JP2001305740A - Processing method for planographic printing plate - Google Patents

Processing method for planographic printing plate

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JP2001305740A
JP2001305740A JP2000126397A JP2000126397A JP2001305740A JP 2001305740 A JP2001305740 A JP 2001305740A JP 2000126397 A JP2000126397 A JP 2000126397A JP 2000126397 A JP2000126397 A JP 2000126397A JP 2001305740 A JP2001305740 A JP 2001305740A
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Japan
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treatment
printing plate
silver
silicate
acid
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JP2000126397A
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Japanese (ja)
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Takenobu Yoshiki
武宣 吉城
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Mitsubishi Paper Mills Ltd
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Mitsubishi Paper Mills Ltd
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Publication date
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a planographic printing plate having satisfactory printing and stain resistances. SOLUTION: The surface of a planographic printing plate using surface- roughened and anodically oxidized aluminum having a psychometric lightness of <=78 as the base and utilizing a silver complex salt diffusion transfer process is processed with a silicate-containing processing solution after forming a silver image.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、アルミニウム板を
支持体とする平版印刷版、特に銀錯塩拡散転写法を用い
る平版印刷版の処理方法に関すものである。
The present invention relates to a lithographic printing plate using an aluminum plate as a support, and more particularly to a method for processing a lithographic printing plate using a silver complex salt diffusion transfer method.

【0002】[0002]

【従来の技術】銀錯塩拡散転写法(DTR法)を用いた平版
印刷版については、フォーカル・プレス、ロンドン ニ
ューヨーク(1972年)発行、アンドレ ロット及びエディ
ス ワイデ著、「フォトグラフィック・シルバー・ハライ
ド・ディフュージョン・プロセシズ」、第101頁〜第130頁
に幾つかの例が記載されている。
2. Description of the Related Art A planographic printing plate using a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method) is disclosed in "Focal Press, London New York (1972)," by Andrelot and Edith Weide, "Photographic Silver Halide. Some examples are described in "Diffusion Processes", pp. 101-130.

【0003】その中で述べられているように、DTR法を
用いた平版印刷版には、転写材料と受像材料を別々にし
たツーシートタイプ、あるいはそれらを一枚の支持体上
に設けたモノシートタイプの2方式が知られている。ツ
ーシートタイプの平版印刷版については、特開昭57-158
844号公報に詳しく記載されている。又、モノシートタ
イプについては、特公昭48-30562号、同51-15765号、特
開昭51-111103号、同52-150105号などの各公報に詳しく
記載されている。
As described therein, a lithographic printing plate using the DTR method includes a two-sheet type in which a transfer material and an image receiving material are separated, or a monolithic type in which they are provided on a single support. Two types of sheet type are known. For a two-sheet type lithographic printing plate, see JP-A-57-158.
It is described in detail in Japanese Patent Publication No. 844. The mono-sheet type is described in detail in JP-B-48-30562, JP-B-51-15765, JP-A-51-111103, and JP-A-52-150105.

【0004】紙を支持体とした平版印刷版は、印刷中の
版伸びや水分のしみ込みなどのため耐刷性を含め高品質
の印刷は困難である。これらの問題点を改良し印刷性能
を向上する目的でフィルム支持体が用いられる。例え
ば、酢酸セルロースフィルム、ポリビニルアセタールフ
ィルム、ポリスチレンフィルム、ポリプロピレンフィル
ム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、或はポリエ
ステル、ポリプロピレン、又はポリスチレンフィルムな
どをポリエチレンフィルムで被覆した複合フィルム等が
支持体として利用できる。
[0004] A lithographic printing plate using paper as a support is difficult to print with high quality including printing durability due to plate elongation during printing and penetration of moisture. A film support is used for the purpose of improving these problems and improving printing performance. For example, a cellulose acetate film, a polyvinyl acetal film, a polystyrene film, a polypropylene film, a polyethylene terephthalate film, or a composite film obtained by coating a polyester, polypropylene, or polystyrene film with a polyethylene film can be used as the support.

【0005】しかしながら、フィルムを支持体とした平
版印刷版は紙ベースの印刷版と比べ、版伸び性や水分の
しみ込みなどの点で改良されたものの、耐刷性、保水
性、更には印刷機への版掛け性等の点で問題を残してい
る。
[0005] However, lithographic printing plates using a film as a support are improved in terms of plate elongation and moisture penetration, as compared with paper-based printing plates, but they have improved printing durability, water retention and printing. The problem remains in terms of the ability to hang the plate on the machine.

【0006】そこで、上に述べた紙やフィルムを支持体
とした平版印刷版の種々の問題点を解決するために、金
属特にアルミニウム板を支持体とした銀塩方式の平版印
刷版が知られており、特開昭57-118244号、同57-158844
号、同63-260491号、特開平3-116151号、同4-282295号
などの各公報に詳しく記載されている。
In order to solve the above-mentioned various problems of the lithographic printing plate using a paper or a film as a support, a lithographic printing plate of a silver salt type using a metal, particularly an aluminum plate as a support has been known. JP-A-57-118244, JP-A-57-158844
And JP-A-62-260491, JP-A-3-116151, and JP-A-4-82295.

【0007】アルミニウム板を支持体とした平版印刷版
には耐汚れ性を増すために、ベース製造時にシリケート
処理することや、現像処理時にケイ酸塩で処理すること
が知られている。銀塩方式においても特開平7-199471号
で現像処理にケイ酸塩を用いる方法や、特開平10-44637
号でシリケート処理したベースを使用することが提案さ
れている。ところがこれら方法を銀塩方式で用いた場
合、銀画像とアルミベースとの接着性が弱くなり、耐刷
力が劣悪になるという問題を抱えていた。
It is known that a lithographic printing plate using an aluminum plate as a support is treated with a silicate at the time of manufacturing a base or treated with a silicate at the time of development in order to increase stain resistance. Also in the silver salt method, a method using a silicate for development processing in JP-A-7-199471 or JP-A-10-44637
It has been proposed to use a silicate treated base in the issue. However, when these methods are used in a silver salt system, there has been a problem that the adhesion between the silver image and the aluminum base is weakened and the printing durability is deteriorated.

【0008】また特開平6-317908号や特開平11-223952
号では水洗液への現像液の持ち込みによる水洗液の組成
変化の影響を低減させるために、水洗液へアルカリや塩
類を加えると報じており、その中でケイ酸塩を加えるこ
とも言及しているが、この場合銀画像のインキ着肉性が
悪くなり、印刷途中で銀画像がインキを受け付けなくな
り、その結果、耐刷力が不十分となる現象(インキ剥
げ)が発生するという問題が存在していた。
Further, JP-A-6-317908 and JP-A-11-223952
No. reports that alkalis and salts are added to the washing solution to reduce the effect of the composition change of the washing solution due to the introduction of the developing solution into the washing solution. However, in this case, there is a problem that the ink adhesion of the silver image is deteriorated, the silver image does not accept the ink during printing, and as a result, a phenomenon that the printing durability becomes insufficient (ink peeling) occurs. Was.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は十分な
耐刷力を持ち、耐汚れ性の良好な平版印刷版を提供する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a lithographic printing plate having a sufficient printing durability and good stain resistance.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、明
度指数78以下の粗面化され陽極酸化されたアルミニウム
を支持体とする銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版
の版面を銀画像形成後にケイ酸塩を含有する処理液で処
理することによって達成された。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a lithographic printing plate using a silver complex salt diffusion transfer method on a roughened and anodized aluminum support having a brightness index of 78 or less. This was achieved by processing with a processing solution containing silicate after image formation.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明において銀画像形成後とは
未露光部に0.2g/m2以上の銀が版面上に析出した以後の
状態を表わす。ケイ酸塩で版面を処理するのは0.2g/m2
以上の銀が析出した後に更に銀を析出させる第2現像工
程、乳剤層を除去する水洗工程、ガム引き工程、印刷前
に行う機上でのエッチング工程など一旦銀を析出させた
後の全ての工程で可能であり、特に取扱性などの点から
第2現像工程で処理することが好ましい。また複数の工
程にわたって、ケイ酸塩の含んだ処理液で処理すること
も可能である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, the term "after silver image formation" refers to the state after 0.2 g / m 2 or more of silver is deposited on an unexposed portion on a plate surface. 0.2g / m 2 for stencil surface treatment
After the silver is deposited, a second development step of further depositing silver, a washing step of removing the emulsion layer, a gumming step, an etching step on a machine performed before printing, etc. It is possible in the process, and it is particularly preferable to perform the treatment in the second developing step from the viewpoint of handleability and the like. It is also possible to perform treatment with a treatment liquid containing silicate over a plurality of steps.

【0012】本発明において使用されるケイ酸塩には各
種ケイ酸アルカリ金属塩、例えばケイ酸ナトリウム、ケ
イ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどが好ましい。ケイ酸
アルカリ金属塩のSiO2/M2Oのモル比は0.5〜4が好まし
い(Mはアルカリ金属塩)。その用いる量は処理液に応
じて変化するが、SiO2に換算して0.01〜10重量%、好ま
しくは0.05〜6重量%である。またそのpHはケイ酸のゲ
ル化を防ぐために8以上であることが好ましく、更に好
ましくは9〜13である。
As the silicate used in the present invention, various alkali metal silicates such as sodium silicate, potassium silicate and lithium silicate are preferable. The molar ratio of SiO2 / M2O of the alkali metal silicate is preferably 0.5 to 4 (M is an alkali metal salt). The amount used varies depending on the processing solution, but it is 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 6% by weight in terms of SiO2. Further, the pH is preferably 8 or more, more preferably 9 to 13 in order to prevent gelation of silicic acid.

【0013】本発明で現像を2回に分けて、その第2現
像でケイ酸塩処理を行う場合、第2現像液には、ケイ酸
塩以外に、現像主薬、例えばポリヒドロキシベンゼン
類、3-ピラゾリジノン類、保恒剤、例えば亜硫酸ナトリ
ウム、粘稠剤、例えばカルボキシメチルセスロース、カ
ブリ防止剤、例えば臭化カリウム、1-フェニル-5-メル
カプトテトラゾール、現像変成剤、例えばポリオキシア
ルキレン化合物等の添加剤等を含ませることが出来る。
またケイ酸塩以外にアルカリ性物質、例えば水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第3燐酸ナ
トリウム、あるいはアミン化合物を含ませることも可能
である。
In the present invention, when the development is divided into two times and the silicate treatment is carried out in the second development, the second developing solution contains, in addition to silicate, a developing agent such as polyhydroxybenzenes, 3 -Pyrazolidinones, preservatives such as sodium sulfite, thickeners such as carboxymethylcellulose, antifoggants such as potassium bromide, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole, development modifiers such as polyoxyalkylene compounds, etc. Additives and the like.
In addition to the silicate, an alkaline substance such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, sodium tertiary phosphate, or an amine compound can be contained.

【0014】第2現像液のpHとして通常約10〜14、好ま
しくは約12〜14であるが、使用する平版印刷版のアルミ
ニウム支持体の前処理(例えば陽極酸化)条件、写真要
素、所望の像、現像液中の各種化合物の種類及び量、現
像条件等によって異なる。
The pH of the second developer is usually about 10 to 14, preferably about 12 to 14. However, the pretreatment (for example, anodizing) conditions of the aluminum support of the lithographic printing plate to be used, the photographic element, It depends on the image, the type and amount of various compounds in the developer, the development conditions, and the like.

【0015】本発明に於いて、ケイ酸塩での処理をゼラ
チン層を除去するための水洗工程で行うことも可能であ
る。水洗は温度20〜40#C程度で行なう。水洗液には更に
耐刷力を上げるため、ケイ酸塩の他、亜硫酸塩、例えば
亜硫酸ナトリウム、重亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウ
ム、重亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ
ニウムなどを用いることが好ましい。その量は0.001〜
0.2mol/Lが好ましく、更に好ましくは0.01〜0.1mol/Lで
ある。また、酵素や特開平10-133381にあるようなメル
カプト基またはチオン基を有する化合物を含ませること
も可能である。また、水洗工程を多段階に分け、その一
部でケイ酸塩を含む処理液で処理することも可能であ
る。
In the present invention, the treatment with the silicate can be carried out in a washing step for removing the gelatin layer. Washing is performed at a temperature of about 20 to 40 # C. In order to further increase the printing durability, it is preferable to use a sulfite, such as sodium sulfite, sodium bisulfite, potassium sulfite, potassium bisulfite, lithium sulfite, ammonium sulfite, or the like, in order to further increase the printing durability. The amount is 0.001 ~
It is preferably 0.2 mol / L, more preferably 0.01 to 0.1 mol / L. It is also possible to include an enzyme or a compound having a mercapto group or a thione group as described in JP-A-10-133381. It is also possible to divide the washing step into multiple stages and to treat a part of the washing step with a treatment liquid containing silicate.

【0016】銀塩印刷版においては通常版面保護の為に
ガム引きがなされる。このガム液にケイ酸塩を含有させ
ることも可能である。ガム液はアラビヤガム、デキスト
リン、アルギン酸ナトリウム、ヒドロキシエチル澱粉、
カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、ポリビニルピロリドン、ポリスチレンスルホン
酸、ポリビニルアルコール等の保護コロイドを有するこ
とが好ましい。
In silver salt printing plates, gumming is usually performed to protect the plate surface. The gum solution can also contain a silicate. The gum solution is arabic gum, dextrin, sodium alginate, hydroxyethyl starch,
It is preferable to have a protective colloid such as carboxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, polyvinylpyrrolidone, polystyrenesulfonic acid, and polyvinyl alcohol.

【0017】本発明において明度指数とは1975年の
第18回CIEロンドン大会で採択されたCIE1976L*a*b*色
空間の明度指数L*を意味し、L*=116(Y/Yn)1/3-16で定
義される。ここでY値はXYZ表色系における3刺激値のY
値であり、Ynは完全拡散反射面の標準の光によるY値で
あり、Yn=100と定められている。これらの値はJIS8Z2
2記載の方法で測定することができる。L*の値は黒くな
り過ぎると画像と非画像部の視認性が悪くなるために低
すぎても良くないし、逆に高すぎると傷が入りやすくな
る。L*は78以下、好ましくは75〜68が好ましい。
In the present invention, the lightness index means the lightness index L * of the CIE1976L * a * b * color space adopted at the 18th CIE London Congress in 1975, and L * = 116 (Y / Yn) 1 Defined in / 3-16. Here, the Y value is the tristimulus value Y in the XYZ color system.
Yn is a Y value of standard light on the perfect diffuse reflection surface, and is defined as Yn = 100. These values are JIS8Z2
It can be measured by the method described in 2. If the value of L * is too black, the visibility of the image and the non-image portion is deteriorated, so that it may not be too low. L * is preferably 78 or less, more preferably 75 to 68.

【0018】アルミニウム支持体の色調は粗面化、デス
マット、陽極酸化、後処理などのアルミニウム表面処理
の全ての工程の影響を受ける。特に粗面化、デスマット
の影響は大きい。これは表面に不純物濃度の高く、それ
ゆえベースの地と色調の異なるスマットが粗面化工程で
発生し、さらにそのスマットをデスマット工程で溶解除
去するため、両工程で残存するスマットの量が決定さ
れ、それに応じてベースの色調も変わるためである。粗
面化においては表面に不純物の濃度の高いスマットを偏
析させるために化学研磨もしくは電解研磨が必要不可欠
となる。
The color tone of the aluminum support is affected by all steps of aluminum surface treatment such as surface roughening, desmutting, anodizing, and post-treatment. In particular, the effects of roughening and desmutting are great. This is because the surface has a high impurity concentration, so smut different in color from the ground of the base is generated in the roughening process, and the smut is dissolved and removed in the desmutting process, so the amount of smut remaining in both processes is determined. And the color tone of the base changes accordingly. In roughening, chemical polishing or electrolytic polishing is indispensable to segregate smut having a high impurity concentration on the surface.

【0019】本発明で用いるアルミニウム支持体にはア
ルミニウム純度が93重量%以上、好ましくは99重量
%以上の純度のアルミニウム支持体を使用する。アルミ
ニウム不純物としては鉄、ケイ素、銅、マンガン、マグ
ネシウム、クロム、亜鉛、チタン、ビスマス、鉛、ジル
コニウム、ニッケルなど通常アルミニウム合金として用
いられている元素が使用できる。また、特に好ましいア
ルミ合金としては1050、1100、3003などが
挙げられる。
The aluminum support used in the present invention has an aluminum purity of 93% by weight or more, preferably 99% by weight or more. As the aluminum impurities, elements commonly used as aluminum alloys such as iron, silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, titanium, bismuth, lead, zirconium, and nickel can be used. Particularly preferred aluminum alloys include 1050, 1100, and 3003.

【0020】本発明で用いられるアルミニウム支持体は
公知の方法で圧延される。すなわち、アルミニウムのイ
ンゴットを溶解保持してスラブを鋳造し、スラブ表面の
不純物組織部分を面削機にかけて3〜10mmづつ切削
する面切削工程を経た後、均熱炉において480〜54
0℃、6〜12時間保持する均熱化処理工程を行い、し
かる後に熱間圧延で5〜40mmの厚みに圧延した後、
室温で所定の厚みに冷間圧延を行う。またその後組織の
均一化のために焼鈍を行い圧延組織等を均質化した後、
規定の厚みに冷間圧延を行い、平坦度の良い板にするた
め矯正する。支持体の厚さは通常約0.13〜0.50mmの範囲
である。
The aluminum support used in the present invention is rolled by a known method. That is, a slab is cast by dissolving and holding an aluminum ingot, and a surface cutting step of cutting an impurity structure portion of the slab surface by a facer at a rate of 3 to 10 mm is performed.
0 ° C., performing a soaking process of holding for 6 to 12 hours, and then hot rolling to a thickness of 5 to 40 mm,
Cold rolling is performed at room temperature to a predetermined thickness. In addition, after annealing and homogenizing the rolled structure etc. afterwards for the uniformity of the structure,
Cold rolling is performed to a specified thickness, and straightening is performed to obtain a plate with good flatness. The thickness of the support usually ranges from about 0.13 to 0.50 mm.

【0021】本発明に用いられる支持体には、この技術
分野において通常使用されている脱脂処理、粗面化処理
及び陽極酸化処理等が施されるが、少なくとも粗面化処
理及び陽極酸化処理がこの順で行なわれた支持体を用い
る。
The support used in the present invention is subjected to a degreasing treatment, a roughening treatment, an anodizing treatment and the like which are generally used in this technical field. A support made in this order is used.

【0022】本発明で用いるアルミニウム板は表面から
脂肪性物質を除去するために脱脂処理を行う。脱脂処理
としてはトリクレン、シンナー等の溶剤脱脂、界面活性
剤、ケロシン、トリエタノールアミン、水酸化ナトリウ
ムを混ぜたエマルジョン脱脂、酸脱脂、アルカリ脱脂な
どがある。
The aluminum plate used in the present invention is subjected to a degreasing treatment to remove fatty substances from the surface. Examples of the degreasing treatment include solvent degreasing such as trichlene and thinner, emulsion degreasing mixed with a surfactant, kerosene, triethanolamine, and sodium hydroxide, acid degreasing, and alkali degreasing.

【0023】本発明で用いるアルミニウム板は感光層と
の密着性を良好にし、かつ保水性を改善するために粗面
化処理をされる。粗面化処理の方法としては機械的処
理、化学的処理、電気化学的処理があり、これらを単独
もしくは組み合わせて処理を行うが、特にベースの色調
をコントロールするために化学的処理、電気化学的処理
は不可欠である。表面の形状は一般に粗さ計により表さ
れるが、その大きさは中心線平均粗さ;Raの値で0.3〜
1.0μmが適当である。
The aluminum plate used in the present invention is subjected to a surface roughening treatment in order to improve the adhesion to the photosensitive layer and to improve the water retention. There are mechanical treatment, chemical treatment, and electrochemical treatment as a method of surface roughening treatment. These treatments are performed alone or in combination, but in particular, in order to control the color tone of the base, chemical treatment, electrochemical treatment, Processing is essential. The shape of the surface is generally represented by a roughness meter, and the size of the surface is center line average roughness;
1.0 μm is appropriate.

【0024】機械的粗面化処理としてボールグレイン
法、ナイロンブラシ法、バフ研磨法、ブラスト研磨法等
を用いることができる。また化学的粗面化には塩化物、
フッ化物等で化学的にアルミニウムを溶解する方法があ
る。
As the mechanical surface roughening treatment, a ball grain method, a nylon brush method, a buff polishing method, a blast polishing method, or the like can be used. Chloride,
There is a method of chemically dissolving aluminum with fluoride or the like.

【0025】電気化学的粗面化処理方法は他の方法に比
較して電解液組成及び電解条件によって、砂目の形状及
び表面粗さを微妙にコントロールすることが可能なので
この方法を用いることが好ましい。電気化学的粗面化処
理は直流、交流または両者の組み合わせで行うことがで
きる。交流波としては単相又は3相の商業用交流あるい
はこれらを含めた10〜300Hzの範囲の正弦波、矩形波、
台波等がある。
Since the electrochemical graining treatment method can finely control the grain shape and surface roughness depending on the composition of the electrolytic solution and the electrolytic conditions as compared with other methods, it is preferable to use this method. preferable. The electrochemical graining treatment can be performed by direct current, alternating current, or a combination of both. As the AC wave, a single-phase or three-phase commercial AC or a sine wave in the range of 10 to 300 Hz including these, a square wave,
There are typhoons and the like.

【0026】アルミニウム板に供給される電力は電解液
の組成、温度、電極間距離等により変わるが、印刷版と
して適切な砂目を得るためには、一般に電圧では1〜60
A/dm 2、電気量では50〜4000Cの範囲で使われる。また
電極とアルミニウム板との距離は1〜10cmの範囲が好ま
しい。
The electric power supplied to the aluminum plate is an electrolytic solution.
Depends on the composition, temperature, distance between electrodes, etc.
In general, the voltage is 1 to 60
A / dm TwoThe electricity is used in the range of 50-4000C. Also
The distance between the electrode and the aluminum plate is preferably in the range of 1 to 10 cm.
New

【0027】電解液としては硝酸あるいはその塩、塩酸
あるいはその塩、あるいはそれらの1種または2種以上の
混合物の水溶液が使用できる。更に必要に応じて硫酸、
リン酸、クロム酸、硼酸、有機酸、あるいはそれらの
塩、アンモニウム塩、アミン類、界面活性剤、その他の
腐食防止剤、腐食促進剤、安定化剤を加えて使用するこ
ともできる。
As the electrolyte, an aqueous solution of nitric acid or a salt thereof, hydrochloric acid or a salt thereof, or one or a mixture of two or more thereof can be used. If necessary, sulfuric acid,
Phosphoric acid, chromic acid, boric acid, organic acids, or salts thereof, ammonium salts, amines, surfactants, other corrosion inhibitors, corrosion accelerators, and stabilizers can also be used.

【0028】電解液の濃度としては上記の酸類の濃度が
0.1〜10%であり、電解液中のアルミニウムイオンの濃
度を0〜10g/Lの範囲に維持したものが好ましい。電解液
の温度は0〜60℃が好ましい。
As the concentration of the electrolyte, the concentration of the above-mentioned acids is as follows.
It is preferably 0.1 to 10%, and the concentration of aluminum ions in the electrolyte is maintained in the range of 0 to 10 g / L. The temperature of the electrolyte is preferably from 0 to 60 ° C.

【0029】本発明においてデスマットとは粗面化と陽
極酸化の間に行う化学エッチング工程のことを指す。デ
スマットには酸あるいはアルカリを用いて行うことがで
きるが酸処理が好ましい。。酸には、硝酸、リン酸、ク
ロム酸、硫酸、塩酸、フッ酸などを単独、あるいは数種
混合して用いることができる。アルカリデスマットには
水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸カリウム、第三リン酸カリウム、アルミン酸ナトリ
ウム、珪酸ナトリウムなどを単独、もしくは数種混合し
て用いることができる。またそのデスマット液の濃度、
処理時間はスマットを完全に除去できるだけの濃度が必
要である。スマットの発生量はその前段階の粗面化の処
理方法に依存しているので、必要なデスマットの程度は
粗面化の方法に依存する。しかしスマットの除去の程度
は走査型顕微鏡で容易に観察できるので、これで処理し
たアルミの表面を観測することでスマットが完全に除去
されるデスマットの程度を容易に決定することができ
る。実際には廃液の処理の関係もあり、酸あるいはアル
カリの合計で5〜40%程度で、その処理時間は30秒〜
2分が好ましい。処理温度は40〜60℃が好ましい。
In the present invention, desmut refers to a chemical etching step performed between surface roughening and anodic oxidation. Desmutting can be performed using an acid or alkali, but acid treatment is preferred. . As the acid, nitric acid, phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, hydrofluoric acid and the like can be used alone or as a mixture of several kinds. Sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium hydroxide,
Potassium carbonate, potassium tertiary phosphate, sodium aluminate, sodium silicate and the like can be used alone or as a mixture of several kinds. Also, the concentration of the desmut liquid,
The processing time requires a concentration that can completely remove the smut. Since the amount of smut generation depends on the roughening treatment method at the preceding stage, the required degree of desmutting depends on the roughening method. However, since the degree of smut removal can be easily observed with a scanning microscope, the degree of desmut from which smut is completely removed can be easily determined by observing the surface of the aluminum treated with the scanning microscope. Actually, there is also a relation of waste liquid treatment, and the total amount of acid or alkali is about 5 to 40%, and the treatment time is 30 seconds to
Two minutes is preferred. The processing temperature is preferably from 40 to 60 ° C.

【0030】本発明においてデスマット工程は2回以上
に分けることも可能である。この場合酸デスマットとア
ルカリデスマットとを組み合わせることも可能である
が、アルカリデスマットを先にするほうが好ましい。
In the present invention, the desmutting step can be divided into two or more times. In this case, it is possible to combine acid desmut and alkali desmut, but it is preferable to use alkali desmut first.

【0031】このような粗面化処理、デスマット処理を
行った後、陽極酸化処理が施される。陽極酸化の電解液
には硫酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸または有機酸
(例えばスルファミン酸、ベンゼンスルホン酸など)ま
たはそれらの混合物が好ましく、また特に生成酸化膜の
溶解性の低い酸が好ましい。
After performing such a roughening treatment and a desmutting treatment, an anodic oxidation treatment is performed. Sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or an organic acid (eg, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, etc.) or a mixture thereof is preferable for the anodizing electrolyte, and an acid having low solubility of the formed oxide film is particularly preferable. .

【0032】陽極酸化膜は陽極にのみ生成するので電流
は通常直流電流が使用される。陽極酸化の条件としては
液濃度1〜40%、電流密度0.1〜10A/dm2、電圧10〜100V
の範囲で使用される。陽極酸化膜の厚みは電流密度と時
間により変えられ、印刷版の耐刷グレードによって適宜
調整されるが、3g/m2以下、好ましくは2.8g/m2〜1g/
m2、更に好ましくは好ましくは2.3g/m2〜1g/m2必要とな
る。温度は陽極酸化膜の硬度に影響を与え、低温では硬
度は高くなるが、可撓性に劣るため通常は常温付近の温
度で処理される。これら作成した陽極酸化膜の量はJIS
H86807「皮膜質量法」に基づいて測定できる。
Since the anodic oxide film is formed only on the anode, a direct current is usually used as the current. The conditions of anodic oxidation are as follows: solution concentration 1-40%, current density 0.1-10A / dm 2 , voltage 10-100V
Used in the range. The thickness of the anodic oxide film is changed depending on the current density and time, and is appropriately adjusted depending on the printing durability of the printing plate, but 3 g / m 2 or less, preferably 2.8 g / m 2 to 1 g /
m 2, and more preferably preferably becomes 2.3g / m 2 ~1g / m 2 required. The temperature affects the hardness of the anodic oxide film, and the hardness increases at a low temperature, but the processing is usually performed at a temperature near normal temperature because of poor flexibility. The amount of anodic oxide film created is JIS
It can be measured based on H86807 “Coating Mass Method”.

【0033】また、陽極酸化処理を行なった後、必要に
応じて後処理を行うことも出来る。後処理としては当該
業者に知られた方法、例えば珪酸塩処理、弗化ジルコン
酸処理などの無機塩類での後処理、アラビアガム、ポリ
ビニルホスホン酸、ポリビニルスルホン酸等の有機高分
子処理、水和封孔処理などがある。
After the anodic oxidation treatment, a post-treatment can be performed if necessary. As the post-treatment, methods known to those skilled in the art, for example, post-treatment with inorganic salts such as silicate treatment, fluorozirconic acid treatment, organic polymer treatment such as gum arabic, polyvinyl phosphonic acid, polyvinyl sulfonic acid, hydration There is a sealing treatment and the like.

【0034】本発明ではさらに物理現像銀の析出量を増
すためにアルミニウム支持体と感光性ハロゲン化銀乳剤
層の間に物理現像核層を設けることもできる。本発明で
用いられる物理現像核層の物理現像核としては、公知の
銀錯塩拡散転写法に用いられるものでよく、例えば金、
銀等のコロイド、パラジウム、亜鉛等の水溶性塩と硫化
物を混合した金属硫化物などが使用できる。保護コロイ
ドとして各種親水性コロイドを用いることもできる。こ
れらの詳細及び製法については、例えば、フォーカル・
プレス、ロンドン ニューヨーク(1972年)発行、アンド
レ ロット及びエディス ワイデ著、「フォトグラフィッ
ク・シルバー・ハライド・ディフュージョン・プロセシズ」
を参照し得る。
In the present invention, a physical development nucleus layer may be provided between the aluminum support and the photosensitive silver halide emulsion layer in order to further increase the amount of physically developed silver deposited. The physical development nucleus of the physical development nucleus layer used in the present invention may be one used in a known silver complex salt diffusion transfer method, for example, gold,
Colloids such as silver, and metal sulfides obtained by mixing sulfides with water-soluble salts such as palladium and zinc can be used. Various hydrophilic colloids can be used as the protective colloid. For details and manufacturing methods, see Focal
Press, London New York (1972), by Andrelot and Edith Weide, "Photographic Silver Halide Diffusion Processes"
Can be referred to.

【0035】本発明の印刷版の感光性ハロゲン化銀乳剤
層には保護コロイドとして各種親水性コロイドを用いる
ことができる。即ち、酸処理ゼラチン、アルカリ処理ゼ
ラチン、ゼラチン誘導体、グラフト化ゼラチン等各種ゼ
ラチンを用いることが出来る他、ポリビニルピロリド
ン、各種でんぷん、アルブミン、ポリビニルアルコー
ル、アラビアゴム、ヒドロキシエチルセルロース、等の
親水性高分子化合物を含有させることが出来る。用いら
れる親水性コロイドとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導
体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等が
挙げられるが、好ましくは、物理現像後の親水性コロイ
ド層の剥離性を容易にするために実質的に硬膜剤を含ま
ない親水性コロイド層を用いることが望ましい。
Various hydrophilic colloids can be used as protective colloids in the photosensitive silver halide emulsion layer of the printing plate of the present invention. That is, various gelatins such as acid-treated gelatin, alkali-treated gelatin, gelatin derivatives, and grafted gelatin can be used, and hydrophilic polymer compounds such as polyvinylpyrrolidone, various starches, albumin, polyvinyl alcohol, gum arabic, and hydroxyethyl cellulose. Can be contained. Examples of the hydrophilic colloid used include gelatin, a gelatin derivative, polyvinyl alcohol, and polyvinylpyrrolidone. Preferably, a substantially hardener is used to facilitate release of the hydrophilic colloid layer after physical development. It is desirable to use a hydrophilic colloid layer containing no.

【0036】本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀乳
剤の種類としては、一般に用いられる塩化銀、臭化銀、
ヨウ化銀、塩臭化銀、塩ヨウ臭化銀、ヨウ臭化銀等から
選択される。また乳剤のタイプとしてはネガ型、ポジ型
のいずれでもよい。これらのハロゲン化銀乳剤は必要に
応じて化学増感あるいはスペクトル増感することが出来
る。
The types of the photosensitive silver halide emulsion used in the present invention include commonly used silver chloride, silver bromide,
It is selected from silver iodide, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver iodobromide and the like. The emulsion type may be either a negative type or a positive type. These silver halide emulsions can be chemically or spectrally sensitized as necessary.

【0037】本発明においてハロゲン化銀乳剤層にはベ
ンゾトリアゾールもしくはその誘導体、メルカプト基も
しくはチオン基を有する含窒素複素環化合物を含有させ
ることもできる。その量は1〜100mg/m2、好ましくは5
〜30mg/m2である。
In the present invention, the silver halide emulsion layer may contain benzotriazole or a derivative thereof, or a nitrogen-containing heterocyclic compound having a mercapto group or a thione group. The amount is 1-100 mg / m 2 , preferably 5
3030 mg / m 2 .

【0038】ベンゾトリアゾール誘導体としては5ーメ
チルベンゾトリアゾール、5ークロルベンゾトリアゾー
ル等が挙げられる。またメルカプト基もしくはチオン基
を有する含窒素複素環化合物の複素環としてはイミダゾ
ール、イミダゾリン、チアゾール、チアゾリン、オキサ
ゾール、オキサゾリン、ピラゾリドン、トリゾール、チ
アジアゾール、オキサジアゾール、テトラゾール、ピリ
ジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、トリアジン
等があり、中でもイミダゾール、トリアゾール、テトラ
ゾールが好ましい。
Examples of the benzotriazole derivative include 5-methylbenzotriazole, 5-chlorobenzotriazole and the like. Examples of the heterocycle of the nitrogen-containing heterocyclic compound having a mercapto group or a thione group include imidazole, imidazoline, thiazole, thiazoline, oxazole, oxazoline, pyrazolidone, trizole, thiadiazole, oxadiazole, tetrazole, pyridine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, There are triazine and the like, and among them, imidazole, triazole and tetrazole are preferable.

【0039】メルカプト基もしくはチオン基を有する含
窒素複素環化合物の具体例を以下に挙げる。2−メルカ
プト−4−フェンルイミダゾール、2−メルカプト−1
−ベンジルイミダゾール、2メルカプト−1−ブチル−
ベンズイミダゾール、1エチル−2−メルカプト−ベン
ズイミダゾール、2メルカプト−ベンズイミダゾール、
1,3ジエチル−ベンズイミダゾリン−2−チオン、
1,3ジベンジル−イミダゾリジン−2−チオン、2,
2−ジメルカプト−1,1’−デカメチレン−ジイミダ
ゾリン−2−チオン、2メルカプト−4−フェニルチア
ゾール、2−メルカプト−ベンゾチアゾール、2−メル
カプトナフトチアゾール、3−エチル−ベンゾチアゾリ
ン−2−チオン、3−ドデシル−ベンゾチアゾリン−2
−チオン、2−メルカプト−4,5−ジフェニルオキサ
ゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、3−ペン
チル−ベンゾオキサゾリン−2−チオン、1−フェニル
−3−メチルピラゾリドン−5−チオン、3−メルカプ
ト−4−アリル−5−ペンタデシル−1,2,4−トリ
アゾール、3−メルカプト−5−ノニル−1,2,4−
トリアゾール、3−メルカプト−5−ノニル−5−1,
2,4−トリアゾール、3−メルカプト−4−アリル−
5−ペンタデシル−1,2,4−トリアゾール、3−メ
ルカプト−4−アミノ−5−ヘプタデシル−1,2,4
−トリアゾール、2−メルカプト−5−フェニル−5−
ペンタデシル−1,3,4−チアジアゾール、2−メル
カプト−5−n−ヘプチル−オキサチアゾール、2−メ
ルカプト−5−フェニル1,3,4−オキサジアゾー
ル、5−メルカプト−1−フェニル−テトラゾール、2
−メルカプト−5−ニトロピリジン、1−メチル−キノ
リン−2(1H)−チオン、3−メルカプト−4−メチ
ル−6−フェニルピリダジン、2−メルカプト−5,6
−ジフェニル−ピラッジン、2−メルカプト−4,6−
ジフェニル1,3,5トリアジン、2−アミノ−4−メ
ルカプト−6−ベンジル−1,3,5−トリアジン、
1,5−ジメルカプト−3,7−ジフェニル−S−トリ
アゾリノ[1,2−a]−S−トリアゾリン等が挙げら
れる。
Specific examples of the nitrogen-containing heterocyclic compound having a mercapto group or a thione group are shown below. 2-mercapto-4-fenlimidazole, 2-mercapto-1
-Benzylimidazole, 2 mercapto-1-butyl-
Benzimidazole, 1 ethyl-2-mercapto-benzimidazole, 2 mercapto-benzimidazole,
1,3 diethyl-benzimidazoline-2-thione,
1,3 dibenzyl-imidazolidin-2-thione, 2,
2-dimercapto-1,1′-decamethylene-diimidazoline-2-thione, 2-mercapto-4-phenylthiazole, 2-mercapto-benzothiazole, 2-mercaptonaphthothiazole, 3-ethyl-benzothiazoline-2-thione, 3-dodecyl-benzothiazoline-2
-Thione, 2-mercapto-4,5-diphenyloxazole, 2-mercaptobenzoxazole, 3-pentyl-benzoxazoline-2-thione, 1-phenyl-3-methylpyrazolidone-5-thione, 3-mercapto- 4-allyl-5-pentadecyl-1,2,4-triazole, 3-mercapto-5-nonyl-1,2,4-
Triazole, 3-mercapto-5-nonyl-5-1,
2,4-triazole, 3-mercapto-4-allyl-
5-pentadecyl-1,2,4-triazole, 3-mercapto-4-amino-5-heptadecyl-1,2,4
-Triazole, 2-mercapto-5-phenyl-5-
Pentadecyl-1,3,4-thiadiazole, 2-mercapto-5-n-heptyl-oxathiazole, 2-mercapto-5-phenyl-1,3,4-oxadiazole, 5-mercapto-1-phenyl-tetrazole, 2
-Mercapto-5-nitropyridine, 1-methyl-quinoline-2 (1H) -thione, 3-mercapto-4-methyl-6-phenylpyridazine, 2-mercapto-5,6
-Diphenyl-pyrazin, 2-mercapto-4,6-
Diphenyl 1,3,5 triazine, 2-amino-4-mercapto-6-benzyl-1,3,5-triazine,
1,5-dimercapto-3,7-diphenyl-S-triazolino [1,2-a] -S-triazoline and the like.

【0040】本発明では現像液に現像主薬、例えばポリ
ヒドロキシベンゼン類、3-ピラゾリジノン類、保恒剤、
例えば亜硫酸ナトリウム、粘稠剤、例えばカルボキシメ
チルセスロース、カブリ防止剤、例えば臭化カリウム、
1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール、現像変成剤、
例えばポリオキシアルキレン化合物等の添加剤等を含ま
せることが出来る。またケイ酸塩以外にアルカリ性物
質、例えば水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化
リチウム、第3燐酸ナトリウム、あるいはアミン化合物
を含ませることも可能である。
In the present invention, a developing agent such as polyhydroxybenzenes, 3-pyrazolidinones, preservatives,
E.g. sodium sulfite, thickeners such as carboxymethylcellulose, antifoggants such as potassium bromide,
1-phenyl-5-mercaptotetrazole, development modifier,
For example, additives such as a polyoxyalkylene compound can be included. In addition to the silicate, an alkaline substance such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, sodium tertiary phosphate, or an amine compound can be contained.

【0041】[0041]

【実施例】以下に本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれらに何ら限定されるものではない。なお%は
断りのないかぎり重量%を示す。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition,% shows weight% unless there is a notice.

【0042】実施例1 材質1050のアルミニウム板を4%水酸化ナトリウム
水溶液で50℃1分脱脂処理を行い、水洗した後、400メ
ッシュのパミストン懸濁液を用い、回転ナイロンブラシ
で研磨し、2.5%の塩酸水溶液中20℃で交流密度50A/dm2
で60秒電解粗面化処理を行い、20%リン酸で50℃1分間
デスマット処理した。その後25%硫酸溶液中で温度20℃
電流密度3A/dm2、処理時間45秒で陽極酸化処理した。こ
のベースのL*を日本電色工業社製ND1001DP色彩色差度計
を用いて測定したところ、73.2であった。
Example 1 A 1050 aluminum plate was degreased with a 4% aqueous sodium hydroxide solution at 50 ° C. for 1 minute, washed with water, polished with a 400 mesh pumicestone suspension using a rotating nylon brush, and polished with a rotating nylon brush. AC density 50A / dm 2 at 20 ° C
For 60 seconds, followed by desmutting with 20% phosphoric acid at 50 ° C. for 1 minute. Then in a 25% sulfuric acid solution at a temperature of 20 ℃
Anodizing was performed at a current density of 3 A / dm 2 and a processing time of 45 seconds. The L * of this base was measured using an ND1001DP colorimeter manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., and found to be 73.2.

【0043】作製したアルミ支持体上に塗布量が3mg/m2
となるよう物理現像核として硫化パラジウム核を塗布
し、次にヨウ素を0.5%含む塩化銀乳剤(平均粒径0.3μ
m)を金硫黄増感しまた赤色に色素増感し、塗布量が硝
酸銀で2.0g/m2となるよう塗布乾燥し感光性平版印刷版
を作成した。
A coating amount of 3 mg / m 2 on the prepared aluminum support
A palladium sulfide nucleus is coated as a physical development nucleus so that a silver chloride emulsion containing 0.5% iodine (average particle size 0.3 μm)
m) was gold-sulfur sensitized and dye-sensitized to red, and coated and dried with silver nitrate so as to have a coating amount of 2.0 g / m 2 to prepare a photosensitive lithographic printing plate.

【0044】このようにして得られた平版印刷版に光源
が赤色半導体レーザーであるイメージセッターSDP-α24
00(三菱製紙社製)で2400dpi、175lpiで像露光及び全
面網露光を行った。次に22℃で表1にあるように現像時
間を変えて、第1現像処理を行った後直ちに第一現像液
と同じ組成の現像液にケイ酸ナトリウムをSiO2に換算し
て同じく表1にあるように量変化させた第2現像液に22
℃10秒浸漬現像を行った。この後直ちに製版用プロセッ
サー(三菱製紙社製P-α880)のリウォッシュモードで
乳剤層を水洗除去した。製版用プロセッサーは、現像処
理工程(22℃)、水洗処理工程(35℃の水洗水をシャワ
ー噴射しながらスクラブローラーで乳剤層をウォッシュ
オフする)、仕上げ処理工程(21℃、シャワー)及び
乾燥工程から構成されている。水洗処理工程は貯蔵タン
クに貯留された20Lの水洗水をポンプで循環させて、平
版印刷版にシャワー噴射した後、濾過フィルターで濾過
して貯留タンクに回収し再使用するクローズドタイプと
なっている。
The lithographic printing plate obtained in this manner has an image setter SDP-α24 whose light source is a red semiconductor laser.
Image exposure and full screen exposure were performed at 2400 dpi and 175 lpi with 00 (manufactured by Mitsubishi Paper Mills). Next, the developing time was changed as shown in Table 1 at 22 ° C., and immediately after the first developing treatment, sodium silicate was converted to SiO 2 in a developing solution having the same composition as the first developing solution. In the second developer, the amount of which was changed as
The immersion development was performed at 10 ° C. for 10 seconds. Immediately thereafter, the emulsion layer was washed off with water in a rewash mode of a plate making processor (P-α880 manufactured by Mitsubishi Paper Mills). The plate making processor includes a developing process (22 ° C.), a rinsing process (washing off the emulsion layer with a scrub roller while spraying rinsing water at 35 ° C.), a finishing process (21 ° C., shower), and a drying process. It is composed of The washing process is a closed type that circulates 20L of washing water stored in the storage tank with a pump, sprays it onto a lithographic printing plate, then filters it with a filter, collects it in the storage tank, and reuses it. .

【0045】用いた現像液、水洗液、仕上げ液の構成は
次の通りである。 <現像液> 水酸化ナトリウム 20g ハイドロキノン 20g 1−フェニル−3ピラゾリジノン 2g 無水亜硫酸ナトリウム 80g Nーメチルエタノールアミン 6g エチレンジアミン4酢酸ナトリウム塩 5g 脱イオン水で1000mLとする。 pH(25℃)=13.4
The constitutions of the used developing solution, washing solution and finishing solution are as follows. <Developer> 20 g of sodium hydroxide 20 g of hydroquinone 1 g of 1-phenyl-3-pyrazolidinone 2 g of anhydrous sodium sulfite 80 g 6 g of N-methylethanolamine 5 g of sodium ethylenediaminetetraacetate 5 g Make up to 1000 mL with deionized water. pH (25 ° C) = 13.4

【0046】<水洗液> 2−メルカフ゜ト−5−nヘフ゜チル−オキサンシ゛オール 0.5g トリエタノールアミン 13g 重亜硫酸ナトリウム 10g リン酸2水素カリウム 40g タンパク質分解酵素 1g 水を加えて全量を1000ccに調整する。pHは6.0
に調整した。タンパク質分解酵素として、ビオプラーゼ
AL-15(細菌プロティナーゼ、長瀬産業(株)製)を用
いた。
<Washing solution> 2-mercapto-5-n-heptyl-oxanediol 0.5 g triethanolamine 13 g sodium bisulfite 10 g potassium dihydrogen phosphate 40 g proteinase 1 g Water is added to adjust the total amount to 1000 cc. . pH 6.0
Was adjusted. Bioprolase as a proteolytic enzyme
AL-15 (bacterial proteinase, manufactured by Nagase & Co., Ltd.) was used.

【0047】<仕上げ液> アラビアゴム 10g リン酸 0.5g 硝酸ナトリウム 20g ポリエチレングリコール#400 100g 2-メルカフ゜ト-5-nヘフ゜チルオキサンシ゛オール 0.5g 脱イオン水にて1000mLとする。 水酸化ナトリウムにてpHは6.5に調整した。<Finishing solution> Gum arabic 10 g Phosphoric acid 0.5 g Sodium nitrate 20 g Polyethylene glycol # 400 100 g 2-Mercapto-5-n-heptyloxane diol 0.5 g Make up to 1000 mL with deionized water. The pH was adjusted to 6.5 with sodium hydroxide.

【0048】[0048]

【表1】 [Table 1]

【0049】この様にして作成した平版印刷板を、印刷
機スプリント226(コモリコーポレーション)で印刷
した。
The lithographic printing plate thus prepared was printed by a printing machine Sprint 226 (Komori Corporation).

【0050】表2に印刷結果を示す。耐刷力は網点や細
線にかけができたりした枚数を表わす。また、汚れの評
価として印刷中に水供給をたって、版全面を汚れさせ
て、再び水を供給して何枚目で非画像部の汚れが取れる
かで調べ、脱離枚数として表わした。この場合、少ない
枚数で汚れが取れるほうが良好な印刷版と言える。
Table 2 shows the printing results. The printing durability represents the number of halftone dots or fine lines. As an evaluation of the stain, water was supplied during printing to clean the entire surface of the plate, and water was supplied again to check how many times the non-image portion was stained. In this case, it can be said that the better the printing plate, the more the stain can be removed with a small number of sheets.

【0051】[0051]

【表2】 [Table 2]

【0052】表2より銀析出前にケイ酸塩処理を行うと
耐刷力は出ず、それに対して銀析出後にケイ酸塩処理を
行う本発明では、耐刷力、耐汚れ性共に良好なことが判
る。
As can be seen from Table 2, when the silicate treatment is performed before silver deposition, no printing durability is obtained. On the other hand, in the present invention in which the silicate treatment is performed after silver deposition, both the printing durability and stain resistance are excellent. You can see that.

【0053】実施例2 デスマット時間を表3のように変え、L*を変える以外は
実施例1と同様にベースを作成し、実施例1と同様に物
理現像核、乳剤を塗布し、プレートNo3の条件で現像処
理を行ったところ、表3のような結果を得た。
Example 2 A base was prepared in the same manner as in Example 1, except that the desmut time was changed as shown in Table 3 and L * was changed. When the developing treatment was performed under the following conditions, the results shown in Table 3 were obtained.

【0054】[0054]

【表3】 [Table 3]

【0055】表3より、L*が大きいとこの方法でも耐刷
力を得れないことが判る。
As can be seen from Table 3, when L * is large, the printing durability cannot be obtained by this method.

【0056】実施例3 実施例1と同様にプレートを作成し、現像液はケイ酸塩
を含まない現像液を用いて、22℃12秒現像し、以下の様
な水洗液にケイ酸ナトリウム、また重亜硫酸ナトリウム
を加えて水酸化ナトリウムあるいは硫酸でpHを10.0とし
た水洗液で水洗処理した以外は実施例1と同様に試験し
た。その結果を表4に示した。
Example 3 A plate was prepared in the same manner as in Example 1, and the developing solution was developed at 22 ° C. for 12 seconds using a developing solution containing no silicate. The test was conducted in the same manner as in Example 1 except that sodium bisulfite was added and the solution was washed with a washing solution adjusted to pH 10.0 with sodium hydroxide or sulfuric acid. Table 4 shows the results.

【0057】<水洗液> 2−メルカフ゜ト−5−nヘフ゜チル−オキサンシ゛オール 0.5g トリエタノールアミン 13g タンパク質分解酵素 1g 水を加えて全量を1000ccに調整する。pHは6.0
に調整した。タンパク質分解酵素として、ビオプラーゼ
AL-15(細菌プロティナーゼ、長瀬産業(株)製)を用
いた。
<Washing solution> 2-Mercapto-5-n-heptyl-oxanediol 0.5 g Triethanolamine 13 g Protease 1 g Water is added to adjust the total amount to 1000 cc. pH 6.0
Was adjusted. Bioprolase as a proteolytic enzyme
AL-15 (bacterial proteinase, manufactured by Nagase & Co., Ltd.) was used.

【0058】[0058]

【表4】 [Table 4]

【0059】表4より水洗液でケイ酸塩を用いても耐汚
れ性に効果のあることが判る。また、亜硫酸塩を加えな
いと耐刷力の劣ることがわかる。
From Table 4, it can be seen that the use of a silicate in the washing solution is effective for the stain resistance. Further, it can be seen that the printing durability is poor unless a sulfite is added.

【0060】[0060]

【発明の効果】明度指数78以下の粗面化され陽極酸化さ
れたアルミニウムを支持体とする銀錯塩拡散転写法を利
用した平版印刷版の版面を銀画像形成後にケイ酸塩のを
含有する処理液で処理することによって十分な耐刷性と
耐汚れ性をもった平版印刷版を得ることができる。
According to the present invention, a lithographic printing plate having a surface roughness of anodized aluminum having a lightness index of 78 or less and using a silver complex salt diffusion transfer method as a support is treated with a silicate-containing plate after forming a silver image. By treating with a liquid, a lithographic printing plate having sufficient printing durability and stain resistance can be obtained.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 明度指数78以下の粗面化され陽極酸化さ
れたアルミニウムを支持体とする銀錯塩拡散転写法を利
用した平版印刷版の版面を銀画像形成後にケイ酸塩を含
有する処理液で処理することを特徴とする平版印刷版の
処理法。
1. A processing solution containing a silicate after forming a silver image on a lithographic printing plate using a silver complex salt diffusion transfer method using a roughened and anodized aluminum having a lightness index of 78 or less as a support. A method of processing a lithographic printing plate, characterized in that the method is performed by:
【請求項2】 銀画像形成後に亜硫酸塩とケイ酸塩を含
有する処理液で処理することを特徴とする請求項1記載
の平版印刷版の処理方法。
2. The method for processing a lithographic printing plate according to claim 1, wherein the silver image is formed and then processed with a processing solution containing a sulfite and a silicate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP2496043A1 (en) 2003-03-27 2012-09-05 Panasonic Corporation Intermittent communication method, apparatus and system using immediate re-transmission
JP2016539821A (en) * 2013-11-07 2016-12-22 アグフア・グラフイクス・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ Negative heat-sensitive lithographic printing plate precursor
JP6454828B1 (en) * 2017-08-31 2019-01-16 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor, lithographic printing plate manufacturing method, printing method

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