JP2003197724A - 貼付けウエハ分離装置および貼付けウエハ分離方法 - Google Patents
貼付けウエハ分離装置および貼付けウエハ分離方法Info
- Publication number
- JP2003197724A JP2003197724A JP2001400104A JP2001400104A JP2003197724A JP 2003197724 A JP2003197724 A JP 2003197724A JP 2001400104 A JP2001400104 A JP 2001400104A JP 2001400104 A JP2001400104 A JP 2001400104A JP 2003197724 A JP2003197724 A JP 2003197724A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- upper suction
- support substrate
- suction surface
- suction mechanism
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Jigs For Machine Tools (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 接着剤で貼り付けられたウエハと支持基板を確
実に分離する装置および方法を実現する。 【解決手段】 本発明の貼付けウエハ分離装置は、支持基
板に貼付けられたウエハを吸着させて保持する下部吸着面
を有する下部吸着機構と、下部吸着機構の直上部を原点
位置とした上部吸着面およびローラーを具備しかつカ゛イト゛レール
に沿って直線方向に移動自在な上部吸着機構と、上部吸
着機構から所定距離離れた部位に上部吸着機構の側面部
で上部吸着面近傍の部位に結合あるいは接触させた水平
方向駆動機構と、水平面に対して傾斜させたテーハ゜付レール
と、を備え、水平方向駆動機構の移動によって上部吸着
機構が原点位置から水平方向に所定距離移動した際に初
めてローラーが前記テーハ゜付レールに接触し水平方向駆動機構の
さらなる移動とともにローラーが上部吸着面を押し上げなが
らテーハ゜付レール上を転動する。
実に分離する装置および方法を実現する。 【解決手段】 本発明の貼付けウエハ分離装置は、支持基
板に貼付けられたウエハを吸着させて保持する下部吸着面
を有する下部吸着機構と、下部吸着機構の直上部を原点
位置とした上部吸着面およびローラーを具備しかつカ゛イト゛レール
に沿って直線方向に移動自在な上部吸着機構と、上部吸
着機構から所定距離離れた部位に上部吸着機構の側面部
で上部吸着面近傍の部位に結合あるいは接触させた水平
方向駆動機構と、水平面に対して傾斜させたテーハ゜付レール
と、を備え、水平方向駆動機構の移動によって上部吸着
機構が原点位置から水平方向に所定距離移動した際に初
めてローラーが前記テーハ゜付レールに接触し水平方向駆動機構の
さらなる移動とともにローラーが上部吸着面を押し上げなが
らテーハ゜付レール上を転動する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、熱可塑性接着剤
により支持基板に貼付けた半導体ウエハを支持基板から
分離する貼付けウエハ分離装置およびその分離方法に関
するものである。
により支持基板に貼付けた半導体ウエハを支持基板から
分離する貼付けウエハ分離装置およびその分離方法に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】図８は、特開平７−１６９７２３号公報
に示された（ａ）従来の貼付けウエハ分離装置の構造，
および（ｂ）動作を示す側面図である。図８において、
１０１はウエハを移動させるためのアーム、１０２はア
ーム１０１の先端に取付けられた上側吸着部、１０４は
半導体ウエハで、１００μｍ程度に薄板化加工されてい
る。１０３はウエハ１０４を熱可塑性接着剤１０５で貼
付けた支持基板である。１０７は支持台、１０６は支持
台１０７上に設けられたウエハよりも大きな直径を有す
る円柱形状の下側吸着部である。上側吸着部１０２およ
び下側吸着部１０６の表面には、各々支持基板１０３ま
たはウエハ１０４を吸着するための吸引装置等に接続さ
れた穴または溝（図示せず）が設けられている。また、
上側吸着部１０２および下側吸着部１０６には、熱可塑
性接着剤を溶融するための加熱手段が併せて設けられて
いる。
に示された（ａ）従来の貼付けウエハ分離装置の構造，
および（ｂ）動作を示す側面図である。図８において、
１０１はウエハを移動させるためのアーム、１０２はア
ーム１０１の先端に取付けられた上側吸着部、１０４は
半導体ウエハで、１００μｍ程度に薄板化加工されてい
る。１０３はウエハ１０４を熱可塑性接着剤１０５で貼
付けた支持基板である。１０７は支持台、１０６は支持
台１０７上に設けられたウエハよりも大きな直径を有す
る円柱形状の下側吸着部である。上側吸着部１０２およ
び下側吸着部１０６の表面には、各々支持基板１０３ま
たはウエハ１０４を吸着するための吸引装置等に接続さ
れた穴または溝（図示せず）が設けられている。また、
上側吸着部１０２および下側吸着部１０６には、熱可塑
性接着剤を溶融するための加熱手段が併せて設けられて
いる。
【０００３】次に、従来の貼付けウエハ分離装置の動作
について説明する。
について説明する。
【０００４】図８（ａ）に示すように、作業者がウエハ
１０４を接着剤１０５で貼付けられた支持基板１０３の
直上にアーム１０１および上側吸着部１０２を移動させ
た後、支持基板１０３を上側吸着部１０２により吸着さ
せる。次に、作業者がアーム１０１を下側吸着部１０６
の直上に移動させ、その後、図８（ｂ）のようにウエハ
１０４側を下側吸着部１０６で吸引して吸着する。この
後、上側吸着部１０２と下側吸着部１０６の両側から加
熱することにより、熱可塑性接着剤１０５を溶融させ
る。
１０４を接着剤１０５で貼付けられた支持基板１０３の
直上にアーム１０１および上側吸着部１０２を移動させ
た後、支持基板１０３を上側吸着部１０２により吸着さ
せる。次に、作業者がアーム１０１を下側吸着部１０６
の直上に移動させ、その後、図８（ｂ）のようにウエハ
１０４側を下側吸着部１０６で吸引して吸着する。この
後、上側吸着部１０２と下側吸着部１０６の両側から加
熱することにより、熱可塑性接着剤１０５を溶融させ
る。
【０００５】続いて、図８（ｃ）に示すように、作業者
が上側吸着部１０２の上方に取付けたアーム１０１に水
平方向の応力を加えることによって、上側吸着部１０２
を水平方向に移動すると、上側吸着部１０２に吸着され
た支持基板１０３から、下側吸着部１０６に吸着された
ウエハ１０４が分離される。
が上側吸着部１０２の上方に取付けたアーム１０１に水
平方向の応力を加えることによって、上側吸着部１０２
を水平方向に移動すると、上側吸着部１０２に吸着され
た支持基板１０３から、下側吸着部１０６に吸着された
ウエハ１０４が分離される。
【０００６】また図９は、別の従来のウエハ分離装置
で、特開平６−２６８０５１号公報に示された構造およ
び動作を示す側面図である。図９において、２０４は上
側吸着部、２０８は支持台２０９上に設けられた円柱形
状の下側吸着部である。また２０７は半導体ウエハで、
支持基板２０５上に熱可塑性接着剤２０６で貼付けられ
ている。上側吸着部２０４の上方には、支持軸２０３と
カップリング２０２によってロボットアーム２０１が接
続されている。上側および下側吸着部２０４，２０８は
各々加熱機構を有し、接着剤を加熱・軟化させた後に上
側吸着部２０４の上方に取付けたロボットアーム２０１
を用いて上側吸着部２０４を回転あるいは揺動させなが
ら、ロボットアーム２０１を垂直上方に移動させてウエ
ハ２０７と支持基板２０５を分離する。
で、特開平６−２６８０５１号公報に示された構造およ
び動作を示す側面図である。図９において、２０４は上
側吸着部、２０８は支持台２０９上に設けられた円柱形
状の下側吸着部である。また２０７は半導体ウエハで、
支持基板２０５上に熱可塑性接着剤２０６で貼付けられ
ている。上側吸着部２０４の上方には、支持軸２０３と
カップリング２０２によってロボットアーム２０１が接
続されている。上側および下側吸着部２０４，２０８は
各々加熱機構を有し、接着剤を加熱・軟化させた後に上
側吸着部２０４の上方に取付けたロボットアーム２０１
を用いて上側吸着部２０４を回転あるいは揺動させなが
ら、ロボットアーム２０１を垂直上方に移動させてウエ
ハ２０７と支持基板２０５を分離する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従来の貼付けウエハ分
離装置は以上のように構成されており、いずれの装置も
上側吸着部上部に取付けたアームを用いて、水平方向ま
たは上方向に応力を加えることによりウエハから支持基
板を分離しているので、ウエハの平坦面に対して垂直方
向に少なからず応力が加わる。分離される半導体ウエハ
が例えばガリウム砒素（ＧａＡｓ）やインジウム燐（Ｉ
ｎＰ）などのように壁開性を持つ場合は、僅かでもウエ
ハ面に対して垂直方向に曲げ応力が加えられるとウエハ
が割れてしまうという問題が生じる。図９で示した従来
例では当然のことながら垂直方向に応力が加えられる。
本発明者らの実験によれば、図９で示した従来の貼付け
ウエハ分離作業では、ウエハの割れが多発することが判
明している。
離装置は以上のように構成されており、いずれの装置も
上側吸着部上部に取付けたアームを用いて、水平方向ま
たは上方向に応力を加えることによりウエハから支持基
板を分離しているので、ウエハの平坦面に対して垂直方
向に少なからず応力が加わる。分離される半導体ウエハ
が例えばガリウム砒素（ＧａＡｓ）やインジウム燐（Ｉ
ｎＰ）などのように壁開性を持つ場合は、僅かでもウエ
ハ面に対して垂直方向に曲げ応力が加えられるとウエハ
が割れてしまうという問題が生じる。図９で示した従来
例では当然のことながら垂直方向に応力が加えられる。
本発明者らの実験によれば、図９で示した従来の貼付け
ウエハ分離作業では、ウエハの割れが多発することが判
明している。
【０００８】また、図８で示した従来例の場合でも、水
平方向への応力は上側吸着部上部に取付けたアーム１０
１を通じて加えられるため、水平方向へ移動する上側吸
着部のウエハ平坦面に対する平行度を保持するには、ほ
とんど遊びの無いガイドレールを備える等の工夫が必要
である。しかしながら、実際には上側吸着部の遊びを少
なくするほど平行度の調整が困難になり、ウエハに対し
て余分な応力が加えられることになるため、ウエハの割
れやウエハの表面または裏面に傷をつけるという問題を
引き起こした。
平方向への応力は上側吸着部上部に取付けたアーム１０
１を通じて加えられるため、水平方向へ移動する上側吸
着部のウエハ平坦面に対する平行度を保持するには、ほ
とんど遊びの無いガイドレールを備える等の工夫が必要
である。しかしながら、実際には上側吸着部の遊びを少
なくするほど平行度の調整が困難になり、ウエハに対し
て余分な応力が加えられることになるため、ウエハの割
れやウエハの表面または裏面に傷をつけるという問題を
引き起こした。
【０００９】これらの問題の解決策として、ウエハを押
さえつけながら水平方向にスライドさせる方法がある
が、この場合、支持基板端がウエハ端近傍にさしかかっ
ても押し付け力が加えられたままになっており、この結
果、ウエハ端が欠けてしまうという問題点があった。ま
た、ウエハを押さえつけるため、ウエハを保持する吸着
面に異物や損傷による突起があるとウエハが割れたり傷
が生じるという問題があった。しかもその場合、吸着面
（ウエハステージ）が加熱吸着機構と一体となっている
ために、補修や交換が容易ではないという問題点もあっ
た。
さえつけながら水平方向にスライドさせる方法がある
が、この場合、支持基板端がウエハ端近傍にさしかかっ
ても押し付け力が加えられたままになっており、この結
果、ウエハ端が欠けてしまうという問題点があった。ま
た、ウエハを押さえつけるため、ウエハを保持する吸着
面に異物や損傷による突起があるとウエハが割れたり傷
が生じるという問題があった。しかもその場合、吸着面
（ウエハステージ）が加熱吸着機構と一体となっている
ために、補修や交換が容易ではないという問題点もあっ
た。
【００１０】更に図８に示した従来の装置の場合、垂直
および水平方向への応力のかけ具合は作業者に依存して
いるため、作業の安定性に欠け、製品の歩留りが個々の
作業者の能力や熟練度に強く影響されるといった問題点
もあった。
および水平方向への応力のかけ具合は作業者に依存して
いるため、作業の安定性に欠け、製品の歩留りが個々の
作業者の能力や熟練度に強く影響されるといった問題点
もあった。
【００１１】この発明は、上記のような問題点を解決す
るためになされたものであり、ウエハに割れや欠けが生
じたり、ウエハ表面または裏面に傷が生じることなく、
確実にウエハを支持基板から分離する装置およびその方
法を得ることを目的とする。
るためになされたものであり、ウエハに割れや欠けが生
じたり、ウエハ表面または裏面に傷が生じることなく、
確実にウエハを支持基板から分離する装置およびその方
法を得ることを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明に係る貼付けウエ
ハ分離装置は、支持台と、上記支持台上に設けられ、接
着剤を介して支持基板に貼付けられたウエハを吸着させ
て保持する下部吸着面を有する下部吸着機構と、上記下
部吸着機構の直上部を原点位置として上記支持基板の上
面側を吸着させて保持する上部吸着面を具備しガイドレ
ールに沿って直線方向に移動自在な上部吸着機構と、上
記支持台上に設けられ、上記上部吸着機構の側面部で上
部吸着面近傍の部位に結合あるいは接触して上記上部吸
着機構と連動して移動することにより上記上部吸着面に
対して水平方向の応力を加える水平方向駆動機構と、を
備えた。
ハ分離装置は、支持台と、上記支持台上に設けられ、接
着剤を介して支持基板に貼付けられたウエハを吸着させ
て保持する下部吸着面を有する下部吸着機構と、上記下
部吸着機構の直上部を原点位置として上記支持基板の上
面側を吸着させて保持する上部吸着面を具備しガイドレ
ールに沿って直線方向に移動自在な上部吸着機構と、上
記支持台上に設けられ、上記上部吸着機構の側面部で上
部吸着面近傍の部位に結合あるいは接触して上記上部吸
着機構と連動して移動することにより上記上部吸着面に
対して水平方向の応力を加える水平方向駆動機構と、を
備えた。
【００１３】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
は、上記上部吸着面の一部が、上記支持基板と上記上部
吸着面の接触あるいは上記支持基板との距離を感知する
センサを具備することとした。
は、上記上部吸着面の一部が、上記支持基板と上記上部
吸着面の接触あるいは上記支持基板との距離を感知する
センサを具備することとした。
【００１４】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
は、支持台と、上記支持台上に設けられ、接着剤を介し
て支持基板に貼付けられたウエハを吸着させて保持する
下部吸着面を有する下部吸着機構と、上記支持台上に設
けられ、上記下部吸着機構の直上部を原点位置として上
記支持基板の上面側を吸着させて保持すべく設けられた
上部吸着面および上記上部吸着面周囲で下側に向くよう
設けられたローラーを具備しかつガイドレールに沿って
直線方向に移動自在な上部吸着機構と、上記支持台上の
上記上部吸着機構から所定距離離れた部位に、上記上部
吸着機構の側面部で上部吸着面近傍の部位に結合あるい
は接触させて上部吸着面に対して水平方向から応力を加
えるべく設けられた水平方向駆動機構と、上記支持台上
に設けられ、上記ローラーと接触して上記上部吸着面の
位置を修正すべく水平面に対して傾斜させたテーパ付レ
ールと、を備え、上記水平方向駆動機構の移動によって
上記上部吸着機構が原点位置から水平方向に所定距離移
動した際に初めて上記ローラーが上記テーパ付レールに
接触し上記水平方向駆動機構のさらなる移動とともに上
記ローラーが上部吸着面を押し上げながら上記テーパ付
レール上を転動することとした。
は、支持台と、上記支持台上に設けられ、接着剤を介し
て支持基板に貼付けられたウエハを吸着させて保持する
下部吸着面を有する下部吸着機構と、上記支持台上に設
けられ、上記下部吸着機構の直上部を原点位置として上
記支持基板の上面側を吸着させて保持すべく設けられた
上部吸着面および上記上部吸着面周囲で下側に向くよう
設けられたローラーを具備しかつガイドレールに沿って
直線方向に移動自在な上部吸着機構と、上記支持台上の
上記上部吸着機構から所定距離離れた部位に、上記上部
吸着機構の側面部で上部吸着面近傍の部位に結合あるい
は接触させて上部吸着面に対して水平方向から応力を加
えるべく設けられた水平方向駆動機構と、上記支持台上
に設けられ、上記ローラーと接触して上記上部吸着面の
位置を修正すべく水平面に対して傾斜させたテーパ付レ
ールと、を備え、上記水平方向駆動機構の移動によって
上記上部吸着機構が原点位置から水平方向に所定距離移
動した際に初めて上記ローラーが上記テーパ付レールに
接触し上記水平方向駆動機構のさらなる移動とともに上
記ローラーが上部吸着面を押し上げながら上記テーパ付
レール上を転動することとした。
【００１５】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
は、上記テーパ付レールが水平面に対する傾斜角度を任
意に調節可能とする傾斜角度調整機構を具備しているこ
ととした。
は、上記テーパ付レールが水平面に対する傾斜角度を任
意に調節可能とする傾斜角度調整機構を具備しているこ
ととした。
【００１６】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
は、上記テーパ付レールの水平面に対する傾斜角度の正
接値を上記ウエハのアスペクト比（厚さ／直径）の１０
倍以下とした。
は、上記テーパ付レールの水平面に対する傾斜角度の正
接値を上記ウエハのアスペクト比（厚さ／直径）の１０
倍以下とした。
【００１７】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
は、上記ローラーが初めて上記テーパ付レールに接触す
る位置を上記ウエハが上記支持基板に対して４０％以上
剥がれた箇所とした。
は、上記ローラーが初めて上記テーパ付レールに接触す
る位置を上記ウエハが上記支持基板に対して４０％以上
剥がれた箇所とした。
【００１８】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
は、上記下部吸着機構あるいは上記上部吸着機構のいず
れか一方あるいは両方が加熱する機能も兼ね備えた。
は、上記下部吸着機構あるいは上記上部吸着機構のいず
れか一方あるいは両方が加熱する機能も兼ね備えた。
【００１９】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
は、上記下部吸着機構の下部あるいは上部吸着機構の上
部のいずれか一方に、上記下部吸着面と上記上部吸着面
に吸着された支持基板とを面全体で接触させるべく設け
られた複数のばね部材からなる面方向調整機構が設けら
れていることとした。
は、上記下部吸着機構の下部あるいは上部吸着機構の上
部のいずれか一方に、上記下部吸着面と上記上部吸着面
に吸着された支持基板とを面全体で接触させるべく設け
られた複数のばね部材からなる面方向調整機構が設けら
れていることとした。
【００２０】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
は、上記水平方向駆動機構が、上記面方向調整機構を上
部に具備した上部吸着機構を上記ガイドレールに沿って
原点位置に復帰させる際に、上記面方向調整機構と上記
ガイドレール間に設けられた支持部と連動しながら移動
可能とする機構を具備することとした。
は、上記水平方向駆動機構が、上記面方向調整機構を上
部に具備した上部吸着機構を上記ガイドレールに沿って
原点位置に復帰させる際に、上記面方向調整機構と上記
ガイドレール間に設けられた支持部と連動しながら移動
可能とする機構を具備することとした。
【００２１】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
は、上記下部吸着機構と上記支持台の間に上記下部吸着
機構を上下方向に駆動すべく設けられた垂直方向駆動機
構を具備することとした。
は、上記下部吸着機構と上記支持台の間に上記下部吸着
機構を上下方向に駆動すべく設けられた垂直方向駆動機
構を具備することとした。
【００２２】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
は、上記上部吸着機構と上記ガイドレールの間に上記上
部吸着機構を上下方向に駆動すべく設けられた垂直方向
駆動機構を具備することとした。
は、上記上部吸着機構と上記ガイドレールの間に上記上
部吸着機構を上下方向に駆動すべく設けられた垂直方向
駆動機構を具備することとした。
【００２３】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
は、上記上部吸着機構あるいは上記下部吸着機構のいず
れか一方が、ウエハまたは支持基板に加重する機構を具
備することとした。
は、上記上部吸着機構あるいは上記下部吸着機構のいず
れか一方が、ウエハまたは支持基板に加重する機構を具
備することとした。
【００２４】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
は、上記垂直方向駆動機構が、上記ウエハと上記支持基
板間の分離の度合いに応じて上記上部吸着面あるいは下
部吸着面の垂直方向の位置を制御することとした。
は、上記垂直方向駆動機構が、上記ウエハと上記支持基
板間の分離の度合いに応じて上記上部吸着面あるいは下
部吸着面の垂直方向の位置を制御することとした。
【００２５】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
は、上記垂直方向駆動機構が、上記下部吸着面あるいは
上記上部吸着面の水平方向近傍に設けられたセンサから
の信号を制御用信号として用いることとした。
は、上記垂直方向駆動機構が、上記下部吸着面あるいは
上記上部吸着面の水平方向近傍に設けられたセンサから
の信号を制御用信号として用いることとした。
【００２６】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
は、上記上部吸着面と上記下部吸着面のいずれか一方あ
るいは両方が、着脱可能な板状部材で形成されることと
した。
は、上記上部吸着面と上記下部吸着面のいずれか一方あ
るいは両方が、着脱可能な板状部材で形成されることと
した。
【００２７】本発明に係る貼付けウエハ分離方法は、支
持台上に設けられた下部吸着機構の下部吸着面上に、接
着剤を介して支持基板に貼付けられたウエハを吸着させ
て保持する工程と、上記支持基板が上部吸着機構に設け
られた上部吸着面を上記支持基板と接触する位置まで上
記下部吸着機構を上昇させ接触後に上記支持基板を吸着
させる工程と、上記支持基板およびウエハを上記下部吸
着面または上記上部吸着面のいずれか一方あるいは両方
を介して加熱することにより上記接着剤を溶融させる工
程と、水平方向駆動機構によって上記上部吸着機構の側
面部で上記上部吸着面近傍の部位に水平方向の応力を加
えることにより上記支持基板から上記ウエハを分離する
工程と、上記分離中のウエハが上記支持基板の端部に位
置した際に上記ウエハにかかる加重をゼロもしくは負に
すべく上記上部吸着機構を上方に移動させる工程と、を
含んでなる。
持台上に設けられた下部吸着機構の下部吸着面上に、接
着剤を介して支持基板に貼付けられたウエハを吸着させ
て保持する工程と、上記支持基板が上部吸着機構に設け
られた上部吸着面を上記支持基板と接触する位置まで上
記下部吸着機構を上昇させ接触後に上記支持基板を吸着
させる工程と、上記支持基板およびウエハを上記下部吸
着面または上記上部吸着面のいずれか一方あるいは両方
を介して加熱することにより上記接着剤を溶融させる工
程と、水平方向駆動機構によって上記上部吸着機構の側
面部で上記上部吸着面近傍の部位に水平方向の応力を加
えることにより上記支持基板から上記ウエハを分離する
工程と、上記分離中のウエハが上記支持基板の端部に位
置した際に上記ウエハにかかる加重をゼロもしくは負に
すべく上記上部吸着機構を上方に移動させる工程と、を
含んでなる。
【００２８】また、本発明に係る貼付けウエハ分離方法
は、支持台上に設けられた下部吸着機構の下部吸着面上
に接着剤を介して支持基板に貼付けられたウエハを吸着
させて保持する工程と、上部吸着機構に設けられた上部
吸着面が上記支持基板と接触する位置まで降下させ、接
触後に上記支持基板を吸着させる工程と、上記支持基板
およびウエハを上記下部吸着面または上記上部吸着面の
いずれか一方あるいは両方を介して加熱することにより
上記接着剤を溶融させる工程と、水平方向駆動機構によ
って上記上部吸着面の側面部で上記上部吸着面近傍の部
位に水平方向の応力を加えることにより、上記支持基板
から上記ウエハを分離する工程と、上記分離中のウエハ
が所定位置に達した際に、上記上部吸着面の周囲で下側
に向くよう設けられたローラーが初めてテーパ状レール
に接触し、上記水平方向駆動機構のさらなる移動ととも
に上記ローラーが上部吸着面を押し上げながら上記テー
パ付レール上を転動する工程と、を含んでなる。
は、支持台上に設けられた下部吸着機構の下部吸着面上
に接着剤を介して支持基板に貼付けられたウエハを吸着
させて保持する工程と、上部吸着機構に設けられた上部
吸着面が上記支持基板と接触する位置まで降下させ、接
触後に上記支持基板を吸着させる工程と、上記支持基板
およびウエハを上記下部吸着面または上記上部吸着面の
いずれか一方あるいは両方を介して加熱することにより
上記接着剤を溶融させる工程と、水平方向駆動機構によ
って上記上部吸着面の側面部で上記上部吸着面近傍の部
位に水平方向の応力を加えることにより、上記支持基板
から上記ウエハを分離する工程と、上記分離中のウエハ
が所定位置に達した際に、上記上部吸着面の周囲で下側
に向くよう設けられたローラーが初めてテーパ状レール
に接触し、上記水平方向駆動機構のさらなる移動ととも
に上記ローラーが上部吸着面を押し上げながら上記テー
パ付レール上を転動する工程と、を含んでなる。
【００２９】
【発明の実施の形態】実施の形態１．図１は、この発明
を実施するための実施の形態１による貼付けウエハ分離
装置およびその一連の動作を説明するための図である。
なお、各機構は模式的に示しており、（ａ）は原点位
置、（ｂ）はウエハ加熱時、（ｃ）は分離動作終了時の
装置の状態をそれぞれ示す。
を実施するための実施の形態１による貼付けウエハ分離
装置およびその一連の動作を説明するための図である。
なお、各機構は模式的に示しており、（ａ）は原点位
置、（ｂ）はウエハ加熱時、（ｃ）は分離動作終了時の
装置の状態をそれぞれ示す。
【００３０】図１において、１は例えばリニアガイドに
用いるガイドレール、２はガイドレールと上部吸着機構
を接続する上部吸着機構ホルダー、３は上部吸着機構
で、その下面には上部吸着面３’が設けられ、上部吸着
面上には支持基板５を吸着するための真空吸着溝または
穴（図示せず）が施されている。４は支持基板５と上部
吸着機構３が接触したことを検出するためのセンサで、
例えば歪みゲージや接触センサ、位置センサ等が使用で
きる。５は支持基板で熱可塑性接着剤６を介してウエハ
７が貼付けられている。８は下部吸着機構で、その上面
に下部吸着面８’が設けられ、下部吸着面上にはウエハ
７を吸着するための真空吸着溝または穴（図示せず）が
施されている。９は下部ホルダーで、さらに下部側に例
えばエアシリンダーのような垂直方向駆動機構１０と接
続され、支持台１１上に固定されている。１２は支持基
板回収台で、垂直方向駆動機構１０と共に支持台１１の
上に設置されている。１３は水平方向駆動機構で、例え
ばリニアドモーターによって水平方向に駆動される。な
お、上述の各機構は、１つの支持台１１上に一体的に設
けられている。
用いるガイドレール、２はガイドレールと上部吸着機構
を接続する上部吸着機構ホルダー、３は上部吸着機構
で、その下面には上部吸着面３’が設けられ、上部吸着
面上には支持基板５を吸着するための真空吸着溝または
穴（図示せず）が施されている。４は支持基板５と上部
吸着機構３が接触したことを検出するためのセンサで、
例えば歪みゲージや接触センサ、位置センサ等が使用で
きる。５は支持基板で熱可塑性接着剤６を介してウエハ
７が貼付けられている。８は下部吸着機構で、その上面
に下部吸着面８’が設けられ、下部吸着面上にはウエハ
７を吸着するための真空吸着溝または穴（図示せず）が
施されている。９は下部ホルダーで、さらに下部側に例
えばエアシリンダーのような垂直方向駆動機構１０と接
続され、支持台１１上に固定されている。１２は支持基
板回収台で、垂直方向駆動機構１０と共に支持台１１の
上に設置されている。１３は水平方向駆動機構で、例え
ばリニアドモーターによって水平方向に駆動される。な
お、上述の各機構は、１つの支持台１１上に一体的に設
けられている。
【００３１】上部吸着機構３と下部吸着機構８には吸着
のみならずヒーターによる加熱機構（図示せず）も施し
てある。加熱機構は、上部吸着機構３や下部吸着機構８
内部の取付け穴（図示せず）に例えばカートリッジヒー
ターを挿入することによって実現できる。
のみならずヒーターによる加熱機構（図示せず）も施し
てある。加熱機構は、上部吸着機構３や下部吸着機構８
内部の取付け穴（図示せず）に例えばカートリッジヒー
ターを挿入することによって実現できる。
【００３２】次に、本発明の実施の形態１の貼付けウエ
ハ分離装置による貼付けウエハ分離処理の一連の動作を
順次説明する。
ハ分離装置による貼付けウエハ分離処理の一連の動作を
順次説明する。
【００３３】まず、図１（ａ）のように、支持基板５に
接着剤６で接着されたウエハ７を下部吸着機構８の下部
吸着面８’上にセットした後、吸着保持する。
接着剤６で接着されたウエハ７を下部吸着機構８の下部
吸着面８’上にセットした後、吸着保持する。
【００３４】次に、図１（ｂ）のように、垂直方向駆動
機構１０を用いて、下部吸着機構８を上部吸着機構３下
端の上部吸着面３’に支持基板５が接触するまで上昇さ
せる。この時、センサ４を用いて支持基板５が上部吸着
面３’に接触したことを検出する。なお、センサ４が上
部吸着面３’と支持基板５との距離を測定するような距
離センサでも同様な効果が得られる。その後、支持基板
５とウエハ７を上下の吸着面３’、８’で保持し、上下
両方の加熱機構によって接着剤６の溶融温度（例えば１
５０℃）まで加熱する。
機構１０を用いて、下部吸着機構８を上部吸着機構３下
端の上部吸着面３’に支持基板５が接触するまで上昇さ
せる。この時、センサ４を用いて支持基板５が上部吸着
面３’に接触したことを検出する。なお、センサ４が上
部吸着面３’と支持基板５との距離を測定するような距
離センサでも同様な効果が得られる。その後、支持基板
５とウエハ７を上下の吸着面３’、８’で保持し、上下
両方の加熱機構によって接着剤６の溶融温度（例えば１
５０℃）まで加熱する。
【００３５】十分な昇温を行って接着剤６が溶融した
後、水平方向駆動機構１３を用いて支持基板５の直上付
近、つまり上部吸着機構３の側面部で上部吸着面３’の
近傍の部位を水平方向に引っ張るようにして、図１
（ｃ）のように、水平方向駆動機構１３の移動と連動さ
せつつ上部吸着機構３をガイドレール１に沿わせながら
水平方向へスライドさせて、上部吸着面３’に吸着保持
された支持基板５を支持基板回収台１２の上部に運搬す
る。一方、下部吸着機構８の下部吸着面８’に吸着され
たウエハ７は、支持基板５と分離して、下部吸着面８’
上に保持されたままになる。
後、水平方向駆動機構１３を用いて支持基板５の直上付
近、つまり上部吸着機構３の側面部で上部吸着面３’の
近傍の部位を水平方向に引っ張るようにして、図１
（ｃ）のように、水平方向駆動機構１３の移動と連動さ
せつつ上部吸着機構３をガイドレール１に沿わせながら
水平方向へスライドさせて、上部吸着面３’に吸着保持
された支持基板５を支持基板回収台１２の上部に運搬す
る。一方、下部吸着機構８の下部吸着面８’に吸着され
たウエハ７は、支持基板５と分離して、下部吸着面８’
上に保持されたままになる。
【００３６】次いで、支持基板５を支持基板回収台１２
上部に脱着させた後、垂直方向駆動機構１０を用いて下
部吸着機構３を降下させてウエハ７を回収する。上述の
一連の動作によって、貼付けウエハの分離処理は完了す
る。
上部に脱着させた後、垂直方向駆動機構１０を用いて下
部吸着機構３を降下させてウエハ７を回収する。上述の
一連の動作によって、貼付けウエハの分離処理は完了す
る。
【００３７】上述の貼付けウエハ分離処理において、さ
らに、センサ４による支持基板５の位置に関する信号に
基づいてエアシリンダー１０を用いた垂直方向駆動機構
１０によって下部吸着機構８の垂直方向の位置を制御す
ることでウエハ７に所望の加重を負荷することができ、
さらに、上部吸着機構３の水平方向へのスライド時に、
上部吸着機構３の位置に対してウエハ７への加重を任意
に変化させることも可能である。
らに、センサ４による支持基板５の位置に関する信号に
基づいてエアシリンダー１０を用いた垂直方向駆動機構
１０によって下部吸着機構８の垂直方向の位置を制御す
ることでウエハ７に所望の加重を負荷することができ、
さらに、上部吸着機構３の水平方向へのスライド時に、
上部吸着機構３の位置に対してウエハ７への加重を任意
に変化させることも可能である。
【００３８】ウエハ７に予め加重を負荷する場合は、ウ
エハ７と支持基板５が分離する前に、下部吸収機構８に
対する上部吸着機構３の位置をセンサ４でモニターする
ことより、必要な箇所で垂直方向駆動機構１０を駆動し
てウエハ７への加重をゼロもしくは負になるように制御
すると、ウエハ７への垂直方向の不要な応力の付加に起
因するウエハ割れを有効に防止できる。
エハ７と支持基板５が分離する前に、下部吸収機構８に
対する上部吸着機構３の位置をセンサ４でモニターする
ことより、必要な箇所で垂直方向駆動機構１０を駆動し
てウエハ７への加重をゼロもしくは負になるように制御
すると、ウエハ７への垂直方向の不要な応力の付加に起
因するウエハ割れを有効に防止できる。
【００３９】なお、下部吸着面８’あるいは上部吸着面
３’の水平方向近傍に設けられたセンサ（図示せず）に
よって水平方向から上部吸着機構３に対する支持基板５
の位置を検出してその信号を制御用信号として用いる
と、加重を制御すべき位置がより正確に把握可能とな
る。
３’の水平方向近傍に設けられたセンサ（図示せず）に
よって水平方向から上部吸着機構３に対する支持基板５
の位置を検出してその信号を制御用信号として用いる
と、加重を制御すべき位置がより正確に把握可能とな
る。
【００４０】以上、実施の形態１の貼付けウエハ分離装
置では、上部吸着面の側面部で吸着面近傍の部位に結合
あるいは接触させて上部吸着機構と連動して移動するこ
とにより上部吸着面に対して水平方向の応力を加える水
平方向駆動機構を備えたので、ウエハに加わる応力の方
向をウエハ面にほぼ平行な方向とすることで、ウエハへ
の応力ストレスを極力抑制することができ、その結果ウ
エハに損傷を与えることなく分離できるため、貼付けウ
エハ分離工程での歩留まりが向上する効果がある。さら
に、必要な箇所で垂直方向駆動機構を駆動してウエハへ
の加重をゼロもしくは負になるように制御するので、ウ
エハへの垂直方向の不要な応力の付加に起因するウエハ
割れを有効に防止できる。
置では、上部吸着面の側面部で吸着面近傍の部位に結合
あるいは接触させて上部吸着機構と連動して移動するこ
とにより上部吸着面に対して水平方向の応力を加える水
平方向駆動機構を備えたので、ウエハに加わる応力の方
向をウエハ面にほぼ平行な方向とすることで、ウエハへ
の応力ストレスを極力抑制することができ、その結果ウ
エハに損傷を与えることなく分離できるため、貼付けウ
エハ分離工程での歩留まりが向上する効果がある。さら
に、必要な箇所で垂直方向駆動機構を駆動してウエハへ
の加重をゼロもしくは負になるように制御するので、ウ
エハへの垂直方向の不要な応力の付加に起因するウエハ
割れを有効に防止できる。
【００４１】実施の形態２．図２はこの発明を実施する
ための実施の形態２による貼付けウエハ分離装置を説明
するための図であり、図２において、図１と同一の符号
を付したものは、同一またはこれに相当するものであ
る。基本的な装置構成は実施の形態１とほぼ同一で、そ
の動作についてもほぼ同様であるが、下部吸着機構８と
下部ホルダー９の間に面方向調整機構１４を挿入してい
る点で両者は相違している。面方向調整機構１４は例え
ば３点支持のばね部材で構成すればよい。面方向調整機
構１４を備えたことにより、下部吸着機構８の下部吸着
面８’にセットされたウエハ７または支持基板５と上部
吸着機構３の上部吸着面３’との、それぞれ対向した平
坦面どうしを間隙なく沿わせるようなフレキシブルな構
造となるため、ウエハ７または支持基板５と上部吸着機
構３間の平行度を容易に保持することができる。
ための実施の形態２による貼付けウエハ分離装置を説明
するための図であり、図２において、図１と同一の符号
を付したものは、同一またはこれに相当するものであ
る。基本的な装置構成は実施の形態１とほぼ同一で、そ
の動作についてもほぼ同様であるが、下部吸着機構８と
下部ホルダー９の間に面方向調整機構１４を挿入してい
る点で両者は相違している。面方向調整機構１４は例え
ば３点支持のばね部材で構成すればよい。面方向調整機
構１４を備えたことにより、下部吸着機構８の下部吸着
面８’にセットされたウエハ７または支持基板５と上部
吸着機構３の上部吸着面３’との、それぞれ対向した平
坦面どうしを間隙なく沿わせるようなフレキシブルな構
造となるため、ウエハ７または支持基板５と上部吸着機
構３間の平行度を容易に保持することができる。
【００４２】以上、実施の形態２の貼付けウエハ分離装
置では、下部吸着機構８と下部ホルダー９の間に面方向
調整機構１４を設けたので、常に被保持物の平坦面に対
する上側または下部吸着機構の各吸着面の平行度を維持
できると共に、加熱時における上側または下部吸着機構
でウエハを保持する際の衝撃を緩和することができるた
め、ウエハに損傷を与えることがなく、歩留り向上が得
られるという効果がある。
置では、下部吸着機構８と下部ホルダー９の間に面方向
調整機構１４を設けたので、常に被保持物の平坦面に対
する上側または下部吸着機構の各吸着面の平行度を維持
できると共に、加熱時における上側または下部吸着機構
でウエハを保持する際の衝撃を緩和することができるた
め、ウエハに損傷を与えることがなく、歩留り向上が得
られるという効果がある。
【００４３】実施の形態３．図３はこの発明を実施する
ための実施の形態３による貼付けウエハ分離装置を説明
するための図であり、図３において、図２と同一の符号
を付したものは、同一またはこれに相当するものであ
る。実施の形態１、２の貼付けウエハ分離装置と異な
り、垂直方向駆動機構１０および面方向調整機構１４は
上部吸着機構３に設けられている。また、１８は水平方
向駆動機構１３のラック部先端に設けられ、上部吸着機
構３を押すようにして水平方向にスライドさせるための
ヘッドである。さらに、１９は上部吸着機構３に付随す
る面方向調整機構１４とエアシリンダー（垂直方向制御
機構）１０を接続するための上部ホルダーである。上部
ホルダー１９の側面には原点復帰用のフック１５が、リ
ニアドモーター１３のラック部先端には原点復帰時に原
点復帰用フック１５を引っ掻けるようにして牽引するた
めの牽引ホルダー１６が各々備えられ、支持部を構成す
る。また、１７はウエハをセットするための着脱可能な
板状部材（ウエハステージ）である。
ための実施の形態３による貼付けウエハ分離装置を説明
するための図であり、図３において、図２と同一の符号
を付したものは、同一またはこれに相当するものであ
る。実施の形態１、２の貼付けウエハ分離装置と異な
り、垂直方向駆動機構１０および面方向調整機構１４は
上部吸着機構３に設けられている。また、１８は水平方
向駆動機構１３のラック部先端に設けられ、上部吸着機
構３を押すようにして水平方向にスライドさせるための
ヘッドである。さらに、１９は上部吸着機構３に付随す
る面方向調整機構１４とエアシリンダー（垂直方向制御
機構）１０を接続するための上部ホルダーである。上部
ホルダー１９の側面には原点復帰用のフック１５が、リ
ニアドモーター１３のラック部先端には原点復帰時に原
点復帰用フック１５を引っ掻けるようにして牽引するた
めの牽引ホルダー１６が各々備えられ、支持部を構成す
る。また、１７はウエハをセットするための着脱可能な
板状部材（ウエハステージ）である。
【００４４】次に、貼付けウエハ分離処理の一連の動作
を説明する。
を説明する。
【００４５】まず、図３（ａ）が原点位置で、接着剤６
を介してウエハ７が貼り付けられた支持基板５を、下部
吸着機構８上に固定されたウエハステージ１７上にセッ
トする。このウエハステージ１７の上面部は下部吸着面
８’として機能する。
を介してウエハ７が貼り付けられた支持基板５を、下部
吸着機構８上に固定されたウエハステージ１７上にセッ
トする。このウエハステージ１７の上面部は下部吸着面
８’として機能する。
【００４６】次に図３（ｂ）のように上部吸着機構３
を、垂直方向駆動機構１０、例えばエアシリンダーを用
いて支持基板５上に下降させ、支持基板５とウエハ７を
各々上下吸着機構で保持しながら加熱する。上部吸着機
構３は、下降時には面方向調整機構を構成するばね部材
１４を介して垂直方向駆動機構１０に吊り下げられた状
態にあるので、常にウエハ７または支持基板５の平坦面
に沿うようなフレキシブルな構造になっている。
を、垂直方向駆動機構１０、例えばエアシリンダーを用
いて支持基板５上に下降させ、支持基板５とウエハ７を
各々上下吸着機構で保持しながら加熱する。上部吸着機
構３は、下降時には面方向調整機構を構成するばね部材
１４を介して垂直方向駆動機構１０に吊り下げられた状
態にあるので、常にウエハ７または支持基板５の平坦面
に沿うようなフレキシブルな構造になっている。
【００４７】十分な昇温によって接着剤６が溶融した
後、リニアドモーター１３を用いて支持基板５の直上付
近の上部吸着機構３の側面部、つまり上部吸着面３’近
傍の側面部を押すようにして、図３（ｃ）のように上部
吸着機構３をガイドレール１に沿わせながら、支持基板
５を支持基板回収台１２の上方まで水平方向へスライド
させる。また、このスライド時は、原点復帰用フック１
５と牽引ホルダー１６はフリーな状態にあるので、上部
吸着機構３の上方に余分な応力が加わることはなく、さ
らに面方向調整機構１４により上部吸着機構３は常にウ
エハ７の平坦面に対して平行度を保持することができ
る。
後、リニアドモーター１３を用いて支持基板５の直上付
近の上部吸着機構３の側面部、つまり上部吸着面３’近
傍の側面部を押すようにして、図３（ｃ）のように上部
吸着機構３をガイドレール１に沿わせながら、支持基板
５を支持基板回収台１２の上方まで水平方向へスライド
させる。また、このスライド時は、原点復帰用フック１
５と牽引ホルダー１６はフリーな状態にあるので、上部
吸着機構３の上方に余分な応力が加わることはなく、さ
らに面方向調整機構１４により上部吸着機構３は常にウ
エハ７の平坦面に対して平行度を保持することができ
る。
【００４８】次に、支持基板回収台１２上に支持基板５
を脱着した後、垂直方向駆動機構１０を用いて上部吸着
機構３を上昇させる。その後、上部吸着機構３側面に取
付けた原点復帰用フック１５を牽引ホルダー１６で牽引
しながら上部吸着機構３を水平方向に移動させて原点位
置まで復帰させることにより、貼付けウエハ分離処理は
完了する。
を脱着した後、垂直方向駆動機構１０を用いて上部吸着
機構３を上昇させる。その後、上部吸着機構３側面に取
付けた原点復帰用フック１５を牽引ホルダー１６で牽引
しながら上部吸着機構３を水平方向に移動させて原点位
置まで復帰させることにより、貼付けウエハ分離処理は
完了する。
【００４９】以上、実施の形態３の貼付けウエハ分離装
置では、上部吸着面の側面部で吸着面近傍の部位に結合
あるいは接触させて上部吸着機構と連動して移動するこ
とにより上部吸着面に対して水平方向の応力を加える水
平方向駆動機構を備えたので、ウエハに加わる応力の方
向をウエハ面にほぼ平行な方向とすることで、ウエハへ
の応力ストレスを極力抑制することができ、その結果ウ
エハに損傷を与えることなく分離できるため、貼付けウ
エハ分離工程での歩留まりが向上する効果がある。さら
に、上部吸着機構の原点復帰を水平方向駆動機構に取り
付けられた原点復帰用フックのような支持部による原点
への移動用の機構によって行うので、水平駆動に要する
機械精度に等しい位置精度で原点復帰位置を決めること
ができる効果がある。
置では、上部吸着面の側面部で吸着面近傍の部位に結合
あるいは接触させて上部吸着機構と連動して移動するこ
とにより上部吸着面に対して水平方向の応力を加える水
平方向駆動機構を備えたので、ウエハに加わる応力の方
向をウエハ面にほぼ平行な方向とすることで、ウエハへ
の応力ストレスを極力抑制することができ、その結果ウ
エハに損傷を与えることなく分離できるため、貼付けウ
エハ分離工程での歩留まりが向上する効果がある。さら
に、上部吸着機構の原点復帰を水平方向駆動機構に取り
付けられた原点復帰用フックのような支持部による原点
への移動用の機構によって行うので、水平駆動に要する
機械精度に等しい位置精度で原点復帰位置を決めること
ができる効果がある。
【００５０】実施の形態４．図４はこの発明を実施する
ための実施の形態２による貼付けウエハ分離装置を説明
するための図であり、（ａ）は貼付けウエハ分離装置の
動作を説明するための図で、原点位置における配置を示
すものであり、（ｂ）はテーパ付レールと上部吸着面と
の位置関係を示す上面側からの模式図である。図４にお
いて、図３と同一の符号を付したものは同一またはこれ
に相当するものである。
ための実施の形態２による貼付けウエハ分離装置を説明
するための図であり、（ａ）は貼付けウエハ分離装置の
動作を説明するための図で、原点位置における配置を示
すものであり、（ｂ）はテーパ付レールと上部吸着面と
の位置関係を示す上面側からの模式図である。図４にお
いて、図３と同一の符号を付したものは同一またはこれ
に相当するものである。
【００５１】実施の形態４における貼付けウエハ分離装
置の基本的な構成は実施の形態３のものとほぼ同一で、
一連の動作についてもほぼ同様であるが、支持基板５を
水平方向にスライドしている途中からスライド方向を軌
道修正するためのテーパー付レール２２と直棒２３（レ
ール架台）が下部吸着機構８に固定されている点が上述
した実施の形態の装置とは異なる。図４（ｂ）に模式的
に示すように、テーパー付レール２２は上部吸着機構３
のスライド方向に平行な方向で下部吸着機構８の両側に
２本取付けられている。さらに、上部吸着機構３の上部
吸着面３’には、図４（ｂ）に示すように、ローラーホ
ルダー２０と下部接触面上で転動すべく設けられたロー
ラー２１が転動自在に固定されている。ローラー２１は
テーパー付レール２２の上方に位置するように上部吸着
機構３の両側に合計で少なくとも３個以上取付けられ、
接触時にはローラー２１がテーパー付レール２２上を転
動する。なお、３’’は上部吸着面に設けられた吸着用
溝である。
置の基本的な構成は実施の形態３のものとほぼ同一で、
一連の動作についてもほぼ同様であるが、支持基板５を
水平方向にスライドしている途中からスライド方向を軌
道修正するためのテーパー付レール２２と直棒２３（レ
ール架台）が下部吸着機構８に固定されている点が上述
した実施の形態の装置とは異なる。図４（ｂ）に模式的
に示すように、テーパー付レール２２は上部吸着機構３
のスライド方向に平行な方向で下部吸着機構８の両側に
２本取付けられている。さらに、上部吸着機構３の上部
吸着面３’には、図４（ｂ）に示すように、ローラーホ
ルダー２０と下部接触面上で転動すべく設けられたロー
ラー２１が転動自在に固定されている。ローラー２１は
テーパー付レール２２の上方に位置するように上部吸着
機構３の両側に合計で少なくとも３個以上取付けられ、
接触時にはローラー２１がテーパー付レール２２上を転
動する。なお、３’’は上部吸着面に設けられた吸着用
溝である。
【００５２】ここで、本実施の形態において特徴的であ
る、支持基板５を水平方向にスライドしている途中でス
ライド方向を軌道修正するための具体的な動作を説明す
る。図５はその動作の説明図である。なお、簡略化のた
め、上部吸着機構３から上側の構造は省略し、ローラー
２１のみ図示している。固定された直棒２３上に2本の
テーパー付レール２２が固定されている。テーパーは、
テーパー付レール２２の位置が原点位置で最も低く、原
点位置から離れるにつれて装置支持台１１に対して高く
なるように設定されている。本実施の形態では、テーパ
ー付レール２２の傾斜角度θは上部吸着機構３のスライ
ド方向の軌道を上方修正した後のウエハ７に加わる応力
方向と一致する。つまり、ローラー２１のテーパ付レー
ル２２の接触前には水平方向にかかっていた応力が、接
触後は水平面に対して角度θ分だけ傾斜した面方向にか
かるようになる。ウエハ７に過度の上方向の応力がかか
って割れてしまうのを防止するため、傾斜角度θの正接
値（ｔａｎθ）がウエハ７のアスペクト比、つまりウエ
ハ厚さ／ウエハ直径の１０倍を超えない角度内で調整す
る。例えばウエハの厚さ０．１mm、直径５０mmの場合は
アスペクト比が０．００２となるため、θの値は１．１
°以下、好ましくは０．２〜０．５°程度となる。
る、支持基板５を水平方向にスライドしている途中でス
ライド方向を軌道修正するための具体的な動作を説明す
る。図５はその動作の説明図である。なお、簡略化のた
め、上部吸着機構３から上側の構造は省略し、ローラー
２１のみ図示している。固定された直棒２３上に2本の
テーパー付レール２２が固定されている。テーパーは、
テーパー付レール２２の位置が原点位置で最も低く、原
点位置から離れるにつれて装置支持台１１に対して高く
なるように設定されている。本実施の形態では、テーパ
ー付レール２２の傾斜角度θは上部吸着機構３のスライ
ド方向の軌道を上方修正した後のウエハ７に加わる応力
方向と一致する。つまり、ローラー２１のテーパ付レー
ル２２の接触前には水平方向にかかっていた応力が、接
触後は水平面に対して角度θ分だけ傾斜した面方向にか
かるようになる。ウエハ７に過度の上方向の応力がかか
って割れてしまうのを防止するため、傾斜角度θの正接
値（ｔａｎθ）がウエハ７のアスペクト比、つまりウエ
ハ厚さ／ウエハ直径の１０倍を超えない角度内で調整す
る。例えばウエハの厚さ０．１mm、直径５０mmの場合は
アスペクト比が０．００２となるため、θの値は１．１
°以下、好ましくは０．２〜０．５°程度となる。
【００５３】図５において、２１は上部吸着機構３の上
部吸着面３’の周囲に取付けたローラーで、２１ａは上
部吸着機構３が降下した後ウエハを加熱中のローラー位
置を示し、２１ｂは水平方向へスライド中でスライド方
向を上方に修正する位置を示す。２１ｃは水平方向への
スライドが完了し、支持基板５が支持基板回収台の上ま
で到達する位置を示す。上部吸着機構３の側面に取付け
たローラー２１は２１ｂの位置でテーパ付レール２２に
接触して、上部吸着機構３の自重によるウエハ７への加
重がゼロになるとともに、支持基板５および上部吸着機
構３は仰角θで上昇を開始する。２１ｂの箇所、つまり
ローラー２１がテーパー付レールに初めて接触する箇所
は、ウエハ７から支持基板５をスライドさせて、ウエハ
７が支持基板５に対して面積比で４０％以上露出した、
つまり剥がれた状態となる位置が望ましく、６０〜９０
％露出している状態がさらに好適である。これは、ウエ
ハ分離が進行するにつれて、ウエハ７にかかる加重がウ
エハ７と支持基板５と密着されている部分に集中して、
ウエハ割れを誘因するからである。よって、かかるウエ
ハ分離方法の適用により、ウエハ７への曲げ応力を最小
限に止め、ウエハ７を確実に支持基板５から分離するこ
とができるため、貼付けウエハ分離工程での歩留まり向
上が図れる。
部吸着面３’の周囲に取付けたローラーで、２１ａは上
部吸着機構３が降下した後ウエハを加熱中のローラー位
置を示し、２１ｂは水平方向へスライド中でスライド方
向を上方に修正する位置を示す。２１ｃは水平方向への
スライドが完了し、支持基板５が支持基板回収台の上ま
で到達する位置を示す。上部吸着機構３の側面に取付け
たローラー２１は２１ｂの位置でテーパ付レール２２に
接触して、上部吸着機構３の自重によるウエハ７への加
重がゼロになるとともに、支持基板５および上部吸着機
構３は仰角θで上昇を開始する。２１ｂの箇所、つまり
ローラー２１がテーパー付レールに初めて接触する箇所
は、ウエハ７から支持基板５をスライドさせて、ウエハ
７が支持基板５に対して面積比で４０％以上露出した、
つまり剥がれた状態となる位置が望ましく、６０〜９０
％露出している状態がさらに好適である。これは、ウエ
ハ分離が進行するにつれて、ウエハ７にかかる加重がウ
エハ７と支持基板５と密着されている部分に集中して、
ウエハ割れを誘因するからである。よって、かかるウエ
ハ分離方法の適用により、ウエハ７への曲げ応力を最小
限に止め、ウエハ７を確実に支持基板５から分離するこ
とができるため、貼付けウエハ分離工程での歩留まり向
上が図れる。
【００５４】テーパー付レール２２は、図６で示すよう
な角度調節可能なレールに置き換えてもよく、この場
合、軌道修正後のスライド方向の傾斜角度が任意に調節
でき、最適な傾斜角度に容易に設定できる利点がある。
図６において、図５と同一の符号を付したものは、同一
またはこれに相当するものである。２４は直棒レール、
２５は角度調整用ネジ、２６はバネ付固定ネジである。
ローラー２１の角度調節も同じ仕組みを利用して角度調
節できる。角度調整用ネジ２５の先端位置を相対的に変
えることにより、微妙な傾斜角度の調整が容易にでき
る。
な角度調節可能なレールに置き換えてもよく、この場
合、軌道修正後のスライド方向の傾斜角度が任意に調節
でき、最適な傾斜角度に容易に設定できる利点がある。
図６において、図５と同一の符号を付したものは、同一
またはこれに相当するものである。２４は直棒レール、
２５は角度調整用ネジ、２６はバネ付固定ネジである。
ローラー２１の角度調節も同じ仕組みを利用して角度調
節できる。角度調整用ネジ２５の先端位置を相対的に変
えることにより、微妙な傾斜角度の調整が容易にでき
る。
【００５５】以上、実施の形態４の貼付けウエハ分離装
置では、実施の形態1ないし３の装置における効果に加
えて、さらに、上部吸着機構３にローラーを設け、この
ローラーと接触して上部吸着面の位置を修正すべく水平
面に対して傾斜させたテーパ付レールを設け、水平方向
駆動機構の移動によって上部吸着機構が原点位置から水
平方向に所定距離移動した際に初めてローラーがテーパ
付レールに接触し水平方向駆動機構のさらなる移動とと
もにローラーが上部吸着面を押し上げながらテーパ付レ
ール上を転動するようにしたので、ウエハへの垂直方向
への応力を極力緩和でき、ウエハを支持基板から安定に
分離することが可能となる結果、貼付けウエハ分離工程
での歩留まり向上が図れる。
置では、実施の形態1ないし３の装置における効果に加
えて、さらに、上部吸着機構３にローラーを設け、この
ローラーと接触して上部吸着面の位置を修正すべく水平
面に対して傾斜させたテーパ付レールを設け、水平方向
駆動機構の移動によって上部吸着機構が原点位置から水
平方向に所定距離移動した際に初めてローラーがテーパ
付レールに接触し水平方向駆動機構のさらなる移動とと
もにローラーが上部吸着面を押し上げながらテーパ付レ
ール上を転動するようにしたので、ウエハへの垂直方向
への応力を極力緩和でき、ウエハを支持基板から安定に
分離することが可能となる結果、貼付けウエハ分離工程
での歩留まり向上が図れる。
【００５６】実施の形態５．図７は、この発明を実施す
るための実施の形態５による、貼付けウエハ分離装置を
より具体的に説明するための図であり、（ａ）はウエハ
加熱前の原点位置における正面図で、（ｂ）はウエハ加
熱時の側面図である。
るための実施の形態５による、貼付けウエハ分離装置を
より具体的に説明するための図であり、（ａ）はウエハ
加熱前の原点位置における正面図で、（ｂ）はウエハ加
熱時の側面図である。
【００５７】図７において、３１はエアシリンダー、３
３は上部ホルダーである。３２はエアシリンダー３１と
上部ホルダー３３とを結合するための取付け板である。
５１は上部吸着機構で、支持基板５０を吸着するための
真空吸着溝または穴（図示せず）が施してある。３８は
上部吸着機構取付け板で、３５で示した長ネジ棒が３７
で示した固定ナットにより固定されている。長ネジ棒３
５を備えた上部吸着機構５１はばね部材３４と加重調整
ナット３６を介して上部ホルダー３３に吊り下げられて
いる。支持基板５０およびウエハ４８の上に上部吸着機
構５１を静置した状態において、上部ホルダー３３を支
点にして上部吸着機構５１を完全に持ち上げることが可
能な程度のバネ定数をばね部材３４が有することで、加
重調整ナット３６を用いて上部吸着機構５１の自重の範
囲で支持基板５０およびウエハ４８への加重の調整を可
能にした。４６は下部吸着機構で、着脱可能なウエハス
テージ４７を備え、ウエハ４８を吸着するための真空吸
着溝または穴（図示せず）が施してある。下部吸着機構
４６は４４で示した下部吸着機構取付け板を介して４３
で示した装置架台に取付けてある。装置架台４３にはウ
エハ分離処理時のスライド方向と平行に両側２本のレー
ル架台４２が備え付けてあり、レール架台４２上にはレ
ール４１が傾斜角度を任意に調整可能なように取付けて
ある。なお、傾斜角度を固定したければ、予め傾斜した
テーパー付レールを用いてもよい。上部吸着機構５１
は、ウエハ分離処理時にレールに乗り上げるためのロー
ラー４０が、３点支持可能なように両側にローラーホル
ダー３９および上部吸着機構取付け板３８を介して合計
で３個以上取付けてある。ローラーホルダー３９はレー
ル４１の傾斜角度に合わせてローラー４０を任意の傾斜
角度に調整可能な構造としてある。傾斜角度の調整に
は、例えば２個のバネ付き固定ネジと２個の突っ張り用
ネジを備えれば可能となる。
３は上部ホルダーである。３２はエアシリンダー３１と
上部ホルダー３３とを結合するための取付け板である。
５１は上部吸着機構で、支持基板５０を吸着するための
真空吸着溝または穴（図示せず）が施してある。３８は
上部吸着機構取付け板で、３５で示した長ネジ棒が３７
で示した固定ナットにより固定されている。長ネジ棒３
５を備えた上部吸着機構５１はばね部材３４と加重調整
ナット３６を介して上部ホルダー３３に吊り下げられて
いる。支持基板５０およびウエハ４８の上に上部吸着機
構５１を静置した状態において、上部ホルダー３３を支
点にして上部吸着機構５１を完全に持ち上げることが可
能な程度のバネ定数をばね部材３４が有することで、加
重調整ナット３６を用いて上部吸着機構５１の自重の範
囲で支持基板５０およびウエハ４８への加重の調整を可
能にした。４６は下部吸着機構で、着脱可能なウエハス
テージ４７を備え、ウエハ４８を吸着するための真空吸
着溝または穴（図示せず）が施してある。下部吸着機構
４６は４４で示した下部吸着機構取付け板を介して４３
で示した装置架台に取付けてある。装置架台４３にはウ
エハ分離処理時のスライド方向と平行に両側２本のレー
ル架台４２が備え付けてあり、レール架台４２上にはレ
ール４１が傾斜角度を任意に調整可能なように取付けて
ある。なお、傾斜角度を固定したければ、予め傾斜した
テーパー付レールを用いてもよい。上部吸着機構５１
は、ウエハ分離処理時にレールに乗り上げるためのロー
ラー４０が、３点支持可能なように両側にローラーホル
ダー３９および上部吸着機構取付け板３８を介して合計
で３個以上取付けてある。ローラーホルダー３９はレー
ル４１の傾斜角度に合わせてローラー４０を任意の傾斜
角度に調整可能な構造としてある。傾斜角度の調整に
は、例えば２個のバネ付き固定ネジと２個の突っ張り用
ネジを備えれば可能となる。
【００５８】加熱機構を備えた上部吸着機構５１または
下部吸着機構４６は、各々装置側への熱伝導を防ぐため
に断熱板５２または４５を介して上部吸着機構５１は上
部吸着機構取付け板３８へ、下部吸着機構４６は下部吸
着機構取付け板４４へ接続されている。断熱板には例え
ばフッ素樹脂板を使用することができる。
下部吸着機構４６は、各々装置側への熱伝導を防ぐため
に断熱板５２または４５を介して上部吸着機構５１は上
部吸着機構取付け板３８へ、下部吸着機構４６は下部吸
着機構取付け板４４へ接続されている。断熱板には例え
ばフッ素樹脂板を使用することができる。
【００５９】なお、上部吸着機構に垂直および水平方向
駆動機構、軌道修正機構、加重可変機構およびフレキシ
ブル機構を設けたものを示したが、下部吸着機構に各機
構を設けてもよい。
駆動機構、軌道修正機構、加重可変機構およびフレキシ
ブル機構を設けたものを示したが、下部吸着機構に各機
構を設けてもよい。
【００６０】また、上記実施の形態５では、バネを利用
した装置自重相殺方式の加重可変構造について説明した
が、バネやエアシリンダーによる直接加重方式であって
もよく、上記実施の形態５と同様の効果がある。
した装置自重相殺方式の加重可変構造について説明した
が、バネやエアシリンダーによる直接加重方式であって
もよく、上記実施の形態５と同様の効果がある。
【００６１】以上、実施の形態５の貼付けウエハ分離装
置では、実施の形態1ないし３の装置における効果に加
えて、さらに、上部吸着機構にローラーを設け、このロ
ーラーと接触して上部吸着面の位置を修正すべく水平面
に対して傾斜させたテーパ付レールを設け、水平方向駆
動機構の移動によって上部吸着機構が原点位置から水平
方向に所定距離移動した際に初めてローラーがテーパ付
レールに接触し水平方向駆動機構のさらなる移動ととも
にローラーが上部吸着面を押し上げながらテーパ付レー
ル上を転動するようにしたので、ウエハへの垂直方向へ
の応力を極力緩和でき、ウエハを支持基板から安定に分
離することが可能となる結果、貼付けウエハ分離工程で
の歩留まり向上が図れる。
置では、実施の形態1ないし３の装置における効果に加
えて、さらに、上部吸着機構にローラーを設け、このロ
ーラーと接触して上部吸着面の位置を修正すべく水平面
に対して傾斜させたテーパ付レールを設け、水平方向駆
動機構の移動によって上部吸着機構が原点位置から水平
方向に所定距離移動した際に初めてローラーがテーパ付
レールに接触し水平方向駆動機構のさらなる移動ととも
にローラーが上部吸着面を押し上げながらテーパ付レー
ル上を転動するようにしたので、ウエハへの垂直方向へ
の応力を極力緩和でき、ウエハを支持基板から安定に分
離することが可能となる結果、貼付けウエハ分離工程で
の歩留まり向上が図れる。
【００６２】
【発明の効果】本発明に係る貼付けウエハ分離装置で
は、支持台と、上記支持台上に設けられ、接着剤を介し
て支持基板に貼付けられたウエハを吸着させて保持する
下部吸着面を有する下部吸着機構と、上記下部吸着機構
の直上部を原点位置として上記支持基板の上面側を吸着
させて保持する上部吸着面を具備しガイドレールに沿っ
て直線方向に移動自在な上部吸着機構と、上記支持台上
に設けられ、上記上部吸着機構の側面部で上部吸着面近
傍の部位に結合あるいは接触して上記上部吸着機構と連
動して移動することにより上記上部吸着面に対して水平
方向の応力を加える水平方向駆動機構と、を備えたの
で、ウエハに加わる応力の方向をウエハ面にほぼ平行な
方向とすることで、ウエハへの応力ストレスを極力抑制
することができ、その結果ウエハに損傷を与えることな
く分離できるため、貼付けウエハ分離工程での歩留まり
が向上する効果がある。
は、支持台と、上記支持台上に設けられ、接着剤を介し
て支持基板に貼付けられたウエハを吸着させて保持する
下部吸着面を有する下部吸着機構と、上記下部吸着機構
の直上部を原点位置として上記支持基板の上面側を吸着
させて保持する上部吸着面を具備しガイドレールに沿っ
て直線方向に移動自在な上部吸着機構と、上記支持台上
に設けられ、上記上部吸着機構の側面部で上部吸着面近
傍の部位に結合あるいは接触して上記上部吸着機構と連
動して移動することにより上記上部吸着面に対して水平
方向の応力を加える水平方向駆動機構と、を備えたの
で、ウエハに加わる応力の方向をウエハ面にほぼ平行な
方向とすることで、ウエハへの応力ストレスを極力抑制
することができ、その結果ウエハに損傷を与えることな
く分離できるため、貼付けウエハ分離工程での歩留まり
が向上する効果がある。
【００６３】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
では、上記上部吸着面の一部が、上記支持基板と上記上
部吸着面の接触あるいは上記支持基板との距離を感知す
るセンサを具備することとしたので、必要な箇所でウエ
ハへの加重をゼロもしくは負になるように制御しやすく
なるため、ウエハへの不要な垂直方向への応力の付加に
よるウエハ割れを有効に防止できる。
では、上記上部吸着面の一部が、上記支持基板と上記上
部吸着面の接触あるいは上記支持基板との距離を感知す
るセンサを具備することとしたので、必要な箇所でウエ
ハへの加重をゼロもしくは負になるように制御しやすく
なるため、ウエハへの不要な垂直方向への応力の付加に
よるウエハ割れを有効に防止できる。
【００６４】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
では、支持台と、上記支持台上に設けられ、接着剤を介
して支持基板に貼付けられたウエハを吸着させて保持す
る下部吸着面を有する下部吸着機構と、上記支持台上に
設けられ、上記下部吸着機構の直上部を原点位置として
上記支持基板の上面側を吸着させて保持すべく設けられ
た上部吸着面および上記上部吸着面周囲で下側に向くよ
う設けられたローラーを具備しかつガイドレールに沿っ
て直線方向に移動自在な上部吸着機構と、上記支持台上
の上記上部吸着機構から所定距離離れた部位に、上記上
部吸着機構の側面部で上部吸着面近傍の部位に結合ある
いは接触させて上部吸着面に対して水平方向から応力を
加えるべく設けられた水平方向駆動機構と、上記支持台
上に設けられ、上記ローラーと接触して上記上部吸着面
の位置を修正すべく水平面に対して傾斜させたテーパ付
レールと、を備え、上記水平方向駆動機構の移動によっ
て上記上部吸着機構が原点位置から水平方向に所定距離
移動した際に初めて上記ローラーが上記テーパ付レール
に接触し上記水平方向駆動機構のさらなる移動とともに
上記ローラーが上部吸着面を押し上げながら上記テーパ
付レール上を転動することとしたので、ウエハへの垂直
方向への応力を極力緩和でき、ウエハを支持基板から安
定に分離することが可能となる結果、貼付けウエハ分離
工程での歩留まり向上が図れる。
では、支持台と、上記支持台上に設けられ、接着剤を介
して支持基板に貼付けられたウエハを吸着させて保持す
る下部吸着面を有する下部吸着機構と、上記支持台上に
設けられ、上記下部吸着機構の直上部を原点位置として
上記支持基板の上面側を吸着させて保持すべく設けられ
た上部吸着面および上記上部吸着面周囲で下側に向くよ
う設けられたローラーを具備しかつガイドレールに沿っ
て直線方向に移動自在な上部吸着機構と、上記支持台上
の上記上部吸着機構から所定距離離れた部位に、上記上
部吸着機構の側面部で上部吸着面近傍の部位に結合ある
いは接触させて上部吸着面に対して水平方向から応力を
加えるべく設けられた水平方向駆動機構と、上記支持台
上に設けられ、上記ローラーと接触して上記上部吸着面
の位置を修正すべく水平面に対して傾斜させたテーパ付
レールと、を備え、上記水平方向駆動機構の移動によっ
て上記上部吸着機構が原点位置から水平方向に所定距離
移動した際に初めて上記ローラーが上記テーパ付レール
に接触し上記水平方向駆動機構のさらなる移動とともに
上記ローラーが上部吸着面を押し上げながら上記テーパ
付レール上を転動することとしたので、ウエハへの垂直
方向への応力を極力緩和でき、ウエハを支持基板から安
定に分離することが可能となる結果、貼付けウエハ分離
工程での歩留まり向上が図れる。
【００６５】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
では、上記テーパ付レールが、水平面に対する傾斜角度
を任意に調節可能とする傾斜角度調整機構を具備してい
ることとしたので、ウエハへの垂直方向への応力をより
最適に緩和でき、ウエハを支持基板から安定に分離する
ことが可能となる結果、貼付けウエハ分離工程での歩留
まり向上が図れる。
では、上記テーパ付レールが、水平面に対する傾斜角度
を任意に調節可能とする傾斜角度調整機構を具備してい
ることとしたので、ウエハへの垂直方向への応力をより
最適に緩和でき、ウエハを支持基板から安定に分離する
ことが可能となる結果、貼付けウエハ分離工程での歩留
まり向上が図れる。
【００６６】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
では、上記テーパ付レールの水平面に対する傾斜角度の
正接値が上記ウエハのアスペクト比（厚さ／直径）の１
０倍以下としたので、ウエハへの曲げ応力を最小限に止
め、ウエハを確実に支持基板から分離することができる
ため、貼付けウエハ分離工程での歩留まり向上が図れ
る。
では、上記テーパ付レールの水平面に対する傾斜角度の
正接値が上記ウエハのアスペクト比（厚さ／直径）の１
０倍以下としたので、ウエハへの曲げ応力を最小限に止
め、ウエハを確実に支持基板から分離することができる
ため、貼付けウエハ分離工程での歩留まり向上が図れ
る。
【００６７】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
では、上記ローラーが初めて上記テーパ付レールに接触
する位置は、上記ウエハが上記支持基板に対して４０％
以上剥がれた箇所としたので、ウエハ分離動作中にウエ
ハがスライド方向に引きずられて損傷することなく確実
に支持基板から分離することが可能となる結果、貼付け
ウエハ分離工程での歩留まり向上が図れる。
では、上記ローラーが初めて上記テーパ付レールに接触
する位置は、上記ウエハが上記支持基板に対して４０％
以上剥がれた箇所としたので、ウエハ分離動作中にウエ
ハがスライド方向に引きずられて損傷することなく確実
に支持基板から分離することが可能となる結果、貼付け
ウエハ分離工程での歩留まり向上が図れる。
【００６８】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
では、上記下部吸着機構あるいは上記上部吸着機構のい
ずれか一方あるいは両方が、加熱する機能も兼ね備えた
ので、効率的に接着剤を溶融することができる。
では、上記下部吸着機構あるいは上記上部吸着機構のい
ずれか一方あるいは両方が、加熱する機能も兼ね備えた
ので、効率的に接着剤を溶融することができる。
【００６９】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
では、上記下部吸着機構の下部あるいは上部吸着機構の
上部のいずれか一方に、上記下部吸着面と上記上部吸着
面に吸着された支持基板とを面全体で接触させるべく設
けられた複数のばね部材からなる面方向調整機構が設け
られていることとしたので、常にウエハあるいは支持基
板の平坦面に対する上部または下部吸着面の平行度を維
持できると共に、上部または下部吸着面へウエハを保持
する際の衝撃を緩和することができるため、ウエハに損
傷を与えることがなく、ウエハ分離工程での歩留り向上
が得られる。
では、上記下部吸着機構の下部あるいは上部吸着機構の
上部のいずれか一方に、上記下部吸着面と上記上部吸着
面に吸着された支持基板とを面全体で接触させるべく設
けられた複数のばね部材からなる面方向調整機構が設け
られていることとしたので、常にウエハあるいは支持基
板の平坦面に対する上部または下部吸着面の平行度を維
持できると共に、上部または下部吸着面へウエハを保持
する際の衝撃を緩和することができるため、ウエハに損
傷を与えることがなく、ウエハ分離工程での歩留り向上
が得られる。
【００７０】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
では、上記水平方向駆動機構が、上記面方向調整機構を
上部に具備した上部吸着機構を上記ガイドレールに沿っ
て原点位置に復帰させる際に、上記面方向調整機構と上
記ガイドレール間に設けられた支持部と連動しながら移
動可能とする機構を具備することとしたので、再現性よ
く安定に貼付けウエハの分離を繰り返すことができる。
では、上記水平方向駆動機構が、上記面方向調整機構を
上部に具備した上部吸着機構を上記ガイドレールに沿っ
て原点位置に復帰させる際に、上記面方向調整機構と上
記ガイドレール間に設けられた支持部と連動しながら移
動可能とする機構を具備することとしたので、再現性よ
く安定に貼付けウエハの分離を繰り返すことができる。
【００７１】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
では、上記下部吸着機構と上記支持台の間に上記下部吸
着機構を上下方向に駆動すべく設けられた垂直方向駆動
機構を具備することとしたので、ウエハあるいは支持基
板と下部吸着面間の応力を制御性よく調整することがで
きる。
では、上記下部吸着機構と上記支持台の間に上記下部吸
着機構を上下方向に駆動すべく設けられた垂直方向駆動
機構を具備することとしたので、ウエハあるいは支持基
板と下部吸着面間の応力を制御性よく調整することがで
きる。
【００７２】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
では、上記上部吸着機構と上記ガイドレールの間に上記
上部吸着機構を上下方向に駆動すべく設けられた垂直方
向駆動機構を具備することとしたので、ウエハあるいは
支持基板と上部吸着面間の応力を制御性よく調整するこ
とができる。
では、上記上部吸着機構と上記ガイドレールの間に上記
上部吸着機構を上下方向に駆動すべく設けられた垂直方
向駆動機構を具備することとしたので、ウエハあるいは
支持基板と上部吸着面間の応力を制御性よく調整するこ
とができる。
【００７３】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
では、上記上部吸着機構あるいは上記下部吸着機構のい
ずれか一方が、ウエハまたは支持基板に加重する機構を
具備することとしたので、ウエハにかかる垂直方向の応
力を調整できる。
では、上記上部吸着機構あるいは上記下部吸着機構のい
ずれか一方が、ウエハまたは支持基板に加重する機構を
具備することとしたので、ウエハにかかる垂直方向の応
力を調整できる。
【００７４】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
では、上記垂直方向駆動機構が、上記ウエハと上記支持
基板間の分離の度合いに応じて上記上部吸着面あるいは
下部吸着面の垂直方向の位置を制御することとしたの
で、必要な箇所でウエハへの加重をゼロもしくは負にな
るように制御しやすくなるため、ウエハへの不要な垂直
方向への応力の付加によるウエハ割れを有効に防止でき
る。
では、上記垂直方向駆動機構が、上記ウエハと上記支持
基板間の分離の度合いに応じて上記上部吸着面あるいは
下部吸着面の垂直方向の位置を制御することとしたの
で、必要な箇所でウエハへの加重をゼロもしくは負にな
るように制御しやすくなるため、ウエハへの不要な垂直
方向への応力の付加によるウエハ割れを有効に防止でき
る。
【００７５】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
では、上記垂直方向駆動機構が、上記下部吸着面あるい
は上記上部吸着面の水平方向近傍に設けられたセンサか
らの信号を制御用信号として用いることとしたので、よ
り正確にウエハへの加重の調整が可能となり、ウエハへ
の不要な垂直方向への応力の付加によるウエハ割れを有
効に防止できる。
では、上記垂直方向駆動機構が、上記下部吸着面あるい
は上記上部吸着面の水平方向近傍に設けられたセンサか
らの信号を制御用信号として用いることとしたので、よ
り正確にウエハへの加重の調整が可能となり、ウエハへ
の不要な垂直方向への応力の付加によるウエハ割れを有
効に防止できる。
【００７６】また、本発明に係る貼付けウエハ分離装置
では、上記上部吸着面と上記下部吸着面のいずれか一方
あるいは両方が、着脱可能な板状部材で形成されること
としたので、板状部材の洗浄・補修・交換を容易にし、
板状部材の損傷や汚染によるウエハへの損傷を回避でき
るようにした結果、貼付けウエハ分離工程における歩留
り向上が図れる。
では、上記上部吸着面と上記下部吸着面のいずれか一方
あるいは両方が、着脱可能な板状部材で形成されること
としたので、板状部材の洗浄・補修・交換を容易にし、
板状部材の損傷や汚染によるウエハへの損傷を回避でき
るようにした結果、貼付けウエハ分離工程における歩留
り向上が図れる。
【００７７】本発明に係る貼付けウエハ分離方法では、
支持台上に設けられた下部吸着機構の下部吸着面上に、
接着剤を介して支持基板に貼付けられたウエハを吸着さ
せて保持する工程と、上記支持基板が上部吸着機構に設
けられた上部吸着面を上記支持基板と接触する位置まで
上記下部吸着機構を上昇させ接触後に上記支持基板を吸
着させる工程と、上記支持基板およびウエハを上記下部
吸着面または上記上部吸着面のいずれか一方あるいは両
方を介して加熱することにより上記接着剤を溶融させる
工程と、水平方向駆動機構によって上記上部吸着機構の
側面部で上記上部吸着面近傍の部位に水平方向の応力を
加えることにより上記支持基板から上記ウエハを分離す
る工程と、上記分離中のウエハが上記支持基板の端部に
位置した際に上記ウエハにかかる加重をゼロもしくは負
にすべく上記上部吸着機構を上方に移動させる工程と、
を含んでなるので、分離動作中には加重を付加できるた
めウエハがスライド方向に引き摺られるということがな
く、しかも分離する以前に加重をゼロもしくは負にでき
るのでウエハの割れや欠けを確実に防ぎ、損傷を与える
ことなく確実に支持基板からウエハを分離することがで
きるため、貼付けウエハ分離工程における歩留り向上が
得られる。
支持台上に設けられた下部吸着機構の下部吸着面上に、
接着剤を介して支持基板に貼付けられたウエハを吸着さ
せて保持する工程と、上記支持基板が上部吸着機構に設
けられた上部吸着面を上記支持基板と接触する位置まで
上記下部吸着機構を上昇させ接触後に上記支持基板を吸
着させる工程と、上記支持基板およびウエハを上記下部
吸着面または上記上部吸着面のいずれか一方あるいは両
方を介して加熱することにより上記接着剤を溶融させる
工程と、水平方向駆動機構によって上記上部吸着機構の
側面部で上記上部吸着面近傍の部位に水平方向の応力を
加えることにより上記支持基板から上記ウエハを分離す
る工程と、上記分離中のウエハが上記支持基板の端部に
位置した際に上記ウエハにかかる加重をゼロもしくは負
にすべく上記上部吸着機構を上方に移動させる工程と、
を含んでなるので、分離動作中には加重を付加できるた
めウエハがスライド方向に引き摺られるということがな
く、しかも分離する以前に加重をゼロもしくは負にでき
るのでウエハの割れや欠けを確実に防ぎ、損傷を与える
ことなく確実に支持基板からウエハを分離することがで
きるため、貼付けウエハ分離工程における歩留り向上が
得られる。
【００７８】また、本発明に係る貼付けウエハ分離方法
では、支持台上に設けられた下部吸着機構の下部吸着面
上に接着剤を介して支持基板に貼付けられたウエハを吸
着させて保持する工程と、上部吸着機構に設けられた上
部吸着面が上記支持基板と接触する位置まで降下させ、
接触後に上記支持基板を吸着させる工程と、上記支持基
板およびウエハを上記下部吸着面または上記上部吸着面
のいずれか一方あるいは両方を介して加熱することによ
り上記接着剤を溶融させる工程と、水平方向駆動機構に
よって上記上部吸着面の側面部で上記上部吸着面近傍の
部位に水平方向の応力を加えることにより、上記支持基
板から上記ウエハを分離する工程と、上記分離中のウエ
ハが所定位置に達した際に、上記上部吸着面の周囲で下
側に向くよう設けられたローラーが初めてテーパ状レー
ルに接触し、上記水平方向駆動機構のさらなる移動とと
もに上記ローラーが上部吸着面を押し上げながら上記テ
ーパ付レール上を転動する工程と、を含んでなるので、
ウエハへの垂直方向への応力を極力緩和でき、ウエハを
支持基板から安定に分離することが可能となる結果、貼
付けウエハ分離工程での歩留まり向上が図れる。
では、支持台上に設けられた下部吸着機構の下部吸着面
上に接着剤を介して支持基板に貼付けられたウエハを吸
着させて保持する工程と、上部吸着機構に設けられた上
部吸着面が上記支持基板と接触する位置まで降下させ、
接触後に上記支持基板を吸着させる工程と、上記支持基
板およびウエハを上記下部吸着面または上記上部吸着面
のいずれか一方あるいは両方を介して加熱することによ
り上記接着剤を溶融させる工程と、水平方向駆動機構に
よって上記上部吸着面の側面部で上記上部吸着面近傍の
部位に水平方向の応力を加えることにより、上記支持基
板から上記ウエハを分離する工程と、上記分離中のウエ
ハが所定位置に達した際に、上記上部吸着面の周囲で下
側に向くよう設けられたローラーが初めてテーパ状レー
ルに接触し、上記水平方向駆動機構のさらなる移動とと
もに上記ローラーが上部吸着面を押し上げながら上記テ
ーパ付レール上を転動する工程と、を含んでなるので、
ウエハへの垂直方向への応力を極力緩和でき、ウエハを
支持基板から安定に分離することが可能となる結果、貼
付けウエハ分離工程での歩留まり向上が図れる。
【図１】 実施の形態１の貼付けウエハ分離装置を説明
するための図で、（ａ）は原点位置における装置構成を
示す図，（ｂ）は下部吸着機構が上昇しウエハ加熱時の
装置構成を示す図，（ｃ）は上吸着機構がスライドし分
離動作終了時の装置構成を示す図である。
するための図で、（ａ）は原点位置における装置構成を
示す図，（ｂ）は下部吸着機構が上昇しウエハ加熱時の
装置構成を示す図，（ｃ）は上吸着機構がスライドし分
離動作終了時の装置構成を示す図である。
【図２】 実施の形態２の貼付けウエハ分離装置を説明
するための図である。
するための図である。
【図３】 実施の形態３の貼付けウエハ分離装置の動作
を説明するための図で、（ａ）は原点位置における装置
構成を示す図、（ｂ）は上部吸着機構が下降し、ウエハ
加熱時の装置構成を示す図、（ｃ）は上部吸着機構がス
ライドした分離動作終了時の装置構成を示す図である。
を説明するための図で、（ａ）は原点位置における装置
構成を示す図、（ｂ）は上部吸着機構が下降し、ウエハ
加熱時の装置構成を示す図、（ｃ）は上部吸着機構がス
ライドした分離動作終了時の装置構成を示す図である。
【図４】 （ａ）は実施の形態４の貼付けウエハ分離装
置の動作を説明するための図で、原点位置における配置
を示す図、（ｂ）はテーパ付レールと上部吸着面との位
置関係を示す上面側からの模式図である。
置の動作を説明するための図で、原点位置における配置
を示す図、（ｂ）はテーパ付レールと上部吸着面との位
置関係を示す上面側からの模式図である。
【図５】 実施の形態４のテーパ付レールおよびローラ
ーによる軌道修正原理を説明するための図である。
ーによる軌道修正原理を説明するための図である。
【図６】 実施の形態４のテーパ付レールおよびローラ
ーの角度調節機構を説明するための図である。
ーの角度調節機構を説明するための図である。
【図７】 実施の形態５の貼付けウエハ分離装置を説明
するための図である。
するための図である。
【図８】 従来のウエハ剥がし装置を説明するための概
略図である。
略図である。
【図９】 別の従来のウエハ剥がし装置を説明するため
の概略図である。
の概略図である。
１ ガイドレール、 ２ 上部吸着機構ホルダー、 ３
上部吸着機構、 ３’ 上部吸着面、 ３’’ 上部
吸着用溝、 ４ センサ、 ５ 支持基板、６ 接着
剤、 ７ ウエハ、 ８ 下部吸着機構、 ８’ 下部
吸着面、 ９下部ホルダー、 １０ エアシリンダー、
１１ 装置支持台、 １２ 支持基板回収台、 １３
リニアドモーター、 １４ 面方向調整機構（ば
ね）、 １５ 原点復帰用フック、 １６ 牽引ホルダ
ー、 １７ ウエハステージ、 １８ ヘッド、 １９
上部ホルダー、 ２０ ローラーホルダー、 ２１
ローラー、 ２２ テーパー付きレール、 ２３ 直棒
（レール架台）、 ２４ 直棒レール、 ２５ 角度調
整用ネジ、 ２６ バネ付き固定ネジ、 ３１ エアシ
リンダー、 ３２ ホルダー取付け板、 ３３ 上部ホ
ルダー、 ３４ スプリング、 ３５ 長ネジ棒、 ３
６ 加重調整ナット、 ３７ 固定ナット、３８ 上部
吸着機構取付け板、 ３９ ローラーホルダー、 ４０
ローラー、４１ 直棒レール、 ４２ レール架台、
４３ 装置支持台、 ４４ 下部吸着機構取付け板、
４５ 下側断熱板、 ４６ 下部吸着機構、 ４７
ウエハステージ、 ４８ ウエハ、 ４９ 接着剤、
５０ 支持基板、 ５１ 上部吸着機構、 ５２ 上側
断熱板、 １０１ アーム、 １０２ 上側吸着部、１
０３ 支持基板、 １０４ ウエハ、 １０５ 熱可塑
性接着剤、 １０６下側吸着部、 １０７ 支持台、
２０１ ロボットアーム、 ２０２ カップリング、
２０３ 支持軸、 ２０４ 上側吸着部、 ２０５ 支
持基板、２０６ 熱可塑性接着剤、 ２０７ ウエハ、
２０８下側吸着部、 ２０９支持台。
上部吸着機構、 ３’ 上部吸着面、 ３’’ 上部
吸着用溝、 ４ センサ、 ５ 支持基板、６ 接着
剤、 ７ ウエハ、 ８ 下部吸着機構、 ８’ 下部
吸着面、 ９下部ホルダー、 １０ エアシリンダー、
１１ 装置支持台、 １２ 支持基板回収台、 １３
リニアドモーター、 １４ 面方向調整機構（ば
ね）、 １５ 原点復帰用フック、 １６ 牽引ホルダ
ー、 １７ ウエハステージ、 １８ ヘッド、 １９
上部ホルダー、 ２０ ローラーホルダー、 ２１
ローラー、 ２２ テーパー付きレール、 ２３ 直棒
（レール架台）、 ２４ 直棒レール、 ２５ 角度調
整用ネジ、 ２６ バネ付き固定ネジ、 ３１ エアシ
リンダー、 ３２ ホルダー取付け板、 ３３ 上部ホ
ルダー、 ３４ スプリング、 ３５ 長ネジ棒、 ３
６ 加重調整ナット、 ３７ 固定ナット、３８ 上部
吸着機構取付け板、 ３９ ローラーホルダー、 ４０
ローラー、４１ 直棒レール、 ４２ レール架台、
４３ 装置支持台、 ４４ 下部吸着機構取付け板、
４５ 下側断熱板、 ４６ 下部吸着機構、 ４７
ウエハステージ、 ４８ ウエハ、 ４９ 接着剤、
５０ 支持基板、 ５１ 上部吸着機構、 ５２ 上側
断熱板、 １０１ アーム、 １０２ 上側吸着部、１
０３ 支持基板、 １０４ ウエハ、 １０５ 熱可塑
性接着剤、 １０６下側吸着部、 １０７ 支持台、
２０１ ロボットアーム、 ２０２ カップリング、
２０３ 支持軸、 ２０４ 上側吸着部、 ２０５ 支
持基板、２０６ 熱可塑性接着剤、 ２０７ ウエハ、
２０８下側吸着部、 ２０９支持台。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 山本 陽祐
東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三
菱電機株式会社内
Ｆターム(参考） 3C016 DA15
5F031 CA02 GA24 HA13 MA37
Claims (17)
- 【請求項１】 支持台と、前記支持台上に設けられ、接
着剤を介して支持基板に貼付けられたウエハを吸着させ
て保持する下部吸着面を有する下部吸着機構と、前記下
部吸着機構の直上部を原点位置として前記支持基板の上
面側を吸着させて保持する上部吸着面を具備しガイドレ
ールに沿って直線方向に移動自在な上部吸着機構と、前
記支持台上に設けられ、前記上部吸着機構の側面部で上
部吸着面近傍の部位に結合あるいは接触して前記上部吸
着機構と連動して移動することにより前記上部吸着面に
対して水平方向の応力を加える水平方向駆動機構と、を
備えたことを特徴とする貼付けウエハ分離装置。 - 【請求項２】 前記上部吸着面の一部が、前記支持基板
と前記上部吸着面の接触あるいは前記支持基板との距離
を感知するセンサを具備していることを特徴とする請求
項１記載の貼付けウエハ分離装置。 - 【請求項３】 支持台と、前記支持台上に設けられ、接
着剤を介して支持基板に貼付けられたウエハを吸着させ
て保持する下部吸着面を有する下部吸着機構と、前記支
持台上に設けられ、前記下部吸着機構の直上部を原点位
置として前記支持基板の上面側を吸着させて保持すべく
設けられた上部吸着面および前記上部吸着面周囲で下側
に向くよう設けられたローラーを具備しかつガイドレー
ルに沿って直線方向に移動自在な上部吸着機構と、前記
支持台上の前記上部吸着機構から所定距離離れた部位
に、前記上部吸着機構の側面部で上部吸着面近傍の部位
に結合あるいは接触させて上部吸着面に対して水平方向
から応力を加えるべく設けられた水平方向駆動機構と、
前記支持台上に設けられ、前記ローラーと接触して前記
上部吸着面の位置を修正すべく水平面に対して傾斜させ
たテーパ付レールと、を備え、前記水平方向駆動機構の
移動によって前記上部吸着機構が原点位置から水平方向
に所定距離移動した際に初めて前記ローラーが前記テー
パ付レールに接触し前記水平方向駆動機構のさらなる移
動とともに前記ローラーが前記上部吸着面を押し上げな
がら前記テーパ付レール上を転動することを特徴とする
貼付けウエハ分離装置。 - 【請求項４】 前記テーパ付レールが、水平面に対する
傾斜角度を任意に調節可能とする傾斜角度調整機構を具
備していることを特徴とする請求項３記載の貼付けウエ
ハ分離装置。 - 【請求項５】 前記テーパ付レールの水平面に対する傾
斜角度の正接値が、前記ウエハのアスペクト比（厚さ／
直径）の１０倍以下であることを特徴とする請求項３ま
たは４記載の貼付けウエハ分離装置。 - 【請求項６】 前記ローラーが初めて前記テーパ付レー
ルに接触する位置は、前記ウエハが前記支持基板に対し
て４０％以上剥がれた箇所であることを特徴とする請求
項３ないし５のいずれか１項記載の貼付けウエハ分離装
置。 - 【請求項７】 前記下部吸着機構あるいは前記上部吸着
機構のいずれか一方あるいは両方が、加熱する機能も兼
ね備えていることを特徴とする請求項１ないし６のいず
れか１項記載の貼付けウエハ分離装置。 - 【請求項８】 前記下部吸着機構の下部あるいは上部吸
着機構の上部のいずれか一方に、前記下部吸着面と前記
上部吸着面に吸着された支持基板とを面全体で接触させ
るべく設けられた複数のばね部材からなる面方向調整機
構が設けられていることを特徴とする請求項１ないし７
のいずれか１項記載の貼付けウエハ分離装置。 - 【請求項９】 前記水平方向駆動機構が、前記面方向調
整機構を上部に具備した上部吸着機構を前記ガイドレー
ルに沿って原点位置に復帰させる際に、前記面方向調整
機構と前記ガイドレール間に設けられた支持部と連動し
ながら移動可能とする機構を具備することを特徴とする
請求項１ないし８のいずれか１項記載の貼付けウエハ分
離装置。 - 【請求項１０】 前記下部吸着機構と前記支持台の間に
前記下部吸着機構を上下方向に駆動すべく設けられた垂
直方向駆動機構を具備することを特徴とする請求項１な
いし９のいずれか１項記載の貼付けウエハ分離装置。 - 【請求項１１】 前記上部吸着機構と前記ガイドレール
の間に前記上部吸着機構を上下方向に駆動すべく設けら
れた垂直方向駆動機構を具備することを特徴とする請求
項１ないし９のいずれか１項記載の貼付けウエハ分離装
置。 - 【請求項１２】 前記上部吸着機構あるいは前記下部吸
着機構のいずれか一方が、前記ウエハまたは前記支持基
板に加重する機構を具備することを特徴とする請求項１
ないし１１のいずれか１項記載の貼付けウエハ分離装
置。 - 【請求項１３】 前記垂直方向駆動機構が、前記ウエハ
と前記支持基板間の分離の度合いに応じて前記上部吸着
面あるいは下部吸着面の垂直方向の位置を制御すること
を特徴とする請求項1０または１１記載の貼付けウエハ
分離装置。 - 【請求項１４】 前記垂直方向駆動機構が、前記下部吸
着面あるいは前記上部吸着面の水平方向近傍に設けられ
たセンサからの信号を制御用信号として用いることを特
徴とする請求項１３記載の貼付けウエハ分離装置。 - 【請求項１５】 前記上部吸着面と前記下部吸着面のい
ずれか一方あるいは両方が、着脱可能な板状部材で形成
されていることを特徴とする請求項1ないし１４のいず
れか１項記載の貼付けウエハ分離装置。 - 【請求項１６】 支持台上に設けられた下部吸着機構の
下部吸着面上に、接着剤を介して支持基板に貼付けられ
たウエハを吸着させて保持する工程と、前記支持基板が
上部吸着機構に設けられた上部吸着面を前記支持基板と
接触する位置まで前記下部吸着機構を上昇させ接触後に
前記支持基板を吸着させる工程と、前記支持基板および
ウエハを前記下部吸着面または前記上部吸着面のいずれ
か一方あるいは両方を介して加熱することにより前記接
着剤を溶融させる工程と、水平方向駆動機構によって前
記上部吸着機構の側面部で上部吸着面近傍の部位に水平
方向の応力を加えることにより前記支持基板から前記ウ
エハを分離する工程と、前記分離中のウエハが前記支持
基板の端部に位置した際に前記ウエハにかかる加重をゼ
ロもしくは負にすべく前記上部吸着機構を上方に移動さ
せる工程と、を含んでなる貼付けウエハ分離方法。 - 【請求項１７】 支持台上に設けられた下部吸着機構の
下部吸着面上に、接着剤を介して支持基板に貼付けられ
たウエハを吸着させて保持する工程と、上部吸着機構に
設けられた上部吸着面を前記支持基板と接触する位置ま
で降下させ、接触後に前記支持基板を吸着させる工程
と、前記支持基板およびウエハを前記下部吸着面または
前記上部吸着面のいずれか一方あるいは両方を介して加
熱することにより前記接着剤を溶融させる工程と、水平
方向駆動機構によって前記上部吸着面の側面部で上部吸
着面近傍の部位に水平方向の応力を加えることにより前
記支持基板から前記ウエハを分離する工程と、前記分離
中のウエハが所定位置に達した際に、前記上部吸着面の
周囲で下側に向くよう設けられたローラーが初めてテー
パ状レールに接触し前記水平方向駆動機構のさらなる移
動とともに前記ローラーが上部吸着面を押し上げながら
前記テーパ付レール上を転動する工程と、を含んでなる
貼付けウエハ分離方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001400104A JP3918556B2 (ja) | 2001-12-28 | 2001-12-28 | 貼付けウエハ分離装置および貼付けウエハ分離方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001400104A JP3918556B2 (ja) | 2001-12-28 | 2001-12-28 | 貼付けウエハ分離装置および貼付けウエハ分離方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003197724A true JP2003197724A (ja) | 2003-07-11 |
| JP3918556B2 JP3918556B2 (ja) | 2007-05-23 |
Family
ID=27604847
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001400104A Expired - Lifetime JP3918556B2 (ja) | 2001-12-28 | 2001-12-28 | 貼付けウエハ分離装置および貼付けウエハ分離方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3918556B2 (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009289878A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Fujitsu Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| WO2010121068A2 (en) * | 2009-04-16 | 2010-10-21 | Suss Microtec, Inc. | Improved apparatus for temporary wafer bonding and debonding |
| JP2012142575A (ja) * | 2010-12-29 | 2012-07-26 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 薄型基板用支持体着脱設備及びそれによる脱着方法 |
| KR101230841B1 (ko) | 2011-01-31 | 2013-02-07 | 주식회사 다건테크 | 웨이퍼 자동 분리 시스템 |
| JP2013105867A (ja) * | 2011-11-14 | 2013-05-30 | Tokyo Electron Ltd | 基板保持体、基板保持体の再生方法及び基板保持体の製造方法 |
| JP2014225514A (ja) * | 2013-05-15 | 2014-12-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
| US9472437B2 (en) | 2009-04-16 | 2016-10-18 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Debonding temporarily bonded semiconductor wafers |
| KR20170053564A (ko) * | 2015-11-06 | 2017-05-16 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 |
| KR20170053563A (ko) * | 2015-11-06 | 2017-05-16 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 |
| KR20170053565A (ko) * | 2015-11-06 | 2017-05-16 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 |
| CN106783709A (zh) * | 2016-12-30 | 2017-05-31 | 常州亿晶光电科技有限公司 | 太阳能电池组件层压工艺中玻璃片上料机构 |
| US9837295B2 (en) | 2010-04-15 | 2017-12-05 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Apparatus and method for semiconductor wafer leveling, force balancing and contact sensing |
| US9859141B2 (en) | 2010-04-15 | 2018-01-02 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Apparatus and method for aligning and centering wafers |
| CN115602532A (zh) * | 2022-12-13 | 2023-01-13 | 西北电子装备技术研究所（中国电子科技集团公司第二研究所）（Cn） | 一种实现晶片分离的方法及装置 |
| CN115863220A (zh) * | 2022-12-20 | 2023-03-28 | 讯芸电子科技(中山)有限公司 | 一种吸晶装置、吸晶装置的使用方法及固晶机 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6103817B2 (ja) * | 2012-04-17 | 2017-03-29 | Jsr株式会社 | 基材の処理方法、積層体、仮固定材、仮固定用組成物および半導体装置 |
-
2001
- 2001-12-28 JP JP2001400104A patent/JP3918556B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009289878A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Fujitsu Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| US8181688B2 (en) | 2009-04-16 | 2012-05-22 | Suss Microtec Lithography, Gmbh | Apparatus for temporary wafer bonding and debonding |
| US8919412B2 (en) | 2009-04-16 | 2014-12-30 | Suss Microtec Lithography, Gmbh | Apparatus for thermal-slide debonding of temporary bonded semiconductor wafers |
| CN102460677A (zh) * | 2009-04-16 | 2012-05-16 | 休斯微技术股份有限公司 | 用于临时晶片接合和剥离的改进装置 |
| US9583374B2 (en) | 2009-04-16 | 2017-02-28 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Debonding temporarily bonded semiconductor wafers |
| US9472437B2 (en) | 2009-04-16 | 2016-10-18 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Debonding temporarily bonded semiconductor wafers |
| US8267143B2 (en) | 2009-04-16 | 2012-09-18 | Suss Microtec Lithography, Gmbh | Apparatus for mechanically debonding temporary bonded semiconductor wafers |
| WO2010121068A3 (en) * | 2009-04-16 | 2011-01-13 | Suss Microtec, Inc. | Improved apparatus for temporary wafer bonding and debonding |
| US8764026B2 (en) | 2009-04-16 | 2014-07-01 | Suss Microtec Lithography, Gmbh | Device for centering wafers |
| US9281229B2 (en) | 2009-04-16 | 2016-03-08 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Method for thermal-slide debonding of temporary bonded semiconductor wafers |
| WO2010121068A2 (en) * | 2009-04-16 | 2010-10-21 | Suss Microtec, Inc. | Improved apparatus for temporary wafer bonding and debonding |
| US10580678B2 (en) | 2010-04-15 | 2020-03-03 | Suss Microtec Lithography, Gmbh | Apparatus and method for semiconductor wafer leveling, force balancing and contact sensing |
| US9837295B2 (en) | 2010-04-15 | 2017-12-05 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Apparatus and method for semiconductor wafer leveling, force balancing and contact sensing |
| US9859141B2 (en) | 2010-04-15 | 2018-01-02 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Apparatus and method for aligning and centering wafers |
| JP2012142575A (ja) * | 2010-12-29 | 2012-07-26 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 薄型基板用支持体着脱設備及びそれによる脱着方法 |
| KR101230841B1 (ko) | 2011-01-31 | 2013-02-07 | 주식회사 다건테크 | 웨이퍼 자동 분리 시스템 |
| JP2013105867A (ja) * | 2011-11-14 | 2013-05-30 | Tokyo Electron Ltd | 基板保持体、基板保持体の再生方法及び基板保持体の製造方法 |
| JP2014225514A (ja) * | 2013-05-15 | 2014-12-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
| KR102543036B1 (ko) * | 2015-11-06 | 2023-06-14 | 아이메카테크 가부시키가이샤 | 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 |
| KR102543043B1 (ko) * | 2015-11-06 | 2023-06-14 | 아이메카테크 가부시키가이샤 | 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 |
| JP2017092195A (ja) * | 2015-11-06 | 2017-05-25 | 東京応化工業株式会社 | 支持体分離装置及び支持体分離方法 |
| KR102613964B1 (ko) * | 2015-11-06 | 2023-12-15 | 아이메카테크 가부시키가이샤 | 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 |
| KR20170053563A (ko) * | 2015-11-06 | 2017-05-16 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 |
| KR20170053564A (ko) * | 2015-11-06 | 2017-05-16 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 |
| JP2017092196A (ja) * | 2015-11-06 | 2017-05-25 | 東京応化工業株式会社 | 支持体分離装置及び支持体分離方法 |
| KR20170053565A (ko) * | 2015-11-06 | 2017-05-16 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 |
| JP2017092194A (ja) * | 2015-11-06 | 2017-05-25 | 東京応化工業株式会社 | 支持体分離装置及び支持体分離方法 |
| TWI690016B (zh) * | 2015-11-06 | 2020-04-01 | 日商東京應化工業股份有限公司 | 支持體分離裝置及支持體分離方法 |
| CN106783709B (zh) * | 2016-12-30 | 2023-09-29 | 常州亿晶光电科技有限公司 | 太阳能电池组件层压工艺中玻璃片上料机构 |
| CN106783709A (zh) * | 2016-12-30 | 2017-05-31 | 常州亿晶光电科技有限公司 | 太阳能电池组件层压工艺中玻璃片上料机构 |
| CN115602532A (zh) * | 2022-12-13 | 2023-01-13 | 西北电子装备技术研究所（中国电子科技集团公司第二研究所）（Cn） | 一种实现晶片分离的方法及装置 |
| CN115863220A (zh) * | 2022-12-20 | 2023-03-28 | 讯芸电子科技(中山)有限公司 | 一种吸晶装置、吸晶装置的使用方法及固晶机 |
| CN115863220B (zh) * | 2022-12-20 | 2023-07-04 | 讯芸电子科技(中山)有限公司 | 一种吸晶装置、吸晶装置的使用方法及固晶机 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3918556B2 (ja) | 2007-05-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2003197724A (ja) | 貼付けウエハ分離装置および貼付けウエハ分離方法 | |
| US7426883B2 (en) | Substrate-cutting system, substrate-producing apparatus, substrate-scribing method, and substrate-cutting method | |
| CN108284312B (zh) | 屏幕分离装置 | |
| KR101612076B1 (ko) | 보호필름 박리시스템 | |
| US20070214925A1 (en) | Substrate dicing system, substrate manufacturing apparatus, and substrate dicing method | |
| US10395945B2 (en) | Bonding device for chip on film and display panel and bonding method for the same | |
| JP2013526021A5 (ja) | ||
| TWI653100B (zh) | 擦拭機構及使用該擦拭機構之晶圓殘膠清潔裝置 | |
| TW200832607A (en) | Method for lamination substrate and apparatus using the method | |
| TW200826177A (en) | Adhesive tape cutting method and adhesive tape joining apparatus using the same | |
| CN107265839B (zh) | 划片设备 | |
| JP4340788B2 (ja) | 基板への偏光板貼付装置 | |
| KR101991267B1 (ko) | 기판 절단 장치 | |
| JP4941944B2 (ja) | 基板への接着テープの貼り付け方法及び貼り付け装置 | |
| JP2009246067A5 (ja) | ||
| KR102067983B1 (ko) | 기판 절단 장치 | |
| KR20170021202A (ko) | 보호 테이프 부착 방법 | |
| JP2012069768A (ja) | 両面粘着テープ剥離方法および両面粘着テープ剥離装置 | |
| KR101696765B1 (ko) | 평판표시소자 글라스셀 제조장치 | |
| KR102419208B1 (ko) | 디스플레이용 보호필름 제거장치 및 그 방법 | |
| KR102353207B1 (ko) | 스크라이빙 장치 | |
| KR20190037830A (ko) | 기판 절단 장치 | |
| KR101923601B1 (ko) | 디스플레이용 리워크 장치 | |
| KR102114025B1 (ko) | 기판 절단 장치 | |
| JP2004296632A (ja) | 部品搭載装置および部品搭載方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20040709 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060509 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060706 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070123 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070205 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 3918556 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100223 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110223 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120223 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130223 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130223 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140223 Year of fee payment: 7 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |