JP2006047504A - Antireflective stack - Google Patents

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JP2006047504A JP2004225993A JP2004225993A JP2006047504A JP 2006047504 A JP2006047504 A JP 2006047504A JP 2004225993 A JP2004225993 A JP 2004225993A JP 2004225993 A JP2004225993 A JP 2004225993A JP 2006047504 A JP2006047504 A JP 2006047504A
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Toshio Yoshihara
俊夫 吉原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflective stack including a transparent low refractive index layer having a low refractive index and excellent adhesion property with a base material and mechanical strength, in which a coating layer of an ionization radiation-curing resin composition containing silsesquioxane containing a fluorine atom is formed. <P>SOLUTION: The antireflective stack has a low refractive index layer formed directly or with another layer interposed on at least one surface of a light-transmitting base material. The low refractive index layer is formed by using a low refractive index layer forming coating composition which contains: silsesquioxane having two or more perfluoroalkyl groups and two or more reactive groups in one molecule as a component (A); a fluorine-containing monomer as a component (B); and a filler as a component (C). The quantitative relation between the component (A) and the component (B) shows that the ratio of the component (A) to the component (B) is 50:50 to 95:5 by mass% and that the component (C) is included by 10 to 200 parts by mass with respect to total 100 parts by mass of the components (A) and (B). <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光透過性の基材に、フッ素を含むコーティング組成物を用いて低屈折率でかつ高硬度の低屈折率層を形成してなる反射防止積層体に関する。   The present invention relates to an antireflective laminate in which a low refractive index layer having a low refractive index and a high hardness is formed on a light transmissive substrate using a coating composition containing fluorine.

液晶ディスプレー(LCD)や陰極管表示装置(CRT)等の画像表示装置の表示面は、その視認性を高めるために、蛍光灯などの外部光源から照射された光線の反射が少ないことが求められる。   A display surface of an image display device such as a liquid crystal display (LCD) or a cathode ray tube display device (CRT) is required to reflect less light emitted from an external light source such as a fluorescent lamp in order to improve its visibility. .

透明な物体の表面を屈折率の小さい透明皮膜で被覆することにより反射率が小さくなる現象が従来から知られており、このような現象を利用した反射防止膜を画像表示装置の表示面に設けて視認性を向上させることが可能である。反射防止膜は、表示面の上に屈折率の小さい低屈折率層を設けた単層構成、または、反射防止効果をさらに良好にするために表示面の上に中〜高屈折率層を一ないし複数層設けて、その上に低屈折率層を設けた多層構成を有する。   It has been known that the reflectance is reduced by coating the surface of a transparent object with a transparent film having a low refractive index, and an antireflection film using such a phenomenon is provided on the display surface of the image display device. It is possible to improve visibility. The antireflection film is a single layer structure in which a low refractive index layer having a low refractive index is provided on the display surface, or a medium to high refractive index layer is provided on the display surface to further improve the antireflection effect. Or, it has a multilayer structure in which a plurality of layers are provided and a low refractive index layer is provided thereon.

単層型の反射防止膜は、多層型と比べて層構成が単純なことから、生産性やコストパフォーマンスに優れる。一方、多層型の反射防止膜は、層構成を組み合わせて反射防止性能を向上させることが可能であり、単層型と比べて高性能化を図り易い。   The single-layer type antireflection film has a simpler layer structure than the multilayer type, and thus has excellent productivity and cost performance. On the other hand, the multilayer type antireflection film can improve the antireflection performance by combining the layer structures, and can easily achieve higher performance than the single layer type.

このような反射防止膜に含まれる低屈折率層を形成する方法としては、一般に気相法と塗布法とに大別される。気相法には真空蒸着法、スパッタリング法等の物理的方法と、CVD法等の化学的方法とがあり、塗布法にはロールコート法、グラビアコート法、スライドコート法、スプレー法、浸漬法、スクリーン印刷法等がある。   In general, methods for forming a low refractive index layer included in such an antireflection film are roughly classified into a vapor phase method and a coating method. Gas phase methods include physical methods such as vacuum deposition and sputtering, and chemical methods such as CVD, and coating methods include roll coating, gravure coating, slide coating, spraying, and immersion. And screen printing.

気相法により低屈折率層を形成する場合には、高機能かつ高品質な透明薄膜形成が可能であるが、高真空系での精密な雰囲気制御を必要とし、また、特殊な加熱装置またはイオン発生加速装置を用いるために製造装置が複雑で大型化し、必然的に製造コストが高くなるという問題がある。また、気相法による場合には、大面積の透明薄膜を形成したり、複雑な形状を有するフィルム等の表面に透明薄膜を均一に形成することが困難である。   When forming a low refractive index layer by a vapor phase method, it is possible to form a high-performance and high-quality transparent thin film, but it requires precise atmosphere control in a high vacuum system, and a special heating device or Since the ion generation accelerator is used, there is a problem that the manufacturing apparatus is complicated and large, and the manufacturing cost is inevitably increased. Further, when the vapor phase method is used, it is difficult to form a transparent thin film having a large area or to form a transparent thin film uniformly on the surface of a film having a complicated shape.

一方、塗布法のうちスプレー法により形成する場合には、塗工液の利用効率が悪く、成膜条件の制御が困難である等の問題がある。ロールコート法、グラビアコート法、スライドコート法、浸漬法、およびスクリーン印刷法等による場合には、成膜原料の利用効率が良く大量生産や設備コスト面で優れるものの、一般的に塗布法により得られる透明薄膜は、気相法により得られるものと比較して、機能や品質が劣るという問題点がある。   On the other hand, in the case of forming by a spray method among the application methods, there are problems such as poor utilization efficiency of the coating liquid and difficulty in controlling film forming conditions. When using the roll coating method, gravure coating method, slide coating method, dipping method, screen printing method, etc., it is generally obtained by the coating method, although the use efficiency of the film forming raw material is good and the mass production and equipment cost are excellent. The transparent thin film obtained has a problem that its function and quality are inferior to those obtained by the vapor phase method.

塗布法としては、分子中にフッ素原子を含み、電離放射線や熱で硬化する官能基を含むアクリル系化合物やエポキシ系化合物、有機ケイ素化合物からなる塗工液を基材の表面に塗布、乾燥した後、UV照射や熱などによって該化合物を硬化させて低屈折率層を形成することが知られている。   As a coating method, a coating liquid composed of an acrylic compound, an epoxy compound, or an organosilicon compound containing a fluorine atom in the molecule and containing a functional group that is cured by ionizing radiation or heat was applied to the surface of the substrate and dried. Thereafter, it is known that the compound is cured by UV irradiation or heat to form a low refractive index layer.

低屈折率層はディスプレイの最表面に形成されるため、低屈折率性と同時に、傷つき防止性や、指紋ふき取り性等の防汚性を併せ持つ必要がある。   Since the low refractive index layer is formed on the outermost surface of the display, it is necessary to have both low refractive index properties and antifouling properties such as scratch resistance and fingerprint wiping properties.

フッ素原子を含むバインダーからなる塗膜は、フッ素原子の含有量が高い程屈折率が低くなり、同時にすべり性や防汚性が向上する。特に塗膜表面に炭化水素基中の水素原子の全てあるいは一部をフッ素原子で置き換えたパーフルオロアルキル基がある場合、すべりやすい事による傷つき防止性や表面張力低下による防汚性が高いレベルで期待できる。しかしながら、塗膜中のフッ素原子の含有量が高くなると、塗膜の硬度や強度が低下するという問題がある。   A coating film made of a binder containing fluorine atoms has a lower refractive index as the fluorine atom content is higher, and at the same time, slipperiness and antifouling properties are improved. In particular, when there is a perfluoroalkyl group in which all or part of the hydrogen atoms in the hydrocarbon group are replaced with fluorine atoms on the coating film surface, it has a high level of anti-scratch property due to slipperiness and antifouling property due to reduced surface tension. I can expect. However, when the content of fluorine atoms in the coating film increases, there is a problem that the hardness and strength of the coating film decrease.

WO02/018457号公報(特許文献1)には、側鎖にエチレン性炭素−炭素二重結合を有するフッ素ポリマーを用いることで低屈折率性を悪化させずに高硬度の硬化物が得られることを提案しているが、ポリマー鎖中や側鎖にフッ素原子を多く用いた場合、分子自身が柔らかくなり硬化膜の膜強度が低下する。   In WO02 / 018457 (Patent Document 1), by using a fluoropolymer having an ethylenic carbon-carbon double bond in the side chain, a cured product having high hardness can be obtained without deteriorating the low refractive index. However, when many fluorine atoms are used in the polymer chain or in the side chain, the molecule itself becomes soft and the film strength of the cured film decreases.

特開2003−147268号公報(特許文献2)には、分子内にシリル基を有するオキセタン化合物又はその加水分解縮合物とエポキシ化合物からなるカチオン重合性単量体と屈折率調整用の多孔質シリカ微粒子とで基材への密着性を向上させた低屈折率層用組成物が提案されているが、屈折率を下げる目的で使用する多孔質シリカを多量に用いた場合、塗膜の膜強度が低下する。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-147268 (Patent Document 2) discloses a cationic polymerizable monomer comprising an oxetane compound having a silyl group in its molecule or a hydrolysis condensate thereof and an epoxy compound, and porous silica for adjusting the refractive index. A composition for a low refractive index layer that has improved adhesion to the substrate with fine particles has been proposed, but when a large amount of porous silica used for the purpose of lowering the refractive index is used, the film strength of the coating film Decreases.

WO02/018457号公報WO02 / 018457 特開2003−147268号公報JP 2003-147268 A

本発明は上記実状を鑑みて成し遂げられたものであり、その目的とするところは、フッ素原子を含有するシルセスキオキサンを含む電離放射線硬化型樹脂組成物のコーティング層を形成した、低屈折率でかつ基材への密着性や機械的強度に優れる透明性の低屈折率層を形成した反射防止積層体を提供することにある。   The present invention has been accomplished in view of the above-mentioned actual situation, and the object thereof is to form a coating layer of an ionizing radiation curable resin composition containing a silsesquioxane containing a fluorine atom, and having a low refractive index. Another object of the present invention is to provide an antireflection laminate in which a transparent low refractive index layer having excellent adhesion to a substrate and mechanical strength is formed.

上記課題を解決するため、本発明による反射防止積層体は、光透過性を有する基材の少なくとも一面側に直接、或いは他の層を介して低屈折率層が形成された反射防止積層体であって、前記低屈折率層が、(A)成分:一分子中に2個以上のパーフルオロアルキル基と2個以上の反応性基とを持つシルセスキオキサンと、(B)成分:フッ素含有モノマー、及び、(C)成分:充填材を含有する低屈折率層形成用コーティング組成物を用いて形成されたものであである。前記(A)成分、(B)成分、(C)成分の量的関係は、(A)成分対(B)成分が50質量%対50質量%から95質量%対5質量%迄であり、(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して、(C)が10〜200質量部であることが好ましい。   In order to solve the above problems, an antireflection laminate according to the present invention is an antireflection laminate in which a low refractive index layer is formed directly on at least one surface side of a light-transmitting substrate or via another layer. The low refractive index layer comprises (A) component: silsesquioxane having two or more perfluoroalkyl groups and two or more reactive groups in one molecule, and (B) component: fluorine. Containing monomer and (C) component: It is formed using the coating composition for low refractive index layer formation containing a filler. The quantitative relationship of the component (A), the component (B), and the component (C) is such that the component (A) to the component (B) is 50% by mass to 50% by mass to 95% by mass to 5% by mass, It is preferable that (C) is 10 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the component (A) and the component (B).

本発明の反射防止積層体における低屈折率層を形成するために使用されるコーティング組成物は、硬度が高く、透明性が高い低屈折率の(A)成分と、弾性が高く、透明性が高い低屈折率の(B)成分を含有するので、該コーティング組成物を塗布して得られる低屈折率層は、硬度が高く、且つ弾性があり、しかも透明性の高い低屈折率の硬化塗膜となる。   The coating composition used for forming the low refractive index layer in the antireflection laminate of the present invention has a low refractive index (A) component having high hardness and high transparency, high elasticity, and transparency. Since it contains the component (B) having a high low refractive index, the low refractive index layer obtained by applying the coating composition has a high hardness, elasticity, and high transparency. Become a film.

(A)成分はシルセスキオキサンの骨格に共有結合したパーフルオロアルキル基を有するため、(B)成分であるフッ素含有モノマーとの相溶性が非常に高く、形成される低屈折率層の透明性を損ねずに、フッ素含有モノマーの配合割合を高くすることができる。このため、(A)成分と(B)成分を含有するコーティング組成物を用いて形成した塗膜は、硬度が高い性質と、弾性を有する性質の両方の性質を兼ね備えることが可能となり、しかも低屈折率の透明性の高い塗膜とすることができる。   Since the component (A) has a perfluoroalkyl group covalently bonded to the skeleton of silsesquioxane, the compatibility with the fluorine-containing monomer as the component (B) is very high, and the formed low refractive index layer is transparent. The blending ratio of the fluorine-containing monomer can be increased without impairing the properties. For this reason, the coating film formed using the coating composition containing the component (A) and the component (B) can have both properties of high hardness and elasticity. It can be set as the coating film with high refractive index transparency.

(A)成分と(B)成分の合計が100質量%の量的関係において、(B)成分が(A)成分よりも50質量%より多い場合には、塗膜の強度が低下して傷つきやすくなり、(B)成分が5質量%未満である場合には、弾性のない脆い塗膜となるので好ましくない。   In the quantitative relationship in which the sum of the component (A) and the component (B) is 100% by mass, when the component (B) is more than 50% by mass than the component (A), the strength of the coating film is reduced and the film is damaged. When the component (B) is less than 5% by mass, it is not preferable because a brittle coating without elasticity is formed.

(C)成分は、低屈折率層の硬度を高めるための調整に用いられる。例えば、低屈折率とするための(B)成分の量を増やす事により硬化膜が柔らかくなる場合、得られる低屈折率層の屈折率を損なわない(上昇させない)範囲で(C)成分の充填材を含有させることにより、硬度と弾性のバランスのとれた低屈折率層を得ることができる。(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して、(C)が10質量部未満であると塗膜の硬度が不足し、また200質量部を超えると、塗膜の透明性が低下すると共に、脆い塗膜となるので好ましくない。   The component (C) is used for adjustment for increasing the hardness of the low refractive index layer. For example, when the cured film is softened by increasing the amount of the component (B) for reducing the refractive index, the component (C) is filled within a range in which the refractive index of the obtained low refractive index layer is not impaired (not increased). By including the material, a low refractive index layer having a balance between hardness and elasticity can be obtained. When the total amount of the component (A) and the component (B) is 100 parts by mass, the hardness of the coating film is insufficient when (C) is less than 10 parts by mass. Decreases, and a fragile coating film is formed.

(A)成分はシルセスキオキサンの骨格に共有結合したパーフルオロアルキル基を有するため、パーフルオロアルキル基が脱離することなく、低屈折率層の表面に集まり、撥水性、撥油性が発揮され、持続性的な汚れ防止性能がある。また、低屈折率層の表面には、パーフルオロアルキル基が集まるため、滑り性が生じ、結果として傷付き難くなる。   Since component (A) has a perfluoroalkyl group covalently bonded to the silsesquioxane skeleton, the perfluoroalkyl group does not leave and collects on the surface of the low refractive index layer and exhibits water and oil repellency. And has a durable anti-stain performance. Further, since perfluoroalkyl groups are collected on the surface of the low refractive index layer, slipperiness occurs, and as a result, it becomes difficult to be damaged.

以下において本発明を詳しく説明する。
本発明の反射防止積層体における低屈折率層を形成するために使用されるコーティング組成物は、(A)成分として一分子中、2個以上のパーフルオロアルキル基と、2個以上の反応性基とを持つシルセスキオキサンを含有しており、且つ 該シルセスキオキサンは、下記一般式(1)と(2)で表される化合物の加水分解物の縮合体として得られる。
The present invention is described in detail below.
The coating composition used to form the low refractive index layer in the antireflective laminate of the present invention comprises (A) component having two or more perfluoroalkyl groups and two or more reactivity in one molecule. The silsesquioxane which has a group is contained, and this silsesquioxane is obtained as a condensate of the hydrolyzate of the compounds represented by the following general formulas (1) and (2).

Figure 2006047504
(但し、R0 は(メタ)アクリロイル基、ビニル基、エポキシ基、及びオキセタニル基から選ばれた反応性基を有する有機官能基であり、Xは加水分解性基である。)
Figure 2006047504
(However, R 0 is an organic functional group having a reactive group selected from a (meth) acryloyl group, a vinyl group, an epoxy group, and an oxetanyl group, and X is a hydrolyzable group.)

Figure 2006047504
(但し、R1 はパーフルオロアルキル基を有する有機官能基であり、Xは加水分解性基である。)
Figure 2006047504
(However, R 1 is an organic functional group having a perfluoroalkyl group, and X is a hydrolyzable group.)

該シルセスキオキサンは、分子構造中に2個以上のパーフルオロアルキル基を有していることから概して非常に小さい屈折率を有しており、低屈折率層形成用成分として適している。   The silsesquioxane generally has a very low refractive index because it has two or more perfluoroalkyl groups in the molecular structure, and is suitable as a component for forming a low refractive index layer.

また、(A)成分は、通常のフッ素含有ポリマー、モノマー、オリゴマーに比べ、シルセスキオキサン骨格と一分子内に反応性基を2個以上有しているので、パーフルオロアルキル基を有していながら硬化時に高硬度な塗膜となる性質を有する。   In addition, the component (A) has a perfluoroalkyl group because it has two or more reactive groups in the silsesquioxane skeleton and one molecule as compared with ordinary fluorine-containing polymers, monomers, and oligomers. However, it has the property of forming a highly hard coating film when cured.

反射防止積層体で使用する基材がフィルム基材の場合、上記(A)成分であるシルセスキオキサン単独からなるコーティング組成物を基材に塗布して得られる硬化塗膜は、剛性が高く、硬い半面割れやすい、所謂脆い硬化膜となるため、フィルム基材に適用する塗膜には適さない。本発明では上記(A)成分をフィルム基材の塗膜に適するように、塗膜に弾性を付与するために(B)成分としてフッ素含有モノマーを前記(A)成分と併せて使用する。(A)成分はパーフルオロアルキル基を有するため、(B)成分であるフッ素含有モノマーとの相溶性が非常に高く、形成される低屈折率層の透明性を損ねずに、該フッ素含有モノマーの配合割合を高くすることができる。そのため(B)成分としては塗膜の低屈折率化の観点から、フッ素含有モノマーを用いる。   When the base material used in the antireflection laminate is a film base material, the cured coating film obtained by applying the coating composition consisting of silsesquioxane alone as the component (A) to the base material has high rigidity. Since it becomes a so-called brittle cured film that is hard and easily cracked, it is not suitable for a coating film applied to a film substrate. In the present invention, a fluorine-containing monomer is used as the component (B) together with the component (A) in order to impart elasticity to the coating film so that the component (A) is suitable for the coating film of the film substrate. Since the component (A) has a perfluoroalkyl group, the compatibility with the fluorine-containing monomer as the component (B) is very high, and the fluorine-containing monomer is obtained without impairing the transparency of the formed low refractive index layer. The mixing ratio of can be increased. Therefore, a fluorine-containing monomer is used as the component (B) from the viewpoint of reducing the refractive index of the coating film.

本発明に係る(B)成分としては、下記一般式(3)で表されるフッ素含有モノマーが好ましく使用できる。   As the component (B) according to the present invention, a fluorine-containing monomer represented by the following general formula (3) can be preferably used.

Figure 2006047504
(式中、R2 及びR3 は、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、エポキシ基、及びオキセタニル基から選ばれた反応性基を有する有機官能基であり、R4 及びR5 は、単結合又は炭素原子数1〜5の2価の炭化水素、又は酸素であり、nは1〜30の整数を示す。)
Figure 2006047504
(Wherein R 2 and R 3 are organic functional groups having a reactive group selected from a (meth) acryloyl group, a vinyl group, an epoxy group, and an oxetanyl group, and R 4 and R 5 are single bonds. Or it is a C1-C5 bivalent hydrocarbon or oxygen, and n shows the integer of 1-30.)

さらに、上記一般式(3)で表されるフッ素含有モノマーは、フッ素原子を有するメチレン(CF2 )の繰り返し単位数nを30以下に制限しているので、塗膜の乾燥、硬化時に塗膜中に均一に拡散するため、屈折率や膜強度の偏りが無い均一な塗膜の形成が可能となる。 Furthermore, since the fluorine-containing monomer represented by the general formula (3) restricts the number of repeating units n of methylene (CF 2 ) having fluorine atoms to 30 or less, the coating film is dried and cured during coating. Since it diffuses uniformly, it is possible to form a uniform coating film with no deviation in refractive index or film strength.

(A)成分と(B)成分の反応性基は同一であっても異なっていても良いが、互いに共重合体を形成するものが屈折率や膜強度の偏りが無い均一な塗膜の形成が可能となる。(A)成分と(B)成分の各加水分解性基Xは同一であっても異なっていても良い。   The reactive groups of the component (A) and the component (B) may be the same or different, but those forming a copolymer with each other can form a uniform coating film with no deviation in refractive index or film strength. Is possible. The hydrolyzable groups X of the component (A) and the component (B) may be the same or different.

本発明の反射防止積層体の構成層の一つである低屈折率層は、(A)成分を主成分とし、フッ素原子を含む(B)成分とを組み合わせることで、屈折率を1.45以下と非常に小さくすることができ、しかも、実用に耐え得る硬度及び強度を有し、塗膜の密着性及び透明性にも優れたものとなる。屈折率を1.40以下にする必要がある場合には、(B)成分の量を増やす事により硬化膜が柔らかくなるため、硬度の調整のために(C)成分の充填材を更に含有する。充填材は得られる低屈折率層の屈折率を損なわない(上昇させない)範囲で低屈折率層形成用コーティング組成物に含まれていることが好ましく、低屈折率層形成用コーティング組成物にこのような充填材が含まれていると、得られる低屈折率硬化物の強度や弾性が向上する。充填材としては、屈折率が1.45以下の無機微粒子、有機微粒子、又は、その複合微粒子を挙げることができ、これらの微粒子の平均粒子径は5〜300nmであることが好ましい。   The low refractive index layer, which is one of the constituent layers of the antireflection laminate of the present invention, has a refractive index of 1.45 by combining the component (A) as a main component and the component (B) containing a fluorine atom. It can be made very small as described below, and has hardness and strength that can withstand practical use, and has excellent adhesion and transparency of the coating film. When the refractive index needs to be 1.40 or less, the cured film becomes softer by increasing the amount of the component (B), and therefore further contains a filler of the component (C) for adjusting the hardness. . The filler is preferably contained in the coating composition for forming a low refractive index layer as long as the refractive index of the resulting low refractive index layer is not impaired (raised). When such a filler is contained, the strength and elasticity of the obtained low refractive index cured product are improved. Examples of the filler include inorganic fine particles having a refractive index of 1.45 or less, organic fine particles, or composite fine particles thereof. The average particle size of these fine particles is preferably 5 to 300 nm.

(A)成分: 一分子中に2個以上のパーフルオロアルキル基と2個以上の反応性基を持つシルセスキオキサン
本発明の反射防止積層体に用いる低屈折率層形成用コーティング組成物に含まれるシルセスキオキサンは、一分子中に少なくとも2個以上のパーフルオロアルキル基と2個以上の反応性基を持つシルセスキオキサンである。
Component (A): Silsesquioxane having two or more perfluoroalkyl groups and two or more reactive groups in one molecule. A coating composition for forming a low refractive index layer used in the antireflection laminate of the present invention. The contained silsesquioxane is a silsesquioxane having at least two perfluoroalkyl groups and two or more reactive groups in one molecule.

このようなシルセスキオキサン化合物としては、種々のものが使用できるが、好ましい化合物として、前記一般式(1)と一般式(2)の加水分解物の縮合体を挙げることができる。   As such a silsesquioxane compound, various compounds can be used, and preferred compounds include condensates of the hydrolyzates of the general formula (1) and the general formula (2).

前記一般式(2)におけるR1 は、下記式(4)に示す構造式で表される有機官能基が好ましい。 R 1 in the general formula (2) is preferably an organic functional group represented by the structural formula shown in the following formula (4).

Figure 2006047504
(但し、mは0〜10の整数であり、R6 は炭素数1〜4のアルキレン基である。)
Figure 2006047504
(Where, m is an integer of 0, R 6 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.)

上記一般式(1)及び(2)における加水分解性基Xは、加水分解性を有する基であれば特に限定されず、その例はハロゲン原子、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はアリールアルコキシ基などである。また、一般式(1)及び(2)における化合物一分子中には三つのXが含まれるが、これらは全て同じ基であってもよいし二種以上の異なる基であってもよい。   The hydrolyzable group X in the general formulas (1) and (2) is not particularly limited as long as it is a hydrolyzable group, and examples thereof include a halogen atom, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, or an arylalkoxy group. is there. Further, three Xs are contained in one molecule of the general formulas (1) and (2), but they may all be the same group or two or more different groups.

上記「アルコキシ基」としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−及びi−プロポキシ基等が挙げられる。また、「シクロアルコキシ基」の例としてはシクロヘキシルオキシ基等が、「アリールオキシ基」の例としてはフェニルオキシ基等が挙げられる。   Examples of the “alkoxy group” include methoxy group, ethoxy group, n- and i-propoxy group, and the like. Examples of the “cycloalkoxy group” include a cyclohexyloxy group, and examples of the “aryloxy group” include a phenyloxy group.

一般式(1)の化合物としてはシランカップリング剤が原料の入手が容易で、加水分解反応が制御しやすいため特に好ましく使用できる。   As the compound of the general formula (1), a silane coupling agent can be used particularly preferably since the raw material is easily available and the hydrolysis reaction is easily controlled.

例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−(メタクリロキシプロピル)トリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリス(βメトキシエトキシ)シラン、β−(3、4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−エチル(トリエトキシシリルプロポキシメチル)オキセタン等が挙げられるが、これらには限定されない。   For example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ- (methacryloxypropyl) trimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltris (βmethoxyethoxy) silane, β- (3, 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-ethyl (triethoxysilylpropoxymethyl) oxetane, and the like. Not.

一般式(2)の化合物としてはフルオロアルキル鎖を有するシリカアルコキシドが原料の入手が容易で、加水分解反応が制御しやすいため特に好ましく使用できる。   As the compound of the general formula (2), silica alkoxide having a fluoroalkyl chain can be used particularly preferably because the raw material is easily available and the hydrolysis reaction is easily controlled.

例えば、TSL8256、TSL8257、TSL8232、TSL8233(商品名、GE東芝シリコーン製)等が挙げられるが、これらには限定されない。   Examples include, but are not limited to, TSL8256, TSL8257, TSL8232, and TSL8233 (trade names, manufactured by GE Toshiba Silicone).

(B)成分:フッ素含有モノマー
本発明の反射防止積層体に用いる低屈折率層形成用コーティング組成物に含まれる(B)成分であるフッ素含有モノマーは、上記一般式(3)で表される。
Component (B): Fluorine-containing monomer The fluorine-containing monomer that is the component (B) contained in the coating composition for forming a low refractive index layer used in the antireflection laminate of the present invention is represented by the above general formula (3). .

このフッ素含有モノマーは分子構造中にフッ素を含有していることから概して非常に小さい屈折率を有しており、本発明で使用する低屈折率層形成用コーティング組成物中の低屈折率化成分として機能する。本発明で使用する低屈折率層形成用コーティング組成物に含有されるフッ素含有モノマーは、重合反応によって単独で重合、及び/ 又は(A)成分に固定される結果、塗膜の屈折率を低下させる。   This fluorine-containing monomer generally has a very low refractive index because it contains fluorine in its molecular structure, and the low refractive index component in the coating composition for forming a low refractive index layer used in the present invention Function as. The fluorine-containing monomer contained in the coating composition for forming a low refractive index layer used in the present invention is polymerized by the polymerization reaction alone and / or fixed to the component (A), resulting in a decrease in the refractive index of the coating film. Let

上記一般式(3)で表されるフッ素含有モノマーは、(A)成分との相溶性が非常に高いため、他の配合成分の選択肢が非常に広がる。そのため、反射防止積層体の透明性を損ねずに、フッ素含有モノマーの配合割合を高くすることができる。   Since the fluorine-containing monomer represented by the general formula (3) has very high compatibility with the component (A), the options for other blending components are very wide. Therefore, the blending ratio of the fluorine-containing monomer can be increased without impairing the transparency of the antireflection laminate.

上記一般式(3)で表されるフッ素含有モノマーは、一分子内に反応性基を2個有しているので硬化時の重合反応性が大きい。このため、上記一般式(3)で表されるフッ素含有モノマーは、従来のフッ素含有モノマーのように、重合性を上げるためのフッ素非含有のバインダー成分を多量に添加する必要がないため、フッ素含有モノマーの特徴である低屈折率性を損なうことがない。   Since the fluorine-containing monomer represented by the general formula (3) has two reactive groups in one molecule, the polymerization reactivity at the time of curing is large. For this reason, the fluorine-containing monomer represented by the general formula (3) does not need to add a large amount of a fluorine-free binder component for increasing the polymerizability unlike conventional fluorine-containing monomers. The low refractive index characteristic that is a characteristic of the contained monomer is not impaired.

さらに、上記一般式(3)で表されるフッ素含有モノマーは、フッ素原子を有するメチレン(CF2 )の繰り返し単位数nを30以下に制限しているので、乾燥、硬化時に塗膜中に均一に拡散しやすい。 Furthermore, since the fluorine-containing monomer represented by the general formula (3) limits the number of repeating units n of methylene (CF 2 ) having fluorine atoms to 30 or less, it is uniform in the coating film during drying and curing. Easy to diffuse into.

従って、上記一般式(3)で表されるフッ素含有モノマーは、相溶性、重合反応性、塗膜中で所望のネットワークを形成することによる低屈折率性に優れており、屈折率や膜強度の偏りが無い均一な塗膜の形成が可能となる。   Therefore, the fluorine-containing monomer represented by the general formula (3) is excellent in compatibility, polymerization reactivity, and low refractive index property by forming a desired network in the coating film, and the refractive index and film strength. It is possible to form a uniform coating film with no bias.

上記一般式(3)においてR2 及びR3 は、光照射によって互いに結合可能な光反応性基であれば、同一であっても異なっていても良い。光反応性基としては、例えば、光ラジカル重合、光カチオン重合、光アニオン重合のような重合反応、及び光二量化を経て進行する重合等の反応形式により反応が進行するものが挙げられる。 In the general formula (3), R 2 and R 3 may be the same or different as long as they are photoreactive groups that can be bonded to each other by light irradiation. Examples of the photoreactive group include those in which the reaction proceeds by a reaction mode such as polymerization reaction such as photo radical polymerization, photo cation polymerization, photo anion polymerization, and polymerization that proceeds via photodimerization.

光ラジカル重合性反応基としては、例えば、エチレン性不飽和結合(好ましくは、エチレン性二重結合)を有する官能基が挙げられ、具体的には、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、ビニルシクロアルキル基、アリル基が挙げられ、中でも反応性の点から、アクリロイル基、メタクリロイル基が好ましい。   Examples of the photo-radical polymerizable reactive group include a functional group having an ethylenically unsaturated bond (preferably an ethylenic double bond), and specifically, an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group, a vinylcyclohexane. Examples thereof include an alkyl group and an allyl group. Among them, an acryloyl group and a methacryloyl group are preferable from the viewpoint of reactivity.

光カチオン重合反応性基としては、例えば、上記一般式(3)におけるR2 及びR3 が、何れも次の一般式(5) As the photocationic polymerization reactive group, for example, R 2 and R 3 in the general formula (3) are both represented by the following general formula (5).

Figure 2006047504
(式中、R7 は水素、フッ素、アルキレン基、又はフルオロアルキレン基である。)
で表されるエポキシ基、或いは何れも次の一般式(6)
Figure 2006047504
(In the formula, R 7 is hydrogen, fluorine, an alkylene group, or a fluoroalkylene group.)
Or an epoxy group represented by the following general formula (6)

Figure 2006047504
(式中、R8 は水素、フッ素、炭素数1〜10のアルキル基、又はフルオロアルキル基であり、R9 は炭素数2〜6のアルキレン基である。)
で示されるオキセタニル基が挙げられる。
Figure 2006047504
(In the formula, R 8 is hydrogen, fluorine, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a fluoroalkyl group, and R 9 is an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.)
An oxetanyl group represented by

これらの光カチオン重合性反応基は、バインダー成分中に均一に組みこまれ、オキセタン化合物の硬化促進、塗膜への柔軟性や弾性付与と低屈折率化を実現する。   These photo-cationically polymerizable reactive groups are uniformly incorporated in the binder component, and realize hardening acceleration of the oxetane compound, flexibility and elasticity imparted to the coating film, and a low refractive index.

上記一般式(3)で表されるフッ素含有モノマーのうち、(メタ)アクリレート基を含むものとしては、1H,1H,6H,6H−パーフルオロ−1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート等が、エポキシ基を含むものは1,4−ビス(2’,3’−エポキシプロピル)−パーフルオロ−n−ブタン等が、オキセタニル基を含むものは1,4−ビス(2’,3’−オキセタニルプロピル)−パーフルオロ−n−ブタン等が好ましく用いられる。   Among the fluorine-containing monomers represented by the general formula (3), those containing a (meth) acrylate group include 1H, 1H, 6H, 6H-perfluoro-1,6-hexanediol di (meth) acrylate, etc. However, those containing an epoxy group include 1,4-bis (2 ′, 3′-epoxypropyl) -perfluoro-n-butane, and those containing an oxetanyl group include 1,4-bis (2 ′, 3 ′). -Oxetanylpropyl) -perfluoro-n-butane and the like are preferably used.

(B)成分は(A)成分に対して重量比で1〜50重量%含まれることが好ましい。1重量%以下の場合は塗膜が脆くなり、50重量%を超えると柔らかく、傷付きやすくなる。   The component (B) is preferably contained in an amount of 1 to 50% by weight with respect to the component (A). If it is 1% by weight or less, the coating film becomes brittle, and if it exceeds 50% by weight, it becomes soft and easily damaged.

光重合開始剤
本発明に係る反射防止積層体用低屈折率層形成用コーティング組成物には、電離放射線(分子を重合又は架橋できるエネルギー量子を有した紫外線、可視光線、電子線、β線、X線、γ線、α線等であり、通常は紫外線又は電子線)による重合又は光二量化反応を開始または促進させる光重合開始剤を配合することが好ましい。光重合開始剤は、光反応の形式に合わせて、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、光アニオン重合開始剤の中から適宜選択して用いる。
Photopolymerization initiator The coating composition for forming a low refractive index layer for an antireflection laminate according to the present invention includes ionizing radiation (ultraviolet rays, visible rays, electron beams, β rays, energy quanta capable of polymerizing or crosslinking molecules, X-rays, γ-rays, α-rays and the like, and usually a photopolymerization initiator that initiates or accelerates polymerization or photodimerization reaction by ultraviolet rays or electron beams) is preferably added. The photopolymerization initiator is appropriately selected from a photoradical polymerization initiator, a photocationic polymerization initiator, and a photoanion polymerization initiator according to the type of photoreaction.

光カチオン重合系の場合、光重合開始剤としては、以下の各式に示されるジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウム塩が好適に使用される。:
ArN2 + - ;(R)3 + - ;(R)2 + -
(式中、Arはアリール基を表し、Rはアリール基又は炭素数1〜20のアルキル基を表し、一分子内にRが複数回現れる場合は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、Z- は非塩基性でかつ非求核性の陰イオンを表す。)
In the case of a photocationic polymerization system, an onium salt such as a diazonium salt, a sulfonium salt, or an iodonium salt represented by the following formulas is preferably used as the photopolymerization initiator. :
ArN 2 + Z ; (R) 3 S + Z ; (R) 2 I + Z
(In the formula, Ar represents an aryl group, R represents an aryl group or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and when R appears multiple times in one molecule, they may be the same or different, and Z Represents a non-basic and non-nucleophilic anion.)

上記各式において、Ar又はRで表されるアリール基も、典型的にはフェニルやナフチルであり、これらは適当な基で置換されていてもよい。また、Z- で表される陰イオンとして具体的には、テトラフルオロボレートイオン(BF4 - )、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートイオン(B(C6 5 4 - )、ヘキサフルオロホスフェートイオン(PF6 )、ヘキサフルオロアーセネートイオン(AsF6 - )、ヘキサフルオロアンチモネートイオン(SbF6 - )、ヘキサクロロアンチモネートイオン(SbCl6 - )、硫酸水素イオン(HSO4 - )、過塩素酸イオン(ClO4 - )などが挙げられる。 In each of the above formulas, the aryl group represented by Ar or R is also typically phenyl or naphthyl, and these may be substituted with an appropriate group. Specific examples of the anion represented by Z include tetrafluoroborate ion (BF 4 ), tetrakis (pentafluorophenyl) borate ion (B (C 6 F 5 ) 4 ), hexafluorophosphate ion. (PF 6 ), hexafluoroarsenate ion (AsF 6 ), hexafluoroantimonate ion (SbF 6 ), hexachloroantimonate ion (SbCl 6 ), hydrogen sulfate ion (HSO 4 ), perchlorate ion (ClO 4 ) and the like.

これら各種の開始剤の多くは市販されているので、そのような市販品を用いることができる。市販の開始剤としては、例えば、ダウケミカル日本(株)から販売されている“サイラキュア UVI-6990 ”(商品名)、旭電化工業(株)から販売されている“アデカオプトマー SP-150 ”(商品名)及び“アデカオプトマー SP-170 ”(商品名)、ローディアジャパン(株)から販売されている“RHODORSIL PHOTOINITIATOR 2074 ”(商品名)などが挙げられる。)等が用いられる。なお、この光重合開始剤の添加量は、硬化成分100質量部に対して、通常0.1〜20質量部である。   Since many of these various initiators are commercially available, such commercial products can be used. Examples of commercially available initiators include “Syracure UVI-6990” (trade name) sold by Dow Chemical Japan Co., Ltd. and “Adekaoptomer SP-150” sold by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. (Product name), “ADEKA OPTMER SP-170” (product name), “RHODORSIL PHOTOINITIATOR 2074” (product name) sold by Rhodia Japan Co., Ltd., and the like. ) Etc. are used. In addition, the addition amount of this photoinitiator is 0.1-20 mass parts normally with respect to 100 mass parts of hardening components.

ラジカル重合系の光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、イミダゾール誘導体、ビスイミダゾール誘導体、N−アリールグリシン誘導体、有機アジド化合物、チタノセン類、アルミナキレート錯体、N−アルコキシピリジウム塩、チオキサントン誘導体、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物等が用いられる。このような光重合開始剤の具体的な例としては、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケトン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、ベンゾフェノン、1,3−ジ(tert−ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラキス(tert−ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3−フェニル−5−イソオキサゾロン、2−メルカプトベンズイミダゾール、ビス(2,4,5−トリフェニル)イミダゾール、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、等が挙げられ、これらのうち、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、又は、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、を好ましく挙げることができる。特に、光重合開始剤として1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン((商品名)イルガキュア184、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン((商品名)イルガキュア369、チバ・スペシャリティケミカルズ(株)製)又は、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オンを用いると、少量の添加でも紫外線の照射による重合反応が開始し促進される。これらの光重合開始剤は、単独で用いられてもよく、また、複数種が組み合わされて用いられてもよい。市販されている光ラジカル重合開始剤の好ましい例として、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンであるチバスペシャリティーケミカルズ株式会社製のイルガキュアー184(商品名)を挙げることができる。なお、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性樹脂成分100質量部に対して、通常3〜15質量部である。   Examples of radical polymerization photopolymerization initiators include acetophenones, benzophenones, ketals, imidazole derivatives, bisimidazole derivatives, N-arylglycine derivatives, organic azide compounds, titanocenes, alumina chelate complexes, N-alkoxypyridium salts Thioxanthone derivatives, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, thiuram compounds, fluoroamine compounds, and the like are used. Specific examples of such photopolymerization initiators include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, benzyl Dimethyl ketone, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) 2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, benzophenone, 1,3-di (tert-butyldioxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetrakis (tert-butyldioxycarbonyl) Benzophenone, 3-phenyl-5-isoxazolone, 2-mercaptobenzimidazole, bis (2,4,5 Triphenyl) imidazole, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, etc., among which 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone or 2-methyl-1 [4 Preferred is-(methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one. In particular, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone ((trade name) Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morphol. Linophenyl) -butan-1-one ((trade name) Irgacure 369, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) or 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1- When ON is used, a polymerization reaction due to irradiation with ultraviolet rays is initiated and accelerated even with a small amount of addition. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Preferable examples of commercially available photo radical polymerization initiators include Irgacure 184 (trade name) manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., which is 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone. In addition, the addition amount of a photoinitiator is 3-15 mass parts normally with respect to 100 mass parts of ionizing radiation curable resin components.

光ラジカル重合開始剤としても、光カチオン重合開始剤としても用いられるものとしては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、トリアジン化合物、鉄アレーン錯体等が例示され、更に具体的には、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−クロロフェニル)ヨードニウム等のヨードニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のヨードニウム塩、トリフェニルスホニウム、4−tert−ブチルフェニルスルホニウム、トリス(4−メチルフェニ)スルホニウム等のスルホニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のスルホニウム塩、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−フェニルー4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン等の2,4,6−置換―1,3,5トリアジン化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性樹脂成分100質量部に対して、通常3〜15質量部である。   Examples of photo radical polymerization initiators and photo cationic polymerization initiators include aromatic iodonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic diazonium salts, aromatic phosphonium salts, triazine compounds, iron arene complexes, etc. More specifically, diphenyliodonium, ditolyliodonium, iodonium chloride such as bis (p-tert-butylphenyl) iodonium, bis (p-chlorophenyl) iodonium, bromide, borofluoride, hexafluorophosphate salt, Iodonium salts such as hexafluoroantimonate salt, chlorides of sulfonium such as triphenylsulfonium, 4-tert-butylphenylsulfonium, tris (4-methylpheni) sulfonium, bromide, borofluoride, hexafluoro Sulfonium salts such as phosphate salts and hexafluoroantimonate salts, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3 Examples include 2,4,6-substituted-1,3,5 triazine compounds such as 5-triazine and 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine. It is not limited. In addition, the addition amount of a photoinitiator is 3-15 mass parts normally with respect to 100 mass parts of ionizing radiation curable resin components.

光アニオン重合開始剤としては、例えば紫外線によりアミンを発生する化合物、より具体的には、1,10−ジアミノデカンや4,4’−トリメチレンジピペリジン、カルバメート類及びその誘導体、コバルト−アミン錯体類、アミノオキシイミノ類、アンモニウムボレート類等を例示することができ、市販品としては、みどり化学(株)製NBC−101(商品名)がある。なお、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性樹脂成分100質量部に対して、通常3〜15質量部である。   Photoanionic polymerization initiators include, for example, compounds that generate amines by ultraviolet rays, more specifically 1,10-diaminodecane, 4,4′-trimethylenedipiperidine, carbamates and derivatives thereof, and cobalt-amine complexes. , Aminooxyiminos, ammonium borates and the like, and commercially available products include NBC-101 (trade name) manufactured by Midori Chemical Co., Ltd. In addition, the addition amount of a photoinitiator is 3-15 mass parts normally with respect to 100 mass parts of ionizing radiation curable resin components.

(C)成分:充填材
充填材は、低屈折率層形成用コーティング組成物に含有させることにより、得られる低屈折率硬化物の強度や弾性を向上させるために添加する。充填材は、得られる低屈折率層の屈折率を損なわない(上昇させない)範囲で低屈折率層形成用コーティング組成物に含まれていることが好ましい。充填材には、無機微粒子、有機微粒子、又は、その複合微粒子を挙げることができ、これらの微粒子の平均粒子径は5〜300nmであることが好ましい。
Component (C): Filler The filler is added to improve the strength and elasticity of the resulting low refractive index cured product by being contained in the coating composition for forming a low refractive index layer. The filler is preferably contained in the coating composition for forming a low refractive index layer as long as the refractive index of the resulting low refractive index layer is not impaired (does not increase). Examples of the filler include inorganic fine particles, organic fine particles, and composite fine particles thereof. The average particle size of these fine particles is preferably 5 to 300 nm.

充填材の屈折率が1.46以下、さらに好ましくは1.45以下の、例えば、無機微粒子(シリカ(1.42〜1.46)、フッ化マグネシウム(1.38)、フッ化カルシウム(1.36))や、有機微粒子(フッ素を含むアクリル微粒子など)が使用できる。更に塗膜中に屈折率1の空気をナノポーラス構造として塗膜中に含ませることが可能な微粒子、例えば粒子自身が持っている孔、或いは粒子同士が集合体を形成することによって生じる空隙、又は比表面積が大きい多孔質粒子に取り込まれた空気が塗膜形成の過程で粒子から塗膜中に拡散して生じる空気の孔を形成する微粒子を充填材として使用することが、低屈折率層の屈折率を低くするので好ましい。この時ナノポーラス構造は、所望の大きさの範囲内であれば、独立していても、連続していても良い。これらの微粒子は塗膜中でわずかに凝集し、特に塗膜の最表面に可視光の波長以下程度の細かな凹凸を形成させることで、結果として塗膜内部や表面にナノポーラス構造を形成するため、通常の平坦な膜となる樹脂のみに比べ、空気が取り込まれる構造が実現されるため、微粒子の持つ屈折率効果以上の塗膜の屈折率低下が期待できる。   The filler has a refractive index of 1.46 or less, more preferably 1.45 or less, such as inorganic fine particles (silica (1.42-1.46), magnesium fluoride (1.38), calcium fluoride (1 .36)) and organic fine particles (such as acrylic fine particles containing fluorine). Furthermore, fine particles that can be incorporated in the coating film with air having a refractive index of 1 as a nanoporous structure, for example, pores possessed by the particles themselves, or voids formed by the formation of aggregates between the particles, or It is possible to use fine particles that form pores of air that are generated by the diffusion of air from porous particles having a large specific surface area into the coating film during the coating formation process. This is preferable because the refractive index is lowered. At this time, the nanoporous structure may be independent or continuous as long as it is within a desired size range. These fine particles agglomerate slightly in the coating film, especially by forming fine irregularities on the outermost surface of the coating film that are less than or equal to the wavelength of visible light, resulting in the formation of a nanoporous structure inside and on the surface of the coating film. Since a structure in which air is taken in is realized as compared with only a resin that becomes a normal flat film, a decrease in the refractive index of the coating film can be expected to exceed the refractive index effect of the fine particles.

また、屈折率や塗膜への着色の影響を妨げない範囲であれば導電性の微粒子を添加して帯電防止性能を付与しても良い。   In addition, conductive fine particles may be added to impart antistatic performance as long as the influence of coloring on the refractive index and coating film is not hindered.

本明細書中において「微粒子」とは、塗膜に充分な透明性を確保するために、いわゆる超微粒子サイズのものをいう。ここで「超微粒子」とはサブミクロンオーダーの粒子のことであり、一般的に「微粒子」と呼ばれている数μmから数100μmの粒子径を有する粒子よりも粒子径の小さいものを意味している。本発明において用いられる超微粒子の具体的なサイズは、本発明のコーティング組成物が適用される光学用薄膜の用途及びグレードによっても相違するが、一般的には一次粒子径が5nm〜300nmの範囲のものを用いるのが好ましい。一次粒子径が1nm未満では、塗膜に充分な硬度及び強度を付与することが困難になり、一方、一次粒子径が300nmを超えると、塗膜の透明性が損なわれ、用途によっては適用不可能となる場合がある。無機超微粒子の一次粒子径は、走査型電子顕微鏡(SEM)等により得られる二次電子放出のイメージ写真から目視計測してもよいし、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により機械計測してもよい。   In the present specification, the term “fine particles” refers to those having a so-called ultra fine particle size in order to ensure sufficient transparency of the coating film. Here, “ultrafine particles” are particles of submicron order, and generally mean particles having a particle diameter smaller than particles having a particle diameter of several μm to several hundred μm, which are generally called “fine particles”. ing. The specific size of the ultrafine particles used in the present invention varies depending on the use and grade of the optical thin film to which the coating composition of the present invention is applied, but generally the primary particle diameter is in the range of 5 nm to 300 nm. Are preferably used. If the primary particle diameter is less than 1 nm, it becomes difficult to impart sufficient hardness and strength to the coating film. On the other hand, if the primary particle diameter exceeds 300 nm, the transparency of the coating film is impaired, and may not be applicable depending on the application. It may be possible. The primary particle size of the inorganic ultrafine particles may be measured visually from the secondary electron emission image photograph obtained by a scanning electron microscope (SEM) or the like, or a dynamic light scattering method or a static light scattering method is used. Mechanical measurement may be performed with a particle size distribution meter or the like.

なお、超微粒子は、コロイド状に分散可能で塗膜の硬度及び強度を確保することができ、且つ、サブミクロンオーダーのサイズで透明性を確保できるものである限り、その粒子形状が球状であっても針状であっても、その他どのような形状であっても本発明に用いることができる。   As long as the ultrafine particles can be dispersed in a colloidal form to ensure the hardness and strength of the coating film, and can ensure transparency with a size of the order of submicron, the particle shape is spherical. Any shape can be used in the present invention.

これらの微粒子は形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造を有することが好ましい。   These fine particles preferably have a nanoporous structure inside and / or at least part of the surface depending on the form, structure, aggregation state, and dispersion state of the fine particles inside the coating film.

無機微粒子であっても有機微粒子であっても、それ自身が空隙を有する微粒子は、微細な空隙を外部や内部に有しており、気体、例えば、屈折率1の空気が充填されているので、それ自身の屈折率が低い特徴があり、塗膜中に集合体を形成せずに均一に分散した場合でも、塗膜の屈折率を低下させることができるため好ましい。空隙に充填されるものは液体であっても構わないが、低屈折率化の観点からは空気である事が好ましい。   A fine particle having a void itself, whether it is an inorganic fine particle or an organic fine particle, has a fine void outside or inside, and is filled with a gas, for example, air having a refractive index of 1. The refractive index of the coating film itself is low, and it is preferable because the refractive index of the coating film can be lowered even when dispersed uniformly without forming an aggregate in the coating film. The liquid filled in the gap may be liquid, but air is preferable from the viewpoint of lowering the refractive index.

空隙を有する無機微粒子の好ましい例には、多孔質シリカ微粒子や中空シリカ微粒子が挙げられる。例えば、シリカを例にすると、内部に気体を有しない通常のシリカ超微粒子やコロイダルシリカ粒子(屈折率n=1.46程度)に比べると、空隙を有するシリカ微粒子の屈折率は1.20〜1.45と低い。多孔質ポリマー微粒子や中空ポリマー微粒子も同様である。空隙に充填された空気を維持するために、空隙は外部が閉じた(外壁を有する)構造を持つことがより好ましい。   Preferable examples of the inorganic fine particles having voids include porous silica fine particles and hollow silica fine particles. For example, when silica is taken as an example, the silica fine particles having voids have a refractive index of 1.20 to 1.20 compared with ordinary silica ultrafine particles and colloidal silica particles (refractive index n = 1.46 or so) having no gas inside. As low as 1.45. The same applies to porous polymer particles and hollow polymer particles. In order to maintain air filled in the air gap, it is more preferable that the air gap has a closed structure (having an outer wall).

以上のことから、屈折率及び/又は添加量を選択した空隙を有する微粒子、好ましくは、平均孔径0.01nm〜100nmの空気を含有する孔を有する屈折率1.20〜1.45の微粒子、或いは、平均粒子径5nm〜300nmの微粒子が集合体を形成した結果生じる、平均孔径が0.01nm〜100nmの屈折率1.20〜1.45の空気を含有する独立した、及び/又は連続した孔を有する微粒子集合体をバインダー成分に添加することにより得られる低屈折率層形成用コーティング組成物は、バインダー成分の屈折率に影響を全く或いはごく僅かしか影響を及ぼさず、むしろ、屈折率を低下させることができ、しかも、前記したように空隙を有する微粒子の添加効果として塗膜の強度を上げる効果がある。   From the above, fine particles having voids with a selected refractive index and / or addition amount, preferably fine particles having a refractive index of 1.20 to 1.45 having pores containing air having an average pore diameter of 0.01 nm to 100 nm, Alternatively, independent and / or continuous containing air having an average pore size of 0.01 nm to 100 nm and a refractive index of 1.20 to 1.45 resulting from the formation of aggregates of fine particles having an average particle size of 5 nm to 300 nm The coating composition for forming a low refractive index layer obtained by adding fine particle aggregates having pores to the binder component has no or very little influence on the refractive index of the binder component, but rather has a refractive index. Moreover, as described above, there is an effect of increasing the strength of the coating film as an effect of adding fine particles having voids as described above.

また、微粒子の平均粒子径が5nm〜300nmであるので塗膜の透明性にも優れている。また、これらの微粒子は塗膜への添加前、或いは塗膜形成中に凝集体を形成した場合、特に塗膜の最表面に可視光の波長以下程度の細かな凹凸を形成させることで、それ自身が空隙を有しない場合でも、通常の平坦な膜となる樹脂のみに比べ、空気が取り込まれる構造が実現されるため、微粒子の持つ屈折率以上の塗膜の屈折率低下が期待できる。   Moreover, since the average particle diameter of the fine particles is 5 nm to 300 nm, the transparency of the coating film is also excellent. In addition, when these fine particles form aggregates before being added to the coating film or during coating film formation, it is possible to form fine irregularities on the outermost surface of the coating film, in particular, at a wavelength below the wavelength of visible light. Even in the case where it does not have voids, a structure in which air is taken in is realized as compared with only a resin that becomes a normal flat film, and therefore, the refractive index of the coating film can be expected to be lower than the refractive index of the fine particles.

微粒子が無機化合物の場合、非晶質であることが好ましい。無機微粒子は、金属の酸化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物からなることが好ましく、金属酸化物または金属ハロゲン化物からなることがさらに好ましく、金属酸化物または金属フッ化物からなることが最も好ましい。金属原子としては、Na、K、Mg、Ca、Ba、Al、Si、Bが好ましく、Mg、Ca、BおよびSiがさらに好ましく、二種類の金属を含む無機化合物を用いてもよい。   When the fine particles are an inorganic compound, it is preferably amorphous. The inorganic fine particles are preferably made of a metal oxide, nitride, sulfide or halide, more preferably a metal oxide or metal halide, and most preferably a metal oxide or metal fluoride. . As a metal atom, Na, K, Mg, Ca, Ba, Al, Si, and B are preferable, Mg, Ca, B, and Si are more preferable, and an inorganic compound containing two kinds of metals may be used.

本発明に係る低屈折率層形成用コーティング組成物には、比較的少量の無機超微粒子を配合するだけでも充分に塗膜の硬度及び強度を向上させることが可能であり、無機超微粒子の配合によりバインダー成分濃度が希釈されて屈折率低下作用に悪影響を及ぼす弊害を完全に排除し或いは僅かな程度に止めることが可能である。しかしながら、無機超微粒子を比較的多めに用いる場合には、バインダー成分による屈折率低下作用に悪影響を及ぼす可能性が全くない訳ではないので、無機超微粒子としては屈折率が1.60以下、好ましくは1.46以下、更に好ましくは1.45以下のものが用いられる。例えば、アルミナAl2 3 (屈折率1.53)、シリカSiO2 (屈折率1.46)、フッ化マグネシウムMgF2 (屈折率1.38)、フッ化カルシウムCaF2 (屈折率1.36)等を例示することができ、これらの中から上記したように、溶剤又はモノマー及び/又はオリゴマー中にコロイド状分散可能なものを選択して用いるのが好ましい。特に低い屈折率が要求される場合には、上記例示の無機超微粒子のなかでもコロイダルシリカ(SiO2 )微粒子を用いるのが好ましい。また、塗膜に充分な硬度を付与することが優先される場合には、アルミナ(Al2 3 )微粒子を用いるのが好ましい。 In the coating composition for forming a low refractive index layer according to the present invention, it is possible to sufficiently improve the hardness and strength of a coating film by adding a relatively small amount of inorganic ultrafine particles. Thus, it is possible to completely eliminate the adverse effect that adversely affects the refractive index lowering action by diluting the binder component concentration or to a slight extent. However, when a relatively large amount of inorganic ultrafine particles is used, there is no possibility of adversely affecting the refractive index lowering effect of the binder component. Therefore, the inorganic ultrafine particles have a refractive index of 1.60 or less, preferably Is 1.46 or less, more preferably 1.45 or less. For example, alumina Al 2 O 3 (refractive index 1.53), silica SiO 2 (refractive index 1.46), magnesium fluoride MgF 2 (refractive index 1.38), calcium fluoride CaF 2 (refractive index 1.36). Among these, as described above, it is preferable to select and use one that can be colloidally dispersed in a solvent or monomer and / or oligomer. When a particularly low refractive index is required, it is preferable to use colloidal silica (SiO 2 ) fine particles among the inorganic ultrafine particles exemplified above. In addition, when priority is given to imparting sufficient hardness to the coating film, it is preferable to use alumina (Al 2 O 3 ) fine particles.

微粒子として、外殻層を有し、内部が多孔質または空洞となっている微粒子が好ましく使用される。該微粒子は、内部に気体が充填された構造および/または気体を含む多孔質構造をとった結果、気体が屈折率1.0の空気である場合、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の空気の占有率に比例して屈折率が低下した微粒子のことを言う。   As the fine particles, fine particles having an outer shell layer and porous or hollow inside are preferably used. The fine particles have a structure in which a gas is filled therein and / or a porous structure containing a gas. As a result, when the gas is air having a refractive index of 1.0, the fine particles have a higher refractive index than the original refractive index. It refers to fine particles whose refractive index has decreased in proportion to the occupation ratio of air.

本発明による反射防止積層体に使用するシリカ微粒子は、屈折率が1.20〜1.44であればよく、特に限定されるものではない。このようなシリカ微粒子としては、特開平7−133105号公報、特開2001−233611号公報等に開示された複合酸化物ゾルまたは中空シリカ微粒子が挙げられる。   The silica fine particles used in the antireflection laminate according to the present invention are not particularly limited as long as the refractive index is 1.20 to 1.44. Examples of such silica fine particles include composite oxide sols or hollow silica fine particles disclosed in JP-A Nos. 7-133105 and 2001-233611.

無機微粒子の少なくとも一部を表面処理することにより、溶剤又はバインダーとの親和性の改善やバインダーとの反応性を付与させることが好ましい。   It is preferable to improve the affinity with the solvent or the binder or to impart reactivity with the binder by surface-treating at least a part of the inorganic fine particles.

表面処理は、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理と、カップリング剤や有機低分子化合物、ポリマー等を表面に吸着、或いは結合させる化学的表面処理に分類できる。更に、無機微粒子表面の少なくとも一部を、それよりも粒子径が小さい無機や有機やそれらの複合微粒子で被覆しても良い(これらを総称して「表面処理物」という)。化学的表面処理のみ、または物理的表面処理と化学的表面処理の組み合わせで実施することが好ましい。カップリング剤としては、有機金属化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤、アルミキレート化剤)が好ましく用いられる。   The surface treatment can be classified into physical surface treatment such as plasma discharge treatment and corona discharge treatment, and chemical surface treatment in which a coupling agent, an organic low molecular weight compound, a polymer or the like is adsorbed or bonded to the surface. Furthermore, at least a part of the surface of the inorganic fine particles may be coated with inorganic or organic particles having a smaller particle diameter or composite fine particles thereof (these are collectively referred to as “surface treated product”). It is preferable to carry out only chemical surface treatment or a combination of physical surface treatment and chemical surface treatment. As the coupling agent, an organometallic compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent, aluminum chelating agent) is preferably used.

無機微粒子表面に水酸基等の官能基がある場合は、表面処理物を安定に吸着させることができ、また、シランカップリング剤や該官能基との反応性を有するポリマーを使用する事で、より安定な化学結合による表面処理が特に有効に実施できるため、より好ましい。シランカップリング剤としては、シルセスキオキサンの反応性基と同一反応性基を持つ前記一般式(1)で示される化合物が特に好ましく使用できる。   When there are functional groups such as hydroxyl groups on the surface of the inorganic fine particles, the surface treatment product can be adsorbed stably, and by using a silane coupling agent or a polymer having reactivity with the functional groups, Since surface treatment by a stable chemical bond can be carried out particularly effectively, it is more preferable. As the silane coupling agent, a compound represented by the general formula (1) having the same reactive group as the reactive group of silsesquioxane can be particularly preferably used.

微粒子が有機化合物の場合は、架橋、非架橋に関わらず平均粒子径5nm〜300nmのポリマー微粒子であれば特に制限されず使用でき、ポリオレフィン系、フッ素系ポリマー、ポリスルホン系、ポリエステル系、ポリビニルアセタール系、ポリビニルアルコール系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリウレタン系、ポリアクリル系、ポリスチレン系、ポリケトン系、シリコーン系、ポリ乳酸系、セルロース系等やこれらの共重合物を用いることが出来る。特に、低屈折率化の観点からはフッ素ポリマー系、シリコーン系からなることがさらに好ましい。また、例えばポリアクリル系であってもフッ素原子を含有するアクリルモノマーを使用する事で微粒子の低屈折率化が可能となるため好ましい。   When the fine particles are organic compounds, polymer fine particles having an average particle diameter of 5 nm to 300 nm can be used regardless of crosslinking or non-crosslinking, and can be used without any limitation. Polyvinyl alcohol-based, polyamide-based, polyimide-based, polyurethane-based, polyacryl-based, polystyrene-based, polyketone-based, silicone-based, polylactic acid-based, cellulose-based and the like, and copolymers thereof can be used. In particular, from the viewpoint of lowering the refractive index, it is more preferable to be made of a fluoropolymer or silicone. In addition, for example, polyacrylic resins are preferable because the refractive index of the fine particles can be lowered by using an acrylic monomer containing a fluorine atom.

有機微粒子も溶剤又はバインダーとの親和性やバインダーとの反応性が得られるモノマー重合体が表面に形成されることが好ましい。また、無機微粒子と同様の物理的および/或いは表面処理物を用いた化学的表面処理を施すことも好ましい。   It is preferable that the organic fine particles are formed on the surface with a monomer polymer capable of obtaining affinity with the solvent or binder or reactivity with the binder. It is also preferable to perform a chemical surface treatment using a physical and / or surface treatment product similar to the inorganic fine particles.

有機の中空微粒子は、例えば、特開2002−80503号公報に記載された手法により合成することができる。好ましくは、平均粒子径5nm〜300nmの微粒子の添加量が、バインダー成分100質量部に対し1〜400質量部、より好ましくは30〜300質量部、最も好ましくは50〜200質量部の範囲であることが望ましい。   The organic hollow fine particles can be synthesized, for example, by the technique described in JP-A-2002-80503. Preferably, the addition amount of fine particles having an average particle diameter of 5 nm to 300 nm is in the range of 1 to 400 parts by mass, more preferably 30 to 300 parts by mass, and most preferably 50 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder component. It is desirable.

フッ素系ポリマー添加剤および/またはケイ素ポリマー添加剤:
本発明による反射防止積層体の低屈折率層は、さらに、組成物および充填材の何れに対しても相溶性を有するフッ素系ポリマー添加剤および/またはケイ素系ポリマー添加剤を含んでなることが好ましい。このようにフッ素系ポリマー添加剤および/またはケイ素系ポリマー添加剤を含むことにより、最表面に用いられる塗膜表面の平坦化や反射防止積層体に必要とされる防汚性、耐擦傷性向上に効果がある滑り性を付与することができる。なお、前記「相溶性」とは、フッ素系ポリマー添加剤および/またはケイ素系ポリマー添加剤が組成物や充填材が存在する塗膜中に、添加効果が確認できる量を加えた場合でも、塗膜の白濁やヘイズの上昇などによる透明性の低下が確認できない程度の親和性を有することを意味する。
Fluorine polymer additive and / or silicon polymer additive:
The low refractive index layer of the antireflection laminate according to the present invention may further contain a fluorine-based polymer additive and / or a silicon-based polymer additive that is compatible with both the composition and the filler. preferable. By including a fluorine-based polymer additive and / or a silicon-based polymer additive in this way, the antifouling property and scratch resistance required for the flattening of the coating surface used on the outermost surface and the antireflection laminate are improved. The slipperiness which is effective in can be provided. The “compatibility” means that the fluorine-based polymer additive and / or the silicon-based polymer additive is applied even when an amount capable of confirming the addition effect is added to the coating film containing the composition or filler. This means that the film has an affinity to such an extent that a decrease in transparency due to white turbidity of the film or an increase in haze cannot be confirmed.

本発明においては、さらに、フッ素系ポリマー添加剤および/またはケイ素系ポリマー添加剤の少なくとも一部が、組成物と、化学反応により共有結合を形成して塗膜最表面に固定されていることが好ましく、これにより、反射防止積層体が製品化後に必要となる、長期に渡る防汚性や耐擦傷性の向上に効果がある滑り性を安定して保持することが可能となる。   In the present invention, it is further preferable that at least a part of the fluorine-based polymer additive and / or the silicon-based polymer additive is fixed to the outermost surface of the coating film by forming a covalent bond with the composition by a chemical reaction. Preferably, this makes it possible to stably maintain the slipperiness required to improve the antifouling property and scratch resistance over a long period of time required after the antireflection laminate is commercialized.

上記フッ素系ポリマー添加剤としては、CdF2 +1 (dは1〜21の整数) で表されるパーフルオロアルキル基、−( CF2 CF2)g (g は1〜50の整数) で表されるパーフルオロアルキレン基、またはF−(−CF(CF3 )CF2 O−)e −CF(CF3 )( ここで、eは1〜50の整数) で表されるパーフルオロアルキルエーテル基、ならびに、CF2 =CFCF2 CF2 −、(CF3 2 C=C(C2 5 )−、および((CF3 2 CF)2 C=C(CF3 )−等で例示されるパーフルオロアルケニル基を有することが好ましい。 Examples of the fluorine-based polymer additive include a perfluoroalkyl group represented by CdF 2 d +1 (d is an integer of 1 to 21), and-(CF 2 CF 2 ) g (g is an integer of 1 to 50). perfluoroalkylene group represented or F, - (- CF (CF 3) CF 2 O-) e -CF (CF 3) ( where, e is an integer of 1 to 50) perfluoroalkyl ether represented by Group, CF 2 = CFCF 2 CF 2- , (CF 3 ) 2 C = C (C 2 F 5 )-, and ((CF 3 ) 2 CF) 2 C = C (CF 3 )- It is preferable to have a perfluoroalkenyl group.

上記の官能基を含む化合物であれば、フッ素系ポリマー添加剤の構造は特に限定されるものではなく、例えば、含フッ素モノマーの重合体、または含フッ素モノマーと非フッ素モノマーの共重合体等を用いることもできる。それらの中でも特に、含フッ素モノマーの単独共重合体、または含フッ素モノマーと非フッ素モノマーとの共重合体のいずれかで構成される含フッ素系重合体セグメントと、非フッ素系重合体セグメント、とから成るブロック共重合体またはグラフト共重合体が好ましく用いられる。このような共重合体においては、含フッ素系重合体セグメントが、主に防汚性・撥水撥油性を高める機能を有し、一方、非フッ素系重合体セグメントが、バインダー成分との相溶性が高いことから、アンカー機能を有する。したがって、このような共重合体を用いた反射防止積層体においては、繰り返し表面を擦られた場合にもこれらのフッ素系ポリマー添加剤が取り去られにくく、また、長期に渡り防汚性などの諸性能を維持できるという効果がある。   The structure of the fluorine-based polymer additive is not particularly limited as long as it is a compound containing the above functional group. For example, a polymer of a fluorine-containing monomer or a copolymer of a fluorine-containing monomer and a non-fluorine monomer can be used. It can also be used. Among them, in particular, a fluorine-containing polymer segment composed of either a homopolymer of a fluorine-containing monomer or a copolymer of a fluorine-containing monomer and a non-fluorine monomer, and a non-fluorine polymer segment, A block copolymer or graft copolymer consisting of is preferably used. In such a copolymer, the fluorine-containing polymer segment mainly has a function of improving antifouling properties and water / oil repellency, while the non-fluorine polymer segment is compatible with the binder component. Since it is high, it has an anchor function. Therefore, in the antireflection laminate using such a copolymer, even when the surface is repeatedly rubbed, it is difficult to remove these fluorine-based polymer additives, and the antifouling property and the like for a long time There is an effect that various performances can be maintained.

上記フッ素系ポリマー添加剤は市販の製品として入手することができ、例えば、日本油脂製モディパーFシリーズ(商品名)、大日本インキ化学工業社製ディフェンサMCFシリーズ(商品名)等が好ましく用いられる。上記フッ素系ポリマー添加剤および/またはケイ素系ポリマー添加剤は、下記一般式(7)、   The above-mentioned fluoropolymer additive can be obtained as a commercial product. For example, Nippon Oil & Fats Modiper F series (trade name), Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd. defender MCF series (trade name) and the like are preferably used. The fluorine-based polymer additive and / or the silicon-based polymer additive has the following general formula (7),

Figure 2006047504
(式中、Raはメチル基などの炭素数1〜20のアルキル基を示し、Rbは非置換、もしくはアミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、水酸基、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、パーフルオロアルキルエーテル基、または( メタ) アクリロイル基で置換された炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基、またはポリエーテル変性基を示し、各Ra、Rbは互いに同一でも異なっていても良い。また、mは0〜200、nは0〜200の整数である。)
で示される構造を有することが好ましい。
Figure 2006047504
(In the formula, Ra represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group, and Rb is unsubstituted, or an amino group, an epoxy group, a carboxyl group, a hydroxyl group, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkylene group, a perfluoro group. An alkyl ether group or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, or a polyether-modified group substituted with a (meth) acryloyl group. Each Ra and Rb are the same or different from each other. M is an integer from 0 to 200, and n is an integer from 0 to 200.)
It is preferable to have the structure shown by these.

上記一般式(7)のような基本骨格を持つポリジメチルシリコーンは、一般に表面張力が低く、撥水性や離型性に優れていることが知られているが、側鎖あるいは末端に種々の官能基を導入することで、更なる効果を付与することができる。例えば、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、水酸基、(メタ)アクリロイル基、アルコキシ基等を導入することにより反応性を付与でき、前記電離放射線硬化型樹脂組成物との化学反応により共有結合を形成できる。また、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、パーフルオロアルキルエーテル基を導入することで、耐油性や潤滑性等を付与でき、さらに、ポリエーテル変性基を導入することで、レベリング性や潤滑性を向上させることができる。   Polydimethylsilicone having a basic skeleton such as the above general formula (7) is generally known to have low surface tension and excellent water repellency and releasability, but various functional groups on the side chain or terminal. By introducing a group, further effects can be imparted. For example, reactivity can be imparted by introducing an amino group, epoxy group, carboxyl group, hydroxyl group, (meth) acryloyl group, alkoxy group, etc., and a covalent bond is formed by a chemical reaction with the ionizing radiation curable resin composition. it can. In addition, by introducing perfluoroalkyl groups, perfluoroalkylene groups, and perfluoroalkyl ether groups, oil resistance and lubricity can be imparted, and by introducing polyether-modified groups, leveling properties and lubricity can be provided. Can be improved.

このような化合物は、市販の製品として入手することができ、例えば、フルオロアルキル基をもつシリコーンオイルFL100( 商品名、信越化学工業社製) や、ポリエーテル変性シリコーンオイルTSF4460 (商品名、GE東芝シリコーン社製) 等、目的に合わせて種々の変性シリコーンオイルを入手できる。   Such a compound can be obtained as a commercial product. For example, silicone oil FL100 having a fluoroalkyl group (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) or polyether-modified silicone oil TSF4460 (trade name, GE Toshiba). Various modified silicone oils can be obtained according to the purpose.

また本発明の好ましい態様として、フッ素系ポリマー添加剤および/またはケイ素系ポリマー添加剤は下記一般式(8)、   As a preferred embodiment of the present invention, the fluorine-based polymer additive and / or the silicon-based polymer additive is represented by the following general formula (8),

Figure 2006047504
(式中、Raはパーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、またはパーフルオロアルキルエーテル基を含む炭素数3〜1000の炭化水素基を示し、Xはメトキシ基、エトキシ基、もしくはプロポキシ基等の炭素数1〜3のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、もしくはメトキシエトキシ基等のオキシアルコキシ基、または、クロル基、ブロモ基もしくはヨード基等のハロゲン基等の加水分解性基であり、同一でも異なっていてもよく、nは1〜3の整数を示す。)
で示される構造であってもよい。
Figure 2006047504
(In the formula, Ra represents a C3-1000 hydrocarbon group including a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkylene group, or a perfluoroalkyl ether group, and X represents a carbon such as a methoxy group, an ethoxy group, or a propoxy group. A hydrolyzable group such as an alkoxy group of formulas 1 to 3, an oxyalkoxy group such as a methoxymethoxy group or a methoxyethoxy group, or a halogen group such as a chloro group, a bromo group or an iodo group, which may be the same or different; And n represents an integer of 1 to 3.)
The structure shown by may be sufficient.

このような加水分解性基を含むことにより、特に無機成分、さらに好ましくは、シリカ成分の水酸基と共有結合や水素結合を形成し易く、密着性を保持できるという効果がある。このような化合物として、具体的には、TSL8257(商品名、GE 東芝シリコーン社製)等のフルオロアルキルシランが挙げられる。   By including such a hydrolyzable group, it is particularly easy to form a covalent bond or a hydrogen bond with the hydroxyl group of the inorganic component, more preferably, the silica component, and there is an effect that the adhesiveness can be maintained. Specific examples of such a compound include fluoroalkylsilanes such as TSL8257 (trade name, manufactured by GE Toshiba Silicone).

上記フッ素系ポリマー添加剤および/またはケイ素系ポリマー添加剤は、組成物と充填材の総質量に対して、0.01〜10質量%、好ましくは0.1〜3.0質量%の含有量であることが好ましい。含有量が0.01質量%未満であると、反射防止積層体に充分な防汚性や滑り性を付与することができず、また10質量%を超えると塗膜の強度を極端に低下させる。   The fluorine-based polymer additive and / or the silicon-based polymer additive is 0.01 to 10% by mass, preferably 0.1 to 3.0% by mass, based on the total mass of the composition and the filler. It is preferable that When the content is less than 0.01% by mass, sufficient antifouling property and slipperiness cannot be imparted to the antireflection laminate, and when it exceeds 10% by mass, the strength of the coating film is extremely lowered. .

これらフッ素系ポリマー添加剤やケイ素系ポリマー添加剤は、期待する効果の程度に応じて単独で用いても良く、2種以上を混合して用いても良い。これらの添加剤を適宜組み合わせることにより、防汚性、撥水撥油性、滑り性、耐擦傷性、耐久性、レベリング性等の諸性質を調節し、目的とする機能を発現させることができる。   These fluorine-based polymer additives and silicon-based polymer additives may be used alone or in combination of two or more depending on the expected effect. By appropriately combining these additives, various properties such as antifouling property, water and oil repellency, slipperiness, scratch resistance, durability, and leveling property can be adjusted to achieve the intended function.

その他の成分
本発明による反射防止積層体を構成する低屈折率層は、必須成分として、上記の組成物成分および上記充填材成分および上記フッ素および/またはケイ素化合物を含有するが、さらに必要に応じて、上記したような組成物成分以外のバインダー成分も含まれていてよく、さらに、低屈折率層形成用塗工液には、溶剤、重合開始剤、硬化剤、架橋剤、紫外線遮断剤、紫外線吸収剤、表面調整剤(レベリング剤)、あるいは、その他の成分が含まれていても良い。
Other Components The low refractive index layer constituting the antireflection laminate according to the present invention contains the above composition component, the above filler component, and the above fluorine and / or silicon compound as essential components. In addition, a binder component other than the composition component as described above may be included, and the low refractive index layer forming coating solution further includes a solvent, a polymerization initiator, a curing agent, a crosslinking agent, an ultraviolet blocking agent, An ultraviolet absorber, a surface conditioner (leveling agent), or other components may be contained.

低屈折率層形成用コーティング組成物の調製、溶剤、塗布、低屈折率層の形成方法:
上記各成分からなる低屈折率層は、溶剤に上記の各成分を溶解させた低屈折率層形成用組成物を調製し、該組成物を一般的な調製法に従って分散処理することにより塗工液を作製し、該塗工液を基材に塗布乾燥することにより形成できる。
Preparation of coating composition for forming low refractive index layer, solvent, coating, forming method of low refractive index layer:
The low refractive index layer comprising the above components is prepared by preparing a composition for forming a low refractive index layer in which each of the above components is dissolved in a solvent, and dispersing the composition according to a general preparation method. It can be formed by preparing a liquid and applying and drying the coating liquid on a substrate.

以下、溶剤、コーティング組成物の調整方法、および塗膜の形成方法について説明する。   Hereinafter, the adjustment method of a solvent, a coating composition, and the formation method of a coating film are demonstrated.

(1)溶剤
バインダー成分を比較的多量に用いる場合には、モノマーおよび/またはオリゴマーが塗工液に調製するための液状媒体としても機能し得るので、溶剤を用いなくてもコーティング組成物の固形成分を溶解、分散、または希釈して塗工液の状態に調製できる場合がある。従って、本発明において溶剤は必ずしも必要ではないが、固形成分を溶解分散し、濃度を調整して、塗工適性に優れた塗工液を調製するために溶剤を使用する場合が多い。
(1) Solvent When a relatively large amount of the binder component is used, the monomer and / or oligomer can also function as a liquid medium for preparing the coating liquid, so that the coating composition can be solid without using a solvent. In some cases, the components can be dissolved, dispersed, or diluted to prepare a coating solution. Accordingly, in the present invention, a solvent is not always necessary, but in many cases, a solvent is used to dissolve and disperse solid components, adjust the concentration, and prepare a coating solution having excellent coating suitability.

本発明における低屈折率層の固形成分を溶解分散するために用いる溶剤は、特に制限されず、種々の有機溶剤、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ハロゲン化炭化水素;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;あるいはこれらの混合物を用いることができる。   The solvent used for dissolving and dispersing the solid component of the low refractive index layer in the present invention is not particularly limited, and various organic solvents such as alcohols such as isopropyl alcohol, methanol and ethanol; methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone. Ketones such as; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; halogenated hydrocarbons; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; or a mixture thereof.

上記溶媒は、ケトン系の有機溶剤を用いるのが好ましい。本発明で使用する低屈折率層形成用コーティング組成物をケトン系溶剤を用いて調製すると、基材表面に容易に薄く均一に塗布することができ、かつ、塗工後において溶剤の蒸発速度が適度で乾燥むらを起こし難いので、均一な薄さの大面積塗膜を容易に得ることができるからである。   As the solvent, a ketone-based organic solvent is preferably used. When the coating composition for forming a low refractive index layer used in the present invention is prepared using a ketone solvent, it can be applied thinly and uniformly on the surface of the substrate, and the evaporation rate of the solvent after coating is high. This is because it is moderate and hardly causes uneven drying, and a large-area coating film having a uniform thickness can be easily obtained.

反射防止積層体の支持層であるハードコート層に防眩層としての機能を付与するために当該ハードコート層の表面を微細凹凸状に形成し、その上に、中屈折率層または高屈折率層を介してまたは介さずに、低屈折率層形成用組成物を塗布して低屈折率層を形成する場合がある。該組成物にケトン系溶剤を用いて調製すると、このような微細凹凸状の表面にも均一に塗工することができ、塗工むらを防止できる。   In order to impart a function as an antiglare layer to the hard coat layer that is a support layer of the antireflection laminate, the surface of the hard coat layer is formed in a fine uneven shape, and a medium refractive index layer or a high refractive index is formed thereon. A low refractive index layer may be formed by applying a composition for forming a low refractive index layer with or without a layer. When the composition is prepared using a ketone solvent, it can be applied evenly on such fine uneven surfaces, and uneven coating can be prevented.

ケトン系溶剤としては、1種のケトンからなる単独溶剤、2種以上のケトンからなる混合溶剤、および、1種または2種以上のケトンと共に他の溶剤を含有しケトン溶剤としての性質を失っていないものを用いることができる。好ましくは、溶剤の70質量%以上、特に80質量%以上を1種または2種以上のケトンで占められているケトン系溶剤が用いられる。   As a ketone solvent, it contains a single solvent composed of one kind of ketone, a mixed solvent composed of two or more kinds of ketones, and other solvents together with one or more kinds of ketones, and has lost the properties as a ketone solvent. Those that are not can be used. Preferably, a ketone solvent in which 70% by mass or more, particularly 80% by mass or more of the solvent is occupied by one or two or more ketones is used.

また、溶剤の量は、各成分を均一に溶解、分散することができ、調製後の保存時に凝集を来たさず、かつ、塗工時に希薄すぎない濃度となるように適宜調節する。この条件が満たされる範囲内で溶剤の使用量を少なくして高濃度の低屈折率層形成用コーティング組成物を調製し、容量をとらない状態で保存し、使用時に必要分を取り出して塗工作業に適した濃度に希釈するのが好ましい。固形分と溶剤の合計量を100質量部とした時に、全固形分0.5〜50質量部に対して、溶剤を50〜95.5質量部、さらに好ましくは、全固形分10〜30質量部に対して、溶剤を70〜90質量部の割合で用いることにより、特に分散安定性に優れ、長期保存に適した低屈折率層形成用コーティング組成物が得られる。   The amount of the solvent is appropriately adjusted so that each component can be uniformly dissolved and dispersed, does not cause aggregation during storage after preparation, and does not become too dilute during coating. Prepare a coating composition for forming a low-refractive index layer with a high concentration by reducing the amount of solvent used within the range that satisfies this condition, store it in a state that does not take up the capacity, and take out the necessary amount when using it and apply it. It is preferable to dilute to a concentration suitable for the work. When the total amount of the solid content and the solvent is 100 parts by mass, the solvent is 50 to 95.5 parts by mass with respect to the total solids of 0.5 to 50 parts by mass, and more preferably the total solid content is 10 to 30 parts by mass. By using the solvent at a ratio of 70 to 90 parts by mass with respect to parts, a coating composition for forming a low refractive index layer that is particularly excellent in dispersion stability and suitable for long-term storage can be obtained.

(2)低屈折率層形成用コーティング組成物の調製
各必須成分および各所望成分を任意の順序で混合し、充填材がコロイドの形状であれば、そのまま混合することが可能であるし、粉状であえば、得られた混合物にビーズ等の媒体を投入し、ペイントシェーカーやビーズミル等で適切に分散処理することにより、コーティングのための低屈折率層形成用組成物が得られる。
(2) Preparation of coating composition for forming low refractive index layer Each essential component and each desired component are mixed in an arbitrary order, and if the filler is in the form of a colloid, it can be mixed as it is, If it is, the composition for forming a low refractive index layer for coating can be obtained by putting a medium such as beads into the obtained mixture and appropriately dispersing it with a paint shaker or a bead mill.

(3)塗膜の形成
上記低屈折率層形成用コーティング組成物を用いて塗膜を形成するには、組成物、各種添加材を含有する塗工液を被塗工体の表面に塗布、乾燥し、電離放射線の照射、および/または加熱により硬化させ、電離放射線硬化型樹脂組成物、表面処理シリカ微粒子、フッ素系ポリマー添加剤および/またはケイ素系ポリマー添加剤を主体として含有する皮膜の硬化物とする。
(3) Formation of coating film In order to form a coating film using the coating composition for forming a low refractive index layer, a coating liquid containing a composition and various additives is applied to the surface of an object to be coated. Curing of a film mainly containing an ionizing radiation curable resin composition, surface-treated silica fine particles, a fluorine-based polymer additive and / or a silicon-based polymer additive after being dried and cured by irradiation with ionizing radiation and / or heating. It is a thing.

低屈折率層形成用コーティング組成物を塗布する方法としては、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等が挙げられる。   Examples of the method for applying the coating composition for forming the low refractive index layer include spin coating, dipping, spraying, slide coating, bar coating, roll coater, meniscus coater, flexographic printing, and screen printing. Method, bead coater method and the like.

光透過性を有する基材
本発明による反射防止積層体を構成する光透過性を有する基材は、板状であってもフィルム状であっても良い。好ましい基材としては、例えば、トリアセテートセルロース(TAC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテルサルホン、アクリル系樹脂;ポリウレタン系樹脂;ポリエステル;ポリカーボネート;ポリスルホン;ポリエーテル;トリメチルペンテン;ポリエーテルケトン;(メタ)アクリロニトリル;環状ポリオレフィン等の各種樹脂で形成したフィルム等を例示することができる。基材の厚さは、通常30μm〜200μm程度であり、好ましくは50μm〜200μmである。
Light-transmitting base material The light-transmitting base material constituting the antireflection laminate according to the present invention may be plate-shaped or film-shaped. Preferred substrates include, for example, triacetate cellulose (TAC), polyethylene terephthalate (PET), diacetyl cellulose, acetate butyrate cellulose, polyethersulfone, acrylic resin; polyurethane resin; polyester; polycarbonate; polysulfone; Examples thereof include films formed of various resins such as trimethylpentene; polyetherketone; (meth) acrylonitrile; cyclic polyolefin. The thickness of a base material is about 30 micrometers-200 micrometers normally, Preferably it is 50 micrometers-200 micrometers.

前記低屈折率層形成用組成物の塗工液を被塗工体である基材の表面に直接、あるいはハードコート層等の他の層を介して塗布し、乾燥させることによって、オキセタニル基の作用により被塗工体表面に対する密着性に優れた塗膜が得られる。   The coating liquid of the composition for forming a low refractive index layer is applied directly to the surface of the substrate, which is an object to be coated, or through another layer such as a hard coat layer, and dried to thereby form an oxetanyl group. By the action, a coating film having excellent adhesion to the surface of the object to be coated can be obtained.

反射防止積層体
本発明の反射防止積層体は、光透過性を有する基材の少なくとも一面側に、直接、或いは他の層を介して、光透過性を有し且つ互いに屈折率の異なる層(光透過層)を一層以上積層してなる、単層型又は多層型反射防止膜のうちの少なくとも一層を低屈折率層としたものである。該反射防止積層体は、反射防止フィルムとして用いることができる。なお、本発明においては、多層型反射防止膜の中で最も屈折率の高い層を高屈折率層と称し、最も屈折率の低い層を低屈折率層と称し、それ以外の中間的な屈折率を有する層を中屈折率層と称する。基材及び光透過層は、反射防止フィルムの材料として使用できる程度の光透過性を有する必要があり、できるだけ透明に近いものが好ましい。
Antireflective laminate The antireflective laminate of the present invention is a layer having a light transmittance and a refractive index different from each other directly or via another layer on at least one side of a light transmissive substrate ( At least one of the single layer type or multilayer type antireflection film formed by laminating one or more light transmission layers) is a low refractive index layer. The antireflection laminate can be used as an antireflection film. In the present invention, in the multilayer antireflection film, the layer having the highest refractive index is referred to as a high refractive index layer, the layer having the lowest refractive index is referred to as a low refractive index layer, and other intermediate refractions. A layer having a refractive index is referred to as a medium refractive index layer. The base material and the light transmission layer need to have light transmittance that can be used as a material for the antireflection film, and are preferably as transparent as possible.

本発明において得られる反射防止積層体において、前記他の層として、反射防止積層体に耐擦傷性、強度等のハード性能を与える目的でハードコート層を設けても良い。或いは、反射防止積層体に防眩性を与える目的で、他の層として、防眩層を設けても良い。   In the antireflection laminate obtained in the present invention, as the other layer, a hard coat layer may be provided for the purpose of imparting hard performance such as scratch resistance and strength to the antireflection laminate. Alternatively, an antiglare layer may be provided as another layer for the purpose of imparting antiglare properties to the antireflection laminate.

ハードコート層
本発明の反射防止積層体におけるハードコート層は、電離放射線硬化型樹脂組成物を使用して形成することが望ましい。尚、本明細書において、「ハードコート層」とは、JIS5600−5−4:1999で示される鉛筆硬度試験でH以上の硬度を示すものをいう。
Hard coat layer The hard coat layer in the antireflection laminate of the present invention is preferably formed using an ionizing radiation curable resin composition. In the present specification, the “hard coat layer” means a layer having a hardness of H or higher in a pencil hardness test shown in JIS 5600-5-4: 1999.

ハードコート層を形成するのに好適な電離放射線硬化型樹脂組成物としては、好ましくはアクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエーテル樹脂、多価アルコール、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートモノステアレート等のジ(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等のトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート誘導体やジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレートなどの多官能化合物などのモノマー類やエポキシアクリレートやウレタンアクリレートなどのオリゴマーなどを使用することができる。   The ionizing radiation curable resin composition suitable for forming the hard coat layer is preferably one having an acrylate functional group, such as a relatively low molecular weight polyester resin, polyether resin, acrylic resin, epoxy resin. , Urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyether resins, polyhydric alcohols, di (meth) acrylates such as ethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate monostearate; Tri (meth) acrylates such as methylolpropane tri (meth) acrylate and pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate derivatives and dipentaerythritol penta (meth) acrylate Etc. may be used polyfunctional (meth) oligomer, such as monomers, epoxy acrylates and urethane acrylates such as multifunctional compounds such as acrylates rates.

本発明の反射防止積層体におけるハードコート層は硬化後の膜厚が0.1〜100μm、好ましくは0.8〜20μmの範囲にあることが望ましい。膜厚が0.1μm以下の場合は充分なハードコート性能が得られず、100μm以上の場合は外部からの衝撃に対して割れやすくなるため好ましくない。   The hard coat layer in the antireflection laminate of the present invention has a cured film thickness of 0.1 to 100 μm, preferably 0.8 to 20 μm. When the film thickness is 0.1 μm or less, sufficient hard coat performance cannot be obtained, and when the film thickness is 100 μm or more, it is not preferable because it easily breaks against an external impact.

本発明の反射防止積層体におけるハードコート層の屈折率が1.50〜1.70であることが好ましく、例えば、1.57〜1.70であると、中屈折率層または高屈折率層の機能を兼ね備えることができ、反射防止積層体の反射防止性に好ましい。   The refractive index of the hard coat layer in the antireflection laminate of the present invention is preferably 1.50 to 1.70, for example, 1.57 to 1.70, a medium refractive index layer or a high refractive index layer. It is preferable for the antireflection property of the antireflection laminate.

防眩層
本発明の反射防止積層体におけるハードコート層は、次に説明する防眩性を有していてよもいし、ハードコート層とは別に防眩層を設けてもよい。
Antiglare layer The hard coat layer in the antireflection laminate of the present invention may have antiglare properties described below, and an antiglare layer may be provided separately from the hard coat layer.

本発明の防眩層は電離放射線硬化型樹脂組成物と屈折率1.40〜1.60の樹脂ビーズを用いて構成することができる。樹脂ビーズを含むことで、ハードコート性に加えて、防眩性を付与することができる。電離放射線硬化型樹脂組成物としては、先のハードコート層に好ましく用いられるものの中から適宜選定することができる。   The antiglare layer of the present invention can be constituted using an ionizing radiation curable resin composition and resin beads having a refractive index of 1.40 to 1.60. By including resin beads, in addition to hard coat properties, antiglare properties can be imparted. The ionizing radiation curable resin composition can be appropriately selected from those preferably used for the hard coat layer.

樹脂ビーズの屈折率がこのような範囲である好ましい理由は、電離放射線硬化型樹脂、特にアクリレートまたはメタクリレート系樹脂の屈折率は通常1.45〜1.55であることから、電離放射線硬化型樹脂の屈折率にできるだけ近い屈折率を持つ樹脂ビーズを選択すると、塗膜の透明性が損なわれずに、しかも、防眩性を増すことができるからである。電離放射線硬化型樹脂の屈折率に近い屈折率を持つ樹脂ビーズには、例えばポリメチルメタクリレートビーズ(1.49)、ポリカーボネートビーズ(1.58)、ポリスチレンビーズ(1.50)、ポリアクリルスチレンビーズ(1.57)、ポリ塩化ビニルビーズ(1.54)などがあるが、上記範囲にあるものはこれ以外のものでも使用することができる。   The reason why the refractive index of the resin beads is in such a range is that the ionizing radiation curable resin, in particular, the refractive index of the acrylate or methacrylate resin is usually 1.45 to 1.55. This is because if resin beads having a refractive index as close as possible to the refractive index are selected, the transparency of the coating film is not impaired and the antiglare property can be increased. Examples of resin beads having a refractive index close to that of ionizing radiation curable resin include polymethyl methacrylate beads (1.49), polycarbonate beads (1.58), polystyrene beads (1.50), and polyacrylstyrene beads. (1.57), polyvinyl chloride beads (1.54), etc., but those within the above range can be used.

これらの樹脂ビーズの粒径は、3〜8μmのものが好適に用いられ、樹脂100質量部に対して2〜10質量部、通常4質量部程度用いられる。この塗料のような樹脂ビーズを混入させると、塗料使用時には容器の底に沈殿した樹脂ビーズを攪拌して良く分散させる必要がある。このような不都合を無くすために、前記の塗料に樹脂ビーズの沈降防止剤として粒径0.5μm以下、好ましくは0.1〜0.25μmのシリカビーズを含ませてもよい。なお、このシリカビーズは添加すればするほど有機フィラーの沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。したがって、樹脂100質量部に対して、塗膜の透明性を損なわない程度に、しかも沈降防止することができる範囲である0.1質量部未満程度が好ましい。   The particle diameter of these resin beads is preferably 3 to 8 μm, and is 2 to 10 parts by mass, usually about 4 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin. When resin beads such as paint are mixed, it is necessary to agitate and disperse the resin beads precipitated on the bottom of the container when using the paint. In order to eliminate such inconvenience, silica beads having a particle diameter of 0.5 μm or less, preferably 0.1 to 0.25 μm may be included in the coating material as an anti-settling agent for resin beads. Note that the more silica beads are added, the more effective the prevention of sedimentation of the organic filler is, but it adversely affects the transparency of the coating film. Therefore, the amount of less than 0.1 parts by mass, which is a range capable of preventing sedimentation, is preferable to the extent that the transparency of the coating film is not impaired with respect to 100 parts by mass of the resin.

本発明の反射防止積層体における防眩層は硬化後の膜厚が0.1〜100μm、好ましくは0.8〜20μmの範囲にあることが望ましい。膜厚が0.1μm以下の場合は充分なハードコート性能が得られず、100μm以上の場合は外部からの衝撃に対して割れやすくなるため好ましくない。   The antiglare layer in the antireflection laminate of the present invention desirably has a film thickness after curing of 0.1 to 100 μm, preferably 0.8 to 20 μm. When the film thickness is 0.1 μm or less, sufficient hard coat performance cannot be obtained, and when the film thickness is 100 μm or more, it is not preferable because it easily breaks against an external impact.

帯電防止層
本発明の反射防止積層体には、静電気の発生がなくゴミの付着防止や液晶ディスプレイなどに組みこまれた際の外部からの静電気障害を受けない効果を付与するために必要に応じて帯電防止層を形成してもよい。この場合の帯電防止層の性能としては反射防止積層体形成後の表面抵抗が1012Ω/□以下となることが好ましい。しかし1012Ω/□を超えるものであっても、帯電防止層を設けていないものに比べて、埃付着性を防止することができる。
Antistatic layer The antireflective laminate of the present invention has no need to generate static electricity and prevent dust from adhering to it, or when it is incorporated into a liquid crystal display, etc. An antistatic layer may be formed. As the performance of the antistatic layer in this case, the surface resistance after the formation of the antireflection laminate is preferably 10 12 Ω / □ or less. However, even if it exceeds 10 12 Ω / □, dust adhesion can be prevented as compared with the case where no antistatic layer is provided.

帯電防止樹脂組成物に含まれる帯電防止剤には、例えば、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第1〜第3アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性帯電防止剤、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などのアニオン性基を有するアニオン系帯電防止剤、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系などの両性帯電防止剤、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系などのノニオン性の帯電防止剤、スズやチタンのアルコキシドのような有機金属化合物やそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物などの各種界面活性剤型帯電防止剤、さらには上記の如き帯電防止剤を高分子量化した高分子型帯電防止剤等が挙げられ、また、第3級アミノ基や第4級アンモニウム基、金属キレート部を有し電離放射線により重合可能なモノマーやオリゴマー、同じく電離放射線により重合可能な官能基を持つカップリング剤のような有機金属化合物などの重合性帯電防止剤も使用できる。 帯電防止樹脂組成物に含まれる他の帯電防止剤として、粒子径が100nm以下の超微粒子、例えば酸化スズ、スズドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、インジウムドープ酸化亜鉛(AZO)、酸化アンチモン、酸化インジウムなどを用いることができる。特に、粒径が可視光線の波長以下の100nm以下とすることで、成膜後透明になり、反射防止フィルムの透明性を損なわないので好ましい。   Examples of the antistatic agent contained in the antistatic resin composition include various cationic antistatic agents having a cationic group such as a quaternary ammonium salt, a pyridinium salt, and first to third amino groups, and a sulfonate group. , Anionic antistatic agents having anionic groups such as sulfate ester base, phosphate ester base, phosphonate base, amphoteric antistatic agents such as amino acid and aminosulfate esters, amino alcohols, glycerols, polyethylene glycols Nonionic antistatic agents such as various surfactant type antistatic agents such as organometallic compounds such as tin and titanium alkoxides and metal chelates such as acetylacetonate salts, and the above-mentioned charging High molecular weight antistatic agent having a high molecular weight, and tertiary amino groups and quaternary amines. Sulfonium groups, polymerizable antistatic agents such as an organic metal compound such as a coupling agent having polymerizable monomer or oligomer by ionizing radiation has a metal chelate portion, the same polymerizable functional groups by ionizing radiation may also be used. Other antistatic agents contained in the antistatic resin composition include ultrafine particles having a particle size of 100 nm or less, such as tin oxide, tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), and indium-doped zinc oxide (AZO). Antimony oxide, indium oxide, or the like can be used. In particular, it is preferable that the particle diameter is 100 nm or less, which is equal to or less than the wavelength of visible light, since it becomes transparent after film formation and the transparency of the antireflection film is not impaired.

上記帯電防止剤を、上記ハードコート層や防眩層を形成する塗料中に混合する事で、帯電防止性能とハードコート性の2つの性質、同様に帯電防止性能と防眩性の2つの性質を同時に改善する塗膜を得ることが可能となる。   By mixing the antistatic agent in the coating material for forming the hard coat layer and the antiglare layer, two properties of antistatic performance and hard coat property, and similarly two properties of antistatic performance and antiglare property. It becomes possible to obtain a coating film that improves the above simultaneously.

高屈折率層乃至中屈折率層(屈折率1.46〜2.00の範囲の屈折率層)
ハードコート層と前記低屈折率層との間に、屈折率が1.46〜2.00の範囲で、かつ膜厚が0.05〜0.15μmの範囲である乃至高屈折率層が、少なくとも一層以上設けられることが反射防止性において望ましい。
High refractive index layer to medium refractive index layer (refractive index layer in the range of refractive index 1.46 to 2.00)
Between the hard coat layer and the low refractive index layer, a refractive index in the range of 1.46 to 2.00 and a film thickness in the range of 0.05 to 0.15 μm to a high refractive index layer, It is desirable in terms of antireflection properties that at least one layer is provided.

本発明の反射防止積層体における中乃至高屈折率層は、主に、電離放射線硬化型樹脂と、粒子径100nm以下の中乃至高屈折率の超微粒子が含まれることで構成できる。中乃至高屈折率の超微粒子の例には、酸化亜鉛(屈折率1.90、以下数値は屈折率を示す)、チタニア(2.3〜2.7)、セリア(1.95)、スズドープ酸化インジウム(1.95)、アンチモンドープ酸化スズ(1.80)、イットリア(1.87)、ジルコニア(2.0)が挙げられる。超微粒子は、電離放射線硬化型樹脂バインダーよりも屈折率が高いものが好ましい。屈折率は屈折率層中の微粒子の含有率によって決まり、すなわち微粒子の含有量が多いほど屈折率が高くなるので、電離放射線硬化型樹脂と微粒子の構成比率を制御することで、屈折率を1.46〜2.00の範囲で自由に制御することができる。   The middle to high refractive index layer in the antireflection laminate of the present invention can be constituted mainly by containing ionizing radiation curable resin and medium to high refractive index ultrafine particles having a particle diameter of 100 nm or less. Examples of ultrafine particles with medium to high refractive index include zinc oxide (refractive index 1.90, the following numerical values indicate refractive index), titania (2.3-2.7), ceria (1.95), tin-doped Examples include indium oxide (1.95), antimony-doped tin oxide (1.80), yttria (1.87), and zirconia (2.0). The ultrafine particles preferably have a higher refractive index than the ionizing radiation curable resin binder. The refractive index is determined by the content of the fine particles in the refractive index layer, that is, the refractive index increases as the content of the fine particles increases. Therefore, the refractive index is set to 1 by controlling the composition ratio of the ionizing radiation curable resin and the fine particles. It can be freely controlled in the range of .46 to 2.00.

これらの超微粒子が導電性を有するものであれば、該超微粒子を用いて形成された高屈折率層、および中屈折率層は帯電防止性を兼ね備えたものとなる。   If these ultrafine particles have conductivity, the high refractive index layer and the medium refractive index layer formed using the ultrafine particles have antistatic properties.

また、中屈折率層および高屈折率層は、化学蒸着法(CVD)や物理蒸着法(PVD)などの蒸着法により形成した酸化チタンや酸化ジルコニウムのような屈折率の高い無機酸化物の蒸着膜としたり、あるいは、酸化チタンのような屈折率の高い無機酸化物微粒子を分散させた塗膜とすることができる。中屈折率層としては、屈折率1.46〜1.80の範囲の光透過層を使用し、また、高屈折率層としては屈折率1.65以上の光透過層を使用することができる。   The medium refractive index layer and the high refractive index layer are formed by depositing an inorganic oxide having a high refractive index such as titanium oxide or zirconium oxide formed by a vapor deposition method such as chemical vapor deposition (CVD) or physical vapor deposition (PVD). It can be formed into a film or a coating film in which inorganic oxide fine particles having a high refractive index such as titanium oxide are dispersed. As the medium refractive index layer, a light transmissive layer having a refractive index of 1.46 to 1.80 can be used, and as the high refractive index layer, a light transmissive layer having a refractive index of 1.65 or more can be used. .

防汚層
低屈折率層の基材側と反対の側の面に、低屈折率層の表面の防汚の目的で防汚層が設けられていてもよい。防汚層は、低屈折率層の基材側と反対の側の面に設けることで、反射防止膜の防汚性や耐擦傷性に効果があるものの、分子中にフッ素原子を有する電離放射線硬化型樹脂組成物への相溶性が低く、低屈折率層中に添加できないフッ素系ポリマー添加剤および/またはケイ素系ポリマー添加剤や、前記分子中にフッ素原子を有する電離放射線硬化型樹脂組成物および微粒子の何れに対しても相溶性を有するフッ素系ポリマー添加剤および/またはケイ素系ポリマー添加剤を使用しても良く、低屈折率層の基材側と反対の側の面に設けることで、反射防止積層体に必要とされる防汚性、耐擦傷性の更なる性能向上が期待できる。
An antifouling layer may be provided on the surface of the low refractive index layer opposite to the substrate side for the purpose of antifouling the surface of the low refractive index layer. Although the antifouling layer is provided on the surface opposite to the substrate side of the low refractive index layer, it has an effect on antifouling properties and scratch resistance of the antireflection film, but ionizing radiation having fluorine atoms in the molecule Fluorine polymer additive and / or silicon polymer additive that has low compatibility with curable resin composition and cannot be added to low refractive index layer, and ionizing radiation curable resin composition having fluorine atom in molecule A fluorine-based polymer additive and / or a silicon-based polymer additive having compatibility with both fine particles and fine particles may be used, and provided on the surface opposite to the substrate side of the low refractive index layer. Further improvement in antifouling properties and scratch resistance required for the antireflection laminate can be expected.

図3は、反射防止フィルムとしての本発明の反射防止積層体の一例の断面を模式的に示したものである。反射防止フィルム102は、光透過性を有する基材フィルム21の一面側に、高屈折率層22を形成し、さらに当該高屈折率層の上に本発明に使用する低屈折率層形成用コーティング組成物を塗布して低屈折率層23を設けたものである。この例では、互いに屈折率の異なる光透過層は高屈折率層と低屈折率層の二層だけだが、光透過層を三層以上設けてもよい。その場合には、低屈折率層だけでなく中屈折率層も、本発明に使用する低屈折率層形成用コーティング組成物を塗布して形成することができる。   FIG. 3 schematically shows a cross section of an example of the antireflection laminate of the present invention as an antireflection film. The antireflective film 102 has a high refractive index layer 22 formed on one surface side of a base film 21 having optical transparency, and further a coating for forming a low refractive index layer used in the present invention on the high refractive index layer. The low refractive index layer 23 is provided by applying the composition. In this example, there are only two light transmissive layers having different refractive indexes, a high refractive index layer and a low refractive index layer, but three or more light transmissive layers may be provided. In that case, not only the low refractive index layer but also the middle refractive index layer can be formed by applying the coating composition for forming a low refractive index layer used in the present invention.

画像表示装置
本発明の反射防止積層体は、特に、液晶表示装置(LCD)や陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)等の画像表示装置の表示面を被覆する多層型反射防止膜の少なくとも一層、特に低屈折率層を形成するのに好適に用いられる。
Image Display Device The antireflective laminate of the present invention is a display surface of an image display device such as a liquid crystal display device (LCD), a cathode ray tube display device (CRT), a plasma display panel (PDP), or an electroluminescence display (ELD). It is suitably used for forming at least one of the multilayer antireflection coatings, particularly the low refractive index layer.

図1は、本発明の反射防止積層体を光透過層として含んだ多層型反射防止膜により表示面を被覆した液晶表示装置の一例(101)の断面を模式的に示したものである。液晶表示装置101は、表示面側のガラス基板1の一面にRGBの画素部2(2R、2G、2B)とブラックマトリックス層3を形成してなるカラーフィルター4を準備し、当該カラーフィルターの画素部2上に透明電極層5を設け、バックライト側のガラス基板6の一面に透明電極層7を設け、バックライト側のガラス基板とカラーフィルターとを、透明電極層5、7同士が向き合うようにして所定のギャップを空けて対向させ、周囲をシール材8で接着し、ギャップに液晶Lを封入し、背面側のガラス基板6の外面に配向膜9を形成し、表示面側のガラス基板1の外面に偏光フィルム10を貼り付け、後方にバックライトユニット11を配置したものである。   FIG. 1 schematically shows a cross section of an example (101) of a liquid crystal display device in which a display surface is covered with a multilayer antireflection film containing the antireflection laminate of the present invention as a light transmission layer. The liquid crystal display device 101 prepares a color filter 4 in which an RGB pixel portion 2 (2R, 2G, 2B) and a black matrix layer 3 are formed on one surface of a glass substrate 1 on the display surface side, and the pixel of the color filter. The transparent electrode layer 5 is provided on the part 2, the transparent electrode layer 7 is provided on one surface of the glass substrate 6 on the backlight side, and the transparent electrode layers 5 and 7 face each other with the glass substrate on the backlight side and the color filter. The liquid crystal L is sealed in the gap, the alignment film 9 is formed on the outer surface of the glass substrate 6 on the back side, and the glass substrate on the display surface side. The polarizing film 10 is affixed on the outer surface of 1, and the backlight unit 11 is arrange | positioned back.

図2は、表示面側のガラス基板1の外面に貼り付けた偏光フィルム10の断面を模式的に示したものである。表示面側の偏光フィルム10は、ポリビニルアルコール(PVA)等からなる偏光素子12の両面をトリアセチルセルロース(TAC)等からなる保護フィルム(光透過性を有する基材フィルム)13、14で被覆し、その裏面側に接着剤層15を設け、その鑑賞側にハードコート層16と多層型反射防止膜17を順次形成したものであり、接着剤層15を介して表示面側のガラス基板1に貼着されている。   FIG. 2 schematically shows a cross section of the polarizing film 10 attached to the outer surface of the glass substrate 1 on the display surface side. The polarizing film 10 on the display surface side covers both surfaces of a polarizing element 12 made of polyvinyl alcohol (PVA) or the like with protective films (light-transmitting base films) 13 and 14 made of triacetyl cellulose (TAC) or the like. An adhesive layer 15 is provided on the back side, and a hard coat layer 16 and a multilayer antireflection film 17 are sequentially formed on the viewing side. The adhesive layer 15 is provided on the glass substrate 1 on the display surface side. It is stuck.

ここで、液晶表示装置等のように内部から射出する光を拡散させて眩しさを低減させるために、ハードコート層16は、当該ハードコート層の表面を凹凸形状に形成したり或いは当該ハードコート層の内部に無機や有機のフィラーを分散させてハードコート層内部で光を散乱させる機能を持たせた防眩層(アンチグレア層)としてもよい。また、ハードコート層は二層以上で構成しても良く、前記ハードコート層を適宜組合せて用いることができる。   Here, in order to reduce the glare by diffusing the light emitted from the inside as in a liquid crystal display device, the hard coat layer 16 is formed by forming the surface of the hard coat layer into an uneven shape, or the hard coat layer. It is good also as an anti-glare layer (anti-glare layer) which gave the function to which an inorganic or organic filler is disperse | distributed inside a layer and to scatter light inside a hard-coat layer. The hard coat layer may be composed of two or more layers, and the hard coat layers can be used in appropriate combination.

多層型反射防止膜17の部分は、バックライト側から鑑賞側に向かって中屈折率層18、高屈折率層19、低屈折率層20が順次積層された3層構造を有している。多層型反射防止膜17は、高屈折率層19又は中屈折率層18と低屈折率層20が順次積層された2層構造であってもよい。なお、ハードコート層16の表面が凹凸形状に形成される場合には、その上に形成される多層型反射防止膜17も図示のように凹凸形状となる。   The multilayer antireflection film 17 has a three-layer structure in which a middle refractive index layer 18, a high refractive index layer 19, and a low refractive index layer 20 are sequentially laminated from the backlight side to the viewing side. The multilayer antireflection film 17 may have a two-layer structure in which a high refractive index layer 19 or a medium refractive index layer 18 and a low refractive index layer 20 are sequentially stacked. When the surface of the hard coat layer 16 is formed in an uneven shape, the multilayer antireflection film 17 formed thereon also has an uneven shape as shown in the drawing.

低屈折率層20は、高屈折率層19の上に本発明のコーティング組成物を塗布し、乾燥し、光硬化させて形成した塗膜であり、屈折率を1.45以下、好ましくは1.41以下とすることができ、1.20程度まで下げることが可能である。また、中屈折率層18及び高屈折率層19は、化学蒸着法(CVD)や物理蒸着法(PVD)などの蒸着法により形成した酸化チタンや酸化ジルコニウムのような屈折率の高い無機酸化物の蒸着膜としたり、或いは、酸化チタンのような屈折率の高い無機酸化物微粒子を分散させた塗膜とすることができ、中屈折率層18には屈折率1.46〜1.80の範囲の光透過層、高屈折率層19には屈折率1.65以上の光透過層が使用される。   The low refractive index layer 20 is a coating film formed by applying the coating composition of the present invention on the high refractive index layer 19, drying, and photocuring, and has a refractive index of 1.45 or less, preferably 1. .41 or less, and can be lowered to about 1.20. Further, the medium refractive index layer 18 and the high refractive index layer 19 are made of an inorganic oxide having a high refractive index such as titanium oxide or zirconium oxide formed by a vapor deposition method such as chemical vapor deposition (CVD) or physical vapor deposition (PVD). Or a coating film in which inorganic oxide fine particles having a high refractive index such as titanium oxide are dispersed. The medium refractive index layer 18 has a refractive index of 1.46 to 1.80. A light transmissive layer having a refractive index of 1.65 or more is used for the light transmissive layer in the range and the high refractive index layer 19.

さらに、帯電防止性あるいは静電性を付与する必要がある場合には、導電層を基材フィルム上に設けてもよく、またハードコート層中に導電性粒子を含有させてもよく、さらにまた、中屈折率層や高屈折率層に分散させる屈折率の高い無機酸化物微粒子自体に導電性を有するものを用いることによっても同様の性状を得ることができる。さらに所望の屈折率が得られる範囲であれば、有機成分からなる帯電防止剤を低屈折率層に直接加えたり、低屈折率層の最表面に帯電防止層を反射防止膜の性能に影響を与えない膜厚30nm以下の範囲で設けることでも同様の性状を得ることができる。   Furthermore, when it is necessary to impart antistatic properties or electrostatic properties, a conductive layer may be provided on the base film, or conductive particles may be included in the hard coat layer. The same properties can also be obtained by using a conductive material for the inorganic oxide fine particles having a high refractive index dispersed in the medium refractive index layer or the high refractive index layer. Furthermore, if the desired refractive index is within the range, an antistatic agent composed of an organic component is added directly to the low refractive index layer, or an antistatic layer is applied to the outermost surface of the low refractive index layer, affecting the performance of the antireflection film. Similar properties can be obtained by providing the film thickness within a range of 30 nm or less.

この反射防止膜の作用により、外部光源から照射された光の反射率が低減するので、景色や蛍光燈の映り込みが少なくなり、表示の視認性が向上する。また、外光がディスプレイ表面に映り込んだり、眩しく光ったりする状態であるのを、ハードコート層16の凹凸による光散乱効果によって外光の反射光が軽減し、表示の視認性がさらに向上する。   Due to the action of the antireflection film, the reflectance of light emitted from the external light source is reduced, so that the reflection of scenery and fluorescent light is reduced and the visibility of the display is improved. Moreover, the reflected light of external light is reduced by the light scattering effect by the unevenness | corrugation of the hard-coat layer 16, and the visibility of a display improves further that external light is reflected on the display surface, or is a dazzling state. .

液晶表示装置101の場合には、偏光素子12と保護フィルム13、14からなる積層体に屈折率を1.46〜1.80の範囲で調節した中屈折率層18と屈折率を1.65以上に調節した高屈折率層19を形成し、さらに本発明に使用する低屈折率層形成用コーティング組成物を塗布して低屈折率層20を設けることができる。そして、反射防止膜17を含む偏光フィルム10を接着剤層15を介して鑑賞側のガラス基板1上に貼着することができる。   In the case of the liquid crystal display device 101, the intermediate refractive index layer 18 having a refractive index adjusted in the range of 1.46 to 1.80 and a refractive index of 1.65 are provided on the laminate including the polarizing element 12 and the protective films 13 and 14. The low refractive index layer 20 can be provided by forming the high refractive index layer 19 adjusted as described above and further applying the coating composition for forming a low refractive index layer used in the present invention. Then, the polarizing film 10 including the antireflection film 17 can be stuck on the glass substrate 1 on the viewing side through the adhesive layer 15.

これに対し、CRTの表示面には配向板を貼着しないので、反射防止積層体を直接設ける必要がある。しかしながら、CRTの表示面に本発明のコーティング組成物を塗布するのは煩雑な作業である。このような場合には、本発明の反射防止積層体を含んでいる反射防止フィルムを作製し、それを表示面に貼着すれば反射防止膜が形成されるので、表示面に本発明に使用する低屈折率層形成用コーティング組成物を塗布しなくて済む。   On the other hand, since an orientation plate is not attached to the display surface of the CRT, it is necessary to directly provide an antireflection laminate. However, applying the coating composition of the present invention to the display surface of the CRT is a complicated operation. In such a case, an antireflection film containing the antireflection laminate of the present invention is prepared, and the antireflection film is formed by sticking it to the display surface. It is not necessary to apply the coating composition for forming a low refractive index layer.

以下に本発明の実施例および比較例を示すが、本発明の範囲がこれらに限定されるものではない。   Examples and Comparative Examples of the present invention are shown below, but the scope of the present invention is not limited thereto.

1.表面処理コロイダルシリカ分散液の調製
イソプロピルアルコール分散鎖状コロイダルシリカ(IPA−ST−UP:商品名、日産化学工業(株)製、固形分15%、1次粒子径9〜15nmのシリカが鎖状に連結)をロータリーエバポレーターに導入し、イソプロピルアルコールからメチルイソブチルケトンに溶媒置換を行い、シリカ微粒子20質量%の分散液を得た。このメチルイソブチルケトン分散液100質量部に3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランを5質量部添加し、50℃で1時間加熱処理することにより、表面処理された鎖状シリカ微粒子20質量%のメチルイソブチルケトン分散液(表面処理コロイダルシリカ分散液)を得た。
1. Preparation of surface-treated colloidal silica dispersion Isopropyl alcohol-dispersed chain colloidal silica (IPA-ST-UP: trade name, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content 15%, silica having a primary particle size of 9 to 15 nm is chain-like Was introduced into a rotary evaporator, and the solvent was replaced from isopropyl alcohol to methyl isobutyl ketone to obtain a dispersion of 20% by mass of silica fine particles. By adding 5 parts by mass of 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane to 100 parts by mass of this methyl isobutyl ketone dispersion and subjecting it to a heat treatment at 50 ° C. for 1 hour, the surface-treated chain silica fine particles 20% by mass of methyl isobutyl A ketone dispersion (surface-treated colloidal silica dispersion) was obtained.

2.低屈折率層形成用塗工液の調製
以下の組成物を混合して塗工液1〜5を調製した。表面処理コロイダルシリカ分散液は前記工程1.で調製したものを用いた。
2. Preparation of coating solution for forming low refractive index layer Coating solutions 1 to 5 were prepared by mixing the following compositions. The surface-treated colloidal silica dispersion is prepared by the step What was prepared in (1) was used.

塗工液1[(A)成分:(B)成分:(C)成分=80:20:100]
パーフルオロアルキル鎖とアクリロイル基とを有するシルセスキオキサン化合物:AC−SQ−F(商品名;東亞合成製;官能基濃度678g/mol、無機分率15%、屈折率1.39) 4質量部
フッ素含有モノマー:1H,1H,6H,6H−パーフルオロ−1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート 1質量部
表面処理コロイダルシリカ分散液 25重量部
開始剤:イルガーキュアー184(商品名;チバスペシャリティケミカルズ製) 0.25質量部
溶剤:メチルイソブチルケトン 70質量部
Coating liquid 1 [ (A) component: (B) component: (C) component = 80: 20: 100]
Silsesquioxane compound having a perfluoroalkyl chain and an acryloyl group: AC-SQ-F (trade name; manufactured by Toagosei; functional group concentration 678 g / mol, inorganic fraction 15%, refractive index 1.39) 4 mass Part Fluorine-containing monomer: 1H, 1H, 6H, 6H-perfluoro-1,6-hexanediol di (meth) acrylate 1 part by mass Surface-treated colloidal silica dispersion 25 parts by weight Initiator: Irgure Cure 184 (trade name; 0.25 parts by mass Solvent: 70 parts by mass of methyl isobutyl ketone

塗工液2[(A)成分:(B)成分:(C)成分=90:10:100]
パーフルオロアルキル鎖とアクリロイル基とを有するシルセスキオキサン化合物:AC−SQ−F(商品名;東亞合成製;官能基濃度678g/mol、無機分率15%、屈折率1.39) 4.75質量部
フッ素含有モノマー:1H,1H,6H,6H−パーフルオロ−1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート 0.25質量部
表面処理コロイダルシリカ分散液 25重量部
開始剤:イルガーキュアー184(商品名;チバスペシャリティケミカルズ製) 0.25質量部
溶剤:メチルイソブチルケトン 70質量部
Coating liquid 2 [(A) component: (B) component: (C) component = 90: 10: 100]
3. Silsesquioxane compound having a perfluoroalkyl chain and an acryloyl group: AC-SQ-F (trade name; manufactured by Toagosei; functional group concentration: 678 g / mol, inorganic fraction: 15%, refractive index: 1.39) 75 parts by mass Fluorine-containing monomer: 1H, 1H, 6H, 6H-perfluoro-1,6-hexanediol di (meth) acrylate 0.25 part by mass Surface-treated colloidal silica dispersion 25 parts by weight Initiator: ILGERCURE 184 (Product name; manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.25 parts by mass Solvent: 70 parts by mass of methyl isobutyl ketone

塗工液3[(A)成分:(B)成分:(C)成分=50:50:100]
パーフルオロアルキル鎖とアクリロイル基とを有するシルセスキオキサン化合物:AC−SQ−F(商品名;東亞合成製;官能基濃度678g/mol、無機分率15%、屈折率1.39) 2.5質量部
フッ素含有モノマー:1H,1H,6H,6H−パーフルオロ−1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート 2.5質量部
表面処理コロイダルシリカ分散液 25重量部
開始剤:イルガーキュアー184(商品名;チバスペシャリティケミカルズ製) 0.25質量部
溶剤:メチルイソブチルケトン 70質量部
Coating liquid 3 [(A) component: (B) component: (C) component = 50: 50: 100]
1. Silsesquioxane compound having a perfluoroalkyl chain and an acryloyl group: AC-SQ-F (trade name; manufactured by Toagosei; functional group concentration 678 g / mol, inorganic fraction 15%, refractive index 1.39) 5 parts by mass Fluorine-containing monomer: 1H, 1H, 6H, 6H-perfluoro-1,6-hexanediol di (meth) acrylate 2.5 parts by mass Surface-treated colloidal silica dispersion 25 parts by weight Initiator: Irgure Cure 184 (Product name; manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.25 parts by mass Solvent: 70 parts by mass of methyl isobutyl ketone

塗工液4[(A)成分:(B)成分:(C)成分=80:20:20]
パーフルオロアルキル鎖とアクリロイル基とを有するシルセスキオキサン化合物:AC−SQ−F(商品名;東亞合成製;官能基濃度678g/mol、無機分率15%、屈折率1.39) 4質量部
フッ素含有モノマー:1H,1H,6H,6H−パーフルオロ−1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート 1質量部
表面処理コロイダルシリカ分散液 5重量部
開始剤:イルガーキュアー184(商品名;チバスペシャリティケミカルズ製) 0.25質量部
溶剤:メチルイソブチルケトン 80質量部
Coating liquid 4 [(A) component: (B) component: (C) component = 80: 20: 20]
Silsesquioxane compound having a perfluoroalkyl chain and an acryloyl group: AC-SQ-F (trade name; manufactured by Toagosei; functional group concentration 678 g / mol, inorganic fraction 15%, refractive index 1.39) 4 mass Part Fluorine-containing monomer: 1H, 1H, 6H, 6H-perfluoro-1,6-hexanediol di (meth) acrylate 1 part by weight Surface-treated colloidal silica dispersion 5 parts by weight Initiator: Irgure Cure 184 (trade name; 0.25 parts by mass Solvent: 80 parts by mass of methyl isobutyl ketone

塗工液5[(A)成分:(B)成分:(C)成分=80:20:180]
パーフルオロアルキル鎖とアクリロイル基とを有するシルセスキオキサン化合物:AC−SQ−F(商品名;東亞合成製;官能基濃度678g/mol、無機分率15%、屈折率1.39) 4質量部
フッ素含有モノマー:1H,1H,6H,6H−パーフルオロ−1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート 1質量部
表面処理コロイダルシリカ分散液 45重量部
開始剤:イルガーキュアー184(商品名;チバスペシャリティケミカルズ製) 0.25質量部
溶剤:メチルイソブチルケトン 50質量部
Coating liquid 5 [(A) component: (B) component: (C) component = 80: 20: 180]
Silsesquioxane compound having a perfluoroalkyl chain and an acryloyl group: AC-SQ-F (trade name; manufactured by Toagosei; functional group concentration 678 g / mol, inorganic fraction 15%, refractive index 1.39) 4 mass Part Fluorine-containing monomer: 1H, 1H, 6H, 6H-perfluoro-1,6-hexanediol di (meth) acrylate 1 part by mass Surface-treated colloidal silica dispersion 45 parts by weight Initiator: Iruger Cure 184 (trade name; 0.25 parts by mass Solvent: 50 parts by mass of methyl isobutyl ketone

塗工液6[(A)成分:(B)成分:(C)成分=80:20:100]
パーフルオロアルキル鎖とオキセタニル基とを有するシルセスキオキサン化合物:OX−SQ−F(商品名;東亞合成製;官能基濃度708g/mol、無機分率15%、屈折率1.39) 4質量部
フッ素含有モノマー:1,4−ビス(2’,3’−エポキシプロピル)−パーフルオロ−n−ブタン 1質量部
表面処理コロイダルシリカ分散液: 25質量部
開始剤:トリアリルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフィン塩 0.05質量部
フッ素系ポリマー添加剤:モディパーF3035(商品名、日本油脂(株)製;固形分30質量%) 0.3質量部
溶剤:メチルイソブチルケトン 70質量部
Coating liquid 6 [(A) component: (B) component: (C) component = 80: 20: 100]
Silsesquioxane compound having a perfluoroalkyl chain and an oxetanyl group: OX-SQ-F (trade name; manufactured by Toagosei; functional group concentration 708 g / mol, inorganic fraction 15%, refractive index 1.39) 4 mass Part Fluorine-containing monomer: 1,4-bis (2 ′, 3′-epoxypropyl) -perfluoro-n-butane 1 part by mass Surface-treated colloidal silica dispersion: 25 parts by mass Initiator: triallylsulfonium hexafluoro Phosphine salt 0.05 parts by weight Fluoropolymer additive: Modiper F3035 (trade name, manufactured by NOF Corporation; solid content 30% by weight) 0.3 parts by weight Solvent: 70 parts by weight of methyl isobutyl ketone

塗工液7
塗工液の組成においてフッ素系ポリマー添加剤(モディパーF3035(商品名、日本油脂(株)製;固形分30質量%)を0.3質量部加えた以外は全て塗工液1と同様にして塗工液7を調製した。
Coating liquid 7
Except for adding 0.3 parts by mass of a fluorine-based polymer additive (Modiper F3035 (trade name, manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd .; solid content: 30% by mass) in the composition of the coating solution, the same manner as in the coating solution 1 was applied. A coating solution 7 was prepared.

塗工液8
塗工液の組成において、シルセスキオキサン化合物としてフルオロアルキル基を持たずメタクリロイルオキシプロピル基のみを持つMethacryl−POSS(商品名、シグマアルドリッチジャパン製)を使用した以外は全て塗工液1と同様にして塗工液8を調製した。
Coating liquid 8
The composition of the coating liquid is the same as that of the coating liquid 1 except that Methacryl-POSS (trade name, manufactured by Sigma Aldrich Japan) having only a methacryloyloxypropyl group as the silsesquioxane compound is used as the silsesquioxane compound. Thus, a coating solution 8 was prepared.

塗工液9
塗工液の組成において、シルセスキオキサン化合物としてフルオロアルキル基を持たずオキセタニル基のみを持つOX−SQ(商品名、東亞合成製;官能基濃度283g/mol、無機分率34%、屈折率1.46)を使用した以外は全て塗工液6と同様にして塗工液9を調製した。
Coating liquid 9
In the composition of the coating liquid, OX-SQ (trade name, manufactured by Toagosei; functional group concentration 283 g / mol, inorganic fraction 34%, refractive index) having no fluoroalkyl group and having only an oxetanyl group as a silsesquioxane compound A coating solution 9 was prepared in the same manner as the coating solution 6 except that 1.46) was used.

3.光透過性基材へのハードコート層の形成
下記成分を混合してハードコート層形成用塗工液を調製した。
3. Formation of Hard Coat Layer on Light-Transparent Substrate The following components were mixed to prepare a hard coat layer forming coating solution.

ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 5質量部
光重合開始剤(イルガキュア184:商品名、チバスペシャリティーケミカルズ製) 0.25質量部
メチルイソブチルケトン 94.75質量部
Pentaerythritol triacrylate (PETA) 5 parts by weight Photopolymerization initiator (Irgacure 184: trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.25 parts by weight Methyl isobutyl ketone 94.75 parts by weight

前記工程で調製したハードコート層形成用塗工液を厚み80μmのトリアセテートセルロース(TAC)フィルム上にバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン(株)製、光源Hバルブ)を用いて、照射線量108mJ/cm2 で紫外線照射を行い、ハードコート層を硬化させて、膜厚2μmの基材/ハードコート層の積層体を得た。 The hard coat layer forming coating solution prepared in the above step is bar coated on a 80 μm thick triacetate cellulose (TAC) film, and after removing the solvent by drying, an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan Co., Ltd., Using a light source H bulb, ultraviolet irradiation was performed at an irradiation dose of 108 mJ / cm 2 to cure the hard coat layer to obtain a substrate / hard coat layer laminate having a thickness of 2 μm.

4.反射防止積層体の調製
〔実施例1〕
上記3.で調製した基材/ハードコート層の積層体に、前記工程で調製した低屈折率層形成用塗工液1をバーコーティングし、乾燥させることより溶剤を除去した後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン(株)製、光源Hバルブ)を用いて、照射線量200mJ/cm2 で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、基材/ハードコート層/低屈折率層の反射防止積層体を得た。膜厚は、反射率の極小値が波長550nm付近になるように調製した。
4). Preparation of antireflection laminate [Example 1]
3. above. The substrate / hard coat layer laminate prepared in Step 1 is bar-coated with the coating solution 1 for forming a low refractive index layer prepared in the above step and dried to remove the solvent, and then an ultraviolet irradiation device (fusion UV Using System Japan Co., Ltd., light source H bulb), UV irradiation is performed at an irradiation dose of 200 mJ / cm 2 , the coating film is cured, and the antireflection laminate of the substrate / hard coat layer / low refractive index layer Got. The film thickness was adjusted so that the minimum value of the reflectance was around 550 nm.

〔実施例2〕
前記工程で調製した低屈折率層形成用塗工液2を使用した以外は、全て実施例1と同様にして、反射防止積層体を調製した。
[Example 2]
An antireflection laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating solution 2 for forming a low refractive index layer prepared in the above step was used.

〔実施例3〕
前記工程で調製した低屈折率層形成用塗工液3を使用した以外は、全て実施例1と同様にして、反射防止積層体を調製した。
Example 3
An antireflection laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating solution 3 for forming a low refractive index layer prepared in the above step was used.

〔実施例4〕
前記工程で調製した低屈折率層形成用塗工液4を使用した以外は、全て実施例1と同様にして、反射防止積層体を調製した。
Example 4
An antireflection laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating solution 4 for forming a low refractive index layer prepared in the above step was used.

〔実施例5〕
前記工程で調製した低屈折率層形成用塗工液5を使用した以外は、全て実施例1と同様にして、反射防止積層体を調製した。
Example 5
An antireflection laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating solution 5 for forming a low refractive index layer prepared in the above step was used.

〔実施例6〕
前記工程で調製した低屈折率層形成用塗工液6を使用した以外は、全て実施例1と同様にして、反射防止積層体を調製した。
Example 6
An antireflection laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating solution 6 for forming a low refractive index layer prepared in the above step was used.

〔実施例7〕
前記工程で調製した低屈折率層形成用塗工液7を使用した以外は、全て実施例1と同様にして、反射防止積層体を調製した。
Example 7
An antireflection laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating solution 7 for forming a low refractive index layer prepared in the above step was used.

〔比較例1〕
前記工程で調製した低屈折率層形成用塗工液8を使用した以外は、全て実施例1と同様にして、反射防止積層体を調製した。
[Comparative Example 1]
An antireflection laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid 8 for forming a low refractive index layer prepared in the above step was used.

〔比較例2〕
前記工程で調製した低屈折率層形成用塗工液9を使用した以外は、全て実施例1と同様にして、反射防止積層体を調製した。
[Comparative Example 2]
An antireflection laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid 9 for forming a low refractive index layer prepared in the above step was used.

5.評価試験
前記実施例1〜7、及び比較例1、2の各反射防止積層体について、下記物性を測定し評価し、その結果を下記表1に記載した。
5. Evaluation Test The following physical properties were measured and evaluated for each of the antireflection laminates of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2, and the results are shown in Table 1 below.

評価1:反射率測定
島津製作所(株)製分光光度計(UV−3100PC:商品名)を用いて反射防止積層体の最表面の絶対反射率を測定した。
Evaluation 1: Reflectance measurement The absolute reflectance of the outermost surface of the antireflection laminate was measured using a spectrophotometer (UV-3100PC: trade name) manufactured by Shimadzu Corporation.

評価2:ヘイズ値測定
JIS K 7136:2000 「プラスチック透明材料のヘイズの求め方」に準じて、反射防止積層体の最表面のヘイズ値を測定した。
Evaluation 2: Haze value measurement
The haze value of the outermost surface of the antireflection laminate was measured according to JIS K 7136: 2000 “How to Obtain Haze of Transparent Plastic Material”.

評価3:耐擦傷性評価試験
反射防止積層体の表面を、#0000番のスチールウールを用いて、所定の摩擦荷重(200〜1000gの範囲内で200g毎に変化させた)で10往復摩擦し、その後のヘイズ値を測定した。そして、摩擦前の反射防止積層体のヘイズ値と比較して3%以上の変化が認められた場合の最低荷重を調べることにより、反射防止積層体の耐擦傷性を評価した。
Evaluation 3: Scratch resistance evaluation test The surface of the antireflection laminate was subjected to 10 reciprocating frictions using # 0000 steel wool with a predetermined friction load (changed every 200 g within a range of 200 to 1000 g). Thereafter, the haze value was measured. Then, the scratch resistance of the antireflection laminate was evaluated by examining the minimum load when a change of 3% or more was recognized as compared with the haze value of the antireflection laminate before friction.

評価4:接触角測定
ガラス板上に両面テープで固定した反射防止フィルムを用いてJIS R 3257:1999 「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」に準じて、反射防止積層体の水の接触角を測定した。
Evaluation 4: Contact angle measurement The water contact angle of the antireflection laminate was measured according to JIS R 3257: 1999 “Wetting test method for substrate glass surface” using an antireflection film fixed on a glass plate with double-sided tape. It was measured.

Figure 2006047504
Figure 2006047504

本発明の反射防止積層体は、液晶ディスプレイ(LCD)や陰極管表示装置(CRT)等の画像表示装置に適用可能な、屈折率が低く且つ高度が高い含フッ素低屈折率組成物をコーティングしてなる低屈折率層を形成した反射防止フィルム等の反射防止積層体として有用である。   The antireflection laminate of the present invention is coated with a fluorine-containing low refractive index composition having a low refractive index and a high altitude, which can be applied to an image display device such as a liquid crystal display (LCD) or a cathode ray tube display (CRT). It is useful as an antireflection laminate such as an antireflection film having a low refractive index layer formed thereon.

本発明の低屈折率層を光透過層として含んだ多層型反射防止膜により表示面を被覆した液晶表示装置の一例の断面を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the cross section of an example of the liquid crystal display device which coat | covered the display surface with the multilayer type antireflection film containing the low refractive index layer of this invention as a light transmissive layer. 表示面側のガラス基板の外面に貼り付けた偏光フィルムの断面を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the cross section of the polarizing film affixed on the outer surface of the glass substrate of the display surface side. 本発明の塗膜を含んだ反射防止フィルムの一例の断面を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the cross section of an example of the antireflection film containing the coating film of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1,6 ガラス基板
2 画素部
3 ブラックマトリックス層
4 カラーフィルター
5,7 透明電極層
8 シール材
9 配向膜
10 偏光フィルム
11 バックライトユニット
12 偏光素子
13,14 保護フィルム
15 接着剤層
16 ハードコート層
17 多層型反射防止膜
18 中屈折率層
19 高屈折率層
20 低屈折率層
21 透明基材フィルム
22 高屈折率層
23 低屈折率層
101 液晶表示装置
102 反射防止フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,6 Glass substrate 2 Pixel part 3 Black matrix layer 4 Color filter 5,7 Transparent electrode layer 8 Sealing material 9 Orientation film 10 Polarizing film 11 Backlight unit 12 Polarizing element 13,14 Protective film 15 Adhesive layer 16 Hard coat layer DESCRIPTION OF SYMBOLS 17 Multilayer type antireflection film 18 Medium refractive index layer 19 High refractive index layer 20 Low refractive index layer 21 Transparent base film 22 High refractive index layer 23 Low refractive index layer 101 Liquid crystal display device 102 Antireflection film

Claims (24)

光透過性を有する基材の少なくとも一面側に直接、或いは他の層を介して低屈折率層が形成された反射防止積層体であって、
前記低屈折率層が、
(A)成分:一分子中に2個以上のパーフルオロアルキル基と2個以上の反応性基とを持つシルセスキオキサン、
(B)成分:フッ素含有モノマー、及び、
(C)成分:充填材
を含有する低屈折率層形成用コーティング組成物を用いて形成されたものであることを特徴とする反射防止積層体。
An antireflective laminate in which a low refractive index layer is formed directly on at least one surface side of a light-transmitting substrate or via another layer,
The low refractive index layer is
(A) component: silsesquioxane having two or more perfluoroalkyl groups and two or more reactive groups in one molecule;
(B) component: a fluorine-containing monomer, and
Component (C): An antireflective laminate characterized by being formed using a coating composition for forming a low refractive index layer containing a filler.
前記(A)成分対(B)成分が50質量%対50質量%から95質量%対5質量%迄であり、前記(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して、前記(C)が10〜200質量部であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止積層体。 The component (A) to the component (B) is 50% by mass to 50% by mass to 95% by mass to 5% by mass, and the total amount of the component (A) and the component (B) is 100 parts by mass. (C) is 10-200 mass parts, The reflection preventing laminated body of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 前記A成分の反応性基が、光ラジカル重合、光カチオン重合、光アニオン重合、光二量化を経て進行する重合、及び熱重合よりなる群から選ばれるいずれかの反応性を有するものである、請求項1又は2に記載の反射防止積層体。 The reactive group of the component A has any reactivity selected from the group consisting of photoradical polymerization, photocationic polymerization, photoanion polymerization, polymerization that proceeds through photodimerization, and thermal polymerization. Item 3. The antireflection laminate according to Item 1 or 2. 前記A成分の反応性基が、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、エポキシ基、及びオキセタニル基から選ばれたものである、請求項1乃至3の何れか1項に記載の反射防止積層体。 The antireflection laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the reactive group of the component A is selected from a (meth) acryloyl group, a vinyl group, an epoxy group, and an oxetanyl group. 前記A成分は、下記一般式(1)と(2)で表される化合物の加水分解物の縮合体からなるシルセスキオキサンであることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の反射防止積層体。
Figure 2006047504
(但し、R0 は(メタ)アクリロイル基、ビニル基、エポキシ基、及びオキセタニル基から選ばれた反応性基を有する有機官能基であり、Xは加水分解性基である。)
Figure 2006047504
(但し、R1 はパーフルオロアルキル基を有する有機官能基であり、Xは加水分解性基である。)
The said A component is silsesquioxane which consists of a condensate of the hydrolyzate of the compound represented by the following general formula (1) and (2), The any one of Claim 1 thru | or 4 characterized by the above-mentioned. The antireflection laminate as described in 1.
Figure 2006047504
(However, R 0 is an organic functional group having a reactive group selected from a (meth) acryloyl group, a vinyl group, an epoxy group, and an oxetanyl group, and X is a hydrolyzable group.)
Figure 2006047504
(However, R 1 is an organic functional group having a perfluoroalkyl group, and X is a hydrolyzable group.)
前記B成分が、一分子中に一個以上の(メタ)アクリロイル基、ビニル基、エポキシ基、及びオキセタニル基、或いはその組合せから選ばれた反応性基を含有する、請求項1に記載の反射防止積層体。 2. The antireflection according to claim 1, wherein the component B contains one or more (meth) acryloyl group, vinyl group, epoxy group, oxetanyl group, or a reactive group selected from a combination thereof in one molecule. Laminated body. 前記B成分が、下記一般式(3)で表されるフッ素含有モノマーである請求項1に記載の反射防止積層体。
Figure 2006047504
(式中、R2 及びR3 は、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、エポキシ基、及びオキセタニル基から選ばれた反応性基を有する有機官能基であり、R4 及びR5 は、単結合又は炭素原子数1〜5の2価の炭化水素、又は酸素であり、nは1〜30の整数を示す。)
The antireflection laminate according to claim 1, wherein the component B is a fluorine-containing monomer represented by the following general formula (3).
Figure 2006047504
(Wherein R 2 and R 3 are organic functional groups having a reactive group selected from a (meth) acryloyl group, a vinyl group, an epoxy group, and an oxetanyl group, and R 4 and R 5 are single bonds. Or it is a C1-C5 bivalent hydrocarbon or oxygen, and n shows the integer of 1-30.)
前記一般式(2)におけるR1 は、下記一般式(4)で表される請求項5に記載の反射防止積層体。
Figure 2006047504
(但し、mは0〜10の整数であり、R6 は炭素数1〜4のアルキレン基である。)
The antireflection laminate according to claim 5, wherein R 1 in the general formula (2) is represented by the following general formula (4).
Figure 2006047504
(Where, m is an integer of 0, R 6 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.)
前記一般式(3)におけるR2 及びR3 が、何れも下記一般式(5)で表されるエポキシ基、又は下記一般式(6)で表されるオキセタニル基である請求項7記載の反射防止積層体。
Figure 2006047504
(式中、R7 は水素、フッ素、アルキレン基、フルオロアルキレン基である。)
Figure 2006047504
(式中、R8 は水素、フッ素、炭素数1〜10のアルキル基、フルオロアルキル基であり、R9 は炭素数2〜6のアルキレン基である。)
The reflection according to claim 7, wherein R 2 and R 3 in the general formula (3) are both an epoxy group represented by the following general formula (5) or an oxetanyl group represented by the following general formula (6). Prevention laminate.
Figure 2006047504
(In the formula, R 7 is hydrogen, fluorine, an alkylene group, or a fluoroalkylene group.)
Figure 2006047504
(In the formula, R 8 is hydrogen, fluorine, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a fluoroalkyl group, and R 9 is an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.)
前記C成分がシリカ微粒子であり、そのうちの少なくとも一部が、内部に空隙を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の反射防止積層体。 The antireflection laminate according to claim 1, wherein the C component is silica fine particles, and at least a part of the C component has voids therein. 前記低屈折率層形成用コーティング組成物が、さらにフッ素系および/またはケイ素系化合物を含むことを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の反射防止積層体。 The antireflection laminate according to any one of claims 1 to 10, wherein the coating composition for forming a low refractive index layer further contains a fluorine-based compound and / or a silicon-based compound. 前記フッ素系および/またはケイ素系化合物の少なくとも一部が、前記低屈折率層形成用コーティング組成物と、化学反応により共有結合を形成することを特徴とする請求項11に記載の反射防止積層体。 The antireflection laminate according to claim 11, wherein at least a part of the fluorine-based and / or silicon-based compound forms a covalent bond by a chemical reaction with the coating composition for forming a low refractive index layer. . 前記低屈折率層の屈折率が1.45以下である、請求項1乃至12の何れか1項に記載の反射防止積層体。 The antireflection laminate according to any one of claims 1 to 12, wherein a refractive index of the low refractive index layer is 1.45 or less. 前記低屈折率層の屈折率が1.40以下である、請求項1乃至12の何れか1項に記載の反射防止積層体。 The antireflection laminate according to any one of claims 1 to 12, wherein a refractive index of the low refractive index layer is 1.40 or less. 前記他の層がハードコート層であることを特徴とする請求項1乃至14の何れか1項に記載の反射防止積層体。 The antireflection laminate according to any one of claims 1 to 14, wherein the other layer is a hard coat layer. 前記ハードコート層の屈折率が1.50〜1.70の範囲である、請求項15に記載の反射防止積層体。 The antireflection laminate according to claim 15, wherein the refractive index of the hard coat layer is in the range of 1.50 to 1.70. 前記ハードコート層が、防眩性能を有してなる、請求項15又は16に記載の反射防止積層体。 The antireflection laminate according to claim 15 or 16, wherein the hard coat layer has an antiglare property. 前記低屈折率層の基材側と反対の側の面に、防汚層が設けられてなる、請求項1乃至17のいずれか1項に記載の反射防止積層体。 The antireflection laminate according to any one of claims 1 to 17, wherein an antifouling layer is provided on the surface of the low refractive index layer opposite to the substrate side. 前記ハードコート層と前記低屈折率層との間に、屈折率が1.46〜2.00の範囲で、かつ膜厚が0.05〜0.15μmの範囲である中乃至高屈折率層が、少なくとも一層以上設けられてなる、請求項15乃至18のいずれか1項に記載の反射防止積層体。 A medium to high refractive index layer having a refractive index in the range of 1.46 to 2.00 and a film thickness in the range of 0.05 to 0.15 μm between the hard coat layer and the low refractive index layer. The antireflection laminate according to any one of claims 15 to 18, wherein at least one layer is provided. 前記ハードコート層、前記中乃至高屈折率層、及び前記低屈折率層から選択される少なくとも一層が、帯電防止性能を有する、請求項15乃至19のいずれか1項に記載の反射防止積層体。 The antireflection laminate according to any one of claims 15 to 19, wherein at least one layer selected from the hard coat layer, the medium to high refractive index layer, and the low refractive index layer has antistatic performance. . 前記基材と前記ハードコート層との間に、帯電防止層が設けられてなる、請求項15乃至20のいずれか1項に記載の反射防止積層体。 21. The antireflection laminate according to any one of claims 15 to 20, wherein an antistatic layer is provided between the substrate and the hard coat layer. 前記低屈折率層の膜厚が、0.05〜0.15μmの範囲である、請求項1乃至21のいずれか1項に記載の反射防止積層体。 The antireflection laminate according to any one of claims 1 to 21, wherein a film thickness of the low refractive index layer is in a range of 0.05 to 0.15 µm. 前記低屈折率層の表面を、#0000番のスチールウールを用いて10回擦ったときの、該低屈折率層のヘイズ値の変化が認められる最低荷重量が、200g以上である、請求項1乃至22のいずれか1項に記載の反射防止積層体。 The minimum load amount at which a change in haze value of the low refractive index layer is observed when the surface of the low refractive index layer is rubbed 10 times with # 0000 steel wool is 200 g or more. 23. The antireflection laminate according to any one of 1 to 22. 前記基材が、プラスチックフィルムである請求項1乃至23の何れか1項に記載の反射防止積層体。 The antireflection laminate according to any one of claims 1 to 23, wherein the substrate is a plastic film.
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