JP2006091838A - Image recording method - Google Patents

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寛 砂川
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Yoshinori Hotta
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image recording method and a lithographic printing method in which both of high sensitivity and safety under white light are achieved and high picture quality with preferable fine line reproducibility can be obtained. <P>SOLUTION: The image recording method for a lithographic printing plate comprises imagewise exposure of a lithographic printing plate precursor at an imaging time per pixel of ≤1 msec using laser light having the emission wavelength of from 250 nm to 420 nm, wherein the lithographic printing plate precursor has an image recording layer which contains (A) a polymerization initiator and (B) a polymerizable compound and which is photosensitive at a wavelength of from 250 nm to 420 nm, on a supporting body having an anodized film with sealed micropores on the surface. The lithographic printing method uses the above recording method. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、印刷分野における画像記録方法および平版印刷方法に関する。   The present invention relates to an image recording method and a lithographic printing method in the printing field.

近年、平版印刷分野では、リスフィルムを介することなく直接平版印刷版原版に、コンピュータ等のデジタルデータに基づいてレーザー露光して製版するコンピュータ・トゥ・プレート技術が開発され、それに用いる高感度レーザー記録方式の平版印刷版が開発されてきた。   In recent years, in the field of lithographic printing, computer-to-plate technology has been developed in which lithographic printing plate precursors are directly exposed to laser on the basis of digital data such as computers without using a lithographic film. A lithographic printing plate of the type has been developed.

しかしながら、従来の高感度レーザー記録方式平版印刷版は、市場で最も一般的に用いられているAr(488、514.5nm)やFD−YAG(532nm)レーザーインナードラム型プレートセッターで露光するとカブリを生じやすいという問題があった。すなわち、例えば感材としてネガ型の版を使用した場合、版の片側に全面ベタのような画
像を露光すると、その反対側(光源に対して反対側を180°とすると140〜220°程度)に、薄く現像不良ぎみのカブリが生じたり、網点が太ったりする不具合が生じるという問題があり、改良が望まれていた。
However, the conventional high-sensitivity laser recording lithographic printing plate is fogged when exposed to the most commonly used Ar (488, 514.5 nm) or FD-YAG (532 nm) laser inner drum plate setter on the market. There was a problem that it was likely to occur. That is, for example, when a negative type plate is used as a light-sensitive material, when a solid image is exposed on one side of the plate, the opposite side (about 140 to 220 ° when the opposite side is 180 ° with respect to the light source) In addition, there is a problem in that fogging of thinly developed defects and thick halftone dots occur, and improvement has been desired.

また、ArレーザーやFD−YAGレーザー対応の従来のレーザー製版用途の高感度印刷版は、段ボール包装から版を取り出したり、プレートセッターのカセットに装填したり、時には手動でプレートセッターに版を挿入する事があり、その場合すべて暗い赤灯下で作業しなければならず作業性が著しく悪かった。それに比べ通常のジアゾ型印刷版は、黄灯下またはUVカット白色灯下で取り扱え作業性が良く、高感度レーザー記録平版印刷版に対しセーフライト適性の向上は作業性の観点より市場からの大きな要求であった。   In addition, high-sensitivity printing plates for conventional laser plate making compatible with Ar laser and FD-YAG laser can be removed from cardboard packaging, loaded into plate setter cassettes, and sometimes manually inserted into plate setters. In that case, it was necessary to work under a dark red light. In contrast, ordinary diazo printing plates can be handled easily under yellow light or under UV-cut white light, and the safety light suitability for high-sensitivity laser recording lithographic printing plates is greatly improved from the market in terms of workability. It was a request.

これに対して、特許文献1には、少なくとも順次(A)アルミニウム支持体、(B)レーザー感光性記録層からなる平版印刷版を、紫外から可視光領域(360〜450nm)の半導体レーザー光を用いたインナードラム型のプレートセッターで露光することを特徴とする平版印刷版の製版方法が記載されている。また、この製版方法によれば、黄灯下での取り扱いが可能であり、インナードラム型プレートセッターによる露光においても、カブリが発生しないことが記載されている。   On the other hand, in Patent Document 1, a lithographic printing plate comprising at least (A) an aluminum support and (B) a laser-sensitive recording layer is sequentially applied to a semiconductor laser beam in the ultraviolet to visible light region (360 to 450 nm). A plate making method of a lithographic printing plate is described, wherein exposure is performed with the used inner drum type plate setter. Further, it is described that according to this plate making method, it is possible to handle under a yellow light, and fog does not occur even in exposure with an inner drum type plate setter.

一方、従来の平版印刷版原版の製版工程においては、露光の後、画像記録層の不要部分を現像液等によって溶解除去する工程が必要であるが、近年、このような付加的に行われる湿式処理を不要化または簡易化することが課題の一つに挙げられている。
これに応える簡易な製版方法の一つとして、例えば、印刷インキおよび/または湿し水に溶解または分散できる画像記録層を有する平版印刷版原版を用いて、印刷機に装着された露光済みの版に印刷インキおよび/または湿し水を供給して画像記録層の未露光部を除去し平版印刷版を得る機上現像と呼ばれる方法が提案されている。
On the other hand, in the plate making process of the conventional lithographic printing plate precursor, a step of dissolving and removing unnecessary portions of the image recording layer with a developer or the like is necessary after exposure. In recent years, such additional wet processing is performed. One of the problems is to make the processing unnecessary or simplified.
As one of the simple plate making methods that respond to this, for example, an exposed plate mounted on a printing machine using a lithographic printing plate precursor having an image recording layer that can be dissolved or dispersed in printing ink and / or fountain solution A method called on-press development has been proposed in which printing ink and / or dampening water is supplied to remove unexposed portions of the image recording layer to obtain a lithographic printing plate.

しかしながら、このような現像液による現像処理が不要な無処理刷版に紫外から可視領域の光を利用する画像記録方式を用いた場合は、画像記録層が定着せず、露光後も室内光に対して感光性を有するため、平版印刷版原版を包装から出した後、機上現像が完了するまでの間、完全に遮光状態にするか、セーフライトの環境下での取り扱いが必要であった。そうでない場合、例えば露光後、自灯下で取り扱うと、画像記録層の不要部分がかぶりを生じて残膜してしまうため、印刷汚れの原因となる。従って、従来はセーフライトを必要としない印刷機作業までセーフライトの環境下にする必要があり、色調整などの印刷作業に支障があった。そのため、白灯下で作業できる無処理刷版システムが要望されている。
特開2000−35673号公報
However, when an image recording method using light in the ultraviolet to visible region is used for an unprocessed printing plate that does not require development processing with such a developer, the image recording layer is not fixed, and is exposed to room light after exposure. Because it has photosensitivity, it must be completely shielded from light after the lithographic printing plate precursor is taken out of the package until development on the machine is completed, or it must be handled in a safelight environment. . In other cases, for example, if the film is handled under self-lighting after exposure, unnecessary portions of the image recording layer may be fogged and remain, which may cause printing stains. Therefore, conventionally, it has been necessary to make the environment of a safe light up to a printing press work that does not require a safe light, and there has been a problem in printing work such as color adjustment. Therefore, there is a demand for an unprocessed printing plate system that can work under white light.
JP 2000-35673 A

本発明は、上記要望に応えるものである。すなわち、本発明の目的は、高感度と白灯安全性が両立し、良好な細線再現性を有する高画質が得られる画像記録方法および平版印刷方法を提供することにある。   The present invention meets the above needs. That is, an object of the present invention is to provide an image recording method and a lithographic printing method that achieve both high sensitivity and white light safety and can obtain high image quality with good fine line reproducibility.

1.マイクロポアが封孔された陽極酸化皮膜を表面とする支持体上に、(A)重合開始剤および(B)重合性化合物を含有含有し、波長250nm〜420nmの範囲に感光性がある画像記録層を有する平版印刷版原版を250nm〜420nmの範囲に発振波長を有するレーザー光を用いて、1画素描画時間が1ミリ秒以下で画像様に露光する平版印刷版の画像記録方法。   1. An image recording containing (A) a polymerization initiator and (B) a polymerizable compound on a support having an anodized film with micropores sealed on the surface, and having photosensitivity in the wavelength range of 250 nm to 420 nm. An image recording method for a lithographic printing plate, wherein a lithographic printing plate precursor having a layer is exposed imagewise using a laser beam having an oscillation wavelength in the range of 250 nm to 420 nm for 1 pixel drawing time of 1 millisecond or less.

2.上記レーザー光波長が405nm、375nm、365nm、355nmおよび266nmから選ばれるいずれかの波長であることを特徴とする前記1記載の画像記録方法。   2. 2. The image recording method as described in 1 above, wherein the laser light wavelength is any one selected from 405 nm, 375 nm, 365 nm, 355 nm and 266 nm.

3.DMDまたはGLV変調素子と波長405nmまたは375nm半導体レーザーとからなる光学系を用いて露光することを特徴とする前記1記載の画像記録方法。   3. 2. The image recording method according to 1 above, wherein the exposure is performed using an optical system comprising a DMD or GLV modulation element and a semiconductor laser having a wavelength of 405 nm or 375 nm.

4.レーザー光波長が365nm、355nmおよび266nmから選ばれるいずれかの波長であり、インナードラム方式で露光することを特徴とする前記1記載の画像記録方法。   4). 2. The image recording method according to 1 above, wherein the laser light wavelength is any one selected from 365 nm, 355 nm, and 266 nm, and exposure is performed by an inner drum system.

5.画像記録層が更に(C)バインダーポリマーを含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の画像記録方法。   5. The image recording method according to any one of claims 1 to 4, wherein the image recording layer further contains (C) a binder polymer.

6.前記1〜5のいずれかに記載の画像記録方法によって得られた露光済み平版印刷版原版に、印刷インキおよび/または湿し水を供給して行う機上現像を施したのち、印刷することを含む平版印刷方法。   6). Printing on the exposed lithographic printing plate precursor obtained by the image recording method according to any one of 1 to 5 above after performing on-press development by supplying printing ink and / or dampening water. Including lithographic printing methods.

7.支持体上に、(A)重合開始剤および(B)重合性化合物を含有し、波長250nm〜420nmの範囲に感光性がある画像記録層を有する平版印刷版原版を、波長250nm〜420nmの範囲の光を放射するレーザー光を用いて、1画素描画時間が1ミリ秒以下で露光し、現像液で現像することを含む平版印刷版の製版方法。   7). A lithographic printing plate precursor having an image recording layer containing (A) a polymerization initiator and (B) a polymerizable compound and having a photosensitivity in a wavelength range of 250 nm to 420 nm on a support, in a wavelength range of 250 nm to 420 nm. A method for making a lithographic printing plate, comprising exposing a pixel drawing time of 1 millisecond or less using a laser beam that emits the light and developing with a developer.

8.支持体が、マイクロポアが封孔された陽極酸化皮膜を表面とすることを特徴とする前記7記載の平版印刷版の製版方法。   8). 8. The plate making method of a lithographic printing plate as described in 7 above, wherein the support has an anodized film having micropores sealed on its surface.

9.現像液が、pH10以下の非アルカリ現像液であることを特徴とする前記7又は8記載の平版印刷版の製版方法。   9. 9. The plate making method of a lithographic printing plate as described in 7 or 8 above, wherein the developer is a non-alkaline developer having a pH of 10 or less.

10.画像記録層が更に(C)バインダーポリマーを含有することを特徴とする前記7〜9のいずれかに記載の平版印刷版の製版方法。   10. The plate making method of a lithographic printing plate as described in any one of 7 to 9 above, wherein the image recording layer further contains (C) a binder polymer.

11.(C)バインダーポリマーが酸基を含有しないことを特徴とする前記10に記載の平版印刷版の製版方法。   11. (C) The plate making method of a lithographic printing plate as described in 10 above, wherein the binder polymer does not contain an acid group.

本発明の作用機構は明確ではないが、次のように推定される。すなわち、従来画像記録に用いられる光源は、Ar(488、514.5nm)やFD−YAG(532nm)レーザー、メタルハライドランプなどで、300〜500nmの範囲の光で画像様露光するため、平版印刷版原版はその範囲に感光性を有しており、可視領域に主な発光帯を有する室内光との重なりが大きく、また、光照射強度が低照度から中照度と、室内光と同程度の光強度で露光するため、同様に反応してしまい、室内光に対する不要な画像形成が問題となっていた。   Although the mechanism of action of the present invention is not clear, it is estimated as follows. That is, the light source conventionally used for image recording is Ar (488, 514.5 nm), FD-YAG (532 nm) laser, metal halide lamp, etc., and imagewise exposure is performed with light in the range of 300 to 500 nm. The original plate has photosensitivity in that range, and there is a large overlap with room light that has a main light emission band in the visible region, and the light irradiation intensity is low to medium illuminance, which is comparable to room light. Since exposure is performed with high intensity, the reaction occurs in the same manner, and unnecessary image formation with respect to room light has been a problem.

これに対し、感光波長の吸収極大を短波長側へシフトさせることにより、室内光に用いられる白色蛍光灯の発光スペクトルとの重なりが小さくなり、記録材料の画像形成感度が十分高い場合でも、白色蛍光灯の照射によって画像形成しないことが可能となる(図1および図2)。すなわち、波長領域を250nm〜420nmにすることにより、室内光との重なりを最小限に抑えることができ、室内光の照射による不要な画像形成を抑制することが可能となる。   On the other hand, by shifting the absorption maximum of the photosensitive wavelength to the short wavelength side, the overlap with the emission spectrum of the white fluorescent lamp used for room light is reduced, and even when the image forming sensitivity of the recording material is sufficiently high, It is possible to prevent image formation by irradiation with a fluorescent lamp (FIGS. 1 and 2). That is, by setting the wavelength region to 250 nm to 420 nm, it is possible to minimize the overlap with room light, and it is possible to suppress unnecessary image formation due to room light irradiation.

また、ラジカル重合型版材を露光記録する場合、膜形成に必要となる光パワーは膜内に流入する酸素量の速度によって大きく変わる。これを現象論的に表現すると、以下のようになる。
一般に、発生するラジカル量Nは照射する露光エネルギーJに比例する。
J=c1・N (c1は比例定数)
照射光により発生したラジカルは膜内に流入する酸素によって捕捉される。この捕捉量Noは、単位時間当たりの流入酸素量qと露光開始からの経過時間tに比例する。
No=c2・q・t (c2は比例定数)
これから、ラジカルが発生しても重合に関与しない露光エネルギーJoは次のように表
される。
Jo=c1・c2・q・t
従って、画像形成に必要な露光エネルギーJは、Joよりも高い照射エネルギーが必要
となる。
In addition, when performing exposure recording on a radical polymerization type plate material, the optical power required for film formation varies greatly depending on the rate of the amount of oxygen flowing into the film. This can be expressed phenomenologically as follows.
In general, the amount of radicals N generated is proportional to the exposure energy J to be irradiated.
J = c1 · N (c1 is a proportional constant)
Radicals generated by irradiation light are captured by oxygen flowing into the film. This trapped amount No is proportional to the inflowing oxygen amount q per unit time and the elapsed time t from the start of exposure.
No = c2, q, t (c2 is a proportional constant)
From this, the exposure energy Jo which does not participate in the polymerization even if radicals are generated is expressed as follows.
Jo = c1, c2, q, t
Therefore, the exposure energy J required for image formation requires an irradiation energy higher than Jo.

一方、短時間露光した場合に生じたラジカル量が、流入する酸素量よりも大量にあれば重合が短時間で完了しやすくなるため、流入する酸素量に無関係に照射エネルギーJthは決まることとなる。
この関係を、横軸を照射にかける時間t(sec)、縦軸を照射エネルギーJとして模式的に表すと図3ような関係となる。従って、従来のような分オーダーでの面露光の場合には、高い照射エネルギーが必要である。これに対し、Jthの時間領域で照射できれば低い照射エネルギーで画像形成することが可能となる。
本発明では、ラジカル重合型版材料に対して、照射時間領域が1ミリ秒(msec)以下で、かつ、ラジカル発生量が十分大きく、重合速度が大きくなる露光条件(例えば、高出力UVレーザーによる高照度露光)または材料とを組み合わせた場合に、上記Jthとなる領域があることを見出した。
従って、版に画像形成する上で1画素の照射時間を1ミリ秒以下にすることで、所望の画像形成にかける照射エネルギーを低減することが可能となり、しかも数分以上低照度で照明される明室(白灯下)でのかぶりも高い照射エネルギーがないと生じないため、良好な白灯安全性が得られる。
さらに、マイクロポアが封孔された陽極酸化皮膜を表面とする支持体を用いることにより、マイクロポア中に画像記録層成分が入り込むことが防止され、機上現像性が向上するので、白灯安全性が一層向上すると推定される。
On the other hand, if the amount of radicals generated after exposure for a short time is larger than the amount of oxygen flowing in, the polymerization is easily completed in a short time, and the irradiation energy Jth is determined regardless of the amount of oxygen flowing in. .
When this relationship is schematically represented by the time t (sec) to be irradiated on the horizontal axis and the irradiation energy J on the vertical axis, the relationship is as shown in FIG. Therefore, in the case of surface exposure in the order of minutes as in the prior art, high irradiation energy is required. On the other hand, if irradiation can be performed in the Jth time region, an image can be formed with low irradiation energy.
In the present invention, an exposure condition (for example, by a high-power UV laser) in which an irradiation time region is 1 millisecond (msec) or less, a radical generation amount is sufficiently large, and a polymerization rate is increased with respect to a radical polymerization type plate material. It has been found that there is a region that becomes the above-mentioned Jth when high illumination exposure) or a material is combined.
Therefore, by setting the irradiation time of one pixel to 1 millisecond or less when forming an image on a plate, it is possible to reduce the irradiation energy applied to the desired image formation, and the illumination is performed at a low illuminance for several minutes or more. Since the fog in a bright room (under white light) does not occur without high irradiation energy, good white light safety can be obtained.
Furthermore, by using a support having an anodized film with micropores sealed on the surface, the components of the image recording layer are prevented from entering the micropores, and the on-machine developability is improved. It is estimated that the performance is further improved.

本発明によれば、高感度と白灯安全性が両立し、良好な細線再現性を有する高画質が得られる画像記録方法および平版印刷方法を提供できる。   According to the present invention, it is possible to provide an image recording method and a lithographic printing method in which high sensitivity and white light safety are compatible, and high image quality with good fine line reproducibility can be obtained.

以下に、本発明の画像記録方法に関わる露光方法、平版印刷方法およびそれらに用いる平版印刷版原版について順次詳細に説明する。   Hereinafter, the exposure method, the lithographic printing method, and the lithographic printing plate precursor used for the image recording method of the present invention will be sequentially described in detail.

〔露光方法〕
本発明による平版印刷版原版の走査露光方法は、公知の方法を制限なく用いることができる。本発明で用いる光源の波長は250nm〜420nmであり、具体的には、ガスレーザーとして、Arイオンレーザー(364nm、351nm、10mW〜1W)、Krイオンレーザー(356nm、351nm、10mW〜1W)、He−Cdレーザー(325nm、1mW〜100mW)、固体レーザーとして、YAG、YVO4などの1064nm発振モードロック固体レーザーの4倍波(266nm、20〜100mW)、単一周波数発振半導体レーザー(DBR型半導体レーザー:波長800〜840nm)の2倍波(400〜420nm、5〜30mW)、導波型波長変換素子とAlGaAs、InGaAs半導体の組み合わせ(380nm〜400nm、5mW〜100mW)、導波型波長変換素子とAlGaInP、AlGaAs半導体の組み合わせ(300nm〜350nm、5mW〜100mW)、AlGaInN(350nm〜470nm、5mW〜200mW)、その他、パルスレーザーとしてN2レーザー(337nm、パルス0.1〜10mJ)、XeF(351nm、パルス10〜250mJ)、YAG、YVO4などの1064nm発振モードロック固体レーザーの3倍波(355nm、1〜4W)、などを挙げることができる。
[Exposure method]
As the scanning exposure method for the lithographic printing plate precursor according to the present invention, a known method can be used without limitation. The wavelength of the light source used in the present invention is 250 nm to 420 nm. Specifically, as a gas laser, Ar ion laser (364 nm, 351 nm, 10 mW to 1 W), Kr ion laser (356 nm, 351 nm, 10 mW to 1 W), He -Cd laser (325 nm, 1 mW to 100 mW), solid laser, 1064 nm oscillation mode-locked solid laser such as YAG, YVO 4, etc. (266 nm, 20 to 100 mW), single frequency oscillation semiconductor laser (DBR type semiconductor laser) : Wavelength 800 to 840 nm) double wave (400 to 420 nm, 5 to 30 mW), combination of waveguide wavelength conversion element and AlGaAs, InGaAs semiconductor (380 nm to 400 nm, 5 mW to 100 mW), waveguide wavelength conversion element AlGaInP, Al aAs semiconductor combinations (300nm~350nm, 5mW~100mW), AlGaInN ( 350nm~470nm, 5mW~200mW), other, N 2 laser as a pulse laser (337 nm, pulse 0.1~10mJ), XeF (351nm, pulse 10 ˜250 mJ), a third harmonic (355 nm, 1-4 W) of a 1064 nm oscillation mode-locked solid-state laser such as YAG, YVO 4 , and the like.

特に、この中で好適なレーザーは、重合速度を高速化できる高照度短時間露光が可能な観点および、コスト面で、AlGaInN半導体レーザー(市販InGaN系半導体レーザー375nmまたは405nm、5〜100mW)、生産性の面で高出力な355nmレーザー、波長適性の面で、最も白色蛍光灯の発光スペクトル重なりが小さく、高感度化可能な266nmレーザーである。   In particular, a suitable laser among these is an AlGaInN semiconductor laser (commercially available InGaN-based semiconductor laser 375 nm or 405 nm, 5 to 100 mW), in terms of cost and high light intensity capable of increasing the polymerization rate and production. This is a 355 nm laser with high output in terms of the characteristics, and a 266 nm laser that has the smallest emission spectrum overlap of the white fluorescent lamp in terms of wavelength suitability and can be highly sensitive.

また走査露光方式の平版印刷版露光装置としては、露光機構としてインナードラム(内面ドラム)方式、アウタードラム(外面ドラム方式)、フラットベッド方式があり、品質、コスト面からはインナードラム方式が好適であり、生産性の面からは外面ドラム方式が好適である。   In addition, the scanning exposure type lithographic printing plate exposure apparatus includes an inner drum (inner surface drum) method, an outer drum (outer surface drum method), and a flat bed method as the exposure mechanism, and the inner drum method is preferable in terms of quality and cost. In view of productivity, the external drum system is preferable.

図4に、本発明の一実施態様である円筒内面走査型光ビーム走査装置を示す概念図を示す。この図において1は光ビーム出力手段としてのUVレーザーである。   FIG. 4 is a conceptual diagram showing a cylindrical inner surface scanning type light beam scanning apparatus according to an embodiment of the present invention. In this figure, reference numeral 1 denotes a UV laser as a light beam output means.

UVレーザービームLoは、電気光学変調素子2により、画像信号に応じて強度変調さ
れ、さらにビームエキスパンダを構成するレンズL1およびL2においてビーム径の拡大・変更が行われる。このビームL0は、ハーフミラー3、ミラー4によりドラム(円筒)Dの中心軸に沿ってドラムD内に導かれる。ドラムDの中心軸上には、走査光学系を形成する集光レンズL3およびスピナーSPが設けられている。
The UV laser beam Lo is intensity-modulated by the electro-optic modulation element 2 in accordance with the image signal, and the beam diameter is enlarged and changed in the lenses L1 and L2 constituting the beam expander. The beam L 0 is guided into the drum D along the central axis of the drum (cylinder) D by the half mirror 3 and the mirror 4. On the central axis of the drum D, a condenser lens L3 and a spinner SP that form a scanning optical system are provided.

このスピナーSPは中心軸(回転軸)に対して約45°の反射面を持ち、モータにより高速回転される。なおこのモータにはロータリーエンコーダENが取付けられ、スピナーSPの回転角(θ=ωt)が検出される。すなわち所定回転角ごとに出力されるパルス信号pと、1回転の基準位置を示す基準位置信号poとが出力される。このスピナーSPに
導かれるビームは、回転軸上にあるビームエキスパンダEXおよび集光レンズL3を通って、ドラムDの内周面あるいは記録シートSに合焦する。
The spinner SP has a reflection surface of about 45 ° with respect to the central axis (rotation axis) and is rotated at a high speed by a motor. A rotary encoder EN is attached to this motor, and the rotation angle (θ = ωt) of the spinner SP is detected. That is, the pulse signal p output at every predetermined rotation angle and the reference position signal po indicating the reference position of one rotation are output. The beam guided to the spinner SP is focused on the inner peripheral surface of the drum D or the recording sheet S through the beam expander EX and the condenser lens L3 on the rotation axis.

なお変調されたレーザービームの光パワーは、ハーフミラー3で分岐されたレーザー光を光検出器5にて測定することにより、校正することができる。   The optical power of the modulated laser beam can be calibrated by measuring the laser beam branched by the half mirror 3 with the photodetector 5.

画像記録装置では、スピナーにより集光ビームを高速に走査させながら、図示していない移動手段により、集光レンズL3およびスピナーSPをドラムの中心軸に沿って、副走査方向に一定速度で移動させることによって、ドラムDの内周面上に装着された記録媒体が、UVレーザー1から射出される露光光により2次元的に走査露光されて画像データに応じた画像が記録される。   In the image recording apparatus, the condensing lens L3 and the spinner SP are moved at a constant speed in the sub-scanning direction along the central axis of the drum by a moving means (not shown) while the condensing beam is scanned at high speed by the spinner. Thus, the recording medium mounted on the inner peripheral surface of the drum D is two-dimensionally scanned and exposed by the exposure light emitted from the UV laser 1, and an image corresponding to the image data is recorded.

図5は、本発明の画像記録装置の一実施形態であるアウタードラム方式の構成概念図である。ここで、同図(a)および(b)は、それぞれ本実施形態の画像記録装置10の平面図および側面図を示す。画像記録装置10は、照明光源から射出された光を、空間光変調素子アレイにより画像データに応じて変調し、この変調された露光光を用いて、画像データに応じた画像を記録媒体上に記録するものであり、露光ヘッド12と、ドラム14とを備えている。   FIG. 5 is a structural conceptual diagram of an outer drum system which is an embodiment of the image recording apparatus of the present invention. Here, FIGS. 9A and 9B are a plan view and a side view of the image recording apparatus 10 of the present embodiment, respectively. The image recording apparatus 10 modulates the light emitted from the illumination light source by the spatial light modulation element array according to the image data, and uses the modulated exposure light to form an image according to the image data on the recording medium. For recording, an exposure head 12 and a drum 14 are provided.

露光ヘッド12は、画像データに応じて変調された露光光を発生するものであり、照明光源であるブロードエリアアレイレーザダイオード(以下、BALDという)16と、シリンドリカルレンズ18と、コリメートレンズ20と、λ/2板22と、空間光変調素子アレイである強誘電性液晶シャッターアレイ24と、λ/2板26と、検光子28と、変倍結像光学系の2枚のレンズ30,32とを備えている。   The exposure head 12 generates exposure light modulated according to image data, and includes a broad area array laser diode (hereinafter referred to as BALD) 16 that is an illumination light source, a cylindrical lens 18, a collimating lens 20, a λ / 2 plate 22, a ferroelectric liquid crystal shutter array 24, which is a spatial light modulator array, a λ / 2 plate 26, an analyzer 28, and two lenses 30, 32 of a variable magnification imaging optical system, It has.

また、照明光源としては、特開2003−158332で示されているような個別の半導体レーザチップを一列に並べたLDアレイでもよい。レーザアレイ16から射出されたレーザ光は、シリンドリカルレンズ18により、図5(b)中上下方向に収束され、続くコリメートレンズ20により、図5(a)中上下方向に平行光とされ、かつ図5(b)中上下方向に収束されてλ/2板22に入射される。   The illumination light source may be an LD array in which individual semiconductor laser chips are arranged in a line as disclosed in JP-A-2003-158332. The laser light emitted from the laser array 16 is converged in the vertical direction in FIG. 5B by the cylindrical lens 18, and converted into parallel light in the vertical direction in FIG. 5A by the subsequent collimating lens 20. 5 (b) converges in the vertical direction and enters the λ / 2 plate 22.

続いて、レーザ光は、λ/2板22により、その進行方向に対して垂直な方向に光の偏光状態が45゜回転され、続く強誘電性液晶シャッターアレイ24により画像データに応じて変調される。この時、強誘電性液晶シャッターアレイ24を透過したレーザ光は、強誘電性液晶シャッターアレイ24により光の偏光状態が90゜回転され、さらに、λ/2板26により光の偏光状態が45゜回転されて検光子28に入射される。   Subsequently, the polarization state of the laser light is rotated by 45 ° in the direction perpendicular to the traveling direction by the λ / 2 plate 22, and the laser light is modulated by the ferroelectric liquid crystal shutter array 24 in accordance with the image data. The At this time, the polarization state of the laser light transmitted through the ferroelectric liquid crystal shutter array 24 is rotated by 90 ° by the ferroelectric liquid crystal shutter array 24, and further, the polarization state of light by the λ / 2 plate 26 is 45 °. It is rotated and incident on the analyzer 28.

検光子28は、光の偏光状態が所定の角度に回転されたレーザ光のみを通過させ、これ以外のレーザ光を遮断する。検光子28を通過したレーザ光は、変倍結像光学系の2枚のレンズ30,32により、ドラム14上に装着された記録媒体上に所定の倍率で結像される。   The analyzer 28 allows only laser light whose light polarization state has been rotated to a predetermined angle, and blocks other laser light. The laser beam that has passed through the analyzer 28 is imaged at a predetermined magnification on the recording medium mounted on the drum 14 by the two lenses 30 and 32 of the variable magnification imaging optical system.

露光ヘッド12は、記録媒体上への画像の記録時には、画像データに応じて変調された露光光を射出しながら、副走査方向(ドラム14の軸方向)へ所定の一定速度で移動される。   When recording an image on a recording medium, the exposure head 12 is moved at a predetermined constant speed in the sub-scanning direction (the axial direction of the drum 14) while emitting exposure light modulated according to the image data.

ドラム14は、記録媒体の支持台である。記録媒体上への画像の記録時には、記録媒体がドラム14の外周面上に装着され、ドラム14が所定の方向(主走査方向の反対方向)へ所定の一定速度で回転される。   The drum 14 is a support for the recording medium. When an image is recorded on the recording medium, the recording medium is mounted on the outer peripheral surface of the drum 14, and the drum 14 is rotated at a predetermined constant speed in a predetermined direction (opposite to the main scanning direction).

画像記録装置10では、図示していないドラム14の回転手段により、ドラム14を主走査方向の反対方向へ所定の一定速度で回転させながら、同じく図示していない露光ヘッ
ド12の移動手段により、露光ヘッド12を副走査方向に所定の一定速度で移動させることによって、ドラム14の外周面上に装着された記録媒体が、露光ヘッド12から射出される露光光により2次元的に走査露光されて画像データに応じた画像が記録される。
In the image recording apparatus 10, exposure is performed by moving means of the exposure head 12 (not shown) while rotating the drum 14 at a predetermined constant speed in a direction opposite to the main scanning direction by rotating means of the drum 14 (not shown). By moving the head 12 in the sub-scanning direction at a predetermined constant speed, the recording medium mounted on the outer peripheral surface of the drum 14 is scanned and exposed two-dimensionally by the exposure light emitted from the exposure head 12 and imaged. An image corresponding to the data is recorded.

なお、SLMは強誘電性液晶シャッターアレイ24に限定されず、例えばGLV(グレーティングライトバルブ)、DMD(デジタルマイクロミラーデバイス)等のように、従来公知の透過型および反射型のSLMがいずれも利用可能である。また、ドラム14を用いることも限定されず、記録媒体の支持台として平板を用いてもよい。   Note that the SLM is not limited to the ferroelectric liquid crystal shutter array 24. For example, conventionally known transmission type and reflection type SLMs such as GLV (grating light valve) and DMD (digital micromirror device) are used. Is possible. The use of the drum 14 is not limited, and a flat plate may be used as a support for the recording medium.

また、図5に示す実施形態では、空間光変調素子アレイとして、線変調を行う強誘電性液晶シャッターアレイ24を用い、露光ヘッド12とドラム14とを相対的に移動させて、記録材料を2次元的に走査露光している。しかし、本発明はこれに限定されず、空間光変調素子アレイとして、例えば面変調が可能なものを用い、露光光を所定の倍率で拡大縮小して、記録材料を走査することなく一括面露光することも可能である。   In the embodiment shown in FIG. 5, a ferroelectric liquid crystal shutter array 24 that performs line modulation is used as the spatial light modulation element array, and the exposure head 12 and the drum 14 are moved relative to each other, so that the recording material is 2 Dimensionally scanning exposure. However, the present invention is not limited to this, and as the spatial light modulation element array, for example, an element capable of surface modulation is used, and exposure light is enlarged / reduced at a predetermined magnification, and batch surface exposure is performed without scanning the recording material. It is also possible to do.

アウタードラム方式としては、空間変調素子、例えばDMD変調素子やGLV変調素子などと375nmまたは405nm半導体レーザーの組み合わせからなる光学系により、マルチチャンネルで露光する方式が、高生産性および低コスト化に有利であり好ましい。
また、365nm、355nmおよび266nmから選ばれるいずれかの波長のレーザー光を用いるインナードラム方式は、高速露光および低コスト化に有利であり好ましい。
なお、DMD変調素子と用いる光学系については、特開2004−012899号公報に、またGLV変調素子を用いる光学系については、特開2000−168136号公報、特開2001−162866号公報等に記載されている。
As the outer drum system, a multi-channel exposure system using an optical system composed of a combination of a spatial modulation element, such as a DMD modulation element or a GLV modulation element, and a 375 nm or 405 nm semiconductor laser is advantageous for high productivity and cost reduction. It is preferable.
An inner drum system using a laser beam having a wavelength selected from 365 nm, 355 nm, and 266 nm is preferable because it is advantageous for high-speed exposure and cost reduction.
Note that an optical system used with a DMD modulation element is described in JP-A No. 2004-012899, and an optical system using a GLV modulation element is described in JP-A Nos. 2000-168136 and 2001-162866. Has been.

1画素描画時間は、酸素との競争反応を最小限に抑えるため、短いほど好ましいが、1ミリ秒以下が好ましく、より好ましくは500μ秒以下、最も好ましくは、100μ秒以下である。1ミリ秒より大きいと、酸素による重合阻害が大きくなり、画像形成が劣化する。   The one-pixel drawing time is preferably as short as possible in order to minimize the competitive reaction with oxygen, but is preferably 1 millisecond or less, more preferably 500 μsec or less, and most preferably 100 μsec or less. When the time is longer than 1 millisecond, polymerization inhibition due to oxygen increases and image formation deteriorates.

〔平版印刷方法〕
本発明の平版印刷方法においては、上述したように、本発明の平版印刷版原版を画像様に露光した後、現像処理を施すか、または、なんらの現像処理工程を経ることなく油性インキと水性成分とを供給して印刷する。
[Lithographic printing method]
In the lithographic printing method of the present invention, as described above, the lithographic printing plate precursor of the present invention is imagewise exposed and then developed, or an oil-based ink and a water-based ink are used without any development processing steps. Supply ingredients and print.

<現像処理>
現像液による現像処理を施す場合に使用される現像液としては、特に制限はないが、画像記録層中に含有される後述のバインダーポリマーが、カルボキシル基、スルホン基、リン酸基などの酸基を含有する場合には、従来知られているアルカリ水溶液が好適に使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。
<Development processing>
There is no particular limitation on the developer used when developing with a developer, but a binder polymer described later contained in the image recording layer is an acid group such as a carboxyl group, a sulfone group, or a phosphate group. When it contains, the conventionally well-known alkaline aqueous solution can be used conveniently. For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium Examples include inorganic alkaline agents such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. In addition, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolan, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used.

これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わせて用いられる。上記のアルカ
リ水溶液の内、本発明による効果が一段と発揮される現像液はアルカリ金属ケイ酸塩を含有するpH12以上の水溶液である。アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率(一般に〔SiO2〕/〔M2O〕のモル比で表す)と濃度によって現像性の調節が可能であり、例えば、特開昭54−62004号公報に開示されているような、SiO2/Na2Oのモル比が1.0〜1.5(すなわち〔SiO2〕/〔Na2O〕が1.0〜1.5であって、SiO2の含有量が1〜4質量%のケイ酸ナトリウムの水溶液や、特公昭57−7427号公報に記載されているような、〔SiO2〕/〔M〕が0.5〜0.75(すなわち〔SiO2〕/〔M2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の濃度が1〜4質量%であり、かつ該現像液がその中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも20質量%のカリウムを含有していることとからなるアルカリ金属ケイ酸塩が好適に用いられる。現像液のpHとしては9〜13.5の範囲が好ましく、さらに好ましくは10〜13の範囲である。現像液温度は15〜40℃が好ましく、更に好ましくは20〜35℃である。現像時間は5〜60秒が好ましく、更に好ましくは7〜40秒である。
These alkali agents are used alone or in combination of two or more. Among the above-mentioned alkaline aqueous solutions, a developing solution that exhibits the effect of the present invention is an aqueous solution containing alkali metal silicate and having a pH of 12 or more. The aqueous solution of alkali metal silicate depends on the ratio and the concentration of silicon oxide SiO 2 and alkali metal oxide M 2 O (generally expressed as a molar ratio of [SiO 2 ] / [M 2 O]). are possible adjustment of developability, for example, as disclosed in JP-a-54-62004, the molar ratio of SiO 2 / Na 2 O 1.0 to 1.5 (i.e. [SiO 2] / [Na 2 O] is 1.0 to 1.5, and the content of SiO 2 is 1 to 4% by mass, an aqueous solution of sodium silicate, as described in JP-B-57-7427 [SiO 2 ] / [M] is 0.5 to 0.75 (ie, [SiO 2 ] / [M 2 O] is 1.0 to 1.5), and the concentration of SiO 2 is 1 to 4% by weight, and the developer is small on the basis of gram atoms of all alkali metals present therein. An alkali metal silicate comprising at least 20% by weight of potassium is preferably used, and the pH of the developer is preferably in the range of 9 to 13.5, more preferably 10 to 13. The developer temperature is preferably 15 to 40 ° C., more preferably 20 to 35 ° C. The development time is preferably 5 to 60 seconds, and more preferably 7 to 40 seconds.

更に、自動現像機を用いて、該感光性平版印刷版を現像する場合に、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、多量の感光性平版印刷版を処理することができることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。例えば、特開昭54−62004号公報に開示されているような現像液のSiO2/Na2Oのモル比が1.0〜1.5(すなわち〔SiO2〕/〔Na2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の含
有量が1〜4質量%のケイ酸ナトリウムの水溶液を使用し、しかも平版印刷版原版の処理量に応じて連続的または断続的にSiO2/Na2Oのモル比が0.5〜1.5(すなわち〔SiO2〕/〔Na2O〕が0.5〜1.5)のケイ酸ナトリウム水溶液(補充液)を現像液に加える方法、更には、特公昭57−7427号公報に開示されている、〔SiO2
〕/〔M〕が0.5〜0.75(すなわち、〔SiO2〕/〔M2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の濃度が1〜4質量%であるアルカリ金属ケイ酸塩の現像液を用い、
補充液として用いるアルカリ金属ケイ酸塩の〔SiO2〕/〔M〕が0.25〜0.75
(すなわち〔SiO2〕/〔M2O〕が0.5〜1.5)であり、かつ該現像液および該補充液のいずれもがその中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも20質量%のカリウムを含有していることとからなる現像方法が好適に用いられる。
Further, when the photosensitive lithographic printing plate is developed using an automatic developing machine, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than the developer is added to the developer, so that the developer in the developer tank for a long time. It is known that a large amount of photosensitive lithographic printing plate can be processed without replacing the plate. This replenishment method is also preferably applied in the present invention. For example, the molar ratio of SiO 2 / Na 2 O in a developer as disclosed in JP-A-54-62004 is 1.0 to 1.5 (that is, [SiO 2 ] / [Na 2 O] 1.0 to 1.5), an aqueous solution of sodium silicate having a SiO 2 content of 1 to 4% by mass, and continuously or intermittently depending on the throughput of the lithographic printing plate precursor An aqueous solution of sodium silicate (replenisher) having a SiO 2 / Na 2 O molar ratio of 0.5 to 1.5 (ie, [SiO 2 ] / [Na 2 O] is 0.5 to 1.5) is used as a developer. In addition, the method disclosed in Japanese Patent Publication No. 57-7427, [SiO 2
] / [M] is 0.5 to 0.75 (that is, [SiO 2 ] / [M 2 O] is 1.0 to 1.5), and the SiO 2 concentration is 1 to 4% by mass. Using a certain alkali metal silicate developer,
[SiO 2 ] / [M] of the alkali metal silicate used as the replenisher is 0.25 to 0.75.
(I.e., [SiO 2 ] / [M 2 O] is 0.5 to 1.5), and both the developer and the replenisher are based on the gram atoms of all alkali metals present therein. Thus, a developing method comprising at least 20% by mass of potassium is preferably used.

このようにして現像処理された感光性平版印刷版は特開昭54−8002号、同55−115045号、同59−58431号等の各公報に記載されているように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理される。本発明の感光性平版印刷版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。印刷時、版上の汚れ除去のため使用するプレートクリーナーとしては、従来知られているPS版用プレートクリーナーが使用され、例えば、CL−1、CL−2、CP、CN−4、CN、CG−1、PC−1、SR、IC(富士写真フイルム(株)製)等が挙げられる。   The photosensitive lithographic printing plate thus developed is washed with water, surface active as described in JP-A Nos. 54-8002, 55-1115045 and 59-58431. It is post-treated with a desensitizing solution containing a rinse solution containing an agent and the like, gum arabic and starch derivatives. These treatments can be used in various combinations for the post-treatment of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention. The planographic printing plate obtained by such processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets. As plate cleaners used for removing stains on printing plates, conventionally known plate cleaners for PS plates are used. For example, CL-1, CL-2, CP, CN-4, CN, CG -1, PC-1, SR, IC (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) and the like.

また、本発明においては、pHが10以下の非アルカリ水溶液も現像液として使用可能であり、例えば、水単独または水を主成分(水を60質量%以上含有)とする水溶液が好ましく、特に、一般的に公知な湿し水と同様組成の水溶液や界面活性剤(アニオン系、ノニオン系、カチオン系等)を含有する水溶液が好ましい。該現像液のpHは、2〜10が好ましく、より好ましくは3〜9、さらに好ましくは4〜8である。   In the present invention, a non-alkaline aqueous solution having a pH of 10 or less can also be used as a developer. For example, an aqueous solution containing water alone or water as a main component (containing 60% by mass or more of water) is preferable. An aqueous solution having a composition similar to that of generally known fountain solution and an aqueous solution containing a surfactant (anionic, nonionic, cationic, etc.) are preferred. The pH of the developer is preferably 2 to 10, more preferably 3 to 9, and still more preferably 4 to 8.

本発明で使用する現像液に用いられるアニオン系界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアル
キルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。これらの中でもジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類およびアルキルナフタレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。
Examples of the anionic surfactant used in the developer used in the present invention include fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonic acid salts, alkane sulfonic acid salts, dialkyl sulfosuccinic acid salts, linear alkylbenzene sulfonic acid salts, branched chain. Alkylbenzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salts , Petroleum sulfonates, sulfated castor oil, sulfated beef tallow oil, fatty acid alkyl ester sulfate esters, alkyl sulfate esters, polyoxyethylene alkyl ether sulfate ester Salts, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphates Examples thereof include salts, partially saponified products of styrene-maleic anhydride copolymer, partially saponified products of olefin-maleic anhydride copolymer, and naphthalene sulfonate formalin condensates. Among these, dialkyl sulfosuccinates, alkyl sulfate esters and alkyl naphthalene sulfonates are particularly preferably used.

本発明で使用する現像液に用いられるカチオン系界面活性剤としては、は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。   The cationic surfactant used in the developer used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.

本発明で使用する現像液に用いられるノニオン系界面活性剤としては、ポリエチレングリコール型の高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー等や、多価アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトールおよびソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等が挙げられる。
これらノニオン性界面活系剤は、単独でも、2種以上を混合して用いても良い。本発明においては、ソルビトール及び/又はソルビタン脂肪酸エステルのエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー、多価アルコールの脂肪酸エステルがより好ましい。
Nonionic surfactants used in the developer used in the present invention include polyethylene glycol type higher alcohol ethylene oxide adduct, alkylphenol ethylene oxide adduct, fatty acid ethylene oxide adduct, polyhydric alcohol fatty acid ester ethylene oxide adduct , Higher alkylamine ethylene oxide adduct, fatty acid amide ethylene oxide adduct, oil and fat ethylene oxide adduct, polypropylene glycol ethylene oxide adduct, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) block copolymer Etc., fatty acid ester of polyhydric alcohol type glycerol, fatty acid ester of pentaerythritol, sorbitol And fatty acid esters of sorbitan, fatty acid esters of sucrose, alkyl ethers of polyhydric alcohols, fatty acid amides of alkanolamines.
These nonionic surfactants may be used alone or in admixture of two or more. In the present invention, ethylene oxide adduct of sorbitol and / or sorbitan fatty acid ester, polypropylene glycol ethylene oxide adduct, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) block copolymer, polyhydric alcohol Fatty acid esters are more preferred.

また、水に対する安定な溶解性あるいは混濁性の観点から、本発明の現像液に使用するノニオン系界面活性剤としては、HLB(Hydorophile−Lipophile
Balance)値が、6以上であることが好ましく、8以上であることがより好ましい。
さらに、現像液中に含有するノニオン性界面活性剤の比率は、0.01〜10質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましい。
又アセチレングリコール系とアセチレンアルコール系のオキシエチレン付加物、フッ素系、シリコン系等の界面活性剤も同様に使用することができる。
本発明の現像液に使用する界面活性剤としては、抑泡性の観点から、ノニオン性界面活性剤が特に好適である。
Further, from the viewpoint of stable solubility or turbidity in water, the nonionic surfactant used in the developer of the present invention is HLB (Hydrophile-Lipophile).
The (Balance) value is preferably 6 or more, and more preferably 8 or more.
Furthermore, the ratio of the nonionic surfactant contained in the developer is preferably 0.01 to 10% by mass, and more preferably 0.01 to 5% by mass.
Acetylene glycol-based and acetylene alcohol-based oxyethylene adducts, fluorine-based and silicon-based surfactants can also be used in the same manner.
As the surfactant used in the developer of the present invention, a nonionic surfactant is particularly suitable from the viewpoint of foam suppression.

また、本発明で使用する現像液には、有機溶剤を含有しても良い。ここで含有可能な有
機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、”アイソパーE、H、G”(エッソ化学(株)製)あるいはガソリン、灯油等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、あるいはハロゲン化炭化水素(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等)や、下記の極性溶剤が挙げられる。
極性溶剤としては、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、メチルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メチルアミルアルコール等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、乳酸メチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート、レブリン酸ブチル等)、その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、N−フェニルエタノールアミン、N−フェニルジエタノールアミン等)、が挙げられる。
また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能であり、現像液に、有機溶剤を含有する場合は、安全性、引火性の観点から、溶剤の濃度は40質量%未満が望ましい。
The developer used in the present invention may contain an organic solvent. Examples of the organic solvent that can be contained here include aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, “Isopar E, H, G” (produced by Esso Chemical Co., Ltd.) or gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons, and the like. (Toluene, xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (methylene dichloride, ethylene dichloride, trichlene, monochlorobenzene, etc.) and the following polar solvents.
Examples of polar solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono Ethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol, tetraethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobenzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol, methyl amyl Alcoa Etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, methyl lactate, butyl lactate, ethylene glycol monobutyl) Acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol acetate, diethyl phthalate, butyl levulinate, etc.) and others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, N-phenylethanolamine, N-phenyldiethanolamine, etc.).
If the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like. If the developer contains an organic solvent, safety, flammability can be obtained. From the viewpoint of properties, the solvent concentration is preferably less than 40% by mass.

また、本発明で使用する現像液には、水溶性高分子化合物として、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体(例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等)およびその変性体、プルラン、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドおよびアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体などを含有することができる。   In the developer used in the present invention, as a water-soluble polymer compound, soybean polysaccharide, modified starch, gum arabic, dextrin, fiber derivative (for example, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, etc.) and modified products thereof, Pullulan, polyvinyl alcohol and its derivatives, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide and acrylamide copolymer, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, vinyl acetate / maleic anhydride copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, etc. Can be contained.

上記大豆多糖類は、公知のものが使用でき、例えば市販品として商品名ソヤファイブ(不二製油(株)製)があり、各種グレードのものを使用することができる。好ましく使用できるものは、10質量%水溶液の粘度が10〜100mPa/secの範囲にあるものである。   A well-known thing can be used for the said soybean polysaccharide, for example, there exists a brand name Soya Five (made by Fuji Oil Co., Ltd.) as a commercial item, and the thing of various grades can be used. What can be preferably used is one in which the viscosity of a 10% by mass aqueous solution is in the range of 10 to 100 mPa / sec.

上記変性澱粉も、公知のものが使用でき、トウモロコシ、じゃがいも、タピオカ、米、小麦等の澱粉を酸または酵素等で1分子当たりグルコース残基数5〜30の範囲で分解し、更にアルカリ中でオキシプロピレンを付加する方法等で作ることができる。
水溶性高分子化合物は2種以上を併用することもできる。水溶性高分子化合物の現像液中における含有量は、0.1〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜10質量
%である。
As the modified starch, known ones can be used, and starch such as corn, potato, tapioca, rice and wheat is decomposed with acid or enzyme in the range of 5 to 30 glucose residues per molecule, and further in an alkali. It can be made by a method of adding oxypropylene or the like.
Two or more water-soluble polymer compounds can be used in combination. The content of the water-soluble polymer compound in the developer is preferably from 0.1 to 20% by mass, and more preferably from 0.5 to 10% by mass.

本発明に用いられる現像液には上記の他に、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、無機酸、無機塩などを含有することができる。   In addition to the above, the developer used in the present invention may contain a preservative, a chelate compound, an antifoaming agent, an organic acid, an inorganic acid, an inorganic salt, and the like.

防腐剤としては、フェノールまたはその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、4−イソチアゾリン−3−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オ
キサゾール、オキサジン誘導体、ニトロブロモアルコール系の2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3ジオール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−エタノール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−プロパノール等が好ましく使用できる。
Preservatives include phenol or derivatives thereof, formalin, imidazole derivatives, sodium dehydroacetate, 4-isothiazolin-3-one derivatives, benzisothiazolin-3-one, benztriazole derivatives, amiding anidine derivatives, quaternary ammonium salts, pyridine, Derivatives such as quinoline and guanidine, diazine, triazole derivatives, oxazole, oxazine derivatives, nitrobromoalcohol-based 2-bromo-2-nitropropane-1,3diol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-ethanol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-propanol and the like can be preferably used.

キレート化合物としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類あるいはホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げることができる。上記キレート剤のナトリウム塩、カリウム塩の代りに有機アミンの塩も有効である。   Examples of the chelate compound include ethylenediaminetetraacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; diethylenetriaminepentaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; triethylenetetraminehexaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid Nitrilotriacetic acid, sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, potassium salt, sodium salt; aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt, sodium salt And organic phosphonic acids and phosphonoalkanetricarboxylic acids. Organic amine salts are also effective in place of the sodium and potassium salts of the chelating agents.

消泡剤としては一般的なシリコン系の自己乳化タイプ、乳化タイプ、ノニオン系界面活性剤のHLBが5以下等の化合物を使用することができる。なかでもシリコン消泡剤が好ましい。その中で乳化分散型および可溶化等がいずれも使用できる。   As the antifoaming agent, a general silicon-based self-emulsifying type, emulsifying type, or nonionic surfactant having a HLB of 5 or less can be used. Among these, a silicon antifoaming agent is preferable. Among them, emulsification dispersion type and solubilization can be used.

有機酸としては、クエン酸、酢酸、蓚酸、マロン酸、サリチル酸、カプリル酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、p−トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、フィチン酸、有機ホスホン酸などが挙げられる。有機酸は、そのアルカリ金属塩またはアンモニウム塩の形で用いることもできる。現像液中の含有量は、好ましくは0.01〜5質量%である。   Examples of organic acids include citric acid, acetic acid, succinic acid, malonic acid, salicylic acid, caprylic acid, tartaric acid, malic acid, lactic acid, levulinic acid, p-toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, phytic acid, and organic phosphonic acid. . The organic acid can also be used in the form of its alkali metal salt or ammonium salt. The content in the developer is preferably 0.01 to 5% by mass.

無機酸および無機塩としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、第一リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸ニッケルなどが挙げられる。現像液中の含有量は、好ましくは0.01〜5質量%である。
本発明における非アルカリ水溶液による現像処理は、現像液の供給手段及び擦り部材を備えた自動処理機により好適に実施することができる。自動処理機としては、例えば、画像記録後の平版印刷用原板を搬送しながら擦り処理を行う、特開平2−220061号、特開昭60−59351号各公報に記載の自動処理機や、米国特許第5148746号、米国特許第5568768号、英国特許第2297719号の各明細書に記載の、シリンダー上にセットされた画像記録後の平版印刷用原板をシリンダーを回転させながら擦り処理を行う自動処理機等が挙げられる。なかでも、擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動処理機が特に好ましい。なお、本発明において、擦り処理後の平版印刷版を、引き続いて、水洗、乾燥処理、不感脂化処理することも任意に可能である。
上記現像液の温度は、任意の温度で使用できるが、好ましくは10℃〜50℃である。
Examples of inorganic acids and inorganic salts include phosphoric acid, metaphosphoric acid, primary ammonium phosphate, secondary ammonium phosphate, primary sodium phosphate, secondary sodium phosphate, primary potassium phosphate, secondary potassium phosphate, Examples include sodium tripolyphosphate, potassium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, magnesium nitrate, sodium nitrate, potassium nitrate, ammonium nitrate, sodium sulfate, potassium sulfate, ammonium sulfate, sodium sulfite, ammonium sulfite, sodium hydrogen sulfate, nickel sulfate and the like. The content in the developer is preferably 0.01 to 5% by mass.
The development treatment with the non-alkaline aqueous solution in the present invention can be preferably carried out by an automatic processor equipped with a developer supply means and a rubbing member. As an automatic processor, for example, an automatic processor described in JP-A-2-220061 and JP-A-60-59351, which performs rubbing while conveying a lithographic printing original plate after image recording, Automatic processing for rubbing the lithographic printing plate after image recording set on the cylinder described in the specifications of Japanese Patent No. 5148746, US Pat. No. 5,568,768 and British Patent No. 2297719 while rotating the cylinder Machine. Among these, an automatic processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable. In the present invention, the lithographic printing plate after the rubbing treatment can be optionally washed with water, dried and desensitized.
Although the temperature of the developer can be used at any temperature, it is preferably 10 ° C to 50 ° C.

本発明の製版方法に用いる平版印刷版原版の製版プロセスとしては、必要に応じ、露光前、露光中、露光から現像までの間に、全面を加熱してもよい。この様な加熱により、感光層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や、感度の安定化といった利点が生じ得る。さらに、画像強度、耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱もしくは、全面露光を行う事も有効である。通常現像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行う事が好ましい。温度が高すぎると、未露光部までかぶってしまう等の問題を生じる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。通常は200〜500℃の範囲である。温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画
像部の熱分解といった問題を生じる。
As the plate making process of the lithographic printing plate precursor used in the plate making method of the present invention, the entire surface may be heated before exposure, during exposure, and between exposure and development, if necessary. Such heating promotes an image forming reaction in the photosensitive layer, and may have advantages such as improvement in sensitivity and printing durability, and stabilization of sensitivity. Further, for the purpose of improving the image strength and printing durability, it is also effective to subject the developed image to full post heating or full exposure. Usually, the heating before development is preferably performed under a mild condition of 150 ° C. or less. If the temperature is too high, a problem such as covering up to an unexposed portion occurs. Very strong conditions are used for heating after development. Usually, it is the range of 200-500 degreeC. If the temperature is low, sufficient image strengthening action cannot be obtained. If the temperature is too high, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area occur.

<機上現像処理>
現像処理工程を経ることなく印刷する方法として具体的には、平版印刷版原版を露光した後、現像処理工程を経ることなく印刷機に装着して印刷する方法、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上において露光し、そのまま印刷する方法等が挙げられる。
<On-machine development processing>
Specifically, as a method of printing without passing through the development processing step, after exposing the lithographic printing plate precursor to a printing press without passing through the development processing step, the lithographic printing plate precursor to the printing press For example, a method of exposing on a printing machine and printing as it is after mounting.

画像様に露光した平版印刷版原版の画像記録層は、露光部は重合硬化により不溶性となる。この露光済み平版印刷版原版に、湿式現像処理工程等の現像処理を施すことなく、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、未露光部においては、油性インキおよび/または水性成分によって、未硬化の画像記録層が溶解または分散して除去され、その部分に親水性の支持体表面が露出する。一方、露光部においては、重合硬化した画像記録層が残存して、親油性表面を有する油性インキ受容部(画像部)を形成する。
その結果、水性成分は露出した親水性の表面に付着し、油性インキは露光領域の画像記録層に着肉し、印刷が開始される。ここで、最初に版面に供給されるのは、水性成分でもよく、油性インキでもよいが、水性成分が未露光部の画像記録層により汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給するのが好ましい。水性成分および油性インキとしては、通常の平版印刷用の湿し水と印刷インキが用いられる。
このようにして、平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。
In the image recording layer of the lithographic printing plate precursor exposed like an image, the exposed portion becomes insoluble by polymerization and curing. When the exposed lithographic printing plate precursor is supplied with an oil-based ink and a water-based component and printed without being subjected to a development process such as a wet development process step, in the unexposed area, the oil-based ink and / or the water-based component, The uncured image recording layer is removed by dissolution or dispersion, and the hydrophilic support surface is exposed in that portion. On the other hand, in the exposed portion, the polymerized and cured image recording layer remains to form an oil-based ink receiving portion (image portion) having a lipophilic surface.
As a result, the aqueous component adheres to the exposed hydrophilic surface, and the oil-based ink is deposited on the image recording layer in the exposed area, and printing is started. Here, the water-based component or oil-based ink may be first supplied to the plate surface, but the oil-based ink is first used in order to prevent the water-based component from being contaminated by the image recording layer in the unexposed area. It is preferable to supply. As the aqueous component and oil-based ink, a dampening water and printing ink for ordinary lithographic printing are used.
In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on an offset printing machine and used as it is for printing a large number of sheets.

〔平版印刷版原版〕
本発明で用いる平版印刷版原版は、支持体上に、(A)重合開始剤、および(B)重合性化合物を含有する画像記録層を有し、波長250nm〜420nmの範囲内に感光性を有する。
以下、平版印刷版原版を構成する要素について説明する。
[Lithographic printing plate precursor]
The lithographic printing plate precursor used in the present invention has an image recording layer containing (A) a polymerization initiator and (B) a polymerizable compound on a support, and is photosensitive within a wavelength range of 250 nm to 420 nm. Have.
Hereinafter, elements constituting the lithographic printing plate precursor will be described.

<(A)重合開始剤>
本発明に用いられる重合開始剤は、光エネルギーによりラジカルを発生し、重合性不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する化合物であり、特に、重合開始剤単独または重合開始剤と後述の増感剤との組み合わせで、250nm〜420nmの光を吸収してラジカルを発生する化合物である。このような光ラジカル発生剤としては、公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを、適宜、選択して用いることができる。
なお、白灯の発光スペクトル強度は400nm超の可視領域で強く、その領域に十分な感光性を有する重合開始剤では、白灯下でかぶりを生じやすくなるため、開始剤および増感剤の吸収極大は400nm以下にすることが好ましい。
<(A) Polymerization initiator>
The polymerization initiator used in the present invention is a compound that generates radicals by light energy and initiates and accelerates the polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group. In particular, the polymerization initiator alone or the polymerization initiator and It is a compound that generates radicals by absorbing light of 250 nm to 420 nm in combination with a sensitizer. As such a photo radical generator, a known polymerization initiator, a compound having a bond having a small bond dissociation energy, or the like can be appropriately selected and used.
The emission spectrum intensity of white light is strong in the visible region exceeding 400 nm, and a polymerization initiator having sufficient photosensitivity in that region is likely to cause fogging under white light. Therefore, absorption of the initiator and the sensitizer is difficult. The maximum is preferably 400 nm or less.

上記のラジカルを発生する化合物としては、例えば、有機ハロゲン化合物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、が挙げられる。   Examples of the compound that generates radicals include organic halogen compounds, carbonyl compounds, organic peroxides, azo compounds, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boron compounds, disulfone compounds, and oxime ester compounds. And onium salt compounds.

上記有機ハロゲン化合物としては、具体的には、若林等、「Bull Chem.Soc Japan」42、2924(1969)、米国特許第3,905,815号明細書、特公昭46−4605号、特開昭48−36281号、特開53−133428号、特開昭55−32070号、特開昭60−239736号、特開昭61−169835号、特開昭61−169837号、特開昭62−58241号、特開昭62−212401号、特開昭63−70243号、特開昭63−298339号の公報、M.P.Hutt, "Journal of Heterocyclic Chemistry"、1(No.3)(1970)に記載の化合物が挙げられる。中でも、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物およびS−トリアジン化合物が好適である。   Specific examples of the organic halogen compound include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc Japan” 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, Japanese Patent Publication No. 46-4605, JP 48-36281, JP 53-133428, JP 55-3070, JP 60-239736, JP 61-169835, JP 61-169837, JP 62- 58241, JP-A 62-212401, JP-A 63-70243, JP-A 63-298339, P. Examples thereof include compounds described in Hutt, “Journal of Heterocyclic Chemistry”, 1 (No. 3) (1970). Of these, oxazole compounds and S-triazine compounds substituted with a trihalomethyl group are preferred.

より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、またはトリハロゲン置換メチル基が、s−トリアジン環に結合したs−トリアジン誘導体およびオキサジアゾール環に結合したオキサジアゾール誘導体が挙げられる。具体的には、例えば、2,4,6−トリス(モノクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2―n−プロピル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフェニル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2,4−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−i−プロピルオキシスチリル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ベンジルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジンや下記化合物等が挙げられる。   More preferable examples include s-triazine derivatives in which at least one mono, di, or trihalogen-substituted methyl group is bonded to the s-triazine ring, and oxadiazole derivatives in which the oxadiazole ring is bonded. Specifically, for example, 2,4,6-tris (monochloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -S-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3,4-epoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [1- (P-methoxyphenyl) -2,4-butadienyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- ( -Methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (pi-propyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p- Tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenylthio-4,6-bis ( Trichloromethyl) -s-triazine, 2-benzylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris ( Tribromomethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methoxy-4,6-bis (tribromomethyl) Etc. -s- triazine and the following compounds.

Figure 2006091838
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Figure 2006091838
Figure 2006091838

上記カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチルー(4'−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。   Examples of the carbonyl compound include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone and other benzophenone derivatives, 2,2-dimethoxy- 2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1- Hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 ′-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) Acetophenone derivatives such as ketones, thioxanthone derivatives such as thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, p- Examples thereof include benzoic acid ester derivatives such as ethyl dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate.

上記アゾ系化合物としては例えば、特開平8−108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。   As the azo compound, for example, an azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.

上記有機過酸化物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ブタン、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−オキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバレート、tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシオクタノエート、tert−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、3,3',4,4'−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'−テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等が挙げられる。   Examples of the organic peroxide include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butyl). Peroxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydro Peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, tert-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, 2, -Oxanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate , Dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, tert- Butyl peroxyoctanoate, tert-butyl peroxylaurate, tersyl carbonate, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4 ′ − Tra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate), carbonyl And di (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate).

上記メタロセン化合物としては、特開昭59−152396号公報、特開昭61−151197号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249号公報、特開平2−4705号公報、特開平5−83588号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、特開平1−304453号公報、特開平1−152109号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。   Examples of the metallocene compound include JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, JP-A-2-4705, Various titanocene compounds described in JP-A-5-83588, such as di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di- -Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-penta Fluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluoropheny -1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4 , 5,6-pentafluorophen-1-yl, iron-arene complexes described in JP-A-1-304453 and JP-A-1-152109, and the like.

上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平6−29285号公報、米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,286号の明細書等に記載の種々の化合物、具体的には、2,2'−ビス(o−クロロフ
ェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−ブ
ロモフェニル))4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(
o,p−ジクロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−クロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラ(m−メトキシフェニル
)ビイジダゾール、2,2'−ビス(o,o'−ジクロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−メチルフェニル)−4,4'
,5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
Examples of the hexaarylbiimidazole compound include the specifications of JP-B-6-29285, US Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, and 4,622,286. And, specifically, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-bromophenyl) )) 4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (
o, p-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra (m-methoxyphenyl) ) Bididazole, 2,2′-bis (o, o′-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-nitrophenyl) -4,4 ′ , 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 '
, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, and the like.

上記有機ホウ素化合物としては、例えば、特開昭62−143044号、特開昭62−150242号、特開平9−188685号、特開平9−188686号、特開平9−188710号、特開2000−131837号、特開2002−107916号の公報、特許第2764769号明細書、特開2002−116539号公報、および、Kunz,Martin"Rad Tech'98.Proceeding April 19−22,1998,Chicago"等に記載される有機ホウ酸塩、特開平6−157623号公報、特開平6−175564号公報、特開平6−175561号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体あるいは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平6−175554号公報、特開平6−175553号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平9−188710号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−306527号公報、特開平7−292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が挙げられる。   Examples of the organoboron compound include JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-9-188585, JP-A-9-188686, JP-A-9-188710, JP-A 2000-. No. 131837, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-107916, Japanese Patent No. 2764769, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-116539, and Kunz, Martin “Rad Tech '98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago”, etc. The organic borate described in JP-A-6-157623, JP-A-6-175564, JP-A-6-175561, or organic boron oxosulfonium complex, JP-A-6-175554 No. 6, JP-A-6-17555 Organoboron iodonium complex described in JP-A-9-188, organoboron phosphonium complex described in JP-A-9-188710, JP-A-6-34811, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, Examples thereof include organoboron transition metal coordination complexes such as Kaihei 7-306527 and JP-A-7-292014.

上記ジスルホン化合物としては、特開昭61−166544号公報、特開2003−328465号公報等記載される化合物が挙げられる。   Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A Nos. 61-166544 and 2003-328465.

上記オキシムエステル化合物としては、J.C.S. Perkin II (1979 )1653-1660)、J.C.S.Perkin II (1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202-232、特開2000−66385号公報記載の化合物、特開2000−80068号公報記載の化合物、具体的には、下記の構造式で示される化合物が挙げられる。   Examples of the oxime ester compound include JCS Perkin II (1979) 1653-1660), JCSPerkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, and JP-A 2000-66385. Compounds, compounds described in JP-A No. 2000-80068, specifically, compounds represented by the following structural formulas may be mentioned.

Figure 2006091838
Figure 2006091838

上記オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同第4,069,056号の明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許第339,049号、同第410,201号の明細書、特開平2−150848号、特開平2−296514号の公報に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、同第390,214号、同第233,567号、同第297,443号、同第297,442号、米国特許第4,933,377号、同第161,811号、同第410,201号、同第339,049号、同第4,760,013号、同第4,734,444号、同第2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同第3,604,580号、同第3,604,581号の明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。   Examples of the onium salt compound include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Diazonium salts described in Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), ammonium salts described in US Pat. No. 4,069,055, JP-A-4-365049, etc., US Pat. No. 4,069 , 055, 4,069,056, phosphonium salts described in European Patent Nos. 104,143, US Pat. Nos. 339,049, 410,201, JP -150848, JP-A-2-296514, iodonium salts, European Patent Nos. 370,693, 390,214, 233,567, 297,443, and 297 442, U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 161,811, 410,201, 339,049, 4,760,013 No. 4,734,444, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904,626, No. 3,604,580, No. 3,604,581 Or a sulfonium salt described in J. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), and onium salts such as arsonium salts.

本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、イオン性のラジカル重合開始剤として機能する。
本発明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般式(RI−I)〜(RI−III)で表されるオニウム塩である。
In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as ionic radical polymerization initiators.
The onium salts suitably used in the present invention are onium salts represented by the following general formulas (RI-I) to (RI-III).

Figure 2006091838
Figure 2006091838

式(RI−I)中、Ar11は置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z11 -は1価の陰イオンを表し、具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオンおよびスルフィン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-I), Ar 11 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a carbon number. 1-12 alkenyl group, C1-C12 alkynyl group, C1-C12 aryl group, C1-C12 alkoxy group, C1-C12 aryloxy group, halogen atom, C1-C1 12 alkylamino groups, C1-C12 dialkylamino groups, C1-C12 alkylamide groups or arylamide groups, carbonyl groups, carboxyl groups, cyano groups, sulfonyl groups, C1-C12 thioalkyl groups And a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 11 - represents a monovalent anion, specifically a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, a sulfate ion Can be mentioned. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion and sulfinate ion are preferable from the viewpoint of stability.

式(RI−II)中、Ar21およびAr22は、各々独立に置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキ
ル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z21 -は1価の陰イオンを表す。具体的には、ハロゲンイオ
ン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。
In the formula (RI-II), Ar 21 and Ar 22 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include 1 to 1 carbon atoms. 12 alkyl groups, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, Halogen atom, C1-C12 alkylamino group, C1-C12 dialkylamino group, C1-C12 alkylamide group or arylamide group, carbonyl group, carboxyl group, cyano group, sulfonyl group, carbon Examples thereof include a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 21 - represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoint of stability and reactivity.

式(RI−III)中、R31、R32およびR33は、各々独立に置換基を1〜6個有してい
てもよい炭素数20以下のアリール基、アルキル基、アルケニル基、またはアルキニル基を表す。中でも反応性、安定性の面から好ましいのは、アリール基である。置換基としては、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のア
ルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z31 -は1価の陰イオンを表す。具体例としては、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性、反応性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。より好ましいものとして特開2001−343742号公報記載のカルボン酸イオン、特に好ましいものとして特開2002−148790号公報記載のカルボン酸イオンが挙げられる。
In the formula (RI-III), R 31 , R 32 and R 33 are each independently an aryl group, alkyl group, alkenyl group or alkynyl having 20 or less carbon atoms, which may have 1 to 6 substituents. Represents a group. Among them, an aryl group is preferable from the viewpoint of reactivity and stability. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, Aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, halogen atom, alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, carbonyl group, carboxyl Group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 31 - represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoints of stability and reactivity. More preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2001-343742, and particularly preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2002-148790.

Figure 2006091838
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重合開始剤としては、上記に限定されないが、特に反応性、安定性の面から、トリアジン系開始剤、有機ハロゲン化合物、オキシムエステル化合物、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、およびスルホニウム塩が、短時間露光で大量にラジカルが発生する点でより好ましい。   The polymerization initiator is not limited to the above, but particularly from the viewpoint of reactivity and stability, triazine-based initiators, organic halogen compounds, oxime ester compounds, diazonium salts, iodonium salts, and sulfonium salts can be exposed in a short time. This is more preferable because a large amount of radicals are generated.

さらに、これらのトリアジン系開始剤、有機ハロゲン化合物、オキシムエステル化合物、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、およびスルホニウム塩系の重合開始剤は、増感剤と組み合わせて用いることが好ましい。増感剤と組み合わせて用いることにより、光重合速度を増大させることができる。   Furthermore, these triazine-based initiators, organic halogen compounds, oxime ester compounds, diazonium salts, iodonium salts, and sulfonium salt-based polymerization initiators are preferably used in combination with a sensitizer. By using in combination with a sensitizer, the photopolymerization rate can be increased.

このような増感剤の具体例として、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、9−フルオレノン、2−クロロ−9−フルオレノン、2−メチル−9−フルオレノン、9−アントロン、2−ブロモ−9−アントロン、2−エチル−9−アン
トロン、9,10−アントラキノン、2−エチル−9、10−アントラキノン、2−t−ブチル−9,10−アントラキノン、2,6−ジクロロ−9,10−アントラキノン、キサントン、2−メチルキサントン、2−メトキシキサントン、チオキサントン、ベンジル、ジベンザルアセトン、p−(ジメチルアミノ)フェニルスチリルケトン、p−(ジメチルアミノ)フェニルp−メチルスチリルケトン、ベンゾフェノン、p−(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(またはミヒラーケトン)、p−(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンズアントロンなどを挙げることができる。
Specific examples of such sensitizers include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, 9-fluorenone, 2-chloro-9-fluorenone, 2-methyl-9-fluorenone, 9-anthrone, and 2-bromo-9. -Anthrone, 2-ethyl-9-anthrone, 9,10-anthraquinone, 2-ethyl-9, 10-anthraquinone, 2-t-butyl-9,10-anthraquinone, 2,6-dichloro-9,10-anthraquinone , Xanthone, 2-methylxanthone, 2-methoxyxanthone, thioxanthone, benzyl, dibenzalacetone, p- (dimethylamino) phenyl styryl ketone, p- (dimethylamino) phenyl p-methylstyryl ketone, benzophenone, p- ( Dimethylamino) benzophenone (or mihi Keton), p- (diethylamino) benzophenone, and the like benzanthrone.

さらに、本発明における好ましい増感剤としては、特公昭51−48516号公報に記載されている一般式(I)で表される化合物があげられる。   Furthermore, preferred sensitizers in the present invention include compounds represented by the general formula (I) described in Japanese Patent Publication No. 51-48516.

Figure 2006091838
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式中、R14はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基など)、または置換アルキル基(例えば、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、カルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基など)を表す。R15はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基など)、またはアリール基(例えば、フェニル基、p−ヒドロキシフェニル基、ナフチル基、チエニル基など)を表す。 In the formula, R 14 is an alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, etc.) or a substituted alkyl group (for example, 2-hydroxyethyl group, 2-methoxyethyl group, carboxymethyl group, 2-carboxyethyl group) Etc.). R 15 represents an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, etc.) or an aryl group (eg, phenyl group, p-hydroxyphenyl group, naphthyl group, thienyl group, etc.).

2は通常シアニン色素で用いられる窒素を含む複素環核を形成するのに必要な非金属
原子群、例えばベンゾチアゾール類(ベンゾチアゾール、5−クロロベンゾチアゾール、6−クロロベンゾチアゾールなど)、ナフトチアゾール類(α−ナフトチアゾール、β−ナフトチアゾールなど)、ベンゾセレナゾール類(ベンゾセレナゾール、5−クロロベンゾセレナゾール、6−メトキシベンゾセレナゾールなど)、ナフトセレナゾール類(α−ナフトセレナゾール、β−ナフトセレナゾールなど)、ベンゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、5−メチルベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオキサゾールなど)、ナフトオキサゾール類(α−ナフトオキサゾール、β−ナフトオキサゾールなど)を表す。
Z 2 is a group of nonmetallic atoms necessary for forming a heterocyclic nucleus containing nitrogen, which is usually used in cyanine dyes, such as benzothiazoles (benzothiazole, 5-chlorobenzothiazole, 6-chlorobenzothiazole, etc.), naphtho Thiazoles (α-naphthothiazole, β-naphthothiazole, etc.), benzoselenazoles (benzoselenazole, 5-chlorobenzoselenazole, 6-methoxybenzoselenazole, etc.), naphthoselenazoles (α-naphthoselenazole) , Β-naphthselenazole, etc.), benzoxazoles (benzoxazole, 5-methylbenzoxazole, 5-phenylbenzoxazole, etc.) and naphthoxazoles (α-naphthoxazole, β-naphthoxazole, etc.).

一般式(I)で表される化合物の具体例としては、これらZ2、R14およびR15を組み
合わせた化学構造を有するものであり、多くのものが公知物質として存在する。したがって、これらの公知のものから適宜選択して使用することができる。さらに、本発明における好ましい増感剤としては、特公平5−47095号公報に記載のメロシアニン色素、また下記一般式(II)で示されるケトクマリン系化合物も挙げることができる。
Specific examples of the compound represented by the general formula (I) are those having a chemical structure combining these Z 2 , R 14 and R 15 , and many exist as known substances. Therefore, it can be used by appropriately selecting from these known ones. Furthermore, preferable sensitizers in the present invention include merocyanine dyes described in JP-B-5-47095 and ketocoumarin compounds represented by the following general formula (II).

Figure 2006091838
Figure 2006091838

ここでR16はメチル基、エチル基等のアルキル基を表す。 Here, R 16 represents an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group.

増感剤としてはまた、特開2000−147763号公報に記載のメロシアニン系色素も使用できる。具体的には、下記化合物を挙げることができる。   As the sensitizer, merocyanine dyes described in JP-A No. 2000-147763 can also be used. Specifically, the following compounds can be mentioned.

Figure 2006091838
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これらの重合開始剤および増感剤は、各々、画像記録層を構成する全固形分に対し0.1〜50質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは0.8〜20質量%の割合で添加することができる。この範囲内で、良好な感度と印刷時の非画像部の良好な汚れ難さが得られる。これらの重合開始剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、これらの重合開始剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこに添加してもよい。   These polymerization initiators and sensitizers are each preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, and particularly preferably 0. 0% by mass relative to the total solid content constituting the image recording layer. It can be added at a rate of 8 to 20% by mass. Within this range, good sensitivity and good stain resistance of the non-image area during printing can be obtained. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Moreover, these polymerization initiators may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

<(B)重合性化合物>
本発明に用いることができる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、ま
たはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
<(B) Polymerizable compound>
The polymerizable compound that can be used in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and is selected from compounds having at least one ethylenically unsaturated bond, preferably two or more. It is. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and a monofunctional or polyfunctional compound. A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or Also suitable are substitution reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a leaving substituent such as a tosyloxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines or thiols. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, isocyanuric acid There are EO-modified triacrylate and the like.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号の公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号の公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include, for example, aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, and JP-A-59-5241. Those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(III)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1
分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
Further, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable. Specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (III) was added to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups.
Examples thereof include vinyl urethane compounds containing two or more polymerizable vinyl groups in the molecule.

CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (III)
(ただし、R4およびR5は、HまたはCH3を示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (III)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号の公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号の公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号の公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Further, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654 Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable. Further, by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238. Can obtain a photopolymerizable composition having an excellent photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号の公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号の公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include reacting polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 and JP-B-52-30490. And polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, and JP-B-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like are also included. Can be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタク
リル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、画像記録層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板や後述の保護層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
About these polymerizable compounds, the details of usage such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable. Further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrenic compound, vinyl ether type). A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.
In addition, the selection and use method of the polymerized compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components in the image recording layer (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.). The compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the substrate and the protective layer described later.

重合性化合物は、画像記録層を構成する全固形分に対して、好ましくは5〜80質量%、更に好ましくは25〜75質量%の範囲内で使用される。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。そのほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。   The polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass with respect to the total solid content constituting the image recording layer. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the use method of the addition polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging property, refractive index change, surface adhesiveness, etc. Depending on the case, a layer configuration and coating method such as undercoating and overcoating can be performed.

<バインダーポリマー>
本発明では、画像記録層の膜強度や皮膜性の向上、および機上現像性の向上のために、好ましくはバインダーポリマーを用いることができる。バインダーポリマーとしては、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有する線状有機ポリマーが好ましい。このようなバインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられる。
<Binder polymer>
In the present invention, a binder polymer can be preferably used for improving the film strength and film property of the image recording layer and improving the on-press developability. A conventionally well-known thing can be used as a binder polymer without a restriction | limiting, The linear organic polymer which has film property is preferable. Examples of such binder polymers include acrylic resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyurea resins, polyimide resins, polyamide resins, epoxy resins, methacrylic resins, polystyrene resins, novolac phenolic resins, polyester resins, and synthetic rubbers. And natural rubber.

アルカリ現像処理を施す場合には、カルボキシル基、スルホン基、リン酸基などの酸基を含有する方が好ましく、機上現像処理又は非アルカリ現像処理を施す場合には、酸基を含有しない方が好ましい。   When performing an alkali development treatment, it is preferable to contain an acid group such as a carboxyl group, a sulfone group, or a phosphoric acid group. When performing an on-machine development treatment or a non-alkaline development treatment, a method not containing an acid group Is preferred.

バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していることが好ましい。バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよい。
分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、ポリ−1,4−ブタジエン、ポリ−1,4−イソプレン等が挙げられる。
分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドのポリマーであって、エステルまたはアミドの残基(−COORまたは−CONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。
The binder polymer preferably has crosslinkability in order to improve the film strength of the image area. In order to impart crosslinkability to the binder polymer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization.
Examples of the polymer having an ethylenically unsaturated bond in the main chain of the molecule include poly-1,4-butadiene and poly-1,4-isoprene.
Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule are polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid where the ester or amide residue (R of -COOR or -CONHR) is Mention may be made of polymers having an ethylenically unsaturated bond.

エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、−(CH2 n CR1 =CR2 3 、−(CH2 O)n CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 CH2 O)n CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 n NH−CO−O−CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 n −O−CO−CR1 =CR2 3 および−(CH2 CH2 O)2 −X(式中、R1 〜R3 はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、R1 とR2 またはR3 とは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。
エステル残基の具体例としては、−CH2 CH=CH2 (特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CH2 CH2 O−CH2 CH=CH2 、−CH2 C(CH3 )=CH2 、−CH2 CH=CH−C6 5 、−CH2 CH2 OCOCH=CH−C6 5
、−CH2 CH2 −NHCOO−CH2 CH=CH2 および−CH2 CH2 O−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基の具体例としては、−CH2 CH=CH2 、−CH2 CH2 −Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CH2 CH2 −OCO−CH=CH2 が挙げられる。
Examples of the residue (the R) having an ethylenically unsaturated bond, - (CH 2) n CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n -O-CO —CR 1 ═CR 2 R 3 and — (CH 2 CH 2 O) 2 —X (wherein R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, Represents an alkoxy group or an aryloxy group, and R 1 and R 2 or R 3 may combine with each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents dicyclopentadienyl. Represents a residue).
Specific examples of the ester residue, -CH 2 CH = CH 2, ( described in JP Kokoku 7-21633.) - CH 2 CH 2 O-CH 2 CH = CH 2, -CH 2 C (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5
, —CH 2 CH 2 —NHCOO—CH 2 CH═CH 2 and —CH 2 CH 2 O—X (wherein X represents a dicyclopentadienyl residue).
Specific examples of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 —Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH 2 CH 2 —OCO—CH═CH 2. Is mentioned.

架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接にまたは重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。   In the case of a binder polymer having crosslinkability, for example, free radicals (polymerization initiation radicals or growth radicals in the polymerization process of a polymerizable compound) are added to the crosslinkable functional group, and a polymerization chain of a polymerizable compound is formed directly between polymers. Through addition polymerization, a cross-link is formed between the polymer molecules and cured. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded to each other so that crosslinking between the polymer molecules occurs. Forms and cures.

バインダーポリマー中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲内で、良好な感度と良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1.0, per 1 g of the binder polymer. -7.0 mmol, most preferably 2.0-5.5 mmol. Within this range, good sensitivity and good storage stability can be obtained.

また、画像記録層未露光部の機上現像性の観点から、バインダーポリマーは、インキおよび/又湿し水に対する溶解性または分散性が高いことが好ましい。
インキに対する溶解性または分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親油的な方が好ましく、湿し水に対する溶解性または分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親水的な方が好ましい。このため、本発明においては、親油的なバインダーポリマーと親水的なバインダーポリマーを併用することも有効である。
Further, from the viewpoint of on-press developability of the image recording layer unexposed portion, the binder polymer preferably has high solubility or dispersibility in ink and / or fountain solution.
In order to improve the solubility or dispersibility in ink, the binder polymer is preferably lipophilic, and in order to improve the solubility or dispersibility in dampening water, the binder polymer is hydrophilic. Is preferred. For this reason, in the present invention, it is also effective to use a lipophilic binder polymer and a hydrophilic binder polymer in combination.

親水的なバインダーポリマーとしては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。   Examples of hydrophilic binder polymers include hydroxy groups, carboxyl groups, carboxylate groups, hydroxyethyl groups, polyoxyethyl groups, hydroxypropyl groups, polyoxypropyl groups, amino groups, aminoethyl groups, aminopropyl groups, and ammonium. Preferred are those having a hydrophilic group such as a group, an amide group, a carboxymethyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group.

具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60モル%以上、好ましくは80モル%以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げられる。   Specific examples include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and their salts, Polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, homopolymers of hydroxybutyl methacrylate Polymers and copolymers, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate Polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers having a hydrolysis degree of 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more , Homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, polyvinylpyrrolidone, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, etc. Is mentioned.

バインダーポリマーは、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が1000以上であるのが好ましく、2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であるのが好ましい。
バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。
The binder polymer preferably has a mass average molecular weight of 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 1,000 or more, preferably 2000 to 250,000. More preferred. The polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.
The binder polymer may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, and the like, but is preferably a random polymer.

バインダーポリマーは、従来公知の方法により合成することができる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水が挙げられる。これらは単独でまたは2種以上混合して用いられる。
バインダーポリマーを合成する際に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等の公知の化合物を用いることができる。
The binder polymer can be synthesized by a conventionally known method. Solvents used in the synthesis include, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy. Examples include 2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, and water. These may be used alone or in combination of two or more.
As the radical polymerization initiator used for synthesizing the binder polymer, known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator can be used.

バインダーポリマーは単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全固形分に対して、10〜90質量%であるのが好ましく、20〜80質量%がより好ましく、30〜70質量%がさらに好ましい。この範囲内で、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。
また、(B)重合性化合物とバインダーポリマーは、質量比で1/9〜7/3となる量で用いるのが好ましい。
A binder polymer may be used independently or may be used in mixture of 2 or more types.
The content of the binder polymer is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, and still more preferably 30 to 70% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. Within this range, good image area strength and image formability can be obtained.
Moreover, it is preferable to use (B) polymeric compound and binder polymer in the quantity used as 1 / 9-7 / 3 by mass ratio.

<その他の画像記録層成分>
本発明の画像記録層には、さらに、界面活性剤、着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、低分子親水性化合物などの添加剤を、必要に応じて含有させることができる。以下、それらについて説明する。
<Other image recording layer components>
In the image recording layer of the present invention, additives such as a surfactant, a colorant, a print-out agent, a polymerization inhibitor, a higher fatty acid derivative, a plasticizer, inorganic fine particles, and a low molecular weight hydrophilic compound are added as necessary. Can be contained. These will be described below.

<界面活性剤>
本発明において、画像記録層には、印刷開始時の機上現像性を促進させるため、および、塗布面状を向上させるために界面活性剤を用いるのが好ましい。界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
<Surfactant>
In the present invention, it is preferable to use a surfactant in the image recording layer in order to promote on-press developability at the start of printing and to improve the coated surface state. Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorosurfactants. Surfactant may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

本発明に用いられるノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体が挙げられる。   The nonionic surfactant used for this invention is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. For example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol Fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, Polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N N- bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polyethylene glycol, copolymers of polyethylene glycol and polypropylene glycol.

本発明に用いられるアニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いる
ことができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。
The anionic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known anionic surfactants can be used. For example, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate esters, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy poly Oxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alcohol Ruphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride Examples thereof include partial saponification products of polymers, partial saponification products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates.

本発明に用いられるカチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
本発明に用いられる両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。
The cationic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
The amphoteric surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known amphoteric surfactants can be used. Examples thereof include carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, and imidazolines.

なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。   Of the above surfactants, the term “polyoxyethylene” can be read as “polyoxyalkylene” such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, etc. These surfactants can also be used.

更に好ましい界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル等のアニオン型;パーフルオロアルキルベタイン等の両性型;パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型;パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するウレタン等のノニオン型が挙げられる。また、特開昭62−170950号、同62−226143号および同60−168144号の公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適に挙げられる。   More preferable surfactants include fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Examples of such fluorosurfactants include anionic types such as perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, and perfluoroalkyl phosphates; amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines; Cation type such as trimethylammonium salt; perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, oligomer containing perfluoroalkyl group and hydrophilic group, oligomer containing perfluoroalkyl group and lipophilic group, perfluoroalkyl Nonionic types such as an oligomer containing a group, a hydrophilic group and a lipophilic group, and a urethane containing a perfluoroalkyl group and a lipophilic group. Also preferred are the fluorosurfactants described in JP-A-62-170950, JP-A-62-226143 and JP-A-60-168144.

界面活性剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、0.001〜10質量%であるのが好ましく、0.01〜7質量%であるのがより好ましい。
Surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.
The content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass and more preferably 0.01 to 7% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<着色剤>
本発明では、更に必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラ
カイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)等、および特開昭62−293247号公報に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料も好適に用いることができる。
<Colorant>
In the present invention, various compounds other than these may be added as necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), etc., and JP-A-62-2 And dyes described in Japanese Patent No. 293247. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium oxide, etc. can be suitably used.

これらの着色剤は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、0.01〜10質量%の割合が好ましい。   These colorants are preferably added since it is easy to distinguish an image area from a non-image area after image formation. The amount added is preferably 0.01 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording material.

<焼き出し剤>
本発明の画像記録層には、焼き出し画像生成のため、酸またはラジカルによって変色する化合物を添加することができる。このような化合物としては、例えばジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンスラキノン系、イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられる。
<Bakeout agent>
In the image recording layer of the present invention, a compound that changes color by an acid or a radical can be added to produce a printout image. As such a compound, various dyes such as diphenylmethane, triphenylmethane, thiazine, oxazine, xanthene, anthraquinone, iminoquinone, azo, and azomethine are effectively used.

具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン4B、α−ナフチルレッド、ナイルブルー2B、ナイルブルーA、メチルバイオレット、マラカイドグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルーBOH[保土ケ谷化学(株)製]、オイルブルー#603[オリエント化学工業(株)製]、オイルピンク#312[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッド5B[オリエント化学工業(株)製]、オイルスカーレット#308[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドOG[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドRR[オリエント化学工業(株)製]、オイルグリーン#502[オリエント化学工業(株)製]、スピロンレッドBEHスペシャル[保土ケ谷化学工業(株)製]、m−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンB、ローダミン6G、スルホローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシアニリノ−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシステアリルアミノ−4−p−N,N−ビス(ヒドロキシエチル)アミノ−フェニルイミノナフトキノン、1−フェニル−3−メチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン等の染料やp,p',p"−ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン(ロイコクリスタルバイオレット)、Pergascript Blue SRB(チバガイギー社製)等のロイコ染料が挙げられる。   Specific examples include brilliant green, ethyl violet, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, methyl violet 2B, quinaldine red, rose bengal, methanyl yellow, thymol sulfophthalein, xylenol blue, methyl orange, paramethyl red, Congo Fred, Benzopurpurin 4B, α-Naphthyl Red, Nile Blue 2B, Nile Blue A, Methyl Violet, Malachide Green, Parafuchsin, Victoria Pure Blue BOH [manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Oil Blue # 603 [Orient Chemical Kogyo Co., Ltd.], Oil Pink # 312 [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red 5B [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Scarlet # 308 [Orient Gaku Kogyo Co., Ltd.], Oil Red OG [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red RR [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Green # 502 [Orient Chemical Co., Ltd.], Spiron Red BEH Special [made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], m-cresol purple, cresol red, rhodamine B, rhodamine 6G, sulforhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxyanilino-4-p- Diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxystearylamino-4-pN, N-bis (hydroxyethyl) amino-phenyliminonaphthoquinone, 1-phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone, 1-β-naphthyl-4- - dyes and p of diethylamino phenyl imino-5-pyrazolone, p ', p "- hexamethyl triamnotriphenylmethane (leuco crystal violet), and a leuco dye such as Pergascript Blue SRB (manufactured by Ciba-Geigy).

上記の他に、感熱紙や感圧紙用の素材として知られているロイコ染料も好適なものとして挙げられる。具体例としては、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、2−(N−フェニル−N−メチルアミノ)−6−(N−p−トリル−N−エチル)アミノ−フルオラン、2−アニリノ−3−メチル−6−(N−エチル−p−トルイジノ)フルオラン、3,6−ジメトキシフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−5−メチル−7−(N,N−ジベンジルアミノ)−フルオラン、3−(N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチルー7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メトキシ−7−アミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−(4−クロロアニリノ)フルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−ベンジルアミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7,8−ベンゾフロオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3,3−ビス(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(1−n−ブチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド、3−(4−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−ザフタリド、3−(4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、などが挙げられる。   In addition to the above, a leuco dye known as a material for thermal paper or pressure-sensitive paper is also suitable. Specific examples include crystal violet lactone, malachite green lactone, benzoylleucomethylene blue, 2- (N-phenyl-N-methylamino) -6- (Np-tolyl-N-ethyl) amino-fluorane, 2-anilino. -3-methyl-6- (N-ethyl-p-toluidino) fluorane, 3,6-dimethoxyfluorane, 3- (N, N-diethylamino) -5-methyl-7- (N, N-dibenzylamino) ) -Fluorane, 3- (N-cyclohexyl-N-methylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3 -(N, N-diethylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-chloro Fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methoxy-7-aminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7- (4-chloroanilino) fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-chlorofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-benzylaminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7,8-benzofluorane, 3- (N, N-dibutyl) Amino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-dibutylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluorane 3-pyrrolidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3,3-bis (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1-n-butyl- -Methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-diethylamino-2-ethoxyphenyl) -3- (1-ethyl- 2-methylindol-3-yl) -4-zaphthalide, 3- (4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, and the like.

酸またはラジカルによって変色する染料の好適な添加量は、それぞれ、画像記録層固形分に対して0.01〜15質量%の割合である。   A suitable addition amount of the dye that changes color by acid or radical is 0.01 to 15% by mass relative to the solid content of the image recording layer.

<重合禁止剤>
本発明の画像記録層には、画像記録層の製造中または保存中においてラジカル重合性化合物の不要な熱重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩が好適に挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、画像記録層の全固形分に対して、約0.01〜約5質量%であるのが好ましい。
<Polymerization inhibitor>
A small amount of a thermal polymerization inhibitor is preferably added to the image recording layer of the present invention in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the radical polymerizable compound during the production or storage of the image recording layer.
Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t- (Butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt are preferred.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to about 5% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<高級脂肪酸誘導体等>
本発明の画像記録層には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で画像記録層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、画像記録層の全固形分に対して、約0.1〜約10質量%であるのが好ましい。
<Higher fatty acid derivatives, etc.>
In order to prevent polymerization inhibition by oxygen, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide is added to the image recording layer of the present invention, and the surface of the image recording layer is dried during the coating process. It may be unevenly distributed. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.1 to about 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<可塑剤>
本発明の画像記録層は、機上現像性を向上させるために、可塑剤を含有してもよい。
可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類;ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類;トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類;ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類;ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適に挙げられる。
可塑剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、約30質量%以下であるのが好ましい。
<Plasticizer>
The image recording layer of the present invention may contain a plasticizer in order to improve the on-press developability.
Examples of the plasticizer include phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diallyl phthalate; Glycol esters such as glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene glycol dicaprylate; Phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate Diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioct Ruazereto, aliphatic dibasic acid esters such as dibutyl maleate; polyglycidyl methacrylate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, butyl laurate in.
The plasticizer content is preferably about 30% by mass or less based on the total solid content of the image recording layer.

<無機微粒子>
本発明の画像記録層は、画像部の硬化皮膜強度向上および非画像部の機上現像性向上のために、無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭
酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムまたはこれらの混合物が好適に挙げられる。これらは光熱変換性でなくても、皮膜の強化、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いることができる。
無機微粒子は、平均粒径が5nm〜10μmであるのが好ましく、0.5〜3μmであるのがより好ましい。上記範囲内であると、画像記録層中に安定に分散して、画像記録層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成することができる。
上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手することができる。
無機微粒子の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、20質量%以下であるのが好ましく、10質量%以下であるのがより好ましい。
<Inorganic fine particles>
The image recording layer of the present invention may contain inorganic fine particles for the purpose of improving the strength of the cured film in the image area and improving the on-press developability of the non-image area.
As the inorganic fine particles, for example, silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate or a mixture thereof can be preferably mentioned. Even if they are not photothermally convertible, they can be used for strengthening the film, enhancing interfacial adhesion by surface roughening, and the like.
The inorganic fine particles preferably have an average particle size of 5 nm to 10 μm, and more preferably 0.5 to 3 μm. Within the above range, it is possible to form a non-image portion excellent in hydrophilicity that is stably dispersed in the image recording layer, sufficiently retains the film strength of the image recording layer, and hardly causes stains during printing. .
The inorganic fine particles as described above can be easily obtained as a commercial product such as a colloidal silica dispersion.
The content of the inorganic fine particles is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less, based on the total solid content of the image recording layer.

<低分子親水性化合物>
本発明の画像記録層は、機上現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有してもよい。親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類およびそのエーテルまたはエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類およびその塩、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類およびその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類およびその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類およびその塩等が上げられる。
<Low molecular hydrophilic compound>
The image recording layer of the present invention may contain a hydrophilic low molecular weight compound for improving on-press developability. Examples of the hydrophilic low-molecular compound include water-soluble organic compounds such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like, and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyhydroxys such as pentaerythritol, organic amines such as triethanolamine and diethanolamine monoethanolamine and salts thereof, organic sulfonic acids such as toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid and salts thereof, organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid and the like Examples thereof include organic carboxylic acids such as salts thereof, tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid and amino acids, and salts thereof.

<画像記録層の形成>
本発明においては、上記の画像記録層構成成分を画像記録層に含有させる方法として、いくつかの態様を用いることができる。一つは、例えば、特開2002−287334号公報に記載のごとく、該構成成分を適当な溶媒に溶解して塗布する分子分散型画像記録層である。もう一つの態様は、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、該構成成分の全てまたは一部をマイクロカプセルに内包させて画像記録層に含有させるマイクロカプセル型画像記録層である。マイクロカプセル型画像記録層において、内包される成分は任意の比率で、一部をマイクロカプセルに内包させ、残りをマイクロカプセル外に含有させることもできる。ここで、マイクロカプセル型画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。より良好な機上現像性を得るためには、画像記録層は、マイクロカプセル型画像記録層であることが好ましい。
<Formation of image recording layer>
In the present invention, several modes can be used as a method for incorporating the above-mentioned image recording layer constituents into the image recording layer. One is a molecular dispersion type image recording layer in which the constituent components are dissolved and applied in an appropriate solvent as described in, for example, JP-A-2002-287334. In another embodiment, as described in, for example, JP-A-2001-277740 and JP-A-2001-277742, all or part of the constituent components are encapsulated in microcapsules and contained in the image recording layer. It is a capsule type image recording layer. In the microcapsule-type image recording layer, the components to be encapsulated can be included in a microcapsule at an arbitrary ratio, and the rest can be incorporated outside the microcapsule. Here, it is preferable that the microcapsule-type image recording layer includes a hydrophobic constituent component in the microcapsule and a hydrophilic constituent component outside the microcapsule. In order to obtain better on-press developability, the image recording layer is preferably a microcapsule type image recording layer.

上記の画像記録層構成成分をマイクロカプセル化する方法としては、公知の方法が適用できる。例えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第2800457号、同第2800458号の明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第3287154号明細書、特公昭38−19574号、同42−446号の公報にみられる界面重合法による方法、米国特許第3418250号、同第3660304号の明細書にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第3796669号明細書に見られるイソシアナートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第3914511号明細書に見られるイソシアナート壁材料を用いる方法、米国特許第4001140号、同第4087376号、同第4089802号の明細書にみられる尿素―ホルムアルデヒド系または尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第4025445号明細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭36−9163号、同51−9079号の公報にみられるモノマー重合によるin situ法、英国特許第930422号、米国特許第3111407号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第952807号、同第967074号の明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。   As a method of microencapsulating the above-mentioned image recording layer constituent components, known methods can be applied. For example, as a method for producing microcapsules, a method using coacervation as described in the specifications of U.S. Pat. Nos. 2,800,047 and 2,800,498, U.S. Pat. No. 3,287,154, JP-B-38-19574, and 42. -46 method by interfacial polymerization, US Pat. No. 3,418,250, US Pat. No. 3,660,304, by polymer precipitation method, US Pat. No. 3,796,669, isocyanate polyol wall A method using a material, a method using an isocyanate wall material found in US Pat. No. 3,914,511, a urea-formaldehyde system or a urea found in US Pat. Nos. 4001140, 4087376, and 4089802 Formaldehyde-resorcinol system A method using a forming material, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin and hydroxycellulose, as shown in US Pat. No. 4,025,445, and a monomer polymerization as shown in Japanese Patent Publication Nos. 36-9163 and 51-9079 In situ method, British Patent No. 930422, US Pat. No. 3,111,407 spray drying method, British Patent No. 952807, US Pat. No. 967074 specification, etc. It is not limited to these.

本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に、上記のバインダーポリマーに導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を有する化合物を導入してもよい。   A preferable microcapsule wall used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. Moreover, you may introduce | transduce into the microcapsule wall the compound which has crosslinkable functional groups, such as an ethylenically unsaturated bond which can be introduce | transduced into said binder polymer.

上記のマイクロカプセルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい。0.05〜2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。   The average particle size of the microcapsules is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is further more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

本発明の画像記録層は、必要な上記各成分を溶剤に分散、または溶かして塗布液を調製し、塗布される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
本発明の画像記録層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散、または溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。
The image recording layer of the present invention is applied by preparing a coating solution by dispersing or dissolving the necessary components described above in a solvent. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.
The image recording layer of the present invention can also be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeatedly applying and drying a plurality of times.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲内で、良好な感度と画
像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。
Further, the coating amount (solid content) of the image recording layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but generally 0.3 to 3.0 g / m 2 is preferable. Within this range, good sensitivity and good film properties of the image recording layer can be obtained.
Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

<支持体>
本発明の製版方法に於ける平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状物であればよい。例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上述した金属がラミネートされまたは蒸着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルムおよびアルミニウム板が挙げられる。中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が好ましい。
<Support>
The support used for the lithographic printing plate precursor in the plate making method of the present invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate. For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or deposited. Preferable supports include a polyester film and an aluminum plate. Among these, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、または、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金
中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。
The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましく、0.2〜0.3mmであるのが更に好ましい。   The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm, and even more preferably from 0.2 to 0.3 mm.

アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すのが好ましい。表面処理により、親水性の向上および画像記録層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。   Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, it is easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the image recording layer and the support. Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.

アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment for dissolving the surface electrochemically), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.

粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、更に、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。   The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸またはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温5〜70℃、電流密度5〜60A/d m2 、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であるのが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/m2 であるのが好ましく、1.5〜4.0g/m2 であるのがより好ましい。この範囲内で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られる。
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used and cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / day. d m 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferable. The amount of the anodized film formed is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2, and more preferably 1.5 to 4.0 g / m 2. Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained.

本発明で用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板そのままでもよいが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、断熱性などの一層改良のため、必要に応じて、特開2001−253181号や特開2001−322365号の公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理、マイクロポアの封孔処理、および親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。   As the support used in the present invention, the substrate having the above-mentioned surface treatment and having an anodized film may be used as it is, but for further improvement in adhesion to the upper layer, hydrophilicity, resistance to contamination, heat insulation and the like. If necessary, it contains a micropore enlargement treatment, a micropore sealing treatment, and a hydrophilic compound described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-253181 and 2001-322365. A surface hydrophilization treatment immersed in an aqueous solution can be selected as appropriate.

親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号および同第3,902,734号の明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液で浸せき処理し、または電解処理する。そのほかに、特公昭36−22063号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号および同第4,689,272号の明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。   The hydrophilization treatment is described in the specifications of US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734, and 3,902,734. There are such alkali metal silicate methods. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated. In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinylphosphonic acid as described in the specification of No. 272.

本発明の支持体としてポリエステルフィルムなど表面の親水性が不十分な支持体を用いる場合は、親水層を塗布して表面を親水性にすることが望ましい。親水層としては、特開2001−199175号公報に記載の、ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属から選択される少なくとも一つの元素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層や、特開2002−79772号公報に記載の、有機親水性ポリマーを架橋あるいは疑似架橋することにより得られる有機親水性マトリックスを有する親水層や、ポリアルコキシシラン、チタネート、ジルコネートまたはアルミネートの加水分解、縮合反応からなるゾル−ゲル変換により得られる無機親水性マトリックスを有する親水層、あるいは、金属酸化物を含有する表面を有する無機薄膜からなる親水層が好ましい。中でも、珪素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層が好ましい。   When using a support with insufficient surface hydrophilicity such as a polyester film as the support of the present invention, it is desirable to apply a hydrophilic layer to make the surface hydrophilic. As the hydrophilic layer, at least one element selected from beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony, and a transition metal described in JP-A-2001-199175 A hydrophilic layer formed by coating a coating solution containing a colloid of oxide or hydroxide, or organic hydrophilicity obtained by crosslinking or pseudo-crosslinking an organic hydrophilic polymer described in JP-A-2002-79772 A hydrophilic layer having a hydrophilic matrix, a hydrophilic layer having an inorganic hydrophilic matrix obtained by sol-gel conversion comprising hydrolysis, condensation reaction of polyalkoxysilane, titanate, zirconate or aluminate, or a metal oxide A hydrophilic layer made of an inorganic thin film having a surface is preferred. Arbitrariness. Among these, a hydrophilic layer formed by applying a coating solution containing a silicon oxide or a hydroxide colloid is preferable.

また、本発明の支持体としてポリエステルフィルム等を用いる場合には、支持体の親水性層側または反対側、あるいは両側に、帯電防止層を設けるのが好ましい。帯電防止層を支持体と親水性層との間に設けた場合には、親水性層との密着性向上にも寄与する。帯電防止層としては、特開2002−79772号公報に記載の、金属酸化物微粒子やマット剤を分散したポリマー層等が使用できる。   Moreover, when using a polyester film etc. as a support body of this invention, it is preferable to provide an antistatic layer in the hydrophilic layer side of a support body, the opposite side, or both sides. In the case where the antistatic layer is provided between the support and the hydrophilic layer, it also contributes to improving the adhesion with the hydrophilic layer. As the antistatic layer, a polymer layer in which metal oxide fine particles or a matting agent are dispersed as described in JP-A-2002-79772 can be used.

本発明の製版方法に於ける平版印刷版原版に用いられる支持体は、以下に記載するようなマイクロポアが封孔された陽極酸化皮膜を表面とする支持体であることが好ましい。   The support used for the lithographic printing plate precursor in the plate making method of the present invention is preferably a support having an anodic oxide film having micropores sealed as described below.

本発明の画像記録方法及び平版印刷方法に於ける平版印刷版原版に用いられる支持体は、マイクロポアが封孔された陽極酸化皮膜を表面とする支持体である。具体例としては、金属板、金属がラミネートされまたは蒸着された紙またはプラスチックフィルムなどが挙げられる。好ましい支持体としては、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が挙げられる。   The support used for the lithographic printing plate precursor in the image recording method and the lithographic printing method of the present invention is a support having an anodized film with micropores sealed on the surface. Specific examples include a metal plate, a paper or plastic film on which metal is laminated or vapor-deposited. A preferable support includes an aluminum plate having good dimensional stability and relatively inexpensive.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板である。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。   The aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and a trace amount of foreign elements. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましい。   The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm.

アルミニウム板を陽極酸化処理するに前に、表面粗面化処理を施すのが好ましい。表面粗面化処理により、親水性の向上および画像記録層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。   A surface roughening treatment is preferably performed before anodizing the aluminum plate. The surface roughening treatment makes it easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the image recording layer and the support. Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.

アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バ
フ研磨法などの公知の方法を用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸などの酸を含有する電解液中で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment for dissolving the surface electrochemically), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.

粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどの水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、更に、中和処理された後、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。   The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, and further neutralized to increase the wear resistance. Anodized.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸またはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であるのが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/m2であるのが好ましく、1.5〜4.
0g/m2であるのがより好ましい。この範囲で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部
の良好な耐傷性が得られる。
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used and cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / day. dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferable. The amount of the anodized film formed is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2, 1.5 to 4.
More preferably, it is 0 g / m 2 . Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained.

本発明で用いられる支持体は、上記の陽極酸化皮膜のマイクロポアを封孔される。封孔されることにより、陽極酸化皮膜に対する比表面積を大幅に低減させることができる。
本発明で用いられる支持体の比表面積としては、その表面に設けた陽極酸化皮膜質量に対してBET法によって測定される比表面積が0.5m/g以下であることが好ましい。ここで比表面積の測定方法は、以下の通りである。
The support used in the present invention is sealed with the micropores of the anodized film. By sealing, the specific surface area for the anodized film can be greatly reduced.
As the specific surface area of the support used in the present invention, the specific surface area measured by the BET method with respect to the mass of the anodized film provided on the surface is preferably 0.5 m 2 / g or less. Here, the method for measuring the specific surface area is as follows.

<比表面積の測定方法>
「比表面積の測定原理」
顆粒状や粉末、多孔質のサンプルをBET法に基づき測定する場合、サンプル上に吸着された1層の分子(いわゆる単分子層)のガス量によって算出することが出来、この吸着は吸着ガスの沸点もしくはその近くで起こるといわれている。指定条件下において、ガス分子がサンプルを覆う領域は、比較的狭い領域に限られることが知られており、サンプルの表面積は、指定条件下でのガス量から導かれる吸着された分子の数と、分子が占める面積から直接算出される。この際の単分子層を形成するパラメータは、多点法によるデータ処理によって導かれ、設定することが可能である。
<Method for measuring specific surface area>
"Specific surface area measurement principle"
When measuring a granular, powder, or porous sample based on the BET method, it can be calculated by the amount of gas of one layer of molecules adsorbed on the sample (so-called monomolecular layer). It is said to occur at or near the boiling point. Under specified conditions, it is known that the area where gas molecules cover the sample is limited to a relatively narrow area, and the surface area of the sample is the number of adsorbed molecules derived from the amount of gas under the specified conditions. , Calculated directly from the area occupied by the molecule. The parameters for forming the monomolecular layer at this time can be derived and set by data processing by a multipoint method.

「具体的測定方法」
粗面化し、陽極酸化皮膜を設け、しかるべき後処理を行うか又は行わない支持体を準備し、測定セル内に入るサイズに切断し、測定用資料とした。
マイクロメリティックス(Micromeritics)自動比表面積測定装置「フローソーブIII2305」(島津製作所)を用いて比表面積を求めた。
最初に、試料セルを250℃で90分間加熱し、試料表面から発生するガスや大気中から吸収された水分などを取り除く脱ガス作業を行う。その後、試料質量を測定したのち試料セルを液体窒素中に保持し、ヘリウム99.9%+Kr(クリプトン)0.1%のガスをセル中に導入して吸着量を測定する。平衡に達した後、室温下にもどし脱着量を測定する。このようにして測定された吸着量、脱着量及び試料質量をもとに比表面積を算出した。
"Specific measurement method"
A roughened surface, provided with an anodized film, a support with or without appropriate post-treatment was prepared, cut into a size that fits into the measurement cell, and used as measurement data.
The specific surface area was determined using a micromeritics automatic specific surface area measuring apparatus “Flowsorb III2305” (Shimadzu Corporation).
First, the sample cell is heated at 250 ° C. for 90 minutes to perform degassing work for removing gas generated from the sample surface, moisture absorbed from the atmosphere, and the like. Then, after measuring the sample mass, the sample cell is held in liquid nitrogen, and a gas of 99.9% helium + Kr (krypton) 0.1% is introduced into the cell to measure the amount of adsorption. After reaching equilibrium, return to room temperature and measure the amount of desorption. The specific surface area was calculated based on the adsorption amount, desorption amount and sample mass thus measured.

「基板上の陽極酸化皮膜質量の測定方法」
基板上の陽極酸化皮膜量を下記の方法で求めた。
酸化クロム(IV)無水クロム酸30g、85質量%リン酸118g、純水1500gを秤量し、混合して得られる通常メイソン液と呼ばれる液中に基板を12時間浸漬し陽極酸化皮膜のみを溶解し、その質量変化から単位面積あたりの陽極酸化皮膜量(質量)を求めた。
"Measurement method of anodic oxide film mass on substrate"
The amount of the anodized film on the substrate was determined by the following method.
30 g of chromium oxide (IV) chromic anhydride, 118 g of 85 mass% phosphoric acid, and 1500 g of pure water are weighed and mixed, and the substrate is immersed for 12 hours in a so-called Mason liquid, which dissolves only the anodized film. From the mass change, the amount (mass) of the anodic oxide film per unit area was determined.

BET法によって得られる比表面積は、測定試料である支持体全質量に対して算出される。そこで得られた表面積値(試料質量で除する前の値)を、測定に用いた試料表面積に対応する陽極酸化皮膜質量で除することで、本願で規定する「表面に設けた陽極酸化皮膜質量に対してBET法によって測定される比表面積」とした。
なお比表面積の校正には比表面積が公表されている市販のアルミナ及びシリカ微粒子(アドマテックスAO−502、SO−C1)を用い、毎回測定して得られた値の信頼性確保を図った。
The specific surface area obtained by the BET method is calculated with respect to the total mass of the support as a measurement sample. The surface area value (the value before dividing by the sample mass) thus obtained is divided by the anodized film mass corresponding to the sample surface area used for the measurement, thereby defining the “anodized film mass provided on the surface”. "Specific surface area measured by BET method".
For calibration of the specific surface area, commercially available alumina and silica fine particles (Admatex AO-502, SO-C1) whose specific surface area was announced were used, and the reliability of the value obtained by measuring each time was ensured.

本発明に用いられる封孔処理は、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができるが、中でも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理および熱水による封孔処理が好ましい。以下にそれぞれ説明する。   The sealing treatment used in the present invention is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. Among them, sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, sealing treatment with water vapor, and sealing with hot water are particularly preferable. Hole treatment is preferred. Each will be described below.

<無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理>
無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理に用いられる無機フッ素化合物としては、金属フッ化物が好適に挙げられる。
具体的には、例えば、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸カリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸アンモニウム、フッ化チタン酸アンモニウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸、ヘキサフルオロケイ酸、フッ化ニッケル、フッ化鉄、フッ化リン酸、フッ化リン酸アンモニウムが挙げられる。中でも、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸が好ましい。
<Sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound>
As the inorganic fluorine compound used for the sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, a metal fluoride is preferably exemplified.
Specifically, for example, sodium fluoride, potassium fluoride, calcium fluoride, magnesium fluoride, sodium fluoride zirconate, potassium fluoride zirconate, sodium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, zircon fluoride Ammonium acid, ammonium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, fluorinated zirconate, fluorinated titanate, hexafluorosilicic acid, nickel fluoride, iron fluoride, phosphor fluoride, ammonium fluoride phosphate It is done. Among these, sodium fluorinated zirconate, sodium fluorinated titanate, fluorinated zirconic acid, and fluorinated titanic acid are preferable.

水溶液中の無機フッ素化合物の濃度は、陽極酸化皮膜のマイクロポアの封孔を十分に行う点で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.05質量%以上であるのがより好ましく、また、耐汚れ性の点で、1質量%以下であるのが好ましく、0.5質量%以下であるのがより好ましい。   The concentration of the inorganic fluorine compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more, from the viewpoint of sufficiently sealing the micropores of the anodized film. Further, in terms of stain resistance, it is preferably 1% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or less.

無機フッ素化合物を含有する水溶液は、更に、リン酸塩化合物を含有するのが好ましい。リン酸塩化合物を含有すると、陽極酸化皮膜の表面の親水性が向上するため、機上現像性および耐汚れ性を向上させることができる。   It is preferable that the aqueous solution containing an inorganic fluorine compound further contains a phosphate compound. When the phosphate compound is contained, the hydrophilicity of the surface of the anodized film is improved, so that on-machine developability and stain resistance can be improved.

リン酸塩化合物としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属などの金属のリン酸塩が好適に挙げられる。
具体的には、例えば、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸一アンモニウム、リン酸一カリウム、リン酸一ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸カルシウム、リン酸水素アンモニウムナトリウム、リン酸水素マグネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸第一鉄、リン酸第二鉄、リン酸二水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸鉛、リン酸二アンモニウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム、亜リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウムが挙げられる。中でも、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウムが好ましい。
無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の組み合わせは、特に限定されないが、水溶液が、無機フッ素化合物として、少なくともフッ化ジルコン酸ナトリウムを含有し、リン酸塩化合物として、少なくともリン酸二水素ナトリウムを含有するのが好ましい。
Preferred examples of the phosphate compound include phosphates of metals such as alkali metals and alkaline earth metals.
Specifically, for example, zinc phosphate, aluminum phosphate, ammonium phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, monoammonium phosphate, monopotassium phosphate, monosodium phosphate, dihydrogen phosphate Potassium, dipotassium hydrogen phosphate, calcium phosphate, sodium ammonium hydrogen phosphate, magnesium hydrogen phosphate, magnesium phosphate, ferrous phosphate, ferric phosphate, sodium dihydrogen phosphate, sodium phosphate, hydrogen phosphate Disodium, lead phosphate, diammonium phosphate, calcium dihydrogen phosphate, lithium phosphate, phosphotungstic acid, ammonium phosphotungstate, sodium phosphotungstate, ammonium phosphomolybdate, sodium phosphomolybdate, sodium phosphite , Tripolyphosphate Potassium, and sodium pyrophosphate. Among these, sodium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, and dipotassium hydrogen phosphate are preferable.
The combination of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is not particularly limited, but the aqueous solution contains at least sodium zirconate fluoride as the inorganic fluorine compound and contains at least sodium dihydrogen phosphate as the phosphate compound. Is preferred.

水溶液中のリン酸塩化合物の濃度は、機上現像性および耐汚れ性の向上の点で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.1質量%以上であるのがより好ましく、また、溶解性の点で、20質量%以下であるのが好ましく、5質量%以下であるのがより好ましい。   The concentration of the phosphate compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, from the viewpoint of improving on-press developability and stain resistance. Further, in terms of solubility, it is preferably 20% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less.

水溶液中の各化合物の割合は、特に限定されないが、無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の質量比が、1/200〜10/1であるのが好ましく、1/30〜2/1であるのがより好ましい。
また、水溶液の温度は、20℃以上であるのが好ましく、40℃以上であるのがより好ましく、また、100℃以下であるのが好ましく、80℃以下であるのがより好ましい。
また、水溶液は、pH1以上であるのが好ましく、pH2以上であるのがより好ましく、また、pH11以下であるのが好ましく、pH5以下であるのがより好ましい。
無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理の方法は、特に限定されず、例えば、浸漬法、スプレー法が挙げられる。これらは単独で1回または複数回用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
中でも、浸漬法が好ましい。浸漬法を用いて処理する場合、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
The ratio of each compound in the aqueous solution is not particularly limited, but the mass ratio of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is preferably 1/200 to 10/1, and preferably 1/30 to 2/1. Is more preferable.
The temperature of the aqueous solution is preferably 20 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or lower.
The aqueous solution preferably has a pH of 1 or more, more preferably has a pH of 2 or more, preferably has a pH of 11 or less, and more preferably has a pH of 5 or less.
The method for sealing with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound is not particularly limited, and examples thereof include an immersion method and a spray method. These may be used alone or in combination, or may be used in combination of two or more.
Of these, the dipping method is preferred. When the treatment is performed using the dipping method, the treatment time is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, and preferably 100 seconds or shorter, and 20 seconds or shorter. More preferred.

<水蒸気による封孔処理>
水蒸気による封孔処理は、例えば、加圧または常圧の水蒸気を連続的にまたは非連続的に、陽極酸化皮膜に接触させる方法が挙げられる。
水蒸気の温度は、80℃以上であるのが好ましく、95℃以上であるのがより好ましく、また、105℃以下であるのが好ましい。
水蒸気の圧力は、(大気圧−50mmAq)から(大気圧+300mmAq)までの範囲(1.008×105 〜1.043×105 Pa)であるのが好ましい。
また、水蒸気を接触させる時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
<Sealing treatment with water vapor>
Examples of the sealing treatment with water vapor include a method in which pressurized or normal pressure water vapor is brought into contact with the anodized film continuously or discontinuously.
The temperature of the water vapor is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 95 ° C. or higher, and preferably 105 ° C. or lower.
The water vapor pressure is preferably in the range (1.008 × 10 5 to 1.043 × 10 5 Pa) from (atmospheric pressure−50 mmAq) to (atmospheric pressure + 300 mmAq).
Further, the time for which the water vapor is contacted is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, 100 seconds or shorter, more preferably 20 seconds or shorter.

<熱水による封孔処理>
水蒸気による封孔処理は、例えば、陽極酸化皮膜を形成させたアルミニウム板を熱水に浸漬させる方法が挙げられる。
熱水は、無機塩(例えば、リン酸塩)または有機塩を含有していてもよい。
熱水の温度は、80℃以上であるのが好ましく、95℃以上であるのがより好ましく、また、100℃以下であるのが好ましい。
また、熱水に浸漬させる時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
<Sealing treatment with hot water>
Examples of the sealing treatment with water vapor include a method in which an aluminum plate on which an anodized film is formed is immersed in hot water.
The hot water may contain an inorganic salt (for example, phosphate) or an organic salt.
The temperature of the hot water is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 95 ° C. or higher, and preferably 100 ° C. or lower.
Further, the time of immersion in hot water is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, more preferably 100 seconds or shorter, and even more preferably 20 seconds or shorter.

本発明においては、上記封孔に先立って、特開2001−322365号公報に記載のごとき陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理を行うこともできる。また、封孔後、表面親水化処理を行うこともできる。   In the present invention, prior to the sealing, the micropore enlargement process of the anodized film as described in JP-A-2001-322365 can be performed. Further, after the sealing, a surface hydrophilization treatment can be performed.

親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号および同第3,902,734号の各明細書に記載されている
ようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウムなどの水溶液で浸漬処理し、または電解処理する。そのほかに、特公昭36−22063号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号および同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが挙げられる。
The hydrophilization treatment is described in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734, and 3,902,734. There are such alkali metal silicate methods. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated. In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinyl phosphonic acid as described in each specification of No. 272.

本発明の支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。この範囲で、画像記録層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。
また、支持体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.65であるのが好ましい。この範囲内で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。
The support of the present invention preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the image recording layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.
The color density of the support is preferably 0.15 to 0.65 as the reflection density value. Within this range, good image formability by preventing halation during image exposure and good plate inspection after development can be obtained.

<下塗り層>
本発明の平版印刷版原版においては、支持体上に重合性基を含有する化合物の下塗り層を設けることが好ましい。下塗り層が用いられるときは、画像記録層は下塗り層の上に設けられる。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着性を強化し、また、未露光部においては、画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、機上現像性が向上する。
下塗り層としては、具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物などが好適に挙げられる。また、メタクリル基、アリル基などの重合性基とスルホン酸基、リン酸基、リン酸エステルなどの支持体吸着性基とを有する化合物も好ましい。さらにこの化合物にエチレンオキシ基などの親水性付与基を加えた化合物も好適である。
下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/m2であるのが好ましく、1〜
30mg/m2であるのがより好ましい。
<Undercoat layer>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, it is preferable to provide an undercoat layer of a compound containing a polymerizable group on a support. When an undercoat layer is used, the image recording layer is provided on the undercoat layer. The undercoat layer enhances the adhesion between the support and the image recording layer in the exposed portion, and in the unexposed portion, the image recording layer is easily peeled off from the support. improves.
As the undercoat layer, specifically, a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679, JP-A-2-304441. The phosphorus compound etc. which have the ethylenic double bond reactive group of description are mentioned suitably. A compound having a polymerizable group such as a methacryl group or an allyl group and a support adsorbing group such as a sulfonic acid group, a phosphoric acid group or a phosphoric acid ester is also preferred. Furthermore, a compound obtained by adding a hydrophilicity-imparting group such as an ethyleneoxy group to this compound is also suitable.
The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably 0.1 to 100 mg / m 2 ,
More preferably, it is 30 mg / m 2 .

<バックコート層>
支持体に表面処理を施した後または下塗り層を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコートを設けることができる。
バックコートとしては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Si(OCH3 4 、Si(OC2 5 4 、Si(OC3 7 4 、Si(OC4 9 4 等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
<Back coat layer>
After the surface treatment is performed on the support or after the undercoat layer is formed, a back coat can be provided on the back surface of the support, if necessary.
Examples of the back coat include hydrolysis and polycondensation of organic polymer compounds described in JP-A-5-45885, organometallic compounds or inorganic metal compounds described in JP-A-6-35174. A coating layer made of a metal oxide obtained in this manner is preferred. Among them, it is inexpensive to use a silicon alkoxy compound such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4. It is preferable in terms of easy availability.

<保護層>
本発明の平版印刷方法に用いられる本発明の平版印刷版原版においては、露光による画像形成は酸素の影響を受けにくい態様となっているため、酸素遮断を目的とする保護層は必ずしも必要ではないが、画像記録層における傷等の発生防止、高照度レーザー露光時のアブレーション防止や、画像強度をより高めるための酸素遮断のために、必要に応じて、画像記録層の上に保護層を設けることができる。
本発明においては、通常、露光を大気中で行うが、保護層は、画像記録層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸素、塩基性物質等の低分子化合物の画像記録層への混入を防止し、大気中での露光による画像形成反応の阻害を防止する。したがって、保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであり、更に、露光に用いられる光の透過性が良好で、画像記録層との密着性に優れ、かつ、露光後の機上現像処理工程で容易に除去することができるものであるのが好ましい。このような特性を有する保護層については、以前より種々検討がなされており、例えば、米国特許
第3、458、311号明細書および特公昭55−49729号公報に詳細に記載されている。
<Protective layer>
In the planographic printing plate precursor of the present invention used in the planographic printing method of the present invention, since the image formation by exposure is not easily affected by oxygen, a protective layer for the purpose of blocking oxygen is not necessarily required. However, if necessary, a protective layer is provided on the image recording layer in order to prevent scratches and the like in the image recording layer, to prevent ablation at the time of high-illuminance laser exposure, and to block oxygen to further increase the image strength. be able to.
In the present invention, the exposure is usually performed in the air, but the protective layer is an image of low molecular weight compounds such as oxygen and basic substances present in the air that inhibit the image forming reaction caused by exposure in the image recording layer. This prevents the recording layer from being mixed, and prevents the image formation reaction from being hindered by exposure in the air. Therefore, the properties desired for the protective layer are low permeability of low-molecular compounds such as oxygen, furthermore, good transparency of light used for exposure, excellent adhesion to the image recording layer, and It is preferable that it can be easily removed in an on-press development process after exposure. Various studies have been made on the protective layer having such characteristics, and are described in detail, for example, in US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

保護層に用いられる材料としては、例えば、比較的、結晶性に優れる水溶性高分子化合物が挙げられる。具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸等の水溶性ポリマーが挙げられる。
中でも、ポリビニルアルコール(PVA)を主成分として用いると、酸素遮断性、現像除去性等の基本的な特性に対して最も良好な結果を与える。ポリビニルアルコールは、保護層に必要な酸素遮断性と水溶性を与えるための未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテルまたはアセタールで置換されていてもよく、一部が他の共重合成分を有していてもよい。
ポリビニルアルコールの具体例としては、71〜100モル%加水分解された重合度300〜2400の範囲内のものが好適に挙げられる。具体的には、例えば、(株)クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8が挙げられる。
Examples of the material used for the protective layer include water-soluble polymer compounds that are relatively excellent in crystallinity. Specific examples include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, and polyacrylic acid.
Among these, when polyvinyl alcohol (PVA) is used as a main component, the best results are obtained for basic characteristics such as oxygen barrier properties and development removability. The polyvinyl alcohol may be partially substituted with an ester, ether or acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for providing the oxygen barrier property and water solubility necessary for the protective layer, and a part of the other You may have a copolymerization component.
Specific examples of the polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis degree of 71 to 100 mol% and a polymerization degree in the range of 300 to 2400. Specifically, for example, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA manufactured by Kuraray Co., Ltd. -HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405 , PVA-420, PVA-613, and L-8.

保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使用等)、塗布量等は、酸素遮断性および現像除去性のほか、カブリ性、密着性、耐傷性等を考慮して適宜選択される。一般には、PVAの加水分解率が高いほど(すなわち、保護層中の未置換ビニルアルコール単位含有率が高いほど)、また、膜厚が厚いほど、酸素遮断性が高くなり、感度の点で好ましい。また、製造時および保存時における不要な重合反応および画像露光時における不要なカブリや画線の太り等を防止するためには、酸素透過性が高くなり過ぎないことが好ましい。従って、25℃、1気圧下における酸素透過性Aが0.2≦A≦20(cc/m2・day)であることが好ましい。 The components of the protective layer (selection of PVA, use of additives, etc.), coating amount, etc. are appropriately selected in consideration of fogging properties, adhesion, scratch resistance, etc. in addition to oxygen barrier properties and development removability. Generally, the higher the hydrolysis rate of PVA (that is, the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer), and the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier property, which is preferable in terms of sensitivity. . Further, in order to prevent unnecessary polymerization reaction during production and storage and unnecessary fogging during image exposure, image line weighting, and the like, it is preferable that the oxygen permeability is not excessively high. Accordingly, the oxygen permeability A at 25 ° C. and 1 atm is preferably 0.2 ≦ A ≦ 20 (cc / m 2 · day).

保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を(共)重合体に対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を(共)重合体に対して数質量%添加することができる。   As another composition of the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the (co) polymer to provide flexibility. Anionic surfactants such as sodium acid salts; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers to the (co) polymer Mass% can be added.

また、保護層の画像部との密着性、耐傷性等も平版印刷版原版の取り扱い上、極めて重要である。すなわち、水溶性高分子化合物を含有するため親水性である保護層を、親油性である画像記録層に積層すると、接着力不足による保護層のはく離が生じやすく、はく離部分において、酸素による重合阻害に起因する膜硬化不良等の欠陥を引き起こすことがある。   In addition, adhesion of the protective layer to the image area, scratch resistance, and the like are extremely important in handling the lithographic printing plate precursor. That is, when a protective layer that is hydrophilic because it contains a water-soluble polymer compound is laminated on an image recording layer that is oleophilic, the protective layer is easily peeled off due to insufficient adhesion, and polymerization is inhibited by oxygen at the peeled portion. It may cause defects such as poor film hardening due to.

これに対して、画像記録層と保護層との間の接着性を改良すべく、種々の提案がなされている。例えば、特開昭49−70702号公報および英国特許出願公開第1303578号明細書には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルション、水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体等を20〜60質量%混合させ、画像記録層上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明においては、これらの公知の技術をいずれも用いることができる。   On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between the image recording layer and the protective layer. For example, JP-A-49-70702 and British Patent Application No. 1303578 disclose an acrylic emulsion, a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer, etc. in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by mass and laminating on an image recording layer. Any of these known techniques can be used in the present invention.

更に、保護層には、他の機能を付与することもできる。例えば、露光に用いられる光の
透過性に優れ、かつ、それ以外の波長の光を効率よく吸収しうる、着色剤(例えば、水溶性染料)の添加により、感度低下を引き起こすことなく、セーフライト適性を向上させることができる。
Furthermore, other functions can be imparted to the protective layer. For example, by adding a colorant (for example, a water-soluble dye) that is excellent in the transparency of light used for exposure and that can efficiently absorb light of other wavelengths, safe light is not caused. Suitability can be improved.

保護層の膜厚は、0.1〜5μmが適当であり、特に0.2〜2μmが好適である。
保護層の塗布方法については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書および特公昭55−49729号公報に詳細に記載されている。
The thickness of the protective layer is suitably from 0.1 to 5 μm, particularly preferably from 0.2 to 2 μm.
The method for applying the protective layer is described in detail, for example, in US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.

1.支持体の作製 1. Fabrication of support

<支持体A>
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミ表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
<Support A>
In order to remove rolling oil on the surface of an aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.3 mm, a degreasing treatment was performed at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution, and then the hair diameter was 0.3 mm. The aluminum surface was grained using three bundle-planted nylon brushes and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) having a median diameter of 25 μm and washed thoroughly with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20 mass% nitric acid at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .

次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2 、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。 Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in the nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。この板を15質量%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥して支持体Aを得た。 Next, a 0.5% by mass hydrochloric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. and nitric acid electrolysis under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate is an anode. In the same manner as above, an electrochemical surface roughening treatment was performed, followed by washing with water by spraying. The plate was provided with a direct current anodized film of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using 15% by mass sulfuric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) as an electrolyte, then washed with water and dried. A support A was obtained.

<支持体B>
上記支持体Aと同様に陽極酸化皮膜まで設けた支持体をフッ化ジルコン酸ナトリウム0.1質量%、リン酸ニ水素ナトリウム1質量%を含むpH3.7の75℃に加熱した溶液に10秒間浸漬して、封孔処理し、水洗、乾燥して支持体Bを得た。
<Support B>
As in the case of the support A, the support provided up to the anodic oxide film was added to a solution heated to 75 ° C. at pH 3.7 containing 0.1% by mass of sodium zirconate fluoride and 1% by mass of sodium dihydrogen phosphate for 10 seconds. It was immersed, sealed, washed with water and dried to obtain a support B.

<支持体C>
上記支持体Aと同様に陽極酸化皮膜まで設けた支持体を、水酸化ナトリウムの1質量%水溶液にて60℃で10秒間処理して陽極酸化皮膜のポアの拡大処理を行った。この処理により陽極酸化皮膜のポア径は20nmに拡大した。
上記ポアワイド処理を施した後、フッ化ジルコン酸ナトリウム0.1質量%、リン酸ニ水素ナトリウム1質量%を含むpH3.7の75℃に加熱した溶液に10秒間浸漬して、
封孔処理し、水洗、乾燥して支持体Cを得た。
<Support C>
The support provided up to the anodic oxide film in the same manner as the support A was treated with a 1% by mass aqueous solution of sodium hydroxide at 60 ° C. for 10 seconds to enlarge the pores of the anodic oxide film. By this treatment, the pore diameter of the anodized film was expanded to 20 nm.
After performing the pore-wide treatment, it was immersed for 10 seconds in a solution heated to 75 ° C. at pH 3.7 containing 0.1% by mass of sodium zirconate fluoride and 1% by mass of sodium dihydrogen phosphate,
Sealing treatment was carried out, followed by washing with water and drying to obtain a support C.

<支持体D>
上記支持体Aと同様に陽極酸化皮膜まで設けた支持体を、100℃の飽和水蒸気雰囲気中に10秒間曝露して封孔処理を行い、乾燥をして支持体Dを得た。
<Support D>
The support provided up to the anodic oxide film in the same manner as the support A was exposed to a saturated steam atmosphere at 100 ° C. for 10 seconds, subjected to sealing treatment, and dried to obtain a support D.

上記支持体A、B、C、Dについては、それぞれ珪酸ナトリウム2.5質量%水溶液にて30℃で10秒処理した。これら支持体の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、いずれも0.51μmであった。   About said support body A, B, C, D, it processed for 10 second at 30 degreeC with the 2.5 mass% sodium silicate aqueous solution, respectively. When the center line average roughness (Ra) of these supports was measured using a needle having a diameter of 2 μm, all were 0.51 μm.

さらに、下記下塗り液(1)を乾燥塗布量が5mg/m2になるよう塗布して、以下の
実験に用いる支持体(A)〜(D)を作製した。
Furthermore, the following undercoat liquid (1) was applied so that the dry coating amount was 5 mg / m 2 , thereby preparing supports (A) to (D) used in the following experiments.

下塗り液(1)
・下記の下塗り化合物(1) 0.017g
・メタノール 9.00g
・水 1.00g
Undercoat liquid (1)
・ Undercoat compound (1) below 0.017g
・ Methanol 9.00 g
・ Water 1.00g

Figure 2006091838
Figure 2006091838

2.平版印刷版原版の作製
平版印刷版原版(1)(フォトポリマー版材)の作製
上記下塗りを施した支持体(B)上に、下記組成の画像記録層塗布液(1)を乾燥塗布質量が1.5g/m2となるように塗布し、100℃で1分間乾燥させ、画像記録層を形
成した。その上に下記組成よりなる保護層塗布液(1)を、乾燥塗布質量が2.5g/m2となるように塗布し、120℃で1分間乾燥して平版印刷版原版(1)を得た。
2. Preparation of lithographic printing plate precursor Preparation of lithographic printing plate precursor (1) (photopolymer plate material) An image recording layer coating liquid (1) having the following composition is applied on the above-mentioned undercoated support (B) by a dry coating mass. The coating was applied at 1.5 g / m 2 and dried at 100 ° C. for 1 minute to form an image recording layer. A protective layer coating solution (1) having the following composition is coated thereon so that the dry coating mass is 2.5 g / m 2 and dried at 120 ° C. for 1 minute to obtain a lithographic printing plate precursor (1). It was.

<画像記録層塗布液(1)>
・テトラメチロールメタンテトラアクリレート 20 g
・下記バインダーポリマー(1)(平均分子量5万) 30 g
・下記重合開始剤(1) 1 g
・ε−フタロシアニン/バインダーポリマー(1)分散物 2 g
・フッ素系ノニオン界面活性剤メガファックF177
(大日本インキ化学工業(株)製) 0.5g
・クペロンAL(ニトロソ化合物、和光純薬工業(株)製 0.2g
・メチルエチルケトン 200 g
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 200 g
<Image recording layer coating solution (1)>
・ Tetramethylolmethane tetraacrylate 20 g
・ The following binder polymer (1) (average molecular weight 50,000) 30 g
・ The following polymerization initiator (1) 1 g
Ε-phthalocyanine / binder polymer (1) dispersion 2 g
・ Fluorine nonionic surfactant Megafac F177
(Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd.) 0.5g
・ Cuperon AL (nitroso compound, Wako Pure Chemical Industries, Ltd. 0.2g
・ Methyl ethyl ketone 200 g
・ Propylene glycol monomethyl ether acetate 200 g

Figure 2006091838
Figure 2006091838

Figure 2006091838
Figure 2006091838

<保護層塗布液(1)>
・ポリビニルアルコール(ケン化度95モル%、重合度800) 40g
・ポリビニルピロリドン(分子量5万) 5g
・ポリ(ビニルピロリドン/酢酸ビニル(1/1))分子量7万 5g
・水 950g
<Protective layer coating solution (1)>
Polyvinyl alcohol (saponification degree 95 mol%, polymerization degree 800) 40 g
・ Polyvinylpyrrolidone (molecular weight 50,000) 5g
・ Poly (vinyl pyrrolidone / vinyl acetate (1/1)) molecular weight of 75 g
・ 950g of water

平版印刷版原版(2)(機上現像版材)の作製
上記下塗りを施した支持体(B)上に、下記組成の画像記録層塗布液(2)をバー塗布した後、70℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形
成し、この上に上記の保護層塗布液(1)を、乾燥塗布質量が0.5g/m2となるよう
に塗布し、120℃で1分間乾燥して平版印刷版原版(2)を得た。
Preparation of lithographic printing plate precursor (2) (on-press development plate material) After applying bar coating of image recording layer coating liquid (2) having the following composition on support (B) subjected to the above-mentioned undercoat, Oven-dried in seconds to form an image recording layer having a dry coating amount of 1.0 g / m 2 , and the protective layer coating liquid (1) is dried thereon so that the dry coating mass is 0.5 g / m 2. And dried at 120 ° C. for 1 minute to obtain a lithographic printing plate precursor (2).

<画像記録層塗布液(2)>
・上記重合開始剤(1) 0.2g
・下記バインダーポリマー(2)(平均分子量8万) 6.0g
・重合性化合物 12.4g
イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート
(東亜合成(株)製アロニックスM−315)
・ロイコクリスタルバイオレット 3.0g
・熱重合禁止剤 0.1g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・テトラエチルアンモニウムクロリド 0.1g
・下記のフッ素系界面活性剤(1) 0.1g
・メチルエチルケトン 70.0g
<Image recording layer coating solution (2)>
・ 0.2 g of the above polymerization initiator (1)
・ The following binder polymer (2) (average molecular weight 80,000) 6.0 g
・ Polymerizable compound 12.4g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (Aronix M-315 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ Royco Crystal Violet 3.0g
・ Thermal polymerization inhibitor 0.1g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt 0.1 g of tetraethylammonium chloride
・ 0.1 g of the following fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone 70.0g

Figure 2006091838
Figure 2006091838

Figure 2006091838
Figure 2006091838

平版印刷版原版(3)(マイクロカプセル型機上現像版材)の作製
上記画像記録層塗布液(2)を下記組成の画像記録層塗布液(3)に変更した以外は、平版印刷版原版(2)の作製と同様にして、平版印刷版原版(3)を得た。
Preparation of lithographic printing plate precursor (3) (microcapsule on-machine development plate material) A lithographic printing plate precursor except that the image recording layer coating solution (2) is changed to an image recording layer coating solution (3) having the following composition A lithographic printing plate precursor (3) was obtained in the same manner as in (2).

<画像記録層塗布液(3)>
・上記重合開始剤(1) 0.2g
・上記バインダーポリマー(2)(平均分子量8万) 3.0g
・重合性化合物 6.2g
イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート
(東亜合成(株)製アロニックスM−315)
・ロイコクリスタルバイオレット 3.0g
・熱重合禁止剤 0.1g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・上記のフッ素系界面活性剤(1) 0.1g
・下記のマイクロカプセル(1)(固形分換算で) 10.0g
・メチルエチルケトン 35.0g
・1−メトキシー2−プロパノール 35.0g
・水 10.0g
<Image recording layer coating solution (3)>
・ 0.2 g of the above polymerization initiator (1)
・ Binder polymer (2) (average molecular weight 80,000) 3.0 g
-Polymerizable compound 6.2g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (Aronix M-315 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ Royco Crystal Violet 3.0g
・ Thermal polymerization inhibitor 0.1g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt 0.1 g of the above fluorosurfactant (1)
・ The following microcapsule (1) (in terms of solid content) 10.0 g
・ Methyl ethyl ketone 35.0g
・ 3-methoxy-2-propanol 35.0 g
・ Water 10.0g

(マイクロカプセル(1)の合成)
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武田ケミカル(株)製、タケネートD−110N)10g、イソシアヌール酸EO変性ジアクリレート(東亜合成(株)製アロニックスM−215)4.15g、およびパイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で3時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液(1)の固形分濃度を、20質量%になるように蒸留水を用いて希釈した。平均粒径は0.25μmであった。
(Synthesis of microcapsule (1))
As an oil phase component, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N) 10 g, isocyanuric acid EO-modified diacrylate (Toa Gosei Co., Ltd. Aronix M-215) 4.15 g and 0.1 g of Pionein A-41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) were dissolved in 17 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 40 g of a 4% by mass aqueous solution of PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 3 hours. The microcapsule liquid (1) thus obtained was diluted with distilled water so that the solid content concentration became 20% by mass. The average particle size was 0.25 μm.

平版印刷版原版(4)(機上現像版材、開始剤変更)の作製
平版印刷版原版(2)の作製に用いた重合開始剤(1)を下記重合開始剤(2)に変更した以外は、平版印刷版原版(2)の作製と同様にして、平版印刷版原版(4)を得た。
Preparation of lithographic printing plate precursor (4) (on-press development plate material, initiator change) Other than changing polymerization initiator (1) used for preparation of lithographic printing plate precursor (2) to the following polymerization initiator (2) Produced a lithographic printing plate precursor (4) in the same manner as in the production of the lithographic printing plate precursor (2).

Figure 2006091838
Figure 2006091838

平版印刷版原版(5)〜(7)(機上現像版材、開始剤変更)の作製
画像記録層塗布液(2)の重合開始剤(1)を下記重合開始剤(3)および(4)に変更し、下記増感色素(1)0.5gを各々添加した以外は、平版印刷版原版(2)の作製と同様にして、平版印刷版原版(5)および(6)を得た。また、画像記録層塗布液(2)の重合開始剤(1)を下記重合開始剤(3)に変更し、さらに下記増感色素(2)を0.5g添加した以外は、平版印刷版原版(2)の作製と同様にして、平版印刷版原版(7)を得た。
Preparation of lithographic printing plate precursors (5) to (7) (on-press development plate material, initiator change) The polymerization initiator (1) of the image recording layer coating solution (2) was changed to the following polymerization initiators (3) and (4) The lithographic printing plate precursors (5) and (6) were obtained in the same manner as the preparation of the lithographic printing plate precursor (2) except that 0.5 g of the following sensitizing dye (1) was added. . Further, the lithographic printing plate precursor except that the polymerization initiator (1) of the image recording layer coating liquid (2) is changed to the following polymerization initiator (3) and 0.5 g of the following sensitizing dye (2) is further added. A lithographic printing plate precursor (7) was obtained in the same manner as in the preparation of (2).

Figure 2006091838
Figure 2006091838

Figure 2006091838
Figure 2006091838

Figure 2006091838
Figure 2006091838

Figure 2006091838
Figure 2006091838

平版印刷版原版(8)および(9)(保護層なし)の作製
上記平版印刷版原版(1)および(2)の作製において、画像記録層の上に保護層を塗布する前の平版印刷版原版を、それぞれ平版印刷版原版(8)および(9)とした。
Preparation of lithographic printing plate precursors (8) and (9) (without protective layer) In preparation of the lithographic printing plate precursors (1) and (2), the lithographic printing plate before applying a protective layer on the image recording layer The original plates were lithographic printing plate precursors (8) and (9), respectively.

平版印刷版原版(10)(比較例用)の作製
平版印刷版原版(2)に用いた重合開始剤(1)を下記重合開始剤(5)(λmax=5
10nm)に変更した以外は、平版印刷版原版(2)の作製と同様にして、平版印刷版原
版(10)を得た。
Preparation of lithographic printing plate precursor (10) (for comparative example) The polymerization initiator (1) used in the lithographic printing plate precursor (2) was changed to the following polymerization initiator (5) (λmax = 5
A lithographic printing plate precursor (10) was obtained in the same manner as in the production of the lithographic printing plate precursor (2) except that the thickness was changed to 10 nm.

Figure 2006091838
Figure 2006091838

平版印刷版原版(12)および(13)(支持体変更)の作製
平版印刷版原版(2)に用いた支持体(B)を支持体(C)、(D)に変更した以外は、平版印刷版原版(2)の作製と同様にして、各々、平版印刷版原版(12)、(13)を得た。
Preparation of lithographic printing plate precursors (12) and (13) (support changed) The lithographic printing plate precursor except that the support (B) used in the lithographic printing plate precursor (2) was changed to supports (C) and (D). In the same manner as in the production of the printing plate precursor (2), lithographic printing plate precursors (12) and (13) were obtained, respectively.

平版印刷版原版(15)および(16)(支持体変更)の作製
平版印刷版原版(6)に用いた支持体(B)を支持体(C)、(D)に変更した以外は、平版印刷版原版(6)の作製と同様にして、各々、平版印刷版原版(15)、(16)を得た。
Preparation of lithographic printing plate precursors (15) and (16) (support changed) The lithographic printing plate precursor except that the support (B) used in the lithographic printing plate precursor (6) was changed to supports (C) and (D). In the same manner as the production of the printing plate precursor (6), lithographic printing plate precursors (15) and (16) were obtained, respectively.

平版印刷版原版(18)および(19)(支持体変更)の作製
平版印刷版原版(7)に用いた支持体(B)を支持体(C)、(D)に変更した以外は、平版印刷版原版(7)の作製と同様にして、各々、平版印刷版原版(18)、(19)を得た。
Preparation of lithographic printing plate precursors (18) and (19) (support changed) The lithographic printing plate except that the support (B) used in the lithographic printing plate precursor (7) was changed to supports (C) and (D). In the same manner as in the production of the printing plate precursor (7), lithographic printing plate precursors (18) and (19) were obtained, respectively.

〔実施例1〜20〕
上記のように作製した平版印刷版原版(1)〜(9)、(12)、(13)、(15)、(16)、(18)、(19)を用いて、画像形成および印刷を行い、感度、細線再現性および白灯安全性について評価した。以下に、用いた露光方法、現像方法、印刷方法および評価方法を示す。また、表1に、各実施例で用いた平版印刷版原版、支持体、保護層の有無、用いた重合開始剤の吸収極大波長、光源、1画素描画時間および評価結果を示す。
[Examples 1 to 20]
The lithographic printing plate precursors (1) to (9), (12), (13), (15), (16), (18), and (19) produced as described above are used for image formation and printing. The sensitivity, fine line reproducibility and white light safety were evaluated. Below, the used exposure method, development method, printing method and evaluation method are shown. Table 1 shows the planographic printing plate precursor, the support, the presence or absence of a protective layer, the absorption maximum wavelength of the polymerization initiator used, the light source, the one-pixel drawing time, and the evaluation results used in each example.

〔比較例1および2〕
1画素描画時間を表1記載のように変更した以外は、実施例2と同様にして露光および印刷評価を行った。結果を表1に示す。
[Comparative Examples 1 and 2]
Except that the one-pixel drawing time was changed as shown in Table 1, exposure and print evaluation were performed in the same manner as in Example 2. The results are shown in Table 1.

〔比較例3〕
平版印刷版原版(10)を用いて、488nmArレーザーに変更し、1画素描画時間を表1記載のように変更した以外は、実施例2と同様にして露光および印刷評価を行った。結果を表1に示す。
[Comparative Example 3]
Exposure and printing evaluation were performed in the same manner as in Example 2 except that the lithographic printing plate precursor (10) was used and the laser was changed to a 488 nm Ar laser and the one-pixel drawing time was changed as shown in Table 1. The results are shown in Table 1.

(1)露光方法
<実施例1〜3および5〜17、19、20、比較例1の場合>
平版印刷版原版を図6に示すDMD空間変調素子を用いた光学系からなる露光ヘッドを
使用して、375nmまたは405nm(実施例7、14、15、20)半導体レーザーにて、周長900mmの外面ドラム、解像度2400dpiで、表1記載の1画素描画時間・露光エネルギーを得られるドラム回転数・レーザー出力に調整して露光した。
(1) Exposure Method <Examples 1 to 3 and 5 to 17, 19, 20, and Comparative Example 1>
The lithographic printing plate precursor was exposed to a semiconductor laser of 375 nm or 405 nm (Examples 7, 14, 15, 20) with a peripheral length of 900 mm using an exposure head composed of an optical system using the DMD spatial modulation element shown in FIG. The exposure was performed by adjusting the drum rotation speed and laser output so as to obtain the one-pixel drawing time and exposure energy shown in Table 1 at an outer drum at a resolution of 2400 dpi.

<実施例4および18の場合>
平版印刷版原版を図4に示すYAG発振モードロック固体レーザーの4倍波である266nm(実施例4)、YAG発振固体レーザーの3倍波である355nm(実施例18)レーザーにて、インナードラム方式、解像度2400dpiの条件で、表1記載の1画素描画時間・露光エネルギーを得られるスピンドルミラー回転数・レーザー出力に調整して露光した。
<In the case of Examples 4 and 18>
The lithographic printing plate precursor is subjected to inner drum by using a 266 nm (Example 4) which is a fourth harmonic of a YAG oscillation mode-locked solid-state laser shown in FIG. 4 and a 355 nm (Example 18) laser which is a third harmonic of a YAG oscillation solid-state laser. Under the conditions of the system and the resolution of 2400 dpi, the exposure was carried out by adjusting the spindle mirror rotation number and laser output capable of obtaining the one-pixel drawing time and exposure energy shown in Table 1.

<比較例2および3の場合>
平版印刷版原版を1秒露光するため、375nmの半導体レーザー(比較例2)、またはアルゴンイオンレーザー488nm(比較例3)を用いレンズ系にて100mm径のビー
ムに拡散させ、面露光を行った。レーザー出力と露光時間を表1記載の描画時間・露光エネルギーを得られるように調整して露光した。なお、細線再現性評価には、テストチャートをマスクとして露光した。
<In the case of Comparative Examples 2 and 3>
In order to expose the lithographic printing plate precursor for 1 second, a 375 nm semiconductor laser (Comparative Example 2) or an argon ion laser 488 nm (Comparative Example 3) was used to diffuse a 100 mm diameter beam in a lens system, and surface exposure was performed. . The exposure was performed by adjusting the laser output and the exposure time so as to obtain the drawing time and exposure energy shown in Table 1. For evaluation of reproducibility of thin lines, exposure was performed using a test chart as a mask.

(2)現像処理
平版印刷版原版(1)および(8)の現像処理は、DP−4現像液(富士写真フイルム(株)製)を水で18倍に希釈した現像液に30℃で15秒間浸漬して行った。次にGU−7ガム液(富士写真フイルム(株)製)を水で2倍に希釈した液で版面を処理した。
平版印刷版原版(2)〜(7)および(9)〜(19)は、下記印刷方法に記載のとおり、露光済み原版を現像処理することなく機上現像を行った。
(2) Development treatment The development processing of the lithographic printing plate precursors (1) and (8) is carried out at 30 ° C. in a developer obtained by diluting a DP-4 developer (produced by Fuji Photo Film Co., Ltd.) 18 times with water. Dipped for 2 seconds. Next, the plate surface was treated with a solution obtained by diluting GU-7 gum solution (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) twice with water.
The lithographic printing plate precursors (2) to (7) and (9) to (19) were subjected to on-press development without developing the exposed original plate as described in the printing method below.

平版印刷版原版(6)及び(7)については、上記の機上現像とは別に、下記現像液(1)を浸した現像用パッドで版面を擦り処理した後、水洗した(実施例19及び20)。また、現像液(1)の液温は35℃、pHは9以下であった。   For the lithographic printing plate precursors (6) and (7), the plate surface was rubbed with a developing pad dipped in the following developer (1) separately from the on-machine development, and then washed with water (Example 19 and 20). The developer (1) had a solution temperature of 35 ° C. and a pH of 9 or less.

現像液(1)
・ 水 100g
・ベンジルアルコール 1g
・ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート(HLB=10.0) 1g
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.5g
・アラビアガム 1.5g
・リン酸 0.1g
Developer (1)
・ Water 100g
・ Benzyl alcohol 1g
・ Polyoxyethylene sorbitan monooleate (HLB = 10.0) 1g
・ Dioctyl sulfosuccinate sodium salt 0.5g
・ Gum Arabic 1.5g
・ Phosphoric acid 0.1g

(3)印刷方法
平版印刷版原版(1)および(8)は現像処理を行った後に、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mに取り付け、湿し水(EU−3(富士写真フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行った。
(3) Printing method The lithographic printing plate precursors (1) and (8) are developed and attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and fountain solution (EU-3 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) Etching solution) / water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio)) and TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) at a printing speed of 6000 sheets per hour. Printing was done.

平版印刷版原版(2)〜(7)、(9)〜(19)は、得られた露光済み原版を現像処理することなく、各々、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付け、湿し水(IF201(富士写真フイルム(株)製エッチ液)/水=4/96(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、湿し水とインクを供給した後、毎時6000枚の印刷速度で印刷を100枚行った。印刷機上で画像記録層の未露光部の除去が完了し、非画像部にインキ汚れがない印刷物が得られた。   The lithographic printing plate precursors (2) to (7) and (9) to (19) are each attached to a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg without developing the exposed exposed original plate. Using Shimizu (IF201 (Effect manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) / Water = 4/96 (volume ratio)) and TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) After supplying dampening water and ink, 100 sheets were printed at a printing speed of 6000 sheets per hour. Removal of the unexposed portion of the image recording layer on the printing machine was completed, and a printed matter having no ink smear in the non-image portion was obtained.

(4)平版印刷版原版の評価
<感度>
100枚印刷を行って、非画像部にインキ汚れがない印刷物が得られたことを確認した後、続けて500枚の印刷を行った。合計600枚目の印刷物において、画像部のインキ濃度にムラがない最小露光量を感度として計測した。
(4) Evaluation of lithographic printing plate precursor <Sensitivity>
After 100 sheets were printed and it was confirmed that a printed matter having no ink stains in the non-image area was obtained, 500 sheets were continuously printed. In the total 600th printed matter, the minimum exposure amount with no unevenness in the ink density in the image area was measured as sensitivity.

<細線再現性>
上記の感度評価で決定した露光量で露光した平版印刷版原版について、上述したように、100枚印刷して非画像部にインキ汚れがない印刷物が得られたことを確認した後、続けて500枚の印刷を行った。合計600枚目の印刷物の細線チャート(10、12、14、16、18、20、25、30、35、40、60、80、100および200μmの細線を露光したチャート)を25倍のルーペで観察し、途切れることなくインキで再現された細線幅により、細線再現性を評価した。
<Thin wire reproducibility>
About the planographic printing plate precursor exposed at the exposure amount determined in the sensitivity evaluation, as described above, after printing 100 sheets and confirming that a printed matter having no ink stains in the non-image area was obtained, 500 A sheet was printed. A thin line chart (10, 12, 14, 16, 18, 20, 25, 30, 35, 40, 60, 80, 100 and 200 μm fine line exposed charts) of a total of 600 printed sheets with a 25X magnifier The fine line reproducibility was evaluated based on the fine line width that was observed and reproduced with ink without interruption.

<白灯安全性>
露光されていない平版印刷版原版を、白色蛍光灯下に置き、平版印刷版原版の表面で400luxの光量になる条件下に設置し、曝光を行った。これら白灯下に曝した平版印刷版原版を、現像処理が必要なものは現像処理を行った後、上記同様、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付け、100枚の印刷を行った後、インキ汚れが生じない白色蛍光灯下での曝光時間を計測した。この時間が長いほど、白灯安全性が良好であるといえる。
<Safety of white light>
An unexposed lithographic printing plate precursor was placed under a white fluorescent lamp and placed under conditions where the light amount of 400 lux was obtained on the surface of the lithographic printing plate precursor, and exposure was performed. These lithographic printing plate precursors exposed to white light were subjected to development processing for those requiring development processing, and then attached to a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and printed 100 sheets as described above. Thereafter, the exposure time was measured under a white fluorescent lamp where no ink smear occurred. The longer this time, the better the white light safety.

Figure 2006091838
Figure 2006091838

上記の結果から明らかなように、本発明の画像記録方法および平版印刷方法は、高感度と白灯安全性が両立し、良好な細線再現性の高画質である。   As is clear from the above results, the image recording method and lithographic printing method of the present invention have both high sensitivity and white light safety and high image quality with good fine line reproducibility.

〔実施例21〜22〕
平版印刷版原版(21)の作製
[Examples 21 to 22]
Preparation of lithographic printing plate precursor (21)

Al:99.5質量%以上、Fe:0.30質量%、Si:0.10質量%、Ti:0.02質量%、Cu:0.013質量%を含有し、残部は不可避不純物のJIS A1050アルミニウム合金の溶湯に清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理としては、溶湯中の水素等の不要なガスを除去するために脱ガス処理し、更に、セラミックチューブフィルタ処理を行った。鋳造法はDC鋳造法で行った。凝固した板厚500mmの鋳塊の表面を10mm面削し、金属間化合物が粗大化してしまわないように550℃で10時間均質化処理を行った。ついで、400℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉中、500℃で60秒間、中間焼鈍した後、冷間圧延を行って、厚さ0.30mmのアルミニウム圧延板とした。圧延ロールの粗さを制御することにより、冷間圧延後の中心線平均粗さRa を0.2μmに制御した。その後、平面性を向上させるためにテンションレベラーにかけた。得られたアルミニウム板を、以下に示す表面処理に供した。
上記アルミニウム板の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミ
表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
Al: 99.5% by mass or more, Fe: 0.30% by mass, Si: 0.10% by mass, Ti: 0.02% by mass, Cu: 0.013% by mass, the balance being JIS of inevitable impurities The molten A1050 aluminum alloy was subjected to a cleaning treatment and cast. As the cleaning treatment, degassing treatment was performed to remove unnecessary gas such as hydrogen in the molten metal, and further ceramic tube filter treatment was performed. The casting method was a DC casting method. The surface of the ingot having a thickness of 500 mm was chamfered by 10 mm, and homogenized at 550 ° C. for 10 hours so that the intermetallic compound would not become coarse. Subsequently, it was hot-rolled at 400 ° C., subjected to intermediate annealing at 500 ° C. for 60 seconds in a continuous annealing furnace, and then cold-rolled to obtain an aluminum rolled plate having a thickness of 0.30 mm. By controlling the roughness of the rolling roll, to control the center line average roughness R a after cold rolling to 0.2 [mu] m. Then, it applied to the tension leveler in order to improve planarity. The obtained aluminum plate was subjected to the following surface treatment.
In order to remove the rolling oil on the surface of the aluminum plate, after degreasing at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution, three bundled nylon brushes having a bristle diameter of 0.3 mm and the median The aluminum surface was grained using a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) having a diameter of 25 μm and thoroughly washed with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20 mass% nitric acid at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .

次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2 、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。 Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in the nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。この板を15質量%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗、乾燥し、さらに、珪酸ナトリウム2.5質量%水溶液にて30℃で10秒処理した。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。 Next, a 0.5% by mass hydrochloric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. and nitric acid electrolysis under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate is an anode. In the same manner as above, an electrochemical surface roughening treatment was performed, followed by washing with water by spraying. This plate was provided with a direct current anodic oxide coating of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using 15% by mass sulfuric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) as an electrolyte, then washed with water and dried. Furthermore, it processed at 30 degreeC for 10 second with 2.5 mass% sodium silicate aqueous solution. The centerline average roughness (Ra) of this substrate was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm.

上記支持体上に、下記組成の下塗層塗布液(21)を、液量7.5ml/m2となるバーを用いて塗布した後、80℃、10秒でオーブン乾燥した。下記組成の画像記録層塗布液(21)をバー塗布した後、70℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形成し、この上に下記組成よりなる保護層塗布液(1)を、乾燥塗布質量が0.5g/m2となるように塗布し、120℃で1分間乾燥して平版印刷版用原板(21)を得た。 An undercoat layer coating solution (21) having the following composition was coated on the support using a bar having a liquid volume of 7.5 ml / m 2 and then oven-dried at 80 ° C. for 10 seconds. The image recording layer coating solution (21) having the following composition was applied by a bar and then oven-dried at 70 ° C. for 60 seconds to form an image recording layer having a dry coating amount of 1.0 g / m 2. The resulting protective layer coating solution (1) was applied so that the dry coating mass was 0.5 g / m 2 and dried at 120 ° C. for 1 minute to obtain a lithographic printing plate precursor (21).

<下塗層塗布液(21)>
・水 300g
・メタノール 2700g
・下記の化合物C−1 1.45g
<Undercoat layer coating solution (21)>
・ 300 g of water
・ Methanol 2700g
-The following compound C-1 1.45g

<画像記録層塗布液(21)>
・下記重合開始剤(4) 0.2g
・下記バインダーポリマー(2)(平均分子量8万) 6.0g
・重合性化合物 12.4g
イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート(東亜合成(株)製M−315)
・ロイコクリスタルバイオレット 3.0g
・熱重合禁止剤 0.1g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・下記増感色素(1) 0.5g
・テトラエチルアンモニウムクロリド 0.1g
・下記のフッ素系界面活性剤(1) 0.1g
・メチルエチルケトン 70.0g
<Image recording layer coating solution (21)>
・ The following polymerization initiator (4) 0.2 g
・ The following binder polymer (2) (average molecular weight 80,000) 6.0 g
・ Polymerizable compound 12.4g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (M-315 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ Royco Crystal Violet 3.0g
・ Thermal polymerization inhibitor 0.1g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt ・ The following sensitizing dye (1) 0.5 g
・ Tetraethylammonium chloride 0.1g
・ 0.1 g of the following fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone 70.0g

Figure 2006091838
Figure 2006091838

Figure 2006091838
Figure 2006091838

Figure 2006091838
Figure 2006091838

Figure 2006091838
Figure 2006091838

Figure 2006091838
Figure 2006091838

<保護層塗布液(1)>
ポリビニルアルコール(ケン化度95モル%、重合度800) 40g
ポリビニルピロリドン(分子量5万) 5g
ポリ(ビニルピロリドン/酢酸ビニル(1/1))分子量7万 5g
水 950g
<Protective layer coating solution (1)>
Polyvinyl alcohol (saponification degree 95 mol%, polymerization degree 800) 40 g
Polyvinylpyrrolidone (molecular weight 50,000) 5g
Poly (vinyl pyrrolidone / vinyl acetate (1/1)) molecular weight 75,5 g
950g of water

平版印刷版原版(22)の作製
画像記録層塗布液(21)の重合開始剤(4)を下記重合開始剤(3)に、また増感色素(1)を下記増感色素(2)に変更した以外は、平版印刷版原版(21)の作製と同様にして、平版印刷版原版(22)を得た。
Preparation of lithographic printing plate precursor (22) The polymerization initiator (4) of the image recording layer coating solution (21) is the following polymerization initiator (3), and the sensitizing dye (1) is the following sensitizing dye (2). A lithographic printing plate precursor (22) was obtained in the same manner as in the production of the lithographic printing plate precursor (21), except for the changes.

Figure 2006091838
Figure 2006091838

Figure 2006091838
Figure 2006091838

上記のように作製した平版印刷版原版(21)〜(22)を用いて、画像形成および印刷を行い、感度、細線再現性および白灯安全性について評価した。
露光は以下の方法で行った。即ち、平版印刷版原版を図6に示すDMD空間変調素子を用いた光学系からなる露光ヘッドを使用して、375nm(実施例21)または405nm(実施例22)半導体レーザーにて、周長900mmの外面ドラム、解像度2400dpiで、表2記載の1画素描画時間・露光エネルギーを得られるドラム回転数・レーザー出力に調整して露光した。
現像は、前記実施例19及び20と同様に行った。即ち、前記現像液(1)を浸した現像用パッドで版面を擦り処理した後、水洗した。ここで、現像液(1)のpHは9以下、液温35℃であった。
印刷は、得られた印刷版をハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mに取り付け、湿し水(EU−3(富士写真フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業社製)とを用い、毎時6000枚の印刷速度で行った。
平版印刷版原版の評価は前記実施例と同様に行った。結果を表2に示す。
Image formation and printing were performed using the lithographic printing plate precursors (21) to (22) produced as described above, and the sensitivity, fine line reproducibility, and white light safety were evaluated.
Exposure was performed by the following method. That is, the lithographic printing plate precursor was exposed to a semiconductor laser of 375 nm (Example 21) or 405 nm (Example 22) using an exposure head composed of an optical system using the DMD spatial modulation element shown in FIG. The outer drum was exposed at a resolution of 2400 dpi and adjusted to the drum rotation speed / laser output for obtaining the one-pixel drawing time / exposure energy shown in Table 2.
Development was performed in the same manner as in Examples 19 and 20. That is, the plate surface was rubbed with a developing pad immersed in the developer (1), and then washed with water. Here, the pH of the developer (1) was 9 or less, and the solution temperature was 35 ° C.
For printing, the obtained printing plate was attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and fountain solution (EU-3 (etch solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) / Water / isopropyl alcohol = 1/89/10 ( Volume ratio)) and TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), and the printing speed was 6000 sheets per hour.
The evaluation of the lithographic printing plate precursor was performed in the same manner as in the above example. The results are shown in Table 2.

Figure 2006091838
Figure 2006091838

上記の結果から明らかなように、本発明の画像形成方法および平版印刷方法(実施例21〜22)は、高感度と白灯安全性が両立し、良好な細線再現性の高画質である。   As is apparent from the above results, the image forming method and lithographic printing method of the present invention (Examples 21 to 22) have both high sensitivity and white light safety and high image quality with good fine line reproducibility.

白色蛍光灯を2時間照射した場合にカブリを生ずる記録材料の記録感度を示す図である。It is a figure which shows the recording sensitivity of the recording material which produces fog when irradiated with a white fluorescent lamp for 2 hours. 白色蛍光灯の発光分布を示す図である。It is a figure which shows the light emission distribution of a white fluorescent lamp. 照射時間に対する画像形成に必要な照射エネルギーを示す図である。It is a figure which shows the irradiation energy required for image formation with respect to irradiation time. 本発明に用いられる円筒内面走査型光ビーム走査装置を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the cylindrical inner surface scanning light beam scanning apparatus used for this invention. (a)および(b)は、それぞれ本発明に用いられるアウタードラム方式の画像記録装置の構成を表す一実施形態の平面図および側面図である。(A) And (b) is the top view and side view of one Embodiment showing the structure of the image recording apparatus of the outer drum system used for this invention, respectively. DMD空間光変調素子を用いた露光ヘッドの構成を示す光軸に沿った副走査方向の断面図である。It is sectional drawing of the subscanning direction along an optical axis which shows the structure of the exposure head using a DMD spatial light modulation element.

符号の説明Explanation of symbols

1 UVレーザー
2 電気光学変調素子
3 ハーフミラー
4 ミラー
5 光検出器
D ドラム
Lo ビーム
L1,L2,L3 レンズ
10 画像記録装置
12 露光ヘッド
14 ドラム
16 ブロードエリアアレイレーザーダイオード
18 シリンドリカルレンズ
20 コリメートレンズ
22,26 λ/2板
24 強誘電性液晶シャッターアレイ
28 検光子
30,32 レンズ
40 コントローラー
50 DMD(空間光変調素子)
56 露光面
66 ファイバアレイ光学系
67 レンズ系
72 レンズ系
74 レンズ系
76 マイクロレンズアレイ
78 アパーチャー
80 レンズ系
82 レンズ系
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 UV laser 2 Electro-optic modulation element 3 Half mirror 4 Mirror 5 Photo detector D Drum Lo beam L1, L2, L3 Lens 10 Image recording device 12 Exposure head 14 Drum 16 Broad area array laser diode 18 Cylindrical lens 20 Collimating lens 22, 26 λ / 2 plate 24 Ferroelectric liquid crystal shutter array 28 Analyzer 30, 32 Lens 40 Controller 50 DMD (Spatial light modulator)
56 Exposure surface 66 Fiber array optical system 67 Lens system 72 Lens system 74 Lens system 76 Micro lens array 78 Aperture 80 Lens system 82 Lens system

Claims (11)

マイクロポアが封孔された陽極酸化皮膜を表面とする支持体上に、(A)重合開始剤および(B)重合性化合物を含有し、波長250nm〜420nmの範囲に感光性がある画像記録層を有する平版印刷版原版を、250nm〜420nmの範囲に発振波長を有するレーザー光を用いて、1画素描画時間が1ミリ秒以下で画像様に露光する平版印刷版の画像記録方法。   An image recording layer containing (A) a polymerization initiator and (B) a polymerizable compound on a support having an anodized film with micropores sealed on the surface, and having photosensitivity in the wavelength range of 250 nm to 420 nm. An image recording method for a lithographic printing plate comprising exposing a lithographic printing plate precursor having a laser beam having an oscillation wavelength in the range of 250 nm to 420 nm in an image-like manner with a one-pixel drawing time of 1 millisecond or less. 上記レーザー光波長が405nm、375nm、365nm、355nmおよび266nmから選ばれるいずれかの波長であることを特徴とする請求項1記載の画像記録方法。   2. The image recording method according to claim 1, wherein the laser beam wavelength is any one selected from 405 nm, 375 nm, 365 nm, 355 nm and 266 nm. DMDまたはGLV変調素子と波長405nmまたは375nm半導体レーザーとからなる光学系を用いて露光することを特徴とする請求項1記載の画像記録方法。   2. The image recording method according to claim 1, wherein the exposure is performed using an optical system comprising a DMD or GLV modulation element and a semiconductor laser having a wavelength of 405 nm or 375 nm. レーザー光波長が365nm、355nmおよび266nmから選ばれるいずれかの波長であり、インナードラム方式で露光することを特徴とする請求項1記載の画像記録方法。   2. The image recording method according to claim 1, wherein the laser light wavelength is any one selected from 365 nm, 355 nm, and 266 nm, and exposure is performed by an inner drum system. 画像記録層が更に(C)バインダーポリマーを含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の画像記録方法。   The image recording method according to any one of claims 1 to 4, wherein the image recording layer further contains (C) a binder polymer. 請求項1〜5のいずれかに記載の画像記録方法によって得られた露光済み平版印刷版原版に、印刷インキおよび/または湿し水を供給して行う機上現像を施したのち、印刷することを含む平版印刷方法。   Printing on the exposed lithographic printing plate precursor obtained by the image recording method according to any one of claims 1 to 5 after being subjected to on-press development performed by supplying printing ink and / or fountain solution. Including lithographic printing methods. 支持体上に、(A)重合開始剤および(B)重合性化合物を含有し、波長250nm〜420nmの範囲に感光性がある画像記録層を有する平版印刷版原版を、波長250nm〜420nmの範囲の光を放射するレーザー光を用いて、1画素描画時間が1ミリ秒以下で露光し、現像液で現像することを含む平版印刷版の製版方法。   A lithographic printing plate precursor having an image recording layer containing (A) a polymerization initiator and (B) a polymerizable compound and having a photosensitivity in a wavelength range of 250 nm to 420 nm on a support, in a wavelength range of 250 nm to 420 nm. A method for making a lithographic printing plate, comprising exposing a pixel drawing time of 1 millisecond or less using a laser beam that emits the light and developing with a developer. 支持体が、マイクロポアが封孔された陽極酸化皮膜を表面とすることを特徴とする請求項7記載の平版印刷版の製版方法。   8. The method of making a lithographic printing plate according to claim 7, wherein the support has an anodized film with micropores sealed as a surface. 現像液が、pH10以下の非アルカリ現像液であることを特徴とする請求項7又は8記載の平版印刷版の製版方法。   The lithographic printing plate making method according to claim 7 or 8, wherein the developer is a non-alkaline developer having a pH of 10 or less. 画像記録層が更に(C)バインダーポリマーを含有することを特徴とする請求項7〜9のいずれかに記載の平版印刷版の製版方法。   The lithographic printing plate making method according to any one of claims 7 to 9, wherein the image recording layer further comprises (C) a binder polymer. (C)バインダーポリマーが酸基を含有しないことを特徴とする請求項10に記載の平版印刷版の製版方法。   (C) The lithographic printing plate making method according to claim 10, wherein the binder polymer does not contain an acid group.
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