JP2002304953A - Color cathode-ray tube and method for manufacturing the same - Google Patents

Color cathode-ray tube and method for manufacturing the same

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JP2002304953A
JP2002304953A JP2001107196A JP2001107196A JP2002304953A JP 2002304953 A JP2002304953 A JP 2002304953A JP 2001107196 A JP2001107196 A JP 2001107196A JP 2001107196 A JP2001107196 A JP 2001107196A JP 2002304953 A JP2002304953 A JP 2002304953A
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JP
Japan
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mask
auxiliary
electron beam
shadow
color cathode
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JP2001107196A
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Japanese (ja)
Inventor
Takuya Mashita
拓也 真下
Toru Takahashi
亨 高橋
Masachika Inoue
雅及 井上
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color cathode-ray tube equipped with a shadow mask having sufficient strength, and a method for manufacturing it. SOLUTION: A shadow mask 7 is structured by superimposing an auxiliary mask 20 on a mask body 14. The mask body faces the almost whole face of a phosphor screen and has a mask 40 having an almost rectangular effective area where many electron beam passing holes are formed, and a skirt part 17 extending from the peripheral rim of the main face of the mask. The auxiliary mask is fixed by superimposing it on the vicinity area of the short axis Y of the effective area of the mask body, and is formed in a band shape formed with this short axis as a longitudinal direction. It also has many electron beam passing holes corresponding to the many electron beam passing holes of the mask body. The auxiliary mask has a grip part exposed without being superimposed on the mask body and graspable from the outside.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、シャドウマスクを
備えたカラー陰極線管、およびその製造方法に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a color cathode ray tube having a shadow mask and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、カラー陰極線管は、内面に蛍光
体スクリーンが形成されたパネルを有する外囲器と、こ
の外囲器内で蛍光体スクリーンに対向して設けられたほ
ぼ矩形状のシャドウマスクと、を備えている。シャドウ
マスクの蛍光体スクリーンと対向する有効面には、電子
ビーム通過孔として多数の開孔が所定の配列で形成され
ている。そして、シャドウマスクは、各開孔により電子
銃から放出された3電子ビームを選別し、蛍光体スクリ
ーンを構成する3色蛍光体層に入射させる機能を備えて
いる。
2. Description of the Related Art Generally, a color cathode ray tube comprises an envelope having a panel having a phosphor screen formed on an inner surface thereof, and a substantially rectangular shadow provided in the envelope so as to face the phosphor screen. And a mask. On the effective surface of the shadow mask facing the phosphor screen, a large number of openings are formed in a predetermined arrangement as electron beam passage holes. The shadow mask has a function of selecting three electron beams emitted from the electron gun through the respective apertures and causing the three electron beams to be incident on the three-color phosphor layer constituting the phosphor screen.

【0003】近年、外光反射が少なく且つ画像歪を軽減
して視認性を高めるため、カラー陰極線管のパネル外面
の曲率半径を10、000mm以上と実質的に平坦とし
たフラット管が主流となりつつある。通常、蛍光体スク
リーンと対向するシャドウマスクの有効面は、パネルの
内面形状に対応した形状に形成されている。そのため、
フラット管のシャドウマスクは、従来のカラー陰極線管
に対して曲率が小さくなり、ほぼ平坦化している。
In recent years, flat tubes having a substantially flat radius of curvature of 10,000 mm or more on the outer surface of the panel of a color cathode ray tube have become mainstream in order to improve visibility by reducing external light reflection and reducing image distortion. is there. Usually, the effective surface of the shadow mask facing the phosphor screen is formed in a shape corresponding to the inner shape of the panel. for that reason,
The flat tube shadow mask has a smaller curvature than the conventional color cathode ray tube and is almost flattened.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな曲率の小さなシャドウマスクを用いた場合、以下の
問題が生じる。通常、シャドウマスクは板厚が0.2m
m程度のインバー材によって形成されている。このよう
な薄板で形成された大画面用のシャドウマスクは、有効
面の曲率が小さい場合、自重または外力によって変形
し、マスク曲面を維持することが難しい。すなわち、有
効面の曲率を小さくすると、マスク曲面の保持力(以
下、マスク曲面強度)が低下する。特に、マスク曲面強
度の低下は有効面中心すなわち画面センター近傍が最も
顕著となる。
However, when a shadow mask having such a small curvature is used, the following problems occur. Normally, the shadow mask has a thickness of 0.2 m
m. When the curvature of the effective surface is small, the shadow mask for a large screen formed of such a thin plate is deformed by its own weight or an external force, and it is difficult to maintain the mask curved surface. That is, when the curvature of the effective surface is reduced, the holding force of the mask curved surface (hereinafter, mask curved surface strength) decreases. In particular, the decrease in the mask curved surface strength is most remarkable at the center of the effective surface, that is, near the center of the screen.

【0005】そして、マスク曲面強度が低い場合、製造
中、あるいは輸送中の微小な外力によってシャドウマス
クの有効面が変形してしまう。この場合、シャドウマス
クの電子ビーム通過孔とパネル内面との距離関係が変動
し、電子銃から放出された電子ビームが所定の蛍光体層
にランディングせず、色ずれの原因となる。
If the strength of the curved surface of the mask is low, the effective surface of the shadow mask is deformed by a small external force during manufacturing or transportation. In this case, the distance relationship between the electron beam passage hole of the shadow mask and the inner surface of the panel fluctuates, and the electron beam emitted from the electron gun does not land on a predetermined phosphor layer, causing a color shift.

【0006】また、マスク曲面強度の低下は、シャドウ
マスクが変形まで到達しないまでも、テレビジョンセッ
トに組みこんだ際、音声などの振動により、マスク有効
面が共振し易くなり、画面上に不要な明暗を映し出して
しまう。
[0006] In addition, the mask curved surface strength is reduced because the effective surface of the mask is easily resonated by vibrations such as sound when incorporated into a television set, even if the shadow mask does not reach the deformation, and is not required on the screen. The light and dark.

【0007】このようなマスク曲面強度の低下を防止す
る最も簡単な方法は、シャドウマスクの板厚を厚くする
ことである。しかしながら、シャドウマスク板厚が増加
すると、シャドウマスク製造時のエッチング制御が困難
となり、電子ビーム通過孔の孔径のバラツキが大きくな
る。その結果、シャドウマスク製造時およびカラー陰極
線管製造時の歩留まり低下や、画面品位劣化を生じる要
因となってしまう。
The simplest method for preventing such a decrease in the mask curved surface strength is to increase the thickness of the shadow mask. However, when the thickness of the shadow mask increases, it becomes difficult to control the etching at the time of manufacturing the shadow mask, and the variation in the diameter of the electron beam passage hole increases. As a result, the production yield of the shadow mask and the production of the color cathode ray tube are reduced, and the screen quality is deteriorated.

【0008】この発明は以上の点に鑑みなされたもの
で、その目的は、十分なマスク曲面強度を有するシャド
ウマスクを備えたカラー陰極線管およびその製造方法を
提供することにある。
An object of the present invention is to provide a color cathode-ray tube provided with a shadow mask having a sufficient mask curved surface strength and a method of manufacturing the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明に係るカラー陰極線管は、内面に蛍光体ス
クリーンが設けられたパネルと、上記蛍光体スクリーン
に向かって電子ビームを放出する電子銃と、上記パネル
の内側に上記蛍光体スクリーンに対向して配置され、多
数の電子ビーム通過孔が形成されたシャドウマスクと、
上記シャドウマスクの周辺が固定されたマスクフレーム
と、を備え、上記シャドウマスクは、上記蛍光体スクリ
ーンのほぼ全面と対向しているとともに多数の電子ビー
ム通過孔が形成されたほぼ矩形状の有効部を有したマス
ク主面、およびこのマスク主面の周縁から延出したスカ
ート部を備えたマスク本体と、上記マスク本体の有効部
の短軸近傍領域に重ねて固定され、上記マスク本体の電
子ビーム通過孔に対応した多数の電子ビーム通過孔を有
しているとともに上記短軸を長手方向とした帯状の補助
マスクと、を具備し、上記補助マスクは、上記マスク本
体と重なることなく露出し外部から把持可能な把持部を
有していることを特徴としている。
In order to achieve the above object, a color cathode ray tube according to the present invention comprises a panel having a phosphor screen provided on an inner surface thereof, and an electron beam for emitting an electron beam toward the phosphor screen. A gun, a shadow mask which is arranged inside the panel so as to face the phosphor screen and has a large number of electron beam passage holes formed therein,
A mask frame in which the periphery of the shadow mask is fixed, wherein the shadow mask faces substantially the entire surface of the phosphor screen and has a substantially rectangular effective portion in which a large number of electron beam passage holes are formed. A mask main surface having a mask main surface, and a skirt portion extending from the periphery of the mask main surface; and an electron beam of the mask main body, which is fixed by being superimposed on a region near a short axis of an effective portion of the mask main body. A band-shaped auxiliary mask having a plurality of electron beam passage holes corresponding to the passage holes and having the short axis as a longitudinal direction, wherein the auxiliary mask is exposed without overlapping with the mask body and is externally exposed. It is characterized by having a gripper that can be gripped from above.

【0010】上記構成のカラー陰極線管によれば、マス
ク本体に補助マスクを重ねて固定することで、シャドウ
マスクの曲面強度を向上させることができ、その結果、
最も変形量が多いマスク中央部近傍での変形量を抑制す
ることができる。また、補助マスクは把持部を備えてい
ることから、シャドウマスクの製造時、把持部を把持し
て位置調整することができ、高精度な組立てが可能とな
る。
According to the color cathode ray tube having the above structure, the curved surface strength of the shadow mask can be improved by overlapping and fixing the auxiliary mask on the mask main body.
The amount of deformation near the center of the mask, which has the largest amount of deformation, can be suppressed. Further, since the auxiliary mask is provided with the gripping portion, the position can be adjusted by gripping the gripping portion at the time of manufacturing the shadow mask, and high-precision assembly becomes possible.

【0011】この発明に係るカラー陰極線管の製造方法
は、内面に蛍光体スクリーンが設けられたパネルと、上
記蛍光体スクリーンに向かって電子ビームを放出する電
子銃と、上記パネルの内側に上記蛍光体スクリーンに対
向して配置され、多数の電子ビーム通過孔が形成された
シャドウマスクと、上記シャドウマスクの周辺が固定さ
れたマスクフレームと、を備え、上記シャドウマスク
は、上記蛍光体スクリーンのほぼ全面と対向していると
ともに多数の電子ビーム通過孔が形成されたほぼ矩形状
の有効部を有したマスク主面、およびこのマスク主面の
周縁から延出したスカート部を備えたマスク本体と、上
記マスク本体の有効部の短軸近傍領域に重ねて固定さ
れ、上記マスク本体の電子ビーム通過孔に対応した多数
の電子ビーム通過孔を有しているとともに上記短軸を長
手方向とした帯状の補助マスクと、を具備し、上記補助
マスクは、上記マスク本体と重なることなく露出し外部
から把持可能な把持部を有しているカラー陰極線管の製
造方法において、多数の電子ビーム通過孔が形成された
有効部を有した平坦なマスク本体用の第1マスク基材
と、多数の電子ビーム通過孔が形成されているとともに
上記把持部を有した平坦な補助マスク用の第2マスク基
材と、を用意し、上記第2マスク基材を上記第1マスク
基材の短軸近傍領域と重ね合わせ配置し、上記重ね合わ
された第1マスク基材および上記第2マスク基材の把持
部をそれぞれ保持して、第1および第2マスク基材を相
対的に変位可能に支持し、上記第1および第2マスク基
材のいずれか一方を微小変位させることにより上記第1
および第2マスク基材を互いに位置決めし、上記位置決
めされた上記第1および第2マスク基材を互いに固定し
た後、これら第1および第2マスク基材を所定形状にプ
レス成形して上記マスク本体および補助マスクを有した
シャドウマスクを形成することを特徴としている。
[0011] A method of manufacturing a color cathode ray tube according to the present invention includes a panel having a phosphor screen provided on an inner surface thereof, an electron gun for emitting an electron beam toward the phosphor screen, and a fluorescent lamp provided inside the panel. A shadow mask disposed opposite the body screen and having a large number of electron beam passage holes formed therein, and a mask frame in which the periphery of the shadow mask is fixed, wherein the shadow mask is substantially the same as the phosphor screen. A mask main surface having a substantially rectangular effective portion opposed to the entire surface and having a large number of electron beam passage holes formed thereon, and a mask body having a skirt portion extending from the periphery of the mask main surface, A large number of electron beam passage holes corresponding to the electron beam passage holes of the mask body are fixed by being overlapped on the short axis vicinity region of the effective portion of the mask body. And a band-shaped auxiliary mask having the short axis as the longitudinal direction, and the auxiliary mask has a grip portion that is exposed without overlapping with the mask body and can be gripped from the outside. In the method for manufacturing a tube, a first mask base for a flat mask body having an effective portion in which a large number of electron beam passage holes are formed, and a large number of electron beam passage holes are formed and the grip portion is formed. And a second mask base material for a flat auxiliary mask having the first mask base material, and the second mask base material is arranged so as to overlap with a region near the short axis of the first mask base material. The first and second mask bases are supported so as to be relatively displaceable by holding the base and the gripping portions of the second mask base, respectively, and either one of the first and second mask bases is held. To make a small displacement Ri said first
After positioning the first and second mask base materials with each other and fixing the positioned first and second mask base materials together, the first and second mask base materials are press-formed into a predetermined shape to form the mask body. And forming a shadow mask having an auxiliary mask.

【0012】上記構成の製造方法によれば、プレス成形
前の平坦なマスク基材の状態で補助マスクをマスク本体
に固定する際、マスク本体および補助マスクのいずれか
一方を微小移動して位置合わせをすることが可能とな
り、位置合わせを容易かつ確実に行うことができる。ま
た、その際、補助マスク用の第2マスク基材の把持部を
把持し、微小移動させて位置合わせを行うことで精度向
上を図ることができる。
According to the manufacturing method having the above structure, when the auxiliary mask is fixed to the mask main body in a state of the flat mask base material before press molding, one of the mask main body and the auxiliary mask is finely moved to perform the positioning. Can be performed, and positioning can be performed easily and reliably. In this case, the gripping portion of the second mask base material for the auxiliary mask is gripped and finely moved to perform alignment, thereby improving accuracy.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
実施の形態に係るカラー陰極線管について詳細に説明す
る。図1および図2に示すように、カラー陰極線管はガ
ラスで形成された外囲器を備え、この外囲器は、水平方
向を長軸Xとする矩形状のパネル1と、パネル1のスカ
ート部2に接合されたファンネル3と、ファンネル3の
小径部から伸びたネック4とを有している。パネル1の
内面には蛍光体スクリーン5が形成されている。そし
て、外囲器は、パネル1の中心およびネック4の中心を
通る管軸Z、管軸と直交して延びた長軸X、並びに、管
軸および長軸と直交して延びた短軸(垂直軸)Yを有し
ている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A color cathode ray tube according to an embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. As shown in FIGS. 1 and 2, the color cathode ray tube includes an envelope formed of glass, the envelope includes a rectangular panel 1 having a long axis X in the horizontal direction, and a skirt of the panel 1. It has a funnel 3 joined to the portion 2 and a neck 4 extending from a small diameter portion of the funnel 3. A phosphor screen 5 is formed on the inner surface of the panel 1. The envelope has a tube axis Z passing through the center of the panel 1 and the center of the neck 4, a major axis X extending perpendicular to the tube axis, and a minor axis extending perpendicular to the tube axis and the major axis ( (Vertical axis) Y.

【0014】画面アスペクト比が16対9、画面有効径
76cmに形成された32インチのワイドタイプのカラ
ー陰極線管を一例とした場合、パネル1の外面は、曲率
半径が10、000mmであり実質的に平坦となってい
る。また、パネル1内面は、X軸上でX軸に沿った曲率
半径が約7、000mm、Y軸上でY軸に沿った曲率半
径が約1、500mmであり、ほぼ円筒状に形成されて
いる。
When a 32-inch wide type color cathode ray tube having a screen aspect ratio of 16: 9 and a screen effective diameter of 76 cm is taken as an example, the outer surface of the panel 1 has a radius of curvature of 10,000 mm and is substantially It is flat. The inner surface of the panel 1 has a radius of curvature along the X axis on the X axis of about 7,000 mm, a radius of curvature on the Y axis along the Y axis of about 1,500 mm, and is formed in a substantially cylindrical shape. I have.

【0015】外囲器内には、色選別電極であるシャドウ
マスク構体6が蛍光体スクリーン5に対向して配置され
ている。このシャドウマスク構体6は、電子ビーム通過
孔となる開孔が多数形成されたシャドウマスク7と、シ
ャドウマスク7の周辺部が固定された断面L字形の矩形
枠状のマスクフレーム8と、を有している。このシャド
ウマスク構体6は、マスクフレーム8の側壁に設けられ
た弾性支持体(図示せず)をパネルのスカート部2に埋
設されたスタッドピン(図示せず)に係止することで、
パネル1の内側に支持されている。なお、シャドウマス
ク7に形成された電子ビーム通過孔の開孔形状は、用途
に応じて矩形状または円形状に形成される。
In the envelope, a shadow mask structure 6 serving as a color selection electrode is disposed so as to face the phosphor screen 5. The shadow mask structure 6 includes a shadow mask 7 in which a large number of apertures serving as electron beam passage holes are formed, and a mask frame 8 having a rectangular frame shape having an L-shaped cross section to which the periphery of the shadow mask 7 is fixed. are doing. The shadow mask structure 6 is configured such that an elastic support (not shown) provided on the side wall of the mask frame 8 is engaged with a stud pin (not shown) embedded in the skirt portion 2 of the panel.
It is supported inside the panel 1. The opening shape of the electron beam passage hole formed in the shadow mask 7 is formed in a rectangular shape or a circular shape depending on the use.

【0016】ネック4内には長軸X上にインライン配列
された3本の電子ビーム9R、9G、9Bを放出する電
子銃10が配置されている。そして、上記カラー陰極線
管では、電子銃10から放出された電子ビーム9R、9
G、9Bをファンネル3の外側に取り付けられた偏向ヨ
ーク11により偏向し、シャドウマスク構体6を介し
て、蛍光体スクリーン5を水平、垂直走査することで画
像を表示する。
An electron gun 10 for emitting three electron beams 9R, 9G and 9B arranged in-line on the major axis X is arranged in the neck 4. In the above color cathode ray tube, the electron beams 9R, 9E emitted from the electron gun 10 are used.
G and 9B are deflected by a deflection yoke 11 attached to the outside of the funnel 3, and an image is displayed by scanning the phosphor screen 5 horizontally and vertically via the shadow mask structure 6.

【0017】次に、シャドウマスク7の構成について詳
細に説明する。図3ないし図5に示すように、シャドウ
マスク7は、マスク本体14と、このマスク本体の一部
に重複して取付けられた補助マスク20と、を備え、部
分的に2重構造に構成されている。
Next, the configuration of the shadow mask 7 will be described in detail. As shown in FIGS. 3 to 5, the shadow mask 7 includes a mask main body 14 and an auxiliary mask 20 that is attached to a part of the mask main body so as to be partially overlapped. ing.

【0018】マスク本体14は、パネル1の内面と対向
して配置されるとともに所定の曲面形状に形成されたほ
ぼ矩形状のマスク主面40と、マスク主面の周縁から管
軸Z方向に沿って電子銃側に延出したスカート部17
と、を一体に備えている。マスク主面40は、電子ビー
ム通過孔として機能する多数の開孔12が形成された矩
形状の有効部13と、有効部を囲むように位置している
とともに開孔を持たないほぼ矩形枠状の無孔部16と、
を有している。
The mask main body 14 is arranged to face the inner surface of the panel 1 and has a substantially rectangular mask main surface 40 formed in a predetermined curved surface shape, and extends along the tube axis Z direction from the periphery of the mask main surface. Skirt portion 17 extending to the electron gun side
And are integrally provided. The mask main surface 40 has a rectangular effective portion 13 in which a large number of openings 12 functioning as electron beam passage holes are formed, and a substantially rectangular frame shape which is located so as to surround the effective portion and has no openings. A non-porous portion 16 of
have.

【0019】マスク本体14の各開孔12は、有効部1
3の長軸X方向を幅方向とするほぼ矩形状に形成されて
いる。そして、複数個の開孔12が有効部13の短軸Y
方向にブリッジ18を介して直線状に配置されてなる開
孔列が、長軸X方向に所定の配列ピッチPHで多数列設
けられている。
Each opening 12 of the mask body 14 is
3 is formed in a substantially rectangular shape with the width direction being the major axis X direction. The plurality of apertures 12 form the short axis Y of the effective portion 13.
A large number of aperture rows arranged linearly in the direction via the bridge 18 are provided at a predetermined arrangement pitch PH in the major axis X direction.

【0020】図6に示すように、各開孔12の断面形状
は、有効部13の蛍光体スクリーン5側の表面に開口し
たほぼ矩形状の大孔19aと、有効部の電子銃10側の
表面に開口したほぼ矩形状の小孔19bと、を連通した
連通孔によって構成されている。また、開孔12は、有
効部13の周辺にいくにしたがって、大孔19aの中心
位置C1が小孔19bの中心位置C2に対して相対的に
有効部周辺側にΔだけオフセットして形成され、いわゆ
るオフセンマスクを構成している。これは電子ビームが
小孔19bを通過した後に、マスク本体14の板厚内の
側面で衝突して反射し、画面上に不要発光を生じるのを
抑制するためであり、大孔は短軸Y方向、長軸X方向と
もにオフセットさせている。
As shown in FIG. 6, the cross-sectional shape of each aperture 12 has a substantially rectangular large hole 19a opened on the surface of the effective portion 13 on the side of the phosphor screen 5, and the effective portion 13 on the electron gun 10 side. It is constituted by a communication hole which communicates with a substantially rectangular small hole 19b opened on the surface. Further, the opening 12 is formed such that the center position C1 of the large hole 19a is offset by Δ toward the periphery of the effective portion relative to the center position C2 of the small hole 19b as going toward the periphery of the effective portion 13. A so-called Offsen mask. This is for suppressing the electron beam from passing through the small hole 19b and colliding and reflecting on the side surface within the thickness of the mask body 14 to generate unnecessary light emission on the screen. Direction and the major axis X direction are offset.

【0021】マスク本体14としては、鉄材または低膨
張材として知られるインバー材(Fe−36%Ni合
金)などの金属材料で、板厚0.1〜0.25mm程度
ものを使用できる。
As the mask body 14, a metal material such as an invar material (Fe-36% Ni alloy) known as an iron material or a low expansion material, having a thickness of about 0.1 to 0.25 mm can be used.

【0022】一方、図3ないし図6に示すように、補助
マスク20は細長い帯状に形成され、マスク本体14の
電子銃10側の表面上で、有効部13の全域ではなく短
軸Y近傍の領域に重ねて固定されている。そして、補助
マスク20は、その長軸方向が、マスク本体14の短軸
Yと一致して設けられている。
On the other hand, as shown in FIGS. 3 to 6, the auxiliary mask 20 is formed in an elongated band shape, and on the surface of the mask body 14 on the side of the electron gun 10, not in the entire area of the effective portion 13 but in the vicinity of the short axis Y. Fixed over the area. The major axis direction of the auxiliary mask 20 is provided so as to coincide with the minor axis Y of the mask body 14.

【0023】補助マスク20は、長軸X方向に沿った幅
LH1がマスク本体14の有効部13の長軸方向長LH
2よりも小さく、また、後述するように、短軸Y方向に
沿った長さがマスク本体14の同方向長さよりも長く形
成されている。
The width LH1 of the auxiliary mask 20 along the major axis X direction is the length LH of the effective portion 13 of the mask body 14 in the major axis direction.
2, and the length along the short axis Y direction is longer than the length of the mask body 14 in the same direction as described later.

【0024】補助マスク20は、電子ビーム通過孔とし
て機能する多数の開孔42が設けられた有効部21と、
有効部21の外側で補助マスクの長手方向両端部に位置
した無孔部23と、更に、各無孔部23から両端方向へ
延出した一対のスカート部24と、を一体に備えてい
る。
The auxiliary mask 20 has an effective portion 21 provided with a large number of openings 42 functioning as electron beam passage holes,
A non-porous portion 23 located outside the effective portion 21 at both ends in the longitudinal direction of the auxiliary mask, and a pair of skirt portions 24 extending from each non-porous portion 23 in both ends are integrally provided.

【0025】そして、補助マスク20は、その有効部2
1、無孔部23、スカート部24がマスク本体14の有
効部13、無孔部16およびスカート部17とそれぞれ
重なった状態でマスク本体に固定されている。これによ
り、マスク本体14の短軸Y上の領域は全て2重構造と
なっている。
The auxiliary mask 20 has its effective portion 2
1, the non-porous portion 23 and the skirt portion 24 are fixed to the mask main body in a state of overlapping with the effective portion 13, the non-porous portion 16 and the skirt portion 17 of the mask main body 14, respectively. Thus, the region on the short axis Y of the mask body 14 has a double structure.

【0026】補助マスク20の短軸Y方向の長さはマス
ク本体の短軸Y方向に沿った長さよりも長く形成されて
いるため、重ねた状態において、補助マスク20の各ス
カート部24はマスク本体14のスカート部17の下端
を越えて延出し、マスク本体と重なることなく露出して
いる。そして、補助マスク20の両延出端部は、後述す
るように、位置決め作業時における把持部44として機
能する。
Since the length of the auxiliary mask 20 in the short axis Y direction is longer than the length of the mask body along the short axis Y direction, each skirt portion 24 of the auxiliary mask 20 is It extends beyond the lower end of the skirt 17 of the body 14 and is exposed without overlapping the mask body. The two extended ends of the auxiliary mask 20 function as gripping portions 44 during the positioning operation, as described later.

【0027】なお、図7に示すように、補助マスク20
において、有効部21の短軸Y方向長LV1bは、マス
ク本体14の有効部13の短軸Y方向長LV2よりも大
きく形成されている。
Note that, as shown in FIG.
, The length LV1b of the effective portion 21 in the short axis Y direction is formed larger than the length LV2 of the effective portion 13 of the mask body 14 in the short axis Y direction.

【0028】補助マスク20は、マスク本体14と同じ
くインバー材から構成され、板厚は0.25mm程度に
形成されている。また、補助マスク20の長軸X方向に
幅LH1と、マスク本体14の長軸X方向の長さLH3
との比は、約1対5程度に形成されている。従って、マ
スク本体14の長軸X方向の長さの5分の1程度の領域
に、補助マスク20が固定され2重構造となっている。
The auxiliary mask 20 is made of an invar material similarly to the mask main body 14, and has a thickness of about 0.25 mm. Further, a width LH1 in the major axis X direction of the auxiliary mask 20 and a length LH3 in the major axis X direction of the mask body 14 are provided.
Is formed to about 1: 5. Therefore, the auxiliary mask 20 is fixed to a region of about 1/5 of the length of the mask body 14 in the major axis X direction, and has a double structure.

【0029】補助マスク20の有効部21に形成された
開孔42の形状および配列間隔は、シャドウマスクとし
て機能する範囲で適宜設定可能であり、特に問題なけれ
ば、マスク本体14と同様に形成される。
The shape and the arrangement interval of the openings 42 formed in the effective portion 21 of the auxiliary mask 20 can be appropriately set within a range that functions as a shadow mask. You.

【0030】以上のように、マスク本体14に補助マス
ク20を重ねて固定し2重構造とすることにより、シャ
ドウマスク7の強度、特に、短軸Y付近の強度が向上
し、その結果、シャドウマスクのマスク曲面強度を上げ
ることができる。
As described above, the strength of the shadow mask 7, especially the strength in the vicinity of the short axis Y is improved by overlapping and fixing the auxiliary mask 20 to the mask body 14 to form a double structure. The mask curved surface strength of the mask can be increased.

【0031】上記構成のシャドウマスクにおいて、機械
的強度向上を目的とするのであれば、補助マスク20の
面積をマスク本体14の有効部全域を覆う程度まで拡大
すれば、さらに有利ではあるが、位置合わせの精度面で
問題となる。
In the shadow mask having the above structure, if the purpose is to improve the mechanical strength, it is more advantageous if the area of the auxiliary mask 20 is increased to cover the entire effective portion of the mask body 14, but it is more advantageous. This poses a problem in terms of alignment accuracy.

【0032】すなわち、補助マスク20をマスク本体1
4の有効部13に重ねる際、マスク本体14の開孔12
との位置が合っていないとシャドウマスク7として機能
しないことになる。補助マスク20の面積が大きくなる
と、その範囲内にある位置合わせすべき開孔12の数が
増大し、マスク開孔列の微妙な位置調整や、短軸方向の
孔位置ずれに対する精度の確保が困難になる。
That is, the auxiliary mask 20 is connected to the mask body 1
4 when overlapping with the effective portion 13 of the mask body 14
If they do not match, the shadow mask 7 will not function. As the area of the auxiliary mask 20 increases, the number of apertures 12 to be aligned within the range increases, and fine adjustment of the mask aperture row and assurance of accuracy with respect to the short axis direction hole positional deviation are required. It becomes difficult.

【0033】そこで、特願2000−392891で
は、さらに補助マスク20の幅とマスク強度に関しての
検討が行われた。図8は、32インチのカラー受像管を
用いた場合の補助マスク20の幅とマスク変形量の関係
を示したグラフである。ここで、横軸はマスク本体14
の長軸X方向長LH3に対する補助マスク20幅LH1
の割合を、縦軸は、補助マスク20の幅LH1をマスク
本体14の長軸方向長LH3まで拡大した場合のマスク
最大変位量を0とし、補助マスクが無い場合のマスク最
大変位量を1とした時のマスク最大変位量の比を示して
いる。
In view of this, Japanese Patent Application No. 2000-392991 further examined the width of the auxiliary mask 20 and the mask strength. FIG. 8 is a graph showing the relationship between the width of the auxiliary mask 20 and the amount of mask deformation when a 32-inch color picture tube is used. Here, the horizontal axis is the mask body 14
Mask width LH1 with respect to major axis X direction length LH3
On the vertical axis, the mask maximum displacement amount when the width LH1 of the auxiliary mask 20 is expanded to the length LH3 in the major axis direction of the mask body 14 is 0, and the mask maximum displacement amount when there is no auxiliary mask is 1. The figure shows the ratio of the maximum displacement of the mask when this is done.

【0034】図8から明らかなように、補助マスク20
の幅LH1を大きくするとマスクの最大変位量は減少し
ていく。しかしながら、補助マスク20の幅LH1がマ
スク本体14の長軸方向長LH3の1/3程度になる
と、最大変位量の変化はなだらかになり、その後は大き
な変化が無いことが分かる。
As is apparent from FIG. 8, the auxiliary mask 20
Is increased, the maximum displacement of the mask is reduced. However, when the width LH1 of the auxiliary mask 20 is about 1/3 of the length LH3 in the major axis direction of the mask body 14, the change in the maximum displacement becomes gentle, and thereafter there is no significant change.

【0035】一方、補助マスク20の幅LH1を拡大す
ることは、補助マスク20の面積拡大となるため正確な
位置合せが困難になるが、補助マスク14の幅LH1が
マスク本体14の長軸方向長LH3の1/3以内であれ
ば、位置合せ精度を十分に高く確保できることを確認し
た。以上の検討結果より、補助マスク20は、マスク本
体14の長軸方向長LH3に対して中央1/3の領域に
固定されていることが好ましい。
On the other hand, increasing the width LH1 of the auxiliary mask 20 increases the area of the auxiliary mask 20 and makes accurate alignment difficult. However, the width LH1 of the auxiliary mask 14 is limited in the longitudinal direction of the mask body 14. It was confirmed that the alignment accuracy could be secured sufficiently high if it was within 1/3 of the length LH3. From the above examination results, it is preferable that the auxiliary mask 20 is fixed to the central 1/3 region with respect to the major axis length LH3 of the mask body 14.

【0036】また、図7で示したように、補助マスク2
0の有効部21の短軸方向長LV1bは、マスク本体1
4の有効部13の短軸方向長LV2と同じか若干大きく
設定することが望ましい。この場合、マスク本体14と
補助マスク20との間に短軸Y方向の位置ズレが発生し
ても、位置合わせの誤差を吸収することが可能となる。
Further, as shown in FIG.
0 of the effective portion 21 is the mask body 1
It is desirable to set the length of the effective portion 13 of the fourth portion to be equal to or slightly larger than the length LV2 in the short axis direction. In this case, even if a positional shift in the short axis Y direction occurs between the mask main body 14 and the auxiliary mask 20, it is possible to absorb an alignment error.

【0037】補助マスク20を構成する素材は、マスク
本体14を構成する素材と熱膨張係数が近い方がよく、
理想としては同一の熱膨張係数の素材であることが望ま
しい。カラー陰極線管の製造工程では400℃程度の熱
を受けるため、マスク本体14と補助マスク20とで熱
膨張係数が大きく異なると、補助マスク20を貼り合わ
せた部分がバイメタル化し、熱処理を受けたシャドウマ
スク7が変形したり、完全に変形しないまでもマスク形
状にバラツキを生じるためである。
The material forming the auxiliary mask 20 preferably has a coefficient of thermal expansion close to that of the material forming the mask body 14.
Ideally, the materials should have the same coefficient of thermal expansion. Since heat of about 400 ° C. is received in the process of manufacturing a color cathode ray tube, if the mask body 14 and the auxiliary mask 20 have significantly different coefficients of thermal expansion, the portion where the auxiliary mask 20 is bonded becomes bimetallic, and the heat-treated shadow This is because even if the mask 7 is deformed or not completely deformed, the mask shape varies.

【0038】また、本実施の形態に係るフラット管のよ
うに、曲面の曲率が小さいシャドウマスク7は、熱膨張
による色ずれが顕著である。このように、色ずれが生じ
易い形状のシャドウマスクについては、Fe−Ni系合
金、Fe−Ni−Co系合金、Fe−Ni−Cr系合金
のような熱膨張係数の小さい材料から形成されたシャド
ウマスクを用いることが望ましい。以上の理由から、本
実施の形態では、シャドウマスク本体14、補助マスク
20ともにインバー材を用いている。
Further, as in the flat tube according to the present embodiment, in the shadow mask 7 having a small curvature of the curved surface, the color shift due to thermal expansion is remarkable. As described above, the shadow mask having a shape in which color misregistration easily occurs is formed of a material having a small coefficient of thermal expansion such as an Fe-Ni-based alloy, an Fe-Ni-Co-based alloy, or an Fe-Ni-Cr-based alloy. It is desirable to use a shadow mask. For the above reasons, in the present embodiment, both the shadow mask main body 14 and the auxiliary mask 20 use an Invar material.

【0039】また、図6に示すように、補助マスク20
とマスク本体14とは、補助マスク20の小孔25b側
とマスク本体14の小孔19b側とが密着するように接
合すると、マスク本体14の小孔19bと補助マスク2
0の大孔25aとが接する場合よりも、互いに接触する
面積、つまり、固定される面積が大きくなるため、強固
かつ確実な固定が可能となる。なお、補助マスク20の
周辺では、蛍光体スクリーン側の小孔25bの中心を電
子銃側の大孔25aの中心よりマスク周辺側にずらす、
オフセンを行うことが好ましい。
Further, as shown in FIG.
When the small holes 25b of the auxiliary mask 20 and the small holes 19b of the mask body 14 are bonded to each other so that the small holes 25b and the small holes 19b of the mask body 14 are in close contact with each other,
Since the area in which they contact each other, that is, the area to be fixed, is larger than in the case where the large holes 25a of 0 are in contact with each other, strong and reliable fixing is possible. In the vicinity of the auxiliary mask 20, the center of the small hole 25b on the phosphor screen side is shifted toward the mask peripheral side from the center of the large hole 25a on the electron gun side.
It is preferable to perform offsen.

【0040】更に、補助マスク20の周辺領域では、大
孔中心と小孔中心の位置を平均した位置を開孔位置とし
て開孔列のピッチを考えた場合、シャドウマスク本体1
4と補助マスク20とで対応する開孔列を比較すると、
補助マスク20における開孔列ピッチPH2の方がシャ
ドウマスク本体14の開孔列ピッチPH1よりも小さく
なるようにすることが望ましい。
Further, in the peripheral area of the auxiliary mask 20, when the pitch of the row of apertures is considered with the position of the center of the center of the large hole and the center of the small hole as the opening position, the shadow mask body 1
Comparing the corresponding row of apertures with the mask 4 and the auxiliary mask 20,
It is desirable that the aperture row pitch PH2 of the auxiliary mask 20 be smaller than the aperture row pitch PH1 of the shadow mask body 14.

【0041】これは、重畳部では2枚のマスクを電子ビ
ームが通過するので、画面短辺側に近づいて電子ビーム
の入射角度が大きくなると、板厚内における電子ビーム
の長軸方向位置の変化が大きくなる。補助マスク20に
おける開孔列ピッチPH2をシャドウマスク本体14の
開孔列ピッチPH1よりも小さくすると、開孔の傾きを
電子ビーム軌道に一致させることができるので、ケラレ
などの発生するのを抑制することができる。
This is because the electron beam passes through the two masks in the superimposed portion, and when the incident angle of the electron beam approaches the short side of the screen and increases, the change in the position of the electron beam in the longitudinal direction within the plate thickness changes. Becomes larger. If the aperture row pitch PH2 of the auxiliary mask 20 is smaller than the aperture row pitch PH1 of the shadow mask main body 14, the inclination of the aperture can be made to coincide with the electron beam trajectory, thereby suppressing the occurrence of vignetting and the like. be able to.

【0042】次に、以上のように構成されたシャドウマ
スク7の製造方法について説明する。まず、図9に示す
ように、インバー材の薄板をエッチング加工することに
より、多数の開孔が所定の径およびピッチで形成された
有効部13を有した所定の外形寸法の平坦なマスク本体
用のマスク基材(第1マスク基材)50を用意する。同
様に、インバー材の薄板をエッチング加工することによ
り、多数の開孔が所定の径およびピッチで形成された有
効部21を有した所定の外形寸法の平坦な補助マスク用
のマスク基材(第2マスク基材)55を用意する。な
お、これらのマスク基材50、55は、プレス成形性の
向上を図るため、アニール処理が施される。
Next, a method of manufacturing the shadow mask 7 configured as described above will be described. First, as shown in FIG. 9, a thin plate of Invar material is etched to form a flat mask body having a predetermined outer dimension having an effective portion 13 in which a large number of openings are formed with a predetermined diameter and pitch. Of the mask base material (first mask base material) 50 is prepared. Similarly, by etching a thin plate of Invar material, a mask base material for a flat auxiliary mask having a predetermined outer dimension having a plurality of effective portions 21 formed with a predetermined diameter and a predetermined pitch is formed. 2 mask base material) 55 is prepared. In addition, these mask base materials 50 and 55 are subjected to an annealing process in order to improve press formability.

【0043】各マスク基材50、55は、電子ビーム通
過孔である多数の開孔が形成された有効部13、21、
周辺の非有効部からなり、非有効部には切り込み53、
58と位置決め孔54、59が形成されている。このよ
うに、マスク基材50、55に位置決め孔54、59を
形成しているのは、両マスク基材の正確な位置決め、固
定を可能とするためである。
Each of the mask bases 50, 55 has an effective portion 13, 21, in which a large number of openings, which are electron beam passage holes, are formed.
It consists of a peripheral ineffective part, and the ineffective part has a cut 53,
58 and positioning holes 54 and 59 are formed. The positioning holes 54 and 59 are formed in the mask base materials 50 and 55 in order to enable accurate positioning and fixing of both mask base materials.

【0044】続いて、図10および図11に示すよう
に、マスク基材50、55を位置決め装置に装填する。
この位置決め装置は、マスク基材50とほぼ等しい寸法
の支持面60を有した載置台62を備えている。支持面
60には、マスク基材50を吸着固定するための複数の
マグネットチャック64が設けられている。また、支持
面60の中央部には、マスク基材55を装填するための
浅い帯状の装着溝65が形成されている。
Subsequently, as shown in FIGS. 10 and 11, the mask base materials 50 and 55 are loaded into the positioning device.
The positioning device includes a mounting table 62 having a support surface 60 having substantially the same size as the mask substrate 50. The support surface 60 is provided with a plurality of magnet chucks 64 for fixing the mask base material 50 by suction. At the center of the support surface 60, a shallow strip-shaped mounting groove 65 for mounting the mask base material 55 is formed.

【0045】また、位置決め装置は、マスク基材55を
保持および位置合わせするための一対の調整部63を備
えている。各調整部63は、マスク基材55の端部、つ
まり、把持部44を把持するチャック66を備え、この
チャックは、X−Yテーブル67上に載置されている。
The positioning device has a pair of adjusting portions 63 for holding and positioning the mask base material 55. Each adjustment unit 63 includes a chuck 66 for gripping an end of the mask base material 55, that is, the gripping unit 44. The chuck is mounted on an XY table 67.

【0046】位置決め装置に対してマスク基材50、5
5を装填する場合、まず、マスク基材55を装着溝65
内に載置し、その際、マスク基材55の両端部、つま
り、把持部44をそれぞれ支持面60の両側に突出させ
る。そして、マスク基材55の各把持部44を調整部6
3のチャック66によって把持する。
The mask substrates 50, 5
5 is loaded, first, the mask base material 55 is attached to the mounting groove 65.
In this case, both ends of the mask base material 55, that is, the grip portions 44 are respectively protruded to both sides of the support surface 60. Then, each gripping portion 44 of the mask base material 55 is
3 is gripped by the chuck 66.

【0047】次に、マスク基材50を支持面60上に合
わせて載置し、マグネットチャック64により支持面上
に固定的に支持する。これにより、マスク基材50をマ
スク基材55上に重ね合わせて保持する。
Next, the mask substrate 50 is placed on the support surface 60 and fixedly supported on the support surface by the magnet chuck 64. As a result, the mask substrate 50 is superimposed and held on the mask substrate 55.

【0048】この状態で、図11に示すように、各調整
部63のX−Yテーブル67を駆動して、マスク基材5
5の両端部の長軸方向、短軸方向、および回転方向に位
置調整し、マスク基材55に形成された開孔と、マスク
基材50に形成された開孔とを位置合わせする。この
際、マスク基材50、55の切り込み43、48を一時
的な位置合せの際の基準に用いることができる。その
後、マスク基材50、55に形成された位置決め孔4
4、49が互いに正確に一致するように、これらの位置
決め孔を図示しないカメラ等によって監視しながら、マ
スク基材55の位置調整を行う。なお、更にマスク基材
50、55に設けられた開孔を合わせて観察しながら位
置調整を行うようにしても良い。
In this state, as shown in FIG. 11, the XY table 67 of each adjustment unit 63 is driven to
Position adjustment is performed in the long-axis direction, the short-axis direction, and the rotation direction of both ends of 5, and the opening formed in the mask base 55 and the opening formed in the mask base 50 are aligned. At this time, the cuts 43, 48 of the mask base materials 50, 55 can be used as references for temporary alignment. Then, the positioning holes 4 formed in the mask base materials 50 and 55 are formed.
The position of the mask base 55 is adjusted while monitoring these positioning holes with a camera (not shown) so that the positions 4 and 49 exactly match each other. The position may be adjusted while observing the openings provided in the mask base materials 50 and 55 together.

【0049】ここで、両マスク基材50、55の開孔間
に位置ズレが生じた場合、重畳部の開孔面積が非重畳部
の開孔面積より小さくなってしまう。そのため、開孔を
通過して蛍光体スクリーンに照射する電子ビームが低減
し、重畳部に対応する蛍光面の輝度が著しく低下し画像
品位が低下する。したがって、両マスク基材50、55
の開孔をミクロンオーダーの位置精度で厳密に一致させ
ることが必要となる。
Here, when a positional shift occurs between the openings of the mask base materials 50 and 55, the opening area of the overlapping portion becomes smaller than the opening area of the non-overlapping portion. Therefore, the number of electron beams that pass through the aperture and irradiate the phosphor screen is reduced, and the luminance of the phosphor screen corresponding to the overlapping portion is significantly reduced, and the image quality is reduced. Therefore, both mask substrates 50, 55
It is necessary to exactly match the apertures of the holes with positional accuracy on the order of microns.

【0050】この際、マスク基材50、55の全ての開
孔を互いに厳密に一致させるためには、両マスク基材の
短軸を正確に一致させることが必要であり、特に、開孔
は短軸方向に列をなして配列されているため、両マスク
基材の回転方向の位置合わせが最も重要となる。
At this time, in order to make all the openings of the mask base materials 50 and 55 exactly coincide with each other, it is necessary to make the short axes of both mask base materials exactly coincide with each other. Since the mask bases are arranged in rows in the short axis direction, the alignment of the two mask bases in the rotation direction is most important.

【0051】本実施の形態のように、平坦な状態のマス
ク基材50、55を互いに相対移動可能にそれぞれ保持
し、一方を微小移動させることにより、両マスク基材を
正確に位置合わせすることが可能となる。特に、補助マ
スク用のマスク基材55の把持部44をチャック66に
より把持した状態で、位置合わせを行うことにより、マ
スク基材55の短軸を直接制御することができ、回転方
向の調整も含めて、マスク基材50、55の軸同士を高
い位置精度で一致させることが可能となる。
As in the present embodiment, the mask bases 50 and 55 in a flat state are held so as to be relatively movable with each other, and one of them is slightly moved, so that both mask bases are accurately aligned. Becomes possible. In particular, by performing positioning while holding the holding portion 44 of the mask base material 55 for the auxiliary mask with the chuck 66, the short axis of the mask base material 55 can be directly controlled, and the rotation direction can be adjusted. In addition, the axes of the mask base materials 50 and 55 can be aligned with high positional accuracy.

【0052】更に、マスク本体用のマスク基材50より
も小さい補助マスク用のマスク基材55を微小移動して
位置合わせすることにより、マスク基材50側を移動さ
せる場合に比較して、位置精度が一層向上する。
Further, the mask base material 55 for the auxiliary mask, which is smaller than the mask base material 50 for the mask body, is finely moved and aligned, so that the position is smaller than when the mask base material 50 is moved. The accuracy is further improved.

【0053】上記工程によりマスク基材50、55間の
位置決めが終了した後、これらマスク基材を保持した状
態で両マスク50、55を密着固定する。両マスク基材
50、55は重複部の全面で、ほぼ密着した状態に固定
することが望ましく、その固定には圧着と呼ばれる拡散
接合や、レーザーまたは抵抗による溶接などの手法を用
いることができる。ここでは、レーザー溶接が最も実用
的であり望ましい。図12に×印で示すように、溶接の
場合は、マスク基材55の有効部21内には、少なくと
も数点の固定点が配置される。
After the positioning between the mask bases 50 and 55 is completed by the above-described steps, the two masks 50 and 55 are tightly fixed while holding the mask bases. It is desirable that the two mask base materials 50 and 55 be fixed in a state of being substantially in close contact with each other over the entire surface of the overlapped portion. For the fixing, a method such as diffusion bonding called pressure bonding or welding using laser or resistance can be used. Here, laser welding is the most practical and desirable. As shown by the crosses in FIG. 12, in the case of welding, at least several fixed points are arranged in the effective portion 21 of the mask base material 55.

【0054】また、マスク基材55の無孔部およびスカ
ート部にも固定点を設けることが望ましく、この場合、
より広い部分が擬似的に板厚の厚い状態となり、マスク
曲面強度を向上させる面から見てより好ましい。なお、
マスク基材50、55を溶接固定した後、マスク基材5
5の把持部44を切除しても良い。
It is desirable to provide fixing points also in the non-porous portion and the skirt portion of the mask base material 55. In this case,
The wider portion is in a pseudo-thick state, which is more preferable from the viewpoint of improving the mask curved surface strength. In addition,
After welding and fixing the mask bases 50 and 55, the mask base 5
5 may be cut off.

【0055】溶接固定した後、これらマスク基材50、
55を位置決め装置から取り外し、両マスク基材を同時
にプレス成形する。図13は、マスク基材50の電子銃
側の表面にマスク基材55が固定れる場合に使用される
プレス用金型70を示している。基本的な構成は、従来
のプレス用金型と同じであり、マスク基材50の非有効
部を抑えるブランクホルダー71、ダイ72、シャドウ
マスクの曲面張出しを行うための曲面を有したポンチ7
3、およびノックアウト74を備えている。
After welding and fixing, these mask base materials 50,
55 is removed from the positioning device, and both mask base materials are simultaneously pressed. FIG. 13 shows a pressing die 70 used when the mask base 55 is fixed to the surface of the mask base 50 on the electron gun side. The basic configuration is the same as that of a conventional press die, and a blank 7 that suppresses an ineffective portion of the mask base 50, a die 72, and a punch 7 having a curved surface for performing a curved overhang of a shadow mask.
3, and a knockout 74.

【0056】本実施の形態に係るシャドウマスクをプレ
ス成形する金型70では、ポンチ73の形状が若干異な
っている。つまり、ポンチ73の表面には、マスク基材
55を収容可能な幅および深さを持った凹部75が形成
されている。このような凹部75を形成しておくことに
より、プレス成形後のシャドウマスク7に重畳部と非重
畳部との境界で段差が生じるのを防止することができ
る。
In the mold 70 for press-molding the shadow mask according to the present embodiment, the shape of the punch 73 is slightly different. That is, a concave portion 75 having a width and a depth capable of accommodating the mask base material 55 is formed on the surface of the punch 73. By forming such a concave portion 75, it is possible to prevent a step from being formed at the boundary between the overlapped portion and the non-overlapped portion in the shadow mask 7 after press molding.

【0057】なお、本実施の形態では、両マスク基材5
0、55を平坦な状態で固定した後にプレス成形してい
るが、これは、開孔の位置精度を確保するためである。
上述したように、両マスク基材50、55の開孔位置は
厳密に一致させる必要がある。各マスク基材50、55
を曲面成形した後に位置合わせしようとすると、プレス
時の成形位置のズレが発生した場合、開孔位置のズレも
引き起こすため、両マスク基材50、55の開孔を正確
に一致させることが困難となる。また、成形後、両マス
ク基材50、55は曲面形状を呈するようになるため、
その位置を一致させることは著しく困難となる。
In this embodiment, both mask substrates 5 are used.
Press molding is performed after fixing 0 and 55 in a flat state, in order to secure the positional accuracy of the opening.
As described above, the opening positions of both mask base materials 50 and 55 need to be exactly the same. Each mask base material 50, 55
When the positioning is performed after forming a curved surface, if the displacement of the molding position at the time of pressing occurs, the displacement of the opening position is also caused, so that it is difficult to make the openings of both mask base materials 50 and 55 exactly coincide with each other. Becomes After the molding, the mask base materials 50 and 55 have a curved shape.
It is extremely difficult to match the positions.

【0058】そのため、本実施の形態ではマスク成形前
のフラットな状態で両マスク基材50、55を位置決
め、および固定し、その後プレス成形することとしてい
る。そして、プレス成形されたシャドウマスクは通常の
カラー受像管を製造する場合と同様に、表面に酸化膜を
形成するマスク黒化処理を経た後、マスクフレームと組
合せればよい。
For this reason, in the present embodiment, both mask bases 50 and 55 are positioned and fixed in a flat state before the mask is formed, and then press-formed. The press-molded shadow mask may be combined with a mask frame after undergoing a mask blackening process for forming an oxide film on the surface, as in the case of manufacturing a normal color picture tube.

【0059】以上のように構成されたカラー陰極線管お
よびその製造方法によれば、補助マスクを設けることに
より、シャドウマスクの最も変形しやすい画面中央近傍
の変形を抑制することが可能となり、結果的にマスク曲
面強度を向上させることができる。これにより、シャド
ウマスクの変形や、振動による画像の劣化を防止し、画
像品位の向上したカラー陰極線管を得ることができる。
According to the color cathode ray tube and the method of manufacturing the same constructed as described above, by providing the auxiliary mask, it is possible to suppress the deformation of the shadow mask in the vicinity of the center of the screen where deformation is most likely to occur. In addition, the strength of the mask curved surface can be improved. As a result, it is possible to prevent the deformation of the shadow mask and the deterioration of the image due to the vibration, and to obtain a color cathode ray tube with improved image quality.

【0060】また、シャドウマスクの製造においては、
マスク本体用のマスク基材および補助マスク用のマスク
基材をそれぞれ相対的に移動可能な状態に保持し、一方
を微小移動させて位置合わせを行うことができ、これら
のマスク基材を高い精度で位置合わせすることが可能と
なる。それにより、シャドウマスクの組立精度が向上す
る。
In the production of a shadow mask,
The mask base material for the mask body and the mask base material for the auxiliary mask can be held in a relatively movable state, and one of them can be finely moved to perform alignment. Can be aligned. Thereby, the assembly accuracy of the shadow mask is improved.

【0061】なお、この発明は上述した実施の形態に限
定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能で
ある。上述した実施の形態において、位置合わせ時に補
助マスクを把持するための把持部は、マスク本体のスカ
ート部から突出した突出部により構成したが、この把持
部は、位置決め装置のチャック等によって把持可能に形
成されていれば良く、すなわち、マスク本体と重複する
ことなく露出して設けられていればよい。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be variously modified within the scope of the present invention. In the above-described embodiment, the gripping portion for gripping the auxiliary mask at the time of positioning is constituted by the protruding portion projecting from the skirt portion of the mask body, but this gripping portion can be gripped by a chuck or the like of the positioning device. What is necessary is just to be formed, ie, it should just be provided so that it may be exposed, without overlapping with a mask main body.

【0062】例えば、図14および図15に示すよう
に、補助マスク20の長手方向長さと、マスク本体14
の短軸方向長さとをほぼ同一にするとともに、マスク本
体の短軸両端部にそれぞれ切欠き80を形成してもよ
い。この場合、これらの切欠き80と対向する補助マス
ク20の端部は、マスク本体14と重複することなく露
出し、位置決め装置のチャック等によって把持可能な把
持部44として機能することができる。
For example, as shown in FIGS. 14 and 15, the length of the auxiliary mask 20 in the longitudinal direction and the
And the notches 80 may be formed at both short-axis end portions of the mask body. In this case, the ends of the auxiliary mask 20 facing the notches 80 are exposed without overlapping with the mask main body 14, and can function as the gripping portions 44 that can be gripped by a chuck or the like of the positioning device.

【0063】また、上述した実施の形態では補助マスク
20がマスク本体14の電子銃側に配置された構成につ
いて説明したが、補助マスク20はマスク本体14の蛍
光体スクリーン側に配置された構成としてもよい。
In the above-described embodiment, the structure in which the auxiliary mask 20 is arranged on the electron gun side of the mask body 14 has been described. However, the auxiliary mask 20 is arranged on the phosphor screen side of the mask body 14. Is also good.

【0064】[0064]

【発明の効果】以上詳述したように、この発明によれ
ば、十分なマスク曲面強度を有するシャドウマスクを備
えたカラー陰極線管およびこのカラー陰極線管を高い精
度で製造可能な製造方法を提供することができる。
As described above in detail, according to the present invention, a color cathode ray tube provided with a shadow mask having a sufficient mask curved surface strength and a manufacturing method capable of manufacturing the color cathode ray tube with high accuracy are provided. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の実施の形態に係るカラー陰極線管の
長軸を含む断面図。
FIG. 1 is a cross-sectional view including a major axis of a color cathode ray tube according to an embodiment of the present invention.

【図2】上記カラー陰極線管の短軸を含む断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view including a short axis of the color cathode ray tube.

【図3】上記カラー陰極線管におけるシャドウマスクを
示す斜視図および電子ビーム通過孔を示す平面図。
FIG. 3 is a perspective view showing a shadow mask and a plan view showing an electron beam passage hole in the color cathode ray tube.

【図4】図3に示すシャドウマスクの長軸方向に沿った
断面図。
FIG. 4 is a cross-sectional view along the major axis direction of the shadow mask shown in FIG.

【図5】図3に示すシャドウマスクの短軸方向に沿った
断面図。
FIG. 5 is a sectional view of the shadow mask shown in FIG. 3 along the minor axis direction.

【図6】上記シャドウマスクのマスク本体および補助マ
スクを拡大して示す断面図。
FIG. 6 is an enlarged sectional view showing a mask main body and an auxiliary mask of the shadow mask.

【図7】上記マスク本体と補助マスクとの間の有効部長
の関係を示す平面図。
FIG. 7 is a plan view showing the relationship between the effective portion length between the mask main body and the auxiliary mask.

【図8】上記補助マスクの幅とシャドウマスク変形量と
の関係を示す特性図。
FIG. 8 is a characteristic diagram showing a relationship between a width of the auxiliary mask and a shadow mask deformation amount.

【図9】上記マスク本体および補助マスク用のマスク基
材を示す平面図。
FIG. 9 is a plan view showing the mask body and a mask base material for an auxiliary mask.

【図10】上記マスク基材同士を位置決めするための位
置決め装置を示す斜視図。
FIG. 10 is a perspective view showing a positioning device for positioning the mask substrates.

【図11】上記位置決め装置を用いたマスク基材の位置
決め動作を模式的に示す図。
FIG. 11 is a diagram schematically showing a positioning operation of a mask base material using the positioning device.

【図12】位置決め固定された上記マスク基材を示す平
面図。
FIG. 12 is a plan view showing the mask base material positioned and fixed.

【図13】固定されたマスク基材をプレス成形装置に載
置した状態を示す断面図。
FIG. 13 is a cross-sectional view showing a state where the fixed mask base material is placed on a press molding apparatus.

【図14】この発明の他の実施の形態に係るカラー陰極
線管のシャドウマスクを概略的に示す斜視図。
FIG. 14 is a perspective view schematically showing a shadow mask of a color cathode ray tube according to another embodiment of the present invention.

【図15】上記他の実施の形態に係るシャドウマスクの
成形に用いるマスク基材を示す平面図。
FIG. 15 is a plan view showing a mask base material used for forming a shadow mask according to another embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…パネル 5…蛍光体スクリーン 6…シャドウマスク構体 7…シャドウマスク 8…マスクフレーム 9B、9G、9R…電子ビーム 10…電子銃 14…マスク本体 20…補助マスク 12、42…開孔 13、21…有効部 17、24…スカート部 40…マスク面 44…把持部 50、55…マスク基材 54、59…位置決め孔 63…調整部 66…チャック DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Panel 5 ... Phosphor screen 6 ... Shadow mask structure 7 ... Shadow mask 8 ... Mask frame 9B, 9G, 9R ... Electron beam 10 ... Electron gun 14 ... Mask main body 20 ... Auxiliary mask 12, 42 ... Opening 13, 21 ... Effective part 17, 24 ... Skirt part 40 ... Mask surface 44 ... Grip part 50, 55 ... Mask base material 54, 59 ... Positioning hole 63 ... Adjustment part 66 ... Chuck

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井上 雅及 埼玉県深谷市幡羅町一丁目9番地2号 株 式会社東芝深谷工場内 Fターム(参考) 5C027 HH16 5C031 EE02 EE04 EF05 EH04 EH06 EH08  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing from the front page (72) Inventor Masayo Inoue 1-9-2, Hara-cho, Fukaya-shi, Saitama F-term in Toshiba Fukaya Plant (reference) 5C027 HH16 5C031 EE02 EE04 EF05 EH04 EH06 EH08

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】内面に蛍光体スクリーンが設けられたパネ
ルと、 上記蛍光体スクリーンに向かって電子ビームを放出する
電子銃と、 上記パネルの内側に上記蛍光体スクリーンに対向して配
置され、多数の電子ビーム通過孔が形成されたシャドウ
マスクと、 上記シャドウマスクの周辺が固定されたマスクフレーム
と、を備え、 上記シャドウマスクは、 上記蛍光体スクリーンのほぼ全面と対向しているととも
に多数の電子ビーム通過孔が形成されたほぼ矩形状の有
効部を有したマスク主面、およびこのマスク主面の周縁
から延出したスカート部を備えたマスク本体と、 上記マスク本体の有効部の短軸近傍領域に重ねて固定さ
れ、上記マスク本体の電子ビーム通過孔に対応した多数
の電子ビーム通過孔を有しているとともに上記短軸を長
手方向とした帯状の補助マスクと、を具備し、 上記補助マスクは、上記マスク本体と重なることなく露
出し外部から把持可能な把持部を有していることを特徴
とするカラー陰極線管。
A panel provided with a phosphor screen on an inner surface thereof; an electron gun for emitting an electron beam toward the phosphor screen; a plurality of electron guns arranged inside the panel so as to face the phosphor screen; A shadow mask in which the electron beam passage holes are formed, and a mask frame in which the periphery of the shadow mask is fixed. The shadow mask faces almost the entire surface of the phosphor screen and has a large number of electrons. A mask main surface having a substantially rectangular effective portion having a beam passage hole formed therein, a mask body having a skirt portion extending from the periphery of the mask main surface, and a short axis near the effective portion of the mask body It is fixed to overlap with the region, has a number of electron beam passage holes corresponding to the electron beam passage holes of the mask body, and has the short axis in the longitudinal direction. And a strip of the auxiliary mask, provided with, the auxiliary mask, the color cathode ray tube, characterized in that it has a grip portion can be gripped externally exposed without overlapping with the mask body.
【請求項2】上記補助マスクは、上記電子ビーム通過孔
が形成された有効部と、上記短軸方向に沿って上記有効
部の両側に延出した一対のスカート部を有し、各スカー
ト部の端部は、上記マスク本体のスカート部から延出し
上記把持部を構成していることを特徴とする請求項1に
記載のカラー陰極線管。
2. The auxiliary mask has an effective portion in which the electron beam passage hole is formed, and a pair of skirt portions extending on both sides of the effective portion along the short axis direction. 2. The color cathode ray tube according to claim 1, wherein an end of the color cathode ray tube extends from a skirt portion of the mask body to constitute the grip portion.
【請求項3】上記マスク本体のスカート部は、端縁に形
成された切欠きを有し、 上記補助マスクは、上記電子ビーム通過孔が形成された
有効部と、上記短軸方向に沿って上記有効部の両側に延
出しているとともに上記マスク本体のスカート部に重な
って位置した一対のスカート部を有し、 上記補助マスクの各スカート部は、その一部が上記マス
ク本体のスカート部に設けられた切欠きと対向して外部
に露出し上記把持部を構成していることを特徴とする請
求項1に記載のカラー陰極線管。
3. The skirt portion of the mask main body has a notch formed at an edge thereof. The auxiliary mask is formed along an effective portion having the electron beam passage hole formed therein and along the short axis direction. It has a pair of skirts extending on both sides of the effective portion and overlapping with the skirt of the mask body, and each skirt of the auxiliary mask has a part in the skirt of the mask body. 2. The color cathode ray tube according to claim 1, wherein the grip portion is exposed to the outside in opposition to the cutout provided.
【請求項4】内面に蛍光体スクリーンが設けられたパネ
ルと、上記蛍光体スクリーンに向かって電子ビームを放
出する電子銃と、上記パネルの内側に上記蛍光体スクリ
ーンに対向して配置され、多数の電子ビーム通過孔が形
成されたシャドウマスクと、 上記シャドウマスクの周辺が固定されたマスクフレーム
と、を備え、 上記シャドウマスクは、上記蛍光体スクリーンのほぼ全
面と対向しているとともに多数の電子ビーム通過孔が形
成されたほぼ矩形状の有効部を有したマスク主面、およ
びこのマスク主面の周縁から延出したスカート部を備え
たマスク本体と、上記マスク本体の有効部の短軸近傍領
域に重ねて固定され、上記マスク本体の電子ビーム通過
孔に対応した多数の電子ビーム通過孔を有しているとと
もに上記短軸を長手方向とした帯状の補助マスクと、を
具備し、 上記補助マスクは、上記マスク本体と重なることなく露
出し外部から把持可能な把持部を有しているカラー陰極
線管の製造方法において、 多数の電子ビーム通過孔が形成された有効部を有した平
坦なマスク本体用の第1マスク基材と、多数の電子ビー
ム通過孔が形成されているとともに上記把持部を有した
平坦な補助マスク用の第2マスク基材と、を用意し、 上記第2マスク基材を上記第1マスク基材の短軸近傍領
域と重ね合わせて配置し、 上記重ね合わされた第1マスク基材、および上記第2マ
スク基材の上記把持部をそれぞれ保持して、第1および
第2マスク基材を相対的に変位可能に支持し、 上記第1および第2マスク基材のいずれか一方を微小変
位させることにより上記第1および第2マスク基材を互
いに位置決めし、 上記位置決めされた上記第1および第2マスク基材を互
いに固定した後、これら第1および第2マスク基材を所
定形状にプレス成形して上記マスク本体および補助マス
クを有したシャドウマスクを形成することを特徴とする
カラー陰極線管の製造方法。
4. A panel having a phosphor screen provided on an inner surface thereof, an electron gun for emitting an electron beam toward the phosphor screen, and a plurality of electron guns arranged inside the panel so as to face the phosphor screen. And a mask frame in which the periphery of the shadow mask is fixed. The shadow mask faces almost the entire surface of the phosphor screen and has a large number of electrons. A mask main surface having a substantially rectangular effective portion in which a beam passage hole is formed, a mask body having a skirt portion extending from the periphery of the mask main surface, and a short axis near the effective portion of the mask body The mask has a large number of electron beam passage holes corresponding to the electron beam passage holes of the mask main body, and the short axis is set to the longitudinal direction. A band-shaped auxiliary mask, wherein the auxiliary mask is exposed without overlapping with the mask body and has a gripping portion that can be gripped from the outside. A first mask base for a flat mask body having an effective portion formed with a plurality of electron beam passage holes, and a second mask base for a flat auxiliary mask having the above-described gripping portion and having a gripping portion. And a material is prepared, and the second mask base material is disposed so as to overlap with the region near the short axis of the first mask base material. The superposed first mask base material and the second mask base material Each of the first and second mask bases is relatively displaceably supported by holding the gripping portions, and the first and second mask bases are minutely displaced by the first and second mask bases. Second mask group After the first and second mask base materials positioned above are fixed to each other, the first and second mask base materials are press-formed into a predetermined shape to have the mask body and the auxiliary mask. A method for manufacturing a color cathode ray tube, comprising forming a shadow mask.
【請求項5】上記第1マスク基材を固定的に支持し、上
記第2マスク基材の把持部をそれぞれ把持し、上記把持
部を微小変位させることにより、第1および第2マスク
基材を互いに位置決めすることを特徴とする請求項4に
記載のカラー陰極線管の製造方法。
5. The first and second mask substrates are fixedly supported by the first mask substrate, gripped by gripping portions of the second mask substrate, and slightly displaced by the gripping portions. The method according to claim 4, wherein the color cathode ray tubes are positioned with respect to each other.
【請求項6】上記第2マスク基材の把持部を上記長軸方
向、短軸方向、および回動方向に微小移動させて位置決
めすることを特徴とする請求項5に記載のカラー陰極線
管の製造方法。
6. A color cathode ray tube according to claim 5, wherein said gripping portion of said second mask base material is finely moved in said long axis direction, short axis direction and rotation direction to be positioned. Production method.
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