JP2002248626A - Transfer mold and method for manufacturing the same - Google Patents

Transfer mold and method for manufacturing the same

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JP2002248626A
JP2002248626A JP2001050989A JP2001050989A JP2002248626A JP 2002248626 A JP2002248626 A JP 2002248626A JP 2001050989 A JP2001050989 A JP 2001050989A JP 2001050989 A JP2001050989 A JP 2001050989A JP 2002248626 A JP2002248626 A JP 2002248626A
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transfer mold
blasting
manufacturing
opening
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JP2001050989A
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Shigeyasu Ito
茂康 伊藤
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transfer mold suitable for use in the production of a printed wiring board and a method for manufacturing the same. SOLUTION: The transfer mold is equipped with a substrate 1 made of steel of which the grinding properties due to sand blasting are relatively low (bad) and a film 2 which is formed on the layer of the substrate 1 and comprises a ceramic of which the grinding properties due to sand blasting are higher (better) than steel and has a predetermined opening pattern 2a with a predetermined depth.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は転写用金型及びその
製造方法に関し、特にプリント配線基板の製造に用いて
好適な転写用金型及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transfer mold and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a transfer mold suitable for use in manufacturing a printed wiring board and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に転写用金型はフィルム状、又は板
状の部材に熱プレスなどの方法により凹凸のパターンを
転写成型するのに用いられ、メッキや化学的なエッチン
グ処理によって加工作成される方法の他に、サンドブラ
スティングによって加工作成する方法が知られている。
サンドブラストによる加工方法は化学的な薬品を使わず
にドライな方法で比較的早い加工スピードで作成できる
メリットがある。図5及び図6は従来例のこのようなサ
ンドブラスティングによって作成される転写用金型及び
その製造方法を示すが、図5Aに示すセラミック板20
にフォトレジスト樹脂層22が形成される(図5B)。
所定のマスクパターンを介して露光し、現像すると図5
Cに示すように同所定のパターンの開口22aがフォト
レジスト樹脂層22に形成される。次いで、図5Dで示
すように、サンドブラスト・ノズル24からサンドブラ
ストSを吹き付けながら所定の方向に走査する。これに
より開口22aに露出しているセラミック板20が研削
される。所望の深さにまで研削すべく矢印で示されるよ
うに往復走査する。図6Aで示されるような被研削体が
得られる。残存しているフォトレジスト樹脂層22はサ
ンドブラストSにより研削されないのであるが、薬剤で
除去され、図6Bの被研削体K’となる。すなわち転写
用金型となる。図6Aで示すように巾の大きい開口22
a’と巾の小さい開口22a”とでは図示するように前
者22a’の方が研削孔20a’の深さh’が大きい。
更に、巾の小さい開口22a”における研削孔20a”
の拡大図(図6Bにおいて楕円マークQ’で示す部分)
である図7で示すように、研削孔20a”はすり鉢形に
成っている。巾の大きい開口22a’における研削孔2
0a’も図7ほどではないが、若干、すり鉢形状と成っ
ている。このようにして得られる転写用金型K’を、例
えばプリント配線基板用の熱可塑性樹脂でなる薄板P’
に熱プレスしてパターンを形成すれば、図8に示す被転
写体W’が得られる。これに導電ペーストを充填して所
定の導電パターンを形成したいのであるが、精度の高い
パターンは得られない。他方、特開平10−68846
号公報に記載の「導波路型光伝送モジュールおよびその
製造方法」においては、これにより気密キャップが製造
されるのであるが、「図9Aで示すように、熱可塑性樹
脂であるエチレン系共重合樹脂を溶剤キシレンに溶融さ
せ、ガラス平板11に塗布した後、乾燥させ、熱可塑性
樹脂被膜12を形成する。この上に複数の打ち抜き孔を
有する金属板をマスク材13として密着させ、次に図9
Bに示すようにマスク材13の上方から硬質の砂粒を吹
き付け、サンドブラスト加工を行う。この加工によりマ
スクされていない部分の掘りこみが行われる。次に図9
Cに示すようにマスク材13を除去し、複数の凹部を有
する熱可塑性樹脂付ガラス板14とする。このようにし
て形成した複数の凹部を有する熱可塑性樹脂付ガラス板
14を図10で示すように、ダイヤモンドブレード15
で小片に切断して、熱可塑性付気密キャップを得る」こ
とが開示されている。然るに、図9A及び図9Bで示す
ように、マスク板13に形成されている開口の幅は3つ
とも同一であり、またこれは図10で示すような加工法
から考えて全く同一の幅であることは明らかである。上
述したように、この幅の大きさが変わればセラミック板
あるいはガラス板への掘り込み深さが変わってくる。ま
た、この公報では記載されていないが、幅が大小様々な
開口がマスク板13に形成されているような場合には、
図6、図7に示すように孔の深さも様々となり、すり鉢
型となることが考えられる。
2. Description of the Related Art Generally, a transfer mold is used to transfer and mold an uneven pattern onto a film-like or plate-like member by a method such as hot pressing, and is formed by plating or chemical etching. In addition to the method, a method of processing and creating by sandblasting is known.
The processing method by sandblasting has an advantage that it can be formed at a relatively high processing speed by a dry method without using a chemical agent. FIGS. 5 and 6 show a conventional transfer mold made by such sandblasting and a method of manufacturing the same.
Then, a photoresist resin layer 22 is formed (FIG. 5B).
When exposed and developed through a predetermined mask pattern, FIG.
As shown in C, openings 22a of the same pattern are formed in the photoresist resin layer 22. Next, as shown in FIG. 5D, scanning is performed in a predetermined direction while blowing sandblast S from the sandblast nozzle 24. Thus, the ceramic plate 20 exposed at the opening 22a is ground. A reciprocating scan is performed as indicated by an arrow to grind to a desired depth. An object to be ground as shown in FIG. 6A is obtained. Although the remaining photoresist resin layer 22 is not ground by sandblasting S, it is removed with a chemical, resulting in an object to be ground K ′ in FIG. 6B. That is, it becomes a transfer mold. As shown in FIG.
As shown in the figure, the depth h 'of the grinding hole 20a' is larger in the former 22a 'than in the opening 22a "having a smaller width.
Further, the grinding hole 20a ″ in the opening 22a ″ having a small width.
(Part shown by an elliptical mark Q ′ in FIG. 6B)
7, the grinding hole 20a ″ is formed in a mortar shape. The grinding hole 2a at the opening 22a ′ having a large width is formed.
Although 0a 'is not as large as in FIG. 7, it is slightly shaped like a mortar. The transfer mold K ′ obtained in this manner is replaced with a thin plate P ′ made of, for example, a thermoplastic resin for a printed wiring board.
When a pattern is formed by hot pressing the transfer target W ′ shown in FIG. It is desired to form a predetermined conductive pattern by filling this with a conductive paste, but a highly accurate pattern cannot be obtained. On the other hand, JP-A-10-68846
In the “Waveguide-type optical transmission module and method for manufacturing the same” described in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H11-207, the hermetic cap is manufactured by this, but as shown in FIG. 9A, an ethylene-based copolymer resin which is a thermoplastic resin Is melted in a solvent xylene, applied to a glass flat plate 11, and dried to form a thermoplastic resin film 12. A metal plate having a plurality of punched holes is closely adhered thereon as a mask material 13, and then, FIG.
As shown in B, hard sand particles are sprayed from above the mask material 13 to perform sandblasting. By this processing, the unmasked portion is dug. Next, FIG.
As shown in C, the mask material 13 is removed to obtain a glass plate 14 with a thermoplastic resin having a plurality of concave portions. As shown in FIG. 10, the glass plate 14 with the thermoplastic resin having the plurality of recesses formed in this way is
To obtain a hermetic cap with thermoplastic ". However, as shown in FIGS. 9A and 9B, the width of the three openings formed in the mask plate 13 is the same, and this is the same width in view of the processing method shown in FIG. Clearly there is. As described above, if the width changes, the depth of the digging into the ceramic plate or the glass plate changes. Although not described in this publication, in the case where openings having various widths are formed in the mask plate 13,
As shown in FIG. 6 and FIG. 7, the depth of the hole is also various, and it is conceivable that the hole becomes a mortar type.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上述の問題に
鑑みてなされ、例えば熱可塑性樹脂に所望の導電パター
ンを精度良く形成させることの出来る転写用金型及びそ
の製造方法を提供することを課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide, for example, a transfer mold capable of forming a desired conductive pattern on a thermoplastic resin with high accuracy, and a method of manufacturing the same. Make it an issue.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】以上の課題は、第一の材
質で成る第一の層と、前記第一の層の上に、ブラスティ
ングによる研削性が前記第一の材質より高い第二の材質
で成り、且つ所定深さの、所定の開口パターンを有する
第二の層とを備えていることを特徴とする転写用金型、
によって解決される。又は、ブラスティングによる研削
性が比較的に低い第一の材質で成る第一の層の上に、ブ
ラスティングによる研削性が前記第一の材質より高い第
二の材質で成る第二の層を形成する工程と、前記第二の
層の上にマスク層を形成する工程と、前記マスク層に所
定の開口パターンを形成する工程と、前記所定の開口パ
ターンにブラスティングを施すことにより前記第二の層
に前記所定の開口パターンに対応する所定深さの開口を
形成するようにしたことを特徴とする転写用金型の製造
方法、によって解決される。上記第一の材質としては好
ましくは、必要とされる機械的強度を持ち、ブラスティ
ングによる加工スピードが比較的遅い材質が選ばれる。
また上記第二の材質としては好ましくは金型としての機
械的強度、堅さ、耐摩耗性などを備えながら、ブラステ
ィングによる加工スピードが比較的速い材料が選ばれ
る。
An object of the present invention is to provide a first layer made of a first material and a second layer formed on the first layer, which has a higher grinding property by blasting than the first material. And a second layer having a predetermined depth and a predetermined opening pattern.
Solved by Or, on the first layer made of the first material having a relatively low grinding property by blasting, the second layer made of the second material having the grinding property by blasting higher than the first material. Forming, forming a mask layer on the second layer, forming a predetermined opening pattern in the mask layer, blasting the predetermined opening pattern, the second The method of manufacturing a transfer mold according to claim 1, wherein an opening having a predetermined depth corresponding to the predetermined opening pattern is formed in the layer. As the first material, a material having a required mechanical strength and a relatively low processing speed by blasting is preferably selected.
As the second material, a material having a relatively high processing speed by blasting while preferably having mechanical strength, hardness, abrasion resistance and the like as a mold is selected.

【0005】以上の請求項1の転写用金型により被転写
体に所望の正確な凹凸パターン又は開口パターンを形成
することが出来る。また以上の請求項5の製造方法によ
り精度の高い転写用金型を生産することが出来る。な
お、本願明細書において「層」は板、薄膜などの概念を
も含むものである。
[0005] The transfer mold of claim 1 enables a desired accurate concavo-convex pattern or opening pattern to be formed on a transfer object. Further, a highly accurate transfer mold can be produced by the manufacturing method of claim 5 described above. In the specification of the present application, “layer” includes the concept of a plate, a thin film, and the like.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態による
転写用金型及びその製造方法について図面を参照して説
明する。図1Aにおいて、サンドブラスティングによる
研削性の比較的に低い(悪い)第一の層としての鋼(S
US)製の基板1上には、サンドブラスティングによる
研削性の高い(良い)第二の層としてのセラミックの薄
膜2(約50μm厚さ)が形成されている。これは例え
ば公知の琺瑯の技術により簡単に形成される。また工業
製品として市販されているものを選択してもよい。図1
Bで示すように、この上にフォトレジスト層であるマス
キング3が施される。次いで図1Cに示すように薄膜2
上のマスキング3に所定の開口パターン3aが形成され
る。これは従来と同様、所定のパターンを有するマスク
板でマスキング3を被覆し、露光し、次いで現像して形
成することが出来る。本発明の実施の形態によれば開口
3aは幅の大きい開口3a’と幅の小さい開口3a”と
から成っている。従来と同じサンドブラスティング・ノ
ズル24をマスキング3及び薄膜2に近接させて図1に
おいて右方向に移動させる。吹き付けられる砂Sによっ
て開口3a内に露出している薄膜2が研削される。サン
ドブラスティング・ノズル24の移動速度、砂の質や粒
度、吹き付け圧力などによって研削速度が変わるが、こ
れらを一定とした所定のサンドブラスト条件下では図1
Dにおいて左端から右端まで移動させると幅の大きい開
口3a’での孔2a’は約5μmの深さに研削する。す
なわち、約5μm/shotの研削速度である。しかし
ながら、幅の小さい開口3a”での孔2a”は約3μm
/shotである。次に、図1Dにおいて右端から左端
へと同条件でサンドブラストすると、大きな開口3a’
での孔2a’は研削深さは約10μmとなる。すなわ
ち、SHOT回数に比例する。このようにして10SH
OTブラスすると、約50μmの研削深さとなる。すな
わち、10SHOTブラストすると、孔2a’の研削深
さは本実施の形態におけるセラミックの厚み約50μm
に達する。しかしながら、上述したように幅の狭い開口
3a”での孔2a”は研削速度が3μm/shot位に
落ちるため、10SHOTでも30μmまでしか達して
いない。従って、更に7SHOT重ねることにより、幅
の狭い開口部分3a”での孔2a”もステンレス板1に
まで達する。しかし、この段階では、図7で示すように
すり鉢型になっている。一方幅の広い開口3a’での孔
2a’は、この時点ではSUS板、若しくはステンレス
板1を3.5μmも掘り進んでいる。更に5SHOT重
ねることにより、図3で示すように幅の狭い開口部分3
a”での孔2a”の断面形状は図7の孔2a”に比べて
より断面が矩形状に近いものと成る。また孔深さについ
ては、幅の広い開口部分3a’での孔2a’はこの時に
は56μmになっているのに対して、幅の狭い開口部分
3a”での孔2a”は約51μmで、その差は5μmと
小さい。充分実用化することができる。また、幅の広い
開口部分3a’でも薄膜2の厚さ50μmを越えてステ
ンレス板1を6μm掘り込むことにより孔2a’の断面
形状は、より矩形に近づいている。図2Aにおいてフォ
トレジスト膜3を薬剤で取り除くことにより、図2Bで
示される完成品としての転写用金型Kが得られる。この
ようにして製造された転写用金型Kをプリント配線基板
用の熱可塑性薄板Pに熱プレスすると図4で示す被転写
物Wが得られる。この凹凸パターンRに導電性ペースト
を埋設することにより所定の精度高い導電パターンが得
られる。以上のようにして、本発明の実施の形態によれ
ば、大小様々な巾の凹凸パターンを有する転写用金型を
精度良く加工することができるのであるが、上述したよ
うに、従来技術の方法ではセラミック板に例え同一の幅
の凹凸パターンを形成するとしても、所望の深さを得る
ためにはサンドブラスト・ノズルの移動速度や、これか
ら噴出するサンドブラストSの噴出圧力を調節しながら
その折々の研削深さを検出していかなければならない。
しかしながら、本発明の実施の形態によれば、第二の層
としての脆性材料であるセラミックの厚さで何ら上記調
節をせずとも孔深さを決定することができるので、その
深さの制御は何ら必要で無く、加工コストは大幅に低下
させることができる。更に、第一の層として鋼を用いて
いるので本実施の形態の転写用金型は強固であり、上述
のようにして形成した転写用金型全体の取り扱いが従来
と比べると大幅に簡便となり、耐久性も高く損傷する恐
れはほとんどなくなる。また琺瑯技術によって工業製品
を選択する場合には更に生産コストを低下させることが
できる。またパターンの疎密、幅の大小に左右されず、
ほぼ一定した加工深さを得ることができる。また幅の狭
い開口孔の断面形状も矩形に近い形状とすることができ
るので、被転写物に対する転写精度を大幅に従来より上
昇させることができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A transfer mold and a method for manufacturing the same according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In FIG. 1A, steel (S) as a first layer having relatively low (bad) grindability by sandblasting is shown.
On a substrate 1 made of US), a ceramic thin film 2 (having a thickness of about 50 μm) is formed as a second layer having high (good) grindability by sandblasting. This is easily formed, for example, by a known enamel technique. Moreover, you may select what is marketed as an industrial product. Figure 1
As shown by B, a masking 3 which is a photoresist layer is applied thereon. Then, as shown in FIG.
A predetermined opening pattern 3a is formed in the upper masking 3. This can be formed by coating the masking 3 with a mask plate having a predetermined pattern, exposing, and then developing as in the conventional case. According to the embodiment of the present invention, the opening 3a comprises a wide opening 3a 'and a small opening 3a ". The conventional sandblasting nozzle 24 is brought close to the masking 3 and the thin film 2. 1, the thin film 2 exposed in the opening 3a is ground by the sprayed sand S. The grinding is performed by the moving speed of the sandblasting nozzle 24, the quality and grain size of the sand, the blowing pressure, and the like. The speed changes, but under certain sandblasting conditions where these are constant, FIG.
When moving from the left end to the right end in D, the hole 2a 'in the wide opening 3a' is ground to a depth of about 5 µm. That is, the grinding speed is about 5 μm / shot. However, the hole 2a ″ at the small opening 3a ″ is about 3 μm
/ Shot. Next, when sandblasting is performed under the same conditions from the right end to the left end in FIG. 1D, a large opening 3a 'is obtained.
The hole 2a 'has a grinding depth of about 10 μm. That is, it is proportional to the number of times of SHOT. Thus, 10SH
OT brass results in a grinding depth of about 50 μm. That is, when the 10 SHOT blast is performed, the grinding depth of the hole 2a ′ is about 50 μm of the ceramic thickness in the present embodiment.
Reach However, as described above, since the grinding speed of the hole 2a ″ in the narrow opening 3a ″ drops to about 3 μm / shot, it reaches only 30 μm even in 10 SHOT. Therefore, the hole 2a ″ at the narrow opening 3a ″ also reaches the stainless steel plate 1 by further overlapping 7SHOT. However, at this stage, it has a mortar shape as shown in FIG. On the other hand, in the hole 2a 'in the wide opening 3a', the SUS plate or the stainless plate 1 is dug by 3.5 μm at this time. Further, by overlapping 5 SHOTs, as shown in FIG.
The cross-sectional shape of the hole 2a ″ at a ″ is closer to a rectangle than the hole 2a ″ in FIG. 7. The depth of the hole 2a ′ at the wide opening 3a ′ is large. In this case, the hole 2a "in the narrow opening portion 3a" is about 51 [mu] m, and the difference is as small as 5 [mu] m. Even in the opening 3a ', the cross-sectional shape of the hole 2a' is made closer to a rectangle by digging the stainless steel plate 1 by 6µm beyond the thickness of the thin film 2 exceeding 50µm. 2B is obtained as a finished product as shown in Fig. 2B.The thus-produced transfer mold K is hot-pressed on a thermoplastic thin plate P for a printed wiring board, as shown in Fig. 4. The transferred object W is obtained. By embedding the conductive paste in the turn R, a predetermined high-precision conductive pattern can be obtained.As described above, according to the embodiment of the present invention, the transfer mold having the concavo-convex pattern of various sizes. However, as described above, in the prior art method, even if a concavo-convex pattern having the same width is formed on a ceramic plate, a sandblast nozzle is required to obtain a desired depth. The grinding depth must be detected while adjusting the moving speed of the sandblast S and the ejection pressure of the sandblast S to be ejected.
However, according to the embodiment of the present invention, since the hole depth can be determined without any adjustment by the thickness of the ceramic which is the brittle material as the second layer, the depth can be controlled. Is not required at all, and the processing cost can be greatly reduced. Furthermore, since steel is used as the first layer, the transfer mold of the present embodiment is strong, and handling of the entire transfer mold formed as described above is greatly simplified as compared with the related art. The durability is high and there is almost no risk of damage. Further, when an industrial product is selected by enamel technology, the production cost can be further reduced. Also, regardless of the density of the pattern and the size of the width,
An almost constant working depth can be obtained. In addition, since the cross-sectional shape of the narrow opening hole can also be made to be a shape close to a rectangle, the transfer accuracy with respect to the object to be transferred can be greatly increased as compared with the related art.

【0007】以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、勿論、本発明はこれに限定されることなく、本発
明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is, of course, not limited thereto, and various modifications can be made based on the technical concept of the present invention.

【0008】例えば以上の発明の実施の形態では、転写
用金型はプリント配線基板の製造に用いるとしたが、他
の用途に用いることもできる。例えば版画や凸版印刷な
どに用いることもできる。また、被転写物に所定の凹凸
パターンを形成させる場合のみならず、所定の開口パタ
ーンを形成する場合にも本発明は適用可能である。プリ
ント配線基板についても同様に開口パターンを形成して
導電ペーストを充填するようにしてもよい。また以上の
実施の形態では脆性材料としセラミックを用いたが、こ
の代わりに、ガラスその他の脆性材料を用いてもよい。
また、比較的に研削性の低い材質として鋼を用いたが、
他の金属材料を用いてもよい。更に比較的に研削性の高
い材質としてセラミックを用いたが、ブラスティングに
よる研削性の比較的に高い材質であれば第2の層の材質
として他の金属や材質を用いることも可能である。ま
た、ブラストに用いる研削材としては、けい砂、川砂、
鋳鉄グリット、鋳鋼グリット、カットワイヤー、アルミ
ナグリット、炭化珪素グリット、スラググリット等を用
いることができる。これは第一の層及び/又は第二の層
として用いる材質や厚さに応じて、適宜選択すれば良
い。
For example, in the above embodiment of the present invention, the transfer mold is used for manufacturing a printed wiring board, but it can be used for other purposes. For example, it can be used for prints and letterpress printing. Further, the present invention is applicable not only to a case where a predetermined concavo-convex pattern is formed on an object to be transferred, but also to a case where a predetermined opening pattern is formed. Similarly, an opening pattern may be formed on a printed wiring board and filled with a conductive paste. Although ceramic is used as the brittle material in the above embodiment, glass or another brittle material may be used instead.
In addition, although steel was used as a material having relatively low grindability,
Other metal materials may be used. Although ceramic is used as a material having relatively high grindability, another metal or material can be used as the material of the second layer as long as the material has relatively high grindability by blasting. The abrasive used for blasting is silica sand, river sand,
Cast iron grit, cast steel grit, cut wire, alumina grit, silicon carbide grit, slag grit, and the like can be used. This may be appropriately selected depending on the material and thickness used for the first layer and / or the second layer.

【0009】[0009]

【発明の効果】請求項1の発明の転写用金型によれば、
被転写体に正確な凹凸パターン又は開口パターンを形成
させることができる。また第一の層により、いわば補強
されるので、取扱いが簡単となる。また請求項5の発明
の転写用金型の製造方法によれば、このような転写用金
型を精密かつ確実に製造することが出来る。また第二の
層の厚さを決めるだけで一定深さの孔(開口)の加工が
容易となる。
According to the transfer mold of the first aspect of the present invention,
An accurate concavo-convex pattern or an opening pattern can be formed on the transfer object. In addition, the first layer reinforces, so to speak, the handling is simplified. Further, according to the method of manufacturing a transfer mold of the invention of claim 5, such a transfer mold can be manufactured accurately and reliably. Further, processing of holes (openings) having a constant depth becomes easy only by determining the thickness of the second layer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態による転写用金型の製造工
程を示す断面図で、A〜Dは順にその各段階を示す。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of a transfer mold according to an embodiment of the present invention, in which A to D show respective steps in order.

【図2】図1に続く工程をA、Bの順で示す断面図であ
る。
FIG. 2 is a sectional view showing a step following FIG. 1 in the order of A and B;

【図3】図2Bにおける楕円マークQにおける拡大断面
図である。
FIG. 3 is an enlarged sectional view of an elliptical mark Q in FIG. 2B.

【図4】図2Bの転写用金型による被転写用物の拡大断
面図である。
FIG. 4 is an enlarged sectional view of an object to be transferred by the transfer mold of FIG. 2B.

【図5】従来例による転写用金型の製造工程を示す断面
図で、A〜Dは順にその各段階を示す。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of a transfer mold according to a conventional example, in which A to D show respective steps in order.

【図6】図5に続く工程をA、Bの順で示す断面図であ
る。
FIG. 6 is a sectional view showing a step following FIG. 5 in the order of A and B;

【図7】図6Bの楕円マークQにおける拡大断面図であ
る。
FIG. 7 is an enlarged sectional view of an elliptical mark Q of FIG. 6B.

【図8】図6Bの転写用金型による被転写物の拡大断面
図である。
FIG. 8 is an enlarged sectional view of an object to be transferred by the transfer mold of FIG. 6B.

【図9】従来例の導波路型光伝送モジュールにおける気
密キャップの製造工程をA乃至Cの順で示す拡大断面図
である。
FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view showing a manufacturing process of an airtight cap in a conventional waveguide type optical transmission module in the order of A to C.

【図10】同気密キャップの製造方法を示す拡大斜視図
である。
FIG. 10 is an enlarged perspective view showing a method for manufacturing the airtight cap.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……基板、2……セラミック膜、3……フォトレジス
ト膜、3a……開口パターン、3a’……幅の大なる開
口、3a”……幅の小なる開口、24……サンドブラス
ト・ノズル。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... board | substrate, 2 ... ceramic film, 3 ... photoresist film, 3a ... opening pattern, 3a '... wide opening, 3a "... small opening, 24 ... sandblast nozzle .

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第一の材質で成る第一の層と、前記第一
の層の上に、ブラスティングによる研削性が前記第一の
材質より高い第二の材質で成り、且つ所定深さの、所定
の開口パターンを有する第二の層とを備えていることを
特徴とする転写用金型。
1. A first layer made of a first material, and a second material having a predetermined depth on the first layer, the second material having a higher grindability by blasting than the first material. And a second layer having a predetermined opening pattern.
【請求項2】 前記第一の材質は金属材料であり、前記
第二の材質は脆性材料であることを特徴とする請求項1
に記載の転写用金型。
2. The method according to claim 1, wherein the first material is a metal material, and the second material is a brittle material.
3. The transfer mold described in 1. above.
【請求項3】 前記脆性材料はガラスまたはセラミック
であり、前記金属材料は鋼であることを特徴とする請求
項2に記載の転写用金型。
3. The transfer mold according to claim 2, wherein the brittle material is glass or ceramic, and the metal material is steel.
【請求項4】 前記ブラスティングはサンドブラスティ
ングであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに
記載の転写用金型。
4. The transfer mold according to claim 1, wherein the blasting is sand blasting.
【請求項5】 ブラスティングによる研削性が比較的に
低い第一の材質で成る第一の層の上に、ブラスティング
による研削性が前記第一の材質より高い第二の材質で成
る第二の層を形成する工程と、 前記第二の層の上にマスク層を形成する工程と、 前記マスク層に所定の開口パターンを形成する工程と、 前記所定の開口パターンにブラスティングを施すことに
より前記第二の層に前記所定の開口パターンに対応する
所定深さの開口を形成するようにしたことを特徴とする
転写用金型の製造方法。
5. A second layer comprising a second material having a higher blasting grindability than a second material having a higher blasting grindability on a first layer made of a first material having a relatively low grinding property by blasting. Forming a layer of: a step of forming a mask layer on the second layer; a step of forming a predetermined opening pattern in the mask layer; and blasting the predetermined opening pattern. A method of manufacturing a transfer mold, wherein an opening having a predetermined depth corresponding to the predetermined opening pattern is formed in the second layer.
【請求項6】 前記研削性が比較的に低い第一の材質は
金属材料であり、第二の材質は脆性材料であることを特
徴とする請求項5に記載の転写用金型の製造方法。
6. The method according to claim 5, wherein the first material having a relatively low grindability is a metal material, and the second material is a brittle material. .
【請求項7】 前記脆性材料はガラス又はセラミックで
あり、前記金属材料は鋼であることを特徴とする請求項
6に記載の転写用金型の製造方法。
7. The method according to claim 6, wherein the brittle material is glass or ceramic, and the metal material is steel.
【請求項8】 前記ブラスティングはサンドブラスティ
ングであることを特徴とする請求項5〜7のいずれかに
記載の転写用金型の製造方法。
8. The method according to claim 5, wherein the blasting is sand blasting.
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