JP2002283757A - Planographic printing original plate - Google Patents

Planographic printing original plate

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JP2002283757A
JP2002283757A JP2001083019A JP2001083019A JP2002283757A JP 2002283757 A JP2002283757 A JP 2002283757A JP 2001083019 A JP2001083019 A JP 2001083019A JP 2001083019 A JP2001083019 A JP 2001083019A JP 2002283757 A JP2002283757 A JP 2002283757A
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JP
Japan
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group
resin
acid
fine particles
lithographic printing
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001083019A
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Japanese (ja)
Inventor
Akihiro Endo
章浩 遠藤
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a planographic printing original plate capable of printing without execution of development treatment after exposure, having improved printing durability and excellent in non-staining properties. SOLUTION: This planographic printing plate has a hydrophilic layer containing a hydrophobic precursor, a photothermal converting agent and a three-dimensional crosslinked hydrophilic binder and becoming hydrophobic by heat on a supporting body. The hydrophobic precursor is fine particles having a core-shell structure containing a lipophilic resin in the core part and cationic substituent groups in the shell part.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、支持体上に画像形
成を行う親水層を有する現像不要のネガ型平版印刷用原
板に関する。より詳しくは、デジタル信号に基づいた赤
外線走査露光による画像記録が可能であり、画像記録し
たものは現像処理することなくそのまま印刷が可能な平
版印刷用原板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a negative-working negative planographic printing plate having a hydrophilic layer for forming an image on a support. More specifically, the present invention relates to a lithographic printing original plate capable of recording an image by infrared scanning exposure based on a digital signal, and printing the image without development processing.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年進展が著しいコンピュータ・ツウ・
プレート用刷版については、多数の研究がなされてい
る。その中で一層の工程合理化と廃液処理問題の解決を
目指すものとして、露光後現像処理することなしにその
まま印刷機に装着して印刷できる平版印刷用原板や、印
刷機上で露光し、そのまま印刷できる平版印刷用原板が
研究され、種々の方法が提案されている。
2. Description of the Related Art In recent years, computer-to-computer
Numerous studies have been made on plate printing plates. Among them, the aim is to further streamline the process and solve the problem of waste liquid treatment. As a result, lithographic printing original plates that can be mounted directly on a printing press without exposure and development processing, or exposed on a printing press and printed directly Possible lithographic printing plates have been studied and various methods have been proposed.

【0003】例えば、日本特許2938397号公報、
特開平9−127683号公報およびWO99−101
86号には、親水性表面を有する基板上に、熱可塑性ポ
リマー微粒子を親水性樹脂などのマトリックス中に分散
した親水性の画像形成層を有する感熱性平版印刷用原板
が開示されている。これらの公報には、赤外線露光など
によって画像形成層に熱を加えると、熱可塑性ポリマー
微粒子が溶融合体して、親水性画像形成層表面が親油性
画像部に変換され、この画像部が形成された平版印刷版
を印刷機に装着し、版胴を回転しながら印刷版に湿し水
とインキを供給することによって、未加熱部分をあたか
も現像処理したように除去してしまう方法(機上現像
法)によって、従来行われていた自動現像機などを用い
る現像処理を省略することが記載されている。
[0003] For example, Japanese Patent No. 2938397,
JP-A-9-127683 and WO99-101
No. 86 discloses a heat-sensitive lithographic printing original plate having a hydrophilic image forming layer in which thermoplastic polymer fine particles are dispersed in a matrix such as a hydrophilic resin, on a substrate having a hydrophilic surface. In these publications, when heat is applied to an image forming layer by infrared exposure or the like, thermoplastic polymer fine particles are melted and united, and the surface of the hydrophilic image forming layer is converted into an lipophilic image area, and this image area is formed. A method in which a lithographic printing plate is mounted on a printing press and the printing plate is supplied with dampening water and ink while rotating the plate cylinder, thereby removing unheated portions as if they were developed (on-machine development). Method), it is described that the development processing using a conventional automatic developing machine or the like is omitted.

【0004】また、特開2000−238452号に
は、光及び熱の少なくとも一方のエネルギーにより分解
する基を表面に有するミクロゲルと赤外光吸収剤を画像
形成層に含有する平版印刷用材料が機上現像できること
が記載されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-238452 discloses a lithographic printing material containing, in an image forming layer, a microgel having on its surface a group capable of decomposing by at least one of light and heat, and an infrared light absorbing agent. It is described that the above can be developed.

【0005】しかしながら、上記の機上現像型の無処理
平版印刷用原板には、未露光部の除去が印刷機の運転開
始条件によって左右されたり、親油性成分を多く含んだ
除去物が湿し水ローラや湿し水を汚染するため、良好な
印刷物を得るのに、数十〜数百枚の印刷が必要だった
り、ローラの洗浄を必要とするなど、コストおよび手間
のかかる問題がある。
[0005] However, the removal of the unexposed portion is affected by the starting conditions of the printing press, or the removed material containing a large amount of lipophilic component is dampened in the above-mentioned on-press development type unprocessed lithographic printing plate. Since the water roller and the dampening water are contaminated, there are problems that cost and labor are required, for example, tens to hundreds of prints are required to obtain a good printed matter, and the roller needs to be washed.

【0006】1992年1月のResearch Disclosure N
o.33303等には、熱可塑性ポリマー微粒子を架橋し
た親水性樹脂中に分散した感熱層を有する感熱性平版印
刷原板が記載されている。また、特開平7−1849
号、同7−1850号、同10−6468号および同1
1−70756号には、架橋した親水性バインダーポリ
マー中に親油性微粒子として親油性成分を内包するマイ
クロカプセルを分散した親水層を有する感熱性平版印刷
原板が記載されている。これらの感熱性平版印刷原板
は、露光による熱で形成された親油性画像部と未露光部
の親水性非画像部との表面構成を印刷面として用いるこ
とにより、機上現像を必要とせず、完全無処理で湿し水
を使用する平版印刷を行えることが記載されている。
Research Disclosure N, January 1992
No. 33303 and the like describe a heat-sensitive lithographic printing plate having a heat-sensitive layer in which a thermoplastic polymer fine particle is dispersed in a hydrophilic resin crosslinked. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-1849
Nos. 7-1850, 10-6468 and 1
No. 1-70756 describes a heat-sensitive lithographic printing plate precursor having a hydrophilic layer in which microcapsules containing lipophilic components as lipophilic fine particles are dispersed in a crosslinked hydrophilic binder polymer. These heat-sensitive lithographic printing original plates do not require on-press development by using the surface configuration of the lipophilic image area formed by heat from exposure and the hydrophilic non-image area of the unexposed area as the printing surface, It describes that lithographic printing using a fountain solution can be performed without any treatment.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術の完全無処理の平版印刷用原板は、印刷における汚れ
難さおよび耐刷性が不十分である問題があった。本発明
の目的は、この問題を解決することであり、露光後、現
像処理を行うことなく印刷することが可能な平版印刷用
原板あって、耐刷性が改良され、しかも汚れ難さの良好
な平版印刷用原板を提供することである。
However, the completely unprocessed lithographic printing plate of the prior art has a problem in that it is difficult to stain in printing and the printing durability is insufficient. An object of the present invention is to solve this problem, and there is provided a lithographic printing original plate which can be printed without performing development processing after exposure, and has improved printing durability and good stain resistance. To provide a lithographic printing plate.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は、以下の構成
で上記目的を達成できることを見出した。すなわち、本
発明は、以下の通りである。
Means for Solving the Problems The present inventor has found that the above object can be achieved by the following constitution. That is, the present invention is as follows.

【0009】1.支持体上に、疎水性化前駆体、光熱変
換剤および三次元架橋した親水性結着剤を含有する、熱
により疎水性となる親水層を有する平版印刷用原板であ
って、疎水性化前駆体が、コア部に親油性樹脂、シェル
部にカチオン性置換基を有する樹脂を含有するコアシェ
ル構造の微粒子であることを特徴とする平版印刷用原
板。
1. A lithographic printing plate precursor having a hydrophilic layer which becomes hydrophobic by heat, comprising a hydrophobizing precursor, a photothermal conversion agent and a three-dimensionally cross-linked hydrophilic binder, on a support, comprising: A lithographic printing plate, wherein the body is fine particles having a core-shell structure containing a lipophilic resin in a core portion and a resin having a cationic substituent in a shell portion.

【0010】2.カチオン性置換基が、アンモニウム基
またはホスホニウム基であることを特徴とする前記1記
載の平版印刷用原板。
[0010] 2. 2. The lithographic printing plate as described in 1 above, wherein the cationic substituent is an ammonium group or a phosphonium group.

【0011】3.コア部の親油性樹脂が、アクリル樹
脂、スチレン樹脂、ビニルエステル樹脂、エポキシ樹
脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、及びこれらのの誘
導体から選ばれた少なくとも一つの樹脂であることを特
徴とする前記1又は前記2に記載の平版印刷用原板。
3. Wherein the lipophilic resin of the core is at least one resin selected from acrylic resin, styrene resin, vinyl ester resin, epoxy resin, urethane resin, phenol resin, and derivatives thereof. 3. The lithographic printing original plate as described in 2 above.

【0012】本発明は、親水層中の疎水性化前駆体をコ
アシェル型微粒子とし、コア部を親油性樹脂、シェル部
をカチオン性置換基を有する樹脂とすることにより、親
水性結着剤との相互作用(密着性)に優れ、結果として、
非画像部の親水性を低下させることがなく、また加熱に
より親油性画像部に変換した皮膜のインキ受容性も維持
可能で、しかも皮膜全体の強度向上により耐刷性に優れ
ることを見出し、更に研究を重ねた結果に基づいてい
る。
According to the present invention, a hydrophilic binder is prepared by using a core-shell type fine particle as a hydrophobizing precursor in a hydrophilic layer, a lipophilic resin for a core portion, and a resin having a cationic substituent for a shell portion. Excellent interaction (adhesion), as a result,
It has been found that the hydrophilicity of the non-image area is not reduced, the ink receptivity of the film converted into the lipophilic image area by heating can be maintained, and that the printing durability is excellent by improving the strength of the entire film. Based on repeated studies.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。本発明では、%は特に断りがない限
り質量%を意味する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. In the present invention,% means mass% unless otherwise specified.

【0014】[親水層]本発明の親水層に用いられる疎
水性化前駆体は、熱が加えられたときに親水層を疎水性
に変換できる微粒子であって、コアシェル構造を有し、
コア部に親油性樹脂、シェル部にカチオン性置換基を有
する成分を含有する微粒子である。
[Hydrophilic Layer] The hydrophobizing precursor used in the hydrophilic layer of the present invention is fine particles capable of converting the hydrophilic layer to hydrophobic when heated, and has a core-shell structure.
Fine particles containing a component having a lipophilic resin in the core and a cationic substituent in the shell.

【0015】本発明に用いられるコアシェル構造の微粒
子は、乳化(転相乳化法も含む)又は分散重合で得た熱の
作用で軟化もしくは融解する親油性樹脂の微粒子をコア
部として、その周囲にカチオン性置換基を有する成分を
シェル部とする複合微粒子あるいは異相構造微粒子であ
る。
The fine particles having a core-shell structure used in the present invention are composed of fine particles of a lipophilic resin which is softened or melted by the action of heat obtained by emulsification (including the phase inversion emulsification method) or dispersion polymerization. Composite fine particles or hetero-phase structure fine particles having a component having a cationic substituent as a shell portion.

【0016】コア部を構成する親油性樹脂としては、以
下の(A)〜(J)から選ばれたモノマーを原料とす
る、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ビニルエステル樹脂
及びその他の重合体もしくは共重合体が好ましい。ま
た、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂も好
ましいものとして挙げられる。さらにこれらの樹脂、重
合体もしくは共重合体の誘導体も好適である。
As the lipophilic resin constituting the core portion, an acrylic resin, a styrene resin, a vinyl ester resin and other polymers or copolymers made from monomers selected from the following (A) to (J): Coalescence is preferred. Further, an epoxy resin, a urethane resin, and a phenol resin are also preferable. Further, derivatives of these resins, polymers or copolymers are also suitable.

【0017】(A)アクリル酸エステル類。このモノマ
ー群の例には、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ア
ミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシ
ル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アクリ
ル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、アクリ
ル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸4−ヒドロキシ
ブチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノ
エチルアクリレート、o−、m−およびp−ヒドロキシ
フェニルアクリレートなどの(置換)アクリル酸エステ
ルが挙げられる。
(A) Acrylic esters. Examples of this monomer group include methyl acrylate, ethyl acrylate,
Propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, octyl acrylate, phenyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 4-acrylate acrylate (Substituted) acrylates such as hydroxybutyl, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate, o-, m- and p-hydroxyphenyl acrylate.

【0018】(B)メタクリル酸エステル類。このモノ
マー群の例には、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メ
タクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル
酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル
酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2
−クロロエチル、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチ
ル、メタクリル酸−4−ヒドロキシブチル、グリシジル
メタクリレート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレ
ート、o−、m−およびp−ヒドロキシフェニルメタク
リレートなどの(置換)メタクリル酸エステルが挙げら
れる。
(B) Methacrylic esters. Examples of this monomer group include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, octyl methacrylate, phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, benzyl methacrylate. -2
(Substituted) methacrylates such as -chloroethyl, 2-hydroxyethyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl methacrylate, o-, m- and p-hydroxyphenyl methacrylate. Can be

【0019】(C)スチレン類。このモノマー群の例に
は、スチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレ
ン、o−、m−およびp−ヒドロキシスチレンなどが挙
げられる。
(C) Styrenes. Examples of this group of monomers include styrene, methylstyrene, chloromethylstyrene, o-, m- and p-hydroxystyrene, and the like.

【0020】(D)ビニルエステル類。このモノマー群
の例には、ビニルアセテート、ビニルクロロアセテー
ト、ビニルブチレート、安息香酸ビニルなどが挙げられ
る。
(D) Vinyl esters. Examples of this group of monomers include vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate, and the like.

【0021】(E)アクリルアミド及びメタクリルアミ
ド類。このモノマー群の例には、アクリルアミド、メタ
クリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メ
チロールメタクリルアミド、N−エチルアクリルアミ
ド、N−エチルメタクリルアミド、N−ヘキシルアクリ
ルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロ
ヘキシルアクリルアミド、N−シクロヘキシルメタクリ
ルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリ
ルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、N−ベンジ
ルアクリルアミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N
−ニトロフェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニル
メタクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリル
アミドおよびN−エチル−N−フェニルメタクリルアミ
ド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、
N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミドなど
のアクリルアミドもしくはメタクリルアミドが挙げられ
る。
(E) Acrylamide and methacrylamide. Examples of this monomer group include acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, N-ethylacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-hexylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide , N-cyclohexyl methacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-
Hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-phenylmethacrylamide, N-benzylacrylamide, N-benzylmethacrylamide, N
-Nitrophenylacrylamide, N-nitrophenylmethacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide and N-ethyl-N-phenylmethacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide,
Acrylamide such as N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide or methacrylamide is exemplified.

【0022】(F)ビニルエーテル類。このモノマー群
の例には、エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビ
ニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロ
ピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチル
ビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなどが挙げら
れる。
(F) Vinyl ethers. Examples of this monomer group include ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ether and the like.

【0023】(G)ビニルケトン類。このモノマー群の
例には、メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトンなどが挙げ
られる。
(G) Vinyl ketones. Examples of this monomer group include methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone and the like.

【0024】(H)オレフィン類。このモノマー群の例
には、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレンなどが挙げられる。
(H) Olefins. Examples of this group of monomers include ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, isoprene and the like.

【0025】(I)N−含有モノマー。このモノマー群
の例には、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾ
ール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタク
リロニトリルなどが挙げられる。
(I) N-containing monomers. Examples of this group of monomers include N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile, and the like.

【0026】(J)不飽和スルホンアミド。このモノマ
ー群の例には、N−(o−アミノスルホニルフェニル)
アクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニ
ル)アクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェ
ニル)アクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホ
ニル)ナフチル〕アクリルアミド、N−(2−アミノス
ルホニルエチル)アクリルアミドなどのアクリルアミド
類、N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリル
アミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタク
リルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホニル)
ナフチル〕メタクリルアミド、N−(2−アミノスルホ
ニルエチル)メタクリルアミドなどのメタクリルアミド
類、及びo−アミノスルホニルフェニルアクリレート、
m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p−アミ
ノスルホニルフェニルアクリレート、1−(3−アミノ
スルホニルフェニルナフチル)アクリレート、o−アミ
ノスルホニルフェニルメタクリレート、m−アミノスル
ホニルフェニルメタクリレート、p−アミノスルホニル
フェニルメタクリレート、1−(3−アミノスルホニル
フェニルナフチル)メタクリレートなどのアクリル酸お
よびメタクリル酸エステル類が挙げられる。
(J) Unsaturated sulfonamide. Examples of this group of monomers include N- (o-aminosulfonylphenyl)
Acrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- [1- (3-aminosulfonyl) naphthyl] acrylamide, N- (2-aminosulfonylethyl) acrylamide, etc. Acrylamides, N- (o-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- [1- (3-aminosulfonyl) )
Naphthyl] methacrylamides, methacrylamides such as N- (2-aminosulfonylethyl) methacrylamide, and o-aminosulfonylphenyl acrylate;
m-aminosulfonylphenyl acrylate, p-aminosulfonylphenyl acrylate, 1- (3-aminosulfonylphenylnaphthyl) acrylate, o-aminosulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, p-aminosulfonylphenyl methacrylate, 1- ( Acrylic acid and methacrylic acid esters such as (3-aminosulfonylphenylnaphthyl) methacrylate.

【0027】転相乳化法に用いる原料樹脂分子内の親油
性樹脂部分としては、場合によっては、上記の重合性モ
ノマー類と重合性不飽和基含有オリゴマーとの共重合体
であってもよい。このような重合性不飽和基含有オリゴ
マーとしては、例えば、ビニル変性ポリエステル、ビニ
ル変性ポリウレタン、ビニル変性エポキシ樹脂、ビニル
変性フェノール樹脂等を挙げることができる。具体例と
しては、無水マレイン酸、フマル酸、テトラヒドロ無水
フタル酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水マレイン
酸、α−テルピネン無水マレイン酸付加物、トリオール
のモノアリルエーテル、ペンタエリスリットジアリルエ
ーテルもしくはアリルグリシジルエーテル等の各種化合
物の重縮合ないしは付加により重合性不飽和結合(ビニ
ル基)が導入される。
The lipophilic resin portion in the raw material resin molecule used in the phase inversion emulsification method may be a copolymer of the above-mentioned polymerizable monomers and an oligomer having a polymerizable unsaturated group in some cases. Examples of such a polymerizable unsaturated group-containing oligomer include vinyl-modified polyester, vinyl-modified polyurethane, vinyl-modified epoxy resin, and vinyl-modified phenol resin. Specific examples include maleic anhydride, fumaric acid, tetrahydrophthalic anhydride, endmethylenetetrahydromaleic anhydride, α-terpinene maleic anhydride adduct, monoallyl ether of triol, pentaerythritol diallyl ether or allyl glycidyl ether. Polymerizable unsaturated bonds (vinyl groups) are introduced by polycondensation or addition of various compounds.

【0028】さらに、ポリエステル中に酸基を導入せし
めるには、例えば、フタル酸の如き二塩基酸を過剰に用
いることによればよく、それによって末端にカルボキシ
ル基を有するものが得られる。あるいは、無水トリメリ
ット酸の使用によって、主鎖中に酸基を有するものが得
られる。
Further, in order to introduce an acid group into the polyester, for example, an excess of a dibasic acid such as phthalic acid may be used, whereby a product having a carboxyl group at a terminal can be obtained. Alternatively, one having an acid group in the main chain can be obtained by using trimellitic anhydride.

【0029】ビニル変性ポリウレタンとしては、例え
ば、グリセリンモノアリルエーテル又は1,2−結合を
含むブタジエンポリオールの如き、各種のポリオールと
ジイソシアネートとの付加重合などにより得られる。あ
るいは、末端にイソシアネート基を有するウレタンとヒ
ドロキシル基含有重合性モノマー類との付加反応等によ
っても、ビニル結合が導入される。また、ジメチロール
プロピオン酸等を、ポリオール成分として加えることに
よっても、ポリウレタン中に酸成分を導入せしめること
ができる。
The vinyl-modified polyurethane is obtained by, for example, addition polymerization of various polyols such as glycerin monoallyl ether or butadiene polyol containing a 1,2-bond with diisocyanate. Alternatively, a vinyl bond is also introduced by an addition reaction between urethane having an isocyanate group at a terminal and a hydroxyl group-containing polymerizable monomer. The acid component can also be introduced into the polyurethane by adding dimethylolpropionic acid or the like as a polyol component.

【0030】ビニル変性エポキシ樹脂としては、例え
ば、エポキシ樹脂の末端エポキシ基とアクリル酸又はメ
タクリル酸のカルボキシル基とを反応せしめたもの等を
挙げることができる。
Examples of the vinyl-modified epoxy resin include those obtained by reacting a terminal epoxy group of an epoxy resin with a carboxyl group of acrylic acid or methacrylic acid.

【0031】ビニル変性フェノール樹脂としては、例え
ば、フェノール樹脂のヒドロキシル基と(メタ)アクリ
ル酸ハロゲン化物もしくはグリシジル(メタ)アクリレ
ートとを反応させたものなどを挙げることができる。
Examples of the vinyl-modified phenol resin include those obtained by reacting a hydroxyl group of a phenol resin with a (meth) acrylic halide or glycidyl (meth) acrylate.

【0032】さらに、カルボキシル基含有ビニル共重合
体に、グリシジル基含有重合性モノマーを付加せしめた
重合性ビニル基を有する重合性モノマー類のオリゴマー
が得られる。ここで用いられる重合性モノマー類は、前
掲したものの中から選ばれる。しかし、重合性ビニル基
を有するオリゴマーであれば、上述した種類や方法に限
定されるものではない。
Further, an oligomer of a polymerizable monomer having a polymerizable vinyl group obtained by adding a glycidyl group-containing polymerizable monomer to a carboxyl group-containing vinyl copolymer is obtained. The polymerizable monomers used here are selected from those described above. However, if it is an oligomer having a polymerizable vinyl group, it is not limited to the above-described types and methods.

【0033】これらのモノマーから得られる有機高分子
化合物は、重量平均分子量が500〜500,000、
数平均分子量が200〜60,000であることが好ま
しい。
The organic polymer compound obtained from these monomers has a weight average molecular weight of 500 to 500,000,
Preferably, the number average molecular weight is from 200 to 60,000.

【0034】本発明のコアシェル微粒子のシェル部に
は、カチオン性基を有する樹脂が含有される。このカチ
オン性基としては元素の周期表15族または16族の原
子を中心原子とするオニウム基が好ましく、より好まし
くは窒素原子、リン原子もしくはイオウ原子を中心原子
とするオニウム基であり、特に好ましくは窒素原子また
はリン原子を中心原子とするオニウム基である。また、
このカチオン性基を有する樹脂は、その主鎖構造がアク
リル樹脂やスチレン樹脂のようなビニル系ポリマーある
いはウレタン樹脂あるいはポリエステルあるいはポリア
ミドであるポリマーが好ましい。中でも、主鎖構造がア
クリル樹脂やスチレン樹脂のようなビニル系ポリマーが
さらに好ましい。特に好ましい樹脂は、オニウム基を有
する構成成分が下記一般式(1)、一般式(2)、一般
式(3)または一般式(4)で表される重合可能な化合
物を少なくとも1種含有する重合体または共重合体であ
る。
The shell portion of the core-shell fine particles of the present invention contains a resin having a cationic group. The cationic group is preferably an onium group having a central atom of an atom belonging to Group 15 or 16 of the periodic table, more preferably an onium group having a nitrogen atom, a phosphorus atom or a sulfur atom as a central atom, particularly preferably. Is an onium group having a nitrogen atom or a phosphorus atom as a central atom. Also,
The resin having a cationic group is preferably a polymer whose main chain structure is a vinyl-based polymer such as an acrylic resin or a styrene resin, or a urethane resin, a polyester, or a polyamide. Among them, a vinyl polymer having a main chain structure such as an acrylic resin or a styrene resin is more preferable. Particularly preferred resins include at least one polymerizable compound in which a component having an onium group is represented by the following general formula (1), (2), (3) or (4). It is a polymer or a copolymer.

【0035】[0035]

【化1】 Embedded image

【0036】式中、Jは2価の連結基を表す。Kは芳香
族基または置換芳香族基を表す。Mはそれぞれ独立して
2価の連結基を表す。Y1は元素の周期表15族の原子
を表し、Y2は16族の原子を表す。X-は対アニオンを
表す。R1は水素原子、アルキル基またはハロゲン原子
を表す。R2,R3,R4,R6はそれぞれ独立して水素原
子または置換基が結合してもよい、アルキル基、芳香族
基もしくはアラルキル基を表し、R5はアルキリデン基
または置換アルキリデン基を表す。R2とR3またはR5
とR6はそれぞれ結合して環を形成してもよい。Zは不
飽和複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。
j,k,mはそれぞれ独立して0または1を表す。uは
1〜3の整数を表す。
In the formula, J represents a divalent linking group. K represents an aromatic group or a substituted aromatic group. M each independently represents a divalent linking group. Y 1 represents an atom belonging to Group 15 of the periodic table, and Y 2 represents an atom belonging to Group 16. X - represents a counter anion. R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom. R 2 , R 3 , R 4 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, an aromatic group or an aralkyl group to which a substituent may be bonded, and R 5 represents an alkylidene group or a substituted alkylidene group. Represent. R 2 and R 3 or R 5
And R 6 may combine with each other to form a ring. Z represents a nonmetallic atom group necessary for forming an unsaturated heterocyclic ring.
j, k, and m each independently represent 0 or 1. u represents an integer of 1 to 3.

【0037】オニウム基を有する構成成分の中でより好
ましくは、Jは−COO−または−CONH−を表し、
Kはフェニレン基または置換フェニレン基を表し、その
置換基はヒドロキシル基、ハロゲン原子またはアルキル
基である。Mはアルキレン基または分子式がCn
2nO、Cn2nSもしくはCn2n+1Nで表される2価の
連結基を表す。ただし、ここでnは1〜12の整数を表
す。Y1は窒素原子またはリン原子を表し、Y2はイオウ
原子を表す。X-はハロゲンイオン、PF6 -、BF 4 -
たはR7SO3 -を表す。R1は水素原子またはアルキル基
を表す。R2、R3、R4およびR6はそれぞれ独立して水
素原子または、置換基が結合してもよい、炭素数1〜1
0のアルキル基、芳香族基もしくはアラルキル基を表
し、R5は炭素数1〜10のアルキリデン基または置換
アルキリデン基を表す。R2とR3またはR5とR6はそれ
ぞれ結合して環を形成してもよい。R7は置換基が結合
してもよい炭素数1〜10のアルキル基、芳香族基、ア
ラルキル基を表す。Zはイミダゾール、ピリジン、ピロ
ールまたはモルホリン環を形成するのに必要な原子群を
表す。j、kおよびmはそれぞれ独立して0または1を
表すが、jとkは同時に0ではない。
Among the components having an onium group, more preferred
Preferably, J represents -COO- or -CONH-,
K represents a phenylene group or a substituted phenylene group;
Substituent is hydroxyl group, halogen atom or alkyl
Group. M is an alkylene group or a molecular formula of CnH
2nO, CnH2nS or CnH2n + 1N-valent
Represents a linking group. Here, n represents an integer of 1 to 12.
You. Y1Represents a nitrogen atom or a phosphorus atom;TwoIs sulfur
Represents an atom. X-Is a halogen ion, PF6 -, BF Four -Ma
Or R7SOThree -Represents R1Is a hydrogen atom or an alkyl group
Represents RTwo, RThree, RFourAnd R6Are each independently water
A carbon atom having 1 to 1 carbon atoms to which an element atom or a substituent may be bonded;
0 represents an alkyl group, an aromatic group or an aralkyl group.
Then RFiveIs an alkylidene group having 1 to 10 carbon atoms or substituted
Represents an alkylidene group. RTwoAnd RThreeOr RFiveAnd R6Is it
Each may combine to form a ring. R7Is a substituent
And an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aromatic group,
Represents an aralkyl group. Z is imidazole, pyridine, pyro
Group necessary to form a phenolic or morpholine ring
Represent. j, k and m each independently represent 0 or 1
, But j and k are not simultaneously 0.

【0038】オニウム基を有する構成成分の中で特に好
ましくは、Kはフェニレン基または置換フェニレン基を
表し、その置換基はヒドロキシル基または炭素数1〜3
のアルキル基である。Mは炭素数1〜2のアルキレン基
または酸素原子で連結した炭素数1〜2のアルキレン基
を表す。X-は塩素イオンまたはR7SO3 -を表す。R 1
は水素原子またはメチル基を表す。jは0であり、kは
1である。
Particularly preferred among the constituent components having an onium group.
Preferably, K represents a phenylene group or a substituted phenylene group.
Represents a hydroxyl group or a group having 1 to 3 carbon atoms.
Is an alkyl group. M is an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms
Or an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms linked by an oxygen atom
Represents X-Is chlorine ion or R7SOThree -Represents R 1
Represents a hydrogen atom or a methyl group. j is 0 and k is
It is one.

【0039】オニウム基を有する構成成分の具体例を以
下に示す。ただし、本発明はこの具体例に限定されるも
のではない。
Specific examples of the constituent having an onium group are shown below. However, the present invention is not limited to this specific example.

【0040】[0040]

【化2】 Embedded image

【0041】[0041]

【化3】 Embedded image

【0042】カチオン性置換基を有する樹脂を含むシェ
ル部の形成方法としては、コア粒子(シード)の分散液
に、上記のカチオン性置換基を有するモノマーを添加し
て、コア粒子の表面に該モノマーを重合させて行う方法
がある。その他の方法としては、コア粒子(シード)の
分散液に、酸と反応してカチオンを形成できる置換基
(例えばアミノ基)を有するモノマーを添加して、コア
粒子の表面に該モノマーを重合させ、次いで酸と反応さ
せる方法や、シェル部に酸と反応してカチオンを形成で
きる化合物を高分子反応で導入した後、酸を反応させる
方法などを挙げることができるが、これらに限らない。
As a method for forming a shell portion containing a resin having a cationic substituent, the above-mentioned monomer having a cationic substituent is added to a dispersion of core particles (seed) and the surface of the core particles is coated with the monomer. There is a method in which a monomer is polymerized. As another method, a monomer having a substituent (for example, an amino group) capable of forming a cation by reacting with an acid is added to a dispersion of core particles (seed), and the monomer is polymerized on the surface of the core particles. Then, a method of reacting with an acid or a method of introducing a compound capable of forming a cation by reacting with an acid into a shell portion by a polymer reaction and then reacting the acid can be used, but the method is not limited thereto.

【0043】コア粒子の表面にアミノ基を有するモノマ
ーを重合させ、次いで酸と反応させてシェル部にカチオ
ン性基を導入する方法に有用なアミノ基を有するモノマ
ーとしては、例えば、N−(3−アミノプロピル)メタ
クリルアミド、N−(2−アミノエチル)メタクリルア
ミド、2−アミノエチルメタクリレート、2−アミノエ
チルアクリレート、3−アミノプロピルアクリレート、
3−アミノ−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、
アリルアミン、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレ
ート、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、
N,N−ジエチルアミノエチルアクリレート、N,N−
ジエチルアミノエチルメタクリレート、N,N−ジメチ
ルアミノプロピルアクリルアミド、ジアリルアミン、N
−メチルアリルアミンなどが挙げられる。
As a monomer having an amino group useful in a method of introducing a cationic group into the shell portion by polymerizing a monomer having an amino group on the surface of the core particle and then reacting with an acid, for example, N- (3 -Aminopropyl) methacrylamide, N- (2-aminoethyl) methacrylamide, 2-aminoethyl methacrylate, 2-aminoethyl acrylate, 3-aminopropyl acrylate,
3-amino-2-hydroxypropyl methacrylate,
Allylamine, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate,
N, N-diethylaminoethyl acrylate, N, N-
Diethylaminoethyl methacrylate, N, N-dimethylaminopropylacrylamide, diallylamine, N
-Methylallylamine and the like.

【0044】カルボキシル基などを有するシェル部に高
分子反応でアミノ基を導入した後、酸と反応させてアン
モニウム塩とするためのアミノ化合物の例としては、エ
チレンイミン、プロピレンイミンなどが挙げられる。
Examples of amino compounds for introducing an amino group into a shell having a carboxyl group or the like by a polymer reaction and then reacting with an acid to form an ammonium salt include ethyleneimine and propyleneimine.

【0045】シェル部のアミノ基との反応に用いる酸と
しては、例えば、ハロゲン化水素酸、硫酸、リン酸、ス
ルホン酸、カルボン酸が挙げられ、カルボン酸として
は、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、マロン酸、
コハク酸、オキサロ酢酸、乳酸、酒石酸、アルダル酸、
クエン酸などが挙げられるが、これらに限らない。
Examples of the acid used for the reaction with the amino group of the shell include hydrohalic acid, sulfuric acid, phosphoric acid, sulfonic acid, and carboxylic acid. Examples of the carboxylic acid include formic acid, acetic acid, propionic acid, and the like. Oxalic acid, malonic acid,
Succinic acid, oxaloacetic acid, lactic acid, tartaric acid, aldaric acid,
Examples include, but are not limited to, citric acid.

【0046】本発明に用いるコアシェル微粒子の平均粒
径は、0.01〜20μmが好ましいが、その中でも
0.05〜2.0μmがさらに好ましく、特に0.1〜
1.0μmが最適である。この範囲内で良好な解像度と
経持安定性が得られる。
The average particle size of the core-shell fine particles used in the present invention is preferably 0.01 to 20 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and particularly preferably 0.1 to 2.0 μm.
1.0 μm is optimal. Within this range, good resolution and long-term stability can be obtained.

【0047】本発明の親水層に好適な3次元架橋した親
水性結着剤として、架橋剤で架橋した親水性の有機高分
子結着樹脂、および親水性のゾルゲル変換系の無機結着
樹脂を挙げることができる。その中でも高い親水性及び
熱反応による親水層の破壊に耐えうる結着樹脂としてポ
リシロキサンのゲル組織を形成する性質を有するゾルゲ
ル変換系結着樹脂が好ましい。以下に親水性結着樹脂に
ついて説明する。
As the three-dimensionally cross-linked hydrophilic binder suitable for the hydrophilic layer of the present invention, a hydrophilic organic polymer binder resin cross-linked with a cross-linking agent and a hydrophilic sol-gel conversion type inorganic binder resin can be used. Can be mentioned. Among them, a sol-gel conversion type binder resin having a property of forming a polysiloxane gel structure is preferable as a binder resin having high hydrophilicity and withstanding the destruction of the hydrophilic layer due to a thermal reaction. Hereinafter, the hydrophilic binder resin will be described.

【0048】有機高分子結着樹脂の具体例としては、ア
ラビアゴム、ポリビニルアルコール(PVA)類,澱粉
及びその誘導体、カルボキシメチルセルロース及びその
ナトリウム塩やヒドロキシエチルセルロースあるいはセ
ルロースアセテートのようなセルロース誘導体、アルギ
ン酸ナトリウム、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルピロ
リドン、酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、スチレン−
マレイン酸共重合体、アルギン酸及びそのアルカリ金属
塩、アルカリ土類金属塩又はアンモニウム塩、ポリアク
リル酸及びそれらの塩、ポリメタクリル酸及びそれらの
塩、ポリ(エチレンオキサイド)、水溶性ウレタン樹
脂、水溶性ポリエステル樹脂、ヒドロキシエチルアクリ
レートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシエチ
ルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒド
ロキシプロピルアクリレートのホモポリマー及びコポリ
マー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマ
ー及びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホ
モポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリ
レートのホモポリマー及びコポリマー、ポリエチレング
リコールジアクリレート系ポリマー、ヒドロキシプロピ
ルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ポリ
エチレングリコール類、ポリ(ヒドロキシプロピレン)
類等の親水性樹脂が挙げられる。
Specific examples of the organic polymer binder resin include gum arabic, polyvinyl alcohol (PVA), starch and its derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose derivatives such as hydroxyethylcellulose and cellulose acetate, and sodium alginate. , Casein, gelatin, polyvinylpyrrolidone, vinyl acetate-maleic acid copolymer, styrene-
Maleic acid copolymer, alginic acid and its alkali metal salt, alkaline earth metal salt or ammonium salt, polyacrylic acid and their salts, polymethacrylic acid and their salts, poly (ethylene oxide), water-soluble urethane resin, water-soluble Polyester resin, hydroxyethyl acrylate homopolymer and copolymer, hydroxyethyl methacrylate homopolymer and copolymer, hydroxypropyl acrylate homopolymer and copolymer, hydroxypropyl methacrylate homopolymer and copolymer, hydroxybutyl acrylate homopolymer and copolymer, hydroxy Butyl methacrylate homopolymer and copolymer, polyethylene glycol diacrylate polymer, hydroxypropyl methacrylate Moporima and copolymers, polyethylene glycols, poly (hydroxypropylene)
And other hydrophilic resins.

【0049】上記親水性樹脂を架橋する架橋剤として
は、グリオキザール、メラミンホルムアルデヒド樹脂、
尿素ホルムアルデヒド樹脂などのアルデヒド類、N−メ
チロール尿素やN−メチロールメラミン、メチロール化
ポリアミド樹脂などのメチロール化合物、ジビニルスル
ホンやビス(β−ヒドロキシエチルスルホン酸)などの
活性ビニル化合物、エピクロルヒドリンやポリエチレン
グリコールジグリシジルエーテル、ポリアミド・ポリア
ミン・エピクロロヒドリン付加物、ポリアミドエピクロ
ロヒドリン樹脂などのエポキシ化合物、モノクロル酢酸
エステルやチオグリコール酸エステルなどのエステル化
合物、ポリアクリル酸やメチルビニルエーテル/マレイ
ン酸共重合物などのポリカルボン酸類、ほう酸、チタニ
ルスルフェート、Cu、Al、Sn、V、Cr塩などの
無機系架橋剤、変成ポリアミドポリイミド樹脂などが挙
げられる。そのほか、塩化アンモニウム、シランカップ
リング剤、チタネートカップリング剤などの架橋触媒を
併用できる。
Glyoxal, melamine formaldehyde resin, and the like,
Aldehydes such as urea formaldehyde resin, methylol compounds such as N-methylol urea, N-methylol melamine, methylolated polyamide resin, active vinyl compounds such as divinyl sulfone and bis (β-hydroxyethyl sulfonic acid), epichlorohydrin and polyethylene glycol Glycidyl ether, adducts of polyamide / polyamine / epichlorohydrin, epoxy compounds such as polyamide epichlorohydrin resin, ester compounds such as monochloroacetate and thioglycolate, polyacrylic acid, methyl vinyl ether / maleic acid copolymer And inorganic crosslinkers such as salts of boric acid, boric acid, titanyl sulfate, Cu, Al, Sn, V, and Cr; and modified polyamide polyimide resins. In addition, a crosslinking catalyst such as ammonium chloride, a silane coupling agent, and a titanate coupling agent can be used in combination.

【0050】本発明の親水層の特に好ましい結着剤は、
以下に述べるゾルゲル変換系結着樹脂である。本発明に
好ましく適用できるゾルゲル変換が可能な系は、多価元
素から出ている結合が酸素原子を介して網目状構造を形
成し、同時に多価元素は未結合のヒドロキシル基やアル
コキシ基も有していてこれらが混在した樹脂状構造とな
っている高分子体であって、アルコキシ基やヒドロキシ
ル基が多い段階ではゾル状態であり、脱水縮合結合化が
進行するのに伴って網目状の樹脂構造が強固となる。ま
た、樹脂組織の親水性度が変化する性質に加えて、ヒド
ロキシル基の一部が固体微粒子に結合することによって
固体微粒子の表面を修飾し、親水性度を変化させる働き
をも併せ持っている。
Particularly preferred binders for the hydrophilic layer of the present invention include:
It is a sol-gel conversion type binder resin described below. The system capable of sol-gel conversion, which is preferably applicable to the present invention, is a system in which the bond coming out of a polyvalent element forms a network structure via an oxygen atom, and the polyvalent element also has an unbonded hydroxyl group or alkoxy group. These are polymers that have a resin-like structure in which these are mixed, and are in a sol state at the stage where there are many alkoxy groups and hydroxyl groups. The structure becomes strong. Further, in addition to the property of changing the degree of hydrophilicity of the resin structure, it also has a function of modifying the surface of the solid fine particles by binding a part of the hydroxyl group to the solid fine particles, thereby changing the degree of hydrophilicity.

【0051】ゾルゲル変換を行うヒドロキシル基やアル
コキシ基を有する化合物の多価結合元素は、アルミニウ
ム、珪素、チタン及びジルコニウムなどであり、これら
はいずれも本発明に用いることができるが、以下はもっ
とも好ましく用いることのできるシロキサン結合による
ゾルゲル変換系について説明する。アルミニウム、チタ
ン及びジルコニウムを用いるゾルゲル変換は、下記の説
明の珪素をそれぞれの元素に置き換えて実施することが
できる。
The polyvalent bonding element of the compound having a hydroxyl group or an alkoxy group that undergoes sol-gel conversion is aluminum, silicon, titanium, zirconium, etc., and any of them can be used in the present invention. A sol-gel conversion system using a siloxane bond that can be used will be described. The sol-gel conversion using aluminum, titanium, and zirconium can be performed by substituting silicon for each element described below.

【0052】ゾルゲル変換によって形成される無機親水
性結着樹脂は、好ましくはシロキサン結合及びシラノー
ル基を有する樹脂であり、本発明の平版印刷版用原板の
親水層は、少なくとも1個のシラノール基を有するシラ
ン化合物を含んだゾルの系である塗布液を、塗布後の経
時の間に、シラノール基の加水分解縮合が進んでシロキ
サン骨格の構造が形成され、ゲル化が進行することによ
って形成される。
The inorganic hydrophilic binder resin formed by sol-gel conversion is preferably a resin having a siloxane bond and a silanol group, and the hydrophilic layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention has at least one silanol group. The coating solution, which is a sol-based coating solution containing a silane compound, is formed by the progress of hydrolytic condensation of silanol groups to form a siloxane skeleton structure and gelation during the lapse of time after coating.

【0053】また、このゾルゲル変換によって形成され
る層は、膜強度、柔軟性などの物理的性能の向上や、塗
布性の改良などを目的として、後述する有機親水性ポリ
マーや架橋剤などを添加することも可能である。ゲル構
造を形成するシロキサン樹脂は、下記一般式(5)で、
また少なくとも1個のシラノール基を有するシラン化合
物は、下記一般式(6)で示される。また、親水層に含
まれる物質系は、必ずしも一般式(6)のシラン化合物
単独である必要はなく、一般には、シラン化合物が部分
加水重合したオリゴマーからなっていてもよく、あるい
は、シラン化合物とそのオリゴマーの混合組成であって
もよい。
The layer formed by the sol-gel conversion may be added with an organic hydrophilic polymer or a crosslinking agent, which will be described later, for the purpose of improving physical properties such as film strength and flexibility, and improving coatability. It is also possible. The siloxane resin forming a gel structure is represented by the following general formula (5):
The silane compound having at least one silanol group is represented by the following general formula (6). Further, the substance system contained in the hydrophilic layer does not necessarily need to be a silane compound of the general formula (6) alone, and may generally be composed of an oligomer obtained by partially hydrolyzing the silane compound. The mixture composition of the oligomer may be used.

【0054】[0054]

【化4】 Embedded image

【0055】上記一般式(5)のシロキサン系樹脂は、
下記一般式(6)で示されるシラン化合物の少なくとも
1種を含有する分散液からゾル−ゲル変換によって形成
され、一般式(5)中のR11〜R13の少なくとも一つは
ヒドロキシル基を表し、他は下記一般式(6)中の記号
のR10Qから選ばれる有機残基を表す。
The siloxane resin represented by the general formula (5) is
It is formed by sol-gel conversion from a dispersion containing at least one silane compound represented by the following general formula (6), and at least one of R 11 to R 13 in the general formula (5) represents a hydroxyl group. And others represent organic residues selected from R 10 Q in the following general formula (6).

【0056】一般式(6) (R10nSi(Q)4-n Formula (6) (R 10 ) n Si (Q) 4-n

【0057】一般式(6)中、R10はヒドロキシル基、
炭化水素基又はヘテロ環基を表す。Qは水素原子、ハロ
ゲン原子、−OR14、−OCOR15、又は、−N
(R16)(R17)を表す(R14、R15は、各々炭化水素
基を表し、R16、R17は同じでも異なってもよく、各々
水素原子又は炭化水素基を表す)。nは0、1、2又は
3を表す。
In the general formula (6), R 10 is a hydroxyl group,
Represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group. Q represents a hydrogen atom, a halogen atom, —OR 14 , —OCOR 15 , or —N
(R 16 ) represents (R 17 ) (R 14 and R 15 each represent a hydrocarbon group, and R 16 and R 17 may be the same or different and each represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group). n represents 0, 1, 2 or 3.

【0058】一般式(6)中のR10の炭化水素基又はヘ
テロ環基とは、例えば炭素数1〜12の複数置換されて
もよい直鎖状もしくは分岐状のアルキル基{例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基、ドデシル基等であって、これらの基に置換す
る基としては、ハロゲン原子(塩素原子、フッ素原子、
臭素原子)、ヒドロキシル基、チオール基、カルボキシ
ル基、スルホ基、シアノ基、エポキシ基、−OR’基
(R’は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル
基、2−ヒドロキシエチル基、3−クロロプロピル基、
2−シアノエチル基、N,N−ジメチルアミノエチル
基、2−ブロモエチル基、2−(2−メトキシエチル)
オキシエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、3
−カルボキシプロピル基、ベンジル基等を示す)、−O
COR''基(R''は、前記R'と同一の内容を表す)、
−COOR''基、−COR''基、−N(R''')(R''')
(R''' は、水素原子又は前記R'と同一の内容を表
し、各々同じでも異なってもよい)、−NHCONH
R''基、−NHCOOR''基、−Si(R'')3基、−
CONHR'''基、−NHCOR''基などが挙げられ
る]、
The hydrocarbon group or heterocyclic group represented by R 10 in the general formula (6) is, for example, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted, for example, a methyl group , Ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group,
A decyl group, a dodecyl group, or the like, and a group substituting these groups includes a halogen atom (a chlorine atom, a fluorine atom,
Bromine atom, hydroxyl group, thiol group, carboxyl group, sulfo group, cyano group, epoxy group, -OR 'group (R' is methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl Group, decyl group,
Propenyl group, butenyl group, hexenyl group, octenyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-chloropropyl group,
2-cyanoethyl group, N, N-dimethylaminoethyl group, 2-bromoethyl group, 2- (2-methoxyethyl)
Oxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 3
-Carboxypropyl group, benzyl group, etc.), -O
A COR ″ group (R ″ represents the same content as R ′),
-COOR "group, -COR" group, -N (R "") (R "")
(R ′ ″ represents a hydrogen atom or the same content as R ′, and may be the same or different), —NHCONH
R "group, -NHCOOR" group, -Si (R ") 3 group,-
CONHR ′ ″ group, —NHCOR ″ group, etc.],

【0059】炭素数2〜12の置換されてもよい直鎖状
又は分岐状のアルケニル基(例えば、ビニル基、プロペ
ニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オ
クテニル基、デセニル基、ドデセニル基等であって、こ
れらの基に置換する基としては、前記アルキル基に置換
する基と同一の内容のものが挙げられる)、
A linear or branched alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, vinyl, propenyl, butenyl, pentenyl, hexenyl, octenyl, decenyl, dodecenyl, etc.) Wherein the group substituted with these groups includes those having the same contents as the groups substituted with the alkyl group.)

【0060】炭素数7〜14の置換されてもよいアラル
キル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチ
ル基等であって、これらの基に置換する基としては、前
記アルキル基に置換する基と同一の内容のものが挙げら
れ、又複数置換してもよい)、
Aralkyl groups having 7 to 14 carbon atoms which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, etc. Examples of the group include those having the same contents as the group substituted with the alkyl group, and may be substituted with a plurality of groups.)

【0061】炭素数5〜10の置換されてもよい脂環式
基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、2
−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル
基、ノルボニル基、アダマンチル基などであって、これ
らの基に置換する基としては、前記アルキル基の置換基
と同一の内容のものが挙げられ、また複数置換してもよ
い)、
An optionally substituted alicyclic group having 5 to 10 carbon atoms (for example, cyclopentyl, cyclohexyl, 2
-Cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, norbornyl group, adamantyl group and the like, examples of the group substituted with these groups include those having the same contents as the substituents of the alkyl group. May be used),

【0062】炭素数6〜12の置換してもよいアリール
基(例えばフェニル基、ナフチル基で、置換基としては
前記アルキル基に置換する基と同一の内容のものが挙げ
られ、又、複数置換してもよい)、又は、窒素原子、酸
素原子、イオウ原子から選ばれる少なくとも1種の原子
を含有する縮環してもよいヘテロ環基(例えば該ヘテロ
環としては、ピラン環、フラン環、チオフェン環、モル
ホリン環、ピロール環、チアゾール環、オキサゾール
環、ピリジン環、ピペリジン環、ピロリドン環、ベンゾ
チアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、テ
トラヒドロフラン環等で、置換基を含有してもよい。置
換基としては、前記アルキル基中の置換基と同一の内容
のものが挙げられ、又複数置換されてもよい)を表す。
An optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (for example, a phenyl group or a naphthyl group, examples of the substituent include those having the same contents as the above-mentioned groups substituted with the alkyl group. Or a condensed heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom (for example, a pyran ring, a furan ring, A thiophene ring, morpholine ring, pyrrole ring, thiazole ring, oxazole ring, pyridine ring, piperidine ring, pyrrolidone ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring, quinoline ring, tetrahydrofuran ring, etc., which may contain a substituent. Examples of the group include those having the same contents as the substituents in the alkyl group, and a plurality of groups may be substituted.

【0063】一般式(6)中のQの−OR14基、−OC
OR15基又は−N(R16)(R17)基の置換基として
は、例えば以下の置換基を表す。−OR14基において、
14は炭素数1〜10の置換されてもよい脂肪族基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
プチル基、ヘキシル基、ペンチル基、オクチル基、ノニ
ル基、デシル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘプテニ
ル基、ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基、2−
ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−
メトキシエチル基、2−(メトキシエチルオキソ)エチ
ル基、2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル基、2−
メトキシプロピル基、2−シアノエチル基、3−メチル
オキサプロピル基、2−クロロエチル基、シクロヘキシ
ル基、シクロペンチル基、シクロオクチル基、クロロシ
クロヘキシル基、メトキシシクロヘキシル基、ベンジル
基、フェネチル基、ジメトキシベンジル基、メチルベン
ジル基、ブロモベンジル基等が挙げられる)を表す。
In the general formula (6), -OR 14 group of Q, -OC
Examples of the substituent of the OR 15 group or -N (R 16) (R 17 ) group, for example, the following substituents. -OR 14 groups,
R 14 is an aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, pentyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, Propenyl, butenyl, heptenyl, hexenyl, octenyl, decenyl, 2-
Hydroxyethyl group, 2-hydroxypropyl group, 2-
Methoxyethyl group, 2- (methoxyethyloxo) ethyl group, 2- (N, N-diethylamino) ethyl group, 2-
Methoxypropyl group, 2-cyanoethyl group, 3-methyloxapropyl group, 2-chloroethyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, cyclooctyl group, chlorocyclohexyl group, methoxycyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, dimethoxybenzyl group, methyl Benzyl group, bromobenzyl group, etc.).

【0064】−OCOR15基において、R15は、R14
同一の内容の脂肪族基又は炭素数6〜12の置換されて
もよい芳香族基(芳香族基としては、前記R10中のアリ
ール基で例示したと同様のものが挙げられる)を表す。
又−N(R16)(R17)基において、R16、R17は、互
いに同じでも異なってもよく、各々、水素原子又は炭素
数1〜10の置換されてもよい脂肪族基(例えば、前記
の−OR14基のR14と同様の内容のものが挙げられる)
を表す。より好ましくは、R16とR17素数の総和が16
個以内である。一般式(6)で示されるシラン化合物の
具体例としては、以下のものが挙げられるが、これに限
定されるものではない。
In the —OCOR 15 group, R 15 is an aliphatic group having the same contents as R 14 or an aromatic group which may be substituted and has 6 to 12 carbon atoms (aromatic groups include the above-mentioned R 10 in R 10 ). And the same as those exemplified for the aryl group).
In the —N (R 16 ) (R 17 ) group, R 16 and R 17 may be the same or different from each other, and each may be a hydrogen atom or an optionally substituted aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms (eg, And those having the same contents as those of R 14 in the above-mentioned —OR 14 group)
Represents More preferably, the sum of R 16 and R 17 primes is 16
It is within the number. Specific examples of the silane compound represented by the general formula (6) include the following, but are not limited thereto.

【0065】テトラクロルシラン、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラ
ン、テトラ−n−プロピルシラン、メチルトリクロルシ
ラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、エチルトリクロルシラン、エチルトリメトキシ
シラン、エチルトリエトキシシラン、n−プロピルトリ
クロルシラン、n−プロピルトリブロムシラン、n−プ
ロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシ
シラン、n−デシルトリメトキシシラン、n−ヘキシル
トリクロルシラン、n−へキシルトリメトキシシラン、
n−へキシルトリエトキシシラン、フェニルトリクロル
シラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエ
トキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、ジメチル
ジクロルシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチル
ジエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、フェ
ニルメチルジメトキシシラン、トリエトキシヒドロシラ
ン、トリメトキシヒドロシラン、ビニルトリクロルシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピル
トリクロルシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタ
クリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
タクリロイルオキシプロピルトリt−ブトキシシラン、
γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチル
ジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエ
トキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、β
−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメト
キシシラン等が挙げられる。
[0065] Tetrachlorosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-propylsilane, methyltrichlorosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrichlorosilane, ethyltrimethoxysilane, Ethyltriethoxysilane, n-propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-decyltrimethoxysilane, n-hexyltrichlorosilane, n-hexyltri Methoxysilane,
n-hexyltriethoxysilane, phenyltrichlorosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane , Triethoxyhydrosilane, trimethoxyhydrosilane, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane Silane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ
Glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltri-t-butoxysilane,
γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, β
-(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and the like.

【0066】本発明の親水性層の無機親水性結着樹脂形
成に用いる一般式(6)で示されるシラン化合物ととも
に、Ti、Zn、Sn、Zr、Al等のゾル−ゲル変換
の際に樹脂に結合して成膜可能な金属化合物を併用する
ことができる。用いられる金属化合物として、例えば、
Ti(OR184(R18はメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等)、TiC
4、Zn(OR182、Zn(CH3COCHCOC
32、Sn(OR184、Sn(CH3COCHCOC
34、Sn(OCOR184、SnCl4、Zr(OR
1 84、Zr(CH3COCHCOCH34、Al(OR
183、Al(CH3COCHCOCH33等が挙げられ
る。
Inorganic hydrophilic binder resin type of hydrophilic layer of the present invention
With the silane compound represented by the general formula (6) used for the synthesis
Sol-gel conversion of Ti, Zn, Sn, Zr, Al, etc.
Use a metal compound that binds to the resin during film formation
be able to. As the metal compound used, for example,
Ti (OR18)Four(R18Represents a methyl group, an ethyl group,
Group, butyl group, pentyl group, hexyl group, etc.), TiC
lFour, Zn (OR18)Two, Zn (CHThreeCOCHCOC
HThree)Two, Sn (OR18)Four, Sn (CHThreeCOCHCOC
HThree)Four, Sn (OCOR18)Four, SnClFour, Zr (OR
1 8)Four, Zr (CHThreeCOCHCOCHThree)Four, Al (OR
18)Three, Al (CHThreeCOCHCOCHThree)ThreeEtc.
You.

【0067】更に、一般式(6)で示されるシラン化合
物、更には併用する前記の金属化合物の加水分解及び重
縮合反応を促進するために、酸性触媒又は塩基性触媒を
併用することが好ましい。
Further, in order to promote the hydrolysis and polycondensation reaction of the silane compound represented by the general formula (6) and the metal compound used in combination, it is preferable to use an acidic catalyst or a basic catalyst in combination.

【0068】触媒は、酸あるいは塩基性化合物をそのま
まか、あるいは水またはアルコールなどの溶媒に溶解さ
せた状態のもの(以下、それぞれ酸性触媒、塩基性触媒
という)を用いる。そのときの濃度については特に限定
しないが、濃度が濃い場合は加水分解、重縮合速度が速
くなる傾向がある。但し、濃度の濃い塩基性触媒を用い
ると、ゾル溶液中で沈殿物が生成する場合があるため、
塩基性触媒の濃度は1N(水溶液での濃度換算)以下が
望ましい。
As the catalyst, an acid or a basic compound may be used as it is or in a state of being dissolved in a solvent such as water or alcohol (hereinafter referred to as an acidic catalyst or a basic catalyst, respectively). The concentration at that time is not particularly limited, but when the concentration is high, the rate of hydrolysis and polycondensation tends to increase. However, if a concentrated basic catalyst is used, a precipitate may be formed in the sol solution,
The concentration of the basic catalyst is desirably 1 N (concentration conversion in an aqueous solution) or less.

【0069】酸性触媒あるいは塩基性触媒の種類は特に
限定されないが、濃度の濃い触媒を用いる必要がある場
合には、乾燥後の塗膜中にほとんど残留しないような元
素から構成される触媒がよい。具体的には、酸性触媒と
しては、塩酸などのハロゲン化水素、硝酸、硫酸、亜硫
酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢
酸などのカルボン酸、そのRCOOHで表される構造式
のRを他元素または置換基によって置換した置換カルボ
ン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸など、塩基
性触媒としては、アンモニア水などのアンモニア性塩
基、エチルアミンやアニリンなどのアミン類などが挙げ
られる。
The type of the acidic catalyst or the basic catalyst is not particularly limited, but when it is necessary to use a catalyst having a high concentration, a catalyst composed of an element which hardly remains in the dried coating film is preferable. . Specifically, acidic catalysts are represented by hydrogen halides such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, hydrogen peroxide, carbonic acid, carboxylic acids such as formic acid and acetic acid, and their RCOOH. Examples of basic catalysts include carboxylic acids such as substituted carboxylic acids in which R in the structural formula is substituted by other elements or substituents, sulfonic acids such as benzenesulfonic acid, and ammonia bases such as aqueous ammonia and amines such as ethylamine and aniline. Can be

【0070】以上述べたように、ゾル−ゲル法によって
作成される親水層は、本発明の平版印刷版用原版にとく
に好ましい。上記のゾル−ゲル法のさらに詳細は、作花
済夫「ゾル−ゲル法の科学」(株)アグネ承風社(刊)
(1988年)、平島碩「最新ゾル−ゲル法による機能
性薄膜作成技術」総合技術センター(刊)(1992
年)等の成書等に詳細に記述されている。
As described above, the hydrophilic layer formed by the sol-gel method is particularly preferable for the lithographic printing plate precursor according to the invention. For further details of the above sol-gel method, see Sakuhana Saio, "Science of the sol-gel method", Agne Shofusha Co., Ltd. (published)
(1988), Takashi Hirashima, "Functional thin film production technology by latest sol-gel method", General Technology Center (published) (1992)
It is described in detail in written documents such as year).

【0071】本発明の親水層は、感度を高めるため、光
を熱に変換する光熱変換剤を含有している。さらに、本
発明においては、光変換剤を後述の断熱層や水可溶性保
護層に含有させることもできる。かかる光熱変換剤とし
ては、700nm以上の光を吸収する物質であればよ
く、種々の金属微粒子、顔料、及び染料(色素とも呼
ぶ)を用いることができる。
The hydrophilic layer of the present invention contains a light-to-heat converting agent for converting light into heat in order to increase the sensitivity. Further, in the present invention, a light conversion agent may be contained in a heat insulating layer or a water-soluble protective layer described below. The photothermal conversion agent may be any substance that absorbs light of 700 nm or more, and various metal fine particles, pigments, and dyes (also referred to as pigments) can be used.

【0072】金属微粒子としては、A1、Si、Ti、
V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、
Zr、Mo、Ag、Au、Pt、Pd、Rh、In、S
n、W、Te、Pb、Ge、Re、Sbの単体または合
金もしくはそれらの酸化物、窒化物、硫化物もしくはア
ジド化物などで親水層の結着樹脂に分散し得るものを挙
げることができる。中でも、Fe、Ag、Au、Pt、
PdおよびCuの微粒子が特に好ましいものとして挙げ
られる。
As the metal fine particles, A1, Si, Ti,
V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y,
Zr, Mo, Ag, Au, Pt, Pd, Rh, In, S
Examples thereof include simple substances of n, W, Te, Pb, Ge, Re, and Sb, alloys thereof, and oxides, nitrides, sulfides, or azides thereof, which can be dispersed in the binder resin of the hydrophilic layer. Among them, Fe, Ag, Au, Pt,
Fine particles of Pd and Cu are particularly preferred.

【0073】顔料としては、市販の顔料及びカラーイン
デックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔
料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」
(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」
(CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が
利用できる。
Examples of pigments include commercially available pigment and color index (CI) handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), “Latest Pigment Application Technology”.
(CMC Publishing, 1986), "Printing Ink Technology"
(CMC Publishing, 1984) can be used.

【0074】顔料の種類としては、黒色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔
料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキ
サジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン
系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック、黒鉛(グラファイト)、骨炭(ボーンブ
ラック)等が使用できる。チタンブラック、鉄黒、モリ
ブデン赤、エメラルドグリーン、カドミウム赤、コバル
ト青、紺青、ウルトラマリンなどの名称で市販されてい
るものも使用できる。上記の中でも、カーボンブラック
が特に好ましい。
Examples of the types of pigments include black pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and polymer-bound pigments. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments Quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, graphite (graphite), bone charcoal (bone black), and the like. Those commercially available under the names of titanium black, iron black, molybdenum red, emerald green, cadmium red, cobalt blue, dark blue, ultramarine and the like can also be used. Among the above, carbon black is particularly preferred.

【0075】光熱変換剤として用いられる染料は、市販
の染料及び文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会
編集、昭和45年刊、「化学工業」1986年5月号
P.45〜51の「近赤外吸収色素」、「90年代機能
性色素の開発と市場動向」第2章2.3項(1990)
シーエムシー)又は特許に記載されている公知の染料が
利用できる。
Dyes used as the photothermal conversion agent are commercially available dyes and literatures (for example, "Ken Binran (Handbook of Dyes)" edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970, "Kagaku Kogyo", May 1986, p. Infrared absorbing dyes "," Developments and market trends of functional dyes in the 1990s ", Chapter 2, section 2.3 (1990)
Or known dyes described in Patents.

【0076】具体的には、ポリメチン色素、シアニン色
素、スクアリリウム色素、ピリリウム色素、ジインモニ
ウム色素、フタロシアニン化合物、トリアリールメタン
色素、金属ジチオレンから選ばれる染料である。これら
のうち更に好ましいものとしては、ポリメチン色素、シ
アニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム色素、ジ
インモニウム色素、フタロシアニン化合物であり、その
中でも合成適性の観点からポリメチン色素、シアニン色
素、フタロシアニン化合物が最も好ましい。上記した色
素は、水溶性基を分子内に有する水溶性染料であっても
よい。水溶性の染料が有する好ましい水溶性基として
は、スルホ基、カルボキシル基及びホスホン酸基を挙げ
ることができる。親水層用光熱変換剤として用いられる
染料の具体例を以下に示すが、これらに限定されるもの
ではない。
Specifically, it is a dye selected from a polymethine dye, a cyanine dye, a squarylium dye, a pyrylium dye, a diimmonium dye, a phthalocyanine compound, a triarylmethane dye, and a metal dithiolene. Of these, polymethine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium dyes, diimmonium dyes, and phthalocyanine compounds are more preferable. Among them, polymethine dyes, cyanine dyes, and phthalocyanine compounds are most preferable from the viewpoint of synthesis suitability. The dye described above may be a water-soluble dye having a water-soluble group in the molecule. Preferred water-soluble groups of the water-soluble dye include a sulfo group, a carboxyl group and a phosphonic acid group. Specific examples of the dye used as the photothermal conversion agent for the hydrophilic layer are shown below, but are not limited thereto.

【0077】[0077]

【化5】 Embedded image

【0078】[0078]

【化6】 Embedded image

【0079】[0079]

【化7】 Embedded image

【0080】親水層中に含まれる光熱変換剤の含有量
は、光熱変換剤の光吸収により発生する熱によって疎水
性化前駆体の近傍が熱融着を引き起こして疎水化するの
に足りる量であればよく、親水層固形分の2〜50%の
間で広く選択できる。この範囲内で親水層の膜強度を低
下させることなく良好な感度が得られる。
The content of the photothermal conversion agent contained in the hydrophilic layer is an amount sufficient for the vicinity of the hydrophobizing precursor to be thermally fused by the heat generated by the light absorption of the photothermal conversion agent to be hydrophobized. It can be selected widely from 2 to 50% of the solid content of the hydrophilic layer. Within this range, good sensitivity can be obtained without reducing the film strength of the hydrophilic layer.

【0081】本発明の親水層中には、上記の他に、感度
の向上、親水性の程度の制御、親水層の物理的強度の向
上、層を構成する組成物相互の分散性の向上、塗布性の
向上、印刷適性の向上、製版作業性の便宜上などの種々
の目的の添加物、例えば、親水性ゾル状微粒子、界面活
性剤、着色剤などを添加することができる。これらの添
加物には、例として以下のものが挙げられる。
In the hydrophilic layer of the present invention, in addition to the above, other than the above, improvement in sensitivity, control of the degree of hydrophilicity, improvement in the physical strength of the hydrophilic layer, improvement in the dispersibility of the compositions constituting the layer, Additives for various purposes such as improvement of coating property, improvement of printing suitability, and convenience of plate making operation, for example, hydrophilic sol-like fine particles, surfactant, and coloring agent can be added. These additives include, by way of example, the following:

【0082】親水性ゾル状微粒子としては、特に限定さ
れないが、好ましくはシリカゾル、アルミナゾル、酸化
マグネシウム、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウ
ムであり、これらは光熱変換性ではなくても親水性を助
長したり、ゾルゲル膜の強化などに用いることができ
る。より好ましくは、シリカゾル、アルミナゾル、アル
ギン酸カルシウムゾル又はこれらの混合物である。
The hydrophilic sol-shaped fine particles are not particularly limited, but are preferably silica sol, alumina sol, magnesium oxide, magnesium carbonate, and calcium alginate. It can be used for strengthening a film. More preferably, it is a silica sol, an alumina sol, a calcium alginate sol or a mixture thereof.

【0083】好ましい固形分としての含有量は、親水層
固形分の1.0〜70%,好ましくは5.0〜50%で
ある。また、光熱変換剤、疎水性化前駆体及び親水性ゾ
ル状微粒子の合計の添加量は、親水層の固形物成分の2
〜95%であり、好ましくは5〜85%である。
The content as a preferable solid content is 1.0 to 70%, preferably 5.0 to 50% of the hydrophilic layer solid content. The total addition amount of the photothermal conversion agent, the hydrophobizing precursor and the hydrophilic sol-like fine particles is 2% of the solid component of the hydrophilic layer.
~ 95%, preferably 5-85%.

【0084】シリカゾルは、表面に多くのヒドロキシル
基を持ち、内部はシロキサン結合(−Si−O−Si
−)を構成している。表面ヒドロキシル基によって粒子
径1〜100nmのシリカ超微粒子が、水もしくは、極
性溶媒中に分散した状態で存在するので、コロイダルシ
リカとも称されているものである。具体的には、加賀美
敏郎、林瑛監修「高純度シリカの応用技術」第3巻、
(株)シーエムシー(1991年)に記載されている。
The silica sol has many hydroxyl groups on the surface and has a siloxane bond (-Si-O-Si
-). Since ultrafine silica particles having a particle diameter of 1 to 100 nm are present in a state of being dispersed in water or a polar solvent due to surface hydroxyl groups, they are also called colloidal silica. Specifically, Toshiro Kaga and Ei Hayashi supervised “Applied Technology of High Purity Silica” Volume 3,
Co., Ltd. (1991).

【0085】又アルミナゾルは、5〜200nmのコロ
イドの大きさをもつアルミナ水和物(ベーマイト系)
で、水中の陰イオン(例えば、フッ素イオン、塩素イオ
ン等のハロゲン原子イオン、酢酸イオン等のカルボン酸
アニオン等)を安定剤として分散されたものである。
The alumina sol is an alumina hydrate (boehmite) having a colloidal size of 5 to 200 nm.
And an anion (for example, a halogen ion such as a fluorine ion or a chloride ion, or a carboxylate anion such as an acetate ion) in water is dispersed as a stabilizer.

【0086】上記親水性ゾル状微粒子は、平均粒径が1
0〜50nmのものが好ましいが、より好ましい平均粒
径は10〜40nmのものである。これら親水性ゾル状
微粒子は、いずれも、日産化学工業(株)などから市販
品として容易に入手できる。
The hydrophilic sol-like fine particles have an average particle size of 1
The average particle size is preferably from 0 to 50 nm, more preferably from 10 to 40 nm. All of these hydrophilic sol-like fine particles can be easily obtained as commercial products from Nissan Chemical Industries, Ltd. or the like.

【0087】本発明の平版印刷版用原板の親水層中に
は、印刷条件に対する安定性を拡げるため、ノニオン系
及びアニオン系界面活性剤のほか、特開平2−1953
56号公報に記載されているようなカチオン界面活性
剤、含フッ素界面活性剤、及び特開昭59−12104
4号及び特開平4−13149号公報に記載されている
両性界面活性剤を添加することができる。
In the hydrophilic layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, in addition to nonionic and anionic surfactants, in order to enhance stability under printing conditions, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-1953
No. 56, cationic surfactants, fluorine-containing surfactants, and JP-A-59-12104.
No. 4 and JP-A-4-13149 can be added.

【0088】ノニオン界面活性剤の具体例としては、ポ
リオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレ
ンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエー
テル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリ
オキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレ
ンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンア
ルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリ
オキシプロピレンブロックコポリマー類、さらにポリオ
キシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマ
ーの端末のヒドロキシル基に炭素数5〜24の脂肪族基
がエーテル結合した複合ポリオキシアルキレンアルキル
エーテル類、同じくアルキル置換アリール基がエーテル
結合した複合ポリオキシアルキレンアルキルアリールエ
ーテル類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノ
ステアレート、ソルビタントリステアレート、ソルビタ
ンモノパルミテート、ソルビタンモノオレート、ソルビ
タントリオレートなどのソルビタン脂肪酸エステル類、
ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオ
キシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシ
エチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチ
レンソルビタントリステアレート、ポリオキシエチレン
ソルビタントリオレートなどのポリオキシエチレンソル
ビタン脂肪酸エステル類などが挙げられる。
Specific examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene cetyl ether and polyoxyethylene oleyl ether, and polyoxyethylene nonylphenyl. Polyoxyethylene alkylaryl ethers such as ethers, polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers, and aliphatic groups having 5 to 24 carbon atoms are ether-bonded to the terminal hydroxyl groups of the polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymer. Complex polyoxyalkylene alkyl ethers, also complex polyoxyalkylene alkyl aryl ethers having alkyl-substituted aryl groups ether-bonded, sorby Emissions monolaurate, sorbitan monostearate, sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan monooleate, sorbitan fatty acid esters such as sorbitan trioleate,
Polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyoxyethylene sorbitan monopalmitate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyoxyethylene sorbitan tristearate, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters such as polyoxyethylene sorbitan triolate and the like. Can be

【0089】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン
やN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商
品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。
Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N , N-betaine type (for example, trade name Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.) and the like.

【0090】アニオン系活性剤の具体例としては、アル
キルスルホン酸類、アリールスルホン酸類、脂肪族カル
ボン酸類、アルキルナフタレンスルホン酸類、アルキル
ナフタレンスルホン酸又はナフタレンスルホン酸とホル
ムアルデヒドの縮合型のもの、炭素数9〜26の脂肪族
スルホン酸類、アルキルベンゼンスルホン酸類、ラウリ
ルポリオキシエチレン硫酸、セチルポリオキシエチレン
スルホン酸、オレイルポリオキシエチレンホスホン酸な
どのポリオキシエチレン含有硫酸やポリオキシエチレン
含有燐酸などが挙げられる。
Specific examples of anionic surfactants include alkylsulfonic acids, arylsulfonic acids, aliphatic carboxylic acids, alkylnaphthalenesulfonic acids, alkylnaphthalenesulfonic acids or condensation type of naphthalenesulfonic acid and formaldehyde, and those having 9 carbon atoms. To 26-26 aliphatic sulfonic acids, alkylbenzene sulfonic acids, polyoxyethylene-containing sulfuric acid such as lauryl polyoxyethylene sulfate, cetyl polyoxyethylene sulfonic acid, oleyl polyoxyethylene phosphonic acid, and polyoxyethylene-containing phosphoric acid.

【0091】カチオン活性剤の具体例としては、ラウリ
ルアミンアセテート、ラウリルトリメチルアンモニウム
クロリド、ジステアリルジメチルアンモニウムクロリ
ド、アルキルベンジルジメチルアンモニウムクロリドな
どが挙げられる。
Specific examples of the cationic activator include laurylamine acetate, lauryltrimethylammonium chloride, distearyldimethylammonium chloride, alkylbenzyldimethylammonium chloride and the like.

【0092】親水層には、場合によりさらに、上記の界
面活性剤の添加量の範囲内でフッ素系の界面活性剤を用
いることもできる。具体的にはパーフルオロアルキル基
を有する界面活性剤が好ましく、カルボン酸、スルホン
酸、硫酸エステル及びリン酸エステルのいづれかを有す
るアニオン型の界面活性剤、又は、脂肪族アミン、第4
級アンモニウム塩のようなカチオン型の界面活性剤、又
はベタイン型の両性界面活性剤、又は、ポリオキシ化合
物の脂肪族エステル、ポリアルキレンオキシド縮合型、
ポリエチレンイミン縮合型のようなノニオン型界面活性
剤などが挙げられる。
In the hydrophilic layer, a fluorine-based surfactant may be further used in the range of the amount of the above-mentioned surfactant. Specifically, a surfactant having a perfluoroalkyl group is preferable, and an anionic surfactant having any of carboxylic acid, sulfonic acid, sulfate ester and phosphate ester, or an aliphatic amine,
Cationic surfactants such as quaternary ammonium salts, or betaine-type amphoteric surfactants, or aliphatic esters of polyoxy compounds, polyalkylene oxide condensation type,
Nonionic surfactants such as polyethyleneimine condensed type are exemplified.

【0093】上記界面活性剤の親水層全固形物中に占め
る割合は、0.05〜15%が好ましく、より好ましく
は0.1〜5%である。
The proportion of the above surfactant in the total solid content of the hydrophilic layer is preferably from 0.05 to 15%, more preferably from 0.1 to 5%.

【0094】〔断熱層〕本発明の平版印刷用原板には必
須ではないが、支持体と親水層の間に断熱層を設けるこ
とが好ましい。以下に、断熱層について説明する。感光
層の下層として設けられている断熱層は、熱伝導率が低
く支持体への熱拡散を抑制する機能を有する層である。
さらに、断熱層には、光熱変換剤を含有させることもで
き、その場合には光照射によって発熱して熱融着感度の
向上に寄与する。
[Heat Insulating Layer] Although not essential for the lithographic printing plate of the present invention, it is preferable to provide a heat insulating layer between the support and the hydrophilic layer. Hereinafter, the heat insulating layer will be described. The heat-insulating layer provided as a lower layer of the photosensitive layer is a layer having a low thermal conductivity and a function of suppressing heat diffusion to the support.
Further, the heat insulating layer may contain a photothermal conversion agent. In this case, heat is generated by light irradiation, which contributes to improvement of the heat fusion sensitivity.

【0095】このような断熱層は、有機性又は無機性の
樹脂を主成分として含有する。有機性又は無機性の樹脂
は、親水性あるいは、疎水性のものから広く選択するこ
とができる。
Such a heat insulating layer contains an organic or inorganic resin as a main component. The organic or inorganic resin can be widely selected from hydrophilic or hydrophobic resins.

【0096】例えば、疎水性を有する樹脂としてはポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアミ
ド、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ピニリデン樹
脂、ポリビニルブチラール樹脂、ニトロセルロース、ポ
リアクリレート、ポリメタクリレート、ポリカーボネー
ト、ポリウレタン、ポリスチレン、塩化ビニル樹脂−酢
酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルア
ルコール共重合体、塩化ビニル−樹脂ビニル−マレイン
酸共重合体、塩化ビニル−アクリレート共重合体、ポリ
塩化ビニリデン、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共
重合体などが挙げられる。
For example, examples of the hydrophobic resin include polyethylene, polypropylene, polyester, polyamide, acrylic resin, vinyl chloride resin, pinylidene chloride resin, polyvinyl butyral resin, nitrocellulose, polyacrylate, polymethacrylate, polycarbonate, polyurethane, polystyrene, and the like. Vinyl chloride resin-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride-resin vinyl-maleic acid copolymer, vinyl chloride-acrylate copolymer, polyvinylidene chloride, vinylidene chloride-acrylonitrile And copolymers.

【0097】本発明では、疎水性を有する樹脂は、水性
エマルジョンから構成されたものも用いることができ
る。水性エマルジョンの具体例としては、ビニル系ポリ
マーラテックス(ポリアクリレート系、酢酸ビニル系、
エチレン−酢酸ビニル系など)、共役シエン系ポリマー
ラテックス(メタクリル酸メチル−ブタジエン系、スチ
レン−ブタジエン系、アグリロニトリル−プブタジエン
系、クロロプレン系など)及びポリウレタン樹脂などが
挙げられる。
In the present invention, as the resin having hydrophobicity, a resin composed of an aqueous emulsion can be used. Specific examples of the aqueous emulsion include vinyl polymer latex (polyacrylate, vinyl acetate,
Ethylene-vinyl acetate-based), conjugated cyanene-based polymer latex (methyl methacrylate-butadiene-based, styrene-butadiene-based, aggrynitrile-butadiene-based, chloroprene-based, etc.), and polyurethane resin.

【0098】次に、親水性を有する樹脂としては、具体
的には、ポリビニルアルコール(PVA),カルボキシ
変性PVA等の変性PVA,澱粉及びその誘導体、カル
ボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース
のようなセルロース誘導体、アルギン酸アンモニウム、
ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩、ポリエチレンオキ
サイド、水溶性ウレタン樹脂、水溶性ポリエステル樹
脂、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレン
グリコールジアクリレート系ポリマー、N−ビニルカル
ボン酸アミドポリマー、カゼイン、ゼラチン、ポリビニ
ルピロリドン、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、スチ
レン−マレイン酸共重合体等の水溶性樹脂などが挙げら
れる。
Next, examples of the hydrophilic resin include polyvinyl alcohol (PVA), modified PVA such as carboxy-modified PVA, starch and derivatives thereof, cellulose derivatives such as carboxymethylcellulose and hydroxyethylcellulose, and alginic acid. Ammonium,
Polyacrylic acid, polyacrylate, polyethylene oxide, water-soluble urethane resin, water-soluble polyester resin, polyhydroxyethyl acrylate, polyethylene glycol diacrylate polymer, N-vinyl carboxylic acid amide polymer, casein, gelatin, polyvinyl pyrrolidone, acetic acid Water-soluble resins such as vinyl-crotonic acid copolymer and styrene-maleic acid copolymer are exemplified.

【0099】上記親水性を有する樹脂は架橋し、硬化し
て用いることが好ましく、架橋剤としては、親水層に用
いられる前記の架橋剤を使用することができる。
The above-mentioned hydrophilic resin is preferably crosslinked and cured before use. As the crosslinker, the above-mentioned crosslinker used for the hydrophilic layer can be used.

【0100】さらに、無機高分子としては、ゾルゲル変
換によって形成される無機マトリックスが好ましい。具
体的には、前述の親水層に好適なゾルゲル変換系と同じ
ものを用いることができる。
Further, as the inorganic polymer, an inorganic matrix formed by sol-gel conversion is preferable. Specifically, the same sol-gel conversion system suitable for the above-mentioned hydrophilic layer can be used.

【0101】これらの断熱層に用いられる樹脂の中で、
親水層との接着性の観点から、とくに親水性の樹脂が好
ましい。
Among the resins used for these heat insulating layers,
From the viewpoint of adhesion to the hydrophilic layer, a hydrophilic resin is particularly preferable.

【0102】断熱層中には光熱変換剤を含有させること
ができるが、その光熱変換剤としては、前記した親水層
に用いた光熱変換剤と同じ物質を使用することができ
る。断熱層の光熱変換剤の含有量は、断熱層固形分の2
〜95%の間で広く選択できる。
The heat-insulating layer can contain a light-to-heat converting agent. As the light-to-heat converting agent, the same substance as the light-to-heat converting agent used in the hydrophilic layer can be used. The content of the light-to-heat conversion agent in the heat insulating layer is 2% of the solid content of the heat insulating layer.
You can choose widely from ~ 95%.

【0103】断熱層には、上記した樹脂及び光熱変換剤
のほかに、断熱層の物理的強度の向上、層を構成する組
成物相互の分散性の向上、塗布性の向上、親水層との接
着性向上などの理由で、種々の目的の添加物、例えば親
水性ゾル状微粒子、界面活性剤などを添加することがで
きる。親水性ゾル状微粒子および界面活性剤は、前述し
た親水層に添加するものと同様なものを、同じ添加量の
範囲で用いることができる。
[0103] In addition to the above-mentioned resin and light-to-heat conversion agent, the heat-insulating layer may have an improved physical strength of the heat-insulating layer, an improved dispersibility between the constituent components of the layer, an improved applicability, and a hydrophilic layer. Additives for various purposes, for example, hydrophilic sol-like fine particles, a surfactant and the like can be added for reasons such as improvement in adhesion. The same hydrophilic sol fine particles and surfactant as those added to the hydrophilic layer described above can be used in the same amount range.

【0104】〔水可溶性の保護層〕本発明の平版印刷原
板は、親水層が最表面である場合は、原板が製品形態で
輸送されたり、保管されたりする際、あるいは使用前の
取り扱いの際、環境の雰囲気の影響によって疎水性化し
たり、温湿度の影響を受けたり、あるいは機械的な傷な
ど又は汚れなどの影響を受けやすい。これを防止するた
めに、本発明の平版印刷用原板では水可溶性の表面保護
層を設けることができる。水可溶性の保護層は、水溶性
高分子を主成分としているため、印刷の初期の段階で湿
し水に溶解して洗い去られるので、特に除去の手間をか
ける必要はなく、印刷の支障にはならない。以下水溶性
の保護層に含有される成分について説明する。
[Water-soluble protective layer] When the hydrophilic layer is the outermost surface, the lithographic printing original plate of the present invention is used when the original plate is transported or stored in a product form, or when it is handled before use. It is susceptible to hydrophobization due to the influence of the environment atmosphere, temperature and humidity, mechanical scratches and dirt. In order to prevent this, the lithographic printing plate precursor of the present invention can be provided with a water-soluble surface protective layer. Since the water-soluble protective layer is mainly composed of a water-soluble polymer, it is dissolved in dampening water at the initial stage of printing and can be washed away. Not be. Hereinafter, the components contained in the water-soluble protective layer will be described.

【0105】水可溶性保護層に用いる水溶性高分子とし
ては、例えばヒドロキシル基、カルボキシル基、塩基性
窒素含有基等の基を十分に有する高分子が挙げられる。
具体的には、ポリビニルアルコール(PVA)、カルボ
キシ変性PVA等の変性PVA、アラビアガム、ポリア
クリルアミド及びその共重合体、ポリアクリル酸、アク
リル酸共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン
酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、ス
チレン/無水マレイン酸共重合体、焙焼デキストリン、
酸素分解デキストリン、酵素分解エーテル化デキストリ
ン、澱粉及びその誘導体、カルボキシメチルセルロー
ス、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース、
ヒドロキシエチルセルロースのようなセルロース誘導
体、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、酢酸
ビニル−クロトン酸共重合体、スチレン−マレイン酸共
重合体、アルギン酸及びそのアルカリ金属塩、アルカリ
土類金属塩又はアンモニウム塩、ポリ(エチレンオキサ
イド)、水溶性ウレタン樹脂、水溶性ポリエステル樹
脂、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレン
グリコール、ポリプロピレングリコール、N−ビニルカ
ルボン酸アミドポリマー等が挙げられる。なかでも、ポ
リビニルアルコール(PVA)、カルボキシ変性PVA
等の変性PVA、アラビアガム、ポリアクリルアミド、
ポリアクリル酸、アクリル酸共重合体、ポリビニルピロ
リドン、アルギン酸及びそのアルカリ金属塩の使用が好
ましい。
As the water-soluble polymer used for the water-soluble protective layer, for example, a polymer having a sufficient group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, or a basic nitrogen-containing group can be used.
Specifically, polyvinyl alcohol (PVA), modified PVA such as carboxy-modified PVA, gum arabic, polyacrylamide and its copolymer, polyacrylic acid, acrylic acid copolymer, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer , Vinyl acetate / maleic anhydride copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, roasted dextrin,
Oxygen-decomposed dextrin, enzyme-decomposed etherified dextrin, starch and its derivatives, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose,
Cellulose derivatives such as hydroxyethylcellulose, casein, gelatin, polyvinylpyrrolidone, vinyl acetate-crotonic acid copolymer, styrene-maleic acid copolymer, alginic acid and its alkali metal salts, alkaline earth metal salts or ammonium salts, poly ( Ethylene oxide), water-soluble urethane resin, water-soluble polyester resin, polyhydroxyethyl acrylate, polyethylene glycol, polypropylene glycol, N-vinyl carboxylic acid amide polymer and the like. Above all, polyvinyl alcohol (PVA), carboxy-modified PVA
Such as modified PVA, gum arabic, polyacrylamide,
Preference is given to using polyacrylic acid, acrylic acid copolymers, polyvinylpyrrolidone, alginic acid and their alkali metal salts.

【0106】保護層塗布液中の水溶性樹脂の含有量は、
3〜25%が適当であり、好ましい範囲は10〜25%
である。なお、本発明においては上記水溶性樹脂を2種
以上混合使用してもよい。
The content of the water-soluble resin in the coating solution for the protective layer is as follows:
3 to 25% is appropriate, and a preferable range is 10 to 25%.
It is. In the present invention, two or more of the above water-soluble resins may be used in combination.

【0107】保護層の塗布液には、界面活性剤を添加し
てもよい。使用できる界面活性剤としてはアニオン界面
活性剤又はノニオン界面活性剤が挙げられる。具体例と
しては、前記の親水層に用いられる界面活性剤と同じも
のを用いることができる。界面活性剤の添加量は、好ま
しくは保護層の固形分の0.01〜1%であり、更に好
ましくは0.05〜0.5%である。
A surfactant may be added to the coating solution for the protective layer. Surfactants that can be used include anionic or nonionic surfactants. As a specific example, the same surfactant as that used for the hydrophilic layer can be used. The addition amount of the surfactant is preferably 0.01 to 1% of the solid content of the protective layer, and more preferably 0.05 to 0.5%.

【0108】さらに必要により湿潤剤としてグリセリ
ン、エチレングリコール、トリエチレングリコール等の
低級多価アルコールも添加することができる。これら湿
潤剤の使用量は保護層中に0.1〜5.0%が適当であ
り、さらに好ましい範囲は0.5〜3.0%である。
If necessary, lower polyhydric alcohols such as glycerin, ethylene glycol and triethylene glycol can be added as wetting agents. The use amount of these wetting agents is suitably 0.1 to 5.0% in the protective layer, and a more preferable range is 0.5 to 3.0%.

【0109】以上の他に保護層の塗布液には、防腐剤や
消泡剤を添加することができる。防腐剤としては、例え
ば安息香酸及びその誘導体、フェノール、ホルマリン、
デヒドロ酢酸ナトリウム等を0.005〜2.0%の範
囲で添加できる。好ましい消泡剤には有機シリコーン化
合物が含まれ、その添加量は0.0001〜0.1%の
範囲が好ましい。
In addition to the above, a preservative and an antifoaming agent can be added to the coating solution for the protective layer. As preservatives, for example, benzoic acid and its derivatives, phenol, formalin,
Sodium dehydroacetate or the like can be added in the range of 0.005 to 2.0%. Preferred antifoaming agents include an organic silicone compound, and the amount of addition is preferably in the range of 0.0001 to 0.1%.

【0110】また、水可溶性の保護層には、光熱変換剤
を添加してもよい。光熱変換剤としては、親水層に用い
ることができる前記の光熱変換剤を、保護層固形分の2
〜50%の添加量範囲で使用することができる。
Further, a light-to-heat conversion agent may be added to the water-soluble protective layer. As the light-to-heat conversion agent, the light-to-heat conversion agent that can be used for the hydrophilic layer is the same as the solid matter of the protective layer.
It can be used in an addition amount range of 5050%.

【0111】〔塗布〕上記した親水層、断熱層、保護層
は、それぞれ各構成成分を混合し、調整された塗布液を
支持体上に、従来公知の塗布方法のいずれかを用いて、
塗布・乾燥し、塗布層を形成する。塗布する方法として
は、公知の種々の方法を用いることができるが、例え
ば、バーコター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテ
ン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗
布、ロール塗布等を挙げることができる。
[Coating] The hydrophilic layer, the heat-insulating layer and the protective layer described above were prepared by mixing the respective constituent components and applying a prepared coating solution to a support by using any of the conventionally known coating methods.
Coating and drying to form a coating layer. As a method of coating, various known methods can be used, and examples thereof include bar coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. .

【0112】塗布、乾燥後に得られる各層の塗布量(固
形分)は、用途によって異なるが、一般的な平版印刷版
用原板についていえば、親水層では0.1〜30g/m
2が好ましく、0.3〜10g/m2がより好ましい。断
熱層では、0.1〜10g/m2が好ましく、0.3〜
5g/m2がより好ましい。保護層では、0.1〜5g
/m2が好ましく、0.2〜3g/m2がより好ましい。
塗布は、通常、断熱層、親水層、保護層の順序で行われ
る。
The coating amount (solid content) of each layer obtained after coating and drying varies depending on the application, but for a general lithographic printing plate precursor, 0.1 to 30 g / m 2 for the hydrophilic layer.
2 is preferred, and 0.3 to 10 g / m 2 is more preferred. In the heat insulating layer, 0.1 to 10 g / m 2 is preferable, and 0.3 to
5 g / m 2 is more preferred. 0.1 to 5 g for the protective layer
/ M 2 is preferable, 0.2 to 3 g / m 2 is more preferable.
The application is usually performed in the order of a heat insulating layer, a hydrophilic layer, and a protective layer.

【0113】[支持体]つぎに親水層または断熱層を塗設
する支持体について述べる。支持体には、寸度的に安定
な板状物が用いられる。本発明に用いることができる支
持体としては、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートさ
れた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、ニ
ッケル、ステンレス鋼等)、プラスチックフィルム(例
えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオ
ン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロー
ス、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカー
ボネート、ポリビニルアセタール等)、上記の金属がラ
ミネート又は蒸着された紙もしくはプラスチックフィル
ム等が含まれる。
[Support] Next, a support on which a hydrophilic layer or a heat insulating layer is provided will be described. A dimensionally stable plate is used for the support. Examples of the support that can be used in the present invention include paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, nickel, stainless steel, etc.), plastic Films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and the above metals are laminated or deposited Paper or plastic film.

【0114】好ましい支持体は、ポリエステルフィル
ム、アルミニウム、又は印刷版上で腐食しにくいSUS
鋼板であり、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価
であるアルミニウム板が好ましい。好適なアルミニウム
板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分と
し、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウ
ムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィル
ムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、
ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜
鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の
異元素の含有量は高々10%以下である。本発明におい
て特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムである
が、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難
であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。こ
のように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組
成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材
のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発
明で用いられる支持体の厚みはおよそ0.05mm〜
0.6mm程度、好ましくは0.1mm〜0.4mm、
特に好ましくは0.15mm〜0.3mmである。
Preferred supports are polyester film, aluminum, or SUS which is not easily corroded on a printing plate.
It is a steel plate, and among them, an aluminum plate having good dimensional stability and relatively low cost is preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include:
Silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% or less. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the support used in the present invention is approximately 0.05 mm to
About 0.6 mm, preferably 0.1 mm to 0.4 mm,
Particularly preferably, it is 0.15 mm to 0.3 mm.

【0115】アルミニウム板は使用するに先立ち、表面
の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤
またはアルカリ性水溶液などによる脱脂処理、次いで表
面の粗面化、陽極酸化等の表面処理をすることが好まし
い。表面処理により、親水層との接着性の確保が容易に
なる。
Prior to use, the aluminum plate is subjected to a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an aqueous alkaline solution to remove rolling oil on the surface, and then a surface treatment such as surface roughening and anodic oxidation. Is preferred. The surface treatment facilitates securing the adhesiveness to the hydrophilic layer.

【0116】アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化
学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械
的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラス
ト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることが
できる。化学的方法としては、特開昭54−31187
号公報に記載されているような鉱酸のアルミニウム塩の
飽和水溶液に浸漬する方法が適している。また、電気化
学的な粗面化法としては塩酸または硝酸などの酸を含む
電解液中で交流または直流により行う方法がある。ま
た、特開昭54−63902号に開示されているように
混合酸を用いた電解粗面化方法も利用することができ
る。このような粗面化方法のうち、特に特開昭55−1
37993号公報に記載されているような機械的粗面化
と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法が、感脂性画
像の支持体への接着力が強いので好ましい。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is carried out by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of chemically surface roughening. Is selectively dissolved. As a mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used. The chemical method is described in JP-A-54-31187.
The method of immersion in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-157, 1988 is suitable. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of carrying out an alternating current or a direct current in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Also, an electrolytic surface roughening method using a mixed acid as disclosed in JP-A-54-63902 can be used. Among such surface roughening methods, in particular, JP-A-55-1
A surface roughening method combining mechanical surface roughening and electrochemical surface roughening as described in 37993 is preferable because the adhesive force of the oil-sensitive image to the support is strong.

【0117】上記の如き方法による粗面化は、アルミニ
ウム板の表面の中心線表面粗さ(Ra)が0.3〜1.
0μmとなるような範囲で施されることが好ましい。粗
面化されたアルミニウム板は必要に応じて水酸化カリウ
ムや水酸化ナトリウムなどの水溶液を用いてアルカリエ
ッチング処理がされ、さらに中和処理された後、所望に
より耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。
The surface roughening by the above-mentioned method is performed when the center line surface roughness (Ra) of the surface of the aluminum plate is 0.3-1.
It is preferable that the coating be performed within a range of 0 μm. The roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide or sodium hydroxide as necessary, and further neutralized, and then, if necessary, anodized to enhance abrasion resistance. Processing is performed.

【0118】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電
解質の使用が可能で、一般的には硫酸、塩酸、蓚酸、ク
ロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電
解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes for forming a porous oxide film can be used. Generally, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. Can be The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0119】陽極酸化の処理条件は、用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が1〜80%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間1
0秒〜5分の範囲であれば適当である。
The anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte to be used and cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 70%. 60A / dm 2 , voltage 1-100V, electrolysis time 1
A range of 0 seconds to 5 minutes is appropriate.

【0120】形成される酸化皮膜量は、1.0〜5.0
g/m2、特に1.5〜4.0g/m2であることが好ま
しい。陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2より少ないと
耐刷性が不十分であったり、傷が付き易くなる。
The amount of the formed oxide film is 1.0 to 5.0.
g / m 2, it is particularly preferably 1.5 to 4.0 g / m 2. If the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability will be insufficient or the film will be easily scratched.

【0121】これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英
国特許第1,412,768号公報に記載されている硫
酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第
3,511,661号公報に記載されている燐酸を電解
浴として陽極酸化する方法が好ましい。
Among these anodic oxidation treatments, in particular, a method of anodic oxidation at a high current density in sulfuric acid described in British Patent No. 1,412,768 and US Pat. No. 3,511,661. The method of anodizing using phosphoric acid as an electrolytic bath described in above is preferable.

【0122】断熱層が疎水性を有する樹脂の場合は、支
持体表面を疎水性化することが望ましい。支持体表面の
疎水性化処理は、たとえばシランカップリング剤や、場
合によってはチタンカップリング剤を含んだ下塗り液を
塗布することによって行われる。シランカップリング剤
はおもに一般式(R21O)3SiR22(R21,R22はア
ルキル基や置換アルキル基)で表され、R21O基は加水
分解してOH基となって支持体表面とエーテル結合で結
合し、R22基がインキを受容する疎水性の表面を提供す
る。
When the heat insulating layer is a resin having hydrophobicity, it is desirable to make the surface of the support hydrophobic. The surface of the support is made hydrophobic by applying an undercoat liquid containing, for example, a silane coupling agent or, in some cases, a titanium coupling agent. The silane coupling agent is mainly represented by the general formula (R 21 O) 3 SiR 22 (R 21 and R 22 are an alkyl group or a substituted alkyl group), and the R 21 O group is hydrolyzed to an OH group to form an OH group. bound at the surface and an ether bond, R 22 group provides a hydrophobic surface for receiving ink.

【0123】シランカップリング剤としては、γ−クロ
ロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メ
トキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロイルオキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリコキシドキシピロ
ピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、γ−メルカプトトリメトキシシラン、γ−
ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミ
ノエチル)−(β−アミノプロピル)ジメトキシシラン
などが挙げられる。プラスチック支持体の場合は、親水
層との密着性を確保するためには、塗布の前に公知の方
法でコロナ帯電処理が施される。
Examples of the silane coupling agent include γ-chloropropyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycoxydoxysilane. Propyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptotrimethoxysilane, γ-
Ureidopropyltriethoxysilane, N- (β-aminoethyl)-(β-aminopropyl) dimethoxysilane and the like. In the case of a plastic support, in order to ensure adhesion to the hydrophilic layer, a corona charging treatment is performed by a known method before coating.

【0124】〔製版および印刷〕本発明の平版印刷用原
板は熱により画像形成される。具体的には、熱記録ヘッ
ド等による直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露
光、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外
線ランプ露光などが用いられるが、波長700〜120
0nmの赤外線を放射する半導体レーザ、YAGレーザ
等の固体高出力赤外線レーザによる露光が好適である。
[Plate Making and Printing] The lithographic printing original plate of the present invention forms an image by heat. Specifically, direct image-like recording using a thermal recording head or the like, scanning exposure using an infrared laser, high-illuminance flash exposure such as a xenon discharge lamp, or infrared lamp exposure is used.
Exposure with a solid-state high-output infrared laser such as a semiconductor laser or a YAG laser that emits 0-nm infrared light is preferable.

【0125】本発明の平版印刷用原板は、レーザー出力
が0.1〜300Wのレーザーで照射をすることができ
る。また、パルスレーザーを用いる場合には、ピーク出
力が1000W、好ましくは2000Wのレーザーを照
射するのが好ましい。この場合の露光量は、印刷用画像
で変調する前の面露光強度が0.1〜10J/cm2
範囲であることが好ましく、0.3〜1J/cm2の範
囲であることがより好ましい。支持体が透明である場合
は、支持体の裏側から支持体を通して露光することもで
きる。
The original plate for lithographic printing of the present invention can be irradiated with a laser having a laser output of 0.1 to 300 W. When a pulse laser is used, it is preferable to irradiate a laser having a peak output of 1000 W, preferably 2000 W. In this case, the exposure amount is preferably in the range of 0.1 to 10 J / cm 2 , more preferably in the range of 0.3 to 1 J / cm 2 , before the surface exposure intensity is modulated in the print image. preferable. If the support is transparent, it can be exposed through the support from the back side of the support.

【0126】画像露光された本発明の平版印刷用原板
は、それ以上の処理なしに印刷機に装着し、インキと湿
し水を用いて通常の手順で印刷することができる。ま
た、これらの平版印刷用原板は、印刷機シリンダー上に
取りつけた後に、印刷機に搭載されたレーザーにより露
光し、そのままインキと湿し水を用いて通常の手順で印
刷することができる。すなわち、本発明の平版印刷用原
板は、露光後、特に現像処理を経ることなく無処理で印
刷を開始できる。
The lithographic printing plate precursor of the present invention, which has been image-exposed, can be mounted on a printing press without any further processing, and can be printed by an ordinary procedure using ink and fountain solution. Also, after these lithographic printing original plates are mounted on a printing press cylinder, they can be exposed by a laser mounted on the printing press, and can be printed as they are using ink and fountain solution in a normal procedure. That is, the lithographic printing original plate of the present invention can start printing without exposure after exposure, without any particular development processing.

【0127】[0127]

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
The present invention will be described below in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0128】微粒子作製例1[シェル部にアンモニウム
基含有のコアシェル微粒子1] 反応容器に液状エポキシ樹脂DER333(ダウケミカ
ル社製触媒添加エポキシ樹脂、エポキシ当量約200)
105gにビスフエノールA54gを加え撹拌しながら
約2時間かけて190℃に加熱し、さらにこの温度で2
時間保持した。この反応生成物はエポキシ当量約300
0のエポキシ樹脂となった。ついで反応容器に還流冷却
器を付け、系内を密閉した後、n―ブタノール153g
をポンプを用いて注入して上記エポキシ樹脂の溶液を
得、これを117℃に保持した。
Fine particle preparation example 1 [Core-shell fine particles 1 containing an ammonium group in the shell part] A liquid epoxy resin DER333 (a catalyst-added epoxy resin manufactured by Dow Chemical Co., epoxy equivalent: about 200) was placed in a reaction vessel.
To 105 g, 54 g of bisphenol A was added and heated to 190 ° C. over about 2 hours with stirring.
Hold for hours. The reaction product has an epoxy equivalent of about 300
0 was obtained. Then, a reflux condenser was attached to the reaction vessel, and the inside of the system was sealed. Then, 153 g of n-butanol was added.
Was injected using a pump to obtain a solution of the epoxy resin, which was kept at 117 ° C.

【0129】別の容器にメタクリル酸25g、スチレン
15g、メチルメタクリレート15g、過酸化ベンゾイ
ル4.6g及びアクリロイルオキシエチルトリメチルア
ンモニウムクロリド10gを入れて混合した。このモノ
マー混合物を、上記エポキシ樹脂溶液に180分間にわ
たり一定速度で添加した。反応温度は116〜117℃
に維持し、上記モノマー混合物の添加が終わってから、
さらに3時間そのまま撹拌を続けた。反応生成物はn―
ブタノールに分散され半濁状になっていた。
In another container, 25 g of methacrylic acid, 15 g of styrene, 15 g of methyl methacrylate, 4.6 g of benzoyl peroxide and 10 g of acryloyloxyethyltrimethylammonium chloride were mixed. This monomer mixture was added to the epoxy resin solution at a constant rate over 180 minutes. The reaction temperature is 116-117 ° C
, And after the addition of the monomer mixture is completed,
Stirring was continued for another 3 hours. The reaction product is n-
It was dispersed in butanol and became semi-turbid.

【0130】この樹脂分散液を、50℃に加熱した脱イ
オン水500gに徐々に加え、約1時間撹拌した後脱イ
オン水330gを加えた。この状態では上記反応生成物
の樹脂は微分散し、乳白色になっていた。ついで上記水
中分散液を50〜60℃で減圧蒸留し、260gを留去
した。残った水分散液を限外濾過モジュール(旭化成工
業(株)製ACP−1050)で洗浄した。
This resin dispersion was gradually added to 500 g of deionized water heated to 50 ° C., and after stirring for about 1 hour, 330 g of deionized water was added. In this state, the resin of the reaction product was finely dispersed and turned milky white. Subsequently, the above-mentioned dispersion in water was distilled under reduced pressure at 50 to 60 ° C. to remove 260 g. The remaining aqueous dispersion was washed with an ultrafiltration module (ACP-1050 manufactured by Asahi Kasei Corporation).

【0131】このようにして得られたアンモニウム基表
面修飾エポキシ樹脂微粒子の水分散液は樹脂が微分散し
ており、乳白色になっていた。この水分散液は3カ月放
置しても樹脂の凝集あるいは沈澱はなく分散系は安定で
あった。この分散液は、不揮分23%で、ガスクロマト
グラフィーの結果、n―ブタノールは検出されなかっ
た。大塚電子(株)製レーザードップラー式粒度分布計E
LS−800で測定した微粒子の平均粒径は0.21μ
mであった。
The aqueous dispersion of the ammonium group surface-modified epoxy resin fine particles thus obtained had a finely dispersed resin and turned milky white. The aqueous dispersion was stable for three months without aggregation or precipitation of the resin, and the dispersion was stable. This dispersion had a non-volatile content of 23%. As a result of gas chromatography, n-butanol was not detected. Otsuka Electronics Co., Ltd. Laser Doppler Particle Size Analyzer E
The average particle size of the fine particles measured by LS-800 is 0.21 μm.
m.

【0132】微粒子の作製例2[シェル部にアンモニウ
ム基含有のコアシェル微粒子2] 上記微粒子の作製例1に記載の117℃に保持したエポ
キシ樹脂の溶液に、メタクリル酸29g、スチレン18
g、メチルメタクリレート20g及び過酸化ベンゾイル
4.6gを混合したモノマー混合物を、180分間にわ
たり一定速度で添加した。反応温度は116〜117℃
に維持し、モノマー混合物の添加が終わってから、さら
に3時間そのまま撹拌を続けた。反応生成物はn―ブタ
ノールに分散され半濁状になっていた。
Preparation Example 2 of Fine Particles [Core-shell Fine Particles 2 Containing Ammonium Group in Shell Part] 29 g of methacrylic acid and 18 parts of styrene were added to the epoxy resin solution maintained at 117 ° C. described in Preparation Example 1 of the above fine particles.
g, 20 g of methyl methacrylate and 4.6 g of benzoyl peroxide were added at a constant rate over a period of 180 minutes. The reaction temperature is 116-117 ° C
And after the addition of the monomer mixture was completed, stirring was continued for another 3 hours. The reaction product was dispersed in n-butanol and became semi-turbid.

【0133】このような樹脂分散液を50℃に加熱した
500gの脱イオン水及び26gのジメチルエタノール
アミン混合液に徐々に加え、約1時間撹拌した後脱イオ
ン水330g加えた。この状態では上記反応生成物の樹
脂は微分散し、乳白色になっていた。ついで上記水中分
散液を50〜60℃で減圧蒸留し、260gを留去し
た。残った水分散液を作製例1と同様に限外濾過モジュ
ールで洗浄を行なった。
This resin dispersion was gradually added to a mixed solution of 500 g of deionized water and 26 g of dimethylethanolamine heated to 50 ° C., and after stirring for about 1 hour, 330 g of deionized water was added. In this state, the resin of the reaction product was finely dispersed and turned milky white. Subsequently, the above-mentioned dispersion in water was distilled under reduced pressure at 50 to 60 ° C. to remove 260 g. The remaining aqueous dispersion was washed with an ultrafiltration module in the same manner as in Preparation Example 1.

【0134】得られたエポキシ/アクリル樹脂のコア/
シェル微粒子水分散液(A)68.16gおよび蒸留水
64gを、冷却器、滴下漏斗および攪拌器を装着した2
00mlの丸底三口フラスコに入れ、55〜58℃で3
0分間加温した。温度が一定になったことを確認した
後、プロピレンイミン0.28gを水4.0gに溶解し
た水溶液を、滴下漏斗から滴下した。供給が終了後、5
5℃で2時間加熱攪拌した。一晩室温で放置した後、室
温で固形分濃度10%のクエン酸水溶液70gを加え、
攪拌を行った。内容物は、一旦凝集した後、1時間後、
再び良好な分散物となった。半日室温で放置後、限外濾
過器にて、余分なクエン酸を取り除き、固形分濃度10
%のアンモニウム基表面修飾エポキシ樹脂微粒子の分散
物を得た。微粒子の平均粒径は0.17μmであった。
The resulting epoxy / acrylic resin core /
68.16 g of the shell fine particle aqueous dispersion (A) and 64 g of distilled water were placed in a condenser 2 equipped with a condenser, a dropping funnel and a stirrer.
Put in a 00 ml round bottom three-necked flask,
Heated for 0 minutes. After confirming that the temperature became constant, an aqueous solution in which 0.28 g of propyleneimine was dissolved in 4.0 g of water was dropped from the dropping funnel. After supply is completed, 5
The mixture was heated and stirred at 5 ° C. for 2 hours. After leaving overnight at room temperature, 70 g of citric acid aqueous solution having a solid concentration of 10% was added at room temperature,
Stirring was performed. After the contents once aggregated, one hour later,
Again a good dispersion was obtained. After leaving at room temperature for half a day, the excess citric acid was removed with an ultrafilter, and the solid content concentration was 10
% Of a dispersion of ammonium group surface-modified epoxy resin fine particles. The average particle size of the fine particles was 0.17 μm.

【0135】微粒子の作製例3[シェル部にホスホニウ
ム基含有のコアシェル微粒子] 微粒子の作製例1に記載の117℃に保持したエポキシ
樹脂の溶液に、メタクリル酸60g、サイダップスPM
−4CMS(日本化学工業製のm−ビニルベンジル-ト
リブチルホスフォニウムクロリドとp−ビニルベンジル
-トリブチルホスフォニウムクロリドの混合物)40
g、エチルアクリレート40g及び過酸化ベンゾイル
4.6gを入れて混合した。このモノマー混合物を、上
記エポキシ樹脂を収容した反応容器に180分間にわた
り一定速度で添加した。反応温度は116〜117℃に
維持し、上記モノマー混合物の添加が終わってから、さ
らに3時間そのまま撹拌を続けた。反応生成物はn―ブ
タノールに分散され半濁状になっていた。このような樹
脂分散液を50℃に加熱した500gの脱イオン水に徐
々に加え、約1時間撹拌した後脱イオン水330g加え
た。この状態では上記反応生成物の樹脂は微分散し、乳
白色になっていた。ついで上記水中分散液を50〜60
℃で減圧蒸留し、260gを留去した。残った水分散液
を作製例1と同様にして限外濾過モジュールを用い洗浄
を行なった。得られた水分散液は樹脂が微分散してお
り、乳白色になっていた。この水分散液は3カ月放置し
ても樹脂の凝集あるいは沈澱はなく分散系は安定であっ
た。この分散液は、不揮分は30%で、ガスクロマトグ
ラフイーの結果、n―ブタノールは検出されなかった。
微粒子の平均粒径は0.19μmであった。
Preparation Example 3 of Fine Particles [Core-shell Fine Particles Containing Phosphonium Group in Shell Part] In the epoxy resin solution kept at 117 ° C. described in Preparation Example 1 of fine particles, 60 g of methacrylic acid and Cydaps PM were added.
-4CMS (m-vinylbenzyl-tributylphosphonium chloride and p-vinylbenzyl manufactured by Nippon Chemical Industry)
Mixture of -tributylphosphonium chloride) 40
g, 40 g of ethyl acrylate and 4.6 g of benzoyl peroxide. This monomer mixture was added at a constant rate over 180 minutes to the reaction vessel containing the epoxy resin. The reaction temperature was maintained at 116 to 117 ° C., and after the addition of the monomer mixture was completed, stirring was continued for another 3 hours. The reaction product was dispersed in n-butanol and became semi-turbid. Such a resin dispersion was gradually added to 500 g of deionized water heated to 50 ° C., and after stirring for about 1 hour, 330 g of deionized water was added. In this state, the resin of the reaction product was finely dispersed and turned milky white. Next, the above-mentioned dispersion in water was added to 50-60.
Distillation under reduced pressure was carried out at 260 ° C. to remove 260 g. The remaining aqueous dispersion was washed using an ultrafiltration module in the same manner as in Preparation Example 1. In the obtained aqueous dispersion, the resin was finely dispersed and turned milky white. The aqueous dispersion was stable for three months without aggregation or precipitation of the resin, and the dispersion was stable. This dispersion had a non-volatile content of 30%, and as a result of gas chromatography, n-butanol was not detected.
The average particle size of the fine particles was 0.19 μm.

【0136】比較用微粒子の作製例1[ホスホニウム基
を有す非コアシェルポリマー微粒子] 攪拌装置、還流装置、窒素導入管、滴下装置、温度計を
備えた2Lの四つ口フラスコに蒸留水600g,イソプ
ロピルアルコール300g、エマルゲン905(花王
(株)製界面活性剤)の5gを仕込み80℃に昇温し
た。スチレンの80g、メタクリル酸メチルの300
g、サイダップスPM−4CMS(日本化学工業(株)
製)267g、2,2´−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル
(V−601、和光純薬工業(株)製の重合開始剤)8g
をよく混合した溶液を2時間かけて滴下した。8時間攪
拌後、V−601を0.5g加え、さらに、8時間撹拌
することによって、乾燥固形分比が50%、数平均分子
量が20,000のアクリルポリマーの溶液が得られ
た。このアクリルポリマー溶液100gに攪拌しながら
水を滴下した。溶液は徐々に増粘し、約150gの水を
滴下した辺りから著しく粘度が低下して転相が完了し
た。さらに150gの水を加えた後、得られた分散液を
40℃に加熱して、有機溶剤ならびに余剰の水を減圧除
去することによって、乾燥固形分比33.7%、平均粒
径0.05μmのアクリルポリマー微粒子の水分散体が
得られた。ここで、乾燥固形分比は試料溶液約1gを秤
量し、120℃で1時間乾燥後の試料を秤量し、その質
量比により求めた。数平均分子量はGPC測定し、ポリ
スチレン換算の分子量で示した。
Preparation Example 1 of Comparative Fine Particles [Non-Core-Shell Polymer Fine Particles Having Phosphonium Group] 600 g of distilled water was placed in a 2 L four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux device, a nitrogen inlet tube, a dropping device, and a thermometer. 300 g of isopropyl alcohol and 5 g of Emulgen 905 (a surfactant manufactured by Kao Corporation) were charged and heated to 80 ° C. 80 g of styrene and 300 of methyl methacrylate
g, Cydapps PM-4CMS (Nippon Chemical Industry Co., Ltd.)
267 g, dimethyl 2,2'-azobis (isobutyrate)
(V-601, polymerization initiator manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 8 g
Was added dropwise over 2 hours. After stirring for 8 hours, 0.5 g of V-601 was added and further stirred for 8 hours to obtain a solution of an acrylic polymer having a dry solid content ratio of 50% and a number average molecular weight of 20,000. Water was added dropwise to 100 g of the acrylic polymer solution while stirring. The solution gradually increased in viscosity, and the viscosity was remarkably reduced around the time when about 150 g of water was dropped, whereby the phase inversion was completed. After further adding 150 g of water, the resulting dispersion was heated to 40 ° C., and the organic solvent and excess water were removed under reduced pressure to obtain a dry solid content ratio of 33.7% and an average particle size of 0.05 μm. Aqueous dispersion of acrylic polymer fine particles was obtained. Here, the dry solid content ratio was determined by weighing about 1 g of the sample solution, weighing the sample after drying at 120 ° C. for 1 hour, and determining the weight ratio. The number average molecular weight was measured by GPC and indicated as a molecular weight in terms of polystyrene.

【0137】比較用微粒子2[カチオン性基のないコア
シェル型ポリマー微粒子] 微粒子の作製例2の途中で得られたエポキシ/アクリル
樹脂のコア/シェル微粒子水分散液(A)を比較用微粒
子2とした。この水分散液は樹脂が微分散して乳白色に
なっており、3カ月放置しても樹脂の凝集あるいは沈澱
はなく分散系は安定であった。この分散液は、不揮分2
3%で、ガスクロマトグラフイーの結果、n―ブタノー
ルは検出されなかった。微粒子の平均粒径は0.17μ
mであった。
Comparative Fine Particles 2 [Core-shell type polymer fine particles having no cationic group] The aqueous dispersion of core / shell fine particles (A) of the epoxy / acrylic resin obtained in the course of Preparation Example 2 of fine particles was used as comparative fine particles 2 did. In this aqueous dispersion, the resin was finely dispersed and became milky white. Even after standing for 3 months, the resin was not aggregated or precipitated, and the dispersion system was stable. This dispersion has a non-volatile content of 2
At 3%, n-butanol was not detected as a result of gas chromatography. The average particle size of the fine particles is 0.17μ
m.

【0138】支持体の製造例 99.5%以上のアルミニウムと、Fe 0.30%、
Si 0.10%、Ti0.02%、Cu 0.013%
を含むJIS A1050合金の溶湯を清浄化処理を施
し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中の水素などの不
要なガスを除去するために脱ガス処理し、セラミックチ
ューブフィルタ処理をおこなった。鋳造法はDC鋳造法
で行った。凝固した板厚500mmの鋳塊を表面から1
0mm面削し、金属間化合物が粗大化してしまわないよ
うに550℃で10時間均質化処理を行った。次いで、
400℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉中で500℃60秒
中間焼鈍した後、冷間圧延を行って、板圧0.30mm
のアルミニウム圧延板とした。圧延ロールの粗さを制御
することにより、冷間圧延後の中心線平均表面粗さRa
を0.2μmに制御した。その後、平面性を向上させる
ためにテンションレベラーにかけた。次に平版印刷版支
持体とするための表面処理を行った。まず、アルミニウ
ム板表面の圧延油を除去するため10%アルミン酸ソー
ダ水溶液で50℃30秒間脱脂処理を行い、30%硫酸
水溶液で50℃30秒間中和、スマット除去処理を行っ
た。次いで支持体と画像形成層の密着性を良好にし、支
持体の表面を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行
った。1%の硝酸と0.5%の硝酸アルミを含有する水
溶液を45℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しな
がら、間接給電セルにより電流密度20A/dm2、デ
ューティー比1:1の交番波形でアノード側電気量24
0C/dm2を与えることで電解砂目立てを行った。そ
の後10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間エ
ッチング処理を行い、30%%硫酸水溶液で50℃30
秒間中和、スマット除去処理を行った。さらに陽極酸化
によって支持体に酸化皮膜を形成させた。電解質として
硫酸20%水溶液を35℃で用い、アルミウェブを電解
質中に通搬しながら、間接給電セルにより14A/dm
2の直流で電解処理を行うことで2.5g/m2の陽極酸
化皮膜を有する支持体を作製した。表面粗さRaは0.
25μmであった。
Production Example of Support: 99.5% or more of aluminum, 0.30% of Fe,
Si 0.10%, Ti 0.02%, Cu 0.013%
The molten metal of JIS A1050 alloy containing Ni was cleaned and cast. In the cleaning treatment, a degassing treatment was performed to remove unnecessary gas such as hydrogen in the molten metal, and a ceramic tube filter treatment was performed. The casting was performed by DC casting. A solidified ingot with a thickness of 500 mm
A 0 mm face was ground, and a homogenization treatment was performed at 550 ° C. for 10 hours so that the intermetallic compound was not coarsened. Then
After hot rolling at 400 ° C. and intermediate annealing at 500 ° C. for 60 seconds in a continuous annealing furnace, cold rolling was performed to obtain a sheet pressure of 0.30 mm.
Aluminum rolled plate. The center line average surface roughness Ra after cold rolling is controlled by controlling the roughness of the rolling roll.
Was controlled to 0.2 μm. Then, it was subjected to a tension leveler to improve the flatness. Next, a surface treatment for forming a lithographic printing plate support was performed. First, in order to remove the rolling oil on the surface of the aluminum plate, a degreasing treatment was performed with a 10% aqueous sodium aluminate solution at 50 ° C. for 30 seconds, and a 30% sulfuric acid aqueous solution was neutralized at 50 ° C. for 30 seconds, and a smut removal treatment was performed. Next, a so-called graining treatment for improving the adhesion between the support and the image forming layer and roughening the surface of the support was performed. While maintaining an aqueous solution containing 1% nitric acid and 0.5% aluminum nitrate at 45 ° C. and flowing an aluminum web into the aqueous solution, an alternating waveform having a current density of 20 A / dm 2 and a duty ratio of 1: 1 by an indirect power supply cell. And the amount of electricity on the anode side is 24
Electrolytic graining was performed by giving 0 C / dm 2 . Thereafter, an etching treatment is performed with a 10% aqueous sodium aluminate solution at 50 ° C. for 30 seconds, and with a 30% aqueous sulfuric acid solution at 50 ° C. for 30 seconds.
Neutralization and smut removal treatment were performed for seconds. Further, an oxide film was formed on the support by anodic oxidation. A 20% aqueous solution of sulfuric acid was used as the electrolyte at 35 ° C., and the aluminum web was passed through the electrolyte while the 14 A / dm 2 was supplied by the indirect power supply cell.
A support having an anodic oxide film of 2.5 g / m 2 was produced by performing the electrolytic treatment with a direct current of 2 . The surface roughness Ra is 0.
It was 25 μm.

【0139】実施例1〜3および比較例1〜2 上記製造例で得た陽極酸化アルミニウム支持体上に、下
記組成の断熱層塗布液を塗布し、100℃3分乾燥して
乾燥膜質量1.0g/m2の断熱層を設けた。
Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 On the anodized aluminum support obtained in the above Production Examples, a coating solution of a heat insulating layer having the following composition was applied and dried at 100 ° C. for 3 minutes to obtain a dry film mass of 1 A heat insulating layer of 0.0 g / m 2 was provided.

【0140】 (断熱層塗布液) ブチラール樹脂BM−S(積水化学(株)製)10%MEK溶液 59g カーボンブラック分散物 (御國色素(株)製CB#5765M、固形分含量21%) 13.5g メチルエチルケトン 62.7g(Heat Insulating Layer Coating Solution) Butyral Resin BM-S (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) 10% MEK solution 59 g carbon black dispersion (CB # 5765M manufactured by Mikuni Pigment Co., Ltd., solid content 21%) 13 0.5g Methyl ethyl ketone 62.7g

【0141】この断熱層上に、下記組成の親水層塗布液
を用いバーコーターにて、乾燥膜質量が3.0g/m2
になるように塗布した。乾燥はオーブンにて45℃20
分間行った。その後、温度45℃湿度40%の条件下で
3日間放置して硬膜を行ない、平版印刷用原板を作製し
た。
A dry film weight of 3.0 g / m 2 was applied on the heat insulating layer by a bar coater using a hydrophilic layer coating solution having the following composition.
It was applied so that Drying in oven at 45 ° C 20
Minutes. Thereafter, the film was left for 3 days under conditions of a temperature of 45 ° C. and a humidity of 40% to form a hardened film, thereby producing a lithographic printing original plate.

【0142】 (親水層塗布液組成) ゾルゲル調製液 7.0g コロイダルシリカ(日産化学工業(株)製MAシリカ、 平均粒子径20nm、20%水溶液) 4.0g 作製例の微粒子(11%水溶液) 10.0g 光熱変換剤(本明細書記載のIR−1)の1.5%水溶液 10.0g イオン交換水 5g(Composition of hydrophilic layer coating solution) Sol-gel preparation solution 7.0 g Colloidal silica (MA silica manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle diameter 20 nm, 20% aqueous solution) 4.0 g Fine particles (11% aqueous solution) of preparation example 10.0 g 1.5% aqueous solution of photothermal conversion agent (IR-1 described in this specification) 10.0 g 5 g ion-exchanged water

【0143】ここで、作製例の微粒子は、下記の表1に
示した組み合わせで各実施例に使用した。また、ゾルゲ
ル調製液は、下記組成の溶液を調製し、室温で2時間熟
成して用いた。
Here, the fine particles of the production examples were used in each example in combinations shown in Table 1 below. The sol-gel preparation solution was prepared by preparing a solution having the following composition and aging at room temperature for 2 hours.

【0144】 (ゾルゲル調製液) テトラメトキシシラン 9.2g エタノール 16.2g イオン交換水 10.2g 0.1モル/リットル硝酸水溶液 6.0g(Sol-gel preparation liquid) Tetramethoxysilane 9.2 g Ethanol 16.2 g Deionized water 10.2 g 0.1 mol / L nitric acid aqueous solution 6.0 g

【0145】このように作製した印刷用原板を、水冷式
40W赤外線半導体レーザを搭載したクレオ社製トレン
ドセッター3244VFSにて、出力12W、外面ドラ
ム回転数94rpm、版面エネルギー300mJ/cm
2、解像度2400dpiの条件で露光して、露光部表
面に熱融着した画像領域を形成した。露光後の非画像部
および画像部表面について空中水滴接触角を測定し、結
果を表1に示した。また、露光した印刷版は、現像処理
することなくそのまま印刷機に装着して印刷した。印刷
機にRYOBI−3200MCDを用い、湿し水にEU
−3(富士写真フイルム(株)製)の1容量%水溶液を
用い、インキはGEOS(N)墨(大日本インキ化学工
業(株)製)を用いた。
The original plate for printing prepared in this manner was output by a Creo Trendsetter 3244VFS equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser at an output of 12 W, an outer drum rotation speed of 94 rpm, and a plate surface energy of 300 mJ / cm.
2. Exposure was performed under the conditions of a resolution of 2400 dpi to form an image area thermally fused on the exposed surface. The contact angles of water droplets in the air were measured for the non-image portion and the image portion surface after the exposure, and the results are shown in Table 1. Further, the exposed printing plate was mounted on a printing machine as it was without being subjected to development processing, and printing was performed. Use RYOBI-3200MCD for the printing press and EU
-3 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) in 1% by volume aqueous solution, and the ink used was GEOS (N) black (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.).

【0146】表1に耐刷性の評価結果を示した。耐刷性
評価は2万枚で終了した。耐刷性は網点面積率100%
部分のインキ濃度で評価し、小点の付きは、2万枚印刷
時の印刷物上の175LPIの網点を目視評価し、再現
されている最小網点面積率で示した。表1の耐刷性2万
枚以上(>2)と記されたものは、2万枚時点でまだ余
力があったことを示す。
Table 1 shows the evaluation results of printing durability. The printing durability evaluation was completed at 20,000 sheets. Printing durability: 100% dot area ratio
The evaluation was made based on the ink density of each portion, and small dots were visually evaluated for 175 LPI halftone dots on the printed matter at the time of printing 20,000 sheets, and represented by the minimum halftone dot area ratio reproduced. A printing durability of 20,000 sheets or more (> 2) in Table 1 indicates that there was still room for 20,000 sheets.

【0147】[0147]

【表1】 [Table 1]

【0148】[0148]

【発明の効果】本発明によれば、露光後、現像処理を行
うことなく印刷することが可能な平版印刷用原板であっ
て、耐刷性が改良され、しかも汚れ難さの良好な平版印
刷用原板を提供できる。
According to the present invention, there is provided a lithographic printing original plate which can be printed without being subjected to a developing process after exposure, and which has improved printing durability and good stain resistance. We can provide a master plate.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA00 AA12 AB03 AC08 AD01 AD03 BH03 CB32 CC20 FA10 2H096 AA00 AA07 AA08 BA16 BA20 EA04 2H114 AA04 AA14 AA22 AA24 BA01 BA10 DA47 DA52 DA55 DA59 DA60 DA75 EA01 EA02 FA16 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page F term (reference) 2H025 AA00 AA12 AB03 AC08 AD01 AD03 BH03 CB32 CC20 FA10 2H096 AA00 AA07 AA08 BA16 BA20 EA04 2H114 AA04 AA14 AA22 AA24 BA01 BA10 DA47 DA52 DA55 DA59 DA60 DA75 FA16EA02

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、疎水性化前駆体、光熱変換
剤および三次元架橋した親水性結着剤を含有する、熱に
より疎水性となる親水層を有する平版印刷用原板であっ
て、疎水性化前駆体が、コア部に親油性樹脂、シェル部
にカチオン性置換基を有する樹脂を含有するコアシェル
構造の微粒子であることを特徴とする平版印刷用原板。
1. A lithographic printing original plate having a hydrophilic layer which becomes hydrophobic by heat, comprising a support, a hydrophobizing precursor, a photothermal conversion agent, and a three-dimensionally cross-linked hydrophilic binder. An original plate for lithographic printing, wherein the hydrophobizing precursor is fine particles having a core-shell structure containing a lipophilic resin in a core portion and a resin having a cationic substituent in a shell portion.
【請求項2】 カチオン性置換基が、アンモニウム基ま
たはホスホニウム基であることを特徴とする請求項1記
載の平版印刷用原板。
2. The lithographic printing plate according to claim 1, wherein the cationic substituent is an ammonium group or a phosphonium group.
【請求項3】 コア部の親油性樹脂が、アクリル樹脂、
スチレン樹脂、ビニルエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウ
レタン樹脂、フェノール樹脂、及びこれらのの誘導体か
ら選ばれた少なくとも一つの樹脂であることを特徴とす
る請求項1又は請求項2に記載の平版印刷用原板。
3. The lipophilic resin of the core part is an acrylic resin,
3. The lithographic printing plate according to claim 1, wherein the lithographic printing plate is at least one resin selected from styrene resin, vinyl ester resin, epoxy resin, urethane resin, phenol resin, and derivatives thereof. .
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