JP2001188483A - Light reflecting substrate and liquid crystal display element - Google Patents

Light reflecting substrate and liquid crystal display element

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JP2001188483A
JP2001188483A JP37228999A JP37228999A JP2001188483A JP 2001188483 A JP2001188483 A JP 2001188483A JP 37228999 A JP37228999 A JP 37228999A JP 37228999 A JP37228999 A JP 37228999A JP 2001188483 A JP2001188483 A JP 2001188483A
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JP
Japan
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light
substrate
film
rough surface
liquid crystal
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP37228999A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinsuke Iguchi
真介 井口
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Kyocera Display Corp
Original Assignee
Kyocera Display Corp
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Publication date
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Publication of JP2001188483A publication Critical patent/JP2001188483A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light reflecting substrate which is subjected to surface roughening by chemical etching and can emit most of incident light to the outside of a panel without total reflection thereof. SOLUTION: A resin film 23 having a maximum tilt angle ψ2 smaller than the maximum tilt angle ψ1 of a rough surface 21a of a glass substrate 21 by chemical etching is formed with a prescribed thickness on the rough surface. The resin film 23 is formed as the substrate rough surface to a light reflection film 24.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、内面拡散反射方式
の反射型もしくは半透過型液晶表示素子に関し、さらに
詳しく言えば、その光反射性基板に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflective or transflective liquid crystal display device of an internal diffuse reflection type, and more particularly to a light-reflective substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】反射型液晶表示素子は、光源を外部から
の光に求めているため、バックライトを必要としない
分、消費電力が少なくて済むとともに、薄型化・軽量化
が可能である。しかしながら、暗いところでは表示が見
にくくなる。この点を補うため、半透過型においては、
光反射膜を光半透過性とし、バックライトを補助光源と
して用いるようにしている。
2. Description of the Related Art Since a reflection type liquid crystal display element requires a light source from external light, it does not require a backlight and therefore consumes less power and can be made thinner and lighter. However, the display becomes difficult to see in a dark place. To compensate for this, in the transflective type,
The light reflection film is made semi-transparent, and a backlight is used as an auxiliary light source.

【0003】いずれの型式においても、多くの場合、視
野角を拡げるとともに外光を効率よく利用する目的で、
光反射膜に乱反射性を付与する光拡散層が設けられてい
る。この光反射膜および光拡散層は、表示の解像度との
関係でパネル内部に設けられることが好ましく、この方
式を内面拡散反射方式と称している。
[0003] In each of the models, in order to increase the viewing angle and to efficiently use the external light in many cases,
A light diffusion layer for imparting irregular reflection to the light reflection film is provided. The light reflection film and the light diffusion layer are preferably provided inside the panel in relation to the display resolution, and this method is called an internal diffuse reflection method.

【0004】この内面拡散反射方式の一例として、従来
においては、液晶表示パネルに用いられる一方のガラス
基板の表面を例えば弗酸・弗化アンモニウムなどの混合
液で化学エッチングして微細な凹凸を形成して粗面化
し、その粗面上にアルミニウムなどの光反射膜を形成す
るようにしている。
As an example of the internal diffuse reflection method, conventionally, the surface of one glass substrate used for a liquid crystal display panel is chemically etched with a mixed solution of, for example, hydrofluoric acid / ammonium fluoride to form fine irregularities. Then, a light reflecting film of aluminum or the like is formed on the roughened surface.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】図4に、上記のように
化学エッチングにより粗面化されたガラス基板を裏面側
の電極基板(R板)51とし、これと前面側の電極基板
(F板)52とを定法にしたがって貼り合わせてなる反
射型液晶表示パネルの模式的な要部拡大断面図を示す。
なお、光反射膜、透明電極、配向膜それに液晶などの各
構成要素は、作図の都合上その図示が省略されている。
FIG. 4 shows a glass substrate roughened by chemical etching as described above as an electrode substrate (R plate) 51 on the back side, and a glass substrate with an electrode substrate (F plate) on the front side. 52) is a schematic enlarged cross-sectional view of a principal part of a reflective liquid crystal display panel obtained by laminating a) 52 according to a standard method.
The components such as the light reflection film, the transparent electrode, the alignment film, and the liquid crystal are not shown for convenience of drawing.

【0006】この反射型液晶表示パネルにおいて、外か
らの光はF板52からパネル内に入り、R板51の粗面
(凹凸面)上に形成されている図示しない光反射膜によ
り反射されて、F板52から外部に出る。
In this reflection type liquid crystal display panel, light from the outside enters the panel from the F plate 52 and is reflected by a light reflection film (not shown) formed on the rough surface (uneven surface) of the R plate 51. Out of the F plate 52.

【0007】図4には多分に誇張して示されているが、
R板51側の化学エッチングによる凹凸は大体において
お椀形をしているため、その縁部分の最大傾斜角ψ1が
大きくなり、入射した光の一部が全反射してしまう。な
お、最大傾斜角ψ1とは、ガラス基板の反粗面側(図4
において下面側)に対する傾斜角である。
FIG. 4 is perhaps exaggerated,
Since the irregularities due to the chemical etching on the R plate 51 side are almost bowl-shaped, the maximum inclination angle ψ1 at the edge thereof increases, and a part of the incident light is totally reflected. Note that the maximum tilt angle 、 1 is defined as the side opposite to the rough surface of the glass substrate (FIG. 4).
At the lower side).

【0008】ここで、空気の屈折率をn1,液晶表示パ
ネルのガラス、配向膜、透明電極および液晶物質を含む
全体の屈折率をn2,外部からのF板52に対する光の
入射角をθ1,その屈折角をθ2,反射膜からのF板5
2に対する反射光の入射角をθ3,F板52からの反射
光の出射角度をθ4とすると、次の関係式が成り立つ。 θ2;sinθ2=(n1/n2)×sinθ1 θ3=θ2+2×ψ1 θ4;sinθ4=(n2/n1)×sinθ3
Here, the refractive index of air is n1, the total refractive index of the liquid crystal display panel including the glass, the alignment film, the transparent electrode and the liquid crystal material is n2, and the incident angle of light to the F plate 52 from the outside is θ1, The refraction angle is θ2, F plate 5 from the reflection film
Assuming that the incident angle of the reflected light with respect to 2 is θ3 and the emission angle of the reflected light from the F plate 52 is θ4, the following relational expression holds. θ2; sin θ2 = (n1 / n2) × sin θ1 θ3 = θ2 + 2 × ψ1 θ4; sin θ4 = (n2 / n1) × sin θ3

【0009】この関係式により、問題となる反射光の出
射角度θ4は、粗面の最大傾斜角ψ1に大きく依存して
いることが分かる。したがって、粗面の最大傾斜角ψ1
が大きいと、粗面からの反射光の出射角度θ4が90゜
以上となり、その結果、入射した光の一部が外部に出射
せず、液晶表示パネル内に戻るため、その分ロスが生ず
ることになる。
From this relational expression, it is understood that the emission angle θ4 of the reflected light, which is a problem, largely depends on the maximum inclination angle ψ1 of the rough surface. Therefore, the maximum inclination angle of the rough surface ψ1
Is large, the emission angle θ4 of the reflected light from the rough surface becomes 90 ° or more, and as a result, part of the incident light does not exit to the outside but returns to the inside of the liquid crystal display panel. become.

【0010】なお、粗面の最大傾斜角ψ1を小さくする
には、凹凸の深さ方向のエッチング量を少なくすればよ
いのであるが、実際問題として、エッチング量による深
さ制御はきわめて難しく、所望の反射特性を得にくいと
いう問題がある。
In order to reduce the maximum inclination angle ψ1 of the rough surface, it is necessary to reduce the etching amount in the depth direction of the unevenness. However, as a practical matter, it is extremely difficult to control the depth by the etching amount. However, there is a problem that it is difficult to obtain the reflection characteristics.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、このような課
題を解決するためになされたもので、その目的は、化学
エッチングにより粗面化するものでありながら、入射し
た光のほとんどをパネル外に出射し得、外光を有効に利
用できるようにした光反射性基板を提供することにあ
る。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to make most of incident light into a panel while roughening the surface by chemical etching. It is an object of the present invention to provide a light-reflective substrate which can be emitted to the outside and makes effective use of external light.

【0012】また、本発明のもう一つの目的は、このよ
うな光反射性基板を用いることにより、表示が明るく視
認性が良好な反射型もしくは半透過型の液晶表示素子を
提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a reflective or semi-transmissive liquid crystal display device having a bright display and good visibility by using such a light reflective substrate. .

【0013】上記目的を達成するため、本発明は、一方
の面が化学エッチングにより粗面とされ、その粗面上に
光反射膜を有するガラス基板であって、反射型もしくは
半透過型の液晶表示素子の一方の電極基板として用いら
れる光反射性基板において、上記化学エッチングによる
ガラス基板の粗面上に、同粗面の最大傾斜角ψ1よりも
小さな最大傾斜角ψ2を有する樹脂膜が所定の厚みで形
成されており、上記樹脂膜上に上記光反射膜が形成され
ていることを特徴としている。
In order to achieve the above object, the present invention relates to a glass substrate having one surface roughened by chemical etching and having a light reflecting film on the rough surface, wherein the liquid crystal is a reflective or semi-transmissive liquid crystal. In a light-reflective substrate used as one electrode substrate of a display element, a resin film having a maximum inclination angle ψ2 smaller than the maximum inclination angle ψ1 of the rough surface on a rough surface of the glass substrate formed by the chemical etching is provided. The light reflection film is formed on the resin film.

【0014】この構成によれば、粗面の凹凸がお椀形で
あるとして、その凹凸面上に樹脂膜が形成されるため、
その分凹部の深さが浅くなる。すなわち、化学エッチン
グによりガラス基板面に形成された粗面の最大傾斜角ψ
1が大きいとしても、その後に形成される樹脂膜により
凹部の深さが浅くなるため、この樹脂膜による上記光反
射膜の下地粗面の最大傾斜角ψ2は当初の最大傾斜角ψ
1よりも小さくなる。
According to this configuration, since the rough surface has a bowl-like shape and the resin film is formed on the rough surface,
The depth of the concave portion becomes shallower. That is, the maximum inclination angle of the rough surface formed on the glass substrate surface by the chemical etching
Even if 1 is large, since the depth of the concave portion is reduced by the resin film formed thereafter, the maximum inclination angle {2} of the base rough surface of the light reflection film made of this resin film becomes the initial maximum inclination angle {2}.
It becomes smaller than 1.

【0015】本発明によれば、このようにして粗面の凹
凸形状が樹脂膜により制御されるのであるが、上記樹脂
膜の最大傾斜角ψ2は5〜20゜であることが好まし
い。この根拠を先に説明した図4を参照して説明する。
According to the present invention, the unevenness of the rough surface is controlled by the resin film in this manner. The maximum inclination angle {2} of the resin film is preferably 5 to 20 °. This ground will be described with reference to FIG. 4 described above.

【0016】空気の屈折率n1=1.00に対して、例
えば液晶表示パネルの全体の屈折率n2=1.50、外
部からのF板52に対する光の入射角θ1=30゜とす
ると、その屈折角をθ2は19.5゜となる。これから
逆算して、F板52からの反射光の出射角度θ4が90
゜となるのは、反射膜からのF板52に対する反射光の
入射角θ3が41.8゜のときである。したがって、粗
面の最大傾斜角が11.5゜以上である場合に、入射光
の一部がF板52の界面で全反射しロスが生ずることに
なる。
Assuming that, for example, the refractive index n1 of the air is n1 = 1.00, the refractive index n2 of the entire liquid crystal display panel is 1.50, and the incident angle θ1 of light on the F plate 52 from the outside is 30 °, The angle of refraction θ2 is 19.5 °. By calculating backward from this, the emission angle θ4 of the reflected light from the F plate 52 is 90
゜ is when the incident angle θ3 of the reflected light from the reflection film to the F plate 52 is 41.8 °. Therefore, when the maximum inclination angle of the rough surface is 11.5 ° or more, a part of the incident light is totally reflected at the interface of the F plate 52, and a loss occurs.

【0017】上記の例は、F板52に対する光の入射角
θ1を30゜とした場合で、この条件下では、光の一部
に全反射が生ずるのは粗面の最大傾斜角は11.5゜と
言うことになるが、実際にはF板52に対する光の入射
角θ1はこれよりも浅い場合が十分にあり得るため、余
裕を持たせて本発明では上記樹脂膜の最大傾斜角ψ2の
上限を20゜としている。
In the above example, the incident angle θ1 of the light with respect to the F plate 52 is 30 °. Under this condition, the total reflection of a part of the light occurs only when the maximum inclination angle of the rough surface is 11.1 °. In practice, the incident angle θ1 of the light to the F plate 52 can be sufficiently shallower than this, so that the maximum tilt angle ψ2 of the resin film is provided in the present invention with a margin. Is set to 20 °.

【0018】ちなみに、上記樹脂膜による上記光反射膜
の下地粗面の最大傾斜角ψ2が5゜未満である場合に
は、光の出射角が小さすぎるため指向性が強くなり過ぎ
てしまう(光の拡散性が低くなる)。これとは逆に、最
大傾斜角ψ2が20゜を超えると、全反射する光が多く
なり、光の利用効率上好ましくない。
Incidentally, when the maximum inclination angle {2} of the base rough surface of the light reflection film made of the resin film is less than 5 °, the light emission angle is too small, and the directivity becomes too strong (light). Becomes less diffusible). Conversely, when the maximum inclination angle {2} exceeds 20 °, the amount of light that is totally reflected increases, which is not preferable in terms of light use efficiency.

【0019】上記のように、樹脂膜にてガラス基板の粗
面の凹凸形状を制御するにしても、上記ガラス基板の粗
面のRzD(十点平均粗さ)は0.3〜5.0μm、S
m(ピッチ)が10〜50μm、RzD/Smは3〜1
0%であるとともに、上記樹脂膜の厚みが0.3〜5.
0μmで、そのRzD/Smが2〜6%であることが好
ましい。
As described above, even when the roughness of the rough surface of the glass substrate is controlled by the resin film, the RzD (ten-point average roughness) of the rough surface of the glass substrate is 0.3 to 5.0 μm. , S
m (pitch) is 10 to 50 μm, RzD / Sm is 3 to 1
0% and the thickness of the resin film is 0.3-5.
It is preferable that RzD / Sm is 2 to 6% at 0 μm.

【0020】また、本発明の液晶表示素子は、上記のよ
うにして得られた光反射性基板の光反射膜上に平滑化層
を介して透明電極が形成された電極基板を一方の電極基
板として備えていることを特徴としており、これによれ
ば、表示が明るく視認性が良好な反射型もしくは半透過
型の液晶表示素子が得られる。
Further, the liquid crystal display element of the present invention is characterized in that an electrode substrate having a transparent electrode formed on a light reflecting film of the light reflecting substrate obtained as described above via a smoothing layer is formed on one electrode substrate. According to this, a reflective or semi-transmissive liquid crystal display element having a bright display and good visibility can be obtained.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】本発明は反射型、半透過型のいず
れの場合も含むが、図1の模式的断面図により、その内
の反射型液晶表示素子の実施例について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention includes both a reflection type and a transflective type, but an embodiment of a reflection type liquid crystal display device will be described with reference to the schematic sectional view of FIG.

【0022】この反射型液晶表示素子1は、R板として
の第1電極基板2と、F板としての第2電極基板3とを
備えているが、第1電極基板2には本発明による光反射
性基板20が用いられている。すなわち、この光反射性
基板20は、例えばソーダガラスや硼珪酸ガラスよりな
る透明ガラス板21を基体としており、その内面側(図
1において上面側)が微細な凹凸よりなる粗面21aと
されている。なお、透明ガラス板21の裏面側は平滑で
ある。
The reflection type liquid crystal display element 1 includes a first electrode substrate 2 as an R plate and a second electrode substrate 3 as an F plate. A reflective substrate 20 is used. That is, the light reflective substrate 20 is based on a transparent glass plate 21 made of, for example, soda glass or borosilicate glass, and has an inner surface (an upper surface in FIG. 1) having a rough surface 21a having fine irregularities. I have. The back side of the transparent glass plate 21 is smooth.

【0023】この粗面21aは、例えば弗酸・弗化アン
モニウムなどの混合液で化学エッチングしてなるもの
で、図2に示されているように、その十点粗さ平均Rz
Dは0.3〜5.0μm、平均ピッチSmは10〜50
μmで、そのRzD/Smは3〜10%であることが好
ましい。このようなプロファイルを持つ粗面21aの最
大傾斜角ψ1は10〜40゜である。なお、最大傾斜角
ψ1の基準面は第1電極基板2の裏面と平行な面であ
る。
The rough surface 21a is formed by chemical etching with a mixed solution of, for example, hydrofluoric acid / ammonium fluoride, and as shown in FIG.
D is 0.3 to 5.0 μm, average pitch Sm is 10 to 50
In μm, the RzD / Sm is preferably 3 to 10%. The maximum inclination angle {1} of the rough surface 21a having such a profile is 10 to 40 °. The reference plane having the maximum inclination angle ψ1 is a plane parallel to the back surface of the first electrode substrate 2.

【0024】本発明によれば、図3に示されているよう
に、粗面21a上に樹脂膜23が形成されている。この
実施例では、樹脂膜23はアクリル系樹脂をスピンナー
などで塗布することにより成膜されており、その好まし
いプロファイルは、膜厚が0.3〜5.0μmで、Rz
D/Smが2〜6%である。このプロファイルによる
と、樹脂膜23の最大傾斜角ψ2は5〜20゜である。
According to the present invention, as shown in FIG. 3, the resin film 23 is formed on the rough surface 21a. In this embodiment, the resin film 23 is formed by applying an acrylic resin with a spinner or the like, and its preferable profile is that the film thickness is 0.3 to 5.0 μm and Rz
D / Sm is 2 to 6%. According to this profile, the maximum tilt angle {2} of the resin film 23 is 5 to 20 °.

【0025】この樹脂膜23を下地粗面として、樹脂膜
23上に金属膜よりなる光反射膜24が形成されてい
る。この実施例において、光反射膜24はスパッタ法に
て成膜されたアルミニウム膜よりなる。光反射膜24の
膜厚は、例えば100nm程度であってよい。
A light reflecting film 24 made of a metal film is formed on the resin film 23 using the resin film 23 as a rough underlayer. In this embodiment, the light reflection film 24 is made of an aluminum film formed by a sputtering method. The thickness of the light reflection film 24 may be, for example, about 100 nm.

【0026】再び図1を参照して、光反射膜24上に
は、例えばアクリル性樹脂をスピンナーにて塗布してな
る表面平滑化層25が形成されている。なお、カラー表
示の場合には、光反射膜24上に電着法などにてカラー
フィルタ層が設けられ、その上に表面平滑化層25が形
成されてもよい。
Referring to FIG. 1 again, a surface smoothing layer 25 formed by applying, for example, an acrylic resin by a spinner is formed on the light reflecting film 24. In the case of color display, a color filter layer may be provided on the light reflection film 24 by an electrodeposition method or the like, and a surface smoothing layer 25 may be formed thereon.

【0027】第1電極基板2には、この表面平滑化層2
5上に透明導電膜としてITO(Indium Tin
Oxide)をスパッタしたものが用いられ、その表
示部には所定にパターニングされた表示電極としてのI
TOパターン2aが形成されている。
The first electrode substrate 2 has the surface smoothing layer 2
5 on which ITO (Indium Tin) is used as a transparent conductive film.
Oxide) is sputtered, and its display portion has a predetermined patterned I
A TO pattern 2a is formed.

【0028】この実施例において、第2電極基板3側に
引出電極形成用の端子部31が連設されている。この第
2電極基板3の表示部および端子部31には表示電極お
よび引出電極としてのITOパターン3aが形成されて
いる。なお、図示されていないが、各表示電極上には配
向膜が形成されている。
In this embodiment, a terminal portion 31 for forming an extraction electrode is continuously provided on the second electrode substrate 3 side. The display portion and the terminal portion 31 of the second electrode substrate 3 are formed with an ITO pattern 3a as a display electrode and an extraction electrode. Although not shown, an alignment film is formed on each display electrode.

【0029】第1電極基板2および第2電極基板3は、
それらの各表示部を対向させた状態で周辺シール材4を
介して互いに貼り合わせられる。なお、各表示部間には
そのセルギャップを一定に保つための面内スペーサ(図
示省略)があらかじめ配置され、そのセルギャップ内に
所定の液晶物質6が封入されている。
The first electrode substrate 2 and the second electrode substrate 3
These display portions are attached to each other via the peripheral seal material 4 with the display portions facing each other. In addition, an in-plane spacer (not shown) for keeping the cell gap constant between the respective display portions is arranged in advance, and a predetermined liquid crystal material 6 is sealed in the cell gap.

【0030】また、周辺シール材4内には、例えば導電
ビーズからなるトランスファ材41が含まれており、こ
のトランスファ材41を介して第1電極基板2側のIT
Oパターン2aが第2電極基板3側の端子部31にある
引き出し電極に接続されている。第2電極基板3の表示
面側には、位相差板7および偏光板8がそれぞれ貼り付
けられている。
The peripheral sealing material 4 includes a transfer material 41 made of, for example, conductive beads, and the IT material on the first electrode substrate 2 side via the transfer material 41.
The O pattern 2a is connected to a lead electrode in the terminal portion 31 on the second electrode substrate 3 side. A retardation plate 7 and a polarizing plate 8 are attached to the display surface side of the second electrode substrate 3 respectively.

【0031】なお、半透過型液晶表示素子とするには、
光反射膜に多数のマイクロホール(微細孔)を設ける
か、もしくは光反射膜を例えば35nm程度のきわめて
薄い膜として光半透過性を持たせたうえで、第1電極基
板2の裏面側に図示しないバックライトを設ければよ
い。
In order to make a transflective liquid crystal display device,
A plurality of micro holes (micro holes) are provided in the light reflecting film, or the light reflecting film is provided as a very thin film of, for example, about 35 nm so as to have a light semi-transmissive property, and is illustrated on the back side of the first electrode substrate 2. A backlight that does not need to be provided may be provided.

【0032】[0032]

【実施例】《実施例1》ショット(schott)社製
ガラスD263の片面を弗酸、弗化アンモニウムなど化
学エッチングして粗面化した。凹凸のプロファイルは、
RzDが2.0μm、Smが20μm(RzD/Sm比
=10%)であり、その最大傾斜角ψ1は33゜であっ
た。次に、粗面上に日本合成ゴム社製アクリル樹脂PC
−405を0.8μmの厚さとなるようにスピンナーで
塗布し硬化させて樹脂膜を形成した。この樹脂膜の凹凸
プロファイルは、RzDが1.3μm、Smが24μm
(RzD/Sm比=5.4%)であり、その最大傾斜角
ψ2は15゜であった。このガラス基板に光反射膜とし
てアルミニウムを100nm厚に成膜し、その上に絶縁
膜としてアクリル系樹脂を2μm厚に形成した。相手方
のガラス基板には、R,G,Bのカラーフィルターを形
成し、アクリル樹脂にて平滑化した。そして、両ガラス
基板にITOを成膜し、パターニングして透明電極を形
成した後、定法にしたがって反射型カラー液晶表示素子
を作製した。
Example 1 One surface of glass D263 manufactured by Schott was roughened by chemical etching using hydrofluoric acid, ammonium fluoride or the like. The uneven profile is
RzD was 2.0 μm, Sm was 20 μm (RzD / Sm ratio = 10%), and the maximum tilt angle {1} was 33 °. Next, an acrylic resin PC manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.
-405 was applied with a spinner to a thickness of 0.8 μm and cured to form a resin film. The unevenness profile of this resin film was such that RzD was 1.3 μm and Sm was 24 μm.
(RzD / Sm ratio = 5.4%), and the maximum inclination angle {2} was 15 °. On this glass substrate, aluminum was formed in a thickness of 100 nm as a light reflection film, and an acrylic resin was formed in a thickness of 2 μm as an insulating film thereon. R, G, and B color filters were formed on the other glass substrate and smoothed with an acrylic resin. Then, an ITO film was formed on both glass substrates and patterned to form a transparent electrode, and then a reflection type color liquid crystal display element was manufactured according to a standard method.

【0033】〈比較例1〉化学エッチングによる粗面上
に樹脂膜を形成することなく、上記実施例1と同様にし
て反射型カラー液晶表示素子を作製した。
Comparative Example 1 A reflective color liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 1 except that a resin film was not formed on the rough surface by chemical etching.

【0034】上記実施例1および比較例1について、基
板の30゜入射光における反射特性を測定したところ、
比較例1の半値幅が約50゜ときわめて広いのに対し
て、実施例1の半値幅は約35゜であった。また、反射
光の積分光量の測定では、比較例1は実施例1の約90
%の光量しかなかった。これは、比較例1では粗面の最
大傾斜角が33゜と大きく、入射光の一部が全反射でパ
ネル内に吸収されていることによるものと推測される。
With respect to Example 1 and Comparative Example 1, the reflection characteristics of the substrate at 30 ° incident light were measured.
Comparative Example 1 had an extremely wide half-value width of about 50 °, whereas Example 1 had a half-value width of about 35 °. In the measurement of the integrated light amount of the reflected light, the comparative example 1 was about 90% of the example 1.
% Light. This is presumably because in Comparative Example 1, the maximum inclination angle of the rough surface was as large as 33 °, and part of the incident light was absorbed in the panel by total reflection.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
化学エッチングによるガラス基板の粗面上に、同粗面の
最大傾斜角ψ1よりも小さな最大傾斜角ψ2を有する樹
脂膜を所定の厚みで形成して、この樹脂膜を光反射膜の
下地粗面としたことにより、化学エッチングにより粗面
化するものでありながら、入射した光のほとんどをパネ
ル外に出射し得、外光を有効に利用できるようにした光
反射性基板が得られる。
As described above, according to the present invention,
A resin film having a maximum tilt angle 化学 2 smaller than the maximum tilt angle ψ1 of the rough surface is formed with a predetermined thickness on the rough surface of the glass substrate by chemical etching, and this resin film is formed as a rough underlayer of the light reflection film. By doing so, it is possible to obtain a light-reflective substrate in which most of the incident light can be emitted to the outside of the panel while the surface is roughened by chemical etching, and the external light can be used effectively.

【0036】また、本発明によれば、このような光反射
性基板を用いることにより、表示が明るく視認性が良好
な反射型もしくは半透過型の液晶表示素子が得られる。
Further, according to the present invention, by using such a light-reflective substrate, a reflective or semi-transmissive liquid crystal display device having a bright display and good visibility can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を反射型液晶表示素子に適用した実施例
の模式的断面図。
FIG. 1 is a schematic sectional view of an embodiment in which the present invention is applied to a reflective liquid crystal display device.

【図2】上記実施例に用いられる光反射性基板の化学エ
ッチング処理後の拡大断面図。
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a light-reflective substrate used in the above embodiment after a chemical etching process.

【図3】上記光反射性基板に樹脂膜を形成した状態の拡
大断面図。
FIG. 3 is an enlarged sectional view showing a state in which a resin film is formed on the light-reflective substrate.

【図4】従来例としての液晶表示パネルを模式的に示し
た一部拡大断面図。
FIG. 4 is a partially enlarged sectional view schematically showing a liquid crystal display panel as a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 反射型液晶表示素子 2,3 電極基板 2a,3a 透明電極 20 光反射性基板 21 透明ガラス基板 21a 粗面 23 樹脂膜 24 光反射膜 25 表面平滑化層 4 周辺シール材 6 液晶物質 7 位相差板 8 偏光板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Reflective liquid crystal display element 2, 3 Electrode substrate 2a, 3a Transparent electrode 20 Light reflective substrate 21 Transparent glass substrate 21a Rough surface 23 Resin film 24 Light reflective film 25 Surface smoothing layer 4 Peripheral sealing material 6 Liquid crystal material 7 Phase difference Plate 8 Polarizing plate

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一方の面が化学エッチングにより粗面と
され、その粗面上に光反射膜を有するガラス基板であっ
て、反射型もしくは半透過型の液晶表示素子の一方の電
極基板として用いられる光反射性基板において、 上記化学エッチングによるガラス基板の粗面上に、同粗
面の最大傾斜角ψ1よりも小さな最大傾斜角ψ2を有す
る樹脂膜が所定の厚みで形成されており、上記樹脂膜上
に上記光反射膜が形成されていることを特徴とする光反
射性基板。
1. A glass substrate having one surface roughened by chemical etching and having a light reflecting film on the rough surface, which is used as one electrode substrate of a reflective or transflective liquid crystal display element. A resin film having a maximum inclination angle ψ2 smaller than the maximum inclination angle ψ1 of the rough surface with a predetermined thickness on the rough surface of the glass substrate formed by the chemical etching; A light-reflective substrate, wherein the light-reflective film is formed on the film.
【請求項2】 上記樹脂膜の最大傾斜角ψ2が5〜20
゜である請求項1に記載の光反射性基板。
2. The maximum inclination angle ψ2 of the resin film is 5 to 20.
2. The light-reflective substrate according to claim 1, wherein ゜.
【請求項3】 上記ガラス基板の粗面のRzD(DIN
十点平均粗さ)が0.3〜5.0μm、Sm(ピッチ)
が10〜50μm、RzD/Smが3〜10%であると
ともに、上記樹脂膜の厚みが0.3〜5.0μmで、そ
のRzD/Smが2〜6%である請求項1または2に記
載の光反射性基板。
3. RzD (DIN) of the rough surface of the glass substrate
Ten-point average roughness) 0.3 to 5.0 μm, Sm (pitch)
3 to 10 μm, RzD / Sm is 3 to 10%, and the thickness of the resin film is 0.3 to 5.0 μm, and RzD / Sm is 2 to 6%. Light reflective substrate.
【請求項4】 請求項1ないし3のいずれか1項による
光反射性基板の光反射膜上に平滑化層を介して透明電極
が形成された電極基板を一方の電極基板として備えてい
ることを特徴とする液晶表示素子。
4. An electrode substrate having a transparent electrode formed on a light reflecting film of a light reflecting substrate according to claim 1 via a smoothing layer as one electrode substrate. A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100848558B1 (en) * 2002-07-31 2008-07-25 엘지디스플레이 주식회사 Transreflective liquid crystal display and fabrication method thereof
JP2010128123A (en) * 2008-11-27 2010-06-10 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100848558B1 (en) * 2002-07-31 2008-07-25 엘지디스플레이 주식회사 Transreflective liquid crystal display and fabrication method thereof
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