用いられるが、例えば、石英、ホウ珪酸ガラス、化学的強化ガラスなどの板ガラス、又、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム等のプラスチックフィルム、アルミニウムシート、鉄シート、銅シート等の金属シート或いは該金属酸化物の被覆層を有する金属シートが好ましい。
〔substrate〕
As the substrate used in the radiation image conversion panel according to the present invention, various glasses, polymer materials, metals, and the like are used. For example, plate glass such as quartz, borosilicate glass, chemically tempered glass, cellulose acetate, and the like. A metal sheet such as a film, a polyester film, a polyethylene terephthalate film, a polyamide film, a polyimide film, a triacetate film, a polycarbonate film, a metal sheet such as an aluminum sheet, an iron sheet, or a copper sheet, or a metal sheet having a coating layer of the metal oxide. preferable.

〔輝尽性蛍光体層〕
本発明に係る輝尽性蛍光体層について図面を用いて説明する。図1は、本発明の基板上に形成した柱状結晶形状の一例を示す概略図である。図1のa)、b)において、2は気相堆積法により、基板1上に形成された輝尽性蛍光体の柱状結晶であり、その結晶先端部において、結晶成長方向の中心を通る垂線3と結晶先端断面部の接線4とのなす角度(θ)が20°〜80°であることが好ましく、より好ましくは40°〜80°である。図1のa)は、柱状結晶のほぼ中心部に尖角部を有する一例であり、また図1のb)は、柱状結晶の先端部が一定の傾斜を有し、柱状結晶の側面部に尖角部を有する一例である。
[Stimulable phosphor layer]
The photostimulable phosphor layer according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic view showing an example of a columnar crystal shape formed on a substrate of the present invention. 1A and 1B, reference numeral 2 denotes a columnar crystal of a photostimulable phosphor formed on a substrate 1 by a vapor deposition method, and a perpendicular line passing through the center of the crystal growth direction at the tip of the crystal. The angle (θ) formed by 3 and the tangent 4 of the crystal tip cross section is preferably 20 ° to 80 °, more preferably 40 ° to 80 °. FIG. 1 a) is an example having a cusp at substantially the center of the columnar crystal, and FIG. 1 b) is an example in which the tip of the columnar crystal has a certain inclination, and the columnar crystal has a side surface. It is an example which has a cusp part.

また、本発明においては、柱状結晶の平均結晶径が0.5〜50μmであることが好ましく、より好ましくは1〜50μmである。上記で規定する柱状結晶の平均結晶径とすることにより、輝尽性蛍光体層bのヘイズ率を低下することができ、結果として優れた鮮鋭性を実現することができる。柱状結晶の平均結晶径とは、柱状結晶を支持体と平行な面から観察したときの各柱状結晶の断面積の円換算した直径の平均値であり、少なくとも100個以上の柱状結晶を視野中に含む電子顕微鏡写真から計算する。   Moreover, in this invention, it is preferable that the average crystal diameter of a columnar crystal is 0.5-50 micrometers, More preferably, it is 1-50 micrometers. By setting the average crystal diameter of the columnar crystal as defined above, the haze ratio of the photostimulable phosphor layer b can be reduced, and as a result, excellent sharpness can be realized. The average crystal diameter of the columnar crystals is an average value of the diameters in terms of circles of the cross-sectional areas of the columnar crystals when the columnar crystals are observed from a plane parallel to the support, and at least 100 or more columnar crystals are being viewed. Calculated from the electron micrographs included.

柱状結晶径は、支持体温度、真空度、蒸気流入射角度等によって影響を受け、これらを制御することによって所望の太さの柱状結晶を形成することができる。例えば、支持体温度については、温度が低くなるほど細くなる傾向にあるが、低すぎると柱状状態の維持が困難となる。好ましい支持体の温度としては、100〜300℃であり、より好ましくは150〜270℃である。蒸気流の入射角度としては、0〜5°が好ましい。また、真空度については、1.3×10-1Pa以下であることが好ましい。 The columnar crystal diameter is influenced by the support temperature, the degree of vacuum, the vapor flow incident angle, and the like, and by controlling these, a columnar crystal having a desired thickness can be formed. For example, the support temperature tends to become thinner as the temperature decreases, but if it is too low, it becomes difficult to maintain the columnar state. The temperature of the support is preferably 100 to 300 ° C, more preferably 150 to 270 ° C. The incident angle of the vapor flow is preferably 0 to 5 °. Further, the degree of vacuum is preferably 1.3 × 10 −1 Pa or less.

〔気相成長法〕
本発明に係る気相成長法(「気相堆積法」ともいう。)で形成する輝尽性蛍光体層で用いることのできる輝尽性蛍光体としては、例えば、特開昭48−80487号に記載されているBaSO4:Axで表される蛍光体、特開昭48−80488号記載のMgSO4:Axで表される蛍光体、特開昭48−80489号に記載されているSrSO4:Axで表される蛍光体、特開昭51−29889号に記載されているNa2SO4、CaSO4及びBaSO4等にMn、Dy及びTbの中少なくとも1種を添加した蛍光体、特開昭52−30487号に記載されているBeO、LiF、MgSO4及びCaF2等の蛍光体、特開昭53−39277号に記載されているLi247:Cu,Ag等の蛍光体、特開昭54−47883号に記載されているLi2O・(Be22)x:Cu,Ag等の蛍光体、米国特許第3,859,527号に記載されているSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、La22S:Eu,Sm及び(Zn,Cd)S:Mnxで表される蛍光体があげられる。
[Vapor phase growth method]
Examples of the stimulable phosphor that can be used in the stimulable phosphor layer formed by the vapor phase growth method (also referred to as “vapor phase deposition method”) according to the present invention include, for example, JP-A-48-80487. Phosphors represented by BaSO 4 : A x described in JP-A-48-80488, phosphors represented by MgSO 4 : A x described in JP-A-48-80488, and JP-A-48-80489. SrSO 4 : A phosphor represented by A x , fluorescence obtained by adding at least one of Mn, Dy, and Tb to Na 2 SO 4 , CaSO 4, BaSO 4, etc. described in JP-A No. 51-29889 , Phosphors such as BeO, LiF, MgSO 4 and CaF 2 described in JP-A No. 52-30487, Li 2 B 4 O 7 : Cu, Ag described in JP-A No. 53-39277 Phosphors described in JP-A-54-47883 Is to have Li 2 O · (Be 2 O 2) x: Cu, phosphors such as Ag, are described in U.S. Pat. No. 3,859,527 SrS: Ce, Sm, SrS : Eu, Sm, La Examples include phosphors represented by 2 O 2 S: Eu, Sm and (Zn, Cd) S: Mnx.

また、特開昭55−12142号に記載されているZnS:Cu,Pb蛍光体、一般式がBaO・xAl23:Euであげられるアルミン酸バリウム蛍光体及び一般式がM(II)O・xSiO2:Aで表されるアルカリ土類金属珪酸塩系蛍光体があげられる。 Further, a ZnS: Cu, Pb phosphor described in JP-A-55-12142, a barium aluminate phosphor whose general formula is BaO.xAl 2 O 3 : Eu, and a general formula of M (II) O XSiO2: An alkaline earth metal silicate phosphor represented by A is included.

また、特開昭55−12143号に記載されている一般式が(Ba1-x-yMgxCay)Fx:Eu2 +で表されるアルカリ土類フッ化ハロゲン化物蛍光体、特開昭55−12144号に記載されている一般式がLnOX:xAで表される蛍光体、特開昭55−12145号に記載されている一般式が(Ba1-xM(II)x)Fx:yAで表される蛍光体、特開昭55−84389号に記載されている一般式がBaFX:xCe,yAで表される蛍光体、特開昭55−160078号に記載されている一般式がM(II)FX・xA:yLnで表される希土類元素賦活二価金属フルオロハライド蛍光体、一般式ZnS:A、CdS:A、(Zn,Cd)S:A,Xで表される蛍光体、特開昭59−38278号に記載されている下記の何れかの一般式で表される蛍光体、
一般式
xM3(PO42・NX2:yA
xM3(PO42:yA
特開昭59−155487号公報に記載されている下記の何れかの一般式で表される蛍光体、
一般式
nReX3・mAX′2:xEu
nReX3・mAX′2:xEu,ySm
特開昭61−72087号に記載されている下記一般式、
M(I)X・aM(II)X′2・bM(III)X″3:cA
で表されるアルカリハライド蛍光体及び特開昭61−228400号に記載されている
一般式
M(I)X:xBi
で表されるビスマス賦活アルカリハライド蛍光体等があげられる。特に、アルカリハライド蛍光体は、蒸着、スパッタリング等の方法で柱状の輝尽性蛍光体層を形成させやすく好ましい。
Further, an alkaline earth fluorinated halide phosphor represented by the general formula (Ba 1-xy Mg x Ca y ) F x : Eu 2 + described in Japanese Patent Laid-Open No. 55-12143, A phosphor in which the general formula described in Japanese Patent No. 55-12144 is represented by LnOX: xA, and a general formula described in Japanese Patent Laid-Open No. 55-12145 is (Ba 1-x M (II) x ) F x : A phosphor represented by yA, a phosphor represented by the general formula described in JP-A-55-84389, BaFX: xCe, yA, a formula represented by JP-A-55-160078 Is a rare earth element-activated divalent metal fluorohalide phosphor represented by M (II) FX · xA: yLn, fluorescence represented by the general formula ZnS: A, CdS: A, (Zn, Cd) S: A, X And any one of the following general formulas described in JP-A-59-38278 A phosphor represented by
General formula xM 3 (PO 4 ) 2 · NX 2 : yA
xM 3 (PO 4 ) 2 : yA
A phosphor represented by any one of the following general formulas described in JP-A-59-155487,
General formula nReX 3 · mAX ′ 2 : xEu
nReX 3 · mAX ′ 2 : xEu, ySm
The following general formula described in JP-A-61-72087,
M (I) X · aM ( II) X '2 · bM (III) X "3: cA
And an alkali halide phosphor represented by the general formula M (I) X: xBi described in JP-A-61-2228400
And a bismuth-activated alkali halide phosphor represented by the formula: In particular, the alkali halide phosphor is preferable because a columnar photostimulable phosphor layer can be easily formed by a method such as vapor deposition or sputtering.

次に、本発明の前記一般式(1)で表される輝尽性蛍光体について説明する。本発明の前記一般式(1)で表される輝尽性蛍光体において、MIは、Na、K、Rb及びCs等の各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属原子を表し、中でもRb及びCsの各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ土類金属原子が好ましく、更に好ましくはCs原子である。 Next, the photostimulable phosphor represented by the general formula (1) of the present invention will be described. In the photostimulable phosphor represented by the general formula (1) of the present invention, M I represents at least one alkali metal atom selected from each atom such as Na, K, Rb and Cs, among which Rb And at least one alkaline earth metal atom selected from each atom of Cs, and more preferably a Cs atom.

2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNi等の各原子から選ばれる少なくとも1種の二価の金属原子を表すが、中でも好ましく用いられるのは、Be、Mg、Ca、Sr及びBa等の各原子から選ばれる二価の金属原子である。 M 2 represents at least one divalent metal atom selected from atoms such as Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu, and Ni, and among them, Be, Mg are preferably used. , A divalent metal atom selected from atoms such as Ca, Sr and Ba.

3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びIn等の各原子から選ばれる少なくとも1種の三価の金属原子を表すが、中でも好ましく用いられるのはY、Ce、Sm、Eu、Al、La、Gd、Lu、Ga及びIn等の各原子から選ばれる三価の金属原子である。 M 3 is at least selected from each atom such as Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Al, Ga and In. One kind of trivalent metal atom is represented, and among these, trivalent metal atoms selected from each atom such as Y, Ce, Sm, Eu, Al, La, Gd, Lu, Ga and In are preferred. is there.

AはEu、Tb、In、Ga、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgの各原子から選ばれる少なくとも1種の金属原子である。   A is at least selected from each atom of Eu, Tb, In, Ga, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu, and Mg. One kind of metal atom.

輝尽性蛍光体の輝尽発光輝度向上の観点から、X、X′及びX″はF、Cl、Br及びIの各原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲンで原子を表すが、F、Cl及びBrから選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子が好ましく、Br及びIの各原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子が更に好ましい。   From the viewpoint of improving the photostimulable emission brightness of the photostimulable phosphor, X, X ′ and X ″ each represents an atom with at least one halogen selected from F, Cl, Br and I atoms. And at least one halogen atom selected from Br and I, and more preferably at least one halogen atom selected from Br and I atoms.

また、一般式(1)において、b値は0≦b<0.5を表すが、好ましくは、0≦b≦10-2である。 In the general formula (1), the b value represents 0 ≦ b <0.5, and preferably 0 ≦ b ≦ 10 −2 .

本発明の一般式(1)で表される輝尽性蛍光体は、例えば以下に述べる製造方法により製造される。蛍光体原料としては、
(a)NaF、NaCl、NaBr、NaI、KF、KCl、KBr、KI、RbF、RbCl、RbBr、RbI、CsF、CsCl、CsBr及びCsIから選ばれる少なくとも1種もしくは2種以上の化合物が用いられる。
(b)MgF2、MgCl2、MgBr2、MgI2、CaF2、CaCl2、CaBr2、CaI2、SrF2、SrCI2、SrBr2、SrI2、BaF2、BaCl2、BaBr2、BaBr2・2H2O、BaI2、ZnF2、ZnCl2、ZnBr2、ZnI2、CdF2、CdCl2、CdBr2、CdI2、CuF2、CuCl2、CuBr2、CuI、NiF2、NiCl2、NiBr2及びNiI2の化合物から選ばれる少なくとも1種又は2種以上の化合物が用いられる。
(c)前記一般式(1)において、Eu、Tb、In、Cs、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMg等の各原子から選ばれる金属原子を有する化合物が用いられる。
The photostimulable phosphor represented by the general formula (1) of the present invention is produced, for example, by the production method described below. As a phosphor material,
(A) At least one compound selected from NaF, NaCl, NaBr, NaI, KF, KCl, KBr, KI, RbF, RbCl, RbBr, RbI, CsF, CsCl, CsBr and CsI is used.
(B) MgF 2, MgCl 2 , MgBr 2, MgI 2, CaF 2, CaCl 2, CaBr 2, CaI 2, SrF 2, SrCI 2, SrBr 2, SrI 2, BaF 2, BaCl 2, BaBr 2, BaBr 2 2H 2 O, BaI 2 , ZnF 2 , ZnCl 2 , ZnBr 2 , ZnI 2 , CdF 2 , CdCl 2 , CdBr 2 , CdI 2 , CuF 2 , CuCl 2 , CuBr 2 , CuI, NiF 2 , NiCl 2 , NiBr At least one or two or more compounds selected from 2 and NiI 2 compounds are used.
(C) In the general formula (1), Eu, Tb, In, Cs, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu And a compound having a metal atom selected from each atom such as Mg.

一般式(I)で表される化合物において、aは0≦a<0.5、好ましくは0≦a<0.01、bは0≦b<0.5、好ましくは0≦b≦10-2、eは0<e≦0.2、好ましくは0<e≦0.1である。 In the compound represented by the general formula (I), a is 0 ≦ a <0.5, preferably 0 ≦ a <0.01, b is 0 ≦ b <0.5, preferably 0 ≦ b ≦ 10 −. 2 and e are 0 <e ≦ 0.2, preferably 0 <e ≦ 0.1.

上記の数値範囲の混合組成になるように前記(a)〜(c)の蛍光体原料を秤量し、乳鉢、ボールミル、ミキサーミル等を用いて充分に混合する。   The phosphor materials (a) to (c) are weighed so as to have a mixed composition in the above numerical range, and sufficiently mixed using a mortar, ball mill, mixer mill or the like.

次に、得られた蛍光体原料混合物を石英ルツボ又はアルミナルツボ等の耐熱性容器に充填して電気炉中で焼成を行う。   Next, the obtained phosphor raw material mixture is filled in a heat-resistant container such as a quartz crucible or an alumina crucible and fired in an electric furnace.

焼成温度は300〜1000℃が適当である。焼成時間は原料混合物の充填量、焼成温度等によって異なるが、一般には0.5〜6時間が適当である。   The firing temperature is suitably 300 to 1000 ° C. The firing time varies depending on the filling amount of the raw material mixture, the firing temperature, and the like, but generally 0.5 to 6 hours is appropriate.

焼成雰囲気としては少量の水素ガスを含む窒素ガス雰囲気、少量の一酸化炭素を含む炭酸ガス雰囲気等の弱還元性雰囲気、窒素ガス雰囲気、アルゴンガス雰囲気等の中性雰囲気或いは少量の酸素ガスを含む弱酸化性雰囲気が好ましい。   The firing atmosphere includes a nitrogen gas atmosphere containing a small amount of hydrogen gas, a weak reducing atmosphere such as a carbon dioxide gas atmosphere containing a small amount of carbon monoxide, a neutral atmosphere such as a nitrogen gas atmosphere and an argon gas atmosphere, or a small amount of oxygen gas. A weak oxidizing atmosphere is preferred.

尚、前記の焼成条件で一度焼成した後、焼成物を電気炉から取り出して粉砕し、しかる後、焼成物粉末を再び耐熱性容器に充填して電気炉に入れ、前記と同じ焼成条件で再焼成を行えば蛍光体の発光輝度を更に高めることができ好ましい。   After firing once under the above firing conditions, the fired product is taken out from the electric furnace and pulverized, and then the fired product powder is again filled in a heat-resistant container and placed in the electric furnace, and again under the same firing conditions as described above. Firing is preferable because it can further increase the emission luminance of the phosphor.

また、焼成物を焼成温度より室温に冷却する際、焼成物を電気炉から取り出して空気中で放冷することによっても所望の蛍光体を得ることができるが、焼成時と同じ、弱還元性雰囲気又は中性雰囲気のままで冷却してもよい。   In addition, when the fired product is cooled to the room temperature from the firing temperature, the desired phosphor can be obtained by taking the fired product from the electric furnace and allowing it to cool in the air. You may cool in an atmosphere or neutral atmosphere.

また、焼成物を電気炉内で加熱部より冷却部へ移動させて、弱還元性雰囲気、中性雰囲気 もしくは弱酸化性雰囲気で急冷することにより、得られた蛍光体の輝尽による発光輝度をより一層高めることができる。   In addition, by moving the fired product from the heating part to the cooling part in an electric furnace and quenching it in a weak reducing atmosphere, neutral atmosphere or weak oxidizing atmosphere, the emission brightness due to the phosphors obtained is increased. It can be further increased.

また、本発明の輝尽性蛍光体層は気相成長法によって形成されることを特徴としている。   In addition, the photostimulable phosphor layer of the present invention is formed by a vapor phase growth method.

輝尽性蛍光体の気相成長法としては蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法、その他の方法を用いることができる。   As a vapor phase growth method of the photostimulable phosphor, an evaporation method, a sputtering method, a CVD method, an ion plating method, and other methods can be used.

本発明においては、例えば、以下の方法が挙げられる。第1の方法の蒸着法は、まず、支持体を蒸着装置内に設置した後、装置内を排気して1.333×10-4Pa程度の真空度とする。 In the present invention, for example, the following methods can be mentioned. In the vapor deposition method of the first method, first, after the support is installed in the vapor deposition apparatus, the inside of the apparatus is evacuated to a vacuum degree of about 1.333 × 10 −4 Pa.

次いで、前記輝尽性蛍光体の少なくとも一つを抵抗加熱法、エレクトロンビーム法等の方法で加熱蒸発させて前記支持体表面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに成長させる。この結果、結着剤を含有しない輝尽性蛍光体層が形成されるが、前記蒸着工程では複数回に分けて輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。   Next, at least one of the photostimulable phosphor is heated and evaporated by a resistance heating method, an electron beam method, or the like to grow the photostimulable phosphor on the surface of the support to a desired thickness. As a result, a photostimulable phosphor layer containing no binder is formed, but it is also possible to form the photostimulable phosphor layer in a plurality of times in the vapor deposition step.

また、前記蒸着工程では複数の抵抗加熱器あるいはエレクトロンビームを用いて共蒸着し、支持体上で目的とする輝尽性蛍光体を合成すると同時に輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。   In the vapor deposition step, it is possible to co-evaporate using a plurality of resistance heaters or electron beams to synthesize the desired photostimulable phosphor on the support and simultaneously form the photostimulable phosphor layer. is there.

蒸着終了後、必要に応じて前記輝尽性蛍光体層の支持体側とは反対の側に保護層を設けることにより本発明の放射線画像変換パネルが製造されることが好ましい。尚、保護層上に輝尽性蛍光体層を形成した後、支持体を設ける手順をとってもよい。   After the vapor deposition, it is preferable that the radiation image conversion panel of the present invention is manufactured by providing a protective layer on the side opposite to the support side of the photostimulable phosphor layer as necessary. In addition, after forming a photostimulable phosphor layer on a protective layer, a procedure for providing a support may be taken.

さらに、前記蒸着法においては、蒸着時、必要に応じて被蒸着体(支持体、保護層又は中間層)を冷却あるいは加熱してもよい。   Furthermore, in the vapor deposition method, the vapor deposition target (support, protective layer or intermediate layer) may be cooled or heated as necessary during vapor deposition.

また、蒸着終了後輝尽性蛍光体層を加熱処理してもよい。また、前記蒸着法においては必要に応じてO2、H2等のガスを導入して蒸着する反応性蒸着を行ってもよい。 Further, the stimulable phosphor layer may be heat-treated after the vapor deposition. In the vapor deposition method, reactive vapor deposition may be performed in which vapor deposition is performed by introducing a gas such as O 2 or H 2 as necessary.

第2の方法としてのスパッタリング法は、蒸着法と同様、保護層又は中間層を有する支持体をスパッタリング装置内に設置した後、装置内を一旦排気して1.333×10-4Pa程度の真空度とし、次いでスパッタリング用のガスとしてAr、Ne等の不活性ガスをスパッタリング装置内に導入して1.333×10-1Pa程度のガス圧とする。次に、前記輝尽性蛍光体をターゲットとして、スパッタリングすることにより、前記支持体上に輝尽性蛍光体層を所望の厚さに成長させる。 In the sputtering method as the second method, like the vapor deposition method, after a support having a protective layer or an intermediate layer is placed in the sputtering apparatus, the inside of the apparatus is once evacuated to about 1.333 × 10 −4 Pa. The degree of vacuum is set, and then an inert gas such as Ar or Ne is introduced into the sputtering apparatus as a sputtering gas to obtain a gas pressure of about 1.333 × 10 −1 Pa. Next, a stimulable phosphor layer is grown on the support to a desired thickness by sputtering using the stimulable phosphor as a target.

前記スパッタリング工程では蒸着法と同様に各種の応用処理を用いることができる。   Various applied treatments can be used in the sputtering step as in the vapor deposition method.

第3の方法としてCVD法があり、又、第4の方法としてイオンプレーティング法がある。   The third method is a CVD method, and the fourth method is an ion plating method.

また、前記気相成長における輝尽性蛍光体層の成長速度は0.05μm/分〜300μm/分であることが好ましい。成長速度が0.05μm/分未満の場合には本発明の放射線画像変換パネルの生産性が低く好ましくない。また成長速度が300μm/分を越える場合には成長速度のコントロールがむずかしく好ましくない。   The growth rate of the stimulable phosphor layer in the vapor phase growth is preferably 0.05 μm / min to 300 μm / min. When the growth rate is less than 0.05 μm / min, the productivity of the radiation image conversion panel of the present invention is low, which is not preferable. If the growth rate exceeds 300 μm / min, it is difficult to control the growth rate.

放射線画像変換パネルを、前記の真空蒸着法、スパッタリング法などにより得る場合には、結着剤が存在しないので輝尽性蛍光体の充填密度を増大でき、感度、解像力の上で好ましい放射線画像変換パネルが得られ、好ましい。   When the radiation image conversion panel is obtained by the above-described vacuum deposition method, sputtering method, etc., since there is no binder, the packing density of the stimulable phosphor can be increased, and preferable radiation image conversion in terms of sensitivity and resolution. A panel is obtained and preferred.

前記輝尽性蛍光体層の膜厚は、放射線画像変換パネルの使用目的によって、また輝尽性蛍光体の種類により異なるが、本発明の効果を得る観点から50μm〜1mmであることが好ましく、より好ましくは100〜600μmであり、更に好ましくは300〜600μmである。   The film thickness of the photostimulable phosphor layer is preferably 50 μm to 1 mm from the viewpoint of obtaining the effects of the present invention, although it varies depending on the purpose of use of the radiation image conversion panel and the type of stimulable phosphor. More preferably, it is 100-600 micrometers, More preferably, it is 300-600 micrometers.

上記の気相成長法による輝尽性蛍光体層の作製にあたり、輝尽性蛍光体層が形成される支持体の温度は、100℃以上に設定することが好ましく、更に好ましくは、150℃以上であり、特に好ましくは150〜400℃である。   In producing the photostimulable phosphor layer by the vapor phase growth method described above, the temperature of the support on which the photostimulable phosphor layer is formed is preferably set to 100 ° C. or higher, more preferably 150 ° C. or higher. Especially preferably, it is 150-400 degreeC.

本発明に係る放射線画像変換パネルの輝尽性蛍光体層は、支持体上に前記一般式(1)で表される輝尽性蛍光体を気相成長させて形成されることが好ましく、層形成時に該輝尽性蛍光体が柱状結晶を形成することがより好ましい。   The stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel according to the present invention is preferably formed by vapor-phase growth of the stimulable phosphor represented by the general formula (1) on the support. More preferably, the stimulable phosphor forms columnar crystals during formation.

蒸着、スパッタリング等の方法で柱状の輝尽性蛍光体層を形成するためには、前記一般式(1)で表される化合物(輝尽性蛍光体)が用いられるが、中でもCsBr系蛍光体が特に好ましく用いられる。   In order to form a columnar photostimulable phosphor layer by a method such as vapor deposition or sputtering, the compound represented by the general formula (1) (stimulable phosphor) is used. Among them, a CsBr phosphor Is particularly preferably used.

また、本発明においては、柱状結晶が、主成分として下記一般式(2)で表される輝尽性蛍光体を有することが好ましい。   In the present invention, the columnar crystal preferably has a stimulable phosphor represented by the following general formula (2) as a main component.

一般式(2):CsX:A
一般式(2)において、XはBr又はIを表し、AはEu、In、Tb又はCeを表す。
General formula (2): CsX: A
In the general formula (2), X represents Br or I, and A represents Eu, In, Tb, or Ce.

支持体上に、気相堆積法により蛍光体層を形成する方法としては、輝尽性蛍光体の蒸気又は該原料を供給し、蒸着等の気相成長(堆積)させる方法によって独立した細長い柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層を得ることができる。   As a method of forming a phosphor layer on a support by a vapor deposition method, an elongate columnar shape independent by a vapor deposition (deposition) method such as vapor deposition by supplying a vapor of the stimulable phosphor or the raw material. A photostimulable phosphor layer made of crystals can be obtained.

これらの場合において、支持体と坩堝との最短部の間隔は輝尽性蛍光体の平均飛程に合わせて通常10〜60cmに設置するのが好ましい。   In these cases, it is preferable that the distance between the shortest part of the support and the crucible is usually set to 10 to 60 cm in accordance with the average range of the stimulable phosphor.

蒸発源となる輝尽性蛍光体は、均一に溶解させるか、プレス、ホットプレスによって成形して坩堝に仕込まれる。この際、脱ガス処理を行うことが好ましい。蒸発源から輝尽性蛍光体を蒸発させる方法は電子銃により発した電子ビームの走査により行われるが、これ以外の方法にて蒸発させることもできる。   The stimulable phosphor as an evaporation source is uniformly dissolved or formed by pressing or hot pressing and charged in a crucible. At this time, it is preferable to perform a degassing treatment. The method for evaporating the photostimulable phosphor from the evaporation source is performed by scanning the electron beam emitted from the electron gun, but it can also be evaporated by other methods.

また、蒸発源は必ずしも輝尽性蛍光体単体である必要はなく、輝尽性蛍光体原料を混和したものであってもよい。   The evaporation source is not necessarily a single stimulable phosphor, and may be a mixture of stimulable phosphor materials.

また、蛍光体の母体に対して賦活剤を後からドープしてもよい。例えば、母体であるRbBrのみを蒸着した後、賦活剤であるTlをドープしてもよい。即ち、結晶が独立しているため、膜が厚くとも充分にドープ可能であるし、結晶成長が起こりにくいので、MTFは低下しないからである。   Moreover, you may dope an activator afterwards with respect to the base material of fluorescent substance. For example, after depositing only RbBr as a base material, Tl as an activator may be doped. That is, since the crystals are independent, even if the film is thick, it can be sufficiently doped, and crystal growth hardly occurs, so the MTF does not decrease.

ドーピングは形成された蛍光体の母体層中にドーピング剤(賦活剤)を熱拡散、イオン注入法によって行うことが出来る。   Doping can be performed by thermal diffusion and ion implantation of a doping agent (activator) in the base layer of the formed phosphor.

また、各柱状結晶間の間隙の大きさは30μm以下がよく、更に好ましくは5μm以下がよい。即ち、間隙が30μmを越える場合は蛍光体層中のレーザー光の散乱が増加し、鮮鋭性が低下してしまう。   Further, the size of the gap between the columnar crystals is preferably 30 μm or less, and more preferably 5 μm or less. That is, when the gap exceeds 30 μm, the scattering of the laser light in the phosphor layer increases and the sharpness decreases.

〔輝尽性蛍光体層の形成〕
次に、本発明に係る輝尽性蛍光体層の形成を図2を用いて説明する。図2は、支持体上に輝尽性蛍光体層が蒸着により形成される様子を示す図であるが、輝尽性蛍光体蒸気流16を支持体面の法線方向に対する入射角度として0〜5°の範囲で入射することにより、柱状結晶が形成される。
[Formation of photostimulable phosphor layer]
Next, formation of the photostimulable phosphor layer according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a diagram showing a state where a photostimulable phosphor layer is formed by vapor deposition on a support, and the photostimulable phosphor vapor flow 16 is 0 to 5 as an incident angle with respect to the normal direction of the support surface. A columnar crystal is formed by incidence in the range of °.

この様にして支持体上に形成した輝尽性蛍光体層は、結着剤を含有していないので、指向性に優れており、輝尽励起光及び輝尽発光の指向性が高く、輝尽性蛍光体を結着剤中に分散した分散型の輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルより層厚を薄くすることができる。更に輝尽励起光の輝尽性蛍光体層中での散乱が減少することで像の鮮鋭性が向上する。   Since the photostimulable phosphor layer formed on the support in this manner does not contain a binder, it has excellent directivity, high directivity of stimulated excitation light and stimulated emission, and high brightness. The layer thickness can be made thinner than that of a radiation image conversion panel having a dispersive stimulable phosphor layer in which a stimulable phosphor is dispersed in a binder. Furthermore, the sharpness of the image is improved by reducing the scattering of the stimulating light in the stimulable phosphor layer.

また、柱状結晶間の間隙に結着剤等充填物を充填してもよく、輝尽性蛍光体層の補強となるほか、高光吸収の物質、高光反射率の物質等を充填してもよい、これにより前記補強効果をもたせるほか、輝尽性蛍光体層に入射した輝尽励起光の横方向への光拡散の低減に有効である。   In addition, the gap between the columnar crystals may be filled with a filler or the like, and in addition to reinforcing the stimulable phosphor layer, it may be filled with a high light absorption substance, a high light reflectance substance, or the like. Thus, in addition to providing the above-mentioned reinforcing effect, it is effective for reducing the light diffusion in the lateral direction of the stimulated excitation light incident on the stimulable phosphor layer.

高反射率の物質とは、輝尽励起光(500〜900nm、特に600〜800nm)に対する反射率の高いものをいい例えばアルミニウム、マグネシウム、銀、インジウムその他の金属など、白色顔料及び緑色から赤色領域の色材を用いることができる。   A highly reflective material means a material having a high reflectivity to stimulated excitation light (500 to 900 nm, particularly 600 to 800 nm), such as white pigments and green to red regions such as aluminum, magnesium, silver, indium and other metals. The coloring material can be used.

高感度である放射線画像変換パネルを得る観点から、本発明の輝尽性蛍光体層の反射率は20%以上であることが好ましく、より好ましくは30%以上であり、特に好ましくは40%以上である。尚、上限は100%である。   From the viewpoint of obtaining a radiation image conversion panel having high sensitivity, the reflectance of the photostimulable phosphor layer of the present invention is preferably 20% or more, more preferably 30% or more, and particularly preferably 40% or more. It is. The upper limit is 100%.

高反射率の物質とは、輝尽励起光(500〜900nm、特に600〜800nm)に対する反射率の高いものをいい例えばアルミニウム、マグネシウム、銀、インジウムその他の金属など、白色顔料及び緑色から赤色領域の色材を用いることができる。   A highly reflective material means a material having a high reflectivity to stimulated excitation light (500 to 900 nm, particularly 600 to 800 nm), such as white pigments and green to red regions such as aluminum, magnesium, silver, indium and other metals. The coloring material can be used.

本発明においては、基板上にアルミニウム等の光を反射するような鏡面処理(例えば、蒸着等)が行われている場合は、輝尽性蛍光体層の反射率を測定する。   In the present invention, when a mirror surface treatment (for example, vapor deposition) that reflects light such as aluminum is performed on the substrate, the reflectance of the stimulable phosphor layer is measured.

ここで、反射率の測定は、下記の測定装置を用い、同様の測定条件にて行うことができる。   Here, the reflectance can be measured under the same measurement conditions using the following measuring apparatus.

装置:HITACHI557型、Spectrophotometer
(測定条件)
測定光の波長 :680nm
スキャンスピード :120nm/min
繰り返し回数 :10回
レスポンス :自動設定
白色顔料は輝尽発光も反射することができる。白色顔料として、TiO2(アナターゼ型、ルチル型)、MgO、PbCO3・Pb(OH)2、BaSO4、Al23、M(II)FX(但し、M(II)はBa、Sr及びCaの中の少なくとも一種であり、XはCl、及びBrのうちの少なくとも一種である。)、CaCO3、ZnO、Sb23、SiO2、ZrO2、リトポン(BaSO4・ZnS)、珪酸マグネシウム、塩基性珪硫酸塩、塩基性燐酸鉛、珪酸アルミニウムなどがあげられる。これらの白色顔料は隠蔽力が強く、屈折率が大きいため、光を反射したり、屈折させることにより輝尽発光を容易に散乱し、得られる放射線画像変換パネルの感度を顕著に向上さることができる。
Equipment: HITACHI 557, Spectrophotometer
(Measurement condition)
Measurement light wavelength: 680 nm
Scan speed: 120 nm / min
Number of repetitions: 10 times Response: automatic setting The white pigment can also reflect stimulated emission. As white pigments, TiO 2 (anatase type, rutile type), MgO, PbCO 3 .Pb (OH) 2 , BaSO 4 , Al 2 O 3 , M (II) FX (where M (II) is Ba, Sr and At least one of Ca, and X is at least one of Cl and Br.), CaCO 3 , ZnO, Sb 2 O 3 , SiO 2 , ZrO 2 , lithopone (BaSO 4 .ZnS), silicic acid Examples include magnesium, basic silicic acid sulfate, basic lead phosphate, and aluminum silicate. Since these white pigments have a strong hiding power and a high refractive index, it is possible to easily scatter scattered light by reflecting or refracting light, thereby significantly improving the sensitivity of the resulting radiation image conversion panel. it can.

また、高光吸収率の物質としては、例えば、カーボンブラック、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化鉄など及び青の色材が用いられる。このうちカーボンブラックは輝尽発光も吸収する。   In addition, as a material having a high light absorption rate, for example, carbon black, chromium oxide, nickel oxide, iron oxide, and the like and a blue color material are used. Among these, carbon black absorbs stimulated light emission.

また、色材は、有機若しくは無機系色材のいずれでもよい。有機系色材としては、ザボンファーストブルー3G(ヘキスト製)、エストロールブリルブルーN−3RL(住友化学製)、D&CブルーNo.1(ナショナルアニリン製)、スピリットブルー(保土谷化学製)、オイルブルーNo.603(オリエント製)、キトンブルーA(チバガイギー製)、アイゼンカチロンブルーGLH(保土ヶ谷化学製)、レイクブルーAFH(協和産業製)、プリモシアニン6GX(稲畑産業製)、ブリルアシッドグリーン6BH(保土谷化学製)、シアンブルーBNRCS(東洋インク製)、ライオノイルブルーSL(東洋インク製)等が用いられる。またカラーインデクスNo.24411、23160、74180、74200、22800、23154、23155、24401、14830、15050、15760、15707、17941、74220、13425、13361、13420、11836、74140、74380、74350、74460等の有機系金属錯塩色材もあげられる。無機系色材としては群青、コバルトブルー、セルリアンブルー、酸化クロム、TiO2−ZnO−Co−NiO系顔料があげられる。 The color material may be either an organic or inorganic color material. Examples of organic colorants include Zavon First Blue 3G (Hoechst), Estrol Brill Blue N-3RL (Sumitomo Chemical), D & C Blue No. 1 (made by National Aniline), Spirit Blue (made by Hodogaya Chemical), Oil Blue No. 1 603 (made by Orient), Kitten Blue A (made by Ciba Geigy), Eisen Katyron Blue GLH (made by Hodogaya Chemical), Lake Blue AFH (made by Kyowa Sangyo), Primocyanin 6GX (made by Inabata Sangyo), Brill Acid Green 6BH (Hodogaya) Chemical Blue), Cyan Blue BNRCS (Toyo Ink), Lionoyl Blue SL (Toyo Ink), etc. are used. The color index No. 24411, 23160, 74180, 74200, 22800, 23154, 23155, 24401, 14830, 15050, 15760, 15707, 17941, 74220, 13425, 13361, 13420, 11836, 74140, 74380, 74350, 74460, etc. There are also materials. Examples of inorganic color materials include ultramarine, cobalt blue, cerulean blue, chromium oxide, and TiO 2 —ZnO—Co—NiO pigments.

〔保護層〕
また、本発明に係る輝尽性蛍光体層は、保護層を有していても良い。保護層は、保護層用塗布液を輝尽性蛍光体層上に直接塗布して形成してもよいし、あらかじめ別途形成した保護層を輝尽性蛍光体層上に接着してもよい。あるいは別途形成した保護層上に輝尽性蛍光体層を形成する手順を取ってもよい。保護層の材料としては酢酸セルロース、ニトロセルロース、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、ポリ四フッ化エチレン、ポリ三フッ化−塩化エチレン、四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合体、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体等の通常の保護層用材料が用いられる。他に透明なガラス基板を保護層としてもちいることもできる。また、この保護層は蒸着法、スパッタリング法等により、SiC、SiO2、SiN、Al23などの無機物質を積層して形成してもよい。これらの保護層の層厚は一般的には0.1〜2000μm程度が好ましい。
[Protective layer]
Moreover, the photostimulable phosphor layer according to the present invention may have a protective layer. The protective layer may be formed by directly applying a coating solution for the protective layer on the photostimulable phosphor layer, or a protective layer separately formed in advance may be adhered on the photostimulable phosphor layer. Or you may take the procedure of forming a photostimulable phosphor layer on the protective layer formed separately. Materials for the protective layer include cellulose acetate, nitrocellulose, polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polycarbonate, polyester, polyethylene terephthalate, polyethylene, polyvinylidene chloride, nylon, polytetrafluoroethylene, polytrifluoride-ethylene chloride Ordinary protective layer materials such as tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer are used. In addition, a transparent glass substrate can be used as a protective layer. The protective layer may be formed by laminating inorganic materials such as SiC, SiO 2 , SiN, Al 2 O 3 by vapor deposition, sputtering, or the like. The thickness of these protective layers is generally preferably about 0.1 to 2000 μm.

図3は、本発明の放射線画像変換パネル及び放射線画像読み取り装置の構成の1例を示す概略図である。   FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the radiation image conversion panel and the radiation image reading apparatus according to the present invention.

図3において21は放射線発生装置、22は被写体、23は輝尽性蛍光体を含有する可視光ないし赤外光輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネル、24は放射線画像変換パネル23の放射線潜像を輝尽発光として放出させるための輝尽励起光源、25は放射線画像変換パネル23より放出された輝尽発光を検出する光電変換装置、26は光電変換装置25で検出された光電変換信号を画像として再生する画像再生装置、27は再生された画像を表示する画像表示装置、28は輝尽励起光源24からの反射光をカットし、放射線画像変換パネル23より放出された光のみを透過させるためのフィルタである。尚、図3は被写体の放射線透過像を得る場合の例であるが、被写体22自体が放射線を放射する場合には、前記放射線発生装置21は特に必要ない。   In FIG. 3, 21 is a radiation generator, 22 is a subject, 23 is a radiation image conversion panel having a visible or infrared photostimulable phosphor layer containing a stimulable phosphor, and 24 is a radiation of the radiation image conversion panel 23. A stimulated excitation light source for emitting a latent image as stimulated emission, 25 is a photoelectric conversion device that detects the stimulated emission emitted from the radiation image conversion panel 23, and 26 is a photoelectric conversion signal detected by the photoelectric conversion device 25. 27 is an image display device that displays the reconstructed image, and 28 is a device that cuts off the reflected light from the stimulating excitation light source 24 and transmits only the light emitted from the radiation image conversion panel 23. It is a filter to make it. FIG. 3 shows an example of obtaining a radiation transmission image of a subject. However, when the subject 22 itself emits radiation, the radiation generator 21 is not particularly necessary.

また、光電変換装置25以降は放射線画像変換パネル23からの光情報を何らかの形で画像として再生できるものであればよく、前記に限定されない。   The photoelectric conversion device 25 and the subsequent devices are not limited to the above as long as they can reproduce optical information from the radiation image conversion panel 23 as an image in some form.

図3に示されるように、被写体22を放射線発生装置21と放射線画像変換パネル23の間に配置し放射線Rを照射すると、放射線Rは被写体22の各部の放射線透過率の変化に従って透過し、その透過像RI(すなわち放射線の強弱の像)が放射線画像変換パネル23に入射する。この入射した透過像RIは放射線画像変換パネル23の輝尽性蛍光体層に吸収され、これによって輝尽性蛍光体層中に吸収された放射線量に比例した数の電子及び/又は正孔が発生し、これが輝尽性蛍光体のトラップレベルに蓄積される。すなわち放射線透過像のエネルギーを蓄積した潜像が形成される。次にこの潜像を光エネルギーで励起して顕在化する。すなわち可視あるいは赤外領域の光を照射する輝尽励起光源24によって輝尽性蛍光体層に照射してトラップレベルに蓄積された電子及び/又は正孔を追い出し、蓄積されたエネルギーを輝尽発光として放出せしめる。この放出された輝尽発光の強弱は蓄積された電子及び/又は正孔の数、すなわち放射線画像変換パネル23の輝尽性蛍光体層に吸収された放射線エネルギーの強弱に比例しており、この光信号を例えば光電子増倍管等の光電変換装置25で電気信号に変換し、画像再生装置26によって画像として再生し、画像表示装置27によってこの画像を表示する。画像再生装置26は単に電気信号を画像信号として再生するのみでなく、いわゆる画像処理や画像の演算、画像の記憶、保存等が出来るものを使用するとより有効である。   As shown in FIG. 3, when the subject 22 is placed between the radiation generator 21 and the radiation image conversion panel 23 and irradiated with the radiation R, the radiation R is transmitted according to the change in the radiation transmittance of each part of the subject 22, A transmission image RI (that is, an image of the intensity of radiation) enters the radiation image conversion panel 23. The incident transmitted image RI is absorbed by the photostimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel 23, so that a number of electrons and / or holes proportional to the amount of radiation absorbed in the photostimulable phosphor layer are generated. Occurs and accumulates at the trap level of the photostimulable phosphor. That is, a latent image in which the energy of the radiation transmission image is accumulated is formed. Next, this latent image is made visible by being excited with light energy. That is, the photostimulable phosphor layer is irradiated with light in the visible or infrared region and the photostimulable phosphor layer is irradiated to expel electrons and / or holes accumulated at the trap level, and the accumulated energy is stimulated to emit light. Let it be released as. The intensity of the emitted stimulated emission is proportional to the number of accumulated electrons and / or holes, that is, the intensity of the radiation energy absorbed in the stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel 23. The optical signal is converted into an electric signal by a photoelectric conversion device 25 such as a photomultiplier tube, and reproduced as an image by an image reproduction device 26, and this image is displayed by an image display device 27. The image reproducing device 26 is more effective not only for reproducing an electrical signal as an image signal but also using what can perform so-called image processing, image calculation, image storage, storage, and the like.

また、光エネルギーで励起する際、輝尽励起光の反射光と輝尽性蛍光体層から放出される輝尽発光とを分離する必要があることと、輝尽性蛍光体層から放出される発光を受光する光電変換器は一般に600nm以下の短波長の光エネルギーに対して感度が高くなるという理由から、輝尽性蛍光体層から放射される輝尽発光はできるだけ短波長領域にスペクトル分布を持ったものが望ましい。本発明の輝尽性蛍光体の発光波長域は300〜500nmであり、一方輝尽励起波長域は500〜900nmであるので前記の条件を同時に満たすが、最近、診断装置のダウンサイジング化が進み、放射画像変換パネルの画像読み取りに用いられる励起波長は高出力で且つ、コンパクト化が容易な半導体レーザーが好まれ、そのレーザー光の波長は680nmであり、本発明の放射線画像変換パネルに組み込まれた輝尽性蛍光体は、680nmの励起波長を用いた時に、極めて良好な鮮鋭性を示すものである。   In addition, when excited by light energy, it is necessary to separate the reflected light of the stimulated excitation light from the stimulated emission emitted from the stimulable phosphor layer, and it is emitted from the stimulable phosphor layer. Photoelectric converters that receive light emission generally have high sensitivity to light energy with a short wavelength of 600 nm or less, so that the stimulated emission emitted from the stimulable phosphor layer has a spectral distribution in the short wavelength region as much as possible. What you have is desirable. The emission wavelength range of the photostimulable phosphor of the present invention is 300 to 500 nm, while the photostimulable excitation wavelength range is 500 to 900 nm, which satisfies the above-mentioned conditions at the same time. Recently, downsizing of diagnostic devices has progressed. A semiconductor laser that has a high output power and is easy to make compact is preferred for the image reading of the radiation image conversion panel, and the wavelength of the laser light is 680 nm, and is incorporated in the radiation image conversion panel of the present invention. The photostimulable phosphor exhibits extremely good sharpness when an excitation wavelength of 680 nm is used.

すなわち、本発明の輝尽性蛍光体はいずれも500nm以下に主ピークを有する発光を示し、輝尽励起光の分離が容易でしかも受光器の分光感度とよく一致するため、効率よく受光できる結果、受像系の感度を固めることができる。   That is, all of the photostimulable phosphors of the present invention emit light having a main peak at 500 nm or less, and the excitation excitation light can be easily separated and coincides well with the spectral sensitivity of the light receiver. The sensitivity of the image receiving system can be solidified.

輝尽励起光源24としては、放射線画像変換パネル23に使用される輝尽性蛍光体の輝尽励起波長を含む光源が使用される。特にレーザー光を用いると光学系が簡単になり、又、輝尽励起光強度を大きくすることができるために輝尽発光効率をあげることができ、より好ましい結果が得られる。   As the excitation light source 24, a light source including the excitation wavelength of the stimulable phosphor used in the radiation image conversion panel 23 is used. In particular, when laser light is used, the optical system is simplified, and the excitation light intensity can be increased, so that the photostimulative emission efficiency can be increased, and a more preferable result can be obtained.

本発明においては、輝尽性蛍光体層に照射されるレーザー径が100μm以下であることが好ましく、より好ましくは80μm以下である。   In the present invention, the laser diameter irradiated to the photostimulable phosphor layer is preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less.

レーザーとしては、He−Neレーザー、He−Cdレーザー、Arイオンレーザー、Krイオンレーザー、N2レーザー、YAGレーザー及びその第2高調波、ルビーレーザー、半導体レーザー、各種の色素レーザー、銅蒸気レーザー等の金属蒸気レーザー等がある。通常はHe−NeレーザーやArイオンレーザーのような連続発振のレーザーが望ましいが、パネル1画素の走査時間とパルスを同期させればパルス発振のレーザーを用いることもできる。又、フィルタ28を用いずに特開昭59−22046号公報に示されるような、発光の遅延を利用して分離する方法によるときは、連続発振レーザーを用いて変調するよりもパルス発振のレーザーを用いる方が好ましい。 As the laser, the He-Ne laser, the He-Cd laser, Ar ion laser, Kr ion laser, N 2 laser, YAG laser and its second harmonic, ruby laser, semiconductor lasers, various dye lasers, copper vapor laser, etc. There are metal vapor lasers. Normally, a continuous wave laser such as a He—Ne laser or an Ar ion laser is desirable, but a pulsed laser can also be used if the scanning time and pulse of one pixel of the panel are synchronized. Further, when using a method of separating light emission using a delay of light emission as shown in Japanese Patent Laid-Open No. 59-22046 without using the filter 28, a pulse oscillation laser is used rather than modulation using a continuous wave laser. Is preferred.

上記の各種レーザー光源の中でも、半導体レーザーは小型で安価であり、しかも変調器が不要であるので特に好ましく用いられる。   Among the various laser light sources described above, the semiconductor laser is particularly preferably used because it is small and inexpensive and does not require a modulator.

フィルタ28としては放射線画像変換パネル23から放射される輝尽発光を透過し、輝尽励起光をカットするものであるから、これは放射線画像変換パネル23に含有する輝尽性蛍光体の輝尽発光波長と輝尽励起光源24の波長の組合わせによって決定される。   Since the filter 28 transmits the stimulated luminescence emitted from the radiation image conversion panel 23 and cuts the stimulated excitation light, this is the stimulation of the stimulable phosphor contained in the radiation image conversion panel 23. It is determined by the combination of the emission wavelength and the wavelength of the stimulated excitation light source 24.

例えば、輝尽励起波長が500〜900nmで輝尽発光波長が300〜500nmにあるような実用上好ましい組合わせの場合、フィルタとしては、例えば、東芝社製C−39、C−40、V−40、V−42、V−44、コーニング社製7−54、7−59、スペクトロフィルム社製BG−1、BG−3、BG−25、BG−37、BG−38等の紫〜青色ガラスフィルタを用いることができる。又、干渉フィルタを用いると、ある程度、任意の特性のフィルタを選択して使用できる。光電変換装置25としては、光電管、光電子倍増管、フォトダイオード、フォトトランジスタ、太陽電池、光導電素子等光量の変化を電子信号の変化に変換し得るものなら何れでもよい。   For example, in the case of a practically preferable combination in which the excitation wavelength is 500 to 900 nm and the emission wavelength is 300 to 500 nm, examples of the filter include C-39, C-40, and V- 40, V-42, V-44, Corning 7-54, 7-59, Spectrofilm BG-1, BG-3, BG-25, BG-37, BG-38, etc. A filter can be used. If an interference filter is used, a filter having an arbitrary characteristic can be selected and used to some extent. The photoelectric conversion device 25 may be any device capable of converting a change in light quantity into a change in electronic signal, such as a photoelectric tube, a photomultiplier tube, a photodiode, a phototransistor, a solar cell, or a photoconductive element.

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these.

《放射線画像変換パネルの作製》
(放射線画像変換パネル1〜4の作製)
表1に示す条件で金属ブロックに貼り付けた43cm×43cm(17インチ×17インチ)サイズのアルミ基板No.1〜4をそれぞれ積層物一式ずつ蒸着装置の真空槽に設置し、図8に示す蒸着装置を使用して以下に示す方法で各アルミ基板上に輝尽性蛍光体(CsBr:Eu)を有する輝尽性蛍光体層を形成した。
<Production of radiation image conversion panel>
(Production of radiation image conversion panels 1 to 4)
A 43 cm × 43 cm (17 inch × 17 inch) size aluminum substrate No. 1 bonded to a metal block under the conditions shown in Table 1. 1 to 4 are each installed in a vacuum chamber of a vapor deposition apparatus one by one, and a stimulable phosphor (CsBr: Eu) is provided on each aluminum substrate by the following method using the vapor deposition apparatus shown in FIG. A photostimulable phosphor layer was formed.

先ず、前記基板を真空槽内に設置し、次いで、蛍光体原料(CsBr:Eu)を蒸着源としてプレス成形し水冷したルツボにいれた。その後、真空槽内を一旦排気し、その後にN2ガスを導入し0.133Paに真空度を調整した後、10rpmの速度で下引き樹脂層塗布済み試料を回転させながら、下引き樹脂層塗布済み試料の温度(基板温度ともいう。)を約140℃に保持した。次いで、抵抗加熱ルツボを加熱して輝尽性蛍光体を蒸着し、輝尽性蛍光体層の膜厚が300μmとなったところで蒸着を終了させた。次いで、乾燥空気内で輝尽性蛍光体層を保護層袋に入れ、輝尽性蛍光体層が密封された構造の、アルミ基板No.1〜4に対応した放射線画像変換パネル試料1〜4を得た。 First, the substrate was placed in a vacuum chamber, and then placed in a crucible that was press-molded and water-cooled using a phosphor material (CsBr: Eu) as an evaporation source. Thereafter, the inside of the vacuum chamber is once evacuated, then N 2 gas is introduced, the degree of vacuum is adjusted to 0.133 Pa, and then the undercoat resin layer is applied while rotating the undercoat resin layer applied sample at a speed of 10 rpm. The temperature of the finished sample (also referred to as the substrate temperature) was maintained at about 140 ° C. Next, the resistance heating crucible was heated to deposit the stimulable phosphor, and the deposition was terminated when the thickness of the stimulable phosphor layer reached 300 μm. Next, the photostimulable phosphor layer was placed in a protective layer bag in dry air, and the photostimulable phosphor layer was sealed. Radiation image conversion panel samples 1 to 4 corresponding to 1 to 4 were obtained.

試料1は、蒸着前にアルミ基板のみを基板支持部に設置して得た。試料2は、蒸着前にアルミ製ブロック上に粘着シートを貼り合わせ、その上に基板を乗せて手で直接押し付けて得た積層物を用いた。試料3は、試料2と同様に粘着シート上に基板を乗せた後、50cm×50cmに断裁したペットフィルムを該基板上に乗せ、その上から手で基板を押し付けて得た積層物を用いた。試料4は、試料2,3と同様に、粘着シートを上に基板を乗せた後、該積層物を吸引貼付け治具に設置し、真空ポンプを接続し吸引貼付け治具と基板で閉じられた領域と大気圧との差圧が10kPaの状態で1分間減圧して、基板を粘着シートに密着させて得た積層物を用いた。   Sample 1 was obtained by placing only an aluminum substrate on the substrate support before vapor deposition. Sample 2 was a laminate obtained by attaching an adhesive sheet on an aluminum block before vapor deposition, placing a substrate thereon, and directly pressing it by hand. Sample 3 was a laminate obtained by placing a substrate on an adhesive sheet in the same manner as Sample 2, then placing a pet film cut to 50 cm × 50 cm on the substrate, and pressing the substrate by hand from above. . In the case of Sample 4, after placing the substrate on the adhesive sheet, similarly to Samples 2 and 3, the laminate was placed in a suction bonding jig, and a vacuum pump was connected and the suction bonding jig and the substrate were closed. A laminate obtained by reducing the pressure for 1 minute in a state where the differential pressure between the region and the atmospheric pressure was 10 kPa and bringing the substrate into close contact with the adhesive sheet was used.

《評価》
以上のようにして作製した各放射線画像変換パネルを用いて、以下の評価を行った。得られた結果を表1に示す。
<Evaluation>
The following evaluation was performed using each radiographic image conversion panel produced as described above. The obtained results are shown in Table 1.

《画像欠陥の評価》
蒸着後、基板表面を目視観察し、直径0.5mm以上の突起の個数で評価した。
<Evaluation of image defects>
After vapor deposition, the substrate surface was visually observed and evaluated by the number of protrusions having a diameter of 0.5 mm or more.

《輝度、輝度分布の評価》
輝度はコニカ(株)製Regius350を用いて評価を行った。X線をタングステン管球にて80kVp、10mAsで爆射線源とプレート間距離2mで照射した後、Regius350にプレートを設置して読み取った。得られたフォトマルからの電気信号をもとに評価を行った。
<Evaluation of luminance and luminance distribution>
The luminance was evaluated using a Regius 350 manufactured by Konica Corporation. X-rays were irradiated with a tungsten tube at 80 kVp, 10 mAs at a distance of 2 m between the bombardment source and the plate, and then the plate was placed on the Regius 350 and read. Evaluation was performed based on the electrical signal from the obtained photomal.

撮影された面内のフォトマルからの電気信号分布を相対評価し、標準偏差を求め、輝度分布(S.D.)とした。   The electrical signal distribution from the photographed in-plane photomultiplier was relatively evaluated, the standard deviation was obtained, and the luminance distribution (SD) was obtained.

評価結果を表1に示す。   The evaluation results are shown in Table 1.

Figure 2007024817
Figure 2007024817

表1の結果から、金属ブロック、粘着シートを有することにより、輝度分布の均一性が大幅に向上した。また、金属ブロック上に粘着材を設置後、該粘着材上に基板を乗せ、基板上の画像領域に接触させず、基板と粘着剤との接触部の領域を減圧することにより、画像欠陥が著しく減少した。   From the results of Table 1, the uniformity of the luminance distribution was greatly improved by having the metal block and the pressure-sensitive adhesive sheet. In addition, after placing the adhesive material on the metal block, the substrate is placed on the adhesive material, and the contact area between the substrate and the adhesive is decompressed without bringing the substrate into contact with the image area on the substrate, thereby causing image defects. Remarkably reduced.

支持体上に形成した柱状結晶形状の一例を示す概略図Schematic showing an example of the columnar crystal shape formed on the support 支持体上に輝尽性蛍光体層が蒸着により形成される様子の一例を示す概略図Schematic showing an example of how the photostimulable phosphor layer is formed on the support by vapor deposition 放射線画像変換パネル及び放射線画像読み取り装置の構成の一例を示す概略図Schematic which shows an example of a structure of a radiographic image conversion panel and a radiographic image reading apparatus. 基板、粘着シート、金属ブロック等の積層物Laminates such as substrates, adhesive sheets and metal blocks 吸引貼付け治具(断面図)Suction pasting jig (cross section) 吸引貼付け治具(上から見た図)Suction pasting jig (view from above) 基板の蒸着面(上から見た図)Vapor deposition surface (view from above) 蒸着装置の一例の概略構成を示す断面図Sectional drawing which shows schematic structure of an example of vapor deposition apparatus

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 柱状結晶
3 結晶成長方向の中心を通る線
4 結晶先端断面部の接線
5 柱状結晶の結晶径
15 基板支持部
16 輝尽性蛍光体蒸気流
21 放射線発生装置
22 被写体
23 放射線画像変換パネル
24 輝尽励起光源
25 光電変換装置
26 画像再生装置
27 画像表示装置
28 フィルタ
102 粘着シート
103 金属ブロック
104 吸引貼付け治具
105 基板接触部
106 吸引口
107 減圧領域(斜線部)
111 非画像領域
112 画像領域
120 基板支持部
121 基板回転機構
130 断熱材
140 輝尽性蛍光体原料
150 ルツボ
160 (蒸着装置の)真空槽
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Columnar crystal 3 Line passing through center of crystal growth direction 4 Tangent line of crystal tip cross section 5 Crystal diameter of columnar crystal 15 Substrate support 16 Stimulable phosphor vapor flow 21 Radiation generator 22 Subject 23 Radiation image conversion panel 24 Photoexcitation light source 25 Photoelectric conversion device 26 Image reproduction device 27 Image display device 28 Filter 102 Adhesive sheet 103 Metal block 104 Suction sticking jig 105 Substrate contact portion 106 Suction port 107 Depressurized region (shaded portion)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 111 Non-image area | region 112 Image area | region 120 Substrate support part 121 Substrate rotation mechanism 130 Heat insulating material 140 Stimulable phosphor raw material 150 Crucible 160 Vacuum chamber (for vapor deposition apparatus)

Claims (5)

基板上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルの製造方法において、当該基板を金属ブロックに密着させ、蒸着装置内の基板支持体に設置後、気相成長法により当該基板表面に輝尽性蛍光体層を形成させることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。 In a method for producing a radiation image conversion panel having a photostimulable phosphor layer on a substrate, the substrate is brought into close contact with a metal block, placed on a substrate support in a vapor deposition apparatus, and then illuminated on the substrate surface by vapor phase growth. A method for producing a radiation image conversion panel, comprising forming a stimulable phosphor layer. 基板と金属ブロックとの間に粘着材を有することを特徴とする請求項1に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。 The method for producing a radiation image conversion panel according to claim 1, further comprising an adhesive material between the substrate and the metal block. 金属ブロック上に粘着材を設置後、当該粘着材上に基板を乗せ、当該基板上の画像領域に接触させずに当該基板を当該金属ブロックに密着させることを特徴とする請求項1又は2に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。 3. The method according to claim 1, wherein after the adhesive material is installed on the metal block, the substrate is placed on the adhesive material, and the substrate is brought into close contact with the metal block without contacting an image region on the substrate. The manufacturing method of the radiation image conversion panel of description. 金属ブロック上に粘着材を設置後、当該粘着材上に基板を乗せ、当該基板と当該粘着剤との接触部の領域を減圧することにより当該基板を当該金属ブロックに密着させることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。 After the adhesive material is placed on the metal block, the substrate is placed on the adhesive material, and the region of the contact portion between the substrate and the adhesive is reduced in pressure so that the substrate is brought into close contact with the metal block. The manufacturing method of the radiographic image conversion panel of any one of Claims 1-3. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法によって製造された放射線画像変換パネルであって、当該放射線画像変換パネルが有する輝尽性蛍光体層が下記一般式(1)で表されるハロゲン化アルカリを母体とする輝尽性蛍光体を含有することを特徴とする放射線画像変換パネル。
一般式(1) M1X・aM2X′2:eA、A″
(式中、M1はLi、Na、K、Rb及びCsからなる群から選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiの各原子から選ばれる少なくとも1種の二価金属原子であり、X、X′はF、Cl、Br及びIからなる群から選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、A及びA″はEu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm及びYからなる群から選ばれる少なくとも1種の希土類元素であり、またa、eはそれぞれ0≦a<0.5、0<e≦0.2の範囲の数値を表す。)
It is a radiographic image conversion panel manufactured by the manufacturing method of any one of Claims 1-4, Comprising: The photostimulable phosphor layer which the said radiographic image conversion panel has is represented by following General formula (1). A radiation image conversion panel comprising a stimulable phosphor based on an alkali halide.
General formula (1) M 1 X · aM 2 X ′ 2 : eA, A ″
(Wherein M 1 is at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs, and M 2 is Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu and Ni. At least one divalent metal atom selected from each atom of X, X ′ is at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br and I, and A and A ″ are Eu, Tb , In, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, and Y, and a and e are each 0 ≦ a <Represents numerical values in the range of 0.5 and 0 <e ≦ 0.2.)
JP2005211145A 2005-07-21 2005-07-21 Radiological image conversion panel and its manufacturing method Pending JP2007024817A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005211145A JP2007024817A (en) 2005-07-21 2005-07-21 Radiological image conversion panel and its manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005211145A JP2007024817A (en) 2005-07-21 2005-07-21 Radiological image conversion panel and its manufacturing method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007024817A true JP2007024817A (en) 2007-02-01

Family

ID=37785762

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005211145A Pending JP2007024817A (en) 2005-07-21 2005-07-21 Radiological image conversion panel and its manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007024817A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010170403A (en) * 2009-01-23 2010-08-05 Toshiba Corp Raid system using semiconductor memory device, and control method therefor

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010170403A (en) * 2009-01-23 2010-08-05 Toshiba Corp Raid system using semiconductor memory device, and control method therefor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4265139B2 (en) Radiation image conversion panel and radiation image reading apparatus
JP5476991B2 (en) Radiation image conversion panel, manufacturing method therefor, and X-ray imaging system
JP2003248097A (en) Radiation image conversion panel and its production method
JP2004279086A (en) Radiation image conversion panel and method for manufacturing it
JP4770737B2 (en) Radiation image conversion panel
JP4304998B2 (en) Radiation image conversion panel and method for manufacturing radiation image conversion panel
JP2002350597A (en) Radiation image conversion panel and method for manufacturing it
JP2005083792A (en) Radiation image conversion panel and method for manufacturing it
JP3915593B2 (en) Radiation image conversion panel and method for manufacturing radiation image conversion panel
JP4259035B2 (en) Radiation image conversion panel and method for manufacturing radiation image conversion panel
JP2007024817A (en) Radiological image conversion panel and its manufacturing method
JP4079073B2 (en) Radiation image conversion panel and method for manufacturing radiation image conversion panel
JP4475106B2 (en) Radiation image conversion panel and method for manufacturing radiation image conversion panel
JP2006125854A (en) Radiation image conversion panel, and manufacturing method therefor
JP2008116462A (en) Radiographic image conversion panel, and manufacturing method of radiographic image conversion panel
JP2006064383A (en) Radiation image conversion panel and method for manufacturing it
JP3807347B2 (en) Radiation image conversion panel and method for manufacturing radiation image conversion panel
JP2007057306A (en) Radiation image conversion panel using stimulable phosphor and method for manufacturing it
JP3879629B2 (en) Radiation image conversion panel and method for manufacturing radiation image conversion panel
JP2004301819A (en) Radiation image conversion panel, and manufacturing method for radiation image conversion panel
JP2003270395A (en) Radiogram conversion panel
JP5360160B2 (en) Radiation image conversion panel and method for manufacturing radiation image conversion panel
JP2005337724A (en) Radiation image conversion panel and its manufacturing method
JP2004177253A (en) Radiation image conversion panel and method for manufacturing radiation image conversion panel
JP2004085430A (en) Radiation image transformation panel, and manufacturing method for radiation image transformation panel