JP2005010752A - Heat developable photosensitive material and image forming method - Google Patents

Heat developable photosensitive material and image forming method Download PDF

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JP2005010752A JP2004124334A JP2004124334A JP2005010752A JP 2005010752 A JP2005010752 A JP 2005010752A JP 2004124334 A JP2004124334 A JP 2004124334A JP 2004124334 A JP2004124334 A JP 2004124334A JP 2005010752 A JP2005010752 A JP 2005010752A
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肇 中川
Takayasu Yasuda
貴康 保田
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat developable photosensitive material excellent in coating performance and having good conveyability in a heat developing machine and to provide an image forming method. <P>SOLUTION: The heat developable photosensitive material has an image forming layer containing at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder on at least one face of a support and has at least one back layer and a back face protection layer on a face of the support opposite to the face with the image forming layer, wherein a binder in the back face protection layer contains a water-soluble polymer and a latex polymer having a glass transition temperature of -30 to +40°C. The image forming method is also provided. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は熱現像感光材料及びその画像形成方法に関するものである。   The present invention relates to a photothermographic material and an image forming method thereof.

近年、医療分野において環境保全、省スペースの観点から処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レーザー・イメージセッター又はレーザー・イメージャーにより効率的に露光させることができ、高解像度及び鮮鋭さを有する鮮明な黒色画像を形成することができる医療診断用及び写真技術用途の光感光性熱現像写真材料に関する技術が必要とされている。これら光感光性熱現像写真材料では、溶液系処理化学薬品の使用をなくし、より簡単で環境を損なわない熱現像処理システムを顧客に対して供給することができる。   In recent years, in the medical field, reduction of waste processing liquid has been strongly desired from the viewpoint of environmental protection and space saving. Therefore, the photosensitive heat for medical diagnosis and photographic technology that can be efficiently exposed by a laser image setter or a laser imager and can form a clear black image having high resolution and sharpness. There is a need for techniques relating to developed photographic materials. These photosensitive photothermographic materials can eliminate the use of solution processing chemicals and supply customers with a simpler heat development processing system that does not damage the environment.

一般画像形成材料の分野でも同様の要求はあるが、医療用画像は微細な描写が要求されるため鮮鋭性、粒状性に優れる高画質が必要であるうえ、診断のし易さの観点から冷黒調の画像が好まれる特徴がある。現在、インクジェットプリンター、電子写真など顔料、染料を利用した各種ハードコピーシステムが一般画像形成システムとして流通しているが、医療用画像の出力システムとしては満足できるものがない。   Although there is a similar requirement in the field of general image forming materials, medical images are required to have high image quality with excellent sharpness and graininess because they are required to be finely drawn, and are cooled from the viewpoint of ease of diagnosis. There is a feature that a black tone image is preferred. At present, various hard copy systems using pigments and dyes such as inkjet printers and electrophotography are distributed as general image forming systems. However, there is no satisfactory output system for medical images.

一方、有機銀塩を利用した熱画像形成システムが、多くの文献に記載されている(例えば、特許文献1、特許文献2及び非特許文献1参照。)。特に、熱現像感光材料は、一般に、触媒活性量の光触媒(例、ハロゲン化銀)、還元剤、還元可能な銀塩(例、有機銀塩)、必要により銀の色調を制御する色調剤を、バインダーのマトリックス中に分散した画像形成層を有している。熱現像感光材料は、画像露光後、高温(例えば80℃以上)に加熱し、ハロゲン化銀又は還元可能な銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応により、黒色の銀画像を形成する。酸化還元反応は、露光で発生したハロゲン化銀の潜像の触媒作用により促進される。そのため、黒色の銀画像は、露光領域に形成される(例えば、特許文献3及び特許文献4参照。)。そして熱現像感光材料による医療用画像形成システムとして、富士メディカルドライイメージャーFM−DP Lが発売された。   On the other hand, thermal image forming systems using organic silver salts are described in many documents (for example, see Patent Document 1, Patent Document 2, and Non-Patent Document 1). In particular, the photothermographic material generally contains a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, silver halide), a reducing agent, a reducible silver salt (eg, an organic silver salt), and a color tone that controls the color tone of silver if necessary. And an image forming layer dispersed in a binder matrix. The photothermographic material is heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after image exposure, and blackened by a redox reaction between silver halide or a reducible silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. Form a silver image. The oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image of silver halide generated by exposure. Therefore, a black silver image is formed in the exposure region (see, for example, Patent Document 3 and Patent Document 4). Fuji Medical Dry Imager FM-DPL was released as a medical image forming system using a photothermographic material.

有機銀塩を利用した熱画像形成システムの製造においては、溶剤塗布により製造する方法と、主バインダーとしてポリマー微粒子を水分散として含有する塗布液を塗布・乾燥して製造する方法がある。後者の方法は溶剤の回収等の工程が不要なため製造設備が簡単であり、かつ大量生産に有利である。
ここで、塗布性能は、製造工程において極めて重要な因子である。水分散系においては、同時重層塗布が可能であり、効率的な製造が可能である。塗布性能の向上については、より効率的に製造できるよう、日常的に熱望されている課題である。
In manufacturing a thermal image forming system using an organic silver salt, there are a method of manufacturing by solvent coating and a method of manufacturing by coating and drying a coating liquid containing polymer fine particles as a water dispersion as a main binder. Since the latter method does not require a process such as solvent recovery, the manufacturing equipment is simple and it is advantageous for mass production.
Here, the coating performance is a very important factor in the manufacturing process. In the water dispersion system, simultaneous multilayer coating is possible, and efficient production is possible. Improvement of coating performance is a problem that is eagerly awaited on a daily basis so that it can be manufactured more efficiently.

形成された銀画像について高画質が要求されることは先に述べたが、高画質の画像の要求以外に、感材の物理的特性についての要求も大きい。なぜなら、搬送や加工時に画像にキズがついてしまうと、せっかく高画質の画像が得られたとしても、利用できなくなるからである。特に医療診断用では、誤診につながる原因ともなりかねないので細心の注意が必要である。近年、熱現像感光材料の迅速処理が要求され、感材が高速で搬送ローラーにより搬送されたり、また現像機のコンパクト化の要求から、鋭い曲率で曲げられて搬送される。このため、表面の物理的特性への要求は、ますます高まっている。   As described above, high quality is required for the formed silver image. In addition to the requirement for a high quality image, there is a great demand for the physical characteristics of the light-sensitive material. This is because if an image is scratched during conveyance or processing, even if a high-quality image is obtained, it cannot be used. Especially for medical diagnosis, it may cause a misdiagnosis, so it is necessary to pay close attention. In recent years, rapid processing of a photothermographic material is required, and a photosensitive material is conveyed by a conveyance roller at a high speed, or is bent and conveyed with a sharp curvature in response to a demand for a compact developing machine. For this reason, the demands on the physical properties of the surface are increasing.

特に、熱現像感光材料は液体現像と異なり、現像に必要な化学物質をすべて感材中に含んでいる。また、熱現像感光材料中には、現像後においても全ての組成物が残存している。したがって、表面の物理特性を良化させるために、なんらかの添加物を加えることは、他の物質に影響を与えかねない。すなわち、単に添加物によって、表面特性を良化しようとすることは非常に困難であり、熱現像感光材料すべての添加剤との兼ね合いを考慮しなければならない。
米国特許3152904号明細書 米国特許3457075号明細書 米国特許2910377号明細書 特公昭43−4924号公報 D.クロスタボーア(Klosterboer)著「熱によって処理される銀システム(Thermally Processed Silver Systems)」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテリアルズ(Imaging Processes and Materials)Neblette 第8版、J.スタージ(Sturge)、V.ウオールワース(Walworth)、A.シェップ(Shepp)編集、第9章、第279頁、1989年
In particular, the photothermographic material, unlike liquid development, contains all chemical substances necessary for development in the photosensitive material. Further, all the composition remains in the photothermographic material even after development. Therefore, the addition of any additive to improve the physical properties of the surface can affect other materials. That is, it is very difficult to improve the surface characteristics simply by using an additive, and it is necessary to consider the trade-off between all the photothermographic materials and additives.
US Pat. No. 3,152,904 US Pat. No. 3,457,075 US Patent 2,910,377 Japanese Patent Publication No.43-4924 D. Klosterboer, “Thermally Processed Silver Systems” (Imaging Processes and Materials), 8th edition, J. Sturge. Walworth, edited by A. Shepp, Chapter 9, 279, 1989

従って本発明の目的は、塗布性能に優れ、熱現像機での搬送性が良好な熱現像感光材料、及び画像形成方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a photothermographic material excellent in coating performance and good transportability in a heat developing machine, and an image forming method.

本発明の目的は、以下の熱現像感光材料および画像形成方法によって達成された。
<1> 支持体の少なくとも一方の面上に、少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、還元剤及びバインダーを含有する画像形成層を有し、支持体に対して前記画像形成層を有する面とは反対面側に少なくとも1層のバック層とバック面保護層とを有する熱現像感光材料であって、
前記バック面保護層のバインダーが、水溶性ポリマーと、−30℃以上40℃以下のガラス転位温度のラテックスポリマーとを含有することを特徴とする熱現像感光材料。
<2> 前記バック面保護層中の全バインダーに対して、前記ラテックスポリマーを5質量%以上50質量%以下含有することを特徴とする1項に記載の熱現像感光材料。
<3> 前記バック面保護層中の全バインダーに対して、前記ラテックスポリマーを15質量%以上40質量%以下含有することを特徴とする2項に記載の熱現像感光材料。
<4> 前記ラテックスポリマーのガラス転位温度が、−30℃以上24℃以下であることを特徴とする<1>〜<3>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<5> 前記ラテックスポリマーが、アクリル系、スチレン系、アクリル/スチレン共重合系、スチレン/ブタジエン共重合系、塩化ビニル系、及び塩化ビニリデン系、ウレタン系からなる群から選択される少なくとも1種のポリマーであることを特徴とする<1>〜<4>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<6> 前記ラテックスポリマーが、アクリル系ラテックスポリマーであることを特徴とする5項に記載の熱現像感光材料。
<7> 前記ラテックスポリマーのI/O値が、0.1以上1.0以下であることを特徴とする<1>〜<6>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<8> 前記I/O値が、0.5以上0.9以下であることを特徴とする7項に記載の熱現像感光材料。
<9> 前記ラテックスポリマーが、アニオン系界面活性剤を含有することを特徴とする<1>〜<8>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<10> 前記アニオン系界面活性剤がアルキルベンゼンスルホン酸塩類またはスルホコハク酸ジエステル類より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする9項に記載の熱現像感光材料。
<11> 前記水溶性ポリマーがゼラチンであることを特徴とする<1>〜<8>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<12> 前記水溶性ポリマーがポリビニルアルコール類、及びアクリル酸−ポリビニルアルコール共重合ポリマー類より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする<1>〜<11>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<13> 炭素原子数が2以上でフッ素原子数が13以下のフッ化アルキル基を有するフッ素化合物を含有することを特徴とする<1>〜<12>のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
<14> 前記フッ素化合物が5以上9以下のフッ素原子数のフッ化アルキル基を有することを特徴とする13項に記載の熱現像感光材料。
<15> 画像記録装置で画像を形成する熱現像感光材料の画像形成方法であって、前記画像記録装置は駆動ローラーとプレートヒーターとを有する熱現像部を有し、前記<1>〜<14>のいずれか1項に記載の前記熱現像感光材料の画像形成層を有する面側の表面を前記駆動ローラーに接触させ、かつ、前記熱現像感光材料のバック層を有する側の表面を前記プレートヒーターに接触させて、加熱することにより現像することを特徴とする熱現像感光材料の画像形成方法。
The object of the present invention has been achieved by the following photothermographic material and image forming method.
<1> An image forming layer containing at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder is provided on at least one surface of the support, and the image forming layer is formed on the support. A photothermographic material having at least one back layer and a back surface protective layer on the side opposite to the surface having
A photothermographic material, wherein the binder of the back surface protective layer contains a water-soluble polymer and a latex polymer having a glass transition temperature of from -30 ° C to 40 ° C.
<2> The photothermographic material according to 1, wherein the latex polymer is contained in an amount of 5% by mass to 50% by mass with respect to all binders in the back surface protective layer.
<3> The photothermographic material according to 2, wherein the latex polymer is contained in an amount of 15% by mass to 40% by mass with respect to all binders in the back surface protective layer.
<4> The photothermographic material according to any one of <1> to <3>, wherein the latex polymer has a glass transition temperature of −30 ° C. or higher and 24 ° C. or lower.
<5> The latex polymer is at least one selected from the group consisting of acrylic, styrene, acrylic / styrene copolymer, styrene / butadiene copolymer, vinyl chloride, vinylidene chloride, and urethane. The photothermographic material according to any one of <1> to <4>, which is a polymer.
<6> The photothermographic material according to item 5, wherein the latex polymer is an acrylic latex polymer.
<7> The photothermographic material according to any one of <1> to <6>, wherein the latex polymer has an I / O value of 0.1 to 1.0.
<8> The photothermographic material according to item 7, wherein the I / O value is 0.5 or more and 0.9 or less.
<9> The photothermographic material according to any one of <1> to <8>, wherein the latex polymer contains an anionic surfactant.
<10> The photothermographic material according to 9, wherein the anionic surfactant is at least one selected from alkylbenzene sulfonates or sulfosuccinic acid diesters.
<11> The photothermographic material according to any one of <1> to <8>, wherein the water-soluble polymer is gelatin.
<12> The water-soluble polymer according to any one of <1> to <11>, wherein the water-soluble polymer is at least one selected from polyvinyl alcohols and acrylic acid-polyvinyl alcohol copolymer polymers. Photothermographic material.
<13> The thermal development according to any one of <1> to <12>, comprising a fluorine compound having a fluorinated alkyl group having 2 or more carbon atoms and 13 or less fluorine atoms. Photosensitive material.
<14> The photothermographic material according to item 13, wherein the fluorine compound has a fluorinated alkyl group having 5 to 9 fluorine atoms.
<15> An image forming method of a photothermographic material for forming an image with an image recording apparatus, wherein the image recording apparatus includes a heat developing unit having a driving roller and a plate heater, and the items <1> to <14 The surface of the surface of the photothermographic material having the image forming layer is brought into contact with the driving roller, and the surface of the photothermographic material having the back layer is placed on the plate. A method for forming an image of a photothermographic material, wherein the development is carried out by heating in contact with a heater.

本発明者らは、本発明の課題である塗布性能及び搬送性の向上のために、バック面保護層に最も適した物質の選択を行った。バック面保護層は、搬送等により直接機器に接触する部分だからである。
鋭意研究の結果、本発明者らは最外層のバインダーに、水溶性ポリマーと、−30℃以上40℃以下のガラス転位温度であるラテックスポリマーとを用いることで、課題の解決に成功した。
In order to improve the coating performance and the transportability, which are the problems of the present invention, the present inventors have selected a substance most suitable for the back surface protective layer. This is because the back surface protective layer is in direct contact with the device by conveyance or the like.
As a result of intensive studies, the present inventors succeeded in solving the problem by using a water-soluble polymer and a latex polymer having a glass transition temperature of −30 ° C. or higher and 40 ° C. or lower as the outermost layer binder.

本発明者らは、バック面保護層のラテックスのガラス転位温度が高くなると、高温での感材の動摩擦係数が著しく大きくなるという画期的な知見を見出した。低温における動摩擦係数は、ガラス転位温度に依存していないことも判明した。この現象は、室温付近において、感材の動摩擦係数を測定したのでは分からなかった知見である。すなわち、熱現像時の搬送不良は、バック面保護層のラテックスのガラス転位温度に依存していることを見出したのである。特に画像ムラが発生するのは、熱現像時の搬送不良によるところが大きく、感材が加熱されている熱現像時の搬送性を改善することが極めて重要となっている。
そこで、本発明者らは、上記の新たな知見をもとに、バック面保護層のバインダーにおいて、ラテックスのガラス転位温度をなるべく低くすることで搬送性の向上を図り、課題解決に至った。
一方、ラテックスのガラス転位温度を低く下げすぎると、感材の透明性が低くなることもわかった。
上記すべての事項を勘案し、バック面保護層のバインダーに用いるラテックスのガラス転位温度は、−30℃以上40℃以下が最適であることを突き止め、上記<1>の発明に至った。
The present inventors have found an epoch-making finding that, when the glass transition temperature of the latex of the back surface protective layer is increased, the dynamic friction coefficient of the photosensitive material at a high temperature is remarkably increased. It was also found that the coefficient of dynamic friction at low temperatures does not depend on the glass transition temperature. This phenomenon is a finding that was not found by measuring the dynamic friction coefficient of the sensitive material near room temperature. That is, it has been found that the conveyance failure during the heat development depends on the glass transition temperature of the latex of the back surface protective layer. In particular, the occurrence of image unevenness is largely due to poor conveyance during thermal development, and it is extremely important to improve the conveyance property during thermal development in which the photosensitive material is heated.
Therefore, the present inventors have attempted to improve the transportability by reducing the glass transition temperature of the latex as much as possible in the binder of the back surface protective layer based on the above new knowledge, and have solved the problem.
On the other hand, it was also found that if the glass transition temperature of the latex is lowered too low, the transparency of the photosensitive material is lowered.
In consideration of all the above matters, the inventors have found that the optimal glass transition temperature of the latex used for the binder of the back surface protective layer is from −30 ° C. to 40 ° C., leading to the above invention <1>.

その中でも、特にガラス転位温度は、−30℃以上24℃以下が最適であることも見出した。これは感材作製時の塗布性をも考慮したものである(上記<4>の発明。)。   Among these, it has also been found that the glass transition temperature is optimally from −30 ° C. to 24 ° C. This also takes into consideration the applicability during the production of the light-sensitive material (the invention <4> above).

このような最適なラテックスポリマーのガラス転位温度は、水溶性ポリマーと併用した場合の範囲である。水溶性ポリマーと併用すると、塗布しやすくなるという利点を有する。   The optimum glass transition temperature of such a latex polymer is in the range when used in combination with a water-soluble polymer. When used in combination with a water-soluble polymer, there is an advantage that it is easy to apply.

本発明により、塗布性能に優れ、熱現像機での搬送性が良好な熱現像感光材料、及び画像形成方法が提供できる。   According to the present invention, it is possible to provide a photothermographic material and an image forming method which are excellent in coating performance and have good transportability in a thermal developing machine.

以下に本発明の熱現像感光材料および画像形成方法について、詳細に説明する。
1.熱現像感光材料
本発明の熱現像感光材料は、支持体の少なくとも一方の面上に、少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、還元剤及びバインダーを含有する少なくとも1層の画像形成層を有し、支持体に対して前記画像形成層を有する面と反対の面側に少なくとも1層のバック層とバック面保護層とを有する。また、画像形成層の支持体とは反対面側に表面保護層、該表面保護層と画像形成層との間に中間層などを有しても良い。
The photothermographic material and the image forming method of the present invention are described in detail below.
1. Photothermographic material The photothermographic material of the invention comprises at least one layer of image forming containing at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder on at least one surface of a support. And having at least one back layer and a back surface protective layer on the surface opposite to the surface having the image forming layer with respect to the support. Further, a surface protective layer may be provided on the side opposite to the support of the image forming layer, and an intermediate layer may be provided between the surface protective layer and the image forming layer.

1−1.バック面保護層
バック面保護層は、バインダーとして、水溶性ポリマーと、、−30℃以上40℃以下のガラス転位温度のラテックスポリマーとを含有すれば、その他の制限は特に無い。バック面保護層として、2層以上設けることもできる。バック面保護層が2層以上である場合は、少なくとも、支持体より最も遠いバック面保護層のバインダーが、水溶性ポリマーと、−30℃以上40℃以下のガラス転位温度のラテックスポリマーとを含有していればよい。
1-1. Back surface protective layer The back surface protective layer is not particularly limited as long as it contains a water-soluble polymer and a latex polymer having a glass transition temperature of -30 ° C or higher and 40 ° C or lower as a binder. Two or more back surface protective layers can be provided. When the back surface protective layer is two or more layers, at least the binder of the back surface protective layer farthest from the support contains a water-soluble polymer and a latex polymer having a glass transition temperature of −30 ° C. to 40 ° C. If you do.

(ラテックスポリマー)
バック面保護層に用いるラテックスポリマーの好ましい態様としては、アクリル系ポリマー、ポリ(エステル)類、ゴム類(例えばSBR樹脂)、ポリ(ウレタン)類、ポリ(塩化ビニル)類、ポリ(酢酸ビニル)類、ポリ(塩化ビニリデン)類、ポリ(オレフィン)類等の疎水性ポリマーである。これらポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでもまた架橋されたポリマーでもよいし、単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでもよいし、2種類以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも、ブロックコポリマーでもよい。
特に、前記ラテックスポリマーが、アクリル系、スチレン系、アクリル/スチレン共重合系、スチレン/ブタジエン共重合系、塩化ビニル系、及び塩化ビニリデン系、ウレタン系からなる群から選択される少なくとも1種のポリマーであることが好ましい。
これらポリマーの分子量は数平均分子量で5000〜1000000、好ましくは10000〜200000がよい。分子量が小さすぎるものはラテックスを含有する層の力学強度が不十分であり、大きすぎるものは成膜性が悪く好ましくない。また、アクリル系のポリマーラテックスは特に好ましく使用される。
(Latex polymer)
Preferred embodiments of the latex polymer used for the back surface protective layer include acrylic polymers, poly (esters), rubbers (for example, SBR resin), poly (urethanes), poly (vinyl chloride) s, poly (vinyl acetate) , Hydrophobic polymers such as poly (vinylidene chloride) s and poly (olefins). These polymers may be linear polymers, branched polymers, crosslinked polymers, so-called homopolymers obtained by polymerizing a single monomer, or copolymers obtained by polymerizing two or more types of monomers. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer.
In particular, the latex polymer is at least one polymer selected from the group consisting of acrylic, styrene, acrylic / styrene copolymer, styrene / butadiene copolymer, vinyl chloride, vinylidene chloride, and urethane. It is preferable that
These polymers have a number average molecular weight of 5,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 200,000. If the molecular weight is too small, the mechanical strength of the layer containing the latex is insufficient, and if it is too large, the film formability is poor and this is not preferred. An acrylic polymer latex is particularly preferably used.

本発明の熱現像感光材料において、バインダーとして用いうるポリマーラテックスは、水不溶な疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散されたものである。分散状態としてはポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自身が分子状分散したものなどいずれでもよい。
部分的に親水的な構造を有することは、ラテックスの分散状態を安定化させることに有効である。例えば、アニオン性、カチオン性、又は非イオン性の構造を有するものが挙げられる。この中でもアニオン性の構造を持たせるためにアクリル酸、メタクリル酸などを共重合することが好ましい。
In the photothermographic material of the present invention, the polymer latex that can be used as a binder is a water-insoluble hydrophobic polymer dispersed as fine particles in a water-soluble dispersion medium. As the dispersion state, the polymer is emulsified in a dispersion medium, the emulsion is polymerized, the micelle is dispersed, or the polymer molecule has a partially hydrophilic structure and the molecular chain itself is molecularly dispersed. Anything may be used.
Having a partially hydrophilic structure is effective in stabilizing the dispersion state of the latex. For example, what has an anionic, cationic, or nonionic structure is mentioned. Among these, it is preferable to copolymerize acrylic acid, methacrylic acid or the like in order to have an anionic structure.

また、乳化重合を行なう際に界面活性剤が存在すると、分散状態が安定化されるため、乳化重合工程において、界面活性剤を用いることが好ましい。更に、当該乳化重合工程で界面活性剤を添加することとは別に、バック面保護層塗布液に界面活性剤を添加することが好ましい。ラテックスを安定化させる効果があると考えれる。特に本発明においては、別途添加する界面活性剤は、アニオン系界面活性剤を用いることが、フイルムの透明度を損なわないようにする上で好ましい。   In addition, when a surfactant is present during emulsion polymerization, the dispersion state is stabilized, and therefore it is preferable to use a surfactant in the emulsion polymerization step. Furthermore, it is preferable to add a surfactant to the back surface protective layer coating solution separately from the addition of the surfactant in the emulsion polymerization step. It is thought that it has the effect of stabilizing the latex. Particularly in the present invention, it is preferable to use an anionic surfactant as the separately added surfactant so as not to impair the transparency of the film.

なおポリマーラテックスについては「合成樹脂エマルジョン(奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行(1978))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(1993))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」及び特開昭64−538号などに記載されている。   For polymer latex, see “Synthetic Resin Emulsion (Hiraku Okuda, Hiroshi Inagaki, Published by Polymer Press (1978))”, “Application of Synthetic Latex (Takaaki Sugimura, Ikuo Kataoka, Junichi Suzuki, Keiji Kasahara, edited by Koshihara) Publication (1993)), "chemistry of synthetic latex (by Soichi Muroi, published by Kobunshi Shuppankai (1970))" and JP-A No. 64-538.

分散粒子の平均粒径は1〜50000nm、より好ましくは5〜1000nm程度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径分布を持つものでもよい。   The average particle size of the dispersed particles is preferably 1 to 50000 nm, more preferably about 5 to 1000 nm. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution.

特に、本発明においては、バック面保護層に用いるラテックスポリマーは、ガラス転位温度(Tg)が、−30℃以上40℃以下である。好ましくは、−30℃以上24℃以下で、より好ましくは、−25℃以上20℃以下である。
搬送性を良化するには、ラテックスポリマーのTgをなるべく下げることが好ましい。実用上許容される上限が40℃である。また、Tgが40℃より高いと均一に塗り難く、塗布液を高温に過熱しながら塗布しなければならないといった不都合も生じる。
一方、Tgが−30℃より低いと、感材の透明度が低くなり好ましくない。
In particular, in the present invention, the latex polymer used for the back surface protective layer has a glass transition temperature (Tg) of −30 ° C. or higher and 40 ° C. or lower. Preferably, it is -30 degreeC or more and 24 degrees C or less, More preferably, it is -25 degreeC or more and 20 degrees C or less.
In order to improve the transportability, it is preferable to lower the Tg of the latex polymer as much as possible. The upper limit allowed for practical use is 40 ° C. Moreover, when Tg is higher than 40 ° C., it is difficult to apply uniformly, and there is a disadvantage that the coating solution must be applied while being heated to a high temperature.
On the other hand, when Tg is lower than −30 ° C., the transparency of the light-sensitive material is lowered, which is not preferable.

なお、本明細書においてTgは下記の式で計算した。
1/Tg=Σ(Xi/Tgi)
ここでは、ポリマーはi=1からnまでのn個のモノマー成分が共重合しているとする。Xiはi番目のモノマーの質量分率(ΣXi=1)、Tgiはi番目のモノマーの単独重合体のガラス転移温度(絶対温度)である。ただしΣはi=1からnまでの和をとる。尚、各モノマーの単独重合体ガラス転移温度の値(Tgi)はPolymer Handbook(3rd Edition)(J.Brandrup,E.H.Immergut著(Wiley−Interscience、1989))の値を採用した。
In this specification, Tg was calculated by the following formula.
1 / Tg = Σ (Xi / Tgi)
Here, it is assumed that n monomer components from i = 1 to n are copolymerized in the polymer. Xi is the mass fraction of the i-th monomer (ΣXi = 1), and Tgi is the glass transition temperature (absolute temperature) of the homopolymer of the i-th monomer. However, Σ is the sum from i = 1 to n. The homopolymer glass transition temperature value (Tgi) of each monomer was the value of Polymer Handbook (3rd Edition) (by J. Brandrup, EH Immergut (Wiley-Interscience, 1989)).

バインダーは必要に応じて2種以上を併用しても良い。また、ガラス転移温度が上記範囲以外のものを組み合わせて用いてもよい。Tgの異なるポリマーを2種以上ブレンドして使用する場合には、その質量平均Tgが上記の範囲にはいればよい。   Two or more binders may be used in combination as required. Moreover, you may use combining glass transition temperature other than the said range. When two or more kinds of polymers having different Tg are blended and used, the mass average Tg may be in the above range.

本発明においては、前記ラテックスポリマーのI/O値が0.1以上1.0以下であることが好ましい。より好ましくは、0.3以上0.95以下であり、もっとも好ましくは0.5以上0.9以下である。I/O値とは、有機概念図に基づく無機性基を有機性基で割った値である。「有機概念図−基礎と応用−」(1984年、甲田善生著、三共出版発行)に記載の方法によって求めることができる。   In the present invention, the latex polymer preferably has an I / O value of 0.1 or more and 1.0 or less. More preferably, it is 0.3 or more and 0.95 or less, and most preferably 0.5 or more and 0.9 or less. The I / O value is a value obtained by dividing an inorganic group based on an organic conceptual diagram by an organic group. It can be determined by the method described in "Organic Conceptual Diagram-Basics and Applications-" (1984, Yoshio Koda, Sankyo Publishing).

ここで、有機概念図とは、化合物の性質を共有結合性を表わす有機性基と、イオン結合性を表わす無機性基に分け、すべての有機化合物を有機軸と無機軸と名付けた直行座標上の1点ずつに位置づけて示すものであり、これに基づく無機性値とは無機性、すなわち種々の置換基の沸点への影響力の大小を、水酸基を基準に定め、直鎖アルコールの沸点曲線と直鎖パラフィンの沸点曲線との距離を炭素数5の付近で取ると約100℃となるので、水酸基1個の影響力を数値で100と定めた値である。一方有機性値とは、有機性の数値の大小は分子内のメチレン基を単位とし、そのメチレン基を代表する炭素原子の数で測ることができるとし、基本になる炭素数1個の数値は、直鎖化合物の炭素数5〜10付近での炭素1個加わることによる沸点上昇の平均値20℃を取り、これを基準に20と定めた値である。この無機性値と有機性値は、グラフ上で1対1に対応する様に定めてある。I/O値はこれらの値から算出したものである。   Here, an organic conceptual diagram is an orthogonal coordinate system in which the properties of a compound are divided into an organic group representing a covalent bond and an inorganic group representing an ionic bond, and all organic compounds are named organic and inorganic axes. The inorganic value based on this is determined based on the hydroxyl group based on the inorganicity, that is, the influence of various substituents on the boiling point. If the distance between the boiling point curve of the straight-chain paraffin and the straight-line paraffin is about 100 ° C., the influence of one hydroxyl group is 100. On the other hand, the organic value is based on the number of carbon atoms that represent the methylene group in units of the number of methylene groups in the molecule. The average value of the boiling point increase due to addition of one carbon in the vicinity of 5 to 10 carbon atoms of the linear compound is 20 ° C., and this is a value determined as 20 on the basis of this. The inorganic value and the organic value are determined so as to correspond one-to-one on the graph. The I / O value is calculated from these values.

ポリマーラテックスの具体例としては、以下のものを挙げることができる。以下では原料モノマーを用いて表し、括弧内の数値は質量%、分子量は数平均分子量である。多官能モノマーを使用した場合は架橋構造を作るため分子量の概念が適用できないので架橋性と記載し、分子量の記載を省略した。Tgはガラス転移温度を表す。   Specific examples of the polymer latex include the following. Below, it represents using a raw material monomer, the numerical value in a parenthesis is the mass%, and molecular weight is a number average molecular weight. When a polyfunctional monomer was used, the concept of molecular weight was not applicable because a crosslinked structure was formed, so it was described as crosslinkability, and the description of molecular weight was omitted. Tg represents the glass transition temperature.

P−1;−MMA(55)−EA(42)−MAA(3)−のラテックス(Tg39℃、I/O値0.636)
P−2;−MMA(47)−EA(50)−MAA(3)−のラテックス(Tg29℃、I/O値0.636)
P−3;−MMA(17)−EA(80)−MAA(3)−のラテックス(Tg−4℃、I/O値0.636)
P−4;−EA(97)−MAA(3)−のラテックス(Tg−20℃、I/O値0.636)
P−5;−EA(97)−AA(3)−のラテックス(Tg−21℃、I/O値0.648)
P−6;−EA(90)−AA(10)−のラテックス(Tg−15℃、I/O値0.761)
P−7;−MMA(50)−2EHA(35)−St(10)−AA(5)−のラテックス(Tg34℃、I/O値0.461)
P−8;−MMA(30)−2EHA(55)−St(10)−AA(5)−のラテックス(Tg3℃、I/O値0.398)
P−9;−MMA(10)−2EHA(75)−St(10)−AA(5)−のラテックス(Tg−23℃、I/O値0.339)
P−10;−MMA(60)−BA(36)−AA(4)−のラテックス(Tg29℃、I/O値0.581)
P−11;−MMA(40)−BA(56)−AA(4)−のラテックス(Tg−2℃、I/O値0.545)
P−12;−MMA(25)−BA(71)−AA(4)−のラテックス(Tg−22℃、I/O値0.519)
P−13;−St(60)−BA(35)−AA(5)−のラテックス(Tg−29℃、I/O値0.250)
P−14;−St(40)−BA(55)−AA(5)−のラテックス(Tg−2℃、I/O値0.319)
P−15;−St(25)−BA(70)−AA(5)−のラテックス(Tg−21℃、I/O値0.377)
P−16;−MMA(58)−St(8)−BA(32)−AA(2)−のラテックス(Tg34℃、I/O値0.515)
P−17;−MMA(50)−St(8)−BA(35)−HEMA(5)−AA(2)−のラテックス(Tg27℃、I/O値0.542)
P−18;−MMA(42)−St(8)−BA(43)−HEMA(5)−AA(2)−のラテックス(Tg14℃、I/O値0.528)
P−19;−MMA(24)−St(8)−BA(61)−HEMA(5)−AA(2)−のラテックス(Tg−12℃、I/O値0.498)
P−20;−MMA(48)−St(8)−BA(27)−HEMA(15)−AA(2)−のラテックス(Tg39℃、I/O値0.619)
P−21;−EA(96)−AA(4)−のラテックス(Tg−21℃、I/O値0.664)
P−22;−EA(46)−MA(50)−AA(4)−のラテックス(Tg−4℃、I/O値0.739)
P−23;−EA(80)−HEMA(16)−AA(4)−のラテックス(Tg−9℃、I/O値0.775)
P−24;−EA(86)−HEMA(10)−AA(4)−のラテックス(Tg−13℃、I/O値0.733)
P−25;−St(45)−Bu(52)−MAA(3)−のラテックス(Tg−26℃、I/O値0.990)
P−26;−St(55)−Bu(42)−MAA(3)−のラテックス(Tg−9℃、I/O値0.105)
P−27;−St(60)−Bu(37)−MAA(3)−のラテックス(Tg1℃、I/O値0.109)
P−28;−St(68)−Bu(29)−MAA(3)−のラテックス(Tg17℃、I/O値0.114)
P−29;−St(75)−Bu(22)−MAA(3)−のラテックス(Tg34℃、I/O値0.119)
Latex of P-1; -MMA (55) -EA (42) -MAA (3)-(Tg 39 ° C., I / O value 0.636)
P-2; latex of -MMA (47) -EA (50) -MAA (3)-(Tg 29 ° C., I / O value 0.636)
P-3; latex of -MMA (17) -EA (80) -MAA (3)-(Tg-4 ° C, I / O value 0.636)
P-4; Latex of -EA (97) -MAA (3)-(Tg-20 ° C, I / O value 0.636)
P-5; latex of -EA (97) -AA (3)-(Tg-21 ° C, I / O value 0.648)
P-6; Latex of -EA (90) -AA (10)-(Tg-15 ° C, I / O value 0.761)
P-7; latex of -MMA (50) -2EHA (35) -St (10) -AA (5)-(Tg 34 ° C., I / O value 0.461)
Latex of P-8; -MMA (30) -2EHA (55) -St (10) -AA (5)-(Tg 3 ° C., I / O value 0.398)
Latex of P-9; -MMA (10) -2EHA (75) -St (10) -AA (5)-(Tg-23 ° C., I / O value 0.339)
Latex of P-10; -MMA (60) -BA (36) -AA (4)-(Tg 29 ° C., I / O value 0.581)
Latex of P-11; -MMA (40) -BA (56) -AA (4)-(Tg-2 ° C, I / O value 0.545)
Latex of P-12; -MMA (25) -BA (71) -AA (4)-(Tg-22 ° C., I / O value 0.519)
Latex of P-13; -St (60) -BA (35) -AA (5)-(Tg-29 ° C, I / O value 0.250)
P-14; Latex of -St (40) -BA (55) -AA (5)-(Tg-2 ° C, I / O value 0.319)
Latex of P-15; -St (25) -BA (70) -AA (5)-(Tg-21 ° C, I / O value 0.377)
Latex of P-16; -MMA (58) -St (8) -BA (32) -AA (2)-(Tg 34 ° C., I / O value 0.515)
P-17; Latex of -MMA (50) -St (8) -BA (35) -HEMA (5) -AA (2)-(Tg 27 ° C., I / O value 0.542)
P-18; latex of -MMA (42) -St (8) -BA (43) -HEMA (5) -AA (2)-(Tg 14 ° C., I / O value 0.528)
P-19; Latex of -MMA (24) -St (8) -BA (61) -HEMA (5) -AA (2)-(Tg-12 ° C, I / O value 0.498)
Latex of P-20; -MMA (48) -St (8) -BA (27) -HEMA (15) -AA (2)-(Tg 39 ° C., I / O value 0.619)
P-21; latex of -EA (96) -AA (4)-(Tg-21 ° C, I / O value 0.664)
Latex of P-22; -EA (46) -MA (50) -AA (4)-(Tg-4 ° C., I / O value 0.739)
Latex of P-23; -EA (80) -HEMA (16) -AA (4)-(Tg-9 ° C, I / O value 0.775)
P-24; Latex of -EA (86) -HEMA (10) -AA (4)-(Tg-13 ° C, I / O value 0.733)
Latex of P-25; -St (45) -Bu (52) -MAA (3)-(Tg-26 ° C., I / O value 0.990)
Latex of P-26; -St (55) -Bu (42) -MAA (3)-(Tg-9 ° C, I / O value 0.105)
Latex of P-27; -St (60) -Bu (37) -MAA (3)-(Tg 1 ° C., I / O value 0.109)
Latex of P-28; -St (68) -Bu (29) -MAA (3)-(Tg 17 ° C., I / O value 0.114)
Latex of P-29; -St (75) -Bu (22) -MAA (3)-(Tg 34 ° C., I / O value 0.119)

上記構造の略号は以下のモノマーを表す。MMA;メチルメタクリレート,EA;エチルアクリレート、MA;メチルアクリレート、MAA;メタクリル酸,2EHA;2−エチルヘキシルアクリレート,HEMA;ヒドロキシエチルメタクリレート、St;スチレン,Bu;ブタジエン,AA;アクリル酸。   The abbreviations for the above structures represent the following monomers. MMA; methyl methacrylate, EA; ethyl acrylate, MA; methyl acrylate, MAA; methacrylic acid, 2EHA; 2-ethylhexyl acrylate, HEMA; hydroxyethyl methacrylate, St; styrene, Bu; butadiene, AA; acrylic acid.

上記ラテックスポリマーは合成後、NaOHによりpH6に調整し、さらに下表に示す界面活性剤を添加した。   After the synthesis, the latex polymer was adjusted to pH 6 with NaOH, and the surfactants shown in the table below were further added.

Figure 2005010752
Figure 2005010752

<ポリマーラテックスP−21の合成例>
2Lの3つ口フラスコに窒素ガスを1時間バブリングした蒸留水770g、界面活性剤A−17を2.38g、アクリル酸エチル11.38g、アクリル酸0.47gを入れ、内温が50℃になるまで加熱した。温度が安定したところで、ここに亜硫酸水素ナトリウム0.528gと過硫酸カリウム0.790gを蒸留水60gに溶解した液を添加し、そのまま30分間窒素雰囲気下にて攪拌した。ここに亜硫酸水素ナトリウム0.528gと過硫酸カリウム0.790gを蒸留水60gに溶解した液を添加し、アクリル酸エチル216.05gとアクリル酸9.00gとの混合液を90分間にわたり窒素雰囲気下にて滴下により添加した。ここに亜硫酸水素ナトリウム0.528gと過硫酸カリウム0.790gを蒸留水60gに溶解した液を添加し、そのまま窒素雰囲気下にて2時間攪拌した。さらに内温90℃に昇温して窒素雰囲気下にて1時間攪拌し、反応終了後、内温が室温になるまで下げた後、1NのNaOHを55cc添加し30分間撹拌後、界面活性剤A−7(5質量%メタノール/水(6/4)溶液)142cc、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.44gと水を加えてポリマーラテックスの濃度が19.0質量%になるように調製した。得られたポリマーラテックス分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納し、例示化合物P−21を1247g(固形分19.0質量%、粒径95nm、pH7.0)を得た。
<Synthesis Example of Polymer Latex P-21>
770 g of distilled water bubbling nitrogen gas for 1 hour, 2.38 g of surfactant A-17, 11.38 g of ethyl acrylate and 0.47 g of acrylic acid were put into a 2 L three-necked flask, and the internal temperature reached 50 ° C. Heated until. When the temperature was stabilized, a solution prepared by dissolving 0.528 g of sodium bisulfite and 0.790 g of potassium persulfate in 60 g of distilled water was added thereto, and the mixture was stirred as it was for 30 minutes in a nitrogen atmosphere. A solution prepared by dissolving 0.528 g of sodium bisulfite and 0.790 g of potassium persulfate in 60 g of distilled water was added thereto, and a mixed solution of 216.05 g of ethyl acrylate and 9.00 g of acrylic acid was added in a nitrogen atmosphere for 90 minutes. Was added dropwise. A solution obtained by dissolving 0.528 g of sodium bisulfite and 0.790 g of potassium persulfate in 60 g of distilled water was added thereto, and the mixture was stirred as it was for 2 hours in a nitrogen atmosphere. The temperature was further raised to 90 ° C. and stirred for 1 hour in a nitrogen atmosphere. After the reaction was completed, the internal temperature was lowered to room temperature, 55 cc of 1N NaOH was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. 142 cc of A-7 (5% by mass methanol / water (6/4) solution), 0.44 g of benzoisothiazolinone sodium salt and water were added to prepare a polymer latex having a concentration of 19.0% by mass. The obtained polymer latex dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored, and 1247 g of the exemplified compound P-21 (solid content: 19.0% by mass, granules) A diameter of 95 nm, pH 7.0) was obtained.

以上に記載したポリマーラテックスは市販もされていて、以下のようなポリマーが利用できる。
アクリル系ポリマーの例としては、セビアンA−4635,4718,4601(以上ダイセル化学工業(株)製)、Nipol Lx811、814、821、820、855(P−30:Tg36℃)、(以上日本ゼオン(株)製)、Voncoat R3370(P−31:Tg25℃)、4280(P−32:Tg15℃)(以上大日本インキ化学(株)製)、などが挙げられる。
ポリ(エステル)類の例としては、FINETEX ES650、611、675、850(以上大日本インキ化学(株)製)、WD−size、WMS(以上イーストマンケミカル製)などが挙げられる。
ポリ(ウレタン)類の例としては、HYDRAN AP10(P−33:Tg37℃)、20、30、101H、Vondic 1320NS、1610NS(以上大日本インキ化学(株)製)などが挙げられる。
ゴム類の例としては、LACSTAR 7310K、3307B(P−34:Tg13℃)、4700H(大日本インキ化学(株)製)、410、430、435、110、415A(P−35:Tg27℃)、438C(日本ゼオン(株)製)などが挙げられる。
ポリ(塩化ビニル)類の例としては、G351、G576(以上日本ゼオン(株)製)などが挙げられる。
ポリ(塩化ビニリデン)類の例としては、L502、L513(以上旭化成工業(株)製)、D−5071(P−36:Tg36℃)(以上大日本インキ化学(株)製)などが挙げられる。
ポリ(オレフィン)類の例としては、ケミパールS120、SA100(以上三井石油化学(株)製)、Voncoat 2830(P−37:Tg38℃)、2210、2960(以上大日本インキ化学(株)製)などを挙げることができる。
The polymer latex described above is also commercially available, and the following polymers can be used.
Examples of acrylic polymers include Sebian A-4635, 4718, 4601 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx811, 814, 821, 820, 855 (P-30: Tg 36 ° C.), (Nippon Zeon) Voncoat R3370 (P-31: Tg25 ° C), 4280 (P-32: Tg15 ° C) (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), and the like.
Examples of poly (esters) include FINETEX ES650, 611, 675, and 850 (manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), WD-size, and WMS (manufactured by Eastman Chemical).
Examples of the poly (urethane) s include HYDRAN AP10 (P-33: Tg 37 ° C.), 20, 30, 101H, Vonic 1320NS, 1610NS (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.).
Examples of rubbers include LACSTAR 7310K, 3307B (P-34: Tg13 ° C.), 4700H (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), 410, 430, 435, 110, 415A (P-35: Tg27 ° C.), 438C (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.).
Examples of poly (vinyl chloride) include G351 and G576 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.).
Examples of poly (vinylidene chloride) s include L502, L513 (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.), D-5071 (P-36: Tg 36 ° C.) (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), and the like. .
Examples of poly (olefin) s include Chemipearl S120, SA100 (more from Mitsui Petrochemical Co., Ltd.), Voncoat 2830 (P-37: Tg 38 ° C.), 2210, 2960 (more from Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.). And so on.

本発明にかかるバック面保護層に用いることのできるアニオン系界面活性剤は、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、スルホコハク酸ジエステル塩類などの界面活性剤を用いることとができる。以下にその具体例を挙げる。   As the anionic surfactant that can be used in the back surface protective layer according to the present invention, surfactants such as alkylbenzene sulfonates and sulfosuccinic acid diester salts can be used. Specific examples are given below.

Figure 2005010752
Figure 2005010752

Figure 2005010752
Figure 2005010752

ラテックスポリマーの使用量はバック面保護層中の全バインダーに対して5質量%以上50質量%以下で含有することが好ましい。5質量%以下の場合本発明の効果が得られにくくなり、50質量%以上の場合バック保護層としての膜強度が低下し、耐傷性・密着性などが劣化する。さらに好ましい範囲は10質量%以上45質量%以下であり、特に好ましい範囲は15質量%以上40質量%以下である。
ラテックスポリマー以外には、下記に示す水溶性ポリマーを含有する。ラテックスポリマー及び水溶性ポリマー以外のポリマーをバインダーに含有させても良い。
The amount of the latex polymer used is preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less with respect to the total binder in the back surface protective layer. When the amount is 5% by mass or less, the effect of the present invention is hardly obtained. When the amount is 50% by mass or more, the film strength as the back protective layer is lowered, and the scratch resistance and adhesion are deteriorated. A more preferable range is 10% by mass or more and 45% by mass or less, and a particularly preferable range is 15% by mass or more and 40% by mass or less.
In addition to the latex polymer, the following water-soluble polymers are contained. A polymer other than the latex polymer and the water-soluble polymer may be contained in the binder.

(水溶性ポリマー)
本発明における水溶性ポリマーは、動物性蛋白質由来のポリマーであっても、動物性蛋白由来でないポリマーであってもよい。本発明において動物性蛋白質由来のポリマーとは、にかわ、カゼイン、ゼラチン、又は卵白など、天然の動物性蛋白質由来の水溶性ポリマーをいう。これらは、化学的に修飾されていてもよい。
動物性蛋白質由来のポリマーとして好ましくは、ゼラチンであり、その合成方法によって酸処理ゼラチン及びアルカリ処理ゼラチン(石灰処理など)があり、いずれも好ましく用いることができる。分子量は、10,000〜1,000,000のゼラチンを使用することが好ましい。また、ゼラチンのアミノ基やカルボキシル基を利用して変性処理した変性ゼラチンも用いることができる(例えば、フタル化ゼラチンなど)。
(Water-soluble polymer)
The water-soluble polymer in the present invention may be a polymer derived from animal protein or a polymer not derived from animal protein. In the present invention, the animal protein-derived polymer refers to a water-soluble polymer derived from a natural animal protein such as glue, casein, gelatin, or egg white. These may be chemically modified.
The polymer derived from animal protein is preferably gelatin, and there are acid-treated gelatin and alkali-treated gelatin (such as lime treatment) depending on the synthesis method, and both can be preferably used. It is preferable to use gelatin having a molecular weight of 10,000 to 1,000,000. In addition, modified gelatin modified by utilizing the amino group or carboxyl group of gelatin can be used (for example, phthalated gelatin).

本発明において動物性蛋白質由来でない水溶性ポリマーとは、ゼラチンなどの動物系蛋白質以外の天然高分子(多糖類系、微生物系、動物系)、半合成高分子(セルロース系、デンプン系、アルギン酸系)及び合成高分子(ビニル系、その他)である。以下に述べるポリビニルアルコールを始めとする合成ポリマーや、植物由来のセルロース等を原料とする天然あるいは半合成ポリマーが該当する。好ましくは、ポリビニルアルコール類及びアクリル酸―ビニルアルコール共重合ポリマー類である。   In the present invention, the water-soluble polymer not derived from animal protein means natural polymer (polysaccharide, microbial, animal) other than animal protein such as gelatin, semi-synthetic polymer (cellulose, starch, alginic acid). ) And synthetic polymers (vinyl and others). This includes synthetic polymers such as polyvinyl alcohol described below, and natural or semi-synthetic polymers made from plant-derived cellulose or the like. Polyvinyl alcohols and acrylic acid-vinyl alcohol copolymer polymers are preferable.

1)ポリビニルアルコール類
本発明における動物性蛋白質由来でない水溶性ポリマーとして、ポリビニルアルコール類が好ましい。
本発明に好ましく用いられるポリビニルアルコール(PVA)として、以下に列挙するように種々の鹸化度、重合度、中和度、変性体、及び種々のモノマーとの共重合体がある。
1) Polyvinyl alcohols Polyvinyl alcohols are preferred as water-soluble polymers not derived from animal proteins in the present invention.
As polyvinyl alcohol (PVA) preferably used in the present invention, there are various saponification degrees, polymerization degrees, neutralization degrees, modified products, and copolymers with various monomers as listed below.

完全鹸化物としては、PVA−105[ポリビニルアルコール(PVA)含有率94.0質量%以上、けん化度98.5±0.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.5質量%以下、揮発分5.0質量%以下、粘度(4質量%、20℃)5.6±0.4CPS]、PVA−110[PVA含有率94.0質量%、けん化度98.5±0.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.5質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)11.0±0.8CPS]、PVA−117[PVA含有率94.0質量%、けん化度98.5±0.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)28.0±3.0CPS]、PVA−117H[PVA含有率93.5質量%、けん化度99.6±0.3モル%、酢酸ナトリウム含有率1.85質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)29.0±3.0CPS]、PVA−120[PVA含有率94.0質量%、けん化度98.5±0.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)39.5±4.5CPS]、PVA−124[PVA含有率94.0質量%、けん化度98.5±0.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)60.0±6.0CPS]、PVA−124H[PVA含有率93.5質量%、けん化度99.6±0.3モル%、酢酸ナトリウム含有率1.85質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)61.0±6.0CPS]、PVA−CS[PVA含有率94.0質量%、けん化度97.5±0.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)27.5±3.0CPS]、PVA−CST[PVA含有率94.0質量%、けん化度96.0±0.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)27.0±3.0CPS]、PVA−HC[PVA含有率90.0質量%、けん化度99.85モル%以上、酢酸ナトリウム含有率2.5質量%、揮発分8.5質量%、粘度(4質量%、20℃)25.0±3.5CPS](以上、いずれもクラレ(株)製の商品名)などより選ぶことができる。   As a completely saponified product, PVA-105 [polyvinyl alcohol (PVA) content 94.0% by mass or more, saponification degree 98.5 ± 0.5 mol%, sodium acetate content 1.5% by mass or less, volatile content 5 0.0 mass% or less, viscosity (4 mass%, 20 ° C.) 5.6 ± 0.4 CPS], PVA-110 [PVA content 94.0 mass%, saponification degree 98.5 ± 0.5 mol%, acetic acid Sodium content 1.5% by mass, volatile matter 5.0% by mass, viscosity (4% by mass, 20 ° C.) 11.0 ± 0.8 CPS], PVA-117 [PVA content 94.0% by mass, saponification degree 98.5 ± 0.5 mol%, sodium acetate content 1.0 mass%, volatile matter 5.0 mass%, viscosity (4 mass%, 20 ° C.) 28.0 ± 3.0 CPS], PVA-117H [ PVA content 93.5% by mass, saponification degree 99.6 ± 0.3 mol% Sodium acetate content 1.85% by mass, volatile matter 5.0% by mass, viscosity (4% by mass, 20 ° C.) 29.0 ± 3.0 CPS], PVA-120 [PVA content 94.0% by mass, saponification Degree 98.5 ± 0.5 mol%, sodium acetate content 1.0 mass%, volatile matter 5.0 mass%, viscosity (4 mass%, 20 ° C.) 39.5 ± 4.5 CPS], PVA-124 [PVA content 94.0% by mass, saponification degree 98.5 ± 0.5 mol%, sodium acetate content 1.0% by mass, volatile matter 5.0% by mass, viscosity (4% by mass, 20 ° C.) 60 0.0 ± 6.0 CPS], PVA-124H [PVA content 93.5% by mass, saponification degree 99.6 ± 0.3 mol%, sodium acetate content 1.85% by mass, volatile matter 5.0% by mass , Viscosity (4 mass%, 20 ° C.) 61.0 ± 6.0 CPS], PVA-CS [PVA Proportion 94.0% by mass, saponification degree 97.5 ± 0.5 mol%, sodium acetate content 1.0% by mass, volatile matter 5.0% by mass, viscosity (4% by mass, 20 ° C.) 27.5 ± 3.0 CPS], PVA-CST [PVA content 94.0% by mass, saponification degree 96.0 ± 0.5 mol%, sodium acetate content 1.0% by mass, volatile matter 5.0% by mass, viscosity (4 mass%, 20 ° C.) 27.0 ± 3.0 CPS], PVA-HC [PVA content 90.0 mass%, saponification degree 99.85 mol% or more, sodium acetate content 2.5 mass%, volatilization 8.5% by mass, viscosity (4% by mass, 20 ° C.) 25.0 ± 3.5 CPS] (all are trade names manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and the like.

部分けん化物としては、PVA−203[PVA含有率94.0質量%、けん化度88.0±1.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)3.4±0.2CPS]、PVA−204[PVA含有率94.0質量%、けん化度88.0±1.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)3.9±0.3CPS]、PVA−205[PVA含有率94.0質量%、けん化度88.0±1.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)5.0±0.4CPS]、PVA−210[PVA含有率94.0質量%、けん化度88.0±1.0モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)9.0±1.0CPS]、PVA−217[PVA含有率94.0質量%、けん化度88.0±1.0モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)22.5±2.0CPS]、PVA−220[PVA含有率94.0質量%、けん化度88.0±1.0モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)30.0±3.0CPS]、PVA−224[PVA含有率94.0質量%、けん化度88.0±1.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)44.0±4.0CPS]、PVA−228[PVA含有率94.0質量%、けん化度88.0±1.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)65.0±5.0CPS]、PVA−235[PVA含有率94.0質量%、けん化度88.0±1.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)95.0±15.0CPS]、PVA−217EE[PVA含有率94.0質量%、けん化度88.0±1.0モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)23.0±3.0CPS]、PVA−217E[PVA含有率94.0質量%、けん化度88.0±1.0モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)23.0±3.0CPS]、PVA−220E[PVA含有率94.0質量%、けん化度88.0±1.0モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)31.0±4.0CPS]、PVA−224E[PVA含有率94.0質量%、けん化度88.0±1.0モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)45.0±5.0CPS]、PVA−403[PVA含有率94.0質量%、けん化度80.0±1.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)3.1±0.3CPS]、PVA−405[PVA含有率94.0質量%、けん化度81.5±1.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)4.8±0.4CPS]、PVA−420[PVA含有率94.0質量%、けん化度79.5±1.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%]、PVA−613[PVA含有率94.0質量%、けん化度93.5±1.0モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%、揮発分5.0質量%、粘度(4質量%、20℃)16.5±2.0CPS]、L−8[PVA含有率96.0質量%、けん化度71.0±1.5モル%、酢酸ナトリウム含有率1.0質量%(灰分)、揮発分3.0質量%、粘度(4質量%、20℃)5.4±0.4CPS](以上、いずれもクラレ(株)製の商品名)などより選ぶことができる。   As a partially saponified product, PVA-203 [PVA content 94.0% by mass, saponification degree 88.0 ± 1.5 mol%, sodium acetate content 1.0% by mass, volatile matter 5.0% by mass, viscosity (4 mass%, 20 ° C.) 3.4 ± 0.2 CPS], PVA-204 [PVA content 94.0 mass%, saponification degree 88.0 ± 1.5 mol%, sodium acetate content 1.0 mass %, Volatile matter 5.0 mass%, viscosity (4 mass%, 20 ° C.) 3.9 ± 0.3 CPS], PVA-205 [PVA content 94.0 mass%, saponification degree 88.0 ± 1.5 Mol%, sodium acetate content 1.0% by mass, volatile matter 5.0% by mass, viscosity (4% by mass, 20 ° C.) 5.0 ± 0.4 CPS], PVA-210 [PVA content 94.0% by mass %, Saponification degree 88.0 ± 1.0 mol%, sodium acetate content 1.0% by mass, volatilization 5.0 mass%, viscosity (4 mass%, 20 ° C.) 9.0 ± 1.0 CPS], PVA-217 [PVA content 94.0 mass%, saponification degree 88.0 ± 1.0 mol%, acetic acid Sodium content 1.0% by mass, volatile matter 5.0% by mass, viscosity (4% by mass, 20 ° C.) 22.5 ± 2.0 CPS], PVA-220 [PVA content 94.0% by mass, saponification degree 88.0 ± 1.0 mol%, sodium acetate content 1.0 mass%, volatile matter 5.0 mass%, viscosity (4 mass%, 20 ° C.) 30.0 ± 3.0 CPS], PVA-224 [ PVA content 94.0% by mass, saponification degree 88.0 ± 1.5 mol%, sodium acetate content 1.0% by mass, volatile matter 5.0% by mass, viscosity (4% by mass, 20 ° C.) 44. 0 ± 4.0 CPS], PVA-228 [PVA content 94.0% by mass, saponification degree 88.0 ± 1.5 %, Sodium acetate content 1.0 mass%, volatile matter 5.0 mass%, viscosity (4 mass%, 20 ° C.) 65.0 ± 5.0 CPS], PVA-235 [PVA content 94.0 mass %, Saponification degree 88.0 ± 1.5 mol%, sodium acetate content 1.0 mass%, volatile matter 5.0 mass%, viscosity (4 mass%, 20 ° C.) 95.0 ± 15.0 CPS], PVA-217EE [PVA content 94.0% by mass, saponification degree 88.0 ± 1.0 mol%, sodium acetate content 1.0% by mass, volatile matter 5.0% by mass, viscosity (4% by mass, 20% ° C) 23.0 ± 3.0 CPS], PVA-217E [PVA content 94.0 mass%, saponification degree 88.0 ± 1.0 mol%, sodium acetate content 1.0 mass%, volatile content 5. 0% by mass, viscosity (4% by mass, 20 ° C.) 23.0 ± 3.0 CPS], PVA-22 E [PVA content 94.0% by mass, saponification degree 88.0 ± 1.0 mol%, sodium acetate content 1.0% by mass, volatile matter 5.0% by mass, viscosity (4% by mass, 20 ° C.) 31.0 ± 4.0 CPS], PVA-224E [PVA content 94.0 mass%, saponification degree 88.0 ± 1.0 mol%, sodium acetate content 1.0 mass%, volatile content 5.0 mass %, Viscosity (4 mass%, 20 ° C.) 45.0 ± 5.0 CPS], PVA-403 [PVA content 94.0 mass%, saponification degree 80.0 ± 1.5 mol%, sodium acetate content 1 0.0 mass%, volatile matter 5.0 mass%, viscosity (4 mass%, 20 ° C.) 3.1 ± 0.3 CPS], PVA-405 [PVA content 94.0 mass%, saponification degree 81.5 ± 1.5 mol%, sodium acetate content 1.0 mass%, volatile content 5.0 mass%, viscosity (4 mass %, 20 ° C.) 4.8 ± 0.4 CPS], PVA-420 [PVA content 94.0% by mass, saponification degree 79.5 ± 1.5 mol%, sodium acetate content 1.0% by mass, volatilization Min 5.0 mass%], PVA-613 [PVA content 94.0 mass%, saponification degree 93.5 ± 1.0 mol%, sodium acetate content 1.0 mass%, volatile content 5.0 mass% , Viscosity (4 mass%, 20 ° C.) 16.5 ± 2.0 CPS], L-8 [PVA content 96.0 mass%, saponification degree 71.0 ± 1.5 mol%, sodium acetate content 1. 0 mass% (ash content), volatile content 3.0 mass%, viscosity (4 mass%, 20 ° C.) 5.4 ± 0.4 CPS] (all are trade names manufactured by Kuraray Co., Ltd.), etc. Can do.

なお、上記の測定値はJISK−6726−1977に準じて求めたものである。   In addition, said measured value was calculated | required according to JISK-6726-1977.

変性ポリビニルアルコールについては、カチオン変性、アニオン変性、−SH化合物による変性、アルキルチオ化合物による変性、シラノールによる変性体より選ぶことができる。その他、「ポバール」長野浩一ら共著、高分子刊行会発行に記載の変性ポリビニルアルコールを用いることができる。   The modified polyvinyl alcohol can be selected from cationic modification, anion modification, modification with -SH compound, modification with alkylthio compound, and modification with silanol. In addition, modified polyvinyl alcohol described in “Poval” by Koichi Nagano et al.

このような変性ポリビニルアルコール(変性PVA)としては、CポリマーとしてC−118、C−318、C−318−2A、C−506(以上、いずれもクラレ(株)製の商品名)、HLポリマーとしてHL−12E、HL−1203(以上、いずれもクラレ(株)製の商品名)、HMポリマーとしてHM−03、HM−N−03(以上、いずれもクラレ(株)製の商品名)、KポリマーとしてKL−118、KL−318、KL−506、KM−118T、KM−618(以上、いずれもクラレ(株)製の商品名)、MポリマーとしてM−115(クラレ(株)製の商品名)、MPポリマーとしてMP−102、MP−202、MP−203(以上、いずれもクラレ(株)製の商品名)、MPKポリマーとして、MPK−1、MPK−2、MPK−3、MPK−4、MPK−5、MPK−6(以上、いずれもクラレ(株)製の商品名)、RポリマーとしてR−1130、R−2105、R−2130(以上、いずれもクラレ(株)製の商品名)、VポリマーとしてV−2250(クラレ(株)製の商品名)などがある。   As such modified polyvinyl alcohol (modified PVA), C polymer as C-118, C-318, C-318-2A, C-506 (all are trade names manufactured by Kuraray Co., Ltd.), HL polymer HL-12E, HL-1203 (all are trade names made by Kuraray Co., Ltd.), HM polymer is HM-03, HM-N-03 (all are trade names made by Kuraray Co., Ltd.), KL-118, KL-318, KL-506, KM-118T, KM-618 (all are trade names manufactured by Kuraray Co., Ltd.) as the K polymer, and M-115 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) as the M polymer. (Trade name), MP-102, MP-202, MP-203 (all are trade names made by Kuraray Co., Ltd.) as MP polymers, and MPK-1, MPK- as MPK polymers. , MPK-3, MPK-4, MPK-5, MPK-6 (all are trade names manufactured by Kuraray Co., Ltd.), R-1130, R-2105, R-2130 (all are all as R polymers) Kuraray Co., Ltd. product name), V polymer V-2250 (Kuraray Co., Ltd. product name) and the like.

ポリビニルアルコールは、その水溶液に添加する微量の溶剤あるいは無機塩類によって粘度調整をしたり粘度安定化させたりすることが可能であって、詳しくは上記文献「ポバール」長野浩一ら共著、高分子刊行会発行144頁から154頁記載のものを使用することができる。その代表例としてホウ酸を含有させることで塗布面質を向上させることができ、好ましい。ホウ酸の添加量は、ポリビニルアルコールに対し0.01〜40質量%であることが好ましい。   Polyvinyl alcohol can be adjusted in viscosity or stabilized by a small amount of solvent or inorganic salt added to the aqueous solution. For details, refer to the above-mentioned document “Poval” Koichi Nagano et al. Publications described on pages 144 to 154 can be used. As a typical example, it is possible to improve the coating surface quality by containing boric acid, which is preferable. The addition amount of boric acid is preferably 0.01 to 40% by mass with respect to polyvinyl alcohol.

また、ポリビニルアルコールは加熱処理によって結晶化度が向上し、耐水性が向上することが上述の文献「ポバール」に記載されているが、塗布乾燥の際に加熱されるか、もしくは乾燥後に追加過熱処理することにより耐水性が向上するので、水溶性ポリマーの中でも本発明に特に好ましい。
さらに耐水性を高めるには、同書256頁〜261頁に記載されているような耐水化剤を添加するのが好ましい。例えば、アルデヒド類、メチロール化合物類(N−メチロール尿素、N−メチロールメラミンなど)、活性化ビニル化合物類(ジビニルスルホンやその誘導体など)、ビス(β−ヒドロキシエチルスルホン)、エポキシ化合物類(エピクロルヒドリンやその誘導体など)、多価カルボン酸類(ジカルボン酸、ポリカルボン酸としてポリアクリル酸、メチルビニルエーテル−マレイン酸共重合体、イソブチレン−無水マレイン酸共重合体など)、ジイソシアネート類、無機系架橋剤(Cu、B、Al、Ti、Zr、Sn、V、Crなどの化合物)が挙げられる。
本発明により好ましい耐水化剤としては、無機系架橋剤を挙げることができ、その中でもホウ酸やその誘導体が好ましく、特に好ましいのはホウ酸である。以下、ホウ酸誘導体の具体例を挙げる。
Polyvinyl alcohol is described in the above-mentioned document “Poval” that crystallinity is improved by heat treatment and water resistance is improved, but it is heated at the time of coating and drying, or additional overheating after drying. Since water resistance improves by processing, it is especially preferable for the present invention among water-soluble polymers.
In order to further increase the water resistance, it is preferable to add a waterproofing agent as described in pages 256 to 261 of the same document. For example, aldehydes, methylol compounds (N-methylol urea, N-methylol melamine, etc.), activated vinyl compounds (divinyl sulfone and derivatives thereof, etc.), bis (β-hydroxyethyl sulfone), epoxy compounds (epichlorohydrin, Derivatives thereof), polycarboxylic acids (dicarboxylic acids, polycarboxylic acids such as polyacrylic acid, methyl vinyl ether-maleic acid copolymers, isobutylene-maleic anhydride copolymers), diisocyanates, inorganic crosslinking agents (Cu , B, Al, Ti, Zr, Sn, V, Cr, etc.).
Examples of the water-resistant agent that is preferable according to the present invention include inorganic crosslinking agents, among which boric acid and its derivatives are preferable, and boric acid is particularly preferable. Hereinafter, specific examples of boric acid derivatives will be given.

Figure 2005010752
Figure 2005010752

これら、耐水化剤の添加量は、ポリビニルアルコールに対し0.01〜40質量%の範囲で調節して使用することが好ましい。   The addition amount of these water-resistant agents is preferably adjusted within a range of 0.01 to 40% by mass with respect to polyvinyl alcohol.

本発明における動物性蛋白質由来でない水溶性ポリマーとしては、上記ポリビニルアルコール以外に以下のようなものを挙げることができる。   Examples of the water-soluble polymer that is not derived from animal protein in the present invention include the following in addition to the polyvinyl alcohol.

具体的には、植物系多糖類が挙げられ、アラビアガム、κ−カラギーナン、ι−カラギーナン、λ−カラギーナン、グアガム(Squalon製 Supercolなど)、ローカストビーンガム、ペクチン、トラガント、トウモロコシデンプン(National Starch & Chemical Co.製Purity−21など)、リン酸化デンプン(National Starch & Chemical Co.製National 78−1898など)などがある。
また、微生物系多糖類として、キサンタンガム(Kelco製 Keltrol Tなど)、デキストリン(National Starch & Chemical Co.製Nadex360など)など、動物系多糖類として、コンドロイチン硫酸ナトリウム(Croda製 Cromoist CSなど)などがあげられる。
又は、セルロース系ポリマーとして、エチルセルロース(I.C.I.製Cellofas WLDなど)、カルボキシメチルセルロース(ダイセル製CMCなど)、ヒドロキシエチルセルロース(ダイセル製HECなど)、ヒドロキシプロピルセルロース(Aqualon製Klucelなど)、メチルセルロース(Henkel製Viscontranなど)、ニトロセルロース(Hercules製Isopropyl Wetなど)、カチオン化セルロース(Croda製Crodacel QMなど)などがあげられる。アルギン酸系としては、アルギン酸ナトリウム(Kelco製Keltone)など)、アルギン酸プロピレングリコールなど、その他の分類として、カチオン化グアガム(Alcolac製Hi−care1000など)、ヒアルロン酸ナトリウム(Lifecare Biomedial製Hyalureなど)があげられる。
その他にに、カンテン、ファーセルラン、グァーガム、カラヤガム、ラーチガム、グアシードガム、サイリュウムシードガム、キンスシードガム、タマリンドガム、ジェランガム、タラガムなどを挙げることができる。これらの中でも水溶性が高いものが好ましく、5℃以上95℃以下の温度範囲における温度変化によって24時間以内にゾル−ゲル変性する水溶液になるものが好ましく用いられる。
Specific examples include plant-based polysaccharides such as gum arabic, κ-carrageenan, ι-carrageenan, λ-carrageenan, guar gum (such as Supercol from Squalon), locust bean gum, pectin, tragacanth, corn starch (National Starch & Chemical Co. Purity-21 etc.), phosphorylated starch (National Star & Chemical Co. National 78-1898 etc.) and the like.
Examples of microbial polysaccharides include xanthan gum (Kelco's Keltrol T, etc.) and dextrin (National Starch & Chemical Co., Nadex 360, etc.). It is done.
Alternatively, as a cellulose polymer, ethyl cellulose (ICFA Cellofas WLD, etc.), carboxymethyl cellulose (Daicel CMC, etc.), hydroxyethyl cellulose (Daicel HEC, etc.), hydroxypropyl cellulose (Aqualon Klucel, etc.), methylcellulose, etc. (Viscontran manufactured by Henkel, etc.), nitrocellulose (Isopropyl Wet manufactured by Hercules, etc.), cationized cellulose (Crodacel QM manufactured by Croda, etc.) and the like. Examples of the alginic acid system include sodium alginate (Keltone from Kelco), propylene glycol alginate, and other classifications such as cationized guar gum (such as Hi-care 1000 from Alcolac) and sodium hyaluronate (such as Hyalure from Lifecare Biomedia). .
In addition, agar, farsellan, guar gum, karaya gum, larch gum, guar seed gum, sylum seed gum, kins seed gum, tamarind gum, gellan gum, tara gum and the like can be mentioned. Among these, those having high water solubility are preferable, and those that become an aqueous solution that can be sol-gel modified within 24 hours due to a temperature change in a temperature range of 5 ° C. to 95 ° C. are preferably used.

合成ポリマーでは、アクリル系としてはポリアクリル酸ナトリウム、ポリアクリル酸共重合体、ポリアクリルアミド、ポリアクリルアミド共重合体など、ビニル系としては、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン共重合体など、その他としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリビニルエーテル、ポリエチレンイミン、ポリスチレンスルフォン酸又はその共重合体、ポリビニルスルファン酸又はその共重合体、ポリアクリル酸又はその共重合体、アクリル酸又はその共重合体等、マレイン酸共重合体、マレイン酸モノエステル共重合体、アクリロイルメチルプロパンスルホン酸又はその共重合体、など)などを挙げることができる。   Synthetic polymers include acrylic poly-sodium acrylate, polyacrylic acid copolymer, polyacrylamide, polyacrylamide copolymer, etc., vinyl-based polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl pyrrolidone copolymer, etc. Glycol, polypropylene glycol, polyvinyl ether, polyethyleneimine, polystyrene sulfonic acid or copolymer thereof, polyvinyl sulfonic acid or copolymer thereof, polyacrylic acid or copolymer thereof, acrylic acid or copolymer thereof, and maleic acid Copolymer, maleic acid monoester copolymer, acryloylmethylpropanesulfonic acid or a copolymer thereof, and the like.

また、米国特許第4,960,681号明細書、特開昭62−245,260号公報等に記載の高吸水性ポリマー、すなわち−COOM又は−SO3M(Mは水素原子又はアルカリ金属)を有するビニルモノマーの単独重合体又はこのビニルモノマー同士もしくは他のビニルモノマーの共重合体(例えばメタクリル酸ナトリウム、メタクリル酸アンモニウム、住友化学(株)製のスミカゲルL−5H)も使用することができる。 Further, the superabsorbent polymers described in US Pat. No. 4,960,681, JP-A-62-245260, etc., that is, —COOM or —SO 3 M (M is a hydrogen atom or an alkali metal). Homopolymers of vinyl monomers having styrene or copolymers of these vinyl monomers or other vinyl monomers (for example, sodium methacrylate, ammonium methacrylate, Sumikagel L-5H manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) can also be used. .

これらの中でも好ましく用いられる水溶性ポリマーは、住友化学(株)製のスミカゲルL−5Hである。   Among these, the water-soluble polymer preferably used is Sumikagel L-5H manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.

バック面保護層のバインダー中、水溶性ポリマーは50質量%以上95質量%以下含有することが好ましい。より好ましくは、55質量%以上90質量%以下である。もっとも好ましくは60質量%以上85質量%以下である。   In the binder of the back surface protective layer, the water-soluble polymer is preferably contained in an amount of 50% by mass to 95% by mass. More preferably, it is 55 mass% or more and 90 mass% or less. Most preferably, it is 60 mass% or more and 85 mass% or less.

(バインダーの塗布量)
これらバインダーの使用量は、塗布量(支持体1m2当たり)としては0.1g/m2以上5g/m2以下が好ましく、0.5g/m2以上3g/m2以下がより好ましい。
(Binder coating amount)
The amount of these binders, the coating amount is preferably 0.1 g / m 2 or more 5 g / m 2 or less as (support 1 m 2 per), 0.5 g / m 2 or more 3 g / m 2 or less is more preferable.

(その他の組成物)
本発明においてバック面保護層にはマット剤、硬膜剤、フッ素系界面活性剤、つや消し剤、フィルター染料、架橋剤、などの各種添加剤を含有してもよい。
また、ポリマーラテックスの最低造膜温度をコントロールするため、造膜助剤を添加してもよい。造膜助剤は一時可塑剤ともよばれ、ポリマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化合物(通常有機溶剤)である。「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」に詳しい。好ましい造膜助剤は以下の化合物であるが、本発明で用い得る化合物は以下の具体例に限定されるものではない。
Z−1:ベンジルアルコール
Z−2:2,2,4−トリメチルペンタンジオール−1,3−モノイソブチレート
Z−3:2−ジメチルアミノエタノール
Z−4:ジエチレングルコール
(Other compositions)
In the present invention, the back surface protective layer may contain various additives such as a matting agent, a hardener, a fluorosurfactant, a matting agent, a filter dye, and a crosslinking agent.
Further, a film-forming auxiliary may be added to control the minimum film-forming temperature of the polymer latex. The film-forming aid is also called a temporary plasticizer and is an organic compound (usually an organic solvent) that lowers the minimum film-forming temperature of the polymer latex. For details, see "Synthetic Latex Chemistry (by Soichi Muroi, published by Kobunshi Shuppankai (1970))". Preferred film-forming aids are the following compounds, but the compounds that can be used in the present invention are not limited to the following specific examples.
Z-1: benzyl alcohol Z-2: 2,2,4-trimethylpentanediol-1,3-monoisobutyrate Z-3: 2-dimethylaminoethanol Z-4: diethylene glycol

特に、造膜助剤を添加することが好ましく、その添加量は保護層用の塗布液中のポリマーラテックスの固形分に対し、1〜30質量%であることが好ましく、さらには5〜20質量%であることが好ましい。   In particular, it is preferable to add a film-forming auxiliary, and the addition amount is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 5 to 20% by mass, based on the solid content of the polymer latex in the coating solution for the protective layer. % Is preferred.

1−2.バック層
本発明においては、支持体に対し画像形成層と反対の面側に、バック層を設ける。本発明に適用することのできるバック層については特開平11−65021号段落番号0128〜0130に記載されている。
1-2. Back Layer In the present invention, a back layer is provided on the side of the support opposite to the image forming layer. The back layer applicable to the present invention is described in paragraph Nos. 0128 to 0130 of JP-A No. 11-65021.

本発明においては、銀色調、画像の経時変化を改良する目的で300〜450nmに吸収極大を有する着色剤を添加することができる。このような着色剤は、特開昭62−210458号、同63−104046号、同63−103235号、同63−208846号、同63−306436号、同63−314535号、特開平01−61745号、特開平2001−100363などに記載されている。
このような着色剤は、通常、0.1mg/m2〜1g/m2の範囲で添加され、添加する層としては感光性層の反対側に設けられるバック層が好ましい。
また、ベース色調を調整するために580〜680nmに吸収ピークを有する染料を使用することが好ましい。この目的の染料としては短波長側の吸収強度が小さい特開平4−359967、同4−359968記載のアゾメチン系の油溶性染料、特願2002−96797号記載のフタロシアニン系の水溶性染料が好ましい。この目的の染料はいずれの層に添加してもよいが、乳剤面側の非感光層又はバック面側に添加することがより好ましい。
In the present invention, a colorant having an absorption maximum at 300 to 450 nm can be added for the purpose of improving the silver color tone and the temporal change of the image. Such colorants are disclosed in JP-A-62-210458, JP-A-63-104046, JP-A-63-103235, JP-A-63-208846, JP-A-63-306436, JP-A-63-141435, and JP-A-01-61745. No. 1, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-100363, and the like.
Such a colorant is usually added in the range of 0.1 mg / m 2 to 1 g / m 2 , and the layer to be added is preferably a back layer provided on the opposite side of the photosensitive layer.
In order to adjust the base color tone, it is preferable to use a dye having an absorption peak at 580 to 680 nm. As the dye for this purpose, azomethine-based oil-soluble dyes described in JP-A-4-359967 and JP-A-4-359968 having a small absorption intensity on the short wavelength side, and phthalocyanine-based water-soluble dyes described in Japanese Patent Application No. 2002-96797 are preferable. The dye for this purpose may be added to any layer, but is more preferably added to the non-photosensitive layer on the emulsion surface side or the back surface side.

1−3.アンチハレーション層
本発明の熱現像感光材料においては、アンチハレーション層を感光性層に対して光源から遠い側に設けることができる。アンチハレーション層は、前記バック層であっても良い。また、支持体と画像形成層との間の層であっても良い。
1-3. Anti-halation layer In the photothermographic material of the invention, the anti-halation layer can be provided on the side farther from the light source than the photosensitive layer. The anti-halation layer may be the back layer. Further, it may be a layer between the support and the image forming layer.

アンチハレーション層については特開平11−65021号段落番号0123〜0124、特開平11−223898号、同9−230531号、同10−36695号、同10−104779号、同11−231457号、同11−352625号、同11−352626号等に記載されている。
アンチハレーション層には、露光波長に吸収を有するアンチハレーション染料を含有する。露光波長が赤外域にある場合には赤外線吸収染料を用いればよく、その場合には可視域に吸収を有しない染料が好ましい。
可視域に吸収を有する染料を用いてハレーション防止を行う場合には、画像形成後には染料の色が実質的に残らないようにすることが好ましく、熱現像の熱により消色する手段を用いることが好ましく、特に非感光性層に熱消色染料と塩基プレカーサーとを添加してアンチハレーション層として機能させることが好ましい。これらの技術については特開平11−231457号等に記載されている。
As for the antihalation layer, paragraphs 0123 to 0124 of JP-A-11-65021, JP-A-11-223898, 9-230531, 10-36695, 10-104779, 11-231457, 11 -352625, 11-352626 and the like.
The antihalation layer contains an antihalation dye having absorption at the exposure wavelength. In the case where the exposure wavelength is in the infrared region, an infrared absorbing dye may be used, and in that case, a dye having no absorption in the visible region is preferable.
When antihalation is performed using a dye having absorption in the visible range, it is preferable that substantially no dye color remains after image formation, and a means for decoloring by the heat of heat development is used. In particular, it is preferable to add a thermally decoloring dye and a base precursor to the non-photosensitive layer to function as an antihalation layer. These techniques are described in JP-A-11-231457 and the like.

消色染料の添加量は、染料の用途により決定する。一般には、目的とする波長で測定したときの光学濃度(吸光度)が0.1を越える量で使用する。光学濃度は、0.15〜2であることが好ましく0.2〜1であることがより好ましい。このような光学濃度を得るための染料の使用量は、一般に0.001〜1g/m2程度である。 The amount of decoloring dye added is determined by the use of the dye. In general, the optical density (absorbance) measured at the target wavelength is used in an amount exceeding 0.1. The optical density is preferably 0.15 to 2, and more preferably 0.2 to 1. The amount of dye used to obtain such an optical density is generally about 0.001 to 1 g / m 2 .

なお、このように染料を消色すると、熱現像後の光学濃度を0.1以下に低下させることができる。二種類以上の消色染料を、熱消色型記録材料や熱現像感光材料において併用してもよい。同様に、二種類以上の塩基プレカーサーを併用してもよい。
このような消色染料と塩基プレカーサーを用いる熱消色においては、特開平11−352626号に記載のような塩基プレカーサーと混合すると融点を3℃(deg)以上降下させる物質(例えば、ジフェニルスルホン、4−クロロフェニル(フェニル)スルホン)、2−ナフチルベンゾエート等を併用することが熱消色性等の点で好ましい。
When the dye is decolored in this way, the optical density after heat development can be reduced to 0.1 or less. Two or more kinds of decoloring dyes may be used in combination in a heat decoloring type recording material or a photothermographic material. Similarly, two or more kinds of base precursors may be used in combination.
In the thermal decoloration using such decoloring dye and base precursor, a substance (for example, diphenylsulfone, which lowers the melting point by 3 ° C. (deg) or more when mixed with a base precursor as described in JP-A No. 11-352626). 4-Chlorophenyl (phenyl) sulfone), 2-naphthyl benzoate and the like are preferably used in view of thermal decoloring properties and the like.

1−4.画像形成層
本発明における画像形成層は、支持体上に一又はそれ以上の層で構成される。一層で構成する場合は有機銀塩、感光性ハロゲン化銀、還元剤及びバインダーよりなり、必要により色調剤、被覆助剤及び他の補助剤などの所望による追加の材料を含む。二層以上で構成する場合は、第1画像形成層(通常は支持体に隣接した層)中に有機銀塩及び感光性ハロゲン化銀を含み、第2画像形成層又は両層中にいくつかの他の成分を含まなければならない。多色感光性熱現像写真材料の構成は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでよく、また、米国特許第4,708,928号に記載されているように単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。多染料多色感光性熱現像写真材料の場合、各画像形成層は、一般に、米国特許第4,460,681号に記載されているように、各画像形成層の間に官能性もしくは非官能性のバリアー層を使用することにより、互いに区別されて保持される。
以下に画像形成層の主な組成物について、詳細に説明する。
1-4. Image-forming layer The image-forming layer in the invention is composed of one or more layers on a support. In the case of a single layer, it consists of an organic silver salt, a photosensitive silver halide, a reducing agent and a binder, and optionally contains additional materials such as toning agents, coating aids and other auxiliary agents. In the case of two or more layers, the first image forming layer (usually a layer adjacent to the support) contains an organic silver salt and a light-sensitive silver halide, and some of the second image forming layer or both layers include Must contain other ingredients. The construction of a multicolor photosensitive photothermographic material may include a combination of these two layers for each color and all components in a single layer as described in US Pat. No. 4,708,928. May be included. In the case of a multi-dye multicolor photosensitive photothermographic material, each image-forming layer is generally functional or non-functional between each image-forming layer as described in US Pat. No. 4,460,681. By using a sex barrier layer, they are kept distinct from each other.
The main composition of the image forming layer will be described in detail below.

(有機銀塩)
1)組成
本発明に用いることのできる有機銀塩は、光に対して比較的安定であるが、露光された感光性ハロゲン化銀及び還元剤の存在下で、80℃或いはそれ以上に加熱された場合に銀イオン供給体として機能し、銀画像を形成せしめる銀塩である。有機銀塩は還元剤により還元されうる銀イオンを供給できる任意の有機物質であってよい。このような非感光性の有機銀塩については、特開平10−62899号の段落番号0048〜0049、欧州特許公開第0803764A1号の第18ページ第24行〜第19ページ第37行、欧州特許公開第0962812A1号、特開平11−349591号、特開2000−7683号、同2000−72711号等に記載されている。有機酸の銀塩、特に(炭素数が10〜30、好ましくは15〜28の)長鎖脂肪族カルボン酸の銀塩が好ましい。脂肪酸銀塩の好ましい例としては、リグノセリン酸銀、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、エルカ酸銀及びこれらの混合物などを含む。本発明においては、これら脂肪酸銀の中でも、ベヘン酸銀含有率が好ましくは50モル%以上100モル%以下、より好ましくは85モル%以上100モル%以下、さらに好ましくは95モル%以上100モル%以下の脂肪酸銀を用いることが好ましい。更に、エルカ酸銀含有率が2モル%以下、より好ましくは1モル%以下、更に好ましくは0.1モル%以下の脂肪酸銀を用いることが好ましい。
(Organic silver salt)
1) Composition The organic silver salt that can be used in the present invention is relatively stable to light, but is heated to 80 ° C. or higher in the presence of an exposed photosensitive silver halide and a reducing agent. In this case, the silver salt functions as a silver ion supplier to form a silver image. The organic silver salt may be any organic substance that can supply silver ions that can be reduced by a reducing agent. Regarding such non-photosensitive organic silver salt, paragraph numbers 0048 to 0049 of JP-A-10-62899, page 18 line 24 to page 19 line 37 of European Patent Publication No. 0803764A1, European Patent Publication. No. 0968212A1, JP-A-11-349591, JP-A-2000-7683, JP-A-2000-72711, and the like. Silver salts of organic acids, particularly silver salts of long-chain aliphatic carboxylic acids (having 10 to 30, preferably 15 to 28 carbon atoms) are preferred. Preferable examples of the fatty acid silver salt include silver lignocerate, silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, silver erucate and the like. Including a mixture of In the present invention, among these fatty acid silvers, the silver behenate content is preferably 50 mol% to 100 mol%, more preferably 85 mol% to 100 mol%, still more preferably 95 mol% to 100 mol%. The following fatty acid silver is preferably used. Furthermore, it is preferable to use fatty acid silver having a silver erucate content of 2 mol% or less, more preferably 1 mol% or less, and still more preferably 0.1 mol% or less.

また、ステアリン酸銀含有率が1モル%以下であることが好ましい。前記ステアリン酸含有率を1モル%以下とすることにより、Dminが低く、高感度で画像保存性に優れた有機酸の銀塩が得られる。前記ステアリン酸含有率としては、0.5モル%以下が好ましく、実質的に含まないことが特に好ましい。   Moreover, it is preferable that silver stearate content rate is 1 mol% or less. By making the stearic acid content 1 mol% or less, a silver salt of an organic acid having a low Dmin, high sensitivity and excellent image storage stability can be obtained. As said stearic acid content rate, 0.5 mol% or less is preferable and it is especially preferable not to contain substantially.

さらに、有機酸の銀塩としてアラキジン酸銀を含む場合は、アラキジン酸銀含有率が6モル%以下であることが、低いDminを得ること及び画像保存性の優れた有機酸の銀塩を得る点で好ましく、3モル%以下であることが更に好ましい。   Furthermore, when silver arachidate is included as the silver salt of the organic acid, the silver arachidate content is 6 mol% or less to obtain a low Dmin and an organic acid silver salt excellent in image storability. It is preferable at a point and it is still more preferable that it is 3 mol% or less.

2)形状
本発明に用いることができる有機銀塩の形状としては特に制限はなく、針状、棒状、平板状、りん片状いずれでもよい。
本発明においてはりん片状の有機銀塩が好ましい。また、長軸と単軸の長さの比が5未満の短針状、直方体、立方体又はジャガイモ状の不定形粒子も好ましく用いられる。これらの有機銀粒子は長軸と単軸の長さの比が5以上の長針状粒子に比べて熱現像時のカブリが少ないという特徴を有している。特に、長軸と単軸の比が3以下の粒子は塗布膜の機械的安定性が向上し好ましい。本明細書において、りん片状の有機銀塩とは、次のようにして定義する。有機酸銀塩を電子顕微鏡で観察し、有機酸銀塩粒子の形状を直方体と近似し、この直方体の辺を一番短かい方からa、b、cとした(cはbと同じであってもよい。)とき、短い方の数値a、bで計算し、次のようにしてxを求める。
x=b/a
2) Shape The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, and may be any of a needle shape, a rod shape, a flat plate shape, and a flake shape.
In the present invention, scaly organic silver salts are preferred. In addition, short needle-shaped, rectangular parallelepiped, cubic or potato-shaped irregular particles having a major axis / uniaxial length ratio of less than 5 are also preferably used. These organic silver particles have a feature that there is less fog at the time of thermal development than long needle-like particles having a ratio of the major axis to the uniaxial length of 5 or more. In particular, particles having a major axis / uniaxial ratio of 3 or less are preferable because the mechanical stability of the coating film is improved. In the present specification, the scaly organic silver salt is defined as follows. The organic acid silver salt was observed with an electron microscope, the shape of the organic acid silver salt particle was approximated to a rectangular parallelepiped, and the sides of the rectangular parallelepiped were designated a, b, and c from the shortest side (c was the same as b). Then, the shorter numerical values a and b are calculated, and x is obtained as follows.
x = b / a

このようにして200個程度の粒子についてxを求め、その平均値x(平均)としたとき、x(平均)≧1.5の関係を満たすものをりん片状とする。好ましくは30≧x(平均)≧1.5、より好ましくは15≧x(平均)≧1.5である。因みに針状とは1≦x(平均)<1.5である。   In this way, x is obtained for about 200 particles, and when the average value x (average) is obtained, particles satisfying the relationship of x (average) ≧ 1.5 are defined as flakes. Preferably, 30 ≧ x (average) ≧ 1.5, more preferably 15 ≧ x (average) ≧ 1.5. Incidentally, the needle shape is 1 ≦ x (average) <1.5.

りん片状粒子において、aはbとcを辺とする面を主平面とした平板状粒子の厚さとみることができる。aの平均は0.01μm以上0.3μm以下が好ましく0.1μm以上0.23μm以下がより好ましい。c/bの平均は1以上9以下であることが好ましく、より好ましくは1以上6以下、さらに好ましくは1以上4以下、最も好ましくは1以上3以下である。   In the flake shaped particle, a can be regarded as a thickness of a tabular particle having a main plane with b and c as sides. The average of a is preferably 0.01 μm or more and 0.3 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 0.23 μm or less. The average c / b is preferably 1 or more and 9 or less, more preferably 1 or more and 6 or less, still more preferably 1 or more and 4 or less, and most preferably 1 or more and 3 or less.

前記球相当直径を0.05μm以上1μm以下とすることにより、感光材料中で凝集を起こしにくく、画像保存性が良好となる。前記球相当直径としては、0.1μm以上1μm以下が好ましい。本発明において、球相当直径の測定方法は、電子顕微鏡を用いて直接サンプルを撮影し、その後、ネガを画像処理することによって求められる。
前記リン片状粒子において、粒子の球相当直径/aをアスペクト比と定義する。リン片状粒子のアスペクト比としては、感光材料中で凝集を起こしにくく、画像保存性が良好となる観点から、1.1以上30以下であることが好ましく、1.1以上15以下がより好ましい。
By setting the equivalent sphere diameter to 0.05 μm or more and 1 μm or less, aggregation is hardly caused in the photosensitive material, and image storability is improved. The sphere equivalent diameter is preferably 0.1 μm or more and 1 μm or less. In the present invention, the method for measuring the equivalent sphere diameter is obtained by directly photographing a sample using an electron microscope and then image-processing the negative.
In the flake shaped particles, the spherical equivalent diameter / a of the particles is defined as the aspect ratio. The aspect ratio of the flake shaped particles is preferably 1.1 or more and 30 or less, more preferably 1.1 or more and 15 or less, from the viewpoint of preventing aggregation in the photosensitive material and improving the image storage stability. .

有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれの長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の100分率が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下である。有機銀塩の形状の測定方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より求めることができる。単分散性を測定する別の方法として、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求める方法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率(変動係数)が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下である。測定方法としては例えば液中に分散した有機銀塩にレーザー光を照射し、その散乱光のゆらぎの時間変化に対する自己相関関数を求めることにより得られた粒子サイズ(体積加重平均直径)から求めることができる。   The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodispersion is preferably 100% or less, more preferably 80% or less, and even more preferably 50% of the value obtained by dividing the standard deviation of the lengths of the short and long axes by the short and long axes. It is as follows. The method for measuring the shape of the organic silver salt can be determined from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method for measuring monodispersity, there is a method for obtaining the standard deviation of the volume weighted average diameter of the organic silver salt, and the percentage (variation coefficient) of the value divided by the volume weighted average diameter is preferably 100% or less, more Preferably it is 80% or less, More preferably, it is 50% or less. As a measuring method, for example, it is obtained from the particle size (volume weighted average diameter) obtained by irradiating an organic silver salt dispersed in a liquid with laser light and obtaining an autocorrelation function with respect to the temporal change of the fluctuation of the scattered light. Can do.

3)調製
本発明に用いられる有機酸銀の製造及びその分散法は、公知の方法等を適用することができる。例えば上記の特開平10−62899号、欧州特許公開第0803763A1、欧州特許公開第0962812A1号、特開平11−349591号、特開2000−7683号、同2000−72711号、同2001−163889号、同2001−163890号、同2001−163827号、同2001−33907号、同2001−188313号、同2001−83652号、同2002−6442、同2002−49117号、同2002−31870号、同2002−107868号等を参考にすることができる。
3) Preparation Known methods and the like can be applied to the production and dispersion method of organic acid silver used in the present invention. For example, the above-mentioned JP-A-10-62899, European Patent Publication No. 0803763A1, European Patent Publication No. 0968212A1, JP-A-11-349591, JP-A-2000-7683, JP-A-2000-72711, JP-A-2001-163889, 2001-163890, 2001-163828, 2001-33907, 2001-188313, 2001-83651, 2002-6442, 2002-49117, 2002-31870, 2002-107868 You can refer to the issue.

なお、有機銀塩の分散時に、感光性銀塩を共存させると、カブリが上昇し、感度が著しく低下するため、分散時には感光性銀塩を実質的に含まないことがより好ましい。本発明では、分散される水分散液中での感光性銀塩量は、その液中の有機酸銀塩1モルに対し1モル%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1モル%以下であり、さらに好ましいのは積極的な感光性銀塩の添加を行わないものである。   In addition, when the photosensitive silver salt is allowed to coexist at the time of dispersion of the organic silver salt, the fog is increased and the sensitivity is remarkably lowered. Therefore, it is more preferable that the photosensitive silver salt is not substantially contained at the time of dispersion. In the present invention, the amount of the photosensitive silver salt in the aqueous dispersion to be dispersed is preferably 1 mol% or less, more preferably 0.1 mol% relative to 1 mol of the organic acid silver salt in the liquid. The following is more preferable, and positive addition of photosensitive silver salt is not performed.

本発明において有機銀塩水分散液と感光性銀塩水分散液を混合して感光材料を製造することが可能であるが、有機銀塩と感光性銀塩の混合比率は目的に応じて選べるが、有機銀塩に対する感光性銀塩の割合は1モル%〜30モル%の範囲が好ましく、更に2モル%〜20モル%、特に3モル%〜15モル%の範囲が好ましい。混合する際に2種以上の有機銀塩水分散液と2種以上の感光性銀塩水分散液を混合することは、写真特性の調節のために好ましく用いられる方法である。   In the present invention, it is possible to produce a photosensitive material by mixing an organic silver salt aqueous dispersion and a photosensitive silver salt aqueous dispersion, but the mixing ratio of the organic silver salt and the photosensitive silver salt can be selected according to the purpose. The ratio of the photosensitive silver salt to the organic silver salt is preferably in the range of 1 mol% to 30 mol%, more preferably in the range of 2 mol% to 20 mol%, particularly 3 mol% to 15 mol%. Mixing two or more organic silver salt aqueous dispersions and two or more photosensitive silver salt aqueous dispersions when mixing is a method preferably used for adjusting photographic characteristics.

4)添加量
本発明における有機銀塩は、所望の量で使用できるが、ハロゲン化銀も含めた全塗布銀量として0.1〜5.0g/m2が好ましく、より好ましくは0.3〜3.0g/m2、さらに好ましくは0.5〜2.0g/m2である。特に、画像保存性を向上させるためには、全塗布銀量が1.8g/m2以下、より好ましくは1.6g/m2以下であることが好ましい。本発明における好ましい還元剤を使用すれば、このような低銀量においても十分な画像濃度を得ることが可能である。
4) Addition amount The organic silver salt in the present invention can be used in a desired amount, but the total coating silver amount including silver halide is preferably 0.1 to 5.0 g / m 2 , more preferably 0.3. It is -3.0 g / m < 2 >, More preferably, it is 0.5-2.0 g / m < 2 >. In particular, in order to improve image storability, the total coated silver amount is preferably 1.8 g / m 2 or less, more preferably 1.6 g / m 2 or less. If the preferred reducing agent in the present invention is used, a sufficient image density can be obtained even with such a low silver amount.

(還元剤)
本発明の熱現像感光材料には、有機銀塩のための還元剤である熱現像剤を含むことが好ましい。有機銀塩のための還元剤は、銀イオンを金属銀に還元する任意の物質(好ましくは有機物質)であってよい。このような還元剤の例は、特開平11−65021号の段落番号0043〜0045や、欧州特許公開第0803764A1号の第7ページ第34行〜第18ページ第12行に記載されている。
本発明において、還元剤としてはフェノール性水酸基のオルト位に置換基を有するいわゆるヒンダードフェノール系還元剤あるいはビスフェノール系還元剤が好ましく、下記一般式(R)で表される化合物がより好ましい。
一般式(R)
(Reducing agent)
The photothermographic material of the invention preferably contains a heat developer that is a reducing agent for the organic silver salt. The reducing agent for the organic silver salt may be any substance (preferably an organic substance) that reduces silver ions to metallic silver. Examples of such reducing agents are described in JP-A No. 11-65021, paragraphs 0043 to 0045, and European Patent Publication No. 0803764A1, page 7, line 34 to page 18, line 12.
In the present invention, the reducing agent is preferably a so-called hindered phenol-based reducing agent or bisphenol-based reducing agent having a substituent at the ortho position of the phenolic hydroxyl group, and more preferably a compound represented by the following general formula (R).
Formula (R)

Figure 2005010752
Figure 2005010752

(一般式(R)において、R11及びR11’は各々独立に炭素数1〜20のアルキル基を表す。R12及びR12’は各々独立に水素原子又はベンゼン環に置換可能な置換基を表す。Lは−S−基又は−CHR13−基を表す。R13は水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基を表す。X1及びX1’は各々独立に水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。) (In the general formula (R), R 11 and R 11 ′ each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. R 12 and R 12 ′ are each independently a substituent capable of substituting for a hydrogen atom or a benzene ring. the representative .L -S- group or a -CHR 13 - group .R 13 is hydrogen atom or a benzene ring .X 1 and X 1 'each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms Represents a substitutable group.)

一般式(R)について詳細に説明する。
1)R11及びR11
11及びR11’は各々独立に置換又は無置換の炭素数1〜20のアルキル基であり、アルキル基の置換基は特に限定されることはないが、好ましくは、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ウレイド基、ウレタン基、ハロゲン原子等があげられる。
The general formula (R) will be described in detail.
1) R 11 and R 11 '
R 11 and R 11 ′ are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the substituent of the alkyl group is not particularly limited, but is preferably an aryl group, a hydroxy group, Examples thereof include an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acylamino group, a sulfonamide group, a sulfonyl group, a phosphoryl group, an acyl group, a carbamoyl group, an ester group, a ureido group, a urethane group, and a halogen atom.

2)R12及びR12’、X1及びX1
12及びR12’は各々独立に水素原子又はベンゼン環に置換可能な置換基であり、X1及びX1’も各々独立に水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。それぞれベンゼン環に置換可能な基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルアミノ基があげられる。
2) R 12 and R 12 ', X 1 and X 1'
R 12 and R 12 ′ each independently represent a hydrogen atom or a substituent that can be substituted on a benzene ring, and X 1 and X 1 ′ each independently represent a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring. Preferred examples of each group that can be substituted on the benzene ring include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, and an acylamino group.

3)L
Lは−S−基又は−CHR13−基を表す。R13は水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基を表し、アルキル基は置換基を有していてもよい。R13の無置換のアルキル基の具体例はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ウンデシル基、イソプロピル基、1−エチルペンチル基、2,4,4−トリメチルペンチル基などがあげられる。アルキル基の置換基の例はR11の置換基と同様で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基などがあげられる。
3) L
L represents an —S— group or a —CHR 13 — group. R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the alkyl group may have a substituent. Specific examples of the unsubstituted alkyl group represented by R 13 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a heptyl group, an undecyl group, an isopropyl group, a 1-ethylpentyl group, and a 2,4,4-trimethylpentyl group. can give. Examples of the substituent for the alkyl group can include, similar to substituent of R 11, halogen atom, alkoxy group, alkylthio group, aryloxy group, arylthio group, an acylamino group, a sulfonamido group, a sulfonyl group, a phosphoryl group, an oxycarbonyl group, Examples thereof include a carbamoyl group and a sulfamoyl group.

4)好ましい置換基
11及びR11’として好ましくは炭素数3〜15の2級又は3級のアルキル基であり、具体的にはイソプロピル基、イソブチル基、t−ブチル基、t−アミル基、t−オクチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、1−メチルシクロヘキシル基、1−メチルシクロプロピル基などがあげられる。R11及びR11’としてより好ましくは炭素数4〜12の3級アルキル基で、その中でもt−ブチル基、t−アミル基、1−メチルシクロヘキシル基が更に好ましく、t−ブチル基が最も好ましい。
4) Preferred substituents R 11 and R 11 ′ are preferably secondary or tertiary alkyl groups having 3 to 15 carbon atoms, specifically isopropyl, isobutyl, t-butyl, t-amyl groups. , T-octyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 1-methylcyclohexyl group, 1-methylcyclopropyl group and the like. R 11 and R 11 ′ are more preferably a tertiary alkyl group having 4 to 12 carbon atoms, and among them, a t-butyl group, a t-amyl group, and a 1-methylcyclohexyl group are more preferable, and a t-butyl group is most preferable. .

12及びR12’として好ましくは炭素数1〜20のアルキル基であり、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル基、シクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基などがあげられる。より好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基である。
1及びX1’は、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基で、より好ましくは水素原子である。
R 12 and R 12 ′ are preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and specifically include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, and a cyclohexyl group. Group, 1-methylcyclohexyl group, benzyl group, methoxymethyl group, methoxyethyl group and the like. More preferred are methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group and t-butyl group.
X 1 and X 1 ′ are preferably a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.

Lは好ましくは−CHR13−基である。
13として好ましくは水素原子又は炭素数1〜15のアルキル基であり、アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、2,4,4−トリメチルペンチル基が好ましい。R13として特に好ましいのは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基である。
L is preferably a —CHR 13 — group.
R 13 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and the alkyl group is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or a 2,4,4-trimethylpentyl group. R 13 is particularly preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group or an isopropyl group.

13が水素原子である場合、R12及びR12’は好ましくは炭素数2〜5のアルキル基であり、エチル基、プロピル基がより好ましく、エチル基が最も好ましい。
13が炭素数1〜8の1級又は2級のアルキル基である場合、R12及びR12’はメチル基が好ましい。R13の炭素数1〜8の1級又は2級のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基がより好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基が更に好ましい。
11、R11’、R12及びR12’がいずれもメチル基である場合には、R13は2級のアルキル基であることが好ましい。この場合R13の2級アルキル基としてはイソプロピル基、イソブチル基、1−エチルペンチル基が好ましく、イソプロピル基がより好ましい。
上記還元剤はR11、R11’、R12、R12’及びR13の組み合わせにより、熱現像性、現像銀色調などが異なる。2種以上の還元剤を組み合わせることでこれらを調整することができるため、目的によっては2種以上を組み合わせて使用することが好ましい。
When R 13 is a hydrogen atom, R 12 and R 12 ′ are preferably an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, more preferably an ethyl group or a propyl group, and most preferably an ethyl group.
When R 13 is a primary or secondary alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, R 12 and R 12 ′ are preferably methyl groups. As the primary or secondary alkyl group having 1 to 8 carbon atoms for R 13, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or an isopropyl group is more preferable, and a methyl group, an ethyl group, or a propyl group is still more preferable.
When all of R 11 , R 11 ′, R 12 and R 12 ′ are methyl groups, R 13 is preferably a secondary alkyl group. In this case, the secondary alkyl group of R 13 is preferably an isopropyl group, an isobutyl group, or a 1-ethylpentyl group, and more preferably an isopropyl group.
The reducing agent has different heat developability and developed silver tone depending on the combination of R 11 , R 11 ′, R 12 , R 12 ′ and R 13 . Since these can be adjusted by combining two or more kinds of reducing agents, it is preferable to use two or more kinds in combination depending on the purpose.

以下に本発明における一般式(R)で表される化合物をはじめとする本発明の還元剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the specific example of the reducing agent of this invention including the compound represented with general formula (R) in this invention below is shown, this invention is not limited to these.

Figure 2005010752
Figure 2005010752

上記以外の本発明における好ましい還元剤の例は、特開2001−188314号、同2001−209145号、同2001−350235号、同2002−156727号に記載された化合物である。
本発明において還元剤の添加量は0.1g/m2〜3.0g/m2であることが好ましく、より好ましくは0.2g/m2〜1.5g/m2で、さらに好ましくは0.3g/m2〜1.0g/m2である。画像形成層を有する面の銀1モルに対しては5モル%〜50モル%含まれることが好ましく、より好ましくは8モル%〜30モル%であり、10モル%〜20モル%で含まれることがさらに好ましい。還元剤は画像形成層に含有させることが好ましい。
Examples of preferable reducing agents in the present invention other than those described above are the compounds described in JP-A Nos. 2001-188314, 2001-209145, 2001-350235, and 2002-156727.
The addition amount of the reducing agent is preferably a 0.1g / m 2 ~3.0g / m 2 , more preferably 0.2g / m 2 ~1.5g / m 2 , more preferably 0 .3 g / m 2 to 1.0 g / m 2 . It is preferably contained in an amount of 5 mol% to 50 mol%, more preferably 8 mol% to 30 mol%, and more preferably 10 mol% to 20 mol%, based on 1 mol of silver on the surface having the image forming layer. More preferably. The reducing agent is preferably contained in the image forming layer.

還元剤は溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてもよい。
よく知られている乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製する方法が挙げられる。
The reducing agent may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, or a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the photosensitive material.
Well-known emulsifying dispersion methods include dissolving oil using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically dispersing the emulsified dispersion. The method of producing is mentioned.

また、固体微粒子分散法としては、還元剤の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を作製する方法が挙げられる。尚、その際に保護コロイド(例えば、ポリビニルアルコール)、界面活性剤(例えばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム(3つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合物)などのアニオン性界面活性剤)を用いてもよい。上記ミル類では分散媒体としてジルコニア等のビーズが使われるのが普通であり、これらのビーズから溶出するZr等が分散物中に混入することがある。分散条件にもよるが通常は1ppm〜1000ppmの範囲である。感材中のZrの含有量が銀1g当たり0.5mg以下であれば実用上差し支えない。
水分散物には防腐剤(例えばベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩)を含有させることが好ましい。
特に好ましいのは、還元剤の固体粒子分散法であり、平均粒子サイズ0.01μm〜10μm、好ましくは0.05μm〜5μm、より好ましくは0.1μm〜2μmの微粒子して添加するのが好ましい。本願においては他の固体分散物もこの範囲の粒子サイズに分散して用いるのが好ましい。
Further, as a solid fine particle dispersion method, a reducing agent powder is dispersed in an appropriate solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, a vibration ball mill, a sand mill, a jet mill, a roller mill, or an ultrasonic wave to produce a solid dispersion. A method is mentioned. In this case, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) or a surfactant (for example, an anionic surfactant such as sodium triisopropylnaphthalenesulfonate (a mixture of three isopropyl groups having different substitution positions)) may be used. Good. In the mills, beads such as zirconia are usually used as a dispersion medium, and Zr and the like eluted from these beads may be mixed in the dispersion. Although it depends on the dispersion conditions, it is usually in the range of 1 ppm to 1000 ppm. If the Zr content in the light-sensitive material is 0.5 mg or less per 1 g of silver, there is no practical problem.
The aqueous dispersion preferably contains a preservative (for example, benzoisothiazolinone sodium salt).
Particularly preferred is a solid particle dispersion method of a reducing agent, and it is preferable to add fine particles having an average particle size of 0.01 μm to 10 μm, preferably 0.05 μm to 5 μm, more preferably 0.1 μm to 2 μm. In the present application, it is preferable to use other solid dispersions dispersed in a particle size within this range.

(現像促進剤)
本発明の熱現像感光材料では、現像促進剤として特開2000−267222号明細書や特開2000−330234号明細書等に記載の一般式(A)で表されるスルホンアミドフェノール系の化合物、特開平2001−92075記載の一般式(II)で表されるヒンダードフェノール系の化合物、特開平10−62895号明細書や特開平11−15116号明細書等に記載の一般式(I)、特開2002−156727号の一般式(D)や特開2002−278017号明細書に記載の一般式(1)で表されるヒドラジン系の化合物、特開2001−264929号明細書に記載されている一般式(2)で表されるフェノール系又はナフトール系の化合物が好ましく用いられる。これらの現像促進剤は還元剤に対して0.1モル%〜20モル%の範囲で使用され、好ましくは0.5モル%〜10モル%の範囲で、より好ましくは1モル%〜5モル%の範囲である。感材への導入方法は還元剤同様の方法があげられるが、特に固体分散物又は乳化分散物として添加することが好ましい。乳化分散物として添加する場合、常温で固体である高沸点溶剤と低沸点の補助溶剤を使用して分散した乳化分散物として添加するか、もしくは高沸点溶剤を使用しない所謂オイルレス乳化分散物として添加することが好ましい。
本発明においては上記現像促進剤の中でも、特開2002−156727号明細書に記載の一般式(D)で表されるヒドラジン系の化合物及び特開2001−264929号明細書に記載されている一般式(2)で表されるフェノール系又はナフトール系の化合物がより好ましい。
(Development accelerator)
In the photothermographic material of the present invention, a sulfonamide phenol compound represented by the general formula (A) described in JP-A-2000-267222, JP-A-2000-330234, or the like as a development accelerator, Hindered phenol compounds represented by general formula (II) described in JP-A No. 2001-92075, general formula (I) described in JP-A Nos. 10-62895 and 11-15116, A hydrazine-based compound represented by the general formula (D) of JP-A No. 2002-156727 or the general formula (1) described in JP-A No. 2002-278017, and described in the specification of JP-A No. 2001-264929 Phenol-based or naphthol-based compounds represented by the general formula (2) are preferably used. These development accelerators are used in the range of 0.1 mol% to 20 mol% with respect to the reducing agent, preferably in the range of 0.5 mol% to 10 mol%, more preferably 1 mol% to 5 mol. % Range. The introduction method to the light-sensitive material includes the same method as the reducing agent, but it is particularly preferable to add as a solid dispersion or an emulsion dispersion. When added as an emulsified dispersion, it is added as an emulsified dispersion dispersed using a high-boiling solvent and a low-boiling auxiliary solvent that are solid at room temperature, or as a so-called oilless emulsified dispersion that does not use a high-boiling solvent. It is preferable to add.
In the present invention, among the above development accelerators, hydrazine compounds represented by the general formula (D) described in JP-A No. 2002-156727 and those described in JP-A No. 2001-264929 are general. A phenol-based or naphthol-based compound represented by the formula (2) is more preferable.

本発明における特に好ましい現像促進剤は、下記一般式(A−1)及び(A−2)で表される化合物である。
一般式(A−1)
1−NHNH−Q2
(式中、Q1は炭素原子で−NHNH−Q2と結合する芳香族基、又はヘテロ環基を表し、Q2はカルバモイル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基、又はスルファモイル基を表す。)
Particularly preferred development accelerators in the invention are compounds represented by the following general formulas (A-1) and (A-2).
Formula (A-1)
Q 1 -NHNH-Q 2
(Wherein Q 1 represents an aromatic group or a heterocyclic group bonded to —NHNH—Q 2 at a carbon atom, and Q 2 represents a carbamoyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfonyl group, Or represents a sulfamoyl group.)

一般式(A−1)において、Q1で表される芳香族基又はヘテロ環基としては5〜7員の不飽和環が好ましい。好ましい例としては、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、1,2,4−トリアジン環、1,3,5−トリアジン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、1,2,3−トリアゾール環、1,2,4−トリアゾール環、テトラゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,2,5−チアジアゾール環、1,3,4−オキサジアゾール環、1,2,4−オキサジアゾール環、1,2,5−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、チオフェン環などが好ましく、さらにこれらの環が互いに縮合した縮合環も好ましい。 In the general formula (A-1), the aromatic group or heterocyclic group represented by Q 1 is preferably a 5- to 7-membered unsaturated ring. Preferred examples include benzene ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, 1,2,4-triazine ring, 1,3,5-triazine ring, pyrrole ring, imidazole ring, pyrazole ring, 1,2 , 3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1,2,5-thiadiazole ring, 1,3,4 -Oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, 1,2,5-oxadiazole ring, thiazole ring, oxazole ring, isothiazole ring, isoxazole ring, thiophene ring, etc. are preferable, and these Also preferred are fused rings in which the rings are fused together.

これらの環は置換基を有していてもよく、2個以上の置換基を有する場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及びアシル基を挙げることができる。これらの置換基が置換可能な基である場合、さらに置換基を有してもよく、好ましい置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、及びアシルオキシ基を挙げることができる。   These rings may have a substituent, and when they have two or more substituents, these substituents may be the same or different. Examples of substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, arylsulfonamido groups, alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups, cyano Groups, alkylsulfonyl groups, arylsulfonyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, and acyl groups. When these substituents are substitutable groups, they may further have substituents. Examples of preferred substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, aryls. Sulfonamide group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, cyano group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, and acyloxy group Can be mentioned.

2で表されるカルバモイル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のカルバモイル基であり、例えば、無置換カルバモイル、メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N−プロピルカルバモイル、N−sec−ブチルカルバモイル、N−オクチルカルバモイル、N−シクロヘキシルカルバモイル、N−tert−ブチルカルバモイル、N−ドデシルカルバモイル、N−(3−ドデシルオキシプロピル)カルバモイル、N−オクタデシルカルバモイル、N−{3−(2,4−tert−ペンチルフェノキシ)プロピル}カルバモイル、N−(2−ヘキシルデシル)カルバモイル、N−フェニルカルバモイル、N−(4−ドデシルオキシフェニル)カルバモイル、N−(2−クロロ−5−ドデシルオキシカルボニルフェニル)カルバモイル、N−ナフチルカルバモイル、N−3−ピリジルカルバモイル、N−ベンジルカルバモイルが挙げられる。 The carbamoyl group represented by Q 2 is preferably a carbamoyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms. For example, unsubstituted carbamoyl, methylcarbamoyl, N-ethylcarbamoyl, N-propylcarbamoyl N-sec-butylcarbamoyl, N-octylcarbamoyl, N-cyclohexylcarbamoyl, N-tert-butylcarbamoyl, N-dodecylcarbamoyl, N- (3-dodecyloxypropyl) carbamoyl, N-octadecylcarbamoyl, N- {3 -(2,4-tert-pentylphenoxy) propyl} carbamoyl, N- (2-hexyldecyl) carbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N- (4-dodecyloxyphenyl) carbamoyl, N- (2-chloro-5 Dodecyloxycarbo Butylphenyl) carbamoyl, N- naphthylcarbamoyl, N-3- pyridylcarbamoyl include N- benzylcarbamoyl.

2で表されるアシル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のアシル基であり、例えば、ホルミル、アセチル、2−メチルプロパノイル、シクロヘキシルカルボニル、オクタノイル、2−ヘキシルデカノイル、ドデカノイル、クロロアセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、4−ドデシルオキシベンゾイル、2−ヒドロキシメチルベンゾイルが挙げられる。Q2で表されるアルコキシカルボニル基は、好ましくは炭素数2〜50、より好ましくは炭素数6〜40のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルが挙げられる。 The acyl group represented by Q 2 is preferably an acyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as formyl, acetyl, 2-methylpropanoyl, cyclohexylcarbonyl, octanoyl, 2 -Hexyldecanoyl, dodecanoyl, chloroacetyl, trifluoroacetyl, benzoyl, 4-dodecyloxybenzoyl, 2-hydroxymethylbenzoyl. The alkoxycarbonyl group represented by Q2 is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isobutyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl, dodecyl. Examples include oxycarbonyl and benzyloxycarbonyl.

2で表されるアリールオキシカルボニル基は、好ましくは炭素数7〜50、より好ましくは炭素数7〜40のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル、4−オクチルオキシフェノキシカルボニル、2−ヒドロキシメチルフェノキシカルボニル、4−ドデシルオキシフェノキシカルボニルが挙げられる。Q2で表されるスルホニル基は、好ましくは炭素数1〜50、より好ましくは炭素数6〜40のスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル、ブチルスルホニル、オクチルスルホニル、2−ヘキサデシルスルホニル、3−ドデシルオキシプロピルスルホニル、2−オクチルオキシ−5−tert−オクチルフェニルスルホニル、4−ドデシルオキシフェニルスルホニルが挙げられる。 The aryloxycarbonyl group represented by Q 2 is preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 50 carbon atoms, more preferably 7 to 40 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl, 4-octyloxyphenoxycarbonyl, 2-hydroxy Examples thereof include methylphenoxycarbonyl and 4-dodecyloxyphenoxycarbonyl. The sulfonyl group represented by Q2 is preferably a sulfonyl group having 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as methylsulfonyl, butylsulfonyl, octylsulfonyl, 2-hexadecylsulfonyl, 3-dodecyl. Examples include oxypropylsulfonyl, 2-octyloxy-5-tert-octylphenylsulfonyl, and 4-dodecyloxyphenylsulfonyl.

2で表されるスルファモイル基は、好ましくは炭素数0〜50、より好ましくは炭素数6〜40のスルファモイル基で、例えば、無置換スルファモイル、N−エチルスルファモイル基、N−(2−エチルヘキシル)スルファモイル、N−デシルスルファモイル、N−ヘキサデシルスルファモイル、N−{3−(2−エチルヘキシルオキシ)プロピル}スルファモイル、N−(2−クロロ−5−ドデシルオキシカルボニルフェニル)スルファモイル、N−(2−テトラデシルオキシフェニル)スルファモイルが挙げられる。Q2で表される基は、さらに、置換可能な位置に前記のQ1で表される5〜7員の不飽和環の置換基の例として挙げた基を有していてもよく、2個以上の置換基を有する場合には、それ等の置換基は同一であっても異なっていてもよい。 The sulfamoyl group represented by Q 2 is preferably a sulfamoyl group having 0 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as an unsubstituted sulfamoyl group, an N-ethylsulfamoyl group, N- (2- Ethylhexyl) sulfamoyl, N-decylsulfamoyl, N-hexadecylsulfamoyl, N- {3- (2-ethylhexyloxy) propyl} sulfamoyl, N- (2-chloro-5-dodecyloxycarbonylphenyl) sulfamoyl, N- (2-tetradecyloxyphenyl) sulfamoyl is mentioned. The group represented by Q 2 may further have a group exemplified as an example of the substituent of the 5- to 7-membered unsaturated ring represented by Q 1 at a substitutable position. When it has two or more substituents, these substituents may be the same or different.

次に、式(A−1)で表される化合物の好ましい範囲について述べる。Q1としては5〜6員の不飽和環が好ましく、ベンゼン環、ピリミジン環、1,2,3−トリアゾール環、1,2,4−トリアゾール環、テトラゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,3,4−オキサジアゾール環、1,2,4−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、及びこれらの環がベンゼン環もしくは不飽和ヘテロ環と縮合した環が更に好ましい。また、Q2はカルバモイル基が好ましく、特に窒素原子上に水素原子を有するカルバモイル基が好ましい。 Next, a preferable range of the compound represented by formula (A-1) is described. Q 1 is preferably a 5- to 6-membered unsaturated ring, such as a benzene ring, pyrimidine ring, 1,2,3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring. 1,2,4-thiadiazole ring, 1,3,4-oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, thiazole ring, oxazole ring, isothiazole ring, isoxazole ring, and these rings Is more preferably a ring fused with a benzene ring or an unsaturated heterocycle. Q 2 is preferably a carbamoyl group, particularly preferably a carbamoyl group having a hydrogen atom on a nitrogen atom.

一般式(A−2)

Figure 2005010752
Formula (A-2)
Figure 2005010752

一般式(A−2)においてR1はアルキル基、アシル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基を表す。R2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、炭酸エステル基を表す。R3、R4はそれぞれ一般式(A−1)の置換基例で挙げたベンゼン環に置換可能な基を表す。R3とR4は互いに連結して縮合環を形成してもよい。
1は好ましくは炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−オクチル基、シクロヘキシル基など)、アシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メチルウレイド基、4−シアノフェニルウレイド基など)、カルバモイル基(n−ブチルカルバモイル基、N,N−ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、2−クロロフェニルカルバモイル基、2,4−ジクロロフェニルカルバモイル基など)でアシルアミノ基(ウレイド基、ウレタン基を含む)がより好ましい。R2は好ましくはハロゲン原子(より好ましくは塩素原子、臭素原子)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、ブトキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−デシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基など)、アリールオキシ基(フェノキシ基、ナフトキシ基など)である。
3は好ましくは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキル基であり、ハロゲン原子がもっとも好ましい。R4は水素原子、アルキル基、アシルアミノ基が好ましく、アルキル基又はアシルアミノ基がより好ましい。これらの好ましい置換基の例はR1と同様である。R4がアシルアミノ基である場合R4はR3と連結してカルボスチリル環を形成することも好ましい。
In the general formula (A-2), R 1 represents an alkyl group, an acyl group, an acylamino group, a sulfonamide group, an alkoxycarbonyl group, or a carbamoyl group. R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acyloxy group, or a carbonate ester group. R 3 and R 4 each represents a group that can be substituted on the benzene ring mentioned in the example of the substituent of formula (A-1). R 3 and R 4 may be connected to each other to form a condensed ring.
R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, isopropyl group, butyl group, tert-octyl group, cyclohexyl group, etc.), acylamino group (for example, acetylamino group, benzoylamino group, methyl group). Ureido group, 4-cyanophenylureido group, etc.), carbamoyl group (n-butylcarbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, 2-chlorophenylcarbamoyl group, 2,4-dichlorophenylcarbamoyl group, etc.) acylamino Groups (including ureido groups and urethane groups) are more preferred. R2 is preferably a halogen atom (more preferably a chlorine atom or a bromine atom), an alkoxy group (for example, methoxy group, butoxy group, n-hexyloxy group, n-decyloxy group, cyclohexyloxy group, benzyloxy group, etc.), aryloxy A group (phenoxy group, naphthoxy group, etc.).
R 3 is preferably a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and most preferably a halogen atom. R 4 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an acylamino group, more preferably an alkyl group or an acylamino group. Examples of these preferable substituents are the same as those for R 1 . When R 4 is an acylamino group, R 4 is preferably linked to R 3 to form a carbostyryl ring.

一般式(A−2)においてR3とR4が互いに連結して縮合環を形成する場合、縮合環としてはナフタレン環が特に好ましい。ナフタレン環には一般式(A−1)で挙げた置換基例と同じ置換基が結合していてもよい。一般式(A−2)がナフトール系の化合物であるとき、R1はカルバモイル基であることが好ましい。その中でもベンゾイル基であることが特に好ましい。R2はアルコキシ基、アリールオキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることが特に好ましい。 In the general formula (A-2), when R 3 and R 4 are connected to each other to form a condensed ring, a naphthalene ring is particularly preferable as the condensed ring. The same substituent as the example of a substituent quoted by general formula (A-1) may couple | bond with the naphthalene ring. When general formula (A-2) is a naphthol-based compound, R 1 is preferably a carbamoyl group. Of these, a benzoyl group is particularly preferable. R 2 is preferably an alkoxy group or an aryloxy group, and particularly preferably an alkoxy group.

以下、本発明における現像促進剤の好ましい具体例を挙げる。本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, preferred specific examples of the development accelerator in the present invention will be given. The present invention is not limited to these.

Figure 2005010752
Figure 2005010752

(水素結合性化合物)
本発明における還元剤が芳香族性の水酸基(−OH)又はアミノ基(−NHR、Rは水素原子又はアルキル基)を有する場合、特に前述のビスフェノール類の場合には、これらの基と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することが好ましい。
水酸基又はアミノ基と水素結合を形成する基としては、ホスホリル基、スルホキシド基、スルホニル基、カルボニル基、アミド基、エステル基、ウレタン基、ウレイド基、3級アミノ基、含窒素芳香族基などが挙げられる。その中でも好ましいのはホスホリル基、スルホキシド基、アミド基(但し、>N−H基を持たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックされている。)、ウレタン基(但し、>N−H基を持たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックされている。)、ウレイド基(但し、>N−H基を持たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックされている。)を有する化合物である。
本発明で、特に好ましい水素結合性の化合物は下記一般式(D)で表される化合物である。
一般式(D)
(Hydrogen bonding compound)
When the reducing agent in the present invention has an aromatic hydroxyl group (—OH) or amino group (—NHR, R is a hydrogen atom or an alkyl group), particularly in the case of the aforementioned bisphenols, these groups and hydrogen bonds It is preferable to use together a non-reducing compound having a group capable of forming.
Examples of the group that forms a hydrogen bond with a hydroxyl group or an amino group include a phosphoryl group, a sulfoxide group, a sulfonyl group, a carbonyl group, an amide group, an ester group, a urethane group, a ureido group, a tertiary amino group, and a nitrogen-containing aromatic group. Can be mentioned. Among them, preferred are a phosphoryl group, a sulfoxide group, an amide group (however, it has no> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a urethane group. (However, it has no> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a ureido group (however, it has no> N—H group,> N-Ra (Ra is a substituent other than H).)
In the present invention, a particularly preferred hydrogen bonding compound is a compound represented by the following general formula (D).
Formula (D)

Figure 2005010752
Figure 2005010752

一般式(D)においてR21ないしR23は各々独立にアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基又はヘテロ環基を表し、これらの基は無置換であっても置換基を有していてもよい。
21ないしR23が置換基を有する場合の置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基などがあげられ、置換基として好ましいのはアルキル基又はアリール基でたとえばメチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−オクチル基、フェニル基、4−アルコキシフェニル基、4−アシルオキシフェニル基などがあげられる。
21ないしR23のアルキル基としては具体的にはメチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル基、t−オクチル基、シクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、2−フェノキシプロピル基などがあげられる。
アリール基としてはフェニル基、クレジル基、キシリル基、ナフチル基、4−t−ブチルフェニル基、4−t−オクチルフェニル基、4−アニシジル基、3,5−ジクロロフェニル基などが挙げられる。
アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、4−メチルシクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。
アリールオキシ基としてはフェノキシ基、クレジルオキシ基、イソプロピルフェノキシ基、4−t−ブチルフェノキシ基、ナフトキシ基、ビフェニルオキシ基等が挙げられる。
アミノ基としてはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、N−メチル−N−ヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、N−メチル−N−フェニルアミノ基等が挙げられる。
In the general formula (D), R 21 to R 23 each independently represents an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a heterocyclic group, and these groups may be substituted even if they are unsubstituted. You may have.
When R 21 to R 23 have a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an amino group, an acyl group, an acylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonamide group, an acyloxy group, Examples thereof include an oxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a sulfonyl group, and a phosphoryl group. Preferred examples of the substituent include an alkyl group or an aryl group such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, and a t-octyl group. Group, phenyl group, 4-alkoxyphenyl group, 4-acyloxyphenyl group and the like.
Specific examples of the alkyl group represented by R 21 to R 23 include a methyl group, an ethyl group, a butyl group, an octyl group, a dodecyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, a t-octyl group, a cyclohexyl group, Examples include 1-methylcyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, 2-phenoxypropyl group and the like.
Examples of the aryl group include phenyl group, cresyl group, xylyl group, naphthyl group, 4-t-butylphenyl group, 4-t-octylphenyl group, 4-anisidyl group, and 3,5-dichlorophenyl group.
Alkoxy groups include methoxy, ethoxy, butoxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, 3,5,5-trimethylhexyloxy, dodecyloxy, cyclohexyloxy, 4-methylcyclohexyloxy, benzyl An oxy group etc. are mentioned.
Examples of the aryloxy group include a phenoxy group, a cresyloxy group, an isopropylphenoxy group, a 4-t-butylphenoxy group, a naphthoxy group, and a biphenyloxy group.
Examples of the amino group include a dimethylamino group, a diethylamino group, a dibutylamino group, a dioctylamino group, an N-methyl-N-hexylamino group, a dicyclohexylamino group, a diphenylamino group, and an N-methyl-N-phenylamino group. .

21ないしR23としてはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基が好ましい。本発明の効果の点ではR21ないしR23のうち少なくとも一つ以上がアルキル基又はアリール基であることが好ましく、二つ以上がアルキル基又はアリール基であることがより好ましい。また、安価に入手する事ができるという点ではR21ないしR23が同一の基である場合が好ましい。
以下に本発明における一般式(D)の化合物をはじめとする水素結合性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
R 21 to R 23 are preferably an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group. In view of the effects of the present invention, at least one of R 21 to R 23 is preferably an alkyl group or an aryl group, and more preferably two or more are an alkyl group or an aryl group. In addition, it is preferable that R 21 to R 23 are the same group in that they can be obtained at low cost.
Specific examples of the hydrogen bonding compound including the compound of the general formula (D) in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2005010752
Figure 2005010752

水素結合性化合物の具体例は上述の他に、欧州特許1096310号明細書、特開2002−156727号、特開2002−318431号に記載のものがあげられる。
本発明における一般式(D)の化合物は、還元剤と同様に溶液形態、乳化分散形態、固体分散微粒子分散物形態で塗布液に含有せしめ、感光材料中で使用することができるが、固体分散物として使用することが好ましい。これらの化合物は、溶液状態でフェノール性水酸基、アミノ基を有する化合物と水素結合性の錯体を形成しており、還元剤と本発明における一般式(D)の化合物との組み合わせによっては錯体として結晶状態で単離することができる。
このようにして単離した結晶粉体を固体分散微粒子分散物として使用することは安定した性能を得る上で特に好ましい。また、還元剤と本発明における一般式(D)の化合物を粉体で混合し、適当な分散剤を使って、サンドグラインダーミル等で分散時に錯形成させる方法も好ましく用いることができる。
本発明における一般式(D)の化合物は、還元剤に対して、1モル%〜200モル%の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは10モル%〜150モル%の範囲で、さらに好ましくは20モル%〜100モル%の範囲である。
Specific examples of the hydrogen bonding compound include those described in European Patent No. 1096310, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-156727, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-318431.
The compound represented by the general formula (D) in the present invention can be used in a light-sensitive material by being incorporated in a coating solution in the form of a solution, an emulsified dispersion, or a solid dispersion fine particle dispersion in the same manner as the reducing agent. It is preferable to use it as a product. These compounds form a hydrogen-bonding complex with a compound having a phenolic hydroxyl group or an amino group in a solution state, and depending on the combination of the reducing agent and the compound of the general formula (D) in the present invention, the compound may be crystallized as a complex. It can be isolated in the state.
The use of the crystal powder isolated in this way as a solid dispersed fine particle dispersion is particularly preferable for obtaining stable performance. Further, a method in which the reducing agent and the compound of the general formula (D) in the present invention are mixed in a powder and complexed at the time of dispersion with a sand grinder mill or the like using an appropriate dispersant can be preferably used.
The compound of the general formula (D) in the present invention is preferably used in the range of 1 mol% to 200 mol%, more preferably in the range of 10 mol% to 150 mol%, more preferably relative to the reducing agent. Is in the range of 20 mol% to 100 mol%.

(感光性ハロゲン化銀)
1)ハロゲン組成
本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀は、ハロゲン組成として特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、臭化銀、ヨウ臭化銀、ヨウ塩臭化銀、ヨウ化銀を用いることができる。その中でも臭化銀、ヨウ臭化銀及びヨウ化銀が好ましい。粒子内におけるハロゲン組成の分布は均一であってもよく、ハロゲン組成がステップ状に変化したものでもよく、或いは連続的に変化したものでもよい。また、コア/シェル構造を有するハロゲン化銀粒子を好ましく用いることができる。構造として好ましいものは2〜5重構造であり、より好ましくは2〜4重構造のコア/シェル粒子を用いることができる。また塩化銀、臭化銀又は塩臭化銀粒子の表面に臭化銀やヨウ化銀を局在させる技術も好ましく用いることができる。
(Photosensitive silver halide)
1) Halogen composition The photosensitive silver halide used in the present invention is not particularly limited as a halogen composition. Silver chloride, silver chlorobromide, silver bromide, silver iodobromide, silver iodochlorobromide, silver iodide Can be used. Of these, silver bromide, silver iodobromide and silver iodide are preferred. The distribution of the halogen composition in the grains may be uniform, the halogen composition may be changed stepwise, or may be continuously changed. Further, silver halide grains having a core / shell structure can be preferably used. A preferable structure is a 2- to 5-fold structure, more preferably 2- to 4-fold core / shell particles. A technique for localizing silver bromide or silver iodide on the surface of silver chloride, silver bromide or silver chlorobromide grains can also be preferably used.

2)粒子形成方法
感光性ハロゲン化銀の形成方法は当業界ではよく知られており、例えば、リサーチディスクロージャー1978年6月の第17029号、及び米国特許第3,700,458号に記載されている方法を用いることができるが、具体的にはゼラチンあるいは他のポリマー溶液中に銀供給化合物及びハロゲン供給化合物を添加することにより感光性ハロゲン化銀を調製し、その後で有機銀塩と混合する方法を用いる。また、特開平11−119374号公報の段落番号0217〜0224に記載されている方法、特開平11−352627、特開2000−347335号記載の方法も好ましい。
2) Grain Forming Methods Methods for forming photosensitive silver halide are well known in the art and are described, for example, in Research Disclosure No. 17029, June 1978, and US Pat. No. 3,700,458. In particular, a photosensitive silver halide is prepared by adding a silver supply compound and a halogen supply compound into gelatin or another polymer solution, and then mixed with an organic silver salt. Use the method. Further, the method described in paragraph Nos. 0217 to 0224 of JP-A No. 11-119374, and the methods described in JP-A Nos. 11-352627 and 2000-347335 are also preferable.

3)粒子サイズ
感光性ハロゲン化銀の粒子サイズは、画像形成後の白濁を低く抑える目的のために小さいことが好ましく具体的には0.20μm以下、より好ましくは0.01μm以上0.15μm以下、更に好ましくは0.02μm以上0.12μm以下がよい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子の投影面積(平板粒子の場合は主平面の投影面積)と同面積の円像に換算したときの直径をいう。
3) Grain size The grain size of the photosensitive silver halide is preferably small for the purpose of keeping the cloudiness after image formation low, specifically 0.20 μm or less, more preferably 0.01 μm or more and 0.15 μm or less. More preferably, it is 0.02 μm or more and 0.12 μm or less. The grain size here means the diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of silver halide grains (in the case of tabular grains, the projected area of the main plane).

4)粒子形状
ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特に立方体状粒子が好ましい。ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ましく用いることができる。感光性ハロゲン化銀粒子の外表面の面指数(ミラー指数)については特に制限はないが、分光増感色素が吸着した場合の分光増感効率が高い{100}面の占める割合が高いことが好ましい。その割合としては50%以上が好ましく、65%以上がより好ましく、80%以上が更に好ましい。ミラー指数{100}面の比率は増感色素の吸着における{111}面と{100}面との吸着依存性を利用したT.Tani;J.Imaging Sci.,29、165(1985年)に記載の方法により求めることができる。
4) Grain shape Examples of the shape of the silver halide grains include cubes, octahedrons, tabular grains, spherical grains, rod-like grains, and potato grains. In the present invention, cubic grains are particularly preferred. Grains with rounded corners of silver halide grains can also be preferably used. The surface index (Miller index) on the outer surface of the photosensitive silver halide grain is not particularly limited, but the ratio of the {100} plane, which has high spectral sensitizing efficiency when adsorbed by the spectral sensitizing dye, is high. preferable. The ratio is preferably 50% or more, more preferably 65% or more, and still more preferably 80% or more. The ratio of the Miller index {100} plane is determined by T.T. Tani; Imaging Sci. 29, 165 (1985).

5)重金属
本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、周期律表(第1〜18族までを示す)の第8族〜第10族の金属又は金属錯体を含有することができる。周期律表の第8族〜第10族の金属又は金属錯体の中心金属として好ましくは、ロジウム、ルテニウム、イリジウムである。これら金属錯体は1種類でもよいし、同種金属及び異種金属の錯体を2種以上併用してもよい。好ましい含有率は銀1モルに対し1×10-9モルから1×10-3モルの範囲が好ましい。これらの重金属や金属錯体及びそれらの添加法については特開平7−225449号、特開平11−65021号段落番号0018〜0024、特開平11−119374号段落番号0227〜0240に記載されている。
5) Heavy Metal The photosensitive silver halide grain in the invention can contain a metal or metal complex of Group 8 to Group 10 of the Periodic Table (showing Groups 1 to 18). As the central metal of the group 8 to group 10 metal or metal complex of the periodic table, rhodium, ruthenium and iridium are preferable. One kind of these metal complexes may be used, or two or more kinds of complexes of the same metal and different metals may be used in combination. The preferred content is in the range of 1 × 10 −9 mol to 1 × 10 −3 mol with respect to 1 mol of silver. These heavy metals and metal complexes and methods for adding them are described in JP-A-7-225449, JP-A-11-65021, paragraphs 0018 to 0024, and JP-A-11-119374, paragraphs 0227 to 0240.

本発明においては、六シアノ金属錯体を粒子最表面に存在させたハロゲン化銀粒子が好ましい。六シアノ金属錯体としては、[Fe(CN)64-、[Fe(CN)63-、[Ru(CN)64-、[Os(CN)64-、[Co(CN)63-、[Rh(CN)63-、[Ir(CN)63-、[Cr(CN)63-、[Re(CN)63-などが挙げられる。本発明においては六シアノFe錯体が好ましい。 In the present invention, silver halide grains in which a hexacyano metal complex is present on the outermost surface of the grains are preferred. The hexacyano metal complexes include [Fe (CN) 6 ] 4− , [Fe (CN) 6 ] 3− , [Ru (CN) 6 ] 4− , [Os (CN) 6 ] 4− , [Co ( CN) 6 ] 3− , [Rh (CN) 6 ] 3− , [Ir (CN) 6 ] 3− , [Cr (CN) 6 ] 3− , [Re (CN) 6 ] 3− and the like. . In the present invention, a hexacyano Fe complex is preferred.

六シアノ金属錯体は、水溶液中でイオンの形で存在するので対陽イオンは重要ではないが、水と混和しやすく、ハロゲン化銀乳剤の沈澱操作に適合しているナトリウムイオン、カリウムイオン、ルビジウムイオン、セシウムイオン及びリチウムイオン等のアルカリ金属イオン、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン(例えばテトラメチルアンモニウムイオン、テトラエチルアンモニウムイオン、テトラプロピルアンモニウムイオン、テトラ(n−ブチル)アンモニウムイオン)を用いることが好ましい。   The hexacyano metal complex is present in the form of ions in aqueous solution, so the counter cation is not important, but it is easy to mix with water and is suitable for precipitation of silver halide emulsions. Sodium ion, potassium ion, rubidium It is preferable to use alkali metal ions such as ions, cesium ions, and lithium ions, ammonium ions, and alkylammonium ions (for example, tetramethylammonium ions, tetraethylammonium ions, tetrapropylammonium ions, tetra (n-butyl) ammonium ions).

六シアノ金属錯体は、水の他に水と混和しうる適当な有機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類等)との混合溶媒やゼラチンと混和して添加することができる。   In addition to water, the hexacyano metal complex is miscible with a mixed solvent or gelatin with an appropriate organic solvent miscible with water (for example, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides, etc.). Can be added.

六シアノ金属錯体の添加量は、銀1モル当たり1×10-5モル以上1×10-2モル以下が好ましく、より好ましくは1×10-4モル以上1×10-3モル以下である。 The addition amount of the hexacyano metal complex is preferably 1 × 10 −5 mol or more and 1 × 10 −2 mol or less, more preferably 1 × 10 −4 mol or more and 1 × 10 −3 mol or less per mol of silver.

六シアノ金属錯体をハロゲン化銀粒子最表面に存在させるには、六シアノ金属錯体を、粒子形成に使用する硝酸銀水溶液を添加終了した後、硫黄増感、セレン増感及びテルル増感のカルコゲン増感や金増感等の貴金属増感を行う化学増感工程の前までの仕込工程終了前、水洗工程中、分散工程中、又は化学増感工程前に直接添加する。ハロゲン化銀微粒子を成長させないためには、粒子形成後速やかに六シアノ金属錯体を添加することが好ましく、仕込工程終了前に添加することが好ましい。   In order for the hexacyano metal complex to be present on the outermost surface of the silver halide grain, the chalcogen sensitization of sulfur sensitization, selenium sensitization and tellurium sensitization is completed after the addition of the silver nitrate aqueous solution used for grain formation. It is added directly before the completion of the preparation step before the chemical sensitization step for performing noble metal sensitization such as sensitization and gold sensitization, during the washing step, during the dispersion step, or before the chemical sensitization step. In order to prevent the silver halide fine grains from growing, it is preferable to add the hexacyano metal complex immediately after the grain formation, and it is preferable to add it before the completion of the preparation step.

尚、六シアノ金属錯体の添加は、粒子形成をするために添加する硝酸銀の総量の96質量%を添加した後から開始してもよく、98質量%添加した後から開始するのがより好ましく、99質量%添加した後が特に好ましい。   The addition of the hexacyano metal complex may be started after adding 96% by mass of the total amount of silver nitrate to be added to form grains, more preferably starting after adding 98% by mass, The addition of 99% by mass is particularly preferable.

これら六シアノ金属錯体を粒子形成の完了する直前の硝酸銀水溶液を添加した後に添加すると、ハロゲン化銀粒子最表面に吸着することができ、そのほとんどが粒子表面の銀イオンと難溶性の塩を形成する。この六シアノ鉄(II)の銀塩は、AgIよりも難溶性の塩であるため、微粒子による再溶解を防ぐことができ、粒子サイズが小さいハロゲン化銀微粒子を製造することが可能となった。   When these hexacyanometal complexes are added after the addition of the aqueous silver nitrate solution just before the completion of grain formation, they can be adsorbed on the outermost surface of the silver halide grains, and most of them form slightly soluble salts with silver ions on the grain surface. To do. Since this silver salt of hexacyanoiron (II) is a less soluble salt than AgI, it is possible to prevent re-dissolution by fine particles and to produce silver halide fine particles having a small particle size. .

さらに本発明に用いられるハロゲン化銀粒子に含有することのできる金属原子(例えば[Fe(CN)64-)、ハロゲン化銀乳剤の脱塩法や化学増感法については特開平11−84574号段落番号0046〜0050、特開平11−65021号段落番号0025〜0031、特開平11−119374号段落番号0242〜0250に記載されている。 Furthermore, regarding the metal atoms (for example, [Fe (CN) 6 ] 4− ) that can be contained in the silver halide grains used in the present invention, the method of desalting silver halide emulsions and the method of chemical sensitization, JP-A-11-11 No. 84574, paragraph numbers 0046 to 0050, JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0025 to 0031, and JP-A No. 11-119374, paragraph numbers 0242 to 0250.

6)ゼラチン
本発明に用いる感光性ハロゲン化銀乳剤に含有されるゼラチンとしては、種々のゼラチンが使用することができる。感光性ハロゲン化銀乳剤の有機銀塩含有塗布液中での分散状態を良好に維持することが必要であり、分子量は、10,000〜1,000,000のゼラチンを使用することが好ましい。また、ゼラチンの置換基をフタル化処理することも好ましい。これらのゼラチンは粒子形成時あるいは脱塩処理後の分散時に使用してもよいが、粒子形成時に使用することが好ましい。
6) Gelatin As the gelatin contained in the photosensitive silver halide emulsion used in the present invention, various gelatins can be used. It is necessary to maintain a good dispersion state of the photosensitive silver halide emulsion in the coating solution containing an organic silver salt, and gelatin having a molecular weight of 10,000 to 1,000,000 is preferably used. It is also preferable to phthalate the gelatin substituent. These gelatins may be used at the time of grain formation or at the time of dispersion after desalting, but are preferably used at the time of grain formation.

7)増感色素
本発明に適用できる増感色素としてはハロゲン化銀粒子に吸着した際、所望の波長領域でハロゲン化銀粒子を分光増感できるもので、露光光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利に選択することができる。増感色素及び添加法については、特開平11−65021号の段落番号0103〜0109、特開平10−186572号一般式(II)で表される化合物、特開平11−119374号の一般式(I)で表される色素及び段落番号0106、米国特許第5,510,236号、同第3,871,887号実施例5に記載の色素、特開平2−96131号、特開昭59−48753号に開示されている色素、欧州特許公開第0803764A1号の第19ページ第38行〜第20ページ第35行、特開2001−272747号、特開2001−290238号、特開2002−23306号等に記載されている。これらの増感色素は単独で用いてもよく、2種以上組合せて用いてもよい。本発明において増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加する時期は、脱塩工程後、塗布までの時期が好ましく、より好ましくは脱塩後から化学熟成が終了する前までの時期である。
本発明における増感色素の添加量は、感度やカブリの性能に合わせて所望の量にすることができるが、感光性層のハロゲン化銀1モル当たり10-6〜1モルが好ましく、さらに好ましくは10-4〜10-1モルである。
7) Sensitizing Dye Sensitizing dyes applicable to the present invention are those that can spectrally sensitize silver halide grains in a desired wavelength region when adsorbed on silver halide grains, and are suitable for the spectral characteristics of the exposure light source. Sensitizing dyes with sensitivity can be advantageously selected. Regarding the sensitizing dye and the addition method, paragraphs 0103 to 0109 of JP-A-11-65021, compounds represented by the general formula (II) of JP-A-10-186572, and general formulas (I) of JP-A-11-119374 ) And the dye described in Example 5 of U.S. Pat. Nos. 5,510,236 and 3,871,887, JP-A-2-96131, JP-A-59-48753. No. 19, line 38 to page 20, line 35 of JP-A-0803764A1, JP-A No. 2001-272747, JP-A No. 2001-290238, JP-A No. 2002-23306, etc. It is described in. These sensitizing dyes may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the time when the sensitizing dye is added to the silver halide emulsion is preferably the time from the desalting step to the coating, and more preferably the time from desalting to the end of chemical ripening.
The addition amount of the sensitizing dye in the present invention can be set to a desired amount in accordance with the sensitivity and fogging performance, but is preferably 10 −6 to 1 mol, more preferably 1 mol per mol of silver halide in the photosensitive layer. Is 10 −4 to 10 −1 mol.

本発明は分光増感効率を向上させるため、強色増感剤を用いることができる。本発明に用いる強色増感剤としては、欧州特許公開第587,338号、米国特許第3,877,943号、同第4,873,184号、特開平5−341432号、同11−109547号、同10−111543号等に記載の化合物が挙げられる。   In the present invention, a supersensitizer can be used to improve spectral sensitization efficiency. As the supersensitizer used in the present invention, European Patent Publication No. 587,338, US Pat. Nos. 3,877,943, 4,873,184, JP-A-5-341432, 11- 109547, 10-111543, etc. are mentioned.

8)化学増感
本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、硫黄増感法、セレン増感法もしくはテルル増感法にて化学増感されていることが好ましい。硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法に好ましく用いられる化合物としては公知の化合物、例えば、特開平7−128768号等に記載の化合物等を使用することができる。特に本発明においてはテルル増感が好ましく、特開平11−65021号段落番号0030に記載の文献に記載の化合物、特開平5−313284号中の一般式(II),(III),(IV)で示される化合物がより好ましい。
8) Chemical Sensitization The photosensitive silver halide grain in the invention is preferably chemically sensitized by sulfur sensitizing method, selenium sensitizing method or tellurium sensitizing method. As the compound preferably used in the sulfur sensitization method, selenium sensitization method, and tellurium sensitization method, known compounds such as compounds described in JP-A-7-128768 can be used. In the present invention, tellurium sensitization is particularly preferred. The compounds described in the literature described in paragraph No. 0030 of JP-A-11-65021, and the general formulas (II), (III), (IV) described in JP-A-5-313284 The compound shown by is more preferable.

本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、上記カルコゲン増感と組み合わせて、あるいは単独で金増感法にて化学増感されていることが好ましい。金増感剤としては、金の価数が+1価又は+3価が好ましく、金増感剤としては通常用いられる金化合物が好ましい。代表的な例としては塩化金酸、臭化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムブロロオーレート、オーリックトリクロライド、カリウムオーリックチオシアネート、カリウムヨードオーレート、テトラシアノオーリックアシド、アンモニウムオーロチオシアネート、ピリジルトリクロロゴールドなどが好ましい。また、米国特許第5858637号、特開2002−278016号に記載の金増感剤も好ましく用いられる。   The photosensitive silver halide grains in the present invention are preferably chemically sensitized by gold sensitization alone or in combination with the chalcogen sensitization described above. As the gold sensitizer, the valence of gold is preferably +1 or +3, and the gold sensitizer is preferably a commonly used gold compound. Typical examples include chloroauric acid, bromoauric acid, potassium chloroaurate, potassium bromoaurate, auric trichloride, potassium auric thiocyanate, potassium iodoaurate, tetracyanoauric acid, ammonium aurothiocyanate, pyridyltrichlorogold. Etc. are preferable. Further, gold sensitizers described in US Pat. No. 5,858,637 and JP-A No. 2002-278016 are also preferably used.

本発明においては、化学増感は粒子形成後で塗布前であればいかなる時期でも可能であり、脱塩後、(1)分光増感前、(2)分光増感と同時、(3)分光増感後、(4)塗布直前等があり得る。
本発明で用いられる硫黄、セレン及びテルル増感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等によって変わるが、ハロゲン化銀1モル当たり10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜10-3モル程度を用いる。
金増感剤の添加量は種々の条件により異なるが、目安としてはハロゲン化銀1モル当たり10-7モルから10-3モル、より好ましくは10-6モル〜5×10-4モルである。
本発明における化学増感の条件としては特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgとしては6〜11、温度としては40℃〜95℃程度である。
本発明で用いるハロゲン化銀乳剤には、欧州特許公開第293,917号公報に示される方法により、チオスルホン酸化合物を添加してもよい。
In the present invention, chemical sensitization can be performed at any time after particle formation and before coating. After desalting, (1) before spectral sensitization, (2) simultaneously with spectral sensitization, (3) spectral After sensitization, there may be (4) immediately before application.
The amount of sulfur, selenium and tellurium sensitizers used in the present invention varies depending on the silver halide grains used, chemical ripening conditions, etc., but is preferably 10 −8 to 10 −2 mol per mol of silver halide, preferably About 10 −7 to 10 −3 mol is used.
The amount of the gold sensitizer added varies depending on various conditions, but as a guide, it is 10 −7 mol to 10 −3 mol, more preferably 10 −6 mol to 5 × 10 −4 mol per mol of silver halide. .
The conditions for chemical sensitization in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to 8, the pAg is 6 to 11, and the temperature is about 40 ° C to 95 ° C.
A thiosulfonic acid compound may be added to the silver halide emulsion used in the present invention by the method described in European Patent Publication No. 293,917.

本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、還元剤を用いることが好ましい。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコルビン酸、二酸化チオ尿素が好ましく、その他に塩化第一スズ、アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることが好ましい。還元増感剤の添加は、結晶成長から塗布直前の調製工程までの感光乳剤製造工程のどの過程でも良い。また、乳剤のpHを7以上又はpAgを8.3以下に保持して熟成することにより還元増感することが好ましく、粒子形成中に銀イオンのシングルアディション部分を導入することにより還元増感することも好ましい。   A reducing agent is preferably used for the photosensitive silver halide grains in the present invention. As specific compounds for the reduction sensitization, ascorbic acid and thiourea dioxide are preferable, and in addition, stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds, polyamine compounds, and the like are preferably used. . The reduction sensitizer may be added at any stage in the photosensitive emulsion production process from crystal growth to the preparation process immediately before coating. Further, reduction sensitization is preferable by ripening while maintaining the pH of the emulsion at 7 or more or pAg at 8.3 or less, and reduction sensitization is achieved by introducing a single addition portion of silver ions during grain formation. It is also preferable to do.

9)1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物
本発明における熱現像感光材料は、1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物を含有することが好ましい。該化合物は、単独、あるいは前記の種々の化学増感剤と併用して用いられ、ハロゲン化銀の感度増加をもたらすことができる。
9) Compound in which 1-electron oxidant produced by 1-electron oxidation can emit 1 electron or more electrons In the photothermographic material of the present invention, 1-electron oxidant produced by 1-electron oxidation is 1 electron or It is preferable to contain a compound capable of emitting more electrons. The compound can be used alone or in combination with the above-described various chemical sensitizers, and can increase the sensitivity of silver halide.

本発明の熱現像感光材料に含有される1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物とは以下のタイプ1〜5から選ばれる化合物である。   The one-electron oxidant produced by one-electron oxidation contained in the photothermographic material of the present invention is a compound selected from the following types 1 to 5 that can emit one or more electrons.

(タイプ1)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに2電子以上の電子を放出し得る化合物。
(タイプ2)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらにもう1電子を放出し得る化合物で、かつ同じ分子内にハロゲン化銀への吸着性基を2つ以上有する化合物。
(タイプ3)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合形成過程を経た後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
(タイプ4)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く分子内の環開裂反応を経た後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
(タイプ5)
X−Yで表される化合物においてXは還元性基を、Yは脱離基を表し、Xで表される還元性基が1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続くX−Y結合の開裂反応を伴ってYを脱離してXラジカルを生成し、そこからさらにもう1電子を放出し得る化合物。
(Type 1)
A compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can further emit two or more electrons with a subsequent bond cleavage reaction.
(Type 2)
The one-electron oxidant produced by one-electron oxidation is a compound capable of releasing another electron with a subsequent bond cleavage reaction, and has two or more adsorbing groups for silver halide in the same molecule. Compound.
(Type 3)
A compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can further emit one or more electrons after a subsequent bond formation process.
(Type 4)
A compound capable of emitting one or more electrons after the one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent intramolecular ring-cleaving reaction.
(Type 5)
In the compound represented by XY, X represents a reducing group, Y represents a leaving group, and a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation of the reducing group represented by X is followed by XY A compound capable of releasing Y by releasing Y with a bond cleavage reaction and releasing another electron therefrom.

上記タイプ1及びタイプ3〜5の化合物のうち好ましいものは、「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」であるか、又は「分子内に、分光増感色素の部分構造を有する化合物」である。より好ましくは「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」である。タイプ1〜4の化合物はより好ましくは「2つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物」である。   Preferred among the compounds of type 1 and type 3 to 5 are “compounds having an adsorptive group to silver halide in the molecule” or “partial structure of spectral sensitizing dye in the molecule”. Compound ". More preferred is a “compound having an adsorptive group to silver halide in the molecule”. The compounds of types 1 to 4 are more preferably “compounds having a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups as an adsorptive group”.

タイプ1〜5の化合物について詳細に説明する。
タイプ1の化合物において「結合開裂反応」とは具体的に炭素−炭素、炭素−ケイ素、炭素−水素、炭素−ホウ素、炭素−スズ、炭素−ゲルマニウムの各元素間の結合の開裂を意味し、炭素−水素結合の開裂がさらにこれらに付随してもよい。タイプ1の化合物は1電子酸化されて1電子酸化体となった後に、初めて結合開裂反応を伴って、さらに2電子以上(好ましくは3電子以上)の電子を放出し得る化合物である。
The compounds of types 1 to 5 will be described in detail.
In the compound of type 1, “bond cleavage reaction” specifically means cleavage of a bond between carbon-carbon, carbon-silicon, carbon-hydrogen, carbon-boron, carbon-tin, and carbon-germanium elements, These may be further accompanied by carbon-hydrogen bond cleavage. A type 1 compound is a compound capable of emitting two or more (preferably three or more) electrons for the first time after a one-electron oxidation to form a one-electron oxidant, followed by a bond cleavage reaction.

タイプ1の化合物のうち好ましい化合物は一般式(A)、一般式(B)、一般式(1)、一般式(2)又は一般式(3)で表される。   A preferable compound among the compounds of type 1 is represented by general formula (A), general formula (B), general formula (1), general formula (2), or general formula (3).

一般式(A)

Figure 2005010752
Formula (A)
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一般式(A)においてRED11は1電子酸化され得る還元性基を表し、L11は脱離基を表す。R112は水素原子又は置換基を表す。R111は炭素原子(C)及びRED11と共に、5員もしくは6員の芳香族環(芳香族ヘテロ環を含む)のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体、もしくはオクタヒドロ体に相当する環状構造を形成し得る非金属原子団を表す。 In the general formula (A), RED 11 represents a reducing group that can be oxidized by one electron, and L 11 represents a leaving group. R 112 represents a hydrogen atom or a substituent. R 111 together with the carbon atom (C) and RED 11 may form a cyclic structure corresponding to a tetrahydro, hexahydro, or octahydro form of a 5- or 6-membered aromatic ring (including an aromatic heterocycle). Represents a metal atomic group.

一般式(B)においてRED12は1電子酸化され得る還元性基を表し、L12は脱離基を表す。R121及びR122は、それぞれ水素原子又は置換基を表す。ED12は電子供与性基を表す。一般式(B)においてR121とRED12、R121とR122、又はED12とRED12とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。 In the general formula (B), RED 12 represents a reducing group that can be oxidized by one electron, and L 12 represents a leaving group. R 121 and R 122 each represent a hydrogen atom or a substituent. ED 12 represents an electron donating group. In the general formula (B), R 121 and RED 12 , R 121 and R 122 , or ED 12 and RED 12 may be bonded to each other to form a cyclic structure.

これら一般式(A)又は一般式(B)で表される化合物は、RED11又はRED12で表される還元性基が1電子酸化された後、自発的にL11又はL12を結合開裂反応により離脱することで、これに伴いさらに電子を2つ以上、好ましくは3つ以上放出し得る化合物である。 These compounds represented by the general formula (A) or the general formula (B) are capable of spontaneously cleaving L 11 or L 12 after the reducing group represented by RED 11 or RED 12 is oxidized by one electron. It is a compound that can release two or more, preferably three or more electrons in association with separation by reaction.

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一般式(1)においてZ1は窒素原子及びベンゼン環の2つの炭素原子と共に6員環を形成し得る原子団を表し、R1、R2、RN1はそれぞれ水素原子又は置換基を表し、X1はベンゼン環に置換可能な置換基を表し、m1は0〜3の整数を表し、L1は脱離基を表す。一般式(2)においてED21は電子供与性基を表し、R11、R12、RN21、R13、R14はそれぞれ水素原子又は置換基を表し、X21はベンゼン環に置換可能な置換基を表し、m21は0〜3の整数を表し、L21は脱離基を表す。RN21、R13、R14、X21及びED21は、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。一般式(3)においてR32、R33、R31、RN31、Ra、Rbはそれぞれ水素原子又は置換基を表し、L31は脱離基を表す。但しRN31がアリール基以外の基を表す時、Ra及びRbは互いに結合して芳香族環を形成する。 In the general formula (1), Z 1 represents an atomic group capable of forming a 6-membered ring together with a nitrogen atom and two carbon atoms of the benzene ring, R 1 , R 2 and R N1 each represents a hydrogen atom or a substituent, X 1 represents a substituent substitutable on the benzene ring, m 1 represents an integer of 0 to 3, and L 1 represents a leaving group. In the general formula (2), ED 21 represents an electron donating group, R 11 , R 12 , R N21 , R 13 , and R 14 each represents a hydrogen atom or a substituent, and X 21 is a substituent capable of substituting for a benzene ring. Represents a group, m 21 represents an integer of 0 to 3, and L 21 represents a leaving group. R N21 , R 13 , R 14 , X 21 and ED 21 may be bonded to each other to form a cyclic structure. In the general formula (3), R 32 , R 33 , R 31 , R N31 , R a and R b each represent a hydrogen atom or a substituent, and L 31 represents a leaving group. However, when R N31 represents a group other than an aryl group, R a and R b are bonded to each other to form an aromatic ring.

これら化合物は1電子酸化された後、自発的にL1、L21、又はL31を結合開裂反応により離脱することで、これに伴いさらに電子を2つ以上、好ましくは3つ以上放出し得る化合物である。 After these compounds are oxidized by one electron, L 1 , L 21 , or L 31 is spontaneously released by a bond cleavage reaction, and accordingly, two or more electrons, preferably three or more, can be emitted. A compound.

以下、先ず一般式(A)で表される化合物について詳しく説明する。
一般式(A)においてRED11で表される1電子酸化され得る還元性基は、後述するR111と結合して特定の環形成をし得る基であり、具体的には次の1価基から環形成をするのに適切な箇所の水素原子1個を除いた2価基が挙げられる。例えば、アルキルアミノ基、アリールアミノ基(アニリノ基、ナフチルアミノ基等)、ヘテロ環アミノ基(ベンズチアゾリルアミノ基、ピロリルアミノ基等)、アルキルチオ基、アリールチオ基(フェニルチオ基等)、ヘテロ環チオ基、アルコキシ基、アリールオキシ基(フェノキシ基等)、ヘテロ環オキシ基、アリール基(フェニル基、ナフチル基、アントラニル基等)、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基(5員〜7員の、単環もしくは縮合環の、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、セレン原子のうち少なくとも1つのヘテロ原子を含むヘテロ環で、その具体例としては、例えばテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロキナゾリン環、インドリン環、インドール環、インダゾール環、カルバゾール環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、ベンゾチアゾリン環、ピロール環、イミダゾール環、チアゾリン環、ピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、メチレンジオキシフェニル環等が挙げられる)である(以後、便宜上RED11は1価基名として記述する)。RED11は置換基を有していてもよい。
Hereinafter, the compound represented by the general formula (A) will be described in detail first.
The reducing group that can be oxidized by one electron represented by RED 11 in the general formula (A) is a group that can be bonded to R 111 described later to form a specific ring, specifically, the following monovalent group: And a divalent group obtained by removing one hydrogen atom at a suitable position for ring formation. For example, alkylamino group, arylamino group (anilino group, naphthylamino group etc.), heterocyclic amino group (benzthiazolylamino group, pyrrolylamino group etc.), alkylthio group, arylthio group (phenylthio group etc.), heterocyclic thio Group, alkoxy group, aryloxy group (phenoxy group etc.), heterocyclic oxy group, aryl group (phenyl group, naphthyl group, anthranyl group etc.), aromatic or non-aromatic heterocyclic group (5-membered to 7-membered) , A monocyclic or condensed ring hetero ring containing at least one hetero atom among nitrogen atom, sulfur atom, oxygen atom and selenium atom. Specific examples thereof include, for example, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinoxaline ring , Tetrahydroquinazoline ring, indoline ring, indole ring, indazole , Carbazole ring, phenoxazine ring, phenothiazine ring, benzothiazoline ring, pyrrole ring, imidazole ring, thiazoline ring, piperidine ring, pyrrolidine ring, morpholine ring, benzimidazole ring, benzimidazoline ring, benzoxazoline ring, methylenedioxyphenyl ring (Hereinafter, RED 11 is described as a monovalent group name for convenience). RED 11 may have a substituent.

本発明において置換基とは、特に説明がない限り、以下の基から選ばれる置換基を意味する。ハロゲン原子、アルキル基(アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基(置換する位置は問わない)、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基又はその塩、スルホニルカルバモイル基、アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、カルボンイミドイル基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、(アルキル、アリール、又はヘテロ環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、(アルキルもしくはアリール)スルホニルウレイド基、アシルウレイド基、アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル、アリール、又はヘテロ環)チオ基、(アルキル又はアリール)スルホニル基、(アルキル又はアリール)スルフィニル基、スルホ基又はその塩、スルファモイル基、アシルスルファモイル基、スルホニルスルファモイル基又はその塩、リン酸アミドもしくはリン酸エステル構造を含む基、等が挙げられる。これら置換基は、これら置換基でさらに置換されていてもよい。   In the present invention, the substituent means a substituent selected from the following groups unless otherwise specified. Halogen atoms, alkyl groups (including aralkyl groups, cycloalkyl groups, active methine groups, etc.), alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heterocyclic groups (regardless of the position of substitution), quaternized nitrogen atoms Heterocyclic group (eg, pyridinio group, imidazolio group, quinolinio group, isoquinolinio group), acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group or salt thereof, sulfonylcarbamoyl group, acylcarbamoyl group, sulfa Moylcarbamoyl group, carbazoyl group, oxalyl group, oxamoyl group, cyano group, carbonimidoyl group, thiocarbamoyl group, hydroxy group, alkoxy group (including groups containing ethyleneoxy group or propyleneoxy group units repeatedly), aryloxy group , F B-ringoxy group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group Thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, ammonio group, oxamoylamino group, (alkyl or aryl) sulfonylureido group, Acylureido group, acylsulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfini Group, a sulfo group or a salt thereof, sulfamoyl group, sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, phosphoric acid amide or a group containing a phosphoric acid ester structure and so forth. These substituents may be further substituted with these substituents.

RED11として好ましくは、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリール基、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基であり、さらに好ましくはアリールアミノ基(特にアニリノ基)、アリール基(特にフェニル基)である。これらが置換基を有する時、置換基として好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基である。
但しRED11がアリール基を表す時、アリール基は少なくとも1つの「電子供与性基」を有していることが好ましい。ここに「電子供与性基」とは、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アシルアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、活性メチン基、窒素原子を環内に少なくとも1つ含む5員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基(例えばインドリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、チアゾリル基、ベンズチアゾリル基、インダゾリル基など)、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基(ピロリジニル基、インドリニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホリノ基などで環状のアミノ基とも呼べる基)である。ここで活性メチン基とは2つの「電子求引性基」で置換されたメチン基を意味し、ここに「電子求引性基」とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボンイミドイル基を意味する。ここで2つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。
RED 11 is preferably an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an aryl group, an aromatic or non-aromatic heterocyclic group, more preferably an arylamino group (particularly an anilino group), an aryl group ( Especially a phenyl group). When these have a substituent, the substituent is preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an acylamino group, or a sulfonamide group.
However, when RED 11 represents an aryl group, the aryl group preferably has at least one “electron-donating group”. Here, the “electron donating group” means a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an acylamino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an active methine group, and a nitrogen atom in the ring. 5-membered, monocyclic or condensed, electron-rich aromatic heterocyclic group (for example, indolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, benzimidazolyl group, thiazolyl group, benzthiazolyl group, indazolyl group) containing at least one, nitrogen A non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group (a group that can also be called a cyclic amino group such as a pyrrolidinyl group, an indolinyl group, a piperidinyl group, a piperazinyl group, or a morpholino group) substituted with an atom. Here, the active methine group means a methine group substituted by two “electron-withdrawing groups”, and the “electron-withdrawing group” means an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, It means a carbamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a trifluoromethyl group, a cyano group, a nitro group, or a carbonimidoyl group. Here, the two electron withdrawing groups may be bonded to each other to form a cyclic structure.

一般式(A)においてL11は、具体的にはカルボキシ基もしくはその塩、シリル基、水素原子、トリアリールホウ素アニオン、トリアルキルスタニル基、トリアルキルゲルミル基、又は−CRC1C2C3基を表す。ここにシリル基とは具体的にトリアルキルシリル基、アリールジアルキルシリル基、トリアリールシリル基などを表し、任意の置換基を有していてもよい。 In the general formula (A), L 11 is specifically a carboxy group or a salt thereof, a silyl group, a hydrogen atom, a triarylboron anion, a trialkylstannyl group, a trialkylgermyl group, or —CR C1 R C2 R Represents the C3 group. Here, the silyl group specifically represents a trialkylsilyl group, an aryldialkylsilyl group, a triarylsilyl group, or the like, and may have an arbitrary substituent.

11がカルボキシ基の塩を表すとき、塩を形成するカウンターイオンとしてはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、重金属イオン、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられ、好ましくはアルカリ金属イオン又はアンモニウムイオンであり、アルカリ金属イオン(特にLi+、Na+、K+イオン)が最も好ましい。 When L 11 represents a salt of a carboxy group, examples of the counter ion forming the salt include alkali metal ions, alkaline earth metal ions, heavy metal ions, ammonium ions, phosphonium ions, and the like, preferably alkali metal ions or ammonium ions. Alkali metal ions (particularly Li + , Na + , K + ions) are most preferred.

11が−CRC1C2C3基を表す時、ここにRC1、RC2、RC3はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基を表し、これらが互いに結合して環状構造を形成していてもよく、さらに任意の置換基を有していてもよい。但し、RC1、RC2、RC3のうち1つが水素原子もしくはアルキル基を表す時、残る2つが水素原子もしくはアルキル基を表すことはない。RC1、RC2、RC3として好ましくは、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基(特にフェニル基)、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環基、アルコキシ基、ヒドロキシ基で、具体的にその例を挙げると、フェニル基、p−ジメチルアミノフェニル基、p−メトキシフェニル基、2,4−ジメトキシフェニル基、p−ヒドロキシフェニル基、メチルチオ基、フェニルチオ基、フェノキシ基、メトキシ基、エトキシ基、ジメチルアミノ基、N−メチルアニリノ基、ジフェニルアミノ基、モルホリノ基、チオモルホリノ基、ヒドロキシ基などが挙げられる。またこれらが互いに結合して環状構造を形成する場合の例としては1,3−ジチオラン−2−イル基、1,3−ジチアン−2−イル基、N−メチル−1,3−チアゾリジン−2−イル基、N−ベンジル−ベンゾチアゾリジン−2−イル基などが挙げられる。
−CRC1C2C3基が、RC1、RC2、RC3についてそれぞれ上述した範囲内で選択された結果として、一般式(A)からL11を除いた残基と同じ基を表す場合もまた好ましい。
When L 11 represents a —CR C1 R C2 R C3 group, R C1 , R C2 and R C3 are each independently a hydrogen atom, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, alkylthio group, arylthio group, alkyl Represents an amino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, or a hydroxy group, which may be bonded to each other to form a cyclic structure, and further have an optional substituent. Also good. However, when one of R C1 , R C2 and R C3 represents a hydrogen atom or an alkyl group, the remaining two do not represent a hydrogen atom or an alkyl group. R C1 , R C2 and R C3 are preferably each independently an alkyl group, aryl group (particularly phenyl group), alkylthio group, arylthio group, alkylamino group, arylamino group, heterocyclic group, alkoxy group, hydroxy group Specific examples thereof include phenyl group, p-dimethylaminophenyl group, p-methoxyphenyl group, 2,4-dimethoxyphenyl group, p-hydroxyphenyl group, methylthio group, phenylthio group, phenoxy group, Examples include methoxy group, ethoxy group, dimethylamino group, N-methylanilino group, diphenylamino group, morpholino group, thiomorpholino group, hydroxy group and the like. Examples of the case where they are bonded to each other to form a cyclic structure include 1,3-dithiolan-2-yl group, 1,3-dithian-2-yl group, N-methyl-1,3-thiazolidine-2 -Yl group, N-benzyl-benzothiazolidin-2-yl group and the like.
-CR C1 R C2 R C3 group represents the same group as the residue obtained by removing L 11 from general formula (A) as a result of selection within the ranges described above for R C1 , R C2 and R C3 , respectively. Is also preferred.

一般式(A)においてL11は、好ましくはカルボキシ基又はその塩、及び水素原子である。より好ましくはカルボキシ基又はその塩である。 In the general formula (A), L 11 is preferably a carboxy group or a salt thereof, and a hydrogen atom. More preferred is a carboxy group or a salt thereof.

11が水素原子を表す時、一般式(A)で表される化合物は、分子内に内在する塩基部位を有していることが好ましい。この塩基部位の作用により、一般式(A)で表される化合物が酸化された後、L11で表される水素原子が脱プロトン化されて、ここからさらに電子が放出されるのである。 When L 11 represents a hydrogen atom, the compound represented by the general formula (A) preferably has a base site inherent in the molecule. By the action of this base moiety, after the compound represented by the general formula (A) is oxidized, the hydrogen atom represented by L 11 is deprotonated and further electrons are emitted therefrom.

ここに塩基とは、具体的に約1〜約10のpKaを示す酸の共役塩基である。例えば含窒素ヘテロ環類(ピリジン類、イミダゾール類、ベンゾイミダゾール類、チアゾール類など)、アニリン類、トリアルキルアミン類、アミノ基、炭素酸類(活性メチレンアニオンなど)、チオ酢酸アニオン、カルボキシレート(−COO-)、サルフェート(−SO3 -)、又はアミンオキシド(>N+(O-)−)などが挙げられる。好ましくは約1〜約8のpKaを示す酸の共役塩基であり、カルボキシレート、サルフェート、又はアミンオキシドがより好ましく、カルボキシレートが特に好ましい。これらの塩基がアニオンを有する時、対カチオンを有していてもよく、その例としてはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、重金属イオン、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。これら塩基は、任意の位置で一般式(A)で表される化合物に連結される。これら塩基部位が結合する位置としては、一般式(A)のRED11、R111、R112の何れでもよく、またこれらの基の置換基に連結していてもよい。 Here, the base is specifically a conjugate base of an acid having a pKa of about 1 to about 10. For example, nitrogen-containing heterocycles (pyridines, imidazoles, benzimidazoles, thiazoles, etc.), anilines, trialkylamines, amino groups, carbon acids (active methylene anions, etc.), thioacetic acid anions, carboxylates (- COO ), sulfate (—SO 3 ), amine oxide (> N + (O ) —) and the like. Preferably, it is a conjugate base of an acid having a pKa of about 1 to about 8, more preferably carboxylate, sulfate, or amine oxide, and particularly preferably carboxylate. When these bases have anions, they may have counter cations, examples of which include alkali metal ions, alkaline earth metal ions, heavy metal ions, ammonium ions, phosphonium ions and the like. These bases are linked to the compound represented by the general formula (A) at an arbitrary position. The position at which these base sites are bonded may be any of RED 11 , R 111 and R 112 in the general formula (A), and may be linked to a substituent of these groups.

一般式(A)においてR112は水素原子又は炭素原子に置換可能な置換基を表す。但しR112がL11と同じ基を表すことはない。
112は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基(フェニル基など)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基など)、ヒドロキシ基、アルキルチオ基(メチルチオ基、ブチルチオ基など)、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、フェニル基、アルキルアミノ基である。
In the general formula (A), R 112 represents a hydrogen atom or a substituent that can be substituted with a carbon atom. However, R 112 does not represent the same group as L 11 .
R 112 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group (such as a phenyl group), an alkoxy group (such as a methoxy group, an ethoxy group, or a benzyloxy group), a hydroxy group, an alkylthio group (such as a methylthio group or a butylthio group), or an amino group , An alkylamino group, an arylamino group, and a heterocyclic amino group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, a phenyl group, and an alkylamino group.

一般式(A)においてR111が形成する環状構造とは、5員もしくは6員の芳香族環(芳香族ヘテロ環を含む)のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体もしくはオクタヒドロ体に相当する環構造で、ここにヒドロ体とは、芳香族環(芳香族ヘテロ環を含む)に内在する炭素−炭素2重結合(又は炭素−窒素2重結合)が部分的に水素化された環構造を意味し、テトラヒドロ体とは2つの、ヘキサヒドロ体とは3つの、オクタヒドロ体とは4つの、炭素−炭素2重結合(又は炭素−窒素2重結合)が水素化された構造を意味する。水素化されることで芳香族環は、部分的に水素化された非芳香族の環構造となる。
具体的には、ピロリジン環、イミダゾリジン環、チアゾリジン環、ピラゾリジン環及びオキサゾリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、ピペラジン環、テトラリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、及びテトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロカルバゾール環、オクタヒドロフェナントリジン環等が挙げられる。これらの環構造は任意の置換基を有していてもよい。
In the general formula (A), the cyclic structure formed by R 111 is a ring structure corresponding to a tetrahydro, hexahydro or octahydro form of a 5-membered or 6-membered aromatic ring (including an aromatic heterocycle). The hydro form means a ring structure in which a carbon-carbon double bond (or carbon-nitrogen double bond) inherent in an aromatic ring (including an aromatic heterocycle) is partially hydrogenated, The body means two structures, the hexahydro form means three, and the octahydro form means four structures in which carbon-carbon double bonds (or carbon-nitrogen double bonds) are hydrogenated. By being hydrogenated, the aromatic ring becomes a partially hydrogenated non-aromatic ring structure.
Specifically, pyrrolidine ring, imidazolidine ring, thiazolidine ring, pyrazolidine ring and oxazolidine ring, piperidine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, piperazine ring, tetralin ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, And tetrahydroquinoxaline ring, tetrahydrocarbazole ring, octahydrophenanthridine ring and the like. These ring structures may have an arbitrary substituent.

111が形成する環状構造としてさらに好ましくは、ピロリジン環、イミダゾリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、ピペラジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロカルバゾール環であり、特に好ましくは、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、テトラヒドロキノキサリン環であり、最も好ましくはピロリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環である。 More preferably, the cyclic structure formed by R 111 is more preferably a pyrrolidine ring, imidazolidine ring, piperidine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, piperazine ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, tetrahydroquinoxaline ring, tetrahydroquinone ring Carbazole ring, particularly preferably pyrrolidine ring, piperidine ring, piperazine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, tetrahydroquinoxaline ring, most preferably pyrrolidine ring, piperidine ring, tetrahydro ring A pyridine ring, a tetrahydroquinoline ring, and a tetrahydroisoquinoline ring.

一般式(B)においてRED12、L12は、それぞれ一般式(A)のRED11、L11に同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。但し、RED12は下記の環状構造を形成する場合以外は1価基であり、具体的にはRED11で記載した1価基名の基が挙げられる。R121及びR122は一般式(A)のR112に同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。ED12は電子供与性基を表す。R121とRED12、R121とR122、又はED12とRED12とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。 In the general formula (B), RED 12 and L 12 are groups having the same meanings as RED 11 and L 11 in the general formula (A), respectively, and preferred ranges thereof are also the same. However, RED 12 is a monovalent group except for the case where the following cyclic structure is formed, and specific examples thereof include groups having the monovalent group name described in RED 11 . R 121 and R 122 are groups having the same meaning as R 112 in formula (A), and preferred ranges thereof are also the same. ED 12 represents an electron donating group. R 121 and RED 12 , R 121 and R 122 , or ED 12 and RED 12 may be bonded to each other to form a cyclic structure.

一般式(B)においてED12で表される電子供与性基とは、RED11がアリール基を表すときの置換基として説明した電子供与性基と同じものである。ED12として好ましくはヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、活性メチン基、窒素原子を環内に少なくとも1つ含む5員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、及びこれら電子供与性基で置換されたフェニル基であり、さらにヒドロキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、及びこれら電子供与性基で置換されたフェニル基(例えばp−ヒドロキシフェニル基、p−ジアルキルアミノフェニル基、o,p−ジアルコキシフェニル基等)がより好ましい。 The electron donating group represented by ED 12 in the general formula (B) is the same as the electron donating group described as a substituent when RED 11 represents an aryl group. ED 12 is preferably a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an alkylamino group, an arylamino group, an active methine group, a 5-membered monocyclic or condensed ring containing at least one nitrogen atom in the ring. , An electron-excess aromatic heterocyclic group, a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom, and a phenyl group substituted with these electron-donating groups, and further a hydroxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, Alkylamino group, arylamino group, active methine group, non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with nitrogen atom, and phenyl group substituted with these electron-donating groups (for example, p-hydroxyphenyl group, p-dialkylamino) A phenyl group, an o, p-dialkoxyphenyl group and the like are more preferable.

一般式(B)においてR121とRED12、R122とR121、又はED12とRED12とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。ここで形成される環状構造とは、非芳香族の炭素環もしくはヘテロ環であって、5員〜7員環の単環又は縮合環で、置換もしくは無置換の環状構造である。R121とRED12とが環構造を形成するとき、その具体例としては、一般式(A)においてR111が形成する環状構造の例として挙げたものに加えて、ピロリン環、イミダゾリン環、チアゾリン環、ピラゾリン環、オキサゾリン環、インダン環、モルホリン環、インドリン環、テトラヒドロ−1,4−オキサジン環、2,3−ジヒドロベンゾ−1,4−オキサジン環、テトラヒドロ−1,4−チアジン環、2,3−ジヒドロベンゾ−1,4−チアジン環、2,3−ジヒドロベンゾフラン環、2,3−ジヒドロベンゾチオフェン環等が挙げられる。ED12とRED12とが環構造を形成するとき、ED12は好ましくはアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基を表し、形成される環構造の具体例としては、テトラヒドロピラジン環、ピペラジン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロイソキノリン環などが挙げられる。R122とR121とが環構造を形成するとき、その具体例としてはシクロヘキサン環、シクロペンタン環などが挙げられる。 In the general formula (B), R 121 and RED 12 , R 122 and R 121 , or ED 12 and RED 12 may be bonded to each other to form a cyclic structure. The cyclic structure formed here is a non-aromatic carbocyclic or heterocyclic ring, which is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed ring, and is a substituted or unsubstituted cyclic structure. When R 121 and RED 12 form a ring structure, specific examples thereof include the pyrroline ring, imidazoline ring, thiazoline in addition to the examples of the cyclic structure formed by R 111 in formula (A). Ring, pyrazoline ring, oxazoline ring, indane ring, morpholine ring, indoline ring, tetrahydro-1,4-oxazine ring, 2,3-dihydrobenzo-1,4-oxazine ring, tetrahydro-1,4-thiazine ring, 2 , 3-dihydrobenzo-1,4-thiazine ring, 2,3-dihydrobenzofuran ring, 2,3-dihydrobenzothiophene ring and the like. When ED 12 and RED 12 form a ring structure, ED 12 preferably represents an amino group, an alkylamino group, or an arylamino group. Specific examples of the formed ring structure include a tetrahydropyrazine ring, a piperazine ring, A tetrahydroquinoxaline ring, a tetrahydroisoquinoline ring, etc. are mentioned. When R 122 and R 121 form a ring structure, specific examples thereof include a cyclohexane ring and a cyclopentane ring.

次に一般式(1)〜(3)について説明する。
一般式(1)〜(3)においてR1、R2、R11、R12、R31は、一般式(A)のR112と同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。L1、L21、L31は、一般式(A)のL11について説明した中で具体例として挙げた基と同じ脱離基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。X1、X21で表される置換基としては、一般式(A)のRED11が置換基を有する時の置換基の例と同じであり、好ましい範囲も同じである。m1、m21は好ましくは0〜2の整数であり、より好ましくは0又は1である。
Next, general formulas (1) to (3) will be described.
In the general formulas (1) to (3), R 1 , R 2 , R 11 , R 12 and R 31 are groups having the same meaning as R 112 in the general formula (A), and preferred ranges thereof are also the same. L 1 , L 21 and L 31 represent the same leaving groups as those exemplified as specific examples in the description of L 11 in the general formula (A), and preferred ranges thereof are also the same. The substituents represented by X 1 and X 21 are the same as the examples of the substituent when RED 11 of the general formula (A) has a substituent, and the preferred range is also the same. m 1 and m 21 are preferably integers of 0 to 2, more preferably 0 or 1.

N1、RN21、RN31が置換基を表す時、置換基としてはアルキル基、アリール基、ヘテロ環基が好ましく、これらはさらに任意の置換基を有していてもよい。RN1、RN21、RN31は水素原子、アルキル基又はアリール基が好ましく、水素原子又はアルキル基がより好ましい。 When R N1 , R N21 , or R N31 represents a substituent, the substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and these may further have an arbitrary substituent. R N1 , R N21 and R N31 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group.

13、R14、R33、Ra、Rbが置換基を表す時、置換基として好ましくは、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、アルコキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基などである。 When R 13 , R 14 , R 33 , R a and R b represent a substituent, the substituent is preferably an alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, cyano group, alkoxy group, acylamino Group, sulfonamido group, ureido group, thioureido group, alkylthio group, arylthio group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfamoyl group and the like.

一般式(1)においてZ1が形成する6員環は、一般式(1)のベンゼン環と縮合した非芳香族のヘテロ環であり、具体的には縮合するベンゼン環も含めた環構造としてテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロキナゾリン環であり、好ましくはテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環である。これらは置換基を有していてもよい。 The 6-membered ring formed by Z 1 in the general formula (1) is a non-aromatic heterocycle condensed with the benzene ring of the general formula (1). Specifically, as a ring structure including the condensed benzene ring, A tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroquinoxaline ring, and a tetrahydroquinazoline ring, preferably a tetrahydroquinoline ring and a tetrahydroquinoxaline ring. These may have a substituent.

一般式(2)においてED21は、一般式(B)のED12と同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。 In the general formula (2), ED 21 is a group having the same meaning as ED 12 in the general formula (B), and the preferred range thereof is also the same.

一般式(2)においてRN21、R13、R14、X21及びED21のいずれか2つは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。ここでRN21とX21が結合して形成される環状構造とは、好ましくはベンゼン環と縮合した5員〜7員の非芳香族の炭素環もしくはヘテロ環であって、その具体例としては、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、インドリン環、2,3−ジヒドロ−5,6−ベンゾ−1,4−チアジン環などが挙げられる。好ましくはテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、インドリン環である。 In the general formula (2), any two of R N21 , R 13 , R 14 , X 21 and ED 21 may be bonded to each other to form a cyclic structure. Here, the cyclic structure formed by combining R N21 and X 21 is preferably a 5- to 7-membered non-aromatic carbocyclic or heterocyclic ring condensed with a benzene ring. , Tetrahydroquinoline ring, tetrahydroquinoxaline ring, indoline ring, 2,3-dihydro-5,6-benzo-1,4-thiazine ring and the like. Preferred are a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroquinoxaline ring and an indoline ring.

一般式(3)においてRN31がアリール基以外の基を表す時、Ra及びRbは互いに結合して芳香族環を形成する。ここに芳香族環とはアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基)及び芳香族ヘテロ環基(例えばピリジン環基、ピロール環基、キノリン環基、インドール環基など)であり、アリール基が好ましい。該芳香族環基は任意の置換基を有していてもよい。
一般式(3)においてRa及びRbは、互いに結合して芳香族環(特にフェニル基)を形成する場合が好ましい。
In the general formula (3), when R N31 represents a group other than an aryl group, R a and R b are bonded to each other to form an aromatic ring. Here, the aromatic ring is an aryl group (for example, phenyl group, naphthyl group) and an aromatic heterocyclic group (for example, pyridine ring group, pyrrole ring group, quinoline ring group, indole ring group, etc.), and an aryl group is preferable. The aromatic ring group may have an arbitrary substituent.
In the general formula (3), R a and R b are preferably bonded to each other to form an aromatic ring (particularly a phenyl group).

一般式(3)においてR32は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、アミノ基などであり、ここにR32がヒドロキシ基を表す時、同時にR33が「電子求引性基」を表す場合も好ましい例の1つである。ここに「電子求引性基」とは、先に説明したものと同じであり、アシル基、アルコシキカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基が好ましい。 Formula (3) in R 32 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, and the like amino group, wherein when R 32 represents a hydroxy group, R 33 at the same time A case of representing an “electron withdrawing group” is also a preferred example. Here, the “electron withdrawing group” is the same as described above, and an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and a cyano group are preferable.

次にタイプ2の化合物について説明する。
タイプ2の化合物において「結合開裂反応」とは炭素−炭素、炭素−ケイ素、炭素−水素、炭素−ホウ素、炭素−スズ、炭素−ゲルマニウムの各元素間の結合の開裂を意味し、炭素−水素結合の開裂がこれに付随してもよい。
Next, the type 2 compound will be described.
In the type 2 compound, “bond cleavage reaction” means the cleavage of a bond between carbon-carbon, carbon-silicon, carbon-hydrogen, carbon-boron, carbon-tin, and carbon-germanium, and carbon-hydrogen. This may be accompanied by cleavage of the bond.

タイプ2の化合物は分子内にハロゲン化銀への吸着性基を2つ以上(好ましくは2〜6つ、より好ましくは2〜4つ)有する化合物である。より好ましくは2つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物である。吸着性基の数は、好ましくは2〜6、さらに好ましくは2〜4が良い。吸着性基については後述する。   The type 2 compound is a compound having two or more (preferably 2 to 6, more preferably 2 to 4) adsorptive groups to silver halide in the molecule. More preferred is a compound having a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups as an adsorptive group. The number of adsorptive groups is preferably 2-6, more preferably 2-4. The adsorptive group will be described later.

タイプ2の化合物のうち好ましい化合物は一般式(C)で表される。   A preferable compound among the compounds of type 2 is represented by the general formula (C).

Figure 2005010752
Figure 2005010752

ここに一般式(C)で表される化合物は、RED2で表される還元性基が1電子酸化された後、自発的にL2を結合開裂反応により離脱することで、これに伴いさらに電子を1つ放出し得る化合物である。 Here, the compound represented by the general formula (C) has a structure in which, after the reducing group represented by RED 2 is oxidized by one electron, L 2 is spontaneously released by a bond cleavage reaction. It is a compound that can emit one electron.

一般式(C)においてRED2は一般式(B)のRED12と同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。L2は一般式(A)のL11について説明したのと同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。なおL2がシリル基を表す時、該化合物は分子内に、2つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物である。R21、R22は水素原子又は置換基を表し、これらは一般式(A)のR112と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。RED2とR21とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。 In the general formula (C), RED 2 represents a group having the same meaning as RED 12 in the general formula (B), and its preferred range is also the same. L 2 represents a group having the same meaning as described for L 11 in the general formula (A), and its preferred range is also the same. When L 2 represents a silyl group, the compound is a compound having a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups as an adsorptive group in the molecule. R 21 and R 22 each represents a hydrogen atom or a substituent, and these are groups having the same meaning as R 112 in formula (A), and the preferred range thereof is also the same. RED 2 and R 21 may be bonded to each other to form a ring structure.

ここで形成される環構造とは、5員〜7員の、単環もしくは縮合環の、非芳香族の炭素環又はヘテロ環であり、置換基を有していてもよい。但し該環構造が、芳香族環又は芳香族ヘテロ環のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体もしくはオクタヒドロ体に相当する環構造であることはない。環構造として好ましくは、芳香族環又は芳香族ヘテロ環のジヒドロ体に相当する環構造で、その具体例としては、例えば2−ピロリン環、2−イミダゾリン環、2−チアゾリン環、1,2−ジヒドロピリジン環、1,4−ジヒドロピリジン環、インドリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾチアゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、2,3−ジヒドロベンゾチオフェン環、2,3−ジヒドロベンゾフラン環、ベンゾ−α−ピラン環、1,2−ジヒドロキノリン環、1,2−ジヒドロキナゾリン環、1,2−ジヒドロキノキサリン環などが挙げられ、好ましくは2−イミダゾリン環、2−チアゾリン環、インドリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾチアゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、1,2−ジヒドロピリジン環、1,2−ジヒドロキノリン環、1,2−ジヒドロキナゾリン環、1,2−ジヒドロキノキサリン環などであり、インドリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾチアゾリン環、1,2−ジヒドロキノリン環がより好ましく、インドリン環が特に好ましい。   The ring structure formed here is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed, non-aromatic carbocycle or heterocycle, which may have a substituent. However, the ring structure is not a ring structure corresponding to a tetrahydro, hexahydro or octahydro form of an aromatic ring or an aromatic heterocycle. The ring structure is preferably a ring structure corresponding to a dihydro form of an aromatic ring or an aromatic heterocycle, and specific examples thereof include, for example, 2-pyrroline ring, 2-imidazoline ring, 2-thiazoline ring, 1,2- Dihydropyridine ring, 1,4-dihydropyridine ring, indoline ring, benzimidazoline ring, benzothiazoline ring, benzoxazoline ring, 2,3-dihydrobenzothiophene ring, 2,3-dihydrobenzofuran ring, benzo-α-pyran ring, 1 , 2-dihydroquinoline ring, 1,2-dihydroquinazoline ring, 1,2-dihydroquinoxaline ring and the like, preferably 2-imidazoline ring, 2-thiazoline ring, indoline ring, benzoimidazoline ring, benzothiazoline ring, Benzoxazoline ring, 1,2-dihydropyridine ring, 1,2-dihydroquinolyl Ring, 1,2-dihydro-quinazoline ring, and the like 1,2-dihydro-quinoxaline ring, indoline ring, benzimidazoline ring, a benzothiazoline ring, 1,2-dihydroquinoline ring is more preferable, indoline ring is particularly preferred.

次にタイプ3の化合物について説明する。
タイプ3の化合物において「結合形成過程」とは炭素−炭素、炭素−窒素、炭素−硫黄、炭素−酸素などの原子間結合の形成を意味する。
Next, the compound of type 3 will be described.
In the type 3 compound, “bond formation process” means formation of an interatomic bond such as carbon-carbon, carbon-nitrogen, carbon-sulfur, carbon-oxygen and the like.

タイプ3の化合物は好ましくは、1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続いて分子内に共存する反応性基部位(炭素−炭素2重結合部位、炭素−炭素3重結合部位、芳香族基部位、又はベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位)と反応して結合を形成した後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得ることを特徴とする化合物である。   The compound of type 3 is preferably a reactive group site (carbon-carbon double bond site, carbon-carbon triple bond site, fragrance) in which a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation coexists in the molecule. And a non-aromatic heterocyclic group part of a benzo-condensed ring) to form a bond and then emit one electron or more electrons.

さらに詳細に述べるとタイプ3の化合物は、1電子酸化されて生成するその1電子酸化体(カチオンラジカル種、又はそこからプロトンの脱離により生成する中性のラジカル種)が、同じ分子内に共存する上記反応性基と反応し、結合を形成して、分子内に新たに環構造を有するラジカル種を生成する。そしてこのラジカル種から、直接もしくはプロトンの脱離を伴って、2電子目の電子が放出される特徴を有している。
そしてさらにタイプ3の化合物の中には、そうして生成した2電子酸化体がその後、ある場合には加水分解反応を受けた後に、またある場合には直接プロトンの移動を伴なう互変異性化反応を起して、そこからさらに1電子以上、通常2電子以上の電子を放出する場合がある。あるいはまたこうした互変異性化反応を経由せずに直接2電子酸化体から、さらに1電子以上、通常2電子以上の電子を放出する能力を有しているものも含まれる。
More specifically, a type 3 compound has a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation (a cation radical species or a neutral radical species produced by elimination of a proton therefrom) in the same molecule. It reacts with the coexisting reactive group, forms a bond, and generates a radical species having a new ring structure in the molecule. This radical species has a feature that electrons of the second electron are emitted directly or with elimination of protons.
And in some Type 3 compounds, the two-electron oxidant so produced is then subjected to a hydrolysis reaction in some cases, and in some cases tautomerization with direct proton transfer. There is a case in which one or more electrons, usually two or more electrons are emitted from the oxidization reaction. Alternatively, those having the ability to emit one or more electrons, usually two or more electrons, directly from a two-electron oxidant without going through such a tautomerization reaction are also included.

タイプ3の化合物は好ましくは、一般式(D)で表される。   The compound of type 3 is preferably represented by the general formula (D).

Figure 2005010752
Figure 2005010752

一般式(D)においてRED3は1電子酸化され得る還元性基を表し、Y3はRED3が1電子酸化された後に反応する反応性基部位を表し、具体的には炭素−炭素2重結合部位、炭素−炭素3重結合部位、芳香族基部位、又はベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位を含む有機基を表す。L3はRED3とY3とを連結する連結基を表す。 In the general formula (D), RED 3 represents a reducing group that can be oxidized by one electron, Y 3 represents a reactive group site that reacts after RED 3 is oxidized by one electron, and specifically, a carbon-carbon double layer. It represents an organic group containing a binding site, a carbon-carbon triple bond site, an aromatic group site, or a non-aromatic heterocyclic group site of a benzo-fused ring. L 3 represents a linking group that links RED 3 and Y 3 .

RED3は一般式(B)のRED12と同義の基を表し、好ましくはアリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリール基、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基(特に含窒素ヘテロ環基が好ましい)であり、さらに好ましくはアリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリール基、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基であり、このうちヘテロ環基に関しては、テトラヒドロキノリン環基、テトラヒドロキノキサリン環基、テトラヒドロキナゾリン環基、インドリン環基、インドール環基、カルバゾール環基、フェノキサジン環基、フェノチアジン環基、ベンゾチアゾリン環基、ピロール環基、イミダゾール環基、チアゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、ベンゾイミダゾリン環基、ベンゾチアゾリン環基、3,4−メチレンジオキシフェニル−1−イル基などが好ましい。
RED3として特に好ましくはアリールアミノ基(特にアニリノ基)、アリール基(特にフェニル基)、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基である。
RED 3 represents a group having the same meaning as RED 12 in formula (B), and preferably an arylamino group, a heterocyclic amino group, an aryloxy group, an arylthio group, an aryl group, an aromatic or non-aromatic heterocyclic group ( Particularly preferred is a nitrogen-containing heterocyclic group), and more preferred is an arylamino group, a heterocyclic amino group, an aryl group, an aromatic or non-aromatic heterocyclic group, and among these heterocyclic groups, tetrahydroquinoline is preferred. Ring group, tetrahydroquinoxaline ring group, tetrahydroquinazoline ring group, indoline ring group, indole ring group, carbazole ring group, phenoxazine ring group, phenothiazine ring group, benzothiazoline ring group, pyrrole ring group, imidazole ring group, thiazole ring group , Benzimidazole ring group, benzimidazoline ring group, benzothiazoline ring group, 3,4 Such methylenedioxyphenyl-1-yl group are preferable.
RED 3 is particularly preferably an arylamino group (particularly an anilino group), an aryl group (particularly a phenyl group), or an aromatic or non-aromatic heterocyclic group.

ここでRED3がアリール基を表す時、アリール基は少なくとも1つの「電子供与性基」を有していることが好ましい。「電子供与性基」は先に説明したものと同じである。 Here, when RED 3 represents an aryl group, the aryl group preferably has at least one “electron-donating group”. The “electron donating group” is the same as described above.

RED3がアリール基を表す時、そのアリール基の置換基としてより好ましくはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基であり、さらに好ましくはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基であり、最も好ましくはアルキルアミノ基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基である。 When RED 3 represents an aryl group, the substituent of the aryl group is more preferably an alkylamino group, a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an active methine group, or a non-aromatic nitrogen-containing group substituted with a nitrogen atom A heterocyclic group, more preferably an alkylamino group, a hydroxy group, an active methine group, and a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom, most preferably an alkylamino group and a non-aromatic group substituted with a nitrogen atom Group nitrogen-containing heterocyclic group.

3で表される炭素−炭素2重結合部位を含む有機基(例えばビニル基)が置換基を有するとき、その置換基として好ましくは、アルキル基、フェニル基、アシル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、電子供与基などであり、ここに電子供与性基として好ましくは、アルコキシ基、ヒドロキシ基(シリル基で保護されていてもよく、例えばトリメチルシリルオキシ基、t−ブチルジメチルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、フェニルジメチルシリルオキシ基などが挙げられる)、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、スルホンアミド基、活性メチン基、メルカプト基、アルキルチオ基、及びこれら電子供与性基を置換基に有するフェニル基である。 When the organic group (for example, vinyl group) containing a carbon-carbon double bond site represented by Y 3 has a substituent, the substituent is preferably an alkyl group, phenyl group, acyl group, cyano group, alkoxycarbonyl. A group, a carbamoyl group, an electron donating group, etc., and an electron donating group is preferably an alkoxy group, a hydroxy group (which may be protected with a silyl group, for example, a trimethylsilyloxy group, a t-butyldimethylsilyloxy group). , Triphenylsilyloxy group, triethylsilyloxy group, phenyldimethylsilyloxy group, etc.), amino group, alkylamino group, arylamino group, sulfonamide group, active methine group, mercapto group, alkylthio group, and these A phenyl group having an electron-donating group as a substituent.

なおここで炭素−炭素2重結合部位を含む有機基が置換基としてヒドロキシ基を有する時、Y3は右記部分構造:>C1=C2(−OH)−を含むことになるが、これは互変異性化して右記部分構造:>C1H−C2(=O)−となっていても良い。さらにこの場合に、該C1炭素に置換する置換基が電子求引性基である場合もまた好ましく、この場合Y3は「活性メチレン基」又は「活性メチン基」の部分構造を有することになる。このような活性メチレン基又は活性メチン基の部分構造を与え得る電子求引性基とは、上述の「活性メチン基」の説明の中で説明したものと同じである。 Note here carbon - when the organic group having a hydroxy group as a substituent containing a carbon double bond moiety, Y 3 is right partial structure:> C 1 = C 2 ( -OH) - but it will include this May be tautomerized to form the partial structure shown on the right:> C 1 H—C 2 (═O) —. Further, in this case, it is also preferable that the substituent substituted on the C 1 carbon is an electron-withdrawing group. In this case, Y 3 has a partial structure of “active methylene group” or “active methine group”. Become. The electron withdrawing group that can give such a partial structure of an active methylene group or active methine group is the same as that described in the description of the above “active methine group”.

3で表される炭素−炭素3重結合部位を含む有機基(例えばエチニル基)が置換基を有するとき、その置換基としてはアルキル基、フェニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、電子供与基などが好ましい。 When the organic group (for example, ethynyl group) containing a carbon-carbon triple bond site represented by Y 3 has a substituent, the substituent includes an alkyl group, a phenyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and an electron donating group. Etc. are preferable.

3が芳香族基部位を含む有機基を表す時、芳香族基として好ましくは電子供与性基を置換基として有するアリール基(特にフェニル基が好ましい)又はインドール環基で、ここに電子供与性基として好ましくは、ヒドロキシ基(シリル基で保護ざれていてもよい)、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、活性メチン基、スルホンアミド基、メルカプト基である。 When Y 3 represents an organic group containing an aromatic group, it is preferably an aryl group having an electron donating group as a substituent (particularly a phenyl group) or an indole ring group as an aromatic group, and an electron donating group here. The group is preferably a hydroxy group (which may be protected with a silyl group), an alkoxy group, an amino group, an alkylamino group, an active methine group, a sulfonamide group or a mercapto group.

3がベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位を含む有機基を表す時、ベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基として好ましくはアニリン構造を部分構造として内在するもので、例えば、インドリン環基、1,2,3,4−テトラヒドロキノリン環基、1,2,3,4−テトラヒドロキノキサリン環基、4−キノロン環基などが挙げられる。 When Y 3 represents an organic group containing a non-aromatic heterocyclic group part of a benzo-fused ring, the non-aromatic heterocyclic group of the benzo-fused ring preferably contains an aniline structure as a partial structure, for example, an indoline ring Group, 1,2,3,4-tetrahydroquinoline ring group, 1,2,3,4-tetrahydroquinoxaline ring group, 4-quinolone ring group and the like.

3で表される反応性基としてより好ましくは、炭素−炭素2重結合部位、芳香族基部位、又はベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基を含む有機基である。さらに好ましくは、炭素−炭素2重結合部位、電子供与性基を置換基として有するフェニル基、インドール環基、アニリン構造を部分構造として内在するベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基である。ここに炭素−炭素2重結合部位は少なくとも1つの電子供与性基を置換基として有することがより好ましい。 The reactive group represented by Y 3 is more preferably an organic group containing a carbon-carbon double bond site, an aromatic group site, or a benzo-fused non-aromatic heterocyclic group. More preferred are a carbon-carbon double bond site, a phenyl group having an electron donating group as a substituent, an indole ring group, and a benzo-fused non-aromatic heterocyclic group having an aniline structure as a partial structure. Here, the carbon-carbon double bond site preferably has at least one electron donating group as a substituent.

3で表される反応性基が、これまでに説明した範囲から選択された結果として、RED3で表される還元性基と同じ部分構造を有する場合もまた、一般式(D)で表される化合物の好ましい例である。 When the reactive group represented by Y 3 has the same partial structure as the reducing group represented by RED 3 as a result of selection from the range described so far, it is also represented by the general formula (D). This is a preferred example of the compound.

3は、RED3とY3とを連結する連結基を表し、具体的には単結合、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環基、−O−、−S−、−NRN−、−C(=O)−、−SO2−、−SO−、−P(=O)−の各基の単独、又はこれらの基の組み合わせからなる基を表す。ここにRNは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。L3で表される連結基は任意の置換基を有していてもよい。L3で表される連結基は、RED3及びY3で表される基の任意の位置で、それぞれの任意の1個の水素原子と置換する形で、連結され得る。
3の好ましい例としては、単結合、アルキレン基(特にメチレン基、エチレン基、プロピレン基)、アリーレン基(特にフェニレン基)、−C(=O)−基、−O−基、−NH−基、−N(アルキル基)−基、及びこれらの基の組み合わせからなる2価の連結基が挙げられる。
L 3 represents a linking group that links RED 3 and Y 3 , specifically, a single bond, an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic group, —O—, —S—, —NR N —, —C (= O) -, - SO 2 -, - SO -, - represents a single respective group, or a group comprising a combination of these groups - P (= O). Here, RN represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. The linking group represented by L 3 may have an arbitrary substituent. The linking group represented by L 3 can be linked at any position of the groups represented by RED 3 and Y 3 in such a manner as to substitute for any one hydrogen atom.
Preferred examples of L 3 include a single bond, an alkylene group (particularly a methylene group, an ethylene group, a propylene group), an arylene group (particularly a phenylene group), a —C (═O) — group, an —O— group, —NH—. And a divalent linking group comprising a group, -N (alkyl group)-group, and a combination of these groups.

3で表される基は、RED3が酸化されて生成するカチオンラジカル種(X+・)、又はそこからプロトンの脱離を伴って生成するラジカル種(X・)と、Y3で表される反応性基とが反応して結合形成する際、これに関わる原子団が、L3を含めて3〜7員の環状構造を形成しうることが好ましい。この為にはラジカル種(X+・又はX・)、Yで表される反応性基、及びLが、3〜7個の原子団で連結されていることが好ましい。 Group represented by L 3, a cation radical species RED 3 generated by oxidation (X + ·), or from which a radical species generated with elimination of protons (X ·), tables in Y 3 When a reactive group reacts to form a bond, it is preferable that an atomic group related to this can form a 3- to 7-membered cyclic structure including L 3 . For this purpose, the radical species (X + .or X.), the reactive group represented by Y, and L are preferably connected by 3 to 7 atomic groups.

次にタイプ4の化合物について説明する。
タイプ4の化合物は還元性基の置換した環構造を有する化合物であり、該還元性基が1電子酸化された後、環構造の開裂反応を伴ってさらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出しうる化合物である。ここで言う環構造の開裂反応とは、下記で表される形式のものを意味する。
Next, the type 4 compound will be described.
A compound of type 4 is a compound having a ring structure substituted with a reducing group, and after the reducing group is oxidized by one electron, one or more electrons are emitted along with the ring structure cleavage reaction. Compound. The ring structure cleavage reaction referred to here means one having the following form.

Figure 2005010752
Figure 2005010752

式中、化合物aはタイプ4の化合物を表す。化合物a中、Dは還元性基を表し、X、Yは環構造中の1電子酸化後に開裂する結合を形成している原子を表す。まず化合物aが1電子酸化されて1電子酸化体bを生成する。ここからD−Xの単結合が2重結合になると同時にX−Yの結合が切断され開環体cが生成する。あるいはまた1電子酸化体bからプロトンの脱離を伴ってラジカル中間体dが生成し、ここから同様に開環体eを生成する経路をとる場合もある。このように生成した開環体c又はeから、引き続きさらに1つ以上の電子が放出される点に、これらの化合物の特徴がある。   In the formula, compound a represents a type 4 compound. In compound a, D represents a reducing group, and X and Y represent atoms forming a bond that is cleaved after one-electron oxidation in the ring structure. First, one-electron oxidation of the compound a generates a one-electron oxidant b. From this, the single bond of XX becomes a double bond, and at the same time, the bond of XY is cleaved to produce a ring-opened product c. Alternatively, a radical intermediate d may be generated from the one-electron oxidant b with proton desorption, and a ring-opening body e may be similarly generated therefrom. These compounds are characterized in that one or more electrons are subsequently released from the ring-opened product c or e thus produced.

タイプ4の化合物が有する環構造とは、3〜7員環の炭素環又はヘテロ環であり、単環もしくは縮環の、飽和もしくは不飽和の非芳香族の環を表す。好ましくは飽和の環構造であり、より好ましくは3員環あるいは4員環である。好ましい環構造としてはシクロプロパン環、シクロブタン環、オキシラン環、オキセタン環、アジリジン環、アゼチジン環、エピスルフィド環、チエタン環が挙げられる。より好ましくはシクロプロパン環、シクロブタン環、オキシラン環、オキセタン環、アゼチジン環であり、特に好ましくはシクロプロパン環、シクロブタン環、アゼチジン環である。環構造は任意の置換基を有していても良い。   The ring structure possessed by the type 4 compound is a 3- to 7-membered carbocyclic or heterocyclic ring, and represents a monocyclic or condensed, saturated or unsaturated non-aromatic ring. A saturated ring structure is preferable, and a 3-membered ring or 4-membered ring is more preferable. Preferred examples of the ring structure include a cyclopropane ring, a cyclobutane ring, an oxirane ring, an oxetane ring, an aziridine ring, an azetidine ring, an episulfide ring, and a thietane ring. More preferred are a cyclopropane ring, a cyclobutane ring, an oxirane ring, an oxetane ring and an azetidine ring, and particularly preferred are a cyclopropane ring, a cyclobutane ring and an azetidine ring. The ring structure may have an arbitrary substituent.

タイプ4の化合物は好ましくは一般式(E)又は(F)で表される。   The compound of type 4 is preferably represented by the general formula (E) or (F).

Figure 2005010752
Figure 2005010752

Figure 2005010752
Figure 2005010752

一般式(E)及び一般式(F)においてRED41及びRED42は、それぞれ一般式(B)のRED12と同義の基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。R40〜R44及びR45〜R49は、それぞれ水素原子又は置換基を表す。一般式(F)においてZ42は、−CR420421−、−NR423−、又は−O−を表す。ここにR420、R421は、それぞれ水素原子又は置換基を表し、R423は水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。 In the general formula (E) and the general formula (F), RED 41 and RED 42 each represent a group having the same meaning as RED 12 in the general formula (B), and preferred ranges thereof are also the same. R 40 to R 44 and R 45 to R 49 each represent a hydrogen atom or a substituent. Z 42 in formula (F) is, -CR 420 R 421 -, - NR 423 -, or an -O-. Here, R 420 and R 421 each represent a hydrogen atom or a substituent, and R 423 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.

一般式(E)及び一般式(F)においてR40及びR45は、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表し、水素原子、アルキル基、アリール基がより好ましい。R41〜R44及びR46〜R49として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基である。 In General Formula (E) and General Formula (F), R 40 and R 45 preferably represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. R 41 to R 44 and R 46 to R 49 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an arylthio group, an alkylthio group, an acylamino group, or a sulfonamide group, more preferably a hydrogen atom. , An alkyl group, an aryl group, and a heterocyclic group.

41〜R44は、これらのうち少なくとも1つがドナー性基である場合と、R41とR42、あるいはR43とR44がともに電子求引性基である場合が好ましい。より好ましくはR41〜R44の少なくとも1つがドナー性基である場合である。さらに好ましくはR41〜R44の少なくとも1つがドナー性基であり且つ、R41〜R44の中でドナー性基でない基が水素原子又はアルキル基である場合である。 R 41 to R 44 are preferably a case where at least one of them is a donor group and a case where R 41 and R 42 , or R 43 and R 44 are both electron withdrawing groups. More preferably, at least one of R 41 to R 44 is a donor group. More preferably, at least one of R 41 to R 44 is a donor group, and a group that is not a donor group among R 41 to R 44 is a hydrogen atom or an alkyl group.

ここで言うドナー性基とは、「電子供与性基」、又は少なくとも1つの「電子供与性基」で置換されたアリール基である。ドナー性基として好ましくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、窒素原子を環内に少なくとも1つ含む5員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、少なくとも1つの電子供与性基で置換されたフェニル基が用いられる。より好ましくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、窒素原子を環内に少なくとも1つ含む5員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基(インドール環、ピロール環、カルバゾール環など)、電子供与性基で置換されたフェニル基(3つ以上のアルコキシ基で置換されたフェニル基、ヒドロキシ基又はアルキルアミノ基又はアリールアミノ基で置換されたフェニル基など)が用いられる。特に好ましくはアリールアミノ基、窒素原子を環内に少なくとも1つ含む5員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基(特に3−インドリル基)、電子供与性基で置換されたフェニル基(特にトリアルコキシフェニル基、アルキルアミノ基又はアリールアミノ基で置換されたフェニル基)が用いられる。   The donor group mentioned here is an “electron-donating group” or an aryl group substituted with at least one “electron-donating group”. The donor group is preferably an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, a 5-membered monocyclic or condensed ring electron-rich aromatic heterocyclic group containing at least one nitrogen atom in the ring, nitrogen A non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with an atom or a phenyl group substituted with at least one electron-donating group is used. More preferably, an alkylamino group, an arylamino group, a 5-membered monocyclic or condensed ring-excessive aromatic heterocyclic group containing at least one nitrogen atom in the ring (an indole ring, a pyrrole ring, a carbazole ring, etc.) ), A phenyl group substituted with an electron donating group (such as a phenyl group substituted with three or more alkoxy groups, a phenyl group substituted with a hydroxy group, an alkylamino group, or an arylamino group). Particularly preferably, an arylamino group, a 5-membered monocyclic or condensed ring-containing electron-rich aromatic heterocyclic group (particularly a 3-indolyl group) or an electron-donating group containing at least one nitrogen atom in the ring is substituted. A phenyl group (particularly a phenyl group substituted with a trialkoxyphenyl group, an alkylamino group or an arylamino group) is used.

42として好ましくは−CR420421−又は−NR423−であり、より好ましくは−NR423−である。R420、R421は好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシルアミノ基、スルホンアミノ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基である。R423は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、芳香族ヘテロ環基を表し、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基である。 Z 42 is preferably —CR 420 R 421 — or —NR 423 —, more preferably —NR 423 —. R 420 and R 421 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acylamino group, or a sulfoneamino group, and more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. R 423 preferably represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aromatic heterocyclic group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.

40〜R49及びR420、R421、R423の各基が置換基である場合にはそれぞれ総炭素数が40以下のものが好ましく、より好ましくは総炭素数30以下で、特に好ましくは総炭素数15以下である。またこれらの置換基は互いに結合して、あるいは分子中の他の部位(RED41、RED42あるいはZ42)と結合して環を形成していても良い。 When each group of R 40 to R 49 and R 420 , R 421 and R 423 is a substituent, the total number of carbon atoms is preferably 40 or less, more preferably 30 or less, and particularly preferably The total carbon number is 15 or less. In addition, these substituents may be bonded to each other or may be bonded to other sites (RED 41 , RED 42 or Z 42 ) in the molecule to form a ring.

本発明におけるタイプ1〜4の化合物において、ハロゲン化銀への吸着性基とは、ハロゲン化銀に直接吸着する基、又はハロゲン化銀への吸着を促進する基であり、具体的には、メルカプト基(又はその塩)、チオン基(−C(=S)−)、窒素原子、硫黄原子、セレン原子及びテルル原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含むヘテロ環基、スルフィド基、カチオン性基、又はエチニル基である。但し、本発明におけるタイプ2の化合物においては、吸着性基としてスルフィド基は含まれない。   In the compounds of types 1 to 4 in the present invention, the adsorptive group to silver halide is a group that directly adsorbs to silver halide, or a group that promotes adsorption to silver halide. Specifically, A heterocyclic group containing at least one atom selected from a mercapto group (or a salt thereof), a thione group (—C (═S) —), a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom, a sulfide group, and a cationic group Or an ethynyl group. However, the type 2 compound in the present invention does not contain a sulfide group as an adsorptive group.

吸着性基としてメルカプト基(又はその塩)とは、メルカプト基(又はその塩)そのものを意味すると同時に、より好ましくは、少なくとも1つのメルカプト基(又はその塩)の置換したヘテロ環基又はアリール基又はアルキル基を表す。ここにヘテロ環基は、5員〜7員の、単環もしくは縮合環の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基で、例えばイミダゾール環基、チアゾール環基、オキサゾール環基、ベンズイミダゾール環基、ベンズチアゾール環基、ベンズオキサゾール環基、トリアゾール環基、チアジアゾール環基、オキサジアゾール環基、テトラゾール環基、プリン環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリミジン環基、トリアジン環基等が挙げられる。また4級化された窒素原子を含むヘテロ環基でもよく、この場合、置換したメルカプト基が解離してメソイオンとなっていてもよく、この様なヘテロ環基の例としてはイミダゾリウム環基、ピラゾリウム環基、チアゾリウム環基、トリアゾリウム環基、テトラゾリウム環基、チアジアゾリウム環基、ピリジニウム環基、ピリミジニウム環基、トリアジニウム環基などが挙げられ、中でもトリアゾリウム環基(例えば1,2,4−トリアゾリウム−3−チオレート環基)が好ましい。アリール基としてはフェニル基又はナフチル基が挙げられる。アルキル基としては炭素数1〜30の直鎖又は分岐又は環状のアルキル基が挙げられる。メルカプト基が塩を形成するとき、対イオンとしてはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などのカチオン(Li+、Na+、K+、Mg2+、Ag+、Zn2+等)、アンモニウムイオン、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。 The mercapto group (or salt thereof) as the adsorptive group means the mercapto group (or salt thereof) itself, and more preferably a heterocyclic group or aryl group substituted with at least one mercapto group (or salt thereof). Or represents an alkyl group. Here, the heterocyclic group is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed aromatic or non-aromatic heterocyclic group such as an imidazole ring group, a thiazole ring group, an oxazole ring group, or a benzimidazole ring group. , Benzthiazole ring group, benzoxazole ring group, triazole ring group, thiadiazole ring group, oxadiazole ring group, tetrazole ring group, purine ring group, pyridine ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, pyrimidine ring group, triazine A cyclic group etc. are mentioned. Further, it may be a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. In this case, the substituted mercapto group may be dissociated into a meso ion. Examples of such a heterocyclic group include an imidazolium ring group, Examples include a pyrazolium ring group, a thiazolium ring group, a triazolium ring group, a tetrazolium ring group, a thiadiazolium ring group, a pyridinium ring group, a pyrimidinium ring group, and a triazinium ring group. Triazolium-3-thiolate ring group) is preferable. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the alkyl group include linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms. When the mercapto group forms a salt, the counter ion includes a cation such as alkali metal, alkaline earth metal, heavy metal (Li + , Na + , K + , Mg 2+ , Ag + , Zn 2+, etc.), ammonium ion Examples thereof include a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom, and a phosphonium ion.

吸着性基としてのメルカプト基はさらにまた、互変異性化してチオン基となっていてもよく、具体的にはチオアミド基(ここでは−C(=S)−NH−基)、及び該チオアミド基の部分構造を含む基、すなわち、鎖状もしくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、又はジチオカルバミン酸エステル基などが挙げられる。ここで環状の例としてはチアゾリジン−2−チオン基、オキサゾリジン−2−チオン基、2−チオヒダントイン基、ローダニン基、イソローダニン基、チオバルビツール酸基、2−チオキソ−オキサゾリジン−4−オン基などが挙げられる。   Further, the mercapto group as the adsorptive group may be tautomerized into a thione group, specifically, a thioamide group (here, —C (═S) —NH— group), and the thioamide group. A group having a partial structure of, ie, a chain or cyclic thioamide group, a thioureido group, a thiourethane group, or a dithiocarbamate group. Examples of cyclic groups include thiazolidine-2-thione group, oxazolidine-2-thione group, 2-thiohydantoin group, rhodanine group, isorhodanine group, thiobarbituric acid group, 2-thioxo-oxazolidine-4-one group Is mentioned.

吸着性基としてチオン基とは、上述のメルカプト基が互変異性化してチオン基となった場合を含め、メルカプト基に互変異性化できない(チオン基のα位に水素原子を持たない)、鎖状もしくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、又はジチオカルバミン酸エステル基も含まれる。   The thione group as an adsorptive group cannot be tautomerized to a mercapto group (including a hydrogen atom at the α-position of the thione group), including the case where the mercapto group described above is tautomerized into a thione group. A chain or cyclic thioamide group, thioureido group, thiourethane group, or dithiocarbamate group is also included.

吸着性基として窒素原子、硫黄原子、セレン原子及びテルル原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含むヘテロ環基とは、イミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基、又は配位結合で銀イオンに配位し得る、−S−基又は−Se−基又は−Te−基又は=N−基をヘテロ環の部分構造として有するヘテロ環基で、前者の例としてはベンゾトリアゾール基、トリアゾール基、インダゾール基、ピラゾール基、テトラゾール基、ベンズイミダゾール基、イミダゾール基、プリン基などが、後者の例としてはチオフェン基、チアゾール基、オキサゾール基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基、トリアジン基、セレノアゾール基、ベンズセレノアゾール基、テルルアゾール基、ベンズテルルアゾール基などが挙げられる。好ましくは前者である。   A heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom as the adsorptive group is a partial structure of a heterocyclic ring, which can form an imino silver (> NAg) A nitrogen-containing heterocyclic group, or a heterocyclic ring having a —S— group, a —Se— group, a —Te— group or a ═N— group as a partial structure of the heterocyclic ring, which can coordinate to a silver ion by a coordination bond Group, the former examples include benzotriazole group, triazole group, indazole group, pyrazole group, tetrazole group, benzimidazole group, imidazole group, purine group, and the latter examples include thiophene group, thiazole group, oxazole group, Benzothiazole group, benzoxazole group, thiadiazole group, oxadiazole group, triazine group, selenoazole group, benz Renoazoru group, tellurium azole group, such as benz tellurium azole group. The former is preferred.

吸着性基としてスルフィド基とは、−S−の部分構造を有する基すべてが挙げられるが、好ましくはアルキル(又はアルキレン)−S−アルキル(又はアルキレン)、アリール(又はアリーレン)−S−アルキル(又はアルキレン)、アリール(又はアリーレン)−S−アリール(又はアリーレン)の部分構造を有する基である。さらにこれらのスルフィド基は、環状構造を形成していてもよく、また−S−S−基となっていてもよい。環状構造を形成する場合の具体例としてはチオラン環、1,3−ジチオラン環又は1,2−ジチオラン環、チアン環、ジチアン環、テトラヒドロ−1,4−チアジン環(チオモルホリン環)などを含む基が挙げられる。スルフィド基として特に好ましくはアルキル(又はアルキレン)−S−アルキル(又はアルキレン)の部分構造を有する基である。   The sulfide group as the adsorptive group includes all groups having a partial structure of —S—, but preferably an alkyl (or alkylene) -S-alkyl (or alkylene), aryl (or arylene) -S-alkyl ( Or a group having a partial structure of aryl) or aryl (or arylene) -S-aryl (or arylene). Furthermore, these sulfide groups may form a cyclic structure or may be an -S-S- group. Specific examples in the case of forming a cyclic structure include a thiolane ring, a 1,3-dithiolane ring or a 1,2-dithiolane ring, a thiane ring, a dithiane ring, a tetrahydro-1,4-thiazine ring (thiomorpholine ring) and the like. Groups. Particularly preferred as the sulfide group is a group having a partial structure of alkyl (or alkylene) -S-alkyl (or alkylene).

吸着性基としてカチオン性基とは、4級化された窒素原子を含む基を意味し、具体的にはアンモニオ基又は4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。但し、該カチオン性基が色素構造を形成する原子団(例えばシアニン発色団)の一部となることはない。ここにアンモニオ基とは、トリアルキルアンモニオ基、ジアルキルアリールアンモニオ基、アルキルジアリールアンモニオ基などで、例えばベンジルジメチルアンモニオ基、トリヘキシルアンモニオ基、フェニルジエチルアンモニオ基などが挙げられる。4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基とは、例えばピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基、イミダゾリオ基などが挙げられる。好ましくはピリジニオ基及びイミダゾリオ基であり、特に好ましくはピリジニオ基である。これら4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基は任意の置換基を有していてもよいが、ピリジニオ基及びイミダゾリオ基の場合、置換基として好ましくはアルキル基、アリール基、アシルアミノ基、クロル原子、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基などが挙げられ、ピリジニオ基の場合、置換基として特に好ましくはフェニル基である。   The cationic group as the adsorptive group means a group containing a quaternized nitrogen atom, specifically, an ammonio group or a group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. . However, the cationic group does not become a part of an atomic group forming a dye structure (for example, a cyanine chromophore). Here, the ammonio group is a trialkylammonio group, a dialkylarylammonio group, an alkyldiarylammonio group or the like, and examples thereof include a benzyldimethylammonio group, a trihexylammonio group, and a phenyldiethylammonio group. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom include a pyridinio group, a quinolinio group, an isoquinolinio group, an imidazolio group, and the like. A pyridinio group and an imidazolio group are preferable, and a pyridinio group is particularly preferable. These nitrogen-containing heterocyclic groups containing a quaternized nitrogen atom may have an arbitrary substituent, but in the case of a pyridinio group and an imidazolio group, the substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, or an acylamino group. , A chloro atom, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and the like. In the case of a pyridinio group, a phenyl group is particularly preferable as a substituent.

吸着性基としてエチニル基とは、−C≡CH基を意味し、水素原子は置換されていてもよい。
上記の吸着性基は任意の置換基を有していてもよい。
An ethynyl group as an adsorptive group means a —C≡CH group, and a hydrogen atom may be substituted.
The above adsorptive group may have an arbitrary substituent.

なお吸着性基の具体例としては、さらに特開平11−95355号の明細書4〜7頁に記載されているものが挙げられる。   Specific examples of the adsorptive group further include those described in pages 4 to 7 of JP-A No. 11-95355.

本発明において吸着性基として好ましいものは、メルカプト置換含窒素ヘテロ環基(例えば2−メルカプトチアジアゾール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、5−メルカプトテトラゾール基、2−メルカプト−1,3,4−オキサジアゾール基、2−メルカプトベンズオキサゾール基、2−メルカプトベンズチアゾール基、1,5−ジメチル−1,2,4−トリアゾリウム−3−チオレート基など)、又はイミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基(例えば、ベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など)である。特に好ましくは、5−メルカプトテトラゾール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、及びベンゾトリアゾール基であり、最も好ましいのは、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、及び5−メルカプトテトラゾール基である。   Preferred as the adsorptive group in the present invention is a mercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group (for example, 2-mercaptothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1). , 3,4-oxadiazole group, 2-mercaptobenzoxazole group, 2-mercaptobenzthiazole group, 1,5-dimethyl-1,2,4-triazolium-3-thiolate group, etc.) or imino silver (> A nitrogen-containing heterocyclic group (for example, a benzotriazole group, a benzimidazole group, an indazole group, etc.) having a —NH— group that can form NAg) as a partial structure of the heterocyclic ring. Particularly preferred are a 5-mercaptotetrazole group, a 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and a benzotriazole group, and most preferred are a 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and 5 -Mercaptotetrazole group.

これらの化合物のうち、分子内に2つ以上のメルカプト基を部分構造として有する化合物もまた特に好ましい化合物である。ここにメルカプト基(−SH)は、互変異性化できる場合にはチオン基となっていてもよい。この様な化合物の例としては、以上述べてきたメルカプト基もしくはチオン基を部分構造として有する吸着性基(例えば環形成チオアミド基、アルキルメルカプト基、アリールメルカプト基、ヘテロ環メルカプト基など)を分子内に2つ以上有する化合物であってもよいし、また吸着性基の中で、2つ以上のメルカプト基又はチオン基を部分構造として有する吸着性基(例えばジメルカプト置換含窒素へテロ環基)を、1つ以上有していてもよい。   Among these compounds, compounds having two or more mercapto groups as partial structures in the molecule are also particularly preferable compounds. Here, the mercapto group (—SH) may be a thione group if it can be tautomerized. Examples of such compounds include the above-described adsorptive groups having a mercapto group or thione group as a partial structure (for example, a ring-forming thioamide group, an alkyl mercapto group, an aryl mercapto group, a heterocyclic mercapto group, etc.) Or a compound having two or more mercapto groups or thione groups as a partial structure (for example, a dimercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group). You may have one or more.

2つ以上のメルカプト基を部分構造として有する吸着性基(ジメルカプト置換含窒素へテロ環基など)の例としては、2,4−ジメルカプトピリミジン基、2,4−ジメルカプトトリアジン基、3,5−ジメルカプト−1,2,4−トリアゾール基、2,5−ジメルカプト−1,3−チアゾール基、2,5−ジメルカプト−1,3−オキサゾール基、2,7−ジメルカプト−5−メチル−s−トリアゾロ(1,5−A)−ピリミジン、2,6,8−トリメルカプトプリン、6,8−ジメルカプトプリン、3,5,7−トリメルカプト−s−トリアゾロトリアジン、4,6−ジメルカプトピラゾロピリミジン、2,5−ジメルカプトイミダゾールなどが挙げられ、2,4−ジメルカプトピリミジン基、2,4−ジメルカプトトリアジン基、3,5−ジメルカプト−1,2,4−トリアゾール基が特に好ましい。   Examples of the adsorptive group having two or more mercapto groups as a partial structure (such as a dimercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group) include 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3, 5-dimercapto-1,2,4-triazole group, 2,5-dimercapto-1,3-thiazole group, 2,5-dimercapto-1,3-oxazole group, 2,7-dimercapto-5-methyl-s -Triazolo (1,5-A) -pyrimidine, 2,6,8-trimercaptopurine, 6,8-dimercaptopurine, 3,5,7-trimercapto-s-triazolotriazine, 4,6-di And mercaptopyrazolopyrimidine, 2,5-dimercaptoimidazole, etc., 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3, - dimercapto-1,2,4-triazole group are particularly preferred.

吸着性基は一般式(A)〜(F)及び一般式(1)〜(3)のどこに置換されていてもよいが、一般式(A)〜(D)においてはRED11、RED12、RED2、RED3に、一般式(E)、(F)においてはRED41、R41、RED42、R46〜R48に、一般式(1)〜(3)においてはR1、R2、R11、R12、R31、L1、L21、L31を除く任意の位置に置換されていることが好ましく、さらに一般式(A)〜(F)全てでRED11〜RED42に置換されていることがより好ましい。 The adsorptive group may be substituted anywhere in the general formulas (A) to (F) and the general formulas (1) to (3), but in the general formulas (A) to (D), RED 11 , RED 12 , RED 2 and RED 3 are represented by RED 41 , R 41 , RED 42 and R 46 to R 48 in the general formulas (E) and (F), and R 1 and R 2 in the general formulas (1) to (3). , R 11 , R 12 , R 31 , L 1 , L 21 , and L 31 are preferably substituted at any position, and in all of the general formulas (A) to (F), RED 11 to RED 42 are substituted. More preferably it is substituted.

分光増感色素の部分構造とは分光増感色素の発色団を含む基であり、分光増感色素化合物から任意の水素原子又は置換基を除いた残基である。分光増感色素の部分構造は一般式(A)〜(F)及び一般式(1)〜(3)のどこに置換されていてもよいが、一般式(A)〜(D)においてはRED11、RED12、RED2、RED3に、一般式(E)、(F)においてはRED41、R41、RED42、R46〜R48に、一般式(1)〜(3)においてはR1、R2、R11、R12、R31、L1、L21、L31を除く任意の位置に置換されていることが好ましく、さらに一般式(A)〜(F)全てでRED11〜RED42に置換されていることがより好ましい。好ましい分光増感色素は、典型的にカラー増感技法で用いられる分光増感色素であり、例えばシアニン色素類、複合シアニン色素類、メロシアニン色素類、複合メロシアニン色素類、同極のシアニン色素類、スチリル色素類、ヘミシアニン色素類を含む。代表的な分光増感色素は、リサーチディスクロージャー、アイテム36544、1994年9月に開示されている。前記リサーチディスクロージャー、もしくはF.M.HamerのThe Cyanine dyes and Related Compounds (Interscience Publishers,New yprk,1964)に記載される手順によって当業者は、これらの色素を合成することができる。さらに特開平11−95355号(米国特許6,054,260号)の明細書7〜14頁に記載された色素類が全てそのまま当てはまる。 The partial structure of the spectral sensitizing dye is a group containing a chromophore of the spectral sensitizing dye, and is a residue obtained by removing any hydrogen atom or substituent from the spectral sensitizing dye compound. The partial structure of the spectral sensitizing dye may be substituted anywhere in the general formulas (A) to (F) and the general formulas (1) to (3), but in the general formulas (A) to (D), RED 11 , RED 12 , RED 2 , RED 3 , RED 41 , R 41 , RED 42 , R 46 to R 48 in general formulas (E) and (F), and R in general formulas (1) to (3) 1 , R 2 , R 11 , R 12 , R 31 , L 1 , L 21 , and L 31 are preferably substituted at any position except RED 11 in all of the general formulas (A) to (F). it is more preferably substituted in ~RED 42. Preferred spectral sensitizing dyes are spectral sensitizing dyes typically used in color sensitization techniques such as cyanine dyes, complex cyanine dyes, merocyanine dyes, complex merocyanine dyes, homopolar cyanine dyes, Contains styryl dyes and hemicyanine dyes. Exemplary spectral sensitizing dyes are disclosed in Research Disclosure, Item 36544, September 1994. Research Disclosure or F.I. M.M. One of ordinary skill in the art can synthesize these dyes by the procedure described in Hammer's The Cyanines and Related Compounds (Interscience Publishers, New yprk, 1964). Furthermore, all the dyes described in JP-A-11-95355 (US Pat. No. 6,054,260), pages 7 to 14 are applied as they are.

本発明におけるタイプ1〜4の化合物は、その総炭素数が10〜60の範囲のものが好ましい。より好ましくは15〜50、さらに好ましくは18〜40であり、特に好ましくは18〜30である。   The compounds of types 1 to 4 in the present invention preferably have a total carbon number of 10 to 60. More preferably, it is 15-50, More preferably, it is 18-40, Most preferably, it is 18-30.

本発明におけるタイプ1〜4の化合物は、これを用いたハロゲン化銀写真感光材料が露光されることを引き金に1電子酸化され、引き続く反応の後、さらに1電子、あるいはタイプによっては2電子以上の電子が放出され、酸化されるが、その1電子目の酸化電位は、約1.4V以下が好ましく、さらには1.0V以下が好ましい。この酸化電位は好ましくは0Vより高く、より好ましくは0.3Vより高い。従って酸化電位は好ましくは約0〜約1.4V、より好ましくは約0.3〜約1.0Vの範囲である。   The compounds of types 1 to 4 in the present invention are subjected to one-electron oxidation triggered by the exposure of the silver halide photographic light-sensitive material using the compound, and after the subsequent reaction, one more electron or two or more electrons depending on the type Electrons are emitted and oxidized, and the oxidation potential of the first electron is preferably about 1.4 V or less, and more preferably 1.0 V or less. This oxidation potential is preferably higher than 0V, more preferably higher than 0.3V. Accordingly, the oxidation potential is preferably in the range of about 0 to about 1.4V, more preferably about 0.3 to about 1.0V.

ここに酸化電位はサイクリックボルタンメトリーの技法で測定でき、具体的には試料をアセトニトリル:水(0.1Mの過塩素酸リチウムを含む)=80%:20%(容量%)の溶液に溶解し、10分間窒素ガスを通気した後、ガラス状のカーボンディスクを動作電極に用い、プラチナ線を対電極に用い、そしてカロメル電極(SCE)を参照電極に用いて、25℃で、0.1V/秒の電位走査速度で測定したものである。サイクリックボルタンメトリー波のピーク電位の時に酸化電位対SCEをとる。   Here, the oxidation potential can be measured by a cyclic voltammetry technique. Specifically, a sample is dissolved in a solution of acetonitrile: water (including 0.1 M lithium perchlorate) = 80%: 20% (volume%). After bubbling nitrogen gas for 10 minutes, a glassy carbon disk was used as the working electrode, a platinum wire was used as the counter electrode, and a calomel electrode (SCE) was used as the reference electrode at 25 ° C. and 0.1 V / Measured at a potential scanning speed of seconds. The oxidation potential versus SCE is taken at the peak potential of the cyclic voltammetry wave.

本発明におけるタイプ1〜4の化合物が1電子酸化され、引き続く反応の後、さらに1電子を放出する化合物である場合には、この後段の酸化電位は好ましくは−0.5V〜−2Vであり、より好ましくは−0.7V〜−2Vであり、さらに好ましくは−0.9V〜−1.6Vである。   In the case where the compounds of types 1 to 4 in the present invention are one-electron oxidized and further emit one electron after the subsequent reaction, the subsequent oxidation potential is preferably −0.5 V to −2 V. More preferably, it is -0.7V--2V, More preferably, it is -0.9V--1.6V.

本発明におけるタイプ1〜4の化合物が1電子酸化され、引き続く反応の後、さらに2電子以上の電子を放出し、酸化される化合物である場合には、この後段の酸化電位については特に制限はない。2電子目の酸化電位と3電子目以降の酸化電位が明確に区別できない点で、これらを実際に正確に測定し区別することは困難な場合が多いためである。   In the case where the compound of type 1 to 4 in the present invention is a compound which is oxidized by one electron and then emits two or more electrons after the subsequent reaction and is oxidized, there is no particular limitation on the oxidation potential of this latter stage. Absent. This is because the oxidation potential of the second electron and the oxidation potential of the third and subsequent electrons cannot be clearly distinguished, and it is often difficult to accurately measure and distinguish these actually.

次にタイプ5の化合物について説明する。
タイプ5の化合物はX−Yで表され、ここにXは還元性基を、Yは脱離基を表し、Xで表される還元性基が1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続くX−Y結合の開裂反応を伴ってYを脱離してXラジカルを生成し、そこからさらにもう1電子を放出し得る化合物である。この様なタイプ5の化合物が酸化された時の反応は、以下の式で表すことができる。
Next, the compound of type 5 will be described.
A compound of type 5 is represented by XY, where X represents a reducing group, Y represents a leaving group, and a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation of the reducing group represented by X is , A compound capable of releasing Y by releasing Y along with the subsequent cleavage reaction of the XY bond and releasing another electron therefrom. The reaction when such a type 5 compound is oxidized can be represented by the following formula.

Figure 2005010752
Figure 2005010752

タイプ5の化合物は好ましくはその酸化電位が0〜1.4Vであり、より好ましくは0.3V〜1.0Vである。また上記反応式において生成するラジカルX・の酸化電位は−0.7V〜−2.0Vであることが好ましく、−0.9V〜−1.6Vがより好ましい。   The compound of type 5 preferably has an oxidation potential of 0 to 1.4V, more preferably 0.3V to 1.0V. The oxidation potential of the radical X · generated in the above reaction formula is preferably −0.7 V to −2.0 V, more preferably −0.9 V to −1.6 V.

タイプ5の化合物は、好ましくは一般式(G)で表される。   The compound of type 5 is preferably represented by the general formula (G).

Figure 2005010752
Figure 2005010752

一般式(G)においてRED0は還元性基を表し、L0は脱離基を表し、R0及びR00は水素原子又は置換基を表す。RED0とR0、及びR0とR00とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。RED0は一般式(C)のRED2と同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。R0及びR00は一般式(C)のR21及びR22と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。但しR0及びR00が、水素原子を除いて、L0と同義の基を表すことはない。RED0とR0とは互いに結合して環構造を形成していてもよく、ここに環構造の例としては、一般式(C)のRED2とR21が連結して環構造を形成する場合と同じ例が挙げられ、その好ましい範囲も同じである。R0とR00とが互いに結合して形成される環構造の例としては、シクロペンタン環やテトラヒドロフラン環などが挙げられる。一般式(G)においてL0は、一般式(C)のL2と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。 In General Formula (G), RED 0 represents a reducing group, L 0 represents a leaving group, and R 0 and R 00 represent a hydrogen atom or a substituent. RED 0 and R 0 , and R 0 and R 00 may be bonded to each other to form a ring structure. RED 0 represents a group having the same meaning as RED 2 in formula (C), and its preferred range is also the same. R 0 and R 00 are groups having the same meaning as R 21 and R 22 in formula (C), and their preferred ranges are also the same. However, R 0 and R 00 do not represent a group having the same meaning as L 0 except for a hydrogen atom. RED 0 and R 0 may be bonded to each other to form a ring structure. As an example of the ring structure, RED 2 and R 21 in formula (C) are linked to form a ring structure. The same example as the case is mentioned, The preferable range is also the same. Examples of the ring structure formed by combining R 0 and R 00 with each other include a cyclopentane ring and a tetrahydrofuran ring. In the general formula (G), L 0 is a group having the same meaning as L 2 in the general formula (C), and the preferred range thereof is also the same.

一般式(G)で表される化合物は分子内にハロゲン化銀への吸着性基、もしくは分光増感色素の部分構造を有していることが好ましいが、L0がシリル基以外の基を表す時、分子内に吸着性基を同時に2つ以上有することはない。但しここで吸着性基としてのスルフィド基は、L0に依らず、これを2つ以上有していてもよい。 The compound represented by the general formula (G) preferably has an adsorbing group to silver halide or a partial structure of a spectral sensitizing dye in the molecule, but L 0 is a group other than a silyl group. When expressed, it does not have two or more adsorptive groups in the molecule at the same time. However, here, the sulfide group as the adsorptive group may have two or more, regardless of L 0 .

一般式(G)で表される化合物が有するハロゲン化銀への吸着性基としては、本発明におけるタイプ1〜4の化合物が有していてもよい吸着性基と同じものがその例として挙げられるが、さらに加えて、特開平11−95355号の明細書4〜7頁に「ハロゲン化銀吸着基」として記載されているもの全てが挙げられ、好ましい範囲も同じである。
一般式(G)で表される化合物が有していてもよい分光増感色素の部分構造とは、本発明におけるタイプ1〜4の化合物が有していてもよい分光増感色素の部分構造と同じであるが、同時に特開平11−95355号の明細書7〜14頁に「光吸収性基」として記載されているもの全てが挙げられ、好ましい範囲も同じである。
Examples of the adsorptive group to the silver halide which the compound represented by the general formula (G) has are the same as the adsorptive groups which the compounds of types 1 to 4 in the present invention may have. In addition, all those described as “silver halide adsorbing groups” on pages 4 to 7 of JP-A No. 11-95355 can be mentioned, and preferred ranges are also the same.
The partial structure of the spectral sensitizing dye that the compound represented by the general formula (G) may have is the partial structure of the spectral sensitizing dye that the compounds of types 1 to 4 in the present invention may have. However, at the same time, all those described as “light-absorbing groups” on pages 7 to 14 of JP-A-11-95355 can be mentioned, and the preferred ranges are also the same.

以下に本発明におけるタイプ1〜5の化合物の具体例を列挙するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the specific example of the compound of the types 1-5 in this invention is enumerated below, this invention is not limited to these.

Figure 2005010752
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Figure 2005010752
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Figure 2005010752
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Figure 2005010752
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本発明におけるタイプ1〜4の化合物は、それぞれ特願2002−192373号、特願2002−188537号、特願2002−188536号、特願2001−272137号、特願2002−192374号において、詳細に説明した化合物と同じものである。これら特許出願明細書に記載した具体的化合物例もまた、本発明におけるタイプ1〜4の化合物の具体例として挙げることができる。また本発明におけるタイプ1〜4の化合物の合成例も、これら特許に記載したものと同じである。   The compounds of types 1 to 4 in the present invention are described in detail in Japanese Patent Application No. 2002-192373, Japanese Patent Application No. 2002-188537, Japanese Patent Application No. 2002-188536, Japanese Patent Application No. 2001-272137, and Japanese Patent Application No. 2002-192374, respectively. Same as described compound. Specific examples of compounds described in these patent application specifications can also be given as specific examples of compounds of types 1 to 4 in the present invention. Moreover, the synthesis example of the type 1-4 compound in this invention is also the same as what was described in these patents.

本発明におけるタイプ5の化合物の具体例としては、さらに特開平9−211769号(28〜32頁の表E及び表Fに記載の化合物PMT−1〜S−37)、特開平9−211774号、特開平11−95355号(化合物INV1〜36)、特表2001−500996号(化合物1〜74、80〜87、92〜122)、米国特許5,747,235号、米国特許5,747,236号、欧州特許786692A1号(化合物INV1〜35)、欧州特許893732A1号、米国特許6,054,260号、米国特許5,994,051号などの特許に記載の「1光子2電子増感剤」又は「脱プロトン化電子供与増感剤」と称される化合物の例が、そのまま挙げられる。   Specific examples of the compound of type 5 in the present invention are further described in JP-A-9-211769 (compounds PMT-1 to S-37 described in Table E and Table F on pages 28-32) and JP-A-9-211174. JP-A-11-95355 (compounds INV1-36), JP-T-2001-99696 (compounds 1-74, 80-87, 92-122), US Pat. No. 5,747,235, US Pat. No. 5,747, No. 236, European Patent No. 786692A1 (compounds INV1 to 35), European Patent No. 893732A1, US Pat. No. 6,054,260, US Pat. No. 5,994,051, etc. Examples of compounds referred to as “deprotonated electron donating sensitizers” are mentioned as they are.

本発明におけるタイプ1〜5の化合物は、感光性ハロゲン化銀乳剤調製時、熱現像感光材料製造工程中のいかなる場合にも使用しても良い。例えば感光性ハロゲン化銀粒子形成時、脱塩工程、化学増感時、塗布前などである。またこれらの工程中の複数回に分けて添加することも出来る。添加位置として好ましくは、感光性ハロゲン化銀粒子形成終了時から脱塩工程の前、化学増感時(化学増感開始直前から終了直後)、塗布前であり、より好ましくは化学増感時から非感光性有機銀塩と混合される前までである。   The compounds of types 1 to 5 in the present invention may be used at any time during the production process of the photothermographic material at the time of preparing the photosensitive silver halide emulsion. For example, at the time of photosensitive silver halide grain formation, desalting step, chemical sensitization, before coating. Moreover, it can also add in several steps in these processes. The addition position is preferably from the end of formation of the photosensitive silver halide grains to before the desalting step, at the time of chemical sensitization (immediately after the start of chemical sensitization to immediately after completion), and before coating, more preferably from the time of chemical sensitization Until before mixing with the non-photosensitive organic silver salt.

本発明におけるタイプ1〜5の化合物は、水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒又はこれらの混合溶媒に溶解して添加することが好ましい。水に溶解する場合、pHを高く又は低くした方が溶解度が上がる化合物については、pHを高く又は低くして溶解し、これを添加しても良い。   The compounds of types 1 to 5 in the present invention are preferably added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. When the compound is dissolved in water, the compound having higher solubility when the pH is raised or lowered may be dissolved at a higher or lower pH and added.

本発明におけるタイプ1〜5の化合物は、感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する乳剤層中に使用するのが好ましいが、感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する乳剤層と共に保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。これら化合物の添加時期は増感色素の前後を問わず、それぞれ好ましくはハロゲン化銀1モル当り、1×10-9〜5×10-1モル、更に好ましくは1×10-8〜5×10-2モルの割合でハロゲン化銀乳剤層に含有する。 The compounds of types 1 to 5 in the present invention are preferably used in an emulsion layer containing a photosensitive silver halide and a non-photosensitive organic silver salt, but the photosensitive silver halide and the non-photosensitive organic silver salt are used. It may be added to the protective layer and the intermediate layer together with the emulsion layer to be contained and diffused during coating. The addition timing of these compounds is preferably 1 × 10 −9 to 5 × 10 −1 mol, more preferably 1 × 10 −8 to 5 × 10, per mol of silver halide, regardless of before and after the sensitizing dye. -2 mol of silver halide emulsion layer.

10)ハロゲン化銀の複数併用
本発明に用いられる感光材料中の感光性ハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上(例えば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの)併用してもよい。感度の異なる感光性ハロゲン化銀を複数種用いることで階調を調節することができる。これらに関する技術としては特開昭57−119341号、同53−106125号、同47−3929号、同48−55730号、同46−5187号、同50−73627号、同57−150841号などが挙げられる。感度差としてはそれぞれの乳剤で0.2logE以上の差を持たせることが好ましい。
10) A plurality of silver halides in combination The photosensitive silver halide emulsion in the light-sensitive material used in the present invention may be one kind or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes, those having different halogen compositions, Those having different crystal habits and different chemical sensitization conditions may be used in combination. The gradation can be adjusted by using a plurality of types of photosensitive silver halides having different sensitivities. Examples of these technologies include JP-A-57-119341, 53-106125, 47-3929, 48-55730, 46-5187, 50-73627, 57-150841 and the like. Can be mentioned. The sensitivity difference is preferably 0.2 log E or more for each emulsion.

11)塗布量
感光性ハロゲン化銀の添加量は、感材1m2当たりの塗布銀量で示して、0.03〜0.6g/m2であることが好ましく、0.05〜0.4g/m2であることがさらに好ましく、0.07〜0.3g/m2であることが最も好ましく、有機銀塩1モルに対しては、感光性ハロゲン化銀は0.01モル以上0.5モル以下が好ましく、より好ましくは0.02モル以上0.3モル以下、さらに好ましくは0.03モル以上0.2モル以下である。
11) Coating amount The amount of photosensitive silver halide added is preferably 0.03 to 0.6 g / m 2 , expressed as the coating silver amount per 1 m 2 of the light-sensitive material, and 0.05 to 0.4 g. further preferably / m 2, and most preferably from 0.07~0.3g / m 2, relative to the organic silver salt to 1 mole of the photosensitive silver halide is 0.01 mol or more 0. 5 mol or less is preferable, More preferably, it is 0.02 mol or more and 0.3 mol or less, More preferably, it is 0.03 mol or more and 0.2 mol or less.

12)感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の混合
別々に調製した感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の混合方法及び混合条件については、それぞれ調製終了したハロゲン化銀粒子と有機銀塩を高速撹拌機やボールミル、サンドミル、コロイドミル、振動ミル、ホモジナイザー等で混合する方法や、あるいは有機銀塩の調製中のいずれかのタイミングで調製終了した感光性ハロゲン化銀を混合して有機銀塩を調製する方法等があるが、本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。また、混合する際に2種以上の有機銀塩水分散液と2種以上の感光性銀塩水分散液を混合することは、写真特性の調節のために好ましい方法である。
12) Mixing of photosensitive silver halide and organic silver salt For the mixing method and mixing conditions of separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt, the silver halide grains and organic silver salt that were prepared respectively were stirred at high speed. Prepare organic silver salt by mixing with a silver mill, ball mill, sand mill, colloid mill, vibration mill, homogenizer, etc. However, there is no particular limitation as long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited. Moreover, mixing two or more organic silver salt aqueous dispersions and two or more photosensitive silver salt aqueous dispersions when mixing is a preferred method for adjusting photographic characteristics.

13)ハロゲン化銀の塗布液への混合
本発明におけるハロゲン化銀の画像形成層塗布液中への好ましい添加時期は、塗布する180分前から直前、好ましくは60分前から10秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やN.Harnby、M.F.Edwards、A.W.Nienow著、高橋幸司訳「液体混合技術」(日刊工業新聞社刊、1989年)の第8章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。
13) Mixing of silver halide into coating solution In the present invention, silver halide is preferably added to the image forming layer coating solution from 180 minutes before application, preferably from 60 minutes to 10 seconds before application. However, the mixing method and mixing conditions are not particularly limited as long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited. Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid fed to the coater is a desired time, and N.I. Harnby, M.M. F. Edwards, A.D. W. There is a method using a static mixer described in Chapter 8 of Nienow's “Liquid Mixing Technology” (Nikkan Kogyo Shimbun, 1989), translated by Koji Takahashi.

(バインダー)
本発明における画像形成層のバインダーは、いかなるポリマーを使用してもよく、好適なバインダーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然樹脂やポリマー及びコポリマー、合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、ゼラチン類、ゴム類、ポリ(ビニルアルコール)類、ヒドロキシエチルセルロース類、セルロースアセテート類、セルロースアセテートブチレート類、ポリ(ビニルピロリドン)類、カゼイン、デンプン、ポリ(アクリル酸)類、ポリ(メチルメタクリル酸)類、ポリ(塩化ビニル)類、ポリ(メタクリル酸)類、スチレン−無水マレイン酸共重合体類、スチレン−アクリロニトリル共重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体類、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)類、ポリ(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ(酢酸ビニル)類、ポリ(オレフィン)類、セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。バインダーは水又は有機溶媒又はエマルションから被覆形成してもよい。
(binder)
Any polymer may be used as the binder of the image-forming layer in the present invention. Suitable binders are transparent or translucent and generally colorless, and are natural resins, polymers and copolymers, synthetic resins, polymers and copolymers, and other films. Forming media such as gelatins, gums, poly (vinyl alcohol) s, hydroxyethyl celluloses, cellulose acetates, cellulose acetate butyrates, poly (vinyl pyrrolidone) s, casein, starch, poly (acrylic acid) , Poly (methyl methacrylic acid) s, poly (vinyl chloride) s, poly (methacrylic acid) s, styrene-maleic anhydride copolymers, styrene-acrylonitrile copolymers, styrene-butadiene copolymers, Poly (vinyl acetal) s (for example, poly (vinyl acetal) (Formal) and poly (vinyl butyral)), poly (esters), poly (urethane) s, phenoxy resins, poly (vinylidene chloride) s, poly (epoxides), poly (carbonates), poly (vinyl acetate) s , Poly (olefin) s, cellulose esters, and poly (amides). The binder may be coated from water or an organic solvent or emulsion.

本発明では、有機銀塩を含有する層に併用できるバインダーのガラス転移温度は0℃以上80℃以下である(以下、高Tgバインダーということあり)ことが好ましく、10℃〜70℃であることがより好ましく、15℃以上60℃以下であることが更に好ましい。   In the present invention, the glass transition temperature of the binder that can be used in combination with the layer containing the organic silver salt is preferably 0 ° C. or higher and 80 ° C. or lower (hereinafter sometimes referred to as a high Tg binder), and preferably 10 ° C. to 70 ° C. Is more preferable, and it is still more preferable that it is 15 degreeC or more and 60 degrees C or less.

なお、本明細書においてTgは、バック面保護層で説明したものと同様である。   In this specification, Tg is the same as that described for the back surface protective layer.

バインダーは必要に応じて2種以上を併用しても良い。また、ガラス転移温度が20℃以上のものとガラス転移温度が20℃未満のものを組み合わせて用いてもよい。Tgの異なるポリマーを2種以上ブレンドして使用する場合には、その質量平均Tgが上記の範囲にはいることが好ましい。   Two or more binders may be used in combination as required. Further, a glass transition temperature of 20 ° C. or higher and a glass transition temperature of less than 20 ° C. may be used in combination. When two or more types of polymers having different Tg are blended, the mass average Tg is preferably within the above range.

本発明においては、有機銀塩含有層が溶媒の30質量%以上が水である塗布液を用いて塗布、乾燥して被膜を形成させることが好ましい。
本発明においては、有機銀塩含有層が溶媒の30質量%以上が水である塗布液を用いて塗布し、乾燥して形成される場合に、さらに有機銀塩含有層のバインダーが水系溶媒(水溶媒)に可溶又は分散可能である場合に、特に25℃60%RHでの平衡含水率が2質量%以下のポリマーのラテックスからなる場合に性能が向上する。最も好ましい形態は、イオン伝導度が2.5mS/cm以下になるように調製されたものであり、このような調製法としてポリマー合成後分離機能膜を用いて精製処理する方法が挙げられる。
In the present invention, the organic silver salt-containing layer is preferably applied and dried using a coating solution in which 30% by mass or more of the solvent is water to form a film.
In the present invention, when the organic silver salt-containing layer is formed using a coating solution in which 30% by mass or more of the solvent is water and dried, the binder of the organic silver salt-containing layer is further an aqueous solvent ( When it is soluble or dispersible in an aqueous solvent), the performance is improved particularly when it is made of a latex of a polymer having an equilibrium water content of 2% by mass or less at 25 ° C. and 60% RH. The most preferable form is one prepared so that the ionic conductivity is 2.5 mS / cm or less, and as such a preparation method, there is a method of performing purification treatment using a separation functional membrane after polymer synthesis.

ここでいう前記ポリマーが可溶又は分散可能である水系溶媒とは、水又は水に70質量%以下の水混和性の有機溶媒を混合したものである。水混和性の有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール等のアルコール系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系、酢酸エチル、ジメチルホルムアミドなどを挙げることができる。   The aqueous solvent in which the polymer is soluble or dispersible here is a mixture of water or water and 70% by mass or less of a water-miscible organic solvent. Examples of the water-miscible organic solvent include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, and propyl alcohol, cellosolvs such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve, ethyl acetate, and dimethylformamide.

なお、ポリマーが熱力学的に溶解しておらず、いわゆる分散状態で存在している系の場合にも、ここでは水系溶媒という言葉を使用する。   In the case of a system in which the polymer is not dissolved thermodynamically and exists in a so-called dispersed state, the term aqueous solvent is used here.

また「25℃60%RHにおける平衡含水率」とは、25℃60%RHの雰囲気下で調湿平衡にあるポリマーの質量W1と25℃で絶乾状態にあるポリマーの質量W0を用いて以下のように表すことができる。
25℃60%RHにおける平衡含水率={(W1−W0)/W0}×100(質量%)
The “equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH” is the following using the mass W1 of the polymer in a humidity-controlled equilibrium under an atmosphere of 25 ° C. and 60% RH and the mass W0 of the polymer in an absolutely dry state at 25 ° C. It can be expressed as
Equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH = {(W1−W0) / W0} × 100 (mass%)

含水率の定義と測定法については、例えば高分子工学講座14、高分子材料試験法(高分子学会編、地人書館)を参考にすることができる。   For the definition and measurement method of moisture content, for example, Polymer Engineering Course 14, Polymer Material Testing Method (Edited by Society of Polymer Sciences, Jinshokan) can be referred to.

本発明におけるバインダーポリマーの25℃60%RHにおける平衡含水率は2質量%以下であることが好ましいが、より好ましくは0.01質量%以上1.5質量%以下、さらに好ましくは0.02質量%以上1質量%以下が望ましい。   The equilibrium water content at 25 ° C. and 60% RH of the binder polymer in the present invention is preferably 2% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or more and 1.5% by mass or less, and further preferably 0.02% by mass. % To 1% by mass is desirable.

本発明においては水系溶媒に分散可能なポリマーが特に好ましい。分散状態の例としては、水不溶な疎水性ポリマーの微粒子が分散しているラテックスやポリマー分子が分子状態又はミセルを形成して分散しているものなどいずれでもよいが、ラテックス分散した粒子がより好ましい。分散粒子の平均粒径は1〜50000nm、好ましくは5〜1000nmの範囲で、より好ましくは10〜500nmの範囲、さらに好ましくは50〜200nmの範囲である。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径分布を持つものでもよい。単分散の粒径分布を持つものを2種以上混合して使用することも塗布液の物性を制御する上で好ましい使用法である。   In the present invention, a polymer dispersible in an aqueous solvent is particularly preferred. Examples of the dispersed state may be either latex in which fine particles of water-insoluble hydrophobic polymer are dispersed or polymer molecules dispersed in a molecular state or forming micelles. preferable. The average particle diameter of the dispersed particles is 1 to 50000 nm, preferably 5 to 1000 nm, more preferably 10 to 500 nm, and still more preferably 50 to 200 nm. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution. Mixing two or more types having a monodispersed particle size distribution is also a preferable method for controlling the physical properties of the coating solution.

本発明において水系溶媒に分散可能なポリマーの好ましい態様としては、アクリル系ポリマー、ポリ(エステル)類、ゴム類(例えばSBR樹脂)、ポリ(ウレタン)類、ポリ(塩化ビニル)類、ポリ(酢酸ビニル)類、ポリ(塩化ビニリデン)類、ポリ(オレフィン)類等の疎水性ポリマーを好ましく用いることができる。これらポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでもまた架橋されたポリマーでもよいし、単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでもよいし、2種類以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも、ブロックコポリマーでもよい。これらポリマーの分子量は数平均分子量で5000〜1000000、好ましくは10000〜200000がよい。分子量が小さすぎるものは画像形成層の力学強度が不十分であり、大きすぎるものは成膜性が悪く好ましくない。また、架橋性のポリマーラッテクスは特に好ましく使用される。   In the present invention, preferred embodiments of the polymer that can be dispersed in an aqueous solvent include acrylic polymers, poly (esters), rubbers (eg, SBR resin), poly (urethanes), poly (vinyl chloride) s, poly (acetic acid). Hydrophobic polymers such as vinyl), poly (vinylidene chloride) and poly (olefin) can be preferably used. These polymers may be linear polymers, branched polymers, crosslinked polymers, so-called homopolymers obtained by polymerizing a single monomer, or copolymers obtained by polymerizing two or more types of monomers. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. These polymers have a number average molecular weight of 5,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 200,000. When the molecular weight is too small, the mechanical strength of the image forming layer is insufficient, and when the molecular weight is too large, the film formability is poor, which is not preferable. A crosslinkable polymer latex is particularly preferably used.

<ラテックスの具体例>
好ましいポリマーラテックスの具体例としては以下のものを挙げることができる。以下では原料モノマーを用いて表し、括弧内の数値は質量%、分子量は数平均分子量である。多官能モノマーを使用した場合は架橋構造を作るため分子量の概念が適用できないので架橋性と記載し、分子量の記載を省略した。Tgはガラス転移温度を表す。
<Specific examples of latex>
Specific examples of preferable polymer latex include the following. Below, it represents using a raw material monomer, the numerical value in a parenthesis is the mass%, and molecular weight is a number average molecular weight. When a polyfunctional monomer was used, the concept of molecular weight was not applicable because a crosslinked structure was formed, so it was described as crosslinkability, and the description of molecular weight was omitted. Tg represents the glass transition temperature.

PP−1;−MMA(70)−EA(27)−MAA(3)−のラテックス(分子量37000、Tg61℃)
PP−2;−MMA(70)−2EHA(20)−St(5)−AA(5)−のラテックス(分子量40000、Tg59℃)
PP−3;−St(50)−Bu(47)−MAA(3)−のラテックス(架橋性、Tg−17℃)
PP−4;−St(68)−Bu(29)−AA(3)−のラテックス(架橋性、Tg17℃)
PP−5;−St(71)−Bu(26)−AA(3)−のラテックス(架橋性,Tg24℃)
PP−6;−St(70)−Bu(27)−IA(3)−のラテックス(架橋性)
PP−7;−St(75)−Bu(24)−AA(1)−のラテックス(架橋性、Tg29℃)
PP−8;−St(60)−Bu(35)−DVB(3)−MAA(2)−のラテックス(架橋性)
PP−9;−St(70)−Bu(25)−DVB(2)−AA(3)−のラテックス(架橋性)
PP−10;−VC(50)−MMA(20)−EA(20)−AN(5)−AA(5)−のラテックス(分子量80000)
PP−11;−VDC(85)−MMA(5)−EA(5)−MAA(5)−のラテックス(分子量67000)
PP−12;−Et(90)−MAA(10)−のラテックス(分子量12000)
PP−13;−St(70)−2EHA(27)−AA(3)のラテックス(分子量130000、Tg43℃)
PP−14;−MMA(63)−EA(35)−AA(2)のラテックス(分子量33000、Tg47℃)
PP−15;−St(70.5)−Bu(26.5)−AA(3)−のラテックス(架橋性,Tg23℃)
PP−16;−St(69.5)−Bu(27.5)−AA(3)−のラテックス(架橋性,Tg20.5℃)
PP-1; Latex of -MMA (70) -EA (27) -MAA (3)-(molecular weight 37000, Tg 61 ° C.)
PP-2; latex of -MMA (70) -2EHA (20) -St (5) -AA (5)-(molecular weight 40000, Tg 59 ° C.)
PP-3; Latex of -St (50) -Bu (47) -MAA (3)-(crosslinkability, Tg-17 ° C)
PP-4; Latex of -St (68) -Bu (29) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 17 ° C.)
PP-5; Latex of -St (71) -Bu (26) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 24 ° C.)
PP-6; Latex (crosslinkable) of -St (70) -Bu (27) -IA (3)-
PP-7; Latex of -St (75) -Bu (24) -AA (1)-(crosslinkability, Tg 29 ° C.)
PP-8; Latex (crosslinkable) of -St (60) -Bu (35) -DVB (3) -MAA (2)-
PP-9; Latex (crosslinkable) of -St (70) -Bu (25) -DVB (2) -AA (3)-
PP-10; latex of VC (50) -MMA (20) -EA (20) -AN (5) -AA (5)-(molecular weight 80000)
PP-11; Latex (molecular weight 67000) of -VDC (85) -MMA (5) -EA (5) -MAA (5)-
PP-12; latex of -Et (90) -MAA (10)-(molecular weight 12000)
PP-13; -St (70) -2EHA (27) -AA (3) latex (molecular weight 130,000, Tg 43 ° C)
PP-14; latex of MMA (63) -EA (35) -AA (2) (molecular weight 33000, Tg 47 ° C.)
PP-15; Latex of -St (70.5) -Bu (26.5) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 23 ° C.)
PP-16; latex of -St (69.5) -Bu (27.5) -AA (3)-(crosslinkability, Tg 20.5 ° C)

上記構造の略号は以下のモノマーを表す。MMA;メチルメタクリレート,EA;エチルアクリレート、MAA;メタクリル酸,2EHA;2−エチルヘキシルアクリレート,St;スチレン,Bu;ブタジエン,AA;アクリル酸,DVB;ジビニルベンゼン,VC;塩化ビニル,AN;アクリロニトリル,VDC;塩化ビニリデン,Et;エチレン,IA;イタコン酸。   The abbreviations for the above structures represent the following monomers. MMA; Methyl methacrylate, EA; Ethyl acrylate, MAA; Methacrylic acid, 2EHA; 2-Ethylhexyl acrylate, St; Styrene, Bu; Butadiene, AA; Acrylic acid, DVB; Divinylbenzene, VC; Vinyl chloride, AN; Acrylonitrile, VDC Vinylidene chloride, Et; ethylene, IA; itaconic acid.

以上に記載したポリマーラテックスは市販もされていて、以下のようなポリマーが利用できる。アクリル系ポリマーの例としては、セビアンA−4635,4718,4601(以上ダイセル化学工業(株)製)、Nipol Lx811、814、821、820、857(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリ(エステル)類の例としては、FINETEX ES650、611、675、850(以上大日本インキ化学(株)製)、WD−size、WMS(以上イーストマンケミカル製)など、ポリ(ウレタン)類の例としては、HYDRAN AP10、20、30、40(以上大日本インキ化学(株)製)など、ゴム類の例としては、LACSTAR 7310K、3307B、4700H、7132C(以上大日本インキ化学(株)製)、Nipol Lx416、410、438C、2507(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリ(塩化ビニル)類の例としては、G351、G576(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリ(塩化ビニリデン)類の例としては、L502、L513(以上旭化成工業(株)製)など、ポリ(オレフィン)類の例としては、ケミパールS120、SA100(以上三井石油化学(株)製)などを挙げることができる。   The polymer latex described above is also commercially available, and the following polymers can be used. Examples of the acrylic polymer include Sebian A-4635, 4718, 4601 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx811, 814, 821, 820, 857 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), poly ( Examples of esters) include, for example, poly (urethanes) such as FINETEX ES650, 611, 675, 850 (above made by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), WD-size, WMS (more made by Eastman Chemical). Examples of rubbers such as HYDRAN AP10, 20, 30, 40 (more from Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) include LACSTAR 7310K, 3307B, 4700H, 7132C (more from Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) Nipol Lx416, 410, 438C, 2507 (made by Nippon Zeon Co., Ltd.) However, examples of poly (vinyl chloride) include G351 and G576 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), and examples of poly (vinylidene chloride) include L502 and L513 (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.). Examples of poly (olefin) s include Chemipearl S120, SA100 (manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd.).

これらのポリマーラテックスは単独で用いてもよいし、必要に応じて2種以上ブレンドしてもよい。   These polymer latexes may be used alone or in combination of two or more as required.

<好ましいラテックス>
本発明に用いられるポリマーラテックスとしては、特に、スチレン−ブタジエン共重合体のラテックスが好ましい。スチレン−ブタジエン共重合体におけるスチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位との質量比は40:60〜95:5であることが好ましい。また、スチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位との共重合体に占める割合は60〜99質量%であることが好ましい。また、本発明におけるポリマーラッテクスは、アクリル酸又はメタクリル酸をスチレンとブタジエンの和に対して1〜6質量%含有することが好ましく、より好ましくは2〜5質量%含有する。本発明におけるポリマーラテックスは、アクリル酸を含有することが好ましい。好ましい分子量の範囲は前記と同様である。
<Preferred latex>
As the polymer latex used in the present invention, a styrene-butadiene copolymer latex is particularly preferable. The mass ratio of the styrene monomer unit to the butadiene monomer unit in the styrene-butadiene copolymer is preferably 40:60 to 95: 5. The proportion of the styrene monomer unit and the butadiene monomer unit in the copolymer is preferably 60 to 99% by mass. Moreover, it is preferable that the polymer latex in this invention contains 1-6 mass% of acrylic acid or methacrylic acid with respect to the sum of styrene and butadiene, More preferably, it contains 2-5 mass%. The polymer latex in the present invention preferably contains acrylic acid. The preferred molecular weight range is the same as described above.

本発明に用いることが好ましいスチレン−ブタジエン酸共重合体のラテックスとしては、前記のP−3〜P−8,15、市販品であるLACSTAR−3307B、7132C、Nipol Lx416等が挙げられる。   Examples of latexes of styrene-butadiene acid copolymer that are preferably used in the present invention include the above-mentioned P-3 to P-8,15, commercially available products LACSTAR-3307B, 7132C, Nipol Lx416, and the like.

本発明の感光材料の有機銀塩含有層には必要に応じてゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロースなどの親水性ポリマーを添加してもよい。これらの親水性ポリマーの添加量は有機銀塩含有層の全バインダーの30質量%以下、より好ましくは20質量%以下が好ましい。   If necessary, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, carboxymethylcellulose may be added to the organic silver salt-containing layer of the light-sensitive material of the present invention. The amount of these hydrophilic polymers added is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, based on the total binder of the organic silver salt-containing layer.

本発明における有機銀塩含有層(即ち、画像形成層)は、ポリマーラテックスを用いて形成されたものが好ましい。有機銀塩含有層のバインダーの量は、全バインダー/有機銀塩の質量比が1/10〜10/1、より好ましくは1/3〜5/1の範囲、さらに好ましくは1/1〜3/1の範囲である。   The organic silver salt-containing layer (that is, the image forming layer) in the present invention is preferably formed using a polymer latex. The amount of the binder in the organic silver salt-containing layer is such that the mass ratio of all binders / organic silver salt is 1/10 to 10/1, more preferably 1/3 to 5/1, and still more preferably 1/1 to 3/1. / 1 range.

また、このような有機銀塩含有層は、通常、感光性銀塩である感光性ハロゲン化銀が含有された感光性層(乳剤層)でもあり、このような場合の、全バインダー/ハロゲン化銀の質量比は400〜5、より好ましくは200〜10の範囲である。   In addition, such an organic silver salt-containing layer is usually a photosensitive layer (emulsion layer) containing a photosensitive silver halide which is a photosensitive silver salt. The mass ratio of silver is 400-5, more preferably 200-10.

本発明における画像形成層の全バインダー量は好ましくは0.2g/m2〜30g/m2、より好ましくは1g/m2〜15g/m2、さらに好ましくは2g/m2〜10g/m2の範囲である。本発明における画像形成層には架橋のための架橋剤、塗布性改良のための界面活性剤などを添加してもよい。 The total binder amount of the image forming layer in the present invention is preferably 0.2 g / m 2 to 30 g / m 2 , more preferably 1 g / m 2 to 15 g / m 2 , still more preferably 2 g / m 2 to 10 g / m 2. Range. In the image forming layer in the invention, a crosslinking agent for crosslinking, a surfactant for improving coating properties, and the like may be added.

<好ましい塗布液の溶媒>
本発明において感光材料の有機銀塩含有層塗布液の溶媒(ここでは簡単のため、溶媒と分散媒をあわせて溶媒と表す。)は、水を30質量%以上含む水系溶媒が好ましい。水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチルなど任意の水混和性有機溶媒を用いてよい。塗布液の溶媒の水含有率は50質量%以上、より好ましくは70質量%以上が好ましい。好ましい溶媒組成の例を挙げると、水の他、水/メチルアルコール=90/10、水/メチルアルコール=70/30、水/メチルアルコール/ジメチルホルムアミド=80/15/5、水/メチルアルコール/エチルセロソルブ=85/10/5、水/メチルアルコール/イソプロピルアルコール=85/10/5などがある(数値は質量%)。
<Preferable solvent for coating solution>
In the present invention, the solvent of the organic silver salt-containing layer coating solution of the light-sensitive material (here, for simplicity, the solvent and the dispersion medium are collectively referred to as a solvent) is preferably an aqueous solvent containing 30% by mass or more of water. As a component other than water, any water-miscible organic solvent such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate may be used. The water content of the solvent of the coating solution is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more. Examples of preferred solvent compositions include water, water / methyl alcohol = 90/10, water / methyl alcohol = 70/30, water / methyl alcohol / dimethylformamide = 80/15/5, water / methyl alcohol / Ethyl cellosolve = 85/10/5, water / methyl alcohol / isopropyl alcohol = 85/10/5, etc. (numerical values are mass%).

(かぶり防止剤)
本発明に用いることのできるカブリ防止剤、安定剤及び安定剤前駆体は特開平10−62899号の段落番号0070、欧州特許公開第0803764A1号の第20頁第57行〜第21頁第7行に記載の特許のもの、特開平9−281637号、同9−329864号記載の化合物、米国特許6,083,681号、同6,083,681号、欧州特許1048975号に記載の化合物が挙げられる。また、本発明に好ましく用いられるカブリ防止剤は有機ハロゲン化物であり、これらについては、特開平11−65021号の段落番号0111〜0112に記載の特許に開示されているものが挙げられる。特に特開2000−284399号の式(P)で表される有機ハロゲン化合物、特開平10−339934号の一般式(II)で表される有機ポリハロゲン化合物、特開2001−31644号及び特開2001−33911号に記載の有機ポリハロゲン化合物が好ましい。
(Anti-fogging agent)
Antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors that can be used in the present invention are disclosed in paragraph No. 0070 of JP-A No. 10-62899, page 20, line 57 to page 21, line 7 of European Patent Publication No. 0803764A1. Compounds described in JP-A-9-281737 and JP-A-9-329864, compounds described in US Pat. Nos. 6,083,681, 6,083,681, and European Patent 1048875 It is done. The antifoggant preferably used in the present invention is an organic halide, and examples thereof include those disclosed in the patents described in paragraph Nos. 0111 to 0112 of JP-A No. 11-65021. In particular, an organic halogen compound represented by formula (P) in JP-A No. 2000-284399, an organic polyhalogen compound represented by formula (II) in JP-A No. 10-339934, JP-A No. 2001-31644 and JP-A No. 2001-31644 are disclosed. The organic polyhalogen compounds described in 2001-33911 are preferred.

1)有機ポリハロゲン化合物
以下、本発明で好ましい有機ポリハロゲン化合物について具体的に説明する。 本発明における好ましいポリハロゲン化合物は、下記一般式(H)で表される化合物である。
一般式(H) Q−(Y)n−C(Z1)(Z2)X
一般式(H)において、Qはアルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、Yは2価の連結基を表し、nは0又は1を表し、Z1及びZ2はハロゲン原子を表し、Xは水素原子又は電子求引性基を表す。
一般式(H)においてQは好ましくはアリール基又はヘテロ環基である。
一般式(H)において、Qがヘテロ環基である場合、窒素原子を1ないし2含有する含窒素ヘテロ環基が好ましく、2−ピリジル基、2−キノリル基が特に好ましい。
一般式(H)において、Qがアリール基である場合、Qは好ましくはハメットの置換基定数σpが正の値をとる電子求引性基で置換されたフェニル基を表す。ハメットの置換基定数に関しては、Journal of Medicinal Chemistry,1973,Vol.16,No.11,1207−1216等を参考にすることができる。このような電子求引性基としては、例えばハロゲン原子(フッ素原子(σp値:0.06)、塩素原子(σp値:0.23)、臭素原子(σp値:0.23)、ヨウ素原子(σp値:0.18))、トリハロメチル基(トリブロモメチル(σp値:0.29)、トリクロロメチル(σp値:0.33)、トリフルオロメチル(σp値:0.54))、シアノ基(σp値:0.66)、ニトロ基(σp値:0.78)、脂肪族・アリールもしくは複素環スルホニル基(例えば、メタンスルホニル(σp値:0.72))、脂肪族・アリールもしくは複素環アシル基(例えば、アセチル(σp値:0.50)、ベンゾイル(σp値:0.43))、アルキニル基(例えば、C≡CH(σp値:0.23))、脂肪族・アリールもしくは複素環オキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル(σp値:0.45)、フェノキシカルボニル(σp値:0.44))、カルバモイル基(σp値:0.36)、スルファモイル基(σp値:0.57)、スルホキシド基、ヘテロ環基、ホスホリル基等があげられる。σp値としては好ましくは0.2〜2.0の範囲で、より好ましくは0.4から1.0の範囲である。電子求引性基として特に好ましいのは、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルホスホリル基で、なかでもカルバモイル基が最も好ましい。
Xは、好ましくは電子求引性基であり、より好ましくはハロゲン原子、脂肪族・アリールもしくは複素環スルホニル基、脂肪族・アリールもしくは複素環アシル基、脂肪族・アリールもしくは複素環オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基であり、特に好ましくはハロゲン原子である。ハロゲン原子の中でも、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、更に好ましくは塩素原子、臭素原子であり、特に好ましくは臭素原子である。
Yは好ましくは−C(=O)−、−SO−又は−SO2−を表し、より好ましくは−C(=O)−、−SO2−であり、特に好ましくは−SO2−である。nは、0又は1を表し、好ましくは1である。
1) Organic polyhalogen compound Hereinafter, preferred organic polyhalogen compounds in the present invention will be described in detail. A preferred polyhalogen compound in the present invention is a compound represented by the following general formula (H).
General formula (H) Q- (Y) n-C (Z 1 ) (Z 2 ) X
In the general formula (H), Q represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, Y represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, Z 1 and Z 2 represent a halogen atom, X represents a hydrogen atom or an electron withdrawing group.
In general formula (H), Q is preferably an aryl group or a heterocyclic group.
In the general formula (H), when Q is a heterocyclic group, a nitrogen-containing heterocyclic group containing 1 to 2 nitrogen atoms is preferable, and a 2-pyridyl group and a 2-quinolyl group are particularly preferable.
In the general formula (H), when Q is an aryl group, Q preferably represents a phenyl group substituted with an electron-attracting group having a positive Hammett's substituent constant σp. For Hammett's substituent constants, see Journal of Medicinal Chemistry, 1973, Vol. 16, no. 11, 1207-1216 etc. can be referred to. Examples of such an electron withdrawing group include a halogen atom (fluorine atom (σp value: 0.06), chlorine atom (σp value: 0.23), bromine atom (σp value: 0.23), iodine atom. (Σp value: 0.18)), trihalomethyl group (tribromomethyl (σp value: 0.29), trichloromethyl (σp value: 0.33), trifluoromethyl (σp value: 0.54)), Cyano group (σp value: 0.66), nitro group (σp value: 0.78), aliphatic / aryl or heterocyclic sulfonyl group (for example, methanesulfonyl (σp value: 0.72)), aliphatic / aryl Or a heterocyclic acyl group (for example, acetyl (σp value: 0.50), benzoyl (σp value: 0.43)), alkynyl group (for example, C≡CH (σp value: 0.23)), aliphatic Aryl or heterocyclic oxycarbo Group (for example, methoxycarbonyl (σp value: 0.45), phenoxycarbonyl (σp value: 0.44)), carbamoyl group (σp value: 0.36), sulfamoyl group (σp value: 0.57), Examples thereof include a sulfoxide group, a heterocyclic group, and a phosphoryl group. The σp value is preferably in the range of 0.2 to 2.0, more preferably in the range of 0.4 to 1.0. Particularly preferred as the electron withdrawing group is a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, or an alkylphosphoryl group, and among them, a carbamoyl group is most preferred.
X is preferably an electron-withdrawing group, more preferably a halogen atom, aliphatic / aryl or heterocyclic sulfonyl group, aliphatic / aryl or heterocyclic acyl group, aliphatic / aryl or heterocyclic oxycarbonyl group, A carbamoyl group and a sulfamoyl group, particularly preferably a halogen atom. Among the halogen atoms, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, a chlorine atom and a bromine atom are more preferable, and a bromine atom is particularly preferable.
Y preferably represents -C (= O) -, - SO- or -SO 2 -; more preferably, -C (= O) -, - SO 2 - , and particularly preferably -SO 2 - is a . n represents 0 or 1, and is preferably 1.

以下に本発明における一般式(H)の化合物の具体例を示す。   Specific examples of the compound represented by formula (H) in the present invention are shown below.

Figure 2005010752
Figure 2005010752

上記以外の本発明における好ましいポリハロゲン化合物としては、特開2001−31644号、同2001−56526号、同2001−209145号に記載の化合物が挙げられる。
本発明における一般式(H)で表される化合物は、画像形成層の非感光性銀塩1モルあたり、10-4モル〜1モルの範囲で使用することが好ましく、より好ましくは10-3モル〜0.5モルの範囲で、さらに好ましくは1×10-2モル〜0.2モルの範囲で使用することが好ましい。
本発明において、かぶり防止剤を感光材料に含有せしめる方法としては、前記還元剤の含有方法に記載の方法が挙げられ、有機ポリハロゲン化合物についても固体微粒子分散物で添加することが好ましい。
Examples of preferable polyhalogen compounds in the present invention other than the above include compounds described in JP-A Nos. 2001-31644, 2001-56526, and 2001-209145.
The compound represented by the general formula (H) in the present invention is preferably used in the range of 10 −4 mol to 1 mol, more preferably 10 −3 per mol of the non-photosensitive silver salt of the image forming layer. It is preferably used in the range of mol to 0.5 mol, more preferably in the range of 1 × 10 −2 mol to 0.2 mol.
In the present invention, examples of the method for incorporating the antifoggant into the light-sensitive material include the methods described in the method for containing a reducing agent, and the organic polyhalogen compound is also preferably added as a solid fine particle dispersion.

2)その他のかぶり防止剤
その他のカブリ防止剤としては特開平11−65021号段落番号0113の水銀(II)塩、同号段落番号0114の安息香酸類、特開2000−206642号のサリチル酸誘導体、特開2000−221634号の式(S)で表されるホルマリンスカベンジャー化合物、特開平11−352624号の請求項9に係るトリアジン化合物、特開平6−11791号の一般式(III)で表される化合物、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン等が挙げられる。
2) Other antifoggants Other antifoggants include mercury (II) salts described in paragraph No. 0113 of JP-A No. 11-65021, benzoic acids described in paragraph No. 0114 of the same, salicylic acid derivatives disclosed in JP-A No. 2000-206642, A formalin scavenger compound represented by the formula (S) in JP-A-2000-221634, a triazine compound according to claim 9 in JP-A-11-352624, and a compound represented by the general formula (III) in JP-A-6-11791 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene and the like.

本発明における熱現像感光材料はカブリ防止を目的としてアゾリウム塩を含有しても良い。アゾリウム塩としては、特開昭59−193447号記載の一般式(XI)で表される化合物、特公昭55−12581号記載の化合物、特開昭60−153039号記載の一般式(II)で表される化合物が挙げられる。アゾリウム塩は感光材料のいかなる部位に添加しても良いが、添加層としては感光性層を有する面の層に添加することが好ましく、有機銀塩含有層に添加することがさらに好ましい。アゾリウム塩の添加時期としては塗布液調製のいかなる工程で行っても良く、有機銀塩含有層に添加する場合は有機銀塩調製時から塗布液調製時のいかなる工程でも良いが有機銀塩調製後から塗布直前が好ましい。アゾリウム塩の添加法としては粉末、溶液、微粒子分散物などいかなる方法で行っても良い。また、増感色素、還元剤、色調剤など他の添加物と混合した溶液として添加しても良い。本発明においてアゾリウム塩の添加量としてはいかなる量でも良いが、銀1モル当たり1×10-6モル以上2モル以下が好ましく、1×10-3モル以上0.5モル以下がさらに好ましい。 The photothermographic material in the invention may contain an azolium salt for the purpose of fog prevention. Examples of the azolium salt include compounds represented by general formula (XI) described in JP-A-59-193447, compounds described in JP-B-55-12581, and general formula (II) described in JP-A-60-153039. And the compounds represented. The azolium salt may be added to any part of the photosensitive material, but the addition layer is preferably added to the layer having the photosensitive layer, and more preferably to the organic silver salt-containing layer. The azolium salt may be added at any step in the coating solution preparation. When added to the organic silver salt-containing layer, any step from the preparation of the organic silver salt to the preparation of the coating solution may be used. To immediately before coating. The azolium salt may be added by any method such as powder, solution, fine particle dispersion. Moreover, you may add as a solution mixed with other additives, such as a sensitizing dye, a reducing agent, and a color toning agent. In the present invention, the azolium salt may be added in any amount, but it is preferably 1 × 10 −6 mol or more and 2 mol or less, more preferably 1 × 10 −3 mol or more and 0.5 mol or less per 1 mol of silver.

(その他の添加剤)
1)メルカプト、ジスルフィド、及びチオン類
本発明には現像を抑制あるいは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させることができ、特開平10−62899号の段落番号0067〜0069、特開平10−186572号の一般式(I)で表される化合物及びその具体例として段落番号0033〜0052、欧州特許公開第0803764A1号の第20ページ第36〜56行に記載されている。その中でも特開平9−297367号、特開平9−304875号、特開2001−100358号、特開2002−303954号、特開2002−303951号等に記載されているメルカプト置換複素芳香族化合物が好ましい。
(Other additives)
1) Mercapto, disulfide, and thiones In the present invention, mercapto compounds and disulfide compounds are used for the purpose of controlling development by suppressing or promoting development, improving spectral sensitization efficiency, and improving storage stability before and after development. And thione compounds, paragraphs 0067 to 0069 of JP-A-10-62899, compounds represented by formula (I) of JP-A-10-186572, and specific examples thereof include paragraph numbers 0033 to 0052. , European Patent Publication No. 0803764A1, page 20, lines 36-56. Of these, mercapto-substituted heteroaromatic compounds described in JP-A-9-297367, JP-A-9-304875, JP-A-2001-100388, JP-A-2002-303954, JP-A-2002-303951, and the like are preferable. .

2)色調剤
本発明の熱現像感光材料では色調剤の添加が好ましく、色調剤については、特開平10−62899号の段落番号0054〜0055、欧州特許公開第0803764A1号の第21ページ第23〜48行、特開2000−356317号や特開2000−187298号に記載されており、特に、フタラジノン類(フタラジノン、フタラジノン誘導体もしくは金属塩;例えば4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−ジメトキシフタラジノン及び2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジノン類とフタル酸類(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸、フタル酸二アンモニウム、フタル酸ナトリウム、フタル酸カリウム及びテトラクロロ無水フタル酸)との組合せ;フタラジン類(フタラジン、フタラジン誘導体もしくは金属塩;例えば4−(1−ナフチル)フタラジン、6−イソプロピルフタラジン、6−t−ブチルフラタジン、6−クロロフタラジン、5,7−ジメトキシフタラジン及び2,3−ジヒドロフタラジン);フタラジン類とフタル酸類との組合せが好ましく、特にフタラジン類とフタル酸類の組合せが好ましい。そのなかでも特に好ましい組み合わせは6−イソプロピルフタラジンとフタル酸又は4メチルフタル酸との組み合わせである。
2) Toning agent In the photothermographic material of the invention, it is preferable to add a toning agent. For the toning agent, paragraph numbers 0054 to 0055 of JP-A-10-62899, page 21 to 23 of European Patent Publication No. 0803764A1. Line 48, described in JP-A No. 2000-356317 and JP-A No. 2000-187298, and in particular, phthalazinones (phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone. 5,7-dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); phthalazinones and phthalic acids (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid, diammonium phthalate) , Sodium phthalate, potassium phthalate and tetrachlorophthalic anhydride) Combinations: phthalazines (phthalazine, phthalazine derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6-isopropylphthalazine, 6-t-butylphthalazine, 6-chlorophthalazine, 5,7-dimethoxyphthalazine And 2,3-dihydrophthalazine); a combination of phthalazines and phthalic acids is preferable, and a combination of phthalazines and phthalic acids is particularly preferable. Among them, a particularly preferable combination is a combination of 6-isopropylphthalazine and phthalic acid or 4-methylphthalic acid.

3)可塑剤、潤滑剤
本発明における画像形成層に用いることのできる可塑剤及び潤滑剤については、特開平11−65021号段落番号0117に記載されている。滑り剤については特開平11−84573号段落番号0061〜0064や特願平11−106881号段落番号0049〜0062記載されている。
3) Plasticizer and lubricant The plasticizer and lubricant that can be used in the image forming layer in the invention are described in paragraph No. 0117 of JP-A No. 11-65021. The slip agent is described in JP-A No. 11-84573, paragraph numbers 0061 to 0064 and Japanese Patent Application No. 11-106881, paragraph numbers 0049 to 0062.

4)染料、顔料
本発明における感光性層には、色調改良、レーザー露光時の干渉縞発生防止、イラジエーション防止の観点から各種染料や顔料(例えばC.I.Pigment Blue 60、C.I.Pigment Blue 64、C.I.Pigment Blue 15:6)を用いることができる。これらについてはWO98/36322号、特開平10−268465号、同11−338098号等に詳細に記載されている。
4) Dye, Pigment The photosensitive layer in the invention has various dyes and pigments (for example, CI Pigment Blue 60, CI, etc.) from the viewpoints of color tone improvement, prevention of interference fringes during laser exposure, and prevention of irradiation. Pigment Blue 64, CI Pigment Blue 15: 6) can be used. These are described in detail in WO98 / 36322, JP-A-10-268465, JP-A-11-338098 and the like.

5)超硬調化剤
印刷製版用途に適した超硬調画像形成のためには、画像形成層に超硬調化剤を添加することが好ましい。超硬調化剤やその添加方法及び添加量については、特開平11−65021号公報段落番号0118、特開平11−223898号公報段落番号0136〜0193、特開2000−284399公報の式(H)、式(1)〜(3)、式(A)、(B)の化合物、特願平11−91652号明細書記載の一般式(III)〜(V)の化合物(具体的化合物:化21〜化24)、硬調化促進剤については特開平11−65021号公報段落番号0102、特開平11−223898号公報段落番号0194〜0195に記載されている。
5) Super-high contrast agent For the formation of a super-high contrast image suitable for printing plate making, it is preferable to add a super-high contrast agent to the image forming layer. As for the ultra-high contrast agent and its addition method and addition amount, paragraph No. 0118 of JP-A No. 11-65021, paragraph Nos. 0136 to 0193 of JP-A No. 11-223898, Formula (H) of JP-A No. 2000-284399, Compounds of formulas (1) to (3), formulas (A) and (B), compounds of general formulas (III) to (V) described in Japanese Patent Application No. 11-91652 (specific compounds: 24), the contrast accelerator is described in paragraph No. 0102 of JP-A No. 11-65021 and paragraph Nos. 0194 to 0195 of JP-A No. 11-223898.

蟻酸や蟻酸塩を強いかぶらせ物質として用いるには、感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成層を有する側に銀1モル当たり5ミリモル以下、さらには1ミリモル以下で含有することが好ましい。   In order to use formic acid or formate as a strong fogging substance, it is preferably contained in an amount of 5 mmol or less, more preferably 1 mmol or less per mol of silver on the side having an image forming layer containing photosensitive silver halide.

本発明の熱現像感光材料で超硬調化剤を用いる場合には五酸化二リンが水和してできる酸又はその塩を併用して用いることが好ましい。五酸化二リンが水和してできる酸又はその塩としては、メタリン酸(塩)、ピロリン酸(塩)、オルトリン酸(塩)、三リン酸(塩)、四リン酸(塩)、ヘキサメタリン酸(塩)などを挙げることができる。特に好ましく用いられる五酸化二リンが水和してできる酸又はその塩としては、オルトリン酸(塩)、ヘキサメタリン酸(塩)を挙げることができる。具体的な塩としてはオルトリン酸ナトリウム、オルトリン酸二水素ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸アンモニウムなどがある。
五酸化二リンが水和してできる酸又はその塩の使用量(感光材料1m2あたりの塗布量)は感度やカブリなどの性能に合わせて所望の量でよいが、0.1〜500mg/m2が好ましく、0.5〜100mg/m2がより好ましい。
本発明における還元剤、水素結合性化合物、現像促進剤及びポリハロゲン化合物は固体分散物として使用することが好ましく、これらの固体分散物の好ましい製造方法は特開2002−55405号に記載されている。
When the ultrahigh contrast agent is used in the photothermographic material of the invention, it is preferable to use an acid formed by hydrating diphosphorus pentoxide or a salt thereof in combination. Acids or salts thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide include metaphosphoric acid (salt), pyrophosphoric acid (salt), orthophosphoric acid (salt), triphosphoric acid (salt), tetraphosphoric acid (salt), hexametalin An acid (salt) etc. can be mentioned. Examples of the acid or salt thereof formed by hydrating diphosphorus pentoxide particularly preferably include orthophosphoric acid (salt) and hexametaphosphoric acid (salt). Specific examples of the salt include sodium orthophosphate, sodium dihydrogen orthophosphate, sodium hexametaphosphate, and ammonium hexametaphosphate.
The amount of acid or salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide (the coating amount per 1 m 2 of light-sensitive material) may be a desired amount according to the performance such as sensitivity and fog, but is 0.1 to 500 mg / m 2 is preferable, and 0.5 to 100 mg / m 2 is more preferable.
The reducing agent, hydrogen bonding compound, development accelerator and polyhalogen compound in the present invention are preferably used as a solid dispersion, and a preferred method for producing these solid dispersions is described in JP-A-2002-55405. .

(塗布液の調製及び塗布)
本発明における画像形成層塗布液の調製温度は、30℃以上65℃以下がよく、さらに好ましい温度は35℃以上60℃未満、より好ましい温度は35℃以上55℃以下である。また、ポリマーラテックス添加直後の画像形成層塗布液の温度が30℃以上65℃以下で維持されることが好ましい。
(Preparation and application of coating solution)
The preparation temperature of the image forming layer coating solution in the present invention is preferably from 30 ° C. to 65 ° C., more preferably from 35 ° C. to less than 60 ° C., and more preferably from 35 ° C. to 55 ° C. Moreover, it is preferable that the temperature of the image forming layer coating liquid immediately after the addition of the polymer latex is maintained at 30 ° C. or higher and 65 ° C. or lower.

1−5.表面保護層
本発明における熱現像感光材料は画像形成層の付着防止などの目的で表面保護層を設けることができる。表面保護層は単層でもよいし、複数層であってもよい。
表面保護層については、特開平11−65021号段落番号0119〜0120、特開2000−171936号に記載されている。
本発明における表面保護層のバインダーとしては、ゼラチンが好ましいがポリビニルアルコール(PVA)を用いる若しくは併用することも好ましい。ゼラチンとしてはイナートゼラチン(例えば新田ゼラチン750)、フタル化ゼラチン(例えば新田ゼラチン801)など使用することができる。PVAとしては、特開2000−171936号の段落番号0009〜0020に記載のものがあげられ、完全けん化物のPVA−105、部分けん化物のPVA−205,PVA−335、変性ポリビニルアルコールのMP−203(以上、クラレ(株)製の商品名)などが好ましく挙げられる。保護層(1層当たり)のポリビニルアルコール塗布量(支持体1m2当たり)としては0.3〜4.0g/m2が好ましく、0.3〜2.0g/m2がより好ましい。
1-5. Surface Protective Layer The photothermographic material according to the invention may be provided with a surface protective layer for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer. The surface protective layer may be a single layer or a plurality of layers.
The surface protective layer is described in JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0119 to 0120 and JP-A No. 2000-171936.
As the binder for the surface protective layer in the present invention, gelatin is preferable, but polyvinyl alcohol (PVA) is preferably used or used in combination. As gelatin, inert gelatin (for example, Nitta gelatin 750), phthalated gelatin (for example, Nitta gelatin 801), and the like can be used. Examples of PVA include those described in paragraph Nos. 0009 to 0020 of JP-A No. 2000-171936. Completely saponified PVA-105, partially saponified PVA-205, PVA-335, and modified polyvinyl alcohol MP- Preferred is 203 (trade name, manufactured by Kuraray Co., Ltd.). Preferably 0.3 to 4.0 g / m 2 of polyvinyl alcohol coating amount as (per support 1 m 2) is the protective layer (per one layer), 0.3 to 2.0 g / m 2 is more preferable.

表面保護層(1層当たり)の全バインダー(水溶性ポリマー及びラテックスポリマーを含む)塗布量(支持体1m2当たり)としては0.3〜5.0g/m2が好ましく、0.3〜2.0g/m2がより好ましい。 The total amount of binder (including water-soluble polymer and latex polymer) applied to the surface protective layer (per layer) is preferably 0.3 to 5.0 g / m 2 , preferably 0.3 to 2 per 1 m 2 of the support. 0.0 g / m 2 is more preferable.

1−6.その他の層構成および構成成分
本発明では、上記の各層のほか、複数の画像形成層の間や画像形成層と保護層の間に設けられる中間層や、画像形成層と支持体との間に設けられる下塗り層などを設けることができる。また、これらの層には、マット剤、ラテックス、界面活性剤などの添加剤を加えることが出来る。
1-6. Other Layer Configurations and Components In the present invention, in addition to each of the above layers, an intermediate layer provided between a plurality of image forming layers, between an image forming layer and a protective layer, or between an image forming layer and a support. A provided undercoat layer or the like can be provided. Further, additives such as matting agent, latex, surfactant and the like can be added to these layers.

(マット剤)
本発明において、搬送性改良のためにマット剤を添加することが好ましく、マット剤については、特開平11−65021号段落番号0126〜0127に記載されている。マット剤は感光材料1m2当たりの塗布量で示した場合、好ましくは1mg/m2〜400mg/m2、より好ましくは5mg/m2〜300mg/m2である。
本発明においてマット剤の形状は定型、不定形のいずれでもよいが好ましくは定型で、球形が好ましく用いられる。平均粒径は0.5〜10μmであることが好ましく、より好ましくは1.0μm〜8.0μm、さらに好ましくは2.0μm〜6.0μmの範囲である。また、サイズ分布の変動係数としては50%以下であることが好ましく、より好ましくは40%以下、さらに好ましくは、30%以下である。ここで変動係数とは(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×100で表される値である。また、変動係数が小さいマット剤で平均粒径の比が3より大きいものを2種併用することも好ましい。
また、画像形成層面のマット度は星屑故障が生じなければいかようでも良いが、ベック平滑度が30秒以上2000秒以下が好ましく、特に40秒以上1500秒以下が好ましい。ベック平滑度は、日本工業規格(JIS)P8119「紙及び板紙のベック試験器による平滑度試験方法」及びTAPPI標準法T479により容易に求めることができる。
(Matting agent)
In the present invention, it is preferable to add a matting agent for improving transportability. The matting agent is described in paragraph Nos. 0126 to 0127 of JP-A No. 11-65021. When the matting agent is indicated by the coating amount per the photosensitive material 1 m 2, preferably from 1mg / m 2 ~400mg / m 2 , more preferably 5mg / m 2 ~300mg / m 2 .
In the present invention, the shape of the matting agent may be either a regular shape or an irregular shape, but is preferably a regular shape, and a spherical shape is preferably used. The average particle size is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1.0 μm to 8.0 μm, and still more preferably 2.0 μm to 6.0 μm. The variation coefficient of the size distribution is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, and still more preferably 30% or less. Here, the coefficient of variation is a value represented by (standard deviation of particle size) / (average value of particle size) × 100. It is also preferable to use two types of matting agents having a small variation coefficient and having an average particle size ratio larger than 3.
The matting degree of the image forming layer surface may be any as long as no stardust failure occurs, but the Beck smoothness is preferably 30 seconds or more and 2000 seconds or less, particularly preferably 40 seconds or more and 1500 seconds or less. The Beck smoothness can be easily determined by Japanese Industrial Standard (JIS) P8119 “Smoothness test method using Beck tester for paper and paperboard” and TAPPI standard method T479.

本発明においてバック層のマット度としてはベック平滑度が1200秒以下10秒以上が好ましく、800秒以下20秒以上が好ましく、さらに好ましくは500秒以下40秒以上である。   In the present invention, the matte degree of the back layer is preferably a Beck smoothness of 1200 seconds or less and 10 seconds or more, preferably 800 seconds or less and 20 seconds or more, and more preferably 500 seconds or less and 40 seconds or more.

本発明において、マット剤は感光材料の最外表面層もしくは最外表面層として機能する層、あるいは外表面に近い層に含有されるのが好ましく、またいわゆる保護層として作用する層に含有されることが好ましい。   In the present invention, the matting agent is preferably contained in the outermost surface layer of the photosensitive material, the layer functioning as the outermost surface layer, or a layer close to the outer surface, and is contained in a layer acting as a so-called protective layer. It is preferable.

(膜面pH調整剤)
本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理前の膜面pHが7.0以下であることが好ましく、さらに好ましくは6.6以下である。その下限には特に制限はないが、3程度である。最も好ましいpH範囲は4〜6.2の範囲である。膜面pHの調節はフタル酸誘導体などの有機酸や硫酸などの不揮発性の酸、アンモニアなどの揮発性の塩基を用いることが、膜面pHを低減させるという観点から好ましい。特にアンモニアは揮発しやすく、塗布する工程や熱現像される前に除去できることから低膜面pHを達成する上で好ましい。
また、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム、水酸化リチウム等の不揮発性の塩基とアンモニアを併用することも好ましく用いられる。なお、膜面pHの測定方法は、特開2000−284399号明細書の段落番号0123に記載されている。
(Membrane surface pH adjuster)
The photothermographic material of the present invention preferably has a film surface pH of 7.0 or less, more preferably 6.6 or less before heat development. The lower limit is not particularly limited, but is about 3. The most preferred pH range is in the range of 4 to 6.2. The film surface pH is preferably adjusted using an organic acid such as a phthalic acid derivative, a non-volatile acid such as sulfuric acid, or a volatile base such as ammonia from the viewpoint of reducing the film surface pH. In particular, ammonia is volatile and is preferable for achieving a low film surface pH because it can be removed before the coating process or heat development.
In addition, it is also preferable to use ammonia in combination with a nonvolatile base such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, or lithium hydroxide. A method for measuring the film surface pH is described in paragraph No. 0123 of JP-A No. 2000-284399.

(界面活性剤)
本発明に適用できる界面活性剤については特開平11−65021号段落番号0132、溶剤については同号段落番号0133、支持体については同号段落番号0134、帯電防止又は導電層については同号段落番号0135、カラー画像を得る方法については同号段落番号0136に、滑り剤については特開平11−84573号段落番号0061〜0064や特願平11−106881号段落番号0049〜0062記載されている。
本発明においてはフッ素系の界面活性剤を使用することが好ましい。フッ素系界面活性剤の具体例は特開平10−197985号、特開2000−19680号、特開2000−214554号等に記載された化合物があげられる。また、特開平9−281636号記載の高分子フッ素系界面活性剤も好ましく用いられる。本発明の熱現像感光材料においては特開2002−82411号、特願2001−242357号及び特願2001−264110号記載のフッ素系界面活性剤の使用が好ましい。特に特願2001−242357号及び特願2001−264110号記載のフッ素系界面活性剤は水系の塗布液で塗布製造を行う場合、帯電調整能力、塗布面状の安定性、スベリ性の点で好ましく、特願2001−264110号記載のフッ素系界面活性剤は帯電調整能力が高く使用量が少なくてすむという点で最も好ましい。
本発明においてフッ素系界面活性剤は乳剤面、バック面のいずれにも使用することができ、両方の面に使用することが好ましい。また、前述の金属酸化物を含む導電層と組み合わせて使用することが特に好ましい。この場合には導電層を有する面のフッ素系界面活性剤の使用量を低減もしくは除去しても十分な性能が得られる。
フッ素系界面活性剤の好ましい使用量は乳剤面、バック面それぞれに0.1mg/m2〜100mg/m2の範囲で、より好ましくは0.3mg/m2〜30mg/m2の範囲、さらに好ましくは1mg/m2〜10mg/m2の範囲である。特に特願2001−264110号記載のフッ素系界面活性剤は効果が大きく、0.01mg/m2〜10mg/m2の範囲が好ましく、0.1mg/m2〜5mg/m2の範囲がより好ましい。
(Surfactant)
For surfactants applicable to the present invention, paragraph number 0132 of JP-A No. 11-65021, paragraph number 0133 for solvents, paragraph number 0134 for supports, paragraph number for antistatic or conductive layers No. 0135, a method for obtaining a color image, paragraph No. 0136 of the same publication, and a slip agent, paragraph Nos. 0061 to 0064 of JP-A No. 11-84573 and paragraph Nos. 0049 to 0062 of Japanese Patent Application No. 11-106881 are described.
In the present invention, it is preferable to use a fluorosurfactant. Specific examples of the fluorosurfactant include compounds described in JP-A Nos. 10-197985, 2000-19680, 2000-214554 and the like. Further, a polymeric fluorine-based surfactant described in JP-A-9-281636 is also preferably used. In the photothermographic material of the present invention, it is preferable to use a fluorosurfactant described in JP-A No. 2002-82411, Japanese Patent Application Nos. 2001-242357 and 2001-264110. In particular, the fluorosurfactants described in Japanese Patent Application Nos. 2001-242357 and 2001-264110 are preferable in terms of charge adjustment ability, stability of the coated surface, and smoothness when coating and production is performed with an aqueous coating solution. The fluorine-based surfactant described in Japanese Patent Application No. 2001-264110 is most preferable in that it has a high charge adjustment capability and requires a small amount of use.
In the present invention, the fluorosurfactant can be used on either the emulsion surface or the back surface, and is preferably used on both surfaces. Further, it is particularly preferable to use in combination with a conductive layer containing the above-described metal oxide. In this case, sufficient performance can be obtained even if the amount of the fluorosurfactant used on the surface having the conductive layer is reduced or removed.
The preferred amount of the fluorocarbon surfactant is emulsion surface, ranging back surface each 0.1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 0.3mg / m 2 ~30mg / m 2 range, further preferably in the range of 1mg / m 2 ~10mg / m 2 . Especially, the fluorocarbon surfactant described in Japanese Patent Application No. 2001-264110 is effective, and preferably in the range of 0.01mg / m 2 ~10mg / m 2 , more in the range of 0.1mg / m 2 ~5mg / m 2 preferable.

特に、本発明においては、炭素原子数が2以上でフッ素原子数が13以下のフッ化アルキル基を有するフッ素化合物を含有することが好ましい。
当該フッ素化合物は、上記フッ化アルキル基(以下、フッ素原子で置換されたアルキル基を「Rf」という)有していれば、あとはいかなる構造であってもよい。また、該フッ素化合物は少なくともRfを1つ以上有していればよく、2つ以上有していてもよい。
In particular, in the present invention, it is preferable to contain a fluorine compound having a fluorinated alkyl group having 2 or more carbon atoms and 13 or less fluorine atoms.
The fluorine compound may have any structure as long as it has the fluorinated alkyl group (hereinafter, an alkyl group substituted with a fluorine atom is referred to as “Rf”). The fluorine compound may have at least one Rf and may have two or more.

Rfの具体例としては、以下の基が挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
−C25基、−C37基、−C49基、−C511基、−CH2−C49基、−C48−H基、−C24−C49基、−C48−C49基、−C612−C49基、−C816−C49基、−C48−C25基、−C48−C37基、−C48−C511基、−C816−C25基、−C24−C48−H基、−C48−C48−H基、−C612−C48−H基−C612−C24−H基、−C816−C24−H基、−C612−C48−CH3基、−C24−C37基、−C24−C511基、−C48−CF(CF32基、−CH2CF3基、−C48−CH(C252基、−C48−CH(CF32基、−C48−C(CF33基、−CH2−C48−H基、−CH2−C612−H基、−CH2−C613基、−C24−C613基、−C48−C613基、−C612−C613基、−C816−C613基。
Specific examples of Rf include the following groups, but are not limited thereto.
-C 2 F 5 group, -C 3 F 7 group, -C 4 F 9 groups, -C 5 F 11 group, -CH 2 -C 4 F 9 groups, -C 4 F 8 -H group, -C 2 H 4 -C 4 F 9 groups, -C 4 H 8 -C 4 F 9 group, -C 6 H 12 -C 4 F 9 groups, -C 8 H 16 -C 4 F 9 groups, -C 4 H 8 -C 2 F 5 group, -C 4 H 8 -C 3 F 7 group, -C 4 H 8 -C 5 F 11 group, -C 8 H 16 -C 2 F 5 group, -C 2 H 4 -C 4 F 8 -H group, -C 4 H 8 -C 4 F 8 -H group, -C 6 H 12 -C 4 F 8 -H group -C 6 H 12 -C 2 F 4 -H group, -C 8 H 16 -C 2 F 4 -H group, -C 6 H 12 -C 4 F 8 -CH 3 group, -C 2 H 4 -C 3 F 7 group, -C 2 H 4 -C 5 F 11 group , —C 4 H 8 —CF (CF 3 ) 2 group, —CH 2 CF 3 group, —C 4 H 8 —CH (C 2 F 5 ) 2 group, —C 4 H 8 —CH (CF 3 ) 2 groups, -C 4 H 8 -C (CF 3) 3 group, -CH 2 -C 4 F 8 -H Group, —CH 2 —C 6 F 12 —H group, —CH 2 —C 6 F 13 group, —C 2 H 4 —C 6 F 13 group, —C 4 H 8 —C 6 F 13 group, —C 6 H 12 -C 6 F 13 group, -C 8 H 16 -C 6 F 13 group.

Rfは、フッ素原子数が13以下であるが、好ましくは12以下であり、より好ましくは3〜11の範囲で、更に好ましくは5〜9の範囲である。また、炭素原子数は2以上であるが、好ましくは4〜16、より好ましくは5〜12の範囲である。   Rf has 13 or less fluorine atoms, preferably 12 or less, more preferably in the range of 3 to 11, and still more preferably in the range of 5 to 9. The number of carbon atoms is 2 or more, preferably 4 to 16, more preferably 5 to 12.

Rfは、炭素原子数が2以上でフッ素原子数が13以下であれば、とくに構造は限定されないが、好ましくは下記一般式(A)で表される基である。   Rf is not particularly limited as long as it has 2 or more carbon atoms and 13 or less fluorine atoms, but is preferably a group represented by the following general formula (A).

一般式(A)
−Rc−Re−W
Formula (A)
-Rc-Re-W

当該フッ素化合物は、一般式(A)で表されるフッ化アルキル基を2つ以上有することがより好ましい。
一般式(A)においてRcは、炭素数1から4のアルキレン基を表すが、好ましくは炭素数1〜3の範囲で、より好ましくは1〜2の範囲である。Rcで表されるアルキレン基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。
Reは炭素数2〜6パーフルオロアルキレン基を表し、好ましくは炭素数2〜4のパーフルオロアルキレン基である。ここでパーフルオロアルキレン基とはアルキレン基のすべての水素原子がフッ素原子で置き換えられたアルキレン基をいう。前記パーフルオロアルキレン基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、また環状構造を有していてもよい。
Wは水素原子、フッ素原子又はアルキル基を表し、好ましくは水素原子又はフッ素原子である。特に好ましいのは、フッ素原子である。
The fluorine compound more preferably has two or more fluorinated alkyl groups represented by the general formula (A).
In the general formula (A), Rc represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, preferably in the range of 1 to 3 carbon atoms, more preferably in the range of 1 to 2. The alkylene group represented by Rc may be linear or branched.
Re represents a C 2-6 perfluoroalkylene group, preferably a C 2-4 perfluoroalkylene group. Here, the perfluoroalkylene group refers to an alkylene group in which all hydrogen atoms of the alkylene group are replaced with fluorine atoms. The perfluoroalkylene group may be linear or branched, and may have a cyclic structure.
W represents a hydrogen atom, a fluorine atom or an alkyl group, preferably a hydrogen atom or a fluorine atom. Particularly preferred is a fluorine atom.

当該フッ素化合物は、カチオン性の親水基を有することもできる。
カチオン性の親水性基とは、水に溶解したときに、陽イオンとなるものをいう。具体的には、第四級アンモニウム、アルキルピリジウム、アルキルイミダゾリニウム、第一級〜第三級脂肪族アミンなどが挙げられる。
カチオンとして好ましくは、有機のカチオン性置換基であり、より好ましくは窒素又は燐原子を含む有機カチオン性基である。さらに好ましくはピリジニウムカチオン又はアンモニウムカチオンである。
塩類を形成するアニオン種は、無機アニオンでも有機アニオンでもかまわない。無機アニオンとして好ましくは、ヨードイオン、臭素イオン、塩素イオン等が挙げられ、有機アニオンとして好ましくは、p−トルエンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等が挙げられる。
The said fluorine compound can also have a cationic hydrophilic group.
The cationic hydrophilic group is a group that becomes a cation when dissolved in water. Specific examples include quaternary ammonium, alkyl pyridium, alkyl imidazolinium, and primary to tertiary aliphatic amines.
The cation is preferably an organic cationic substituent, and more preferably an organic cationic group containing a nitrogen or phosphorus atom. More preferably, it is a pyridinium cation or an ammonium cation.
The anion species forming the salt may be an inorganic anion or an organic anion. Preferred examples of the inorganic anion include iodo ion, bromine ion, and chlorine ion. Preferred examples of the organic anion include p-toluenesulfonate ion, benzenesulfonate ion, methanesulfonate ion, and trifluoromethanesulfonate ion. It is done.

本発明において好ましいカチオン性フッ素化合物は下記一般式(1)で表される。   A preferred cationic fluorine compound in the present invention is represented by the following general formula (1).

Figure 2005010752
Figure 2005010752

式中、R1及びR2は各々独立に置換又は無置換のアルキル基を表すが、R1及びR2の少なくとも1つは前述のフッ化アルキル基(Rf)である。好ましいのは、R1及びR2の双方がRfの場合である。R3、R4及びR5は、各々独立に水素原子又は置換基を表し、X1、X2及びZは、各々独立に2価の連結基又は単結合を表し、M+はカチオン性の置換基を表す。Y-は対アニオンを表すが、分子内で荷電が0になる場合にはY-はなくてもよい。mは0又は1である。 In the formula, R 1 and R 2 each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group, and at least one of R 1 and R 2 is the above-mentioned fluorinated alkyl group (Rf). Preferred is when both R 1 and R 2 are Rf. R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, X 1 , X 2 and Z each independently represent a divalent linking group or a single bond, and M + represents a cationic group. Represents a substituent. Y represents a counter anion, but Y may not be present when the charge is 0 in the molecule. m is 0 or 1.

前記一般式(1)中、R1及びR2は、各々独立にRf以外の置換又は無置換のアルキル基を表す場合、前記アルキル基は、炭素数1以上であって、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれであってもよい。前記置換基としては、ハロゲン原子、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、フッ素以外のハロゲン原子、カルボン酸エステル基、カルボンアミド基、カルバモイル基、オキシカルボニル基、燐酸エステル基等が挙げられる。 In the general formula (1), when R 1 and R 2 each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group other than Rf, the alkyl group has 1 or more carbon atoms and is linear or branched. Either a chain or a ring may be used. Examples of the substituent include a halogen atom, an alkenyl group, an aryl group, an alkoxyl group, a halogen atom other than fluorine, a carboxylic acid ester group, a carbonamido group, a carbamoyl group, an oxycarbonyl group, and a phosphoric acid ester group.

1又はR2がRf以外のアルキル基、即ち、フッ素原子で置換されていないアルキル基を表す場合、該アルキル基としては、炭素数1〜24の置換又は無置換のアルキル基、より好ましくは炭素数6〜24の置換又は無置換のアルキル基である。炭素数6〜24の無置換アルキル基の好ましい例としては、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、tert−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、1,1,3−トリメチルヘキシル基、n−デシル基、n−ドデシル基、セチル基、ヘキサデシル基、2−ヘキシルデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、2−オクチルドデシル基、ドコシル基、テトラコシル基、2−デシルテトラデシル基、トリコシル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等が挙げられる。また、置換基を有する総炭素数が6〜24のアルキル基の好ましい例としては、2−ヘキセニル基、オレイル基、リノレイル基、リノレニル基、ベンジル基、β−フェネチル基、2−メトキシエチル基、4−フェニルブチル基、4−アセトキシエチル基、6−フェノキシヘキシル基、12−フェニルドデシル基、18−フェニルオクタデシル基、12−(p−クロロフェニル)ドデシル基、2−(燐酸ジフェニル)エチル基等を挙げることができる。 When R 1 or R 2 represents an alkyl group other than Rf, that is, an alkyl group not substituted with a fluorine atom, the alkyl group is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, more preferably It is a substituted or unsubstituted alkyl group having 6 to 24 carbon atoms. Preferred examples of the unsubstituted alkyl group having 6 to 24 carbon atoms include n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, 1,1, 3-trimethylhexyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, cetyl group, hexadecyl group, 2-hexyldecyl group, octadecyl group, eicosyl group, 2-octyldodecyl group, docosyl group, tetracosyl group, 2-decyltetra A decyl group, a tricosyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, etc. are mentioned. Preferred examples of the alkyl group having 6 to 24 carbon atoms having a substituent include 2-hexenyl group, oleyl group, linoleyl group, linolenyl group, benzyl group, β-phenethyl group, 2-methoxyethyl group, 4-phenylbutyl group, 4-acetoxyethyl group, 6-phenoxyhexyl group, 12-phenyldodecyl group, 18-phenyloctadecyl group, 12- (p-chlorophenyl) dodecyl group, 2- (diphenyl phosphate) ethyl group, etc. Can be mentioned.

1及びR2で各々独立に表されるRf以外のアルキル基としては、更に好ましくは炭素数6〜18の置換又は無置換のアルキル基である。炭素数6〜18の無置換のアルキル基の好ましい例としては、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、1,1,3−トリメチルヘキシル基、n−デシル基、n−ドデシル基、セチル基、ヘキサデシル基、2−ヘキシルデシル基、オクタデシル基、4−tert−ブチルシクロヘキシル基等が挙げられる。また、置換基を有する総炭素数が6〜18の置換アルキル基の好ましい例としては、フェネチル基、6−フェノキシヘキシル基、12−フェニルドデシル基、オレイル基、リノレイル基、リノレニル基等が挙げられる。 The alkyl group other than Rf independently represented by R 1 and R 2 is more preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 6 to 18 carbon atoms. Preferred examples of the unsubstituted alkyl group having 6 to 18 carbon atoms include n-hexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, 1,1,3 -Trimethylhexyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, cetyl group, hexadecyl group, 2-hexyldecyl group, octadecyl group, 4-tert-butylcyclohexyl group and the like can be mentioned. Preferable examples of the substituted alkyl group having 6 to 18 carbon atoms having a substituent include phenethyl group, 6-phenoxyhexyl group, 12-phenyldodecyl group, oleyl group, linoleyl group, and linolenyl group. .

1及びR2でそれぞれ表されるRf以外のアルキル基としては、特に好ましくは、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、1,1,3−トリメチルヘキシル基、n−デシル基、n−ドデシル基、セチル基、ヘキサデシル基、2−ヘキシルデシル基、オクタデシル基、オレイル基、リノレイル基、リノレニル基であり、最も好ましくは炭素数8〜16の直鎖状、環状又は分岐状の無置換アルキル基である。 The alkyl group other than Rf represented by R 1 and R 2 is particularly preferably an n-hexyl group, a cyclohexyl group, an n-heptyl group, an n-octyl group, a 2-ethylhexyl group, an n-nonyl group, 1,1,3-trimethylhexyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, cetyl group, hexadecyl group, 2-hexyldecyl group, octadecyl group, oleyl group, linoleyl group, linolenyl group, most preferably carbon It is a linear, cyclic or branched unsubstituted alkyl group of formula 8-16.

前記一般式(1)中、R3、R4及びR5は、各々独立に水素原子又は置換基を表す。該置換基としては、例えばアルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基などが挙げられる)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、3−ペンチニル基などが挙げられる)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12のアリール基であり、例えば、フェニル基、p−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる)、置換若しくは無置換のアミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、2−ナフチルオキシ基などが挙げられる)、アシル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12アシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜10のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜12のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜16、特に好ましくは炭素数0〜12のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる)、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは1〜12のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる)、シリル基(好ましくは、炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは、炭素数3〜24のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる)などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。 In the general formula (1), R 3 , R 4 and R 5 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, and isopropyl. Group, tert-butyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-hexadecyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like, alkenyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably). Is an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, and examples thereof include a vinyl group, an allyl group, a 2-butenyl group, and a 3-pentenyl group, and an alkynyl group (preferably a carbon atom). An alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, such as a propargyl group, 3 A pentynyl group), an aryl group (preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as a phenyl group and p-methyl group). A phenyl group, a naphthyl group, etc.), a substituted or unsubstituted amino group (preferably a carbon number of 0-20, more preferably a carbon number of 0-10, particularly preferably a carbon number of 0-6, For example, an unsubstituted amino group, a methylamino group, a dimethylamino group, a diethylamino group, a dibenzylamino group and the like, an alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, and particularly preferably Is an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, and a butoxy group), an aryloxy group (preferably Or an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a phenyloxy group and a 2-naphthyloxy group), acyl Group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably having 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably having 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include acetyl group, benzoyl group, formyl group, and pivaloyl group) An alkoxycarbonyl group (preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group. ), An aryloxycarbonyl group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably having 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably Is an aryloxycarbonyl group having 7 to 10 carbon atoms, such as a phenyloxycarbonyl group, and an acyloxy group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, and particularly preferably carbon atoms). An acyloxy group having 2 to 10 carbon atoms, such as an acetoxy group and a benzoyloxy group, and an acylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 2 carbon atoms). 10 to 10 acylamino groups such as acetylamino group and benzoylamino group), alkoxycarbonylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 carbon atoms). To 12 alkoxycarbonylamino groups, such as methoxycarbonylamino group, etc. An aryloxycarbonylamino group (preferably an aryloxycarbonylamino group having preferably 7 to 20 carbon atoms, more preferably 7 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonylamino group). Group), a sulfonylamino group (preferably a sulfonylamino group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as a methanesulfonylamino group, A benzenesulfonylamino group), a sulfamoyl group (preferably a sulfamoyl group having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 0 to 12 carbon atoms. For example, a sulfamoyl group, methyl Sulfamoyl group, dimethylsulfamoyl group, phenylsulfur A carbamoyl group (preferably a carbamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as an unsubstituted carbamoyl group). A methylcarbamoyl group, a diethylcarbamoyl group, a phenylcarbamoyl group and the like), an alkylthio group (preferably an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms). For example, a methylthio group, an ethylthio group and the like), an arylthio group (preferably an arylthio group having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms. Phenylthio group and the like), sulfonyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferred) Or a sulfonyl group having 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as a mesyl group and a tosyl group, and a sulfinyl group (preferably having a carbon number of 1 to 20, more preferably carbon. A sulfinyl group having 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as a methanesulfinyl group and a benzenesulfinyl group, and a ureido group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a carbon number). 1 to 16, particularly preferably a ureido group having 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include an unsubstituted ureido group, a methylureido group, and a phenylureido group, and a phosphoric acid amide group (preferably having a carbon number of 1 to 1). 20, more preferably a phosphoric acid amide group having 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as a diethylphosphoric acid amide group Phenyl phosphoric acid amide group, etc.), hydroxy group, mercapto group, halogen atom (eg fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group, hydroxamic acid group, A sulfino group, a hydrazino group, an imino group, a heterocyclic group (preferably a heterocyclic group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 12, and having a heteroatom such as a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, etc. A heterocyclic group, for example, an imidazolyl group, a pyridyl group, a quinolyl group, a furyl group, a piperidyl group, a morpholino group, a benzoxazolyl group, a benzimidazolyl group, a benzthiazolyl group, etc.), a silyl group (preferably, C3-C40, more preferably C3-C30, particularly preferably C3-C24 A group, such as trimethylsilyl group, etc. triphenylsilyl group), and the like. These substituents may be further substituted. Moreover, when there are two or more substituents, they may be the same or different. If possible, they may be bonded to each other to form a ring.

3、R4及びR5としては、好ましくはアルキル基又は水素原子であり、更に好ましくは水素原子である。 R 3 , R 4 and R 5 are preferably an alkyl group or a hydrogen atom, and more preferably a hydrogen atom.

前記式中、X1及びX2は、各々独立に2価の連結基又は単結合を表す。前記2価の連結基については特に制約はないが、好ましくはアリーレン基、−O−、−S−、又は−NR31−(R31は水素原子又は置換基を表し、置換基としてはR3、R4及びR5が、それぞれ表す置換基の例と同様であり、R31として好ましくは、アルキル基、前述のRf、又は水素原子であり、更に好ましくは水素原子である)を単独又はそれらを組合せて得られる基であり、より好ましくは−O−、−S−又は−NR31−である。X1及びX2としてより好ましくは、−O−又は−NR31−であり、更に好ましくは−O−又は−NH−であり、特に好ましくは−O−である。 In the formula, X 1 and X 2 each independently represent a divalent linking group or a single bond. The divalent linking group is not particularly limited, but is preferably an arylene group, —O—, —S—, or —NR 31 — (R 31 represents a hydrogen atom or a substituent, and the substituent is R 3. , R 4 and R 5 are the same as the examples of the substituents respectively represented, and R 31 is preferably an alkyl group, the aforementioned Rf, or a hydrogen atom, more preferably a hydrogen atom) alone or , And more preferably —O—, —S— or —NR 31 —. X 1 and X 2 are more preferably —O— or —NR 31 —, still more preferably —O— or —NH—, and particularly preferably —O—.

前記式中Zは2価の連結基又は単結合を表す。前記2価の連結基については特に制約はないが、好ましくはアルキレン基、アリーレン基、−C(=O)−、−O−、−S−、−S(=O)−、−S(=O)2−又は−NR32−(R32は水素原子又は置換基を表し、置換基としてはR3、R4及びR5が表す置換基の例と同様であり、R32として好ましくはアルキル基又は水素原子であり、更に好ましくは水素原子である)を単独又はそれらを組合せて得られる基であり、より好ましくは炭素数1〜12のアルキレン基、炭素数6〜12のアリーレン基、−C(=O)−、−O−、−S−、−S(=O)−、−S(=O)2−、又は−NR32−を単独又はそれらを組合せて得られる基である。Zとして更に好ましくは、炭素数1〜8のアルキレン基、−C(=O)−、−O−、−S−、−S(=O)−、−S(=O)2−又は−NR32−を単独又はそれらを組合せて得られる基であり、例えば、 In the above formula, Z represents a divalent linking group or a single bond. The divalent linking group is not particularly limited, but is preferably an alkylene group, an arylene group, -C (= O)-, -O-, -S-, -S (= O)-, -S (= O) 2 — or —NR 32 — (R 32 represents a hydrogen atom or a substituent, and the substituent is the same as the examples of the substituent represented by R 3 , R 4 and R 5 , and preferably R 32 is alkyl. A group or a hydrogen atom, more preferably a hydrogen atom), or a group obtained by combining them alone, more preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, an arylene group having 6 to 12 carbon atoms,- C (═O) —, —O—, —S—, —S (═O) —, —S (═O) 2 —, or —NR 32 — is a group obtained alone or in combination. More preferably, Z is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, -C (= O)-, -O-, -S-, -S (= O)-, -S (= O) 2- or -NR. 32 - a alone or a group obtained by their combination, for example,

Figure 2005010752
Figure 2005010752

等が挙げられる。
前記式中、M+はカチオン性の置換基を表し、M+として好ましくは、有機のカチオン性置換基であり、より好ましくは窒素又は燐原子を含む有機カチオン性基である。さらに好ましくはピリジニウムカチオン又はアンモニウムカチオンであり、より好ましくは下記一般式(2)で表されるトリアルキルアンモニウムカチオンである。
Etc.
In the above formula, M + represents a cationic substituent, and M + is preferably an organic cationic substituent, more preferably an organic cationic group containing a nitrogen or phosphorus atom. More preferred is a pyridinium cation or an ammonium cation, and more preferred is a trialkylammonium cation represented by the following general formula (2).

Figure 2005010752
Figure 2005010752

前記式中、R13、R14及びR15は、各々独立に置換又は無置換のアルキル基を表す。該置換基としては前記R3、R4及びR5の置換基として挙げたものが適用できる。また、R13、R14及びR15は可能な場合にはお互いが結合して環を形成してもよい。R13、R14及びR15として好ましくは、炭素数1〜12のアルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜6のアルキル基であり、更に好ましくはメチル基、エチル基、又はメチルカルボキシル基であり、特に好ましくはメチル基である。 In the above formula, R 13 , R 14 and R 15 each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group. As the substituent, those mentioned as the substituents for R 3 , R 4 and R 5 can be applied. R 13 , R 14, and R 15 may be combined with each other to form a ring, if possible. R 13 , R 14 and R 15 are preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably a methyl group, an ethyl group, or a methyl carboxyl group. And particularly preferably a methyl group.

前記式中、Y-は対アニオンを表し、無機アニオンでも有機アニオンでもよい。また、分子内で荷電が0になる場合にはY-はなくてもよい。無機アニオンとして好ましくは、ヨードイオン、臭素イオン、塩素イオン等が挙げらる。有機アニオンとして好ましくは、p−トルエンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等が挙げられる。Y-としてより好ましくは、ヨードイオン、p−トルエンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオンであり、更に好ましくはp−トルエンスルホン酸である。 In the above formula, Y represents a counter anion and may be an inorganic anion or an organic anion. Further, when the charge becomes 0 in the molecule, Y may not be present. Preferred examples of the inorganic anion include iodo ion, bromine ion, and chlorine ion. Preferable organic anions include p-toluenesulfonate ion, benzenesulfonate ion, methanesulfonate ion, trifluoromethanesulfonate ion, and the like. Y - is more preferably iodo ion, p-toluenesulfonic acid ion or benzenesulfonic acid ion, and still more preferably p-toluenesulfonic acid.

前記式中、mは0又は1であり、好ましくは0である。   In the above formula, m is 0 or 1, preferably 0.

上記一般式(1)で表される化合物の中でも、下記一般式(1−a)で表される化合物が好ましい。   Among the compounds represented by the general formula (1), compounds represented by the following general formula (1-a) are preferable.

Figure 2005010752
Figure 2005010752

式中、R11及びR21は、各々独立に置換又は無置換のアルキル基を表すが、R1及びR2の少なくとも1つは前述のRfを表し、R11とR21の炭素数の総計は19以下である。R13、R14及びR15は、各々独立に置換又は無置換のアルキル基を表し、互いに結合して環を形成していてもよい。X11及びX21は、各々独立に−O−、−S−又は−NR31−を表し、R31は水素原子又は置換基を表し、Zは2価の連結基又は単結合を表す。Y-は対アニオンを表すが、分子内で荷電が0になる場合にはY-はなくてもよい。
mは0又は1である。式中、Z及びY-は、各々独立に上記一般式(1)におけるそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。R13、R14、R15及びmについては、それぞれ上記一般式(1)におけるそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。
In the formula, R 11 and R 21 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, but at least one of R 1 and R 2 represents the aforementioned Rf, and the total number of carbon atoms of R 11 and R 21 Is 19 or less. R 13 , R 14 and R 15 each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group, and may be bonded to each other to form a ring. X 11 and X 21 each independently represent —O—, —S—, or —NR 31 —, R 31 represents a hydrogen atom or a substituent, and Z represents a divalent linking group or a single bond. Y represents a counter anion, but Y may not be present when the charge is 0 in the molecule.
m is 0 or 1. In the formula, Z and Y are each independently synonymous with those in the general formula (1), and preferred ranges thereof are also the same. About R <13> , R <14> , R <15> and m, it is synonymous with those in the said General formula (1), respectively, A preferable range is also the same.

式中、X11及びX12は、各々独立に−O−、−S−又は−NR31−(R31は水素原子又は置換基を表し、該置換基としては前記R3、R4及びR5の置換基として挙げたものが適用できる。R31として好ましくは、アルキル基、前述のRf、又は水素原子であり、更に好ましくは水素原子である。X11及びX21としてより好ましくは−O−、−NH−であり、更に好ましくは−O−である。 In the formula, X 11 and X 12 are each independently —O—, —S— or —NR 31 — (R 31 represents a hydrogen atom or a substituent, and the substituents include R 3 , R 4 and R Examples of the substituent of 5 are applicable, and R 31 is preferably an alkyl group, the aforementioned Rf, or a hydrogen atom, more preferably a hydrogen atom, and X 11 and X 21 are more preferably —O. -, -NH-, more preferably -O-.

前記式中、R11及びR21は、各々独立に一般式(1)におけるR1及びR2と同義であり、好ましい範囲も同様である。ただし、R11及びR21の炭素数の総計は19以下である。mは0又は1である。 In the above formula, R 11 and R 21 are each independently synonymous with R 1 and R 2 in the general formula (1), and preferred ranges are also the same. However, the total number of carbon atoms of R 11 and R 21 is 19 or less. m is 0 or 1.

上記一般式(1)で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は、以下の具体例によってなんら制限されるものではない。なお、下記例示化合物の構造表記の中で特に断りのない限り、アルキル基、パーフルアロアルキル基は直鎖の構造を意味する。また、表記中の略号の内、2EHは、2−ethylhexylを意味する。   Although the specific example of a compound represented by the said General formula (1) is given, this invention is not restrict | limited at all by the following specific examples. In addition, unless otherwise indicated in the structure description of the following exemplary compounds, an alkyl group and a perfluroalkyl group mean a linear structure. Of the abbreviations in the notation, 2EH means 2-ethylhexyl.

Figure 2005010752
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次に、本発明の上記一般式(1)、(1−a)で表される化合物の一般的な合成法の一例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Next, although an example of the general synthesis | combining method of the compound represented by the said general formula (1) of this invention and (1-a) is shown, this invention is not limited to these.

本発明の化合物は、フマル酸誘導体、マレイン酸誘導体、イタコン酸誘導体、グルタミン酸誘導体、アスパラギン酸誘導体等を原料にして合成できる。例えば、フマル酸誘導体、マレイン酸誘導体、イタコン酸誘導体を原料とした場合は、それらの2重結合に、求核種によるマイケル付加反応を行った後、アルキル化剤によるカチオン化を行うことにより合成できる。   The compound of the present invention can be synthesized using a fumaric acid derivative, a maleic acid derivative, an itaconic acid derivative, a glutamic acid derivative, an aspartic acid derivative, or the like as a raw material. For example, when a fumaric acid derivative, a maleic acid derivative or an itaconic acid derivative is used as a raw material, the double bond can be synthesized by performing a Michael addition reaction with a nucleophilic species and then cationizing with an alkylating agent. .

当該フッ素化合物はアニオン性の親水基を有することもできる。
アニオン性の親水基とは、pKaが7以下の酸性基及びそのアルカリ金属塩又はアンモニウム塩をいう。具体的には、スルホ基、カルボキシル基、ホスホン酸基、カルバモイルスルファモイル基、スルファモイルスルファモイル基、アシルスルファモイル基及びこれらの塩類などが挙げられる。このうち、好ましくはスルホ基、カルボキシル基、ホスホン酸基及びその塩類で、より好ましくはスルホ基及びその塩類である。塩類を形成するカチオン種としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、アンモニウム、テトラメチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、メチルピリジニウムなどが挙げられるが、好ましくはリチウム、ナトリウム、カリウム、アンモニウムである。
The fluorine compound can also have an anionic hydrophilic group.
An anionic hydrophilic group means an acidic group having a pKa of 7 or less and an alkali metal salt or ammonium salt thereof. Specific examples include a sulfo group, a carboxyl group, a phosphonic acid group, a carbamoylsulfamoyl group, a sulfamoylsulfamoyl group, an acylsulfamoyl group, and salts thereof. Of these, a sulfo group, a carboxyl group, a phosphonic acid group and salts thereof are preferable, and a sulfo group and salts thereof are more preferable. Examples of the cationic species that form salts include lithium, sodium, potassium, cesium, ammonium, tetramethylammonium, tetrabutylammonium, and methylpyridinium, and lithium, sodium, potassium, and ammonium are preferable.

本発明においてアニオン性の親水基を有するフッ素化合物で好ましいものは、下記一般式(3)で表される。
一般式(3)
A preferable fluorine compound having an anionic hydrophilic group in the present invention is represented by the following general formula (3).
General formula (3)

Figure 2005010752
Figure 2005010752

式中、R1及びR2は、各々独立にアルキル基を表すが、少なくとも一方はRfを表す。R1及びR2がフッ化アルキル基でないアルキル基を表すとき炭素数は2〜18のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数4〜12のアルキル基である。R3及びR4は、各々独立に水素原子又は置換又は無置換のアルキル基を表す。
1及びR2で表されるフッ化アルキル基の具体例は前述のフッ化アルキル基があげられ、好ましい構造も同様に前述の一般式(A)で表される構造である。また、その中での好ましい構造も前述のフッ化アルキル基の記載と同様である。R1及びR2で表されるアルキル基はいずれも前述のフッ化アルキル基であることが好ましい。
3及びR4で表される置換又は無置換のアルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であっても、また環状構造を有していてもよい。前記置換基としては、特に制限はないが、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子(好ましくはCl)、カルボン酸エステル基、カルボンアミド基、カルバモイル基、オキシカルボニル基、燐酸エステル基等が好ましい。
Aは−Lb−SO3Mを表し、Mはカチオンを表す。ここで、Mで表されるカチオンとしては、例えばアルカリ金属イオン(リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン等)、アルカリ土類金属イオン(バリウムイオン、カルシウムイオン等)、アンモニウムイオン等が好ましく例示される。これらのうち、より好ましくはリチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン又はアンモニウムイオンであり、さらに好ましくはリチウムイオン、ナトリウムイオン又はカリウムイオンであり、一般式(3)の化合物の総炭素数や置換基、アルキル基の分岐の程度等により適切に選択することができる。R1、R2、R3及びR4の炭素数の合計が16以上の場合に、Mをリチウムイオンとすると溶解性(特に水に対して)と帯電防止能又は塗布均一性の両立の観点で優れている。
bは、単結合又は置換若しくは無置換のアルキレン基を表す。置換基はR3で挙げたものが好ましい。Lbがアルキレン基である場合、炭素数は2以下であるのが好ましい。Lbは、単結合又は−CH2−基であることが好ましく、−CH2−基であることが最も好ましい。
上記一般式(3)は、上記のそれぞれの好ましい態様を組み合わせることが、より好ましい。
In the formula, R 1 and R 2 each independently represent an alkyl group, but at least one of them represents Rf. When R 1 and R 2 represent an alkyl group that is not a fluorinated alkyl group, an alkyl group having 2 to 18 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 4 to 12 carbon atoms is more preferable. R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group.
Specific examples of the fluorinated alkyl group represented by R 1 and R 2 include the aforementioned fluorinated alkyl group, and the preferred structure is also the structure represented by the aforementioned general formula (A). Moreover, the preferable structure in it is the same as that of the description of the above-mentioned fluorinated alkyl group. All of the alkyl groups represented by R 1 and R 2 are preferably the aforementioned fluorinated alkyl groups.
The substituted or unsubstituted alkyl group represented by R 3 and R 4 may be linear, branched, or have a cyclic structure. The substituent is not particularly limited, and examples thereof include an alkenyl group, an aryl group, an alkoxy group, a halogen atom (preferably Cl), a carboxylic ester group, a carbonamido group, a carbamoyl group, an oxycarbonyl group, and a phosphoric ester group. preferable.
A represents -L b -SO 3 M, M represents a cation. Here, preferable examples of the cation represented by M include alkali metal ions (lithium ions, sodium ions, potassium ions, etc.), alkaline earth metal ions (barium ions, calcium ions, etc.), ammonium ions, and the like. . Of these, lithium ions, sodium ions, potassium ions or ammonium ions are more preferred, lithium ions, sodium ions or potassium ions are more preferred, and the total number of carbon atoms and substituents of the compound of the general formula (3), It can be appropriately selected depending on the degree of branching of the alkyl group. In the case where the total number of carbon atoms of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is 16 or more, if M is a lithium ion, both the solubility (particularly with respect to water) and the antistatic ability or coating uniformity can be achieved. Is excellent.
L b represents a single bond or a substituted or unsubstituted alkylene group. As the substituent, those exemplified for R 3 are preferable. When L b is an alkylene group, the number of carbon atoms is preferably 2 or less. L b is preferably a single bond or a —CH 2 — group, and most preferably a —CH 2 — group.
The general formula (3) is more preferably a combination of the above preferred embodiments.

本発明にかかるアニオン性の親水基を有するフッ素化合物の具体例を以下に例示するが、本発明は以下の具体例によってなんら制限されるものではない。
下記例示化合物の構造表記の中で特に断りのない限りアルキル基、パーフルオロアルキル基は直鎖の構造を意味する。
Specific examples of the fluorine compound having an anionic hydrophilic group according to the present invention are illustrated below, but the present invention is not limited to the following specific examples.
Unless otherwise specified, in the structure notation of the following exemplified compounds, an alkyl group and a perfluoroalkyl group mean a straight chain structure.

Figure 2005010752
Figure 2005010752

Figure 2005010752
Figure 2005010752

Figure 2005010752
Figure 2005010752

Figure 2005010752
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Figure 2005010752
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当該フッ素化合物は、ノニオン性の親水基を有することもできる。
ノニオン性の親水性基とは、イオンに解離することなく水に溶解する基をいう。具体的には、ポリ(オキシエチレン)アルキルエーテルや多価アルコールなどが挙げられるが、これらに限定されない。
The said fluorine compound can also have a nonionic hydrophilic group.
The nonionic hydrophilic group means a group that dissolves in water without dissociating into ions. Specific examples include poly (oxyethylene) alkyl ethers and polyhydric alcohols, but are not limited thereto.

本発明において、ノニオン性を有するフッ素化合物で好ましいものは、下記一般式(4)で表される。
一般式(4)

Figure 2005010752
In the present invention, a preferred nonionic fluorine compound is represented by the following general formula (4).
General formula (4)
Figure 2005010752

一般式(4)で、Rfは前述のフッ化アルキル基であり、Rfの具体例は前述の基があげられ、好ましい構造も同様に前述の一般式(A)で表される構造である。また、その中での好ましい構造も前述のRfの記載と同様である。   In the general formula (4), Rf is the above-mentioned fluorinated alkyl group, specific examples of Rf include the above-mentioned groups, and a preferred structure is also a structure represented by the above-mentioned general formula (A). In addition, preferred structures in the same are the same as those described for Rf.

一般式(4)中のXは2価の連結基を表し、特に制約はないが例えば、

Figure 2005010752
X in the general formula (4) represents a divalent linking group and is not particularly limited.
Figure 2005010752

等があげられる。
一般式(4)において、nは2又は3であり、mは1〜30の整数を表す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、Rf、又はRfを1つ以上置換基として有する基である。
Etc.
In General formula (4), n is 2 or 3, and m represents the integer of 1-30. R is a group having one or more hydrogen atoms, alkyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, Rf, or Rf as a substituent.

本発明で用いるノニオン性フッ素化合物具体例を以下に例示するが、本発明は以下の具体例によって何ら制限されるものではない。   Specific examples of the nonionic fluorine compound used in the present invention are illustrated below, but the present invention is not limited to the following specific examples.

Figure 2005010752
Figure 2005010752

Figure 2005010752
Figure 2005010752

Figure 2005010752
Figure 2005010752

上記本発明で用いることができる特定のフッ化アルキル基を有する化合物は、界面活性剤として、感光材料を構成している層(特に、保護層や下塗り層、バック層など)を形成するための塗布組成物に好ましく用いられる。なかでも、感光材料の最外層の形成に用いると、効果的な帯電防止能と塗布の均一性を得ることができるので特に好ましい。さらに、本発明の構造にすることで本発明の目的とする保存安定性、使用環境依存性を改良するために有効であることが見い出された。この効果を得るためには本発明のフッ素化合物を画像形成層面あるいはバック面の最外層に使用することが好ましい。また、支持体下塗り層に使用しても同様の効果が得られる。   The compound having a specific fluorinated alkyl group that can be used in the present invention is used as a surfactant to form a layer constituting a photosensitive material (particularly, a protective layer, an undercoat layer, a back layer, etc.). It is preferably used for a coating composition. Among them, it is particularly preferable to use it for forming the outermost layer of the photosensitive material because effective antistatic ability and coating uniformity can be obtained. Furthermore, it has been found that the structure of the present invention is effective for improving the storage stability and use environment dependency of the present invention. In order to obtain this effect, the fluorine compound of the present invention is preferably used in the outermost layer of the image forming layer surface or the back surface. Moreover, the same effect can be obtained even if it is used for the support undercoat layer.

本発明における上記特定のフッ素化合物の使用量については特に制約はなく、用いるフッ素化合物の構造や用いる場所、組成物中に含まれる他の素材の種類や量等に応じて、その使用量を任意に決定することができる。例えば、熱現像感光材料の最外層用塗布液として用いる場合、フッ素化合物の塗布組成物中の塗布量としては、0.1mg/m2以上100mg/m2以下であることが好ましく、0.5mg/m2以上20mg/m2以下であることがより好ましい。 The amount of the specific fluorine compound used in the present invention is not particularly limited, and the amount used can be arbitrarily selected according to the structure and location of the fluorine compound used, the type and amount of other materials contained in the composition, and the like. Can be determined. For example, when used as a coating solution for the outermost layer of the photothermographic material, the coating amount of the fluorine compound in the coating composition is preferably 0.1 mg / m 2 or more and 100 mg / m 2 or less, 0.5 mg / m is more preferably 2 or more 20 mg / m 2 or less.

本発明においては、上記特定のフッ素化合物の1種類を単独で用いてもよいし、また2種類以上を混合して用いてもよい。また、上記特定のフッ素化合物以外の界面活性剤と併用することもできる。   In the present invention, one type of the above specific fluorine compound may be used alone, or two or more types may be mixed and used. Moreover, it can also use together with surfactants other than the said specific fluorine compound.

(硬膜剤)
本発明における感光性層、保護層、バック層など各層には硬膜剤を用いても良い。硬膜剤の例としてはT.H.James著「THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH EDITION」(Macmillan Publishing Co.,Inc.刊、1977年刊)77頁から87頁に記載の各方法があり、クロムみょうばん、2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジンナトリウム塩、N,N−エチレンビス(ビニルスルホンアセトアミド)、N,N−プロピレンビス(ビニルスルホンアセトアミド)の他、同書78頁など記載の多価金属イオン、米国特許4,281,060号、特開平6−208193号などのポリイソシアネート類、米国特許4,791,042号などのエポキシ化合物類、特開昭62−89048号などのビニルスルホン系化合物類が好ましく用いられる。
(Hardener)
A hardener may be used for each layer such as the photosensitive layer, protective layer, and back layer in the present invention. Examples of hardeners include T.W. H. There are various methods described in “THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH EDITION” by James (published by Macmillan Publishing Co., Inc., published in 1977), pages 77 to 87. -S-triazine sodium salt, N, N-ethylenebis (vinylsulfoneacetamide), N, N-propylenebis (vinylsulfoneacetamide), polyvalent metal ions described on page 78 of the same, U.S. Pat. No. 4,281, Polyisocyanates such as 060 and JP-A-6-208193, epoxy compounds such as US Pat. No. 4,791,042, and vinyl sulfone compounds such as JP-A 62-89048 are preferably used.

硬膜剤は溶液として添加され、この溶液の保護層塗布液中への添加時期は、塗布する180分前から直前、好ましくは60分前から10秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やN.Harnby、M.F.Edwards、A.W.Nienow著、高橋幸司訳「液体混合技術」(日刊工業新聞社刊、1989年)の第8章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。   The hardening agent is added as a solution, and the addition time of this solution into the protective layer coating solution is from 180 minutes before to immediately before application, preferably from 60 minutes to 10 seconds before application. As long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited, there is no particular limitation. Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid fed to the coater is a desired time, and N.I. Harnby, M.M. F. Edwards, A.D. W. There is a method using a static mixer described in Chapter 8 of Nienow's “Liquid Mixing Technology” (Nikkan Kogyo Shimbun, 1989), translated by Koji Takahashi.

(帯電防止剤)
本発明においては金属酸化物あるいは導電性ポリマーを含む導電層を有することが好ましい。帯電防止層は下塗り層、バック層表面保護層などと兼ねてもよく、また別途設けてもよい。帯電防止層の導電性材料は金属酸化物中に酸素欠陥、異種金属原子を導入して導電性を高めた金属酸化物が好ましく用いられる。金属酸化物の例としてはZnO、TiO2、SnO2が好ましく、ZnOに対してはAl、Inの添加、SnO2に対してはSb、Nb、P、ハロゲン元素等の添加、TiO2に対してはNb、Ta等の添加が好ましい。特にSbを添加したSnO2が好ましい。異種原子の添加量は0.01〜30mol%の範囲が好ましく、0.1から10mol%の範囲がより好ましい。金属酸化物の形状は球状、針状、板状いずれでもよいが、導電性付与の効果の点で長軸/単軸比が2.0以上、好ましくは3.0〜50の針状粒子がよい。金属酸化物の使用量は好ましくは1mg/m2〜1000mg/m2の範囲で、より好ましくは10mg/m2〜500mg/m2の範囲、さらに好ましくは20mg/m2〜200mg/m2の範囲である。本発明における帯電防止層は、乳剤面側、バック面側のいずれに設置してもよいが、支持体とバック層との間に設置することが好ましい。本発明における帯電防止層の具体例は特開平11−65021号段落番号0135、特開昭56−143430号、同56−143431号、同58−62646号、同56−120519号、特開平11−84573号の段落番号0040〜0051、米国特許第5,575,957号、特開平11−223898号の段落番号0078〜0084に記載されている。
(Antistatic agent)
In the present invention, it is preferable to have a conductive layer containing a metal oxide or a conductive polymer. The antistatic layer may serve as an undercoat layer, a back layer surface protective layer, or the like, or may be provided separately. As the conductive material for the antistatic layer, a metal oxide in which conductivity is improved by introducing oxygen defects or different metal atoms into the metal oxide is preferably used. Examples of metal oxides are preferably ZnO, TiO 2 and SnO 2. Addition of Al and In to ZnO, addition of Sb, Nb, P and halogen elements to SnO 2 , and addition to TiO 2. For example, addition of Nb, Ta or the like is preferable. In particular, SnO 2 added with Sb is preferable. The amount of different atoms added is preferably in the range of 0.01 to 30 mol%, more preferably in the range of 0.1 to 10 mol%. The shape of the metal oxide may be spherical, needle-like, or plate-like, but the long axis / uniaxial ratio is 2.0 or more, preferably 3.0 to 50 in terms of the effect of imparting conductivity. Good. Range amount preferably of 1mg / m 2 ~1000mg / m 2 of metal oxide, more preferably 10mg / m 2 ~500mg / m 2 range, more preferably at 20mg / m 2 ~200mg / m 2 It is a range. The antistatic layer in the present invention may be disposed on either the emulsion surface side or the back surface side, but is preferably disposed between the support and the back layer. Specific examples of the antistatic layer in the present invention are disclosed in paragraph No. 0135 of JP-A No. 11-65021, JP-A Nos. 56-143430, 56-143431, 58-62646, No. 56-120519, JP-A No. 11-120. No. 84573, paragraph numbers 0040 to 0051, US Pat. No. 5,575,957, and JP-A No. 11-223898, paragraph numbers 0078 to 0084.

(支持体)
透明支持体は二軸延伸時にフィルム中に残存する内部歪みを緩和させ、熱現像処理中に発生する熱収縮歪みをなくすために、130〜185℃の温度範囲で熱処理を施したポリエステル、特にポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。医療用の熱現像感光材料の場合、透明支持体は青色染料(例えば、特開平8−240877号実施例記載の染料−1)で着色されていてもよいし、無着色でもよい。支持体には、特開平11−84574号の水溶性ポリエステル、同10−186565号のスチレンブタジエン共重合体、特開2000−39684号や特願平11−106881号段落番号0063〜0080の塩化ビニリデン共重合体などの下塗り技術を適用することが好ましい。支持体に乳剤層もしくはバック層を塗布するときの、支持体の含水率は0.5質量%以下であることが好ましい。
(Support)
The transparent support is a polyester, particularly polyethylene, which has been heat-treated in a temperature range of 130 to 185 ° C. in order to relieve internal strain remaining in the film during biaxial stretching and to eliminate thermal shrinkage strain generated during heat development. Terephthalate is preferably used. In the case of a photothermographic material for medical use, the transparent support may be colored with a blue dye (for example, dye-1 described in Examples of JP-A-8-240877) or may be uncolored. Examples of the support include water-soluble polyesters disclosed in JP-A-11-84574, styrene-butadiene copolymers described in JP-A-10-186565, and vinylidene chloride described in JP-A-2000-39684 and Japanese Patent Application No. 11-106881, paragraph numbers 0063 to 0080. It is preferable to apply an undercoating technique such as a copolymer. When the emulsion layer or the back layer is coated on the support, the water content of the support is preferably 0.5% by mass or less.

(その他の添加剤)
熱現像感光材料には、さらに、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤あるいは被覆助剤を添加してもよい。各種の添加剤は、感光性層あるいは非感光性層のいずれかに添加する。それらについてWO98/36322号、EP803764A1号、特開平10−186567号、同10−18568号等を参考にすることができる。
(Other additives)
An antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber, or a coating aid may be further added to the photothermographic material. Various additives are added to either the photosensitive layer or the non-photosensitive layer. With respect to these, WO 98/36322, EP 803764A1, JP-A-10-186567, 10-18568 and the like can be referred to.

1−7.包装材料
本発明の感光材料は、生保存時の写真性能の変動を押えるため、もしくはカール、巻癖などを改良するために、酸素透過率及び/又は水分透過率の低い包装材料で包装することが好ましい。酸素透過率は25℃で50ml/atm・m2・day以下であることが好ましく、より好ましくは10ml/atm・m2・day以下、さらに好ましくは1.0ml/atm・m2・day以下である。水分透過率は10g/atm・m2・day以下であることが好ましく、より好ましくは5g/atm・m2・day以下、さらに好ましくは1g/atm・m2・day以下である。
該酸素透過率及び/又は水分透過率の低い包装材料の具体例としては、たとえば特開平8−254793号。特開2000−206653号明細書に記載されている包装材料である。
1-7. Packaging material The photosensitive material of the present invention is packaged with a packaging material having low oxygen permeability and / or moisture permeability in order to suppress fluctuations in photographic performance during raw storage or to improve curling, curling, etc. Is preferred. The oxygen permeability is preferably 50 ml / atm · m 2 · day or less at 25 ° C., more preferably 10 ml / atm · m 2 · day or less, more preferably 1.0 ml / atm · m 2 · day or less. is there. The moisture permeability is preferably 10 g / atm · m 2 · day or less, more preferably 5 g / atm · m 2 · day or less, and still more preferably 1 g / atm · m 2 · day or less.
As a specific example of the packaging material having a low oxygen permeability and / or moisture permeability, for example, JP-A-8-254793. This is a packaging material described in JP-A-2000-206653.

1−8.その他の利用できる技術
本発明の熱現像感光材料に用いることのできる技術としては、EP803764A1号、EP883022A1号、WO98/36322号、特開昭56−62648号、同58−62644号、特開平9−43766、同9−281637、同9−297367号、同9−304869号、同9−311405号、同9−329865号、同10−10669号、同10−62899号、同10−69023号、同10−186568号、同10−90823号、同10−171063号、同10−186565号、同10−186567号、同10−186569号〜同10−186572号、同10−197974号、同10−197982号、同10−197983号、同10−197985号〜同10−197987号、同10−207001号、同10−207004号、同10−221807号、同10−282601号、同10−288823号、同10−288824号、同10−307365号、同10−312038号、同10−339934号、同11−7100号、同11−15105号、同11−24200号、同11−24201号、同11−30832号、同11−84574号、同11−65021号、同11−109547号、同11−125880号、同11−129629号、同11−133536号〜同11−133539号、同11−133542号、同11−133543号、同11−223898号、同11−352627号、同11−305377号、同11−305378号、同11−305384号、同11−305380号、同11−316435号、同11−327076号、同11−338096号、同11−338098号、同11−338099号、同11−343420号、特開2000−187298号、同2000−10229号、同2000−47345号、同2000−206642号、同2000−98530号、同2000−98531号、同2000−112059号、同2000−112060号、同2000−112104号、同2000−112064号、同2000−171936号も挙げられる。
1-8. Other usable techniques Examples of techniques that can be used in the photothermographic material of the present invention include EP80376A1, EP883022A1, WO98 / 36322, JP-A-56-62648, 58-62644, and JP-A-9-. 43766, 9-281737, 9-297367, 9-304869, 9-31405, 9-329865, 10-10669, 10-62899, 10-69023, 10-186568, 10-90823, 10-171106, 10-186565, 10-186567, 10-186567 to 10-186572, 10-197974, 10- 197982, 10-197983, 10-197985 to 10-1 No. 97987, No. 10-207001, No. 10-207004, No. 10-221807, No. 10-282601, No. 10-288823, No. 10-288824, No. 10-307365, No. 10-312038 10-339934, 11-7100, 11-15105, 11-24200, 11-24201, 11-30832, 11-84574, 11-65021, 11-109547, 11-125880, 11-129629, 11-133536 to 11-133539, 11-133542, 11-133543, 11-223898, 11- 352627, 11-305377, 11-305378, 11-305384 11-305380, 11-316435, 11-327076, 11-338096, 11-338098, 11-338099, 11-343420, JP-A 2000-187298, 2000-10229, 2000-47345, 2000-206642, 2000-98530, 2000-98531, 2000-112059, 2000-112060, 2000-112104, 2000 No.-1112064 and 2000-171936.

多色カラー熱現像感光材料の場合、各乳剤層は、一般に、米国特許第4,460,681号に記載されているように、各感光性層の間に官能性もしくは非官能性のバリアー層を使用することにより、互いに区別されて保持される。
多色カラー熱現像感光材料の場合の構成は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでよく、また、米国特許第4,708,928号に記載されているように単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。
In the case of a multicolor color photothermographic material, each emulsion layer is generally a functional or non-functional barrier layer between each photosensitive layer as described in US Pat. No. 4,460,681. Are used to keep them distinguished from each other.
The construction in the case of a multicolor color photothermographic material may include a combination of these two layers for each color and all within a single layer as described in US Pat. No. 4,708,928. Ingredients may be included.

1−9.塗布方式
本発明における熱現像感光材料はいかなる方法で塗布されても良い。具体的には、エクストルージョンコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、浸漬コーティング、ナイフコーティング、フローコーティング、又は米国特許第2,681,294号に記載の種類のホッパーを用いる押出コーティングを含む種々のコーティング操作が用いられ、Stephen F.Kistler、Petert M.Schweizer著「LIQUID FILM COATING」(CHAPMAN & HALL社刊、1997年)399頁から536頁記載のエクストルージョンコーティング、又はスライドコーティング好ましく用いられ、特に好ましくはスライドコーティングが用いられる。スライドコーティングに使用されるスライドコーターの形状の例は同書427頁のFigure 11b.1にある。また、所望により同書399頁から536頁記載の方法、米国特許第2,761,791号及び英国特許第837,095号に記載の方法により2層又はそれ以上の層を同時に被覆することができる。本発明において特に好ましい塗布方法は特開2001−194748号、同2002−153808号、同2002−153803号、同2002−182333号に記載された方法である。
1-9. Application Method The photothermographic material in the invention may be applied by any method. Specifically, various coating operations including extrusion coating, slide coating, curtain coating, dip coating, knife coating, flow coating, or extrusion coating using a hopper of the type described in US Pat. No. 2,681,294. And Stephen F. Kistler, Peter M. et al. Extrusion coating or slide coating described in pages 399 to 536 of “LIQUID FILM COATING” (CHAPMAN & HALL, 1997) by Schweizer is preferably used, and slide coating is particularly preferably used. An example of the shape of a slide coater used for slide coating is shown in FIG. 11b. 1 If desired, two or more layers can be simultaneously coated by the method described on pages 399 to 536 of the same document, the method described in US Pat. No. 2,761,791 and British Patent No. 837,095. . In the present invention, particularly preferred coating methods are those described in JP-A Nos. 2001-194748, 2002-153808, 2002-153803, and 2002-182333.

本発明における有機銀塩含有層塗布液は、いわゆるチキソトロピー流体であることが好ましい。この技術については特開平11−52509号を参考にすることができる。本発明における有機銀塩含有層塗布液は剪断速度0.1S-1における粘度は400mPa・s以上100,000mPa・s以下が好ましく、さらに好ましくは500mPa・s以上20,000mPa・s以下である。また、剪断速度1000S-1においては1mPa・s以上200mPa・s以下が好ましく、さらに好ましくは5mPa・s以上80mPa・s以下である。 The organic silver salt-containing layer coating solution in the present invention is preferably a so-called thixotropic fluid. Regarding this technique, JP-A-11-52509 can be referred to. The viscosity of the organic silver salt-containing layer coating solution in the present invention is preferably 400 mPa · s or more and 100,000 mPa · s or less, more preferably 500 mPa · s or more and 20,000 mPa · s or less, at a shear rate of 0.1 S −1 . Further, at a shear rate of 1000 S −1 , 1 mPa · s to 200 mPa · s is preferable, and 5 mPa · s to 80 mPa · s is more preferable.

本発明における塗布液を調合する場合において、2種の液を混合する際は、公知のインライン混合機、インプラント混合機が好ましく用いられる。本発明における好ましいインライン混合機は、特開2002−85948号に、インプラント混合機は特開2002−90940号に記載されている。
本発明における塗布液は塗布面状を良好に保つため脱泡処理をすることが好ましい。本発明における好ましい脱泡処理方法については、特開2002−66431号に記載された方法である。
本発明における塗布液を塗布する際には、支持体の耐電による塵、ほこり等の付着を防止するために除電を行うことが好ましい。本発明において好ましい除電方法の例は特開2002−143747に記載されている。
本発明においては非セット性の画像形成層塗布液を乾燥するため乾燥風、乾燥温度を精密にコントロールすることが重要である。本発明における好ましい乾燥方法は、特開2001−194749号、同2002−139814号に詳しく記載されている。
本発明の熱現像感光材料は、成膜性を向上させるために塗布、乾燥直後に加熱処理をすることが好ましい。加熱処理の温度は膜面温度で60℃〜100℃の範囲が好ましく、加熱時間は1秒〜60秒の範囲が好ましい。より好ましい範囲は膜面温度が70℃〜90℃、加熱時間が2〜10秒の範囲である。本発明における好ましい加熱処理の方法は、特開2002−107872号に記載されている。
また、本発明の熱現像感光材料を安定して連続製造するためには特開2002−156728号、同2002−182333号に記載の製造方法が好ましく用いられる。
In the case of preparing the coating liquid in the present invention, when mixing two kinds of liquids, a known in-line mixer or implant mixer is preferably used. A preferable in-line mixer in the present invention is described in JP-A No. 2002-85948, and an implant mixer is described in JP-A No. 2002-90940.
The coating solution in the present invention is preferably subjected to defoaming treatment in order to keep the coated surface state good. About the preferable defoaming processing method in this invention, it is the method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-66431.
When applying the coating solution in the present invention, it is preferable to perform static elimination in order to prevent adhesion of dust, dust, and the like due to electric resistance of the support. An example of a preferable static elimination method in the present invention is described in JP-A No. 2002-143747.
In the present invention, it is important to precisely control the drying air and the drying temperature in order to dry the non-setting image forming layer coating solution. Preferred drying methods in the present invention are described in detail in JP-A Nos. 2001-194749 and 2002-139814.
The photothermographic material of the present invention is preferably subjected to heat treatment immediately after coating and drying in order to improve the film formability. The temperature of the heat treatment is preferably in the range of 60 ° C. to 100 ° C. as the film surface temperature, and the heating time is preferably in the range of 1 second to 60 seconds. A more preferable range is a range where the film surface temperature is 70 ° C. to 90 ° C. and the heating time is 2 to 10 seconds. A preferable heat treatment method in the present invention is described in JP-A No. 2002-107872.
In order to stably and continuously produce the photothermographic material of the present invention, the production methods described in JP-A Nos. 2002-156728 and 2002-182333 are preferably used.

熱現像感光材料は、モノシート型(受像材料のような他のシートを使用せずに、熱現像感光材料上に画像を形成できる型)であることが好ましい。   The photothermographic material is preferably a mono-sheet type (a type capable of forming an image on the photothermographic material without using another sheet such as an image receiving material).

2.画像形成方法
1)露光
赤〜赤外発光のHe−Neレーザー、赤色半導体レーザー、あるいは青〜緑発光のAr+,He−Ne,He−Cdレーザー、青色半導体レーザーである。好ましくは、赤色〜赤外半導体レーザーであり、レーザー光のピーク波長は、600nm〜900nm、好ましくは620nm〜850nmである。一方、近年、特に、SHG(Second Harmonic Generator)素子と半導体レーザーを一体化したモジュールや青色半導体レーザーが開発されてきて、短波長領域のレーザー出力装置がクローズアップされてきた。青色半導体レーザーは、高精細の画像記録が可能であること、記録密度の増大、かつ長寿命で安定した出力が得られることから、今後需要が拡大していくことが期待されている。青色レーザー光のピーク波長は、300nm〜500nm、特に400nm〜500nmが好ましい。
レーザー光は、高周波重畳などの方法によって縦マルチに発振していることも好ましく用いられる。
2. Image Forming Method 1) Exposure Red to infrared emission He—Ne laser, red semiconductor laser, blue to green emission Ar + , He—Ne, He—Cd laser, blue semiconductor laser. Preferably, it is a red to infrared semiconductor laser, and the peak wavelength of the laser beam is 600 nm to 900 nm, preferably 620 nm to 850 nm. On the other hand, in recent years, in particular, a module in which a SHG (Second Harmonic Generator) element and a semiconductor laser are integrated and a blue semiconductor laser have been developed, and a laser output device in a short wavelength region has been closed up. The blue semiconductor laser is expected to increase in demand in the future because high-definition image recording is possible, the recording density is increased, and a stable output is obtained with a long lifetime. The peak wavelength of the blue laser light is preferably 300 nm to 500 nm, particularly preferably 400 nm to 500 nm.
It is also preferable that the laser light oscillates vertically in a multi-frequency manner such as high frequency superposition.

2)熱現像
本発明の熱現像感光材料はいかなる方法で現像されても良いが、通常イメージワイズに露光した熱現像感光材料を昇温して現像される。好ましい現像温度としては80〜250℃であり、好ましくは100℃〜140℃、さらに好ましくは110℃〜130℃である。現像時間としては1〜60秒が好ましく、より好ましくは3〜30秒、さらに好ましくは5〜25秒、7〜15秒が特に好ましい。
2) Photothermographic development The photothermographic material of the present invention may be developed by any method, but is usually developed by raising the temperature of the photothermographic material exposed imagewise. A preferred development temperature is 80 to 250 ° C, preferably 100 to 140 ° C, more preferably 110 to 130 ° C. The development time is preferably 1 to 60 seconds, more preferably 3 to 30 seconds, still more preferably 5 to 25 seconds, and 7 to 15 seconds.

熱現像の方式としてはドラム型ヒーター、プレート型ヒーターのいずれを使用してもよいが、プレート型ヒーター方式がより好ましい。プレート型ヒーター方式による熱現像方式とは特開平11−133572号に記載の方法が好ましく、潜像を形成した熱現像感光材料を熱現像部にて加熱手段に接触させることにより可視像を得る画像記録装置であって、前記加熱手段がプレートヒーターからなり、かつ前記プレートヒーターの一方の面に沿って複数個の押えローラが対向配設され、前記押えローラと前記プレートヒーターとの間に前記熱現像感光材料を通過させて熱現像を行うことを特徴とする画像記録装置である。プレートヒーターを2〜6段に分けて先端部については1℃〜10℃程度温度を下げることが好ましい。例えば、独立に温度制御できる4組のプレートヒーターを使用し、それぞれ112℃、119℃、121℃、120℃になるように制御する例が挙げられる。このような方法は特開昭54−30032号にも記載されており、熱現像感光材料に含有している水分や有機溶媒を系外に除外させることができ、また、急激に熱現像感光材料が加熱されることでの熱現像感光材料の支持体形状の変化を抑えることもできる。   Either a drum type heater or a plate type heater may be used as the thermal development method, but the plate type heater method is more preferable. The heat development method using the plate type heater method is preferably a method described in JP-A-11-133572, and a visible image is obtained by bringing a photothermographic material having a latent image formed thereon into contact with a heating means in a heat developing unit. In the image recording apparatus, the heating unit includes a plate heater, and a plurality of press rollers are disposed to face each other along one surface of the plate heater, and the press roller is disposed between the press roller and the plate heater. An image recording apparatus characterized in that heat development is performed by passing a photothermographic material. It is preferable to divide the plate heater into 2 to 6 stages and lower the temperature about 1 ° C. to 10 ° C. at the tip. For example, there are examples in which four sets of plate heaters that can be independently controlled are used and controlled so as to be 112 ° C., 119 ° C., 121 ° C., and 120 ° C., respectively. Such a method is also described in JP-A-54-30032, which can exclude moisture and organic solvents contained in the photothermographic material out of the system, and rapidly develop the photothermographic material. It is also possible to suppress a change in the shape of the support of the photothermographic material due to the heating.

画像記録装置の小型化及び熱現像時間の短縮のためには、より安定なヒーター制御ができることが好ましく、また、1枚のシート感材を先頭部から露光開始し、後端部まで露光が終わらないうちに熱現像を開始することが望ましい。本発明に好ましい迅速処理ができるイメージャーは例えば特開2002−289804号及び特開2002−287668号に記載されている。このイメージャーを使用すれば例えば、107℃−121℃−121℃に制御された3段のプレート型ヒーターで14秒で熱現像処理ができ、1枚目の出力時間は約60秒に短縮することができる。このような迅速現像処理のためには高感度で、環境温度の影響を受けにくい本発明の熱現像感光材料−2を組み合わせて使用することが好ましい。本発明における好ましい画像記録装置を図1に示す。   In order to reduce the size of the image recording apparatus and shorten the heat development time, it is preferable that more stable heater control is possible. In addition, the exposure of one sheet of photosensitive material is started from the top and the exposure is completed to the rear end. It is desirable to start the heat development before the time. Imagers capable of rapid processing preferable for the present invention are described in, for example, JP-A Nos. 2002-289804 and 2002-287668. If this imager is used, for example, heat development can be performed in 14 seconds with a three-stage plate heater controlled at 107 ° C.-121 ° C.-121 ° C. The output time of the first sheet is shortened to about 60 seconds. be able to. For such rapid development processing, it is preferable to use the photothermographic material-2 of the present invention in combination with high sensitivity and less susceptible to environmental temperature. A preferred image recording apparatus according to the present invention is shown in FIG.

画像記録装置10は、熱現像感光材料をストックするトレー36,38,40、レーザー露光部54,熱現像部60,冷却部68、および排出部70よりなる。
図1のその他の名称について説明すると、当て紙16、バーコード読み取り用窓37,39,41、バーコードリーダー43,45,47、枚葉送り機構48,50,52、プレートヒーター64a,b,c、ローラー62、ドラム66、熱現像感光材料F、およびレーザービームLである。
The image recording apparatus 10 includes trays 36, 38, and 40 for stocking photothermographic materials, a laser exposure unit 54, a thermal development unit 60, a cooling unit 68, and a discharge unit 70.
The other names in FIG. 1 will be described. The paper 16, the barcode reading windows 37, 39, 41, the barcode readers 43, 45, 47, the sheet feeding mechanisms 48, 50, 52, the plate heaters 64a, b, c, roller 62, drum 66, photothermographic material F, and laser beam L.

本発明においては、画像記録装置が、駆動ローラーとプレートヒーターとを有する熱現像部を有し、画像形成層を有する面側の表面を前記駆動ローラーに接触させ、かつ、前記バック層を有する側の表面を前記プレートヒーターに接触させて、加熱により現像する画像形成方法を用いることができる。本発明の熱現像感光材料は、搬送性が極めて良好であるため、表面を駆動ローラー及びプレートヒーターに接触させて熱現像を行うことが可能である。   In the present invention, the image recording apparatus has a heat developing part having a driving roller and a plate heater, the surface side having the image forming layer is brought into contact with the driving roller, and the side having the back layer An image forming method in which the surface is brought into contact with the plate heater and developed by heating can be used. Since the photothermographic material of the present invention has very good transportability, it is possible to carry out heat development by bringing the surface into contact with a driving roller and a plate heater.

3)システム
露光部及び熱現像部を備えた医療用のレーザーイメージャーとしては富士メディカルドライレーザーイメージャーFM−DPL及びDRYPIX7000を挙げることができる。FM−DPLに関しては、Fuji Medical Review No.8,page39〜55に記載されており、それらの技術は本発明の熱現像感光材料のレーザーイメージャーとして適用することは言うまでもない。また、DICOM規格に適応したネットワークシステムとして富士フィルムメディカル(株)が提案した「AD network」の中でのレーザーイメージャー用の熱現像感光材料としても適用することができる。
3) System As a medical laser imager provided with an exposure part and a heat development part, Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DPL and DRYPIX7000 can be exemplified. Regarding FM-DPL, Fuji Medical Review No. 8, pages 39 to 55, and it goes without saying that these techniques are applied as a laser imager of the photothermographic material of the present invention. Further, it can also be applied as a photothermographic material for a laser imager in “AD network” proposed by Fuji Film Medical Co., Ltd. as a network system adapted to the DICOM standard.

<本発明の用途>
本発明の熱現像感光材料は、銀画像による黒白画像を形成し、医療診断用の熱現像感光材料、工業写真用熱現像感光材料、印刷用熱現像感光材料、COM用の熱現像感光材料として使用されることが好ましい。
<Use of the present invention>
The photothermographic material of the present invention forms a black and white image by a silver image, and is used as a photothermographic material for medical diagnosis, a photothermographic material for industrial photography, a photothermographic material for printing, and a photothermographic material for COM. It is preferably used.

以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1
(PET支持体の作製)
1)製膜
テレフタル酸とエチレングリコ−ルを用い、常法に従い固有粘度IV=0.66(フェノ−ル/テトラクロルエタン=6/4(質量比)中25℃で測定)のPETを得た。これをペレット化した後130℃で4時間乾燥し、300℃で溶融後T型ダイから押し出して急冷し、熱固定後の膜厚が175μmになるような厚みの未延伸フィルムを作製した。
Example 1
(Preparation of PET support)
1) Film formation Using terephthalic acid and ethylene glycol, PET having an intrinsic viscosity of IV = 0.66 (measured in phenol / tetrachloroethane = 6/4 (mass ratio) at 25 ° C.) is obtained. It was. This was pelletized, dried at 130 ° C. for 4 hours, melted at 300 ° C., extruded from a T-die, and rapidly cooled to produce an unstretched film having a thickness of 175 μm after heat setting.

これを、周速の異なるロ−ルを用い3.3倍に縦延伸、ついでテンタ−で4.5倍に横延伸を実施した。この時の温度はそれぞれ、110℃、130℃であった。この後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温度で横方向に4%緩和した。この後テンタ−のチャック部をスリットした後、両端にナ−ル加工を行い、4kg/cm2で巻き取り、厚み175μmのロ−ルを得た。 This was stretched 3.3 times longitudinally using rolls with different peripheral speeds, and then stretched 4.5 times with a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. Thereafter, the film was heat-fixed at 240 ° C. for 20 seconds and relaxed by 4% in the lateral direction at the same temperature. Thereafter, the chuck portion of the tenter was slit and then knurled at both ends, and wound at 4 kg / cm 2 to obtain a roll having a thickness of 175 μm.

2)表面コロナ放電処理
ピラー社製ソリッドステートコロナ放電処理機6KVAモデルを用い、支持体の両面を室温下において20m/分で処理した。この時の電流、電圧の読み取り値から、支持体には0.375kV・A・分/m2の処理がなされていることがわかった。この時の処理周波数は9.6kHz、電極と誘電体ロ−ルのギャップクリアランスは1.6mmであった。
2) Surface corona discharge treatment Using a solid state corona discharge treatment machine 6KVA model manufactured by Pillar, both surfaces of the support were treated at room temperature at 20 m / min. From the current and voltage readings at this time, it was found that the support was processed at 0.375 kV · A · min / m 2 . The treatment frequency at this time was 9.6 kHz, and the gap clearance between the electrode and the dielectric roll was 1.6 mm.

3)下塗り
1)下塗層塗布液の作製
処方(1)(感光層側下塗り層用)
高松油脂(株)製ペスレジンA−520(30質量%溶液) 59g
ポリエチレングリコールモノノニルフェニルエーテル
(平均エチレンオキシド数=8.5)10質量%溶液 5.4g
綜研化学(株)製MP−1000(ポリマー微粒子、平均粒径0.4μm)
0.91g
蒸留水 935ml
3) Undercoat 1) Preparation formulation of undercoat layer coating solution (1) (for photosensitive layer side undercoat layer)
59 g of pesresin A-520 (30% by mass solution) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd.
Polyethylene glycol monononyl phenyl ether (average ethylene oxide number = 8.5) 10% by mass solution 5.4 g
MP-1000 manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. (polymer fine particles, average particle size 0.4 μm)
0.91g
935 ml of distilled water

処方(2)(バック面第1層用)
スチレン−ブタジエン共重合体ラテックス 158g
(固形分40質量%、スチレン/ブタジエン質量比=68/32)
2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−S−トリアジンナトリウム塩(8質量%水溶液)
20g
ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウムの1質量%水溶液 10ml
蒸留水 854ml
Formula (2) (for back layer 1st layer)
Styrene-butadiene copolymer latex 158g
(Solid content 40% by mass, styrene / butadiene mass ratio = 68/32)
2,4-dichloro-6-hydroxy-S-triazine sodium salt (8% by mass aqueous solution)
20g
10% 1% by weight aqueous solution of sodium laurylbenzenesulfonate
854 ml of distilled water

処方(3)(バック面側第2層用)
SnO2/SbO(9/1質量比、平均粒径0.038μm、17質量%分散物)
84g
ゼラチン(10質量%水溶液) 89.2g
信越化学(株)製メトローズTC−5(2質量%水溶液) 8.6g
綜研化学(株)製MP−1000 0.01g
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの1質量%水溶液 10ml
NaOH(1質量%) 6ml
プロキセル(ICI社製) 1ml
蒸留水 805ml
Formula (3) (for back side second layer)
SnO 2 / SbO (9/1 mass ratio, average particle size 0.038 μm, 17 mass% dispersion)
84g
Gelatin (10 mass% aqueous solution) 89.2g
8.6 g of Metroise TC-5 (2% by mass aqueous solution) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
MP-1000 0.01g manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.
10% 1% by weight aqueous solution of sodium dodecylbenzenesulfonate
NaOH (1% by mass) 6 ml
Proxel (ICI) 1ml
805 ml of distilled water

2)下塗り
上記厚さ175μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレート支持体の両面それぞれに、上記コロナ放電処理を施した後、片面(感光性層面)に上記下塗り塗布液処方(1)をワイヤーバーでウエット塗布量が6.6ml/m2(片面当たり)になるように塗布して180℃で5分間乾燥し、ついでこの裏面(バック面)に上記下塗り塗布液処方(2)をワイヤーバーでウエット塗布量が5.7ml/m2になるように塗布して180℃で5分間乾燥し、更に裏面(バック面)に上記下塗り塗布液処方(3)をワイヤーバーでウエット塗布量が7.7ml/m2になるように塗布して180℃で6分間乾燥して下塗り支持体を作製した。
2) Undercoat After the corona discharge treatment is performed on both sides of the biaxially stretched polyethylene terephthalate support having a thickness of 175 μm, the undercoat coating solution formulation (1) is wet coated with a wire bar on one side (photosensitive layer surface). Apply to a volume of 6.6 ml / m 2 (per side) and dry at 180 ° C. for 5 minutes, and then wet coat the above-mentioned undercoat coating liquid formulation (2) on the back side (back side) with a wire bar. Was applied at a temperature of 5.7 ml / m 2 , dried at 180 ° C. for 5 minutes, and the wet coating amount of the undercoat coating liquid formulation (3) on the back surface (back surface) was 7.7 ml / m with a wire bar. 2 was applied and dried at 180 ° C. for 6 minutes to prepare an undercoat support.

(バック層)
1)バック層塗布液の調整
(塩基プレカーサーの固体微粒子分散液(a)の調製)
塩基プレカーサー化合物1を、2.5kg、及び界面活性剤(商品名:デモールN、花王(株)製)300g、ジフェニルスルホン800g、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩1.0g及び蒸留水を加えて総量を8.0kgに合わせて混合し、混合液を横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)を用いてビーズ分散した。分散方法は、混合液をを平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填したUVM−2にダイアフラムポンプで送液し、内圧50hPa以上の状態で、所望の平均粒径が得られるまで分散した。
分散物は、分光吸収測定を行って該分散物の分光吸収における450nmにおける吸光度と650nmにおける吸光度の比(D450/D650)が3.0まで分散した。得られた分散物は、塩基プレカーサーの濃度で25質量%となるように蒸留水で希釈し、ごみ取りのためにろ過(平均細孔径:3μmのポリプロピレン製フィルター)を行って実用に供した。
(Back layer)
1) Preparation of back layer coating solution (Preparation of solid fine particle dispersion (a) of base precursor)
Add 2.5 kg of Base Precursor Compound 1 and 300 g of a surfactant (trade name: Demol N, manufactured by Kao Corporation), 800 g of diphenylsulfone, 1.0 g of benzoisothiazolinone sodium salt and distilled water to make a total amount. The mixture was mixed to 8.0 kg, and the mixed solution was dispersed with beads using a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Corporation). In the dispersion method, the mixed solution was fed to UVM-2 filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm by a diaphragm pump, and dispersed at an internal pressure of 50 hPa or more until a desired average particle size was obtained.
The dispersion was subjected to spectral absorption measurement, and the ratio of the absorbance at 450 nm to the absorbance at 650 nm (D 450 / D 650 ) in the spectral absorption of the dispersion was dispersed to 3.0. The obtained dispersion was diluted with distilled water so that the concentration of the base precursor was 25% by mass, and was filtered for removal of dust (polypropylene filter having an average pore size of 3 μm) for practical use.

2)染料固体微粒子分散液の調製
シアニン染料化合物−1を6.0kg及びp−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム3.0kg、花王(株)製界面活性剤デモールSNB0.6kg、及び消泡剤(商品名:サーフィノール104E、日信化学(株)製)0.15kgを蒸留水と混合して、総液量を60kgとした。混合液を横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)を用いて、0.5mmのジルコニアビーズで分散した。
分散物は、分光吸収測定を行って該分散物の分光吸収における650nmにおける吸光度と750nmにおける吸光度の比(D650/D750)が5.0以上であるところまで分散した。得られた分散物は、シアニン染料の濃度で6質量%となるように蒸留水で希釈し、ごみ取りのためにフィルターろ過(平均細孔径:1μm)を行って実用に供した。
2) Preparation of Dye Solid Fine Particle Dispersion 6.0 kg of cyanine dye compound-1 and 3.0 kg of sodium p-dodecylbenzenesulfonate, 0.6 kg of surfactant Demol SNB manufactured by Kao Corporation, and antifoaming agent (trade name) : Surfynol 104E, manufactured by Nissin Chemical Co., Ltd.) 0.15 kg was mixed with distilled water to make a total liquid volume of 60 kg. The mixed solution was dispersed with 0.5 mm zirconia beads using a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Corporation).
The dispersion was dispersed until the ratio of the absorbance at 650 nm to the absorbance at 750 nm (D 650 / D 750 ) in the spectral absorption of the dispersion was 5.0 or more. The obtained dispersion was diluted with distilled water so that the concentration of the cyanine dye was 6% by mass, and subjected to filter filtration (average pore size: 1 μm) for removing dust.

3)ハレーション防止層塗布液の調製
容器を40℃に保温し、ゼラチン40g、単分散ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒子サイズ8μm、粒径標準偏差0.4)20g、ベンゾイソチアゾリノン0.1g、水490mlを加えてゼラチンを溶解させた。さらに1mol/lの水酸化ナトリウム水溶液2.3ml、上記染料固体微粒子分散液40g、上記塩基プレカーサーの固体微粒子分散液(a)を90g、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム3質量%水溶液12ml、SBRラテックス10質量%液180g、を混合した。塗布直前にN,N−エチレンビス(ビニルスルホンアセトアミド)4質量%水溶液80mlを混合し、ハレーション防止層塗布液とした。
3) Preparation of antihalation layer coating solution Keep container at 40 ° C., gelatin 40 g, monodisperse polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 8 μm, particle size standard deviation 0.4) 20 g, benzoisothiazolinone 0.1 g, 490 ml of water was added to dissolve the gelatin. Furthermore, 2.3 ml of 1 mol / l sodium hydroxide aqueous solution, 40 g of the dye solid fine particle dispersion, 90 g of the solid fine particle dispersion (a) of the base precursor, 12 ml of 3% by weight aqueous sodium polystyrenesulfonate solution, 10% by weight of SBR latex 180 g of the liquid was mixed. Immediately before coating, 80 ml of a 4% by weight aqueous solution of N, N-ethylenebis (vinylsulfonacetamide) was mixed to prepare a coating solution for preventing halation.

4)バック面保護層塗布液の調製
(バック面保護層塗布液−1の調製)《比較例》
容器を40℃に保温し、ゼラチン40g、ベンゾイソチアゾリノン35mg、水840mlを加えてゼラチンを溶解させた。さらに1mol/lの水酸化ナトリウム水溶液5.8ml、流動パラフィン乳化物を流動パラフィンとして1.5g、スルホコハク酸ジ(2−エチルヘキシル)ナトリウム塩5質量%水溶液10ml、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム3質量%水溶液20ml、フッ素化合物−Aの2質量%溶液を2.4ml、フッ素化合物−Bの2質量%溶液を2.4ml、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比:58/8/27/5/2、Tg:42℃,I/O値:0.555)ラテックス(比較ラテックス1)20質量%液45gを混合した。塗布直前にN,N−エチレンビス(ビニルスルホンアセトアミド)4質量%水溶液25mlを混合しバック面保護層塗布液とした。
4) Preparation of back surface protective layer coating solution (Preparation of back surface protective layer coating solution-1) << Comparative Example >>
The container was kept at 40 ° C., and 40 g of gelatin, 35 mg of benzoisothiazolinone, and 840 ml of water were added to dissolve the gelatin. Further, 5.8 ml of 1 mol / l sodium hydroxide aqueous solution, 1.5 g of liquid paraffin emulsion as liquid paraffin, 10 ml of 5% by weight aqueous solution of di (2-ethylhexyl) sodium sulfosuccinate, 20 ml of 3% by weight aqueous sodium polystyrene sulfonate solution 2.4 ml of a 2 mass% solution of fluorine compound-A, 2.4 ml of a 2 mass% solution of fluorine compound-B, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass) Ratio: 58/8/27/5/2, Tg: 42 ° C., I / O value: 0.555) Latex (Comparative Latex 1) 45% 20% liquid was mixed. Immediately before coating, 25 ml of a 4% by weight aqueous solution of N, N-ethylenebis (vinylsulfonacetamide) was mixed to prepare a coating solution for the back surface protective layer.

(バック面保護層塗布液−2の調製)《比較例》
バック面保護層塗布液−1の調製において使用したラテックスを、メチルメタクリレート/ブチルアクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比:18/80/2、Tg:−34℃,I/O値:0.490)ラテックス(比較ラテックス2)に変更して、バック面保護層塗布液−2を調製した。
(Preparation of back surface protective layer coating solution-2) << Comparative Example >>
The latex used in the preparation of the back surface protective layer coating solution-1 was a methyl methacrylate / butyl acrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio: 18/80/2, Tg: -34 ° C., I / O value: 0.490) Back surface protective layer coating solution-2 was prepared by changing to latex (comparative latex 2).

(バック面保護層塗布液−3〜15)の調製《本発明》
バック面保護層塗布液−1の調製において使用したゼラチン及びラテックスを、表2に示すように変更して、バック面保護層塗布液−3〜15を調製した。
Preparation of (Back surface protective layer coating solution-3 to 15) << Invention >>
Back surface protective layer coating solutions-3 to 15 were prepared by changing the gelatin and latex used in the preparation of the back surface protective layer coating solution-1 as shown in Table 2.

4)バック層の塗布
上記下塗り支持体のバック面側に、アンチハレーション層塗布液をゼラチン塗布量が0.52g/m2となるように、またバック面保護層塗布液−1〜15を水溶性ポリマー塗布量が1.7g/m2となるように同時重層塗布し、乾燥し、バック層−1〜15を作製した。本発明のバック層−3〜15は、比較のバック層に比べて塗布面状が良好であった。
4) Application of back layer On the back surface side of the undercoat support, the anti-halation layer coating solution was applied in water so that the gelatin coating amount was 0.52 g / m 2 and the back surface protective layer coating solutions -1 to 15 were water-soluble. The simultaneous multilayer coating was carried out so that the coating amount of the conductive polymer was 1.7 g / m 2 and dried to prepare back layers -1 to 15. The back layers -3 to 15 of the present invention had a better coated surface than the comparative back layer.

(画像形成層、中間層、及び表面保護層)
1.塗布用材料の準備
1)ハロゲン化銀乳剤
《ハロゲン化銀乳剤1の調製》
蒸留水1421mlに1質量%臭化カリウム溶液3.1mlを加え、さらに0.5mol/L濃度の硫酸を3.5ml、フタル化ゼラチン31.7gを添加した液をステンレス製反応壺中で攪拌しながら、30℃に液温を保ち、硝酸銀22.22gに蒸留水を加え95.4mlに希釈した溶液Aと臭化カリウム15.3gとヨウ化カリウム0.8gを蒸留水にて容量97.4mlに希釈した溶液Bを一定流量で45秒間かけて全量添加した。その後、3.5質量%の過酸化水素水溶液を10ml添加し、さらにベンゾイミダゾールの10質量%水溶液を10.8ml添加した。さらに、硝酸銀51.86gに蒸留水を加えて317.5mlに希釈した溶液Cと臭化カリウム44.2gとヨウ化カリウム2.2gを蒸留水にて容量400mlに希釈した溶液Dを、溶液Cは一定流量で20分間かけて全量添加し、溶液DはpAgを8.1に維持しながらコントロールドダブルジェット法で添加した。銀1モル当たり1×10-4モルになるよう六塩化イリジウム(III)酸カリウム塩を溶液C及び溶液Dを添加しはじめてから10分後に全量添加した。また、溶液Cの添加終了の5秒後に六シアン化鉄(II)カリウム水溶液を銀1モル当たり3×10-4モル全量添加した。0.5mol/L濃度の硫酸を用いてpHを3.8に調整し、攪拌を止め、沈降/脱塩/水洗工程をおこなった。1mol/L濃度の水酸化ナトリウムを用いてpH5.9に調整し、pAg8.0のハロゲン化銀分散物を作製した。
(Image forming layer, intermediate layer, and surface protective layer)
1. Preparation of coating materials 1) Silver halide emulsion << Preparation of silver halide emulsion 1 >>
To a solution of 1421 ml of distilled water, 3.1 ml of a 1% by mass potassium bromide solution was added, and a solution containing 3.5 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid and 31.7 g of phthalated gelatin was stirred in a stainless steel reaction vessel. While maintaining the liquid temperature at 30 ° C., the solution A diluted with 95.4 ml of distilled water added to 22.22 g of silver nitrate, 15.3 g of potassium bromide and 0.8 g of potassium iodide in a distilled water volume of 97.4 ml. The whole amount of the solution B diluted to 1 was added at a constant flow rate over 45 seconds. Thereafter, 10 ml of a 3.5% by mass aqueous hydrogen peroxide solution was added, and 10.8 ml of a 10% by mass aqueous solution of benzimidazole was further added. Further, a solution C in which distilled water was added to 51.86 g of silver nitrate to be diluted to 317.5 ml, a solution D in which 44.2 g of potassium bromide and 2.2 g of potassium iodide were diluted with distilled water to a volume of 400 ml was added to solution C. Was added at a constant flow rate over 20 minutes, and solution D was added by the controlled double jet method while maintaining pAg at 8.1. The total amount of potassium hexachloroiridium (III) was added 10 minutes after the start of the addition of the solution C and the solution D so as to be 1 × 10 −4 mol per mol of silver. Further, 5 seconds after the completion of the addition of the solution C, an aqueous solution of potassium iron (II) hexacyanide was added in an amount of 3 × 10 −4 mol per mol of silver. The pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 8.0.

上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら38℃に維持して、0.34質量%の1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オンのメタノール溶液を5ml加え、40分後に47℃に昇温した。昇温の20分後にベンゼンチオスルホン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀1モルに対して7.6×10-5モル加え、さらに5分後にテルル増感剤Cをメタノール溶液で銀1モル当たり2.9×10-4モル加えて91分間熟成した。その後、分光増感色素Aと増感色素Bのモル比で3:1のメタノール溶液を銀1モル当たり増感色素AとBの合計として1.2×10-3モル加え、1分後にN,N’−ジヒドロキシ−N”,N”−ジエチルメラミンの0.8質量%メタノール溶液1.3mlを加え、さらに4分後に、5−メチル−2−メルカプトベンゾイミダゾールをメタノール溶液で銀1モル当たり4.8×10-3モル、1−フェニル−2−ヘプチル−5−メルカプト−1,3,4−トリアゾールをメタノール溶液で銀1モルに対して5.4×10-3モル及び1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールを水溶液で銀1モルに対して8.5×10-3モル添加して、ハロゲン化銀乳剤1を作製した。 The silver halide dispersion was maintained at 38 ° C. with stirring, 5 ml of a 0.34 mass% 1,2-benzisothiazolin-3-one methanol solution was added, and the temperature was raised to 47 ° C. after 40 minutes. 20 minutes after the temperature increase, sodium benzenethiosulfonate was added in a methanol solution to 7.6 × 10 −5 mol per 1 mol of silver, and 5 minutes later, tellurium sensitizer C was added in a methanol solution to a ratio of 2. 9 × 10 −4 mol was added and aged for 91 minutes. Thereafter, a methanol solution having a molar ratio of the spectral sensitizing dye A and the sensitizing dye B of 3: 1 was added in an amount of 1.2 × 10 −3 mol as a total of the sensitizing dyes A and B per mol of silver. , N′-dihydroxy-N ″, N ″ -diethylmelamine in 0.8 ml methanol solution was added, and after 4 minutes, 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was added with methanol solution per mole of silver. 4.8 × 10 −3 mol, 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole was added in methanol solution to 5.4 × 10 −3 mol and 1- ( 3-Methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole was added in an aqueous solution to 8.5 × 10 −3 mol per mol of silver to prepare silver halide emulsion 1.

調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、平均球相当径0.042μm、球相当径の変動係数20%のヨウドを均一に3.5モル%含むヨウ臭化銀粒子であった。粒子サイズ等は、電子顕微鏡を用い1000個の粒子の平均から求めた。この粒子の{100}面比率は、クベルカムンク法を用いて80%と求められた。   The grains in the silver halide emulsion thus prepared were silver iodobromide grains containing 3.5 mol% of iodine having an average equivalent sphere diameter of 0.042 μm and a variation coefficient of 20% of the equivalent sphere diameter. The particle size and the like were determined from an average of 1000 particles using an electron microscope. The {100} face ratio of the particles was determined to be 80% using the Kubelka-Munk method.

《ハロゲン化銀乳剤2の調製》
ハロゲン化銀乳剤1の調製において、粒子形成時の液温30℃を47℃に変更し、溶液Bは臭化カリウム15.9gを蒸留水にて容量97.4mlに希釈することに変更し、溶液Dは臭化カリウム45.8gを蒸留水にて容量400mlに希釈することに変更し、溶液Cの添加時間を30分にして、六シアノ鉄(II)カリウムを除去した以外は同様にして、ハロゲン化銀乳剤2の調製を行った。ハロゲン化銀乳剤1と同様に沈殿/脱塩/水洗/分散を行った。更に、テルル増感剤Cの添加量を銀1モル当たり1.1×10-4モル、分光増感色素Aと分光増感色素Bのモル比で3:1のメタノール溶液の添加量を銀1モル当たり増感色素Aと増感色素Bの合計として7.0×10-4モル、1−フェニル−2−ヘプチル−5−メルカプト−1,3,4−トリアゾールを銀1モルに対して3.3×10-3モル及び1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールを銀1モルに対して4.7×10-3モル添加に変えた以外は乳剤1と同様にして分光増感、化学増感及び5−メチル−2−メルカプトベンゾイミダゾール、1−フェニル−2−ヘプチル−5−メルカプト−1,3,4−トリアゾールの添加を行い、ハロゲン化銀乳剤2を得た。ハロゲン化銀乳剤2の乳剤粒子は、平均球相当径0.080μm、球相当径の変動係数20%の純臭化銀立方体粒子であった。
<< Preparation of silver halide emulsion 2 >>
In the preparation of silver halide emulsion 1, the liquid temperature at the time of grain formation was changed from 30 ° C. to 47 ° C., and solution B was changed to diluting 15.9 g of potassium bromide with distilled water to a volume of 97.4 ml, Solution D was changed to diluting 45.8 g of potassium bromide with distilled water to a volume of 400 ml, and the addition time of solution C was changed to 30 minutes to remove potassium hexacyanoiron (II) in the same manner. A silver halide emulsion 2 was prepared. Precipitation / desalting / washing / dispersion was carried out in the same manner as silver halide emulsion 1. Further, the addition amount of tellurium sensitizer C is 1.1 × 10 −4 mol per mol of silver, and the addition amount of methanol solution of 3: 1 in the molar ratio of spectral sensitizing dye A and spectral sensitizing dye B is silver. The total of sensitizing dye A and sensitizing dye B per mole is 7.0 × 10 −4 mole, and 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole is added to 1 mole of silver. Same as Emulsion 1 except that 3.3 × 10 −3 mol and 1- (3-methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole were changed to 4.7 × 10 −3 mol added to 1 mol of silver. Spectral sensitization, chemical sensitization, and addition of 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole and 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole were carried out to obtain silver halide emulsion 2. . The emulsion grains of the silver halide emulsion 2 were pure silver bromide cubic grains having an average sphere equivalent diameter of 0.080 μm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 20%.

《ハロゲン化銀乳剤3の調製》
ハロゲン化銀乳剤1の調製において、粒子形成時の液温30℃を27℃に変更する以外は同様にして、ハロゲン化銀乳剤3の調製を行った。また、ハロゲン化銀乳剤1と同様に沈殿/脱塩/水洗/分散を行った。分光増感色素Aと分光増感色素Bのモル比で1:1を固体分散物(ゼラチン水溶液)として添加量を銀1モル当たり増感色素Aと増感色素Bの合計として6×10-3モル、テルル増感剤Cの添加量を銀1モル当たり5.2×10-4モルに変え、テルル増感剤の添加3分後に臭化金酸を銀1モル当たり5×10-4モルとチオシアン酸カリウムを銀1モルあたり2×10-3モルを添加したこと以外は乳剤1と同様にして、ハロゲン化銀乳剤3を得た。ハロゲン化銀乳剤3の乳剤粒子は、平均球相当径0.034μm、球相当径の変動係数20%のヨウドを均一に3.5モル%含むヨウ臭化銀粒子であった。
<< Preparation of silver halide emulsion 3 >>
In the preparation of silver halide emulsion 1, silver halide emulsion 3 was prepared in the same manner except that the liquid temperature at the time of grain formation was changed from 30 ° C. to 27 ° C. Further, precipitation / desalting / washing / dispersion was performed in the same manner as silver halide emulsion 1. The molar ratio of spectral sensitizing dye A and spectral sensitizing dye B is 1: 1 as a solid dispersion (gelatin aqueous solution), and the addition amount is 6 × 10 as the total of sensitizing dye A and sensitizing dye B per mole of silver. 3 moles, the amount of tellurium sensitizer C added was changed to 5.2 × 10 −4 moles per mole of silver, and bromoauric acid was changed to 5 × 10 −4 moles of silver 3 minutes after the addition of tellurium sensitizers. A silver halide emulsion 3 was obtained in the same manner as Emulsion 1 except that 2 × 10 −3 mol of mol and potassium thiocyanate were added per mol of silver. The emulsion grains of the silver halide emulsion 3 were silver iodobromide grains containing 3.5 mol% of iodine having an average sphere equivalent diameter of 0.034 μm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 20%.

《塗布液用混合乳剤Aの調製》
ハロゲン化銀乳剤1を70質量%、ハロゲン化銀乳剤2を15質量%、ハロゲン化銀乳剤3を15質量%溶解し、ベンゾチアゾリウムヨーダイドを1質量%水溶液にて銀1モル当たり7×10-3モル添加した。さらに塗布液用混合乳剤1kgあたりハロゲン化銀の含有量が銀として38.2gとなるように加水し、塗布液用混合乳剤1kgあたり0.34gとなるように1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールを添加した。
さらに「1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物」として、化合物1と20と26をそれぞれハロゲン化銀の銀1モル当たり2×10-3モルになる量を添加した。
<< Preparation of mixed emulsion A for coating solution >>
70% by weight of silver halide emulsion 1, 15% by weight of silver halide emulsion 2 and 15% by weight of silver halide emulsion 3 were dissolved, and 7% by mole of silver in a 1% by weight aqueous solution of benzothiazolium iodide. × 10 -3 mol was added. Further, water is added so that the content of silver halide per 1 kg of the mixed emulsion for coating solution is 38.2 g as silver, and 1- (3-methylureidophenyl) is adjusted to 0.34 g per 1 kg of the mixed emulsion for coating solution. -5-mercaptotetrazole was added.
Further, as "a compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can emit one or more electrons", each of compounds 1, 20 and 26 is 2 × 10 −3 per mole of silver halide. Molar amounts were added.

2)脂肪酸銀分散物の調製
《脂肪酸銀分散物Aの調製》
ヘンケル社製ベヘン酸(製品名Edenor C22−85R)87.6kg、蒸留水423L、5mol/L濃度のNaOH水溶液49.2L、t−ブチルアルコール120Lを混合し、75℃にて1時間攪拌し反応させ、ベヘン酸ナトリウム溶液Aを得た。別に、硝酸銀40.4kgの水溶液206.2L(pH4.0)を用意し、10℃にて保温した。635Lの蒸留水と30Lのt−ブチルアルコールを入れた反応容器を30℃に保温し、十分に撹拌しながら先のベヘン酸ナトリウム溶液Aの全量と硝酸銀水溶液の全量を流量一定でそれぞれ93分15秒と90分かけて添加した。このとき、硝酸銀水溶液添加開始後11分間は硝酸銀水溶液のみが添加されるようにし、そのあとベヘン酸ナトリウム溶液Aを添加開始し、硝酸銀水溶液の添加終了後14分15秒間はベヘン酸ナトリウム溶液Aのみが添加されるようにした。このとき、反応容器内の温度は30℃とし、液温度が一定になるように外温コントロールした。また、ベヘン酸ナトリウム溶液Aの添加系の配管は、2重管の外側に温水を循環させる事により保温し、添加ノズル先端の出口の液温度が75℃になるよう調製した。また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は、2重管の外側に冷水を循環させることにより保温した。ベヘン酸ナトリウム溶液Aの添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置は撹拌軸を中心として対称的な配置とし、また反応液に接触しないような高さに調製した。
2) Preparation of fatty acid silver dispersion << Preparation of fatty acid silver dispersion A >>
Henkel behenic acid (product name Edenor C22-85R) 87.6 kg, distilled water 423 L, 5 mol / L NaOH aqueous solution 49.2 L, t-butyl alcohol 120 L were mixed and stirred at 75 ° C. for 1 hour to react. To obtain a sodium behenate solution A. Separately, 206.2 L (pH 4.0) of an aqueous solution containing 40.4 kg of silver nitrate was prepared and kept warm at 10 ° C. A reaction vessel containing 635 L of distilled water and 30 L of t-butyl alcohol was kept at 30 ° C., and with sufficient stirring, the total amount of the previous sodium behenate solution A and the total amount of the aqueous silver nitrate solution were each maintained at a constant flow rate for 93 minutes 15 Added over seconds and 90 minutes. At this time, only the aqueous silver nitrate solution is added for 11 minutes after the start of the addition of the aqueous silver nitrate solution, and then the addition of the sodium behenate solution A is started. After the completion of the addition of the aqueous silver nitrate solution, only the sodium behenate solution A is added for 14 minutes and 15 seconds. Was added. At this time, the temperature in the reaction vessel was 30 ° C., and the external temperature was controlled so that the liquid temperature was constant. The pipe of the addition system of the sodium behenate solution A was prepared by keeping warm water by circulating hot water outside the double pipe so that the liquid temperature at the outlet of the addition nozzle tip was 75 ° C. Moreover, the piping of the addition system of the silver nitrate aqueous solution was kept warm by circulating cold water outside the double pipe. The addition position of the sodium behenate solution A and the addition position of the silver nitrate aqueous solution were symmetrically arranged around the stirring axis, and were adjusted so as not to contact the reaction solution.

ベヘン酸ナトリウム溶液Aを添加終了後、そのままの温度で20分間撹拌放置し、30分かけて35℃に昇温し、その後210分熟成を行った。熟成終了後直ちに、遠心濾過で固形分を濾別し、固形分を濾過水の伝導度が30μS/cmになるまで水洗した。こうして脂肪酸銀塩を得た。得られた固形分は、乾燥させないでウエットケーキとして保管した。   After completion of the addition of sodium behenate solution A, the mixture was left stirring for 20 minutes at the same temperature, heated to 35 ° C. over 30 minutes, and then aged for 210 minutes. Immediately after completion of aging, the solid content was separated by centrifugal filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of filtered water reached 30 μS / cm. Thus, a fatty acid silver salt was obtained. The obtained solid content was stored as a wet cake without drying.

得られたベヘン酸銀粒子の形態を電子顕微鏡撮影により評価したところ、平均値でa=0.14μm、b=0.4μm、c=0.6μm、平均アスペクト比5.2、平均球相当径0.52μm、球相当径の変動係数15%のりん片状の結晶であった。(a,b,cは本文の規定)   When the morphology of the obtained silver behenate particles was evaluated by electron microscope photography, the average values were a = 0.14 μm, b = 0.4 μm, c = 0.6 μm, average aspect ratio 5.2, average sphere equivalent diameter. It was a flake-like crystal having a variation coefficient of 15% for a sphere equivalent diameter of 0.52 μm. (A, b, and c are the text provisions)

乾燥固形分260kg相当のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコール(商品名:PVA−217)19.3kg及び水を添加し、全体量を1000kgとしてからディゾルバー羽根でスラリー化し、更にパイプラインミキサー(みづほ工業製:PM−10型)で予備分散した。   19.3 kg of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217) and water are added to a wet cake corresponding to a dry solid content of 260 kg to make a total amount of 1000 kg, and then slurried with a dissolver blade, and a pipeline mixer (manufactured by Mizuho Kogyo Co., Ltd.). : PM-10 type).

次に予備分散済みの原液を分散機(商品名:マイクロフルイダイザーM−610、マイクロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーション製、Z型インタラクションチャンバー使用)の圧力を1260kg/cm2に調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物を得た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節することで18℃の分散温度に設定した。 Next, the pre-dispersed stock solution is adjusted to 1260 kg / cm 2 by adjusting the pressure of the disperser (trade name: Microfluidizer M-610, manufactured by Microfluidics International Corporation, using Z-type interaction chamber) three times. Treatment gave a silver behenate dispersion. The cooling operation was carried out by installing a serpentine heat exchanger before and after the interaction chamber, and adjusting the temperature of the refrigerant to a dispersion temperature of 18 ° C.

《脂肪酸銀分散物Bの調製》
<再結晶ベヘン酸の調製>
ヘンケル社製ベヘン酸(製品名Edenor C22−85R)100kgを、1200kgのイソプロピルアルコールにまぜ、50℃で溶解し、10μmのフィルターで濾過した後、30℃まで、冷却し、再結晶を行った。再結晶をする際の、冷却スピードは、3℃/時間にコントロールした。得られた結晶を遠心濾過し、100kgのイソプルピルアルコールでかけ洗いを実施した後、乾燥を行った。得られた結晶をエステル化してGC−FID測定をしたところ、ベヘン酸含有率は96モル%、それ以外にリグノセリン酸が2モル%、アラキジン酸が2モル%、エルカ酸0.001モル%含まれていた。
<< Preparation of fatty acid silver dispersion B >>
<Preparation of recrystallized behenic acid>
100 kg of behenic acid (product name Edenor C22-85R) manufactured by Henkel was mixed in 1200 kg of isopropyl alcohol, dissolved at 50 ° C., filtered through a 10 μm filter, cooled to 30 ° C., and recrystallized. The cooling speed during recrystallization was controlled at 3 ° C./hour. The obtained crystals were centrifugally filtered, washed with 100 kg of isopropyl alcohol, and then dried. When the obtained crystals were esterified and subjected to GC-FID measurement, the behenic acid content was 96 mol%, and in addition, lignoceric acid was 2 mol%, arachidic acid was 2 mol%, and erucic acid was 0.001 mol%. It was.

<脂肪酸銀分散物Bの調製>
再結晶ベヘン酸88kg、蒸留水422L、5mol/L濃度のNaOH水溶液49.2L、t−ブチルアルコール120Lを混合し、75℃にて1時間攪拌し反応させ、ベヘン酸ナトリウム溶液Bを得た。別に、硝酸銀40.4kgの水溶液206.2L(pH4.0)を用意し、10℃にて保温した。635Lの蒸留水と30Lのt−ブチルアルコールを入れた反応容器を30℃に保温し、十分に撹拌しながら先のベヘン酸ナトリウム溶液Bの全量と硝酸銀水溶液の全量を流量一定でそれぞれ93分15秒と90分かけて添加した。このとき、硝酸銀水溶液添加開始後11分間は硝酸銀水溶液のみが添加されるようにし、そのあとベヘン酸ナトリウム溶液Bを添加開始し、硝酸銀水溶液の添加終了後14分15秒間はベヘン酸ナトリウム溶液Bのみが添加されるようにした。このとき、反応容器内の温度は30℃とし、液温度が一定になるように外温コントロールした。また、ベヘン酸ナトリウム溶液Bの添加系の配管は、2重管の外側に温水を循環させる事により保温し、添加ノズル先端の出口の液温度が75℃になるよう調製した。また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は、2重管の外側に冷水を循環させることにより保温した。ベヘン酸ナトリウム溶液Bの添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置は撹拌軸を中心として対称的な配置とし、また反応液に接触しないような高さに調製した。
<Preparation of fatty acid silver dispersion B>
Recrystallized behenic acid 88 kg, distilled water 422 L, 5 mol / L NaOH aqueous solution 49.2 L and t-butyl alcohol 120 L were mixed and stirred at 75 ° C. for 1 hour to react to obtain sodium behenate solution B. Separately, 206.2 L (pH 4.0) of an aqueous solution containing 40.4 kg of silver nitrate was prepared and kept warm at 10 ° C. A reaction vessel containing 635 L of distilled water and 30 L of t-butyl alcohol was kept at 30 ° C., and with sufficient stirring, the total amount of the previous sodium behenate solution B and the total amount of silver nitrate aqueous solution were kept at a constant flow rate for 93 minutes 15 Added over seconds and 90 minutes. At this time, only the silver nitrate aqueous solution is added for 11 minutes after the start of the addition of the aqueous silver nitrate solution, and then the addition of the sodium behenate solution B is started. After the addition of the aqueous silver nitrate solution is completed, only the sodium behenate solution B is added for 14 minutes and 15 seconds. Was added. At this time, the temperature in the reaction vessel was 30 ° C., and the external temperature was controlled so that the liquid temperature was constant. The pipe of the addition system for the sodium behenate solution B was kept warm by circulating hot water outside the double pipe so that the liquid temperature at the outlet at the tip of the addition nozzle was 75 ° C. Moreover, the piping of the addition system of the silver nitrate aqueous solution was kept warm by circulating cold water outside the double pipe. The addition position of the sodium behenate solution B and the addition position of the silver nitrate aqueous solution were symmetrically arranged around the stirring axis, and were adjusted so as not to contact the reaction solution.

ベヘン酸ナトリウム溶液Bを添加終了後、そのままの温度で20分間撹拌放置し、30分かけて35℃に昇温し、その後210分熟成を行った。熟成終了後直ちに、遠心濾過で固形分を濾別し、固形分を濾過水の伝導度が30μS/cmになるまで水洗した。こうして脂肪酸銀塩を得た。得られた固形分は、乾燥させないでウエットケーキとして保管した。
得られたベヘン酸銀粒子の形態を電子顕微鏡撮影により評価したところ、平均値でa=0.21μm、b=0.4μm、c=0.4μm、平均アスペクト比2.1、球相当径の変動係数11%の結晶であった(a,b,cは本文の規定)。
After completion of the addition of the sodium behenate solution B, the mixture was left stirring for 20 minutes at the same temperature, heated to 35 ° C. over 30 minutes, and then aged for 210 minutes. Immediately after completion of aging, the solid content was separated by centrifugal filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of filtered water reached 30 μS / cm. Thus, a fatty acid silver salt was obtained. The obtained solid content was stored as a wet cake without drying.
When the morphology of the obtained silver behenate particles was evaluated by electron microscope photography, the average values were a = 0.21 μm, b = 0.4 μm, c = 0.4 μm, average aspect ratio 2.1, and equivalent sphere diameter. It was a crystal with a variation coefficient of 11% (a, b, and c are defined in the text).

乾燥固形分260kg相当のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコール(商品名:PVA−217)19.3kg及び水を添加し、全体量を1000kgとしてからディゾルバー羽根でスラリー化し、更にパイプラインミキサー(みづほ工業製:PM−10型)で予備分散した。   19.3 kg of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217) and water are added to a wet cake corresponding to a dry solid content of 260 kg to make a total amount of 1000 kg, and then slurried with a dissolver blade, and a pipeline mixer (manufactured by Mizuho Kogyo Co., Ltd.). : PM-10 type).

次に予備分散済みの原液を分散機(商品名:マイクロフルイダイザーM−610、マイクロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーション製、Z型インタラクションチャンバー使用)の圧力を1150kg/cm2に調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物を得た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節することで18℃の分散温度に設定した。 Next, the pre-dispersed stock solution is adjusted to a pressure of 1150 kg / cm 2 in a disperser (trade name: Microfluidizer M-610, manufactured by Microfluidics International Corporation, using a Z-type interaction chamber) three times. Treatment gave a silver behenate dispersion. The cooling operation was carried out by installing a serpentine heat exchanger before and after the interaction chamber, and adjusting the temperature of the refrigerant to a dispersion temperature of 18 ° C.

3)還元剤分散物の調製
《還元剤−1分散物の調製》
還元剤―1(2,2’−メチレンビス−(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール))10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液16kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて3時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて還元剤の濃度が25質量%になるように調製した。この分散液を60℃で5時間加熱処理し、還元剤―1分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径0.40μm、最大粒子径1.4μm以下であった。得られた還元剤分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
3) Preparation of reducing agent dispersion << Preparation of reducing agent-1 dispersion >>
10 kg of water was added to 10 kg of a reducing agent-1 (2,2′-methylenebis- (4-ethyl-6-tert-butylphenol)) 10 kg and a 10% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203). Add and mix well to make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump, dispersed for 3 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0. 2 g and water were added to prepare a reducing agent concentration of 25% by mass. This dispersion was heat-treated at 60 ° C. for 5 hours to obtain a reducing agent-1 dispersion. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.40 μm and a maximum particle diameter of 1.4 μm or less. The obtained reducing agent dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.

《還元剤−2分散物の調製》
還元剤―2(6,6’−ジ−t−ブチル−4,4’−ジメチル−2,2’−ブチリデンジフェノール)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液16kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて3時間30分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて還元剤の濃度が25質量%になるように調製した。この分散液を40℃で1時間加熱した後、引き続いてさらに80℃で1時間加熱処理し、還元剤―2分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径0.50μm、最大粒子径1.6μm以下であった。得られた還元剤分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
<< Preparation of Reducing Agent-2 Dispersion >>
10 mass of reducing agent-2 (6,6′-di-t-butyl-4,4′-dimethyl-2,2′-butylidenediphenol) and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) 10 kg of water was added to 16 kg of% aqueous solution and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 3 hours 30 minutes in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to prepare a reducing agent concentration of 25% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 1 hour, and then further heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain a reducing agent-2 dispersion. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.50 μm and a maximum particle diameter of 1.6 μm or less. The obtained reducing agent dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.

4)水素結合性化合物−1分散物の調製
水素結合性化合物−1(トリ(4−t−ブチルフェニル)ホスフィンオキシド)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液16kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて4時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて水素結合性化合物の濃度が25質量%になるように調製した。この分散液を40℃で1時間加熱した後、引き続いてさらに80℃で1時間加温し、水素結合性化合物―1分散物を得た。こうして得た水素結合性化合物分散物に含まれる水素結合性化合物粒子はメジアン径0.45μm、最大粒子径1.3μm以下であった。得られた水素結合性化合物分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
4) Preparation of hydrogen bonding compound-1 dispersion 10 kg of hydrogen bonding compound-1 (tri (4-t-butylphenyl) phosphine oxide) and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) 10 kg of water was added to 16 kg of the aqueous solution and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump, and dispersed for 4 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare a hydrogen bonding compound concentration of 25% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 1 hour and then further heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain a hydrogen bonding compound-1 dispersion. The hydrogen bonding compound particles contained in the hydrogen bonding compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.45 μm and a maximum particle diameter of 1.3 μm or less. The obtained hydrogen bonding compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.

5)現像促進剤−1分散物の調製
現像促進剤−1を10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液20kgに、水10kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて3時間30分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて現像促進剤の濃度が20質量%になるように調製し、現像促進剤−1分散物を得た。こうして得た現像促進剤分散物に含まれる現像促進剤粒子はメジアン径0.48μm、最大粒子径1.4μm以下であった。得られた現像促進剤分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
6)現像促進剤−2及び色調調整剤−1の分散物調製
現像促進剤−2及び色調調整剤−1の固体分散物についても現像促進剤−1と同様の方法により分散し、それぞれ20質量%、15質量%の分散液を得た。
5) Preparation of Development Accelerator-1 Dispersion 10 kg of Development Accelerator-1 and 20 kg of 10% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) were added with 10 kg of water and mixed well. To make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 3 hours 30 minutes in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to adjust the concentration of the development accelerator to 20% by mass to obtain a development accelerator-1 dispersion. The development accelerator particles contained in the development accelerator dispersion thus obtained had a median diameter of 0.48 μm and a maximum particle diameter of 1.4 μm or less. The obtained development accelerator dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
6) Preparation of Dispersion of Development Accelerator-2 and Color Adjuster-1 The solid dispersion of Development Accelerator-2 and Color Adjuster-1 was also dispersed by the same method as Development Accelerator-1, each having 20 mass. %, 15% by mass of a dispersion liquid was obtained.

7)ポリハロゲン化合物の調製
《有機ポリハロゲン化合物−1分散物の調製》
有機ポリハロゲン化合物―1(トリブロモメタンスルホニルベンゼン)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製ポバールMP203)の20質量%水溶液10kgと、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液0.4kgと、水14kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて5時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が26質量%になるように調製し、有機ポリハロゲン化合物―1分散物を得た。こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径0.41μm、最大粒子径2.0μm以下であった。得られた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径10.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
7) Preparation of polyhalogen compound << Preparation of organic polyhalogen compound-1 dispersion >>
10 kg of organic polyhalogen compound-1 (tribromomethanesulfonylbenzene), 10 kg of a 20% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Poval MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 0.4 kg of a 20% by weight aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate, Then, 14 kg of water was added and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 5 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare an organic polyhalogen compound concentration of 26% by mass to obtain an organic polyhalogen compound-1 dispersion. The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.41 μm and a maximum particle diameter of 2.0 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 10.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.

《有機ポリハロゲン化合物−2分散物の調製》
有機ポリハロゲン化合物―2(N−ブチル−3−トリブロモメタンスルホニルベンゾアミド)10kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製ポバールMP203)の10質量%水溶液20kgと、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液0.4kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて5時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が30質量%になるように調製した。この分散液を40℃で5時間加温し、有機ポリハロゲン化合物―2分散物を得た。こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径0.40μm、最大粒子径1.3μm以下であった。得られた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
<< Preparation of organic polyhalogen compound-2 dispersion >>
10 kg of an organic polyhalogen compound-2 (N-butyl-3-tribromomethanesulfonylbenzoamide), 20 kg of a 10% by mass aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Poval MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.), and 20 of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate 0.4 kg of a mass% aqueous solution was added and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 5 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare an organic polyhalogen compound concentration of 30% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 5 hours to obtain an organic polyhalogen compound-2 dispersion. The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.40 μm and a maximum particle diameter of 1.3 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.

8)フタラジン化合物−1溶液の調製
8kgのクラレ(株)製変性ポリビニルアルコールMP203を水174.57kgに溶解し、次いでトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液3.15kgとフタラジン化合物―1(6−イソプロピルフタラジン)の70質量%水溶液14.28kgを添加し、フタラジン化合物―1の5質量%溶液を調製した。
8) Preparation of Phthalazine Compound-1 Solution 8 kg of Kuraray Co., Ltd. modified polyvinyl alcohol MP203 was dissolved in 174.57 kg of water, and then 3.15 kg of a 20 mass% aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate and phthalazine compound-1 ( 14.28 kg of a 70% by weight aqueous solution of 6-isopropylphthalazine) was added to prepare a 5% by weight solution of phthalazine compound-1.

9)メルカプト化合物の調製
《メルカプト化合物−1水溶液の調製》
メルカプト化合物―1(1−(3−スルホフェニル)−5−メルカプトテトラゾールナトリウム塩)7gを水993gに溶解し、0.7質量%の水溶液とした。
9) Preparation of mercapto compound << Preparation of aqueous solution of mercapto compound-1 >>
7 g of mercapto compound-1 (1- (3-sulfophenyl) -5-mercaptotetrazole sodium salt) was dissolved in 993 g of water to obtain a 0.7% by mass aqueous solution.

《メルカプト化合物−2水溶液の調製》
メルカプト化合物―2(1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾール)20gを水980gに溶解し、2.0質量%の水溶液とした。
<< Preparation of Mercapto Compound-2 Aqueous Solution >>
20 g of mercapto compound-2 (1- (3-methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole) was dissolved in 980 g of water to obtain a 2.0 mass% aqueous solution.

10)顔料−1分散物の調製
C.I.Pigment Blue 60を64gと花王(株)製デモールNを6.4gに水250gを添加し良く混合してスラリーとした。平均直径0.5mmのジルコニアビーズ800gを用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機(1/4Gサンドグラインダーミル:アイメックス(株)製)にて25時間分散し、水を加えて顔料の濃度が5質量%になるように調製して顔料−1分散物を得た。こうして得た顔料分散物に含まれる顔料粒子は平均粒径0.21μmであった。
10) Preparation of Pigment-1 Dispersion C.I. I. Pigment Blue 60 (64 g) and Kao Corp. Demol N (6.4 g) were added to 250 g of water and mixed well to obtain a slurry. Prepare 800 g of zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, put them in a vessel together with the slurry, and disperse with a disperser (1/4 G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) for 25 hours. A pigment-1 dispersion was obtained by adjusting the concentration to 5% by mass. The pigment particles contained in the pigment dispersion thus obtained had an average particle size of 0.21 μm.

11)SBRラテックス液の調製
SBRラテックスは以下により調整した。
ガスモノマー反応装置(耐圧硝子工業(株)製TAS−2J型)の重合釜に、蒸留水287g、界面活性剤(パイオニンA−43−S(竹本油脂(株)製):固形分48.5質量%)7.73g、1mol/リットルNaOH14.06ml、エチレンジアミン4酢酸4ナトリウム塩0.15g、スチレン255g、アクリル酸11.25g、tert−ドデシルメルカプタン3.0gを入れ、反応容器を密閉し撹拌速度200rpmで撹拌した。真空ポンプで脱気し窒素ガス置換を数回繰返した後に、1,3−ブタジエン108.75gを圧入して内温60℃まで昇温した。ここに過硫酸アンモニウム1.875gを水50mlに溶解した液を添加し、そのまま5時間撹拌した。さらに90℃に昇温して3時間撹拌し、反応終了後内温が室温になるまで下げた後、1mol/リットルのNaOHとNH4OHを用いてNa+イオン:NH4 +イオン=1:5.3(モル比)になるように添加処理し、pH8.4に調整した。その後、孔径1.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納し、SBRラテックスを774.7g得た。イオンクロマトグラフィーによりハロゲンイオンを測定したところ、塩化物イオン濃度3ppmであった。高速液体クロマトグラフィーによりキレート剤の濃度を測定した結果、145ppmであった。
11) Preparation of SBR latex solution SBR latex was prepared as follows.
In a polymerization kettle of a gas monomer reactor (TAS-2J type manufactured by Pressure Glass Industrial Co., Ltd.), 287 g of distilled water and a surfactant (Pionin A-43-S (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.)): solid content 48.5 (Mass%) 7.73 g, 1 mol / liter NaOH 14.06 ml, ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt 0.15 g, styrene 255 g, acrylic acid 11.25 g, tert-dodecyl mercaptan 3.0 g were put, the reaction vessel was sealed and the stirring speed was Stir at 200 rpm. After degassing with a vacuum pump and repeating nitrogen gas replacement several times, 108.75 g of 1,3-butadiene was injected to raise the internal temperature to 60 ° C. A solution obtained by dissolving 1.875 g of ammonium persulfate in 50 ml of water was added thereto, and the mixture was stirred as it was for 5 hours. The temperature was further raised to 90 ° C. and stirred for 3 hours. After the reaction was completed, the internal temperature was lowered to room temperature, and then Na + ion: NH 4 + ion = 1: 1 using 1 mol / liter NaOH and NH 4 OH. Addition treatment was performed so that the molar ratio was 5.3 (molar ratio), and the pH was adjusted to 8.4. Thereafter, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored, and 774.7 g of SBR latex was obtained. When the halogen ions were measured by ion chromatography, the chloride ion concentration was 3 ppm. As a result of measuring the concentration of the chelating agent by high performance liquid chromatography, it was 145 ppm.

上記ラテックスは平均粒径90nm、Tg=17℃、固形分濃度44質量%、25℃60%RHにおける平衡含水率0.6質量%、イオン伝導度4.80mS/cm(イオン伝導度の測定は東亜電波工業(株)製伝導度計CM−30S使用し、ラテックス原液(44質量%)を25℃にて測定)であった。   The latex has an average particle size of 90 nm, Tg = 17 ° C., solid content concentration of 44 mass%, equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH, 0.6 mass%, ion conductivity of 4.80 mS / cm (measurement of ion conductivity is A latex stock solution (44 mass%) was measured at 25 ° C. using a conductivity meter CM-30S manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd.).

Tgの異なるSBRラテックスはスチレン、ブタジエンの比率を適宜変更し、同様の方法により調整できる。   SBR latexes having different Tg can be adjusted by the same method by appropriately changing the ratio of styrene and butadiene.

2.塗布液の調整
1)画像形成層塗布液−1の調製
上記で得た脂肪酸銀分散物A1000g、水135ml、顔料−1分散物35g、有機ポリハロゲン化合物−1分散物19g、有機ポリハロゲン化合物−2分散物58g、フタラジン化合物―1溶液162g、SBRラテックス(Tg:17℃)液1060g、還元剤−1分散物75g、還元剤−2分散物75g、水素結合性化合物−1分散物106g、現像促進剤−1分散物4.8g、メルカプト化合物−1水溶液9ml、メルカプト化合物−2水溶液27mlを順次添加し、塗布直前にハロゲン化銀混合乳剤A118gを添加して良く混合した画像形成層塗布液をそのままコーティングダイへ送液した。
2. Preparation of coating solution 1) Preparation of image forming layer coating solution-1 1000 g of fatty acid silver dispersion A obtained above, 135 ml of water, 35 g of pigment-1 dispersion, 19 g of organic polyhalogen compound-1 dispersion, organic polyhalogen compound- 2 dispersion 58g, phthalazine compound-1 solution 162g, SBR latex (Tg: 17 ° C) liquid 1060g, reducing agent-1 dispersion 75g, reducing agent-2 dispersion 75g, hydrogen bonding compound-1 dispersion 106g, development 4.8 g of accelerator-1 dispersion, 9 ml of mercapto compound-1 aqueous solution and 27 ml of mercapto compound-2 aqueous solution were sequentially added, and 118 g of silver halide mixed emulsion A was added immediately before coating, followed by mixing well. The solution was fed directly to the coating die.

上記画像形成層塗布液の粘度は東京計器のB型粘度計で測定して、40℃(No.1ローター、60rpm)で25[mPa・s]であった。
Haake社製RheoStress RS150を使用した38℃での塗布液の粘度は剪断速度が0.1、1、10、100、1000[1/秒]においてそれぞれ32、35、33、26、17[mPa・s]であった。
The viscosity of the image forming layer coating solution was 25 [mPa · s] at 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm) as measured with a B-type viscometer of Tokyo Keiki.
The viscosity of the coating solution at 38 ° C. using RheoStress RS150 manufactured by Haake is 32, 35, 33, 26, and 17 [mPa · s] at shear rates of 0.1, 1, 10, 100, and 1000 [1 / second], respectively. s].

塗布液中のジルコニウム量は銀1gあたり0.32mgであった。   The amount of zirconium in the coating solution was 0.32 mg per 1 g of silver.

2)画像形成層塗布液−2の調製
上記で得た脂肪酸銀分散物B1000g、水135ml、顔料−1分散物36g、有機ポリハロゲン化合物−1分散物25g、有機ポリハロゲン化合物−2分散物39g、フタラジン化合物―1溶液171g、SBRラテックス(Tg:17℃)液1060g、還元剤−2分散物153g、水素結合性化合物−1分散物55g、現像促進剤−1分散物4.8g、現像促進剤−2分散物5.2g、色調調整剤−1分散物2.1g、メルカプト化合物−2水溶液8mlを順次添加し、塗布直前にハロゲン化銀混合乳剤A140gを添加して良く混合した画像形成層塗布液をそのままコーティングダイへ送液した。
上記画像形成層塗布液の粘度は東京計器のB型粘度計で測定して、40℃(No.1ローター、60rpm)で40[mPa・s]であった。
Haake社製RheoStress RS150を使用した38℃での塗布液の粘度は剪断速度が0.1、1、10、100、1000[1/秒]においてそれぞれ30、43、41、28、20[mPa・s]であった。
2) Preparation of image forming layer coating liquid-2 1000 g of fatty acid silver dispersion B obtained above, 135 ml of water, 36 g of pigment-1 dispersion, 25 g of organic polyhalogen compound-1 dispersion, 39 g of organic polyhalogen compound-2 dispersion , 171 g of phthalazine compound-1 solution, 1060 g of SBR latex (Tg: 17 ° C.) liquid, 153 g of reducing agent-2 dispersion, 55 g of hydrogen bonding compound-1 dispersion, 4.8 g of development accelerator-1 dispersion, development acceleration Agent-2 dispersion 5.2 g, color tone modifier-1 dispersion 2.1 g, mercapto compound-2 aqueous solution 8 ml were sequentially added, and silver halide mixed emulsion A140 g was added immediately before coating and mixed well. The coating solution was fed directly to the coating die.
The viscosity of the image forming layer coating solution was 40 [mPa · s] at 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm) as measured with a B-type viscometer of Tokyo Keiki.
The viscosity of the coating solution at 38 ° C. using a Haake RheoStress RS150 is 30, 43, 41, 28, 20 [mPa · s] at shear rates of 0.1, 1, 10, 100, 1000 [1 / second], respectively. s].

塗布液中のジルコニウム量は銀1gあたり0.30mgであった。   The amount of zirconium in the coating solution was 0.30 mg per 1 g of silver.

3)中間層塗布液の調製
ポリビニルアルコールPVA−205(クラレ(株)製)1000g、顔料−1分散物163g、青色染料化合物−1(日本化薬(株)製:カヤフェクトターコイズRNリキッド150)水溶液33g、スルホコハク酸ジ(2−エチルヘキシル)ナトリウム塩5質量%水溶液27ml、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比57/8/28/5/2)ラテックス19質量%液4200mlにエアロゾールOT(アメリカンサイアナミド社製)の5質量%水溶液を27ml、フタル酸二アンモニウム塩の20質量%水溶液を135ml、総量10000gになるように水を加え、pHが7.5になるようにNaOHで調整して中間層塗布液とし、8.9ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター、60rpm)で58[mPa・s]であった。
3) Preparation of intermediate layer coating solution 1000 g of polyvinyl alcohol PVA-205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 163 g of pigment-1 dispersion, blue dye compound-1 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: Kayafect Turquoise RN Liquid 150) 33 g of aqueous solution, 27 ml of 5% by mass of di (2-ethylhexyl) sodium salt of sulfosuccinate, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymer mass ratio 57/8/28/5/2) ) 27 ml of 5% aqueous solution of aerosol OT (manufactured by American Cyanamid Co.) was added to 4200 ml of latex 19% by weight, 135 ml of 20% by weight aqueous solution of diammonium phthalate, and water was added to a total amount of 10000 g. Adjust with NaOH so that pH is 7.5 The intermediate layer coating solution was fed to the coating die so as to be 8.9 ml / m 2 .
The viscosity of the coating solution was 58 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).

4)表面保護層第1層塗布液の調製
イナートゼラチン100g、ベンゾイソチアゾリノン10mgを水840mlに溶解し、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比57/8/28/5/2)ラテックス19質量%液180g、フタル酸の15質量%メタノール溶液を46ml、スルホコハク酸ジ(2−エチルヘキシル)ナトリウム塩の5質量%水溶液を5.4mlを加えて混合し、塗布直前に4質量%のクロムみょうばん40mlをスタチックミキサーで混合したものを塗布液量が26.1ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター、60rpm)で20[mPa・s]であった。
4) Preparation of surface protective layer first layer coating solution 100 g of inert gelatin and 10 mg of benzoisothiazolinone were dissolved in 840 ml of water, and a methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio) 57/8/28/5/2) Latex 19% by weight solution 180g, phthalic acid 15% by weight methanol solution 46ml, sulfosuccinic acid di (2-ethylhexyl) sodium salt 5% by weight aqueous solution 5.4ml was added. The mixture was mixed, and immediately before coating, 40 ml of 4% by weight chromium alum was mixed with a static mixer and fed to the coating die so that the amount of the coating solution was 26.1 ml / m 2 .
The viscosity of the coating solution was 20 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).

5)表面保護層第2層塗布液の調製
イナートゼラチン100g、ベンゾイソチアゾリノン10mgを水800mlに溶解し、流動パラフィン乳化物を流動パラフィンとして8.0g、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比57/8/28/5/2)ラテックス19質量%液180g、フタル酸15質量%メタノール溶液40ml、フッ素化合物−Aの1質量%溶液を5.5ml、フッ素化合物−Bの1質量%水溶液を5.5ml、スルホコハク酸ジ(2−エチルヘキシル)ナトリウム塩の5質量%水溶液を28ml、ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径0.7μm)4g、ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5μm)21gを混合したものを表面保護層塗布液とし、8.3ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター,60rpm)で19[mPa・s]であった。
5) Preparation of surface protective layer second layer coating solution 100 g of inert gelatin and 10 mg of benzoisothiazolinone are dissolved in 800 ml of water and 8.0 g of liquid paraffin emulsion as liquid paraffin, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl 5. Methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio 57/8/28/5/2) 19% by weight of latex 19% by weight liquid 180% phthalic acid 15% by weight methanol solution 40ml, 1% by weight solution of fluorine compound-A 5. 5 ml, 5.5 ml of a 1% by weight aqueous solution of fluorine compound-B, 28 ml of a 5% by weight aqueous solution of di (2-ethylhexyl) sodium sulfosuccinate, 4 g of polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 0.7 μm), polymethyl Mixed with 21 g of methacrylate fine particles (average particle size 4.5 μm) The ones and the surface protective layer coating solution was fed to a coating die so that 8.3 ml / m 2.
The viscosity of the coating solution was 19 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).

3.熱現像感光材料の作製
1)熱現像感光材料−101の作製
バック層−1が塗布されたバック面と反対の面に、下塗り面から画像形成層塗布液−1、中間層塗布液、表面保護層第1層塗布液、表面保護層第2層塗布液の順番でスライドビード塗布方式にて同時重層塗布し、熱現像感光材料の試料を作製した。このとき、画像形成層と中間層の塗布液は31℃に、表面保護層第1層の塗布液は36℃に、表面保護層第2層の塗布液は37℃に温度調整した。
画像形成層の各化合物の塗布量(g/m2)は以下の通りである。
3. Preparation of photothermographic material 1) Preparation of photothermographic material-101 On the surface opposite to the back surface on which the back layer-1 was applied, from the undercoat surface, the image forming layer coating solution-1, the intermediate layer coating solution, and the surface protection A layer of the first layer coating solution and the surface protective layer second layer coating solution were simultaneously applied by the slide bead coating method to prepare a sample of the photothermographic material. At this time, the coating solution for the image forming layer and the intermediate layer was adjusted to 31 ° C., the coating solution for the first surface protective layer was adjusted to 36 ° C., and the coating solution for the second surface protective layer was adjusted to 37 ° C.
The coating amount (g / m 2 ) of each compound in the image forming layer is as follows.

脂肪酸銀 5.42
顔料(C.I.Pigment Blue 60) 0.036
ポリハロゲン化合物−1 0.12
ポリハロゲン化合物−2 0.25
フタラジン化合物−1 0.18
SBRラテックス 9.70
還元剤−1 0.40
還元剤−2 0.40
水素結合性化合物−1 0.58
現像促進剤−1 0.02
メルカプト化合物−1 0.002
メルカプト化合物−2 0.012
ハロゲン化銀(Agとして) 0.10
Fatty acid silver 5.42
Pigment (C.I. Pigment Blue 60) 0.036
Polyhalogen compound-1 0.12
Polyhalogen compound-2 0.25
Phthalazine Compound-1 0.18
SBR latex 9.70
Reducing agent-1 0.40
Reducing agent-2 0.40
Hydrogen bonding compound-1 0.58
Development accelerator-1 0.02
Mercapto Compound-1 0.002
Mercapto compound-2 0.012
Silver halide (as Ag) 0.10

塗布乾燥条件は以下のとおりである。
塗布はスピード160m/minで行い、コーティングダイ先端と支持体との間隙を0.10〜0.30mmとし、減圧室の圧力を大気圧に対して196〜882Pa低く設定した。支持体は塗布前にイオン風にて除電した。
引き続くチリングゾーンにて、乾球温度10℃〜20℃の風にて塗布液を冷却した後、無接触型搬送して、つるまき式無接触型乾燥装置にて、乾球温度23℃〜45℃、湿球温度15℃〜21℃の乾燥風で乾燥させた。
乾燥後、25℃で湿度40%RH〜60%RHで調湿した後、膜面を70℃〜90℃になるように加熱した。加熱後、膜面を25℃まで冷却した。
作製された熱現像感光材料のマット度はベック平滑度で感光性層面側が550秒、バック面が130秒であった。また、感光層面側の膜面のpHを測定したところ6.0であった。
The coating and drying conditions are as follows.
The coating was performed at a speed of 160 m / min, the gap between the coating die tip and the support was set to 0.10 to 0.30 mm, and the pressure in the decompression chamber was set to be 196 to 882 Pa lower than the atmospheric pressure. The support was neutralized with an ion wind before coating.
In the subsequent chilling zone, the coating liquid is cooled with a wind at a dry bulb temperature of 10 ° C. to 20 ° C., then transported in a non-contact manner, and dried at a dry bulb temperature of 23 ° C. to 45 ° C. It dried with the drying wind of 15 degreeC and the wet-bulb temperature of 15 to 21 degreeC.
After drying, the humidity was adjusted at 25 ° C. and humidity of 40% RH to 60% RH, and then the film surface was heated to 70 ° C. to 90 ° C. After heating, the film surface was cooled to 25 ° C.
The photothermographic material thus prepared had a Beck smoothness of 550 seconds on the photosensitive layer surface side and 130 seconds on the back surface. Further, the pH of the film surface on the photosensitive layer surface side was measured and found to be 6.0.

2)熱現像感光材料−102〜115の作製
熱現像感光材料−101の作製において、バック層−1をバック層−2〜15に変更した以外は同様にして、熱現像感光材料−102〜115を作製した。
2) Production of photothermographic material -102 to 115 Photothermographic material -102 to 115 was produced in the same manner as in production of photothermographic material -101, except that back layer-1 was changed to back layer-2 to 15. Was made.

3)熱現像感光材料−201の作製
熱現像感光材料−101に対して、画像形成層塗布液−1を画像形成層塗布液−2に変更した他は熱現像感光材料−1と同様にして熱現像感光材料−2を作製した。
このときの画像形成層の各化合物の塗布量(g/m2)は以下の通りである。
3) Preparation of photothermographic material-201 The photothermographic material-101 was prepared in the same manner as the photothermographic material-1, except that the image forming layer coating solution-1 was changed to the image forming layer coating solution-2. Photothermographic material-2 was produced.
The coating amount (g / m 2 ) of each compound in the image forming layer at this time is as follows.

脂肪酸銀 5.27
顔料(C.I.Pigment Blue 60) 0.036
ポリハロゲン化合物−1 0.14
ポリハロゲン化合物−2 0.28
フタラジン化合物−1 0.18
SBRラテックス 9.43
還元剤−2 0.77
水素結合性化合物−1 0.28
現像促進剤−1 0.019
現像促進剤−2 0.016
色調調整剤−1 0.006
メルカプト化合物−2 0.003
ハロゲン化銀(Agとして) 0.13
Fatty acid silver 5.27
Pigment (C.I. Pigment Blue 60) 0.036
Polyhalogen compound-1 0.14
Polyhalogen compound-2 0.28
Phthalazine Compound-1 0.18
SBR latex 9.43
Reducing agent-2 0.77
Hydrogen bonding compound-1 0.28
Development accelerator-1 0.019
Development accelerator-2 0.016
Color tone adjusting agent-1 0.006
Mercapto compound-2 0.003
Silver halide (as Ag) 0.13

4)熱現像感光材料−202〜215の作製
熱現像感光材料−201の作製において、バック層−1をバック層−2〜15に変更した以外は同様にして、熱現像感光材料−202〜215を作製した。
4) Preparation of photothermographic material -202 to 215 Photothermographic material -202 to 215 was prepared in the same manner as photothermographic material -201 except that back layer-1 was changed to back layer-2 to 15. Was made.

以下に本発明の実施例で用いた化合物の化学構造を示す。   The chemical structures of the compounds used in the examples of the present invention are shown below.

Figure 2005010752
Figure 2005010752

Figure 2005010752
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Figure 2005010752
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4.写真性能の評価
1)準備
得られた試料は半切サイズ(43cm長×35cm巾)に切断し、25℃65%RHの環境下で以下の包装材料に包装し、2週間常温下で保管した後、以下の評価を行った。
<包装材料>
PET10μm/PE12μm/アルミ箔9μm/Ny15μm/カーボン3質量%を含むポリエチレン50μm:
酸素透過率:0.02ml/atm・m2・25℃・day;
水分透過率:0.10g/atm・m2・25℃・day。
4). Evaluation of photographic performance 1) Preparation The obtained sample was cut into half-cut size (43 cm length x 35 cm width), packaged in the following packaging materials in an environment of 25 ° C. and 65% RH, and stored at room temperature for 2 weeks. The following evaluation was performed.
<Packaging materials>
PET 10 μm / PE 12 μm / aluminum foil 9 μm / Ny 15 μm / polyethylene 50 μm containing 3% by mass of carbon:
Oxygen permeability: 0.02 ml / atm · m 2 · 25 ° C · day;
Moisture permeability: 0.10 g / atm · m 2 · 25 ° C · day.

2)感光材料の露光・現像
熱現像感光材料−101〜115は富士メディカルドライレーザーイメージャーFM−DPL(最大60mW(IIIB)出力の660nm半導体レーザー搭載)にて露光・熱現像(112℃−119℃−121℃−121℃に設定した4枚のパネルヒータで合計24秒)し、得られた画像の評価を濃度計により行った。
熱現像感光材料−201〜215は富士メディカルドライレーザーイメージャーDRYPIX7000(最大50mW(IIIB)出力の660nm半導体レーザー搭載)にて露光・熱現像(107℃−121℃−121℃に設定した3枚のパネルヒータで合計14秒)し、得られた画像の評価を濃度計により行った。
2) Exposure / development of photosensitive material Photothermographic materials-101 to 115 are exposed and thermally developed at Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DPL (with a 660 nm semiconductor laser with a maximum output of 60 mW (IIIB)) (112 ° C.-119). A total of 24 seconds was set with four panel heaters set to ℃ −121 ℃ −121 ℃, and the obtained image was evaluated by a densitometer.
Photothermographic material-201 to 215 were exposed and heat developed with Fuji Medical Dry Laser Imager DRYPIX7000 (with a 660 nm semiconductor laser with a maximum output of 50 mW (IIIB)) (107 ° C-121 ° C-121 ° C) A total of 14 seconds with a panel heater), and the obtained image was evaluated with a densitometer.

3)性能の評価
<搬送性の評価>
熱現像感光材料−101〜115、及び−201〜215に対して、濃度が1.5になるように均一な露光を行い、35℃85%RHの条件下でそれぞれ50000枚ずつを上記ランニング状態の熱現像機で処理し、搬送不良によるジャミングの発生枚数をカウントした。
<処理後の強制保管条件における光沢度評価>
熱現像処理後の試料を50℃80%RHの条件で7日間保管した後の各試料のバック面の光沢度を測定し、処理直後の値に対して差で評価した。光沢度は、日本電色工業(株)製GLOSSMETER VG−2000を使用して測定を行なった。
光沢度低下度(%)=保存後の光沢度−処理直後の光沢度
3) Performance evaluation <Evaluation of transportability>
The photothermographic materials -101 to 115 and -201 to 215 are subjected to uniform exposure so that the density is 1.5, and 50,000 sheets are each in the above running state under the condition of 35 ° C. and 85% RH. The number of jammings due to poor conveyance was counted.
<Glossiness evaluation under forced storage conditions after treatment>
The gloss of the back surface of each sample after storing the sample after heat development treatment for 7 days under the condition of 50 ° C. and 80% RH was measured, and the difference was evaluated with respect to the value immediately after the processing. The glossiness was measured using a GLOSSMETER VG-2000 manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.
Glossiness reduction degree (%) = Glossiness after storage-Glossiness immediately after processing

4)評価結果
結果を表2および表3に示した。
4) Evaluation results The results are shown in Tables 2 and 3.

Figure 2005010752
Figure 2005010752

Figure 2005010752
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バック面保護層のバインダーが、水溶性ポリマーと、−30℃以上40℃以下のガラス転位温度のラテックスポリマーとを含有する場合に、搬送不良枚数が極めて少なく、強制経時後の光沢度低下も起こらない良好な熱現像感光材料となった。特に、I/O比が0.3以上1.0以下のポリマーラテックスを用いた場合、光沢度の低下がより少ない優れた結果を示した。I/O比が0.5以上0.9以下のポリマーラテックスはさらに優れた結果を示した。
また、使用した2種の画像記録装置の富士メディカルドライレーザーイメージャーFM−DPL、及びDRYPIX7000は、画像形成層を有する面側の表面を駆動ローラーに接触させ、かつ、バック層を有する側の表面をプレートヒーターに接触させて、熱現像を行うものであり、このような方法により画像を形成しても、搬送性は良好で、かつ得られた画像も良好であった。
When the binder of the back surface protective layer contains a water-soluble polymer and a latex polymer having a glass transition temperature of −30 ° C. or more and 40 ° C. or less, the number of defective conveyance is extremely small, and glossiness after forced aging also occurs. There was no good photothermographic material. In particular, when a polymer latex having an I / O ratio of 0.3 or more and 1.0 or less was used, excellent results with less reduction in gloss were shown. Polymer latex having an I / O ratio of 0.5 or more and 0.9 or less showed more excellent results.
The two types of used image recording apparatuses, Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DPL and DRYPIX 7000, have a surface on the surface side having an image forming layer in contact with a driving roller and a surface on the side having a back layer. The film was brought into contact with a plate heater for thermal development. Even when an image was formed by such a method, the transportability was good and the obtained image was also good.

実施例2
1)熱現像感光材料の作成
実施例1で作製した熱現像感光材料−101および107のバック面保護層で使用したゼラチンおよびフッ素系化合物Bを、表4に示したポリビニルアルコールおよびフッ素系化合物に変更し、熱現像感光材料−301〜311を作製した。ゼラチンを等質量でポリビニルアルコールに置き換え、フッ素系化合物F−2を等モル量で表4のフッ素系化合物に置き換えた。
Example 2
1) Preparation of photothermographic material Gelatin and fluorine compound B used in the back surface protective layers of photothermographic materials -101 and 107 prepared in Example 1 were converted into polyvinyl alcohol and fluorine compounds shown in Table 4. Thus, photothermographic materials -301 to 311 were prepared. Gelatin was replaced with polyvinyl alcohol at an equal mass, and fluorine compound F-2 was replaced with the fluorine compound shown in Table 4 at an equimolar amount.

Figure 2005010752
Figure 2005010752

*PVA−205:ポリビニルアルコールPVA−205(クラレ(株)製)
2)性能評価
熱現像感光材料−302〜305の結果が示すように、本願に記載のより好ましいフッ素系化合物を使用すると搬送性がさらに改良され、光沢度の低下もより改良された。
また、熱現像感光材料−307〜311の結果が示すように、バック面保護層バインダーとしてゼラチンをポリビニルアルコールに変更しても、ゼラチンと同様の効果が得られた。
本発明による熱現像感光材料はいずれも塗布面状が良好であった。
* PVA-205: Polyvinyl alcohol PVA-205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
2) Performance evaluation As shown by the results of the photothermographic materials -302 to 305, the use of the more preferable fluorine-based compounds described in the present application further improved the transportability and the glossiness.
Further, as shown in the results of the photothermographic materials 307 to 311, even when gelatin was changed to polyvinyl alcohol as the back surface protective layer binder, the same effect as gelatin was obtained.
The photothermographic materials according to the present invention all had a good coated surface.

本発明に係るレーザ記録装置の搭載された画像記録装置の概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram of an image recording apparatus equipped with a laser recording apparatus according to the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 画像記録装置
16 当て紙
36,38,40 トレー
37,39,41 バーコード読み取り用窓
43,45,47 バーコードリーダー
48,50,52 枚葉機構
54 画像記録部
56 ローラー
58 プレート
60 熱現像部
62 ローラー
64a,b,c プレートヒーター
66 ドラム
68 冷却部
70 排出部
F フィルム
L レーザービーム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Image recording device 16 Covering paper 36, 38, 40 Tray 37, 39, 41 Bar code reading window 43, 45, 47 Bar code reader 48, 50, 52 Single wafer mechanism 54 Image recording part 56 Roller 58 Plate 60 Thermal development Part 62 Roller 64a, b, c Plate heater 66 Drum 68 Cooling part 70 Discharge part F Film L Laser beam

Claims (15)

支持体の少なくとも一方の面上に、少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、還元剤及びバインダーを含有する画像形成層を有し、支持体に対して前記画像形成層を有する面とは反対面側に少なくとも1層のバック層とバック面保護層とを有する熱現像感光材料であって、
前記バック面保護層のバインダーが、水溶性ポリマーと、−30℃以上40℃以下のガラス転位温度のラテックスポリマーとを含有することを特徴とする熱現像感光材料。
A surface having an image forming layer containing at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder on at least one surface of the support, and the image forming layer on the support. A photothermographic material having at least one back layer and a back surface protective layer on the opposite surface side,
A photothermographic material, wherein the binder of the back surface protective layer contains a water-soluble polymer and a latex polymer having a glass transition temperature of from -30 ° C to 40 ° C.
前記バック面保護層中の全バインダーに対して、前記ラテックスポリマーを5質量%以上50質量%以下含有することを特徴とする請求項1に記載の熱現像感光材料。   2. The photothermographic material according to claim 1, wherein the latex polymer is contained in an amount of 5% by mass to 50% by mass with respect to all binders in the back surface protective layer. 前記バック面保護層中の全バインダーに対して、前記ラテックスポリマーを15質量%以上40質量%以下含有することを特徴とする請求項2に記載の熱現像感光材料。   The photothermographic material according to claim 2, wherein the latex polymer is contained in an amount of 15% by mass to 40% by mass with respect to all binders in the back surface protective layer. 前記ラテックスポリマーのガラス転位温度が、−30℃以上24℃以下であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   The photothermographic material according to claim 1, wherein the latex polymer has a glass transition temperature of −30 ° C. or higher and 24 ° C. or lower. 前記ラテックスポリマーが、アクリル系、スチレン系、アクリル/スチレン共重合系、スチレン/ブタジエン共重合系、塩化ビニル系、及び塩化ビニリデン系、ウレタン系からなる群から選択される少なくとも1種のポリマーであることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   The latex polymer is at least one polymer selected from the group consisting of acrylic, styrene, acrylic / styrene copolymer, styrene / butadiene copolymer, vinyl chloride, vinylidene chloride, and urethane. The photothermographic material according to claim 1, wherein the photothermographic material is a photothermographic material. 前記ラテックスポリマーが、アクリル系ラテックスポリマーであることを特徴とする請求項5に記載の熱現像感光材料。   6. The photothermographic material according to claim 5, wherein the latex polymer is an acrylic latex polymer. 前記ラテックスポリマーのI/O値が、0.1以上1.0以下であることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   The photothermographic material according to claim 1, wherein the latex polymer has an I / O value of 0.1 or more and 1.0 or less. 前記I/O値が、0.5以上0.9以下であることを特徴とする請求項7に記載の熱現像感光材料。   8. The photothermographic material according to claim 7, wherein the I / O value is 0.5 or more and 0.9 or less. 前記ラテックスポリマーが、アニオン系界面活性剤を含有することを特徴とする請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   The photothermographic material according to claim 1, wherein the latex polymer contains an anionic surfactant. 前記アニオン系界面活性剤がアルキルベンゼンスルホン酸塩類またはスルホコハク酸ジエステル類より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項9に記載の熱現像感光材料。   10. The photothermographic material according to claim 9, wherein the anionic surfactant is at least one selected from alkylbenzene sulfonates or sulfosuccinic acid diesters. 前記水溶性ポリマーがゼラチンであることを特徴とする請求項1〜請求項10のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   The photothermographic material according to claim 1, wherein the water-soluble polymer is gelatin. 前記水溶性ポリマーがポリビニルアルコール類、及びアクリル酸−ポリビニルアルコール共重合ポリマー類より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1〜請求項10のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   11. The photothermographic sensor according to claim 1, wherein the water-soluble polymer is at least one selected from polyvinyl alcohols and acrylic acid-polyvinyl alcohol copolymer polymers. material. 炭素原子数が2以上でフッ素原子数が13以下のフッ化アルキル基を有するフッ素化合物を含有することを特徴とする請求項1〜請求項12のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   13. The photothermographic material according to claim 1, comprising a fluorine compound having a fluorinated alkyl group having 2 or more carbon atoms and 13 or less fluorine atoms. 前記フッ素化合物が5以上9以下のフッ素原子数のフッ化アルキル基を有することを特徴とする請求項13に記載の熱現像感光材料。   14. The photothermographic material according to claim 13, wherein the fluorine compound has a fluorinated alkyl group having 5 to 9 fluorine atoms. 画像記録装置で画像を形成する熱現像感光材料の画像形成方法であって、前記画像記録装置は駆動ローラーとプレートヒーターとを有する熱現像部を有し、前記請求項1〜請求項14のいずれか1項に記載の前記熱現像感光材料の画像形成層を有する面側の表面を前記駆動ローラーに接触させ、かつ、前記熱現像感光材料のバック層を有する側の表面を前記プレートヒーターに接触させて、加熱することにより現像することを特徴とする熱現像感光材料の画像形成方法。   15. An image forming method of a photothermographic material for forming an image with an image recording apparatus, wherein the image recording apparatus has a heat developing unit having a driving roller and a plate heater, and any one of claims 1 to 14. 2. The surface of the photothermographic material having the image forming layer according to claim 1 is brought into contact with the driving roller, and the surface of the photothermographic material having the back layer is brought into contact with the plate heater. An image forming method for a photothermographic material, wherein the development is performed by heating.
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