JP2002134271A - Sealed el element sealed by using barrier nature laminating structure object - Google Patents

Sealed el element sealed by using barrier nature laminating structure object

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JP2002134271A
JP2002134271A JP2000330031A JP2000330031A JP2002134271A JP 2002134271 A JP2002134271 A JP 2002134271A JP 2000330031 A JP2000330031 A JP 2000330031A JP 2000330031 A JP2000330031 A JP 2000330031A JP 2002134271 A JP2002134271 A JP 2002134271A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sealed EL element having a barrier nature laminating structure object, which has preferably transparency, crookedness, heat resistance, and weather-proof, not only preventing penetration of steam, oxygen, or the like, which are the degradation factors of the EL element, and controlling the degradation of the EL element. SOLUTION: The EL element consists of a 1st electrode, an EL layer formed on the 1st electrode, and a 2nd electrode formed on the EL layer, at least. The EL element is sealed using a barrier nature laminating structure object, which is constituted with two or more layer of barrier nature base material, which consist of a barrier cost layer and a barrier layer base, at least.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、酸素や水分の透過
を防ぐバリア層を用いてEL素子を封止することにより
EL素子の劣化を防止する封止EL素子に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a sealed EL element for preventing deterioration of an EL element by sealing the EL element with a barrier layer for preventing oxygen and moisture from permeating.

【0002】[0002]

【従来の技術】EL素子、特に有機物質を発光材料とし
て用いた有機薄膜EL素子は、印加電圧が10V弱であ
っても高輝度な発光が実現するなど発光効率が高く、単
純な素子構造で発光が可能であり、ディスプレイへなど
への応用が期待されている。
2. Description of the Related Art An EL element, particularly an organic thin film EL element using an organic substance as a light-emitting material, has a high luminous efficiency such as realizing high-luminance light emission even when an applied voltage is slightly less than 10 V, and has a simple element structure. It can emit light and is expected to be applied to displays and the like.

【0003】このようなEL素子は、水蒸気や酸素等に
より劣化し、発光特性が低下するため、水蒸気や酸素の
透過性の極めて低い層、すなわちバリア層による封止が
しばしばなされる。しかしながら、EL素子の使用状況
によっては、このバリア層は変質、変形、破壊を受け、
バリア性能が低下してしまう可能性がある。また特にE
L素子の駆動には発熱が伴い、さらに自動車内などの特
定環境下では、太陽光線照射および高温雰囲気に放置さ
れることが予想できるので、バリア層に耐候性および耐
熱性を付与することの要望が高まっている。また、EL
素子に透明性および屈曲性が求められる用途において
は、屈曲性を備えたバリア層での封止が要求される。し
かしながら、既存の屈曲性を備えたバリア層では、その
バリア性能が低く水蒸気や酸素が透過してしまうために
十分なバリア効果を得ることはできなかった。
[0003] Such an EL element is deteriorated by water vapor or oxygen and the like, and its light emitting characteristics are deteriorated. Therefore, sealing with a layer having extremely low water vapor or oxygen permeability, that is, a barrier layer is often performed. However, depending on the usage of the EL element, this barrier layer is subject to deterioration, deformation, and destruction,
Barrier performance may be reduced. And especially E
The driving of the L element is accompanied by heat generation, and it can be expected that the element is left in a sunshine irradiation and a high-temperature atmosphere under a specific environment such as in an automobile. Therefore, a demand for imparting weather resistance and heat resistance to the barrier layer is required. Is growing. Also, EL
In applications where the device requires transparency and flexibility, sealing with a barrier layer having flexibility is required. However, in the existing barrier layer having flexibility, a sufficient barrier effect cannot be obtained because the barrier performance is low and water vapor and oxygen permeate.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の課題を解決した屈曲性を備えたバリア層を有するEL
素子を提供すること、すなわち、EL素子の劣化要因で
ある水蒸気や酸素等の透過が防止された屈曲性を備えた
バリア層を有するEL素子であって、好ましくは透明
性、耐熱性、耐候性を有するEL素子を提供することで
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an EL having a flexible barrier layer which solves the above-mentioned problems.
Providing an element, that is, an EL element having a flexible barrier layer in which permeation of water vapor, oxygen, or the like, which is a deterioration factor of the EL element, is prevented, and preferably has transparency, heat resistance, and weather resistance. To provide an EL element having

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者は、酸素や水分
を遮断する特定のバリア性基材を複数層積層してバリア
性積層構造体(このバリア性積層構造体は、屈曲性を有
するバリア層である)を形成することにより上記課題を
解決できることを見出し本発明を完成させた。
Means for Solving the Problems The present inventor has developed a barrier laminate structure by laminating a plurality of specific barrier substrates for blocking oxygen and moisture (the barrier laminate structure has flexibility). It has been found that the above problem can be solved by forming a barrier layer), and the present invention has been completed.

【0006】したがって本発明のEL素子は、第1電極
と、前記第1電極上に形成されたEL層と、前記EL層
上に形成された第2電極から少なくともなるEL素子で
あって、前記EL素子を、バリアコート層およびバリア
層ベースから少なくともなるバリア性基材を2層以上積
層してなるバリア性積層構造体を用いて封止したことを
特徴とするものである。
Accordingly, an EL element according to the present invention is an EL element comprising at least a first electrode, an EL layer formed on the first electrode, and a second electrode formed on the EL layer, The EL device is characterized in that the EL device is sealed using a barrier laminate structure in which at least two barrier substrates each composed of a barrier coat layer and a barrier layer base are laminated.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】バリア性積層構造体を有する封止
EL素子の構造 図1は、本発明のバリア性積層構造体を有する封止EL
素子の一例の断面図であり、図2はその上面図である。
これらの図に示されたバリア性積層構造体を有する封止
EL素子では、第1バリア層1(一般に基材と呼ばれ
る)上に、第2バリア層2(一般に保護層と呼ばれる)
が封止層3によって接着され、この第1バリア層と、第
2バリア層と封止層に囲まれた空間に、第1電極4と、
前記第1電極上に形成されたEL層5と、前記EL層上
に形成された第2電極6から少なくともなるEL素子が
配置されている。なお、第1バリア層の周辺部分には、
好ましくは取り出し電極を設けることができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Encapsulation having barrier laminate structure
Structure Figure 1 EL element, sealing EL having barrier laminate structure of the present invention
It is sectional drawing of an example of an element, FIG. 2 is the top view.
In the sealed EL device having the barrier laminate structure shown in these figures, a second barrier layer 2 (generally called a protective layer) is provided on a first barrier layer 1 (generally called a base).
Are bonded by a sealing layer 3, and the first electrode 4 is provided in a space surrounded by the first barrier layer, the second barrier layer and the sealing layer.
An EL element including at least an EL layer 5 formed on the first electrode and a second electrode 6 formed on the EL layer is arranged. Note that, in the peripheral portion of the first barrier layer,
Preferably, an extraction electrode can be provided.

【0008】バリア層 本明細書においては、バリア性のある層一般をバリア層
と呼び、このバリア層のうち後述する特定のバリア性基
材を積層した屈曲性のあるものをバリア性積層構造体と
呼ぶ。また、本明細書においては、EL素子を2枚のバ
リア層で挟んで封止する場合には、EL素子の支持層を
兼ねるものを第1バリア層または基材、支持層を兼ねな
いものを第2バリア層または保護層と呼ぶこともある。
このうち、基材は、例えばバリア性のガラス基材やフィ
ルム基材を用いることができ、保護層は、例えばバリア
性のガラス、フィルム、ガラスにフィルムを貼り合わせ
たもの、フィルム同士を積層したものなどの組み合わせ
とすることができる。
[0008] In the barrier layer herein, a layer generally with barrier property is referred to as a barrier layer, barrier laminate structure what flexibility obtained by laminating a specific barrier substrate to be described later of the barrier layer Call. In this specification, in the case where the EL element is sealed by sandwiching it between two barrier layers, a material that also functions as a support layer of the EL element may be replaced with a material that does not function as a first barrier layer or a base material or a support layer. It may be called a second barrier layer or a protective layer.
Among them, for the substrate, for example, a glass substrate or a film substrate having a barrier property can be used, and for the protective layer, for example, a glass having a barrier property, a film, a material obtained by laminating a film on glass, and laminating films are used. It can be a combination of things.

【0009】本明細書においてバリア性を有するとは、
水や酸素の透過性が極めて低いことであり、具体的に
は、水の透過性が1×10−3(gram・m/da
y・atm)以下、酸素の透過性が1×10−2(gr
am・m/day・atm)以下であることを意味す
る。
In the present specification, having a barrier property means
The permeability of water and oxygen is extremely low. Specifically, the permeability of water is 1 × 10 −3 (gram · m 2 / da).
y · atm) or less, oxygen permeability is 1 × 10 −2 (gr)
am · m 2 / day · atm).

【0010】耐熱性を有するバリア層とは、好ましくは
例えば実装駆動時の温度に耐える得る程度、例えばバリ
ア層ベースのガラス転移温度または溶融温度が100℃
以上であるバリア層をいう。また、耐候性を有するバリ
ア層とは、実装駆動時に耐える得る程度であれば限定さ
れないが、好ましくは例えばJIS C8917:19
98の附属書5(規定)光照射試験A−5に記載の耐候
性の基準を満たすものが挙げられる。
[0010] The barrier layer having heat resistance preferably has a glass transition temperature or a melting temperature of 100 ° C., for example, to the extent that it can withstand the temperature at the time of mounting driving.
The above refers to the barrier layer. The barrier layer having weather resistance is not limited as long as it can withstand the mounting operation, but is preferably, for example, JIS C8917: 19.
98 that satisfy the criteria of weather resistance described in Annex 5 (normative) Light irradiation test A-5.

【0011】(バリア性基材)本明細書におけるバリア
性基材とは、水や酸素の透過性が前記バリア層ほど低く
はないが、比較的低い層であり、具体的には、水の透過
性が1×10−1(gram・m/day・atm)
以下、酸素の透過性が1×10−1(gram・m
day・atm)以下である層を意味し、例えば厚み5
0〜1000μmのフィルム状のものとして入手可能な
ものである。
(Barrier Substrate) The barrier substrate in the present specification is a layer having relatively low permeability to water and oxygen, although not as low as the barrier layer described above. Permeability is 1 × 10 −1 (gram · m 2 / day · atm)
Hereinafter, the oxygen permeability is 1 × 10 −1 (gram · m 2 /
day · atm) or less, for example, a thickness of 5
It is available as a film having a thickness of 0 to 1000 μm.

【0012】バリア性基材は、バリアコート層とバリア
層ベースとから少なくともなる。このようなバリア性基
材としては、例えば、化学気相成長法により製造された
シリカ蒸着PET(ポリエチレンテレフタレート)と、
物理気相成長法により製造されたシリカ蒸着PETが挙
げられる。
The barrier substrate comprises at least a barrier coat layer and a barrier layer base. Examples of such a barrier substrate include silica-deposited PET (polyethylene terephthalate) manufactured by a chemical vapor deposition method,
Silica-deposited PET manufactured by a physical vapor deposition method.

【0013】バリア性基材を構成するバリアコート層と
しては、例えば上記のシリカ蒸着層のような無機酸化膜
の他に例えばフッ素系化合物を化学気相成長法により成
膜した層などが挙げられる。バリアコート層の厚みは厚
膜にすると少しの曲げによってクラックが入るなど膜欠
陥が生じるため、好ましくは50〜5000Å、より好
ましくは500〜1000Åとする。
Examples of the barrier coat layer constituting the barrier substrate include, for example, a layer formed by depositing a fluorine-based compound by a chemical vapor deposition method in addition to an inorganic oxide film such as the above-mentioned silica vapor-deposited layer. . The thickness of the barrier coat layer is preferably from 50 to 5000 °, more preferably from 500 to 1000 °, because a thick film causes film defects such as cracks due to slight bending.

【0014】無機酸化物膜としては、典型的には金属の
酸化物を蒸着した薄膜が挙げられる。例えば、ケイ素
(Si)、アルミニウム(Al)、マグネシウム(M
g)、カルシウム(Ca)、カリウム(K)、スズ(S
n)、ナトリウム(Na)、ホウ素(B)、チタン(T
i)、鉛(Pb)、ジルコニウム(Zr)、イットリウ
ム(Y)等の金属の酸化物の蒸着薄膜を使用することが
できる。好ましいものとしては、ケイ素(Si)、アル
ミニウム(Al)等の金属の酸化物の蒸着薄膜を挙げる
ことができる。このような酸化物は、MOx(ただし、
式中、Mは、金属元素を表し、Xの値は、金属元素によ
ってそれぞれ範囲がことなる。)で表すことができ、X
の値の範囲としては、ケイ素(Si)は、0〜2、アル
ミニウム(Al)は、0〜1.5、マグネシウム(M
g)は、0〜1、カルシウム(Ca)は、0〜1、カリ
ウム(K)は、0〜0.5、スズ(Sn)は、0〜2、
ナトリウム(Na)は、0〜0.5、ホウ素(B)は、
0〜1、5、チタン(Ti)は、0〜2、鉛(Pb)
は、0〜1、ジルコニウム(Zr)は0〜2、イットリ
ウム(Y)は、0〜1.5の範囲の値をとることができ
る。X=0の場合、完全な金属であり、透明ではないた
め使用に適しているとはいえない。また、Xの範囲の上
限は、完全に酸化した値である。好ましくは、Mがケイ
素またはアルミニウムであり、ケイ素(Si)ではX
が、1.0〜2.0、アルミニウム(Al)ではXが、
0.5〜1.5の範囲の値のものを使用することができ
る。本発明において、上記のような無機酸化物の薄膜の
膜厚としては、使用する金属、または金属の酸化物の種
類等によって異なるが、例えば、50〜2000Å位、
好ましくは、100〜1000Å位の範囲内で任意に選
択して形成することが望ましい。また、本発明において
は、無機酸化物の蒸着薄膜としては、無機酸化物の蒸着
薄膜の1層だけでなく、2層あるいはそれ以上をを積層
した積層体の状態でもよく、また、使用する金属、また
は金属の酸化物としては、1種または2種以上の混合物
で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物の薄膜を構
成することもできる。
The inorganic oxide film typically includes a thin film obtained by depositing a metal oxide. For example, silicon (Si), aluminum (Al), magnesium (M
g), calcium (Ca), potassium (K), tin (S
n), sodium (Na), boron (B), titanium (T
A vapor-deposited thin film of an oxide of a metal such as i), lead (Pb), zirconium (Zr), or yttrium (Y) can be used. Preferable examples include vapor-deposited thin films of oxides of metals such as silicon (Si) and aluminum (Al). Such an oxide is MOx (provided that
In the formula, M represents a metal element, and the value of X varies depending on the metal element. ), And X
Of silicon (Si) are 0 to 2, aluminum (Al) is 0 to 1.5, and magnesium (M
g) is 0-1, calcium (Ca) is 0-1, potassium (K) is 0-0.5, tin (Sn) is 0-2,
Sodium (Na) is 0-0.5, and boron (B) is
0, 1, 5, titanium (Ti): 0, 2, lead (Pb)
Can take a value in the range of 0 to 1, zirconium (Zr) takes a value of 0 to 2, and yttrium (Y) takes a value of 0 to 1.5. When X = 0, it is not suitable for use because it is completely metal and not transparent. Further, the upper limit of the range of X is a value that is completely oxidized. Preferably, M is silicon or aluminum and for silicon (Si) X
However, X is 1.0 to 2.0, and in aluminum (Al),
Those having a value in the range of 0.5 to 1.5 can be used. In the present invention, the thickness of the inorganic oxide thin film as described above varies depending on the type of the metal or the metal oxide used, for example, about 50 to 2000 °,
Preferably, it is desirably formed by arbitrarily selecting in the range of about 100 to 1000 °. In the present invention, the inorganic oxide vapor-deposited thin film is not limited to one layer of the inorganic oxide vapor-deposited thin film, but may be a laminate of two or more layers. Alternatively, as the metal oxide, one kind or a mixture of two or more kinds can be used to form a thin film of an inorganic oxide mixed with different materials.

【0015】また、上記無機酸化膜上にバリア性を著し
く向上させる樹脂材料を積層してバリアコート層として
もよい。このような樹脂材料としては、例えばエチレン
−ビニルアルコール共重合体をビヒクルの主成分とする
樹脂組成物からなる層が挙げられる。エチレン−ビニル
アルコール共重合体をビヒクルの主成分とする樹脂組成
物からなる層の形成にあたっては、材料として例えば、
エチレン−ビニルアルコール共重合体の1種ないしそれ
以上をビヒクルの主成分とし、これに更に、必要なら
ば、例えば充填剤、安定剤、可塑剤、酸化防止剤、紫外
線吸収剤等の光安定化剤、分散剤、増粘剤、乾燥剤、滑
剤、帯電防止剤、架橋剤、その他等の添加剤を任意に添
加し、溶剤、希釈剤等で充分に混練してなる溶剤型、水
性型、あるいは、エマルジョン型等からなる樹脂組成物
を用いることができる。そして、この樹脂組成物を使用
し、例えば、ロールコート法、グラビアロールコート
法、キスロールコート法、スクイーズロールコート法、
リバースロールコート法、カーテンフローコート法、そ
の他等のコーティングにより、コーティング量、例え
ば、0.1〜10g/m程度、好ましくは、0.5g
〜5g/m(乾燥状態)程度になるようにコーティン
グし、次いで、加熱乾燥、さらにはエージング処理等を
施すことにより形成することができる。この樹脂組成物
としては、エチレン−ビニルアルコール共重合体等を溶
解ないし混練し、さらにこれらを硬化させることから、
アルコール−水系溶液等を使用して調製した樹脂組成物
を使用することが好ましく、上記のアルコール成分とし
ては、例えばn−プロピルアルコール、イソプロピルア
ルコール、n−ブタノール、t−ブタノール、エチルア
ルコール、メチルアルコール等を使用することができ、
また上記のアルコール−水系溶液において、アルコール
と水との配合割合は、例えばアルコール50〜70重量
部に対し水50〜30重量部の割合で配合してアルコー
ル−水系溶液を調製することが望ましい。また、エチレ
ン−ビニルアルコール共重合体としては、例えば酢酸ビ
ニルの含有率が約79〜92重量%であるエチレン−酢
酸ビニル共重合体を完全ケン化した、エチレン含有率2
5〜50モル%のエチレン−ビニルアルコール共重合体
を使用することができる。エチレン−ビニルアルコール
共重合体は、高いガスバスリア性を有し、さらに保香
性、透明性等に優れている。エチレン含有率が、50モ
ル%以上のものは、酸素ガスバリア性が急激に低下し、
また、透明性も悪くなり、また、25モル%以下のもの
は、その薄膜がもろくなり、また、高湿度下において酸
素ガスバリア性が低下する。上記のコーティング膜は、
無機酸化物薄膜との密接着性に優れ、その両者の接着強
度は極めて強く、その層間において剥離する等の現象は
認められず、さらに本発明においては、無機酸化物薄膜
と上記コーティング層との2層からなるバリア層を形成
し、それにより、その酸素ガス、水蒸気ガス等に対する
バリア性を更に向上させ、かつ透明性、耐熱性、耐熱水
性、ラミネート適性、その他等にも優れ、極めて良好な
積層構造体を製造し得る。
A barrier coat layer may be formed by laminating a resin material for significantly improving the barrier property on the inorganic oxide film. Examples of such a resin material include a layer made of a resin composition containing an ethylene-vinyl alcohol copolymer as a main component of a vehicle. In forming a layer composed of a resin composition containing an ethylene-vinyl alcohol copolymer as a main component of a vehicle, for example, as a material,
One or more ethylene-vinyl alcohol copolymers are the main component of the vehicle, and if necessary, furthermore, light stabilization, for example, of fillers, stabilizers, plasticizers, antioxidants, ultraviolet absorbers and the like. Agents, dispersants, thickeners, desiccants, lubricants, antistatic agents, cross-linking agents, optional additives such as solvents, solvents, diluents and the like, which are sufficiently kneaded with a solvent type, an aqueous type, Alternatively, a resin composition of an emulsion type or the like can be used. Then, using this resin composition, for example, a roll coating method, a gravure roll coating method, a kiss roll coating method, a squeeze roll coating method,
Coating amount, for example, about 0.1 to 10 g / m 2 , preferably 0.5 g by coating such as reverse roll coating method, curtain flow coating method and the like.
55 g / m 2 (in a dry state), followed by drying by heating and further aging treatment. As the resin composition, an ethylene-vinyl alcohol copolymer or the like is dissolved or kneaded, and since these are further cured,
It is preferable to use a resin composition prepared using an alcohol-water-based solution or the like. Examples of the alcohol component include n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol, t-butanol, ethyl alcohol, and methyl alcohol. Etc. can be used
In the above-mentioned alcohol-water solution, it is desirable to prepare an alcohol-water solution by mixing the alcohol and water in a proportion of, for example, 50 to 30 parts by weight of water to 50 to 70 parts by weight of alcohol. As the ethylene-vinyl alcohol copolymer, for example, an ethylene-vinyl acetate copolymer in which the content of vinyl acetate is about 79 to 92% by weight is completely saponified, the ethylene content of which is 2
5 to 50 mol% of ethylene-vinyl alcohol copolymer can be used. Ethylene-vinyl alcohol copolymer has high gas bath properties, and is also excellent in fragrance retention, transparency, and the like. When the ethylene content is 50 mol% or more, the oxygen gas barrier property sharply decreases,
In addition, the transparency is deteriorated, and when the content is 25 mol% or less, the thin film becomes brittle, and the oxygen gas barrier property is reduced under high humidity. The above coating film is
Excellent in tight adhesion with the inorganic oxide thin film, the adhesive strength between the two is extremely strong, no phenomenon such as peeling between the layers is observed, and in the present invention, the inorganic oxide thin film and the coating layer A barrier layer composed of two layers is formed, thereby further improving the barrier properties against oxygen gas, water vapor gas, etc., and also excellent in transparency, heat resistance, hot water resistance, lamination suitability, etc. A laminated structure can be manufactured.

【0016】また、バリア性基材のバリア層ベースを構
成する材料は、耐熱性および耐候性を有する材料がより
好ましい。好ましい材料としては、具体的には、例え
ば、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、
アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)、ア
クリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、(A
BS樹脂)、ポリ塩化ビニル系樹脂、フッ素系樹脂、ポ
リ(メタ)アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、
ポリエチレンテレフタラート(PET)またはポリエチ
レンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、各種のナ
イロン等のポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリ
アミドイミド系樹脂、ポリアリールフタレート系樹脂、
シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリフェニレ
ンスルフィド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポ
リウレタン系樹脂、アセタール系樹脂、セルロース系樹
脂、および上記列挙の前駆体を共重合してなる共重合
体、さらには、上記列挙の混合系樹脂などが挙げられ
る。より好ましい材料としては、例えば、ポリテトラフ
ルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン
とペルフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体か
らなるペルフルオロアルコキシ樹脂(PFA)、テトラ
フルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンの共重合
体(FEP)、テトラフルオロエチレンとペルフルオロ
アルキルビニルエーテルとヘキサフルオロプロピレンの
共重合体(EPE)、テトラフルオロエチレンとエチレ
ンまたはプロピレンの共重合体(ETFE)、ポリクロ
ロトリフルオロエチレン樹脂(PCTFE)、エチレン
とクロロトリフルオロエチレンの共重合体(ECTF
E)、フッ化ビニリデン系樹脂(PVDF)、またはフ
ッ化ビニル系樹脂(PVF)等のフッ素系樹脂の1種な
いしそれ以上からなるフッ素系樹脂が挙げられる。
Further, as the material constituting the barrier layer base of the barrier substrate, a material having heat resistance and weather resistance is more preferable. Specific examples of preferred materials include, for example, cyclic polyolefin-based resins, polystyrene-based resins,
Acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, (A
BS resin), polyvinyl chloride resin, fluorine resin, poly (meth) acrylic resin, polycarbonate resin,
Polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene terephthalate, polyamide resins such as various nylons, polyimide resins, polyamide imide resins, polyaryl phthalate resins,
Silicone-based resins, polysulfone-based resins, polyphenylene sulfide-based resins, polyethersulfone-based resins, polyurethane-based resins, acetal-based resins, cellulose-based resins, and copolymers obtained by copolymerizing the above-listed precursors, The mixed resins listed above are exemplified. More preferable materials include, for example, polytetrafluoroethylene (PTFE), perfluoroalkoxy resin (PFA) composed of a copolymer of tetrafluoroethylene and perfluoroalkyl vinyl ether, and copolymer of tetrafluoroethylene and hexafluoropropylene (FEP). ), Copolymers of tetrafluoroethylene and perfluoroalkylvinyl ether and hexafluoropropylene (EPE), copolymers of tetrafluoroethylene and ethylene or propylene (ETFE), polychlorotrifluoroethylene resin (PCTFE), ethylene and chlorotri Fluoroethylene copolymer (ECTF
E), a fluorine-based resin composed of one or more fluorine-based resins such as vinylidene fluoride-based resin (PVDF) or vinyl fluoride-based resin (PVF).

【0017】バリア層ベースの厚みは、厚すぎると曲げ
に対する内壁と外壁との伸縮の違いが大きくなり、ま
た、透光性が低下するため、好ましくは1〜500μm
より好ましくは50〜100μmであることができる。
If the thickness of the barrier layer base is too large, the difference in expansion and contraction between the inner wall and the outer wall with respect to bending becomes large, and the light transmittance is reduced.
More preferably, it can be 50 to 100 μm.

【0018】(バリア性積層構造体)本発明の封止EL
素子においては、バリア性積層構造体がEL素子を封止
するバリア層の少なくとも一部を構成する。具体的に
は、例えば2枚のシート状バリア層で挟んで封止する場
合の両面または片面さらに片面の一部をバリア性積層構
造体で構成することができる。
(Barrier laminated structure) Sealed EL of the present invention
In the device, the barrier laminate structure forms at least a part of a barrier layer that seals the EL device. Specifically, for example, both sides or one side when sealing by sandwiching between two sheet-like barrier layers can be constituted by a barrier laminate structure.

【0019】本発明のバリア性積層構造体は、上記のよ
うなバリア性基材が積層されているものであり、前記バ
リア層と同様な十分なバリア性を有する。バリア性基材
の積層枚数は、2枚以上であれば限定されないが、好ま
しくは2〜5枚、より好ましくは2〜3枚とすると、十
分な屈曲性、透明性を維持したままバリア性能を高める
ことができるので好ましい。また、このバリア性積層構
造体は、酸素透過性または水透過性が異なる2種類以上
のバリア性基材を積層したものであると、バリア性がよ
り高まるので好ましい。さらに積層後のバリア性積層構
造体の厚みは50〜3000μmが好ましい。このよう
に2枚以上重ね合わせることにより、単にバリア層の厚
みを厚くしても性能がほとんど向上しなかったものであ
っても、予想外の性能向上効果が得られる。
The barrier laminate structure of the present invention is obtained by laminating the above-mentioned barrier base material, and has a sufficient barrier property similar to that of the barrier layer. The number of layers of the barrier substrate is not limited as long as it is 2 or more, but preferably 2 to 5, and more preferably 2 to 3, the barrier performance is maintained while maintaining sufficient flexibility and transparency. It is preferable because it can be increased. In addition, it is preferable that the barrier laminate has a structure in which two or more types of barrier substrates having different oxygen permeability or water permeability are laminated, since the barrier property is further enhanced. Furthermore, the thickness of the barrier laminate structure after lamination is preferably 50 to 3000 μm. By superposing two or more sheets in this way, an unexpected performance improvement effect can be obtained even if the performance is hardly improved even if the thickness of the barrier layer is simply increased.

【0020】バリア基材間の積層方法ないし接着層の形
成方法は特に限定されないが、例えば、ドライラミネー
ション法、押し出しコート法、超音波融着法、ラミネー
ション法、ダイコート法やグラビア印刷、オフセット印
刷等の諸印刷法が挙げられる。
The method of laminating between the barrier base materials and the method of forming the adhesive layer are not particularly limited, and examples thereof include a dry lamination method, an extrusion coating method, an ultrasonic fusion method, a lamination method, a die coating method, gravure printing, and offset printing. Printing methods.

【0021】バリア性基材の積層にあたっては、バリア
性基材を接着あるいは単に密着させることも、バリア性
基材間に空間を設けることもできる。好ましくは、バリ
ア性基材の間に空間を設けその空間に不活性物質を封入
すると、十分な屈曲性、透明性を維持したままバリア性
能を高めることができるので好ましい。このような不活
性物質としては、例えばシリコンオイルおよびシランカ
ップリング剤等から選ばれる液体、窒素およびアルゴン
等から選ばれる気体が挙げられる。
In laminating the barrier substrates, the barrier substrates can be adhered or simply adhered, or a space can be provided between the barrier substrates. Preferably, a space is provided between the barrier base materials and an inert substance is sealed in the space, since the barrier performance can be improved while maintaining sufficient flexibility and transparency. Examples of such an inert substance include a liquid selected from silicon oil and a silane coupling agent, and a gas selected from nitrogen, argon, and the like.

【0022】また好ましくは、バリア性基材間に、捕水
剤を封入することができ、あるいは捕水剤を含む接着層
を設けることができる。捕水剤としては、化学的に水分
を吸着するとともに吸湿しても固体状態を維持するもの
であればいずれも使用可能である。このような物質とし
ては、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカ
リ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、硫酸塩、金属
ハロゲン化物、過塩素酸塩、有機物が挙げられる。捕水
剤のうちアルカリ金属、アルカリ土類金属としては、L
i、Na、K、Rb、Cs、Fr、Be、Mg、Ca、
Sr、Ba、Ra等が挙げられる。また、捕水剤のうち
アルカリ金属酸化物としては、酸化ナトリウム(Na
O)、酸化カリウム(KO)が挙げられ、前記アルカ
リ土類金属酸化物としては、酸化カルシウム(Ca
O)、酸化バリウム(BaO)、酸化マグネシウム(M
gO)が挙げられる。捕水剤のうち硫酸塩としては、硫
酸リチウム(LiSO)、硫酸ナトリウム(Na
SO)、硫酸カルシウム(CaSO)、硫酸マグネ
シウム(MgSO)、硫酸コバルト(CoSO)、
硫酸ガリウム(Ga(SO)、硫酸チタン(T
i(SO)、硫酸ニッケル(NiSO)などが
挙げられる。これらの硫酸塩は無水塩が好適に用いられ
る。捕水剤のうち金属ハロゲン化物としては、塩化カル
シウム(CaCl )、塩化マグネシウム(MgC
)、塩化ストロンチウム(SrCl)、塩化イッ
トリウム(YCl)、塩化銅(CuCl)、ふっ化
セシウム(CsF)、ふっ化タンタル(TaF)、ふ
っ化ニオブ(NbF)、臭化カルシウム(CaB
)、臭化セリウム(CeBr)、臭化セレン(S
eBr)、臭化バナジウム(VBr)、臭化マグネ
シウム(MgBr)、よう化バリウム(BaI)、
よう化マグネシウム(MgI)などが挙げられる。こ
れらの金属ハロゲン化物は無水塩が好適に用いられる。
さらに捕水剤のうち過塩素酸塩としては、過塩素酸バリ
ウム(Ba(ClO)、過塩素酸マグネシウム
(Mg(ClO)が挙げられる。これらの過塩素
塩も無水塩が好適に用いられる。
Preferably, water is trapped between the barrier substrates.
An adhesive layer that can enclose the agent or contains a water catching agent
Can be provided. As a water catching agent, chemically
Adsorbs water and maintains a solid state even if it absorbs moisture
Any of them can be used. Such a substance
For example, alkali metals, alkaline earth metals,
Li metal oxide, alkaline earth metal oxide, sulfate, metal
Halides, perchlorates and organic substances. Catching water
Among the agents, alkali metals and alkaline earth metals include L
i, Na, K, Rb, Cs, Fr, Be, Mg, Ca,
Sr, Ba, Ra and the like can be mentioned. Also, among the water absorbing agents
As the alkali metal oxide, sodium oxide (Na2
O), potassium oxide (K2O);
As the earth metal oxide, calcium oxide (Ca
O), barium oxide (BaO), magnesium oxide (M
gO). Among the water-absorbing agents, sulfates
Lithium oxide (Li2SO4), Sodium sulfate (Na2
SO4), Calcium sulfate (CaSO4), Magnesium sulfate
Cium (MgSO4), Cobalt sulfate (CoSO4),
Gallium sulfate (Ga2(SO4)3), Titanium sulfate (T
i (SO4)2), Nickel sulfate (NiSO4)etc
No. These sulfates are preferably used as anhydrous salts.
You. Among the water trapping agents, metal halides include
Cium (CaCl 2), Magnesium chloride (MgC
l2), Strontium chloride (SrCl2), Chloride
Thorium (YCl3), Copper chloride (CuCl2), Fluoridation
Cesium (CsF), tantalum fluoride (TaF5),
Niobium nitride (NbF5), Calcium bromide (CaB)
r2), Cerium bromide (CeBr)3), Selenium bromide (S
eBr4), Vanadium bromide (VBr2) 、 Magnesium bromide
Cium (MgBr2), Barium iodide (BaI2),
Magnesium iodide (MgI2). This
As these metal halides, anhydrous salts are preferably used.
In addition, perchlorate is a perchlorate
Um (Ba (ClO4)2), Magnesium perchlorate
(Mg (ClO4)2). These perchlorines
As the salt, an anhydrous salt is preferably used.

【0023】バリア性基材の接着層に用いることのでき
る材料としては、例えば、光硬化性樹脂または熱硬化性
樹脂が挙げられる。好ましくは、水蒸気バリア性として
30g/(m・day・atom)以下である低透湿
性接着剤が挙げられる。具体的には例えばアクリル系樹
脂またはエポキシ系樹脂例えば、長瀬チバ株式会社製の
XNR5515にスペーサーとしてPF120を1%添
加したものが挙げられる。また、積層をドライラミネー
ション法によって行う場合には、接着剤には、例えば希
釈溶剤に酢酸エチルを用い、主剤としてポリエステルポ
リオール、硬化剤にイソシアネート系の物質を必要量加
えた、ウレタン系の接着剤を使用することができる。ま
た、溶融樹脂押し出しコート法により積層する場合に
は、例えば低密度ポリエチレンを用いることができる。
Examples of the material that can be used for the adhesive layer of the barrier substrate include a photo-curable resin and a thermosetting resin. Preferably, a low moisture permeable adhesive having a water vapor barrier property of 30 g / (m 2 · day · atom) or less is used. Specifically, for example, an acrylic resin or an epoxy resin, for example, a resin obtained by adding 1% of PF120 as a spacer to XNR5515 manufactured by Nagase Ciba Co., Ltd. is used. When the lamination is performed by a dry lamination method, the adhesive is, for example, ethyl acetate as a diluting solvent, a polyester polyol as a main component, and a required amount of an isocyanate-based material as a curing agent, a urethane-based adhesive. Can be used. In the case of laminating by a molten resin extrusion coating method, for example, low density polyethylene can be used.

【0024】以下、上記のようなバリア性積層構造体の
作成方法のうち、好ましい具体例として溶融樹脂押し出
しコート法によりシリカ蒸着PETからなるバリア性基
材を積層してバリア性積層構造体を作成する方法を説明
するが、本発明の封止EL素子に用いるバリア性積層構
造体を作成する方法としてはこの方法に限定されるもの
ではない。
Hereinafter, as a preferred specific example of the above-mentioned method for producing a barrier laminate structure, a barrier substrate made of silica-deposited PET is laminated by a molten resin extrusion coating method to produce a barrier laminate structure. The method for forming the barrier laminate structure used in the sealed EL device of the present invention is not limited to this method.

【0025】バリア性基材(蒸着PET)の積層は、好
ましくは例えば最表層(第1層)のPETに接着剤をコ
ーティングし乾燥フードにて乾燥後、第2層の蒸着PE
Tの蒸着膜側と貼り合わせ、次いで巻き上げ用ロールに
巻き上げることによって接着することができる。更に、
最表層(第1層)のPETと第2層の蒸着PETを1枚
貼り合わせた巻き取られたバリア性積層構造体の蒸着P
ET側に接着剤をコーティングし乾燥フードにて乾燥
後、第3層の蒸着PETの蒸着膜側と貼り合わせ、巻き
上げるといった操作を繰り返すことによりバリア性基材
の多層積層を行うことができる。ここで、接着剤のコー
ティングは、好ましくは例えばグラビアコーディング等
のコーティング手法を用い固形分に換算して、2〜5g
/m程度の接着剤をコーティングすることができる。
溶融樹脂押し出しコート法により接着剤をコーティング
する場合には、好ましくは例えば溶融された低密度ポリ
エチレンをTダイスにて押し出し、押し出し膜は20〜
100μ程度、押し出すことにより行うことができる。
The lamination of the barrier substrate (deposited PET) is preferably carried out, for example, by coating an adhesive on the outermost layer (first layer) of PET and drying it in a drying hood, and then depositing the second layer of deposited PE.
It can be bonded by laminating with the vapor deposition film side of T and then winding it up on a winding roll. Furthermore,
Deposition P of a rolled-up barrier laminate having a single layer of PET of the outermost layer (first layer) and PET of the second layer
The ET side is coated with an adhesive, dried with a drying hood, and then laminated with the third layer of the deposited PET film and rolled up, whereby multilayer lamination of the barrier substrate can be performed. Here, the coating of the adhesive is preferably 2 to 5 g in terms of solid content using a coating method such as gravure coding.
/ M 2 of adhesive can be coated.
When coating the adhesive by the molten resin extrusion coating method, preferably, for example, a molten low-density polyethylene is extruded with a T die, and the extruded film is preferably 20 to
It can be performed by extruding about 100 μm.

【0026】なお、好ましくは、蒸着PETの蒸着面
に、プライマー層を設けることができる。このプライマ
ー層は、好ましくは例えば2液硬化型のポリウレタン系
樹脂の初期縮合物に、エポキシ系のシランカップリング
剤(8.0重量%)とブロッキング防止剤(1.0重量
%)を添加して充分に混練してプライマー樹脂組成物を
調製し、これをグラビアロールコート法により膜厚0,
5g/m(乾燥状態)になるようにコーティングして
形成できる。また、好ましくは上記プライマー層の表面
に、アンカーコート剤層を設けることができる。このア
ンカーコート剤層は、好ましくは例えば、2液硬化型の
ウレタン系アンカーコート剤を、グラビアロールコート
法により、膜厚0.1g/m(乾燥状態)になるよう
にコーティングすることにより形成できる。
Preferably, a primer layer can be provided on the deposition surface of the deposited PET. This primer layer is preferably prepared by adding an epoxy silane coupling agent (8.0% by weight) and an antiblocking agent (1.0% by weight) to, for example, an initial condensate of a two-component curable polyurethane resin. And sufficiently kneaded to prepare a primer resin composition, which is then coated with a gravure roll coat method to a film thickness of 0,0.
It can be formed by coating to 5 g / m 2 (dry state). Preferably, an anchor coat agent layer can be provided on the surface of the primer layer. This anchor coating agent layer is preferably formed by coating, for example, a two-component curable urethane-based anchor coating agent to a thickness of 0.1 g / m 2 (dry state) by a gravure roll coating method. it can.

【0027】このような方法により、バリア性基材を2
枚重ねたバリア性積層構造体(PET/EC/(蒸着
面)蒸着PET/EC/(蒸着面)蒸着PET)を製造
すると、水蒸気バリア:0.01g・m・day(温
度40℃湿度90%測定時)、酸素バリア:0.2cc
/m・day(温度23℃湿度0%測定時)のバリア
性積層構造体が製造できる。
According to such a method, the barrier base material is
When the laminated barrier laminate structure (PET / EC / (deposition surface) vapor-deposited PET / EC / (deposition surface) vapor-deposited PET) is manufactured, a water vapor barrier: 0.01 g · m 2 · day (temperature 40 ° C. humidity 90) % Measurement), oxygen barrier: 0.2cc
/ M 2 · day (measured at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 0%).

【0028】バリア性積層構造体の構成は前記のように
バリア性基材を複数積層したものであれば特に限定され
ないが、具体的構成としては例えば以下のようなものが
挙げられる。なお、DLは、ドライラミネーションの略
称、ECは、溶融樹脂押し出しコートの略称である。 PET/DL/(蒸着面)蒸着PET/DL/(蒸着
面)蒸着PET PET/DL/(蒸着面)蒸着PET/DL/(蒸着
面)蒸着PET/DL/(蒸着面)蒸着PET PET/DL/(蒸着面)蒸着PET/DL/(蒸着
面)蒸着PET/DL/(蒸着面)蒸着PET/DL/
(蒸着面)蒸着PET PET/DL/(蒸着面)蒸着PET/DL/(蒸着
面)蒸着PET/DL/(蒸着面)蒸着PET/DL/
(蒸着面)蒸着PET/DL/(蒸着面)蒸着PET PET/EC/(蒸着面)蒸着PET/EC/(蒸着
面)蒸着PET PET/EC/(蒸着面)蒸着PET/EC/(蒸着
面)蒸着PET/EC/(蒸着面)蒸着PET PET/EC/(蒸着面)蒸着PET/EC/(蒸着
面)蒸着PET/EC/(蒸着面)蒸着PET/EC/
(蒸着面)蒸着PET PET/EC/(蒸着面)蒸着PET/EC/(蒸着
面)蒸着PET/EC/(蒸着面)蒸着PET/EC/
(蒸着面)蒸着PET/EC/(蒸着面)蒸着PET 上記〜を任意に重ね合わせまたは貼り合わせた構
The configuration of the barrier laminate structure is not particularly limited as long as a plurality of barrier substrates are laminated as described above, and specific configurations include, for example, the following. Note that DL is an abbreviation for dry lamination, and EC is an abbreviation for molten resin extrusion coating. PET / DL / (deposited surface) Deposited PET / DL / (deposited surface) Deposited PET PET / DL / (deposited surface) Deposited PET / DL / (deposited surface) Deposited PET / DL / (deposited surface) Deposited PET PET / DL / (Evaporated surface) evaporated PET / DL / (evaporated surface) evaporated PET / DL / (evaporated surface) evaporated PET / DL /
(Evaporation surface) Evaporation PET PET / DL / (Evaporation surface) Evaporation PET / DL / (Evaporation surface) Evaporation PET / DL / (Evaporation surface) Evaporation PET / DL /
(Evaporation surface) Evaporation PET / DL / (Evaporation surface) Evaporation PET PET / EC / (Evaporation surface) Evaporation PET / EC / (Evaporation surface) Evaporation PET PET / EC / (Evaporation surface) Evaporation PET / EC / (Evaporation surface ) Evaporated PET / EC / (Evaporated surface) Evaporated PET PET / EC / (Evaporated surface) Evaporated PET / EC / (Evaporated surface) Evaporated PET / EC / (Evaporated surface) Evaporated PET / EC /
(Evaporation surface) Evaporation PET PET / EC / (Evaporation surface) Evaporation PET / EC / (Evaporation surface) Evaporation PET / EC / (Evaporation surface) Evaporation PET / EC /
(Evaporation surface) Evaporated PET / EC / (Evaporation surface) Evaporated PET Arrangement in which the above is arbitrarily overlapped or bonded

【0029】このバリア性積層構造体は、好ましくは可
視光領域における平均光線透過率が80%以上であるこ
とができる。このような高透過率のバリア性積層構造体
は、EL素子の光の取り出しをバリア性積層構造体側か
ら行う場合に有利である。この透過率は例えば、バリア
層ベース1枚の透過率が90%のものであっても少なく
とも2枚積層可能な透過率でもある。
This barrier laminated structure preferably has an average light transmittance of 80% or more in the visible light region. Such a barrier laminate structure having a high transmittance is advantageous when light is extracted from the EL element from the barrier laminate structure side. This transmittance is, for example, a transmittance at which at least two barrier layer bases can be stacked even if the transmittance of one barrier layer base is 90%.

【0030】封止材料 EL素子のバリア層による封止は、封止部分から水や酸
素が浸入しないような材料、すなわちバリア層のバリア
性能を阻害しない材料を用いて行い、水の透過率が30
gram・m/day・atm)以下が使用可能であ
る。このような封止材料としては、水や酸素の透過性の
低い物質であれば限定されない。このような封止材料と
しては、具体的には例えば長瀬チバ株式会社製XNR5
515にスペーサーとしてPF120を1%加えた樹脂
を用い、バリア層外からバリア層内までに通過する接着
部分の厚みが1mm以上あるものが挙げられる。また、
普通材料は、乾燥N雰囲気下で行われる。
The sealing of the EL element with the barrier layer is performed using a material that does not allow water or oxygen to enter the sealing portion, that is, a material that does not impair the barrier performance of the barrier layer. 30
(gram · m 2 / day · atm) or less can be used. Such a sealing material is not limited as long as it is a substance having low permeability to water and oxygen. As such a sealing material, specifically, for example, XNR5 manufactured by Chise Nagase Co., Ltd.
515 is a resin in which 1% of PF120 is added as a spacer, and the thickness of an adhesive portion passing from the outside of the barrier layer to the inside of the barrier layer is 1 mm or more. Also,
Normally the material is carried out under a dry N 2 atmosphere.

【0031】バリア性積層構造体間あるいは、基材と保
護層とを接着しEL素子を封止する材料としては、例え
ば前記バリア性基材の積層に用いる光硬化性樹脂または
熱硬化性樹脂を挙げることができる。
As the material for sealing the EL element by bonding between the barrier laminate structures or between the substrate and the protective layer, for example, a photo-curable resin or a thermosetting resin used for laminating the barrier substrate is used. Can be mentioned.

【0032】EL素子 本発明においてバリア層によって封止されるEL素子は
特に限定されず、第1電極と、前記第1電極上に形成さ
れたEL層と、前記EL層上に形成された第2電極から
少なくともなるEL素子であればよい。屈曲性を有する
EL素子や透明性を有するEL素子、水や酸素による劣
化が特に問題となる有機EL素子であれば、本発明の特
徴をさらに有利に利用できる。
EL Element In the present invention, the EL element sealed by the barrier layer is not particularly limited, and includes a first electrode, an EL layer formed on the first electrode, and a first electrode formed on the EL layer. Any EL element having at least two electrodes may be used. The features of the present invention can be more advantageously used in a flexible EL element, a transparent EL element, and an organic EL element in which deterioration due to water or oxygen is particularly problematic.

【0033】[0033]

【実施例】下記の塗布用溶液を調製した。塗布液1(正孔注入層形成用) ポリ3,4−エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレ
ンスルホネート水分散液(略称PEDOT/PSS、商
品名 Baytron PTP AI 4083、バイ
エル社)を塗布液1とした。
EXAMPLES The following coating solutions were prepared. Coating liquid 1 (for forming a hole injection layer) An aqueous dispersion of poly 3,4-ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonate (abbreviated as PEDOT / PSS, trade name Baytron PTP AI 4083, Bayer) was used as coating liquid 1.

【0034】塗布液2(EL層形成用) ポリフルオレン誘導体1重量部をキシレン66.7重量
部に溶解させたものを塗布液2とした。
Coating Liquid 2 (for forming EL layer) A coating liquid 2 was prepared by dissolving 1 part by weight of a polyfluorene derivative in 66.7 parts by weight of xylene.

【0035】塗布液2に用いたポリフルオレン誘導体は
以下の方法で合成した。乾燥窒素気流下、フルオレン
5.0g(30mmol)を乾燥テトラヒドロフランに
溶解させ、−78℃でこれに1.6Mノルマルブチルリ
チウムヘキサン溶液22ml(35mmol)を滴下
後、−78℃で1時間攪拌した。続いてこれにノルマル
ヘキシルブロミド4.9 ml(35mmol)を滴下
し、−78℃で1時間、さらに室温で1時間攪拌した。
続いて同様に−78℃でこれに1.6Mノルマルブチル
リチウムヘキサン溶液22ml(35mmol)を滴下
後、−78℃で1時間攪拌した。続いてこれにノルマル
ヘキシルブロミド4.9ml(35mmol)を滴下
し、−78℃で1時間、さらに室温で1時間攪拌した。
氷冷下で水を滴下後、酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネ
シウムで脱水乾燥後溶媒を留去した。これをヘキサンで
再結晶することにより9,9−ジヘキシルフルオレン
9.5g(95%)を得た。
The polyfluorene derivative used for the coating solution 2 was synthesized by the following method. Under a dry nitrogen stream, 5.0 g (30 mmol) of fluorene was dissolved in dry tetrahydrofuran, 22 ml (35 mmol) of a 1.6 M normal butyllithium hexane solution was added dropwise at -78 ° C, and the mixture was stirred at -78 ° C for 1 hour. Subsequently, 4.9 ml (35 mmol) of normal hexyl bromide was added dropwise thereto, and the mixture was stirred at -78 ° C for 1 hour and further at room temperature for 1 hour.
Subsequently, similarly, 22 ml (35 mmol) of 1.6 M normal butyllithium hexane solution was added dropwise at -78 ° C, and the mixture was stirred at -78 ° C for 1 hour. Subsequently, 4.9 ml (35 mmol) of normal hexyl bromide was added dropwise thereto, and the mixture was stirred at -78 ° C for 1 hour and further at room temperature for 1 hour.
After water was added dropwise under ice-cooling, the mixture was extracted with ethyl acetate, dehydrated and dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off. This was recrystallized from hexane to obtain 9.5 g (95%) of 9,9-dihexylfluorene.

【0036】9,9−ジヘキシルフルオレン2.0g
(6.0mmol)、塩化鉄(III)0.02g(0.
12mmol)をクロロホルム9mlに溶解させ、遮光
下0℃で攪拌したものにクロロホルム3mlに溶解させ
た臭素1.2gを滴下した。これを室温で18時間攪拌
後、チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで脱水乾燥後溶媒を留去した。残存物をカラムクロ
マトグラフィー(溶離液:ヘキサン)で分離精製するこ
とにより、2,7−ジブロモ−9,9−ジヘキシルフル
オレン2.4g(92%)を得た。
2,9-dihexylfluorene 2.0 g
(6.0 mmol), 0.02 g of iron (III) chloride (0.
12 mmol) was dissolved in 9 ml of chloroform, and 1.2 g of bromine dissolved in 3 ml of chloroform was added dropwise to a solution stirred at 0 ° C. under light shielding. The mixture was stirred at room temperature for 18 hours, washed with an aqueous solution of sodium thiosulfate, dried over magnesium sulfate and dried, and the solvent was distilled off. The residue was separated and purified by column chromatography (eluent: hexane) to obtain 2.4 g (92%) of 2,7-dibromo-9,9-dihexylfluorene.

【0037】乾燥窒素気流下、2,7−ジブロモ−9,
9−ジヘキシルフルオレン2.0g(4.0mmol)
を乾燥テトラヒドロフラン40mlに溶解させ、氷冷下
でこれに1.6Mノルマルブチルリチウムヘキサン溶液
5.3ml(8.4mmol)を滴下後、0℃で1時間
攪拌した。続いてこれに2−イソプロポキシ−4,4,
5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン
2.0ml(10mmol、)を滴下し、0℃で1時
間、さらに室温で12時間攪拌した。氷冷下で水を滴下
後、ジエチルエーテルで抽出し、硫酸マグネシウムで脱
水乾燥後溶媒を留去した。残存物をエタノールで洗浄
後、エタノール/ヘキサン混合溶液で再結晶することに
より2,7−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−
1,3,2−ジオキサボラン−2−イル)−9,9−ジ
ヘキシルフルオレン1.4g(60%)を得た。
Under a stream of dry nitrogen, 2,7-dibromo-9,
2.0 g (4.0 mmol) of 9-dihexylfluorene
Was dissolved in 40 ml of dry tetrahydrofuran, 5.3 ml (8.4 mmol) of 1.6 M normal butyl lithium hexane solution was added dropwise thereto under ice cooling, and the mixture was stirred at 0 ° C for 1 hour. Subsequently, 2-isopropoxy-4,4,4
2.0 ml (10 mmol) of 5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborane was added dropwise, and the mixture was stirred at 0 ° C. for 1 hour and further at room temperature for 12 hours. After water was added dropwise under ice-cooling, the mixture was extracted with diethyl ether, dried over magnesium sulfate and dried, and the solvent was distilled off. The residue was washed with ethanol and recrystallized with a mixed solution of ethanol / hexane to give 2,7-bis (4,4,5,5-tetramethyl-
1.4 g (60%) of (1,3,2-dioxaboran-2-yl) -9,9-dihexylfluorene were obtained.

【0038】乾燥窒素気流下、2,7−ビス(4,4,
5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボラン−
2−イル)−9,9−ジヘキシルフルオレン0.53g
と2,7−ジブロモ−9,9−ジヘキシルフルオレン
0.45g、テトラキス(トリスフェニルフォスフィ
ン)パラジウム0.02gを乾燥トルエン18mlに溶
解させ、これに2M炭酸ナトリウム水溶液27mlを加
えた後、100℃で48時間加熱攪拌した。冷却後これ
をメタノールに注ぎ、固形分を希薄塩酸水溶液で洗浄し
た後、アセトンを溶媒としてソックスレー還流器で溶解
成分を除去し不溶部を分離した。これをクロロホルムに
溶解させ、メタノールで再沈殿を行うことにより、目的
とするポリフルオレン誘導体を得た。
Under a dry nitrogen stream, 2,7-bis (4,4,4
5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborane-
2-yl) -9,9-dihexylfluorene 0.53 g
And 0.45 g of 2,7-dibromo-9,9-dihexylfluorene and 0.02 g of tetrakis (trisphenylphosphine) palladium were dissolved in 18 ml of dry toluene, and 27 ml of a 2M aqueous sodium carbonate solution was added thereto. For 48 hours. After cooling, the mixture was poured into methanol, and the solid content was washed with a dilute aqueous hydrochloric acid solution. Then, using acetone as a solvent, dissolved components were removed with a Soxhlet refluxer to separate insoluble portions. This was dissolved in chloroform and reprecipitated with methanol to obtain the desired polyfluorene derivative.

【0039】封止用バリア性積層構造体1、2、3の作
下記の封止用バリア性積層構造体を作製した。前記に
相当する、PET/DL/(蒸着面)蒸着PET/DL
/(蒸着面)蒸着PET(DLは、ドライラミネーショ
ン)をバリア性積層構造体1とした。前記に相当する
PET/DL/(蒸着面)蒸着PET/DL/(蒸着
面)蒸着PET/DL/(蒸着面)蒸着PETをバリア
性積層構造体2とした。さらに前記に相当するPET
/DL/(蒸着面)蒸着PET/DL/(蒸着面)蒸着
PET/DL/(蒸着面)蒸着PET/DL/(蒸着
面)蒸着PETをバリア性積層構造体3とした。
Fabrication of sealing barrier laminate structures 1, 2, and 3
The following laminated barrier barrier structure for sealing was produced. PET / DL / (deposited surface) deposited PET / DL equivalent to the above
/ (Evaporation surface) Evaporated PET (DL is dry lamination) was used as the barrier laminate structure 1. The PET / DL / (deposition surface) vaporized PET / DL / (deposition surface) vaporized PET / DL / (deposition surface) vaporized PET corresponding to the above was used as the barrier laminate structure 2. PET equivalent to the above
The barrier laminate structure 3 was formed of / DL / (deposited surface) deposited PET / DL / (deposited surface) deposited PET / DL / (deposited surface) deposited PET / DL / (deposited surface) deposited PET.

【0040】EL素子の作成 中央に12mm幅の帯状にパターニングされたITOガ
ラス基板に洗浄および表面処理を施し、その上に塗布液
1をスピンコーターで塗布した。これをクリーンオーブ
ン中200℃で5分間加熱乾燥させることにより膜厚1
00nmの薄膜を形成した。続いて、塗布液2をスピン
コーターにより塗布し、100nmの薄膜を形成した。
最後にITOのパターンと直交するように上部電極とし
て、LiF0.5nm、アルミニウム150nmをマス
ク蒸着した。ITO電極および上部Al電極をアドレス
電極として駆動させることにより、緑色発光が得られ
た。
At the center of the EL device, an ITO glass substrate patterned into a strip having a width of 12 mm was subjected to cleaning and surface treatment, and a coating solution 1 was applied thereon by a spin coater. This is heated and dried in a clean oven at 200 ° C. for 5 minutes to obtain a film thickness of 1
A thin film of 00 nm was formed. Subsequently, the coating liquid 2 was applied by a spin coater to form a 100 nm thin film.
Finally, as an upper electrode, 0.5 nm of LiF and 150 nm of aluminum were vapor-deposited by mask so as to be orthogonal to the pattern of ITO. Green light emission was obtained by driving the ITO electrode and the upper Al electrode as address electrodes.

【0041】バリア性積層構造体を有する封止EL素子
の作成 作製したEL素子を封止した。封止は乾燥窒素雰囲気中
で行い、バリア性積層構造体1、バリア性積層構造体2
およびバリア性積層構造体3のいずれかを用いて、紫外
線硬化樹脂(長瀬チバ株式会社製の商品名XNR551
5にスペーサーとしてPF120を1%添加したもの)
により行った。
Sealed EL device having barrier laminate structure
The produced EL element was sealed. The sealing is performed in a dry nitrogen atmosphere, and the barrier laminate structure 1 and the barrier laminate structure 2
And UV curable resin (trade name XNR551 manufactured by Nagase Chiba Co., Ltd.)
5 with 1% of PF120 added as a spacer)
Was performed.

【0042】劣化の評価 これらのEL素子を大気中に一定期間放置したときの素
子の発光特性をEL素子に電圧を印加して測定した。発
光特性はEL素子の輝度と相関を有するEL素子を流れ
る電流値を測定することにより評価した。
Evaluation of Degradation When these EL devices were left in the air for a certain period of time, the light emission characteristics of the devices were measured by applying a voltage to the EL devices. The light emission characteristics were evaluated by measuring a current value flowing through the EL element having a correlation with the luminance of the EL element.

【0043】図3に、本実施例において作製日の電流値
をI0としたときの相対電流値の経時変化のグラフを示
す。バリア性基材2層構成のバリア性積層構造体1より
も、バリア性基材3層構成のバリア性積層構造体2が、
さらにバリア性基材4層構成のバリア性積層構造体3が
EL素子の劣化が少ないことが分かる。
FIG. 3 is a graph showing the change over time of the relative current value when the current value on the production day is I0 in this embodiment. Compared to the barrier laminate structure 1 having the two-layer barrier substrate structure, the barrier laminate structure 2 having the three-layer barrier substrate structure is:
Further, it can be seen that the barrier laminated structure 3 having the four-layered barrier substrate has little deterioration of the EL element.

【0044】[0044]

【発明の効果】本発明によって、EL素子の劣化要因で
ある水蒸気や酸素等の透過を防止しEL素子の劣化を抑
制するだけではなく、好ましくは透明性、屈曲性、耐熱
性、耐候性を有するバリア性積層構造体を有する封止E
L素子を提供することができる。
According to the present invention, it is possible not only to prevent the permeation of water vapor, oxygen and the like, which are the causes of deterioration of the EL element, but also to suppress the deterioration of the EL element, and it is also preferable to improve the transparency, flexibility, heat resistance and weather resistance. E having barrier laminate structure having
An L element can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のバリア性積層構造体を有する封止EL
素子の一例の断面図である。
FIG. 1 shows a sealing EL having a barrier laminate structure of the present invention.
It is sectional drawing of an example of an element.

【図2】本発明のバリア性積層構造体を有する封止EL
素子の一例の上面図である。
FIG. 2 shows a sealing EL having a barrier laminate structure of the present invention.
It is a top view of an example of an element.

【図3】本実施例における電流値の経時変化を示すグラ
フである。
FIG. 3 is a graph showing a temporal change of a current value in the present embodiment.

【符号の説明】 1 第1バリア層 2 第2バリア層 3 封止層 4 第1電極 5 EL層 6 第2電極[Description of Signs] 1 First barrier layer 2 Second barrier layer 3 Sealing layer 4 First electrode 5 EL layer 6 Second electrode

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3K007 AB11 AB13 AB18 BA06 BA07 BB01 BB03 BB04 BB05 CA01 CA05 CA06 CB01 DA01 DB03 EB00 FA02  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 3K007 AB11 AB13 AB18 BA06 BA07 BB01 BB03 BB04 BB05 CA01 CA05 CA06 CB01 DA01 DB03 EB00 FA02

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】第1電極と、前記第1電極上に形成された
EL層と、前記EL層上に形成された第2電極から少な
くともなるEL素子であって、 前記EL素子を、バリアコート層およびバリア層ベース
から少なくともなるバリア性基材を2層以上積層してな
るバリア性積層構造体を用いて封止したことを特徴とす
る、封止EL素子。
1. An EL element comprising at least a first electrode, an EL layer formed on the first electrode, and a second electrode formed on the EL layer, wherein the EL element is a barrier coat. A sealed EL element, characterized by being sealed using a barrier laminated structure obtained by laminating two or more barrier substrates each composed of a layer and a barrier layer base.
【請求項2】前記バリアコート層が、物理気相成長法、
または化学気相成長法を用いて形成されてなる、請求項
1に記載の封止EL素子。
2. The method according to claim 1, wherein the barrier coat layer is formed by physical vapor deposition,
2. The sealed EL device according to claim 1, wherein the device is formed using a chemical vapor deposition method.
【請求項3】前記バリアコート層が、無機酸化物からな
る層である、請求項2に記載の封止EL素子。
3. The sealed EL device according to claim 2, wherein said barrier coat layer is a layer made of an inorganic oxide.
【請求項4】前記バリア性積層構造体が、可視光領域に
おける平均光線透過率80%以上を有する、請求項1に
記載の封止EL素子。
4. The sealed EL device according to claim 1, wherein the barrier laminate has an average light transmittance of 80% or more in a visible light region.
【請求項5】前記バリア層ベースが、耐熱性および耐候
性を有するものである、請求項1に記載の封止EL素
子。
5. The sealed EL device according to claim 1, wherein the barrier layer base has heat resistance and weather resistance.
【請求項6】前記バリア性積層構造体が、バリア性基材
同士を、ドライラミネーション法または押し出しコート
法により積層したものである、請求項1に記載の封止E
L素子。
6. The encapsulation E according to claim 1, wherein the barrier laminate structure is formed by laminating barrier substrates with each other by a dry lamination method or an extrusion coating method.
L element.
【請求項7】前記バリア性積層構造体が、バリア性基材
同士を、光硬化性樹脂または熱硬化性樹脂を用いて積層
したものである、請求項1に記載の封止EL素子。
7. The sealing EL device according to claim 1, wherein the barrier laminate structure is formed by laminating barrier substrates with each other by using a photocurable resin or a thermosetting resin.
【請求項8】前記バリア性積層構造体が、バリア性基材
同士を、低透湿性接着層により積層したものである、請
求項1に記載の封止EL素子。
8. The sealed EL device according to claim 1, wherein the barrier laminate structure is formed by laminating barrier substrates with a low moisture-permeable adhesive layer.
【請求項9】前記バリア性積層構造体の前記バリア性基
材の間に、不活性物質を封入してなる、請求項1に記載
の封止EL素子。
9. The sealed EL device according to claim 1, wherein an inert substance is sealed between the barrier base materials of the barrier laminate structure.
【請求項10】前記バリアコート層の厚みが50〜50
00Åである、請求項1に記載の封止EL素子。
10. The barrier coat layer has a thickness of 50 to 50.
The sealed EL device according to claim 1, wherein the angle is 00 °.
【請求項11】前記バリア層ベースの厚みが1〜500
μmである、請求項1に記載の封止EL素子。
11. The barrier layer base has a thickness of 1 to 500.
The sealed EL device according to claim 1, wherein the thickness is μm.
【請求項12】前記バリア性積層構造体の前記バリア性
基材の間に、捕水剤を封入してなる、請求項1に記載の
封止EL素子。
12. The sealed EL device according to claim 1, wherein a water catching agent is sealed between the barrier base materials of the barrier laminate structure.
【請求項13】前記バリア性積層構造体の前記バリア性
基材の間に、捕水剤を含む接着層を設けてなる、請求項
1に記載の封止EL素子。
13. The sealed EL device according to claim 1, wherein an adhesive layer containing a water catching agent is provided between the barrier substrates of the barrier laminate structure.
【請求項14】前記バリア性ベースが、環状ポリオレフ
ィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−
スチレン共重合体(AS樹脂)、アクリロニトリル−ブ
タジエン−スチレン共重合体、(ABS樹脂)、ポリ塩
化ビニル系樹脂、フッ素系樹脂、ポリ(メタ)アクリル
系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフ
タラート(PET)、ポリエチレンテレフタレート等の
ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系
樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアリールフタレー
ト系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポ
リフェニレンスルフィド系樹脂、ポリエーテルスルホン
系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセタール系樹脂、セル
ロース系樹脂、これらの共重合体、およびこれらの混合
樹脂から選ばれる材料からなる、請求項1に記載の封止
EL素子。
14. The barrier base is made of a cyclic polyolefin resin, a polystyrene resin, acrylonitrile resin.
Styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, (ABS resin), polyvinyl chloride resin, fluorine resin, poly (meth) acrylic resin, polycarbonate resin, polyethylene terephthalate (PET) ), Polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyamide resins, polyimide resins, polyamide imide resins, polyaryl phthalate resins, silicone resins, polysulfone resins, polyphenylene sulfide resins, polyether sulfone resins, polyurethane resins The sealing EL element according to claim 1, comprising a material selected from a resin, an acetal resin, a cellulose resin, a copolymer thereof, and a mixed resin thereof.
【請求項15】前記バリア性積層構造体が、酸素透過性
または水透過性が異なる2種類以上のバリア性基材を積
層したものである請求項1に記載の封止EL素子。
15. The sealed EL device according to claim 1, wherein the barrier laminate structure is formed by laminating two or more types of barrier substrates having different oxygen permeability or water permeability.
【請求項16】前記EL素子が有機EL素子である、請
求項1〜15のいずれか1項に記載の封止EL素子。
16. The sealed EL device according to claim 1, wherein said EL device is an organic EL device.
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