JP2002082428A - Alkali developable photosensitive paste composition - Google Patents

Alkali developable photosensitive paste composition

Info

Publication number
JP2002082428A
JP2002082428A JP2000269930A JP2000269930A JP2002082428A JP 2002082428 A JP2002082428 A JP 2002082428A JP 2000269930 A JP2000269930 A JP 2000269930A JP 2000269930 A JP2000269930 A JP 2000269930A JP 2002082428 A JP2002082428 A JP 2002082428A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
paste composition
carboxyl group
weight
parts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000269930A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4437603B2 (en
Inventor
Yutaka Nakayama
豊 中山
Masatoshi Suehiro
雅利 末広
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyoto Elex Co Ltd
Original Assignee
Kyoto Elex Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyoto Elex Co Ltd filed Critical Kyoto Elex Co Ltd
Priority to JP2000269930A priority Critical patent/JP4437603B2/en
Publication of JP2002082428A publication Critical patent/JP2002082428A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4437603B2 publication Critical patent/JP4437603B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Inorganic Insulating Materials (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a paste composition for conductor/dielectric formation having high resolution even in a large film thickness and capable of forming a fine pattern. SOLUTION: The alkali developable paste composition contains (a) 40-97 pts.wt. inorganic powder, (b) 0.5-30 pts.wt. carboxyl-containing photosensitive resin binder, (d) 0.5-30 pts.wt. photoreactive monomer, (e) 0.2-20 pts.wt. photopolymerization initiator and (f) 1-30 pts.wt. organic solvent.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子材料分野にお
いてますます高まっている高密度化、ファインライン化
に対応した、フォトリソグラフィー法で好適にパターン
形成することが可能な導体および誘電体形成材料に関す
る。さらに詳細には、本発明は回路基板上などに導体/
誘電体パターンを形成するうえで、従来実現されていな
かった高膜厚でのファインパターンの形成を可能とする
導体および誘電体形成材料を提供するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conductor and dielectric material which can be suitably formed by a photolithography method and which is adapted to a higher density and finer line in the field of electronic materials. About. More specifically, the present invention relates to a method for forming a conductor / conductor on a circuit board or the like.
An object of the present invention is to provide a conductor and a dielectric forming material that enable formation of a fine pattern with a high film thickness, which has not been realized conventionally, when forming a dielectric pattern.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、Ag、Cu等の金属粉末、ま
たは黒色ガラス等の隠ぺい力の高い粉末を用いたペース
トが、基板上への導体および誘電体パターン形成のため
に使用されている。しかしながら、かかるペーストを使
用した場合、フォトリソグラフィー法によるパターン形
成において、焼成後の膜厚を20μm以上の高い膜厚に
すると、解像度が不充分になることが避けられなかっ
た。
2. Description of the Related Art Conventionally, a paste using a metal powder such as Ag or Cu or a powder having a high hiding power such as black glass has been used for forming a conductor and a dielectric pattern on a substrate. However, when such a paste is used, in forming a pattern by photolithography, if the film thickness after firing is as high as 20 μm or more, it is inevitable that the resolution becomes insufficient.

【0003】たとえば、特開平05−67405号公報
に記載の発明では、グリシジルメタクリレート付加体を
バインダーとして、光重合開始剤にフェニルケトン系開
始剤のみを用いているが、この様な短波長のみに吸収波
長を持つ開始剤が使用される場合においては、高膜厚で
隠蔽力の強い系におけるパターン形成は、非常に困難で
ある。
For example, in the invention described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 05-67405, a glycidyl methacrylate adduct is used as a binder, and only a phenyl ketone initiator is used as a photopolymerization initiator. When an initiator having an absorption wavelength is used, it is very difficult to form a pattern in a system having a high film thickness and a strong hiding power.

【0004】また、特開平11−43501号公報にお
いては、カルボキシル基を含有しないセルロース誘導体
樹脂をバインダーとして、光重合開始剤に、2,4,6
−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド
とジメチルベンジルケタールの組み合わせを用いること
が実施例に開示されている。この場合、水現像可能であ
るといった利点はあるものの、アルカリエッチングのよ
うな高解像度を得ることはできない。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-43501, a photopolymerization initiator containing 2,4,6
The examples disclose the use of a combination of trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and dimethylbenzyl ketal. In this case, although there is an advantage that it can be developed with water, it is not possible to obtain a high resolution as in the case of alkali etching.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】このように、高膜厚で
あっても高解像度が得られ、ファインパターン形成を可
能とする導体/誘電体形成材料は、これまでに提案され
ていない。本発明はかかる現状に鑑みてなされたもので
あり、特定の感光性バインダー系を所定量配合して、従
来に見られない高効率の光重合開始が可能な組成物を提
供することを目的とする。
As described above, no conductor / dielectric forming material has been proposed so far that high resolution can be obtained even with a large film thickness and a fine pattern can be formed. The present invention has been made in view of such circumstances, and aims to provide a composition capable of initiating high-efficiency photopolymerization, which has never been seen before, by blending a specific photosensitive binder system in a predetermined amount. I do.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、前記の目的を
達成するために鋭意研究を重ねた結果、 a)無機粉末40〜97重量部、 b)カルボキシル基含有感光性バインダー樹脂0.5〜
30重量部、 c)光反応性モノマー0.5〜30重量部、 d)光重合開始剤0.2〜20重量部、および e)有機溶媒1〜30重量部 を含むアルカリ現像型ペースト組成物を用いることで、
基板上に高膜厚で適用した場合にあっても優れたライン
形成、すなわち、導体/誘電体の微細なパターン形成が
可能となることを見出し、本発明を完成するに至った。
In order to achieve the above object, the present invention has been studied as follows: a) 40 to 97 parts by weight of an inorganic powder; b) 0.5 of a photosensitive binder resin containing a carboxyl group. ~
Alkaline development type paste composition comprising 30 parts by weight, c) 0.5 to 30 parts by weight of a photoreactive monomer, d) 0.2 to 20 parts by weight of a photopolymerization initiator, and e) 1 to 30 parts by weight of an organic solvent. By using
The present inventors have found that excellent line formation, that is, formation of fine patterns of conductors / dielectrics is possible even when applied with a high film thickness on a substrate, and have completed the present invention.

【0007】前記カルボキシル基含有感光性バインダー
樹脂(b)として、好ましくは、以下の化学式I:
The carboxyl group-containing photosensitive binder resin (b) preferably has the following chemical formula I:

【0008】[0008]

【化3】 Embedded image

【0009】[式I中、R1は同じでも異なっていても
よく、水素原子、C1〜C4のアルキル基、−OCR2
COOH(R2は、C2〜C4のアルキル基、フェニル
基もしくはシクロヘキシル基を表す)、−C36OH、
−C24OHまたは−COCH3を表し、グルコースユ
ニットあたり少なくとも0.1モルの−OCR2COO
Hを含む]に示すカルボキシル基含有セルロース誘導
体、当該カルボキシル基含有セルロース誘導体のメタク
リロイルオキシエチルイソシアネート付加体、または当
該カルボキシル基含有セルロース誘導体のグリシジルメ
タクリレート付加体が選択される。また、前記カルボキ
シル基含有感光性バインダー樹脂(b)として、以下の
化学式II:
[In the formula (I), R 1 may be the same or different, and include a hydrogen atom, a C1-C4 alkyl group, -OCR 2
COOH (R 2 represents an alkyl group, a phenyl group or cyclohexyl group C2~C4), - C 3 H 6 OH,
-C 2 H 4 OH or an -COCH 3, at least 0.1 moles of -OCR 2 COO per glucose unit
H]], a carboxyl group-containing cellulose derivative, a methacryloyloxyethyl isocyanate adduct of the carboxyl group-containing cellulose derivative, or a glycidyl methacrylate adduct of the carboxyl group-containing cellulose derivative. Further, as the carboxyl group-containing photosensitive binder resin (b), the following chemical formula II:

【0010】[0010]

【化4】 Embedded image

【0011】[式II中、R3は、水素原子もしくはC
3を表し、それぞれ同じでも異なっていてもよく、R4
は、C1〜C18のアルキル基、フェニル基もしくはア
リールアルキル基を表し、l、mおよびnは1以上の整
数を表す]に示すカルボキシル基含有アクリル系樹脂、
または化学式IIに示す化合物にグリシジル(メタ)ア
クリレートが付加された、カルボキシル基とメタクリロ
イル基とを含有する樹脂も好ましい。これらのバインダ
ー樹脂を用いれば、特に上記無機粉末を高膜厚でファイ
ンパターン形成させることができる点で好ましい。
[In the formula II, R 3 is a hydrogen atom or C
It represents H 3, which may be the same or different, R 4
Represents a C1 to C18 alkyl group, a phenyl group or an arylalkyl group, and l, m and n each represent an integer of 1 or more].
Alternatively, a resin having a carboxyl group and a methacryloyl group in which glycidyl (meth) acrylate is added to a compound represented by the formula II is also preferable. The use of these binder resins is particularly preferred in that the inorganic powder can be formed into a fine pattern with a high film thickness.

【0012】また、上記アルカリ現像型ペースト組成物
において、前記光重合開始剤(d)は、アシルホスフィ
ンオキシド基を含有するものを単独で、またはアシルホ
スフィンオキシド基を含有するものとフェニルケトン基
含有開始剤とを併用系として使用することができる。こ
の系は、光の吸収波長帯が広く量子収率が高いため、高
膜厚の場合においても深部まで効率よく硬化させること
ができ、結果として良好な解像度を得ることができる。
In the above-mentioned alkaline developing paste composition, the photopolymerization initiator (d) may be one containing an acylphosphine oxide group alone, or one containing an acylphosphine oxide group and one containing a phenylketone group. An initiator can be used as a combination system. Since this system has a wide light absorption wavelength band and a high quantum yield, it can be efficiently cured to a deep portion even in the case of a high film thickness, and as a result, a good resolution can be obtained.

【0013】さらに、前記無機粉末(a)として、A
u、Ag、Cu、Pd、Pt、Ni、Al、W、Moお
よびMnの金属粉末からなる群より選択される少なくと
も1種以上を選択すると、導体を形成するためのペース
ト組成物とすることができ、また、Si、Pb、B、Z
n、Al、Ca、MgおよびBaの酸化物の1種以上、
またはかかる金属酸化物の1種以上を構成成分として含
有するガラス粉末の少なくとも1種以上を選択すると、
誘電体層を形成するためのペースト組成物とすることが
できる。そして、前記無機粉末として、Au、Ag、C
u、Pd、Pt、Ni、Al、W、MoおよびMnの金
属粉末からなる群より選択される少なくとも1種以上
と、Si、Pb、B、Zn、Al、Ca、MgおよびB
aの酸化物の1種以上、またはそれら金属酸化物の1種
以上を構成成分として含有するガラス粉末の少なくとも
1種以上との組み合わせて用いてもよい。
Further, as the inorganic powder (a), A
When at least one selected from the group consisting of metal powders of u, Ag, Cu, Pd, Pt, Ni, Al, W, Mo and Mn is selected, a paste composition for forming a conductor can be obtained. And Si, Pb, B, Z
one or more of oxides of n, Al, Ca, Mg and Ba;
Alternatively, when at least one or more kinds of glass powder containing one or more of such metal oxides as a constituent component is selected,
It can be a paste composition for forming a dielectric layer. And as the inorganic powder, Au, Ag, C
at least one selected from the group consisting of metal powders of u, Pd, Pt, Ni, Al, W, Mo and Mn, and Si, Pb, B, Zn, Al, Ca, Mg and B
It may be used in combination with at least one glass powder containing one or more oxides of a or one or more of these metal oxides as a constituent.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、先ず本発明のペースト組成
物に配合される各成分について説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION First, each component to be blended in the paste composition of the present invention will be described.

【0015】(a)無機粉末 導体層および/または誘電体層を形成するために必須の
成分であり、従来より知られている種々のものを使用す
ることができる。
(A) Inorganic powder An inorganic powder is an essential component for forming a conductor layer and / or a dielectric layer, and various conventionally known ones can be used.

【0016】(a−1)導体層を形成は回路の導通をと
るために必須であり、そのために、Au、Ag、Cu、
Pd、Pt、Ni、Al、W、Mo、Mnからなる群の
中の少なくとも1種である導電性粉末を用いることがで
き、また一般に導電ペーストに配合されるように、たと
えばAg−Pd、Ag−Pt、Ag−Pt−Pd、Mo
−Mn等、2種類以上を組み合わせて併用しても差し支
えない。
(A-1) The formation of a conductor layer is indispensable for maintaining circuit continuity. For this reason, Au, Ag, Cu,
A conductive powder that is at least one member of the group consisting of Pd, Pt, Ni, Al, W, Mo, and Mn can be used, and generally, for example, Ag-Pd, Ag -Pt, Ag-Pt-Pd, Mo
-Two or more kinds such as Mn may be used in combination.

【0017】(a−2)誘電体層を形成させるため、も
しくは焼成後の導体と基板との接着性を得るために、S
i、Pb、B、Zn、Al、Ca、Mg、Baの酸化物
が好適に使用される。また、同様の目的で、B23・B
23系、PbO・B23系、PbO・SiO2系、P
bO・B23・SiO2系、PbO・Al23・SiO 2
系・ZnO・PbO・B23系、ZnO・B23系、C
aO・B23系、CaO・B23・SiO2系、CaO
・PbO・SiO2系、CaO・PbO・B23・Si
2系、 MgO・B23系、MgO・B23・SiO2
系、MgO・PbO・SiO2系、MgO・PbO・B2
3・SiO2系のガラスフリットを1種類もしくは2種
類以上含むガラス由来の粉末を使用してもよい。
(A-2) In order to form a dielectric layer,
In order to obtain adhesion between the conductor and the substrate after firing,
oxides of i, Pb, B, Zn, Al, Ca, Mg, Ba
Is preferably used. For the same purpose, BTwoOThree・ B
iTwoOThreeSystem, PbO ・ BTwoOThreeSystem, PbO ・ SiOTwoSystem, P
bOBTwoOThree・ SiOTwoSystem, PbO ・ AlTwoOThree・ SiO Two
System ・ ZnO ・ PbO ・ BTwoOThreeSystem, ZnO ・ BTwoOThreeSystem, C
aOBTwoOThreeSystem, CaO ・ BTwoOThree・ SiOTwoSystem, CaO
・ PbO ・ SiOTwoSystem, CaO ・ PbO ・ BTwoOThree・ Si
OTwoSystem, MgO ・ BTwoOThreeSystem, MgO ・ BTwoOThree・ SiOTwo
System, MgO / PbO / SiOTwoSystem, MgO / PbO / BTwo
OThree・ SiOTwoOne or two types of glass frit
Powders derived from glass containing more than one kind may be used.

【0018】(a−3)さらに、上記(a−1)の導電
性粉末と、(a−2)に記載の金属酸化物またはガラス
とを併用し、導通を確保しつつ基板への導体の固着を強
固にするようにしてもよい。
(A-3) Further, the conductive powder of (a-1) is used in combination with the metal oxide or glass described in (a-2) to conduct the conductor to the substrate while ensuring conduction. The fixation may be strengthened.

【0019】また、必要に応じ、導電性粉末として示し
た金属の酸化物、珪化物、または、Bi23等も適量を
併用することができる。
If necessary, an appropriate amount of a metal oxide, silicide, Bi 2 O 3 , or the like shown as a conductive powder can also be used in combination.

【0020】以上の無機粉末は、ペースト化した際、印
刷、ブレードコート等に適した粘性となること;および
ライン幅をおよそ20μmとするために、粒径は、20
μm以下であることが好ましい。したがって、平均粒径
が0.1〜15μmで最大粒径が20μm以下のものが
好適に使用できる。
The above-mentioned inorganic powder, when formed into a paste, has a viscosity suitable for printing, blade coating, and the like; and, in order to make the line width approximately 20 μm, the particle size is 20 μm.
It is preferably not more than μm. Therefore, those having an average particle size of 0.1 to 15 μm and a maximum particle size of 20 μm or less can be suitably used.

【0021】無機粉末の添加量は、少なすぎると導体層
および/または誘電体層を適正にパターン形成すること
ができなくなりエッチングにも支障を来し、また多すぎ
ても基板への固着が不可能となる場合があるので、前記
した割合に調整することが好ましい。
If the amount of the inorganic powder is too small, the conductor layer and / or the dielectric layer cannot be properly formed in a pattern, which hinders the etching. Since it may be possible, the ratio is preferably adjusted to the above-mentioned ratio.

【0022】(b)カルボキシル基含有バインダー樹脂 本発明のペースト組成物の第2成分であるバインダー樹
脂は、アルカリ可溶型感光性樹脂であって、カルボキシ
ル基を含有しているものである。この樹脂は、未硬化時
にはアルカリ可溶性で、光硬化した部分のみアルカリに
対して不溶化するという特性を有し、フォトリソグラフ
ィー法によりパターン形成するためのバインダー樹脂と
して好適に利用可能なものであり、非常に高いコントラ
スト比がもたらされる。
(B) Carboxyl group-containing binder resin The binder resin as the second component of the paste composition of the present invention is an alkali-soluble photosensitive resin containing a carboxyl group. This resin has the property of being alkali-soluble when uncured, and has the property of insolubilizing only the photocured portion with alkali, and can be suitably used as a binder resin for forming a pattern by a photolithography method. High contrast ratio.

【0023】このバインダー樹脂の分子量は、1000
〜100000であることが、エッチング性および作業
性の面から望ましい。分子量が1000未満の場合、得
られるペースト組成物の粘度が低くなりすぎるため、印
刷性等が劣ることになる。また、分子量が100000
を超える場合には、バインダー能が高すぎるため、アル
カリエッチング時におけるエッチング性が劣る。
The molecular weight of the binder resin is 1000
It is desirable that the molecular weight is from 100,000 to 100,000 from the viewpoint of etching properties and workability. When the molecular weight is less than 1,000, the viscosity of the obtained paste composition becomes too low, so that printability and the like are inferior. In addition, the molecular weight is 100,000
When the value exceeds, the binder ability is too high, so that the etching property at the time of alkali etching is inferior.

【0024】かかる感光性バインダー樹脂として好まし
いものは、 (b−1)化学式I:
Preferred as such photosensitive binder resin are: (b-1) Chemical formula I:

【0025】[0025]

【化5】 Embedded image

【0026】[式I中、R1は同じでも異なっていても
よく、水素原子、C1〜C4のアルキル基、−OCR2
COOH(R2は、C2〜C4のアルキル基、フェニル
基もしくはシクロヘキシル基を表す)、−C36OH、
−C24OHまたは−COCH3を表し、グルコースユ
ニットあたり少なくとも0.1モルの−OCR2COO
Hを含む]で示される、カルボキシル基を含有するセル
ロース誘導体のメタクリロイルオキシエチルイソシアネ
ート付加体、または同誘導体のグリシジル(メタ)アク
リレート付加体であるバインダー樹脂; (b−2)化学式II:
[In the formula (I), R 1 may be the same or different, and includes a hydrogen atom, a C1-C4 alkyl group, -OCR 2
COOH (R 2 represents an alkyl group, a phenyl group or cyclohexyl group C2~C4), - C 3 H 6 OH,
-C 2 H 4 OH or an -COCH 3, at least 0.1 moles of -OCR 2 COO per glucose unit
A binder resin which is a methacryloyloxyethyl isocyanate adduct of a carboxyl group-containing cellulose derivative or a glycidyl (meth) acrylate adduct of the same derivative; (b-2) Chemical formula II:

【0027】[0027]

【化6】 Embedded image

【0028】[式II中、R3は、水素原子もしくはC
3を表し、それぞれ同じでも異なっていてもよく、R4
は、C1〜C18のアルキル基、フェニル基もしくはア
リールアルキル基を表し、l、mおよびnは1以上の整
数を表す]で示されるメタクリル酸−メタクリレート系
共重合バインダー樹脂(この中にはコモノマーとしてス
チレンを含有していても良い);および (b−3)(b−2)に記載された共重合バインダー樹
脂のグリシジルメタクリレート付加体である、カルボキ
シル基とメタクリロイル基とを含有するバインダー樹脂
等である。
[In the formula II, R 3 is a hydrogen atom or C
It represents H 3, which may be the same or different, R 4
Represents a C1 to C18 alkyl group, a phenyl group or an arylalkyl group, and l, m and n each represent an integer of 1 or more.] Wherein a methacrylic acid-methacrylate copolymer binder resin (in which a comonomer And (b-3) a binder resin containing a carboxyl group and a methacryloyl group, which is a glycidyl methacrylate adduct of the copolymer binder resin described in (b-3) and (b-2). is there.

【0029】上記(b−1)における、化学式Iで示さ
れるセルロースのカルボン酸誘導体には、グルコースユ
ニットあたり0.1〜1.0モルの−OH基、そしてグ
ルコースユニットあたり少なくとも0.1モル、好まし
くは0.1〜1.0モルの−COOH基を含有するもの
が好適に使用できる。
In the above (b-1), the carboxylic acid derivative of cellulose represented by the chemical formula I contains 0.1 to 1.0 mol of —OH groups per glucose unit, and at least 0.1 mol per glucose unit. Preferably, those containing 0.1 to 1.0 mol of -COOH groups can be suitably used.

【0030】−OH基がグルコースユニットあたり0.
1モル未満では、グリシジル(メタ)アクリレートもし
くは、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートで導
入される重合性基の比率が低すぎるために、解像度が劣
ることがある。また、−OH基がグルコースユニットあ
たり1.0モルを超えると、硬化後の膜が硬くなりすぎ
てエッチング性に劣るようになる。そして、−COOH
基がグルコースユニットあたり0.1未満では、アルカ
リ性水溶液への溶解性が低くなってエッチング性に劣
り、−COOH基がグルコースユニットあたり1.0モ
ルを超えると、硬化後の膜の耐水性が低下するため解像
度が劣ることとなる。
The amount of -OH group is 0.1 per glucose unit.
If the amount is less than 1 mol, the resolution may be poor because the ratio of the polymerizable group introduced with glycidyl (meth) acrylate or methacryloyloxyethyl isocyanate is too low. On the other hand, if the amount of -OH groups exceeds 1.0 mol per glucose unit, the cured film becomes too hard, resulting in poor etching properties. And -COOH
When the group is less than 0.1 per glucose unit, the solubility in an alkaline aqueous solution is low and the etching property is poor. When the -COOH group exceeds 1.0 mol per glucose unit, the water resistance of the cured film is reduced. Therefore, the resolution is inferior.

【0031】化学式Iで示されるセルロースのカルボン
酸誘導体へのグリシジル(メタ)アクリレート付加量
は、−OH基1モル当たり0.3モル〜2.0モルであ
ることが好ましい。かかるグリシジル(メタ)アクリレ
ート付加量が、−OH基1モル当たり0.3モル未満の
場合、導入される重合性基の比率が低いために解像度が
劣り、一方グリシジル(メタ)アクリレート付加量が−
OH基1モル当たり2.0モルを超える場合、硬化後の
膜が硬くなりすぎてエッチング性に劣る。
The amount of glycidyl (meth) acrylate added to the carboxylic acid derivative of cellulose represented by the chemical formula I is preferably from 0.3 mol to 2.0 mol per 1 mol of -OH group. When the glycidyl (meth) acrylate addition amount is less than 0.3 mol per mol of -OH group, the resolution is inferior because the ratio of the polymerizable group introduced is low, while the glycidyl (meth) acrylate addition amount is-.
If it exceeds 2.0 moles per mole of OH group, the cured film becomes too hard, resulting in poor etching properties.

【0032】また、化学式Iで示されるセルロースのカ
ルボン酸誘導体へのメタクロイルオキシエチルイソシア
ネート付加量は、−OH基1モル当たり0.2モル〜
1.0モルであることが好ましい。メタクロイルオキシ
エチルイソシアネート付加量が−OH基1モル当たり
0.2モル未満の場合、導入される重合性基の比率が低
すぎるため解像度が劣り、この付加量が−OH基1モル
当たり1.0モルを超えれば、硬化した際膜が硬くなり
すぎて、アルカリ水溶液によるエッチング性に劣ること
となる。
The addition amount of methacryloyloxyethyl isocyanate to the carboxylic acid derivative of cellulose represented by the chemical formula I is 0.2 to 0.2 mol per mol of --OH group.
Preferably it is 1.0 mole. When the addition amount of methacryloyloxyethyl isocyanate is less than 0.2 mol per 1 mol of -OH group, the ratio of the polymerizable group to be introduced is too low, so that the resolution is inferior. If it exceeds 0 mol, the film becomes too hard when cured, resulting in poor etching properties with an aqueous alkali solution.

【0033】上記(b−2)における、化学式IIで示
される(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリレート系共
重合バインダー樹脂は、(メタ)アクリル酸と、C1〜
C18のアルキルもしくはアリールアルキル(メタ)ア
クリレートとの共重合体である。化学式IIにおいて、
lは好ましくは0〜30、mは好ましくは5〜95、そ
してnは好ましくは5〜70であり、もって前述のごと
き分子量とされたものが好適に使用される。
In the above (b-2), the (meth) acrylic acid- (meth) acrylate copolymer binder resin represented by the chemical formula II comprises (meth) acrylic acid,
It is a copolymer with a C18 alkyl or arylalkyl (meth) acrylate. In Formula II:
l is preferably from 0 to 30, m is preferably from 5 to 95, and n is preferably from 5 to 70, and those having the above-mentioned molecular weight are suitably used.

【0034】また、上記(b−3)の、化学式IIで示
される(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリレート系共
重合バインダー樹脂のグリシジルメタクリレート付加体
の付加量は、如上の共重合体に含まれるカルボキシル基
1モルに対して、0.05〜1.00モル当量とするこ
とが、未硬化部のアルカリ性水溶液への溶解性、および
光による硬化性のバランスの点で好ましい。
The addition amount of the glycidyl methacrylate adduct of the (meth) acrylic acid- (meth) acrylate copolymer binder resin represented by the chemical formula II in the above (b-3) is included in the above copolymer. The amount is preferably 0.05 to 1.00 mol equivalent per 1 mol of the carboxyl group, in view of the balance between the solubility of the uncured portion in an aqueous alkaline solution and the curability by light.

【0035】以上詳説したバインダー樹脂の添加量は、
少なすぎれば当然のことエッチング不良でパターン形成
が困難になり、また多すぎてもエッチング性が損なわれ
て好解像度が得られなくなってしまうので、前記した割
合に調整することが好ましい。
The amount of the binder resin described in detail above is
If the amount is too small, the pattern formation becomes difficult due to poor etching, and if the amount is too large, the etching property is impaired and good resolution cannot be obtained.

【0036】(c)光反応性モノマー 本発明のペースト組成物において、上記アルカリ可溶型
感光性バインダー樹脂を希釈し、粘度の調整をすると同
時に、硬化部分の物性を調節するために、光反応性モノ
マーを添加する。
(C) Photoreactive monomer In the paste composition of the present invention, the alkali-soluble photosensitive binder resin is diluted to adjust the viscosity and, at the same time, to adjust the physical properties of the cured portion. Add a functional monomer.

【0037】ここで用いる光反応性モノマーは、たとえ
ば以下の化学式III:
The photoreactive monomer used here is, for example, the following chemical formula III:

【0038】[0038]

【化7】 Embedded image

【0039】[式中、R5はHもしくはメチル基、R6
C2〜C9のアルキル基、分子量44〜1000のポリ
エチレンオキシド基、分子量56〜1000のポリプロ
ピレンオキシド基、もしくは
Wherein R 5 is H or a methyl group, R 6 is a C2-C9 alkyl group, a polyethylene oxide group having a molecular weight of 44-1000, a polypropylene oxide group having a molecular weight of 56-1000, or

【0040】[0040]

【化8】 Embedded image

【0041】[式中、nは1〜10の整数を表す]、そ
してR7はHもしくはメチル基を表す]、および以下の
化学式IV:
Wherein n represents an integer of 1 to 10, and R 7 represents H or a methyl group, and the following chemical formula IV:

【0042】[0042]

【化9】 Embedded image

【0043】[式中、R8はHもしくはメチル基、R9
C1〜C18のアルキル基、C7〜C26のアリールア
ルキル基、C8〜C18のアルキルアリール基を表す]
などに示される様なものであり、通常の紫外線硬化樹脂
組成物として用いられているものをいずれも使用するこ
とができる。
[Wherein, R 8 represents H or a methyl group, R 9 represents a C1-C18 alkyl group, a C7-C26 arylalkyl group, or a C8-C18 alkylaryl group]
And the like, and any of those used as ordinary ultraviolet curable resin compositions can be used.

【0044】例示するなら、C1〜C18のアルキル
(メタ)アクリレート、C1〜C8のアルコールエチレ
ンオキサイド誘導体(メタ)アクリレート、C1〜C1
8の(アルキル)フェノールエチレンオキサイド誘導体
(メタ)アクリレート、C2〜C9のジオールジ(メ
タ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、ビスフェノールAエチレンオキサイド誘導
体ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAプロピレ
ンオキサイド誘導体ジ(メタ)アクリレート、以下の化
学式:
For example, C1-C18 alkyl (meth) acrylate, C1-C8 alcohol ethylene oxide derivative (meth) acrylate, C1-C1
8, (alkyl) phenol ethylene oxide derivative (meth) acrylate, C2-C9 diol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth)
Acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol A ethylene oxide derivative di (meth) acrylate, bisphenol A propylene oxide derivative di (meth) acrylate, with the following chemical formula:

【0045】[0045]

【化10】 Embedded image

【0046】[式中、R10〜R12は同じでも異なってい
てもよく、Hもしくはメチル基を表し、またm、lおよ
びoはそれぞれ0以上の整数を表し、m+l+o=0〜
10である。]で示されるトリメチロールプロパン誘導
体(メタ)アクリレート、好ましくは、トリメチロール
プロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプ
ロパンエチレンオキサイド誘導体トリ(メタ)アクリレ
ートおよびトリメチロールプロパンプロレンオキサイド
誘導体トリ(メタ)アクリレート、以下の化学式:
Wherein R 10 -R 12 may be the same or different and represent H or a methyl group; m, l and o each represent an integer of 0 or more;
It is 10. A trimethylolpropane derivative (meth) acrylate, preferably trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropaneethylene oxide derivative tri (meth) acrylate and trimethylolpropaneprolene oxide derivative tri (meth) acrylate, The following chemical formula:

【0047】[0047]

【化11】 Embedded image

【0048】[式中、R13〜R15は同じでも異なってい
てもよく、Hもしくはメチル基を表し、またp、qおよ
びrはそれぞれ0以上の整数を表し、p+q+r=0〜
10である。]で示されるグリセリン誘導体(メタ)ア
クリレート、好ましくは、グリセリンエチレンオキサイ
ド誘導体トリ(メタ)アクリレートおよびグリセリンプ
ロレンオキサイド誘導体トリ(メタ)アクリレート、な
らびに以下の化学式:
[Wherein, R 13 to R 15 may be the same or different and each represents H or a methyl group; p, q and r each represent an integer of 0 or more;
It is 10. Glycerin derivative (meth) acrylate, preferably glycerin ethylene oxide derivative tri (meth) acrylate and glycerin prolene oxide derivative tri (meth) acrylate, and the following chemical formula:

【0049】[0049]

【化12】 Embedded image

【0050】[式中、R16〜R18は同じでも異なってい
てもよく、Hもしくはメチル基を表し、またR19はHも
しくは(メタ)アクリロイル基を表す。]で示される、
ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、等を挙
げることができるが、これらに限定されるものではな
い。
[Wherein R 16 to R 18 may be the same or different and represent H or a methyl group, and R 19 represents H or a (meth) acryloyl group. ],
Examples thereof include, but are not limited to, pentaerythritol tri (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate.

【0051】(d)光重合開始剤 光重合開始剤(d)は、露光部を硬化させるための重合
を開始するために添加する成分である。
(D) Photopolymerization Initiator The photopolymerization initiator (d) is a component added to initiate polymerization for curing the exposed portion.

【0052】特に、本発明のように隠蔽力の高い系にお
いては吸光度係数が高いものというよりはむしろ、吸収
した光エネルギーから効率良くラジカルを発生するも
の、換言すれば量子収率の高い光重合開始剤が求められ
る。
In particular, in a system having a high hiding power as in the present invention, rather than a system having a high absorbance coefficient, a system capable of efficiently generating radicals from absorbed light energy, in other words, a photopolymer having a high quantum yield. An initiator is required.

【0053】このような光重合開始剤として、アシルホ
スフィンオキシド基を含有する化合物単独、もしくはア
シルホスフィンオキシド基を含有する化合物とフェニル
ケトン基を含有するものとの併用系処方が挙げられる。
Examples of such a photopolymerization initiator include a compound containing an acylphosphine oxide group alone or a combination of a compound containing an acylphosphine oxide group and a compound containing a phenylketone group.

【0054】アシルホスフィンオキシド基を含有する化
合物としては、ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシ
ド、メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、
2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフ
ィンオキシド、ビス(2,6−ジクロロベンゾイル)4
−プロピルフェニルホスフィンオキシド、ビス(2、
4、6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィン
オキシドやその誘導体等が挙げられる。
Compounds containing an acylphosphine oxide group include benzoyldiphenylphosphine oxide, methylbenzoyldiphenylphosphine oxide,
2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dichlorobenzoyl) 4
-Propylphenylphosphine oxide, bis (2,
4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide and derivatives thereof.

【0055】フェニルケトン基を含有する化合物として
は、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパ
ン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)2−
ヒドロキシ2−メチル−プロパン−1−オン、1−ヒド
ロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、2,2−ジ
メトキシ−1、2−ジフェニルエタン−1−オン、2−
メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モ
ルホリノプロパノン−12−ベンジル−2−ジメチルア
ミノ−1−(4−モルホリノ−フェニル)ブタノン−1
等を例示することができる。
Compounds containing a phenyl ketone group include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) 2-
Hydroxy-2-methyl-propan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 2-
Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-12-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholino-phenyl) butanone-1
And the like.

【0056】また、必要に応じ、アミノ安息香酸類や、
色素等の増感助剤を適量併用しても差し支えない。
If necessary, aminobenzoic acids,
An appropriate amount of a sensitizing aid such as a dye may be used in combination.

【0057】光開始剤の添加量は、少なすぎても多すぎ
ても、ペースト組成物の使用性を損ね、実用に供し難い
ものとなってしまうことがあるので、前記した割合に調
整することが好ましい。
If the addition amount of the photoinitiator is too small or too large, the usability of the paste composition may be impaired and the paste composition may become difficult to be put to practical use. Is preferred.

【0058】(e)有機溶媒 本発明のペースト組成物のペーストとしての取り扱いを
よくするため、粘度の調整用として、テルピネオール、
ジヒドロテルピネオール、エチルセルソルブ、ブチルセ
ルソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、
またはそれらの酢酸エステル、ペンタンジオールアルキ
ルエーテル、ジブチルフタレートやγ−ブチロラクト
ン、その他、芳香族系、アルコール、エステル系、ケト
ン系などの有機溶媒が添加される。
(E) Organic solvent To improve the handling of the paste composition of the present invention as a paste, terpineol,
Dihydroterpineol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethyl carbitol, butyl carbitol,
Alternatively, organic solvents such as acetates, pentanediol alkyl ethers, dibutyl phthalate, γ-butyrolactone, and aromatic, alcohol, ester, and ketone solvents are added.

【0059】その添加量は、少なすぎるとペースト組成
物の粘度が高くなりすぎて使用性に劣るものとなり、ま
た多すぎると逆に低粘度となりライン形成が困難にな
り、特に膜厚が確保され難い場合が生じ得、また基板へ
の塗布後に乾燥させることによって無視できない歪みが
生じる可能性もあるため不都合であるので、前記した割
合に調整することが好ましい。
If the addition amount is too small, the viscosity of the paste composition becomes too high, resulting in inferior usability. If the addition amount is too large, on the other hand, the viscosity becomes low, making line formation difficult, and in particular, ensuring a sufficient film thickness. It is inconvenient because it may be difficult, and there is a possibility that non-negligible distortion may be caused by drying after coating on the substrate. Therefore, it is preferable to adjust the ratio to the above-mentioned ratio.

【0060】さらに、当該技術分野において知られてい
る熱重合禁止剤、酸化防止剤、安定化剤等を、如上の本
発明のペースト組成物の特徴を損ねない範囲で適宜添加
してもよい。
Further, a thermal polymerization inhibitor, an antioxidant, a stabilizer and the like known in the art may be appropriately added as long as the characteristics of the paste composition of the present invention are not impaired.

【0061】本発明のペースト組成物を製造するために
は、以上説明したような各成分を配合し、常法にてロー
ル等を用いて混錬してペースト化すればよい。
In order to produce the paste composition of the present invention, the components described above may be blended and kneaded using a roll or the like in a conventional manner to form a paste.

【0062】かかるペースト組成物の使用方法は、従来
の感光性導電ペーストの使用方法と実質的に同様であ
る。すなわち、焼結済みセラミック基板やグリーンシー
ト上に本発明のペースト組成物を塗布し、パターンマス
クで被覆後に露光して所定部分を硬化させ次いでアルカ
リ現像液に浸漬してエッチングを行う。このようにし
て、高膜厚でも微細なパターンも現像することができ、
高解像度に所望のファインパターン形成が成し遂げられ
るのである。
The method of using such a paste composition is substantially the same as the method of using a conventional photosensitive conductive paste. That is, the paste composition of the present invention is applied on a sintered ceramic substrate or a green sheet, coated with a pattern mask, exposed to light to cure a predetermined portion, and then immersed in an alkali developing solution for etching. In this way, a fine pattern can be developed even with a high film thickness,
The desired fine pattern formation with high resolution can be achieved.

【0063】[0063]

【実施例】以下、実施例によって本発明をさらに具体的
に説明するが、これら実施例は単なる例示に過ぎず、も
とより本発明を限定するものでないことはもちろんであ
る。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, these examples are merely examples, and are not intended to limit the present invention.

【0064】[合成例1]アルカリ可溶型感光性バイン
ダー樹脂の合成 攪拌器、コンデンサー、エア導入管および温度計を取り
付けた1Lのフラスコに、ハイドロキノンを0.005
g、カルボン酸変性セルロース誘導体(表1参照、ヒ
ドロキシプロピルメチルセルロースフタレートレート、
信越化学社製、商品名:HPMCP)を90.0g、ブ
チルカルビトールアセテート210.0gを仕込み、7
0℃まで昇温して溶解させた。空気を導入しながらグリ
シジルメタクリレートを16.1g仕込み、90℃まで
昇温させた。次いでそのまま90〜95℃で5時間攪拌
を継続した。反応終了は、IRスペクトルによって、オ
キシラン環に帰属される820cm-1の吸収の消失によ
り確認した。
[Synthesis Example 1] Synthesis of alkali-soluble photosensitive binder resin Hydroquinone was charged in a 1 L flask equipped with a stirrer, a condenser, an air inlet tube and a thermometer in an amount of 0.005.
g, carboxylic acid-modified cellulose derivative (see Table 1, hydroxypropyl methylcellulose phthalate,
90.0 g of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: HPMCP) and 210.0 g of butyl carbitol acetate were charged.
The temperature was raised to 0 ° C. to dissolve. While introducing air, 16.1 g of glycidyl methacrylate was charged and the temperature was raised to 90 ° C. Then, stirring was continued at 90 to 95 ° C. for 5 hours. The completion of the reaction was confirmed by the disappearance of the absorption at 820 cm -1 attributed to the oxirane ring by IR spectrum.

【0065】[合成例2]アルカリ可溶型感光性バイン
ダー樹脂の合成 攪拌器、コンデンサー、エア導入管、温度計を取り付け
た1Lのフラスコにハイドロキノンを0.005g、カ
ルボン酸変性セルロース誘導体(表1参照、ヒドロキ
シプロピルメチルセルロースヘキサヒドロフタレート、
信越化学社製、商品名:HPMCHHP)を90.0
g、ブチルカルビトールアセテート210.0gを仕込
み、70℃まで昇温して溶解させた。空気を導入しなが
らメタクリルロイルオキシエチルイソシアネートを1
1.0g仕込み、90℃まで昇温させた。次いでそのま
ま90〜95℃で5時間攪拌を継続した。反応終了は、
フリー−NCOを定法により化学滴定によって、−NC
Oが0.1mmol/g以下になることにより確認し
た。
[Synthesis Example 2] Synthesis of alkali-soluble photosensitive binder resin In a 1 L flask equipped with a stirrer, a condenser, an air inlet tube, and a thermometer, 0.005 g of hydroquinone was added to a carboxylic acid-modified cellulose derivative (Table 1). Reference, hydroxypropyl methylcellulose hexahydrophthalate,
90.0 from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: HPMCHHP)
g and butyl carbitol acetate (210.0 g) were charged and dissolved by heating to 70 ° C. While introducing air, methacrylloyloxyethyl isocyanate is added to 1
1.0 g was charged and the temperature was raised to 90 ° C. Then, stirring was continued at 90 to 95 ° C. for 5 hours. The end of the reaction
Free-NCO was determined by chemical titration according to a standard method to obtain -NC.
It was confirmed that O was 0.1 mmol / g or less.

【0066】[合成例3]アルカリ可溶型感光性バイン
ダー樹脂の合成 攪拌器、コンデンサー、エア導入管、温度計を取り付け
た1Lのフラスコにハイドロキノンを0.005g、カ
ルボン酸変性セルロース誘導体(表1参照、ヒドロキ
シプロピルメチルセルロースアセテートフタレート、信
越化学社製、商品名:HPMCAP)を90.0g、ブ
チルカルビトールアセテート210.0gを仕込み、7
0℃まで昇温して溶解させた。空気を導入しながらグリ
シジルメタクリレートを13.9g仕込み、90℃まで
昇温させた。次いでそのまま90〜95℃で5時間攪拌
を継続した。反応終了は、IRスペクトルによって、オ
キシラン環に帰属される820cm-1の吸収の消失によ
り確認した。
[Synthesis Example 3] Synthesis of alkali-soluble photosensitive binder resin In a 1 L flask equipped with a stirrer, a condenser, an air introduction tube, and a thermometer, 0.005 g of hydroquinone was added to a carboxylic acid-modified cellulose derivative (Table 1). Reference, 90.0 g of hydroxypropyl methylcellulose acetate phthalate, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: HPMCAP) and 210.0 g of butyl carbitol acetate were charged.
The temperature was raised to 0 ° C. to dissolve. While introducing air, 13.9 g of glycidyl methacrylate was charged and the temperature was raised to 90 ° C. Then, stirring was continued at 90 to 95 ° C. for 5 hours. The completion of the reaction was confirmed by the disappearance of the absorption at 820 cm -1 attributed to the oxirane ring by IR spectrum.

【0067】[0067]

【表1】 [Table 1]

【0068】以下、これらの合成例1〜3にて得られた
アルカリ可溶型感光性バインダー樹脂、表1記載のカル
ボキシル基含有セルロース誘導体、または、:メチル
メタクリレート−メタクリル酸−ブチルアクリレート=
65/25/10 mol%共重合体、または:ヒド
ロキシプロピルセルロース(ハーキュレス社製、商品
名:KULCEL)のメタクロイルオキシエチルイソシ
アネートをバインダー樹脂として用いて、誘電体ペース
ト組成物または導体ペースト組成物(それぞれ、表2お
よび表3に示す)を製造した。
The alkali-soluble photosensitive binder resins obtained in Synthesis Examples 1 to 3, carboxyl group-containing cellulose derivatives shown in Table 1, or: methyl methacrylate-methacrylic acid-butyl acrylate =
Using a 65/25/10 mol% copolymer or: methacryloyloxyethyl isocyanate of hydroxypropylcellulose (manufactured by Hercules, trade name: KULCEL) as a binder resin, a dielectric paste composition or a conductor paste composition ( (Shown in Tables 2 and 3 respectively).

【0069】各ペースト組成物に配合された成分は、そ
れぞれ以下のとおりである。 (a)無機粉末 A:ZnO・PbO・B23系ガラスフリット(旭硝子
社製、商品名:ASF−1550)、 B:PbO・B23・SiO2系ガラスフリット(日本
電気硝子社製、商品名:GA−9)、または C:CaO・PbO・B23・SiO2系ガラスフリッ
ト(旭硝子社製、商品名:YFT−061) (c)光反応性モノマー TMPTMA(トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、第一工業製薬社製、ニューフロンティアNFバイ
ソマーTMPTMA)、PEM−200(ポリエチレン
グリコール200ジメタクリレート、第一工業製薬社
製、ニューフロンティアNFバイソマーPEM−20
0)およびTEGDMA(トリエチレングリコールジメ
タクリレート、第一工業製薬社製、ニューフロンティア
NFバイソマーTEGDMA) (d)光重合開始剤 アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤Aとして、 I:ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、 II:メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシ
ド、 III:2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニル
フォスフィンオキシド、 IV:ビス(2,6−ジクロロベンゾイル)4−プロピ
ルフェニルホスフィンオキシド、または V:ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェ
ニルホスフィンオキシドフェニルケトン基含有(アセト
フェノン系)光重合開始剤Bとして、 VI:2―ヒドロキシ−1−フェニルプロパン−1−オ
ン、 VII:1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケ
トン、 VIII:2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエ
タノン、 IX:2−メチル−1−1[4−(メチルチオ)フェニ
ル]−2−モルホリノプロパノン−1、または X:2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モ
ルホリノ−フェニル)ブタノン−1 (e)有機溶媒 α−テルピネオール。
The components blended in each paste composition are as follows. (A) inorganic powders A: ZnO · PbO · B 2 O 3 based glass frit (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., trade name: ASF-1550), B: PbO · B 2 O 3 · SiO 2 based glass frit (Nippon Electric Glass Co. Ltd., trade name: GA-9), or C: CaO · PbO · B 2 O 3 · SiO 2 type glass frit (manufactured by Asahi glass Co., Ltd., trade name: YFT-061) (c) photoactive monomer TMPTMA (trimethylolpropane Propane trimethacrylate, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku, New Frontier NF Bisomer TMPTMA), PEM-200 (polyethylene glycol 200 dimethacrylate, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku, New Frontier NF Bisomer PEM-20)
0) and TEGDMA (triethylene glycol dimethacrylate, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., New Frontier NF Bisomer TEGDMA) (d) Photopolymerization initiator As acylphosphine oxide-based photopolymerization initiator A, I: benzoyldiphenylphosphine oxide, II : Methylbenzoyldiphenylphosphine oxide, III: 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, IV: bis (2,6-dichlorobenzoyl) 4-propylphenylphosphine oxide, or V: bis (2,4,6 -Trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide Phenyl ketone group-containing (acetophenone) photopolymerization initiator B, VI: 2-hydroxy-1-phenylpropan-1-one, VII: 1-hydroxy- Clohexyl-phenyl ketone, VIII: 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethanone, IX: 2-methyl-1-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1, or X: 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholino-phenyl) butanone-1 (e) Organic solvent α-terpineol.

【0070】[実施例1〜5] 誘電体ペーストの製造
と誘電体層の形成 表2に示した組成の各成分を予備混合後、EXAKT社
製セラミック3本ロールで混錬し、ペースト化した。
Examples 1 to 5 Production of Dielectric Paste and Formation of Dielectric Layer After premixing each component having the composition shown in Table 2, the mixture was kneaded with a three-roll ceramic roll manufactured by EXAKT to form a paste. .

【0071】得られたペーストは、#325メッシュの
ステンレススクリーンを用い、硝子基板上にベタ印刷
後、80℃×10分間の乾燥を5回繰り返し乾燥膜厚
で、100μmとした。そこへ、図1に示すクロムマス
ク10をのせて、800mJの平行光で露光した。かか
る図1に示すクロムマスク10は、図2の部分拡大図に
示すように、ライン幅Wおよびギャップ幅Gが共に50
μmである第1の領域1と、いずれも75μmである第
2の領域2とが形成されたものである。次いで、0.5
重量%のNa2CO3水溶液に2分間浸漬後、シャワーリ
ングして現像した。さらに、ベルトコンベア式焼成炉に
て空気中、ピーク温度600℃×10分間で焼成した。
なお、焼成後の膜厚は60μmであった。
The obtained paste was solid-printed on a glass substrate using a # 325 mesh stainless screen and then dried at 80 ° C. for 10 minutes five times to obtain a dry film thickness of 100 μm. Thereupon, a chrome mask 10 shown in FIG. 1 was placed, and exposure was performed with 800 mJ of parallel light. The chrome mask 10 shown in FIG. 1 has a line width W and a gap width G of 50 as shown in the partial enlarged view of FIG.
A first region 1 of μm and a second region 2 of 75 μm are formed. Then 0.5
After being immersed in a 2% by weight aqueous solution of Na 2 CO 3 for 2 minutes, it was showered and developed. Further, firing was performed in a belt conveyor type firing furnace at a peak temperature of 600 ° C. for 10 minutes in air.
The film thickness after firing was 60 μm.

【0072】こうして得られたサンプルについて、ライ
ン/ギャップ:75/75μm(図2、第1の領域
1)、および50/50μm(図2、第2の領域)にお
けるパターンを×80の倍率の実体顕微鏡で観察するこ
とによって、ライン形成性を評価した。ライン形成性の
評価は、「:全体がパターン化され、未露光部は完全に
エッチングされており断線、短絡線等の欠陥がない;
△:全体がパターン化されているが、未露光部のエッチ
ングが不充分であり断線、短絡線等の欠陥がある;およ
び×:エッチングができないか、または全体が溶解して
しまって現像ができない」とした。
For the sample thus obtained, the pattern at line / gap: 75/75 μm (FIG. 2, first area 1) and 50/50 μm (FIG. 2, second area) was magnified by × 80. Line formation was evaluated by observation with a microscope. The evaluation of the line formability is as follows: ": The whole is patterned, the unexposed portions are completely etched, and there are no defects such as disconnection and short-circuit lines;
Δ: The whole is patterned, but the etching of the unexposed portion is insufficient and there is a defect such as a disconnection or a short circuit; and ×: The etching cannot be performed or the whole is dissolved and cannot be developed. "

【0073】[0073]

【表2】 [Table 2]

【0074】表2に明らかなとおり、本発明にかかるペ
ースト組成物によると、好ましいライン形成性にて高膜
厚の誘電体層を形成することができた。
As is clear from Table 2, according to the paste composition of the present invention, a high-thickness dielectric layer could be formed with preferable line forming properties.

【0075】[実施例6〜10] 導体ペーストの製造
と導体層の形成 表3に示した組成の各成分を予備混合後、EXAKT社
製セラミック3本ロールで混錬しペースト化した。無機
粉末としては、ガラスフリット由来の粉末と金属粉末と
を併用した。
Examples 6 to 10 Production of Conductive Paste and Formation of Conductive Layer Each component having the composition shown in Table 3 was preliminarily mixed and kneaded with a three-roll ceramic roll manufactured by EXAKT to form a paste. As the inorganic powder, a powder derived from glass frit and a metal powder were used in combination.

【0076】得られたペーストは、#325メッシュス
テンレススクリーンを用い、アルミナ基板上にベタ印
刷、80℃×10分間乾燥を3回繰り返し、乾燥膜厚を
60μmとした。そこへ、図1に示すクロムマスクをの
せて、800mJの平行光で露光した。次いで、0.5
重量%のNa2CO3水溶液に2分間浸漬後、シャワーリ
ングして現像した。
The obtained paste was solid printed on an alumina substrate and dried at 80 ° C. for 10 minutes three times by using a # 325 mesh stainless screen to make the dry film thickness 60 μm. Thereupon, a chrome mask shown in FIG. 1 was placed, and exposure was performed with 800 mJ of parallel light. Then 0.5
After being immersed in a 2% by weight aqueous solution of Na 2 CO 3 for 2 minutes, it was showered and developed.

【0077】さらに、ベルトコンベア式焼成炉にて、A
g含有ペースト組成物は空気中、Cu含有ペースト組成
物およびNi含有ペースト組成物はN2中にて、ピーク
温度850℃×10分間で焼成した。次いで、得られた
サンプルの形状を観察し、上記実施例1〜5にて記載し
たと同様、ライン形成性を評価した。なお、焼成後の膜
厚は、30μmであった。
Further, in a belt conveyor type firing furnace, A
The g-containing paste composition was baked in air, and the Cu-containing paste composition and the Ni-containing paste composition were baked in N 2 at a peak temperature of 850 ° C. for 10 minutes. Next, the shape of the obtained sample was observed, and the line formability was evaluated in the same manner as described in Examples 1 to 5 above. The thickness after firing was 30 μm.

【0078】比較例1として、カルボキシル基含有バイ
ンダー樹脂を用いず、ヒドロキシプロピルセルロースの
メタクロイルオキシエチルイソシアネートを用いて同
様のペースト組成物製造し、導体層形成を試みた。
As Comparative Example 1, a similar paste composition was prepared using hydroxypropylcellulose methacryloyloxyethyl isocyanate without using a carboxyl group-containing binder resin, and an attempt was made to form a conductor layer.

【0079】[0079]

【表3】 [Table 3]

【0080】表3に明らかなとおり、本発明にかかるペ
ースト組成物によると、好ましいライン形成性にて高膜
厚の誘電体層を形成することができた。一方、比較例1
によるとライン形成性が不良であった。
As is clear from Table 3, according to the paste composition of the present invention, a high-thickness dielectric layer could be formed with preferable line forming properties. On the other hand, Comparative Example 1
According to the results, the line formability was poor.

【0081】[0081]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によって、
回路基板上などに導体/誘電体パターンを形成するうえ
で、高効率の光重合開始に基づき20μm以上の高い膜
厚でも高解像度でアルカリエッチングが成し遂げられ、
もってファインパターンのライン形成を実現することが
できる導体/誘電体形成材料が提供される。
As described above, according to the present invention,
In forming a conductor / dielectric pattern on a circuit board or the like, alkali etching can be achieved with high resolution even at a film thickness of 20 μm or more based on the initiation of highly efficient photopolymerization,
Thus, a conductor / dielectric forming material capable of realizing fine pattern line formation is provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかるペースト組成物を適用する際に
利用されるクロムマスクの形状を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing the shape of a chromium mask used when applying a paste composition according to the present invention.

【図2】図2に示したクロムマスクの部分拡大図であ
る。
FIG. 2 is a partially enlarged view of the chrome mask shown in FIG.

【符号の説明】 1…第1の領域 2…第2の領域 10…クロムマスク[Description of Signs] 1 ... first area 2 ... second area 10 ... chrome mask

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08F 291/00 C08F 291/00 5G301 G03F 7/029 G03F 7/029 5G303 7/038 501 7/038 501 H01B 1/22 H01B 1/22 A 3/00 3/00 A H05K 1/09 H05K 1/09 D Fターム(参考) 2H025 AA01 AA02 AA19 AB17 AC01 AD01 BC13 BC42 BC81 BC83 BC86 CA02 CA35 CC08 CC09 CC20 FA17 FA29 4E351 BB01 BB31 CC11 DD04 DD05 DD06 DD10 DD17 DD19 DD20 DD31 DD52 EE02 EE03 EE11 EE13 EE25 EE26 GG01 4J011 PA03 PA07 PA15 PA53 PA65 PA68 PA69 PB08 PB40 PC02 QA03 QB02 QB03 QB16 QB28 SA02 SA14 SA16 SA84 UA01 VA01 WA01 4J026 AA02 BA26 BA27 BA28 BB01 DB02 DB06 DB09 DB30 DB36 GA07 4J027 AA01 AA02 AC03 AC04 AC06 AH00 BA24 CA12 CA20 CB10 CC05 CD10 5G301 DA03 DA04 DA05 DA06 DA08 DA09 DA10 DA11 DA12 DA14 DA33 DA34 DA35 DA36 DA42 DD01 5G303 AA05 AA08 AB20 BA12 CA01 CA03 CA09 CB01 CB02 CB03 CB06 CB17 CB25 CB30 CB38 CC01 CD01 CD04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat ゛ (Reference) C08F 291/00 C08F 291/00 5G301 G03F 7/029 G03F 7/029 5G303 7/038 501 501/03/501 501 H01B 1/22 H01B 1/22 A 3/00 3/00 A H05K 1/09 H05K 1/09 DF term (reference) 2H025 AA01 AA02 AA19 AB17 AC01 AD01 BC13 BC42 BC81 BC83 BC86 CA02 CA35 CC08 CC09 CC20 FA17 FA29 4E351 BB01 BB31 CC11 DD04 DD05 DD06 DD10 DD17 DD19 DD20 DD31 DD52 EE02 EE03 EE11 EE13 EE25 EE26 GG01 4J011 PA03 PA07 PA15 PA53 PA65 PA68 PA69 PB08 PB40 PC02 QA03 QB02 QB03 QB16 QB28 SA02 SA14 BA02 BA01 BA01 A02 BA01 DB30 DB36 GA07 4J027 AA01 AA02 AC03 AC04 AC06 AH00 BA24 CA12 CA20 CB10 CC05 CD10 5G301 DA03 DA04 DA05 DA06 DA08 DA09 DA10 DA11 DA12 DA14 DA33 DA34 DA35 DA36 DA42 DD01 5G303 AA05 AA08 AB20 BA12 CA01 CA03 CA09 CB01 CB02 CB03 CB06 CB17 CB25 CB30 CB38 CC01 CD01 CD04

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルカリ現像型ペースト組成物であっ
て、 a)無機粉末40〜97重量部、 b)カルボキシル基含有感光性バインダー樹脂0.5〜
30重量部、 c)光反応性モノマー0.5〜30重量部、 d)光重合開始剤0.2〜20重量部、および e)有機溶媒1〜30重量部 を含むペースト組成物。
1. An alkaline developing paste composition comprising: a) 40 to 97 parts by weight of an inorganic powder; b) 0.5 to 0.5 parts by weight of a carboxyl group-containing photosensitive binder resin.
A paste composition comprising 30 parts by weight, c) 0.5 to 30 parts by weight of a photoreactive monomer, d) 0.2 to 20 parts by weight of a photopolymerization initiator, and e) 1 to 30 parts by weight of an organic solvent.
【請求項2】 前記カルボキシル基含有感光性バインダ
ー樹脂が、以下の化学式I: 【化1】 [式I中、R1は同じでも異なっていてもよく、水素原
子、C1〜C4のアルキル基、−OCR2COOH(R2
は、C2〜C4のアルキル基、フェニル基もしくはシク
ロヘキシル基を表す)、−C36OH、−C24OHま
たは−COCH3を表し、グルコースユニットあたり少
なくとも0.1モルの−OCR2COOHを含む]に示
すカルボキシル基含有セルロース誘導体、該カルボキシ
ル基含有セルロース誘導体のメタクリロイルオキシエチ
ルイソシアネート付加体、または該カルボキシル基含有
セルロース誘導体のグリシジルメタクリレート付加体で
ある、請求項1記載のペースト組成物。
2. The carboxyl group-containing photosensitive binder resin has the following chemical formula I: [In formula I, R 1 may be the same or different and include a hydrogen atom, a C1-C4 alkyl group, —OCR 2 COOH (R 2
Represents an alkyl group, a phenyl group or cyclohexyl group C2~C4), - C 3 H 6 OH, -C 2 H 4 OH or an -COCH 3, of at least 0.1 mol per glucose unit -OCR 2 COOH], the carboxyl group-containing cellulose derivative, a methacryloyloxyethyl isocyanate adduct of the carboxyl group-containing cellulose derivative, or a glycidyl methacrylate adduct of the carboxyl group-containing cellulose derivative.
【請求項3】 前記カルボキシル基含有感光性バインダ
ー樹脂が、以下の化学式II: 【化2】 [式II中、R3は、水素原子もしくはCH3を表し、そ
れぞれ同じでも異なっていてもよく、R4は、C1〜C
18のアルキル基、フェニル基もしくはアリールアルキ
ル基を表し、l、mおよびnは1以上の整数を表す]に
示すカルボキシル基含有アクリル系樹脂、または化学式
IIに示す化合物にグリシジル(メタ)アクリレートが
付加された、カルボキシル基とメタクリロイル基とを含
有する樹脂である請求項1記載のペースト組成物。
3. The carboxyl group-containing photosensitive binder resin has the following chemical formula II: [In formula II, R 3 represents a hydrogen atom or CH 3 , which may be the same or different, and R 4 is
Wherein glycidyl (meth) acrylate is added to a carboxyl group-containing acrylic resin represented by the formula (1) or a compound represented by the formula (II), wherein l, m and n each represent an integer of 1 or more. The paste composition according to claim 1, which is a resin containing a carboxyl group and a methacryloyl group.
【請求項4】 前記光重合開始剤が、アシルホスフィン
オキシド基を含有するもの単独、またはアシルホスフィ
ンオキシド基を含有するものとフェニルケトン基含有開
始剤との併用系である、請求項1乃至3のいずれかに記
載のペースト組成物。
4. The photopolymerization initiator according to claim 1, wherein the photopolymerization initiator is an initiator containing an acylphosphine oxide group alone, or a combination of an initiator containing an acylphosphine oxide group and an initiator containing a phenylketone group. The paste composition according to any one of the above.
【請求項5】 前記無機粉末が、Au、Ag、Cu、P
d、Pt、Ni、Al、W、MoおよびMnの金属粉末
からなる群より選択される少なくとも1種以上である請
求項1乃至4のいずれかに記載のペースト組成物。
5. The method according to claim 1, wherein the inorganic powder is Au, Ag, Cu, P
The paste composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the paste composition is at least one selected from the group consisting of metal powders of d, Pt, Ni, Al, W, Mo, and Mn.
【請求項6】 前記無機粉末が、Si、Pb、B、Z
n、Al、Ca、MgおよびBaの酸化物の1種以上、
またはそれら金属酸化物の1種以上を構成成分として含
有する少なくとも1種のガラス粉末である、請求項1乃
至4のいずれかに記載のペースト組成物。
6. The method according to claim 1, wherein the inorganic powder is Si, Pb, B, Z.
one or more of oxides of n, Al, Ca, Mg and Ba;
5. The paste composition according to claim 1, wherein the paste composition is at least one kind of glass powder containing at least one kind of these metal oxides as a component.
【請求項7】 前記無機粉末が、Au、Ag、Cu、P
d、Pt、Ni、Al、W、MoおよびMnの金属粉末
からなる群より選択される少なくとも1種以上と、S
i、Pb、B、Zn、Al、Ca、MgおよびBaの酸
化物の1種以上またはそれら金属酸化物の1種以上を構
成成分として含有する少なくとも1種のガラス粉末との
組み合わせである請求項1乃至4のいずれかに記載のペ
ースト組成物。
7. The method according to claim 1, wherein the inorganic powder is Au, Ag, Cu, P
at least one selected from the group consisting of metal powders of d, Pt, Ni, Al, W, Mo and Mn;
A combination with at least one glass powder containing at least one of oxides of i, Pb, B, Zn, Al, Ca, Mg and Ba or at least one of these metal oxides as a constituent. 5. The paste composition according to any one of 1 to 4.
JP2000269930A 2000-09-06 2000-09-06 Alkali development type photosensitive paste composition Expired - Fee Related JP4437603B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000269930A JP4437603B2 (en) 2000-09-06 2000-09-06 Alkali development type photosensitive paste composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000269930A JP4437603B2 (en) 2000-09-06 2000-09-06 Alkali development type photosensitive paste composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002082428A true JP2002082428A (en) 2002-03-22
JP4437603B2 JP4437603B2 (en) 2010-03-24

Family

ID=18756459

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000269930A Expired - Fee Related JP4437603B2 (en) 2000-09-06 2000-09-06 Alkali development type photosensitive paste composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4437603B2 (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011180580A (en) * 2010-02-02 2011-09-15 Toray Ind Inc Photosensitive paste for forming organic-inorganic composite conductive pattern and method for producing organic-inorganic composite conductive pattern
JP2011186019A (en) * 2010-03-05 2011-09-22 Toray Ind Inc Photosensitive conductive paste and method producing conductive pattern
JP2013136727A (en) * 2011-11-29 2013-07-11 Taiyo Ink Mfg Ltd Conductive resin composition and conductive circuit
WO2016052026A1 (en) * 2014-09-30 2016-04-07 富士フイルム株式会社 Method for manufacturing article having recessed and projected structure, and article having recessed and projected structure
JP2016071342A (en) * 2014-09-30 2016-05-09 富士フイルム株式会社 Method for producing article having uneven structure and article having uneven structure
JP2017190404A (en) * 2016-04-14 2017-10-19 新中村化学工業株式会社 Burned paste composition and manufacturing method of copolymer
KR20190058465A (en) 2016-09-30 2019-05-29 도레이 카부시키가이샤 Photosensitive resin composition, method of manufacturing conductive pattern, substrate, touch panel and display
CN111699436A (en) * 2018-02-08 2020-09-22 株式会社则武 Photosensitive composition and application thereof

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011180580A (en) * 2010-02-02 2011-09-15 Toray Ind Inc Photosensitive paste for forming organic-inorganic composite conductive pattern and method for producing organic-inorganic composite conductive pattern
JP2011186019A (en) * 2010-03-05 2011-09-22 Toray Ind Inc Photosensitive conductive paste and method producing conductive pattern
JP2013136727A (en) * 2011-11-29 2013-07-11 Taiyo Ink Mfg Ltd Conductive resin composition and conductive circuit
WO2016052026A1 (en) * 2014-09-30 2016-04-07 富士フイルム株式会社 Method for manufacturing article having recessed and projected structure, and article having recessed and projected structure
JP2016071342A (en) * 2014-09-30 2016-05-09 富士フイルム株式会社 Method for producing article having uneven structure and article having uneven structure
JP2017190404A (en) * 2016-04-14 2017-10-19 新中村化学工業株式会社 Burned paste composition and manufacturing method of copolymer
KR20190058465A (en) 2016-09-30 2019-05-29 도레이 카부시키가이샤 Photosensitive resin composition, method of manufacturing conductive pattern, substrate, touch panel and display
US11422464B2 (en) 2016-09-30 2022-08-23 Toray Industries, Inc. Photosensitive resin composition, method of producing electrically conductive pattern, substrate, touch panel, and display
CN111699436A (en) * 2018-02-08 2020-09-22 株式会社则武 Photosensitive composition and application thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP4437603B2 (en) 2010-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105694582B (en) Photocuring solder resist ink
JP4071171B2 (en) Photosensitive conductive composition and plasma display panel
KR101120229B1 (en) Conductive paste and electrode using the same
KR20020060683A (en) Alkalidevelopment type photocurable composition and pattern of burned matter obtained from the same
WO2008023712A1 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive film, and method for formation of pattern
TW200300137A (en) (Meth) acryloyl group-containing compound and method for producing the same
JP4437603B2 (en) Alkali development type photosensitive paste composition
WO1996042035A1 (en) Photosensitive paste, plasma display, and process for the production thereof
JP2000319311A (en) Photosensitive paste and display member using the same, plasma display and production of the display member
JP2000090738A (en) Photosensitive glass paste composition and burned material pattern formation method using it
WO2006100825A1 (en) Photocurable resin composition for forming black matrix, photosensitive film using the same, method for forming black matrix, black matrix and plasma display panel having the black matrix
JP4034555B2 (en) Photocurable thermosetting conductive composition and method for forming conductive circuit using the same
JP3632868B2 (en) Resin composition and cured product thereof
JP2008129503A (en) Alkali developable photosensitive paste composition
JP3681016B2 (en) Resin composition and cured product thereof
JP3611478B2 (en) Alkali development type photosensitive paste composition
JP5916482B2 (en) Photosensitive conductive paste and conductive circuit
JPH0977966A (en) Resin composition and its cured material
JP3599733B2 (en) Photosensitive conductive paste and conductive pattern formed using the same
JP2006278221A (en) Photosensitive black paste for all together calcination, and manufacturing method of pdp front substrate using this paste
JP4278312B2 (en) Method for forming conductive circuit pattern
JP3611477B2 (en) Alkali development type photosensitive paste composition
JP2003280181A (en) Photosensitive electrically conductive paste and electric conductor pattern formed using the same
JP2010009777A (en) Photosensitive conductive paste and manufacturing method of electrode pattern using the same
JP2002131927A (en) Method for reusing inorganic powder for photosensitive paste

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070327

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091015

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091020

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091127

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20091222

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20091224

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130115

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4437603

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130115

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140115

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees