JP2005045008A - Multilayer body and its producing process - Google Patents

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Sadashi Nakamura
禎志 中村
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayer body such as a printed wiring board, especially a flexible wiring board, having an IVH structure in which a conductor is secured rigidly into an IVH even if it is subjected to stress or bending due to working environment and good connection reliability is ensured over a long term. <P>SOLUTION: The multilayer body comprises a film 1, first and second resin layers 2 and 3 having at least one layer formed on the opposite sides of the film 1, first and second wiring patterns 4 and 5 formed on the surface of the first and second resin layers 2 and 3, contact holes provided in the first and second resin layers and the film such that the contact hole in the film has a diameter larger than that in the resin layer in order to connect the first and second wiring patterns 4 and 5 electrically, and a conductor formed to clamp the film in the contact hole. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は両面あるいは多層配線を電気的に接続するための接続孔を有するプリント配線板、特にフレキシブル配線板としての多層積層体およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a printed wiring board having a connection hole for electrically connecting double-sided or multilayer wiring, and more particularly to a multilayer laminate as a flexible wiring board and a manufacturing method thereof.

近年、電子機器の軽薄短小化が進み、それに伴ってプリント配線板にもより薄厚化の要求がなされるようになってきている。従来から、薄厚基板といえばポリイミドフィルムの表面に銅配線を施したフレキシブル配線板がよく知られているが、配線ピッチを細かくしたり多層化したりしても、一般的な層間接続構造のスルーホールを用いているため高密度実装の実現は困難であった。そこで、薄厚で高密度実装に対応できる配線板として、層間接続にインナービアホール(以下IVH)を用いたフレキシブル配線板などが提案されている。   In recent years, electronic devices have become lighter, thinner, and smaller, and accordingly, printed wiring boards have been required to be thinner. Conventionally, a flexible wiring board with copper wiring on the surface of a polyimide film is well known as a thin substrate, but even if the wiring pitch is made fine or multi-layered, a through-hole with a general interlayer connection structure is used. Therefore, it was difficult to realize high-density mounting. Therefore, a flexible wiring board using inner via holes (hereinafter referred to as IVH) for interlayer connection has been proposed as a wiring board that is thin and compatible with high-density mounting.

図7に層間接続構造を用いたフレキシブル配線板の断面図を示す。   FIG. 7 shows a cross-sectional view of a flexible wiring board using an interlayer connection structure.

回路パターン87a、87bとは貫通孔83に充填された導電性ペースト85によってIVH接続され2層配線基板88と同様に回路パターン96a、96bとを導電性ペースト85によってIVH接続された2層回路基板95を絶縁基板92に張り付けて接着することにより4層回路基板を形成している。   The circuit patterns 87a and 87b are IVH connected by the conductive paste 85 filled in the through holes 83, and the circuit patterns 96a and 96b are IVH connected by the conductive paste 85 in the same manner as the two-layer wiring board 88. A four-layer circuit board is formed by attaching 95 to the insulating substrate 92 and bonding the same.

なお、この出願の発明に関する先行技術文献情報として、例えば、特許文献1が知られている。
特開平6−268345号公報
For example, Patent Document 1 is known as prior art document information related to the invention of this application.
JP-A-6-268345

しかしながら、IVH接続のフレキシブル配線板は基材となるフィルム(一般的にはポリイミドフィルムが多用されている)と、IVH内に形成する導電体(通常、Cuめっきを施して導電体を形成する場合が多い)との密着性が良くないため、使用環境によるストレスや屈曲等の影響により、IVH内で導電体が破断したり、配線パターンと導電体間で破断したりして、長期にわたって接続を安定化させることが困難であった。   However, a flexible wiring board for IVH connection is a base film (generally a polyimide film is generally used) and a conductor formed in IVH (usually when Cu conductor is applied to form a conductor) In many cases, the conductor breaks in the IVH or breaks between the wiring pattern and the conductor due to the influence of stress, bending, etc. depending on the usage environment, and the connection is made for a long time. It was difficult to stabilize.

本発明は上記課題に鑑みてなされたもので、プリント配線板、特にフレキシブル配線板において、使用環境によるストレスや屈曲等の影響を受けても導電体がIVH内に強固に固定され、長期にわたって接続信頼性が良好なIVH構造を有する多層積層体を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and in a printed wiring board, particularly a flexible wiring board, the conductor is firmly fixed in the IVH even under the influence of stress, bending, etc. due to the use environment, and is connected over a long period of time. An object is to provide a multilayer laminate having an IVH structure with good reliability.

上記課題を解決するために、本発明の請求項1に記載の発明は、フィルムと、このフィルムの両面に設けた少なくとも1層からなる第1と第2の樹脂層と、この第1と第2の樹脂層の表面に形成した第1と第2の配線パターンと、この第1と第2の配線パターンを電気的に接続するために第1、第2の樹脂層およびフィルムに、フィルムより樹脂層側が大径となるように設けた接続孔と、この接続孔内において前記フィルムを挟み込むように形成した導電体とからなる多層積層体であり、導電体が前記フィルムを挟み込むように形成されるため、フィルムと導電体が強固に固定され、長期にわたって接続を安定化させる作用を有する。   In order to solve the above-mentioned problem, the invention described in claim 1 of the present invention is characterized in that a film, first and second resin layers comprising at least one layer provided on both surfaces of the film, and the first and second resin layers are provided. The first and second wiring patterns formed on the surface of the two resin layers, and the first and second resin layers and the film are electrically connected to the first and second wiring patterns in order to electrically connect the first and second wiring patterns. A multi-layer laminate comprising a connection hole provided so that the resin layer side has a large diameter and a conductor formed so as to sandwich the film in the connection hole, and the conductor is formed so as to sandwich the film. Therefore, the film and the conductor are firmly fixed, and the connection is stabilized over a long period.

本発明の請求項2に記載の発明は、接続孔に3から5度のテーパーを設けた請求項1に記載の多層積層体であり、導電体の形成を容易に実施できる作用を有する。   Invention of Claim 2 of this invention is a multilayer laminated body of Claim 1 which provided the taper of 3 to 5 degree | times in the connection hole, and has the effect | action which can implement a conductor easily.

本発明の請求項3に記載の発明は、第1の樹脂層と、この第1の樹脂層の下面に設けた第1の配線パターンと、この第1の樹脂層の上面に積層したフィルムと、このフィルムに積層した第2の樹脂層と、この第2の樹脂層の上面に設けた第2の配線パターンを電気的に接続するため第1、第2の樹脂層およびフィルムに、フィルムより樹脂層側が大径となるように設けた接続孔に形成した導電体からなる第1の多層積層体と、この第1の多層積層体の上面に第3の樹脂層を積層し、この第3の樹脂層の上面に第2のフィルムを積層し、この第2のフィルムの上面に第4の樹脂層を積層し、この第4の樹脂層の上面に第3の配線パターンを積層し、層間の配線パターンを電気的に接続するために第3、第4の樹脂層および第2のフィルムに、フィルムより樹脂層側が大径となるように設けた接続孔に導電体を形成した第2の多層積層体を少なくとも1つ以上積層した多層積層体であり、配線パターンを3層以上の多層配線板が形成でき配線収容性の向上や実装の高密度化に寄与する作用を有する。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a first resin layer, a first wiring pattern provided on the lower surface of the first resin layer, and a film laminated on the upper surface of the first resin layer, In order to electrically connect the second resin layer laminated on the film and the second wiring pattern provided on the upper surface of the second resin layer, the first and second resin layers and the film are A first multilayer laminate composed of a conductor formed in a connection hole provided so that the resin layer side has a large diameter, and a third resin layer is laminated on the upper surface of the first multilayer laminate, A second film is laminated on the upper surface of the second resin layer, a fourth resin layer is laminated on the upper surface of the second film, and a third wiring pattern is laminated on the upper surface of the fourth resin layer. In order to electrically connect the wiring patterns of the third and fourth resin layers and the second film, A multilayer wiring board in which at least one second multilayer laminated body in which a conductor is formed is laminated in a connection hole provided so that the resin layer side has a larger diameter than the film, and the wiring pattern is a multilayer wiring board having three or more layers Can be formed, and has an effect of improving wiring accommodation and contributing to higher mounting density.

本発明の請求項4に記載の発明は、フィルムの両面に未硬化樹脂を塗布して未硬化樹脂層を形成する工程と、次に未硬化樹脂層の両面にカバーフィルムを形成する工程と、次にカバーフィルムを形成した未硬化樹脂層とフィルムに、フィルムより未硬化樹脂側が大径となるように設けた接続孔を形成する工程と、次に接続孔に導電体を形成する工程と、次にカバーフィルムを剥離する工程と、次に未硬化樹脂層の両面に金属箔を配置し加熱加圧し配線パターンを形成する工程とからなる多層積層体の製造方法であり、長期にわたって接続信頼性が良好な接続孔を有する配線基板を提供することができる。   The invention according to claim 4 of the present invention includes a step of applying an uncured resin on both sides of the film to form an uncured resin layer, and a step of forming a cover film on both sides of the uncured resin layer, Next, in the uncured resin layer and the film on which the cover film is formed, a step of forming a connection hole provided so that the uncured resin side has a larger diameter than the film, a step of forming a conductor in the connection hole, and Next, a method for producing a multilayer laminate comprising a step of peeling the cover film and a step of forming a wiring pattern by placing metal foil on both sides of the uncured resin layer and then applying heat and pressure. Can provide a wiring board having a good connection hole.

本発明の請求項5に記載の発明は、フィルムの両面に未硬化樹脂を塗布して未硬化樹脂層を形成する工程と、次に未硬化樹脂層の両面にカバーフィルムを形成する工程と、次にカバーフィルムを形成した未硬化樹脂層とフィルムに、フィルムより未硬化樹脂層側が大径となるように設けた接続孔を形成する工程と、次に接続孔に導電体を形成する工程と、次にカバーフィルムを剥離する工程と、次に未硬化樹脂層の両面に金属箔を配置し加熱加圧し配線パターンを形成する工程とからなる多層積層体の上面にフィルムの両面に未硬化樹脂を塗布して未硬化樹脂層を形成する工程と、次に未硬化樹脂層の両面にカバーフィルムを形成する工程と、次にカバーフィルムを形成した未硬化樹脂層とフィルムに、フィルムより未硬化樹脂側が大径となるように設けた接続孔を形成する工程と、次に接続孔に導電体を形成する工程と、次にカバーフィルムを剥離する工程と、次に未硬化樹脂層の片面に金属箔を配置し加熱加圧し配線パターンを形成する工程を繰り返して形成した多層積層体の製造方法であり、長期にわたって接続信頼性が良好な接続孔を有する多層配線基板を提供することができる。   The invention according to claim 5 of the present invention includes a step of applying an uncured resin on both sides of the film to form an uncured resin layer, and a step of forming a cover film on both sides of the uncured resin layer, Next, a step of forming a connection hole provided in the uncured resin layer and the film on which the cover film is formed so that the uncured resin layer side has a larger diameter than the film, and a step of forming a conductor in the connection hole, Next, uncured resin on both surfaces of the film on the upper surface of the multilayer laminate comprising the steps of peeling the cover film and then forming a wiring pattern by placing metal foil on both surfaces of the uncured resin layer and heating and pressing The process of forming an uncured resin layer by applying, then the process of forming a cover film on both sides of the uncured resin layer, and then the uncured resin layer and the film on which the cover film is formed are uncured from the film. The resin side has a large diameter A step of forming a connection hole, a step of forming a conductor in the connection hole, a step of peeling the cover film, and a metal foil on one side of the uncured resin layer This is a method for manufacturing a multilayer laminate formed by repeating the process of forming a wiring pattern by applying pressure, and can provide a multilayer wiring board having connection holes with good connection reliability over a long period of time.

本発明の請求項6に記載の発明は、フィルムと、このフィルムの両面に少なくとも1層からなる第1と第2の未硬化樹脂層と、この第1と第2の未硬化樹脂層の表面に形成した第1と第2のカバーフィルムとからなる多層積層体の厚さ方向にテーパー付きの接続孔を形成するためのレーザー加工方法であって、1パルスのレーザー照射に必要なエネルギー蓄積時間tcが、レーザーパルス発振周期Tに対して、
c<0.1×T
なる関係を満足する請求項4または5に記載の多層積層体の製造方法であり、レーザー加工時に発生する熱の作用によって第1と第2の未硬化樹脂層を流動させることにより、第1と第2の未硬化樹脂層に設けた接続孔の径がフィルムに設けた接続孔の径より大きい径となるように形成することができ、連続して出力されるレーザーパルスの間隔を十分長く確保することにより、第1と第2の未硬化樹脂層の流動範囲をフィルムに設けた接続孔の径よりも約20μm程度大きい孔径になるように抑制する効果を有する。
The invention according to claim 6 of the present invention includes a film, first and second uncured resin layers comprising at least one layer on both surfaces of the film, and surfaces of the first and second uncured resin layers. A laser processing method for forming a connection hole having a taper in the thickness direction of a multilayer laminate comprising a first cover film and a second cover film formed in the above, and an energy storage time required for one pulse of laser irradiation t c is the laser pulse oscillation period T,
t c <0.1 × T
The method for producing a multilayer laminate according to claim 4 or 5, wherein the first and second uncured resin layers are caused to flow by the action of heat generated during laser processing. The connection hole provided in the second uncured resin layer can be formed so that the diameter of the connection hole is larger than the diameter of the connection hole provided in the film, and a sufficiently long interval between laser pulses to be continuously output is ensured. By doing so, it has the effect of suppressing the flow range of the first and second uncured resin layers to be about 20 μm larger than the diameter of the connection hole provided in the film.

本発明の請求項7に記載の発明は、少なくとも2パルス以上の連続パルスレーザーを照射することにより加工を行う請求項6に記載の多層積層体の製造方法であり、接続孔に3から5度のテーパーを設けることができる。   Invention of Claim 7 of this invention is a manufacturing method of the multilayer laminated body of Claim 6 which processes by irradiating a continuous pulse laser of at least 2 pulses or more, and is 3 to 5 degree | times to a connection hole The taper can be provided.

本発明の請求項8に記載の発明は、パルス幅が50ns以下の連続パルスレーザーを照射することにより加工を行う請求項6に記載の多層積層体の製造方法であり、パルス幅が短いほどレーザー加工時に発生する熱の作用を小さくすることができ、それに伴いパルス間の間隔も小さくすることができるためレーザー加工の高速化を可能にする効果を有する。   Invention of Claim 8 of this invention is a manufacturing method of the multilayer laminated body of Claim 6 which processes by irradiating the continuous pulse laser whose pulse width is 50 ns or less, and laser is so short that a pulse width is short Since the effect of heat generated during processing can be reduced, and the interval between pulses can be reduced accordingly, laser processing can be speeded up.

本発明の請求項9に記載の発明は、波長が355nm以下のレーザー光によって加工を行う請求項6に記載の多層積層体の製造方法であり、レーザー光の波長を短くすることにより得られる有機物の化学的結合を切断するアブレーション効果をレーザー加工に取り込み、レーザー加工時に発生する熱の作用をできるだけ小さく抑制する効果を有する。   Invention of Claim 9 of this invention is a manufacturing method of the multilayer laminated body of Claim 6 which processes by the laser beam whose wavelength is 355 nm or less, The organic substance obtained by shortening the wavelength of a laser beam The ablation effect that cuts the chemical bond is incorporated into laser processing, and the effect of heat generated during laser processing is minimized.

以上のように本発明によれば、フィルムと、このフィルムの両面に少なくとも1層からなる第1と第2の樹脂層と、この第1と第2の樹脂層の表面に形成した第1と第2の配線パターンと、この第1と第2の配線パターンを電気的に接続するために第1、第2の樹脂層およびフィルムに、フィルムより樹脂層の方が大径となるように設けた接続孔と、この接続孔内において前記フィルムを挟み込むように形成した導電体とからなる多層積層体とすることにより、導電体が前記フィルムを挟み込むように形成されるため、フィルムと導電体が強固に固定され、長期にわたって接続を安定化させることが可能となる。   As described above, according to the present invention, the film, the first and second resin layers including at least one layer on both surfaces of the film, and the first and second layers formed on the surfaces of the first and second resin layers are provided. In order to electrically connect the second wiring pattern and the first and second wiring patterns, the first and second resin layers and the film are provided such that the resin layer has a larger diameter than the film. Since the conductor is formed so as to sandwich the film, the film and the conductor are formed by sandwiching the connection hole and the conductor formed so as to sandwich the film in the connection hole. It is firmly fixed and the connection can be stabilized over a long period of time.

以下、本発明の一実施の形態を図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

(実施の形態1)
図1は本発明の実施の形態1を説明する多層積層体の断面図である。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer laminate for explaining Embodiment 1 of the present invention.

図1においてフィルム1の両面には第1の樹脂層2と第2の樹脂層3が形成されている。この第1と第2の樹脂層2、3の表面には第1の配線パターン4と第2の配線パターン5が形成されている。この第1と第2の配線パターン4、5は電気的に接続するために接続孔6内に形成した導電体7と接続されている。この第1の樹脂層2と第2の樹脂層3の径がフィルム1の径よりも大きくなるように形成され、フィルム1を挟み込むハトメ形状に形成されている。   In FIG. 1, a first resin layer 2 and a second resin layer 3 are formed on both surfaces of a film 1. A first wiring pattern 4 and a second wiring pattern 5 are formed on the surfaces of the first and second resin layers 2 and 3. The first and second wiring patterns 4 and 5 are connected to a conductor 7 formed in the connection hole 6 for electrical connection. The diameters of the first resin layer 2 and the second resin layer 3 are formed to be larger than the diameter of the film 1, and are formed in an eyelet shape that sandwiches the film 1.

このように、接続孔6内に導電体7がフィルム1を挟み込むように形成されるため、多層積層体として形成された配線基板に曲げ応力や屈曲、熱応力、熱膨張差や吸湿によって生じるストレスが付与されたとしても、導電体7が接続孔6内部を摺動することなくしっかりと固着しているため、導電体7と第1、第2の配線パターン4、5の接続界面や導電体7自身に破断が生じにくくなるため、長期にわたって接続信頼性が良好なIVH構造を有する配線基板を得ることができる。   Thus, since the conductor 7 is formed so as to sandwich the film 1 in the connection hole 6, the stress generated by bending stress, bending, thermal stress, thermal expansion difference and moisture absorption on the wiring board formed as a multilayer laminate. Since the conductor 7 is firmly fixed without sliding inside the connection hole 6 even if the contact is provided, the connection interface between the conductor 7 and the first and second wiring patterns 4 and 5 and the conductor 7 itself is less likely to break, so that a wiring board having an IVH structure with good connection reliability over a long period of time can be obtained.

フィルム1は絶縁性の有機材料からなり、例えばポリイミドフィルムやアラミドフィルム、液晶ポリマーシート等を用いることができる。本実施の形態1においては、厚さ12.5μmのポリイミドフィルムを用いた。   The film 1 is made of an insulating organic material, and for example, a polyimide film, an aramid film, a liquid crystal polymer sheet, or the like can be used. In the first embodiment, a polyimide film having a thickness of 12.5 μm is used.

第1の樹脂層2と第2の樹脂層3は絶縁性の有機材料からなり、例えばポリイミド樹脂やエポキシ樹脂、2種類の有機樹脂の特性を併せ持つ変性樹脂等を用いることができる。これらの樹脂はフィルム1や第1、第2の配線パターン4、5との密着力を長期間いろいろな使用環境下において十分高く確保する必要があるため、熱硬化系樹脂であることが望ましい。   The first resin layer 2 and the second resin layer 3 are made of an insulating organic material. For example, a polyimide resin, an epoxy resin, a modified resin having characteristics of two kinds of organic resins, or the like can be used. These resins are desirably thermosetting resins because it is necessary to ensure that the adhesion strength with the film 1 and the first and second wiring patterns 4 and 5 is sufficiently high for a long period of time under various usage environments.

また、熱可塑性樹脂であってもリフローピーク温度約260℃で軟化しないものであれば適用可能である。本実施の形態1においては、エポキシ変性ポリイミド樹脂を用い、第1の樹脂層2として厚さ10μm、第2の樹脂層3として厚さ5μmを塗布し、硬化させて使用している。硬化の方法等については、後述の製造方法で詳細に記述する。   Moreover, even if it is a thermoplastic resin, if it does not soften at the reflow peak temperature of about 260 degreeC, it is applicable. In the first embodiment, an epoxy-modified polyimide resin is used, and a first resin layer 2 having a thickness of 10 μm and a second resin layer 3 having a thickness of 5 μm is applied and cured. The curing method and the like will be described in detail in the manufacturing method described later.

第1の配線パターン4と第2の配線パターン5は電気伝導性を有する物質からなり、例えば銅箔や銅めっき配線等を用いることができる。本実施の形態1においては、厚さ9μmの電解銅箔を用いた。この電解銅箔は、第1、第2の樹脂層2、3と接着する面にめっき法を用いて粗化処理を施してあり密着性を確保している。パターン形成はフォトリソグラフィー法及びエッチング法を用いて形成した。   The first wiring pattern 4 and the second wiring pattern 5 are made of a material having electrical conductivity. For example, a copper foil or a copper plating wiring can be used. In the first embodiment, an electrolytic copper foil having a thickness of 9 μm is used. The electrolytic copper foil is subjected to a roughening process using a plating method on the surface to be bonded to the first and second resin layers 2 and 3 to ensure adhesion. The pattern was formed using a photolithography method and an etching method.

接続孔6は後述の製造方法により形成し、内部に導電体7を形成している。   The connection hole 6 is formed by a manufacturing method described later, and a conductor 7 is formed inside.

導電体7は、例えば導電性ペーストや金属めっき等を用いることができる。本実施の形態1においては、銅粉とエポキシ樹脂を混練した導電性ペーストを接続孔6内に充填して導電体7として用いた。   For the conductor 7, for example, a conductive paste or metal plating can be used. In the first embodiment, a conductive paste kneaded with copper powder and an epoxy resin is filled in the connection hole 6 and used as the conductor 7.

導電体7は、図1に示すように接続孔6内に完全に充填されるように形成してもよいし、図2に示すように接続孔6の内壁部に導電体7を形成し、完全に充填されていない形状でもかまわないが、配線基板として配線収容性や実装部品の実装密度を高めることを考慮すると、図1のように接続孔6内を完全に充填した形状の方がより好ましい。   The conductor 7 may be formed so as to be completely filled in the connection hole 6 as shown in FIG. 1, or the conductor 7 is formed on the inner wall portion of the connection hole 6 as shown in FIG. A shape that is not completely filled may be used. However, in consideration of increasing the wiring capacity and the mounting density of mounting parts as a wiring board, the shape in which the inside of the connection hole 6 is completely filled as shown in FIG. preferable.

なお、図2に示す導電体7の形状は金属めっきで形成する方法を用いた場合に形成することができる。   The shape of the conductor 7 shown in FIG. 2 can be formed when a method of forming by metal plating is used.

また、接続孔6の詳細は後述するが、内部に導電体7を導電性ペーストをスキージングで充填したり、めっき法で形成したりするため、片口が広くなっている接続孔6であることが望ましい。   Although details of the connection hole 6 will be described later, the connection hole 6 is widened at one end because the conductor 7 is filled with a conductive paste by squeezing or formed by plating. Is desirable.

一方、配線基板としては接続安定性の確保や接続孔6の微細化対応の観点からみて、接続孔6の両開口径はできるだけ同じ大きさであることが望ましい。そこで、本実施の形態1においては、接続孔6にテーパーを設けているが、3から5度範囲になるようレーザー加工をコントロールしている。この結果、導電体7の形成を容易にしつつ、配線基板としては接続安定性を確保している。   On the other hand, as for the wiring board, it is desirable that both opening diameters of the connection holes 6 are as large as possible from the viewpoint of ensuring connection stability and miniaturization of the connection holes 6. Therefore, in the first embodiment, the connection hole 6 is tapered, but the laser processing is controlled to be in the range of 3 to 5 degrees. As a result, the connection stability is secured as the wiring board while facilitating the formation of the conductor 7.

次に図3を用いて、本実施の形態1の多層積層体の製造方法を説明する。   Next, the manufacturing method of the multilayer laminated body of this Embodiment 1 is demonstrated using FIG.

図3(a)は本実施の形態1の多層積層体の基材となるフィルム1である。   FIG. 3A shows a film 1 serving as a base material of the multilayer laminate of the first embodiment.

このフィルム1の両面に第1の未硬化樹脂層8と第2の未硬化樹脂層9を形成した状態を図3(b)に示す。   A state in which the first uncured resin layer 8 and the second uncured resin layer 9 are formed on both surfaces of the film 1 is shown in FIG.

さらに、第1の未硬化樹脂層8と第2の未硬化樹脂層9の最表面にカバーフィルム10を形成し、図3(c)に示す状態にする。   Further, the cover film 10 is formed on the outermost surfaces of the first uncured resin layer 8 and the second uncured resin layer 9 to obtain the state shown in FIG.

第1の未硬化樹脂層8と第2の未硬化樹脂層9は液体の状態で供給され、フィルム1の表面に塗工した。本実施の形態1においては、塗工方法としてリバースコート法を用いて、片面に第1の未硬化樹脂層8となる樹脂層を塗布し、次に110から150℃に設定されたトンネル乾燥機で溶剤を揮発して第1の未硬化樹脂層8を形成し、次にロールラミネータを用いて70〜90℃、圧力1.0〜4.0kg/cmでカバーフィルム10をラミネートした。ここまでの工程は連続して製造を行った。続いて、フィルム1の他方の面にも同様に、塗工、乾燥、ラミネートを行って図3(c)の多層積層体を製造した。   The first uncured resin layer 8 and the second uncured resin layer 9 were supplied in a liquid state and applied to the surface of the film 1. In the present first embodiment, a reverse dryer method is used as a coating method, a resin layer to be the first uncured resin layer 8 is applied on one side, and then a tunnel dryer set at 110 to 150 ° C. The solvent was volatilized to form the first uncured resin layer 8, and then the cover film 10 was laminated using a roll laminator at 70 to 90 ° C. and a pressure of 1.0 to 4.0 kg / cm. The process up to here was continuously performed. Subsequently, coating, drying, and laminating were similarly performed on the other surface of the film 1 to produce a multilayer laminate of FIG.

本実施の形態1では片面ずつに分けて製造を行ったが、未硬化樹脂層のBステージ状態を表裏同様の状態にするには、両面同時塗工、両面同時ラミネートを行った方がより望ましい。また、塗工方法はリバースコート法に限らず、ドクターブレード法やコンマコータを用いた方法など他の塗工方法でもかまわない。また、本実施の形態1のように、片面ずつ塗工を行う場合、先に塗工した樹脂の乾燥温度は低めで行い、後に塗工する樹脂の乾燥温度は高めにして、表裏のBステージ状態ができるだけ同じようになるようにした。   In the first embodiment, the production is performed separately for each side, but in order to make the B-stage state of the uncured resin layer the same as the front and back, it is more desirable to perform double-sided simultaneous coating and double-sided simultaneous lamination. . The coating method is not limited to the reverse coating method, and other coating methods such as a doctor blade method or a method using a comma coater may be used. In addition, when coating one side at a time as in the first embodiment, the drying temperature of the resin previously applied is lower, the drying temperature of the resin to be applied later is increased, and the B stage on the front and back sides The state was made as similar as possible.

また、カバーフィルム10には、厚さ9μmのPEN(ポリエチレンナフタレート)を用い、未硬化樹脂層にラミネートする面にはシリコン離型処理をあらかじめ行ったものを使用した。   Further, PEN (polyethylene naphthalate) having a thickness of 9 μm was used for the cover film 10, and the surface laminated on the uncured resin layer was previously subjected to silicon release treatment.

次に図3(d)に示すように、レーザー加工機を用いて接続孔6を形成した。この工程で使用したレーザー加工機は、波長355nmの3倍高調波YAGレーザーを用い、連続パルスを照射して加工を行う装置を用いた。   Next, as shown in FIG.3 (d), the connection hole 6 was formed using the laser processing machine. The laser processing machine used in this step used a device that performs processing by irradiating continuous pulses using a third harmonic YAG laser having a wavelength of 355 nm.

このレーザー加工機は、1パルスあたりの照射時間が50ns、加工点での出力が60μJを発生し、1孔加工するために60パルスを照射した。このときのパルス周波数は3kHzで、レーザー発振周期(T)が約333msで1パルスを照射するように設定した。また上記加工点出力を得るために蓄積時間tcを約19msに設定した。このようなレーザー加工によって、第1と第2の未硬化樹脂層8、9の流動範囲をフィルム1に設けた接続孔の径よりも約20μm程度大きい孔径になるように抑制した。第1と第2の未硬化樹脂層8、9が流動した部分には、レーザー加工時に溶けたPENが流れ込み、図3(d)のようになる。本加工において照射するパルス数やレーザー光の焦点を調整することにより接続孔6に3から5度のテーパーを設けることができる。 In this laser processing machine, the irradiation time per pulse was 50 ns, the output at the processing point was 60 μJ, and 60 pulses were irradiated to process one hole. At this time, the pulse frequency was 3 kHz, and the laser oscillation cycle (T) was set to irradiate one pulse at about 333 ms. In order to obtain the machining point output, the accumulation time t c was set to about 19 ms. By such laser processing, the flow range of the first and second uncured resin layers 8 and 9 was suppressed to be about 20 μm larger than the diameter of the connection hole provided in the film 1. PEN melted at the time of laser processing flows into the portion where the first and second uncured resin layers 8 and 9 have flowed, as shown in FIG. A taper of 3 to 5 degrees can be provided in the connection hole 6 by adjusting the number of pulses to be irradiated and the focal point of the laser beam in this processing.

図3(e)は、接続孔6に導電体7を充填した状態を示している。   FIG. 3E shows a state in which the conductor 7 is filled in the connection hole 6.

本工程では導電体7として導電性ペーストを用い、接続孔6の開口部の小さい側から真空吸引をしながら、接続孔6の開口部の大きい側からスキージングで導電性ペーストを刷り込み充填した。このときスキージング回数を増せば導電性ペーストの充填性が向上するのでより好ましい。   In this step, a conductive paste is used as the conductor 7, and the conductive paste is imprinted and filled by squeezing from the large side of the opening of the connection hole 6 while performing vacuum suction from the small side of the opening of the connection hole 6. . At this time, it is more preferable to increase the number of squeezing because the filling property of the conductive paste is improved.

次に、カバーフィルム10を剥離して図3(f)のようにする。カバーフィルム10の剥離は常温で行い、剥離時に導電性ペーストがカバーフィルム10側に取られないように注意を払う必要がある。   Next, the cover film 10 is peeled off as shown in FIG. The cover film 10 is peeled off at room temperature, and care must be taken so that the conductive paste is not taken on the cover film 10 side at the time of peeling.

最後に、図3(f)の多層積層体の両面に銅箔を配置して、加熱加圧して第1と第2の未硬化樹脂層8、9を硬化させるとともに銅箔と接着し、同時に導電体7を圧縮して銅箔と電気的接続を形成しつつフィルム1を挟み込む形状に成形する。続いて銅箔をパターニングして第1の配線パターン4と第2の配線パターン5を形成して図3(g)の多層積層体を得ることができる。   Finally, copper foils are arranged on both sides of the multilayer laminate of FIG. 3 (f), heated and pressed to cure the first and second uncured resin layers 8 and 9, and bonded to the copper foils at the same time. The conductor 7 is compressed into a shape that sandwiches the film 1 while forming an electrical connection with the copper foil. Subsequently, the copper foil is patterned to form the first wiring pattern 4 and the second wiring pattern 5 to obtain the multilayer laminate shown in FIG.

本加熱加圧工程では、温度200℃を1時間キープしつつ、150から200kg/cm2で行った。 In this heating and pressurizing step, the temperature was maintained at 200 ° C. for 1 hour, and was performed at 150 to 200 kg / cm 2 .

(実施の形態2)
図4は、本発明の実施の形態2を説明する多層積層体の断面図である。
(Embodiment 2)
FIG. 4 is a cross-sectional view of a multilayer laminate for explaining Embodiment 2 of the present invention.

図4においてフィルム1の両面には第1の樹脂層2と第2の樹脂層3が形成されている。この第1と第2の樹脂層2、3の表面には、第1の配線パターン4と第2の配線パターン5が形成されている。この第1と第2の配線パターン4、5は電気的に接続するために接続孔6内に形成した導電体7と接続している。この導電体7は第1の樹脂層2と第2の樹脂層3の径がフィルム1の径よりも大きくなるように形成されているため、フィルム1を挟み込むハトメ形状に形成されている。これを第1の積層体101と呼ぶ。第1の積層体101は図1に示す積層体と同様のものであり、構成材料や製造方法は実施の形態1で説明したとおりである。   In FIG. 4, a first resin layer 2 and a second resin layer 3 are formed on both surfaces of the film 1. A first wiring pattern 4 and a second wiring pattern 5 are formed on the surfaces of the first and second resin layers 2 and 3. The first and second wiring patterns 4 and 5 are connected to a conductor 7 formed in the connection hole 6 for electrical connection. Since the conductor 7 is formed so that the diameters of the first resin layer 2 and the second resin layer 3 are larger than the diameter of the film 1, the conductor 7 is formed in an eyelet shape that sandwiches the film 1. This is referred to as a first stacked body 101. The first stacked body 101 is the same as the stacked body shown in FIG. 1, and the constituent materials and the manufacturing method are as described in the first embodiment.

この第1の積層体101の上面には、第3の樹脂層11と第2のフィルム12と第4の樹脂層13が積層され、第4の樹脂層13の最表面には第3の配線パターン14が形成されている。この第3の配線パターン14と第1の配線パターン4は、電気的に接続するために第2の接続孔16内に形成した第2の導電体17と接続している。この第2の導電体17は第3の樹脂層11と第4の樹脂層13の径が第2のフィルム12の径よりも大きくなるように形成されているため、第2のフィルム12を挟み込むハトメ形状に形成されている。これを第2の積層体102と呼ぶ。第2の積層体102も構成材料や製造方法は実施の形態1で説明したものを用いている。   A third resin layer 11, a second film 12, and a fourth resin layer 13 are laminated on the upper surface of the first laminate 101, and a third wiring is formed on the outermost surface of the fourth resin layer 13. A pattern 14 is formed. The third wiring pattern 14 and the first wiring pattern 4 are connected to a second conductor 17 formed in the second connection hole 16 for electrical connection. Since the second conductor 17 is formed so that the diameters of the third resin layer 11 and the fourth resin layer 13 are larger than the diameter of the second film 12, the second film 12 is sandwiched therebetween. It is formed in an eyelet shape. This is called a second stacked body 102. As the second stacked body 102, the constituent material and the manufacturing method described in Embodiment Mode 1 are used.

また、この第1の積層体101の下面には第5の樹脂層18と第3のフィルム19と第6の樹脂層20が積層され、第6の樹脂層20の最表面には第4の配線パターン21が形成されている。この第4の配線パターン21と第2の配線パターン5は電気的に接続するために第3の接続孔22内に形成した第3の導電体23と接続している。この第3の導電体23は第5の樹脂層18と第6の樹脂層20の径が第3のフィルム19の径よりも大きくなるように形成されているため、第3のフィルム19を挟み込むハトメ形状に形成されている。これを第3の積層体103と呼ぶ。第3の積層体103も構成材料や製造方法は実施の形態1で説明したものを用いている。   Further, the fifth resin layer 18, the third film 19, and the sixth resin layer 20 are laminated on the lower surface of the first laminated body 101, and the fourth resin layer 20 is disposed on the outermost surface of the sixth resin layer 20. A wiring pattern 21 is formed. The fourth wiring pattern 21 and the second wiring pattern 5 are connected to a third conductor 23 formed in the third connection hole 22 for electrical connection. Since the third conductor 23 is formed so that the diameters of the fifth resin layer 18 and the sixth resin layer 20 are larger than the diameter of the third film 19, the third film 19 is sandwiched between the third conductors 23. It is formed in an eyelet shape. This is referred to as a third stacked body 103. The third laminate 103 also uses the constituent material and the manufacturing method described in Embodiment Mode 1.

本実施の形態2では第1の積層体101の上下に第2の積層体102と第3の積層体103を各1つずつ積層したものであるが、第2の積層体102と第3の積層体103はそれぞれ多層に積層してもかまわない。   In the second embodiment, the second stacked body 102 and the third stacked body 103 are respectively stacked one above the other on the first stacked body 101. However, the second stacked body 102 and the third stacked body 103 are stacked. The stacked bodies 103 may be stacked in multiple layers.

本実施の形態2においても実施の形態1と同様に、導電体がフィルムを挟み込み、接続孔内に嵌合するように形成されるため、多層積層体として形成された配線基板に曲げ応力や屈曲、熱応力、熱膨張差や吸湿によって生じるストレスが付与されたとしても、導電体が接続孔の内部を摺動することなくしっかりと固着しているため、導電体と配線パターンの接続界面や導電体自身に破断が生じにくくなり、長期にわたって接続信頼性が良好なIVH構造を有する配線基板を得ることができる。   Also in the second embodiment, as in the first embodiment, the conductor is formed so as to sandwich the film and fit into the connection hole, so that bending stress or bending is applied to the wiring board formed as a multilayer laminate. Even if stress caused by thermal stress, thermal expansion difference or moisture absorption is applied, the conductor is firmly fixed without sliding inside the connection hole. The body itself is less likely to break, and a wiring board having an IVH structure with good connection reliability over a long period of time can be obtained.

次に図5を用いて、本実施の形態2の多層積層体の製造方法を説明する。   Next, the manufacturing method of the multilayer laminated body of this Embodiment 2 is demonstrated using FIG.

図5(a)は図4で説明した第1の積層体101の両面に、図3(f)で得られる多層積層体を配置し、さらにその両面に銅箔24、25を配置した状態である。これらを加熱加圧して、パターニング工程で銅箔24、25をパターニングして配線パターンを形成する工程を経て、図5(b)に示すような本実施の形態2の多層積層体を得ることができる。具体的な製造方法は、実施の形態1と同様の方法を用いた。   FIG. 5A shows a state in which the multilayer laminate obtained in FIG. 3F is arranged on both sides of the first laminate 101 described in FIG. 4, and copper foils 24 and 25 are arranged on both sides thereof. is there. By heating and pressurizing them and patterning the copper foils 24 and 25 in the patterning step to form a wiring pattern, a multilayer laminate of the second embodiment as shown in FIG. 5B can be obtained. it can. As a specific manufacturing method, the same method as in the first embodiment was used.

さらに多層配線が必要な場合は、図5(b)で得た多層積層体の両面に図3(f)で得られる多層積層体を配置し、さらにその両面に銅箔24、25を配置し、これらを加熱加圧して、パターニングする工程を繰り返せばよい。   If further multilayer wiring is required, the multilayer laminate obtained in FIG. 3 (f) is arranged on both sides of the multilayer laminate obtained in FIG. 5 (b), and copper foils 24, 25 are arranged on both sides thereof. The patterning process may be repeated by heating and pressing them.

(実施の形態3)
図6は本発明の実施の形態3を説明する多層積層体の接続孔の断面模式図である。
(Embodiment 3)
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of the connection hole of the multilayer laminate for explaining the third embodiment of the present invention.

図6(a)は接続孔6の垂直断面図、図6(b)は接続孔6の水平断面図である。   6A is a vertical sectional view of the connection hole 6, and FIG. 6B is a horizontal sectional view of the connection hole 6.

接続孔6の内壁面を、図6(a)、(b)に示すように粗化することにより、導電体7との密着強度が高まり、多層積層体として形成された配線基板に曲げ応力や屈曲、熱応力、熱膨張差や吸湿によって生じるストレスが付与されたとしても、導電体7が接続孔6の内部を摺動することなくしっかりと固着しているため、導電体7と第1、第2の配線パターン4、5の接続界面や導電体7自身に破断が生じにくくなり、長期にわたって接続信頼性が良好なIVH構造を有する配線基板を得ることができる。   By roughening the inner wall surface of the connection hole 6 as shown in FIGS. 6A and 6B, the adhesion strength with the conductor 7 is increased, and bending stress or Even if stress caused by bending, thermal stress, thermal expansion difference or moisture absorption is applied, the conductor 7 is firmly fixed without sliding inside the connection hole 6, so the conductor 7 and the first, The connection interface of the second wiring patterns 4 and 5 and the conductor 7 are less likely to break, and a wiring board having an IVH structure with good connection reliability over a long period of time can be obtained.

本発明の一実施の形態における多層積層体の断面図Sectional drawing of the multilayer laminated body in one embodiment of this invention 本発明の導電体が接続孔内に完全に充填されていない場合の断面図Sectional view when the conductor of the present invention is not completely filled in the connection hole (a)〜(g)本発明の多層積層体の製造方法の工程の断面図(A)-(g) Sectional drawing of the process of the manufacturing method of the multilayer laminated body of this invention. 本発明の他の多層積層体の断面図Sectional view of another multilayer laminate of the present invention (a)、(b)本発明の他の多層積層体の製造方法の工程の断面図(A), (b) Sectional drawing of the process of the manufacturing method of the other multilayer laminated body of this invention. (a)、(b)本発明の他の多層積層体の断面図(A), (b) Cross-sectional view of another multilayer laminate of the present invention 従来の技術を説明する断面図Sectional drawing explaining conventional technology

符号の説明Explanation of symbols

1 フィルム
2 第1の樹脂層
3 第2の樹脂層
4 第1の配線パターン
5 第2の配線パターン
6 接続孔
7 導電体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Film 2 1st resin layer 3 2nd resin layer 4 1st wiring pattern 5 2nd wiring pattern 6 Connection hole 7 Conductor

Claims (9)

フィルムと、このフィルムの両面に設けた少なくとも1層からなる第1と第2の樹脂層と、この第1と第2の樹脂層の表面に形成した第1と第2の配線パターンと、この第1と第2の配線パターンを電気的に接続するために第1、第2の樹脂層およびフィルムに、フィルムより樹脂層側が大径となるように設けた接続孔と、この接続孔内において前記フィルムを挟み込むように形成した導電体とからなる多層積層体。 A film, first and second resin layers comprising at least one layer provided on both surfaces of the film, first and second wiring patterns formed on the surfaces of the first and second resin layers, and In order to electrically connect the first and second wiring patterns, a connection hole provided in the first and second resin layers and the film so that the resin layer side has a larger diameter than the film, and in the connection hole A multilayer laminate comprising a conductor formed so as to sandwich the film. 接続孔に3から5度のテーパーを設けた請求項1に記載の多層積層体。 The multilayer laminate according to claim 1, wherein the connection hole is provided with a taper of 3 to 5 degrees. 第1の樹脂層と、この第1の樹脂層の下面に設けた第1の配線パターンと、この第1の樹脂層の上面に積層したフィルムと、このフィルムに積層した第2の樹脂層と、この第2の樹脂層の上面に設けた第2の配線パターンを電気的に接続するため第1、第2の樹脂層およびフィルムに、フィルムより樹脂層側が大径となるように設けた接続孔に形成した導電体からなる第1の多層積層体と、この第1の多層積層体の上面に第3の樹脂層を積層し、この第3の樹脂層の上面に第2のフィルムを積層し、この第2のフィルムの上面に第4の樹脂層を積層し、この第4の樹脂層の上面に第3の配線パターンを積層し、層間の配線パターンを電気的に接続するために第3、第4の樹脂層および第2のフィルムに、フィルムより樹脂層側が大径となるように設けた接続孔に導電体を形成した第2の多層積層体を少なくとも1つ以上積層した多層積層体。 A first resin layer; a first wiring pattern provided on the lower surface of the first resin layer; a film laminated on the upper surface of the first resin layer; and a second resin layer laminated on the film; In order to electrically connect the second wiring pattern provided on the upper surface of the second resin layer, the connection provided on the first and second resin layers and the film so that the resin layer side has a larger diameter than the film. A first multilayer laminate made of a conductor formed in the hole, a third resin layer is laminated on the upper surface of the first multilayer laminate, and a second film is laminated on the upper surface of the third resin layer Then, a fourth resin layer is laminated on the upper surface of the second film, a third wiring pattern is laminated on the upper surface of the fourth resin layer, and the first wiring layer is electrically connected to connect the wiring patterns between the layers. 3. The resin layer side of the fourth resin layer and the second film is larger in diameter than the film. At least one laminated multilayer laminate second multilayer laminate formed by forming a conductor in the connection hole provided in the. フィルムの両面に未硬化樹脂を塗布して未硬化樹脂層を形成する工程と、次に未硬化樹脂層の両面にカバーフィルムを形成する工程と、次にカバーフィルムを形成した未硬化樹脂層とフィルムに、フィルムより未硬化樹脂側が大径となるように設けた接続孔を形成する工程と、次に接続孔に導電体を形成する工程と、次にカバーフィルムを剥離する工程と、次に未硬化樹脂層の両面に金属箔を配置し加熱加圧し配線パターンを形成する工程とからなる多層積層体の製造方法。 A step of applying an uncured resin on both sides of the film to form an uncured resin layer; a step of forming a cover film on both sides of the uncured resin layer; and an uncured resin layer on which the cover film is formed Forming a connection hole in the film so that the uncured resin side of the film has a larger diameter; forming a conductor in the connection hole; then peeling the cover film; The manufacturing method of the multilayer laminated body which consists of a process which arrange | positions metal foil on both surfaces of an uncured resin layer, and heat-presses and forms a wiring pattern. フィルムの両面に未硬化樹脂を塗布して未硬化樹脂層を形成する工程と、次に未硬化樹脂層の両面にカバーフィルムを形成する工程と、次にカバーフィルムを形成した未硬化樹脂層とフィルムに、フィルムより未硬化樹脂層側が大径となるように設けた接続孔を形成する工程と、次に接続孔に導電体を形成する工程と、次にカバーフィルムを剥離する工程と、次に未硬化樹脂層の両面に金属箔を配置し加熱加圧し配線パターンを形成する工程とからなる多層積層体の上面にフィルムの両面に未硬化樹脂を塗布して未硬化樹脂層を形成する工程と、次に未硬化樹脂層の両面にカバーフィルムを形成する工程と、次にカバーフィルムを形成した未硬化樹脂層とフィルムに、フィルムより未硬化樹脂側が大径となるように設けた接続孔を形成する工程と、次に接続孔に導電体を形成する工程と、次にカバーフィルムを剥離する工程と、次に未硬化樹脂層の片面に金属箔を配置し加熱加圧し配線パターンを形成する工程を繰り返して形成した多層積層体の製造方法。 A step of applying an uncured resin on both sides of the film to form an uncured resin layer; a step of forming a cover film on both sides of the uncured resin layer; and an uncured resin layer on which the cover film is formed Forming a connection hole in the film so that the uncured resin layer side of the film has a larger diameter, a step of forming a conductor in the connection hole, a step of peeling the cover film, and a step of A step of forming an uncured resin layer by applying uncured resin on both surfaces of a film on the upper surface of a multilayer laminate comprising a step of forming metal patterns on both surfaces of an uncured resin layer and heating and pressing to form a wiring pattern Next, a step of forming a cover film on both surfaces of the uncured resin layer, and a connection hole provided in the uncured resin layer and the film on which the cover film is formed next so that the uncured resin side has a larger diameter than the film Craft to form Next, the process of forming a conductor in the connection hole, the process of peeling the cover film, and the process of forming a wiring pattern by placing metal foil on one side of the uncured resin layer and heating and pressing are repeated. The manufacturing method of the multilayer laminated body formed in this way. フィルムと、このフィルムの両面に少なくとも1層からなる第1と第2の未硬化樹脂層と、この第1と第2の未硬化樹脂層の表面に形成した第1と第2のカバーフィルムとからなる多層積層体の厚さ方向にテーパー付きの接続孔を形成するためのレーザー加工方法であって、1パルスのレーザー照射に必要なエネルギー蓄積時間tcが、レーザーパルス発振周期Tに対して、
c<0.1×T
なる関係を満足する請求項4または5に記載の多層積層体の製造方法。
A film, first and second uncured resin layers comprising at least one layer on both surfaces of the film, and first and second cover films formed on the surfaces of the first and second uncured resin layers, A laser processing method for forming a connection hole having a taper in the thickness direction of a multilayer laminate comprising: an energy storage time t c required for laser irradiation of one pulse is relative to a laser pulse oscillation period T ,
t c <0.1 × T
The manufacturing method of the multilayer laminated body of Claim 4 or 5 which satisfies the following relationship.
少なくとも2パルス以上の連続パルスレーザーを照射することにより加工を行う請求項6に記載の多層積層体の製造方法。 The manufacturing method of the multilayer laminated body of Claim 6 which processes by irradiating a continuous pulse laser of at least 2 pulses or more. パルス幅が50ns以下の連続パルスレーザーを照射することにより加工を行う請求項6に記載の多層積層体の製造方法。 The manufacturing method of the multilayer laminated body of Claim 6 which processes by irradiating the continuous pulse laser whose pulse width is 50 ns or less. 波長が355nm以下のレーザー光によって加工を行う請求項6に記載の多層積層体の製造方法。 The manufacturing method of the multilayer laminated body of Claim 6 which processes by the laser beam whose wavelength is 355 nm or less.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009043768A (en) * 2007-08-06 2009-02-26 Ngk Spark Plug Co Ltd Wiring board with built-in capacitor and its manufacturing method
JP2013257924A (en) * 2012-06-12 2013-12-26 Dainippon Printing Co Ltd Substrate for suspension, suspension, suspension with head, and hard disk drive
JP2013257926A (en) * 2012-06-12 2013-12-26 Dainippon Printing Co Ltd Substrate for suspension, suspension, suspension with head, and hard disk drive
JP2013257923A (en) * 2012-06-12 2013-12-26 Dainippon Printing Co Ltd Substrate for suspension, suspension, suspension with head, and hard disk drive
JP2013257925A (en) * 2012-06-12 2013-12-26 Dainippon Printing Co Ltd Substrate for suspension, suspension, suspension with head, and hard disk drive

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009043768A (en) * 2007-08-06 2009-02-26 Ngk Spark Plug Co Ltd Wiring board with built-in capacitor and its manufacturing method
JP2013257924A (en) * 2012-06-12 2013-12-26 Dainippon Printing Co Ltd Substrate for suspension, suspension, suspension with head, and hard disk drive
JP2013257926A (en) * 2012-06-12 2013-12-26 Dainippon Printing Co Ltd Substrate for suspension, suspension, suspension with head, and hard disk drive
JP2013257923A (en) * 2012-06-12 2013-12-26 Dainippon Printing Co Ltd Substrate for suspension, suspension, suspension with head, and hard disk drive
JP2013257925A (en) * 2012-06-12 2013-12-26 Dainippon Printing Co Ltd Substrate for suspension, suspension, suspension with head, and hard disk drive

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