JP2003337844A - Method for delay adjustment and method for delay value calculation - Google Patents

Method for delay adjustment and method for delay value calculation

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JP2003337844A
JP2003337844A JP2002146468A JP2002146468A JP2003337844A JP 2003337844 A JP2003337844 A JP 2003337844A JP 2002146468 A JP2002146468 A JP 2002146468A JP 2002146468 A JP2002146468 A JP 2002146468A JP 2003337844 A JP2003337844 A JP 2003337844A
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  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To shorten the design period of a semiconductor integrated circuit by reducing layout man-hours required for one more delay adjustment by preventing the fluctuation of the delay adjustment under each semiconductor process condition. <P>SOLUTION: In this method for delay adjustment, a delay value and skew prior to delay adjustment are calculated under each of the plurality of process conditions of a semiconductor integrated circuit on the basis of layout information ( a step ST1). When no circuit operation can be guaranteed with the delay value prior to delay adjustment under the predetermined process condition, a predicted delay value and predicted skew under the predetermined process condition are calculated on the basis of the delay value and skew prior to the delay adjustment under a standard process condition (a step ST3). Then, when the circuit operation can be guaranteed with the predicted delay value under the predetermined process condition, the delay generated in the path is adjusted by using the delay adjusting cell (a step ST6). <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路に
おける遅延調整方法および遅延値計算方法に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a delay adjusting method and a delay value calculating method in a semiconductor integrated circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体集積回路の大規模化および
プロセスの複雑化に伴い、遅延調整セルを用いた遅延調
整が行われている。つまり、半導体集積回路における経
路で生じる遅延時間(遅延値)によっては回路動作が保
証されない場合、その遅延値をもとに、遅延調整セルに
よって遅延値の調整をレイアウトに反映していた。
2. Description of the Related Art In recent years, delay adjustment using a delay adjustment cell has been performed with the increase in scale of semiconductor integrated circuits and the increase in complexity of processes. That is, when the circuit operation is not guaranteed due to the delay time (delay value) generated in the path in the semiconductor integrated circuit, the delay adjustment cell reflects the adjustment of the delay value in the layout based on the delay value.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、半導体
のプロセス条件ごとそれぞれ個別に遅延調整を行ってい
たので、プロセス条件によっては遅延調整にバラツキが
残り、上記レイアウトへの反映後でも回路動作が保証さ
れず、再度遅延調整の必要性が生じる場合がある。この
場合、レイアウトの配置・配線を修正し、修正後のレイ
アウト情報からあらためて遅延値を求め、再度遅延調整
セルを用いた遅延調整を行っていた。このように、遅延
調整のために介するレイアウト工数が増大し、半導体集
積回路の設計期間の増大を招いていた。
However, since the delay adjustment is made individually for each semiconductor process condition, the delay adjustment varies depending on the process condition, and the circuit operation is guaranteed even after being reflected in the layout. Instead, delay adjustment may be necessary again. In this case, the layout arrangement / wiring is corrected, the delay value is calculated again from the corrected layout information, and the delay adjustment is performed again using the delay adjustment cell. As described above, the number of layout man-hours for adjusting the delay is increased, and the design period of the semiconductor integrated circuit is increased.

【0004】そこで、本発明の目的は、プロセス条件ご
との遅延調整のバラツキを防いで、遅延調整のために介
するレイアウト工数を削減し、半導体集積回路の設計期
間の短縮を可能とする遅延調整方法を提供するものであ
る。
Therefore, an object of the present invention is to prevent variations in delay adjustment for each process condition, reduce the number of layout steps for delay adjustment, and shorten the design period of a semiconductor integrated circuit. Is provided.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記課題に鑑み、本発明
の請求項1に記載の発明が講じた手段は、半導体集積回
路における経路で生じる遅延を遅延調整セルを用いて調
整する遅延調整方法であって、レイアウト情報にもとづ
いて、前記半導体集積回路の複数のプロセス条件の各々
について、遅延調整前の遅延値およびスキューを求める
第1のステップと、所定のプロセス条件での前記第1の
ステップで求めた前記遅延調整前の遅延値またはスキュ
ーによると回路動作を保証できない場合に、基準となる
プロセス条件での前記遅延調整前の遅延値およびスキュ
ーにもとづいて、前記基準となるプロセス条件でのスキ
ューが小さくなるように前記経路で生じる遅延を調整し
た場合の前記所定のプロセス条件での予測遅延値および
予測スキューを求める第2のステップと、前記第2のス
テップで求めた前記所定のプロセス条件での予測遅延値
または予測スキューによると回路動作を保証できる場合
に、前記経路で生じる遅延を前記遅延調整セルを用いて
調整する第3のステップとを備えるものである。
In view of the above-mentioned problems, the means taken by the invention according to claim 1 of the present invention is a delay adjusting method for adjusting a delay occurring in a path in a semiconductor integrated circuit by using a delay adjusting cell. A first step of obtaining a delay value and a skew before delay adjustment for each of a plurality of process conditions of the semiconductor integrated circuit based on the layout information, and the first step under a predetermined process condition. In the case where the circuit operation cannot be guaranteed according to the delay value or the skew before the delay adjustment obtained in, the delay value and the skew before the delay adjustment under the reference process condition are used, and When the delay generated in the path is adjusted so that the skew becomes small, the predicted delay value and the predicted skew under the predetermined process condition are obtained. The second step and the predicted delay value or predicted skew under the predetermined process condition obtained in the second step can be used to guarantee the circuit operation by using the delay adjustment cell. And a third step of adjusting by.

【0006】請求項1の発明によると、複数のプロセス
条件ごとの遅延調整前の遅延値およびスキューを求め、
基準とするプロセス条件での遅延調整前の遅延値および
スキューにもとづいて、所定のプロセス条件での予測遅
延値および予測スキューを求める。これにより、プロセ
ス条件ごとに遅延調整のバラツキを防ぎ、再度の遅延調
整の必要性が低減し、遅延調整のために介するレイアウ
ト工数が削減され、半導体集積回路の設計期間の短縮を
可能とする。
According to the first aspect of the invention, the delay value and the skew before delay adjustment for each of a plurality of process conditions are calculated,
Based on the delay value and skew before delay adjustment under the reference process condition, the predicted delay value and predicted skew under the predetermined process condition are obtained. This prevents variations in delay adjustment for each process condition, reduces the need for delay adjustment again, reduces layout man-hours for delay adjustment, and shortens the design period of the semiconductor integrated circuit.

【0007】また、請求項2の発明は、請求項1に記載
の遅延調整方法において、前記半導体集積回路は、階層
設計によって階層構造を有しており、前記第1のステッ
プは、前記レイアウト情報から読み込んだ上位階層にお
けるすべての経路の遅延値をもとに前記上位階層での遅
延調整に必要な経路の遅延値である上位階層遅延値を読
み込み、下位階層での遅延調整に必要な経路の遅延値で
ある下位階層遅延値を読み込み、前記上位階層遅延値と
前記下位階層遅延値とを加えて、前記遅延調整前の遅延
値を求めるものであるものとする。
According to a second aspect of the present invention, in the delay adjusting method according to the first aspect, the semiconductor integrated circuit has a hierarchical structure by a hierarchical design, and the first step is the layout information. The upper layer delay value, which is the delay value of the route necessary for delay adjustment in the upper layer, is read based on the delay values of all the routes in the upper layer read from It is assumed that the lower layer delay value which is a delay value is read, the upper layer delay value and the lower layer delay value are added, and the delay value before the delay adjustment is obtained.

【0008】請求項2の発明によると、下位階層からは
遅延調整に必要な経路のみの遅延値を読み込むため、遅
延調整前の遅延値の計算期間が短縮される。その結果、
半導体集積回路の設計期間がより短縮される。
According to the second aspect of the present invention, the delay value of only the path required for delay adjustment is read from the lower layer, so that the delay value calculation period before delay adjustment is shortened. as a result,
The design period of the semiconductor integrated circuit is further shortened.

【0009】また、請求項3の発明は、請求項1または
請求項2のいずれかに記載の遅延調整方法において、前
記第2のステップは、前記半導体集積回路のプロセス条
件ごとに定める、前記経路におけるゲート遅延の程度を
示すゲート遅延係数を用いて、前記所定のプロセス条件
での前記遅延調整前の遅延値に、前記所定のプロセス条
件に対応する前記ゲート遅延係数を前記基準となるプロ
セス条件での前記遅延調整前のスキューに掛けた値を加
え、前記所定のプロセス条件での前記予測遅延値を求め
るものであるものとする。
According to a third aspect of the present invention, in the delay adjusting method according to the first aspect or the second aspect, the path is defined in the second step for each process condition of the semiconductor integrated circuit. In the delay value before the delay adjustment under the predetermined process condition, the gate delay coefficient corresponding to the predetermined process condition is used as the reference process condition by using the gate delay coefficient indicating the degree of the gate delay in It is assumed that the predicted delay value under the predetermined process condition is obtained by adding the value multiplied by the skew before the delay adjustment of.

【0010】請求項3の発明によると、プロセス条件ご
とに相違するゲート遅延の程度に応じて、プロセス条件
ごとの予測遅延値を算出するため、ゲート遅延のみの遅
延調整において、高精度な調整を可能にする。
According to the third aspect of the present invention, since the predicted delay value for each process condition is calculated according to the degree of the gate delay that differs for each process condition, highly accurate adjustment can be performed in the delay adjustment of only the gate delay. to enable.

【0011】また、請求項4の発明は、半導体集積回路
における経路で生じる遅延を求める遅延値計算方法であ
って、レイアウト情報にもとづいて、前記半導体集積回
路の複数のプロセス条件の各々について、遅延調整前の
遅延値およびスキューを求めるものである。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a delay value calculation method for obtaining a delay caused in a path in a semiconductor integrated circuit, wherein the delay value is calculated for each of a plurality of process conditions of the semiconductor integrated circuit based on layout information. The delay value and skew before adjustment are obtained.

【0012】請求項4の発明によると、複数のプロセス
条件のそれぞれの遅延調整前の遅延値をすべて求めるた
め、プロセス条件ごとの遅延調整においてバラツキを減
らすことができる。
According to the fourth aspect of the present invention, all the delay values before the delay adjustment of each of the plurality of process conditions are obtained, so that variations in the delay adjustment for each process condition can be reduced.

【0013】また、請求項5の発明は、半導体集積回路
における経路で生じる遅延を求める遅延値計算方法であ
って、レイアウト情報にもとづいて、前記半導体集積回
路の複数のプロセス条件の各々について、遅延調整前の
遅延値およびスキューを求め、前記半導体集積回路の複
数のプロセス条件の中から基準となるプロセス条件を指
定し、前記基準となるプロセス条件での前記遅延調整前
の遅延値およびスキューにもとづいて、前記基準となる
プロセス条件でのスキューが小さくなるように前記経路
で生じる遅延を調整した場合の所定のプロセス条件での
予測遅延値を求めるものである。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a delay value calculating method for obtaining a delay occurring in a path in a semiconductor integrated circuit, wherein the delay value is calculated for each of a plurality of process conditions of the semiconductor integrated circuit based on layout information. A delay value and skew before adjustment are obtained, a reference process condition is designated from a plurality of process conditions of the semiconductor integrated circuit, and based on the delay value and skew before the delay adjustment under the reference process condition. Then, a predicted delay value under a predetermined process condition is obtained when the delay generated in the path is adjusted so that the skew under the reference process condition becomes small.

【0014】請求項5の発明によると、複数のプロセス
条件のそれぞれの遅延調整前の遅延値をすべて求め、基
準とするプロセス条件での遅延調整前の遅延値およびス
キューをもとに、所定のプロセス条件での予測遅延値を
求める。これにより、プロセス条件ごとにバラツキのな
い遅延調整が可能となり、その結果、レイアウトを介し
た再度の遅延調整の必要性が低減され、半導体集積回路
の設計期間の短縮が可能になる。
According to the invention of claim 5, all the delay values before the delay adjustment of each of the plurality of process conditions are obtained, and a predetermined value is obtained based on the delay value before the delay adjustment and the skew under the reference process condition. Find the expected delay value under process conditions. As a result, it is possible to perform delay adjustment without variation for each process condition, and as a result, it becomes possible to reduce the need for delay adjustment again through the layout and shorten the design period of the semiconductor integrated circuit.

【0015】また、請求項6の発明は、請求項4または
請求項5のいずれかに記載の遅延値計算方法において、
前記半導体集積回路は、階層設計によって階層構造を有
しており、前記遅延調整前の遅延値は、前記レイアウト
情報から読み込んだ上位階層におけるすべての経路の遅
延値をもとに前記上位階層での遅延調整に必要な経路の
遅延値である上位階層遅延値を読み込み、下位階層での
遅延調整に必要な経路の遅延値である下位階層遅延値を
読み込み、前記上位階層遅延値と前記下位階層遅延値と
を加えることによって求められるものとする。
The invention according to claim 6 is the delay value calculating method according to claim 4 or 5,
The semiconductor integrated circuit has a hierarchical structure by a hierarchical design, and the delay value before the delay adjustment is based on the delay values of all the routes in the upper layer read from the layout information, The upper layer delay value which is the delay value of the route necessary for delay adjustment is read, the lower layer delay value which is the delay value of the route which is necessary for the delay adjustment in the lower layer is read, and the upper layer delay value and the lower layer delay are read. It shall be obtained by adding the values and.

【0016】請求項6の発明によると、下位階層からは
遅延調整に必要な経路のみの遅延値を読み込むため、遅
延調整前の遅延値の計算期間が短縮される。その結果、
半導体集積回路の設計期間がより短縮される。
According to the invention of claim 6, since the delay value of only the path necessary for delay adjustment is read from the lower layer, the delay value calculation period before delay adjustment is shortened. as a result,
The design period of the semiconductor integrated circuit is further shortened.

【0017】また、請求項7の発明は、請求項5に記載
の遅延値計算方法において、前記所定のプロセス条件で
の予測遅延値は、前記半導体集積回路のプロセス条件ご
とに定められる、前記経路におけるゲート遅延の程度を
示す前記ゲート遅延係数を用いて、前記所定のプロセス
条件での前記遅延調整前の遅延値に、前記所定のプロセ
ス条件に対応するゲート遅延係数を前記基準となるプロ
セス条件での前記遅延調整前のスキューに掛けた値を加
えることによって求められるものとする。
According to a seventh aspect of the present invention, in the delay value calculating method according to the fifth aspect, the predicted delay value under the predetermined process condition is determined for each process condition of the semiconductor integrated circuit. In the delay value before the delay adjustment under the predetermined process condition, the gate delay coefficient corresponding to the predetermined process condition is used as the reference process condition by using the gate delay coefficient indicating the degree of the gate delay in It is obtained by adding a value multiplied by the skew before the delay adjustment of.

【0018】請求項7の発明によると、プロセス条件ご
とに相違するゲート遅延の程度に応じて、プロセス条件
ごとの予測遅延値を算出するため、ゲート遅延のみの遅
延調整において、高精度な調整を可能にする。
According to the invention of claim 7, the predicted delay value for each process condition is calculated according to the degree of the gate delay different for each process condition. Therefore, in the delay adjustment of only the gate delay, highly accurate adjustment can be performed. to enable.

【0019】また、請求項8の発明は、請求項5または
請求項7のいずれかに記載の遅延値計算方法において、
前記所定のプロセス条件での予測遅延値をもとに、前記
所定のプロセス条件での予測スキューをさらに求めるも
のとする。
The invention of claim 8 is the delay value calculating method according to claim 5 or 7,
The predicted skew under the predetermined process condition is further obtained based on the predicted delay value under the predetermined process condition.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下に本発明の一実施形態につい
て図面を参照しながら説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0021】図1は本発明の一実施形態に係る遅延調整
方法を示すフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart showing a delay adjusting method according to an embodiment of the present invention.

【0022】まず、図1における各ステップについて簡
単に説明する。
First, each step in FIG. 1 will be briefly described.

【0023】ステップST1は、半導体集積回路におけ
る経路で生じる遅延調整前の遅延時間(以下「遅延値」
という)とスキューを求めるステップである。
Step ST1 is a delay time (hereinafter referred to as "delay value") before delay adjustment which occurs in the path in the semiconductor integrated circuit.
That is) and the step of obtaining the skew.

【0024】ステップST2は、回路動作が保証される
か否かを判定するステップである。
Step ST2 is a step of determining whether or not the circuit operation is guaranteed.

【0025】ステップST3は、遅延調整後の予測遅延
値および予測スキューを求めるステップである。
Step ST3 is a step of obtaining a predicted delay value and a predicted skew after delay adjustment.

【0026】ステップST4は、回路動作が保証される
か否かを判定するステップである。
Step ST4 is a step of determining whether or not the circuit operation is guaranteed.

【0027】ステップST5は、遅延調整前のレイアウ
トを修正するステップである。
Step ST5 is a step of correcting the layout before delay adjustment.

【0028】ステップST6は、遅延値の調整をレイア
ウトに反映するステップである。
Step ST6 is a step of reflecting the adjustment of the delay value on the layout.

【0029】以上のような各ステップを用いた本実施形
態に係る遅延調整方法について具体的に説明する。な
お、ここでの半導体集積回路は、階層設計によっって階
層構造を備えている場合を想定して説明する。
The delay adjusting method according to this embodiment using the above steps will be specifically described. The semiconductor integrated circuit here will be described on the assumption that it has a hierarchical structure by a hierarchical design.

【0030】ステップST1において、半導体集積回路
のレイアウト情報をもとに求まる上位階層における遅延
値と下位階層の遅延値を読み込んで、半導体のプロセス
条件ごとの遅延調整前の遅延値およびスキューを求める
(第1のステップに対応する。また後述でさらに詳述す
る。)。次に、ステップST2に進み、ステップST1
で求めたスキューにもとづいて、回路動作が保証される
か否かを判定する。そして、回路動作の保証が不可能な
場合は(ステップST2でNO)、ステップST3に進
み、ステップST1で求めた遅延調整前の遅延値および
スキューにもとづいて、遅延調整後の予測遅延値および
予測スキューを求める(第2のステップに対応する。ま
た後述でさらに詳述する。)。
In step ST1, the delay value in the upper layer and the delay value in the lower layer, which are obtained based on the layout information of the semiconductor integrated circuit, are read to obtain the delay value and the skew before delay adjustment for each semiconductor process condition ( It corresponds to the first step and will be described in more detail later). Then, the process proceeds to step ST2 and step ST1.
Based on the skew obtained in step 1, it is determined whether the circuit operation is guaranteed. If the circuit operation cannot be guaranteed (NO in step ST2), the process proceeds to step ST3, and the predicted delay value and predicted value after delay adjustment are calculated based on the delay value and skew before delay adjustment obtained in step ST1. The skew is calculated (corresponding to the second step, which will be described in detail later).

【0031】さらに、ステップST4に進んで、ステッ
プST3で求めたスキューにもとづいて、回路動作が保
証されるか否かを判定する。そして、回路動作の保証が
可能な場合は(ステップST4でYES)、ステップS
T6に進み、ステップST3で求めた予測遅延値および
予測スキューをもとに、遅延調整セルによって遅延値の
調整をレイアウトに反映させる(第3のステップに対応
する)。一方、回路動作の保証が不可能な場合は(ステ
ップST4でNO)、ステップST5に進み、遅延調整
前のレイアウトで配置配線等を修正した後、再度ステッ
プST1に戻って上記の処理を繰り返す。なお、ステッ
プST2において、回路動作の保証が可能な場合は、遅
延調整の必要がないので、そのまま処理を終える。
Further, in step ST4, it is determined whether or not the circuit operation is guaranteed, based on the skew obtained in step ST3. If the circuit operation can be guaranteed (YES in step ST4), step S
Proceeding to T6, the delay adjustment cell reflects the adjustment of the delay value in the layout based on the predicted delay value and the predicted skew obtained in step ST3 (corresponding to the third step). On the other hand, when the circuit operation cannot be guaranteed (NO in step ST4), the process proceeds to step ST5, the layout and wiring are corrected in the layout before delay adjustment, and then the process returns to step ST1 to repeat the above process. If the circuit operation can be guaranteed in step ST2, there is no need to adjust the delay, and the process ends.

【0032】次に、上記ステップST1およびステップ
ST3を図2〜図4を参照しながらさらに詳細に説明す
る。図2は、ステップST1の遅延調整前の遅延値およ
びスキューを求める過程を具体的に説明するためのフロ
ーチャートである。図3は、ステップST3の遅延調整
後の予測遅延値および予測スキューを求める過程を具体
的に説明するためのフローチャートである。
Next, the steps ST1 and ST3 will be described in more detail with reference to FIGS. FIG. 2 is a flowchart for specifically explaining the process of obtaining the delay value and the skew before the delay adjustment in step ST1. FIG. 3 is a flowchart for specifically explaining the process of obtaining the predicted delay value and the predicted skew after the delay adjustment in step ST3.

【0033】また、図4は遅延調整前の遅延値およびス
キューを求める場合に参照する図であって、半導体集積
回路における遅延調整の対象となる所定のクロック源を
有する各グループのうちクロック源SOを有するグルー
プAを示す図である。図4に示すグループAには、クロ
ック選択回路K1、回路C1〜C4がある。また、下位
階層である回路C1〜C4内部には、図示するようにフ
リップフロップFF1〜FF5が接続されている。な
お、遅延調整を行う遅延調整セルu1〜u6が、図示の
ように配置されている。また、以下で説明する経路の引
用は、各点a〜rを用いる。遅延調整セルu3の入力側
には、クロック周波数を1/2倍にする回路w1が接続
されている。
FIG. 4 is a diagram to be referred to when the delay value and the skew before the delay adjustment are obtained. The clock source SO is included in each group having a predetermined clock source to be subjected to the delay adjustment in the semiconductor integrated circuit. It is a figure which shows the group A which has. A group A shown in FIG. 4 includes a clock selection circuit K1 and circuits C1 to C4. Further, flip-flops FF1 to FF5 are connected inside the circuits C1 to C4, which are lower layers, as shown in the figure. Note that delay adjustment cells u1 to u6 that perform delay adjustment are arranged as illustrated. In addition, each of the points a to r is used to cite the route described below. A circuit w1 for halving the clock frequency is connected to the input side of the delay adjustment cell u3.

【0034】<遅延調整前の遅延値およびスキュー>図
2において、まず、ステップST11では半導体集積回
路のレイアウト情報にもとづいて得られる所定の初期値
が記憶された初期値設定ファイルをオープンするステッ
プである。すなわち、以下のステップで読み込むプロセ
ス条件や経路、上位階層および下位階層の各経路で生じ
る各プロセス条件下の遅延値などの情報が記憶されたフ
ァイルをオープンする。
<Delay Value and Skew Before Delay Adjustment> In FIG. 2, first, in step ST11, in the step of opening an initial value setting file in which a predetermined initial value obtained based on the layout information of the semiconductor integrated circuit is stored. is there. That is, a file in which information such as a process condition and a route to be read in the following steps, a delay value under each process condition generated in each route of an upper layer and a lower layer is stored is opened.

【0035】次に、ステップST12において、図4に
示すように、半導体集積回路の下位階層のハードマクロ
部である回路C1〜回路C4の内部における各経路で生
じる各プロセス条件ごとの遅延値を除く、上位階層の各
経路で生じる各プロセス条件下の遅延値を読み込む。例
えば、図4に示すグループAでは、経路abcfl、経
路abcek、経路abdj、経路abdgi、経路a
bdghの各遅延値を読み込む。
Next, in step ST12, as shown in FIG. 4, the delay value for each process condition generated in each path inside the circuits C1 to C4, which is the hard macro unit of the lower hierarchy of the semiconductor integrated circuit, is excluded. , Read the delay value under each process condition that occurs in each route of the upper hierarchy. For example, in the group A shown in FIG. 4, the route abcfl, the route abcek, the route abdj, the route abdgi, and the route a.
Read each delay value of bdgh.

【0036】次に、ステップST13において、上位階
層での遅延調整のために必要な経路を読み込む。例え
ば、上位階層における経路abcflと経路abcek
とを指定して読み込む。
Next, in step ST13, a route required for delay adjustment in the upper layer is read. For example, the route abcfl and the route abcek in the upper layer
Specify and to read.

【0037】次に、ステップST14において、各ハー
ドマクロ部の各入出力ピン情報を上位階層で読み込む。
例えば、回路C1〜C4の入出力ピン情報を上位階層に
おいて読み込む。
Next, in step ST14, each input / output pin information of each hard macro unit is read in the upper layer.
For example, the input / output pin information of the circuits C1 to C4 is read in the upper layer.

【0038】次に、ステップST15において、ステッ
プST14で読み込んだ入出力ピン情報をもとに、遅延
調整に必要な下位階層のハードマクロ内部のある1つの
プロセス条件下の遅延値(下位階層遅延値に対応する)
を読み込む。ここでは、回路C1内部の経路lrと回路
C2内部の経路kqとについて、標準的なプロセス条件
としてのプロセス条件TYP下の遅延値を読み込む。こ
のように、遅延調整に必要なハードマクロ部の遅延値の
み読み込み、遅延調整に必要のないハードマクロ内部の
遅延値は読み込まないので、計算期間が短縮され、半導
体集積回路の設計期間の短縮に資することができる。
Next, in step ST15, based on the input / output pin information read in step ST14, the delay value under one process condition inside the lower layer hard macro required for delay adjustment (lower layer delay value) Corresponding to)
Read. Here, for the route lr inside the circuit C1 and the route kq inside the circuit C2, the delay value under the process condition TYP as the standard process condition is read. In this way, only the delay value of the hard macro part necessary for delay adjustment is read, and the internal delay value of the hard macro that is not necessary for delay adjustment is not read, which shortens the calculation period and shortens the design period of the semiconductor integrated circuit. Can contribute.

【0039】次に、ステップST16において、以上で
読み込んだ情報にもとづいて、遅延調整前の遅延値を計
算する。ここでは、遅延調整のために必要な経路が経路
abcflrと経路abcekqとなるので、例えば経
路abcekqについては、上位階層で指定した経路a
bcekのプロセス条件TYP下の遅延値(上位階層遅
延値に対応する)と下位階層の回路C2内部の経路kq
のプロセス条件TYP下の遅延値(上位階層遅延値に対
応する)を足すことによって、経路abcekqのプロ
セス条件TYP下の遅延調整前の遅延値を求めることが
できる。なお、経路abcflrについても同様にして
求めることができる。
Next, in step ST16, the delay value before delay adjustment is calculated based on the information read in above. Here, since the routes necessary for delay adjustment are the route abcflr and the route abcekq, for the route abcekq, for example, the route a specified in the upper layer is used.
The delay value under the process condition TYP of bcek (corresponding to the delay value of the upper layer) and the route kq in the circuit C2 of the lower layer
By adding the delay value under the process condition TYP (corresponding to the upper layer delay value), the delay value before the delay adjustment under the process condition TYP of the route abcekq can be obtained. Note that the route abcflr can be obtained in the same manner.

【0040】次に、ステップST17において、半導体
プロセス条件として他のプロセス条件があるか否かを判
定する。他のプロセス条件がある場合は、ステップST
15に戻って他のプロセス条件下でのハードマクロ内部
の遅延値を求める。例えば、他のプロセス条件として、
例えばプロセス条件MINがあれば、遅延調整に必要な
回路C1および回路C2内部のそれぞれのプロセス条件
MIN下の遅延値を読み込み、以降のステップを同様に
行う。
Next, in step ST17, it is determined whether or not there are other process conditions as semiconductor process conditions. If there are other process conditions, step ST
Returning to 15, the delay value inside the hard macro under another process condition is obtained. For example, as another process condition,
For example, if there is the process condition MIN, the delay values under the respective process conditions MIN in the circuits C1 and C2 necessary for delay adjustment are read, and the subsequent steps are similarly performed.

【0041】次に、ステップST18において、遅延調
整を行う次のグループがあるか否かを判定する。すなわ
ち、遅延を調整したい他のグループとして、その他のク
ロック源を有するグループがあるか否かを判定する。別
のグループがあれば、ステップST12に戻って、その
グループに対して上記のステップを繰り返す。
Next, in step ST18, it is determined whether or not there is a next group for which delay adjustment is to be performed. That is, it is determined whether or not there is a group having another clock source as another group whose delay is to be adjusted. If there is another group, the process returns to step ST12 and the above steps are repeated for that group.

【0042】次に、ステップST19において、上記各
グループごとであって上記各プロセス条件ごとの遅延値
にもとづいて、それぞれのグループ・プロセスごとのス
キューを求める。ここでは、例えばグループAでは、経
路abcflrと経路abcekqの遅延調整前の遅延
値にもとづいて、プロセス条件TYPおよびプロセス条
件MIN下それぞれの遅延調整前のスキューを求める。
Next, in step ST19, the skew for each group / process is obtained based on the delay value for each group and for each process condition. Here, for example, in the group A, the skews before the delay adjustment under the process condition TYP and the process condition MIN are obtained based on the delay values before the delay adjustment of the route abcflr and the route abcekq.

【0043】次に、ステップST20において、上記で
求めたグループ・プロセス条件ごとの遅延調整前の遅延
値およびスキューを記憶する。
Next, in step ST20, the delay value and the skew before delay adjustment for each group / process condition obtained above are stored.

【0044】そして、ステップST2に進んで、上記図
1で説明した通り、回路動作の保証が可能か否かを判定
する。
Then, in step ST2, it is determined whether or not the circuit operation can be guaranteed, as described with reference to FIG.

【0045】なお、上記図2では、ステップST16で
遅延調整前の遅延値を求めた後に、各プロセス条件およ
び各グループについての遅延調整前の遅延値を求める構
成にしているが、本実施形態はこれに限る趣旨ではな
い。すなわち、各プロセス条件および各グループをステ
ップST12の前で予め求めた上で、各プロセス条件お
よび各グループについての遅延調整前の遅延値を求める
構成にするなどの場合であっても、本発明は同様に実施
可能であることは言うまでもない。
In FIG. 2, the delay value before delay adjustment is calculated in step ST16, and then the delay value before delay adjustment is calculated for each process condition and each group. It is not limited to this. That is, even in the case where each process condition and each group are obtained in advance before step ST12, and the delay value before delay adjustment for each process condition and each group is obtained, the present invention is also applicable. It goes without saying that it can be implemented similarly.

【0046】<遅延調整後の予測遅延値および予測スキ
ュー>上記図2のステップST2において、回路動作が
保証されない場合は、以下で説明する図3の各ステップ
ST21〜ステップST25の処理によって、遅延調整
後の予測遅延値および予測スキューを求める。
<Predicted Delay Value and Predicted Skew After Delay Adjustment> If the circuit operation is not guaranteed in step ST2 of FIG. 2, the delay adjustment is performed by the processing of steps ST21 to ST25 of FIG. 3 described below. Obtain the predicted delay value and predicted skew afterwards.

【0047】ステップST21において、遅延調整を行
う基準とするプロセス条件を上記ステップST17で読
み込んだすべてのプロセス条件の中から指定する。例え
ば、プロセス条件として、プロセス条件TYPおよびプ
ロセス条件MINがあれば、その中からプロセス条件T
YPを指定する。
In step ST21, the process condition serving as a reference for delay adjustment is designated from all the process conditions read in step ST17. For example, if there are a process condition TYP and a process condition MIN as process conditions, the process condition T
Specify YP.

【0048】次に、ステップST22において、上記で
求めた遅延調整前の遅延値およびスキューをもとに、上
記で指定した基準とするプロセス条件下の遅延調整後の
予測遅延値を求める。さらに、基準のプロセス条件下の
遅延調整後の予測遅延値をもとに、その他のプロセス条
件下(所定のプロセス条件に対応する)の遅延調整後の
予測遅延値を求める。つまり、基準とするプロセス条件
下での遅延調整前の予測遅延値をもとに、遅延調整前の
スキューがゼロになるように遅延調整を行った場合に、
その他のプロセス条件下の予測遅延値を求める。
Next, in step ST22, the predicted delay value after delay adjustment under the process condition of the reference specified above is obtained based on the delay value and skew before delay adjustment obtained above. Further, the predicted delay value after delay adjustment under other process conditions (corresponding to a predetermined process condition) is obtained based on the predicted delay value after delay adjustment under the reference process conditions. In other words, when delay adjustment is performed so that the skew before delay adjustment becomes zero based on the predicted delay value before delay adjustment under the reference process conditions,
Determine the expected delay value under other process conditions.

【0049】次に、ステップST23において、上記ス
テップST22において求めた遅延調整後の予測遅延値
にもとづいて、上記プロセス条件ごとの遅延調整後の予
測スキューを求める。
Next, in step ST23, the delay-adjusted predicted skew for each process condition is calculated based on the delay-adjusted predicted delay value calculated in step ST22.

【0050】ここで、遅延調整後の予測遅延値および予
測スキューの算出について、図5を参照しながらさらに
具体的に説明する。図5は、説明の簡単化のために、半
導体集積回路のあるグループ内にある経路の遅延調整に
ついて説明するための図を示している。
Here, the calculation of the predicted delay value and the predicted skew after the delay adjustment will be described more specifically with reference to FIG. FIG. 5 is a diagram for explaining delay adjustment of a path in a certain group of semiconductor integrated circuits for simplification of description.

【0051】図5では、バッファ10を遅延調整の起点
としている。そして、経路R1には、経路R1の遅延値
を調整するための遅延調整セル11があり、フリップフ
ロップ13が接続されている。また、経路R2には、経
路r2の遅延値を調整するための遅延調整セル12があ
り、フリップフロップ14が接続されている。
In FIG. 5, the buffer 10 is used as the starting point for delay adjustment. The route R1 has a delay adjustment cell 11 for adjusting the delay value of the route R1, and the flip-flop 13 is connected to the delay adjustment cell 11. The route R2 has a delay adjustment cell 12 for adjusting the delay value of the route r2, and the flip-flop 14 is connected to the delay adjustment cell 12.

【0052】このような経路R1およびR2に関する遅
延調整について説明する。
The delay adjustment for the routes R1 and R2 will be described.

【0053】図6は、遅延調整後の予測遅延値および予
測スキューの算出に必要な情報とその情報をもとに算出
した予測遅延値および予測スキューを示す表である。
FIG. 6 is a table showing the information necessary for calculating the predicted delay value and the predicted skew after the delay adjustment and the predicted delay value and the predicted skew calculated based on the information.

【0054】図6において、遅延調整を行う半導体のプ
ロセス条件としては、プロセス条件TYPとプロセス条
件MINがあるものとする。また、遅延調整前の経路R
1および経路R2の遅延値およびスキューは上記図2の
説明にしたがって求めることが可能であり、それらの各
値は表に示す通りである。さらに、ゲート遅延係数kは
各経路におけるゲート遅延の程度に応じて、半導体プロ
セス条件ごとに定められる値である。そして、ここでは
上記ステップST21で指定する基準のプロセス条件が
プロセス条件TYPである場合を想定し、例えばプロセ
ス条件TYPにおけるゲート遅延係数kを「1.0」と
し、プロセス条件MINのゲート遅延係数kを「0.
5」としている。
In FIG. 6, it is assumed that the semiconductor process conditions for delay adjustment include a process condition TYP and a process condition MIN. In addition, the route R before delay adjustment
The delay value and the skew of the route 1 and the route R2 can be obtained according to the description of FIG. 2 above, and their respective values are as shown in the table. Furthermore, the gate delay coefficient k is a value determined for each semiconductor process condition according to the degree of gate delay in each path. Then, assuming that the reference process condition designated in step ST21 is the process condition TYP, for example, the gate delay coefficient k in the process condition TYP is set to "1.0", and the gate delay coefficient k of the process condition MIN is set. To "0.
5 ”.

【0055】図5および図6をもとに、遅延調整後の予
測遅延値を求める。
Based on FIGS. 5 and 6, the predicted delay value after delay adjustment is obtained.

【0056】図6に示すように、遅延調整前の経路R1
の遅延値が20(ns)であり、経路R2の遅延値が1
0(ns)であり、一般に、遅延値の大きい経路を基準
に調整するため、ここでも遅延値の大きい経路R1を基
準にして経路R2の遅延値を調整する場合について説明
する。
As shown in FIG. 6, the route R1 before delay adjustment
Has a delay value of 20 (ns) and the delay value of the route R2 is 1
Since it is 0 (ns) and is generally adjusted with a route having a large delay value as a reference, a case where the delay value of the route R2 is adjusted with the route R1 having a large delay value as a reference will be described.

【0057】まず、遅延調整を行うプロセス条件TYP
下における経路R2の遅延調整後の予測遅延値は、以下
の式(1)によって求める。
First, the process condition TYP for delay adjustment
The predicted delay value after delay adjustment of the route R2 below is obtained by the following equation (1).

【0058】 経路R2の予測遅延値(プロセス条件TYP下) =経路R2の遅延調整前遅延値(プロセス条件TYP下) +ゲート遅延係数(プロセス条件TYP下) ×経路R2の遅延調整前スキュー(プロセス条件TYP下)…(1) つまり、10+1.0×10=20となって、遅延調整
後の経路R2の予測遅延値は20(ns)になることが
分かる。
Predicted delay value of path R2 (under process condition TYP) = delay value before delay adjustment of path R2 (under process condition TYP) + gate delay coefficient (under process condition TYP) × skew before delay adjustment of path R2 (process Under the condition TYP) (1) That is, it is understood that 10 + 1.0 × 10 = 20, and the predicted delay value of the route R2 after delay adjustment is 20 (ns).

【0059】一方、半導体プロセス条件MIN下におけ
る経路R2の遅延調整後の予測遅延値は、以下の式
(2)によって求める。
On the other hand, the predicted delay value after the delay adjustment of the route R2 under the semiconductor process condition MIN is obtained by the following equation (2).

【0060】 経路R2の予測遅延値(プロセス条件MIN下) =経路R2の遅延調整前遅延値(プロセス条件MIN下) +ゲート遅延係数(プロセス条件MIN下) ×経路R2の遅延調整前スキュー(プロセス条件TYP下)…(2) つまり、4+0.5×10=9となって、遅延調整後の
経路R2の予測遅延値は9(ns)になることが分か
る。
Predicted delay value of path R2 (under process condition MIN) = delay value before delay adjustment of path R2 (under process condition MIN) + gate delay coefficient (under process condition MIN) × skew before delay adjustment of path R2 (process Under the condition TYP) (2) That is, it is understood that 4 + 0.5 × 10 = 9, and the predicted delay value of the route R2 after delay adjustment is 9 (ns).

【0061】さらに、遅延調整後の予測スキューは、経
路Aおよび経路Bについてのプロセス条件TYP、MI
N下それぞれの予測遅延値から容易に求めることができ
る。図6に示すように、遅延調整後の予測スキューは、
プロセス条件TYP、プロセス条件MIN下でそれぞれ
「0」、「1」となり、この場合プロセス条件ごとにバ
ラツキが生じないことが分かる。
Furthermore, the predicted skew after delay adjustment is the process conditions TYP and MI for the paths A and B.
It can be easily obtained from the respective predicted delay values under N. As shown in FIG. 6, the predicted skew after delay adjustment is
Under the process condition TYP and the process condition MIN, they are "0" and "1", respectively, and in this case, it can be seen that there is no variation for each process condition.

【0062】次に、図3に戻って、ステップST24に
おいて、上記のように算出した遅延調整後の予測遅延値
および予測スキューを記憶する。
Next, returning to FIG. 3, in step ST24, the predicted delay value and predicted skew after delay adjustment calculated as described above are stored.

【0063】最後に、ステップST25において、初期
値設定ファイルを閉じて図1に示したステップST1〜
ST3に関する処理を終え、図1で説明したステップS
T4に進む。
Finally, in step ST25, the initial value setting file is closed and steps ST1 to ST1 shown in FIG.
After the processing related to ST3 is completed, step S described in FIG.
Proceed to T4.

【0064】以上のように、本実施形態によると、半導
体プロセス条件分すべてに対応する遅延調整前の遅延値
およびスキューを求め、その遅延値およびスキューをも
とに遅延調整後に予測できる遅延値およびスキューを求
める。そして、予測した遅延値およびスキューをもと
に、遅延調整セルによって遅延値の調整をレイアウトに
反映させる。そのため、プロセス条件ごとの遅延調整の
バラツキを防ぎ、再度の遅延調整の必要性が低減し、遅
延調整のために介するレイアウト工数が削減され、半導
体集積回路の設計期間の短縮を可能にする。また、下位
階層のハードマクロ部分のすべての遅延値を用いずに、
遅延調整に必要なハードマクロ部分の遅延値のみを用い
て、遅延調整前の遅延値を求めるため、計算期間が減少
され、設計期間の短縮を効果的に達成することができ
る。また、プロセス条件ごとに定めるゲート遅延の程度
に応じて、プロセス条件ごとの予測遅延値を算出するた
め、ゲート遅延のみの遅延調整を精度良くできる。
As described above, according to this embodiment, the delay value and the skew before the delay adjustment corresponding to all the semiconductor process conditions are calculated, and the delay value and the delay value which can be predicted after the delay adjustment based on the delay value and the skew are calculated. Ask for skew. Based on the predicted delay value and skew, the delay adjustment cell reflects the delay value adjustment on the layout. Therefore, variations in delay adjustment for each process condition are prevented, the need for delay adjustment again is reduced, the layout man-hours for delay adjustment are reduced, and the design period of the semiconductor integrated circuit can be shortened. Also, without using all the delay values of the hard macro part of the lower hierarchy,
Since the delay value before the delay adjustment is obtained by using only the delay value of the hard macro portion necessary for the delay adjustment, the calculation period can be reduced and the design period can be effectively shortened. Further, since the predicted delay value for each process condition is calculated according to the degree of the gate delay determined for each process condition, the delay adjustment of only the gate delay can be accurately performed.

【0065】[0065]

【発明の効果】上述の通り、本発明に係る遅延調整方法
は、複数のプロセス条件ごとの遅延調整前の遅延値およ
びスキューを求め、基準とするプロセス条件での遅延調
整前の遅延値およびスキューにもとづいて、所定のプロ
セス条件での予測遅延値および予測スキューを求める。
これにより、プロセス条件ごとに遅延調整のバラツキが
なくなり、再度の遅延調整の必要性が低減し、遅延調整
のために介するレイアウト工数が削減され、半導体集積
回路の設計期間の短縮を可能とする。
As described above, the delay adjusting method according to the present invention obtains the delay value and the skew before the delay adjustment for each of a plurality of process conditions, and determines the delay value and the skew before the delay adjustment under the reference process condition. Based on this, the predicted delay value and the predicted skew under the predetermined process conditions are obtained.
This eliminates variations in delay adjustment for each process condition, reduces the need for delay adjustment again, reduces layout man-hours for delay adjustment, and shortens the design period of the semiconductor integrated circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の一実施形態に係る遅延調整方法を示
すフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart illustrating a delay adjustment method according to an exemplary embodiment of the present invention.

【図2】 遅延調整前の遅延値およびスキューの算出を
具体的に示すフローチャートである。
FIG. 2 is a flowchart specifically showing calculation of a delay value and a skew before delay adjustment.

【図3】 遅延調整後の予測遅延値および予測スキュー
の算出を具体的に示すフローチャートである。
FIG. 3 is a flowchart specifically showing calculation of a predicted delay value and a predicted skew after delay adjustment.

【図4】 遅延調整前の遅延値およびスキューの算出を
行う集積回路における所定のクロック源を有するグルー
プを示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a group having a predetermined clock source in an integrated circuit that calculates a delay value and a skew before delay adjustment.

【図5】 遅延調整を説明するための回路の一例を示す
図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a circuit for explaining delay adjustment.

【図6】 遅延調整の説明に関する数値を示した図であ
る。
FIG. 6 is a diagram showing numerical values related to explanation of delay adjustment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

ST1 遅延調整前の遅延値およびスキューを求めるス
テップ ST2、ST4 回路動作が保証されるか否かを判断す
るステップ ST3 遅延調整後の予測遅延値および予測スキューを
求めるステップ ST5 遅延値の調整をレイアウトに反映するステップ ST6 遅延調整前のレイアウトを修正するステップ ST12 ハードマクロ部以外の遅延値を読み込むステ
ップ ST13 遅延調整に必要な経路を読み込むステップ ST14 ハードマクロ部の入出力ピン情報を読み込む
ステップ ST15 遅延値の調整が必要なハードマクロ部の経路
の遅延値を読み込むステップ ST16 遅延調整前の遅延値を求めるステップ ST17 次のプロセス条件があるか否かを判定するス
テップ ST18 次のグループがあるか否かを判定するステッ
プ ST19 所定のグループ・プロセス条件下の遅延調整
前のスキューを求めるステップ ST21 遅延調整を行うプロセス条件を指定するステ
ップ ST22 1つまたは複数のプロセス条件下の遅延調整
後の予測遅延値を求めるステップ ST23 1つまたは複数のプロセス条件下の遅延調整
後の予測スキューを求めるステップ
ST1 Steps for obtaining delay value and skew before delay adjustment ST2, ST4 Steps for determining whether or not circuit operation is guaranteed ST3 Steps for obtaining predicted delay value and skew after delay adjustment ST5 Adjustment of delay value in layout Reflecting step ST6 Step of correcting the layout before delay adjustment ST12 Step of reading delay values other than the hard macro step ST13 Step of reading a route necessary for delay adjustment ST14 Step of reading input / output pin information of the hard macro step ST15 Setting of delay value Step ST16 for reading the delay value of the path of the hard macro part that needs adjustment Step ST17 for obtaining the delay value before delay adjustment ST17 Step ST18 for judging whether there is the next process condition ST18 It is judged whether there is the next group Step ST19 Step ST21 for obtaining skew before delay adjustment under loop process conditions Step ST22 for specifying process conditions for delay adjustment Step ST22 Step ST23 for obtaining predicted delay value after delay adjustment under one or more process conditions Step ST23 One or more Of Predicted Skew After Delay Adjustment Under Various Process Conditions

フロントページの続き Fターム(参考) 5B046 AA08 BA04 5F064 AA04 BB19 BB26 BB35 DD04 DD14 DD25 EE47 EE54 HH07 HH10 HH11 Continued front page    F-term (reference) 5B046 AA08 BA04                 5F064 AA04 BB19 BB26 BB35 DD04                       DD14 DD25 EE47 EE54 HH07                       HH10 HH11

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体集積回路における経路で生じる遅
延を遅延調整セルを用いて調整する遅延調整方法であっ
て、 レイアウト情報にもとづいて、前記半導体集積回路の複
数のプロセス条件の各々について、遅延調整前の遅延値
およびスキューを求める第1のステップと、 所定のプロセス条件での前記第1のステップで求めた前
記遅延調整前の遅延値またはスキューによると回路動作
を保証できない場合に、基準となるプロセス条件での前
記遅延調整前の遅延値およびスキューにもとづいて、前
記基準となるプロセス条件でのスキューが小さくなるよ
うに前記経路で生じる遅延を調整した場合の前記所定の
プロセス条件での予測遅延値および予測スキューを求め
る第2のステップと、 前記第2のステップで求めた前記所定のプロセス条件で
の予測遅延値または予測スキューによると回路動作を保
証できる場合に、前記経路で生じる遅延を前記遅延調整
セルを用いて調整する第3のステップとを備えることを
特徴とする遅延調整方法。
1. A delay adjusting method for adjusting a delay occurring in a path in a semiconductor integrated circuit by using a delay adjusting cell, wherein the delay adjusting is performed for each of a plurality of process conditions of the semiconductor integrated circuit based on layout information. It becomes a reference when the circuit operation cannot be guaranteed by the first step of obtaining the previous delay value and the skew and the delay value or the skew before the delay adjustment obtained in the first step under a predetermined process condition. Based on the delay value and the skew before the delay adjustment under the process condition, the predicted delay under the predetermined process condition when the delay caused in the path is adjusted so that the skew under the reference process condition becomes small. The second step of obtaining the value and the predicted skew, and the predetermined process condition obtained in the second step. A third step of adjusting the delay caused in the path by using the delay adjustment cell when the circuit operation can be guaranteed by the predicted delay value or the predicted skew.
【請求項2】 請求項1に記載の遅延調整方法におい
て、 前記半導体集積回路は、階層設計によって階層構造を有
しており、 前記第1のステップは、 前記レイアウト情報から読み込んだ上位階層におけるす
べての経路の遅延値をもとに前記上位階層での遅延調整
に必要な経路の遅延値である上位階層遅延値を読み込
み、下位階層での遅延調整に必要な経路の遅延値である
下位階層遅延値を読み込み、前記上位階層遅延値と前記
下位階層遅延値とを加えて、前記遅延調整前の遅延値を
求めることを特徴とする遅延調整方法。
2. The delay adjusting method according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit has a hierarchical structure by a hierarchical design, and the first step includes all steps in an upper hierarchy read from the layout information. The upper layer delay value which is the delay value of the route necessary for the delay adjustment in the upper layer is read based on the delay value of the route of the lower layer, and the lower layer delay which is the delay value of the route required for the delay adjustment in the lower layer is read. A delay adjusting method comprising: reading a value, adding the upper layer delay value and the lower layer delay value to obtain a delay value before the delay adjustment.
【請求項3】 請求項1または請求項2のいずれかに記
載の遅延調整方法において、 前記第2のステップは、 前記半導体集積回路のプロセス条件ごとに定める、前記
経路におけるゲート遅延の程度を示すゲート遅延係数を
用いて、 前記所定のプロセス条件での前記遅延調整前の遅延値
に、前記所定のプロセス条件に対応する前記ゲート遅延
係数を前記基準となるプロセス条件での前記遅延調整前
のスキューに掛けた値を加え、前記所定のプロセス条件
での前記予測遅延値を求めることを特徴とする遅延調整
方法。
3. The delay adjusting method according to claim 1, wherein the second step indicates a degree of gate delay in the path determined for each process condition of the semiconductor integrated circuit. Using a gate delay coefficient, the delay value before the delay adjustment under the predetermined process condition is added to the skew before the delay adjustment under the process condition that is the reference with the gate delay coefficient corresponding to the predetermined process condition. Is added to obtain a predicted delay value under the predetermined process condition.
【請求項4】 半導体集積回路における経路で生じる遅
延を求める遅延値計算方法であって、 レイアウト情報にもとづいて、前記半導体集積回路の複
数のプロセス条件の各々について、遅延調整前の遅延値
およびスキューを求めることを特徴とする遅延値計算方
法。
4. A delay value calculating method for obtaining a delay occurring in a path in a semiconductor integrated circuit, wherein delay value and skew before delay adjustment for each of a plurality of process conditions of the semiconductor integrated circuit based on layout information. A method for calculating a delay value, which is characterized by:
【請求項5】 半導体集積回路における経路で生じる遅
延を求める遅延値計算方法であって、 レイアウト情報にもとづいて、前記半導体集積回路の複
数のプロセス条件の各々について、遅延調整前の遅延値
およびスキューを求め、前記半導体集積回路の複数のプ
ロセス条件の中から基準となるプロセス条件を指定し、
前記基準となるプロセス条件での前記遅延調整前の遅延
値およびスキューにもとづいて、前記基準となるプロセ
ス条件でのスキューが小さくなるように前記経路で生じ
る遅延を調整した場合の所定のプロセス条件での予測遅
延値を求めることを特徴とする遅延値計算方法。
5. A delay value calculation method for obtaining a delay caused in a path in a semiconductor integrated circuit, wherein delay value and skew before delay adjustment for each of a plurality of process conditions of the semiconductor integrated circuit based on layout information. And specify a reference process condition from a plurality of process conditions of the semiconductor integrated circuit,
Based on the delay value and the skew before the delay adjustment under the reference process condition, the predetermined process condition when the delay generated in the path is adjusted so that the skew under the reference process condition becomes small. A delay value calculation method characterized by obtaining a predicted delay value of.
【請求項6】 請求項4または請求項5のいずれかに記
載の遅延値計算方法において、 前記半導体集積回路は、階層設計によって階層構造を有
しており、 前記遅延調整前の遅延値は、 前記レイアウト情報から読み込んだ上位階層におけるす
べての経路の遅延値をもとに前記上位階層での遅延調整
に必要な経路の遅延値である上位階層遅延値を読み込
み、下位階層での遅延調整に必要な経路の遅延値である
下位階層遅延値を読み込み、前記上位階層遅延値と前記
下位階層遅延値とを加えることによって求められること
を特徴とする遅延値計算方法。
6. The delay value calculation method according to claim 4, wherein the semiconductor integrated circuit has a hierarchical structure by hierarchical design, and the delay value before delay adjustment is: Based on the delay values of all the routes in the upper layer read from the layout information, the upper layer delay value, which is the delay value of the route necessary for the delay adjustment in the upper layer, is read and necessary for the delay adjustment in the lower layer. The delay value calculation method is characterized in that it is obtained by reading a lower layer delay value which is a delay value of another route and adding the upper layer delay value and the lower layer delay value.
【請求項7】 請求項5に記載の遅延値計算方法におい
て、 前記所定のプロセス条件での予測遅延値は、 前記半導体集積回路のプロセス条件ごとに定める、前記
経路におけるゲート遅延の程度を示すゲート遅延係数を
用いて、 前記所定のプロセス条件での前記遅延調整前の遅延値
に、前記所定のプロセス条件に対応する前記ゲート遅延
係数を前記基準となるプロセス条件での前記遅延調整前
のスキューに掛けた値を加えることによって求められる
ことを特徴とする遅延値計算方法。
7. The delay value calculation method according to claim 5, wherein the predicted delay value under the predetermined process condition is a gate indicating the degree of gate delay in the path, which is determined for each process condition of the semiconductor integrated circuit. Using the delay coefficient, the delay value before the delay adjustment under the predetermined process condition, the gate delay coefficient corresponding to the predetermined process condition to the skew before the delay adjustment under the reference process condition A delay value calculation method characterized by being obtained by adding a multiplied value.
【請求項8】 請求項5または請求項7のいずれかに記
載の遅延値計算方法において、 前記所定のプロセス条件での予測遅延値をもとに、前記
所定のプロセス条件での予測スキューをさらに求めるこ
とを特徴とする遅延値計算方法。
8. The delay value calculation method according to claim 5, further comprising the step of calculating a predicted skew under the predetermined process condition based on a predicted delay value under the predetermined process condition. A method for calculating a delay value, which is characterized by obtaining.
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