JP2005236089A - 三次元実装構造体、三次元実装構造体を備えた携帯用電子機器、および、三次元実装構造体の製造方法 - Google Patents

三次元実装構造体、三次元実装構造体を備えた携帯用電子機器、および、三次元実装構造体の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】より高密度・高機能実装を可能にする三次元実装構造体を提供すること。
【解決手段】第1のメイン配線基板11と、第1のメイン配線基板11と略平行に配置された第2のメイン配線基板12と、第1のメイン配線基板11および第2のメイン配線基板12に対して略垂直に延びるコネクタ配線基板15とを備えた三次元実装構造体100である。コネクタ配線基板15の表面には、配線パターンが形成されており、コネクタ配線基板15の配線パターンと、第1のメイン配線基板11が有する配線パターンとは互いに電気的に接続されており、かつ、コネクタ配線基板15の配線パターンと、第2のメイン配線基板12が有する配線パターンとは互いに電気的に接続されている。
【選択図】図2

Description

本発明は、三次元実装構造体、三次元実装構造体を備えた携帯用電子機器、および、三次元実装構造体の製造方法に関する。本発明は、特に、複数の配線基板を三次元的に組み合わせたモジュールに関する。
近年のエレクトロニクス機器の小型化、高機能化に伴って、プリント基板に実装される電子部品の高密度実装化、および、電子部品が実装された回路基板の高機能化への要求が益々強くなっている。このような状況の中、1チップの半導体デバイスに数多くの機能を搭載させたシステムLSIを用いて、高密度・高機能実装を実現するシステム・オン・チップ(SOC)技術や、一つ以上の半導体チップと複数の能動部品や受動部品とによって一つのパッケージ品を構成して、高密度・高機能実装を実現するシステム・オン・パッケージ(SIP)技術が盛んに研究・開発されている。
また、高密度・高機能実装を実現するために、通常の平面的な配置する二次元実装から、部品を積み重ねて実装を行った三次元実装も注目されている。三次元実装としては、ベアチップを積層した三次元パッケージ(例えば、スタック型CSP)を用いたものや、半導体チップを独立単体の仮パッケージとした後にこれを複数重ね合わせて三次元化を図ったパッケージ積層三次元モジュールを用いたもの等が挙げられる。さらには、電子部品(半導体チップ、受動部品など)を実装した配線基板を多段化することにより、高密度・高機能実装を実現する技術もあり、これらは例えば特許文献1〜5に開示されている。
特開2000−31617号公報 特開平8−264918号公報 特開平6−111869号公報 特開平5−218613号公報 特開平4−366567号公報
SOC技術によれば、電子システムにおける必要な部品の全て又はほとんどを1チップの半導体デバイスに搭載するため、いわゆる究極の高密度・高機能実装を行うことが可能となる一方で、コストや設計開発の時間等の観点からみるとデメリットも大きい。すなわち、必要な部品をすべて半導体集積回路として形成する必然性がない場合もあり、加えて、製品のバージョンアップ等に応じて、その都度、設計開発を行うとすると開発コストの増大や製品の納期の遅延が生じやすくなる。また、コストの面で製品に実装できない場合も生じる。一方で、SIP技術によれば、SOC技術と比べると、ある程度の実装面積は必要になるものの、個々の完成したデバイスを利用できるため、コストや設計開発の時間等においてメリットが大きい。
スタック型CSPや、パッケージ積層三次元モジュールを用いると同一部品(例えば、メモリ)について実装面積を比較的節約できて、高密度化を図ることができる一方で、これらの技術を一つのシステム全体の範囲まで広げて適用するには、SIP技術と同様の問題が生じてくるおそれがある。電子部品が実装された配線基板を多段化して用いる技術は、一つのシステム全体の考慮した設計・開発を行うことができるという可能性を残している。特許文献1〜5に開示された技術では、各配線基板間をスルーホールやコネクタ(接続端子)で接続することによって、実装面積の増大を図ることが可能となっている。
しかしながら、各配線基板間をスルーホールによって接続する方法では、配線基板間を積層した状態でしか検査ができず、完成後に不具合を修理することができない。また、コネクタで接続する場合は修理交換が可能である反面、コネクタおよびその実装スペースは大きく、それゆえ、実装面積の増大による不利益を考えると、あまり大きな効果は得られない。さらに、上記特許文献1〜5に開示された技術においてはシステム全体まで考慮するような記載はなく、各基板間を接続する部材は、ただ単純に電気的な導通を行う機能を果たしているだけであり、この点、まだ改良する余地が残されていると本願発明者は着目した。
本発明はかかる諸点に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、より効果的な高密度・高機能実装を可能にする三次元実装構造体を提供することにある。本発明の更なる目的は、三次元実装構造体を構成する各要素の検査および修理交換が容易であり、しかも実装面積を制限されない三次元実装構造体を提供することにある。また、本発明の他の目的は、そのような三次元実装構造体を備えた携帯用電子機器、および、三次元実装構造体の製造方法を提供することにある。
本発明の三次元実装構造体は、表面に配線パターンを有し、当該配線パターンの一部に電子部品が実装されている第1のメイン配線基板と、前記第1のメイン配線基板と略平行に配置され、表面に配線パターンを有する第2のメイン配線基板と、前記第1のメイン配線基板および第2のメイン配線基板に対して略垂直に延びる、コネクタ配線基板とを備え、前記コネクタ配線基板の表面には、配線パターンが形成されており、前記コネクタ配線基板の前記配線パターンと、前記第1のメイン配線基板が有する前記配線パターンとは互いに電気的に接続されており、かつ、前記コネクタ配線基板の前記配線パターンと、前記第2のメイン配線基板が有する前記配線パターンとは互いに電気的に接続されている。
ある好適な実施の形態において、前記コネクタ配線基板の前記配線パターンの一部には、電子部品が実装されている。
ある好適な実施の形態において、前記電子部品は、ノイズ対策部品である。
ある好適な実施の形態において、前記ノイズ対策部品は、バイパスコンデンサ、デカップリングコンデンサ、遅延用インダクタ、抵抗、バリスタからなる群から選択される少なくとも一種の電子部品である。
ある好適な実施の形態において、前記コネクタ基板には、電子回路が形成されており、前記第1のメイン配線基板および第2のメイン配線基板の少なくとも一方の前記配線パターンよりも、前記コネクタ配線基板の前記配線パターンの方が高密度な配線となっている。
ある好適な実施の形態において、前記第1のメイン配線基板および前記第2のメイン配線基板の弾性率よりも、前記コネクタ配線基板の弾性率の方が低い。
ある好適な実施の形態において、前記第1のメイン配線基板および前記第2のメイン配線基板の前記弾性率が20GPa以上40GPa以下の範囲にある場合に、前記コネクタ配線基板の弾性率は、5GPa以上から20GPa未満である。
ある好適な実施の形態において、前記第1のメイン配線基板および前記第2のメイン配線基板のそれぞれの厚さよりも、前記コネクタ配線基板の厚さの方が薄い。
ある好適な実施の形態において、前記コネクタ配線基板には、前記第1のメイン配線基板を通すための第1の開口部と、前記第2のメイン配線基板を通すための第2の開口部とが形成されており、前記第1のメイン配線基板は、前記コネクタ配線基板の前記第1の開口部に差し込まれており、前記第2のメイン配線基板は、前記コネクタ配線基板の前記第2の開口部に差し込まれている。
ある好適な実施の形態において、前記第1の開口部の周囲には、半田が形成されており、それによって、前記第1のメイン配線基板の前記配線パターンと、前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとが互いに電気的に接続されており、そして、前記第2の開口部の周囲にも、半田が形成されており、それによって、前記第2のメイン配線基板の前記配線パターンと、前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとが互いに電気的に接続されている。
ある好適な実施の形態において、前記第1の開口部および前記第2の開口部の少なくとも一方には、導電性材料からなる断面コの字型の接続用部材が挿入されており、前記接続用部材に、前記第1のメイン配線基板または前記第2のメイン配線基板が挿入されている。
ある好適な実施の形態において、前記第1の開口部および前記第2の開口部は、それぞれ、貫通孔である。
ある好適な実施の形態において、前記第1のメイン配線基板および前記2のメイン配線基板には、それぞれ、前記コネクタ配線基板を通すための開口部が形成されており、前記第1のメイン配線基板の前記開口部および前記第2のメイン配線基板の前記開口部に、前記コネクタ配線基板は差し込まれている。
ある好適な実施の形態において、前記第1のメイン配線基板の前記開口部の周囲には、半田が形成されており、それによって、前記第1のメイン配線基板の前記配線パターンと、前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとが互いに電気的に接続されており、そして前記第2のメイン配線基板の前記開口部の周囲にも、半田が形成されており、それによって、前記第2のメイン配線基板の前記配線パターンと、前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとが互いに電気的に接続されている。
ある好適な実施の形態において、前記第1のメイン配線基板の前記開口部および前記第2のメイン配線基板の前記開口部の少なくとも一方には、導電性材料からなる断面コの字型の接続用部材が挿入されており、前記接続用部材に、前記コネクタ配線基板が挿入されている。
ある好適な実施の形態において、前記第1のメイン配線基板の前記開口部および前記第2のメイン配線基板の前記開口部は、それぞれ、貫通孔である。
本発明の他の三次元実装構造体は、表面に配線パターンを有し、当該配線パターンの一部に電子部品が実装されている第1のメイン配線基板と、前記第1のメイン配線基板と略平行に配置され、表面に配線パターンを有する第2のメイン配線基板と、前記第1のメイン配線基板および第2のメイン配線基板に対して略垂直に配置された、コネクタ配線基板とを備え、前記コネクタ配線基板の表面には、配線パターンが形成されており、さらに、前記コネクタ配線基板には、当該コネクタ配線基板の前記配線パターンと電気的に接続し、前記第1のメイン配線基板と嵌合・脱着可能な第1のコネクタと、当該コネクタ配線基板の前記配線パターンと電気的に接続し、前記第2のメイン配線基板と嵌合・脱着可能な第2のコネクタとが設けられており、前記第1のメイン配線基板は、前記第1のコネクタに挿入されて、それによって、前記第1のメイン配線基板と前記コネクタ配線基板とは互いに電気的に接続されており、前記第2のメイン配線基板は、前記第2のコネクタに挿入されて、それによって、前記第2のメイン配線基板と前記コネクタ配線基板とは互いに電気的に接続されている。
本発明の更に他の三次元実装構造体は、表面に配線パターンを有し、当該配線パターンの一部に電子部品が実装されている第1のメイン配線基板と、前記第1のメイン配線基板と略平行に配置され、表面に配線パターンを有する第2のメイン配線基板と、前記第1のメイン配線基板および第2のメイン配線基板に対して略垂直に配置された、コネクタ配線基板とを備え、前記コネクタ配線基板の表面には、配線パターンが形成されており、前記第1のメイン配線基板には、当該第1のメイン配線基板の前記配線パターンと電気的に接続し、前記コネクタ配線基板と嵌合・脱着可能なコネクタが設けられており、前記第2のメイン配線基板には、当該第2のメイン配線基板の前記配線パターンと電気的に接続し、前記コネクタ配線基板と嵌合・脱着可能なコネクタが設けられており、前記コネクタ配線基板は、前記第1のメイン配線基板に設けられた前記コネクタと、前記第2のメイン配線基板に設けられた前記コネクタとに挿入されている。
ある好適な実施の形態では、さらに、前記第1および第2のメイン配線基板と略平行に配置され、表面に配線パターンを有する第3のメイン配線基板を備えており、前記第3のメイン配線基板の前記配線パターンと、前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとは互いに電気的に接続されている。
ある好適な実施の形態において、前記第1のメイン配線基板と前記第2のメイン配線基板との間には、電磁波を遮蔽するシールド部材が配置されている。
ある好適な実施の形態において、前記第1のメイン配線基板と前記第2のメイン配線基板との間には、電磁波を遮蔽するシールド壁が形成されており、前記第1のメイン配線基板と、前記第2のメイン配線基板と、前記シールド壁とによって、略閉空間が形成されている。
前記コネクタ配線基板は、基板内に電子部品を内蔵した部品内蔵基板であってもよい。
前記第1のメイン配線基板および前記第2のメイン配線基板の少なくとも一方は、基板内に電子部品を内蔵した部品内蔵基板であってもよい。
本発明の携帯用電子機器は、上記三次元実装構造体と、前記三次元実装構造体を収納する筐体とを備えている。
本発明の三次元実装構造体の製造方法は、表面に配線パターンを有し、当該配線パターンの一部に電子部品が実装された第1のメイン配線基板を用意する工程と、前記第1のメイン配線基板に対して略垂直となるように、表面に配線パターンを有し、当該配線パターンの一部に電子部品が実装されたコネクタ配線基板を配置する工程と、前記第1のメイン配線基板に対して略平行に、かつ、前記コネクタ配線基板に対して略垂直になるように、表面に配線パターンを有し、当該配線パターンの一部に電子部品が実装された第2のメイン配線基板を配置する工程と、前記第1のメイン配線基板の前記配線パターンと前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとの両者を互いに電気的に接続する工程と、前記第2のメイン配線基板の前記配線パターンと前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとの両者を互いに電気的に接続する工程とを包含する。
本発明の他の三次元実装構造体の製造方法は、表面に配線パターンを有し、当該配線パターンの一部に電子部品が実装された第1のメイン配線基板を用意する工程と、前記第1のメイン配線基板に対して略平行となるように、表面に配線パターンを有し、当該配線パターンの一部に電子部品が実装された第2のメイン配線基板を配置する工程と、前記第1のメイン配線基板および前記第2のメイン配線基板に対して略垂直になるように、表面に配線パターンを有し、当該配線パターンの一部に電子部品が実装されたコネクタ配線基板を配置する工程と、前記第1のメイン配線基板の前記配線パターンと前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとの両者を互いに電気的に接続する工程と、前記第2のメイン配線基板の前記配線パターンと前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとの両者を互いに電気的に接続する工程とを包含する。
ある好適な実施の形態において、前記第1のメイン配線基板上に、当該第1のメイン配線基板の法線方向から見て略ロの字形状を有し、半田付け可能な磁性材料からなるシールド部材を配置し、そして、前記第2のメイン配線基板を配置した際に、前記第1のメイン配線基板と前記第2のメイン配線基板と前記シールド部材とによって、略閉空間を形成する工程を更に実行する。
ある好適な実施の形態において、前記第1のメイン配線基板の前記配線パターンと前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとの両者を互いに電気的に接続する工程、および、前記第2のメイン配線基板の前記配線パターンと前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとの両者を互いに電気的に接続する工程は、同一工程で実行される。
本発明の三次元実装構造体は、第1のメイン配線基板と、第1のメイン配線基板と略平行に配置された第2のメイン配線基板と、前記第1のメイン配線基板および第2のメイン配線基板に対して略垂直に延びるコネクタ配線基板とを備えているので、より効果的な高密度・高機能実装が可能である。また、本発明によれば、三次元実装構造体を構成する各要素(第1のメイン配線基板、第2のメイン配線基板、コネクタ配線基板)の検査および修理交換が容易であり、しかも実装面積を制限されない三次元実装構造体を得ることができる。さらに、コネクタ配線基板の表面には配線パターンが形成されているので、コネクタ配線基板及び当該配線パターンを利用した三次元実装構造体を実現することができる。
コネクタ配線基板には、電子部品(例えば、ノイズ対策部品)を実装することが可能である。コネクタ配線基板にノイズ対策部品を実装した場合、ノイズに強いモジュールを構築することができるとともに、第1のメイン配線基板および第2のメイン配線基板にはノイズ対策部品を設けた場合と比較して、第1のメイン配線基板および第2のメイン配線基板の実装面積をより有効活用でき、また、第1のメイン配線基板および第2のメイン配線基板の設計自由度を上げることができる。
さらに、第1のメイン配線基板および第2のメイン配線基板の弾性率よりも、コネクタ配線基板の弾性率の方が低くなるように構成した場合、三次元実装構造体にかかる応力・歪みをコネクタ配線基板で吸収・緩和することができ、その結果、例えば落下時のショック等に対する信頼性に優れた三次元実装構造体を実現することができる。
本願発明者は、高密度・高機能実装を可能にする三次元実装構造体の開発にあたり、まず、図1(a)および(b)に示した構造を有する三次元実装構造体1000について検討を行った。
図1(a)に示した三次元実装構造体1000は、マザーボード1500上に、CSP(チップ・サイズ・パッケージ)の半導体素子1200が実装されており、半導体チップ1200の上方に配線基板1400が配置されている。CSP1200は、半田ボール1210を介してマザーボード1500に接続されており、配線基板1400は、接続端子1300によって支持されており、かつ、マザーボード1500に接続されている。配線基板1400の上面には、ベアチップの半導体素子1410およびチップ部品1420が実装されている。一方、図1(b)に示した三次元実装構造体100は、図1(a)に示した構造とほぼ同じであり、配線基板1400の下面には、ベアチップの半導体素子1410およびチップ部品1420が実装されて点が異なる。
図1(a)および図1(b)に示した三次元実装構造体1000とも、CSP1200の上方の領域に、部品1410および1420を配置することができ、その結果、実装面積の増大を図ることができ、また、複数の部品を実装できるので、高密度実装および高機能実装を比較的容易に実現することができる。
現時点の技術レベルにおいて、図1(a)および(b)に示した三次元実装構造体1000に特に目立った問題点は存在しないが、本願発明者は、次のような状況を想定して検討を行った。
携帯電話の分野においては、モデルチェンジのスピードが非常に早く、それゆえ、非常に短い設計期間・開発期間で次モデルを製造することが各メーカーに要求されている。通常、モデルチェンジが行われることが決定すれば、その機能および構造に合わせて、各種システムないし回路を実現にするための回路基板の設計・開発が行われ、その回路基板が作製される。携帯電話においては、他の電子機器(または他の携帯用電子機器)と比較しても、実装面積が極めて制限されており、それゆえに、多少の変更でも、携帯電話の筐体内に適切に配置させる上で、一から回路基板の設計を要求されることが多い。したがって、図1(a)および(b)に示した三次元実装構造体1000があるモデルに適切なものであっても、次モデルにおいては、現行モデルで如何に適切な構造・配置であったかどうかにかかわらず、変更を余儀なくされることが多い。
一方で、携帯電話を機能や回路的に見た場合、新モデルに対応して変更しなければならない箇所がある一方、現行モデルの機能および回路をそのまま流用できる箇所も多い。そう考えると、実装面積の制限に応じて回路基板の構成を一から行わなくて済むような構造(あるいは、少しの変更に対して、大幅な回路基板の変更を行わなくて済むような構造)を有する三次元実装構造体が存在すると、非常にメリットが大きい。従来の三次元実装構造体においては、そのような観点は欠けており、ただ単に、実装面積をより有効に利用する構造の提示にとどまっている。
上記検討の下、モデルチェンジ時の多少の変更において、大幅な回路基板の設計変更(例えば、一からの回路基板の設計)を行わなくても済むような、従来とは異なる三次元実装構造体を提供できれば、モデルチェンジのスピードが早くて、短い設計期間・開発期間で次モデルを製造しなければならない携帯電話の用途において、非常に大きなメリットが得られるのではないかと本願発明者は考え、そのような三次元実装構造体の開発に挑んだ。
また、本来モジュール化の目的ないし思想は、回路ブロックの機能を一体化し完結した機能を発揮させることで種々の機能を共用化させることにあるので、本願発明者はこの本来の目的にも着目した。これにより、電子機器に利用するモジュールとして標準化が図れ、機種変更、機能追加などが容易となり、ひいては開発期間の短縮化、開発コストの低減を図ることができるということを達成し得る。また、機能モジュール化により、モジュール間の電気接続端子数が減少でき、モジュールが実装されるマザーボードも低コストな基板を用いることができるという効果も得られる。さらに、機能を一体化し、モジュール単位でノイズ対策を施すことにより、電子機器セットとしてのノイズ対策を簡略化することが可能となる。このことによっても、近年、高速・高周波化が進展している電子機器の開発期間の短縮化が図れる。したがって、モジュールの発展形態といえる三次元実装構造体も上記効果を奏するものであることが望ましい。そして、三次元実装構造体においても、どれくらい機能を一体化できるか、換言すれば、どのような部品でも搭載でき、ノイズ対策が可能かどうか重要なポイントとなり得る。
図1(a)および(b)に示した構成は、上方に配置されている配線基板1400とCSP1200は、直接電気接続することはできないものであり、そのため、マザーボード1500を介して電気接続されている。上記で述べたように、機能を一体化するという本来のモジュール思想からすれば、図1(a)および(b)に示した構成は効果的なモジュールとは言えない。すなわち、当該構成は、回路として関連性を持たない部品同士を2階建てにしたにすぎず、マザーボードの低コスト化には効果はない。
上記検討を踏まえて、本願発明者が図1(a)および(b)の構造をさらに検討したところ、この構造では接続端子1300は適切に機能しているものの、接続端子1300の技術常識にとらわれずに、そこに新たなアイデアを盛り込めば、新たな三次元実装構造体を実現できると想到し、本発明に至った。
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態を説明する。以下の図面においては、説明の簡潔化のため、実質的に同一の機能を有する構成要素を同一の参照符号で示す。なお、本発明は以下の実施の形態に限定されない。
(実施の形態1)
図2を参照しながら、本発明の実施の形態1に係る三次元実装構造体100について説明する。
図2に示した三次元実装構造体100は、第1のメイン配線基板11と、第1のメイン配線基板と略平行に配置された第2のメイン配線基板12と、第1のメイン配線基板11および第2のメイン配線基板12に対して略垂直に延びるコネクタ配線基板15とから構成されている。第1のメイン配線基板11は、表面に配線パターンを有しており、当該配線パターンの一部には、電子部品20が実装されている。第1のメイン配線基板11と同様に、第2のメイン配線基板12も、表面に配線パターンを有しており、第2のメイン配線基板12の配線パターンの一部にも、電子部品20が実装されている。そして、コネクタ配線基板15の表面にも、配線パターンが形成されている。コネクタ配線基板15が有する配線パターンは、複数の配線から構成され、第1のメイン配線基板11と第2のメイン配線基板12との間を電気的に接続するための配線パターンである。コネクタ配線基板15の配線パターンには、例えば200μmピッチ(線幅100μm、線間100μm)の配線が形成されている。後述するように、場合によっては、当該配線パターンに電子部品を実装することができ、例えば、配線間の一部に、コンデンサ、インダクタ、バリスタといったノイズ部品が搭載されている。
三次元実装構造体100では、コネクタ配線基板15の配線パターンと、第1のメイン配線基板11の配線パターンとは互いに電気的に接続されている。そして、コネクタ配線基板15の配線パターンと、第2のメイン配線基板12の配線パターンも互いに電気的に接続されている。本実施の形態において、三次元実装構造体100は、配線基板(例えば、マザーボード)10の上に配置されており、図2に示した例では、コネクタ配線基板15の配線パターンと、配線基板10の表面に形成された配線パターンとは互いに電気的に接続されている。また、図2に示すように、配線基板10の上に電子部品21が載置されていてもよく、そして、電子部品21は、三次元実装構造体100の下方領域(例えば、第1のメイン配線基板11の下方領域)に位置していてもよい。電子部品20(または21)は、例えば、半導体素子(CSP、ベアチップなど)、チップ部品(チップインダクタ、チップコンデンサ、チップ抵抗など)である。
本実施の形態の三次元実装構造体100が携帯電話に搭載される場合、第1のメイン配線基板11および第2のメイン配線基板12は、各種回路部(例えば、高周波回路部、ベースバンド部、パワーマネージメント部、ディスプレイ部、イメージセンサー部など)に対応し得る。あるいは、三次元実装構造体100が一つの回路部(例えば、高周波回路部)に対応し、第1のメイン配線基板11および第2のメイン配線基板12は、その回路部を構成する要素であってもよい。なお、図2においては、第1のメイン配線基板11および第2のメイン配線基板12の2枚のメイン配線基板を示しているが、2枚に限定されず、3枚以上にしても良い。すなわち、第1および第2のメイン配線基板(11,12)と略平行に配置され、表面に配線パターンを有する第3のメイン配線基板をさらに備えていても良い。
本実施の形態の構成によれば、第1のメイン配線基板11と第2のメイン配線基板12とコネクタ配線基板15とによって三次元実装構造体100を構成しているので、第1のメイン配線基板11と第2のメイン配線基板12との立体配置関係により、高密度実装が可能である。さらに、第1のメイン配線基板11および第2のメイン配線基板12のそれぞれに別々の機能を持たせることができ、あるいは、第1のメイン配線基板11および第2のメイン配線基板12をそれぞれ、或る回路における個々の要素として構築することができ、その結果、高機能実装を行うこともできる。
また、第1のメイン配線基板11および第2のメイン配線基板12を、コネクタ配線基板12を介して電気的に接続する構成を採用しているので、第1のメイン配線基板11および第2のメイン配線基板12のそれぞれを独立に製造し、そして検査した後に、三次元実装構造体100の組み立てを行うことができるので、第1、第2のメイン配線基板11、12によって実現されている各回路の信頼性を高めることができるとともに、製造コストを低下させることも可能となる。さらには、モデルチェンジ等によって改良が必要となった場合において、第1、第2のメイン配線基板11、12によって実現されている各回路のうち、例えば第1のメイン配線基板11のみの改良でよく、第2のメイン配線基板12に改良が必要なければ、第1のメイン配線基板11のみ設計変更を行えばよいため、設計・開発期間の大幅な短縮なるとともに、第2のメイン配線基板12の信頼性を確保したまま、次モデルの設計・製造を行うことができる。
加えて、本実施の形態の三次元実装構造体100においては、コネクタ配線基板15の回路パターンにさらに電子部品を実装することも可能である。コネクタ配線基板15に電子部品を実装(垂直実装または側面実装)することによって、更なる高密度実装を実現することができる。コネクタ配線基板15に実装する電子部品として、ノイズ対策部品(例えば、コンデンサ、バリスタ、インダクタなど)を用いれば、三次元実装構造体100のノイズ対策を行うことができる。また、コネクタ配線基板15にノイズ対策部品を実装した場合、第1または第2のメイン配線基板11,12にノイズ対策部品を実装した場合と比較して、第1または第2のメイン配線基板11,12の実装面積をより有効活用できるとともに、第1または第2のメイン配線基板11,12の設計自由度を上げることができる。なお、本明細書において「ノイズ対策部品」とは、ノイズに特化した低減部品のことをいう。ノイズ対策部品は、例えば、バイパスコンデンサ、デカップリングコンデンサ、遅延用インダクタ、抵抗、バリスタなどから選択することができる。
さらに、コネクタ配線基板15の弾性率を、第1または第2のメイン配線基板11,12の弾性率よりも低くした場合、三次元実装構造体100の構造に新たな機能を付加することも可能である。
すなわち、第1のメイン配線基板11および第2のメイン配線基板12よりも、コネクタ配線基板15の方が低弾性率となるように構成した場合、換言すると、コネクタ配線基板15に相対的に可撓性を持たせた場合、三次元実装構造体100にかかる応力・歪みをコネクタ配線基板15で吸収・緩和することができる。このようにすれば、例えば落下時のショック等に対する信頼性を良好にすることができる。さらに説明すると、携帯用電子機器等は、持ち運びができて便利な反面、誤って落下させてしまうことがあり、その際に通常の基板に通常のコネクタ接続を行っただけの構造では、接続不良を起こし回路が動作しなくなる問題等があるのに対し、本構成では、三次元実装構造体100にかかる応力・歪みをコネクタ配線基板15で吸収・緩和することができるので、そのような落下による接続不良の問題を回避または緩和することが可能である。
また、第1のメイン配線基板11および/または第2のメイン配線基板12に、LSIのような半導体素子が実装されており、その半導体素子の発熱によって三次元実装構造体100に熱応力が加わった状況になった場合でも、コネクタ配線基板15の可撓性によって、その熱応力によって生じた歪みを吸収・緩和することが可能となる。
コネクタ配線基板15に相対的に可撓性を持たせるには、コネクタ配線基板15を構成する材料と、第1または第2のメイン配線基板11,12を構成する材料と異なるものにして、コネクタ配線基板15が可撓性を有するようにすればよい。また、異なる材料にする場合に限らず、同じ材料であっても、第1のメイン配線基板11および第2のメイン配線基板12のそれぞれの厚さよりも、コネクタ配線基板12の厚さの方を薄くすることによっても行うことができる。ただし、コネクタ配線基板15をあまりにも軟らかくしてしまうと、第1および第2のメイン配線基板11,12を支持できなる場合や、応力を吸収・緩和できなくなる場合もあり得るので、適切なものにする望ましい。
例えば、第1のメイン配線基板11および第2のメイン配線基板12の弾性率が20GPa以上40GPa以下の範囲にあるときには、コネクタ配線基板の弾性率を5GPa以上から20GPa未満(好ましくは、10〜15GPa)にコントロールするのが望ましい。本実施の形態においては、第1および第2のメイン配線基板11,12、コネクタ配線基板15ともリジット基板を用いており、そして、第1および第2のメイン配線基板11,12は、ガラス不織布にエポキシ樹脂を含浸させた典型的なガラスエポキシから構成しているのに対し、コネクタ配線基板15では、熱可塑性樹脂などのエラストマー系の材料をエポキシ樹脂に添加することによって、コネクタ配線基板15の弾性率を下げるようにしている。なお、この手法は一例であり、これ以外には、例えば、コネクタ配線基板15の弾性率を下げるには、補強材(ガラス織布や不織布など)を使用せずに、熱硬化樹脂と無機フィラーとを混合した基材を用いることによっても達成可能である。
第1のメイン配線基板11と、第2のメイン配線基板12との間隔Dは、例えば5mmμm以下であり、特に問題が生じない限り、薄ければ薄いほど、三次元実装構造体100の薄型化を達成することができる。高密度実装を行う上では、図2に示した電子部品20として半導体チップを実装する場合には、CSP型の半導体チップや、ベアチップを実装することが望ましい。三次元実装構造体100の全体の高さHを、例えば5mm以下にすると、薄型のモジュールとして、携帯電話等の筐体に比較的容易に配置することができる。三次元実装構造体100が載置される配線基板10は、リジッド基板でもよいし、フレキシブル基板(あるいは、フレックスリジッド基板)であってもよい。
第1のメイン配線基板11または第2の配線基板12の寸法を例示的に示すと次の通りである。例えば携帯電話の用途に用いる場合、第1のメイン配線基板11(または、第2のメイン配線基板12)の面積は、例えば1500mm2以下(一例を挙げると、30mm×50mmのサイズ以下)であり、第1のメイン配線基板11(または、第2のメイン配線基板12)の厚さは、例えば0.4mm以下である。第1のメイン配線基板11(または、第2のメイン配線基板12)の配線パターンは、例えば銅箔から構成されている。コネクタ配線基板12の寸法を例示的に示すと、その面積は、例えば180mm2以下(一例を挙げると、30mm×6mmのサイズ以下)であり、その厚さは、例えば0.4mm以下(好適な一例を挙げると、0.1〜0.3mm)である。コネクタ配線基板15の配線パターンは、例えば銅箔から構成されている。
また、第1のメイン配線基板11および/または第2のメイン配線基板12として、基板内に電子部品が内蔵された部品内蔵基板(例えば、特開平11−220262号公報参照)を用いることもできる。部品内蔵基板を用いれば、部品の高密度実装化を促進することができる。第1のメイン配線基板11および/または第2のメイン配線基板12に部品内蔵基板を用いることにより、基板の面積を50%程度減少させることも可能である。また、部品内蔵基板を用いると、接続距離を短くできること等の作用によって、基板の雑音の低減を図ることができる効果を達成できる可能性もある。一方、コネクタ配線基板15に、部品内蔵基板(例えば、SIMPACTTM)を用いることも可能である。例えば、上述したノイズ対策部品をコネクタ配線基板15内に内蔵させることも可能である。
本発明に係る実施の形態の構造を「三次元実装構造体」と称しているが、この用語について説明する。多くの電子機器は形態上、ほとんどが立体構造をしているので、広義にとらえると、電子機器は実質的に三次元の機器(換言すると、立体の組み立て機器)となり、実在する電子機器すべて三次元組み立て構造、すなわち、三次元実装を行っていることになる。しかし、本発明の分野に関する電子機器実装において、単なる立体構造を有する機器の組み立てについては、三次元実装とは呼ばない。それゆえ、本明細書でもそのようなものは三次元実装とは呼ばず、ここでは区別するために「三次元組み立て」又は「三次元組み立て体と称することとする。本明細書において「三次元組み立て体」には、デスクトップ型PC(パーソナルコンピュータ)等で見られる、プリント回路実装ドータボードをマザーボード上のソケットコネクタなどに挿入して棚状に並べて組み込み、三次元に組み立てた構造のものも含むものとする。「三次元組み立て体」のスケールが、例えば、100mm×250mm程度のドータボードをコネクタに挿入し、ドータボード間の距離は25mm程度のものである。これに対し、「三次元実装構造体」のスケールを述べると、例えば、上述したとおり、メイン配線基板11,12のサイズは、大きくても30mm×50mm程度であり、メイン配線基板11,12間の距離は2mm程度である。したがって、「三次元組み立て体」と「三次元実装構造体」との両者は大きく相違する。
また、三次元組み立て体においては、2つの基板を電気的に接続するとき、コネクタやフレキシブル基板を用いることとなるが、それでは、三次元実装構造体においては接続ライン数が不十分となることが多い。狭ピッチでの接続を行うには、狭ピッチで接続できるコネクタや、より多層化したフレキシブル基板などを用いることが生じるが、やはりコネクタでは狭ピッチにできる限界があり、また、フレキブル基板の多層化にも限界がある。そのような中、本実施の形態の三次元実装構造体100では、狭ピッチ化への対応が容易であるので、技術的な意義が大きい。また、コネクタ部に新たな電子回路的な機能を持たせるためには、電子回路をコネクタ部に形成することが必要となるが、典型的なコネクタやフレキシブル基板を用いたものでは、電子回路をコネクタ部に形成することはできない。一方、本実施の形態の三次元実装構造体100では、コネクタ配線基板15にも電子回路を形成することができるので、その点でも技術的な意義を持っている。
コネクタ配線基板15に電子回路を形成する場合、第1のメイン配線基板11および第2のメイン配線基板12の少なくとも一方の配線パターンよりも、コネクタ配線基板15の配線パターンの方を高密度な配線(ファイン)にしてもよい。メイン配線基板11および/または12よりも、コネクタ配線基板15の方をファインにした場合、コネクタ配線基板15の電子回路を構成する電子部品自体も、メイン配線基板11,12に搭載している電子部品よりも小さいものを用いることが好ましい。あるいは、メイン配線基板11と比較して、高密度に電子部品を実装し、それによって、高密度な電子回路を形成することもできる。
次に、図3および図4を参照しながら、本実施の形態の三次元実装構造体100のより詳細な説明を行う。図3は、三次元実装構造体100の第1構成例についての要部拡大断面図であり、図4は、三次元実装構造体100の第2構成例についての要部拡大断面図である。
図3に示した三次元実装構造体100は、コネクタ配線基板15に開口部31、32が形成されており、開口部31および32にそれぞれ、第1のメイン配線基板(以下「メイン下基板」と称する。)11および第2のメイン配線基板(以下「メイン上基板」と称する。)12が差し込まれている。メイン下基板11の表面には、配線パターン11a、11bが形成されており、同様に、メイン上基板12の表面にも、配線パターン12a、12bが形成されている。そして、コネクタ配線基板15の表面にも、配線パターン15a、15bが形成されている。なお、メイン下基板11およびメイン上基板12上に実装される電子部品(20)は、省略している。
開口部31、32の周囲には、半田40が形成されており、半田40によって、メイン下基板11またはメイン上基板12と、コネクタ配線基板15とは互いに電気的に接続されている。より詳細に述べると、メイン下基板11の配線パターン11a、11bは、半田40を介して、コネクタ配線基板15の配線パターン15aに電気的に接続されており、そして、メイン上基板12の配線パターン12a、12bは、半田40を介して、コネクタ配線基板15の配線パターン15aに電気的に接続されている。なお、配線パターン11a、11b(あるいは、配線パターン12a、12b)のいずれか一方を配線パターン15aに電気的に接続してもよいし、配線パターン15aでなく、配線パターン15bの方に電気的に接続してもよい。
図3に示した構成において、メイン下基板11とメイン上基板12との間隔Dは、例えば2mm以下である。このような間隔Dを確保するべく、図3に示した構成例1では、開口部31、32にそれぞれメイン下基板11、メイン上基板12を挿入する構成を採用している。さらに説明を続けると、メイン下基板11、メイン上基板12の基板間接続技術として、今日使用されているメカニカルコネクタまたはソケットコネクタを用いた場合、そのメカニカルコネクタまたはソケットコネクタ自体の大きさによって、間隔Dの確保ができなくなってしまう。ここで、開口部31、32の幅Wは、例えば0.5mm以下(好適な一例を挙げると0.15〜0.45mm程度)である。なお、図3に示した三次元実装構造体100では、メカニカルコネクタまたはソケットコネクタを用いていないが、メイン下基板11またはメイン上基板12と、コネクタ配線基板15との連結以外の箇所(例えば、図2における三次元実装構造体100と配線基板10との連結)にそれらのコネクタを用いることは可能である。
また、図3に示した構成では、コネクタ配線基板15を1つだけ示しているが、メイン下基板11とメイン上基板12との間隔Dを安定して維持させるために、コネクタ配線基板15を2つ又はそれ以上用いることも好適である。図3に示した例では、開口部31、32は貫通孔であるが、メイン下基板11またはメイン上基板12と、コネクタ配線基板15との連結できるのであれば、貫通孔に限らず、未貫通の開口部であってもよい。
図4に示した三次元実装構造体100は、メイン下基板11およびメイン上基板12のそれぞれに開口部30を形成し、開口部30にコネクタ配線基板15を通した構成を有している。図4に示すように、メイン下基板11およびメイン上基板12の方に開口部30を形成しても、メイン下基板11またはメイン上基板12と、コネクタ配線基板15との連結を実行することができる。図4に示した例では、開口部30の周囲に半田40が形成されており、半田40によって、メイン下基板11またはメイン上基板12と、コネクタ配線基板15とは互いに電気的に接続されている。図3に示した構成と同様に、図4に示した構成でも、間隔Dは、例えば2mm以下にすることができる。開口部30の幅Wは、例えば0.5mm以下(好適な一例を挙げると0.15〜0.45mm程度)である。
なお、本実施の形態の三次元実装構造体100では、メイン下基板11とメイン上基板12とは略平行に配置され、そして、メイン下基板11およびメイン上基板12に対してコネクタ配線基板15は略垂直に配置されているが、この略平行および略垂直の配置は、それぞれ、典型的には、平行および垂直(直角)であるが、必ずしもそれに限定されず、三次元実装構造体100の構造が比較的安定して維持できれば、平行からずれていても、また、垂直(直角)からずれていても許容される。例えば、コネクタ配線基板15と、メイン下基板11またはメイン上基板12との成す角度は、典型的には90°であるが、70°〜110°(すなわち、90°±20°)の範囲にあってもよい。
次に、図5(a)から(b)を参照しながら、本実施の形態の三次元実装構造体100の製造方法を説明する。
まず、図5(a)に示すように、開口部30を有するメイン下基板11を用意し、そして、メイン下基板11に対して略垂直となるようにコネクタ配線基板15を配置する。略垂直に配置するために、コネクタ配線基板15をメイン下基板11の開口部30に差し込む。また、メイン下基板11の配線パターン(不図示)の周囲に、電子部品20を配置する。なお、電子部品20が実装されたメイン下基板11を用意して工程を行う方が便利な場合が多い。
次に、図5(b)に示すように、メイン下基板11に対して略平行に、コネクタ配線基板15に対して略垂直になるようにメイン上基板12を配置する。この配置にするために、メイン上基板12の開口部30にコネクタ配線基板15を差し込む。なお、この段階で、メイン下基板11上に電子部品20を実装することも可能である。
最後に、図5(c)に示すように、メイン下基板11およびメイン上基板12の開口部30の周囲に半田40を形成して、メイン下基板11とコネクタ配線基板15、および、メイン上基板12とコネクタ配線基板15を電気的に接続する。この電気的な接続工程は、同一工程(例えば、リフロー工程)で実行することが可能であり、この工程を利用して、半田接合を用いた電子部品の実装を行うことも可能である。
以上のようにすれば、本実施の形態の三次元実装構造体100を得ることができる。半田付けの工程は、メイン下基板11およびメイン上基板12との両方同時に行う場合に限らず、別々に行うことも可能である。また、電子部品の実装工程は、別途行っても良いし、上述したようにコネクタ配線基板15のリフロー工程に合わせて行ってもよい。
図5(a)から(c)では、メイン下基板11およびメイン上基板12に開口部30が形成された構成(図4参照)の製造方法について説明したが、同様な手法によって、コネクタ配線基板15に開口部31,32が形成された構成(図3参照)の製造方法も実行することが可能である。また、メイン下基板11とメイン上基板12とを先に略平行に配置してから、コネクタ配線基板15を持ってきて、その後、電気的な接続(例えば、半田接合)を行うようにすること可能である。
上述したように、コネクタ配線基板15の配線パターンにも、電子部品を実装することが可能であるので、所定の工程で電子部品をコネクタ配線基板15に実装するか、あるいは、電子部品が実装されたコネクタ配線基板15を用いて、図5(a)から(c)の製造工程を実行することも可能である。図6に、コネクタ配線基板15の配線パターン15b上に電子部品20が実装された構成の三次元実装構造体100を示す。図6に示した構成は、コネクタ配線基板15に電子部品20が実装されるので、より高密度実装を実現することができるものである。コネクタ配線基板15に実装する電子部品20として、ノイズ対策用部品を用いれば、コネクタ配線基板15によってノイズ対策を行うことができるので、非常に都合が良い。
(実施の形態2)
次に、図7から図12を参照しながら、本発明の実施の形態2に係る三次元実装構造体ついて説明する。本実施の形態の三次元実装構造体は、上記実施の形態1の構成の改変例ないし変形例である。説明の簡略化のため、上記実施の形態1と構成と同様の点については、省略する。
図7(a)および(b)は、メイン下基板11とメイン上基板12との間に、電磁波を遮蔽するシールド壁50が形成された三次元実装構造体200の構成を模式的に示している。図7(a)は、三次元実装構造体200の側面断面図であり、図7(b)は、メイン下基板11の上方(メイン下基板11とメイン上基板12との間)から見た三次元実装構造体200の上面図である。なお、図7(b)では、電子部品20は省略している。
三次元実装構造体200に設けられたシールド壁50は、電磁波を遮蔽することができるので、シールド壁50によってノイズ対策を講じることができる。シールド壁50は、電波防止材料からなり、例えば、金属(Cu、Alなど)、磁性材料(フェライトなど)、金属や磁性材料等を分散させた樹脂などから構成されている。本実施の形態では、シールド壁50として、半田付け可能な磁性材料からなるシールド部材(「リフローシールド」とも称する。)を用いる。半田付け可能な磁性材料からなるシールド部材とは、例えば、磁性材料であるニッケル板を加工したものであり(例えば、図5(b)に示すように加工)、コネクタ基板15とメイン配線基板11および/または12とを半田接続する工程において、ニッケル板の一部に半田を同時に搭載することができ、それによって、三次元実装構造体での位置決めを行うことができるとともに、電気的、機械的な固定を行うことができる。
図7(b)に示すように、メイン下基板11(またはメイン上基板12)の周囲(縁部)は、シールド壁50が配置されており、メイン下基板11とメイン上基板12とシールド壁50とによって、略閉空間が形成されている。この略閉空間内はシールドされているので、半導体チップ(例えば、携帯電話のロジックや音源などを制御するシステムLSI、高周波用LSIなど)を配置するのに好適である。なお、図7に示した構成では、コネクタ配線基板15は複数(3つ)用いられており、この例では、コネクタ配線基板15の外周にシールド壁50が配置されている。
次に、図8(a)から(c)を参照しながら、三次元実装構造体200の製造方法を説明する。なお、図8(a)から(c)は、それぞれ、図5(a)から(c)に対応するので、重複する説明は省略する。
まず、図8(a)に示すように、メイン下基板11とコネクタ配線基板15とを略垂直に配置するとともに、メイン下基板11上にシールド壁50を配置する。ここでは、シールド壁50として、リフローシールドを用いる。
次に、図8(b)に示すように、メイン下基板11の開口部30の周囲に半田40を形成した後、メイン下基板11と略平行に、シールド壁50を挟むようにメイン上基板12を配置する。その後、図8(c)に示すように、メイン上基板12の開口部30の周囲に半田40を形成して、三次元実装構造体200を得る。
図9は、コネクタ配線基板15に電子部品20が実装された三次元実装構造体200を示している。シールド壁50が設けられている点以外は、図6に示した構成と同様である。
図7から図9では、シールド壁50を使用したが、シールド壁50に限らず、メイン下基板11とメイン上基板12との間に、電磁波を遮蔽するシールド部材が配置することによって、ノイズ対策を講じることが可能である。そのようなシールド部材としては、例えば 磁性材料粉末および/または電磁波吸収体粉末を分散させたシリコーン樹脂からなるシート材料を挙げることができる。
上記構成例では、開口部30(あるいは開口部31、32)に挿入することによって、メイン下基板11とメイン上基板12とコネクタ配線基板15とを連結していたが、図10に示した三次元実装構造体300のように、導電性材料からなる断面コの字型の接続用部材60を開口部30に挿入して、その接続用部材60にコネクタ配線基板15を差し込むようにしてもよい。接続用部材60を使用することによって、半田接合以外の電気的な接続方法を選択することが可能となる。
また、接続用部材60を備えていることによって、三次元実装構造体300はリペアー性の機能を確保することができる。すなわち、半田接合と比較して、接続用部材60の方がコネクタ配線基板15の接続・離脱が容易なため、接続用部材60を介してコネクタ配線基板15と例えばメイン上基板12との電気的接続を検査した後、検査の結果が不良であれば、リペアーを行うことが可能となり、製造歩留まりを向上させることできる。また、このリペアーを利用して、設計・開発の試作品を作製すれば、設計・開発のスピードを向上させることもできる。もちろん、接続用部材60と半田40との両方を併用することもできる。図10に示した三次元実装構造体300では、半田40も使用している。なお、接続用部材60は、図3における開口部31、32に挿入して使用しても良い。
さらには、図11および図12に示すように、専用のコネクタ70を用いて、メイン下基板11とメイン上基板12とコネクタ配線基板15とを連結することも可能である。
図11に示した三次元実装構造体400は、メイン下基板11と嵌合・脱着可能なコネクタ70と、メイン上基板12と嵌合・脱着可能なコネクタ70を備えており、各コネクタ70は、コネクタ配線基板15に電気的に接続されている。一方、図12に示した三次元実装構造体400は、コネクタ配線基板15と嵌合・脱着可能なコネクタ70を備えており、各コネクタ70は、メイン下基板11およびメイン上基板12に電気的に接続されている。
図11および図12に示した三次元実装構造体400とも、矢印72の方向に動かすことによってコネクタ70と基板を嵌合させることができ、その嵌合時に電気的な接続を確保することができる。そして、矢印72と反対の方向に基板を引っ張ることで脱着させることができる。なお、コネクタ70に基板の嵌合を解除する手段(例えば、嵌合を解除するための機構を作動するためのスイッチ)を設けておき、その手段を利用して、脱着させてもよい。三次元実装構造体400ではコネクタ70によって連結を行っているので、上述したリペアー性を確保することができる。また、基板(11および12、あるいは15)に開口部(31および32、あるいは30)を形成しなくてもよいというメリットがある。コネクタ70は、メイン下基板11やメイン上基板12あるいはコネクタ配線基板15に対応したものであるので、寸法は比較的小さいものとなる。一例を挙げると、図11中の内部間隙dで、500μm以下(または、100〜300μm程度)である。
本発明の実施の形態に係る三次元実装構造体100、200、300、400は、携帯用電子機器の筐体内に収納されて、携帯用電子機器の他の部品とともに携帯用電子機器を構築する。本発明の実施の形態に係る三次元実装構造体は、携帯用電子機器のうち、実装面積の厳しい制限がある携帯電話に好適に適用されるが、もちろん、他の携帯用電子機器(例えば、PDAなど)にも好適に用いることができる。
以上、本発明を好適な実施の形態により説明してきたが、こうした記述は限定事項ではなく、勿論、種々の改変が可能である。
本発明によれば、より高密度・高機能実装を可能にする三次元実装構造体を提供することができる。
(a)および(b)は、三次元実装構造体1000の構成を模式的に示す断面図 本発明の実施の形態1に係る三次元実装構造体100の構成を模式的に示す断面図 本発明の実施の形態1に係る三次元実装構造体100の構成を模式的に示す断面図(要部拡大図) 本発明の実施の形態1に係る三次元実装構造体100の構成を模式的に示す断面図(要部拡大図) (a)から(c)は、本発明の実施の形態1に係る三次元実装構造体100の製造方法を説明するための工程断面図 本発明の実施の形態1に係る三次元実装構造体100の構成を模式的に示す断面図(要部拡大図) (a)は、本発明の実施の形態2に係る三次元実装構造体200の構成を模式的に示す断面図(要部拡大図)、(b)は、本発明の実施の形態2に係る三次元実装構造体200の構成を模式的に示す上面図 (a)から(c)は、本発明の実施の形態2に係る三次元実装構造体200の製造方法を説明するための工程断面図 本発明の実施の形態2に係る三次元実装構造体200の構成を模式的に示す断面図(要部拡大図) 本発明の実施の形態2に係る三次元実装構造体300の構成を模式的に示す断面図(要部拡大図) 本発明の実施の形態2に係る三次元実装構造体400の構成を模式的に示す断面図(要部拡大図) 本発明の実施の形態2に係る三次元実装構造体400の構成を模式的に示す断面図(要部拡大図)
符号の説明
10 配線基板(マザーボード)
11 第1のメイン配線基板(メイン下基板)
12 第2のメイン配線基板(メイン上基板)
15 コネクタ配線基板
20 電子部品
21 電子部品
30 開口部
31,32 開口部
40 半田
50 シールド壁
60 接続用部材
70 コネクタ
100,200,300,400 三次元実装構造体
1000 三次元実装構造体
1200 半導体チップ
1210 半田ボール
1300 接続端子
1400 配線基板
1410 ベアチップ
1420 チップ部品
1500 マザーボード

Claims (28)

  1. 表面に配線パターンを有し、当該配線パターンの一部に電子部品が実装されている第1のメイン配線基板と、
    前記第1のメイン配線基板と略平行に配置され、表面に配線パターンを有する第2のメイン配線基板と、
    前記第1のメイン配線基板および第2のメイン配線基板に対して略垂直に延びる、コネクタ配線基板と
    を備え、
    前記コネクタ配線基板の表面には、配線パターンが形成されており、
    前記コネクタ配線基板の前記配線パターンと、前記第1のメイン配線基板が有する前記配線パターンとは互いに電気的に接続されており、かつ、
    前記コネクタ配線基板の前記配線パターンと、前記第2のメイン配線基板が有する前記配線パターンとは互いに電気的に接続されている、三次元実装構造体。
  2. 前記コネクタ配線基板の前記配線パターンの一部には、電子部品が実装されている、請求項1に記載の三次元実装構造体。
  3. 前記電子部品は、ノイズ対策部品である、請求項2に記載の三次元実装構造体。
  4. 前記ノイズ対策部品は、バイパスコンデンサ、デカップリングコンデンサ、遅延用インダクタ、抵抗、バリスタからなる群から選択される少なくとも一種の電子部品である、請求項3に記載の三次元実装構造体。
  5. 前記コネクタ基板には、電子回路が形成されており、
    前記第1のメイン配線基板および第2のメイン配線基板の少なくとも一方の前記配線パターンよりも、前記コネクタ配線基板の前記配線パターンの方が高密度な配線となっている、請求項2に記載の三次元実装構造体。
  6. 前記第1のメイン配線基板および前記第2のメイン配線基板の弾性率よりも、前記コネクタ配線基板の弾性率の方が低い、請求項1から5の何れか一つに記載の三次元実装構造体。
  7. 前記第1のメイン配線基板および前記第2のメイン配線基板の前記弾性率が20GPa以上40GPa以下の範囲にある場合に、前記コネクタ配線基板の弾性率は、5GPa以上から20GPa未満である、請求項6に記載の三次元実装構造体。
  8. 前記第1のメイン配線基板および前記第2のメイン配線基板のそれぞれの厚さよりも、前記コネクタ配線基板の厚さの方が薄い、請求項1または6に記載の三次元実装構造体。
  9. 前記コネクタ配線基板には、前記第1のメイン配線基板を通すための第1の開口部と、前記第2のメイン配線基板を通すための第2の開口部とが形成されており、
    前記第1のメイン配線基板は、前記コネクタ配線基板の前記第1の開口部に差し込まれており、
    前記第2のメイン配線基板は、前記コネクタ配線基板の前記第2の開口部に差し込まれている、請求項1から8の何れか一つに記載の三次元実装構造体。
  10. 前記第1の開口部の周囲には、半田が形成されており、それによって、前記第1のメイン配線基板の前記配線パターンと、前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとが互いに電気的に接続されており、そして、
    前記第2の開口部の周囲にも、半田が形成されており、それによって、前記第2のメイン配線基板の前記配線パターンと、前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとが互いに電気的に接続されている、請求項9に記載の三次元実装構造体。
  11. 前記第1の開口部および前記第2の開口部の少なくとも一方には、導電性材料からなる断面コの字型の接続用部材が挿入されており、
    前記接続用部材に、前記第1のメイン配線基板または前記第2のメイン配線基板が挿入されている、請求項9に記載の三次元実装構造体。
  12. 前記第1の開口部および前記第2の開口部は、それぞれ、貫通孔である、請求項9から11の何れか一つに記載の三次元実装構造体。
  13. 前記第1のメイン配線基板および前記2のメイン配線基板には、それぞれ、前記コネクタ配線基板を通すための開口部が形成されており、
    前記第1のメイン配線基板の前記開口部および前記第2のメイン配線基板の前記開口部に、前記コネクタ配線基板は差し込まれている、請求項1から8の何れか一つに記載の三次元実装構造体。
  14. 前記第1のメイン配線基板の前記開口部の周囲には、半田が形成されており、それによって、前記第1のメイン配線基板の前記配線パターンと、前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとが互いに電気的に接続されており、そして、
    前記第2のメイン配線基板の前記開口部の周囲にも、半田が形成されており、それによって、前記第2のメイン配線基板の前記配線パターンと、前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとが互いに電気的に接続されている、請求項13に記載の三次元実装構造体。
  15. 前記第1のメイン配線基板の前記開口部および前記第2のメイン配線基板の前記開口部の少なくとも一方には、導電性材料からなる断面コの字型の接続用部材が挿入されており、
    前記接続用部材に、前記コネクタ配線基板が挿入されている、請求項13に記載の三次元実装構造体。
  16. 前記第1のメイン配線基板の前記開口部および前記第2のメイン配線基板の前記開口部は、それぞれ、貫通孔である、請求項13から15の何れか一つに記載の三次元実装構造体。
  17. 表面に配線パターンを有し、当該配線パターンの一部に電子部品が実装されている第1のメイン配線基板と、
    前記第1のメイン配線基板と略平行に配置され、表面に配線パターンを有する第2のメイン配線基板と、
    前記第1のメイン配線基板および第2のメイン配線基板に対して略垂直に配置された、コネクタ配線基板と
    を備え、
    前記コネクタ配線基板の表面には、配線パターンが形成されており、さらに、
    前記コネクタ配線基板には、
    当該コネクタ配線基板の前記配線パターンと電気的に接続し、前記第1のメイン配線基板と嵌合・脱着可能な第1のコネクタと、
    当該コネクタ配線基板の前記配線パターンと電気的に接続し、前記第2のメイン配線基板と嵌合・脱着可能な第2のコネクタと
    が設けられており、
    前記第1のメイン配線基板は、前記第1のコネクタに挿入されて、それによって、前記第1のメイン配線基板と前記コネクタ配線基板とは互いに電気的に接続されており、
    前記第2のメイン配線基板は、前記第2のコネクタに挿入されて、それによって、前記第2のメイン配線基板と前記コネクタ配線基板とは互いに電気的に接続されている、三次元実装構造体。
  18. 表面に配線パターンを有し、当該配線パターンの一部に電子部品が実装されている第1のメイン配線基板と、
    前記第1のメイン配線基板と略平行に配置され、表面に配線パターンを有する第2のメイン配線基板と、
    前記第1のメイン配線基板および第2のメイン配線基板に対して略垂直に配置された、コネクタ配線基板と
    を備え、
    前記コネクタ配線基板の表面には、配線パターンが形成されており、
    前記第1のメイン配線基板には、当該第1のメイン配線基板の前記配線パターンと電気的に接続し、前記コネクタ配線基板と嵌合・脱着可能なコネクタが設けられており、
    前記第2のメイン配線基板には、当該第2のメイン配線基板の前記配線パターンと電気的に接続し、前記コネクタ配線基板と嵌合・脱着可能なコネクタが設けられており、
    前記コネクタ配線基板は、前記第1のメイン配線基板に設けられた前記コネクタと、前記第2のメイン配線基板に設けられた前記コネクタとに挿入されている、三次元実装構造体。
  19. さらに、前記第1および第2のメイン配線基板と略平行に配置され、表面に配線パターンを有する第3のメイン配線基板を備えており、
    前記第3のメイン配線基板の前記配線パターンと、前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとは互いに電気的に接続されている、請求項1から18の何れか一つに記載の三次元実装構造体。
  20. 前記第1のメイン配線基板と前記第2のメイン配線基板との間には、電磁波を遮蔽するシールド部材が配置されている、請求項1から19の何れか一つに記載の三次元実装構造体。
  21. 前記第1のメイン配線基板と前記第2のメイン配線基板との間には、電磁波を遮蔽するシールド壁が形成されており、
    前記第1のメイン配線基板と、前記第2のメイン配線基板と、前記シールド壁とによって、略閉空間が形成されている、請求項1から19の何れか一つに記載の三次元実装構造体。
  22. 前記コネクタ配線基板は、基板内に電子部品を内蔵した部品内蔵基板である、請求項1から21の何れか一つに記載の三次元実装構造体。
  23. 前記第1のメイン配線基板および前記第2のメイン配線基板の少なくとも一方は、基板内に電子部品を内蔵した部品内蔵基板である、請求項1から22の何れか一つに記載の三次元実装構造体。
  24. 請求項1から23の何れか一つに記載の三次元実装構造体と、
    前記三次元実装構造体を収納する筐体と
    を備えた携帯用電子機器。
  25. 表面に配線パターンを有し、当該配線パターンの一部に電子部品が実装された第1のメイン配線基板を用意する工程と、
    前記第1のメイン配線基板に対して略垂直となるように、表面に配線パターンを有し、当該配線パターンの一部に電子部品が実装されたコネクタ配線基板を配置する工程と、
    前記第1のメイン配線基板に対して略平行に、かつ、前記コネクタ配線基板に対して略垂直になるように、表面に配線パターンを有し、当該配線パターンの一部に電子部品が実装された第2のメイン配線基板を配置する工程と、
    前記第1のメイン配線基板の前記配線パターンと前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとの両者を互いに電気的に接続する工程と、
    前記第2のメイン配線基板の前記配線パターンと前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとの両者を互いに電気的に接続する工程と
    を包含する、三次元実装構造体の製造方法。
  26. 表面に配線パターンを有し、当該配線パターンの一部に電子部品が実装された第1のメイン配線基板を用意する工程と、
    前記第1のメイン配線基板に対して略平行となるように、表面に配線パターンを有し、当該配線パターンの一部に電子部品が実装された第2のメイン配線基板を配置する工程と、
    前記第1のメイン配線基板および前記第2のメイン配線基板に対して略垂直になるように、表面に配線パターンを有し、当該配線パターンの一部に電子部品が実装されたコネクタ配線基板を配置する工程と、
    前記第1のメイン配線基板の前記配線パターンと前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとの両者を互いに電気的に接続する工程と、
    前記第2のメイン配線基板の前記配線パターンと前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとの両者を互いに電気的に接続する工程と
    を包含する、三次元実装構造体の製造方法。
  27. 前記第1のメイン配線基板上に、当該第1のメイン配線基板の法線方向から見て略ロの字形状を有し、半田付け可能な磁性材料からなるシールド部材を配置し、そして、前記第2のメイン配線基板を配置した際に、前記第1のメイン配線基板と前記第2のメイン配線基板と前記シールド部材とによって、略閉空間を形成する工程を更に実行する、請求項25または26に記載の三次元実装構造体の製造方法。
  28. 前記第1のメイン配線基板の前記配線パターンと前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとの両者を互いに電気的に接続する工程、および、前記第2のメイン配線基板の前記配線パターンと前記コネクタ配線基板の前記配線パターンとの両者を互いに電気的に接続する工程は、同一工程で実行される、請求項25から27の何れか一つに記載の三次元実装構造体の製造方法。
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