JP2003277352A - Sulfonium salt, cationic polymerization initiator, curable composition, curing method and cured material - Google Patents

Sulfonium salt, cationic polymerization initiator, curable composition, curing method and cured material

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JP2003277352A
JP2003277352A JP2002075887A JP2002075887A JP2003277352A JP 2003277352 A JP2003277352 A JP 2003277352A JP 2002075887 A JP2002075887 A JP 2002075887A JP 2002075887 A JP2002075887 A JP 2002075887A JP 2003277352 A JP2003277352 A JP 2003277352A
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JP
Japan
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group
carbon atoms
sulfonium salt
ether
ethyl
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JP2002075887A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideki Kimura
秀基 木村
Jiro Yamamoto
二郎 山元
Takeshi Endo
剛 遠藤
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San Apro KK
Original Assignee
San Apro KK
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a sulfonium salt which has excellent solubility in a cationic polymerizable compound, does not emit a smell from a cured material obtained by cationic polymerization and has high polymerization activity by heat, light or an active energy beam such as electron beam, X-ray, etc. <P>SOLUTION: The sulfonium salt is represented by general formula [I] [R<SP>1</SP>s are each a 1-18C alkyl group or the like; m is an integer of 0-7; R<SP>1</SP>s are mutually the same or different; R<SP>2</SP>is an alkyl group which may be substituted with a fixed group and has 9-24 carbon atoms; R<SP>3</SP>is hydrogen, a halogen, a 1-8C alkyl group, a 1-8C alkoxy group or a phenyl group; A is a 6-20C aryl group which may be substituted with a fixed group, a 1-18C alkyl group or alkoxy group; X<SP>-</SP>is a nonnucleophilic anion]. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なスルホニウ
ム塩、カチオン重合開始剤、硬化性組成物、硬化方法お
よび硬化物に関する。詳しくは、熱、光あるいは電子
線、X線等の活性エネルギー線を作用させて、カチオン
重合性化合物を硬化する際に用いるスルホニウム塩、該
スルホニウム塩を含有するカチオン重合開始剤、該カチ
オン重合開始剤を含有する硬化性組成物、該カチオン重
合開始剤を用いたカチオン重合性化合物の硬化方法およ
び該硬化方法により得られる硬化物に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel sulfonium salt, a cationic polymerization initiator, a curable composition, a curing method and a cured product. Specifically, heat, light or an active energy ray such as an electron beam or an X-ray is applied to cure a cation polymerizable compound, a sulfonium salt, a cation polymerization initiator containing the sulfonium salt, and a cation polymerization initiator. The present invention relates to a curable composition containing an agent, a method for curing a cationically polymerizable compound using the cationic polymerization initiator, and a cured product obtained by the curing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、熱、光あるいは電子線、X線等の
活性エネルギー線を作用させて、エポキシ化合物等のカ
チオン重合性化合物を硬化する際に使用する重合開始剤
として各種のスルホニウム塩が提案されている(特開昭
50−151997号、特開昭50−158680号、
特開平2−178303号等参照)。しかし、特開昭5
0−151997号、特開昭50−158680号に記
載されているトリアリールスルホニウム塩は、光重合開
始能が高い重合開始剤として知られているが、カチオン
重合性化合物に対する溶解性が低く、また、カチオン重
合によって得られる硬化物から、重合開始剤の分解物に
由来する臭気を生じる等の問題がある。また、特開平2
−178303号等に記載されているジアルキルベンジ
ルスルホニウム塩は、熱重合開始剤としては有用である
が、光重合開始剤としての性能が著しく低い。
2. Description of the Related Art Conventionally, various sulfonium salts have been used as a polymerization initiator used when curing a cationically polymerizable compound such as an epoxy compound under the action of active energy rays such as heat, light or electron rays and X-rays. Proposed (JP-A-50-151997, JP-A-50-158680,
See JP-A-2-178303). However, JP-A-5
The triarylsulfonium salts described in JP-A No. 0-151997 and JP-A No. 50-158680 are known as polymerization initiators having high photopolymerization initiation ability, but have low solubility in cationically polymerizable compounds, and However, there is a problem in that a cured product obtained by cationic polymerization produces an odor derived from a decomposition product of the polymerization initiator. In addition, JP-A-2
The dialkylbenzylsulfonium salt described in JP-A-178303 and the like is useful as a thermal polymerization initiator, but its performance as a photopolymerization initiator is extremely low.

【0003】これらの問題点を改善したカチオン重合開
始剤として、ナフタレン核を有するフェナシルスルホニ
ウム塩が、特開平9−118663号に報告されている
が、該スルホニウム塩は、カチオン重合性化合物に対す
る溶解性が、未だ不十分である。また、カチオン重合性
化合物に対する溶解性を改善したものとして、ジアルキ
ルフェナシルスルホニウム塩が提案されているが(米国
特許第6031014号)、このものは光重合開始剤と
しての性能が低い。
A phenacylsulfonium salt having a naphthalene nucleus has been reported in JP-A-9-118663 as a cationic polymerization initiator which has solved these problems, but the sulfonium salt is dissolved in a cationically polymerizable compound. The sex is still insufficient. A dialkylphenacylsulfonium salt has been proposed as a compound having improved solubility in a cationically polymerizable compound (US Pat. No. 6,031,014), but this compound has low performance as a photopolymerization initiator.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、カチオン重
合性化合物に対する溶解性が良好で、カチオン重合によ
って得られた硬化物からの臭気がなく、熱、光および電
子線、X線等の活性エネルギー線による重合活性が高い
スルホニウム塩、該スルホニウム塩を含有するカチオン
重合開始剤、該カチオン重合開始剤を含有する硬化性組
成物、該カチオン重合開始剤を用いたカチオン重合性化
合物の硬化方法および該硬化方法により得られる硬化物
を提供することを目的とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has good solubility in a cationically polymerizable compound, has no odor from a cured product obtained by cationic polymerization, and has activity of heat, light and electron beams, X-rays and the like. Sulfonium salt having high polymerization activity by energy rays, cationic polymerization initiator containing the sulfonium salt, curable composition containing the cationic polymerization initiator, method for curing cationically polymerizable compound using the cationic polymerization initiator, and It is an object to provide a cured product obtained by the curing method.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明のスルホニウム塩
は、一般式[1]で表されるスルホニウム塩である。
The sulfonium salt of the present invention is a sulfonium salt represented by the general formula [1].

【化2】 [式中、R1は炭素数1〜18のアルキル基、ヒドロキシ
基、炭素数1〜18のアルコキシ基、炭素数6〜10のアリ
ール基、炭素数6〜10のアリールオキシ基、炭素数1〜
19のアルキルカルボニル基、炭素数7〜11のアリールカ
ルボニル基、炭素数2〜19のアルコキシカルボニル基、
炭素数7〜11のアリールオキシカルボニル基、炭素数2
〜19のアシロキシ基、炭素数6〜10のアリールチオ基、
シアノ基、ニトロ基またはハロゲンを表し、mは0〜7
の整数を示し、R1は互いに同一であっても異なっていて
もよい。R2はヒドロキシ、アルキルカルボニル、アリー
ルカルボニル、シアノ、アリール、アルコキシ、アリー
ルオキシ、ニトロおよびハロゲンから選ばれる基で置換
されていてもよいアルキル基を表し、炭素数は9〜24で
ある。R3は水素、ハロゲン、炭素数1〜8のアルキル
基、炭素数1〜8のアルコキシ基またはフェニル基を表
す。Aはアルキル、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキル
カルボニル、アリールカルボニル、アルコキシカルボニ
ル、アリールオキシカルボニル、アシロキシ、アリール
チオ、アリール、アリールオキシ、シアノ、ニトロおよ
びハロゲンから選ばれる基で置換されていてもよい炭素
数6〜20のアリール基、ヒドロキシ、アルキルカルボニ
ル、アリールカルボニル、シアノ、アリール、アルコキ
シ、アリールオキシ、ニトロおよびハロゲンから選ばれ
る基で置換されていてもよい炭素数1〜18のアルキル基
またはアルコキシ基を表す。X-は非求核性のアニオンを
示す。] また、本発明のカチオン重合開始剤は、前記スルホニウ
ム塩の少なくとも一種を含有することを特徴とするもの
であり、本発明の硬化性組成物は、カチオン重合性化合
物と前記カチオン重合開始剤を含有することを特徴とす
るものであり、本発明のカチオン重合性化合物の硬化方
法は、前記硬化性組成物を、熱、光または活性エネルギ
ー線を作用させて硬化することを特徴とするものであ
り、本発明の硬化物は、該硬化方法により得られるもの
である。
[Chemical 2] [In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, and 1 carbon atom. ~
An alkylcarbonyl group having 19 carbon atoms, an arylcarbonyl group having 7 to 11 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 19 carbon atoms,
Aryloxycarbonyl group having 7 to 11 carbon atoms, 2 carbon atoms
~ 19 acyloxy groups, C6-10 arylthio groups,
Represents a cyano group, a nitro group or a halogen, and m represents 0 to 7
And R 1 may be the same as or different from each other. R 2 represents an alkyl group which may be substituted with a group selected from hydroxy, alkylcarbonyl, arylcarbonyl, cyano, aryl, alkoxy, aryloxy, nitro and halogen, and has 9 to 24 carbon atoms. R 3 represents hydrogen, halogen, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, or a phenyl group. A has 6 to 6 carbon atoms which may be substituted with a group selected from alkyl, hydroxy, alkoxy, alkylcarbonyl, arylcarbonyl, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl, acyloxy, arylthio, aryl, aryloxy, cyano, nitro and halogen. 20 represents an aryl group, hydroxy, alkylcarbonyl, arylcarbonyl, cyano, aryl, alkoxy, aryloxy, nitro, and an optionally substituted alkyl group or alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms. X represents a non-nucleophilic anion. Further, the cationic polymerization initiator of the present invention is characterized by containing at least one kind of the sulfonium salt, and the curable composition of the present invention comprises a cationic polymerizable compound and the cationic polymerization initiator. The method for curing a cationically polymerizable compound of the present invention is characterized in that the curable composition is cured by the action of heat, light or active energy rays. The cured product of the present invention is obtained by the curing method.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】まず、一般式[1]で表される本
発明のスルホニウム塩について、以下、詳細に説明す
る。一般式[1]中、R1は炭素数1〜18のアルキル基、
ヒドロキシ基、炭素数1〜18のアルコキシ基、炭素数6
〜10のアリール基、炭素数6〜10のアリールオキシ基、
炭素数1〜19のアルキルカルボニル基、炭素数7〜11の
アリールカルボニル基、炭素数2〜19のアルコキシカル
ボニル基、炭素数7〜11のアリールオキシカルボニル
基、炭素数2〜19のアシロキシ基、炭素数6〜10のアリ
ールチオ基、シアノ基、ニトロ基またはハロゲンを表
し、mは0〜7の整数を示し、R1は互いに同一であって
も異なっていてもよい。このうち、R1のmが0のものが
好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION First, the sulfonium salt of the present invention represented by the general formula [1] will be described in detail below. In the general formula [1], R 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms,
Hydroxy group, C1-18 alkoxy group, C6
~ 10 aryl groups, C6-10 aryloxy groups,
An alkylcarbonyl group having 1 to 19 carbon atoms, an arylcarbonyl group having 7 to 11 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 19 carbon atoms, an aryloxycarbonyl group having 7 to 11 carbon atoms, an acyloxy group having 2 to 19 carbon atoms, It represents an arylthio group having 6 to 10 carbon atoms, a cyano group, a nitro group or halogen, m represents an integer of 0 to 7, and R 1's may be the same or different. Of these, those in which m of R 1 is 0 are preferable.

【0007】R1の前記炭素数1〜18のアルキル基として
は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、オ
クチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシ
ル、オクタデシル等の直鎖アルキル基、イソプロピル、
イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、イソペンチ
ル、ネオペンチル、tert−ペンチル、イソヘキシル等の
分岐を有するアルキル基、シクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル等のシクロアルキ
ル基等が挙げられる。R1の前記炭素数1〜18のアルコキ
シ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブト
キシ、ヘキシルオキシ、デシルオキシ、ドデシルオキシ
等の基が挙げられる。R1の前記炭素数6〜10のアリール
基としては、フェニル、ナフチル等の基が挙げられる。
R1の前記炭素数6〜10のアリールオキシ基としては、フ
ェノキシ、ナフチルオキシ等の基が挙げられる。R1の前
記炭素数1〜19のアルキルカルボニル基としては、アセ
チル、プロピオニル、ブタノイル、イソブタノイル、ヘ
プタノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイ
ル、オクタデカノイル等の基が挙げられる。R1の前記炭
素数7〜11のアリールカルボニル基としては、ベンゾイ
ル、ナフトイル等の基が挙げられる。R1の前記炭素数2
〜19のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、
オクチルオキシカルボニル、テトラデシルオキシカルボ
ニル、オクタデシルオキシカルボニル等の基が挙げられ
る。R1の前記炭素数7〜11のアリールオキシカルボニル
基としては、フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボ
ニル等の基が挙げられる。R1の前記炭素数2〜19のアシ
ロキシ基としては、アセトキシ、エチルカルボニルオキ
シ、プロピルカルボニルオキシ、オクチルカルボニルオ
キシ、テトラデシルカルボニルオキシ、オクタデシルカ
ルボニルオキシ等の基が挙げられる。R1の前記炭素数6
〜10のアリールチオ基としては、フェニルチオ、ナフチ
ルチオ等の基が挙げられる。R1の前記ハロゲンとして
は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
Examples of the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms for R 1 include linear alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, octyl, decyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl and octadecyl, isopropyl,
Examples thereof include branched alkyl groups such as isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, isopentyl, neopentyl, tert-pentyl and isohexyl, and cycloalkyl groups such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl and cyclohexyl. Examples of the alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms of R 1 include groups such as methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, hexyloxy, decyloxy, dodecyloxy. Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms for R 1 include groups such as phenyl and naphthyl.
Examples of the aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms of R 1 include groups such as phenoxy and naphthyloxy. Examples of the alkylcarbonyl group having 1 to 19 carbon atoms of R 1 include groups such as acetyl, propionyl, butanoyl, isobutanoyl, heptanoyl, octanoyl, decanoyl, dodecanoyl, octadecanoyl and the like. Examples of the arylcarbonyl group having 7 to 11 carbon atoms of R 1 include groups such as benzoyl and naphthoyl. The above-mentioned carbon number of R 1 is 2
Examples of the alkoxycarbonyl group of ~ 19 include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl,
Examples include groups such as octyloxycarbonyl, tetradecyloxycarbonyl, octadecyloxycarbonyl and the like. Examples of the C 7-11 aryloxycarbonyl group of R 1 include groups such as phenoxycarbonyl and naphthoxycarbonyl. Examples of the acyloxy group having 2 to 19 carbon atoms of R 1 include groups such as acetoxy, ethylcarbonyloxy, propylcarbonyloxy, octylcarbonyloxy, tetradecylcarbonyloxy and octadecylcarbonyloxy. The carbon number of R 1 is 6
Examples of the arylthio group of to 10 include groups such as phenylthio and naphthylthio. Examples of the halogen of R 1 include fluorine, chlorine, bromine, iodine and the like.

【0008】一般式[1]中、R2はヒドロキシ、アルキ
ルカルボニル、アリールカルボニル、シアノ、アリー
ル、アルコキシ、アリールオキシ、ニトロおよびハロゲ
ンから選ばれる基で置換されていてもよいアルキル基を
表し、炭素数は9〜24である。R2の炭素数が8以下の場
合、カチオン重合性化合物に対する溶解性が不十分とな
る。また、R2の炭素数が25以上になると、カチオン重合
性化合物に対する溶解性はよくなるが、カチオン重合開
始能が低下する問題点がある。R2が無置換の炭素数9〜
24のアルキル基である場合、R2としては、ノニル、デシ
ル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシ
ル、オクタデシル等の直鎖または分岐状のアルキル基が
挙げられる。R2が前記置換基を有するアルキル基の場合
は、該置換基の炭素数とアルキル基の炭素数の合計が9
〜24であれば、R2はいかなるものでもよい。R2が前記置
換基を有する場合のアルキル基としては、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、オクチル、デシル、
ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル
等の直鎖または分岐状のアルキル基が挙げられ、炭素数
は1〜24である。R2の置換基である前記アルキルカルボ
ニル基は、アセチル、プロピオニル等の基であり、炭素
数は1〜23である。前記アリールカルボニル基は、ベン
ゾイル、ナフトイル等の基であり、炭素数は7〜11であ
る。前記アリール基は、フェニル、ナフチル等の基であ
り、炭素数は6〜10である。前記アルコキシ基は、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ等の基であり、炭素数は1
〜23である。前記アリールオキシ基は、フェノキシ、ナ
フチルオキシ等の基であり、炭素数は6〜10である。前
記ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が
挙げられる。これらのうち、カチオン重合性化合物に対
する溶解性に優れるという理由から、R2の炭素数は、好
ましくは10〜20、更に好ましくは12〜18である。
In the general formula [1], R 2 represents an alkyl group which may be substituted with a group selected from hydroxy, alkylcarbonyl, arylcarbonyl, cyano, aryl, alkoxy, aryloxy, nitro and halogen. The number is 9-24. When the carbon number of R 2 is 8 or less, the solubility in the cationically polymerizable compound becomes insufficient. Further, when the carbon number of R 2 is 25 or more, the solubility in the cationically polymerizable compound is improved, but the cationic polymerization initiating ability is deteriorated. R 2 is an unsubstituted carbon number 9 to
When it is an alkyl group of 24, examples of R 2 include linear or branched alkyl groups such as nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl and the like. When R 2 is an alkyl group having a substituent, the total number of carbon atoms of the substituent and the alkyl group is 9
R 2 may be any as long as it is ˜24. Examples of the alkyl group when R 2 has the above substituents include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, octyl, decyl,
Examples thereof include linear or branched alkyl groups such as dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl and the like, and have 1 to 24 carbon atoms. The alkylcarbonyl group which is a substituent of R 2 is a group such as acetyl and propionyl and has 1 to 23 carbon atoms. The arylcarbonyl group is a group such as benzoyl or naphthoyl and has 7 to 11 carbon atoms. The aryl group is a group such as phenyl and naphthyl, and has 6 to 10 carbon atoms. The alkoxy group is a group such as methoxy, ethoxy, and propoxy, and has 1 carbon atom.
~ 23. The aryloxy group is a group such as phenoxy or naphthyloxy and has 6 to 10 carbon atoms. Examples of the halogen include fluorine, chlorine, bromine, iodine and the like. Of these, the number of carbon atoms of R 2 is preferably 10 to 20, and more preferably 12 to 18 because of its excellent solubility in the cationically polymerizable compound.

【0009】一般式[1]中、R3は水素、ハロゲン、炭
素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基
またはフェニル基を表す。前記ハロゲンとしては、フッ
素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。前記炭素数1
〜8のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、ヘキシル、オクチル等の直鎖アルキル基、
イソプロピル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチ
ル、イソペンチル、ネオペンチル、tert−ペンチル、イ
ソヘキシル等の分岐を有するアルキル基、シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等
のシクロアルキル基が挙げられる。前記炭素数1〜8の
アルコキシル基としては、メトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ等の基が挙げられる。
これらのうち、水素、メチル基、エチル基、フェニル基
が好ましく、特にR3が水素であるものが好ましい。
In the general formula [1], R 3 represents hydrogen, halogen, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms or a phenyl group. Examples of the halogen include fluorine, chlorine, bromine, iodine and the like. The carbon number 1
As the alkyl group of ~ 8, straight chain alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl and octyl,
Examples thereof include branched alkyl groups such as isopropyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, isopentyl, neopentyl, tert-pentyl and isohexyl, and cycloalkyl groups such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl and cyclohexyl. Examples of the alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms include groups such as methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy and hexyloxy.
Of these, hydrogen, a methyl group, an ethyl group and a phenyl group are preferable, and one in which R 3 is hydrogen is particularly preferable.

【0010】一般式[1]中、Aはアルキル、ヒドロキ
シ、アルコキシ、アルキルカルボニル、アリールカルボ
ニル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニ
ル、アシロキシ、アリールチオ、アリール、アリールオ
キシ、シアノ、ニトロおよびハロゲンから選ばれる基で
置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基、ヒド
ロキシ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、シ
アノ、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、ニトロ
およびハロゲンから選ばれる基で置換されていてもよい
炭素数1〜18のアルキル基またはアルコキシ基を表す。
Aの炭素数6〜20のアリール基としては、フェニル、ナ
フチル、アントラセニル、フェナンスレニル、ピレニ
ル、クリセニル、ナフタセニル、ベンズアントラセニル
等の基が挙げられる。
In the general formula [1], A is a group selected from alkyl, hydroxy, alkoxy, alkylcarbonyl, arylcarbonyl, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl, acyloxy, arylthio, aryl, aryloxy, cyano, nitro and halogen. An optionally substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a hydroxy group, an alkylcarbonyl group, an arylcarbonyl group, a cyano group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a nitro group and a halogen group; 18 represents an alkyl group or an alkoxy group.
Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms of A include phenyl, naphthyl, anthracenyl, phenanthrenyl, pyrenyl, chrysenyl, naphthacenyl and benzanthracenyl groups.

【0011】Aの炭素数6〜20のアリール基は、前記し
た置換基を有するものであってもよい。該置換基につい
て説明すると、前記アルキル基は、メチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、ペンチル、オクチル、デシル、ドデシ
ル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル等の直
鎖アルキル基、イソプロピル、イソブチル、sec−ブチ
ル、tert−ブチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert
−ペンチル、イソヘキシル等の分岐を有するアルキル
基、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル等のシクロアルキル基等であり、炭素数
は1〜18である。前記アルコキシ基は、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、デシル
オキシ、ドデシルオキシ等の基であり、炭素数は1〜18
である。前記アルキルカルボニル基は、アセチル、プロ
ピオニル、ブタノイル、イソブタノイル、ヘプタノイ
ル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、オクタ
デカノイル等の基であり、炭素数は1〜18である。前記
アリールカルボニル基は、ベンゾイル、ナフトイル等の
基であり、炭素数は7〜11である。前記アルコキシカル
ボニル基は、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、オクチルオキシカルボニ
ル、テトラデシルオキシカルボニル、オクタデシルオキ
シカルボニル等の基であり、炭素数は2〜19である。前
記アリールオキシカルボニル基は、フェノキシカルボニ
ル、ナフトキシカルボニル等の基であり、炭素数は7〜1
1である。前記アシロキシ基は、アセトキシ、エチルカ
ルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、オクチル
カルボニルオキシ、テトラデシルカルボニルオキシ、オ
クタデシルカルボニルオキシ等の基であり、炭素数は2
〜19である。前記アリールチオ基は、フェニルチオ、ナ
フチルチオ等の基であり、炭素数は6〜10である。前記
アリール基は、フェニル、ナフチル等の基であり、炭素
数は6〜10である。前記アリールオキシ基は、フェノキ
シ、ナフチルオキシ等の基であり、炭素数は6〜10であ
る。前記ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素等が挙げられる。
The aryl group having 6 to 20 carbon atoms of A may have the above-mentioned substituent. Explaining the substituent, the alkyl group is a linear alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, octyl, decyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl, isopropyl, isobutyl, sec-butyl, tert-. Butyl, isopentyl, neopentyl, tert
An alkyl group having a branch such as pentyl and isohexyl, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl,
It is a cycloalkyl group such as cyclohexyl and has 1 to 18 carbon atoms. The alkoxy group is a group such as methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, hexyloxy, decyloxy, dodecyloxy, etc., having 1 to 18 carbon atoms.
Is. The alkylcarbonyl group is a group such as acetyl, propionyl, butanoyl, isobutanoyl, heptanoyl, octanoyl, decanoyl, dodecanoyl, octadecanoyl, etc., and has 1 to 18 carbon atoms. The arylcarbonyl group is a group such as benzoyl and naphthoyl and has 7 to 11 carbon atoms. The alkoxycarbonyl group is a group such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, octyloxycarbonyl, tetradecyloxycarbonyl, octadecyloxycarbonyl, etc., and has 2 to 19 carbon atoms. The aryloxycarbonyl group is a group such as phenoxycarbonyl and naphthoxycarbonyl, which has 7 to 1 carbon atoms.
Is 1. The acyloxy group is a group such as acetoxy, ethylcarbonyloxy, propylcarbonyloxy, octylcarbonyloxy, tetradecylcarbonyloxy, octadecylcarbonyloxy and the like, and has 2 carbon atoms.
Is ~ 19. The arylthio group is a group such as phenylthio or naphthylthio and has 6 to 10 carbon atoms. The aryl group is a group such as phenyl and naphthyl, and has 6 to 10 carbon atoms. The aryloxy group is a group such as phenoxy or naphthyloxy and has 6 to 10 carbon atoms. Examples of the halogen include fluorine, chlorine, bromine, iodine and the like.

【0012】Aの炭素数1〜18のアルキル基としては、
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、オクチ
ル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、
オクタデシル等の直鎖アルキル基、イソプロピル、イソ
ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、イソペンチル、
ネオペンチル、tert−ペンチル、イソヘキシル等の分岐
を有するアルキル基、シクロプロピル、シクロブチル、
シクロペンチル、シクロヘキシル等のシクロアルキル基
が挙げられる。また、Aの炭素数1〜18のアルコキシ基
としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキ
シ、ヘキシルオキシ、デシルオキシ、ドデシルオキシ等
の基が挙げられる。
As the C 1-18 alkyl group of A,
Methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, octyl, decyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl,
Linear alkyl groups such as octadecyl, isopropyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, isopentyl,
Neopentyl, tert-pentyl, branched alkyl groups such as isohexyl, cyclopropyl, cyclobutyl,
Examples thereof include cycloalkyl groups such as cyclopentyl and cyclohexyl. Further, examples of the alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms of A include groups such as methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, hexyloxy, decyloxy, dodecyloxy.

【0013】Aの炭素数1〜18のアルキル基およびアル
コキシ基は、前記した置換基を有するものであってもよ
い。該置換基について説明すると、前記アルキルカルボ
ニル基は、アセチル、プロピオニル等の基であり、炭素
数は1〜11である。また、前記アリールカルボニル基
は、ベンゾイル、ナフトイル等の基であり、炭素数は7
〜11、前記アリール基は、フェニル、ナフチル等の基で
あり、炭素数は6〜10、前記アルコキシ基は、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ等の基であり、炭素数は1〜1
0、前記アリールオキシ基は、フェノキシ、ナフチルオ
キシ等の基であり、炭素数は6〜10、前記ハロゲンは、
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等である。
The alkyl group and the alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms of A may have the above-mentioned substituents. Explaining the substituent, the alkylcarbonyl group is a group such as acetyl and propionyl and has 1 to 11 carbon atoms. Further, the arylcarbonyl group is a group such as benzoyl and naphthoyl and has 7 carbon atoms.
~ 11, the aryl group is a group such as phenyl, naphthyl, etc., the carbon number is 6 to 10, the alkoxy group is a group such as methoxy, ethoxy, propoxy, etc., the carbon number is 1 to 1
0, the aryloxy group is a group such as phenoxy and naphthyloxy, the carbon number is 6 to 10, the halogen is
Fluorine, chlorine, bromine, iodine and the like.

【0014】これらのうち、Aとして好ましい基は、光
重合開始能が優れている炭素数6〜20のアリール基であ
り、特にフェニル基である。Aが炭素数21以上のアリー
ル基である場合は、カチオン重合性化合物に対する溶解
性が不十分となる。
Of these, the preferred group as A is an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, which is excellent in the ability to initiate photopolymerization, and particularly a phenyl group. When A is an aryl group having 21 or more carbon atoms, the solubility in the cationically polymerizable compound becomes insufficient.

【0015】一般式[1]中、非求核性のアニオンであ
るX-としては、SbF6 -、AsF6 -、PF6 -、BF4 -、B(C6F5)4 -
等が挙げられる。これらのうち、特にSbF6 -、PF6 -、B(C
6F5) 4 -が光重合開始能に優れるので好ましい。
In the general formula [1], it is a non-nucleophilic anion.
X-As SbF6 -, AsF6 -, PF6 -, BFFour -, B (C6F5)Four -
Etc. Of these, especially SbF6 -, PF6 -, B (C
6FFive) Four -Is preferable because of its excellent photopolymerization initiation ability.

【0016】本発明のスルホニウム塩は、例えば、日本
化学雑誌,87,(5),74(1966)に記載されている方法に
基づいて、次の反応により製造することができる。
The sulfonium salt of the present invention can be produced by the following reaction, for example, based on the method described in Japan Chemical Journal, 87 , (5), 74 (1966).

【化3】 [Chemical 3]

【0017】上記反応は、例えば、アセトニトリル、酢
酸エチル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エタノー
ル、アセトン、メチルエチルケトン、クロロホルム、ジ
クロロメタン等の極性溶剤中、室温から各溶剤の沸点程
度の温度で1時間から数日間行われる。該反応終了後、
析出した無機塩(AgB)をろ別し、溶剤を除去すること
により、本発明のスルホニウム塩が固体あるいは粘稠な
液体として得られる。これらは必要に応じて適当な有機
溶剤を用いて洗浄するか、または再結晶を行うことによ
り精製することができる。
The above reaction is carried out in a polar solvent such as acetonitrile, ethyl acetate, tetrahydrofuran, dioxane, ethanol, acetone, methyl ethyl ketone, chloroform and dichloromethane at a temperature from room temperature to about the boiling point of each solvent for 1 hour to several days. . After the reaction is completed,
The precipitated inorganic salt (AgB) is filtered off and the solvent is removed to obtain the sulfonium salt of the present invention as a solid or viscous liquid. These can be purified by washing with a suitable organic solvent or by recrystallization, if necessary.

【0018】また、本発明のスルホニウム塩は、例え
ば、J.Org.Chem.,32,2580(1967)に記載されている方
法に基づいて、次の反応により製造することができる。
The sulfonium salt of the present invention can be produced by the following reaction, for example, based on the method described in J. Org. Chem., 32 , 2580 (1967).

【化4】 [Chemical 4]

【0019】上記反応は、無溶剤下あるいは必要によ
り、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、エタノール、アセトン等の有機溶媒中、室温から15
0℃程度の温度で1時間から数十時間行われる。該反応
終了後、反応液とアルカリ金属の非求核性アニオン塩MX
(M+:Li+、Na+、K+など。X-:SbF6 -、AsF6 -、PF6 -、BF
4 -、B(C6F5)4 -など。)の水溶液を加えて撹拌し、複分
解反応を行う。析出した固体をろ別するか、または分離
した油状物を有機溶剤で抽出して溶剤を除去することに
より、本発明のスルホニウム塩が固体あるいは粘稠な液
体として得られる。これらは必要に応じて適当な有機溶
剤を用いて洗浄するか、または再結晶を行うことにより
精製することができる。
The above reaction is carried out at room temperature to 15 times in an organic solvent such as acetonitrile, tetrahydrofuran, dioxane, ethanol, acetone or the like without a solvent or if necessary.
It is performed at a temperature of about 0 ° C. for 1 hour to several tens of hours. After completion of the reaction, the reaction solution and alkali metal non-nucleophilic anion salt MX
(M +: Li +, Na +, K + , such as .X -: SbF 6 -, AsF 6 -, PF 6 -, BF
4 -, B (C 6 F 5) 4 - and the like. The aqueous solution of 1) is added and stirred to carry out a metathesis reaction. The precipitated solid is filtered off or the separated oily substance is extracted with an organic solvent to remove the solvent, whereby the sulfonium salt of the present invention is obtained as a solid or viscous liquid. These can be purified by washing with a suitable organic solvent or by recrystallization, if necessary.

【0020】得られたスルホニウム塩の構造は、一般的
な分析手法(例えば、核磁気共鳴スペクトル、赤外吸収
スペクトル、元素分析等)によって同定することができ
る。なお、本願明細書に記載したスルホニウム塩の構造
は、特に核磁気共鳴スペクトルによって同定した。具体
的には、陽電荷を帯びた硫黄原子に結合したα−炭素の
プロトンのケミカルシフトが原料のそれに比べて低磁場
側に移動することにより容易に同定することができる。
The structure of the obtained sulfonium salt can be identified by a general analytical method (for example, nuclear magnetic resonance spectrum, infrared absorption spectrum, elemental analysis, etc.). The structure of the sulfonium salt described in the present specification was identified especially by a nuclear magnetic resonance spectrum. Specifically, the chemical shift of the proton of α-carbon bonded to the positively charged sulfur atom can be easily identified by moving to the lower magnetic field side compared to that of the raw material.

【0021】前記した一般式[1]で表される本発明の
スルホニウム塩の代表例を表1に示す。但し、式中のX-
はSbF6 -、AsF6 -、PF6 -、BF4 -、B(C6F5)4 -等の非求核性
のアニオンを示す。
Table 1 shows typical examples of the sulfonium salt of the present invention represented by the above general formula [1]. However, X in the formula -
Is SbF 6 -, AsF 6 -, PF 6 -, BF 4 -, B (C 6 F 5) 4 - shows a non-nucleophilic anion, and the like.

【0022】[0022]

【表1】 [Table 1]

【0023】本発明のスルホニウム塩は、カチオン重合
開始剤として使用され、単独で使用してもよいし、他の
カチオン重合開始剤と併用してもよい。すなわち、本発
明のカチオン重合開始剤は、前記した本発明のスルホニ
ウム塩の少なくとも一種を含有するものである。他のカ
チオン重合開始剤としては、公知のもの全てを併用する
ことができ、例えば、スルホニウム塩、ヨードニウム
塩、ホスホニウム塩、ピリジニウム塩、鉄−アレーン錯
体等を挙げることができる。他のカチオン重合開始剤を
併用する場合の使用割合は、本発明のスルホニウム塩10
0重量部に対して、通常、他のカチオン重合開始剤1〜2
00重量部、好ましくは5〜100重量部である。
The sulfonium salt of the present invention is used as a cationic polymerization initiator and may be used alone or in combination with other cationic polymerization initiators. That is, the cationic polymerization initiator of the present invention contains at least one kind of the above-mentioned sulfonium salt of the present invention. As the other cationic polymerization initiator, all known ones can be used in combination, and examples thereof include a sulfonium salt, an iodonium salt, a phosphonium salt, a pyridinium salt, and an iron-arene complex. When used in combination with other cationic polymerization initiators, the ratio is 10
Normally, 1 to 2 other cationic polymerization initiators are used per 0 part by weight.
The amount is 00 parts by weight, preferably 5 to 100 parts by weight.

【0024】他のカチオン重合開始剤について説明する
と、前記スルホニウム塩としては、例えば、トリフェニ
ルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス[4
−(ジフェニルスルホニオ)−フェニル]スルフィドビ
スヘキサフルオロホスフェート、ビス[4−(ジフェニ
ルスルホニオ)−フェニル]スルフィドビスヘキサフル
オロアンチモネート、4−ジ(p−トルイル)スルホニ
オ−4−tert−ブチルフェニルカルボニル−ジフェニル
スルフィドヘキサフルオロホスフェート、4−ジ(p−
トルイル)スルホニオ−4− tert−ブチルフェニルカ
ルボニル−ジフェニルスルフィドヘキサフルオロアンチ
モネート、7−ジ(p−トルイル)スルホニオ−2−イ
ソプロピル−チオキサントンヘキサフルオロホスフェー
ト、7−ジ(p−トルイル)スルホニオ−2−イソプロ
ピル−チオキサントンヘキサフルホロアンチモネート
等、および特開平7−61964号、特開平8−165
290号、米国特許第4231951号、米国特許第4
256828号等に記載の芳香族スルホニウム塩等を挙
げることができる。
Other cationic polymerization initiators will be described. Examples of the sulfonium salt include triphenylsulfonium hexafluorophosphate and bis [4
-(Diphenylsulfonio) -phenyl] sulfide bishexafluorophosphate, bis [4- (diphenylsulfonio) -phenyl] sulfide bishexafluoroantimonate, 4-di (p-toluyl) sulfonio-4-tert-butylphenyl Carbonyl-diphenyl sulfide hexafluorophosphate, 4-di (p-
Toluyl) sulfonio-4-tert-butylphenylcarbonyl-diphenyl sulfide hexafluoroantimonate, 7-di (p-toluyl) sulfonio-2-isopropyl-thioxanthone hexafluorophosphate, 7-di (p-toluyl) sulfonio-2- Isopropyl-thioxanthone hexafluforoantimonate and the like, and JP-A-7-61964 and JP-A-8-165.
290, US Pat. No. 4,231,951, US Pat. No. 4
Examples thereof include aromatic sulfonium salts described in No. 256828 and the like.

【0025】カチオン重合開始剤である前記ヨードニウ
ム塩としては、例えば、ジフェニルヨードニウムヘキサ
フルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサ
フルオロアンチモネート、ビス(ドデシルフェニル)ヨ
ードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレ
ート等、および特開平6−184170号、米国特許第
4256828号等に記載の芳香族ヨードニウム塩等を
挙げることができる。
Examples of the iodonium salt as a cationic polymerization initiator include diphenyliodonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium hexafluoroantimonate, bis (dodecylphenyl) iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, and JP-A-6- Aromatic iodonium salts described in U.S. Pat. No. 184170, U.S. Pat. No. 4,256,828 and the like can be mentioned.

【0026】カチオン重合開始剤である前記ホスホニウ
ム塩としては、例えば、テトラフェニルホスホニウムヘ
キサフルオロホスフェート、テトラフェニルホスホニウ
ムヘキサフルオロアンチモネート等、および特開平6−
157624号等に記載の芳香族ホスホニウム塩等を挙
げることができる。また、カチオン重合開始剤である前
記ピリジニウム塩としては、例えば、特許公報第251
9480号、特開平5−222112号等に記載のピリ
ジニウム塩等を挙げることができる。
Examples of the phosphonium salt as a cationic polymerization initiator include tetraphenylphosphonium hexafluorophosphate, tetraphenylphosphonium hexafluoroantimonate, and the like, and JP-A-6-
Examples thereof include aromatic phosphonium salts described in 157624 and the like. Examples of the pyridinium salt that is a cationic polymerization initiator include, for example, Patent Publication No. 251.
Examples thereof include pyridinium salts described in JP-A No. 9480 and JP-A No. 5-222112.

【0027】本発明の硬化性組成物は、本発明のカチオ
ン重合開始剤とカチオン重合性化合物を含有してなるも
のである。本発明のカチオン重合開始剤を適用すること
ができる該カチオン重合性化合物としては、例えば、エ
ポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合
物、スチレン等のエチレン性不飽和化合物、更には、ス
ピロオルソエステル化合物、ビシクロオルソエステル化
合物、スピロオルソカーボネート化合物のような環状エ
ーテル類が挙げられる。
The curable composition of the present invention comprises the cationic polymerization initiator of the present invention and a cationic polymerizable compound. Examples of the cationically polymerizable compound to which the cationic polymerization initiator of the present invention can be applied include epoxy compounds, vinyl ether compounds, oxetane compounds, ethylenically unsaturated compounds such as styrene, and further spiro orthoester compounds, bicyclo Examples include cyclic ethers such as orthoester compounds and spiro orthocarbonate compounds.

【0028】本発明のカチオン重合開始剤を適用するこ
とができる前記エポキシ化合物としては、芳香族エポキ
シ化合物、脂環式エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合
物等が挙げられる。該芳香族エポキシ化合物としては、
少なくとも1個の芳香族環を有する1価および多価フェ
ノールまたは、そのアルキレンオキサイド付加物のポリ
グリシジルエーテル、例えば、フェノール、ビスフェノ
ールA、ビスフェノールF、またはこれらに更にアルキレ
ンオキサイドを付加した化合物のポリグリシジルエーテ
ル、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、o−、p−、
m−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられ
る。
Examples of the epoxy compound to which the cationic polymerization initiator of the present invention can be applied include aromatic epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds and aliphatic epoxy compounds. As the aromatic epoxy compound,
Mono- and polyhydric phenols having at least one aromatic ring, or polyglycidyl ethers of alkylene oxide adducts thereof, such as phenol, bisphenol A, bisphenol F, or polyglycidyl compounds in which alkylene oxides are further added. Ether, phenol novolac type epoxy resin, o-, p-,
Examples thereof include m-cresol novolac type epoxy resin.

【0029】該脂環式エポキシ化合物としては、少なく
とも1個のシクロヘキセン環あるいはシクロペンテン環
含有化合物を酸化剤でエポキシ化することによって得ら
れるシクロヘキセンオキサイド含有化合物あるいはシク
ロペンテンオキサイド含有化合物が挙げられる。例え
ば、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エ
ポキシ−1−メチルシクロヘキシル−3,4−エポキシ
−1−メチルヘキサンカルボキシレート、6−メチル−
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−6−メチル−
3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、
3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキシルメチル−
3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキサンカルボキ
シレート、3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキシ
ルメチル−3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキサ
ンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘ
キサン−メタジオキサン、ビス(3,4−エポキシシク
ロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6
−メチルシクロヘキシルカルボキシレート、メチレンビ
ス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペン
タジエンジエポキサイド、エチレンビス(3,4−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレート)等が挙げられ
る。
Examples of the alicyclic epoxy compound include a cyclohexene oxide-containing compound or a cyclopentene oxide-containing compound obtained by epoxidizing at least one cyclohexene ring- or cyclopentene ring-containing compound with an oxidizing agent. For example, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-
Epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-1-methylcyclohexyl-3,4-epoxy-1-methylhexanecarboxylate, 6-methyl-
3,4-epoxycyclohexylmethyl-6-methyl-
3,4-epoxycyclohexanecarboxylate,
3,4-epoxy-3-methylcyclohexylmethyl-
3,4-epoxy-3-methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-5-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-5-methylcyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5 5-Spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-metadioxane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6
-Methylcyclohexylcarboxylate, methylenebis (3,4-epoxycyclohexane), dicyclopentadiene diepoxide, ethylenebis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate) and the like.

【0030】該脂肪族エポキシ化合物としては、脂肪族
多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物
のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリ
グリシジルエステル、グリシジルアクリレートまたはグ
リシジルメタクリレートのビニル重合により合成したホ
モポリマー、グリシジルアクリレートまたはグリシジル
メタクリレートとその他のビニルモノマーとのビニル重
合により合成したコポリマー等が挙げられる。代表的な
脂肪族エポキシ化合物としては、1,4−ブタンジオー
ルジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジ
グリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールAジグリ
シジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテ
ル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテ
ル、ソルビトールのテトラグリシジルエーテル、ジペン
タエリスリトールのヘキサグリシジルエーテル、ポリエ
チレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピ
レングリコールのジグリシジルエーテル、エポキシヘキ
サヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフ
タル酸ジ−2−エチルヘキシル等の多価アルコールのグ
リシジルエーテル、プロピレングリコール、トリメチロ
ールプロパン、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに
1種または2種以上のアルキレンオキサイドを付加する
ことによって得られるポリエーテルポリオ−ルのポリグ
リシジルエーテル、脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジル
エステル、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエー
テル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大
豆油、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシステア
リン酸ブチル、エポキシ化ポリブタジエン等が挙げられ
る。
As the aliphatic epoxy compound, a polyglycidyl ether of an aliphatic polyhydric alcohol or an alkylene oxide adduct thereof, a polyglycidyl ester of an aliphatic long-chain polybasic acid, a homopolymer synthesized by vinyl polymerization of glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate is used. Examples thereof include polymers, copolymers synthesized by vinyl polymerization of glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate and other vinyl monomers, and the like. Typical aliphatic epoxy compounds include 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, and trimethylolpropane triglycidyl. Ether, tetraglycidyl ether of sorbitol, hexaglycidyl ether of dipentaerythritol, diglycidyl ether of polyethylene glycol, diglycidyl ether of polypropylene glycol, dioctyl epoxyhexahydrophthalate, di-2-ethylhexyl epoxyhexahydrophthalate, etc. One or two of aliphatic polyhydric alcohols such as glycidyl ether of polyhydric alcohol, propylene glycol, trimethylolpropane and glycerin. Polyglycol ether of polyether polyol obtained by adding the above alkylene oxide, diglycidyl ester of aliphatic long-chain dibasic acid, monoglycidyl ether of aliphatic higher alcohol, glycidyl ester of higher fatty acid, large epoxidation Soybean oil, octyl epoxy stearate, butyl epoxy stearate, epoxidized polybutadiene and the like can be mentioned.

【0031】本発明のカチオン重合開始剤を適用するこ
とができる前記ビニルエーテル化合物としては、例え
ば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブ
チルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、シク
ロヘキシルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエ
ーテル、2−フェノキシエチルビニルエーテル、2−ヒ
ドロキシエチルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチル
ビニルエーテル、ステアリールビニルエーテル、2−ア
セトキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコール
モノビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテ
ル、ドデシルビニルエーテル、オクタデシルビニルエー
テル等のアルキルビニルエーテル化合物、アリールビニ
ルエーテル、2−メタクロイルオキシエチルビニルエー
テル、2−アクロイルオキシエチルビニルエーテル等の
アルケニルビニルエーテル化合物、フェニルビニルエー
テル、p−メトキシフェニルビニルエーテル等のアリー
ルビニルエーテル化合物、1,4−ブタンジオールジビ
ニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテ
ル、1,4−ベンゼンジビニルエーテル、ハイドロキノ
ンジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビ
ニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテ
ル、ジプロピレンジビニルエーテル、ヘキサンジオール
ジビニルエーテル等の多官能ビニルエーテル化合物が挙
げられる。
Examples of the vinyl ether compound to which the cationic polymerization initiator of the present invention can be applied include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, and 2-phenoxyethyl vinyl ether. , 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, stearyl vinyl ether, 2-acetoxyethyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, dodecyl vinyl ether, octadecyl vinyl ether and other alkyl vinyl ether compounds, aryl vinyl ether, 2-metacroyl Oxyethyl vinyl ether, 2-acloy Alkenyl vinyl ether compounds such as oxyethyl vinyl ether, phenyl vinyl ethers, aryl vinyl ether compounds such as p-methoxyphenyl vinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, 1,4-benzenedivinyl ether, hydroquinone divinyl ether, Examples thereof include polyfunctional vinyl ether compounds such as cyclohexanedimethanol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, dipropylene divinyl ether, and hexanediol divinyl ether.

【0032】本発明のカチオン重合開始剤を適用するこ
とができる前記オキセタン化合物としては、例えば、3
−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−(メ
タ)アリールオキシメチル−3−エチルオキセタン、
(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチルベン
ゼン、4−フルオロ−[1−(3−エチル−3−オキセ
タニルメトキシ)メチル]ベンゼン、4−メトキシ−
[1−(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチ
ル]ベンゼン、[1−(3−エチル−3−オキセタニル
メトキシ)エチル]フェニルエーテル、イソブトキシメ
チル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテ
ル、イソボルニルオキシエチル(3−エチル−3−オキ
セタニルメチル)エーテル、イソボルニル(3−エチル
−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−エチルヘキ
シル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテ
ル、エチルジエチレングリコール(3−エチル−3−オ
キセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンタジエン
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジ
シクロペンテニルオキシエチル(3−エチル−3−オキ
セタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニル(3−
エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラヒ
ドロフルフリル(3−エチル−3−オキセタニルメチ
ル)エーテル、テトラブロモフェニル(3−エチル−3
−オキセタニルメチル)エーテル、2−テトラブロモフ
ェノキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチ
ル)エーテル、トリブロモフェニル(3−エチル−3−
オキセタニルメチル)エーテル、2−トリブロモフェノ
キシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エ
ーテル、2−ヒドロキシエチル(3−エチル−3−オキ
セタニルメチル)エーテル、2−ヒドロキシプロピル
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ブ
トキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)
エーテル、ペンタクロロフェニル(3−エチル−3−オ
キセタニルメチル)エーテル、ペンタブロモフェニル
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ボ
ルニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテ
ル、3,7−ビス(3−オキセタニル)−5−オキサノ
ナン、3,3−(1,3−(2−メチレニル)プロパン
ジイルビス(オキシメチレン))ビス−(3−エチルオ
キセタン)、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセ
タニルメトキシ)メチル]ベンゼン、1,2−ビス
[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]
エタン、1,3−ビス[(3−エチル−3−オキセタニ
ルメトキシ)メチル]プロパン、エチレングリコールビ
ス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、
ジシクロペンテニルビス(3−エチル−3−オキセタニ
ルメチル)エーテル、トリエチレングリコールビス(3
−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラ
エチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニ
ルメチル)エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレ
ン(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、
トリメチロールプロパントリス(3−エチル−3−オキ
セタニルメチル)エーテル、1,4−ビス(3−エチル
−3−オキセタニルメトキシ)ブタン、1,6−ビス
(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)ヘキサン、
ペンタエリスリトールトリス(3−エチル−3−オキセ
タニルメチル)エーテル、ペンタエリスリトールテトラ
キス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテ
ル、ポリエチレングリコールビス(3−エチル−3−オ
キセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトール
ヘキサキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エ
ーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス(3−エチ
ル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリ
スリトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニル
メチル)エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリス
リトールヘキサキス(3−エチル−3−オキセタニルメ
チル)エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリ
トールペンタキス(3−エチル−3−オキセタニルメチ
ル)エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラキス
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、E
O変性ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセ
タニルメチル)エーテル、PO変性ビスフェノールAビ
ス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、
EO変性水添ビスフェノールAビス(3−エチル−3−
オキセタニルメチル)エーテル、PO変性水添ビスフェ
ノールAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)
エーテル、EO変性ビスフェノールF(3−エチル−3
−オキセタニルメチル)エーテル等が挙げられる。
The oxetane compound to which the cationic polymerization initiator of the present invention can be applied is, for example, 3
-Ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3- (meth) aryloxymethyl-3-ethyloxetane,
(3-Ethyl-3-oxetanylmethoxy) methylbenzene, 4-fluoro- [1- (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, 4-methoxy-
[1- (3-Ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, [1- (3-Ethyl-3-oxetanylmethoxy) ethyl] phenyl ether, isobutoxymethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, Isobornyloxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, isobornyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-ethylhexyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, ethyldiethylene glycol (3- Ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentadiene (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenyloxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenyl (3-
Ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tetrahydrofurfuryl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tetrabromophenyl (3-ethyl-3)
-Oxetanylmethyl) ether, 2-tetrabromophenoxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tribromophenyl (3-ethyl-3-)
Oxetanylmethyl) ether, 2-tribromophenoxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-hydroxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-hydroxypropyl (3-ethyl-3-) Oxetanylmethyl) ether, butoxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl)
Ether, pentachlorophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentabromophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, bornyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 3,7-bis ( 3-oxetanyl) -5-oxanonane, 3,3- (1,3- (2-methylenyl) propanediylbis (oxymethylene)) bis- (3-ethyloxetane), 1,4-bis [(3-ethyl -3-Oxetanylmethoxy) methyl] benzene, 1,2-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl]
Ethane, 1,3-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] propane, ethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether,
Dicyclopentenyl bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, triethylene glycol bis (3
-Ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tetraethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tricyclodecanediyldimethylene (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether,
Trimethylolpropane tris (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 1,4-bis (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) butane, 1,6-bis (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) hexane,
Pentaerythritol tris (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentaerythritol tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, polyethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol hexakis (3-Ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol pentakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, caprolactone-modified dipentaerythritol Hexakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, caprolactone modified dipentaerythritol pentakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dito Trimethylolpropane tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, E
O-modified bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, PO-modified bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether,
EO modified hydrogenated bisphenol A bis (3-ethyl-3-
Oxetanylmethyl) ether, PO modified hydrogenated bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl)
Ether, EO modified bisphenol F (3-ethyl-3
-Oxetanylmethyl) ether and the like.

【0033】本発明のカチオン重合開始剤を適用するこ
とができる前記エチレン性不飽和化合物としては、スチ
レン、ビニルシクロヘキセン、イソブチレン、ポリブタ
ジエンおよびこれらの誘導体、N−ビニルカルバゾー
ル、N−ビニルピロリドン等のカチオン重合性窒素含有
化合物等が挙げられる。
The ethylenically unsaturated compound to which the cationic polymerization initiator of the present invention can be applied includes cations such as styrene, vinylcyclohexene, isobutylene, polybutadiene and their derivatives, N-vinylcarbazole, N-vinylpyrrolidone. Examples include polymerizable nitrogen-containing compounds.

【0034】本発明のカチオン重合開始剤を適用するこ
とができる前記スピロオルソエステル化合物としては、
1,4,6−トリオキサスピロ[4,4]ノナン、2−メ
チル−1,4,6−トリオキサスピロ[4,4]ノナン、
1,4,6−トリオキサスピロ[4,5]デカン等が挙げ
られる。
Examples of the spiro orthoester compound to which the cationic polymerization initiator of the present invention can be applied include
1,4,6-trioxaspiro [4,4] nonane, 2-methyl-1,4,6-trioxaspiro [4,4] nonane,
1,4,6-trioxaspiro [4,5] decane and the like can be mentioned.

【0035】本発明のカチオン重合開始剤を適用するこ
とができる前記ビシクロオルソエステル化合物として
は、1−フェニル−4−エチル−2,6,7−トリオキサ
ビシクロ[2,2,2]オクタン、1−エチル−4−ヒド
ロキシメチル−2,6,7−トリオキサビシクロ[2,2,
2]オクタン等が挙げられる。
The bicycloorthoester compound to which the cationic polymerization initiator of the present invention can be applied is 1-phenyl-4-ethyl-2,6,7-trioxabicyclo [2,2,2] octane, 1-ethyl-4-hydroxymethyl-2,6,7-trioxabicyclo [2,2,
2] Octane and the like can be mentioned.

【0036】本発明のカチオン重合開始剤を適用するこ
とができる前記スピロオルソカーボネート化合物として
は、1,5,7,11−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデ
カン、3,9−ジベンジル−1,5,7,11−テトラオキサ
スピロ[5,5]ウンデカン等が挙げられる。
Examples of the spiro orthocarbonate compound to which the cationic polymerization initiator of the present invention can be applied include 1,5,7,11-tetraoxaspiro [5,5] undecane, 3,9-dibenzyl-1, Examples include 5,7,11-tetraoxaspiro [5,5] undecane.

【0037】本発明のスルホニウム塩を用いてカチオン
重合性化合物を硬化させる場合、カチオン重合性化合物
は、一種だけでなく、二種以上を併用しても差し支えな
い。本発明のスルホニウム塩は、特にエポキシ化合物、
オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物を硬化させる
のに好適である。
When the cationically polymerizable compound is cured using the sulfonium salt of the present invention, the cationically polymerizable compound may be used alone or in combination of two or more. The sulfonium salt of the present invention is particularly an epoxy compound,
It is suitable for curing oxetane compounds and vinyl ether compounds.

【0038】本発明のスルホニウム塩とカチオン重合性
化合物との使用割合は、特に限定されないが、カチオン
重合性化合物100重量部に対して、本発明のスルホニウ
ム塩0.01〜20重量部、好ましくは0.1〜10重量部であ
る。このスルホニウム塩が0.01重量部より少ないとカチ
オン重合性化合物の重合が不十分となり、20重量部より
多いと硬化物の特性が低下する場合がある。本発明のス
ルホニウム塩の適当な使用割合は、カチオン重合性化合
物の性質、活性エネルギー線の種類と照射量、所望の硬
化時間、温度、湿度、塗膜厚、他のカチオン重合開始剤
の使用量等、さまざまな要因を考慮することによって決
定される。
The ratio of the sulfonium salt of the present invention to the cationically polymerizable compound used is not particularly limited, but 0.01 to 20 parts by weight, preferably 0.1 to 20 parts by weight of the sulfonium salt of the present invention is used with respect to 100 parts by weight of the cationically polymerizable compound. 10 parts by weight. If the amount of this sulfonium salt is less than 0.01 parts by weight, the polymerization of the cationically polymerizable compound will be insufficient, and if it is more than 20 parts by weight, the properties of the cured product may deteriorate. The suitable use ratio of the sulfonium salt of the present invention is the nature of the cationically polymerizable compound, the type and irradiation amount of active energy rays, desired curing time, temperature, humidity, coating thickness, and the amount of other cationic polymerization initiator used. Etc. are determined by considering various factors.

【0039】本発明のスルホニウム塩のカチオン重合性
化合物への溶解を容易にするため、あらかじめ、カチオ
ン重合を阻害しない溶剤類、例えば、プロピレンカーボ
ネート、エチレンカーボネート、カルビトール、カルビ
トールアセテ−ト、γ−ブチロラクトン等にスルホニウ
ム塩を溶解してもよい。使用する溶剤類の割合は、本発
明のスルホニウム塩100重量部に対して、通常、50〜300
重量部、好ましくは75〜200重量部である。
In order to facilitate the dissolution of the sulfonium salt of the present invention in the cationically polymerizable compound, a solvent which does not inhibit cationic polymerization, such as propylene carbonate, ethylene carbonate, carbitol, carbitol acetate, γ, is prepared in advance. -A sulfonium salt may be dissolved in butyrolactone or the like. The proportion of the solvent used is usually 50 to 300 with respect to 100 parts by weight of the sulfonium salt of the present invention.
Parts by weight, preferably 75 to 200 parts by weight.

【0040】本発明の硬化性組成物は、前記したスルホ
ニウム塩とカチオン重合性化合物を含有するものである
が、必要に応じて、顔料、充填剤、静電防止剤、難燃
剤、消泡剤、流動調整剤、増感剤、光安定剤等の添加剤
を配合することができる。前記顔料としては、酸化チタ
ン、酸化鉄、カーボンブラック等の無機顔料、アゾ系、
シアニン系、フタロシアニン系、キナクリドン系等の有
機顔料等の従来公知のものが挙げられる。前記顔料の配
合割合は、本発明の硬化性組成物100重量部に対して、
通常、1〜500重量部、好ましくは1〜100重量部であ
る。
The curable composition of the present invention contains the above-mentioned sulfonium salt and a cationically polymerizable compound, and if necessary, a pigment, a filler, an antistatic agent, a flame retardant, an antifoaming agent. Additives such as flow control agents, sensitizers, and light stabilizers can be added. Examples of the pigment include titanium oxide, iron oxide, inorganic pigments such as carbon black, azo-based pigments,
Known organic pigments such as cyanine-based, phthalocyanine-based, and quinacridone-based organic pigments can be used. The mixing ratio of the pigment is 100 parts by weight of the curable composition of the present invention,
Usually, it is 1 to 500 parts by weight, preferably 1 to 100 parts by weight.

【0041】前記充填剤としては、溶融シリカ、結晶シ
リカ、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、酸化ジルコ
ニウム、水酸化アルミニウム、炭酸マグネシウム、マイ
カ、タルク、ケイ酸カルシウム、ケイ酸リチウムアルミ
ニウム等の従来公知のものが挙げられる。前記充填剤の
配合割合は、本発明の硬化性組成物100重量部に対し
て、通常、1〜1000重量部、好ましくは1〜500重量部で
ある。
As the above-mentioned filler, conventionally known ones such as fused silica, crystalline silica, calcium carbonate, aluminum oxide, zirconium oxide, aluminum hydroxide, magnesium carbonate, mica, talc, calcium silicate and lithium aluminum silicate can be used. Can be mentioned. The blending ratio of the filler is usually 1 to 1000 parts by weight, preferably 1 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable composition of the present invention.

【0042】前記静電防止剤としては、グリセリン脂肪
酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、N,N−ビ
ス(2−ヒドロキシエチル)アルキルアミン、ポリオキ
シエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキ
ルアミン脂肪酸エステル、アルキルジエタノールアミド
等の非イオン系活性剤、アルキルスルホン酸塩、アルキ
ルベンゼンスルホン酸塩、アルキルホスフェート等のア
ニオン系活性剤、テトラアルキルアンモニウム塩、トリ
アルキルベンジルアンモニウム塩等のカチオン系活性
剤、アルキルベタイン、アルキルイミダゾリウムベタイ
ン等の両性系活性剤、メトキシポリエチレングリコール
(メタ)アクリレート、第四級アンモニウム塩基含有
(メタ)アクリレート、第四級アンモニウム塩基含有マ
レイミド等の共重合体等の従来公知のものが挙げられ
る。前記静電防止剤の配合割合は、本発明の硬化性組成
物100重量部に対して、通常、0.1〜50重量部、好ましく
は0.1〜10重量部である。
Examples of the antistatic agent include glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, N, N-bis (2-hydroxyethyl) alkylamine, polyoxyethylene alkylamine, polyoxy. Non-ionic activators such as ethylene alkyl amine fatty acid ester and alkyl diethanol amide, anionic activators such as alkyl sulfonate, alkyl benzene sulfonate and alkyl phosphate, cationic activators such as tetraalkyl ammonium salt and trialkyl benzyl ammonium salt Activator, amphoteric activator such as alkyl betaine, alkyl imidazolium betaine, methoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, quaternary ammonium salt group-containing (meth) acrylate, Conventionally known copolymers such as quaternary ammonium salt group-containing maleimide and the like can be mentioned. The mixing ratio of the antistatic agent is usually 0.1 to 50 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the curable composition of the present invention.

【0043】前記難燃剤としては、三酸化アンチモン、
五酸化アンチモン、酸化錫、水酸化錫、酸化モリブテ
ン、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、赤燐、水酸化ア
ルミニウム、水酸化マグネシウム、アルミン酸カルシウ
ム等の無機難燃剤、テトラブロモ無水フタル酸、ヘキサ
ブロモベンゼン、デカブロモビフェニルエーテル等の臭
素系難燃剤、トリス(トリブロモフェニル)ホスフェー
ト等のリン酸系難燃剤等の従来公知のものが挙げられ
る。前記難燃剤の配合割合は、本発明の硬化性組成物10
0重量部に対して、通常、1〜100重量部、好ましくは1
〜50重量部である。
As the flame retardant, antimony trioxide,
Inorganic flame retardants such as antimony pentoxide, tin oxide, tin hydroxide, molybdenum oxide, zinc borate, barium metaborate, red phosphorus, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium aluminate, tetrabromophthalic anhydride, hexabromobenzene Examples include conventionally known bromine flame retardants such as decabromobiphenyl ether and phosphoric acid flame retardants such as tris (tribromophenyl) phosphate. The mixing ratio of the flame retardant, the curable composition 10 of the present invention
1 to 100 parts by weight, preferably 1 to 0 parts by weight
~ 50 parts by weight.

【0044】前記消泡剤としては、イソプロパノール、
n−ブタノール、オクタデシルアルコール、ヘキサデシ
ルアルコール等のアルコール類、ステアリン酸カルシウ
ム、ステアリン酸アルミニウム等の金属石鹸類、トリブ
チルホスフェート等のリン酸エステル類、グリセリンモ
ノラウレート等の脂肪酸エステル類、ポリアルキレング
リコール等のポリエーテル類、ジメチルシリコーンオイ
ル、有機変性シリコーンオイル、フルオロシリコーンオ
イル、シリカ・シリコーンコーンパウンド等のシリコー
ン類等の従来公知のものが挙げられる。前記消泡剤の配
合割合は、本発明の硬化性組成物100重量部に対して、
通常、0.1〜20重量部、好ましくは0.1〜10重量部であ
る。
As the antifoaming agent, isopropanol,
Alcohols such as n-butanol, octadecyl alcohol, hexadecyl alcohol, metal soaps such as calcium stearate and aluminum stearate, phosphoric acid esters such as tributyl phosphate, fatty acid esters such as glycerin monolaurate, polyalkylene glycol, etc. Conventionally known ones such as polyethers, dimethyl silicone oil, organically modified silicone oil, fluorosilicone oil, and silicones such as silica / silicone corn compound are listed. The blending ratio of the defoaming agent is 100 parts by weight of the curable composition of the present invention.
Usually, it is 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight.

【0045】前記流動調整剤としては、水素添加ヒマシ
油系、酸化ポリエチレン系、有機ベントナイト系、コロ
イド状シリカ系、アマイドワックス系、金属石鹸系、ア
クリル酸エステル重合物系等の従来公知のものが挙げら
れる。前記流動調整剤の配合割合は、本発明の硬化性組
成物100重量部に対して、通常、0.1〜30重量部、好まし
くは0.1〜15重量部である。
As the flow regulator, conventionally known ones such as hydrogenated castor oil type, polyethylene oxide type, organic bentonite type, colloidal silica type, amide wax type, metal soap type and acrylic acid ester polymer type are used. Can be mentioned. The mixing ratio of the flow regulator is usually 0.1 to 30 parts by weight, preferably 0.1 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the curable composition of the present invention.

【0046】前記増感剤としては、アントラセン、フェ
ニルシクロヘキシルケトン、チオキサントン、フェノチ
アジン、クロロチオキサントン、キサントン、ジフェニ
ルアントラセン、ルブレン、カルバゾール、ナフトー
ル、ペリレン、テトラセンおよびこれらの誘導体等の従
来公知のものが挙げられる。これらの増感剤を使用する
場合の配合割合は、本発明のスルホニウム塩100重量部
に対して、通常、1〜200重量部、好ましくは5〜100重
量部である。
Examples of the sensitizer include conventionally known ones such as anthracene, phenylcyclohexyl ketone, thioxanthone, phenothiazine, chlorothioxanthone, xanthone, diphenylanthracene, rubrene, carbazole, naphthol, perylene, tetracene and derivatives thereof. . When these sensitizers are used, the compounding ratio is usually 1 to 200 parts by weight, preferably 5 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the sulfonium salt of the present invention.

【0047】前記光安定剤としては、ベンゾトリアゾー
ル系、ベンゾフェノン系、サリチレート系、シアノアク
リレート系等の紫外線吸収タイプ、ヒンダードアミン系
等のラジカル捕捉タイプ、ニッケル錯体系等の消光タイ
プ等の従来公知のものが挙げられる。前記光安定剤の配
合割合は、本発明の硬化性組成物100重量部に対して、
通常、0.1〜10重量部、好ましくは0.1〜5重量部であ
る。
As the above-mentioned light stabilizer, conventionally known ones such as benzotriazole-based, benzophenone-based, salicylate-based, cyanoacrylate-based ultraviolet absorption type, hindered amine-based radical trapping type, nickel complex-based quenching type, etc. Is mentioned. The mixing ratio of the light stabilizer is 100 parts by weight of the curable composition of the present invention.
Usually, it is 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight.

【0048】本発明の硬化性組成物には、更にカチオン
重合を損なわない範囲で、希釈するための溶剤を添加す
ることができる。該溶剤の添加割合は、本発明の硬化性
組成物100重量部に対して、通常、1〜100重量部、好ま
しくは5〜80重量部である。該溶剤としては、例えば、
トルエン、キシレン、アニソール、シクロヘキサノン、
ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレング
リコールメチルエーテルアセテート、ブチルセルソル
ブ、ブチルアセテート、アミルアセテート、ジエチレン
グリコール等が挙げられる。
A solvent for diluting can be added to the curable composition of the present invention within a range that does not impair the cationic polymerization. The addition ratio of the solvent is usually 1 to 100 parts by weight, preferably 5 to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of the curable composition of the present invention. As the solvent, for example,
Toluene, xylene, anisole, cyclohexanone,
Diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, butyl cellosolve, butyl acetate, amyl acetate, diethylene glycol and the like can be mentioned.

【0049】本発明の硬化性組成物には、改質するため
の非反応性の樹脂類および(メタ)アクリル酸エステル
化合物を配合することもできる。それらの配合割合は、
本発明の硬化性組成物100重量部に対して、通常、10〜2
00重量部、好ましくは10〜100重量部である。前記の非
反応性の樹脂類としては、例えば、アクリルポリマー、
ポリウレタンポリマー、ポリエステルエラストマー、ポ
リ塩化ビニルポリマー、アクリロニトリルゴム等が挙げ
られる。(メタ)アクリル酸エステル化合物としては、
例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂やノボラック
型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸
の反応物であるエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタ
ン(メタ)アクリレート、ポリエステルポリ(メタ)ア
クリレート等のオリゴマー類、2−ヒドロキシ(メタ)
アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)ア
クリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリ
レート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート
等のモノマー等が挙げられる。(メタ)アクリル酸エス
テル化合物を配合する場合には、光ラジカル重合開始剤
を使用するのが好ましい。該光ラジカル重合開始剤とし
ては、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、アセトフェノンジメチルケタ−ル、ベンゾイル
メチルエーテル等の従来公知のものが挙げられる。該光
ラジカル重合開始剤の使用割合は、(メタ)アクリル酸
エステル化合物100重量部に対して、通常、0.01〜20重
量部、好ましくは0.1〜10重量部である。
The curable composition of the present invention may contain non-reactive resins and (meth) acrylic acid ester compound for modification. The mixing ratio of them is
With respect to 100 parts by weight of the curable composition of the present invention, usually 10 to 2
The amount is 00 parts by weight, preferably 10 to 100 parts by weight. Examples of the non-reactive resins include acrylic polymers,
Examples thereof include polyurethane polymers, polyester elastomers, polyvinyl chloride polymers, acrylonitrile rubber and the like. As the (meth) acrylic acid ester compound,
For example, oligomers such as epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyester poly (meth) acrylate, which are reaction products of epoxy resin such as bisphenol A type epoxy resin or novolac type epoxy resin and (meth) acrylic acid, 2-hydroxy (meth)
Examples thereof include monomers such as acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and pentaerythritol tri (meth) acrylate. When blending the (meth) acrylic acid ester compound, it is preferable to use a photoradical polymerization initiator. Examples of the photoradical polymerization initiator include conventionally known ones such as 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, acetophenone dimethyl ketol, and benzoyl methyl ether. The proportion of the radical photopolymerization initiator used is usually 0.01 to 20 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the (meth) acrylic acid ester compound.

【0050】本発明の硬化性組成物は、前記カチオン重
合性化合物、カチオン重合開始剤および光ラジカル重合
開始剤等を室温または必要により加熱し、混合、溶解あ
るいは混練等の方法により調製することができる。
The curable composition of the present invention can be prepared by a method such as mixing, dissolving or kneading the above-mentioned cationically polymerizable compound, cationic polymerization initiator and photo-radical polymerization initiator at room temperature or if necessary. it can.

【0051】本発明の硬化性組成物は、光あるいは活性
エネルギー線を照射することにより、0.1秒〜数分後
に、指触乾燥状態あるいは溶媒不溶性の状態に硬化する
ことができる。活性エネルギー線としては、本発明のス
ルホニウム塩の分解を誘発するエネルギーを有する限
り、いかなるものでもよいが、好ましくは、低圧水銀
灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯メタルハラ
イドランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ、
蛍光灯等が用いられる。また、半導体レーザー、アルゴ
ンレーザー、He−Cdレーザー等のレーザー光、電子線、
X線、放射線等の高活性エネルギー線を用いることもで
きる。活性エネルギー線の照射時間は、活性エネルギー
線の強度によるが、通常は常温で0.1〜10秒程度で十分
である。しかし、比較的厚い塗装物については、それ以
上の時間をかけるのが好ましいことがある。活性エネル
ギー線を照射してから0.1秒〜数分後には、ほとんどの
硬化性組成物はカチオン重合により指触乾燥するが、必
要であれば、活性エネルギー線を照射後、室温〜150℃
で数秒〜数時間加熱し、硬化させることも可能である。
The curable composition of the present invention can be cured to a touch-free state or a solvent-insoluble state after 0.1 seconds to several minutes by irradiation with light or an active energy ray. The active energy ray may be any one as long as it has the energy to induce the decomposition of the sulfonium salt of the present invention, but is preferably a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp metal halide lamp, a xenon lamp, carbon. Arc lamp,
A fluorescent lamp or the like is used. Also, semiconductor laser, argon laser, laser light such as He-Cd laser, electron beam,
Highly active energy rays such as X-rays and radiation can also be used. The irradiation time of the active energy ray depends on the intensity of the active energy ray, but usually 0.1 to 10 seconds is sufficient at room temperature. However, for relatively thick coatings, it may be preferable to spend more time. 0.1 seconds to several minutes after irradiation with active energy rays, most curable compositions are dried by touch by cationic polymerization, but if necessary, after irradiation with active energy rays, room temperature to 150 ° C.
It is also possible to cure by heating for several seconds to several hours.

【0052】また、本発明の硬化性組成物は加熱によっ
ても硬化することができる。熱硬化は、80〜250℃、好
ましくは100〜200℃の範囲で、数分〜数時間加熱するこ
とにより行われる。
The curable composition of the present invention can also be cured by heating. The heat curing is carried out by heating at 80 to 250 ° C., preferably 100 to 200 ° C. for several minutes to several hours.

【0053】本発明の硬化性組成物の具体的な用途とし
ては、塗料、コーティング剤、インキ、レジスト、接着
剤、成形材料、注型材料、パテ、ガラス繊維含浸剤、目
止め剤、光造形物等が挙げられる。
Specific uses of the curable composition of the present invention include paints, coating agents, inks, resists, adhesives, molding materials, casting materials, putties, glass fiber impregnating agents, sealing agents, stereolithography. Things etc. are mentioned.

【0054】[0054]

【実施例】以下、本発明を実施例によって更に詳細に説
明するが、本発明は以下のものに限定されない。
EXAMPLES The present invention will now be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following.

【0055】実施例1 2−ナフチルドデシルフェナシルスルホニウムヘキサフ
ルオロホスフェートの合成(表1中の化合物No.1) 2−ナフチルドデシルスルフィド33重量部、フェナシル
ブロマイド20重量部、6フッ化りん酸銀25重量部、ジク
ロロメタン650重量部を混合し、室温から35℃で4日間
反応させた。反応液をろ過して臭化銀を除き、ろ液より
エバポレーターを用いて減圧下溶剤を除去した。得られ
た粘稠なオイル状物をエタノールで洗浄し、減圧下室温
で乾燥させ、2−ナフチルドデシルフェナシルスルホニ
ウムヘキサフルオロホスフェート51重量部を得た(収率
=86%)。1H−NMR(d6−アセトン):δ7.5〜8.9(12
H)、δ6.1(2H)、δ4.1(2H)、δ1.9(2H)、δ1.5
(2H)、δ1.1〜1.3(16H)、δ0.8(3H)
Example 1 Synthesis of 2-naphthyldodecylphenacylsulfonium hexafluorophosphate (Compound No. 1 in Table 1) 33 parts by weight of 2-naphthyldodecyl sulfide, 20 parts by weight of phenacyl bromide, silver hexafluorophosphate 25 parts by weight and 650 parts by weight of dichloromethane were mixed and reacted at room temperature to 35 ° C. for 4 days. The reaction solution was filtered to remove silver bromide, and the solvent was removed from the filtrate under reduced pressure using an evaporator. The obtained viscous oily substance was washed with ethanol and dried under reduced pressure at room temperature to obtain 51 parts by weight of 2-naphthyldodecylphenacylsulfonium hexafluorophosphate (yield = 86%). 1 H-NMR (d 6 -acetone): δ7.5 to 8.9 (12
H), δ6.1 (2H), δ4.1 (2H), δ1.9 (2H), δ1.5
(2H), δ1.1 to 1.3 (16H), δ0.8 (3H)

【0056】実施例2 2−ナフチルテトラデシルフェナシルスルホニウムヘキ
サフルオロホスフェートの合成(表1中の化合物No.
2) 実施例1の2−ナフチルドデシルスルフィドを2−ナフ
チルテトラデシルスルフィド36重量部に置き換えた以外
は、実施例1と同様にして反応を行い、2−ナフチルテ
トラデシルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロホス
フェート54重量部を得た(収率=86%)。1H−NMR(d6
−アセトン):δ7.5〜8.9(12H)、δ6.1(2H)、δ4.
1(2H)、δ1.9(2H)、δ1.5(2H)、δ1.1〜1.3(20
H)、δ0.8(3H)
Example 2 Synthesis of 2-naphthyltetradecylphenacylsulfonium hexafluorophosphate (Compound No. in Table 1
2) 2-naphthyltetradecylphenacylsulfonium hexafluorophosphate 54 was reacted in the same manner as in Example 1 except that 36 parts by weight of 2-naphthyltetradecyl sulfide was used instead of 2-naphthyldodecyl sulfide of Example 1. Part by weight was obtained (yield = 86%). 1 H-NMR (d 6
-Acetone): δ7.5 to 8.9 (12H), δ6.1 (2H), δ4.
1 (2H), δ1.9 (2H), δ1.5 (2H), δ1.1 to 1.3 (20
H), δ0.8 (3H)

【0057】実施例3 2−ナフチルオクタデシルフェナシルスルホニウムヘキ
サフルオロホスフェートの合成(表1中の化合物No.
3) 実施例1の2−ナフチルドデシルスルフィドを2−ナフ
チルオクタデシルスルフィド41重量部に置き換えた以外
は、実施例1と同様にして反応を行い、2−ナフチルオ
クタデシルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロホス
フェート58重量部を得た(収率=85%)。1H−NMR(d6
−アセトン):δ7.5〜8.9(12H)、δ6.1(2H)、δ4.
1(2H)、δ1.9(2H)、δ1.5(2H)、δ1.1〜1.3(28
H)、δ0.8(3H)
Example 3 Synthesis of 2-naphthyloctadecylphenacylsulfonium hexafluorophosphate (Compound No. in Table 1
3) The reaction was performed in the same manner as in Example 1 except that 41 parts by weight of 2-naphthyloctadecyl sulfide was used instead of 2-naphthyldodecyl sulfide of Example 1, and 58 parts by weight of 2-naphthyloctadecylphenacylsulfonium hexafluorophosphate. Was obtained (yield = 85%). 1 H-NMR (d 6
-Acetone): δ7.5 to 8.9 (12H), δ6.1 (2H), δ4.
1 (2H), δ1.9 (2H), δ1.5 (2H), δ1.1 to 1.3 (28
H), δ0.8 (3H)

【0058】本発明のスルホニウム塩に係る実施例1〜
3および以下に記載した比較例1〜3について、下記の
試験を行い、その評価結果を表2に示した。
Examples 1 to 1 relating to the sulfonium salt of the present invention
3 and Comparative Examples 1 to 3 described below were subjected to the following tests, and the evaluation results are shown in Table 2.

【0059】[0059]

【表2】 ※1:2−ナフチルメチルフェナシルスルホニウムヘキ
サフルオロホスフェート ※2:トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフ
ェート(UCC社製、商品名、UVI−6990、50%プロピレン
カーボネート溶液) ※3:デシルメチルフェナシルスルホニウムヘキサフル
オロホスフェート ※4:VE−1;シクロヘキサンジメタノールジビニルエ
ーテル(CHVE) ※5:VE−2;3,6,9,12−テトラオキサテトラデカ−1,1
3−ジエン(DVE−3) ※6:EP−1;3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,
4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(UCC社
製、商品名、UVR−6110)
[Table 2] * 1: 2-naphthylmethylphenacylsulfonium hexafluorophosphate * 2: Triarylsulfonium hexafluorophosphate (UCC, trade name, UVI-6990, 50% propylene carbonate solution) * 3: Decylmethylphenacylsulfonium hexafluoro Phosphate * 4: VE-1; cyclohexanedimethanol divinyl ether (CHVE) * 5: VE-2; 3,6,9,12-tetraoxatetradeca-1,1
3-diene (DVE-3) * 6: EP-1; 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,
4-epoxycyclohexanecarboxylate (UCC, trade name, UVR-6110)

【0060】試験方法 <溶解性>表2に記載のカチオン重合性化合物(VE−
1、VE−2、EP−1)に対して,スルホニウム塩を純分で1
0重量%加え、室温で混合した後、外観を目視判定し
た。
Test Method <Solubility> The cationically polymerizable compounds (VE-
1, VE-2, EP-1) sulfonium salt in pure
After adding 0% by weight and mixing at room temperature, the appearance was visually judged.

【0061】<光硬化性>脂環式エポキシ化合物EP−1
100重量部にスルホニウム塩のγ−ブチロラクトン50
%溶液を4.0重量部加え、均一に混合した。この配合液
をポリエステルフィルムに膜厚が40μmになるようにア
プリケーターで塗布し、下記の条件で光硬化させた後、
塗膜の鉛筆硬度を測定した。 (条件−1) UV照射条件 ・UV照射装置:ベルトコンベア式UV照射装置(フュージ
ョンUVシステムズ社製) ・ランプ:2kW(100W/cm)平行光型メタルハライドラ
ンプ、照射距離 18cm ・コンベアスピード:4m/分 ・照射回数:1回
<Photocurable> Alicyclic epoxy compound EP-1
100 parts by weight of sulfonium salt γ-butyrolactone 50
% Solution was added and mixed uniformly. This compounded solution is applied to a polyester film with an applicator so that the film thickness is 40 μm, and after photocuring under the following conditions,
The pencil hardness of the coating film was measured. (Condition-1) UV irradiation conditions ・ UV irradiation device: Belt conveyor type UV irradiation device (manufactured by Fusion UV Systems) ・ Lamp: 2kW (100W / cm) parallel light type metal halide lamp, irradiation distance 18cm ・ Conveyor speed: 4m / Minute / irradiation frequency: 1 time

【0062】(条件−2)条件−1の照射回数を3回に
変更した以外は、条件−1と同様である。
(Condition-2) The condition-1 is the same as the condition-1 except that the irradiation number is changed to three times.

【0063】<塗膜の臭気>上記で得た硬化塗膜の臭気
を嗅覚で評価した。
<Odor of Coating Film> The odor of the cured coating film obtained above was evaluated by the sense of smell.

【0064】評価結果 表2の結果から、本発明のスルホニウム塩は、溶解性、
光硬化性、および硬化物の塗膜の残存臭気に関するいず
れの評価においても、優れていることが分かる。
Evaluation Results From the results shown in Table 2, the sulfonium salt of the present invention is soluble,
It can be seen that it is excellent in any evaluation regarding the photocurability and the residual odor of the coating film of the cured product.

【0065】[0065]

【発明の効果】本発明のスルホニウム塩は、カチオン重
合性化合物に対する溶解性が良好で、また、熱、光、電
子線、X線等の活性エネルギー線の作用によるカチオン
重合性化合物の硬化性に優れており、カチオン重合開始
剤としての性能が高い。さらに、本発明のスルホニウム
塩を使用して得られる硬化物は、臭気がないため、本発
明のスルホニウム塩は、カチオン重合性の塗料、コーテ
ィング剤、インキ、レジスト、接着剤、成形材料、注型
材料、パテ、ガラス繊維含浸剤、目止め剤、光造形用の
感光性樹脂等用のカチオン重合開始剤として好適であ
る。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The sulfonium salt of the present invention has a good solubility in a cationically polymerizable compound, and also improves the curability of the cationically polymerizable compound by the action of active energy rays such as heat, light, electron beams and X rays. It is excellent and has high performance as a cationic polymerization initiator. Furthermore, since the cured product obtained using the sulfonium salt of the present invention has no odor, the sulfonium salt of the present invention is a cationically polymerizable paint, coating agent, ink, resist, adhesive, molding material, casting It is suitable as a material, a putty, a glass fiber impregnating agent, a filling agent, a cationic polymerization initiator for a photosensitive resin for stereolithography and the like.

フロントページの続き (72)発明者 遠藤 剛 山形県米沢市門東町2−4−33 マンショ ンテラセ3F−8 Fターム(参考) 4H006 AA01 AA03 AB40 4H048 AA01 AA03 AB40 VA75 VB10 4J005 AA07 BB02 4J015 EA05 4J036 AA01 GA03 HA01 Continued front page    (72) Inventor Takeshi Endo             2-4-33 Monto-cho, Yonezawa City, Yamagata Prefecture Mansho             Interrace 3F-8 F-term (reference) 4H006 AA01 AA03 AB40                 4H048 AA01 AA03 AB40 VA75 VB10                 4J005 AA07 BB02                 4J015 EA05                 4J036 AA01 GA03 HA01

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式[1]で表されるスルホニウム
塩。 【化1】 [式中、R1は炭素数1〜18のアルキル基、ヒドロキシ
基、炭素数1〜18のアルコキシ基、炭素数6〜10のアリ
ール基、炭素数6〜10のアリールオキシ基、炭素数1〜
19のアルキルカルボニル基、炭素数7〜11のアリールカ
ルボニル基、炭素数2〜19のアルコキシカルボニル基、
炭素数7〜11のアリールオキシカルボニル基、炭素数2
〜19のアシロキシ基、炭素数6〜10のアリールチオ基、
シアノ基、ニトロ基またはハロゲンを表し、mは0〜7
の整数を示し、R1は互いに同一であっても異なっていて
もよい。R2はヒドロキシ、アルキルカルボニル、アリー
ルカルボニル、シアノ、アリール、アルコキシ、アリー
ルオキシ、ニトロおよびハロゲンから選ばれる基で置換
されていてもよいアルキル基を表し、炭素数は9〜24で
ある。R3は水素、ハロゲン、炭素数1〜8のアルキル
基、炭素数1〜8のアルコキシ基またはフェニル基を表
す。Aはアルキル、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキル
カルボニル、アリールカルボニル、アルコキシカルボニ
ル、アリールオキシカルボニル、アシロキシ、アリール
チオ、アリール、アリールオキシ、シアノ、ニトロおよ
びハロゲンから選ばれる基で置換されていてもよい炭素
数6〜20のアリール基、ヒドロキシ、アルキルカルボニ
ル、アリールカルボニル、シアノ、アリール、アルコキ
シ、アリールオキシ、ニトロおよびハロゲンから選ばれ
る基で置換されていてもよい炭素数1〜18のアルキル基
またはアルコキシ基を表す。X-は非求核性のアニオンを
示す。]
1. A sulfonium salt represented by the general formula [1]. [Chemical 1] [In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, and 1 carbon atom. ~
An alkylcarbonyl group having 19 carbon atoms, an arylcarbonyl group having 7 to 11 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 19 carbon atoms,
Aryloxycarbonyl group having 7 to 11 carbon atoms, 2 carbon atoms
~ 19 acyloxy groups, C6-10 arylthio groups,
Represents a cyano group, a nitro group or a halogen, and m represents 0 to 7
And R 1 may be the same as or different from each other. R 2 represents an alkyl group which may be substituted with a group selected from hydroxy, alkylcarbonyl, arylcarbonyl, cyano, aryl, alkoxy, aryloxy, nitro and halogen, and has 9 to 24 carbon atoms. R 3 represents hydrogen, halogen, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, or a phenyl group. A has 6 to 6 carbon atoms which may be substituted with a group selected from alkyl, hydroxy, alkoxy, alkylcarbonyl, arylcarbonyl, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl, acyloxy, arylthio, aryl, aryloxy, cyano, nitro and halogen. 20 represents an aryl group, hydroxy, alkylcarbonyl, arylcarbonyl, cyano, aryl, alkoxy, aryloxy, nitro, and an optionally substituted alkyl group or alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms. X represents a non-nucleophilic anion. ]
【請求項2】 X-がSbF6 -、AsF6 -、PF6 -、BF4 -およびB
(C6F5)4 -から選ばれるアニオンである請求項1記載のス
ルホニウム塩。
Wherein wherein X - SbF 6 -, AsF 6 -, PF 6 -, BF 4 - and B
(C 6 F 5) 4 - anions sulfonium salt according to claim 1, wherein is selected from.
【請求項3】 Aがフェニル基、ナフチル基、アントラ
セニル基、フェナンスレニル基、ピレニル基、クリセニ
ル基、ナフタセニル基またはベンズアントラセニル基で
ある請求項1または2記載のスルホニウム塩。
3. The sulfonium salt according to claim 1, wherein A is a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, a phenanthrenyl group, a pyrenyl group, a chrysenyl group, a naphthacenyl group or a benzanthracenyl group.
【請求項4】 R1のmが0である請求項1〜3のいずれ
かに記載のスルホニウム塩。
4. The sulfonium salt according to claim 1 , wherein m of R 1 is 0.
【請求項5】 R2が炭素数10〜20である請求項1〜4の
いずれかに記載のスルホニウム塩。
5. The sulfonium salt according to claim 1, wherein R 2 has 10 to 20 carbon atoms.
【請求項6】 R3が水素である請求項1〜5のいずれか
に記載のスルホニウム塩。
6. The sulfonium salt according to claim 1, wherein R 3 is hydrogen.
【請求項7】 Aがフェニル基である請求項1〜6のい
ずれかに記載のスルホニウム塩。
7. The sulfonium salt according to claim 1, wherein A is a phenyl group.
【請求項8】 請求項1〜7のいずれかに記載のスルホ
ニウム塩の少なくとも一種を含有することを特徴とする
カチオン重合開始剤。
8. A cationic polymerization initiator comprising at least one kind of the sulfonium salt according to claim 1.
【請求項9】 カチオン重合性化合物と請求項8記載の
カチオン重合開始剤を含有することを特徴とする硬化性
組成物。
9. A curable composition comprising a cationically polymerizable compound and the cationic polymerization initiator according to claim 8.
【請求項10】 請求項9記載の硬化性組成物を、熱、
光あるいは活性エネルギー線を作用させて硬化すること
を特徴とするカチオン重合性化合物の硬化方法。
10. The curable composition according to claim 9 is heated,
A method for curing a cationically polymerizable compound, which comprises curing by applying light or an active energy ray.
【請求項11】 請求項10記載の硬化方法により得ら
れる硬化物。
11. A cured product obtained by the curing method according to claim 10.
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