JP2007001004A - 半導体装置、およびその作製方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板101上の微小構造体となる箇所に第1の犠牲層103を、その上に構造層105を成膜する。また半導体素子となる箇所には半導体層104を成膜する。構造層は結晶化を促進する金属を用いて熱結晶化またはレーザ結晶化された多結晶シリコンを用いる。この多結晶シリコンは一般的な多結晶シリコンと異なり結晶粒界で共有結合が途切れず破壊応力が高く構造層に好適となる。またこの多結晶シリコンは半導体層104としても使うことが可能で微小構造体と半導体素子を同一基板上に形成可能である。続けて構造層の上には第2の犠牲層108を成膜し、半導体層の上には半導体素子を形成する。最終的には第1と第2の犠牲層を除去し、構造層の下方と上方に空間を作り微小構造体とする。
【選択図】図2
Description
本実施の形態では、本発明の半導体装置の構成例、およびその作製方法について図面を用いて説明する。
この場合には、エッチング剤と接する構造層105や第二の絶縁層115等との選択比を十分に考慮して、エッチング条件を決定する必要がある。
次に、上記で説明した本発明の半導体装置を作製するために、同一基板上に微小構造体および半導体素子を作製する方法について、実施の形態1とは異なる方法を、図6〜図11を用いて説明する。各図面は、上面図、または上面図O−P、もしくはQ−Rにおける断面図を示す。
このような工程を用いて第一の犠牲層206および第二の犠牲層208をエッチング除去することによって、空間240が生じ、微小構造体219を作製することができる。
本実施の形態では、上記実施の形態で説明した半導体装置の例を説明する。本発明の半導体装置は、微小構造体で作製したセンシング素子を用いてセンサ装置301を構成することができる。
本実施の形態では、上記実施の形態で説明した半導体装置の具体的な例を説明する。本発明の半導体装置は、記憶素子に微小構造体を有する記憶装置を構成することができる。本実施の形態では、デコーダ等の周辺回路は半導体素子等を用いて構成し、メモリセル内部を、微小構造体を用いて構成する記憶装置の例を示す。
本実施の形態では、上記実施の形態で説明した半導体装置の例を説明する。
11 半導体装置
12 電気回路部
13 構造体部
14 制御回路
15 インターフェース
16 センサ
17 アクチュエータ
101 基板
102 下地膜
103 第一の犠牲層
104 半導体層
105 構造層
106 第一の絶縁層
107 ゲート電極
108 第二の犠牲層
109 サイドウォール
110 高濃度N型不純物領域
111 P型不純物領域
112 N型不純物領域
113 N型半導体素子
114 P型半導体素子
115 第二の絶縁層
116 第一のコンタクトホール
117 第二の導電層
118 第二のコンタクトホール
119 微小構造体
120 第三の導電層
124 第一の空間
126 第二の空間
150 非晶質シリコンを有する層
151 多結晶シリコンを有する層
152 ニッケルシリサイドを有する層
154 構造層の梁部分
155 構造層の支柱部分
201 基板
202 下地膜
203 微小構造体を構成する半導体層
204 半導体素子を構成する半導体層
205 第一の絶縁層
206 第一の犠牲層
207 構造層
208 第二の犠牲層
209 ゲート電極
210 第一の導電層
211 第二の導電層
212 N型半導体素子
213 P型半導体素子
214 第二の絶縁層
215 第一のコンタクトホール
216 第三の導電層
217 第二のコンタクトホール
218 第二のコンタクトホール
219 微小構造体
220 (C)
221 第二の犠牲層
222 第四の導電層
223 コンタクトホール
224 微小構造体
225 対向基板
226 第二の絶縁層
227 第三の絶縁層
228 第五の導電層
229 第六の導電層
230 剥離層
231 開口部
232 基板
233 基板
240 空間
242 空間
244 空間
246 空間
301 センサ装置
302 電気回路部
303 構造体部
304 検知素子
305 A/D変換回路
306 制御回路
307 インターフェース
308 メモリ
310 外部の制御装置
320 第一の導電層
321 第二の導電層
322 空間
401 記憶装置
402 メモリセルアレイ
403 デコーダ
404 デコーダ
405 セレクタ
406 読み出し・書き込み回路
407 スイッチ素子
408 記憶素子
409 メモリセル
410 トランジスタ
411 共通電極
420 犠牲層
421 構造層
422 片持ち梁
423 制御電極
424 導電体
501 分別装置
502 電気回路部
503 構造体部
504 検知手段
505 開閉手段
506 信号処理手段
507 開閉制御手段
508 情報記憶手段
509 通信手段
510 外部の制御装置
511 通信手段
512 情報処理手段
513 表示手段
514 入力手段
520 混合物質層
521 特定物質層
Claims (34)
- 基板上に設けられた電気回路および微小構造体を有し、
前記電気回路は半導体素子を有し、
前記微小構造体は、金属を用いて熱結晶化またはレーザ結晶化された多結晶シリコンを有する層を有することを特徴とする半導体装置。 - 基板上に設けられた電気回路、導電層、および微小構造体を有し、
前記電気回路は半導体素子を有し、
前記電気回路および前記微小構造体は前記導電層によって電気的に接続され、
前記微小構造体は、金属を用いて熱結晶化またはレーザ結晶化された多結晶シリコンを有する層を有することを特徴とする半導体装置。 - 基板上に設けられた電気回路、微小構造体、および前記基板と向かい合うように設けられた対向基板を有し、
前記電気回路は半導体素子を有し
前記微小構造体は、金属を用いて熱結晶化またはレーザ結晶化された多結晶シリコンを有する層を有し、
前記微小構造体と対向しない、前記対向基板の一部に絶縁層が設けられていることを特徴とする半導体装置。 - 基板上に設けられた電気回路、導電層、微小構造体、および前記基板と向かい合うように設けられた対向基板を有し、
前記電気回路は半導体素子を有し、
前記電気回路および前記微小構造体は前記導電層によって電気的に接続され、
前記微小構造体は、金属を用いて熱結晶化またはレーザ結晶化された多結晶シリコンを有する層を有し、
前記微小構造体と対向しない、前記対向基板の一部に絶縁層が設けられていることを特徴とする半導体装置。 - 基板上に設けられた電気回路、第一の導電層、微小構造体、および前記基板と向かい合うように設けられた対向基板を有し、
前記電気回路は半導体素子を有し、
前記微小構造体は、金属を用いて熱結晶化またはレーザ結晶化された多結晶シリコンを有する層を有し、
前記微小構造体と対向しない、前記対向基板の一部に絶縁層が設けられ、
前記絶縁層上に第二の導電層が設けられ、
前記電気回路および前記微小構造体は、前記第一の導電層または前記第二の導電層によって電気的に接続されることを特徴とする半導体装置。 - 請求項5において、
前記第一の導電層と前記第二の導電層とは、異方性導電材を介して電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至請求項6のいずれか一において、
前記基板と前記多結晶シリコンを有する層との間に第一の空間が設けられていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至請求項6のいずれか一において、
前記基板と前記多結晶シリコンを有する層との間に第一の空間が設けられ、
前記多結晶シリコンを有する層と、前記多結晶シリコンを有する層上に設けられた層との間に第二の空間が設けられていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項7又は請求項8において、
前記微小構造体は、前記基板と前記第一の空間との間に第三の導電層を有することを特徴とする半導体装置。 - 請求項7において、
前記微小構造体は、前記基板と前記第一の空間との間に第三の導電層を有し、
前記多結晶シリコンを有する層と、前記多結晶シリコンを有する層上に設けられた層との間に第二の空間が設けられていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至請求項6のいずれか一において、
前記微小構造体は
、前記多結晶シリコンを有する層上に設けられた第四の導電層を有し、
前記多結晶シリコンを有する層と、前記第四の導電層との間に第一の空間が設けられていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項11において、
前記微小構造体は、前記第四の導電層上に設けられた有機材料、または無機材料を有する絶縁層を有し、
前記第四の導電層と、前記絶縁層との間に第二の空間が設けられていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項7乃至請求項11のいずれか一において、
前記第一の空間は、金属元素、金属化合物、シリコン、シリコン酸化物、またはシリコン窒化物を有する材料を用いて形成された犠牲層を、エッチングにより除去して生じたことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至請求項13のいずれか一において、
前記基板は絶縁表面を有することを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至請求項14のいずれか一において、
前記金属は、前記多結晶シリコンを有する層となる層に選択的に添加されることを
特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至請求項15のいずれか一において、
前記多結晶シリコンを有する層は、前記金属を用いて熱結晶化またはレーザ結晶化された多結晶シリコンと非晶質シリコンとの積層構造を有することを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至請求項16のいずれか一において、
前記多結晶シリコンを結晶化させるために用いる前記金属は、Ni、Fe、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Pt、Cu、およびAuのいずれか1つ又は複数であることを特徴とする半導体装置。 - 基板上に、シリコン酸化物、シリコン窒化物、金属元素、または金属化合物を有する第一の犠牲層を形成し、
前記第一の犠牲層上に、金属を用いて結晶化された多結晶シリコンを有する層を形成し、
前記多結晶シリコンを有する層上に、シリコン、シリコンの化合物、金属元素、または金属化合物を有する第二の犠牲層を形成し、
前記第二の犠牲層上に第一の絶縁層を形成し、
前記第一の犠牲層、および前記第二の犠牲層の一部または全部をエッチングにより除去することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 基板上に、金属元素、または金属化合物を有する第一の導電層を形成し、
前記第一の導電層上に、シリコン酸化物、シリコン窒化物、金属元素、または金属化合物を有する第一の犠牲層を形成し、
前記第一の犠牲層上に、金属を用いて結晶化された多結晶シリコンを有する層を形成し、
前記多結晶シリコンを有する層上に、シリコン、シリコンの化合物、金属元素、または金属化合物を有する第二の犠牲層を形成し、
前記第二の犠牲層上に第一の絶縁層を形成し、
前記第一の犠牲層、および前記第二の犠牲層の一部または全部をエッチングにより除去することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 基板上の第一の領域に、シリコン酸化物、シリコン窒化物、金属元素、または金属化合物を有する第一の犠牲層を形成し、
前記第一の領域に形成された前記第一の犠牲層上、および前記基板上の第二の領域に、金属を用いて結晶化させた多結晶シリコンを有する層を形成し、
前記第一の領域および前記第二の領域に形成された前記多結晶シリコンを有する層上に、シリコン、シリコンの化合物、金属元素、または金属化合物を有する層を形成して、第二の犠牲層、および第一の導電層を形成し、
前記第二の犠牲層および前記第一の導電層上に、第一の絶縁層を形成し、
前記第一の領域において、前記第一の犠牲層および前記第二の犠牲層の一部または全部をエッチングにより除去することにより、前記第一の領域に微小構造体を形成し、
前記第二の領域に、前記多結晶シリコンを有する層および前記第一の導電層を有する半導体素子を作製することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 基板上の第一の領域に、金属元素、または金属化合物を有する第一の導電層を形成し、
前記第一の領域に形成された前記第一の導電層上に、シリコン酸化物、シリコン窒化物、金属元素、または金属化合物を有する第一の犠牲層を形成し、
前記第一の領域に形成された前記第一の犠牲層上、および前記基板上の第二の領域に、金属を用いて結晶化された多結晶シリコンを有する層を形成し、
前記第一の領域および前記第二の領域に形成された前記多結晶シリコンを有する層上に、シリコン、シリコンの化合物、金属元素、または金属化合物を有する層を形成して、第二の犠牲層、および第二の導電層を形成し、
前記第二の犠牲層および前記第二の導電層上に、第一の絶縁層を形成し、
前記第一の領域において、前記第一の犠牲層および前記第二の犠牲層の一部または全部をエッチングにより除去することにより、前記第一の領域に微小構造体を形成し、
前記第二の領域に、前記多結晶シリコンを有する層および前記第二の導電層を有する半導体素子を作製することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項20または請求項21において、
前記第一の絶縁層にコンタクトホールを設け、
前記第一の絶縁層上および前記コンタクトホールに、金属元素、または金属化合物を有する第三の導電層を形成し、
前記第一の犠牲層および前記第二の犠牲層の一部または全部の除去は、前記第三の導電層の形成後に行うことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 基板上に、シリコン酸化物、シリコン窒化物、金属元素、または金属化合物を有する第一の犠牲層を形成し、
前記犠牲層上に、金属を用いて結晶化された多結晶シリコンを有する層を形成し、
前記多結晶シリコンを有する層上に、シリコン、シリコンの化合物、金属元素、または金属化合物を有する第二の犠牲層を形成し、
前記第二の犠牲層上に第一の絶縁層を形成し、
前記第一の犠牲層、および前記第二の犠牲層の一部または全部をエッチングにより除去し、
対向基板上第二の絶縁層を形成し、
前記基板と前記対向基板とが向かい合うように貼り合わせることを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 基板上に、金属元素、または金属化合物を有する第一の導電層を形成し、
前記第一の導電層上に、シリコン酸化物、シリコン窒化物、金属元素、または金属化合物を有する第一の犠牲層を形成し、
前記犠牲層上に、金属を用いて結晶化された多結晶シリコンを有する層を形成し、
前記多結晶シリコンを有する層上に、シリコン、シリコンの化合物、金属元素、または金属化合物を有する第二の犠牲層を形成し、
前記第二の犠牲層上に第一の絶縁層を形成し、
前記第一の犠牲層、および前記第二の犠牲層の一部または全部をエッチングにより除去し、
対向基板上第二の絶縁層を形成し、
前記基板と前記対向基板とが向かい合うように貼り合わせることを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 基板上の第一の領域に、シリコン酸化物、シリコン窒化物、金属元素、または金属化合物を有する第一の犠牲層を形成し、
前記第一の領域に形成された前記第一の犠牲層上、および前記基板上の第二の領域に、金属を用いて結晶化させた多結晶シリコンを有する層を形成し、
前記第一の領域および前記第二の領域に形成された前記多結晶シリコンを有する層上に、シリコン、シリコンの化合物、金属元素、または金属化合物を有する層を形成して、第二の犠牲層、および第一の導電層を形成し、
前記第二の犠牲層および前記第一の導電層上に、第一の絶縁層を形成し、
前記第一の領域において、前記第一の犠牲層および前記第二の犠牲層の一部または全部をエッチングにより除去することにより、
前記第一の領域に、微小構造体を作製し、
前記第二の領域に、前記多結晶シリコンを有する層および前記第一の導電層を有する半導体素子を作製し、
対向基板上に第二の絶縁層を形成し、
前記基板と前記対向基板とが向かい合うように貼り合わせることを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 基板上の第一の領域に、金属元素、または金属化合物を有する第一の導電層を形成し、
前記第一の領域に形成された前記第一の導電層上に、シリコン酸化物、シリコン窒化物、金属元素、または金属化合物を有する第一の犠牲層を形成し、
前記第一の領域に形成された前記第一の犠牲層上、および前記基板上の第二の領域に、金属を用いて結晶化させた多結晶シリコンを有する層を形成し、
前記第一の領域および前記第二の領域に形成された前記多結晶シリコンを有する層上に、シリコン、シリコンの化合物、金属元素、または金属化合物を有する層を形成して、第二の犠牲層、および第二の導電層を形成し、
前記第二の犠牲層および前記第二の導電層上に、第一の絶縁層を形成し、
前記第一の領域において、前記第一の犠牲層および前記第二の犠牲層の一部または全部をエッチングにより除去することにより、
前記第一の領域に、微小構造体を作製し、
前記第二の領域に、前記多結晶シリコンを有する層および前記第二の導電層を有する半導体素子を作製し、
対向基板上に第二の絶縁層を形成し、
前記基板と前記対向基板とが向かい合うように貼り合わせることを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項23乃至請求項26のいずれか一において、
前記第一の絶縁層にコンタクトホールを設け、
前記第一の絶縁層上および前記コンタクトホールに、金属元素、または金属化合物を有する第三の導電層を形成し、
前記第一の領域において、前記第一の犠牲層、および前記第二の犠牲層の一部または全部をエッチングにより除去し、
前記第二の絶縁層上に、金属元素、または金属化合物を有する第四の導電層を形成し、
前記第三の導電層と前記第四の導電層とが電気的に接続するように、前記基板と前記対向基板とを異方性導電材を用いて貼り合わせることを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項23乃至請求項26のいずれか一において、
前記第一の絶縁層に第一のコンタクトホールを設け、
前記第一の絶縁層上および前記第一のコンタクトホールに、金属元素、または金属化合物を有する第三の導電層を形成し、
前記第三の導電層上に第三の絶縁層を形成し、
前記第三の絶縁層上に第二のコンタクトホールを設け、
前記第三の絶縁層上および前記第二のコンタクトホールに、金属元素、または金属化合物を有する第四の導電層を形成し、
前記第一の領域において、前記第一の犠牲層、および前記第二の犠牲層の一部または全部をエッチングにより除去し、
前記第二の絶縁層上に、金属元素、または金属化合物を有する第五の導電層を形成し、
前記第四の導電層と前記第五の導電層とが電気的に接続するように、前記基板と前記対向基板とを異方性導電材を用いて貼り合わせることを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項23乃至請求項28のいずれか一において、
前記第二の絶縁層は、前記第一の犠牲層および前記第二の犠牲層の一部または全部がエッチングにより除去された領域と対向しない領域に形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項18乃至請求項29のいずれか一において、
前記基板は絶縁表面を有する基板を用いることを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項18乃至請求項30のいずれか一において、
前記金属は、前記多結晶シリコンを有する層となる層に選択的に添加されることを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項18乃至請求項31のいずれか一において、
前記多結晶シリコンを有する層は、前記金属を用いて熱結晶化またはレーザ結晶化された多結晶シリコンと非晶質シリコンとの積層構造を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項18乃至請求項32のいずれか一において、
前記多結晶シリコンを結晶化させるために用いる前記金属は、Ni、Fe、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Pt、Cu、またはAuのいずれか1つまたは複数を用いることを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項18乃至請求項33のいずれか一において、
前記多結晶シリコンは可動することを特徴とする半導体装置の作製方法。
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Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007069341A (ja) * | 2005-08-10 | 2007-03-22 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 微小電気機械式装置の作製方法 |
JP2009137004A (ja) * | 2007-11-13 | 2009-06-25 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 微小電気機械式装置及びその作製方法 |
KR100911166B1 (ko) * | 2007-12-26 | 2009-08-06 | 한국철도기술연구원 | 철도차량 조향성능 시험을 위한 축소 곡선트랙 시험장치 |
JP2009211056A (ja) * | 2008-02-06 | 2009-09-17 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置及びその作製方法 |
KR20100048915A (ko) * | 2008-10-31 | 2010-05-11 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 도전성 산질화물 및 도전성 산질화물막의 제작 방법 |
JP2010141287A (ja) * | 2008-12-11 | 2010-06-24 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 薄膜素子の製造方法 |
US7872320B2 (en) | 2007-11-07 | 2011-01-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Micro-electro-mechanical device and method of manufacturing the same |
WO2011122345A1 (ja) * | 2010-03-29 | 2011-10-06 | シャープ株式会社 | 圧力検出装置およびその製造方法、表示装置およびその製造方法、ならびに圧力検出装置付きtft基板 |
US8730186B2 (en) | 2009-05-28 | 2014-05-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Touch panel |
JP2019155544A (ja) * | 2018-03-14 | 2019-09-19 | 株式会社東芝 | Mems素子及びその製造方法 |
KR20230044379A (ko) * | 2019-12-27 | 2023-04-04 | 웨이브로드 주식회사 | 반도체 발광소자를 제조하는 방법 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5084175B2 (ja) * | 2005-05-31 | 2012-11-28 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 微小構造体、およびその作製方法 |
JP4995503B2 (ja) * | 2005-07-15 | 2012-08-08 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 微小電気機械式装置の作製方法 |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61212052A (ja) * | 1985-03-18 | 1986-09-20 | Nissan Motor Co Ltd | 梁構造体を有する半導体装置 |
US5417111A (en) * | 1990-08-17 | 1995-05-23 | Analog Devices, Inc. | Monolithic chip containing integrated circuitry and suspended microstructure |
JPH07321339A (ja) * | 1993-06-25 | 1995-12-08 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置及びその作製方法 |
JPH097946A (ja) * | 1995-06-26 | 1997-01-10 | Toyota Motor Corp | 多結晶シリコン膜の製造方法 |
JPH09129896A (ja) * | 1995-09-05 | 1997-05-16 | Motorola Inc | 表面微細加工構造を集積化したモノリシック半導体素子の製造方法 |
JPH1056186A (ja) * | 1996-08-12 | 1998-02-24 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 多結晶シリコン薄膜の製造方法および多結晶シリコン薄膜構造体素子 |
US5798283A (en) * | 1995-09-06 | 1998-08-25 | Sandia Corporation | Method for integrating microelectromechanical devices with electronic circuitry |
US5808331A (en) * | 1995-09-05 | 1998-09-15 | Motorola, Inc. | Monolithic semiconductor device having a microstructure and a transistor |
JP2000036599A (ja) * | 1998-07-16 | 2000-02-02 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体素子からなる半導体回路を備えた半導体装置およびその作製方法 |
JP2002270462A (ja) * | 2000-11-18 | 2002-09-20 | Renkai Kagi Yugenkoshi | マイクロ機電技術を応用して製作された高周波通信用集積受動素子とその設計方法 |
JP2002301695A (ja) * | 2000-12-23 | 2002-10-15 | Robert Bosch Gmbh | 精密機械的な構造要素、及びその製造方法 |
US6531331B1 (en) * | 2002-07-16 | 2003-03-11 | Sandia Corporation | Monolithic integration of a MOSFET with a MEMS device |
JP2004001201A (ja) * | 2002-04-23 | 2004-01-08 | Sharp Corp | 薄膜状の結晶化処理された機械的装置及びその方法並びにその製造システム |
JP2004304189A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Robert Bosch Gmbh | 積層パッケージングを使用して包囲されたセンサ構造体を保護する方法 |
JP2007021713A (ja) * | 2005-06-17 | 2007-02-01 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置、およびその作製方法 |
-
2006
- 2006-05-23 JP JP2006142874A patent/JP4519804B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61212052A (ja) * | 1985-03-18 | 1986-09-20 | Nissan Motor Co Ltd | 梁構造体を有する半導体装置 |
US5417111A (en) * | 1990-08-17 | 1995-05-23 | Analog Devices, Inc. | Monolithic chip containing integrated circuitry and suspended microstructure |
JPH07321339A (ja) * | 1993-06-25 | 1995-12-08 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置及びその作製方法 |
JPH097946A (ja) * | 1995-06-26 | 1997-01-10 | Toyota Motor Corp | 多結晶シリコン膜の製造方法 |
JPH09129896A (ja) * | 1995-09-05 | 1997-05-16 | Motorola Inc | 表面微細加工構造を集積化したモノリシック半導体素子の製造方法 |
US5808331A (en) * | 1995-09-05 | 1998-09-15 | Motorola, Inc. | Monolithic semiconductor device having a microstructure and a transistor |
US5798283A (en) * | 1995-09-06 | 1998-08-25 | Sandia Corporation | Method for integrating microelectromechanical devices with electronic circuitry |
JPH1056186A (ja) * | 1996-08-12 | 1998-02-24 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 多結晶シリコン薄膜の製造方法および多結晶シリコン薄膜構造体素子 |
JP2000036599A (ja) * | 1998-07-16 | 2000-02-02 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体素子からなる半導体回路を備えた半導体装置およびその作製方法 |
JP2002270462A (ja) * | 2000-11-18 | 2002-09-20 | Renkai Kagi Yugenkoshi | マイクロ機電技術を応用して製作された高周波通信用集積受動素子とその設計方法 |
JP2002301695A (ja) * | 2000-12-23 | 2002-10-15 | Robert Bosch Gmbh | 精密機械的な構造要素、及びその製造方法 |
JP2004001201A (ja) * | 2002-04-23 | 2004-01-08 | Sharp Corp | 薄膜状の結晶化処理された機械的装置及びその方法並びにその製造システム |
US6531331B1 (en) * | 2002-07-16 | 2003-03-11 | Sandia Corporation | Monolithic integration of a MOSFET with a MEMS device |
JP2004304189A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Robert Bosch Gmbh | 積層パッケージングを使用して包囲されたセンサ構造体を保護する方法 |
JP2007021713A (ja) * | 2005-06-17 | 2007-02-01 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置、およびその作製方法 |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007069341A (ja) * | 2005-08-10 | 2007-03-22 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 微小電気機械式装置の作製方法 |
US7872320B2 (en) | 2007-11-07 | 2011-01-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Micro-electro-mechanical device and method of manufacturing the same |
US8168461B2 (en) | 2007-11-07 | 2012-05-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Micro-electro-mechanical device and method of manufacturing the same |
JP2009137004A (ja) * | 2007-11-13 | 2009-06-25 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 微小電気機械式装置及びその作製方法 |
KR100911166B1 (ko) * | 2007-12-26 | 2009-08-06 | 한국철도기술연구원 | 철도차량 조향성능 시험을 위한 축소 곡선트랙 시험장치 |
JP2009211056A (ja) * | 2008-02-06 | 2009-09-17 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置及びその作製方法 |
KR20100048915A (ko) * | 2008-10-31 | 2010-05-11 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 도전성 산질화물 및 도전성 산질화물막의 제작 방법 |
KR101603303B1 (ko) | 2008-10-31 | 2016-03-14 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 도전성 산질화물 및 도전성 산질화물막의 제작 방법 |
JP2010141287A (ja) * | 2008-12-11 | 2010-06-24 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 薄膜素子の製造方法 |
US8730186B2 (en) | 2009-05-28 | 2014-05-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Touch panel |
US9207798B2 (en) | 2009-05-28 | 2015-12-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Touch panel |
WO2011122345A1 (ja) * | 2010-03-29 | 2011-10-06 | シャープ株式会社 | 圧力検出装置およびその製造方法、表示装置およびその製造方法、ならびに圧力検出装置付きtft基板 |
JP2019155544A (ja) * | 2018-03-14 | 2019-09-19 | 株式会社東芝 | Mems素子及びその製造方法 |
KR20230044379A (ko) * | 2019-12-27 | 2023-04-04 | 웨이브로드 주식회사 | 반도체 발광소자를 제조하는 방법 |
KR102570676B1 (ko) * | 2019-12-27 | 2023-08-25 | 웨이브로드 주식회사 | 반도체 발광소자를 제조하는 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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