JP2003035874A - Thin-film slide connecting mechanism and its manufacturing method, and mirror device and optical switch using the same - Google Patents

Thin-film slide connecting mechanism and its manufacturing method, and mirror device and optical switch using the same

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JP2003035874A
JP2003035874A JP2001222069A JP2001222069A JP2003035874A JP 2003035874 A JP2003035874 A JP 2003035874A JP 2001222069 A JP2001222069 A JP 2001222069A JP 2001222069 A JP2001222069 A JP 2001222069A JP 2003035874 A JP2003035874 A JP 2003035874A
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JP
Japan
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mirror
leaf spring
thin film
substrate
film slide
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Japanese (ja)
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Toru Ishizuya
徹 石津谷
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Nikon Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To actualize size reduction and more improved mass-productivity while maintaining superior optical characteristics. SOLUTION: A mirror device is equipped with a mirror 2 and a support mechanism which elastically supports the mirror 2 over a substrate 1 so that the mirror can slant in an arbitrary direction. The support mechanism has three support parts 3A to 3C which mechanically connect the substrate 1 and mirror 2. The support parts 3A to 3C each have one or more leaf spring part 5 which is composed of one or more layers of thin films. One end part of the leaf spring part 5 is connected to the substrate 1 through a leg part 9. The other end part of the leaf spring part 5 is mechanically connected to the mirror 2 by a thin-film slide connecting mechanism. The connecting mechanism has an oblong hole 2c bored in the mirror 2 and an insertion part 10 which is run through the oblong hole 2c with clearance and fixed to the other end part of the leaf spring part 5.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜スライド接続
機構及びその製造方法並びにこれを用いたミラーデバイ
ス及び光スイッチに関するものである。この光スイッチ
は、例えば、光通信装置や光伝送装置等で用いることが
できるものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film slide connection mechanism, a method for manufacturing the same, a mirror device and an optical switch using the same. This optical switch can be used, for example, in an optical communication device, an optical transmission device, or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の光通信技術の進展に伴い、光路を
切り換えるための光スイッチの重要性が高まっている。
光スイッチには、ミラー等の可動部を持つ機械式光スイ
ッチと電気光学効果等を利用した電子式光スイッチとが
ある。機械式光スイッチは、電子式光スイッチに比べ
て、挿入損失やクロストークなどの光学特性に優れてお
り、本質的な基本特性に優れている。しかし、機械式光
スイッチは、電子式光スイッチに比べて、小型化や量産
性の点で著しく劣るとされてきた。
2. Description of the Related Art With the recent development of optical communication technology, the importance of optical switches for switching optical paths is increasing.
The optical switch includes a mechanical optical switch having a movable part such as a mirror and an electronic optical switch utilizing an electro-optical effect or the like. The mechanical optical switch is superior to the optical optical switch in optical characteristics such as insertion loss and crosstalk, and is excellent in essential basic characteristics. However, the mechanical optical switch has been considered to be significantly inferior to the electronic optical switch in terms of downsizing and mass productivity.

【0003】ところが、近年のMEMS(Micro-Electr
o-Mechanical System)技術の発達に伴い、これを利用
して集積度や量産性の向上を図った機械式光スイッチが
提案されるに至っている。
However, in recent years, MEMS (Micro-Electr
With the development of o-Mechanical System technology, a mechanical optical switch has been proposed which utilizes this to improve the degree of integration and mass productivity.

【0004】このようなMEMS技術を利用した従来の
機械式光スイッチは、光路切り換えの原理として特公昭
56−36401号公報に開示されたものと同様の原理
を採用し、光路に進出及び退出可能に直線移動し得るミ
ラーを2次元マトリクス状に配置したものであった。す
なわち、この光スイッチは、M×N個のミラーを配置し
た基板と、基板の一辺に沿って配置されたM本の光入力
用光ファイバと、基板の前記一辺と直交する他の一辺に
沿って配置されたN本の光出力用光ファイバとから構成
されている。M×N個のミラーは、M本の光入力用光フ
ァイバの出射光路と光出力用光ファイバの入射光路との
交差点に対してそれぞれ進出及び退出可能に基板の法線
方向に直線移動し得るように、2次元マトリクス状に基
板上に配置されている。
A conventional mechanical optical switch using such a MEMS technique adopts the same principle as that disclosed in Japanese Examined Patent Publication No. 56-36401, as the principle of switching the optical path, and can move in and out of the optical path. The mirrors that can move linearly are arranged in a two-dimensional matrix. That is, the optical switch includes a substrate on which M × N mirrors are arranged, M optical input optical fibers arranged along one side of the substrate, and another side orthogonal to the one side of the substrate. It is composed of N optical output optical fibers arranged in parallel. The M × N mirrors move linearly in the normal direction of the substrate so that they can advance and retreat at the intersections of the outgoing optical paths of the M optical input optical fibers and the incident optical paths of the optical output optical fibers. In order to obtain, it is arranged on the substrate in a two-dimensional matrix form.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たMEMS技術を利用した従来の機械式光スイッチで
は、M本の光入力用光ファイバからの光をN本の光出力
用光ファイバへ切り換えるために、2次元マトリクス配
置されたM×N個のミラーが必要となり、ミラーの数が
増大していた。例えば、1000本の光入力用光ファイ
バからの光を1000本の光出力用光ファイバへ切り換
えようとすると、基板上に1000000個ものミラー
を2次元マトリクス配置する必要がある。したがって、
前記従来の機械式光スイッチでは、MEMS技術を利用
しており、旧来の機械式スイッチに比べれば小型化や量
産性が向上しているものの、必ずしも十分なものではな
かった。
However, in the conventional mechanical optical switch utilizing the above-mentioned MEMS technology, in order to switch the light from the M optical input optical fibers to the N optical output optical fibers. M × N mirrors arranged in a two-dimensional matrix are required, and the number of mirrors has increased. For example, if the light from 1000 optical input optical fibers is to be switched to 1000 optical output optical fibers, it is necessary to arrange 1,000,000 mirrors in a two-dimensional matrix on the substrate. Therefore,
The above-mentioned conventional mechanical optical switch uses the MEMS technology and is smaller than the conventional mechanical switch and has improved mass productivity, but it is not always sufficient.

【0006】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、ミラーを利用して光路を切り換えることによ
り優れた光学特性を保ちながら、前述した従来の光スイ
ッチに比べて、小型化及び量産性をより一層向上させる
ことができる光スイッチを提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and is smaller than the conventional optical switch described above while maintaining excellent optical characteristics by switching the optical path by using a mirror. An object of the present invention is to provide an optical switch capable of further improving mass productivity.

【0007】また、本発明は、このような光スイッチな
どに適したミラーデバイス並びに薄膜スライド接続機構
及びその製造方法を提供することを目的とする。
It is another object of the present invention to provide a mirror device suitable for such an optical switch and the like, a thin film slide connection mechanism and a method for manufacturing the same.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明の第1の態様によるミラーデバイスは、基体
と、1層以上の薄膜で構成されたミラーと、該ミラーを
前記基体に対して前記基体から浮いた状態にかつ任意の
方向に傾動可能に弾性支持する支持機構とを備え、供給
される駆動信号に応じた方向及び傾き量で前記ミラーが
前記基体に対して傾くミラーデバイスであって、前記支
持機構は、前記基体と前記ミラーとの間を機械的に接続
する1つ以上の(すなわち、1つ又は複数の)支持部を
有し、前記各支持部は、1層以上の薄膜で構成された1
つ以上の板ばね部を有し、前記1つ以上の支持部のうち
の少なくとも1つの支持部において、前記1つ以上の板
ばね部がなす機械的な接続ルートの一端部に相当する板
ばね部の一端部は、当該一端部と前記ミラーとを相対的
にスライド自在に機械的に接続する薄膜スライド接続機
構により、前記ミラーに機械的に接続され、前記薄膜ス
ライド機構は、前記ミラーと前記接続ルートの前記一端
部に相当する前記板ばね部とのうちの、一方に形成され
た長穴と、該長穴に遊びを持って挿通されて、前記ミラ
ーと前記接続ルートの前記一端部に相当する前記板ばね
部とのうちの、他方に固定された挿通部と、を有し、前
記挿通部の前記長穴からの抜けが防止されるように構成
されたものである。
In order to solve the above-mentioned problems, a mirror device according to a first aspect of the present invention comprises a substrate, a mirror composed of one or more thin films, and the mirror with respect to the substrate. And a support mechanism for elastically supporting the base so as to be tiltable in an arbitrary direction while floating from the base, and the mirror tilts with respect to the base in a direction and a tilt amount according to a drive signal supplied. The supporting mechanism has one or more (that is, one or more) supporting portions that mechanically connect the base and the mirror, and each supporting portion has one or more layers. 1 composed of a thin film of
A leaf spring having one or more leaf spring portions and corresponding to one end of a mechanical connection route formed by the one or more leaf spring portions in at least one of the one or more support portions. One end of the portion is mechanically connected to the mirror by a thin film slide connection mechanism that mechanically connects the one end and the mirror relatively slidably, and the thin film slide mechanism includes the mirror and the mirror. Of the leaf spring portion corresponding to the one end portion of the connection route, an elongated hole formed in one side, and with a play in the elongated hole, the mirror and the one end portion of the connection route. An insertion portion fixed to the other of the corresponding leaf spring portions is provided, and the insertion portion is configured to be prevented from coming off from the elongated hole.

【0009】この第1の態様によれば、ミラーを前記基
体に対して前記基体から浮いた状態にかつ任意の方向に
傾動可能に弾性支持する支持機構が、薄膜で構成された
板ばね部を利用した前述した構造を有しているので、構
造が簡単となり、半導体製造工程の膜形成技術等を用い
て簡単に製造することができる。そして、前記1つ以上
の支持部のうちの少なくとも1つの支持部において、前
記1つ以上の板ばね部がなす機械的な接続ルートの一端
部に相当する板ばね部の一端部が、前記薄膜スライド接
続機構により、前記ミラーに機械的に接続されている。
したがって、ミラーの傾動等に伴って生じようとするス
トレスが、この薄膜スライド接続機構により緩和され、
機械的な強度を高めることができるとともにミラーの傾
動動作が円滑となる。
According to the first aspect, the support mechanism for elastically supporting the mirror with respect to the base body in a state of being floated from the base body and tiltable in an arbitrary direction includes a leaf spring portion formed of a thin film. Since it has the above-described structure used, the structure is simple, and it can be easily manufactured by using the film forming technique in the semiconductor manufacturing process. Then, in at least one support portion of the one or more support portions, one end portion of the leaf spring portion corresponding to one end portion of a mechanical connection route formed by the one or more leaf spring portions is the thin film. It is mechanically connected to the mirror by a slide connection mechanism.
Therefore, the stress that is about to occur due to tilting of the mirror is alleviated by this thin film slide connection mechanism,
The mechanical strength can be increased and the tilting movement of the mirror becomes smooth.

【0010】本発明の第2の態様によるミラーデバイス
は、前記第1の態様において、Nを3以上の整数とし
て、前記1つ以上の支持部の数がNであり、当該N個の
支持部は、前記ミラーの中心を中心とする所定半径の円
上において360゜/Nの角度をなす前記ミラーのN個
の箇所の付近を、前記薄膜スライド接続機構により、そ
れぞれ略々前記半径の方向方向にスライド自在に支持す
るものである。
A mirror device according to a second aspect of the present invention is the mirror device according to the first aspect, wherein N is an integer of 3 or more, and the number of the one or more supporting portions is N. By the thin-film slide connection mechanism, in the vicinity of N points of the mirror forming an angle of 360 ° / N on a circle having a predetermined radius centered on the center of the mirror, respectively. It is slidably supported on.

【0011】この第2の態様のように支持部の数を3以
上としてそれらによるミラーの支持箇所を設定すると、
ミラーをより安定して任意の方向に傾動可能に支持する
ことができ、好ましい。
When the number of supporting portions is set to three or more and the supporting portions of the mirrors are set by the number as in the second aspect,
This is preferable because the mirror can be supported more stably and tiltably in any direction.

【0012】本発明の第3の態様による光スイッチは、
1つ以上の光入力部から出射された光を複数の光出力部
のいずれかに入射させる光スイッチにおいて、前記第1
又は第2の態様によるミラーデバイスを含み、前記1つ
以上の光入力部から出射された光が、前記ミラーデバイ
スの前記ミラーで反射された後に、前記複数の光出力部
のいずれかに入射するものである。
An optical switch according to the third aspect of the present invention comprises:
In the optical switch for causing the light emitted from one or more light input units to enter any one of the plurality of light output units,
Alternatively, the mirror device according to the second aspect is included, and the light emitted from the one or more light input units is reflected by the mirror of the mirror device and then enters any of the plurality of light output units. It is a thing.

【0013】この第3の態様によれば、前記第1又は第
2の態様によるミラーデバイスが用いられているので、
入力光路と同数のミラーで多くの出力光路に切り換える
ことができ、例えば、1000個のミラーで1000個
の入力光路を1000個の出力光路に切り換えることが
できる。したがって、前記第3の態様によれば、ミラー
の数が少なくてすむため、前述した従来のMEMS技術
を利用した機械式光スイッチに比べて、小型化及び量産
性が大幅に向上する。勿論、ミラーを利用して光路を切
り換えるので、電子式光スイッチに比べて、挿入損失や
クロストークなどの光学特性に優れている。
According to the third aspect, since the mirror device according to the first or second aspect is used,
A large number of output optical paths can be switched by the same number of mirrors as the input optical paths. For example, 1000 input optical paths can be switched to 1000 output optical paths by 1000 mirrors. Therefore, according to the third aspect, since the number of mirrors can be reduced, the size and mass productivity are significantly improved as compared with the mechanical optical switch using the conventional MEMS technology described above. Of course, since the optical path is switched using the mirror, the optical characteristics such as insertion loss and crosstalk are superior to those of the electronic optical switch.

【0014】本発明の第4の態様による薄膜スライド接
続機構は、1層以上の薄膜で構成され平板状部を持つ第
1の部材と、第2の部材とを、相対的にスライド自在に
機械的に接続する薄膜スライド接続機構であって、前記
平板状部に長穴が形成され、前記長穴に遊びを持って挿
通された挿通部が前記第2の部材に対して固定され、前
記挿通部の前記長穴からの抜けが防止されるように構成
されたものである。前記第2の部材は、1層以上の薄膜
で構成されてもよいし、他の構成でもよい。
A thin film slide connection mechanism according to a fourth aspect of the present invention is a mechanism in which a first member having a flat plate-like portion formed of one or more thin films and a second member are slidable relative to each other. In the thin film slide connection mechanism, the elongated portion is formed in the flat plate portion, and the insertion portion inserted with play in the elongated hole is fixed to the second member. The part is configured to be prevented from coming off from the elongated hole. The second member may be composed of one or more layers of thin film, or may have another structure.

【0015】この第4の態様による薄膜スライド接続機
構は、前述した本発明によるミラーデバイスに好適に用
いることができる。もっとも、前記第4の態様による薄
膜スライド接続機構の用途はこれに限定されるものでは
なく、他の種々のMEMSやその他の種々のマイクロマ
シーンにおいて用いることができる。
The thin film slide connection mechanism according to the fourth aspect can be suitably used for the above-described mirror device according to the present invention. However, the application of the thin film slide connection mechanism according to the fourth aspect is not limited to this, and the thin film slide connection mechanism can be used in various other MEMS and other various micromachines.

【0016】本発明の第5の態様による薄膜スライド機
構の製造方法は、前記第4の態様による薄膜スライド接
続機構を製造する製造方法であって、前記第1及び第2
の部材間に介在する犠牲層を形成する段階と、前記犠牲
層を除去する段階とを備えたものである。
A method of manufacturing a thin film slide mechanism according to a fifth aspect of the present invention is a method of manufacturing the thin film slide connection mechanism according to the fourth aspect, wherein the first and second methods are used.
And a step of removing the sacrificial layer interposed between the members.

【0017】この第5の態様によれば、犠牲層を利用し
ているため、前記第4の態様による薄膜スライド接続機
構を容易に製造することができる。
According to the fifth aspect, since the sacrificial layer is used, the thin film slide connection mechanism according to the fourth aspect can be easily manufactured.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明による薄膜スライド
接続機構及びその製造方法並びにこれを用いたミラーデ
バイス及び光スイッチについて、図面を参照して説明す
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A thin film slide connecting mechanism and a method for manufacturing the same, a mirror device and an optical switch using the same will be described below with reference to the drawings.

【0019】[第1の実施の形態][First Embodiment]

【0020】図1は、本発明の第1の実施の形態による
ミラーデバイスの単位素子を模式的に示す概略平面図で
ある。図2は、図1中のO−A線に沿った概略断面図で
ある。図3は、図1中のO−D線に沿った概略断面図で
ある。図面には示していないが、図1中のO−B線に沿
った概略断面図及び図1中のO−C線に沿った概略断面
図は、図2と同様となる。なお、以下の説明において、
上下は、図2に従うものとする。
FIG. 1 is a schematic plan view schematically showing a unit element of a mirror device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along the line OA in FIG. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view taken along the line O-D in FIG. Although not shown in the drawing, the schematic sectional view taken along the line OB in FIG. 1 and the schematic sectional view taken along the line OC in FIG. 1 are the same as those in FIG. In the following explanation,
The top and bottom shall be according to FIG.

【0021】本実施の形態によるミラーデバイスは、基
体としてのSi基板やガラス基板等の基板1(その面は
図1中の紙面と平行である。)と、ミラー2と、ミラー
2を基板1に対して基板1から浮いた状態かつ任意方向
に傾動可能に弾性支持する支持機構とを備え、供給され
る駆動信号に応じた方向及び傾き量でミラー2が基板1
に対して傾くように構成されている。
In the mirror device according to this embodiment, a substrate 1 such as a Si substrate or a glass substrate (its surface is parallel to the paper surface in FIG. 1) as a substrate, a mirror 2, and a mirror 2 are provided on the substrate 1. A support mechanism that elastically supports the substrate 1 so that the mirror 2 can be tilted in any direction while floating from the substrate 1;
It is configured to lean against.

【0022】本実施の形態では、ミラー2は、1層のA
l膜で円板状に構成され、その平板状の円板部2aの全
周に渡って立ち下がり部2bが形成されている。ミラー
2の直径は、例えば、ミリオーダー程度とされる。図1
中のOはミラー2の中心を示している。この立ち下がり
部2bによって円板部2aの強度が補強されるので、円
板部2aの平坦性を確保しつつ、円板部2aの厚みを薄
くして軽量化を図ることができる。立ち下がり部2bに
代えて立ち上がりを形成しても同様である。もっとも、
本発明では、立ち下がり部2bや立ち上がりを必ずしも
形成する必要はない。また、ミラー2の材料もAl膜に
限定されるものではなく他の材料でもよいし、異なる材
料の2層以上の膜で構成してもよい。さらに、ミラー2
の形状は円形に限定されるものではなく、例えば、矩形
としてもよい。さらにまた、ミラー2の径を大きくする
ことによって、実質的にミラーとして作用する中央領域
(実効ミラー領域)の他に、実質的にミラーとして作用
しない周辺領域(無効ミラー領域であり、この領域に
は、例えば、遮光膜を形成しておいてもよい。)を設け
てもよい。この場合、後述する長穴2cを前記周辺領域
に配置すれば、長穴2c等により反射光量が低下するこ
とがなく、ミラー2による反射光量を増大させることが
できる。
In the present embodiment, the mirror 2 has one layer of A
The film 1 is formed in a disk shape, and a falling portion 2b is formed over the entire circumference of the plate-shaped disk portion 2a. The diameter of the mirror 2 is, for example, on the order of millimeters. Figure 1
The inside O indicates the center of the mirror 2. Since the strength of the disc portion 2a is reinforced by the falling portion 2b, the flatness of the disc portion 2a can be ensured, and the thickness of the disc portion 2a can be reduced to reduce the weight. The same applies when a rising edge is formed instead of the falling edge 2b. However,
In the present invention, it is not always necessary to form the falling portion 2b or the rising portion. The material of the mirror 2 is not limited to the Al film, but may be another material, or may be composed of two or more layers of different materials. Furthermore, mirror 2
The shape of is not limited to a circle, and may be, for example, a rectangle. Furthermore, by increasing the diameter of the mirror 2, in addition to the central region (effective mirror region) that substantially acts as a mirror, the peripheral region (ineffective mirror region, which does not substantially act as a mirror, For example, a light-shielding film may be formed). In this case, if a long hole 2c, which will be described later, is arranged in the peripheral region, the light amount reflected by the mirror 2 can be increased without reducing the light amount reflected by the long hole 2c and the like.

【0023】本実施の形態では、ミラー2は、ミラー2
を傾動させるための駆動力として静電力を加える可動側
の共通電極を兼用している。もっとも、例えば、ミラー
2を下側の絶縁膜(SiN膜等)と上側のAl膜とで構
成したような場合には、その下面に3つの電極を、互い
に独立して、後述する基板1上の電極4a,4b,4c
とそれぞれ対向するように形成してもよい。
In the present embodiment, the mirror 2 is the mirror 2
It also serves as a movable-side common electrode that applies an electrostatic force as a driving force for tilting. However, for example, when the mirror 2 is composed of a lower insulating film (SiN film or the like) and an upper Al film, three electrodes are provided on the lower surface of the mirror 2 independently of each other on the substrate 1 described later. Electrodes 4a, 4b, 4c
May be formed so as to face each other.

【0024】本実施の形態では、前記支持機構は、それ
ぞれが基板1とミラー2との間を機械的に接続する3つ
の支持部3A,3B,3Cで構成されている。これらの
支持部3A〜3Cは同じ構造を有しているので、ここで
は、支持部3Aについてのみ説明する。
In the present embodiment, the support mechanism is composed of three support parts 3A, 3B and 3C each mechanically connecting the substrate 1 and the mirror 2 to each other. Since these supporting portions 3A to 3C have the same structure, only the supporting portion 3A will be described here.

【0025】支持部3Aは、1つの板ばね部5を有して
いる。板ばね部5は、下側のSiN膜6と上側のAl膜
7とが積層された2層の薄膜で構成されている。板ばね
部5の材料や層数はこれに限定されるものではなく、層
数は1つ以上であればよい。板ばね部5は、図1に示す
ように、基板1の面の法線方向から見た平面視でミラー
2の半径方向に延びる直線状に構成されている。また、
板ばね部5は、図2に示すように、少なくとも前記駆動
信号が供給されていない状態において、上方(基板1と
反対側)に反っている。なお、図2及び図3は、駆動信
号が供給されていない状態を示している。板ばね部5は
必ずしも上方に反る必要はないが、本実施の形態のよう
に板ばね部5が上方に反っていると、ミラー2の高さを
稼ぐことができ、好ましい。
The support portion 3A has one leaf spring portion 5. The leaf spring portion 5 is composed of a two-layer thin film in which a lower SiN film 6 and an upper Al film 7 are laminated. The material and the number of layers of the leaf spring portion 5 are not limited to this, and the number of layers may be one or more. As shown in FIG. 1, the leaf spring portion 5 is formed in a straight line shape extending in the radial direction of the mirror 2 in a plan view seen from the direction normal to the surface of the substrate 1. Also,
As shown in FIG. 2, the leaf spring portion 5 is warped upward (on the side opposite to the substrate 1) at least in a state where the drive signal is not supplied. 2 and 3 show a state in which the drive signal is not supplied. The leaf spring portion 5 does not necessarily have to warp upward, but if the leaf spring portion 5 warps upward as in the present embodiment, the height of the mirror 2 can be increased, which is preferable.

【0026】図1及び図2に示すように、板ばね部5の
一端部は、基板1上に形成されたAl膜からなる配線パ
ターン8(図1では図示省略)を介して基板1から立ち
上がる立ち上がり部を持つ脚部9を介して、基板1に機
械的に接続されている。本実施の形態では、脚部9は、
板ばね部5を構成するSiN膜6及びAl膜7がそのま
ま延びることによって構成されている。Al膜7は、電
極として兼用されたミラー2を配線パターン8に電気的
に接続する配線としても兼用され、脚部9においてSi
N膜6に形成された開口を介して配線パターン8に電気
的に接続されている。なお、本実施の形態では、各支持
部3A〜3Cの配線パターン8は電気的に共通に接続さ
れている。
As shown in FIGS. 1 and 2, one end of the leaf spring portion 5 rises from the substrate 1 via a wiring pattern 8 (not shown in FIG. 1) made of an Al film formed on the substrate 1. It is mechanically connected to the substrate 1 via a leg portion 9 having a rising portion. In the present embodiment, the legs 9 are
It is configured by extending the SiN film 6 and the Al film 7 forming the leaf spring portion 5 as they are. The Al film 7 is also used as a wiring that electrically connects the mirror 2 that is also used as an electrode to the wiring pattern 8, and in the leg portion 9, Si is used.
It is electrically connected to the wiring pattern 8 through an opening formed in the N film 6. In addition, in the present embodiment, the wiring patterns 8 of the respective support portions 3A to 3C are electrically connected in common.

【0027】また、図1及び図2に示すように、板ばね
部5の他端部は、当該端部とミラー2とを相対的にスラ
イド自在に機械的に接続する薄膜スライド接続機構によ
り、ミラー2に機械的に接続されている。本実施の形態
では、前記薄膜スライド接続機構は、ミラー2の円板部
(平板状部)2aに形成された長穴2cと、長穴2cに
遊びを持って挿通され板ばね部5の他端部に固定された
挿通部10と、を有している。本実施の形態では、長穴
2cは、前述したように板ばね部5が平面視でミラー2
の半径方向に直線状に延びていることに合わせて、ミラ
ー2の半径方向に直線状に延びている。
Further, as shown in FIGS. 1 and 2, the other end of the leaf spring portion 5 is formed by a thin film slide connecting mechanism for mechanically connecting the end portion and the mirror 2 relatively slidably. It is mechanically connected to the mirror 2. In the present embodiment, the thin film slide connection mechanism includes a long hole 2c formed in the disc portion (flat plate portion) 2a of the mirror 2 and a leaf spring portion 5 inserted with play in the long hole 2c. And an insertion portion 10 fixed to the end portion. In the present embodiment, as described above, the long hole 2c has the leaf spring portion 5 in plan view.
Along with linearly extending in the radial direction of, the mirror 2 linearly extends in the radial direction.

【0028】長穴2cの幅(図2中の紙面に垂直な方向
の幅。図1も参照)が挿通部10の幅より若干(例え
ば、ミクロンオーダー程度)広く構成されることによ
り、長穴2cと挿通部10との間に遊び(長穴2cの幅
方向の隙間)が形成されている。挿通部10の上部に形
成された抜け止め部50が長穴2cの幅より広い幅を持
つフランジ状に構成され、抜け止め部50によって挿通
部10が長穴2cから抜けるのが防止されるようになっ
ている。また、本実施の形態では、ミラー2の高さを稼
ぐため、挿通部10の下端が、上方にフランジ部11a
を有するスペーサ11を介して、板ばね部5の他端部に
固定されている。フランジ部11aの幅は長穴2cの幅
より広くされ、フランジ部11aは、ミラー2と板ばね
部5の他端部との間の間隔が狭まるのを阻止する。もっ
とも、このようなスペーサ11は必ずしも必要ではな
く、例えば、スペーサ11を取り除いて、挿通部10の
下端を板ばね部5の他端部に直接に固定してもよい。
Since the width of the slot 2c (the width in the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 2; see also FIG. 1) is made slightly wider (for example, on the order of microns) than the width of the insertion portion 10, the slot 2c A play (a gap in the width direction of the elongated hole 2c) is formed between the 2c and the insertion portion 10. The retaining portion 50 formed on the upper portion of the insertion portion 10 is formed in a flange shape having a width wider than the width of the elongated hole 2c, and the retaining portion 50 prevents the insertion portion 10 from falling out of the elongated hole 2c. It has become. Further, in the present embodiment, in order to increase the height of the mirror 2, the lower end of the insertion portion 10 has the flange portion 11a upward.
It is fixed to the other end of the leaf spring portion 5 via a spacer 11 having a. The width of the flange portion 11a is made wider than the width of the elongated hole 2c, and the flange portion 11a prevents the gap between the mirror 2 and the other end of the leaf spring portion 5 from being narrowed. However, such a spacer 11 is not always necessary. For example, the spacer 11 may be removed and the lower end of the insertion portion 10 may be directly fixed to the other end of the leaf spring portion 5.

【0029】本実施の形態では、図2に示すように、抜
け止め部50を有する挿通部10がAl膜13,14及
びそれらの内部のレジスト15で構成され、フランジ部
11aを有するスペーサ11がAl膜16,17及びレ
ジスト18で構成されている。図2では接触していない
かのように示しているが、実際にはこれらのAl膜1
3,17のいずれかが必然的にミラー2と接触すること
から、ミラー2は板ばね部5を構成するAl膜7に電気
的に接続され、ひいては配線パターン8に電気的に接続
されている。
In this embodiment, as shown in FIG. 2, the insertion portion 10 having the retaining portion 50 is composed of the Al films 13 and 14 and the resist 15 inside them, and the spacer 11 having the flange portion 11a is formed. It is composed of Al films 16 and 17 and a resist 18. Although it is shown as if they are not in contact with each other in FIG.
Since any one of 3 and 17 inevitably comes into contact with the mirror 2, the mirror 2 is electrically connected to the Al film 7 forming the leaf spring portion 5, and further electrically connected to the wiring pattern 8. .

【0030】なお、前記薄膜スライド接続機構は、前述
した構成に限定されるものではない。例えば、ミラー2
に長穴2cを設ける代わりに、板ばね部5の他端部に長
穴を設け、挿通部をこの長穴に挿通させてミラー2に対
して固定し、当該挿通部が長穴から抜けないように例え
ば当該挿通部の下部にフランジ状の抜け止め部を設けて
もよい。
The thin film slide connection mechanism is not limited to the above-mentioned structure. For example, mirror 2
Instead of providing the elongated hole 2c in the above, an elongated hole is provided in the other end of the leaf spring portion 5, and the insertion portion is inserted into this elongated hole and fixed to the mirror 2 so that the insertion portion does not come off from the elongated hole. Thus, for example, a flange-shaped retaining portion may be provided below the insertion portion.

【0031】本実施の形態では、図1に示すように、支
持部3A〜3Cの全てが、ミラー2の側から基板1を見
た平面視でミラー2に隠れる位置に配置されている。ま
た、支持部3A〜3Cは、それらの各板ばね部5が、平
面視でミラー2の半径方向に延びるように配置されてい
る。また、3つの支持部3A〜3Cの各薄膜スライド接
続機構は、ミラー2の中心Oを中心とする所定半径の円
上において120゜(=360゜/3)の角度をなす3
つの位置にそれぞれ配置されている。すなわち、3つの
支持部3A〜3Cは、ミラー2の中心Oを中心とする所
定半径の円上において120゜(=360゜/3)の角
度をなすミラー2の3箇所をそれぞれ支持している。し
たがって、ミラー2は、安定して、任意の方向に傾動可
能に弾性支持される。
In this embodiment, as shown in FIG. 1, all of the supporting portions 3A to 3C are arranged at positions hidden by the mirror 2 in a plan view of the substrate 1 viewed from the mirror 2 side. Further, the support portions 3A to 3C are arranged such that the leaf spring portions 5 thereof extend in the radial direction of the mirror 2 in a plan view. Further, each thin film slide connection mechanism of the three support portions 3A to 3C forms an angle of 120 ° (= 360 ° / 3) on a circle having a predetermined radius centered on the center O of the mirror 2.
It is located in each of the three positions. That is, the three support portions 3A to 3C respectively support three positions of the mirror 2 which forms an angle of 120 ° (= 360 ° / 3) on a circle having a predetermined radius centered on the center O of the mirror 2. . Therefore, the mirror 2 is elastically supported in a stable and tiltable manner in any direction.

【0032】支持部3A〜3Cは、本実施の形態では、
脚部9がミラー2の中心O側で前記薄膜スライド接続機
構がミラー2の外周側となるように配置されているが、
脚部9の位置と前記薄膜スライド接続機構の位置とが逆
になるように配置してもよい。また、前記支持部の数
は、1つ以上であれば、特に限定されるものではない。
さらに、本実施の形態のように、全ての支持部3A〜3
Cにおいて、板ばね部5の他端部とミラー2との間を前
記薄膜スライド接続機構により機械的に接続することが
好ましいが、支持部3A〜3Cのうちのいずれか1つ又
は2つにおいて、前記薄膜スライド接続機構を用いるこ
となく、板ばね部5の他端部とミラー2との間を固定し
てもよい。
The support portions 3A to 3C are, in the present embodiment,
The leg 9 is arranged so that the thin film slide connecting mechanism is on the outer peripheral side of the mirror 2 with the center O side of the mirror 2 being
You may arrange | position so that the position of the leg part 9 and the position of the said thin film slide connection mechanism may be reverse. Further, the number of the supporting portions is not particularly limited as long as it is one or more.
Further, as in the present embodiment, all of the supporting portions 3A to 3A
In C, it is preferable to mechanically connect the other end of the leaf spring portion 5 and the mirror 2 by the thin film slide connection mechanism, but in any one or two of the support portions 3A to 3C. The other end of the leaf spring portion 5 and the mirror 2 may be fixed without using the thin film slide connection mechanism.

【0033】本実施の形態では、基板1上には、ミラー
2の下方において、中心Oを通る基板1の面の法線の回
りに、Al膜からなる3つの電極4a,4b,4cが互
いに電気的に絶縁された状態で形成されている。これら
の電極4a〜4cには、それぞれ図示しない各配線パタ
ーンを介して、それぞれ互いに独立して、配線パターン
8(すなわち、電極としてのミラー2)との間に、任意
のレベルの電圧を印加できるようになっている。本実施
の形態では、配線パターン8を介してミラー2が接地さ
れ、各電極4a〜4cにそれぞれ独立して、ミラー2を
基準とした任意の電位を印加できるようになっている。
各電極4a〜4cに印加される電位のレベルに応じた大
きさの静電力が、各電極4a〜4cとミラー2の電極対
向部分との間に作用する。したがって、各電極4a〜4
cに印加されるミラー2を基準とした電位レベルが、ミ
ラー2の傾きの方向及び傾き量を決定する前記駆動信号
となっている。基板1には、外部からの制御信号に応じ
てこの駆動信号を生成する駆動回路を、搭載しておいて
もよい。
In the present embodiment, three electrodes 4a, 4b, 4c made of an Al film are formed on the substrate 1 below the mirror 2 around the normal line of the surface of the substrate 1 passing through the center O. It is formed in an electrically insulated state. A voltage of any level can be applied to these electrodes 4a to 4c independently of the wiring pattern 8 (that is, the mirror 2 as an electrode) via each wiring pattern (not shown). It is like this. In the present embodiment, the mirror 2 is grounded via the wiring pattern 8 and an arbitrary potential based on the mirror 2 can be independently applied to each of the electrodes 4a to 4c.
An electrostatic force having a magnitude corresponding to the level of the potential applied to each of the electrodes 4a to 4c acts between each of the electrodes 4a to 4c and the electrode facing portion of the mirror 2. Therefore, each electrode 4a-4
The potential level with respect to the mirror 2 applied to c is the drive signal that determines the tilt direction and tilt amount of the mirror 2. A drive circuit that generates this drive signal according to a control signal from the outside may be mounted on the substrate 1.

【0034】このように、本実施の形態では、ミラー2
は、駆動信号によって生ずる静電力によって駆動され
る。もっとも、本発明では、ミラー2が磁気力やローレ
ンツ力により駆動されるように構成することもできる。
また、本実施の形態では、板ばね部5が異なる膨張係数
を有する異なる物質の互いに重なった少なくとも2つの
層(具体的には、SiN膜6及びAl膜7)を有してお
り、SiN膜6は可視光や赤外光を吸収して熱を生ず
る。このため、赤外光や可視光を板ばね部5に照射すれ
ば、その照射量に応じて、基板1を介して(例えば、基
板1がSi基板であれば赤外光は基板1を透過し、基板
1がガラス基板であれば可視光は基板1を透過す
る。)、その照射量に応じて板ばね部5が撓むことにな
る。したがって、この赤外光や可視光を駆動信号として
用い、各板ばね部5を、ミラー2を傾動させるためのア
クチュエータとして用いることも可能である。これらの
点は、後述する実施の形態についても同様である。
Thus, in this embodiment, the mirror 2
Are driven by the electrostatic force generated by the drive signal. However, in the present invention, the mirror 2 may be configured to be driven by a magnetic force or a Lorentz force.
In addition, in the present embodiment, the leaf spring portion 5 has at least two layers (specifically, the SiN film 6 and the Al film 7) that are made of different substances having different expansion coefficients and are overlapped with each other. 6 absorbs visible light and infrared light and generates heat. Therefore, when infrared light or visible light is applied to the leaf spring portion 5, the infrared light is transmitted through the substrate 1 (for example, if the substrate 1 is a Si substrate, the infrared light is transmitted through the substrate 1 according to the amount of irradiation. If the substrate 1 is a glass substrate, visible light passes through the substrate 1), and the leaf spring portion 5 bends according to the irradiation amount. Therefore, it is possible to use each of the leaf springs 5 as an actuator for tilting the mirror 2 by using the infrared light or the visible light as a drive signal. These points also apply to the embodiments described later.

【0035】また、本実施の形態において1つだけの支
持部でミラー2の中央部を支持した場合(支持部の数以
外の構成は変更しないとする)には、各電極4a〜4c
に電圧を印加しないと、薄膜スライド機構のがたつきに
より、ミラー2の位置が安定しない状態となる可能性が
ある。これを防ぐために、各電極4a〜4cに若干の電
圧(例えば、各電極4a〜4cともに同じ一定電圧)を
印加すると、ミラー2の位置が安定する。そして、その
状態を定常状態として、各電極4a〜4cに適宜の電圧
を印加することで、任意の方向にミラー2を傾動させる
ことが可能である。
Further, in the present embodiment, when the central portion of the mirror 2 is supported by only one supporting portion (the configuration other than the number of supporting portions is not changed), the electrodes 4a to 4c are provided.
If no voltage is applied to the mirror 2, the position of the mirror 2 may become unstable due to rattling of the thin film slide mechanism. To prevent this, a slight voltage (for example, the same constant voltage for each of the electrodes 4a to 4c) is applied to each of the electrodes 4a to 4c to stabilize the position of the mirror 2. The mirror 2 can be tilted in any direction by applying an appropriate voltage to each of the electrodes 4a to 4c with the state set as a steady state.

【0036】図面には示していないが、本実施の形態に
よるミラーデバイスでは、ミラー2、前記支持機構(支
持部3A〜3C)及び電極4a〜4cを1個の素子とし
て当該素子を複数個有し、当該素子が2次元状に配列さ
れている。もっとも、当該素子を1次元状に配置しても
よいし、当該素子は1つのみでもよい。これらの点は、
後述する実施の形態についても同様である。
Although not shown in the drawing, in the mirror device according to the present embodiment, the mirror 2, the supporting mechanism (supporting portions 3A to 3C) and the electrodes 4a to 4c are regarded as one element, and a plurality of such elements are provided. However, the elements are arranged two-dimensionally. However, the elements may be arranged one-dimensionally, or only one element may be provided. These points are
The same applies to the embodiments described later.

【0037】次に、本実施の形態によるミラーデバイス
の製造方法の一例について、図4を及び図5参照して説
明する。図4及び図5は、この製造方法の各工程をそれ
ぞれ模式的に示す概略断面図であり、図2に対応してい
る。
Next, an example of the method of manufacturing the mirror device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 4 and 5 are schematic cross-sectional views each schematically showing each step of this manufacturing method, and correspond to FIG.

【0038】まず、図4(a)に示すように、Si基
板、ガラス基板等の基板1(Si基板の場合には、その
表面を絶縁膜で覆っておくことが好ましい。)上に、電
極4a〜4c、配線パターン8及びその他の配線パター
ンとなるべきAl膜21を蒸着法等によりデポした後、
フォトリソエッチング法によりパターニングし、それら
の形状とする。次に、この状態の基板上の全面に犠牲層
となるレジスト22を塗布し、このレジスト22に、脚
部9のコンタクト部に応じた開口22aをフォトリソグ
ラフィーにより形成する(図4(a))。なお、図示し
ないが、Al膜21の表面のうち、開口22a以外の部
分は、絶縁膜(P−SiN膜、P−SiO膜、PSG膜
など)で覆ってもよい。このようにすれば、電極間の絶
縁性を高めることができる。
First, as shown in FIG. 4A, electrodes are formed on a substrate 1 such as a Si substrate or a glass substrate (in the case of a Si substrate, the surface thereof is preferably covered with an insulating film). 4a to 4c, the wiring pattern 8 and the Al film 21 to be the other wiring pattern are deposited by a vapor deposition method or the like,
Patterning is performed by the photolithographic etching method to obtain those shapes. Next, a resist 22 serving as a sacrifice layer is applied on the entire surface of the substrate in this state, and an opening 22a corresponding to the contact portion of the leg portion 9 is formed in the resist 22 by photolithography (FIG. 4A). . Although not shown, the surface of the Al film 21 other than the opening 22a may be covered with an insulating film (P-SiN film, P-SiO film, PSG film, or the like). By doing so, the insulation between the electrodes can be improved.

【0039】次いで、板ばね部5及び脚部9の1つの層
となるべきSiN膜6をP−CVD法等によりデポした
後、フォトリソエッチング法によりパターニングし、板
ばね部5及び脚部9の形状とする。このとき、脚部9に
おけるコンタクト部には開口を形成しておく。次に、板
ばね部5及び脚部9のもう1つの層となるべきAl膜7
を蒸着法等によりデポした後、フォトリソエッチング法
によりパターニングし、板ばね部5及び脚部9の形状と
する(図4(b))。
Next, after depositing the SiN film 6 to be one layer of the leaf spring portion 5 and the leg portion 9 by the P-CVD method or the like, patterning is performed by the photolithographic etching method to form the leaf spring portion 5 and the leg portion 9. The shape. At this time, an opening is formed in the contact portion of the leg portion 9. Next, the Al film 7 to be another layer of the leaf spring portion 5 and the leg portion 9 is formed.
Is deposited by a vapor deposition method or the like and then patterned by a photolithographic etching method to form the leaf spring portion 5 and the leg portion 9 (FIG. 4B).

【0040】次に、この状態の基板上の全面にスピンコ
ート法等により犠牲層としてのポリイミド膜23を被着
させ、スペーサ11のコンタクト部に応じた開口をフォ
トリソエッチング法により形成する。次に、この状態の
基板上にAl膜16を蒸着法等によりデポした後、フォ
トリソエッチング法によりパターニングし、スペーサ1
1の形状とする。次いで、この状態の基板上にレジスト
18を塗布し、Al膜16に形成された穴の部分のみを
残すようにフォトリソグラフィーにより除去し、さらに
CMP(化学的機械的研磨)によりレジスト18の高さ
をAl膜16の高さと合わせる。その後、この状態の基
板上にAl膜17を蒸着法等によりデポした後、フォト
リソエッチング法によりパターニングし、スペーサ11
の形状とする(図4(c))。
Next, a polyimide film 23 as a sacrificial layer is deposited on the entire surface of the substrate in this state by a spin coating method or the like, and an opening corresponding to the contact portion of the spacer 11 is formed by a photolithographic etching method. Next, after depositing the Al film 16 on the substrate in this state by a vapor deposition method or the like, patterning is performed by a photolithographic etching method to form the spacer 1
The shape is 1. Next, a resist 18 is applied on the substrate in this state, and is removed by photolithography so as to leave only the hole portion formed in the Al film 16, and the height of the resist 18 is further increased by CMP (chemical mechanical polishing). Is matched with the height of the Al film 16. After that, the Al film 17 is deposited on the substrate in this state by a vapor deposition method or the like, and then patterned by a photolithographic etching method to form the spacer 11
(FIG. 4C).

【0041】その後、この状態の基板上の全面に犠牲層
となるレジスト24を塗布し、ミラー2の円板部2aに
応じた部分のみのレジスト24を島状に残すように、レ
ジスト24の他の部分(挿通部10のコンタクト部に応
じた開口24aの部分を含む)をフォトリソグラフィー
により除去する。次いで、ミラー2となるべきAl膜2
5を蒸着法等によりデポした後、フォトリソエッチング
法によりパターニングし、ミラー2の形状とする(図5
(a))。このとき、Al膜25には、ミラー2の長穴
2cとなるべき開口25cを形成する。また、Al膜2
5のパターニングによって残す領域を、レジスト24と
重なりかつレジスト24の大きさよりも大きくすること
によって、ミラー2の立ち下がり部2bが形成されるこ
ととなる。
After that, a resist 24 serving as a sacrifice layer is applied on the entire surface of the substrate in this state, and the resist 24 other than the resist 24 is left so as to leave only the resist 24 corresponding to the disk portion 2a of the mirror 2 in an island shape. The portion (including the portion of the opening 24a corresponding to the contact portion of the insertion portion 10) is removed by photolithography. Next, the Al film 2 to be the mirror 2
5 is deposited by a vapor deposition method or the like, and then patterned by a photolithography etching method to form the mirror 2 (FIG. 5).
(A)). At this time, an opening 25c to be the elongated hole 2c of the mirror 2 is formed in the Al film 25. In addition, the Al film 2
The trailing portion 2b of the mirror 2 is formed by overlapping the area left by patterning 5 with the resist 24 and making the area larger than the size of the resist 24.

【0042】次に、この状態の基板上の全面に犠牲層と
なるレジスト26を塗布し、このレジスト26に、挿通
部10のコンタクト部に応じた開口26aをフォトリソ
グラフィーにより形成する(図5(b))。
Next, a resist 26 serving as a sacrifice layer is applied on the entire surface of the substrate in this state, and an opening 26a corresponding to the contact portion of the insertion portion 10 is formed in the resist 26 by photolithography (FIG. 5 ( b)).

【0043】その後、スペーサ11となるAl膜16、
レジスト18及びAl膜17を形成したのと同じ方法
で、挿通部10となるAl膜13、レジスト15及びA
l膜14を形成する(図5(c))。
After that, the Al film 16 to be the spacer 11,
In the same manner as the resist 18 and the Al film 17 are formed, the Al film 13, the resist 15 and the A, which will become the insertion portion 10, are formed.
1 film 14 is formed (FIG. 5C).

【0044】最後に、この状態の基板を、ダイシングな
どによりチップ毎に分割し、全ての犠牲層、すなわち、
レジスト22,24,26及びポリイミド膜23をアッ
シング法などにより除去する。これにより、図1乃至図
3に示すミラーデバイスが完成する。
Finally, the substrate in this state is divided into chips by dicing or the like, and all sacrificial layers, that is,
The resists 22, 24, 26 and the polyimide film 23 are removed by an ashing method or the like. As a result, the mirror device shown in FIGS. 1 to 3 is completed.

【0045】ところで、前述したように膜6及び膜7の
成膜は、レジスト22,24,26及びポリイミド膜2
3を除去した際に前記板ばね部5が成膜時のストレスに
よって上方に反るような条件で、行う。なお、板ばね部
5を単層の薄膜で構成する場合であっても、同じ材料の
膜を成膜条件を変えて2回成膜すれば、最終的に単層膜
となるものの、板ばね部5を上方に反らせることができ
る。
By the way, as described above, the film 6 and the film 7 are formed by using the resists 22, 24 and 26 and the polyimide film 2.
This is performed under the condition that the leaf spring portion 5 warps upward due to the stress at the time of film formation when 3 is removed. Even when the leaf spring portion 5 is formed of a single-layer thin film, if a film of the same material is formed twice by changing the film forming conditions, a single-layer film is finally obtained, but the leaf spring is not formed. The part 5 can be bent upward.

【0046】本実施の形態によれば、前記支持機構(支
持部3A〜3C)が、薄膜で構成された板ばね部5を利
用した前述した構造を有しているので、構造が簡単とな
り、前述したように、半導体製造工程の膜形成技術等を
用いて簡単に製造することができる。
According to the present embodiment, since the supporting mechanism (supporting portions 3A to 3C) has the above-described structure utilizing the leaf spring portion 5 formed of a thin film, the structure is simplified, As described above, it can be easily manufactured by using the film forming technique in the semiconductor manufacturing process.

【0047】また、本実施の形態によれば、板ばね部5
の一端部が立ち上がり部を持つ脚部9を介して基板1に
接続されているので、脚部9によってミラー2の高さを
稼ぐことができる。また、板ばね部5の他端部が当該端
部から立ち上がる立ち上がり部を持つ接続部(前記薄膜
スライド接続機構のスペーサ11に相当)を介してミラ
ー2に機械的に接続されているので、この接続部によっ
てもミラーの高さを稼ぐことができる。さらに、板ばね
部5が上方へ反っているので、この反りによってもミラ
ー2の高さを稼ぐことができる。反りの程度は前述した
膜6,7の成膜時の条件により設定することができる。
この反りの程度と板ばね部5の長さとによって、ミラー
2の高さを自在に設定することができる。以上の点か
ら、ミラー2が比較的大きくても(例えば、直径1mm
程度でも)、ミラー2の高さを例えば200μm程度に
設定することができ、ミラー2の傾き可能な角度を比較
的大きくすることが可能となる。
Further, according to the present embodiment, the leaf spring portion 5
Since one end of the mirror is connected to the substrate 1 via the leg 9 having the rising portion, the height of the mirror 2 can be gained by the leg 9. Further, since the other end of the leaf spring part 5 is mechanically connected to the mirror 2 via a connecting part (corresponding to the spacer 11 of the thin film slide connecting mechanism) having a rising part rising from the end, The height of the mirror can also be earned by the connection part. Furthermore, since the leaf spring portion 5 is warped upward, the height of the mirror 2 can be increased by this warping. The degree of warpage can be set by the conditions at the time of forming the films 6 and 7 described above.
The height of the mirror 2 can be freely set by the degree of the warp and the length of the leaf spring portion 5. From the above points, even if the mirror 2 is relatively large (for example, a diameter of 1 mm
The height of the mirror 2 can be set to, for example, about 200 μm, and the tiltable angle of the mirror 2 can be made relatively large.

【0048】また、本実施の形態によれば、支持部3A
〜3Cの全てが、ミラー2の側から基板1を見た平面視
でミラー2に隠れる位置に配置されているので、支持部
3A〜3C及びミラーが占める基板上の面積を低減する
ことができ、2次元配置された素子の集積度を高めるこ
とができ、当該ミラーデバイスの小型化を図ることがで
きる。
Further, according to the present embodiment, the supporting portion 3A
3 to 3C are arranged at positions hidden by the mirror 2 in a plan view when the substrate 1 is viewed from the side of the mirror 2, it is possible to reduce the area on the substrate occupied by the supporting portions 3A to 3C and the mirror. The degree of integration of the two-dimensionally arranged elements can be increased, and the size of the mirror device can be reduced.

【0049】そして、本実施の形態によれば、板ばね部
5の他端部が前記薄膜スライド接続機構により構成され
ているので、ミラー2の傾動等に伴って生じようとする
ストレス(ミラー2や板ばね部5に加わるストレス)
が、この薄膜スライド接続機構により緩和され、機械的
な強度を高めることができるとともにミラー2の傾動動
作が円滑となる。
Further, according to the present embodiment, since the other end of the leaf spring portion 5 is constituted by the thin film slide connection mechanism, the stress (mirror 2) which tends to occur due to tilting of the mirror 2 or the like. And stress applied to the leaf spring part 5)
However, this thin film slide connection mechanism can reduce the mechanical strength, and the tilting operation of the mirror 2 can be smoothed.

【0050】[第2の実施の形態][Second Embodiment]

【0051】図6は、本発明の第2の実施の形態による
ミラーデバイスの単位素子を模式的に示す概略断面図で
あり、図2に対応している。図6において、図1乃至図
3中の要素と同一又は対応する要素には同一符号を付
し、その重複する説明は省略する。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view schematically showing a unit element of a mirror device according to the second embodiment of the present invention, and corresponds to FIG. In FIG. 6, elements that are the same as or correspond to the elements in FIGS. 1 to 3 are assigned the same reference numerals, and duplicate descriptions thereof are omitted.

【0052】本実施の形態が、前記第1の実施の形態と
異なる所は、図1中の支持部3Aが図6に示す支持部3
3Aで置き換えられ、図1中の支持部3B,3Cが図6
に示す支持部33Aと同じ構造を持つ支持部(図示せ
ず)でそれぞれ置き換えられている点のみである。
The present embodiment differs from the first embodiment in that the supporting portion 3A in FIG. 1 is the supporting portion 3 shown in FIG.
3A and the supporting portions 3B and 3C in FIG.
It is only replaced with a support portion (not shown) having the same structure as the support portion 33A shown in FIG.

【0053】図1及び図2に示す支持部3Aが1つの板
ばね部5のみを有しているのに対し、図6に示す支持部
33Aは、互いに機械的に直列に接続された2つの板ば
ね部34,35を有している。板ばね部34,35の各
々は、基板1の面の法線方向から見た平面視で直線状に
構成されている。
While the supporting portion 3A shown in FIGS. 1 and 2 has only one leaf spring portion 5, the supporting portion 33A shown in FIG. 6 has two leaf springs mechanically connected to each other in series. It has leaf spring portions 34 and 35. Each of the leaf spring portions 34 and 35 is formed in a linear shape in a plan view as seen from the direction normal to the surface of the substrate 1.

【0054】2つの板ばね部34,35がなす機械的な
接続ルートの一端部に相当する板ばね部34の一端部
は、基板1上に形成された配線パターン8を介して基板
1から立ち上がる立ち上がり部を持つ脚部9を介して、
基板1に機械的に接続されている。2つの板ばね部3
4,35がなす機械的な接続ルートの他端部に相当する
板ばね部35の一端部は、前記第1の実施の形態におけ
る薄膜スライド接続機構と同じ薄膜スライド接続機構に
より、ミラー2に機械的に接続されている。本実施の形
態では、板ばね部35の他端部は、板ばね部35が板ば
ね部34の長さ方向を一直線状に延長して継ぎ足すよう
に、板ばね部34の他端部に機械的に接続されている。
この板ばね部34,35の端部同士の機械的な接続は、
基板1側の板ばね部34の端部がこの端部から立ち上が
る立ち上がり部を持つ接続部36を介してミラー2側の
板ばね部35の端部に機械的に接続されることにより、
行われている。
One end portion of the plate spring portion 34, which corresponds to one end portion of the mechanical connection route formed by the two leaf spring portions 34 and 35, rises from the substrate 1 via the wiring pattern 8 formed on the substrate 1. Via the leg 9 with the rising part,
It is mechanically connected to the substrate 1. Two leaf spring parts 3
One end portion of the leaf spring portion 35 corresponding to the other end portion of the mechanical connection route formed by 4, 35 is attached to the mirror 2 by the same thin film slide connection mechanism as the thin film slide connection mechanism in the first embodiment. Connected to each other. In the present embodiment, the other end portion of the leaf spring portion 35 is connected to the other end portion of the leaf spring portion 34 so that the leaf spring portion 35 extends the length direction of the leaf spring portion 34 in a straight line to add the leaf spring portion 35. It is mechanically connected.
The mechanical connection between the end portions of the leaf spring portions 34 and 35 is
By mechanically connecting the end portion of the leaf spring portion 34 on the substrate 1 side to the end portion of the leaf spring portion 35 on the mirror 2 side via a connection portion 36 having a rising portion rising from this end portion,
Has been done.

【0055】板ばね部34は、図2中の板ばね部5と同
じく、下側のSiN膜6と上側のAl膜7とが積層され
た2層の薄膜で構成されている。脚部9は、板ばね部3
4を構成するSiN膜6及びAl膜7がそのまま延びる
ことによって構成されている。
Like the leaf spring portion 5 in FIG. 2, the leaf spring portion 34 is composed of a two-layer thin film in which a lower SiN film 6 and an upper Al film 7 are laminated. The legs 9 are the leaf springs 3
The SiN film 6 and the Al film 7 which form 4 are extended as they are.

【0056】一方、板ばね部35は、板ばね部34とは
2層の上下が逆になっており、下側のAl膜37と上側
のSiN膜38とが積層された2層の薄膜で構成されて
いる。接続部36は、板ばね部35を構成するAl膜3
7及びSiN膜38がそのまま延びることによって構成
されている。スペーサ11は膜38に形成された開口を
介してAl膜37に電気的に接続されている。図6では
接触していないかのように示しているが、実際にはAl
膜13,17のいずれかが必然的にミラー2と接触する
ことから、ミラー2は板ばね部33Aを構成するAl膜
37に電気的に接続され、ひいてはAl膜7を介して配
線パターン8に電気的に接続されている。
On the other hand, the leaf spring portion 35 is a two-layer thin film in which the upper and lower layers of the leaf spring portion 34 are turned upside down and a lower Al film 37 and an upper SiN film 38 are laminated. It is configured. The connecting portion 36 is the Al film 3 that constitutes the leaf spring portion 35.
7 and the SiN film 38 extend as they are. The spacer 11 is electrically connected to the Al film 37 through an opening formed in the film 38. Although it is shown as if they are not in contact with each other in FIG.
Since either of the films 13 and 17 inevitably comes into contact with the mirror 2, the mirror 2 is electrically connected to the Al film 37 that forms the leaf spring portion 33A, and thus the wiring pattern 8 is connected via the Al film 7. It is electrically connected.

【0057】板ばね部34は、図6に示すように、少な
くとも前記駆動信号が供給されていない状態において、
上方(基板1と反対側)に反っている。なお、図6は、
駆動信号が供給されていない状態を示している。一方、
板ばね部35は、少なくとも前記駆動信号が供給されて
いない状態において、板ばね部34とは逆に、下方(基
板1側)に反っている。本実施の形態では、板ばね部3
4,35の反りの程度及び長さが同一とされ、これによ
り、一端部が前記薄膜スライド接続機構を介してミラー
2に機械的に接続された板ばね部35の当該一端部が、
基板1の面と略々平行となっている。もっとも、他の設
定によっても、板ばね部35の当該一端部を基板1の面
と略々平行にすることは可能である。
As shown in FIG. 6, the leaf spring portion 34 is at least in a state where the drive signal is not supplied,
It is warped upward (on the side opposite to the substrate 1). In addition, in FIG.
The state where the drive signal is not supplied is shown. on the other hand,
The leaf spring portion 35 is warped downward (on the side of the substrate 1), contrary to the leaf spring portion 34, at least in a state where the drive signal is not supplied. In the present embodiment, the leaf spring portion 3
The warps and lengths of the blades 4 and 35 are the same, so that the one end of the leaf spring part 35 mechanically connected to the mirror 2 through the thin film slide connection mechanism is
It is substantially parallel to the surface of the substrate 1. However, it is possible to make the one end portion of the plate spring portion 35 substantially parallel to the surface of the substrate 1 by other settings.

【0058】本実施の形態によるミラーデバイスも、前
記第1の実施の形態と同様に、膜の形成及びパターニン
グ、犠牲層の形成及び除去などの半導体製造技術を利用
して、製造することができる。
The mirror device according to the present embodiment can also be manufactured by using semiconductor manufacturing techniques such as film formation and patterning, sacrifice layer formation and removal, as in the first embodiment. .

【0059】本実施の形態によっても、基本的には、前
記第1の実施の形態と同様の利点が得られる。また、本
実施の形態によれば、前記薄膜スライド接続機構を介し
てミラー2と接続されている板ばね部35の端部が基板
1の面と略平行となっているので、ミラー2と板ばね部
35の端部との間の相対的なスライドが、よりスムーズ
に行われる。したがって、ミラー2や板ばね部35等に
加わるストレスがより緩和され、機械的な強度をより高
めることができるとともにミラー2の傾動動作がより円
滑となる。
According to this embodiment, basically, the same advantages as those of the first embodiment can be obtained. Further, according to the present embodiment, since the end portion of the plate spring portion 35 connected to the mirror 2 via the thin film slide connection mechanism is substantially parallel to the surface of the substrate 1, the mirror 2 and the plate are The relative sliding with the end of the spring portion 35 is performed more smoothly. Therefore, the stress applied to the mirror 2, the leaf spring portion 35, and the like is further alleviated, the mechanical strength can be further increased, and the tilting operation of the mirror 2 becomes smoother.

【0060】なお、図1中の支持部3Aを図6に示す支
持部33Aで置き換える際に、脚部9及び前記薄膜スラ
イド接続機構の位置を逆にし、同様に、図1中の支持部
3B,3Cを図6に示す支持部33Aと同じ構造を持つ
支持部でそれぞれ置き換える際に、脚部9及び前記薄膜
スライド接続機構の位置を逆にしてもよい。
When replacing the supporting portion 3A shown in FIG. 1 with the supporting portion 33A shown in FIG. 6, the positions of the legs 9 and the thin film slide connecting mechanism are reversed, and similarly, the supporting portion 3B shown in FIG. , 3C are replaced with a support part having the same structure as the support part 33A shown in FIG. 6, the positions of the leg part 9 and the thin film slide connection mechanism may be reversed.

【0061】[第3の実施の形態][Third Embodiment]

【0062】図7は、本発明の第3の実施の形態による
光スイッチを示す概略構成図である。
FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing an optical switch according to the third embodiment of the present invention.

【0063】本実施の形態による光スイッチは、前述し
た第1又は第2の実施の形態によるミラーデバイス20
0を含み、2次元配置された複数の光入力用光ファイバ
201から出射された光を複数の光出力用光ファイバ2
02のいずれかに入射させる。
The optical switch according to the present embodiment is the mirror device 20 according to the first or second embodiment described above.
The light emitted from the plurality of two-dimensionally arranged optical input optical fibers 201 including 0 is output to the plurality of optical output optical fibers 2
02.

【0064】複数の光入力用光ファイバ201から出射
された光は、ミラーデバイス200の各素子のミラー2
へそれぞれ入射される。その入射のために、必要に応じ
て、複数の光入力用光ファイバ201とミラーデバイス
200との間にレンズ等の光学系を配置してもよい。
The light emitted from the plurality of optical fibers for light input 201 is reflected by the mirror 2 of each element of the mirror device 200.
Are respectively incident on. For the incidence, an optical system such as a lens may be arranged between the plurality of optical fibers 201 for light input and the mirror device 200 as necessary.

【0065】ミラーデバイス200は、光路切り換え状
態を指令する制御信号に応じて、各素子の電極としての
ミラー2と電極4a,4b,4cとの間に駆動信号(本
実施の形態では、電位差)が与えられ、この駆動信号に
より応じた方向及び傾き量で前記ミラーが前記基体に対
して傾く。その結果、ミラー2で反射された後の光の進
行方向が偏向され、該当する個所の光出力用光ファイバ
202へ入射される。図7において、P1はある光入力
用光ファイバ201からある素子のミラー2へ入射され
る入力光、P2は当該ミラー2で反射されてある光出力
用光ファイバ202へ入射される出力光を示してる。
The mirror device 200 has a drive signal (potential difference in this embodiment) between the mirror 2 as an electrode of each element and the electrodes 4a, 4b, 4c in response to a control signal for instructing the optical path switching state. Is given, and the mirror tilts with respect to the base body in a direction and a tilt amount according to the drive signal. As a result, the traveling direction of the light reflected by the mirror 2 is deflected, and is incident on the optical output optical fiber 202 at the corresponding position. In FIG. 7, P1 is the input light incident on the mirror 2 of the element from a certain optical input optical fiber 201, and P2 is the output light incident on the optical output optical fiber 202 reflected by the mirror 2. It's

【0066】本実施の形態によれば、前述した第1又は
第2の実施の形態のいずれかであるミラーデバイス20
0が用いられているので、入力光路と同数のミラー2で
多くの出力光路に切り換えることができ、例えば、10
00個のミラー2で1000個の入力光路を1000個
の出力光路に切り換えることができる。したがって、本
実施の形態によれば、ミラー2の数が少なくてすむた
め、前述した従来のMEMS技術を利用した機械式光ス
イッチに比べて、小型化及び量産性が大幅に向上する。
勿論、ミラー2を利用して光路を切り換えるので、電子
式光スイッチに比べて、挿入損失やクロストークなどの
光学特性に優れている。
According to the present embodiment, the mirror device 20 according to either the first or second embodiment described above.
Since 0 is used, it is possible to switch to many output optical paths with the same number of mirrors 2 as the input optical paths.
With 00 mirrors 2, 1000 input optical paths can be switched to 1000 output optical paths. Therefore, according to the present embodiment, the number of mirrors 2 can be small, so that the size and mass productivity are significantly improved as compared with the mechanical optical switch using the conventional MEMS technology described above.
Of course, since the optical path is switched using the mirror 2, the optical characteristics such as insertion loss and crosstalk are superior to those of the electronic optical switch.

【0067】以上、本発明の各実施の形態について説明
したが、本発明はこれらの実施の形態に限定されるもの
ではない。
Although the respective embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to these embodiments.

【0068】例えば、前述した各実施の形態では、支持
機構が複数の支持部を有する場合、これらの支持部が全
て同じ構造を有していたが、各支持部は必ずしも同じ構
造を有している必要はない。
For example, in each of the above-described embodiments, when the support mechanism has a plurality of support parts, these support parts all have the same structure, but each support part does not necessarily have the same structure. You don't have to be.

【0069】また、本発明による薄膜スライド接続機構
の用途は、ミラーデバイスに限定されるものではない。
さらに、本発明によるミラーデバイスの用途は、光スイ
ッチに限定されるものではない。
The application of the thin film slide connection mechanism according to the present invention is not limited to the mirror device.
Furthermore, the application of the mirror device according to the present invention is not limited to optical switches.

【0070】[0070]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ミラーを利用して光路を切り換えることにより優れた光
学特性を保ちながら、小型化及び量産性をより一層向上
させることができる光スイッチを提供することができ
る。
As described above, according to the present invention,
It is possible to provide an optical switch that can further improve the miniaturization and mass productivity while maintaining excellent optical characteristics by switching the optical path using a mirror.

【0071】また、本発明は、このような光スイッチな
どに適したミラーデバイス並びに薄膜スライド接続機構
及びその製造方法を提供することができる。
Further, the present invention can provide a mirror device suitable for such an optical switch and the like, a thin film slide connecting mechanism, and a manufacturing method thereof.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態によるミラーデバイ
スの単位素子を模式的に示す概略平面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view schematically showing a unit element of a mirror device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1中のO−A線に沿った概略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view taken along line OA in FIG.

【図3】図1中のO−D線に沿った概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view taken along line OD in FIG.

【図4】本発明の第1の実施の形態によるミラーデバイ
スの製造方法の各工程をそれぞれ模式的に示す概略断面
図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view schematically showing each step of the method for manufacturing a mirror device according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第1の実施の形態によるミラーデバイ
スの製造方法の他の各工程をそれぞれ模式的に示す概略
断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross sectional view schematically showing each of the other steps of the method for manufacturing the mirror device according to the first embodiment of the invention.

【図6】本発明の第2の実施の形態によるミラーデバイ
スの単位素子を模式的に示す概略平面図である。
FIG. 6 is a schematic plan view schematically showing a unit element of a mirror device according to a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第3の実施の形態による光スイッチを
示す概略構成図である。
FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing an optical switch according to a third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 ミラー 2c 長穴 3A,3B,3C 支持部 4A,4B,4C 電極 5 板ばね部 9 脚部 10 挿通部 200 ミラーデバイス 201 光入力用光ファイバ 202 光出力用光ファイバ 1 substrate 2 mirror 2c oblong hole 3A, 3B, 3C support 4A, 4B, 4C electrodes 5 Leaf spring 9 legs 10 insertion part 200 mirror device 201 Optical fiber for optical input 202 Optical fiber for optical output

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基体と、1層以上の薄膜で構成されたミ
ラーと、該ミラーを前記基体に対して前記基体から浮い
た状態にかつ任意の方向に傾動可能に弾性支持する支持
機構とを備え、供給される駆動信号に応じた方向及び傾
き量で前記ミラーが前記基体に対して傾くミラーデバイ
スであって、 前記支持機構は、前記基体と前記ミラーとの間を機械的
に接続する1つ以上の支持部を有し、 前記各支持部は、1層以上の薄膜で構成された1つ以上
の板ばね部を有し、 前記1つ以上の支持部のうちの少なくとも1つの支持部
において、前記1つ以上の板ばね部がなす機械的な接続
ルートの一端部に相当する板ばね部の一端部は、当該一
端部と前記ミラーとを相対的にスライド自在に機械的に
接続する薄膜スライド接続機構により、前記ミラーに機
械的に接続され、 前記薄膜スライド機構は、前記ミラーと前記接続ルート
の前記一端部に相当する前記板ばね部とのうちの、一方
に形成された長穴と、該長穴に遊びを持って挿通され
て、前記ミラーと前記接続ルートの前記一端部に相当す
る前記板ばね部とのうちの、他方に固定された挿通部
と、を有し、前記挿通部の前記長穴からの抜けが防止さ
れるように構成されたことを特徴とするミラーデバイ
ス。
1. A substrate, a mirror composed of one or more thin films, and a support mechanism for elastically supporting the mirror so as to be tilted in an arbitrary direction with respect to the substrate while floating from the substrate. A mirror device in which the mirror is tilted with respect to the base body in a direction and a tilt amount according to a drive signal supplied, wherein the support mechanism mechanically connects the base body and the mirror. At least one support part, wherein each support part has at least one leaf spring part formed of one or more thin films, and at least one support part among the one or more support parts. In, the one end of the leaf spring part corresponding to the one end of the mechanical connection route formed by the one or more leaf springs mechanically connects the one end and the mirror relatively slidably. The thin film slide connection mechanism allows the The thin film slide mechanism has a slot formed in one of the mirror and the leaf spring portion corresponding to the one end of the connection route, and a play in the slot. Of the leaf spring portion corresponding to the one end portion of the mirror and the connection route is inserted, the insertion portion is fixed to the other, and the removal of the insertion portion from the elongated hole. A mirror device characterized in that it is configured to be prevented.
【請求項2】 Nを3以上の整数として、前記1つ以上
の支持部の数がNであり、当該N個の支持部は、前記ミ
ラーの中心を中心とする所定半径の円上において360
゜/Nの角度をなす前記ミラーのN個の箇所の付近を、
前記薄膜スライド接続機構により、それぞれ略々前記半
径の方向にスライド自在に支持することを特徴とする請
求項1記載のミラーデバイス。
2. The number of the one or more supporting parts is N, where N is an integer of 3 or more, and the N supporting parts are 360 in a circle having a predetermined radius centered on the center of the mirror.
In the vicinity of N places of the mirror forming an angle of ° / N,
The mirror device according to claim 1, wherein each of the thin film slide connection mechanisms slidably supports the thin film slide connection mechanism in the substantially radial direction.
【請求項3】 1つ以上の光入力部から出射された光を
複数の光出力部のいずれかに入射させる光スイッチにお
いて、 請求項1又は2記載のミラーデバイスを含み、 前記1つ以上の光入力部から出射された光が、前記ミラ
ーデバイスの前記ミラーで反射された後に、前記複数の
光出力部のいずれかに入射することを特徴とする光スイ
ッチ。
3. An optical switch that causes light emitted from one or more light input sections to enter one of a plurality of light output sections, comprising the mirror device according to claim 1 or 2. The optical switch, wherein the light emitted from the light input section is reflected by the mirror of the mirror device and then enters any of the plurality of light output sections.
【請求項4】 1層以上の薄膜で構成され平板状部を持
つ第1の部材と、第2の部材とを、相対的にスライド自
在に機械的に接続する薄膜スライド接続機構であって、
前記平板状部に長穴が形成され、前記長穴に遊びを持っ
て挿通された挿通部が前記第2の部材に対して固定さ
れ、前記挿通部の前記長穴からの抜けが防止されるよう
に構成されたことを特徴とする薄膜スライド接続機構。
4. A thin film slide connection mechanism for mechanically relatively slidably connecting a first member and a second member, which are composed of one or more thin films and have a flat plate-like portion,
An elongated hole is formed in the flat plate-shaped portion, and the insertion portion inserted with play in the elongated hole is fixed to the second member, so that the insertion portion is prevented from coming off from the elongated hole. A thin film slide connection mechanism characterized by being configured as described above.
【請求項5】 請求項4記載の薄膜スライド接続機構を
製造する製造方法であって、前記第1及び第2の部材間
に介在する犠牲層を形成する段階と、前記犠牲層を除去
する段階とを備えたことを特徴とする薄膜スライド機構
の製造方法。
5. The manufacturing method for manufacturing the thin film slide connection mechanism according to claim 4, wherein a step of forming a sacrificial layer interposed between the first and second members and a step of removing the sacrificial layer. And a method of manufacturing a thin film slide mechanism.
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