JP2002346394A - Highly efficient photocatalyst composition, paint and substrate using the same and method for coating object using the same - Google Patents

Highly efficient photocatalyst composition, paint and substrate using the same and method for coating object using the same

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JP2002346394A
JP2002346394A JP2001156310A JP2001156310A JP2002346394A JP 2002346394 A JP2002346394 A JP 2002346394A JP 2001156310 A JP2001156310 A JP 2001156310A JP 2001156310 A JP2001156310 A JP 2001156310A JP 2002346394 A JP2002346394 A JP 2002346394A
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JP
Japan
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light
photocatalytic
oxide
photocatalyst composition
semiconductor material
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Application number
JP2001156310A
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Japanese (ja)
Inventor
Teruhiro Kato
照広 加藤
Yoji Kawaguchi
洋史 川口
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AKIBA KK
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AKIBA KK
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly efficient photocatalyst composition capable of widening the wavelength region of light capable of being utilized by a photocatalytic semiconductor, capable of converting the light energy from a light source to exciting energy to enhance energy efficiency and exciting the photocatalytic semiconductor even after the completion of irradiation with the light from the light source to realize energy saving. SOLUTION: The highly efficient photocatalyst composition is provided by a combination of the photocatalytic semiconductor with a light emitting body having an absorbing band in a wavelength region not exciting the photocatalytic semiconductor and excited itself to emit light having a wavelength for exciting the photocatalytic semiconductor. The highly efficient photocatalyst composition capable of achieving the reduction of irradiation energy by a combination of the photocatalytic semiconductor with a luminous body emitting light containing the exciting wavelength of the photocatalytic semiconductor after the completion of irradiation with light from an exciting light source is provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光触媒半導体材料
の光触媒反応を活性化させる組成物に関する。
[0001] The present invention relates to a composition for activating a photocatalytic reaction of a photocatalytic semiconductor material.

【0002】[0002]

【従来の技術】光触媒半導体材料にバンドギャップ以上
のエネルギーを持つ光を照射し光励起によって伝導帯に
電子を価電帯に正孔を生じさせ、それが粒子表面に拡散
し酸素や水に接触することで電子は吸着酸素を還元して
スーパーオキサイドアニオンを生成し、正孔は水を酸化
してヒドロキシラジカルを生成する。これらの生成物
が、その酸化還元反応を通して、何れも強い殺菌力や有
機物分解力、超親水性を持っていることが公知である。
バンドギャップ以上のエネルギーを持つ光の発光源とし
ては、太陽光、各種ランプ、紫外線、X線、各種電磁波
パルス、発光ダイオード、等がある。これらのエネルギ
ー源は、何れも光触媒半導体材料が吸収する波長の光を
出しているが、吸収効率が低い、あるいはランニングコ
ストが高い等の理由で実用的な光源でない場合が多い。
また、光触媒半導体材料の固定状態に応じて光源も限定
される場合があり、このような点でも簡便な実用化を阻
害するものとなっている。例えば、酸化チタン(TiO
2 )のバンドギャップエネルギー(380nm以下の
波長)を太陽光より得ようとするとその光の2%程度し
か利用できない。また、TiO2 の励起エネルギー吸
収効率を考えた場合、太陽光の2%程しか利用出来ない
上に励起エネルギーとして吸収されるのは、量子効率を
考慮するとその内の数十分の一であることが知られてい
る。
2. Description of the Related Art A photocatalytic semiconductor material is irradiated with light having an energy greater than the band gap to generate electrons in a conduction band and holes in a valence band by photoexcitation, which diffuses into the particle surface and comes into contact with oxygen and water. As a result, electrons reduce adsorbed oxygen to generate superoxide anions, and holes oxidize water to generate hydroxyl radicals. It is known that all of these products have strong bactericidal power, organic substance decomposing power, and superhydrophilicity through the oxidation-reduction reaction.
As a light emitting source of light having energy equal to or greater than the band gap, there are sunlight, various lamps, ultraviolet rays, X-rays, various electromagnetic wave pulses, light emitting diodes, and the like. Each of these energy sources emits light having a wavelength that is absorbed by the photocatalytic semiconductor material, but is often not a practical light source because of low absorption efficiency or high running cost.
In addition, the light source may be limited depending on the fixed state of the photocatalytic semiconductor material, and such a point also hinders simple practical use. For example, titanium oxide (TiO)
In order to obtain the band gap energy (wavelength of 380 nm or less) of 2) from sunlight, only about 2% of the light can be used. Also, considering the excitation energy absorption efficiency of TiO2, only about 2% of sunlight can be used, and only one-tenth of the energy is absorbed as excitation energy in consideration of quantum efficiency. It has been known.

【0003】上記TiO2 の代わりに太陽光の主要構
成波長である可視領域400〜800nmの波長を吸収
する光触媒半導体材料を作れば吸収効率は向上する事に
なる筈である。ところが、400〜800nmの波長の
エネルギーは、3.0〜1.4eVとなりこの範囲のバ
ンドギャップエネルギーを持つ光触媒半導体材料は存在
するが、バンドギャップエネルギーが小さい半導体は電
子と正孔の再結合が起こりやすい(粒子表面での電子と
正孔の再結合の速度は、バンドギャップエネルギーの大
きさに対し指数関数的に減少する)。つまり粒子表面に
拡散して酸素や水を酸化還元する前に大部分が消失して
しまい触媒活性を示さない。また、可視光を含む多くの
エネルギーを利用できる光触媒半導体材料(CdSe、
CdS、WO3 、Fe2 O3 、GaP等)の場合、
励起エネルギーによって発生した自身の正孔によって結
晶が酸化され溶解現象を起こす為、実用性に欠けるもの
が多い。
If a photocatalytic semiconductor material that absorbs a wavelength in the visible region of 400 to 800 nm, which is the main constituent wavelength of sunlight, is made instead of TiO2, the absorption efficiency should be improved. However, the energy at a wavelength of 400 to 800 nm is 3.0 to 1.4 eV, and there are photocatalytic semiconductor materials having a band gap energy in this range. However, a semiconductor having a small band gap energy has recombination of electrons and holes. Likely (the rate of recombination of electrons and holes at the particle surface decreases exponentially with the magnitude of the bandgap energy). That is, most of the oxygen and water are diffused to the surface of the particles and redoxed before the oxidation and reduction, so that no catalytic activity is exhibited. In addition, photocatalytic semiconductor materials (CdSe,
CdS, WO3, Fe2O3, GaP, etc.)
The crystal is oxidized by its own holes generated by the excitation energy and causes a dissolution phenomenon, and thus many of them lack practicality.

【0004】日常的で人類にとって使いやすい光源が利
用できその照射エネルギーを吸収することで強力な酸化
還元反応を起こす安定した光触媒半導体材料としてTi
O2が公知であるが、上記したように380nm以下の
波長の光でしか励起されないため、反応効率が劣る。
As a stable photocatalytic semiconductor material capable of producing a strong oxidation-reduction reaction by absorbing a radiation energy that can be used on a daily basis and easily used by humans, Ti
O2 is known, but as described above, it is excited only by light having a wavelength of 380 nm or less, so that the reaction efficiency is poor.

【0005】その改善策として例えば、(1)可視光域
に吸収波長を持つWO3 等の光触媒半導体材料とTi
O2 を組み合わせて使う方法、(2)ルテニウムやク
ロムをTiO2 に微量添加したりクロムイオンをTi
O2 粒子に加速して打ち込み不純物準位を形成させる
ことでバンドギャップエネルギーを小さくし可視光域で
の励起を可能にする方法、(3)還元雰囲気の中でTi
O2 を生成させる方法などの可視光域での吸収バンド
を形成させる為の方法が、提案されている。
[0005] As an improvement measure, for example, (1) a photocatalytic semiconductor material such as WO3 having an absorption wavelength in the visible light region and Ti
A method using O2 in combination, (2) adding a small amount of ruthenium or chromium to TiO2, or adding chromium ions to Ti
A method of reducing the bandgap energy by accelerating the O2 particles to form an implanted impurity level to enable excitation in the visible light range; (3) Ti in a reducing atmosphere
Methods for forming an absorption band in the visible light region, such as a method for generating O2, have been proposed.

【0006】(1)の場合、WO3 のバンドギャップ
エネルギーが2.5eV(波長480nm)であり、可
視光域で励起され生じた正孔がTiO2 結晶表面の酸
素を酸化し、その結果生じた酸素欠陥に水が吸着するこ
とで親水性のドメインが生じ、超親水性の被膜を得るこ
とが出来るとしている。この提案は、励起エネルギーの
大きさ及びその結果生じる効果からTiO2 の活性化
による酸化還元力向上を目的とした提案ではなく、Ti
O2 のもう一つの特徴である水との接触角を0度にし
て超親水性を得、ガラス板等の対象物の防曇、水滴形成
防止、帯電防止等を行なうものである。また、(2)の
場合、可視光域にも吸収が現れてくるとの報告がある
が、再確認されておらず未だ実証されていない。さら
に、(3)の場合も(2)の場合と同様、効果が報告さ
れた事はあるが再現性がなく、十分な実証がなされたわ
けではないものであった。
In the case of (1), the band gap energy of WO3 is 2.5 eV (wavelength 480 nm), and the holes generated by excitation in the visible light region oxidize oxygen on the TiO2 crystal surface, and the resulting oxygen It is stated that hydrophilic domains are generated by the adsorption of water on the defects, and a superhydrophilic coating can be obtained. This proposal is not a proposal aimed at improving the oxidation-reduction power by activating TiO2 due to the magnitude of the excitation energy and the resulting effects.
Another feature of O2 is that the contact angle with water, which is another feature of O2, is set to 0 degree to obtain superhydrophilicity, and to prevent fogging, water droplet formation, antistatic and the like of an object such as a glass plate. In the case of (2), there is a report that absorption also appears in the visible light range, but it has not been confirmed again and has not yet been proved. Further, in the case of (3), as in the case of (2), although the effect was reported, it was not reproducible and was not sufficiently verified.

【0007】すなわち、従来の光触媒半導体材料を用い
て、これを実用化するについては、光触媒半導体の触媒
効率を確保すべくその比表面積を大きく取るためにこれ
を微粒子として用いるのが前提となっており、そのた
め、該微粒子光触媒半導体の回収効率を保持し、また対
象物への酸化還元反応効率を高めるために基体に対して
どのようにこれを固定化させるか、あるいは固定化させ
たうえで長期の触媒反応を保持し得るための基体への結
着剤、塗料用のバインダの構成等についての提案であっ
た。このような光触媒半導体の基体への固定化について
は、多数の提案がなされており、例えば、水性シリカゾ
ル、アルコキシシラン、シリコーンポリマーによる固着
方法については、特開平2−187147号、特開20
00−107608号、特開平10−146251号、
特開平11−188271号、特開平8−131842
号、特開平4ー284851号、特開平9−1724
号、特開平9−208438号、特開平11−6104
4号、特開平11−315223号、特開2000−1
91960号、特開平10−287846号、特開平1
1−235550号等の公報に示されている。また、水
硬性セメントによる固着法については、特開2000−
233134号、特開2000−219546号、特開
2000−189801号、特開2000−11711
7号、特開2000−73046号、特開平22820
4号等の公報に示されている。また、アルカリケイ酸
塩、アルカリ土類ケイ酸塩、燐酸塩による固着法につい
ては、特開平8−318166号、特開平8−1137
54号、特開平9−10582号、特開平11−188
271号等の公報において開示されている。さらに、例
えば、高耐光性フッ素樹脂による固着法については、特
開平4−284851号、特開平8−131842号、
特開平11−188271号等の公報において提案され
ている。
That is, the practical use of a conventional photocatalytic semiconductor material is premised on the fact that the photocatalytic semiconductor is used as fine particles in order to secure a large specific surface area in order to secure the catalytic efficiency of the photocatalytic semiconductor. Therefore, in order to maintain the recovery efficiency of the particulate photocatalytic semiconductor and to enhance the efficiency of the oxidation-reduction reaction on the target object, how to fix it to the substrate In order to maintain the catalytic reaction described above, a proposal has been made on a binder to a substrate, a binder composition for paint, and the like. Numerous proposals have been made for the immobilization of such a photocatalytic semiconductor on a substrate. For example, methods for fixing aqueous silica sol, alkoxysilane, and silicone polymer are disclosed in JP-A-2-187147 and JP-A-20-187147.
00-107608, JP-A-10-146251,
JP-A-11-188271, JP-A-8-131842
JP-A-4-284851 and JP-A-9-1724
JP-A-9-208438, JP-A-11-6104
4, JP-A-11-315223, JP-A-2000-1
91960, JP-A-10-287846, JP-A-1
It is shown in the official gazettes such as 1-2235550. Also, regarding the fixing method using hydraulic cement, see JP-A-2000-
233134, JP-A-2000-219546, JP-A-2000-189801, JP-A-2000-11711
7, JP-A-2000-73046, JP-A-22820
No. 4 and the like. The fixing method using an alkali silicate, an alkaline earth silicate or a phosphate is disclosed in JP-A-8-318166 and JP-A-8-1137.
No. 54, Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-10582, Japanese Unexamined Patent Publication No. 11-188
No. 271, etc. Further, for example, with respect to a fixing method using a high light-resistant fluororesin, JP-A-4-284851, JP-A-8-131842,
It is proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-188271.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】この様に現在のところ
光源からの光触媒半導体への光エネルギーの効率的な投
与の面での提案はなされておらず、したがって、可視光
を含む多くのエネルギーを効率的に吸収する光触媒半導
体材料の実用化は行われていない。一方、紫外光を各種
ランプによって照射する場合、紫外域には吸収媒体が多
く目的とする照射量を定量的に確保するのが難しい。例
えば、アクリル板や普通のガラス板を通して紫外線を照
射する場合アクリル板では、波長400nmで95%の
透過率、波長380nmで75%の透過率、360nm
では透過率0%になる。普通の板ガラス板では、波長4
00nm付近から透過率が低下し300nmで透過率0
%になる。また、空気中の水蒸気や酸素による吸収も起
きる。また、波長が360nm以下の紫外線を多く含む
ランプは、人体えの影響があり人が居住し活動している
空間では使えず、隔絶した部位か、人の活動が停止した
夜間に照射することになるため触媒反応時間を十分には
確保できないものであった。
As described above, at present, no proposal has been made in terms of the efficient administration of light energy from a light source to a photocatalytic semiconductor, and therefore, a large amount of energy including visible light is required. A photocatalytic semiconductor material that efficiently absorbs has not been put to practical use. On the other hand, when irradiating ultraviolet light with various lamps, the ultraviolet region has a large amount of absorbing medium, and it is difficult to quantitatively secure a desired irradiation amount. For example, when ultraviolet light is irradiated through an acrylic plate or a normal glass plate, the acrylic plate has a transmittance of 95% at a wavelength of 400 nm, a transmittance of 75% at a wavelength of 380 nm, and a wavelength of 360 nm.
In this case, the transmittance becomes 0%. For a normal glass plate, the wavelength is 4
The transmittance decreases from around 00 nm and the transmittance becomes 0 at 300 nm.
%become. In addition, absorption by water vapor and oxygen in the air also occurs. Also, a lamp containing a lot of ultraviolet light with a wavelength of 360 nm or less cannot be used in a space where people live and live due to the influence of human body, and it can be used in isolated areas or at night when human activities stop. Therefore, the catalyst reaction time cannot be sufficiently secured.

【0009】バンドギャップエネルギーが高く、紫外域
に吸収バンドを持ち、強力な酸化分解力を持つ光触媒半
導体材料は、その殺菌力、有機物分解力において魅力的
な存在であるが、上記の理由で光源の選択が難しく短波
長の紫外線であるため人体への影響も考慮しなくてはな
らず、実用的かつ効果的な光源を選択し、効果的な触媒
反応効率をともに保持することが困難であった。
A photocatalytic semiconductor material having a high band gap energy, an absorption band in the ultraviolet region, and a strong oxidative decomposition power is attractive in its bactericidal power and organic substance decomposition power. It is difficult to select a light source, and because it is a short-wavelength ultraviolet ray, it is necessary to consider the effect on the human body, and it is difficult to select a practical and effective light source and maintain effective catalytic reaction efficiency together. Was.

【0010】本発明は、上記従来の課題に鑑みてなされ
たものであり、その1つの目的は、強力な酸化還元力に
よる殺菌力や有機物分解力を有する光触媒半導体材料の
光源の確保に着目しつつ光触媒半導体材料を励起する
ための光エネルギーを特殊な光源に頼ることなく可視光
を含む多くのエネルギーが利用できるとともに、励起
光が届くまでの吸収を少なくして励起エネルギーを効率
よく照射でき、外部からの照射光源のエネルギーを効
率的に吸収利用でき、照射が終了した後も自家発光に
より励起エネルギーを供給し続けることのできる光触媒
反応を活性化する組成物、それを用いた塗料、塗材、並
びにそれを用いた基体の塗装方法を提供することであ
る。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and one of its objects is to secure a light source of a photocatalytic semiconductor material having a bactericidal power by a strong oxidation-reduction power and an organic substance decomposition power. While the light energy for exciting the photocatalytic semiconductor material can be utilized without relying on a special light source, a large amount of energy including visible light can be used, the absorption of the excitation light can be reduced, and the excitation energy can be efficiently irradiated. A composition that activates a photocatalytic reaction that can efficiently absorb and use the energy of an external irradiation light source and can continue to supply excitation energy by self-emission after irradiation is completed, paints and coating materials using the same And a method of coating a substrate using the same.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記視点
より鋭意研究を行った結果、光触媒半導体材料に近接し
て、同じく光を照射させることによって励起され発光す
る物質である発光体を存在させれば効率よく光エネルギ
ーを利用できる事を見いだした。即ち、本発明の光触媒
反応を活性化する組成物とは、光触媒半導体材料と発光
体を基本材料とする組成物で触媒活性を飛躍的に向上さ
せる。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies from the above viewpoint, the present inventors have found that a luminous body, which is a substance that is excited and emits light by being irradiated with light, in the vicinity of a photocatalytic semiconductor material. It was found that light energy could be used efficiently if it existed. That is, the composition for activating the photocatalytic reaction of the present invention is a composition comprising a photocatalytic semiconductor material and a luminous body as basic materials, and dramatically improves the catalytic activity.

【0012】すなわち、本発明は、前記した目的を達成
するために、粉体状の光触媒半導体材料と、光触媒反応
を活性化する粉体状の発光物質と、を混合させた光触媒
反応を活性化する高効率光触媒組成物から構成される。
That is, in order to achieve the above object, the present invention activates a photocatalytic reaction in which a powdery photocatalytic semiconductor material is mixed with a powdery luminescent substance that activates the photocatalytic reaction. Composed of a highly efficient photocatalytic composition.

【0013】その際、発光物質は、吸収した電磁波エネ
ルギーを量子光学的に変換して光の形で放出発光する蛍
光体、蓄光体、燐光体、エレクトロルミネッセンスのい
ずれか1種であるとよい。
At this time, the luminescent material is preferably any one of a phosphor, a phosphor, a phosphor, and an electroluminescence, which emits and emits light in the form of light by converting the absorbed electromagnetic wave energy into quantum light.

【0014】また、発光物質が、吸収した電磁波エネル
ギーを量子光学的に変換して光の形で放出発光する物質
であることとしてもよい。
The luminescent substance may be a substance which emits and emits light in the form of light by converting the absorbed electromagnetic wave energy into quantum light.

【0015】また、発光物質が、蛍光体、蓄光体、燐光
体、エレクトロルミネッセンスを含むと好適である。
Further, it is preferable that the light emitting substance contains a phosphor, a phosphor, a phosphor, and electroluminescence.

【0016】好ましくは、光触媒半導体材料は、所定の
波長の光を吸収し励起され触媒反応を起こす酸化チタン
(Ti02 )、チタン酸ストロンチウム(SrTiO
3 )、チタン酸けい素(SiTiO3 )、チタン酸カ
リウム(K2 TiO3 )、過酸化チタン(TiO2
)、硫化モリブデン(MoS2 )、酸化ビスマス(B
i2O3)、チタン酸第二鉄(Fe2 TiO3 )、酸
化インジウム(In2 O3 )、酸化ルテニウム(Ru
O2 )、酸化カドミウム(CdO)、酸化第二鉄(F
e2 O3)、酸化タングステン(WO3 )、酸化ニオ
ブ(Nb2 O5 )、セレン化カドミウム(CdS
e)、タンタル酸カリウム(KTaO3 )、硫化カド
ミウム(CdS)、(ケイ素)Si、酸化ジルコニウム
(ZrO2 )、ガリウム燐(GaP)、ガリウム砒素
(GaAs)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO
2 )の群から選ばれる少なくとも1種であるとよい。
Preferably, the photocatalytic semiconductor material is made of titanium oxide (Ti02) or strontium titanate (SrTiO) which absorbs light of a predetermined wavelength and is excited to cause a catalytic reaction.
3), silicon titanate (SiTiO3), potassium titanate (K2TiO3), titanium peroxide (TiO2)
), Molybdenum sulfide (MoS2), bismuth oxide (B
i2O3), ferric titanate (Fe2TiO3), indium oxide (In2O3), ruthenium oxide (Ru)
O2), cadmium oxide (CdO), ferric oxide (F
e2 O3), tungsten oxide (WO3), niobium oxide (Nb2 O5), cadmium selenide (CdS)
e), potassium tantalate (KTaO3), cadmium sulfide (CdS), (silicon) Si, zirconium oxide (ZrO2), gallium phosphide (GaP), gallium arsenide (GaAs), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO)
It is preferable that at least one member selected from the group of 2) is used.

【0017】また、光触媒半導体材料の平均粒子径が3
nm〜30μmであるのが好ましい。
The average particle diameter of the photocatalytic semiconductor material is 3
It is preferably from nm to 30 μm.

【0018】また、光触媒半導体材料と発光物質との混
合組成物が、それぞれ重量比、光触媒半導体材料20〜
90wt%、発光体10〜50wt%で配合されるとよ
い。
The mixed composition of the photocatalytic semiconductor material and the luminescent substance is used in a weight ratio of 20 to 20%.
It is preferable to mix 90 wt% and 10 to 50 wt% of the luminous body.

【0019】さらに、光触媒半導体材料と発光物質を励
起するための光源が、蛍光ランプ、太陽光、電磁波パル
ス、電子線、紫外線、X線を含む請求項1ないし7のい
ずれかであることとしてもよい。
Further, the light source for exciting the photocatalytic semiconductor material and the luminescent substance may be a fluorescent lamp, sunlight, an electromagnetic wave pulse, an electron beam, an ultraviolet ray, or an X-ray. Good.

【0020】また、本発明は、請求項1ないし8のいず
れかに記載の高効率光触媒組成物を含む塗料から構成さ
れる。
Further, the present invention comprises a paint containing the high-efficiency photocatalyst composition according to any one of claims 1 to 8.

【0021】さらに、本発明は、請求項1ないし8のい
ずれかに記載の高効率光触媒組成物を所要の固定方法で
固定させた基体から構成される。
Further, the present invention comprises a substrate on which the high-efficiency photocatalyst composition according to any one of claims 1 to 8 is fixed by a required fixing method.

【0022】また、本発明は、光触媒半導体材料のゾル
中に発光物質を分散させて光触媒活性組成物を得、該光
触媒活性組成物を対象物に被着させ、高温焼き付け処理
した対象物の塗装方法から構成される。
The present invention also provides a photocatalytically active composition obtained by dispersing a luminescent substance in a sol of a photocatalytic semiconductor material, applying the photocatalytically active composition to an object, and coating the object after high-temperature baking. Composed of methods.

【0023】また、発光物質が、CRT用電子線、紫外
線又は可視光線のいずれかにより励起されるCRT用電
子線励起及び紫外線、可視光線励起の銀とニッケル及び
銀とアルミニウム及び銀単体付活硫化亜鉛「ZnS:A
g+、(NiorAlor単体)] 銀付活硫化亜鉛と銅及びアルミニウム付活硫化亜鉛カド
ミウム[ZnS:Ag+ +(Zn、Cd)S:Cu2
+、Al3+] 塩素及び銀付活硫化亜鉛と銅及びアルミニウム付活硫化
亜鉛カドミウム[ZnS:Ag+ 、Cl− +(Zn、
Cd)S:Cu2+、Al3+] セリウム付活アルミン酸イットリウム[YAlO3 :
Ce3+] タングステン酸カルシウム[CaWO4 ] 鉛付活タングステン酸カルシウム[CaWO4 :Pb
2+] 鉛付活ケイ酸バリウム[BaSi2 O6 :Pb2+] 鉛付活ケイ酸ストロンチウムバリウムマグネシウム
[(Sr、Ba、Mg)Si2 O7 :Pb2+] セリウム付活ケイ酸カルシウムマグネシウム[CaMg
Si2 O7 :Ce3+] セリウム及びテルビウム付活ケイ酸イットリウム[Y2
SiO6 :Ce3+、Tb3+] セリウム付活ケイ酸イットリウム[Y2 SiO5:C
e3+] テルビウム付活ケイ酸イットリウム[Y2 SiO5 :
Tb3+] ユーロピウム付活硫化イットリウム酸化物[Y2 O2
S:Eu2+] マンガン付活ケイ酸亜鉛[Zn2 SiO4 :Mn2
+] ユーロピウム付活リン酸ストロンチウム[Sr2 P2
O7 :Eu2+] ユーロピウム付活リン酸ストロンチウムマグネシウム
[(Sr、Mg)2 P2O7 :Eu2+] ユーロピウム付活リン酸ストロンチウム[Sr3 (P
O4 ):Eu2+] ユーロピウム付活ケイ酸アルミニウムストロンチウムバ
リウム[(Sr、Ba)Al2 Si2 O8 :Eu2
+] ユーロピウム付活ケイ酸バリウムマグネシウム[Ba3
MgSi2 O8 :Eu2+] ユーロピウム付活フッ化ホウ酸ストロンチウム[SrB
4 O7 F:Eu2+] ユーロピウム付活フッ化バリウム塩素ヨウ素[BaF
(Cl、I):Eu2+] ユーロピウム付活ケイ酸ストロンチウム、塩化ストロン
チウム[(Sr2 Si3 O8 ・2SrCl2 :Eu
2+] ユーロピウム及びマンガン付活アルミン酸マグネシウム
バリウム[BaMgAl16O27:Eu2+、Mn]
の蛍光性化合物のいずれか1種であることが好ましい。
Further, the luminescent substance is excited by an electron beam for CRT, ultraviolet ray or visible light, and activated silver and nickel excited by ultraviolet ray or ultraviolet ray, visible ray excited by silver or nickel, silver and aluminum and activated silver alone. Zinc “ZnS: A
g +, (NiorAlor simple substance)] Silver-activated zinc sulfide and copper and aluminum-activated zinc cadmium sulfide [ZnS: Ag ++ (Zn, Cd) S: Cu2
+, Al3 +] Zinc sulfide activated with chlorine and silver and cadmium sulfide activated with copper and aluminum [ZnS: Ag +, Cl − + (Zn,
Cd) S: Cu2 +, Al3 +] Cerium-activated yttrium aluminate [YAlO3:
Ce3 +] Calcium tungstate [CaWO4] Lead activated calcium tungstate [CaWO4: Pb
2+] Lead activated barium silicate [BaSi2 O6: Pb2 +] Lead activated strontium barium magnesium [(Sr, Ba, Mg) Si2 O7: Pb2 +] Cerium activated calcium magnesium [CaMg
Si2O7: Ce3 +] Yttrium silicate activated with cerium and terbium [Y2
SiO6: Ce3 +, Tb3 +] Cerium-activated yttrium silicate [Y2 SiO5: C
e3 +] Terbium activated yttrium silicate [Y2 SiO5:
Tb3 +] Europium activated yttrium sulfide oxide [Y2O2
S: Eu2 +] Manganese-activated zinc silicate [Zn2 SiO4: Mn2
+] Europium activated strontium phosphate [Sr2 P2
O7: Eu2 +] Europium-activated strontium magnesium phosphate [(Sr, Mg) 2 P2O7: Eu2 +] Europium-activated strontium phosphate [Sr3 (P
O4): Eu2 +] Europium-activated aluminum strontium barium silicate [(Sr, Ba) Al2 Si2 O8: Eu2
+] Europium activated barium magnesium silicate [Ba3
MgSi2O8: Eu2 +] Europium activated strontium fluoroborate [SrB
4 O7 F: Eu2 +] Europium activated barium chloride iodine [BaF
(Cl, I): Eu2 +] Europium-activated strontium silicate, strontium chloride [(Sr2 Si3 O8.2SrCl2: Eu
2+] Europium and manganese activated magnesium barium aluminate [BaMgAl16O27: Eu2 +, Mn]
Preferably, any one of the above fluorescent compounds is used.

【0024】また、発光物質が、X線により励起される ナトリウム付活ヨウ化セシウム[CsI:Na+ ] ユーロピウム付活硫酸バリウム[BaSO4 :Eu2
+] ユーロピウム付活塩化フッ素バリウム[BaFCl:E
u2+]等の蛍光性化合物のいずれか1種であることと
してもよい。
The luminescent substance is sodium-activated cesium iodide [CsI: Na +] europium-activated barium sulfate [BaSO4: Eu2] excited by X-rays.
+] Europium activated barium fluoride chloride [BaFCl: E
u2 +] or any other fluorescent compound.

【0025】さらに、発光物質が、プラズマディスプレ
ー用短波長紫外線により励起される ユーロピウム付活タングステン酸カルシウム[CaWO
4 :Eu3+] ユーロピウム付活アルミン酸マグネシウムバリウム[B
aMgAl14O23:Eu2+] ユーロピウム付活ケイ酸マグネシウムストロンチウム
[SrMg(SiO4):Eu2+]等の蛍光性化合物
のいずれか1種であることとしてもよい。
Further, the luminescent substance is excited by europium-activated calcium tungstate [CaWO] which is excited by short-wavelength ultraviolet light for plasma display.
4: Eu3 +] Europium activated magnesium barium aluminate [B
aMgAl14O23: Eu2 +] Any one of fluorescent compounds such as europium-activated magnesium strontium silicate [SrMg (SiO4): Eu2 +] may be used.

【0026】また、発光物質が、 ネオジウム及びユーロピウム付活アルミン酸カルシウム
[CaAl2 O3 :Eu2+、Nd] ジスプロシウム及びユーロピウム付活アルミン酸ストロ
ンチウム[Sr4 Al14O25:Eu2+、Dy] ジスプロシウム及びユーロピウム付活アルミン酸ストロ
ンチウム[SrAl2O3 :Eu2+、Dy]の蓄光
性あるいは燐光性の化合物のいずれか1種であるのが良
い。
The luminescent substance is neodymium and europium activated calcium aluminate [CaAl2O3: Eu2 +, Nd] dysprosium and europium activated strontium aluminate [Sr4Al14O25: Eu2 +, Dy] dysprosium and europium activated strontium aluminate [ [SrAl2O3: Eu2 +, Dy] may be any one of the luminous or phosphorescent compounds.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】本発明は、粉体状の光触媒半導体
材料と、光触媒反応を活性化する粉体状の発光物質と、
を混合させた高効率光触媒組成物から構成される。すな
わち、粒子状の粉体からなる光触媒半導体材料と、粒子
状の発光物質と、を混合させそれらの物質粒子を近接し
て配置させて存在させることにより効率よく光エネルギ
ーを利用させる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a powdery photocatalytic semiconductor material, a powdery luminescent substance for activating a photocatalytic reaction,
And a high-efficiency photocatalyst composition in which is mixed. That is, by mixing a photocatalytic semiconductor material composed of a particulate powder and a particulate luminescent substance and arranging these substance particles in close proximity to each other, light energy is efficiently used.

【0028】光触媒半導体材料と、発光物質とが粒子状
態で近接して配置分散されていることで空気中の酸素や
水蒸気による吸収が少なく、発光物質の光エネルギーが
効率的に光触媒半導体に作用しこれを励起させる。特
に、発光物質は、光触媒半導体材料の励起に用いられな
い波長の光エネルギーを吸収し、励起されて光触媒半導
体材料の励起光のバンドに対応した波長の光を当該光触
媒半導体材料に近接した粒子位置で発し、これを効果的
に活性化させる。
Since the photocatalytic semiconductor material and the light emitting substance are arranged and dispersed in the form of particles in close proximity, absorption by oxygen or water vapor in the air is small, and the light energy of the light emitting substance efficiently acts on the photocatalytic semiconductor. Excite this. In particular, the luminescent substance absorbs light energy having a wavelength not used to excite the photocatalytic semiconductor material, and when excited, emits light having a wavelength corresponding to the band of the excitation light of the photocatalytic semiconductor material at a particle position close to the photocatalytic semiconductor material. And activate it effectively.

【0029】光触媒半導体材料は、光によって励起状態
となり、そのエネルギーを他に与えることができる物質
であり、バンドギャップエネルギー以上の光を吸収する
と、価電子帯の電子が伝導帯に励起され価電子帯には正
孔を生成し、それらの正孔及び電子が酸化、還元反応を
通じて殺菌、消臭作用、有機物分解作用、あるいは超親
水性による洗浄、防曇作用等を行なわせる。
A photocatalytic semiconductor material is a substance which is excited by light and can give its energy to other materials. When light having a band gap energy or more is absorbed, electrons in the valence band are excited into the conduction band to be excited. Holes are generated in the band, and the holes and electrons cause bactericidal, deodorizing, organic matter decomposing, or superhydrophilic washing and antifogging effects through oxidation and reduction reactions.

【0030】光触媒半導体材料は、酸化チタン(Ti0
2 )、チタン酸ストロンチウム(SrTiO3 )、チ
タン酸けい素(SiTiO3 )、チタン酸カリウム
(K2TiO3 )、過酸化チタン(TiO2 )、硫化
モリブデン(MoS2 )、酸化ビスマス(Bi2 O3
)、チタン酸第二鉄(Fe2 TiO3 )、酸化イン
ジウム(In2 O3 )、酸化ルテニウム(RuO2
)、酸化カドミウム(CdO)、酸化第二鉄(Fe2
O3 )、酸化タングステン(WO3 )、酸化ニオブ
(Nb2 O5)、セレン化カドミウム(CdSe)、
タンタル酸カリウム(KTaO3 )、硫化カドミウム
(CdS)、(ケイ素)Si、酸化ジルコニウム(Zr
O2 )、ガリウム燐(GaP)、ガリウム砒素(Ga
As)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO2 )
の群の中から選ばれる少なくとも一種であるのが好まし
い。また、その平均粒子径は、3nm〜30μmが好ま
しく、より好ましくは5nm〜100nmであり、市販
されている材料を簡便に入手して適用できる。しかしな
がら、これらに限定されるものではない。特に、酸化チ
タンについては、アナターゼ型、ルチル型の結晶性酸化
チタンであり、このうちアナターゼ型の高純度酸化チタ
ン微粒子が自己浄化、抗菌等の面で光触媒性能が強く、
しかも長期間発現する点で好ましい。
The photocatalytic semiconductor material is titanium oxide (TiO 0
2), strontium titanate (SrTiO3), silicon titanate (SiTiO3), potassium titanate (K2TiO3), titanium peroxide (TiO2), molybdenum sulfide (MoS2), bismuth oxide (Bi2O3)
), Ferric titanate (Fe2TiO3), indium oxide (In2O3), ruthenium oxide (RuO2)
), Cadmium oxide (CdO), ferric oxide (Fe2
O3), tungsten oxide (WO3), niobium oxide (Nb2O5), cadmium selenide (CdSe),
Potassium tantalate (KTaO3), cadmium sulfide (CdS), (silicon) Si, zirconium oxide (Zr
O2), gallium phosphide (GaP), gallium arsenide (Ga
As), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO2)
It is preferably at least one selected from the group of The average particle size is preferably 3 nm to 30 μm, more preferably 5 nm to 100 nm, and a commercially available material can be easily obtained and applied. However, it is not limited to these. In particular, titanium oxide is an anatase type, a rutile type crystalline titanium oxide, of which anatase type high-purity titanium oxide fine particles have strong photocatalytic performance in terms of self-purification, antibacterial and the like,
Moreover, it is preferable in that it is expressed for a long period of time.

【0031】発光体は、吸収した電磁波エネルギーを量
子光学的に変換して光の形で放出発光する蛍光体、蓄光
体、燐光体、エレクトロルミネッセンスを含む。蛍光体
は、極めて微量の重金属を結晶中に含む例えば亜鉛やカ
ドミウムの硫化物や酸化物あるいはアルカリ土類金属の
硫化物などがあり、これらは銅、マンガンなどを活性体
として電磁波により励起され、特有の蛍光を発する。励
起された電子が元の軌道に戻るときに、外部から得たエ
ネルギーを光として放出するルミネセンスである。燐光
体は電磁波の照射が止んだ後にも発光を持続する。エレ
クトロルミネセンスは、電界によって加速された自由電
子が発光物質中に存在している発光中心となる特定の不
純物の電子を励起し、それが元に戻るときにエネルギー
を放出する電界発光体である。蓄光体は、例えばストロ
ンチウムやアルミニウム等の酸化物に希土類元素のユー
ロピウムを添加したものであり、これに紫外線等の高エ
ネルギー光を照射して蓄積されたエネルギーが徐々に解
放されるときに発光するものであると考えられている。
したがって、夜間時等にも自己発光し近接配置された光
触媒半導体の励起エネルギー光を発し得る。
The luminous body includes a phosphor, a phosphor, a phosphor, and an electroluminescence which emits and emits light in the form of light by converting the absorbed electromagnetic wave energy into a quantum optical form. Phosphors include, for example, sulfides and oxides of zinc and cadmium or sulfides of alkaline earth metals containing extremely small amounts of heavy metals in their crystals, and these are excited by electromagnetic waves using copper, manganese, etc. as active substances, It emits unique fluorescence. When the excited electrons return to their original orbit, luminescence emits energy obtained from outside as light. The phosphor continues to emit light even after the irradiation of the electromagnetic wave stops. Electroluminescence is an electroluminescent material in which free electrons accelerated by an electric field excite electrons of a specific impurity, which serves as a luminescent center, present in a luminescent material, and emits energy when it returns to its original state. . The light storage body is obtained by adding a rare earth element europium to an oxide such as strontium or aluminum, and emits light when the stored energy is gradually released by irradiating high energy light such as ultraviolet light. It is believed to be something.
Therefore, even at night or the like, it is possible to self-emit light and emit excitation energy light of the photocatalyst semiconductor arranged in close proximity.

【0032】蛍光体として、CRT用電子線励起及び紫
外線あるいは、可視光線で励起される以下の化合物が好
適に選択される。しかしながら、発光体は以下の化合物
に限定されるものではない。 銀とニッケル及び銀とアルミニウム及び銀単体付活硫化
亜鉛「ZnS:Ag+、(NiorAlor単体)] 銀付活硫化亜鉛と銅及びアルミニウム付活硫化亜鉛カド
ミウム[ZnS:Ag+ +(Zn、Cd)S:Cu2
+、Al3+] 塩素及び銀付活硫化亜鉛と銅及びアルミニウム付活硫化
亜鉛カドミウム[ZnS:Ag+ 、Cl− +(Zn、
Cd)S:Cu2+、Al3+] セリウム付活アルミン酸イットリウム[YAlO3 :
Ce3+] タングステン酸カルシウム[CaWO4 ] 鉛付活タングステン酸カルシウム[CaWO4 :Pb
2+] 鉛付活ケイ酸バリウム[BaSi2 O6 :Pb2+] 鉛付活ケイ酸ストロンチウムバリウムマグネシウム
[(Sr、Ba、Mg)Si2 O7 :Pb2+] セリウム付活ケイ酸カルシウムマグネシウム[CaMg
Si2 O7 :Ce3+] セリウム及びテルビウム付活ケイ酸イットリウム[Y2
SiO6 :Ce3+、Tb3+] セリウム付活ケイ酸イットリウム[Y2 SiO5:C
e3+] テルビウム付活ケイ酸イットリウム[Y2 SiO5 :
Tb3+] ユーロピウム付活硫化イットリウム酸化物[Y2 O2
S:Eu2+] マンガン付活ケイ酸亜鉛[Zn2 SiO4 :Mn2
+] ユーロピウム付活リン酸ストロンチウム[Sr2 P2
O7 :Eu2+] ユーロピウム付活リン酸ストロンチウムマグネシウム
[(Sr、Mg)2 P2O7 :Eu2+] ユーロピウム付活リン酸ストロンチウム[Sr3 (P
O4 ):Eu2+] ユーロピウム付活ケイ酸アルミニウムストロンチウムバ
リウム[(Sr、Ba)Al2 Si2 O8 :Eu2
+] ユーロピウム付活ケイ酸バリウムマグネシウム[Ba3
MgSi2 O8 :Eu2+] ユーロピウム付活フッ化ホウ酸ストロンチウム[SrB
4 O7 F:Eu2+] ユーロピウム付活フッ化バリウム塩素ヨウ素[BaF
(Cl、I):Eu2+] ユーロピウム付活ケイ酸ストロンチウム、塩化ストロン
チウム[(Sr2 Si3 O8 ・2SrCl2 :Eu
2+] ユーロピウム及びマンガン付活アルミン酸マグネシウム
バリウム[BaMgAl16O27:Eu2+、Mn]
As the phosphor, the following compounds that are excited by electron beam excitation for CRT and ultraviolet or visible light are suitably selected. However, the luminous body is not limited to the following compounds. Silver-nickel, silver-aluminum, and silver-activated zinc sulfide "ZnS: Ag +, (NiorAlor alone)" Silver-activated zinc sulfide and copper and aluminum-activated zinc cadmium sulfide [ZnS: Ag ++ (Zn, Cd) S: Cu2
+, Al3 +] Zinc sulfide activated with chlorine and silver and cadmium sulfide activated with copper and aluminum [ZnS: Ag +, Cl − + (Zn,
Cd) S: Cu2 +, Al3 +] Cerium-activated yttrium aluminate [YAlO3:
Ce3 +] Calcium tungstate [CaWO4] Lead activated calcium tungstate [CaWO4: Pb
2+] Lead activated barium silicate [BaSi2 O6: Pb2 +] Lead activated strontium barium magnesium [(Sr, Ba, Mg) Si2 O7: Pb2 +] Cerium activated calcium magnesium [CaMg
Si2O7: Ce3 +] Yttrium silicate activated with cerium and terbium [Y2
SiO6: Ce3 +, Tb3 +] Cerium-activated yttrium silicate [Y2 SiO5: C
e3 +] Terbium activated yttrium silicate [Y2 SiO5:
Tb3 +] Europium activated yttrium sulfide oxide [Y2O2
S: Eu2 +] Manganese-activated zinc silicate [Zn2 SiO4: Mn2
+] Europium activated strontium phosphate [Sr2 P2
O7: Eu2 +] Europium-activated strontium magnesium phosphate [(Sr, Mg) 2 P2O7: Eu2 +] Europium-activated strontium phosphate [Sr3 (P
O4): Eu2 +] Europium-activated aluminum strontium barium silicate [(Sr, Ba) Al2 Si2 O8: Eu2
+] Europium activated barium magnesium silicate [Ba3
MgSi2O8: Eu2 +] Europium activated strontium fluoroborate [SrB
4 O7 F: Eu2 +] Europium activated barium chloride iodine [BaF
(Cl, I): Eu2 +] Europium-activated strontium silicate, strontium chloride [(Sr2 Si3 O8.2SrCl2: Eu
2+] Europium and manganese activated magnesium barium aluminate [BaMgAl16O27: Eu2 +, Mn]

【0033】また、発光体は、X線照射により励起され
る以下の化合物が好適に選択される。しかしながら、発
光体は以下の化合物に限定されるものではない。 ナトリウム付活ヨウ化セシウム[CsI:Na+ ] ユーロピウム付活硫酸バリウム[BaSO4 :Eu2
+] ユーロピウム付活塩化フッ素バリウム[BaFCl:E
u2+]等
As the luminous body, the following compounds which are excited by X-ray irradiation are suitably selected. However, the luminous body is not limited to the following compounds. Sodium activated cesium iodide [CsI: Na +] Europium activated barium sulfate [BaSO4: Eu2
+] Europium activated barium fluoride chloride [BaFCl: E
u2 +] etc.

【0034】さらに、発光体は、プラズマディスプレー
用短波長紫外線により励起される ユーロピウム付活タングステン酸カルシウム[CaWO
4 :Eu3+] ユーロピウム付活アルミン酸マグネシウムバリウム[B
aMgAl14O23:Eu2+] ユーロピウム付活ケイ酸マグネシウムストロンチウム
[SrMg(SiO4):Eu2+]等を用いるのが好
適である。しかしながら、発光体はこれらの化合物に限
定されるものではない。
Further, the luminous body is a europium-activated calcium tungstate [CaWO] which is excited by short-wavelength ultraviolet light for plasma display.
4: Eu3 +] Europium activated magnesium barium aluminate [B
aMgAl14O23: Eu2 +] It is preferable to use europium-activated magnesium strontium silicate [SrMg (SiO4): Eu2 +]. However, the luminous body is not limited to these compounds.

【0035】発光体は、さらに、蓄光体、燐光体として
以下のものを選択してもよい。しかしながら、発光体は
これらの化合物に限定されるものではない ネオジウム及びユーロピウム付活アルミン酸カルシウム
[CaAl2 O3 :Eu2+、Nd] ジスプロシウム及びユーロピウム付活アルミン酸ストロ
ンチウム[Sr4 Al14O25:Eu2+、Dy] ジスプロシウム及びユーロピウム付活アルミン酸ストロ
ンチウム[SrAl2O3 :Eu2+、Dy]
As the luminous body, the following may be selected as the luminous body and the phosphor. However, the luminous body is not limited to these compounds. Neodymium and europium activated calcium aluminate [CaAl2O3: Eu2 +, Nd] Dysprosium and europium activated strontium aluminate [Sr4Al14O25: Eu2 +, Dy] Dysprosium and europium Activated strontium aluminate [SrAl2O3: Eu2 +, Dy]

【0036】これらの蛍光体の平均粒子径は、0.1μ
m〜100μmが好ましく、より好ましくは1μm〜5
0μmであり、市販されている材料を使うことが出来
る。
The average particle diameter of these phosphors is 0.1 μm.
m to 100 μm, more preferably 1 μm to 5 μm.
0 μm, and commercially available materials can be used.

【0037】粒子状の光触媒半導体材料と粒子状の発光
体の混合組成物の割合は、それぞれ光触媒半導体材料が
20〜90wt%、発光体が10〜50wt%の範囲で
混合されるのが良い。
The proportion of the mixed composition of the particulate photocatalyst semiconductor material and the particulate light emitter is preferably 20 to 90 wt% for the photocatalytic semiconductor material and 10 to 50 wt% for the light emitter.

【0038】粒子状光触媒半導体材料と、粒子状発光物
質とを混合して得られる高効率光触媒組成物は、そのま
ま粒子混合物のままで水その他の液体や、清浄用空気の
通路に配置させて用いることができる。
A high-efficiency photocatalyst composition obtained by mixing a particulate photocatalytic semiconductor material and a particulate light-emitting substance is used as it is as a particulate mixture, by disposing it in the passage of water or another liquid, or cleaning air. be able to.

【0039】また、この高効率光触媒組成物を既に開示
されている光触媒材料の基体への任意の固定化方法を用
いて基体に固定化させることができる。例えば該組成物
を内添してそれぞれ無機系の接着剤や固着剤、被覆剤あ
るいは塗料として適用される。例えば、水性シリカゾ
ル、アルコキシシラン、シリコンポリマーに混合して塗
料、塗材、接着剤、固着材、被覆材として適用してもよ
い。また、水硬性のセメントに混練して対象物への接着
剤、固着剤、被覆剤として適用できる。また、アルカリ
ケイ酸塩、アルカリ土類ケイ酸塩、燐酸塩を用いて基体
に該高効率光触媒組成物を固着させてもよい。また、該
組成物を有機系の接着剤、固着剤、被覆剤あるいは塗料
に内添して適用してもよい。その際には、光触媒半導体
の酸化還元作用により有機系塗料のバインダ等が経時的
に分解されにくいように、有機物としてフッ素樹脂を用
いるのが好ましい。基体としては、例えばセラミック
ス、ガラスなどの無機材質物品、プラスチック、ゴム、
木、紙等の有機材質物品、アルミニウム等の金属、鋼な
どの合金等の金属材質の物品について適用し得る。
The high-efficiency photocatalyst composition can be immobilized on the substrate by using any of the previously disclosed methods for immobilizing a photocatalyst material on a substrate. For example, the composition is internally added and applied as an inorganic adhesive, fixing agent, coating agent or paint. For example, it may be mixed with an aqueous silica sol, alkoxysilane, or silicone polymer and applied as a paint, a coating material, an adhesive, a fixing material, or a coating material. Further, it can be kneaded with hydraulic cement and applied as an adhesive, a fixing agent, or a coating agent to an object. Further, the high-efficiency photocatalyst composition may be fixed to the substrate using an alkali silicate, an alkaline earth silicate, or a phosphate. Further, the composition may be applied by internally adding it to an organic adhesive, fixing agent, coating agent or paint. In this case, it is preferable to use a fluorine resin as the organic substance so that the binder or the like of the organic paint is hardly decomposed with time due to the oxidation-reduction action of the photocatalytic semiconductor. As the substrate, for example, ceramics, inorganic materials such as glass, plastic, rubber,
The present invention can be applied to articles made of organic materials such as wood and paper, articles made of metal such as metal such as aluminum, and alloys such as steel.

【0040】無機系あるいは有機系のバインダ(接着
剤、固着剤、被覆剤、塗料を含む)に対する組成物の添
加配合量は、3wt%〜50wt%が好ましく、より好
ましくは、5wt%〜30wt%であるのが良い。
The amount of the composition added to an inorganic or organic binder (including an adhesive, a fixing agent, a coating agent, and a paint) is preferably 3 wt% to 50 wt%, more preferably 5 wt% to 30 wt%. It is good.

【0041】さらに、光触媒半導体材料のゾル中に発光
物質を分散させて光触媒活性組成物を得、該光触媒活性
組成物を基体に被着させ、吹き付け、コーティングした
後に高温で焼成させることで密着させて基体に塗装して
塗材として適用される。
Further, a light-emitting substance is dispersed in a sol of a photocatalytic semiconductor material to obtain a photocatalytic active composition, and the photocatalytic active composition is applied to a substrate, sprayed, coated, and fired at a high temperature to be brought into close contact. And applied as a coating material.

【0042】[0042]

【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明の内容をより
詳細に説明するが、これらの実施例はあくまでも例示で
あり、本発明の範囲はこれに限定されるものではない。
EXAMPLES The contents of the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, these examples are merely examples, and the scope of the present invention is not limited to these examples.

【0043】[実施例1]TiO2 (アナターゼ型平
均粒子径7nm)10g、水性シリカゾル(平均粒径5
nm)50gを3mmの硝子ビーズ150gと共に30
0mlのポリ容器に入れ、レッドデビル社製のペイント
コンディショナーで1時間浸透分散して塗料化した。さ
らに、蓄光体CaAl2 O4 :Eu2+、Nd(平均
粒径2.5±1μm)6gとノニオン系界面活性剤0.
3gを添加し1時間撹拌し高効率光触媒組成物を含んだ
塗料を得た。得られた塗料をアセトン脱脂したガラス板
100cm2 にプライマーを介して塗膜厚みが5 μ
mになるようにロールコーターで塗装した後200℃1
時間乾燥して、本発明の高効率光触媒組成物をコーティ
ングした試料Aを得た。
Example 1 10 g of TiO2 (anatase type average particle size 7 nm), aqueous silica sol (average particle size 5
nm) 50 g with 150 g of 3 mm glass beads for 30
The mixture was placed in a 0 ml plastic container, and dispersed with a paint conditioner manufactured by Red Devil Co. for 1 hour to form a paint. Further, 6 g of the luminous body CaAl2O4: Eu2 +, Nd (average particle size 2.5 ± 1 .mu.m) and 0.1 g of the nonionic surfactant.
3 g was added and the mixture was stirred for 1 hour to obtain a paint containing the high-efficiency photocatalyst composition. The obtained paint is applied to a 100 cm 2 glass plate degreased with acetone to a thickness of 5 μm via a primer.
200 ° C 1 after painting with a roll coater
After drying for a period of time, Sample A coated with the highly efficient photocatalyst composition of the present invention was obtained.

【0044】[実施例2]実施例1のTiO2 (アナ
ターゼ型)の平均粒径を20nmとする以外は、同様と
し試料Bを得た。
Example 2 A sample B was obtained in the same manner as in Example 1 except that the average particle size of TiO 2 (anatase type) was changed to 20 nm.

【0045】[実施例3]実施例1のTiO2 (アナ
ターゼ型平均粒子径7nm)の量を20gとする以外
は、同様とし試料Cを得た。
Example 3 Sample C was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of TiO 2 (anatase type average particle diameter 7 nm) was changed to 20 g.

【0046】[実施例4」実施例1の蓄光体CaAl2
O4 :Eu2+、Nd(平均粒子径2.5±1μm)
を12gにした以外は、同様とし試料Dを得た。
[Embodiment 4] Phosphor CaAl2 of Embodiment 1
O4: Eu2 +, Nd (average particle size 2.5 ± 1 μm)
Was changed to 12 g to obtain a sample D.

【0047】[比較例1]実施例1の塗料中に蓄光体を
添加しない塗料を実施例1と同様にガラス板に塗装して
試料Eとした。
[Comparative Example 1] A sample E was prepared by applying a coating material to which no luminous body was added to the coating material of Example 1 on a glass plate in the same manner as in Example 1.

【0048】[比較例2]表面処理を行っていないガラ
ス板を試料Fとした。
[Comparative Example 2] A glass plate not subjected to the surface treatment was used as Sample F.

【0049】[評価]上記実施例1ないし4並びに比較
例1、2で得られた試料を使い、ホルムアルデヒドの分
解試験を以下の方法で行った。 (試験方法1)パイレックス(登録商標)硝子製容器
(完全密閉 内容量30l)中に試料A〜Fを入れ、ホ
ルムアルデヒド50ppmを注入し撹拌しながら紫外線
強度1mW/cm2で照射を開始した。時間毎の濃度変
化を図1に示す。試料A〜Eでは、ホルムアルデヒドの
濃度低下が観測されるが、試料Fでは濃度は殆ど変化し
ない。 (試験方法2)パイレックス製ガラス容器(完全密閉
内容量20l)中に試料A〜Eを入れ、ホルムアルデヒ
ド50pmmを注入し 撹拌しながら室内(太陽光及び
蛍光灯下、照度約1000lx)に1時間放置後濃度を
測定した。その後容器を暗室に移し時間毎のホルムアル
デヒド濃度を測定した結果を図2に示す。試料A〜Dで
は、昼光色下での濃度低下が観測され、その後の暗室で
の濃度低下も観測される。これは、蓄光型蛍光体である
CaAl2 O3 :Eu2+、Ndが、暗室で発光する
ことにより光触媒半導体材料を励起し、触媒反応を活性
化している結果である。試料Eは、昼光色下での濃度低
下は、観測されるものの暗室に移された後は、活性を示
していない。試料Fは、殆ど変化していない
[Evaluation] Using the samples obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2, a decomposition test of formaldehyde was carried out by the following method. (Test Method 1) Samples A to F were placed in a Pyrex (registered trademark) glass container (completely sealed inner volume: 30 liters), and irradiation with a UV intensity of 1 mW / cm2 was started while injecting 50 ppm of formaldehyde and stirring. FIG. 1 shows the concentration change over time. In Samples A to E, a decrease in formaldehyde concentration is observed, but in Sample F, the concentration hardly changes. (Test method 2) Pyrex glass container (fully sealed)
Samples A to E were placed in an internal volume of 20 l), 50 pmm of formaldehyde was injected, and the mixture was allowed to stand for 1 hour in a room (under sunlight and a fluorescent lamp under an illuminance of about 1000 lx) with stirring to measure the concentration. Thereafter, the container was moved to a dark room, and the results of measuring the formaldehyde concentration at each time are shown in FIG. In Samples A to D, a decrease in density under daylight is observed, and a decrease in density in a dark room thereafter is also observed. This is a result of CaAl2O3: Eu2 +, Nd, which is a phosphorescent phosphor, emitting light in a dark room to excite the photocatalytic semiconductor material and activate the catalytic reaction. Sample E does not show any activity after being transferred to a dark room although a decrease in concentration under daylight is observed. Sample F hardly changed

【0050】[比較例3]TiO2 (アナターゼ型平
均粒子径20nm)10g、水性シリカゾル(平均粒子
径5nm)100g、ノニオン系界面活性剤1gを3m
mの硝子ビーズ100gとともにペイントシェイカーで
3時間振倒して塗料化した。得られた塗料を脱脂したガ
ラス板100cm2にプライマーを介して塗膜厚みが1
0μmになるようにロールコーターで塗装した後200
℃1時間乾燥し試料Gを得た。
[Comparative Example 3] 10 g of TiO2 (anatase type average particle diameter: 20 nm), 100 g of aqueous silica sol (average particle diameter: 5 nm), and 1 g of nonionic surfactant were mixed in 3 m.
The mixture was shaken with a paint shaker for 3 hours together with 100 g of the glass beads of m to obtain a paint. The thickness of the coating film is set to 1 on a glass plate 100 cm 2 degreased from the obtained paint through a primer.
After coating with a roll coater so that the thickness becomes 0 μm, 200
The sample was dried at ℃ 1 hour to obtain a sample G.

【0051】[実施例5]比較例3の塗料にBa3 M
gSi2 O8 :Eu2+(平均粒子径2μm)3g、
ノニオン系界面活性剤0.3gを加え、3mmの硝子ビ
ーズ150gとともに2時間振倒して高効率光触媒組成
物塗料とし、ガラス板100cm2 にプライマーを介
して塗膜厚みが10μmになうようにロールコーターで
塗装した後200℃1時間乾燥し試料Hを得た。
Example 5 Ba3M was added to the paint of Comparative Example 3.
gSi2O8: 3 g of Eu2 + (average particle diameter 2 [mu] m),
0.3 g of nonionic surfactant was added, and the mixture was shaken with 150 g of 3 mm glass beads for 2 hours to obtain a highly efficient photocatalyst composition paint. A roll coater was applied to a glass plate 100 cm 2 via a primer so that the coating thickness became 10 μm. And dried at 200 ° C. for 1 hour to obtain a sample H.

【0052】[実施例6]実施例5のBa3 MgSi
2 O8 :Eu2+の代わりにSrB4 O7 F:Eu
2+(平均粒子径5 μ m)3gを添加して塗料化し
上記同様に塗装して試料Iを得た。
[Embodiment 6] Ba3 MgSi of Embodiment 5
SrB4O7 F: Eu instead of 2O8: Eu2 +
A sample I was obtained by adding 3 g of 2+ (average particle size: 5 μm) to form a paint and applying the same paint as above.

【0053】[評価]上記比較例、実施例で得られた試
料G〜Iを使い、ホルムアルデヒドの分解試験を以下の
方法で行った。「試験方法3」パイレックス製ガラス容
器(完全密閉 内容量30l)中に試料G〜Iを入れ、
ホルムアルデヒド50ppmを注入し 撹拌しながら室
内(太陽光、蛍光灯下 照度約500lx)で濃度を測
定した。結果を図3に示す。
[Evaluation] Using the samples GI obtained in the above Comparative Examples and Examples, a decomposition test of formaldehyde was carried out by the following method. "Test method 3" Samples G to I were placed in a Pyrex glass container (completely closed, inner volume: 30 l),
50 ppm of formaldehyde was injected, and the concentration was measured indoors (sunlight, illuminance under fluorescent lamp about 500 lx) with stirring. The results are shown in FIG.

【0054】上記同様ホルムアルデヒド注入後化 撹拌
しながら紫外線強度1mW/m2で照射し、時間毎の濃
度変化を測定した。結果を図4に示す。
In the same manner as described above, after irradiation with formaldehyde, irradiation was performed at an ultraviolet intensity of 1 mW / m 2 with stirring, and the concentration change with time was measured. FIG. 4 shows the results.

【0055】太陽光、蛍光灯下では、試料Hが最も活性
が高い。試料Hに使っているBa3MgSi2 O8 :
Eu2+は、励起スペクトルが200nm以下〜400
nm付近までブロードに続いており、特に370nm〜
420nm付近までの励起効率が高く、また発光スペク
トルのピークが、380nm〜400nmに有るため、
近接するTiO2 を自身の発光で励起していることが
分かる。特にTiO2 と近接していることで空気中の
酸素や水蒸気による吸収が少なく効率的な励起が行われ
ているため、ホルムアルデヒドの分解が促進されてい
る。
Under the sunlight and fluorescent light, the sample H has the highest activity. Ba3MgSi2O8 used for sample H:
Eu2 + has an excitation spectrum of 200 nm or less to 400 nm.
nm, followed by broad, especially around 370 nm
Since the excitation efficiency up to around 420 nm is high and the peak of the emission spectrum is at 380 nm to 400 nm,
It can be seen that adjacent TiO2 is excited by its own light emission. In particular, close proximity to TiO2 reduces the absorption by oxygen and water vapor in the air and efficiently excites, thereby promoting the decomposition of formaldehyde.

【0056】このことから、Ba3 MgSi2 O8
:Eu2+は、TiO2 の励起に使われなかった42
0nm以下(特に380nm〜420nm)の波長を吸
収し、励起されることでTiO2 の吸収バンドに合わ
せた波長の光を、TiO2 に近接した位置で発するこ
とでTiO2 を効果的に励起させより活性化している
ことが理解される。
From this, Ba3 MgSi2 O8
: Eu2 + was not used to excite TiO2 42
It absorbs a wavelength of 0 nm or less (especially 380 nm to 420 nm) and emits light having a wavelength corresponding to the absorption band of TiO2 by being excited, thereby exciting TiO2 more effectively by emitting it at a position close to TiO2. It is understood that.

【0057】紫外線強度1mW/cm2 下では、試料
Iが最も活性が高い。試料Iに使っているSrB4 O
7 :Eu2+は、励起スペクトルが200nm付近〜
400nm付近までブロードに続いている点では、上記
のBa3 MgSi2 O8 :Eu2+と同様である
が、340nm以下での短波長紫外域での励起効率が高
くなっている。また、発光スペクトルのピークが、36
0nm〜370nmに有る為近接するTiO2 をより
強力に励起する事が出来る。そのため、ホルムアルデヒ
ドの分解が促進されている。
At an ultraviolet intensity of 1 mW / cm 2, sample I has the highest activity. SrB4 O used for sample I
7: Eu2 + has an excitation spectrum of about 200 nm or more.
It is similar to Ba3MgSi2O8: Eu2 + described above in that it continues broadening to around 400 nm, but the excitation efficiency in the short wavelength ultraviolet region below 340 nm is high. Further, the peak of the emission spectrum is 36
Since it is in the range of 0 nm to 370 nm, it is possible to excite the adjacent TiO2 more strongly. Therefore, the decomposition of formaldehyde is promoted.

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明の高効率光触媒組成物は、特殊な
光源に頼ることなく、可視光を含む広い波長バンドから
励起された発光体が光触媒半導体材料のバンドギャップ
エネルギーに合わせた波長の発光を行うから光源からの
光エネルギーをより効率的に利用できる。
According to the high efficiency photocatalyst composition of the present invention, a luminous body excited from a wide wavelength band including visible light can emit light having a wavelength corresponding to the band gap energy of a photocatalytic semiconductor material without relying on a special light source. Therefore, the light energy from the light source can be used more efficiently.

【0059】また、発光体が光触媒半導体材料に近接し
て存在するため、発光体からの励起エネルギーを他の物
質に吸収されたり、反射されたりすることなくダイレク
トに与えることが出来る。
Further, since the luminous body is located close to the photocatalytic semiconductor material, the excitation energy from the luminous body can be directly applied without being absorbed or reflected by another substance.

【0060】また、発光体として蓄光体を選択すれば、
光照射を終了した後数時間から数十時間に渡って発光し
続けることにより 光触媒半導体材料を励起し続ける事
が可能である。今までは、光を照射しない間(夜間、消
灯後)は、光触媒半導体材料は、励起されないため酸化
還元反応を起こさなかったが、蓄光体が近接して存在す
れば、光照射を行わなくても数時間から十数時間に渡っ
て酸化還元反応が続くことになる。つまり、昼夜を問わ
ず酸化還元反応を継続でき、消費電力を押さえることが
可能である。
If a luminous body is selected as the luminous body,
By continuing to emit light for several hours to several tens of hours after the end of the light irradiation, it is possible to continue to excite the photocatalytic semiconductor material. Until now, the photocatalytic semiconductor material did not undergo an oxidation-reduction reaction because it was not excited during the period of no light irradiation (at night or after the light was turned off). However, the oxidation-reduction reaction continues for several hours to over ten hours. That is, the oxidation-reduction reaction can be continued day and night, and power consumption can be suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 実施例1〜4並びに比較例1、2の評価試験
結果を示すグラフを示す図である。
FIG. 1 is a graph showing evaluation test results of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2.

【図2】 実施例1〜4並びに比較例1、2の他の評価
試験結果を示すグラフを示す図である。
FIG. 2 is a graph showing other evaluation test results of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2.

【図3】 比較例3並びに実施例5、6の評価試験結果
を示すグラフを示す図である。
FIG. 3 is a graph showing evaluation test results of Comparative Example 3 and Examples 5 and 6.

【図4】 比較例3並びに実施例5、6の他の評価試験
結果を示すグラフを示す図である。
FIG. 4 is a graph showing other evaluation test results of Comparative Example 3 and Examples 5 and 6.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09D 5/00 C09D 5/22 5/22 B01D 53/36 J G Fターム(参考) 4D048 AA19 AB03 BA06Y BA07X BA08Y BA14Y BA15Y BA16Y BA17Y BA21Y BA22Y BA24Y BA26Y BA27Y BA32Y BA36Y BA41X BA44Y BA46Y BA50Y EA01 4G069 AA08 BA04A BA04B BA05A BA48A BB02A BB04A BB06A BB09A BB13A BB20A BC03A BC12A BC17A BC18A BC22A BC25A BC27A BC35A BC36A BC50A BC55A BC56A BC59A BC60A BC66A BC70A BD05A BD09A CA01 CA17 DA05 EA01X EA01Y EB18X EB18Y EB19 EC22Y FA03 4J038 AA011 HA211 HA351 HA431 NA19 PA19 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C09D 5/00 C09D 5/22 5/22 B01D 53/36 JG F-term (Reference) 4D048 AA19 AB03 BA06Y BA07X BA08Y BA14Y BA15Y BA16Y BA17Y BA21Y BA22Y BA24Y BA26Y BA27Y BA32Y BA36Y BA41X BA44Y BA46Y BA50Y EA01 4G069 AA08 BA04A BA04B BA05A BA48A BB02A BB04A BB06A BB09A BB13A BB20A BC03A BC12A BC17A BC18A BC22A BC25A BC27A BC35A BC36A BC50A BC55A BC56A BC59A BC60A BC66A BC70A BD05A BD09A CA01 CA17 DA05 EA01X EA01Y EB18X EB18Y EB19 EC22Y FA03 4J038 AA011 HA211 HA351 HA431 NA19 PA19

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 粉体状の光触媒半導体材料と、光触媒反
応を活性化する粉体状の発光物質と、を混合させた光触
媒反応を活性化する高効率光触媒組成物。
1. A high-efficiency photocatalytic composition for activating a photocatalytic reaction in which a powdery photocatalytic semiconductor material is mixed with a powdery luminescent substance for activating a photocatalytic reaction.
【請求項2】 発光物質は、吸収した電磁波エネルギー
を量子光学的に変換して光の形で放出発光する蛍光体、
蓄光体、燐光体、エレクトロルミネッセンスのいずれか
1種である請求項1記載の高効率光触媒組成物。
2. A phosphor that emits and emits light in the form of light by converting the absorbed electromagnetic wave energy into quantum light,
The high-efficiency photocatalyst composition according to claim 1, which is any one of a phosphorescent material, a phosphor, and electroluminescence.
【請求項3】 発光物質が、吸収した電磁波エネルギー
を量子光学的に変換して光の形で放出発光する物質であ
る請求項1または2記載の高効率光触媒組成物。
3. The high-efficiency photocatalyst composition according to claim 1, wherein the luminescent substance is a substance which emits and emits light in the form of light by converting the absorbed electromagnetic wave energy into quantum light.
【請求項4】 発光物質が、蛍光体、蓄光体、燐光体、
エレクトロルミネッセンスのうちの少なくとも1種であ
る請求項1ないし3のいずれかに記載の高効率光触媒組
成物。
4. The light-emitting substance is a phosphor, a phosphor, a phosphor,
The high-efficiency photocatalyst composition according to any one of claims 1 to 3, which is at least one kind of electroluminescence.
【請求項5】 光触媒半導体材料は、所定の波長の光を
吸収し励起され触媒反応を起こす酸化チタン(Ti02
)、チタン酸ストロンチウム(SrTiO3)、チタ
ン酸けい素(SiTiO3 )、チタン酸カリウム(K
2 TiO3 )、過酸化チタン(TiO2 )、硫化モ
リブデン(MoS2 )、酸化ビスマス(Bi2O3
)、チタン酸第二鉄(Fe2 TiO3 )、酸化イン
ジウム(In2 O3)、酸化ルテニウム(RuO2
)、酸化カドミウム(CdO)、酸化第二鉄(Fe2
O3 )、酸化タングステン(WO3 )、酸化ニオブ
(Nb2 O5 )、セレン化カドミウム(CdSe)、
タンタル酸カリウム(KTaO3 )、硫化カドミウム
(CdS)、(ケイ素)Si、酸化ジルコニウム(Zr
O2 )、ガリウム燐(GaP)、ガリウム砒素(Ga
As)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO2)の
群から選ばれる少なくとも1種である請求項1ないし4
のいずれかに記載の高効率光触媒組成物。
5. A photocatalytic semiconductor material is titanium oxide (Ti02) that absorbs light of a predetermined wavelength and is excited to cause a catalytic reaction.
), Strontium titanate (SrTiO3), silicon titanate (SiTiO3), potassium titanate (K
2 TiO3), titanium peroxide (TiO2), molybdenum sulfide (MoS2), bismuth oxide (Bi2O3)
), Ferric titanate (Fe2TiO3), indium oxide (In2O3), ruthenium oxide (RuO2)
), Cadmium oxide (CdO), ferric oxide (Fe2
O3), tungsten oxide (WO3), niobium oxide (Nb2O5), cadmium selenide (CdSe),
Potassium tantalate (KTaO3), cadmium sulfide (CdS), (silicon) Si, zirconium oxide (Zr
O2), gallium phosphide (GaP), gallium arsenide (Ga
5) at least one selected from the group consisting of As), zinc oxide (ZnO), and tin oxide (SnO2).
The high-efficiency photocatalyst composition according to any one of the above.
【請求項6】 光触媒半導体材料の平均粒子径が3nm
〜30μmである請求項1ないし5のいずれかに記載の
高効率光触媒組成物。
6. The photocatalytic semiconductor material has an average particle size of 3 nm.
The high-efficiency photocatalyst composition according to any one of claims 1 to 5, which has a thickness of from 30 to 30 µm.
【請求項7】 光触媒半導体材料と発光物質との混合組
成物が、それぞれ重量比、光触媒半導体材料20〜90
wt%、発光体10〜50wt%で配合されてなる請求
項1ないし6のいずれかに記載の高効率光触媒組成物。
7. The mixed composition of a photocatalyst semiconductor material and a luminescent substance may have a weight ratio of 20 to 90, respectively.
The high-efficiency photocatalyst composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the high-efficiency photocatalyst composition is blended in an amount of 10% to 50% by weight.
【請求項8】 光触媒半導体材料と発光物質を励起する
ための光源が、蛍光ランプ、太陽光、電磁波パルス、電
子線、紫外線、X線を含む請求項1ないし7のいずれか
に記載の高効率光触媒組成物。
8. The high efficiency according to claim 1, wherein the light source for exciting the photocatalytic semiconductor material and the luminescent substance includes a fluorescent lamp, sunlight, an electromagnetic pulse, an electron beam, an ultraviolet ray, and an X-ray. Photocatalyst composition.
【請求項9】 請求項1ないし8のいずれかに記載の高
効率光触媒組成物を含む塗料。
9. A paint containing the high-efficiency photocatalyst composition according to any one of claims 1 to 8.
【請求項10】 請求項1ないし8のいずれかに記載の
高効率光触媒組成物を所要の固定方法で固定させた基
体。
10. A substrate on which the high-efficiency photocatalyst composition according to claim 1 is fixed by a required fixing method.
【請求項11】 光触媒半導体材料のゾル中に発光物質
を分散させて光触媒活性組成物を得、該光触媒活性組成
物を対象物に被着させ、高温焼き付け処理した対象物の
塗装方法。
11. A method for coating an object which is obtained by dispersing a light emitting substance in a sol of a photocatalytic semiconductor material to obtain a photocatalytic active composition, applying the photocatalytic active composition to the object, and baking at a high temperature.
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