JP2006058784A - Substrate positioning mechanism, substrate positioning method, substrate carrying apparatus and image forming apparatus - Google Patents

Substrate positioning mechanism, substrate positioning method, substrate carrying apparatus and image forming apparatus Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate positioning mechanism and a substrate positioning method for positioning a substrate in a simple structure while preventing deformation or damages in the substrate, and to provide a substrate carrying apparatus equipped with the substrate positioning mechanism, and an image recording apparatus equipped with the substrate carrying apparatus. <P>SOLUTION: A top end positioning unit 50 disposed in the downstream side of a carrying support roller 16 in the carrying direction includes a plurality of sensor holders 52 and a holding block 54 integrally holding the sensor holders 52. When the substrate material 200 is detected by a positioning sensor 62 mounted on the sensor holder 52, a ball screw 59 is rotated by a top end positioning motor 60 to move the top end positioning unit 50 in the downstream side of the carrying direction. This reduces the contact pressure on touching and prevents deformation or damages in the substrate material 200. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、基板位置決め機構、基板位置決め方法、基板搬送装置及び画像形成装置に関し、さらに詳しくは、プリント配線基板等の基板を所定の位置に位置決めする基板位置決め機構及び基板位置決め方法と、この基板位置決め機構を備えた基板搬送装置、及びこの基板搬送装置を備え画像情報に基づいて変調された光ビームによりプリント配線基板等における描画領域を露光して画像を形成するた画像形成装置に関する。   The present invention relates to a substrate positioning mechanism, a substrate positioning method, a substrate transport apparatus, and an image forming apparatus. More specifically, the present invention relates to a substrate positioning mechanism and a substrate positioning method for positioning a substrate such as a printed wiring board at a predetermined position, and this substrate positioning. The present invention relates to a substrate transport apparatus including a mechanism, and an image forming apparatus including the substrate transport apparatus and forming an image by exposing a drawing region on a printed wiring board or the like with a light beam modulated based on image information.

従来から、例えばプリント配線基板(以下、単に「基板」という場合がある)等に配線パターンを形成する画像形成装置としてのレーザー露光装置が知られている。このレーザー露光装置には、画像露光の対象となるプリント配線基板を載置する(ロードする)ステージ部材が備えられ、そのステージ部材を所定の搬送経路に沿って移動させるようになっている。   2. Description of the Related Art Conventionally, a laser exposure apparatus is known as an image forming apparatus that forms a wiring pattern on, for example, a printed wiring board (hereinafter sometimes simply referred to as “substrate”). This laser exposure apparatus is provided with a stage member on which a printed wiring board to be subjected to image exposure is placed (loaded), and the stage member is moved along a predetermined conveyance path.

ステージ上では、基板を所定の位置で正確に位置決めして支持する必要があるため、たとえば、検知手段からの検知信号とあらかじめ入力されるサイズ情報信号とに基づいて、移動機構部を制御して予備位置決めする予備位置決め機構が知られている(特許文献1参照)。   Since it is necessary to accurately position and support the substrate at a predetermined position on the stage, for example, the moving mechanism unit is controlled based on the detection signal from the detection means and the size information signal input in advance. A preliminary positioning mechanism that performs preliminary positioning is known (see Patent Document 1).

ところで、基板を位置決めするときには、何らかの部材に基板を突き当てて位置決めすれば、簡単な構成で位置決め可能であるが、単に基板を突き当てると、基板が変形や損傷を受けることがある。
特開2003−229470号公報
By the way, when positioning the substrate, the substrate can be positioned with a simple configuration if it is positioned by abutting against a certain member. However, if the substrate is simply abutted, the substrate may be deformed or damaged.
JP 2003-229470 A

本発明は上記事実を考慮し、簡単な構成で、基板の変形や損傷を防止して位置決め可能な基板位置決め機構及び基板位置決め方法と、この基板位置決め機構を備えた基板搬送装置、及びこの基板搬送装置を備えた画像記録装置を得ることを課題とする。   In consideration of the above-described facts, the present invention provides a substrate positioning mechanism and a substrate positioning method that can be positioned with a simple configuration while preventing deformation and damage of the substrate, a substrate transport apparatus including the substrate positioning mechanism, and the substrate transport An object is to obtain an image recording apparatus including the apparatus.

請求項1に記載の発明では、所定の搬入方向に沿って搬入された基板の先端が突き当てられる突き当て部材と、前記突き当て部材を、基板の搬入速度よりも遅い速度で搬入と同じ向きに移動させる移動手段と、を有することを特徴とする。   In the first aspect of the present invention, the abutting member that abuts the front end of the substrate carried in along a predetermined carrying-in direction and the abutting member in the same direction as the carry-in at a speed slower than the carry-in speed of the substrate. And moving means for moving to.

この基板位置決め機構では、たとえば、請求項5に記載の基板位置決め方法で基板を位置決めすることができる。   In this substrate positioning mechanism, for example, the substrate can be positioned by the substrate positioning method according to claim 5.

すなわち、所定の搬入方向に沿って搬入された基板に対し、移動手段によって突き当て部材を基板の搬入速度よりも遅い速度で搬入と同じ向きに移動させながら、基板の先端を突き当て部材に突き当てる。これにより、突き当て部材が静止している場合と比較して、突き当て時の突き当て部材に対する基板の相対速度が小さくなるので、基板の変形や損傷を防止しつつ、基盤を位置決めできる。移動手段によって突き当て部材を移動させるだけなので、簡単な構成となる。   That is, the front end of the substrate is pushed against the abutting member while the abutting member is moved by the moving means in the same direction as the loading at a speed slower than the loading speed of the substrate with respect to the substrate carried in along the predetermined loading direction. Hit it. Thereby, compared with the case where the abutting member is stationary, the relative speed of the substrate with respect to the abutting member at the time of abutting is reduced, so that the substrate can be positioned while preventing deformation and damage of the substrate. Since only the abutting member is moved by the moving means, the configuration is simple.

請求項1に記載の発明では、請求項2に記載のように、移動中の前記突き当て部材に基板が突き当てられるタイミングで前記移動手段を駆動する駆動手段、を有する構成とすることが可能である。   According to the first aspect of the present invention, as described in the second aspect, it is possible to have a drive unit that drives the moving unit at a timing when the substrate is abutted against the abutting member that is moving. It is.

請求項2に記載の基板位置決め機構では、たとえば、請求項6に記載の基板位置決め方法で基板を位置決めすることができる。   In the substrate positioning mechanism according to the second aspect, for example, the substrate can be positioned by the substrate positioning method according to the sixth aspect.

すなわち、駆動手段が、突き当て部材への基板の突き当て後に突き当て部材の移動を停止する。このように突き当て部材の移動を停止させることで、基板を確実に位置決めできる。   That is, the drive means stops the movement of the abutting member after the substrate is abutted against the abutting member. Thus, by stopping the movement of the abutting member, the substrate can be reliably positioned.

請求項3に記載の発明では、請求項1又は請求項2に記載の発明において、前記突き当て部材が、前記基板に対し幅方向の少なくとも2箇所で基板の搬入方向端辺に接触可能とされていることを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect of the present invention, the abutting member can be brought into contact with the substrate loading direction edge at at least two locations in the width direction with respect to the substrate. It is characterized by.

この基板位置決め機構では、たとえば、請求項7に記載の基板位置決め方法で基板を位置決めすることができる。   In this substrate positioning mechanism, for example, the substrate can be positioned by the substrate positioning method according to claim 7.

すなわち、基板の先端を突き当て部材に突き当てるときに、基板に対し幅方向の少なくとも2箇所で基板の搬入方向端辺に接触させて突き当てる。これにより、基板の傾きを矯正することができる。   That is, when the front end of the substrate is abutted against the abutting member, it abuts against the substrate in contact with the edges in the loading direction of the substrate at at least two places in the width direction. Thereby, the inclination of the substrate can be corrected.

また、請求項7に記載の基板位置決め方法では、請求項8に記載のように、突き当て部材の停止後に突き当て部材を基板の搬入と逆向きに所定距離移動させるようにすれば、この突き当て部材の逆向きの移動で、基板の傾きをより確実に矯正することができる。   Further, in the substrate positioning method according to claim 7, as described in claim 8, if the abutting member is moved by a predetermined distance in the direction opposite to the loading of the substrate after the abutting member is stopped, this abutting is performed. The inclination of the substrate can be more reliably corrected by the movement of the contact member in the reverse direction.

請求項4に記載の発明では、請求項3に記載の発明において、前記突き当て部材よりも搬入方向上流側に設けられ基板を検出する検出手段と、前記検出手段によって基板が検出された後で移動手段を制御して突き当て部材を移動させる制御手段と、を有することを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect of the present invention, the detection means provided on the upstream side in the carry-in direction with respect to the abutting member, and the substrate is detected by the detection means Control means for moving the abutting member by controlling the moving means.

この基板位置決め機構では、たとえば請求項9に記載の基板位置決め方法で基板を位置決めできる。   In this substrate positioning mechanism, for example, the substrate can be positioned by the substrate positioning method according to claim 9.

すなわち、検出手段によって基板の存在が検出された後、移動手段による突き当て部材の移動を開始する。基板が存在していないときには突き当て部材を移動させないので、効率的に基板を位置決めすることができる。   That is, after the presence of the substrate is detected by the detection means, the movement of the abutting member by the movement means is started. Since the abutting member is not moved when the substrate is not present, the substrate can be positioned efficiently.

請求項10に記載の発明では、請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の基板位置決め機構と、前記基板位置決め機構によって位置決めされた基板を吸着してステージ部へ搬送する吸着ユニットと、を有することを特徴とする。   In invention of Claim 10, The board | substrate positioning mechanism of any one of Claims 1-4, The adsorption | suction unit which adsorb | sucks the board | substrate positioned by the said board | substrate positioning mechanism, and conveys to a stage part It is characterized by having.

請求項1〜請求項4のいずれか1項に基材の基板位置決め機構を備えているので、簡単な構成で、基板の変形や損傷を防止しつつ、基盤を位置決めできる。   Since the substrate positioning mechanism for the base material is provided in any one of claims 1 to 4, the substrate can be positioned with a simple configuration while preventing deformation and damage of the substrate.

そして、この位置決めされた基板を、吸着ユニットで吸着して、ステージ部へ搬送できる。   Then, the positioned substrate can be sucked by the suction unit and transported to the stage unit.

請求項11に記載の発明では、請求項10に記載の基板搬送装置と、前記ステージ部に載置された基板の描画領域を露光し、この描画領域に画像を形成する露光装置と、を有することを特徴とする。   According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided the substrate transfer apparatus according to the tenth aspect, and an exposure apparatus that exposes a drawing area of the substrate placed on the stage unit and forms an image in the drawing area. It is characterized by that.

この画像形成装置を構成する請求項10に記載の基板搬送装置は、請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の基板位置決め機構を備えているので、簡単な構成で、基板の変形や損傷を防止しつつ、基盤を位置決めできる。   The substrate transfer device according to claim 10 constituting the image forming apparatus includes the substrate positioning mechanism according to any one of claims 1 to 4, so that the substrate can be deformed with a simple configuration. The base can be positioned while preventing damage.

そして、位置決めされ、ステージ部へ搬送された基板に対し、露光装置により、基板の描画領域に所望の画像を形成できる。   Then, a desired image can be formed on the drawing region of the substrate by the exposure apparatus on the substrate that has been positioned and transported to the stage unit.

請求項12に記載の発明では、請求項11に記載の発明において、前記ステージ部を所定の搬送経路に沿って移動させる移動機構、を備え、前記露光装置が、前記ステージ部に載置された基板の描画領域を画像情報に基づいて変調された光ビームにより露光し、この描画領域に画像を形成する、ことを特徴とする
したがって、移動機構によりステージ部を移動させつつ、ステージ部と共に移動する基板に対し露光装置により光ビームを照射して、描画領域に画像を形成できる。
According to a twelfth aspect of the present invention, in the invention according to the eleventh aspect, the apparatus further comprises a moving mechanism that moves the stage unit along a predetermined transport path, and the exposure apparatus is placed on the stage unit. The drawing area of the substrate is exposed by a light beam modulated based on image information, and an image is formed in the drawing area. Accordingly, the stage unit is moved by the moving mechanism and moved together with the stage unit. An image can be formed in the drawing area by irradiating the substrate with a light beam by an exposure apparatus.

本発明は上記構成としたので、簡単な構成で、基板の変形や損傷を防止して位置決めできる。   Since the present invention has the above-described configuration, it can be positioned with a simple configuration while preventing deformation and damage of the substrate.

図1及び図2には、本発明の一実施形態の画像形成装置100が示されている。画像形成装置100は、レーザー露光装置126と、基板搬送装置10と、で構成されている。レーザー露光装置126は、プリント配線基板(液晶ディスプレイ用の基板等であってもよい)の材料となる薄板状の基板材料200を、画像情報により変調されたレーザービームにより露光し、その基板材料200における描画領域に、プリント配線基板の配線パターンに対応する画像(潜像)を形成するものである。また、基板搬送装置10は、図示しない前処理工程から搬入された基板材料200をレーザー露光装置126へ搬送し、かつレーザー露光装置126から露光済みの基板材料200を排出するものである。   1 and 2 show an image forming apparatus 100 according to an embodiment of the present invention. The image forming apparatus 100 includes a laser exposure device 126 and a substrate transfer device 10. The laser exposure device 126 exposes a thin plate-like substrate material 200 that is a material of a printed wiring board (which may be a substrate for a liquid crystal display or the like) with a laser beam modulated by image information. An image (latent image) corresponding to the wiring pattern of the printed wiring board is formed in the drawing area in FIG. The substrate transport apparatus 10 transports the substrate material 200 carried in from a pre-processing step (not shown) to the laser exposure apparatus 126 and discharges the exposed substrate material 200 from the laser exposure apparatus 126.

なお、本実施形態では、前処理工程から基板搬送装置10への搬入方向と、基板搬送装置10からレーザー露光装置126への搬送方向とは一致しているため、以下では、これらを区別することなく「搬送方向」とする。   In the present embodiment, since the carry-in direction from the pretreatment process to the substrate transfer apparatus 10 and the transfer direction from the substrate transfer apparatus 10 to the laser exposure apparatus 126 coincide with each other, these will be distinguished below. Instead, the “conveyance direction” is used.

図3に示すように、基板材料200には、その露光面(上面)202に、予め配線パターンに対応する潜像が形成される複数の描画領域(図示省略)が設定されており、これら複数の描画領域にそれぞれ対応する複数組のアライメントマーク(図示省略)が形成されている。なお、以下において、ステージ部材110の移動方向を副走査方向(図4において矢印Sで示す)とし、それと直交する方向を主走査方向(図4において矢印Mで示す)とする。   As shown in FIG. 3, a plurality of drawing regions (not shown) in which a latent image corresponding to the wiring pattern is formed in advance on the exposure surface (upper surface) 202 of the substrate material 200. A plurality of sets of alignment marks (not shown) corresponding to the respective drawing regions are formed. In the following, the moving direction of the stage member 110 is defined as a sub-scanning direction (indicated by an arrow S in FIG. 4), and a direction orthogonal thereto is defined as a main scanning direction (indicated by an arrow M in FIG. 4).

図3に示すように、レーザー露光装置126には、所定の厚さに形成された支持基台102が設けられている。支持基台102は、その上面形状が基板材料200に対する副走査方向を長手方向とする略長方形状とされており、振動が遮断されるように防振ゴム104等を介してフロア上に水平に設置されている。   As shown in FIG. 3, the laser exposure apparatus 126 is provided with a support base 102 formed to a predetermined thickness. The upper surface of the support base 102 has a substantially rectangular shape whose longitudinal direction is the sub-scanning direction with respect to the substrate material 200. The support base 102 is horizontally placed on the floor via an anti-vibration rubber 104 or the like so that vibration is blocked. is set up.

また、支持基台102の上面部には、一対のガイドレール106が副走査方向と平行に配設されており、そのガイドレール106上には、基板載置用のステージ部材110が移動可能に配置されている。ステージ部材110は、その上面形状が基板材料200に対する副走査方向を長手方向とする略長方形状とされており、その下面で、かつ四隅には、それぞれ副走査方向に沿って直線的に延伸する断面視略逆「凹」字状のガイド部材108が取り付けられている。そして、これらガイド部材108がガイドレール106に摺動可能に嵌合されている。   A pair of guide rails 106 are arranged on the upper surface of the support base 102 in parallel with the sub-scanning direction, and a stage member 110 for placing a substrate is movable on the guide rails 106. Has been placed. The stage member 110 has an upper surface shape that is substantially rectangular with the sub-scanning direction with respect to the substrate material 200 as a longitudinal direction, and extends linearly along the sub-scanning direction at the lower surface and at the four corners. A guide member 108 having a substantially concave “concave” shape in cross-sectional view is attached. These guide members 108 are slidably fitted to the guide rails 106.

また、一対のガイドレール106の間には、支持基台102上に固定されたベアリング等の軸受け(図示省略)を介して、ボールねじ112が副走査方向に沿って(ガイドレール106と平行に)設けられている。ボールねじ112の一端には、ボールねじ112を回転駆動する駆動モーター114が設けられている。そして、ステージ部材110の下面中央には、そのボールねじ112が螺合する筒状部材(図示省略)が、副走査方向に沿って配設されている。したがって、ステージ部材110は、駆動モーター114によってボールねじ112が正逆方向に回転することにより、筒状部材を介して、一対のガイドレール106に沿って進退(往復)移動可能となる。   Further, between the pair of guide rails 106, a ball screw 112 is arranged along the sub-scanning direction (in parallel with the guide rail 106) via a bearing (not shown) such as a bearing fixed on the support base 102. ) Is provided. One end of the ball screw 112 is provided with a drive motor 114 that rotationally drives the ball screw 112. In the center of the lower surface of the stage member 110, a cylindrical member (not shown) to which the ball screw 112 is screwed is disposed along the sub-scanning direction. Therefore, the stage member 110 can move forward and backward (reciprocate) along the pair of guide rails 106 via the cylindrical member when the ball screw 112 is rotated in the forward and reverse directions by the drive motor 114.

また、支持基台102上の副走査方向略中央には、ステージ部材110を跨ぐようにして、正面視略逆「凹」字状の支持ゲート116が立設されている。この支持ゲート116の所定位置には、基板材料200上に設けられた複数組のアライメントマークを読み取るための複数(例えば4基)のCCDカメラ118が配設されている。各CCDカメラ118は、撮像時の光源として1回の発光時間が極めて短いストロボを内蔵しており、このストロボの発光時のみ撮像が可能となるように、その感度が調整されている。   Further, a support gate 116 having a substantially inverted “concave” shape in front view is erected so as to straddle the stage member 110 at a substantially center in the sub-scanning direction on the support base 102. A plurality of (for example, four) CCD cameras 118 for reading a plurality of sets of alignment marks provided on the substrate material 200 are disposed at predetermined positions of the support gate 116. Each CCD camera 118 has a built-in strobe with a very short light emission time as a light source at the time of imaging, and the sensitivity is adjusted so that imaging can be performed only when the strobe emits light.

したがって、各CCDカメラ118は、その光軸上に位置する撮像位置をステージ部材110が通過する際に、所定のタイミングでストロボを発光させることにより、基板材料200におけるアライメントマークを含む撮像範囲をそれぞれ撮像することが可能となっている。なお、各CCDカメラ118は、基板材料200の幅方向(主走査方向)に沿って、それぞれ異なる領域を撮像範囲としており、撮像対象となる基板材料200に形成された複数組のアライメントマークの位置に応じて、予め所定の位置に配設されている。   Therefore, each CCD camera 118 emits a strobe at a predetermined timing when the stage member 110 passes through an imaging position located on the optical axis, thereby setting an imaging range including an alignment mark in the substrate material 200. It is possible to image. Each CCD camera 118 has a different imaging area along the width direction (main scanning direction) of the substrate material 200, and positions of a plurality of alignment marks formed on the substrate material 200 to be imaged. In response to this, it is disposed in advance at a predetermined position.

また、そのCCDカメラ118が取り付けられた支持ゲート116の副走査方向下流側には、複数の露光ヘッド120を支持する露光部124が配設されている。露光ヘッド120は、その真下の露光位置を基板材料200が通過するときに、画像情報に基づいて変調された複数本のレーザービームを基板材料200の露光面202へ照射し、その露光面202に、プリント配線基板の配線パターンに対応する画像(潜像)を形成するようになっている。   An exposure unit 124 that supports the plurality of exposure heads 120 is disposed downstream of the support gate 116 to which the CCD camera 118 is attached in the sub-scanning direction. The exposure head 120 irradiates the exposure surface 202 of the substrate material 200 with a plurality of laser beams modulated based on the image information when the substrate material 200 passes through the exposure position directly below the exposure head 120. An image (latent image) corresponding to the wiring pattern of the printed wiring board is formed.

各露光ヘッド120は、支持基台102の幅方向(主走査方向)に沿って、m行n列(例えば2行4列)の略マトリックス状に配列されており、図4(B)で示すように、1つの露光ヘッド120よる露光エリア122は、副走査方向を短辺とする矩形状で、かつ副走査方向に対して所定の傾斜角で傾斜している。   The exposure heads 120 are arranged in a substantially matrix of m rows and n columns (for example, 2 rows and 4 columns) along the width direction (main scanning direction) of the support base 102, and is shown in FIG. As described above, the exposure area 122 by one exposure head 120 has a rectangular shape with a short side in the sub-scanning direction and is inclined at a predetermined inclination angle with respect to the sub-scanning direction.

また、このレーザー露光装置126には、ステージ部材110の移動を妨げない場所(例えば図1において、ドア92から最も遠い奥側)に、光源ユニット(図示省略)が配設されている。この光源ユニットはレーザー発生装置を収容しており、このレーザー発生装置から出射するレーザー光を光ファイバー(図示省略)を介して、各露光ヘッド120へ案内している。   In the laser exposure device 126, a light source unit (not shown) is disposed at a location that does not hinder the movement of the stage member 110 (for example, the farthest side from the door 92 in FIG. 1). The light source unit accommodates a laser generator, and guides laser light emitted from the laser generator to each exposure head 120 via an optical fiber (not shown).

各露光ヘッド120は、光ファイバーによって案内されて入射されたレーザー光を空間光変調素子である図示しないデジタル・マイクロミラー・デバイス(以下、「DMD」という)によって、ドット単位で制御し、基板材料200に対してドットパターンを露光するようになっている。この複数のドットパターンを用いて1画素の濃度を表現するようになっている。   Each exposure head 120 controls the incident laser light guided by an optical fiber in units of dots by a digital micromirror device (hereinafter referred to as “DMD”) (not shown) which is a spatial light modulation element. Is exposed to a dot pattern. The density of one pixel is expressed using the plurality of dot patterns.

したがって、図4(A)に示すように、ステージ部材110の移動に伴い、基板材料200には露光ヘッド120毎に帯状の露光済み領域204が形成されるが、二次元配列のドットパターンは、副走査方向に対して傾斜されていることで、副走査方向に並ぶ各ドットが、副走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっている。このため、実質的なドット間ピッチを狭めることができ、高解像度化を実現することができる。   Therefore, as shown in FIG. 4A, with the movement of the stage member 110, a strip-shaped exposed region 204 is formed in the substrate material 200 for each exposure head 120, but the two-dimensional array of dot patterns is By being inclined with respect to the sub-scanning direction, the dots arranged in the sub-scanning direction pass between the dots arranged in the direction crossing the sub-scanning direction. For this reason, a substantial pitch between dots can be narrowed, and high resolution can be realized.

ここで、このレーザー露光装置126の作用を説明する。まず、ロード・アンロード位置に待機しているステージ部材110に基板材料200が載置されると、駆動モーター114の駆動によりボールねじ112が回転し、ステージ部材110が副走査方向に移動する。そして、CCDカメラ118によってアライメントマークが撮像される。撮像されたアライメントマークの位置情報に基づき、1つの描画領域に対応して設けられた複数個のアライメントマークの位置をそれぞれ判断し、これらのアライメントマークの位置から描画領域の副走査方向及び主走査方向(幅方向)に沿った位置及び描画領域の副走査方向に対する傾き量をそれぞれ判断する。   Here, the operation of the laser exposure apparatus 126 will be described. First, when the substrate material 200 is placed on the stage member 110 waiting at the load / unload position, the ball screw 112 is rotated by the drive motor 114 and the stage member 110 moves in the sub-scanning direction. Then, the alignment mark is imaged by the CCD camera 118. Based on the position information of the imaged alignment marks, the positions of a plurality of alignment marks provided corresponding to one drawing area are respectively determined, and the sub-scanning direction and main scanning of the drawing area are determined from the positions of these alignment marks. A position along the direction (width direction) and an inclination amount of the drawing area with respect to the sub-scanning direction are determined.

そして、基板材料200における描画領域の主走査方向(幅方向)に沿った位置及び副走査方向に対する傾き量に基づいて、画像情報(配線パターン)に対する変換処理を実行し、変換処理した画像情報をフレームメモリー内に格納する。この画像情報は、画像を構成する各画素の濃度を2値(ドットの記録の有無)で表したデータである。   Then, based on the position of the drawing region in the substrate material 200 along the main scanning direction (width direction) and the amount of inclination with respect to the sub-scanning direction, a conversion process is performed on the image information (wiring pattern), and the converted image information is displayed. Store in frame memory. This image information is data representing the density of each pixel constituting the image as binary values (whether or not dots are recorded).

なお、変換処理の内容としては、座標原点を中心として画像情報を回転させる座標変換処理、副走査方向に沿った画像の回転処理、主走査方向(幅方向)に対応する座標軸に沿って画像情報を平行移動させる座標変換処理が含まれる。更に、必要に応じて、描画領域の主走査方向(幅方向)及び副走査方向に沿った伸長量及び縮長量に対応させて、画像情報を伸長又は縮長させる歪み補正処理を実行する。   The contents of the conversion processing include coordinate conversion processing for rotating image information around the coordinate origin, image rotation processing along the sub-scanning direction, and image information along the coordinate axis corresponding to the main scanning direction (width direction). Includes a coordinate transformation process for translating. Furthermore, if necessary, a distortion correction process for expanding or contracting image information is executed in accordance with the expansion amount and the reduction amount along the main scanning direction (width direction) and sub-scanning direction of the drawing area.

その後、ステージ部材110が移動し、基板材料200における描画領域の先端が露光ヘッド120真下の露光位置に達するタイミングに同期して、フレームメモリーに記憶された画像情報を複数ライン分ずつ順次読み出し、その画像情報に基づいて各DMDがオン・オフ制御される。そして、そのDMDにレーザー光が照射されると、DMDがオン状態のときに反射されたレーザー光が、図示しないレンズ系により基板材料200の露光面202上に結像される。   Thereafter, the stage member 110 is moved, and the image information stored in the frame memory is sequentially read out for each of a plurality of lines in synchronization with the timing at which the leading end of the drawing area in the substrate material 200 reaches the exposure position directly below the exposure head 120. Each DMD is on / off controlled based on the image information. When the DMD is irradiated with laser light, the laser light reflected when the DMD is on is imaged on the exposure surface 202 of the substrate material 200 by a lens system (not shown).

このようにして、光源ユニットから出射されたレーザー光が画素毎にオン・オフされることにより、基板材料200の描画領域が、DMDの使用画素数と略同数の画素単位(露光エリア122)で露光される。つまり、ステージ部材110が一定の走査速度で移動されることにより、基板材料200は、そのステージ部材110の移動方向と反対方向に複数のレーザービームで走査・露光され、各露光ヘッド120毎に帯状の露光済み領域204が形成される(図5(A)参照)。   In this way, the laser light emitted from the light source unit is turned on / off for each pixel, so that the drawing area of the substrate material 200 is approximately the same number of pixels (exposure area 122) as the number of pixels used in the DMD. Exposed. In other words, when the stage member 110 is moved at a constant scanning speed, the substrate material 200 is scanned and exposed with a plurality of laser beams in the direction opposite to the moving direction of the stage member 110, and a strip shape is formed for each exposure head 120. The exposed region 204 is formed (see FIG. 5A).

次に、以上のようなレーザー露光装置126へ基板材料200を搬入し、かつレーザー露光装置126から露光済みの基板材料200を排出する基板搬送装置10について説明する。図2に示すように、レーザー露光装置126のステージ部材110の移動する副走査方向と直交する左右両側で、かつステージ部材110の移動方向始端側(ロード・アンロード位置)には、それぞれ搬入部12と排出部14が隣接して配置されている。図2において、基板材料200が右(矢印Rで示す)から搬入され、左(矢印Lで示す)から排出されると仮定すると、右側が搬入部12となり、左側が排出部14となる。この搬入部12が本発明の基板位置決め機構13を備えており、搬入された基板材料200を位置決めして、ステージ部材110に送る。   Next, the substrate transfer apparatus 10 that carries the substrate material 200 into the laser exposure apparatus 126 as described above and discharges the exposed substrate material 200 from the laser exposure apparatus 126 will be described. As shown in FIG. 2, on the left and right sides orthogonal to the sub-scanning direction in which the stage member 110 of the laser exposure device 126 moves, and on the start end side (load / unload position) of the stage member 110 in the moving direction, 12 and the discharge part 14 are arrange | positioned adjacently. In FIG. 2, assuming that the substrate material 200 is loaded from the right (indicated by an arrow R) and discharged from the left (indicated by an arrow L), the right side is the loading unit 12 and the left side is the discharging unit 14. The carry-in unit 12 includes the substrate positioning mechanism 13 of the present invention, positions the loaded substrate material 200, and sends it to the stage member 110.

搬入部12、ステージ部材110、排出部14の上方には、そのステージ部材110の移動方向(副走査方向)と直交する方向(主走査方向)に、一対の図示しないガイドレールが架設されており、そのガイドレールに、1又は複数(図2では2つ)の走行体30が、移動可能に支持されている。   A pair of guide rails (not shown) are installed above the carry-in unit 12, the stage member 110, and the discharge unit 14 in a direction (main scanning direction) orthogonal to the moving direction (sub-scanning direction) of the stage member 110. One or a plurality of (two in FIG. 2) traveling bodies 30 are movably supported on the guide rail.

ガイドレール26の隣には、ボールねじ27がガイドレール26と平行に架設されており、走行体30のねじ孔(図示省略)に螺合されている。したがって、走行体30は、駆動モーター38によってボールねじ27が正逆方向に回転することにより、ガイドレール26に沿って主走査方向に往復移動する。   Next to the guide rail 26, a ball screw 27 is installed in parallel with the guide rail 26 and screwed into a screw hole (not shown) of the traveling body 30. Accordingly, the traveling body 30 reciprocates in the main scanning direction along the guide rail 26 when the ball screw 27 rotates in the forward and reverse directions by the drive motor 38.

走行体30には、吸着ユニット40が昇降自在に取り付けられている。吸着ユニット40には複数の搬送用吸盤48が設けられており、各搬送用吸盤48には、エア吸引用の図示しないチューブが接続されている。そして、このチューブを介して搬送用吸盤48の先端からエアが吸引されることにより、搬送用吸盤48による基板材料200の吸着が可能となる。   An adsorption unit 40 is attached to the traveling body 30 so as to be movable up and down. The suction unit 40 is provided with a plurality of suction cups 48 for transportation, and a tube (not shown) for air suction is connected to each suction cup 48 for transportation. Then, air is sucked from the tip of the suction cup 48 for conveyance through this tube, so that the substrate material 200 can be adsorbed by the suction cup 48 for conveyance.

吸着ユニット40は、昇降機構56によって昇降移動可能となっている。したがって、基板材料200の厚さの変化に柔軟に対応可能である。   The suction unit 40 can be moved up and down by a lifting mechanism 56. Therefore, it is possible to flexibly cope with a change in the thickness of the substrate material 200.

図5(B)に示すように、搬入部12(基板位置決め機構13)は、基板材料200の搬送路よりも下方に位置するホルダー22を備えている。ホルダー22にはボールねじ23が螺合されており、幅方向移動モーター24によるボールねじ23の回転で基板材料200の幅方向(矢印W方向)へと移動するようになっている。この移動により、後述するように、基板材料200の幅方向の中心を、基板搬送装置10における搬送中心C1に一致させることができる。   As shown in FIG. 5B, the carry-in unit 12 (substrate positioning mechanism 13) includes a holder 22 positioned below the conveyance path for the substrate material 200. A ball screw 23 is screwed to the holder 22, and the ball screw 23 is rotated by the width direction moving motor 24 so as to move in the width direction (arrow W direction) of the substrate material 200. By this movement, as will be described later, the center in the width direction of the substrate material 200 can be made to coincide with the transport center C1 in the substrate transport apparatus 10.

図5(A)に示すように、ホルダー22には、搬入方向に沿って一定間隔をあけて配置された複数の搬送支持ローラ16と、搬送支持ローラ16よりも搬送方向上流側に設けられた導入ローラ18とが備えられている。搬送支持ローラ16及び導入ローラ18は同一の径及び長さとされており、搬送モーター20の回転駆動力を受けて回転する。したがって、搬送支持ローラ16及び導入ローラ18で基板材料200を支持しつつ回転することで、基板材料200を搬送することができる。   As shown in FIG. 5A, the holder 22 is provided with a plurality of transport support rollers 16 arranged at regular intervals along the carry-in direction, and on the upstream side of the transport support roller 16 in the transport direction. An introduction roller 18 is provided. The conveyance support roller 16 and the introduction roller 18 have the same diameter and length, and are rotated by receiving the rotational driving force of the conveyance motor 20. Therefore, the substrate material 200 can be conveyed by rotating while supporting the substrate material 200 by the conveyance support roller 16 and the introduction roller 18.

さらにホルダー22には、図示しない昇降支持部材によって、略平板状の昇降ステージ28が昇降可能に配置されている。昇降ステージ28にはボールねじ29が螺合されており、ステージ昇降モーター32の駆動によって、搬送支持ローラ16に支持された基板材料200に接近する接近位置(たとえば図5(B)参照)と、基板材料200から離間する離間位置(たとえば図14(B)参照)との間を昇降する。また、搬送用吸盤48に対しては、基板材料200を挟んで昇降ステージ28が対向するようになっている。したがって、後述するように、接近位置では、搬送用吸盤48によって押圧された基板材料200が撓んだ場合に、この撓んだ基板材料200が昇降ステージ28に接触して撓みが制限される。また、離間位置では、基板材料200の搬送に支障が出ないように搬送経路から退避している。昇降ステージ28の昇降量は、昇降量センサ31によって検出される。   Furthermore, a substantially flat lifting stage 28 is disposed on the holder 22 so as to be lifted by a lifting support member (not shown). A ball screw 29 is screwed onto the elevating stage 28, and an approach position (see, for example, FIG. 5B) approaching the substrate material 200 supported by the conveyance support roller 16 by driving the stage elevating motor 32. It raises / lowers between a separation position (see, for example, FIG. 14B) separated from the substrate material 200. Further, the lifting / lowering stage 28 faces the suction cup 48 for conveyance with the substrate material 200 interposed therebetween. Therefore, as will be described later, when the substrate material 200 pressed by the transport suction cup 48 is bent at the approaching position, the bent substrate material 200 comes into contact with the elevating stage 28 and the bending is limited. Further, at the separation position, the substrate material 200 is retracted from the conveyance path so as not to hinder the conveyance of the substrate material 200. The lift amount of the lift stage 28 is detected by a lift sensor 31.

なお、昇降ステージ28には、搬送支持ローラ16及び後述する固定用吸盤34と干渉することなく、これらを回避するように孔部が形成されている。   Note that a hole is formed in the elevating stage 28 so as not to interfere with the transport support roller 16 and a fixing suction cup 34 to be described later.

ホルダー22には、搬送支持ローラ16の間に位置する固定用吸盤34が設けられている。図6に示すように、固定用吸盤34には、フィルタ36及び弁42を介してポンプ44とサイレンサ46とが選択的に接続されている(ポンプ44にもサイレンサ47が接続されている)。弁42の切換によってポンプ44との接続状態とすれば、固定用吸盤34内を吸引して、搬送支持ローラ16に支持された基板材料200を一時的に吸着固定することができる。また、ポンプ44との接続を解除すれば、基板材料200の吸着固定も解除される。   The holder 22 is provided with a suction cup 34 for fixing located between the conveyance support rollers 16. As shown in FIG. 6, a pump 44 and a silencer 46 are selectively connected to the stationary suction cup 34 via a filter 36 and a valve 42 (a silencer 47 is also connected to the pump 44). If the connection with the pump 44 is established by switching the valve 42, the substrate material 200 supported by the transport support roller 16 can be temporarily adsorbed and fixed by sucking the suction cup 34. Further, if the connection with the pump 44 is released, the suction fixation of the substrate material 200 is also released.

搬送支持ローラ16の間(図5(B)では、搬送方向下流側から2番目の搬送支持ローラ16と3番目の搬送支持ローラ16の)間には、基板有無を検知する上流側センサ58が設けられており、基板材料200の有無を検出できるようになっている。   Between the conveyance support rollers 16 (in FIG. 5B, between the second conveyance support roller 16 and the third conveyance support roller 16 from the downstream side in the conveyance direction), an upstream sensor 58 that detects the presence or absence of the substrate. The presence or absence of the substrate material 200 can be detected.

また、ホルダー22に設けられた中心位置センサ66が、昇降ステージ28のセンサドグ68を検出して、昇降ステージ28の幅方向での位置を検出できるようになっている。   A center position sensor 66 provided in the holder 22 detects the sensor dog 68 of the lifting stage 28 and can detect the position of the lifting stage 28 in the width direction.

搬送支持ローラ16よりも搬送方向下流側には、先端位置決めユニット50が配置されている。先端位置決めユニット50は、幅方向に一定間隔をあけて配置された複数(本実施形態では7つ)のセンサホルダー52と、これらセンサホルダー52を一体的に保持する保持ブロック54と、を有しており、これら複数のセンサホルダー52と保持ブロック54とで、本発明の突き当て部材が構成されている。。保持ブロック54に形成されたねじ孔にはボールねじ59が螺合されており、先端位置決めモーター60によってボールねじ59を回転させることで、先端位置決めユニット50を全体として搬送方向下流側へと所定の移動速度で移動させることができる。   A tip positioning unit 50 is disposed downstream of the transport support roller 16 in the transport direction. The tip positioning unit 50 includes a plurality of (seven in the present embodiment) sensor holders 52 arranged at regular intervals in the width direction, and a holding block 54 that integrally holds the sensor holders 52. The plurality of sensor holders 52 and the holding block 54 constitute an abutting member of the present invention. . A ball screw 59 is screwed into the screw hole formed in the holding block 54. By rotating the ball screw 59 by the tip positioning motor 60, the tip positioning unit 50 as a whole is moved to a predetermined downstream side in the transport direction. It can be moved at a moving speed.

図7に詳細に示すように、センサホルダー52は、昇降ステージ28に向かって開放された横U字状に形成されており、その上部52A及び下部52Cに位置決め用センサ62が対向するように取り付けられており、基板材料200の有無を検出することができるようになっている。   As shown in detail in FIG. 7, the sensor holder 52 is formed in a horizontal U shape opened toward the elevating stage 28, and is attached so that the positioning sensor 62 faces the upper part 52 </ b> A and the lower part 52 </ b> C. The presence or absence of the substrate material 200 can be detected.

位置決め用センサ62のアパーチャは、搬送される基板材料200と平行な平面で見て円形に形成されており、検出感度に方向性が生じないようになっている。したがって、たとえば搬送方向であっても幅方向であっても同一の感度で基板材料200の有無を検出できる。   The aperture of the positioning sensor 62 is formed in a circular shape when viewed in a plane parallel to the substrate material 200 to be conveyed, so that directionality does not occur in detection sensitivity. Therefore, for example, the presence / absence of the substrate material 200 can be detected with the same sensitivity in the conveyance direction and the width direction.

センサホルダー52は、中間部52Bが基板材料200の幅方向に沿って直線状に並ぶように位置調整されて、保持ブロック54に取り付けられている。したがって、たとえば基板材料200が搬送方向に対して傾斜している場合でも、先端位置決めユニット50で基板材料200の先端辺を複数箇所(少なくとも2箇所)押圧することで、この傾斜を矯正して搬送方向に傾きが無いようにすることができる。   The position of the sensor holder 52 is adjusted so that the intermediate portion 52B is arranged in a straight line along the width direction of the substrate material 200, and is attached to the holding block 54. Therefore, for example, even when the substrate material 200 is inclined with respect to the conveying direction, the tip positioning unit 50 presses the tip side of the substrate material 200 at a plurality of locations (at least two locations) to correct the inclination and convey the material. There can be no inclination in the direction.

先端位置決めユニット50の下方には下流側センサ70が配置されており、この下流側センサ70によって、この位置での基板材料200及び先端位置決めユニット50の有無が検出されるようになっている。ここで、あらかじめ図示しない直角冶具を使用し、下流側センサ70で検出した基板材料200のホームポジション位置からこの直角冶具までのパルス数により、複数のセンサホルダー52の幅方向に対する傾き(傾き基準値)が測定されている。   A downstream sensor 70 is disposed below the tip positioning unit 50, and the downstream sensor 70 detects the presence or absence of the substrate material 200 and the tip positioning unit 50 at this position. Here, a right angle jig (not shown) is used in advance, and inclinations (inclination reference values) with respect to the width direction of the plurality of sensor holders 52 are determined according to the number of pulses from the home position position of the substrate material 200 detected by the downstream sensor 70 to the right angle jig. ) Is measured.

なお、本実施形態では7つのセンサホルダー52のうち1つを幅方向の中心に配置し、5つを搬送方向の右側(図面では下側)に、そして残った1つをその反対側に配置している。このようにセンサホルダー52、すなわち位置決め用センサ62を配置することで、必要以上に位置決め用センサ62を多く設けることなく、各種幅の基板材料200に対応してその有無を検出できるようになっている。   In this embodiment, one of the seven sensor holders 52 is arranged at the center in the width direction, five are arranged on the right side (lower side in the drawing) in the conveyance direction, and the remaining one is arranged on the opposite side. is doing. By arranging the sensor holder 52, that is, the positioning sensor 62 in this way, it is possible to detect the presence / absence of the substrate material 200 of various widths without providing more positioning sensors 62 than necessary. Yes.

図8に示すように、上流側センサ58、位置決め用センサ62、下流側センサ70、搬送モーター20、ステージ昇降モーター32、先端位置決めモーター60及び吸着ユニット40は、制御装置64に接続されている。制御装置64では、上流側センサ58、位置決め用センサ62での基板材料200の有無情報に基づいて、搬送モーター20、ステージ昇降モーター32、先端位置決めモーター60及び吸着ユニット40を制御する。また、制御装置64では、一定間隔のパルスによって搬送モーター20、ステージ昇降モーター32及び先端位置決めモーター60を所望のタイミングで制御する。   As shown in FIG. 8, the upstream sensor 58, the positioning sensor 62, the downstream sensor 70, the transport motor 20, the stage elevating motor 32, the tip positioning motor 60, and the suction unit 40 are connected to the control device 64. The control device 64 controls the transport motor 20, the stage elevating motor 32, the tip positioning motor 60, and the suction unit 40 based on the presence / absence information of the substrate material 200 in the upstream sensor 58 and the positioning sensor 62. Further, the control device 64 controls the transport motor 20, the stage lifting / lowering motor 32, and the tip positioning motor 60 at a desired timing by pulses at regular intervals.

次に、本実施形態の基板搬送装置10によって基板を位置決めして搬送する工程を、図9に示すフローチャートを参照しつつ説明する。なお、搬送される基板材料200のサイズは、作業者からの入力操作、あるいは図示しないセンサでの検出によって、あらかじめ制御装置64に入力されている。また、制御装置64には、たとえば基準板等によって、あらかじめ各位置決め用センサ62の搬送中心C1からのズレ量が固有パラメータとして記憶されている。   Next, the process of positioning and transporting the substrate by the substrate transport apparatus 10 of the present embodiment will be described with reference to the flowchart shown in FIG. Note that the size of the substrate material 200 to be transferred is input to the control device 64 in advance by an input operation from an operator or detection by a sensor (not shown). In addition, the control device 64 stores in advance the amount of deviation of each positioning sensor 62 from the transport center C1 as a specific parameter, for example, by a reference plate.

まず、基板材料200が基板搬送装置10に搬入される前に、ステップ302で、昇降ステージ28を離間位置へと降下させておく(図5(A)及び(B)参照)。さらに、ステップ304で、先端位置決めユニット50を搬送方向上流側へと移動(前進)させておく。   First, before the board | substrate material 200 is carried in into the board | substrate conveyance apparatus 10, the raising / lowering stage 28 is dropped to a separation position by step 302 (refer FIG. 5 (A) and (B)). Further, in step 304, the tip positioning unit 50 is moved (advanced) upstream in the transport direction.

次に、ステップ306で搬送モータ20を駆動して搬送支持ローラ16を回転させる。搬入された基板材料200は搬送支持ローラ16で支持されつつ搬送される。昇降ステージ28は離間位置にあるので、搬入される基板材料200が不用意に昇降ステージ28に接触することはなく、スムーズに搬入できる。このときの搬送速度は、図10に示すように、たとえば100mm/秒〜250mm/秒とされる。   Next, in step 306, the conveyance motor 20 is driven to rotate the conveyance support roller 16. The loaded substrate material 200 is conveyed while being supported by the conveyance support roller 16. Since the elevating stage 28 is in the separated position, the substrate material 200 to be carried in does not inadvertently contact the elevating stage 28 and can be carried in smoothly. The conveyance speed at this time is set to, for example, 100 mm / second to 250 mm / second as shown in FIG.

ステップ308では、上流側センサ58で基板材料200の先端が検出されるか否かを判断し、検出された場合(図11(A)及び(B)参照)には、ステップ310で、検出から所定時間(たとえばパルス数a)だけ経過後に、搬送支持ローラ16の回転速度を低下させ始める。これにより、基板材料200の搬送速度も、たとえば20mm/秒〜60mm/秒に減速される。   In step 308, it is determined whether or not the tip of the substrate material 200 is detected by the upstream sensor 58. If it is detected (see FIGS. 11A and 11B), the detection is performed in step 310. After the elapse of a predetermined time (for example, the number of pulses a), the rotation speed of the transport support roller 16 is started to decrease. Thereby, the conveyance speed of the substrate material 200 is also reduced to, for example, 20 mm / second to 60 mm / second.

次に、ステップ312でさらに、位置決め用センサ62のいずれか(たとえば幅方向中央の位置決め用センサ62)で基板材料200の先端が検出されるか否かを判断し、検出された場合(図12(A)及び(B)参照)には、ステップ314で、先端位置決めモータ60を駆動して、先端位置決めユニット50を搬送方向下流側へ後退させる。この後退速度は、図10に示すように、たとえば10mm/秒とされる。   Next, in step 312, it is further determined whether or not the tip of the substrate material 200 is detected by any one of the positioning sensors 62 (for example, the positioning sensor 62 at the center in the width direction). In steps 314, the tip positioning motor 60 is driven to move the tip positioning unit 50 backward in the transport direction. As shown in FIG. 10, the reverse speed is set to 10 mm / second, for example.

そして、所定時間経過後(たとえばパルス数b)、ステップ316において、所定位置に先端位置決めユニット50を停止させる。このときの先端位置決めユニット50の後退速度は、基板材料200の搬送速度よりも遅く、且つ後退開始から停止までの間に基板材料200の先端が先端位置決めユニット50(保持ブロック54又はセンサホルダー52の中間部52B)に接触する速度とされている(たとえば10mm/秒)。このように、先端位置決めユニット50を後退させつつ基板材料200の先端を接触させることで、先端位置決めユニット50を停止させた状態で接触させる構成と比較して、先端位置決めユニット50に対する基板材料200の相対速度が小さくなる。これにより、接触時の接触圧が緩和され、基板材料200の変形や損傷が防止される(図13(A)及び(B)参照)。   Then, after elapse of a predetermined time (for example, the number of pulses b), in step 316, the tip positioning unit 50 is stopped at a predetermined position. The retraction speed of the front end positioning unit 50 at this time is slower than the transport speed of the substrate material 200, and the front end of the substrate material 200 is moved from the retreat start to the stop until the front end positioning unit 50 (the holding block 54 or the sensor holder 52). It is set as the speed which contacts the intermediate part 52B) (for example, 10 mm / second). As described above, the front end positioning unit 50 is retracted, and the front end of the substrate material 200 is brought into contact, so that the front end positioning unit 50 is brought into contact with the front end positioning unit 50 in a stopped state. The relative speed is reduced. Thereby, the contact pressure at the time of contact is relieved and the deformation | transformation and damage of the board | substrate material 200 are prevented (refer FIG. 13 (A) and (B)).

次に、ステップ318で、先端位置決めユニット50の後退停止から所定時間経過後(たとえばα秒)に搬送モータ20を停止して搬送支持ローラ16の回転を停止させ、基板材料200の搬送も停止する。   Next, in step 318, after a predetermined time has elapsed since the tip positioning unit 50 has stopped moving backward (for example, α seconds), the conveyance motor 20 is stopped to stop the rotation of the conveyance support roller 16, and the conveyance of the substrate material 200 is also stopped. .

ステップ320では、弁42をポンプ44に切替えてポンプ44を駆動し、固定用吸盤34で基板材料200を吸着固定する。ただし、この固定は、基板材料200を搬送支持ローラ16等と一体にできれば十分であるため、いわゆる半固定でよい。   In step 320, the valve 42 is switched to the pump 44 to drive the pump 44, and the substrate material 200 is adsorbed and fixed by the fixing suction cup 34. However, since this fixing is sufficient if the substrate material 200 can be integrated with the transport support roller 16 and the like, so-called semi-fixing may be used.

さらに、ステップ322においてステージ昇降モータ32を駆動して、昇降ステージ28を上昇させる(図14(A)及び(B)参照)。昇降ステージ28の上面が、複数の搬送支持ローラ16の外周面のうち上端に位置している部分と略面一になる。したがって、昇降ステージ28の上面は、基板材料200に接触するか、若しくは極めて僅か(たとえば1mm程度)の隙間をあけて対向している。   Further, in step 322, the stage elevating motor 32 is driven to raise the elevating stage 28 (see FIGS. 14A and 14B). The upper surface of the elevating stage 28 is substantially flush with the portion located at the upper end of the outer peripheral surfaces of the plurality of transport support rollers 16. Therefore, the upper surface of the elevating stage 28 is in contact with the substrate material 200 or opposed with a very small gap (for example, about 1 mm).

次に、ステップ324で、先端位置決めモータ60を駆動(正転)し、先端位置決めユニット50を所定距離だけ搬送方向上流側へ前進させる(図15(A)及び(B)の二点鎖線で示す先端位置決めユニット50を参照)。これにより、基板材料200は、その先端辺が先端位置決めユニット50(保持ブロック54又はセンサホルダー52の中間部52B)に接触した状態で搬送方向上流側へ押され、所定の位置に位置決めされる。したがって、この段階で、搬送方向での基板材料200の位置合わせ(位置矯正)は終了する。また、基板材料200が搬送方向に対して傾いている場合には、傾きが矯正される。   Next, in step 324, the tip positioning motor 60 is driven (forward rotation), and the tip positioning unit 50 is advanced by a predetermined distance to the upstream side in the transport direction (indicated by a two-dot chain line in FIGS. 15A and 15B). (See the tip positioning unit 50). As a result, the substrate material 200 is pushed to the upstream side in the transport direction in a state where the tip side thereof is in contact with the tip positioning unit 50 (the holding block 54 or the intermediate portion 52B of the sensor holder 52), and is positioned at a predetermined position. Therefore, at this stage, the alignment (position correction) of the substrate material 200 in the transport direction is completed. Further, when the substrate material 200 is tilted with respect to the transport direction, the tilt is corrected.

さらに、ステップ326で先端位置決めモータ60を逆転し、先端位置決めユニット50を所定距離だけ搬送方向下流側へ後退させる(図15(A)及び(B)の実線で示す先端位置決めユニット50を参照)。この後退量は、ステップ324での先端位置決めユニット50の先進量よりも長くすることが好ましい。これにより、センサホルダー52の中間部52Bが基板材料200の先端辺から離間する。ただしこの状態でも、位置決め用センサ62は基板材料200の先端辺近傍を検出可能となるように後退量の上限が決められている。   Further, in step 326, the tip positioning motor 60 is reversed, and the tip positioning unit 50 is moved backward by a predetermined distance in the transport direction (see the tip positioning unit 50 indicated by the solid line in FIGS. 15A and 15B). This backward movement amount is preferably longer than the advanced amount of the tip positioning unit 50 in step 324. Thereby, the intermediate part 52 </ b> B of the sensor holder 52 is separated from the front end side of the substrate material 200. However, even in this state, the upper limit of the retraction amount is determined so that the positioning sensor 62 can detect the vicinity of the front end side of the substrate material 200.

次に、ステップ328で幅方向移動モーター24を駆動し、昇降ステージ28を幅方向へ移動させる(図16(A)及び(B)参照)。この移動量は、基板材料200のサイズがあらかじめ分かっているので、このサイズ情報から演算した所定の移動量とされる。   Next, in step 328, the width direction moving motor 24 is driven to move the elevating stage 28 in the width direction (see FIGS. 16A and 16B). The amount of movement is a predetermined amount of movement calculated from the size information because the size of the substrate material 200 is known in advance.

ステップ330では、この幅方向への移動によって位置決め用センサ62のいずれかにおける基板材料200を検出状態の変化を検出するまで、この幅方向への移動を続ける。すなわち、基板材料200の幅方向への移動によって、位置決め用センサ62のいずれかは、基板材料200を検出しない状態から検出した状態へと変化するので、このような検出状態の変化があれば、幅方向への移動を停止する。この移動に要した時間(パルス数)と移動速度から、幅方向への移動距離(実測値)が分かる。   In step 330, the movement in the width direction is continued until the change in the detection state of the substrate material 200 in any of the positioning sensors 62 is detected by the movement in the width direction. That is, as the substrate material 200 moves in the width direction, any one of the positioning sensors 62 changes from a state in which the substrate material 200 is not detected to a detected state. Stop moving in the width direction. From the time (number of pulses) required for this movement and the moving speed, the moving distance (measured value) in the width direction is known.

ここで、制御装置64には、各位置決め用センサ62の搬送中心C1からのズレ量が固有パラメータとして記憶されている。ステップ332では、あらかじめ分かっている基板材料200の幅と、ステップ33で得られた基板材料200の幅方向への移動距離(検出パルス数)を基に、昇降ステージ28の幅方向のホームポジション(中心位置センサ66で検出される)からのズレ量を演算する。   Here, the control device 64 stores the deviation amount of each positioning sensor 62 from the transport center C1 as a unique parameter. In step 332, based on the previously known width of the substrate material 200 and the movement distance (number of detection pulses) of the substrate material 200 obtained in step 33 in the width direction, the home position (in the width direction of the elevating stage 28 ( The amount of deviation from (detected by the center position sensor 66) is calculated.

ステップ334では、この演算されたズレ量に基づいて幅方向移動モーター24を所定時間だけ駆動し、基板材料200をズレ量の1/2だけ移動させて、幅方向の中心を搬送中心C1に一致させる(図17(A)及び(B)参照)。   In step 334, the width direction moving motor 24 is driven for a predetermined time based on the calculated amount of deviation, and the substrate material 200 is moved by ½ of the amount of deviation, so that the center in the width direction coincides with the transport center C1. (See FIGS. 17A and 17B).

ステップ336では、先端位置決めモータ60を逆転させて先端位置決めユニット50を搬送方向下流側へ後退させる(図18(A)及び(B)参照)。先端位置決めユニット50の後退中に、ステップ338において、基板材料200の搬送方向に対する傾き量を演算する。すなわち、後退中に位置決め用センサ62で基板材料200の検出状態をモニターする。ここで、たとえば基板材料200が搬送方向に対して傾いている場合には、位置決め用センサ62において基板材料200の検出状態が変化するタイミング(位置決め用センサ62がオフになるパルス数)に差が生じる。そして、この時間差を基に、あらかじめ図示ない直角冶具で測定しておいた前述の傾き基準値と比較することで、基板材料200の傾き量が分かる。   In step 336, the tip positioning motor 60 is reversed to move the tip positioning unit 50 backward in the transport direction (see FIGS. 18A and 18B). While the tip positioning unit 50 is retracting, in step 338, the amount of inclination of the substrate material 200 with respect to the transport direction is calculated. That is, the detection state of the substrate material 200 is monitored by the positioning sensor 62 during the backward movement. Here, for example, when the substrate material 200 is tilted with respect to the transport direction, there is a difference in the timing at which the detection state of the substrate material 200 changes in the positioning sensor 62 (the number of pulses at which the positioning sensor 62 is turned off). Arise. Then, based on this time difference, the amount of inclination of the substrate material 200 can be found by comparing with the above-mentioned inclination reference value measured in advance with a right angle jig (not shown).

ステップ340では、演算した基板材料200の傾き量が臨界値を超えているか否かを判断し、超えている場合には、ステップ342で、図示しない報知手段によってその旨を報知する。なお、報知手段による報知に代えて(あるいは並行して)基板材料200の傾き量を矯正するようにリトライしたり、あるいは基板材料200を基板搬送装置10の外部へ排出する処理を行ってもよい。   In step 340, it is determined whether or not the calculated inclination amount of the substrate material 200 exceeds a critical value. If it exceeds, a notification means (not shown) notifies that fact. Instead of (or concurrently with) the notification by the notification means, a retry may be performed so as to correct the amount of inclination of the substrate material 200, or a process of discharging the substrate material 200 to the outside of the substrate transfer apparatus 10 may be performed. .

基板材料200の傾き量が臨界値を超えていない場合には、ステップ344で、先端位置決めモータ60を駆動停止し、先端位置決めユニット50の後退を停止する。この後退量は、基板材料200がセンサホルダー52の上部52Aと下部52Cの間から完全に抜け出る後退量とされる。したがって、後工程で基板材料200を上昇させるときに、基板材料200がセンサホルダー52に接触することはない。   If the amount of inclination of the substrate material 200 does not exceed the critical value, in step 344, the driving of the tip positioning motor 60 is stopped and the backward movement of the tip positioning unit 50 is stopped. The retraction amount is a retraction amount in which the substrate material 200 is completely removed from between the upper part 52A and the lower part 52C of the sensor holder 52. Therefore, the substrate material 200 does not contact the sensor holder 52 when the substrate material 200 is raised in a subsequent process.

そして、ステップ346で吸着ユニット40を駆動し、搬送用吸盤48を基板材料200に接触させて吸引する。これと同時に、ポンプ44を駆動停止すると共に弁42をサイレンサ46に接続して、基板材料200の固定用吸盤34による仮固定を解除する(図20(A)及び(B)参照)。   In step 346, the suction unit 40 is driven, and the suction cup 48 for conveyance is brought into contact with the substrate material 200 for suction. At the same time, the driving of the pump 44 is stopped and the valve 42 is connected to the silencer 46 to release the temporary fixing of the substrate material 200 by the fixing suction cup 34 (see FIGS. 20A and 20B).

搬送用吸盤48が基板材料200に接触すると、基板材料200は局所的に押圧されて撓もうとする。しかし、基板材料200を挟んで搬送用吸盤48と対向する位置には昇降ステージ28が位置しているので、この撓みが制限され、基板材料200が略平面状に維持される。このため、搬送用吸盤48と基板材料200との密着状態が維持され、確実に吸着することができる。このように吸着した状態で、吸着ユニット40は基板材料200を昇降ステージ28上からステージ部材110上へ移動させる(図21(A)及び(B)参照)。   When the transport suction cup 48 comes into contact with the substrate material 200, the substrate material 200 is locally pressed and tends to bend. However, since the elevating stage 28 is located at a position facing the suction cup 48 for conveyance with the substrate material 200 interposed therebetween, this bending is limited, and the substrate material 200 is maintained in a substantially flat shape. For this reason, the adhering state of the suction cup 48 for conveyance and the board | substrate material 200 is maintained, and it can adsorb | suck reliably. In the state of being sucked in this way, the suction unit 40 moves the substrate material 200 from the lifting stage 28 to the stage member 110 (see FIGS. 21A and 21B).

以上により、本実施形態の基板搬送装置10において、1枚の基板材料200を位置決めして搬送する一連の工程が終了する。   Thus, a series of steps for positioning and transporting one substrate material 200 is completed in the substrate transport apparatus 10 of the present embodiment.

上記の説明から分かるように、本実施形態では、基板材料200を搬入して先端位置決めユニット50で位置決めするときに、先端位置決めユニット50を後退させながら基板材料200が接触するようにしている。このため、先端位置決めユニット50を停止させた状態で基板材料200を接触させる構成と比較して、基板材料200の先端(先端位置決めユニット50への接触部分)の変形や損傷を防止できる。特に、厚みの薄い基板材料200であっても変形や損傷を防止して位置決めできる。先端位置決めユニット50を後退させるだけなので、簡単な構成で済む。   As can be seen from the above description, in this embodiment, when the substrate material 200 is carried in and positioned by the tip positioning unit 50, the substrate material 200 is brought into contact with the tip positioning unit 50 while being retracted. For this reason, compared with the structure which contacts the board | substrate material 200 in the state which stopped the front-end | tip positioning unit 50, the deformation | transformation and damage of the front-end | tip (contact part to the front-end | tip positioning unit 50) of the board | substrate material 200 can be prevented. In particular, even a thin substrate material 200 can be positioned while preventing deformation and damage. Since the tip positioning unit 50 is merely retracted, a simple configuration is sufficient.

なお、上記の先端位置決めユニット50に代えて、たとえば複数の突き当てピンが幅方向に沿って配置された構成でもよい。   Instead of the tip positioning unit 50 described above, for example, a configuration in which a plurality of abutting pins are arranged along the width direction may be employed.

本発明の第1実施形態の画像形成装置を示す斜視図である。1 is a perspective view showing an image forming apparatus according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1実施形態の画像形成装置において基板搬送装置の内部露出状態で示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing the substrate conveying apparatus in an exposed state in the image forming apparatus according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第1実施形態の画像形成装置のレーザー露光装置を内部露出状態で示す斜視図である。It is a perspective view which shows the laser exposure apparatus of the image forming apparatus of 1st Embodiment of this invention in an internal exposure state. (A)は本発明の第1実施形態に係るレーザー露光装置での露光領域を示す説明図であり、(B)はこのレーザー露光装置の配列パターンを示す平面図である。(A) is explanatory drawing which shows the exposure area | region in the laser exposure apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention, (B) is a top view which shows the arrangement | sequence pattern of this laser exposure apparatus. 本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the board | substrate conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置の基板半固定機構を示す概略ブロック図である。It is a schematic block diagram which shows the board | substrate semi-fixation mechanism of the board | substrate conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置の位置決め用センサーが取り付けられたセンサホルダーを示す斜視図である。る。It is a perspective view which shows the sensor holder to which the positioning sensor of the board | substrate conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention was attached. The 本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置の制御ブロックを示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the control block of the board | substrate conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置での基板位置決め・搬送シーケンスを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the board | substrate positioning and conveyance sequence in the board | substrate conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置での基板と先端位置決めユニットの速度を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows the speed | rate of the board | substrate in the board | substrate conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention, and a front-end | tip positioning unit. 本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置において基板を位置決めし搬送する工程を示す平面図である。It is a top view which shows the process of positioning and conveying a board | substrate in the board | substrate conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置において基板を位置決めし搬送する工程を示す平面図である。It is a top view which shows the process of positioning and conveying a board | substrate in the board | substrate conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置において基板を位置決めし搬送する工程を示す平面図である。It is a top view which shows the process of positioning and conveying a board | substrate in the board | substrate conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置において基板を位置決めし搬送する工程を示す平面図である。It is a top view which shows the process of positioning and conveying a board | substrate in the board | substrate conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置において基板を位置決めし搬送する工程を示す平面図である。It is a top view which shows the process of positioning and conveying a board | substrate in the board | substrate conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置において基板を位置決めし搬送する工程を示す平面図である。It is a top view which shows the process of positioning and conveying a board | substrate in the board | substrate conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置において基板を位置決めし搬送する工程を示す平面図である。It is a top view which shows the process of positioning and conveying a board | substrate in the board | substrate conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置において基板を位置決めし搬送する工程を示す平面図である。It is a top view which shows the process of positioning and conveying a board | substrate in the board | substrate conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置において基板を位置決めし搬送する工程を示す平面図である。It is a top view which shows the process of positioning and conveying a board | substrate in the board | substrate conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置において基板を位置決めし搬送する工程を示す平面図である。It is a top view which shows the process of positioning and conveying a board | substrate in the board | substrate conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置において基板を位置決めし搬送する工程を示す平面図である。It is a top view which shows the process of positioning and conveying a board | substrate in the board | substrate conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 基板搬送装置
12 搬入部
13 基板位置決め機構
14 排出部
16 搬送支持ローラ
18 導入ローラ
20 搬送モーター
22 ホルダー
24 幅方向移動モーター
26 ガイドレール
28 昇降ステージ
30 走行体
32 ステージ昇降モーター
34 固定用吸盤
36 フィルタ
38 駆動モーター
40 吸着ユニット
42 弁
44 ポンプ
46 サイレンサ
48 搬送用吸盤
50 先端位置決めユニット
52 センサホルダー
52A 上部
52B 中間部
52C 下部
54 保持ブロック
56 昇降機構
58 上流側センサ
60 先端位置決めモーター
62 位置決め用センサ(検出手段)
64 制御装置
66 中心位置センサ
68 センサドグ
70 下流側センサ
92 ドア
100 画像形成装置
102 支持基台
104 防振ゴム
106 ガイドレール
108 ガイド部材
110 ステージ部材
114 駆動モーター
116 支持ゲート
118 カメラ
120 露光ヘッド
122 露光エリア
124 露光部
126 レーザー露光装置
200 基板材料
202 露光面
204 露光済み領域
F 搬送方向
W 幅方向
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Substrate conveyance apparatus 12 Carry-in part 13 Substrate positioning mechanism 14 Discharge part 16 Conveyance support roller 18 Introduction roller 20 Conveyance motor 22 Holder 24 Width direction movement motor 26 Guide rail 28 Elevating stage 30 Traveling body 32 Stage elevating motor 34 Fixing suction cup 36 Filter 38 Drive motor 40 Suction unit 42 Valve 44 Pump 46 Silencer 48 Transport suction cup 50 Tip positioning unit 52 Sensor holder 52A Upper part 52B Middle part 52C Lower part 54 Holding block 56 Lifting mechanism 58 Upstream sensor 60 Tip positioning motor 62 Positioning sensor (Detection) means)
64 Control device 66 Center position sensor 68 Sensor dog 70 Downstream sensor 92 Door 100 Image forming device 102 Support base 104 Anti-vibration rubber 106 Guide rail 108 Guide member 110 Stage member 114 Drive motor 116 Support gate 118 Camera 120 Exposure head 122 Exposure area 124 exposure unit 126 laser exposure apparatus 200 substrate material 202 exposure surface 204 exposed area F transport direction W width direction

Claims (12)

所定の搬入方向に沿って搬入された基板の先端が突き当てられる突き当て部材と、
前記突き当て部材を、基板の搬入速度よりも遅い速度で搬入と同じ向きに移動させる移動手段と、
を有することを特徴とする基板位置決め機構。
An abutment member against which the tip of the substrate carried in along a predetermined carry-in direction is abutted;
Moving means for moving the abutting member in the same direction as loading at a speed slower than the loading speed of the substrate;
A substrate positioning mechanism comprising:
移動中の前記突き当て部材に基板が突き当てられるタイミングで前記移動手段を駆動する駆動手段、
を有することを特徴とする請求項1に記載の基板位置決め機構。
Drive means for driving the moving means at a timing when the substrate is abutted against the abutting member being moved;
The substrate positioning mechanism according to claim 1, wherein:
前記突き当て部材が、前記基板に対し幅方向の少なくとも2箇所で基板の搬入方向端辺に接触可能とされていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の基板位置決め機構。   3. The substrate positioning mechanism according to claim 1, wherein the abutting member is capable of contacting a substrate loading direction end with respect to the substrate at at least two places in the width direction. 前記突き当て部材よりも搬入方向上流側に設けられ基板を検出する検出手段と、
前記検出手段によって基板が検出された後で移動手段を制御して突き当て部材を移動させる制御手段と、
を有することを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の基板位置決め機構。
Detection means provided on the upstream side of the abutting member in the loading direction to detect the substrate;
Control means for moving the abutting member by controlling the moving means after the substrate is detected by the detecting means;
The substrate positioning mechanism according to claim 1, wherein the substrate positioning mechanism is provided.
請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の基板位置決め機構を用いて基板を所定位置に位置決めする基板位置決め方法であって、
前記移動手段によって前記突き当て部材を基板の搬入速度よりも遅い速度で搬入と同じ向きに移動させながら、基板の先端を突き当て部材に突き当てることを特徴とする基板位置決め方法。
A substrate positioning method for positioning a substrate at a predetermined position using the substrate positioning mechanism according to any one of claims 1 to 4,
A substrate positioning method, wherein the abutting member is abutted against the abutting member while the abutting member is moved in the same direction as the carry-in by the moving means at a speed slower than the carrying-in speed of the substrate.
請求項2に記載の基板位置決め機構を用いた請求項5に記載の基板位置決め方法であって、
前記駆動手段が、前記突き当て部材への基板の突き当て後に突き当て部材の移動を停止することを特徴とする基板位置決め方法。
The substrate positioning method according to claim 5, wherein the substrate positioning mechanism according to claim 2 is used.
The substrate positioning method, wherein the driving means stops the movement of the abutting member after the substrate is abutted against the abutting member.
請求項3に記載の基板位置決め機構を用いた請求項6に記載の基板位置決め方法であって、
基板の先端を突き当て部材に突き当てるときに、基板に対し幅方向の少なくとも2箇所で基板の搬入方向端辺に接触させて突き当てることを特徴とする基板位置決め方法。
The substrate positioning method according to claim 6, wherein the substrate positioning mechanism according to claim 3 is used.
A substrate positioning method, wherein when a front end of a substrate is abutted against an abutting member, the substrate is brought into contact with and abutted against at least two positions in the width direction with respect to the substrate.
請求項7に記載の基板位置決め方法であって、前記突き当て部材の停止後に突き当て部材を基板の搬入と逆向きに所定距離移動させることを特徴とする基板位置決め方法。   8. The substrate positioning method according to claim 7, wherein the abutting member is moved by a predetermined distance in a direction opposite to the loading of the substrate after the abutting member is stopped. 請求項4に記載の基板位置決め機構を用いた請求項5〜請求項8のいずれか1項に記載の基板位置決め方法であって、
前記検出手段によって基板の存在が検出された後、前記移動手段による前記突き当て部材の移動を開始することを特徴とする基板位置決め方法。
A substrate positioning method according to any one of claims 5 to 8, wherein the substrate positioning mechanism according to claim 4 is used.
After the presence of the substrate is detected by the detection means, the movement of the abutting member by the moving means is started.
請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の基板位置決め機構と、
前記基板位置決め機構によって位置決めされた基板を吸着してステージ部へ搬送する吸着ユニットと、
を有することを特徴とする基板搬送装置。
The substrate positioning mechanism according to any one of claims 1 to 4,
A suction unit for sucking and transporting the substrate positioned by the substrate positioning mechanism to the stage unit;
A substrate transfer apparatus comprising:
請求項10に記載の基板搬送装置と、
前記ステージ部に載置された基板の描画領域を露光し、この描画領域に画像を形成する露光装置と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
The substrate transfer apparatus according to claim 10,
An exposure apparatus that exposes a drawing area of the substrate placed on the stage unit and forms an image in the drawing area;
An image forming apparatus comprising:
前記ステージ部を所定の搬送経路に沿って移動させる移動機構、
を備え、
前記露光装置が、前記ステージ部に載置された基板の描画領域を画像情報に基づいて変調された光ビームにより露光し、この描画領域に画像を形成する、
ことを特徴とする請求項11に記載の画像形成装置。
A moving mechanism for moving the stage unit along a predetermined transport path;
With
The exposure apparatus exposes a drawing region of the substrate placed on the stage unit with a light beam modulated based on image information, and forms an image in the drawing region;
The image forming apparatus according to claim 11.
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