JP2002167340A - Production method of onium salt derivative and novel onium salt derivative - Google Patents

Production method of onium salt derivative and novel onium salt derivative

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JP2002167340A
JP2002167340A JP2000361970A JP2000361970A JP2002167340A JP 2002167340 A JP2002167340 A JP 2002167340A JP 2000361970 A JP2000361970 A JP 2000361970A JP 2000361970 A JP2000361970 A JP 2000361970A JP 2002167340 A JP2002167340 A JP 2002167340A
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less carbon
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method of onium salt derivatives which is capable of synthesizing in high yield the onium salt derivatives useful as an acid generator or the like used in a chemical amplification type resist, and also provide a novel onium salt derivatives. SOLUTION: Onium sulfonic acid derivatives or an onium phosphoric acid derivatives are obtained in high yield by reaction of sulfonic ester derivatives or phosphoric ester derivatives with an onium salt derivative having a halogenci anion or a carboxylate anion.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、UV光、KrFエ
キシマレーザー光、ArFエキシマレーザー光、F2
キシマレーザー光、電子線、X線を照射することにより
強酸を発生するオニウム型強酸発生剤として有用なオニ
ウム塩誘導体の製造方法及び新規オニウム塩誘導体に関
する。
The present invention relates to an onium-type strong acid generator which generates a strong acid when irradiated with UV light, KrF excimer laser light, ArF excimer laser light, F 2 excimer laser light, electron beam or X-ray. The present invention relates to a method for producing a useful onium salt derivative and a novel onium salt derivative.

【0002】[0002]

【従来技術】近年、半導体デバイスの高密度集積化に伴
い、微細加工のなかでもフォトリソグラフィに用いられ
る露光装置の光源は益々短波長化し、最近ではKrFエ
キシマレーザー光(248.4nm)が検討されるまで
になってきているが、このKrFエキシマレーザー光を
光源として用いるためのレジスト材料には露光に対して
高感度に反応することが要求されている。
2. Description of the Related Art In recent years, the light source of an exposure apparatus used for photolithography has become shorter and shorter in fine processing as semiconductor devices have become more highly integrated. Recently, KrF excimer laser light (248.4 nm) has been studied. However, a resist material for using this KrF excimer laser beam as a light source is required to respond to exposure with high sensitivity.

【0003】そのための方法の1つとして、露光により
酸を発生する性質を有する化合物を含有させることによ
り高感度化を計る、いわゆる化学増幅型のレジスト材料
を用いることが提案されている(Polym.Eng.
Sci.,Vol.23,1012(1983))。
As one of the methods for this purpose, it has been proposed to use a so-called chemically amplified resist material which increases the sensitivity by incorporating a compound having a property of generating an acid upon exposure (Polym. Eng.
Sci. , Vol. 23, 1012 (1983)).

【0004】また、前述した化学増幅型のレジスト材料
に使用される、露光により酸を発生する化合物(以下、
酸発生剤と略称する)としてジアゾニウムジアリル又は
アルキルヨードニウムトリアリル又はアルキルスルフォ
ニウム塩等のオニウム塩が報告されている(米国特許第
4,491,628号、米国特許第4,603,101
号、特公平2−27660号公報、特開昭62−114
0号公報等)。
[0004] Further, a compound capable of generating an acid upon exposure, which is used in the above-mentioned chemically amplified resist material (hereinafter, referred to as a compound).
Onium salts such as diazonium diallyl or alkyliodonium triallyl or alkylsulfonium salts have been reported as acid generators (US Pat. No. 4,491,628, US Pat. No. 4,603,101).
No., JP-B-2-27660, JP-A-62-114
No. 0).

【0005】また、酸発生剤としては、6−ジニトロベ
ンジルトシレート等が報告されている(F.l.Hou
libanほか,Advances in Resis
tTechnology and Processin
g,SPIE,Vol.920,67,(1988)
等)。
As an acid generator, 6-dinitrobenzyl tosylate and the like have been reported (Fl Hou).
Liban et al., Advances in Response
tTechnology and Processin
g, SPIE, Vol. 920, 67, (1988)
etc).

【0006】このような酸発生剤の中では、ヨードニウ
ム又はスルフォニウム等のオニウム塩、特に、スルホネ
ートを陰イオンとするオニウム塩誘導体は、貯蔵時の溶
液安定性が良いために広く利用されている。
[0006] Among such acid generators, onium salts such as iodonium or sulfonium, particularly onium salt derivatives having sulfonate as an anion, are widely used because of their good solution stability during storage.

【0007】このようなオニウム塩誘導体は、陰イオン
をハロゲンイオンとするオニウム塩誘導体をスルホン
酸、スルホン酸の銀塩あるいはアルカリ金属塩と塩交換
することにより製造する方法が知られている(例えば、
J.Polymer Sci., Symposium
No.56, 383頁(1976)やJ.Rad.C
uring,4巻、2頁(1977)等)。
A method of producing such an onium salt derivative by subjecting an onium salt derivative having an anion to a halogen ion to a salt exchange with sulfonic acid, a silver salt of sulfonic acid or an alkali metal salt is known (for example, ,
J. Polymer Sci. , Symposium
No. 56, p. 383 (1976) and J. Org. Rad. C
uring, vol. 4, p. 2 (1977)).

【0008】しかしながら、スルホン酸あるいはスルホ
ン酸のアルカリ金属塩との交換反応は平衡反応のため、
スルホン酸あるいはスルホン酸のアルカリ金属塩を、陰
イオンをハロゲンイオンとするオニウム塩誘導体に対し
て1.5モル当量以上用いる必要があるという問題点
や、選られたスルホネートを陰イオンとするオニウム塩
誘導体にハライドイオンが混入するという問題がある。
また、銀塩を用いる方法では、銀塩が高価であるという
問題がある。
However, the exchange reaction with sulfonic acid or an alkali metal salt of sulfonic acid is an equilibrium reaction.
The problem that it is necessary to use 1.5 mole equivalent or more of sulfonic acid or an alkali metal salt of sulfonic acid with respect to an onium salt derivative having an anion as a halogen ion, or an onium salt having a selected sulfonate as an anion There is a problem that halide ions are mixed in the derivative.
Further, the method using a silver salt has a problem that the silver salt is expensive.

【0009】このようなスルフォニウム塩を酸発生剤と
して生じるスルホン酸類は、その置換基が芳香族からア
ルキル基に至るまで多種多様であるため共通の中間体か
らのアニオン交換法が好ましい。しかしながらスルホン
酸類はどれも硫酸以上の強酸であるため通常の塩交換で
は、反応における平衡関係から、原料であるアニオンの
残存が必然的に起こり、その結果レジストに悪影響を与
える。
The sulfonic acids produced using such a sulfonium salt as an acid generator have a wide variety of substituents ranging from an aromatic group to an alkyl group. Therefore, an anion exchange method from a common intermediate is preferred. However, since all sulfonic acids are stronger acids than sulfuric acid, in a normal salt exchange, anions as a raw material necessarily remain due to an equilibrium relationship in the reaction, which adversely affects the resist.

【0010】また、スルホネートを陰イオンとするオニ
ウム塩誘導体は、化学増幅型レジストの光酸発生剤の
他、例えば、エポキシなどの種々の陰イオン重合性化合
物に対する熱あるいは光開始剤として用いられている。
Onium salt derivatives having sulfonates as anions have been used as heat or photoinitiators for various anionic polymerizable compounds such as epoxy, in addition to photoacid generators for chemically amplified resists. I have.

【0011】本発明は、このような状況に鑑みてなされ
たものであり、化学増幅型レジストに用いられる酸発生
剤等として有用なオニウム塩誘導体を高収率で合成でき
るオニウム塩誘導体の製造方法及び新規オニウム塩誘導
体を提供することを課題とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and a method for producing an onium salt derivative capable of synthesizing an onium salt derivative useful as an acid generator or the like used in a chemically amplified resist in a high yield. And a new onium salt derivative.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決するために鋭意努力を重ねた結果、ハロゲン陰イオ
ン、又はカルボキレート陰イオンを有するオニウム塩誘
導体に、スルホン酸エステル誘導体又はリン酸エステル
誘導体を反応させることによりオニウムスルホン酸誘導
体又はオニウムリン酸誘導体が高収率で得られることを
見いだし本発明を完成させた。また、これにより、フォ
スフェートを陰イオンとする新規なオニウム塩誘導体が
得られることを知見し、さらに、かかる新規オニウム塩
リン酸誘導体から、スルホネートを陰イオンとするオニ
ウム塩誘導体を効率よく製造できることを知見し、本発
明を完成させた。
The present inventors have made intensive efforts to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found that an onium salt derivative having a halogen anion or a carboxylate anion can be added to a sulfonate ester derivative or a phosphorus ester derivative. The inventors have found that an onium sulfonic acid derivative or an onium phosphoric acid derivative can be obtained in high yield by reacting an acid ester derivative, and thus completed the present invention. In addition, the present inventors have found that a novel onium salt derivative having phosphate as an anion can be obtained, and that an onium salt derivative having sulfonate as an anion can be efficiently produced from the novel onium salt phosphate derivative. And completed the present invention.

【0013】また、ハロゲン陰イオン、又はカルボキシ
レート陰イオンを有するオニウム塩誘導体に、オルト酸
エステル等の所定の化合物を共存させた状態でスルホン
酸塩を反応させると、同様なスルホネートを陰イオンと
するオニウム塩誘導体を製造できることを知見し、本発
明を完成させた。
When a sulfonate is allowed to react with an onium salt derivative having a halogen anion or a carboxylate anion in the presence of a predetermined compound such as an orthoacid ester, the same sulfonate is converted into an anion. It has been found that an onium salt derivative can be produced, and the present invention has been completed.

【0014】さらに、ハロゲン陰イオン、又はカルボキ
レート陰イオンを有するオニウム塩誘導体に、ジアルキ
ル硫酸等のスルホン酸誘導体を反応させた後、さらにス
ルホン酸塩を反応させることによりオニウムスルホン酸
誘導体が高収率で得られることを見いだし本発明を完成
させた。
Further, after a sulfonic acid derivative such as dialkyl sulfate is reacted with an onium salt derivative having a halogen anion or a carbochelate anion, a sulfonate is further reacted to obtain a high yield of the onium sulfonic acid derivative. The present invention has been completed by finding that it can be obtained at a high rate.

【0015】かかる本発明の第1の態様は、下記一般式
(1)〜(4)で表されるオニウム塩誘導体と、下記一
般式(5)〜(7)で表される化合物とを反応させるこ
とにより一般式(8)〜(19)で表されるオニウム塩
誘導体を得ることを特徴とするオニウム塩誘導体の製造
方法にある。
According to the first aspect of the present invention, an onium salt derivative represented by the following general formula (1) to (4) is reacted with a compound represented by the following general formula (5) to (7). The method for producing an onium salt derivative is characterized by obtaining onium salt derivatives represented by the general formulas (8) to (19).

【0016】[0016]

【化18】 Embedded image

【0017】(R1、R2、及びR3はそれぞれ独立に、
置換されてもよい炭素数25以下の、アルキル基、シク
ロアルキル基、パーフルオロアルキル基、芳香族有機
基、アラルキル基又はフェナシル基を表し、R1とR3
及びR2とR5の少なくとも一方は一緒になって2価の有
機基を表してもよい。R4は、炭素数20以下の2価の
有機基を表す。Q-はハロゲン陰イオン、又は炭素数が
10以下のカルボシキレート陰イオンを表す。)
(R 1 , R 2 and R 3 are each independently
Represents an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, an aromatic organic group, an aralkyl group or a phenacyl group having 25 or less carbon atoms which may be substituted, and at least one of R 1 and R 3 and R 2 and R 5 One together may represent a divalent organic group. R 4 represents a divalent organic group having 20 or less carbon atoms. Q - is a halogen anion, or carbon atoms represent 10 following carbocyclylalkyl chelating anions. )

【0018】[0018]

【化19】 Embedded image

【0019】(R6は、置換されていてもよい炭素数2
5以下の、アルキル基、シクロアルキル基、パーフルオ
ロアルキル基、芳香族有機基、アラルキル基を表す。R
7は、置換されてもよい炭素数10以下の、アルキル
基、シクロアルキル基、パーフルオロアルキル基、アラ
ルキル基を表す。R8、R9は、それぞれ独立に、置換さ
れてもよい炭素数が10以下の、アルキル基、シクロア
ルキル基、パーフルオロアルキル基、アラルキル基を表
す。)
(R 6 is an optionally substituted carbon number 2
5 or less represents an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, an aromatic organic group, or an aralkyl group. R
7 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, or an aralkyl group having 10 or less carbon atoms which may be substituted. R 8 and R 9 each independently represent an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, or an aralkyl group having 10 or less carbon atoms which may be substituted. )

【0020】[0020]

【化20】 Embedded image

【0021】[0021]

【化21】 Embedded image

【0022】[0022]

【化22】 Embedded image

【0023】本発明の第2の態様は、第1の態様におい
て、前記一般式(5)のスルホン酸エステルのR7が炭
素数5までの低級アルキル基である低級アルキルスルホ
ネートであることを特徴とするオニウム塩誘導体の製造
方法にある。
The second aspect of the present invention is characterized in that, in the first aspect, R 7 of the sulfonic acid ester of the above general formula (5) is a lower alkyl sulfonate having a lower alkyl group having up to 5 carbon atoms. In the method for producing an onium salt derivative.

【0024】本発明の第3の態様は、第1又は2の態様
において、生成するR7Qを反応系外に除去しながら反
応させることを特徴とするオニウム塩誘導体の製造方法
にある。
A third aspect of the present invention is the method for producing an onium salt derivative according to the first or second aspect, wherein the reaction is carried out while removing generated R 7 Q outside the reaction system.

【0025】本発明の第4の態様は、第1〜3の何れか
の態様において、反応を溶媒中で行うことを特徴とする
オニウム塩誘導体の製造方法にある。
A fourth aspect of the present invention is the method for producing an onium salt derivative according to any one of the first to third aspects, wherein the reaction is carried out in a solvent.

【0026】本発明の第5の態様は、下記一般式(1)
〜(4)で表されるオニウム塩誘導体と、下記一般式
(21)〜(23)で表される化合物と、下記一般式
(24)で表されるスルホン酸誘導体とを反応させるこ
とにより、一般式(25)〜(28)で表されるオニウ
ム塩誘導体を得ることを特徴とするオニウム塩誘導体の
製造方法にある。
A fifth aspect of the present invention is a compound represented by the following general formula (1):
By reacting an onium salt derivative represented by any one of (1) to (4), a compound represented by the following general formula (21) to (23), and a sulfonic acid derivative represented by the following general formula (24), A method for producing an onium salt derivative characterized by obtaining onium salt derivatives represented by the general formulas (25) to (28).

【0027】[0027]

【化23】 Embedded image

【0028】(R1、R2、及びR3はそれぞれ独立に、
置換されてもよい炭素数25以下の、アルキル基、シク
ロアルキル基、パーフルオロアルキル基、芳香族有機
基、アラルキル基又はフェナシル基を表し、R1とR3
及びR2とR5の少なくとも一方は一緒になって2価の有
機基を表してもよい。R4は、炭素数20以下の2価の
有機基を表す。Q-はハロゲン陰イオン、又は炭素数が
10以下のカルボキシレート陰イオンを表す。)
(R 1 , R 2 and R 3 are each independently
Represents an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, an aromatic organic group, an aralkyl group or a phenacyl group having 25 or less carbon atoms which may be substituted, and at least one of R 1 and R 3 and R 2 and R 5 One together may represent a divalent organic group. R 4 represents a divalent organic group having 20 or less carbon atoms. Q - is a halogen anion, or carbon atoms represent 10 following carboxylate anions. )

【0029】[0029]

【化24】 Embedded image

【0030】(R10は水素、置換されてもよい炭素数2
5以下の、アルキル基、シクロアルキル基、パーフルオ
ロアルキル基、芳香族有機基、アラルキル基を表す。R
11、R12及びR13は、それぞれ独立に、置換されてもよ
い炭素数10以下の、アルキル基、シクロアルキル基、
パーフルオロアルキル基、アラルキル基を表す。)
(R 10 is hydrogen, carbon atom 2 which may be substituted
5 or less represents an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, an aromatic organic group, or an aralkyl group. R
11 , R 12 and R 13 are each independently an alkyl group, a cycloalkyl group having 10 or less carbon atoms which may be substituted,
Represents a perfluoroalkyl group or an aralkyl group. )

【0031】[0031]

【化25】 Embedded image

【0032】(R15は、置換されていてもよい炭素数2
5以下の、アルキル基、シクロアルキル基、パーフルオ
ロアルキル基、芳香族有機基、アラルキル基を表す。Y
は、水素原子、アルカリ金属、アンモニウムを表す。)
(R 15 is an optionally substituted carbon number 2
5 or less represents an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, an aromatic organic group, or an aralkyl group. Y
Represents a hydrogen atom, an alkali metal, or ammonium. )

【0033】[0033]

【化26】 Embedded image

【0034】本発明の第6の態様は、第5の態様におい
て、前記一般式(21)〜(23)の化合物を、一般式
(1)〜(4)の前記オニウム塩誘導体に対して1〜1
0倍モル用いることを特徴とするオニウム塩誘導体の製
造方法にある。
According to a sixth aspect of the present invention, in the fifth aspect, the compound of the general formulas (21) to (23) is added to the onium salt derivative of the general formulas (1) to (4) by 1 ~ 1
A method for producing an onium salt derivative characterized by using 0 times by mole.

【0035】本発明の第7の態様は、第5又は6の態様
において、前記スルホン酸誘導体を、一般式(1)〜
(4)の前記オニウム塩誘導体に対して1〜2倍モル用
いることを特徴とするオニウム塩誘導体の製造方法にあ
る。
According to a seventh aspect of the present invention, in the fifth or sixth aspect, the sulfonic acid derivative is represented by the general formula (1)
(4) The method for producing an onium salt derivative according to (4), wherein the onium salt derivative is used in a molar amount of 1 to 2 times that of the onium salt derivative.

【0036】本発明の第8の態様は、下記一般式(1)
〜(4)で表されるオニウム塩誘導体と、下記一般式
(29)で表される硫酸エステルとを反応させ、この反
応で得られたオニウム塩誘導体と下記一般式(24)で
表されるスルホン酸誘導体とを反応させることにより一
般式(25)〜(28)で表されるオニウム塩誘導体を
得ることを特徴とするオニウム塩誘導体の製造方法にあ
る。
The eighth aspect of the present invention is a method of the present invention, wherein the following general formula (1)
The onium salt derivative represented by any one of (1) to (4) is reacted with a sulfate represented by the following general formula (29), and the onium salt derivative obtained by this reaction is represented by the following general formula (24). A method for producing an onium salt derivative, characterized in that an onium salt derivative represented by any of the general formulas (25) to (28) is obtained by reacting with a sulfonic acid derivative.

【0037】[0037]

【化27】 Embedded image

【0038】(R1、R2、及びR3はそれぞれ独立に、
置換されてもよい炭素数25以下の、アルキル基、シク
ロアルキル基、パーフルオロアルキル基、芳香族有機
基、アラルキル基又はフェナシル基を表し、R1とR3
及びR2とR5の少なくとも一方は一緒になって2価の有
機基を表してもよい。R4は、炭素数20以下の2価の
有機基を表す。Q-はハロゲン陰イオン、又は炭素数が
10以下のカルボキシレート陰イオンを表す。)
(R 1 , R 2 and R 3 are each independently
Represents an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, an aromatic organic group, an aralkyl group or a phenacyl group having 25 or less carbon atoms which may be substituted, and at least one of R 1 and R 3 and R 2 and R 5 One together may represent a divalent organic group. R 4 represents a divalent organic group having 20 or less carbon atoms. Q - is a halogen anion, or carbon atoms represent 10 following carboxylate anions. )

【0039】[0039]

【化28】 Embedded image

【0040】(R16は及びR17は、置換されてもよい炭
素数10以下の、アルキル基、シクロアルキル基、パー
フルオロアルキル基、アラルキル基を表す。)
(R 16 and R 17 each represent an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, or an aralkyl group having 10 or less carbon atoms which may be substituted.)

【0041】[0041]

【化29】 Embedded image

【0042】(R15は、置換されていてもよい炭素数2
5以下の、アルキル基、シクロアルキル基、パーフルオ
ロアルキル基、芳香族有機基、アラルキル基を表す。Y
は、水素原子、アルカリ金属、アンモニウムを表す。)
(R 15 is an optionally substituted carbon number 2
5 or less represents an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, an aromatic organic group, or an aralkyl group. Y
Represents a hydrogen atom, an alkali metal, or ammonium. )

【0043】[0043]

【化30】 Embedded image

【0044】本発明の第9の態様は、第8の態様におい
て、前記一般式(29)の硫酸エステルが、ジメチル硫
酸又はジエチル硫酸であることを特徴とするオニウム塩
誘導体の製造方法にある。
A ninth aspect of the present invention is the method for producing an onium salt derivative according to the eighth aspect, wherein the sulfate of the general formula (29) is dimethyl sulfate or diethyl sulfate.

【0045】本発明の第10の態様は、下記一般式(1
2)〜(15)で表されるオニウム塩誘導体と、下記一
般式(24)で表されるスルホン酸誘導体とを反応させ
ることにより一般式(25)〜(28)で表されるオニ
ウム塩誘導体を得ることを特徴とするオニウム塩誘導体
の製造方法にある。
A tenth aspect of the present invention is a compound represented by the following general formula (1)
2) Onium salt derivatives represented by general formulas (25) to (28) by reacting the onium salt derivatives represented by (15) with sulfonic acid derivatives represented by the following general formula (24) And a process for producing an onium salt derivative.

【0046】[0046]

【化31】 Embedded image

【0047】(R1、R2、及びR3はそれぞれ独立に、
置換されてもよい炭素数25以下の、アルキル基、シク
ロアルキル基、パーフルオロアルキル基、芳香族有機
基、アラルキル基又はフェナシル基を表すが、R1とR3
と及びR2とR5の少なくとも一方は一緒になって2価の
有機基を表してもよい。R4は、炭素数20以下の2価
の有機基を表す。R8、R9は、それぞれ独立に、置換さ
れてもよい炭素数が10以下の、アルキル基、シクロア
ルキル基、パーフルオロアルキル基、アラルキル基を表
す。)
(R 1 , R 2 and R 3 are each independently
Represents an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, an aromatic organic group, an aralkyl group or a phenacyl group having 25 or less carbon atoms which may be substituted, and R 1 and R 3
And at least one of R 2 and R 5 may together represent a divalent organic group. R 4 represents a divalent organic group having 20 or less carbon atoms. R 8 and R 9 each independently represent an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, or an aralkyl group having 10 or less carbon atoms which may be substituted. )

【0048】[0048]

【化32】 Embedded image

【0049】(R15は、置換されていてもよい炭素数2
5以下の、アルキル基、シクロアルキル基、パーフルオ
ロアルキル基、芳香族有機基、アラルキル基を表す。Y
は、水素原子、アルカリ金属、アンモニウムを表す。)
(R 15 is an optionally substituted carbon atom 2
5 or less represents an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, an aromatic organic group, or an aralkyl group. Y
Represents a hydrogen atom, an alkali metal, or ammonium. )

【0050】[0050]

【化33】 Embedded image

【0051】本発明の第11の態様は、下記一般式(1
2)〜(15)で表されることを特徴とするオニウム塩
誘導体にある。
An eleventh aspect of the present invention is a compound represented by the following general formula (1)
(2) An onium salt derivative represented by (15).

【0052】[0052]

【化34】 Embedded image

【0053】(R1、R2、及びR3はそれぞれ独立に、
置換されてもよい炭素数25以下の、アルキル基、シク
ロアルキル基、パーフルオロアルキル基、芳香族有機
基、アラルキル基又はフェナシル基を表すが、R1とR3
と及びR2とR5の少なくとも一方は一緒になって2価の
有機基を表してもよい。R4は、炭素数20以下の2価
の有機基を表す。R8、R9は、それぞれ独立に、置換さ
れてもよい炭素数が10以下の、アルキル基、シクロア
ルキル基、パーフルオロアルキル基、アラルキル基を表
す。)
(R 1 , R 2 and R 3 are each independently
Represents an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, an aromatic organic group, an aralkyl group or a phenacyl group having 25 or less carbon atoms which may be substituted, and R 1 and R 3
And at least one of R 2 and R 5 may together represent a divalent organic group. R 4 represents a divalent organic group having 20 or less carbon atoms. R 8 and R 9 each independently represent an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, or an aralkyl group having 10 or less carbon atoms which may be substituted. )

【0054】本発明では、上記一般式(1)〜(4)で
表されるオニウム塩誘導体を原料とし、これにスルホン
酸エステル、リン酸エステル又は硫酸エステルを反応さ
せることにより、高収率でオニウム塩スルホン酸誘導体
又はオニウム塩リン酸誘導体を得る。
In the present invention, the onium salt derivative represented by the above general formulas (1) to (4) is used as a raw material, and is reacted with a sulfonic acid ester, a phosphoric acid ester or a sulfuric acid ester to obtain a high yield. An onium salt sulfonic acid derivative or an onium salt phosphoric acid derivative is obtained.

【0055】ここで、原料として挙げた一般式(1)〜
(4)のオニウム塩誘導体は、中心元素として沃素、硫
黄を有するヨードニウム塩及びスルホニウム塩とした
が、アンモニウム塩、フォスホニウム塩等を用いてもよ
い。
Here, the general formulas (1) to
The onium salt derivative of (4) is iodonium salt and sulfonium salt having iodine and sulfur as central elements, but ammonium salt, phosphonium salt and the like may be used.

【0056】ここで、R1、R2、及びR3はそれぞれ独
立に、置換されてもよい炭素数25以下の、アルキル
基、シクロアルキル基、パーフルオロアルキル基、芳香
族有機基、アラルキル基又はフェナシル基を表し、R1
とR3と及びR2とR5の少なくとも一方は一緒になって
2価の有機基を表してもよいが、これらの具体例を以下
に示す。
Here, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, an aromatic organic group, an aralkyl group, or an phenacyl group, R 1
And R 3 and at least one of R 2 and R 5 may together represent a divalent organic group, and specific examples thereof will be shown below.

【0057】アルキル基としては、例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、iso−ブチル基、sec−ブチ
ル基、tert−ブチル基、iso−アミル基、sec
−アミル基、2−メチルブチル基、2−メチル−2−ブ
チル基、1,1−ジメチルブチル基、2−ヘキシル基、
1,1,1−トリメチルベンジル基、1,1−ジメチル
ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基
等の炭素数3〜8の鎖状、分枝状、又は環状のアルキル
基を挙げることができ、シクロアルキル基としては、例
えば炭素数3〜20のシクロアルキル基(例えばシクロ
プロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ビ
シクロヘプチル基等)を挙げることができ、パーフルオ
ロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、パーフ
ルオルプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオ
ロオクチル基等を挙げることができる。
Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an iso-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an iso-amyl group and a sec-amyl group.
-Amyl group, 2-methylbutyl group, 2-methyl-2-butyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 2-hexyl group,
A chain having 3 to 8 carbon atoms, such as a 1,1,1-trimethylbenzyl group, a 1,1-dimethylhexyl group, a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group; Or a cyclic alkyl group. Examples of the cycloalkyl group include a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms (eg, a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a bicycloheptyl group, and the like). Examples of the perfluoroalkyl group include a trifluoromethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorooctyl group, and the like.

【0058】芳香族有機基は、単環もしくは縮合環の炭
素環構造又は単環もしくは縮合環の芳香核を有する有機
基からなり、芳香族有機基における前記芳香核として
は、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ア
ントリル基、フェナントリル基等を挙げることができ
る。これらの芳香核は、適宜の位置に置換基を有するこ
ともできる。該置換基としては炭素数1〜12のアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基等)、炭素数1〜12のアルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブト
キシ基等)、炭素数2〜11のアシル基(例えばアセチ
ル基、ベンゾイル基等)、炭素数2〜11のアシルオキ
シ基(例えばアセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基
等)、炭素数7〜20のアラルキル基(例えばベンジル
基、ジフェニルメチル基、フェニルプロピル基等)、ニ
トロ基、シアノ基、ブトキシカルボニルオキシ基、ハロ
ゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃
素原子)を挙げることができる。これらの置換基は、2
種類以上存在することもできる。
The aromatic organic group is an organic group having a monocyclic or condensed-ring carbocyclic structure or a monocyclic or condensed-ring aromatic nucleus. Examples of the aromatic nucleus in the aromatic organic group include phenyl and biphenyl. Group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group and the like. These aromatic nuclei may have a substituent at an appropriate position. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and a hexyl group), and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms (such as a methoxy group, an ethoxy group, and a propoxy group). , A butoxy group, etc.), an acyl group having 2 to 11 carbon atoms (e.g., acetyl group, benzoyl group, etc.), an acyloxy group having 2 to 11 carbon atoms (e.g., acetyloxy group, benzoyloxy group, etc.), and having 7 to 20 carbon atoms. Examples include aralkyl groups (eg, benzyl group, diphenylmethyl group, phenylpropyl group, etc.), nitro groups, cyano groups, butoxycarbonyloxy groups, and halogen atoms (eg, fluorine, chlorine, bromine, and iodine atoms). These substituents are 2
There can be more than one type.

【0059】具体的には、フェニル基、ハロゲン化フェ
ニル基、ヒドロキシフェニル基、アルコキシフェニル
基、アミノフェニル基、アルコキシカルボニルフェニル
基、フォルミルフェニル基、チオフェニル基、チオアル
コキシフェニル基、シアノフェニル基等のアリール基を
挙げることができる。
Specifically, phenyl, halogenated phenyl, hydroxyphenyl, alkoxyphenyl, aminophenyl, alkoxycarbonylphenyl, formylphenyl, thiophenyl, thioalkoxyphenyl, cyanophenyl, etc. Aryl group can be mentioned.

【0060】アラルキル基としては、例えば炭素数7〜
20のアラルキル基(例えばベンジル基、ナフチルメチ
ル基、アントラニルメチル基、ジフェニルメチル基等)
を挙げることができ、これらのアラルキル基は、芳香核
の適宜の位置に置換基を有することができ、該置換基と
しては前記芳香族有機基についてあげた置換基と同様の
ものを挙げることができる。
The aralkyl group includes, for example, those having 7 to 7 carbon atoms.
20 aralkyl groups (for example, benzyl group, naphthylmethyl group, anthranylmethyl group, diphenylmethyl group, etc.)
These aralkyl groups can have a substituent at an appropriate position of the aromatic nucleus, and examples of the substituent include the same substituents as those described for the aromatic organic group. it can.

【0061】具体的には、フェニルベンジル基、ハロゲ
ン化ベンジル基、ヒドロキシベンジル基、アルコキシフ
ェニルベンジル基、アミノベンジル基、アルコキシカル
ボニルベンジル基、フォルミルフェニル基、チオベンジ
ル基、チオアルコキシベンジル基、シアノベンジル基等
が挙げられる。
More specifically, phenylbenzyl, halogenated benzyl, hydroxybenzyl, alkoxyphenylbenzyl, aminobenzyl, alkoxycarbonylbenzyl, formylphenyl, thiobenzyl, thioalkoxybenzyl, cyanobenzyl And the like.

【0062】また、R4は2価の有機基、例えばアリー
レン基、アルキレン基、シクロアルキレン基、アラルキ
レン基等を挙げることができ、具体例としては例えばフ
ェニレン基、ナフチレン基、エチレン基、プロピレン
基、ブチレン基、へキシレン基、シクロへキシレン基、
キシリレン基等を挙げることができる。
R 4 may be a divalent organic group such as an arylene group, an alkylene group, a cycloalkylene group, an aralkylene group and the like. Specific examples include a phenylene group, a naphthylene group, an ethylene group and a propylene group. , Butylene group, hexylene group, cyclohexylene group,
Xylylene groups and the like can be mentioned.

【0063】上記一般式(3)及び(4)のR1とR3
び/又はR2とR5とが一緒になって形成する場合の2価
の有機基は、一般式(3)及び(4)中の硫黄原子とと
もに脂肪族もしくは芳香族の複素環式構造を形成する2
価の有機基である。このような2価の有機基としては、
例えば下記式に示される有機基等を挙げることができ
る。
When R 1 and R 3 and / or R 2 and R 5 in the general formulas (3) and (4) are formed together, the divalent organic group is represented by the general formula (3) (4) forming an aliphatic or aromatic heterocyclic structure with the sulfur atom in (2)
Is a valence organic group. As such a divalent organic group,
For example, an organic group represented by the following formula can be exemplified.

【0064】[0064]

【化35】 Embedded image

【0065】また、Q-はハロゲン陰イオン、又は炭素
数が10以下のカルボキシレート陰イオンを表す。
Q - represents a halogen anion or a carboxylate anion having 10 or less carbon atoms.

【0066】ハロゲン陰イオンとしては、フッ素イオ
ン、塩素イオン、臭素イオン、沃素イオンを挙げること
ができる。
Examples of the halogen anion include a fluorine ion, a chlorine ion, a bromine ion and an iodine ion.

【0067】カルボシキレート陰イオンは、下記一般式
(20)で表される群から選択される。
The carboxylate anion is selected from the group represented by the following general formula (20).

【0068】[0068]

【化36】 Embedded image

【0069】ここで、R19は、水素、又は置換されても
よい炭素数10以下のアルキル基を表すが、好ましく
は、炭素数5以下のアルキル基が好適である。
Here, R 19 represents hydrogen or an optionally substituted alkyl group having 10 or less carbon atoms, preferably an alkyl group having 5 or less carbon atoms.

【0070】一般式(1)〜(4)のオニウム塩誘導体
と反応させる、一般式(5)〜(7)は、スルホン酸エ
ステル、リン酸エステル、硫酸エステルである。
The general formulas (5) to (7) which are reacted with the onium salt derivatives of the general formulas (1) to (4) are a sulfonic acid ester, a phosphoric acid ester and a sulfate ester.

【0071】ここで、R6〜R9の具体例を示す。Here, specific examples of R 6 to R 9 will be shown.

【0072】R6は、置換されていてもよい炭素数25
以下の、アルキル基、シクロアルキル基、パーフルオロ
アルキル基、芳香族有機基、アラルキル基を表すが、具
体例を以下に示す。
R 6 has an optionally substituted carbon number of 25
The following are an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, an aromatic organic group, and an aralkyl group, and specific examples are shown below.

【0073】アルキル基としては、例えば置換されてい
てもよい炭素数1〜20のアルキル基(例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基)を
挙げることができる。
Examples of the alkyl group include an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and a hexyl group).

【0074】また、パーフルオロアルキル基としては、
トリフルオロメチル基、ノナフルオロブチル基、パーフ
ルオロオクチル基等を挙げることができる。
Further, as the perfluoroalkyl group,
Examples thereof include a trifluoromethyl group, a nonafluorobutyl group, a perfluorooctyl group and the like.

【0075】シクロアルキル基としては、例えば炭素数
3〜15のシクロアルキル基(例えばシクロプロピル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ビシクロヘ
プチル基、7,7−ジメチル−2−オキソーピシクロ
[2,2,1]ヘプタン−1−メチル基等)を挙げるこ
とができる。
The cycloalkyl group includes, for example, a cycloalkyl group having 3 to 15 carbon atoms (eg, a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a bicycloheptyl group, a 7,7-dimethyl-2-oxopicyclo [2,2,1 ] Heptane-1-methyl group and the like).

【0076】芳香族有機基としては、例えば炭素数6〜
25の芳香族有機基(例えばフェニル基、トリル基、ト
リメチルフェニル基、イソプロピルフェニル基、トリイ
ソプロピルフェニル基、t−ブチルフェニル基、フルオ
ロフェニル基、ビス(トリフルオロメチル)フェニル
基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、
トリフルオロメチルフェニル基、ペンタフルオロフェニ
ル基、ナフチル基、アントリル基、9,10−ジメトキ
シアントリル基、フェナントリル基等)を挙げることが
できる。
Examples of the aromatic organic group include those having 6 to 6 carbon atoms.
25 aromatic organic groups (e.g., phenyl, tolyl, trimethylphenyl, isopropylphenyl, triisopropylphenyl, t-butylphenyl, fluorophenyl, bis (trifluoromethyl) phenyl, difluorophenyl, Trifluorophenyl group,
Trifluoromethylphenyl group, pentafluorophenyl group, naphthyl group, anthryl group, 9,10-dimethoxyanthryl group, phenanthryl group and the like).

【0077】アラルキル基としては、例えば炭素数7〜
20のアラルキル基(例えばベンジル基、ナフチルメチ
ル基、アントラニルメチル基、ジフェニルメチル基等)
を挙げることができる。
The aralkyl group includes, for example, those having 7 to
20 aralkyl groups (for example, benzyl group, naphthylmethyl group, anthranylmethyl group, diphenylmethyl group, etc.)
Can be mentioned.

【0078】R7、R8、及びR9は、置換されてもよい
炭素数10以下の、アルキル基、シクロアルキル基、パ
ーフルオロアルキル基、アラルキル基を表すが、特に、
炭素数5以下のアルキル基が好ましい。
R 7 , R 8 and R 9 each represent an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group or an aralkyl group having 10 or less carbon atoms which may be substituted.
An alkyl group having 5 or less carbon atoms is preferred.

【0079】本発明の反応は、溶媒の存在下、または不
存在下で行うことができるが、好ましくは溶媒の存在下
に行う。使用する溶媒としては、例えば、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジ−t−ブチ
ルエーテル等のエーテル類、アセトニトリル、ベンゾニ
トリル等のニトリル類を挙げることができ、好ましくは
エーテル類である。
The reaction of the present invention can be carried out in the presence or absence of a solvent, but is preferably carried out in the presence of a solvent. As the solvent to be used, for example, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, chlorobenzene, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, di-t-butyl ether, acetonitrile, benzonitrile And the like, and preferred are ethers.

【0080】本発明の反応温度は特に制限はないが、好
ましくは0℃〜200℃である。
The reaction temperature of the present invention is not particularly limited, but is preferably 0 ° C. to 200 ° C.

【0081】本発明の反応は、エステル交換反応であ
り、アルキルハライド等のR7−Qが生成するが、この
7−Qを反応系外に除くのが好ましい。従って、R7
Qの沸点が低い方が除去が簡単である。反応で生成した
7−Qを除去する方法としては、例えば、R7−Qより
沸点の高い溶媒を用いてR7−Qの沸点より高温で反応
させ気体として反応系外に除く等の方法がある。
The reaction of the present invention is a transesterification reaction in which R 7 -Q such as an alkyl halide is formed, and it is preferable to remove this R 7 -Q from the reaction system. Therefore, R 7
The lower the boiling point of Q, the easier it is to remove. As a method for removing the R 7 -Q produced in the reaction, for example, methods such as excluding the reaction system as a gas is reacted at temperatures above the boiling point of R 7 -Q using high boiling point than R 7 -Q solvent There is.

【0082】以上説明した方法により製造される一般式
(8)〜(19)で表されるオニウム塩誘導体は、その
まま酸発生剤等として用いることができるが、常法に基
づき適宜塩交換して使用することができる。特に、一般
式(16)、(17)のオニウム塩スルホン酸誘導体
は、特に、UV光、KrFエキシマーレーザー光、Ar
Fエキシマーレーザー光、F2エキシマーレーザー光、
電子線、X線を照射することにより強酸を発生するオニ
ウム型強酸発生剤として有用である。
The onium salt derivatives represented by the general formulas (8) to (19) produced by the above-described method can be used as they are as an acid generator or the like. Can be used. In particular, the onium salt sulfonic acid derivatives represented by the general formulas (16) and (17) can be obtained from UV light, KrF excimer laser light, Ar
F excimer laser light, F 2 excimer laser light,
It is useful as an onium-type strong acid generator that generates a strong acid upon irradiation with an electron beam or X-ray.

【0083】また、一般式(12)〜(15)のオニウ
ム塩リン酸誘導体は、新規化合物である。かかる化合物
は、弱酸の共役塩基であるリン酸エステルをアニオン部
にもつオニウム塩であり、それ自体酸発生剤として用い
ることができるが、スルフォン酸などの強酸と容易に塩
交換することにより、スルホン酸の共役塩基を対イオン
とするオニウム塩誘導体をハロゲンなどの不純物を排除
した状態で得ることができる。
The onium salt phosphoric acid derivatives represented by the general formulas (12) to (15) are novel compounds. Such a compound is an onium salt having a phosphoric acid ester, which is a conjugate base of a weak acid, in the anion part, and can be used as an acid generator itself, but is easily sulfonated by strong salt exchange with a strong acid such as sulfonic acid. An onium salt derivative having a conjugate base of an acid as a counter ion can be obtained without impurities such as halogen.

【0084】かかるオニウム塩リン酸誘導体を上述した
本発明方法により製造する場合、上述した反応条件でも
よいが、特に好適な反応条件を以下に説明する。
When such an onium salt phosphoric acid derivative is produced by the above-mentioned method of the present invention, the above reaction conditions may be used, but particularly preferred reaction conditions will be described below.

【0085】かかるオニウム塩リン酸誘導体を合成する
際に使用するリン酸エステルの量は、オニウム塩1当量
に対して1〜3当量、より好ましくは1.2〜2当量で
ある。このリン酸エステルを溶媒として用いるときは、
オニウム塩1当量に対して5〜30当量、より好ましく
は10〜20当量が適当である。
The amount of the phosphoric acid ester used in synthesizing the onium salt phosphoric acid derivative is 1 to 3 equivalents, more preferably 1.2 to 2 equivalents, per 1 equivalent of the onium salt. When this phosphate ester is used as a solvent,
5 to 30 equivalents, more preferably 10 to 20 equivalents, is suitable for 1 equivalent of the onium salt.

【0086】反応溶媒は、オニウム塩1当量に対して1
〜20リットル(Lと表記する)、より好ましくは5〜
10Lが適当である。反応溶媒としては通常一般式
(6)で表されるリン酸エステルが用いられる。つまり
一般式(6)で表されるリン酸エステルは反応試剤であ
るとともに反応溶媒として用られる。溶媒を使用する際
には、本発明に用いられる溶媒に特に限定はなく、炭化
水素系溶媒、塩素系溶媒、アルコール系溶媒、エーテル
系溶媒、ニトリル系溶媒、エステル系溶媒等を適宜用い
ることができる。好ましくは1,2ジクロロエタン、ジ
オキサン等の高沸点溶媒が適当である。
The reaction solvent is 1 to 1 equivalent of the onium salt.
~ 20 liters (expressed as L), more preferably 5 ~
10 L is appropriate. As the reaction solvent, a phosphate ester represented by the general formula (6) is usually used. That is, the phosphoric ester represented by the general formula (6) is used as a reaction reagent and a reaction solvent. When using a solvent, the solvent used in the present invention is not particularly limited, and a hydrocarbon solvent, a chlorine solvent, an alcohol solvent, an ether solvent, a nitrile solvent, an ester solvent, or the like may be appropriately used. it can. Preferably, high boiling solvents such as 1,2 dichloroethane and dioxane are suitable.

【0087】反応温度は、通常40〜200℃、好まし
くは50〜180℃である。反応温度が高すぎれば副反
応による収率低下を招き、また反応温度が低ければ反応
時間が長くなる。
The reaction temperature is usually from 40 to 200 ° C., preferably from 50 to 180 ° C. If the reaction temperature is too high, the yield will decrease due to side reactions, and if the reaction temperature is low, the reaction time will be long.

【0088】反応時間は、通常1分間〜40時間、好ま
しくは5分間〜20時間である。反応初期ではオニウム
塩は通常不溶であるが、反応が進行するに従って溶解す
る。しかしジフェニルヨードニウムクロライドは溶媒に
溶けにくい。反応終了後リン酸エステルを用いた場合
は、反応物を冷却するとオニウム塩が結晶化する。次い
で、アルコール、エーテル、アセトン等の少量の溶媒で
洗浄後乾燥する。塩交換反応に用いる場合はこのまま用
いてもかまわない。
The reaction time is generally 1 minute to 40 hours, preferably 5 minutes to 20 hours. The onium salt is usually insoluble at the beginning of the reaction, but dissolves as the reaction proceeds. However, diphenyliodonium chloride is hardly soluble in a solvent. When a phosphoric acid ester is used after completion of the reaction, the onium salt crystallizes when the reaction product is cooled. Next, it is washed with a small amount of a solvent such as alcohol, ether and acetone and then dried. When it is used for a salt exchange reaction, it may be used as it is.

【0089】オニウムフォスフェートは多くの場合水溶
性であるのに対し塩交換されるオニウムスルフォン酸塩
は有機層に抽出されるため、酸強度による平衡とあいま
って、ほとんど選択的にスルフォン酸塩として製造でき
る。前述した、オニウムフォスフェートの製造法はハラ
イドのトリアルキルフォスフェートのアルキル基への求
核置換反応により生じたハロアルカンが系外へ取り除か
れるため結果としてアニオン変換がスムーズに進むこと
を利用したもので、極めて効率的である。
Onium phosphate is water-soluble in many cases, whereas onium sulfonate to be salt-exchanged is extracted into the organic layer. Can be manufactured. As described above, the method for producing onium phosphate utilizes the fact that the haloalkane generated by the nucleophilic substitution reaction of the trialkyl phosphate of the halide to the alkyl group is removed outside the system, and as a result, the anion conversion proceeds smoothly. Is extremely efficient.

【0090】さらに、かかるオニウム塩リン酸誘導体を
原料とし、これに一般式(24)スルフォン酸塩とを反
応させることにより、スルフォン酸の使用量を低減し且
つ高収率でオニウム塩スルフォン酸誘導体を得ることが
できる。
Further, by using the onium salt phosphoric acid derivative as a raw material and reacting it with a sulfonate of the general formula (24), the amount of sulfonic acid used can be reduced and the onium salt sulfonic acid derivative can be obtained in high yield. Can be obtained.

【0091】かかる本発明方法では、原料としてオニウ
ムジアルキルフォスフェートを用いると特に好ましく、
これらとスルフォン酸との交換は生じた水溶液中のアル
キルリン酸のpKaが2程度に対してスルフォン酸が−
3〜−6と大きく異なるため、オニウムスルフォン酸塩
へ平衡がほぼ完全に移行する。
In the method of the present invention, it is particularly preferable to use onium dialkyl phosphate as a raw material.
The exchange between these and sulfonic acid is based on the fact that the pKa of the alkyl phosphoric acid in the resulting aqueous solution is about 2 and the sulfonic acid is-
Since it is significantly different from 3 to -6, the equilibrium is almost completely transferred to the onium sulfonate.

【0092】本発明方法では、オニウムフォスフェート
1モルに対し、スルフォン酸を1〜2モル倍、好ましく
は1.05〜1.2モル倍用いる。また、反応溶媒は、
オニウム塩1モルに対し、1〜20L、好ましくは5〜
10L用いるのがよい。
In the method of the present invention, sulfonic acid is used in an amount of 1 to 2 moles, preferably 1.05 to 1.2 moles, per 1 mole of onium phosphate. The reaction solvent is
1 to 20 L, preferably 5 to 1 mol of onium salt
It is better to use 10L.

【0093】反応溶媒としては、一般的には、ハロゲン
系溶媒(塩化メチレン、クロロホルム)が用いられる
が、水と2層を形成して溶質であるオニウム塩を溶解で
きるものであれば何れの溶媒を用いてもよい。
As the reaction solvent, generally, a halogen-based solvent (methylene chloride, chloroform) is used, but any solvent can be used as long as it forms two layers with water and can dissolve the onium salt as a solute. May be used.

【0094】反応温度は、一般的には室温でよく、交換
反応は瞬時に行われるので、反応時間は特に限定されな
い。
The reaction temperature may generally be room temperature, and the exchange reaction is carried out instantaneously, so that the reaction time is not particularly limited.

【0095】反応終了後、水及びアルカリ水(例えば、
アンモニア等のアミン水溶液)を加えてアルカリ性にす
ると交換反応はすばやく進むとともに余分な酸を水層に
追い出すことができる。なお、水層を除去し、pHが中
性になるまで数回有機層を水洗し、乾燥後、溶媒を留去
し、再結晶などで精製することにより目的物を得ること
ができる。
After completion of the reaction, water and alkaline water (for example,
If an aqueous solution of an amine such as ammonia is added to make the solution alkaline, the exchange reaction proceeds quickly and excess acid can be expelled to the aqueous layer. The desired product can be obtained by removing the aqueous layer, washing the organic layer several times with water until the pH becomes neutral, drying, removing the solvent, and purifying by recrystallization or the like.

【0096】本発明方法では、リン酸塩の酸強度が通常
のスルフォン酸に対してきわめて弱く、多くの場合水溶
性であるのに反し、塩交換されるオニウムスルフォネー
トが有機層に抽出されるため、酸強度による平衡とあい
まってほとんど選択的にスルフォン酸塩として製造でき
る。
In the process of the present invention, the acid strength of the phosphate is extremely weaker than that of ordinary sulfonic acid, and although it is often water-soluble, the salt-exchanged onium sulfonate is extracted into the organic layer. Therefore, it can be almost selectively produced as a sulfonate in combination with the equilibrium based on the acid strength.

【0097】本発明では、上記一般式(1)〜(4)で
表されるオニウム塩誘導体と、一般式(21)〜(2
3)で表される化合物と、一般式(24)のスルホン酸
塩とを反応させすことにより、一段階で高収率でオニウ
ムスルホン酸塩を得ることができる。
In the present invention, the onium salt derivatives represented by the general formulas (1) to (4) are combined with the onium salt derivatives represented by the general formulas (21) to (2)
By reacting the compound represented by 3) with a sulfonic acid salt of the general formula (24), an onium sulfonic acid salt can be obtained in one step with a high yield.

【0098】ここで、一般式(21)〜(23)の化合
物は、オルトカルボン酸エステル、リン酸エステル、硫
酸エステルである。一般式(21)のR10は、水素、又
は上述したR6と同様な置換基とすることができる。ま
た、一般式(21)〜(23)のR11〜R13は、上述し
たR7及びR8と同様な置換基とすることができる。
Here, the compounds represented by the general formulas (21) to (23) are orthocarboxylic acid esters, phosphoric acid esters, and sulfuric acid esters. R 10 in the general formula (21) can be hydrogen or a substituent similar to R 6 described above. Further, R 11 to R 13 in the general formulas (21) to (23) can be the same substituents as R 7 and R 8 described above.

【0099】一方、一般式(24)で表されるスルホン
酸塩のR15は、置換されていてもよい炭素数25以下
の、アルキル基、シクロアルキル基、パーフルオロアル
キル基、芳香族有機基、アラルキル基を表す。以下に具
体例を示す。
On the other hand, R 15 of the sulfonate represented by the general formula (24) is an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group or an aromatic organic group, which may have 25 or less carbon atoms. Represents an aralkyl group. Specific examples are shown below.

【0100】アルキル基としては、例えば置換されてい
ても良い炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基)を
挙げることができる。
Examples of the alkyl group include an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and a hexyl group).

【0101】また、パーフルオロアルキル基としては、
トリフルオロメチル基、ノナルルオロブチル基、パーフ
ルオロオクチル基等を挙げることができ、特に、パーフ
ルオロアルキル基が好ましい。
Further, as the perfluoroalkyl group,
Examples thereof include a trifluoromethyl group, a nonalurobutyl group, a perfluorooctyl group, and the like, and a perfluoroalkyl group is particularly preferable.

【0102】シクロアルキル基としては、例えば、炭素
数3〜15のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ビシクロ
ヘプチル基、7,7−ジメチルー2−オキソービシクロ
[2,2,1]ヘプタン−1−メチル基等)を挙げること
ができる。
Examples of the cycloalkyl group include a cycloalkyl group having 3 to 15 carbon atoms (for example, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, bicycloheptyl group, 7,7-dimethyl-2-oxobicyclo).
[2,2,1] heptane-1-methyl group etc.).

【0103】芳香族有機基としては、例えば、炭素数6
〜25の芳香族有機基(例えば、フェニル基、トリル
基、トリフルオロメチルフェニル基、ペンタフルオロフ
ェニル基、ナフチル基、アントリル基、9,10−ジメ
トキシアントリル基、フェナントリル基等)を挙げるこ
とができる。アラルキル基としては、例えば、炭素数7
〜20のアラルキル基(例えば、ベンジル基、ナフチル
メチル基、アントラニルメチル基、ジフェニルメチル基
等)を挙げることができる。
As the aromatic organic group, for example, those having 6 carbon atoms
To 25 aromatic organic groups (for example, phenyl group, tolyl group, trifluoromethylphenyl group, pentafluorophenyl group, naphthyl group, anthryl group, 9,10-dimethoxyanthryl group, phenanthryl group and the like). it can. Examples of the aralkyl group include, for example, those having 7 carbon atoms.
To 20 aralkyl groups (for example, benzyl group, naphthylmethyl group, anthranylmethyl group, diphenylmethyl group and the like).

【0104】一般式(24)において、Yは水素原子、
リチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属及
び/又はアンモニウムを表す。ここで、アンモニウムは
下記一般式(21)で表される。
In the general formula (24), Y is a hydrogen atom,
Represents an alkali metal such as lithium, sodium, potassium and / or ammonium. Here, ammonium is represented by the following general formula (21).

【0105】[0105]

【化37】 Embedded image

【0106】(R20〜R23は、水素、アルキル基、アラ
ルキル基、アリール基を表す。)
(R 20 to R 23 represent hydrogen, an alkyl group, an aralkyl group, or an aryl group.)

【0107】このような化合物及びスルホン酸塩を用い
た反応では、これらの化合物が、スルフォン酸の酸触媒
的作用により分解して陽イオンを生成し、これがハライ
ド等の陰イオンと反応する。そして、アルキルハライド
等を生成してハライド等の陰イオンを除き、代わってス
ルフォン酸が塩交換されることにより反応が円滑に進む
ものと思われる。
In the reaction using such a compound and a sulfonate, these compounds are decomposed by the acid-catalyzed action of sulfonic acid to generate a cation, which reacts with an anion such as a halide. Then, it is considered that the reaction proceeds smoothly by generating an alkyl halide or the like to remove anions such as a halide and replacing the sulfonic acid with a salt instead.

【0108】かかる本発明方法では、オルト酸エステル
等の化合物は、オニウム塩誘導体に対して1〜10倍モ
ル、好ましくは1.2〜5倍モル用いる。
In the method of the present invention, the compound such as the ortho acid ester is used in an amount of 1 to 10 times, preferably 1.2 to 5 times the molar amount of the onium salt derivative.

【0109】また、スルフォン酸塩は、オニウム塩誘導
体に対して1〜2倍モル、好ましくは1.05〜1.2
モル倍用いる。
The sulfonate is used in an amount of 1 to 2 moles, preferably 1.05 to 1.2 moles, per mole of the onium salt derivative.
Use molar times.

【0110】また、この反応に用いられる溶媒は、塩素
系溶媒、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、ニトリル
系溶媒、エステル系溶媒、カルボン酸系溶媒等を適宜用
いることができるが、特に塩化メチレン、クロロホルム
が好まれる。
As the solvent used in this reaction, a chlorine-based solvent, an alcohol-based solvent, an ether-based solvent, a nitrile-based solvent, an ester-based solvent, a carboxylic acid-based solvent and the like can be appropriately used. Chloroform is preferred.

【0111】この反応は、通常室温で反応は進行する
が、加熱する事により反応を促進させることができる。
通常100℃以内、好ましくは40〜60℃である。
This reaction usually proceeds at room temperature, but the reaction can be accelerated by heating.
It is usually within 100 ° C, preferably 40 to 60 ° C.

【0112】反応時間は反応温度に依存し、ハライド等
の陰イオン濃度を50ppm以下にするには室温で12
時間、40℃で2〜4時間を必要とする。
The reaction time depends on the reaction temperature. To reduce the concentration of anions such as halides to 50 ppm or less, the reaction is carried out at room temperature.
It requires 2-4 hours at 40 ° C.

【0113】反応終了後アンモニア水を加えアルカリ性
にした後、目的物を使用溶媒から抽出する。溶液は乾燥
後溶媒留去後再結晶する。
After completion of the reaction, aqueous ammonia is added to make the mixture alkaline, and the desired product is extracted from the solvent used. The solution is dried and then recrystallized after evaporation of the solvent.

【0114】以上説明した本発明方法で製造されたオニ
ウムスルフォネートは、レジストプロセス上有害となる
ハライドの含有を極めて低く抑えることができるため化
学増幅系レジストの酸発生剤として有用といえる。
The onium sulfonate produced by the method of the present invention described above can be said to be useful as an acid generator for a chemically amplified resist because the content of a halide harmful to the resist process can be suppressed to a very low level.

【0115】さらに、本発明では、一般式(1)〜
(4)のオニウム塩誘導体に、一般式(29)の硫酸エ
ステルと反応させ、さらに、一般式(24)のスルホン
酸エステルと反応させることにより、簡便に且つ経済的
に高純度なスルホン酸の共役塩基を対イオンとするオニ
ウム塩誘導体が得られる。
Further, in the present invention, the compounds represented by the general formulas (1) to
The onium salt derivative of (4) is reacted with a sulfuric ester of the general formula (29), and further reacted with a sulfonic ester of the general formula (24) to easily and economically produce high-purity sulfonic acid. An onium salt derivative having a conjugate base as a counter ion is obtained.

【0116】一般式(29)の置換基R16及びR17は、
一般式(7)のR7及びR8と同様なものであるが、好ま
しくは、炭素数5以下のアルキル基、最も好ましくは、
メチル基又はエチル基である。
The substituents R 16 and R 17 in the general formula (29) are
It is the same as R 7 and R 8 in the general formula (7), but is preferably an alkyl group having 5 or less carbon atoms, and most preferably
It is a methyl group or an ethyl group.

【0117】かかる本発明方法は、原料となる一般式
(1)〜(4)のオニウム塩誘導体(以下、ハロゲンを
陰イオンとするオニウム塩誘導体として説明する)と、
ジアルキル硫酸等の硫酸エステル(以下、アルキルエス
テルとして説明する)とを反応させる第1の工程を含む
が、上記工程によりモノアルキル硫酸イオンを対イオン
とするオニウム塩誘導体が得られる。
The method of the present invention comprises an onium salt derivative represented by the general formulas (1) to (4) as raw materials (hereinafter described as an onium salt derivative having a halogen as an anion):
The method includes a first step of reacting with a sulfuric acid ester such as dialkyl sulfate (hereinafter, referred to as an alkyl ester). The above step provides an onium salt derivative having a monoalkyl sulfate ion as a counter ion.

【0118】この工程はハロゲンイオンを有するオニウ
ム塩誘導体とジアルキル硫酸を反応させることにより、
モノアルキル硫酸イオンを対イオンとするオニウム塩誘
導体とアルキルハライドが生成するものと推測される。
従って、生成するアルキルハライドを反応系外に除去す
ることにより、反応系からハライドイオンを除去するこ
とができる。ジアルキル硫酸としては、低級ジアルキル
硫酸、特にジメチル硫酸及び/又はジエチル硫酸が好ま
しい。低級ジアルキル硫酸を使用することにより、生成
したアルキルハライド等を気体として容易に反応系外に
除去することができる。
In this step, the onium salt derivative having a halogen ion is reacted with dialkyl sulfate to obtain
It is presumed that an onium salt derivative having a monoalkyl sulfate ion as a counter ion and an alkyl halide are formed.
Therefore, halide ions can be removed from the reaction system by removing the generated alkyl halide out of the reaction system. As the dialkyl sulfate, a lower dialkyl sulfate, particularly, dimethyl sulfate and / or diethyl sulfate is preferable. By using the lower dialkyl sulfate, the generated alkyl halide or the like can be easily removed as a gas outside the reaction system.

【0119】上記第1の工程は、溶媒の存在下、または
不存在下で行なうことができるが、好ましくは溶媒の存
在下に行う。使用する溶媒としては、例えば、ジクロロ
メタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン等
のハロゲン化炭化水素、 ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジ−t
−ブチルエーテル等のエーテル類、アセトニトリル、ベ
ンゾニトリル等のニトリル類を挙げることができる。反
応温度は特に制限はないが、好ましくは 30℃〜12
0℃、特に好ましくは40℃〜100℃である。
The above first step can be carried out in the presence or absence of a solvent, but is preferably carried out in the presence of a solvent. As the solvent to be used, for example, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, chlorobenzene, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, di-t
Ethers such as -butyl ether; and nitriles such as acetonitrile and benzonitrile. The reaction temperature is not particularly limited, but is preferably 30 ° C to 12 ° C.
0 ° C, particularly preferably 40 ° C to 100 ° C.

【0120】陰イオンとしてハロゲンイオンを有するオ
ニウム塩誘導体と、ジアルキル硫酸とを反応させるに際
しては、陰イオンとしてハロゲンイオンを有するオニウ
ム塩誘導体とジアルキル硫酸のモル比は特に制限はない
が、好ましくは1.0:1.0〜2.0である。1.0:
1.0よりジアルキル硫酸のモル比が低いと、反応後ハ
ライドイオンが残り好ましくない。また、ジアルキル硫
酸のモル比は2.0以上用いても良いが、多いと未反応
ジアルキル硫酸が反応後残り、好ましくない。
When reacting an onium salt derivative having a halogen ion as an anion with a dialkyl sulfate, the molar ratio of the onium salt derivative having a halogen ion as an anion to the dialkyl sulfate is not particularly limited. 1.0: 1.0 to 2.0. 1.0:
If the molar ratio of dialkyl sulfate is lower than 1.0, halide ions remain after the reaction, which is not preferable. The molar ratio of dialkyl sulfuric acid may be 2.0 or more. However, if it is large, unreacted dialkyl sulfuric acid remains after the reaction, which is not preferable.

【0121】前記第1の工程により得られたモノアルキ
ル硫酸の共役塩基を対イオンとするオニウム塩誘導体と
スルホン酸及び/又はスルホン酸のアルカリ金属塩及び
/またはスルホン酸のアンモニウム塩とを反応させる第
2の工程により目的とするスルホン酸の共役塩基を対イ
オンとするオニウム塩誘導体を得ることができる。この
第2の工程で使用されるスルホン酸及びその塩としては
上記一般式(24)で表される。
The onium salt derivative having the conjugate base of the monoalkyl sulfate obtained in the first step as a counter ion is reacted with sulfonic acid and / or an alkali metal salt of sulfonic acid and / or an ammonium salt of sulfonic acid. By the second step, an onium salt derivative having a target conjugate base of sulfonic acid as a counter ion can be obtained. The sulfonic acid and its salt used in the second step are represented by the general formula (24).

【0122】本発明の第2工程の、モノアルキル硫酸の
共役塩基を対イオンとするオニウム塩誘導体と、スルホ
ン酸及び/又はその塩とを反応させるに際してはモノア
ルキル硫酸の共役塩基を対イオンとするオニウム塩誘導
体とスルホン酸及び/又はその塩とのモル比は特に制限
はないが、好ましくは1.0:1.0〜1.5である。こ
の比が1.0以下でも良いが、目的とするスルホン酸の
共役塩基を対イオンとするオニウム塩の収率が低下する
ので好ましくない。また、1.5以上でも良いが、スル
ホン酸及び/又はその塩を大過剰に用いても、経済的で
ない。
In the second step of the present invention, when the onium salt derivative having a conjugate base of a monoalkyl sulfate as a counter ion is reacted with sulfonic acid and / or a salt thereof, the conjugate base of the monoalkyl sulfate is reacted with the counter ion. The molar ratio between the onium salt derivative and the sulfonic acid and / or salt thereof is not particularly limited, but is preferably 1.0: 1.0 to 1.5. Although this ratio may be less than 1.0, it is not preferable because the yield of an onium salt having a target conjugate base of a sulfonic acid as a counter ion decreases. Although it may be 1.5 or more, it is not economical to use sulfonic acid and / or a salt thereof in a large excess.

【0123】本発明の第2の工程の反応は、溶媒の存在
下、または不存在下で行なうことができるが、好ましく
は溶媒の存在下に行なう。使用する溶媒としては、例え
ば、水、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、
クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、 ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチル
エーテル、ジ−t−ブチルエーテル等のエーテル類、ア
セトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類を挙げる
ことができ、好ましくは水である。また、上記有機溶媒
と水の混合溶媒も好ましい。また、この第2の工程の反
応温度は特に制限はない。
The reaction of the second step of the present invention can be carried out in the presence or absence of a solvent, but is preferably carried out in the presence of a solvent. As the solvent to be used, for example, water, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride,
Examples thereof include halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether and di-t-butyl ether, and nitriles such as acetonitrile and benzonitrile, and preferably water. Further, a mixed solvent of the above organic solvent and water is also preferable. The reaction temperature in the second step is not particularly limited.

【0124】[0124]

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施例により更に
詳細に説明するが、本発明の内容がこれにより限定され
るものではないことはいうまでもない。各化合物はNM
R、IR、UVおよびMASSによって同定した。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but it goes without saying that the content of the present invention is not limited by these examples. Each compound is NM
Identified by R, IR, UV and MASS.

【0125】(実施例1)p−トルエンスルホン酸ビス
(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムの合成 塩化ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウ
ム428.8g(1.0mol)とp−トルエンスルホ
ン酸メチル223.5g(1.2mol)とをt−ブチ
ルメチルエーテル500mlに縣濁し、この縣濁液を5
5℃〜58℃に加熱し、撹拌しながら5時間還流させ
た。この反応液を冷却後、白色固体をろ別した。この白
色固体をt−ブチルメチルエーテルで洗浄後、真空乾燥
させることにより513.7g(収率91%)のp−ト
ルエンスルホン酸ビス(p−tert−ブチルフェニ
ル)ヨードニウムが得られた。
Example 1 Synthesis of bis (p-tert-butylphenyl) iodonium p-toluenesulfonate 428.8 g (1.0 mol) of bis (p-tert-butylphenyl) iodonium chloride and p-toluenesulfonic acid 223.5 g (1.2 mol) of methyl was suspended in 500 ml of t-butyl methyl ether.
Heat to 5 ° C to 58 ° C and reflux with stirring for 5 hours. After cooling the reaction solution, a white solid was separated by filtration. The white solid was washed with t-butyl methyl ether and dried under vacuum to obtain 513.7 g (yield 91%) of bis (p-tert-butylphenyl) iodonium p-toluenesulfonate.

【0126】得られた白色固体の塩素イオン含量を硝酸
銀滴定により求めたところ、8ppmであった。
The chlorine ion content of the obtained white solid was determined by silver nitrate titration to be 8 ppm.

【0127】(実施例2)p−トルエンスルホン酸ビス
(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムの合成 実施例1におけるp−トルエンスルホン酸メチルの代わ
りにp−トルエンスルホン酸イソプロピル257.1g
(1.2mol)を用いた以外は実施例1と全く同様の
操作により、p−トルエンスルホン酸ビス(p−ter
t−ブチルフェニル)ヨードニウム479.9g(収率
85%)を得た。塩素イオン含量は38ppmであっ
た。
(Example 2) Synthesis of bis (p-tert-butylphenyl) iodonium p-toluenesulfonate Instead of methyl p-toluenesulfonate in Example 1, 257.1 g of isopropyl p-toluenesulfonate
(1.2 mol), except that bis-p-toluenesulfonate (p-ter
479.9 g (85% yield) of (t-butylphenyl) iodonium was obtained. The chloride ion content was 38 ppm.

【0128】(実施例3)p−トルエンスルホン酸トリ
フェニルスルホニウムの合成 沃化トリフェニルスルホニウム390.3g(1.0m
ol)とp−トルエンスルホン酸メチル223.5g
(1.2mol)にアセトニトリル500mlを加え、
82℃〜85℃に加熱し、撹拌しながら5時間還流させ
た。この反応液を冷却後、減圧でアセトニトリルを留去
させた。残った淡黄色固体を塩化メチレンで洗浄後、真
空乾燥させることにより369.4g(収率85%)の
p−トルエンスルホン酸トリフェニルスルホニウムが得
られた。
Example 3 Synthesis of triphenylsulfonium p-toluenesulfonate 390.3 g of triphenylsulfonium iodide (1.0 m
ol) and 223.5 g of methyl p-toluenesulfonate
(1.2 mol) was added with 500 ml of acetonitrile,
The mixture was heated to 82 ° C to 85 ° C and refluxed for 5 hours while stirring. After cooling the reaction solution, acetonitrile was distilled off under reduced pressure. The remaining pale yellow solid was washed with methylene chloride and dried under vacuum to obtain 369.4 g (yield: 85%) of triphenylsulfonium p-toluenesulfonate.

【0129】得られた白色固体の沃素イオン含量を硝酸
銀滴定により求めたところ、83ppmであった。
The iodine ion content of the obtained white solid was determined by silver nitrate titration to be 83 ppm.

【0130】(実施例4)9,10−ジメトキシアント
ラセン−2−スルホン酸ビス(p−tert−ブチルフ
ェニル)ヨードニウムの合成 塩化ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウ
ム6.4g(15mmol)およびメチル−9,10−
ジメトキシアントラセン−2−スルホン酸6.48g
(19.5mmol)にアセトニトリル90mlを加
え、82℃〜85℃に加熱し、撹拌しながら20時間還
流させた。この反応液を冷却後、析出した固体をろ別し
た。固体を酢酸エチルで洗浄後、真空乾燥させることに
より8.32g(収率78%)の9、10−ジメトキシ
アントラセン−2−スルホン酸ビス(p−tert−ブ
チルフェニル)ヨードニウムが得られた。得られた固体
の塩素イオン含量を硝酸銀滴定により求めたところ、1
10ppmであった。
Example 4 Synthesis of bis (p-tert-butylphenyl) iodonium 9,10-dimethoxyanthracene-2-sulfonate 6.4 g (15 mmol) of bis (p-tert-butylphenyl) iodonium chloride and methyl -9,10-
6.48 g of dimethoxyanthracene-2-sulfonic acid
(19.5 mmol) was added with 90 ml of acetonitrile, heated to 82 to 85 ° C., and refluxed for 20 hours with stirring. After cooling the reaction solution, the precipitated solid was separated by filtration. The solid was washed with ethyl acetate and dried under vacuum to obtain 8.32 g (yield 78%) of bis (p-tert-butylphenyl) iodonium 9,10-dimethoxyanthracene-2-sulfonate. The chloride ion content of the obtained solid was determined by silver nitrate titration.
It was 10 ppm.

【0131】(実施例5)カンファースルホン酸ビス
(p−tert−ブチルフェニル)の合成 塩化ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウ
ム17.06g(39.79mmol)およびメチルカ
ンファースルホン酸10.78g(43.76mmo
l)に酢酸エチル50mlを加え、77℃〜80℃に加
熱し、撹拌しながら24時間還流させた。この反応液を
冷却後、固体をろ別した。固体をアセトンから再結晶
後、真空乾燥させることにより20.63g(収率83
%)のカンファースルホン酸ビス(p−tert−ブチ
ルフェニル)ヨードニウムが得られた。
Example 5 Synthesis of bis (p-tert-butylphenyl) camphorsulfonate 17.06 g (39.79 mmol) of bis (p-tert-butylphenyl) iodonium chloride and 10.78 g of methyl camphorsulfonic acid ( 43.76mmo
To 1), 50 ml of ethyl acetate was added, heated to 77 ° C. to 80 ° C., and refluxed for 24 hours with stirring. After cooling the reaction solution, the solid was filtered off. The solid was recrystallized from acetone and dried under vacuum to obtain 20.63 g (yield 83
%) Bis (p-tert-butylphenyl) iodonium camphorsulfonate was obtained.

【0132】得られた固体の塩素イオン含量を硝酸銀滴
定により求めたところ、20ppmであった。
The chloride ion content of the obtained solid was determined by silver nitrate titration and found to be 20 ppm.

【0133】(実施例6)p−トルエンスルホン酸ビス
(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムの合成 ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム・
アセテート467mg(1.0mmol)とp−トルエ
ンスルホン酸メチル204mg(1.1mmol)とを
t−ブチルメチルエーテル5mlに縣濁し、この縣濁液
を55℃〜58℃に加熱し、撹拌しながら5時間還流さ
せた。この反応液を冷却後、白色固体をろ別した。この
白色固体をt−ブチルメチルエーテルで洗浄後、真空乾
燥させることにより521mg(収率91%)のp−ト
ルエンスルホン酸ビス(p−tert−ブチルフェニ
ル)ヨードニウムが得られた。
Example 6 Synthesis of bis (p-tert-butylphenyl) iodonium p-toluenesulfonate
467 mg (1.0 mmol) of acetate and 204 mg (1.1 mmol) of methyl p-toluenesulfonate are suspended in 5 ml of t-butyl methyl ether, and this suspension is heated to 55 ° C. to 58 ° C., and stirred. Reflux for hours. After cooling the reaction solution, a white solid was separated by filtration. The white solid was washed with t-butyl methyl ether and dried under vacuum to obtain 521 mg (yield 91%) of bis (p-tert-butylphenyl) iodonium p-toluenesulfonate.

【0134】(実施例7)p−トルエンスルホン酸ビス
(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムの合成 実施例6におけるp−トルエンスルホン酸メチルの代わ
りにp−トルエンスルホン酸イソプロピル257.1m
g(1.2mmol)を用いた以外は実施例6と全く同
様の操作により、p−トルエンスルホン酸ビス(p−t
ert−ブチルフェニル)ヨードニウム492mg(収
率85%)を得た。
Example 7 Synthesis of bis (p-tert-butylphenyl) iodonium p-toluenesulfonate Instead of methyl p-toluenesulfonate in Example 6, 257.1 m of isopropyl p-toluenesulfonate
g (1.2 mmol) by the same operation as in Example 6, except that bis-p-toluenesulfonic acid (pt
492 mg (85% yield) of tert-butylphenyl) iodonium were obtained.

【0135】(実施例8)p−トルエンスルホン酸トリ
フェニルスルホニウムの合成 トリフェニルスルホニウム・プロピオネート336mg
(1.0mmol)とp−トルエンスルホン酸メチル2
04mg(1.1mmol)にアセトニトリル5mlを
加え撹拌しながら5時間還流させた。この反応液を冷却
後、減圧でアセトニトリルを留去させた。残った淡黄色
固体を塩化メチレンで洗浄後、真空乾燥させることによ
り492mg(収率85%)のp−トルエンスルホン酸
トリフェニルスルホニウムが得られた。
Example 8 Synthesis of triphenylsulfonium p-toluenesulfonate 336 mg of triphenylsulfonium propionate
(1.0 mmol) and methyl p-toluenesulfonate 2
Acetonitrile (5 ml) was added to 04 mg (1.1 mmol), and the mixture was refluxed for 5 hours while stirring. After cooling the reaction solution, acetonitrile was distilled off under reduced pressure. The remaining pale yellow solid was washed with methylene chloride and dried under vacuum to obtain 492 mg (yield: 85%) of triphenylsulfonium p-toluenesulfonate.

【0136】(実施例9)カンファースルホン酸・ビス
(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム塩の合
成 ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム・
アセテート467mg(1mmol)およびメチルカン
ファースルホン酸259mg(1.05mmol)に酢
酸エチル50mlを加え撹拌しながら24時間還流させ
た。この反応液を冷却後、固体をろ別した。固体をアセ
トンから再結晶後、真空乾燥させることにより518m
g(収率83%)のカンファースルホン酸ビス(p−t
ert−ブチルフェニル)ヨードニウムが得られた。
(Example 9) Synthesis of camphorsulfonic acid bis (p-tert-butylphenyl) iodonium salt Bis (p-tert-butylphenyl) iodonium salt
50 ml of ethyl acetate was added to 467 mg (1 mmol) of acetate and 259 mg (1.05 mmol) of methyl camphorsulfonic acid, and the mixture was refluxed for 24 hours with stirring. After cooling the reaction solution, the solid was filtered off. The solid was recrystallized from acetone and dried in vacuum to obtain 518 m
g (83% yield) of bis (p-t) camphorsulfonic acid
(tert-butylphenyl) iodonium was obtained.

【0137】(実施例10)トリフロロメタンスルホン
酸・ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウ
ムの合成 酢酸・ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニ
ウム467mg(1mmol)およびトリフロロメタン
スルホン酸メチルエステル170mg(1.05mmo
l)にtert−ブチルメチルエーテル5mlを加え、
室温で4時間撹拌しながら反応を行った。この精製した
固体をろ別し真空乾燥させることにより412mg(収
率76%)のトリフロロメタンスルホン酸・ビス(p−
tert−ブチルフェニル)ヨードニウムが得られた。
Example 10 Synthesis of bis (p-tert-butylphenyl) iodonium trifluoromethanesulfonate 467 mg (1 mmol) of bis (p-tert-butylphenyl) iodonium acetate and methyl trifluoromethanesulfonate 170mg (1.05mmo
5 ml of tert-butyl methyl ether was added to 1),
The reaction was carried out with stirring at room temperature for 4 hours. The purified solid was filtered off and dried under vacuum to obtain 412 mg (yield 76%) of bis (p-p-trifluoromethanesulfonic acid).
(tert-Butylphenyl) iodonium was obtained.

【0138】(実施例11)ジフェニルヨードニウムト
リフルオロメタンスルホネートの製造 ジフェニルヨードニウムクロライド1.67kgをアセ
トニトリル5.3Lにスラリー化させた後、室温で撹拌
しながらジメチル硫酸0.80kgを徐々に添加した。
反応溶液を1時間リフラックスして反応を行った後、反
応溶媒であるアセトニトリルを減圧蒸留で除去した。得
られた白色固体を蒸留水12Lに溶解し、トリフルオロ
メタンスルホン酸0.95kgを徐々に滴下した後、常
温で1時間撹拌した。濾過により白色固体2.4kgを
得た。このものは若干の酸分を含んでいるため更に蒸留
水5Lで再結晶した。濾過乾燥後、白色固体のジフェニ
ルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート1.9
kg(収率84%)を得た。
(Example 11) Production of diphenyliodonium trifluoromethanesulfonate 1.67 kg of diphenyliodonium chloride was slurried in 5.3 L of acetonitrile, and 0.80 kg of dimethyl sulfuric acid was gradually added with stirring at room temperature.
After the reaction solution was refluxed for 1 hour to carry out the reaction, acetonitrile as a reaction solvent was removed by distillation under reduced pressure. The obtained white solid was dissolved in 12 L of distilled water, and 0.95 kg of trifluoromethanesulfonic acid was gradually added dropwise, followed by stirring at room temperature for 1 hour. Filtration yielded 2.4 kg of a white solid. Since this product contained some acid, it was further recrystallized with 5 L of distilled water. After filtration and drying, a white solid of diphenyliodonium trifluoromethanesulfonate 1.9 was obtained.
kg (84% yield).

【0139】前述したようにして得られたオニウム塩を
イオンクロマトグラフィーにより残存する塩化物イオ
ン、メチル硫酸イオンを分析した結果、ともに1ppm
以下であることが確認された。
The onium salt obtained as described above was analyzed by ion chromatography for residual chloride ion and methyl sulfate ion.
It was confirmed that:

【0140】(実施例12)トリフェニルスルホニウム
トリフルオロメタンスルホネートの製造 トリフェニルスルホニウムアイオダイド620gをアセ
トニトリル3Lに室温下で撹拌してスラリー化させた
後、ジメチル硫酸105gを徐々に添加した。固体の溶
解を確認後、反応溶媒であるアセトニトリルを減圧蒸留
した。得られた固体を蒸留水に溶解した後トリフルオロ
メタンスルホン酸288gを滴下しながら加えた。1時
間撹拌後、得られたオイルをジクロロメタンにより抽出
し、有機層を蒸留水により洗浄した。溶媒であるジクロ
ロメタンを減圧蒸留して粘性の高いオイルを得た。この
オイル相にエーテルを加える事により白色のトリフェニ
ルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート440
g(収率67%)を得た。
Example 12 Production of triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate 620 g of triphenylsulfonium iodide was stirred in 3 L of acetonitrile at room temperature to form a slurry, and 105 g of dimethyl sulfuric acid was gradually added. After confirming the dissolution of the solid, acetonitrile as a reaction solvent was distilled under reduced pressure. After dissolving the obtained solid in distilled water, 288 g of trifluoromethanesulfonic acid was added dropwise. After stirring for 1 hour, the obtained oil was extracted with dichloromethane, and the organic layer was washed with distilled water. Dichloromethane as a solvent was distilled under reduced pressure to obtain a highly viscous oil. By adding ether to this oil phase, white triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate 440 is obtained.
g (67% yield).

【0141】前述のようにして得られたオニウム塩をイ
オンクロマトグラフィーにより残存するヨウ化物イオ
ン、メチル硫酸イオンを分析した結果、ともに1ppm
以下であることが確認された。
The onium salt obtained as described above was analyzed by ion chromatography for residual iodide ion and methyl sulfate ion.
It was confirmed that:

【0142】(実施例13)トリフェニルスルホニウム
パーフルオロブタンスルホネートの製造 トリフェニルスルホニウムアイオダイド270gをアセ
トニトリル2.1Lに室温下で撹拌してスラリー化させ
た後、ジメチル硫酸105gを徐々に添加した。固体の
溶解を確認後、反応溶媒であるアセトニトリルを減圧蒸
留した。得られた固体にポタシウムノナフレート274
gを加え、蒸留水2Lに溶解した。1時間撹拌後、得ら
れたオイルをジクロロメタンにより抽出し、有機層を蒸
留水により洗浄した。溶媒であるジクロロメタンを減圧
蒸留して粘性の高いオイルを得た。このオイル相にエー
テルを加える事により白色のトリフェニルスルホニウム
ノナフレート425g(収率83%)を得た。
Example 13 Preparation of Triphenylsulfonium Perfluorobutanesulfonate 270 g of triphenylsulfonium iodide was stirred into 2.1 L of acetonitrile at room temperature to form a slurry, and 105 g of dimethyl sulfuric acid was gradually added. After confirming the dissolution of the solid, acetonitrile as a reaction solvent was distilled under reduced pressure. Potassium nonaflate 274 is added to the obtained solid.
g was added and dissolved in 2 L of distilled water. After stirring for 1 hour, the obtained oil was extracted with dichloromethane, and the organic layer was washed with distilled water. Dichloromethane as a solvent was distilled under reduced pressure to obtain a highly viscous oil. By adding ether to this oil phase, 425 g (yield 83%) of white triphenylsulfonium nonaflate was obtained.

【0143】前述のようにして得られたオニウム塩をイ
オンクロマトグラフィーにより残存するヨウ化物イオ
ン、メチル硫酸イオンを分析した結果、ともに1ppm
以下であることが確認された。
The onium salt obtained as described above was analyzed by ion chromatography for residual iodide ion and methyl sulfate ion.
It was confirmed that:

【0144】(実施例14)トリフェニルスルホニウム
カンファースルホネートの製造 トリフェニルスルホニウムアイオダイド40gをアセト
ニトリル200mlに室温下で撹拌してスラリー化させ
た後、ジメチル硫酸15gを徐々に添加した。固体の溶
解を確認後、カンファースルホン酸49gを加え12時
間撹拌した。溶媒であるアセトニトリルを減圧蒸留して
得られたオイルをジクロロメタンに溶解し、有機層を蒸
留水により洗浄した。溶媒であるジクロロメタンを減圧
蒸留して粘性の高いオイルを得た。このオイル相にエー
テルを加える事により、白色のトリフェニルスルホニウ
ムカンファースルホネート9g(収率18%)を得た。
Example 14 Preparation of triphenylsulfonium camphorsulfonate 40 g of triphenylsulfonium iodide was stirred in 200 ml of acetonitrile at room temperature to form a slurry, and 15 g of dimethyl sulfuric acid was gradually added. After confirming dissolution of the solid, 49 g of camphorsulfonic acid was added and the mixture was stirred for 12 hours. An oil obtained by distilling acetonitrile as a solvent under reduced pressure was dissolved in dichloromethane, and the organic layer was washed with distilled water. Dichloromethane as a solvent was distilled under reduced pressure to obtain a highly viscous oil. By adding ether to this oil phase, 9 g of white triphenylsulfonium camphorsulfonate (18% yield) was obtained.

【0145】前述のようにして得られたオニウム塩をイ
オンクロマトグラフィーにより残存する沃化物イオン、
メチル硫酸イオンを分析した結果、ともに1ppm以下
であることが確認された。
The onium salt obtained as described above is treated with an iodide ion remaining by ion chromatography.
As a result of analyzing methyl sulfate ion, it was confirmed that both were 1 ppm or less.

【0146】(実施例15)トリフェニルスルホニウム
メチルサルフェートの製造 トリフェニルスルホニウムアイオダイド3.9gをアセ
トニトリル10mlに室温下で撹拌してスラリー化させ
た後、ジメチル硫酸1.5gを徐々に添加した。固体の
溶解を確認後、反応溶媒であるアセトニトリルを減圧蒸
留した。得られた粘性固体にエーテルを徐々に加えて白
色の沈殿物3.2g(収率85%)を得た。
(Example 15) Production of triphenylsulfonium methyl sulfate 3.9 g of triphenylsulfonium iodide was stirred in 10 ml of acetonitrile at room temperature to form a slurry, and 1.5 g of dimethyl sulfate was gradually added. After confirming the dissolution of the solid, acetonitrile as a reaction solvent was distilled under reduced pressure. Ether was gradually added to the obtained viscous solid to obtain 3.2 g (yield: 85%) of a white precipitate.

【0147】この白色沈殿物を1H−NMRとC13−
NMRで分析した結果、トリフェニルスルホニウムメチ
ルサルフェートであることを確認した。
The white precipitate was subjected to 1H-NMR and C13-
As a result of analysis by NMR, it was confirmed that the substance was triphenylsulfonium methyl sulfate.

【0148】(実施例16)ジフェニルヨードニウム・
トシレートの合成(1) ジフェニルヨードニウムクロライド315mg(1mm
ol)、オルトギ酸エチル296mg(2mmol)お
よび乾燥した無水トルエンスルホン酸207mg(1.
2mmol)を5mlの乾燥した塩化メチレン5mlに
溶解させ還流下5時間攪拌する。反応液に1%アンモニ
ア水を10ml加え溶液をアルカリ性にした後塩化メチ
レンで2回抽出する。乾燥後溶媒を留去して生じた固体
をエーテル洗浄する事により求める化合物を白色結晶と
して229mg(収率75%)を得た。
(Example 16) Diphenyliodonium
Synthesis of Tosylate (1) 315 mg of diphenyliodonium chloride (1 mm
ol), 296 mg (2 mmol) of ethyl orthoformate and 207 mg of dry toluenesulfonic acid (1.
2 mmol) is dissolved in 5 ml of dry methylene chloride and stirred under reflux for 5 hours. The reaction solution is made alkaline by adding 10 ml of 1% aqueous ammonia and then extracted twice with methylene chloride. After drying, the solvent was distilled off, and the resulting solid was washed with ether to obtain 229 mg (yield: 75%) of the desired compound as white crystals.

【0149】イオンクロマトグラフィー法により化合物
中の陰イオン測定をおこなったところクロライド含量は
50ppm以下であった。
When the anion in the compound was measured by ion chromatography, the chloride content was 50 ppm or less.

【0150】(実施例17)ジフェニルヨードニウム・
トシレートの合成(2) ジフェニルヨードニウムクロライド315mg(1mm
ol)、オルト炭酸メチル2mg(2mmol)および
乾燥した無水トルエンスルホン酸207mg(1.2m
mol)を5mlの乾燥した塩化メチレン5mlに溶解
させ室温で2時間攪拌する。反応液に1%アンモニア水
を10ml加え溶液をアルカリ性にした後塩化メチレン
で2回抽出した。乾燥後溶媒を留去して生じた固体をエ
ーテル洗浄する事により求める化合物を白色結晶として
280mg(収率92%)を得た。
Example 17 Diphenyliodonium
Synthesis of Tosylate (2) 315 mg of diphenyliodonium chloride (1 mm
ol), 2 mg (2 mmol) of methyl orthocarbonate and 207 mg of dry toluenesulfonic acid (1.2 m
mol) is dissolved in 5 ml of dry methylene chloride and stirred at room temperature for 2 hours. The reaction solution was made alkaline by adding 10 ml of 1% aqueous ammonia and then extracted twice with methylene chloride. After drying, the solvent was distilled off, and the resulting solid was washed with ether to obtain 280 mg (yield: 92%) of the desired compound as white crystals.

【0151】イオンクロマトグラフィー法により化合物
中の陰イオン測定をおこなったところクロライド含量は
14ppm以下であった。
When the anion in the compound was measured by ion chromatography, the chloride content was 14 ppm or less.

【0152】(実施例18)トリフェニルスルフォニウ
ム・カンファースルホネートの合成 トリフェニルスルフォニウムアイオダイド390mg
(1mmol)とオルト酢酸エチル486mg(3mm
ol)およびカンファースルホン酸278mg(1.2
mmol))を乾燥した塩化メチレン10mlに溶解さ
せ室温で12時間攪拌する。反応液に1%アンモニア水
を10ml加え溶液をアルカリ性にした後塩化メチレン
で3回抽出した。乾燥後溶媒を留去して生じた半固体を
エーテル洗浄する事により求める化合物を白色結晶とし
て410mg(収率82%)を得た。
(Example 18) Synthesis of triphenylsulfonium camphorsulfonate 390 mg of triphenylsulfonium iodide
(1 mmol) and 486 mg of ethyl orthoacetate (3 mm
ol) and 278 mg of camphorsulfonic acid (1.2 mg).
(mmol) is dissolved in 10 ml of dry methylene chloride and stirred at room temperature for 12 hours. The reaction solution was made alkaline by adding 10 ml of 1% aqueous ammonia and then extracted three times with methylene chloride. After drying, the solvent was distilled off, and the resulting semi-solid was washed with ether to give 410 mg (yield 82%) of the desired compound as white crystals.

【0153】イオンクロマトグラフィー法により化合物
中の陰イオン測定をおこなったところクロライド含量は
10ppm以下であった。
When the anion in the compound was measured by ion chromatography, the chloride content was 10 ppm or less.

【0154】(実施例19)ジ−tert−ブチルフェ
ニルヨードニウム・トリフレートの合成 ジ−tert−ブチルフェニルヨードニウムクロライド
443mg(1mmol)とオルトプロピオン酸エチル
211mg(1.5mmol)およびトリフロロメタン
スルホン酸165mg(1.1mmol)を乾燥した塩
化メチレン10mlに溶解させ室温で2時間攪拌した。
反応液に1%アンモニア水を10ml加え溶液をアルカ
リ性にした後塩化メチレンで2回抽出した。乾燥後溶媒
を留去して生じた固体をエーテル洗浄する事により求め
る化合物を白色結晶として491mg(収率91%)を
得た。
Example 19 Synthesis of di-tert-butylphenyliodonium triflate 443 mg (1 mmol) of di-tert-butylphenyliodonium chloride, 211 mg (1.5 mmol) of ethyl orthopropionate and 165 mg of trifluoromethanesulfonic acid (1.1 mmol) was dissolved in 10 ml of dry methylene chloride and stirred at room temperature for 2 hours.
The reaction solution was made alkaline by adding 10 ml of 1% aqueous ammonia and then extracted twice with methylene chloride. After drying, the solvent was distilled off, and the resulting solid was washed with ether to obtain 491 mg (yield: 91%) of the desired compound as white crystals.

【0155】イオンクロマトグラフィー法により化合物
中の陰イオン測定をおこなったところクロライド含量は
10ppm以下であった。
When the anion in the compound was measured by ion chromatography, the chloride content was 10 ppm or less.

【0156】(実施例20)ジ−tert−ブチルフェ
ニルヨードニウム・ペンタフルオロベンゼンスルホネー
トの合成 ジ−tert−ブチルフェニルヨードニウムクロライド
443mg(1mmol)とオルソ酢酸エチル342m
g(2mmol)およびペンタフロロベンゼンスルホン
酸298mg(1.2mmol)をクロロフォルム5m
lに溶解させを2時間還流下攪拌した。溶媒留去後生成
した固体をエーテル洗浄することにより求める化合物を
白色結晶として436mg(収率68%)得た。
Example 20 Synthesis of di-tert-butylphenyliodonium pentafluorobenzenesulfonate 443 mg (1 mmol) of di-tert-butylphenyliodonium chloride and 342 m of ethyl orthoacetate
g (2 mmol) and 298 mg (1.2 mmol) of pentafluorobenzenesulfonic acid in chloroform 5m
and stirred under reflux for 2 hours. After the solvent was distilled off, the resulting solid was washed with ether to obtain 436 mg (yield: 68%) of the desired compound as white crystals.

【0157】イオンクロマトグラフィー法により化合物
中の陰イオン測定をおこなったところクロライド含量は
5ppm以下であった。
When the anion in the compound was measured by ion chromatography, the chloride content was 5 ppm or less.

【0158】(実施例21)トリフェニルスルフォニウ
ム・4−トリフロロメチルベンゼンスルホネートの合成 トリフェニルスルフォニウムブロマイド343mg(1
mmol)とオルトギ酸エチル296mg(2mmo
l)および4−トリフロロメチルベンゼンスルホン酸2
71mg(1.2mmol)を塩化メチレン10mlに
溶解させ室温で6時間攪拌する。反応液に1%アンモニ
ア水を10ml加え溶液をアルカリ性にした後塩化メチ
レンで3回抽出した。乾燥後溶媒を留去して生じた固体
をエーテル中洗浄、攪拌する事により求める化合物を白
色結晶として375mg(収率76%)を得た。
(Example 21) Synthesis of triphenylsulfonium-4-trifluoromethylbenzenesulfonate 343 mg of triphenylsulfonium bromide (1
mmol) and 296 mg (2 mmol) of ethyl orthoformate
l) and 4-trifluoromethylbenzenesulfonic acid 2
71 mg (1.2 mmol) is dissolved in 10 ml of methylene chloride and stirred at room temperature for 6 hours. The reaction solution was made alkaline by adding 10 ml of 1% aqueous ammonia and then extracted three times with methylene chloride. After drying, the solvent was distilled off, and the resulting solid was washed in ether and stirred to obtain 375 mg (yield: 76%) of the desired compound as white crystals.

【0159】イオンクロマトグラフィー法により化合物
中の陰イオン測定をおこなったところクロライド含量は
5ppm以下であった。
When the anion in the compound was measured by ion chromatography, the chloride content was 5 ppm or less.

【0160】(実施例22)ジフェニルヨードニウム・
トリフレートの合成 ジフェニルヨードニウム・ジメチルフォスフェート31
5mg(1mmol)とトリフロロメタンスルホン酸1
58mg(1.01mmol)を塩化メチレン10ml
に溶解させ攪拌した。塩化メチレン溶液は溶媒を半分留
去しエーテル50mlを加えて攪拌すると求める化合物
として白色の結晶109mg(収率72%)が析出し
た。
(Example 22) Diphenyliodonium
Synthesis of triflate Diphenyliodonium dimethyl phosphate 31
5 mg (1 mmol) and trifluoromethanesulfonic acid 1
58 mg (1.01 mmol) of methylene chloride 10 ml
And stirred. The methylene chloride solution was distilled off half of the solvent, added with 50 ml of ether, and stirred to precipitate 109 mg of white crystals (yield: 72%) as a desired compound.

【0161】(実施例23)トリフェニルスルフォニウ
ム・トルエンスルホネートの合成 ジフェニルヨードニウム・ジメチルフォスフェート31
5mg(1mmol)とp−トルエンスルホン酸189
mg(1.1mmol)を塩化メチレン10mlに溶解
させ攪拌した。1%アンモニア水10mlを加え溶液が
アルカリ性であることを確認し激しく攪拌した。静置し
水層を取り出し、水層が中性を示すまで水洗を続けた。
塩化メチレン溶液は乾燥後溶媒を留去しエーテルで攪拌
洗浄すると求める化合物として白色の結晶214mg
(収率84%)が析出した。
(Example 23) Synthesis of triphenylsulfonium-toluenesulfonate Diphenyliodonium-dimethylphosphate 31
5 mg (1 mmol) and p-toluenesulfonic acid 189
mg (1.1 mmol) was dissolved in methylene chloride (10 ml) and stirred. 10 ml of 1% aqueous ammonia was added, and after confirming that the solution was alkaline, the mixture was vigorously stirred. After standing still, the aqueous layer was taken out and washed with water until the aqueous layer showed neutrality.
The methylene chloride solution is dried to remove the solvent and washed with stirring with ether.
(Yield 84%) was precipitated.

【0162】(実施例24)ジフェニルヨードニウム・
カンファースルホネートの合成 ジフェニルヨードニウム・ジメチルフォスフェート31
5mg(1mmol)とカンファースルホン酸254m
g(1.1mmol)とを塩化メチレン10mlに溶解
させ攪拌した。1%アンモニア水10mlを加え溶液が
アルカリ性であることを確認し激しく攪拌した。静置し
水層を取り出し、水層が中性を示すまで水洗を続けた。
塩化メチレン溶液は乾燥後溶媒を留去しエーテルで攪拌
洗浄すると求める化合物として白色の結晶465mg
(収率91%)が析出した。
(Example 24) Diphenyliodonium
Synthesis of camphorsulfonate diphenyliodonium dimethyl phosphate 31
5 mg (1 mmol) and 254 m of camphorsulfonic acid
g (1.1 mmol) was dissolved in 10 ml of methylene chloride and stirred. 10 ml of 1% aqueous ammonia was added, and after confirming that the solution was alkaline, the mixture was vigorously stirred. After standing still, the aqueous layer was taken out and washed with water until the aqueous layer showed neutrality.
The methylene chloride solution is dried, the solvent is distilled off, and the mixture is washed with stirring with ether.
(Yield 91%) was precipitated.

【0163】(実施例25)ジ−tert−ブチルフェ
ニルヨードニウム・パーフルオロベンゼンスルホネート
の合成 ジ−tert−ブチルフェニルヨードニウム・ジエチル
フォスフェート546mg(1mmol)とパーフルオ
ロベンゼンスルホン酸267mg(1.1mmol)を
塩化メチレン10mlに溶解させ、1%アンモニア水1
0mlを加え、溶液がアルカリ性であることを確認し激
しく攪拌した。静置し水層を取り出し、水層が中性を示
すまで水洗を続けた。塩化メチレン溶液は、乾燥後溶媒
を留去し、エーテルで攪拌洗浄すると求める化合物とし
て白色の結晶435mg(収率68%)が析出した。
Example 25 Synthesis of di-tert-butylphenyliodonium / perfluorobenzenesulfonate 546 mg (1 mmol) of di-tert-butylphenyliodonium / diethylphosphate and 267 mg (1.1 mmol) of perfluorobenzenesulfonic acid were used. Dissolve in 10 ml of methylene chloride and add 1% aqueous ammonia
0 ml was added, and it was confirmed that the solution was alkaline, followed by vigorous stirring. After standing still, the aqueous layer was taken out and washed with water until the aqueous layer showed neutrality. The methylene chloride solution was dried, the solvent was distilled off, and the mixture was washed by stirring with ether. As a result, 435 mg (yield: 68%) of white crystals was precipitated as a desired compound.

【0164】(実施例26)ジ−tert−ブチルフェ
ニルヨードニウム・パーフルオロブタンスルホネートの
合成 ジ−tert−ブチルフェニルヨードニウム・ジエチル
フォスフェート546mg(1mmol)とパーフルオ
ロブタンスルホン酸ナトリウム354mg(1.1mm
ol)を水10mlに溶解させ、塩化メチレン10ml
で3回抽出する。溶媒留去後析出した白色固体をエーテ
ルで洗浄し、塩化メチレン−エーテルから再結晶するこ
とにより白色の結晶561mg(収率81%)が析出し
た。
Example 26 Synthesis of di-tert-butylphenyliodonium perfluorobutanesulfonate 546 mg (1 mmol) of di-tert-butylphenyliodonium diethylphosphate and 354 mg (1.1 mm) of sodium perfluorobutanesulfonate
ol) in 10 ml of water and 10 ml of methylene chloride
Extract three times. After the solvent was distilled off, the precipitated white solid was washed with ether and recrystallized from methylene chloride-ether, whereby 561 mg (81% yield) of white crystals were precipitated.

【0165】(実施例27)ジフェニルヨードニウムジ
メチルフォスフォネートの合成 ジフェニルヨードニウムクロライド315mg(1mm
ol)とトリメチルリン酸1gを170℃で10分間加
熱攪拌した。反応物がいったん溶解したあと冷却により
生じた固体をエーテルで洗浄し求める化合物を白色結晶
として250mg(収率81.6%)を得た。イオンク
ロマトグラフィー法により化合物中の陰イオン測定をお
こなったところクロライド含量は10ppm以下であっ
た。
Example 27 Synthesis of diphenyliodonium dimethylphosphonate 315 mg of diphenyliodonium chloride (1 mm
ol) and 1 g of trimethylphosphoric acid were heated and stirred at 170 ° C. for 10 minutes. After the reaction product was once dissolved, the solid produced by cooling was washed with ether to obtain 250 mg (yield: 81.6%) of the desired compound as white crystals. When the anion in the compound was measured by ion chromatography, the chloride content was 10 ppm or less.

【0166】(実施例28)トリフェニルスルフォニウ
ムジメチルフォスフォネートの合成 トリフェニルスルフォニウムアイオダイド390mg
(1mmol)とトリメチルリン酸1gの混合液を13
0℃で3時間攪拌加熱した。その後、均一溶液を冷却し
て生じた固体をIPA洗浄することにより求める化合物
を白色結晶として280mg(収率72.2%)を得
た。イオンクロマトグラフィー法により化合物中の陰イ
オン測定をおこなったところヨーダイド含量は、50p
pm以下であった。
Example 28 Synthesis of triphenylsulfonium dimethylphosphonate 390 mg of triphenylsulfonium iodide
(1 mmol) and 1 g of trimethylphosphoric acid in 13
The mixture was stirred and heated at 0 ° C. for 3 hours. Thereafter, the homogeneous solution was cooled and the resulting solid was washed with IPA to obtain 280 mg (yield: 72.2%) of the desired compound as white crystals. When the anion in the compound was measured by ion chromatography, the iodide content was found to be 50 p.
pm or less.

【0167】(実施例29)ジ−tert−ブチルフェ
ニルヨードニウムジメチルフォスフェートの合成(1) ジ−tert−ブチルフェニルヨードニウムクロライド
443mg(1mmol)とトリメチルリン酸2gの液
を(110℃)で1時間攪拌加熱した。生じた固体をエ
ーテル洗浄することにより求める化合物を白色結晶とし
て420mg(収率78.7%)を得た。(アセトン洗
浄により原料のヨードホルムクロライドを除去でき
る。)
Example 29 Synthesis of di-tert-butylphenyliodonium dimethyl phosphate (1) A solution of 443 mg (1 mmol) of di-tert-butylphenyliodonium chloride and 2 g of trimethylphosphoric acid was heated at (110 ° C.) for 1 hour. Stir and heat. The resulting solid was washed with ether to give 420 mg (yield: 78.7%) of the desired compound as white crystals. (The raw material iodoform chloride can be removed by acetone washing.)

【0168】(実施例30)ジ−tert−ブチルフェ
ニルヨードニウムジメチルフォスフェートの合成(2) ジ−tert−ブチルフェニルヨードニウムクロライド
443mg(1mmol)とトリメチルリン酸0.5g
をクロロフォルム5mlに溶解させを12時間還流下攪
拌した。溶媒留去後生成した固体をエーテル洗浄するこ
とにより求める化合物を白色結晶として400mg(収
率75.2%)を得た。
(Example 30) Synthesis of di-tert-butylphenyliodonium dimethyl phosphate (2) 443 mg (1 mmol) of di-tert-butylphenyliodonium chloride and 0.5 g of trimethylphosphoric acid
Was dissolved in 5 ml of chloroform and stirred under reflux for 12 hours. After the solvent was distilled off, the resulting solid was washed with ether to obtain 400 mg (yield: 75.2%) of the desired compound as white crystals.

【0169】(実施例31)ジ−tert−ブチルフェ
ニルヨードニウムジエチルフォスフェートの合成 ジ−tert−ブチルフェニルヨードニウムクロライド
443mg(1mmol)とトリエチルリン酸3gの液
を110〜120℃で1時間攪拌加熱する。生じた固体
をエーテル洗浄することにより求める化合物を白色結晶
として432mg(収率69.2%)を得た。
(Example 31) Synthesis of di-tert-butylphenyliodonium diethyl phosphate A solution of 443 mg (1 mmol) of di-tert-butylphenyliodonium chloride and 3 g of triethylphosphoric acid was stirred and heated at 110 to 120 ° C. for 1 hour. . The resulting solid was washed with ether to give 432 mg (yield: 69.2%) of the desired compound as white crystals.

【0170】(実施例32)以下に、ジ−tert−ブ
チルフェニルヨードニウムジメチルフォスフェートから
スルホン酸の共役塩基を対イオンとするオニウム塩誘導
体を得る例を示す。
Example 32 Hereinafter, an example of obtaining an onium salt derivative having a conjugate base of sulfonic acid as a counter ion from di-tert-butylphenyliodonium dimethyl phosphate will be described.

【0171】ジ−tert−ブチルフェニルヨードニウ
ムジメチルフォスフェート533mg(1mmol)
と、p−トルエンスルホン酸140mg(1.1mmo
l)とを塩化メチレン10mlに溶解させ1%アンモニ
ア水10mlを加えて溶液をアルカリ性にし10分間攪
拌後塩化メチレン層を抽出する。抽出液は水洗後、乾
燥、溶媒留去し生成した粗結晶をエーテルー塩化メチレ
ンで再結晶することにより求める化合物を白色結晶とし
て410mg(収率77.2%)のジ−tert−ブチ
ルフェニルヨードニウムジメチルスルホネートを得た。
533 mg (1 mmol) of di-tert-butylphenyliodonium dimethyl phosphate
And 140 mg of p-toluenesulfonic acid (1.1 mmol
1) was dissolved in 10 ml of methylene chloride, and 10 ml of 1% aqueous ammonia was added to make the solution alkaline. After stirring for 10 minutes, the methylene chloride layer was extracted. The extract was washed with water, dried and evaporated, and the resulting crude crystals were recrystallized from ether-methylene chloride to obtain 410 mg (yield: 77.2%) of the compound to be obtained as white crystals of di-tert-butylphenyliodonium dimethyl. The sulfonate was obtained.

【0172】[0172]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
化学増幅型レジストに用いられる酸発生剤等として有用
なオニウム塩誘導体を高収率で合成できるオニウム塩誘
導体の製造方法及び新規オニウム塩誘導体を提供するこ
とができるという効果を奏する。
As described above, according to the present invention,
It is possible to provide a method for producing an onium salt derivative capable of synthesizing an onium salt derivative useful as an acid generator or the like used in a chemically amplified resist in a high yield, and a novel onium salt derivative.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07C 309/30 C07C 309/30 309/43 309/43 381/12 381/12 C07F 9/11 C07F 9/11 G03F 7/004 503 G03F 7/004 503A (31)優先権主張番号 特願2000−284186(P2000−284186) (32)優先日 平成12年9月19日(2000.9.19) (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願2000−286306(P2000−286306) (32)優先日 平成12年9月21日(2000.9.21) (33)優先権主張国 日本(JP) Fターム(参考) 2H025 AB16 BE07 4H006 AA01 AA02 AB40 AB76 AB81 AC90 BC31 BD20 BD70 4H050 AA01 AA02 AB40 AB76 AB81 AC90 BC31 BD20 BD70 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C07C 309/30 C07C 309/30 309/43 309/43 381/12 381/12 C07F 9/11 C07F 9 / 11 G03F 7/004 503 G03F 7/004 503A (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 2000-284186 (P2000-284186) (32) Priority date September 19, 2000 (September 19, 2000) (33) Priority claim country Japan (JP) (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 2000-286306 (P2000-286306) (32) Priority date September 21, 2000 (September 21, 2000) (33) Priority claim Country Japan (JP) F-term (reference) 2H025 AB16 BE07 4H006 AA01 AA02 AB40 AB76 AB81 AC90 BC31 BD20 BD70 4H050 AA01 AA02 AB40 AB76 AB81 AC90 BC31 BD20 BD70

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1)〜(4)で表されるオ
ニウム塩誘導体と、下記一般式(5)〜(7)で表され
る化合物とを反応させることにより下記一般式(8)〜
(19)で表されるオニウム塩誘導体を得ることを特徴
とするオニウム塩誘導体の製造方法。 【化1】 (R1、R2、及びR3はそれぞれ独立に、置換されても
よい炭素数25以下の、アルキル基、シクロアルキル
基、パーフルオロアルキル基、芳香族有機基、アラルキ
ル基又はフェナシル基を表し、R1とR3及びR2とR5
の少なくとも一方は一緒になって2価の有機基を表して
もよい。R4は、炭素数20以下の2価の有機基を表
す。Q-はハロゲン陰イオン、又は炭素数が10以下の
カルボシキレート陰イオンを表す。) 【化2】 (R6は、置換されていてもよい炭素数25以下の、ア
ルキル基、シクロアルキル基、パーフルオロアルキル
基、芳香族有機基、アラルキル基を表す。R7は、置換
されてもよい炭素数10以下の、アルキル基、シクロア
ルキル基、パーフルオロアルキル基、アラルキル基を表
す。R8、R9は、それぞれ独立に、置換されてもよい炭
素数が10以下の、アルキル基、シクロアルキル基、パ
ーフルオロアルキル基、アラルキル基を表す。) 【化3】 【化4】 【化5】
1. An onium salt derivative represented by the following general formulas (1) to (4) and a compound represented by the following general formulas (5) to (7) are reacted to form the following general formula (8) ) ~
A method for producing an onium salt derivative, which comprises obtaining the onium salt derivative represented by (19). Embedded image (R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent an optionally substituted alkyl group, cycloalkyl group, perfluoroalkyl group, aromatic organic group, aralkyl group, or phenacyl group having 25 or less carbon atoms. , R 1 and R 3 and R 2 and R 5 may be taken together to represent a divalent organic group, and R 4 represents a divalent organic group having 20 or less carbon atoms. -. which is a halogen anion, or carbon atoms represent 10 following carbocyclylalkyl chelating anions) ## STR2 ## (R 6 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, an aromatic organic group, or an aralkyl group having 25 or less carbon atoms which may be substituted. R 7 represents a carbon atom which may be substituted. Represents an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, or an aralkyl group of 10 or less, and R 8 and R 9 each independently represent an alkyl group or a cycloalkyl group having 10 or less carbon atoms which may be substituted. , A perfluoroalkyl group or an aralkyl group.) Embedded image Embedded image
【請求項2】 請求項1において、前記一般式(5)の
スルホン酸エステルのR7が炭素数5までの低級アルキ
ル基である低級アルキルスルホネートであることを特徴
とするオニウム塩誘導体の製造方法。
2. The method for producing an onium salt derivative according to claim 1, wherein R 7 of the sulfonic ester of the general formula (5) is a lower alkyl sulfonate which is a lower alkyl group having up to 5 carbon atoms. .
【請求項3】 請求項1又は2において、生成するR7
Qを反応系外に除去しながら反応させることを特徴とす
るオニウム塩誘導体の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein R 7 is formed.
A method for producing an onium salt derivative, wherein the reaction is carried out while removing Q out of the reaction system.
【請求項4】 請求項1〜3の何れかにおいて、反応を
溶媒中で行うことを特徴とするオニウム塩誘導体の製造
方法。
4. The method for producing an onium salt derivative according to claim 1, wherein the reaction is carried out in a solvent.
【請求項5】 下記一般式(1)〜(4)で表されるオ
ニウム塩誘導体と、下記一般式(21)〜(23)で表
される化合物と、下記一般式(24)で表されるスルホ
ン酸誘導体とを反応させることにより、一般式(25)
〜(28)で表されるオニウム塩誘導体を得ることを特
徴とするオニウム塩誘導体の製造方法。 【化6】 (R1、R2、及びR3はそれぞれ独立に、置換されても
よい炭素数25以下の、アルキル基、シクロアルキル
基、パーフルオロアルキル基、芳香族有機基、アラルキ
ル基又はフェナシル基を表し、R1とR3及びR2とR5
少なくとも一方は一緒になって2価の有機基を表しても
よい。R4は、炭素数20以下の2価の有機基を表す。
-はハロゲン陰イオン、又は炭素数が10以下のカル
ボキシレート陰イオンを表す。) 【化7】 (R10は水素、置換されてもよい炭素数25以下の、ア
ルキル基、シクロアルキル基、パーフルオロアルキル
基、芳香族有機基、アラルキル基を表す。R11、R 12
びR13は、それぞれ独立に、置換されてもよい炭素数1
0以下の、アルキル基、シクロアルキル基、パーフルオ
ロアルキル基、アラルキル基を表す。) 【化8】 (R15は、置換されていてもよい炭素数25以下の、ア
ルキル基、シクロアルキル基、パーフルオロアルキル
基、芳香族有機基、アラルキル基を表す。Yは、水素原
子、アルカリ金属、アンモニウムを表す。) 【化9】
5. An ozone represented by the following general formulas (1) to (4):
Represented by the following general formulas (21) to (23)
And a sulfo represented by the following general formula (24)
By reacting with an acid derivative, the compound represented by the general formula (25)
To obtain an onium salt derivative represented by any one of (28) to (28).
A method for producing an onium salt derivative. Embedded image(R1, RTwo, And RThreeAre each independently substituted
Alkyl group and cycloalkyl having good carbon number of 25 or less
Group, perfluoroalkyl group, aromatic organic group, aralkyl
A phenyl group or a phenacyl group;1And RThreeAnd RTwoAnd RFiveof
At least one of them together represents a divalent organic group
Good. RFourRepresents a divalent organic group having 20 or less carbon atoms.
Q-Is a halogen anion, or a carbon having 10 or less carbon atoms.
Represents a boxylate anion. )(RTenIs hydrogen, an optionally substituted carbon atom having 25 or less carbon atoms,
Alkyl group, cycloalkyl group, perfluoroalkyl
Group, aromatic organic group, and aralkyl group. R11, R 12Passing
And R13Are each independently an optionally substituted carbon number of 1
0 or less, alkyl group, cycloalkyl group, perfluoro
Represents a loalkyl group or an aralkyl group. )(RFifteenIs a group having 25 or less carbon atoms which may be substituted
Alkyl group, cycloalkyl group, perfluoroalkyl
Group, aromatic organic group, and aralkyl group. Y is a hydrogen source
Represents an alkali, an alkali metal, and ammonium. )
【請求項6】 請求項5において、前記一般式(21)
〜(23)の化合物を、一般式(1)〜(4)の前記オ
ニウム塩誘導体に対して1〜10倍モル用いることを特
徴とするオニウム塩誘導体の製造方法。
6. The method according to claim 5, wherein the general formula (21)
A method for producing an onium salt derivative, characterized in that the compound of formulas (1) to (23) is used in an amount of 1 to 10 times the mol of the onium salt derivative of formulas (1) to (4).
【請求項7】 請求項5又は6において、前記スルホン
酸誘導体を、一般式(1)〜(4)の前記オニウム塩誘
導体に対して1〜2倍モル用いることを特徴とするオニ
ウム塩誘導体の製造方法。
7. The onium salt derivative according to claim 5, wherein the sulfonic acid derivative is used in an amount of 1 to 2 times the mol of the onium salt derivative of the general formulas (1) to (4). Production method.
【請求項8】 下記一般式(1)〜(4)で表されるオ
ニウム塩誘導体と、下記一般式(29)で表される硫酸
エステルとを反応させ、この反応で得られたオニウム塩
誘導体と下記一般式(24)で表されるスルホン酸誘導
体とを反応させることにより一般式(25)〜(28)
で表されるオニウム塩誘導体を得ることを特徴とするオ
ニウム塩誘導体の製造方法。 【化10】 (R1、R2、及びR3はそれぞれ独立に、置換されても
よい炭素数25以下の、アルキル基、シクロアルキル
基、パーフルオロアルキル基、芳香族有機基、アラルキ
ル基又はフェナシル基を表し、R1とR3及びR2とR5
少なくとも一方は一緒になって2価の有機基を表しても
よい。R4は、炭素数20以下の2価の有機基を表す。
-はハロゲン陰イオン、又は炭素数が10以下のカル
ボキシレート陰イオンを表す。) 【化11】 (R16は及びR17は、置換されてもよい炭素数10以下
の、アルキル基、シクロアルキル基、パーフルオロアル
キル基、アラルキル基を表す。) 【化12】 (R15は、置換されていてもよい炭素数25以下の、ア
ルキル基、シクロアルキル基、パーフルオロアルキル
基、芳香族有機基、アラルキル基を表す。Yは、水素原
子、アルカリ金属、アンモニウムを表す。) 【化13】
8. An onium salt derivative obtained by reacting an onium salt derivative represented by the following general formula (1) to (4) with a sulfate ester represented by the following general formula (29) And a sulfonic acid derivative represented by the following general formula (24) to react with the general formulas (25) to (28).
A method for producing an onium salt derivative, characterized by obtaining an onium salt derivative represented by the formula: Embedded image (R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent an optionally substituted alkyl group, cycloalkyl group, perfluoroalkyl group, aromatic organic group, aralkyl group, or phenacyl group having 25 or less carbon atoms. , R 1 and R 3 or at least one of R 2 and R 5 may together represent a divalent organic group, and R 4 represents a divalent organic group having 20 or less carbon atoms.
Q - is a halogen anion, or carbon atoms represent 10 following carboxylate anions. ) (R 16 and R 17 each represent an alkyl group, a cycloalkyl group, a perfluoroalkyl group, or an aralkyl group having 10 or less carbon atoms which may be substituted.) (R 15 represents an optionally substituted alkyl group, cycloalkyl group, perfluoroalkyl group, aromatic organic group, or aralkyl group having 25 or less carbon atoms. Y represents a hydrogen atom, an alkali metal, or ammonium. (Chemical Formula 13)
【請求項9】 請求項8において、前記一般式(29)
の硫酸エステルが、ジメチル硫酸又はジエチル硫酸であ
ることを特徴とするオニウム塩誘導体の製造方法。
9. The method according to claim 8, wherein the general formula (29)
The method for producing an onium salt derivative, wherein the sulfate of the above is dimethyl sulfate or diethyl sulfate.
【請求項10】 下記一般式(12)〜(15)で表さ
れるオニウム塩誘導体と、下記一般式(24)で表され
るスルホン酸誘導体とを反応させることにより一般式
(25)〜(28)で表されるオニウム塩誘導体を得る
ことを特徴とするオニウム塩誘導体の製造方法。 【化14】 (R1、R2、及びR3はそれぞれ独立に、置換されても
よい炭素数25以下の、アルキル基、シクロアルキル
基、パーフルオロアルキル基、芳香族有機基、アラルキ
ル基又はフェナシル基を表すが、R1とR3と及びR2
5の少なくとも一方は一緒になって2価の有機基を表
してもよい。R4は、炭素数20以下の2価の有機基を
表す。R8、R9は、それぞれ独立に、置換されてもよい
炭素数が10以下の、アルキル基、シクロアルキル基、
パーフルオロアルキル基、アラルキル基を表す。) 【化15】 (R15は、置換されていてもよい炭素数25以下の、ア
ルキル基、シクロアルキル基、パーフルオロアルキル
基、芳香族有機基、アラルキル基を表す。Yは、水素原
子、アルカリ金属、アンモニウムを表す。) 【化16】
10. An onium salt derivative represented by the following general formulas (12) to (15) and a sulfonic acid derivative represented by the following general formula (24) are reacted to form a compound represented by the following general formulas (25) to (25). 28. A method for producing an onium salt derivative, which comprises obtaining the onium salt derivative represented by 28). Embedded image (R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent an optionally substituted alkyl group, cycloalkyl group, perfluoroalkyl group, aromatic organic group, aralkyl group, or phenacyl group having 25 or less carbon atoms. However, at least one of R 1 and R 3 and / or R 2 and R 5 may together represent a divalent organic group, and R 4 represents a divalent organic group having 20 or less carbon atoms. R 8 and R 9 each independently represent an alkyl group, a cycloalkyl group having 10 or less carbon atoms which may be substituted;
Represents a perfluoroalkyl group or an aralkyl group. ) (R 15 represents an optionally substituted alkyl group, cycloalkyl group, perfluoroalkyl group, aromatic organic group, or aralkyl group having 25 or less carbon atoms. Y represents a hydrogen atom, an alkali metal, or ammonium. ).
【請求項11】 下記一般式(12)〜(15)で表さ
れることを特徴とするオニウム塩誘導体。 【化17】 (R1、R2、及びR3はそれぞれ独立に、置換されても
よい炭素数25以下の、アルキル基、シクロアルキル
基、パーフルオロアルキル基、芳香族有機基、アラルキ
ル基又はフェナシル基を表すが、R1とR3と及びR2
5の少なくとも一方は一緒になって2価の有機基を表
してもよい。R4は、炭素数20以下の2価の有機基を
表す。R8、R9は、それぞれ独立に、置換されてもよい
炭素数が10以下の、アルキル基、シクロアルキル基、
パーフルオロアルキル基、アラルキル基を表す。)
11. An onium salt derivative represented by the following general formulas (12) to (15). Embedded image (R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent an optionally substituted alkyl group, cycloalkyl group, perfluoroalkyl group, aromatic organic group, aralkyl group, or phenacyl group having 25 or less carbon atoms. However, at least one of R 1 and R 3 and / or R 2 and R 5 may together represent a divalent organic group, and R 4 represents a divalent organic group having 20 or less carbon atoms. R 8 and R 9 each independently represent an alkyl group, a cycloalkyl group having 10 or less carbon atoms which may be substituted;
Represents a perfluoroalkyl group or an aralkyl group. )
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Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004526984A (en) * 2000-12-04 2004-09-02 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド Onium salts and their use as potential acids
JP2004359590A (en) * 2003-06-04 2004-12-24 Jsr Corp Acid generator and radiation-sensitive resin composition
JP2005035162A (en) * 2003-07-14 2005-02-10 Fuji Photo Film Co Ltd Platemaking method for lithographic printing plate, lithographic printing method and lithographic printing original plate for on-board-development
JP2006290797A (en) * 2005-04-11 2006-10-26 Jsr Corp Onium salt, radiation-sensitive acid generator and positive-type radiation-sensitive resin composition produced by using the same
JP2008523120A (en) * 2004-12-14 2008-07-03 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング Process for the preparation of onium salts with dialkyl phosphoric acid, dialkylphosphinic acid or (O-alkyl) alkyl or alkylphosphonic acid anions having a low halide content
US7514202B2 (en) 2006-05-15 2009-04-07 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Thermal acid generator, resist undercoat material and patterning process
US7531290B2 (en) 2005-10-31 2009-05-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
US7556909B2 (en) 2005-10-31 2009-07-07 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
US7569324B2 (en) 2006-06-27 2009-08-04 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
JP2010215612A (en) * 2009-02-17 2010-09-30 Sumitomo Chemical Co Ltd Method for preparing salt
US7928262B2 (en) 2006-06-27 2011-04-19 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
US8349533B2 (en) 2008-11-07 2013-01-08 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Resist lower-layer composition containing thermal acid generator, resist lower layer film-formed substrate, and patterning process
JP2014193859A (en) * 2010-01-27 2014-10-09 Mitsubishi Materials Corp Perfluorobutanesulfonate
JPWO2020175495A1 (en) * 2019-02-26 2021-11-04 富士フイルム株式会社 Salt manufacturing method
WO2023053977A1 (en) * 2021-09-28 2023-04-06 富士フイルム株式会社 Method for producing salt, method for producing active light sensitive or radiation sensitive resin composition, pattern forming method, and method for producing electronic device

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004526984A (en) * 2000-12-04 2004-09-02 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド Onium salts and their use as potential acids
JP2004359590A (en) * 2003-06-04 2004-12-24 Jsr Corp Acid generator and radiation-sensitive resin composition
JP2005035162A (en) * 2003-07-14 2005-02-10 Fuji Photo Film Co Ltd Platemaking method for lithographic printing plate, lithographic printing method and lithographic printing original plate for on-board-development
JP2008523120A (en) * 2004-12-14 2008-07-03 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング Process for the preparation of onium salts with dialkyl phosphoric acid, dialkylphosphinic acid or (O-alkyl) alkyl or alkylphosphonic acid anions having a low halide content
JP2006290797A (en) * 2005-04-11 2006-10-26 Jsr Corp Onium salt, radiation-sensitive acid generator and positive-type radiation-sensitive resin composition produced by using the same
US7531290B2 (en) 2005-10-31 2009-05-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
US7556909B2 (en) 2005-10-31 2009-07-07 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
US7514202B2 (en) 2006-05-15 2009-04-07 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Thermal acid generator, resist undercoat material and patterning process
US7569324B2 (en) 2006-06-27 2009-08-04 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
US7928262B2 (en) 2006-06-27 2011-04-19 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
US8030515B2 (en) 2006-06-27 2011-10-04 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
US8349533B2 (en) 2008-11-07 2013-01-08 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Resist lower-layer composition containing thermal acid generator, resist lower layer film-formed substrate, and patterning process
JP2010215612A (en) * 2009-02-17 2010-09-30 Sumitomo Chemical Co Ltd Method for preparing salt
JP2014193859A (en) * 2010-01-27 2014-10-09 Mitsubishi Materials Corp Perfluorobutanesulfonate
JPWO2020175495A1 (en) * 2019-02-26 2021-11-04 富士フイルム株式会社 Salt manufacturing method
WO2023053977A1 (en) * 2021-09-28 2023-04-06 富士フイルム株式会社 Method for producing salt, method for producing active light sensitive or radiation sensitive resin composition, pattern forming method, and method for producing electronic device

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