JP2003190750A - Gas dissolution apparatus - Google Patents

Gas dissolution apparatus

Info

Publication number
JP2003190750A
JP2003190750A JP2001393218A JP2001393218A JP2003190750A JP 2003190750 A JP2003190750 A JP 2003190750A JP 2001393218 A JP2001393218 A JP 2001393218A JP 2001393218 A JP2001393218 A JP 2001393218A JP 2003190750 A JP2003190750 A JP 2003190750A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid
gas
chamber
closed tank
nozzle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001393218A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masao Katsube
政男 勝部
Shinji Fukui
真司 福井
Koichi Ishii
浩市 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
MATSUE DOKEN KK
Yokogawa Electric Corp
Original Assignee
MATSUE DOKEN KK
Yokogawa Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by MATSUE DOKEN KK, Yokogawa Electric Corp filed Critical MATSUE DOKEN KK
Priority to JP2001393218A priority Critical patent/JP2003190750A/en
Publication of JP2003190750A publication Critical patent/JP2003190750A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas dissolution apparatus which can dissolve many gases and can effectively purify water. <P>SOLUTION: This gas dissolution apparatus is equipped with a liquid supply means for supplying a liquid to a sealed tank 1 and a gas supply means for supplying a gas to the sealed tank 1 and/or to the liquid. The sealed tank 1 is divided into a plurality of chambers 1a, 1b, and the liquid is jetted from one chamber to the other by using the pressure difference between the chambers. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は気体溶解装置に関
し、密閉タンクに連続的に液体を供給し、その液体を排
出しながら液体に気体を溶解させるようにした気体溶解
装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas dissolving device, and more particularly, to a gas dissolving device adapted to continuously supply a liquid to a closed tank and dissolve the gas into the liquid while discharging the liquid.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体プロセスではオゾンなどの気体を
純水に溶解させ、機能水として使用している。また、排
水処理施設や汚れた河川・湖沼等においては、予め空気
や酸素を溶解した水を水中に放出することにより水中の
溶存酸素量を増大させて、微生物の活動を活発にして汚
水の浄化を行う装置が知られている。
2. Description of the Related Art In semiconductor processes, gases such as ozone are dissolved in pure water and used as functional water. Also, in wastewater treatment facilities and dirty rivers and lakes, the amount of dissolved oxygen in water is increased by releasing water in which air and oxygen have been dissolved into water in advance to activate microorganisms and purify wastewater. Devices for performing are known.

【0003】図3は特開平11−207162号公報に
記載された従来例を示す概略構成図である。図におい
て、1は気密に加工された密閉タンクであり、気体を溶
解すべき水が例えば8分目程度注入されている。この密
閉タンクの近傍には図では省略するが空気や酸素などを
供給するためのポンプや気体ボンベ、ガス発生装置など
の気体供給手段が配置されている。2はノズルであり、
このノズルの先端は密閉タンク1の外周付近に設けられ
接線方向に沿って水面に対して斜め上方から水面に出射
するように配置されている。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a conventional example described in Japanese Patent Laid-Open No. 11-207162. In the figure, reference numeral 1 denotes an airtightly closed tank, into which water for dissolving gas is injected, for example, for about 8 minutes. Although not shown in the figure, a gas supply means such as a pump for supplying air, oxygen, etc., a gas cylinder, a gas generator, etc. is arranged in the vicinity of this closed tank. 2 is a nozzle,
The tip of this nozzle is provided in the vicinity of the outer periphery of the closed tank 1 and is arranged along the tangential direction so as to emit light obliquely above the water surface to the water surface.

【0004】3は液体供給手段として機能するポンプで
あり、例えばストップ弁5を介して湖水や河川6等から
水を汲み上げて前述のノズル2から密閉タンク1内に水
を供給する。
Reference numeral 3 is a pump that functions as a liquid supply means, and pumps water from, for example, lake water or a river 6 through a stop valve 5 to supply water from the nozzle 2 into the closed tank 1.

【0005】4は調節弁であり、通常は開とされて密閉
タンク内で気体が溶解された水を浄化すべき場所に放出
するが、密閉タンク1内の水が所定レベル位置以下にな
った場合は開閉度を調節して水位を調整したり、気体調
節弁4aを閉として気体の供給を停止させることによっ
て水位調整を行なう。5は水の供給を停止するためのス
トップ弁である。
Reference numeral 4 is a control valve, which is normally opened to release the water in which gas is dissolved in the closed tank to a place to be purified, but the water in the closed tank 1 is below a predetermined level position. In this case, the water level is adjusted by adjusting the degree of opening / closing to adjust the water level, or by closing the gas control valve 4a to stop the supply of gas. Reference numeral 5 is a stop valve for stopping the supply of water.

【0006】なお、図では省略するが密閉タンクには密
閉タンク内の水量を測定するためのレベル計や密閉タン
ク1内の圧力を測定するための圧力計が取付けられてい
る。
Although not shown in the figure, a level gauge for measuring the amount of water in the closed tank and a pressure gauge for measuring the pressure in the closed tank 1 are attached to the closed tank.

【0007】上記の構成において密閉タンク1の上方に
所定の圧力に加圧された気体(例えば酸素)が導入され
る。気体の圧力が高いと水位が下降し、水は予め設定し
た水位以下になるが、その場合は所定の圧力レベルにな
るように気体調節弁4aで気体の圧力を調節したり、液
体調節弁4を調節して水位を制御する。
In the above structure, a gas (eg oxygen) pressurized to a predetermined pressure is introduced above the closed tank 1. When the pressure of the gas is high, the water level drops, and the water falls below a preset water level. In that case, the gas pressure is adjusted by the gas control valve 4a or the liquid control valve 4 so that the pressure becomes a predetermined pressure level. To control the water level.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述の図
3で示す従来例においては、ノズル2からの水の噴出が
タンク内で1回しか行なわれないため、泡や飛沫の発生
や巻き込みによる雰囲気ガス(酸素)の溶解が有効に行
なわれていなかった。
However, in the conventional example shown in FIG. 3, the jetting of water from the nozzle 2 is carried out only once in the tank, and therefore the atmospheric gas caused by the generation of bubbles or splashes and the entrainment of gas. (Oxygen) was not dissolved effectively.

【0009】また、タンク内の水にはノズルの噴出によ
り発生した大量の泡を含んでいる。この泡は、順次水に
溶解したり、溶解しなかったものは上昇してタンク内の
気相に拡散する。つまりタンク内の滞留時間が短い水は
気体が充分に溶解仕切っておらず気泡を含んでいる。
Further, the water in the tank contains a large amount of bubbles generated by the jet of the nozzle. The bubbles sequentially dissolve in water, and those that do not dissolve rise to diffuse into the gas phase in the tank. That is, the water in the tank having a short residence time does not sufficiently partition the gas and contains bubbles.

【0010】上記図3の方式では、タンク内で水が攪拌
され、ノズルから噴出して間もない水や滞留時間の長い
水が混合してタンクの吐出口から流出するため、気体の
溶解が充分に行なわれていない未溶解の気泡を含む水を
吐出しているという問題があった。
In the system shown in FIG. 3, the water is stirred in the tank, and the water that has just jetted out from the nozzle and the water having a long residence time are mixed and flow out from the discharge port of the tank, so that the gas is not dissolved. There was a problem that the water containing undissolved air bubbles was not sufficiently discharged.

【0011】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたもので、気体を液体中に効率よく溶解させ、より高
濃度の溶解液を生成することを目的としている。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to efficiently dissolve a gas in a liquid to generate a solution having a higher concentration.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】このような問題点を解決
するために本発明は、請求項1においては、密閉タンク
に液体を供給する液体供給手段と、前記密閉タンクおよ
び/または前記液体に気体を供給する気体供給手段とを
具備した気体溶解装置であって、前記密閉タンクを複数
の室に分割し各室の圧力差を用いて前記液体を他の室に
噴出させる構成としたことを特徴としている。
In order to solve such a problem, the present invention provides a liquid supply means for supplying a liquid to a closed tank, and the closed tank and / or the liquid according to claim 1. A gas dissolving device comprising a gas supply means for supplying a gas, wherein the closed tank is divided into a plurality of chambers, and the liquid is jetted to another chamber by using a pressure difference between the chambers. It has a feature.

【0013】請求項2においては、請求項1記載の気体
溶解装置において、密閉タンクは孔を有する仕切りによ
って2室以上に分割されており、第1の室に供給された
液体が前記孔から第2の室に噴出し、順次、次室に液体
が噴出するように構成したことを特徴としている。
According to a second aspect, in the gas dissolving apparatus according to the first aspect, the closed tank is divided into two or more chambers by a partition having a hole, and the liquid supplied to the first chamber passes through the hole to the first chamber. It is characterized in that the liquid is ejected to the second chamber and then the liquid is ejected to the next chamber in sequence.

【0014】請求項3においては、請求項2記載の気体
溶解装置において、孔は複数個設けられその少なくとも
一つにノズルを設けたことを特徴としている。
According to a third aspect of the present invention, in the gas dissolving apparatus according to the second aspect, a plurality of holes are provided, and at least one of them has a nozzle.

【0015】請求項4においては、請求項1乃至3いず
れかに記載の気体溶解装置において、液体を密閉タンク
に供給するに際してはノズルを用い、このノズルから噴
出した液体が邪魔板に衝突するように構成したことを特
徴としている。
According to a fourth aspect of the present invention, in the gas dissolving apparatus according to any of the first to third aspects, a nozzle is used to supply the liquid to the closed tank so that the liquid ejected from the nozzle collides with the baffle plate. It is characterized by being configured in.

【0016】請求項5においては、請求項1乃至3いず
れかに記載の気体溶解装置において、液体を密閉タンク
に供給するに際してはノズルを用い、ノズルの先端を水
面に対して斜めから接線方向に噴出するように配置した
ことを特徴としている。
According to a fifth aspect of the invention, in the gas dissolving apparatus according to any of the first to third aspects, a nozzle is used to supply the liquid to the closed tank, and the tip of the nozzle is obliquely tangential to the water surface. It is characterized in that it is arranged so as to eject.

【0017】請求項6においては、請求項1乃至5いず
れかに記載の気体溶解装置において、流路延長手段を前
記密閉タンク内に設け、前記密閉タンクに供給された液
体が排出口に達するまでの流路長を延長し、前記供給さ
れた液体への気体の溶解度を向上させるとともに液体排
出口から未溶解気体の流出を抑制したことを特徴として
いる。
According to a sixth aspect, in the gas dissolving apparatus according to any one of the first to fifth aspects, the flow path extending means is provided in the closed tank, and the liquid supplied to the closed tank reaches the discharge port. It is characterized in that the flow path length is extended, the solubility of gas in the supplied liquid is improved, and the outflow of undissolved gas from the liquid outlet is suppressed.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の請求項1,2,
3,4に関する実施形態の一例を示す概略構成図であ
る。図において、図3と同一要素には同一符号を付して
いる。図3とはタンク1を水平方向に2分割した状態で
仕切り板11を設けた点(仕切り板の上を第1室1a、
下側を第2室1bという)、ノズル2の出射方向と邪魔
板10を設けた点およびポンプ(給水手段)3の前段と
後段に気体注入手段を設けた点が異なっている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION FIG.
It is a schematic block diagram which shows an example of embodiment regarding 3,4. In the figure, the same elements as those in FIG. 3 are designated by the same reference numerals. 3 is that the partition plate 11 is provided in a state where the tank 1 is divided into two in the horizontal direction (the upper part of the partition plate is the first chamber 1a,
The lower side is called the second chamber 1b), the emission direction of the nozzle 2 and the point that the baffle plate 10 is provided, and the point that gas injection means is provided at the front and rear stages of the pump (water supply means) 3.

【0019】この実施例ではノズル2は密閉タンク1の
天井付近に水面に対してほぼ直角方向に設けられ、この
ノズル出射方向の真下に略水平に邪魔板10が配置され
ている。また、仕切り板11には所定の径の孔11aが
一つ以上設けられており、その孔の少なくとも一つには
ノズル2aが取付けられている。なお、邪魔板10の表
面に凹凸を設けておけば邪魔板に衝突した液体がより広
範囲に飛び散り気体との接触時間や接触量を多くするこ
とができる。
In this embodiment, the nozzle 2 is provided in the vicinity of the ceiling of the closed tank 1 in a direction substantially perpendicular to the water surface, and a baffle plate 10 is disposed substantially directly below the nozzle emission direction. Further, the partition plate 11 is provided with one or more holes 11a having a predetermined diameter, and the nozzle 2a is attached to at least one of the holes. If the surface of the baffle plate 10 is provided with irregularities, the liquid that has collided with the baffle plate is scattered over a wider area, and the contact time and the amount of contact with the gas can be increased.

【0020】上記の構成によれば、ノズルから出射した
水が邪魔板10に衝突して水と固体の衝突圧力と水の飛
沫が大量発生することにより密閉タンク1の第1室1a
内に充満する気体(例えば酸素,空気,オゾン等)を溶
解して水面に落下する。なお、仕切り板11には孔およ
びこの孔にノズル2aが設けられていて、第1室1aに
供給された液体はノズル2aを介して第2室1bに落下
する。
According to the above construction, the water ejected from the nozzle collides with the baffle plate 10 to generate a collision pressure between the water and the solid and a large amount of water droplets, whereby the first chamber 1a of the closed tank 1 is caused.
The gas (eg oxygen, air, ozone, etc.) that fills the inside is dissolved and falls onto the water surface. The partition plate 11 is provided with a hole and a nozzle 2a in this hole, and the liquid supplied to the first chamber 1a falls into the second chamber 1b via the nozzle 2a.

【0021】その場合、図では省略するがタンク1には
水位や流量計が設けられており、第1室1aと第2室1
bの水位は所定の高さになるように制御されている。そ
して、液体が第1室1aから第2室1bに落下する際に
も気体に接触するのでこの過程でも水は気体を取り込ん
で密閉タンク1に蓄積されることとなる。
In this case, although not shown in the drawing, the tank 1 is provided with a water level and a flow meter, and the first chamber 1a and the second chamber 1 are provided.
The water level of b is controlled to a predetermined height. When the liquid drops from the first chamber 1a to the second chamber 1b, it comes into contact with the gas, so that water is taken in and accumulated in the closed tank 1 also in this process.

【0022】なお、図1では邪魔板10を水面より上方
に設けたが、ノズル2から噴き出す水が表面の水を押し
のけて邪魔板に直接衝突する程度の深さであれば、水面
より下方になるように水位を制御しても良い。また、実
施例ではタンク内を2室に仕切った例を示したが3室以
上に仕切っても良い。
In FIG. 1, the baffle plate 10 is provided above the water surface. However, if the water jetted from the nozzle 2 has such a depth as to push the surface water and directly collide with the baffle plate, the baffle plate 10 is placed below the water surface. The water level may be controlled so that Further, in the embodiment, the example in which the tank is divided into two chambers is shown, but it may be divided into three or more chambers.

【0023】図2は本発明の請求項1,2,3,4,6
に関する実施例を示す構成図である。図2において、図
3と同一要素には同一符号を付して重複する説明は省略
する。21aはタンク1の中に縦方向に形成された内管
であり、この内管21aの上部および下部は開放され、
タンク1に固定された状態となっている。この例ではノ
ズル2は密閉タンク1の天井付近に水面に対してほぼ直
角方向に設けられ、内管の21aのほぼ中央に噴射す
る。このノズル噴射方向の真下に略水平に邪魔板10が
配置されている。
FIG. 2 shows claims 1, 2, 3, 4, 6 of the present invention.
It is a block diagram which shows the Example regarding. In FIG. 2, the same elements as those of FIG. 3 are designated by the same reference numerals, and overlapping description will be omitted. Reference numeral 21a denotes an inner pipe vertically formed in the tank 1, and the upper and lower parts of the inner pipe 21a are opened,
It is fixed to tank 1. In this example, the nozzle 2 is provided in the vicinity of the ceiling of the closed tank 1 in a direction substantially perpendicular to the water surface and injects into the substantially center of the inner pipe 21a. The baffle plate 10 is arranged substantially horizontally just below the nozzle ejection direction.

【0024】21bは内管21aの外側とタンクの内周
の間に配置された中管で、この中管21bの上方はタン
ク1の頂部付近に固定され、下方は閉塞された状態とな
っている。この中管21bの内側が第1室、外側が第2
室を構成している。
Reference numeral 21b is a middle pipe arranged between the outside of the inner pipe 21a and the inner circumference of the tank. The upper part of the middle pipe 21b is fixed near the top of the tank 1 and the lower part is closed. There is. The inside of this middle pipe 21b is the first chamber, and the outside is the second chamber.
The room is made up.

【0025】上記の構成において、ノズル2を介して内
管21aの上方から噴出する水は邪魔板10に衝突し泡
を発生する。そしてタンク1に供給されている気体を溶
解してこの管の下方からA方向に流れる。このとき、大
きな気泡は水の流れに逆らいa方向に浮上し溶解タンク
上部の気体溜りに放出される。
In the above structure, the water jetted from above the inner pipe 21a through the nozzle 2 collides with the baffle plate 10 to generate bubbles. Then, the gas supplied to the tank 1 is dissolved and flows in the direction A from below this pipe. At this time, the large bubbles float in the direction a against the flow of water and are discharged to the gas pool above the dissolution tank.

【0026】一方、小さな気泡は水の流れと同じ方向に
漂いながら溶解が更に進む。そして、孔21cまたはノ
ズル2aが形成された位置に達したら圧力差によりB方
向に噴出する。このとき水に含まれる気泡はb方向に浮
上し、溶解タンク上部の気体溜り30に放出される。
On the other hand, the small bubbles float in the same direction as the flow of water and the dissolution further proceeds. When it reaches the position where the hole 21c or the nozzle 2a is formed, it ejects in the B direction due to the pressure difference. At this time, the bubbles contained in the water float in the b direction and are discharged to the gas pool 30 above the dissolution tank.

【0027】噴出した水は調節弁4を介して排出され
る。前述した大きな気泡が浮上せず、A方向に流れてし
まった場合は、気体溜り30の方向に浮上するので第2
室に供給される気体溶解水には、大きな気泡が含まれな
い高濃度の気体溶解水となる。
The jetted water is discharged through the control valve 4. If the above-mentioned large bubbles do not float and flow in the direction A, they float in the direction of the gas reservoir 30.
The gas-dissolved water supplied to the chamber becomes high-concentration gas-dissolved water containing no large bubbles.

【0028】なお、この実施例においても、図では省略
するがタンク1には水位計や流量計が設けられており、
B方向に流下して蓄積される水位は流入量と排出量を考
慮して所定の高さになるように制御されている。
In this embodiment also, although not shown in the drawing, the tank 1 is provided with a water level meter and a flow meter,
The water level that flows down and accumulates in the B direction is controlled to a predetermined height in consideration of the inflow amount and the discharge amount.

【0029】なお、図1,2に示すように、ポンプ3の
前段に気体を注入したり、後段にラインミキサやインジ
ェクタを取付けて予め酸素を注入しておけば効率的に気
体を取り込むことが可能である。
As shown in FIGS. 1 and 2, if gas is injected in the front stage of the pump 3 or a line mixer or injector is attached in the rear stage to inject oxygen in advance, the gas can be taken in efficiently. It is possible.

【0030】ここでは、説明が簡単なように第1室に流
路延長手段を適用したが、第2室に流路延長手段を適用
しても、溶解タンクから排出される気体溶解水には、大
きな気泡が含まれない高濃度の気体溶解水となる。
Here, the flow path extending means is applied to the first chamber for the sake of simplicity of explanation, but even if the flow path extending means is applied to the second chamber, the gas dissolved water discharged from the dissolution tank is , It becomes a high concentration gas dissolved water that does not contain large bubbles.

【0031】本発明の以上の説明は、説明および例示を
目的として特定の好適な実施例を示したに過ぎない。本
実施例では溶解する気体を湖沼の浄化を目的とする酸素
として説明したが、水に溶解させる気体は例えばCO
であってもよく、目的に応じて種々の気体を用いること
ができる。また、液体は水に限らず他の液体であっても
良い。なお、邪魔板の表面に凹凸を形成すれば飛沫の発
生を増加させることができる。また、液体を密閉タンク
に供給するに際しては、ノズルの先端を水面に対して接
線方向に噴出するように配置してもよい。
The above description of the present invention has been presented only with reference to particular preferred embodiments for purposes of illustration and illustration. In the present embodiment, the gas to be dissolved is described as oxygen for the purpose of cleaning lakes, but the gas to be dissolved in water is, for example, CO 2
Alternatively, various gases can be used depending on the purpose. Further, the liquid is not limited to water and may be another liquid. If unevenness is formed on the surface of the baffle plate, the generation of splashes can be increased. Further, when supplying the liquid to the closed tank, the tip of the nozzle may be arranged so as to be ejected tangentially to the water surface.

【0032】したがって本発明はその本質から逸脱せず
に多くの変更、変形をなし得ることは当業者に明らかで
ある。特許請求の範囲の欄の記載により定義される本発
明の範囲は、その範囲内の変更、変形を包含するものと
する。
Therefore, it will be apparent to those skilled in the art that the present invention can be subjected to many changes and modifications without departing from the essence thereof. The scope of the present invention, which is defined by the description in the scope of claims, includes changes and modifications within the scope.

【0033】[0033]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の気体溶解
装置は、密閉タンクに液体を供給する液体供給手段と、
前記密閉タンクおよび/または前記液体に気体を供給す
る気体供給手段とを具備した気体溶解装置であって、前
記密閉タンクを複数の室に分割し各室の圧力差を用いて
前記液体を他の室に噴出させる構成としたので、高濃度
の気体溶解液を得ることができる。
As described above, the gas dissolving apparatus of the present invention comprises the liquid supply means for supplying the liquid to the closed tank,
A gas dissolving device comprising a gas supply means for supplying a gas to the closed tank and / or the liquid, wherein the closed tank is divided into a plurality of chambers, and the liquid is separated from another liquid by using a pressure difference between the chambers. Since it is configured to be jetted into the chamber, it is possible to obtain a high-concentration gas solution.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の気体溶解装置の実施形態の一例を示す
構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing an example of an embodiment of a gas dissolving apparatus of the present invention.

【図2】本発明の気体溶解装置の実施形態の他の一例を
示す構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram showing another example of the embodiment of the gas dissolving apparatus of the present invention.

【図3】気体溶解装置の従来例を示す構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram showing a conventional example of a gas dissolving device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 密閉タンク 1a 第1室 1b 第2室 2,2a ノズル 3 ポンプ 4 調節弁 5 ストップ弁 9 乱流発生部(ラインミキサ) 10 邪魔板 11 仕切り板 21a 内管 21b 中管 30 気体溜り 1 closed tank 1a Room 1 1b second room 2,2a nozzle 3 pumps 4 control valve 5 stop valves 9 Turbulence generator (line mixer) 10 baffle 11 partition boards 21a inner tube 21b Middle tube 30 gas pool

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石井 浩市 東京都武蔵野市中町2丁目9番32号 横河 電機株式会社内 Fターム(参考) 4G035 AA01 AB04 AC01 AC26 AE13   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Hiroshi Ishii             2-9-32 Nakamachi, Musashino City, Tokyo Yokogawa             Electric Co., Ltd. F-term (reference) 4G035 AA01 AB04 AC01 AC26 AE13

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】密閉タンクに液体を供給する液体供給手段
と、前記密閉タンクおよび/または前記液体に気体を供
給する気体供給手段とを具備した気体溶解装置であっ
て、前記密閉タンクを複数の室に分割し各室の圧力差を
用いて前記液体を他の室に噴出させる構成としたことを
特徴とする気体溶解装置。
1. A gas dissolving device comprising liquid supply means for supplying a liquid to a closed tank, and gas supply means for supplying a gas to the closed tank and / or the liquid, the closed tank comprising a plurality of closed tanks. A gas dissolving device, characterized in that the liquid is jetted to another chamber by dividing the chamber into chambers and using the pressure difference between the chambers.
【請求項2】密閉タンクは孔を有する仕切りによって2
室以上に分割されており、第1の室に供給された液体が
前記孔から第2の室に噴出し、順次、次室に液体が噴出
するように構成したことを特徴とする請求項1記載の気
体溶解装置。
2. The closed tank is divided into two by a partition having holes.
The chamber is divided into more than one chamber, and the liquid supplied to the first chamber is ejected from the hole to the second chamber, and the liquid is sequentially ejected to the next chamber. The gas dissolving device described.
【請求項3】孔は複数個設けられその少なくとも一つに
ノズルを設けたことを特徴とする請求項2記載の気体溶
解装置。
3. The gas dissolving apparatus according to claim 2, wherein a plurality of holes are provided and a nozzle is provided in at least one of the holes.
【請求項4】液体を密閉タンクに供給するに際してはノ
ズルを用い、このノズルから噴出した液体が邪魔板に衝
突するように構成したことを特徴とする請求項1乃至3
いずれかに記載の気体溶解装置。
4. A nozzle is used for supplying the liquid to the closed tank, and the liquid ejected from the nozzle collides with the baffle plate.
The gas dissolution apparatus according to any one of claims.
【請求項5】液体を密閉タンクに供給するに際してはノ
ズルを用い、ノズルの先端を水面に対して斜めからタン
クの接線方向に噴出するように配置したことを特徴とす
る請求項1乃至3いずれかに記載の気体溶解装置。
5. A nozzle is used when the liquid is supplied to the closed tank, and the tip of the nozzle is arranged so as to be jetted obliquely with respect to the water surface in the tangential direction of the tank. A gas dissolving device as described in 1.
【請求項6】流路延長手段を前記密閉タンク内に設け、
前記密閉タンクに供給された液体が排出口に達するまで
の流路長を延長し、前記供給された液体への気体の溶解
度を向上させるとともに液体排出口から未溶解気体の流
出を抑制したことを特徴とする請求項1乃至5いずれか
に記載の気体溶解装置。
6. A flow path extending means is provided in the closed tank,
By extending the flow path length until the liquid supplied to the closed tank reaches the discharge port, improving the solubility of gas in the supplied liquid and suppressing the outflow of undissolved gas from the liquid discharge port. The gas dissolving device according to any one of claims 1 to 5, which is characterized.
JP2001393218A 2001-12-26 2001-12-26 Gas dissolution apparatus Pending JP2003190750A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001393218A JP2003190750A (en) 2001-12-26 2001-12-26 Gas dissolution apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001393218A JP2003190750A (en) 2001-12-26 2001-12-26 Gas dissolution apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003190750A true JP2003190750A (en) 2003-07-08

Family

ID=27600261

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001393218A Pending JP2003190750A (en) 2001-12-26 2001-12-26 Gas dissolution apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003190750A (en)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005000882A (en) * 2003-06-13 2005-01-06 Aura Tec:Kk Apparatus for generating micro bubble
JP2008509803A (en) * 2004-08-10 2008-04-03 コー、ベン・ライ Mixing equipment
JP2008246486A (en) * 2005-09-23 2008-10-16 Sadatoshi Watabe Nano fluid generator and cleaning apparatus
JP2008290015A (en) * 2007-05-25 2008-12-04 Yamaha Motor Co Ltd Gas dissolving device and bubble generating apparatus
JP2008290014A (en) * 2007-05-25 2008-12-04 Yamaha Motor Co Ltd Bubble generator and bubble generation apparatus
JP2009000609A (en) * 2007-06-21 2009-01-08 Sakuragawa Pump Seisakusho:Kk Ozone water production apparatus
JP2009501621A (en) * 2005-07-21 2009-01-22 煙台聯鋭環保科技有限公司 Atomization preservation type ozone water generator
US7494534B2 (en) * 2003-02-13 2009-02-24 Tetsuhiko Fujisato Method, device, and system for controlling dissolved amount of gas
JP2009066500A (en) * 2007-09-12 2009-04-02 Yamaha Motor Co Ltd Gas dissolver and bubble generator
JP2009112909A (en) * 2007-11-02 2009-05-28 Sanso Electric Co Ltd Gas-liquid dissolving tank in apparatus for generating microbubble
JP2010028022A (en) * 2008-07-24 2010-02-04 Mitsubishi Electric Corp Additive dissolving device
WO2014050521A1 (en) * 2012-09-28 2014-04-03 ヒノデホールディングス株式会社 Gas dissolving device
KR20160134255A (en) * 2015-05-15 2016-11-23 윤동헌 System for purifying exhausted gas
KR102259030B1 (en) * 2020-11-30 2021-05-31 박세진 exhaust gas disposal device of apparatus for recycling

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7494534B2 (en) * 2003-02-13 2009-02-24 Tetsuhiko Fujisato Method, device, and system for controlling dissolved amount of gas
JP2005000882A (en) * 2003-06-13 2005-01-06 Aura Tec:Kk Apparatus for generating micro bubble
JP2008509803A (en) * 2004-08-10 2008-04-03 コー、ベン・ライ Mixing equipment
JP2009501621A (en) * 2005-07-21 2009-01-22 煙台聯鋭環保科技有限公司 Atomization preservation type ozone water generator
JP2008246486A (en) * 2005-09-23 2008-10-16 Sadatoshi Watabe Nano fluid generator and cleaning apparatus
JP2008290015A (en) * 2007-05-25 2008-12-04 Yamaha Motor Co Ltd Gas dissolving device and bubble generating apparatus
JP2008290014A (en) * 2007-05-25 2008-12-04 Yamaha Motor Co Ltd Bubble generator and bubble generation apparatus
JP2009000609A (en) * 2007-06-21 2009-01-08 Sakuragawa Pump Seisakusho:Kk Ozone water production apparatus
JP2009066500A (en) * 2007-09-12 2009-04-02 Yamaha Motor Co Ltd Gas dissolver and bubble generator
JP2009112909A (en) * 2007-11-02 2009-05-28 Sanso Electric Co Ltd Gas-liquid dissolving tank in apparatus for generating microbubble
KR101053489B1 (en) * 2007-11-02 2011-08-03 산소덴키 가부시키가이샤 Gas-liquid dissolution tank in micro bubble generator
JP2010028022A (en) * 2008-07-24 2010-02-04 Mitsubishi Electric Corp Additive dissolving device
WO2014050521A1 (en) * 2012-09-28 2014-04-03 ヒノデホールディングス株式会社 Gas dissolving device
JP2014069134A (en) * 2012-09-28 2014-04-21 Hinode Holdings Co Ltd Gas dissolving apparatus
KR20160134255A (en) * 2015-05-15 2016-11-23 윤동헌 System for purifying exhausted gas
KR101689009B1 (en) 2015-05-15 2017-01-02 윤동헌 System for purifying exhausted gas
KR102259030B1 (en) * 2020-11-30 2021-05-31 박세진 exhaust gas disposal device of apparatus for recycling

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003190750A (en) Gas dissolution apparatus
JP2007289903A (en) Micro-bubble generating device and bath system
JP3819732B2 (en) Gas dissolving device
JP2004188263A (en) Device for supplying oxygen into water
JP6727163B2 (en) Gas dissolver
JP3770133B2 (en) Gas dissolving device
KR101166457B1 (en) Apparatus for generating micro bubbles with two stage complex structure including vortex generating part and vortex removing part and method for generating micro bubbles using that
JP5024144B2 (en) Gas dissolver
JP2007313465A (en) Gas dissolving apparatus
JP2011183328A (en) Aerator
WO2014050521A1 (en) Gas dissolving device
JPH06165808A (en) Air bubble generator
JP2007000846A (en) Fine bubble generating device
JP2009255039A (en) Gas dissolving vessel
JP4872459B2 (en) Gas dissolving device
JP2005000882A (en) Apparatus for generating micro bubble
JP4232490B2 (en) Deaerator
JP2004290803A (en) Gas-liquid dissolving tank structure of fine air bubble generator
JPH0523674A (en) Neutralization device for carbon dioxide gas
JP2005161174A (en) Gas dissolving method and gas dissolving device
JP4364876B2 (en) Gas dissolving device
JP4573141B1 (en) Gas dissolving device
JP2005095605A (en) Bubble generating device
JP2006055773A (en) Gas dissolving apparatus
JP3237572U (en) Gas melting device