JP2002354227A - Method and device for electronic watermark embedding processing and program - Google Patents

Method and device for electronic watermark embedding processing and program

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JP2002354227A
JP2002354227A JP2001160171A JP2001160171A JP2002354227A JP 2002354227 A JP2002354227 A JP 2002354227A JP 2001160171 A JP2001160171 A JP 2001160171A JP 2001160171 A JP2001160171 A JP 2001160171A JP 2002354227 A JP2002354227 A JP 2002354227A
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JP
Japan
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digital watermark
image
filter
watermark embedding
processing
Prior art date
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Application number
JP2001160171A
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Japanese (ja)
Inventor
Shunichi Soma
俊一 相馬
Takashi Kobashi
貴志 小橋
Yuki Matsumura
祐樹 松村
Osamu Nakamura
理 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and a device for stably detecting an electronic watermark and carrying out electronic watermark embedding processing which can be hardly to be recognized in the normal observation state. SOLUTION: Characteristics of signal being an object of an electronic watermark embedding processing, for example, when the signal is the image, an analysis value of characteristics of an entire image (a), that of arbitrary area information of the image (b), that of the output from a filter processing part (c), or that of image characteristics in a temporal direction (d) are acquired, and a filter coefficient is determined on the basis of these analysis values, and a mark filter where the determined coefficient is set is generated, and convolutional operation between the generated mask filter and the signal being an object of electronic watermark embedding processing is carried out to set the embedding position and the embedding quantity of an electronic watermark.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、画像等のデータに
著作権情報、編集情報などの付加情報を埋め込みまたは
読み取る技術に関し、例えば画像中に通常の観察状態で
は認識困難な付加情報として電子透かし(ウォーターマ
ーク:Digital Watermarkingまたは、DataHidingとも呼
ばれる)を埋め込む処理を実行する電子透かし埋め込み
処理装置、および電子透かし埋め込み処理方法、並びに
プログラムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for embedding or reading additional information such as copyright information and editing information in data of an image or the like. The present invention relates to a digital watermark embedding processing apparatus, a digital watermark embedding processing method, and a program that execute processing for embedding (watermark: also referred to as Digital Watermarking or DataHiding).

【0002】[0002]

【従来の技術】デジタル技術の進歩に伴い、記録、再生
処理の繰り返し実行による画質劣化、音質劣化等の発生
しないデジタル記録再生装置が普及し、また一方では、
様々な画像、音楽等のデジタテルコンテンツがDVD,
CDなどの媒体またはネットワーク等を通じて配信、流
通可能な状態となってきている。
2. Description of the Related Art With the advancement of digital technology, digital recording / reproducing apparatuses that do not cause image quality deterioration and sound quality deterioration due to repeated execution of recording and reproduction processing have become widespread.
Various digital and digital contents such as music, DVD,
It can be distributed and distributed through media such as CDs or networks.

【0003】デジタル記録再生では、アナログ記録再生
と異なり、記録再生処理を繰り返し実行してもデータの
劣化が発生しないため、オリジナルデータと同様の品質
が保たれる。このようなデジタル記録再生技術の普及は
不正コピーの氾濫を招く結果となり、著作権の保護とい
う観点から大きな問題となっている。
In digital recording / reproducing, unlike analog recording / reproducing, data deterioration does not occur even if recording / reproducing processing is repeatedly executed, so that the same quality as original data is maintained. The spread of such digital recording / reproducing technology has resulted in the proliferation of illegal copying, and is a serious problem from the viewpoint of copyright protection.

【0004】デジタルコンテンツについての不正な複製
(コピー)による著作権侵害に対処するため、デジタル
コンテンツに複製制御のための複製制御情報を付加し、
コンテンツの記録再生時に複製制御情報を読み取り、読
み取られた制御情報に従った処理を実行することにより
不正な複製を防止する構成が提案されている。
In order to cope with copyright infringement due to unauthorized duplication (copy) of digital content, copy control information for copy control is added to the digital content,
There has been proposed a configuration in which duplication control information is read at the time of recording and reproduction of content, and a process according to the read control information is executed to prevent unauthorized duplication.

【0005】コンテンツ複製制御態様には様々な態様が
あるが、例えば代表的方式として、CGMS(Copy
Generation Management Sys
tem;コピー・ジェネレーション・マネージメント・
システム)方式がある。このCGMS方式は、アナログ
映像信号(CGMS−Aと呼ばれる)であれば、その輝
度信号の垂直ブランキング期間内の特定の1水平区間、
例えばNTSC信号の場合には、第20水平区間の有効
映像部分に重畳する20ビットの付加情報のうちの2ビ
ットを複製制御用の情報として重畳し、また、デジタル
映像信号(CGMS−Dと呼ばれる)であれば、デジタ
ル映像データに挿入付加する付加情報として、複製制御
用の2ビットの情報を含めて伝送する方式である。
There are various modes of content copy control. For example, as a typical method, CGMS (Copy
Generation Management Sys
tem; copy generation management
System) system. In the CGMS method, if an analog video signal (referred to as CGMS-A), a specific horizontal section within a vertical blanking period of the luminance signal,
For example, in the case of an NTSC signal, two bits of the 20-bit additional information to be superimposed on the effective video portion in the twentieth horizontal section are superimposed as duplication control information, and a digital video signal (referred to as CGMS-D). ), The transmission method includes 2-bit information for duplication control as additional information to be inserted and added to digital video data.

【0006】このCGMS方式の場合の2ビットの情報
(以下、CGMS情報という)の意味内容は、[00]
……複製可能[10]……1回複製可能(1世代だけ複
製可能)[11]……複製禁止(絶対複製禁止)であ
る。
The meaning of 2-bit information (hereinafter referred to as CGMS information) in the case of the CGMS system is [00]
... Duplicatable [10]... Duplicate once (only one generation can be duplicated) [11]... Duplicate prohibited (absolute duplicate prohibited).

【0007】上述のCGMS方式は代表的な複製制御方
式の1例であり、他にもコンテンツの著作権保護のため
の方式が様々ある。例えば放送局が行なうデジタル放送
などでは、デジタルデータを構成するトランスポートス
トリーム(TS)パケットに含まれる番組配列情報(S
I:Service Information)内にデジタル複製制御記述
子(Digital Copy Control Descriptor)を格納し、受
信機器において受信したデータを記録装置に記録する際
に記述子に従った複製世代制御を行なう方式がある。
The above-mentioned CGMS system is an example of a typical copy control system, and there are various other systems for protecting the copyright of contents. For example, in digital broadcasting performed by a broadcasting station, program sequence information (S) included in a transport stream (TS) packet constituting digital data.
There is a method in which a digital copy control descriptor (Digital Copy Control Descriptor) is stored in I: Service Information, and the copy generation control according to the descriptor is performed when data received by the receiving device is recorded in the recording device.

【0008】しかし、上述の制御情報は例えばコンテン
ツのヘッダ等にビットデータとして付加されるものであ
り、付加されたデータの改竄の可能性を完全に排除する
ことが困難である。データ改竄の可能性の排除という点
で有利な構成が電子透かし(ウォーターマーク)であ
る。電子透かし(ウォーターマーク)は、通常のコンテ
ンツ(画像データまたは音声データ)の再生状態では視
覚あるいは知覚困難であり、電子透かしの検出、埋め込
みは特定のアルゴリズムの実行、または特定のデバイス
による処理によってのみ可能となる。受信器、記録再生
装置等におけるコンテンツ処理時に電子透かし(ウォー
ターマーク(WM))を検出して、電子透かしに従った
制御を行なうことにより、より信頼度の高い制御が可能
となる。
However, the above-mentioned control information is added as bit data to, for example, a header of the content, and it is difficult to completely eliminate the possibility of falsification of the added data. An advantageous configuration in terms of eliminating the possibility of data tampering is a digital watermark. Digital watermarks (watermarks) are difficult to see or perceive during normal content (image data or audio data) playback, and detection and embedding of digital watermarks can only be performed by executing a specific algorithm or processing by a specific device. It becomes possible. By detecting a digital watermark (watermark (WM)) at the time of content processing in a receiver, a recording / reproducing device, and the like, and performing control in accordance with the digital watermark, control with higher reliability can be performed.

【0009】電子透かし(ウォーターマーク(WM))
によってコンテンツに埋め込まれる情報としては、上述
の複製制御情報に限らず、コンテンツの著作権情報、コ
ンテンツ加工情報、コンテンツ構成情報、コンテンツ処
理情報、コンテンツ編集情報、あるいはコンテンツ再生
処理方式等、様々な情報が埋め込み可能であり、例えば
コンテンツの編集処理時に編集情報を埋め込み、各編集
ステップにおいて、電子透かしを参照して処理ステップ
を確認することなどが行なわれる。このような編集情報
は、例えばコンテンツの編集ステップ毎にコンテンツに
対して新たな電子透かしとして埋め込まれ、最終的にコ
ンテンツから取り除かれるなどの処理が行なわれる。
Digital watermark (watermark (WM))
The information embedded in the content is not limited to the above-described copy control information, and various information such as the copyright information of the content, the content processing information, the content configuration information, the content processing information, the content editing information, and the content reproduction processing method. Can be embedded. For example, the editing information is embedded at the time of editing the content, and in each editing step, the processing step is confirmed by referring to the digital watermark. For example, such editing information is embedded in the content as a new digital watermark in the content at each editing step, and is finally removed from the content.

【0010】[電子透かしの埋め込み]画像等の信号に
適用する電子透かしとしては様々な手法が提案されてい
る。1つの代表的な電子透かしは、元信号としてのデー
タ、例えば画像のもつ統計的性質に基づいた手法であ
り、この画像のもつ統計的性質に基づいた電子透かしの
埋め込み処理について説明する。電子透かしの埋め込み
対象となる元画像をP、元画像Pに対して埋め込む電子
透かしパターンをWとする。このとき、電子透かしパタ
ーンWは、下式の性質を満たすものとする。
[Embedding Digital Watermark] Various techniques have been proposed as digital watermarks applied to signals such as images. One typical digital watermark is a method based on data as an original signal, for example, a statistical property of an image, and a process of embedding a digital watermark based on the statistical property of the image will be described. It is assumed that an original image to be embedded with an electronic watermark is P, and an electronic watermark pattern to be embedded in the original image P is W. At this time, it is assumed that the digital watermark pattern W satisfies the following property.

【0011】[0011]

【数1】 (Equation 1)

【0012】例として、元画像Pと、電子透かしパター
ンWを下式のようにおく。すなわち、
As an example, an original image P and a digital watermark pattern W are set as in the following equation. That is,

【0013】[0013]

【数2】 (Equation 2)

【0014】ただし、上記式では、簡単のため元画像P
の大きさを5×4ピクセルとしている。画像では隣り合
うピクセルは一般的に近い値を持つという性質があるこ
とから、元画像Pの隣り合う各要素を近い値として設定
してある。上記[数2]に示す例では、元画像Pと電子
透かしパターンWの大きさを同じに設定したが、元画像
Pと電子透かしパターンWの大きさは、必ずしも同じ大
きさである必要はない。同じ大きさでないときは元画像
と電子透かしパターンの重なっている部分について演算
を施すことになる。
However, in the above equation, for simplicity, the original image P
Is 5 × 4 pixels. In an image, adjacent pixels generally have a property of having close values, and therefore, each adjacent element of the original image P is set as a close value. In the example shown in [Equation 2], the size of the original image P and the digital watermark pattern W are set to be the same, but the sizes of the original image P and the digital watermark pattern W do not necessarily need to be the same. . If they are not the same size, an operation is performed on the portion where the original image and the digital watermark pattern overlap.

【0015】電子透かしの埋め込み処理は下式に基づい
て実行される。
The digital watermark embedding process is executed based on the following equation.

【0016】[0016]

【数3】M=P+W## EQU3 ## M = P + W

【0017】ここで、Mは元画像Pに対して電子透かし
パターンWを埋め込んだ画像を示す。Mの値は、前記の
[数2]に示す例では次のように計算される。
Here, M indicates an image in which a digital watermark pattern W is embedded in the original image P. The value of M is calculated as follows in the example shown in the above [Equation 2].

【0018】[0018]

【数4】 (Equation 4)

【0019】[電子透かしの検出]電子透かしの検出は
この電子透かしパターンWを用いる。電子透かしWの埋
め込まれていない元画像Pに対する電子透かしの検出を
下式のように定義する。
[Digital Watermark Detection] The digital watermark pattern W is used for digital watermark detection. The detection of a digital watermark for the original image P in which the digital watermark W is not embedded is defined as shown below.

【0020】[0020]

【数5】s=P・WS = P · W

【0021】と定義する。ここで演算子“・”は行列の
内積であり、sは元画像Pと電子透かしパターンWとの
内積値である。
Is defined as Here, the operator “·” is the inner product of the matrix, and s is the inner product value of the original image P and the digital watermark pattern W.

【0022】電子透かしパターンの要素の総和が0であ
ること([数1]参照のこと)と、画像の隣り合うピク
セルは一般に近い値を持つ傾向があることから、内積値
sは0の近傍値となる。上記[数2]に示した例では、
その内積値は以下のようになる。
Since the sum of the elements of the digital watermark pattern is 0 (see [Equation 1]) and the neighboring pixels of the image tend to have generally close values, the inner product value s is close to 0. Value. In the example shown in [Equation 2] above,
The inner product value is as follows.

【0023】[0023]

【数6】 (Equation 6)

【0024】次に、電子透かしの埋め込まれている画像
Mに対して同様の演算を施す。電子透かしWの埋め込ま
れている画像Mに対する電子透かしの検出は、上記と同
様、下記式に従って内積値s’を求める。
Next, the same operation is performed on the image M in which the digital watermark is embedded. In the detection of the digital watermark for the image M in which the digital watermark W is embedded, the inner product value s' is obtained in accordance with the following equation, as described above.

【0025】[0025]

【数7】 (Equation 7)

【0026】元画像Pと電子透かしパターンWとの内積
値が0の近傍値になるのに対し、電子透かしの埋め込ま
れた画像Mと電子透かしパターンWとの内積値s’は、
電子透かしパターンW自身の内積値の近傍となる。すな
わち、
While the inner product value between the original image P and the digital watermark pattern W is a value close to 0, the inner product value s ′ between the image M with the embedded digital watermark and the digital watermark pattern W is
This is near the inner product value of the digital watermark pattern W itself. That is,

【0027】[0027]

【数8】W・W[Equation 8] WW

【0028】上記式[数8]の近傍の値となる。この内
積値W・Wは電子透かしの埋め込み強度の尺度として利
用できる。電子透かしパターンを埋め込む際に目標とす
る内積値W・Wが大きいとき電子透かしの埋め込み強度
が「強い」と表現し、内積値W・Wが小さいとき電子透
かしの埋め込み強度が「弱い」と表現する。
The value is in the vicinity of the above equation [8]. The inner product value W · W can be used as a measure of the embedding strength of the digital watermark. When the target inner product value W · W when embedding the digital watermark pattern is large, the embedding strength of the digital watermark is expressed as “strong”, and when the inner product value W · W is small, the embedding strength of the digital watermark is expressed as “weak”. I do.

【0029】また、元画像Pと電子透かしパターンWの
内積値s、電子透かしの埋め込まれた画像Mと電子透か
しパターンWとの内積値s’の絶対値が大きな値となる
とき電子透かしの検出強度が「強い」と表現し、内積値
sや内積値s’の絶対値が小さな値となるとき電子透か
しの検出強度が「弱い」と表現する。
When the absolute value of the inner product value s of the original image P and the digital watermark pattern W and the inner product value s' of the digital watermark embedded image M and the digital watermark pattern W become large, the digital watermark is detected. The strength is expressed as “strong”, and when the absolute value of the inner product value s or the inner product value s ′ becomes a small value, the detection strength of the digital watermark is expressed as “weak”.

【0030】また、電子透かしの検出強度が強いことを
画像と電子透かしパターンとの相関が「大きい」又は
「高い」、電子透かしの検出強度が弱いことを画像と電
子透かしパターンとの相関が「小さい」又は「低い」と
表現することもある。
The correlation between the image and the digital watermark pattern is “large” or “high” when the detection strength of the digital watermark is high, and the correlation between the image and the digital watermark pattern is “high” when the detection strength of the digital watermark is low. Sometimes described as "small" or "low".

【0031】元画像Pと電子透かしパターンWの内積値
s、電子透かしの埋め込まれた画像Mと電子透かしパタ
ーンWとの内積値s’を様々な画像において求めると、
それらの相対頻度分布は確率密度関数fとf’によって
表され、図1のようになる。
When the inner product value s of the original image P and the digital watermark pattern W, and the inner product value s ′ of the image M in which the digital watermark is embedded and the digital watermark pattern W are obtained in various images,
Those relative frequency distributions are represented by probability density functions f and f ′, and are as shown in FIG.

【0032】画像に電子透かしが埋め込まれているかど
うかを判断する際は、電子透かしの埋め込まれていない
画像Pと電子透かしパターンWとの内積値sが0を中心
に分布することと、電子透かしが埋め込まれている画像
Mと電子透かしパターンWとの内積値s’が電子透かし
パターンW自身の内積値であるW・Wを中心に分布する
ことを利用する。電子透かしの有無を確認したい画像と
電子透かしパターンWとの内積値s”を求め、ある閾値
(th)に対する比較を行ない電子透かしパターンの有
無の判別を行なう。具体的には下式が適用可能である。
When determining whether or not a digital watermark is embedded in an image, the inner product value s of the digital watermark pattern W and the image P without the digital watermark is distributed around 0, and The fact that the inner product value s ′ between the image M in which is embedded and the digital watermark pattern W is distributed around W · W which is the inner product value of the digital watermark pattern W itself is used. An inner product value s "of the image whose digital watermark is to be confirmed and the digital watermark pattern W are obtained, and a comparison is made with respect to a certain threshold (th) to determine the presence or absence of the digital watermark pattern. Specifically, the following equation can be applied. It is.

【0033】[0033]

【数9】 s”<th then no-watermark s”≧th then watermarkedS "<th then no-watermark s" ≧ th then watermark

【0034】上記式は、電子透かしの有無を確認したい
画像と電子透かしパターンWとの内積値s”が閾値(t
h)より小であるときは電子透かしパターンの埋め込み
なし。内積値s”が閾値(th)以上であるときは電子
透かしパターンの埋め込みありと判定することを示して
おり、図示すると図2のようになる。
In the above equation, the inner product value s "of the image whose digital watermark is to be checked and the digital watermark pattern W is determined by the threshold value (t
h) If smaller, no digital watermark pattern is embedded. When the inner product value s "is equal to or larger than the threshold value (th), it indicates that it is determined that a digital watermark pattern is embedded, and FIG.

【0035】この閾値(th)は内積値sの確率密度関
数fと内積値s’の確率密度関数f’の統計的性質から
定める値である。電子透かしが埋め込まれていないにも
かかわらず閾値(th)を超えること、つまり電子透か
しが埋め込まれていないにもかかわらず電子透かしが埋
め込まれていると判定することを“false positive”と
いう。逆に電子透かしが埋め込まれているにもかかわら
ず閾値に満たないこと、つまり電子透かしが埋め込まれ
ているにもかかわらず電子透かしが埋め込まれていない
と判定することを“false negative”という。
This threshold (th) is a value determined from the statistical properties of the probability density function f of the inner product value s and the probability density function f ′ of the inner product value s ′. The case where the digital watermark is not embedded but the threshold value (th) is exceeded, that is, the determination that the electronic watermark is embedded even though the electronic watermark is not embedded is called “false positive”. Conversely, the fact that the digital watermark is embedded but the threshold is not satisfied, that is, the determination that the digital watermark is not embedded despite the embedded digital watermark is called “false negative”.

【0036】このような誤判定である“false positiv
e”になる確率pFPと“false negative”になる確率p
FNを定めると閾値(th)は定まる。但し、確率密度関
数f’の分布の中心位置W・Wが十分に大きくないと確
率pFPと確率pFNをともに満足させることが不可能にな
りうる。そこで、電子透かしパターンWの元画像への埋
め込み処理を上記式[数3]から下式に変更する。すな
わち、
"False positiv" which is such an erroneous judgment
e ”probability p FP and“ false negative ”probability p
When the FN is determined, the threshold (th) is determined. However, if the center position WW of the distribution of the probability density function f 'is not sufficiently large, it may be impossible to satisfy both the probability p FP and the probability p FN . Therefore, the process of embedding the digital watermark pattern W in the original image is changed from the above equation [Equation 3] to the following equation. That is,

【0037】[0037]

【数10】M=P+cW## EQU10 ## M = P + cW

【0038】に変更する。上記式において、cは負でな
いスカラー値である。この変更に伴い、電子透かしの埋
め込み強度を電子透かしパターンW自身の内積値W・W
から、スカラー値を乗じたcW・Wとする。
Is changed to In the above equation, c is a non-negative scalar value. With this change, the embedding strength of the digital watermark is changed to the inner product value W · W of the digital watermark pattern W itself.
From cW · W multiplied by the scalar value.

【0039】閾値を定めるためには、まず電子透かしを
用いるアプリケーションにて必要とされる確率pFPと確
率pFNを定め、そのときの境界値thFPと境界値thFN
を定める。このとき、下式が満足されていることが必要
である。
In order to determine the threshold value, first, a probability p FP and a probability p FN required for an application using digital watermarking are determined, and a boundary value th FP and a boundary value th FN at that time are determined.
Is determined. At this time, it is necessary that the following expression is satisfied.

【0040】[0040]

【数11】thFP≦thFN [Equation 11] th FP ≦ th FN

【0041】次に、上記式thFP≦thFNを満たすよう
に確率密度関数fと確率密度関数f’の統計的性質を勘
案しながら確率密度関数f’の中心位置cW・Wを定め
る。最後に閾値(th)を定める。閾値(th)のとり
得る範囲は図3の通りである。
Next, the center position cW · W of the probability density function f ′ is determined in consideration of the statistical properties of the probability density function f and the probability density function f ′ so as to satisfy the above expression th FP ≦ th FN . Finally, a threshold (th) is determined. The range that the threshold (th) can take is as shown in FIG.

【0042】電子透かしパターンWを元画像Pに埋め込
む際、元画像Pに対する変更が多ければ多いほど、つま
りcW・Wが大きければ大きいほど、画像の受けるダメ
ージは大きくなる。そこで、cW・Wが所望の確率pFP
と確率pFNを満たし、かつ、cW・Wが最小となるよう
にスカラー値cを定めることが一般的である。つまり下
式に示す関係が成立する。これは具体的には図4に示す
関係となる。
When embedding the digital watermark pattern W in the original image P, the more the change to the original image P is made, that is, the larger the cW · W is, the greater the damage to the image is. Then, cW · W is the desired probability p FP
And the probability p FN , and the scalar value c is generally determined so that cW · W is minimized. That is, the relationship shown in the following equation is established. This is specifically the relationship shown in FIG.

【0043】[0043]

【数12】thFP=thFN=th[Equation 12] th FP = th FN = th

【0044】電子透かしを用いるアプリケーションによ
っては、確率pFPと確率pFNに関して極めて小さな値が
求められることがある。特に確率pFPはその要求が著し
い。例えば、電子透かしを著作権保護に利用する場合、
違法複製画像を合法的な画像と誤って判断したとしても
ユーザークレームにはつながり難いのに対し、合法的な
画像を誤って違法複製画像だと判断するとユーザークレ
ームにつながる可能性が大きいためである。図4の例よ
りも確率pFPと確率pFNを小さくした例が図5である。
Depending on the application using digital watermarking, extremely small values may be required for the probability p FP and the probability p FN . In particular, the requirement for the probability p FP is significant. For example, when using a digital watermark for copyright protection,
This is because even if an illegally copied image is incorrectly determined to be a legitimate image, it is unlikely to lead to a user claim, whereas if a illegal image is incorrectly determined to be an illegally copied image, it is highly likely to lead to a user claim. . FIG. 5 shows an example in which the probability p FP and the probability p FN are smaller than those in the example of FIG.

【0045】確率pFPと確率pFNは限りなく0に近いこ
とが理想的である。しかしながら、そのように閾値(t
h)を定めると埋め込まなければならない電子透かしの
強度cW・Wが増大してしまい、電子透かしの埋め込み
による画質への影響が無視できなくなる。電子透かしの
検出の信頼性と電子透かしによる画質への影響はトレー
ドオフの関係にある。
Ideally, the probability p FP and the probability p FN are as close to 0 as possible. However, the threshold (t
When h) is defined, the strength cW · W of the digital watermark that must be embedded increases, and the effect of embedding the digital watermark on the image quality cannot be ignored. There is a trade-off between the reliability of digital watermark detection and the effect of digital watermark on image quality.

【0046】電子透かしの検出の信頼性を確保しつつ、
電子透かしの画質への影響を極力抑える種々の手法が提
案されている。広く採用されている基本的な方法とし
て、元画像内のエッジ部分に強く埋め込み平坦な部分に
は弱く埋め込むというものが挙げられる。ピクセル値の
変更が数値的に同じであるとき、平坦な部分ではその変
更が目立ちやすいが、エッジ部分ではその変更が目立ち
難いという人間の視覚特性を利用したものである。エッ
ジ部分と平坦部分で電子透かしの埋め込み強度に強弱を
つけた場合であっても、画像全体として一定量の電子透
かしパターンが埋め込まれていれば、その電子透かしの
検出の信頼性はほぼ同程度となる。
While ensuring the reliability of the detection of the digital watermark,
Various techniques have been proposed to minimize the effect of digital watermarking on image quality. As a widely adopted basic method, there is a method of embedding strongly in an edge portion in an original image and embedding weakly in a flat portion. When the change of the pixel value is numerically the same, the change is noticeable in a flat part, but the change is not noticeable in an edge part. Even if the embedding strength of the digital watermark is varied between the edge part and the flat part, the reliability of detection of the digital watermark is almost the same if a certain amount of digital watermark pattern is embedded in the entire image. Becomes

【0047】[埋め込み情報の多ビット化]ここまでの
内容は画像に対しての電子透かしパターンの埋め込み処
理方法とその電子透かしの検出処理方法である。この電
子透かし埋め込み検出方法では、画像に電子透かしパタ
ーンが埋め込まれているのかそれとも埋め込まれていな
いのかの2通りしか判別ができない。言い換えれば1ビ
ットの情報しか表現できない。以下では埋め込む情報を
多ビット化する方法について触れる。
[Embedding Information with Multiple Bits] The contents described so far are a method for embedding a digital watermark pattern in an image and a method for detecting the digital watermark. In this digital watermark embedding detection method, it is possible to determine only whether the digital watermark pattern is embedded in the image or not. In other words, only 1-bit information can be expressed. The following describes how to embed information in multiple bits.

【0048】多ビットの情報を電子透かしにて画像に埋
め込む方法は、複数の電子透かしパターンを用いる方法
と画像を小領域に分割する方法とこれらの複合に大別さ
れる。
The method of embedding multi-bit information in an image by digital watermark is roughly classified into a method using a plurality of digital watermark patterns, a method of dividing an image into small areas, and a combination of these.

【0049】複数の電子透かしパターンを用いる方法で
は、複数の電子透かしパターンのそれぞれに異なる意味
を持たせ排他的に画像に埋め込むことによって所望の情
報を表現する方法と複数の電子透かしパターンを同時に
重ねて画像に埋め込みその組み合わせによって所望の情
報を表現する方法、そして、これら2つの方法を複合し
た方法が考えられる。複数の電子透かしパターンを元画
像に埋め込む様子を図6に示す。
In the method of using a plurality of digital watermark patterns, a method of expressing desired information by embedding exclusive digital watermarks with different meanings in each image and simultaneously overlaying the plurality of digital watermark patterns are described. Embedded in an image to express desired information by a combination thereof, and a method combining these two methods. FIG. 6 shows how a plurality of digital watermark patterns are embedded in the original image.

【0050】複数の電子透かしパターンのそれぞれに異
なる意味を持たせ排他的に画像に埋め込むことによって
所望の情報を表現する方法では、画像に埋め込みたい情
報のビット数をbとしたとき、必要となる電子透かしパ
ターンの種類nはn=2bとなる。他方、複数の電子透
かしパターンを同時に重ねて画像に埋め込みその組み合
わせによって所望の情報を表現する方法では、必要とな
る電子透かしパターンの種類nはn=bとなる。但し、
後者は電子透かしパターンの種類が少なくて済むもの
の、電子透かしパターンを画像に複数重ねて埋め込むた
め画像の劣化に対する適切な処置を必要とする場合が多
い。最後にこれら2つの方法を複合した方法では、必要
となる電子透かしパターンの種類nはb≦n≦2bとな
り、両方法の特徴を併せ持ったものとなる。
The method of expressing desired information by embedding exclusively in an image by giving each of a plurality of digital watermark patterns different meanings is necessary when the number of bits of information to be embedded in an image is b. The type n of the digital watermark pattern is n = 2b . On the other hand, in a method in which a plurality of digital watermark patterns are simultaneously superimposed and embedded in an image to express desired information by a combination thereof, the required type n of the digital watermark pattern is n = b. However,
In the latter case, although the number of types of digital watermark patterns is small, an appropriate measure against image deterioration is often required because a plurality of digital watermark patterns are embedded in an image. Finally, in the method combining these two methods, the required type n of the digital watermark pattern is b ≦ n ≦ 2 b , which has the features of both methods.

【0051】画像を小領域に分割する方法は、多ビット
の情報を電子透かしにて画像に埋め込むもう1つの方法
であり、小領域毎に異なる役割を持たせることで画像の
中に複数の電子透かしを同時に存在させようというもの
である。小領域の配置の仕方は種々提案されている。こ
こでは図7のように小領域を格子状に配置した例で説明
を行なう。図7におけるi,jは負でない整数である。
The method of dividing an image into small areas is another method of embedding multi-bit information into an image by using a digital watermark. It is to make the watermark exist at the same time. Various methods of arranging the small areas have been proposed. Here, a description will be given of an example in which small areas are arranged in a grid pattern as shown in FIG. I and j in FIG. 7 are non-negative integers.

【0052】画像を小領域に分割する際に分割数が問題
になる。画像に埋め込みたい情報がbビットであると
き、画像をb個の小領域に分割する方法がまず考えられ
るが、様々な画像に対して電子透かしパターンを埋め込
む場合、画像の持つ視覚特性を考慮して電子透かしパタ
ーンを埋め込むことが多いことからこの方法は問題が発
生しやすい。例えば埋め込み画像のエッジ部分に強く、
画像の平坦部分に弱く埋め込むなどの処理を加えると
き、あるビットに対応する小領域が偶然にも平坦部分で
あった場合に、そこの領域に埋め込まれている電子透か
しを検出できない恐れがある。たとえ1つの領域でも電
子透かし検出に失敗した領域があると、残りの領域に埋
め込まれている電子透かしが検出されたとしても、全体
の組み合わせとしての意味がなくなるという事態に陥
る。画像を小領域に分割するときには、bよりも多い小
領域に分割する方が、様々な画像に対して安定して電子
透かしの検出を行なえるという利点がある。たとえ1小
領域で電子透かしパターンの埋め込み強度が非常に弱く
なったとしても、同じビット情報を埋め込む残りの小領
域で必要な電子透かしパターンの埋め込み量が確保され
ていれば全体として電子透かしの検出が可能となるので
ある。
When dividing an image into small areas, the number of divisions becomes a problem. When the information to be embedded in the image is b bits, a method of dividing the image into b small regions is considered first. When embedding a digital watermark pattern in various images, the visual characteristics of the image are taken into consideration. This method is liable to cause a problem since a digital watermark pattern is often embedded. For example, strong against the edge of the embedded image,
When processing such as weak embedding in a flat part of an image is performed, if a small area corresponding to a certain bit happens to be a flat part, the digital watermark embedded in that area may not be detected. If there is an area in which digital watermark detection has failed even in one area, even if a digital watermark embedded in the remaining area is detected, the situation becomes meaningless as a whole combination. When an image is divided into small regions, dividing the image into smaller regions than b has the advantage that a digital watermark can be detected stably for various images. Even if the embedding strength of the digital watermark pattern is extremely weak in one small area, if the required amount of embedding of the digital watermark pattern is secured in the remaining small areas in which the same bit information is embedded, detection of the digital watermark as a whole is performed. It becomes possible.

【0053】図8に埋め込み情報が8ビットであるとき
の小領域の分割例を示す。同じビットに対応する複数の
小領域が画像中に割り当てられている。
FIG. 8 shows an example of dividing a small area when the embedded information is 8 bits. A plurality of small areas corresponding to the same bit are allocated in the image.

【0054】[電子透かしパターンの埋め込みの流れ]
電子透かしパターンの画像への埋め込み処理を実行する
電子透かしパターン埋め込み処理装置構成例を図9に示
す。以下、図9を参照して電子透かしパターンの画像へ
の埋め込み処理について説明する。
[Flow of Embedding Digital Watermark Pattern]
FIG. 9 shows an example of the configuration of a digital watermark pattern embedding processing device that executes a process of embedding a digital watermark pattern in an image. Hereinafter, a process of embedding a digital watermark pattern in an image will be described with reference to FIG.

【0055】元画像901は、電子透かしパターンの埋
め込み対象画像であり例えばハードディスク、DVDな
どの記憶媒体から読み出されたり、あるいはスキャナ、
デジタルカメラなどの画像取り込み装置から供給された
画像など、様々な画像が含まれる。
An original image 901 is an image to be embedded with a digital watermark pattern, and is read from a storage medium such as a hard disk or a DVD,
Various images such as images supplied from an image capturing device such as a digital camera are included.

【0056】電子透かしパターン生成部904は画像に
埋め込む埋め込み情報902と電子透かしパターン生成
キー(key)記憶部903の電子透かしパターン生成キ
ー(key)とに基づいて電子透かしパターンを生成す
る。埋め込み情報902は、先に説明した複製制御情
報、著作権情報、編集情報など様々であり、任意な情報
である。電子透かしパターン生成キー(key)は、具体
的には電子透かしパターンを画像に埋め込む際の画像分
割情報や、ビット配列情報などであり、埋め込み情報9
02を電子透かしパターンとして生成するために必要と
なる加工情報である。
The digital watermark pattern generation unit 904 generates a digital watermark pattern based on the embedding information 902 to be embedded in the image and the digital watermark pattern generation key (key) in the digital watermark pattern generation key (key) storage unit 903. The embedded information 902 is various and arbitrary information such as the copy control information, the copyright information, and the editing information described above. The digital watermark pattern generation key (key) is, specifically, image division information when embedding a digital watermark pattern in an image, bit arrangement information, and the like.
02 is processing information required to generate 02 as a digital watermark pattern.

【0057】電子透かしパターン埋め込み部905で
は、電子透かしパターン生成部904にて生成された電
子透かしパターンを入力データとしての元画像901へ
埋め込む。元画像のエッジ部分や平坦部分での電子透か
しパターンの埋め込み強度を調整するのはこの電子透か
しパターン埋め込み部905である。電子透かしパター
ンの埋め込まれた画像は電子透かし埋め込み画像906
として出力される。
The digital watermark pattern embedding unit 905 embeds the digital watermark pattern generated by the digital watermark pattern generation unit 904 in the original image 901 as input data. It is this digital watermark pattern embedding unit 905 that adjusts the embedding strength of the digital watermark pattern in the edge portion and flat portion of the original image. The image in which the digital watermark pattern is embedded is a digital watermark embedded image 906.
Is output as

【0058】このように、電子透かしパターン生成部9
04は、埋め込み情報902を、図7に示した画像の小
領域への分割方法や図8に示した埋め込み情報のビット
に対応する小領域の割り当て方等の規定を表現した電子
透かしパターン生成キー(key)に基づいて電子透かし
パターンの生成を実行し、電子透かしパターン埋め込み
部905が、画像に応じて埋め込み強度を調整して電子
透かしパターンを画像に埋め込む。
As described above, the digital watermark pattern generation unit 9
Numeral 04 denotes a digital watermark pattern generation key that expresses rules such as a method of dividing the embedded information 902 into small areas shown in FIG. 7 and a method of assigning small areas corresponding to bits of the embedded information shown in FIG. The digital watermark pattern is generated based on (key), and the digital watermark pattern embedding unit 905 adjusts the embedding strength according to the image and embeds the digital watermark pattern in the image.

【0059】[電子透かしの検出の流れ]次に、電子透
かしパターンが埋め込まれた画像から電子透かしを検出
する電子透かし検出処理装置の構成例を図10に示す。
以下、図10を参照して電子透かし検出処理について説
明する。
[Digital Watermark Detection Flow] Next, FIG. 10 shows a configuration example of a digital watermark detection processing device for detecting a digital watermark from an image in which a digital watermark pattern is embedded.
Hereinafter, the digital watermark detection processing will be described with reference to FIG.

【0060】画像1001は、電子透かしパターンの埋
め込まれた処理対象画像であり例えばハードディスク、
DVDなどの記憶媒体から読み出されたり、通信媒体を
介して供給された画像など、様々な画像が含まれる。
An image 1001 is a processing target image in which a digital watermark pattern is embedded.
Various images, such as images read from a storage medium such as a DVD or supplied via a communication medium, are included.

【0061】電子透かしパターン生成部1003は電子
透かしパターン生成キー(key)記憶部1002の電子
透かしパターン生成キー(key)から電子透かしパター
ンを生成する。電子透かしパターン生成キー(key)
は、具体的には電子透かしパターンを画像に埋め込む際
の画像分割情報や、ビット配列情報などであり、電子透
かしパターンの検出に必要となる情報である。
The digital watermark pattern generation unit 1003 generates a digital watermark pattern from the digital watermark pattern generation key (key) in the digital watermark pattern generation key (key) storage unit 1002. Digital watermark pattern generation key (key)
Are image division information when embedding a digital watermark pattern in an image, bit arrangement information, and the like, and are information necessary for detecting a digital watermark pattern.

【0062】検出部1004では、電子透かしパターン
生成部1003にて生成された電子透かしパターンを用
いて、入力画像1001の電子透かしを検出する。検出
処理は、先に説明したように生成された電子透かしパタ
ーンを用いて検出対象画像との相関を内積値によって取
得し、取得した内積値と閾値(th)との比較(数9参
照)を実行する。さらに先に図6〜図8を用いて説明し
たような電子透かしによる多ビット情報がある場合は、
多ビット情報の取得を行なう。検出部1004にて検出
された情報は検出情報1005として出力される。
The detecting section 1004 detects the digital watermark of the input image 1001 using the digital watermark pattern generated by the digital watermark pattern generating section 1003. In the detection processing, the correlation with the detection target image is obtained by the inner product value using the digital watermark pattern generated as described above, and the obtained inner product value is compared with the threshold (th) (see Expression 9). Execute. Further, when there is multi-bit information by digital watermark as described with reference to FIGS.
Acquires multi-bit information. Information detected by the detection unit 1004 is output as detection information 1005.

【0063】[0063]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、例え
ば画像データに電子透かしを埋め込む際、埋め込み画像
のエッジ、または乱雑な部分に強く埋め込み、画像の平
坦部分に弱く埋め込むなどの処理がを採られている。こ
れは、例えば空などのような画像の平坦部分に電子透か
しパターンを強く埋め込むと、埋め込み後の電子透かし
が視覚的に認知される可能性が高まるためである。
As described above, for example, when embedding a digital watermark in image data, processing such as embedding strongly in an edge or a random portion of an embedded image and weakly embedding in a flat portion of the image is employed. Have been. This is because, when a digital watermark pattern is strongly embedded in a flat portion of an image such as the sky, the possibility that the digital watermark after embedding is visually recognized increases.

【0064】統計的な手法により電子透かしを検出する
場合、埋め込むべき電子透かし成分はある一定以上の強
さが信号内に埋め込められなければならない。電子透か
しを確実に検出できるという条件を満足しながら、電子
透かしパターンが容易に認知できないように電子透かし
パターンを信号に埋め込むことが必要となる。
When a digital watermark is detected by a statistical method, the digital watermark component to be embedded must have a certain strength or more embedded in the signal. It is necessary to embed a digital watermark pattern in a signal so that the digital watermark pattern cannot be easily recognized while satisfying the condition that the digital watermark can be reliably detected.

【0065】そのため、電子透かしを埋め込む際にでき
るだけ人間の感知しにくい部分を画像情報より抽出する
必要がある。従来の手法では人間の視覚特性を考慮した
線形フィルタを用いて画像上の知覚しにくい部分を抽出
する手法がとられている。
Therefore, when embedding a digital watermark, it is necessary to extract, from the image information, a portion which is hardly perceived by a human. In the conventional method, a method of extracting a portion that is difficult to perceive on an image using a linear filter in consideration of human visual characteristics is used.

【0066】図11を用いて、線形フィルタを用いて画
像上の知覚しにくい部分を抽出して電子透かしの埋め込
み処理を実行する一般的処理方法を説明する。図11の
上段が電子透かし埋め込み処理構成(Embedding)を示
し、下段が電子透かし検出処理構成(Detecting)を示
している。
With reference to FIG. 11, a general processing method for extracting a part which is difficult to perceive on an image by using a linear filter and executing a digital watermark embedding process will be described. The upper part of FIG. 11 shows a digital watermark embedding processing configuration (Embedding), and the lower part shows a digital watermark detection processing configuration (Detecting).

【0067】図11の電子透かし埋め込み処理構成(Em
bedding)においては、電子透かしを埋め込む対象とな
る画像信号(Source Image)101を入力画像とし、電
子透かしパターン(Mask Image)102を埋め込む。
The digital watermark embedding processing configuration (Em
In bedding, an image signal (Source Image) 101 to be embedded with a digital watermark is used as an input image, and a digital watermark pattern (Mask Image) 102 is embedded.

【0068】画像信号(Source Image)101は、ラプ
ラシアンフィルタ等のエッジ検出フィルタ103を用い
て、電子透かしパターンの埋め込み領域を抽出する。エ
ッジ検出フィルタ103は、人間の視覚特性を考慮した
線形フィルタの1種であり、画像のエッジを抽出する。
従来の電子透かし埋め込み処理装置において、エッジ検
出のためのフィルタの形状は入力画像やその他の要素に
よって時間的、空間的にも値が変わることはなく、唯一
の形状のフィルタを使用していた。
The image signal (Source Image) 101 uses an edge detection filter 103 such as a Laplacian filter to extract an area in which a digital watermark pattern is embedded. The edge detection filter 103 is one type of a linear filter in consideration of human visual characteristics, and extracts an edge of an image.
In the conventional digital watermark embedding processing apparatus, the shape of the filter for edge detection does not change temporally and spatially depending on an input image or other factors, and a filter having only one shape is used.

【0069】図1に示す例では、係数(−1,8)を持
つ3×3のエッジ検出フィルタを適用してエッジイメー
ジを出力している。エッジ検出フィルタ103において
検出されたエッジ領域に対して積算部104において、
電子透かしパターン生成情報との積算を実行する。積算
部104では、スケーリングパラメータλを用いて電子
透かしパターンの埋め込み強度を決定する。スケーリン
グパラメータλを変更することにより電子透かしパター
ンの埋め込み強度が変更される。積算部104において
生成された電子透かしパターンは、加算部105におい
て画像信号(Source Image)101と重ねあわせられる
ことにより電子透かし埋め込み画像信号106が出力さ
れる。
In the example shown in FIG. 1, an edge image is output by applying a 3 × 3 edge detection filter having a coefficient (-1, 8). The accumulating unit 104 calculates the edge area detected by the edge detection filter 103.
The integration with the digital watermark pattern generation information is executed. The integration unit 104 determines the embedding strength of the digital watermark pattern using the scaling parameter λ. By changing the scaling parameter λ, the embedding strength of the digital watermark pattern is changed. The digital watermark pattern generated by the accumulating unit 104 is superimposed on the image signal (Source Image) 101 by the adding unit 105 to output a digital watermark embedded image signal 106.

【0070】電子透かしの埋め込みの行われた画像は図
11の下段に示す電子透かし検出処理構成(Detectin
g)によって検出される。検出側では、前述したよう
に、埋め込みに用いられた電子透かしパターンとの相
関、すなわち内積を計算することで、電子透かしの埋め
込みが行われたか否かを検知する。例えば通信路を通過
した電子透かし検出対象画像107を入力し、埋め込み
に用いられた電子透かしパターン108との内積pを、
内積算出部(Inner Product)109において算出し、
算出した内積値Pの絶対値(abs(P))がある一定の値
thを超えたか否かを比較手段110において判定し、
算出した内積値Pの絶対値(abs(P))がある一定の値
thを超えた場合、電子透かしの埋め込みが行われた
(Detect)と判断し、値thを超えない場合、電子透か
しの埋め込みが行われていない(Not Detect)と判断す
る。
The image in which the digital watermark is embedded is processed by the digital watermark detection processing configuration (Detectin) shown in the lower part of FIG.
g) is detected. On the detection side, as described above, the correlation with the digital watermark pattern used for embedding, that is, the inner product is calculated to detect whether the digital watermark has been embedded. For example, the digital watermark detection target image 107 that has passed through the communication path is input, and the inner product p with the digital watermark pattern 108 used for embedding is
Calculated by the inner product calculation unit (Inner Product) 109,
The comparing means 110 determines whether or not the absolute value (abs (P)) of the calculated inner product value P has exceeded a certain value th.
When the absolute value (abs (P)) of the calculated inner product value P exceeds a certain value th, it is determined that the digital watermark is embedded (Detect). It is determined that embedding has not been performed (Not Detect).

【0071】しかし、上述の電子透かし埋め込み手法
は、電子透かし埋め込み対象となる画像のエッジ検出処
理を唯一のエッジ検出フィルタを適用して実行した構成
である。しかし、画像には、全体として乱雑な高周波領
域の多い画像であったり、あるいは全体として平坦な低
周波領域の多い画像であったり様々である。また、動画
においては、乱雑な高周波領域の多い画像と平坦な低周
波領域の多い画像とが切り換わる場面が発生することが
ある。
However, the above-described digital watermark embedding method has a configuration in which the edge detection processing of an image to be digital watermark embedded is executed by applying only one edge detection filter. However, there are various types of images, such as an image having a large number of high-frequency regions that are messy as a whole, or an image having many low-frequency regions that are flat as a whole. In addition, in a moving image, there may be a case where a scene is switched between an image having many messy high frequency regions and an image having many flat low frequency regions.

【0072】このような様々な画像に対して同一形状の
フィルタを適用したエッジ検出処理を実行して、検出に
応じた電子透かしの埋め込み処理を実行すると、画像に
よっては埋め込んだ電子透かしパターンが通常の画像観
察状態においても認知されてしまう場合がある。従来の
手法では時空間的にエッジ検出フィルタの係数が変化し
ないために、エッジ検出処理が画一的になり、人間の観
察状態における視覚的認識状態と対応せず、電子透かし
を埋め込むべきところに埋め込みが行われなかったり、
過剰な強度で埋め込みが行われたりしてしまっていた。
When an edge detection process using the same shape filter is applied to such various images and an electronic watermark embedding process according to the detection is executed, depending on the image, an embedded electronic watermark pattern is usually used. May be perceived even in the image observation state. In the conventional method, since the coefficient of the edge detection filter does not change spatiotemporally, the edge detection processing becomes uniform, and it does not correspond to the visual recognition state in the human observation state, and it is necessary to embed a digital watermark No embedding,
Embedding was performed with excessive strength.

【0073】本発明は、上述したような、電子透かし埋
め込み処理における問題点に鑑みてなされたものであ
り、電子透かし埋め込み対象となる画像の特性を時空間
的に解析し、適当な線形フィルタを選択して、電子透か
しの埋め込み態様を決定することで、画像の態様に応じ
た電子透かし埋め込みが可能となり、電子透かしを埋め
込んだ画像から、通常の観察状態で電子透かしを認知し
難くし、かつ検出に十分な埋め込み量を保つことを可能
とした電子透かし埋め込み処理装置、および電子透かし
埋め込み処理方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-described problems in the digital watermark embedding process, and analyzes the characteristics of an image to be embedded with a digital watermark in a spatiotemporal manner. By selecting and determining the embedding mode of the digital watermark, it becomes possible to embed a digital watermark according to the mode of the image, and from the image in which the digital watermark is embedded, it is difficult to recognize the digital watermark in a normal observation state, and It is an object of the present invention to provide a digital watermark embedding processing device and a digital watermark embedding processing method capable of maintaining a sufficient embedding amount for detection.

【0074】本発明の構成によれば、画像特性、または
画像の領域の特性、またはフィルタ出力特性、または時
間に応じて線形フィルタを適宜変更し、電子透かしの埋
め込み量を調節することで、よりきめ細かく画像の特性
や人間の視覚にあわせた電子透かしの埋め込みを可能と
する電子透かし埋め込み処理装置、および電子透かし埋
め込み処理方法が実現される。また本発明の構成は、従
来の電子透かし埋め込み処理装置に付け加える形でシス
テムを構築することができる。
According to the configuration of the present invention, the linear filter is appropriately changed in accordance with the image characteristics, the characteristics of the image region, the filter output characteristics, or the time, and the amount of embedding of the digital watermark is adjusted. A digital watermark embedding processing device and a digital watermark embedding method that enable finely embedding a digital watermark in accordance with image characteristics and human vision are realized. Further, the configuration of the present invention can construct a system in a form added to a conventional digital watermark embedding processing apparatus.

【0075】本発明の構成では、人間の感知しにくい部
分を画像情報より抽出するフィルタに工夫を加えること
で知覚的信号劣化の改善とパターン埋め込み量の増加を
同時に実現する。適当なマスクフィルタと画像との畳み
込み演算を埋め込み処理に使うことによって簡単にその
埋め込み位置と強度を設定することができる。
In the configuration of the present invention, improvement of perceptual signal deterioration and increase in the amount of pattern embedding can be realized at the same time by devising a filter for extracting a portion that is difficult for a human to perceive from image information. By using a convolution operation of an appropriate mask filter and an image for the embedding process, the embedding position and intensity can be easily set.

【0076】[0076]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の側面は、
電子透かしパターン埋め込み処理を実行する電子透かし
埋め込み処理装置であり、電子透かし埋め込み対象信号
に対するフィルタ処理のためのマスクフィルタを生成す
るマスクフィルタ生成手段と、前記マスクフィルタ生成
手段の生成したマスクフィルタを用いた前記電子透かし
埋め込み対象信号に対するフィルタリング処理を実行す
るフィルタ処理手段と、前記フィルタ処理手段の出力に
基づいて電子透かしパターンを生成する電子透かしパタ
ーン生成手段と、前記電子透かしパターン生成手段にお
いて生成された電子透かしパターンを前記電子透かし埋
め込み対象信号に埋め込む処理を実行する電子透かしパ
ターン埋め込み手段とを有し、前記マスクフィルタ生成
手段は、電子透かし埋め込み対象信号に基づいて取得さ
れる解析データに基づいて異なるマスクフィルタを生成
して前記フィルタ処理手段に出力する構成を有すること
を特徴とする電子透かし埋め込み処理装置にある。
SUMMARY OF THE INVENTION A first aspect of the present invention is as follows.
An electronic watermark embedding processing device that executes an electronic watermark pattern embedding process, using a mask filter generating unit that generates a mask filter for performing a filtering process on a digital watermark embedding target signal, and a mask filter generated by the mask filter generating unit. Filter processing means for performing a filtering process on the digital watermark embedding target signal, a digital watermark pattern generation means for generating a digital watermark pattern based on an output of the filter processing means, and a digital watermark pattern generated by the digital watermark pattern generation means. Electronic watermark pattern embedding means for executing a process of embedding a digital watermark pattern in the electronic watermark embedding target signal, wherein the mask filter generating means converts analysis data obtained based on the digital watermark embedding target signal into In electronic watermark embedding processing apparatus characterized by having a configuration Zui be to generate different masks filter output to said filtering means.

【0077】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置の一実施態様において、前記マスクフィルタ生成手
段は、電子透かし埋め込み処理対象信号の(a)全体特
性、または(b)部分特性、または(c)前記フィルタ
処理部からの出力値、または(d)時間方向における特
性の少なくともいずれかの解析結果に基づいて異なるマ
スクフィルタを生成して前記フィルタ処理手段に出力す
る構成を有することを特徴とする。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing apparatus according to the present invention, the mask filter generating means includes (a) an overall characteristic, (b) a partial characteristic, or (c) of the digital watermark embedding processing target signal. A different mask filter is generated based on an analysis result of at least one of an output value from the filter processing unit or (d) a characteristic in a time direction, and is output to the filter processing unit.

【0078】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置の一実施態様において、前記マスクフィルタ生成手
段は、電子透かし埋め込み処理対象信号が画像である場
合に(a)画像全体特性、または(b)画像の部分領域
の特性、または(c)前記フィルタ処理部からの出力
値、または(d)動画像における時間方向の特性の少な
くともいずれかの解析結果に基づいて異なるマスクフィ
ルタを生成して前記フィルタ処理手段に出力する構成を
有することを特徴とする。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing apparatus of the present invention, when the signal to be subjected to the digital watermark embedding processing is an image, the mask filter generating means includes: (a) an overall image characteristic; And (c) generating a different mask filter based on the analysis result of at least one of the characteristics of the partial region, or (c) the output value from the filter processing unit, and (d) the characteristics in the time direction of the moving image. It is characterized by having a configuration for outputting to means.

【0079】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置の一実施態様において、前記電子透かし埋め込み処
理装置は、さらに、電子透かし埋め込み処理対象となる
画像の周波数解析を実行し、高周波成分が多い画像であ
るか低周波成分の多い画像であるかを判定する画像特性
検出手段を有し、前記マスクフィルタ生成手段は、前記
画像特性検出手段の検出結果に基づいて異なるマスクフ
ィルタを生成する構成を有することを特徴とする。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing apparatus of the present invention, the digital watermark embedding processing apparatus further executes a frequency analysis of an image to be subjected to the digital watermark embedding processing, and performs an analysis on an image having many high frequency components. Image characteristic detecting means for determining whether the image is an image having a large number of low frequency components, wherein the mask filter generating means has a configuration for generating a different mask filter based on a detection result of the image characteristic detecting means. It is characterized by.

【0080】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置の一実施態様において、前記電子透かし埋め込み処
理装置は、さらに、電子透かし埋め込み処理対象となる
画像の領域区分情報を取得する画像領域情報検出手段を
有し、前記マスクフィルタ生成手段は、前記画像領域情
報検出手段の検出結果に基づいて異なるマスクフィルタ
を生成する構成を有することを特徴とする。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing apparatus of the present invention, the digital watermark embedding processing apparatus further includes an image area information detecting means for acquiring area division information of an image to be subjected to digital watermark embedding processing. Wherein the mask filter generating means has a configuration for generating a different mask filter based on a detection result of the image area information detecting means.

【0081】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置の一実施態様において、前記画像領域情報検出手段
は、画像の中心領域と、周囲領域とを段階的に区分した
領域区分情報を取得し、前記マスクフィルタ生成手段
は、前記画像領域情報検出手段の検出結果として取得さ
れる段階的な区分情報に基づいて、電子透かしの埋め込
み量を画像中心領域には少なく、画像周辺領域には多く
なる設定とする異なるマスクフィルタを生成する構成を
有することを特徴とする。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing apparatus of the present invention, the image area information detecting means obtains area division information in which a central area and a peripheral area of an image are divided step by step. The mask filter generation unit is configured to set the amount of embedding of the electronic watermark in the image central region to be small and to be large in the image peripheral region based on the stepwise division information acquired as the detection result of the image region information detection unit. Characterized in that it has a configuration for generating different mask filters.

【0082】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置の一実施態様において、前記電子透かし埋め込み処
理装置は、さらに、電子透かし埋め込み処理対象となる
画像の領域区分情報を取得する画像領域情報検出手段を
有し、前記電子透かしパターン生成手段は、前記画像領
域情報検出手段の検出結果に基づいて異なるスケーリン
グパラメータλを適用して、前記フィルタ処理手段の出
力結果と、電子透かしパターン生成情報との積算を実行
して電子透かしパターンを生成する構成を有することを
特徴とする。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing apparatus of the present invention, the digital watermark embedding processing apparatus further includes an image area information detecting means for acquiring area division information of an image to be subjected to digital watermark embedding processing. The digital watermark pattern generation unit applies a different scaling parameter λ based on the detection result of the image area information detection unit, and integrates the output result of the filter processing unit and the digital watermark pattern generation information. It is characterized in that it has a configuration to execute and generate a digital watermark pattern.

【0083】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置の一実施態様において、前記マスクフィルタ生成手
段は、前記フィルタ処理手段において、フィルタ処理を
した結果として得られるフィルタ出力画像I(x,y)
の評価を実行し、フィルタ出力画像I(x,y)に含ま
れる高周波成分量が所定の閾値以下である場合には、マ
スクフィルタの係数を変更した再生成マスクフィルタを
生成して前記フィルタ処理手段に出力し、前記フィルタ
処理手段は、前記再生成マスクフィルタを適用したフィ
ルタリング処理を実行し、フィルタ出力画像I(x,
y)に含まれるエッジ量が閾値より大きくなったことを
条件として、そのフィルタ出力画像I(x,y)に基づ
いて電子透かしパターン生成処理を実行する構成を有す
ることを特徴とする。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing apparatus of the present invention, the mask filter generating means includes a filter output image I (x, y) obtained as a result of performing a filter processing in the filter processing means.
Is performed, and when the high-frequency component amount included in the filter output image I (x, y) is equal to or less than a predetermined threshold, a regenerated mask filter in which the mask filter coefficient is changed is generated to perform the filtering process. Means, and the filter processing means executes a filtering process to which the regeneration mask filter is applied, and outputs a filtered output image I (x,
On the condition that the edge amount included in y) becomes larger than the threshold value, a digital watermark pattern generation process is performed based on the filter output image I (x, y).

【0084】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置の一実施態様において、前記電子透かし埋め込み処
理装置は、さらに、電子透かし埋め込み処理対象となる
画像の時空間領域特性を解析する時空間解析処理手段を
有し、前記マスクフィルタ生成手段は、前記時空間解析
処理手段の解析結果に基づいて異なるマスクフィルタを
生成する構成を有することを特徴とする。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing device of the present invention, the digital watermark embedding processing device further includes a spatio-temporal analysis processing means for analyzing a spatio-temporal region characteristic of an image to be subjected to digital watermark embedding processing. Wherein the mask filter generation means generates a different mask filter based on the analysis result of the spatiotemporal analysis processing means.

【0085】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置の一実施態様において、前記時空間解析処理手段
は、電子透かし埋め込み処理対象となる動画像の複数フ
レームに渡る周波数解析により、該動画像に含まれる周
波数成分解析を実行し、前記マスクフィルタ生成手段
は、前記時空間解析処理手段の解析結果として取得され
る動画像の複数フレームの周波成分情報に応じて異なる
マスクフィルタを生成する構成を有することを特徴とす
る。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing apparatus of the present invention, the spatio-temporal analysis processing means performs frequency analysis on a plurality of frames of the moving image to be subjected to the digital watermark embedding processing to include the moving image in the moving image. And a mask filter generation unit configured to generate a different mask filter according to frequency component information of a plurality of frames of a moving image obtained as an analysis result of the spatiotemporal analysis processing unit. It is characterized by.

【0086】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置の一実施態様において、前記マスクフィルタ生成手
段は、電子透かし埋め込み対象信号の小領域毎の情報に
基づいて取得される解析データに基づいて小領域毎に異
なるマスクフィルタを生成する構成を有することを特徴
とする。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing apparatus of the present invention, the mask filter generating means is configured to generate a small area based on analysis data obtained based on information of each small area of the digital watermark embedding target signal. It is characterized by having a configuration for generating a different mask filter for each.

【0087】さらに、本発明の第2の側面は、電子透か
しパターン埋め込み処理を実行する電子透かし埋め込み
処理方法であり、電子透かし埋め込み対象信号に対する
フィルタ処理のためのマスクフィルタを生成するマスク
フィルタ生成ステップと、前記マスクフィルタ生成ステ
ップにおいて生成したマスクフィルタを用いた前記電子
透かし埋め込み対象信号に対するフィルタリング処理を
実行するフィルタ処理ステップと、前記フィルタ処理ス
テップにおける出力に基づいて電子透かしパターンを生
成する電子透かしパターン生成ステップと、前記電子透
かしパターン生成ステップにおいて生成された電子透か
しパターンを前記電子透かし埋め込み対象信号に埋め込
む処理を実行する電子透かしパターン埋め込みステップ
とを有し、前記マスクフィルタ生成ステップは、電子透
かし埋め込み対象信号に基づいて取得される解析データ
に基づいて異なるマスクフィルタを生成してフィルタ処
理手段に出力するステップを実行することを特徴とする
電子透かし埋め込み処理方法にある。
Further, a second aspect of the present invention is a digital watermark embedding method for executing a digital watermark pattern embedding process, and a mask filter generating step for generating a mask filter for filtering a digital watermark embedding target signal. A filter processing step of performing a filtering process on the digital watermark embedding target signal using the mask filter generated in the mask filter generation step; and a digital watermark pattern for generating a digital watermark pattern based on an output in the filter processing step A digital watermark pattern embedding step of executing a process of embedding the digital watermark pattern generated in the digital watermark pattern generation step in the digital watermark embedding target signal. The digital filter embedding method includes a step of generating a different mask filter based on the analysis data acquired based on the digital watermark embedding target signal and outputting the generated mask filter to a filter processing unit. .

【0088】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
方法の一実施態様において、前記マスクフィルタ生成ス
テップは、電子透かし埋め込み処理対象信号の(a)全
体特性、または(b)部分特性、または(c)前記フィ
ルタ処理部からの出力値、または(d)時間方向におけ
る特性の少なくともいずれかの解析結果に基づいて異な
るマスクフィルタを生成することを特徴とする。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing method of the present invention, the mask filter generating step includes the steps of (a) overall characteristics, (b) partial characteristics, and (c) of the digital watermark embedding processing target signal. A different mask filter is generated based on an analysis result of at least one of an output value from the filter processing unit and (d) a characteristic in a time direction.

【0089】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
方法の一実施態様において、前記マスクフィルタ生成ス
テップは、電子透かし埋め込み処理対象信号が画像であ
る場合に(a)画像全体特性、または(b)画像の部分
領域の特性、または(c)前記フィルタ処理部からの出
力値、または(d)動画像における時間方向の特性の少
なくともいずれかの解析結果に基づいて異なるマスクフ
ィルタを生成することを特徴とする。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing method of the present invention, the mask filter generating step includes the steps of: (a) determining the overall characteristics of the image; And (c) generating a different mask filter based on an analysis result of at least one of the characteristics of the partial region, or (c) the output value from the filter processing unit, and (d) the characteristics in the time direction of the moving image. I do.

【0090】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
方法の一実施態様において、前記電子透かし埋め込み処
理方法は、さらに、電子透かし埋め込み処理対象となる
画像の周波数解析を実行し、高周波成分が多い画像であ
るか低周波成分の多い画像であるかを判定する画像特性
検出ステップを有し、前記マスクフィルタ生成ステップ
は、前記画像特性検出ステップにおける検出結果に基づ
いて異なるマスクフィルタを生成することを特徴とす
る。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing method according to the present invention, the digital watermark embedding processing method further executes a frequency analysis of an image to be subjected to the digital watermark embedding processing, and performs the processing on an image having many high frequency components. An image characteristic detecting step of determining whether the image is an image having many low frequency components, wherein the mask filter generating step generates different mask filters based on a detection result in the image characteristic detecting step. I do.

【0091】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
方法の一実施態様において、前記電子透かし埋め込み処
理方法は、さらに、電子透かし埋め込み処理対象となる
画像の領域区分情報を取得する画像領域情報検出ステッ
プを有し、前記マスクフィルタ生成ステップは、前記画
像領域情報検出ステップの検出結果に基づいて異なるマ
スクフィルタを生成することを特徴とする。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing method according to the present invention, the digital watermark embedding processing method further includes an image area information detecting step of acquiring area division information of an image to be subjected to digital watermark embedding processing. Wherein the mask filter generating step generates different mask filters based on a detection result of the image area information detecting step.

【0092】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
方法の一実施態様において、前記画像領域情報検出ステ
ップは、画像の中心領域と、周囲領域とを段階的に区分
した領域区分情報を取得し、前記マスクフィルタ生成ス
テップは、前記画像領域情報検出ステップの検出結果と
して取得される段階的な区分情報に基づいて、電子透か
しの埋め込み量を画像中心領域には少なく、画像周辺領
域には多くなる設定とする異なるマスクフィルタを生成
することを特徴とする。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing method of the present invention, the image area information detecting step obtains area division information in which a central area and a peripheral area of an image are divided in stages. The mask filter generating step is configured such that the embedding amount of the electronic watermark is small in the image central region and large in the image peripheral region based on the stepwise division information obtained as the detection result of the image region information detecting step. And generating different mask filters.

【0093】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
方法の一実施態様において、前記電子透かし埋め込み処
理方法は、さらに、電子透かし埋め込み処理対象となる
画像の領域区分情報を取得する画像領域情報検出ステッ
プを有し、前記電子透かしパターン生成ステップは、前
記画像領域情報検出ステップの検出結果に基づいて異な
るスケーリングパラメータλを適用して、前記フィルタ
処理手段の出力結果と、電子透かしパターン生成情報と
の積算を実行して電子透かしパターンを生成することを
特徴とする。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing method according to the present invention, the digital watermark embedding processing method further includes an image area information detecting step of acquiring area division information of an image to be subjected to digital watermark embedding processing. The digital watermark pattern generation step applies a different scaling parameter λ based on the detection result of the image area information detection step, and integrates the output result of the filter processing means and the digital watermark pattern generation information. It is characterized in that the digital watermark pattern is executed to generate a digital watermark pattern.

【0094】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
方法の一実施態様において、前記マスクフィルタ生成ス
テップは、前記フィルタ処理ステップにおいて、フィル
タ処理をした結果として得られるフィルタ出力画像I
(x,y)の評価を実行し、フィルタ出力画像I(x,
y)に含まれる高周波成分量が所定の閾値以下である場
合には、マスクフィルタの係数を変更した再生成マスク
フィルタを生成して前記フィルタ処理手段に出力し、前
記フィルタ処理ステップは、前記再生成マスクフィルタ
を適用したフィルタリング処理を実行し、フィルタ出力
画像I(x,y)に含まれるエッジ量が閾値より大きく
なったことを条件として、そのフィルタ出力画像I
(x,y)に基づいて電子透かしパターン生成処理を実
行することを特徴とする。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing method according to the present invention, the mask filter generating step includes a step of generating a filter output image I obtained as a result of performing the filter processing in the filter processing step.
(X, y) is evaluated, and the filter output image I (x, y) is evaluated.
If the high-frequency component amount included in y) is equal to or less than a predetermined threshold, a regenerated mask filter in which the coefficients of the mask filter are changed is generated and output to the filter processing means. A filtering process using a synthetic mask filter is performed, and the filter output image I (x, y) is filtered on the condition that the edge amount included in the filter output image I (x, y) becomes larger than a threshold value.
The digital watermark pattern generation processing is performed based on (x, y).

【0095】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
方法の一実施態様において、前記電子透かし埋め込み処
理方法は、さらに、電子透かし埋め込み処理対象となる
画像の時空間領域特性を解析する時空間解析処理ステッ
プを有し、前記マスクフィルタ生成ステップは、前記時
空間解析処理ステップの解析結果に基づいて異なるマス
クフィルタを生成することを特徴とする。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing method of the present invention, the digital watermark embedding processing method further comprises a spatiotemporal analysis processing step of analyzing a spatiotemporal region characteristic of an image to be subjected to the digital watermark embedding processing. Wherein the mask filter generating step generates different mask filters based on the analysis result of the spatiotemporal analysis processing step.

【0096】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
方法の一実施態様において、前記時空間解析処理ステッ
プは、電子透かし埋め込み処理対象となる動画像の複数
フレームに渡る周波数解析により、該動画像に含まれる
周波数成分解析を実行し、前記マスクフィルタ生成ステ
ップは、前記時空間解析処理ステップの解析結果として
取得される動画像の複数フレームの周波成分情報に応じ
て異なるマスクフィルタを生成することを特徴とする。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing method of the present invention, the spatio-temporal analysis processing step is performed by performing frequency analysis on a plurality of frames of the moving image to be subjected to the digital watermark embedding processing to include the moving image in the moving image. Performing a frequency component analysis, wherein the mask filter generating step generates different mask filters according to frequency component information of a plurality of frames of a moving image obtained as an analysis result of the spatiotemporal analysis processing step. I do.

【0097】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
方法の一実施態様において、前記マスクフィルタ生成ス
テップは、電子透かし埋め込み対象信号の小領域毎の情
報に基づいて取得される解析データに基づいて小領域毎
に異なるマスクフィルタを生成することを特徴とする。
Further, in one embodiment of the digital watermark embedding processing method of the present invention, the mask filter generating step includes the step of generating a small area based on analysis data obtained based on information of each small area of the digital watermark embedding target signal. A different mask filter is generated every time.

【0098】さらに、本発明の第3の側面は、電子透か
しパターン埋め込み処理をコンピュータ・システム上で
実行せしめるプログラムであって、電子透かし埋め込み
対象信号に対するフィルタ処理のためのマスクフィルタ
を生成するマスクフィルタ生成ステップと、前記マスク
フィルタ生成ステップにおいて生成したマスクフィルタ
を用いた前記電子透かし埋め込み対象信号に対するフィ
ルタリング処理を実行するフィルタ処理ステップと、前
記フィルタ処理ステップにおける出力に基づいて電子透
かしパターンを生成する電子透かしパターン生成ステッ
プと、前記電子透かしパターン生成ステップにおいて生
成された電子透かしパターンを前記電子透かし埋め込み
対象信号に埋め込む処理を実行する電子透かしパターン
埋め込みステップとを有し、前記マスクフィルタ生成ス
テップは、電子透かし埋め込み対象信号に基づいて取得
される解析データに基づいて異なるマスクフィルタを生
成してフィルタ処理手段に出力するステップを実行する
ステップを含むことを特徴とするプログラムにある。
Further, a third aspect of the present invention is a program for causing a computer system to execute a digital watermark pattern embedding process, the mask filter generating a mask filter for performing a filtering process on a digital watermark embedding target signal. A generating step; a filtering step of performing a filtering process on the digital watermark embedding target signal using the mask filter generated in the mask filter generating step; and an electronic device for generating a digital watermark pattern based on an output in the filtering process step. A watermark pattern generating step, and a digital watermark pattern embedding step of executing a process of embedding the digital watermark pattern generated in the digital watermark pattern generating step in the digital watermark embedding target signal. Wherein the mask filter generating step includes a step of executing a step of generating a different mask filter based on the analysis data acquired based on the digital watermark embedding target signal and outputting the mask filter to a filter processing unit. There is in the program.

【0099】なお、本発明のプログラムは、例えば、様
々なプログラム・コードを実行可能な汎用コンピュータ
・システムに対して、コンピュータ可読な形式で提供す
る媒体、例えば、CDやFD、MOなどの記憶媒体に格
納されて提供可能であり、本発明のプログラム記憶媒体
は、例えば、様々なプログラム・コードを実行可能な汎
用コンピュータ・システムに対して、コンピュータ・プ
ログラムをコンピュータ可読な形式で提供する媒体であ
る。媒体は、CDやFD、MOなどの記録媒体、あるい
は、ネットワークなどの伝送媒体など、その形態は特に
限定されない。
The program of the present invention is provided, for example, in a computer-readable medium to a general-purpose computer system capable of executing various program codes, for example, a storage medium such as a CD, an FD, and an MO. The program storage medium of the present invention is a medium that provides a computer program in a computer-readable format to a general-purpose computer system that can execute various program codes, for example. . The form of the medium is not particularly limited, such as a recording medium such as a CD, an FD, and an MO, and a transmission medium such as a network.

【0100】このようなプログラムは、プロセッサ制御
の下でプログラムの読み取りに基づき、システムの有す
る各種機能の実行を規程するとともに、システム上の協
働的作用を発揮するものであり、本発明の他の側面と同
様の作用効果を得ることができるものである。
Such a program regulates the execution of various functions of the system based on the reading of the program under the control of the processor, and exerts a cooperative operation on the system. The same operation and effect as those of the aspect can be obtained.

【0101】本発明のさらに他の目的、特徴や利点は、
後述する本発明の実施例や添付する図面に基づくより詳
細な説明によって明らかになるであろう。
Still other objects, features and advantages of the present invention are:
It will become apparent from the following more detailed description based on the embodiments of the present invention and the accompanying drawings.

【0102】[0102]

【発明の実施の形態】以下、本発明の電子透かし埋め込
み処理装置の実施例について、図を参照しながら説明す
る。なお、以下の実施例では、電子透かし埋め込み処理
対象信号として主に画像信号を例として説明するが、本
発明は画像信号のみに限らず、音声信号等、他の種類の
信号に対しても適用可能である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a digital watermark embedding processing apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following embodiment, an image signal is mainly described as an example of a signal to be subjected to digital watermark embedding processing. However, the present invention is not limited to an image signal, and is applicable to other types of signals such as an audio signal. It is possible.

【0103】本発明の電子透かし埋め込み処理装置の第
1実施例の構成を図12に示す。本発明の電子透かし埋
め込み処理装置は、電子透かしの埋め込み対象となる元
画像の画像特性、または画像を構成する各領域の特性、
またはフィルタ出力特性、または時間に応じて変更され
るフィルタを用いた電子透かし埋め込み処理装置であ
る。
FIG. 12 shows the configuration of the first embodiment of the digital watermark embedding processing apparatus of the present invention. The digital watermark embedding processing apparatus according to the present invention includes an image characteristic of an original image to be embedded with a digital watermark, or a characteristic of each region constituting the image,
Alternatively, it is an electronic watermark embedding processing device using a filter that changes according to filter output characteristics or time.

【0104】図12に示す電子透かし埋め込み処理装置
の構成について説明する。元画像201は、電子透かし
パターンの埋め込み対象画像であり例えばハードディス
ク、DVDなどの記憶媒体から読み出されたり、あるい
はスキャナ、デジタルカメラなどの画像取り込み装置か
ら供給された画像など、様々な画像が含まれる。
The configuration of the digital watermark embedding processing apparatus shown in FIG. 12 will be described. The original image 201 is an image to be embedded with a digital watermark pattern, and includes various images such as an image read from a storage medium such as a hard disk or a DVD, or an image supplied from an image capturing device such as a scanner or a digital camera. It is.

【0105】フィルタ処理部203は、元画像202や
その他の情報に基づいてマスクフィルタ生成部202の
生成したマスクフィルタを用いて元画像201のフィル
タリング処理を実行する。具体的には、マスクフィルタ
生成部202の生成したマスクフィルタと元画像201
との畳み込み演算を実行する。マスクフィルタ生成部2
02は、元画像の(a)画像全体の特性や、(b)元画
像のある任意の領域情報、(c)フィルタ処理部からの
出力、或いは(d)時間方向に画像の特性の解析を行う
ことで適用するフィルタ構成、例えばフィルタ係数を決
定し、決定された構成を持つマスクフィルタを生成す
る。これらの各態様については、後段で説明する。フィ
ルタ処理部203は、マスクフィルタ生成部202の生
成したマスクフィルタを用いて元画像201との畳み込
み演算を行う。
The filter processing unit 203 executes a filtering process on the original image 201 using the mask filter generated by the mask filter generation unit 202 based on the original image 202 and other information. Specifically, the mask filter generated by the mask filter generation unit 202 and the original image 201
Execute the convolution operation with. Mask filter generator 2
02, (a) the characteristics of the entire image of the original image, (b) arbitrary area information of the original image, (c) output from the filter processing unit, or (d) analysis of the characteristics of the image in the time direction. By doing so, a filter configuration to be applied, for example, a filter coefficient is determined, and a mask filter having the determined configuration is generated. Each of these aspects will be described later. The filter processing unit 203 performs a convolution operation with the original image 201 using the mask filter generated by the mask filter generation unit 202.

【0106】なお、マスクフィルタ生成部202は、処
理対象信号が、音声信号等、画像でない場合であっても
対応可能であり、電子透かし埋め込み処理対象信号の
(a)全体特性、または(b)部分特性、または(c)
前記フィルタ処理部からの出力値、または(d)時間方
向における特性の少なくともいずれかの解析結果に基づ
いて適用するフィルタ構成、例えばフィルタ係数を決定
し、決定された構成を持つマスクフィルタを生成する。
The mask filter generation unit 202 can cope with a case where the processing target signal is not an image such as an audio signal, and the (a) overall characteristic of the digital watermark embedding processing target signal or (b) Partial characteristics, or (c)
A filter configuration to be applied, for example, a filter coefficient is determined based on an output value from the filter processing unit or (d) a result of analysis of at least one of characteristics in a time direction, and a mask filter having the determined configuration is generated. .

【0107】電子透かしパターン生成部205は画像に
埋め込む埋め込み情報206と電子透かしパターン生成
キー(key)記憶部204の電子透かしパターン生成キ
ー(key)とに基づいて電子透かしパターンを生成す
る。埋め込み情報206は、例えば複製制御情報、著作
権情報、編集情報など様々であり、任意な情報である。
電子透かしパターン生成キー(key)は、具体的には電
子透かしパターンを画像に埋め込む際の画像分割情報
や、ビット配列情報などであり、埋め込み情報206を
電子透かしパターンとして生成するために必要となる加
工情報である。
The digital watermark pattern generation unit 205 generates a digital watermark pattern based on the embedding information 206 to be embedded in the image and the digital watermark pattern generation key (key) in the digital watermark pattern generation key (key) storage unit 204. The embedding information 206 is various, such as copy control information, copyright information, and editing information, and is arbitrary information.
The digital watermark pattern generation key (key) is, specifically, image division information when embedding a digital watermark pattern in an image, bit arrangement information, and the like, and is necessary for generating the embedded information 206 as a digital watermark pattern. Processing information.

【0108】電子透かしパターン埋め込み部207で
は、電子透かしパターン生成部206にて生成された電
子透かしパターンを入力データとして元画像201へ埋
め込む。電子透かしパターンの埋め込まれた画像は電子
透かし埋め込み画像208として出力される。
The digital watermark pattern embedding section 207 embeds the digital watermark pattern generated by the digital watermark pattern generating section 206 into the original image 201 as input data. The image in which the digital watermark pattern is embedded is output as a digital watermark embedded image 208.

【0109】なお、電子透かしパターン生成部205
は、埋め込み情報206を、例えば図7に示した画像の
小領域への分割方法や図8に示した埋め込み情報のビッ
トに対応する小領域の割り当て方等の規定を表現した電
子透かしパターン生成キー(key)に基づいて電子透か
しパターンの生成を実行し、電子透かしパターン埋め込
み部207が、電子透かしパターンを画像に埋め込む。
The digital watermark pattern generation unit 205
Is a digital watermark pattern generation key expressing rules such as a method of dividing the embedded information 206 into small areas of the image shown in FIG. 7 and a method of assigning small areas corresponding to the bits of the embedded information shown in FIG. The digital watermark pattern is generated based on (key), and the digital watermark pattern embedding unit 207 embeds the digital watermark pattern in the image.

【0110】図12に示した電子透かしパターン埋め込
み処理装置の処理の流れを図13に示す。最初にステッ
プS301では電子透かしで埋め込む情報と電子透かし
パターン生成キー(key)から電子透かしパターンを生
成する。
FIG. 13 shows a processing flow of the digital watermark pattern embedding processing apparatus shown in FIG. First, in step S301, a digital watermark pattern is generated from information to be embedded in a digital watermark and a digital watermark pattern generation key (key).

【0111】ステップS302では電子透かしを埋め込
む元画像を入力する。ステップS303では、元画像の
(a)画像全体の特性や、(b)元画像のある任意の領
域情報、(c)フィルタの出力に基づいて、あるいは
(d)時間方向に画像の特性の解析を行うことでフィル
タの係数を決定し、決定された係数を用いて画像と畳み
込み演算を行う。
In step S302, an original image into which a digital watermark is to be embedded is input. In step S303, the characteristics of the image are analyzed based on (a) the characteristics of the entire image of the original image, (b) arbitrary area information of the original image, (c) the output of the filter, or (d) the time direction. Is performed, the filter coefficient is determined, and a convolution operation is performed on the image using the determined coefficient.

【0112】ステップS304ではステップS303で
出力された振幅にしたがって電子透かしパターンの埋め
込みを行う。ステップS305において、電子透かしパ
ターンを埋め込まれた画像は電子透かし埋め込み画像と
して出力される。
In step S304, a digital watermark pattern is embedded according to the amplitude output in step S303. In step S305, the image in which the digital watermark pattern is embedded is output as a digital watermark embedded image.

【0113】本発明の電子透かし埋め込み処理装置で
は、電子透かし埋め込み処理対象である元画像の(a)画
像全体の特性や、(b)元画像のある任意の領域情報、(c)
フィルタ処理部からの出力、或いは(d)時間方向に画像
の特性の解析を行うことでフィルタの係数を決定し、決
定された係数を設定したマスクフィルタを生成して、生
成したマスクフィルタと元画像との畳み込み演算を実行
することにより、電子透かしの埋め込み位置、埋め込み
量が特定されることになる。以下、本発明の電子透かし
埋め込み処理装置について、マスクフィルタの生成態様
毎に区別した実施例について説明する。
In the digital watermark embedding processing apparatus of the present invention, (a) the characteristics of the entire image of the original image to be subjected to the digital watermark embedding processing, (b) arbitrary area information of the original image, and (c)
The output of the filter processing unit or (d) the characteristics of the image are analyzed in the time direction to determine the filter coefficients, and a mask filter in which the determined coefficients are set is generated. By executing the convolution operation with the image, the embedding position and the embedding amount of the digital watermark are specified. Hereinafter, embodiments of the digital watermark embedding processing apparatus according to the present invention which are distinguished for each generation mode of the mask filter will be described.

【0114】[画像全体の特性を利用してフィルタ係数
を決定する]まず、電子透かしの埋め込み処理対象とな
る元画像の画像特性に基づいてフィルタ係数を決定する
電子透かし埋め込み処理装置の実施例を図14を用いて
説明する。なお、ここでいう画像特性とは電子透かしの
埋め込み処理対象となる画像全体或いは一部分の周波数
やある評価関数の出力状態等をさす。
[Determination of Filter Coefficient Using Characteristics of Entire Image] First, an embodiment of a digital watermark embedding processing apparatus for determining a filter coefficient based on image characteristics of an original image to be subjected to digital watermark embedding processing will be described. This will be described with reference to FIG. Here, the image characteristics refer to the frequency of the entire image or a part of the image to be subjected to the digital watermark embedding process, the output state of a certain evaluation function, and the like.

【0115】図14に示す電子透かし埋め込み処理装置
の構成について説明する。元画像401は、電子透かし
パターンの埋め込み対象画像であり例えばハードディス
ク、DVDなどの記憶媒体から読み出されたり、あるい
はスキャナ、デジタルカメラなどの画像取り込み装置か
ら供給された画像など、様々な画像が含まれる。
The configuration of the digital watermark embedding processing apparatus shown in FIG. 14 will be described. The original image 401 is an image to be embedded with a digital watermark pattern, and includes various images such as an image read from a storage medium such as a hard disk or a DVD, or an image supplied from an image capturing device such as a scanner or a digital camera. It is.

【0116】フィルタ処理部404は、元画像401の
画像特性に基づいてマスクフィルタ生成部403の生成
したマスクフィルタと元画像401との畳み込み演算を
実行する。マスクフィルタ生成部403は、画像特性検
出部402の出力する元画像の画像全体或いは一部分の
周波数やある評価関数の出力状態の解析結果情報に基づ
いてフィルタの係数を決定し、決定された係数を設定し
たマスクフィルタを生成する。フィルタ処理部404
は、マスクフィルタ生成部403の生成したマスクフィ
ルタを用いて元画像401との畳み込み演算を行う。
The filter processing unit 404 executes a convolution operation between the mask filter generated by the mask filter generation unit 403 and the original image 401 based on the image characteristics of the original image 401. The mask filter generation unit 403 determines filter coefficients based on the analysis result information of the frequency of the entire image or a part of the original image output from the image characteristic detection unit 402 or the output state of a certain evaluation function, and determines the determined coefficients. Generate the set mask filter. Filter processing unit 404
Performs a convolution operation with the original image 401 using the mask filter generated by the mask filter generation unit 403.

【0117】電子透かしパターン生成部406は画像に
埋め込む埋め込み情報と電子透かしパターン生成キー
(key)記憶部405の電子透かしパターン生成キー(k
ey)とに基づいて電子透かしパターンを生成する。埋め
込み情報は、例えば複製制御情報、著作権情報、編集情
報など様々であり、任意な情報である。電子透かしパタ
ーン生成キー(key)は、具体的には電子透かしパター
ンを画像に埋め込む際の画像分割情報や、ビット配列情
報などであり、埋め込み情報を電子透かしパターンとし
て生成するために必要となる加工情報である。
The digital watermark pattern generation unit 406 stores the embedding information to be embedded in the image and the digital watermark pattern generation key (k) in the digital watermark pattern generation key (key) storage unit 405.
ey) to generate a digital watermark pattern based on The embedding information is various, such as, for example, copy control information, copyright information, and editing information, and is arbitrary information. The digital watermark pattern generation key (key) is, specifically, image division information when embedding a digital watermark pattern in an image, bit arrangement information, and the like, and is a process required to generate embedded information as a digital watermark pattern. Information.

【0118】電子透かしパターン埋め込み部407で
は、電子透かしパターン生成部406にて生成された電
子透かしパターンを入力データとして元画像401へ埋
め込む。電子透かしパターンの埋め込まれた画像は電子
透かし埋め込み画像408として出力される。
The digital watermark pattern embedding section 407 embeds the digital watermark pattern generated by the digital watermark pattern generating section 406 into the original image 401 as input data. The image in which the digital watermark pattern is embedded is output as a digital watermark embedded image 408.

【0119】なお、電子透かしパターン生成部406
は、埋め込み情報を、例えば図7に示した画像の小領域
への分割方法や図8に示した埋め込み情報のビットに対
応する小領域の割り当て方等の規定を表現した電子透か
しパターン生成キー(key)に基づいて電子透かしパタ
ーンの生成を実行し、電子透かしパターン埋め込み部4
07が、電子透かしパターンを画像に埋め込む。
The digital watermark pattern generation unit 406
Is a digital watermark pattern generation key (for example, a method of dividing the embedded information into small areas of the image shown in FIG. 7 and a method of assigning a small area corresponding to the bits of the embedded information shown in FIG. 8). key), the digital watermark pattern is generated, and the digital watermark pattern embedding unit 4 is executed.
07 embeds the digital watermark pattern in the image.

【0120】画像特性検出部402、およびマスクフィ
ルタ生成部403において実行する画像全体の特性につ
いての解析処理、および解析結果を利用したフィルタ係
数の決定処理およびマスクフィルタ生成処理の具体例を
図15を用いて説明する。
FIG. 15 shows a specific example of an analysis process for the characteristics of the entire image, a process of determining a filter coefficient using the analysis result, and a process of generating a mask filter, which are executed in the image characteristic detection unit 402 and the mask filter generation unit 403. It will be described using FIG.

【0121】画像特性検出部402は、電子透かし埋め
込み処理対象となる元画像401を、一定の周期でサン
プリングを行い、FFT(Fast Fourie Transform:高速
フーリエ変換)を施した画像(図15−(1))を評価
する。
The image characteristic detection unit 402 samples the original image 401 to be subjected to the digital watermark embedding process at a fixed period, and performs an FFT (Fast Fourie Transform: Fast Fourier Transform) on the image (FIG. 15- (1)). )).

【0122】評価の手法を簡単に説明する。周波数平面
f(u,v)において低周波成分を中心にとった場合、
その半径方向の軸をrとする。これに対して次のような
関数を定義する(図15−(2))。
The evaluation method will be briefly described. When the low-frequency component is centered on the frequency plane f (u, v),
Let r be its radial axis. On the other hand, the following function is defined (FIG. 15- (2)).

【0123】[0123]

【数13】 (Equation 13)

【0124】関数g(r)は画像の空間周波数の分布を
1次元で表わす。次に、関数g(r)のr軸である閾値
thをとり、それより高い周波数と低い周波数とで平均
値をとる(図15−(3))。高周波数平均値を(ave_
high)とし、低周波数平均値を(ave_low)とする。図
15(3)に示すグラフは、入力画像のFFT画像につ
いて、横軸に周波数、縦軸にg(r)(Power)を
とり示したものである。
The function g (r) expresses the spatial frequency distribution of the image in one dimension. Next, a threshold th, which is the r-axis of the function g (r), is taken, and an average value is taken at higher and lower frequencies (FIG. 15- (3)). High frequency average value (ave_
high) and the low frequency average value is (ave_low). The graph shown in FIG. 15 (3) shows the frequency on the horizontal axis and g (r) (Power) on the vertical axis for the FFT image of the input image.

【0125】高周波数平均値(ave_high)が、低周波数
平均値(ave_low)よりも低い場合にはより低周波成分
の多いの画像であると判定する。低周波成分の多い画像
に対して、電子透かしを多量に、また強度を強く埋め込
みを行うと、埋め込む電子透かしパターンの形状にもよ
るが、電子透かしパターンが通常の画像観察状態で認識
される可能性が高くなる。
If the high frequency average value (ave_high) is lower than the low frequency average value (ave_low), it is determined that the image has more low frequency components. When embedding a large amount of digital watermark and strong intensity into an image with many low-frequency components, the digital watermark pattern can be recognized in a normal image observation state, depending on the shape of the digital watermark pattern to be embedded. The nature becomes high.

【0126】そこで、画像特性検出部402では、電子
透かし埋め込み対象画像全体の周波数解析結果につい
て、高周波数平均値(ave_high)と低周波数平均値(av
e_low)との比較処理を実行(図15−(4))する。
Therefore, the image characteristic detecting unit 402 determines the high frequency average value (ave_high) and the low frequency average value (av
e_low) (FIG. 15- (4)).

【0127】マスクフィルタ生成部403は、高周波数
平均値(ave_high)が低周波数平均値(ave_low)より
も低い場合には3×3のマスクフィルタを生成または選
択適用して、フィルタ処理部404に出力し、フィルタ
処理部404は、マスクフィルタ生成部403の生成し
た3×3のマスクフィルタと元画像401との畳み込み
演算により、エッジ検出を実行(図15−(5))し
て、電子透かしの画像に対する埋め込み量を少なめに制
御する。
When the high frequency average value (ave_high) is lower than the low frequency average value (ave_low), the mask filter generation unit 403 generates or selects and applies a 3 × 3 mask filter. The filter processing unit 404 performs edge detection by performing a convolution operation between the 3 × 3 mask filter generated by the mask filter generation unit 403 and the original image 401 (FIG. 15- (5)), and performs digital watermarking. The embedding amount for the image is controlled to be small.

【0128】一方、高周波数平均値(ave_high)が低周
波数平均値(ave_low)よりも高く、高周波成分の多い
画像であると判定された場合には、マスクフィルタ生成
部403は、5×5のマスクフィルタを生成または選択
適用して、フィルタ処理部404に出力し、フィルタ処
理部404は、マスクフィルタ生成部403の生成した
5×5のマスクフィルタと元画像401との畳み込み演
算により、エッジ検出を実行(図15−(6))して、
電子透かしの画像に対する埋め込み量を多めに制御す
る。
On the other hand, when it is determined that the high-frequency average value (ave_high) is higher than the low-frequency average value (ave_low) and the image has many high-frequency components, the mask filter generation unit 403 outputs the 5 × 5 image. A mask filter is generated or selected and applied to the filter processing unit 404 and output to the filter processing unit 404. The filter processing unit 404 performs edge detection by a convolution operation between the 5 × 5 mask filter generated by the mask filter generation unit 403 and the original image 401. (FIG. 15- (6))
The embedding amount of the digital watermark in the image is controlled to be relatively large.

【0129】このように、本実施例の電子透かし埋め込
み処理装置では、電子透かし埋め込み処理対象となる画
像の特性、例えば画像の持つ周波数解析により高周波成
分が多い画像であるか低周波成分の多い画像であるかに
応じて異なるマスクフィルタを生成して、入力画像との
畳み込み演算によるエッジ検出処理を実行する構成と
し、検出部分に対する電子透かしの埋め込み処理を実行
する構成としたので、画像に応じた電子透かし埋め込み
処理、すなわち高周波成分の多い画像に対しては多量の
電子透かしを埋め込み、低周波成分の多い画像には少量
の電子透かしを埋め込むという処理が可能となり、視覚
的な電子透かし認知レベルに対応した電子透かし埋め込
み制御が可能となる。
As described above, in the digital watermark embedding processing apparatus according to the present embodiment, an image having many high frequency components or an image having many low frequency components is determined by analyzing the characteristics of the image to be subjected to the digital watermark embedding process, for example, the frequency analysis of the image. The configuration is such that different mask filters are generated depending on whether the edge detection process is performed, edge detection processing is performed by convolution with the input image, and digital watermark embedding processing is performed on the detected part. Digital watermark embedding processing, i.e., a process of embedding a large amount of digital watermark in an image with many high frequency components and embedding a small amount of digital watermark in an image with many low frequency components, is possible. Corresponding electronic watermark embedding control becomes possible.

【0130】[入力画像の部分領域を切り出し、領域特
性に従ってフィルタ係数を決定する]次に、電子透かし
の埋め込み処理対象となる入力画像の部分領域を切り出
し、領域特性に従ってフィルタ係数を決定する電子透か
し埋め込み処理装置の実施例を図16を用いて説明す
る。なお、ここでいう特性とは任意の領域に切り出され
た画像中の周波数やある評価関数の出力状態等である。
[Extracting a Partial Region of the Input Image and Determining a Filter Coefficient According to the Region Characteristics] Next, a partial region of the input image to be subjected to the digital watermark embedding process is extracted and a filter coefficient is determined according to the region characteristics. An embodiment of the embedding processing device will be described with reference to FIG. Note that the characteristics here include a frequency in an image cut out into an arbitrary region, an output state of a certain evaluation function, and the like.

【0131】図16に示す電子透かし埋め込み処理装置
の構成について説明する。元画像501は、電子透かし
パターンの埋め込み対象画像であり例えばハードディス
ク、DVDなどの記憶媒体から読み出されたり、あるい
はスキャナ、デジタルカメラなどの画像取り込み装置か
ら供給された画像など、様々な画像が含まれる。
The structure of the digital watermark embedding processing apparatus shown in FIG. 16 will be described. The original image 501 is an image to be embedded with a digital watermark pattern, and includes various images such as an image read from a storage medium such as a hard disk or a DVD or an image supplied from an image capturing device such as a scanner or a digital camera. It is.

【0132】フィルタ処理部504は、元画像501の
画像を構成する領域の領域特性に基づいてマスクフィル
タ生成部503の生成したマスクフィルタと元画像50
1との畳み込み演算を実行する。マスクフィルタ生成部
503は、画像領域情報検出部502の出力する画像全
体或いは一部分の周波数やある評価関数の出力状態等に
よりその一領域に対してフィルタ係数を一つ或いは複数
決定し、決定された係数を設定したマスクフィルタを生
成する。フィルタ処理部504は、マスクフィルタ生成
部503の生成したマスクフィルタを用いて元画像50
1との畳み込み演算を行う。
The filter processing unit 504 includes the mask filter generated by the mask filter generation unit 503 based on the area characteristics of the area forming the image of the original image 501 and the original image 50.
Perform a convolution operation with 1. The mask filter generation unit 503 determines one or a plurality of filter coefficients for one area based on the frequency of the entire image or a part of the image output from the image area information detection unit 502, the output state of a certain evaluation function, and the like. Generate a mask filter with coefficients set. The filter processing unit 504 uses the mask filter generated by the mask filter generation unit 503 to generate the original image 50.
Perform a convolution operation with 1.

【0133】電子透かしパターン生成部506は画像に
埋め込む埋め込み情報と電子透かしパターン生成キー
(key)記憶部505の電子透かしパターン生成キー(k
ey)とに基づいて電子透かしパターンを生成する。埋め
込み情報は、例えば複製制御情報、著作権情報、編集情
報など様々であり、任意な情報である。電子透かしパタ
ーン生成キー(key)は、具体的には電子透かしパター
ンを画像に埋め込む際の画像分割情報や、ビット配列情
報などであり、埋め込み情報を電子透かしパターンとし
て生成するために必要となる加工情報である。
The digital watermark pattern generation unit 506 stores the embedding information to be embedded in the image and the digital watermark pattern generation key (k) in the digital watermark pattern generation key (key) storage unit 505.
ey) to generate a digital watermark pattern based on The embedding information is various, such as, for example, copy control information, copyright information, and editing information, and is arbitrary information. The digital watermark pattern generation key (key) is, specifically, image division information when embedding a digital watermark pattern in an image, bit arrangement information, and the like, and is a process required to generate embedded information as a digital watermark pattern. Information.

【0134】電子透かしパターン埋め込み部507で
は、電子透かしパターン生成部506にて生成された電
子透かしパターンを入力データとして元画像501へ埋
め込む。電子透かしパターンの埋め込まれた画像は電子
透かし埋め込み画像508として出力される。
The digital watermark pattern embedding section 507 embeds the digital watermark pattern generated by the digital watermark pattern generating section 506 into the original image 501 as input data. The image in which the digital watermark pattern is embedded is output as a digital watermark embedded image 508.

【0135】なお、電子透かしパターン生成部506
は、埋め込み情報を、例えば図7に示した画像の小領域
への分割方法や図8に示した埋め込み情報のビットに対
応する小領域の割り当て方等の規定を表現した電子透か
しパターン生成キー(key)に基づいて電子透かしパタ
ーンの生成を実行し、電子透かしパターン埋め込み部5
07が、電子透かしパターンを画像に埋め込む。
The digital watermark pattern generation unit 506
Is a digital watermark pattern generation key (for example, a method of dividing the embedded information into small areas of the image shown in FIG. 7 and a method of assigning a small area corresponding to the bits of the embedded information shown in FIG. 8). key), the digital watermark pattern is generated, and the digital watermark pattern embedding unit 5 is executed.
07 embeds the digital watermark pattern in the image.

【0136】画像領域情報検出部502、マスクフィル
タ生成部503、フィルタ処理部504、および電子透
かしパターン生成部506において実行する画像領域特
性についての解析処理、解析結果を利用したフィルタ係
数の決定処理およびマスクフィルタ生成処理、元画像に
対するフィルタ処理としてのエッジ検出処理等の処理例
を図17を用いて説明する。
The image area information detecting section 502, the mask filter generating section 503, the filter processing section 504, and the digital watermark pattern generating section 506 perform analysis processing on image area characteristics, determine filter coefficients using the analysis results, and perform processing. Processing examples such as mask filter generation processing and edge detection processing as filter processing on the original image will be described with reference to FIG.

【0137】図17の上段(a)は、電子透かし埋め込
み対象画像の画像領域特性に基づいて、マスクフィルタ
生成部503の生成するマスクフィルタの係数を変化さ
せる処理を説明する図であり、図17の下段(b)は、
電子透かし埋め込み対象画像の画像領域特性に基づい
て、電子透かしパターン生成部506においてスケーリ
ングパラメータλを変更して、フィルタ処理部504に
おいて検出されたエッジ領域に対して電子透かしパター
ン生成情報との積算を実行して電子透かしパターンの埋
め込み強度を変更する処理を説明する図である。
The upper part (a) of FIG. 17 is a diagram for explaining a process of changing the coefficient of the mask filter generated by the mask filter generator 503 based on the image area characteristics of the image to be embedded with a digital watermark. The lower part (b) of
The digital watermark pattern generation unit 506 changes the scaling parameter λ based on the image area characteristic of the digital watermark embedding target image, and integrates the edge area detected by the filter processing unit 504 with the digital watermark pattern generation information. FIG. 9 is a diagram illustrating a process of changing the embedding strength of a digital watermark pattern by executing the process.

【0138】まず、図17(a)の、電子透かし埋め込
み対象画像の画像領域特性に基づいて、マスクフィルタ
生成部503の生成するマスクフィルタの係数を変化さ
せる処理について説明する。
First, the process of changing the coefficient of the mask filter generated by the mask filter generation unit 503 based on the image area characteristics of the digital watermark embedding target image in FIG. 17A will be described.

【0139】画像領域情報検出部502は、入力画像の
一部分の領域を切り出し、その領域の特性を検出する処
理を実行する。画像領域情報検出部502は、入力画像
に対して入力画像の枠と同じ大きさのピラミッド型の角
錐型関数f(x,y)を設定(図17−(a1))す
る。角錐型関数f(x,y)は、画像周囲は高さ(y)
が小さく、画像中心に行くに従って高さ(y)が高くな
る関数である。図17の例では、3段構成であるが、段
数は、例えば画像の大きさなどに応じて様々な段数に設
定可能である。
[0139] The image area information detecting section 502 cuts out a partial area of the input image and executes processing for detecting the characteristics of the area. The image area information detecting unit 502 sets a pyramid-shaped pyramid-shaped function f (x, y) having the same size as the frame of the input image for the input image (FIG. 17- (a1)). The pyramidal function f (x, y) is the height around the image (y)
Is smaller, and the height (y) increases as the position approaches the center of the image. Although the example of FIG. 17 has a three-stage configuration, the number of stages can be set to various numbers according to, for example, the size of an image.

【0140】例えば放送に使われる映像などは中心に人
物の顔などがくることが多いため、あまり、画像の中心
部分に強い電子透かしパターンが乗ることは好ましくな
い。従って、画像の中心は電子透かしの強度を弱くする
ことが好ましい。そこで、フィルタのゲインをピラミッ
ド型の角錐型関数f(x,y)の逆数、すなわち、1/
f(x,y)に設定する。
For example, in the case of a video used for broadcasting, a person's face or the like often comes at the center, so that it is not preferable that a strong digital watermark pattern is placed on the center of the image. Therefore, it is preferable to reduce the strength of the digital watermark at the center of the image. Therefore, the gain of the filter is calculated as the reciprocal of the pyramidal pyramidal function f (x, y), that is, 1 /.
Set to f (x, y).

【0141】マスクフィルタ生成部503は、画像領域
情報検出部502の生成した入力画像の枠と同じ大きさ
のピラミッド型の角錐型関数f(x,y)の逆数1/f
(x,y)に予め設定したマスクフィルタM(u,v)
を画像領域に応じて乗算し、画像領域に応じたゲインを
持つマスクフィルタを生成してフィルタ処理部504に
出力する。
The mask filter generation unit 503 calculates the reciprocal 1 / f of a pyramid-shaped pyramidal function f (x, y) having the same size as the frame of the input image generated by the image area information detection unit 502.
Mask filter M (u, v) preset at (x, y)
Is multiplied according to the image area, a mask filter having a gain according to the image area is generated, and output to the filter processing unit 504.

【0142】1/f(x,y)は、画像中心部では、画
像周辺部に比較して小さい値をとることになるので、結
果として、画像の周辺部では、電子透かし埋め込みを強
めにするマスクフィルタM(u,v)/f(x,y)が
設定されて、フィルタ処理部504に出力され、画像の
中心部では、電子透かしを弱めにするマスクフィルタM
(u,v)/f(x,y)が設定されて、フィルタ処理
部504に出力される(図17−(a2))ことにな
る。
Since 1 / f (x, y) takes a smaller value in the central part of the image than in the peripheral part of the image, as a result, the embedding of the digital watermark is made stronger in the peripheral part of the image. The mask filter M (u, v) / f (x, y) is set and output to the filter processing unit 504. At the center of the image, the mask filter M for weakening the electronic watermark is set.
(U, v) / f (x, y) is set and output to the filter processing unit 504 (FIG. 17- (a2)).

【0143】フィルタ処理部504は、マスクフィルタ
生成部503から出力される画像領域に応じたマスクフ
ィルタM(u,v)/f(x,y)に基づいて、入力画
像との畳み込み演算にを実行(図17−(a3))し
て、電子透かしパターン生成部506に出力する。フィ
ルタ処理部504において実行される入力画像との畳み
込み演算は、マスクフィルタ生成部503から出力され
る画像領域に応じたマスクフィルタM(u,v)/f
(x,y)に基づいて実行される。その結果、画像周辺
部では画像中心部に比較して弱いエッジについても検出
し、電子透かしが画像周辺部により多く埋め込まれる。
The filter processing unit 504 performs a convolution operation with the input image based on the mask filter M (u, v) / f (x, y) corresponding to the image area output from the mask filter generation unit 503. Execution (FIG. 17- (a3)) and output to the digital watermark pattern generation unit 506. The convolution operation with the input image performed by the filter processing unit 504 is performed by a mask filter M (u, v) / f corresponding to the image area output from the mask filter generation unit 503.
This is executed based on (x, y). As a result, edges that are weaker in the image periphery than in the image center are also detected, and more digital watermarks are embedded in the image periphery.

【0144】図17(b)は、電子透かし埋め込み対象
画像の画像領域特性に基づいて、電子透かしパターン生
成部506においてスケーリングパラメータλを変更し
て、フィルタ処理部504において検出されたエッジ領
域に対して電子透かしパターン生成情報との積算を実行
して電子透かしパターンの埋め込み強度を変更する処理
を説明する図である。
FIG. 17B shows a case where the scaling parameter λ is changed in the digital watermark pattern generation unit 506 based on the image area characteristics of the image to be embedded, and the edge area detected in the filter processing unit 504 is changed. FIG. 7 is a diagram for explaining a process of changing the embedding strength of a digital watermark pattern by executing integration with digital watermark pattern generation information.

【0145】画像領域情報検出部502は、入力画像の
一部分の領域を切り出し、その領域の特性を検出する処
理を実行する。画像領域情報検出部502は、入力画像
に対して入力画像の枠と同じ大きさのピラミッド型の角
錐型関数f(x,y)を設定(図17−(b1))す
る。角錐型関数f(x,y)は、画像周囲は高さ(y)
が小さく、画像中心に行くに従って高さ(y)が高くな
る関数である。ここでは、高さ(y)は、スケーリング
パラメータλの逆数1/λに対応させる。なお、ピラミ
ッド型の角錐型関数f(x,y)は、図17の例では、
3段構成であるが、段数は、例えば画像の大きさなどに
応じて様々な段数に設定可能である。
The image area information detecting section 502 cuts out a partial area of the input image and executes processing for detecting characteristics of the area. The image area information detection unit 502 sets a pyramid-shaped pyramidal function f (x, y) having the same size as the frame of the input image for the input image (FIG. 17- (b1)). The pyramidal function f (x, y) is the height around the image (y)
Is smaller, and the height (y) increases as the position approaches the center of the image. Here, the height (y) corresponds to the reciprocal 1 / λ of the scaling parameter λ. Note that the pyramid-shaped pyramidal function f (x, y) is expressed as
Although it has a three-stage configuration, the number of stages can be set to various numbers according to, for example, the size of an image.

【0146】フィルタ処理部では、すべての画像領域に
おいて均一のマスクフィルタM(u,v)を用いて入力
画像との畳み込み演算にを実行(図17−(b2))し
て、電子透かしパターン生成部506に出力する。
The filter processing unit executes a convolution operation with the input image using a uniform mask filter M (u, v) in all image regions (FIG. 17- (b2)) to generate a digital watermark pattern. Output to the unit 506.

【0147】電子透かしパターン生成部506は、画像
領域情報検出部502から入力されるピラミッド型の角
錐型関数f(x,y)の値として、画像領域に応じた1
/λを取得し、スケーリングパラメータλを算出し、算
出されたスケーリングパラメータλを適用してフィルタ
処理部504において検出されたエッジ領域に対して電
子透かしパターン生成情報との積算を実行して電子透か
しパターンを生成(図17−(b3))する。スケーリ
ングパラメータλの値は、画像中心部では小さく、画像
周辺部では大きな値となり、その結果、画像周辺部では
画像中心部に比較して電子透かしがより多く埋め込まれ
る。
The digital watermark pattern generation unit 506 determines the value of the pyramid-type pyramid function f (x, y) input from the image area information detection unit 502 as 1 according to the image area.
/ Λ is calculated, the scaling parameter λ is calculated, the calculated scaling parameter λ is applied, and the edge area detected by the filter processing unit 504 is integrated with the digital watermark pattern generation information to perform digital watermarking. A pattern is generated (FIG. 17- (b3)). The value of the scaling parameter λ is small at the center of the image and large at the periphery of the image. As a result, more digital watermarks are embedded in the periphery of the image than in the center of the image.

【0148】なお、図17(a)のフィルタ係数変更処
理と、(b)のスケーリングパラメータλの変更処理
は、それぞれいずれか一方のみを実行する構成としても
よいが、両者を併せて実行する構成としてもよい。
The filter coefficient changing process shown in FIG. 17A and the scaling parameter λ changing process shown in FIG. 17B may be configured to execute only one of them. It may be.

【0149】このように、本実施例の電子透かし埋め込
み処理装置では、電子透かし埋め込み処理対象となる画
像の領域特性、例えば画像の中心部であるか周辺部であ
るかに応じて異なるマスクフィルタを生成して、入力画
像との畳み込み演算によるエッジ検出処理を実行する構
成とし、検出部分に対する電子透かしの埋め込み処理を
実行する構成としたので、画像の領域に応じた電子透か
し埋め込み処理、例えば画像周辺部に対しては多量の電
子透かしを埋め込み、画像中心部には少量の電子透かし
を埋め込むという処理が可能となり、視覚的な電子透か
し認知感性に対応した電子透かし埋め込み制御が可能と
なる。
As described above, in the digital watermark embedding processing apparatus of this embodiment, different mask filters are used depending on the area characteristics of the image to be subjected to the digital watermark embedding processing, for example, whether the image is at the center or at the periphery of the image. Since it is configured to generate and perform edge detection processing by convolution with an input image and to perform processing for embedding a digital watermark in a detected portion, digital watermark embedding processing according to the image area, for example, It is possible to embed a large amount of digital watermark in a part and embed a small amount of digital watermark in the center of the image, and it is possible to control digital watermark embedding corresponding to visual perception of digital watermark.

【0150】また、本実施例の電子透かし埋め込み処理
装置では、電子透かし埋め込み処理対象となる画像の領
域特性、例えば画像の中心部であるか周辺部であるかに
応じて異なるスケーリングパラメータλを変更して電子
透かしパターン生成情報との積算を実行して電子透かし
パターンを生成する構成としたので、画像の領域に応じ
た電子透かし埋め込み処理、例えば画像周辺部に対して
は多量の電子透かしを埋め込み、画像中心部には少量の
電子透かしを埋め込むという処理が可能となり、視覚的
な電子透かし認知感性に対応した電子透かし埋め込み制
御が可能となる。
In the digital watermark embedding processing apparatus of this embodiment, a different scaling parameter λ is changed according to the area characteristic of the image to be subjected to the digital watermark embedding processing, for example, whether the image is at the center or at the periphery of the image. The digital watermark pattern is generated by performing integration with the digital watermark pattern generation information, so that a digital watermark embedding process according to the area of the image, for example, a large amount of digital watermark is embedded in the peripheral portion of the image In addition, a process of embedding a small amount of digital watermark in the center of the image becomes possible, and digital watermark embedding control corresponding to visual perception of digital watermark becomes possible.

【0151】[フィルタの出力を使用してフィルタ係数
を変化する]次に、電子透かしの埋め込み処理対象とな
る入力画像についてマスクフィルタを適用したエッジ検
出を実行するフィルタ処理部の出力をフィードバックし
てフィルタ係数を変化させる電子透かし埋め込み処理装
置の実施例を図18を参照して説明する。本実施例の電
子透かし埋め込み処理装置は、図18に示すマスクフィ
ルタ生成部602が、初期値として決定されたフィルタ
係数をあらかじめ保持し、フィルタ処理部603におい
てフィルタ処理を行った結果の画像を用いることでフィ
ルタ係数の値を変化させる処理を実行するものである。
[Changing Filter Coefficients Using Output of Filter] Next, the output of a filter processing unit that performs edge detection by applying a mask filter to an input image to be subjected to digital watermark embedding processing is fed back. An embodiment of a digital watermark embedding processing device for changing a filter coefficient will be described with reference to FIG. In the digital watermark embedding processing apparatus of the present embodiment, the mask filter generation unit 602 shown in FIG. 18 previously holds a filter coefficient determined as an initial value, and uses an image obtained by performing a filter process in the filter processing unit 603. Thus, a process of changing the value of the filter coefficient is executed.

【0152】図18に示す電子透かし埋め込み処理装置
の構成について説明する。元画像601は、電子透かし
パターンの埋め込み対象画像であり例えばハードディス
ク、DVDなどの記憶媒体から読み出されたり、あるい
はスキャナ、デジタルカメラなどの画像取り込み装置か
ら供給された画像など、様々な画像が含まれる。
A configuration of the digital watermark embedding processing apparatus shown in FIG. 18 will be described. The original image 601 is an image to be embedded with a digital watermark pattern, and includes various images such as an image read from a storage medium such as a hard disk or a DVD, or an image supplied from an image capturing device such as a scanner or a digital camera. It is.

【0153】フィルタ処理部603は、マスクフィルタ
生成部503の生成したマスクフィルタと元画像601
との畳み込み演算を実行する。マスクフィルタ生成部6
02は、フィルタ処理部603の出力をフィードバック
して、フィルタ係数を決定する評価関数を用い、ある値
にフィルタ係数を収束させたマスクフィルタを再生成す
る。フィルタ処理部603は、再生成されたマスクフィ
ルタを用いてフィルタ処理を画像に対して行う。
The filter processing unit 603 includes the mask filter generated by the mask filter generation unit 503 and the original image 601.
Execute the convolution operation with. Mask filter generator 6
In step 02, a mask filter in which the filter coefficient is converged to a certain value is regenerated using an evaluation function for determining the filter coefficient by feeding back the output of the filter processing unit 603. The filter processing unit 603 performs filter processing on the image using the regenerated mask filter.

【0154】なお、マスクフィルタ生成部602におけ
るマスクフィルタの再生成処理は、電子透かし埋め込み
対象画像である元画像601の分割された各領域に対し
て行って、各領域毎のマスクフィルタを生成する構成と
してもよい。
The mask filter regenerating process in the mask filter generating unit 602 is performed on each of the divided areas of the original image 601 which is an image to be embedded with a digital watermark, to generate a mask filter for each area. It may be configured.

【0155】電子透かしパターン生成部605は画像に
埋め込む埋め込み情報と電子透かしパターン生成キー
(key)記憶部604の電子透かしパターン生成キー(k
ey)とに基づいて電子透かしパターンを生成する。埋め
込み情報は、例えば複製制御情報、著作権情報、編集情
報など様々であり、任意な情報である。電子透かしパタ
ーン生成キー(key)は、具体的には電子透かしパター
ンを画像に埋め込む際の画像分割情報や、ビット配列情
報などであり、埋め込み情報を電子透かしパターンとし
て生成するために必要となる加工情報である。
The digital watermark pattern generation unit 605 includes the embedding information to be embedded in the image and the digital watermark pattern generation key (k) in the digital watermark pattern generation key (key) storage unit 604.
ey) to generate a digital watermark pattern based on The embedding information is various, such as, for example, copy control information, copyright information, and editing information, and is arbitrary information. The digital watermark pattern generation key (key) is, specifically, image division information when embedding a digital watermark pattern in an image, bit arrangement information, and the like, and is a process required to generate embedded information as a digital watermark pattern. Information.

【0156】電子透かしパターン埋め込み部606で
は、電子透かしパターン生成部605にて生成された電
子透かしパターンを入力データとして元画像601へ埋
め込む。電子透かしパターンの埋め込まれた画像は電子
透かし埋め込み画像607として出力される。
The digital watermark pattern embedding section 606 embeds the digital watermark pattern generated by the digital watermark pattern generation section 605 into the original image 601 as input data. The image in which the digital watermark pattern is embedded is output as a digital watermark embedded image 607.

【0157】なお、電子透かしパターン生成部605
は、埋め込み情報を、例えば図7に示した画像の小領域
への分割方法や図8に示した埋め込み情報のビットに対
応する小領域の割り当て方等の規定を表現した電子透か
しパターン生成キー(key)に基づいて電子透かしパタ
ーンの生成を実行し、電子透かしパターン埋め込み部6
06が、電子透かしパターンを画像に埋め込む。
The digital watermark pattern generation unit 605
Is a digital watermark pattern generation key (for example, a method of dividing the embedded information into small areas of the image shown in FIG. 7 and a method of assigning a small area corresponding to the bits of the embedded information shown in FIG. 8). key), and generates a digital watermark pattern based on the digital watermark pattern.
06 embeds the digital watermark pattern in the image.

【0158】マスクフィルタ生成部602、およびフィ
ルタ処理部603において実行するフィルタ処理部の出
力データのフィードバックによるマスクフィルタ再生成
処理の処理構成例について図19を用いて説明する。
An example of the processing configuration of the mask filter regenerating process by the feedback of the output data of the filter processing unit executed in the mask filter generating unit 602 and the filter processing unit 603 will be described with reference to FIG.

【0159】図19には、上段と、下段とで、フィ
ルタ生成部の出力に対してそれぞれ異なる評価関数を適
用してマスクフィルタを再生成する構成例を示した。
FIG. 19 shows an example of a configuration in which mask filters are regenerated by applying different evaluation functions to the output of the filter generator in the upper and lower stages.

【0160】図19の構成から説明する。マスクフィ
ルタ生成部602は、初期値として決定されたフィルタ
係数をあらかじめ保持し、フィルタ処理部603は、ま
ず、初期値として決定されたフィルタ係数を持つマスク
フィルタを適用して入力画像に対する畳み込み演算を実
行し、フィルタ出力画像I(x,y)をマスクフィルタ
生成部602に出力(図19−(a1))する。
The description starts from the configuration of FIG. The mask filter generation unit 602 previously holds the filter coefficient determined as the initial value, and the filter processing unit 603 first performs a convolution operation on the input image by applying a mask filter having the filter coefficient determined as the initial value. Then, the filter output image I (x, y) is output to the mask filter generation unit 602 (FIG. 19- (a1)).

【0161】マスクフィルタ生成部602は、フィルタ
処理部603から入力されたフィルタ出力画像I(x,
y)を評価関数Gにより評価(図19−(a2))す
る。具体的には、フィルタ処理画像に基づいて、電子透
かしの埋め込み処理対象となる入力画像の高周波成分量
を判定し、高周波成分の量に応じてマスクフィルタの係
数変更処理を行なう。
The mask filter generator 602 outputs the filter output image I (x,
y) is evaluated by the evaluation function G (FIG. 19- (a2)). Specifically, based on the filtered image, the amount of high frequency components of the input image to be subjected to the digital watermark embedding process is determined, and the coefficient changing process of the mask filter is performed according to the amount of high frequency components.

【0162】図19の構成では、フィルタ出力画像I
(x,y)に含まれる高周波成分量(エッジ量(E))
を判定し、エッジ量(E)が閾値(th)より小さい場
合(E<th)には、マスクフィルタの係数を変更した
再生成マスクフィルタM(u,v)を生成し、再生成し
たマスクフィルタをフィルタ処理部603に出力し、フ
ィルタ処理部603では、マスクフィルタの係数を変更
した再生成マスクフィルタM(u,v)を適用して再度
フィルタ処理を実行(図19−(a1))する。処理結
果は、再度マスクフィルタ生成部602に出力され、評
価関数Gにより評価され、E<thが否かが判定され
る。この処理を繰り返し実行し、E≧thとなったと
き、すなわち閾値より大きいエッジ数が検出されたと
き、そのフィルタ処理部603からのフィルタ出力画像
I(x,y)を電子透かしパターン生成部605に出力
して電子透かしパターン生成を実行する。
In the configuration of FIG. 19, the filter output image I
High frequency component amount (edge amount (E)) included in (x, y)
Is determined, and when the edge amount (E) is smaller than the threshold (th) (E <th), a regenerated mask filter M (u, v) in which the coefficients of the mask filter are changed is generated, and the regenerated mask filter is generated. The filter is output to the filter processing unit 603, and the filter processing unit 603 applies the regenerated mask filter M (u, v) in which the coefficients of the mask filter are changed, and executes the filter processing again (FIG. 19- (a1)). I do. The processing result is output to the mask filter generation unit 602 again, evaluated by the evaluation function G, and it is determined whether E <th. This processing is repeatedly executed, and when E ≧ th, that is, when the number of edges greater than the threshold is detected, the filter output image I (x, y) from the filter processing unit 603 is converted to the digital watermark pattern generation unit 605. To generate a digital watermark pattern.

【0163】図19の構成において、マスクフィルタ
生成部602は、評価関数として以下の式を適用する。
フィルタ処理部603を通過した出力画像をI(x,
y)とし、その評価関数をGとしたとき、
In the configuration of FIG. 19, mask filter generation section 602 applies the following equation as an evaluation function.
The output image passed through the filter processing unit 603 is represented by I (x,
y) and its evaluation function is G,

【0164】[0164]

【数14】 [Equation 14]

【0165】とする。上記式の算出結果、E=G(I
(x,y))を閾値thと比較して、高周波成分量(エ
ッジ量(E))が閾値(th)より小さい場合(E<t
h)には、マスクフィルタの係数を変更した再生成マス
クフィルタM(u,v)を生成し、再生成したマスクフ
ィルタをフィルタ処理部603に出力する。E≧thと
なったとき、すなわち閾値より大きいエッジ量が検出さ
れたとき、そのフィルタ処理部603からのフィルタ出
力画像I(x,y)を電子透かしパターン生成部605
に出力して電子透かしパターン生成を実行する。
It is assumed that As a result of the above equation, E = G (I
(X, y)) is compared with a threshold th, and when the high-frequency component amount (edge amount (E)) is smaller than the threshold value (th) (E <t
In h), a regenerated mask filter M (u, v) in which the coefficients of the mask filter are changed is generated, and the regenerated mask filter is output to the filter processing unit 603. When E ≧ th, that is, when an edge amount larger than the threshold value is detected, the filter output image I (x, y) from the filter processing unit 603 is converted to a digital watermark pattern generation unit 605.
To generate a digital watermark pattern.

【0166】図19の構成は、ステップ関数を適用し
たものであり、マスクフィルタ生成部602は、フィル
タ処理部603から入力されたフィルタ出力画像I
(x,y)を、ステップ関数を適用した評価関数Gによ
り評価(図19−(b2))する。フィルタ出力画像I
(x,y)に含まれるエッジ数(E)をカウントしステ
ップ関数を適用した結果、エッジ量(E)が閾値(t
h)より小さい場合(E<th)には、マスクフィルタ
の係数を変更した再生成マスクフィルタM(u,v)を
生成し、再生成したマスクフィルタをフィルタ処理部6
03に出力し、フィルタ処理部603では、マスクフィ
ルタの係数を変更した再生成マスクフィルタM(u,
v)を適用して再度フィルタ処理を実行(図19−(b
1))する。処理結果は、再度マスクフィルタ生成部6
02に出力され、ステップ関数を適用した評価関数Gに
より評価され、E<thが否かが判定される。この処理
を繰り返し実行し、E≧thとなったとき、すなわち閾
値より大きいエッジ量が検出されたとき、そのフィルタ
処理部603からのフィルタ出力画像I(x,y)を電
子透かしパターン生成部605に出力して電子透かしパ
ターン生成を実行する。
The configuration shown in FIG. 19 is obtained by applying a step function, and the mask filter generation unit 602 generates the filter output image I input from the filter processing unit 603.
(X, y) is evaluated by an evaluation function G to which a step function is applied (FIG. 19- (b2)). Filter output image I
As a result of counting the number of edges (E) included in (x, y) and applying a step function, the edge amount (E) becomes a threshold (t)
h) If smaller than (E <th), a regenerated mask filter M (u, v) in which the coefficients of the mask filter are changed is generated, and the regenerated mask filter is filtered by the filter processing unit 6.
03, and the filter processing unit 603 outputs a regenerated mask filter M (u,
v) is applied and the filter processing is executed again (FIG. 19- (b)
1)) Yes. The processing result is returned to the mask filter generation unit 6 again.
02 and is evaluated by an evaluation function G to which a step function is applied, and it is determined whether E <th. This processing is repeatedly executed, and when E ≧ th, that is, when an edge amount larger than the threshold value is detected, the filter output image I (x, y) from the filter processing unit 603 is converted to a digital watermark pattern generation unit 605. To generate a digital watermark pattern.

【0167】このように、本実施例の電子透かし埋め込
み処理装置では、電子透かし埋め込み処理対象となる画
像に対してフィルタ処理をした結果として得られるフィ
ルタ出力画像I(x,y)の評価を実行し、フィルタ出
力画像I(x,y)に含まれる高周波成分量(エッジ量
(E))が所定の閾値以下である場合には、マスクフィ
ルタの係数を変更した再生成マスクフィルタM(u,
v)を生成して再度フィルタ処理を実行する構成とし、
フィルタ処理をした結果として得られるフィルタ出力画
像I(x,y)に含まれるエッジ量が閾値より大きくな
ったことを条件として、そのフィルタ出力画像I(x,
y)に基づいて電子透かしパターン生成処理を実行する
構成としたので、電子透かし埋め込み量を一定値以上に
保ことが可能となる。
As described above, in the digital watermark embedding processing apparatus of the present embodiment, the filter output image I (x, y) obtained as a result of performing the filter processing on the image to be subjected to the digital watermark embedding processing is evaluated. If the high-frequency component amount (edge amount (E)) included in the filter output image I (x, y) is equal to or less than a predetermined threshold, the regenerated mask filter M (u,
v) is generated and the filtering process is executed again,
On condition that the edge amount included in the filter output image I (x, y) obtained as a result of the filter processing has become larger than the threshold value, the filter output image I (x, y)
Since the digital watermark pattern generation processing is executed based on y), the digital watermark embedding amount can be maintained at a certain value or more.

【0168】なお、前述したようにマスクフィルタ生成
部602におけるマスクフィルタの再生成処理は、電子
透かし埋め込み対象画像である元画像601の分割され
た各領域に対して行って、各領域毎のマスクフィルタを
生成する構成としてもよく、このように領域毎にフィル
タの再生成を実行すれば、特低の領域にのみ電子透かし
を多く埋め込んだりあるいは少なく埋め込んだりといっ
た操作が可能となる。
As described above, the mask filter regenerating process in the mask filter generating unit 602 is performed on each of the divided areas of the original image 601 which is the image to be embedded with a digital watermark, and the mask for each area is masked. The filter may be generated. If the filter is regenerated for each area in this manner, an operation of embedding a large or a small amount of digital watermark only in a particularly low area becomes possible.

【0169】[時間方向に画像の特性の解析を行うこと
でフィルタの係数を決定する]次に、電子透かしの埋め
込み処理対象となる入力画像について時間方向に画像の
特性の解析を行うことでフィルタ係数を変化させる電子
透かし埋め込み処理装置の実施例を図20を参照して説
明する。なお、ここでいう時刻とは、例えば入力画像が
動画等のように時間方向にも画像を持つ場合、数フレー
ム或いは数フィールド毎という時間間隔をさしている。
[Determination of Filter Coefficient by Analyzing Image Characteristics in Time Direction] Next, the filter characteristics are analyzed in the time direction of the input image to be subjected to the digital watermark embedding process. An embodiment of a digital watermark embedding processing device for changing coefficients will be described with reference to FIG. Here, the time refers to a time interval of every several frames or several fields, for example, when the input image has an image in the time direction such as a moving image.

【0170】図20に示す電子透かし埋め込み処理装置
の構成について説明する。元画像701は、電子透かし
パターンの埋め込み対象画像であり例えばハードディス
ク、DVDなどの記憶媒体から読み出されたり、あるい
はスキャナ、デジタルカメラなどの画像取り込み装置か
ら供給された画像など、様々な画像が含まれる。
The configuration of the digital watermark embedding processing apparatus shown in FIG. 20 will be described. The original image 701 is an image to be embedded with a digital watermark pattern, and includes various images such as an image read from a storage medium such as a hard disk or a DVD, or an image supplied from an image capturing device such as a scanner or a digital camera. It is.

【0171】フィルタ処理部704は、元画像701の
画像を構成する領域の領域特性に基づいてマスクフィル
タ生成部703の生成したマスクフィルタと元画像70
1との畳み込み演算を実行する。マスクフィルタ生成部
703は、動画時空間的解析処理部702の出力する画
像系列のある時空間領域の解析値を入力し、該入力値に
基づいて決定されたフィルタ係数を持つマスクフィルタ
を生成する。フィルタ処理部704は、マスクフィルタ
生成部703の生成したマスクフィルタを用いて元画像
701との畳み込み演算を行う。
The filter processing unit 704 includes the mask filter generated by the mask filter generation unit 703 based on the area characteristics of the area constituting the image of the original image 701 and the original image 70.
Perform a convolution operation with 1. The mask filter generation unit 703 receives an analysis value of a certain spatio-temporal region of an image sequence output from the moving image spatio-temporal analysis processing unit 702, and generates a mask filter having a filter coefficient determined based on the input value. . The filter processing unit 704 performs a convolution operation with the original image 701 using the mask filter generated by the mask filter generation unit 703.

【0172】電子透かしパターン生成部706は画像に
埋め込む埋め込み情報と電子透かしパターン生成キー
(key)記憶部705の電子透かしパターン生成キー(k
ey)とに基づいて電子透かしパターンを生成する。埋め
込み情報は、例えば複製制御情報、著作権情報、編集情
報など様々であり、任意な情報である。電子透かしパタ
ーン生成キー(key)は、具体的には電子透かしパター
ンを画像に埋め込む際の画像分割情報や、ビット配列情
報などであり、埋め込み情報を電子透かしパターンとし
て生成するために必要となる加工情報である。
The digital watermark pattern generation unit 706 stores the embedding information to be embedded in the image and the digital watermark pattern generation key (k) in the digital watermark pattern generation key (key) storage unit 705.
ey) to generate a digital watermark pattern based on The embedding information is various, such as, for example, copy control information, copyright information, and editing information, and is arbitrary information. The digital watermark pattern generation key (key) is, specifically, image division information when embedding a digital watermark pattern in an image, bit arrangement information, and the like, and is a process required to generate embedded information as a digital watermark pattern. Information.

【0173】電子透かしパターン埋め込み部707で
は、電子透かしパターン生成部706にて生成された電
子透かしパターンを入力データとして元画像701へ埋
め込む。電子透かしパターンの埋め込まれた画像は電子
透かし埋め込み画像708として出力される。
The digital watermark pattern embedding unit 707 embeds the digital watermark pattern generated by the digital watermark pattern generation unit 706 in the original image 701 as input data. The image in which the digital watermark pattern is embedded is output as a digital watermark embedded image 708.

【0174】なお、電子透かしパターン生成部706
は、埋め込み情報を、例えば図7に示した画像の小領域
への分割方法や図8に示した埋め込み情報のビットに対
応する小領域の割り当て方等の規定を表現した電子透か
しパターン生成キー(key)に基づいて電子透かしパタ
ーンの生成を実行し、電子透かしパターン埋め込み部7
07が、電子透かしパターンを画像に埋め込む。
The digital watermark pattern generation section 706
Is a digital watermark pattern generation key (for example, a method of dividing the embedded information into small areas of the image shown in FIG. 7 and a method of assigning a small area corresponding to the bits of the embedded information shown in FIG. 8). key), the digital watermark pattern is generated, and the digital watermark pattern embedding unit 7 is executed.
07 embeds the digital watermark pattern in the image.

【0175】なお、マスクフィルタ生成部702におけ
るマスクフィルタの生成処理は、電子透かし埋め込み対
象画像である元画像701の分割された各領域に対して
行って、各領域毎のマスクフィルタを生成する構成とし
てもよい。
The mask filter generation processing in the mask filter generation unit 702 is performed on each of the divided areas of the original image 701 which is an image to be embedded with a digital watermark, to generate a mask filter for each area. It may be.

【0176】動画時空間的解析処理部702、マスクフ
ィルタ生成部703、およびフィルタ処理部704にお
いて実行する画像系列のある時空間領域の解析値の取得
処理、該解析値に基づくフィルタ係数を持つマスクフィ
ルタを生成する処理の処理例を図21を用いて説明す
る。
Processing for acquiring analysis values of a spatio-temporal region having an image sequence, which is executed in a moving image spatio-temporal analysis processing unit 702, a mask filter generation unit 703, and a filter processing unit 704, and a mask having filter coefficients based on the analysis values An example of a process of generating a filter will be described with reference to FIG.

【0177】動画時空間的解析処理部702は、例えば
動画像のようにある画像シーケンスがある場合に、それ
に対して3次元のフーリエ変換を施す(図21−
(1))。フーリエ空間をf(u,v,w)とすると
き、時間方向の周波数成分wに軸を取り、下式のような
関数を定義する。
When there is a certain image sequence such as a moving image, the moving image spatiotemporal analysis processing unit 702 performs a three-dimensional Fourier transform on it (FIG. 21-).
(1)). When the Fourier space is f (u, v, w), a function such as the following equation is defined with the frequency component w in the time axis as an axis.

【0178】[0178]

【数15】 (Equation 15)

【0179】上記式に基づいて計算された値g(w)は
時間方向の周波数成分を定量的に表わすことができる
(図21−(2))。次に、関数g(w)のw軸上に閾
値thをとり、閾値thより高い周波数と低い周波数と
で平均値をとる。高周波数平均値を(ave_high)とし、
低周波数平均値を(ave_low)とする(図21−
(3))。
The value g (w) calculated based on the above equation can quantitatively represent the frequency component in the time direction (FIG. 21- (2)). Next, a threshold th is set on the w-axis of the function g (w), and an average value is calculated for frequencies higher and lower than the threshold th. High frequency average value is (ave_high),
Let the average value of the low frequency be (ave_low) (FIG. 21-
(3)).

【0180】高周波数平均値(ave_high)が、低周波数
平均値(ave_low)よりも低い場合にはより時間的に低
周波成分の多いの画像であるということが考えられる。
低周波成分の多い画像に対して多くの電子透かしの埋め
込みを行うと、埋め込みパターンの形状にもよるが、電
子透かしパターンが通常の画像観察状態で認識される可
能性が高くなる。
When the high frequency average value (ave_high) is lower than the low frequency average value (ave_low), it is considered that the image has more temporally low frequency components.
When many digital watermarks are embedded in an image having many low-frequency components, there is a high possibility that the digital watermark pattern is recognized in a normal image observation state, depending on the shape of the embedded pattern.

【0181】そこで、動画時空間的解析処理部702で
は、電子透かし埋め込み対象画像系列のある時空間領域
の解析値として、高周波数平均値(ave_high)と低周波
数平均値(ave_low)との比較処理を実行(図21−
(4))する。
Therefore, the moving image spatio-temporal analysis processing unit 702 compares the high-frequency average value (ave_high) and the low-frequency average value (ave_low) as the analysis value of the spatio-temporal area where the digital watermark embedding target image sequence exists. (Fig. 21-
(4)).

【0182】マスクフィルタ生成部703は、高周波数
平均値(ave_high)が低周波数平均値(ave_low)より
も低い時空間領域には3×3のマスクフィルタを生成ま
たは選択適用して、フィルタ処理部704に出力し、フ
ィルタ処理部704は、マスクフィルタ生成部703の
生成した3×3のマスクフィルタと元画像701との畳
み込み演算により、エッジ検出を実行(図21−
(5))して、電子透かしの画像に対する埋め込み量を
少なめに制御する。
The mask filter generation unit 703 generates or selects and applies a 3 × 3 mask filter in a spatiotemporal region where the high frequency average value (ave_high) is lower than the low frequency average value (ave_low), and the filter processing unit 704, and the filter processing unit 704 performs edge detection by convolution of the original image 701 with the 3 × 3 mask filter generated by the mask filter generation unit 703 (FIG. 21-).
(5)) Then, the embedding amount of the digital watermark into the image is controlled to be small.

【0183】一方、高周波数平均値(ave_high)が低周
波数平均値(ave_low)よりも高く、高周波成分の多い
時空間領域であると判定された場合には、マスクフィル
タ生成部703は、5×5のマスクフィルタを生成また
は選択適用して、フィルタ処理部704に出力し、フィ
ルタ処理部704は、マスクフィルタ生成部703の生
成した5×5のマスクフィルタと元画像701との畳み
込み演算により、エッジ検出を実行(図21−(6))
して、電子透かしの画像に対する埋め込み量を多めに制
御する。
On the other hand, when it is determined that the high frequency average value (ave_high) is higher than the low frequency average value (ave_low) and that the region is a spatiotemporal region with a large amount of high frequency components, the mask filter generation unit 703 determines the 5 × 5 is generated or selected and applied to the filter processing unit 704 and output to the filter processing unit 704. The filter processing unit 704 performs a convolution operation between the 5 × 5 mask filter generated by the mask filter generation unit 703 and the original image 701, Execute edge detection (Fig. 21- (6))
Then, the embedding amount of the digital watermark into the image is controlled to be relatively large.

【0184】このように、本実施例の電子透かし埋め込
み処理装置では、電子透かし埋め込み処理対象となる画
像の時空間領域の特性、例えば動画像の数フレーム或い
は数フィールド毎の周波数解析により高周波成分が多い
画像であるか低周波成分の多い画像であるかに応じて異
なるマスクフィルタを生成して、入力画像との畳み込み
演算によるエッジ検出処理を実行する構成とし、検出部
分に対する電子透かしの埋め込み処理を実行する構成と
したので、画像の時空間領域の特性に応じた電子透かし
埋め込み処理、すなわち高周波成分の多い時空間領域に
対しては多量の電子透かしを埋め込み、低周波成分の多
い時空間領域には少量の電子透かしを埋め込むという処
理が可能となり、視覚的な電子透かし認知レベルに対応
した電子透かし埋め込み制御が可能となる。
As described above, in the digital watermark embedding processing apparatus of the present embodiment, the high frequency component is obtained by analyzing the characteristics of the spatio-temporal region of the image to be subjected to the digital watermark embedding processing, for example, the frequency analysis of several frames or several fields of the moving image. A different mask filter is generated depending on whether the image has a large number of images or an image with a large number of low-frequency components, and edge detection processing is performed by convolution with the input image. Since it is configured to execute, digital watermark embedding processing according to the characteristics of the spatiotemporal region of the image, that is, a large amount of digital watermark is embedded in the spatiotemporal region with many high frequency components, and in the spatiotemporal region with many low frequency components Enables the processing of embedding a small amount of digital watermark. Write control becomes possible.

【0185】なお、前述したようにマスクフィルタ生成
部702におけるマスクフィルタの生成処理は、電子透
かし埋め込み対象画像である元画像701の分割された
各領域に対して行って、各領域毎のマスクフィルタを生
成する構成としてもよく、このように領域毎にフィルタ
の再生成を実行すれば、特低の領域にのみ電子透かしを
多く埋め込んだりあるいは少なく埋め込んだりといった
操作が可能となる。
As described above, the mask filter generation processing in the mask filter generation unit 702 is performed on each of the divided areas of the original image 701 which is an image to be embedded with a digital watermark. May be generated. If the filter is regenerated for each area in this manner, an operation of embedding a large or a small number of digital watermarks only in an extremely low area becomes possible.

【0186】[システム構成]上述の実施例で述べた一
連の処理は、ハードウェア、またはソフトウェア、ある
いは両者の複合構成によって実行することが可能であ
る。ソフトウェアによる処理を実行する場合は、処理シ
ーケンスを記録したプログラムを、専用のハードウェア
に組み込まれたデータ処理装置内のメモリにインストー
ルして実行させるか、あるいは、各種処理が実行可能な
汎用コンピュータにプログラムをインストールして実行
させることが可能である。一連の処理をソフトウェアに
よって行う場合には、そのソフトウェアを構成するプロ
グラムが、例えば汎用のコンピュータや1チップのマイ
クロコンピュータ等にインストールされる。図22は、
上述した一連の処理、具体的には、電子透かしの埋め込
み処理を実行する装置のシステム構成例を示している。
[System Configuration] A series of processes described in the above embodiment can be executed by hardware, software, or a composite configuration of both. When executing processing by software, a program recording a processing sequence is installed in a memory in a data processing device built in dedicated hardware and executed, or a general-purpose computer capable of executing various processing is used. It is possible to install and run the program. When a series of processes is performed by software, a program constituting the software is installed in, for example, a general-purpose computer or a one-chip microcomputer. FIG.
An example of a system configuration of an apparatus that executes a series of processes described above, specifically, a process of embedding a digital watermark is shown.

【0187】システムは、CPU(Central Processing
Unit)1202を有する。CPU(Central processing U
nit)1202は、各種アプリケーションプログラムや、
OS(Operating System)を実際に実行する。ROM
(Read-Only-Memory)1203は、CPU1202が実
行するプログラム、あるいは演算パラメータとしての固
定データを格納する。RAM(Random Access Memory)
1204は、CPU1202の処理において実行される
プログラム、およびプログラム処理において適宜変化す
るパラメータの格納エリア、ワーク領域として使用され
る。CPU1202、ROM1203、RAM120
4、およびハードディスク1205はバス1201によ
って接続されており、相互にデータ転送が実行可能であ
る。さらに入出力インタフェース1211に接続された
各種入出力装置とのデータ転送が可能となっている。
The system has a CPU (Central Processing).
Unit 1202). CPU (Central processing U
nit) 1202 is various application programs,
The OS (Operating System) is actually executed. ROM
A (Read-Only-Memory) 1203 stores a program executed by the CPU 1202 or fixed data as operation parameters. RAM (Random Access Memory)
Reference numeral 1204 denotes a program executed in the processing of the CPU 1202 and a storage area and a work area for parameters that change as appropriate in the program processing. CPU 1202, ROM 1203, RAM 120
4 and the hard disk 1205 are connected by a bus 1201 and can mutually transfer data. Further, data transfer with various input / output devices connected to the input / output interface 1211 is possible.

【0188】キーボード1212、マウス1213はC
PU1202に各種の指令を入力するためにユーザによ
り操作され、コマンド入力データ入力などの際にユーザ
によって操作され、キーボードマウスコントローラ12
11介して入力される。
The keyboard 1212 and the mouse 1213 are C
The operation is performed by the user to input various commands to the PU 1202, the user is operated at the time of inputting command input data, and the like.
11 is input.

【0189】ドライブ1209は、フロッピー(登録商
標)ディスク、CD−ROM(Compact Disc ReadOnly M
emory),MO(Magneto optical)ディスク,DVD(Digi
tal Versatile Disc)、磁気ディスク、半導体メモリな
どのリムーバブル記録媒体1210の記録再生を実行す
るドライブであり、各リムーバブル記録媒体1210か
らのプログラムまたはデータ再生、リムーバブル記録媒
体1210に対するプログラムまたはデータ格納を実行
する。
A drive 1209 is a floppy (registered trademark) disk, CD-ROM (Compact Disc Read Only M
emory), MO (Magneto optical) disk, DVD (Digi
tal Versatile Disc), a magnetic disk, a drive for recording and reproducing data on and from a removable recording medium 1210 such as a semiconductor memory. .

【0190】CPU1202は、入出力インタフェース
1210を介して、キーボード1212やマウス213
等を介して指令が入力されると、入力にしたがって、R
OM(Read Only Memory)1203に格納されているプロ
グラムを実行する。
The CPU 1202 is provided with a keyboard 1212 and a mouse 213 via an input / output interface 1210.
When a command is input through the like, R
A program stored in an OM (Read Only Memory) 1203 is executed.

【0191】上述の実施例における電子透かしの埋め込
み対象となる画像、あるいは検出対象となる画像は、入
力部1207に接続されたカメラ2071他の入力機
器、例えばスキャナ等のデータ入力装置、あるいはドラ
イブ1209に接続されたフロッピーディスク、CD−
ROM(Compact Disc Read Only Memory),MO(Magnet
o optical)ディスク,DVD(Digital Versatile Dis
c)、磁気ディスク、半導体メモリなどのリムーバブル記
録媒体1210から入力可能である。なお、本システム
は音声データの入力もマイク2072を介して可能な構
成である。さらに、通信部1208を介して受信するデ
ータを電子透かしの埋め込み対象とする画像データ、あ
るいは検出対象となる画像データとして処理することも
可能である。
In the above-described embodiment, an image to be embedded with an electronic watermark or an image to be detected is an input device other than the camera 2071 connected to the input unit 1207, for example, a data input device such as a scanner, or a drive 1209. Floppy disk and CD-
ROM (Compact Disc Read Only Memory), MO (Magnet
o optical) Disc, DVD (Digital Versatile Dis)
c), can be input from a removable recording medium 1210 such as a magnetic disk or a semiconductor memory. This system has a configuration in which audio data can be input via the microphone 2072. Further, it is also possible to process data received via the communication unit 1208 as image data to be embedded with an electronic watermark or image data to be detected.

【0192】CPU1202は、ROM格納プログラム
に限らず、ハードディスク1205に格納されているプ
ログラム、衛星若しくはネットワークから転送され、通
信部1208で受信されてハードディスク1205にイ
ンストールされたプログラム、またはドライブ1209
に装着されたリムーバブル記録媒体1210から読み出
されてハードディスク1205にインストールされたプ
ログラムを、RAM(Random Access Memory)1204に
ロードして実行することも可能である。
The CPU 1202 is not limited to the ROM storage program, but may be a program stored in the hard disk 1205, a program transferred from a satellite or a network, received by the communication unit 1208 and installed in the hard disk 1205, or a drive 1209.
It is also possible to load a program read from the removable recording medium 1210 installed in the hard disk 1205 and installed in the hard disk 1205 into a RAM (Random Access Memory) 1204 and execute the program.

【0193】図22に示す構成を持つシステムにおい
て、CPU1202は、上述した各実施例にしたがった
処理、あるいは上述したブロック図、フローチャートに
従って行われる処理を行う。そして、CPU1202
は、その処理結果を、必要に応じて、例えば、入出力イ
ンタフェース1211を介して、LCD(Liquid CrySta
lDisplay)やCRTなどの表示装置2061、スピーカ
2062に対して出力部1206を介して出力する。ま
た、処理データは通信部1208からの送信、さらに
は、ハードディスク1205等の記録媒体に対する格納
処理が可能である。
In the system having the configuration shown in FIG. 22, the CPU 1202 performs processing according to each of the above-described embodiments or processing performed according to the above-described block diagrams and flowcharts. And the CPU 1202
Can output the processing result to an LCD (Liquid CrySta
lDisplay), a display device 2061 such as a CRT, and a speaker 2062 via an output unit 1206. Further, the processing data can be transmitted from the communication unit 1208, and can be stored in a recording medium such as the hard disk 1205.

【0194】各種処理の実行プログラムは、システムに
内蔵されている記録媒体としてのハードディスク120
5やROM1203に予め記録しておくことができる。
あるいは、プログラムはフロッピーディスク、CD−R
OM(Compact Disc Read Only Memory),MO(Magneto
optical)ディスク,DVD(Digital Versatile Disc)、
磁気ディスク、半導体メモリなどのリムーバブル記録媒
体1210に、一時的あるいは永続的に格納(記録)し
ておくことができる。このようなリムーバブル記録媒体
1210は、いわゆるパッケージソフトウエアとして提
供することができる。
An execution program for various processes is stored in a hard disk 120 as a recording medium built in the system.
5 or ROM 1203 in advance.
Alternatively, the program is a floppy disk, CD-R
OM (Compact Disc Read Only Memory), MO (Magneto
optical) disc, DVD (Digital Versatile Disc),
It can be temporarily or permanently stored (recorded) in a removable recording medium 1210 such as a magnetic disk or a semiconductor memory. Such a removable recording medium 1210 can be provided as so-called package software.

【0195】なお、プログラムは、上述したようなリム
ーバブル記録媒体1210からコンピュータにインスト
ールする他、ダウンロードサイトから、ディジタル衛星
放送用の人工衛星を介して、コンピュータに無線で転送
したり、LAN(Local AreaNetwork)、インターネット
といったネットワークを介して、コンピュータに有線で
転送し、コンピュータでは、そのようにして転送されて
くるプログラムを、通信部1208で受信し、内蔵する
ハードディスク1205にインストールすることができ
る。
The program can be installed in the computer from the removable recording medium 1210 as described above, can be wirelessly transferred from a download site to the computer via a digital satellite broadcasting artificial satellite, or can be connected to a LAN (Local Area Network). ), Via a network such as the Internet, by wire to a computer, and the computer can receive the transferred program by the communication unit 1208 and install it on the built-in hard disk 1205.

【0196】ここで、本明細書において、コンピュータ
に各種の処理を行わせるためのプログラムを記述する処
理ステップは、必ずしもフローチャートとして記載され
た順序に沿って時系列に処理する必要はなく、並列的あ
るいは個別に実行される処理(例えば、並列処理あるい
はオブジェクトによる処理)も含むものである。
Here, in this specification, processing steps for writing a program for causing a computer to perform various processes do not necessarily have to be processed in chronological order in the order described in the flowchart, and may be performed in parallel. Alternatively, it also includes processing executed individually (for example, parallel processing or processing by an object).

【0197】また、プログラムは、1つのコンピュータ
により処理されるものであっても良いし、複数のコンピ
ュータによって分散処理されるものであっても良い。さ
らに、プログラムは、遠方のコンピュータに転送されて
実行されるものであっても良い。
The program may be processed by one computer, or may be processed by a plurality of computers in a distributed manner. Further, the program may be transferred to a remote computer and executed.

【0198】以上、特定の実施例を参照しながら、本発
明について詳解してきた。しかしながら、本発明の要旨
を逸脱しない範囲で当業者が該実施例の修正や代用を成
し得ることは自明である。実施例では、電子透かしの埋
め込み、検出処理対象として画像信号について説明して
きたが、本発明の構成は、画像信号に限定されず、周波
数解析処理の実行可能性のある信号に対して音声、画像
すべての信号に対して適用可能である。すなわち、例示
という形態で本発明を開示してきたのであり、限定的に
解釈されるべきではない。例えば音声データであれば、
音声の(a)入力音声信号の周波数特性や、(b)音声
信号のある任意の周波数領域情報、(c)フィルタ処理
部からの出力、或いは(d)時間方向に音声の周波数特
性解析を行うことでフィルタの係数を決定し、決定され
た係数を設定したマスクフィルタを生成して、生成した
マスクフィルタに基づいて元の音声信号のフィルタリン
グを実行することにより、電子透かしの埋め込み位置、
埋め込み量を設定することができる。本発明の要旨を判
断するためには、冒頭に記載した特許請求の範囲の欄を
参酌すべきである。
The present invention has been described in detail with reference to the specific embodiments. However, it is obvious that those skilled in the art can modify or substitute the embodiment without departing from the spirit of the present invention. In the embodiment, the image signal has been described as a target of the digital watermark embedding and detection processing. However, the configuration of the present invention is not limited to the image signal. Applicable to all signals. That is, the present invention has been disclosed by way of example, and should not be construed as limiting. For example, if it is audio data,
(A) frequency characteristics of the input audio signal of the audio, (b) arbitrary frequency domain information of the audio signal, (c) output from the filter processing unit, or (d) frequency characteristic analysis of the audio in the time direction. By determining the coefficients of the filter, generating a mask filter with the determined coefficients set, and filtering the original audio signal based on the generated mask filter, the embedding position of the digital watermark,
The amount of embedding can be set. In order to determine the gist of the present invention, the claims described at the beginning should be considered.

【0199】なお、明細書に記載された各種の処理は、
記載に従って時系列に実行されるのみならず、処理を実
行する装置の処理能力あるいは必要に応じて並列的にあ
るいは個別に実行されてもよい。また、本明細書におい
てシステムとは、複数の装置の論理的集合構成であり、
各構成の装置が同一筐体内にあるものには限らない。
The various processes described in the specification are
It may be executed not only in chronological order according to the description, but also in parallel or individually according to the processing capability of the device that executes the process or as necessary. Also, in this specification, a system is a logical set configuration of a plurality of devices,
The devices of each configuration are not limited to those in the same housing.

【0200】[0200]

【発明の効果】以上、説明してきた本発明の構成によれ
ば、以下に説明する様々な効果が得られる。まず、本発
明の電子透かし埋め込み処理装置、および電子透かし埋
め込み処理方法によれば、電子透かし埋め込み処理対象
である元画像の(a)画像全体の特性や、(b)元画像
のある任意の領域情報、(c)フィルタ処理部からの出
力、或いは(d)時間方向に画像の特性の解析を行うこ
とでフィルタの係数を決定し、決定された係数を設定し
たマスクフィルタを生成して、生成したマスクフィルタ
と元画像との畳み込み演算を実行することにより、電子
透かしの埋め込み位置、埋め込み量を設定する構成とし
たので、通常の観察状態では認知されにくく、また十分
な検出強度を持つ電子透かしの埋め込み処理制御が可能
となる。
According to the configuration of the present invention described above, various effects described below can be obtained. First, according to the electronic watermark embedding processing apparatus and the electronic watermark embedding processing method of the present invention, (a) the characteristics of the entire image of the original image to be subjected to the electronic watermark embedding processing, and (b) an arbitrary area in the original image Information, (c) output from the filter processing unit, or (d) analyzing the characteristics of the image in the time direction to determine filter coefficients, and generating a mask filter in which the determined coefficients are set and generating The embedding position of the digital watermark and the amount of embedding are set by executing a convolution operation between the mask filter and the original image, so that the digital watermark is hardly recognized in a normal observation state and has a sufficient detection strength. Can be controlled.

【0201】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置、および電子透かし埋め込み処理方法によれば、電
子透かし埋め込み処理対象となる画像の特性、例えば画
像の持つ周波数解析により高周波成分が多い画像である
か低周波成分の多い画像であるかに応じて異なるマスク
フィルタを生成して、入力画像との畳み込み演算による
エッジ検出処理を実行する構成とし、検出部分に対する
電子透かしの埋め込み処理を実行する構成としたので、
画像に応じた電子透かし埋め込み処理、すなわち高周波
成分の多い画像に対しては多量の電子透かしを埋め込
み、低周波成分の多い画像には少量の電子透かしを埋め
込むという処理が可能となり、視覚的な電子透かし認知
レベルに対応した電子透かし埋め込み制御が可能とな
る。
Further, according to the digital watermark embedding processing apparatus and the digital watermark embedding processing method of the present invention, it is determined whether the image to be subjected to the digital watermark embedding processing is an image having a large number of high frequency components based on the frequency analysis of the image. A different mask filter is generated depending on whether the image has many low-frequency components, edge detection processing is performed by convolution with the input image, and digital watermark embedding processing is performed on the detected part. So
A digital watermark embedding process corresponding to an image, that is, a process of embedding a large amount of digital watermark in an image having many high-frequency components and embedding a small amount of digital watermark in an image having many low-frequency components becomes possible. Digital watermark embedding control corresponding to the watermark recognition level becomes possible.

【0202】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置、および電子透かし埋め込み処理方法によれば、電
子透かし埋め込み処理対象となる画像の領域特性、例え
ば画像の中心部であるか周辺部であるかに応じて異なる
マスクフィルタを生成して、入力画像との畳み込み演算
によるエッジ検出処理を実行する構成とし、検出部分に
対する電子透かしの埋め込み処理を実行する構成とした
ので、画像の領域に応じた電子透かし埋め込み処理、例
えば画像周辺部に対しては多量の電子透かしを埋め込
み、画像中心部には少量の電子透かしを埋め込むという
処理が可能となり、視覚的な電子透かし認知感性に対応
した電子透かし埋め込み制御が可能となる。
Furthermore, according to the digital watermark embedding processing apparatus and the digital watermark embedding processing method of the present invention, the area characteristic of the image to be subjected to the digital watermark embedding processing, for example, whether it is the central part or the peripheral part of the image. A different mask filter is generated according to the configuration, the edge detection process is performed by a convolution operation with the input image, and the watermark is embedded in the detected portion. Embedding processing, for example, a process of embedding a large amount of digital watermark in the periphery of an image and embedding a small amount of digital watermark in the center of the image, is possible. It becomes possible.

【0203】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置、および電子透かし埋め込み処理方法によれば、電
子透かし埋め込み処理対象となる画像の領域特性、例え
ば画像の中心部であるか周辺部であるかに応じて異なる
スケーリングパラメータλを変更して電子透かしパター
ン生成情報との積算を実行して電子透かしパターンを生
成する構成としたので、画像の領域に応じた電子透かし
埋め込み処理、例えば画像周辺部に対しては多量の電子
透かしを埋め込み、画像中心部には少量の電子透かしを
埋め込むという処理が可能となり、視覚的な電子透かし
認知感性に対応した電子透かし埋め込み制御が可能とな
る。
Furthermore, according to the digital watermark embedding processing apparatus and the digital watermark embedding processing method of the present invention, the area characteristic of the image to be subjected to the digital watermark embedding processing, for example, whether it is the central part or the peripheral part of the image. Therefore, the digital watermark embedding process according to the image area is performed, for example, by performing the integration with the digital watermark pattern generation information by changing the different scaling parameter λ to generate the digital watermark pattern. In this case, a process of embedding a large amount of digital watermark and embedding a small amount of digital watermark in the center of the image can be performed, and digital watermark embedding control corresponding to visual perception of digital watermark can be performed.

【0204】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置、および電子透かし埋め込み処理方法によれば、電
子透かし埋め込み処理対象となる画像に対してフィルタ
処理をした結果として得られるフィルタ出力画像I
(x,y)の評価を実行し、フィルタ出力画像I(x,
y)に含まれる高周波成分量(エッジ量(E))が所定
の閾値以下である場合には、マスクフィルタの係数を変
更した再生成マスクフィルタM(u,v)を生成して再
度フィルタ処理を実行する構成とし、フィルタ処理をし
た結果として得られるフィルタ出力画像I(x,y)に
含まれるエッジ量が閾値より大きくなったことを条件と
して、そのフィルタ出力画像I(x,y)に基づいて電
子透かしパターン生成処理を実行する構成としたので、
電子透かし埋め込み量を一定値以上に保ことが可能とな
る。
Further, according to the digital watermark embedding processing apparatus and the digital watermark embedding processing method of the present invention, the filter output image I obtained as a result of performing the filter processing on the image to be subjected to the digital watermark embedding processing is obtained.
(X, y) is evaluated, and the filter output image I (x, y) is evaluated.
If the high-frequency component amount (edge amount (E)) included in y) is equal to or smaller than a predetermined threshold, a regenerated mask filter M (u, v) in which the coefficients of the mask filter are changed is generated and the filtering process is performed again. And the filter output image I (x, y) is provided on condition that the edge amount included in the filter output image I (x, y) obtained as a result of the filter processing is larger than a threshold value. Since the digital watermark pattern generation process is performed based on the
The digital watermark embedding amount can be maintained at a certain value or more.

【0205】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置、および電子透かし埋め込み処理方法によれば、電
子透かし埋め込み処理対象となる画像の時空間領域の特
性、例えば動画像の数フレーム或いは数フィールド毎の
周波数解析により高周波成分が多い画像であるか低周波
成分の多い画像であるかに応じて異なるマスクフィルタ
を生成して、入力画像との畳み込み演算によるエッジ検
出処理を実行する構成とし、検出部分に対する電子透か
しの埋め込み処理を実行する構成としたので、画像の時
空間領域の特性に応じた電子透かし埋め込み処理、すな
わち高周波成分の多い時空間領域に対しては多量の電子
透かしを埋め込み、低周波成分の多い時空間領域には少
量の電子透かしを埋め込むという処理が可能となり、視
覚的な電子透かし認知レベルに対応した電子透かし埋め
込み制御が可能となる。
Furthermore, according to the digital watermark embedding processing apparatus and the digital watermark embedding processing method of the present invention, the characteristics of the spatio-temporal region of the image to be subjected to the digital watermark embedding processing, for example, for each several frames or several fields of a moving image According to the frequency analysis, a different mask filter is generated depending on whether the image has a lot of high frequency components or an image with a lot of low frequency components, and the edge detection process is performed by a convolution operation with the input image. Since the digital watermark embedding process is executed, the digital watermark embedding process according to the characteristics of the spatiotemporal region of the image, that is, a large amount of digital watermark is embedded in the spatiotemporal region with many high frequency components, and the low frequency component It is possible to embed a small amount of digital watermark in the spatio-temporal area with many Electronic watermark embedding control corresponding to the knowledge level is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】元画像と電子透かしパターン、電子透かし埋め
込み画像と電子透かしパターンの内積値の相対頻度分布
を説明する図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a relative frequency distribution of an inner product value of an original image and a digital watermark pattern, and an inner product value of a digital watermark embedded image and a digital watermark pattern.

【図2】電子透かしの有無の判別基準を説明する図であ
る。
FIG. 2 is a diagram illustrating a criterion for determining the presence or absence of a digital watermark.

【図3】電子透かしの検出に適用される閾値(th)を
説明する図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a threshold (th) applied to detection of a digital watermark.

【図4】電子透かし埋め込み量をもっとも少なくする閾
値(th)を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a threshold value (th) for minimizing an electronic watermark embedding amount.

【図5】確率PFPとPFNが小さい場合の閾値(th)を
説明する図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a threshold (th) when the probabilities P FP and P FN are small.

【図6】複数の電子透かしパターンの画像への埋め込み
処理を説明する図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a process of embedding a plurality of digital watermark patterns in an image.

【図7】元画像の小領域への分割を説明する図である。FIG. 7 is a diagram illustrating division of an original image into small areas.

【図8】同一情報ビットの複数小領域への割り当てを説
明する図である。
FIG. 8 is a diagram illustrating the assignment of the same information bit to a plurality of small areas.

【図9】電子透かしパターンの埋め込み処理装置の処理
について説明する図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating processing of a digital watermark pattern embedding processing apparatus.

【図10】電子透かしの検出装置の処理について説明す
る図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating a process of the digital watermark detection device.

【図11】電子透かしのマスクフィルタ生成処理を含む
電子透かし埋め込みおよび検出処理について説明する図
である。
FIG. 11 is a diagram illustrating digital watermark embedding and detection processing including digital watermark mask filter generation processing.

【図12】本発明の電子透かし埋め込み処理装置構成例
について説明する図である。
FIG. 12 is a diagram illustrating a configuration example of a digital watermark embedding processing device according to the present invention.

【図13】本発明の電子透かし埋め込み処理についての
処理フロー図である。
FIG. 13 is a processing flowchart for digital watermark embedding processing of the present invention.

【図14】本発明の画像特性に基づくマスクフィルタ生
成を実行する電子透かし埋め込み処理装置構成例につい
て説明する図である。
FIG. 14 is a diagram illustrating an example of the configuration of a digital watermark embedding processing apparatus that executes generation of a mask filter based on image characteristics according to the present invention.

【図15】本発明の画像特性に基づくマスクフィルタ生
成処理について説明する図である。
FIG. 15 is a diagram illustrating a mask filter generation process based on image characteristics according to the present invention.

【図16】本発明の各領域の画像特性に基づくマスクフ
ィルタ生成を実行する電子透かし埋め込み処理装置構成
例について説明する図である。
FIG. 16 is a diagram illustrating an example of a configuration of a digital watermark embedding processing device that executes generation of a mask filter based on image characteristics of each region according to the present invention.

【図17】本発明の各領域の画像特性に基づくマスクフ
ィルタ生成処理について説明する図である。
FIG. 17 is a diagram illustrating a mask filter generation process based on the image characteristics of each region according to the present invention.

【図18】本発明のフィルタ出力画像に基づくマスクフ
ィルタ生成を実行する電子透かし埋め込み処理装置構成
例について説明する図である。
FIG. 18 is a diagram illustrating an example of a configuration of a digital watermark embedding processing apparatus that executes generation of a mask filter based on a filter output image according to the present invention.

【図19】本発明のフィルタ出力画像に基づくマスクフ
ィルタ生成処理について説明する図である。
FIG. 19 is a diagram illustrating a mask filter generation process based on a filter output image according to the present invention.

【図20】本発明の動画時空間解析結果に基づくマスク
フィルタ生成を実行する電子透かし埋め込み処理装置構
成例について説明する図である。
FIG. 20 is a diagram illustrating an example of the configuration of a digital watermark embedding processing apparatus that performs generation of a mask filter based on the result of moving image spatiotemporal analysis according to the present invention.

【図21】本発明の動画時空間解析結果に基づくマスク
フィルタ生成処理について説明する図である。
FIG. 21 is a diagram illustrating a mask filter generation process based on the result of moving image spatio-temporal analysis according to the present invention.

【図22】電子透かし埋め込み処理を実行するシステム
構成例を示す図である。
FIG. 22 is a diagram illustrating an example of a system configuration that executes a digital watermark embedding process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 画像信号 102 電子透かしパターン 103 エッジ検出フィルタ 104 積算部 105 加算部 106 電子透かし埋め込み画像信号 107 電子透かし検出対象画像 108 電子透かしパターン 109 内積算出部 110 比較手段 201 元画像 202 マスクフィルタ生成部 203 フィルタ処理部 204 電子透かしパターン生成キー記憶部 205 電子透かしパターン生成部 206 埋め込み情報 207 電子透かしパターン埋め込み部 208 電子透かし埋め込み画像 401 元画像 402 画像特性検出部 403 マスクフィルタ生成部 404 フィルタ処理部 405 電子透かしパターン生成キー記憶部 406 電子透かしパターン生成部 407 電子透かしパターン埋め込み部 408 電子透かし埋め込み画像 501 元画像 502 画像領域情報検出部 503 マスクフィルタ生成部 504 フィルタ処理部 505 電子透かしパターン生成キー記憶部 506 電子透かしパターン生成部 507 電子透かしパターン埋め込み部 508 電子透かし埋め込み画像 601 元画像 602 マスクフィルタ生成部 603 フィルタ処理部 604 電子透かしパターン生成キー記憶部 605 電子透かしパターン生成部 606 電子透かしパターン埋め込み部 607 電子透かし埋め込み画像 701 元画像 702 動画時空間的解析処理部 703 マスクフィルタ生成部 704 フィルタ処理部 705 電子透かしパターン生成キー記憶部 706 電子透かしパターン生成部 707 電子透かしパターン埋め込み部 708 電子透かし埋め込み画像 901 元画像 902 埋め込み情報 903 電子透かしパターン生成キー記憶部 904 電子透かしパターン生成部 905 電子透かしパターン埋め込み部 906 電子透かし埋め込み画像 1001 電子透かし検出対象画像 1002 電子透かしパターン生成キー記憶部 1003 電子透かしパターン生成部 1004 検出部 1005 検出情報 1202 CPU 1203 ROM 1204 RAM 1205 ハードディスク 1206 出力部 1207 入力部 1208 通信部 1209 ドライブ 1210 リムーバフル記録媒体 1211 キーボードマウスコントローラ 1212 キーボード 1213 マウス 2061 表示装置 2062 スピーカ 2071 カメラ 2072 マイク Reference Signs List 101 Image signal 102 Digital watermark pattern 103 Edge detection filter 104 Integrator 105 Adder 106 Digital watermark embedded image signal 107 Digital watermark detection target image 108 Digital watermark pattern 109 Inner product calculator 110 Comparison means 201 Original image 202 Mask filter generator 203 Filter processing unit 204 Digital watermark pattern generation key storage unit 205 Digital watermark pattern generation unit 206 Embedding information 207 Digital watermark pattern embedding unit 208 Digital watermark embedded image 401 Original image 402 Image characteristic detection unit 403 Mask filter generation unit 404 Filter processing unit 405 Electronics Watermark pattern generation key storage unit 406 Digital watermark pattern generation unit 407 Digital watermark pattern embedding unit 408 Digital watermark embedded image 501 Original image 50 Image area information detection unit 503 Mask filter generation unit 504 Filter processing unit 505 Digital watermark pattern generation key storage unit 506 Digital watermark pattern generation unit 507 Digital watermark pattern embedding unit 508 Digital watermark embedded image 601 Original image 602 Mask filter generation unit 603 Filter processing Unit 604 electronic watermark pattern generation key storage unit 605 electronic watermark pattern generation unit 606 electronic watermark pattern embedding unit 607 electronic watermark embedded image 701 original image 702 moving image spatio-temporal analysis processing unit 703 mask filter generation unit 704 filter processing unit 705 electronic watermark pattern Generation key storage unit 706 Digital watermark pattern generation unit 707 Digital watermark pattern embedding unit 708 Digital watermark embedded image 901 Original image 902 Embedded information 90 Digital watermark pattern generation key storage unit 904 Digital watermark pattern generation unit 905 Digital watermark pattern embedding unit 906 Digital watermark embedded image 1001 Digital watermark detection target image 1002 Digital watermark pattern generation key storage unit 1003 Digital watermark pattern generation unit 1004 Detection unit 1005 Detection information 1202 CPU 1203 ROM 1204 RAM 1205 Hard disk 1206 Output unit 1207 Input unit 1208 Communication unit 1209 Drive 1210 Removable full recording medium 1211 Keyboard / Mouse controller 1212 Keyboard 1213 Mouse 2061 Display device 2062 Speaker 2071 Camera 2072 Microphone

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松村 祐樹 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 中村 理 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 5B057 CA08 CA12 CA16 CB08 CB12 CB16 CE06 CE08 CG05 CG07 CH09 DA08 DB02 DB09 DC16 5C063 AA01 AB03 AB05 AC01 AC05 AC10 CA23 CA36 DA03 DA07 DA13 DB09 5C076 AA14 BA06 CA10 5J104 AA14  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yuki Matsumura 6-7-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation (72) Inventor Osamu Nakamura 6-35-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation F term (reference) 5B057 CA08 CA12 CA16 CB08 CB12 CB16 CE06 CE08 CG05 CG07 CH09 DA08 DB02 DB09 DC16 5C063 AA01 AB03 AB05 AC01 AC05 AC10 CA23 CA36 DA03 DA07 DA13 DB09 5C076 AA14 BA06 CA10 5J104 AA14

Claims (23)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】電子透かしパターン埋め込み処理を実行す
る電子透かし埋め込み処理装置であり、 電子透かし埋め込み対象信号に対するフィルタ処理のた
めのマスクフィルタを生成するマスクフィルタ生成手段
と、 前記マスクフィルタ生成手段の生成したマスクフィルタ
を用いた前記電子透かし埋め込み対象信号に対するフィ
ルタリング処理を実行するフィルタ処理手段と、 前記フィルタ処理手段の出力に基づいて電子透かしパタ
ーンを生成する電子透かしパターン生成手段と、 前記電子透かしパターン生成手段において生成された電
子透かしパターンを前記電子透かし埋め込み対象信号に
埋め込む処理を実行する電子透かしパターン埋め込み手
段とを有し、 前記マスクフィルタ生成手段は、電子透かし埋め込み対
象信号に基づいて取得される解析データに基づいて異な
るマスクフィルタを生成して前記フィルタ処理手段に出
力する構成を有することを特徴とする電子透かし埋め込
み処理装置。
1. A digital watermark embedding processing device for executing a digital watermark pattern embedding process, comprising: a mask filter generating means for generating a mask filter for a filtering process on a digital watermark embedding target signal; Filter processing means for performing a filtering process on the digital watermark embedding target signal using the mask filter thus obtained; digital watermark pattern generation means for generating a digital watermark pattern based on an output of the filter processing means; Means for embedding the digital watermark pattern generated by the means in the digital watermark embedding target signal, wherein the mask filter generating means obtains the digital watermark pattern based on the digital watermark embedding target signal. Electronic watermark embedding processing apparatus characterized by having a configuration to be output to the filtering means to generate different masks filter based on that analysis data.
【請求項2】前記マスクフィルタ生成手段は、 電子透かし埋め込み処理対象信号の(a)全体特性、ま
たは(b)部分特性、または(c)前記フィルタ処理部
からの出力値、または(d)時間方向における特性の少
なくともいずれかの解析結果に基づいて異なるマスクフ
ィルタを生成して前記フィルタ処理手段に出力する構成
を有することを特徴とする請求項1に記載の電子透かし
埋め込み処理装置。
2. The method according to claim 1, wherein the mask filter generating means includes: (a) an overall characteristic, or (b) a partial characteristic, or (c) an output value from the filter processing unit, or (d) a time of the digital watermark embedding target signal. 2. The electronic watermark embedding processing apparatus according to claim 1, wherein a different mask filter is generated based on at least one of the analysis results of the characteristics in the direction and output to the filter processing unit.
【請求項3】前記マスクフィルタ生成手段は、 電子透かし埋め込み処理対象信号が画像である場合に
(a)画像全体特性、または(b)画像の部分領域の特
性、または(c)前記フィルタ処理部からの出力値、ま
たは(d)動画像における時間方向の特性の少なくとも
いずれかの解析結果に基づいて異なるマスクフィルタを
生成して前記フィルタ処理手段に出力する構成を有する
ことを特徴とする請求項1に記載の電子透かし埋め込み
処理装置。
3. The image processing apparatus according to claim 1, wherein the mask filter generating means includes: (a) a characteristic of an entire image; (b) a characteristic of a partial region of the image; And (d) generating a different mask filter based on an analysis result of at least one of the temporal characteristics of the moving image and outputting the generated mask filter to the filter processing unit. 2. The digital watermark embedding processing device according to 1.
【請求項4】前記電子透かし埋め込み処理装置は、さら
に、 電子透かし埋め込み処理対象となる画像の周波数解析を
実行し、高周波成分が多い画像であるか低周波成分の多
い画像であるかを判定する画像特性検出手段を有し、 前記マスクフィルタ生成手段は、 前記画像特性検出手段の検出結果に基づいて異なるマス
クフィルタを生成する構成を有することを特徴とする請
求項1に記載の電子透かし埋め込み処理装置。
4. The digital watermark embedding processing device further performs a frequency analysis of the image to be subjected to the digital watermark embedding processing, and determines whether the image is an image having many high frequency components or an image having many low frequency components. The digital watermark embedding process according to claim 1, further comprising an image characteristic detecting unit, wherein the mask filter generating unit generates a different mask filter based on a detection result of the image characteristic detecting unit. apparatus.
【請求項5】前記電子透かし埋め込み処理装置は、さら
に、 電子透かし埋め込み処理対象となる画像の領域区分情報
を取得する画像領域情報検出手段を有し、 前記マスクフィルタ生成手段は、 前記画像領域情報検出手段の検出結果に基づいて異なる
マスクフィルタを生成する構成を有することを特徴とす
る請求項1に記載の電子透かし埋め込み処理装置。
5. The digital watermark embedding processing apparatus further comprises image area information detecting means for obtaining area division information of an image to be subjected to digital watermark embedding processing, wherein the mask filter generating means comprises: 2. The digital watermark embedding processing apparatus according to claim 1, further comprising a configuration for generating a different mask filter based on a detection result of the detection unit.
【請求項6】前記画像領域情報検出手段は、画像の中心
領域と、周囲領域とを段階的に区分した領域区分情報を
取得し、 前記マスクフィルタ生成手段は、 前記画像領域情報検出手段の検出結果として取得される
段階的な区分情報に基づいて、電子透かしの埋め込み量
を画像中心領域には少なく、画像周辺領域には多くなる
設定とする異なるマスクフィルタを生成する構成を有す
ることを特徴とする請求項5に記載の電子透かし埋め込
み処理装置。
6. The image area information detecting means obtains area division information in which a central area and a peripheral area of an image are divided in a stepwise manner. The mask filter generating means detects the image area information detecting means. Based on the stepwise segmentation information obtained as a result, the configuration is such that different mask filters are generated in such a manner that the embedding amount of the digital watermark is set to be small in the central region of the image and large in the peripheral region of the image. The digital watermark embedding processing device according to claim 5.
【請求項7】前記電子透かし埋め込み処理装置は、さら
に、 電子透かし埋め込み処理対象となる画像の領域区分情報
を取得する画像領域情報検出手段を有し、 前記電子透かしパターン生成手段は、 前記画像領域情報検出手段の検出結果に基づいて異なる
スケーリングパラメータλを適用して、前記フィルタ処
理手段の出力結果と、電子透かしパターン生成情報との
積算を実行して電子透かしパターンを生成する構成を有
することを特徴とする請求項1に記載の電子透かし埋め
込み処理装置。
7. The digital watermark embedding processing apparatus further comprises image area information detecting means for acquiring area division information of an image to be subjected to digital watermark embedding processing, wherein the digital watermark pattern generating means comprises: A configuration in which a different scaling parameter λ is applied based on a detection result of the information detecting means, and an output result of the filter processing means is integrated with the digital watermark pattern generation information to generate a digital watermark pattern. 2. The digital watermark embedding processing device according to claim 1, wherein:
【請求項8】前記マスクフィルタ生成手段は、 前記フィルタ処理手段において、フィルタ処理をした結
果として得られるフィルタ出力画像I(x,y)の評価
を実行し、フィルタ出力画像I(x,y)に含まれる高
周波成分量が所定の閾値以下である場合には、マスクフ
ィルタの係数を変更した再生成マスクフィルタを生成し
て前記フィルタ処理手段に出力し、 前記フィルタ処理手段は、前記再生成マスクフィルタを
適用したフィルタリング処理を実行し、 フィルタ出力画像I(x,y)に含まれるエッジ量が閾
値より大きくなったことを条件として、そのフィルタ出
力画像I(x,y)に基づいて電子透かしパターン生成
処理を実行する構成を有することを特徴とする請求項1
に記載の電子透かし埋め込み処理装置。
8. The mask filter generating means, wherein the filter processing means evaluates a filter output image I (x, y) obtained as a result of the filter processing, and outputs the filter output image I (x, y). If the amount of high-frequency components included in is equal to or less than a predetermined threshold, a regenerated mask filter in which the coefficients of the mask filter are changed is generated and output to the filter processing unit. A filtering process is performed by applying a filter, and on the condition that an edge amount included in the filter output image I (x, y) becomes larger than a threshold value, a digital watermark is generated based on the filter output image I (x, y). 2. A configuration for executing a pattern generation process.
3. A digital watermark embedding processing device according to claim 1.
【請求項9】前記電子透かし埋め込み処理装置は、さら
に、 電子透かし埋め込み処理対象となる画像の時空間領域特
性を解析する時空間解析処理手段を有し、 前記マスクフィルタ生成手段は、 前記時空間解析処理手段の解析結果に基づいて異なるマ
スクフィルタを生成する構成を有することを特徴とする
請求項1に記載の電子透かし埋め込み処理装置。
9. The digital watermark embedding processing apparatus further includes a spatio-temporal analysis processing means for analyzing a spatio-temporal region characteristic of an image to be subjected to the digital watermark embedding processing, and the mask filter generating means includes: 2. The digital watermark embedding processing apparatus according to claim 1, further comprising a configuration for generating different mask filters based on an analysis result of the analysis processing means.
【請求項10】前記時空間解析処理手段は、 電子透かし埋め込み処理対象となる動画像の複数フレー
ムに渡る周波数解析により、該動画像に含まれる周波数
成分解析を実行し、 前記マスクフィルタ生成手段は、 前記時空間解析処理手段の解析結果として取得される動
画像の複数フレームの周波成分情報に応じて異なるマス
クフィルタを生成する構成を有することを特徴とする請
求項9に記載の電子透かし埋め込み処理装置。
10. The spatio-temporal analysis processing means executes frequency component analysis included in the moving image by performing frequency analysis over a plurality of frames of the moving image to be subjected to digital watermark embedding processing, and the mask filter generating means 10. The digital watermark embedding process according to claim 9, wherein a different mask filter is generated according to frequency component information of a plurality of frames of a moving image acquired as an analysis result of the spatio-temporal analysis processing unit. apparatus.
【請求項11】前記マスクフィルタ生成手段は、 電子透かし埋め込み対象信号の小領域毎の情報に基づい
て取得される解析データに基づいて小領域毎に異なるマ
スクフィルタを生成する構成を有することを特徴とする
請求項1に記載の電子透かし埋め込み処理装置。
11. The apparatus according to claim 1, wherein said mask filter generation means generates a different mask filter for each small area based on analysis data obtained based on information for each small area of the digital watermark embedding target signal. 2. The digital watermark embedding processing device according to claim 1, wherein
【請求項12】電子透かしパターン埋め込み処理を実行
する電子透かし埋め込み処理方法であり、 電子透かし埋め込み対象信号に対するフィルタ処理のた
めのマスクフィルタを生成するマスクフィルタ生成ステ
ップと、 前記マスクフィルタ生成ステップにおいて生成したマス
クフィルタを用いた前記電子透かし埋め込み対象信号に
対するフィルタリング処理を実行するフィルタ処理ステ
ップと、 前記フィルタ処理ステップにおける出力に基づいて電子
透かしパターンを生成する電子透かしパターン生成ステ
ップと、 前記電子透かしパターン生成ステップにおいて生成され
た電子透かしパターンを前記電子透かし埋め込み対象信
号に埋め込む処理を実行する電子透かしパターン埋め込
みステップとを有し、 前記マスクフィルタ生成ステップは、電子透かし埋め込
み対象信号に基づいて取得される解析データに基づいて
異なるマスクフィルタを生成してフィルタ処理手段に出
力するステップを実行することを特徴とする電子透かし
埋め込み処理方法。
12. A digital watermark embedding processing method for executing a digital watermark pattern embedding process, wherein the mask filter generating step generates a mask filter for filtering a digital watermark embedding target signal; A filtering processing step of performing a filtering process on the digital watermark embedding target signal using the mask filter obtained above, a digital watermark pattern generating step of generating a digital watermark pattern based on an output of the filtering process step, A digital watermark pattern embedding step of performing a process of embedding the digital watermark pattern generated in the step in the digital watermark embedding target signal, wherein the mask filter generating step The electronic watermark embedding processing method characterized by performing the step of outputting the filtering means to generate a different mask filters based on the analysis data obtained based on the electronic watermark embedding target signal.
【請求項13】前記マスクフィルタ生成ステップは、 電子透かし埋め込み処理対象信号の(a)全体特性、ま
たは(b)部分特性、または(c)前記フィルタ処理部
からの出力値、または(d)時間方向における特性の少
なくともいずれかの解析結果に基づいて異なるマスクフ
ィルタを生成することを特徴とする請求項12に記載の
電子透かし埋め込み処理方法。
13. The mask filter generating step includes: (a) an overall characteristic or (b) a partial characteristic of the digital watermark embedding processing target signal, or (c) an output value from the filter processing unit, or (d) a time. 13. The digital watermark embedding method according to claim 12, wherein different mask filters are generated based on at least one analysis result of the characteristics in the direction.
【請求項14】前記マスクフィルタ生成ステップは、 電子透かし埋め込み処理対象信号が画像である場合に
(a)画像全体特性、または(b)画像の部分領域の特
性、または(c)前記フィルタ処理部からの出力値、ま
たは(d)動画像における時間方向の特性の少なくとも
いずれかの解析結果に基づいて異なるマスクフィルタを
生成することを特徴とする請求項12に記載の電子透か
し埋め込み処理方法。
14. The mask filter generating step, when the digital watermark embedding processing target signal is an image, comprises: (a) overall image characteristics, (b) partial region characteristics of the image, or (c) the filter processing unit. 13. The digital watermark embedding processing method according to claim 12, wherein different mask filters are generated based on at least one of the output values from (i) and (d) an analysis result of the characteristics in the time direction of the moving image.
【請求項15】前記電子透かし埋め込み処理方法は、さ
らに、 電子透かし埋め込み処理対象となる画像の周波数解析を
実行し、高周波成分が多い画像であるか低周波成分の多
い画像であるかを判定する画像特性検出ステップを有
し、 前記マスクフィルタ生成ステップは、 前記画像特性検出ステップにおける検出結果に基づいて
異なるマスクフィルタを生成することを特徴とする請求
項12に記載の電子透かし埋め込み処理方法。
15. The digital watermark embedding method further performs a frequency analysis of the image to be subjected to the digital watermark embedding processing, and determines whether the image has a high frequency component or a low frequency component. The digital watermark embedding method according to claim 12, further comprising an image characteristic detecting step, wherein the mask filter generating step generates a different mask filter based on a detection result in the image characteristic detecting step.
【請求項16】前記電子透かし埋め込み処理方法は、さ
らに、 電子透かし埋め込み処理対象となる画像の領域区分情報
を取得する画像領域情報検出ステップを有し、 前記マスクフィルタ生成ステップは、 前記画像領域情報検出ステップの検出結果に基づいて異
なるマスクフィルタを生成することを特徴とする請求項
12に記載の電子透かし埋め込み処理方法。
16. The digital watermark embedding processing method further includes an image area information detecting step of obtaining area division information of an image to be subjected to digital watermark embedding processing, wherein the mask filter generating step includes: 13. The digital watermark embedding method according to claim 12, wherein different mask filters are generated based on a detection result of the detection step.
【請求項17】前記画像領域情報検出ステップは、画像
の中心領域と、周囲領域とを段階的に区分した領域区分
情報を取得し、 前記マスクフィルタ生成ステップは、 前記画像領域情報検出ステップの検出結果として取得さ
れる段階的な区分情報に基づいて、電子透かしの埋め込
み量を画像中心領域には少なく、画像周辺領域には多く
なる設定とする異なるマスクフィルタを生成することを
特徴とする請求項16に記載の電子透かし埋め込み処理
方法。
17. The image area information detecting step acquires area division information in which a central area and a peripheral area of an image are divided in a stepwise manner. The mask filter generating step includes a step of detecting the image area information detecting step. A different mask filter is generated based on the stepwise segmentation information obtained as a result, in which the embedding amount of the digital watermark is set to be small in the central region of the image and large in the peripheral region of the image. 16. The digital watermark embedding processing method according to item 16.
【請求項18】前記電子透かし埋め込み処理方法は、さ
らに、 電子透かし埋め込み処理対象となる画像の領域区分情報
を取得する画像領域情報検出ステップを有し、前記電子
透かしパターン生成ステップは、 前記画像領域情報検出ステップの検出結果に基づいて異
なるスケーリングパラメータλを適用して、前記フィル
タ処理手段の出力結果と、電子透かしパターン生成情報
との積算を実行して電子透かしパターンを生成すること
を特徴とする請求項12に記載の電子透かし埋め込み処
理方法。
18. The digital watermark embedding processing method further includes an image area information detecting step of acquiring area division information of an image to be subjected to the digital watermark embedding processing, wherein the digital watermark pattern generating step includes: Applying a different scaling parameter λ based on the detection result of the information detection step, and integrating the output result of the filter processing means and the digital watermark pattern generation information to generate a digital watermark pattern. The digital watermark embedding processing method according to claim 12.
【請求項19】前記マスクフィルタ生成ステップは、 前記フィルタ処理ステップにおいて、フィルタ処理をし
た結果として得られるフィルタ出力画像I(x,y)の
評価を実行し、フィルタ出力画像I(x,y)に含まれ
る高周波成分量が所定の閾値以下である場合には、マス
クフィルタの係数を変更した再生成マスクフィルタを生
成して前記フィルタ処理手段に出力し、 前記フィルタ処理ステップは、前記再生成マスクフィル
タを適用したフィルタリング処理を実行し、 フィルタ出力画像I(x,y)に含まれるエッジ量が閾
値より大きくなったことを条件として、そのフィルタ出
力画像I(x,y)に基づいて電子透かしパターン生成
処理を実行することを特徴とする請求項12に記載の電
子透かし埋め込み処理方法。
19. The mask filter generating step includes the step of: in the filtering step, evaluating a filter output image I (x, y) obtained as a result of performing the filter processing; If the amount of high-frequency components included in is equal to or less than a predetermined threshold, a regenerated mask filter in which the coefficients of the mask filter are changed is generated and output to the filter processing unit. A filtering process is performed by applying a filter, and on the condition that an edge amount included in the filter output image I (x, y) becomes larger than a threshold value, a digital watermark is generated based on the filter output image I (x, y). 13. The digital watermark embedding processing method according to claim 12, wherein a pattern generation processing is performed.
【請求項20】前記電子透かし埋め込み処理方法は、さ
らに、 電子透かし埋め込み処理対象となる画像の時空間領域特
性を解析する時空間解析処理ステップを有し、 前記マスクフィルタ生成ステップは、 前記時空間解析処理ステップの解析結果に基づいて異な
るマスクフィルタを生成することを特徴とする請求項1
2に記載の電子透かし埋め込み処理方法。
20. The digital watermark embedding method further includes a spatio-temporal analysis processing step of analyzing a spatio-temporal region characteristic of an image to be subjected to the digital watermark embedding processing, and the mask filter generating step includes: 2. A different mask filter is generated based on an analysis result of the analysis processing step.
3. The digital watermark embedding processing method according to 2.
【請求項21】前記時空間解析処理ステップは、 電子透かし埋め込み処理対象となる動画像の複数フレー
ムに渡る周波数解析により、該動画像に含まれる周波数
成分解析を実行し、 前記マスクフィルタ生成ステップは、 前記時空間解析処理ステップの解析結果として取得され
る動画像の複数フレームの周波成分情報に応じて異なる
マスクフィルタを生成することを特徴とする請求項20
に記載の電子透かし埋め込み処理方法。
21. The spatio-temporal analysis processing step performs a frequency component analysis included in the moving image by performing frequency analysis over a plurality of frames of the moving image to be subjected to the digital watermark embedding processing. 21. A different mask filter according to frequency component information of a plurality of frames of a moving image acquired as an analysis result of the spatiotemporal analysis processing step.
2. A digital watermark embedding processing method according to (1).
【請求項22】前記マスクフィルタ生成ステップは、 電子透かし埋め込み対象信号の小領域毎の情報に基づい
て取得される解析データに基づいて小領域毎に異なるマ
スクフィルタを生成することを特徴とする請求項12に
記載の電子透かし埋め込み処理方法。
22. The mask filter generating step, wherein a different mask filter is generated for each small area based on analysis data obtained based on information for each small area of a digital watermark embedding target signal. Item 13. A digital watermark embedding method according to item 12.
【請求項23】電子透かしパターン埋め込み処理をコン
ピュータ・システム上で実行せしめるプログラムであっ
て、 電子透かし埋め込み対象信号に対するフィルタ処理のた
めのマスクフィルタを生成するマスクフィルタ生成ステ
ップと、 前記マスクフィルタ生成ステップにおいて生成したマス
クフィルタを用いた前記電子透かし埋め込み対象信号に
対するフィルタリング処理を実行するフィルタ処理ステ
ップと、 前記フィルタ処理ステップにおける出力に基づいて電子
透かしパターンを生成する電子透かしパターン生成ステ
ップと、 前記電子透かしパターン生成ステップにおいて生成され
た電子透かしパターンを前記電子透かし埋め込み対象信
号に埋め込む処理を実行する電子透かしパターン埋め込
みステップとを有し、 前記マスクフィルタ生成ステップは、電子透かし埋め込
み対象信号に基づいて取得される解析データに基づいて
異なるマスクフィルタを生成してフィルタ処理手段に出
力するステップを実行するステップを含むことを特徴と
するプログラム。
23. A program for executing a digital watermark pattern embedding process on a computer system, comprising: a mask filter generating step for generating a mask filter for filtering a digital watermark embedding target signal; and the mask filter generating step. A filtering process step of performing a filtering process on the digital watermark embedding target signal using the mask filter generated in the above, a digital watermark pattern generating step of generating a digital watermark pattern based on an output in the filtering process step, Embedding a digital watermark pattern generated in the pattern generating step into the digital watermark embedding target signal. Data generation step, the program characterized by comprising the step of performing the step of outputting the filtering means to generate a different mask filters based on the analysis data obtained based on the electronic watermark embedding target signal.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004098171A1 (en) * 2003-04-25 2004-11-11 Oki Electric Industry Co., Ltd. Watermark information detection method
US8363883B2 (en) 2007-02-28 2013-01-29 Canon Kabushiki Kaisha Image processing apparatus and image processing method

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004098171A1 (en) * 2003-04-25 2004-11-11 Oki Electric Industry Co., Ltd. Watermark information detection method
CN100399790C (en) * 2003-04-25 2008-07-02 冲电气工业株式会社 Watermark information detection method
KR101016712B1 (en) 2003-04-25 2011-02-25 가부시키가이샤 오끼 데이타 Watermark information detection method
US8363883B2 (en) 2007-02-28 2013-01-29 Canon Kabushiki Kaisha Image processing apparatus and image processing method

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