JP2002020502A - Polypropylene resin film improved in gas barrier property - Google Patents

Polypropylene resin film improved in gas barrier property

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JP2002020502A
JP2002020502A JP2000212977A JP2000212977A JP2002020502A JP 2002020502 A JP2002020502 A JP 2002020502A JP 2000212977 A JP2000212977 A JP 2000212977A JP 2000212977 A JP2000212977 A JP 2000212977A JP 2002020502 A JP2002020502 A JP 2002020502A
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crystalline polypropylene
zirconium dichloride
film
gas barrier
group
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JP2000212977A
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Japanese (ja)
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Yasunori Nakamura
康則 中村
Tadashi Sezume
忠司 瀬詰
Takao Tayano
孝夫 田谷野
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Japan Polychem Corp
Original Assignee
Japan Polychem Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a propylene resin film improved in gas barrier properties, formed by giving the gas barrier properties to crystalline polypropylene itself without deteriorating characteristics of the crystalline polypropylene. SOLUTION: This propylene resin film improved in the gas barrier properties is formed by using the crystalline polypropylene having the following characteristics (1) to (4):(1) a melt flow rate(MFR) of 0.5-200 g/10 min; (2) a melting point [Tm( deg.C)] of 110-160 deg.C; (3) a ratio of the weight average molecular weight to the number average molecular weight (Q-value) of 2.0-4.0; and (4) a growth rate of spherulite radius [S (μm/sec)] at an isothermal crystallization temperature [Tt( deg.C) which is specified by the formula: Tt=Tm-30] satisfying the following inequity: S>0.140, wherein a relationship between Tm of the crystalline polypropylene and the oxygen permeability [D (cc/m2.24 Hr.atm)] of the formed film satisfies the following inequality: D<=-60×Tm+10,300.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は結晶性ポリプロピレ
ンフィルムに関する。さらに詳しくは、透明性、剛性に
優れ、かつ、耐水蒸気透過性、耐ガス透過性に優れたガ
スバリア性の改良されたポリプロピレン樹脂フィルムに
関する。
[0001] The present invention relates to a crystalline polypropylene film. More specifically, the present invention relates to a polypropylene resin film having excellent transparency and rigidity, and having improved gas barrier properties having excellent water vapor transmission resistance and gas transmission resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】結晶性ポリプロピレンからなるフィルム
は、その優れた剛性、耐熱性等の機械的性質、透明性、
光沢などの光学的性質、さらには無毒性、無臭性などの
衛生的特性を生かして、包装用フィルム等として広く利
用されている。
2. Description of the Related Art A film made of crystalline polypropylene has excellent rigidity, mechanical properties such as heat resistance, transparency, and the like.
It is widely used as a packaging film and the like, taking advantage of its optical properties such as gloss and hygiene properties such as non-toxicity and odorlessness.

【0003】しかし、食品および医薬品などの分野での
包装用フィルムとしては、防湿性、酸素遮断性といった
ガスガスバリア性が十分でないという問題がある。ガス
バリア性を向上させる方法として、ガスバリア性の高い
ポリビニルアルコールやポリエチレンビニルアルコール
共重合体、あるいはポリ塩化ビニリデン系樹脂からなる
フィルムとの複合フィルムとする方法や、アルミニウム
などの金属を蒸着する方法、石油樹脂や環状オレフィン
系重合体を配合する方法などが提案されている。しかし
上記の方法は、改良効果が充分でなかったり、あるいは
結晶性ポリプロピレン以外の付加成分を使用するために
耐熱性の低下等結晶性ポリプロピレンのもつ優れた特性
が阻害される等の理由から望ましくない場合があり、結
晶性ポリプロピレン自体にガスバリア性を付与すること
が望ましい。
[0003] However, packaging films in the fields of foods and pharmaceuticals have a problem that gas-gas barrier properties such as moisture-proof properties and oxygen-blocking properties are not sufficient. As a method of improving gas barrier properties, a method of forming a composite film with a film made of polyvinyl alcohol or polyethylene vinyl alcohol copolymer having high gas barrier properties or a polyvinylidene chloride resin, a method of evaporating a metal such as aluminum, a method of A method of blending a resin or a cyclic olefin polymer has been proposed. However, the above method is not desirable because the improvement effect is not sufficient or the excellent properties of crystalline polypropylene such as a decrease in heat resistance due to the use of additional components other than crystalline polypropylene are impaired. In some cases, it is desirable to impart gas barrier properties to the crystalline polypropylene itself.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
状況下、結晶性ポリプロピレンの特性を阻害することな
く、結晶性ポリプロピレン自身にガスバリア性を付与し
た、ガスバリア性の高いフィルムを提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a film having a high gas barrier property in which a gaseous barrier property is imparted to the crystalline polypropylene itself without impairing the properties of the crystalline polypropylene under such circumstances. It is in.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明はかかる目的を達
成するために鋭意検討をした結果なされたもので、特定
の結晶性ポリプロピレンからなるフィルムが、従来のポ
リプロピレンフィルムにはない高いガスバリア性を有す
ることを見出して本発明を完成させた。
Means for Solving the Problems The present invention has been made as a result of intensive studies in order to achieve the above object, and a film made of a specific crystalline polypropylene has a high gas barrier property not found in a conventional polypropylene film. The inventors have found that the present invention has the above and completed the present invention.

【0006】具体的には本発明は、下記の要件(1)〜
(4)を充足する結晶性ポリプロピレンを成形してなる
フィルムであって、結晶性ポリプロピレンの融点Tm
(℃)と該フィルムの酸素透過度D(cc/m2・24
Hr・atm)との関係が式(A)を満たすことを特徴
とするガスバリア性の改良されたポリプロピレン樹脂フ
ィルムを提供するものである。
Specifically, the present invention provides the following requirements (1) to
A film formed by molding crystalline polypropylene satisfying (4), wherein the melting point Tm of the crystalline polypropylene is
(° C.) and the oxygen permeability D (cc / m 2 · 24) of the film.
(Hr.atm) which satisfies the formula (A).

【0007】 (1)MFRが0.5〜200g/10min.であること、 (2)融点Tmが110〜160℃であること、 (3)Q値が2.0〜4.0であること、 (4)等温結晶化温度Tt(℃、ただし、Tt=Tm−30)における球晶半 径成長速度S(μm/秒)が式(Ia)を満たすこと、 S>0.140(μm/秒) …(Ia) (5)フィルム D/(cc/m2・24Hr・atm)≦−60×Tm/℃+10300 …(A)(1) MFR is 0.5 to 200 g / 10 min. (2) the melting point Tm is 110 to 160 ° C .; (3) the Q value is 2.0 to 4.0; (4) the isothermal crystallization temperature Tt (° C., where Tt = Tm-30) that the spherulite radius growth rate S (μm / sec) satisfies the formula (Ia), S> 0.140 (μm / sec) (Ia) (5) Film D / (cc / m) (2 · 24Hr · atm) ≦ −60 × Tm / ° C. + 10300 (A)

【0008】また本発明は、結晶性ポリプロピレンがメ
タロセン系触媒を用いて重合された重合体である上記の
ガスバリア性の改良されたポリプロピレン樹脂フィル
ム、及び、結晶性ポリプロピレンがプロピレン・α−オ
レフィンランダム共重合体である上記のガスバリア性の
改良されたポリプロピレン樹脂フィルムを提供するもの
である。
The present invention also provides a polypropylene resin film having improved gas barrier properties, wherein the crystalline polypropylene is a polymer obtained by polymerization using a metallocene catalyst, and a method in which the crystalline polypropylene is a propylene / α-olefin random copolymer. An object of the present invention is to provide a polypropylene resin film which is a polymer and has an improved gas barrier property.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明のガスバリア性の改良され
たポリプロピレン樹脂フィルムは、それを構成する結晶
性ポリプロピレンの融点Tmと酸素透過度D(cc/m
2・24Hr・atm)との関係が式(A)を満たすも
のである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The polypropylene resin film having improved gas barrier properties of the present invention has a melting point Tm and an oxygen permeability D (cc / m) of the crystalline polypropylene constituting the film.
(2 · 24Hr · atm) satisfies the expression (A).

【0010】 D/(cc/m2・24Hr・atm)≦−60×Tm/℃+10300 …(A)D / (cc / m 2 · 24Hr · atm) ≦ −60 × Tm / ° C. + 10300 (A)

【0011】好ましくは(A2)、更に好ましくは
(A3)を満たすものである。
Preferably, (A 2 ) is satisfied, and more preferably, (A 3 ) is satisfied.

【0012】 D/(cc/m2・24Hr・atm)≦−60×Tm/℃+10100 …(A2) D/(cc/m2・24Hr・atm)≦−60×Tm/℃+9900 …(A3D / (cc / m 2 · 24Hr · atm) ≦ −60 × Tm / ° C. + 10100 (A 2 ) D / (cc / m 2 · 24Hr · atm) ≦ −60 × Tm / ° C. + 9900 (( A 3)

【0013】この関係式を満たさないフィルムは、所期
のガスバリア性を有したフィルムとはいえず、本発明が
目的とするフィルムではない。
A film that does not satisfy this relational expression cannot be said to be a film having the desired gas barrier properties, and is not an object of the present invention.

【0014】本発明のガスバリア性の改良されたポリプ
ロピレン樹脂フィルムを得るために用いられる結晶性ポ
リプロピレンとしては、MFRが0.5〜200g/1
0min.、好ましくは1〜100g/10min.、
より好ましくは2〜50g/10min.とされる。M
FRが上記範囲より低い場合は、フィルムの表面性状に
不良が生じるため好適な生産性が得られず、上記範囲よ
り高い場合は連続的なフィルムの生産が困難となる。
The crystalline polypropylene used to obtain the polypropylene resin film having improved gas barrier properties of the present invention has an MFR of 0.5 to 200 g / 1.
0 min. , Preferably 1 to 100 g / 10 min. ,
More preferably, 2 to 50 g / 10 min. It is said. M
When the FR is lower than the above-mentioned range, the surface properties of the film are poor, so that suitable productivity cannot be obtained. When the FR is higher than the above-mentioned range, continuous film production becomes difficult.

【0015】また、本発明のガスバリア性の改良された
ポリプロピレン樹脂フィルムを得るために用いられる結
晶性ポリプロピレンは、Tm(℃)が110〜160
℃、好ましくは115〜150℃、より好ましくは12
0〜140℃とされる。Tmが上記範囲より低い場合は
本発明においても好適な耐ブロッキング性が得られず、
上記範囲より高い場合は好適な低温ヒートシール性が得
られない。
The crystalline polypropylene used to obtain the polypropylene resin film having improved gas barrier properties of the present invention has a Tm (° C.) of 110 to 160.
° C, preferably 115-150 ° C, more preferably 12 ° C.
0-140 ° C. When Tm is lower than the above range, a suitable blocking resistance cannot be obtained in the present invention,
If it is higher than the above range, a suitable low-temperature heat sealability cannot be obtained.

【0016】また、結晶性ポリプロピレンのQ値は、
2.0〜4.0、好ましくは2.3〜3.8、より好ま
しくは2.6〜3.6とされる。Q値が上記範囲より低
い場合はフィルムの成形性が低下し、上記範囲より高い
場合はフィルムの表面状態が悪くなると共に耐ブロッキ
ング性が悪化するため好ましくない。
The Q value of the crystalline polypropylene is as follows:
2.0 to 4.0, preferably 2.3 to 3.8, more preferably 2.6 to 3.6. When the Q value is lower than the above range, the moldability of the film decreases, and when the Q value is higher than the above range, the surface state of the film deteriorates and the blocking resistance deteriorates.

【0017】さらに本発明に使用される結晶性ポリプロ
ピレンは、等温結晶化温度Tt(℃、ただし、Tt=T
m−30)における球晶半径成長速度S(μm/秒)が
式(Ia)を満たすものである。好ましくは下記式(I
b)、より好ましくは下記式(Ic)を満たすものとさ
れる。Sがこの範囲未満ではブロッキング性が低下する
ため好ましくない。
Further, the crystalline polypropylene used in the present invention has an isothermal crystallization temperature Tt (° C., where Tt = T
m-30), the spherulite radius growth rate S (μm / sec) satisfies the formula (Ia). Preferably, the following formula (I)
b), and more preferably those satisfying the following formula (Ic). If S is less than this range, the blocking property is undesirably reduced.

【0018】 S>0.140(μm/秒) ・・・(Ia) S>0.160(μm/秒) ・・・(Ib) S>0.180(μm/秒) ・・・(Ic)S> 0.140 (μm / sec) (Ia) S> 0.160 (μm / sec) (Ib) S> 0.180 (μm / sec) (Ic) )

【0019】上記の要件(1)〜(4)を充足する結晶
性ポリプロピレンは、上記の各特性を示す他、フィルム
状に成形した際、その結晶形態に何らかの作用を与え、
Tmから予想されるよりも高いガスバリア性が発現され
る。
The crystalline polypropylene that satisfies the above requirements (1) to (4) exhibits the above-mentioned respective properties and gives some effect to the crystal form when formed into a film.
A higher gas barrier property than expected from Tm is exhibited.

【0020】本明細書において球晶半径成長速度Sは、
以下の方法によって求めることができる。すなわち、厚
さ20μmのアルミ箔をスペーサーとして設置した2枚
のガラス板で試料樹脂を挟み、200℃のホットプレー
ト上で5分間加熱し、十分な溶融状態を形成する。しか
る後に、温度調整槽(リンカム社製TC−600Ph)
に移し、窒素雰囲気下、200℃で1分間保持する。槽
の温度を等温結晶化温度Tt(当該樹脂の融点−30
℃)まで75℃/分の速度で降温し、状態変化を観察す
る。観察装置としては、例えば、オリンパス製顕微鏡B
H−2に同社製CCDカメラFDC−725を用いるこ
とができる。なお、槽の温度誤差は±0.1℃を維持せ
しめる。得られた画像データをNational in
sutitute of healthより提供されて
いるフリーウェアソフトNIMイメージを使用して解析
を行い、経過時間に対する球晶をプロットして得られる
直線の傾きからSが求められる。なおSは試行回数20
回以上の平均値とする。
In the present specification, the spherulite radius growth rate S is:
It can be determined by the following method. That is, the sample resin is sandwiched between two glass plates provided with aluminum foil having a thickness of 20 μm as spacers, and heated on a hot plate at 200 ° C. for 5 minutes to form a sufficiently molten state. After a while, the temperature control tank (TC-600Ph manufactured by Linkham)
And kept at 200 ° C. for 1 minute under a nitrogen atmosphere. The temperature of the tank is adjusted to the isothermal crystallization temperature Tt (the melting point of the resin minus 30).
(C) at a rate of 75 ° C./min, and observe the state change. As an observation device, for example, Olympus microscope B
The company's CCD camera FDC-725 can be used for H-2. In addition, the temperature error of the tank is maintained at ± 0.1 ° C. The obtained image data is translated into National in
Analysis is performed using freeware software NIM image provided by the university of health, and S is obtained from the slope of a straight line obtained by plotting spherulite with respect to elapsed time. S is the number of trials 20
The average value shall be the number of times or more.

【0021】本発明に使用される結晶性ポリプロピレン
は、上記要件を満たすものであれば何ら限定されるもの
ではなく、たとえば、本発明に使用される結晶性ポリプ
ロピレンはプロピレン単独重合体であってもプロピレン
−α−オレフィンランダム共重合体であっても、あるい
はこれらの混合物であってもよい。プロピレン−α−オ
レフィン共重合体におけるα−オレフィンはプロピレン
を除く炭素数2〜20のα−オレフィンが挙げられ、例
えばエチレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセ
ン、1−オクテン、1−ヘプテン、4−メチル−ペンテ
ン−1、4−メチル−ヘキセン−1、4,4−ジメチル
ペンテン−1等を例示できる。プロピレンと共重合され
るα−オレフィンは一種類でも二種類以上を用いてもよ
い。このうちエチレン、ブテン−1が好適である。
The crystalline polypropylene used in the present invention is not particularly limited as long as it satisfies the above requirements. For example, the crystalline polypropylene used in the present invention may be a propylene homopolymer. It may be a propylene-α-olefin random copolymer or a mixture thereof. The α-olefin in the propylene-α-olefin copolymer includes α-olefins having 2 to 20 carbon atoms excluding propylene, and examples thereof include ethylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-octene, and 1-octene. Heptene, 4-methyl-pentene-1, 4-methyl-hexene-1, 4,4-dimethylpentene-1 and the like can be exemplified. One or two or more α-olefins copolymerized with propylene may be used. Of these, ethylene and butene-1 are preferred.

【0022】結晶性ポリプロピレンにおけるα−オレフ
ィンの含有量は、一般に0.1〜20重量%、好ましく
は0.3〜15重量%程度である。
The content of α-olefin in the crystalline polypropylene is generally about 0.1 to 20% by weight, preferably about 0.3 to 15% by weight.

【0023】本発明のガスバリア性の改良されたポリプ
ロピレン樹脂フィルムを得るために用いられる結晶性ポ
リプロピレンの製造方法は特に限定されないが、いわゆ
るメタロセン触媒の存在下で重合することが望ましく、
特に、以下の成分(A)、成分(B)、並びに、必要に
応じて用いられる成分(C)からなるメタロセン触媒を
用いてプロピレンもしくはプロピレンを主成分とするα
−オレフィンを重合させることにより製造することが望
ましい。
The method for producing the crystalline polypropylene used to obtain the polypropylene resin film having improved gas barrier properties of the present invention is not particularly limited, but it is preferable to carry out the polymerization in the presence of a so-called metallocene catalyst,
In particular, using a metallocene catalyst comprising the following components (A) and (B) and optionally component (C), propylene or α containing propylene as a main component is used.
-It is desirable to produce it by polymerizing an olefin.

【0024】<成分(A)>成分(A)として望ましい
化合物は次の一般式(1)で示される化合物である。
<Component (A)> A desirable compound as the component (A) is a compound represented by the following general formula (1).

【0025】 Q(C54-a1 a)(C54-b2 b)MeXY (1)[0025] Q (C 5 H 4-a R 1 a) (C 5 H 4-b R 2 b) MeXY (1)

【0026】[ここで、C54-a1 aおよびC54-b
2 bは、それぞれ共役五員環配位子を示し、Qは二つの共
役五員環配位子を架橋する結合性基であって、炭素数1
〜20の2価の炭化水素基、炭素数1〜20の炭化水素
基を有するシリレン基または炭素数1〜20の炭化水素
基を有するゲルミレン基を示し、Meはジルコニウムま
たはハフニウムを示し、X及びYは、それぞれ独立し
て、水素、ハロゲン基、炭素数1〜20の炭化水素基、
炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアル
キルアミド基、トリフルオロメタンスルホン酸基、炭素
数1〜20のリン含有炭化水素基または炭素数1〜20
のケイ素含有炭化水素基を示す。R1およびR2は、共役
五員環配位子上の置換基であって、それぞれ独立して、
炭素数1〜20の炭化水素基、ハロゲン、アルコキシ
基、ケイ素含有炭化水素基、リン含有炭化水素基、窒素
含有炭化水素基またはホウ素含有炭化水素基を示す。隣
接する2個のR1または2個のR2がそれぞれ結合して環
を形成していてもよい。aおよびbは0≦a≦4、0≦
b≦4を満足する整数である。ただし、R1およびR2
有する2個の五員環配位子は、基Qを介しての相対位置
の観点において、Meを含む平面に関して非対称であ
る。]
[0026] [wherein, C 5 H 4-a R 1 a and C 5 H 4-b R
2 b represents a conjugated five-membered ring ligand, and Q represents a binding group bridging two conjugated five-membered ring ligands, and has 1 carbon atom.
A divalent hydrocarbon group having a hydrocarbon group of 1 to 20; a silylene group having a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms; or a germylene group having a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms; Me represents zirconium or hafnium; Y is each independently hydrogen, a halogen group, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms,
A C1-20 alkoxy group, a C1-20 alkylamide group, a trifluoromethanesulfonic acid group, a C1-20 phosphorus-containing hydrocarbon group or a C1-20
Represents a silicon-containing hydrocarbon group. R 1 and R 2 are substituents on a conjugated five-membered ring ligand, each independently
It represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen, an alkoxy group, a silicon-containing hydrocarbon group, a phosphorus-containing hydrocarbon group, a nitrogen-containing hydrocarbon group or a boron-containing hydrocarbon group. Two adjacent R 1 or two R 2 may be bonded to each other to form a ring. a and b are 0 ≦ a ≦ 4, 0 ≦
It is an integer satisfying b ≦ 4. However, the two five-membered ring ligands having R 1 and R 2 are asymmetric with respect to the plane containing Me in terms of their relative positions via the group Q. ]

【0027】Qは、上記したように、二つの共役五員環
配位子C54-a1 aおよびC54-b2 bを架橋する結合
性基であって、具体的には、例えば(イ)炭素数1〜2
0、好ましくは1〜6の2価の炭化水素基、具体的に
は、例えばアルキレン基、シクロアルキレン基、アリー
レン基等、(ロ)炭素数1〜20、好ましくは1〜12
の炭化水素基を有するシリレン基、(ハ)炭素数1〜2
0、好ましくは1〜12、の炭化水素基を有するゲルミ
レン基がある。なお、2価のQ基の両結合手間の距離
は、その炭素数の如何に関わらず、Qが鎖状の場合には
4原子程度以下、就中3原子以下、であることが、Qが
環状基を有するものである場合は当該環状基+2原子程
度以下、就中当該環状基のみであることが、それぞれ好
ましい。
[0027] Q is as described above, a bonding group for cross-linking two conjugated five-membered ring ligand C 5 H 4-a R 1 a and C 5 H 4-b R 2 b, specifically Specifically, for example, (A) carbon number 1-2
0, preferably 1 to 6 divalent hydrocarbon group, specifically, for example, an alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group and the like, (b) having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 12 carbon atoms.
A silylene group having a hydrocarbon group of (c) having 1 to 2 carbon atoms
There are 0, preferably 1 to 12, germylene groups having hydrocarbon groups. The distance between the two bonds of the divalent Q group is about 4 atoms or less, especially 3 atoms or less when Q is chain-like, regardless of the number of carbon atoms. In the case of having a cyclic group, it is preferred that the cyclic group is not more than about +2 atoms, particularly, the cyclic group alone.

【0028】従って、Qがアルキレンの場合はエチレン
およびイソプロピリデン(結合手間の距離は2原子およ
び1原子)が、シクロアルキレン基の場合はシクロヘキ
シレン(結合手間の距離がシクロヘキシレン基のみ)
が、アルキルシリレンの場合は、ジメチルシリレン(結
合手間の距離が1原子)が、それぞれ好ましい。Me
は、ジルコニウムまたはハフニウムである。
Therefore, when Q is alkylene, ethylene and isopropylidene (the distance between bonds is 2 atoms and 1 atom), and when Q is cycloalkylene, cyclohexylene (the distance between bonds is only cyclohexylene)
However, in the case of alkylsilylene, dimethylsilylene (the distance between bonds is 1 atom) is preferable. Me
Is zirconium or hafnium.

【0029】X及びYは、それぞれ独立に、すなわち同
一でも異なってもよく、(イ)水素、(ロ)ハロゲン
(フッ素、塩素、臭素またはヨウ素、好ましくは塩
素)、(ハ)炭素数1〜20の炭化水素基、(ニ)炭素
数1〜20のアルコキシ基、(ホ)炭素数1〜20のア
ルキルアミド基、(ヘ)炭素数1〜20のリン含有炭化
水素基、(ト)炭素数1〜20のケイ素含有炭化水素基
または(チ)トリフルオロメタンスルホン酸基を示す。
X and Y may be each independently, that is, they may be the same or different, and (A) hydrogen, (B) halogen (fluorine, chlorine, bromine or iodine, preferably chlorine), (C) C 1 -C 1 20 hydrocarbon groups, (d) an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, (e) an alkylamide group having 1 to 20 carbon atoms, (f) a phosphorus-containing hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, (g) carbon It represents a silicon-containing hydrocarbon group or a (thi) trifluoromethanesulfonic acid group represented by Formulas 1 to 20.

【0030】R1及びR2は、共役五員環配位子上の置換
基であって、それぞれ独立して、炭素数1〜20の炭化
水素基、ハロゲン、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭
素数3〜20のケイ素含有炭化水素基、炭素数2〜20
のリン含有炭化水素基、炭素数2〜20の窒素含有炭化
水素基または炭素数2〜20のホウ素含有炭化水素基を
示す。また、隣接する2個のR1同士または2個のR2
士がそれぞれω−端で結合してシクロペンタジエニル基
の一部と共に環を形成していてもよい。
R 1 and R 2 are substituents on the conjugated five-membered ring ligand, and each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. A silicon-containing hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, 2 to 20 carbon atoms
And a nitrogen-containing hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms or a boron-containing hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms. Further, two adjacent R 1 or two R 2 may be bonded at the ω-terminal to form a ring together with a part of the cyclopentadienyl group.

【0031】そのような場合の代表例としてはシクロペ
ンタジエニル基上の隣接する2つのR1(あるいはR2
が当該シクロペンタジエニル基の二重結合を共有して縮
合六員環を形成しているもの(すなわちインデニル基お
よびフルオレニル基)および縮合七員環を形成している
もの(すなわちアズレニル基)がある。aおよびbは0
≦a≦4、0≦b≦4を満足する整数である。
In such a case, a typical example is two adjacent R 1 (or R 2 ) on a cyclopentadienyl group.
Are those which share a double bond of the cyclopentadienyl group to form a fused six-membered ring (ie, an indenyl group and a fluorenyl group) and those which form a fused seven-membered ring (ie, an azulenyl group) is there. a and b are 0
It is an integer satisfying ≦ a ≦ 4 and 0 ≦ b ≦ 4.

【0032】上記メタロセン化合物の非限定的な例とし
て、下記のものを挙げることができる。なお、これらの
化合物は、単に化学的名称のみで示称されているが、そ
の立体構造が本発明で言う非対称性を持つものであるこ
とはいうまでもない。
Non-limiting examples of the above metallocene compounds include the following. In addition, these compounds are indicated by only chemical names, but needless to say, the three-dimensional structure has the asymmetry referred to in the present invention.

【0033】(A1)シリレン架橋五員環配位子を2個
有する遷移金属化合物、例えば、(1)ジメチルシリレ
ンビス(1−インデニル)ジルコニウムジクロリド、
(2)ジメチルシリレンビス{1−(4,5,6,7−
テトラヒドロインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
(3)ジメチルシリレンビス{1−(2,4−ジメチル
インデニル)}ジルコニウムジクロリド、(4)ジメチ
ルシリレンビス{1−(2−メチル−4−フェニルイン
デニル)}ジルコニウムジクロリド、(5)ジメチルシ
リレンビス{1−(2−メチル−4−フェニル−4H−
アズレニル)}ジルコニウムジクロリド、(6)ジメチ
ルシリレンビス{1−(2−メチル−4−フェニル−4
H−5,6,7,8−テトラヒドロアズレニル)}ジル
コニウムジクロリド、(7)ジメチルシリレンビス{1
−(2−メチル−4−(4−クロロフェニル)−4H−
アズレニル)}ジルコニウムジクロリド、(8)ジメチ
ルシリレンビス{1−(2−メチル−4−(4−クロロ
フェニル)−4H−5,6,7,8−テトラヒドロアズ
レニル)}ジルコニウムジクロリド、(9)ジメチルシ
リレンビス{1−(2−メチル−4,5−ベンゾインデ
ニル)}ジルコニウムジクロリド、(10)ジメチルシ
リレンビス〔1−{2−メチル−4−(1−ナフチル)
インデニル}〕ジルコニウムジクロリド、(11)ジメ
チルシリレンビス〔1−{2−メチル−4−(1−ナフ
チル)−4H−アズレニル}〕ジルコニウムジクロリ
ド、(12)ジメチルシリレンビス〔1−{2−メチル
−4−(1−ナフチル)−4H−5,6,7,8−テト
ラヒドロアズレニル}〕ジルコニウムジクロリド、(1
3)メチルフェニルシリレンビス(1−インデニル)ジ
ルコニウムジクロリド、(14)メチルフェニルシリレ
ンビス{1−(4,5,6,7−テトラヒドロインデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、(15)メチルフェニ
ルシリレンビス{1−(2,4−ジメチルインデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、(16)メチルフェニ
ルシリレンビス{1−(2−メチル−4−フェニルイン
デニル)}ジルコニウムジクロリド、(17)メチルフ
ェニルシリレンビス{1−(2−メチル−4−フェニル
−4H−アズレニル)}ジルコニウムジクロリド、(1
8)メチルフェニルシリレンビス{1−(2−メチル−
4−フェニル−4H−5,6,7,8,−テトラヒドロ
アズレニル)}ジルコニウムジクロリド、(19)メチ
ルフェニルシリレンビス{1−(2−メチル−4,5−
ベンゾインデニル)}ジルコニウムジクロリド、(2
0)メチルフェニルシリレンビス〔1−{2−メチル−
4−(1−ナフチル)インデニル}〕ジルコニウムジク
ロリド、(21)メチルフェニルシリレンビス〔1−
{2−メチル−4−(1−ナフチル)−4H−アズレニ
ル}〕ジルコニウムジクロリド、(22)メチルフェニ
ルシリレンビス〔1−{2−メチル−4−(1−ナフチ
ル)−4H−5,6,7,8−テトラヒドロアズレニ
ル}〕ジルコニウムジクロリド、(23)ジメチルシリ
レンビス{1−(2−メチル−4,5−ベンゾインデニ
ル)}ジルコニウムジメチル、(24)ジメチルシリレ
ンビス{1−(2−メチル−4,5−ベンゾインデニ
ル)}ジルコニウムメチルクロリド、(25)ジメチル
シリレンビス{1−(2−メチル−4−フェニルインデ
ニル)}ジルコニウムジメチル、(26)ジメチルシリ
レンビス{1−(2−メチル−4−フェニル−4H−ア
ズレニル)}ジルコニウムジメチル、(27)ジメチル
シリレンビス{1−(2−メチル−4−フェニルインデ
ニル)}ジルコニウムクロロジメチルアミド、(28)
ジメチルシリレンビス{1−(2−エチル−4,5−ベ
ンゾインデニル)}ジルコニウムジクロリド、(29)
ジメチルシリレンビス{1−(2−エチル−4−フェニ
ルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、(30)ジ
メチルシリレンビス{1−(2−エチル−4−フェニル
−4H−アズレニル)}ジルコニウムジクロリド、(3
1)ジメチルシリレンビス{1−(2−エチル−4−フ
ェニル−4H−5,6,7,8−テトラヒドロアズレニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、(32)ジメチルシリ
レンビス{1−(2−エチル−4−(4−クロロフェニ
ル)−4H−アズレニル)}ジルコニウムジクロリド、
(33)ジメチルシリレンビス{1−(2−エチル−4
−(4−クロロフェニル)−4H−4,5,6,7−テ
トラヒドロアズレニル)}ジルコニウムジクロリド、
(34)ジメチルシリレン{1−(2−エチル−4−フ
ェニルインデニル)}{1−(2,3,5−トリメチル
シクロペンタジエニル)}ジルコニウムジクロリド、
(35)ジメチルシリレン{1−(2−エチル−4−フ
ェニル−4H−5,6,7,8−テトラヒドロアズレニ
ル)}{1−(2,3,5−トリメチルシクロペンタジ
エニル)}ジルコニウムジクロリド、(36)ジメチル
シリレンビス{1−(2−メチル−4,4−ジメチル−
4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、(37)ジメチルシリレンビス{1−
(2−エチル−4−フェニルインデニル)}ジルコニウ
ムビス(トリフルオロメタンスルホン酸)、(38)ジ
メチルシリレンビス{1−(2−エチル−4−フェニル
−4H−アズレニル)}ジルコニウムビス(トリフルオ
ロメタンスルホン酸)、(39)ジメチルシリレンビス
{1−(2−エチル−4−フェニル−4H−5,6,
7,8−テトラヒドロアズレニル)}ジルコニウムビス
(トリフルオロメタンスルホン酸)、(40)ジメチル
シリレンビス{1−(2−エチル−4−(ペンタフルオ
ロフェニル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
(41)ジメチルシリレンビス{1−(2−エチル−4
−フェニル−7−フルオロインデニル)}ジルコニウム
ジクロリド、(42)ジメチルシリレンビス{1−(2
−エチル−4−インドリルインデニル)}ジルコニウム
ジクロリド、(43)ジメチルシリレンビス{1−(2
−ジメチルボラノ−4−インドリルインデニル)}ジル
コニウムジクロリド等、
(A1) A transition metal compound having two silylene-bridged five-membered ring ligands, for example, (1) dimethylsilylenebis (1-indenyl) zirconium dichloride,
(2) dimethylsilylenebis {1- (4,5,6,7-
Tetrahydroindenyl) zirconium dichloride,
(3) dimethylsilylenebis {1- (2,4-dimethylindenyl)} zirconium dichloride, (4) dimethylsilylenebis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride, (5) dimethyl Silylene bis {1- (2-methyl-4-phenyl-4H-)
Azulenyl) {zirconium dichloride, (6) dimethylsilylenebis} 1- (2-methyl-4-phenyl-4)
H-5,6,7,8-tetrahydroazulenyl) {zirconium dichloride, (7) dimethylsilylenebis} 1
-(2-methyl-4- (4-chlorophenyl) -4H-
Azulenyl) {zirconium dichloride, (8) dimethylsilylenebis {1- (2-methyl-4- (4-chlorophenyl) -4H-5,6,7,8-tetrahydroazulenyl)} zirconium dichloride, (9) dimethyl Silylenebis {1- (2-methyl-4,5-benzoindenyl)} zirconium dichloride, (10) dimethylsilylenebis [1- {2-methyl-4- (1-naphthyl)]
Indenyl}] zirconium dichloride, (11) dimethylsilylene bis [1- {2-methyl-4- (1-naphthyl) -4H-azulenyl}] zirconium dichloride, (12) dimethylsilylenebis [1- {2-methyl- 4- (1-naphthyl) -4H-5,6,7,8-tetrahydroazulenyl}] zirconium dichloride, (1
3) methylphenylsilylenebis (1-indenyl) zirconium dichloride, (14) methylphenylsilylenebis {1- (4,5,6,7-tetrahydroindenyl)} zirconium dichloride, (15) methylphenylsilylenebis} 1 -(2,4-dimethylindenyl) zirconium dichloride, (16) methylphenylsilylene bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride, (17) methylphenylsilylene bis} 1- ( 2-methyl-4-phenyl-4H-azulenyl) zirconium dichloride, (1
8) Methylphenylsilylenebis {1- (2-methyl-)
4-phenyl-4H-5,6,7,8, -tetrahydroazulenyl) {zirconium dichloride, (19) methylphenylsilylenebis} 1- (2-methyl-4,5-
Benzoindenyl) zirconium dichloride, (2
0) methylphenylsilylenebis [1- {2-methyl-
4- (1-naphthyl) indenyl}] zirconium dichloride, (21) methylphenylsilylenebis [1-
{2-Methyl-4- (1-naphthyl) -4H-azulenyl}] zirconium dichloride, (22) methylphenylsilylenebis [1- {2-methyl-4- (1-naphthyl) -4H-5,6, 7,8-tetrahydroazulenyl}] zirconium dichloride, (23) dimethylsilylenebis {1- (2-methyl-4,5-benzoindenyl)} zirconiumdimethyl, (24) dimethylsilylenebis {1- (2- Methyl-4,5-benzoindenyl) zirconium methyl chloride, (25) dimethylsilylene bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dimethyl, (26) dimethylsilylene bis} 1- (2 -Methyl-4-phenyl-4H-azulenyl) {zirconium dimethyl, (27) dimethylsilylenebis} 1- ( - methyl-4-phenyl indenyl)} zirconium chloro dimethylamide, (28)
Dimethylsilylenebis {1- (2-ethyl-4,5-benzoindenyl)} zirconium dichloride, (29)
(30) Dimethylsilylenebis {1- (2-ethyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride, (30) Dimethylsilylenebis {1- (2-ethyl-4-phenyl-4H-azulenyl)} zirconium dichloride, (3
1) dimethylsilylenebis {1- (2-ethyl-4-phenyl-4H-5,6,7,8-tetrahydroazulenyl)} zirconium dichloride, (32) dimethylsilylenebis {1- (2-ethyl-4) -(4-chlorophenyl) -4H-azulenyl)} zirconium dichloride,
(33) dimethylsilylenebis {1- (2-ethyl-4)
-(4-chlorophenyl) -4H-4,5,6,7-tetrahydroazulenyl) zirconium dichloride,
(34) dimethylsilylene {1- (2-ethyl-4-phenylindenyl)} 1- (2,3,5-trimethylcyclopentadienyl)} zirconium dichloride;
(35) Dimethylsilylene {1- (2-ethyl-4-phenyl-4H-5,6,7,8-tetrahydroazulenyl)} 1- (2,3,5-trimethylcyclopentadienyl)} zirconium Dichloride, (36) dimethylsilylenebis {1- (2-methyl-4,4-dimethyl-)
4,5,6,7-tetrahydroindenyl) {zirconium dichloride, (37) dimethylsilylenebis} 1-
(2-ethyl-4-phenylindenyl) {zirconium bis (trifluoromethanesulfonic acid), (38) dimethylsilylenebis {1- (2-ethyl-4-phenyl-4H-azulenyl)} zirconium bis (trifluoromethanesulfone) Acid), (39) dimethylsilylenebis {1- (2-ethyl-4-phenyl-4H-5,6,6)
7,8-tetrahydroazulenyl) {zirconium bis (trifluoromethanesulfonic acid), (40) dimethylsilylenebis {1- (2-ethyl-4- (pentafluorophenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
(41) dimethylsilylenebis {1- (2-ethyl-4)
-Phenyl-7-fluoroindenyl) {zirconium dichloride, (42) dimethylsilylenebis} 1- (2
-Ethyl-4-indolylindenyl) {zirconium dichloride, (43) dimethylsilylenebis} 1- (2
-Dimethylborano-4-indolylindenyl) zirconium dichloride and the like

【0034】(A2)アルキレン基で架橋した五員環配
位子を2個有する遷移金属化合物、例えば、(1)エチ
レン−1,2−ビス(1−インデニル)ジルコニウムジ
クロリド、(2)エチレン−1,2−ビス{1−(4,
5,6,7−テトラヒドロインデニル)}ジルコニウム
ジクロリド、(3)エチレン−1,2−ビス{1−
(2,4−ジメチルインデニル)}ジルコニウムジクロ
リド、(4)エチレン−1,2−ビス{1−(2,4−
ジメチル−4H−アズレニル)}ジルコニウムジクロリ
ド、(5)エチレン−1,2−ビス{1−(2−メチル
−4−フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリ
ド、(6)エチレン−1,2−ビス{1−(2−メチル
−4−フェニル−4H−アズレニル)}ジルコニウムジ
クロリド、(7)エチレン−1,2−ビス{1−(2−
メチル−4,5−ベンゾインデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、(8)エチレン−1,2−ビス〔1−{2−
メチル−4−(1−ナフチル)インデニル}〕ジルコニ
ウムジクロリド、(9)エチレン−1,2−ビス〔1−
{2−メチル−4−(1−ナフチル)−4H−アズレニ
ル}〕ジルコニウムジクロリド(10)エチレン−1,
2−ビス〔1−{2−メチル−4−(4−クロロフェニ
ル)−4H−アズレニル}〕ジルコニウムジクロリド等
が挙げられる。
(A2) Transition metal compounds having two 5-membered ring ligands bridged by an alkylene group, for example, (1) ethylene-1,2-bis (1-indenyl) zirconium dichloride, (2) ethylene- 1,2-bis {1- (4,
(5,6,7-tetrahydroindenyl)} zirconium dichloride, (3) ethylene-1,2-bis {1-
(2,4-dimethylindenyl) {zirconium dichloride, (4) ethylene-1,2-bis} 1- (2,4-
Dimethyl-4H-azulenyl) {zirconium dichloride, (5) ethylene-1,2-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride, (6) ethylene-1,2-bis} 1 -(2-methyl-4-phenyl-4H-azulenyl) {zirconium dichloride, (7) ethylene-1,2-bis} 1- (2-
Methyl-8,5-benzoindenyl) zirconium dichloride, (8) ethylene-1,2-bis [1- {2-
Methyl-4- (1-naphthyl) indenyl}] zirconium dichloride, (9) ethylene-1,2-bis [1-
{2-methyl-4- (1-naphthyl) -4H-azulenyl}] zirconium dichloride (10) ethylene-1,
2-bis [1- {2-methyl-4- (4-chlorophenyl) -4H-azulenyl}] zirconium dichloride and the like.

【0035】(A3)ゲルマニウム、アルミニウム、ホ
ウ素、リンあるいは窒素を含む炭化水素残基で架橋した
五員環配位子を有する遷移金属化合物、例えば、(1)
ジメチルゲルミレンビス(1−インデニル)ジルコニウ
ムジクロリド、(2)ジメチルゲルミレンビス{1−
(2−メチル−4−フェニルインデニル)}ジルコニウ
ムジクロリド、(3)ジメチルゲルミレンビス{1−
(2−メチル−4−フェニル−4H−アズレニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、(4)ジメチルゲルミレンビス
〔1−{2−メチル−4−(4−クロロフェニル)−4
H−アズレニル}〕ジルコニウムジクロリド(5)ジメ
チルゲルミレンビス{1−(2−メチル−4,5−ベン
ゾインデニル)}ジルコニウムジクロリド、(6)メチ
ルアルミニウムビス(1−インデニル)ジルコニウムジ
クロリド、(7)フェニルホスフィノビス(1−インデ
ニル)ジルコニウムジクロリド、(8)エチルホラノビ
ス(1−インデニル)ジルコニウムジクロリド、(9)
フェニルアミノビス(1−インデニル)ジルコニウムジ
クロリド等が例示される。
(A3) A transition metal compound having a five-membered ring ligand bridged by a hydrocarbon residue containing germanium, aluminum, boron, phosphorus or nitrogen, for example, (1)
Dimethylgermylenebis (1-indenyl) zirconium dichloride, (2) dimethylgermylenebis {1-
(2-methyl-4-phenylindenyl) {zirconium dichloride, (3) dimethylgermylene bis} 1-
(2-methyl-4-phenyl-4H-azulenyl) zirconium dichloride, (4) dimethylgermylene bis [1- {2-methyl-4- (4-chlorophenyl) -4]
H-azulenyl}] zirconium dichloride (5) dimethylgermylene bis {1- (2-methyl-4,5-benzoindenyl)} zirconium dichloride, (6) methylaluminum bis (1-indenyl) zirconium dichloride, (7 ) Phenylphosphinobis (1-indenyl) zirconium dichloride, (8) ethylholanobis (1-indenyl) zirconium dichloride, (9)
Examples thereof include phenylaminobis (1-indenyl) zirconium dichloride.

【0036】これらの錯体の中で特に好ましいものは、
アズレン骨格を有する錯体である。
Particularly preferred among these complexes are:
It is a complex having an azulene skeleton.

【0037】<成分(B)>成分(B)としては、イオ
ン交換性層状珪酸塩が望ましい。イオン交換性層状珪酸
塩は、イオン結合等によって構成される面が互いに弱い
結合力で平行に積み重なった結晶構造をとる珪酸塩化合
物であり、含有するイオン交換可能なものを指称する。
<Component (B)> As the component (B), an ion-exchange layered silicate is desirable. The ion-exchangeable phyllosilicate is a silicate compound having a crystal structure in which planes formed by ionic bonds and the like are stacked in parallel with a weak bonding force, and refers to a contained ion-exchangeable silicate.

【0038】大部分のイオン交換性層状珪酸塩は、天然
には主に粘土鉱物の主成分として産出するが、これら、
イオン交換性層状珪酸塩は特に、天然産のものに限ら
ず、人工合成物であってもよい。イオン交換性層状珪酸
塩の具体例としては、例えば、白水晴雄著「粘土鉱物
学」朝倉書店(1995年)、等に記載される公知の層
状珪酸塩であって、ディッカイト、ナクライト、カオリ
ナイト、アノーキサイト、メタハロイサイト、ハロイサ
イト等のカオリン族、クリソタイル、リザルダイト、ア
ンチゴライト等の蛇紋石族、モンモリロナイト、ザウコ
ナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、
ヘクトライト、スチーブンサイト、ベントナイト、テニ
オライト等のスメクタイト族、バーミキュライト等のバ
ーミキュライト族、雲母、イライト、セリサイト、海緑
石等の雲母族、アタパルジャイト、セピオライト、パリ
ゴルスカイト、ベントナイト、パイロフィライト、タル
ク、緑泥石群が挙げられる。これらは混合層を形成して
いてもよい。
Most ion-exchangeable phyllosilicates naturally occur mainly as a main component of clay minerals.
In particular, the ion-exchange layered silicate is not limited to a natural product, and may be an artificially synthesized product. Specific examples of the ion-exchangeable layered silicate include known layered silicates described in, for example, "Clay Mineralogy" written by Haruo Shimizu, Asakura Shoten (1995), and include dickite, nacrite, kaolinite, and the like. Kaolin group such as anoxite, metahalloysite, halloysite, serpentine group such as chrysotile, lizardite, antigorite, montmorillonite, zauconite, beidellite, nontronite, saponite,
Smectites such as hectorite, stevensite, bentonite, and teniolite; vermiculites such as vermiculite; mica such as mica, illite, sericite, chlorite, attapulgite, sepiolite, palygorskite, bentonite, pyrophyllite, talc, green mud Stone group. These may form a mixed layer.

【0039】これらの中では、モンモリナイト、ザウコ
ナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、
ヘクトライト、スチーブンサイト、ベントナイト、テニ
オライト等のスメクタイト族、バーミキュライト族、雲
母族が好ましい。なお、成分(B)として、水銀圧入法
で測定した半径が20オングストローム以上の細孔容積
が0.1cc/g未満の化合物を用いた場合には、高い
重合活性が得られ難い傾向があるので、0.1cc/g
以上、特には0.3〜5cc/gのものが好ましい。
Among these, montmorillonite, zauconite, beidellite, nontronite, saponite,
Smectites such as hectorite, stevensite, bentonite and teniolite, vermiculites and mica are preferred. When a compound having a pore volume of 20 Å or more and a pore volume of less than 0.1 cc / g measured by a mercury intrusion method is used as the component (B), a high polymerization activity tends to be hardly obtained. , 0.1cc / g
As described above, those having 0.3 to 5 cc / g are particularly preferable.

【0040】また、成分(B)は特に処理を行うことな
くそのまま用いることができるが、成分(B)に化学処
理を施すこともまた好ましい態様である。ここで化学処
理として、表面に付着している不純物を除去する表面処
理と粘土の構造に影響を与える処理のいずれをも用いる
ことができる。具体的には、酸処理、アルカリ処理、塩
類処理、有機物処理等が挙げられる。
Although component (B) can be used without any particular treatment, it is also a preferred embodiment to subject component (B) to chemical treatment. Here, as the chemical treatment, any of a surface treatment for removing impurities adhering to the surface and a treatment for affecting the structure of the clay can be used. Specifically, acid treatment, alkali treatment, salt treatment, organic matter treatment and the like can be mentioned.

【0041】酸処理は表面の不純物を取り除く他、結晶
構造中のAl、Fe、Mg等の陽イオンを溶出させるこ
とによって表面積を増大させる。アルカリ処理では粘土
の結晶構造が破壊され、粘土の構造の変化をもたらす。
また塩類処理、有機物処理では、イオン複合体、分子複
合体、有機誘導体等を形成し、表面積や層間距離を変え
ることができる。イオン交換性を利用し、層間の交換性
イオンを別の大きな嵩高いイオンと置換することによ
り、層間が拡大した状態の層状物質を得ることもでき
る。すなわち、嵩高いイオンが層状構造を支える支柱的
な役割を担っており、ピラーと呼ばれる。また層状物質
層間に別の物質を導入することをインターカレーション
という。
The acid treatment not only removes impurities on the surface but also increases the surface area by eluting cations such as Al, Fe and Mg in the crystal structure. Alkali treatment destroys the crystal structure of the clay, resulting in a change in the structure of the clay.
In the salt treatment and the organic substance treatment, an ion complex, a molecular complex, an organic derivative, and the like are formed, and the surface area and the interlayer distance can be changed. By using the ion exchange property and replacing the exchangeable ions between the layers with another large bulky ion, it is also possible to obtain a layered material in which the layers are expanded. That is, the bulky ions play a pillar-like role to support the layered structure, and are called pillars. Introducing another substance between layered substance layers is called intercalation.

【0042】インターカレーションするゲスト化合物と
しては、TiCl4、ZrCl4等の陽イオン性無機化合
物、Ti(OR)4、Zr(OR)4、PO(OR)3
B(OR)3[Rはアルキル、アリール等]等の金属ア
ルコラート、[Al134(OH)247+、[Zr4(O
H)142+、[Fe3O(OCOCH36+等の金属水
酸化物イオン等が挙げられる。これらの化合物は、単一
で用いても、また2種類以上共存させて用いてもよい。
これらの化合物をインターカレーションする際に、Si
(OR)4、Al(OR)3、Ge(OR)4等の金属ア
ルコラート等を加水分解して得た重合物、SiO2等の
コロイド状無機化合物等を共存させることもできる。ま
た、ピラーの例としては上記水酸化物イオンを層間にイ
ンターカレーションした後に加熱脱水することにより生
成する酸化物等が挙げられる。成分(B)はそのまま用
いてもよいし、加熱脱水処理した後用いてもよい。ま
た、単独で用いても、上記固体の2種以上を混合して用
いてもよい。
Examples of the guest compound to be intercalated include cationic inorganic compounds such as TiCl 4 and ZrCl 4 , Ti (OR) 4 , Zr (OR) 4 , PO (OR) 3 ,
Metal alcoholates such as B (OR) 3 [R is alkyl, aryl, etc.], [Al 13 O 4 (OH) 24 ] 7+ , [Zr 4 (O
H) 14 ] 2+ , and metal hydroxide ions such as [Fe 3 O (OCOCH 3 ) 6 ] + . These compounds may be used alone or in combination of two or more.
When intercalating these compounds, Si
A polymer obtained by hydrolyzing a metal alcoholate such as (OR) 4 , Al (OR) 3 , Ge (OR) 4, and a colloidal inorganic compound such as SiO 2 can also be present. Examples of pillars include oxides formed by intercalating the hydroxide ions between layers and then heating and dehydrating. Component (B) may be used as it is, or may be used after heat dehydration treatment. Further, they may be used alone or as a mixture of two or more of the above solids.

【0043】本発明において使用されるイオン交換性層
状珪酸塩としては、塩類で処理される前の、イオン交換
性層状珪酸塩の含有する交換可能な1族金属陽イオンの
40%以上、好ましくは60%以上を、下記に示す塩類
より解離した陽イオンと、イオン交換することが好まし
い。
The ion-exchangeable phyllosilicate used in the present invention is preferably at least 40% of the exchangeable Group 1 metal cation contained in the ion-exchange phyllosilicate before being treated with salts, preferably Preferably, 60% or more is ion-exchanged with a cation dissociated from the following salts.

【0044】このようなイオン交換を目的とした塩類処
理で用いられる塩類は、2〜14族原子から成る群より
選ばれた少なくとも一種の原子を含む陽イオンを含有す
る化合物であり、好ましくは、2〜14族原子から成る
群より選ばれた少なくとも一種の原子を含む陽イオン
と、ハロゲン原子、無機酸および有機酸から成る群より
選ばれた少なくとも一種の陰イオンとから成る化合物で
あり、更に好ましくは、2〜14族原子から成る群より
選ばれた少なくとも一種の原子を含む陽イオンと、C
l、Br、I、F、PO4、SO4、NO3、CO3、C2
4、OCOCH3、CH3COCHCOCH3、OC
3、O(NO3)、O(ClO42、O(SO4)、O
H、O2、Cl2、OCl3、OCOH、OCOCH2CH
3、C244およびC657から成る群より選ばれる
少なくとも一種の陰イオンとから成る化合物である。
The salt used in the salt treatment for the purpose of ion exchange is a compound containing a cation containing at least one kind of atom selected from the group consisting of Group 2 to 14 atoms, preferably A compound comprising a cation containing at least one atom selected from the group consisting of Group 2 to 14 atoms and at least one anion selected from the group consisting of halogen atoms, inorganic acids and organic acids; Preferably, a cation containing at least one atom selected from the group consisting of Group 2-14 atoms,
l, Br, I, F, PO 4, SO 4, NO 3, CO 3, C 2
O 4 , OCOCH 3 , CH 3 COCHCOCH 3 , OC
l 3 , O (NO 3 ), O (ClO 4 ) 2 , O (SO 4 ), O
H, O 2 , Cl 2 , OCl 3 , OCOH, OCOCH 2 CH
3 , a compound comprising at least one anion selected from the group consisting of C 2 H 4 O 4 and C 6 H 5 O 7 .

【0045】具体的には、CaCl2、CaSO4、Ca
24、Ca(NO32、Ca3(C6572、Mg
Cl2、MgBr2、MgSO4、Mg(PO42、Mg
(ClO42、MgC24、Mg(NO32、Mg(O
COCH32、MgC44 4、Sc(OCOC
32、Sc2(CO33、Sc2(C243、Sc
(NO33、Sc2(SO43、ScF3、ScCl3
ScBr3、ScI3、Y(OCOCH33、Y(CH3
COCHCOCH33、Y2(CO33、Y2(C24
3、Y(NO33、Y(ClO43、YPO4、Y2(S
43、YF3、YCl3、La(OOCH33、La
(CH3COCHCOCH33、La2(CO33、La
(NO33、La(ClO43、La2(C243、L
aPO4、La2(SO43、LaF3、LaCl3、La
Br3、LaI3、Sm(OCOCH33、Sm(CH3
COCHCOCH33、Sm2(CO33、Sm(N
33、Sm(ClCO43、Sm2(C243、Sm
PO4、Sm2(SO43、SmF3、SmCl3、SmB
3、Sml3、Yb(OCOCH33、Yb(N
33、Yb(ClO43、Yb(C243、Yb
(SO43、YbF3、YbCl3、Ti(OCOC
34、Ti(CO32、Ti(NO34、Ti(SO
42、TiF4、TiCl4、TiBr4、TiI4、Zr
(OCOCH34、Zr(CO32、Zr(NO34
Zr(SO42、ZrF4、ZrCl4、ZrBr4、Z
rI4、ZrOCl2、ZrO(NO32、ZrO(Cl
42、ZrO(SO4)、Hf(OCOCH34、H
f(CO32、Hf(NO34、Hf(SO42、Hf
OCl2、HfF4、HfCl4、HfBr4、HfI4
V(CH3COCHCOCH33、VOSO4、VOCl
3、VCl3、VCl4、VBr3、Nb(CH3COCH
COCH35、Nb2(CO35、Nb(NO35、N
2(SO45、ZrF 5、ZrCl5、NbBr5、Nb
5、Ta(OCOCH35、Ta2(CO35、Ta
(NO35、Ta2(SO45、TaF5、TaCl5
TaBr5、TaI 5、Cr(OOCH32OH、Cr
(CH3COCHCOCH33、Cr(NO33、Cr
(ClO43、CrPO4、Cr2(SO43、CrO2
Cl2、CrF3、CrCl3、CrBr3、CrL3、M
oCl4、MoCl3、MoCl4、MoCl5、Mo
6、MoI2、WCl4、WCl6、WF6、WBr5、M
n(OOCH32、Mn(CH3COCHCOC
32、MnCO3、Mn(NO32、MnO、Mn
(ClO42、MnF2、MnCl2、MnBr2、Mn
2、Fe(OCOCH32、Fe(CH3COCHCO
CH33、FeCO3、Fe(NO33、Fe(Cl
43、FePO4、FeSO4、Fe2(SO43、F
eF3、FeCl 3、FeBr3、FeI2、FeC65
7、Co(OCOCH32、Co(CH3COCHCOC
33、CoCO3、Co(NO32、CoC24、C
o(ClO42、Co3(PO42、CoSO4、CoF
2、CoCl2、CoBr2、CoI2、NiCO3、Ni
(NO32、NiC24、Ni(ClO42、NiSO
4、NiCl2、NiBr2、Pb(OCOCH34、P
b(OOCH32、PbCO3、Pb(NO32、Pb
SO4、PbHPO4、Pb(ClO42、PbF2、P
bCl2、PbBr2、PbI2、CuI2、CuBr2
Cu(NO32、CuC24、Cu(ClO42、Cu
SO4、Cu(OCOCH32、Zn(OOCH32
Zn(CH3COCHCOCH32、ZnCO3、Zn
(NO32、Zn(ClO42、Zn3(PO42、Z
nSO4、ZnF2、ZnCl2、ZnBr2、ZnI2
Cd(OCOCH32、Cd(CH3COCHCOC
32、Cd(OCOCH2CH32、Cd(N
32、Cd(ClO42、CdSO4、CdF 2、Cd
Cl2、CdBr2、CdI2、AlF3、AlCI3、A
lBr3、AlI3、Al2(SO43、Al2(C24
3、Al(CH3COCHCOCH33、Al(N
33、AlPO4、GeCl4、GeBr4、GeI4
Sn(OCOCH 34、Sn(SO42、SnF4、S
nCl4、SnBr4、SnI4等が挙げられる。酸処理
は表面の不純物を除くほか、結晶構造のAl、Fe、M
g等の陽イオンの一部または全部を溶出させることがで
きる。
Specifically, CaClTwo, CaSOFour, Ca
CTwoOFour, Ca (NOThree)Two, CaThree(C6HFiveO7)Two, Mg
ClTwo, MgBrTwo, MgSOFour, Mg (POFour)Two, Mg
(ClOFour)Two, MgCTwoOFour, Mg (NOThree)Two, Mg (O
COCHThree)Two, MgCFourHFourO Four, Sc (OCOC
HThree)Two, ScTwo(COThree)Three, ScTwo(CTwoOFour)Three, Sc
(NOThree)Three, ScTwo(SOFour)Three, ScFThree, ScClThree,
ScBrThree, ScIThree, Y (OCOCHThree)Three, Y (CHThree
COCHCOCHThree)Three, YTwo(COThree)Three, YTwo(CTwoOFour)
Three, Y (NOThree)Three, Y (ClOFour)Three, YPOFour, YTwo(S
OFour)Three, YFThree, YClThree, La (OOCHThree)Three, La
(CHThreeCOCHCOCHThree)Three, LaTwo(COThree)Three, La
(NOThree)Three, La (ClOFour)Three, LaTwo(CTwoOFour)Three, L
aPOFour, LaTwo(SOFour)Three, LaFThree, LaClThree, La
BrThree, LaIThree, Sm (OCOCHThree)Three, Sm (CHThree
COCHCOCHThree)Three, SmTwo(COThree)Three, Sm (N
OThree)Three, Sm (ClCOFour)Three, SmTwo(CTwoOFour)Three, Sm
POFour, SmTwo(SOFour)Three, SmFThree, SmClThree, SmB
rThree, SmlThree, Yb (OCOCHThree)Three, Yb (N
OThree)Three, Yb (ClOFour)Three, Yb (CTwoOFour)Three, Yb
(SOFour)Three, YbFThree, YbClThree, Ti (OCOC
HThree)Four, Ti (COThree)Two, Ti (NOThree)Four, Ti (SO
Four)Two, TiFFour, TiClFour, TiBrFour, TiIFour, Zr
(OCOCHThree)Four, Zr (COThree)Two, Zr (NOThree)Four,
Zr (SOFour)Two, ZrFFour, ZrClFour, ZrBrFour, Z
rIFour, ZrOClTwo, ZrO (NOThree)Two, ZrO (Cl
OFour)Two, ZrO (SOFour), Hf (OCOCHThree)Four, H
f (COThree)Two, Hf (NOThree)Four, Hf (SOFour)Two, Hf
OCITwo, HfFFour, HfClFour, HfBrFour, HfIFour,
V (CHThreeCOCHCOCHThree)Three, VOSOFour, VOCl
Three, VClThree, VClFour, VBrThree, Nb (CHThreeCOCH
COCHThree)Five, NbTwo(COThree)Five, Nb (NOThree)Five, N
bTwo(SOFour)Five, ZrF Five, ZrClFive, NbBrFive, Nb
IFive, Ta (OCOCHThree)Five, TaTwo(COThree)Five, Ta
(NOThree)Five, TaTwo(SOFour)Five, TaFFive, TaClFive,
TaBrFive, TaI Five, Cr (OOCHThree)TwoOH, Cr
(CHThreeCOCHCOCHThree)Three, Cr (NOThree)Three, Cr
(ClOFour)Three, CrPOFour, CrTwo(SOFour)Three, CrOTwo
ClTwo, CrFThree, CrClThree, CrBrThree, CrLThree, M
oClFour, MoClThree, MoClFour, MoClFive, Mo
F6, MoITwo, WClFour, WCl6, WF6, WBrFive, M
n (OOCHThree)Two, Mn (CHThreeCOCHCOC
HThree)Two, MnCOThree, Mn (NOThree)Two, MnO, Mn
(ClOFour)Two, MnFTwo, MnClTwo, MnBrTwo, Mn
ITwo, Fe (OCOCHThree)Two, Fe (CHThreeCOCHCO
CHThree)Three, FeCOThree, Fe (NOThree)Three, Fe (Cl
OFour)Three, FePOFour, FeSOFour, FeTwo(SOFour)Three, F
eFThree, FeCl Three, FeBrThree, FeITwo, FeC6HFiveO
7, Co (OCOCHThree)Two, Co (CHThreeCOCHCOC
HThree)Three, CoCOThree, Co (NOThree)Two, CoCTwoOFour, C
o (CLOFour)Two, CoThree(POFour)Two, CoSOFour, CoF
Two, CoClTwo, CoBrTwo, CoITwo, NiCOThree, Ni
(NOThree)Two, NiCTwoOFour, Ni (ClOFour)Two, NiSO
Four, NiClTwo, NiBrTwo, Pb (OCOCHThree)Four, P
b (OOCHThree)Two, PbCOThree, Pb (NOThree)Two, Pb
SOFour, PbHPOFour, Pb (ClOFour)Two, PbFTwo, P
bClTwo, PbBrTwo, PbITwo, CuITwo, CuBrTwo,
Cu (NOThree)Two, CuCTwoOFour, Cu (ClOFour)Two, Cu
SOFour, Cu (OCOCHThree)Two, Zn (OOCHThree)Two,
Zn (CHThreeCOCHCOCHThree)Two, ZnCOThree, Zn
(NOThree)Two, Zn (ClOFour)Two, ZnThree(POFour)Two, Z
nSOFour, ZnFTwo, ZnClTwo, ZnBrTwo, ZnITwo,
Cd (OCOCHThree)Two, Cd (CHThreeCOCHCOC
HThree)Two, Cd (OCOCHTwoCHThree)Two, Cd (N
OThree)Two, Cd (ClOFour)Two, CdSOFour, CdF Two, Cd
ClTwo, CdBrTwo, CdITwo, AlFThree, AlCIThree, A
lBrThree, AlIThree, AlTwo(SOFour)Three, AlTwo(CTwoOFour)
Three, Al (CHThreeCOCHCOCHThree)Three, Al (N
OThree)Three, AlPOFour, GeClFour, GeBrFour, GeIFour,
Sn (OCOCH Three)Four, Sn (SOFour)Two, SnFFour, S
nClFour, SnBrFour, SnIFourAnd the like. Acid treatment
Is the crystal structure of Al, Fe, M
It can elute some or all of the cations such as g
Wear.

【0046】酸処理で用いられる酸は、好ましくは塩
酸、硫酸、硝酸、シュウ酸、リン酸、酢酸から選択され
る。処理に用いる塩類および酸は2種以上であってもよ
い。塩類処理と酸処理を組み合わせる場合においては、
塩類処理を行った後、酸処理を行う方法、酸処理を行っ
た後、塩類処理を行う方法、および塩類処理と酸処理を
同時に行う方法がある。
The acid used in the acid treatment is preferably selected from hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, oxalic acid, phosphoric acid and acetic acid. Two or more salts and acids may be used for the treatment. When combining salt treatment and acid treatment,
There are a method of performing an acid treatment after performing a salt treatment, a method of performing a salt treatment after performing an acid treatment, and a method of simultaneously performing the salt treatment and the acid treatment.

【0047】塩類および酸による処理条件は、特には制
限されないが、通常、塩類および酸濃度は0.1〜30
重量%、処理温度は室温〜沸点、処理時間は5分〜24
時間の条件を選択して、イオン交換性層状珪酸塩に含有
される少なくとも一種の化合物の少なくとも一部を溶出
する条件で行うことが好ましい。また、塩類および酸
は、一般的には水溶液で用いられる。
The conditions for treatment with salts and acids are not particularly limited, but usually the concentration of salts and acids is 0.1 to 30.
Wt%, treatment temperature is from room temperature to boiling point, treatment time is from 5 minutes to 24
It is preferable to select a time condition so as to elute at least a part of at least one compound contained in the ion-exchange layered silicate. Further, salts and acids are generally used in an aqueous solution.

【0048】本発明では、好ましくは上記塩類処理およ
び/または酸処理を行うが、処理前、処理間、処理後に
粉砕や造粒等で形状制御を行ってもよい。また、アルカ
リ処理や有機物処理などの化学処理を併用してもよい。
これらイオン交換性層状珪酸塩には、通常吸着水および
層間水が含まれる。本発明においては、これらの吸着水
および層間水を除去して成分(B)として使用するのが
好ましい。
In the present invention, the above-mentioned salt treatment and / or acid treatment is preferably performed, but shape control may be performed by pulverization, granulation or the like before, during, or after the treatment. Further, a chemical treatment such as an alkali treatment or an organic substance treatment may be used in combination.
These ion-exchange layered silicates usually contain adsorbed water and interlayer water. In the present invention, it is preferable to remove these adsorbed water and interlayer water to use as component (B).

【0049】ここで吸着水とは、イオン交換性層状珪酸
塩化合物粒子の表面あるいは結晶破面に吸着された水
で、層間水は結晶の層間に存在する水である。本発明で
は、加熱処理によりこれらの吸着水および/または層間
水を除去して使用することができる。
Here, the adsorbed water is water adsorbed on the surface of the ion-exchange layered silicate compound particles or the crystal fracture surface, and the interlayer water is water existing between the layers of the crystal. In the present invention, these adsorbed water and / or interlayer water can be removed by heat treatment before use.

【0050】イオン交換性層状珪酸塩の吸着水および層
間水の加熱処理方法は特に制限されないが、加熱脱水、
気体流通下の加熱脱水、減圧下の加熱脱水および有機溶
媒との共沸脱水等の方法が用いられる。加熱の際の温度
は、イオン交換性層状珪酸塩および層間イオンの種類に
よるために一概に規定できないが、層間水が残存しない
ように、100℃以上、好ましくは150℃以上で行な
われるが、構造破壊を生じるような高温条件(加熱時間
にもよるが例えば800℃以上)は好ましくない。ま
た、空気流通下での加熱等の架橋構造を形成させるよう
な加熱脱水方法は、触媒の重合活性が低下するおそれが
あるため好ましくない。加熱時間は0.5時間以上、好
ましくは1時間以上である。その際、除去した後の成分
(B)の水分含有率が、温度200℃、圧力1mmHg
の条件下で2時間脱水した場合の水分含有率を0重量%
としたとき、3重量%以下、好ましくは1重量%以下で
あることが好ましい。
The method of heat-treating the ion-exchanged layered silicate for adsorbed water and interlayer water is not particularly limited.
Methods such as heat dehydration under gas flow, heat dehydration under reduced pressure, and azeotropic dehydration with an organic solvent are used. The temperature at the time of heating cannot be specified unconditionally because it depends on the type of ion-exchangeable layered silicate and interlayer ions. However, the heating is performed at 100 ° C. or higher, preferably 150 ° C. or higher so that interlayer water does not remain. High temperature conditions that cause breakage (for example, 800 ° C. or higher, depending on the heating time) are not preferable. Further, a heat dehydration method for forming a crosslinked structure such as heating under air flow is not preferable because the polymerization activity of the catalyst may be reduced. The heating time is at least 0.5 hour, preferably at least 1 hour. At this time, the water content of the component (B) after the removal was 200 ° C. at a pressure of 1 mmHg.
0% by weight when dehydrated for 2 hours under the above conditions
It is preferably 3% by weight or less, preferably 1% by weight or less.

【0051】以上のように、本発明において、成分
(B)として、特に好ましいものは、塩類処理および/
または酸処理を行って得られた、水分含有率が1重量%
以下のイオン交換性層状珪酸塩である。
As described above, in the present invention, particularly preferred as the component (B) is a salt treatment and / or
Or, the water content obtained by performing the acid treatment is 1% by weight.
The following ion-exchange layered silicates.

【0052】また、成分(B)は、平均粒径が5μm以
上の球状粒子を用いるのが好ましい。より好ましくは、
平均粒径が10μm以上の球状粒子を用いる。更に好ま
しくは平均粒径が10μm以上100μm以下の球状粒
子を用いる。ここでいう平均粒径は、粒子の光学顕微鏡
写真(倍率100倍)を画像処理して算出した数平均の
粒径で表わす。また(B)成分は、粒子の形状が球状で
あれば天然物あるいは市販品をそのまま使用してもよい
し、粉砕、造粒、分級等により粒子の形状および粒径を
制御したものを用いてもよい。
As the component (B), it is preferable to use spherical particles having an average particle size of 5 μm or more. More preferably,
Spherical particles having an average particle size of 10 μm or more are used. More preferably, spherical particles having an average particle diameter of 10 μm or more and 100 μm or less are used. The average particle diameter here is represented by a number average particle diameter calculated by image processing an optical microscope photograph (100 times magnification) of the particles. As the component (B), a natural product or a commercially available product may be used as it is as long as the shape of the particle is spherical, or a component in which the shape and particle size of the particle are controlled by pulverization, granulation, classification, or the like may be used. Is also good.

【0053】ここで用いられる造粒法は例えば攪拌造粒
法、噴霧造粒法、転動造粒法、ブリケッティング、コン
パクティング、押出造粒法、流動層造粒法、乳化造粒
法、液中造粒法、圧縮成型造粒法等が挙げることができ
成分(B)を造粒することが可能な方法であれば特に限
定されない。造粒法として好ましくは、攪拌造粒法、噴
霧造粒法、転動造粒法、流動層造粒法が挙げられ、特に
好ましくは攪拌造粒法、噴霧造粒法が挙げられる。な
お、噴霧造粒を行う場合、原料スラリーの分散媒として
水あるいはメタノール、エタノール、クロロホルム、塩
化メチレン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエ
ン、キシレン等の有機溶媒を用いる。好ましくは水を分
散媒として用いる。
The granulation methods used here include, for example, stirring granulation, spray granulation, tumbling granulation, briquetting, compacting, extrusion granulation, fluidized bed granulation, and emulsion granulation. The method is not particularly limited as long as it is a method capable of granulating the component (B), including a submerged granulation method and a compression molding granulation method. The granulation method is preferably a stirring granulation method, a spray granulation method, a tumbling granulation method, or a fluidized bed granulation method, and particularly preferably a stirring granulation method or a spray granulation method. When the spray granulation is performed, water or an organic solvent such as methanol, ethanol, chloroform, methylene chloride, pentane, hexane, heptane, toluene, and xylene is used as a dispersion medium of the raw material slurry. Preferably, water is used as the dispersion medium.

【0054】球状粒子が得られる噴霧造粒の原料スラリ
ー液の成分(B)の濃度は0.1〜70%、好ましくは
1〜50%、特に好ましくは5〜30%である。球状粒
子が得られる噴霧造粒の熱風の入り口の温度は、分散媒
により異なるが、水を例にとると80〜260℃、好ま
しくは100〜220℃で行う。
The concentration of the component (B) in the raw slurry liquid for spray granulation to obtain spherical particles is 0.1 to 70%, preferably 1 to 50%, particularly preferably 5 to 30%. The temperature at the inlet of the hot air for spray granulation to obtain spherical particles varies depending on the dispersion medium, but is preferably 80 to 260 ° C, preferably 100 to 220 ° C when taking water as an example.

【0055】また造粒の際に有機物、無機溶媒、無機
塩、各種バインダーを用いてもよい。用いられるバイン
ダーとしては例えば砂糖、デキストローズ、コーンシロ
ップ、ゼラチン、グルー、カルボキシメチルセルロース
類、ポリビニルアルコール、水ガラス、塩化マグネシウ
ム、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、硫酸マグネ
シウム、アルコール類、グリコール、澱粉、カゼイン、
ラテックス、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオ
キシド、タール、ピッチ、アルミナゾル、シリカゲル、
アラビアゴム、アルギン酸ソーダ等が挙げられる。
At the time of granulation, an organic substance, an inorganic solvent, an inorganic salt, and various binders may be used. Examples of the binder used include sugar, dextrose, corn syrup, gelatin, glue, carboxymethylcellulose, polyvinyl alcohol, water glass, magnesium chloride, aluminum sulfate, aluminum chloride, magnesium sulfate, alcohols, glycol, starch, casein,
Latex, polyethylene glycol, polyethylene oxide, tar, pitch, alumina sol, silica gel,
Gum arabic, sodium alginate and the like can be mentioned.

【0056】上記のように得られた球状粒子は、重合工
程での破砕や微粉発生の抑制をするためには0.2MP
a以上の圧縮破壊強度を有することが好ましい。このよ
うな粒子強度の場合には、特に予備重合を行う場合に、
粒子性状改良効果が有効に発揮される。
The spherical particles obtained as described above have a particle size of 0.2 MPa to suppress crushing and generation of fine powder in the polymerization step.
It preferably has a compressive breaking strength of at least a. In the case of such particle strength, especially when performing pre-polymerization,
The particle property improving effect is effectively exhibited.

【0057】<成分(C)>成分(C)は有機アルミニ
ウム化合物である。本発明で成分(C)として用いられ
る有機アルミニウム化合物は、一般式(AlR
4 n3-nmで示される化合物が適当である。本発明では
この式で表される化合物を単独で、複数種混合してある
いは併用して使用することができることはいうまでもな
い。また、この使用触媒調製時だけでなく、予備重合あ
るいは重合時にも可能である。
<Component (C)> The component (C) is an organoaluminum compound. The organoaluminum compound used as the component (C) in the present invention has a general formula (AlR)
Compounds represented by 4 n X 3-n) m is appropriate. In the present invention, it goes without saying that the compounds represented by this formula can be used alone, in combination of two or more or in combination. Further, not only at the time of preparing the catalyst to be used, but also at the time of preliminary polymerization or polymerization.

【0058】この式中、R4は炭素数1〜20の炭化水
素基を示し、Xは、ハロゲン、水素、アルコキシ基、ア
ミノ基を示す。nは1〜3の、mは1〜2の整数であ
る。R 4としてはアルキル基が好ましく、またXは、そ
れがハロゲンの場合には塩素が、アルコキシ基の場合に
は炭素数1〜8のアルコキシ基が、アミノ基の場合には
炭素数1〜8のアミノ基が好ましい。したがって、好ま
しい化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウ
ム、トリエチルアルミニウム、トリノルマルプロピルア
ルミニウム、トリノルマルブチルアルミニウム、トリイ
ソブチルアルミニウム、トリノルマルヘキシルアルミニ
ウム、トリノルマルオクチルアルミニウム、トリノルマ
ルデシルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロライ
ド、ジエチルアルミニウムセスキクロライド、ジエチル
アルミニウムヒドリド、ジエチルアルミニウムエトキシ
ド、ジエチルアルミニウムジメチルアミド、ジイソブチ
ルアルミニウムヒドリド、ジイソブチルアルミニウムク
ロライド等が挙げられる。これらのうち、好ましくは、
m=1、n=3のトリアルキルアルミニウムおよびジア
ルキルアルミニウムヒドリドである。さらに好ましくは
4が炭素数1〜8であるトリアルキルアルミニウムで
ある。
In this formula, RFourIs a hydrocarbon having 1 to 20 carbon atoms
X represents a halogen, hydrogen, an alkoxy group,
Shows a mino group. n is an integer of 1-3 and m is an integer of 1-2
You. R FourIs preferably an alkyl group, and X is
When it is a halogen, chlorine; when it is an alkoxy group,
Is when the alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms is an amino group
An amino group having 1 to 8 carbon atoms is preferred. Therefore, preferred
A specific example of a new compound is trimethylaluminum.
System, triethylaluminum, trinormal propyl alcohol
Luminium, tri-n-butyl aluminum, tri-butyl
Sobutyl aluminum, tri-normal hexyl aluminum
, Trinormal octyl aluminum, trinorma
Rudecyl aluminum, diethyl aluminum chloride
, Diethylaluminum sesquichloride, diethyl
Aluminum hydride, diethyl aluminum ethoxy
, Diethylaluminum dimethylamide, diisobuty
Aluminum hydride, diisobutylaluminum
Loride and the like. Of these, preferably,
m = 1, n = 3 trialkylaluminum and dia
Lucyl aluminum hydride. More preferably
RFourIs a trialkyl aluminum having 1 to 8 carbon atoms
is there.

【0059】<触媒の調製>上記の結晶性ポリプロピレ
ンを製造する際に用いられる触媒としては、上記の成分
(A)、成分(B)ならびに必要に応じて用いられる成
分(C)からなる触媒を、重合槽内であるいは重合槽外
で、重合させるべきモノマーの存在下あるいは不存在下
に接触させることにより調製することができる。
<Preparation of Catalyst> As the catalyst used for producing the above-mentioned crystalline polypropylene, a catalyst comprising the above-mentioned component (A), component (B) and optionally component (C) is used. It can be prepared by contacting in a polymerization vessel or outside a polymerization vessel in the presence or absence of a monomer to be polymerized.

【0060】また、上記触媒は、オレフィンの存在下で
予備重合を行ったものであってもよい。予備重合に用い
られるオレフィンとしては、プロピレン、エチレン、1
−ブテン、3−メチルブテン−1、スチレン、ジビニル
ベンゼン等が用いられるが、これらと他のオレフィンと
の混合物であってもよい。
The above catalyst may be one obtained by pre-polymerization in the presence of an olefin. As the olefin used for the prepolymerization, propylene, ethylene,
-Butene, 3-methylbutene-1, styrene, divinylbenzene and the like are used, but a mixture of these with other olefins may be used.

【0061】上記触媒の調製において使用される成分
(A)、成分(B)、成分(C)の使用量は任意の比で
使用することができる。
The components (A), (B) and (C) used in the preparation of the above catalyst can be used in any ratio.

【0062】<重合>本発明に用いる結晶性ポリプロピ
レンの重合は、成分(A)、成分(B)、並びに必要に
応じて成分(C)からなる触媒とプロピレンとエチレン
または炭素数4〜20のα−オレフィンとを混合接触さ
せることにより行われる。反応系中の各モノマーの量比
は経時的に一定である必要はなく、各モノマーを一定の
混合比で供給することも便利であるし、供給するモノマ
ーの混合比を経時的に変化させることも可能である。ま
た、共重合反応比を考慮してモノマーのいずれかを分割
添加することもできる。
<Polymerization> The polymerization of the crystalline polypropylene used in the present invention is carried out by a catalyst comprising the components (A) and (B) and, if necessary, a component (C) and propylene and ethylene or ethylene or carbon having 4 to 20 carbon atoms. It is carried out by mixing and contacting with an α-olefin. The amount ratio of each monomer in the reaction system does not need to be constant over time, and it is convenient to supply each monomer at a constant mixing ratio, and to change the mixing ratio of the supplied monomers over time. Is also possible. Further, any of the monomers can be dividedly added in consideration of the copolymerization reaction ratio.

【0063】重合様式は、触媒成分と各モノマーが効率
よく接触するならば、あらゆる様式の方法を採用するこ
とができる。具体的には、不活性溶媒を用いるスラリー
法、不活性溶媒を実質的に用いずプロピレンを溶媒とし
て用いるバルク法、溶液重合法あるいは実質的に液体溶
媒を用いず各モノマーを実質的にガス状に保つ気相法を
採用することができる。
As for the polymerization mode, any method can be adopted as long as the catalyst component and each monomer come into efficient contact with each other. Specifically, a slurry method using an inert solvent, a bulk method using propylene as a solvent without substantially using an inert solvent, a solution polymerization method, or a method in which each monomer is substantially gaseous without substantially using a liquid solvent Can be employed.

【0064】また、連続重合、回分式重合にも適用され
る。スラリー法の場合には、不活性溶媒としてヘキサ
ン、ヘプタン、ペンタン、シクロヘキサン、ベンゼン、
トルエン等の飽和脂肪族または芳香族炭化水素の単独あ
るいは混合物を用いることができる。
The present invention is also applicable to continuous polymerization and batch polymerization. In the case of the slurry method, hexane, heptane, pentane, cyclohexane, benzene,
A single or mixture of a saturated aliphatic or aromatic hydrocarbon such as toluene can be used.

【0065】重合時条件としては重合温度が−78℃〜
160℃、好ましくは0℃〜150℃である。重合の際
の分子量調節剤として補助的に水素を用いることができ
る。
The polymerization conditions are as follows.
160 ° C., preferably 0 ° C. to 150 ° C. Hydrogen can be supplementarily used as a molecular weight regulator at the time of polymerization.

【0066】また、重合圧力は0〜90kg/cm2
G、好ましくは0〜60kg/cm2・G、特に好まし
くは1〜50kg/cm2・Gが適当である。
The polymerization pressure is 0 to 90 kg / cm 2 ···
G, preferably 0 to 60 kg / cm 2 · G, particularly preferably 1 to 50 kg / cm 2 · G.

【0067】本発明に使用される結晶性ポリプロピレン
には、本発明の目的が損なわれない範囲で、各種添加
剤、例えば造核剤、耐熱安定剤、酸化防止剤、耐候安定
剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、
防曇剤、着色剤、充填剤、エラストマーなどを配合する
ことができる。
The crystalline polypropylene used in the present invention may contain various additives such as a nucleating agent, a heat stabilizer, an antioxidant, a weather stabilizer, and an antistatic agent as long as the object of the present invention is not impaired. , Slip agent, anti-blocking agent,
An antifogging agent, a coloring agent, a filler, an elastomer and the like can be blended.

【0068】特に次の添加剤を配合することによって結
晶性ポリプロピレン樹脂フィルムの特性を改良すること
ができる。
In particular, the properties of the crystalline polypropylene resin film can be improved by adding the following additives.

【0069】(ポリエチレン)次の条件1)、2)を満
たすポリエチレンを添加することによって、フィルムの
剛性が改良される。
(Polyethylene) The rigidity of the film is improved by adding polyethylene satisfying the following conditions 1) and 2).

【0070】1)密度:密度は0.94〜0.98g/
cm3 2)190℃におけるメルトインデックス(MIE)は
10g/10分以上、好ましくは10〜500g/10
1) Density: The density is 0.94 to 0.98 g /
cm 3 2) Melt index (MI E ) at 190 ° C. is 10 g / 10 min or more, preferably 10 to 500 g / 10
Minute

【0071】配合量は、結晶性ポリプロピレン95.0
〜99.999重量部に対して、ポリエチレンが0.0
01〜5.0重量部程度である。
The compounding amount was 95.0 crystalline polypropylene.
To 99.999 parts by weight, polyethylene
It is about 01 to 5.0 parts by weight.

【0072】(ポリエチレンワックス)ポリエチレンワ
ックスを添加することによって、ポリエチレンと同様
に、フィルムの剛性が改良される。ポリエチレンワック
スとしては次の1)、2)の条件を満たすものが望まし
い。
(Polyethylene Wax) The addition of polyethylene wax improves the rigidity of the film, similarly to polyethylene. It is desirable that the polyethylene wax satisfy the following conditions 1) and 2).

【0073】1)密度:0.94〜0.98g/cm3 2)140℃における溶融粘度は10cps以上、好ま
しくは15〜30000cps
1) Density: 0.94 to 0.98 g / cm 3 2) Melt viscosity at 140 ° C. is 10 cps or more, preferably 15 to 30000 cps.

【0074】ポリエチレンワックスの配合割合は、結晶
性ポリプロピレン99.999〜95.0重量部、好ま
しくは99.99〜97.0重量部に対して、ポリエチ
レンワックスが0.001〜5.0重量部、好ましくは
0.01〜3.0重量部である。
The mixing ratio of the polyethylene wax is from 0.009 to 95.0 parts by weight, preferably from 99.99 to 97.0 parts by weight, of the crystalline polypropylene, and from 0.001 to 5.0 parts by weight of the polyethylene wax. , Preferably 0.01 to 3.0 parts by weight.

【0075】(エラストマー)エラストマーを添加する
ことによってヒートシール性を改良することができ、エ
ラストマーとしては、プロピレン系エラストマーあるい
はエチレン系エラストマーが望ましい。
(Elastomer) The heat sealability can be improved by adding an elastomer. As the elastomer, a propylene-based elastomer or an ethylene-based elastomer is desirable.

【0076】エラストマーの配合割合は、結晶性ポリプ
ロピレン50.0〜98.0重量部に対してエラストマ
ーが2.0〜50.0重量部、好ましくは結晶性ポリプ
ロピレン70.0〜95.0重量部に対してエラストマ
ーが5.0〜30.0重量部である。
The compounding ratio of the elastomer is such that the elastomer is 2.0 to 50.0 parts by weight, preferably the crystalline polypropylene is 70.0 to 95.0 parts by weight based on 50.0 to 98.0 parts by weight of the crystalline polypropylene. To 30.0 parts by weight of elastomer.

【0077】(アンチブロッキング剤)アンチブロッキ
ング剤としては、たとえば無機系としては、合成または
天然のシリカ(二酸化珪素)、ケイ酸マグネシウム、ア
ルミノシリケート、タルク、ゼオライト、硼酸アルミニ
ウム、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウ
ム、燐酸カルシウム等が使用される。
(Anti-blocking agent) Examples of the anti-blocking agent include inorganic or synthetic silica (silicon dioxide), magnesium silicate, aluminosilicate, talc, zeolite, aluminum borate, calcium carbonate, calcium sulfate, and the like. Barium sulfate, calcium phosphate and the like are used.

【0078】また、有機系としては、ポリメチルメタク
リレート、ホリメチルシリルトセスキオキサン(シリコ
ーン)、ポリアミド、ポリテトラフルオロエチレン、エ
ポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ベンゾグアナミン・ホ
ルムアルデヒド(ユリア樹脂)、フェノール樹脂等を用
いることができる。これらのアンチブロッキング剤の平
均粒径がこのような範囲内においては、透明性および耐
スクラッチ性が良好なポリプロピレンフィルムが得られ
る。
Examples of the organic type include polymethyl methacrylate, polymethylsilyl sesquioxane (silicone), polyamide, polytetrafluoroethylene, epoxy resin, polyester resin, benzoguanamine / formaldehyde (urea resin), and phenol resin. Can be used. When the average particle size of these antiblocking agents is in such a range, a polypropylene film having good transparency and scratch resistance can be obtained.

【0079】また、アンチブロッキング剤は表面処理さ
れたものが望ましく、表面処理剤としては、界面活性
剤、金属石鹸、アクリル酸、シュウ酸、クエン酸、酒石
酸等の有機酸、高級アルコール、エステル、シリコー
ン、フッソ樹脂、シランカップリング剤、ヘキサメタリ
ン酸ソーダ、ピロリン酸ソーダ、トリポリリン酸ソー
ダ、トリメタリン酸ソーダ等の縮合リン酸塩等を用いる
ことができ、特に有機酸処理なかでもクエン酸処理され
たものが好適である。
The anti-blocking agent is preferably surface-treated. Examples of the surface-treating agent include surfactants, organic acids such as metal soap, acrylic acid, oxalic acid, citric acid and tartaric acid, higher alcohols, esters, and the like. Condensed phosphates such as silicone, fluorine resin, silane coupling agent, sodium hexametaphosphate, sodium pyrophosphate, sodium tripolyphosphate, sodium trimetaphosphate, and the like can be used, and especially those treated with citric acid among organic acid treatments Is preferred.

【0080】アンチブロッキング剤は、結晶性ポリプロ
ピレン100重量部に対して、0.01〜0.7重量
部、より好ましくは0.05〜0.5重量部の割合で用
いられる。
The antiblocking agent is used in an amount of 0.01 to 0.7 part by weight, more preferably 0.05 to 0.5 part by weight, based on 100 parts by weight of the crystalline polypropylene.

【0081】(滑剤)また本発明においては滑剤を添加
することが好ましく、滑剤としては、たとえば直鎖状の
モノカルボン酸モノアミド化合物または直鎖状のモノカ
ルボン酸ビスアミド化合物の1種または2種以上組み合
わせて使用することができる。直鎖状のモノカルボン酸
モノアミド化合物としては、たとえばオレイン酸アミ
ド、ステアリン酸アミド、エルカ酸アミド、パルミチン
酸アミド、ベヘニン酸アミド、ラウリン酸アミドなどが
挙げられる。
(Lubricant) In the present invention, it is preferable to add a lubricant. As the lubricant, for example, one or more linear monocarboxylic acid monoamide compounds or linear monocarboxylic acid bisamide compounds are used. They can be used in combination. Examples of the linear monocarboxylic acid monoamide compound include oleic amide, stearic amide, erucic amide, palmitic amide, behenic amide, lauric amide and the like.

【0082】直鎖状のモノカルボン酸ビスアミド化合物
としては、たとえばエチレンビスオレイン酸アミド、エ
チレンビスステアリン酸アミド、メチレンビスステアリ
ン酸アミドなどが挙げられる。
Examples of the linear monocarboxylic acid bisamide compound include ethylene bisoleic acid amide, ethylene bis stearic acid amide, and methylene bis stearic acid amide.

【0083】滑剤の添加量は、結晶性ポリプロピレン1
00重量部に対して、好ましくは0.01〜1.0重量
部、より好ましくは0.02〜0.5重量部である。
The amount of the lubricant to be added is as follows.
The amount is preferably 0.01 to 1.0 part by weight, more preferably 0.02 to 0.5 part by weight, based on 00 parts by weight.

【0084】特に、融点が70〜90℃の不飽和脂肪酸
アミド、及び/又は融点が100〜125℃の飽和脂肪
酸アミドが使用できる。
In particular, unsaturated fatty acid amides having a melting point of 70 to 90 ° C. and / or saturated fatty acid amides having a melting point of 100 to 125 ° C. can be used.

【0085】上記の各成分の配合は、通常、溶融混練機
を用いて190℃〜350℃で加熱溶融混練し、粒状に
裁断されたペレット状態でフィルム成形材料として提供
される。
The above components are usually blended by heating and melting at 190 ° C. to 350 ° C. using a melt kneader and provided as a film forming material in the form of pellets cut into granules.

【0086】本発明のガスバリア性の改良されたポリプ
ロピレン樹脂フィルムは、上述の結晶性ポリプロピレン
をキャスト法、インフレーション成形法などの溶融押出
し成形法により製膜することができる。該フィルムの厚
みは通常5〜500μm程度である。またフィルムは単
層での使用だけでなく、共押出し製膜法による複層フィ
ルムにも好適に使用できる。さらに得られたフィルムを
二軸延伸して用いることもできる。複層フィルムの場
合、本発明のフィルムは表面層に用いることが好まし
い。
The polypropylene resin film having improved gas barrier properties of the present invention can be formed from the above-mentioned crystalline polypropylene by a melt extrusion molding method such as a casting method or an inflation molding method. The thickness of the film is usually about 5 to 500 μm. The film can be suitably used not only for a single layer but also for a multilayer film by a co-extrusion method. Further, the obtained film can be biaxially stretched and used. In the case of a multilayer film, the film of the present invention is preferably used for a surface layer.

【0087】[0087]

【実施例】a.MFRの測定 JIS−K6758に準拠し測定した(条件:温度/2
30℃、荷重2.16kgf)。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS a. Measurement of MFR Measured according to JIS-K6758 (condition: temperature / 2
30 ° C, load 2.16 kgf).

【0088】b.融点Tmの測定 セイコー社製DSCを用い、サンプル量5mgを採り、
200℃で5分間保持した後、40℃まで10℃/分の
降温速度で結晶化させ、更に10℃/分の昇温速度で融
解させたときに描かれる曲線のピーク位置をTmとす
る。
B. Measurement of melting point Tm Using a Seiko DSC, take a sample amount of 5 mg,
After holding at 200 ° C. for 5 minutes, crystallize to 40 ° C. at a rate of 10 ° C./min and further melt at a rate of 10 ° C./min.

【0089】c.Q値の測定 GPCにより測定した重量平均分子量と数平均分子量と
の比をQ値とした。測定条件は次の通りである。
C. Measurement of Q value The ratio between the weight average molecular weight and the number average molecular weight measured by GPC was defined as the Q value. The measurement conditions are as follows.

【0090】 装置:ウオーターズ社製GPC 150C型 カラム:昭和電工社製AD80M/S 3本 測定温度:140℃ 濃度:20mg/10ml 溶媒:オルソジクロロベンゼンApparatus: GPC 150C type manufactured by Waters Co., Ltd. Column: 3 AD80M / S manufactured by Showa Denko KK Measurement temperature: 140 ° C. Concentration: 20 mg / 10 ml Solvent: orthodichlorobenzene

【0091】d.球晶半径成長速度Sの測定 厚さ20μmのアルミ箔をスペーサーとして設置した2
枚のガラス板で試料樹脂を挟み、200℃のホットプレ
ート上で5分間加熱し、十分な溶融状態を形成した。し
かる後に、温度調整槽(リンカム社製TC−600P
h)に移し、窒素雰囲気下、200℃で1分間保持し
た。槽の温度を等温結晶化温度(当該樹脂の融点(T
m)−30℃)まで75℃/分の速度で降温し、オリン
パス製顕微鏡BH−2に同社製CCDカメラFDC−7
25を用いて状態変化を観察した。なお、槽の温度誤差
は±0.1℃を維持せしめた。得られた画像データをN
ational insutitute of hea
lthより提供されているフリーウェアソフトNIMイ
メージを使用して解析を行い、経過時間に対する球晶を
プロットして得られた直線の傾きからSを求めた。なお
Sは試行回数20回の平均値とした。
D. Measurement of spherulite radius growth rate S Aluminum foil having a thickness of 20 μm was installed as a spacer 2
The sample resin was sandwiched between two glass plates and heated on a hot plate at 200 ° C. for 5 minutes to form a sufficiently molten state. After a while, the temperature control tank (TC-600P manufactured by Linkham)
h) and kept at 200 ° C. for 1 minute under a nitrogen atmosphere. The temperature of the tank is adjusted to the isothermal crystallization temperature (the melting point (T
m) The temperature was lowered to -30 ° C) at a rate of 75 ° C / minute, and the Olympus microscope BH-2 was used to mount the CCD camera FDC-7.
25 was used to observe a change in state. The temperature error of the tank was kept at ± 0.1 ° C. The obtained image data is
national institute of hair
Analysis was performed using the freeware software NIM image provided by lth, and S was determined from the slope of a straight line obtained by plotting the spherulites against the elapsed time. S is an average value of 20 trials.

【0092】(フィルムの製造条件)該樹脂パウダー1
00重量部に、Ir1010/Ir168/CaStを
0.05/0.05/0.05の割合[重量部]に配合
すると共にさらに表1に示すアンチブロッキング剤、ス
リップ剤、あるいは、ポリエチレン、ポリエチレンワッ
クスを加えて、池貝製作所製二軸押出機PCM(スクリ
ュー径30mm)を用いて、造粒を行ない、得られたペ
レットを使用し、プラコー社製Tダイ成形機(35mm
φ)を使用して厚み25μmの単層フイルムを得た。な
お、この際の冷却ロールの表面温度は34℃であった。
得られたフィルムの片面に40dyne/cmのコロナ
処理を行なった。
(Film production conditions) Resin powder 1
To 100 parts by weight, Ir1010 / Ir168 / CaSt was added in a ratio of 0.05 / 0.05 / 0.05 [parts by weight], and an antiblocking agent, slip agent, polyethylene, or polyethylene wax shown in Table 1 was further added. , And granulation was performed using a twin screw extruder PCM (screw diameter 30 mm) manufactured by Ikegai Seisakusho. Using the obtained pellets, a T-die molding machine (35 mm
(φ) was used to obtain a single-layer film having a thickness of 25 μm. In this case, the surface temperature of the cooling roll was 34 ° C.
One surface of the obtained film was subjected to a corona treatment of 40 dyne / cm.

【0093】e.透明性(Haze)の測定 ASTM−D1003に準拠して、得られたフィルムを
ヘイズメータにて測定した(単位:%)。この値が小さ
い程透明性が優れていることを意味する。
E. Measurement of Transparency (Haze) The obtained film was measured with a haze meter according to ASTM-D1003 (unit:%). The smaller the value, the better the transparency.

【0094】f.ヤング率(引っ張り弾性率)の測定法 ISO−R1184に準拠して測定した。F. Measuring method of Young's modulus (tensile elastic modulus) It was measured according to ISO-R1184.

【0095】g.パンクチャーインパクトの測定 JIS−P8134に準拠して測定した。G. Measurement of puncture impact Measured according to JIS-P8134.

【0096】h.滑り性(SLIP性)の測定 得られたフィルムを温度40℃の雰囲気下に7日間と、
次いで温度23℃、50%RHの雰囲気下に7日間状態
調整した試料を、ASTM−D1894に準拠して、ス
リップテスター法によって処理面同士の静摩擦係数を測
定した。
H. Measurement of Slip Property (SLIP Property) The obtained film was placed in an atmosphere at a temperature of 40 ° C. for 7 days,
Next, the sample, which had been conditioned for 7 days in an atmosphere at a temperature of 23 ° C. and 50% RH, was subjected to a slip tester to measure the static friction coefficient between treated surfaces in accordance with ASTM-D1894.

【0097】i.ブロッキング性の測定 ASTM−D1893(CT法)に準拠して測定した。I. Measurement of blocking property Measured according to ASTM-D1893 (CT method).

【0098】得られたフィルムから、幅2cm、長さ1
5cmの試料を採取し、コロナ処理面同士を長さ5cm
にわたって重ね、50g/cm2の荷重下で温度40℃
の雰囲気下に7日間静置した後、荷重を除き、温度23
℃、湿度50%RH下に充分調整した後、引張試験機を
用いて重ねた部分を500mm/minの速度で開いた
際の剥離に要する力を求めた。この値が小さいほど耐ブ
ロッキング性はよい。
From the obtained film, width 2 cm, length 1
Take a 5cm sample and make the corona treated surfaces 5cm long
At a temperature of 40 ° C. under a load of 50 g / cm 2.
After standing for 7 days in an atmosphere of
After sufficiently adjusting the temperature to 50 ° C. and a humidity of 50% RH, the force required for peeling when the overlapped portion was opened at a speed of 500 mm / min was determined using a tensile tester. The smaller this value is, the better the blocking resistance is.

【0099】j.水蒸気透過性の測定 JISK−7129に準拠して測定した。測定条件は、
透過面積50cm2、温度40℃、湿度90%RHで行
なった。
J. Measurement of water vapor permeability Measured in accordance with JIS K-7129. The measurement conditions are
The test was performed at a transmission area of 50 cm 2 , a temperature of 40 ° C., and a humidity of 90% RH.

【0100】k.酸素透過性の測定 前記のフィルムを試験片とし、試験片を境として、一方
にキャリアガス(He)、他方に空気を流し、試験片を
透過した酸素をガスクロで測定し、酸素透過度を求め
た。測定は、透過面積50cm2、温度23℃、湿度5
0%RHで行なった。装置:リッシー社製混合ガス透過
率測定装置GPM−200
K. Measurement of Oxygen Permeability Using the above-mentioned film as a test piece, with the test piece as a boundary, flowing a carrier gas (He) on one side, and flowing air on the other side, measure oxygen permeating the test piece by gas chromatography, and obtain oxygen permeability. Was. The measurement was performed with a transmission area of 50 cm 2 , a temperature of 23 ° C., and a humidity of 5
Performed at 0% RH. Apparatus: GPM-200 mixed gas permeability measuring device manufactured by Lissi

【0101】l.ヒートシール性(HS性)の測定 5mm×200mmのヒートシールバーを用い、得られ
たフィルムの未処理面同士を各温度設定においてヒート
シール圧力2Kg/cm2、ヒートシール時間1秒の条
件下でフィルムの溶融押出をした方向(MD)に垂直に
なるようにヒートシールした試料から15mm幅のサン
プルをとり、ショッパー型試験機を用いて引張速度50
0mm/分でMD方向に引き離し、その荷重を読み取っ
た。荷重が300gになるシール温度をヒートシール温
度とした(単位℃)。この値が小さい程ヒートシール性
が優れていることを意味する。
L. Measurement of Heat Sealing Property (HS Property) Using a heat sealing bar of 5 mm × 200 mm, the untreated surfaces of the obtained films were heated at a temperature of 2 kg / cm 2 and a heat sealing time of 1 second at each temperature setting. A sample having a width of 15 mm was taken from a sample heat-sealed so as to be perpendicular to the direction in which the film was melt-extruded (MD), and was subjected to a pulling speed of 50 using a Shopper type tester.
It was separated in the MD direction at 0 mm / min, and the load was read. The sealing temperature at which the load became 300 g was defined as the heat sealing temperature (unit: ° C.). The smaller the value, the better the heat sealing property.

【0102】実施例1〜6 (i)ジメチルシリレンビス[1−{2−メチル−4−
(4−クロロフェニル)−4H−アズレニル}]ジルコ
ニウムジクロリドのラセミ体の合成 (a)ラセミ・メソ混合物の合成 1−ブロモ−4−クロロベンゼン1.84g(9.6m
mol)のn−ヘキサン(10ml)とジエチルエーテ
ル(10ml)との溶液に−78℃でt−ブチルリチウ
ムのペンタン溶液(1.64M)11.7ml(19.
2mmol)を滴下した。得られた溶液を−5℃で1.
5時間攪拌後、この溶液に2−メチルアズレン1.2g
(8.6mmol)を添加して反応を行った。この反応
溶液を徐々に室温まで戻しながら1.5時間攪拌した。
その後、反応溶液を0℃に冷却し、1−メチルイミダゾ
ール15μl(0.19mmol)を添加し、更に、ジ
クロロジメチルシラン0.52ml(4.3mmol)
を添加した。反応溶液を室温で1.5時間攪拌後、希塩
酸を添加して反応を停止し、分液した有機相を減圧下に
濃縮し、ジクロロメタンを添加した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去した後、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製し、アモルファス状の
固体2.1gを得た。
Examples 1 to 6 (i) Dimethylsilylenebis [1- {2-methyl-4-
(4-Chlorophenyl) -4H-azulenyl}] Synthesis of Racemic Form of Zirconium Dichloride (a) Synthesis of Racemic / Meso Mixture 1.84 g of 1-bromo-4-chlorobenzene (9.6 m
mol) of n-hexane (10 ml) and diethyl ether (10 ml) at -78 ° C in 11.7 ml of a pentane solution of t-butyllithium (1.64 M) (19.
2 mmol) was added dropwise. The resulting solution was treated at -5 ° C with 1.
After stirring for 5 hours, 1.2 g of 2-methylazulene was added to the solution.
(8.6 mmol) was added to carry out the reaction. The reaction solution was stirred for 1.5 hours while gradually returning to room temperature.
Thereafter, the reaction solution was cooled to 0 ° C., 15 μl (0.19 mmol) of 1-methylimidazole was added, and 0.52 ml (4.3 mmol) of dichlorodimethylsilane was further added.
Was added. After stirring the reaction solution at room temperature for 1.5 hours, dilute hydrochloric acid was added to stop the reaction, the separated organic phase was concentrated under reduced pressure, dichloromethane was added, and the mixture was dried over magnesium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 2.1 g of an amorphous solid.

【0103】次に、上記の反応生成物1.27gをジエ
チルエーテル15mlに溶解し、これに−78℃でn−
ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液(1.66M)2.
8ml(4.5mmol)を滴下した。滴下終了後、反
応溶液を徐々に室温まで戻しながら12時間攪拌した。
減圧下に溶媒を留去した後、トルエンとジエチルエーテ
ルの混合溶媒(40:1)5mlを添加して−78℃に
冷却し、これに四塩化ジルコニウム0.53g(2.3
mmol)を添加した。
Next, 1.27 g of the above reaction product was dissolved in 15 ml of diethyl ether.
1. n-hexane solution of butyllithium (1.66 M)
8 ml (4.5 mmol) were added dropwise. After completion of the dropwise addition, the reaction solution was stirred for 12 hours while gradually returning to room temperature.
After distilling off the solvent under reduced pressure, 5 ml of a mixed solvent of toluene and diethyl ether (40: 1) was added, and the mixture was cooled to -78 ° C, and 0.53 g of zirconium tetrachloride (2.3 g) was added thereto.
mmol) was added.

【0104】その後、直ちに室温まで戻し、室温で4時
間攪拌して反応を行った。得られた反応液をセライト上
で濾過し、濾別された固体をトルエン3mlで洗浄して
回収した。回収した固体をジクロロメタンで抽出し、抽
出液から溶媒を留去し、ジメチルシリレンビス[1−
{2−メチル−4−(4−クロロフェニル)−4H−ア
ズレニル}]ジルコニウムジクロリドのラセミ・メソ混
合物906mg(収率56%)を得た。
Thereafter, the temperature was immediately returned to room temperature, and the reaction was carried out by stirring at room temperature for 4 hours. The obtained reaction solution was filtered over celite, and the solid separated by filtration was washed with 3 ml of toluene and collected. The collected solid was extracted with dichloromethane, the solvent was distilled off from the extract, and dimethylsilylenebis [1-
{2-methyl-4- (4-chlorophenyl) -4H-azulenyl}] 906 mg (56% yield) of a racemic / meso mixture of zirconium dichloride was obtained.

【0105】(b)ラセミ体の精製 更に、ジクロロメタン20mlに上記のラセミ・メソ混
合物900mgを溶解し、100Wの高圧水銀灯を40
分照射することによりラセミ体の比率を高め、その後、
不溶分を濾別し、回収した濾液を濃縮乾固した。次い
で、得られた固体成分をトルエン22mlと共に攪拌
し、静置後に上澄み液を除去した、斯かる精製操作を4
回繰り返し、残った固体成分を乾燥し、ジメチルシリレ
ンビス[1−{2−メチル−4−(4−クロロフェニ
ル)−4H−アズレニル}]ジルコニウムジクロリドの
ラセミ体275mgを得た。
(B) Purification of the racemic body Further, 900 mg of the above-mentioned racemic / meso mixture was dissolved in 20 ml of dichloromethane, and a high-pressure mercury lamp of 100 W was used for 40 minutes.
Increase the proportion of the racemate by irradiating
The insolubles were removed by filtration, and the collected filtrate was concentrated to dryness. Then, the obtained solid component was stirred with 22 ml of toluene, and after standing, the supernatant was removed.
This was repeated twice, and the remaining solid component was dried to obtain 275 mg of a racemic dimethylsilylenebis [1- {2-methyl-4- (4-chlorophenyl) -4H-azulenyl}] zirconium dichloride.

【0106】(ii)粘土鉱物の化学処理 硫酸(96%)218.1gと硫酸マグネシウム13
0.4gを脱塩水909ミリリットルと混合した水溶液
に市販のモンモリロナイト(クニミネ工業製、クニピア
F)200.03gを分散させ、100℃で2時間攪拌
した。このモンモリロナイトの水スラリー液を固形分濃
度12%に調製し、スプレードライヤーにより噴霧造粒
を行って、粒子を得た。その後、この粒子を200℃で
2時間減圧乾燥した。
(Ii) Chemical treatment of clay mineral 218.1 g of sulfuric acid (96%) and magnesium sulfate 13
200.03 g of commercially available montmorillonite (Kunimine Kogyo, Knipia F) was dispersed in an aqueous solution obtained by mixing 0.4 g of 909 ml of deionized water, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 2 hours. This aqueous slurry of montmorillonite was adjusted to a solid concentration of 12%, and subjected to spray granulation with a spray drier to obtain particles. Thereafter, the particles were dried under reduced pressure at 200 ° C. for 2 hours.

【0107】(iii)固体触媒成分の調製 内容積1リットルの攪拌式オートクレーブ内をプロピレ
ンで充分に置換した後、脱水・脱酸素したヘプタン23
0ミリリットルを導入し、系内温度を40℃に維持し
た。ここに、トルエンにてスラリー化した化学処理粘土
10gを添加した。更に別容器にてトルエン下で混合し
たジメチルシリレンビス[1−{2−メチル−4−(4
−クロロフェニル)−4H−アズレニル}]ジルコニウ
ムジクロリドのラセミ体0.15ミリモルとトリイソブ
チルアルミニウム1.5ミリモルを添加した。ここでプ
ロピレンを10g/hrの速度で120分導入し、その
後120分重合を継続した。さらに、窒素下で溶媒を除
去・乾燥し、固体触媒成分を得た。この固体触媒成分
は、固体成分1gあたり1.9gのポリプロピレンを含
有していた。
(Iii) Preparation of a solid catalyst component A 1 l internal volume stirred autoclave was sufficiently replaced with propylene, and then dehydrated and deoxygenated heptane 23 was prepared.
0 ml was introduced, and the temperature in the system was maintained at 40 ° C. Here, 10 g of chemically treated clay slurried with toluene was added. Further, dimethylsilylenebis [1- {2-methyl-4- (4
-Chlorophenyl) -4H-azulenyl}] 0.15 mmol of racemic zirconium dichloride and 1.5 mmol of triisobutylaluminum were added. Here, propylene was introduced at a rate of 10 g / hr for 120 minutes, and thereafter polymerization was continued for 120 minutes. Further, the solvent was removed and dried under nitrogen to obtain a solid catalyst component. This solid catalyst component contained 1.9 g of polypropylene per gram of solid component.

【0108】(iv)重合 内容積200リットルの攪拌式オートクレーブ内をプロ
ピレンで十分に置換した後、十分に脱水した液化プロピ
レン45kgを導入した。これにトリイソブチルアルミ
ニウム・n−ヘプタン溶液500ml(0.12mo
l)、エチレン2.25kg、水素7.8リットル(標
準状態の体積として)を加え、内温を30℃に維持し
た。次いで、上記固体触媒成分1.2gをアルゴンで圧
入して重合を開始させ、30分かけて70℃に昇温し、
1時間その温度を維持した。ここでエタノール100m
lを添加して反応を停止させた。残ガスをパージし、プ
ロピレン−エチレン共重合体Aを20kg得た。
(Iv) Polymerization After thoroughly replacing the inside of a stirred autoclave having an internal volume of 200 liters with propylene, 45 kg of sufficiently dehydrated liquefied propylene was introduced. 500 ml (0.12 mol) of triisobutylaluminum / n-heptane solution
l), 2.25 kg of ethylene and 7.8 liters of hydrogen (as a standard volume) were added, and the internal temperature was maintained at 30 ° C. Next, 1.2 g of the above solid catalyst component was injected with argon to start polymerization, and the temperature was raised to 70 ° C. over 30 minutes.
The temperature was maintained for one hour. Here 100m ethanol
The reaction was stopped by adding 1. The residual gas was purged to obtain 20 kg of a propylene-ethylene copolymer A.

【0109】(v)評価 プロピレン−エチレン共重合体Aを用いて表1に示す樹
脂組成物を調製しフィルムを成形した。そのフィルムを
評価した結果を表2の実施例1〜6に示す。
(V) Evaluation A resin composition shown in Table 1 was prepared using propylene-ethylene copolymer A, and a film was formed. The results of evaluating the film are shown in Examples 1 to 6 in Table 2.

【0110】実施例7、8 エチレンと水素の導入量及び触媒の使用量を変更し、プ
ロピレン−エチレン共重合体Aの製造例に従って表1の
実施例7成分(A)に示した特性のプロピレン−エチレ
ン共重合体Bを製造し、同表に示す樹脂組成物を調製し
てフィルムを成形した。そのフィルムの評価結果は表2
の実施例7、8の通りであった。
Examples 7 and 8 The amounts of ethylene and hydrogen introduced and the amount of catalyst used were changed, and propylene having the properties shown in Example 7 (A) of Example 1 in Table 1 was prepared according to the production example of propylene-ethylene copolymer A. -An ethylene copolymer B was produced, and a resin composition shown in the same table was prepared to form a film. Table 2 shows the evaluation results of the film.
Examples 7 and 8

【0111】比較例1〜3 内容積200リットルの攪拌式オートクレーブをプロピ
レンで十分に置換した後、脱水・脱酸素n−ヘプタン6
0Lを導入し、ジエチルアルミニウムクロリド45g、
三塩化チタン触媒(エム・アンド・エス社製)16g
(比較例1,3)、又は担持型三塩化チタン触媒1.8
g(比較例2)を55℃でプロピレン雰囲気下で導入し
た。 水素、プロピレンと、エチレン(比較例1)ある
いはエチレンとブテン(比較例2,3)を導入し、55
℃の温度で重合を行ない、その後、残ガスをパージし、
生成物を濾過・乾燥して、表3の成分(A)に示すよう
なプロピレン−エチレン共重合体3種を得た。得られた
重合体を用いて表3に示す樹脂組成物を調製してフィル
ムを成形した。そのフィルムの評価結果は表4の通りで
あった。
Comparative Examples 1 to 3 After sufficiently replacing a stirred autoclave having an internal volume of 200 liters with propylene, dehydration and deoxygenation of n-heptane 6
0 L was introduced, and diethyl aluminum chloride 45 g,
Titanium trichloride catalyst (manufactured by M & S) 16g
(Comparative Examples 1 and 3) or supported titanium trichloride catalyst 1.8
g (Comparative Example 2) was introduced at 55 ° C. under a propylene atmosphere. Hydrogen, propylene and ethylene (Comparative Example 1) or ethylene and butene (Comparative Examples 2 and 3) were introduced, and 55
The polymerization is carried out at a temperature of ° C., after which the residual gas is purged,
The product was filtered and dried to obtain three propylene-ethylene copolymers as shown in component (A) in Table 3. Using the obtained polymer, a resin composition shown in Table 3 was prepared to form a film. Table 4 shows the evaluation results of the film.

【0112】[0112]

【表1】 [Table 1]

【0113】[0113]

【表2】 [Table 2]

【0114】[0114]

【表3】 [Table 3]

【0115】[0115]

【表4】 [Table 4]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田谷野 孝夫 三重県四日市市東邦町1番地 日本ポリケ ム株式会社プロセス開発センター内 Fターム(参考) 4F071 AA15X AA20 AA20X AA21X AA81 AA84 AA88 AA89 AF08 AF09 AF20 AF23 AF30 AF58 AF59 AH04 BA01 BB06 BC01 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Takao Tagano 1-toho-cho, Yokkaichi-shi, Mie Japan F-term in the Process Development Center of Polychem Corporation (reference) 4F071 AA15X AA20 AA20X AA21X AA81 AA84 AA88 AA89 AF08 AF09 AF20 AF23 AF30 AF58 AF59 AH04 BA01 BB06 BC01

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記の要件(1)〜(4)を充足する結晶
性ポリプロピレンを成形してなるフィルムであって、結
晶性ポリプロピレンの融点Tm(℃)と該フィルムの酸
素透過度D(cc/m2・24Hr・atm)との関係
が式(A)を満たすことを特徴とするガスバリア性の改
良されたポリプロピレン樹脂フィルム。 (1)MFRが0.5〜200g/10min.であること、 (2)融点Tmが110〜160℃であること、 (3)Q値が2.0〜4.0であること、 (4)等温結晶化温度Tt(℃、ただし、Tt=Tm−30)における球晶半 径成長速度S(μm/秒)が式(Ia)を満たすこと、 S>0.140(μm/秒) …(Ia) (5)フィルム D/(cc/m2・24Hr・atm)≦−60×Tm/℃+10300 …(A)
1. A film formed by molding a crystalline polypropylene satisfying the following requirements (1) to (4), wherein the melting point Tm (° C.) of the crystalline polypropylene and the oxygen permeability D (cc) / M 2 · 24Hr · atm), which satisfies the formula (A). (1) MFR is 0.5 to 200 g / 10 min. (2) the melting point Tm is 110 to 160 ° C .; (3) the Q value is 2.0 to 4.0; (4) the isothermal crystallization temperature Tt (° C., where Tt = Tm-30) that the spherulite radius growth rate S (μm / sec) satisfies the formula (Ia), S> 0.140 (μm / sec) (Ia) (5) Film D / (cc / m) (2 · 24Hr · atm) ≦ −60 × Tm / ° C. + 10300 (A)
【請求項2】結晶性ポリプロピレンがメタロセン系触媒
を用いて重合された重合体である請求項1記載のガスバ
リア性の改良されたポリプロピレン樹脂フィルム。
2. The polypropylene resin film having improved gas barrier properties according to claim 1, wherein the crystalline polypropylene is a polymer polymerized using a metallocene catalyst.
【請求項3】結晶性ポリプロピレンがプロピレン・α−
オレフィンランダム共重合体である請求項1又は2に記
載のガスバリア性の改良されたポリプロピレン樹脂フィ
ルム。
3. The method according to claim 1, wherein the crystalline polypropylene is propylene α-
The polypropylene resin film having improved gas barrier properties according to claim 1 or 2, which is an olefin random copolymer.
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