JP2006308723A - Concealed pattern by optical diffraction structure - Google Patents

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Shinichiro Suzuki
慎一郎 鈴木
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a concealed pattern by an optical diffraction structure, in which the sequence of fine characters by gratings is further processed finely and the characters are made hard to discriminate. <P>SOLUTION: A plurality of pattern groups composed of optical diffraction structures are provided, wherein each pattern group contains a fine pattern, containing at least one of numbers, characters, marks and figures and each fine pattern has at most 100 μm height. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、微細なパターンを有する光回折構造による隠しパターンに関する。   The present invention relates to a hidden pattern by a light diffraction structure having a fine pattern.

近年、カラーコピー機による高額紙幣や商品券の偽造事件が頻発している。
そのために、紙幣,商品券,入場券,ギフト券,手形,小切手,カードなどにはデザインの一部にカラーコピー機のセンサーでは読み取ることができない小さな網点や細線を絵柄の中に組み込み、コピーされたものはその部分が白く抜けるようにしている。
また、印刷物のデザインの一部に光り輝く金属部分を設けることによりコピー品を判別する方法も実施されている。その結果、金属部分はコピー機の入射光を100%反射するために、複写物は、金属部分を黒に再現する。
その他、透明な樹脂で複製した光回折構造体の凹凸面に半透明な金属蒸着処理を行い、印刷物の一部に熱転写し、複写機によるコピーを牽制する技術が開示されている。
In recent years, forgery cases of high-value banknotes and gift certificates using color copiers have frequently occurred.
For this purpose, banknotes, gift certificates, admission tickets, gift certificates, bills, checks, cards, etc. are part of the design with small dots and fine lines that cannot be read by the color copier sensor incorporated in the design. As for what is done, the part is made to come out white.
In addition, a method of discriminating a copy product by providing a brilliant metal part in a part of the design of the printed material is also implemented. As a result, the metal part reflects 100% of the incident light of the copier, so the copy reproduces the metal part in black.
In addition, a technique is disclosed in which a translucent metal deposition process is performed on the uneven surface of a light diffractive structure replicated with a transparent resin, thermally transferred to a part of the printed material, and copying by a copying machine is controlled.

光回折構造体は、高度な製造技術を必要とするために、金券類の偽造防止手段としてしばしば使用される。
しかし、周辺技術の高度化によって、本物に近似の金属蒸着物が出現し、一般の利用者は一見して本物と偽者を区別し難くなってきた。
このような偽造品をチェックするために、光回折構造体の中に判別困難な隠しパターンを組み込んで真偽判別の手段として使用する技術が開示されている(例えば、特許文献1参照)。
前記特許文献1で開示されている技術は、光回折構造の中に目視では判読困難な高さ300ミクロンの文字列を形成し、その部分をルーペ等で拡大して確認することで真正品であると判定するものである。
Optical diffraction structures are often used as a means for preventing counterfeiting of vouchers because they require advanced manufacturing techniques.
However, with the advancement of peripheral technology, metal deposits that are close to the real ones have appeared, and it has become difficult for general users to distinguish real and fake at first glance.
In order to check such a counterfeit product, a technique is disclosed in which a hidden pattern that is difficult to discriminate is incorporated into a light diffraction structure and used as a means for discriminating authenticity (see, for example, Patent Document 1).
The technique disclosed in Patent Document 1 is a genuine product by forming a 300-micron-height character string that is difficult to read visually in an optical diffraction structure and enlarging and confirming that portion with a magnifying glass or the like. It is determined that there is.

実開平9−66号公報Japanese Utility Model Publication No. 9-66

しかし、特許文献1で開示されている技術では、罫線などの一部にマイクロ文字などの隠しパターンが組み込まれており、マイクロ文字が250〜300μmと大きいために、見る角度によって隠しパターンが微かに判別されてしまうという課題があった。
そこで、本発明は、回折格子による微細文字列をさらに微細にし、かつ、その判別を困難にした光回折構造による隠しパターンを提供することを目的とする。
However, in the technique disclosed in Patent Document 1, a hidden pattern such as a micro character is incorporated in a part of a ruled line and the like, and the micro character is as large as 250 to 300 μm. There was a problem of being discriminated.
Accordingly, an object of the present invention is to provide a hidden pattern with an optical diffraction structure in which a fine character string by a diffraction grating is further refined and the discrimination thereof is difficult.

前記課題の目的を達成するために、本発明の光回折構造による隠しパターンの請求項1に記載の発明は、光回折構造で構成される複数のパターン集団において、それぞれのパターン集団は、少なくとも、数字,文字,記号及び図柄の何れか一つを含む微細パターンを含み、前記微細パターンは、それぞれの高さが100μm以下であることを特徴とするものである。   In order to achieve the object of the present invention, the invention according to claim 1 of the hidden pattern by the light diffraction structure of the present invention is characterized in that in each of the plurality of pattern groups composed of the light diffraction structure, each pattern group is at least: It includes a fine pattern including any one of numbers, letters, symbols, and designs, and each of the fine patterns has a height of 100 μm or less.

また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、微細パターンとその周辺部は、ピッチ及び回折角度のいずれかが異なるか、何れか一方に回折格子が形成されていないことを特徴とするものである。   The invention according to claim 2 is the invention according to claim 1, wherein either the pitch or the diffraction angle is different between the fine pattern and its peripheral part, or a diffraction grating is not formed on either one of them. It is characterized by this.

また、請求項3に記載の発明は、請求項1〜2何れかに記載の発明において、微細パターンの中に単語を構成する文字集団が含まれることを特徴とするものである。   The invention according to claim 3 is the invention according to any one of claims 1 and 2, characterized in that a character group constituting a word is included in the fine pattern.

また、請求項4に記載の発明は、請求項1〜2何れかに記載の発明において、微細パターンの中に数式が含まれることを特徴とするものである。   According to a fourth aspect of the present invention, in the invention according to any one of the first and second aspects, the fine pattern includes a mathematical expression.

また、請求項5に記載の発明は、請求項1〜2何れかに記載の発明において、微細パターンの中にマークを含む図柄集団が含まれることを特徴とするものである。   The invention according to claim 5 is the invention according to any one of claims 1 and 2, characterized in that a pattern group including a mark is included in the fine pattern.

また、請求項6に記載の発明は、請求項3〜5に記載の発明において、文字集団、数式及び図柄集団は複数に分割され、複数のパターンの中に分散されて組み込まれたことを特徴とするものである。   The invention according to claim 6 is the invention according to claims 3 to 5, wherein the character group, the mathematical formula, and the symbol group are divided into a plurality of parts and are dispersed and incorporated in a plurality of patterns. It is what.

1)請求項1に記載のように、光回折構造で構成される複数のパターン集団において、それぞれのパターン集団は、少なくとも、数字,文字,記号及び図柄の何れか一つを含む微細パターンを含み、前記微細パターンは、それぞれの高さが100μm以下であることによって、目視ではその所在を特定することが困難で、したがって、その複製も困難となり偽造対策として有効である。
2)また、請求項2に記載のように、請求項1に記載の発明において、微細パターンとその周辺部は、ピッチ及び回折角度の、少なくともいずれかが異なるか、何れか一方に回折格子が形成されていないことによって、微細パターンの判別が肉眼では不可能であるが、ルーペ等で拡大して適切な光を当てて視認した場合は、その回折状態の差によって、パターンとして認識できる。
3)請求項3〜5及び6に記載のように、請求項1〜2何れかに記載の発明において、微細パターンの中に文字集団、数式及び図柄集団を含み、文字集団、数式及び図柄集団は複数に分割され、複数のパターンの中に分散されて組み込まれたことによって、個々の分割された文字集団、数式及び図柄集団は判別が困難な上に、微細パターンを高さ100μm以下とすることによって偽造しようとする者は、複数の要素を全て判別し、その全てを偽造することが必要なため、高度な技術と多大な労力を必要とし、偽造に対して極めて大きな牽制効果を発揮する。
1) As described in claim 1, in the plurality of pattern groups constituted by the light diffraction structures, each pattern group includes at least a fine pattern including any one of numbers, letters, symbols and designs. Since the fine pattern has a height of 100 μm or less, it is difficult to specify the location by visual observation, and therefore, it is difficult to duplicate the pattern, which is effective as a countermeasure against forgery.
2) In addition, as described in claim 2, in the invention described in claim 1, the fine pattern and its peripheral part are different in at least one of pitch and diffraction angle, or any one of them has a diffraction grating. Since it is not formed, it is impossible to distinguish a fine pattern with the naked eye. However, when it is magnified with a magnifying glass or the like and viewed with appropriate light, it can be recognized as a pattern due to the difference in diffraction state.
3) As described in any one of claims 3 to 5 and 6, in the invention described in any one of claims 1 and 2, the fine pattern includes a character group, an equation, and a symbol group, and the character group, the equation, and the symbol group. Is divided into a plurality of patterns and dispersed and incorporated into a plurality of patterns, so that it is difficult to distinguish each divided character group, mathematical expression and symbol group, and the fine pattern has a height of 100 μm or less. The person who tries to counterfeit it is necessary to identify all the elements and counterfeit all of them, so it requires advanced technology and a lot of labor, and exerts a very large check effect against counterfeiting .

以下、図面を参照して、本発明の光回折構造による隠しパターンについて説明する。
図1は、本発明の光回折構造による隠しパターンについて説明するための図,図2は、隠しパターンの基本的な考え方について説明するための図,図3は、本発明の隠しパターンについて説明するための図,図4は、隠しパターン各部の回折格子の組み合わせの一例について説明するための図,図5は、微細パターンの一例について説明するための図,図6は、微細パターンの他の一例について説明するための図,である。
Hereinafter, with reference to drawings, the hidden pattern by the light diffraction structure of this invention is demonstrated.
FIG. 1 is a diagram for explaining a hidden pattern by the light diffraction structure of the present invention, FIG. 2 is a diagram for explaining the basic concept of the hidden pattern, and FIG. 3 is a diagram for explaining the hidden pattern of the present invention. FIG. 4 is a diagram for explaining an example of a combination of diffraction gratings in each part of the hidden pattern, FIG. 5 is a diagram for explaining an example of the fine pattern, and FIG. 6 is another example of the fine pattern. It is a figure for demonstrating.

図1を参照して、本発明の光回折構造による隠しパターンについて説明する。
光回折構造による4本の波線で構成されたパターンA11と光回折構造による円形のパターンB12が、パターンA11の中央部で重なった状態で組み合わせパターン1が形成されている。
パターンA11を構成している波線は、最下部が最も太く、上部に行くに従って細くなっている。
パターンA11の最も細い波線111だけが、パターンB12の前面を横切る状態で形成されおり、この部分が組み合わせパターン1の隠しパターンになっている。
パターンA11の最も細い波線111を構成する回折格子は、パターンB12と一体に見えるように角度またはピッチが選択される。
組み合わせパターン1は、極めて薄い樹脂皮膜としてベースフィルム上に形成され、接着剤を伴って印刷物などに熱転写されるか、ベースフィルム上に形成されたまま所定の大きさに打ち抜かれ、ラベルとして印刷物や商品に貼付される。
With reference to FIG. 1, the hidden pattern by the light diffraction structure of this invention is demonstrated.
The combined pattern 1 is formed in a state where a pattern A11 composed of four wavy lines by the light diffractive structure and a circular pattern B12 by the light diffractive structure overlap at the center of the pattern A11.
The wavy lines constituting the pattern A11 are thickest at the bottom and narrower toward the top.
Only the thinnest wavy line 111 of the pattern A11 is formed across the front surface of the pattern B12, and this portion is a hidden pattern of the combination pattern 1.
The diffraction grating constituting the thinnest wavy line 111 of the pattern A11 is selected in angle or pitch so that it can be seen integrally with the pattern B12.
The combination pattern 1 is formed on the base film as an extremely thin resin film, and is thermally transferred to a printed material or the like with an adhesive, or is punched into a predetermined size while being formed on the base film, and is printed as a label. Affixed to the product.

図2を参照して、隠しパターンの基本的な考え方について説明する。
光回折構造による矩形の第二のパターン3の中に、同じく光回折構造による隠しパターンである円形の第一のパターン2が内包される状態で組み込まれる。
図2に示すように、第二のパターン3は、例えば、ドットの回折角度が135度の回折格子31で構成され、第一のパターン2は、例えば、ドットの回折角度が45度の回折格子21で構成される。
逆に、第一のパターン2と第二のパターン3の回折格子の回折角度を同一にして、第一のパターン2のドットのピッチを1μmに,第二のパターン3のドットのピッチを2μmとするなど、異なる設定にすることもできるし、同一に設定することもできる。
The basic concept of the hidden pattern will be described with reference to FIG.
A circular first pattern 2, which is also a hidden pattern by the light diffraction structure, is incorporated in the rectangular second pattern 3 by the light diffraction structure.
As shown in FIG. 2, the second pattern 3 is composed of, for example, a diffraction grating 31 with a dot diffraction angle of 135 degrees, and the first pattern 2 is a diffraction grating with a dot diffraction angle of 45 degrees, for example. 21.
Conversely, the diffraction angles of the diffraction gratings of the first pattern 2 and the second pattern 3 are the same, the dot pitch of the first pattern 2 is 1 μm, and the dot pitch of the second pattern 3 is 2 μm. It is possible to set different settings such as, or to set the same.

図3,図4を参照してパターンAとパターンBによる隠しパターンについて説明する。
図3のb,c図は、a図に示すパターンB12から隠しパターンが形成されているパターンBの一部120を切り取って拡大した図である。
パターンBの一部120の中央部分に、パターンAの最も細い波線111が形成されている。パターンAの最も細い波線111の内側には、最大100μmの高さの微細パターン1112が形成され、波線の内側で微細パターンの周辺部1111も光回折構造になっている。
With reference to FIG. 3 and FIG. 4, the hidden pattern by the pattern A and the pattern B is demonstrated.
FIGS. 3B and 3C are diagrams in which a part 120 of the pattern B on which a hidden pattern is formed is cut out and enlarged from the pattern B12 shown in FIG. 3A.
The thinnest wavy line 111 of the pattern A is formed at the center of the part 120 of the pattern B. A fine pattern 1112 having a maximum height of 100 μm is formed inside the thinnest wavy line 111 of the pattern A, and the peripheral part 1111 of the fine pattern has a light diffraction structure inside the wavy line.

b図を参照して光回折構造による隠しパターンの一例について説明する。
パターンBの一部120として形成された回折格子1201の中に、パターンAの最も細い波線111が形成され、パターンAの最も細い波線111の中に微細パターン1112が組み込まれている。
微細パターン1112は、b図の例では数式になっており、それぞれの数字の高さは100μm以下に調整されている。パターンAの最も細い波線111の内側、及び、微細パターン1112は、光回折構造になっており、パターンBの一部120の内側は、全体が均一な無地の状態に見える。b図に示す例は、図2で説明した回折角度の異なるパターン同士を組み合わせた例である。
微細パターン1112の回折格子は、回折角度が0度で形成され、微細パターンの周辺部1111の回折格子は、回折角度が90度で形成されている。
さらにパターンBの一部120として形成された回折格子は、回折角度が0度で形成されている。
このように、切り取られたパターンBの一部120の内側は、ピッチが同一ピッチの回折格子が、回折角度を変えて形成された状態になっており、さらに、最も細い波線111の内側に形成された微細パターンが100μm以下であるために微細パターンとその周辺部の境界が肉眼では判別できず、同一色に見える状態になっている。
An example of the hidden pattern by the light diffraction structure will be described with reference to FIG.
The thinnest wavy line 111 of the pattern A is formed in the diffraction grating 1201 formed as a part 120 of the pattern B, and the fine pattern 1112 is incorporated in the thinnest wavy line 111 of the pattern A.
The fine pattern 1112 is an equation in the example of FIG. B, and the height of each number is adjusted to 100 μm or less. The inside of the thinnest wavy line 111 of the pattern A and the fine pattern 1112 have a light diffraction structure, and the inside of the part 120 of the pattern B appears to be a uniform solid state as a whole. The example shown in FIG. b is an example in which patterns having different diffraction angles described in FIG. 2 are combined.
The diffraction grating of the fine pattern 1112 is formed with a diffraction angle of 0 degree, and the diffraction grating of the peripheral part 1111 of the fine pattern is formed with a diffraction angle of 90 degrees.
Furthermore, the diffraction grating formed as a part 120 of the pattern B is formed with a diffraction angle of 0 degree.
Thus, the inside of the part 120 of the cut pattern B is in a state where diffraction gratings having the same pitch are formed at different diffraction angles, and further, formed inside the thinnest wavy line 111. Since the formed fine pattern is 100 μm or less, the boundary between the fine pattern and the peripheral portion cannot be discriminated with the naked eye, and the same color is seen.

c図を参照して光回折構造による隠しパターンの他の一例について説明する。
パターンBの一部120として形成された回折格子1202の中に、パターンAの最も細い波線111が形成され、パターンAの最も細い波線111の中に微細パターン1112が組み込まれている。微細パターン1112は、b図の例と同様、数式になっておりそれぞれの数字の高さは100μm以下に調整されている。
c図に示す例は、ピッチの異なる回折格子同士を組み合わせた例である。
微細パターン1112、及び、微細パターンの周辺部1111は回折角度が同一で、いずれも0度で形成されている。
パターンBの一部120として形成された回折格子は、回折角度が135度の角度で形成され、ピッチも微細パターンや微細パターンの周辺部とは異なっている。
このように、切り取られたパターンBの一部120の内側は、同一角度の回折格子がピッチを変えて形成された状態になっている。
従って、c図の例は、パターンBの内側にパターンAの最も細い波線が横切っていることは判別できるが最も細い波線111の内側に形成された微細パターンが100μm以下であるために微細パターンとその周辺部の境界が肉眼では判別できず、波線の内側に微細パターンが形成されていることは判別できない。
c図に示す例では、組み合わせパターンを、パターンAを構成する4本の波線を全てパターンBの前面に置く構成にすることもできる。
Another example of the hidden pattern by the light diffraction structure will be described with reference to FIG.
The thinnest wavy line 111 of the pattern A is formed in the diffraction grating 1202 formed as a part 120 of the pattern B, and the fine pattern 1112 is incorporated in the thinnest wavy line 111 of the pattern A. The fine pattern 1112 is represented by a mathematical formula, as in the example of FIG. B, and the height of each number is adjusted to 100 μm or less.
The example shown in FIG. c is an example in which diffraction gratings having different pitches are combined.
The fine pattern 1112 and the peripheral part 1111 of the fine pattern have the same diffraction angle and are formed at 0 degree.
The diffraction grating formed as a part 120 of the pattern B is formed with a diffraction angle of 135 degrees, and the pitch is also different from the fine pattern and the peripheral part of the fine pattern.
Thus, the inside of the part 120 of the cut pattern B is in a state where diffraction gratings having the same angle are formed at different pitches.
Therefore, in the example of FIG. C, it can be determined that the thinnest wavy line of the pattern A crosses the inside of the pattern B. However, since the fine pattern formed inside the thinnest wavy line 111 is 100 μm or less, The boundary of the peripheral part cannot be discriminated with the naked eye, and it cannot be discriminated that a fine pattern is formed inside the wavy line.
In the example shown in FIG. c, the combination pattern may be configured such that all four wavy lines constituting the pattern A are placed in front of the pattern B.

b,c図において、微細パターンの周辺部を、回折格子を形成しないブランク状態にしても、微細パターンが100μm以下であるために最も細い波線の部分に微細パターンが形成されていることを判別することは難しい。   In FIGS. b and c, even if the peripheral portion of the fine pattern is in a blank state in which no diffraction grating is formed, it is determined that the fine pattern is formed in the thinnest wavy line portion because the fine pattern is 100 μm or less. It ’s difficult.

図5を参照して、微細パターンの一例について説明する。
前述の微細パターンの例は数式であったがそのほかにもd図に示すように番地を示すひらがなの文字列でもよいし、e図に示すような大文字による単語でもよい。
d,e図のような例では、回折格子が使用される前述の紙幣,商品券,入場券,ギフト券などの印刷物に使用されている「漢字」や、「デザイン文字」を引用した表現になっているとより効果的である。
その他に、f図に示すようにアルファベットや数字,記号を組み合わせた数式や、g図に示すような図柄による絵文字であってもよい。
An example of a fine pattern will be described with reference to FIG.
The example of the fine pattern described above is a mathematical expression, but other than that, it may be a hiragana character string indicating an address as shown in FIG. D, or a capital letter as shown in FIG.
In the examples as shown in Fig. d and e, in the expression quoted "Kanji" used in printed matter such as the above-mentioned banknotes, gift certificates, admission tickets, gift certificates etc. that use diffraction grating. It is more effective if it is.
In addition, it may be a mathematical expression combining alphabets, numbers, and symbols as shown in Fig. F, or a pictograph with a design as shown in Fig. G.

図6を参照して、微細パターンの他の一例について説明する。
図6に示す例は、微細パターンで使用する「意味ある文字列」を分解して使用する例である。例えば、h図に示す「安全」を意味する「security」という単語を「sec」と「urity」の2つに分解し、i図に示すように「abcd」+[sec]の集団と、j図に示すように「efg」+[urity]の集団に分けて並べることによってさらに判別を難しくすることもできる。この文字列は,100μm以下と非常に微細なため、製造者と関係者以外はその存在自体が判らない。
このような「意味ある文字列」が複数配置された場合は、一部関係者を含む製造者以外は組み込まれた文字列をすべて特定し、判別することは極めて困難で、偽造しようとする者に対する抑止効果は絶大である。
仮に偽造されたとしても、偽造品を容易に特定することができる。
With reference to FIG. 6, another example of the fine pattern will be described.
The example shown in FIG. 6 is an example in which a “meaningful character string” used in a fine pattern is disassembled and used. For example, the word “security” meaning “safety” shown in FIG. H is broken down into two, “sec” and “urity”, and a group of “abcd” + [sec] as shown in FIG. As shown in the figure, it is possible to make discrimination more difficult by arranging them in a group of “efg” + [urity]. Since this character string is very fine, 100 μm or less, its existence itself cannot be understood except by the manufacturer and the related parties.
If there are multiple such “significant character strings”, it is extremely difficult to identify and discriminate all of the embedded character strings except for manufacturers including some related parties. The deterrent effect against is tremendous.
Even if the product is counterfeited, the counterfeit product can be easily identified.

(実施例)
薄く金属を蒸着したガラス板に直径1μmの電子ビームを照射してピッチ1μmで、4μm×8μmのドットにより回折構造を形成した。
パターンA,パターンB、及び、90μmの文字高さで微細パターンのマスクを作製し、それぞれ所定の位置に、微細パターンとパターンBは0度の回折角度で、パターンAの最も細い波線の内側で微細パターンの周辺部は90度の回折角度でパターンを形成した。
隠しパターンである微細パターンは目視で確認することはできなかった。
(Example)
A thin metal-deposited glass plate was irradiated with an electron beam having a diameter of 1 μm to form a diffractive structure with 4 μm × 8 μm dots at a pitch of 1 μm.
Pattern A, pattern B, and a fine pattern mask with a character height of 90 μm are prepared, and at a predetermined position, the fine pattern and pattern B are at a diffraction angle of 0 degrees, inside the thinnest wavy line of pattern A. A pattern was formed at the diffraction angle of 90 degrees around the fine pattern.
A fine pattern which is a hidden pattern could not be visually confirmed.

衣類、アクセサリ、鞄などの高額商品の証明書、保証書などに貼付して利用される。   Used by attaching to certificates, warranty cards, etc. of expensive products such as clothing, accessories and bags.

本発明の光回折構造による隠しパターンについて説明するための図である。It is a figure for demonstrating the hidden pattern by the light diffraction structure of this invention. 隠しパターンの基本的な考え方について説明するための図である。It is a figure for demonstrating the basic idea of a hidden pattern. 本発明の隠しパターンについて説明するための図である。It is a figure for demonstrating the hidden pattern of this invention. 隠しパターン各部の回折格子の組み合わせの一例について説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of the combination of the diffraction grating of each part of a hidden pattern. 微細パターンの一例について説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of a fine pattern. 微細パターンの他の一例について説明するための図である。It is a figure for demonstrating other examples of a fine pattern.

符号の説明Explanation of symbols

1 組み合わせパターン
2 第一のパターン
3 第二のパターン
11 パターンA
12 パターンB
21,31 回折格子
111 パターンAの最も細い波線
120 パターンBの一部
1111 微細パターンの周辺部
1112 微細パターン
1201,1202 パターンBの一部120として形成された回折格子
1 Combination Pattern 2 First Pattern 3 Second Pattern 11 Pattern A
12 Pattern B
21, 31 Diffraction grating 111 Thinnest wavy line of pattern A 120 Part of pattern B 1111 Peripheral part of fine pattern 1112 Fine pattern 1201, 1202 Diffraction grating formed as part 120 of pattern B

Claims (6)

光回折構造で構成される複数のパターン集団において、
それぞれのパターン集団は、少なくとも、数字,文字,記号及び図柄の何れか一つを含む微細パターンを含み、前記微細パターンは、それぞれの高さが100μm以下であることを特徴とする光回折構造による隠しパターン。
In a plurality of pattern groups composed of light diffraction structures,
Each pattern group includes a fine pattern including at least one of numbers, letters, symbols, and designs, and each of the fine patterns has a height of 100 μm or less. Hidden pattern.
請求項1に記載の光回折構造による隠しパターンにおいて、
微細パターンとその周辺部は、ピッチ及び回折角度の、少なくともいずれかが異なるか、何れか一方に回折格子が形成されていないことを特徴とする光回折構造による隠しパターン。
In the hidden pattern by the light diffraction structure according to claim 1,
A hidden pattern by a light diffraction structure, wherein the fine pattern and its peripheral part are different in at least one of pitch and diffraction angle or a diffraction grating is not formed on either one.
請求項1〜2何れかに記載の光回折構造による隠しパターンにおいて、微細パターンの中に単語を構成する文字集団が含まれることを特徴とする光回折構造による隠しパターン。 The hidden pattern by the light diffraction structure according to claim 1, wherein a character group constituting a word is included in the fine pattern. 請求項1〜2何れかに記載の光回折構造による隠しパターンにおいて、微細パターンの中に数式が含まれることを特徴とする光回折構造による隠しパターン。 The hidden pattern by the light diffraction structure according to claim 1, wherein a mathematical expression is included in the fine pattern. 請求項1〜2何れかに記載の光回折構造による隠しパターンにおいて、微細パターンの中にマークを含む図柄集団が含まれることを特徴とする光回折構造による隠しパターン。 The hidden pattern by the light diffraction structure according to claim 1, wherein a pattern group including a mark is included in the fine pattern. 請求項3〜5に記載の光回折構造による隠しパターンにおいて、
文字集団、数式及び図柄集団は、複数に分割され、複数のパターンの中に分散されて組み込まれたことを特徴とする光回折構造による隠しパターン。
In the hidden pattern by the light diffraction structure according to claim 3,
A hidden pattern by a light diffraction structure, wherein a character group, a mathematical expression, and a symbol group are divided into a plurality of parts and dispersed and incorporated into a plurality of patterns.
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