JP2002258118A - Manufacturing method and manufacturing apparatus for optical semiconductor module - Google Patents

Manufacturing method and manufacturing apparatus for optical semiconductor module

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JP2002258118A
JP2002258118A JP2001058165A JP2001058165A JP2002258118A JP 2002258118 A JP2002258118 A JP 2002258118A JP 2001058165 A JP2001058165 A JP 2001058165A JP 2001058165 A JP2001058165 A JP 2001058165A JP 2002258118 A JP2002258118 A JP 2002258118A
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JP
Japan
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diode
optical
substrate
optical fiber
laser
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Application number
JP2001058165A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Shigyo
和浩 執行
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus for an optical semiconductor module in which the highly precise optical axis alignment is enabled, even if infrared rays penetrate neither optical parts nor substrates and in addition, even if the laser beam is not oscillated by energizing LD(Laser Diode) in the state where the LD is not joined to the substrate. SOLUTION: The manufacturing method of an optical semiconductor module made by fixing an optical fiber 11 and a laser diode 14, or a photodiode on a substrate 16 is provided with a process for fixing the above optical fiber to a prescribed position on the above substrate, and a process for fixing the diode to the substrate at the position where the laser beam having the same wavelength as the laser wavelength which the diode to oscillates or detects is made incident on the diode from the optical fiber and the 42 photoelectric current detected from the diode becomes maximum.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば光通信や光
情報処理等に用いられる光半導体モジュールの製造に関
するものであり、特に、光合分波器、レーザダイオード
(以下、LDと略す場合もある。)、フォトダイオード
(以下、PDと略す場合もある。)等の光部品の位置決
めに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the manufacture of an optical semiconductor module used for, for example, optical communication and optical information processing. ), And positioning of optical components such as photodiodes (hereinafter, sometimes abbreviated as PDs).

【0002】[0002]

【従来の技術】光送信機能を備えたLDモジュール、光
受信機能を備えたPDモジュール、光送受信モジュール
等の光半導体モジュールは高度情報化社会を支える光通
信システムを構成する基本デバイスであり、光送受信モ
ジュールは、発光素子であるLD、受光素子であるP
D、光ファイバ、それらを光学的に結合するレンズ、光
合分波器、およびこれらを固定する筐体または基板から
なる。
2. Description of the Related Art Optical semiconductor modules such as an LD module having an optical transmitting function, a PD module having an optical receiving function, and an optical transmitting and receiving module are basic devices constituting an optical communication system supporting an advanced information society. The transmitting and receiving module includes an LD as a light emitting element and a P as a light receiving element.
D, an optical fiber, a lens for optically coupling them, an optical multiplexer / demultiplexer, and a housing or substrate for fixing them.

【0003】特に最近の情報化社会の進展により、これ
までの幹線系を中心とした大規模、大容量の幹線系光通
信システムの整備から、ビル、家庭など加入者系光通信
システムの適用が検討されている。そのため、光半導体
モジュールには多機能化、小型化、および低価格化が求
められている。
[0003] In particular, with the recent development of the information-oriented society, from the development of large-scale, large-capacity trunk-line optical communication systems centering on the trunk line, to the application of subscriber-based optical communication systems such as buildings and homes. Are being considered. For this reason, optical semiconductor modules are required to be multifunctional, compact, and inexpensive.

【0004】図7は加入者系光送受信モジュールの内部
構造の1例を示す斜視図である。波長多重機能と光分岐
機能により、1つのモジュールで双方向光送受信を可能
としている。図において、11は送受信用光ファイバで
あり、通信の波長として受信に1.5μm、送信に1.
3μmの波長光を用いる。12は導波路レンズ、13は
光合分波器、14は送信用LD、15はLD14の出力
を一定に保つモニタPD、16はシリコン(Si)基
板、17は電子雪崩型フォトダイオード(APD)、1
8は光ファイバ11の位置決めおよび固定のためにSi
基板16に設けられたV溝である。光合分波器13はポ
リマー導波路がSi部品上に接着された構造になってい
る。光ファイバ11はSi基板16に異方性エッチング
により形成したV溝18に接着材を用いて固定する。ま
た、他の光部品(光合分波器13、送信用LD14、モ
ニタPD15、APD17)は、それぞれが光部品とし
て機能することを確認した後、1枚のSi基板16上に
半田や接着剤を用いて接合される。
FIG. 7 is a perspective view showing an example of the internal structure of a subscriber optical transmission / reception module. With a wavelength multiplexing function and an optical branching function, bidirectional optical transmission and reception can be performed by one module. In the figure, reference numeral 11 denotes a transmission / reception optical fiber, which has a communication wavelength of 1.5 μm for reception and 1. μm for transmission.
Light having a wavelength of 3 μm is used. 12 is a waveguide lens, 13 is an optical multiplexer / demultiplexer, 14 is a transmission LD, 15 is a monitor PD for keeping the output of the LD 14 constant, 16 is a silicon (Si) substrate, 17 is an avalanche photodiode (APD), 1
8 is Si for positioning and fixing the optical fiber 11.
This is a V-groove provided in the substrate 16. The optical multiplexer / demultiplexer 13 has a structure in which a polymer waveguide is bonded on a Si component. The optical fiber 11 is fixed to a V-groove 18 formed on the Si substrate 16 by anisotropic etching using an adhesive. After confirming that the other optical components (optical multiplexer / demultiplexer 13, transmission LD 14, monitor PD 15, and APD 17) function as optical components, solder or adhesive is applied onto one Si substrate 16. And joined together.

【0005】光部品間の結合には、これまでは結合部で
の光損失を抑えるために導波路レンズ12が挿入されて
いた。しかし、導波路レンズ12の使用は光半導体モジ
ュールの構成を複雑にし、モジュールの構成が大きくな
ったり、作業工程の増加からモジュール価格の増加につ
ながったりするため、最近では光部品の光軸を直接合わ
せることで導波路レンズを省く図8の方式が採用されて
いる。
Conventionally, a waveguide lens 12 has been inserted into the coupling between optical components in order to suppress light loss at the coupling portion. However, since the use of the waveguide lens 12 complicates the configuration of the optical semiconductor module, the configuration of the module becomes large, and the number of working steps leads to an increase in the price of the module. The method of FIG. 8 is adopted in which the waveguide lens is omitted by matching.

【0006】光軸を直接合わせる場合、光軸のずれは1
μm以下の誤差に抑えなければ、光部品間の光結合損失
が大きくなるため光送受信モジュールとして使用できな
い。
When the optical axes are directly aligned, the deviation of the optical axes is 1
If the error is not suppressed to less than μm, the optical coupling loss between the optical components increases, so that it cannot be used as an optical transceiver module.

【0007】従来技術1.光部品の光軸を高精度に合わ
せる方法には、例えば特開平9−145317号公報に
示されるように、光部品における屈折率が不連続な構造
に赤外光を照射した際の不連続な屈折率分布の境界に生
じる干渉縞を位置基準として位置合わせをする方法があ
る。図9はこの方法を説明する概念図であり、図におい
て、81は光回路基板、82は例えばLD等の光部品、
83は光部品82の導波路構造部、84は光回路基板8
1の導波路構造部、85は観察装置、86は制御装置、
87は光源、88は集光レンズ、89はマニピュレータ
である。光部品82と光回路基板81に光源87より赤
外光を照射する。すると、屈折率がその他の部分と異な
る光部品82の導波路構造部83と光回路基板81の導
波路構造部84には干渉縞が現れる。この干渉縞を観察
装置85で観察し、光基板81上の干渉縞を基準とし
て、マニピュレータ89を用いて光部品82の位置合わ
せを行う。
Prior art 1. As a method of aligning the optical axis of an optical component with high precision, for example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-145317, a structure in which the refractive index of the optical component is discontinuous when irradiated with infrared light is used. There is a method of performing positioning using an interference fringe generated at the boundary of the refractive index distribution as a position reference. FIG. 9 is a conceptual diagram for explaining this method. In the figure, 81 is an optical circuit board, 82 is an optical component such as an LD, for example,
83 is the waveguide structure of the optical component 82, 84 is the optical circuit board 8
1 is a waveguide structure, 85 is an observation device, 86 is a control device,
87 is a light source, 88 is a condenser lens, and 89 is a manipulator. The optical component 82 and the optical circuit board 81 are irradiated with infrared light from a light source 87. Then, interference fringes appear in the waveguide structure part 83 of the optical component 82 and the waveguide structure part 84 of the optical circuit board 81 whose refractive indexes are different from those of the other parts. The interference fringes are observed by the observation device 85, and the alignment of the optical component 82 is performed using the manipulator 89 with reference to the interference fringes on the optical substrate 81.

【0008】従来技術2.また、特開平9−16673
7号公報に示されるように、LDを駆動して発光させ、
出射光が光学系の光軸に対して一致しているか否かを判
断し、一致している位置で発光ユニットを基体(基板)
に半田づけして固定するアクティブアライメント法と呼
ばれる方法があった。
Prior art 2. Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 9-16673
As shown in Japanese Patent Publication No. 7, the LD is driven to emit light,
It is determined whether or not the outgoing light is coincident with the optical axis of the optical system, and the light emitting unit is placed at the coincident position with the base (substrate).
There is a method called an active alignment method of soldering and fixing.

【0009】従来技術3.また、特開平5−16494
7号公報に示されるように、溝を形成して光軸を合わせ
る方法もある。図10はこの方法を説明する斜視図であ
り、図において、111は光ファイバ、112は基板、
113はLD、114はLD113の発光部、115は
LD搭載位置決め用の第2の切込み(溝)、116は光
ファイバ固定用のV溝、117はファイバ端面突き当て
用の第1の切込み(溝)、118はレンズ、119はL
D搭載位置決め用の第3の切込み(溝)である。基板1
12に光ファイバ固定用のV溝116とファイバ端面突
き当て用の第1の切込み117を設け、次に、基板11
2上で光ファイバ111とレンズ118およびLD11
3の光軸が一致するように、ファイバ端面突き当て用の
第1の切込み117に対し平行および直角にLD搭載位
置決め用の第2、第3の切込み115、119を設け、
かつレンズ118を一体的に形成した後、LD搭載位置
決め用の第2、第3の切込み115、119側壁面とL
D113の活性面とが一致するようにLD113を搭載
し、さらに光ファイバ固定用のV溝116にファイバ端
面がファイバ端面突き当て用の第1の切込み(溝)11
7に突き当たるまで光ファイバ111を押し込み、整列
固定する。
Prior art 3. In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-16494
As shown in Japanese Patent Publication No. 7, there is also a method of aligning the optical axis by forming a groove. FIG. 10 is a perspective view for explaining this method, in which 111 is an optical fiber, 112 is a substrate,
113 is an LD, 114 is a light emitting portion of the LD 113, 115 is a second cut (groove) for positioning LD mounting, 116 is a V-groove for fixing an optical fiber, 117 is a first cut (groove) for abutting a fiber end face. ), 118 is a lens, 119 is L
D A third notch (groove) for positioning. Substrate 1
12 is provided with a V-groove 116 for fixing an optical fiber and a first cut 117 for abutting the fiber end face.
2, the optical fiber 111, the lens 118 and the LD 11
The second and third cuts 115 and 119 for positioning LD mounting are provided in parallel and at right angles to the first cut 117 for abutting the fiber end face so that the optical axes of the three coincide.
After the lens 118 is integrally formed, the second and third cuts 115 and 119 for positioning the LD mounting and the side wall surfaces of the LD 118
The LD 113 is mounted so that the active surface of the D 113 coincides with the active surface of the D 113, and the first end (groove) 11 of the fiber end face is abutted against the V end groove 116 for fixing the optical fiber.
The optical fiber 111 is pushed in until it hits 7 and is aligned and fixed.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光部品
82の屈折率の異なる層で発生する干渉縞を位置決めに
利用する従来技術1の場合には、赤外線が光部品82お
よび光回路基板81を透過する必要があるが、LDやS
i基板には金属薄膜配線や接合用の合金半田層が形成さ
れており、これらが赤外線を反射するためにこの方法を
使えないという問題があった。
However, in the case of the prior art 1 in which interference fringes generated in layers having different refractive indices of the optical component 82 are used for positioning, infrared light passes through the optical component 82 and the optical circuit board 81. LD, S
On the i-substrate, a metal thin film wiring and an alloy solder layer for bonding are formed, and since these reflect infrared rays, there is a problem that this method cannot be used.

【0011】また、従来技術2のアクティブアライメン
ト法では、基板に接合しない状態でLDに通電する必要
があるが、その場合、基板と接合していないために熱が
LDに蓄積され、熱応力により接合後と光軸がずれてし
まうという問題があった。また、安定したレーザ発光の
ためにはLDの上下間に均一に電流を流さねばならず、
アライメント中に電流印加状態を一定に保つことが難し
いという問題もあった。
Further, in the active alignment method of the prior art 2, it is necessary to energize the LD in a state where it is not joined to the substrate. In this case, heat is accumulated in the LD because it is not joined to the substrate. There is a problem that the optical axis is shifted after the joining. In addition, for stable laser emission, a current must be uniformly applied between the upper and lower parts of the LD.
There is also a problem that it is difficult to keep a current applied state constant during alignment.

【0012】また、従来技術3の基板に位置合わせ用の
溝を設ける方法では、半導体のリソグラフィ工程により
溝を形成するが、その際のマスクずれ、エッチングの状
態等により、設計通りの溝が形成されない。そのため、
光部品を溝に機械的に合わせるだけでは光軸ずれが生
じ、最終的な位置精度は±5μm程度と、目標とする1
μm以下にはならず、高精度の光軸合わせができないと
いう問題があった。なお、上述の位置精度は1つの光部
品についての値であり、複数の光部品を位置合わせする
場合には、光部品の数に応じて位置精度も悪くなる。
In the method of forming a groove for alignment on a substrate according to the prior art 3, a groove is formed by a lithography process of a semiconductor. However, a groove as designed is formed due to a mask shift and an etching state at that time. Not done. for that reason,
If the optical component is merely mechanically aligned with the groove, the optical axis shift occurs, and the final positional accuracy is about ± 5 μm, which is the target 1
μm or less, and there was a problem that high-precision optical axis alignment was not possible. Note that the above positional accuracy is a value for one optical component, and when a plurality of optical components are aligned, the positional accuracy becomes worse depending on the number of optical components.

【0013】本発明は、上記のような従来のものの問題
点を解決するためになされたものであり、光部品や基板
を赤外線が透過しなくても、しかも基板に接合しない状
態でLDに通電してレーザ光を発振しなくても、高精度
の光軸合わせが可能な光半導体モジュールの製造方法お
よび製造装置を提供することを第1の目的とする。ま
た、高精度な光軸合わせをする前段階の位置決め粗調整
(仮位置決め)を高速化し、量産性良く光半導体モジュ
ールを製造する方法を提供することを第2の目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art. Even if infrared light does not pass through an optical component or a substrate and is not bonded to the substrate, the LD is energized. It is a first object of the present invention to provide a method and an apparatus for manufacturing an optical semiconductor module capable of performing highly accurate optical axis alignment without oscillating laser light. It is a second object of the present invention to provide a method of manufacturing an optical semiconductor module with high productivity by speeding up coarse positioning (temporary positioning) in a stage before performing high-precision optical axis alignment.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明に係る第1の光半
導体モジュールの製造方法は、基板上に、光ファイバと
レーザダイオードまたはフォトダイオードとが固定され
た光半導体モジュールの製造方法であって、上記基板上
の所定位置に上記光ファイバを固定する工程、および上
記光ファイバから上記ダイオードに対して上記ダイオー
ドの発振または検出するレーザ波長と同じ波長のレーザ
光を入射し、上記ダイオードから検出される光電流が最
大となる位置で上記ダイオードを上記基板に固定する工
程を備えたものである。
A first method for manufacturing an optical semiconductor module according to the present invention is a method for manufacturing an optical semiconductor module in which an optical fiber and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate. Fixing the optical fiber at a predetermined position on the substrate, and irradiating a laser beam having the same wavelength as the laser wavelength of the oscillation or detection of the diode from the optical fiber to the diode, and detecting the laser light from the diode. And fixing the diode to the substrate at a position where the photocurrent is maximized.

【0015】本発明に係る第2の光半導体モジュールの
製造方法は、基板上に、光ファイバとレーザダイオード
またはフォトダイオードとが固定された光半導体モジュ
ールの製造方法であって、上記基板上の所定位置に上記
光ファイバを固定する工程、および上記光ファイバから
上記ダイオードに対して上記ダイオードの発振または検
出するレーザ波長より短波長のレーザ光を入射し、上記
ダイオードから光ファイバへの戻り光のうち、上記ダイ
オードの発振または検出するレーザ波長に対応する成分
の光強度が最大となる位置で上記ダイオードを上記基板
に固定する工程を備えたものである。
A second method for manufacturing an optical semiconductor module according to the present invention is a method for manufacturing an optical semiconductor module in which an optical fiber and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate. Fixing the optical fiber at a position, and irradiating the diode with laser light having a wavelength shorter than the laser wavelength to be oscillated or detected from the optical fiber to the diode, and returning light from the diode to the optical fiber. And fixing the diode to the substrate at a position where the light intensity of the component corresponding to the oscillation of the diode or the laser wavelength to be detected is maximized.

【0016】本発明に係る第3の光半導体モジュールの
製造方法は、基板上に、光ファイバと光合分波器とレー
ザダイオードまたはフォトダイオードとが固定された光
半導体モジュールの製造方法であって、上記基板上の所
定位置に上記光ファイバと上記光合分波器とを固定する
工程、および上記光ファイバから上記光合分波器を通っ
てダイオードに対して上記ダイオードの発振または検出
するレーザ波長と同じ波長のレーザ光を入射し、上記ダ
イオードから検出される光電流が最大となる位置で上記
ダイオードを上記基板に固定する工程を備えたものであ
る。
A third method for manufacturing an optical semiconductor module according to the present invention is a method for manufacturing an optical semiconductor module in which an optical fiber, an optical multiplexer / demultiplexer, and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate, Fixing the optical fiber and the optical multiplexer / demultiplexer at a predetermined position on the substrate, and the same as the laser wavelength to oscillate or detect the diode from the optical fiber to the diode through the optical multiplexer / demultiplexer. A step of receiving a laser beam having a wavelength and fixing the diode to the substrate at a position where the photocurrent detected from the diode is maximized.

【0017】本発明に係る第4の光半導体モジュールの
製造方法は、基板上に、光ファイバと光合分波器とレー
ザダイオードまたはフォトダイオードとが固定された光
半導体モジュールの製造方法であって、上記基板上の所
定位置に上記光ファイバと上記ダイオードとを固定する
工程、および上記光ファイバから上記光合分波器を通っ
てダイオードに対して上記ダイオードの発振または検出
するレーザ波長と同じ波長のレーザ光を入射し、上記ダ
イオードから検出される光電流が最大となる位置で上記
光合分波器を上記基板に固定する工程を備えたものであ
る。
A fourth method for manufacturing an optical semiconductor module according to the present invention is a method for manufacturing an optical semiconductor module in which an optical fiber, an optical multiplexer / demultiplexer, and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate, A step of fixing the optical fiber and the diode at a predetermined position on the substrate, and a laser having the same wavelength as the laser wavelength at which the diode oscillates or detects the diode from the optical fiber through the optical multiplexer / demultiplexer. A step of receiving the light and fixing the optical multiplexer / demultiplexer to the substrate at a position where the photocurrent detected from the diode becomes maximum.

【0018】本発明に係る第5の光半導体モジュールの
製造方法は、上記第1ないし第4のいずれかの光半導体
モジュールの製造方法において、上記光ファイバから上
記ダイオードに対してレーザ光を入射する前に、上記基
板と光合分波器またはダイオードとの所定位置に予め形
成された仮位置決め用の凹凸にデフォーカスされたレー
ザ光を照射して上記凹凸を含む暗視野像を撮影し、上記
各凹凸に対応して観察される各輝点が予め登録された位
置に来るように上記基板上に上記光合分波器またはダイ
オードを仮位置決めする工程を備えたものである。
According to a fifth method of manufacturing an optical semiconductor module according to the present invention, in any of the first to fourth methods of manufacturing an optical semiconductor module, a laser beam is incident on the diode from the optical fiber. Before, the substrate and the optical multiplexer / demultiplexer or the diode are irradiated with laser light defocused on the pre-determined irregularities for provisional positioning formed at predetermined positions, and a dark field image including the irregularities is photographed. The method further comprises a step of temporarily positioning the optical multiplexer / demultiplexer or the diode on the substrate so that each bright spot observed corresponding to the unevenness comes to a position registered in advance.

【0019】本発明に係る第1の光半導体モジュールの
製造装置は、基板上に、光ファイバとレーザダイオード
またはフォトダイオードとが固定された光半導体モジュ
ールの製造装置であって、上記基板上に固定された光フ
ァイバから上記ダイオードに対してレーザ光を入射する
手段、上記ダイオードに流れる光電流を検出する手段、
および上記ダイオードを保持して上記基板上で移動可能
とする手段を備えたものである。
A first optical semiconductor module manufacturing apparatus according to the present invention is an optical semiconductor module manufacturing apparatus in which an optical fiber and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate, and the optical semiconductor module is fixed on the substrate. Means for injecting laser light from the optical fiber to the diode, means for detecting photocurrent flowing through the diode,
And means for holding the diode and making it movable on the substrate.

【0020】本発明に係る第2の光半導体モジュールの
製造装置は、基板上に、光ファイバとレーザダイオード
またはフォトダイオードとが固定された光半導体モジュ
ールの製造装置であって、上記基板上に固定された光フ
ァイバから上記ダイオードに対してレーザ光を入射する
手段、上記ダイオードから光ファイバへの戻り光の光強
度を検出する手段、および上記ダイオードを保持して上
記基板上で移動可能とする手段を備えたものである。
A second optical semiconductor module manufacturing apparatus according to the present invention is an optical semiconductor module manufacturing apparatus in which an optical fiber and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate, and the optical semiconductor module is fixed on the substrate. Means for injecting a laser beam from the optical fiber to the diode, means for detecting the light intensity of the return light from the diode to the optical fiber, and means for holding the diode and allowing it to move on the substrate It is provided with.

【0021】本発明に係る第3の光半導体モジュールの
製造装置は、基板上に、光ファイバと光合分波器とレー
ザダイオードまたはフォトダイオードとが固定された光
半導体モジュールの製造装置であって、上記基板上に固
定された光ファイバから上記光合分波器を通ってダイオ
ードに対してレーザ光を入射する手段、上記ダイオード
から検出される光電流を検出する手段、および上記光合
分波器またはダイオードを保持して上記基板上で移動可
能とする手段を備えたものである。
A third optical semiconductor module manufacturing apparatus according to the present invention is an optical semiconductor module manufacturing apparatus in which an optical fiber, an optical multiplexer / demultiplexer, and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate, Means for injecting laser light from an optical fiber fixed on the substrate to the diode through the optical multiplexer / demultiplexer, means for detecting a photocurrent detected from the diode, and the optical multiplexer / demultiplexer or the diode And means for holding it and making it movable on the substrate.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】実施の形態1.図1〜図3は、本
発明の実施の形態1による光半導体モジュールの製造方
法および製造装置を説明するための図である。図1は本
実施の形態により製造されたLDモジュールの内部構造
を示す斜視図、図2は仮位置決め工程を説明する斜視図
である。図3は光電流を検出することによる高精度の位
置決め工程を説明する図であり、(a)は斜視図、
(b)は側面図である。LDモジュールとは光送信機能
のみを備えたモジュールである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 1 to 3 are views for explaining a method and an apparatus for manufacturing an optical semiconductor module according to a first embodiment of the present invention. FIG. 1 is a perspective view showing the internal structure of an LD module manufactured according to the present embodiment, and FIG. 2 is a perspective view illustrating a temporary positioning step. 3A and 3B are views for explaining a high-accuracy positioning process by detecting a photocurrent, and FIG. 3A is a perspective view,
(B) is a side view. The LD module is a module having only an optical transmission function.

【0023】図1において、11は光ファイバ、11a
はジルコニア製のフェルール(他の光ファイバとのコネ
クタ)、14はLD、16はSi基板である。18は光
ファイバ11の位置決めおよび固定のためにSi基板1
6に設けられたV溝であり、例えばウエットエッチング
により形成されている。31は光ファイバ11をSi基
板16に固定するためのSi製のカバーであり、Si基
板16と同様にV溝18が形成されている。32はSi
基板16およびLD14の所定位置に形成された仮位置
決め用の凹凸に相当する仮位置決め用の穴である。
In FIG. 1, 11 is an optical fiber, 11a
Is a zirconia ferrule (connector to another optical fiber), 14 is an LD, and 16 is a Si substrate. Reference numeral 18 denotes a Si substrate 1 for positioning and fixing the optical fiber 11.
The V-groove provided in 6 is formed by, for example, wet etching. Reference numeral 31 denotes a Si cover for fixing the optical fiber 11 to the Si substrate 16, and has a V-groove 18 formed in the same manner as the Si substrate 16. 32 is Si
These are holes for temporary positioning corresponding to irregularities for temporary positioning formed at predetermined positions of the substrate 16 and the LD 14.

【0024】また、図2において、33はSi基板16
に形成された、LD14に通電させるための金属配線パ
ターンとLD14を接合するための金/錫半田層であ
り、33aが金属配線パターン、33bが金/錫半田層
である。34は観察装置に相当するCCDカメラ、35
はレーザ光源、36はレーザ光源35からのレーザ光
線、37はレンズ、38はレンズ37によってデフォー
カスされたレーザ光である。また、図示していないが、
CCDカメラ34は制御装置(例えばコンピュータ)に
接続されている。また、図示していないが、LD14を
保持してSi基板16上で移動可能とする手段として例
えば図3(b)に43で示す3次元アクチュエータ付き
のコレット(微小吸引装置:吸着によりLD14をハン
ドリングする部品)を備えており、この3次元アクチュ
エータ付きのコレットは上記のコンピュータにより制御
される。
In FIG. 2, reference numeral 33 denotes a Si substrate 16.
And a gold / tin solder layer for bonding the LD 14 to a metal wiring pattern for energizing the LD 14, a metal wiring pattern 33a, and a gold / tin solder layer 33b. 34 is a CCD camera corresponding to an observation device, 35
Is a laser light source, 36 is a laser beam from the laser light source 35, 37 is a lens, and 38 is a laser beam defocused by the lens 37. Although not shown,
The CCD camera 34 is connected to a control device (for example, a computer). Although not shown, as a means for holding the LD 14 and making it movable on the Si substrate 16, for example, a collet with a three-dimensional actuator 43 shown in FIG. The collet with the three-dimensional actuator is controlled by the computer.

【0025】CCDカメラ34には光学顕微鏡(100
倍〜1000倍)が装備されており、デフォーカスされ
たレーザ光38は、Si基板16平面に対して例えば8
0度の入射角で照射するが、顕微鏡はこの入射光および
反射光を検出しない暗視野部に配置される。具体的には
Si基板16平面に対して30度〜150度の間であ
る。また、LD14についてもSi基板16と同様にデ
フォーカスしたレーザ光を照射する。この際、CCDカ
メラ34がSi基板16平面とLD14側面に対して共
通の暗視野部に入らない場合、レーザー光源とCCDカ
メラを追加して散乱光の輝点をそれぞれ認識するように
配置する。
The CCD camera 34 has an optical microscope (100
The laser beam 38 defocused is, for example, 8 times with respect to the plane of the Si substrate 16.
Irradiation is performed at an incident angle of 0 degree, but the microscope is arranged in a dark field portion which does not detect the incident light and the reflected light. Specifically, the angle is between 30 degrees and 150 degrees with respect to the plane of the Si substrate 16. The LD 14 is also irradiated with the defocused laser light similarly to the Si substrate 16. At this time, when the CCD camera 34 does not enter a common dark field portion with respect to the plane of the Si substrate 16 and the side of the LD 14, a laser light source and a CCD camera are added and arranged so as to recognize the bright spots of the scattered light.

【0026】また、図3において、41はLD14の上
面と底面に近い領域にそれぞれ側面から接続した光電流
測定用の電極、42はLD14に流れる微小電流を検出
する電流計である。43は3次元アクチュエータ付きの
コレットであり、LD14を保持してSi基板16上で
移動可能とする手段に相当する。44は光軸、45はレ
ーザ光源である。
In FIG. 3, reference numeral 41 denotes an electrode for measuring a photocurrent connected from the side surface to a region close to the top and bottom surfaces of the LD 14, and 42 denotes an ammeter for detecting a minute current flowing through the LD 14. Reference numeral 43 denotes a collet provided with a three-dimensional actuator, which corresponds to a unit that holds the LD 14 and enables the LD 14 to move on the Si substrate 16. 44 is an optical axis and 45 is a laser light source.

【0027】次に、製造方法について説明する。LD1
4はAlGaAs等の化合物半導体層をGaAs単結晶
基板上にエピタキシャル成長させて作製されており、L
D14の端面はへき開面のため、平坦性が高い。LD1
4の端面でLD14の動作に影響を及ぼさない所定位置
に縦横1μm、深さ3μmの仮位置決め用の穴32を異
方性エッチングにより形成する。また、Si基板16の
所定位置にも同じ仮位置決め用の穴32を異方性エッチ
ングにより形成する。
Next, the manufacturing method will be described. LD1
No. 4 is manufactured by epitaxially growing a compound semiconductor layer such as AlGaAs on a GaAs single crystal substrate.
The end face of D14 has a high flatness due to the cleavage face. LD1
A hole 32 for provisional positioning of 1 μm in length and width and 3 μm in depth is formed at a predetermined position on the end face 4 which does not affect the operation of the LD 14 by anisotropic etching. Further, the same temporary positioning holes 32 are formed at predetermined positions of the Si substrate 16 by anisotropic etching.

【0028】仮位置決めに際しては、まず、光ファイバ
11をSi基板16に設けられたV溝18に配置し、光
ファイバ11およびSi基板16の上に同じくV溝18
を形成したSiカバー31を配置し、それぞれを銀エポ
キシ接着剤により固定する。次に、このLD14とSi
基板16の広い領域にレンズ37によりデフォーカスし
たArイオンレーザ光38を上述のように低角度(Si
基板16平面に対して例えば80度の入射角)で照射す
る。平坦部に異物(この場合は仮位置決め用の穴32)
がある場合、Arイオンレーザ光38が散乱し、暗視野
像では輝点として認識される。この輝点をレーザ光38
の暗視野に設置した顕微鏡付きのCCDカメラ34によ
り撮影する。CCDカメラ34により撮影された画像は
コンピュータにより画像処理された後にCRT上に表示
される。Si基板16はステージに治具により固定さ
れ、CCDカメラ34に対して常に同じ位置に来るよう
に設定されている。さらに、CCDカメラ34の位置を
微調整して、Si基板16からの輝点が画像の中心に来
るように設定されている。
At the time of provisional positioning, first, the optical fiber 11 is placed in the V-groove 18 provided on the Si substrate 16, and the V-groove 18 is placed on the optical fiber 11 and the Si substrate 16.
Is formed, and each is fixed with a silver epoxy adhesive. Next, this LD 14 and Si
As described above, the Ar ion laser beam 38 defocused by a lens 37 on a wide area of the substrate 16 has a low angle (Si
Irradiation is performed on the plane of the substrate 16 at an incident angle of, for example, 80 degrees. Foreign matter on the flat part (in this case, hole 32 for temporary positioning)
If there is, the Ar ion laser light 38 is scattered and recognized as a bright spot in the dark field image. This bright spot is converted to a laser beam 38.
Is taken by a CCD camera 34 with a microscope installed in a dark field. The image captured by the CCD camera 34 is displayed on a CRT after image processing by a computer. The Si substrate 16 is fixed to the stage by a jig, and is set so as to always be at the same position with respect to the CCD camera 34. Further, the position of the CCD camera 34 is finely adjusted so that the bright spot from the Si substrate 16 is located at the center of the image.

【0029】次に、コンピュータにより3次元アクチュ
エータ付きのコレットを制御してLD14をSi基板1
6上でXYZ方向に移動させ、画面中心の輝点に対して
予め登録された相対位置へ自動的に搬送する。この動作
についてはCCDカメラ34からの画像をコンピュータ
で処理し、そのコントラストから輝点を認識し、さらに
画像を座標に変換することで、自動化が可能である。
Next, a collet provided with a three-dimensional actuator is controlled by a computer, and the LD 14 is placed on the Si substrate 1.
6 to be moved in the XYZ directions and automatically conveyed to a relative position registered in advance with respect to the bright spot at the center of the screen. This operation can be automated by processing the image from the CCD camera 34 with a computer, recognizing a bright spot from the contrast, and further converting the image into coordinates.

【0030】以上のようにして、Si基板16にLD1
4を仮位置決めする工程を高速でおこなうことができ
る。暗視野像から得る位置の誤差は波長の1/4であ
り、波長448nmのArイオンレーザでは112nm
である。
As described above, the LD 1 is placed on the Si substrate 16.
4 can be performed at a high speed. The error of the position obtained from the dark-field image is 1/4 of the wavelength, and 112 nm in the case of an Ar ion laser having a wavelength of 448 nm.
It is.

【0031】散乱光の暗視野像からおこなった仮位置決
め後、光電流を測定することによる高精度の位置決めを
おこなう。以下、図3を用いて光電流を測定することに
よる高精度の位置決めについて説明する。LD14の発
振レーザ波長は1.3μmであるため、外部レーザ光源
45によって、光ファイバ11からLD14に対して波
長1.3μmのレーザ光を入射する。入射されたレーザ
光のエネルギはLD14の光活性層のバンドギャップエ
ネルギに等しいため、光軸44がLD14の活性層と一
致した時点で、電流計42によってLD14から検出さ
れる光電流の大きさが最大となる。
After provisional positioning based on the dark-field image of the scattered light, high-precision positioning is performed by measuring the photocurrent. Hereinafter, highly accurate positioning by measuring the photocurrent will be described with reference to FIG. Since the oscillation laser wavelength of the LD 14 is 1.3 μm, a laser beam having a wavelength of 1.3 μm is incident on the LD 14 from the optical fiber 11 by the external laser light source 45. Since the energy of the incident laser light is equal to the band gap energy of the photoactive layer of the LD 14, the magnitude of the photocurrent detected from the LD 14 by the ammeter 42 when the optical axis 44 coincides with the active layer of the LD 14 is determined. Will be the largest.

【0032】したがって、光電流を検出しながらコレッ
ト43によりLD14を保持してSi基板16上を移動
させ、この光電流最大の位置でLD14をコレット43
により保持したまま、Si基板16を裏面からヒーター
(図示せず)により加熱してSi基板16に形成された
金/錫半田を融解させてLD14をSi基板16に接合
する。
Therefore, the LD 14 is held by the collet 43 and moved on the Si substrate 16 while detecting the photocurrent, and the collet 43 is moved at the position where the photocurrent is maximum.
The LD 14 is bonded to the Si substrate 16 by heating the Si substrate 16 from the back surface with a heater (not shown) to melt the gold / tin solder formed on the Si substrate 16.

【0033】接合後、LD14とSi基板16とリード
フレームとの配線をおこない、LD14を発光させて光
ファイバケーブル11から放出されるレーザ光の強度お
よび結合損失を測定したところ、アクティブアライメン
ト法による接合と同等かそれ以上の性能が得られた。ま
た、本実施の形態の場合、数十回の試作においても光結
合損失は極めて小さいことが確認された。
After bonding, wiring of the LD 14, the Si substrate 16, and the lead frame was performed, and the intensity of the laser light emitted from the optical fiber cable 11 and the coupling loss were measured by causing the LD 14 to emit light. Performance equal to or better than was obtained. Also, in the case of the present embodiment, it was confirmed that the optical coupling loss was extremely small even after several tens of trial productions.

【0034】なお、光電流の電流密度が小さく、電流計
42による測定が困難な場合には、電極41間にバイア
スを印加することでLD14の量子効率を高め、検出す
る電流値を増加させることができる。
When the current density of the photocurrent is small and the measurement by the ammeter 42 is difficult, the quantum efficiency of the LD 14 is increased by applying a bias between the electrodes 41 to increase the current value to be detected. Can be.

【0035】なお、上記実施の形態1では、仮位置決め
用の凹凸として、縦横1μm、深さ3μmの仮位置決め
用の穴32を設けた場合について説明したが、穴(凹
部)でなく凸部であってもよく、また、溝や畝であって
もよい。また更に、その大きさは、縦横0.1μm〜5
μm程度、深さ(高さ)0.1μm〜5μm程度が望ま
しい。縦横が0.1μmより小さいと散乱光が少ないた
めCCDカメラ34で検知できず、逆に5μmより大き
いと位置合わせの精度が低下する。また、深さ(高さ)
が0.1μmより小さいと散乱光を検知できず、逆に5
μmより大きいと散乱光スポットが大きくなって実装精
度が低下する。
In the first embodiment, the case where the provisional positioning holes 32 having a length and width of 1 μm and a depth of 3 μm are provided as the projections and depressions for provisional positioning has been described. It may be a groove or a ridge. Furthermore, the size is 0.1 μm to 5 μm.
It is desirable that the thickness is about μm and the depth (height) is about 0.1 μm to 5 μm. If the height and width are smaller than 0.1 μm, the amount of scattered light is so small that it cannot be detected by the CCD camera 34. Also, depth (height)
Is smaller than 0.1 μm, scattered light cannot be detected.
If it is larger than μm, the scattered light spot becomes large and mounting accuracy is reduced.

【0036】なお、上記実施の形態1では、Si基板1
6上に光ファイバ11とLD14とを光軸を合わせて固
定し、LDモジュールを製造する場合について説明した
が、LD14の代わりにPDを用いてPDモジュールを
製造してもよく、同様の効果が得られる。
In the first embodiment, the Si substrate 1
Although the case where the optical fiber 11 and the LD 14 are fixed on the optical fiber 6 so that the optical axes thereof are aligned and the LD module is manufactured has been described, the PD module may be manufactured by using a PD instead of the LD 14. can get.

【0037】実施の形態2.図4は、本発明の実施の形
態2による光半導体モジュールの製造方法および製造装
置を説明するための図である。本実施の形態は、実施の
形態1で説明したLDモジュールまたはPDモジュール
の製造方法および製造装置を、より複雑な構造を有する
光送受信モジュールの光部品とSi基板の接合に適用し
た場合の実施の形態である。本実施の形態によって製造
された光送受信モジュールは、1枚のSi基板16上
に、光ファイバ11が銀エポキシ接着剤により接合さ
れ、送信のためのLD14、受信のためのPD17、並
びに光を合波および分波するための光合分波器13が金
/錫半田により接合されている。
Embodiment 2 FIG. 4 is a diagram illustrating a method and an apparatus for manufacturing an optical semiconductor module according to a second embodiment of the present invention. This embodiment is an embodiment in which the method and apparatus for manufacturing an LD module or a PD module described in the first embodiment are applied to bonding of an optical component of an optical transceiver module having a more complicated structure to a Si substrate. It is a form. In the optical transceiver module manufactured according to the present embodiment, an optical fiber 11 is bonded on a single Si substrate 16 with a silver epoxy adhesive, and an LD 14 for transmission, a PD 17 for reception, and light are combined. An optical multiplexer / demultiplexer 13 for splitting a wave and splitting is joined by gold / tin solder.

【0038】次に製造方法について説明する。上記光部
品(LD14、PD17、光合分波器13)のほとんど
がAlGaAs系の化合物半導体やSiの単結晶から形
成されており、これらの光部品の端面はへき開面である
ので、平坦性が高い。この端面で動作に影響を及ぼさな
い所定位置に、縦横1μm、深さ3μmの仮位置決め用
の穴32を異方性エッチングにより形成する。また、S
i基板16の所定位置にも同じ仮位置決め用の穴32を
異方性エッチングにより形成する。
Next, the manufacturing method will be described. Most of the optical components (LD14, PD17, optical multiplexer / demultiplexer 13) are made of AlGaAs-based compound semiconductor or single crystal of Si, and the end faces of these optical components are cleavage planes, so that the flatness is high. . A temporary positioning hole 32 having a length of 1 μm and a width of 3 μm and a depth of 3 μm is formed by anisotropic etching at a predetermined position on the end face which does not affect the operation. Also, S
The same temporary positioning holes 32 are formed at predetermined positions of the i-substrate 16 by anisotropic etching.

【0039】まず、図4(a)において、光ファイバ1
1は予めSi基板16に形成したV溝18に接着剤を用
いて固定しておく。また、PD17についても金/錫半
田を用いてSi基板16の所定位置に接合する。なお、
PD17のSi基板16上への位置決めについては、例
えば、PD17およびSi基板16に形成した仮位置決
め用の穴32を用い、実施の形態1で図2を用いて説明
したのと同様の、CCDカメラによる暗視野像内の散乱
光の輝点位置観察から行う仮位置決め工程による。
First, referring to FIG.
1 is fixed to a V-groove 18 formed in the Si substrate 16 in advance using an adhesive. The PD 17 is also bonded to a predetermined position on the Si substrate 16 using gold / tin solder. In addition,
For positioning the PD 17 on the Si substrate 16, for example, a CCD camera similar to that described with reference to FIG. 2 in the first embodiment using the holes 32 for temporary positioning formed in the PD 17 and the Si substrate 16. Tentative positioning process performed from the observation of the bright spot position of the scattered light in the dark field image.

【0040】次に、光合分波器13およびSi基板16
に形成した仮位置決め用の穴32を用いて、CCDカメ
ラによる暗視野像内の散乱光の輝点位置観察から行う仮
位置決め工程により、光合分波器13とSi基板16と
の相対位置を粗調整した後、外部レーザ光源(図示せ
ず)によって、光ファイバ11からPD17で選択的に
吸収される1.5μmの波長のレーザ光を、光合分波器
13を通ってPD17に対して入射する。PD17から
流れる光電流を測定しながら3次元アクチュエーター付
きのコレット43により光合分波器13を保持してSi
基板16上を移動させ、光電流値が最大となる位置で光
合分波器13をSi基板16に接合する。
Next, the optical multiplexer / demultiplexer 13 and the Si substrate 16
The relative position between the optical multiplexer / demultiplexer 13 and the Si substrate 16 is roughly determined by the provisional positioning step performed by observing the bright spot position of the scattered light in the dark field image by the CCD camera using the temporary positioning hole 32 formed in After the adjustment, a laser beam having a wavelength of 1.5 μm, which is selectively absorbed by the PD 17 from the optical fiber 11 by the external laser light source (not shown), enters the PD 17 through the optical multiplexer / demultiplexer 13. . While measuring the photocurrent flowing from the PD 17, the optical multiplexer / demultiplexer 13 is held by the collet 43 with a three-dimensional actuator, and
The optical multiplexer / demultiplexer 13 is moved on the substrate 16 and joined to the Si substrate 16 at a position where the photocurrent value becomes maximum.

【0041】次に、図4(b)において、LD14につ
いても、LD14およびSi基板16に形成した仮位置
決め用の穴32を用いて、CCDカメラによる暗視野像
内の散乱光の輝点位置観察から行う仮位置決め工程によ
り、LD14とSi基板16との相対位置を粗調整した
後、外部レーザ光源(図示せず)によって、LD14の
発振レーザ波長である1.3μmのレーザ光を、光ファ
イバ11から光合分波器13を通ってLD14に対して
入射する。LD14から流れる光電流を測定しながら3
次元アクチュエーター付きのコレット43によりLD1
4を保持してSi基板16上を移動させ、光電流が最大
となる位置でLD14をSi基板16に接合する。この
ようにして、光分波器13とLD14を高速かつ高精度
に光軸を合わせ、Si基板16に位置決め接合すること
が可能である。
Next, in FIG. 4B, for the LD 14, the bright spot position of the scattered light in the dark field image is observed by the CCD camera using the temporary positioning holes 32 formed in the LD 14 and the Si substrate 16. After the relative position between the LD 14 and the Si substrate 16 is roughly adjusted by the provisional positioning process performed from step 1, a laser beam of 1.3 μm, which is the oscillation laser wavelength of the LD 14, The light enters the LD 14 through the optical multiplexer / demultiplexer 13. While measuring the photocurrent flowing from the LD 14, 3
LD1 by collet 43 with three-dimensional actuator
The LD 14 is moved on the Si substrate 16 while holding the LD 4, and the LD 14 is joined to the Si substrate 16 at a position where the photocurrent is maximized. In this way, it is possible to align the optical axis of the optical demultiplexer 13 and the LD 14 with high speed and high accuracy, and to position and join the optical splitter 13 and the LD 14 to the Si substrate 16.

【0042】以上のように製造された本実施の形態に係
る光送受信モジュールにおいて、結合損失から推定した
光軸のずれは0.5μm以下である。この値は、従来技
術3で説明したような、Si基板を加工して溝を作製し
た場合と比較して約1/2〜1/4程度である。
In the optical transceiver module according to the present embodiment manufactured as described above, the deviation of the optical axis estimated from the coupling loss is 0.5 μm or less. This value is about 1/2 to 1/4 as compared with the case where the groove is formed by processing the Si substrate as described in the related art 3.

【0043】なお、上記実施の形態2では、図4(a)
において、光ファイバ11とPD17は予めSi基板1
6に接合しておき、光合分波器13を光ファイバ11お
よびPD17の光軸に合わせて位置決め固定する場合に
ついて説明したが、逆に、光ファイバ11と光合分波器
13は予めSi基板16に接合しておき、PD17を光
ファイバ11および光合分波器13の光軸に合わせて位
置決め固定してもよく、同様の効果が得られる。また、
PD17の代わりにLD14であってもよい。またさら
に、図4(b)において、LD14とPD17の位置が
逆であってもよい。
In the second embodiment, FIG.
, The optical fiber 11 and the PD 17 are
6 and the optical multiplexer / demultiplexer 13 is positioned and fixed in accordance with the optical axes of the optical fiber 11 and the PD 17. On the contrary, the optical fiber 11 and the optical multiplexer / demultiplexer 13 are And the PD 17 may be positioned and fixed in accordance with the optical axes of the optical fiber 11 and the optical multiplexer / demultiplexer 13, and the same effect can be obtained. Also,
The LD 14 may be used instead of the PD 17. Further, in FIG. 4B, the positions of the LD 14 and the PD 17 may be reversed.

【0044】実施の形態3.図5および図6は、本発明
の実施の形態3による光半導体モジュールの製造方法お
よび製造装置を説明するための図であり、図5はその原
理を説明するためのLDの電子バンドモデル図、図6は
戻り光の光強度を検出することによる高精度の位置決め
工程を説明する平面図である。図5において、61は価
電子帯の正孔、62はクラッド層の電子バンド、63は
活性層の電子バンド、64は伝導体の電子、65はLD
の発振するレーザ波長と同じ波長の戻り光、66は入射
レーザ光、67はクラッド層の電子バンドである。図6
において、71はビームスプリッタ、72は光検出器で
ある。
Embodiment 3 FIG. 5 and 6 are views for explaining a method and an apparatus for manufacturing an optical semiconductor module according to a third embodiment of the present invention. FIG. 5 is an electronic band model diagram of an LD for explaining the principle thereof. FIG. 6 is a plan view illustrating a highly accurate positioning step by detecting the light intensity of the return light. In FIG. 5, 61 is a hole in the valence band, 62 is an electron band in the cladding layer, 63 is an electron band in the active layer, 64 is an electron in the conductor, and 65 is an LD.
Is the return light having the same wavelength as the laser wavelength at which the laser beam oscillates, 66 is the incident laser light, and 67 is the electronic band of the cladding layer. FIG.
In the above, 71 is a beam splitter, and 72 is a photodetector.

【0045】次に、図5を用いて本実施の形態による戻
り光の光強度を測定することによる高精度位置決めの原
理について説明する。光ファイバからLDの発振するレ
ーザ波長より短波長の(LDの発振するレーザ光以上の
エネルギを有する)レーザ光66を入射すると、LDに
入射された光は活性層の電子バンド63で吸収され、励
起された伝導帯の電子64と価電子帯の正孔61を生成
し、一部が熱励起により活性層を挟むクラッド層の電子
バンド62および67に移動することで光電流の源(正
孔61と電子64)となる。その他、大部分の伝導体の
電子64と価電子帯のホール61は活性層の電子バンド
63内部で再結合し、その際にLDの発振するレーザ波
長と同じ波長の戻り光65が放出される。
Next, the principle of high-precision positioning by measuring the intensity of the return light according to the present embodiment will be described with reference to FIG. When a laser beam 66 having a shorter wavelength (having energy equal to or greater than the laser beam oscillated by the LD) shorter than the laser wavelength oscillated by the LD from the optical fiber, the light incident on the LD is absorbed by the electronic band 63 of the active layer. The excited conduction band electrons 64 and the valence band holes 61 are generated, and a part of them is moved to the electron bands 62 and 67 of the cladding layer sandwiching the active layer by thermal excitation, so that a photocurrent source (hole) is generated. 61 and electrons 64). In addition, most of the electrons 64 of the conductor and the holes 61 of the valence band recombine inside the electron band 63 of the active layer, and at that time, return light 65 having the same wavelength as the laser wavelength oscillated by the LD is emitted. .

【0046】次に、図6を用いて、本実施の形態による
光半導体モジュールの製造方法および製造装置について
説明する。まず、実施の形態2で図4(a)を用いて説
明したのと同様にして、Si基板16上に光ファイバ1
1と光合分波器13とPD17とを固定する。次に、L
D14およびSi基板16に形成した仮位置決め用の穴
32を用いて、CCDカメラによる暗視野像内の散乱光
の輝点位置観察から行う仮位置決め工程により、LD1
4とSi基板16との相対位置を粗調整した後、外部レ
ーザ光源45によって、LD14の発振するレーザ波長
より短波長のレーザ光(LD14の発振するレーザ光以
上のエネルギを有するレーザ光)を、光ファイバ11か
ら光合分波器13を通ってLD14に対して入射する。
LD14からの戻り光を光学フィルタ付きのビームスプ
リッタ71で分離し、LD14の発振するレーザ波長と
同じ波長の光65のみを取り出す。この光65の強度を
光検出器72でモニタしながら3次元アクチュエーター
付きのコレット(図示せず)によりLD14を保持して
Si基板16上を移動させ、光強度が最大となる位置で
LD14をSi基板16に接合する。このようにして、
各光部品の光軸44を高速かつ高精度で合わせることが
可能である。
Next, a method and an apparatus for manufacturing an optical semiconductor module according to the present embodiment will be described with reference to FIG. First, in the same manner as described in Embodiment 2 with reference to FIG.
1, the optical multiplexer / demultiplexer 13 and the PD 17 are fixed. Next, L
D14 and the provisional positioning hole 32 formed in the Si substrate 16 are used to perform the provisional positioning step performed by observing the bright spot position of the scattered light in the dark-field image using the CCD camera.
After the relative position between the laser light 4 and the Si substrate 16 is roughly adjusted, the external laser light source 45 emits a laser beam having a shorter wavelength than the laser wavelength oscillated by the LD 14 (a laser beam having energy equal to or greater than the laser beam oscillated by the LD 14). The light enters the LD 14 from the optical fiber 11 through the optical multiplexer / demultiplexer 13.
The return light from the LD 14 is separated by a beam splitter 71 with an optical filter, and only the light 65 having the same wavelength as the laser wavelength oscillated by the LD 14 is extracted. While monitoring the intensity of the light 65 with the photodetector 72, the LD 14 is moved on the Si substrate 16 by holding the LD 14 by a collet (not shown) with a three-dimensional actuator, and the LD 14 is moved to the position where the light intensity becomes maximum. It is bonded to the substrate 16. In this way,
The optical axis 44 of each optical component can be aligned at high speed and with high accuracy.

【0047】なお、上記実施の形態3では、Si基板1
6上に光ファイバ11と光合分波器13とPD17とを
予め固定しておき、LD14を光ファイバ11、光合分
波器13およびPD17の光軸に合わせて位置決め固定
する場合について説明したが、図5を用いて説明した原
理はPD17についても当てはまるので、逆に、光ファ
イバ11と光合分波器13とLD14は予めSi基板1
6に接合しておき、PD17を、光ファイバ11、光合
分波器13およびLD14の光軸に合わせて位置決め固
定する場合に適用してもよく、同様の効果が得られる。
また、図6において、LD14とPD17の位置が逆で
あってもよい。またさらに、実施の形態1で説明したL
DモジュールやPDモジュールの製造に適用することも
可能である。
In the third embodiment, the Si substrate 1
6, the case where the optical fiber 11, the optical multiplexer / demultiplexer 13 and the PD 17 are fixed in advance and the LD 14 is positioned and fixed in accordance with the optical axes of the optical fiber 11, the optical multiplexer / demultiplexer 13 and the PD 17 has been described. Since the principle described with reference to FIG. 5 also applies to the PD 17, the optical fiber 11, the optical multiplexer / demultiplexer 13, and the LD 14 are
6, and may be applied to the case where the PD 17 is positioned and fixed in accordance with the optical axes of the optical fiber 11, the optical multiplexer / demultiplexer 13, and the LD 14, and the same effect is obtained.
In FIG. 6, the positions of the LD 14 and the PD 17 may be reversed. Furthermore, L described in Embodiment 1
The present invention can be applied to the manufacture of a D module or a PD module.

【0048】[0048]

【発明の効果】以上のように、本発明に係る第1の光半
導体モジュールの製造方法によれば、基板上に、光ファ
イバとレーザダイオードまたはフォトダイオードとが固
定された光半導体モジュールの製造方法であって、上記
基板上の所定位置に上記光ファイバを固定する工程、お
よび上記光ファイバから上記ダイオードに対して上記ダ
イオードの発振または検出するレーザ波長と同じ波長の
レーザ光を入射し、上記ダイオードから検出される光電
流が最大となる位置で上記ダイオードを上記基板に固定
する工程を備えたので、光部品や基板を赤外線が透過し
なくても、しかも基板に接合しない状態でレーザダイオ
ードに通電してレーザ光を発振しなくても、高精度の光
軸合わせが可能となる。
As described above, according to the first method for manufacturing an optical semiconductor module according to the present invention, a method for manufacturing an optical semiconductor module in which an optical fiber and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate. And fixing the optical fiber at a predetermined position on the substrate, and irradiating a laser beam having the same wavelength as the laser wavelength of the oscillation or detection of the diode from the optical fiber to the diode, A step of fixing the diode to the substrate at a position where the photocurrent detected from the substrate becomes maximum, so that the laser diode can be energized without transmitting infrared light through the optical components or the substrate, and without bonding to the substrate. Thus, high-precision optical axis alignment is possible without oscillating laser light.

【0049】また、本発明に係る第2の光半導体モジュ
ールの製造方法によれば、基板上に、光ファイバとレー
ザダイオードまたはフォトダイオードとが固定された光
半導体モジュールの製造方法であって、上記基板上の所
定位置に上記光ファイバを固定する工程、および上記光
ファイバから上記ダイオードに対して上記ダイオードの
発振または検出するレーザ波長より短波長のレーザ光を
入射し、上記ダイオードから光ファイバへの戻り光のう
ち、上記ダイオードの発振または検出するレーザ波長に
対応する成分の光強度が最大となる位置で上記ダイオー
ドを上記基板に固定する工程を備えたので、光部品や基
板を赤外線が透過しなくても、しかも基板に接合しない
状態でレーザダイオードに通電してレーザ光を発振しな
くても、高精度の光軸合わせが可能となる。
According to a second method of manufacturing an optical semiconductor module according to the present invention, there is provided a method of manufacturing an optical semiconductor module in which an optical fiber and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate. Fixing the optical fiber at a predetermined position on a substrate, and irradiating a laser beam having a wavelength shorter than the laser wavelength of the oscillation or detection of the diode from the optical fiber to the diode, and from the diode to the optical fiber. In the return light, a step of fixing the diode to the substrate at a position where the light intensity of the component corresponding to the oscillation of the diode or the laser wavelength to be detected is maximized, so that infrared light is transmitted through the optical component or the substrate. Even if the laser diode is not oscillated by energizing the laser diode without being bonded to the substrate, Alignment is possible.

【0050】また、本発明に係る第3の光半導体モジュ
ールの製造方法によれば、基板上に、光ファイバと光合
分波器とレーザダイオードまたはフォトダイオードとが
固定された光半導体モジュールの製造方法であって、上
記基板上の所定位置に上記光ファイバと上記光合分波器
とを固定する工程、および上記光ファイバから上記光合
分波器を通ってダイオードに対して上記ダイオードの発
振または検出するレーザ波長と同じ波長のレーザ光を入
射し、上記ダイオードから検出される光電流が最大とな
る位置で上記ダイオードを上記基板に固定する工程を備
えたので、光部品や基板を赤外線が透過しなくても、し
かも基板に接合しない状態でレーザダイオードに通電し
てレーザ光を発振しなくても、高精度の光軸合わせが可
能となる。
Further, according to the third method of manufacturing an optical semiconductor module according to the present invention, a method of manufacturing an optical semiconductor module in which an optical fiber, an optical multiplexer / demultiplexer, and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate. Fixing the optical fiber and the optical multiplexer / demultiplexer at a predetermined position on the substrate, and oscillating or detecting the diode with respect to a diode from the optical fiber through the optical multiplexer / demultiplexer. Including a laser beam of the same wavelength as the laser wavelength, and a step of fixing the diode to the substrate at a position where the photocurrent detected from the diode is maximized, so that infrared light does not pass through the optical components and the substrate. Even if the laser diode does not oscillate by energizing the laser diode without being bonded to the substrate, highly accurate optical axis alignment can be achieved.

【0051】また、本発明に係る第4の光半導体モジュ
ールの製造方法によれば、基板上に、光ファイバと光合
分波器とレーザダイオードまたはフォトダイオードとが
固定された光半導体モジュールの製造方法であって、上
記基板上の所定位置に上記光ファイバと上記ダイオード
とを固定する工程、および上記光ファイバから上記光合
分波器を通ってダイオードに対して上記ダイオードの発
振または検出するレーザ波長と同じ波長のレーザ光を入
射し、上記ダイオードから検出される光電流が最大とな
る位置で上記光合分波器を上記基板に固定する工程を備
えたので、光部品や基板を赤外線が透過しなくても、し
かも基板に接合しない状態でレーザダイオードに通電し
てレーザ光を発振しなくても、高精度の光軸合わせが可
能となる。
Further, according to the fourth method for manufacturing an optical semiconductor module of the present invention, a method for manufacturing an optical semiconductor module in which an optical fiber, an optical multiplexer / demultiplexer, and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate. A step of fixing the optical fiber and the diode at a predetermined position on the substrate, and a laser wavelength at which the diode oscillates or is detected with respect to the diode from the optical fiber through the optical multiplexer / demultiplexer. Injecting laser light of the same wavelength and fixing the optical multiplexer / demultiplexer to the substrate at a position where the photocurrent detected from the diode is maximized, so that infrared light does not pass through the optical component or substrate. Even if the laser diode does not oscillate by energizing the laser diode without being bonded to the substrate, highly accurate optical axis alignment can be achieved.

【0052】また、本発明に係る第5の光半導体モジュ
ールの製造方法によれば、上記第1ないし第4のいずれ
かの光半導体モジュールの製造方法において、上記光フ
ァイバから上記ダイオードに対してレーザ光を入射する
前に、上記基板と光合分波器またはダイオードとの所定
位置に予め形成された仮位置決め用の凹凸にデフォーカ
スされたレーザ光を照射して上記凹凸を含む暗視野像を
撮影し、上記各凹凸に対応して観察される各輝点が予め
登録された位置に来るように上記基板上に上記光合分波
器またはダイオードを仮位置決めする工程を備えたの
で、高精度な光軸合わせをする前段階の位置決め粗調整
を高速化し、量産性良く光半導体モジュールを製造する
ことができる。
According to a fifth method of manufacturing an optical semiconductor module according to the present invention, in any one of the first to fourth methods of manufacturing an optical semiconductor module, a laser is supplied from the optical fiber to the diode. Before the light is incident, a dark field image including the irregularities is photographed by irradiating laser light defocused on the irregularities for temporary positioning formed in advance at predetermined positions of the substrate and the optical multiplexer / demultiplexer or the diode. The method further includes the step of temporarily positioning the optical multiplexer / demultiplexer or the diode on the substrate so that each bright spot observed corresponding to each of the irregularities comes to a pre-registered position. The speed of the coarse positioning adjustment before the axis alignment can be increased, and the optical semiconductor module can be manufactured with high productivity.

【0053】また、本発明に係る第1の光半導体モジュ
ールの製造装置によれば、基板上に、光ファイバとレー
ザダイオードまたはフォトダイオードとが固定された光
半導体モジュールの製造装置であって、上記基板上に固
定された光ファイバから上記ダイオードに対してレーザ
光を入射する手段、上記ダイオードに流れる光電流を検
出する手段、および上記ダイオードを保持して上記基板
上で移動可能とする手段を備えたので、光部品や基板を
赤外線が透過しなくても、しかも基板に接合しない状態
でレーザダイオードに通電してレーザ光を発振しなくて
も、高精度の光軸合わせが可能となる。
According to the first apparatus for manufacturing an optical semiconductor module of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing an optical semiconductor module in which an optical fiber and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate. Means for injecting laser light from the optical fiber fixed on the substrate to the diode, means for detecting a photocurrent flowing through the diode, and means for holding the diode and enabling movement on the substrate Therefore, high-precision optical axis alignment can be achieved even if infrared light does not pass through the optical component or the substrate, and laser light is not oscillated by energizing the laser diode without being bonded to the substrate.

【0054】また、本発明に係る第2の光半導体モジュ
ールの製造装置によれば、基板上に、光ファイバとレー
ザダイオードまたはフォトダイオードとが固定された光
半導体モジュールの製造装置であって、上記基板上に固
定された光ファイバから上記ダイオードに対してレーザ
光を入射する手段、上記ダイオードから光ファイバへの
戻り光の光強度を検出する手段、および上記ダイオード
を保持して上記基板上で移動可能とする手段を備えたの
で、光部品や基板を赤外線が透過しなくても、しかも基
板に接合しない状態でレーザダイオードに通電してレー
ザ光を発振しなくても、高精度の光軸合わせが可能とな
る。
According to a second apparatus for manufacturing an optical semiconductor module according to the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing an optical semiconductor module in which an optical fiber and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate. Means for injecting laser light from the optical fiber fixed on the substrate to the diode, means for detecting the light intensity of the return light from the diode to the optical fiber, and moving on the substrate while holding the diode Highly accurate optical axis alignment is possible even if infrared light does not pass through the optical components and the substrate, and the laser diode does not oscillate by energizing the laser diode without bonding to the substrate. Becomes possible.

【0055】また、本発明に係る第3の光半導体モジュ
ールの製造装置によれば、基板上に、光ファイバと光合
分波器とレーザダイオードまたはフォトダイオードとが
固定された光半導体モジュールの製造装置であって、上
記基板上に固定された光ファイバから上記光合分波器を
通ってダイオードに対してレーザ光を入射する手段、上
記ダイオードから検出される光電流を検出する手段、お
よび上記光合分波器またはダイオードを保持して上記基
板上で移動可能とする手段を備えたので、光部品や基板
を赤外線が透過しなくても、しかも基板に接合しない状
態でレーザダイオードに通電してレーザ光を発振しなく
ても、高精度の光軸合わせが可能となる。
According to the third apparatus for manufacturing an optical semiconductor module of the present invention, the apparatus for manufacturing an optical semiconductor module in which an optical fiber, an optical multiplexer / demultiplexer, and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate. Means for injecting a laser beam from an optical fiber fixed on the substrate to the diode through the optical multiplexer / demultiplexer, means for detecting a photocurrent detected from the diode, and the optical multiplexer / demultiplexer. A means for holding the wave device or diode and making it movable on the substrate is provided, so that even if infrared light does not pass through the optical component or substrate, and the laser diode is energized without being bonded to the substrate, The optical axis can be aligned with high accuracy without oscillating the light.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態1による光半導体モジュ
ールの製造方法および製造装置を説明するための図であ
る。
FIG. 1 is a diagram for explaining a method and an apparatus for manufacturing an optical semiconductor module according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の実施の形態1による光半導体モジュ
ールの製造方法および製造装置を説明するための図であ
る。
FIG. 2 is a diagram for explaining a method and an apparatus for manufacturing an optical semiconductor module according to the first embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の実施の形態1による光半導体モジュ
ールの製造方法および製造装置を説明するための図であ
る。
FIG. 3 is a diagram for explaining a method and an apparatus for manufacturing an optical semiconductor module according to the first embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の実施の形態2による光半導体モジュ
ールの製造方法および製造装置を説明するための図であ
る。
FIG. 4 is a diagram illustrating a method and an apparatus for manufacturing an optical semiconductor module according to a second embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の実施の形態3による光半導体モジュ
ールの製造方法および製造装置を説明するための図であ
る。
FIG. 5 is a diagram illustrating a method and an apparatus for manufacturing an optical semiconductor module according to a third embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の実施の形態3による光半導体モジュ
ールの製造方法および製造装置を説明するための図であ
る。
FIG. 6 is a diagram illustrating a method and an apparatus for manufacturing an optical semiconductor module according to a third embodiment of the present invention.

【図7】 従来の光送受信モジュールの内部構造の1例
を示す斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing an example of the internal structure of a conventional optical transceiver module.

【図8】 光導波路レンズを必要としない光送受信モジ
ュールの内部構造の1例を示す斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view showing an example of an internal structure of an optical transceiver module that does not require an optical waveguide lens.

【図9】 従来技術1による光部品精密位置決め方法を
説明する概念図である。
FIG. 9 is a conceptual diagram illustrating an optical component precision positioning method according to Prior Art 1.

【図10】 従来技術3による光結合装置の製造方法を
説明する斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view illustrating a method for manufacturing an optical coupling device according to Conventional Technique 3.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 光ファイバ、11a フェルール、12 導波路
レンズ、13 光合分波器、14 LD、15 モニタ
PD、16 Si基板、17 PD、18 光ファイバ
固定用V溝、31 Siカバー、32 仮位置決め用の
穴、33 金属配線パターンと金/錫半田層、33a
金属配線パターン、33b 金/錫半田層、34 CC
Dカメラ、35 レーザ光源、36 レーザ光線、37
レンズ、38 デフォーカスされたレーザ光、41
光電流測定用の電極、42 電流計、43 3次元アク
チュエーター付きのコレット、44 光軸、45 レー
ザ光源、61 価電子帯の正孔、62 クラッド層の電
子バンド、63 活性層の電子バンド、64 伝導体の
電子、65 LDの発振するレーザ波長と同じ波長の戻
り光、66 入射レーザ光、67 クラッド層の電子バ
ンド、71 ビームスプリッタ、72 光検出器、81
光回路基板、82 光部品、83 光部品82の導波
路構造部、84 光回路基板81の導波路構造部、85
観察装置、86 制御装置、87 光源、88 集光
レンズ、89 マニピュレータ、111 光ファイバ、
112 基板、113 LD、114 LD113の発
光部、115 LD搭載位置決め用の第2の切込み、1
16 光ファイバ固定用のV溝、117 ファイバ端面
突き当て用の第1の切込み、118 レンズ、119L
D搭載位置決め用の第3の切込み。
REFERENCE SIGNS LIST 11 optical fiber, 11 a ferrule, 12 waveguide lens, 13 optical multiplexer / demultiplexer, 14 LD, 15 monitor PD, 16 Si substrate, 17 PD, 18 V groove for fixing optical fiber, 31 Si cover, 32 hole for temporary positioning 33, metal wiring pattern and gold / tin solder layer, 33a
Metal wiring pattern, 33b gold / tin solder layer, 34 CC
D camera, 35 laser light source, 36 laser beam, 37
Lens, 38 defocused laser light, 41
Electrode for photocurrent measurement, 42 ammeter, 43 collet with three-dimensional actuator, 44 optical axis, 45 laser light source, 61 holes in valence band, 62 electron band in cladding layer, 63 electron band in active layer, 64 Conductor electrons, return light having the same wavelength as the laser wavelength oscillated by 65 LD, 66 incident laser light, 67 electron band of cladding layer, 71 beam splitter, 72 photodetector, 81
Optical circuit board, 82 Optical component, 83 Waveguide structure of optical component 82, 84 Waveguide structure of optical circuit board 81, 85
Observation device, 86 control device, 87 light source, 88 condenser lens, 89 manipulator, 111 optical fiber,
112 Substrate, 113 LD, 114 Light emitting part of LD 113, 115 Second cut for LD mounting positioning, 1
16 V-groove for fixing optical fiber, 117 first cut for abutting fiber end face, 118 lens, 119L
D Third notch for mounting positioning.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[The claims] 【請求項1】 基板上に、光ファイバとレーザダイオー
ドまたはフォトダイオードとが固定された光半導体モジ
ュールの製造方法であって、上記基板上の所定位置に上
記光ファイバを固定する工程、および上記光ファイバか
ら上記ダイオードに対して上記ダイオードの発振または
検出するレーザ波長と同じ波長のレーザ光を入射し、上
記ダイオードから検出される光電流が最大となる位置で
上記ダイオードを上記基板に固定する工程を備えたこと
を特徴とする光半導体モジュールの製造方法。
1. A method for manufacturing an optical semiconductor module in which an optical fiber and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate, the method comprising: fixing the optical fiber at a predetermined position on the substrate; A step of injecting a laser beam having the same wavelength as the laser wavelength of the oscillation or detection of the diode from the fiber into the diode, and fixing the diode to the substrate at a position where the photocurrent detected from the diode is maximized. A method for manufacturing an optical semiconductor module, comprising:
【請求項2】 基板上に、光ファイバとレーザダイオー
ドまたはフォトダイオードとが固定された光半導体モジ
ュールの製造方法であって、上記基板上の所定位置に上
記光ファイバを固定する工程、および上記光ファイバか
ら上記ダイオードに対して上記ダイオードの発振または
検出するレーザ波長より短波長のレーザ光を入射し、上
記ダイオードから光ファイバへの戻り光のうち、上記ダ
イオードの発振または検出するレーザ波長に対応する成
分の光強度が最大となる位置で上記ダイオードを上記基
板に固定する工程を備えたことを特徴とする光半導体モ
ジュールの製造方法。
2. A method for manufacturing an optical semiconductor module in which an optical fiber and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate, the method comprising: fixing the optical fiber at a predetermined position on the substrate; Laser light having a wavelength shorter than the laser wavelength of the oscillation or detection of the diode is incident on the diode from the fiber, and the return light from the diode to the optical fiber corresponds to the laser wavelength of the oscillation or detection of the diode. A method for manufacturing an optical semiconductor module, comprising a step of fixing the diode to the substrate at a position where the light intensity of the component is maximum.
【請求項3】 基板上に、光ファイバと光合分波器とレ
ーザダイオードまたはフォトダイオードとが固定された
光半導体モジュールの製造方法であって、上記基板上の
所定位置に上記光ファイバと上記光合分波器とを固定す
る工程、および上記光ファイバから上記光合分波器を通
ってダイオードに対して上記ダイオードの発振または検
出するレーザ波長と同じ波長のレーザ光を入射し、上記
ダイオードから検出される光電流が最大となる位置で上
記ダイオードを上記基板に固定する工程を備えたことを
特徴とする光半導体モジュールの製造方法。
3. A method for manufacturing an optical semiconductor module in which an optical fiber, an optical multiplexer / demultiplexer, and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate, wherein the optical fiber and the optical coupling device are located at predetermined positions on the substrate. A step of fixing the duplexer, and laser light having the same wavelength as the laser wavelength to be oscillated or detected by the diode from the optical fiber to the diode through the optical multiplexer / demultiplexer is detected from the diode. A step of fixing the diode to the substrate at a position where the photocurrent is maximized.
【請求項4】 基板上に、光ファイバと光合分波器とレ
ーザダイオードまたはフォトダイオードとが固定された
光半導体モジュールの製造方法であって、上記基板上の
所定位置に上記光ファイバと上記ダイオードとを固定す
る工程、および上記光ファイバから上記光合分波器を通
ってダイオードに対して上記ダイオードの発振または検
出するレーザ波長と同じ波長のレーザ光を入射し、上記
ダイオードから検出される光電流が最大となる位置で上
記光合分波器を上記基板に固定する工程を備えたことを
特徴とする光半導体モジュールの製造方法。
4. A method for manufacturing an optical semiconductor module in which an optical fiber, an optical multiplexer / demultiplexer, and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate, wherein the optical fiber and the diode are provided at predetermined positions on the substrate. And the step of fixing, and the laser beam of the same wavelength as the laser wavelength of the oscillation or detection of the diode is incident on the diode from the optical fiber through the optical multiplexer / demultiplexer, and the photocurrent detected from the diode Fixing the optical multiplexer / demultiplexer to the substrate at a position where the maximum value is obtained.
【請求項5】 上記請求項1ないし4のいずれかに記載
の光半導体モジュールの製造方法において、上記光ファ
イバから上記ダイオードに対してレーザ光を入射する前
に、上記基板と光合分波器またはダイオードとの所定位
置に予め形成された仮位置決め用の凹凸にデフォーカス
されたレーザ光を照射して上記凹凸を含む暗視野像を撮
影し、上記各凹凸に対応して観察される各輝点が予め登
録された位置に来るように上記基板上に上記光合分波器
またはダイオードを仮位置決めする工程を備えたことを
特徴とする光半導体装置の製造方法。
5. The method for manufacturing an optical semiconductor module according to claim 1, wherein the substrate and the optical multiplexer / demultiplexer or the optical multiplexer / demultiplexer before the laser light is incident on the diode from the optical fiber. Each of the bright spots observed corresponding to each of the irregularities is obtained by irradiating a laser beam defocused on the irregularities for provisional positioning formed in advance at a predetermined position with the diode to capture a dark field image including the irregularities. And a step of temporarily positioning the optical multiplexer / demultiplexer or the diode on the substrate such that the optical multiplexer / demultiplexer comes to a position registered in advance.
【請求項6】 基板上に、光ファイバとレーザダイオー
ドまたはフォトダイオードとが固定された光半導体モジ
ュールの製造装置であって、上記基板上に固定された光
ファイバから上記ダイオードに対してレーザ光を入射す
る手段、上記ダイオードに流れる光電流を検出する手
段、および上記ダイオードを保持して上記基板上で移動
可能とする手段を備えたことを特徴とする光半導体モジ
ュールの製造装置。
6. An apparatus for manufacturing an optical semiconductor module in which an optical fiber and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate, wherein laser light is emitted from the optical fiber fixed on the substrate to the diode. An apparatus for manufacturing an optical semiconductor module, comprising: means for incident light; means for detecting a photocurrent flowing through the diode; and means for holding the diode and making it movable on the substrate.
【請求項7】 基板上に、光ファイバとレーザダイオー
ドまたはフォトダイオードとが固定された光半導体モジ
ュールの製造装置であって、上記基板上に固定された光
ファイバから上記ダイオードに対してレーザ光を入射す
る手段、上記ダイオードから光ファイバへの戻り光の光
強度を検出する手段、および上記ダイオードを保持して
上記基板上で移動可能とする手段を備えたことを特徴と
する光半導体モジュールの製造装置。
7. An apparatus for manufacturing an optical semiconductor module in which an optical fiber and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate, wherein laser light is emitted from the optical fiber fixed on the substrate to the diode. Manufacturing an optical semiconductor module, comprising: means for inputting light; means for detecting the light intensity of return light from the diode to the optical fiber; and means for holding the diode and making it movable on the substrate. apparatus.
【請求項8】 基板上に、光ファイバと光合分波器とレ
ーザダイオードまたはフォトダイオードとが固定された
光半導体モジュールの製造装置であって、上記基板上に
固定された光ファイバから上記光合分波器を通ってダイ
オードに対してレーザ光を入射する手段、上記ダイオー
ドから検出される光電流を検出する手段、および上記光
合分波器またはダイオードを保持して上記基板上で移動
可能とする手段を備えたことを特徴とする光半導体モジ
ュールの製造装置。
8. An apparatus for manufacturing an optical semiconductor module in which an optical fiber, an optical multiplexer / demultiplexer, and a laser diode or a photodiode are fixed on a substrate, wherein the optical coupling / demultiplexing is performed from the optical fiber fixed on the substrate. Means for injecting laser light into the diode through a wave divider, means for detecting a photocurrent detected from the diode, and means for holding the optical multiplexer / demultiplexer or the diode so as to be movable on the substrate An optical semiconductor module manufacturing apparatus, comprising:
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