JP2003066063A - Vibration sensor and manufacturing method of vibration sensor - Google Patents

Vibration sensor and manufacturing method of vibration sensor

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JP2003066063A
JP2003066063A JP2001251693A JP2001251693A JP2003066063A JP 2003066063 A JP2003066063 A JP 2003066063A JP 2001251693 A JP2001251693 A JP 2001251693A JP 2001251693 A JP2001251693 A JP 2001251693A JP 2003066063 A JP2003066063 A JP 2003066063A
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JP
Japan
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coil
vibration sensor
substrate
magnetic field
detection
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Application number
JP2001251693A
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Japanese (ja)
Inventor
Yusaku Yoshida
勇作 吉田
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Akashi Corp
Original Assignee
Akashi Corp
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Publication date
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  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Measurement Of Mechanical Vibrations Or Ultrasonic Waves (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vibration sensor further easy in damping adjustment and precise with a small size. SOLUTION: This vibration sensor 1 comprises magnets 3 provided within a magnetic circuit 2 fixed to a measuring body, a movable part 4 provided between the magnets 3, and a detection part 5 for detecting the electromotive force generated by a coil 9 provided on the upper surface of the movable part 4, and it measures an acceleration or the like from the electromotive force generated by the coil 9. This sensor 1 further comprises a feedback circuit 6 for carrying a current to a coil 10 provided on the lower surface of the movable part on the basis of a detection value outputted from the detection part 5. The movable part 4 comprises a silicon board 8 inserted between two glass base plates 7, and the pressure within the gap between the glass base plates 7 and the silicon board 8 is adjustable.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、被測定体の振動を
検出するために、当該被測定体に取り付けられるコイル
型の振動センサ、及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coil type vibration sensor attached to an object to be measured in order to detect the vibration of the object to be measured, and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、コイル型の速度検出装置とし
ては、図5に例示するものが知られている。この速度検
出装置20は、板バネ21によって変位自在に支持され
たコイル22と、このコイル22に磁場を与える磁気回
路23とから構成されている。磁気回路23は、永久磁
石及び磁性体から構成されており、コイル22に対して
合理的に磁場を与え得るように配置されている。なお、
コイル22は、導線をコイルボビンに巻回する事により
構成されている。このコイル型の速度検出装置20に対
して被測定体から振動が与えられると、導体たるコイル
22が板バネ21によって拘束されながら静磁場中を図
5中上下方向に運動する。これにより、コイル22には
V=vBLで表される起電力が誘起される。ここで、v
はコイル22の運動速度であり、Bは磁気回路23の磁
束密度であり、Lはコイル22のコイル長である。そし
て、被測定体が振動する過程においてコイル22に誘起
される誘導起電力Vに基づいて、当該被測定体の速度が
検出されるようになっている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a coil type speed detecting device, one exemplified in FIG. 5 has been known. The speed detecting device 20 is composed of a coil 22 movably supported by a leaf spring 21 and a magnetic circuit 23 that applies a magnetic field to the coil 22. The magnetic circuit 23 is composed of a permanent magnet and a magnetic body, and is arranged so that a magnetic field can be reasonably applied to the coil 22. In addition,
The coil 22 is configured by winding a conductive wire around a coil bobbin. When vibration is applied to the coil type velocity detecting device 20 from the object to be measured, the coil 22 as a conductor moves vertically in the static magnetic field in FIG. 5 while being restrained by the leaf spring 21. As a result, an electromotive force represented by V = vBL is induced in the coil 22. Where v
Is the moving speed of the coil 22, B is the magnetic flux density of the magnetic circuit 23, and L is the coil length of the coil 22. Then, the speed of the object to be measured is detected based on the induced electromotive force V induced in the coil 22 in the process of vibrating the object to be measured.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
コイル型速度検出装置20は、大型であるという問題が
あった。
However, the conventional coil type velocity detecting device 20 has a problem that it is large in size.

【0004】本発明は、上記の問題点に鑑みて成された
ものであって、より小型の振動センサを提供することを
課題とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a smaller vibration sensor.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】以上の課題を解決すべく
請求項1記載の発明の振動センサは、例えば図1に示す
ように、被測定体の振動を検出するために、当該被測定
体に取り付けられる振動センサ(1)であって、前記被
測定体の振動に伴って、少なくとも厚さ方向に自在に変
位するよう弾性支持された基板(8)と、前記基板
(8)の表面に、螺旋状にパタンニングされた検出用コ
イル(9)と、前記検出用コイル(9)に第1の磁場を
印加する第1の磁場生成手段(3)と、を備え、前記検
出用コイル(9)に生ずる誘導起電力に基づいて前記被
測定体の振動を検出するように構成したことを特徴とし
ている。
In order to solve the above-mentioned problems, a vibration sensor according to a first aspect of the present invention, for example, as shown in FIG. 1, detects a vibration of an object to be measured. A vibration sensor (1) mounted on a substrate (8) elastically supported so as to be freely displaced at least in the thickness direction in accordance with the vibration of the object to be measured, and a surface of the substrate (8). A detection coil (9) that is spirally patterned and a first magnetic field generating means (3) that applies a first magnetic field to the detection coil (9). It is characterized in that the vibration of the object to be measured is detected based on the induced electromotive force generated in 9).

【0006】ここで、第1の磁場生成手段は、磁場を発
生させるものであれば特に限定されるものではないが、
例えば、永久磁石やコイルを用いた磁気回路などによっ
て構成することができる。また、ここに云う被測定体の
振動とは、当該被測定体の変位、速度、加速度、加加速
度(jerk;ジャーク)等と等価である。
Here, the first magnetic field generating means is not particularly limited as long as it generates a magnetic field,
For example, it can be configured by a magnetic circuit using a permanent magnet or a coil. Further, the vibration of the object to be measured mentioned here is equivalent to the displacement, speed, acceleration, jerk of the object to be measured.

【0007】請求項1記載の発明によれば、被測定体が
振動すると、これに伴って、検出用コイルが第1の磁場
中を変位する。これにより、当該検出用コイルにはV=
vBl(V:誘導起電力、v:検出用コイルが変位する
速度、B:第1の磁場の強さ、l:検出用コイルを構成
する導線の長さ)で示される誘導起電力Vが発生する。
基板は弾性支持されているので、検出用コイルが変位す
る速度(v)は、被測定体の変位、速度、加速度、或い
は加加速度等の大きさに応じた値となる。従って、誘導
起電力Vに基づいて被測定体の振動を検出することがで
きる。ここで、検出用コイルは、基板の表面に螺旋状に
パタンニングされているので、充分なコイル長を確保し
たまま、当該検出用コイルの占めるスペースを最小限に
抑えることができる。すなわち、このような検出用コイ
ルの配置によれば、従来必要であったコイルボビンが不
要となり、その分、振動センサ全体をより小型に実現で
きる。
According to the first aspect of the present invention, when the object to be measured vibrates, the detection coil is displaced in the first magnetic field accordingly. As a result, V =
An induced electromotive force V represented by vBl (V: induced electromotive force, v: speed of displacement of detection coil, B: strength of first magnetic field, l: length of conductor wire forming detection coil) is generated. To do.
Since the substrate is elastically supported, the velocity (v) at which the detection coil is displaced has a value according to the displacement, velocity, acceleration, jerk or the like of the object to be measured. Therefore, the vibration of the measured object can be detected based on the induced electromotive force V. Here, since the detection coil is spirally patterned on the surface of the substrate, the space occupied by the detection coil can be minimized while ensuring a sufficient coil length. That is, according to such arrangement of the detection coils, the coil bobbin, which is conventionally required, becomes unnecessary, and the vibration sensor as a whole can be made smaller by that much.

【0008】請求項2記載の発明は、請求項1記載の振
動センサであって、例えば図1に示すように、前記第1
の磁場生成手段(3)は、当該磁束が前記検出用コイル
(9)の放射方向或いは求心方向に向かうように配置さ
れていることを特徴としている。
A second aspect of the present invention is the vibration sensor according to the first aspect, wherein, for example, as shown in FIG.
The magnetic field generating means (3) is characterized in that the magnetic flux is arranged so as to be directed in the radial direction or centripetal direction of the detection coil (9).

【0009】請求項2記載の発明によれば、検出用コイ
ルに印加される第1の磁場の磁束が当該検出用コイルの
放射方向或いは求心方向に向かうので、当該磁束の向き
と、基板の変位方向(厚さ方向)と、螺旋状の検出用コ
イルに生じる誘導起電力の向きとが、相互に略直交する
こととなる。従って、基板の変位に応じた誘導起電力を
効率的に得ることができる。その結果、測定の感度或い
は精度を向上させることができる。
According to the second aspect of the present invention, since the magnetic flux of the first magnetic field applied to the detection coil is directed in the radial direction or centripetal direction of the detection coil, the direction of the magnetic flux and the displacement of the substrate. The direction (thickness direction) and the direction of the induced electromotive force generated in the spiral detection coil are substantially orthogonal to each other. Therefore, the induced electromotive force according to the displacement of the substrate can be efficiently obtained. As a result, the sensitivity or accuracy of measurement can be improved.

【0010】請求項3記載の発明は、請求項1又は2記
載の振動センサにおいて、前記検出用コイル(9)は、
前記基板(8)の一方面に設けられていると共に、当該
基板(8)の他方面には、螺旋状にパタンニングされた
制動用コイル(10)が設けられており、前記制動用コ
イル(10)に第2の磁場を印加する第2の磁場生成手
段(3)と、前記誘導起電力の大きさに応じた電流を前
記制動用コイル(10)に供給する事により、前記基板
(8)の慣性力を、前記制動用コイル(10)が前記第
2の磁場中に於いて生ぜしめる力でもって減殺する制御
を行う制御手段(12)と、を備えたことを特徴として
いる。
According to a third aspect of the invention, in the vibration sensor according to the first or second aspect, the detection coil (9) is
The braking coil (10) is provided on one surface of the substrate (8) and is spirally patterned on the other surface of the substrate (8). The second magnetic field generating means (3) for applying a second magnetic field to (10) and a current according to the magnitude of the induced electromotive force are supplied to the braking coil (10), whereby the substrate (8) Control means (12) for reducing the inertial force of (1) by the force generated by the braking coil (10) in the second magnetic field.

【0011】請求項3記載の発明によれば、制御手段
は、検出用コイルに生じた誘導起電力の大きさに応じた
電流を制動用コイルに流す。これにより、第2の磁場中
に配置された制動用コイルには、F=iBl(F:力、
i:電流の大きさ、B:第2の磁場の強さ、l:制動用
コイルを構成する導線の長さ)で示される力(F)が生
じる。この力により、基板の慣性力が減殺される。これ
により、被測定体の振動の強さの如何に拘わらずに、基
板の変位を最小限に抑えることができるので、検出可能
な測定帯域(ダイナミックレンジ)を拡張することがで
きる。また、制動用コイルを渦巻き状にパタンニングし
たことにより、コイル長を長くすることができるので、
制動用コイルに電流を流す際に生じる力Fを効率的に得
ることができる。
According to the third aspect of the present invention, the control means causes the current according to the magnitude of the induced electromotive force generated in the detection coil to flow in the braking coil. As a result, F = iBl (F: force,) is applied to the braking coil arranged in the second magnetic field.
A force (F) represented by i: magnitude of current, B: strength of second magnetic field, l: length of lead wire forming the braking coil is generated. This force reduces the inertial force of the substrate. As a result, the displacement of the substrate can be minimized regardless of the vibration intensity of the object to be measured, so that the detectable measurement band (dynamic range) can be expanded. Also, since the braking coil is spirally patterned, the coil length can be increased,
The force F generated when a current is passed through the braking coil can be efficiently obtained.

【0012】請求項4記載の発明は、請求項3記載の振
動センサにおいて、前記第2の磁場生成手段(3)は、
当該磁束が前記制動用コイル(10)の放射方向或いは
求心方向に向かうように配置されていることを特徴とし
ている。
According to a fourth aspect of the invention, in the vibration sensor according to the third aspect, the second magnetic field generating means (3) is
The magnetic flux is arranged so as to be directed in the radial direction or centripetal direction of the braking coil (10).

【0013】請求項4記載の発明によれば、制動用コイ
ルに印加される第2の磁場の磁束が当該制動用コイルの
放射方向或いは求心方向に向かうので、当該磁束の向き
と、螺旋状の制動用コイルに流される電流の向きと、が
相互に略直交することとなる。従って、これらに垂直な
方向、即ち基板の厚さ方向の減殺力を効率的に得ること
ができる。
According to the invention of claim 4, since the magnetic flux of the second magnetic field applied to the braking coil is directed in the radial direction or centripetal direction of the braking coil, the direction of the magnetic flux and the spiral shape The direction of the current passed through the braking coil and the direction of the current are substantially orthogonal to each other. Therefore, it is possible to efficiently obtain the destructive force in the direction perpendicular to these, that is, in the thickness direction of the substrate.

【0014】請求項5記載の発明は、請求項3又は4記
載の振動センサにおいて、前記基板(8)は、これと略
平行に配置された2枚の透磁性基板(7,7)によって
隙間を確保した状態で両面側から挟まれており、当該各
透磁性基板の一方を介して前記検出用コイル(9)に前
記第1の磁場が印加され、他方を介して前記制動用コイ
ル(10)に前記第2の磁場が印加されるように構成さ
れていることを特徴としている。
According to a fifth aspect of the present invention, in the vibration sensor according to the third or fourth aspect, the substrate (8) is separated by two magnetically permeable substrates (7, 7) arranged substantially in parallel therewith. The first magnetic field is applied to the detection coil (9) via one of the magnetically permeable substrates, and the braking coil (10) is provided via the other. ) Is applied with the second magnetic field.

【0015】請求項5記載の発明によれば、2枚の透磁
性基板の一方を介して検出用コイルに第1の磁場が印加
され、他方を介して制動用コイルに第2の磁場が印加さ
れるように構成れてあるので、センサの機能を実現する
為の配置構造が一層合理化され、これにより、振動セン
サを更に小型化することができる。
According to the fifth aspect of the invention, the first magnetic field is applied to the detection coil via one of the two magnetically permeable substrates, and the second magnetic field is applied to the braking coil via the other. Since it is configured as described above, the arrangement structure for realizing the function of the sensor is further rationalized, and thus the vibration sensor can be further downsized.

【0016】請求項6記載の発明は、請求項3記載の振
動センサの製造方法であって、前記検出用コイルをマイ
クロマシニングにより形成する工程と、前記制動用コイ
ルをマイクロマシニングにより形成する工程と、を含む
ことを特徴とする。
The invention according to claim 6 is the method for manufacturing a vibration sensor according to claim 3, comprising the steps of forming the detection coil by micromachining, and forming the braking coil by micromachining. And are included.

【0017】請求項6記載の発明によれば、検出用コイ
ル及び制動用コイルがマイクロマシニングにより螺旋状
にパタンニングされることとなるから、当該各コイルを
非常に小さくできると共に、これらを構成する導線の密
度を増すことができる。これにより、振動センサを更に
小型化することができる。
According to the sixth aspect of the invention, since the detection coil and the braking coil are patterned in a spiral shape by micromachining, the respective coils can be made extremely small and they are constituted. The density of the conductor wire can be increased. Thereby, the vibration sensor can be further downsized.

【0018】請求項7記載の発明は、請求項5記載の振
動センサの製造方法であって、前記基板(8)と前記2
枚の透磁性基板(7,7)との間の気密を保ちつつ、当
該内圧を所定値に調整する第1工程と、次いで、前記基
板を前記2枚の透磁性基板を用いて気密封止する第2工
程と、を含むことを特徴とする。
The invention according to claim 7 is the method for manufacturing a vibration sensor according to claim 5, wherein the substrate (8) and the substrate (2) are provided.
A first step of adjusting the internal pressure to a predetermined value while maintaining airtightness between the two magnetically permeable substrates (7, 7), and then hermetically sealing the substrate using the two magnetically permeable substrates. And a second step of performing.

【0019】請求項7記載の発明によれば、2枚の透磁
性基板を用いて気密封止されることとなる基板をとりま
く気体の内圧を所定値に設定することにより、基板にか
かるダンピングを自由に調整できるようになる。従っ
て、被測定体の振動の周波数帯域に適合する振動センサ
を容易に実現することができる。従って、例えば可動極
板に容易に大きなダンピングをかけることもでき、加速
度計として用いる場合、フラット帯域の広い振動数特性
を容易に作り出すことが可能となる。
According to the invention described in claim 7, the damping applied to the substrate is set by setting the internal pressure of the gas surrounding the substrate to be hermetically sealed by using the two magnetically permeable substrates to a predetermined value. You will be able to adjust it freely. Therefore, it is possible to easily realize a vibration sensor that matches the frequency band of the vibration of the measured object. Therefore, for example, a large damping can be easily applied to the movable electrode plate, and when it is used as an accelerometer, it is possible to easily create a wide frequency characteristic of a flat band.

【0020】請求項8記載の発明は、請求項7記載の振
動センサの製造方法において、前記基板(8)はシリコ
ンからなると共に、前記2枚の透磁性基板(7、7)は
何れもガラスからなり、前記第2工程では、当該シリコ
ン基板(8)と当該各ガラス基板(7,7)とを陽極接
合することを特徴とする。
According to an eighth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a vibration sensor according to the seventh aspect, the substrate (8) is made of silicon, and the two magnetically permeable substrates (7, 7) are both made of glass. In the second step, the silicon substrate (8) and the glass substrates (7, 7) are anodically bonded.

【0021】請求項8記載の発明によれば、シリコン基
板と2枚のガラス基板とを陽極接合することとしたの
で、陽極接合時の圧力を調整することにより、シリコン
基板を取り巻く内圧を容易に所定値に設定することがで
きるようになる。
According to the eighth aspect of the invention, the silicon substrate and the two glass substrates are anodically bonded. Therefore, the internal pressure surrounding the silicon substrate can be easily adjusted by adjusting the pressure during the anodic bonding. It becomes possible to set it to a predetermined value.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、図を参照して本発明の実施
の形態を詳細に説明する。図1は、実施の形態による振
動センサの構成を模式的に示す図である。同図に示す様
に、この振動センサ1の主要部は磁気回路2によって覆
われている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a vibration sensor according to an embodiment. As shown in the figure, the main part of the vibration sensor 1 is covered with a magnetic circuit 2.

【0023】磁気回路2は磁石3,3を含んで構成され
ている。これら磁石3,3は、相対向するように離間し
て配置されている。一方の磁石3(図1中、上方に配置
された磁石3)によって第1の磁場生成手段が構成さ
れ、他方の磁石3(図1中、下方に配置された磁石3)
によって第2の磁場生成手段が構成されている。そし
て、これら磁石3,3の間には、中央に配置された板状
の可動部(基板)4と、この可動部4を隙間(ギャッ
プ)を確保した状態で両面側から挟むガラス基板(透磁
性基板)7,7と、が配置されている。尚、可動部4は
シリコン基板8によって構成されており、当該可動部4
とガラス基板7,7との間のギャップは、シリコン基板
8にエッチングを施す事により形成されたものである。
このエッチングの深さを調整することにより、ギャップ
間隔を容易に調整できる。
The magnetic circuit 2 comprises magnets 3 and 3. The magnets 3 are arranged so as to be opposed to each other. One magnet 3 (the magnet 3 arranged above in FIG. 1) constitutes a first magnetic field generating means, and the other magnet 3 (the magnet 3 arranged below in FIG. 1)
The second magnetic field generating means is constituted by. A plate-like movable portion (substrate) 4 arranged in the center between the magnets 3 and 3 and a glass substrate (transparent member) sandwiching the movable portion 4 from both sides with a gap (gap) secured. Magnetic substrates) 7 and 7 are arranged. The movable portion 4 is composed of the silicon substrate 8, and
The gap between the glass substrate 7 and the glass substrate 7 is formed by etching the silicon substrate 8.
By adjusting the etching depth, the gap distance can be easily adjusted.

【0024】シリコン基板8は、2枚の平行なガラス基
板7,7の間に、当該各ガラス基板7,7と平行に配置
されている。このシリコン基板8の上面図及び下面図が
それぞれ図3(a),図3(b)に示されている。同図
に示す様に、シリコン基板8の一方面(上面)には、図
3(a)に示すような渦巻き状の検出用コイル9が設け
られており、他方面(下面)には、図3(b)に示すよ
うな渦巻き状のフィードバック用コイル(制動用コイ
ル)10が設けられている。当該各コイル9,10は共
に、マイクロマシニングにより高密度に渦巻き状にパタ
ンニングされて形成されたものである。
The silicon substrate 8 is arranged between the two parallel glass substrates 7 and 7 in parallel with the glass substrates 7 and 7. A top view and a bottom view of the silicon substrate 8 are shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b), respectively. As shown in the figure, the spiral detection coil 9 as shown in FIG. 3A is provided on one surface (upper surface) of the silicon substrate 8, and the other surface (lower surface) is provided with a drawing coil. A spiral feedback coil (braking coil) 10 as shown in FIG. 3 (b) is provided. Each of the coils 9 and 10 is formed by spirally patterning with high density by micromachining.

【0025】尚、前述した磁石3,3は、図2(a)或
いは図2(b)に示すように互いに同一極が対向するよ
うに配置されている。図2(a)に示す様にN極同士を
対向させて配置した場合は、上部に配置された磁石7の
磁束が検出用コイル9の放射方向に向かうと共に、下部
に配置された磁石7の磁束も同様に制動用コイル10の
放射方向に向かう。一方、図2(b)に示す様にS極同
士を対向させて配置した場合は、上部に配置された磁石
7の磁束が検出用コイル9の求心方向に向かうと共に、
下部に配置された磁石7の磁束も同様に制動用コイル1
0の求心方向に向かう。
The magnets 3 and 3 described above are arranged so that the same poles face each other as shown in FIG. 2 (a) or 2 (b). When the N poles are arranged so as to face each other as shown in FIG. 2A, the magnetic flux of the magnet 7 arranged in the upper portion is directed in the radiation direction of the detection coil 9 and the magnet 7 arranged in the lower portion is The magnetic flux also goes in the radial direction of the braking coil 10. On the other hand, when the S poles are arranged so as to face each other as shown in FIG. 2B, the magnetic flux of the magnet 7 arranged in the upper portion is directed in the centripetal direction of the detection coil 9, and
Similarly, the magnetic flux of the magnet 7 arranged in the lower portion is also the braking coil 1
Head toward 0 centripetal direction.

【0026】また、図3(a),(b)に示す様に、平
面視円形のシリコン基板8の周縁の適所には、接線方向
にばね部11,11…が設けられている。れにより、シ
リコン基板8の形状そのものに起因してこれが共振する
ことを回避できる。このばね部11は、シリコン製であ
って、シリコン基板8と共に、エッチングにより一体に
形成されたものである。このばね部11によってシリコ
ン基板8が弾性支持されている。これにより、シリコン
基板8が、被測定体の振動に伴って、厚さ方向(図1中
上下方向)に自在に変位し、或いはその姿勢が自在に変
位する様になっている。シリコン基板8と2枚のガラス
基板7,7は、陽極接合によりこれらの側縁部で接合さ
れており、シリコン基板8とガラス基板7との間には、
空気が封止されている。なお、この封止されている空気
の圧力は、陽極接合を行う際の圧力を調整することによ
り、任意の圧力に容易に調整できる。
Further, as shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b), spring portions 11, 11, ... Are provided tangentially at appropriate positions on the periphery of the silicon substrate 8 which is circular in plan view. As a result, it is possible to prevent the silicon substrate 8 from resonating due to the shape itself. The spring portion 11 is made of silicon and is integrally formed with the silicon substrate 8 by etching. The silicon substrate 8 is elastically supported by the spring portion 11. Thereby, the silicon substrate 8 is freely displaced in the thickness direction (vertical direction in FIG. 1) or its posture is freely displaced due to the vibration of the measured object. The silicon substrate 8 and the two glass substrates 7, 7 are joined at their side edges by anodic bonding, and between the silicon substrate 8 and the glass substrate 7,
The air is sealed. The pressure of the sealed air can be easily adjusted to any pressure by adjusting the pressure when performing anodic bonding.

【0027】検出部5は、検出用コイル9に電気的に接
続されており、検出用コイル9が発生する誘導起電力を
検出できるようになっている。また、フィードバック回
路6はフィードバック用コイル10に電気的に接続さ
れ、このフィードバック回路6とフィードバック用コイ
ル10とでフィードバック制御部(制御手段)12を構
成している。フィードバック制御部12は、検出部5が
検出した誘導起電力に応じて、可動部4を元の位置に戻
すために必要な電流をフィードバック回路6にてフィー
ドバック用コイル10に供給する。
The detecting section 5 is electrically connected to the detecting coil 9 so that the induced electromotive force generated by the detecting coil 9 can be detected. Further, the feedback circuit 6 is electrically connected to the feedback coil 10, and the feedback circuit 6 and the feedback coil 10 constitute a feedback control unit (control means) 12. The feedback control unit 12 supplies a current required for returning the movable unit 4 to the original position to the feedback coil 10 by the feedback circuit 6 according to the induced electromotive force detected by the detection unit 5.

【0028】次に本実施の形態の振動センサを用いた動
特性の測定方法を説明する。まず、上述した振動センサ
1を図示しない被測定体に取付ける。被測定体に、例え
ば加速度がかかり、被測定体が動くと、可動部4(シリ
コン基板8)もこれに伴って動き、これにより可動部4
(シリコン基板8)上の検出用コイル9もガラス基板
7,7間で上下方向等に移動する。検出用コイル9が移
動すると、検出用コイル9は上部に配置された磁石3に
よる磁界内にあるため、V=vBl(V:出力電圧、
v:速度、B:磁場の強さ、l:導線の長さ)で示され
る誘導起電力を発生する。この誘導起電力を検出部5で
検出し、検出値から被測定体の加速度が得られる。
Next, a method of measuring dynamic characteristics using the vibration sensor of this embodiment will be described. First, the above-mentioned vibration sensor 1 is attached to a measured object (not shown). When, for example, an acceleration is applied to the object to be measured and the object to be measured moves, the movable part 4 (silicon substrate 8) also moves accordingly, whereby the movable part 4 is moved.
The detection coil 9 on the (silicon substrate 8) also moves vertically between the glass substrates 7, 7. When the detection coil 9 moves, V = vBl (V: output voltage, because the detection coil 9 is in the magnetic field generated by the magnet 3 arranged above).
v: velocity, B: magnetic field strength, l: conducting wire length) to generate an induced electromotive force. The induced electromotive force is detected by the detection unit 5, and the acceleration of the measured object is obtained from the detected value.

【0029】また、検出部5で誘導起電力が検出される
と、フィードバック回路6にて、フィードバック用コイ
ル10に電流が流される。フィードバック用コイル10
に電流が流されると、フィードバック用コイル10は下
部に配置された磁石3の磁界内にあるので、フィードバ
ック用コイル10を形成する導線にF=iBl(F:
力、i電流、B:磁場の強さ、l:導線の長さ)の力が
生じる。従って、被測定体が加速度を受けたことにより
可動部4(シリコン基板8)が移動した向きと逆方向に
フィードバック用コイル10が動くように電流を流すこ
とにより可動部4を元の位置に戻すことができるように
なっている。この時フィードバック用コイル10に流さ
れる電流の向きは、可動部4(シリコン基板8)が移動
した方向によって決定される。また、フィードバック用
コイル10に流される電流量はシリコン基板8(可動部
4)の移動量、磁石3の強さ、及びフィードバック用コ
イル10の長さにより決定されるものであり、フィード
バック用コイル10に流された電流量を図示しない電流
計で測定することにより、加速度を得ることもできる。
Further, when the detection electromotive force is detected by the detection unit 5, the feedback circuit 6 supplies a current to the feedback coil 10. Feedback coil 10
When a current is applied to the feedback coil 10, the feedback coil 10 is in the magnetic field of the magnet 3 arranged below, so that F = iBl (F:
Force, i current, B: magnetic field strength, l: conductor length). Therefore, the movable part 4 is returned to its original position by passing an electric current so that the feedback coil 10 moves in a direction opposite to the direction in which the movable part 4 (silicon substrate 8) moves due to the acceleration of the object to be measured. Is able to. At this time, the direction of the current passed through the feedback coil 10 is determined by the direction in which the movable portion 4 (silicon substrate 8) moves. The amount of current flowing through the feedback coil 10 is determined by the amount of movement of the silicon substrate 8 (movable part 4), the strength of the magnet 3, and the length of the feedback coil 10. Acceleration can also be obtained by measuring the amount of current passed through by an ammeter (not shown).

【0030】このように構成された振動センサ1は、ガ
ラス基板7,7とシリコン基板8との陽極接合時の圧力
を調整することにより、可動部4に任意のダンピングを
かけることができる。また、シリコン基板8にエッチン
グを施す際には、その深さを調整することにより、ギャ
ップ間隔を調整することができる。ギャップ間隔を狭く
し、ギャップ内の圧力を高くすると、スクイズトフィル
ム現象により、ダンピングがかかりやすくなる。ダンピ
ングを大きくかけて制動力を大きくすると、振動センサ
は帯域の広い加速度計とすることができ、制動力がなく
大きく動くところと制動力によって動きにくくなるとこ
ろとの境目(臨界減衰)にダンピングを調整すると、加
加速度計あるいは速度計とすることができる。加加速度
計、加速度計及び速度計は、図4に示すように、検出用
コイル9の固有振動数f0よりも低いところでは加加速
度計、固有振動数f0付近では加速度計、固有振動数f0
より高いところでは速度計となるようになっている。な
お、加加速度計および速度計での加加速度または速度の
測定も、上述した加速度を測定する場合と同様である。
In the vibration sensor 1 thus constructed, the movable portion 4 can be arbitrarily damped by adjusting the pressure at the time of anodic bonding between the glass substrates 7, 7 and the silicon substrate 8. Further, when etching the silicon substrate 8, the gap interval can be adjusted by adjusting the depth thereof. If the gap distance is narrowed and the pressure in the gap is increased, damping tends to occur due to the squeeze film phenomenon. If the damping force is increased to increase the braking force, the vibration sensor can be used as an accelerometer with a wide band, and damping is applied at the boundary (critical damping) between a place that moves largely without braking force and a place that becomes difficult to move due to braking force. When adjusted, it can be a jerk or speedometer. As shown in FIG. 4, the jerk, the accelerometer, and the speedometer have a jerk at a position lower than the natural frequency f 0 of the detection coil 9, and an accelerometer and a natural frequency near the natural frequency f 0. f 0
It is designed to be a speedometer at higher places. It should be noted that the measurement of jerk or velocity by the jerk and the speedometer is the same as the case of measuring the above-mentioned acceleration.

【0031】このように、本実施の形態の振動センサ1
によれば、検出用コイル9は、シリコン基板8の表面に
螺旋状にパタンニングされているので、充分なコイル長
を確保したまま、当該検出用コイル9の占めるスペース
を最小限に抑えることができる。すなわち、このような
検出用コイル9の配置によれば、従来必要であったコイ
ルボビンが不要となり、その分、振動センサ1全体をよ
り小型に実現できる。また、フィードバック回路6を設
け、検出部5から出力された検出値をもとに、シリコン
基板8(可動部4)下面に設けたフィードバック用コイ
ル10に電流を流すことにより、フィードバック用コイ
ル10に力が作用し、移動した可動部4(シリコン基板
8)を元の位置に戻すことができる。これにより、被測
定体の振動の強さの如何に拘わらずに、可動部4の変位
を最小限に抑えることができるので、ダイナミックレン
ジを広くすることができる。また、このフィードバック
用コイル10による復元力(可動部4を元の位置に戻す
力)は振動センサ1に衝撃等が加わり、可動部4が大き
く動いた場合でも生じるので、振動センサ1の耐久力を
増すことができる。さらに、フィードバック用コイル1
0に流れた電流量からも加速度(加加速度、速度)を計
測することができるので、振動センサ1を製作した際の
作りむらなどに影響されず、精度の良い動特性の計測を
行える。
As described above, the vibration sensor 1 of the present embodiment
According to this, since the detection coil 9 is spirally patterned on the surface of the silicon substrate 8, the space occupied by the detection coil 9 can be minimized while ensuring a sufficient coil length. it can. That is, according to the arrangement of the detection coil 9 as described above, the coil bobbin which is conventionally required is not necessary, and the vibration sensor 1 as a whole can be made smaller by that amount. In addition, the feedback circuit 6 is provided, and a current is passed through the feedback coil 10 provided on the lower surface of the silicon substrate 8 (movable portion 4) based on the detection value output from the detection unit 5, so that the feedback coil 10 is provided. A force is applied, and the moved movable portion 4 (silicon substrate 8) can be returned to its original position. As a result, the displacement of the movable portion 4 can be suppressed to a minimum regardless of the strength of vibration of the object to be measured, so that the dynamic range can be widened. Further, the restoring force (the force for returning the movable portion 4 to the original position) by the feedback coil 10 is generated even when the movable portion 4 is largely moved due to the impact or the like applied to the vibration sensor 1. Can be increased. Furthermore, the feedback coil 1
Since the acceleration (jerk, velocity) can be measured also from the amount of current flowing to zero, the dynamic characteristics can be measured with high accuracy without being affected by unevenness in manufacturing when the vibration sensor 1 is manufactured.

【0032】ガラス基板7,7とシリコン基板8を陽極
接合して可動部4を密閉するようにし、接合の際の圧力
調整で内圧を調整できるようにしたことにより、ダンピ
ングをかけやすくすることができ、振動センサ1を帯域
の広い加速度計としてだけでなく、加加速度計として用
いることも、速度計として用いることもできる。また、
可動部4を磁石3,3の間に設けたことにより、これら
の配置構造が合理化されるので、振動センサ1のサイズ
を小型化できる。
The glass substrates 7 and 7 and the silicon substrate 8 are anodically bonded to each other so that the movable portion 4 is hermetically sealed, and the internal pressure can be adjusted by adjusting the pressure at the time of bonding, thereby facilitating damping. Therefore, the vibration sensor 1 can be used not only as a wide band accelerometer but also as a jerk or a speedometer. Also,
By disposing the movable portion 4 between the magnets 3 and 3, the arrangement structure of these is rationalized, so that the size of the vibration sensor 1 can be reduced.

【0033】マイクロマシニングにより可動部4を形成
したことにより、振動センサ1の可動部4の極小化を図
ることができると共に、複数の可動部4を一括形成でき
る。従って、一定品質の可動部4を多量に生産でき、低
コストに押さえることができる。また、シリコン基板8
にフィードバック用コイル10を形成する際に、コイル
10を渦巻き状にパタンニングしたことにより、コイル
長を長くすることができ、フィードバック用コイル10
に作用する力を大きくすることができるので、シリコン
基板8(可動部4)を元の位置に容易に戻すことができ
るようになる。また、エッチングの深さを調整すること
により、ギャップ間隔を精密に調整することもできる。
By forming the movable portion 4 by micromachining, the movable portion 4 of the vibration sensor 1 can be minimized and a plurality of movable portions 4 can be collectively formed. Therefore, a large number of movable parts 4 having a constant quality can be produced, and the cost can be reduced. Also, the silicon substrate 8
When the feedback coil 10 is formed on the coil 10, the coil 10 is spirally patterned, so that the coil length can be increased.
Since the force acting on can be increased, the silicon substrate 8 (movable part 4) can be easily returned to its original position. In addition, the gap distance can be precisely adjusted by adjusting the etching depth.

【0034】なお、以上の実施の形態例においては、可
動部を円形としたが、これに限定されるものではなく、
例えば四辺形等であっても良い。また、本実施の形態例
においては、フィードバック制御部を備えた振動センサ
を用いて説明を行ったが、可動部に形成するコイルを1
つ(検出用コイルのみ)とし、フィードバック制御部を
備えない振動センサとしても良い。磁気回路2の形状等
も任意であり、その他、具体的な細部構造等についても
適宜に変更可能であることは勿論である。
Although the movable portion is circular in the above embodiments, the invention is not limited to this.
For example, it may be a quadrangle or the like. Further, in the present embodiment, the description has been given using the vibration sensor including the feedback control unit, but the coil formed in the movable unit is
A vibration sensor may be provided (only the detection coil), and the feedback sensor may not be provided. The shape and the like of the magnetic circuit 2 are arbitrary, and it is needless to say that the specific detailed structure and the like can be appropriately changed.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明によれば、検出用コイルを基板の
表面に螺旋状にパタンニングして構成したので、コイル
ボビンは不用となり、その分、より小型の振動センサが
提供される。また、本発明によれば、磁界部内に被測定
体の動きに連動して動く可動部を備え、この可動部に検
出用コイルを設けたことにより、被測定体の動きに伴っ
て可動部と共に検出用コイルが動き、検出用コイルはV
=vBl(V:出力電圧、v:速度、B:磁界の強さ、
l:導線の長さ)で示される起電力を発生する。したが
って、検出部によりこの起電力を検出することにより、
被測定体の位置移動変化に基づく速度、加速度、加加速
度を測定できる。
According to the present invention, since the coil for detection is formed by spirally patterning on the surface of the substrate, the coil bobbin is unnecessary, and a smaller vibration sensor is provided accordingly. Further, according to the present invention, a movable portion that moves in association with the movement of the measured object is provided in the magnetic field portion, and the detection coil is provided in the movable portion, so that the movable portion moves together with the movement of the measured object. The detection coil moves, and the detection coil is V
= VB1 (V: output voltage, v: speed, B: magnetic field strength,
l: length of conducting wire). Therefore, by detecting this electromotive force by the detection unit,
It is possible to measure velocity, acceleration, and jerk based on the change in position of the measured object.

【0036】また、本発明によれば、検出部から検出さ
れた起電力により、可動部の位置を基に戻すフィードバ
ック制御部を備えたことにより、ダイナミックレンジを
広げ、帯域を伸ばすことが可能となる。また、この復元
力(可動部の位置を基に戻す力)により、振動センサは
衝撃等に強くなり、使用可能範囲を広げることができ
る。
Further, according to the present invention, since the electromotive force detected by the detection unit is included in the feedback control unit for returning the position of the movable unit to the original position, the dynamic range can be expanded and the band can be extended. Become. In addition, this restoring force (a force that returns the position of the movable portion to the original position) makes the vibration sensor stronger against impacts and the like, so that the usable range can be expanded.

【0037】また、本発明によれば、フィードバック制
御部に、可動部に形成したフィードバック用コイルを備
え、検出部によって検出された起電力に伴ってこのフィ
ードバック用コイルに電流を流すことにより、磁界内の
フィードバック用コイルを形成する導線にF=iBl
(F:力、i:電流、B:磁場の強さ、l:導線の長
さ)で現すことができる力が作用する。従って、フィー
ドバック用コイルがこの力Fによって動き、可動部を元
の位置に戻すようになるので、振動センサに衝撃等が加
えられた場合でも可動部が元の位置に戻り、振動センサ
は衝撃に強くなる。また、検出用コイルが発生する起電
力からだけでなく、このフィードバック用コイルに流し
た電流を計測することによっても動特性を計測すること
ができるので、精度の良い測定を行うことができる。ま
た、フィードバック用コイルを渦巻き状にパタンニング
することにより、コイル長を長くすることができ、フィ
ードバック用コイルに作用する力を大きくすることがで
きるので、可動部を容易に元の位置に戻すことができ
る。
Further, according to the present invention, the feedback control section is provided with the feedback coil formed in the movable section, and a current is caused to flow through the feedback coil in accordance with the electromotive force detected by the detection section. F = iBl on the conductor forming the feedback coil in
A force that can be expressed by (F: force, i: current, B: strength of magnetic field, l: length of conducting wire) acts. Therefore, since the feedback coil moves by this force F and returns the movable part to the original position, even if a shock or the like is applied to the vibration sensor, the movable part returns to the original position and the vibration sensor receives the shock. Become stronger. Further, since the dynamic characteristics can be measured not only from the electromotive force generated by the detection coil but also by measuring the current flowing in the feedback coil, accurate measurement can be performed. Also, by spirally patterning the feedback coil, the coil length can be increased and the force acting on the feedback coil can be increased, so that the movable part can be easily returned to its original position. You can

【0038】また、本発明によれば、可動部をガラス基
板方向に可動なシリコン基板で形成し、シリコン基板の
両面にコイルを形成したことにより、被測定体が動くと
ともに可動部が動き、可動部(シリコン基板)のコイル
が動く。これにより、一方の検出用コイルが起電力を発
生し、この起電力から加加速度、加速度あるいは速度を
測定することができる。また、他方のフィードバック用
コイルに電流を流すことによって、動いた可動部を元に
戻すフィードバック制御を行うことができる。
Further, according to the present invention, the movable portion is formed of the silicon substrate movable in the glass substrate direction, and the coils are formed on both surfaces of the silicon substrate. The coil of the part (silicon substrate) moves. As a result, one of the detection coils generates an electromotive force, and the jerk, acceleration, or velocity can be measured from this electromotive force. Further, by feeding a current to the other feedback coil, it is possible to perform feedback control for returning the moving movable part to the original position.

【0039】また、本発明によれば、可動部をマイクロ
マシニングで形成したことにより、可動部の極小化を図
ることができ、複数の可動部を一括形成できる。従っ
て、一定品質の可動部を多量に生産でき、低コストに押
さえることができる。さらに、シリコン基板のエッチン
グの深さを調整することにより、ギャップ間隔を精密に
調整することができる。
Further, according to the present invention, since the movable portion is formed by micromachining, the movable portion can be minimized, and a plurality of movable portions can be collectively formed. Therefore, it is possible to produce a large number of movable parts having a constant quality and keep the cost low. Furthermore, by adjusting the etching depth of the silicon substrate, the gap distance can be adjusted precisely.

【0040】また、本発明によれば、ガラス基板とシリ
コン基板とを陽極接合することにより、可動部およびコ
ンデンサ部は完全に封止される。また、ガラス基板とシ
リコン基板との間のギャップ内の圧力を調整することに
より、ダンピングをかけやすく、自由に調整できるよう
になる。従って、容易に大きなダンピングをかけること
もでき、加速度計として利用することも可能であるし、
加加速度計や速度計として利用することも可能となる。
Further, according to the present invention, the movable portion and the capacitor portion are completely sealed by anodic bonding the glass substrate and the silicon substrate. Further, by adjusting the pressure in the gap between the glass substrate and the silicon substrate, damping can be easily applied and the pressure can be adjusted freely. Therefore, large damping can be applied easily, and it can be used as an accelerometer.
It can also be used as a jerk or speedometer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を適用した一例としての振動センサの概
略側面図である。
FIG. 1 is a schematic side view of a vibration sensor as an example to which the present invention is applied.

【図2】図1における振動センサの磁石の配置パターン
を示す磁石部分の概略側面図である。
FIG. 2 is a schematic side view of a magnet portion showing an arrangement pattern of magnets of the vibration sensor in FIG.

【図3】シリコン基板の表面を示す図であって、(a)
はシリコン基板の上面図であり、(b)はシリコン基板
の底面図である。
FIG. 3 is a diagram showing a surface of a silicon substrate, which is (a).
Is a top view of the silicon substrate, and (b) is a bottom view of the silicon substrate.

【図4】図1における振動センサの帯域による測定対象
を示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing a measurement target according to a band of the vibration sensor in FIG.

【図5】従来技術の一例としての速度検出装置を示す断
面概略図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a speed detection device as an example of a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 振動センサ 2 磁気回路 3 磁石(第1の磁場生成手段) 3 磁石(第2の磁場生成手段) 4 可動部 5 検出部 7 ガラス基板(透磁性基板) 8 シリコン基板(基板) 9 検出用コイル 10 制動用コイル 12 フィードバック制御部(制御手段) 1 Vibration sensor 2 magnetic circuit 3 magnets (first magnetic field generating means) 3 magnets (second magnetic field generating means) 4 moving parts 5 Detector 7 Glass substrate (magnetically permeable substrate) 8 Silicon substrate (substrate) 9 Detection coil 10 Braking coil 12 Feedback control unit (control means)

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】被測定体の振動を検出するために、当該被
測定体に取り付けられる振動センサであって、 前記被測定体の振動に伴って、少なくとも厚さ方向に自
在に変位するよう弾性支持された基板と、 前記基板の表面に、螺旋状にパタンニングされた検出用
コイルと、 前記検出用コイルに第1の磁場を印加する第1の磁場生
成手段と、を備え、 前記検出用コイルに生ずる誘導起電力に基づいて前記被
測定体の振動を検出するように構成されていることを特
徴とする振動センサ。
1. A vibration sensor attached to an object to be measured for detecting the vibration of the object to be measured, the sensor being elastic so as to be freely displaced at least in a thickness direction with the vibration of the object to be measured. A substrate supported, a coil for detection spirally patterned on the surface of the substrate, and a first magnetic field generating means for applying a first magnetic field to the coil for detection, A vibration sensor configured to detect vibration of the object to be measured based on an induced electromotive force generated in a coil.
【請求項2】前記第1の磁場生成手段は、当該磁束が前
記検出用コイルの放射方向或いは求心方向に向かうよう
に配置されていることを特徴とする請求項1記載の振動
センサ。
2. The vibration sensor according to claim 1, wherein the first magnetic field generating means is arranged such that the magnetic flux is directed in a radiation direction or a centripetal direction of the detection coil.
【請求項3】前記検出用コイルは、前記基板の一方面に
設けられていると共に、当該基板の他方面には、螺旋状
にパタンニングされた制動用コイルが設けられており、 前記制動用コイルに第2の磁場を印加する第2の磁場生
成手段と、 前記誘導起電力の大きさに応じた電流を前記制動用コイ
ルに供給する事により、前記基板の慣性力を、前記制動
用コイルが前記第2の磁場中に於いて生ぜしめる力でも
って減殺する制御を行う制御手段と、 を備えていることを特徴とする請求項1又は2記載の振
動センサ。
3. The detecting coil is provided on one surface of the substrate, and the braking coil spirally patterned is provided on the other surface of the substrate. A second magnetic field generating means for applying a second magnetic field to the coil, and an electric current corresponding to the magnitude of the induced electromotive force are supplied to the braking coil, whereby the inertial force of the substrate is reduced to the braking coil. 3. The vibration sensor according to claim 1 or 2, further comprising: a control unit that performs control to reduce the force with a force generated in the second magnetic field.
【請求項4】前記第2の磁場生成手段は、当該磁束が前
記制動用コイルの放射方向或いは求心方向に向かうよう
に配置されていることを特徴とする請求項3記載の振動
センサ。
4. The vibration sensor according to claim 3, wherein the second magnetic field generating means is arranged such that the magnetic flux is directed in a radial direction or a centripetal direction of the braking coil.
【請求項5】前記基板は、これと略平行に配置された2
枚の透磁性基板によって隙間を確保した状態で両面側か
ら挟まれており、 当該各透磁性基板の一方を介して前記検出用コイルに前
記第1の磁場が印加され、他方を介して前記制動用コイ
ルに前記第2の磁場が印加されるように構成されている
ことを特徴とする請求項3又は4記載の振動センサ。
5. The substrate is arranged in parallel with the substrate 2.
It is sandwiched by two magnetically permeable substrates from both sides in a state where a gap is secured, the first magnetic field is applied to the detection coil through one of the magnetically permeable substrates, and the braking is performed through the other. The vibration sensor according to claim 3 or 4, wherein the second magnetic field is applied to the coil for use.
【請求項6】請求項3記載の振動センサの製造方法であ
って、 前記検出用コイルをマイクロマシニングにより形成する
工程と、 前記制動用コイルをマイクロマシニングにより形成する
工程と、 を含むことを特徴とする振動センサの製造方法。
6. The method for manufacturing a vibration sensor according to claim 3, further comprising: a step of forming the detection coil by micromachining; and a step of forming the braking coil by micromachining. And a method of manufacturing a vibration sensor.
【請求項7】請求項5記載の振動センサの製造方法であ
って、 前記基板と前記2枚の透磁性基板との間の気密を保ちつ
つ、当該内圧を所定値に調整する第1工程と、 次いで、前記基板を前記2枚の透磁性基板を用いて気密
封止する第2工程と、を含むことを特徴とする振動セン
サの製造方法。
7. The method for manufacturing a vibration sensor according to claim 5, further comprising a first step of adjusting the internal pressure to a predetermined value while maintaining airtightness between the substrate and the two magnetically permeable substrates. Then, a second step of hermetically sealing the substrate using the two magnetically permeable substrates is included.
【請求項8】前記基板はシリコンからなると共に、前記
2枚の透磁性基板は何れもガラスからなり、 前記第2工程では、当該シリコン基板と当該各ガラス基
板とを陽極接合することを特徴とする請求項7記載の振
動センサの製造方法。
8. The substrate is made of silicon, and the two magnetically permeable substrates are both made of glass. In the second step, the silicon substrate and each glass substrate are anodically bonded. The method for manufacturing a vibration sensor according to claim 7.
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