JP2002344097A - Mounting substrate and display device having the same - Google Patents

Mounting substrate and display device having the same

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JP2002344097A
JP2002344097A JP2001142823A JP2001142823A JP2002344097A JP 2002344097 A JP2002344097 A JP 2002344097A JP 2001142823 A JP2001142823 A JP 2001142823A JP 2001142823 A JP2001142823 A JP 2001142823A JP 2002344097 A JP2002344097 A JP 2002344097A
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display device
substrate
liquid crystal
semiconductor element
mounting
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Takeshi Ishigame
剛 石亀
Hisanori Yamaguchi
久典 山口
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable to perform notation, such as a manufacturer's secret serial number or a product, without specifically providing a location for forming the manufacturer's secret number or the product number. SOLUTION: A notation 2, such as a character, a mark or a symbol, is provided on an electrode terminal 4 on a mounting substrate L1, on which an electronic element such as a semiconductor element IC or a circuit substrate F is mounted. Any of the electrodes 4, on which the semiconductor element, the circuit substrate or other electronic elements (electronic components), may be used as the part to be provided with the mark and an electrode terminal for conduction checking may be alternatively used. Furthermore, the notation 2, such as a manufacturer's secret serial number or product may be formed across a plurality of electrode terminals 4.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示装置や
プラズマディスプレイ装置などの表示装置に使用され、
半導体素子や回路基板等の電子素子が実装される実装用
基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is used for display devices such as a liquid crystal display device and a plasma display device.
The present invention relates to a mounting board on which electronic elements such as a semiconductor element and a circuit board are mounted.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体素子(ICやLSI)等の半導体
素子としては、突起状の電極であるバンプを有するもの
とバンプを有しないものとに大別されるが、バンプを有
するものは半導体素子実装用の基板の小型化やモジュー
ルの薄型化などに有利なことから、各種コンピュータや
液晶パネルなどの電子機器に多く用いられている。この
ような半導体素子を基板にフェースダウンで実装する方
法として種々の方法があるが、小型で薄い液晶パネルの
普及等により、いわゆるハンダバンプに代わって、異方
性導電膜(Anisotropic Conductive Film:ACF)を接
続端子間に介在させることにより高密度実装を可能にす
るようになってきている(ファインピッチ化)。
2. Description of the Related Art Semiconductor elements such as semiconductor elements (ICs and LSIs) are roughly classified into those having bumps which are protruding electrodes and those having no bumps. Since it is advantageous for downsizing of a mounting substrate and thinning of a module, it is widely used in various electronic devices such as computers and liquid crystal panels. There are various methods for mounting such a semiconductor element on a substrate face-down. However, due to the spread of small and thin liquid crystal panels, so-called solder bumps have been replaced by anisotropic conductive films (ACF). By interposing between the connection terminals, high-density mounting has been enabled (fine pitch).

【0003】一方、液晶表示装置の製造においては、液
晶を狭持するいわゆるセル工程に続くモジュール化工程
において、液晶パネルに対してこれを駆動するための半
導体素子が実装されるととともに、液晶パネルの外周縁
部に半導体素子に伝送信号又は電源を供給する回路基板
が実装される。液晶表示装置における半導体素子の実装
では、ガラス基板上の電極端子に直接半導体素子を接続
するCOG(chip onglass)実装がある。ガラス基板の
代わりにプラスチック製のフレキシブル基板が用いられ
ることもあるが(これをCOF(chip on film)、CO
P(chip onplastic)と呼ぶこともある。)、COG実
装では、上記異方性導電膜を使用して、上記形状のバン
プを有する半導体素子を実装することが通常である。ま
た、上記回路基板も異方性導電膜を使用して実装される
ことが多い。そして、COG実装においては、半導体素
子や回路基板の実装後、半導体素子の駆動状態の導通検
査が行われるとともに、回路基板についても半導体素子
への信号や電源が基板を経て液晶パネルに供給されるか
どうかなどの導通検査が行われる。なお、この導通検査
のための検査用の電極端子がガラス基板上に形成され
る。
On the other hand, in the manufacture of a liquid crystal display device, in a modularization process following a so-called cell process for holding a liquid crystal, a semiconductor element for driving the liquid crystal panel is mounted on the liquid crystal panel, and a liquid crystal panel is mounted. A circuit board for supplying a transmission signal or power to a semiconductor element is mounted on an outer peripheral portion of the semiconductor device. In mounting a semiconductor element in a liquid crystal display device, there is COG (chip on glass) mounting in which a semiconductor element is directly connected to an electrode terminal on a glass substrate. A plastic flexible substrate may be used instead of a glass substrate (this is called COF (chip on film),
It may be called P (chip on plastic). In COG mounting, it is usual to mount a semiconductor element having a bump having the above shape using the anisotropic conductive film. Further, the circuit board is often mounted using an anisotropic conductive film. In COG mounting, after mounting the semiconductor element or the circuit board, a continuity test of the driving state of the semiconductor element is performed, and also for the circuit board, signals and power to the semiconductor element are supplied to the liquid crystal panel via the board. A continuity test, such as whether or not it is performed, is performed. Note that an inspection electrode terminal for this continuity inspection is formed on a glass substrate.

【0004】上記回路基板一般においても、液晶表示装
置等の表示装置においても、これらの回路基板や表示装
置の識別用の文字、英数字、マーク記号等の表記(製造
密番や商品番号)が形成されることが通常である。製造
密番や商品番号は、部品の修理・交換や製造年月日の確
認、流通経路の追跡調査等による製造履歴管理や品質管
理に役立てられる。例えば、図6(a)(b)及び図7
は、従来の表示装置として液晶表示装置の代表的な例で
あるが、液晶表示装置では、液晶パネルを構成するガラ
ス基板上の非表示領域3Bに、液晶パネルを表示するた
めの駆動回路を接続する電極端子4の他に、製造密番2
を施す箇所1が形成されている。製造密番2を施す箇所
1は、電極端子4と同じくパターンエッチングなどのい
わゆるベタパターン1により形成されている。製造密番
2を施す箇所1は、液晶パネルの画素電極(図示せず)
や画素電極に信号を供給する配線(「液晶パネル内配
線」とも呼ばれる)を用いて長方形状に形成することが
通常であり、その後、レーザー光を用い所定の記号、文
字を刻印し、製造密番2を形成している。また、その他
の製造密番2の形成方法としては、配線パターンや電極
端子4を形成する際に製造密番パターンを同時にフォト
リソグラフィによる形成する方法等もある。いずれの方
法を用いても、製造密番2を形成するのは液晶パネルの
非表示領域3Bである。なお、液晶パネルは、ガラス基
板(第1の基板、アレイ基板とも呼ばれる)L1と対向
基板(第2の基板)L2をセルギャップを確保する樹脂
製スペーサとともにシール材料Sを用いて貼り合わせ、
セルギャップ内に封入してなるが、シール材料Sの内側
Lを基準ラインRとして、この基準ラインRの内側を表
示領域3Aと言い、基準ラインRの外側を非表示領域3
Bと言う(図6(b)参照)。
[0004] In general, in the above-mentioned circuit boards and in display devices such as liquid crystal display devices, notations (manufacturing secret numbers and product numbers) such as characters, alphanumeric characters and mark symbols for identifying these circuit boards and display devices are used. It is usually formed. The production serial number and the product number are useful for manufacturing history management and quality control by repair / replacement of parts, confirmation of the date of production, and tracking survey of distribution channels. For example, FIGS. 6A and 6B and FIG.
Is a typical example of a liquid crystal display device as a conventional display device. In a liquid crystal display device, a driving circuit for displaying a liquid crystal panel is connected to a non-display area 3B on a glass substrate constituting the liquid crystal panel. In addition to the electrode terminals 4 to be manufactured,
1 is formed. The location 1 where the production density number 2 is applied is formed by a so-called solid pattern 1 such as pattern etching, like the electrode terminal 4. The location 1 where the production secret number 2 is applied is a pixel electrode (not shown) of the liquid crystal panel.
It is usual to form a rectangular shape using wiring that supplies signals to the pixel electrodes (also called “wiring in the liquid crystal panel”), and then engrave predetermined symbols and characters using laser light, No. 2 is formed. Further, as another method of forming the manufacturing dense number 2, there is a method of forming the manufacturing dense number pattern by photolithography at the same time as forming the wiring pattern and the electrode terminal 4. Whichever method is used, the production density number 2 is formed in the non-display area 3B of the liquid crystal panel. In the liquid crystal panel, a glass substrate (also referred to as a first substrate or an array substrate) L1 and a counter substrate (a second substrate) L2 are bonded together with a resin spacer for securing a cell gap using a sealing material S,
Although it is sealed in the cell gap, the inside L of the sealing material S is used as a reference line R, the inside of this reference line R is called a display area 3A, and the outside of the reference line R is used as a non-display area 3.
B (see FIG. 6B).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】近年、液晶表示パネル
の市場として、COG実装に代表されるように、ガラス
基板サイズの小型化が必須であり、画面サイズの割には
非表示領域3Bの占める割合が多く、非表示領域3Bを
縮小化する傾向にある一方、接続する電極端子4の数は
増大し、非表示領域3B中の駆動回路を接続する電極端
子4の占める領域が大きくなっている。そのため、電極
端子4とは別に製造密番2を形成するベタパターン1の
形成領域を確保することが困難になって来ており、その
結果、製造履歴管理や品質管理に支障を来たすという課
題がある。
In recent years, as the market for liquid crystal display panels, as typified by COG mounting, it is essential to reduce the size of the glass substrate, and the non-display area 3B occupies the screen size. While the ratio is large and the non-display area 3B tends to be reduced, the number of electrode terminals 4 to be connected increases, and the area occupied by the electrode terminals 4 for connecting the drive circuits in the non-display area 3B has increased. . For this reason, it is becoming difficult to secure the formation area of the solid pattern 1 that forms the production dense number 2 separately from the electrode terminals 4, and as a result, there is a problem that the production history management and the quality control are hindered. is there.

【0006】製造履歴管理等を行うために、二次元バー
コード等暗号化された微細なマークを形成することも考
案されてはいる。しかしながら、この方法では、専用の
読み取り装置が必要であることや、この方法でも、マー
ク等の表記形成のために必要な領域を確保しなければな
らない課題は同じである。以上は、COG実装に代表さ
れる液晶表示装置の例であるが、プラズマディスプレイ
装置など別の表示装置でも同様の構成が用いられてお
り、前述と同様の課題がある。
[0006] In order to perform manufacturing history management and the like, formation of a fine encrypted mark such as a two-dimensional bar code has been devised. However, this method has the same problems that a dedicated reading device is required and that this method also needs to secure an area necessary for forming notations such as marks. The above is an example of a liquid crystal display device typified by COG mounting. However, another display device such as a plasma display device has the same configuration and has the same problem as described above.

【0007】そこで、この発明の目的は、特別に製造密
番や商品品番等の表記を形成する箇所を設けなくとも製
造密番等の表記を施すことを可能とし、製造履歴管理や
品質管理を容易に行える実装用基板及びこの基板を有す
る表示装置を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to enable notation of a production secret number or the like without providing a part for forming a notation of a production secret number, a product number, or the like. An object of the present invention is to provide a mounting substrate which can be easily performed and a display device having the substrate.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の請求項1記載の実装用基板は、半導体素子
や回路基板等の電子素子が実装される実装用基板の電極
端子に、文字、マーク、記号等の表記が施されているこ
とを特徴とする。ここで、上記電極端子は、半導体素
子、回路基板その他の電子素子(電子部品)が実装され
る電極端子の何れでも良く、又、導通検査用に使用され
る検査用の電極端子であっても良い。また、製造密番や
商品品番等の表記は、複数の電極端子に亘って形成して
も良い。
In order to solve the above-mentioned problems, a mounting board according to the present invention is provided with an electrode terminal of a mounting board on which an electronic element such as a semiconductor element or a circuit board is mounted. , Characters, marks, symbols, and the like. Here, the electrode terminal may be any of an electrode terminal on which a semiconductor element, a circuit board, and other electronic elements (electronic components) are mounted, or may be an inspection electrode terminal used for continuity inspection. good. Further, the notation such as the production secret number and the product number may be formed over a plurality of electrode terminals.

【0009】この発明によれば、半導体素子や回路基板
等の電子素子が実装される実装用基板の電極端子に、文
字、マーク、記号等の表記が施されていることから、特
別に製造密番等の表記を形成する箇所を設けなくとも、
製造履歴管理や品質管理を行うことができるようにな
る。
According to the present invention, characters, marks, symbols, and the like are provided on the electrode terminals of the mounting substrate on which electronic elements such as semiconductor elements and circuit boards are mounted. Even if there is no place to form notations such as numbers,
Manufacturing history management and quality control can be performed.

【0010】本発明の請求項2記載の実装用基板を有す
る表示装置は、前記実装用基板は、液晶表示装置等の表
示装置を構成する基板であり、前記電極端子は、表示装
置を構成する基板上の表示領域以外の非表示領域に配さ
れていることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a display device having a mounting substrate, wherein the mounting substrate is a substrate constituting a display device such as a liquid crystal display device, and the electrode terminals constitute the display device. It is arranged in a non-display area other than the display area on the substrate.

【0011】この発明によれば、液晶表示装置やプラズ
マディスプレイ装置などの表示装置の製造履歴管理や品
質管理を行うことができるが、前記電極端子は、表示装
置を構成する基板上の表示領域以外の非表示領域に配さ
れていることから、非表示領域を狭くする近年の傾向に
対応させることができる。
According to the present invention, manufacturing history management and quality control of a display device such as a liquid crystal display device or a plasma display device can be performed. However, the electrode terminals are located outside a display area on a substrate constituting the display device. Are arranged in the non-display area, it is possible to cope with the recent tendency to make the non-display area narrower.

【0012】本発明の請求項3記載の実装用基板を有す
る表示装置は、前記実装用基板は、液晶表示装置等の表
示装置を構成する透明基板であり、前記電極端子は、2
層以上の薄膜が積層して形成され、この電極端子の最上
層又は最下層に、文字、マーク、記号等の表記が施され
ていることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a display device having the mounting substrate, wherein the mounting substrate is a transparent substrate constituting a display device such as a liquid crystal display device, and wherein the electrode terminals are two or more.
A thin film having at least one layer is formed by lamination, and characters, marks, symbols, and the like are provided on the uppermost layer or the lowermost layer of the electrode terminal.

【0013】この発明によれば、積層構造の最上層に文
字、マーク、記号等の表記が施されている場合は、その
表記から製造履歴管理や品質管理を行うことができる。
また、積層構造の最下層に文字、マーク、記号等の表記
が施されている場合は、透明基板を介して透明基板の裏
側から製造履歴管理や品質管理を行うことができる。
According to the present invention, when characters, marks, symbols, and the like are provided on the uppermost layer of the laminated structure, manufacturing history management and quality control can be performed from the notations.
When characters, marks, symbols, and the like are provided on the lowermost layer of the laminated structure, manufacturing history management and quality control can be performed from behind the transparent substrate via the transparent substrate.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面を参照しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0015】(第1の実施の形態)本実施の形態は、一
対の基板間に液晶が狭持された液晶パネルの一方の基板
である半導体実装用基板に半導体素子を実装するCOG
実装に本発明を適用した例である。
(First Embodiment) In this embodiment, a COG in which a semiconductor element is mounted on a semiconductor mounting substrate which is one substrate of a liquid crystal panel in which liquid crystal is held between a pair of substrates.
This is an example in which the present invention is applied to mounting.

【0016】液晶パネルは、図6(a)(b)に示すよ
うに、その外周に半導体素子(駆動用ドライバ(Driver
IC、Driver LSI)と呼ばれる)ICが実装され、第1
の基板L1の外周縁部には、半導体素子ICに伝送信号
又は電源を供給する回路基板Fが配されている。液晶パ
ネルは、液晶層を挟んで対向配置された一対の基板L
1,L2を備え、上下一対の基板L1,L2は、各々短
冊状のもので、下方の第1の基板L1と上方の第2の基
板L2との間に液晶を封入して形成されている。第1の
基板L1の外周には、半導体素子ICが異方性導電膜
(ACF)6を介して実装されて、外周端縁には、異方
性導電膜(ACF)6を介して回路基板Fが実装されて
いる。なお、実装される半導体素子ICは、突起電極で
あるバンプを有するものでも有しないものでも良い。
As shown in FIGS. 6 (a) and 6 (b), the liquid crystal panel has a semiconductor element (driving driver (Driver
IC, called Driver LSI)
A circuit board F for supplying a transmission signal or power to the semiconductor element IC is disposed on an outer peripheral edge of the board L1. The liquid crystal panel includes a pair of substrates L opposed to each other with the liquid crystal layer interposed therebetween.
And a pair of upper and lower substrates L1 and L2, each of which has a strip shape, and is formed by sealing a liquid crystal between a lower first substrate L1 and an upper second substrate L2. . A semiconductor element IC is mounted on an outer periphery of the first substrate L1 via an anisotropic conductive film (ACF) 6, and a circuit board is provided on an outer peripheral edge via an anisotropic conductive film (ACF) 6. F is implemented. The semiconductor element IC to be mounted may or may not have the bump which is the protruding electrode.

【0017】第1の基板L1は、ガラス基板であるが、
その他、透明な合成樹脂製等の透明基板も使用される。
第1の基板L1は、第2の基板L2よりも大きく形成さ
れ、このため両基板L1,L2を重ね合わせると、第1
の基板L1の外周縁部に一部張り出した半導体素子IC
の実装領域が形成されている。実装領域には、図7に示
すように、半導体実装用の配線5がパターン形成されて
いる。この配線5は、半導体素子IC(駆動ドライバ)
への信号の供給や電源供給を行う配線群(バス配線)で
あり、アルミニウム製材料をスパッタリングで膜厚0.
1〜0.2μmに成膜した後、フォトリソグラフィでパ
ターンニングして形成されている。配線5が形成された
実装領域には、ペースト状若しくはフィルム状の異方性
導電膜6を介して、複数の半導体素子ICが配設されて
いる。
The first substrate L1 is a glass substrate,
In addition, a transparent substrate made of a transparent synthetic resin is used.
The first substrate L1 is formed larger than the second substrate L2. For this reason, when the two substrates L1 and L2 are overlapped, the first substrate L1 becomes the first substrate L1.
Semiconductor device IC partially protruding on the outer peripheral edge of the substrate L1
Are formed. In the mounting area, as shown in FIG. 7, a wiring 5 for semiconductor mounting is formed in a pattern. The wiring 5 is a semiconductor element IC (drive driver)
A group of wiring (bus wiring) for supplying a signal to and supplying power to a substrate.
After a film is formed to a thickness of 1 to 0.2 μm, the film is patterned by photolithography. In the mounting area where the wiring 5 is formed, a plurality of semiconductor element ICs are disposed via a paste-like or film-like anisotropic conductive film 6.

【0018】第1の基板L1の半導体素子側表面(実装
面)にはアルミニウム(AL)などによる電極端子4が
配設されている。一方の電極端子4(図6(b)中の左
側)は、入力電極であり、他方の電極端子4(図6
(b)中の右側)は、出力電極であり、上記入力用と出
力用のバンプと各々対応する。なお、液晶パネルは、ガ
ラス基板(第1の基板、アレイ基板とも呼ばれる)L1
と対向基板(第2の基板)L2をセルギャップを確保す
る樹脂製スペーサとともにシール材料Sを用いて貼り合
わせ、セルギャップ内に封入してなるが、シール材料S
の内側Lを基準ラインRとして、この基準ラインRの内
側を表示領域3Aと言い、基準ラインRの外側を非表示
領域3Bと言う。
On the semiconductor element side surface (mounting surface) of the first substrate L1, electrode terminals 4 made of aluminum (AL) or the like are provided. One electrode terminal 4 (the left side in FIG. 6B) is an input electrode, and the other electrode terminal 4 (FIG.
(The right side in (b)) is an output electrode, which respectively corresponds to the input and output bumps. The liquid crystal panel is a glass substrate (also referred to as a first substrate or an array substrate) L1
And a counter substrate (second substrate) L2 are bonded together with a resin spacer for securing a cell gap using a sealing material S and sealed in the cell gap.
Of the reference line R is referred to as a display area 3A, and the outside of the reference line R is referred to as a non-display area 3B.

【0019】異方性導電膜6は、絶縁性を有する接着剤
6b中に導電粒子6aが分散され、厚み方向(接続方
向)に導電性を有し、面方向(横方向)に絶縁性を有す
るもので、導電粒子6aと接着剤6bから構成される。
その接続は基本的には加熱圧着であり、導電粒子6aが
電気接続の手段を担当し、接着剤6bが圧接状態を保持
する手段を担当する。異方性導電膜6の接着剤6bとし
ては、熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂が使用されてい
る。導電粒子6aは、表面に熱可逆性の絶縁性薄膜樹脂
をコートするもので、接続方向では圧着力で破壊され下
層の金属薄膜と電極が接触して導通し、横方向では破壊
されず導電粒子6a同士が接触しても絶縁性が保たれる
ようになっている。なお、導電粒子6aには、高分子球
の表面に金属薄膜をメッキしたものもある。また、絶縁
性薄膜樹脂がない導電粒子をここで使用することも可能
である。
The anisotropic conductive film 6 has conductive particles 6a dispersed in an adhesive 6b having an insulating property, has conductivity in a thickness direction (connection direction), and has an insulating property in a plane direction (lateral direction). Having conductive particles 6a and an adhesive 6b.
The connection is basically thermocompression bonding, in which the conductive particles 6a are in charge of the means for electrical connection, and the adhesive 6b is in charge of means for maintaining the pressed state. As the adhesive 6b of the anisotropic conductive film 6, a thermoplastic resin or a thermosetting resin is used. The conductive particles 6a have a surface coated with a thermoreversible insulative thin film resin. The conductive particles 6a are broken by a pressing force in the connection direction, and the underlying metal thin film and the electrode are brought into contact with each other, and are not broken in the lateral direction. Even if 6a are in contact with each other, insulation is maintained. Some of the conductive particles 6a are obtained by plating a metal thin film on the surface of a polymer sphere. It is also possible to use conductive particles without an insulating thin film resin here.

【0020】異方性導電膜6は、液晶パネルに貼り付け
る前は、通常両面テープのような構成で供給されてい
る。そして、第1の基板L1に半導体素子ICを接着す
る場合は、第1の基板L1上の半導体素子ICの配設位
置に接着剤層側を貼り付けた後、セパレータを剥がし接
着剤層を露出させる。その後、圧着ステージと加熱圧着
ツール等から構成される装着機によって、電極端子4と
バンプBとが重なるように異方性導電膜6と半導体素子
ICを位置合わせし、第1の基板L1と半導体素子IC
とを加熱しつつ圧力を加えることにより、バンプBと電
極端子4との間に導電粒子6aが所定圧力で挟持され、
また、熱を加えることにより接着剤が硬化される。
Before being attached to the liquid crystal panel, the anisotropic conductive film 6 is usually supplied in a configuration such as a double-sided tape. When the semiconductor element IC is bonded to the first substrate L1, the adhesive layer side is attached to the position where the semiconductor element IC is provided on the first substrate L1, and then the separator is peeled off to expose the adhesive layer. Let it. Then, the anisotropic conductive film 6 and the semiconductor element IC are aligned by a mounting machine including a pressure bonding stage and a heat pressure bonding tool so that the electrode terminals 4 and the bumps B overlap each other. Element IC
Is applied while heating the conductive particles 6a, the conductive particles 6a are sandwiched between the bump B and the electrode terminal 4 at a predetermined pressure,
The adhesive is cured by applying heat.

【0021】本実施の形態は、図1に示すように、液晶
表示装置を構成する第1の基板L1上の非表示領域3B
に、液晶パネルを表示する駆動用の半導体素子ICを接
続する電極端子4が形成されるとともに、画素電極に信
号を供給する配線5が形成されているが、この液晶表示
装置の出力側の電極端子4に、液晶表示装置の識別用の
製造密番2を直接形成している。製造密番2は、電極端
子4の部分をフォトリソグラフィ及びパターンエッチン
グし、所定の記号、文字を刻印し、文字、英数字、マー
ク、記号等の表記を形成している。この表記の一つであ
る製造密番2を形成する方法としては、レーザー光を用
い所定の記号、文字を刻印し、製造密番2を形成しても
良い。本実施の形態の電極端子4のパターン幅は、20
0μm〜250μm程度、1文字当たりの大きさは200
μm以下である。
In the present embodiment, as shown in FIG. 1, a non-display area 3B on a first substrate L1 constituting a liquid crystal display device is provided.
In addition, an electrode terminal 4 for connecting a driving semiconductor element IC for displaying a liquid crystal panel is formed, and a wiring 5 for supplying a signal to a pixel electrode is formed. The production secret number 2 for identifying the liquid crystal display device is directly formed on the terminal 4. In the production secret number 2, a portion of the electrode terminal 4 is subjected to photolithography and pattern etching, and predetermined symbols and characters are engraved to form notations such as characters, alphanumeric characters, marks, and symbols. As a method of forming the production secret number 2 which is one of the notations, a predetermined symbol or character may be stamped by using a laser beam to form the production secret number 2. The pattern width of the electrode terminal 4 of the present embodiment is 20
About 0μm ~ 250μm, size per character is 200
μm or less.

【0022】本実施の形態の構成によれば、非表示領域
3Bに配される電極端子4の表面に製造密番2を加工し
て施したことにより、従来のように、電極端子4とは別
に基板識別用の文字等を形成する領域を特別に設けなく
とも、製造履歴管理が安易に行うことができ、しかも液
晶表示装置の非表示領域3Bの縮小化にも対応すること
ができる。
According to the configuration of the present embodiment, the surface of the electrode terminal 4 disposed in the non-display area 3B is processed and subjected to the production dense number 2, so that the electrode terminal 4 is different from the conventional one. The manufacturing history can be easily managed without specially providing an area for forming characters and the like for board identification, and the non-display area 3B of the liquid crystal display device can be reduced.

【0023】なお、上記電極端子4は、COG実装に代
表されるようにファインピッチ化と微細化が急激に進ん
でいることから、この傾向の下では、フォトリソグラフ
ィによる形成方法では実際に形成できない場合もある。
すなわち、液晶パネルの駆動回路を接続する前の表示点
灯するか否かの検査(導通検査)は、この電極端子4に
直接プローブ(探針)等で信号を入力できるサイズが必
要である。このような場合には、次のいくつかの応用例
が適用可能である。
The electrode terminals 4 cannot be actually formed by the photolithography forming method under this tendency because the fine pitch and the miniaturization are rapidly advanced as typified by the COG mounting. In some cases.
That is, the inspection (continuity inspection) of whether or not the display is turned on before the drive circuit of the liquid crystal panel is connected needs to have a size capable of directly inputting a signal to the electrode terminal 4 with a probe (probe) or the like. In such a case, the following several application examples are applicable.

【0024】第1の応用例としては、図2に示すよう
に、上記電極端子4が長方形状でパターン形成され、こ
の長方形状の電極端子4の一辺(図2中上方)に、電極
端子4への配線5が接続されている。そして、製造密番
2は、電極端子4への配線5が接続されている辺とは反
対側の辺側、つまり第1の基板L1の外周端縁1a側に
上記形成方法で形成されている。したがって、レーザー
光で文字を刻印して、製造密番2を形成するとき、導電
層が溶融して、半導体素子ICの接続への影響が生じ得
るが、この影響のない電極端子4への配線5が接続され
ている辺とは反対側の辺側の位置に製造密番2が形成し
たことにより、半導体素子ICの接続への影響も生じる
ことがない。
As a first application example, as shown in FIG. 2, the electrode terminals 4 are formed in a rectangular pattern, and one side (upper side in FIG. 2) of the rectangular electrode terminals 4 is Wiring 5 is connected. The production dense number 2 is formed on the side opposite to the side where the wiring 5 to the electrode terminal 4 is connected, that is, on the outer peripheral edge 1a side of the first substrate L1 by the above-described forming method. . Therefore, when forming a production secret number 2 by engraving characters with a laser beam, the conductive layer may melt and affect the connection of the semiconductor element IC. Since the production density number 2 is formed at a position on the side opposite to the side to which the element 5 is connected, there is no influence on the connection of the semiconductor element IC.

【0025】第2の応用例としては、図3に示すよう
に、液晶パネルを構成するガラス基板L1上の非表示領
域3Bに、液晶パネルを駆動する半導体素子ICを接続
する前に前記表示装置を点灯表示させるための画像検査
用端子(導通検査用の検査用電極端子)7と画像検査用
配線8(導通検査用の検査用配線)を形成し、これらい
ずれか(或いは両方)に、製造密番2を形成しても良
い。この第2の応用例の画像検査用端子7のサイズは、
1mm2であり、この画像検査用端子7には、レーザー
光で所定の記号、文字を刻印し、製造密番2を形成して
いる。この場合の一文字当たりの大きさは500μm2
度とした。
As a second application example, as shown in FIG. 3, the display device is connected to a non-display area 3B on a glass substrate L1 constituting a liquid crystal panel before a semiconductor element IC for driving the liquid crystal panel is connected. And a wiring 8 for image inspection (a wiring for inspection for continuity inspection) for forming an image display terminal (electrode terminal for inspection for continuity inspection) for lighting and displaying the LED. The secret number 2 may be formed. The size of the image inspection terminal 7 of the second application example is
A 1 mm 2, the image inspection terminal 7, a predetermined symbol with a laser beam, engraved with letters, to form a manufacturing dense No.2. In this case, the size per character was about 500 μm 2 .

【0026】(第2の実施の形態)本実施の形態の電極
端子4は、図4及び図5(a)(b)に示すように、2
層以上の薄膜を積層して形成し、前記電極端子4の2層
以上の薄膜の最上層4a又は最下層4bに、表示装置ま
たは基板識別用の文字、英数字、マーク、記号等の表記
(製造密番号)2を形成した液晶表示装置である。本実
施の形態においては、下層4bをTiとし、上層4aを
ITO(Indium Tin Oxide)とする2層としたが、これ
に限定されるものではない。下層4bを導電層(Ti)
と上層4aの導電層(ITO)のいずれかには、フォト
リソフラフィ及びパターンエッチングし、所定の記号、
文字を刻印し、製造密番2を形成している。文字、英数
字、マーク、記号等の表記の一つである製造密番2を形
成する方法としては、レーザー光を用い所定の記号、文
字を刻印し、製造密番2を形成しても良い。なお、本実
施の形態の電極端子4(4a、4b)はいずれも導電性
の薄膜の積層膜であるが、本実施の形態は、導電層と絶
縁層の積層膜に使用することも可能である。
(Second Embodiment) As shown in FIGS. 4 and 5 (a) and 5 (b),
The electrode terminal 4 is formed by laminating a plurality of thin films, and characters, alphanumeric characters, marks, symbols, and the like for identifying a display device or a substrate are formed on the uppermost layer 4a or the lowermost layer 4b of the two or more thin films of the electrode terminal 4. This is a liquid crystal display device on which a manufacturing dense number 2 is formed. In the present embodiment, the lower layer 4b is made of Ti and the upper layer 4a is made of two layers of ITO (Indium Tin Oxide). However, the present invention is not limited to this. Lower layer 4b is formed of conductive layer (Ti)
Photolithography and pattern etching are performed on one of the conductive layer (ITO) and the upper layer 4a, and a predetermined symbol,
The letters are engraved to form the production secret number 2. As a method of forming the production secret number 2 which is one of the notation of characters, alphanumeric characters, marks, symbols, and the like, a predetermined symbol or character may be stamped using a laser beam to form the production secret number 2. . Although each of the electrode terminals 4 (4a, 4b) of the present embodiment is a laminated film of a conductive thin film, the present embodiment can also be used for a laminated film of a conductive layer and an insulating layer. is there.

【0027】このような積層構造の電極端子4に、上記
レーザー光を用いて製造密番2を刻印するとき、製造密
番2が形成される層(上層4aと下層4bの何れでも良
い)が溶融するが、本実施の形態によれば、製造密番2
が形成されない層も有しているために導通(接続抵抗)
への影響をなくすことができる。また、積層構造の最下
層4bに文字、マーク、記号等の表記が施されている場
合は、透明な第1の基板L1を介して透明な第1の基板
L1の裏側から製造履歴管理や品質管理を行うことがで
きる。この最下層に製造密番2等の表記をレーザー光で
刻印する場合は、透明な第1の基板L1の裏面側から認
識することとなるために、各表記を対称な文字にした
り、又、製造密番2の全部の文字が対称になるように刻
印することが好ましい。
When the production secret number 2 is stamped on the electrode terminal 4 having such a laminated structure by using the laser light, the layer on which the production secret number 2 is formed (either the upper layer 4a or the lower layer 4b) may be formed. Although it melts, according to the present embodiment, the production secret number 2
(Connection resistance)
Can be eliminated. In addition, when characters, marks, symbols, and the like are provided on the lowermost layer 4b of the laminated structure, manufacturing history management and quality control are performed from the back side of the transparent first substrate L1 via the transparent first substrate L1. Can manage. When the lowermost layer is engraved with a notation such as production secret number 2 using a laser beam, the notation is made from symmetrical characters in order to be recognized from the back side of the transparent first substrate L1. It is preferable that all the characters of the production secret number 2 are stamped so as to be symmetrical.

【0028】また、最上層4aの薄膜を敢えて絶縁膜と
して、その次の層を導電層として、レーザー光により最
上層4aの薄膜を溶融させて、その次の導電層を広く露
出させて導通状態を図るようにすることも可能である。
なお、第2の実施の形態についても、第1の実施の形態
の応用例のように、画像検査用端子7や画像検査用配線
8に製造密番2等の表記を形成しても良い。
Further, the thin film of the uppermost layer 4a is intentionally used as an insulating film, the next layer is used as a conductive layer, and the thin film of the uppermost layer 4a is melted by a laser beam, so that the next conductive layer is widely exposed and the conductive state is obtained. It is also possible to achieve the following.
In the second embodiment as well, as in the application example of the first embodiment, a notation such as a production number 2 may be formed on the image inspection terminal 7 or the image inspection wiring 8.

【0029】本実施の形態によれば、電極端子4を積層
構造にして製造密番2等の表記を形成することにより、
半導体素子ICや回路基板F等の電子素子の接続に影響
を受けない高品質な液晶表示装置を提供できる。
According to the present embodiment, the electrode terminals 4 are formed in a laminated structure, and the notation such as the production secret number 2 is formed.
A high-quality liquid crystal display device that is not affected by the connection of electronic elements such as the semiconductor element IC and the circuit board F can be provided.

【0030】以上、上記各実施の形態では、液晶表示装
置の場合について説明したが、プラズマディスプレイな
どの液晶表示装置以外の表示装置の場合であっても同様
の効果を有する。また、上記各実施の形態では、液晶表
示装置の場合について説明したが、実装用基板(回路基
板)一般にも、その基板等の識別のために適用すること
は勿論可能である。
In the above embodiments, the case of a liquid crystal display device has been described. However, similar effects can be obtained in the case of a display device other than a liquid crystal display device such as a plasma display. In each of the above embodiments, the case of the liquid crystal display device has been described. However, it is needless to say that the present invention can be applied to a mounting board (circuit board) in general for identifying the board and the like.

【0031】[0031]

【発明の効果】この発明の実装用基板によれば、半導体
素子ICや回路基板等の電子素子が実装される実装用基
板の電極端子に、文字、マーク、記号等の表記が施され
ていることから、特別に製造密番等の表記を形成する箇
所を設けなくとも、製造履歴管理や品質管理を行うこと
が可能になる。
According to the mounting board of the present invention, characters, marks, symbols, and the like are provided on the electrode terminals of the mounting board on which electronic elements such as semiconductor element ICs and circuit boards are mounted. Therefore, it is possible to perform manufacturing history management and quality control without providing a portion for forming a notation such as a production secret number.

【0032】また、この発明の実装用基板を有する表示
装置によれば、表示装置を構成する基板上の非表示領域
に、前記表示装置を駆動する半導体素子を接続する電極
端子を配置し、前記電極端子に文字、英数字等の表記を
形成しているため、非表示領域が縮小化した表示装置に
おいても製造密番等の表記の形成が可能となり、製造履
歴管理や品質管理を容易に行える安価な表示装置を提供
することができる。
According to the display device having the mounting substrate of the present invention, an electrode terminal for connecting a semiconductor element for driving the display device is arranged in a non-display area on the substrate constituting the display device. Since the notation such as characters and alphanumeric characters are formed on the electrode terminals, it is possible to form notations such as the production secret number even in the display device in which the non-display area is reduced, and the production history management and quality control can be easily performed. An inexpensive display device can be provided.

【0033】[0033]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態の液晶表示装置の部
分拡大図
FIG. 1 is a partially enlarged view of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】上記第1の実施の形態の第1の応用例の部分拡
大図
FIG. 2 is a partially enlarged view of a first application example of the first embodiment.

【図3】上記第1の実施の形態の第2の応用例の部分拡
大図
FIG. 3 is a partially enlarged view of a second application example of the first embodiment.

【図4】本発明の第2の実施の形態の液晶表示装置の部
分拡大図
FIG. 4 is a partially enlarged view of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図5】上記第2の実施の形態の電極端子の積層膜の図
であり、(a)は積層膜の最上層に製造密番を形成した
図であり、(b)は積層膜の最下層に製造密番を形成し
た図
FIGS. 5A and 5B are diagrams of a laminated film of an electrode terminal according to the second embodiment, in which FIG. 5A is a diagram in which a production dense number is formed on the uppermost layer of the laminated film, and FIG. Diagram showing production secret number in lower layer

【図6】液晶表示装置の構成を説明する図FIG. 6 illustrates a structure of a liquid crystal display device.

【図7】従来の液晶表示装置の部分拡大図FIG. 7 is a partially enlarged view of a conventional liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ベタパターン 2 製造密番(表記) 3A 表示領域 3B 非表示領域 4 電極端子 4a 最上層 4b 最下層 5 配線 7 画像検査用端子 8 画像検査用配線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Solid pattern 2 Manufacturing dense number (notation) 3A Display area 3B Non-display area 4 Electrode terminal 4a Top layer 4b Bottom layer 5 Wiring 7 Image inspection terminal 8 Image inspection wiring

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H092 GA40 GA42 GA48 GA50 GA60 MA12 MA32 NA25 PA01 5C094 AA15 AA43 AA48 BA43 DA13 DB03 EA10 FB12 5E338 AA01 AA11 AA13 BB65 CC01 CC04 CD13 DD12 DD22 DD32 EE23 EE44  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H092 GA40 GA42 GA48 GA50 GA60 MA12 MA32 NA25 PA01 5C094 AA15 AA43 AA48 BA43 DA13 DB03 EA10 FB12 5E338 AA01 AA11 AA13 BB65 CC01 CC04 CD13 DD12 DD22 DD32 EE23 EE44

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体素子や回路基板等の電子素子が実
装される実装用基板の電極端子に、文字、マーク、記号
等の表記が施されていることを特徴とする実装用基板。
1. A mounting substrate, wherein characters, marks, symbols, and the like are provided on electrode terminals of the mounting substrate on which electronic elements such as semiconductor elements and circuit boards are mounted.
【請求項2】 前記実装用基板は、液晶表示装置等の表
示装置を構成する基板であり、前記電極端子は、表示装
置を構成する基板上の表示領域以外の非表示領域に配さ
れていることを特徴とする実装用基板を有する表示装
置。
2. The mounting substrate is a substrate constituting a display device such as a liquid crystal display device, and the electrode terminals are arranged in a non-display region other than a display region on the substrate constituting the display device. A display device having a mounting substrate.
【請求項3】 前記実装用基板は、液晶表示装置等の表
示装置を構成する透明基板であり、前記電極端子は、2
層以上の薄膜が積層して形成され、この電極端子の最上
層又は最下層に、文字、マーク、記号等の表記が施され
ていることを特徴とする請求項2記載の実装用基板を有
する表示装置。
3. The mounting substrate is a transparent substrate constituting a display device such as a liquid crystal display device, and the electrode terminals are
3. The mounting substrate according to claim 2, wherein a thin film of at least one layer is formed by lamination, and characters, marks, symbols, and the like are provided on an uppermost layer or a lowermost layer of the electrode terminal. Display device.
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