JP2002316985A - Benzothiophene derivative - Google Patents

Benzothiophene derivative

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JP2002316985A
JP2002316985A JP2001122867A JP2001122867A JP2002316985A JP 2002316985 A JP2002316985 A JP 2002316985A JP 2001122867 A JP2001122867 A JP 2001122867A JP 2001122867 A JP2001122867 A JP 2001122867A JP 2002316985 A JP2002316985 A JP 2002316985A
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Japan
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group
compound
chx
acceptable salt
substituted
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JP2001122867A
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Takehide Nishi
剛秀 西
Takaaki Jojima
孝明 城島
Ryuichi Shimozato
隆一 下里
Futoshi Nara
太 奈良
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Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a benzothiophene derivative having low toxicity and excellent immunosuppressive action and its pharmacologically permissible salt, ester and other derivative. SOLUTION: The present invention relates to a benzothiophene derivative expressed by general formula (I) [R<1> and R<2> are each H or an amino-protecting group; R<3> is H or a hydroxy-protecting group; R<4> is a lower alkyl; (n) is an integer of 1-6; X is ethylene group or the like; Y is a 1-10C alkylene or the like; R<5> is an aryl or the like; and R<6> and R<7> are each H or the like] and its pharmacologically permissible salt, ester and other derivative.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、優れた免疫抑制作
用を有するベンゾチオフェン誘導体、その薬理上許容さ
れる塩、そのエステル、又は、その他の誘導体、及びそ
れらを含有する医薬(好適には、免疫抑制剤)に関す
る。
The present invention relates to a benzothiophene derivative having an excellent immunosuppressive action, a pharmaceutically acceptable salt thereof, an ester thereof, or another derivative thereof, and a medicament containing them (preferably, Immunosuppressants).

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、リウマチやその他の自己免疫疾患
等の免疫関連病の治療においては、異常な免疫反応によ
って生じる炎症反応に対してステロイドなどの抗炎症薬
が使用されてきたが、これらは対症療法であり根本的治
療法ではない。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the treatment of immune-related diseases such as rheumatism and other autoimmune diseases, anti-inflammatory drugs such as steroids have been used for inflammatory reactions caused by abnormal immune responses. It is a symptomatic treatment, not a radical treatment.

【0003】また、糖尿病、腎炎の発症においても免疫
系の異常が関与することは報告されているが[Kidney I
nternational, 51, 94(1997);Journal of Immunology,
157,4691(1996)]、その異常を改善するような薬剤の開
発には至っていない。
It has been reported that abnormalities in the immune system are also involved in the onset of diabetes and nephritis [Kidney I
nternational, 51, 94 (1997); Journal of Immunology,
157,4691 (1996)], and no drug has been developed to improve the abnormality.

【0004】一方、免疫応答を抑制する方法の開発は、
臓器及び細胞移植における拒絶反応を防いだり、種々の
自己免疫疾患を治療及び/又は予防する上でも極めて重
要である。従来知られている免疫抑制剤については、以
下のものがある。 (1)WO94/08943号公報(EP62740
6)には、下記一般式(a)
On the other hand, the development of a method for suppressing the immune response has
It is also extremely important in preventing rejection in organ and cell transplantation and in treating and / or preventing various autoimmune diseases. Conventionally known immunosuppressants include the following. (1) WO94 / 08943 (EP62740)
6) has the following general formula (a)

【0005】[0005]

【化4】 Embedded image

【0006】[上記化合物(a)において、Rは置換基
を有してもよい直鎖または分岐鎖状の炭素鎖{当該鎖中
に、二重結合、三重結合、酸素、硫黄、−N(R6)−
(式中、R6は水素)、置換基を有してもよいアリーレ
ン、置換基を有してもよいヘテロアリーレンを有しても
よく、当該鎖端に、置換基を有してもよいアリール、置
換基を有してもよいシクロアルキル、置換基を有しても
よいヘテロアリールを有してよい。}であり、R2
3、R4、R5は、同一または異なって、水素、アルキ
ルである。]を有する化合物が、免疫抑制剤として開示
されており、下記のような化合物が開示されている。
[In the above compound (a), R is a linear or branched carbon chain which may have a substituent. In the chain, a double bond, a triple bond, oxygen, sulfur, -N ( R 6 ) −
(Wherein R 6 is hydrogen), an arylene which may have a substituent, a heteroarylene which may have a substituent, and a substituent may be provided at the chain end. It may have aryl, cycloalkyl which may have a substituent, and heteroaryl which may have a substituent. 、 And R 2 ,
R 3 , R 4 and R 5 are the same or different and are hydrogen or alkyl. Are disclosed as immunosuppressants, and the following compounds are disclosed.

【0007】[0007]

【化5】 Embedded image

【0008】(2)WO96/06068号公報(EP
778263)には、下記一般式(b)
(2) WO 96/06068 (EP
778263) has the following general formula (b)

【0009】[0009]

【化6】 Embedded image

【0010】[上記化合物(b)において、R1、R2
びR3は、水素原子等であり、Wは、水素原子、アルキ
ル基等であり、Zは、単結合又はアルキレン基であり、
Xは、水素原子又はアルコキシ基であり、Yは、水素原
子、アルキル、アルコキシ、アシル、アシルオキシ、ア
ミノ、アシルアミノ基等を示す。]を有する化合物が、
免疫抑制剤として開示されており、下記のような化合物
が開示されている。
[In the above compound (b), R 1 , R 2 and R 3 are a hydrogen atom and the like, W is a hydrogen atom and an alkyl group, Z is a single bond or an alkylene group,
X represents a hydrogen atom or an alkoxy group, and Y represents a hydrogen atom, an alkyl, an alkoxy, an acyl, an acyloxy, an amino, an acylamino group or the like. Has the following formula:
It is disclosed as an immunosuppressant, and the following compounds are disclosed.

【0011】[0011]

【化7】 Embedded image

【0012】(3)WO98/45249号公報(EP
1002792)には、下記一般式(c)
(3) WO 98/45249 (EP
10000272) has the following general formula (c)

【0013】[0013]

【化8】 Embedded image

【0014】[上記化合物(c)において、R1、R2
3、R4は同一又は異なって、水素又はアシル基であ
る。]を有する化合物が、免疫抑制剤として開示されて
おり、下記のような化合物が開示されている。
[In the above compound (c), R 1 , R 2 ,
R 3 and R 4 are the same or different and are hydrogen or an acyl group. Are disclosed as immunosuppressants, and the following compounds are disclosed.

【0015】[0015]

【化9】 Embedded image

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】従来知られている免疫
抑制剤は、腎臓及び肝臓に対して毒性を示すことが知ら
れており、このような背景から、毒性が低く、優れた免
疫抑制作用を有する化合物を見出すことが試みられてい
る。
It is known that conventionally known immunosuppressive agents are toxic to the kidney and liver, and against such a background, they have low toxicity and excellent immunosuppressive activity. It has been attempted to find a compound having

【0017】本発明者らは、免疫抑制作用を有する誘導
体について鋭意研究を行った結果、ベンゾチオフェン誘
導体は、従来知られている免疫抑制剤に比べて毒性が低
く優れた免疫抑制作用を有することを見出し、本発明を
完成した。
The present inventors have conducted intensive studies on derivatives having an immunosuppressive effect. As a result, it has been found that benzothiophene derivatives have an excellent immunosuppressive activity with lower toxicity than conventionally known immunosuppressants. And completed the present invention.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】(1) 本発明のベンゾ
チオフェン誘導体は、下記一般式(I)を有する。
Means for Solving the Problems (1) The benzothiophene derivative of the present invention has the following general formula (I).

【0019】一般式(I)Formula (I)

【0020】[0020]

【化10】 Embedded image

【0021】[式中、R1及びR2は、同一又は異なっ
て、水素原子又はアミノ基の保護基を示し、R3は、水
素原子又はヒドロキシ基の保護基を示し、R4は、低級
アルキル基を示し、nは、1乃至6の整数を示し、X
は、エチレン基、ビニレン基、エチニレン基、式−D−
CH2−を有する基(式中、Dは、カルボニル基、式−
CH(OH)−を有する基、酸素原子、硫黄原子又は窒
素原子を示す。)、アリール基又は置換基群aから選択
される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基を示
し、Yは、単結合、C1−C10アルキレン基、置換基群
a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換され
たC1−C10アルキレン基、炭素鎖中若しくは鎖端に酸
素原子若しくは硫黄原子を有するC1−C10アルキレン
基、又は置換基群a及びbから選択される少なくとも1
個の基で置換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子
若しくは硫黄原子を有するC1−C10アルキレン基を示
し、R5は、水素原子、シクロアルキル基、アリ−ル
基、複素環基、置換基群a及びbから選択される少なく
とも1個の基で置換されたシクロアルキル基、置換基群
a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換され
たアリ−ル基、又は置換基群a及びbから選択される少
なくとも1個の基で置換された複素環基を示し、R6
びR7は、同一又は異なって、水素原子又は置換基群a
から選択される基を示す。
Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each represent a hydrogen atom or an amino-protecting group, R 3 represents a hydrogen atom or a hydroxy-protecting group, and R 4 represents a lower group; An alkyl group; n represents an integer of 1 to 6;
Is an ethylene group, a vinylene group, an ethynylene group, a formula -D-
A group having CH 2 — (where D is a carbonyl group,
A group having CH (OH)-, an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom. ), An aryl group or an aryl group substituted with at least one group selected from substituent group a, wherein Y is a single bond, a C 1 -C 10 alkylene group, or a substituent group a or b at least one C 1 -C 10 alkylene group substituted with a group selected, C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom or a sulfur atom in the carbon chain or chain end, or from substituent group a and b At least one selected
Represents a C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom or a sulfur atom in the carbon chain or at the chain end substituted with a plurality of groups, wherein R 5 is a hydrogen atom, a cycloalkyl group, an aryl group, a heterocyclic group; Group, cycloalkyl group substituted with at least one group selected from substituent groups a and b, aryl group substituted with at least one group selected from substituent groups a and b, or A heterocyclic group substituted with at least one group selected from substituent groups a and b, wherein R 6 and R 7 are the same or different and are each a hydrogen atom or a substituent group a
Represents a group selected from

【0022】但し、R5が水素原子であるとき、Yは単
結合及び直鎖のC1−C10アルキレン基以外の基を示
す。]を有する化合物、その薬理上許容される塩、その
エステル、又は、その他の誘導体。 <置換基群a>ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲ
ノ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチ
オ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、
ヒドロキシ基、低級脂肪族アシル基、アミノ基、モノ−
低級アルキルアミノ基、ジ−低級アルキルアミノ基、低
級脂肪族アシルアミノ基、シアノ基及びニトロ基 <置換基群b>シクロアルキル基、アリ−ル基、複素環
基、置換基群aから選択される少なくとも1個の基で置
換されたシクロアルキル基、置換基群aから選択される
少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基、及び置換
基群aから選択される少なくとも1個の基で置換された
複素環基。
However, when R 5 is a hydrogen atom, Y represents a group other than a single bond or a linear C 1 -C 10 alkylene group. ], A pharmacologically acceptable salt thereof, an ester thereof, or another derivative thereof. <Substituent group a> halogen atom, lower alkyl group, halogeno lower alkyl group, lower alkoxy group, lower alkylthio group, carboxyl group, lower alkoxycarbonyl group,
Hydroxy group, lower aliphatic acyl group, amino group, mono-
Lower alkylamino group, di-lower alkylamino group, lower aliphatic acylamino group, cyano group and nitro group <Substituent group b> selected from cycloalkyl group, aryl group, heterocyclic group and substituent group a A cycloalkyl group substituted with at least one group, an aryl group substituted with at least one group selected from substituent group a, and at least one group selected from substituent group a A substituted heterocyclic group.

【0023】好適な化合物としては、以下の化合物を挙
げることができる。 (2) (1)において、式(Ia)
Preferred compounds include the following compounds. (2) In (1), the formula (Ia)

【0024】[0024]

【化11】 Embedded image

【0025】を有する化合物、(3) (1)におい
て、式(Ib)
A compound having the formula (Ib):

【0026】[0026]

【化12】 Embedded image

【0027】を有する化合物、(4) (1)乃至
(3)から選択されるいずれか1項において、R1及び
2が、同一又は異なって、水素原子、低級アルコキシ
カルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又は置換
基群aから選択される基で1乃至3個置換されたアラル
キルオキシカルボニル基である化合物、(5) (1)
乃至(3)から選択されるいずれか1項において、R1
及びR2が、水素原子である化合物、(6) (1)乃
至(5)から選択されるいずれか1項において、R
3が、水素原子、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル基
又は置換基群aから選択される基で1乃至3個置換され
た芳香族アシル基である化合物、(7) (1)乃至
(5)から選択されるいずれか1項において、R3が、
水素原子である化合物、(8) (1)乃至(7)から
選択されるいずれか1項において、R4が、C1−C4
ルキル基である化合物、(9) (1)乃至(7)から
選択されるいずれか1項において、R4が、C1−C2
ルキル基である化合物、(10) (1)乃至(7)か
ら選択されるいずれか1項において、R4が、メチル基
である化合物、(11) (1)乃至(10)から選択
されるいずれか1項において、nが、2又は3である化
合物、(12) (1)乃至(10)から選択されるい
ずれか1項において、nが、2である化合物、(13)
(1)乃至(12)から選択されるいずれか1項にお
いて、Xが、エチレン基である化合物、(14)
(1)乃至(12)から選択されるいずれか1項におい
て、Xが、エチニレン基である化合物、(15)
(1)乃至(12)から選択されるいずれか1項におい
て、Xが、アリール基又は置換基群aから選択される少
なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基である化合
物、(16) (1)乃至(15)から選択されるいず
れか1項において、Yが、C1−C10アルキレン基又は
置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で
置換されたC1−C10アルキレン基である化合物、(1
7) (1)乃至(15)から選択されるいずれか1項
において、Yが、C1−C6アルキレン基又は置換基群a
及びbから選択される少なくとも1個の基で置換された
1−C6アルキレン基である化合物、(18) (1)
乃至(15)から選択されるいずれか1項において、Y
が、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、
又は、置換基群a及びbから選択される少なくとも1個
の基で置換された、エチレン、トリメチレン、テトラメ
チレン若しくはペンタメチレン基である化合物、(1
9) (1)乃至(15)から選択されるいずれか1項
において、Yが、エチレン基、トリメチレン基若しくは
テトラメチレン基である化合物、(20) (1)乃至
(15)から選択されるいずれか1項において、Yが、
エチレン基若しくはトリメチレン基である化合物、(2
1) (1)乃至(15)から選択されるいずれか1項
において、Yが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若し
くは硫黄原子を有するC1−C10アルキレン基、又は置
換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置
換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫
黄原子を有するC1−C10アルキレン基である化合物、
(22) (1)乃至(15)から選択されるいずれか
1項において、Yが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子
若しくは硫黄原子を有するC1−C10アルキレン基であ
る化合物、(23) (1)乃至(15)から選択され
るいずれか1項において、Yが、炭素鎖中若しくは鎖端
に酸素原子を有するC1−C10アルキレン基である化合
物、(24) (1)乃至(15)から選択されるいず
れか1項において、Yが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素
原子を有するC1−C6アルキレン基である化合物、(2
5) (1)乃至(15)から選択されるいずれか1項
において、Yが、−O−CH2−、−O−(CH2
2−、−O−(CH23−、−CH2−O−、−(C
22−O−、−(CH23−O−又は−CH2−O−
CH2−を有する基である化合物、(26) (1)乃
至(15)から選択されるいずれか1項において、Y
が、−CH2−O−、−(CH22−O−又は−CH2
O−CH2−を有する基である化合物、(27)
(1)乃至(26)から選択されるいずれか1項におい
て、R5が、シクロアルキル基、アリ−ル基、複素環
基、置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の
基で置換されたシクロアルキル基又は置換基群a及びb
から選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−
ル基である化合物、(28) (1)乃至(26)から
選択されるいずれか1項において、R5が、シクロアル
キル基、アリ−ル基、置換基群a及びbから選択される
少なくとも1個の基で置換されたシクロアルキル基又は
置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で
置換されたアリ−ル基である化合物、(29) (1)
乃至(26)から選択されるいずれか1項において、R
5が、シクロアルキル基、アリ−ル基、置換基群a及び
bから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ
−ル基である化合物、(30) (1)乃至(26)か
ら選択されるいずれか1項において、R5が、シクロア
ルキル基、アリ−ル基又は1乃至3個置換されたアリ−
ル基(該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハ
ロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アル
キルチオ基から成る群から選択される基である。)であ
る化合物、(31) (1)乃至(26)から選択され
るいずれか1項において、R5が、シクロアルキル基、
アリ−ル基又は1乃至3個置換されたアリ−ル基(該置
換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基又は低級アルコ
キシ基である。)である化合物、(32) (1)乃至
(26)から選択されるいずれか1項において、R
5が、シクロヘキシル基、フェニル基又はp−トリル基
である化合物、(33) (1)乃至(32)から選択
されるいずれか1項において、R6及びR7が、同一又は
異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、
ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ基又は低級ア
ルキルチオ基である化合物、(34) (1)乃至(3
2)から選択されるいずれか1項において、R6及びR7
が、水素原子である化合物。
(4) In any one selected from (1) to (3), R 1 and R 2 are the same or different and each is a hydrogen atom, a lower alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl A compound which is an aralkyloxycarbonyl group substituted by 1 to 3 groups or groups selected from a substituent group a, (5) (1)
In any one selected from (3) to (3), R 1
And (6) a compound in which R 2 is a hydrogen atom, (6) in any one selected from (1) to (5),
A compound in which 3 is a hydrogen atom, a lower aliphatic acyl group, an aromatic acyl group or an aromatic acyl group substituted by 1 to 3 groups selected from a substituent group a, (7) (1) to ( In any one selected from 5), R 3 is
A compound which is a hydrogen atom, (8) a compound wherein in any one selected from (1) to (7), R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group, (9) (1) to (7) Wherein R 4 is a C 1 -C 2 alkyl group, (10) wherein R 4 is any one selected from (1) to (7) A compound which is a methyl group, (11) a compound wherein n is 2 or 3 in any one selected from (1) to (10), (12) a compound selected from (1) to (10) (13) The compound according to any one of the above, wherein n is 2.
(14) The compound according to any one of (1) to (12), wherein X is an ethylene group,
(15) The compound according to any one of (1) to (12), wherein X is an ethynylene group,
(16) The compound according to any one of (1) to (12), wherein X is an aryl group or an aryl group substituted with at least one group selected from substituent group a, ) (in any one selected from 1) to (15), Y is, C 1 -C 10 C 1 substituted with at least one group selected from an alkylene group, or a substituent group a and b A compound which is a —C 10 alkylene group, (1
7) In any one selected from (1) to (15), Y is a C 1 -C 6 alkylene group or a substituent group a
A compound which is a C 1 -C 6 alkylene group substituted with at least one group selected from and b, (18) (1)
In any one selected from (15) to (15), Y
Is an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group,
Or a compound which is an ethylene, trimethylene, tetramethylene or pentamethylene group substituted with at least one group selected from substituent groups a and b, (1
9) In any one selected from (1) to (15), a compound wherein Y is an ethylene group, trimethylene group or tetramethylene group, (20) any one selected from (1) to (15) Or 1 in which Y is
A compound which is an ethylene group or a trimethylene group, (2
1) In any one selected from (1) to (15), Y is a C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom or a sulfur atom in a carbon chain or at a chain end, or a substituent group a and a compound which is a C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom or a sulfur atom in a carbon chain or at a chain end substituted with at least one group selected from b.
(22) The compound according to any one of (1) to (15), wherein Y is a C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom or a sulfur atom in a carbon chain or at a chain end, (23) (24) The compound according to any one of (1) to (15), wherein Y is a C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom in a carbon chain or at a chain end. In any one selected from (15), compounds wherein Y is a C 1 -C 6 alkylene group having an oxygen atom in a carbon chain or at a chain end, (2
5) (in any one selected from 1) to (15), Y is, -O-CH 2 -, - O- (CH 2)
2 -, - O- (CH 2 ) 3 -, - CH 2 -O -, - (C
H 2) 2 -O -, - (CH 2) 3 -O- or -CH 2 -O-
A compound which is a group having CH 2 —, (26) in any one selected from (1) to (15),
There, -CH 2 -O -, - ( CH 2) 2 -O- or -CH 2 -
O-CH 2 - compound is a group having the (27)
In any one selected from (1) to (26), R 5 is at least one group selected from a cycloalkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, and substituent groups a and b. Substituted cycloalkyl group or substituent groups a and b
Ali substituted with at least one group selected from
(28) In any one selected from (1) to (26), R 5 is at least selected from a cycloalkyl group, an aryl group, and substituent groups a and b. (29) (1) a compound which is a cycloalkyl group substituted with one group or an aryl group substituted with at least one group selected from substituent groups a and b;
In any one selected from (26) to (26), R
A compound in which 5 is an aryl group substituted with at least one group selected from the group consisting of a cycloalkyl group, an aryl group, and a substituent group a and b, (30) from (1) to (26); In any one of the selected ones, R 5 is a cycloalkyl group, an aryl group, or an aryl group having 1 to 3 substituted groups.
(31) wherein the substituent is a group selected from the group consisting of a halogen atom, a lower alkyl group, a halogeno lower alkyl group, a lower alkoxy group and a lower alkylthio group. In any one selected from (26), R 5 is a cycloalkyl group,
A compound which is an aryl group or an aryl group substituted by 1 to 3 groups (the substituent is a halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group); (32) (1) to (26) In any one selected from
(5 ) a compound in which 5 is a cyclohexyl group, a phenyl group or a p-tolyl group; (33) In any one selected from (1) to (32), R 6 and R 7 are the same or different, and Atom, halogen atom, lower alkyl group,
A compound which is a halogeno lower alkyl group, a lower alkoxy group or a lower alkylthio group, (34) (1) to (3)
In any one selected from 2), R 6 and R 7
Is a hydrogen atom.

【0028】上記式中、X、R5及び置換基群bの定義
における「アリ−ル基」、「置換基群aから選択される
少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基」及び「置
換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置
換されたアリ−ル基」のアリ−ル部分は、例えば、フェ
ニル、インデニル、ナフチルのような炭素数6乃至10
個の芳香族炭化水素基を挙げることができ、好適にはフ
ェニル又はナフチル基であり、最も好適にはフェニル基
である。
In the above formula, "aryl group" in the definition of X, R 5 and substituent group b, "aryl group substituted by at least one group selected from substituent group a", and The aryl part of the "aryl group substituted with at least one group selected from the substituent groups a and b" is, for example, a C6-C10 aryl group such as phenyl, indenyl and naphthyl.
Aromatic hydrocarbon groups, preferably a phenyl or naphthyl group, and most preferably a phenyl group.

【0029】上記式中、Yの定義における「C1−C10
アルキレン基」及び「置換基群a及びbから選択される
少なくとも1個の基で置換されたC1−C10アルキレン
基」のC1−C10アルキレン部分は、メチレン、メチル
メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、1−
メチルエチレン、テトラメチレン、1−メチルトリメチ
レン、2−メチルトリメチレン、3−メチルトリメチレ
ン、1−メチルプロピレン、1,1−ジメチルエチレ
ン、ペンタメチレン、1−メチルテトラメチレン、2−
メチルテトラメチレン、3−メチルテトラメチレン、4
−メチルテトラメチレン、1,1−ジメチルトリメチレ
ン、2,2−ジメチルトリメチレン、3,3−ジメチル
トリメチレン、ヘキサメチレン、1−メチルペンタメチ
レン、2−メチルペンタメチレン、3−メチルペンタメ
チレン、4−メチルペンタメチレン、5−メチルペンタ
メチレン、1,1−ジメチルテトラメチレン、2,2−
ジメチルテトラメチレン、3,3−ジメチルテトラメチ
レン、4,4−ジメチルテトラメチレン、ヘプタメチレ
ン、1−メチルヘキサメチレン、2−メチルヘキサメチ
レン、5−メチルヘキサメチレン、3−エチルペンタメ
チレン、オクタメチレン、2−メチルヘプタメチレン、
5−メチルヘプタメチレン、2−エチルヘキサメチレ
ン、2−エチル−3−メチルペンタメチレン、3−エチ
ル−2−メチルペンタメチレン、ノナメチレン、2−メ
チルオクタメチレン、7−メチルオクタメチレン、4−
エチルヘプタメチレン、3−エチル−2−メチルヘキサ
メチレン、2−エチル−1−メチルヘキサメチレン、デ
カメチレン基のような炭素数1乃至10個の直鎖又は分
枝鎖アルキレン基であり、好適にはC1−C6アルキレン
基であり、更に好適にはC1−C5アルキレン基であり、
より好適には、エチレン、トリメチレン又はテトラメチ
レン基であり、最も好適にはエチレン基又はトリメチレ
ン基である。
In the above formula, "C" in the definition of Y1-CTen
Alkylene group "and" substituent groups a and b
C substituted with at least one group1-CTenAlkylene
Group ”C1-CTenAlkylene moiety is methylene, methyl
Methylene, ethylene, propylene, trimethylene, 1-
Methyl ethylene, tetramethylene, 1-methyltrimethyl
Len, 2-methyltrimethylene, 3-methyltrimethyle
1-methylpropylene, 1,1-dimethylethylene
Pentamethylene, 1-methyltetramethylene, 2-
Methyltetramethylene, 3-methyltetramethylene, 4
-Methyltetramethylene, 1,1-dimethyltrimethyl
2,2-dimethyltrimethylene, 3,3-dimethyl
Trimethylene, hexamethylene, 1-methylpentamethyl
Len, 2-methylpentamethylene, 3-methylpentame
Tylene, 4-methylpentamethylene, 5-methylpentane
Methylene, 1,1-dimethyltetramethylene, 2,2-
Dimethyltetramethylene, 3,3-dimethyltetramethyl
Len, 4,4-dimethyltetramethylene, heptamethyle
, 1-methylhexamethylene, 2-methylhexamethyl
Len, 5-methylhexamethylene, 3-ethylpentame
Tylene, octamethylene, 2-methylheptamethylene,
5-methylheptamethylene, 2-ethylhexamethyl
2-ethyl-3-methylpentamethylene, 3-ethyl
2-methylpentamethylene, nonamethylene, 2-meth
Tyloctamethylene, 7-methyloctamethylene, 4-
Ethyl heptamethylene, 3-ethyl-2-methylhexa
Methylene, 2-ethyl-1-methylhexamethylene, de
A straight or branched chain having 1 to 10 carbon atoms such as a camethylene group
A branched alkylene group, preferably C1-C6Alkylene
And more preferably C1-CFiveAn alkylene group,
More preferably, ethylene, trimethylene or tetramethyl
An ethylene group or a trimethylene group.
Group.

【0030】上記式中、Yの定義における「炭素鎖中若
しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するC1
10アルキレン基」及び「置換基群a及びbから選択さ
れる少なくとも1個の基で置換された、炭素鎖中若しく
は鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有するC1−C10
アルキレン基」の、「炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子
若しくは硫黄原子を有するC1−C10アルキレン」部分
は、上記「C1−C10アルキレン基」の鎖端若しくは鎖
中に酸素原子若しくは硫黄原子を有する基であり、例え
ば、−O−CH2−、−O−(CH22−、−O−(C
23−、−O−(CH24−、−O−(CH25−、
−O−(CH26−、−O−(CH27−、−O−(C
28−、−O−(CH29−、−O−(CH2
10−、−CH2−O−CH2−、−CH2−O−(CH2
2−、−CH2−O−(CH23−、−CH2−O−(C
24−、−(CH22−O−CH2−、−(CH22
−O−(CH22−、−(CH22−O−(CH2
3−、−(CH22−O−(CH24−、−(CH23
−O−CH2−、−(CH23−O−(CH22−、−
(CH2 3−O−(CH23−、−(CH24−O−C
2−、−(CH24−O−(CH 22−、−(CH2
5−O−CH2−、−CH2−O−、−(CH22−O
−、−(CH23−O−、−(CH24−O−、−(C
25−O−、−(CH26−O−、−(CH27−O
−、−(CH28−O−、−(CH29−O−、−(C
210−O−、−S−CH2−、−S−(CH22−、
−S−(CH23−、−S−(CH24−、−S−(C
25−、−S−(CH26−、−S−(CH27−、
−S−(CH28−、−S−(CH29−、−S−(C
210−、−CH2−S−CH2−、−CH2−S−(C
22−、−CH2−S−(CH23−、−CH2−S−
(CH24−、−(CH22−S−CH2−、−(C
22−S−(CH22−、−(CH22−S−(CH
23−、−(CH22−S−(CH24−、−(C
23−S−CH2−、−(CH23−S−(CH22
−、−(CH23−S−(CH23−、−(CH24
S−CH2−、−(CH24−S−(CH22−、−
(CH25−S−CH2−、−CH2−S−、−(C
22−S−、−(CH23−S−、−(CH24−S
−、−(CH25−S−、−(CH 26−S−、−(C
27−S−、−(CH28−S−、−(CH29−S
−、−(CH210−S−を有する基であり、好適に
は、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子を有するC1−C
10アルキレン基であり、更に好適には、炭素鎖中若しく
は鎖端に酸素原子を有するC1−C4アルキレン基であ
り、より好適には、−O−CH2−、−O−(CH22
−、−O−(CH23−、−CH2−O−、−(CH 2
2−O−、−(CH23−O−又は−CH2−O−CH2
−を有する基であり、最も好適には、−CH2−O−、
−(CH22−O−又は−CH2−O−CH2−を有する
基である。
In the above formula, “carbon chain middle” in the definition of Y
Or C having an oxygen or sulfur atom at the chain end1
CTenAlkylene group "and" substituent groups a and b.
A carbon chain substituted with at least one group
Is C having an oxygen atom or a sulfur atom at the chain end.1-CTen
Oxygen atom in the carbon chain or at the chain end of the alkylene group
Or C having a sulfur atom1-CTenAlkylene "moiety
Is "C1-CTenEnd or chain of "alkylene group"
A group having an oxygen or sulfur atom in it, such as
For example, -O-CHTwo-, -O- (CHTwo)Two-, -O- (C
HTwo)Three-, -O- (CHTwo)Four-, -O- (CHTwo)Five−,
-O- (CHTwo)6-, -O- (CHTwo)7-, -O- (C
HTwo)8-, -O- (CHTwo)9-, -O- (CHTwo)
Ten-, -CHTwo-O-CHTwo-, -CHTwo-O- (CHTwo)
Two-, -CHTwo-O- (CHTwo)Three-, -CHTwo-O- (C
HTwo)Four-,-(CHTwo)Two-O-CHTwo-,-(CHTwo)Two
-O- (CHTwo)Two-,-(CHTwo)Two-O- (CHTwo)
Three-,-(CHTwo)Two-O- (CHTwo)Four-,-(CHTwo)Three
-O-CHTwo-,-(CHTwo)Three-O- (CHTwo)Two−, −
(CHTwo) Three-O- (CHTwo)Three-,-(CHTwo)Four-OC
HTwo-,-(CHTwo)Four-O- (CH Two)Two-,-(CHTwo)
Five-O-CHTwo-, -CHTwo-O-,-(CHTwo)Two-O
-,-(CHTwo)Three-O-,-(CHTwo)Four-O-,-(C
HTwo)Five-O-,-(CHTwo)6-O-,-(CHTwo)7-O
-,-(CHTwo)8-O-,-(CHTwo)9-O-,-(C
HTwo)Ten-O-, -S-CHTwo-, -S- (CHTwo)Two−,
-S- (CHTwo)Three-, -S- (CHTwo)Four-, -S- (C
HTwo)Five-, -S- (CHTwo)6-, -S- (CHTwo)7−,
-S- (CHTwo)8-, -S- (CHTwo)9-, -S- (C
HTwo)Ten-, -CHTwo-S-CHTwo-, -CHTwo-S- (C
HTwo)Two-, -CHTwo-S- (CHTwo)Three-, -CHTwo-S-
(CHTwo)Four-,-(CHTwo)Two-S-CHTwo-,-(C
HTwo)Two-S- (CHTwo)Two-,-(CHTwo)Two-S- (CH
Two)Three-,-(CHTwo)Two-S- (CHTwo)Four-,-(C
HTwo)Three-S-CHTwo-,-(CHTwo)Three-S- (CHTwo)Two
-,-(CHTwo)Three-S- (CHTwo)Three-,-(CHTwo)Four
S-CHTwo-,-(CHTwo)Four-S- (CHTwo)Two−, −
(CHTwo)Five-S-CHTwo-, -CHTwo-S-,-(C
HTwo)Two-S-,-(CHTwo)Three-S-,-(CHTwo)Four-S
-,-(CHTwo)Five-S-,-(CH Two)6-S-,-(C
HTwo)7-S-,-(CHTwo)8-S-,-(CHTwo)9-S
-,-(CHTwo)TenA group having -S-, preferably
Is a C having an oxygen atom in a carbon chain or at a chain end.1-C
TenAn alkylene group, more preferably a carbon chain.
Is C having an oxygen atom at the chain end1-CFourAn alkylene group
And more preferably -O-CHTwo-, -O- (CHTwo)Two
-, -O- (CHTwo)Three-, -CHTwo-O-,-(CH Two)
Two-O-,-(CHTwo)Three-O- or -CHTwo-O-CHTwo
And most preferably -CHTwo-O-,
− (CHTwo)Two-O- or -CHTwo-O-CHTwoHaving
Group.

【0031】上記式中、R5及び置換基群bの定義にお
ける「シクロアルキル基」、「置換基群aから選択され
る少なくとも1個の基で置換されたシクロアルキル基」
及び「置換基群a及びbから選択される少なくとも1個
の基で置換されたシクロアルキル基」のシクロアルキル
部分は、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ノルボ
ルニル、アダマンチル、インダニルのような炭素数3乃
至10個の飽和炭素環基を挙げることができ、ベンゼン
環のような他の環式基と縮環していてもよい。そのよう
なシクロアルキル基としては、好適にはC5−C6シクロ
アルキル基であり、最も好適にはシクロヘキシル基であ
る。
In the above formula, “cycloalkyl group” in the definition of R 5 and the substituent group b, “cycloalkyl group substituted with at least one group selected from the substituent group a”
And the cycloalkyl moiety of the "cycloalkyl group substituted with at least one group selected from substituent groups a and b" is, for example, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, norbornyl, adamantyl, indanyl And a saturated carbocyclic group having 3 to 10 carbon atoms, and may be condensed with another cyclic group such as a benzene ring. Such cycloalkyl groups, preferably a C 5 -C 6 cycloalkyl group, most preferably a cyclohexyl group.

【0032】上記式中、R5及び置換基群bの定義にお
ける「複素環基」、「置換基群aから選択される少なく
とも1個の基で置換された複素環基」及び「置換基群a
及びbから選択される少なくとも1個の基で置換された
複素環基」の複素環基部分は、硫黄原子、酸素原子又は
/及び窒素原子を1乃至3個含む5乃至7員複素環基を
示し、例えば、フリル、チエニル、ピロリル、アゼピニ
ル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサゾリル、イソキ
サゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、1,2,3−
オキサジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チア
ジアゾリル、ピラニル、ピリジル、ピリダジニル、ピリ
ミジニル、ピラジニルのような芳香族複素環基、及びテ
トラヒドロピラニル、モルホリニル、チオモルホリニ
ル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、ピ
ラゾリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、オキサゾ
リジニル、イソキサゾリジニル、チアゾリジニル、ピラ
ゾリジニルのようなこれらの基に対応する、部分若しく
は完全還元型の飽和複素環基を挙げることができる。更
に、上記複素環基は、ベンゼン環のような他の環式基と
縮環していてもよく、例えば、ベンゾチエニル、ベンゾ
チアゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソベンゾフラニ
ル、クロメニル、キサンテニル、フェノキサチイニル、
インドリジニル、イソインドリル、インドリル、インダ
ゾリル、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、キノ
リル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニ
ル、キナゾリニル、カルバゾリル、カルボリニル、アク
リジニル、イソインドリニルのような基を挙げることが
できる。好適には5乃至6員芳香族複素環基であり、最
も好適には、フリル、チエニル、ピロリル又はイミダゾ
リル基である。
In the above formula, "heterocyclic group", "heterocyclic group substituted with at least one group selected from substituent group a" in the definition of R 5 and substituent group b, and "substituent group" a
And a heterocyclic group substituted with at least one group selected from b), a 5- to 7-membered heterocyclic group containing 1 to 3 sulfur atoms, oxygen atoms and / or nitrogen atoms. For example, furyl, thienyl, pyrrolyl, azepinyl, pyrazolyl, imidazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, 1,2,3-
Oxadiazolyl, triazolyl, tetrazolyl, thiadiazolyl, pyranyl, pyridyl, pyridazinyl, pyrimidinyl, aromatic heterocyclic groups such as pyrazinyl, and tetrahydropyranyl, morpholinyl, thiomorpholinyl, pyrrolidinyl, pyrrolinyl, imidazolidinyl, pyrazolidinyl, piperidinyl, piperazinyl, isoprazinyl, isoprazinyl, isoprazinyl Examples include partially or completely reduced saturated heterocyclic groups corresponding to these groups such as xazolidinyl, thiazolidinyl, and pyrazolidinyl. Further, the heterocyclic group may be condensed with another cyclic group such as a benzene ring. Inil,
Groups such as indolizinyl, isoindolyl, indolyl, indazolyl, purinyl, quinolizinyl, isoquinolyl, quinolyl, phthalazinyl, naphthyridinyl, quinoxalinyl, quinazolinyl, carbazolyl, carbolinyl, acridinyl, isoindolinyl. It is preferably a 5- to 6-membered aromatic heterocyclic group, most preferably a furyl, thienyl, pyrrolyl or imidazolyl group.

【0033】上記式中、置換基群aの定義における「ハ
ロゲン原子」は、弗素、塩素、臭素、沃素原子であり、
好適には、弗素原子又は塩素原子であり、最も好適には
弗素原子である。
In the above formula, the “halogen atom” in the definition of the substituent group “a” is a fluorine, chlorine, bromine or iodine atom,
Preferably it is a fluorine atom or a chlorine atom, most preferably a fluorine atom.

【0034】上記式中、R4及び置換基群aの定義にお
ける「低級アルキル基」は、例えば、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブ
チル、t−ブチル、ペンチル、イソペンチル、2−メチ
ルブチル、ネオペンチル、1−エチルプロピル、ヘキシ
ル、イソヘキシル、4−メチルペンチル、3−メチルペ
ンチル、2−メチルペンチル、1−メチルペンチル、
3,3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、
1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、
1,3−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチル、1
−エチルブチル、2−エチルブチル基のような炭素数1
乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であり、好適には
1−C4アルキル基であり、更に好適にはC1−C2アル
キル基であり、最も好適にはメチル基である。
In the above formula, the “lower alkyl group” in the definition of R 4 and the substituent group a is, for example, methyl, ethyl,
Propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, pentyl, isopentyl, 2-methylbutyl, neopentyl, 1-ethylpropyl, hexyl, isohexyl, 4-methylpentyl, 3-methylpentyl, 2-methylpentyl, 1-methylpentyl,
3,3-dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl,
1,1-dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl,
1,3-dimethylbutyl, 2,3-dimethylbutyl, 1
1-carbon group such as ethylbutyl and 2-ethylbutyl groups
From 6 to 6 linear or branched alkyl groups, preferably C 1 -C 4 alkyl groups, more preferably C 1 -C 2 alkyl groups, most preferably methyl group .

【0035】上記式中、置換基群aの定義における「ハ
ロゲノ低級アルキル基」は、前記「低級アルキル基」に
ハロゲン原子が置換した基を示し、例えば、トリフルオ
ロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロメチル、ジク
ロロメチル、ジブロモメチル、フルオロメチル、2,
2,2−トリフルオロエチル、2,2,2−トリクロロ
エチル、2−ブロモエチル、2−クロロエチル、2−フ
ルオロエチル、2−ヨ−ドエチル、3−クロロプロピ
ル、4−フルオロブチル、6−ヨ−ドヘキシル、2,2
−ジブロモエチル基のようなハロゲノC1−C6アルキル
基であり、好適にはハロゲノC1−C4アルキル基であ
り、更に好適にはハロゲノC1−C2アルキル基であり、
最も好適にはトリフルオロメチル基である。
In the above formula, the “halogeno lower alkyl group” in the definition of the substituent group “a” is a group in which the above “lower alkyl group” is substituted by a halogen atom, such as trifluoromethyl, trichloromethyl, difluoromethyl Dichloromethyl, dibromomethyl, fluoromethyl, 2,
2,2-trifluoroethyl, 2,2,2-trichloroethyl, 2-bromoethyl, 2-chloroethyl, 2-fluoroethyl, 2-iodoethyl, 3-chloropropyl, 4-fluorobutyl, 6-yo- Dohexyl, 2,2
A halogeno C 1 -C 6 alkyl group, such as a dibromoethyl group, preferably a halogeno C 1 -C 4 alkyl group, more preferably a halogeno C 1 -C 2 alkyl group;
Most preferably, it is a trifluoromethyl group.

【0036】上記式中、置換基群aの定義における「低
級アルコキシ基」は、前記「低級アルキル基」が酸素原
子に結合した基を示し、例えば、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキ
シ、s−ブトキシ、t−ブトキシ、ペントキシ、イソペ
ントキシ、2−メチルブトキシ、1−エチルプロポキ
シ、2−エチルプロポキシ、ネオペントキシ、ヘキシル
オキシ、4−メチルペントキシ、3−メチルペントキ
シ、2−メチルペントキシ、3,3−ジメチルブトキ
シ、2,2−ジメチルブトキシ、1,1−ジメチルブト
キシ、1,2−ジメチルブトキシ、1,3−ジメチルブ
トキシ、2,3−ジメチルブトキシ基のような炭素数1
乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基であり、好適に
はC1−C4アルコキシ基であり、更に好適にはC1−C2
アルコキシ基であり、最も好適にはメトキシ基である。
In the above formula, the “lower alkoxy group” in the definition of the substituent group “a” indicates a group in which the above “lower alkyl group” is bonded to an oxygen atom, for example, methoxy, ethoxy,
Propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, s-butoxy, t-butoxy, pentoxy, isopentoxy, 2-methylbutoxy, 1-ethylpropoxy, 2-ethylpropoxy, neopentoxy, hexyloxy, 4-methylpentoxy, 3-methyl Pentoxy, 2-methylpentoxy, 3,3-dimethylbutoxy, 2,2-dimethylbutoxy, 1,1-dimethylbutoxy, 1,2-dimethylbutoxy, 1,3-dimethylbutoxy, 2,3-dimethylbutoxy 1 carbon such as a group
From 6 to 6 linear or branched alkoxy groups, preferably C 1 -C 4 alkoxy groups, more preferably C 1 -C 2 alkoxy groups.
An alkoxy group, most preferably a methoxy group.

【0037】上記式中、置換基群aの定義における「低
級アルキルチオ基」は、前記「低級アルキル基」が硫黄
原子に結合した基を示し、例えば、メチルチオ、エチル
チオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、
イソブチルチオ、s−ブチルチオ、t−ブチルチオ、ペ
ンチルチオ、イソペンチルチオ、2−メチルブチルチ
オ、ネオペンチルチオ、ヘキシルチオ、4−メチルペン
チルチオ、3−メチルペンチルチオ、2−メチルペンチ
ルチオ、3,3−ジメチルブチルチオ、2,2−ジメチ
ルブチルチオ、1,1−ジメチルブチルチオ、1,2−
ジメチルブチルチオ、1,3−ジメチルブチルチオ、
2,3−ジメチルブチルチオ基のような炭素数1乃至6
個の直鎖又は分枝鎖アルキルチオ基であり、好適にはC
1−C4アルキルチオ基であり、更に好適にはC1−C2
ルキルチオ基であり、最も好適にはメチルチオ基であ
る。
In the above formula, the “lower alkylthio group” in the definition of the substituent group “a” indicates a group in which the above “lower alkyl group” is bonded to a sulfur atom, such as methylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio, butylthio,
Isobutylthio, s-butylthio, t-butylthio, pentylthio, isopentylthio, 2-methylbutylthio, neopentylthio, hexylthio, 4-methylpentylthio, 3-methylpentylthio, 2-methylpentylthio, 3,3 -Dimethylbutylthio, 2,2-dimethylbutylthio, 1,1-dimethylbutylthio, 1,2-
Dimethylbutylthio, 1,3-dimethylbutylthio,
1 to 6 carbon atoms such as 2,3-dimethylbutylthio group
Linear or branched alkylthio groups, preferably
An 1 -C 4 alkylthio group, more preferably a C 1 -C 2 alkylthio group, most preferably a methylthio group.

【0038】上記式中、置換基群aの定義における「低
級アルコキシカルボニル基」は、前記「低級アルコキシ
基」がカルボニル基に結合した基を示し、例えば、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカル
ボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニ
ル、イソブトキシカルボニル、s−ブトキシカルボニ
ル、t−ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、
イソペントキシカルボニル、2−メチルブトキシカルボ
ニル、ネオペントキシカルボニル、ヘキシルオキシカル
ボニル、4−メチルペントキシカルボニル、3−メチル
ペントキシカルボニル、2−メチルペントキシカルボニ
ル、3,3−ジメチルブトキシカルボニル、2,2−ジ
メチルブトキシカルボニル、1,1−ジメチルブトキシ
カルボニル、1,2−ジメチルブトキシカルボニル、
1,3−ジメチルブトキシカルボニル、2,3−ジメチ
ルブトキシカルボニル基のような炭素数2乃至7個の直
鎖又は分枝鎖アルコキシカルボニル基であり、であり、
好適にはC2−C5アルコキシカルボニル基であり、更に
好適にはC2−C3アルコキシカルボニル基であり、最も
好適にはメトキシカルボニル基である。
In the above formula, the term "lower alkoxycarbonyl group" in the definition of the substituent group a indicates a group in which the above "lower alkoxy group" is bonded to a carbonyl group, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, Propoxycarbonyl, butoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl, s-butoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, pentoxycarbonyl,
Isopentoxycarbonyl, 2-methylbutoxycarbonyl, neopentoxycarbonyl, hexyloxycarbonyl, 4-methylpentoxycarbonyl, 3-methylpentoxycarbonyl, 2-methylpentoxycarbonyl, 3,3-dimethylbutoxycarbonyl, 2 1,2-dimethylbutoxycarbonyl, 1,1-dimethylbutoxycarbonyl, 1,2-dimethylbutoxycarbonyl,
A straight-chain or branched-chain alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, such as 1,3-dimethylbutoxycarbonyl and 2,3-dimethylbutoxycarbonyl;
Suitable a C 2 -C 5 alkoxycarbonyl group, more preferably a C 2 -C 3 alkoxycarbonyl group, most preferably a methoxycarbonyl group.

【0039】上記式中、置換基群aの定義における「低
級脂肪族アシル基」は、水素原子又は飽和若しくは不飽
和の鎖状炭化水素基がカルボニル基に結合した基を示
し、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチ
リル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロ
イル、ヘキサノイル、アクリロイル、メタクリロイル、
クロトノイル基のような炭素数1乃至7個の直鎖又は分
枝鎖低級脂肪族アシル基であり、好適にはC1−C5低級
脂肪族アシル基であり、更に好適にはアセチル又はプロ
ピオニル基であり、最も好適にはアセチル基である。
In the above formula, the term "lower aliphatic acyl group" in the definition of the substituent group a represents a hydrogen atom or a group in which a saturated or unsaturated chain hydrocarbon group is bonded to a carbonyl group. Acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, pivaloyl, hexanoyl, acryloyl, methacryloyl,
It is a linear or branched lower aliphatic acyl group having 1 to 7 carbon atoms such as a crotonoyl group, preferably a C 1 -C 5 lower aliphatic acyl group, more preferably an acetyl or propionyl group. And most preferably an acetyl group.

【0040】上記式中、置換基群aの定義における「モ
ノ−低級アルキルアミノ基」は、前記「低級アルキル
基」が1個アミノ基に結合した前述したものと同意義を
示し、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピル
アミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、イソブチ
ルアミノ、s−ブチルアミノ、t−ブチルアミノ、ペン
チルアミノ、イソペンチルアミノ、2−メチルブチルア
ミノ、ネオペンチルアミノ、1−エチルプロピルアミ
ノ、ヘキシルアミノ、イソヘキシルアミノ、4−メチル
ペンチルアミノ、3−メチルペンチルアミノ、2−メチ
ルペンチルアミノ、1−メチルペンチルアミノ、3,3
−ジメチルブチルアミノ、2,2−ジメチルブチルアミ
ノ、1,1−ジメチルブチルアミノ、1,2−ジメチル
ブチルアミノ、1,3−ジメチルブチルアミノ、2,3
−ジメチルブチルアミノ、2−エチルブチルアミノ基の
ようなモノ−C1−C6アルキルアミノ基であり、好適に
はモノ−C1−C4アルキルアミノ基であり、更に好適に
はモノ−C1−C2アルキルアミノ基であり、最も好適に
はメチルアミノ基である。
In the above formula, the “mono-lower alkylamino group” in the definition of the substituent group “a” has the same meaning as described above in which one “lower alkyl group” is bonded to an amino group. Amino, ethylamino, propylamino, isopropylamino, butylamino, isobutylamino, s-butylamino, t-butylamino, pentylamino, isopentylamino, 2-methylbutylamino, neopentylamino, 1-ethylpropylamino, Hexylamino, isohexylamino, 4-methylpentylamino, 3-methylpentylamino, 2-methylpentylamino, 1-methylpentylamino, 3,3
-Dimethylbutylamino, 2,2-dimethylbutylamino, 1,1-dimethylbutylamino, 1,2-dimethylbutylamino, 1,3-dimethylbutylamino, 2,3
A mono-C 1 -C 6 alkylamino group such as -dimethylbutylamino, 2-ethylbutylamino group, preferably a mono-C 1 -C 4 alkylamino group, more preferably a mono-C 1 -C 4 alkylamino group. an 1 -C 2 alkylamino group, and most preferably a methylamino group.

【0041】上記式中、置換基群aの定義における「ジ
−低級アルキルアミノ基」は、前記「低級アルキル基」
が2個アミノ基に結合した基を示し、例えば、ジメチル
アミノ、ジエチルアミノ、N−エチル−N−メチルアミ
ノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジペンチルア
ミノ、ジヘキシルアミノ基のようなジ−C1−C6アルキ
ルアミノ基であり、好適にはジ−C1−C4アルキルアミ
ノ基であり、更に好適にはジ−C1−C2アルキルアミノ
基であり、最も好適にはジメチルアミノ基である。
In the above formula, the “di-lower alkylamino group” in the definition of the substituent group “a” is the above “lower alkyl group”
Represents a group bonded to two amino groups, for example, di-C 1 -C such as dimethylamino, diethylamino, N-ethyl-N-methylamino, dipropylamino, dibutylamino, dipentylamino, dihexylamino group. 6 alkylamino group, preferably a di -C 1 -C 4 alkylamino group, more preferably a di- -C 1 -C 2 alkylamino group, most preferably a dimethylamino group.

【0042】上記式中、置換基群aの定義における「低
級脂肪族アシルアミノ基」は、上記「低級脂肪族アシル
基」がアミノ基に結合した基を示し、例えば、ホルミル
アミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリ
ルアミノ、イソブチリルアミノ、バレリルアミノ、イソ
バレリルアミノ、ピバロイルアミノ、ヘキサノイルアミ
ノ、アクリロイルアミノ、メタクリロイルアミノ、クロ
トノイルアミノ基のような炭素数1乃至7個の直鎖又は
分枝鎖低級脂肪族アシルアミノ基であり、好適には、ア
セチルアミノ又はプロピオニルアミノ基であり、最も好
適にはアセチルアミノ基である。
In the above formula, the term "lower aliphatic acylamino group" in the definition of the substituent group "a" refers to a group in which the above "lower aliphatic acyl group" is bonded to an amino group, for example, formylamino, acetylamino, propionyl C1-C7 linear or branched lower fats such as amino, butyrylamino, isobutyrylamino, valerylamino, isovalerylamino, pivaloylamino, hexanoylamino, acryloylamino, methacryloylamino, crotonoylamino groups Group, preferably an acetylamino or propionylamino group, and most preferably an acetylamino group.

【0043】上記式中、R1及びR2の定義における「ア
ミノ基の保護基」とは、有機合成化学の分野で一般的に
使用されるアミノ基の保護基を意味し、例えば、前記
「低級アルキル基」;前記「低級脂肪族アシル基」、ク
ロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチ
ル、トリフルオロアセチルのようなハロゲノ低級脂肪族
アシル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシで
置換された低級脂肪族アシル基などの「脂肪族アシル
類」;ベンゾイル、1−インダンカルボニル、2−イン
ダンカルボニル、1−若しくは2−ナフトイルのような
アリールカルボニル基、4−クロロベンゾイル、4−フ
ルオロベンゾイルのようなハロゲノアリールカルボニル
基、2,4,6−トリメチルベンゾイル、4−トルオイ
ルのような低級アルキルで置換されたアリールカルボニ
ル基、4−アニソイルのような低級アルコキシで置換さ
れたアリールカルボニル基、4−ニトロベンゾイル、2
−ニトロベンゾイルのようなニトロで置換されたアリー
ルカルボニル基、2−(メトキシカルボニル)ベンゾイ
ルのような低級アルコキシカルボニルで置換されたアリ
ールカルボニル基、4−フェニルベンゾイルのようなア
リールで置換されたアリールカルボニル基などの「芳香
族アシル類」;前記「低級アルコキシカルボニル基」、
2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル、2−トリ
メチルシリルエトキシカルボニルのようなハロゲンまた
はトリ低級アルキルシリルで置換された低級アルコキシ
カルボニル基などの「アルコキシカルボニル類」;ビニ
ルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルのような
「アルケニルオキシカルボニル類」;ベンジルオキシカ
ルボニルのようなアラルキルオキシカルボニル基、4−
メトキシベンジルオキシカルボニル、3,4−ジメトキ
シベンジルオキシカルボニル、2−ニトロベンジルオキ
シカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニルの
ような置換基群aから選択される基で1乃至3個置換さ
れたアラルキルオキシカルボニル基などの「アラルキル
オキシカルボニル類」;トリメチルシリル、トリエチル
シリル、イソプロピルジメチルシリル、t−ブチルジメ
チルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−
t−ブチルシリル、トリイソプロピルシリルのようなト
リ低級アルキルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ジ
フェニルブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリ
ル、フェニルジイソプロピルシリルのようなアリールま
たはアリールと低級アルキルとでトリ置換されたシリル
基などの「シリル類」;ベンジル、フェネチル、3−フ
ェニルプロピル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメ
チル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナ
フチルジフェニルメチル、9−アンスリルメチルのよう
な1乃至3個のアリール基で置換された低級アルキル
基、4−メチルベンジル、2,4,6−トリメチルベン
ジル、3,4,5−トリメチルベンジル、4−メトキシ
ベンジル、4−メトキシフェニルジフェニルメチル、2
−ニトロベンジル、4−ニトロベンジル、4−クロロベ
ンジル、4−ブロモベンジル、4−シアノベンジル、4
−シアノベンジルジフェニルメチル、ビス(2−ニトロ
フェニル)メチル、ピペロニルのような低級アルキル、
低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲンまたはシアノでアリ
ール環が置換された1乃至3個のアリール基で置換され
た低級アルキル基などの「アラルキル類」;ならびに
N,N−ジメチルアミノメチレン、ベンジリデン、4−
メトキシベンジリデン、4−ニトロベンジリデン、サリ
シリデン、5−クロロサリシリデン、ジフェニルメチレ
ン、(5−クロロ−2−ヒドロキシフェニル)フェニル
メチレンのような「シッフ塩基を形成する置換されたメ
チレン基」が包含され、好適には、低級アルコキシカル
ボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又は置換基群
aから選択される基で1乃至3個置換されたアラルキル
オキシカルボニル基である。
In the above formula, R 1 And R Two "A" in the definition of
"Protecting group for amino group" is generally used in the field of synthetic organic chemistry.
Means the protecting group of the amino group used, for example,
“Lower alkyl group”; the above “lower aliphatic acyl group”,
Loroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl
Halogen, lower aliphatic such as trifluoroacetyl
Acyl group, lower alkoxy such as methoxyacetyl
“Aliphatic acyl” such as a substituted lower aliphatic acyl group
Benzoyl, 1-indancarbonyl, 2-yne
Like dancarbonyl, 1- or 2-naphthoyl
Arylcarbonyl group, 4-chlorobenzoyl, 4-phenyl
Halogenoarylcarbonyl such as fluorobenzoyl
Group, 2,4,6-trimethylbenzoyl, 4-toluoi
Arylcarbonyl substituted with lower alkyl such as
Substituted with a lower alkoxy group such as 4-anisoyl.
Arylcarbonyl group, 4-nitrobenzoyl, 2
Aryl substituted with nitro, such as nitrobenzoyl
Carbonyl group, 2- (methoxycarbonyl) benzoy
Ants substituted with lower alkoxycarbonyl such as
Carbonyl groups, 4-phenylbenzoyl
"Aromatic" such as arylcarbonyl group substituted by reel
Group acyls "; the above-mentioned" lower alkoxycarbonyl group ",
2,2,2-trichloroethoxycarbonyl, 2-tri
Halogen such as methylsilylethoxycarbonyl
Is lower alkoxy substituted with tri-lower alkylsilyl
"Alkoxycarbonyls" such as carbonyl groups; vinyl
Such as ruoxycarbonyl, allyloxycarbonyl
“Alkenyloxycarbonyls”; benzyloxyca
An aralkyloxycarbonyl group such as rubonyl,
Methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxy
Cibenzyloxycarbonyl, 2-nitrobenzyloxy
Of cyclocarbonyl, 4-nitrobenzyloxycarbonyl
1 to 3 substituted with a group selected from such a substituent group a.
Aralkyloxycarbonyl groups such as
Oxycarbonyls "; trimethylsilyl, triethyl
Silyl, isopropyldimethylsilyl, t-butyldimethyl
Tylsilyl, methyldiisopropylsilyl, methyldi-
tors such as t-butylsilyl and triisopropylsilyl;
Lower alkylsilyl group, diphenylmethylsilyl, di
Phenylbutylsilyl, diphenylisopropylsilyl
Aryl or phenyldiisopropylsilyl
Or tri-substituted silyl with lower alkyl
“Silyls” such as a group; benzyl, phenethyl, 3-phenyl
Phenyl, α-naphthylmethyl, β-naphthylme
Tyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, α-na
Like phthyldiphenylmethyl, 9-anthrylmethyl
Lower alkyl substituted with 1 to 3 aryl groups
Group, 4-methylbenzyl, 2,4,6-trimethylben
Jill, 3,4,5-trimethylbenzyl, 4-methoxy
Benzyl, 4-methoxyphenyldiphenylmethyl, 2
-Nitrobenzyl, 4-nitrobenzyl, 4-chlorobe
Benzyl, 4-bromobenzyl, 4-cyanobenzyl, 4
-Cyanobenzyldiphenylmethyl, bis (2-nitro
Phenyl) methyl, lower alkyl such as piperonyl,
Ali with lower alkoxy, nitro, halogen or cyano
Wherein the aryl ring is substituted with one to three substituted aryl groups
"Aralkyls" such as lower alkyl groups; and
N, N-dimethylaminomethylene, benzylidene, 4-
Methoxybenzylidene, 4-nitrobenzylidene, sari
Silidene, 5-chlorosalicylidene, diphenylmethyle
, (5-chloro-2-hydroxyphenyl) phenyl
Substituted methods that form "Schiff bases" such as methylene
And a lower alkoxy carboxy group.
Bonyl group, aralkyloxycarbonyl group or substituent group
aralkyl substituted with 1 to 3 groups selected from a
It is an oxycarbonyl group.

【0044】R3の定義における「ヒドロキシ基の保護
基」とは、加水素分解、加水分解、電気分解、光分解の
ような化学的方法により開裂し得る「反応における保護
基」、及び、「生体内で加水分解のような生物学的方法
により開裂し得る保護基」を示す。
The term "protecting group for hydroxy group" in the definition of R 3 includes "protecting group in the reaction" which can be cleaved by a chemical method such as hydrogenolysis, hydrolysis, electrolysis, or photolysis. "Protecting groups that can be cleaved in vivo by biological methods such as hydrolysis".

【0045】そのような「反応における保護基」として
は、例えば、前記「低級アルキル基」;前記「脂肪族ア
シル類」;前記「芳香族アシル類」;テトラヒドロピラ
ン−2−イル、3−ブロモテトラヒドロピラン−2−イ
ル、4−メトキシテトラヒドロピラン−4−イル、テト
ラヒドロチオピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒ
ドロチオピラン−4−イルのような「テトラヒドロピラ
ニル又はテトラヒドロチオピラニル類」;テトラヒドロ
フラン−2−イル、テトラヒドロチオフラン−2−イル
のような「テトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオ
フラニル類」;前記「シリル類」;メトキシメチル、
1,1−ジメチル−1−メトキシメチル、エトキシメチ
ル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキ
シメチル、t−ブトキシメチルのような低級アルコキシ
メチル基、2−メトキシエトキシメチルのような低級ア
ルコキシ化低級アルコキシメチル基、2,2,2−トリ
クロロエトキシメチル、ビス(2−クロロエトキシ)メ
チルのようなハロゲノ低級アルコキシメチル等の「アル
コキシメチル基」;1−エトキシエチル、1−(イソプ
ロポキシ)エチルのような低級アルコキシ化エチル基、
2,2,2−トリクロロエチルのようなハロゲン化エチ
ル基等の「置換エチル類」;前記「アラルキル類」;前
記「アルコキシカルボニル類」;前記「アルケニルオキ
シカルボニル類」;前記「アラルキルオキシカルボニル
基」を挙げることができる。
Examples of such “protecting group in the reaction” include the above “lower alkyl group”; the above “aliphatic acyls”; the above “aromatic acyls”; tetrahydropyran-2-yl, 3-bromo "Tetrahydropyranyl or tetrahydrothiopyranyls" such as tetrahydropyran-2-yl, 4-methoxytetrahydropyran-4-yl, tetrahydrothiopyran-2-yl, 4-methoxytetrahydrothiopyran-4-yl; “Tetrahydrofuranyl or tetrahydrothiofuranyls” such as tetrahydrofuran-2-yl and tetrahydrothiofuran-2-yl; the above “silyls”; methoxymethyl;
Lower alkoxymethyl groups such as 1,1-dimethyl-1-methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, isopropoxymethyl, butoxymethyl, t-butoxymethyl, lower alkoxylated lower alkoxymethyl groups such as 2-methoxyethoxymethyl Groups, "alkoxymethyl groups" such as halogeno lower alkoxymethyl such as 2,2,2-trichloroethoxymethyl, bis (2-chloroethoxy) methyl; 1-ethoxyethyl, 1- (isopropoxy) ethyl and the like Lower alkoxylated ethyl group,
“Substituted ethyls” such as halogenated ethyl groups such as 2,2,2-trichloroethyl; the “aralkyls”; the “alkoxycarbonyls”; the “alkenyloxycarbonyls”; the “aralkyloxycarbonyl groups” ].

【0046】一方、「生体内で加水分解のような生物学
的方法により開裂し得る保護基」としては、例えば、エ
チルカルボニルオキシメチル、ピバロイルオキシメチ
ル、ジメチルアミノアセチルキシメチル、1−アセトキ
シエチルのようなアシルオキシアルキル類;1−(メト
キシカルボニルオキシ)エチル、1−(エトキシカルボ
ニルオキシ)エチル、エトキシカルボニルオキシメチ
ル、1−(イソプロポキシカルボニルオキシ)エチル、
1−(t−ブトキシカルボニルオキシ)エチル、1−
(エトキシカルボニルオキシ)プロピル、1−(シクロ
ヘキシルオキシカルボニルオキシ)エチルのような1−
(アルコキシカルボニルオキシ)アルキル類;フタリジ
ル基;4−メチル−オキソジオキソレニルメチル、4−
フェニル−オキソジオキソレニルメチル、オキソジオキ
ソレニルメチルのようなオキソジオキソレニルメチル基
等の「カルボニルオキシアルキル類」;前記「脂肪族ア
シル類」;前記「芳香族アシル類」;「コハク酸のハー
フエステル塩残基」;「燐酸エステル塩残基」;「アミ
ノ酸等のエステル形成残基」;カルバモイル基;ベンジ
リデンのようなアラルキリデン基;メトキシエチリデ
ン、エトキシエチリデンのようなアルコキシエチリデン
基;オキソメチレン;チオキソメチレンのような「2つ
の水酸基の保護基」;及び、ピバロイルオキシメチルオ
キシカルボニルのような「カルボニルオキシアルキルオ
キシカルボニル基」を挙げることができ、そのような誘
導体か否かは、ラットやマウスのような実験動物に静脈
注射により投与し、その後の動物の体液を調べ、元とな
る化合物又はその薬理学的に許容される塩を検出できる
ことにより決定できる。
On the other hand, the "protecting group which can be cleaved in vivo by a biological method such as hydrolysis" includes, for example, ethylcarbonyloxymethyl, pivaloyloxymethyl, dimethylaminoacetyloxymethyl, 1-acetoxy Acyloxyalkyls such as ethyl; 1- (methoxycarbonyloxy) ethyl, 1- (ethoxycarbonyloxy) ethyl, ethoxycarbonyloxymethyl, 1- (isopropoxycarbonyloxy) ethyl,
1- (t-butoxycarbonyloxy) ethyl, 1-
1- such as (ethoxycarbonyloxy) propyl, 1- (cyclohexyloxycarbonyloxy) ethyl
(Alkoxycarbonyloxy) alkyls; phthalidyl group; 4-methyl-oxodioxoenylmethyl, 4-
"Carbonyloxyalkyls" such as oxodioxorenylmethyl groups such as phenyl-oxodioxorenylmethyl and oxodioxorenylmethyl; the "aliphatic acyls"; the "aromatic acyls";"Half ester salt residue of succinic acid";"phosphateresidue";"ester forming residue such as amino acid"; carbamoyl group; aralkylidene group such as benzylidene; alkoxyethylidene group such as methoxyethylidene and ethoxyethylidene. Oxomethylene; "two hydroxyl protecting groups" such as thioxomethylene; and "carbonyloxyalkyloxycarbonyl group" such as pivaloyloxymethyloxycarbonyl. Whether or not administered by intravenous injection to experimental animals such as rats and mice, Examining body fluids of the animal, after, it can be determined by detectable compound or a pharmacologically acceptable salt thereof underlying.

【0047】このようなヒドロキシ基の保護基として、
好適には、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル基又は置
換基群aから選択される基で1乃至3個置換された芳香
族アシル基である。
As such a protecting group for a hydroxy group,
Preferably, it is a lower aliphatic acyl group, an aromatic acyl group or an aromatic acyl group substituted by 1 to 3 groups selected from a substituent group a.

【0048】上記において、R5の定義における「置換
基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換
されたシクロアルキル基」の具体例としては、例えば、
2−フルオロシクロプロピル、2−クロロシクロプロピ
ル、2−若しくは3−フルオロシクロペンチル、2−若
しくは3−クロロシクロペンチル、2−,3−若しくは
4−フルオロシクロヘキシル、2−,3−若しくは4−
クロロシクロヘキシル、2−,3−若しくは4−ブロモ
シクロヘキシル、2−,3−若しくは4−ヨ−ドシクロ
ヘキシル、2−メチルシクロプロピル、2−メチルシク
ロブチル、2−若しくは3−メチルシクロペンチル、2
−若しくは3−エチルシクロペンチル、2−,3−若し
くは4−メチルシクロヘキシル、2−,3−若しくは4
−エチルシクロヘキシル、2−トリフルオロメチルシク
ロプロピル、2−若しくは3−トリフルオロメチルシク
ロペンチル、2−,3−若しくは4−トリフルオロメチ
ルシクロヘキシル、2−メトキシシクロプロピル、2−
若しくは3−メトキシシクロペンチル、2−若しくは3
−エトキシシクロペンチル、2−,3−若しくは4−メ
トキシシクロヘキシル、2−,3−若しくは4−エトキ
シシクロヘキシル、2−,3−若しくは4−プロポキシ
シクロヘキシル、2−,3−若しくは4−イソプロポキ
シシクロヘキシル、2−,3−若しくは4−(1−エチ
ルプロポキシ)シクロヘキシル、2−,3−若しくは4
−(2−エチルプロポキシ)シクロヘキシル、2−カル
ボキシルシクロプロピル、2−若しくは3−カルボキシ
ルシクロペンチル、2−,3−若しくは4−カルボキシ
ルシクロヘキシル、2−メトキシカルボニルシクロプロ
ピル、2−若しくは3−メトキシカルボニルシクロペン
チル、2−,3−若しくは4−メトキシカルボニルシク
ロヘキシル、2−ヒドロキシシクロプロピル、2−若し
くは3−ヒドロキシシクロペンチル、2−,3−若しく
は4−ヒドロキシシクロヘキシル、2−ホルミルシクロ
プロピル、2−若しくは3−ホルミルシクロペンチル、
2−,3−若しくは4−ホルミルシクロヘキシル、2−
アセチルシクロプロピル、2−若しくは3−アセチルシ
クロペンチル、2−,3−若しくは4−アセチルシクロ
ヘキシル、2−アミノシクロプロピル、2−若しくは3
−アミノシクロペンチル、2−,3−若しくは4−アミ
ノシクロヘキシル、2−メチルアミノシクロプロピル、
2−若しくは3−メチルアミノシクロペンチル、2−若
しくは3−エチルアミノシクロペンチル、2−,3−若
しくは4−メチルアミノシクロヘキシル、2−ジメチル
アミノシクロプロピル、2−若しくは3−ジメチルアミ
ノシクロペンチル、2−若しくは3−ジエチルアミノシ
クロペンチル、2−,3−若しくは4−ジメチルアミノ
シクロヘキシル、2−シアノシクロプロピル、2−若し
くは3−シアノシクロペンチル、2−,3−若しくは4
−シアノシクロヘキシル、2−若しくは3−シクロヘキ
シルシクロペンチル、2−,3−若しくは4−シクロヘ
キシルシクロヘキシル、2−フェニルシクロプロピル、
2−若しくは3−フェニルシクロペンチル、2−,3−
若しくは4−フェニルシクロヘキシル、3,4−ジフル
オロシクロヘキシル、3,4−ジクロロシクロヘキシ
ル、2,3−ジメトキシシクロヘキシル、3,4−ジメ
トキシシクロヘキシル、3,5−ジメトキシシクロヘキ
シル、3,4,5−トリメトキシシクロヘキシル基であ
り、好適には、置換基群a及びbから選択される基で1
乃至3個置換されたシクロアルキル基であり、更に好適
には、1乃至3個置換されたシクロアルキル基(該置換
基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ基か
ら成る群から選択される基である。)であり、より好適
には、1乃至3個置換されたシクロアルキル基(該置換
基は、ハロゲン原子、低級アルキル基及び低級アルコキ
シ基から成る群から選択される基である。)であり、最
も好適には、1個置換されたシクロヘキシル基(該置換
基は、ハロゲン原子、低級アルキル基又は低級アルコキ
シ基である。)である。
In the above, specific examples of “cycloalkyl group substituted with at least one group selected from substituent groups a and b” in the definition of R 5 include, for example,
2-fluorocyclopropyl, 2-chlorocyclopropyl, 2- or 3-fluorocyclopentyl, 2- or 3-chlorocyclopentyl, 2-, 3- or 4-fluorocyclohexyl, 2-, 3- or 4-
Chlorocyclohexyl, 2-, 3- or 4-bromocyclohexyl, 2-, 3- or 4-iodocyclohexyl, 2-methylcyclopropyl, 2-methylcyclobutyl, 2- or 3-methylcyclopentyl, 2
-Or 3-ethylcyclopentyl, 2-, 3- or 4-methylcyclohexyl, 2-, 3- or 4
-Ethylcyclohexyl, 2-trifluoromethylcyclopropyl, 2- or 3-trifluoromethylcyclopentyl, 2-, 3- or 4-trifluoromethylcyclohexyl, 2-methoxycyclopropyl, 2-
Or 3-methoxycyclopentyl, 2- or 3
-Ethoxycyclopentyl, 2-, 3- or 4-methoxycyclohexyl, 2-, 3- or 4-ethoxycyclohexyl, 2-, 3- or 4-propoxycyclohexyl, 2-, 3- or 4-isopropoxycyclohexyl, 2 -, 3- or 4- (1-ethylpropoxy) cyclohexyl, 2-, 3- or 4
-(2-ethylpropoxy) cyclohexyl, 2-carboxylcyclopropyl, 2- or 3-carboxylcyclopentyl, 2-, 3- or 4-carboxylcyclohexyl, 2-methoxycarbonylcyclopropyl, 2- or 3-methoxycarbonylcyclopentyl, 2-, 3- or 4-methoxycarbonylcyclohexyl, 2-hydroxycyclopropyl, 2- or 3-hydroxycyclopentyl, 2-, 3- or 4-hydroxycyclohexyl, 2-formylcyclopropyl, 2- or 3-formylcyclopentyl ,
2-, 3- or 4-formylcyclohexyl, 2-
Acetylcyclopropyl, 2- or 3-acetylcyclopentyl, 2-, 3- or 4-acetylcyclohexyl, 2-aminocyclopropyl, 2- or 3
-Aminocyclopentyl, 2-, 3- or 4-aminocyclohexyl, 2-methylaminocyclopropyl,
2- or 3-methylaminocyclopentyl, 2- or 3-ethylaminocyclopentyl, 2-, 3- or 4-methylaminocyclohexyl, 2-dimethylaminocyclopropyl, 2- or 3-dimethylaminocyclopentyl, 2- or 3 -Diethylaminocyclopentyl, 2-, 3- or 4-dimethylaminocyclohexyl, 2-cyanocyclopropyl, 2- or 3-cyanocyclopentyl, 2-, 3- or 4
-Cyanocyclohexyl, 2- or 3-cyclohexylcyclopentyl, 2-, 3- or 4-cyclohexylcyclohexyl, 2-phenylcyclopropyl,
2- or 3-phenylcyclopentyl, 2-, 3-
Or 4-phenylcyclohexyl, 3,4-difluorocyclohexyl, 3,4-dichlorocyclohexyl, 2,3-dimethoxycyclohexyl, 3,4-dimethoxycyclohexyl, 3,5-dimethoxycyclohexyl, 3,4,5-trimethoxycyclohexyl And preferably a group selected from substituent groups a and b.
A cycloalkyl group substituted with 1 to 3 substituents, and more preferably a cycloalkyl group substituted with 1 to 3 substituents (the substituent is a halogen atom, a lower alkyl group, a halogeno lower alkyl group, a lower alkoxy group and a lower alkoxy group). And more preferably a cycloalkyl group substituted with 1 to 3 substituents, wherein the substituent comprises a halogen atom, a lower alkyl group and a lower alkoxy group. And most preferably a monosubstituted cyclohexyl group (the substituent is a halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group).

【0049】上記において、R5の定義における「置換
基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換
されたアリ−ル基」の具体例としては、例えば、2−,
3−若しくは4−フルオロフェニル、2−,3−若しく
は4−クロロフェニル、2−,3−若しくは4−ブロモ
フェニル、2−,3−若しくは4−ヨ−ドフェニル、2
−,3−若しくは4−メチルフェニル、2−,3−若し
くは4−エチルフェニル、2−,3−若しくは4−プロ
ピルフェニル、2−,3−若しくは4−ブチルフェニ
ル、2−,3−若しくは4−ペンチルフェニル、2−,
3−若しくは4−トリフルオロメチルフェニル、2−,
3−若しくは4−メトキシフェニル、2−,3−若しく
は4−エトキシフェニル、2−,3−若しくは4−プロ
ポキシフェニル、2−,3−若しくは4−イソプロポキ
シフェニル、2−,3−若しくは4−ブトキシフェニ
ル、2−,3−若しくは4−(1−エチルプロポキシ)
フェニル、2−,3−若しくは4−(2−エチルプロポ
キシ)フェニル、2−,3−若しくは4−メチルチオフ
ェニル、2−,3−若しくは4−エチルチオフェニル、
2−,3−若しくは4−カルボキシルフェニル、2−,
3−若しくは4−メトキシカルボニルフェニル、2−,
3−若しくは4−エトキシカルボニルフェニル、2−,
3−若しくは4−ヒドロキシフェニル、2−,3−若し
くは4−ホルミルフェニル、2−,3−若しくは4−ア
セチルフェニル、2−,3−若しくは4−アミノフェニ
ル、2−,3−若しくは4−メチルアミノフェニル、2
−,3−若しくは4−ジメチルアミノフェニル、2−,
3−若しくは4−シアノフェニル、2−,3−若しくは
4−シクロペンチルフェニル、2−,3−若しくは4−
シクロヘキシルフェニル、2−,3−若しくは4−ビフ
ェニル、2,4−ジフルオロフェニル、3,4−ジフル
オロフェニル、3,5−ジフルオロフェニル、2,4−
ジクロロフェニル、3,4−ジクロロフェニル、3,5
−ジクロロフェニル、3,4−ジブロモフェニル、2,
3−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、
3,5−ジメチルフェニル、2,3−ジメトキシフェニ
ル、3,4−ジメトキシフェニル、3,5−ジメトキシ
フェニル、3,4,5−トリメトキシフェニル、3−フ
ルオロ−4−メトキシフェニル、4−メチル−2−メト
キシフェニル、6−フルオロ−4−メチル−2−メトキ
シフェニル、5−フルオロインデン−3−イル、5−フ
ルオロインデン−3−イル、5−メチルインデン−3−
イル、5−メトキシインデン−3−イル、5−フルオロ
インデン−2−イル、5−クロロインデン−2−イル、
5−メチルインデン−2−イル、5−メトキシインデン
−2−イル、5−ヒドロキシインデン−3−イル、5−
ニトロインデン−3−イル、5−シクロヘキシルインデ
ン−3−イル、5−フェニルインデン−3−イル、5−
フェノキシインデン−3−イル、5−ベンジルオキシイ
ンデン−3−イル、5−フェニルチオインデン−3−イ
ル、5−ヒドロキシインデン−2−イル、5−ニトロイ
ンデン−2−イル、5−シクロヘキシルインデン−2−
イル、5−フェニルインデン−2−イル、5−フルオロ
ナフタレン−2−イル、5−フルオロナフタレン−2−
イル、5−メチルナフタレン−2−イル、5−メトキシ
ナフタレン−2−イル、5−フルオロナフタレン−1−
イル、5−フルオロナフタレン−1−イル、5−メチル
ナフタレン−1−イル、5−メトキシナフタレン−1−
イル、5−ヒドロキシナフタレン−2−イル、5−ニト
ロナフタレン−2−イル、5−シクロヘキシルナフタレ
ン−2−イル、5−フェニルナフタレン−2−イル、5
−フェノキシナフタレン−2−イル、5−ベンジルオキ
シナフタレン−2−イル、5−フェニルチオナフタレン
−2−イル、5−ヒドロキシナフタレン−1−イル、5
−ニトロナフタレン−1−イル、5−シクロヘキシルナ
フタレン−1−イル、5−フェニルナフタレン−1−イ
ル基であり、好適には、置換基群a及びbから選択され
る基で1乃至3個置換されたアリ−ル基であり、更に好
適には、1乃至3個置換されたアリ−ル基(該置換基
は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アル
キル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ基から
成る群から選択される基である。)であり、より好適に
は、1乃至3個置換されたアリ−ル基(該置換基は、ハ
ロゲン原子、低級アルキル基及び低級アルコキシ基から
成る群から選択される基である。)であり、更により1
個置換されたアリ−ル基(該置換基は、ハロゲン原子、
低級アルキル基又は低級アルコキシ基である。)であ
り、最も好適にはp−トリル基である。
In the above, specific examples of the "aryl group substituted with at least one group selected from substituent groups a and b" in the definition of R 5 include, for example, 2-,
3- or 4-fluorophenyl, 2-, 3- or 4-chlorophenyl, 2-, 3- or 4-bromophenyl, 2-, 3- or 4-iodophenyl, 2
-, 3- or 4-methylphenyl, 2-, 3- or 4-ethylphenyl, 2-, 3- or 4-propylphenyl, 2-, 3- or 4-butylphenyl, 2-, 3- or 4 -Pentylphenyl, 2-,
3- or 4-trifluoromethylphenyl, 2-,
3- or 4-methoxyphenyl, 2-, 3- or 4-ethoxyphenyl, 2-, 3- or 4-propoxyphenyl, 2-, 3- or 4-isopropoxyphenyl, 2-, 3- or 4- Butoxyphenyl, 2-, 3- or 4- (1-ethylpropoxy)
Phenyl, 2-, 3- or 4- (2-ethylpropoxy) phenyl, 2-, 3- or 4-methylthiophenyl, 2-, 3- or 4-ethylthiophenyl,
2-, 3- or 4-carboxylphenyl, 2-,
3- or 4-methoxycarbonylphenyl, 2-,
3- or 4-ethoxycarbonylphenyl, 2-,
3- or 4-hydroxyphenyl, 2-, 3- or 4-formylphenyl, 2-, 3- or 4-acetylphenyl, 2-, 3- or 4-aminophenyl, 2-, 3- or 4-methyl Aminophenyl, 2
-, 3- or 4-dimethylaminophenyl, 2-,
3- or 4-cyanophenyl, 2-, 3- or 4-cyclopentylphenyl, 2-, 3- or 4-
Cyclohexylphenyl, 2-, 3- or 4-biphenyl, 2,4-difluorophenyl, 3,4-difluorophenyl, 3,5-difluorophenyl, 2,4-
Dichlorophenyl, 3,4-dichlorophenyl, 3,5
-Dichlorophenyl, 3,4-dibromophenyl, 2,
3-dimethylphenyl, 3,4-dimethylphenyl,
3,5-dimethylphenyl, 2,3-dimethoxyphenyl, 3,4-dimethoxyphenyl, 3,5-dimethoxyphenyl, 3,4,5-trimethoxyphenyl, 3-fluoro-4-methoxyphenyl, 4-methyl -2-methoxyphenyl, 6-fluoro-4-methyl-2-methoxyphenyl, 5-fluoroinden-3-yl, 5-fluoroinden-3-yl, 5-methylinden-3-
Yl, 5-methoxyinden-3-yl, 5-fluoroinden-2-yl, 5-chloroinden-2-yl,
5-methylinden-2-yl, 5-methoxyinden-2-yl, 5-hydroxyinden-3-yl, 5-
Nitroinden-3-yl, 5-cyclohexylinden-3-yl, 5-phenylinden-3-yl, 5-
Phenoxyinden-3-yl, 5-benzyloxyinden-3-yl, 5-phenylthioinden-3-yl, 5-hydroxyinden-2-yl, 5-nitroinden-2-yl, 5-cyclohexylindene- 2-
Yl, 5-phenylinden-2-yl, 5-fluoronaphthalen-2-yl, 5-fluoronaphthalen-2-
Yl, 5-methylnaphthalen-2-yl, 5-methoxynaphthalen-2-yl, 5-fluoronaphthalen-1-
Yl, 5-fluoronaphthalen-1-yl, 5-methylnaphthalen-1-yl, 5-methoxynaphthalene-1-
Yl, 5-hydroxynaphthalen-2-yl, 5-nitronaphthalen-2-yl, 5-cyclohexylnaphthalen-2-yl, 5-phenylnaphthalen-2-yl,
-Phenoxynaphthalen-2-yl, 5-benzyloxynaphthalen-2-yl, 5-phenylthionaphthalen-2-yl, 5-hydroxynaphthalen-1-yl,
-Nitronaphthalen-1-yl, 5-cyclohexylnaphthalen-1-yl and 5-phenylnaphthalen-1-yl groups, preferably substituted by 1 to 3 groups selected from substituent groups a and b. And more preferably a substituted or unsubstituted aryl group having 1 to 3 substituents such as a halogen atom, a lower alkyl group, a halogeno lower alkyl group, a lower alkoxy group and a lower alkylthio group. And more preferably an aryl group substituted with 1 to 3 substituents (the substituent is a group consisting of a halogen atom, a lower alkyl group and a lower alkoxy group). A group selected from the group consisting of
A monosubstituted aryl group (the substituent is a halogen atom,
It is a lower alkyl group or a lower alkoxy group. ), And most preferably a p-tolyl group.

【0050】上記において、R5の定義における「置換
基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置換
された複素環基」の具体例としては、例えば、3−,4
−若しくは5−メチルフラン−2−イル、2−,4−若
しくは5−メチルフラン−3−イル、3−,4−若しく
は5−フルオロチオフェン−2−イル、2−,4−若し
くは5−フルオロフラン−3−イル、3−,4−若しく
は5−ブロモチオフェン−2−イル、2−,4−若しく
は5−ブロモフラン−3−イル、3−,4−若しくは5
−メチルチオフェン−2−イル、2−,4−若しくは5
−メチルチオフェン−3−イル、3−,4−若しくは5
−エチルチオフェン−2−イル、2−,4−若しくは5
−エチルチオフェン−3−イル、3−,4−若しくは5
−メトキシチオフェン−2−イル、2−,4−若しくは
5−メトキシチオフェン−3−イル、3−若しくは4−
メチルチアゾ−ル−5−イル、3−,4−若しくは5−
フルオロベンゾチオフェン−2−イル、3−,4−若し
くは5−ブロモベンゾチオフェン−2−イル、3−,4
−若しくは5−メチルベンゾチオフェン−2−イル、3
−,4−若しくは5−メトキシベンゾチオフェン−2−
イル、2−,4−若しくは5−フルオロベンゾチオフェ
ン−3−イル、2−,4−若しくは5−ブロモベンゾチ
オフェン−3−イル、2−,4−若しくは5−メチルベ
ンゾチオフェン−3−イル、2−,4−若しくは5−メ
トキシベンゾチオフェン−3−イル、4−,5−,6−
若しくは7−メチルベンゾチオフェン−2−イル、3
−,4−若しくは5−ヒドロキシフラン−2−イル、2
−,4−若しくは5−ヒドロキシフラン−3−イル、3
−,4−若しくは5−ヒドロキシチオフェン−2−イ
ル、3−,4−若しくは5−ニトロチオフェン−2−イ
ル、3−,4−若しくは5−フェニルチオフェン−2−
イル、2−,4−若しくは5−ヒドロキシチオフェン−
3−イル、2−,4−若しくは5−シアノチオフェン−
3−イル、1−,2−若しくは3−ヒドロキシピリジン
−4−イル、1−,2−若しくは3−シアノピリジン−
4−イル、1−,2−若しくは3−フェニルピリジン−
4−イル基であり、好適には、置換基群a及びbから選
択される基で1乃至3個置換された複素環基であり、更
に好適には、置換基群a及びbから選択される基で1乃
至3個置換されたフリル、チエニル、ピロリル又はイミ
ダゾリル基であり、より好適には、1乃至3個置換され
たフリル、チエニル、ピロリル又はイミダゾリル基(該
置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低
級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルキルチオ
基から成る群から選択される基である。)であり、更に
より好適には、1乃至3個置換されたフリル、チエニ
ル、ピロリル又はイミダゾリル基(該置換基は、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基及び低級アルコキシ基から成る
群から選択される基である。)であり、最も好適には、
1個置換されたフリル、チエニル、ピロリル又はイミダ
ゾリル基(該置換基は、ハロゲン原子、低級アルキル基
及び低級アルコキシ基から成る群から選択される基であ
る。)である。
In the above, specific examples of “heterocyclic group substituted by at least one group selected from substituent groups a and b” in the definition of R 5 include, for example, 3-, 4
-Or 5-methylfuran-2-yl, 2-, 4- or 5-methylfuran-3-yl, 3-, 4- or 5-fluorothiophen-2-yl, 2-, 4- or 5-fluoro Furan-3-yl, 3-, 4- or 5-bromothiophen-2-yl, 2-, 4- or 5-bromofuran-3-yl, 3-, 4- or 5
-Methylthiophen-2-yl, 2-, 4- or 5
-Methylthiophen-3-yl, 3-, 4- or 5
-Ethylthiophen-2-yl, 2-, 4- or 5
-Ethylthiophen-3-yl, 3-, 4- or 5
-Methoxythiophen-2-yl, 2-, 4- or 5-methoxythiophen-3-yl, 3- or 4-
Methylthiazol-5-yl, 3-, 4- or 5-
Fluorobenzothiophen-2-yl, 3-, 4- or 5-bromobenzothiophen-2-yl, 3-, 4
-Or 5-methylbenzothiophen-2-yl, 3
-, 4- or 5-methoxybenzothiophene-2-
Yl, 2-, 4- or 5-fluorobenzothiophen-3-yl, 2-, 4- or 5-bromobenzothiophen-3-yl, 2-, 4- or 5-methylbenzothiophen-3-yl, 2-, 4- or 5-methoxybenzothiophen-3-yl, 4-, 5-, 6-
Or 7-methylbenzothiophen-2-yl, 3
-, 4- or 5-hydroxyfuran-2-yl, 2
-, 4- or 5-hydroxyfuran-3-yl, 3
-, 4- or 5-hydroxythiophen-2-yl, 3-, 4- or 5-nitrothiophen-2-yl, 3-, 4- or 5-phenylthiophen-2-
Yl, 2-, 4- or 5-hydroxythiophene
3-yl, 2-, 4- or 5-cyanothiophene-
3-yl, 1-, 2- or 3-hydroxypyridin-4-yl, 1-, 2- or 3-cyanopyridine-
4-yl, 1-, 2- or 3-phenylpyridine-
4-yl group, preferably a heterocyclic group substituted by 1 to 3 groups selected from substituent groups a and b, more preferably a heterocyclic group selected from substituent groups a and b. A furyl, thienyl, pyrrolyl or imidazolyl group substituted with 1 to 3 substituents, more preferably a furyl, thienyl, pyrrolyl or imidazolyl group substituted with 1 to 3 substituents (the substituent is a halogen atom, A lower alkyl group, a halogeno-lower alkyl group, a lower alkoxy group and a lower alkylthio group), and still more preferably 1 to 3 substituted furyl, thienyl, pyrrolyl or An imidazolyl group (the substituent is a group selected from the group consisting of a halogen atom, a lower alkyl group and a lower alkoxy group), most preferably
1-substituted furyl, thienyl, pyrrolyl or imidazolyl group (the substituent is a group selected from the group consisting of halogen atoms, lower alkyl groups and lower alkoxy groups).

【0051】「その薬理上許容される塩」とは、本発明
の一般式(I)を有する化合物は、アミノ基のような塩
基性の基を有する場合には酸と反応させることにより、
又、カルボキシル基のような酸性基を有する場合には塩
基と反応させることにより、塩にすることができるの
で、その塩を示す。
"Pharmacologically acceptable salt" means that the compound having the general formula (I) of the present invention is reacted with an acid when the compound has a basic group such as an amino group.
When the compound has an acidic group such as a carboxyl group, it can be converted to a salt by reacting with a base.

【0052】塩基性基に基づく塩としては、好適には、
弗化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩の
ようなハロゲン化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸
塩、燐酸塩等の無機酸塩;メタンスルホン酸塩、トリフ
ルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩のよう
な低級アルカンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、
p−トルエンスルホン酸塩のようなアリ−ルスルホン酸
塩、酢酸塩、りんご酸塩、フマ−ル酸塩、コハク酸塩、
クエン酸塩、アスコルビン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マ
レイン酸塩等の有機酸塩;及び、グリシン塩、リジン
塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、ア
スパラギン酸塩のようなアミノ酸塩を挙げることがで
き、最も好適には有機酸塩を挙げることができる。
The salt based on a basic group is preferably
Inorganic acid salts such as hydrohalides such as hydrofluoride, hydrochloride, hydrobromide and hydroiodide, nitrates, perchlorates, sulfates and phosphates; methanesulfonic acid Salts, lower alkane sulfonates such as trifluoromethane sulfonate, ethane sulfonate, benzene sulfonate,
aryl sulfonates such as p-toluenesulfonate, acetate, malate, fumarate, succinate,
Organic acid salts such as citrate, ascorbate, tartrate, oxalate, and maleate; and amino acid salts such as glycine, lysine, arginine, ornithine, glutamate, and aspartate. And most preferably an organic acid salt.

【0053】一方、酸性基に基づく塩としては、好適に
は、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩のようなア
ルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩のような
アルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、鉄塩等の金属
塩;アンモニウム塩のような無機塩、t−オクチルアミ
ン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミ
ン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレン
ジアミン塩、N−メチルグルカミン塩、グアニジン塩、
ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキ
シルアミン塩、N,N’−ジベンジルエチレンジアミン
塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノ−ル
アミン塩、N−ベンジルフェネチルアミン塩、ピペラジ
ン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス(ヒドロキ
シメチル)アミノメタン塩のような有機塩等のアミン
塩;及び、グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オル
ニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のような
アミノ酸塩を挙げることができる。
On the other hand, the salts based on acidic groups are preferably alkali metal salts such as sodium salt, potassium salt and lithium salt, alkaline earth metal salts such as calcium salt and magnesium salt, aluminum salt, iron salt and the like. Metal salts such as salts; inorganic salts such as ammonium salts, t-octylamine salts, dibenzylamine salts, morpholine salts, glucosamine salts, phenylglycine alkyl ester salts, ethylenediamine salts, N-methylglucamine salts, guanidine salts,
Diethylamine salt, triethylamine salt, dicyclohexylamine salt, N, N'-dibenzylethylenediamine salt, chloroprocaine salt, procaine salt, diethanolamine salt, N-benzylphenethylamine salt, piperazine salt, tetramethylammonium salt, tris (hydroxymethyl A) amine salts such as organic salts such as aminomethane salts; and amino acid salts such as glycine salts, lysine salts, arginine salts, ornithine salts, glutamates and aspartates.

【0054】本発明の一般式(I)を有する化合物、そ
の薬理上許容される塩、そのエステル又はその他の誘導
体は、大気中に放置したり、又は、再結晶をすることに
より、水分を吸収し、吸着水が付いたり、水和物となる
場合があり、そのような水和物も本発明の塩に包含され
る。
The compound of the present invention having the general formula (I), its pharmacologically acceptable salt, its ester or other derivative absorbs moisture by being left in the air or recrystallized. However, in some cases, hydrates are formed with adsorbed water, and such hydrates are also included in the salts of the present invention.

【0055】本発明の一般式(I)を有する化合物、そ
の薬理上許容される塩、そのエステル又はその他の誘導
体は、その分子内に不斉炭素原子が存在する場合がある
ので、種々の異性体を有することがある。本発明におい
ては、これらの異性体およびこれらの異性体の混合物が
すべて単一の式、即ち一般式(I)で示されている。従
って、本発明はこれらの異性体およびこれらの異性体の
任意の割合の混合物をもすべて含むものである。
The compound of the present invention having the general formula (I), a pharmaceutically acceptable salt thereof, an ester or other derivative thereof may have an asymmetric carbon atom in the molecule, and thus may have various isomerisms. May have body. In the present invention, these isomers and mixtures of these isomers are all represented by a single formula, that is, the general formula (I). Accordingly, the present invention includes all these isomers and mixtures of these isomers in any proportion.

【0056】本発明の一般式(I)を有する化合物の下
記式(I−1)
The compound of formula (I-1) of the present invention having the general formula (I)

【0057】[0057]

【化13】 Embedded image

【0058】を有する基において、NR12基、OR3
基及びR4基は不斉炭素原子に置換してるため、式(I
−1)を有する基は、下記(I−1a)又は(I−1
b)
NR 1 R 2 group, OR 3
Group and the R 4 group are substituted with an asymmetric carbon atom, so that the formula (I)
The group having -1) is the following (I-1a) or (I-1)
b)

【0059】[0059]

【化14】 Embedded image

【0060】[0060]

【化15】 Embedded image

【0061】の立体配置を有し得、特に(I-1b)の
立体配置を有する化合物が好ましい。
Compounds having the configuration (I-1b) are particularly preferable.

【0062】上記における「エステル」とは、本発明の
化合物(I)は、エステルにすることができるので、そ
のエステルをいい、そのようなエステルとしては、「ヒ
ドロキシ基のエステル」及び「カルボキシ基のエステ
ル」を挙げることができ、各々のエステル残基が「一般
的保護基」又は「生体内で加水分解のような生物学的方
法により開裂し得る保護基」であるエステルをいう。
The "ester" in the above refers to the ester, since the compound (I) of the present invention can be converted into an ester. And an ester in which each ester residue is a “general protecting group” or a “protecting group that can be cleaved in vivo by a biological method such as hydrolysis”.

【0063】「一般的保護基」とは、加水素分解、加水
分解、電気分解、光分解のような化学的方法により開裂
し得る保護基をいう。
"General protecting group" means a protecting group that can be cleaved by a chemical method such as hydrogenolysis, hydrolysis, electrolysis, or photolysis.

【0064】「ヒドロキシ基のエステル」に斯かる「一
般的保護基」としては、前述したものと同意議を示す。
As the "general protecting group" for the "ester of hydroxy group", there is consensus as described above.

【0065】一方、「カルボキシ基のエステル」に斯か
る「一般的保護基」としては、好適には、前記「低級ア
ルキル基」;エテニル、1−プロペニル、2−プロペニ
ル、1−メチル−2−プロペニル、1−メチル−1−プ
ロペニル、2−メチル−1−プロペニル、2−メチル−
2−プロペニル、2−エチル−2−プロペニル、1−ブ
テニル、2−ブテニル、1−メチル−2−ブテニル、1
−メチル−1−ブテニル、3−メチル−2−ブテニル、
1−エチル−2−ブテニル、3−ブテニル、1−メチル
−3−ブテニル、2−メチル−3−ブテニル、1−エチ
ル−3−ブテニル、1−ペンテニル、2−ペンテニル、
1−メチル−2−ペンテニル、2−メチル−2−ペンテ
ニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ペンテニル、
2−メチル−3−ペンテニル、4−ペンテニル、1−メ
チル−4−ペンテニル、2−メチル−4−ペンテニル1
−ヘキセニル、2−ヘキセニル、3−ヘキセニル、4−
ヘキセニル、5−ヘキセニルのような低級アルケニル
基;エチニル、2−プロピニル、1−メチル−2−プロ
ピニル、2−メチル−2−プロピニル、2−エチル−2
−プロピニル、2−ブチニル、1−メチル−2−ブチニ
ル、2−メチル−2−ブチニル、1−エチル−2−ブチ
ニル、3−ブチニル、1−メチル−3−ブチニル、2−
メチル−3−ブチニル、1−エチル−3−ブチニル、2
−ペンチニル、1−メチル−2−ペンチニル、2−メチ
ル−2−ペンチニル、3−ペンチニル、1−メチル−3
−ペンチニル、2−メチル−3−ペンチニル、4−ペン
チニル、1−メチル−4−ペンチニル、2−メチル−4
−ペンチニル、2−ヘキシニル、3−ヘキシニル、4−
ヘキシニル、5−ヘキシニルのような低級アルキニル
基;前記「ハロゲノ低級アルキル」;2−ヒドロキシエ
チル、2,3−ジヒドロキシプロピル、3−ヒドロキシ
プロピル、3,4−ジヒドロキシブチル、4−ヒドロキ
シブチルのようなヒドロキシ「低級アルキル基」;アセ
チルメチルのような「低級脂肪族アシル」−「低級アル
キル基」;前記「アラルキル基」;前記「シリル基」を
挙げることができる。
On the other hand, as the “general protecting group” for the “ester of a carboxy group”, preferably the above “lower alkyl group”; ethenyl, 1-propenyl, 2-propenyl, 1-methyl-2- Propenyl, 1-methyl-1-propenyl, 2-methyl-1-propenyl, 2-methyl-
2-propenyl, 2-ethyl-2-propenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 1-methyl-2-butenyl, 1
-Methyl-1-butenyl, 3-methyl-2-butenyl,
1-ethyl-2-butenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-butenyl, 2-methyl-3-butenyl, 1-ethyl-3-butenyl, 1-pentenyl, 2-pentenyl,
1-methyl-2-pentenyl, 2-methyl-2-pentenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-3-pentenyl,
2-methyl-3-pentenyl, 4-pentenyl, 1-methyl-4-pentenyl, 2-methyl-4-pentenyl 1
-Hexenyl, 2-hexenyl, 3-hexenyl, 4-
Lower alkenyl groups such as hexenyl and 5-hexenyl; ethynyl, 2-propynyl, 1-methyl-2-propynyl, 2-methyl-2-propynyl, 2-ethyl-2
-Propynyl, 2-butynyl, 1-methyl-2-butynyl, 2-methyl-2-butynyl, 1-ethyl-2-butynyl, 3-butynyl, 1-methyl-3-butynyl, 2-
Methyl-3-butynyl, 1-ethyl-3-butynyl, 2
-Pentynyl, 1-methyl-2-pentynyl, 2-methyl-2-pentynyl, 3-pentynyl, 1-methyl-3
-Pentynyl, 2-methyl-3-pentynyl, 4-pentynyl, 1-methyl-4-pentynyl, 2-methyl-4
-Pentynyl, 2-hexynyl, 3-hexynyl, 4-
Lower alkynyl groups such as hexynyl and 5-hexynyl; the aforementioned "halogeno lower alkyl"; such as 2-hydroxyethyl, 2,3-dihydroxypropyl, 3-hydroxypropyl, 3,4-dihydroxybutyl and 4-hydroxybutyl Hydroxy "lower alkyl group";"lower aliphatic acyl" such as acetylmethyl- "lower alkyl group";"aralkylgroup"; and "silyl group".

【0066】「生体内で加水分解のような生物学的方法
により開裂し得る保護基」とは、人体内で加水分解等の
生物学的方法により開裂し、フリーの酸又はその塩を生
成する保護基をいい、そのような誘導体か否かは、ラッ
トやマウスのような実験動物に静脈注射により投与し、
その後の動物の体液を調べ、元となる化合物又はその薬
理学的に許容される塩を検出できることにより決定で
き、「ヒドロキシ基のエステル」に斯かる「生体内で加
水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」
としては、前述したものと同意議を示す。
The term "protecting group which can be cleaved in vivo by a biological method such as hydrolysis" means that it is cleaved in a human body by a biological method such as hydrolysis to produce a free acid or a salt thereof. It refers to a protecting group, and whether such a derivative is administered by intravenous injection to experimental animals such as rats and mice,
Subsequent examination of the body fluids of the animals allows the determination of the ability to detect the original compound or its pharmacologically acceptable salt, and the determination of the "hydroxyl ester" by "biological such as hydrolysis in vivo". Protecting group that can be cleaved by the method ''
I agree with the above.

【0067】一方、「カルボキシ基のエステル」に斯か
る「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂
し得る保護基」としては、好適には、メトキシエチル、
1−エトキシエチル、1−メチル−1−メトキシエチ
ル、1−(イソプロポキシ)エチル、2−メトキシエチ
ル、2−エトキシエチル、1,1−ジメチル−1−メト
キシエチル、エトキシメチル、n−プロポキシメチル、
イソプロポキシメチル、n−ブトキシメチル、t−ブト
キシメチルのような低級アルコキシ低級アルキル基、2
−メトキシエトキシメチルのような低級アルコキシ化低
級アルコキシ低級アルキル基、フェノキシメチルのよう
な「アリール」オキシ「低級アルキル基」、2,2,2
−トリクロロエトキシメチル、ビス(2−クロロエトキ
シ)メチルのようなハロゲン化低級アルコキシ低級アル
キル基等の「アルコキシアルキル基」;メトキシカルボ
ニルメチルのような「「低級アルコキシ」カルボニル
「低級アルキル基」」;シアノメチル、2−シアノエチ
ルのような「シアノ「低級アルキル基」;メチルチオメ
チル、エチルチオメチルのような「「低級アルキル」チ
オメチル基」;フェニルチオメチル、ナフチルチオメチ
ルのような「「アリール」チオメチル基」;2−メタン
スルホニルエチル、2−トリフルオロメタンスルホニル
エチルのような「ハロゲンで置換されていてもよい「低
級アルキル」スルホニル「低級アルキル基」」;2−ベ
ンゼンスルホニルエチル、2−トルエンスルホニルエチ
ルのような「「アリール」スルホニル「低級アルキル
基」」;前記「1−(アシルオキシ)「低級アルキル
基」」;前記「フタリジル基」;前記「アリール基」;
前記「低級アルキル基」;カルボキシメチルのような
「カルボキシアルキル基」;及びフェニルアラニンのよ
うな「アミノ酸のアミド形成残基」を挙げることができ
る。
On the other hand, the “protecting group that can be cleaved in vivo by a biological method such as hydrolysis” as the “ester of a carboxy group” is preferably methoxyethyl,
1-ethoxyethyl, 1-methyl-1-methoxyethyl, 1- (isopropoxy) ethyl, 2-methoxyethyl, 2-ethoxyethyl, 1,1-dimethyl-1-methoxyethyl, ethoxymethyl, n-propoxymethyl ,
Lower alkoxy lower alkyl groups such as isopropoxymethyl, n-butoxymethyl, t-butoxymethyl, 2
Lower alkoxylated lower alkoxy lower alkyl groups such as methoxyethoxymethyl, "aryl" oxy "lower alkyl groups" such as phenoxymethyl, 2,2,2
“Alkoxyalkyl groups” such as halogenated lower alkoxy lower alkyl groups such as trichloroethoxymethyl and bis (2-chloroethoxy) methyl; “lower alkoxy” carbonyl “lower alkyl groups” such as methoxycarbonylmethyl; “Cyano“ lower alkyl ”such as cyanomethyl and 2-cyanoethyl;“ lower alkyl ”thiomethyl such as methylthiomethyl and ethylthiomethyl;“ aryl ”thiomethyl such as phenylthiomethyl and naphthylthiomethyl A "lower alkyl" sulfonyl "lower alkyl group" optionally substituted with halogen "such as 2-methanesulfonylethyl and 2-trifluoromethanesulfonylethyl; Like "" Le "sulfonyl" lower alkyl group "", the "1- (acyloxy)" lower alkyl group "", the "phthalidyl group"; the "aryl group";
The "lower alkyl group"; the "carboxyalkyl group" such as carboxymethyl; and the "amide-forming residue of amino acid" such as phenylalanine.

【0068】「その他の誘導体」とは、本発明の一般式
(I)を有する化合物が、アミノ基を有する場合、上記
「薬理上許容される塩」及び上記「そのエステル」以外
の誘導体にすることができるので、その誘導体を示す。
そのような誘導体としては、例えばアシル基を有するよ
うなアミド誘導体を挙げることができる。
The "other derivative" means a derivative other than the above-mentioned "pharmacologically acceptable salt" and the above-mentioned "ester thereof" when the compound having the general formula (I) of the present invention has an amino group. Derivatives are shown below.
Examples of such a derivative include an amide derivative having an acyl group.

【0069】本発明の一般式(I)を有する化合物の具
体例としては、例えば、下記表1及び2に記載の化合物
を挙げることができるが、本発明は、これらの化合物に
限定されるものではない。
Specific examples of the compound having the general formula (I) of the present invention include the compounds shown in the following Tables 1 and 2. However, the present invention is not limited to these compounds. is not.

【0070】表中の略号は以下の通りである。 Bu : ブチル基 iBu : イソブチル基 Bz : ベンジル基 Et : エチル基 cHx : シクロヘキシル基 Me : メチル基 Np(1) : ナフタレン−1−イル基 Np(2) : ナフタレン−2−イル基 Ph : フェニル基 cPn : シクロペンチル基 Pr : プロピル基 iPr : イソプロピル基。The abbreviations in the table are as follows. Bu: butyl group iBu: isobutyl group Bz: benzyl group Et: ethyl group cHx: cyclohexyl group Me: methyl group Np (1): naphthalen-1-yl group Np (2): naphthalen-2-yl group Ph: phenyl group cPn: cyclopentyl group Pr: propyl group iPr: isopropyl group.

【0071】[0071]

【表1】[Table 1]

【0072】[0072]

【化16】 Embedded image

【0073】 Compd. R1 R2 R3 R4 n -X-Y-R5 R6 R7 1-1 H H H Me 1 -(CH2)5-cHx H H 1-2 H H H Me 1 -(CH2)6-cHx H H 1-3 H H H Me 1 -CH=CH-(CH2)3-cHx H H 1-4 H H H Me 1 -CH=CH-(CH2)4-cHx H H 1-5 H H H Me 1 -C≡C-(CH2)3-cHx H H 1-6 H H H Me 1 -C≡C-(CH2)4-cHx H H 1-7 H H H Me 1 -CO-(CH2)4-cHx H H 1-8 H H H Me 1 -CO-(CH2)5-cHx H H 1-9 H H H Me 1 -CH(OH)-(CH2)4-cHx H H 1-10 H H H Me 1 -CH(OH)-(CH2)5-cHx H H 1-11 H H H Me 1 -[4-(cHx-CH2O)-Ph] H H 1-12 H H H Me 1 -(4-BzO-Ph) H H 1-13 H H H Me 1 -C≡C-CH2O-cPn H H 1-14 H H H Me 1 -C≡C-(CH2)2O-cPn H H 1-15 H H H Me 1 -C≡C-CH2O-cHx H H 1-16 H H H Me 1 -C≡C-(CH2)2O-cHx H H 1-17 H H H Me 1 -C≡C-CH2O-Ph H H 1-18 H H H Me 1 -C≡C-(CH2)2O-Ph H H 1-19 H H H Me 2 -(CH2)2-cHx H H 1-20 H H H Me 2 -(CH2)2-Ph H H 1-21 H H H Me 2 -(CH2)2-(4-F-Ph) H H 1-22 H H H Me 2 -(CH2)2-(4-Me-Ph) H H 1-23 H H H Me 2 -(CH2)2-(4-Et-Ph) H H 1-24 H H H Me 2 -(CH2)2-(4-CF3-Ph) H H 1-25 H H H Me 2 -(CH2)2-(4-MeO-Ph) H H 1-26 H H H Me 2 -(CH2)2-(4-EtO-Ph) H H 1-27 H H H Me 2 -(CH2)2-(4-MeS-Ph) H H 1-28 H H H Me 2 -(CH2)2-(4-cHx-Ph) H H 1-29 H H H Me 2 -(CH2)2-(4-Ph-Ph) H H 1-30 H H H Me 2 -(CH2)3-cHx H H 1-31 H H Me Me 2 -(CH2)3-cHx H H 1-32 Me H H Me 2 -(CH2)3-cHx H H 1-33 CO2Me H H Me 2 -(CH2)3-cHx H H 1-34 H H H Me 2 -(CH2)3-(4-F-cHx) H H 1-35 H H H Me 2 -(CH2)3-(4-Me-cHx) H H 1-36 H H H Me 2 -(CH2)3-(4-MeO-cHx) H H 1-37 H H H Me 2 -(CH2)3-Ph H H 1-38 H H Me Me 2 -(CH2)3-Ph H H 1-39 Me H H Me 2 -(CH2)3-Ph H H 1-40 CO2Me H H Me 2 -(CH2)3-Ph H H 1-41 H H H Me 2 -(CH2)3-(4-F-Ph) H H 1-42 H H H Me 2 -(CH2)3-(4-Me-Ph) H H 1-43 H H H Me 2 -(CH2)3-(4-Et-Ph) H H 1-44 H H H Me 2 -(CH2)3-(4-CF3-Ph) H H 1-45 H H H Me 2 -(CH2)3-(4-MeO-Ph) H H 1-46 H H H Me 2 -(CH2)3-(4-EtO-Ph) H H 1-47 H H H Me 2 -(CH2)3-(4-MeS-Ph) H H 1-48 H H H Me 2 -(CH2)3-(4-cHx-Ph) H H 1-49 H H H Me 2 -(CH2)3-(4-Ph-Ph) H H 1-50 H H H Me 2 -(CH2)4-cHx H H 1-51 H H Me Me 2 -(CH2)4-cHx H H 1-52 Me H H Me 2 -(CH2)4-cHx H H 1-53 CO2Me H H Me 2 -(CH2)4-cHx H H 1-54 H H H Me 2 -(CH2)4-(4-F-cHx) H H 1-55 H H H Me 2 -(CH2)4-(4-Me-cHx) H H 1-56 H H H Me 2 -(CH2)4-(4-MeO-cHx) H H 1-57 H H H Me 2 -(CH2)4-Ph H H 1-58 H H Me Me 2 -(CH2)4-Ph H H 1-59 Me H H Me 2 -(CH2)4-Ph H H 1-60 CO2Me H H Me 2 -(CH2)4-Ph H H 1-61 H H H Me 2 -(CH2)4-(4-F-Ph) H H 1-62 H H H Me 2 -(CH2)4-(4-Me-Ph) H H 1-63 H H H Me 2 -(CH2)4-(4-Et-Ph) H H 1-64 H H H Me 2 -(CH2)4-(4-CF3-Ph) H H 1-65 H H H Me 2 -(CH2)4-(4-MeO-Ph) H H 1-66 H H H Me 2 -(CH2)4-(4-EtO-Ph) H H 1-67 H H H Me 2 -(CH2)4-(4-MeS-Ph) H H 1-68 H H H Me 2 -(CH2)4-(4-cHx-Ph) H H 1-69 H H H Me 2 -(CH2)4-(4-Ph-Ph) H H 1-70 H H H Me 2 -(CH2)5-cPn H H 1-71 H H H Me 2 -(CH2)5-cHx H H 1-72 H H Me Me 2 -(CH2)5-cHx H H 1-73 Me H H Me 2 -(CH2)5-cHx H H 1-74 CO2Me H H Me 2 -(CH2)5-cHx H H 1-75 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-F-cHx) H H 1-76 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-Me-cHx) H H 1-77 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-MeO-cHx) H H 1-78 H H H Me 2 -(CH2)5-Ph H H 1-79 H H Me Me 2 -(CH2)5-Ph H H 1-80 Me H H Me 2 -(CH2)5-Ph H H 1-81 CO2Me H H Me 2 -(CH2)5-Ph H H 1-82 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-F-Ph) H H 1-83 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-F-Ph) H H 1-84 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-Cl-Ph) H H 1-85 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-Br-Ph) H H 1-86 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-Me-Ph) H H 1-87 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-Me-Ph) H H 1-88 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-Et-Ph) H H 1-89 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-Et-Ph) H H 1-90 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-Pr-Ph) H H 1-91 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-Pr-Ph) H H 1-92 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-iPr-Ph) H H 1-93 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-iPr-Ph) H H 1-94 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-Bu-Ph) H H 1-95 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-Bu-Ph) H H 1-96 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-CF3-Ph) H H 1-97 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-CF3-Ph) H H 1-98 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-MeO-Ph) H H 1-99 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-MeO-Ph) H H 1-100 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-EtO-Ph) H H 1-101 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-EtO-Ph) H H 1-102 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-PrO-Ph) H H 1-103 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-PrO-Ph) H H 1-104 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-iPrO-Ph) H H 1-105 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-iPrO-Ph) H H 1-106 H H H Me 2 -(CH2)5-[3-(2-Et-PrO)-Ph] H H 1-107 H H H Me 2 -(CH2)5-[4-(2-Et-PrO)-Ph] H H 1-108 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-iBuO-Ph) H H 1-109 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-iBuO-Ph) H H 1-110 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-MeS-Ph) H H 1-111 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-MeS-Ph) H H 1-112 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-EtS-Ph) H H 1-113 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-EtS-Ph) H H 1-114 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-PrS-Ph) H H 1-115 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-PrS-Ph) H H 1-116 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-iPrS-Ph) H H 1-117 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-iPrS-Ph) H H 1-118 H H H Me 2 -(CH2)5-[3-(2-Et-PrS)-Ph] H H 1-119 H H H Me 2 -(CH2)5-[4-(2-Et-PrS)-Ph] H H 1-120 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-iBuS-Ph) H H 1-121 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-iBuS-Ph) H H 1-122 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-cHx-Ph) H H 1-123 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-cHx-Ph) H H 1-124 H H H Me 2 -(CH2)5-(3-Ph-Ph) H H 1-125 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-Ph-Ph) H H 1-126 H H H Me 2 -(CH2)5-(2,4-diMe-Ph) H H 1-127 H H H Me 2 -(CH2)5-(3,4-diMe-Ph) H H 1-128 H H H Me 2 -(CH2)5-(3,5-diMe-Ph) H H 1-129 H H H Me 2 -(CH2)5-Np(1) H H 1-130 H H H Me 2 -(CH2)5-Np(2) H H 1-131 H H H Me 2 -(CH2)6-cPn H H 1-132 H H H Me 2 -(CH2)6-cHx H H 1-133 H H Me Me 2 -(CH2)6-cHx H H 1-134 Me H H Me 2 -(CH2)6-cHx H H 1-135 CO2Me H H Me 2 -(CH2)6-cHx H H 1-136 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-F-cHx) H H 1-137 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-Me-cHx) H H 1-138 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-MeO-cHx) H H 1-139 H H H Me 2 -(CH2)6-Ph H H 1-140 H H Me Me 2 -(CH2)6-Ph H H 1-141 Me H H Me 2 -(CH2)6-Ph H H 1-142 CO2Me H H Me 2 -(CH2)6-Ph H H 1-143 H H H Me 2 -(CH2)6-(3-F-Ph) H H 1-144 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-F-Ph) H H 1-145 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-Cl-Ph) H H 1-146 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-Br-Ph) H H 1-147 H H H Me 2 -(CH2)6-(3-Me-Ph) H H 1-148 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-Me-Ph) H H 1-149 H H H Me 2 -(CH2)6-(3-Et-Ph) H H 1-150 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-Et-Ph) H H 1-151 H H H Me 2 -(CH2)6-(3-Pr-Ph) H H 1-152 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-Pr-Ph) H H 1-153 H H H Me 2 -(CH2)6-(3-iPr-Ph) H H 1-154 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-iPr-Ph) H H 1-155 H H H Me 2 -(CH2)6-(3-Bu-Ph) H H 1-156 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-Bu-Ph) H H 1-157 H H H Me 2 -(CH2)6-(3-CF3-Ph) H H 1-158 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-CF3-Ph) H H 1-159 H H H Me 2 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2-(CHTwo)Four-OCHTwo-(4-EtS-Ph) H H 1-347 H H H Me 2-(CHTwo)Four-OCHTwo-(4-PrS-Ph) H H 1-348 H H H Me 2-(CHTwo)Four-OCHTwo-(4-iPrS-Ph) H H 1-349 H H H Me 2-(CHTwo)Four-OCHTwo-[4- (2-Et-PrS) -Ph] H H 1-350 H H H Me 2-(CHTwo)Four-OCHTwo-(4-iBuS-Ph) H H 1-351 H H H Me 2-(CHTwo)Four-OCHTwo-(4-cHx-Ph) H H 1-352 H H H Me 2-(CHTwo)Four-OCHTwo-(4-Ph-Ph) H H 1-353 H H H Me 2-(CHTwo)Four-OCHTwo-(2,4-diMe-Ph) H H 1-354 H H H Me 2-(CHTwo)Four-OCHTwo-(3,4-diMe-Ph) H H 1-355 H H H Me 2-(CHTwo)Four-OCHTwo-(3,5-diMe-Ph) H H 1-356 H H H Me 2-(CHTwo)Five-OCHTwo-cHx H H 1-357 H H H Me 2-(CHTwo)Five-OCHTwo-Ph H H 1-358 H H H Me 2-(CHTwo)6-OCHTwo-cHx H H 1-359 H H H Me 2-(CHTwo)6-OCHTwo-Ph H H 1-360 H H H Me 2 -CH = CH-cHx H H 1-361 H H H Me 2 -CH = CH-Ph H H 1-362 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Two-cHx H H 1-363 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Two-(4-F-cHx) H H 1-364 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Two-(4-Me-cHx) H H 1-365 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Two-(4-MeO-cHx) H H 1-366 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Two-Ph H H 1-367 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Two-(4-F-Ph) H H 1-368 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Two-(4-Me-Ph) H H 1-369 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Two-(4-Et-Ph) H H 1-370 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Two-(4-CFThree-Ph) H H 1-371 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Two-(4-MeO-Ph) H H 1-372 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Two-(4-EtO-Ph) H H 1-373 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Two-(4-MeS-Ph) H H 1-374 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Two-(4-cHx-Ph) H H 1-375 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Two-(4-Ph-Ph) H H 1-376 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Three-cHx H H 1-377 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Three-(4-F-cHx) H H 1-378 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Three-(4-Me-cHx) H H 1-379 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Three-(4-MeO-cHx) H H 1-380 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Three-Ph H H 1-381 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Three-(4-F-Ph) H H 1-382 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Three-(4-Me-Ph) H H 1-383 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Three-(4-Et-Ph) H H 1-384 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Three-(4-CFThree-Ph) H H 1-385 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Three-(4-MeO-Ph) H H 1-386 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Three-(4-EtO-Ph) H H 1-387 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Three-(4-MeS-Ph) H H 1-388 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Three-(4-cHx-Ph) H H 1-389 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Three-(4-Ph-Ph) H H 1-390 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Four-cHx H H 1-391 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Four-Ph H H 1-392 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)Five-cHx H H 1-393 H H H Me 2 -CH = CH-CHTwoO-cHx H H 1-394 H H H Me 2 -CH = CH-CHTwoO-Ph H H 1-395 H H H Me 2 -CH = CH-CHTwoO- (4-Me-Ph) H H 1-396 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)TwoO-cHx H H 1-397 H H H Me 2 -CH = CH- (CHTwo)TwoO-Ph HH 1-398 HHH Me 2 -C≡C-cHx HH 1-399 HHH Me 2 -C≡C- (4-F-cHx) HH 1-400 HHH Me 2 -C≡C- (4- Me-cHx) HH 1-401 HHH Me 2 -C≡C- (4-MeO-cHx) HH 1-402 HHH Me 2 -C≡C-Ph HH 1-403 HHH Me 2 -C≡C- (4 -F-Ph) HH 1-404 HHH Me 2 -C≡C- (4-Me-Ph) HH 1-405 HHH Me 2 -C≡C- (4-Pr-Ph) HH 1-406 HHH Me 2 -C≡C- (4-Bu-Ph) HH 1-407 HHH Me 2 -C≡C- (4-MeO-Ph) HH 1-408 HHH Me 2 -C≡C- (4-EtO-Ph) HH 1-409 HHH Me 2 -C≡C- 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H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO-Ph H H 1-753 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-F-Ph) H H 1-754 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-Cl-Ph) H H 1-755 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-Br-Ph) H H 1-756 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-Me-Ph) H H 1-757 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-Et-Ph) H H 1-758 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-Pr-Ph) H H 1-759 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-iPr-Ph) H H 1-760 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-Bu-Ph) H H 1-761 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-CFThree-Ph) H H 1 -762 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-MeO-Ph) H H 1-763 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-EtO-Ph) H H 1-764 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-PrO-Ph) H H 1-765 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-iPrO-Ph) H H 1-766 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- [4- (2-Et-PrO) -Ph] H H 1-767 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-iBuO-Ph) H H 1-768 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-MeS-Ph) H H 1-769 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-EtS-Ph) H H 1-770 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-PrS-Ph) H H 1-771 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-iPrS-Ph) H H 1-772 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- [4- (2-Et-PrS) -Ph] H H 1-773 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-iBuS-Ph) H H 1-774 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-cHx-Ph) H H 1-775 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (4-Ph-Ph) H H 1-776 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (2,4-diMe-Ph) H H 1-777 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (3,4-diMe-Ph) H H 1-778 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeO- (3,5-diMe-Ph) H H 1-779 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)FourO-cHx H H 1 -780 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)FourO-Ph H H 1-781 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)FiveO-cHx H H 1-782 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)FiveO-Ph H H 1-783 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)TwoOCHTwo-cHx H H 1 -784 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)TwoOCHTwo-(4-F-cHx) H H 1-785 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)TwoOCHTwo-(4-Me-cHx) H H 1-786 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)TwoOCHTwo-(4-MeO-cHx) H H 1-787 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)TwoOCHTwo-Ph H H 1 -788 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)TwoOCHTwo-(4-F-Ph) H H 1-789 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)TwoOCHTwo-(4-Me-Ph) H H 1-790 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)TwoOCHTwo-(4-Et-Ph) H H 1-791 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)TwoOCHTwo-(4-CFThree-Ph) H H 1 -792 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)TwoOCHTwo-(4-MeO-Ph) H H 1-793 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)TwoOCHTwo-(4-EtO-Ph) H H 1-794 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)TwoOCHTwo-(4-MeS-Ph) H H 1-795 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)TwoOCHTwo-(4-cHx-Ph) H H 1-796 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)TwoOCHTwo-(4-Ph-Ph) H H 1-797 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-cHx H H 1 -798 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-F-cHx) H H 1-799 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-Me-cHx) H H 1-800 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-MeO-cHx) H H 1-801 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-Ph H H 1-802 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-F-Ph) H H 1-803 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-Cl-Ph) H H 1-804 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-Br-Ph) H H 1-805 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-Me-Ph) H H 1-806 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-Et-Ph) H H 1-807 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-Pr-Ph) H H 1-808 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-iPr-Ph) H H 1-809 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-Bu-Ph) H H 1-810 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-CFThree-Ph) H H 1-811 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-MeO-Ph) H H 1-812 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-EtO-Ph) H H 1-813 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-PrO-Ph) H H 1-814 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-iPrO-Ph) H H 1-815 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-[4- (2-Et-PrO) Ph] H H 1-816 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-iBuO-Ph) H H 1-817 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-MeS-Ph) H H 1-818 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-EtS-Ph) H H 1-819 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-PrS-Ph) H H 1-820 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-iPrS-Ph) H H 1-821 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-[4- (2-Et-PrS) Ph] H H 1-822 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-iBuS-Ph) H H 1-823 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-cHx-Ph) H H 1-824 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(4-Ph-Ph) H H 1-825 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(2,4-diMe-Ph) H H 1-826 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(3,4-diMe-Ph) H H 1-827 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)ThreeOCHTwo-(3,5-diMe-Ph) H H 1-828 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)FourOCHTwo-cHx H H 1 -829 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)FourOCHTwo-Ph H H 1 -830 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)FiveOCHTwo-cHx H H 1-831 H H H Me 2 -CO- (CHTwo)FiveOCHTwo-Ph H H 1-832 H H H Me 2 -CH (OH) -CHTwo-cHx H H 1 -833 H H H Me 2 -CH (OH) -CHTwo-Ph H H 1 -834 H H H Me 2 -CH (OH)-(CHTwo)Two-cHx H H 1 -835 H H H Me 2 -CH (OH)-(CHTwo)Two-Ph H H 1-836 H H H Me 2 -CH (OH)-(CHTwo)Three-cHx H H 1-837 H H H Me 2 -CH (OH)-(CHTwo)Three-Ph H H 1-838 H H H Me 2 -CH (OH)-(CHTwo)Four-cHx H H 1-839 H H H Me 2 -CH (OH)-(CHTwo)Four-Ph H H 1-840 H H H Me 2 -CH (OH)-(CHTwo)Five-cHx H H 1-841 H H H Me 2 -CH (OH)-(CHTwo)Five-Ph H H 1-842 H H H Me 2 -CH (OH)-(CHTwo)6-cHx H H 1-843 H H H Me 2 -CH (OH)-(CHTwo)6-Ph H H 1-844 H H H Me 2 -CH (OH)-(CHTwo)7-cHx H H 1-845 H H H Me 2 -CH (OH)-(CHTwo)7-Ph H H 1-846 H H H Me 2-[4- (cHx-CHTwoO) -Ph] H H 1-847 H H H Me 2-[4- (cHx- (CHTwo)TwoO) Ph] H H 1-848 H H H Me 2-[4- (cHx- (CHTwo)ThreeO) Ph] H H 1-849 H H H Me 2-(4-BzO-Ph) H H 1-850 H H H Me 2-[4- (Ph- (CHTwo)TwoO) -Ph] H H 1-851 H H H Me 2-[4- (Ph- (CHTwo)ThreeO) -Ph] H H 1-852 H H H Et 2-(CHTwo)Three-cHx H H 1-853 H H H Et 2-(CHTwo)Three-Ph H H 1-854 H H H Et 2-(CHTwo)Four-cHx H H 1-855 H H H Et 2-(CHTwo)Four-Ph H H 1-856 H H H Et 2-(CHTwo)Five-cPn H H 1-857 H H H Et 2-(CHTwo)Five-cHx H H 1-858 H H H Et 2-(CHTwo)Five-Ph H H 1-859 H H H Et 2-(CHTwo)Five-(4-F-Ph) H H 1-860 H H H Et 2-(CHTwo)Five-(4-Me-Ph) H H 1-861 H H H Et 2-(CHTwo)Five-(4-Et-Ph) H H 1-862 H H H Et 2-(CHTwo)Five-(4-CFThree-Ph) H H 1-863 H H H Et 2-(CHTwo)Five-(4-MeO-Ph) H H 1-864 H H H Et 2-(CHTwo)Five-(4-EtO-Ph) H H 1-865 H H H Et 2-(CHTwo)Five-(4-MeS-Ph) H H 1-866 H H H Et 2-(CHTwo)Five-(4-cHx-Ph) H H 1-867 H H H Et 2-(CHTwo)Five-(4-Ph-Ph) H H 1-868 H H H Et 2-(CHTwo)6-cPn H H 1 -869 H H H Et 2-(CHTwo)6-cHx H H 1 -870 H H H Et 2-(CHTwo)6-Ph H H 1-871 H H H Et 2-(CHTwo)6-(4-F-Ph) H H 1-872 H H H Et 2-(CHTwo)6-(4-Me-Ph) H H 1-873 H H H Et 2-(CHTwo)6-(4-Et-Ph) H H 1-874 H H H Et 2-(CHTwo)6-(4-CFThree-Ph) H H 1-875 H H H Et 2-(CHTwo)6-(4-MeO-Ph) H H 1-876 H H H Et 2-(CHTwo)6-(4-EtO-Ph) H H 1-877 H H H Et 2-(CHTwo)6-(4-MeS-Ph) H H 1-878 H H H Et 2-(CHTwo)6-(4-cHx-Ph) H H 1-879 H H H Et 2-(CHTwo)6-(4-Ph-Ph) H H 1-880 H H H Et 2-(CHTwo)7-cHx H H 1-881 H H H Et 2-(CHTwo)7-Ph H H 1-882 H H H Et 2 -CH = CH-cHx H H 1-883 H H H Et 2 -CH = CH-Ph H H 1-884 H H H Et 2 -CH = CH- (CHTwo)Three-cHx H H 1-885 H H H Et 2 -CH = CH- (CHTwo)Three-Ph H H 1-886 H H H Et 2 -CH = CH- (CHTwo)Four-cHx H H 1-887 H H H Et 2 -CH = CH- (CHTwo)Four-Ph H H 1-888 H H H Et 2 -CH = CH-CHTwoO-cHx H H 1-889 H H H Et 2 -CH = CH-CHTwoO-Ph H H 1-890 H H H Et 2 -CH = CH- (CHTwo)TwoO-cHx H H 1-891 H H H Et 2 -CH = CH- (CHTwo)TwoO-Ph H H 1-892 H H H Et 2 -C≡C-CHTwo-cHx H H 1-893 H H H Et 2 -C≡C-CHTwo-Ph H H 1-894 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Two-cHx H H 1-895 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Two-Ph H H 1-896 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Three-cPn H H 1-897 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Three-cHx H H 1-898 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Three-(4-F-cHx) H H 1-899 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Three-(4-Me-cHx) H H 1-900 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Three-(4-MeO-cHx) H H 1-901 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Three-Ph H H 1-902 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Three-(4-F-Ph) H H 1-903 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Three-(4-Me-Ph) H H 1-904 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Three-(4-Et-Ph) H H 1-905 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Three-(4-CFThree-Ph) H H 1-906 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Three-(4-MeO-Ph) H H 1-907 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Three-(4-EtO-Ph) H H 1-908 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Three-(4-MeS-Ph) H H 1-909 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Three-(4-cHx-Ph) H H 1-910 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Three-(4-Ph-Ph) H H 1-911 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Four-cPn H H 1-912 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Four-cHx H H 1-913 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Four-(4-F-cHx) H H 1-914 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Four-(4-Me-cHx) H H 1-915 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Four-(4-MeO-cHx) H H 1-916 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Four-Ph H H 1-917 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Four-(4-F-Ph) H H 1-918 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Four-(4-Me-Ph) H H 1-919 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Four-(4-Et-Ph) H H 1-920 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Four-(4-CFThree-Ph) H H 1-921 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Four-(4-MeO-Ph) H H 1-922 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Four-(4-EtO-Ph) H H 1-923 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Four-(4-MeS-Ph) H H 1-924 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Four-(4-cHx-Ph) H H 1-925 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Four-(4-Ph-Ph) H H 1-926 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Five-cHx H H 1-927 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)Five-Ph H H 1-928 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)6-cHx H H 1-929 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)6-Ph H H 1-930 H H H Et 2 -C≡C-CHTwoO-cHx H H 1-931 H H H Et 2 -C≡C-CHTwoO-Ph H H 1-932 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)TwoO-cPn H H 1-933 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)TwoO-cHx H H 1-934 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)TwoO- (4-F-cHx) H H 1-935 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)TwoO- (4-Me-cHx) H H 1-936 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)TwoO- (4-MeO-cHx) H H 1-937 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)TwoO-Ph H H 1-938 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)TwoO- (4-F-Ph) H H 1-939 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)TwoO- (4-Me-Ph) H H 1-940 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)TwoO- (4-Et-Ph) H H 1-941 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)TwoO- (4-CFThree-Ph) H H 1-942 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)TwoO- (4-MeO-Ph) H H 1-943 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)TwoO- (4-EtO-Ph) H H 1-944 H H H Et 2 -C≡C- (CHTwo)TwoO- (4-MeS-Ph) H H 1-945 H H H Et 2 -CO- (CHTwo)Three-cHx H H 1-946 H H H Et 2 -CO- (CHTwo)Three-Ph H H 1-947 H H H Et 2 -CO- (CHTwo)Four-cHx H H 1 -948 H H H Et 2 -CO- (CHTwo)Four-Ph H H 1-949 H H H Et 2 -CO- (CHTwo)Five-cHx H H 1-950 H H H Et 2 -CO- (CHTwo)Five-Ph H H 1-951 H H H Et 2 -CH (OH)-(CHTwo)Four-cHx H H 1-952 H H H Et 2 -CH (OH)-(CHTwo)Four-Ph H H 1-953 H H H Et 2 -CH (OH)-(CHTwo)Five-cHx H H 1-954 H H H Et 2 -CH (OH)-(CHTwo)Five-Ph H H 1-955 H H H Et 2-[4- (cHx-CHTwoO) -Ph] H H 1-956 H H H Et 2-[4- (cHx- (CHTwo)TwoO) Ph] H H 1-957 H H H Et 2-[4- (cHx- (CHTwo)ThreeO) Ph] H H 1-958 H H H Et 2-(4-BzO-Ph) H H 1-959 H H H Et 2-[4- (Ph- (CHTwo)TwoO) -Ph] H H 1-960 H H H Et 2-[4- (Ph- (CHTwo)ThreeO) -Ph] H H 1-961 H H H Pr 2-(CHTwo)Five-cHx H H 1-962 H H H Pr 2-(CHTwo)Five-Ph H H 1-963 H H H Pr 2-(CHTwo)6-cHx H H 1 -964 H H H Pr 2-(CHTwo)6-Ph H H 1-965 H H H Pr 2 -C≡C-CHTwo-cHx H H 1 -966 H H H Pr 2 -C≡C- (CHTwo)Three-cHx H H 1-967 H H H Pr 2 -C≡C- (CHTwo)Three-Ph H H 1-968 H H H Pr 2 -C≡C- (CHTwo)Four-cHx H H 1-969 H H H Pr 2 -C≡C- (CHTwo)Four-Ph H H 1-970 H H H Pr 2 -C≡C- (CHTwo)TwoO-cHx H H 1-971 H H H Pr 2 -C≡C- (CHTwo)TwoO-Ph H H 1-972 H H H Pr 2-[4- (cHx-CHTwoO) -Ph] H H 1-973 H H H Pr 2-(4-BzO-Ph) H H 1-974 H H H Me 3-(CHTwo)Five-cHx H H 1-975 H H H Me 3-(CHTwo)6-cHx H H 1-976 H H H Me 3 -CH = CH- (CHTwo)Three-cHx H H 1-977 H H H Me 3 -CH = CH- (CHTwo)Four-cHx H H 1-978 H H H Me 3 -C≡C- (CHTwo)Three-cHx H H 1-979 H H H Me 3 -C≡C- (CHTwo)Four-cHx H H 1 -980 H H H Me 3 -CO- (CHTwo)Four-cHx H H 1-981 H H H Me 3 -CO- (CHTwo)Five-cHx H H 1-982 H H H Me 3 -CO- (CHTwo)Four-Ph H H 1-983 H H H Me 3 -CO- (CHTwo)Five-Ph H H 1-984 H H H Me 3 -CH (OH)-(CHTwo)Four-cHx H H 1-985 H H H Me 3 -CH (OH)-(CHTwo)Five-cHx H H 1-986 H H H Me 3-[4- (cHx-CHTwoO) -Ph] H H 1-987 H H H Me 3-(4-BzO-Ph) H H 1-988 H H H Me 3 -C≡C-CHTwoO-cPn H H 1-989 H H H Me 3 -C≡C- (CHTwo)TwoO-cPn H H 1-990 H H H Me 3 -C≡C-CHTwoO-cHx H H 1-991 H H H Me 3 -C≡C- (CHTwo)TwoO-cHx H H 1-992 H H H Me 3 -C≡C-CHTwoO-Ph H H 1-993 H H H Me 3 -C≡C- (CHTwo)TwoO-Ph H H  .

【0074】[0074]

【表2】[Table 2]

【0075】[0075]

【化17】 Embedded image

【0076】 Compd. R1 R2 R3 R4 n -X-Y-R5 R6 R7 2-1 H H H Me 2 -(CH2)3-cHx H H 2-2 H H H Me 2 -(CH2)3-Ph H H 2-3 H H H Me 2 -(CH2)4-cHx H H 2-4 H H H Me 2 -(CH2)4-Ph H H 2-5 H H H Me 2 -(CH2)5-cPn H H 2-6 H H H Me 2 -(CH2)5-cHx H H 2-7 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-F-cHx) H H 2-8 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-Me-cHx) H H 2-9 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-MeO-cHx) H H 2-10 H H H Me 2 -(CH2)5-Ph H H 2-11 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-F-Ph) H H 2-12 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-Me-Ph) H H 2-13 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-Et-Ph) H H 2-14 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-MeO-Ph) H H 2-15 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-EtO-Ph) H H 2-16 H H H Me 2 -(CH2)5-(4-MeS-Ph) H H 2-17 H H H Me 2 -(CH2)6-cPn H H 2-18 H H H Me 2 -(CH2)6-cHx H H 2-19 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-F-cHx) H H 2-20 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-Me-cHx) H H 2-21 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-MeO-cHx) H H 2-22 H H H Me 2 -(CH2)6-Ph H H 2-23 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-F-Ph) H H 2-24 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-Me-Ph) H H 2-25 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-Et-Ph) H H 2-26 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-MeO-Ph) H H 2-27 H H H Me 2 -(CH2)6-(4-EtO-Ph) H H 2-28 H H H Me 2 -(CH2)7-cHx H H 2-29 H H H Me 2 -(CH2)7-Ph H H 2-30 H H H Me 2 -(CH2)5-cPn H H 2-31 H H H Me 2 -(CH2)4-cHx H H 2-32 H H H Me 2 -(CH2)4-O-(4-F-cHx) H H 2-33 H H H Me 2 -(CH2)4-O-(4-Me-cHx) H H 2-34 H H H Me 2 -(CH2)4-O-(4-MeO-cHx) H H 2-35 H H H Me 2 -(CH2)4-O-Ph H H 2-36 H H H Me 2 -(CH2)4-O-(4-F-Ph) H H 2-37 H H H Me 2 -(CH2)4-O-(4-Me-Ph) H H 2-38 H H H Me 2 -(CH2)4-O-(4-MeO-Ph) H H 2-39 H H H Me 2 -(CH2)4-O-(4-EtO-Ph) H H 2-40 H H H Me 2 -CH=CH-CH2-cHx H H 2-41 H H H Me 2 -CH=CH-CH2-Ph H H 2-42 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)2-cHx H H 2-43 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)2-Ph H H 2-44 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)3-cHx H H 2-45 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)3-Ph H H 2-46 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)3-(4-F-Ph) H H 2-47 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)3-(4-Me-Ph) H H 2-48 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)3-(4-MeO-Ph) H H 2-49 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)4-cHx H H 2-50 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)4-Ph H H 2-51 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)4-(4-F-Ph) H H 2-52 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)4-(4-Me-Ph) H H 2-53 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)4-(4-MeO-Ph) H H 2-54 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)5-cHx H H 2-55 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)5-Ph H H 2-56 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)6-cHx H H 2-57 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)6-Ph H H 2-58 H H H Me 2 -CH=CH-CH2O-cHx H H 2-59 H H H Me 2 -CH=CH-CH2O-Ph H H 2-60 H H H Me 2 -CH=CH-CH2O-(4-F-Ph) H H 2-61 H H H Me 2 -CH=CH-CH2O-(4-Me-Ph) H H 2-62 H H H Me 2 -CH=CH-CH2O-(4-MeO-Ph) H H 2-63 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)2O-cHx H H 2-64 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)2O-Ph H H 2-65 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)2O-(4-F-Ph) H H 2-66 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)2O-(4-Me-Ph) H H 2-67 H H H Me 2 -CH=CH-(CH2)2O-(4-MeO-Ph) H H 2-68 H H H Me 2 -CH=CH-CH2OCH2-cHx H H 2-69 H H H Me 2 -CH=CH-CH2OCH2-Ph H H 2-70 H H H Me 2 -CH=CH-CH2OCH2-(4-F-Ph) H H 2-71 H H H Me 2 -CH=CH-CH2OCH2-(4-Me-Ph) H H 2-72 H H H Me 2 -CH=CH-CH2OCH2-(4-MeO-Ph) H H 2-73 H H H Me 2 -C≡C-CH2-cHx H H 2-74 H H H Me 2 -C≡C-CH2-Ph H H 2-75 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)2-cHx H H 2-76 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)2-Ph H H 2-77 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)3-cPn H H 2-78 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)3-cHx H H 2-79 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)3-(4-F-cHx) H H 2-80 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)3-(4-Me-cHx) H H 2-81 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)3-(4-MeO-cHx) H H 2-82 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)3-Ph H H 2-83 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)3-(4-F-Ph) H H 2-84 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)3-(4-Me-Ph) H H 2-85 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)3-(4-Et-Ph) H H 2-86 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)3-(4-MeO-Ph) H H 2-87 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)3-(4-EtO-Ph) H H 2-88 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)3-(4-MeS-Ph) H H 2-89 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)4-cPn H H 2-90 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)4-cHx H H 2-91 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)4-(4-F-cHx) H H 2-92 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)4-(4-Me-cHx) H H 2-93 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)4-(4-MeO-cHx) H H 2-94 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)4-Ph H H 2-95 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)4-(4-F-Ph) H H 2-96 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)4-(4-Me-Ph) H H 2-97 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)4-(4-Et-Ph) H H 2-98 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)4-(4-MeO-Ph) H H 2-99 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)4-(4-EtO-Ph) H H 2-100 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)5-cHx H H 2-101 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)5-Ph H H 2-102 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)6-cHx H H 2-103 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)6-Ph H H 2-104 H H H Me 2 -C≡C-CH2O-cPn H H 2-105 H H H Me 2 -C≡C-CH2O-cHx H H 2-106 H H H Me 2 -C≡C-CH2O-(4-F-cHx) H H 2-107 H H H Me 2 -C≡C-CH2O-(4-Me-cHx) H H 2-108 H H H Me 2 -C≡C-CH2O-(4-MeO-cHx) H H 2-109 H H H Me 2 -C≡C-CH2O-Ph H H 2-110 H H H Me 2 -C≡C-CH2O-(4-F-Ph) H H 2-111 H H H Me 2 -C≡C-CH2O-(4-Me-Ph) H H 2-112 H H H Me 2 -C≡C-CH2O-(4-Et-Ph) H H 2-113 H H H Me 2 -C≡C-CH2O-(4-MeO-Ph) H H 2-114 H H H Me 2 -C≡C-CH2O-(4-EtO-Ph) H H 2-115 H H H Me 2 -C≡C-CH2O-(4-MeS-Ph) H H 2-116 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)2O-cPn H H 2-117 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)2O-cHx H H 2-118 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)2O-(4-F-cHx) H H 2-119 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)2O-(4-Me-cHx) H H 2-120 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)2O-(4-MeO-cHx) H H 2-121 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)2O-Ph H H 2-122 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)2O-(4-F-Ph) H H 2-123 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)2O-(4-Me-Ph) H H 2-124 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)2O-(4-Et-Ph) H H 2-125 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)2O-(4-MeO-Ph) H H 2-126 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)2O-(4-EtO-Ph) H H 2-127 H H H Me 2 -C≡C-(CH2)2O-(4-MeS-Ph) H H 2-128 H H H Me 2 -C≡C-CH2OCH2-cPn H H 2-129 H H H Me 2 -C≡C-CH2OCH2-cHx H H 2-130 H H H Me 2 -C≡C-CH2OCH2-(4-F-cHx) H H 2-131 H H H Me 2 -C≡C-CH2OCH2-(4-Me-cHx) H H 2-132 H H H Me 2 -C≡C-CH2OCH2-(4-MeO-cHx) H H 2-133 H H H Me 2 -C≡C-CH2OCH2-Ph H H 2-134 H H H Me 2 -C≡C-CH2OCH2-(4-F-Ph) H H 2-135 H H H Me 2 -C≡C-CH2OCH2-(4-Me-Ph) H H 2-136 H H H Me 2 -C≡C-CH2OCH2-(4-Et-Ph) H H 2-137 H H H Me 2 -C≡C-CH2OCH2-(4-MeO-Ph) H H 2-138 H H H Me 2 -C≡C-CH2OCH2-(4-EtO-Ph) H H 2-139 H H H Me 2 -C≡C-CH2OCH2-(4-MeS-Ph) H H 2-140 H H H Me 2 -CO-(CH2)4-cHx H H 2-141 H H H Me 2 -CO-(CH2)4-Ph H H 2-142 H H H Me 2 -CO-(CH2)5-cHx H H 2-143 H H H Me 2 -CO-(CH2)5-Ph H H 2-144 H H H Me 2 -[4-(cHx-CH2O)-Ph] H H 2-145 H H H Me 2 -[4-(cHx-(CH2)2O)Ph] H H 2-146 H H H Me 2 -[4-(cHx-(CH2)3O)Ph] H H 2-147 H H H Me 2 -(4-BzO-Ph) H H 2-148 H H H Me 2 -[4-(Ph-(CH2)2O)-Ph] H H 2-149 H H H Me 2 -[4-(Ph-(CH2)3O)-Ph] H H 2-150 H H H Et 2 -(CH2)5-cHx H H 2-151 H H H Et 2 -(CH2)6-cHx H H 2-152 H H H Et 2 -C≡C-(CH2)3-cHx H H 2-153 H H H Et 2 -C≡C-(CH2)4-cHx H H 2-154 H H H Et 2 -[4-(cHx-CH2O)-Ph] H H 2-155 H H H Et 2 -(4-BzO-Ph) H H 2-156 H H H Et 2 -C≡C-(CH2)2O-cHx H H 2-157 H H H Et 2 -C≡C-(CH2)2O-Ph H H 2-158 H H H Pr 2 -(CH2)5-cHx H H 2-159 H H H Pr 2 -(CH2)6-cHx H H 2-160 H H H Pr 2 -C≡C-(CH2)3-cHx H H 2-161 H H H Pr 2 -C≡C-(CH2)4-cHx H H 2-162 H H H Pr 2 -[4-(cHx-CH2O)-Ph] H H 2-163 H H H Pr 2 -(4-BzO-Ph) H H 2-164 H H H Pr 2 -C≡C-(CH2)2O-cHx H H 2-165 H H H Pr 2 -C≡C-(CH2)2O-Ph H H [0076] Compd. R 1 R 2 R 3 R 4 n -XYR 5 R 6 R 7 2-1 HHH Me 2-(CH 2 ) 3 -cHx HH 2-2 HHH Me 2-(CH 2 ) 3 -Ph HH 2-3 HHH Me 2-(CH 2 ) 4 -cHx HH 2-4 HHH Me 2-(CH 2 ) 4 -Ph HH 2-5 HHH Me 2-(CH 2 ) 5 -cPn HH 2-6 HHH Me 2-(CH 2 ) 5 -cHx HH 2-7 HHH Me 2-(CH 2 ) 5- (4-F-cHx) HH 2-8 HHH Me 2-(CH 2 ) 5- (4-Me-cHx) HH 2-9 HHH Me 2-(CH 2 ) 5- (4-MeO- cHx) HH 2-10 HHH Me 2-(CH 2 ) 5 -Ph HH 2-11 HHH Me 2-(CH 2 ) 5- (4-F-Ph) HH 2-12 HHH Me 2-(CH 2 ) 5- (4-Me-Ph) HH 2-13 HHH Me 2-(CH 2 ) 5- (4-Et-Ph) HH 2-14 HHH Me 2-(CH 2 ) 5- (4-MeO-Ph ) HH 2-15 HHH Me 2-(CH 2 ) 5- (4-EtO-Ph) HH 2-16 HHH Me 2-(CH 2 ) 5- (4-MeS-Ph) HH 2-17 HHH Me 2 -(CH 2 ) 6 -cPn HH 2-18 HHH Me 2-(CH 2 ) 6 -cHx HH 2-19 HHH Me 2-(CH 2 ) 6- (4-F-cHx) HH 2-20 HHH Me 2-(CH 2 ) 6- (4-Me-cHx) HH 2-21 HHH Me 2-(CH 2 ) 6- (4-MeO-cHx) HH 2-22 HHH Me 2-(CH 2 ) 6- Ph HH 2-23 HHH Me 2-(CH 2 ) 6- (4-F-Ph) HH 2-24 HHH Me 2-(CH 2 ) 6- (4-Me-Ph) HH 2-25 HHH Me 2 -(CH 2 ) 6- (4-Et-Ph) HH 2-26 HHH Me 2-(CH 2 ) 6- (4-MeO-Ph) HH 2-27 HHH Me 2-(CH 2 ) 6- ( 4-EtO-Ph) HH 2-28 HHH Me 2-(CH 2 ) 7 -cHx HH 2-29 HHH Me 2-(CH 2 ) 7 -Ph HH 2-30 HHH Me 2-(CH 2 ) 5 -cPn HH 2-31 HHH Me 2-(CH 2 ) 4 -cHx HH 2-32 HHH Me 2-(CH 2 ) 4 -O- (4-F-cHx) HH 2-33 HHH Me 2-(CH 2 ) 4 -O- (4-Me-cHx) HH 2-34 HHH Me 2-(CH 2 ) 4 -O- (4-MeO-cHx) HH 2-35 HHH Me 2-(CH 2 ) 4 -O-Ph HH 2-36 HHH Me 2-(CH 2) 4 -O- (4-F -Ph) HH 2-37 HHH Me 2 - (CH 2) 4 -O- (4-Me-Ph) HH 2-38 HHH Me 2 - (CH 2) 4 - O- (4-MeO-Ph) HH 2-39 HHH Me 2-(CH 2 ) 4 -O- (4-EtO-Ph) HH 2-40 HHH Me 2 -CH = CH-CH 2 -cHx HH 2 -41 HHH Me 2 -CH = CH-CH 2 -Ph HH 2-42 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 2 -cHx HH 2-43 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 2 -Ph HH 2-44 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 3 -cHx HH 2-45 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 3 -Ph HH 2-46 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 3- (4-F-Ph) HH 2-47 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 3- (4-Me-Ph) HH 2-48 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 3- (4-MeO-Ph) HH 2-49 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 4 -cHx HH 2-50 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 4 -Ph HH 2-51 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 4 - (4-F-Ph) HH 2-52 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 4 - (4-Me -Ph) HH 2-53 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2) 4 - ( 4-MeO-Ph) HH 2-54 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 5 -cHx HH 2-55 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 5 -Ph HH 2-56 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 6 -cHx HH 2-57 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 6 -Ph HH 2-58 HHH Me 2 -CH = CH-CH 2 O-cHx HH 2-59 HHH Me 2 -CH = CH-CH 2 O-Ph HH 2-60 HHH Me 2 -CH = CH-CH 2 O- (4-F-Ph) HH 2-61 HHH Me 2 -CH = CH -CH 2 O- (4-Me-Ph) HH 2-62 HHH Me 2 -CH = CH-CH 2 O- (4-MeO-Ph) HH 2-63 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 2 O-cHx HH 2-64 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 2 O-Ph HH 2-65 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 2 O- (4-F-Ph ) HH 2-66 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 2 O- (4-Me-Ph) HH 2-67 HHH Me 2 -CH = CH- (CH 2 ) 2 O- (4-MeO -Ph) HH 2-68 HHH Me 2 -CH = CH-CH 2 OCH 2 -cHx HH 2-69 HHH Me 2 -CH = CH-CH 2 OCH 2 -Ph HH 2-70 HHH Me 2 -CH = CH -CH 2 OCH 2- (4-F-Ph) HH 2-71 HHH Me 2 -CH = CH-CH 2 OCH 2- (4-Me-Ph) HH 2-72 HHH Me 2 -CH = CH-CH 2 OCH 2- (4-MeO-Ph) HH 2-73 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 -cHx HH 2-74 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 -Ph HH 2-75 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 -cHx HH 2-76 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 -Ph HH 2-77 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3 -cPn HH 2-78 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3 -cHx HH 2-79 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3- (4-F-cHx) HH 2-80 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3- (4 -Me-cHx) HH 2-81 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3- (4-MeO-cHx) HH 2-82 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3 -Ph HH 2-83 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3- (4-F-Ph) HH 2-84 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3- (4-Me-Ph) HH 2-85 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3- (4-Et-Ph) HH 2-86 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3- (4-MeO-Ph) HH 2-87 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3- (4-EtO-Ph) HH 2-88 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 3- (4-MeS-Ph) HH 2-89 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 4 -cPn HH 2-90 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 4 -cHx HH 2-91 HHH Me 2 -C≡C- ( CH 2) 4 - (4- F-cHx) HH 2-92 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - (4-Me-cHx) HH 2-93 HHH Me 2 -C≡C- ( CH 2) 4 - (4- MeO-cHx) HH 2-94 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 -Ph HH 2-95 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - ( 4-F-Ph) HH 2-96 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - (4-Me-Ph) HH 2-97 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - ( 4-Et-Ph) HH 2-98 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - (4-MeO-Ph) HH 2-99 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 4 - ( 4-EtO-Ph) HH 2-100 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 5 -cHx HH 2-101 HHH Me 2 -C ≡C- (CH 2) 5 -Ph HH 2-102 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 6 -cHx HH 2-103 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2) 6 -Ph HH 2 -104 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-cPn HH 2-105 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-cHx HH 2-106 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4 -F-cHx) HH 2-107 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-Me-cHx) HH 2-108 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-MeO-cHx ) HH 2-109 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O-Ph HH 2-110 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-F-Ph) HH 2-111 HHH Me 2 -C ≡C-CH 2 O- (4-Me-Ph) HH 2-112 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-Et-Ph) HH 2-113 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-MeO-Ph) HH 2-114 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- (4-EtO-Ph) HH 2-115 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 O- ( 4-MeS-Ph) HH 2-116 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O-cPn HH 2-117 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O-cHx HH 2-118 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O- (4-F-cHx) HH 2-119 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O- (4-Me-cHx) HH 2 -120 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O- (4-MeO-cHx) HH 2-121 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O-Ph HH 2-122 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O- (4-F-Ph) HH 2-123 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O- (4-Me-Ph) HH 2-124 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O- (4-Et-Ph) HH 2-1 25 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O- (4-MeO-Ph) HH 2-126 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O- (4-EtO-Ph) HH 2-127 HHH Me 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O- (4-MeS-Ph) HH 2-128 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -cPn HH 2-129 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2 -cHx HH 2-130 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2- (4-F-cHx) HH 2-131 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2- (4-Me-cHx) HH 2-132 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2- (4-MeO-cHx) HH 2-133 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2- Ph HH 2-134 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2- (4-F-Ph) HH 2-135 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2- (4-Me-Ph) HH 2-136 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2- (4-Et-Ph) HH 2-137 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2- (4-MeO-Ph) HH 2- 138 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2- (4-EtO-Ph) HH 2-139 HHH Me 2 -C≡C-CH 2 OCH 2- (4-MeS-Ph) HH 2-140 HHH Me 2 -CO- (CH 2 ) 4 -cHx HH 2-141 HHH Me 2 -CO- (CH 2 ) 4 -Ph HH 2-142 HHH Me 2 -CO- (CH 2 ) 5 -cHx HH 2-143 HHH Me 2 -CO- (CH 2 ) 5 -Ph HH 2-144 HHH Me 2-[4- (cHx-CH 2 O) -Ph] HH 2-145 HHH Me 2-[4- (cHx- (CH 2 ) 2 O) Ph] HH 2-146 HHH Me 2-[4- (cHx- (CH 2 ) 3 O) Ph] HH 2-147 HHH Me 2-(4-BzO-Ph) HH 2-148 HH H Me 2-[4- (Ph- (CH 2 ) 2 O) -Ph] HH 2-149 HHH Me 2-[4- (Ph- (CH 2 ) 3 O) -Ph] HH 2-150 HHH Et 2-(CH 2 ) 5 -cHx HH 2-151 HHH Et 2-(CH 2 ) 6 -cHx HH 2-152 HHH Et 2 -C≡C- (CH 2 ) 3 -cHx HH 2-153 HHH Et 2 -C≡C- (CH 2 ) 4 -cHx HH 2-154 HHH Et 2-[4- (cHx-CH 2 O) -Ph] HH 2-155 HHH Et 2-(4-BzO-Ph) HH 2 -156 HHH Et 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O-cHx HH 2-157 HHH Et 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O-Ph HH 2-158 HHH Pr 2-(CH 2 ) 5 -cHx HH 2-159 HHH Pr 2-(CH 2 ) 6 -cHx HH 2-160 HHH Pr 2 -C≡C- (CH 2 ) 3 -cHx HH 2-161 HHH Pr 2 -C≡C- ( CH 2 ) 4 -cHx HH 2-162 HHH Pr 2-[4- (cHx-CH 2 O) -Ph] HH 2-163 HHH Pr 2-(4-BzO-Ph) HH 2-164 HHH Pr 2- C≡C- (CH 2 ) 2 O-cHx HH 2-165 HHH Pr 2 -C≡C- (CH 2 ) 2 O-Ph HH .

【0077】上記表1及び2において、好適な化合物と
しては、 例示化合物番号:1-19〜1-31, 1-34〜1-37, 1-41〜1-5
0, 1-54〜1-57, 1-61〜1-71, 1-75〜1-78, 1-82〜1-13
2, 1-136〜1-139, 1-143〜1-192, 1-226, 1-230〜1-23
3, 1-237〜1-247, 1-253〜1-256, 1-260〜1-319, 1-323
〜1-326, 1-330〜1-359, 1-398, 1-402, 1-412〜1-422,
1-426〜1-429, 1-433〜1-516, 1-547〜1-550, 1-554〜
1-568, 1-572〜1-575, 1-579〜1-630, 1-634〜1-637, 1
-641〜1-708,1-712〜1-724, 1-731〜1-742, 1-746〜1-7
49, 1-753〜1-831, 1-852〜1-881, 1-891〜1-960, 2-1
〜2-27, 2-31〜2-39, 2-73〜2-101, 2-104〜2-153 を挙げることができ、更に好適には、 例示化合物番号:1-226, 1-230〜1-233, 1-237〜1-247,
1-253〜1-256, 1-260〜1-319, 1-323〜1-326, 1-330〜
1-359, 1-412〜1-422, 1-426〜1-429, 1-433〜1-511, 1
-547〜1-550, 1-554〜1-568, 1-572〜1-575, 1-579〜1-
630, 1-634〜1-637, 1-641〜1-651, 1-659〜1-687, 1-6
90〜1-694, 1-698〜1-708, 1-731〜1-1-742, 1-749, 1-
753〜1-780, 1-783, 1-787〜1-797, 1-801〜1-827, 2-1
〜2-27, 2-31〜2-39, 2-73〜2-101, 2-104, 2-105, 2-1
09〜2-117, 2-121〜2-129, 2-133〜2-139, 2-140〜2-14
3 を挙げることができ、より好適には、 例示化合物番号:1-226, 1-233, 1-237〜1-247, 1-260
〜1-285, 1-309〜1-313,1-317〜1-319, 1-326, 1-330,
1-333〜1-336, 1-338, 1-412〜1-422, 1-429, 1-433〜1
-481, 1-550, 1-554〜1-568, 1-575, 1-579〜1-627, 1-
630, 1-690, 1-691, 1-698, 1-708, 1-731, 1-742, 2-1
04, 2-105, 2-109〜2-117を挙げることができる。
In Tables 1 and 2 above, suitable compounds include, for example, compound numbers: 1-19 to 1-31, 1-34 to 1-37, 1-41 to 1-5
0, 1-54 to 1-57, 1-61 to 1-71, 1-75 to 1-78, 1-82 to 1-13
2, 1-136 to 1-139, 1-143 to 1-192, 1-226, 1-230 to 1-23
3, 1-237-1-247, 1-253-1-256, 1-260-1-319, 1-323
~ 1-326, 1-330 ~ 1-359, 1-398, 1-402, 1-412 ~ 1-422,
1-426 ~ 1-429, 1-433 ~ 1-516, 1-547 ~ 1-550, 1-554 ~
1-568, 1-572 to 1-575, 1-579 to 1-630, 1-634 to 1-637, 1
-641 to 1-708, 1-712 to 1-724, 1-731 to 1-742, 1-746 to 1-7
49, 1-753〜1-831, 1-852〜1-881, 1-891〜1-960, 2-1
To 2-27, 2-31 to 2-39, 2-73 to 2-101, 2-104 to 2-153, and more preferably, Exemplified Compound No .: 1-226, 1-230 ~ 1-233, 1-237 ~ 1-247,
1-253〜1-256, 1-260〜1-319, 1-323〜1-326, 1-330〜
1-359, 1-412 ~ 1-422, 1-426 ~ 1-429, 1-433 ~ 1-511, 1
-547 to 1-550, 1-554 to 1-568, 1-572 to 1-575, 1-579 to 1-
630, 1-634〜1-637, 1-641〜1-651, 1-659〜1-687, 1-6
90 ~ 1-694, 1-698 ~ 1-708, 1-731 ~ 1-1-742, 1-749, 1-
753-1-780, 1-783, 1-787-1-797, 1-801-1-827, 2-1
~ 2-27, 2-31 ~ 2-39, 2-73 ~ 2-101, 2-104, 2-105, 2-1
09 to 2-117, 2-121 to 2-129, 2-133 to 2-139, 2-140 to 2-14
3 and more preferably, Exemplified Compound No .: 1-226, 1-233, 1-237-1-247, 1-260
~ 1-285, 1-309 ~ 1-313,1-317 ~ 1-319, 1-326, 1-330,
1-333〜1-336, 1-338, 1-412〜1-422, 1-429, 1-433〜1
-481, 1-550, 1-554〜1-568, 1-575, 1-579〜1-627, 1-
630, 1-690, 1-691, 1-698, 1-708, 1-731, 1-742, 2-1
04, 2-105, 2-109 to 2-117.

【0078】[0078]

【発明の実施の形態】本発明の一般式(I)を有する化
合物は、以下に記載する方法に従って製造することがで
きる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The compound having the general formula (I) of the present invention can be produced according to the method described below.

【0079】A法は、化合物(I)において、Xがエチ
ニレン基である化合物(Ic)、Xがエチレン基である
化合物(Id)、Xがビニレン基である化合物(I
e)、Xが−CO−CH2−を有する基である化合物
(If)、Xが−CH(OH)−CH2−を有する基で
ある化合物(Ig)及びXがアリール基又は置換基群a
から選択される基で1乃至3個置換されたアリ−ル基で
ある化合物(Ih)を製造する方法である。
In the method A, the compound (Ic) wherein X is an ethynylene group, the compound (Id) wherein X is an ethylene group, and the compound (I) wherein X is a vinylene group
e), compound (If) in which X is a group having —CO—CH 2 —, compound (Ig) in which X is a group having —CH (OH) —CH 2 —, and X is an aryl group or a group of substituents a
This is a method for producing a compound (Ih) which is an aryl group substituted by 1 to 3 groups selected from the group consisting of:

【0080】[0080]

【化18】 Embedded image

【0081】[0081]

【化19】 Embedded image

【0082】上記式中、R1、R2、R3、R4、R5
6、R7、Y及びnは、前述したものと同意義を示し、
5a、R6a及びR7aは、各々R5、R6及びR7基におい
て置換基として含まれるアミノ、ヒドロキシ及び/又は
カルボキシル基が、保護されてもよいアミノ、ヒドロキ
シ及び/又はカルボキシル基である他R5、R6及びR7
基の基の定義における基と同様の基を示し、R8及びR
8aは、同一に水素原子を示すか又は一緒に低級アルキル
基を示し、環Arは、アリール基又は置換基群aから選
択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基を
示す。
In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
R 6 , R 7 , Y and n are as defined above,
R 5a , R 6a and R 7a each represents an amino, hydroxy and / or carboxyl group in which an amino, hydroxy and / or carboxyl group contained as a substituent in the R 5 , R 6 and R 7 groups may be protected; Some others R 5 , R 6 and R 7
And the same groups as defined in the definition of the group, and R 8 and R
8a represents a hydrogen atom or a lower alkyl group together, and ring Ar represents an aryl group or an aryl group substituted with at least one group selected from substituent group a.

【0083】上記において、R5a、R6a及びR7aの定義
における「保護されてもよいアミノ基」の「保護基」
は、有機合成化学の分野で使用されるアミノ基の保護基
であれば特に限定はされないが、前述したものと同意儀
を示し、好適には、低級アルコキシカルボニル基又は低
級脂肪族アシル基であり、最も好適には、t-ブトキシ
カルボニル基又はアセチル基である。
In the above, the “protecting group” of the “optionally protected amino group” in the definition of R 5a , R 6a and R 7a
Is not particularly limited as long as it is a protecting group for an amino group used in the field of synthetic organic chemistry, but shows the same consent as described above, and is preferably a lower alkoxycarbonyl group or a lower aliphatic acyl group. , Most preferably a t-butoxycarbonyl group or an acetyl group.

【0084】上記において、R5a、R6a及びR7aの定義
における「保護されてもよいヒドロキシ基」の「保護
基」は、有機合成化学の分野で使用されるヒドロキシ基
の保護基であれば特に限定はされないが、例えば、前記
「加水素分解、加水分解、電気分解、光分解のような化
学的方法により開裂し得る反応における」ヒドロキシ基
の保護基と同意義を示し、好適には、低級脂肪族アシル
基、芳香族アシル基、低級アルコキシカルボニル基又は
(低級アルコキシ)メチル基であり、更に好適には、低
級脂肪族アシル基又は(低級アルコキシ)メチル基であ
り、最も好適にはアセチル基又はメトキシメチル基であ
る。
In the above, the “protecting group” of the “optionally protected hydroxy group” in the definition of R 5a , R 6a and R 7a is a protecting group for a hydroxy group used in the field of organic synthetic chemistry. Although not particularly limited, for example, the same meaning as the protecting group of the hydroxy group "in a reaction that can be cleaved by a chemical method such as hydrogenolysis, hydrolysis, electrolysis, or photolysis", and preferably shows the same meaning. It is a lower aliphatic acyl group, an aromatic acyl group, a lower alkoxycarbonyl group or a (lower alkoxy) methyl group, more preferably a lower aliphatic acyl group or a (lower alkoxy) methyl group, most preferably acetyl. Or a methoxymethyl group.

【0085】上記において、R5a、R6a及びR7aの定義
における「保護されてもよいカルボキシル基」の「保護
基」は、有機合成化学の分野で使用されるカルボキシル
基の保護基であれば特に限定はされないが、例えば、前
記低級アルキル基、ベンジル、フェネチル、3−フェニ
ルプロピル、1−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、
トリフェニルメチル、4−メチルベンジル、4−メトキ
シベンジル、4−ニトロベンジル、4−フルオロベンジ
ル、4−シアノベンジルのような低級アルキル、低級ア
ルコキシ、ニトロ、ハロゲン若しくはシアノで置換され
てもよい1乃至3個のアリールで置換された低級アルキ
ル基であり、好適には低級アルキル基であり、最も好適
にはメチル基である。
In the above, the “protecting group” of the “optionally protected carboxyl group” in the definition of R 5a , R 6a and R 7a is a carboxyl protecting group used in the field of synthetic organic chemistry. Although not particularly limited, for example, the lower alkyl group, benzyl, phenethyl, 3-phenylpropyl, 1-naphthylmethyl, diphenylmethyl,
1 to 1 which may be substituted with lower alkyl, lower alkoxy, nitro, halogen or cyano such as triphenylmethyl, 4-methylbenzyl, 4-methoxybenzyl, 4-nitrobenzyl, 4-fluorobenzyl, 4-cyanobenzyl. It is a lower alkyl group substituted with three aryls, preferably a lower alkyl group, and most preferably a methyl group.

【0086】第A1工程は、一般式(IV)を有する化
合物を製造する工程であり、一般式(II)を有する化
合物を、不活性溶媒中、窒素雰囲気下、塩基及びパラジ
ウム触媒の存在下、一般式(III)を有する化合物と
Sonogashira coupling反応させることにより行なわれ
る。
Step A1 is a step for producing a compound having the general formula (IV). The compound having the general formula (II) is prepared by reacting the compound having the general formula (II) in an inert solvent under a nitrogen atmosphere in the presence of a base and a palladium catalyst. A compound having the general formula (III)
It is performed by Sonogashira coupling reaction.

【0087】上記反応に使用される不活性溶媒として
は、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、
例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテ
ルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素
類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ−テ
ル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエ−テル類;アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、
シクロヘキサノンのようなケトン類;アセトニトリル、
イソブチルビトリルのようなニトリル類;ホルムアミ
ド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類;ジメチ
ルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類;
であり、好適には、エ−テル類、アミド類又はスルホキ
シド類(最も好適には、アミド類又はエ−テル類)であ
る。また、反応溶媒中に少量の水を添加することで、反
応の進行が促進されることがある。
The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it is inert to the present reaction.
For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin, petroleum ether; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene; methylene chloride;
Halogenated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene and dichlorobenzene; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate and diethyl carbonate; diethyl ether, diisopropyl ether; Ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone,
Ketones such as cyclohexanone; acetonitrile,
Nitriles such as isobutylbitrile; amides such as formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide and hexamethylphosphoric triamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide and sulfolane;
And preferably ethers, amides or sulfoxides (most preferably amides or ethers). Further, the addition of a small amount of water to the reaction solvent may accelerate the progress of the reaction.

【0088】上記反応に使用される塩基としては、通常
Sonogashira coupling反応に使用される塩基であれば
特に限定はないが、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭
酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ムのようなアルカリ金属重炭酸塩類;水素化リチウム、
水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金
属水素化物類;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類;リチウ
ムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド、カリウムt−ブトキシドのようなアルカリ金属
アルコキシド類;トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリ
ン、ピリジン、4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジ
ン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニ
リン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5
−エン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタ
ン(DABCO)、1,8−ジアザビシクロ[5.4.
0]−7−ウンデセン(DBU)のような有機アミン
類;であり、好適には有機アミン類(最も好適にはトリ
エチルアミン)である。
The base used in the above reaction is usually
There is no particular limitation as long as it is a base used for the Sonogashira coupling reaction. For example, alkali metal carbonates such as lithium carbonate, sodium carbonate and potassium carbonate; alkalis such as lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate Metal bicarbonates; lithium hydride,
Alkali metal hydrides such as sodium hydride, potassium hydride; alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide; lithium methoxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium alkali metal alkoxides such as t-butoxide; triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, N-methylmorpholine, pyridine, 4- (N, N-dimethylamino) pyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethyl Aniline, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nona-5
-Ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo [5.4.
Organic amines such as [0] -7-undecene (DBU); preferably organic amines (most preferably triethylamine).

【0089】上記反応に使用されるパラジウム触媒とし
ては、通常Sonogashira coupling反応に使用されるも
のであれば特に限定はないが、例えば、酢酸パラジウ
ム、塩化パラジウム、炭酸パラジウムのようなパラジウ
ム塩類、配位子と錯体を形成しているジクロロビス(ト
リフェニルホスフィン)パラジウム錯体のようなパラジ
ウム塩錯体類を挙げることができる。
The palladium catalyst used in the above reaction is not particularly limited as long as it is usually used in the Sonogashira coupling reaction. For example, palladium salts such as palladium acetate, palladium chloride and palladium carbonate; And palladium salt complexes such as dichlorobis (triphenylphosphine) palladium complex which forms a complex with a child.

【0090】また、添加剤として、沃化銅(I)、塩化
ベンジルトリエチルアンモニウムを使用することによ
り、収率を向上させることができる。
The yield can be improved by using copper (I) iodide and benzyltriethylammonium chloride as additives.

【0091】反応温度は、原料化合物、塩基、溶媒の種
類等によって異なるが、通常、−20℃乃至200℃
(好適には0℃乃至120℃)である。
The reaction temperature varies depending on the type of the starting compound, base, solvent and the like, but is usually from -20 ° C to 200 ° C.
(Preferably 0 ° C. to 120 ° C.).

【0092】反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反
応温度等により異なるが、通常、5分乃至48時間(好
適には15分乃至24時間)である。
The reaction time varies depending on the starting compound, base, solvent, reaction temperature and the like, but is usually 5 minutes to 48 hours (preferably 15 minutes to 24 hours).

【0093】本工程の目的化合物(IV)は必要なら
ば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化
合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカ
ゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリ
ジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィ
ー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社
製)、アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・
ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社
製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー
等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを
使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シ
リカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法
(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を
適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分
離、精製することができる。
If necessary, the target compound (IV) in this step can be obtained by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation, or a method usually used for separation and purification of an organic compound, for example, silica gel, alumina, magnesium oxide. Adsorption column chromatography using a silica gel-based carrier such as Florisil; Sephadex LH-20 (manufactured by Pharmacia), Amberlite XAD-11 (Rohm and & Co.)
Haas), a method using synthetic adsorbents such as distribution column chromatography using a carrier such as Diaion HP-20 (Mitsubishi Kasei), a method using ion exchange chromatography, or silica gel or alkylation. Separation and purification can be achieved by appropriately combining normal phase / reverse phase column chromatography with silica gel (preferably high performance liquid chromatography) and eluting with a suitable eluent.

【0094】尚、異性体を分離する必要がある場合に
は、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後
の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうこと
ができる。
When it is necessary to separate the isomers, the separation can be carried out by the above-mentioned separation and purification means after the completion of the reaction in each of the above steps or at an appropriate time after the completion of the desired step.

【0095】第A2工程は、一般式(Ic)を有する化
合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物(I
V)を塩基と反応させ加水分解した後、所望により
5a、R 6a及びR7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/
若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R1
及びR2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又
は、R3におけるヒドロキシ基を保護することにより行
われる。
In the step A2, a compound having the general formula (Ic)
A step of preparing a compound (I) in an inert solvent.
V) is reacted with a base and hydrolyzed, if desired
R5a, R 6aAnd R7aAmino, hydroxy and / or
Or removal of the carboxyl protecting group, R1
And RTwoProtecting the amino group in and / or
Is RThreeBy protecting the hydroxy group in
Is

【0096】化合物(IV)を塩基と反応させる際に使
用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば
特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、
リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類;クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロ
エタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;メタ
ノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ
−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−
ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グ
リセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチル
セロソルブのようなアルコ−ル類;水;或は上記溶媒の
混合溶媒であり、好適には、アルコール類及びエーテル
類の混合溶媒(最も好適には、メタノール及びテトラヒ
ドロフランの混合溶媒)である。
The inert solvent used when reacting compound (IV) with a base is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hexane, heptane,
Aliphatic hydrocarbons such as ligroin and petroleum ether;
Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane and carbon tetrachloride; diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol Ethers such as dimethyl ether; methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol;
Alcohols such as alcohol, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, methyl cellosolve; water; or a mixed solvent of the above solvents, preferably a mixed solvent of alcohols and ethers (Most preferably, a mixed solvent of methanol and tetrahydrofuran).

【0097】化合物(IV)を塩基と反応させる際に使
用される塩基としては、例えば、前記A法第A1工程に
おいて使用される塩基と同様なものを挙げることがで
き、好適には、アルカリ金属水酸化物類(最も好適に
は、水酸化カリウム、水酸化リチウム又は水酸化ナトリ
ウム)である。
Examples of the base used when reacting compound (IV) with a base include those similar to the base used in the above-mentioned Method A, Step A1. Hydroxides (most preferably potassium hydroxide, lithium hydroxide or sodium hydroxide).

【0098】反応温度は、原料化合物、塩基、溶媒の種
類等によって異なるが、通常、−20℃乃至250℃
(好適には0℃乃至150℃)である。
The reaction temperature varies depending on the type of the starting compound, base, solvent and the like, but is usually from -20 ° C to 250 ° C.
(Preferably 0 ° C. to 150 ° C.).

【0099】反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒の種
類、反応温度等により異なるが、通常、30分間乃至7
2時間(好適には1時間乃至48時間)である。
The reaction time varies depending on the starting compound, the base, the type of solvent, the reaction temperature and the like, but is usually from 30 minutes to 7 minutes.
2 hours (preferably 1 hour to 48 hours).

【0100】所望の工程である、アミノ基、ヒドロキシ
基及び/又はカルボキシ基の保護基の除去はその種類に
よって異なるが、一般に有機合成化学の技術において周
知の方法、例えば、T.W.Green,(Protective Groups in
Organic Synthesis),JohnWiley & Sons:J.F.W.McOmi
s,(Protective Groups in OrganicChemistry),Plenu
m Pressに記載の方法により行うことができ、例えば、
以下のように行うことができる。
The removal of the amino, hydroxy and / or carboxy group protecting group, which is a desired step, varies depending on its type, but is generally carried out by methods well known in the art of synthetic organic chemistry, for example, TWGreen, (Protective Groups in
Organic Synthesis), John Wiley & Sons: JFWMcOmi
s, (Protective Groups in OrganicChemistry), Plenu
m Press can be performed by the method described in, for example,
It can be performed as follows.

【0101】アミノ基の保護基が、シリル類である場合
には、通常、弗化テトラブチルアンモニウム、弗化水素
酸、弗化水素酸−ピリジン、弗化カリウムのような弗素
アニオンを生成する化合物で処理することにより除去さ
れる。
When the protecting group for the amino group is a silyl, a compound which generates a fluorine anion such as tetrabutylammonium fluoride, hydrofluoric acid, hydrofluoric acid-pyridine or potassium fluoride is usually used. And is removed by treating with

【0102】上記反応に使用される不活性溶媒は、反応
を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類が好
適である。
The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction.
Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether are preferred.

【0103】反応温度及び反応時間は、特に限定はない
が、通常、0℃乃至50℃で10分間乃至18時間実施
される。
The reaction temperature and reaction time are not particularly limited, but the reaction is usually carried out at 0 ° C. to 50 ° C. for 10 minutes to 18 hours.

【0104】アミノ基の保護基が、脂肪族アシル類、芳
香族アシル類、アルコキシカルボニル類又はシッフ塩基
を形成する置換されたメチレン基である場合には、水性
溶媒の存在下に、酸又は塩基で処理することにより除去
することができる。
When the protecting group for the amino group is an aliphatic acyl, an aromatic acyl, an alkoxycarbonyl or a substituted methylene group forming a Schiff base, an acid or a base is added in the presence of an aqueous solvent. Can be removed.

【0105】上記反応に使用される酸としては、通常酸
として使用されるもので反応を阻害しないものであれば
特に限定はないが、例えば、臭化水素酸、塩酸、硫酸、
過塩素酸、燐酸、硝酸のような無機酸であり、好適には
塩酸である。
The acid used in the above reaction is not particularly limited as long as it is a commonly used acid and does not inhibit the reaction. Examples thereof include hydrobromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, and the like.
Inorganic acids such as perchloric acid, phosphoric acid and nitric acid, preferably hydrochloric acid.

【0106】上記反応に使用される塩基としては、通常
塩基として使用されるもので反応を阻害しないものであ
れば特に限定はないが、好適には、炭酸リチウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩
類;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムのようなアルカリ金属水酸化物類;リチウムメトキシ
ド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム−t−ブトキシドのような金属アルコキシド類;
アンモニア水、濃アンモニア−メタノ−ルのようなアン
モニア類;が用いられる。
The base to be used in the above reaction is not particularly limited as long as it is usually used as a base and does not inhibit the reaction. Preferably, the base is, for example, lithium carbonate, sodium carbonate or potassium carbonate. Alkali metal carbonates; alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide; metal alkoxides such as lithium methoxide, sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium-t-butoxide;
Ammonia water, ammonia such as concentrated ammonia-methanol, and the like.

【0107】上記反応に使用される不活性溶媒として
は、通常の加水分解反応に使用されるものであれば特に
限定はないが、例えば、メタノ−ル、エタノ−ル、n−
プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イ
ソブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−
ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノー
ル、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなア
ルコ−ル類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ
−テル類;水;水と上記有機溶媒との混合溶媒;であ
り、好適にはエーテル類(最も好適にはジオキサン)で
ある。
The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it is used in a usual hydrolysis reaction. For example, methanol, ethanol, n-
Propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, isoamyl alcohol
Alcohols such as toluene, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, and methyl cellosolve; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, and diethylene glycol dimethyl ether; water; A mixed solvent with a solvent; preferably ethers (most preferably dioxane).

【0108】反応温度及び反応時間は、原料化合物、溶
媒及び使用される酸若しくは塩基等により異なり、特に
限定はないが、副反応を抑制するために、通常、0℃乃
至150℃で、1時間乃至10時間反応させる。
The reaction temperature and the reaction time vary depending on the starting compound, the solvent and the acid or base used, and are not particularly limited. However, in order to suppress a side reaction, the reaction is usually performed at 0 ° C. to 150 ° C. for 1 hour. Let react for ~ 10 hours.

【0109】アミノ基の保護基が、アラルキル類又はア
ラルキルオキシカルボニル類である場合には、通常、不
活性溶媒中、還元剤と接触させることにより(好適に
は、触媒下、常温にて接触還元)除去する方法又は酸化
剤を用いて除去する方法が好適である。
When the amino-protecting group is an aralkyl or an aralkyloxycarbonyl, it is usually brought into contact with a reducing agent in an inert solvent (preferably by catalytic reduction at room temperature under a catalyst at room temperature). ) A method of removing or using an oxidizing agent is preferred.

【0110】接触還元による除去に使用される不活性溶
媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定は
ないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石
油エーテルのような脂肪族炭化水素類;トルエン、ベン
ゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類;酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエ
チルのようなエステル類;ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルのようなエ−テル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−
プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イ
ソブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−
ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノー
ル、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなア
ルコ−ル類;酢酸のような有機酸類;水;上記溶媒と水
との混合溶媒;であり、好適には、アルコ−ル類、エー
テル類、有機酸類又は水(最も好適には、アルコール類
又は有機酸類)である。
The inert solvent used for the removal by catalytic reduction is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. Examples thereof include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin and petroleum ether; Aromatic hydrocarbons such as toluene, benzene and xylene; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate and diethyl carbonate; diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane and diethylene glycol dimethyl ether Such ethers; methanol, ethanol, n-
Propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, isoamyl alcohol
Alcohols such as diethylene glycol, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol and methyl cellosolve; organic acids such as acetic acid; water; a mixed solvent of the above solvent and water; preferably alcohols. , Ethers, organic acids or water (most preferably alcohols or organic acids).

【0111】接触還元による除去に使用される使用され
る触媒としては、通常、接触還元反応に使用されるもの
であれば、特に限定はないが、好適には、パラジウム−
炭素、ラネ−ニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム−
酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジ
ウム、パラジウム−硫酸バリウムが用いられる。
The catalyst used for the removal by the catalytic reduction is not particularly limited as long as it is usually used for the catalytic reduction reaction.
Carbon, Raney-nickel, platinum oxide, platinum black, rhodium-
Aluminum oxide, triphenylphosphine-rhodium chloride, palladium-barium sulfate are used.

【0112】圧力は、特に限定はないが、通常1乃至1
0気圧で行なわれる。
Although the pressure is not particularly limited, it is usually 1 to 1
Performed at 0 atm.

【0113】反応温度及び反応時間は、原料化合物、触
媒、溶媒等により異なるが、通常、0℃乃至100℃
で、5分間乃至24時間実施される。
The reaction temperature and the reaction time vary depending on the starting compound, catalyst, solvent and the like, but are usually from 0 ° C. to 100 ° C.
For 5 minutes to 24 hours.

【0114】酸化による除去において使用される不活性
溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定
はないが、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、
1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン
化炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類、ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;アセ
トンのようなケトン類;ホルムアミド、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸ト
リアミドのようなアミド類;及びジメチルスルホキシド
のようなスルホキシド類;スルホラン;であり、好適に
は、ハロゲン化炭化水素類、エ−テル類又はスルホキシ
ド類(最も好適には、ハロゲン化炭化水素類又はスルホ
キシド類)である。
The inert solvent used in the removal by oxidation is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. For example, chloroform, dichloromethane,
Halogenated hydrocarbons such as 1,2-dichloroethane and carbon tetrachloride; nitriles such as acetonitrile; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane and diethylene glycol dimethyl ether; Ketones; amides such as formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, and hexamethylphosphoric triamide; and sulfoxides such as dimethylsulfoxide; sulfolane; Ters or sulfoxides (most preferably halogenated hydrocarbons or sulfoxides).

【0115】使用される酸化剤としては、通常酸化剤と
して使用されるもので反応を阻害しないものであれば特
に限定はないが、好適には、過硫酸カリウム、過硫酸ナ
トリウム、アンモニウムセリウムナイトレイト(CA
N)、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−p−ベン
ゾキノン(DDQ)が用いられる。
The oxidizing agent to be used is not particularly limited as long as it does not hinder the reaction and is usually used as an oxidizing agent, but is preferably potassium persulfate, sodium persulfate, or ammonium cerium nitrate. (CA
N), 2,3-dichloro-5,6-dicyano-p-benzoquinone (DDQ) is used.

【0116】反応温度及び反応時間は、原料化合物、触
媒、溶媒等により異なるが、通常、0℃乃至150℃
で、10分間乃至24時間実施される。
The reaction temperature and reaction time vary depending on the starting compound, catalyst, solvent and the like, but are usually from 0 ° C. to 150 ° C.
For 10 minutes to 24 hours.

【0117】また、アミノ基の保護基が、アラルキル類
である場合には、酸を用いて保護基を除去することもで
きる。
When the protecting group for the amino group is an aralkyl, the protecting group can be removed using an acid.

【0118】上記反応に使用される酸は、通常の反応に
おいて酸触媒として使用されるものであれば特に限定は
ないが、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、
燐酸のような無機酸;酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホ
ン酸、p−トルエンスルホン酸、カンファースルホン
酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸
のような有機酸等のブレンステッド酸;塩化亜鉛、四塩
化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリフルオリド、
ボロントリブロミドのようなルイス酸;酸性イオン交換
樹脂;であり、好適には、無機酸又は有機酸(最も好適
には、塩酸、酢酸又はトリフルオロ酢酸)である。
The acid used in the above reaction is not particularly limited as long as it is used as an acid catalyst in a usual reaction. Examples thereof include hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, perchloric acid, and the like.
Inorganic acids such as phosphoric acid; Bronsted acids such as acetic acid, formic acid, oxalic acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, trifluoroacetic acid, and organic acids such as trifluoromethanesulfonic acid; zinc chloride; Tin chloride, boron trichloride, boron trifluoride,
A Lewis acid such as boron tribromide; an acidic ion exchange resin; preferably an inorganic or organic acid (most preferably hydrochloric acid, acetic acid or trifluoroacetic acid).

【0119】上記反応に使用される不活性溶媒は、反応
を阻害しないものであれば特に限定はないが、例えば、
ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのよう
な脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類;クロロホルム、ジクロロメタ
ン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロ
ゲン化炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;メ
タノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパ
ノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ
−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、
グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチ
ルセロソルブのようなアルコ−ル類;ホルムアミド、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルリン酸トリアミドのようなアミド類;水;或は水又
は上記溶媒の混合溶媒;であり、好適には、エーテル
類、アルコ−ル類又は水(最も好適には、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、エタノール又は水)である。
The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction.
Aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin, petroleum ether; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Halogenated carbons such as chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane and carbon tetrachloride Hydrogens; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, diethyl carbonate;
Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t -Butanol, isoamyl alcohol, diethylene glycol,
Alcohols such as glycerin, octanol, cyclohexanol and methyl cellosolve; amides such as formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide and hexamethylphosphoric triamide; water; or water or a mixed solvent of the above solvents; , Preferably ethers, alcohols or water (most preferably dioxane,
Tetrahydrofuran, ethanol or water).

【0120】反応温度は、原料化合物、使用される酸、
溶媒等により異なるが、通常、−20℃乃至沸点温度
(好適には、0℃乃至100℃)である。
The reaction temperature depends on the starting compound, the acid used,
Although it depends on the solvent and the like, it is usually from -20 ° C to the boiling point (preferably 0 ° C to 100 ° C).

【0121】反応時間は、原料化合物、使用される酸、
溶媒、反応温度等により異なるが、通常、15分間乃至
48時間(好適には、30分間乃至20時間)である。
The reaction time depends on the starting compound, the acid used,
The time is usually from 15 minutes to 48 hours (preferably from 30 minutes to 20 hours), although it depends on the solvent, the reaction temperature and the like.

【0122】アミノ基の保護基がアルケニルオキシカル
ボニル類である場合は、通常、アミノの保護基が前記の
脂肪族アシル類、芳香族アシル類、アルコキシカルボニ
ル類又はシッフ塩基を形成する置換されたメチレン基で
ある場合の除去反応の条件と同様にして、塩基と処理す
ることにより行われる。
When the amino-protecting group is an alkenyloxycarbonyl, the amino-protecting group is usually substituted aliphatic methylene, aromatic acyl, alkoxycarbonyl or a substituted methylene group forming a Schiff base. It is carried out by treating with a base in the same manner as the conditions for the removal reaction in the case of a group.

【0123】尚、アミノ基の保護基がアリルオキシカル
ボニル基の場合は、特に、パラジウム、及びトリフェニ
ルホスフィン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用
して除去する方法が簡便で、副反応が少なく実施するこ
とができる。
When the protecting group for the amino group is an allyloxycarbonyl group, the removal method using palladium and triphenylphosphine or nickel tetracarbonyl is particularly simple and can be carried out with few side reactions. it can.

【0124】ヒドロキシ基の保護基として、シリル類を
使用した場合には、通常、弗化テトラブチルアンモニウ
ム、弗化水素酸、弗化水素酸−ピリジン、弗化カリウム
のような弗素アニオンを生成する化合物で処理するか、
又は、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸のよう
な無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、p
−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフ
ルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有
機酸で処理することにより除去できる。
When a silyl is used as a protecting group for the hydroxy group, a fluorine anion such as tetrabutylammonium fluoride, hydrofluoric acid, hydrofluoric acid-pyridine, or potassium fluoride is usually formed. Treated with compounds or
Or an inorganic acid such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, perchloric acid, phosphoric acid or acetic acid, formic acid, oxalic acid, methanesulfonic acid, p
-It can be removed by treatment with an organic acid such as toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, trifluoroacetic acid, trifluoromethanesulfonic acid.

【0125】弗素アニオンにより保護基を除去する場合
に使用される不活性溶媒としては、反応を阻害しないも
のであれば特に限定はないが、好適には、ジエチルエ−
テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコール
ジメチルエーテルのようなエ−テル類;アセトニトリ
ル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;酢酸のよ
うな有機酸;水;上記溶媒の混合溶媒;である。
The inert solvent used for removing the protecting group with a fluorine anion is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction.
Ter, diisopropyl ether, tetrahydrofuran,
Ethers such as dioxane, dimethoxyethane and diethylene glycol dimethyl ether; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; organic acids such as acetic acid; water;

【0126】尚、弗素アニオンにより保護基を除去する
場合に、蟻酸、酢酸、プロピオン酸のような有機酸を加
えることによって、反応が促進することがある。
When the protecting group is removed by fluorine anion, the reaction may be accelerated by adding an organic acid such as formic acid, acetic acid or propionic acid.

【0127】弗素アニオンにより保護基を除去する場合
の反応温度及び反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒等
により異なるが、通常、0℃乃至100℃(好適には、
10℃乃至50℃)で、1時間乃至24時間実施され
る。
The reaction temperature and reaction time when the protecting group is removed by fluorine anion vary depending on the starting compound, catalyst, solvent and the like, but are usually 0 ° C. to 100 ° C. (preferably
(10 ° C. to 50 ° C.) for 1 hour to 24 hours.

【0128】無機酸又は有機酸により保護基を除去する
場合、アミノ基又はイミノ基の保護基がアラルキル類で
ある場合の除去反応の条件と同様にして、無機酸又は有
機酸と処理することにより達成される。
When the protecting group is removed with an inorganic acid or an organic acid, treatment with an inorganic acid or an organic acid is carried out in the same manner as in the removal reaction when the protecting group for an amino group or an imino group is an aralkyl. Achieved.

【0129】ヒドロキシ基の保護基が、アラルキル類又
はアラルキルオキシカルボニル類である場合には、通
常、不活性溶媒中、還元剤と接触させることにより(好
適には、触媒下、常温にて接触還元)除去する方法又は
酸化剤を用いて除去する方法が好適である。
When the protecting group for the hydroxy group is an aralkyl or aralkyloxycarbonyl, it is usually contacted with a reducing agent in an inert solvent (preferably by catalytic reduction at room temperature under a catalyst at room temperature). ) A method of removing or using an oxidizing agent is preferred.

【0130】接触還元による除去に使用される不活性溶
媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定は
ないが、例えば、アミノ基又はイミノ基の保護基が、ア
ラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場
合、還元剤と接触させることにより除去する際に使用さ
れる不活性溶媒と同様なものを挙げることができ、好適
にはアルコ−ル類(最も好適にはメタノール)である。
The inert solvent used for removal by catalytic reduction is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. For example, an inert group such as an aralkyl group or an aralkyloxycarbonyl group having an amino- or imino-protecting group may be used. In the case of, there may be mentioned the same inert solvents as used for the removal by contacting with a reducing agent, preferably alcohols (most preferably methanol).

【0131】接触還元による除去に使用される触媒とし
ては、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、
特に限定はないが、例えば、アミノ基又はイミノ基の保
護基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカルボニル
類である場合、還元剤と接触させることにより除去する
際に使用される不活性触媒と同様なものを挙げることが
でき、好適にはパラジウム−炭素である。
As the catalyst to be used for the removal by the catalytic reduction, if it is usually used for the catalytic reduction reaction,
Although not particularly limited, for example, when the protecting group for the amino group or the imino group is an aralkyl or an aralkyloxycarbonyl, the same as the inert catalyst used when the protective group is removed by contact with a reducing agent. And palladium-carbon is preferred.

【0132】圧力は、特に限定はないが、通常1乃至1
0気圧で行なわれる。
Although the pressure is not particularly limited, it is usually 1 to 1
Performed at 0 atm.

【0133】反応温度及び反応時間は、原料化合物、触
媒、溶媒等により異なるが、通常、0℃乃至100℃
(好適には、20℃乃至70℃)、5分間乃至48時間
(好適には、1時間乃至24時間)である。
The reaction temperature and reaction time vary depending on the starting compound, catalyst, solvent and the like, but are usually 0 ° C to 100 ° C.
(Preferably 20 ° C. to 70 ° C.) for 5 minutes to 48 hours (preferably 1 hour to 24 hours).

【0134】酸化による除去において使用される溶媒と
しては、反応を阻害しないものであれば特に限定はない
が、例えば、アミノ基の保護基が、アラルキル類又はア
ラルキルオキシカルボニル類である場合、酸化剤と接触
させることにより除去する際に使用される不活性溶媒と
同様なものを挙げることができる。
The solvent used in the removal by oxidation is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. For example, when the protecting group for the amino group is an aralkyl or aralkyloxycarbonyl, And the same inert solvent as used in the removal by contact with the solvent.

【0135】使用される酸化剤としては、酸化に使用さ
れる化合物であれば特に限定はないが、例えば、アミノ
基の保護基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカル
ボニル類である場合、酸化剤と接触させることにより除
去する際に使用される酸化剤と同様なものを挙げること
ができる。
The oxidizing agent to be used is not particularly limited as long as it is a compound used for oxidation. For example, when the protecting group for the amino group is an aralkyl or aralkyloxycarbonyl, the oxidizing agent is in contact with the oxidizing agent. The same oxidizing agents as those used for removal by removal can be used.

【0136】反応温度及び反応時間は、原料化合物、触
媒、溶媒等により異なるが、通常、0℃乃至150℃
で、10分間乃至24時間実施される。
The reaction temperature and the reaction time vary depending on the starting compound, catalyst, solvent and the like, but are usually from 0 ° C. to 150 ° C.
For 10 minutes to 24 hours.

【0137】また、液体アンモニア中若しくはメタノ−
ル、エタノ−ル、n−プロパノール、イソプロパノ−
ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−
ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グ
リセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチル
セロソルブのようなアルコ−ル類中において、−78℃
乃至0℃で、金属リチウム、金属ナトリウムのようなア
ルカリ金属類を作用させることによっても除去できる。
In liquid ammonia or methanol
, Ethanol, n-propanol, isopropanol
, N-butanol, isobutanol, t-butanol
-78 ° C in alcohols such as alcohol, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, and methyl cellosolve.
At ~ 0 ° C, it can also be removed by the action of alkali metals such as metallic lithium and metallic sodium.

【0138】更に、ヒドロキシ基の保護基が、アラルキ
ル類又はアラルキルオキシカルボニル類である場合に
は、溶媒中、塩化アルミニウム−沃化ナトリウム又は、
トリメチルシリルイオダイドのようなアルキルシリルハ
ライド類を用いることにより、保護基を除去することが
できる。
Further, when the protecting group for the hydroxy group is an aralkyl or aralkyloxycarbonyl, aluminum chloride-sodium iodide or
By using an alkylsilyl halide such as trimethylsilyl iodide, the protecting group can be removed.

【0139】塩化アルミニウム−沃化ナトリウム又はア
ルキルシリルハライド類を用いて保護基を除去場合使用
される不活性溶媒としては、本反応に関与しないもので
あれば特に限定はないが、好適には、メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化
水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;上記溶媒
の混合溶媒;が挙げられる。
The inert solvent used when removing the protecting group using aluminum chloride-sodium iodide or an alkylsilyl halide is not particularly limited as long as it does not participate in the present reaction. Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride; nitriles such as acetonitrile; mixed solvents of the above solvents.

【0140】塩化アルミニウム−沃化ナトリウム又はア
ルキルシリルハライド類を用いて保護基を除去場合の反
応温度及び反応時間は、原料化合物、溶媒等により異な
るが、通常は0℃乃至50℃で、5分間乃至72時間実
施される。
The reaction temperature and reaction time when the protecting group is removed using aluminum chloride-sodium iodide or alkylsilyl halides vary depending on the starting compound, solvent and the like, but is usually 0 ° C. to 50 ° C. for 5 minutes. Up to 72 hours.

【0141】尚、反応基質が硫黄原子を有する場合は、
好適には、塩化アルミニウム−沃化ナトリウムが用いら
れる。
When the reaction substrate has a sulfur atom,
Preferably, aluminum chloride-sodium iodide is used.

【0142】ヒドロキシ基の保護基が、脂肪族アシル
類、芳香族アシル類又はアルコキシカルボニル基類であ
る場合には、溶媒中、塩基で処理することにより除去さ
れる。
When the hydroxy-protecting group is an aliphatic acyl, an aromatic acyl or an alkoxycarbonyl group, it is removed by treating with a base in a solvent.

【0143】上記反応において使用される塩基として
は、通常塩基として使用されるもので化合物の他の部分
に影響を与えないものであれば特に限定はないが、例え
ば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素リチウム、炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属
重炭酸塩類;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物類;リチウム
メトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、カリウム−t−ブトキシドのような金属アルコキ
シド類;アンモニア水、濃アンモニア−メタノ−ルのよ
うなアンモニア類;であり、好適には、アルカリ金属水
酸化物類、金属アルコキシド類又はアンモニア類(最も
好適には、アルカリ金属水酸化物類又は金属アルコキシ
ド類)である。
The base used in the above reaction is not particularly limited as long as it is usually used as a base and does not affect the other parts of the compound. Examples thereof include lithium carbonate, sodium carbonate, and carbonate. Alkali metal carbonates such as potassium; alkali metal bicarbonates such as lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide; Metal alkoxides such as lithium methoxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium-t-butoxide; ammonia such as aqueous ammonia and concentrated ammonia-methanol; Substances, metal alkoxides or ammonia (most preferably alkali It is a genus hydroxides or metal alkoxides).

【0144】上記反応において使用される溶媒として
は、通常の加水分解反応に使用されるものであれば特に
限定はないが、例えば、ジエチルエ−テル、ジイソプロ
ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
トキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル
のようなエ−テル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プ
ロパノール、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソ
ブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、
ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シ
クロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−
ル類;水;上記溶媒の混合溶媒が好適である。
The solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it is a solvent used in a usual hydrolysis reaction. For example, diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether Ethers such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, isoamyl alcohol,
Alcohols such as diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, methyl cellosolve
Water; a mixed solvent of the above solvents.

【0145】反応温度及び反応時間は、原料化合物、使
用される塩基、溶媒等により異なり特に限定はないが、
副反応を抑制するために、通常、−20℃乃至150℃
で、1時間乃至10時間実施される。
The reaction temperature and reaction time vary depending on the starting compound, base used, solvent and the like, and are not particularly limited.
In order to suppress side reactions, usually -20 ° C to 150 ° C
For 1 to 10 hours.

【0146】ヒドロキシ基の保護基が、アルコキシメチ
ル類、テトラヒドロピラニル類、テトラヒドロチオピラ
ニル類、テトラヒドロフラニル類、テトラヒドロチオフ
ラニル類又は置換されたエチル類である場合には、通
常、溶媒中、酸で処理することにより除去される。
When the protecting group for the hydroxy group is an alkoxymethyl, tetrahydropyranyl, tetrahydrothiopyranyl, tetrahydrofuranyl, tetrahydrothiofuranyl or substituted ethyl, it is usually used in a solvent. , By treatment with an acid.

【0147】上記反応に使用される酸としては、通常、
ブレンステッド酸又はルイス酸として使用されるもので
あれば特に限定はなく、好適には、塩化水素;塩酸、硫
酸、硝酸のような無機酸;又は酢酸、トリフルオロ酢
酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸のよう
な有機酸等のブレンステッド酸:三弗化ホウ素のような
ルイス酸であるが、ダウエックス50Wのような強酸性
の陽イオン交換樹脂も使用することができる。
The acid used in the above reaction is usually
There is no particular limitation as long as it is used as a Bronsted acid or Lewis acid, and preferably, hydrogen chloride; an inorganic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, or nitric acid; or acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, or p- Bronsted acids such as organic acids such as toluenesulfonic acid: Lewis acids such as boron trifluoride, but strongly acidic cation exchange resins such as Dowex 50W can also be used.

【0148】上記反応に使用される不活性溶媒として
は、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、
例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテ
ルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素
類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ−テ
ル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエ−テル類;メタノ−ル、エタ
ノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブ
タノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミ
ルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オ
クタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブの
ようなアルコ−ル類;アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノ
ンのようなケトン類;水;上記溶媒の混合溶媒;であ
り、好適には、エ−テル類(最も好適には、テトラヒド
ロフラン)又はアルコール類(最も好適には、メタノー
ル)である。
The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction.
For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin, petroleum ether; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene; methylene chloride;
Halogenated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene and dichlorobenzene; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate and diethyl carbonate; diethyl ether, diisopropyl ether; Ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol Alcohols such as, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, methyl cellosolve; acetone, methyl ethyl ketone,
Ketones such as methyl isobutyl ketone, isophorone and cyclohexanone; water; a mixed solvent of the above solvents; preferably ethers (most preferably tetrahydrofuran) or alcohols (most preferably methanol ).

【0149】反応温度及び反応時間は、原料化合物、使
用される酸、溶媒等により異なるが、通常、−10℃乃
至200℃(好適には、0℃乃至150℃)で、5分間
乃至48時間(好適には、30分間乃至10時間)であ
る。
The reaction temperature and the reaction time vary depending on the starting compound, the acid used, the solvent and the like, but are usually -10 ° C to 200 ° C (preferably 0 ° C to 150 ° C) for 5 minutes to 48 hours. (Preferably 30 minutes to 10 hours).

【0150】ヒドロキシ基の保護基が、アルケニルオキ
シカルボニル類である場合は、通常、ヒドロキシ基の保
護基が前記の脂肪族アシル類、芳香族アシル類又はアル
コキシカルボニル類である場合の除去反応の条件と同様
にして、塩基と処理することにより達成される。
When the protecting group for the hydroxy group is an alkenyloxycarbonyl, the conditions for the removal reaction when the protecting group for the hydroxy group is the aforementioned aliphatic acyl, aromatic acyl or alkoxycarbonyl are usually used. In the same manner as in the above, it is achieved by treating with a base.

【0151】尚、アリルオキシカルボニル基の場合は、
特にパラジウム、及びトリフェニルホスフィン、又はビ
ス(メチルジフェニルホスフィン)(1,5−シクロオ
クタジエン)イリジウム(I)・ヘキサフルオロホスフ
ェートを使用して除去する方法が簡便で、副反応が少な
く実施することができる。
In the case of an allyloxycarbonyl group,
In particular, the removal method using palladium and triphenylphosphine or bis (methyldiphenylphosphine) (1,5-cyclooctadiene) iridium (I) hexafluorophosphate is simple, and the reaction is carried out with few side reactions. Can be.

【0152】カルボキシ基の保護基が、低級アルキル基
又は低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン
若しくはシアノで置換されてもよい1乃至3個のアリー
ルで置換された低級アルキル基である場合は、通常、ヒ
ドロキシ基の保護基が前記の脂肪族アシル類、芳香族ア
シル類又はアルコキシカルボニル類である場合の除去反
応の条件と同様にして、塩基と処理することにより達成
される。
When the protecting group for the carboxy group is a lower alkyl group or a lower alkyl group substituted by one to three aryls which may be substituted by lower alkyl, lower alkoxy, nitro, halogen or cyano, This is achieved by treating with a base in the same manner as in the removal reaction when the protecting group for the hydroxy group is an aliphatic acyl, an aromatic acyl or an alkoxycarbonyl.

【0153】アミノ及びヒドロキシ基を保護する方法
は、その保護基の種類によって異なるが、一般に有機合
成化学の技術において周知の方法、例えば、Protective
Groups in Organic Synthesis(Third Edition,1999,Jo
hn Wiley & Sons,Inc.社発行)に記載された方法により
行うことができ、例えば、以下のように行うことができ
る。
The method for protecting the amino and hydroxy groups depends on the type of the protecting group, but is generally a method well known in the art of synthetic organic chemistry, for example, Protective.
Groups in Organic Synthesis (Third Edition, 1999, Jo
hn Wiley & Sons, Inc.), for example, as follows.

【0154】アミノ基を保護する方法としては、例え
ば、化合物(Ic)において、R1及びR2が水素原子で
ある化合物を、不活性溶媒中(好適には、ジエチルエ−
テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコール
ジメチルエーテルのようなエ−テル類;メタノ−ル、エ
タノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−
ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソア
ミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、
オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ
のようなアルコ−ル類;である。)、塩基(トリエチル
アミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、N−メチルモルホリン、ピリジンのような有機アミ
ン類)の存在下又は非存在下、下記化合物 R1a−Q (VIII) [上記式中、R1aはアミノ基の保護基(前述したものと
同意儀を示す。)を示し、Qはハロゲン原子を示す。]
と、0℃乃至50℃(好適には室温付近)で30分間乃
至10時間(好適には1時間乃至5時間)反応させるこ
とにより行なわれる。
As a method for protecting the amino group, for example, in the compound (Ic), a compound in which R 1 and R 2 are hydrogen atoms is treated in an inert solvent (preferably, diethyl ether
Ter, diisopropyl ether, tetrahydrofuran,
Ethers such as dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-
Butanol, isobutanol, t-butanol, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin,
Alcohols such as octanol, cyclohexanol and methyl cellosolve; ), In the presence or absence of a base (organic amines such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, N-methylmorpholine, pyridine), the following compounds R 1a -Q (VIII) [wherein R 1a is An amino-protecting group (synonymous with that described above) is shown, and Q is a halogen atom. ]
With 0 ° C. to 50 ° C. (preferably around room temperature) for 30 minutes to 10 hours (preferably 1 hour to 5 hours).

【0155】ヒドロキシ基を保護する方法としては、例
えば、化合物(Ic)において、R 3が水素原子である
化合物を、不活性溶媒中(好適には、クロロホルム、ジ
クロロメタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素の
ようなハロゲン化炭化水素類;ホルムアミド、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリ
ン酸トリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシ
ドのようなスルホキシド類)、塩基の存在下(好適に
は、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ムのようなアルカリ金属水素化物類;トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
N−メチルモルホリン、ピリジンのような有機アミン
類)、下記化合物 R3a−Q (IX) [上記式中、R3aは水酸基の保護基(前述したものと同
意儀を示す。)を示し、Qは前述したものと同意儀を示
す。]と、0℃乃至50℃(好適には室温付近)で30
分間乃至24時間(好適には1時間乃至24時間)反応
させることにより行なわれる。
Examples of the method for protecting the hydroxy group include the following.
For example, in compound (Ic), R ThreeIs a hydrogen atom
The compound is dissolved in an inert solvent (preferably chloroform,
Of chloromethane, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride
Such as halogenated hydrocarbons; formamide, dimethyl
Formamide, dimethylacetamide, hexamethylli
Amides such as triamide acid; dimethyl sulfoxy
Sulfoxides such as chloride) in the presence of a base (preferably
Means lithium hydride, sodium hydride, potassium hydride
Alkali metal hydrides such as triethylamido
, Tributylamine, diisopropylethylamine,
Organic amines such as N-methylmorpholine and pyridine
), The following compounds R3a-Q (IX) [in the above formula, R3aIs a hydroxyl protecting group (as described above)
Show willingness. ), And Q indicates consent as described above.
You. ] At 0 to 50 ° C (preferably around room temperature).
Minutes to 24 hours (preferably 1 hour to 24 hours)
This is done by letting

【0156】アミノ基、ヒドロキシ基及び/又はカルボ
キシ基の保護基の除去、並びに、アミノ基及び/又はヒ
ドロキシ基の保護は、順不同で希望する反応を順次実施
することができる。
The removal of the protecting group for the amino group, the hydroxy group and / or the carboxy group, and the protection of the amino group and / or the hydroxy group can be carried out in any order and in any order.

【0157】本工程の目的化合物(Ic)は必要なら
ば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化
合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカ
ゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリ
ジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィ
ー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社
製)、アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・
ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社
製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー
等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを
使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シ
リカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法
(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を
適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分
離、精製することができる。
If desired, the target compound (Ic) in this step can be obtained by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation, or a method usually used for separation and purification of an organic compound, for example, silica gel, alumina, magnesium oxide. Adsorption column chromatography using a silica gel-based carrier such as Florisil; Sephadex LH-20 (manufactured by Pharmacia), Amberlite XAD-11 (Rohm and & Co.)
Haas), a method using synthetic adsorbents such as distribution column chromatography using a carrier such as Diaion HP-20 (Mitsubishi Kasei), a method using ion exchange chromatography, or silica gel or alkylation. Separation and purification can be achieved by appropriately combining normal phase / reverse phase column chromatography with silica gel (preferably high performance liquid chromatography) and eluting with a suitable eluent.

【0158】尚、異性体を分離する必要がある場合に
は、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後
の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうこと
ができる。
When it is necessary to separate the isomers, the separation can be carried out by the above-mentioned separation and purification means after the completion of the reaction in each of the above steps or at an appropriate time after the completion of the desired step.

【0159】第A3工程は、一般式(Id)を有する化
合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物(I
c)を還元(好適には、水素雰囲気下、接触還元)した
後、所望によりR1、R2、R3、R5a、R6a及びR7a
おけるアミノ、ヒドロキシ及び/若しくはカルボキシル
基の保護基を除去すること、R1及びR2におけるアミノ
基を保護すること、並びに/又は、R3におけるヒドロ
キシ基を保護することにより行われる。
Step A3 is a step for producing a compound having the general formula (Id), and the compound (I) is prepared in an inert solvent.
c) after reduction (preferably catalytic reduction in a hydrogen atmosphere), optionally protecting groups for amino, hydroxy and / or carboxyl groups in R 1 , R 2 , R 3 , R 5a , R 6a and R 7a By protecting the amino group at R 1 and R 2 and / or protecting the hydroxy group at R 3 .

【0160】接触還元による除去に使用される不活性溶
媒としては、本反応に不活性なものであれば特に限定は
ないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石
油エーテルのような脂肪族炭化水素類;トルエン、ベン
ゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンク
ロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化
炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテルのようなエ−テル類;メタノ−
ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−
ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−
ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グ
リセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチル
セロソルブのようなアルコ−ル類;酢酸、塩酸のような
有機酸類;水;上記溶媒と水との混合溶媒;であり、好
適には、アルコ−ル類又はエ−テル類(最も好適には、
メタノール)である。
The inert solvent used for removal by catalytic reduction is not particularly limited as long as it is inert to the present reaction. Examples thereof include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin, and petroleum ether. , Aromatic hydrocarbons such as toluene, benzene, xylene; methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane,
Halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene and dichlorobenzene; methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate;
Esters such as butyl acetate and diethyl carbonate; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane and diethylene glycol dimethyl ether; methano-
, Ethanol, n-propanol, isopropanol
, N-butanol, isobutanol, t-butanol
Alcohols such as alcohol, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, and methyl cellosolve; organic acids such as acetic acid and hydrochloric acid; water; a mixed solvent of the above solvent and water; Include alcohols or ethers (most preferably,
Methanol).

【0161】接触還元に使用される触媒としては、通
常、接触還元反応に使用されるものであれば、特に限定
はないが、好適には、パラジウム−炭素、ラネ−ニッケ
ル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、
トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウム−
硫酸バリウムが用いられる。
The catalyst used for the catalytic reduction is not particularly limited as long as it is usually used for the catalytic reduction reaction, but is preferably palladium-carbon, Raney-nickel, platinum oxide, platinum black. , Rhodium-aluminum oxide,
Triphenylphosphine-rhodium chloride, palladium-
Barium sulfate is used.

【0162】反応温度は、原料化合物、触媒、溶媒の種
類等によって異なるが、通常、−20℃乃至200℃
(好適には0℃乃至100℃)である。
The reaction temperature varies depending on the type of the starting compound, the catalyst and the solvent, but is usually from -20 ° C to 200 ° C.
(Preferably 0 ° C. to 100 ° C.).

【0163】反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒、反
応温度等により異なるが、通常、5分乃至96時間(好
適には15分乃至72時間)である。
The reaction time varies depending on the starting compound, catalyst, solvent, reaction temperature and the like, but is usually 5 minutes to 96 hours (preferably 15 minutes to 72 hours).

【0164】所望により行われるR1、R2、R3
5a、R6a及びR7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/
若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R1
及びR2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又
は、R3におけるヒドロキシ基を保護する方法は、前記
A法第A2工程のアミノ、ヒドロキシ及び/若しくはカ
ルボキシル基の保護基を除去すること、R1及びR2にお
けるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R3にお
けるヒドロキシ基を保護する方法と同様に行なわれる。
R 1 , R 2 , R 3 ,
Amino, hydroxy and / or R 5a , R 6a and R 7a
Or removal of the carboxyl protecting group, R 1
And protecting the amino group in R 2 , and / or protecting the hydroxy group in R 3 , by removing the protecting group for the amino, hydroxy and / or carboxyl group in Step A2 of Method A; Protecting the amino group at 1 and R 2 and / or protecting the hydroxy group at R 3 is performed in the same manner.

【0165】本工程の目的化合物(Id)は必要なら
ば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化
合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカ
ゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリ
ジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィ
ー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社
製)、アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・
ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社
製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー
等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを
使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シ
リカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法
(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を
適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分
離、精製することができる。
If desired, the target compound (Id) in this step can be obtained by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation, or a method generally used for separation and purification of an organic compound, for example, silica gel, alumina, magnesium oxide. Adsorption column chromatography using a silica gel-based carrier such as Florisil; Sephadex LH-20 (manufactured by Pharmacia), Amberlite XAD-11 (Rohm and & Co.)
Haas), a method using synthetic adsorbents such as distribution column chromatography using a carrier such as Diaion HP-20 (Mitsubishi Kasei), a method using ion exchange chromatography, or silica gel or alkylation. Separation and purification can be achieved by appropriately combining normal phase / reverse phase column chromatography with silica gel (preferably high performance liquid chromatography) and eluting with a suitable eluent.

【0166】尚、異性体を分離する必要がある場合に
は、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後
の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうこと
ができる。
When it is necessary to separate the isomers, the separation can be carried out by the above separation and purification means after the completion of the reaction in each of the above steps or at an appropriate time after the completion of the desired step.

【0167】第A4工程は、一般式(V)を有する化合
物を製造する工程であり、化合物(III)をカテコー
ルボランと反応させた後、化合物(II)とSuzuki co
upling反応させることにより行なわれる。
Step A4 is a step of producing a compound having the general formula (V). After reacting compound (III) with catecholborane, compound (II) and Suzuki co
This is performed by performing an upling reaction.

【0168】化合物(III)をカテコールボランと反
応させる際の反応温度は、原料化合物、溶媒の種類等に
よって異なるが、通常、0℃乃至150℃(好適には1
0℃乃至100℃)である。
The reaction temperature for reacting compound (III) with catechol borane varies depending on the starting compound, the type of solvent and the like, but is usually 0 ° C. to 150 ° C. (preferably 1 ° C.).
0 ° C to 100 ° C).

【0169】化合物(III)をカテコールボランと反
応させる際の反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度
等により異なるが、通常、15分乃至24時間(好適に
は30分乃至12時間)である。
The reaction time for reacting compound (III) with catecholborane varies depending on the starting compound, solvent, reaction temperature and the like, but is usually 15 minutes to 24 hours (preferably 30 minutes to 12 hours). .

【0170】その後、Suzuki coupling反応させる方法
は、前記A法第A1工程のSonogashira coupling反応
と同様に行われる。
Thereafter, the Suzuki coupling reaction is performed in the same manner as the Sonogashira coupling reaction in the first step A1 of Method A.

【0171】上記反応に使用される溶媒、塩基及びパラ
ジウム触媒としては、前記A法第A1工程で用いられる
ものと同様なものを挙げることができる。
Examples of the solvent, base and palladium catalyst used in the above reaction include those similar to those used in the above-mentioned Method A, Step A1.

【0172】本工程の目的化合物(V)は必要ならば、
常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物
の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲ
ル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリジ
ルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー
法;セファデックスLH−20(ファルマシア社製)、
アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・ハース
社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社製)よう
な担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成
吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用する
方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シリカゲル
による順相・逆相カラムクロマトグラフィー法(好適に
は、高速液体クロマトグラフィーである。)を適宜組合
せ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製す
ることができる。
The desired compound (V) in this step is, if necessary,
Conventional methods, for example, recrystallization, reprecipitation, or methods commonly used for separation and purification of organic compounds, for example, silica gel, alumina, magnesium-silica gel adsorption column chromatography using a carrier such as florisil ; Sephadex LH-20 (manufactured by Pharmacia),
A method using a synthetic adsorbent such as distribution column chromatography using a carrier such as Amberlite XAD-11 (manufactured by Rohm and Haas) and Diaion HP-20 (manufactured by Mitsubishi Kasei), ion exchange chromatography. Separation and purification by appropriate combination of the method to be used or the normal phase / reverse phase column chromatography method (preferably high performance liquid chromatography) using silica gel or alkylated silica gel and eluting with a suitable eluent. can do.

【0173】尚、異性体を分離する必要がある場合に
は、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後
の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうこと
ができる。
When it is necessary to separate the isomers, the separation can be carried out by the above-mentioned separation and purification means after the completion of the reaction in each of the above steps or at an appropriate time after the completion of the desired step.

【0174】第A5工程は、一般式(Ie)を有する化
合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物
(V)を塩基と反応させ加水分解した後、所望によりR
5a、R6a及びR7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/若
しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R1
びR2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又
は、R 3におけるヒドロキシ基を保護することにより行
われ、本工程は前記A法第A2工程と同様に行われる。
Step A5 is a step of reacting a compound having the general formula (Ie)
A process for producing a compound, in an inert solvent,
After reacting (V) with a base to hydrolyze, if desired, R
5a, R6aAnd R7aAmino, hydroxy and / or young
Or removing the protecting group of the carboxyl group, R1Passing
And RTwoProtecting the amino group in and / or
Is R ThreeBy protecting the hydroxy group in
This step is performed in the same manner as the above-mentioned Method A, Step A2.

【0175】第A6工程は、一般式(If)を有する化
合物を製造する工程であり、化合物(Ic)を、不活性
溶媒中、酸触媒を用いた水の付加反応により行なわれ、
その後所望によりR1、R2、R3、R5a、R6a及びR7a
におけるアミノ、ヒドロキシ及び/若しくはカルボキシ
ル基の保護基を除去すること、R1及びR2におけるアミ
ノ基を保護すること、並びに/又は、R3におけるヒド
ロキシ基を保護することにより行われる。
Step A6 is a step for producing a compound having the general formula (If), wherein the compound (Ic) is subjected to an addition reaction of water using an acid catalyst in an inert solvent,
Then, if desired, R 1 , R 2 , R 3 , R 5a , R 6a and R 7a
By removing the protecting groups for the amino, hydroxy and / or carboxyl groups in, protecting the amino group in R 1 and R 2 , and / or protecting the hydroxy group in R 3 .

【0176】上記反応に使用される不活性溶媒として
は、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、
例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテ
ルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素
類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ−テ
ル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエ−テル類;メタノ−ル、エタ
ノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブ
タノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミ
ルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オ
クタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブの
ようなアルコ−ル類;アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノ
ンのようなケトン類;水;上記溶媒の混合溶媒;であ
り、好適には、アルコール類である。
The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it is inert to the present reaction.
For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin, petroleum ether; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene; methylene chloride;
Halogenated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene and dichlorobenzene; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate and diethyl carbonate; diethyl ether, diisopropyl ether; Ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol Alcohols such as, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, methyl cellosolve; acetone, methyl ethyl ketone,
Ketones such as methyl isobutyl ketone, isophorone and cyclohexanone; water; a mixed solvent of the above solvents; and preferably alcohols.

【0177】上記反応に使用される酸触媒としては、通
常の反応において酸触媒として使用されるものであれば
特に限定はないが、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、
過塩素酸、燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、
メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、カンファ
ースルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタン
スルホン酸のような有機酸等のブレンステッド酸或いは
塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボロント
リフルオリド、ボロントリブロミドのようなルイス酸又
は、酸性イオン交換樹脂を挙げることができ、好適には
無機酸である。
The acid catalyst used in the above reaction is not particularly limited as long as it can be used as an acid catalyst in a usual reaction. For example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid,
Perchloric acid, inorganic acids such as phosphoric acid or acetic acid, formic acid, oxalic acid,
Bronsted acids such as organic acids such as methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, trifluoroacetic acid and trifluoromethanesulfonic acid, or zinc chloride, tin tetrachloride, boron trichloride, boron trifluoride, boron trifluoride A Lewis acid such as bromide or an acidic ion exchange resin can be mentioned, and an inorganic acid is preferable.

【0178】反応温度は、原料化合物、触媒、溶媒の種
類等によって異なるが、通常、−20℃乃至200℃
(好適には0℃乃至100℃)である。
The reaction temperature varies depending on the type of the starting compound, catalyst, solvent and the like, but is usually from -20 ° C to 200 ° C.
(Preferably 0 ° C. to 100 ° C.).

【0179】反応時間は、原料化合物、触媒、溶媒、反
応温度等により異なるが、通常、5分乃至96時間(好
適には15分乃至72時間)である。
The reaction time varies depending on the starting compound, catalyst, solvent, reaction temperature and the like, but is usually from 5 minutes to 96 hours (preferably from 15 minutes to 72 hours).

【0180】所望により行われるR1、R2、R3
5a、R6a及びR7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/
若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R1
及びR2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又
は、R3におけるヒドロキシ基を保護する方法は、前記
A法第A2工程のアミノ、ヒドロキシ及び/若しくはカ
ルボキシル基の保護基を除去すること、R1及びR2にお
けるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R3にお
けるヒドロキシ基を保護する方法と同様に行なわれる。
R 1 , R 2 , R 3 ,
Amino, hydroxy and / or R 5a , R 6a and R 7a
Or removal of the carboxyl protecting group, R 1
And protecting the amino group in R 2 , and / or protecting the hydroxy group in R 3 , by removing the protecting group for the amino, hydroxy and / or carboxyl group in Step A2 of Method A; Protecting the amino group at 1 and R 2 and / or protecting the hydroxy group at R 3 is performed in the same manner.

【0181】第A7工程は、一般式(Ig)を有する化
合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物(I
f)のCO基を−CH(OH)−基に還元することによ
り行なわれ、その後所望によりR1、R2、R、R5a、R
6a及びR7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/若しくは
カルボキシル基の保護基を除去すること、R1及びR2
おけるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R3
おけるヒドロキシ基を保護することにより行われる。
Step A7 is a step for producing a compound having the general formula (Ig), and the compound (Ig) is prepared in an inert solvent.
f) by reducing the CO group to a -CH (OH)-group, followed by R 1 , R 2 , R, R 5a , R
It is performed by removing the protecting group of the amino, hydroxy and / or carboxyl group in 6a and R 7a , protecting the amino group in R 1 and R 2 , and / or protecting the hydroxy group in R 3 . .

【0182】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反
応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;クロロホルム、ジクロロ
メタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のような
ハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
トキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル
のようなエーテル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プ
ロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソ
ブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、
ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シ
クロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−
ル類或は上記溶媒の混合溶媒であり、好適には、エーテ
ル類又はアルコ−ル類(最も好適には、メタノ−ル又は
エタノ−ル)である。
The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it is inert to the present reaction. Examples thereof include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin and petroleum ether; benzene , Toluene, xylene; aromatic hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, and carbon tetrachloride; halogenated hydrocarbons such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether Ethers such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, isoamyl alcohol,
Alcohols such as diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, methyl cellosolve
Or a mixed solvent of the above solvents, preferably ethers or alcohols (most preferably methanol or ethanol).

【0183】上記反応に使用される還元剤としては、C
O基を−CH(OH)−基に還元できる還元剤であれば
特に限定はされないが、例えば、水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ホウ素リチウム、水素化シアノホウ素ナトリ
ウムのような水素化ホウ素アルカリ金属類;水素化ジイ
ソブチルアルミニウム、水素化アルミニウムリチウム、
水素化トリエトキシアルミニウムリチウムのような水素
化アルミニウム化合物;であり、好適には水素化ホウ素
アルカリ金属類(水素化シアノホウ素ナトリウム)であ
る。
As the reducing agent used in the above reaction, C
The reducing agent is not particularly limited as long as it is a reducing agent that can reduce the O group to a —CH (OH) — group. For example, alkali metal borohydrides such as sodium borohydride, lithium borohydride, and sodium cyanoborohydride Diisobutylaluminum hydride, lithium aluminum hydride,
Aluminum hydride compounds such as lithium triethoxyaluminum hydride; and preferably alkali metal borohydrides (sodium cyanoborohydride).

【0184】反応温度は、原料化合物、還元剤、溶媒の
種類等によって異なるが、通常、−10℃乃至100℃
(好適には−20℃乃至20℃)である。
The reaction temperature varies depending on the type of the starting compound, the reducing agent, the solvent and the like, but is usually from -10 ° C to 100 ° C.
(Preferably −20 ° C. to 20 ° C.).

【0185】反応時間は、原料化合物、還元剤、溶媒、
反応温度等により異なるが、通常、10分間乃至48時
間(好適には30分間乃至12時間)である。
The reaction time depends on the starting compound, reducing agent, solvent,
Although it depends on the reaction temperature and the like, it is usually from 10 minutes to 48 hours (preferably from 30 minutes to 12 hours).

【0186】所望により行われるR1、R2、R3
5a、R6a及びR7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/
若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R1
及びR2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又
は、R3におけるヒドロキシ基を保護する方法は、前記
A法第A2工程のアミノ、ヒドロキシ及び/若しくはカ
ルボキシル基の保護基を除去すること、R1及びR2にお
けるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R3にお
けるヒドロキシ基を保護する方法と同様に行なわれる。
R 1 , R 2 , R 3 ,
Amino, hydroxy and / or R 5a , R 6a and R 7a
Or removing the protecting group of a carboxyl group, R 1
And protecting the amino group in R 2 , and / or protecting the hydroxy group in R 3 , by removing the protecting group for the amino, hydroxy and / or carboxyl group in Step A2 of Method A; Protecting the amino group at 1 and R 2 and / or protecting the hydroxy group at R 3 is performed in the same manner.

【0187】第A8工程は、一般式(VII)を有する
化合物を製造する工程であり、一般式(VI)を有する
化合物を、化合物(II)とSuzuki coupling反応させ
ることにより行なわれ、本工程は、前記A法第A4工程
の、カテコールボランと反応させた化合物(III)を
化合物(II)とSuzuki coupling反応させる方法と同
様に行なわれる。
Step A8 is a step of producing a compound having the general formula (VII), which is carried out by subjecting the compound having the general formula (VI) to a Suzuki coupling reaction with the compound (II). The method is carried out in the same manner as in the above-mentioned Method A, Step A4, in which the compound (III) reacted with catecholborane is subjected to a Suzuki coupling reaction with the compound (II).

【0188】第A9工程は、一般式(Ih)を有する化
合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物(V
II)を塩基と反応させ加水分解した後、所望によりR
5a、R6a及びR7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/若
しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R1
びR2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又
は、R3におけるヒドロキシ基を保護することにより行
われ、本工程は前記A法第A2工程と同様に行われる。
Step A9 is a step for producing a compound having the general formula (Ih), and the compound (V) is prepared in an inert solvent.
II) is reacted with a base and hydrolyzed, if desired
Removing amino, hydroxy and / or carboxyl protecting groups on 5a , R 6a and R 7a , protecting amino groups on R 1 and R 2 , and / or protecting hydroxy groups on R 3 This step is performed in the same manner as in Method A, Step A2.

【0189】また、化合物(II)において、下記(I
I-1)基
In the compound (II), the following (I
I-1) Group

【0190】[0190]

【化20】 Embedded image

【0191】[上記式中、R4は前述したものと同意議
を示す。]の代わりに、下記(II-2)基
[Wherein R 4 has the same meaning as described above. In place of the following (II-2)

【0192】[0192]

【化21】 Embedded image

【0193】[上記式中、R1a及びR2aは、R1及びR2
基が同時に水素原子を示さない他R1及びR2基の定義に
おける基と同様の基を示し、R3及びR4は前述したもの
と同意議を示す。]を有する化合物(X)
[Wherein R 1a and R 2a represent R 1 and R 2
Group represents the same groups in the other R 1 and the definition of R 2 groups which do not exhibit hydrogen atoms at the same time, R 3 and R 4 is a consent discussions with those described above. (X) having the formula

【0194】[0194]

【化22】 Embedded image

【0195】をA法の出発原料として用いて、化合物
(III)又は(VI)と反応させた後、所望によりR
1、R2、R3、R5a、R6a及びR7aにおけるアミノ、ヒ
ドロキシ及び/若しくはカルボキシル基の保護基を除去
すること、R1及びR2におけるアミノ基を保護するこ
と、並びに/又は、R3におけるヒドロキシ基を保護す
ることにより、(II−1)基を開環する工程を省略し
て直接目的化合物(Ic)〜(Ih)を製造することも
できる。
Using as a starting material for Method A, reacting with Compound (III) or (VI), if desired, R
Removing amino, hydroxy and / or carboxyl protecting groups on R 1 , R 2 , R 3 , R 5a , R 6a and R 7a , protecting the amino group on R 1 and R 2 , and / or By protecting the hydroxy group in R 3, the target compounds (Ic) to (Ih) can also be directly produced by omitting the step of opening the group (II-1).

【0196】B法は、化合物(II)又は(X)である
化合物(XI)を製造する方法である。
Method B is a method for producing compound (XI) which is compound (II) or (X).

【0197】[0197]

【化23】 Embedded image

【0198】上記式中、R6a、R7a及びnは前述したも
のと同意議を示し、Zは、前記(II−1)基又は(I
I−2)基を示す。
In the above formula, R 6a , R 7a and n have the same meanings as described above, and Z represents the group (II-1) or (I
I-2) represents a group.

【0199】第B1工程は、化合物(XI)を製造する
工程であり、不活性溶媒中、一般式(X)を有する化合
物を臭素化剤と反応させることにより行なわれる。
Step B1 is a step for producing a compound (XI), which is carried out by reacting a compound having the general formula (X) with a brominating agent in an inert solvent.

【0200】上記反応に使用される溶媒としては、本反
応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、
メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロ
ロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのような
ハロゲン化炭化水素類;ジエチルエ−テル、ジイソプロ
ピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
トキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル
のようなエ−テル類;ホルムアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリ
アミドのようなアミド類;であり、好適にはアミド類
(最も好適には、ジメチルホルムアミド)である。
The solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it is inert to the present reaction.
Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; Amides such as formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoric triamide; and preferably amides (most preferably dimethylformamide).

【0201】上記反応に使用される臭素化剤としては、
特に限定はないが、例えば、“Comprehensive Organic
Transformations”(Larock, VCH, p316-317)に記載され
ているような臭素化剤を挙げることができ、好適には、
N−ブロムスクイシンイミド又は臭素である。
As the brominating agent used in the above reaction,
Although not particularly limited, for example, “Comprehensive Organic
Transformations "(Larock, VCH, p316-317).
N-bromosuccinimide or bromine.

【0202】反応温度は、原料化合物、臭素化剤、溶媒
の種類等によって異なるが、通常、−78℃乃至150
℃(好適には−20℃乃至100℃)である。
The reaction temperature varies depending on the type of the starting compound, the brominating agent, the solvent and the like.
° C (preferably -20 ° C to 100 ° C).

【0203】反応時間は、原料化合物、臭素化剤、溶
媒、反応温度等により異なるが、通常、5分間乃至48
時間(好適には30分間乃至24時間)である。
The reaction time varies depending on the starting compound, the brominating agent, the solvent, the reaction temperature and the like, but is usually from 5 minutes to 48 minutes.
Time (preferably 30 minutes to 24 hours).

【0204】本工程の目的化合物(XI)は必要なら
ば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化
合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカ
ゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリ
ジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィ
ー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社
製)、アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・
ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社
製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー
等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを
使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シ
リカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法
(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を
適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分
離、精製することができる。
If desired, the target compound (XI) in this step can be obtained by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation, or a method usually used for separating and purifying an organic compound, for example, silica gel, alumina, magnesium compound. Adsorption column chromatography using a carrier such as silica gel-based florisil; Sephadex LH-20 (manufactured by Pharmacia), Amberlite XAD-11 (ROHM &
Haas), a method using synthetic adsorbents such as distribution column chromatography using a carrier such as Diaion HP-20 (Mitsubishi Kasei), a method using ion exchange chromatography, or silica gel or alkylation. Separation and purification can be achieved by appropriately combining normal phase / reverse phase column chromatography with silica gel (preferably high performance liquid chromatography) and eluting with a suitable eluent.

【0205】尚、異性体を分離する必要がある場合に
は、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後
の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうこと
ができる。C法は、化合物(X)において、Zが式(I
I−2)を有する基であり、R1が水素原子であり、R2
が低級アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカル
ボニル基、又は置換基群aから選択される基で1乃至3
個置換されたアラルキルオキシカルボニル基であり、R
3が水素原子である化合物(Xa)、Zが式(II−
1)を有する基である化合物(Xb)及びZが式(II
−2)を有する基である化合物(Xc)を製造する方法
である。
When it is necessary to separate the isomers, the separation can be carried out by the above-mentioned separation and purification means after the completion of the reaction in each of the above steps or at an appropriate time after the completion of the desired step. Method C is as follows. In compound (X), Z is a compound of the formula (I)
I-2), wherein R 1 is a hydrogen atom, R 2
Is a lower alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, or a group selected from substituent group a,
An aralkyloxycarbonyl group which is monosubstituted;
A compound (Xa) wherein 3 is a hydrogen atom, and Z is a compound represented by the formula (II-
Compounds (Xb) and Z, which are groups having 1), have the formula (II)
This is a method for producing a compound (Xc) which is a group having -2).

【0206】[0206]

【化24】 Embedded image

【0207】上記式中、R1、R2、R3、R4、R6a、R
7a、及びnは、前述したものと同意義を示し、R9は、
ホルミル基、カルボキシ基又は低級アルコキシカルボニ
ル基を示し、R10は、水素原子又は低級アルキル基を示
し、R10aは、低級アルキル基を示し、R11は、低級ア
ルキル基、アラルキル基、又は置換基群aから選択され
る基で1乃至3個置換されたアラルキル基を示す。
In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 6a , R
7a and n are as defined above, and R 9 is
A formyl group, a carboxy group or a lower alkoxycarbonyl group; R 10 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group; R 10a represents a lower alkyl group; R 11 represents a lower alkyl group, an aralkyl group, or a substituent And an aralkyl group substituted by 1 to 3 groups selected from group a.

【0208】第C1工程は、一般式(XIII)を有す
る化合物を製造する工程であり、一般式(XII)を有
する化合物を、不活性溶媒中、塩基の存在下又は非存在
下(好適には存在下)、還元剤と反応させることにより
行われる。
Step C1 is a step of producing a compound having the general formula (XIII). The compound having the general formula (XII) is prepared in an inert solvent in the presence or absence of a base (preferably (In the presence), by reaction with a reducing agent.

【0209】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反
応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;クロロホルム、ジクロロ
メタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のような
ハロゲン化炭化水素類;酢酸、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのような
エステル類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ
ーテル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−
ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−
ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキ
サノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;ホ
ルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド
類;水;或は水又は上記溶媒の混合溶媒;であり、好適
にはエーテル類である。
The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it is inert to the present reaction. Examples thereof include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin and petroleum ether; benzene , Toluene, xylene; aromatic hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride; acetic acid, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and carbonic acid Esters such as diethyl; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; methanol, ethanol, n-propanol
, Isopropanol, n-butanol, isobutanol
Alcohols such as toluene, t-butanol, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol and methyl cellosolve; amides such as formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide and hexamethylphosphoric triamide Water; or water or a mixed solvent of the above solvents; and preferably ethers.

【0210】上記反応に使用される還元剤は、例えば、
前記A法第A7工程において使用される還元剤と同様な
ものを挙げることができる。
The reducing agent used in the above reaction is, for example,
The same reducing agents as those used in the method A, step A7 can be used.

【0211】上記反応に使用される塩基は、例えば、前
記A法第A1工程において使用される還元剤と同様なも
のを挙げることができる。
As the base used in the above reaction, for example, those similar to the reducing agent used in the aforementioned Method A, Step A1 can be mentioned.

【0212】反応温度は、原料化合物、使用される還元
剤、塩基、溶媒の種類等によって異なるが、通常、−5
0℃乃至100℃(好適には0℃乃至50℃)である。
The reaction temperature varies depending on the type of the starting compound, the reducing agent used, the base, the solvent and the like.
It is 0 ° C to 100 ° C (preferably 0 ° C to 50 ° C).

【0213】反応時間は、原料化合物、使用される還元
剤、塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、1
5分乃至150時間(好適には1時間乃至100時間)
である。
The reaction time varies depending on the starting compound, the reducing agent used, the base, the solvent, the reaction temperature and the like.
5 minutes to 150 hours (preferably 1 hour to 100 hours)
It is.

【0214】第C2工程は、一般式(XIV)を有する
化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存
在下、化合物(XIII)のヒドロキシ基を脱離基に変
換した後、沃素化剤と反応させ脱離基を沃素化すること
により行われる。
Step C2 is a step of producing a compound having the general formula (XIV). In the step of converting the hydroxy group of the compound (XIII) to a leaving group in an inert solvent in the presence of a base, iodine is added. The reaction is carried out by reacting with an agent to iodate the leaving group.

【0215】脱離基を形成する試薬としては、例えば、
メタンスルホニルクロリド、P−トルエンスルホニルク
ロリドのようなスルホニルハライド;チオニルクロリ
ド、チオニルブロミド、チオニルアイオダイドのような
チオニルハライド類;スルフリルクロリド、スルフリル
ブロミド、スルフリルアイオダイドのようなスルフリル
ハライド類;三塩化燐、三臭化燐のような三ハロゲン化
燐類;五塩化燐、五臭化燐のような五ハロゲン化燐類;
オキシ塩化燐、オキシ臭化燐のようなオキシハロゲン化
燐類;メチルトリオキソレニウム(VII)のようなレ
ニウム試薬;を挙げることができる。
The reagent forming a leaving group includes, for example,
Sulfonyl halides such as methanesulfonyl chloride and P-toluenesulfonyl chloride; thionyl halides such as thionyl chloride, thionyl bromide and thionyl iodide; sulfuryl halides such as sulfuryl chloride, sulfuryl bromide and sulfuryl iodide; phosphorus trichloride Phosphorus trihalides, such as phosphorus tribromide; phosphorus pentahalides, such as phosphorus pentachloride and phosphorus pentabromide;
Phosphorous oxyhalides such as phosphorus oxychloride and phosphorus oxybromide; rhenium reagents such as methyltrioxorhenium (VII);

【0216】ヒドロキシ基を脱離基に変換させる際に使
用される塩基としては、通常、有機合成化学の分野にお
いて、ヒドロキシ基を脱離基に変換させる際に使用され
る塩基として使用されているものであれば特に限定され
ないが、例えば、前記A法第A1工程において使用され
る塩基と同様なものを挙げることができる。
As the base used when converting a hydroxy group to a leaving group, it is usually used in the field of synthetic organic chemistry as a base used when converting a hydroxy group to a leaving group. The base is not particularly limited, as long as it is the same as the base used in the above-mentioned Method A, Step A1.

【0217】ヒドロキシ基を脱離基に変換させる際に使
用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば
特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、
リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類;クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロ
エタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;アセ
トン、2−ブタノンのようなケトン類;ホルムアミド、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチルリン酸トリアミドのようなアミド類;ジメチルス
ルホキシドのようなスルホキシド類;スルホラン;であ
り、好適には、ハロゲン化炭化水素類である。
The inert solvent used for converting the hydroxy group to the leaving group is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hexane, heptane,
Aliphatic hydrocarbons such as ligroin and petroleum ether;
Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane and carbon tetrachloride; diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol Ethers such as dimethyl ether; ketones such as acetone and 2-butanone; formamide;
Amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and hexamethylphosphoric triamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide; sulfolane; and preferably halogenated hydrocarbons.

【0218】ヒドロキシ基を脱離基に変換させる際の反
応温度は、原料化合物、使用される試薬、溶媒の種類等
によって異なるが、通常、−50℃乃至200℃(好適
には−10℃乃至150℃)である。
The reaction temperature for converting the hydroxy group to a leaving group varies depending on the starting compound, the reagent used, the type of the solvent, and the like, but is usually -50 ° C to 200 ° C (preferably -10 ° C to 150 ° C.).

【0219】ヒドロキシ基を脱離基に変換させる際の反
応時間は、原料化合物、使用される試薬、溶媒、反応温
度等により異なるが、通常、15分乃至24時間(好適
には30分乃至12時間)である。
The reaction time for converting the hydroxy group to a leaving group varies depending on the starting compound, the reagent used, the solvent, the reaction temperature and the like, but is usually 15 minutes to 24 hours (preferably 30 minutes to 12 hours). Time).

【0220】上記反応に使用される沃素化剤は、通常、
有機合成化学の分野において使用される沃素化剤であれ
ば特に限定されないが、例えば、沃化ナトリウム、沃化
カリウムである。
The iodinating agent used in the above reaction is usually
The iodination agent used in the field of organic synthetic chemistry is not particularly limited, and examples thereof include sodium iodide and potassium iodide.

【0221】脱離基を沃素化する際の反応温度は、原料
化合物、使用される試薬、溶媒の種類等によって異なる
が、通常、0℃乃至200℃(好適には10℃乃至15
0℃)である。
The reaction temperature for the iodination of the leaving group varies depending on the starting compound, the reagent used, the type of the solvent and the like, but is usually 0 ° C. to 200 ° C. (preferably 10 ° C. to 15 ° C.).
0 ° C).

【0222】脱離基を沃素化する際の反応時間は、原料
化合物、使用される試薬、溶媒、反応温度等により異な
るが、通常、15分乃至24時間(好適には30分乃至
12時間)である。
The reaction time for iodination of the leaving group varies depending on the starting compound, the reagent used, the solvent, the reaction temperature and the like, but is usually 15 minutes to 24 hours (preferably 30 minutes to 12 hours). It is.

【0223】第C3工程は、一般式(XVI)を有する
化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物
(XIV)を、塩基の存在下、一般式(XV)を有する
化合物と反応させることにより行われる。
Step C3 is a step of preparing a compound having the general formula (XVI), and reacting the compound (XIV) with a compound having the general formula (XV) in an inert solvent in the presence of a base. It is done by doing.

【0224】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反
応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例え
ば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル
類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソ
プロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−
ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコ
ール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;ホルムア
ミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類;水;
或は水又は上記溶媒の混合溶媒;であり、好適には、ア
ルコ−ル類又はアミド類である。
The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it is inert to the present reaction. Examples thereof include diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, and diethylene glycol dimethyl ether. Ethers: methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-
Alcohols such as butanol, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, and methyl cellosolve; formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide;
Amides such as hexamethylphosphoric acid triamide; water;
Or water or a mixed solvent of the above-mentioned solvents; preferably, alcohols or amides.

【0225】上記反応に使用される塩基としては、例え
ば、前記A法第A1工程において使用されるものと同様
なものを挙げることができ、好適には、アルカリ金属水
素化物類、アルカリ金属水酸化物類又はアルカリ金属ア
ルコキシド類である。
Examples of the base used in the above reaction include the same bases as those used in the above-mentioned Method A, Step A1. Or alkali metal alkoxides.

【0226】反応温度は、原料化合物、塩基、溶媒の種
類等によって異なるが、通常、−78℃乃至100℃
(好適には0℃乃至50℃)である。
The reaction temperature varies depending on the type of the starting compound, base, solvent and the like, but is usually from -78 ° C to 100 ° C.
(Preferably 0 ° C. to 50 ° C.).

【0227】反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反
応温度等により異なるが、通常、15分乃至48時間
(好適には30分乃至12時間)である。
The reaction time varies depending on the starting compound, base, solvent, reaction temperature and the like, but is usually 15 minutes to 48 hours (preferably 30 minutes to 12 hours).

【0228】第C4工程は、一般式(XVII)を有す
る化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物
(XVI)を塩基と反応させ、エステル基をカルボキシ
基に加水分解することにより行われる。
Step C4 is a step of preparing a compound having the general formula (XVII), which is carried out by reacting the compound (XVI) with a base in an inert solvent and hydrolyzing an ester group to a carboxy group. Will be

【0229】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反
応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチル
エーテルのようなエーテル類;メタノ−ル、エタノ−
ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ
−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルア
ルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタ
ノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのよう
なアルコ−ル類;或は水又は上記溶媒の混合溶媒;であ
り、好適には、アルコ−ル類である。
The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it is inert to the present reaction. Examples thereof include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin and petroleum ether; benzene , Toluene, xylene; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; methanol, ethanol
Alcohols such as n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol and methyl cellosolve Or water or a mixed solvent of the above solvents; and preferably alcohols.

【0230】上記反応に使用される塩基としては、通
常、有機合成化学の分野において、エステル基をカルボ
キシ基に加水分解する際に使用される塩基であれば特に
限定されないが、例えば、前記A法第A1工程において
使用されるものと同様なものを挙げることができ、好適
には、アルカリ金属水酸化物類である。
The base used in the above reaction is not particularly limited as long as it is a base usually used in hydrolyzing an ester group to a carboxy group in the field of synthetic organic chemistry. The same ones as used in the step A1 can be mentioned, and preferred are alkali metal hydroxides.

【0231】反応温度は、原料化合物、塩基、溶媒の種
類等によって異なるが、通常、−20℃乃至200℃
(好適には0℃乃至50℃)である。
The reaction temperature varies depending on the type of the starting compound, base, solvent and the like, but is usually from -20 ° C to 200 ° C.
(Preferably 0 ° C. to 50 ° C.).

【0232】反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反
応温度等により異なるが、通常、30分乃至120時間
(好適には1時間乃至80時間)である。
The reaction time varies depending on the starting compound, base, solvent, reaction temperature and the like, but is usually 30 minutes to 120 hours (preferably 1 hour to 80 hours).

【0233】第C5工程は、一般式(XIX)を有する
化合物を製造する工程であり、化合物(XVII)のカ
ルボキシ基をクルチウス転位反応に付し、カルバメート
に変換する方法であり、化合物(XVII)を、不活性
溶媒中、塩基の存在下、ジフェニルリン酸アジドのよう
なジアリール燐酸アジド誘導体と反応させた後、一般式
(XVIII)を有する化合物と加熱反応させることに
より行われる。
Step C5 is a step of producing a compound having the general formula (XIX), wherein the carboxy group of the compound (XVII) is subjected to a Curtius rearrangement reaction to convert the compound into a carbamate, and the compound (XVII) In an inert solvent in the presence of a base in the presence of a base, followed by a heat reaction with a compound having the general formula (XVIII).

【0234】化合物(XVII)をジアリール燐酸アジ
ド誘導体と反応させる際に使用される不活性溶媒及び化
合物(XVIII)と反応させる際に使用される不活性
溶媒は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされ
ないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石
油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トル
エン、キシレンのような芳香族炭化水素類;クロロホル
ム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化
炭素のようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエーテル類;或は水又は上記溶
媒の混合溶媒;であり、好適には芳香族炭化水素類(最
も好適には、ベンゼン)である。
The inert solvent used when reacting compound (XVII) with the diarylphosphoric acid azide derivative and the inert solvent used when reacting with compound (XVIII) are those which are inert to this reaction. Although not particularly limited, for example, hexane, heptane, ligroin, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether; benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene; chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, Halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether; or water or a mixed solvent of the above solvents; Group hydrocarbons (most preferably, ) It is.

【0235】化合物(XVII)をジアリール燐酸アジ
ド誘導体と反応させる際に使用される塩基は、通常、有
機合成化学の分野において、クルチウス転位反応に使用
される塩基であれば特に限定されないが、例えば、前記
A法第A1工程において使用されるものと同様なものを
挙げることができ、好適には、有機アミン類である。
The base used for reacting the compound (XVII) with the diarylphosphate azide derivative is not particularly limited as long as it is a base usually used in Curtius rearrangement in the field of organic synthetic chemistry. The same ones as used in the above-mentioned Method A, Step A1 can be mentioned, and preferred are organic amines.

【0236】化合物(XVII)をジアリール燐酸アジ
ド誘導体と反応させる際の反応温度及び化合物(XVI
II)と反応させる際の反応温度ともに、原料化合物、
塩基、溶媒の種類等によって異なるが、通常、0℃乃至
200℃(好適には20℃乃至150℃)である。
The reaction temperature when reacting compound (XVII) with a diarylphosphoric azide derivative and compound (XVI)
Both the reaction temperature when reacting with II) and the starting compound,
The temperature is usually 0 ° C to 200 ° C (preferably 20 ° C to 150 ° C) depending on the type of the base and the solvent.

【0237】化合物(XVII)をジアリール燐酸アジ
ド誘導体と反応させる際の反応温度及び化合物(XVI
II)と反応させる際の反応温度ともに、原料化合物、
塩基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、15分
乃至24時間(好適には30分乃至12時間)である。
The reaction temperature when reacting compound (XVII) with a diarylphosphorus azide derivative and compound (XVI)
Both the reaction temperature when reacting with II) and the starting compound,
The time is usually 15 minutes to 24 hours (preferably 30 minutes to 12 hours), depending on the base, solvent, reaction temperature and the like.

【0238】また、化合物(XVIII)のうち、ジア
リール燐酸アジド誘導体と直接反応しにくいものを、化
合物(XVII)をジアリール燐酸アジド誘導体と反応
させる際に一緒に反応させることにより、カルボキシル
基を一気にカルバメートに変換することができる。
The compound (XVIII), which hardly reacts directly with the diarylphosphate azide derivative, is reacted together when the compound (XVII) is reacted with the diarylphosphate azide derivative, so that the carboxyl group can be formed at a stroke. Can be converted to

【0239】第C6工程は、一般式(Xa)を有する化
合物を製造する工程であり、化合物(XIX)のエステ
ル基を還元することにより行なわれ、不活性溶媒中、化
合物(XIX)を、還元剤と反応させることにより行わ
れる。
Step C6 is a step of preparing a compound having the general formula (Xa), which is carried out by reducing the ester group of compound (XIX). The reaction is performed by reacting with an agent.

【0240】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反
応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;クロロホルム、ジクロロ
メタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素のような
ハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
トキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル
のようなエーテル類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プ
ロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソ
ブタノ−ル、t−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、
ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シ
クロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−
ル類或は上記溶媒の混合溶媒であり、好適には、アルコ
ール類及びエーテル類の混合溶媒である。
The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it is inert to the present reaction. Examples thereof include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin and petroleum ether; benzene , Toluene, xylene; aromatic hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, and carbon tetrachloride; diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether Ethers such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, isoamyl alcohol,
Alcohols such as diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, methyl cellosolve
Or a mixed solvent of the above solvents, preferably a mixed solvent of alcohols and ethers.

【0241】上記反応に使用される還元剤としては、通
常、有機合成化学の分野において、エステル基を還元す
る際に使用される還元剤であれば特に限定されないが、
例えば、前記A法第A7工程で用いられるものと同様な
ものを挙げることができ、好適には、水素化ホウ素アル
カリ金属類である。
The reducing agent used in the above reaction is not particularly limited as long as it is a reducing agent that is usually used in reducing synthetic ester groups in the field of synthetic organic chemistry.
For example, the same ones as those used in the above-mentioned Method A, Step A7 can be mentioned, and preferred are alkali metal borohydrides.

【0242】反応温度は、原料化合物、溶媒の種類等に
よって異なるが、通常、−78℃乃至150℃(好適に
は−20℃乃至50℃)である。
The reaction temperature varies depending on the starting compound, the kind of the solvent and the like, but is usually from -78 ° C to 150 ° C (preferably from -20 ° C to 50 ° C).

【0243】反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度
等により異なるが、通常、5分間乃至48時間(好適に
は30分間乃至24時間)である。
The reaction time varies depending on the starting compound, solvent, reaction temperature and the like, but is usually 5 minutes to 48 hours (preferably 30 minutes to 24 hours).

【0244】第C7工程は、化合物(Xb)を製造する
工程であり、不活性溶媒中、化合物(Xa)を塩基と反
応させ、オキサゾリジン環に閉環することにより行なわ
れる。
Step C7 is a step of producing compound (Xb), which is carried out by reacting compound (Xa) with a base in an inert solvent and closing the ring to an oxazolidine ring.

【0245】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反
応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例え
ば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル
類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソ
プロパノ−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−
ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコ
ール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類;ホルムア
ミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類;水;
或は水又は上記溶媒の混合溶媒;であり、好適には、ア
ルコ−ル類又はアミド類である。
The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it is inert to the present reaction, and examples thereof include diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, and diethylene glycol dimethyl ether. Ethers: methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-
Alcohols such as butanol, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, and methyl cellosolve; formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide;
Amides such as hexamethylphosphoric acid triamide; water;
Or water or a mixed solvent of the above-mentioned solvents; preferably, alcohols or amides.

【0246】上記反応に使用される塩基としては、例え
ば、前記A法第A1工程において使用されるものと同様
なものを挙げることができ、好適には、アルカリ金属ア
ルコキシド類である。
As the base used in the above reaction, for example, the same bases as those used in the above-mentioned Method A, Step A1 can be mentioned, and preferred are alkali metal alkoxides.

【0247】反応温度は、原料化合物、塩基、溶媒の種
類等によって異なるが、通常、−78℃乃至100℃
(好適には−50℃乃至50℃)である。
The reaction temperature varies depending on the type of the starting compound, the base, the solvent and the like, but is usually from -78 ° C to 100 ° C.
(Preferably −50 ° C. to 50 ° C.).

【0248】反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒、反
応温度等により異なるが、通常、15分乃至48時間
(好適には30分乃至12時間)である。
The reaction time varies depending on the starting compound, base, solvent, reaction temperature and the like, but is usually 15 minutes to 48 hours (preferably 30 minutes to 12 hours).

【0249】第C8工程は、化合物(Xc)を製造する
工程であり、不活性溶媒中、化合物(Xb)を塩基と反
応させ加水分解した後、所望によりR1、R2、R3、R
5a、R6a及びR7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/若
しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R1
びR2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又
は、R3におけるヒドロキシ基を保護することにより行
われる。
Step C8 is a step of producing compound (Xc). After reacting compound (Xb) with a base in an inert solvent and hydrolyzing it, R 1 , R 2 , R 3 , R 3
Removing amino, hydroxy and / or carboxyl protecting groups on 5a , R 6a and R 7a , protecting amino groups on R 1 and R 2 , and / or protecting hydroxy groups on R 3 Is performed by

【0250】化合物(Xb)を塩基と反応させる際に使
用される不活性溶媒は、本反応に不活性なものであれば
特に限定はされないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、
リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類;クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロ
エタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;メタ
ノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ
−ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−
ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グ
リセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチル
セロソルブのようなアルコ−ル類;水;或は上記溶媒の
混合溶媒であり、好適には、アルコール類及びエーテル
類の混合溶媒である。
The inert solvent used when reacting compound (Xb) with a base is not particularly limited as long as it is inert to the present reaction. For example, hexane, heptane,
Aliphatic hydrocarbons such as ligroin and petroleum ether;
Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane and carbon tetrachloride; diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol Ethers such as dimethyl ether; methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol;
Alcohols such as alcohol, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol and methyl cellosolve; water; or a mixed solvent of the above solvents, preferably a mixed solvent of alcohols and ethers It is.

【0251】化合物(Xb)を塩基と反応させる際に使
用される塩基としては、例えば、前記A法第A1工程に
おいて使用されるものと同様なものを挙げることがで
き、好適には、アルカリ金属水酸化物類である。
Examples of the base used when reacting compound (Xb) with a base include those similar to the ones used in the above-mentioned Method A, Step A1. These are hydroxides.

【0252】反応温度は、原料化合物、塩基、溶媒の種
類等によって異なるが、通常、−20℃乃至200℃
(好適には0℃乃至100℃)である。
The reaction temperature varies depending on the type of the starting compound, the base, the solvent and the like, but is usually from -20 ° C to 200 ° C.
(Preferably 0 ° C. to 100 ° C.).

【0253】反応時間は、原料化合物、塩基、溶媒の種
類、反応温度等により異なるが、通常、30分間乃至4
8時間(好適には1時間乃至24時間)である。
The reaction time varies depending on the starting compound, the base, the type of the solvent, the reaction temperature and the like, but is usually from 30 minutes to 4 minutes.
8 hours (preferably 1 hour to 24 hours).

【0254】所望により行われるR1、R2、R3
5a、R6a及びR7aにおけるアミノ、ヒドロキシ及び/
若しくはカルボキシル基の保護基を除去すること、R1
及びR2におけるアミノ基を保護すること、並びに/又
は、R3におけるヒドロキシ基を保護する方法は、前記
A法第A2工程のアミノ、ヒドロキシ及び/若しくはカ
ルボキシル基の保護基を除去すること、R1及びR2にお
けるアミノ基を保護すること、並びに/又は、R3にお
けるヒドロキシ基を保護する方法と同様に行なわれる。
R 1 , R 2 , R 3 ,
Amino, hydroxy and / or R 5a , R 6a and R 7a
Or removing the protecting group of a carboxyl group, R 1
And protecting the amino group in R 2 , and / or protecting the hydroxy group in R 3 , by removing the protecting group for the amino, hydroxy and / or carboxyl group in Step A2 of Method A; Protecting the amino group at 1 and R 2 and / or protecting the hydroxy group at R 3 is performed in the same manner.

【0255】本C法の各工程の目的化合物は必要なら
ば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化
合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカ
ゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリ
ジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィ
ー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社
製)、アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・
ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社
製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー
等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを
使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シ
リカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法
(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を
適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分
離、精製することができる。
If necessary, the target compound in each step of the method C is, if necessary, a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation, or a method commonly used for separating and purifying an organic compound, for example, silica gel, alumina, magnesium, and the like. Adsorption column chromatography using a carrier such as musilica gel type Florisil; Sephadex LH-20 (Pharmacia), Amberlite XAD-11 (Rohm &
Haas), a method using synthetic adsorbents such as distribution column chromatography using a carrier such as Diaion HP-20 (Mitsubishi Kasei), a method using ion exchange chromatography, or silica gel or alkylation. Separation and purification can be achieved by appropriately combining normal phase / reverse phase column chromatography with silica gel (preferably high performance liquid chromatography) and eluting with a suitable eluent.

【0256】尚、異性体を分離する必要がある場合に
は、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後
の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうこと
ができる。
When it is necessary to separate the isomers, the separation can be carried out by the above-mentioned separation and purification means after the completion of the reaction in each of the above steps or at an appropriate time after the completion of the desired step.

【0257】また、本C方法のC1〜C5工程のいずれ
かの工程の後に、臭素化工程(前記B法と同意議を示
す。)を挿入することにより、B法とは別途に化合物
(XI)を製造することができる。
The compound (XI) can be obtained separately from the method B by inserting a bromination step (consensus with the method B) after any of the steps C1 to C5 of the method C. ) Can be manufactured.

【0258】D法は、化合物(X)において、nが2以
上の整数であり、Zが(II−2)基であり、R3が水
素原子である化合物(Xd)、nが2以上の整数であ
り、Wが(II−1)基である化合物(Xe)、及び、
nが2以上の整数であり、Wが(II−2)基である化
合物(Xf)を製造する方法である。
Method D is a compound (Xd) in which n is an integer of 2 or more, Z is a group (II-2), and R 3 is a hydrogen atom. A compound (Xe), which is an integer, wherein W is a group (II-1); and
This is a method for producing a compound (Xf) in which n is an integer of 2 or more and W is a group (II-2).

【0259】[0259]

【化25】 Embedded image

【0260】上記式中、R1、R2、R3、R4、R6a、R
7a及びPhは、前述したものと同意義を示し、R12は、
1−C20アルキル基、ヘテロ原子が介在するC2−C20
アルキル基、アリール基又は芳香族複素環基で置換され
たC1−C20アルキル基、C2−C20アルキニル基、ヘテ
ロ原子が介在するC3−C20アルキニル基、アリール基
又は芳香族複素環基で置換されたC2−C20アルキニル
基、C2−C20アルケニル基、ヘテロ原子が介在するC3
−C20アルケニル基、アリール基又は芳香族複素環基で
置換されたC2−C20アルケニル基、アリール基又は芳
香族複素環基で置換されたヘテロ原子が介在するC2
20アルキル基、或はC3−C10シクロアルキル基を示
し、mは0乃至4の整数を示す。
In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 6a , R
7a and Ph are as defined above, and R 12 is
C 1 -C 20 alkyl group, C 2 -C 20 with a heteroatom interposed
A C 1 -C 20 alkyl group, a C 2 -C 20 alkynyl group substituted with an alkyl group, an aryl group or an aromatic heterocyclic group, a C 3 -C 20 alkynyl group interposed by a hetero atom, an aryl group or an aromatic heterocyclic group; C 2 -C 20 alkynyl group substituted with cyclic group, C 2 -C 20 alkenyl group, C 3 heteroatoms are mediated
-C 20 alkenyl, group, C 2 an aryl group or an aromatic heterocyclic C 2 -C 20 alkenyl, groups substituted with one, heteroatom substituted with an aryl group or an aromatic heterocyclic group interposed -
C 20 alkyl group, or indicates a C 3 -C 10 cycloalkyl group, m is an integer of 0 to 4.

【0261】上記において、R12の定義における「C1
−C20アルキル基」は、例えば、前記「低級アルキル
基」、ヘプチル、1−メチルヘキシル、2−メチルヘキ
シル、3−メチルヘキシル、4−メチルヘキシル、5−
メチルヘキシル、1−プロピルブチル、4,4−ジメチ
ルペンチル、オクチル、1−メチルヘプチル、2−メチ
ルヘプチル、3−メチルヘプチル、4−メチルヘプチ
ル、5−メチルヘプチル、6−メチルヘプチル、1−プ
ロピルペンチル、2−エチルヘキシル、5,5−ジメチ
ルヘキシル、ノニル、3−メチルオクチル、4−メチル
オクチル、5−メチルオクチル、6−メチルオクチル、
1−プロピルヘキシル、2−エチルヘプチル、6,6−
ジメチルヘプチル、デシル、1−メチルノニル、3−メ
チルノニル、8−メチルノニル、3−エチルオクチル、
3,7−ジメチルオクチル、7,7−ジメチルオクチ
ル、ウンデシル、4,8−ジメチルノニル、ドデシル、
トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、3,7,1
1−トリメチルドデシル、ヘキサデシル、4,8,12
−トリメチルトリデシル、1−メチルペンタデシル、1
4−メチルペンタデシル、13,13−ジメチルテトラ
デシル、ヘプタデシル、15−メチルヘキサデシル、オ
クタデシル、1−メチルヘプタデシル、ノナデシル、ア
イコシル、及び、3,7,11,15−テトラメチルヘ
キサデシル基のような炭素数1乃至20個の直鎖又は分
枝鎖アルキル基であり、好適にはC1−C10アルキル基
である。
In the above, “C 1 ” in the definition of R 12
-C 20 alkyl group ", for example, the" lower alkyl group ", heptyl, 1-methylhexyl, 2-methylhexyl, 3-methylhexyl, 4-methylhexyl, 5-
Methylhexyl, 1-propylbutyl, 4,4-dimethylpentyl, octyl, 1-methylheptyl, 2-methylheptyl, 3-methylheptyl, 4-methylheptyl, 5-methylheptyl, 6-methylheptyl, 1-propyl Pentyl, 2-ethylhexyl, 5,5-dimethylhexyl, nonyl, 3-methyloctyl, 4-methyloctyl, 5-methyloctyl, 6-methyloctyl,
1-propylhexyl, 2-ethylheptyl, 6,6-
Dimethylheptyl, decyl, 1-methylnonyl, 3-methylnonyl, 8-methylnonyl, 3-ethyloctyl,
3,7-dimethyloctyl, 7,7-dimethyloctyl, undecyl, 4,8-dimethylnonyl, dodecyl,
Tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, 3,7,1
1-trimethyldodecyl, hexadecyl, 4,8,12
-Trimethyltridecyl, 1-methylpentadecyl, 1
4-methylpentadecyl, 13,13-dimethyltetradecyl, heptadecyl, 15-methylhexadecyl, octadecyl, 1-methylheptadecyl, nonadecyl, eicosyl, and 3,7,11,15-tetramethylhexadecyl group It is a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably a C 1 -C 10 alkyl group.

【0262】上記において、R12の定義における「ヘテ
ロ原子が介在するC2−C20アルキル基」は、前記「C1
−C20アルキル基」の内の「炭素数2乃至20個のアル
キル基」が、同一又は異なって、1又は2個の、硫黄原
子、酸素原子、又は、窒素原子で介在されている基を示
し、例えば、メチルチオメチル、1−メチルチオエチ
ル、2−メチルチオエチル、エチルチオメチル、1−メ
チルチオプロピル、2−メチルチオプロピル、3−メチ
ルチオプロピル、2−エチルチオエチル、2−メチルー
2−メチルチオエチル、1−メチルチオブチル、2−メ
チルチオブチル、3−メチルチオブチル、2−エチルチ
オプロピル、3−メチル−3−メチルチオプロピル、4
−メチルチオペンチル、3−メチルチオペンチル、2−
メチルチオペンチル、1−メチルチオペンチル、3,3
−ジメチルチオブチル、2,2−ジメチルチオブチル、
1,1−ジメチルチオブチル、1−メチル−2−メチル
チオブチル、1,3−ジメチルチオブチル、2,3−ジ
メチルチオブチル、2−エチルチオブチル、1−メチル
チオヘキシル、2−メチルチオヘキシル、3−メチルチ
オヘキシル、4−メチルチオヘキシル、5−メチルチオ
ヘキシル、1−プロピルチオブチル、4−メチル−4−
メチルチオペンチル、1−メチルチオヘプチル、2−メ
チルチオヘプチル、3−メチルチオヘプチル、4−メチ
ルチオヘプチル、5−メチルチオヘプチル、6−メチル
チオヘプチル、1−プロピルチオペンチル、2−エチル
チオヘキシル、5−メチル−5−メチルチオヘキシル、
3−メチルチオオクチル、4−メチルチオオクチル、5
−メチルチオオクチル、6−メチルチオオクチル、1−
プロピルチオヘキシル、2−エチルチオヘプチル、6−
メチル−6−メチルチオヘプチル、1−メチルチオノニ
ル、3−メチルチオノニル、8−メチルチオノニル、3
−エチルチオオクチル、3−メチル−7−メチルチオオ
クチル、7,7−ジメチルチオオクチル、4−メチル−
8−メチルチオノニル、3,7−ジメチル−11−メチ
ルチオドデシル、4,8−ジメチル−12−メチルチオ
トリデシル、1−メチルチオペンタデシル、14−メチ
ルチオペンタデシル、13−メチル−13−メチルチオ
テトラデシル、15−メチルチオヘキサデシル、1−メ
チルチオヘプタデシル、及び、3,7,11−トリメチ
ル−15−メチルチオヘキサデシルのような1又は2個
の硫黄原子で介在されている炭素数2乃至20個のアル
キル基;メチルオキシメチル、1−メチルオキシエチ
ル、2−メチルオキシエチル、エチルオキシメチル、1
−メチルオキシプロピル、2−メチルオキシプロピル、
3−メチルオキシプロピル、2−エチルオキシエチル、
2−メチルー2−メチルオキシエチル、1−メチルオキ
シブチル、2−メチルオキシブチル、3−メチルオキシ
ブチル、2−エチルオキシプロピル、3−メチル−3−
メチルオキシプロピル、4−メチルオキシペンチル、3
−メチルオキシペンチル、2−メチルオキシペンチル、
1−メチルオキシペンチル、3,3−ジメチルオキシブ
チル、2,2−ジメチルオキシブチル、1,1−ジメチ
ルオキシブチル、1−メチル−2−メチルオキシブチ
ル、1,3−ジメチルオキシブチル、2,3−ジメチル
オキシブチル、2−エチルオキシブチル、1−メチルオ
キシヘキシル、2−メチルオキシヘキシル、3−メチル
オキシヘキシル、4−メチルオキシヘキシル、5−メチ
ルオキシヘキシル、1−プロピルオキシブチル、4−メ
チル−4−メチルオキシペンチル、1−メチルオキシヘ
プチル、2−メチルオキシヘプチル、3−メチルオキシ
ヘプチル、4−メチルオキシヘプチル、5−メチルオキ
シヘプチル、6−メチルオキシヘプチル、1−プロピル
オキシペンチル、2−エチルオキシヘキシル、5−メチ
ル−5−メチルオキシヘキシル、3−メチルオキシオク
チル、4−メチルオキシオクチル、5−メチルオキシオ
クチル、6−メチルオキシオクチル、1−プロピルオキ
シヘキシル、2−エチルオキシヘプチル、6−メチル−
6−メチルオキシヘプチル、1−メチルオキシノニル、
3−メチルオキシノニル、8−メチルオキシノニル、3
−エチルオキシオクチル、3−メチル−7−メチルオキ
シオクチル、7,7−ジメチルオキシオクチル、4−メ
チル−8−メチルオキシノニル、3,7−ジメチル−1
1−メチルオキシドデシル、4,8−ジメチル−12−
メチルオキシトリデシル、1−メチルオキシペンタデシ
ル、14−メチルオキシペンタデシル、13−メチル−
13−メチルオキシテトラデシル、15−メチルオキシ
ヘキサデシル、1−メチルオキシヘプタデシル、及び、
3,7,11−トリメチル−15−メチルオキシヘキサ
デシルのような1又は2個の酸素原子で介在されている
炭素数2乃至20個のアルキル基;N−メチルアミノメ
チル、1−(N−メチルアミノ)エチル、2−(N−メ
チルアミノ)エチル、N−エチルアミノメチル、1−
(N−メチルアミノ)プロピル、2−(N−メチルアミ
ノ)プロピル、3−(N−メチルアミノ)プロピル、2
−(N−エチルアミノ)エチル、2−(N,N−ジメチ
ルアミノ)エチル、1−(N−メチルアミノ)ブチル、
2−(N−メチルアミノ)ブチル、3−(N−メチルア
ミノ)ブチル、2−(N−エチルアミノ)プロピル、3
−(N,N−ジメチルアミノ)プロピル、4−(N−メ
チルアミノ)ペンチル、3−(N−メチルアミノ)ペン
チル、2−(N−メチルアミノ)ペンチル、1−(N−
メチルアミノ)ペンチル、3−(N,N−ジメチルアミ
ノ)ブチル、2−(N,N−ジメチルアミノ)ブチル、
1−(N,N−ジメチルアミノ)ブチル、1−メチル−
2−(N−メチルアミノ)ブチル、1,3−ジ(N−メ
チルアミノ)ブチル、2,3−ジ(N−メチルアミノ)
ブチル、2−(N−エチルアミノ)ブチル、1−(N−
メチルアミノ)ヘキシル、2−(N−メチルアミノ)ヘ
キシル、3−(N−メチルアミノ)ヘキシル、4−(N
−メチルアミノ)ヘキシル、5−(N−メチルアミノ)
ヘキシル、1−(N−プロピルアミノ)ブチル、4−メ
チル−4−(N−メチルアミノ)ペンチル、1−(N−
メチルアミノ)ヘプチル、2−(N−メチルアミノ)ヘ
プチル、3−(N−メチルアミノ)ヘプチル、4−(N
−メチルアミノ)ヘプチル、5−(N−メチルアミノ)
ヘプチル、6−(N−メチルアミノ)ヘプチル、1−
(N−プロピルアミノ)ペンチル、2−(N−エチルア
ミノ)ヘキシル、5−メチル−5−(N−メチルアミ
ノ)ヘキシル、3−(N−メチルアミノ)オクチル、4
−(N−メチルアミノ)オクチル、5−(N−メチルア
ミノ)オクチル、6−(N−メチルアミノ)オクチル、
1−(N−プロピルアミノ)ヘキシル、2−(N−エチ
ルアミノ)ヘプチル、6−メチル−6−(N−メチルア
ミノ)ヘプチル、1−(N−メチルアミノ)ノニル、3
−(N−メチルアミノ)ノニル、8−(N−メチルアミ
ノ)ノニル、3−(N−エチルアミノ)オクチル、3−
メチル−7−(N−メチルアミノ)オクチル、7,7−
ジ(N−メチルアミノ)オクチル、4−メチル−8−
(N−メチルアミノ)ノニル、3,7−ジメチル−11
−(N−メチルアミノ)ドデシル、4,8−ジメチル−
12−(N−メチルアミノ)トリデシル、1−(N−メ
チルアミノ)ペンタデシル、14−(N−メチルアミ
ノ)ペンタデシル、13−メチル−13−(N−メチル
アミノ)テトラデシル、15−(N−メチルアミノ)ヘ
キサデシル、1−(N−メチルアミノ)ヘプタデシル、
及び、3,7,11−トリメチル−15−(N−メチル
アミノ)ヘキサデシルのような1又は2個の窒素原子で
介在されている炭素数2乃至20個のアルキル基を挙げ
ることができ、好適には、ヘテロ原子が介在するC2
10アルキル基である。
In the above, the “C 2 -C 20 alkyl group in which a hetero atom is present” in the definition of R 12 is the same as the aforementioned “C 1 -C 20 alkyl group”.
“-C 20 alkyl group” in which “alkyl group having 2 to 20 carbon atoms” is the same or different and is a group in which one or two sulfur atoms, oxygen atoms, or nitrogen atoms are interposed. For example, methylthiomethyl, 1-methylthioethyl, 2-methylthioethyl, ethylthiomethyl, 1-methylthiopropyl, 2-methylthiopropyl, 3-methylthiopropyl, 2-ethylthioethyl, 2-methyl-2-methylthioethyl, 1-methylthiobutyl, 2-methylthiobutyl, 3-methylthiobutyl, 2-ethylthiopropyl, 3-methyl-3-methylthiopropyl,
-Methylthiopentyl, 3-methylthiopentyl, 2-
Methylthiopentyl, 1-methylthiopentyl, 3,3
-Dimethylthiobutyl, 2,2-dimethylthiobutyl,
1,1-dimethylthiobutyl, 1-methyl-2-methylthiobutyl, 1,3-dimethylthiobutyl, 2,3-dimethylthiobutyl, 2-ethylthiobutyl, 1-methylthiohexyl, 2-methylthiohexyl, 3 -Methylthiohexyl, 4-methylthiohexyl, 5-methylthiohexyl, 1-propylthiobutyl, 4-methyl-4-
Methylthiopentyl, 1-methylthioheptyl, 2-methylthioheptyl, 3-methylthioheptyl, 4-methylthioheptyl, 5-methylthioheptyl, 6-methylthioheptyl, 1-propylthiopentyl, 2-ethylthiohexyl, 5-methyl-5 -Methylthiohexyl,
3-methylthiooctyl, 4-methylthiooctyl, 5
-Methylthiooctyl, 6-methylthiooctyl, 1-
Propylthiohexyl, 2-ethylthioheptyl, 6-
Methyl-6-methylthioheptyl, 1-methylthiononyl, 3-methylthiononyl, 8-methylthiononyl,
-Ethylthiooctyl, 3-methyl-7-methylthiooctyl, 7,7-dimethylthiooctyl, 4-methyl-
8-methylthiononyl, 3,7-dimethyl-11-methylthiododecyl, 4,8-dimethyl-12-methylthiotridecyl, 1-methylthiopentadecyl, 14-methylthiopentadecyl, 13-methyl-13-methylthiotetradecyl, Alkyl having 2 to 20 carbon atoms interposed by 1 or 2 sulfur atoms such as 15-methylthiohexadecyl, 1-methylthioheptadecyl and 3,7,11-trimethyl-15-methylthiohexadecyl Groups: methyloxymethyl, 1-methyloxyethyl, 2-methyloxyethyl, ethyloxymethyl,
-Methyloxypropyl, 2-methyloxypropyl,
3-methyloxypropyl, 2-ethyloxyethyl,
2-methyl-2-methyloxyethyl, 1-methyloxybutyl, 2-methyloxybutyl, 3-methyloxybutyl, 2-ethyloxypropyl, 3-methyl-3-
Methyloxypropyl, 4-methyloxypentyl, 3
-Methyloxypentyl, 2-methyloxypentyl,
1-methyloxypentyl, 3,3-dimethyloxybutyl, 2,2-dimethyloxybutyl, 1,1-dimethyloxybutyl, 1-methyl-2-methyloxybutyl, 1,3-dimethyloxybutyl, 3-dimethyloxybutyl, 2-ethyloxybutyl, 1-methyloxyhexyl, 2-methyloxyhexyl, 3-methyloxyhexyl, 4-methyloxyhexyl, 5-methyloxyhexyl, 1-propyloxybutyl, 4- Methyl-4-methyloxypentyl, 1-methyloxyheptyl, 2-methyloxyheptyl, 3-methyloxyheptyl, 4-methyloxyheptyl, 5-methyloxyheptyl, 6-methyloxyheptyl, 1-propyloxypentyl, 2-ethyloxyhexyl, 5-methyl-5-methyloxy Hexyl, 3-methyloxy-octyl, 4-methyl-oxy-octyl, 5-methyloxy-octyl, 6-methyloxy-octyl, 1-propyloxy-hexyl, 2-ethyl-oxy-heptyl, 6-methyl -
6-methyloxyheptyl, 1-methyloxynonyl,
3-methyloxynonyl, 8-methyloxynonyl, 3
-Ethyloxyoctyl, 3-methyl-7-methyloxyoctyl, 7,7-dimethyloxyoctyl, 4-methyl-8-methyloxynonyl, 3,7-dimethyl-1
1-methyloxidedecyl, 4,8-dimethyl-12-
Methyloxytridecyl, 1-methyloxypentadecyl, 14-methyloxypentadecyl, 13-methyl-
13-methyloxytetradecyl, 15-methyloxyhexadecyl, 1-methyloxyheptadecyl, and
An alkyl group having 2 to 20 carbon atoms interposed by one or two oxygen atoms such as 3,7,11-trimethyl-15-methyloxyhexadecyl; N-methylaminomethyl, 1- (N- Methylamino) ethyl, 2- (N-methylamino) ethyl, N-ethylaminomethyl, 1-
(N-methylamino) propyl, 2- (N-methylamino) propyl, 3- (N-methylamino) propyl,
-(N-ethylamino) ethyl, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl, 1- (N-methylamino) butyl,
2- (N-methylamino) butyl, 3- (N-methylamino) butyl, 2- (N-ethylamino) propyl,
-(N, N-dimethylamino) propyl, 4- (N-methylamino) pentyl, 3- (N-methylamino) pentyl, 2- (N-methylamino) pentyl, 1- (N-
Methyl (amino) pentyl, 3- (N, N-dimethylamino) butyl, 2- (N, N-dimethylamino) butyl,
1- (N, N-dimethylamino) butyl, 1-methyl-
2- (N-methylamino) butyl, 1,3-di (N-methylamino) butyl, 2,3-di (N-methylamino)
Butyl, 2- (N-ethylamino) butyl, 1- (N-
Methylamino) hexyl, 2- (N-methylamino) hexyl, 3- (N-methylamino) hexyl, 4- (N
-Methylamino) hexyl, 5- (N-methylamino)
Hexyl, 1- (N-propylamino) butyl, 4-methyl-4- (N-methylamino) pentyl, 1- (N-
Methylamino) heptyl, 2- (N-methylamino) heptyl, 3- (N-methylamino) heptyl, 4- (N
-Methylamino) heptyl, 5- (N-methylamino)
Heptyl, 6- (N-methylamino) heptyl, 1-
(N-propylamino) pentyl, 2- (N-ethylamino) hexyl, 5-methyl-5- (N-methylamino) hexyl, 3- (N-methylamino) octyl,
-(N-methylamino) octyl, 5- (N-methylamino) octyl, 6- (N-methylamino) octyl,
1- (N-propylamino) hexyl, 2- (N-ethylamino) heptyl, 6-methyl-6- (N-methylamino) heptyl, 1- (N-methylamino) nonyl,
-(N-methylamino) nonyl, 8- (N-methylamino) nonyl, 3- (N-ethylamino) octyl, 3-
Methyl-7- (N-methylamino) octyl, 7,7-
Di (N-methylamino) octyl, 4-methyl-8-
(N-methylamino) nonyl, 3,7-dimethyl-11
-(N-methylamino) dodecyl, 4,8-dimethyl-
12- (N-methylamino) tridecyl, 1- (N-methylamino) pentadecyl, 14- (N-methylamino) pentadecyl, 13-methyl-13- (N-methylamino) tetradecyl, 15- (N-methyl Amino) hexadecyl, 1- (N-methylamino) heptadecyl,
And an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms interposed by one or two nitrogen atoms, such as 3,7,11-trimethyl-15- (N-methylamino) hexadecyl. Has a C 2-
It is a C 10 alkyl group.

【0263】上記において、R12の定義における「アリ
ール基又は芳香族複素環基で置換されたC1−C20アル
キル基」は、前記「炭素数C1−C20アルキル基」が、
同一又は異なって、1又は3個のアリール基又は芳香族
複素環基で置換された基を示し、斯かる「アリール基」
及び「芳香族複素環基」は、前述したものと同意議を示
す。 上記において、R12の定義における「C2−C20
アルキニル基」は、例えば、エチニル、2−プロピニ
ル、1−メチル−2−プロピニル、2−メチル−2−プ
ロピニル、2−エチル−2−プロピニル、2−ブチニ
ル、1−メチル−2−ブチニル、2−メチル−2−ブチ
ニル、1−エチル−2−ブチニル、3−ブチニル、1−
メチル−3−ブチニル、2−メチル−3−ブチニル、1
−エチル−3−ブチニル、2−ペンチニル、1−メチル
−2−ペンチニル、2−メチル−2−ペンチニル、3−
ペンチニル、1−メチル−3−ペンチニル、2−メチル
−3−ペンチニル、4−ペンチニル、1−メチル−4−
ペンチニル、2−メチル−4−ペンチニル、2−ヘキシ
ニル、3−ヘキシニル、4−ヘキシニル、5−ヘキシニ
ル、ヘプチニル、1−メチルヘキシニル、2−メチルヘ
キシニル、3−メチルヘキシニル、4−メチルヘキシニ
ル、5−メチルヘキシニル、1−プロピルブチニル、
4,4−ジメチルペンチニル、オクチニル、1−メチル
ヘプチニル、2−メチルヘプチニル、3−メチルヘプチ
ニル、4−メチルヘプチニル、5−メチルヘプチニル、
6−メチルヘプチニル、1−プロピルペンチニル、2−
エチルヘキシニル、5,5−ジメチルヘキシニル、ノニ
ニル、3−メチルオクチニル、4−メチルオクチニル、
5−メチルオクチニル、6−メチルオクチニル、1−プ
ロピルヘキシニル、2−エチルヘプチニル、6,6−ジ
メチルヘプチニル、デシニル、1−メチルノニニル、3
−メチルノニニル、8−メチルノニニル、3−エチルオ
クチニル、3,7−ジメチルオクチニル、7,7−ジメ
チルオクチニル、ウンデシニル、4,8−ジメチルノニ
ニル、ドデシニル、トリデシニル、テトラデシニル、ペ
ンタデシニル、3,7,11−トリメチルドデシニル、
ヘキサデシニル、4,8,12−トリメチルトリデシニ
ル、1−メチルペンタデシニル、14−メチルペンタデ
シニル、13,13−ジメチルテトラデシニル、ヘプタ
デシニル、15−メチルヘキサデシニル、オクタデシニ
ル、1−メチルヘプタデシニル、ノナデシニル、アイコ
シニル、及び、3,7,11,15−テトラメチルヘキ
サデシニル基のような炭素数2乃至20個の直鎖又は分
枝鎖アルキニル基であり、好適にはC1−C10アルキニ
ル基である。
In the above, the “C 1 -C 20 alkyl group substituted with an aryl group or an aromatic heterocyclic group” in the definition of R 12 is the above-mentioned “C 1 -C 20 alkyl group”
The same or different, and represents a group substituted by one or three aryl groups or aromatic heterocyclic groups;
And "aromatic heterocyclic group" are in agreement with those described above. In the above, “C 2 -C 20 ” in the definition of R 12
“Alkynyl group” includes, for example, ethynyl, 2-propynyl, 1-methyl-2-propynyl, 2-methyl-2-propynyl, 2-ethyl-2-propynyl, 2-butynyl, 1-methyl-2-butynyl, -Methyl-2-butynyl, 1-ethyl-2-butynyl, 3-butynyl, 1-
Methyl-3-butynyl, 2-methyl-3-butynyl, 1
-Ethyl-3-butynyl, 2-pentynyl, 1-methyl-2-pentynyl, 2-methyl-2-pentynyl, 3-
Pentynyl, 1-methyl-3-pentynyl, 2-methyl-3-pentynyl, 4-pentynyl, 1-methyl-4-
Pentynyl, 2-methyl-4-pentynyl, 2-hexynyl, 3-hexynyl, 4-hexynyl, 5-hexynyl, heptynyl, 1-methylhexynyl, 2-methylhexynyl, 3-methylhexynyl, 4-methylhexynyl, 5-methylhexynyl, 1- Propylbutynyl,
4,4-dimethylpentynyl, octynyl, 1-methylheptynyl, 2-methylheptynyl, 3-methylheptynyl, 4-methylheptynyl, 5-methylheptynyl,
6-methylheptynyl, 1-propylpentynyl, 2-
Ethylhexynyl, 5,5-dimethylhexynyl, noninyl, 3-methyloctynyl, 4-methyloctynyl,
5-methyloctynyl, 6-methyloctynyl, 1-propylhexynyl, 2-ethylheptynyl, 6,6-dimethylheptynyl, decynyl, 1-methylnoninyl, 3
-Methylnoninyl, 8-methylnoninyl, 3-ethyloctynyl, 3,7-dimethyloctynyl, 7,7-dimethyloctynyl, undecinyl, 4,8-dimethylnoninyl, dodecinyl, tridecinyl, tetradecynyl, pentadecynyl, 3,7,11 -Trimethyldodecynyl,
Hexadecynyl, 4,8,12-trimethyltridecynyl, 1-methylpentadecynyl, 14-methylpentadecynyl, 13,13-dimethyltetradecynyl, heptadecynyl, 15-methylhexadecynyl, octadecynyl, 1-methylhepta decynyl, Nonadeshiniru, Aikoshiniru, and, 3,7,11,15 a-tetramethyl hexadecylcarbamoyl sulfonyl straight or branched alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, such as radicals, preferably C 1 - It is a C 10 alkynyl group.

【0264】上記において、R12の定義における「ヘテ
ロ原子が介在するC3−C20アルキニル基」は、前記
「C1−C20アルキニル基」の内の「C3−C20アルキニ
ル基」が、同一又は異なって、1又は2個の、硫黄原
子、酸素原子、又は、窒素原子で介在されている基を示
し、例えば、1−メチルチオエチニル、2−メチルチオ
エチニル、1−メチルチオプロピニル、2−メチルチオ
プロピニル、3−メチルチオプロピニル、2−エチルチ
オエチニル、2−メチルー2−メチルチオエチニル、1
−メチルチオブチニル、2−メチルチオブチニル、3−
メチルチオブチニル、2−エチルチオプロピニル、3−
メチル−3−メチルチオプロピニル、4−メチルチオペ
ンチニル、3−メチルチオペンチニル、2−メチルチオ
ペンチニル、1−メチルチオペンチニル、3,3−ジメ
チルチオブチニル、2,2−ジメチルチオブチニル、
1,1−ジメチルチオブチニル、1−メチル−2−メチ
ルチオブチニル、1,3−ジメチルチオブチニル、2,
3−ジメチルチオブチニル、2−エチルチオブチニル、
1−メチルチオヘキシニル、2−メチルチオヘキシニ
ル、3−メチルチオヘキシニル、4−メチルチオヘキシ
ニル、5−メチルチオヘキシニル、1−プロピルチオブ
チニル、4−メチル−4−メチルチオペンチニル、1−
メチルチオヘプチニル、2−メチルチオヘプチニル、3
−メチルチオヘプチニル、4−メチルチオヘプチニル、
5−メチルチオヘプチニル、6−メチルチオヘプチニ
ル、1−プロピルチオペンチニル、2−エチルチオヘキ
シニル、5−メチル−5−メチルチオヘキシニル、3−
メチルチオオクチニル、4−メチルチオオクチニル、5
−メチルチオオクチニル、6−メチルチオオクチニル、
1−プロピルチオヘキシニル、2−エチルチオヘプチニ
ル、6−メチル−6−メチルチオヘプチニル、1−メチ
ルチオノニニル、3−メチルチオノニニル、8−メチル
チオノニニル、3−エチルチオオクチニル、3−メチル
−7−メチルチオオクチニル、7,7−ジメチルチオオ
クチニル、4−メチル−8−メチルチオノニニル、3,
7−ジメチル−11−メチルチオドデシニル、4,8−
ジメチル−12−メチルチオトリデシニル、1−メチル
チオペンタデシニル、14−メチルチオペンタデシニ
ル、13−メチル−13−メチルチオテトラデシニル、
15−メチルチオヘキサデシニル、1−メチルチオヘプ
タデシニル、及び、3,7,11−トリメチル−15−
メチルチオヘキサデシニルのような1又は2個の硫黄原
子で介在されている炭素数3乃至20個のアルキニル
基;1−メチルオキシエチニル、2−メチルオキシエチ
ニル、1−メチルオキシプロピニル、2−メチルオキシ
プロピニル、3−メチルオキシプロピニル、2−エチル
オキシエチニル、2−メチルー2−メチルオキシエチニ
ル、1−メチルオキシブチニル、2−メチルオキシブチ
ニル、3−メチルオキシブチニル、2−エチルオキシプ
ロピニル、3−メチル−3−メチルオキシプロピニル、
4−メチルオキシペンチニル、3−メチルオキシペンチ
ニル、2−メチルオキシペンチニル、1−メチルオキシ
ペンチニル、3,3−ジメチルオキシブチニル、2,2
−ジメチルオキシブチニル、1,1−ジメチルオキシブ
チニル、1−メチル−2−メチルオキシブチニル、1,
3−ジメチルオキシブチニル、2,3−ジメチルオキシ
ブチニル、2−エチルオキシブチニル、1−メチルオキ
シヘキシニル、2−メチルオキシヘキシニル、3−メチ
ルオキシヘキシニル、4−メチルオキシヘキシニル、5
−メチルオキシヘキシニル、1−プロピルオキシブチニ
ル、4−メチル−4−メチルオキシペンチニル、1−メ
チルオキシヘプチニル、2−メチルオキシヘプチニル、
3−メチルオキシヘプチニル、4−メチルオキシヘプチ
ニル、5−メチルオキシヘプチニル、6−メチルオキシ
ヘプチニル、1−プロピルオキシペンチニル、2−エチ
ルオキシヘキシニル、5−メチル−5−メチルオキシヘ
キシニル、3−メチルオキシオクチニル、4−メチルオ
キシオクチニル、5−メチルオキシオクチニル、6−メ
チルオキシオクチニル、1−プロピルオキシヘキシニ
ル、2−エチルオキシヘプチニル、6−メチル−6−メ
チルオキシヘプチニル、1−メチルオキシノニニル、3
−メチルオキシノニニル、8−メチルオキシノニニル、
3−エチルオキシオクチニル、3−メチル−7−メチル
オキシオクチニル、7,7−ジメチルオキシオクチニ
ル、4−メチル−8−メチルオキシノニニル、3,7−
ジメチル−11−メチルオキシドデシニル、4,8−ジ
メチル−12−メチルオキシトリデシニル、1−メチル
オキシペンタデシニル、14−メチルオキシペンタデシ
ニル、13−メチル−13−メチルオキシテトラデシニ
ル、15−メチルオキシヘキサデシニル、1−メチルオ
キシヘプタデシニル、及び、3,7,11−トリメチル
−15−メチルオキシヘキサデシニルのような1又は2
個の酸素原子で介在されている炭素数3乃至20個のア
ルキニル基;1−(N−メチルアミノ)エチニル、2−
(N−メチルアミノ)エチニル、1−(N−メチルアミ
ノ)プロピニル、2−(N−メチルアミノ)プロピニ
ル、3−(N−メチルアミノ)プロピニル、2−(N−
エチルアミノ)エチニル、2−(N,N−ジメチルアミ
ノ)エチニル、1−(N−メチルアミノ)ブチニル、2
−(N−メチルアミノ)ブチニル、3−(N−メチルア
ミノ)ブチニル、2−(N−エチルアミノ)プロピニ
ル、3−(N,N−ジメチルアミノ)プロピニル、4−
(N−メチルアミノ)ペンチニル、3−(N−メチルア
ミノ)ペンチニル、2−(N−メチルアミノ)ペンチニ
ル、1−(N−メチルアミノ)ペンチニル、3−(N,
N−ジメチルアミノ)ブチニル、2−(N,N−ジメチ
ルアミノ)ブチニル、1−(N,N−ジメチルアミノ)
ブチニル、1−メチル−2−(N−メチルアミノ)ブチ
ニル、1,3−ジ(N−メチルアミノ)ブチニル、2,
3−ジ(N−メチルアミノ)ブチニル、2−(N−エチ
ルアミノ)ブチニル、1−(N−メチルアミノ)ヘキシ
ニル、2−(N−メチルアミノ)ヘキシニル、3−(N
−メチルアミノ)ヘキシニル、4−(N−メチルアミ
ノ)ヘキシニル、5−(N−メチルアミノ)ヘキシニ
ル、1−(N−プロピルアミノ)ブチニル、4−メチル
−4−(N−メチルアミノ)ペンチニル、1−(N−メ
チルアミノ)ヘプチニル、2−(N−メチルアミノ)ヘ
プチニル、3−(N−メチルアミノ)ヘプチニル、4−
(N−メチルアミノ)ヘプチニル、5−(N−メチルア
ミノ)ヘプチニル、6−(N−メチルアミノ)ヘプチニ
ル、1−(N−プロピルアミノ)ペンチニル、2−(N
−エチルアミノ)ヘキシニル、5−メチル−5−(N−
メチルアミノ)ヘキシニル、3−(N−メチルアミノ)
オクチニル、4−(N−メチルアミノ)オクチニル、5
−(N−メチルアミノ)オクチニル、6−(N−メチル
アミノ)オクチニル、1−(N−プロピルアミノ)ヘキ
シニル、2−(N−エチルアミノ)ヘプチニル、6−メ
チル−6−(N−メチルアミノ)ヘプチニル、1−(N
−メチルアミノ)ノニニル、3−(N−メチルアミノ)
ノニニル、8−(N−メチルアミノ)ノニニル、3−
(N−エチルアミノ)オクチニル、3−メチル−7−
(N−メチルアミノ)オクチニル、7,7−ジ(N−メ
チルアミノ)オクチニル、4−メチル−8−(N−メチ
ルアミノ)ノニニル、3,7−ジメチル−11−(N−
メチルアミノ)ドデシニル、4,8−ジメチル−12−
(N−メチルアミノ)トリデシニル、1−(N−メチル
アミノ)ペンタデシニル、14−(N−メチルアミノ)
ペンタデシニル、13−メチル−13−(N−メチルア
ミノ)テトラデシニル、15−(N−メチルアミノ)ヘ
キサデシニル、1−(N−メチルアミノ)ヘプタデシニ
ル、及び、3,7,11−トリメチル−15−(N−メ
チルアミノ)ヘキサデシニルのような1又は2個の窒素
原子で介在されている炭素数3乃至20個のアルキニル
基であり、好適には、ヘテロ原子が介在するC3−C10
アルキニル基である。
[0264] In the above, "C 3 -C 20 alkynyl heteroatoms are mediated" in the definition of R 12, the "C 3 -C 20 alkynyl group" of the "C 1 -C 20 alkynyl group" The same or different, and represents one or two groups interposed by a sulfur atom, an oxygen atom, or a nitrogen atom, for example, 1-methylthioethynyl, 2-methylthioethynyl, 1-methylthiopropynyl, Methylthiopropynyl, 3-methylthiopropynyl, 2-ethylthioethynyl, 2-methyl-2-methylthioethynyl, 1
-Methylthiobutynyl, 2-methylthiobutynyl, 3-
Methylthiobutynyl, 2-ethylthiopropynyl, 3-
Methyl-3-methylthiopropynyl, 4-methylthiopentynyl, 3-methylthiopentynyl, 2-methylthiopentynyl, 1-methylthiopentynyl, 3,3-dimethylthiobutynyl, 2,2-dimethylthiobutynyl,
1,1-dimethylthiobutynyl, 1-methyl-2-methylthiobutynyl, 1,3-dimethylthiobutynyl, 2,
3-dimethylthiobutynyl, 2-ethylthiobutynyl,
1-methylthiohexynyl, 2-methylthiohexynyl, 3-methylthiohexynyl, 4-methylthiohexynyl, 5-methylthiohexynyl, 1-propylthiobutynyl, 4-methyl-4-methylthiopentynyl, 1-
Methylthioheptynyl, 2-methylthioheptynyl, 3
-Methylthioheptynyl, 4-methylthioheptynyl,
5-methylthioheptynyl, 6-methylthioheptynyl, 1-propylthiopentynyl, 2-ethylthiohexynyl, 5-methyl-5-methylthiohexynyl, 3-
Methylthiooctynyl, 4-methylthiooctynyl, 5
-Methylthiooctynyl, 6-methylthiooctynyl,
1-propylthiohexynyl, 2-ethylthioheptynyl, 6-methyl-6-methylthioheptynyl, 1-methylthiononinyl, 3-methylthiononinyl, 8-methylthiononinyl, 3-ethylthiooctynyl , 3-methyl-7-methylthiooctynyl, 7,7-dimethylthiooctynyl, 4-methyl-8-methylthiononinyl, 3,
7-dimethyl-11-methylthiododecynyl, 4,8-
Dimethyl-12-methylthiotridecynyl, 1-methylthiopentadecynyl, 14-methylthiopentadecynyl, 13-methyl-13-methylthiotetradecynyl,
15-methylthiohexadecynyl, 1-methylthioheptadecynyl and 3,7,11-trimethyl-15-
An alkynyl group having 3 to 20 carbon atoms interposed by one or two sulfur atoms, such as methylthiohexadecynyl; 1-methyloxyethynyl, 2-methyloxyethynyl, 1-methyloxypropynyl, 2-methyl Oxypropynyl, 3-methyloxypropynyl, 2-ethyloxyethynyl, 2-methyl-2-methyloxyethynyl, 1-methyloxybutynyl, 2-methyloxybutynyl, 3-methyloxybutynyl, 2-ethyloxypropynyl , 3-methyl-3-methyloxypropynyl,
4-methyloxypentynyl, 3-methyloxypentynyl, 2-methyloxypentynyl, 1-methyloxypentynyl, 3,3-dimethyloxybutynyl, 2,2
-Dimethyloxybutynyl, 1,1-dimethyloxybutynyl, 1-methyl-2-methyloxybutynyl, 1,
3-dimethyloxybutynyl, 2,3-dimethyloxybutynyl, 2-ethyloxybutynyl, 1-methyloxyhexynyl, 2-methyloxyhexynyl, 3-methyloxyhexynyl, 4-methyloxyhexynyl , 5
-Methyloxyhexynyl, 1-propyloxybutynyl, 4-methyl-4-methyloxypentynyl, 1-methyloxyheptynyl, 2-methyloxyheptynyl,
3-methyloxyheptynyl, 4-methyloxyheptynyl, 5-methyloxyheptynyl, 6-methyloxyheptynyl, 1-propyloxypentynyl, 2-ethyloxyhexynyl, 5-methyl- 5-methyloxyhexynyl, 3-methyloxyoctynyl, 4-methyloxyoctynyl, 5-methyloxyoctynyl, 6-methyloxyoctynyl, 1-propyloxyhexynyl, 2-ethyloxyheptynyl, 6-methyl-6-methyloxyheptynyl, 1-methyloxynoninyl, 3
-Methyloxynoninyl, 8-methyloxynoninyl,
3-ethyloxyoctynyl, 3-methyl-7-methyloxyoctynyl, 7,7-dimethyloxyoctynyl, 4-methyl-8-methyloxynoninyl, 3,7-
Dimethyl-11-methyloxidedecynyl, 4,8-dimethyl-12-methyloxytridecynyl, 1-methyloxypentadecynyl, 14-methyloxypentadecynyl, 13-methyl-13-methyloxytetradecynyl, 1 or 2 such as 15-methyloxyhexadecynyl, 1-methyloxyheptadecynyl and 3,7,11-trimethyl-15-methyloxyhexadecynyl
An alkynyl group having 3 to 20 carbon atoms interposed by two oxygen atoms; 1- (N-methylamino) ethynyl, 2-
(N-methylamino) ethynyl, 1- (N-methylamino) propynyl, 2- (N-methylamino) propynyl, 3- (N-methylamino) propynyl, 2- (N-
Ethylamino) ethynyl, 2- (N, N-dimethylamino) ethynyl, 1- (N-methylamino) butynyl,
-(N-methylamino) butynyl, 3- (N-methylamino) butynyl, 2- (N-ethylamino) propynyl, 3- (N, N-dimethylamino) propynyl, 4-
(N-methylamino) pentynyl, 3- (N-methylamino) pentynyl, 2- (N-methylamino) pentynyl, 1- (N-methylamino) pentynyl, 3- (N,
N-dimethylamino) butynyl, 2- (N, N-dimethylamino) butynyl, 1- (N, N-dimethylamino)
Butynyl, 1-methyl-2- (N-methylamino) butynyl, 1,3-di (N-methylamino) butynyl, 2,
3-di (N-methylamino) butynyl, 2- (N-ethylamino) butynyl, 1- (N-methylamino) hexynyl, 2- (N-methylamino) hexynyl, 3- (N
-Methylamino) hexynyl, 4- (N-methylamino) hexynyl, 5- (N-methylamino) hexynyl, 1- (N-propylamino) butynyl, 4-methyl-4- (N-methylamino) pentynyl, 1- (N-methylamino) heptynyl, 2- (N-methylamino) heptynyl, 3- (N-methylamino) heptynyl, 4-
(N-methylamino) heptynyl, 5- (N-methylamino) heptynyl, 6- (N-methylamino) heptynyl, 1- (N-propylamino) pentynyl, 2- (N
-Ethylamino) hexynyl, 5-methyl-5- (N-
Methylamino) hexynyl, 3- (N-methylamino)
Octynyl, 4- (N-methylamino) octynyl, 5
-(N-methylamino) octynyl, 6- (N-methylamino) octynyl, 1- (N-propylamino) hexynyl, 2- (N-ethylamino) heptynyl, 6-methyl-6- (N-methylamino ) Heptinyl, 1- (N
-Methylamino) noninyl, 3- (N-methylamino)
Noninyl, 8- (N-methylamino) noninyl, 3-
(N-ethylamino) octynyl, 3-methyl-7-
(N-methylamino) octynyl, 7,7-di (N-methylamino) octynyl, 4-methyl-8- (N-methylamino) noninyl, 3,7-dimethyl-11- (N-
Methylamino) dodecinyl, 4,8-dimethyl-12-
(N-methylamino) tridecinyl, 1- (N-methylamino) pentadecinyl, 14- (N-methylamino)
Pentadecynyl, 13-methyl-13- (N-methylamino) tetradecynyl, 15- (N-methylamino) hexadecynyl, 1- (N-methylamino) heptadecynyl, and 3,7,11-trimethyl-15- (N -Methylamino) hexadecynyl, an alkynyl group having 3 to 20 carbon atoms interposed by 1 or 2 nitrogen atoms, preferably C 3 -C 10 intervening by a hetero atom.
Alkynyl group.

【0265】上記において、R12の定義における「アリ
ール基又は芳香族複素環基で置換されたC2−C20アル
キニル基」は、前記「C2−C20アルキニル基」が、同
一又は異なって、1又は3個の、前記「アリール基」又
は前記「芳香族複素環基」で置換された基を示す。
In the above, the “C 2 -C 20 alkynyl group substituted with an aryl group or an aromatic heterocyclic group” in the definition of R 12 is the same as or different from the above “C 2 -C 20 alkynyl group”. And 1 or 3 groups substituted with the above “aryl group” or the above “aromatic heterocyclic group”.

【0266】上記において、R12の定義における「C2
−C20アルケニル基」は、例えば、エテニル、2−プロ
ペニル、1−メチル−2−プロペニル、2−メチル−2
−プロペニル、2−エチル−2−プロペニル、2−ブテ
ニル、1−メチル−2−ブテニル、2−メチル−2−ブ
テニル、1−エチル−2−ブテニル、3−ブテニル、1
−メチル−3−ブテニル、2−メチル−3−ブテニル、
1−エチル−3−ブテニル、2−ペンテニル、1−メチ
ル−2−ペンテニル、2−メチル−2−ペンテニル、3
−ペンテニル、1−メチル−3−ペンテニル、2−メチ
ル−3−ペンテニル、4−ペンテニル、1−メチル−4
−ペンテニル、2−メチル−4−ペンテニル、2−ヘキ
セニル、3−ヘキセニル、4−ヘキセニル、5−ヘキセ
ニル、ヘプテニル、1−メチルヘキセニル、2−メチル
ヘキセニル、3−メチルヘキセニル、4−メチルヘキセ
ニル、5−メチルヘキセニル、1−プロピルブテニル、
4,4−ジメチルペンテニル、オクテニル、1−メチル
ヘプテニル、2−メチルヘプテニル、3−メチルヘプテ
ニル、4−メチルヘプテニル、5−メチルヘプテニル、
6−メチルヘプテニル、1−プロピルペンテニル、2−
エチルヘキセニル、5,5−ジメチルヘキセニル、ノネ
ニル、3−メチルオクテニル、4−メチルオクテニル、
5−メチルオクテニル、6−メチルオクテニル、1−プ
ロピルヘキセニル、2−エチルヘプテニル、6,6−ジ
メチルヘプテニル、デセニル、1−メチルノネニル、3
−メチルノネニル、8−メチルノネニル、3−エチルオ
クテニル、3,7−ジメチルオクテニル、7,7−ジメ
チルオクテニル、ウンデセニル、4,8−ジメチルノネ
ニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペ
ンタデセニル、3,7,11−トリメチルドデセニル、
ヘキサデセニル、4,8,12−トリメチルトリデセニ
ル、1−メチルペンタデセニル、14−メチルペンタデ
セニル、13,13−ジメチルテトラデセニル、ヘプタ
デセニル、15−メチルヘキサデセニル、オクタデセニ
ル、1−メチルヘプタデセニル、ノナデセニル、アイコ
セニル、及び、3,7,11,15−テトラメチルヘキ
サデセニル基のような炭素数2乃至20の直鎖又は分枝
鎖アルケニル基を挙げることができ、好適にはC2−C
10アルケニル基である。
In the above, “C 2 ” in the definition of R 12
—C 20 alkenyl group ”is, for example, ethenyl, 2-propenyl, 1-methyl-2-propenyl, 2-methyl-2
-Propenyl, 2-ethyl-2-propenyl, 2-butenyl, 1-methyl-2-butenyl, 2-methyl-2-butenyl, 1-ethyl-2-butenyl, 3-butenyl, 1
-Methyl-3-butenyl, 2-methyl-3-butenyl,
1-ethyl-3-butenyl, 2-pentenyl, 1-methyl-2-pentenyl, 2-methyl-2-pentenyl, 3
-Pentenyl, 1-methyl-3-pentenyl, 2-methyl-3-pentenyl, 4-pentenyl, 1-methyl-4
-Pentenyl, 2-methyl-4-pentenyl, 2-hexenyl, 3-hexenyl, 4-hexenyl, 5-hexenyl, heptenyl, 1-methylhexenyl, 2-methylhexenyl, 3-methylhexenyl, 4-methylhexenyl, 5 -Methylhexenyl, 1-propylbutenyl,
4,4-dimethylpentenyl, octenyl, 1-methylheptenyl, 2-methylheptenyl, 3-methylheptenyl, 4-methylheptenyl, 5-methylheptenyl,
6-methylheptenyl, 1-propylpentenyl, 2-
Ethylhexenyl, 5,5-dimethylhexenyl, nonenyl, 3-methyloctenyl, 4-methyloctenyl,
5-methyloctenyl, 6-methyloctenyl, 1-propylhexenyl, 2-ethylheptenyl, 6,6-dimethylheptenyl, decenyl, 1-methylnonenyl, 3
-Methylnonenyl, 8-methylnonenyl, 3-ethyloctenyl, 3,7-dimethyloctenyl, 7,7-dimethyloctenyl, undecenyl, 4,8-dimethylnonenyl, dodecenyl, tridecenyl, tetradecenyl, pentadecenyl, 3,7,11-trimethyl Dodecenyl,
Hexadecenyl, 4,8,12-trimethyltridecenyl, 1-methylpentadecenyl, 14-methylpentadecenyl, 13,13-dimethyltetradecenyl, heptadecenyl, 15-methylhexadecenyl, octadecenyl And straight-chain or branched alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms, such as 1,1-methylheptadecenyl, nonadecenyl, eicosenyl and 3,7,11,15-tetramethylhexadecenyl group. And preferably C 2 -C
10 alkenyl groups.

【0267】上記において、R12の定義における「ヘテ
ロ原子が介在するC3−C20アルケニル基」は、前記
「C2−C20アルケニル基」の内の「C3−C20アルケニ
ル基」が、同一又は異なって、1又は2個の、硫黄原
子、酸素原子、又は、窒素原子で介在されている基を示
し、例えば、1−メチルチオエテニル、2−メチルチオ
エテニル、1−メチルチオプロペニル、2−メチルチオ
プロペニル、3−メチルチオプロペニル、2−エチルチ
オエテニル、2−メチルー2−メチルチオエテニル、1
−メチルチオブテニル、2−メチルチオブテニル、3−
メチルチオブテニル、2−エチルチオプロペニル、3−
メチル−3−メチルチオプロペニル、4−メチルチオペ
ンテニル、3−メチルチオペンテニル、2−メチルチオ
ペンテニル、1−メチルチオペンテニル、3,3−ジメ
チルチオブテニル、2,2−ジメチルチオブテニル、
1,1−ジメチルチオブテニル、1−メチル−2−メチ
ルチオブテニル、1,3−ジメチルチオブテニル、2,
3−ジメチルチオブテニル、2−エチルチオブテニル、
1−メチルチオヘキセニル、2−メチルチオヘキセニ
ル、3−メチルチオヘキセニル、4−メチルチオヘキセ
ニル、5−メチルチオヘキセニル、1−プロピルチオブ
テニル、4−メチル−4−メチルチオペンテニル、1−
メチルチオヘプテニル、2−メチルチオヘプテニル、3
−メチルチオヘプテニル、4−メチルチオヘプテニル、
5−メチルチオヘプテニル、6−メチルチオヘプテニ
ル、1−プロピルチオペンテニル、2−エチルチオヘキ
セニル、5−メチル−5−メチルチオヘキセニル、3−
メチルチオオクテニル、4−メチルチオオクテニル、5
−メチルチオオクテニル、6−メチルチオオクテニル、
1−プロピルチオヘキセニル、2−エチルチオヘプテニ
ル、6−メチル−6−メチルチオヘプテニル、1−メチ
ルチオノネニル、3−メチルチオノネニル、8−メチル
チオノネニル、3−エチルチオオクテニル、3−メチル
−7−メチルチオオクテニル、7,7−ジメチルチオオ
クテニル、4−メチル−8−メチルチオノネニル、3,
7−ジメチル−11−メチルチオドデセニル、4,8−
ジメチル−12−メチルチオトリデセニル、1−メチル
チオペンタデセニル、14−メチルチオペンタデセニ
ル、13−メチル−13−メチルチオテトラデセニル、
15−メチルチオヘキサデセニル、1−メチルチオヘプ
タデセニル、及び、3,7,11−トリメチル−15−
メチルチオヘキサデセニルのような1又は2個の硫黄原
子で介在されている炭素数3乃至20個のアルケニル
基;1−メチルオキシエテニル、2−メチルオキシエテ
ニル、1−メチルオキシプロペニル、2−メチルオキシ
プロペニル、3−メチルオキシプロペニル、2−エチル
オキシエテニル、2−メチルー2−メチルオキシエテニ
ル、1−メチルオキシブテニル、2−メチルオキシブテ
ニル、3−メチルオキシブテニル、2−エチルオキシプ
ロペニル、3−メチル−3−メチルオキシプロペニル、
4−メチルオキシペンテニル、3−メチルオキシペンテ
ニル、2−メチルオキシペンテニル、1−メチルオキシ
ペンテニル、3,3−ジメチルオキシブテニル、2,2
−ジメチルオキシブテニル、1,1−ジメチルオキシブ
テニル、1−メチル−2−メチルオキシブテニル、1,
3−ジメチルオキシブテニル、2,3−ジメチルオキシ
ブテニル、2−エチルオキシブテニル、1−メチルオキ
シヘキセニル、2−メチルオキシヘキセニル、3−メチ
ルオキシヘキセニル、4−メチルオキシヘキセニル、5
−メチルオキシヘキセニル、1−プロピルオキシブテニ
ル、4−メチル−4−メチルオキシペンテニル、1−メ
チルオキシヘプテニル、2−メチルオキシヘプテニル、
3−メチルオキシヘプテニル、4−メチルオキシヘプテ
ニル、5−メチルオキシヘプテニル、6−メチルオキシ
ヘプテニル、1−プロピルオキシペンテニル、2−エチ
ルオキシヘキセニル、5−メチル−5−メチルオキシヘ
キセニル、3−メチルオキシオクテニル、4−メチルオ
キシオクテニル、5−メチルオキシオクテニル、6−メ
チルオキシオクテニル、1−プロピルオキシヘキセニ
ル、2−エチルオキシヘプテニル、6−メチル−6−メ
チルオキシヘプテニル、1−メチルオキシノネニル、3
−メチルオキシノネニル、8−メチルオキシノネニル、
3−エチルオキシオクテニル、3−メチル−7−メチル
オキシオクテニル、7,7−ジメチルオキシオクテニ
ル、4−メチル−8−メチルオキシノネニル、3,7−
ジメチル−11−メチルオキシドデセニル、4,8−ジ
メチル−12−メチルオキシトリデセニル、1−メチル
オキシペンタデセニル、14−メチルオキシペンタデセ
ニル、13−メチル−13−メチルオキシテトラデセニ
ル、15−メチルオキシヘキサデセニル、1−メチルオ
キシヘプタデセニル、及び、3,7,11−トリメチル
−15−メチルオキシヘキサデセニルのような1又は2
個の酸素原子で介在されている炭素数3乃至20個のア
ルケニル基;1−(N−メチルアミノ)エテニル、2−
(N−メチルアミノ)エテニル、1−(N−メチルアミ
ノ)プロペニル、2−(N−メチルアミノ)プロペニ
ル、3−(N−メチルアミノ)プロペニル、2−(N−
エチルアミノ)エテニル、2−(N,N−ジメチルアミ
ノ)エテニル、1−(N−メチルアミノ)ブテニル、2
−(N−メチルアミノ)ブテニル、3−(N−メチルア
ミノ)ブテニル、2−(N−エチルアミノ)プロペニ
ル、3−(N,N−ジメチルアミノ)プロペニル、4−
(N−メチルアミノ)ペンテニル、3−(N−メチルア
ミノ)ペンテニル、2−(N−メチルアミノ)ペンテニ
ル、1−(N−メチルアミノ)ペンテニル、3−(N,
N−ジメチルアミノ)ブテニル、2−(N,N−ジメチ
ルアミノ)ブテニル、1−(N,N−ジメチルアミノ)
ブテニル、1−メチル−2−(N−メチルアミノ)ブテ
ニル、1,3−ジ(N−メチルアミノ)ブテニル、2,
3−ジ(N−メチルアミノ)ブテニル、2−(N−エチ
ルアミノ)ブテニル、1−(N−メチルアミノ)ヘキセ
ニル、2−(N−メチルアミノ)ヘキセニル、3−(N
−メチルアミノ)ヘキセニル、4−(N−メチルアミ
ノ)ヘキセニル、5−(N−メチルアミノ)ヘキセニ
ル、1−(N−プロピルアミノ)ブテニル、4−メチル
−4−(N−メチルアミノ)ペンテニル、1−(N−メ
チルアミノ)ヘプテニル、2−(N−メチルアミノ)ヘ
プテニル、3−(N−メチルアミノ)ヘプテニル、4−
(N−メチルアミノ)ヘプテニル、5−(N−メチルア
ミノ)ヘプテニル、6−(N−メチルアミノ)ヘプテニ
ル、1−(N−プロピルアミノ)ペンテニル、2−(N
−エチルアミノ)ヘキセニル、5−メチル−5−(N−
メチルアミノ)ヘキセニル、3−(N−メチルアミノ)
オクテニル、4−(N−メチルアミノ)オクテニル、5
−(N−メチルアミノ)オクテニル、6−(N−メチル
アミノ)オクテニル、1−(N−プロピルアミノ)ヘキ
セニル、2−(N−エチルアミノ)ヘプテニル、6−メ
チル−6−(N−メチルアミノ)ヘプテニル、1−(N
−メチルアミノ)ノネニル、3−(N−メチルアミノ)
ノネニル、8−(N−メチルアミノ)ノネニル、3−
(N−エチルアミノ)オクテニル、3−メチル−7−
(N−メチルアミノ)オクテニル、7,7−ジ(N−メ
チルアミノ)オクテニル、4−メチル−8−(N−メチ
ルアミノ)ノネニル、3,7−ジメチル−11−(N−
メチルアミノ)ドデセニル、4,8−ジメチル−12−
(N−メチルアミノ)トリデセニル、1−(N−メチル
アミノ)ペンタデセニル、14−(N−メチルアミノ)
ペンタデセニル、13−メチル−13−(N−メチルア
ミノ)テトラデセニル、15−(N−メチルアミノ)ヘ
キサデセニル、1−(N−メチルアミノ)ヘプタデセニ
ル、及び、3,7,11−トリメチル−15−(N−メ
チルアミノ)ヘキサデセニルのような1又は2個の窒素
原子で介在されている炭素数3乃至20個のアルケニル
基を挙げることができ、好適には、ヘテロ原子が介在す
るC3−C10アルケニル基である。
[0267] In the above, "C 3 -C 20 alkenyl group which heteroatoms are mediated" in the definition of R 12, the "C 3 -C 20 alkenyl group" of the "C 2 -C 20 alkenyl group" The same or different, and represents one or two groups interposed by a sulfur atom, an oxygen atom, or a nitrogen atom, for example, 1-methylthioethenyl, 2-methylthioethenyl, 1-methylthiopropenyl, 2-methylthiopropenyl, 3-methylthiopropenyl, 2-ethylthioethenyl, 2-methyl-2-methylthioethenyl, 1
-Methylthiobutenyl, 2-methylthiobutenyl, 3-
Methylthiobutenyl, 2-ethylthiopropenyl, 3-
Methyl-3-methylthiopropenyl, 4-methylthiopentenyl, 3-methylthiopentenyl, 2-methylthiopentenyl, 1-methylthiopentenyl, 3,3-dimethylthiobutenyl, 2,2-dimethylthiobutenyl,
1,1-dimethylthiobutenyl, 1-methyl-2-methylthiobutenyl, 1,3-dimethylthiobutenyl, 2,
3-dimethylthiobutenyl, 2-ethylthiobutenyl,
1-methylthiohexenyl, 2-methylthiohexenyl, 3-methylthiohexenyl, 4-methylthiohexenyl, 5-methylthiohexenyl, 1-propylthiobutenyl, 4-methyl-4-methylthiopentenyl, 1-
Methylthioheptenyl, 2-methylthioheptenyl, 3
-Methylthioheptenyl, 4-methylthioheptenyl,
5-methylthioheptenyl, 6-methylthioheptenyl, 1-propylthiopentenyl, 2-ethylthiohexenyl, 5-methyl-5-methylthiohexenyl, 3-
Methylthiooctenyl, 4-methylthiooctenyl, 5
-Methylthiooctenyl, 6-methylthiooctenyl,
1-propylthiohexenyl, 2-ethylthioheptenyl, 6-methyl-6-methylthioheptenyl, 1-methylthiononenyl, 3-methylthiononenyl, 8-methylthiononenyl, 3-ethylthiooctenyl, 3- Methyl-7-methylthiooctenyl, 7,7-dimethylthiooctenyl, 4-methyl-8-methylthiononenyl, 3,
7-dimethyl-11-methylthiododecenyl, 4,8-
Dimethyl-12-methylthiotridecenyl, 1-methylthiopentadecenyl, 14-methylthiopentadecenyl, 13-methyl-13-methylthiotetradecenyl,
15-methylthiohexadecenyl, 1-methylthioheptadecenyl and 3,7,11-trimethyl-15-
An alkenyl group having 3 to 20 carbon atoms and interposed by one or two sulfur atoms such as methylthiohexadecenyl; 1-methyloxyethenyl, 2-methyloxyethenyl, 1-methyloxypropenyl, 2-methyloxypropenyl, 3-methyloxypropenyl, 2-ethyloxyethenyl, 2-methyl-2-methyloxyethenyl, 1-methyloxybutenyl, 2-methyloxybutenyl, 3-methyloxybutenyl, 2-ethyloxypropenyl, 3-methyl-3-methyloxypropenyl,
4-methyloxypentenyl, 3-methyloxypentenyl, 2-methyloxypentenyl, 1-methyloxypentenyl, 3,3-dimethyloxybutenyl, 2,2
-Dimethyloxybutenyl, 1,1-dimethyloxybutenyl, 1-methyl-2-methyloxybutenyl, 1,
3-dimethyloxybutenyl, 2,3-dimethyloxybutenyl, 2-ethyloxybutenyl, 1-methyloxyhexenyl, 2-methyloxyhexenyl, 3-methyloxyhexenyl, 4-methyloxyhexenyl, 5
-Methyloxyhexenyl, 1-propyloxybutenyl, 4-methyl-4-methyloxypentenyl, 1-methyloxyheptenyl, 2-methyloxyheptenyl,
3-methyloxyheptenyl, 4-methyloxyheptenyl, 5-methyloxyheptenyl, 6-methyloxyheptenyl, 1-propyloxypentenyl, 2-ethyloxyhexenyl, 5-methyl-5-methyloxyhexenyl, 3-methyloxyoctenyl, 4-methyloxyoctenyl, 5-methyloxyoctenyl, 6-methyloxyoctenyl, 1-propyloxyhexenyl, 2-ethyloxyheptenyl, 6-methyl-6-methyloxyhept Thenyl, 1-methyloxynonenyl, 3
-Methyloxynonenyl, 8-methyloxynonenyl,
3-ethyloxyoctenyl, 3-methyl-7-methyloxyoctenyl, 7,7-dimethyloxyoctenyl, 4-methyl-8-methyloxynonenyl, 3,7-
Dimethyl-11-methyloxidedecenyl, 4,8-dimethyl-12-methyloxytridecenyl, 1-methyloxypentadecenyl, 14-methyloxypentadecenyl, 13-methyl-13-methyloxy 1 or 2 such as tetradecenyl, 15-methyloxyhexadecenyl, 1-methyloxyheptadecenyl and 3,7,11-trimethyl-15-methyloxyhexadecenyl
An alkenyl group having 3 to 20 carbon atoms interposed by two oxygen atoms; 1- (N-methylamino) ethenyl, 2-
(N-methylamino) ethenyl, 1- (N-methylamino) propenyl, 2- (N-methylamino) propenyl, 3- (N-methylamino) propenyl, 2- (N-
Ethylamino) ethenyl, 2- (N, N-dimethylamino) ethenyl, 1- (N-methylamino) butenyl,
-(N-methylamino) butenyl, 3- (N-methylamino) butenyl, 2- (N-ethylamino) propenyl, 3- (N, N-dimethylamino) propenyl, 4-
(N-methylamino) pentenyl, 3- (N-methylamino) pentenyl, 2- (N-methylamino) pentenyl, 1- (N-methylamino) pentenyl, 3- (N,
N-dimethylamino) butenyl, 2- (N, N-dimethylamino) butenyl, 1- (N, N-dimethylamino)
Butenyl, 1-methyl-2- (N-methylamino) butenyl, 1,3-di (N-methylamino) butenyl, 2,
3-di (N-methylamino) butenyl, 2- (N-ethylamino) butenyl, 1- (N-methylamino) hexenyl, 2- (N-methylamino) hexenyl, 3- (N
-Methylamino) hexenyl, 4- (N-methylamino) hexenyl, 5- (N-methylamino) hexenyl, 1- (N-propylamino) butenyl, 4-methyl-4- (N-methylamino) pentenyl, 1- (N-methylamino) heptenyl, 2- (N-methylamino) heptenyl, 3- (N-methylamino) heptenyl, 4-
(N-methylamino) heptenyl, 5- (N-methylamino) heptenyl, 6- (N-methylamino) heptenyl, 1- (N-propylamino) pentenyl, 2- (N
-Ethylamino) hexenyl, 5-methyl-5- (N-
Methylamino) hexenyl, 3- (N-methylamino)
Octenyl, 4- (N-methylamino) octenyl, 5
-(N-methylamino) octenyl, 6- (N-methylamino) octenyl, 1- (N-propylamino) hexenyl, 2- (N-ethylamino) heptenyl, 6-methyl-6- (N-methylamino ) Heptenyl, 1- (N
-Methylamino) nonenyl, 3- (N-methylamino)
Nonenyl, 8- (N-methylamino) nonenyl, 3-
(N-ethylamino) octenyl, 3-methyl-7-
(N-methylamino) octenyl, 7,7-di (N-methylamino) octenyl, 4-methyl-8- (N-methylamino) nonenyl, 3,7-dimethyl-11- (N-
Methylamino) dodecenyl, 4,8-dimethyl-12-
(N-methylamino) tridecenyl, 1- (N-methylamino) pentadecenyl, 14- (N-methylamino)
Pentadecenyl, 13-methyl-13- (N-methylamino) tetradecenyl, 15- (N-methylamino) hexadecenyl, 1- (N-methylamino) heptadecenyl, and 3,7,11-trimethyl-15- (N Examples thereof include an alkenyl group having 3 to 20 carbon atoms interposed by one or two nitrogen atoms such as -methylamino) hexadecenyl, and preferably a C 3 -C 10 alkenyl interposed by a hetero atom. Group.

【0268】上記において、R12の定義における「アリ
ール基又は芳香族複素環基で置換されたC2−C20アル
ケニル基」は、前記「C2−C20アルケニル基」が、同
一又は異なって、1又は3個の、前記「アリール基」又
は前記「芳香族複素環基」で置換された基を示す。
In the above, the “C 2 -C 20 alkenyl group substituted with an aryl group or an aromatic heterocyclic group” in the definition of R 12 is the same as or different from the above “C 2 -C 20 alkenyl group”. And 1 or 3 groups substituted with the above “aryl group” or the above “aromatic heterocyclic group”.

【0269】上記において、R12の定義における「アリ
ール基又は芳香族複素環基で置換されたヘテロ原子が介
在するC2−C20アルキル基」は、前記「ヘテロ原子が
介在するC2−C20アルキル基」が、同一又は異なっ
て、1又は3個の、前記「アリール基」又は前記「芳香
族複素環基」で置換された基を示す。
[0269] In the above, "C 2 -C 20 alkyl group hetero atom substituted by an aryl group or an aromatic heterocyclic group is interposed" in the definition of R 12 is, C 2 -C said that "heteroatom-mediated " 20 alkyl groups" represents the same or different groups substituted by 1 or 3 of the above "aryl groups" or the above "aromatic heterocyclic groups".

【0270】上記において、R12の定義における「C3
−C10シクロアルキル基」は、前記「シクロアルキル
基」と同意議を示す。
In the above, “C 3 ” in the definition of R 12
“—C 10 cycloalkyl group” has the same consensus as the above “cycloalkyl group”.

【0271】第D1工程は、一般式(XXII)を有す
る化合物を製造する工程であり、一般式(XX)を有す
る化合物の一方の水酸基のみを、不活性溶媒の存在又は
非存在下(好適には存在下)、リパーゼの存在下に、一
般式(XXI)を有する化合物を用いて選択的にアシル
化することにより行なわれる。
The step D1 is a step for producing a compound having the general formula (XXII), wherein only one hydroxyl group of the compound having the general formula (XX) is carried out in the presence or absence of an inert solvent (preferably Is carried out) in the presence of a lipase in the presence of a compound having the general formula (XXI).

【0272】上記反応において使用される「リパーゼ」
は、特に限定はなく、原料化合物の種類により最適なも
のが異なるが、好ましくは、Pseudomonas sp.、Pseudom
onasfluorescens、Pseudomonas cepacia、Chromobacter
ium viscosum、Aspergillusniger、Aspergillus oryza
e、Candida antarctica、Candida cylindracea、Candid
a lipolytica、Candida rugosa、Candida utilis、Peni
cillium roqueforti、Rhizopus arrhizus、Rhizopus de
lemar、Rhizopus javanicus、Rhizomucor miehei、Rhiz
opus niveus、Humicola lanuginosa、Mucor javanicus、
Mucor miehei、Thermus aquaticus、Thermus flavus、Ther
mus thermophilus等やhuman pancreas、hog pancreas、
porcine pancreas、wheat germ由来のリパーゼであり、
酵素は部分的に又は完全に精製して用いることができる
ばかりではなく、固定化した形態で使用することができ
る。
"Lipase" used in the above reaction
Is not particularly limited and the optimal one varies depending on the type of the starting compound, but preferably Pseudomonas sp., Pseudom
onasfluorescens, Pseudomonas cepacia, Chromobacter
ium viscosum, Aspergillusniger, Aspergillus oryza
e, Candida antarctica, Candida cylindracea, Candid
a lipolytica, Candida rugosa, Candida utilis, Peni
cillium roqueforti, Rhizopus arrhizus, Rhizopus de
lemar, Rhizopus javanicus, Rhizomucor miehei, Rhiz
opus niveus, Humicola lanuginosa, Mucor javanicus,
Mucor miehei, Thermus aquaticus, Thermus flavus, Ther
mus thermophilus, human pancreas, hog pancreas,
porcine pancreas, a lipase from wheat germ,
The enzyme can be used not only partially or completely after purification, but also in an immobilized form.

【0273】最も好適には、Pseudomonas sp.を固定化
したもの(例えば、immobilized lipase from Pseudomo
nas sp.(TOYOBO社))である。
Most preferably, Pseudomonas sp. Immobilized (for example, immobilized lipase from Pseudomo
nas sp. (TOYOBO).

【0274】上記反応において使用される化合物(XX
I)において好適な化合物としては、原料化合物の種類
により最適なものが異なるが、n−ヘキサン酸 ビニル
エステル、n−ヘプタン酸 ビニルエステル、n−ペン
タン酸 ビニルエステル、酢酸 ビニルエステル等の直
鎖状脂肪族カルボン酸 ビニルエステルであり、最も好
適には、n−ヘキサン酸 ビニルエステルである。
The compound (XX) used in the above reaction
As the suitable compound in I), the most suitable compound varies depending on the type of the raw material compound. Vinyl esters of aliphatic carboxylic acids, most preferably vinyl esters of n-hexanoic acid.

【0275】上記反応において使用される不活性溶媒は
特に限定はなく、化合物(XXI)のみでも良いし、ま
た原料化合物の種類により最適なものが異なるが、各種
有機溶媒、含水有機溶媒を使用することができ、好適に
は、ジイソプロピルエーテル、t−ブチルメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエ
ーテル類;n−ヘキサン、n−ペンタンのような脂肪族
炭化水素類;ベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水
素類;及びジクロロメタン、1,2−ジクロロエタンの
ようなハロゲン化炭化水素類を挙げることができ、更に
好適には、エーテル類であり、最も好適には、ジイソプ
ロピルエーテルである。
The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited, and may be only the compound (XXI), or the most suitable one varies depending on the type of the starting compound. Preferably, ethers such as diisopropyl ether, t-butyl methyl ether, diethyl ether, and tetrahydrofuran; aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-pentane; and aromatics such as benzene and toluene Group hydrocarbons; and halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and 1,2-dichloroethane, more preferably ethers, and most preferably diisopropyl ether.

【0276】反応温度は、原料化合物、使用される溶
媒、使用されるリパーゼの種類等によって異なるが、通
常、−50〜50℃であり、好適には、0〜40℃であ
る。
The reaction temperature varies depending on the starting compound, the solvent used, the type of lipase used and the like, but is usually -50 to 50 ° C, preferably 0 to 40 ° C.

【0277】反応時間は、原料化合物、使用される溶
媒、使用されるリパーゼ、及び、反応温度等によって異
なるが、通常、15分乃至150時間であり、好適には
30分乃至24時間である。
The reaction time varies depending on the starting compound, the solvent used, the lipase used, the reaction temperature and the like, but is usually 15 minutes to 150 hours, preferably 30 minutes to 24 hours.

【0278】第D2工程は、一般式(XXIII)を有
する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、酸化
剤の存在下、化合物(XXII)アルコール部分をアル
デヒドに酸化することにより行なわれる。
Step D2 is a step of producing a compound having the general formula (XXIII), which is carried out by oxidizing an alcohol moiety of the compound (XXII) to an aldehyde in an inert solvent in the presence of an oxidizing agent.

【0279】上記反応における酸化反応としては、一級
アルコールからアルデヒドを生成する酸化反応であれ
ば、特に限定はないが、例えば、塩化メチレン中、ピリ
ジン及びクロム酸を用いて行われるCollins酸化;塩化
メチレン中、塩化クロム酸ピリジニウム(PCC)を用いて
行われるPCC酸化;塩化メチレン中、二クロム酸ピリジ
ニウム(PDC)を用いて行われるPDC酸化;塩化メチレン
中、親電子剤(例えば無水酢酸、無水トリフルオロ酢
酸、塩化チオニル、塩化スルフリル、塩化オキザリル、
ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジフェニルケテン−
p−トリルイミン、N,N-ジエチルアミノアセチレン、三
酸化硫黄・ピリジン錯体など)及びジメチルスルホキシ
ド(DMSO)を用いて行われる、Swern酸化のような、DMSO
酸化;及び塩化メチレン若しくはベンゼン中、二酸化マ
ンガンを用いて行われる二酸化マンガン酸化などをあげ
ることができ、好適には、塩化メチレン中で行われる、
PCC酸化又はSwern酸化である。
The oxidation reaction in the above reaction is not particularly limited as long as it is an oxidation reaction for producing an aldehyde from a primary alcohol. For example, Collins oxidation carried out using pyridine and chromic acid in methylene chloride; methylene chloride PCC oxidation performed using pyridinium chloride chromate (PCC) in methylene chloride; PDC oxidation performed using pyridinium dichromate (PDC) in methylene chloride; electrophilic agents (eg, acetic anhydride, trianhydride Fluoroacetic acid, thionyl chloride, sulfuryl chloride, oxalyl chloride,
Dicyclohexylcarbodiimide, diphenylketene-
DMSO, such as Swern oxidation, performed using p-tolylimine, N, N-diethylaminoacetylene, sulfur trioxide / pyridine complex) and dimethyl sulfoxide (DMSO).
Oxidation; and manganese dioxide oxidation performed using manganese dioxide in methylene chloride or benzene, and preferably performed in methylene chloride.
PCC oxidation or Swern oxidation.

【0280】反応温度は、原料化合物、溶媒、酸化剤の
種類等によって異なるが、通常、−50℃乃至50℃で
行われ、好適には、−10℃乃至30℃である。
The reaction temperature varies depending on the type of the starting compound, the solvent, the oxidizing agent and the like, but is usually from -50 ° C to 50 ° C, preferably from -10 ° C to 30 ° C.

【0281】反応時間は、原料化合物、溶媒、酸化剤の
種類、反応温度等によって異なるが、通常10分間乃至
24時間であり、好適には、30分間乃至24時間であ
る。
The reaction time varies depending on the starting compound, the solvent, the kind of the oxidizing agent, the reaction temperature and the like, but is usually from 10 minutes to 24 hours, preferably from 30 minutes to 24 hours.

【0282】第D3工程は、一般式(XXV)を有する
化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存
在下、化合物(XXIII)のアルデヒドに、一般式
(XXIV)を反応させることにより行なわれる。
Step D3 is a step of producing a compound having the general formula (XXV), in which an aldehyde of the compound (XXIII) is reacted with an aldehyde of the compound (XXIII) in an inert solvent in the presence of a base. It is performed by

【0283】上記反応に使用される不活性溶媒として
は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもの
であれば、特に限定はないが、例えば、ベンゼン、トル
エン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、t−ブチルメチルエ
ーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類;ホル
ムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのような
アミド類;を挙げることができ、好適には、エーテル類
(最も好適にはテトラヒドロフラン)である。
The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. Hydrocarbons; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, t-butyl methyl ether, tetrahydrofuran; amides such as formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide; And ethers (most preferably tetrahydrofuran).

【0284】上記反応に使用される塩基としては、通常
の反応において塩基として使用されるものであれば、特
に限定はないが、例えば、前記A法第A1工程において
使用されるものと同様のものを挙げることができ、好適
には、アルカリ金属アルコキシド類(最も好適には、カ
リウムt−ブトキシド)である。
The base used in the above reaction is not particularly limited, as long as it is used as a base in a usual reaction. Preferred are alkali metal alkoxides (most preferably potassium t-butoxide).

【0285】反応温度は、原料化合物、溶剤、塩基の種
類等によって異なるが、通常、−78℃乃至200℃で
行われるが、好適には、−50℃乃至150℃である。
The reaction temperature varies depending on the type of the starting compound, solvent, base and the like, but is usually from -78 ° C to 200 ° C, preferably from -50 ° C to 150 ° C.

【0286】反応時間は、原料化合物、溶剤、塩基の種
類、反応温度等によって異なるが、通常10分間乃至4
8時間であり、好適には、15分間乃至12時間であ
る。
The reaction time varies depending on the starting compound, solvent, type of base, reaction temperature and the like, but is usually from 10 minutes to 4 minutes.
8 hours, preferably 15 minutes to 12 hours.

【0287】第D4工程は、一般式(XXVI)を有す
る化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、還元剤
の存在下、化合物(XXV)を化合物(XXVI)に変
換することにより行なわれ、本工程は前記A法第A3工
程において行なわれる接触還と同様に行なわれる。
Step D4 is a step of producing a compound having the general formula (XXVI), which is carried out by converting the compound (XXV) into a compound (XXVI) in an inert solvent in the presence of a reducing agent. This step is performed in the same manner as in the catalytic conversion performed in the above-mentioned Method A, Step A3.

【0288】第D5工程は、化合物(Xd)を製造する
工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物(X
XVI)を加水分解することにより行なわれる。
Step D5 is a step for producing a compound (Xd) in an inert solvent in the presence of a base.
XVI) is carried out by hydrolysis.

【0289】上記反応に使用される不活性溶媒として
は、反応を阻害せず、出発原料をある程度溶解するもの
であれば特に限定はないが、例えば、メタノール、エタ
ノールのようなアルコール類、ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンのようなハロゲ
ン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエーテル類、又は、これ
ら溶媒の混合溶媒、或いはこれら溶媒と水との混合溶媒
を挙げることができ、好適には、アルコール類及びエー
テル類である。
The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting materials to some extent. For example, alcohols such as methanol and ethanol, benzene, Toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, or And a mixed solvent of these solvents, or a mixed solvent of these solvents and water. Preferred are alcohols and ethers.

【0290】上記反応に使用される塩基としては、通常
の反応において塩基として使用されるものであれば、特
に限定はないが、例えば、前記A法第A1工程と同様な
ものを挙げることができ、好適には、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウム
等のようなアルカリ金属水酸化物類をあげることができ
る。
The base used in the above reaction is not particularly limited as long as it is used as a base in a usual reaction. For example, the same bases as used in the above-mentioned Method A, step A1 can be mentioned. Preferably, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, barium hydroxide and the like can be mentioned.

【0291】反応温度は、原料化合物、不活性溶媒、塩
基の種類等によって異なるが、通常、−20℃乃至20
0℃であり、好適には、0℃乃至20℃である。
The reaction temperature varies depending on the type of the starting compound, inert solvent, base and the like, but is usually from -20 ° C to 20 ° C.
0 ° C., preferably 0 ° C. to 20 ° C.

【0292】反応時間は、原料化合物、反応温度、不活
性溶媒、塩基の種類、反応温度等によって異なるが、通
常、30分間乃至48時間であり、好適には、1時間乃
至24時間である。
The reaction time varies depending on the starting compound, reaction temperature, inert solvent, type of base, reaction temperature and the like, but is usually 30 minutes to 48 hours, and preferably 1 hour to 24 hours.

【0293】第D6工程は、化合物(Xe)を製造する
工程であり、不活性溶媒中、化合物(Xd)を塩基と反
応させることにより行なわれる。
Step D6 is a step of producing compound (Xe), which is carried out by reacting compound (Xd) with a base in an inert solvent.

【0294】上記反応に使用される不活性溶媒として
は、反応を阻害せず、出発原料をある程度溶解するもの
であれば、特に限定はないが、例えば、ジエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ
ーテル類;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルア
セトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、N-メチルピロリ
ジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミ
ド類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類であり、好適には、エーテル類、アミド類であ
る。
The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it does not hinder the reaction and dissolves the starting materials to some extent. Ethers such as diethylene glycol dimethyl ether; amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methylpyrrolidinone, hexamethylphosphorotriamide; benzene, toluene, Aromatic hydrocarbons such as xylene, preferably ethers and amides.

【0295】上記反応に使用される塩基としては、通常
の反応において塩基として使用されるものであれば、特
に限定はないが、例えば、水素化リチウム、水素化ナト
リウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物
類;弗化ナトリウム、弗化カリウムのようなアルカリ金
属弗化物類等の無機塩基類;ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエ
トキシド、カリウムt-ブトキシド、リチウムメトキシド
のようなアルカリ金属アルコキシド類;又はブチルリチ
ウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウム ビス
(トリメチルシリル)アミドのような有機金属塩基類を
挙げることができ、好適には、アルカリ金属アルコキシ
ド類、アルカリ金属水素化物類である。
The base used in the above reaction is not particularly limited as long as it is used as a base in a usual reaction. For example, an alkali such as lithium hydride, sodium hydride or potassium hydride may be used. Metal hydrides; inorganic bases such as alkali metal fluorides such as sodium fluoride and potassium fluoride; sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium methoxide, potassium ethoxide, potassium t-butoxide, lithium methoxide And alkali metal alkoxides such as butyllithium, lithium diisopropylamide, and lithium bis (trimethylsilyl) amide. Preferred are alkali metal alkoxides and alkali metal hydrides. is there.

【0296】反応温度は、原料化合物、不活性溶媒、塩
基の種類等によって異なるが、通常、−80℃乃至10
0℃であり、好適には、0℃乃至50℃である。
The reaction temperature varies depending on the type of the starting compound, the inert solvent, the base and the like, but is usually from -80 ° C to 10 ° C.
0 ° C., preferably 0 ° C. to 50 ° C.

【0297】反応時間は、原料化合物、反応温度、不活
性溶媒、塩基の種類、反応温度等によって異なるが、通
常、5分間乃至48時間である。
The reaction time varies depending on the starting compound, reaction temperature, inert solvent, type of base, reaction temperature and the like, but is usually from 5 minutes to 48 hours.

【0298】第D7工程は、一般式(Xf)を有する化
合物を製造する工程であり、化合物(Xd)の水酸基を
保護することにより行なわれ、本工程は前記A法第A2
工程の水酸基を保護する方法と同様に行なわれる。
Step D7 is a step for producing a compound having the general formula (Xf), which is carried out by protecting the hydroxyl group of compound (Xd).
It is carried out in the same manner as the method for protecting the hydroxyl group in the step.

【0299】本D法の各工程の目的化合物は必要なら
ば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化
合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカ
ゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリ
ジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィ
ー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社
製)、アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・
ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社
製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー
等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを
使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シ
リカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法
(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を
適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分
離、精製することができる。
If necessary, the target compound in each step of the present Method D may be subjected to a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation, or a method usually used for separation and purification of an organic compound, for example, silica gel, alumina, magnesium, and the like. Adsorption column chromatography using a carrier such as musilica gel type Florisil; Sephadex LH-20 (Pharmacia), Amberlite XAD-11 (Rohm &
Haas), a method using synthetic adsorbents such as distribution column chromatography using a carrier such as Diaion HP-20 (Mitsubishi Kasei), a method using ion exchange chromatography, or silica gel or alkylation. Separation and purification can be achieved by appropriately combining normal phase / reverse phase column chromatography with silica gel (preferably high performance liquid chromatography) and eluting with a suitable eluent.

【0300】尚、異性体を分離する必要がある場合に
は、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後
の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうこと
ができる。
When it is necessary to separate the isomers, the separation can be carried out by the above-mentioned separation and purification means after the completion of the reaction in each of the above steps or at an appropriate time after the completion of the desired step.

【0301】上記の目的化合物(Xd)、(Xe)及び
(Xf)の製造に関する記載では、一方の光学異性体の
構造式のみを表記しているが、第D1工程において、リ
パーゼの種類を変えることにより、逆の絶対配置を有す
る光学異性体も得られるので、本方法は、記載した絶対
配置に限定されるものではない。
In the above description regarding the production of the target compounds (Xd), (Xe) and (Xf), only the structural formula of one of the optical isomers is described, but in the step D1, the type of the lipase is changed. The process is not limited to the absolute configuration described, as optical isomers having the opposite absolute configuration are also obtained.

【0302】また、本方法のD1〜D5工程のいずれか
の工程の後に、臭素化工程(前記B法と同意議を示
す。)を挿入することにより、B法とは別途に化合物
(XI)を製造することができる。
Also, a bromination step (which is in agreement with the above-mentioned Method B) is inserted after any one of Steps D1 to D5 of the present method, whereby Compound (XI) is obtained separately from Method B. Can be manufactured.

【0303】E法は、化合物(XXIV)を製造する方
法である。
Method E is a method for producing compound (XXIV).

【0304】[0304]

【化26】 Embedded image

【0305】上記式中、R6a、R7a、m、Q及びPh
は、前述したものと同意義を示す。
In the above formula, R 6a , R 7a , m, Q and Ph
Has the same meaning as described above.

【0306】第E1工程は、化合物(XXIV)を製造
する工程であり、不活性溶媒中、一般式(XXVII)
を有する化合物をトリフェニルホスフィンと反応させる
ことにより行なわれる。
Step E1 is a step for producing a compound (XXIV), wherein the compound of the formula (XXVII)
By reacting a compound having the formula with triphenylphosphine.

【0307】上記反応に使用される不活性溶媒として
は、本反応に不活性なものであれば特に限定はないが、
例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテ
ルのような脂肪族炭化水素類;トルエン、ベンゼン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素
類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
テレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類
であり好適には芳香族炭化水素類(最も好適にはベンゼ
ン)である。
The inert solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it is inert to the present reaction.
For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, ligroin, petroleum ether; aromatic hydrocarbons such as toluene, benzene, xylene; methylene chloride;
Halogenated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene, and dichlorobenzene; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, and diethylene glycol dimethyl ether, preferably aromatic Hydrocarbons (most preferably benzene).

【0308】反応温度は、原料化合物、溶媒の種類等に
よって異なるが、通常、室温乃至200℃で行われ、好
適には0℃乃至150℃(最も好適には110℃)であ
る。
The reaction temperature varies depending on the starting compound, the kind of the solvent and the like, but is usually from room temperature to 200 ° C., preferably from 0 ° C. to 150 ° C. (most preferably 110 ° C.).

【0309】反応時間は、主に反応温度、原料化合物、
使用される溶媒の種類等によって異なるが、通常、5分
間乃至96時間であり、好適には15分乃至48時間
(最も好適には24時間)である。
The reaction time mainly depends on the reaction temperature, the starting compound,
Although it varies depending on the type of the solvent used, it is usually 5 minutes to 96 hours, preferably 15 minutes to 48 hours (most preferably 24 hours).

【0310】本E法の各工程の目的化合物は必要なら
ば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化
合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカ
ゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリ
ジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィ
ー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社
製)、アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・
ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社
製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー
等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを
使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シ
リカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法
(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を
適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分
離、精製することができる。
If necessary, the target compound in each step of the present Method E may be a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation, or a method usually used for separation and purification of organic compounds, for example, silica gel, alumina, magnesium, and the like. Adsorption column chromatography using a carrier such as musilica gel type Florisil; Sephadex LH-20 (Pharmacia), Amberlite XAD-11 (Rohm &
Haas), a method using synthetic adsorbents such as distribution column chromatography using a carrier such as Diaion HP-20 (Mitsubishi Kasei), a method using ion exchange chromatography, or silica gel or alkylation. Separation and purification can be achieved by appropriately combining normal phase / reverse phase column chromatography with silica gel (preferably high performance liquid chromatography) and eluting with a suitable eluent.

【0311】尚、異性体を分離する必要がある場合に
は、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後
の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうこと
ができる。
When it is necessary to separate the isomers, the separation can be carried out by the above-mentioned means for separation and purification after completion of the reaction in each of the above steps or at an appropriate time after completion of the desired step.

【0312】原料化合物(III)、(VI)、(VI
II),(IX)、(XV)、(XVIII)、(X
X)及び(XXI)は、公知か、公知の方法又はそれに
類似した方法に従って容易に製造される[例えば、化合
物(III)は、J. Med. Chem., 35, 2253 (1992);J.
Org. Chem., 59, 3368 (1994)記載の方法又はそれに類
似した方法に従って容易に製造され、化合物(VI)
は、J. Org. Chem., 60, 7508 (1995)記載の方法又はそ
れに類似した方法に従って容易に製造され、化合物(X
V)は、J. Am. Chem. Soc., 68, 1934 (1946)記載の方
法又はそれに類似した方法に従って容易に製造され、化
合物(XX)は、J. Med. Chem., 39, 4451(1996)記載
の方法又はそれに類似した方法に従って容易に製造され
る。]。
Starting compounds (III), (VI) and (VI
II), (IX), (XV), (XVIII), (X
X) and (XXI) are known or are easily produced according to known methods or methods analogous thereto [for example, compound (III) can be prepared according to J. Med. Chem., 35, 2253 (1992);
Org. Chem., 59, 3368 (1994) or a method analogous thereto, which is easily prepared to give compound (VI)
Can be easily produced according to the method described in J. Org. Chem., 60, 7508 (1995) or a method analogous thereto, and the compound (X
V) is easily prepared according to the method described in J. Am. Chem. Soc., 68, 1934 (1946) or a method analogous thereto, and compound (XX) is prepared according to J. Med. Chem., 39, 4451 ( 1996) or a method analogous thereto. ].

【0313】本発明の前記一般式(I)を有する化合
物、その薬理上許容される塩、そのエステル又はその他
の誘導体は、優れた免疫抑制作用を有する。
The compound of the present invention having the above general formula (I), its pharmaceutically acceptable salt, its ester or other derivative has an excellent immunosuppressive action.

【0314】本発明の前記一般式(I)を有する化合
物、その薬理上許容される塩又はそのエステル又はその
他の誘導体を、上記治療剤又は予防剤として使用する場
合には、それ自体或は適宜の薬理学的に許容される、賦
形剤、希釈剤等と混合し、例えば、錠剤、カプセル剤、
顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等による経口的又は注
射剤若しくは坐剤等による非経口的に投与することがで
きる。
When the compound having the above general formula (I), its pharmaceutically acceptable salt or its ester or other derivative of the present invention is used as the above-mentioned therapeutic or prophylactic agent, it may be used alone or appropriately. Pharmacologically acceptable, mixed with excipients, diluents, etc., for example, tablets, capsules,
It can be administered orally with granules, powders or syrups or parenterally with injections or suppositories.

【0315】これらの製剤は、賦形剤(例えば、乳糖、
白糖、葡萄糖、マンニトール、ソルビトールのような糖
誘導体;トウモロコシデンプン、バレイショデンプン、
α澱粉、デキストリンのような澱粉誘導体;結晶セルロ
ースのようなセルロース誘導体;アラビアゴム;デキス
トラン;プルランのような有機系賦形剤:及び、軽質無
水珪酸、合成珪酸アルミニウム、珪酸カルシウム、メタ
珪酸アルミン酸マグネシウムのような珪酸塩誘導体;燐
酸水素カルシウムのような燐酸塩;炭酸カルシウムのよ
うな炭酸塩;硫酸カルシウムのような硫酸塩等の無機系
賦形剤を挙げることができる。)、滑沢剤(例えば、ス
テアリン酸、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マ
グネシウムのようなステアリン酸金属塩;タルク;コロ
イドシリカ;ビーガム、ゲイ蝋のようなワックス類;硼
酸;アジピン酸;硫酸ナトリウムのような硫酸塩;グリ
コール;フマル酸;安息香酸ナトリウム;DLロイシ
ン;脂肪酸ナトリウム塩;ラウリル硫酸ナトリウム、ラ
ウリル硫酸マグネシウムのようなラウリル硫酸塩;無水
珪酸、珪酸水和物のような珪酸類;及び、上記澱粉誘導
体を挙げることができる。)、結合剤(例えば、ヒドロ
キシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセ
ルロース、ポリビニルピロリドン、マクロゴール、及
び、前記賦形剤と同様の化合物を挙げることができ
る。)、崩壊剤(例えば、低置換度ヒドロキシプロピル
セルロース、カルボキシルメチルセルロース、カルボキ
シルメチルセルロースカルシウム、内部架橋カルボキシ
ルメチルセルロースナトリウムのようなセルロース誘導
体;カルボキシルメチルスターチ、カルボキシルメチル
スターチナトリウム、架橋ポリビニルピロリドンのよう
な化学修飾されたデンプン・セルロース類を挙げること
ができる。)、安定剤(メチルパラベン、プロピルパラ
ベンのようなパラオキシ安息香酸エステル類;クロロブ
タノール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコ
ールのようなアルコール類;塩化ベンザルコニウム;フ
ェノール、クレゾールのようなフェノール類;チメロサ
ール;デヒドロ酢酸;及び、ソルビン酸を挙げることが
できる。)、矯味矯臭剤(例えば、通常使用される、甘
味料、酸味料、香料等を挙げることができる。)、希釈
剤等の添加剤を用いて周知の方法で製造される。
These preparations contain excipients (eg, lactose,
Sugar derivatives such as white sugar, glucose, mannitol, sorbitol; corn starch, potato starch,
α-starch, starch derivatives such as dextrin; cellulose derivatives such as crystalline cellulose; gum arabic; dextran; organic excipients such as pullulan: and light anhydrous silicic acid, synthetic aluminum silicate, calcium silicate, and metasilicate aluminate Inorganic excipients such as silicate derivatives such as magnesium; phosphates such as calcium hydrogen phosphate; carbonates such as calcium carbonate; sulfates such as calcium sulfate. ), Lubricants (eg, stearic acid metal salts such as stearic acid, calcium stearate, magnesium stearate; talc; colloidal silica; waxes such as veegum, gay wax; boric acid; adipic acid; Sodium sulfate; DL leucine; fatty acid sodium salt; lauryl sulfate such as sodium lauryl sulfate and magnesium lauryl sulfate; silicic acids such as anhydrous silicic acid and silicic acid hydrate; Derivatives can be mentioned.) Binders (for example, hydroxypropylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose, polyvinylpyrrolidone, macrogol, and the same compounds as the above-mentioned excipients), disintegrants (for example, , Low-substituted hydroxypropyl Cellulose derivatives such as loin, carboxymethylcellulose, carboxymethylcellulose calcium, and internally crosslinked sodium carboxymethylcellulose; and chemically modified starch and celluloses such as carboxymethylstarch, sodium carboxymethylstarch, and crosslinked polyvinylpyrrolidone.) , Stabilizers (paraoxybenzoic acid esters such as methylparaben and propylparaben; alcohols such as chlorobutanol, benzyl alcohol and phenylethyl alcohol; benzalkonium chloride; phenols such as phenol and cresol; thimerosal; dehydroacetic acid And sorbic acid), flavoring agents (for example, commonly used sweeteners, acidulants, flavors) Can be mentioned.), It is prepared in a known manner by using additives such as diluents.

【0316】その使用量は症状、年齢等により異なる
が、経口投与の場合には、1回当り1日下限0.01m
g(好適には、5mg)、上限200mg(好適には、
40mg)を、静脈内投与の場合には、1回当り1日下
限0.005mg(好適には、1mg)、上限100m
g(好適には、10mg)を成人に対して、1日当り1
乃至6回症状に応じて投与することが望ましい。
The dosage varies depending on symptoms, age and the like.
g (preferably 5 mg), upper limit 200 mg (preferably,
In the case of intravenous administration, the lower limit is 0.005 mg (preferably 1 mg) per day and the upper limit is 100 m
g (preferably 10 mg) per adult per day
It is desirable to administer from 6 to 6 times depending on the symptoms.

【0317】[0317]

【実施例】以下に、実施例及び試験例を示し、本発明を
更に詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定す
るものではない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples and test examples, but the scope of the present invention is not limited to these examples.

【0318】実施例1(2R)−アミノ−4−[3−(4−シクロヘキシルオ
キシブト−1−イニル)ベンゾ[b]チオフェン−6−
イル]−2−メチルブタン−1−オール (例示化合物番
号1-566) (1a)臭化 (ベンゾ[b]チオフェン−6−イル)
メチルトリフェニルホスホニウム塩 6−ブロモメチルベンゾ[b]チオフェン 42.9g
(189ミリモル)とトリフェニルホスフィン 49.
5g(189ミリモル)をベンゼン 300mlに溶解
し、100度にて16時間攪拌した。反応液を濾過後、
濾物を減圧乾燥することにより目的とする化合物 8
7.0g(収率94.2%)を得た。
Example 1 (2R) -amino-4- [3- (4-cyclohexylo)
Xibut-1-ynyl) benzo [b] thiophen-6-
Yl] -2-methylbutan-1-ol (Exemplary Compound No. 1-566) (1a) Bromide (benzo [b] thiophen-6-yl)
Methyltriphenylphosphonium salt 6-bromomethylbenzo [b] thiophene 42.9 g
(189 mmol) and triphenylphosphine
5 g (189 mmol) was dissolved in 300 ml of benzene and stirred at 100 degrees for 16 hours. After filtering the reaction solution,
The desired compound 8 is obtained by drying the residue under reduced pressure.
7.0 g (94.2% yield) was obtained.

【0319】(1b)(2R)−t−ブトキシカルボニ
ルアミノ−3−n−ヘキサノイルオキシ−2−メチル−
1−プロパノール 2−t−ブトキシカルボニルアミノ−2−メチル−1,
3−プロパンジオール20.0 g (97.4 mmol)をジイソプロ
ピルエーテル200 ml中に懸濁し、n−ヘキサン酸ビニル
エステル16.3 ml (0.10 mol)及びリパーゼ[Immobilized
lipase from Pseudomonas sp. (TOYOBO; 0.67U/mg)]
0.8 gを加え、室温で2時間激しく攪拌した。反応液を濾
過後、濾液を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;ヘキサン:酢
酸エチル=10:1〜2:1)により精製して、標記化
合物25.0 g (85 %)を無色油状物として得た。
(1b) (2R) -t-butoxycarboni
Lumin-3-n-hexanoyloxy-2-methyl-
1-propanol 2-t-butoxycarbonylamino-2-methyl-1,
20.0 g (97.4 mmol) of 3-propanediol was suspended in 200 ml of diisopropyl ether, and 16.3 ml (0.10 mol) of n-hexanoic acid vinyl ester and lipase [Immobilized
lipase from Pseudomonas sp. (TOYOBO; 0.67U / mg)]
0.8 g was added, followed by vigorous stirring at room temperature for 2 hours. After filtering the reaction solution, the filtrate was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (elution solvent; hexane: ethyl acetate = 10: 1 to 2: 1) to give 25.0 g (85%) of the title compound as a colorless oil.

【0320】得られた(2R)-t-ブトキシカルボニルアミ
ノ-3-n-ヘキサノイルオキシ-2-メチル-1-プロパノール
は、分析用光学活性HPLCカラム(ChiralCel OF(ダイセ
ル)、(0.46 cm x 25 cm)、溶出溶媒;n-ヘキサン:2-
プロパノール=70:30、流速;0.5 ml/min)で光学純度
を決定した。
The obtained (2R) -t-butoxycarbonylamino-3-n-hexanoyloxy-2-methyl-1-propanol was analyzed using an optically active HPLC column for analysis (ChiralCel OF (Daicel), (0.46 cm × 25 cm), elution solvent: n-hexane: 2-
The optical purity was determined by propanol = 70: 30, flow rate; 0.5 ml / min).

【0321】先に溶出されるもの(8.2分)が2S体、後
から溶出されるもの(10.5分)が2R体であり、この反応
における光学純度は85 %eeであることを確認した。
The eluted first (8.2 minutes) was the 2S form and the later eluted (10.5 minutes) was the 2R form, and it was confirmed that the optical purity in this reaction was 85% ee.

【0322】[α]D 25 -8.5 (c 1.86, CHCl3) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3)δppm : 4.86
(s, 1H), 4.25 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 4.19 (d, 1H, J
= 11.2 Hz), 3.86 (brs, 1H), 3.70-3.55 (m,2H), 2.3
6 (t, 2H, J = 7.4 Hz), 1.68-1.58 (m, 2H), 1.44 (s,
9H), 1.40-1.30 (m, 4H), 1.25 (s, 3H), 0.90 (t, 3
H, J = 7.0 Hz) 赤外吸収スペクトルνmax cm-1 (Liquid Film) : 3415,
3380, 2961, 2935, 2874, 1721, 1505, 1458, 1392, 1
368, 1293, 1248, 1168, 1076 マススペクトル(FAB)m/z:304((M+H)+)。
[Α] D 25 -8.5 (c 1.86, CHCl 3 ) Nuclear magnetic resonance spectrum (400 MHz, CDCl 3 ) δppm: 4.86
(s, 1H), 4.25 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 4.19 (d, 1H, J
= 11.2 Hz), 3.86 (brs, 1H), 3.70-3.55 (m, 2H), 2.3
6 (t, 2H, J = 7.4 Hz), 1.68-1.58 (m, 2H), 1.44 (s,
9H), 1.40-1.30 (m, 4H), 1.25 (s, 3H), 0.90 (t, 3
(H, J = 7.0 Hz) Infrared absorption spectrum νmax cm -1 (Liquid Film): 3415,
3380, 2961, 2935, 2874, 1721, 1505, 1458, 1392, 1
368, 1293, 1248, 1168, 1076 Mass spectrum (FAB) m / z: 304 ((M + H) + ).

【0323】(1c)(2R)−t−ブトキシカルボニ
ルアミノ−3−n−ヘキサノイルオキシ−2−メチル−
1−プロパナール 実施例1bで得られた(2R)−t−ブトキシカルボニ
ルアミノ−3−n−ヘキサノイルオキシ−2−メチル−
1−プロパノール30.7 g (0.10 mol)を塩化メチレン600
mlに溶解し、モレキュラーシーブ4Å 220 g及び塩化
クロム酸ピリジニウム43.6 g (0.20 mol)を氷冷下加
え、その後、室温で2時間攪拌した。反応液をエーテル
で希釈後、濾過した。濾液を減圧下留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;n-ヘキサ
ン:酢酸エチル=10:1〜5:1)により精製して、
標記化合物28.8 g (95 %)を無色油状物として得た。
(1c) (2R) -t-butoxycarboni
Lumin-3-n-hexanoyloxy-2-methyl-
1-propanal (2R) -t-butoxycarbonylamino-3-n-hexanoyloxy-2-methyl- obtained in Example 1b.
30.7 g (0.10 mol) of 1-propanol was added to methylene chloride 600
The resulting solution was dissolved in ice-cold water, and 4Å220 g of molecular sieve and 43.6 g (0.20 mol) of pyridinium chloride chromate were added under ice-cooling, followed by stirring at room temperature for 2 hours. The reaction solution was diluted with ether and filtered. The filtrate was evaporated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (elution solvent: n-hexane: ethyl acetate = 10: 1 to 5: 1),
This gave 28.8 g (95%) of the title compound as a colorless oil.

【0324】核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3
δppm : 9.45 (s, 1H), 5.26 (brs,1H), 4.44 (d, 1H,
J = 11.2 Hz), 4.32 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 2.32 (t,
2H,J = 7.6 Hz), 1.70-1.55 (m, 2H), 1.45 (s, 9H),
1.38 (s, 3H), 1.40-1.25 (m, 4H), 0.90 (t, 3H, J =
7.0 Hz) 赤外吸収スペクトルνmax cm-1 (Liquid Film) : 3367,
2961, 2935, 2874, 1742, 1707, 1509, 1458, 1392, 1
369, 1290, 1274, 1254, 1166, 1100, 1078 マススペクトル(FAB)m/z:302((M+H)+) (1d)(2R)−t−ブトキシカルボニルアミノ−1
−n−ヘキサノイルオキシ−2−メチル−4−(ベンゾ
[b]チオフェン−6−イル)−3−ブテン 実施例1cで得られた(2R)−t−ブトキシカルボニ
ルアミノ−3−n−ヘキサノイルオキシ−2−メチル−
1−プロパナール28.2g(93.6ミリモル)と実
施例1aで合成した臭化 (ベンゾ[b]チオフェン−
6−イル)メチルトリフェニルホスホニウム塩45.8
g(93.6ミリモル)をテトラヒドロフラン 700
mlに懸濁させ、そこにt−ブトキシカリウム 11.
6g(0.103モル)を加え、室温下30分攪拌し
た。その後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、
酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキ
サン/酢酸エチル=10:1)により精製して、標記化
合物28.0g(収率69.3%)を得た。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3)δ ppm : 7.82
(d, 1H, J = 9.7 Hz),7.75 (d, 1H, J = 8.2 Hz), 7.4
4-7.39 (m, 1H), 7.32-7.26 (m, 2H), 6.74, 5.73 (d,
計1H, J = 12.6Hz), 6.61, 6.34 (d, 計1H, J = 16.2 H
z), 4.87, 4.69(br s, 計1H), 4.34-4.16, (m, 2H), 2.
37-2.32 (m, 2H), 1.67-1.15 (m, 20H),0.91-0.84 (m,
3H). 赤外吸収スペクトルνmax cm-1 (Liquid Film) : 3440,
3373, 2961, 2932, 2872, 1724, 1597, 1498, 1457, 1
390, 1367, 1247, 1167, 1099, 1073. マススペクトル(FAB)m/z:431(M+) (1e)(2R)−t−ブトキシカルボニルアミノ−1
−n−ヘキサノイルオキシ−2−メチル−4−(ベンゾ
[b]チオフェン−6−イル)ブタン 実施例1dで得られた(2R)−t−ブトキシカルボニ
ルアミノ−1−n−ヘキサノイルオキシ−2−メチル−
4−(ベンゾ[b]チオフェン−6−イル)−3−ブテ
ン 28.0g(64.9ミリモル)をメタノール 7
00mlに溶解し、10%パラジウム−炭素 14.0
g加え、水素雰囲気下、6日間室温で攪拌した。パラジ
ウム−炭素をセライトろ過後、ろ液を減圧下留去した。
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキ
サン/酢酸エチル=15:1〜10:1)により精製し
て、標記化合物24.30g(収率86.6%)を得
た。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3)δ ppm : 7.73
(d, 1H, J = 8.2 Hz),7.69 (s, 1H), 7.36 (d, 1H, J
= 5.2 Hz), 7.28 (d, 1H, J = 5.6 Hz), 7.19 (d, 1H,
J = 8.1 Hz), 4.56 (br s, 1H), 4.28 (d, 1H, J = 11.
0 Hz), 4.14 (d,1H, J = 11.0 Hz), 2.73 (t, 2H, J =
8.7 Hz), 2.34 (t, 2H, J = 7.5 Hz),1.68-1.61 (m, 2
H), 1.45 (s, 9H), 1.41-1.38 (m, 8H), 0.89 (t, 3H,
J = 6.7Hz). 赤外吸収スペクトルνmax cm-1 (Liquid Film) : 3371,
2960, 2933, 2870, 1720, 1604, 1501, 1466, 1392, 1
367, 1248, 1167, 1074. マススペクトル(FAB)m/z:456((M+Na)+) (1f)(4R)−[2−(ベンゾ[b]チオフェン−
6−イル)エチル]−4−メチルオキサゾリジン−2−
オン 実施例1eで得られた(2R)−t−ブトキシカルボニ
ルアミノ−1−n−ヘキサノイルオキシ−2−メチル−
4−(ベンゾ[b]チオフェン−6−イル)ブタン 2
4.3g(56.0ミリモル)をテトラヒドロフラン
220ml、メタノール 110mlに溶解し、そこに
1規定水酸化ナトリウム水溶液 110mlを氷冷下加
え、氷冷下で15分、室温で2時間攪拌した。反応液を
減圧下濃縮後、水を加え、塩化メチレンで抽出し、塩化
メチレン層を飽和食塩水で洗浄した。塩化メチレン層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、目
的とするアルコール体 18.8g(収率100%)を
得た。 このアルコール体18.8g(56.0ミリモ
ル)をジメチルフォルムアミド 380mlに溶解さ
せ、t−ブトキシカリウム 9.43g(84.1ミリ
モル)を氷冷下加え、氷冷下で5分、室温で1時間攪拌
した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エ
チル層を飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣を
シリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/
酢酸エチル=3:2〜2:1)により精製して、標記化
合物13.8g(収率 94.2%)を得た。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3)δ ppm : 7.73
(d, 1H, J = 8.2 Hz),7.68 (s, 1H), 7.38 (d, 1H, J
= 5.7 Hz), 7.29 (d, 1H, J =13.0 Hz), 7.18 (d, 1H,
J = 13.6 Hz), 5.91 (br s, 1H), 4.21 (d, 1H, J = 8.
7 Hz), 4.09 (d,1H, J = 8.7 Hz), 2.84-2.76 (m, 2H),
1.97 (t, J = 8.5 Hz, 3H). 赤外吸収スペクトルνmax cm-1 (KBr) : 3292, 2970, 2
930, 1749, 1722, 1601,1479, 1461, 1397, 1277, 104
5. マススペクトル(EI)m/z:261(M+) (1g)(4R)−[2−(3−ブロモベンゾ[b]チ
オフェン−6−イル)エチル]−4−メチルオキサゾリ
ジン−2−オン 実施例1fで得られた(4R)−[2−(ベンゾ[b]
チオフェン−6−イル)エチル]−4−メチルオキサゾ
リジン−2−オン12.8g(49.0ミリモル)をジ
メチルホルムアミド 250mlに溶解させ、N−ブロ
モスクシンイミド 10.5g(58.8ミリモル)を
氷冷下加え、氷冷下で10分、室温で4時間半攪拌し
た。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチ
ル層を飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢
酸エチル=3:2〜1:1)により精製して、標記化合
物12.2g(収率 62.2%)を得た。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3)δ ppm : 7.73
(d, 1H, J = 8.3 Hz),7.64 (s, 1H), 7.37 (s, 1H),
7.28 (d, 1H, J = 1.3 Hz), 6.12 (br s, 1H), 4.21,
(d, J = 8.6 Hz), 4.10 (d, 1H, J = 8.6 Hz), 2.88-2.
75, (m, 2H), 1.96(t, 2H, J = 8.4 Hz), 1.66 (s, 3
H). 赤外吸収スペクトルνmax cm-1 (KBr) : 3269, 3109, 2
972, 2916, 1749, 1602,1555, 1481, 1462, 1401, 131
9, 1272, 1220, 1165, 1043, 937, 817, 758. マススペクトル(FAB)m/z:340((M+H)+) (1h)(4R)−[2−(3−(4−シクロヘキシル
オキシブト−1−イニル)ベンゾ[b]チオフェン−6
−イル)エチル]−4−メチルオキサゾリジン−2−オ
実施例1gで得られた(4R)−[2−(3−ブロモベ
ンゾ[b]チオフェン−6−イル)エチル]−4−メチ
ルオキサゾリジン−2−オン1.00g(2.95ミリ
モル)をジメチルホルムアミド8.0mlに溶解させ、
4−シクロヘキシルオキシ−1−ブチン1.12g
(7.37ミリモル)、トリエチルアミン4.11ml
(29.5ミリモル)、よう化銅(I)112mg
(0.059ミリモル)ジクロロビス(トリフェニルホ
スフィン)パラジウム414mg(0.59ミリモル)
を加え、窒素雰囲気下80℃で16時間攪拌した。反応
液を減圧下、留去した後残渣を逆相HPLC[TSKgel ODS
−80Ts(2.0mmIDx25cm)、溶出溶媒:アセ
トニトリル/水=7:3]により精製して、標記化合物
0.55g(収率 45.3%)を得た。
Nuclear magnetic resonance spectrum (400 MHz, CDCl 3 )
δppm: 9.45 (s, 1H), 5.26 (brs, 1H), 4.44 (d, 1H,
J = 11.2 Hz), 4.32 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 2.32 (t,
2H, J = 7.6 Hz), 1.70-1.55 (m, 2H), 1.45 (s, 9H),
1.38 (s, 3H), 1.40-1.25 (m, 4H), 0.90 (t, 3H, J =
7.0 Hz) Infrared absorption spectrum νmax cm -1 (Liquid Film): 3367,
2961, 2935, 2874, 1742, 1707, 1509, 1458, 1392, 1
369, 1290, 1274, 1254, 1166, 1100, 1078 Mass spectrum (FAB) m / z: 302 ((M + H) + ) (1d) (2R) -t-butoxycarbonylamino-1
-N-hexanoyloxy-2-methyl-4- (benzo
[B] thiophen-6-yl) -3-butene (2R) -t-butoxycarbonylamino-3-n-hexanoyloxy-2-methyl- obtained in Example 1c.
28.2 g (93.6 mmol) of 1-propanal and bromide (benzo [b] thiophene-synthesized in Example 1a)
6-yl) methyltriphenylphosphonium salt 45.8
g (93.6 mmol) in tetrahydrofuran 700
10. Suspension in potassium tert-butoxide.
6 g (0.103 mol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. Thereafter, water was added to the reaction solution, and extracted with ethyl acetate.
The ethyl acetate layer was washed with saturated saline. After the ethyl acetate layer was dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure.
The residue was purified by silica gel chromatography (elution solvent: hexane / ethyl acetate = 10: 1) to obtain 28.0 g (yield 69.3%) of the title compound. Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3 ) δ ppm: 7.82
(d, 1H, J = 9.7 Hz), 7.75 (d, 1H, J = 8.2 Hz), 7.4
4-7.39 (m, 1H), 7.32-7.26 (m, 2H), 6.74, 5.73 (d,
1H, J = 12.6Hz), 6.61, 6.34 (d, 1H, J = 16.2H
z), 4.87, 4.69 (br s, 1H in total), 4.34-4.16, (m, 2H), 2.
37-2.32 (m, 2H), 1.67-1.15 (m, 20H), 0.91-0.84 (m,
3H). Infrared absorption spectrum ν max cm -1 (Liquid Film): 3440,
3373, 2961, 2932, 2872, 1724, 1597, 1498, 1457, 1
390, 1367, 1247, 1167, 1099, 1073. Mass spectrum (FAB) m / z: 431 (M + ) (1e) (2R) -t-butoxycarbonylamino-1
-N-hexanoyloxy-2-methyl-4- (benzo
[B] thiophen-6-yl) butane (2R) -t-butoxycarbonylamino-1-n-hexanoyloxy-2-methyl- obtained in Example 1d
28.0 g (64.9 mmol) of 4- (benzo [b] thiophen-6-yl) -3-butene was added to methanol 7
Dissolved in 100 ml of 10% palladium-carbon 14.0
g, and the mixture was stirred at room temperature for 6 days under a hydrogen atmosphere. After palladium-carbon was filtered through celite, the filtrate was distilled off under reduced pressure.
The residue was purified by silica gel chromatography (elution solvent: hexane / ethyl acetate = 15: 1 to 10: 1) to obtain 24.30 g (yield: 86.6%) of the title compound. Nuclear magnetic resonance spectrum (400 MHz, CDCl 3 ) δ ppm: 7.73
(d, 1H, J = 8.2 Hz), 7.69 (s, 1H), 7.36 (d, 1H, J
= 5.2 Hz), 7.28 (d, 1H, J = 5.6 Hz), 7.19 (d, 1H,
J = 8.1 Hz), 4.56 (br s, 1H), 4.28 (d, 1H, J = 11.
0 Hz), 4.14 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 2.73 (t, 2H, J =
8.7 Hz), 2.34 (t, 2H, J = 7.5 Hz), 1.68-1.61 (m, 2
H), 1.45 (s, 9H), 1.41-1.38 (m, 8H), 0.89 (t, 3H,
J = 6.7Hz). Infrared absorption spectrum ν max cm -1 (Liquid Film): 3371,
2960, 2933, 2870, 1720, 1604, 1501, 1466, 1392, 1
367, 1248, 1167, 1074. Mass spectrum (FAB) m / z: 456 ((M + Na) + ) (1f) (4R)-[2- (benzo [b] thiophene-
6-yl) ethyl] -4-methyloxazolidine-2-
On (2R) -t-butoxycarbonylamino-1-n-hexanoyloxy-2-methyl- obtained in Example 1e.
4- (benzo [b] thiophen-6-yl) butane 2
4.3 g (56.0 mmol) in tetrahydrofuran
After dissolving in 220 ml and methanol 110 ml, 1N aqueous sodium hydroxide solution 110 ml was added thereto under ice cooling, and the mixture was stirred under ice cooling for 15 minutes and at room temperature for 2 hours. After the reaction solution was concentrated under reduced pressure, water was added, and the mixture was extracted with methylene chloride. The methylene chloride layer was washed with saturated saline. After the methylene chloride layer was dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 18.8 g (yield 100%) of the desired alcohol. 18.8 g (56.0 mmol) of this alcohol compound was dissolved in 380 ml of dimethylformamide, and 9.43 g (84.1 mmol) of potassium t-butoxide was added under ice-cooling. Stirred for hours. Water was added to the reaction solution, extracted with ethyl acetate, and the ethyl acetate layer was washed with saturated saline. After the ethyl acetate layer was dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel chromatography (elution solvent: hexane /
Purification by ethyl acetate (3: 2 to 2: 1) gave 13.8 g (yield 94.2%) of the title compound. Nuclear magnetic resonance spectrum (400 MHz, CDCl 3 ) δ ppm: 7.73
(d, 1H, J = 8.2 Hz), 7.68 (s, 1H), 7.38 (d, 1H, J
= 5.7 Hz), 7.29 (d, 1H, J = 13.0 Hz), 7.18 (d, 1H,
J = 13.6 Hz), 5.91 (br s, 1H), 4.21 (d, 1H, J = 8.
7 Hz), 4.09 (d, 1H, J = 8.7 Hz), 2.84-2.76 (m, 2H),
1.97 (t, J = 8.5 Hz, 3H). Infrared absorption spectrum ν max cm -1 (KBr): 3292, 2970, 2
930, 1749, 1722, 1601,1479, 1461, 1397, 1277, 104
5. Mass spectrum (EI) m / z: 261 (M + ) (1 g) (4R)-[2- (3-bromobenzo [b] thi)
Offen-6-yl) ethyl] -4-methyloxazoly
Gin-2-one (4R)-[2- (benzo [b] obtained in Example 1f.
Thiophen-6-yl) ethyl] -4-methyloxazolidine-2-one (12.8 g, 49.0 mmol) was dissolved in dimethylformamide (250 ml), and N-bromosuccinimide (10.5 g, 58.8 mmol) was ice-cooled. The mixture was stirred under ice cooling for 10 minutes and at room temperature for 4.5 hours. The reaction solution was poured into water, extracted with ethyl acetate, and the ethyl acetate layer was washed with saturated saline. After the ethyl acetate layer was dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography (elution solvent: hexane / ethyl acetate = 3: 2-1: 1) to obtain 12.2 g (yield: 62.2%) of the title compound. Nuclear magnetic resonance spectrum (400 MHz, CDCl 3 ) δ ppm: 7.73
(d, 1H, J = 8.3 Hz), 7.64 (s, 1H), 7.37 (s, 1H),
7.28 (d, 1H, J = 1.3 Hz), 6.12 (br s, 1H), 4.21,
(d, J = 8.6 Hz), 4.10 (d, 1H, J = 8.6 Hz), 2.88-2.
75, (m, 2H), 1.96 (t, 2H, J = 8.4 Hz), 1.66 (s, 3
H). Infrared absorption spectrum ν max cm -1 (KBr): 3269, 3109, 2
972, 2916, 1749, 1602,1555, 1481, 1462, 1401, 131
9, 1272, 1220, 1165, 1043, 937, 817, 758. Mass spectrum (FAB) m / z: 340 ((M + H) + ) (1h) (4R)-[2- (3- (4-cyclohexyl)
Oxybut-1-ynyl) benzo [b] thiophene-6
-Yl) ethyl] -4-methyloxazolidine-2-o
Emissions obtained in Example 1 g (4R) - [2- (3-bromobenzo [b] thiophen-6-yl) ethyl] -4-methyl-oxazolidine-2-one 1.00 g (2.95 mmol) dimethyl Dissolved in 8.0 ml of formamide,
1.12 g of 4-cyclohexyloxy-1-butyne
(7.37 mmol), 4.11 ml of triethylamine
(29.5 mmol), copper (I) iodide 112 mg
(0.059 mmol) dichlorobis (triphenylphosphine) palladium 414 mg (0.59 mmol)
Was added and stirred at 80 ° C. for 16 hours under a nitrogen atmosphere. After evaporating the reaction solution under reduced pressure, the residue was subjected to reverse phase HPLC [TSKgel ODS
-80 Ts (2.0 mm ID × 25 cm), elution solvent: acetonitrile / water = 7: 3] to obtain 0.55 g (yield: 45.3%) of the title compound.

【0325】(1i)(2R)−アミノ−4−[3−
(4−シクロヘキシルオキシブト−1−イニル)ベンゾ
[b]チオフェン−6−イル]−2−メチルブタン−1
−オール 実施例1hで得られた(4R)−[2−(3−(4−シ
クロヘキシルオキシブト−1−イニル)ベンゾ[b]チ
オフェン−6−イル)エチル]−4−メチルオキサゾリ
ジン−2−オンをテトラヒドロフラン/メタノール=2
/1の混合溶媒12mlに溶解させ、10規定水酸化カ
リウム水溶液4mlを加え100度で16時間攪拌し
た。その後、反応液を1規定水酸化ナトリウム水溶液に
加えそ、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣
をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒:塩化メチ
レン/メタノール/アンモニア水溶液=100:10:
1)により精製して、標記化合物548mg(収率10
0%)を得た。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3)δ ppm : 7.83
(d, 1H, J = 9.0 Hz),7.75 (s, 1H), 7.57 (s, 1H),
7.33 (d, 1H, J = 9.0 Hz), 3.72 (t, 2H, J = 6.8 H
z), 3.61, (d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.56 (d, 1H, J = 1
1.6 Hz), 3.45-3.38(m, 1H), 3.31 (s, 1H), 2.88-2.77
(m, 2H), 2.73 (t, 1H, J = 6.7 Hz), 2.07-1.90 (m,
4H), 1.77-1.74 (m, 2H), 1.57-1.52 (m, 1H), 1.40-1.
21 (m, 10H) マススペクトル(FAB)m/z:386(M+H+) 実施例2(2R)−アミノ−4−[3−(3−シクロヘキシルメ
チルオキシプロピン−1−イニル)ベンゾ[b]チオフ
ェン−6−イル]−2−メチルブタン−1−オール (例
示化合物番号1-630) 4−シクロヘキシルオキシ−1−ブチン1.12g
(7.37ミリモル)の代わりに3−シクロヘキシルメ
チルオキシ−1−プロピン0.88gを用いて、実施例
1と同様にして、標記化合物を311mgを得た。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3)δ ppm : 7.8
3 (d. 1H, J = 8.7 Hz),7.78 (s, 1H), 7.72 (s, 1H),
7.36 (d, 1H, J = 8.7 Hz), 4.43 (s, 2H), 3.67, (d,
1H, J = 11.5 Hz), 3.56 (d, 1H, J = 11.5 Hz), 3.31
(s, 1H), 2.86-2.78 (m, 2H), 2.08-1.90 (m, 2H), 1.
83-1.60 (m,7H), 1.37 (s,1H), 1.40-1.18(m, 5H), 1.0
6-0.97 (m, 2H) マススペクトル(FAB)m/z:386(M-H+)。
(1i) (2R) -amino-4- [3-
(4-cyclohexyloxybut-1-ynyl) benzo
[B] thiophen-6-yl] -2-methylbutane-1
- (4R)-[2- (3- (4-Cyclohexyloxybut-1-ynyl) benzo [b] thiophen-6-yl) ethyl] -4-methyloxazolidine-2- obtained in Example 1h. ON is tetrahydrofuran / methanol = 2
The mixture was dissolved in 12 ml of a 1: 1 mixed solvent, 4 ml of a 10 N aqueous potassium hydroxide solution was added, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 16 hours. Thereafter, the reaction solution was added to a 1N aqueous sodium hydroxide solution, extracted with methylene chloride, the methylene chloride layer was dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue is subjected to silica gel chromatography (elution solvent: methylene chloride / methanol / aqueous ammonia solution = 100: 10:
1) to give 548 mg of the title compound (yield 10
0%). Nuclear magnetic resonance spectrum (400 MHz, CDCl 3 ) δ ppm: 7.83
(d, 1H, J = 9.0 Hz), 7.75 (s, 1H), 7.57 (s, 1H),
7.33 (d, 1H, J = 9.0 Hz), 3.72 (t, 2H, J = 6.8 H
z), 3.61, (d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.56 (d, 1H, J = 1
1.6 Hz), 3.45-3.38 (m, 1H), 3.31 (s, 1H), 2.88-2.77
(m, 2H), 2.73 (t, 1H, J = 6.7 Hz), 2.07-1.90 (m,
4H), 1.77-1.74 (m, 2H), 1.57-1.52 (m, 1H), 1.40-1.
21 (m, 10H) mass spectrum (FAB) m / z: 386 (M + H + ) Example 2 (2R) -amino-4- [3- (3-cyclohexylme)
Tyloxypropyn-1-ynyl) benzo [b] thiof
[ En -6-yl] -2-methylbutan-1-ol (Exemplified Compound No. 1-630) 1.12 g of 4-cyclohexyloxy-1-butyne
In the same manner as in Example 1 except that 0.88 g of 3-cyclohexylmethyloxy-1-propyne was used instead of (7.37 mmol), 311 mg of the title compound was obtained. Nuclear magnetic resonance spectrum (400 MHz, CDCl 3 ) δ ppm: 7.8
3 (d. 1H, J = 8.7 Hz), 7.78 (s, 1H), 7.72 (s, 1H),
7.36 (d, 1H, J = 8.7 Hz), 4.43 (s, 2H), 3.67, (d,
1H, J = 11.5 Hz), 3.56 (d, 1H, J = 11.5 Hz), 3.31
(s, 1H), 2.86-2.78 (m, 2H), 2.08-1.90 (m, 2H), 1.
83-1.60 (m, 7H), 1.37 (s, 1H), 1.40-1.18 (m, 5H), 1.0
6-0.97 (m, 2H) Mass spectrum (FAB) m / z: 386 (MH <+> ).

【0326】実施例3(2R)−アミノ−4−[3−(5−シクロヘキシル−
1−ペンチニル)ベンゾ[b]チオフェン−6−イル]
−2−メチルブタン−1−オール (例示化合物番号1-42
2) 4−シクロヘキシルオキシ−1−ブチン1.12g
(7.37ミリモル)の代わりに5−シクロヘキシル−
1−ペンチン1.30gを用いて、実施例1と同様にし
て、標記化合物を381mgを得た。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3)δ ppm : 7.79
(d. 1H, J = 9.1 Hz),7.75 (s, 1H), 7.55 (s, 1H),
7.32 (d, 1H, J = 9.1 Hz), 6.27 (s, 2H), 3.66, (d,
1H, J = 11.5 Hz), 3.56 (d, 1H, J = 11.5 Hz), 2.86-
2.78 (m, 2H), 2.48 (m, 2H), 2.08-1.90 (m, 2H), 1.8
6-1.60 (m,8H), 1.45-1.14 (m, 8H), 1.00-0.91 (m, 2
H) マススペクトル(FAB)m/z:384(M+H+)。
Example 3 (2R) -Amino -4- [3- (5-cyclohexyl-
1-pentynyl) benzo [b] thiophen-6-yl]
-2-methylbutan-1-ol (Exemplary Compound No. 1-42
2) 4-Cyclohexyloxy-1-butyne 1.12 g
(7.37 mmol) instead of 5-cyclohexyl-
In the same manner as in Example 1 using 1.30 g of 1-pentyne, 381 mg of the title compound was obtained. Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3 ) δ ppm: 7.79
(d. 1H, J = 9.1 Hz), 7.75 (s, 1H), 7.55 (s, 1H),
7.32 (d, 1H, J = 9.1 Hz), 6.27 (s, 2H), 3.66, (d,
1H, J = 11.5 Hz), 3.56 (d, 1H, J = 11.5 Hz), 2.86-
2.78 (m, 2H), 2.48 (m, 2H), 2.08-1.90 (m, 2H), 1.8
6-1.60 (m, 8H), 1.45-1.14 (m, 8H), 1.00-0.91 (m, 2
H) Mass spectrum (FAB) m / z: 384 (M + H + ).

【0327】実施例4(2R)−アミノ−4−[3−(3−p−トリロキシ−
1−プロピニル)ベンゾ[b]チオフェン−6−イル]
−2−メチルブタン−1−オール (例示化合物番号1-55
5) 4−シクロヘキシルオキシ−1−ブチン1.12g
(7.37ミリモル)の代わりに3−p−トリロキシ−
1−プロピン1.30mgを用いて、実施例1と同様に
して、標記化合物を185mgを得た。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3)δ ppm : 7.76
(s, 1H), 7.71 (s, 1H), 7.70 (d, 1H, J = 7.9 Hz),
7.30 (d, 1H, J = 7.9 Hz), 7.12 (d, 2H, J = 8.5 H
z), 6.97 (d, 1H, J = 8.5 Hz), 5.00 (s, 2H), 3.66,
(d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.56 (d, 1H, J = 11.6 Hz),
3.31 (S, 2H), 2.87-2.75 (m, 2H), 2.29 (s,3H), 2.07
-1.89 (m, 2H) 1.36 (s, 3H), 1.41-1.17 (m, 3H) マススペクトル(FAB)m/z:380(M+H+)。
Example 4 (2R) -amino-4- [3- (3-p-tolyloxy-
1-propynyl) benzo [b] thiophen-6-yl]
-2-methylbutan-1-ol (Exemplary Compound No. 1-55
5) 1.12 g of 4-cyclohexyloxy-1-butyne
(7.37 mmol) instead of 3-p-tolyloxy-
In the same manner as in Example 1 using 1.30 mg of 1-propyne, 185 mg of the title compound was obtained. Nuclear magnetic resonance spectrum (400MHz, CDCl 3 ) δ ppm: 7.76
(s, 1H), 7.71 (s, 1H), 7.70 (d, 1H, J = 7.9 Hz),
7.30 (d, 1H, J = 7.9 Hz), 7.12 (d, 2H, J = 8.5 H
z), 6.97 (d, 1H, J = 8.5 Hz), 5.00 (s, 2H), 3.66,
(d, 1H, J = 11.6 Hz), 3.56 (d, 1H, J = 11.6 Hz),
3.31 (S, 2H), 2.87-2.75 (m, 2H), 2.29 (s, 3H), 2.07
-1.89 (m, 2H) 1.36 (s, 3H), 1.41-1.17 (m, 3H) Mass spectrum (FAB) m / z: 380 (M + H + ).

【0328】実施例5(2R)−アミノ−4−[3−(4−シクロヘキシルオ
キシブタン−1−イル)ベンゾ[b]チオフェン−6−
イル]−2−メチルブタン−1−オール (例示化合物番
号1-247) 実施例1で得られた(2R)−アミノ−4−[3−(4
−シクロヘキシルオキシブト−1−イニル)ベンゾ
[b]チオフェン−6−イル]−2−メチルブタン−1
−オール250mg(6.48ミリモル)をメタノール
10mlに溶解し、10%パラジウム−炭素 250
mg加え、水素雰囲気下、2日間室温で攪拌した。パラ
ジウム−炭素をセライトろ過後、ろ液を減圧下留去し
た。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶媒:
塩化メチレン/メタノール/アンモニア水溶液=10
0:10:1)により精製して、標記化合物 236m
g(収率93.3%)を得た。 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3)δ ppm : 7.73
(d. 1H, J = 8.7 Hz),7.71 (s, 1H), 7.26 (d, 1H, J
= 8.7 Hz), 7.16 (s, 1H), 4.88 (s, 2H), 3.66, (d, 1
H, J = 11.6 Hz), 3.57-3.49 (m, 3H , 3.31-3.39 (m,
1H), 3.30-3.20(m, 1H),2.88-2.74 (m, 4H), 2.07-1.52
(m, 2H), 1.37 (s,3H), 1.36-1.19 (m,4H) マススペクトル(FAB)m/z:390(M+H+)。
Example 5 (2R) -Amino -4- [3- (4-cyclohexylio)
Xybutan-1-yl) benzo [b] thiophen-6-
Il] -2-methylbutan-1-ol (Exemplary Compound No. 1-247) (2R) -amino-4- [3- (4) obtained in Example 1
-Cyclohexyloxybut-1-ynyl) benzo [b] thiophen-6-yl] -2-methylbutane-1
-250 mg (6.48 mmol) of all are dissolved in 10 ml of methanol, and 10% palladium-carbon 250
mg, and the mixture was stirred at room temperature for 2 days under a hydrogen atmosphere. After palladium-carbon was filtered through celite, the filtrate was distilled off under reduced pressure. The residue is subjected to silica gel chromatography (elution solvent:
Methylene chloride / methanol / ammonia aqueous solution = 10
0: 10: 1) to give 236 m of the title compound.
g (93.3% yield). Nuclear magnetic resonance spectrum (400 MHz, CDCl 3 ) δ ppm: 7.73
(d. 1H, J = 8.7 Hz), 7.71 (s, 1H), 7.26 (d, 1H, J
= 8.7 Hz), 7.16 (s, 1H), 4.88 (s, 2H), 3.66, (d, 1
H, J = 11.6 Hz), 3.57-3.49 (m, 3H, 3.31-3.39 (m,
1H), 3.30-3.20 (m, 1H), 2.88-2.74 (m, 4H), 2.07-1.52
(m, 2H), 1.37 (s, 3H), 1.36-1.19 (m, 4H) Mass spectrum (FAB) m / z: 390 (M + H + ).

【0329】試験例1ラットHvGR(Host versus Graft Reaction)に対する抑
制活性の測定 (1)2系統のラット[Lewis(雄、6週齢、日本チャー
ルス・リバー株式会社)とWKAH/Hkm(雄、7週齢日本エ
スエルシー株式会社)]を使用した。1群5匹のラット
(宿主)を用いた。 (2)HvGRの誘導 WKAH/HkmラットまたはLewisラットの脾臓から脾臓細胞
を単離し、RPMI1640培地(LIFE TECHNOLOGIES,Rockvill
e MD U.S.A.)で1x108個/ml濃度に浮遊した。Lewisラッ
トの両後肢foot padの皮下に、WKAH/HkmラットまたはLe
wisラットの脾臓細胞浮遊液各100μl(脾臓細胞数とし
て1x107)を注射した。 (3)化合物の投与 化合物は0.5%トラガント液に懸濁した。懸濁した化合
物は、化合物投与群(WKAH/Hkmラット脾臓細胞を注射さ
れ、検体を投与されるLewisラット)に5ml/kgの割合
で、1日1回、脾臓細胞注射日から4日間連日でラット
に経口投与した。なお、同系群(Lewisラット脾臓細胞
を注射されたLewisラット群)と対照群(WKAH/Hkmラッ
ト脾臓細胞を注射され、検体を投与されないLewisラッ
ト)には、検体の代わりに0.5%トラガント液を経口投
与した。 (4)HvGRに対する抑制活性の測定方法 各個体のpoplitealリンパ節重量から同系群の平均popli
tealリンパ節重量を引き(「HvGRによるpoplitealリン
パ節重量」)、対照群の平均「HvGRによるpoplitealリ
ンパ節重量」に対する化合物投与群の各個体の「HvGRに
よるpoplitealリンパ節重量」から抑制率を算出した。
化合物の抑制活性は、化合物の投与量と抑制率から最小
二乗法を用いて算出したID50値(mg/kg)で表示した。
Test Example 1Inhibition against rat HvGR (Host versus Graft Reaction)
Measurement of activity (1) Two strains of rats [Lewis (male, 6 weeks old, Japanese char
Russ River Co., Ltd.) and WKAH / Hkm (male, 7 weeks old Japan
SLC Corporation)]. 5 rats per group
(Host) was used. (2) Induction of HvGR Spleen cells from spleen of WKAH / Hkm rat or Lewis rat
Was isolated and RPMI1640 medium (LIFE TECHNOLOGIES, Rockvill
e MD U.S.A.)8The cells were suspended at a concentration of cells / ml. Lewis Lat
WKAH / Hkm rat or Le
Wis rat spleen cell suspension (100 μl each)
1x107) Was injected. (3) Administration of Compound The compound was suspended in 0.5% tragacanth solution. Suspended compound
In the compound administration group (WKAH / Hkm rat spleen cells were injected)
5 ml / kg of Lewis rats)
Once a day for 4 consecutive days from the day of spleen cell injection
Was orally administered. The syngeneic group (Lewis rat spleen cells)
Group injected with Lewis rats) and control group (WKAH / Hkm
Lewis rat injected with spleen cells
G), a 0.5% tragacanth solution is orally administered instead of the sample.
Gave. (4) Method of measuring inhibitory activity against HvGR Average popli of syngeneic group from popliteal lymph node weight of each individual
subtract teal lymph node weight ("popliteal phosphorus by HvGR"
Pavement weight ”), average of control group“ popliteal
HvGR of each individual in the compound administration group with respect to
The inhibition rate was calculated from the "popliteal lymph node weight due to".
The inhibitory activity of the compound is minimal due to the dose of the compound and the inhibition rate.
It was indicated by the ID50 value (mg / kg) calculated using the square method.

【0330】本試験の結果、本発明の化合物はFTY‐
720[WO94/08943号公報(EP62740
6)の実施例29の化合物]より優れた抑制活性を示し
た。
As a result of this test, the compound of the present invention was found to be FTY-
720 [WO94 / 08943 (EP62740)
Compound of Example 29 of 6)].

【0331】[0331]

【発明の効果】本発明の一般式(I)を有する化合物
は、毒性が低く優れた免疫抑制作用を有することから、
免疫抑制剤として有用である。
The compound of the present invention having the general formula (I) has low toxicity and excellent immunosuppressive activity.
Useful as an immunosuppressant.

フロントページの続き (72)発明者 下里 隆一 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 奈良 太 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 Fターム(参考) 4C086 AA03 BB03 ZB08 Continuing from the front page (72) Inventor Ryuichi Shimozato 1-2-58 Hiromachi, Shinagawa-ku, Tokyo Sankyo Co., Ltd. (72) Inventor Futa Nara 1-258 Hiromachi, Shinagawa-ku, Tokyo Sankyo Co., Ltd. F-term in the formula company (reference) 4C086 AA03 BB03 ZB08

Claims (34)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式(I) 【化1】 [式中、 R1及びR2は、同一又は異なって、水素原子又はアミノ
基の保護基を示し、 R3は、水素原子又はヒドロキシ基の保護基を示し、 R4は、低級アルキル基を示し、 nは、1乃至6の整数を示し、 Xは、エチレン基、ビニレン基、エチニレン基、式−D
−CH2−を有する基(式中、Dは、カルボニル基、式
−CH(OH)−を有する基、酸素原子、硫黄原子又は
窒素原子を示す。)、アリール基又は置換基群aから選
択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基を
示し、 Yは、単結合、C1−C10アルキレン基、置換基群a及
びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたC
1−C10アルキレン基、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原
子若しくは硫黄原子を有するC1−C10アルキレン基、
又は置換基群a及びbから選択される少なくとも1個の
基で置換された、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若し
くは硫黄原子を有するC1−C10アルキレン基を示し、 R5は、水素原子、シクロアルキル基、アリ−ル基、複
素環基、置換基群a及びbから選択される少なくとも1
個の基で置換されたシクロアルキル基、置換基群a及び
bから選択される少なくとも1個の基で置換されたアリ
−ル基、又は置換基群a及びbから選択される少なくと
も1個の基で置換された複素環基を示し、R6及びR
7は、同一又は異なって、水素原子又は置換基群aから
選択される基を示す。但し、R5が水素原子であると
き、Yは単結合及び直鎖のC1−C10アルキレン基以外
の基を示す。]を有する化合物、その薬理上許容される
塩、そのエステル、又は、その他の誘導体。 <置換基群a>ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲ
ノ低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチ
オ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、
ヒドロキシ基、低級脂肪族アシル基、アミノ基、モノ−
低級アルキルアミノ基、ジ−低級アルキルアミノ基、低
級脂肪族アシルアミノ基、シアノ基及びニトロ基 <置換基群b>シクロアルキル基、アリ−ル基、複素環
基、置換基群aから選択される少なくとも1個の基で置
換されたシクロアルキル基、置換基群aから選択される
少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基、及び置換
基群aから選択される少なくとも1個の基で置換された
複素環基。
1. A compound of the general formula (I) [Wherein, R 1 and R 2 are the same or different and each represent a hydrogen atom or an amino-protecting group, R 3 represents a hydrogen atom or a hydroxy-protecting group, and R 4 represents a lower alkyl group. And n represents an integer of 1 to 6; X represents an ethylene group, a vinylene group, an ethynylene group, a formula -D
A group having —CH 2 — (wherein D represents a carbonyl group, a group having the formula —CH (OH) —, an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom), an aryl group or a substituent group a. And Y represents a single bond, a C 1 -C 10 alkylene group, or a group substituted with at least one group selected from substituent groups a and b. C
1 -C 10 alkylene group, C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom or a sulfur atom in the carbon chain or the chain ends,
Or substituted with at least one group selected from substituent group a and b, shows a C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom or a sulfur atom in the carbon chain or the chain ends, R 5 is hydrogen At least one selected from an atom, a cycloalkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, and substituent groups a and b
Cycloalkyl groups substituted with at least one group, aryl groups substituted with at least one group selected from substituent groups a and b, or at least one group selected from substituent groups a and b A heterocyclic group substituted with R 6 and R 6
7 is the same or different and represents a hydrogen atom or a group selected from substituent group a. Provided that when R 5 is a hydrogen atom, Y represents a group other than C 1 -C 10 alkylene group a single bond and linear. ], A pharmacologically acceptable salt thereof, an ester thereof, or another derivative thereof. <Substituent group a> halogen atom, lower alkyl group, halogeno lower alkyl group, lower alkoxy group, lower alkylthio group, carboxyl group, lower alkoxycarbonyl group,
Hydroxy group, lower aliphatic acyl group, amino group, mono-
Lower alkylamino group, di-lower alkylamino group, lower aliphatic acylamino group, cyano group and nitro group <Substituent group b> selected from cycloalkyl group, aryl group, heterocyclic group and substituent group a A cycloalkyl group substituted with at least one group, an aryl group substituted with at least one group selected from substituent group a, and at least one group selected from substituent group a A substituted heterocyclic group.
【請求項2】請求項1において、式(Ia) 【化2】 を有する化合物、その薬理上許容される塩、そのエステ
ル又はその他の誘導体。
2. The method according to claim 1, wherein the compound of formula (Ia) Or a pharmacologically acceptable salt thereof, an ester or other derivative thereof.
【請求項3】請求項1において、式(Ib) 【化3】 を有する化合物、その薬理上許容される塩、そのエステ
ル又はその他の誘導体。
3. The method of claim 1, wherein the compound of formula (Ib) Or a pharmacologically acceptable salt thereof, an ester or other derivative thereof.
【請求項4】請求項1乃至3から選択されるいずれか1
項において、 R1及びR2が、同一又は異なって、水素原子、低級アル
コキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又
は置換基群aから選択される基で1乃至3個置換された
アラルキルオキシカルボニル基である化合物又はその薬
理上許容される塩。
4. One of the first to third aspects
In the above item, R 1 and R 2 are the same or different and each are a hydrogen atom, a lower alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group or an aralkyloxycarbonyl group substituted by 1 to 3 groups selected from a substituent group a. A compound or a pharmacologically acceptable salt thereof.
【請求項5】請求項1乃至3から選択されるいずれか1
項において、 R1及びR2が、水素原子である化合物又はその薬理上許
容される塩。
5. One of the first to third aspects
In the above item, the compound or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein R 1 and R 2 are a hydrogen atom.
【請求項6】請求項1乃至5から選択されるいずれか1
項において、 R3が、水素原子、低級脂肪族アシル基、芳香族アシル
基又は置換基群aから選択される基で1乃至3個置換さ
れた芳香族アシル基である化合物又はその薬理上許容さ
れる塩。
6. One of the first to fifth aspects
In the above item, R 3 is a hydrogen atom, a lower aliphatic acyl group, an aromatic acyl group or an aromatic acyl group substituted by 1 to 3 groups selected from substituent group a, or a pharmaceutically acceptable compound thereof. Salt.
【請求項7】請求項1乃至5から選択されるいずれか1
項において、 R3が、水素原子である化合物又はその薬理上許容され
る塩。
7. One of the first to fifth aspects selected from the above.
In the above item, the compound wherein R 3 is a hydrogen atom, or a pharmacologically acceptable salt thereof.
【請求項8】請求項1乃至7から選択されるいずれか1
項において、 R4が、C1−C4アルキル基である化合物又はその薬理
上許容される塩。
8. One of the first to seventh aspects selected from the above.
In the above item, the compound or a pharmacologically acceptable salt thereof, wherein R 4 is a C 1 -C 4 alkyl group.
【請求項9】請求項1乃至7から選択されるいずれか1
項において、 R4が、C1−C2アルキル基である化合物又はその薬理
上許容される塩。
9. Any one selected from claims 1 to 7
In the above item, the compound or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein R 4 is a C 1 -C 2 alkyl group.
【請求項10】請求項1乃至7から選択されるいずれか
1項において、 R4が、メチル基である化合物又はその薬理上許容され
る塩。
10. The compound according to any one of claims 1 to 7, wherein R 4 is a methyl group, or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
【請求項11】請求項1乃至10から選択されるいずれ
か1項において、 nが、2又は3である化合物又はその薬理上許容される
塩。
11. The compound according to any one of claims 1 to 10, wherein n is 2 or 3, or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
【請求項12】請求項1乃至10から選択されるいずれ
か1項において、 nが、2である化合物又はその薬理上許容される塩。
12. The compound according to claim 1, wherein n is 2, or a pharmacologically acceptable salt thereof.
【請求項13】請求項1乃至12から選択されるいずれ
か1項において、 Xが、エチレン基である化合物又はその薬理上許容され
る塩。
13. The compound according to any one of claims 1 to 12, wherein X is an ethylene group, or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
【請求項14】請求項1乃至12から選択されるいずれ
か1項において、 Xが、エチニレン基である化合物又はその薬理上許容さ
れる塩。
14. The compound according to any one of claims 1 to 12, wherein X is an ethynylene group, or a pharmacologically acceptable salt thereof.
【請求項15】請求項1乃至12から選択されるいずれ
か1項において、 Xが、アリール基又は置換基群aから選択される少なく
とも1個の基で置換されたアリ−ル基である化合物又は
その薬理上許容される塩。
15. The compound according to any one of claims 1 to 12, wherein X is an aryl group or an aryl group substituted with at least one group selected from substituent group a. Or a pharmacologically acceptable salt thereof.
【請求項16】請求項1乃至15から選択されるいずれ
か1項において、 Yが、C1−C10アルキレン基又は置換基群a及びbか
ら選択される少なくとも1個の基で置換されたC1−C
10アルキレン基である化合物又はその薬理上許容される
塩。
16. The method according to claim 1, wherein Y is substituted with a C 1 -C 10 alkylene group or at least one group selected from substituent groups a and b. C 1 -C
A compound having 10 alkylene groups or a pharmacologically acceptable salt thereof.
【請求項17】請求項1乃至15から選択されるいずれ
か1項において、 Yが、C1−C6アルキレン基又は置換基群a及びbから
選択される少なくとも1個の基で置換されたC1−C6
ルキレン基である化合物又はその薬理上許容される塩。
17. The method according to claim 1, wherein Y is substituted with a C 1 -C 6 alkylene group or at least one group selected from substituent groups a and b. A compound which is a C 1 -C 6 alkylene group or a pharmacologically acceptable salt thereof.
【請求項18】請求項1乃至15から選択されるいずれ
か1項において、 Yが、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン
基、又は、置換基群a及びbから選択される少なくとも
1個の基で置換された、エチレン、トリメチレン、テト
ラメチレン若しくはペンタメチレン基である化合物又は
その薬理上許容される塩。
18. The method according to claim 1, wherein Y is an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, or at least one group selected from substituent groups a and b. Or a pharmacologically acceptable salt thereof, which is an ethylene, trimethylene, tetramethylene or pentamethylene group substituted with
【請求項19】請求項1乃至15から選択されるいずれ
か1項において、 Yが、エチレン基、トリメチレン基若しくはテトラメチ
レン基である化合物又はその薬理上許容される塩。
19. The compound according to any one of claims 1 to 15, wherein Y is an ethylene group, a trimethylene group or a tetramethylene group, or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
【請求項20】請求項1乃至15から選択されるいずれ
か1項において、 Yが、エチレン基若しくはトリメチレン基である化合物
又はその薬理上許容される塩。
20. The compound according to claim 1, wherein Y is an ethylene group or a trimethylene group, or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
【請求項21】請求項1乃至15から選択されるいずれ
か1項において、 Yが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原
子を有するC1−C10アルキレン基、又は置換基群a及
びbから選択される少なくとも1個の基で置換された、
炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原子を有
するC1−C10アルキレン基である化合物又はその薬理
上許容される塩。
21. The method according to claim 1, wherein Y is a C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom or a sulfur atom in a carbon chain or at a chain end, or a substituent group a And substituted with at least one group selected from b.
A compound which is a C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom or a sulfur atom in a carbon chain or at a chain end, or a pharmacologically acceptable salt thereof.
【請求項22】請求項1乃至15から選択されるいずれ
か1項において、 Yが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子若しくは硫黄原
子を有するC1−C10アルキレン基である化合物又はそ
の薬理上許容される塩。
22. The compound according to any one of claims 1 to 15, wherein Y is a C 1 -C 10 alkylene group having an oxygen atom or a sulfur atom in a carbon chain or at a chain end, or a pharmacological compound thereof. Above acceptable salts.
【請求項23】請求項1乃至15から選択されるいずれ
か1項において、 Yが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子を有するC1
10アルキレン基である化合物又はその薬理上許容され
る塩。
23. The method according to any one of claims 1 to 15, wherein Y is C 1- having an oxygen atom in a carbon chain or at a chain end.
A compound which is a C 10 alkylene group or a pharmacologically acceptable salt thereof.
【請求項24】請求項1乃至15から選択されるいずれ
か1項において、 Yが、炭素鎖中若しくは鎖端に酸素原子を有するC1
6アルキレン基である化合物又はその薬理上許容され
る塩。
24. The method according to claim 1, wherein Y is C 1 -C having an oxygen atom in a carbon chain or at a chain end.
A compound which is a C 6 alkylene group or a pharmacologically acceptable salt thereof.
【請求項25】請求項1乃至15から選択されるいずれ
か1項において、 Yが、−O−CH2−、−O−(CH22−、−O−
(CH23−、−CH2−O−、−(CH22−O−、
−(CH23−O−又は−CH2−O−CH2−を有する
基である化合物又は、その薬理上許容される塩。
25. The method according to any one of claims 1 to 15, wherein Y is —O—CH 2 —, —O— (CH 2 ) 2 —, —O—
(CH 2 ) 3 —, —CH 2 —O—, — (CH 2 ) 2 —O—,
A compound which is a group having — (CH 2 ) 3 —O— or —CH 2 —O—CH 2 —, or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
【請求項26】請求項1乃至15から選択されるいずれ
か1項において、 Yが、−CH2−O−、−(CH22−O−又は−CH2
−O−CH2−を有する基である化合物又はその薬理上
許容される塩。
26. The method according to claim 1, wherein Y is —CH 2 —O—, — (CH 2 ) 2 —O— or —CH 2
A compound which is a group having —O—CH 2 — or a pharmacologically acceptable salt thereof.
【請求項27】請求項1乃至26から選択されるいずれ
か1項において、 R5が、シクロアルキル基、アリ−ル基、複素環基、置
換基群a及びbから選択される少なくとも1個の基で置
換されたシクロアルキル基又は置換基群a及びbから選
択される少なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基で
ある化合物又はその薬理上許容される塩。
27. The method according to claim 1, wherein R 5 is at least one selected from a cycloalkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, and substituent groups a and b. Or a pharmacologically acceptable salt thereof, which is a cycloalkyl group substituted with a group or an aryl group substituted with at least one group selected from substituent groups a and b.
【請求項28】請求項1乃至26から選択されるいずれ
か1項において、 R5が、シクロアルキル基、アリ−ル基、置換基群a及
びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたシ
クロアルキル基又は置換基群a及びbから選択される少
なくとも1個の基で置換されたアリ−ル基である化合物
又はその薬理上許容される塩。
28. The method according to claim 1, wherein R 5 is substituted with at least one group selected from a cycloalkyl group, an aryl group, and substituent groups a and b. Or a pharmacologically acceptable salt thereof, which is a cycloalkyl group or an aryl group substituted with at least one group selected from substituent groups a and b.
【請求項29】請求項1乃至26から選択されるいずれ
か1項において、 R5が、シクロアルキル基、アリ−ル基、置換基群a及
びbから選択される少なくとも1個の基で置換されたア
リ−ル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
29. The method according to claim 1, wherein R 5 is substituted by at least one group selected from the group consisting of a cycloalkyl group, an aryl group and substituent groups a and b. Or a pharmacologically acceptable salt thereof.
【請求項30】請求項1乃至26から選択されるいずれ
か1項において、 R5が、シクロアルキル基、アリ−ル基又は1乃至3個
置換されたアリ−ル基(該置換基は、ハロゲン原子、低
級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキ
シ基及び低級アルキルチオ基から成る群から選択される
基である。)である化合物又はその薬理上許容される
塩。
30. The method according to any one of claims 1 to 26, wherein R 5 is a cycloalkyl group, an aryl group, or an aryl group having 1 to 3 substituents, wherein the substituent is A halogen atom, a lower alkyl group, a halogeno lower alkyl group, a lower alkoxy group and a lower alkylthio group) or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
【請求項31】請求項1乃至26から選択されるいずれ
か1項において、 R5が、シクロアルキル基、アリ−ル基又は1乃至3個
置換されたアリ−ル基(該置換基は、ハロゲン原子、低
級アルキル基又は低級アルコキシ基である。)である化
合物、又はその薬理上許容される塩。
31. The method according to any one of claims 1 to 26, wherein R 5 is a cycloalkyl group, an aryl group, or an aryl group having 1 to 3 substituents, wherein the substituent is A halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group), or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
【請求項32】請求項1乃至26から選択されるいずれ
か1項において、 R5が、シクロヘキシル基、フェニル基又はp−トリル
基である化合物又はその薬理上許容される塩。
32. The compound according to any one of claims 1 to 26, wherein R 5 is a cyclohexyl group, a phenyl group or a p-tolyl group, or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
【請求項33】請求項1乃至32から選択されるいずれ
か1項において、 R6及びR7が、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン
原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級
アルコキシ基又は低級アルキルチオ基である化合物又は
その薬理上許容される塩。
33. The method according to any one of claims 1 to 32, wherein R 6 and R 7 are the same or different and each is a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, a halogeno lower alkyl group, a lower alkoxy group. Or a compound having a lower alkylthio group or a pharmacologically acceptable salt thereof.
【請求項34】請求項1乃至32から選択されるいずれ
か1項において、 R6及びR7が、水素原子である化合物又はその薬理上許
容される塩。
34. The compound according to any one of claims 1 to 32, wherein R 6 and R 7 are a hydrogen atom, or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
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