JP2003203591A - X線管およびその製造方法 - Google Patents
X線管およびその製造方法Info
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- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
造方法を提供すること。 【解決手段】 電子ビーム18を発生する陰極16と、
電子ビーム18の照射によりX線を放出するターゲット
領域14を有する陽極13と、陰極16および陽極13
を収納し、主要部分が絶縁物で形成された真空容器11
とを具備したX線管において、陰極16および陰極16
の前後の空間部分を囲む環状領域の少なくとも一部に電
極とは絶縁された金属膜12を配置した。
Description
製造方法に関する。
用途に応じていろいろな種類のものが実用化されてい
る。たとえば歯科用撮影装置には固定陽極型のX線管が
使用されている。
型X線管を例にとり図4を参照して説明する。符号41
は真空容器で、その主要部分はガラスなどの絶縁物で形
成されている。真空容器41内の一方の側に陽極42が
配置され、陽極42の前面にX線を放出するターゲット
領域43が設けられている。真空容器41内の他方の側
に、陰極44が配置されている。陰極44はフィラメン
トカップ44aおよびフィラメント44bなどから構成
され、これらはリード端子45と電気的に接続されてい
る。
bから発生した電子ビーム46が矢印Y方向に進んでタ
ーゲット領域43に衝突し、ターゲット領域43からX
線47が放出する。放出したX線47は真空容器41に
設けたX線窓41aを通して外に取り出される。
る。その製造工程の1つに耐電圧を高めるためのエージ
ング工程がある。ここでエージング工程の一例について
図5を参照して説明する。
る。次に、陽極42と陰極44間に直流電圧を印加する
スポットノッキング(ステップS2)を行い、その後、
陰極44から電子ビームを照射する負荷エージング(ス
テップS3)を行う。そして最終的に、良品か不良品か
の判定試験が行われる(ステップS4)。
時、陽極42および陰極44間に数10kVから200
kVの範囲の高電圧が印加される。したがって、高電圧
に対して十分な耐電圧が必要とされ、その条件に合わせ
て電極間の距離や電極形状が決められる。また、放電を
防止するために、製造時、管内を高真空に維持し、微細
な突起などが残らないように加工される。
ない状態での耐電圧は比較的容易に確保される。しか
し、電子ビームを照射しX線を放出する状態になると、
絶縁物製の真空容器と陰極間に放電が発生しやすくな
る。
域43に衝突すると、ターゲット領域43から反跳電子
が発生する。反跳電子は真空容器41の内面に入射し、
入射する電子よりも多い2次電子が真空容器41から放
出する。このとき、真空容器41の内面たとえば電子の
入射した部分がプラスに帯電し、真空容器41と陰極4
4間の電位勾配が大きくなり、放電が発生しやすくな
る。
る。そのため、帯電の程度がわずかでも、反跳電子や近
傍から放射した2次電子が帯電した部分に集まり、2次
電子の放出が繰り返され、帯電の程度が部分的に強くな
る。その結果、真空容器41の一部にプラスの強い帯電
領域が形成され、そこに向かって陰極44から電子が放
出し、大電流を伴う放電が発生する。
電による放電を防止するために、たとえば真空容器41
および陰極44間の距離を長くし、電位勾配を緩やかに
する方法が採用されている。しかし、この方法は放電を
十分に防止できない。また、長時間のエージングが必要
となり、不良率が高くなるという問題がある。
発生を少なくしたX線管およびその製造方法を提供する
ことを目的とする
発生する陰極と、前記電子ビームの照射によりX線を放
出するターゲット領域を有する陽極と、前記陰極および
前記陽極を収納し、主要部分が絶縁物で形成された真空
容器とを具備したX線管において、前記陰極および陰極
の前後の空間部分を囲む環状領域の少なくとも一部に電
極とは絶縁された導電性部材を配置したことを特徴とす
る。
極と、前記電子ビームの照射によりX線を放出するター
ゲット領域を有する陽極と、前記陰極および前記陽極を
収納し、その主要部分が絶縁物で形成された真空容器と
を具備したX線管の製造方法において、前記ターゲット
領域を形成する材料を加熱して溶解させ、前記真空容器
の内面に付着させるターゲット溶解工程をもつことを特
徴とする。
陽極型X線管を例にとり図1を参照して説明する。符号
11は真空容器で、その主要部分はガラスなどの絶縁物
で形成されている。真空容器11の一部にX線を取り出
すX線窓11aが設けられ、その内面の一部に導電性部
材たとえば金属膜12がたとえば管軸mを囲むように環
状に形成されている。
置され、陽極13の前面にターゲット領域14が設けら
れている。また、陽極13のたとえばターゲット領域1
4を囲んで、管軸m方向に前方に伸びるたとえば筒状の
陽極遮蔽体15が配置されている。陽極遮蔽体15のX
線窓11aと対向する位置に、ターゲット領域14から
放出したX線が通るための開口15aが設けられてい
る。
対向して陰極16が配置されている。陰極16はフィラ
メントカップ16aやフィラメント16bなどから構成
され、これらは複数のリード端子17と電気的に接続さ
れている。
通してフィラメント16bに電源電圧が印加され電子ビ
ーム18を発生する。電子ビーム18は矢印Yで示すよ
うにターゲット領域14に衝突し、ターゲット領域14
からX線19が放出する。放出したX線19は、陽極遮
蔽体15の開口15aおよびX線窓11aを通して外に
取り出される。
膜12は、たとえばX線管の通常の動作時よりも高いエ
ネルギーの電子ビーム18をターゲット領域14に照射
し、ターゲット領域14の表面を溶融温度まで加熱し、
ターゲット領域14の材料たとえばタングステンなどの
金属を真空蒸着によって成膜する。このとき、ターゲッ
ト材料は点線Dで示すように飛散し、陽極遮蔽体15や
陰極16の陰にならない領域、たとえば陰極16のフィ
ラメントカップ16aを囲む環状領域および陰極16の
陽極13側前方の一部空間を囲む環状領域に成膜する。
なお、金属膜12の陽極13側端部は陽極遮蔽体15に
接近しないようにし、たとえば陽極遮蔽体15を囲む部
分には成膜しない。また、金属膜12は陰極16に対し
ても電気的に絶縁するように成膜する。
面に導電性の金属膜12が形成されている。したがっ
て、動作時、電子ビーム18の照射によってターゲット
領域14から発生した反跳電子は金属膜12の部分に入
射する。このとき、2次電子の放出で金属膜12が帯電
しても、電荷が金属膜12全体に分散し、部分的に強く
帯電するようなことがない。また、2次電子の放出特性
が真空容器11を形成するガラスと相違し、電位の上昇
も抑えられる。その結果、電位勾配の上昇がゆるくなり
放電が防止される。また、電極間の距離を長くする必要
もなくなり、小型で高耐電圧のX線管が実現される。
6方向に伸びる筒状の陽極遮蔽体15を配置し、陽極1
3の近傍たとえばX線窓11aの周辺に金属膜12を形
成しないようにしている。金属膜12は、真空容器11
内面に他の電極と絶縁状態いわゆる電気的に接続しない
状態で成膜される。そのため、金属膜12が陽極13近
傍にあると、陽極13の電位の影響を受けて金属膜12
がプラス側に帯電し、放電防止効果が小さくなる。
うに厚く成膜した方が効果が大きい。しかし、僅かに変
色が見られる程度の薄い膜の場合でも効果が得られる。
て、そのエージング工程を図2で説明する。
納したX線管は、まず、管内の排気が行われる(ステッ
プS1)。次に、X線管に過入力を瞬時に投入しターゲ
ット領域14を形成するターゲット材料たとえばタング
ステンなどを溶解する(ステップS2)。このとき、タ
ーゲット材料が蒸発し、陰極16のフィラメントカップ
16aやその近傍を囲んでたとえば環状の帯になって真
空容器11の内面に付着し、たとえば目視で確認できな
い程度に薄膜状にコーティングされる。
圧を印加して大電流を流し、部分的に放電を発生させ、
電極の突起部分を除去するスポットノッキングを行う
(ステップS3)。
圧を印加した状態で、電子ビームをターゲット領域14
の照射する負荷エージングを行う(ステップS4)。
品か不良品かの判定試験が行われる(ステップS5)。
もう1つのエージング工程を図3で説明する。図3は図
2に対応する部分には同じ符号を付し重複する説明は一
部省略する。
TG溶解(ステップS2)の間に、ACエージング(ス
テップS31)が行われる。
間に交流電圧を印加する方法で、交流電圧はたとえば小
さな値から大きな値まで変化させる。ACエージングの
場合、陽極13や陰極16に印加する電圧の極性が変わ
るため、大きな放電が発生せず放電しやすい箇所が放電
し、電極の突起部分が除去される。また、管球内の状態
たとえばエミッションや電子軌道などが安定化し、その
後に行うTG溶解(ステップS2)において、ターゲッ
ト材料が真空容器の内面に均一にコーティングされる。
したがって、真空容器の帯電が抑えられ、放電をより確
実に防止できる効果がある。
定される率が大幅に改善するという結果が得られてい
る。この場合、エージングを繰り返し行うX線管の数も
少なくなり、コストが軽減する。
して金属膜を形成している。しかし、たとえば筒状の金
属部材を真空容器内側たとえばその内面など必要な領域
に配置する構造にすることもできる。また、この発明
は、固定陽極型X線管に限らず、回転型陽極X線管にも
適用できる。
どの導電性部材は、陰極近傍を囲むように環状に設ける
ことが望ましい。しかし、必ずしも環状である必要はな
く、部分的に設ける構造であってもよい。
に、真空容器への部分的なプラスへの帯電が抑えられ
る。その結果、放電の発生が防止され、小型で耐電圧特
性のよいX線管およびその製造方法が提供される。
たX線管およびその製造方法を実現できる。
図である。
ある。
図である。
ある。
Claims (5)
- 【請求項1】 電子ビームを発生する陰極と、前記電子
ビームの照射によりX線を放出するターゲット領域を有
する陽極と、前記陰極および前記陽極を収納し、主要部
分が絶縁物で形成された真空容器とを具備したX線管に
おいて、前記陰極および陰極の前後の空間部分を囲む環
状領域の少なくとも一部に電極とは絶縁された導電性部
材を配置したことを特徴とするX線管。 - 【請求項2】 ターゲット領域を囲み陰極方向に伸びる
遮蔽体を陽極に設けた請求項1記載のX線管。 - 【請求項3】 導電性部材が真空容器の内面に形成され
ている請求項1または請求項2記載のX線管。 - 【請求項4】 電子ビームを発生する陰極と、前記電子
ビームの照射によりX線を放出するターゲット領域を有
する陽極と、前記陰極および前記陽極を収納し、その主
要部分が絶縁物で形成された真空容器とを具備したX線
管の製造方法において、前記ターゲット領域を形成する
材料を加熱して溶解させ、前記真空容器の内面に付着さ
せるターゲット溶解工程をもつことを特徴とするX線管
の製造方法。 - 【請求項5】 ターゲット溶解工程の前に、陰極および
陽極間に交流電圧を印加するACエージング工程をもつ
請求項4記載のX線管の製造方法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2001400410A JP4263861B2 (ja) | 2001-12-28 | 2001-12-28 | X線管およびその製造方法 |
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Cited By (6)
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US9514910B2 (en) | 2014-01-16 | 2016-12-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation tube, radiation generating apparatus, and radiation imaging system |
-
2001
- 2001-12-28 JP JP2001400410A patent/JP4263861B2/ja not_active Expired - Lifetime
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