JP2005254696A - Laser engravable cylindrical printing original plate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cylindrical printing original plate which has less liquid dreg amount occurring when a relief image is formed by directly engraving with laser, can be optically hardened in the atmosphere in the forming process of the laser engravable cylindrical printing original plate, has a high plate thickness precision, has less tucks on the surface and a smaller surface frictional resistance value, and in addition, has a high wear-resistance and is suitable for gravure printing, anilox roll and rotary screen printing. <P>SOLUTION: This laser engravable cylindrical printing original plate comprises a cylindrical supporting body and a photo-sensitive resin hardened substance layer (A) which is formed on the cylindrical support. The photo-sensitive resin hardened substance layer (A) contains at least one kind selected from an organic silicon compound or an organic fluorine compound in the layer internal section or the surface, and is a laser engravable layer. Also, in the cylindrical printing original plate for intaglio printing, the Shore D hardness ranges 30° to 100°. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明はレーザー彫刻によるグラビア印刷版用レリーフ画像作成、電子部品の導体、半導体、絶縁体、パターン形成、光学部品の反射防止膜、カラーフィルター、(近)赤外線カットフィルター等の機能性材料のパターン形成、更には液晶ディスプレイあるいは有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ等の表示素子の製造における配向膜、下地層、発光層、電子輸送層、封止材層の塗膜・パターン形成に適したレーザー彫刻可能なグラビア印刷原版やアニロックスロール、ロータリースクリーン印刷版として用いることのできる円筒状印刷原版に関するものである。   The present invention provides relief image creation for gravure printing plates by laser engraving, conductors for electronic components, semiconductors, insulators, pattern formation, antireflection films for optical components, color filters, and patterns of functional materials such as (near) infrared cut filters Gravure printing capable of laser engraving suitable for forming coating films and patterns for alignment films, underlayers, light-emitting layers, electron-transporting layers, and encapsulating layers in the production of display elements such as liquid crystal displays and organic electroluminescence displays The present invention relates to a cylindrical printing original plate that can be used as an original plate, anilox roll, and a rotary screen printing plate.

従来から品質の高い写真等の印刷にグラビア印刷が用いられている。一般的に用いられているグラビア印刷用の版(グラビアシリンダー)は、版胴に硬い銅板を使用し、銅板表面にダイヤモンド刃等を用いて凹部を彫刻し、更にその版表面にクロム等の硬質金属をめっき処理したものである。凹部の深さは自由にコントロールすることができる。最近では、凹部の形成にレーザー光を用いて彫刻する方法、写真製版技術を用いてフォトレジストをパターン化し更に金属をエッチング処理する方法が用いられることもある。このようにして形成された凹部にインキを溜めて、被印刷物に転写することにより、インキの膜厚で階調を表現した高品質の印刷物を形成することができる。金属版胴を用いたグラビアシリンダーは、作製に相当量の時間を要し、しかも非常に高価なものである。また、シリンダー自体が、相当の重量を有するため移動させるためには専用のクレーン等の装置が必要となる。このような理由から、簡単に作製でき、安価でかつ軽量なグラビアシリンダーが求められていた。   Conventionally, gravure printing is used for printing high-quality photographs and the like. In general, a gravure printing plate (gravure cylinder) uses a hard copper plate for the plate cylinder, engraves a concave portion on the surface of the copper plate using a diamond blade, etc., and further hards such as chromium on the plate surface. A metal is plated. The depth of the recess can be freely controlled. Recently, a method of engraving using a laser beam to form a recess and a method of patterning a photoresist using a photoengraving technique and further etching a metal may be used. By storing the ink in the concave portions formed in this manner and transferring the ink to the printing material, it is possible to form a high-quality printed material in which gradation is expressed by the film thickness of the ink. A gravure cylinder using a metal plate cylinder requires a considerable amount of time for production and is very expensive. In addition, since the cylinder itself has a considerable weight, an apparatus such as a dedicated crane is required to move the cylinder. For these reasons, there has been a demand for a gravure cylinder that can be easily manufactured, is inexpensive, and is lightweight.

特許文献1(特開昭58−185296号公報)、特許文献2(特開昭61−64767号公報)ではエポキシ樹脂を用いて形成された印刷原版表面にレーザー光を照射して彫刻する方法が記載されている。また、特許文献3(特開昭56−166094号公報)では、ウレタン重合体とアセタール重合体との混合物から形成された印刷原版表面にレーザーを用いて彫刻する方法が記載されている。特許文献4(特開昭47−5121号公報)には、重合体状印刷用プレートに関する記載があり、レーザー彫刻を用いて凹部を形成している。しかしながら、いずれの特許文献も感光性樹脂組成物を光硬化させて得られる印刷原版をレーザー彫刻したものではない。   In Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 58-185296) and Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 61-64767), there is a method of engraving a surface of a printing original plate formed using an epoxy resin by irradiating it with laser light. Has been described. Patent Document 3 (Japanese Patent Laid-Open No. Sho 56-166094) describes a method of engraving a printing original plate surface formed from a mixture of a urethane polymer and an acetal polymer using a laser. Patent Document 4 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 47-5121) describes a polymer-like printing plate, in which a recess is formed using laser engraving. However, none of the patent literatures are obtained by laser engraving a printing original plate obtained by photocuring a photosensitive resin composition.

また、特許文献5(特開昭50−60301号公報)、特許文献6(特開平9−171259号公報)では、感光性樹脂を用いて、露光、現像工程を経て形成されるグラビア印刷用の円筒状印刷版の形成方法が記載されているが、レーザー光照射により直接凹部を形成するレーザー彫刻に関する記載はない。
特許文献7(米国特許第5259311号公報)には、感光性樹脂硬化物をレーザー彫刻し印刷版を形成する方法に関する記載があるが、円筒状支持体上に成形された感光性樹脂硬化物をレーザー彫刻する記載はない。
また、印刷機に組み込んで印刷版へのインキの転写に用いられるアニロックスロールにおいても、金属、セラミックス、ゴム等の円筒状材料が用いられており、レーザー光を用いた加工が行われている。これらの材料においても安価に、しかも簡単に製作できるものが求められていた。
In Patent Document 5 (Japanese Patent Laid-Open No. 50-60301) and Patent Document 6 (Japanese Patent Laid-Open No. 9-171259), a photosensitive resin is used for gravure printing formed through exposure and development processes. Although a method for forming a cylindrical printing plate is described, there is no description regarding laser engraving in which a concave portion is directly formed by laser light irradiation.
Patent Document 7 (U.S. Pat. No. 5,259,311) describes a method of forming a printing plate by laser engraving a photosensitive resin cured product. However, a photosensitive resin cured product molded on a cylindrical support is disclosed. There is no description of laser engraving.
In addition, cylindrical materials such as metals, ceramics, and rubber are also used in anilox rolls that are incorporated in a printing press and used to transfer ink to a printing plate, and are processed using laser light. There has been a demand for these materials that can be manufactured inexpensively and easily.

このように、円筒状支持体上に感光性樹脂硬化物層を簡単にしかも短時間で形成でき、しかも形成された感光性樹脂硬化物層をレーザーにより彫刻し凹部を形成するドクターブレード接触型円筒状印刷原版に関するものは、知られていなかった。
特開昭58−185296号公報 特開昭61−64767号公報 特開昭56−166094号公報 特開昭47−5121号公報 特開昭50−60301号公報 特開平9−171259号公報 米国特許第5259311号公報
In this way, a doctor blade contact type cylinder that can easily and quickly form a cured photosensitive resin layer on a cylindrical support, and engraves the formed cured cured resin layer with a laser to form a recess. Nothing was known about the original printing plate.
JP 58-185296 A JP-A 61-64767 Japanese Patent Laid-Open No. 56-166094 JP 47-5121 A Japanese Patent Laid-Open No. 50-60301 JP-A-9-171259 US Pat. No. 5,259,311

直接レーザー彫刻してレリーフ画像を形成する際に発生する液状カス量が少なく、レーザー彫刻印刷原版の形成工程において、大気中で光硬化させることができ、版厚精度が高く、表面のタックおよび表面摩擦抵抗値が小さく、更に耐摩耗性の高いグラビア印刷、アニロックスロール、ロータリースクリーン印刷に適した円筒状印刷原版の提供。   The amount of liquid residue generated when forming a relief image by direct laser engraving is small, and can be photocured in the atmosphere in the formation process of the laser engraving printing original plate, with high plate thickness accuracy, surface tack and surface Providing a cylindrical printing master with low frictional resistance and high wear resistance suitable for gravure printing, anilox roll, and rotary screen printing.

本発明者らは鋭意検討し、表面に凹パターンを有しドクターブレードと接触するタイプの円筒状印刷基材を作製するための円筒状印刷原版であって、該円筒状印刷原版が円筒状支持体とその上に形成された感光性樹脂硬化物層(A)からなり、該感光性樹脂硬化物層(A)が、有機珪素化合物あるいは有機フッ素化合物を層内部あるいは表面に含有するレーザー彫刻可能な層であり、かつショアD硬度が30度以上であることを特徴とする円筒状印刷原版を作製することにより上記の問題点を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。   The present inventors have intensively studied and are a cylindrical printing original plate for producing a cylindrical printing substrate of a type having a concave pattern on the surface and contacting a doctor blade, and the cylindrical printing original plate has a cylindrical support Body and a photosensitive resin cured product layer (A) formed thereon, and the photosensitive resin cured product layer (A) is capable of laser engraving containing an organic silicon compound or an organic fluorine compound inside or on the surface It was found that the above problems can be solved by producing a cylindrical printing original plate that is a simple layer and has a Shore D hardness of 30 degrees or more, and has completed the present invention.

本発明は下記の通りである。
1. 円筒状支持体とその上に形成された感光性樹脂硬化物層(A)からなり、該感光性樹脂硬化物層(A)が有機珪素化合物あるいは有機フッ素化合物から選ばれる少なくとも1種を層内部あるいは表面に含有するレーザー彫刻可能な層であり、かつショアD硬度が30度以上100度以下であることを特徴とする、凹版印刷用円筒状印刷原版。
The present invention is as follows.
1. It consists of a cylindrical support and a photosensitive resin cured product layer (A) formed thereon, and the photosensitive resin cured product layer (A) contains at least one selected from organic silicon compounds or organic fluorine compounds inside the layer. Alternatively, a cylindrical printing original plate for intaglio printing, which is a layer capable of laser engraving contained on the surface and has a Shore D hardness of 30 to 100 degrees.

2. 有機珪素化合物が、下記平均組成式(1)で表されるシリコーン化合物を含むことを特徴とする、1.に記載の円筒状印刷原版。
SiO(4−p−r−s)/2 (1)
(式中、Rは、直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、炭素数5〜20のアルキレン基、シクロアルキレン基、炭素数1〜20のアルコキシ基、水酸基あるいはアミノ基で置換された炭素数1〜20のアルキル基、アリール基で置換された炭素数7〜30のアルキル基、メタクリル基、アクリル基、ビニル基、シンナモイル基、アセチレン基、チオール基、エポキシ基、オキセタン基、環状エステル基、ジオキシラン基、スピロオルトカーボネート基、スピロオルトエステル基、環状イミノエーテル基、ビシクロオルトエステル基、シクロシロキンサン基で置換されたアルキル基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基、炭素数2〜30のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基あるいはその塩を含む1価の基、スルホ基あるいはその塩を含む1価の基、ポリオキシアルキレン基から選ばれた1種もしくは2種以上からなる炭化水素基を表す。
2. The organosilicon compound includes a silicone compound represented by the following average composition formula (1): The cylindrical printing original plate described in 1.
R p Q r X s SiO ( 4-p-r-s) / 2 (1)
(In the formula, R is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, an alkylene group having 5 to 20 carbon atoms, a cycloalkylene group, or 1 carbon atom. ˜20 alkoxy group substituted with hydroxyl group or amino group, C 1-20 alkyl group substituted with aryl group, C 7-30 alkyl group substituted with aryl group, methacryl group, acrylic group, vinyl group, cinnamoyl group, Alkyl group substituted with acetylene group, thiol group, epoxy group, oxetane group, cyclic ester group, dioxirane group, spiroorthocarbonate group, spiroorthoester group, cyclic iminoether group, bicycloorthoester group, cyclosiloxane ring group, Or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms and an alkoxycarbonyl having 2 to 30 carbon atoms substituted with a halogen atom Represents a monovalent group, a sulfo group or a monovalent group, consisting of one or more selected from polyoxyalkylene hydrocarbon group containing a salt thereof containing a carboxyl group or a salt thereof.

Q、Xは、水素原子、直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、もしくは置換されていないか或いは炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数1〜20のアルコキシ基、アリール基で置換された炭素数7〜30のアルキル基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基、炭素数2〜30のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基あるいはその塩を含む1価の基、スルホ基あるいはその塩を含む1価の基、ポリオキシアルキレン基から選ばれた1種もしくは2種以上からなる炭化水素基を表し、
0<p<4、
0≦r<4、
0≦s<4、
及び(p+r+s)<4である。)
Q and X are a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or an unsubstituted or alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 7 to 30 carbon atoms substituted with an aryl group, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms substituted with a halogen atom, or an alkoxycarbonyl having 2 to 30 carbon atoms A monovalent group containing a group, a carboxyl group or a salt thereof, a monovalent group containing a sulfo group or a salt thereof, a hydrocarbon group consisting of one or more selected from a polyoxyalkylene group,
0 <p <4,
0 ≦ r <4,
0 ≦ s <4,
And (p + r + s) <4. )

3. 有機珪素化合物が、アリール基、少なくとも1つのアリール基で置換された直鎖状あるいは分岐状アルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、ポリオキシアルキレン基からなる群から選ばれる少なくとも1種類の有機基を有し、かつ該有機基が直接結合している炭素原子に結合した水素原子(α位水素)を有する化合物を含有することを特徴とする、1.に記載の円筒状印刷原版。
4. シリコーン化合物が、メチルスチリル基、フェニル基、スチリル基、カルビノール基からなる群から選ばれる少なくとも1種類の有機基を有することを特徴とする、2.に記載の円筒状印刷原版。
5. 感光性樹脂硬化物層(A)が、分子主鎖中にカーボネート結合、ウレタン結合、エステル結合、アミド結合、イミド結合の群から選ばれる少なくとも1種類の結合を有する化合物と、分子内に芳香族基あるいは/および脂環族基を有する化合物を含むことを特徴とする、1.から4.のいずれかに記載の円筒状印刷原版。
3. The organosilicon compound has at least one organic group selected from the group consisting of an aryl group, a linear or branched alkyl group substituted with at least one aryl group, an alkoxycarbonyl group, an alkoxy group, and a polyoxyalkylene group. And a compound having a hydrogen atom (α-position hydrogen) bonded to a carbon atom to which the organic group is directly bonded. The cylindrical printing original plate described in 1.
4). 1. The silicone compound has at least one organic group selected from the group consisting of a methylstyryl group, a phenyl group, a styryl group, and a carbinol group, The cylindrical printing original plate described in 1.
5). The cured photosensitive resin layer (A) is a compound having at least one type of bond selected from the group consisting of carbonate bond, urethane bond, ester bond, amide bond and imide bond in the molecular main chain, and aromatic in the molecule. A compound having a group or / and an alicyclic group; To 4. A cylindrical printing original plate according to any one of the above.

6. 感光性樹脂硬化物層(A)が、20℃で液状の感光性樹脂組成物(ア)を光硬化させて得られた層であることを特徴とする、1.から5.のいずれかに記載の円筒状印刷原版。
7. 感光性樹脂硬化物層(A)を構成する感光性樹脂硬化物を、窒素流量100ml/分、昇温速度10℃/分の条件で室温から昇温する熱重量分析を行った場合に、重量が50%に減少する温度が150℃以上450℃以下であり、重量が90%に減少する温度と重量が50%に減少する温度の差が120℃以下であることを特徴とする、1.から6.のいずれかに記載の円筒状印刷原版。
8. 感光性樹脂硬化物層(A)が、さらに無機多孔質体を含有し、該無機多孔質体の比表面積が10m/g以上1500m/g以下、平均細孔径が1nm以上1000nm以下、細孔容積が0.1ml/g以上10ml/g以下、かつ吸油量が10ml/100g以上2000ml/100g以下であることを特徴とする、1.から7.のいずれかに記載のドクターブレード接触型円筒状印刷。
6). 1. The cured photosensitive resin layer (A) is a layer obtained by photocuring a liquid photosensitive resin composition (a) at 20 ° C. To 5. A cylindrical printing original plate according to any one of the above.
7). The weight of the cured photosensitive resin constituting the cured photosensitive resin layer (A) was measured by thermogravimetric analysis in which the temperature was raised from room temperature under conditions of a nitrogen flow rate of 100 ml / min and a heating rate of 10 ° C./min. The temperature at which the weight is reduced to 50% is 150 ° C. or higher and 450 ° C. or lower, and the difference between the temperature at which the weight is reduced to 90% and the temperature at which the weight is reduced to 50% is 120 ° C. or lower. To 6. A cylindrical printing original plate according to any one of the above.
8). The cured photosensitive resin layer (A) further contains an inorganic porous material, the specific surface area of the inorganic porous material is 10 m 2 / g to 1500 m 2 / g, the average pore diameter is 1 nm to 1000 nm, The pore volume is 0.1 ml / g or more and 10 ml / g or less, and the oil absorption is 10 ml / 100 g or more and 2000 ml / 100 g or less. To 7. The doctor blade contact type cylindrical printing according to any one of the above.

9. 無機多孔質体の数平均粒子径が0.1μm以上100μm以下であって、少なくとも70%の粒子の真球度が0.5〜1の範囲の球状粒子であることを特徴とする、8.に記載の円筒状印刷原版。
10. レーザー彫刻可能な感光性樹脂硬化物層(A)の表面が、該表面にエネルギー30mN/mの指示液(和光純薬工業社製、商標「ぬれ張力試験用混合液No.30.0」)を1液滴(20μリットル)滴下し、30秒後に前記液滴が広がった部分の最大径を測定した場合に、該液滴の径が4mm以上20mm以下である濡れ特性を有することを特徴とする1.から9.のいずれかに記載の円筒状印刷原版。
11. レーザー彫刻可能な感光性樹脂硬化物層(A)が、発振波長が700nmから3μmの範囲の近赤外線レーザーに感度を有し、パルス幅が1nsから10ns、ピークパワーが5kWから20kWのパルス出力のレーザー光を用いて、1パルスあたりのエネルギー量が0.2mJであるレーザー光を照射した場合に、深さ1μm以上の凹部が形成されることを特徴とする、1.から10.のいずれかに記載のドクターブレード接触型円筒状印刷原版。
9. 7. The number average particle diameter of the inorganic porous material is 0.1 μm or more and 100 μm or less, and at least 70% of the particles are spherical particles having a sphericity of 0.5 to 1. The cylindrical printing original plate described in 1.
10. The surface of the cured photosensitive resin layer (A) capable of laser engraving has an indicator liquid with an energy of 30 mN / m (trademark “mixture No. 30.0 for wetting tension test” manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) on the surface. When the maximum diameter of a portion where a droplet (20 μl) is dropped and the droplet spreads after 30 seconds is measured, the droplet has a wetting property in which the diameter of the droplet is 4 mm or more and 20 mm or less 1 . To 9. A cylindrical printing original plate according to any one of the above.
11. The photosensitive resin cured product layer (A) capable of laser engraving is sensitive to a near infrared laser having an oscillation wavelength in the range of 700 nm to 3 μm, and has a pulse output with a pulse width of 1 ns to 10 ns and a peak power of 5 kW to 20 kW. A concave portion having a depth of 1 μm or more is formed when laser light is irradiated with laser light having an energy amount of 0.2 mJ per pulse. To 10. The doctor blade contact type cylindrical printing original plate according to any one of the above.

12. 円筒状支持体と感光性樹脂硬化物層(A)との間に、円筒状印刷原版の周長を調整する周長調整層を有することを特徴とする、1.から11.のいずれかに記載の円筒状印刷原版。
13. 周長調整層が、感光性樹脂硬化物層(B)からなることを特徴とする、12.に記載の円筒状印刷原版。
14. レーザー彫刻可能な感光性樹脂硬化物層(A)が、光重合開始剤あるいは該光重合開始剤の分解生成物を含有し、該光重合開始剤が水素引き抜き型光重合開始剤および崩壊型光重合開始剤を含むことを特徴とする、1.から13.のいずれかに記載の円筒状印刷原版。
15. 水素引き抜き型光重合開始剤が、ベンゾフェノン類、キサンテン類、アントラキノン類から選ばれる少なくとも一種類の化合物からなり、かつ崩壊型光重合開始剤が、ベンゾインアルキルエーテル類、2,2−ジアルコキシ−2−フェニルアセトフェノン類、アシルオキシムエステル類、アゾ化合物類、有機イオウ化合物類、ジケトン類から選ばれる少なくとも1種類の化合物からなることを特徴とする、14.に記載の円筒状印刷原版。
12 1. A circumference adjustment layer for adjusting the circumference of the cylindrical printing original plate is provided between the cylindrical support and the cured photosensitive resin layer (A). To 11. A cylindrical printing original plate according to any one of the above.
13. The circumference adjusting layer is composed of a photosensitive resin cured product layer (B), 12. The cylindrical printing original plate described in 1.
14 The laser-engravable photosensitive resin cured product layer (A) contains a photopolymerization initiator or a decomposition product of the photopolymerization initiator, and the photopolymerization initiator is a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator and a decay type light. 1. A polymerization initiator is included. To 13. A cylindrical printing original plate according to any one of the above.
15. The hydrogen abstraction type photopolymerization initiator is composed of at least one compound selected from benzophenones, xanthenes and anthraquinones, and the decay type photopolymerization initiator is a benzoin alkyl ether, 2,2-dialkoxy-2 -Consisting of at least one compound selected from phenylacetophenones, acyloxime esters, azo compounds, organic sulfur compounds, and diketones, The cylindrical printing original plate described in 1.

16. 光重合開始剤が、同一分子内に水素引き抜き型光重合剤として機能する部位と崩壊型光重合開始剤として機能する部位の両方を有する化合物を含有することを特徴とする、14.に記載の円筒状印刷原版。
17. 感光性樹脂硬化物層(A)と同じ組成の感光性樹脂硬化物からなる厚み2.8mmのシートを別途作製し、該シートを用いて荷重が4.9N、回転円盤の回転速度が毎分60±2回、試験回数が連続1000回である条件でテーパー磨耗試験を行った場合に、感光性樹脂硬化物層表面の単位面積あたりの磨耗量が2.5mg/cm以下であることを特徴とする、1.から16.のいずれかに記載の円筒状印刷原版。
16. 13. The photopolymerization initiator contains a compound having both a site functioning as a hydrogen abstraction type photopolymerization agent and a site functioning as a decay type photopolymerization initiator in the same molecule. The cylindrical printing original plate described in 1.
17. A sheet having a thickness of 2.8 mm made of a cured photosensitive resin having the same composition as the cured photosensitive resin layer (A) is prepared separately. Using the sheet, the load is 4.9 N and the rotational speed of the rotating disk is every minute. When the taper wear test is performed under the condition of 60 ± 2 times and the test number is 1000 times continuously, the wear amount per unit area of the surface of the cured photosensitive resin layer is 2.5 mg / cm 2 or less. Features 1. To 16. A cylindrical printing original plate according to any one of the above.

18. 1.から17.のいずれかに記載の円筒状印刷原版を製造する方法であって、円筒状支持体上に感光性樹脂組成物を塗布し感光性樹脂組成物層を成形する工程、円筒状に形成された感光性樹脂組成物層に大気中で光を照射し架橋硬化せしめ、レーザー彫刻可能な感光性樹脂硬化物層(A)を形成する工程を含み、照射される光に波長200nm以上450nm以下の光が含まれ、かつ感光性樹脂組成物層表面での照度が、UVメーター(オーク製作所社製、商標「UV−M02」)とフィルター(オーク製作所社製、商標「UV−35−APRフィルター」)を用いて測定した場合に、20mW/cm以上であること、前記UVメーターとフィルター(オーク製作所社製、商標「UV−25フィルター」)を用いて測定した場合に、5mW/cm以上であることを特徴とする、円筒状印刷原版の製造方法。
19. 凹パターンを有するドクターブレードあるいはスキージ接触型円筒状印刷基材の製造方法において、1.から17.に記載の円筒状印刷原版にレーザー光を照射し、該レーザー照射部を除去することにより凹パターンを形成する工程を含むことを特徴とする、凹パターンを有するドクターブレードあるいはスキージ接触型円筒状印刷基材の形成方法。
20. 19.に記載の円筒状印刷基材が、グラビア印刷版あるいはアニロックスロールとして用いられることを特徴とする、ドクターブレード接触型円筒状印刷基材。
18. 1. To 17. A method for producing a cylindrical printing original plate according to any one of the above, wherein a step of applying a photosensitive resin composition on a cylindrical support to form a photosensitive resin composition layer, a photosensitive resin formed in a cylindrical shape The photosensitive resin composition layer is irradiated with light in the atmosphere and cured by crosslinking to form a laser-engraved photosensitive resin cured product layer (A), and the irradiated light has a wavelength of 200 nm to 450 nm. The illuminance on the surface of the photosensitive resin composition layer included is a UV meter (trade name “UV-M02” manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) and a filter (trademark “UV-35-APR filter” manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.). when measured using, it is 20 mW / cm 2 or more, the UV meter and a filter (ORC Manufacturing Co., Ltd., trademark "UV-25 filter") when measured using a is 5 mW / cm 2 or more Wherein the bets method for producing a cylindrical printing original plate.
19. In the method for producing a doctor blade or squeegee contact type cylindrical printing substrate having a concave pattern, To 17. A doctor blade or a squeegee contact type cylindrical printing having a concave pattern, comprising the step of irradiating the cylindrical printing original plate according to claim 2 with a laser beam and forming a concave pattern by removing the laser irradiation portion. A method for forming a substrate.
20. 19. A doctor blade contact type cylindrical printing substrate, characterized in that the cylindrical printing substrate described in 1 is used as a gravure printing plate or an anilox roll.

直接レーザー彫刻してレリーフ画像を形成する際に発生する液状カス量が少なく、レーザー彫刻印刷原版の形成工程において、大気中で光硬化させることができ、版厚精度が高く、表面のタックおよび表面摩擦抵抗値が小さく、更に耐摩耗性の高いグラビア印刷、アニロックスロールに適した円筒状印刷原版を提供することができる。   The amount of liquid residue generated when forming a relief image by direct laser engraving is small, and can be photocured in the atmosphere in the formation process of the laser engraving printing original plate, with high plate thickness accuracy, surface tack and surface A cylindrical printing original plate suitable for gravure printing and anilox roll having a low frictional resistance and high wear resistance can be provided.

以下、さらに詳細に本発明の好ましい実施態様を説明する。
本発明は、表面に凹パターンを有しドクターブレードと接触するタイプの円筒状印刷基材を作製するに適した円筒状印刷原版であって、該円筒状印刷原版が円筒状支持体とその上に形成された感光性樹脂硬化物層(A)からなり、該感光性樹脂硬化物層(A)が、有機珪素化合物あるいは有機フッ素化合物を層内部あるいは表面に含有するレーザー彫刻可能な層であり、かつショアD硬度が30度以上であることを特徴とする円筒状印刷原版に関するものである。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail.
The present invention relates to a cylindrical printing original plate suitable for producing a cylindrical printing substrate having a concave pattern on the surface and in contact with a doctor blade, the cylindrical printing original plate comprising a cylindrical support and an upper surface thereof. The cured photosensitive resin layer (A) is formed on the photosensitive resin cured layer (A), and the cured photosensitive resin layer (A) is a layer capable of laser engraving containing an organosilicon compound or an organofluorine compound inside or on the surface. In addition, the present invention relates to a cylindrical printing original plate having a Shore D hardness of 30 degrees or more.

本発明の円筒状印刷原版は、グラビア印刷用の円筒状シリンダーや印刷機に装着して用いるインキ転写用アニロックスロール、ロータリースクリーン印刷版などのドクターブレードあるいはスキージ接触型円筒状印刷基材の作製に適するものである。ここでドクターブレードとは、「増補版印刷事典」(社団法人、日本印刷学会編、昭和62年発行)に記載があるように、グラビア印刷で版面の余分なインキをかき落とすために用いる厚さ0.12から0.15mmの薄い鋼板とある。しかし、本発明でドクターブレードとは、版面上の余分なインキをかき落とす機能を有するものであれば、特に金属製である必要ななく、セラミック製あるいは樹脂製ものを使用することもできる。また、スキージとは、スクリーン印刷において用いる版から被印刷体にインキを転移させるゴム製の道具であり、インキを載せたスクリーン印刷版表面をスキージで擦ることにより、インキが印刷版の開口部を通過して被印刷体に転移する。本発明の円筒状印刷原版は、ドクターブレードあるいはスキージと接触して使用するため、感光性樹脂硬化物層(A)は比較的硬いものが好ましく、ショアD硬度は、30度以上100度以下、より好ましくは40度以上100度以下、更に好ましくは50度以上100度以下である。ショアD硬度が30度以上100度以下であれば、円筒状印刷基材表面に付着したインキをドクターブレードでかき落とす際に、円筒状印刷基材が変形することなくインキを除去することができる。また、スキージで印刷版表面を擦る際にパターンの変形を抑えることができる。この硬度範囲の感光性樹脂硬化物層(A)を得るためには、感光性樹脂組成物を構成する成分である、樹脂(a)、有機化合物(b)の分子内に2個以上、より好ましくは3個以上の重合性不飽和基を含有する化合物を、樹脂(a)あるいは/および有機化合物(b)全体量の10wt%以上、より好ましくは20wt%以上含有することが望ましい。また、樹脂(a)あるいは/および有機化合物(b)の分子内に、芳香族炭化水素基あるいは/および脂環族炭化水素基等の剛直な骨格部位を有する化合物を、樹脂(a)あるいは/および有機化合物(b)全体量の10wt%以上、より好ましくは20wt%以上含有することが好ましい。更に、剛直部位を有するモノマー単位が、樹脂(a)を構成する全モノマー単位の1%以上、より好ましくは5%以上、更に好ましくは10%以上含有されていることが望ましい。   The cylindrical printing original plate of the present invention is used for the production of a cylindrical cylinder for gravure printing, a doctor blade such as an anilox roll for ink transfer used on a printing press, a rotary screen printing plate, or a squeegee contact type cylindrical printing substrate. It is suitable. Here, the doctor blade is the thickness used to scrub off excess ink on the printing plate in gravure printing, as described in “Extended Printing Encyclopedia” (edited by the Japan Printing Society, published in 1987). There is a thin steel plate of 0.12 to 0.15 mm. However, the doctor blade in the present invention is not particularly required to be made of metal as long as it has a function of scraping off excess ink on the plate surface, and ceramic or resin-made ones can also be used. A squeegee is a rubber tool that transfers ink from a plate used in screen printing to a printing medium, and the ink rubs the surface of the screen printing plate on which ink is placed with the squeegee so that the ink opens the opening of the printing plate. Pass through and transfer to the substrate. Since the cylindrical printing original plate of the present invention is used in contact with a doctor blade or a squeegee, the cured photosensitive resin layer (A) is preferably relatively hard, and the Shore D hardness is 30 degrees to 100 degrees, More preferably, they are 40 degree | times or more and 100 degrees or less, More preferably, they are 50 degree | times or more and 100 degrees or less. If the Shore D hardness is 30 degrees or more and 100 degrees or less, the ink can be removed without deforming the cylindrical printing substrate when the ink attached to the cylindrical printing substrate surface is scraped off with a doctor blade. . In addition, pattern deformation can be suppressed when the printing plate surface is rubbed with a squeegee. In order to obtain the cured photosensitive resin layer (A) in this hardness range, two or more in the molecule of the resin (a) and the organic compound (b), which are components constituting the photosensitive resin composition, Preferably, the compound containing 3 or more polymerizable unsaturated groups is contained in an amount of 10 wt% or more, more preferably 20 wt% or more of the total amount of the resin (a) and / or the organic compound (b). Further, a compound having a rigid skeleton such as an aromatic hydrocarbon group or / and an alicyclic hydrocarbon group in the molecule of the resin (a) or / and the organic compound (b) is converted into the resin (a) or / And 10 wt% or more of the total amount of the organic compound (b), more preferably 20 wt% or more. Furthermore, it is desirable that the monomer unit having a rigid part is contained in an amount of 1% or more, more preferably 5% or more, and still more preferably 10% or more of all monomer units constituting the resin (a).

また、円筒状印刷基材は回転しながらドクターブレードあるいはスキージと接触するため、耐磨耗性の良い材料が好ましい。性能を示す1つの指標として、テーパー磨耗試験における単位面積あたりの磨耗量を用いることができ、円筒状印刷原版表面の、好ましい磨耗量は2.5mg/cm以下、より好ましくは1.5mg/cm以下、更に好ましくは0.5mg/cm以下である。磨耗量が2.5mg/cm以下であれば、円筒状印刷基材表面とドクターブレードあるいはスキージが接触する際に、耐久性を確保でき長期に渡り使用することができる。 Further, since the cylindrical printing substrate contacts with the doctor blade or the squeegee while rotating, a material with good wear resistance is preferable. As an index indicating the performance, the wear amount per unit area in the taper wear test can be used. The preferable wear amount on the surface of the cylindrical printing original plate is 2.5 mg / cm 2 or less, more preferably 1.5 mg / cm 2. cm 2 or less, more preferably 0.5 mg / cm 2 or less. When the wear amount is 2.5 mg / cm 2 or less, durability can be secured when the surface of the cylindrical printing substrate comes into contact with the doctor blade or squeegee, and it can be used for a long time.

本発明では、感光性樹脂硬化物層(A)が、有機珪素化合物あるいは有機フッ素化合物を層内部あるいは表面に含有することが好ましい。有機珪素化合物あるいは有機フッ素化合物を層内部に含有させる方法として、感光性樹脂硬化物層(A)を形成するための感光性樹脂組成物(ア)中に有機珪素化合物あるいは有機フッ素化合物を含有させる方法を挙げることができる。また、層表面に有機珪素化合物あるいは有機フッ素化合物を含有させる方法として、有機珪素化合物あるいは有機フッ素化合物を含有する処理液を塗布、噴霧する方法、処理液中に感光性樹脂硬化物層(A)を含浸させる方法などを挙げることができる。有機珪素化合物あるいは有機フッ素化合物は、感光性樹脂硬化物層(A)の耐磨耗性を大幅に向上させる効果、表面摩擦抵抗値を下げる効果、インキ濡れ性をコントロールする効果を有する。   In the present invention, the cured photosensitive resin layer (A) preferably contains an organosilicon compound or an organofluorine compound inside or on the surface. As a method of containing an organic silicon compound or an organic fluorine compound in the layer, an organic silicon compound or an organic fluorine compound is contained in the photosensitive resin composition (a) for forming the cured photosensitive resin layer (A). A method can be mentioned. Moreover, as a method for containing an organosilicon compound or an organofluorine compound on the surface of the layer, a method of applying and spraying a treatment liquid containing an organosilicon compound or an organofluorine compound, a cured photosensitive resin layer (A) in the treatment liquid And the like. The organosilicon compound or the organofluorine compound has an effect of greatly improving the abrasion resistance of the photosensitive resin cured product layer (A), an effect of reducing the surface friction resistance value, and an effect of controlling ink wettability.

本発明で用いる有機珪素化合物として、分子内に少なくとも1つのSi−O結合を有する化合物が好ましい。また、分子内に重合性不飽和基を有していても有しない化合物であっても構わない。Si−O−Si結合を有するシロキサン構造やポリシロキサン構造を有するシリコーン化合物が耐侯性、構造安定性、保存安定性の観点から特に好ましい。
本発明において好ましいシリコーン化合物としては、例えば一般式(2)、(3)、(4)、(5)で表されるシリコーン結合の少なくとも1種の構造を含む1種類以上のシリコーン化合物を挙げることができる。
As the organosilicon compound used in the present invention, a compound having at least one Si—O bond in the molecule is preferable. Further, it may be a compound having or not having a polymerizable unsaturated group in the molecule. A silicone compound having a siloxane structure having a Si—O—Si bond or a polysiloxane structure is particularly preferred from the viewpoints of weather resistance, structural stability, and storage stability.
Preferred silicone compounds in the present invention include, for example, one or more silicone compounds containing at least one structure of silicone bonds represented by the general formulas (2), (3), (4), and (5). Can do.

Figure 2005254696
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(式中、Rはそれぞれ独立に水素原子、直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、もしくは置換されていないか或いは炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数1〜20のアルコキシ基、アリール基で置換された炭素数7〜30のアルキル基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基、炭素数2〜30のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基あるいはその塩を含む1価の基、スルホ基あるいはその塩を含む1価の基、ポリオキシアルキレン基から選ばれた1種もしくは2種以上からなる炭化水素基である。)
前記シリコーン化合物は、下記平均組成式(1)で表される。
SiO(4−p−r−s)/2 (1)
(式中、Rは、直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、1〜20のアルコキシ基、アリール基で置換された炭素数7〜30のアルキル基、ビニル基、アセチレン基、アクリル基、メタクリル基、シンナモイル基、チオール基、アジド基、開環付加反応するエポキシ基、オキセタン基、環状エステル基、ジオキシラン基、スピロオルトカーボネート基、スピロオルトエステル基、ビシクロオルトエステル基、環状イミノエーテル基で置換されたアルキル基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基、炭素数2〜30のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基あるいはその塩を含む1価の基、スルホ基あるいはその塩を含む1価の基、ポリオキシアルキレン基から選ばれた1種もしくは2種以上からなる炭化水素基を表す。
(In the formula, each R 1 is independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or an unsubstituted or substituted carbon group having 1 carbon atom. An alkyl group having 20 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 7 to 30 carbon atoms substituted with an aryl group, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms substituted with a halogen atom, 2 carbon atoms 1 to 2 or more hydrocarbon groups selected from 1 to 30 alkoxycarbonyl groups, monovalent groups including carboxyl groups or salts thereof, monovalent groups including sulfo groups or salts thereof, and polyoxyalkylene groups. .)
The silicone compound is represented by the following average composition formula (1).
R p Q r X s SiO ( 4-p-r-s) / 2 (1)
(Wherein R is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group substituted with 7 carbon atoms. ~ 30 alkyl group, vinyl group, acetylene group, acrylic group, methacryl group, cinnamoyl group, thiol group, azide group, epoxy group that undergoes ring-opening addition reaction, oxetane group, cyclic ester group, dioxirane group, spiroorthocarbonate group, Spiro ortho ester group, bicyclo ortho ester group, alkyl group substituted by cyclic imino ether group, aryl group having 6 to 20 carbon atoms substituted by halogen atom, alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, carboxyl group Or a monovalent group containing a salt thereof, a monovalent group containing a sulfo group or a salt thereof, or a polyoxyalkylene group. It represents one or a hydrocarbon group of two or more was.

Q、Xは、水素、直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、アリール基で置換された炭素数7〜30のアルキル基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基、炭素数2〜30のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基あるいはその塩を含む1価の基、スルホ基あるいはその塩を含む1価の基、ポリオキシアルキレン基から選ばれた1種もしくは2種以上からなる炭化水素基を表し、
0<p<4、
0≦r<4、
0≦s<4、
及び(p+r+s)<4である。)
Q and X are hydrogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and a carbon substituted with an aryl group. An alkyl group having 7 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms substituted by a halogen atom, an alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, a monovalent group including a carboxyl group or a salt thereof, a sulfo group, or A monovalent group containing the salt, a hydrocarbon group composed of one or more selected from a polyoxyalkylene group,
0 <p <4,
0 ≦ r <4,
0 ≦ s <4,
And (p + r + s) <4. )

特に分子構造を限定するものではないが、ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシロキサン等のポリアルキルシロキサンを主鎖に有する化合物を好ましい化合物として挙げることができる。また、ポリシロキサン構造を分子中の一部に有する化合物であっても構わない。更に、ポリシロキサン構造に特定の有機基を導入した化合物を用いることができる。具体的には、ポリシロキサンの側鎖に有機基を導入した化合物、ポリシロキサンの両末端に有機基を導入した化合物、ポリシロキサンの片末端に有機基を導入した化合物、ポリシロキサンの側鎖と末端の両方に有機基を導入した化合物などを用いることができる。ポリシロキサン構造に導入する有機基の具体例としては、アミノ基、カルボキシル基、カルビノール基、アリール基、アルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、少なくとも1つのアリール基で置換された直鎖状あるいは分岐状アルキル基、ポリオキシアルキレン基などを挙げることがでる。ここで、アリール基の好ましい例としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、ピレニル基、フェナントリル基等を挙げることができる。また、アリール基で置換された直鎖状あるいは分岐状アルキル基、例えばメチルスチリル基、スチリル基などが好ましい。更に、アリール基の芳香族炭素に結合した水素原子を別の官能基で置換した有機基を用いることもできる。また、これらの有機基に結合する水素原子の一部あるいは全部をフッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換したものを用いることもできる。   Although the molecular structure is not particularly limited, a compound having a polyalkylsiloxane such as polydimethylsiloxane or polydiethylsiloxane in the main chain can be cited as a preferred compound. A compound having a polysiloxane structure in a part of the molecule may also be used. Furthermore, a compound in which a specific organic group is introduced into the polysiloxane structure can be used. Specifically, a compound having an organic group introduced into the side chain of polysiloxane, a compound having an organic group introduced into both ends of polysiloxane, a compound having an organic group introduced into one end of polysiloxane, a side chain of polysiloxane, A compound having an organic group introduced at both ends can be used. Specific examples of the organic group introduced into the polysiloxane structure include an amino group, a carboxyl group, a carbinol group, an aryl group, an alkyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkoxy group, a straight chain substituted with at least one aryl group, or Examples include branched alkyl groups and polyoxyalkylene groups. Here, preferred examples of the aryl group include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a pyrenyl group, and a phenanthryl group. Further, a linear or branched alkyl group substituted with an aryl group, such as a methyl styryl group or a styryl group, is preferable. Furthermore, an organic group in which the hydrogen atom bonded to the aromatic carbon of the aryl group is substituted with another functional group can also be used. Moreover, what substituted some or all of the hydrogen atoms couple | bonded with these organic groups with halogen atoms, such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom, can also be used.

本発明で用いる有機珪素化合物として、フェニル基、メチルスチリル基、スチリル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、ポリオキシアルキレン基からなる群から選ばれる少なくとも1種類の有機基を有し、当該有機基が直接結合する炭素原子に結合する水素原子を有する化合物、すなわち、直鎖化合物のα位炭素に結合している水素原子(以後、α位水素と略す)を有する化合物が特に好ましい。これらの化合物は感光性樹脂組成物中に添加剤として加えられるものであるが、これらの化合物を用いて光架橋硬化させ得られる硬化物から、印刷工程で用いるインキ側へ抽出される成分の量が極めて少ない。また、版表面のインキ残りに対する抑制効果、更に版表面の摩擦抵抗を低下させる硬化の持続性が極めて高い。理由は明確になっていないが、これらの化合物を添加した感光性樹脂組成物を、光重合反応させて得られる硬化物を溶剤に浸漬した場合に、浸漬前後の重量変化が少ないという現象が見られる。これは、印刷時に用いるインキ中に溶出する成分が少ないことを意味し、印刷工程を繰り返し実施した場合に、版の機械的物性変化および印刷特性変化を少なくすることができ、実用特性上極めて重要である。この現象は、α位水素を有する化合物が光重合反応過程で何からの反応に寄与し、硬化物中に化学結合により取り込まれているためではないかと推定している。   The organosilicon compound used in the present invention has at least one organic group selected from the group consisting of a phenyl group, a methylstyryl group, a styryl group, an alkoxycarbonyl group, an alkoxy group, and a polyoxyalkylene group. A compound having a hydrogen atom bonded to a directly bonded carbon atom, that is, a compound having a hydrogen atom bonded to the α-position carbon of the linear compound (hereinafter abbreviated as α-position hydrogen) is particularly preferred. These compounds are added as additives to the photosensitive resin composition, but the amount of components extracted from the cured product obtained by photocrosslinking and curing using these compounds to the ink side used in the printing process. There is very little. In addition, the effect of suppressing the ink residue on the plate surface and the sustainability of curing that lowers the frictional resistance of the plate surface are extremely high. The reason is not clear, but when a cured product obtained by photopolymerizing a photosensitive resin composition to which these compounds are added is immersed in a solvent, there is a phenomenon that the weight change before and after immersion is small. It is done. This means that there are few components that elute in the ink used during printing. When the printing process is repeated, changes in mechanical properties and printing characteristics of the plate can be reduced, which is extremely important for practical use. It is. This phenomenon is presumed to be because the compound having hydrogen at the α-position contributes to the reaction from the course of the photopolymerization reaction and is incorporated into the cured product by a chemical bond.

有機珪素化合物として、通常入手可能な市販品、例えば信越化学工業社製、旭化成ワッカーシリコーン社製、GE東芝シリコーン社製、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製の各種有機基置換シリコーンオイルを用いることもできる。例えば、信越化学工業社製、商標名「KF−410」(メチルスチリル変性シリコーンオイル)、商標名「X−22−160AS」(カルビノール変性シリコーンオイル)、商標名「X−22−715」(エステル変性シリコーンオイル)、「KF−412」(アルキル変性シリコーンオイル)等を有用な化合物の例として挙げることができる。また、分子内に重合性不飽和基を有する反応性シリコーンオイルとして、特に限定するものではないが、例えば、信越化学工業社製、商標名「X−22−164A」、「X−22−164B」、「X−22−164C」、「X−22−2404」、「X−22−174DX」(メタクリル基を有する化合物)、「X−22−3667」、「X−22−4741」、「X−22−173DX」(エポキシ基を有する化合物)、「X−22−167B」、「KF−2001」、「KF−2004」(メルカプト基を有する化合物)などを挙げることができる。   As the organosilicon compound, commercially available products that are usually available, for example, various organic group-substituted silicone oils manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Asahi Kasei Wacker Silicone Co., GE Toshiba Silicone Co., Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd. may be used. it can. For example, trade name “KF-410” (methylstyryl-modified silicone oil), trade name “X-22-160AS” (carbinol-modified silicone oil), trade name “X-22-715” (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Examples of useful compounds include ester-modified silicone oil), “KF-412” (alkyl-modified silicone oil), and the like. Moreover, it does not specifically limit as reactive silicone oil which has a polymerizable unsaturated group in a molecule | numerator, For example, the Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. make, brand name "X-22-164A", "X-22-164B" "," X-22-164C "," X-22-2404 "," X-22-174DX "(compound having a methacrylic group)," X-22-3667 "," X-22-4741 "," X-22-173DX "(compound having an epoxy group)," X-22-167B "," KF-2001 "," KF-2004 "(compound having a mercapto group), and the like.

有機珪素化合物の添加量の好ましい範囲は、感光性樹脂組成物全体に対し0.1wt%以上10wt%以下、より好ましくは0.3wt%以上5wt%以下、更に好ましくは0.5wt%以上3wt%以下である。0.1wt%以上の添加量であれば、感光性樹脂組成物の光硬化物表面のタック、表面摩擦抵抗値を低く抑えることができ、更に印刷時のインキ絡み性を抑制する効果がある。また、添加量が10wt%以下であれば、印刷時のインキをはじく現象も見られず、良好な印刷物を得ることができる。また、円筒状に感光性樹脂組成物を塗布し、その後光硬化させ、表面の微妙な凹凸を除去し平滑な表面を得るために切削整形する場合、用いるバイト刃の消耗が極めて少なく刃の寿命を延命させることができるなど、切削性を大幅に改善することができる。更に、添加量が10wt%以下であれば、該感光性樹脂組成物の光硬化物であるレーザー彫刻印刷原版をレーザー彫刻する際の、彫刻速度を低下させることなく版表面にパターンを形成することができる。   A preferable range of the addition amount of the organosilicon compound is 0.1 wt% or more and 10 wt% or less, more preferably 0.3 wt% or more and 5 wt% or less, and further preferably 0.5 wt% or more and 3 wt% or less with respect to the entire photosensitive resin composition. It is as follows. When the addition amount is 0.1 wt% or more, the tackiness and surface friction resistance value of the photocured product surface of the photosensitive resin composition can be suppressed to a low level, and further, there is an effect of suppressing ink entanglement during printing. Moreover, if the addition amount is 10 wt% or less, the phenomenon of repelling ink during printing is not observed, and a good printed matter can be obtained. In addition, when the photosensitive resin composition is applied in a cylindrical shape and then photocured, and when cutting and shaping to obtain a smooth surface by removing subtle irregularities on the surface, the tool blade used is extremely low in life. As a result, cutting performance can be greatly improved. Furthermore, if the addition amount is 10 wt% or less, a pattern is formed on the plate surface without reducing the engraving speed when laser engraving printing original plate which is a photocured product of the photosensitive resin composition is laser engraved. Can do.

有機珪素化合物の数平均分子量は100以上10万以下、好ましくは300以上1万以下、更に好ましくは500以上5000以下の範囲が望ましい。数平均分子量が100以上であれば、感光性樹脂組成物の光硬化物の内部からインキあるいは版洗浄に用いる溶剤への抽出量を低く抑えることができる。また、数平均分子量が10万以下であれば、感光性樹脂組成物を構成するその他の成分との混合性が良好である。特に20℃において液状である化合物が好ましい。   The number average molecular weight of the organosilicon compound is in the range of 100 to 100,000, preferably 300 to 10,000, and more preferably 500 to 5000. If the number average molecular weight is 100 or more, the extraction amount from the inside of the photocured photosensitive resin composition to the solvent used for ink or plate washing can be kept low. Moreover, if a number average molecular weight is 100,000 or less, the mixability with the other component which comprises the photosensitive resin composition is favorable. Particularly preferred are compounds that are liquid at 20 ° C.

有機珪素化合物の数平均分子量(Mn)の測定方法について説明する。有機珪素化合物が溶解する溶剤に溶かし、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC法)で分析し、分子量既知の標準ポリスチレンに対して換算して数平均分子量(Mn)を算出する。分子量分布の広い化合物については、この方法で求める。分子量分布に関する尺度として、数平均分子量(Mn)と、Mnと同時に算出される重量平均分子量(Mw)の比、すなわち多分散度(Mw/Mn)を用いる。多分散度が1.1以上である場合、分子量分布が広いとして、GPC法で求められる数平均分子量を採用する。また、多分散度が1.1未満のものは分子量分布が極めて狭いため、分子構造解析が可能であり、核磁気共鳴スペクトル法(NMR法)あるいは質量分析法を用いて算出した分子量を数平均分子量とする。   A method for measuring the number average molecular weight (Mn) of the organosilicon compound will be described. It is dissolved in a solvent in which the organosilicon compound is dissolved, analyzed by gel permeation chromatography (GPC method), and converted to standard polystyrene with a known molecular weight to calculate the number average molecular weight (Mn). This method is used for compounds having a wide molecular weight distribution. As a measure for the molecular weight distribution, the ratio of the number average molecular weight (Mn) and the weight average molecular weight (Mw) calculated simultaneously with Mn, that is, the polydispersity (Mw / Mn) is used. When the polydispersity is 1.1 or more, the number average molecular weight determined by the GPC method is adopted on the assumption that the molecular weight distribution is wide. In addition, those having a polydispersity of less than 1.1 have a very narrow molecular weight distribution, so that molecular structure analysis is possible, and the molecular weight calculated using nuclear magnetic resonance spectroscopy (NMR method) or mass spectrometry is the number average. The molecular weight.

また、本発明で用いる有機珪素化合物の屈折率は、25℃においてアッベ屈折計を用いて測定した値において、1.400以上1.590以下、より好ましくは1.430以上1.490以下であることが好ましい。この範囲であれば、感光性樹脂組成物を構成する他の成分との混合において極端に白濁することなく混合し、光硬化性を確保することができ、更には光硬化物の機械的物性を確保することができる。フォトリソグラフィーを用いて露光、現像し微細なパターンを形成する感光性樹脂版と異なり、レーザー彫刻印刷原版を作製する過程では微細なパターンを形成する必要がなく、微細パターンを形成するのはレーザー彫刻工程においてである。一般的に感光性樹脂では、濁り等による光散乱の少ない均一な組成が、微細パターンの形成に好ましいと言われるのに対し、レーザー彫刻印刷版は一定版厚での硬化特性のみが必要であり、多少濁りが存在し光散乱する組成においても硬化させることができる。そのため、感光性樹脂組成物を原料としてレーザー彫刻印刷原版を形成する場合、用いることのできる化合物の選択自由度が極めて高いという大きな特徴がある。本発明で用いる有機珪素化合物の屈折率が、感光性樹脂組成物における該有機珪素化合物以外の成分の屈折率と大きく異なる場合には、著しく白濁することがある。したがって、感光性樹脂組成物中の有機珪素化合物の屈折率と、その他成分の屈折率との差の目安としては、±0.1以下、より好ましくは±0.05以下であることが望ましい。   The refractive index of the organosilicon compound used in the present invention is 1.400 or more and 1.590 or less, more preferably 1.430 or more and 1.490 or less, as measured using an Abbe refractometer at 25 ° C. It is preferable. Within this range, mixing with other components constituting the photosensitive resin composition can be performed without extremely clouding, ensuring photocurability, and further improving the mechanical properties of the photocured product. Can be secured. Unlike photosensitive resin plates, which are exposed and developed using photolithography to form a fine pattern, there is no need to form a fine pattern in the process of making a laser engraving printing original plate. In the process. In general, in photosensitive resins, a uniform composition with little light scattering due to turbidity is said to be preferable for the formation of fine patterns, whereas laser engraving printing plates only require curing properties at a constant plate thickness. It can be cured even in a composition in which some turbidity is present and light scattering. Therefore, when forming a laser engraving printing original plate using a photosensitive resin composition as a raw material, there is a great feature that the degree of freedom in selecting a compound that can be used is extremely high. When the refractive index of the organosilicon compound used in the present invention is significantly different from the refractive index of components other than the organosilicon compound in the photosensitive resin composition, it may become extremely cloudy. Therefore, it is desirable that the difference between the refractive index of the organosilicon compound in the photosensitive resin composition and the refractive index of other components is ± 0.1 or less, more preferably ± 0.05 or less.

本発明で用いる有機フッ素化合物としては、分子内に重合性不飽和基を有する化合物であっても有しない化合物であっても構わない。表面摩擦抵抗を下げる効果の大きいものとして、ポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロエチレンプロペンコポリマー、パーフルオロアルコキシアルカン、エチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー、エチレン−クロロトリフルオロエチレンコポリマー、ポリテトラフルオロエチレン−パーフルオロジオキソールコポリマー、ポリビニリデンフルオライド、ポリビニルフルオライド、ポリクロロトリフルオロエチレン等の材料を含む有機系微粒子を含有させる方法を挙げることができる。有機系微粒子の平均粒子径の好ましい範囲は、0.05μm以上20μm以下、より好ましくは、0.1μm以上10μm以下、更に好ましくは0.5μm以上5μm以下である。また、分子内にフッ素原子を有するシランカップリング剤、チタンカップリング剤等を用いて感光性樹脂硬化物層(A)の表面を処理する方法を挙げることができる。   The organic fluorine compound used in the present invention may be a compound having a polymerizable unsaturated group in the molecule or not. Polytetrafluoroethylene, perfluoroethylene propene copolymer, perfluoroalkoxyalkane, ethylene-tetrafluoroethylene copolymer, ethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer, polytetrafluoroethylene-perfluorodiode are effective for reducing the surface friction resistance. Examples thereof include a method of containing organic fine particles containing materials such as xol copolymer, polyvinylidene fluoride, polyvinyl fluoride, and polychlorotrifluoroethylene. The preferable range of the average particle diameter of the organic fine particles is 0.05 μm or more and 20 μm or less, more preferably 0.1 μm or more and 10 μm or less, and further preferably 0.5 μm or more and 5 μm or less. Moreover, the method of processing the surface of the photosensitive resin cured material layer (A) using the silane coupling agent which has a fluorine atom in a molecule | numerator, a titanium coupling agent, etc. can be mentioned.

本発明の円筒状印刷原版は、レーザー彫刻を用いて表面に凹パターンを形成することができる。レーザー彫刻は、レーザー光を基材表面に照射し、レーザー光が照射された部分の樹脂が除去し凹パターンを形成する方法である。レーザー彫刻では、近赤外線レーザーや赤外線レーザーが大きな出力が得られるので、好んで用いられている。これらのレーザーは熱により樹脂を分解除去するので、感光性樹脂硬化物層は熱分解性の高いものが好ましい。熱分解性の評価として、熱重量分析が好ましい。感光性樹脂硬化物を、窒素流量が毎分100ml、昇温速度が毎分10℃の条件で室温から昇温して測定した場合に、重量が50%に減少する温度が、好ましくは150℃以上450℃以下、より好ましくは200℃以上420℃以下、更に好ましくは200℃以上400℃以下である。重量が50%に減少する温度が150℃以上450℃以下であれば、100℃程度の温度条件でも変形することなく使用することができ、450℃以下であればレーザーを用いて容易に凹パターンを形成することができる。また、重量が90%に減少する温度と重量が50%に減少する温度の差が120℃以下、より好ましくは90℃以下、更に好ましくは70℃以下が望ましい。重量が90%に減少する温度と重量が50%に減少する温度の差が120℃以下であれば、熱分解速度が速く、形成できるパターンのエッジに溶融残渣が少なく、形状の良いパターンの形成ができる。   The cylindrical printing original plate of the present invention can form a concave pattern on the surface using laser engraving. Laser engraving is a method of forming a concave pattern by irradiating the surface of a substrate with laser light and removing the resin in the portion irradiated with the laser light. In laser engraving, near-infrared lasers and infrared lasers are preferred because they produce large outputs. Since these lasers decompose and remove the resin by heat, it is preferable that the cured photosensitive resin layer has a high thermal decomposability. Thermogravimetric analysis is preferred as an evaluation of thermal decomposability. When the cured photosensitive resin is measured by raising the temperature from room temperature under conditions of a nitrogen flow rate of 100 ml / min and a heating rate of 10 ° C./min, the temperature at which the weight decreases to 50% is preferably 150 ° C. It is more than 450 degreeC, More preferably, it is 200 degreeC or more and 420 degrees C or less, More preferably, it is 200 degreeC or more and 400 degrees C or less. If the temperature at which the weight is reduced to 50% is 150 ° C. or more and 450 ° C. or less, it can be used without deformation even under a temperature condition of about 100 ° C., and if it is 450 ° C. or less, the concave pattern can be easily formed using a laser. Can be formed. The difference between the temperature at which the weight is reduced to 90% and the temperature at which the weight is reduced to 50% is 120 ° C. or less, more preferably 90 ° C. or less, and still more preferably 70 ° C. or less. If the difference between the temperature at which the weight is reduced to 90% and the temperature at which the weight is reduced to 50% is 120 ° C. or less, the thermal decomposition rate is high, and there is little molten residue at the edge of the pattern that can be formed, and the formation of a good shape pattern Can do.

感光性樹脂硬化物層(A)は、分子主鎖中にカーボネート結合、ウレタン結合、エステル結合、アミド結合、イミド結合の群から選ばれる少なくとも1種類の結合を有する化合物と、分子内に芳香族基あるいは/および脂環族基を有する化合物を含有することが好ましい。分子主鎖中に存在する結合として、特にカーボネート結合、ウレタン結合が好ましく、これらの結合を有する化合物は、熱分解し易い化合物である。また、アミド結合、イミド結合を有する化合物、あるいは分子内に芳香族基あるいは/および脂環族基を有する化合物は、感光性樹脂硬化物層のショアD硬度を高くする効果がある。ここで、芳香族基とは、フェニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基等の芳香族化合物の骨格の1個の水素原子を除いた原子団である。脂環族基とは、炭素原子が環状に結合した構造をもつ炭素環式化合物のうち、芳香族化合物に属さない化合物の水素原子を1個除いた残りの原子団をいう。例えば、シクロヘキシル基、ビシクロオクチル基、シクロペンタジエニル基、シクロオクチル基などを挙げることができる。   The cured photosensitive resin layer (A) is composed of a compound having at least one bond selected from the group consisting of a carbonate bond, a urethane bond, an ester bond, an amide bond, and an imide bond in the molecular main chain, and an aromatic group in the molecule. It is preferable to contain a compound having a group or / and an alicyclic group. As a bond existing in the molecular main chain, a carbonate bond and a urethane bond are particularly preferable, and a compound having these bonds is a compound that is easily thermally decomposed. In addition, a compound having an amide bond or an imide bond, or a compound having an aromatic group and / or an alicyclic group in the molecule has an effect of increasing the Shore D hardness of the photosensitive resin cured product layer. Here, the aromatic group is an atomic group excluding one hydrogen atom of the skeleton of an aromatic compound such as a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, and a pyrenyl group. It is. The alicyclic group refers to a remaining atomic group obtained by removing one hydrogen atom of a compound that does not belong to an aromatic compound among carbocyclic compounds having a structure in which carbon atoms are bonded in a ring shape. Examples thereof include a cyclohexyl group, a bicyclooctyl group, a cyclopentadienyl group, and a cyclooctyl group.

感光性樹脂硬化物層(A)を形成するための感光性樹脂組成物(ア)としては、ポリマー成分として樹脂(a)、モノマー成分として有機化合物(b)を有するものが好ましい。
樹脂(a)は、数平均分子量が1000以上30万以下の高分子化合物が好ましく、その中でも特に分子内に重合性不飽和基を有する高分子化合物が好ましい。樹脂(a)の数平均分子量のより好ましい範囲は、2000以上10万以下、更に好ましい範囲は2000以上5万以下である。樹脂(a)の数平均分子量は1000以上であれば、後に架橋して作製する印刷原版が強度を保ち、この原版から作製したレリーフ画像は強く、印刷版などとして用いる場合、繰り返しの使用にも耐えられる。また、樹脂(a)の数平均分子量が30万以下であれば、感光性樹脂組成物の成形加工時の粘度が過度に上昇することもなく、レーザー彫刻可能な円筒状印刷原版を作製することができる。ここで言う数平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィーを用いて測定し、分子量既知のポリスチレンで検量し換算した値である。
As the photosensitive resin composition (a) for forming the cured photosensitive resin layer (A), those having the resin (a) as a polymer component and the organic compound (b) as a monomer component are preferable.
The resin (a) is preferably a polymer compound having a number average molecular weight of 1,000 or more and 300,000 or less, and among them, a polymer compound having a polymerizable unsaturated group in the molecule is particularly preferable. A more preferable range of the number average molecular weight of the resin (a) is 2000 or more and 100,000 or less, and a more preferable range is 2000 or more and 50,000 or less. If the number average molecular weight of the resin (a) is 1000 or more, the printing original plate produced by crosslinking later maintains strength, and the relief image produced from this original plate is strong, and when used as a printing plate, it can be used repeatedly. I can bear it. Moreover, if the number average molecular weight of the resin (a) is 300,000 or less, a cylindrical printing original plate capable of laser engraving is produced without excessively increasing the viscosity at the time of molding the photosensitive resin composition. Can do. The number average molecular weight referred to here is a value measured by gel permeation chromatography, calibrated with polystyrene having a known molecular weight, and converted.

本発明における「重合性不飽和基」の定義は、ラジカルまたは付加重合反応に関与する重合性不飽和基である。ラジカル重合反応に関与する重合性不飽和基の好ましい例としては、ビニル基、アセチレン基、アクリル基、メタクリル基などが挙げられる。付加重合反応に関与する重合性不飽和基の好ましい例としては、シンナモイル基、チオール基、アジド基、開環付加反応するエポキシ基、オキセタン基、環状エステル基、ジオキシラン基、スピロオルトカーボネート基、スピロオルトエステル基、ビシクロオルトエステル基、環状イミノエーテル基等が挙げられる。特に好ましいものとして1分子あたり平均で0.7以上の重合性不飽和基を有するポリマーを挙げることができる。1分子あたり平均で0.7以上であれば、本発明の樹脂組成物より得られる印刷原版の機械強度に優れ、レーザー彫刻時にレリーフ形状が崩れ難くなる。さらにその耐久性も良好で、繰り返しの使用にも耐えらるものとなり好ましい。印刷原版の機械強度を考慮すると、樹脂(a)の重合性不飽和基は1分子あたり0.7以上が好ましく、1を越える量が更に好ましい。樹脂(a)において、重合性不飽和基の位置は、高分子主鎖の末端、高分子側鎖の末端や高分子主鎖中や側鎖中に直接結合していることが好ましい。樹脂(a)1分子に含まれる重合性不飽和基の数の平均は、核磁気共鳴スペクトル法(NMR法)による分子構造解析法で求めることができる。   The definition of “polymerizable unsaturated group” in the present invention is a polymerizable unsaturated group involved in a radical or addition polymerization reaction. Preferable examples of the polymerizable unsaturated group involved in the radical polymerization reaction include a vinyl group, an acetylene group, an acrylic group, and a methacryl group. Preferred examples of the polymerizable unsaturated group involved in the addition polymerization reaction include cinnamoyl group, thiol group, azide group, epoxy group that undergoes ring-opening addition reaction, oxetane group, cyclic ester group, dioxirane group, spiroorthocarbonate group, spiro An ortho ester group, a bicyclo ortho ester group, a cyclic imino ether group and the like can be mentioned. Particularly preferred are polymers having an average of 0.7 or more polymerizable unsaturated groups per molecule. When the average is 0.7 or more per molecule, the printing original plate obtained from the resin composition of the present invention is excellent in mechanical strength, and the relief shape is difficult to collapse during laser engraving. Furthermore, its durability is good, and it can withstand repeated use, which is preferable. Considering the mechanical strength of the printing original plate, the polymerizable unsaturated group of the resin (a) is preferably 0.7 or more per molecule, and more preferably more than 1. In the resin (a), the position of the polymerizable unsaturated group is preferably directly bonded to the end of the polymer main chain, the end of the polymer side chain, the polymer main chain, or the side chain. The average number of polymerizable unsaturated groups contained in one molecule of the resin (a) can be determined by a molecular structure analysis method using a nuclear magnetic resonance spectrum method (NMR method).

重合性不飽和基を有する樹脂(a)を製造する方法としては、例えば直接、重合性の不飽和基をその分子末端に導入したものを用いても良いが、別法として、水酸基、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、酸無水物基、ケトン基、ヒドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、環状カーボネート基、アルコキシカルボニル基などの反応性基を複数有する数千程度の分子量の上記成分の反応性基と結合しうる基を複数有する結合剤(例えば水酸基やアミノ基の場合のポリイソシアネートなど)を反応させ、分子量の調節、及び末端の結合性基への変換を行った後、この末端結合性基と反応する基と重合性不飽和基を有する有機化合物と反応させて末端に重合性不飽和基を導入する方法などの方法が好適にあげられる。   As a method for producing the resin (a) having a polymerizable unsaturated group, for example, a resin in which a polymerizable unsaturated group is directly introduced into the molecular end may be used. Alternatively, a hydroxyl group or an amino group may be used. Of the above components having a molecular weight of about several thousand having a plurality of reactive groups such as epoxy groups, carboxyl groups, acid anhydride groups, ketone groups, hydrazine residues, isocyanate groups, isothiocyanate groups, cyclic carbonate groups, and alkoxycarbonyl groups. After reacting with a binder having a plurality of groups capable of binding to the reactive group (for example, polyisocyanate in the case of a hydroxyl group or an amino group), the molecular weight is adjusted and converted to a terminal binding group. A method such as a method of introducing a polymerizable unsaturated group at a terminal by reacting with an organic compound having a polymerizable unsaturated group and a group that reacts with a bonding group is preferred.

用いる樹脂(a)としては、液状化し易い樹脂や分解し易い樹脂が好ましい。分解し易い樹脂としては、分子鎖中に分解し易いモノマー単位としてスチレン、α−メチルスチレン、α−メトキシスチレン、アクリルエステル類、メタクリルエステル類、エステル化合物類、エーテル化合物類、ニトロ化合物類、カーボネート化合物類、カルバモイル化合物類、ヘミアセタールエステル化合物類、オキシエチレン化合物類、脂肪族環状化合物類等が含まれていることが好ましい。特にポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラエチレングリコール等のポリエーテル類、脂肪族ポリカーボネート類、脂肪族カルバメート類、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ニトロセルロース、ポリオキシエチレン、ポリノルボルネン、ポリシクロヘキサジエン水添物、あるいは分岐構造の多いデンドリマー等の分子構造を有するポリマーは、分解し易いものの代表例である。また、分子鎖中に酸素原子を多数含有するポリマーが分解性の観点から好ましい。これらの中でも、カーボネート基、カルバメート基、メタクリル基をポリマー主鎖中に有する化合物は、熱分解性が高く好ましい。例えば、(ポリ)カーボネートジオールや(ポリ)カーボネートジカルボン酸を原料として合成したポリエステルやポリウレタン、(ポリ)カーボネートジアミンを原料として合成したポリアミドなどを熱分解性の良好なポリマーの例として挙げることができる。これらのポリマー主鎖、側鎖に重合性不飽和基を含有しているものであっても構わない。特に、末端に水酸基、アミノ基、カルボキシル基等の反応性官能基を有する場合には、主鎖末端に重合性不飽和基を導入することも容易である。   As the resin (a) to be used, a resin that is easily liquefied or a resin that is easily decomposed is preferable. Examples of resins that are easily decomposed include styrene, α-methylstyrene, α-methoxystyrene, acrylic esters, methacrylic esters, ester compounds, ether compounds, nitro compounds, carbonates as monomer units that are easily decomposed in the molecular chain. Preferably, compounds, carbamoyl compounds, hemiacetal ester compounds, oxyethylene compounds, aliphatic cyclic compounds, and the like are included. Especially polyethers such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetraethylene glycol, aliphatic polycarbonates, aliphatic carbamates, polymethyl methacrylate, polystyrene, nitrocellulose, polyoxyethylene, polynorbornene, polycyclohexadiene hydrogenated product Alternatively, a polymer having a molecular structure such as a dendrimer having many branched structures is a representative example of those that are easily decomposed. A polymer containing a large number of oxygen atoms in the molecular chain is preferred from the viewpoint of degradability. Among these, a compound having a carbonate group, a carbamate group, and a methacryl group in the polymer main chain is preferable because of its high thermal decomposability. For example, polyesters and polyurethanes synthesized from (poly) carbonate diol and (poly) carbonate dicarboxylic acid as raw materials, polyamides synthesized from (poly) carbonate diamine as raw materials, and the like can be cited as examples of polymers having good thermal decomposability. . These polymer main chains and side chains may contain a polymerizable unsaturated group. In particular, when a reactive functional group such as a hydroxyl group, an amino group, or a carboxyl group is present at the terminal, it is easy to introduce a polymerizable unsaturated group at the terminal of the main chain.

樹脂(a)の例として、ポリブタジエン、ポリイソプレンなどのポリジエン類等の分子主鎖あるいは側鎖に重合性不飽和基を有する化合物を挙げることができる。また、重合性不飽和を有しない高分子化合物を出発原料として、置換反応、脱離反応、縮合反応、付加反応等の化学反応により重合性不飽和基を分子内に導入した高分子化合物を挙げることもできる。重合性不飽和基を有しない高分子化合物の例としてポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、ポリ塩化ビニルポリ塩化ビニリデン等のポリハロオレフィン類、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ポリアクリル酸、ポリ(メタ)アクリル酸エステル類、ポリ(メタ)アクリルアミド、ポリビニルエーテル等のC-C連鎖高分子の他、ポリフェニレンエーテル等のポリエーテル類、ポリフェニレンチオエーテル等のポリチオエーテル類、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリウレタン、ポリアミド、ポリウレア、ポリイミド、ポリジアルキルシロキサン等の高分子化合物、或いはこれらの高分子化合物の主鎖にヘテロ原子を有する高分子化合物、複数種のモノマー成分から合成されたランダム共重合体、ブロック共重合体を挙げることができる。更に、分子内に重合性不飽和基を導入した高分子化合物を複数種混合して用いることもできる。   Examples of the resin (a) include compounds having a polymerizable unsaturated group in the molecular main chain or side chain, such as polydienes such as polybutadiene and polyisoprene. In addition, a polymer compound in which a polymerizable unsaturated group is introduced into the molecule by a chemical reaction such as a substitution reaction, elimination reaction, condensation reaction, addition reaction, etc., starting from a polymer compound having no polymerizable unsaturation You can also Examples of polymer compounds having no polymerizable unsaturated groups include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyhaloolefins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride, polystyrene, polyacrylonitrile, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, polyvinyl acetal, poly In addition to CC chain polymers such as acrylic acid, poly (meth) acrylic esters, poly (meth) acrylamide, and polyvinyl ether, polyethers such as polyphenylene ether, polythioethers such as polyphenylene thioether, and polyesters such as polyethylene terephthalate , Polycarbonate, polyacetal, polyurethane, polyamide, polyurea, polyimide, polydialkylsiloxane and other polymer compounds, or the main chain of these polymer compounds It may be mentioned a polymer compound having a hetero atom, a random copolymer synthesized from a plurality of types of monomer components, a block copolymer. Furthermore, it is possible to use a mixture of a plurality of polymer compounds having a polymerizable unsaturated group introduced in the molecule.

樹脂(a)が20℃において液状樹脂である場合は、感光性樹脂組成物も20℃において液状である。これから得られるレリーフ画像作成用原版を円筒状に成形する際、良好な厚み精度や寸法精度を得ることができる本発明の感光性樹脂組成物は、好ましくは、20℃における粘度が10Pa・s以上50kPa・s以下である。より好ましくは、50Pa・s以上10kPa・s以下、更に好ましくは100Pa・s以上5kPa・s以下である。粘度が10Pa・s以上であれば、作製される印刷原版の機械的強度が十分であり、円筒状印刷原版に成形する際であっても形状を保持し易く、加工し易い。粘度が50kPa・s以下であれば、常温でも変形し易く、加工が容易である。円筒状の印刷原版に成形し易く、プロセスも簡便である。特に版厚精度の高い円筒状印刷原版を得るためには、円筒状支持体上に液状感光性樹脂層を形成する際に、該感光性樹脂組成物が重力により液ダレ等の現象を起こさないように粘度を100Pa・s以上、より好ましくは200Pa・s以上、更に好ましくは500Pa・s以上の比較的粘度の高い感光性樹脂組成物であることが望ましい。また、本発明で用いる感光性樹脂組成物が特に20℃において液状である場合、チキソトロピー性を有することが好ましい。チキソトロピー性を有することにより、特に円筒状支持体状に感光性樹脂組成物層を形成する際に、重力により液ダレを起こすことなく、所定の厚さを保持できる。   When the resin (a) is a liquid resin at 20 ° C., the photosensitive resin composition is also liquid at 20 ° C. The photosensitive resin composition of the present invention capable of obtaining good thickness accuracy and dimensional accuracy when the relief image forming original plate obtained from this is formed into a cylindrical shape, preferably has a viscosity at 20 ° C. of 10 Pa · s or more. 50 kPa · s or less. More preferably, it is 50 Pa · s or more and 10 kPa · s or less, and further preferably 100 Pa · s or more and 5 kPa · s or less. If the viscosity is 10 Pa · s or more, the mechanical strength of the produced printing original plate is sufficient, and the shape can be easily maintained and processed even when it is formed into a cylindrical printing original plate. If the viscosity is 50 kPa · s or less, it is easily deformed even at room temperature and easy to process. It is easy to form into a cylindrical printing original plate and the process is simple. In particular, in order to obtain a cylindrical printing original plate with high plate thickness accuracy, when the liquid photosensitive resin layer is formed on the cylindrical support, the photosensitive resin composition does not cause a phenomenon such as liquid dripping due to gravity. Thus, it is desirable that the photosensitive resin composition has a relatively high viscosity with a viscosity of 100 Pa · s or more, more preferably 200 Pa · s or more, and even more preferably 500 Pa · s or more. Moreover, when the photosensitive resin composition used by this invention is a liquid especially in 20 degreeC, it is preferable to have thixotropic property. By having thixotropy, a predetermined thickness can be maintained without causing dripping due to gravity, particularly when the photosensitive resin composition layer is formed on a cylindrical support.

有機化合物(b)は、数平均分子量が1000未満の重合性不飽和基を有した化合物が好ましい。樹脂(a)との希釈のし易さから数平均分子量は1000以下が好ましい。重合性不飽和基の定義は、樹脂(a)の箇所でも記載したように、ラジカルまたは付加重合反応に関与する重合性不飽和基である。
有機化合物(b)の具体例としては、ラジカル反応性化合物として、エチレン、プロピレン、スチレン、ジビニルベンゼン等のオレフィン類、アセチレン類、(メタ)アクリル酸及びその誘導体、ハロオレフィン類、アクリロニトリル等の不飽和ニトリル類、(メタ)アクリルアミド及びその誘導体、アリールアルコール、アリールイソシアネート等のアリール化合物、無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸等の不飽和ジカルボン酸及びその誘導体、酢酸ビニル類、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール等があげられるが、その種類の豊富さ、価格、レーザー光照射時の分解性等の観点から(メタ)アクリル酸及びその誘導体が好ましい例である。前記化合物の誘導体の例としては、シクロアルキル−、ビシクロアルキル−、シクロアルケン−、ビシクロアルケン−などの脂環族、ベンジル−、フェニル−、フェノキシ−、フルオレン−などの芳香族、アルキル−、ハロゲン化アルキル−、アルコキシアルキル−、ヒドロキシアルキル−、アミノアルキル−、テトラヒドロフルフリル−、アリル−、グリシジル−、アルキレングリコール−、ポリオキシアルキレングリコール−、(アルキル/アリルオキシ)ポリアルキレングリコール−やトリメチロールプロパン等の多価アルコールのエステル、ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシロキサン等のポリシロキサン構造を有する化合物などがあげられる。また、窒素、硫黄等の元素を含有した複素芳香族化合物であっても構わない。
The organic compound (b) is preferably a compound having a polymerizable unsaturated group having a number average molecular weight of less than 1,000. The number average molecular weight is preferably 1000 or less because of easy dilution with the resin (a). The definition of a polymerizable unsaturated group is a polymerizable unsaturated group that participates in a radical or addition polymerization reaction as described in the section of the resin (a).
Specific examples of the organic compound (b) include radical reactive compounds such as olefins such as ethylene, propylene, styrene and divinylbenzene, acetylenes, (meth) acrylic acid and derivatives thereof, haloolefins, acrylonitrile and the like. Saturated nitriles, (meth) acrylamide and derivatives thereof, aryl compounds such as aryl alcohol and aryl isocyanate, unsaturated dicarboxylic acids such as maleic anhydride, maleic acid and fumaric acid and derivatives thereof, vinyl acetates, N-vinylpyrrolidone, N-vinyl carbazole and the like can be mentioned, and (meth) acrylic acid and derivatives thereof are preferable examples from the viewpoints of abundant types, price, decomposability upon laser light irradiation, and the like. Examples of the derivative of the compound include alicyclic such as cycloalkyl-, bicycloalkyl-, cycloalkene-, bicycloalkene-, aromatic such as benzyl-, phenyl-, phenoxy-, fluorene-, alkyl-, halogen Alkyl-, alkoxyalkyl-, hydroxyalkyl-, aminoalkyl-, tetrahydrofurfuryl-, allyl-, glycidyl-, alkylene glycol-, polyoxyalkylene glycol-, (alkyl / allyloxy) polyalkylene glycol- and trimethylolpropane Examples thereof include esters of polyhydric alcohols such as polydimethylsiloxane and compounds having a polysiloxane structure such as polydiethylsiloxane. Moreover, you may be a heteroaromatic compound containing elements, such as nitrogen and sulfur.

また、開環付加反応するエポキシ基を有する化合物としては、種々のジオールやトリオールなどのポリオールにエピクロルヒドリンを反応させて得られる化合物、分子中のエチレン結合に過酸を反応させて得られるエポキシ化合物などを挙げることができる。具体的には、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールAにエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドが付加した化合物のジグリシジルエーテル、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリ(プロピレングリコールアジペート)ジオールジグリシジルエーテル、ポリ(エチレングリコールアジペート)ジオールジグリシジルエーテル、ポリ(カプロラクトン)ジオールジグリシジルエーテル等のエポキシ化合物、エポキシ変性シリコーンオイル(信越化学工業社製、商標名「HF−105」)を挙げることができる。   In addition, as a compound having an epoxy group that undergoes a ring-opening addition reaction, a compound obtained by reacting a polyol such as various diols or triols with epichlorohydrin, an epoxy compound obtained by reacting a peracid with an ethylene bond in the molecule, etc. Can be mentioned. Specifically, ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, triethylene glycol diglycidyl ether, tetraethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene Glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A Diglycidyl ether, bisphenol A Diglycidyl ether, polytetramethylene glycol diglycidyl ether, poly (propylene glycol adipate) diol diglycidyl ether, poly (ethylene glycol adipate) diol diglycidyl ether, poly (caprolactone) diol di of compounds with addition of lenoxide or propylene oxide Examples thereof include epoxy compounds such as glycidyl ether and epoxy-modified silicone oil (trade name “HF-105” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

また、開環付加重合反応する化合物として、分子内にオキセタン基、環状エステル基、ジオキシラン基、スピロオルトカーボネート基、スピロオルトエステル基、ビシクロオルトエステル基、環状イミノエーテル基等を有する化合物を用いることもできる。
本発明において、これら重合性不飽和基を有する有機化合物(b)はその目的に応じて1種若しくは2種以上のものを選択できる。例えば印刷版として用いる場合、印刷インキの溶剤であるアルコールやエステル等の有機溶剤に対する膨潤を押さえるために用いる有機化合物として長鎖脂肪族、脂環族または芳香族の誘導体を少なくとも1種類以上有することが好ましい。
In addition, a compound having an oxetane group, a cyclic ester group, a dioxirane group, a spiroorthocarbonate group, a spiroorthoester group, a bicycloorthoester group, a cyclic iminoether group or the like in the molecule is used as a compound that undergoes a ring-opening addition polymerization reaction. You can also.
In this invention, the organic compound (b) which has these polymerizable unsaturated groups can select the 1 type (s) or 2 or more types according to the objective. For example, when used as a printing plate, it has at least one long-chain aliphatic, alicyclic or aromatic derivative as an organic compound used to suppress swelling with respect to an organic solvent such as alcohol or ester which is a solvent for printing ink. Is preferred.

樹脂組成物より得られる印刷原版の機械強度を高めるためには、有機化合物(b)としては脂環族または芳香族の誘導体が少なくとも1種類以上有することが好ましく、この場合、有機化合物(b)の全体量の20wt%以上であることが好ましく、更に好ましくは50wt%以上である。また、前記芳香族の誘導体として、窒素、硫黄等の元素を有する芳香族化合物であっても構わない。
樹脂(a)あるいは有機化合物(b)が、分子鎖中に存在する酸素原子あるいは窒素原子に対しα位に存在する水素原子を有する化合物、チオールのような硫黄原子に直接結合している水素原子を有する化合物を、感光性樹脂組成物全体量の少なくとも20wt%以上含有することが好ましい。より好ましくは40wt%以上である。前記酸素原子の由来原子団としては、アルコール、エーテル、エステル、カーボネート等を挙げることができ、また前記窒素原子の由来原子団としてはウレタン、ウレア、アミド等を挙げることができる。
In order to increase the mechanical strength of the printing original plate obtained from the resin composition, the organic compound (b) preferably has at least one alicyclic or aromatic derivative. In this case, the organic compound (b) The total amount is preferably 20 wt% or more, more preferably 50 wt% or more. The aromatic derivative may be an aromatic compound having an element such as nitrogen or sulfur.
Hydrogen atom in which resin (a) or organic compound (b) is directly bonded to a sulfur atom such as thiol, a compound having a hydrogen atom that is in the α position with respect to an oxygen atom or nitrogen atom present in the molecular chain It is preferable to contain at least 20 wt% or more of the compound having a weight of the total amount of the photosensitive resin composition. More preferably, it is 40 wt% or more. Examples of the atomic group derived from the oxygen atom include alcohols, ethers, esters, and carbonates, and examples of the atomic group derived from the nitrogen atom include urethane, urea, and amide.

感光性樹脂組成物(ア)を光もしくは電子線の照射により架橋して印刷版などとしての物性を発現させるが、その際に光重合開始剤を添加することができる。光重合開始剤は一般に使用されているものから選択でき、例えば高分子学会編「高分子データ・ハンドブック−基礎編」1986年培風館発行、に例示されているラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合の開始剤等が使用できる。また、光重合開始剤を用いて光重合により架橋を行なうことは、樹脂組成物の貯蔵安定性を保ちながら、生産性良く印刷原版を生産出来る方法として有用であり、その際に用いる開始剤も公知のものが使用できる。ラジカル重合反応を誘起させる光重合開始剤としては、水素引き抜き型光重合開始剤と崩壊型光重合開始剤が、特に効果的な光重合開始剤として広く用いられている。   The photosensitive resin composition (a) is crosslinked by irradiation with light or an electron beam to develop physical properties as a printing plate, and a photopolymerization initiator can be added at that time. The photopolymerization initiator can be selected from commonly used ones. For example, radical polymerization, cationic polymerization, and anion polymerization illustrated in “Polymer Data Handbook-Fundamentals” edited by the Society of Polymer Sciences, published in 1986 by Fufukan. An agent can be used. In addition, crosslinking by photopolymerization using a photopolymerization initiator is useful as a method for producing a printing original plate with high productivity while maintaining the storage stability of the resin composition. A well-known thing can be used. As photopolymerization initiators that induce radical polymerization reactions, hydrogen abstraction type photopolymerization initiators and decay type photopolymerization initiators are widely used as particularly effective photopolymerization initiators.

水素引き抜き型光重合開始剤として、特に限定するものではないが、芳香族ケトンを用いることが好ましい。芳香族ケトンは光励起により効率良く励起三重項状態になり、この励起三重項状態は周囲の媒体から水素を引き抜いてラジカルを生成する化学反応機構が提案されている。生成したラジカルが光架橋反応に関与するものと考えられる。本発明で用いる水素引き抜き型光重合開始剤として励起三重項状態を経て周囲の媒体から水素を引き抜きてラジカルを生成する化合物であれば何でも構わない。芳香族ケトンとして、ベンゾフェノン類、ミヒラーケトン類、キサンテン類、チオキサントン類、アントラキノン類を挙げることができ、これらの群から選ばれる少なくとも1種類の化合物を用いることが好ましい。ベンゾフェノン類とは、ベンゾフェノンあるいはその誘導体を指し、具体的には3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、3,3’,4,4’−テトラメトキシベンゾフェノン等である。ミヒラーケトン類とはミヒラーケトンおよびその誘導体をいう。キサンテン類とはキサンテンおよびアルキル基、フェニル基、ハロゲン基で置換された誘導体をいう。チオキサントン類とは、チオキサントンおよびアルキル基、フェニル基、ハロゲン基で置換された誘導体をさし、エチルチオキサントン、メチルチオキサントン、クロロチオキサントン等を挙げることができる。アントラキノン類とはアントラキノンおよびアルキル基、フェニル基、ハロゲン基等で置換された誘導体をいう。水素引き抜き型光重合開始剤の添加量は、感光性樹脂組成物全体量の0.1wt%以上10wt%以下、より好ましくは0.5wt%以上5wt%以下であることが望ましい。添加量がこの範囲であれば、液状感光性樹脂組成物を大気中で光硬化させた場合、硬化物表面の硬化性は充分に確保でき、また、退候性を確保することができる。   Although it does not specifically limit as a hydrogen abstraction type photoinitiator, It is preferable to use an aromatic ketone. Aromatic ketone is efficiently converted into an excited triplet state by photoexcitation, and a chemical reaction mechanism has been proposed in which this excited triplet state generates a radical by extracting hydrogen from the surrounding medium. The generated radical is considered to be involved in the photocrosslinking reaction. Any compound can be used as the hydrogen abstraction type photopolymerization initiator used in the present invention as long as it is a compound that extracts radicals from the surrounding medium through an excited triplet state to generate radicals. Examples of aromatic ketones include benzophenones, Michler ketones, xanthenes, thioxanthones, and anthraquinones, and it is preferable to use at least one compound selected from these groups. Benzophenones refer to benzophenone or derivatives thereof, specifically 3,3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic anhydride, 3,3', 4,4'-tetramethoxybenzophenone, and the like. Michler ketones refer to Michler ketone and its derivatives. Xanthenes refer to derivatives substituted with xanthene and an alkyl group, phenyl group, or halogen group. Thioxanthones refer to thioxanthone and derivatives substituted with an alkyl group, a phenyl group, and a halogen group, and examples thereof include ethylthioxanthone, methylthioxanthone, and chlorothioxanthone. Anthraquinones are anthraquinone and derivatives substituted with alkyl groups, phenyl groups, halogen groups, and the like. The addition amount of the hydrogen abstraction type photopolymerization initiator is desirably 0.1 wt% or more and 10 wt% or less, more preferably 0.5 wt% or more and 5 wt% or less of the total amount of the photosensitive resin composition. When the addition amount is within this range, when the liquid photosensitive resin composition is photocured in the air, the curability of the surface of the cured product can be sufficiently secured, and the weatherability can be secured.

崩壊型光重合開始剤とは、光吸収後に分子内で開裂反応が発生し活性なラジカルが生成する化合物を指し、特に限定するものではない。具体的には、ベンゾインアルキルエーテル類、2,2−ジアルコキシ−2−フェニルアセトフェノン類、アセトフェノン類、アシルオキシムエステル類、アゾ化合物類、有機イオウ化合物類、ジケトン類等を挙げることができ、これらの群から選ばれる少なくとも1種類の化合物を用いることが好ましい。ベンゾインアルキルエーテル類としては、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、「感光性高分子」(講談社、1977年出版、頁228)に記載の化合物を挙げることができる。2,2−ジアルコキシ−2−フェニルアセトフェノン類としては、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン等を挙げることができる。アセトフェノン類としては、アセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン等を挙げることができる。アシルオキシムエステル類としては、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム等を挙げることができる。アゾ化合物としては、アゾビスイソブチロニトリル、ジアゾニウム化合物、テトラゼン化合物等を挙げることができる。有機イオウ化合物としては、芳香族チオール、モノおよびジスルフィド、チウラムスルフィド、ジチオカルバメート、S−アシルジチオカルバメート、チオスルホネート、スルホキシド、スルフェネート、ジチオカルボネート等を挙げることができる。ジケトン類としては、ベンジル、メチルベンゾイルホルメート等を挙げることができる。崩壊型光重合開始剤の添加量は、感光性樹脂組成物全体量の0.1wt%以上10wt%以下、より好ましくは0.3wt%以上3wt%以下であることが望ましい。添加量がこの範囲であれば、感光性樹脂組成物を大気中で光硬化させた場合、硬化物内部の硬化性は充分に確保できる。   The decay type photopolymerization initiator refers to a compound in which an active radical is generated by generating a cleavage reaction in the molecule after light absorption, and is not particularly limited. Specific examples include benzoin alkyl ethers, 2,2-dialkoxy-2-phenylacetophenones, acetophenones, acyloxime esters, azo compounds, organic sulfur compounds, diketones, and the like. It is preferable to use at least one compound selected from the group consisting of: Examples of benzoin alkyl ethers include benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and compounds described in “Photosensitive polymer” (Kodansha, 1977, page 228). Examples of 2,2-dialkoxy-2-phenylacetophenones include 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone. Examples of acetophenones include acetophenone, trichloroacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, and the like. Examples of acyl oxime esters include 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-benzoyl) oxime. Examples of the azo compound include azobisisobutyronitrile, diazonium compound, and tetrazene compound. Examples of the organic sulfur compound include aromatic thiol, mono- and disulfide, thiuram sulfide, dithiocarbamate, S-acyl dithiocarbamate, thiosulfonate, sulfoxide, sulfinate, and dithiocarbonate. Examples of diketones include benzyl and methylbenzoyl formate. The addition amount of the collapsible photopolymerization initiator is desirably 0.1 wt% or more and 10 wt% or less, more preferably 0.3 wt% or more and 3 wt% or less of the total amount of the photosensitive resin composition. If the addition amount is within this range, when the photosensitive resin composition is photocured in the air, the curability inside the cured product can be sufficiently secured.

特に液状感光性樹脂組成物を大気中で光硬化させる場合には、水素引き抜き型光重合開始剤と崩壊型光重合開始剤とを組み合わせて用いることが好ましい。
水素引き抜き型光重合開始剤として機能する部位と崩壊型光重合開始剤として機能する部位を同一分子内に有する化合物を、光重合開始剤として用いることもできる。α−アミノアセトフェノン類を挙げることができる。例えば、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、下記一般式(6)で示される化合物を挙げることができる。
In particular, when the liquid photosensitive resin composition is photocured in the air, it is preferable to use a combination of a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator and a decay type photopolymerization initiator.
A compound having a site functioning as a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator and a site functioning as a decay type photopolymerization initiator in the same molecule can also be used as the photopolymerization initiator. There may be mentioned α-aminoacetophenones. Examples thereof include 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholino-propan-1-one and compounds represented by the following general formula (6).

Figure 2005254696
Figure 2005254696

(式中、Rは各々独立に、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表す。また、Xは炭素数1〜10のアルキレン基を表す。)
水素引き抜き型光重合開始剤として機能する部位と崩壊型光重合開始剤として機能する部位を同一分子内に有する化合物の添加量としては、感光性樹脂組成物全体量の0.1wt%以上10wt%以下、より好ましくは0.3wt%以上3wt%以下であることが望ましい。添加量がこの範囲であれば、感光性樹脂組成物を大気中で光硬化させた場合であっても、硬化物の機械的物性は充分に確保できる。
(In the formula, each R 2 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. X represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms.)
The amount of the compound having a site functioning as a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator and a site functioning as a decay type photopolymerization initiator in the same molecule is 0.1 wt% or more and 10 wt% of the total amount of the photosensitive resin composition. In the following, it is desirable that the content be 0.3 wt% or more and 3 wt% or less. When the addition amount is within this range, the mechanical properties of the cured product can be sufficiently ensured even when the photosensitive resin composition is photocured in the atmosphere.

また、光を吸収して酸を発生することにより、付加重合反応を誘起させる光重合開始剤を用いることもできる。例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩等の光カチオン重合開始剤、あるいは光を吸収して塩基を発生する重合開始剤などが挙げられる。これらの光重合開始剤の添加量は、感光性樹脂組成物全体量の0.1wt%以上10wt%以下の範囲が好ましい。
感光性樹脂組成物(ア)には無機多孔質体を添加することが好ましい。無機多孔質体とは、粒子中に微小細孔を有する、あるいは微小な空隙を有する無機粒子であり、レーザー彫刻において多量に発生する粘稠性の液状カスを吸収除去するための添加剤であり、版面のタック防止効果も有する。本発明の無機多孔質体は粘稠な液状カスの除去を最大の目的として添加するものであり、数平均粒子径、比表面積、平均細孔径、細孔容積、灼熱減量がその性能に大きく影響する。
A photopolymerization initiator that induces an addition polymerization reaction by absorbing light and generating an acid can also be used. For example, photocationic polymerization initiators such as aromatic diazonium salts, aromatic iodonium salts, and aromatic sulfonium salts, or polymerization initiators that absorb light and generate bases. The addition amount of these photopolymerization initiators is preferably in the range of 0.1 wt% to 10 wt% of the total amount of the photosensitive resin composition.
It is preferable to add an inorganic porous material to the photosensitive resin composition (a). The inorganic porous material is an inorganic particle having fine pores or fine voids in the particle, and is an additive for absorbing and removing viscous liquid debris generated in large quantities in laser engraving. Also, it has an anti-tacking effect on the plate surface. The inorganic porous material of the present invention is added for the purpose of removing viscous liquid waste, and the number average particle size, specific surface area, average pore size, pore volume, and loss on ignition greatly affect its performance. To do.

無機多孔質体は数平均粒径が0.1〜100μmであることが好ましい。この数平均粒径の範囲より小さいものを用いた場合、本発明の樹脂組成物より得られる原版をレーザーで彫刻する際に粉塵が舞いやすく、樹脂(a)及び有機化合物(b)との混合を行う際に粘度がの上昇しやすい。
他方、上記数平均粒径の範囲より大きなものを用いた場合、レーザー彫刻した際レリーフ画像に欠損が生じやすい。より好ましい平均粒子径の範囲は、0.5〜20μmであり、更に好ましい範囲は3〜10μmである。本発明の多孔質無機吸収剤の平均粒子径は、レーザー散乱式粒子径分布測定装置を用いて測定した値である。
The inorganic porous body preferably has a number average particle size of 0.1 to 100 μm. When one smaller than the number average particle diameter is used, dust tends to fly when the original plate obtained from the resin composition of the present invention is engraved with a laser, and mixed with the resin (a) and the organic compound (b). Viscosity is likely to increase when performing.
On the other hand, when a larger particle than the above-mentioned number average particle size is used, the relief image tends to be defective when laser engraving. A more preferable range of the average particle diameter is 0.5 to 20 μm, and a further preferable range is 3 to 10 μm. The average particle size of the porous inorganic absorbent of the present invention is a value measured using a laser scattering type particle size distribution measuring device.

無機多孔質体の比表面積の範囲は、10m/g以上1500m/g以下であることが好ましい。より好ましい範囲は、100m/g以上800m/g以下である。比表面積が10m/g以上である場合、レーザー彫刻時の液状カスの除去が充分となり、また、1500m/g以下であれば、感光性樹脂組成物の粘度上昇を抑え、また、チキソトロピー性を抑えることができる。本発明の比表面積は、−196℃における窒素の吸着等温線からBET式に基づいて求められる。 The range of the specific surface area of the inorganic porous body is preferably 10 m 2 / g or more and 1500 m 2 / g or less. A more preferable range is 100 m 2 / g or more and 800 m 2 / g or less. When the specific surface area is 10 m 2 / g or more, removal of the liquid residue during laser engraving is sufficient, and when the specific surface area is 1500 m 2 / g or less, an increase in the viscosity of the photosensitive resin composition is suppressed, and thixotropic properties are obtained. Can be suppressed. The specific surface area of this invention is calculated | required based on a BET type | formula from the adsorption isotherm of nitrogen in -196 degreeC.

無機多孔質体の平均細孔径は、レーザー彫刻時に発生する液状カスの吸収量に極めて大きく影響を及ぼす。平均細孔径の好ましい範囲は、1nm以上1000nm以下、より好ましくは2nm以上200nm以下、更に好ましくは2nm以上50nm以下である。平均細孔径が1nm以上であれば、レーザー彫刻時に発生する液状カスの吸収性が確保でき、1000nm以下である場合、粒子の比表面積が大きく液状カスの吸収量を十分に確保できる。平均細孔径が1nm未満の場合、液状カスの吸収量が少ない理由については明確になっていないが、液状カスが粘稠性であるため、ミクロ孔に入り難く吸収量が少ないためではないかと推定している。   The average pore diameter of the inorganic porous material has a great influence on the amount of liquid residue absorbed during laser engraving. A preferable range of the average pore diameter is 1 nm to 1000 nm, more preferably 2 nm to 200 nm, and still more preferably 2 nm to 50 nm. If the average pore diameter is 1 nm or more, the absorbability of liquid debris generated during laser engraving can be ensured, and if it is 1000 nm or less, the specific surface area of the particles is large and the amount of liquid debris absorbed can be sufficiently ensured. When the average pore diameter is less than 1 nm, the reason why the amount of absorbed liquid debris is small is not clear, but because liquid debris is viscous, it is estimated that it is difficult to enter the micropores and the amount of absorption is small. doing.

本発明でいう平均細孔径は、窒素吸着法を用いて測定した値である。平均細孔径が2〜50nmのものは特にメソ孔と呼ばれ、メソ孔を有する多孔質粒子が液状カスを吸収する能力が極めて高い。本発明の細孔径分布は、−196℃における窒素の吸着等温線から求められる。
無機多孔質体の細孔容積は、0.1ml/g以上10ml/g以下が好ましく、より好ましくは0.2ml/g以上5ml/g以下である。細孔容積が0.1m/g以上の場合、粘稠性液状カスの吸収量は十分であり、また10ml/g以下の場合、粒子の機械的強度を確保することができる。本発明において細孔容積の測定には、窒素吸着法を用いる。本発明の細孔容積は、−196℃における窒素の吸着等温線から求められる。
The average pore diameter referred to in the present invention is a value measured using a nitrogen adsorption method. Those having an average pore diameter of 2 to 50 nm are particularly called mesopores, and the ability of porous particles having mesopores to absorb liquid waste is extremely high. The pore size distribution of the present invention is determined from the nitrogen adsorption isotherm at -196 ° C.
The pore volume of the inorganic porous material is preferably from 0.1 ml / g to 10 ml / g, more preferably from 0.2 ml / g to 5 ml / g. When the pore volume is 0.1 m / g or more, the amount of viscous liquid residue absorbed is sufficient, and when it is 10 ml / g or less, the mechanical strength of the particles can be ensured. In the present invention, a nitrogen adsorption method is used to measure the pore volume. The pore volume of the present invention is determined from an adsorption isotherm of nitrogen at −196 ° C.

液状カス吸着量を評価する指標として、吸油量がある。これは、無機多孔質体100gが吸収する油の量で定義する。本発明で用いる無機多孔質体の吸油量の好ましい範囲は、10ml/100g以上2000ml/100g以下、50ml/100g以上1000ml/100g以下である。吸油量が10ml/100g以上であれば、レーザー彫刻時に発生する液状カスの除去が十分であり、また2000ml/100g以下であれば、無機多孔質体の機械的強度を十分に確保できる。吸油量の測定は、JIS−K5101にて行った。
本発明で用いる無機多孔質体は、特に赤外線波長領域のレーザー光照射により変形あるいは溶融せずに多孔質性を保持することが好ましい。950℃において2時間処理した場合の灼熱減量が、15wt%以下が好ましく、より好ましくは10wt%以下である。
There is an oil absorption amount as an index for evaluating the liquid residue adsorption amount. This is defined by the amount of oil absorbed by 100 g of the inorganic porous body. The preferred range of oil absorption of the inorganic porous material used in the present invention is 10 ml / 100 g or more and 2000 ml / 100 g or less, 50 ml / 100 g or more and 1000 ml / 100 g or less. If the oil absorption is 10 ml / 100 g or more, removal of the liquid residue generated during laser engraving is sufficient, and if it is 2000 ml / 100 g or less, the mechanical strength of the inorganic porous body can be sufficiently secured. The oil absorption was measured according to JIS-K5101.
The inorganic porous material used in the present invention preferably retains its porosity without being deformed or melted by irradiation with laser light in the infrared wavelength region. The loss on ignition when treated at 950 ° C. for 2 hours is preferably 15 wt% or less, more preferably 10 wt% or less.

無機多孔質体の粒子形状は特に限定するものではなく、球状、扁平状、針状、無定形、あるいは表面に突起のある粒子などを使用することができる。特に耐磨耗性の観点からは、球状粒子が好ましい。また、粒子の内部が空洞になっている粒子、シリカスポンジ等の均一な細孔径を有する球状顆粒体など使用することも可能である。特に限定するものではないが、例えば、多孔質シリカ、メソポーラスシリカ、シリカ−ジルコニア多孔質ゲル、ポーラスアルミナ、多孔質ガラス等を挙げることができる。また、層状粘土化合物などのように、層間に数nm〜100nmの空隙が存在するものについては、細孔径を定義できないため、本発明においては層間に存在する空隙の間隔を細孔径と定義する。   The particle shape of the inorganic porous material is not particularly limited, and spherical, flat, needle-shaped, amorphous, or particles having protrusions on the surface can be used. In particular, spherical particles are preferable from the viewpoint of wear resistance. It is also possible to use particles having hollow inside particles, spherical granules having a uniform pore diameter such as silica sponge, and the like. Although not particularly limited, for example, porous silica, mesoporous silica, silica-zirconia porous gel, porous alumina, porous glass and the like can be mentioned. Moreover, since the pore diameter cannot be defined for a layer having a gap of several to 100 nm such as a layered clay compound, in the present invention, the gap between the layers is defined as the pore diameter.

更にこれらの細孔あるいは空隙にレーザー光の波長の光を吸収する顔料、染料等の有機色素を取り込ませることもできる。
球状粒子を規定する指標として、真球度を定義する。本発明で用いる真球度とは、粒子を投影した場合に投影図形内に完全に入る円の最大値Dの、投影図形が完全に入る円の最小値Dの比(D/D)で定義する。真球の場合、真球度は1.0となる。本発明で用いる好ましい球状粒子の真球度は、0.5以上1.0以下、より好ましくは0.7以上1.0以下が望ましい。0.5以上であれば、印刷版としての耐磨耗性が良好である。真球度1.0は、真球度の上限値である。球状粒子として、70%以上、より好ましくは90%以上の粒子が、真球度0.5以上であることが望ましい。真球度を測定する方法としては、走査型電子顕微鏡を用いて撮影した写真を基に測定する方法を用いることができる。その際、少なくとも100個以上の粒子がモニター画面に入る倍率において写真撮影を行うことが好ましい。また、写真を基に前記DおよびDを測定するが、写真をスキャナー等のデジタル化する装置を用いて処理し、その後画像解析ソフトウエアーを用いてデータ処理することが好ましい。
Furthermore, organic pigments such as pigments and dyes that absorb light of the wavelength of the laser beam can be incorporated into these pores or voids.
Sphericality is defined as an index that defines spherical particles. The sphericity used in the present invention is the ratio (D 1 / D) of the maximum value D 1 of the circle that completely enters the projection figure when the particle is projected to the minimum value D 2 of the circle that completely enters the projection figure. 2 ). In the case of a true sphere, the sphericity is 1.0. The sphericity of preferred spherical particles used in the present invention is preferably 0.5 or more and 1.0 or less, more preferably 0.7 or more and 1.0 or less. If it is 0.5 or more, the wear resistance as a printing plate is good. The sphericity of 1.0 is an upper limit value of sphericity. As spherical particles, it is desirable that 70% or more, more preferably 90% or more of the particles have a sphericity of 0.5 or more. As a method of measuring the sphericity, a method of measuring based on a photograph taken using a scanning electron microscope can be used. At that time, it is preferable to take a picture at a magnification at which at least 100 particles enter the monitor screen. The D 1 and D 2 are measured based on a photograph, but it is preferable to process the photograph using a digitizing device such as a scanner and then process the data using image analysis software.

また、無機多孔質体の表面をシランカップリング剤、チタンカップリング剤、その他の有機化合物で被覆し表面改質処理を行い、より親水性化あるいは疎水性化した粒子を用いることもできる。
本発明において、これらの無機多孔質体は1種類もしくは2種類以上のものを選択でき、無機多孔質体を添加することによりレーザー彫刻時の液状カスの発生抑制、及びレリーフ印刷版のタック防止等の改良が有効に行われる。
感光性樹脂組成物(ア)における樹脂(a)、有機化合物(b)、及び無機多孔質体)の割合は、通常、樹脂(a)100重量部に対して、有機化合物(b)は5〜200重量部が好ましく、20〜100重量部の範囲がより好ましい。又、無機多孔質体は1〜100重量部が好ましく、2〜50重量部の範囲がより好ましい。更に好ましい範囲は、2〜20重量部である。
Moreover, the surface of the inorganic porous body can be coated with a silane coupling agent, a titanium coupling agent, or other organic compounds, and subjected to a surface modification treatment to make particles more hydrophilic or hydrophobic.
In the present invention, one or two or more of these inorganic porous materials can be selected, and by adding the inorganic porous material, generation of liquid debris during laser engraving, prevention of tacking of the relief printing plate, etc. Improvements are made effectively.
The ratio of the resin (a), the organic compound (b), and the inorganic porous body) in the photosensitive resin composition (a) is usually 5 for the organic compound (b) with respect to 100 parts by weight of the resin (a). -200 weight part is preferable and the range of 20-100 weight part is more preferable. The inorganic porous body is preferably 1 to 100 parts by weight, and more preferably 2 to 50 parts by weight. A more preferable range is 2 to 20 parts by weight.

有機化合物(b)の割合が、上記の範囲より小さい場合、得られる印刷版などの硬度と引張強伸度のバランスがとりにくい場合があり、上記の範囲より大きい場合には架橋硬化の際の収縮が大きくなりやすい。
又、無機多孔質体の量が上記の範囲より小さい場合、樹脂(a)及び有機化合物(b)の種類によっては、レーザー彫刻した際に、彫刻液状カスの発生を抑制するなどの効果が十分発揮されない場合があり、上記の範囲より大きい場合には、印刷版が脆くなりやすい。また、透明性が損なわれる場合があり、また、特にフレキソ版として利用する際には、硬度が高くなりすぎてしまう場合がある。光、特に紫外線を用いて感光性樹脂組成物を硬化させレーザー彫刻印刷原版を作製する場合、光線透過性が硬化反応に影響する。したがって、用いる無機多孔質体の屈折率が感光性樹脂組成物の屈折率に近いものを用いることが有効である。
When the ratio of the organic compound (b) is smaller than the above range, it may be difficult to balance the hardness and tensile strength / elongation of the obtained printing plate and the like. Shrinkage tends to increase.
When the amount of the inorganic porous material is smaller than the above range, depending on the types of the resin (a) and the organic compound (b), the effect of suppressing the generation of engraving liquid debris when laser engraving is sufficient. In some cases, the printing plate is not exhibited, and when it is larger than the above range, the printing plate tends to be brittle. Further, the transparency may be impaired, and particularly when used as a flexographic plate, the hardness may become too high. When a photosensitive resin composition is cured using light, particularly ultraviolet rays, to prepare a laser engraving printing original plate, light transmittance affects the curing reaction. Therefore, it is effective to use a material having a refractive index close to that of the photosensitive resin composition.

感光性樹脂組成物(ア)中に無機多孔質体を混合する方法として、熱可塑性樹脂を加熱して流動化させた状態で直接無機多孔質体を添加する方法、あるいは熱可塑性樹脂と光重合性有機化合物(b)を最初に混錬した中に無機多孔質体を添加する方法のいずれでも構わない。
その他、樹脂組成物には用途や目的に応じて重合禁止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、滑剤、界面活性剤、可塑剤、香料などを添加することができる。
As a method of mixing the inorganic porous material in the photosensitive resin composition (a), a method of directly adding the inorganic porous material in a state where the thermoplastic resin is heated and fluidized, or photopolymerization with the thermoplastic resin. Any method may be used in which the inorganic porous material is added to the first kneaded organic organic compound (b).
In addition, a polymerization inhibitor, an ultraviolet absorber, a dye, a pigment, a lubricant, a surfactant, a plasticizer, a fragrance, and the like can be added to the resin composition depending on the application and purpose.

本発明のレーザー彫刻可能な円筒状印刷原版は、感光性樹脂組成物を光架橋硬化させて形成したものである。したがって、有機化合物(b)の重合性不飽和基同士、あるいは樹脂(a)の重合性不飽和基と有機化合物(b)の重合性不飽和基が反応することにより3次元架橋構造が形成され、通常用いるエステル系、ケトン系、芳香族系、エーテル系、アルコール系、ハロゲン系溶剤に不溶化する。この反応は、有機化合物(b)同士、樹脂(a)同士、あるいは樹脂(a)と有機化合物(b)との間で起こり、重合性不飽和基が消費される。また、光重合開始剤を用いて架橋硬化させる場合、光重合開始剤が光により分解されるため、前記架橋硬化物を溶剤で抽出し、GC−MS法(ガスクロマトグラフィーで分離したものを質量分析する方法)、LC−MS法(液体クロマトグラフィーで分離したものを質量分析する方法)、GPC−MS法(ゲル浸透クロマトグラフィーで分離し質量分析する方法)、LC−NMR法(液体クロマトグラフィーで分離したものを核磁気共鳴スペクトルで分析する方法)を用いて解析することにより、未反応の光重合開始剤および分解生成物を同定することができる。更に、GPC−MS法、LC−MS法、GPC−NMR法を用いることにより、溶剤抽出物中の未反応のポリマー、未反応の有機化合物(b)、および重合性不飽和基が反応して得られる比較的低分子量の生成物についても溶剤抽出物の分析から同定することができる。3次元架橋構造を形成した溶剤に不溶の高分子量成分については、熱分解GC−MS法を用いることにより、高分子量体を構成する成分として、重合性不飽和基が反応して生成した部位が存在するかを検証することが可能である。例えば、メタクリレート基、アクリレート基、ビニル基等の重合性不飽和基が反応した部位が存在することを質量分析スペクトルパターンから推定することができる。熱分解GC−MS法とは、試料を加熱分解させ、生成するガス成分をガスクロマトグラフィーで分離した後、質量分析を行なう方法である。架橋硬化物中に、未反応の重合性不飽和基又は重合性不飽和基が反応して得られた部位と共に、光重合開始剤に由来する分解生成物や未反応の光重合開始剤が検出されると、感光性樹脂組成物を光架橋硬化させて得られたものであると結論付けることができる。   The laser-engravable cylindrical printing original plate of the present invention is formed by photocrosslinking and curing a photosensitive resin composition. Therefore, a three-dimensional crosslinked structure is formed by the reaction between the polymerizable unsaturated groups of the organic compound (b) or the polymerizable unsaturated group of the resin (a) and the polymerizable unsaturated group of the organic compound (b). Insolubilizes in commonly used ester, ketone, aromatic, ether, alcohol and halogen solvents. This reaction occurs between the organic compounds (b), between the resins (a), or between the resin (a) and the organic compound (b), and the polymerizable unsaturated group is consumed. In addition, when the photopolymerization initiator is used for crosslinking and curing, the photopolymerization initiator is decomposed by light. Therefore, the cross-linked cured product is extracted with a solvent, and mass-separated by GC-MS (gas chromatography). Analysis method), LC-MS method (method for mass spectrometry of those separated by liquid chromatography), GPC-MS method (method for separation and mass spectrometry by gel permeation chromatography), LC-NMR method (liquid chromatography) By analyzing using the method of analyzing the product separated in (1) by nuclear magnetic resonance spectrum, unreacted photopolymerization initiator and decomposition products can be identified. Furthermore, by using the GPC-MS method, LC-MS method, and GPC-NMR method, the unreacted polymer, the unreacted organic compound (b), and the polymerizable unsaturated group in the solvent extract are reacted. The resulting relatively low molecular weight product can also be identified from analysis of the solvent extract. For the high molecular weight component insoluble in the solvent in which the three-dimensional cross-linked structure is formed, by using the pyrolysis GC-MS method, the site formed by the reaction of the polymerizable unsaturated group is formed as a component constituting the high molecular weight body. It is possible to verify whether it exists. For example, it can be estimated from the mass spectrometry spectrum pattern that there is a site where a polymerizable unsaturated group such as a methacrylate group, an acrylate group, or a vinyl group has reacted. The pyrolysis GC-MS method is a method in which a sample is thermally decomposed and a generated gas component is separated by gas chromatography and then mass spectrometry is performed. The decomposition product derived from the photopolymerization initiator and the unreacted photopolymerization initiator are detected together with the unreacted polymerizable unsaturated group or the site obtained by the reaction of the polymerizable unsaturated group in the crosslinked cured product. Then, it can be concluded that the photosensitive resin composition was obtained by photocrosslinking and curing.

感光性樹脂組成物中あるいは光架橋硬化物中に存在する有機珪素化合物の同定は、上記各種分析方法を駆使することにより可能である。
また、感光性樹脂硬化物中に存在する無機多孔質体微粒子の量については、架橋硬化物を空気中で加熱することにより、有機物成分を焼き飛ばし、残渣の重量を測定することにより得ることができる。また、前記残渣中に無機多孔質体微粒子が存在することは、電界放射型高分解能走査型電子顕微鏡での形態観察、レーザー散乱式粒子径分布測定装置での粒子径分布、および窒素吸着法による細孔容積、細孔径分布、比表面積の測定から同定することができる。
Identification of the organosilicon compound present in the photosensitive resin composition or in the photocrosslinked cured product can be made by making full use of the various analytical methods described above.
Further, the amount of the inorganic porous fine particles present in the photosensitive resin cured product can be obtained by heating the crosslinked cured product in the air to burn off the organic component and measuring the weight of the residue. it can. In addition, the presence of inorganic porous fine particles in the residue is due to morphological observation with a field emission type high resolution scanning electron microscope, particle size distribution with a laser scattering type particle size distribution measuring device, and nitrogen adsorption method. It can be identified from the measurement of pore volume, pore diameter distribution and specific surface area.

本発明の感光性樹脂樹脂組成物を円筒状に成形する方法は、既存の樹脂の成形方法を用いることができる。例えば、注型法、ポンプや押し出し機等の機械で樹脂をノズルやダイスから押し出し、ブレードで厚みを合わせる、ロールによりカレンダー加工して厚みを合わせる方法等が例示できる。その際、樹脂の性能を落とさない範囲で加熱しながら成形を行なうことも可能である。また、必要に応じて圧延処理、研削処理などをほどこしても良い。円筒状支持体として、印刷機のシリンダーを使用することもできる。取り扱いの容易さから、繊維強化プラスチック(FRP)製、プラスチック製あるいは金属製の円筒状支持体を用いることが好ましい。円筒状支持体は軽量化のために一定厚みで中空のものを使用することができる。円筒状支持体の役割は、印刷原版の寸法安定性を確保することである。したがって、寸法安定性の高いものを選択する必要がある。線熱膨張係数を用いて評価すると、好ましい材料の上限値は100ppm/℃以下、更に好ましくは70ppm/℃以下である。材料の具体例としては、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリビスマレイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンチオエーテル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、全芳香族ポリエステル樹脂からなる液晶樹脂、全芳香族ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂などを挙げることができる。また、これらの樹脂を積層して用いることもできる。例えば、厚み4.5μmの全芳香族ポリアミドフィルムの両面に厚み50μmのポリエチレンテレフタレートの層を積層したシート等でもよい。また、多孔質性のシート、例えば繊維を編んで形成したクロスや、不織布、フィルムに細孔を形成したもの等をバックフィルムとして用いることができる。バックフィルムとして多孔質性シートを用いる場合、感光性樹脂組成物を孔に含浸させた後に光硬化させることで、感光性樹脂硬化物層とバックフィルムとが一体化するために高い接着性を得ることができる。クロスあるいは不織布を形成する繊維としては、ガラス繊維、アルミナ繊維、炭素繊維、アルミナ・シリカ繊維、ホウ素繊維、高珪素繊維、チタン酸カリウム繊維、サファイア繊維などの無機系繊維、木綿、麻などの天然繊維、レーヨン、アセテート等の半合成繊維、ナイロン、ポリエステル、アクリル、ビニロン、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリイミド、アラミド等の合成繊維を挙げることができる。また、バクテリアの生成するセルロースは、高結晶性ナノファイバーであり、薄くて寸法安定性の高い不織布を作製することのできる材料である。   As a method for molding the photosensitive resin resin composition of the present invention into a cylindrical shape, an existing resin molding method can be used. For example, a casting method, a method of extruding a resin from a nozzle or a die with a machine such as a pump or an extruder, adjusting the thickness with a blade, or adjusting the thickness by calendering with a roll can be exemplified. In that case, it is also possible to perform the molding while heating within a range that does not deteriorate the performance of the resin. Moreover, you may perform a rolling process, a grinding process, etc. as needed. A cylinder of a printing press can also be used as the cylindrical support. In view of ease of handling, it is preferable to use a cylindrical support made of fiber reinforced plastic (FRP), plastic or metal. The cylindrical support can be hollow with a constant thickness for weight reduction. The role of the cylindrical support is to ensure the dimensional stability of the printing original plate. Therefore, it is necessary to select one having high dimensional stability. When evaluated using the linear thermal expansion coefficient, the upper limit value of a preferable material is 100 ppm / ° C. or less, more preferably 70 ppm / ° C. or less. Specific examples of materials include polyester resin, polyimide resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyetherimide resin, polybismaleimide resin, polysulfone resin, polycarbonate resin, polyphenylene ether resin, polyphenylene thioether resin, polyethersulfone resin, all Examples thereof include liquid crystal resins composed of aromatic polyester resins, wholly aromatic polyamide resins, and epoxy resins. Further, these resins can be laminated and used. For example, a sheet or the like in which layers of polyethylene terephthalate having a thickness of 50 μm are laminated on both surfaces of a 4.5 μm thick wholly aromatic polyamide film may be used. In addition, a porous sheet, for example, a cloth formed by knitting fibers, a nonwoven fabric, a film in which pores are formed, or the like can be used as a back film. When a porous sheet is used as the back film, the photosensitive resin cured product layer is integrated with the back film by photocuring after impregnating the photosensitive resin composition into the pores, so that high adhesion is obtained. be able to. The fibers forming the cloth or nonwoven fabric include glass fibers, alumina fibers, carbon fibers, alumina / silica fibers, boron fibers, high silicon fibers, potassium titanate fibers, inorganic fibers such as sapphire fibers, natural materials such as cotton and hemp Examples thereof include semi-synthetic fibers such as fibers, rayon and acetate, and synthetic fibers such as nylon, polyester, acrylic, vinylon, polyvinyl chloride, polyolefin, polyurethane, polyimide, and aramid. Further, cellulose produced by bacteria is a highly crystalline nanofiber, and is a material capable of producing a thin nonwoven fabric with high dimensional stability.

また、円筒状支持体の線熱膨張係数を小さくする方法として、充填剤を添加する方法、全芳香族ポリアミド等のメッシュ状クロス、ガラスクロスなどに樹脂を含浸あるいは被覆する方法などを挙げることができる。充填剤としては、通常用いられる有機系微粒子、金属酸化物あるいは金属等の無機系微粒子、有機・無機複合微粒子など用いることができる。また、多孔質微粒子、内部に空洞を有する微粒子、マイクロカプセル粒子、低分子化合物が内部にインターカレーションする層状化合物粒子を用いることもできる。特に、アルミナ、シリカ、酸化チタン、ゼオライト等の金属酸化物微粒子、ポリスチレン・ポリブタジエン共重合体からなるラテックス微粒子、高結晶性セルロース等の天然物系の有機系微粒子等が有用である。   Examples of a method for reducing the linear thermal expansion coefficient of the cylindrical support include a method of adding a filler, a method of impregnating or coating a resin on a mesh cloth such as wholly aromatic polyamide, or a glass cloth. it can. As the filler, generally used organic fine particles, inorganic fine particles such as metal oxide or metal, organic / inorganic composite fine particles, and the like can be used. In addition, porous fine particles, fine particles having cavities inside, microcapsule particles, and layered compound particles in which a low molecular compound intercalates can be used. In particular, metal oxide fine particles such as alumina, silica, titanium oxide, and zeolite, latex fine particles made of polystyrene / polybutadiene copolymer, natural product-based organic fine particles such as highly crystalline cellulose, and the like are useful.

本発明で用いる円筒状支持体の表面に物理的、化学的処理を行うことにより、感光性樹脂組成物層あるいは接着剤層との接着性を向上させることができる。物理的処理方法としては、サンドブラスト法、微粒子を含有した液体を噴射するウエットブラスト法、コロナ放電処理法、プラズマ処理法、紫外線あるいは真空紫外線照射法などを挙げることができる。また、化学的処理方法としては、強酸・強アルカリ処理法、酸化剤処理法、カップリング剤処理法などである。   By performing physical and chemical treatment on the surface of the cylindrical support used in the present invention, the adhesiveness with the photosensitive resin composition layer or the adhesive layer can be improved. Examples of the physical treatment method include a sand blast method, a wet blast method for injecting a liquid containing fine particles, a corona discharge treatment method, a plasma treatment method, an ultraviolet ray or vacuum ultraviolet ray irradiation method, and the like. The chemical treatment method includes a strong acid / strong alkali treatment method, an oxidant treatment method, a coupling agent treatment method, and the like.

成形された感光性樹脂組成物層は光照射により架橋せしめ、印刷原版を形成する方法が簡便である。また、成型しながら光照射により架橋させることもできる。硬化に用いられる光源としては高圧水銀灯、超高圧水銀灯、紫外線蛍光灯、殺菌灯、カーボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等を挙げることができる。感光性樹脂組成物層に照射される光は、200nmから450nmの波長の光を有することが好ましい。特に水素引き抜き型光重合開始剤は、200nmから300nmの波長領域に強い光吸収を有するものが多いため、200nmから300nmの波長の光を有する場合、感光性樹脂硬化物層表面の硬化性を充分に確保することができる。硬化に用いる光源は、1種類でも構わないが、波長の異なる2種類以上の光源を用いて硬化させることにより、樹脂の硬化性が向上することがあるので、2種類以上の光源を用いることも差し支えない。また、感光性樹脂組成物層表面での光の照度が高いものが好ましい。感光性樹脂組成物層表面での照度が、UVメーター(オーク製作所社製、商標「UV−M02」)とフィルター(オーク製作所社製、商標「UV−35−APRフィルター」)を用いて測定した場合に、20mW/cm以上であること、前記UVメーターとフィルター(オーク製作所社製、商標「UV−25フィルター」)を用いて測定した場合に、5mW/cm以上であることが好ましい。このような照度の光源を用いることにより、短時間で光硬化できるだけでなく、未反応の重合性不飽和基の量を少なくできる効果もある。 A method of forming a printing original plate by crosslinking the molded photosensitive resin composition layer by light irradiation is simple. Further, it can be crosslinked by light irradiation while molding. Examples of the light source used for curing include a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, an ultraviolet fluorescent lamp, a germicidal lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, and a metal halide lamp. The light applied to the photosensitive resin composition layer preferably has a wavelength of 200 nm to 450 nm. In particular, many hydrogen abstraction type photopolymerization initiators have strong light absorption in the wavelength region of 200 nm to 300 nm. Therefore, when the light has a wavelength of 200 nm to 300 nm, the surface of the photosensitive resin cured product layer has sufficient curability. Can be secured. Although the light source used for curing may be one type, the curability of the resin may be improved by curing using two or more types of light sources having different wavelengths, so two or more types of light sources may be used. There is no problem. Moreover, the thing with the high illumination intensity of the light in the photosensitive resin composition layer surface is preferable. The illuminance on the surface of the photosensitive resin composition layer was measured using a UV meter (Oak Manufacturing Co., Ltd., trademark “UV-M02”) and a filter (Oak Manufacturing Co., Ltd., trademark “UV-35-APR filter”). If it is 20 mW / cm 2 or more, the UV meter and a filter (ORC Manufacturing Co., Ltd., trademark "UV-25 filter") when measured using a is preferably 5 mW / cm 2 or more. By using such a light source with illuminance, not only can it be photocured in a short time, but there is also an effect that the amount of unreacted polymerizable unsaturated groups can be reduced.

レーザー彫刻に用いる原版の厚みは、その使用目的に応じて任意に設定して構わない。グラビア印刷版あるいはアニロックスロールとして用いる場合には、レーザー光を照射して形成される凹パターンの深さは、一般的に5μm〜50μmmmの範囲である。部分的により深い凹パターンが形成されていても構わない。また、場合によっては、組成の異なる材料が複数積層されていても構わない。例えば、最表面にYAGレーザー、ファイバーレーザーあるいは半導体レーザー等の近赤外線領域に発振波長を有するレーザーを用いて彫刻することができる層を形成し、その層の下に炭酸ガスレーザー等の赤外線レーザーあるいは可視・紫外線レーザーを用いてレーザー彫刻できる層を形成することも可能である。このような積層構造を形成することにより、極めて出力の高い炭酸ガスレーザーを用いて比較的粗いパターンを深く彫刻し、表面近傍の極めて精細なパターンをYAGレーザー、ファイバーレーザー等の近赤外線レーザーを用いて彫刻することが可能となる。極めて精細なパターンは比較的浅く彫刻できれば良いので、該近赤外線レーザーに感度のある層の厚さは、5μm以上0.5mm以下の範囲が好ましい。このように近赤外線レーザーに感度のある層と赤外線レーザーに感度のある層を積層することにより、近赤外線レーザーを用いて彫刻されたパターンの深さを正確に制御できる。これは、赤外線レーザーに感度のある層を、近赤外線レーザーでは彫刻することが困難である現象を利用しているからである。彫刻可能なパターンの精細さの違いは、レーザー装置固有の発振波長の違い、すなわち絞れるレーザービーム径の違いに起因する。このような方法でレーザー彫刻する場合、赤外線レーザーと近赤外線レーザーを搭載した別々のレーザー彫刻装置を用いて彫刻することもでき、また、赤外線レーザーと近赤外線レーザーの両方を搭載したレーザー彫刻装置を用いて行うことも可能である。   The thickness of the original plate used for laser engraving may be arbitrarily set according to the purpose of use. When used as a gravure printing plate or an anilox roll, the depth of the concave pattern formed by irradiating a laser beam is generally in the range of 5 μm to 50 μm. A deeper concave pattern may be formed partially. In some cases, a plurality of materials having different compositions may be laminated. For example, a layer that can be engraved using a laser having an oscillation wavelength in the near infrared region such as a YAG laser, a fiber laser, or a semiconductor laser is formed on the outermost surface, and an infrared laser such as a carbon dioxide laser or the like is formed under the layer. It is also possible to form a layer capable of laser engraving using a visible / ultraviolet laser. By forming such a laminated structure, a relatively high-power carbon dioxide laser is used to deeply engrave a relatively rough pattern, and a very fine pattern near the surface is used using a near-infrared laser such as a YAG laser or fiber laser. Can be engraved. Since an extremely fine pattern may be engraved relatively shallowly, the thickness of the layer sensitive to the near infrared laser is preferably in the range of 5 μm to 0.5 mm. Thus, by laminating a layer sensitive to the near infrared laser and a layer sensitive to the infrared laser, the depth of the pattern engraved using the near infrared laser can be accurately controlled. This is because a layer that is sensitive to an infrared laser utilizes a phenomenon that is difficult to engrave with a near infrared laser. The difference in the fineness of the engraving pattern is caused by the difference in the oscillation wavelength inherent to the laser device, that is, the difference in the diameter of the laser beam that can be narrowed. When laser engraving is performed in this way, engraving can be performed using separate laser engraving equipment equipped with infrared laser and near infrared laser, and laser engraving equipment equipped with both infrared laser and near infrared laser can be used. It is also possible to use.

本発明のレーザー彫刻印刷原版表面の濡れ性は、インキの受理、転移において極めて重要な要素となる。25℃の温度条件で実施する表面濡れ性評価において、表面エネルギー30mN/mの指示液を20μリットル、1滴を該レーザー彫刻印刷原版表面に滴下し、30秒後に前記液滴が広がった部分の最大径を測定した場合において、該液滴の径が4mm以上20mm以下であることが好ましい。より好ましい範囲は5mm以上15mm以下である。指示液の広がり方は、同心円状になる場合が多いが、原版表面の状態によっては必ずしも同心円状の広がり方をしない場合もある。その場合には、広がった部分が完全に入る円の直径の最小値を指示液滴の広がった部分の最大径と定義する。液滴が広った部分の最大径が4mm以上20mm以下の範囲であれば、インキをはじいて印刷物が不均一になることなく、また版面へのインキ残りに抑制効果が見られる。   The wettability of the surface of the laser engraving printing original plate of the present invention is an extremely important factor in ink acceptance and transfer. In the surface wettability evaluation carried out at a temperature of 25 ° C., 20 μl of an indicator liquid having a surface energy of 30 mN / m was dropped on the surface of the laser engraving printing original plate, and after 30 seconds, the droplet spread. When the maximum diameter is measured, the diameter of the droplet is preferably 4 mm or more and 20 mm or less. A more preferable range is 5 mm or more and 15 mm or less. In many cases, the indicator liquid spreads concentrically, but depending on the state of the original surface, the concentric circle may not necessarily spread. In that case, the minimum value of the diameter of the circle in which the expanded portion completely enters is defined as the maximum diameter of the expanded portion of the indicator droplet. If the maximum diameter of the portion where the droplets are wide is in the range of 4 mm or more and 20 mm or less, the printed matter does not become non-uniform by repelling the ink, and the ink remaining on the plate surface is suppressed.

本発明では、レーザー彫刻可能な感光性樹脂硬化物層(A)の下部に印刷版の周長を調整するための周長調整層を形成することもできる。周長調整層として用いる樹脂は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、感光性樹脂のいずれであっても構わない。周長調整層の形成容易さの観点から、感光性樹脂組成物を光硬化させて得られる感光性樹脂硬化物層(B)であることが特に好ましい。周長調整層の形成に用いる感光性樹脂組成物は、成形性の観点から20℃において液状の感光性樹脂組成物であることが好ましい。特に、装置の構造を簡便にするためにも大気中で硬化できる組成が望ましい。感光性樹脂硬化物層(B)を形成するための感光性樹脂組成物は、感光性樹脂硬化物層(A)を形成するための感光性樹脂組成物(ア)と組成が同一であっても異なっていても構わない。円筒状印刷基材表面がドクターブレードと接触した際に、変形しないように、感光性樹脂硬化物層(B)のショアD硬度も30度以上100度以下であることが好ましい。より好ましいショアD硬度の範囲は、40度以上100度以下である。   In the present invention, a peripheral length adjusting layer for adjusting the peripheral length of the printing plate can be formed below the photosensitive resin cured product layer (A) capable of laser engraving. The resin used as the circumference adjustment layer may be any of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and a photosensitive resin. From the viewpoint of easy formation of the circumference adjusting layer, the photosensitive resin cured product layer (B) obtained by photocuring the photosensitive resin composition is particularly preferable. The photosensitive resin composition used for forming the circumference adjusting layer is preferably a liquid photosensitive resin composition at 20 ° C. from the viewpoint of moldability. In particular, a composition that can be cured in the air is desirable in order to simplify the structure of the apparatus. The photosensitive resin composition for forming the photosensitive resin cured product layer (B) has the same composition as the photosensitive resin composition (A) for forming the photosensitive resin cured product layer (A). May be different. It is preferable that the Shore D hardness of the photosensitive resin cured product layer (B) is also not less than 30 degrees and not more than 100 degrees so as not to be deformed when the surface of the cylindrical printing substrate comes into contact with the doctor blade. A more preferable range of Shore D hardness is 40 degrees or more and 100 degrees or less.

更に、周長調整層が厚くなる場合、重量が増大するので、周長調整層内に気泡を含有させて重量を低減することもできる。
また、本発明のレーザー彫刻印刷版の表面に改質層を形成させることにより、印刷版表面のタックの低減、インク濡れ性の向上を行うこともできる。改質層としては、シランカップリング剤あるいはチタンカップリング剤等の表面水酸基と反応する化合物で処理した被膜、あるいは多孔質無機粒子を含有するポリマーフィルムを挙げることができる。
広く用いられているシランカップリング剤は、基材の表面水酸基との反応性の高い官能基を分子内に有する化合物であり、そのような官能基とは、例えばトリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリクロロシリル基、ジエトキシシリル基、ジメトキシシリル基、ジモノクロロシリル基、モノエトキシシリル基、モノメトキシシリル基、モノクロロシリル基を挙げることができる。また、これらの官能基は分子内に少なくとも1つ以上存在し、基材の表面水酸基と反応することにより基材表面に固定化される。更に本発明のシランカップリング剤を構成する化合物は、分子内に反応性官能基としてアクリロイル基、メタクリロイル基、活性水素含有アミノ基、エポキシ基、ビニル基、パーフルオロアルキル基、及びメルカプト基から選ばれた少なくとも1個の官能基を有するもの、あるいは長鎖アルキル基を有するものを用いることができる。
Furthermore, since the weight increases when the circumferential length adjusting layer becomes thick, bubbles can be included in the circumferential length adjusting layer to reduce the weight.
Further, by forming a modified layer on the surface of the laser engraving printing plate of the present invention, the tack of the printing plate surface can be reduced and the ink wettability can be improved. Examples of the modified layer include a film treated with a compound that reacts with a surface hydroxyl group such as a silane coupling agent or a titanium coupling agent, or a polymer film containing porous inorganic particles.
A widely used silane coupling agent is a compound having in its molecule a functional group highly reactive with the surface hydroxyl group of the substrate. Examples of such a functional group include a trimethoxysilyl group and a triethoxysilyl group. Group, trichlorosilyl group, diethoxysilyl group, dimethoxysilyl group, dimonochlorosilyl group, monoethoxysilyl group, monomethoxysilyl group, monochlorosilyl group. Further, at least one of these functional groups exists in the molecule, and is immobilized on the surface of the base material by reacting with the surface hydroxyl group of the base material. Further, the compound constituting the silane coupling agent of the present invention is selected from acryloyl group, methacryloyl group, active hydrogen-containing amino group, epoxy group, vinyl group, perfluoroalkyl group, and mercapto group as reactive functional groups in the molecule. Those having at least one functional group or those having a long-chain alkyl group can be used.

また、チタンカップリング剤としては、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチル−アミノエチル)チタネート、テトラオクチルビス(ジ−トリデシルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジ−トリデシル)ホスファイトチタネート、ビス(オクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルスルフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート等の化合物を挙げることができる。
表面に固定化したカップリング剤分子が特に重合性反応基を有する場合、表面への固定化後、光、熱、あるいは電子線を照射し架橋させることにより、より強固な被膜とすることもできる。
Examples of titanium coupling agents include isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tris (dioctyl pyrophosphate) titanate, isopropyl tri (N-aminoethyl-aminoethyl) titanate, tetraoctyl bis (di-tridecyl phosphite) titanate, Tetra (2,2-diallyloxymethyl-1-butyl) bis (di-tridecyl) phosphite titanate, bis (octylpyrophosphate) oxyacetate titanate, bis (dioctylpyrophosphate) ethylene titanate, isopropyltrioctanoyl titanate, isopropyl Dimethacrylisostearoyl titanate, isopropyltridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropylisostearoyl diacryl titanate Over DOO, isopropyl tri (dioctyl sulfate) titanate, isopropyl tricumylphenyl titanate, tetraisopropyl bis (dioctyl phosphite) may include compounds such as titanates.
When the coupling agent molecule immobilized on the surface has a polymerizable reactive group in particular, it is possible to obtain a stronger coating by irradiating light, heat, or an electron beam and crosslinking after immobilization on the surface. .

本発明では、上記のカップリング剤に、必要に応じ、水−アルコール、或いは酢酸水−アルコール混合液で希釈して、調整する。処理液中のカップリング剤の濃度は、0.05〜10.0重量%が好ましい。
本発明におけるカップリング剤処理法について説明する。前記のカップリング剤を含む処理液を、印刷原版、あるいはレーザー彫刻後の印刷版表面に塗布して用いられる。カップリング剤処理液を塗布する方法に特に限定はなく、例えば浸漬法、スプレー法、ロールコート法、或いは刷毛塗り法等を適応することが出来る。また、被覆処理温度、被覆処理時間についても特に限定はないが、5〜60℃であることが好ましく、処理時間は0.1〜60秒であることが好ましい。更に樹脂版表面上の処理液層の乾燥を加熱下で行うことが好ましく、加熱温度としては50〜150℃が好ましい。
カップリング剤で印刷版表面を処理する前に、キセノンエキシマランプ等の波長が200nm以下の真空紫外線領域の光を照射する方法、あるいはプラズマ等の高エネルギー雰囲気に曝すことにより、印刷版表面に水酸基を発生させ高密度にカップリング剤を固定化することもできる。
In the present invention, the above-described coupling agent is diluted with water-alcohol or acetic acid water-alcohol mixed solution as necessary. The concentration of the coupling agent in the treatment liquid is preferably 0.05 to 10.0% by weight.
The coupling agent treatment method in the present invention will be described. The treatment liquid containing the coupling agent is applied to the printing original plate or the surface of the printing plate after laser engraving. The method for applying the coupling agent treatment liquid is not particularly limited, and for example, an immersion method, a spray method, a roll coating method, or a brush coating method can be applied. Further, the coating treatment temperature and the coating treatment time are not particularly limited, but are preferably 5 to 60 ° C., and the treatment time is preferably 0.1 to 60 seconds. Furthermore, it is preferable to dry the treatment liquid layer on the surface of the resin plate under heating, and the heating temperature is preferably 50 to 150 ° C.
Before treating the printing plate surface with a coupling agent, a method of irradiating light in a vacuum ultraviolet region with a wavelength of 200 nm or less such as a xenon excimer lamp, or by exposing it to a high energy atmosphere such as plasma, a hydroxyl group on the printing plate surface. And the coupling agent can be immobilized at a high density.

また、無機多孔質体粒子を含有する層が印刷版表面に露出している場合、プラズマ等の高エネルギー雰囲気下で処理し、表面の有機物層を若干エッチング除去することにより印刷版表面に微小な凹凸を形成させることができる。この処理により印刷版表面のタックを低減させること、および表面に露出した無機多孔質体粒子がインクを吸収しやすくすることによりインク濡れ性が向上する効果も期待できる。   In addition, when the layer containing inorganic porous particles is exposed on the printing plate surface, it is treated in a high-energy atmosphere such as plasma, and the organic layer on the surface is slightly etched away to remove minute particles on the printing plate surface. Unevenness can be formed. By this treatment, the effect of improving the ink wettability can be expected by reducing the tack of the printing plate surface and making the inorganic porous particles exposed on the surface easy to absorb the ink.

レーザー彫刻においては、形成したい画像をデジタル型のデータとしてコンピューターを利用してレーザー装置を操作し、原版上にレリーフ画像を作成する。レーザー彫刻に用いるレーザーは、原版が吸収を有する波長を含むものであればどのようなものを用いてもよいが、彫刻を高速度で行なうためには出力の高いものが望ましく、炭酸ガスレーザーやYAGレーザー、半導体レーザー等の赤外線あるいは赤外線放出固体レーザーが好ましいものの一つである。また、可視光線領域に発振波長を有するYAGレーザーの第2高調波、銅蒸気レーザー、紫外線領域に発振波長を有する紫外線レーザー、例えばエキシマレーザー、第3あるいは第4高調波へ波長変換したYAGレーザーは、有機分子の結合を切断するアブレージョン加工が可能であり、微細加工に適する。また、レーザーは連続照射でも、パルス照射でも良い。一般には樹脂は炭酸ガスレーザーの10μm近傍に吸収を持つため、特にレーザー光の吸収を助けるような成分の添加は必須ではないが、YAGレーザーは1.06μm近傍の波長であり、この波長の吸収を有するものはあまり無い。その場合、これの吸収を助ける成分である、染料、顔料の添加が好ましい。   In laser engraving, a relief image is created on an original by operating a laser device using a computer as an image to be formed as digital data. Any laser may be used for the laser engraving as long as the original plate includes a wavelength having absorption, but in order to perform engraving at a high speed, a laser with a high output is desirable. Infrared or infrared emitting solid lasers such as YAG lasers and semiconductor lasers are preferred. In addition, the second harmonic of a YAG laser having an oscillation wavelength in the visible light region, a copper vapor laser, an ultraviolet laser having an oscillation wavelength in the ultraviolet region, such as an excimer laser, and a YAG laser wavelength-converted to the third or fourth harmonic are It can be ablated by cutting the bonds of organic molecules and is suitable for fine processing. The laser may be continuous irradiation or pulse irradiation. In general, resin has absorption in the vicinity of 10 μm of carbon dioxide laser, so it is not essential to add a component that helps the absorption of laser light, but YAG laser has a wavelength in the vicinity of 1.06 μm. There is not much that has. In that case, it is preferable to add a dye or a pigment, which is a component that assists in the absorption thereof.

このような染料の例としては、ポリ(置換)フタロシアニン化合物および金属含有フタロシアニン化合物、;シアニン化合物;スクアリリウム染料;カルコゲノピリロアリリデン染料;クロロニウム染料;金属チオレート染料;ビス(カルコゲノピリロ)ポリメチン染料;オキシインドリジン染料;ビス(アミノアリール)ポリメチン染料;メロシアニン染料;及びキノイド染料などが挙げられる。顔料の例としてはカーボンブラック、グラファイト、亜クロム酸銅、酸化クロム、コバルトクロームアルミネート、酸化銅、酸化鉄等の暗色の無機顔料や鉄、アルミニウム、銅、亜鉛のような金属粉およびこれら金属にSi、Mg、P、Co、Ni、Y等をドープしたもの等が挙げられる。これら染料、顔料は単独で使用しても良いし、複数を組み合わせて使用しても良いし、複層構造にするなどのあらゆる形態で組み合わせても良い。ただし、光を用いて感光性樹脂組成物を硬化させる系の場合、硬化に使用する光の波長における光吸収が大きな有機/無機化合物の添加量は、光硬化性に支障のない範囲にすることが好ましく、感光性樹脂組成物全体量に対する添加比率としては5wt%以下、より好ましくは2wt%以下であることが望ましい。   Examples of such dyes include poly (substituted) phthalocyanine compounds and metal-containing phthalocyanine compounds; cyanine compounds; squarylium dyes; chalcogenopyrylarylidene dyes; chloronium dyes; Indolizine dyes; bis (aminoaryl) polymethine dyes; merocyanine dyes; and quinoid dyes. Examples of pigments include carbon black, graphite, copper chromite, chromium oxide, cobalt chrome aluminate, dark inorganic pigments such as copper oxide and iron oxide, and metal powders such as iron, aluminum, copper and zinc, and these metals And those doped with Si, Mg, P, Co, Ni, Y or the like. These dyes and pigments may be used alone, in combination of a plurality, or in any form such as a multilayer structure. However, in the case of a system in which the photosensitive resin composition is cured using light, the amount of the organic / inorganic compound that absorbs a large amount of light at the wavelength of light used for curing should be within a range that does not hinder the photocurability. The addition ratio with respect to the total amount of the photosensitive resin composition is preferably 5 wt% or less, more preferably 2 wt% or less.

レーザーによる彫刻は酸素含有ガス下、一般には空気存在下もしくは気流下に実施するが、炭酸ガス、窒素ガス下でも実施できる。彫刻終了後、レリーフ印刷版面にわずかに発生する粉末状もしくは液状の物質は適当な方法、例えば溶剤や界面活性剤の入った水等で洗いとる方法、高圧スプレー等により水系洗浄剤を照射する方法、高圧スチームを照射する方法などを用いて除去しても良い。
本発明において、レーザー彫刻印刷原版にレーザー光を照射し凹パターンを形成する際に、該レーザー彫刻印刷原版表面を加熱しレーザー彫刻を補助することもできる。レーザー彫刻印刷原版の加熱方法としては、レーザー彫刻機のシート状あるいは円筒状定盤を、ヒーターを用いて加熱する方法、赤外線ヒーターを用いて該レーザー彫刻印刷原版表面を直接加熱する方法を挙げることができる。この加熱工程により、レーザー彫刻性を向上させることができる。加熱の程度は、50℃以上200℃以下の範囲、より好ましくは80℃以上200℃以下の範囲、更に好ましくは100℃以上200℃以下の範囲が望ましい。
Laser engraving is carried out in an oxygen-containing gas, generally in the presence of air or an air stream, but can also be carried out in the presence of carbon dioxide or nitrogen gas. After engraving is finished, the powdery or liquid substance slightly generated on the relief printing plate surface is washed with an appropriate method such as water containing a solvent or a surfactant, or a water-based cleaning agent is irradiated by a high-pressure spray or the like. Alternatively, it may be removed using a method of irradiating high-pressure steam.
In the present invention, when the laser engraving printing original plate is irradiated with laser light to form a concave pattern, the laser engraving printing original plate surface can be heated to assist laser engraving. Examples of the heating method of the laser engraving printing original plate include a method of heating a sheet or cylindrical surface plate of a laser engraving machine using a heater, and a method of directly heating the surface of the laser engraving printing original plate using an infrared heater. Can do. The laser engraving property can be improved by this heating step. The degree of heating is desirably in the range of 50 ° C. to 200 ° C., more preferably in the range of 80 ° C. to 200 ° C., and still more preferably in the range of 100 ° C. to 200 ° C.

本発明において、レーザー光を照射し凹パターンを形成する彫刻後に、版表面に残存する粉末状あるいは粘性のある液状カスを除去する工程に引き続き、パターンを形成した印刷版表面に波長200nm〜450nmの光を照射する後露光を実施することもできる。表面のタック除去に効果がある方法である。後露光は大気中、不活性ガス雰囲気中、水中のいずれの環境で行っても構わない。用いる感光性樹脂組成物中に水素引き抜き型光重合開始剤が含まれている場合、特に効果的である。更に、後露光工程前に印刷版表面を、水素引き抜き型光重合開始剤を含む処理液で処理し露光しても構わない。また、水素引き抜き型光重合開始剤を含む処理液中に印刷版を浸漬した状態で露光しても構わない。   In the present invention, after engraving to form a concave pattern by irradiating a laser beam, following the step of removing powdery or viscous liquid residue remaining on the plate surface, the surface of the printing plate on which the pattern is formed has a wavelength of 200 nm to 450 nm. Post-exposure can be performed by irradiating light. This is an effective method for removing tack on the surface. The post-exposure may be performed in any environment such as air, inert gas atmosphere, and water. This is particularly effective when the photosensitive resin composition used contains a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator. Furthermore, before the post-exposure step, the printing plate surface may be exposed to a treatment liquid containing a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator. Moreover, you may expose in the state which immersed the printing plate in the process liquid containing a hydrogen abstraction type photoinitiator.

また、本発明の円筒状印刷基材は、レーザー彫刻により凹パターンを形成する前、あるいは凹パターンを形成した後に、表面にハードコート層を形成することもできる。ハードコート層は、一般的に入手可能なハードコート材料を使用して形成することができるが、特に薄く均一なハードコート層を形成する方法として、光硬化性の材料をスプレー法で形成し、その後紫外線等を照射して光硬化させる方法が好ましい。また、用いることのできる好ましい材料としては、ナノ微粒子を含有したエポキシ樹脂、オキセタン樹脂等の開環付加重合反応を利用した材料を挙げることもできる。   The cylindrical printing substrate of the present invention can also have a hard coat layer formed on the surface before forming the concave pattern by laser engraving or after forming the concave pattern. The hard coat layer can be formed using a generally available hard coat material, but as a method of forming a particularly thin and uniform hard coat layer, a photocurable material is formed by a spray method, Thereafter, a method of photocuring by irradiating ultraviolet rays or the like is preferable. Moreover, as a preferable material that can be used, a material using a ring-opening addition polymerization reaction such as an epoxy resin or an oxetane resin containing nanoparticles can be used.

更に、凹パターンを形成した表面に、クロム、チタン等の硬度の高い金属を薄く被覆することもできる。被覆する方法としては、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等の薄膜形成技術や、無電解めっき法、無電解めっき法と電解めっき法の組み合わせ等により化学的あるいは電気化学的に金属を析出させる方法を挙げることができる。無電解めっき法では、表面に触媒となるパラジウム等の金属微粒子が存在していることが必要となるので、パラジウム微粒子を含有した樹脂を薄く塗布する前処理を行うことが好ましい。また、表面にパラジウム微粒子を露出させるために、プラズマ処理、真空紫外線領域の光を照射する方法等により表面の樹脂を一部除去することも効果的である。   Furthermore, the surface on which the concave pattern is formed can be thinly coated with a metal having high hardness such as chromium or titanium. As a coating method, a metal is chemically or electrochemically applied by a thin film formation technique such as a vacuum deposition method, an ion plating method, a sputtering method, an electroless plating method, a combination of an electroless plating method and an electrolytic plating method, or the like. The method of making it precipitate can be mentioned. In the electroless plating method, it is necessary that metal fine particles such as palladium serving as a catalyst exist on the surface. Therefore, it is preferable to perform a pretreatment by thinly applying a resin containing palladium fine particles. In order to expose the palladium fine particles on the surface, it is also effective to partially remove the resin on the surface by plasma treatment, a method of irradiating light in the vacuum ultraviolet region, or the like.

本発明の印刷原版は印刷版用レリーフ画像の他、スタンプ・印章、エンボス加工用のデザインロール、電子部品作成に用いられる絶縁体、抵抗体、導電体ペーストのパターニング用レリーフ画像、光学部品の反射防止膜、カラーフィルター、(近)赤外線吸収フィルター等の機能性材料のパターン形成、液晶ディスプレイあるいは有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ等の表示素子の製造における配向膜、下地層、発光層、電子輸送層、封止剤層の塗膜・パターン形成、窯業製品の型材用レリーフ画像、広告・表示板などのディスプレイ用レリーフ画像、各種成型品の原型・母型など各種の用途に応用し利用できる。   The printing original plate of the present invention is a relief image for a printing plate, a stamp / stamp, a design roll for embossing, a relief image for patterning an insulator, a resistor, and a conductor paste used for creating an electronic component, and a reflection of an optical component. Pattern formation of functional materials such as prevention films, color filters, (near) infrared absorption filters, alignment films, underlayers, light-emitting layers, electron transport layers, sealing in the manufacture of display elements such as liquid crystal displays or organic electroluminescence displays It can be applied and used for various applications such as coating film / pattern formation of agent layers, relief images for mold materials of ceramic products, relief images for displays such as advertisements and display boards, and prototypes / mother molds of various molded products.

以下、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらによって制限されるものではない。
(1)レーザー彫刻
レーザー彫刻は炭酸ガスレーザー彫刻機(商標:ZED−mini−1000、英国、ZED社製、米国、コヒーレント社製、出力250W炭酸ガスレーザーを搭載)を用いて行った。彫刻は、網点(250 lines per inch で面積率50%)、500μm幅の白抜き線を含むパターンを作成して実施した。また、彫刻深さは20μmとした。
(2)網点部の形状
彫刻した部位のうち、80lpi(Lines per inch)で面積率約10%の網点部の形状を電子顕微鏡で、200倍〜500倍の倍率で観察した。網点が円錐形または擬似円錐形(円錐の頂点付近を円錐の底面に平行な面で切った、末広がりの形状)の場合には、印刷版として良好である。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated based on an Example, this invention is not restrict | limited by these.
(1) Laser engraving Laser engraving was performed using a carbon dioxide laser engraving machine (trademark: ZED-mini-1000, UK, manufactured by ZED, USA, coherent, equipped with an output 250 W carbon dioxide laser). The engraving was performed by creating a pattern including halftone dots (250 lines per inch, area ratio 50%) and 500 μm wide white lines. The engraving depth was 20 μm.
(2) Shape of halftone dot portion The shape of the halftone dot portion having an area ratio of about 10% at 80 lpi (Lines per inch) among the engraved portions was observed with an electron microscope at a magnification of 200 to 500 times. In the case where the halftone dot is conical or pseudo-conical (a divergent shape obtained by cutting the vicinity of the apex of the cone with a plane parallel to the bottom of the cone), the printing plate is good.

(3)多孔質体および無孔質体の細孔容積、平均細孔径及び比表面積
多孔質体又は無孔質体2gを試料管に取り、前処理装置で150℃、1.3Pa以下の条件で12時間減圧乾燥した。乾燥した多孔質体又は無孔質体の細孔容積、平均細孔径及び比表面積は、米国、カンタクローム社製、オートソープ3MP(商標)を用い、液体窒素温度雰囲気下、窒素ガスを吸着させて測定した。具体的には、比表面積はBET式に基づいて算出した。細孔容積および平均細孔径は、窒素の脱着時の吸着等温線から円筒モデルを仮定し、BJH(Brrett-Joyner-Halenda)法という細孔分布解析法に基づいて算出した。
(3) Pore volume, average pore diameter, and specific surface area of porous body and nonporous body Take 2 g of porous body or nonporous body into a sample tube, and conditions of 150 ° C. and 1.3 Pa or less with a pretreatment device And dried under reduced pressure for 12 hours. The pore volume, average pore diameter, and specific surface area of the dried porous body or non-porous body were measured by adsorbing nitrogen gas in a liquid nitrogen temperature atmosphere using Autosoap 3MP (trademark) manufactured by Cantachrome, USA. Measured. Specifically, the specific surface area was calculated based on the BET equation. The pore volume and average pore diameter were calculated based on a pore distribution analysis method called BJH (Brrett-Joyner-Halenda) method, assuming a cylindrical model from the adsorption isotherm at the time of nitrogen desorption.

(4)多孔質体および無孔質体の灼熱減量
測定用の多孔質体又は無孔質体の重量を記録する。次に測定用試料を高温電気炉(FG31型;日本国、ヤマト科学社製)に入れ、空気雰囲気、950℃の条件下で2時間処理した。処理後の重量変化を灼熱減量とした。
(5)多孔質体および無孔質体の平均粒子径
多孔質体および無孔質体の粒子径分布の測定は、レーザー回折式粒度分布測定装置(SALD−2000J型;日本国、島津製作所製)を用いて行った。装置の仕様では、0.03μmから500μmまでの粒子径範囲の測定が可能であることが、カタログに記載されている。分散媒体としてメチルアルコールを用い、超音波を約2分間照射し粒子を分散させ測定液を調整した。
(4) Loss on ignition of porous body and nonporous body Record the weight of the porous body or nonporous body for measurement. Next, the measurement sample was placed in a high-temperature electric furnace (FG31 type; manufactured by Yamato Kagaku Co., Ltd., Japan) and treated for 2 hours in an air atmosphere at 950 ° C. The change in weight after treatment was defined as loss on ignition.
(5) Average particle diameter of porous body and nonporous body The particle diameter distribution of the porous body and nonporous body was measured by a laser diffraction particle size distribution measuring device (SALD-2000J type; manufactured by Shimadzu Corporation, Japan). ). According to the specification of the apparatus, it is described in the catalog that a particle size range from 0.03 μm to 500 μm can be measured. Methyl alcohol was used as a dispersion medium, and ultrasonic waves were applied for about 2 minutes to disperse the particles to prepare a measurement solution.

(6)粘度
感光性樹脂組成物の粘度は、B型粘度計(B8H型;日本国、東京計器社製)を用い、20℃で測定した。
(7)テーパー磨耗試験
テーパー磨耗試験は、厚み2.8mmの印刷原版を別途作製し、JIS−K6264に従って実施した。試験片に加える荷重は4.9N、回転円盤の回転速度は毎分60±2回、試験回数は連続1000回とし、試験後の磨耗量を測定した。試験部の面積は、31.45cmであった。優れた印刷版では、磨耗量は80mg以下(2.5mg/cm以下)であり、磨耗量が少ないと長期間、印刷版を使用することが可能となり、高品質の印刷物を提供することができる。
(6) Viscosity The viscosity of the photosensitive resin composition was measured at 20 ° C. using a B-type viscometer (B8H type; manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd., Japan).
(7) Taper abrasion test The taper abrasion test was carried out in accordance with JIS-K6264 by separately producing a printing original plate having a thickness of 2.8 mm. The load applied to the test piece was 4.9 N, the rotational speed of the rotating disk was 60 ± 2 times per minute, the number of tests was 1000 times continuously, and the amount of wear after the test was measured. The area of the test part was 31.45 cm 2 . In an excellent printing plate, the wear amount is 80 mg or less (2.5 mg / cm 2 or less). If the wear amount is small, the printing plate can be used for a long period of time, and a high-quality printed matter can be provided. it can.

(8)表面摩擦抵抗測定
厚み2.8mmの印刷原版を別途作製し、摩擦測定機(TR型:日本国、東洋精機製作所社製)を用いて、表面摩擦抵抗値μを測定した。試料表面に載せる錘は63.5mm角、重量W:200gであり、錘を引っ張る速度は150mm/分とした。また、錘の表面にライナー紙(再生紙を含まず、純パルプから製造された、段ボールに使用されている厚さ220μmの紙、商標名「白ライナー」、日本国、王子製紙社製)を、その平滑な面が表面に露出するように貼り付けたものを使用し、印刷原版と錘の間にライナー紙が存在し、印刷原版表面とライナー紙の平滑面が接するようにして、錘を水平に動かし表面摩擦抵抗値μを測定した。表面摩擦抵抗値μは、錘の重量に対する測定荷重Fdの比、即ちμ=Fd/Wで表される動摩擦係数であり、無次元数である。錘を動かし始めて測定値が安定化する領域、即ち、5mmから30mmまでの測定荷重の平均値をFdとした。表面摩擦抵抗値μが小さいものが印刷版としては好ましい。優れた印刷版では、表面摩擦抵抗値μは2.5以下であり、表面摩擦抵抗値μの値が小さいと印刷時に印刷版表面への紙紛の付着が少なく、品質の高い印刷物を得ることができる。表面摩擦抵抗値μが4を越えて大きい場合、段ボール等の紙に印刷する際に紙紛が印刷版表面に付着してしまう現象が見られ、その場合、紙紛が付着した部分の被印刷物上にインクが転写されず欠陥となることが多発する。
(8) Surface Friction Resistance Measurement A printing original plate having a thickness of 2.8 mm was separately prepared, and a surface friction resistance value μ was measured using a friction measuring machine (TR type: manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, Japan). The weight placed on the sample surface was 63.5 mm square and the weight W was 200 g, and the pulling speed of the weight was 150 mm / min. Also, liner paper (not including recycled paper and made of pure pulp, 220 μm thick paper used for corrugated board, trade name “White Liner”, manufactured by Oji Paper Co., Ltd., Japan) is used on the surface of the weight. , Use the one that is pasted so that the smooth surface is exposed on the surface, the liner paper exists between the printing original plate and the weight, and the printing original plate surface and the smooth surface of the liner paper are in contact, The surface friction resistance value μ was measured by moving horizontally. The surface friction resistance value μ is a ratio of the measured load Fd to the weight of the weight, that is, a dynamic friction coefficient expressed by μ = Fd / W, and is a dimensionless number. A region where the measured value is stabilized after starting to move the weight, that is, an average value of the measured load from 5 mm to 30 mm is defined as Fd. A printing plate having a small surface frictional resistance value μ is preferable. In an excellent printing plate, the surface friction resistance value μ is 2.5 or less, and when the surface friction resistance value μ is small, there is little adhesion of paper dust to the printing plate surface during printing, and a high-quality printed matter can be obtained. Can do. When the surface friction resistance value μ is larger than 4, a phenomenon that paper dust adheres to the printing plate surface when printing on paper such as corrugated cardboard is observed. Frequently, the ink is not transferred to the top and causes defects.

(9)数平均分子量の測定
樹脂(a)および有機珪素化合物(c)の数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ法(GPC法)を用いて、分子量既知のポリスチレンで換算して求めた。高速GPC装置(日本国、東ソー社製のHLC−8020)とポリスチレン充填カラム(商標:TSKgel GMHXL;日本国、東ソー社製)を用い、テトラヒドロフラン(THF)で展開して測定した。カラムの温度は40℃に設定した。GPC装置に注入する試料としては、樹脂濃度が1wt%のTHF溶液を調製し、注入量10μlとした。また、検出器としては、樹脂(a)に関しては紫外吸収検出器を使用し、モニター光として254nmの光を用いた。また、有機珪素化合物(c)に関しては視差屈折計を用いて検出した。本発明の実施例あるいは比較例で用いている樹脂(a)、有機珪素化合物(c)は、GPC法で用いて求めた多分散度(Mw/Mn)が1.1より大きいものであったため、GPC法で求めた数平均分子量Mnを採用した。
(9) Measurement of number average molecular weight The number average molecular weights of the resin (a) and the organosilicon compound (c) were determined by conversion with polystyrene having a known molecular weight using a gel permeation chromatography method (GPC method). Using a high-speed GPC device (HLC-8020 manufactured by Tosoh Corporation, Japan) and a polystyrene-filled column (trademark: TSKgel GMHXL; manufactured by Tosoh Corporation, Japan), the measurement was performed with tetrahydrofuran (THF). The column temperature was set to 40 ° C. As a sample to be injected into the GPC apparatus, a THF solution having a resin concentration of 1 wt% was prepared, and the injection amount was 10 μl. As the detector, for the resin (a), an ultraviolet absorption detector was used, and 254 nm light was used as monitor light. The organosilicon compound (c) was detected using a parallax refractometer. Since the resin (a) and the organosilicon compound (c) used in the examples or comparative examples of the present invention had a polydispersity (Mw / Mn) determined by the GPC method of greater than 1.1. The number average molecular weight Mn obtained by the GPC method was employed.

(10)重合性不飽和基の数の測定
合成した樹脂(a)の分子内に存在する重合性不飽和基の平均数は、未反応の低分子成分を液体クロマトグラフ法を用いて除去した後、核磁気共鳴スペクトル法(NMR法)を用いて分子構造解析し求めた。
(11)印刷評価
別途シート状に形成した印刷原版上に、レーザー彫刻によりパターンを形成した印刷版を用いて、印刷評価を実施した。印刷には卓上型校正機(英国、RKプリントコートインスツルメント社製、商標「Flexiploofer100」)を用い、版胴上に前記印刷版を、両面テープを用いて貼り付け、シアン色の水性インキを使用して、コート紙上に枚葉式で印刷を行った。アニロックスロールと版胴との間に過剰な圧力を掛けた状態(版に一様にインキが転写する状態から、0.08mm余計に圧を掛けた状態)で、また、版胴と圧胴との間の圧力を0.15mmに設定し、10枚印刷を行った時点で、版表面に残存するインキの残り具合を目視で観察した。
(10) Measurement of the number of polymerizable unsaturated groups The average number of polymerizable unsaturated groups present in the molecule of the synthesized resin (a) was obtained by removing unreacted low-molecular components using liquid chromatography. Thereafter, molecular structure analysis was performed using a nuclear magnetic resonance spectrum method (NMR method).
(11) Printing evaluation Printing evaluation was carried out using a printing plate in which a pattern was formed by laser engraving on a printing original plate separately formed into a sheet. For printing, a desktop proofing machine (trademark “Flexiproof 100” manufactured by RK Print Coat Instruments, UK) is used. The printing plate is pasted onto the plate cylinder using double-sided tape, and cyan water-based ink is applied. Used to print on a coated paper sheet-fed. In a state where an excessive pressure is applied between the anilox roll and the plate cylinder (from a state where ink is uniformly transferred to the plate, a pressure of 0.08 mm is applied), and the plate cylinder and the impression cylinder Was set to 0.15 mm, and when 10 sheets were printed, the remaining ink remaining on the plate surface was visually observed.

(12)印刷原版のぬれ性試験
レーザー彫刻印刷原版表面のぬれ性試験は、表面エネルギー30mN/mの指示薬(和光純薬工業社製、商標「ぬれ張力試験用混合液No.30.0」)を20μリットル、1滴を該レーザー彫刻印刷原版表面に滴下し、30秒後に前記液滴が広がった部分の最大径を測定し、この値をぬれ性試験の指標として使用する。この値が大きい程、この指示薬にぬれ易いことを意味する。好適なレーザー彫刻原版は、この値が4mm以上20mm以下である。
(13)ショアD硬度の測定
感光性樹脂硬化物層のショアD硬度は、テクロック社製、商標「GS−720G TypeD」を用いて測定した。円筒状支持体上に形成した感光性樹脂硬化物層のショアD硬度を、円筒状のまま測定した。測定に用いた錘の重量は、8kgであった。
(12) Wetting test of printing original plate The wettability test on the surface of laser engraving printing original plate was performed using an indicator having a surface energy of 30 mN / m (made by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., trademark “mixture No. 30.0 for wet tension test”) at 20 μm. One drop of liter is dropped on the surface of the laser engraving printing original plate, and after 30 seconds, the maximum diameter of the portion where the droplet spreads is measured, and this value is used as an indicator of the wettability test. It means that it is easy to get wet with this indicator, so that this value is large. A suitable laser engraving master has a value of 4 mm or more and 20 mm or less.
(13) Measurement of Shore D Hardness The Shore D hardness of the cured photosensitive resin layer was measured using a trademark “GS-720G Type D” manufactured by Teclock Corporation. The Shore D hardness of the cured photosensitive resin layer formed on the cylindrical support was measured while still in a cylindrical shape. The weight of the weight used for the measurement was 8 kg.

(製造例1)
温度計、攪拌機、還流器を備えた1Lのセパラブルフラスコに旭化成株式会社製ポリカーボネートジオールである、商標「PCDL L4672」(数平均分子量1990、OH価56.4)447.24gとトリレンジイソシアナート30.83gを加え80℃に加温下に約3時間反応させた後、2−メタクリロイルオキシイソシアネート14.83gを添加し、さらに約3時間反応させて、末端がメタアクリル基(分子内の重合性不飽和基が1分子あたり平均約2個)である数平均分子量約10000の樹脂(ア)を製造した。この樹脂は20℃では水飴状であり、外力を加えると流動し、かつ外力を除いても元の形状を回復しなかった。
(Production Example 1)
A 1 L separable flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a refluxer is a polycarbonate diol manufactured by Asahi Kasei Corporation. Trademark “PCDL L4672” (number average molecular weight 1990, OH number 56.4) 447.24 g and tolylene diisocyanate After adding 30.83 g and reacting at 80 ° C. for about 3 hours, 14.83 g of 2-methacryloyloxyisocyanate was added and further reacted for about 3 hours, and the terminal was a methacrylic group (intramolecular polymerization). A resin (A) having a number average molecular weight of about 10,000 having an average of about 2 unsaturated unsaturated groups per molecule) was produced. This resin was in the shape of a syrup at 20 ° C., flowed when an external force was applied, and did not recover its original shape even when the external force was removed.

(製造例2)
温度計、攪拌機、還流器を備えた1Lのセパラブルフラスコに旭化成株式会社製ポリカーボネートジオールである、商標「PCDL L4672」(数平均分子量1990、OH価56.4)447.24gとトリレンジイソシアナート30.83gを加え80℃に加温下に約3時間反応させた後、2−メタクリロイルオキシイソシアネート7.42gを添加し、さらに約3時間反応させて、末端がメタアクリル基(分子内の重合性不飽和基が1分子あたり平均約1個)である数平均分子量約10000の樹脂(イ)を製造した。この樹脂は20℃では水飴状であり、外力を加えると流動し、かつ外力を除いても元の形状を回復しなかった。
(Production Example 2)
A 1 L separable flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a refluxer is a polycarbonate diol manufactured by Asahi Kasei Corporation. Trademark “PCDL L4672” (number average molecular weight 1990, OH number 56.4) 447.24 g and tolylene diisocyanate After adding 30.83 g and reacting at 80 ° C. for about 3 hours, adding 7.42 g of 2-methacryloyloxyisocyanate and further reacting for about 3 hours, the terminal is a methacrylic group (intramolecular polymerization). A resin (I) having a number average molecular weight of about 10,000 having an average of about 1 unsaturated unsaturated group per molecule) was produced. This resin was in the shape of a syrup at 20 ° C., flowed when an external force was applied, and did not recover its original shape even when the external force was removed.

(製造例3)
温度計、攪拌機、還流器を備えた1Lのセパラブルフラスコに旭化成株式会社製ポリテトラメチレングリコール(数平均分子量1830、OH価61.3)500gとトリレンジイソシアネート52.40gを加え60℃に加温下に約3時間反応させた後、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート6.2gとポリプロピレングリコールモノメタクリレート(Mn400)7.9gを添加し、さらに2時間反応させたのち、エタノールを20g加えてさらに2時間反応させた。末端がメタアクリル基(分子内の重合性不飽和基が1分子あたり平均で0.5個)である数平均分子量約20000の樹脂(ウ)を製造した。この樹脂は20℃では水飴状であり、外力を加えると流動し、かつ外力を除いても元の形状を回復しなかった。
(Production Example 3)
To a 1 L separable flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 500 g of polytetramethylene glycol (number average molecular weight 1830, OH number 61.3) manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd. and 52.40 g of tolylene diisocyanate were added and heated to 60 ° C. After reacting for about 3 hours under temperature, 6.2 g of 2-hydroxypropyl methacrylate and 7.9 g of polypropylene glycol monomethacrylate (Mn400) were added and reacted for another 2 hours, and then 20 g of ethanol was added for another 2 hours. Reacted. A resin (c) having a number average molecular weight of about 20000 having a terminal methacrylic group (an average of 0.5 polymerizable unsaturated groups per molecule) was produced. This resin was in the shape of a syrup at 20 ° C., flowed when an external force was applied, and did not recover its original shape even when the external force was removed.

(実施例1〜4)
20℃において液状の樹脂(a)として、製造例1から3で作製した樹脂(ア)から(ウ)を用い、表1に示すように有機化合物(b)、有機珪素化合物(c)、無機多孔質体、光重合開始剤、その他添加剤を加えて樹脂組成物を作成した。
用いた有機珪素化合物(c)としては、信越化学工業社製、メチルスチリル変性シリコーンオイル(商標「KF−410」、屈折率:1.480、数平均分子量:7890と700の2つのピークを有し、4.3:1であったことから、面積比で分配し、数平均分子量を6530とした。20℃にて液状)、カルビノール変性シリコーンオイル(商標「KF−160AS」、屈折率:1.420、数平均分子量:750、20℃にて液状)を用いた。これらの化合物は、分子中に重合性不飽和基を有していないシリコーン化合物である。
(Examples 1-4)
As the liquid resin (a) at 20 ° C., the resins (a) to (c) prepared in Production Examples 1 to 3 were used, and as shown in Table 1, the organic compound (b), the organic silicon compound (c), and the inorganic A resin composition was prepared by adding a porous material, a photopolymerization initiator, and other additives.
As the organic silicon compound (c) used, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., methylstyryl-modified silicone oil (trademark “KF-410”, refractive index: 1.480, number average molecular weight: 7890 and 700 has two peaks. Since it was 4.3: 1, it was distributed in an area ratio, and the number average molecular weight was 6530. Liquid at 20 ° C.), carbinol-modified silicone oil (trademark “KF-160AS”, refractive index: 1.420, number average molecular weight: 750, liquid at 20 ° C.). These compounds are silicone compounds having no polymerizable unsaturated group in the molecule.

また、無機多孔質体として、富士シリシア化学株式会社製、多孔質性微粉末シリカである、商標「サイロスフェアC−1504」(以下略してC−1504、数平均粒子径4.5μm、比表面積520m/g、平均細孔径12nm、細孔容積1.5ml/g、灼熱減量2.5wt%、吸油量290ml/100g)を用いた。用いた多孔質性微粉末シリカの多孔度は、密度を2g/cmとして算出すると、780であった。添加した多孔質球状シリカであるサイロスフェアーC−1504の真球度は、走査型電子顕微鏡を用いて観察したところ、ほぼ全ての粒子が0.9以上であった。 In addition, as an inorganic porous material, a trade name “Pyrospher C-1504” (hereinafter abbreviated as C-1504, number average particle diameter 4.5 μm, specific surface area), which is a porous fine powder silica manufactured by Fuji Silysia Chemical Co., Ltd. 520 m 2 / g, average pore diameter 12 nm, pore volume 1.5 ml / g, ignition loss 2.5 wt%, oil absorption 290 ml / 100 g). The porosity of the porous fine powder silica used was 780 when calculated with a density of 2 g / cm 3 . When the sphericity of Pyrospher C-1504, which was added porous spherical silica, was observed using a scanning electron microscope, almost all of the particles were 0.9 or more.

エアーシリンダーに装着された内径213.384mm、幅300mm、厚さ2.00mmのガラス繊維強化プラスチック製の円筒状支持体上に、調整された感光性樹脂組成物をドクターブレードを用いて塗布し、エアーシリンダーを毎秒0.2回転の速度で回転させながら、メタルハライドランプ(アイ・グラフィックス社製、商標「M056−L21」)の開口部(開口部寸法:40mm×310mm)から出てくる光を、大気中で感光性樹脂組成物に照射し感光性樹脂硬化物層を形成した。照射したエネルギー量は、4000mJ/cm(UV−35−APRフィルターで測定した照度を時間積分した値)であった。照射面でのランプ照度は、UVメーター(オーク製作所社製、商標「UV−M02」)を用いて測定した。商標「UV−35−APRフィルター」(オーク製作所社製)を使用して測定したランプ照度は、100mW/cm、商標「UV−25フィルター」(オーク製作所社製)を使用して測定したランプ照度は、14mW/cmであった。得られた感光性樹脂硬化物層の膜厚を調整し、円筒状印刷基材の周長が700mmとなるように超硬質バイトを用いて切削し、グラインダーで荒削りした後、表面に微小な砥石の付いたフィルムを用いて精密研磨して円筒状印刷基材を作製した。 On the cylindrical support made of glass fiber reinforced plastic having an inner diameter of 213.384 mm, a width of 300 mm, and a thickness of 2.00 mm mounted on an air cylinder, the adjusted photosensitive resin composition was applied using a doctor blade, While rotating the air cylinder at a speed of 0.2 revolutions per second, the light emitted from the opening (opening size: 40 mm × 310 mm) of the metal halide lamp (trade name “M056-L21” manufactured by Eye Graphics) The photosensitive resin composition was irradiated in the atmosphere to form a cured photosensitive resin layer. The amount of energy irradiated was 4000 mJ / cm 2 (a value obtained by integrating the illuminance measured with the UV-35-APR filter over time). The lamp illuminance on the irradiated surface was measured using a UV meter (trade name “UV-M02” manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.). The lamp illuminance measured using the trademark “UV-35-APR filter” (manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) is 100 mW / cm 2 , and the lamp measured using the trademark “UV-25 filter” (manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) The illuminance was 14 mW / cm 2 . After adjusting the film thickness of the obtained photosensitive resin cured product layer, cutting with a super hard tool so that the circumference of the cylindrical printing substrate becomes 700 mm, roughing with a grinder, and then a fine grindstone on the surface A cylindrical printing substrate was produced by precision polishing using a film with a mark.

用いた光重合開始剤は、ベンゾフェノン(BP)が水素引き抜き型光重合開始剤(d)であり、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン(DMPAP)が崩壊型光重合開始剤であった。
実施例1〜4の感光性樹脂組成物は、いずれも20℃において液状であった。また、B型粘度計を用いて測定した粘度は、20℃において、いずれの系も100Pa・s以上5kPa・s以下であった。
これらをZED社製の炭酸ガスレーザー彫刻機をもちいて、パターンの彫刻を行なった。得られた凹パターンを走査型電子顕微鏡で観察した結果、彫刻部にカスが残っていない良好なパターンであった。
As for the photoinitiator used, benzophenone (BP) was a hydrogen abstraction type photoinitiator (d), and 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone (DMPAP) was a decay type photoinitiator.
The photosensitive resin compositions of Examples 1 to 4 were all liquid at 20 ° C. The viscosity measured using a B-type viscometer was 100 Pa · s or more and 5 kPa · s or less in any system at 20 ° C.
These were engraved with a pattern using a carbon dioxide laser engraving machine manufactured by ZED. As a result of observing the obtained concave pattern with a scanning electron microscope, it was a good pattern with no residue remaining in the engraving portion.

また、実施例1〜4は、表面摩擦抵抗値、磨耗量ともに低い値を示した。表面摩擦抵抗値は、いずれも1未満であった。磨耗量は、いずれの系も0.5mg/cm以下であった。更に、にぬれ性試験の結果、実施例1から4では指示薬の広がりが4mm以上20mm以下の範囲に入っていた。また、別途、厚さ1.7mmのシート状サンプルを形成し、インキの版表面への残存性を評価した結果、網点部のインキ残りは見られなかった。
また、実施例1から4で得られた円筒状印刷基材表面の凹部にグラビアインキを充填し、プラスチック製スキージを用いて凹部以外の表面に付着したインキを除去した後、コート紙を円筒状印刷基材の表面に押し付けることによりインキを転写し、コート紙上に印刷パターンを得た。更に、実施例1から4で得られた円筒状印刷基材をエアーシリンダーに装着し、グラビアインキを表面に塗布した後、円筒状印刷基材を回転速度が毎分100回の条件で2分間回転させながら、プラスチック製スキージを表面に接触させた。その結果、円筒状印刷基材表面には大きな傷は見られなかった。
In Examples 1 to 4, both the surface friction resistance value and the wear amount were low. The surface friction resistance values were all less than 1. The amount of wear was 0.5 mg / cm 2 or less for all systems. Furthermore, as a result of the wettability test, in Examples 1 to 4, the spread of the indicator was in the range of 4 mm to 20 mm. Separately, a sheet-like sample having a thickness of 1.7 mm was formed, and the ink remaining on the plate surface was evaluated. As a result, no ink residue was observed at the halftone dots.
In addition, the gravure ink is filled in the concave portion on the surface of the cylindrical printing substrate obtained in Examples 1 to 4, and after removing the ink adhered to the surface other than the concave portion using a plastic squeegee, the coated paper is formed into a cylindrical shape. The ink was transferred by pressing against the surface of the printing substrate to obtain a printed pattern on the coated paper. Furthermore, after mounting the cylindrical printing base material obtained in Examples 1 to 4 on an air cylinder and applying gravure ink to the surface, the cylindrical printing base material was rotated for 2 minutes under the condition that the rotational speed was 100 times per minute. A plastic squeegee was brought into contact with the surface while rotating. As a result, no large scratch was found on the surface of the cylindrical printing substrate.

また、厚み2.8mmのシート状印刷基材を別途作製し、テーパー磨耗試験を実施した。その結果、実施例1から3の感光性樹脂組成物を光硬化させて形成したシート状印刷基材では、磨耗量はいずれも0.5mg/cm以下であった。
実施例1〜4で得られた円筒状印刷原版のショアD硬度は、いずれも30度を越えて大きい値を示した。
本発明の実施例で用いている重合性不飽和基含有有機化合物の内、芳香族の誘導体は、フェノキシエチルメタクリレート(PEMA)である。
In addition, a sheet-like printing substrate having a thickness of 2.8 mm was separately prepared, and a taper abrasion test was performed. As a result, in the sheet-like printing substrate formed by photocuring the photosensitive resin compositions of Examples 1 to 3, the wear amount was 0.5 mg / cm 2 or less in all cases.
The Shore D hardness of the cylindrical printing original plate obtained in Examples 1 to 4 showed a large value exceeding 30 degrees.
Among the polymerizable unsaturated group-containing organic compounds used in the examples of the present invention, the aromatic derivative is phenoxyethyl methacrylate (PEMA).

(実施例5)
内径213mm、厚さ2mmの繊維強化プラスチック製スリーブ上に両面接着テープを貼りその上に接着剤を塗布したPETフィルムを接着剤が表面に出るように貼り付け円筒状支持体を形成した。この円筒状支持体上に、に 実施例1の感光性樹脂組成物から光重合開始剤であるベンゾフェノンを除いて調整した感光性樹脂組成物を50℃に加熱し、ドクターブレードを用いて、厚さ約2mmに塗布した。その後、大気中において、前記メタルハライドランプの光を4000mJ/cm(UV−35−APRフィルターで測定した照度を時間積分した値)照射し、感光性樹脂組成物層を硬化させた。
(Example 5)
A cylindrical support was formed by attaching a double-sided adhesive tape on a fiber reinforced plastic sleeve having an inner diameter of 213 mm and a thickness of 2 mm, and a PET film coated with the adhesive on the sleeve so that the adhesive would come out on the surface. On this cylindrical support, the photosensitive resin composition prepared by removing benzophenone as a photopolymerization initiator from the photosensitive resin composition of Example 1 was heated to 50 ° C., and thickened using a doctor blade. It applied to about 2 mm. Thereafter, in the air, the light of the metal halide lamp was irradiated with 4000 mJ / cm 2 (a value obtained by integrating the illuminance measured with a UV-35-APR filter over time) to cure the photosensitive resin composition layer.

実施例1の感光性樹脂組成物100重量部に対し、近赤外線波長領域に光吸収を有する酸化銅超微粒子(シーアイ化成社製、商標「Nano Tek CuO」)1重量部を添加し、遊星式真空撹拌脱泡機(倉敷紡績社製、商標「マゼルスターDD−300」)を用いて撹拌脱泡し、黒色の感光性樹脂組成物を調整した。50℃に加熱した該黒色感光性樹脂組成物を、前記円筒状感光性樹脂硬化物層上に、ドクターブレードを用いて厚さ0.1mmに塗布し、大気中において前記メタルハライドランプの光を4000mJ/cm(UV−35−APRフィルターで測定した照度を時間積分した値)照射し、黒色感光性樹脂組成物層を硬化させた。次いで、厚さ0.08mmになるように前記窒化珪素製のバイトを用いて切削し、更に、その表面を、フィルム状研磨布を用いて研磨処理を行った。 To 100 parts by weight of the photosensitive resin composition of Example 1, 1 part by weight of copper oxide ultrafine particles (trade name “Nano Tek CuO”, manufactured by CI Kasei Co., Ltd.) having light absorption in the near-infrared wavelength region is added, and planetary type A black photosensitive resin composition was prepared by stirring and defoaming using a vacuum stirring deaerator (trade name “Mazerustar DD-300” manufactured by Kurashiki Boseki Co., Ltd.). The black photosensitive resin composition heated to 50 ° C. is applied onto the cured cylindrical photosensitive resin layer to a thickness of 0.1 mm using a doctor blade, and the light of the metal halide lamp is 4000 mJ in the atmosphere. / Cm 2 (value obtained by time-integrating the illuminance measured with a UV-35-APR filter) was irradiated to cure the black photosensitive resin composition layer. Next, the silicon nitride cutting tool was cut to a thickness of 0.08 mm, and the surface was polished using a film-like polishing cloth.

このように形成した円筒状のレーザー彫刻印刷原版に、炭酸ガスレーザー彫刻機(英国、ZED社製、商標「ZED−mini−1000」)を用いて深さ0.5mmで、大きさ2cm四方の凸パターンを形成した。更に、スリーブを速度が毎分6cmのスピードで回転させながら、このパターン上に波長1550nmのパルス発振ファイバーレーザー(三菱電線工業社製、尖頭出力が10kW、パルス幅が2ns、繰り返し周波数が毎秒5000回、集光径が約11μmφ)の光を照射し、ラインパターンを形成した。形成されたラインパターンの幅は10μm、深さは15〜20μmであった。形成されたラインパターンを、走査型電子顕微鏡を用いて観察したところ、エッジ形状は良好なものであった。   Using a carbon dioxide laser engraving machine (trademark “ZED-mini-1000”, manufactured by ZED, UK), a cylindrical laser engraving printing original plate formed in this way is 0.5 mm deep and 2 cm square. A convex pattern was formed. Further, while rotating the sleeve at a speed of 6 cm per minute, a pulse oscillation fiber laser with a wavelength of 1550 nm (manufactured by Mitsubishi Cable Industries, Ltd., the peak output is 10 kW, the pulse width is 2 ns, the repetition frequency is 5000 per second. Irradiating light having a condensed diameter of about 11 μmφ to form a line pattern. The formed line pattern had a width of 10 μm and a depth of 15 to 20 μm. When the formed line pattern was observed using a scanning electron microscope, the edge shape was satisfactory.

(実施例6)
市販の液状感光性樹脂組成物(旭化成ケミカルズ社製、商標「APR−G−42」)100重量部に対し、シリコーン化合物(信越化学工業社製、商標「KF−410」)を1.5重量部、多孔質性微粉末シリカ(富士シリシア化学社製、商標「サイロスフェアC」)−1504)5重量部、および光重合開始剤としてベンゾフェノン1重量部を、遊星式撹拌混合脱泡機(倉敷紡績社製、商標「マゼルスターDD−300」)を用いて混合脱泡し、液状感光性樹脂組成物を得た。
得られた感光性樹脂組成物を用いて、実施例1と同様にして円筒状印刷基材を作製した。
(Example 6)
1.5 parts by weight of a silicone compound (trade name “KF-410” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) with respect to 100 parts by weight of a commercially available liquid photosensitive resin composition (trade name “APR-G-42” manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.) 5 parts by weight of porous fine-powdered silica (trade name “Pyrospher C” manufactured by Fuji Silysia Chemical Co., Ltd.)-1504) and 1 part by weight of benzophenone as a photopolymerization initiator (Kurashiki) Mixing and defoaming was performed using a trademark “Mazerustar DD-300” manufactured by Spinning Co., Ltd. to obtain a liquid photosensitive resin composition.
A cylindrical printing substrate was produced in the same manner as in Example 1 using the obtained photosensitive resin composition.

得られた円筒状印刷基材をZED社製の炭酸ガスレーザー彫刻機をもちいて、パターンの彫刻を行なった。得られた凹パターンを走査型電子顕微鏡で観察した結果、彫刻部にカスが残っていない良好なパターンであった。
また、表面摩擦抵抗値、磨耗量ともに低い値を示した。表面摩擦抵抗値は、1未満であった。磨耗量は、0.5mg/cm以下であった。更に、ぬれ性試験の結果、指示薬の広がりが4mm以上20mm以下の範囲に入っていた。また、別途、厚さ1.7mmのシート状サンプルを形成し、インキの版表面への残存性を評価した結果、網点部のインキ残りは見られなかった。
The obtained cylindrical printing substrate was engraved with a pattern using a carbon dioxide laser engraving machine manufactured by ZED. As a result of observing the obtained concave pattern with a scanning electron microscope, it was a good pattern with no residue remaining in the engraving portion.
Also, the surface friction resistance value and the wear amount were low. The surface frictional resistance value was less than 1. The amount of wear was 0.5 mg / cm 2 or less. Furthermore, as a result of the wettability test, the spread of the indicator was in the range of 4 mm to 20 mm. Separately, a sheet-like sample having a thickness of 1.7 mm was formed, and the ink remaining on the plate surface was evaluated. As a result, no ink residue was observed at the halftone dots.

また、得られた円筒状印刷基材表面の凹部にグラビアインキを充填し、プラスチック製スキージを用いて凹部以外の表面に付着したインキを除去した後、コート紙を円筒状印刷基材の表面に押し付けることによりインキを転写し、コート紙上に印刷パターンを得た。更に、得られた円筒状印刷基材をエアーシリンダーに装着し、グラビアインキを表面に塗布した後、円筒状印刷基材を回転速度が毎分100回の条件で2分間回転させながら、プラスチック製スキージを表面に接触させた。その結果、円筒状印刷基材表面には大きな傷は見られなかった。
得られた円筒状印刷原版のショアD硬度は、62度であった。
In addition, the gravure ink is filled in the concave portion of the surface of the obtained cylindrical printing substrate, and after removing the ink attached to the surface other than the concave portion using a plastic squeegee, the coated paper is applied to the surface of the cylindrical printing substrate. The ink was transferred by pressing to obtain a printed pattern on the coated paper. Furthermore, after the obtained cylindrical printing substrate is mounted on an air cylinder and gravure ink is applied to the surface, the cylindrical printing substrate is made of plastic while rotating the cylindrical printing substrate at a rotation speed of 100 times for 2 minutes. A squeegee was brought into contact with the surface. As a result, no large scratch was found on the surface of the cylindrical printing substrate.
The Shore D hardness of the obtained cylindrical printing original plate was 62 degrees.

(比較例1)
シリコーン化合物であるKF−410を含まず、無機多孔質体としてサイロスフェアC−1504の代わりに無定形多孔質シリカ(富士シリシア化学社製、商標「サイリシア470」(数平均粒子径14.1μm、比表面積300m2/g、平均細孔径17nm)を用いる以外は、実施例1と同様にして円筒状印刷基材および厚さ2.8mmのシート状印刷基材を得た。
シート状印刷基材についてテーパー磨耗試験を行った結果、磨耗量は2.5mg/cmを越えて大きかった。また、実施例1と同様にして、円筒状印刷基材表面にグラビアインキを塗布し、プラスチック製スキージを接触させる試験を実施したところ、表面に線状の傷が目視で観察された。
(Comparative Example 1)
KF-410 which is a silicone compound is not included, and amorphous porous silica (trade name “Silicia 470” manufactured by Fuji Silysia Chemical Co., Ltd. (number average particle diameter of 14.1 μm, in place of Cyrossphere C-1504) is used as an inorganic porous body. A cylindrical printing substrate and a sheet-like printing substrate having a thickness of 2.8 mm were obtained in the same manner as in Example 1 except that the specific surface area was 300 m 2 / g and the average pore diameter was 17 nm.
As a result of performing a taper abrasion test on the sheet-like printing substrate, the abrasion amount was larger than 2.5 mg / cm 2 . Further, in the same manner as in Example 1, gravure ink was applied to the surface of the cylindrical printing substrate, and a test was conducted in which a plastic squeegee was brought into contact. As a result, linear scratches were visually observed on the surface.

Figure 2005254696
Figure 2005254696

本発明はレーザー彫刻によるグラビア印刷版用レリーフ画像作成、電子部品の導体、半導体、絶縁体、パターン形成、光学部品の反射防止膜、カラーフィルター、(近)赤外線カットフィルター等の機能性材料のパターン形成、更には液晶ディスプレイあるいは有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ等の表示素子の製造における配向膜、下地層、発光層、電子輸送層、封止材層の塗膜・パターン形成に適したレーザー彫刻可能なグラビア印刷原版やアニロックスロール、ロータリースクリーン印刷原版用に用いることのできる円筒状印刷基材として最適である。   The present invention provides relief image creation for gravure printing plates by laser engraving, conductors for electronic components, semiconductors, insulators, pattern formation, antireflection films for optical components, color filters, and patterns of functional materials such as (near) infrared cut filters Gravure printing capable of laser engraving suitable for forming coating films and patterns for alignment films, underlayers, light-emitting layers, electron-transporting layers, and encapsulating layers in the production of display elements such as liquid crystal displays and organic electroluminescence displays It is most suitable as a cylindrical printing substrate that can be used for an original plate, anilox roll, and a rotary screen printing original plate.

Claims (20)

円筒状支持体とその上に形成された感光性樹脂硬化物層(A)からなり、該感光性樹脂硬化物層(A)が有機珪素化合物あるいは有機フッ素化合物から選ばれる少なくとも1種を層内部あるいは表面に含有するレーザー彫刻可能な層であり、かつショアD硬度が30度以上100度以下であることを特徴とする、凹版印刷用円筒状印刷原版。   It consists of a cylindrical support and a photosensitive resin cured product layer (A) formed thereon, and the photosensitive resin cured product layer (A) contains at least one selected from organic silicon compounds or organic fluorine compounds inside the layer. Alternatively, a cylindrical printing original plate for intaglio printing, which is a layer capable of laser engraving contained on the surface and has a Shore D hardness of 30 to 100 degrees. 有機珪素化合物が、下記平均組成式(1)で表されるシリコーン化合物を含むことを特徴とする、請求項1に記載の円筒状印刷原版。
SiO(4−p−r−s)/2 (1)
(式中、Rは、直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、炭素数5〜20のアルキレン基、シクロアルキレン基、炭素数1〜20のアルコキシ基、水酸基あるいはアミノ基で置換された炭素数1〜20のアルキル基、アリール基で置換された炭素数7〜30のアルキル基、メタクリル基、アクリル基、ビニル基、シンナモイル基、アセチレン基、チオール基、エポキシ基、オキセタン基、環状エステル基、ジオキシラン基、スピロオルトカーボネート基、スピロオルトエステル基、環状イミノエーテル基、ビシクロオルトエステル基、シクロシロキンサン基で置換されたアルキル基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基、炭素数2〜30のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基あるいはその塩を含む1価の基、スルホ基あるいはその塩を含む1価の基、ポリオキシアルキレン基から選ばれた1種もしくは2種以上からなる炭化水素基を表す。
Q、Xは、水素原子、直鎖状または分岐状の炭素数が1〜30のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、もしくは置換されていないか或いは炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数1〜20のアルコキシ基、アリール基で置換された炭素数7〜30のアルキル基、又はハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基、炭素数2〜30のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基あるいはその塩を含む1価の基、スルホ基あるいはその塩を含む1価の基、ポリオキシアルキレン基から選ばれた1種もしくは2種以上からなる炭化水素基を表し、
0<p<4、
0≦r<4、
0≦s<4、
及び(p+r+s)<4である。)
The cylindrical printing original plate according to claim 1, wherein the organosilicon compound contains a silicone compound represented by the following average composition formula (1).
R p Q r X s SiO ( 4-p-r-s) / 2 (1)
(In the formula, R is a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, an alkylene group having 5 to 20 carbon atoms, a cycloalkylene group, or 1 carbon atom. ˜20 alkoxy group substituted with hydroxyl group or amino group, C 1-20 alkyl group substituted with aryl group, C 7-30 alkyl group substituted with aryl group, methacryl group, acrylic group, vinyl group, cinnamoyl group, Alkyl group substituted with acetylene group, thiol group, epoxy group, oxetane group, cyclic ester group, dioxirane group, spiroorthocarbonate group, spiroorthoester group, cyclic iminoether group, bicycloorthoester group, cyclosiloxane ring group, Or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms and an alkoxycarbonyl having 2 to 30 carbon atoms substituted with a halogen atom Represents a monovalent group, a sulfo group or a monovalent group, consisting of one or more selected from polyoxyalkylene hydrocarbon group containing a salt thereof containing a carboxyl group or a salt thereof.
Q and X are a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, or an unsubstituted or alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 7 to 30 carbon atoms substituted with an aryl group, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms substituted with a halogen atom, or an alkoxycarbonyl having 2 to 30 carbon atoms A monovalent group containing a group, a carboxyl group or a salt thereof, a monovalent group containing a sulfo group or a salt thereof, a hydrocarbon group consisting of one or more selected from a polyoxyalkylene group,
0 <p <4,
0 ≦ r <4,
0 ≦ s <4,
And (p + r + s) <4. )
有機珪素化合物が、アリール基、少なくとも1つのアリール基で置換された直鎖状あるいは分岐状アルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、ポリオキシアルキレン基からなる群から選ばれる少なくとも1種類の有機基を有し、かつ該有機基が直接結合している炭素原子に結合した水素原子(α位水素)を有する化合物を含有することを特徴とする、請求項1に記載の円筒状印刷原版。   The organosilicon compound has at least one organic group selected from the group consisting of an aryl group, a linear or branched alkyl group substituted with at least one aryl group, an alkoxycarbonyl group, an alkoxy group, and a polyoxyalkylene group. The cylindrical printing original plate according to claim 1, comprising a compound having a hydrogen atom (α-position hydrogen) bonded to a carbon atom to which the organic group is directly bonded. シリコーン化合物が、メチルスチリル基、フェニル基、スチリル基、カルビノール基からなる群から選ばれる少なくとも1種類の有機基を有することを特徴とする、請求項2に記載の円筒状印刷原版。   The cylindrical printing original plate according to claim 2, wherein the silicone compound has at least one organic group selected from the group consisting of a methylstyryl group, a phenyl group, a styryl group, and a carbinol group. 感光性樹脂硬化物層(A)が、分子主鎖中にカーボネート結合、ウレタン結合、エステル結合、アミド結合、イミド結合の群から選ばれる少なくとも1種類の結合を有する化合物と、分子内に芳香族基あるいは/および脂環族基を有する化合物を含むことを特徴とする、請求項1から4のいずれかに記載の円筒状印刷原版。   The cured photosensitive resin layer (A) is a compound having at least one type of bond selected from the group consisting of carbonate bond, urethane bond, ester bond, amide bond and imide bond in the molecular main chain, and aromatic in the molecule. The cylindrical printing original plate according to any one of claims 1 to 4, comprising a compound having a group or / and an alicyclic group. 感光性樹脂硬化物層(A)が、20℃で液状の感光性樹脂組成物(ア)を光硬化させて得られた層であることを特徴とする、請求項1から5のいずれかに記載の円筒状印刷原版。   The photosensitive resin cured product layer (A) is a layer obtained by photocuring a liquid photosensitive resin composition (a) at 20 ° C, according to any one of claims 1 to 5. The cylindrical printing original plate as described. 感光性樹脂硬化物層(A)を構成する感光性樹脂硬化物を、窒素流量100ml/分、昇温速度10℃/分の条件で室温から昇温する熱重量分析を行った場合に、重量が50%に減少する温度が150℃以上450℃以下であり、重量が90%に減少する温度と重量が50%に減少する温度の差が120℃以下であることを特徴とする、請求項1から6のいずれかに記載の円筒状印刷原版。   The weight of the cured photosensitive resin constituting the cured photosensitive resin layer (A) was measured by thermogravimetric analysis in which the temperature was raised from room temperature under conditions of a nitrogen flow rate of 100 ml / min and a heating rate of 10 ° C./min. The temperature at which the temperature decreases to 50% is 150 ° C. or more and 450 ° C. or less, and the difference between the temperature at which the weight decreases to 90% and the temperature at which the weight decreases to 50% is 120 ° C. or less. The cylindrical printing original plate according to any one of 1 to 6. 感光性樹脂硬化物層(A)が、さらに無機多孔質体を含有し、該無機多孔質体の比表面積が10m/g以上1500m/g以下、平均細孔径が1nm以上1000nm以下、細孔容積が0.1ml/g以上10ml/g以下、かつ吸油量が10ml/100g以上2000ml/100g以下であることを特徴とする、請求項1から7のいずれかに記載の円筒状印刷原版。 The cured photosensitive resin layer (A) further contains an inorganic porous material, the specific surface area of the inorganic porous material is 10 m 2 / g to 1500 m 2 / g, the average pore diameter is 1 nm to 1000 nm, 8. The cylindrical printing original plate according to claim 1, wherein the pore volume is 0.1 ml / g or more and 10 ml / g or less, and the oil absorption is 10 ml / 100 g or more and 2000 ml / 100 g or less. 無機多孔質体の数平均粒子径が0.1μm以上100μm以下であって、少なくとも70%の粒子の真球度が0.5〜1の範囲の球状粒子であることを特徴とする、請求項8に記載の円筒状印刷原版。   The number average particle size of the inorganic porous body is 0.1 μm or more and 100 μm or less, and at least 70% of the particles are spherical particles having a sphericity of 0.5 to 1. The cylindrical printing original plate according to 8. レーザー彫刻可能な感光性樹脂硬化物層(A)の表面が、該表面にエネルギー30mN/mの指示液(和光純薬工業社製、商標「ぬれ張力試験用混合液No.30.0」)を1液滴(20μリットル)滴下し、30秒後に前記液滴が広がった部分の最大径を測定した場合に、該液滴の径が4mm以上20mm以下である濡れ特性を有することを特徴とする、請求項1から9のいずれかに記載の円筒状印刷原版。   The surface of the cured photosensitive resin layer (A) capable of laser engraving has an indicator liquid with an energy of 30 mN / m (trademark “mixture No. 30.0 for wetting tension test” manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) on the surface. Droplet (20 μL) is dropped, and when the maximum diameter of the portion where the droplet spreads after 30 seconds is measured, the droplet has a wetting property that the diameter of the droplet is 4 mm or more and 20 mm or less. The cylindrical printing original plate according to any one of claims 1 to 9. レーザー彫刻可能な感光性樹脂硬化物層(A)が、発振波長が700nmから3μmの範囲の近赤外線レーザーに感度を有し、パルス幅が1nsから10ns、ピークパワーが5kWから20kWのパルス出力のレーザー光を用いて、1パルスあたりのエネルギー量が0.2mJであるレーザー光を照射した場合に、深さ1μm以上の凹部が形成されることを特徴とする、請求項1から10のいずれかに記載の円筒状印刷原版。   The photosensitive resin cured product layer (A) capable of laser engraving is sensitive to a near infrared laser having an oscillation wavelength in the range of 700 nm to 3 μm, and has a pulse output with a pulse width of 1 ns to 10 ns and a peak power of 5 kW to 20 kW. 11. The concave portion having a depth of 1 μm or more is formed when laser light is irradiated with laser light having an energy amount of 0.2 mJ per pulse. The cylindrical printing original plate described in 1. 円筒状支持体と感光性樹脂硬化物層(A)との間に、円筒状印刷原版の周長を調整する周長調整層を有することを特徴とする、請求項1から11のいずれかに記載の円筒状印刷原版。   It has a circumference adjustment layer which adjusts the circumference of a cylindrical printing original plate between a cylindrical support and a photosensitive resin hardened material layer (A). The cylindrical printing original plate as described. 周長調整層が、感光性樹脂硬化物層(B)からなることを特徴とする、請求項12に記載の円筒状印刷原版。   The cylindrical printing original plate according to claim 12, wherein the circumference adjusting layer is composed of a photosensitive resin cured product layer (B). レーザー彫刻可能な感光性樹脂硬化物層(A)が、光重合開始剤あるいは該光重合開始剤の分解生成物を含有し、該光重合開始剤が水素引き抜き型光重合開始剤および崩壊型光重合開始剤を含むことを特徴とする、請求項1から13のいずれかに記載の円筒状印刷原版。   The laser-engravable photosensitive resin cured product layer (A) contains a photopolymerization initiator or a decomposition product of the photopolymerization initiator, and the photopolymerization initiator is a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator and a decay type light. The cylindrical printing original plate according to claim 1, comprising a polymerization initiator. 水素引き抜き型光重合開始剤が、ベンゾフェノン類、キサンテン類、アントラキノン類から選ばれる少なくとも一種類の化合物からなり、かつ崩壊型光重合開始剤が、ベンゾインアルキルエーテル類、2,2−ジアルコキシ−2−フェニルアセトフェノン類、アシルオキシムエステル類、アゾ化合物類、有機イオウ化合物類、ジケトン類から選ばれる少なくとも1種類の化合物からなることを特徴とする、請求項14に記載の円筒状印刷原版。   The hydrogen abstraction type photopolymerization initiator is composed of at least one compound selected from benzophenones, xanthenes and anthraquinones, and the decay type photopolymerization initiator is a benzoin alkyl ether, 2,2-dialkoxy-2 The cylindrical printing original plate according to claim 14, comprising at least one compound selected from phenylacetophenones, acyloxime esters, azo compounds, organic sulfur compounds, and diketones. 光重合開始剤が、同一分子内に水素引き抜き型光重合剤として機能する部位と崩壊型光重合開始剤として機能する部位の両方を有する化合物を含有することを特徴とする、請求項14に記載の円筒状印刷原版。   The photopolymerization initiator contains a compound having both a site functioning as a hydrogen abstraction type photopolymerization agent and a site functioning as a decay type photopolymerization initiator in the same molecule. Cylindrical printing original plate. 感光性樹脂硬化物層(A)と同じ組成の感光性樹脂硬化物からなる厚み2.8mmのシートを別途作製し、該シートを用いて荷重が4.9N、回転円盤の回転速度が毎分60±2回、試験回数が連続1000回である条件でテーパー磨耗試験を行った場合に、感光性樹脂硬化物層表面の単位面積あたりの磨耗量が2.5mg/cm以下であることを特徴とする、請求項1から16のいずれかに記載の円筒状印刷原版。 A sheet having a thickness of 2.8 mm made of a cured photosensitive resin having the same composition as that of the cured photosensitive resin layer (A) is separately prepared. Using the sheet, the load is 4.9 N and the rotational speed of the rotating disk is every minute. When the taper abrasion test is performed under the condition that 60 ± 2 times and the number of tests is 1000 times continuously, the abrasion amount per unit area of the surface of the cured photosensitive resin layer is 2.5 mg / cm 2 or less. The cylindrical printing original plate according to any one of claims 1 to 16, characterized in that it is characterized in that: 請求項1から17のいずれかに記載の円筒状印刷原版を製造する方法であって、円筒状支持体上に感光性樹脂組成物を塗布し感光性樹脂組成物層を成形する工程、円筒状に形成された感光性樹脂組成物層に大気中で光を照射し架橋硬化せしめ、レーザー彫刻可能な感光性樹脂硬化物層(A)を形成する工程を含み、照射される光に波長200nm以上450nm以下の光が含まれ、かつ感光性樹脂組成物層表面での照度が、UVメーター(オーク製作所社製、商標「UV−M02」)とフィルター(オーク製作所社製、商標「UV−35−APRフィルター」)を用いて測定した場合に、20mW/cm以上であること、前記UVメーターとフィルター(オーク製作所社製、商標「UV−25フィルター」)を用いて測定した場合に、5mW/cm以上であることを特徴とする、円筒状印刷原版の製造方法。 A method for producing a cylindrical printing original plate according to any one of claims 1 to 17, wherein a step of applying a photosensitive resin composition on a cylindrical support to form a photosensitive resin composition layer, cylindrical The photosensitive resin composition layer formed in the above is irradiated with light in the atmosphere to be crosslinked and cured to form a laser-engravable photosensitive resin cured product layer (A), and the irradiated light has a wavelength of 200 nm or more. Light having a wavelength of 450 nm or less is contained, and the illuminance on the surface of the photosensitive resin composition layer is UV meter (trade name “UV-M02” manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) and a filter (trade name “UV-35 manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.”). in the case where measurements are performed using the APR filter "), it is 20mW / cm 2 or more, the UV meter and filter (Oak Seisakusho Co., Ltd., in the case where measurements are performed using the trademark" UV-25 filter "), 5mW / characterized in that m 2 or more, a manufacturing method of a cylindrical printing original plate. 凹パターンを有するドクターブレードあるいはスキージ接触型円筒状印刷基材の製造方法において、請求項1から17に記載の円筒状印刷原版にレーザー光を照射し、該レーザー照射部を除去することにより凹パターンを形成する工程を含むことを特徴とする、凹パターンを有するドクターブレードあるいはスキージ接触型円筒状印刷基材の形成方法。   In the manufacturing method of the doctor blade or squeegee contact type cylindrical printing base material which has a concave pattern, a concave pattern is obtained by irradiating the cylindrical printing original plate of Claim 1-17 with a laser beam, and removing this laser irradiation part. A method for forming a doctor blade having a concave pattern or a squeegee contact type cylindrical printing substrate, comprising the step of: 請求項19に記載の円筒状印刷基材が、グラビア印刷版、アニロックスロール、ロータリースクリーン印刷版として用いられることを特徴とする、ドクターブレードあるいはスキージ接触型円筒状印刷基材。   A doctor blade or a squeegee contact type cylindrical printing substrate, wherein the cylindrical printing substrate according to claim 19 is used as a gravure printing plate, an anilox roll, or a rotary screen printing plate.
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