JP2001174786A - Driving method for semiconductor display device - Google Patents

Driving method for semiconductor display device

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JP2001174786A
JP2001174786A JP35883399A JP35883399A JP2001174786A JP 2001174786 A JP2001174786 A JP 2001174786A JP 35883399 A JP35883399 A JP 35883399A JP 35883399 A JP35883399 A JP 35883399A JP 2001174786 A JP2001174786 A JP 2001174786A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a driving method for a semiconductor display device capable of displaying a sharp and high definition image without flickers, vertical and lateral stripes visually recognized by a user. SOLUTION: This is a driving method for semiconductor display device characterized in that video signals inputted to each pixel electrode of plural pixels are reversed in polarity with respect to the potential of the counter electrodes for every frame period, and the frame periods differ in length frame period by frame period.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本願発明は、液晶等の表示媒
体を用いた半導体表示装置に好適な駆動方法に関する。
特に本願発明は、アクティブマトリクス型液晶表示装置
の駆動方法に関する。
The present invention relates to a driving method suitable for a semiconductor display device using a display medium such as a liquid crystal.
In particular, the present invention relates to a driving method of an active matrix liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、絶縁性基板上に半導体薄膜を用い
て形成された素子、例えば薄膜トランジスタ(TFT)
を作製する技術が急速に発達している。その理由は、半
導体表示装置(代表的には、アクティブマトリクス型液
晶表示装置)の需要が高まってきたことによる。
2. Description of the Related Art In recent years, an element formed by using a semiconductor thin film on an insulating substrate, for example, a thin film transistor (TFT)
The technology for making is rapidly developing. The reason is that demand for semiconductor display devices (typically, active matrix liquid crystal display devices) has been increasing.

【0003】アクティブマトリクス型液晶表示装置は、
マトリクス状に配置された数十〜数百万個もの画素にか
かる電荷を、TFTで構成された画素のスイッチング素
子(画素TFT)により制御して、画像を表示するもの
である。
An active matrix type liquid crystal display device is
An image is displayed by controlling charges applied to several tens to several millions of pixels arranged in a matrix by a switching element (pixel TFT) of a pixel constituted by a TFT.

【0004】なお、本明細書中における画素とは、スイ
ッチング素子(画素TFT)と、前記スイッチング素子
に接続された画素電極と、対向電極と、前記画素電極と
対向電極の間に設けられた液晶とで主に構成されてい
る。
[0004] In this specification, a pixel means a switching element (pixel TFT), a pixel electrode connected to the switching element, a counter electrode, and a liquid crystal provided between the pixel electrode and the counter electrode. It is mainly composed of

【0005】以下に図15を用いて、アクティブマトリ
クス型液晶表示装置が有する液晶パネルの表示動作の代
表的な例を簡略に説明する。図15(A)は、アクティ
ブマトリクス型液晶表示装置の上面図であり、図15
(B)は画素の配置を示した図である。
A typical example of a display operation of a liquid crystal panel included in an active matrix type liquid crystal display device will be briefly described below with reference to FIG. FIG. 15A is a top view of an active matrix liquid crystal display device.
(B) is a diagram showing an arrangement of pixels.

【0006】ソース信号線駆動回路203とソース信号
線S1〜S6とが接続されている。またゲート信号線駆
動回路204とゲート信号線G1〜G5とが接続されて
いる。そしてソース信号線S1〜S6とゲート信号線G
1〜G5とで囲まれている部分に画素206が複数設け
られている。画素206には画素TFT201と画素電
極202とが設けられている。なおソース信号線とゲー
ト信号線の数はこの値に限定されない。
[0006] The source signal line drive circuit 203 and the source signal lines S1 to S6 are connected. Further, the gate signal line driving circuit 204 and the gate signal lines G1 to G5 are connected. Then, the source signal lines S1 to S6 and the gate signal line G
A plurality of pixels 206 are provided in a portion surrounded by 1 to G5. The pixel 206 is provided with a pixel TFT 201 and a pixel electrode 202. Note that the number of source signal lines and gate signal lines is not limited to this value.

【0007】ソース信号線駆動回路203内のシフトレ
ジスタ回路等(図示しない)からの信号に従って、ソー
ス信号線S1に映像信号が入力される。またゲート信号
線駆動回路204からゲート信号線G1に選択信号が入
力され、ゲート信号線G1とソース信号線S1とが交差
している部分の画素(1、1)の画素TFTをオンの状
態にする。そしてソース信号線S1に入力された映像信
号が、画素(1、1)の画素電極に入力される。この入
力された映像信号の電位により液晶を駆動し、透過光量
を制御して、画素(1、1)に画像の一部(画素(1、
1)に相当する画像)が表示される。
A video signal is input to the source signal line S1 according to a signal from a shift register circuit (not shown) in the source signal line drive circuit 203. Further, a selection signal is input to the gate signal line G1 from the gate signal line driving circuit 204, and the pixel TFT of the pixel (1, 1) at the intersection of the gate signal line G1 and the source signal line S1 is turned on. I do. Then, the video signal input to the source signal line S1 is input to the pixel electrode of the pixel (1, 1). The liquid crystal is driven by the potential of the input video signal, the amount of transmitted light is controlled, and a part of the image (pixels (1,
1) is displayed.

【0008】次に、画素(1、1)に画像が表示された
状態を保持容量(図示せず)等で保持したまま、次の瞬
間には、ソース信号線駆動回路内203のシフトレジス
タ回路等(図示しない)からの信号に従って、ソース信
号線S2に映像信号が入力される。なお保持容量とは、
画素TFTのゲート電極に入力された映像信号の電位を
一定の期間保持するための容量である。
Next, while the state in which an image is displayed on the pixel (1, 1) is held by a storage capacitor (not shown) or the like, at the next moment, the shift register circuit 203 in the source signal line driving circuit 203 (Not shown), a video signal is input to the source signal line S2. The storage capacity is
This is a capacitor for holding the potential of the video signal input to the gate electrode of the pixel TFT for a certain period.

【0009】ゲート信号線駆動回路204からの選択信
号は、ゲート信号線G1に入力されたままであり、ゲー
ト信号線G1とソース信号線S2とが交差している部分
の画素(1、2)の画素TFTをオンの状態にする。そ
してソース信号線S2の映像信号の電位が画素(1、
2)の画素電極に入力される。この入力された映像信号
の電位により液晶を駆動し、透過光量を制御して、画素
(1、1)と同様に、画素(1、2)に画像の一部(画
素(1、2)に相当する画像)が表示される。
The selection signal from the gate signal line driving circuit 204 remains input to the gate signal line G1, and the selection signal of the pixel (1, 2) at the portion where the gate signal line G1 and the source signal line S2 intersect. The pixel TFT is turned on. Then, the potential of the video signal of the source signal line S2 changes to the pixel (1,
Input to the pixel electrode of 2). The liquid crystal is driven by the potential of the input video signal, and the amount of transmitted light is controlled so that the pixel (1, 2) has a part of the image (pixel (1, 2)) like the pixel (1, 1). Corresponding image) is displayed.

【0010】このような表示動作を順次行い、ゲート信
号線G1に接続されている画素(1、1)(1、2)
(1、3)(1、4)(1、5)(1、6)に画像の一
部を次々と表示する。この間、ゲート信号線G1には選
択信号が入力され続けている。
Such display operations are sequentially performed, and the pixels (1, 1) (1, 2) connected to the gate signal line G1 are displayed.
(1, 3) (1, 4) (1, 5) (1, 6) Part of the image is displayed one after another. During this time, the selection signal continues to be input to the gate signal line G1.

【0011】ゲート信号線G1に接続されている画素の
全てに映像信号が入力されると、ゲート信号線G1には
選択信号が入力されなくなり、引き続いて、ゲート信号
線G2にのみ選択信号が入力される。そしてゲート信号
線G2に接続されている画素(2、1)(2、2)
(2、3)(2、4)(2、5)(2、6)に画像の一
部を次々と表示する。この間、ゲート信号線G2には選
択信号が入力され続けている。
When the video signal is input to all the pixels connected to the gate signal line G1, the selection signal is not input to the gate signal line G1, and subsequently, the selection signal is input only to the gate signal line G2. Is done. Then, the pixels (2, 1) (2, 2) connected to the gate signal line G2
(2, 3) (2, 4) (2, 5) (2, 6) Display a part of the image one after another. During this time, the selection signal is continuously input to the gate signal line G2.

【0012】上述した動作を全てのゲート信号線におい
て順次繰り返すことにより、画素部205に一つの画像
を表示する。この一つの画像が表示される期間を1フレ
ーム期間と呼ぶ。なお画素部205に一つの画像が表示
される期間と、垂直帰線期間とを合わせてフレーム期間
としても良い。そして全ての画素は、再び各画素の画素
TFTがオンの状態になるまで、画像が表示された状態
を保持容量(図示せず)等で保持している。
One image is displayed on the pixel portion 205 by sequentially repeating the above-described operation on all the gate signal lines. The period during which this one image is displayed is called one frame period. Note that a period in which one image is displayed in the pixel portion 205 and a vertical blanking period may be combined to form a frame period. Then, all the pixels hold the state in which the image is displayed by a storage capacitor (not shown) or the like until the pixel TFT of each pixel is turned on again.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】通常スイッチング素子
としてTFT等を用いた液晶パネルでは、液晶の劣化を
防ぐために、各画素へ入力する信号の電位の極性を、対
向電極の電位(共通電位)を基準として反転(交流化駆
動)させる。交流化駆動の方法としては、フレーム反転
駆動、ソースライン反転駆動、ゲートライン反転駆動、
ドット反転駆動が挙げられる。以下に、各駆動方法につ
いて説明する。
Generally, in a liquid crystal panel using a TFT or the like as a switching element, in order to prevent deterioration of the liquid crystal, the polarity of the potential of a signal input to each pixel is set to the potential of a common electrode (common potential). Invert (AC drive) as a reference. As a method of AC drive, frame inversion drive, source line inversion drive, gate line inversion drive,
Dot inversion driving is exemplified. Hereinafter, each driving method will be described.

【0014】図16(A)にフレーム反転駆動における
各画素の極性パターンを示す。なお、本明細書中の極性
パターンを示した図〔図16、図3、図5〕では、共通
電位を基準として、画素に入力される映像信号の電位が
正である場合は「+」で図示し、負である場合は「−」
で示している。また図16に示した極性パターンは、図
15(B)に示した画素の配置と対応している。
FIG. 16A shows a polarity pattern of each pixel in the frame inversion driving. In the drawings showing the polarity patterns in this specification (FIGS. 16, 3, and 5), when the potential of the video signal input to the pixel is positive with respect to the common potential, “+” is used. Shown, if negative, "-"
Indicated by. The polarity pattern shown in FIG. 16 corresponds to the pixel arrangement shown in FIG.

【0015】なお本明細書において、正の極性を有する
映像信号とは、共通電位よりも高い電位を有する映像信
号を意味する。また負の極性を有する映像信号とは、共
通電位よりも低い電位を有する映像信号を意味する。
In this specification, a video signal having a positive polarity means a video signal having a potential higher than a common potential. The video signal having a negative polarity means a video signal having a potential lower than the common potential.

【0016】加えて走査方式には、1画面(1フレー
ム)において、奇数番目のゲート信号線と偶数番目のゲ
ート信号線とで2回(2フィールド)に分けて走査する
インターレス走査と、奇数番目と偶数番目のゲート信号
線を分け隔てなく順番に走査するノンインターレス走査
とがあるが、ここでは主にノンインターレス走査を用い
た例で説明する。
In addition, in the scanning method, an odd-numbered gate signal line and an even-numbered gate signal line are scanned twice (two fields) in one screen (one frame); There is a non-interlace scan in which the first and even-numbered gate signal lines are sequentially scanned without any separation. Here, an example using non-interless scan will be mainly described.

【0017】フレーム反転駆動の特徴は、任意の1フレ
ーム期間内で、全ての画素に同一の極性の映像信号が入
力され(極性パターン)、そして次の1フレーム期間
では、全ての画素に入力される映像信号の極性を反転さ
せて表示する(極性パターン)点である。即ち、極性
パターンのみに注目すると2種類の極性パターン(極性
パターンと極性パターン)が、1フレーム期間ごと
に繰り返し表示される駆動方法である。
The feature of the frame inversion drive is that a video signal of the same polarity is input to all pixels within an arbitrary one frame period (polarity pattern), and is input to all pixels in the next one frame period. (Polarity pattern) for inverting the polarity of the video signal to be displayed. That is, when focusing only on the polarity pattern, this is a driving method in which two types of polarity patterns (a polarity pattern and a polarity pattern) are repeatedly displayed every frame period.

【0018】次にソースライン反転駆動について説明す
る。図16(B)にソースライン反転駆動における画素
の極性パターンを示す。
Next, source line inversion driving will be described. FIG. 16B shows a polarity pattern of a pixel in source line inversion driving.

【0019】図16(B)で示したように、ソースライ
ン反転駆動の特徴は、任意の1フレーム期間において、
同じソース信号線に接続されている全ての画素に同じ極
性の映像信号が入力されており、隣り合うソース信号線
に接続されている画素どうしで逆の極性の映像信号が入
力されていることである。
As shown in FIG. 16 (B), the feature of the source line inversion drive is that in any one frame period,
The video signal of the same polarity is input to all the pixels connected to the same source signal line, and the video signal of the opposite polarity is input between the pixels connected to the adjacent source signal line. is there.

【0020】そして次の1フレーム期間において、各ソ
ース信号線には、直前の1フレーム期間において入力さ
れた映像信号とは逆の極性を有する映像信号が入力され
る。よって、任意の1フレーム期間における極性パター
ンが極性パターンだったとすると、次の1フレーム期
間における極性パターンは極性パターンとなる。
In the next one frame period, a video signal having a polarity opposite to that of the video signal input in the immediately preceding one frame period is input to each source signal line. Therefore, if the polarity pattern in any one frame period is a polarity pattern, the polarity pattern in the next one frame period is a polarity pattern.

【0021】次に、ゲートライン反転駆動について説明
する。ゲートライン反転駆動における極性パターンを図
16(C)に示す。
Next, the gate line inversion driving will be described. FIG. 16C shows a polarity pattern in the gate line inversion driving.

【0022】図16(C)で示したように、任意の1フ
レーム期間において、同じゲート信号線に接続されてい
る全ての画素に同じ極性の映像信号が入力されており、
隣り合うゲート信号線に接続されている画素どうしで逆
の極性の映像信号が入力されていることである。
As shown in FIG. 16C, in one arbitrary frame period, video signals having the same polarity are input to all the pixels connected to the same gate signal line.
This means that video signals of opposite polarities are input between pixels connected to adjacent gate signal lines.

【0023】そして次の1フレーム期間において、各ゲ
ート信号線に接続された画素には、直前の1フレーム期
間において入力された映像信号とは逆の極性を有する映
像信号が入力される。よって、任意の1フレーム期間に
おける極性パターンが極性パターンだったとすると、
次の1フレーム期間における極性パターンは極性パター
ンとなる。
In the next one frame period, a video signal having a polarity opposite to that of the video signal input in the immediately preceding one frame period is input to the pixel connected to each gate signal line. Therefore, if the polarity pattern in any one frame period is a polarity pattern,
The polarity pattern in the next one frame period is a polarity pattern.

【0024】即ち、上記ソースライン反転駆動と同様
に、2種類の極性パターン(極性パターンと極性パタ
ーン)が、1フレーム期間ごとに繰り返し表示される
駆動方法である。
That is, similar to the above-described source line inversion driving, this is a driving method in which two types of polarity patterns (a polarity pattern and a polarity pattern) are repeatedly displayed every frame period.

【0025】次にドット反転駆動について説明する。ド
ット反転駆動とは、その極性パターンは図示しないが、
画素に入力する映像信号の極性を隣接する全ての画素ど
うしで反転させる方法である。そして任意の1フレーム
期間において、各画素に、直前の1フレーム期間におい
て入力された映像信号とは逆の極性を有する映像信号が
入力される。つまり2種類の極性パターンが、1フレー
ム期間ごとに繰り返し表示される駆動方法である。
Next, the dot inversion driving will be described. Although the polarity pattern is not shown in the dot inversion drive,
This is a method in which the polarity of a video signal input to a pixel is inverted between all adjacent pixels. Then, in any one frame period, a video signal having a polarity opposite to that of the video signal input in the immediately preceding one frame period is input to each pixel. That is, this is a driving method in which two types of polarity patterns are repeatedly displayed every frame period.

【0026】上述した交流化駆動は、液晶の劣化を防ぐ
には有用な方法である。しかし上述した交流化駆動を用
いると、画面がちらついたり、縦縞または横縞が視認さ
れたりすることがあった。
The AC driving described above is a useful method for preventing the deterioration of the liquid crystal. However, when the above-described AC drive is used, the screen may flicker or vertical or horizontal stripes may be visually recognized.

【0027】これは各画素において同じ階調表示を行お
うとしても、入力される映像信号の極性が正の時の表示
と負の時の表示とで、画面の明るさが微妙に異なってし
まうためだと考えられる。以下、フレーム反転駆動を例
にとって詳しく説明する。
This is because even if the same gradation display is to be performed in each pixel, the brightness of the screen is slightly different between the display when the polarity of the input video signal is positive and the display when the polarity is negative. It is thought to be a reason. Hereinafter, the frame inversion drive will be described in detail as an example.

【0028】図15に示したアクティブマトリクス型液
晶表示装置をフレーム反転駆動させたときのタイミング
チャートを図17に示した。なお図17は、アクティブ
マトリクス型液晶表示装置がノーマリーブラックなら白
表示、ノーマリーホワイトなら黒表示させた場合のタイ
ミングチャートである。1つのゲート信号線に選択信号
が入力されている期間を1ライン期間、全てのゲート信
号線に選択信号が入力されて1つの画像が表示されるま
での期間を1フレーム期間とする。
FIG. 17 shows a timing chart when the active matrix type liquid crystal display device shown in FIG. 15 is driven by frame inversion. FIG. 17 is a timing chart in the case where the active matrix type liquid crystal display device displays white when normally black and black when normally white. A period during which the selection signal is input to one gate signal line is defined as one line period, and a period from when the selection signal is input to all gate signal lines until one image is displayed is defined as one frame period.

【0029】ソース信号線S1とゲート信号線G1にそ
れぞれ映像信号と選択信号とが入力されると、ソース信
号線S1とゲート信号線G1との交差している部分に設
けられた画素(1、1)に、正の極性の映像信号が入力
される。そして画素(1、1)において、入力された映
像信号によって画素電極に与えられた電位は、理想的に
は保持容量等によって1フレーム期間中保持され続け
る。
When a video signal and a selection signal are input to the source signal line S1 and the gate signal line G1, respectively, a pixel (1,...) Provided at the intersection of the source signal line S1 and the gate signal line G1 1), a video signal having a positive polarity is input. Then, in the pixel (1, 1), the potential given to the pixel electrode by the input video signal is ideally kept held for one frame period by a storage capacitor or the like.

【0030】しかし実際には、1ライン期間が終了する
時、ゲート信号線G1の電位が画素TFTをオフさせる
電位にシフトすると、画素電極の電位もゲート信号線G
1の電位がシフトする方向にΔVだけ引き込まれること
がある。この現象をフィールドスルーと呼び、またΔV
を突き抜け電圧と呼ぶ。
However, in practice, when the potential of the gate signal line G1 shifts to a potential for turning off the pixel TFT at the end of one line period, the potential of the pixel electrode also changes to the gate signal line G.
There is a case where the potential of 1 is pulled by ΔV in the direction of shifting. This phenomenon is called field through, and ΔV
Is called a penetration voltage.

【0031】ΔVは以下に示す式で与えられる。ΔV is given by the following equation.

【0032】[0032]

【式1】ΔV=V×Cgd/(Cgd+Clc+Cs)[Formula 1] ΔV = V × Cgd / (Cgd + Clc + Cs)

【0033】Vはゲート電極の電位の振幅、Cgdは画
素TFTのゲート電極とドレイン領域の間の容量、Cl
cは画素電極と対向電極の間の液晶の容量、Csは保持
容量である。
V is the amplitude of the potential of the gate electrode; Cgd is the capacitance between the gate electrode and the drain region of the pixel TFT;
c is the capacity of the liquid crystal between the pixel electrode and the counter electrode, and Cs is the storage capacity.

【0034】図17に示すタイミングチャートにおい
て、画素(1,1)における実際の画素電極の電位を実
線で、フィールドスルーを考慮しない理想的な画素電極
の電位を点線で示す。第1フレーム期間において、正の
極性の映像信号が画素(1、1)に入力される。図17
に示した第1フレーム期間の場合、1ライン期間が終了
すると同時にゲート信号線の電位が負の方向に変化し、
そして画素(1,1)の画素電極の電位も、実際は突き
貫け電圧の分だけ負の方向に変化する。なお、図17で
は、第1フレーム期間における突き貫け電圧をΔV1と
して示す。
In the timing chart shown in FIG. 17, the actual potential of the pixel electrode in the pixel (1, 1) is shown by a solid line, and the ideal potential of the pixel electrode without considering the field-through is shown by a dotted line. In the first frame period, a video signal having a positive polarity is input to the pixel (1, 1). FIG.
In the case of the first frame period shown in (1), the potential of the gate signal line changes in the negative direction at the same time when one line period ends,
In addition, the potential of the pixel electrode of the pixel (1, 1) actually changes in the negative direction by the penetration voltage. In FIG. 17, the piercing voltage in the first frame period is indicated as ΔV1.

【0035】次に第2フレーム期間において、第1フレ
ーム期間とは逆の極性である負の極性の映像信号が、画
素(1、1)に入力される。そして第2フレーム期間に
おける第1ライン期間が終了する時、ゲート信号線G1
の電位が負の方向に変化する。そして同時に画素(1,
1)の画素電極の電位も、実際は突き貫け電圧の分だけ
負の方向に変化する。なお、図17では、第2フレーム
期間における突き貫け電圧をΔV2として示す。
Next, in the second frame period, a negative polarity video signal having a polarity opposite to that of the first frame period is input to the pixel (1, 1). When the first line period in the second frame period ends, the gate signal line G1
Changes in the negative direction. And at the same time the pixel (1,
Actually, the potential of the pixel electrode 1) also changes in the negative direction by the penetration voltage. In FIG. 17, the penetration voltage in the second frame period is indicated as ΔV2.

【0036】図17において、第1フレーム期間の第1
ライン期間終了後における駆動電圧をV1、第2フレー
ム期間の第1ライン期間終了後における駆動電圧をV2
として示す。なお本明細書において駆動電圧とは、画素
電極の電位と共通電位との電位差を意味する。
In FIG. 17, the first frame period is the first frame period.
The drive voltage after the end of the line period is V1, and the drive voltage after the end of the first line period in the second frame period is V2.
As shown. Note that in this specification, a driving voltage refers to a potential difference between a potential of a pixel electrode and a common potential.

【0037】駆動電圧V1と駆動電圧V2は、ΔV1+
ΔV2の電圧差を有することになる。このため第1フレ
ーム期間と第2フレーム期間とでは、画素(1,1)に
おける画面の明るさが異なる。
The drive voltage V1 and the drive voltage V2 are ΔV1 +
It will have a voltage difference of ΔV2. Therefore, the brightness of the screen at the pixel (1, 1) is different between the first frame period and the second frame period.

【0038】そこで駆動電圧V1と駆動電圧V2の値が
同じになるように、共通電位の値を低くする方法も考え
られる。
Therefore, a method of lowering the value of the common potential so that the values of the driving voltage V1 and the driving voltage V2 become the same can be considered.

【0039】しかし、画素TFTのゲート電極とドレイ
ン領域の間の容量Cgdは、正の極性を有する映像信号
を画素に入力したときと、負の極性を有する映像信号を
画素に入力したときとでは、その値が異なる。さらに画
素電極と対向電極の間の液晶の容量Clcも、画素に入
力される映像信号の電位によって変動する。そのため、
Cgdと、Clcの値が各フレーム期間によって異なる
ために、突き貫け電圧ΔVの値も各フレーム期間によっ
て異なる。よって、たとえ共通電位の値を変化させて
も、各画素に入力される正の極性の映像信号と負の極性
の映像信号それぞれの、共通電位との電位差が異なるフ
レーム期間が存在することになる。
However, the capacitance Cgd between the gate electrode and the drain region of the pixel TFT differs between when a video signal having a positive polarity is input to the pixel and when a video signal having a negative polarity is input to the pixel. , Their values are different. Further, the capacitance Clc of the liquid crystal between the pixel electrode and the counter electrode also varies depending on the potential of the video signal input to the pixel. for that reason,
Since the values of Cgd and Clc are different for each frame period, the values of the penetration voltage ΔV are also different for each frame period. Therefore, even if the value of the common potential is changed, there is a frame period in which the potential difference between the positive potential video signal and the negative polarity video signal input to each pixel is different from the common potential. .

【0040】そしてこれは画素(1,1)に限らず全て
の画素において起こりうる現象で、画素に入力される映
像信号の極性によって、画素の明るさが異なりうる。
This is a phenomenon that can occur not only in the pixel (1, 1) but also in all the pixels. The brightness of the pixel may vary depending on the polarity of the video signal input to the pixel.

【0041】よってフレーム反転駆動では、第1フレー
ム期間で表示された画像と第2フレーム期間で表示され
た画像の明るさが異なり、観察者にチラツキとして視認
されてしまう。特に、中間調表示において顕著にチラツ
キが確認された。
Therefore, in the frame inversion drive, the brightness of the image displayed in the first frame period and the brightness of the image displayed in the second frame period are different, and the image is visually recognized as a flicker by an observer. In particular, remarkable flicker was confirmed in the halftone display.

【0042】ソースライン反転駆動、ゲートライン反転
駆動、ドット反転駆動の場合も同様に、正の極性の映像
信号が入力された画素と、負の極性の映像信号が入力さ
れた画素とでは、表示する明るさが異なる。そのため、
ソースライン反転駆動では縦縞が、ゲートライン反転駆
動では横縞が画面に表示された。またドット反転駆動で
は、画面に表示される画像によって、縦縞が現れたり横
縞が現れたりした。
Similarly, in the case of the source line inversion drive, the gate line inversion drive, and the dot inversion drive, the pixel to which the positive polarity video signal is input and the pixel to which the negative polarity video signal is input are displayed. Brightness is different. for that reason,
Vertical stripes were displayed on the screen by the source line inversion drive, and horizontal stripes were displayed by the gate line inversion drive. In the dot inversion driving, vertical stripes or horizontal stripes appeared depending on the image displayed on the screen.

【0043】交流化駆動によって観察者に画面がちらつ
いて見えたり、縦縞または横縞が視認されたりすること
を防ぐためには、フレーム周波数を高くすることが効果
的だと考えられる。しかしフレーム周波数を高くするた
めには、駆動回路、特にソース信号線駆動回路の駆動周
波数を高くする必要があった。そしてソース信号線駆動
回路の駆動周波数を高くしてゆくと、ソース信号線駆動
回路が有するTFTの動作速度がソース信号線駆動回路
の駆動周波数に対応しきれなくなり、動作が不可能か、
または信頼性の上で難が出てくる可能性があった。
It is considered effective to increase the frame frequency in order to prevent the screen from flickering and the vertical or horizontal stripes from being seen by the observer due to the AC drive. However, in order to increase the frame frequency, it is necessary to increase the driving frequency of the driving circuit, particularly the driving frequency of the source signal line driving circuit. When the driving frequency of the source signal line driving circuit is increased, the operation speed of the TFT included in the source signal line driving circuit cannot correspond to the driving frequency of the source signal line driving circuit.
Or there could be difficulties in reliability.

【0044】そこで本願発明は、上述したことに鑑み、
観察者にチラツキや縦縞及び横縞が視認されることな
く、鮮明で高精細な画像の表示ができる半導体表示装置
の駆動方法を提供することを目的とする。
Therefore, the present invention has been made in view of the above,
An object of the present invention is to provide a driving method of a semiconductor display device capable of displaying a clear and high-definition image without a viewer seeing flickers, vertical stripes, and horizontal stripes.

【0045】[0045]

【課題を解決するための手段】本願発明では、半導体表
示装置を駆動させる際に、そのフレーム期間を1フレー
ム期間ごとにランダムに変化させる。つまり任意の1フ
レーム期間の長さと、その任意の1フレーム期間の直後
の1フレーム期間の長さとが、常にランダムに異なるよ
う駆動する。そしてその隣り合うフレーム期間どうしの
長さの差は、観察者にチラツキや縦縞及び横縞が視認さ
れない程度に長くてランダムであることが必要である。
なおかつ動画を表示させたときに、隣り合うフレーム期
間どうしの長さの差によって、スムーズな動画の表示が
妨げられない程度に短くすることが必要である。
According to the present invention, when a semiconductor display device is driven, its frame period is randomly changed every frame period. In other words, the driving is performed such that the length of an arbitrary one frame period and the length of the one frame period immediately after the arbitrary one frame period are always different at random. The difference between the lengths of adjacent frame periods needs to be long and random so that flickers, vertical stripes, and horizontal stripes are not visually recognized by an observer.
In addition, when a moving image is displayed, it is necessary to shorten the frame period so that smooth display of the moving image is not hindered by a difference in length between adjacent frame periods.

【0046】上記構成を用いることで、交流化駆動を行
う際に、駆動回路の周波数を抑えつつ、観察者に視認さ
れていた画面上のチラツキ、縦縞及び横縞を防止するこ
とが可能になった。そしてなおかつ交流化駆動によって
液晶の劣化を抑えることができる。
By using the above configuration, it is possible to prevent flicker, vertical stripes, and horizontal stripes on the screen, which are visually recognized by the observer, while suppressing the frequency of the drive circuit when performing the AC drive. . Further, the deterioration of the liquid crystal can be suppressed by the AC driving.

【0047】以下に、本願発明の構成を示す。The configuration of the present invention will be described below.

【0048】本願発明によって、複数の画素TFT及び
複数の画素電極を含む複数の画素と、対向電極と、前記
複数の画素電極と前記対向電極の間に設けられた液晶と
を有する半導体表示装置の駆動方法において、前記複数
の画素TFTを介して、前記複数の画素電極に映像信号
が入力されており、前記複数の画素電極に入力される映
像信号は、1フレーム期間ごとに前記対向電極の電位を
基準として極性が反転しており、1フレーム期間ごとに
フレーム期間の長さが異なっていることを特徴とする半
導体表示装置の駆動方法が提供される。
According to the present invention, there is provided a semiconductor display device having a plurality of pixels including a plurality of pixel TFTs and a plurality of pixel electrodes, a counter electrode, and a liquid crystal provided between the plurality of pixel electrodes and the counter electrode. In the driving method, a video signal is input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of pixel TFTs, and the video signal input to the plurality of pixel electrodes is a potential of the counter electrode every one frame period. The driving method of the semiconductor display device is characterized in that the polarity is inverted on the basis of, and the length of the frame period differs for each frame period.

【0049】本願発明によって、複数の画素TFT及び
複数の画素電極を含む複数の画素と、複数のソース信号
線と、複数のゲート信号線と、対向電極と、前記複数の
画素電極と前記対向電極の間に設けられた液晶とを有す
る半導体表示装置の駆動方法において、前記複数のゲー
ト信号線に入力される選択信号によって、前記複数の画
素TFTのスイッチングが制御され、前記複数のソース
信号線に入力される映像信号は、前記複数の画素TFT
を介して、前記複数の画素電極に入力され、前記複数の
画素電極に入力される映像信号は、1フレーム期間ごと
に前記対向電極の電位を基準として極性が反転してお
り、1フレーム期間ごとにフレーム期間の長さが異なっ
ていることを特徴とする半導体表示装置の駆動方法が提
供される。
According to the present invention, a plurality of pixels including a plurality of pixel TFTs and a plurality of pixel electrodes, a plurality of source signal lines, a plurality of gate signal lines, a counter electrode, the plurality of pixel electrodes and the counter electrode are provided. In the method for driving a semiconductor display device having a liquid crystal provided between the plurality of pixel signal TFTs, switching of the plurality of pixel TFTs is controlled by a selection signal input to the plurality of gate signal lines, and the plurality of source signal lines are connected to the plurality of source signal lines. The input video signal is output from the plurality of pixel TFTs.
And the video signal input to the plurality of pixel electrodes via the pixel electrode is inverted in polarity with respect to the potential of the counter electrode every frame period, and And a method for driving a semiconductor display device characterized in that the length of the frame period is different.

【0050】本願発明によって、複数の画素TFT及び
複数の画素電極を含む複数の画素と、複数のソース信号
線と、複数のゲート信号線と、対向電極と、前記複数の
画素電極と前記対向電極の間に設けられた液晶とを有す
る半導体表示装置の駆動方法において、前記複数のゲー
ト信号線に入力される選択信号によって、前記複数の画
素TFTのスイッチングが制御され、前記複数のソース
信号線に入力される映像信号は、前記複数の画素TFT
を介して前記複数の画素電極に入力され、前記複数のソ
ース信号線のそれぞれに入力される映像信号の極性は、
1フレーム期間中、前記対向電極の電位を基準として常
に同じ極性を有しており、前記複数のソース信号線のう
ち隣接しているソース信号線に入力される映像信号の極
性は、前記対向電極の電位を基準として互いに反転して
おり、前記複数のソース信号線に入力される映像信号
は、前記対向電極の電位を基準として、1フレーム期間
ごとに極性が反転しており、1フレーム期間ごとにフレ
ーム期間の長さが異なっていることを特徴とする半導体
表示装置の駆動方法が提供される。
According to the present invention, a plurality of pixels including a plurality of pixel TFTs and a plurality of pixel electrodes, a plurality of source signal lines, a plurality of gate signal lines, a counter electrode, the plurality of pixel electrodes and the counter electrode are provided. In the method for driving a semiconductor display device having a liquid crystal provided between the plurality of pixel signal TFTs, switching of the plurality of pixel TFTs is controlled by a selection signal input to the plurality of gate signal lines, and the plurality of source signal lines are connected to the plurality of source signal lines. The input video signal is output from the plurality of pixel TFTs.
Is input to the plurality of pixel electrodes via the pixel signal, the polarity of the video signal input to each of the plurality of source signal lines,
During one frame period, the polarity of a video signal input to an adjacent source signal line among the plurality of source signal lines is always the same with reference to the potential of the counter electrode. And the video signals input to the plurality of source signal lines have their polarities inverted every frame period with respect to the potential of the counter electrode. And a method for driving a semiconductor display device characterized in that the length of the frame period is different.

【0051】本願発明によって、複数の画素TFT及び
複数の画素電極を含む複数の画素と、複数のソース信号
線と、複数のゲート信号線と、対向電極と、前記複数の
画素電極と前記対向電極の間に設けられた液晶とを有す
る半導体表示装置の駆動方法において、前記複数のゲー
ト信号線に入力される選択信号によって、前記複数の画
素TFTのスイッチングが制御され、前記複数のソース
信号線に入力される映像信号は、前記複数の画素TFT
を介して前記複数の画素電極に入力され、前記複数のソ
ース信号線に入力される全ての映像信号の極性は、1ラ
イン期間中、前記対向電極の電位を基準として同じ極性
を有しており、隣接しているライン期間において、前記
複数のソース信号線に入力される映像信号の極性は、前
記対向電極の電位を基準として互いに反転しており、前
記複数のソース信号線に入力される映像信号は、前記対
向電極の電位を基準として、1フレーム期間ごとに極性
が反転しており、1フレーム期間ごとにフレーム期間の
長さが異なっていることを特徴とする半導体表示装置の
駆動方法が提供される。
According to the present invention, a plurality of pixels including a plurality of pixel TFTs and a plurality of pixel electrodes, a plurality of source signal lines, a plurality of gate signal lines, a counter electrode, the plurality of pixel electrodes and the counter electrode are provided. In the method for driving a semiconductor display device having a liquid crystal provided between the plurality of pixel signal TFTs, switching of the plurality of pixel TFTs is controlled by a selection signal input to the plurality of gate signal lines, and the plurality of source signal lines are connected to the plurality of source signal lines. The input video signal is output from the plurality of pixel TFTs.
The polarities of all video signals input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of source signal lines have the same polarity with respect to the potential of the counter electrode during one line period. In an adjacent line period, the polarities of the video signals input to the plurality of source signal lines are inverted with respect to the potential of the counter electrode, and the video signals input to the plurality of source signal lines are inverted. The polarity of the signal is inverted every frame period with reference to the potential of the counter electrode, and the length of the frame period is different every frame period. Provided.

【0052】本願発明によって、複数の画素TFT及び
複数の画素電極を含む複数の画素と、複数のソース信号
線と、複数のゲート信号線と、対向電極と、前記複数の
画素電極と前記対向電極の間に設けられた液晶とを有す
る半導体表示装置の駆動方法において、前記複数のゲー
ト信号線に入力される選択信号によって、前記複数の画
素TFTのスイッチングが制御され、前記複数のソース
信号線に入力される映像信号は、前記複数の画素TFT
を介して前記複数の画素電極に入力され、1フレーム期
間中において、前記複数の画素電極に入力される全ての
映像信号は、前記対向電極の電位を基準として常に同じ
極性を有しており、前記複数の画素電極に入力される映
像信号は、前記対向電極の電位を基準として、1フレー
ム期間ごとに極性が反転しており、1フレーム期間ごと
にフレーム期間の長さが異なっていることを特徴とする
半導体表示装置の駆動方法が提供される。
According to the present invention, a plurality of pixels including a plurality of pixel TFTs and a plurality of pixel electrodes, a plurality of source signal lines, a plurality of gate signal lines, a counter electrode, the plurality of pixel electrodes and the counter electrode are provided. In the method for driving a semiconductor display device having a liquid crystal provided between the plurality of pixel signal TFTs, switching of the plurality of pixel TFTs is controlled by a selection signal input to the plurality of gate signal lines, and the plurality of source signal lines are connected to the plurality of source signal lines. The input video signal is output from the plurality of pixel TFTs.
Are input to the plurality of pixel electrodes through one frame period, all video signals input to the plurality of pixel electrodes during one frame period always have the same polarity with reference to the potential of the counter electrode, The video signals input to the plurality of pixel electrodes are such that the polarity is inverted for each frame period with reference to the potential of the counter electrode, and the length of the frame period differs for each frame period. A method for driving a semiconductor display device is provided.

【0053】前記フレーム期間の長さは、1フレーム期
間ごとにランダムに異なっていても良い。
The length of the frame period may be randomly different for each frame period.

【0054】[0054]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

【0055】以下に、本願発明の駆動方法について説明
する。
The driving method according to the present invention will be described below.

【0056】図1に、本願発明の駆動方法が用いられる
アクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を示す。図
1(A)は、アクティブマトリクス型液晶表示装置の上
面図であり、図1(B)は画素の配置を示した図であ
る。
FIG. 1 shows a configuration of an active matrix type liquid crystal display device using the driving method of the present invention. FIG. 1A is a top view of an active matrix liquid crystal display device, and FIG. 1B is a diagram illustrating an arrangement of pixels.

【0057】101はソース信号線駆動回路、102は
ゲート信号線駆動回路、103は画素部を示している。
ソース信号線駆動回路101に接続されたソース信号線
S1〜Sxと、ゲート信号線駆動回路102に接続され
たゲート信号線G1〜Gyとが画素部103上に設けら
れている。そして画素部103において、ソース信号線
S1〜Sxとゲート信号線G1〜Gyとで囲まれている
部分に画素104が設けられている。そして画素104
には画素TFT105と画素電極106とが設けられて
いる。
Reference numeral 101 denotes a source signal line driving circuit, 102 denotes a gate signal line driving circuit, and 103 denotes a pixel portion.
Source signal lines S1 to Sx connected to the source signal line driving circuit 101 and gate signal lines G1 to Gy connected to the gate signal line driving circuit 102 are provided on the pixel portion 103. In the pixel portion 103, the pixel 104 is provided in a portion surrounded by the source signal lines S1 to Sx and the gate signal lines G1 to Gy. And the pixel 104
Is provided with a pixel TFT 105 and a pixel electrode 106.

【0058】図1に示したアクティブマトリクス型液晶
表示装置をフレーム反転駆動させたときのタイミングチ
ャートを図2に示した。なお図2は、アクティブマトリ
クス型液晶表示装置がノーマリーブラックなら白表示、
ノーマリーホワイトなら黒表示させた場合のタイミング
チャートである。
FIG. 2 shows a timing chart when the active matrix type liquid crystal display device shown in FIG. 1 is driven by frame inversion. FIG. 2 shows white display when the active matrix type liquid crystal display device is normally black,
6 is a timing chart in a case where normally white is displayed in black.

【0059】第1のフレーム期間において、まずゲート
信号線駆動回路102からゲート信号線G1に選択信号
が入力される。その結果、ゲート信号線G1に接続され
ている全ての画素(1,1)、(1,2)・・・(1,
x)において、画素TFTがオンの状態になる。
In the first frame period, first, a selection signal is input from the gate signal line driving circuit 102 to the gate signal line G1. As a result, all pixels (1, 1), (1, 2)... (1,
In x), the pixel TFT is turned on.

【0060】そしてソース信号線駆動回路101内のシ
フトレジスタ回路等(図示しない)からの信号に従っ
て、ソース信号線S1に映像信号が入力される。第1の
フレーム期間において、映像信号は共通電位を基準とし
て正の極性を有しているものとする。そしてソース信号
線S1に入力された映像信号が、画素(1、1)の画素
電極に入力される。この入力された映像信号の電位によ
り液晶が駆動し、透過光量が制御されて、画素(1、
1)に画像の一部(画素(1、1)に相当する画像)が
表示される。
Then, a video signal is input to the source signal line S1 according to a signal from a shift register circuit or the like (not shown) in the source signal line driving circuit 101. In the first frame period, the video signal has a positive polarity with reference to the common potential. Then, the video signal input to the source signal line S1 is input to the pixel electrode of the pixel (1, 1). The liquid crystal is driven by the potential of the input video signal, the amount of transmitted light is controlled, and the pixels (1,
In 1), a part of the image (the image corresponding to the pixels (1, 1)) is displayed.

【0061】そして、画素(1、1)に画像が表示され
た状態を保持容量(図示せず)等で保持したまま、次の
瞬間には、ソース信号線駆動回路内101のシフトレジ
スタ回路等(図示しない)からの信号に従って、ソース
信号線S2に正の極性を有する映像信号が入力される。
At the next moment, the state in which an image is displayed on the pixel (1, 1) is held by a holding capacitor (not shown) or the like. (Not shown), a video signal having a positive polarity is input to the source signal line S2.

【0062】そしてゲート信号線駆動回路102からの
選択信号は、ゲート信号線G1に入力されたままであ
り、ゲート信号線G1とソース信号線S2とが交差して
いる部分の画素(1、2)の画素TFTはオンの状態に
なっている。よって、ソース信号線S2に入力された映
像信号の電位が画素(1、2)の画素電極に入力され
る。この入力された映像信号の電位により液晶が駆動
し、透過光量が制御され、画素(1、1)と同様に、画
素(1、2)に画像の一部(画素(1、2)に相当する
画像)が表示される。
The selection signal from the gate signal line drive circuit 102 remains input to the gate signal line G1, and the pixel (1, 2) at the intersection of the gate signal line G1 and the source signal line S2 Are in an ON state. Therefore, the potential of the video signal input to the source signal line S2 is input to the pixel electrodes of the pixels (1, 2). The liquid crystal is driven by the potential of the input video signal, and the amount of transmitted light is controlled, and the pixel (1, 2) corresponds to a part of the image (corresponding to the pixel (1, 2)) like the pixel (1, 1). Image) is displayed.

【0063】このような表示動作を順次行い、ゲート信
号線G1に接続されている全ての画素(1,1)、
(1,2)・・・(1,x)に正の極性を有する映像信号
が入力され、それぞれ画像の一部を次々と表示する。こ
の間、ゲート信号線G1には選択信号が入力され続けて
いる。
Such a display operation is sequentially performed, and all the pixels (1, 1) connected to the gate signal line G1,
(1, 2)... (1, x) are input with a video signal having a positive polarity, and display a part of an image one after another. During this time, the selection signal continues to be input to the gate signal line G1.

【0064】ゲート信号線G1に接続されている全ての
画素に正の極性の映像信号が入力されると、ゲート信号
線G1には選択信号が入力されなくなって、第1のライ
ン期間が終了する。そして引き続いて第2のライン期間
となり、ゲート信号線G2にのみ選択信号が入力され
る。そしてゲート信号線G2に接続されている全ての画
素(2,1)(2,2)・・・(2,x)に正の極性を有
する映像信号が順に入力され、それぞれ画像の一部を次
々と表示する。この間、ゲート信号線G2には選択信号
が入力され続けている。
When a positive polarity video signal is input to all the pixels connected to the gate signal line G1, no selection signal is input to the gate signal line G1, and the first line period ends. . Subsequently, the second line period starts, and the selection signal is input only to the gate signal line G2. Then, video signals having a positive polarity are sequentially input to all the pixels (2, 1) (2, 2)... (2, x) connected to the gate signal line G2, and a part of the image is respectively input. Display one after another. During this time, the selection signal is continuously input to the gate signal line G2.

【0065】上述した動作を全てのゲート信号線におい
て順次繰り返すことにより、全ての画素に正の極性を有
する映像信号が順に入力され、画素部103に一つの画
像が表示される。この一つの画像が表示されている期間
が第1のフレーム期間である。なお画素部103に一つ
の画像が表示される期間と垂直帰線期間とを合わせて、
1つのフレーム期間としても良い。そして全ての画素
は、再び各画素の画素TFTがオンの状態になるまで、
画像が表示された状態を保持容量(図示せず)等で保持
している。
By repeating the above-described operation sequentially on all the gate signal lines, video signals having a positive polarity are sequentially input to all the pixels, and one image is displayed on the pixel portion 103. The period during which this one image is displayed is the first frame period. Note that the period during which one image is displayed on the pixel portion 103 and the vertical retrace period are combined.
One frame period may be used. Then, all the pixels are turned on until the pixel TFT of each pixel is turned on again.
The state in which the image is displayed is stored in a storage capacitor (not shown) or the like.

【0066】次に第2のフレーム期間が開始され、まず
ゲート信号線駆動回路102からゲート信号線G1に選
択信号が入力される。その結果、ゲート信号線G1に接
続されている全ての画素(1,1)、(1,2)・・・
(1,x)において、画素TFTがオンの状態になる。
Next, a second frame period is started, and first, a selection signal is input from the gate signal line driving circuit 102 to the gate signal line G1. As a result, all the pixels (1, 1), (1, 2),... Connected to the gate signal line G1.
At (1, x), the pixel TFT is turned on.

【0067】そしてソース信号線駆動回路101内のシ
フトレジスタ回路等(図示しない)からの信号に従っ
て、ソース信号線S1に映像信号が入力される。第2の
フレーム期間において、映像信号は共通電位を基準とし
て負の極性を有している。そしてソース信号線S1に入
力された映像信号が、画素(1、1)の画素電極に入力
される。この入力された映像信号の電位により液晶が駆
動し、透過光量が制御されて、画素(1、1)に画像の
一部(画素(1、1)に相当する画像)が表示される。
Then, a video signal is input to the source signal line S1 according to a signal from a shift register circuit or the like (not shown) in the source signal line driving circuit 101. In the second frame period, the video signal has a negative polarity with respect to the common potential. Then, the video signal input to the source signal line S1 is input to the pixel electrode of the pixel (1, 1). The liquid crystal is driven by the potential of the input video signal, the amount of transmitted light is controlled, and a part of an image (an image corresponding to the pixel (1, 1)) is displayed on the pixel (1, 1).

【0068】そして、画素(1、1)に画像が表示され
た状態を保持容量(図示せず)等で保持したまま、次の
瞬間には、ソース信号線駆動回路内101のシフトレジ
スタ回路等(図示しない)からの信号に従って、ソース
信号線S2に負の極性を有する映像信号が入力される。
At the next moment, the state in which an image is displayed on the pixel (1, 1) is held by a storage capacitor (not shown) or the like. (Not shown), a video signal having a negative polarity is input to the source signal line S2.

【0069】そしてゲート信号線駆動回路102からの
選択信号は、ゲート信号線G1に入力されたままであ
り、ゲート信号線G1とソース信号線S2とが交差して
いる部分の画素(1、2)の画素TFTはオンの状態に
なっている。よって、ソース信号線S2に入力された映
像信号の電位が画素(1、2)の画素電極に入力され
る。この入力された映像信号の電位により液晶が駆動
し、透過光量が制御され、画素(1、1)と同様に、画
素(1、2)に画像の一部(画素(1、2)に相当する
画像)が表示される。
The selection signal from the gate signal line driving circuit 102 remains input to the gate signal line G1, and the pixel (1, 2) at the intersection of the gate signal line G1 and the source signal line S2 Are in an ON state. Therefore, the potential of the video signal input to the source signal line S2 is input to the pixel electrodes of the pixels (1, 2). The liquid crystal is driven by the potential of the input video signal, and the amount of transmitted light is controlled, and the pixel (1, 2) corresponds to a part of the image (corresponding to the pixel (1, 2)) like the pixel (1, 1). Image) is displayed.

【0070】このような表示動作を順次行い、ゲート信
号線G1に接続されている全ての画素(1,1)、
(1,2)・・・(1,x)に負の極性を有する映像信号
が入力され、それぞれ画像の一部を次々と表示する。こ
の間、ゲート信号線G1には選択信号が入力され続けて
いる。
Such a display operation is performed sequentially, so that all the pixels (1, 1) connected to the gate signal line G1,
(1, 2)... A video signal having a negative polarity is input to (1, x), and a part of the image is displayed one after another. During this time, the selection signal continues to be input to the gate signal line G1.

【0071】ゲート信号線G1に接続されている全ての
画素に負の極性の映像信号が入力されると、ゲート信号
線G1には選択信号が入力されなくなって、第1のライ
ン期間が終了する。そして引き続いて第2のライン期間
となり、ゲート信号線G2にのみ選択信号が入力され
る。そしてゲート信号線G2に接続されている全ての画
素(2,1)(2,2)・・・(2,x)に負の極性を有
する映像信号が順に入力され、それぞれ画像の一部を次
々と表示する。この間、ゲート信号線G2には選択信号
が入力され続けている。
When a negative polarity video signal is input to all the pixels connected to the gate signal line G1, no selection signal is input to the gate signal line G1, and the first line period ends. . Subsequently, the second line period starts, and the selection signal is input only to the gate signal line G2. Then, video signals having a negative polarity are sequentially input to all the pixels (2, 1) (2, 2)... (2, x) connected to the gate signal line G2, and a part of the image is respectively input. Display one after another. During this time, the selection signal is continuously input to the gate signal line G2.

【0072】上述した動作を全てのゲート信号線におい
て順次繰り返すことにより、全ての画素に負の極性を有
する映像信号が順に入力され、画素部103に一つの画
像が表示される。この一つの画像が表示されている期間
が第2のフレーム期間である。なお画素部103に一つ
の画像が表示される期間と垂直帰線期間とを合わせて、
1つのフレーム期間としても良い。そして全ての画素
は、再び各画素の画素TFTがオンの状態になるまで、
画像が表示された状態を保持容量(図示せず)等で保持
している。
By repeating the above-described operation sequentially on all the gate signal lines, video signals having a negative polarity are sequentially input to all the pixels, and one image is displayed on the pixel portion 103. The period during which this one image is displayed is the second frame period. Note that the period during which one image is displayed on the pixel portion 103 and the vertical retrace period are combined.
One frame period may be used. Then, all the pixels are turned on until the pixel TFT of each pixel is turned on again.
The state in which the image is displayed is stored in a storage capacitor (not shown) or the like.

【0073】同様に第3のフレーム期間と第4のフレー
ム期間についても、上述した動作が行われる。なお、第
3のフレーム期間において、各画素に入力される映像信
号の極性は正であり、第4のフレーム期間において、各
画素に入力される映像信号の極性は負である。
Similarly, the above operation is performed in the third frame period and the fourth frame period. Note that the polarity of the video signal input to each pixel is positive in the third frame period, and the polarity of the video signal input to each pixel is negative in the fourth frame period.

【0074】図3に、フレーム反転駆動における各画素
の極性パターンを示す。なお図3に示した極性パターン
は、図1(B)に示した画素の配置と対応している。
FIG. 3 shows a polarity pattern of each pixel in the frame inversion driving. Note that the polarity pattern shown in FIG. 3 corresponds to the pixel arrangement shown in FIG.

【0075】加えて走査方式には、1画面(1フレー
ム)において、奇数番目のゲート信号線と偶数番目のゲ
ート信号線とで2回(2フィールド)に分けて走査する
インターレス走査と、奇数番目と偶数番目のゲート信号
線を分け隔てなく順番に走査するノンインターレス走査
とがあるが、ここでは主にノンインターレス走査を用い
た例で説明する。
In addition, in the scanning method, in one screen (one frame), an odd-numbered gate signal line and an even-numbered gate signal line are scanned twice (two fields), and an odd-numbered gate signal line and an odd-numbered gate signal line are scanned. There is a non-interlace scan in which the first and even-numbered gate signal lines are sequentially scanned without any separation. Here, an example using non-interless scan will be mainly described.

【0076】第1及び第3のフレーム期間において、全
ての画素には正の極性の映像信号が入力されており、画
素の極性パターンは極性パターンAで表される。第2及
び第3のフレーム期間においては、全ての画素には負の
極性の映像信号が入力されており、画素の極性パターン
は極性パターンBで表される。即ち、極性パターンのみ
に注目すると2種類の極性パターン(極性パターンAと
極性パターンB)が、1フレーム期間ごとに繰り返し表
示されている。
In the first and third frame periods, a video signal having a positive polarity is input to all the pixels, and the polarity pattern of the pixel is represented by a polarity pattern A. In the second and third frame periods, negative polarity video signals are input to all the pixels, and the polarity pattern of the pixels is represented by the polarity pattern B. That is, focusing only on the polarity pattern, two types of polarity patterns (polarity pattern A and polarity pattern B) are repeatedly displayed for each frame period.

【0077】なお本実施の形態では、第1及び第3のフ
レーム期間における画素の極性パターンは極性パターン
Aとし、第2及び第3のフレーム期間における画素の極
性パターンは極性パターンBとしたが、本願発明はこの
構成に限定されない。逆に、第2及び第3のフレーム期
間における画素の極性パターンを極性パターンAとし、
第1及び第3のフレーム期間における画素の極性パター
ンを極性パターンBとしても良い。
In the present embodiment, the polarity pattern of the pixels in the first and third frame periods is the polarity pattern A, and the polarity pattern of the pixels in the second and third frame periods is the polarity pattern B. The present invention is not limited to this configuration. Conversely, the polarity pattern of the pixel in the second and third frame periods is a polarity pattern A,
The polarity pattern of the pixels in the first and third frame periods may be the polarity pattern B.

【0078】そして本願発明では、フレーム期間の長さ
を全て同じにはせず、各フレーム期間の長さをランダム
に異なるようにしている。言い換えると、フレーム期間
を1フレーム期間ごとにランダムに変化させている。つ
まり任意の1フレーム期間の長さと、その任意の1フレ
ーム期間の直後の1フレーム期間の長さとが、常に異な
るように駆動する。
In the present invention, the lengths of the frame periods are not all the same, and the lengths of the frame periods are made to be different at random. In other words, the frame period is randomly changed every frame period. That is, driving is performed such that the length of an arbitrary one frame period is always different from the length of one frame period immediately after the arbitrary one frame period.

【0079】そしてその隣り合うフレーム期間どうしの
長さの差は、観察者にチラツキや縦縞及び横縞が視認さ
れない程度に長くてランダムであることが必要である。
なおかつ動画を表示させたときに、隣り合うフレーム期
間どうしの長さの差によって、スムーズな動画の表示が
妨げられない程度に短くすることが必要である。
It is necessary that the difference between the lengths of the adjacent frame periods is long and random so that flickers, vertical stripes, and horizontal stripes are not visually recognized by an observer.
In addition, when a moving image is displayed, it is necessary to shorten the frame period so that smooth display of the moving image is not hindered by a difference in length between adjacent frame periods.

【0080】また最も短いフレーム期間を、各画素が有
する画素電極に映像信号の電位を与えることが可能であ
る長さに設定する必要がある。
Further, it is necessary to set the shortest frame period to a length that allows the potential of the video signal to be applied to the pixel electrode of each pixel.

【0081】上記構成を用いることで、交流化駆動を行
う際に、駆動回路の周波数を抑えつつ、観察者に視認さ
れていた画面上のチラツキ、縦縞及び横縞を防止するこ
とが可能になる。そしてなおかつ交流化駆動によって液
晶の劣化を抑えることができる。
By using the above configuration, it is possible to prevent flickering, vertical stripes, and horizontal stripes on the screen, which are visually recognized by the observer, while suppressing the frequency of the driving circuit when performing the AC driving. Further, the deterioration of the liquid crystal can be suppressed by the AC driving.

【0082】次に、図1に示したアクティブマトリクス
型液晶表示装置をソースライン反転駆動させたときのタ
イミングチャートを、図4に示す。なお図4は、アクテ
ィブマトリクス型液晶表示装置がノーマリーブラックな
ら白表示、ノーマリーホワイトなら黒表示させた場合の
タイミングチャートである。
Next, FIG. 4 is a timing chart when the active matrix type liquid crystal display device shown in FIG. 1 is driven by source line inversion driving. FIG. 4 is a timing chart when the active matrix type liquid crystal display device displays white when normally black and black when normally white.

【0083】第1のフレーム期間において、まずゲート
信号線駆動回路102からゲート信号線G1に選択信号
が入力される。その結果、ゲート信号線G1に接続され
ている全ての画素(1,1)、(1,2)・・・(1,
x)において、画素TFTがオンの状態になる。
In the first frame period, first, a selection signal is input from the gate signal line driving circuit 102 to the gate signal line G1. As a result, all pixels (1, 1), (1, 2)... (1,
In x), the pixel TFT is turned on.

【0084】そしてソース信号線駆動回路101内のシ
フトレジスタ回路等(図示しない)からの信号に従っ
て、ソース信号線S1に映像信号が入力される。第1の
フレーム期間においてソース信号線S1に入力される映
像信号は、共通電位を基準として正の極性を有している
ものとする。そしてソース信号線S1に入力された映像
信号が、画素(1、1)の画素電極に入力される。この
入力された映像信号の電位により液晶が駆動し、透過光
量が制御されて、画素(1、1)に画像の一部(画素
(1、1)に相当する画像)が表示される。
Then, a video signal is input to the source signal line S1 according to a signal from a shift register circuit or the like (not shown) in the source signal line driving circuit 101. It is assumed that the video signal input to the source signal line S1 in the first frame period has a positive polarity with reference to the common potential. Then, the video signal input to the source signal line S1 is input to the pixel electrode of the pixel (1, 1). The liquid crystal is driven by the potential of the input video signal, the amount of transmitted light is controlled, and a part of an image (an image corresponding to the pixel (1, 1)) is displayed on the pixel (1, 1).

【0085】そして、画素(1、1)に画像が表示され
た状態を保持容量(図示せず)等で保持したまま、次の
瞬間には、ソース信号線駆動回路内101のシフトレジ
スタ回路等(図示しない)からの信号に従って、ソース
信号線S2に負の極性を有する映像信号が入力される。
At the next moment, the state in which an image is displayed on the pixel (1, 1) is held by a holding capacitor (not shown) or the like. (Not shown), a video signal having a negative polarity is input to the source signal line S2.

【0086】そしてゲート信号線駆動回路102からの
選択信号は、ゲート信号線G1に入力されたままであ
り、ゲート信号線G1とソース信号線S2とが交差して
いる部分の画素(1、2)の画素TFTはオンの状態に
なっている。よって、ソース信号線S2に入力された映
像信号の電位が画素(1、2)の画素電極に入力され
る。この入力された映像信号の電位により液晶が駆動
し、透過光量が制御され、画素(1、1)と同様に、画
素(1、2)に画像の一部(画素(1、2)に相当する
画像)が表示される。
The selection signal from the gate signal line drive circuit 102 remains input to the gate signal line G1, and the pixel (1, 2) at the portion where the gate signal line G1 intersects with the source signal line S2 Are in an ON state. Therefore, the potential of the video signal input to the source signal line S2 is input to the pixel electrodes of the pixels (1, 2). The liquid crystal is driven by the potential of the input video signal, and the amount of transmitted light is controlled, and the pixel (1, 2) corresponds to a part of the image (corresponding to the pixel (1, 2)) like the pixel (1, 1). Image) is displayed.

【0087】このような表示動作を順次行い、ゲート信
号線G1に接続されている画素(1,1)、(1,2)
・・・(1,x)に、正の極性を有する映像信号と、負の
極性を有する映像信号とが交互に入力され、それぞれ画
像の一部を次々と表示する。この間、ゲート信号線G1
には選択信号が入力され続けている。
Such display operations are sequentially performed, and the pixels (1, 1) and (1, 2) connected to the gate signal line G1.
.. (1, x), a video signal having a positive polarity and a video signal having a negative polarity are alternately input, and display a part of an image one after another. During this time, the gate signal line G1
Is continuously receiving a selection signal.

【0088】ゲート信号線G1に接続されている全ての
画素に映像信号が入力されると、ゲート信号線G1には
選択信号が入力されなくなって、第1のライン期間が終
了する。そして引き続いて第2のライン期間となり、ゲ
ート信号線G2にのみ選択信号が入力される。そしてゲ
ート信号線G2に接続されている全ての画素(2,1)
(2,2)・・・(2,x)において、画素TFTがオン
の状態になる。
When the video signal is input to all the pixels connected to the gate signal line G1, the selection signal is not input to the gate signal line G1, and the first line period ends. Subsequently, the second line period starts, and the selection signal is input only to the gate signal line G2. Then, all the pixels (2, 1) connected to the gate signal line G2
(2, 2)... (2, x), the pixel TFT is turned on.

【0089】そして第1のライン期間と同様に、正の極
性を有する映像信号と、負の極性を有する映像信号と
が、ソース信号線S1〜Sxに順に交互に入力され、そ
れぞれ画像の一部を次々と表示する。この間、ゲート信
号線G2には選択信号が入力され続けている。
As in the case of the first line period, a video signal having a positive polarity and a video signal having a negative polarity are alternately input to the source signal lines S1 to Sx in order, and a part of the image is respectively received. Are displayed one after another. During this time, the selection signal is continuously input to the gate signal line G2.

【0090】上述した動作を全てのゲート信号線におい
て順次繰り返すことにより、全ての画素に映像信号が入
力され、画素部103に一つの画像が表示される。この
一つの画像が表示されている期間が第1のフレーム期間
である。なお画素部103に一つの画像が表示される期
間と垂直帰線期間とを合わせて、1つのフレーム期間と
しても良い。そして全ての画素は、再び各画素の画素T
FTがオンの状態になるまで、画像が表示された状態を
保持容量(図示せず)等で保持している。
By repeating the above-described operation sequentially on all the gate signal lines, video signals are input to all the pixels, and one image is displayed on the pixel portion 103. The period during which this one image is displayed is the first frame period. Note that a period in which one image is displayed in the pixel portion 103 and a vertical blanking period may be combined into one frame period. And all the pixels are again the pixels T of each pixel.
Until the FT is turned on, the state in which the image is displayed is held by a storage capacitor (not shown) or the like.

【0091】次に第2のフレーム期間が開始され、まず
ゲート信号線駆動回路102からゲート信号線G1に選
択信号が入力される。その結果、ゲート信号線G1に接
続されている全ての画素(1,1)、(1,2)・・・
(1,x)において、画素TFTがオンの状態になる。
Next, the second frame period is started, and first, a selection signal is input from the gate signal line driving circuit 102 to the gate signal line G1. As a result, all the pixels (1, 1), (1, 2),... Connected to the gate signal line G1.
At (1, x), the pixel TFT is turned on.

【0092】そしてソース信号線駆動回路101内のシ
フトレジスタ回路等(図示しない)からの信号に従っ
て、ソース信号線S1に映像信号が入力される。第2の
フレーム期間において、ソース信号線S1に入力される
映像信号は共通電位を基準として負の極性を有してい
る。そしてソース信号線S1に入力された映像信号が、
画素(1、1)の画素電極に入力される。この入力され
た映像信号の電位により液晶が駆動し、透過光量が制御
されて、画素(1、1)に画像の一部(画素(1、1)
に相当する画像)が表示される。
Then, a video signal is input to the source signal line S1 in accordance with a signal from a shift register circuit or the like (not shown) in the source signal line driving circuit 101. In the second frame period, the video signal input to the source signal line S1 has a negative polarity with respect to the common potential. Then, the video signal input to the source signal line S1 is
Input to the pixel electrode of pixel (1, 1). The liquid crystal is driven by the potential of the input video signal, the amount of transmitted light is controlled, and a part of the image (pixel (1, 1)) is applied to pixel (1, 1).
Is displayed.

【0093】そして、画素(1、1)に画像が表示され
た状態を保持容量(図示せず)等で保持したまま、次の
瞬間には、ソース信号線駆動回路内101のシフトレジ
スタ回路等(図示しない)からの信号に従って、ソース
信号線S2に正の極性を有する映像信号が入力される。
At the next moment, the state in which an image is displayed on the pixel (1, 1) is held by a holding capacitor (not shown) or the like. (Not shown), a video signal having a positive polarity is input to the source signal line S2.

【0094】そしてゲート信号線駆動回路102からの
選択信号は、ゲート信号線G1に入力されたままであ
り、ゲート信号線G1とソース信号線S2とが交差して
いる部分の画素(1、2)の画素TFTはオンの状態に
なっている。よって、ソース信号線S2に入力された正
の極性の映像信号の電位が画素(1、2)の画素電極に
入力される。この入力された映像信号の電位により液晶
が駆動し、透過光量が制御され、画素(1、1)と同様
に、画素(1、2)に画像の一部(画素(1、2)に相
当する画像)が表示される。
The selection signal from the gate signal line driving circuit 102 remains input to the gate signal line G1, and the pixel (1, 2) at the portion where the gate signal line G1 intersects with the source signal line S2 Are in an ON state. Therefore, the potential of the positive polarity video signal input to the source signal line S2 is input to the pixel electrodes of the pixels (1, 2). The liquid crystal is driven by the potential of the input video signal, and the amount of transmitted light is controlled, and the pixel (1, 2) corresponds to a part of the image (corresponding to the pixel (1, 2)) like the pixel (1, 1). Image) is displayed.

【0095】このような表示動作を順次行い、ゲート信
号線G1に接続されている全ての画素(1,1)、
(1,2)・・・(1,x)に、正の極性を有する映像信
号と、負の極性を有する映像信号とが交互に入力され、
それぞれ画像の一部を次々と表示する。この間、ゲート
信号線G1には選択信号が入力され続けている。
Such display operations are sequentially performed, so that all the pixels (1, 1) connected to the gate signal line G1,
(1, x), a video signal having a positive polarity and a video signal having a negative polarity are alternately input to (1, x),
Each part of the image is displayed one after another. During this time, the selection signal continues to be input to the gate signal line G1.

【0096】ゲート信号線G1に接続されている全ての
画素に映像信号が入力されると、ゲート信号線G1には
選択信号が入力されなくなって、第1のライン期間が終
了する。そして引き続いて第2のライン期間となり、ゲ
ート信号線G2にのみ選択信号が入力される。そして第
1のライン期間と同様に、ゲート信号線G2に接続され
ている全ての画素(2,1)(2,2)・・・(2,x)
に、正の極性を有する映像信号と、負の極性を有する映
像信号とが交互に入力され、それぞれ画像の一部を次々
と表示する。この間、ゲート信号線G2には選択信号が
入力され続けている。
When the video signal is input to all the pixels connected to the gate signal line G1, the selection signal is not input to the gate signal line G1, and the first line period ends. Subsequently, the second line period starts, and the selection signal is input only to the gate signal line G2. Then, as in the first line period, all pixels (2, 1) (2, 2)... (2, x) connected to the gate signal line G2
Then, a video signal having a positive polarity and a video signal having a negative polarity are alternately input, and a part of an image is displayed one after another. During this time, the selection signal is continuously input to the gate signal line G2.

【0097】上述した動作を全てのゲート信号線におい
て順次繰り返すことにより、全ての画素に映像信号が順
に入力され、画素部103に一つの画像が表示される。
この一つの画像が表示されている期間がフレーム期間で
ある。なお画素部103に一つの画像が表示される期間
と垂直帰線期間とを合わせて、1つのフレーム期間とし
ても良い。そして全ての画素は、再び各画素の画素TF
Tがオンの状態になるまで、画像が表示された状態を保
持容量(図示せず)等で保持している。
By repeating the above-described operation sequentially on all the gate signal lines, video signals are sequentially input to all the pixels, and one image is displayed on the pixel portion 103.
The period during which this one image is displayed is the frame period. Note that a period in which one image is displayed in the pixel portion 103 and a vertical blanking period may be combined into one frame period. And all the pixels are again the pixels TF of each pixel.
Until T is turned on, the state in which the image is displayed is held by a storage capacitor (not shown) or the like.

【0098】同様に第3のフレーム期間と第4のフレー
ム期間についても、上述した動作が行われる。なお、第
3のフレーム期間において各画素に入力される映像信号
の極性は、第1のフレーム期間において各画素に入力さ
れる映像信号の極性と同じである。また、第4のフレー
ム期間において各画素に入力される映像信号の極性は、
第2のフレーム期間において各画素に入力される映像信
号の極性と同じである。そして第1のフレーム期間にお
いて各画素に入力される映像信号の極性は、第2のフレ
ーム期間において各画素に入力される映像信号の極性と
は逆である。
[0098] Similarly, the above-described operation is performed in the third frame period and the fourth frame period. Note that the polarity of the video signal input to each pixel in the third frame period is the same as the polarity of the video signal input to each pixel in the first frame period. The polarity of the video signal input to each pixel in the fourth frame period is
The polarity is the same as the polarity of the video signal input to each pixel in the second frame period. The polarity of the video signal input to each pixel during the first frame period is opposite to the polarity of the video signal input to each pixel during the second frame period.

【0099】図5に、ソースライン反転駆動における各
画素の極性パターンを示す。なお図5に示した極性パタ
ーンは、図1(B)に示した画素の配置と対応してい
る。
FIG. 5 shows a polarity pattern of each pixel in the source line inversion driving. Note that the polarity pattern shown in FIG. 5 corresponds to the pixel arrangement shown in FIG.

【0100】加えて走査方式には、1画面(1フレー
ム)において、奇数番目のゲート信号線と偶数番目のゲ
ート信号線とで2回(2フィールド)に分けて走査する
インターレス走査と、奇数番目と偶数番目のゲート信号
線を分け隔てなく順番に走査するノンインターレス走査
とがあるが、ここでは主にノンインターレス走査を用い
た例で説明する。
In addition, in the scanning method, in one screen (one frame), an odd-numbered gate signal line and an even-numbered gate signal line are divided into two times (two fields) for scanning, and an odd number gate signal line is used for scanning. There is a non-interlace scan in which the first and even-numbered gate signal lines are sequentially scanned without any separation. Here, an example using non-interless scan will be mainly described.

【0101】第1〜第4のフレーム期間において、同じ
ソース信号線に接続されている画素は全て同じ極性の映
像信号が入力されている。そして、隣り合うソース信号
線に接続されている画素どうしは、互いに逆の極性の映
像信号が入力されている。そしてさらに、各画素に入力
されている映像信号の極性は、1フレーム期間ごとに反
転し、逆の極性になっている。
In the first to fourth frame periods, video signals of the same polarity are input to all the pixels connected to the same source signal line. Pixels connected to adjacent source signal lines receive video signals of opposite polarities. Further, the polarity of the video signal input to each pixel is inverted every frame period, and has the opposite polarity.

【0102】第1及び第3のフレーム期間において、画
素の極性パターンは極性パターンCで表される。第2及
び第3のフレーム期間において、画素の極性パターンは
極性パターンDで表される。即ち、極性パターンのみに
注目すると2種類の極性パターン(極性パターンCと極
性パターンD)が、1フレーム期間ごとに繰り返し表示
されている。
In the first and third frame periods, the polarity pattern of the pixel is represented by the polarity pattern C. In the second and third frame periods, the polarity pattern of the pixel is represented by a polarity pattern D. That is, focusing only on the polarity pattern, two types of polarity patterns (polarity pattern C and polarity pattern D) are repeatedly displayed for each frame period.

【0103】なお本実施の形態では、第1及び第3のフ
レーム期間における画素の極性パターンは極性パターン
Cとし、第2及び第3のフレーム期間における画素の極
性パターンは極性パターンDとしたが、本願発明はこの
構成に限定されない。逆に、第2及び第3のフレーム期
間における画素の極性パターンを極性パターンCとし、
第1及び第3のフレーム期間における画素の極性パター
ンを極性パターンDとしても良い。
In the present embodiment, the polarity pattern of the pixels in the first and third frame periods is the polarity pattern C, and the polarity pattern of the pixels in the second and third frame periods is the polarity pattern D. The present invention is not limited to this configuration. Conversely, the polarity pattern of the pixel in the second and third frame periods is defined as a polarity pattern C,
The polarity pattern of the pixels in the first and third frame periods may be the polarity pattern D.

【0104】そして本願発明では、フレーム期間の長さ
を全て同じにはせず、各フレーム期間の長さをランダム
に異なるようにしている。言い換えると、フレーム期間
を1フレーム期間ごとにランダムに変化させている。つ
まり任意の1フレーム期間の長さと、その任意の1フレ
ーム期間の直後の1フレーム期間の長さとが、常に異な
るように駆動する。
In the present invention, the lengths of the frame periods are not all the same, but the lengths of the frame periods are made to be different at random. In other words, the frame period is randomly changed every frame period. That is, driving is performed such that the length of an arbitrary one frame period is always different from the length of one frame period immediately after the arbitrary one frame period.

【0105】そしてその隣り合うフレーム期間どうしの
長さの差は、観察者にチラツキや縦縞及び横縞が視認さ
れない程度に長くてランダムであることが必要である。
なおかつ動画を表示させたときに、隣り合うフレーム期
間どうしの長さの差によって、スムーズな動画の表示が
妨げられない程度に短くすることが必要である。
It is necessary that the difference between the lengths of adjacent frame periods is long and random so that flickers, vertical stripes and horizontal stripes are not visually recognized by an observer.
In addition, when a moving image is displayed, it is necessary to shorten the frame period so that smooth display of the moving image is not hindered by a difference in length between adjacent frame periods.

【0106】また最も短いフレーム期間を、各画素が有
する画素電極に映像信号の電位を与えることが可能であ
る長さに設定する必要がある。
It is necessary to set the shortest frame period to a length that allows the potential of the video signal to be applied to the pixel electrode of each pixel.

【0107】上記構成を用いることで、交流化駆動を行
う際に、駆動回路の周波数を抑えつつ、観察者に視認さ
れていた画面上のチラツキ、縦縞及び横縞を防止するこ
とが可能になる。そしてなおかつ交流化駆動によって液
晶の劣化を抑えることができる。
By using the above configuration, it is possible to prevent flicker, vertical stripes, and horizontal stripes on the screen, which are visually recognized by the observer, while suppressing the frequency of the drive circuit when performing the AC drive. Further, the deterioration of the liquid crystal can be suppressed by the AC driving.

【0108】なお本実施の形態では、フレーム反転駆動
した場合と、ソースライン反転した場合とについて説明
したが、本願発明は上記2つの交流化駆動に限定されな
い。ゲートライン反転駆動と、ドット反転駆動について
も、上述した本願発明の構成を適用することが可能であ
る。
In this embodiment, the case where the frame inversion drive is performed and the case where the source line inversion is performed have been described. However, the present invention is not limited to the two AC drive operations. The above-described configuration of the present invention can be applied to the gate line inversion drive and the dot inversion drive.

【0109】即ち、ゲートライン反転駆動またはドット
反転駆動において、フレーム期間の長さを全て同じには
せず、各フレーム期間の長さをランダムに異なるように
する。そしてその隣り合うフレーム期間どうしの長さの
差は、観察者にチラツキや縦縞及び横縞が視認されない
程度に長く、なおかつランダムにする。そして動画を表
示させたときに、隣り合うフレーム期間どうしの長さの
差によって、スムーズな動画の表示が妨げられない程度
に短くする。
That is, in the gate line inversion drive or the dot inversion drive, the lengths of the frame periods are not made equal to each other, and the lengths of the frame periods are made different at random. The difference between the lengths of adjacent frame periods is long enough to prevent flicker, vertical stripes, and horizontal stripes from being visually recognized by an observer, and is random. Then, when a moving image is displayed, the length is shortened to such an extent that a smooth moving image display is not hindered by a difference in length between adjacent frame periods.

【0110】また最も短いフレーム期間を、各画素が有
する画素電極に映像信号の電位を与えることが可能であ
る長さに設定する必要がある。
It is necessary to set the shortest frame period to a length that allows the potential of the video signal to be applied to the pixel electrode of each pixel.

【0111】またさらに、各フレーム期間の長さを乱数
及びカオスを用いることによって決定しても良い。
Further, the length of each frame period may be determined by using random numbers and chaos.

【0112】上記構成を用いることで、交流化駆動を行
う際に、駆動回路の周波数を抑えつつ、観察者に視認さ
れていた画面上のチラツキ、縦縞及び横縞を防止するこ
とが可能になる。そしてなおかつ交流化駆動によって液
晶の劣化を抑えることができる。
By using the above configuration, it is possible to prevent flickering, vertical stripes, and horizontal stripes on the screen visually recognized by the observer while suppressing the frequency of the driving circuit when performing the AC driving. Further, the deterioration of the liquid crystal can be suppressed by the AC driving.

【0113】なお本願発明は、画素をストライプ状に配
置した場合についてだけではなく、画素をデルタ配置さ
せたときにも適用可能である。なおデルタ配置とは、任
意の隣接する3つの画素の中心により形成される三角形
の内角が直角にはならない、画素の配置を意味する。ま
た本明細書において画素とは、ソース信号線とゲート信
号線とに囲まれた領域を意味する。
The present invention can be applied not only to the case where pixels are arranged in a stripe pattern, but also to the case where pixels are arranged in a delta. Note that the delta arrangement means an arrangement of pixels in which the interior angle of a triangle formed by the centers of any three adjacent pixels does not become a right angle. In this specification, a pixel means a region surrounded by a source signal line and a gate signal line.

【0114】[0114]

【実施例】 以下に、本願発明の実施例を説明する。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below.

【0115】(実施例1)本実施例では、本願発明の交
流化駆動方法において、各フレーム期間を具体的にどの
ような周波数で駆動させるかについて、ソースライン反
転駆動を例にとって説明する。
(Embodiment 1) In this embodiment, a description will be given of what frequency is used to drive each frame period in the alternating drive method of the present invention, taking source line inversion drive as an example.

【0116】ソースライン反転駆動における極性パター
ンは、図5で示したとおり、極性パターンCと極性パタ
ーンDとで表される。そして極性パターンのみに注目す
ると2種類の極性パターン(極性パターンCと極性パタ
ーンD)が、1フレーム期間ごとに繰り返し表示されて
いる。
The polarity pattern in the source line inversion driving is represented by a polarity pattern C and a polarity pattern D as shown in FIG. Focusing only on the polarity patterns, two types of polarity patterns (polarity pattern C and polarity pattern D) are repeatedly displayed for each frame period.

【0117】例えば奇数番目のフレーム期間における極
性パターンを極性パターンC、偶数番目のフレーム期間
における極性パターンを極性パターンDとする。
For example, a polarity pattern in an odd-numbered frame period is a polarity pattern C, and a polarity pattern in an even-numbered frame period is a polarity pattern D.

【0118】本実施例において、第1のフレーム期間か
ら第nのフレーム期間のフレーム周波数を、それぞれ順
に60Hz、62Hz、58Hz、55Hz・・・65H
zとした。しかし本願発明はこの値に限定されない。
In this embodiment, the frame frequencies from the first frame period to the n-th frame period are 60 Hz, 62 Hz, 58 Hz, 55 Hz,.
z. However, the present invention is not limited to this value.

【0119】本願発明は、フレーム期間の長さを全て同
じにはせず、各フレーム期間の長さをランダムに異なる
ようにする。その隣り合うフレーム期間どうしの長さの
差は、観察者にチラツキや縦縞及び横縞が視認されない
程度に長くてランダムであれば良い。なおかつ隣り合う
フレーム期間どうしの長さの差を、スムーズな動画の表
示が妨げられない程度に短くすれば良い。
In the present invention, the lengths of the frame periods are not made equal to each other, and the lengths of the frame periods are made to be different at random. The difference between the lengths of the adjacent frame periods may be long enough so that the observer does not see flicker, vertical stripes, and horizontal stripes and is random. In addition, the difference between the lengths of adjacent frame periods may be shortened to such an extent that display of a smooth moving image is not hindered.

【0120】また最も短いフレーム期間を、各画素が有
する画素電極に映像信号の電位を与えることが可能であ
る長さに設定する必要がある。
It is necessary to set the shortest frame period to a length that allows the potential of the video signal to be applied to the pixel electrode of each pixel.

【0121】上記構成を用いることで、交流化駆動を行
う際に、駆動回路の周波数を抑えつつ、観察者に視認さ
れていた画面上のチラツキ、縦縞及び横縞を防止するこ
とが可能になる。そしてなおかつ交流化駆動によって液
晶の劣化を抑えることができる。
By using the above configuration, it is possible to prevent flickering, vertical stripes, and horizontal stripes on the screen, which are visually recognized by an observer, while suppressing the frequency of the driving circuit when performing the AC driving. Further, the deterioration of the liquid crystal can be suppressed by the AC driving.

【0122】(実施例2)本実施例においては、本願発
明の半導体表示装置の液晶パネルの作製方法の例を、図
6〜図10を用いて説明する。ここでは画素部の画素T
FTと、画素部の周辺に設けられる駆動回路(ソース信
号線駆動回路、ゲート信号線駆動回路、D/A変換回路
等)のTFTを同一基板上に作製する方法について詳細
に説明する。但し、説明を簡単にするために、駆動回路
ではシフトレジスタ回路、バッファ回路、D/A変換回
路などの基本回路であるCMOS回路と、nチャネル型
TFTとを図示することにする。
Embodiment 2 In this embodiment, an example of a method for manufacturing a liquid crystal panel of a semiconductor display device of the present invention will be described with reference to FIGS. Here, the pixel T of the pixel portion
A method for manufacturing an FT and a TFT of a driver circuit (a source signal line driver circuit, a gate signal line driver circuit, a D / A conversion circuit, and the like) provided around the pixel portion over the same substrate will be described in detail. However, for the sake of simplicity, a CMOS circuit, which is a basic circuit such as a shift register circuit, a buffer circuit, and a D / A conversion circuit, and an n-channel TFT are illustrated in the driving circuit.

【0123】図6(A)において、基板(アクティブマ
トリクス基板)6001には低アルカリガラス基板や石
英基板を用いることができる。本実施例では低アルカリ
ガラス基板を用いた。この場合、ガラス歪み点よりも1
0〜20℃程度低い温度であらかじめ熱処理しておいて
も良い。この基板6001のTFTを形成する表面に
は、基板6001からの不純物拡散を防ぐために、酸化
シリコン膜、窒化シリコン膜または酸化窒化シリコン膜
などの下地膜6002を形成する。例えば、プラズマC
VD法でSiH4、NH3、N2Oから作製される酸化窒
化シリコン膜を100nm、同様にSiH4、N2Oから
作製される酸化窒化シリコン膜を200nmの厚さに積
層形成する。
In FIG. 6A, a low alkali glass substrate or a quartz substrate can be used as a substrate (active matrix substrate) 6001. In this embodiment, a low alkali glass substrate was used. In this case, one more than the glass strain point
The heat treatment may be performed in advance at a temperature as low as about 0 to 20 ° C. A base film 6002 such as a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a silicon oxynitride film is formed on a surface of the substrate 6001 where a TFT is to be formed, in order to prevent impurity diffusion from the substrate 6001. For example, plasma C
A silicon oxynitride film formed from SiH 4 , NH 3 , and N 2 O is formed to a thickness of 100 nm by the VD method, and a silicon oxynitride film formed from SiH 4 and N 2 O is similarly formed to a thickness of 200 nm.

【0124】次に、20〜150nm(好ましくは30
〜80nm)の厚さで非晶質構造を有する半導体膜60
03aを、プラズマCVD法やスパッタ法などの公知の
方法で形成する。本実施例では、プラズマCVD法で非
晶質シリコン膜を55nmの厚さに形成した。非晶質構
造を有する半導体膜としては、非晶質半導体膜や微結晶
半導体膜があり、非晶質シリコンゲルマニウム膜などの
非晶質構造を有する化合物半導体膜を適用しても良い。
また、下地膜6002と非晶質シリコン膜6003aと
は同じ成膜法で形成することが可能であるので、両者を
連続形成しても良い。下地膜を形成した後、一旦大気雰
囲気に晒さないことでその表面の汚染を防ぐことが可能
となり、作製するTFTの特性バラツキやしきい値電圧
の変動を低減させることができる。(図6(A))
Next, 20 to 150 nm (preferably 30 nm)
Semiconductor film 60 having an amorphous structure with a thickness of
03a is formed by a known method such as a plasma CVD method or a sputtering method. In this embodiment, an amorphous silicon film is formed to a thickness of 55 nm by a plasma CVD method. As the semiconductor film having an amorphous structure, there are an amorphous semiconductor film and a microcrystalline semiconductor film, and a compound semiconductor film having an amorphous structure such as an amorphous silicon germanium film may be used.
In addition, since the base film 6002 and the amorphous silicon film 6003a can be formed by the same film formation method, both may be formed continuously. After the formation of the base film, it is possible to prevent the surface from being contaminated by not once exposing it to the atmosphere, thereby reducing the variation in the characteristics of the TFT to be manufactured and the fluctuation of the threshold voltage. (FIG. 6 (A))

【0125】そして、公知の結晶化技術を使用して非晶
質シリコン膜6003aから結晶質シリコン膜6003
bを形成する。例えば、レーザー結晶化法や熱結晶化法
(固相成長法)を適用すれば良い。レーザー結晶化の際
に、連続発光エキシマレーザーを用いても良い。ここで
は、特開平7−130652号公報で開示された技術に
従って、触媒元素を用いる結晶化法で結晶質シリコン膜
6003bを形成した。結晶化の工程に先立って、非晶
質シリコン膜の含有水素量にもよるが、400〜500
℃で1時間程度の熱処理を行い、含有水素量を5atom%
以下にしてから結晶化させることが望ましい。非晶質シ
リコン膜を結晶化させると原子の再配列が起こり緻密化
するので、作製される結晶質シリコン膜の厚さは当初の
非晶質シリコン膜の厚さ(本実施例では55nm)より
も1〜15%程度減少した。(図6(B))
Then, the amorphous silicon film 6003a is converted to the crystalline silicon film 6003a using a known crystallization technique.
b is formed. For example, a laser crystallization method or a thermal crystallization method (solid phase growth method) may be applied. At the time of laser crystallization, a continuous emission excimer laser may be used. Here, a crystalline silicon film 6003b was formed by a crystallization method using a catalytic element according to the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-130652. Prior to the crystallization step, depending on the hydrogen content of the amorphous silicon film, 400 to 500
Heat treatment at ℃ for about 1 hour to reduce hydrogen content to 5 atom%
It is desirable to crystallize after the following. When the amorphous silicon film is crystallized, the rearrangement of atoms occurs and the density of the amorphous silicon film is increased. Also decreased by about 1 to 15%. (FIG. 6 (B))

【0126】そして、結晶質シリコン膜6003bを島
状に分割して、島状半導体層6004〜6007を形成
する。その後、プラズマCVD法またはスパッタ法によ
り50〜100nmの厚さの酸化シリコン膜によるマス
ク層6008を形成する。(図6(C))
Then, the crystalline silicon film 6003b is divided into islands to form island-like semiconductor layers 6004 to 6007. After that, a mask layer 6008 made of a silicon oxide film having a thickness of 50 to 100 nm is formed by a plasma CVD method or a sputtering method. (FIG. 6 (C))

【0127】そしてレジストマスク6009を設け、n
チャネル型TFTを形成する島状半導体層6005〜6
007の全面にしきい値電圧を制御する目的で1×10
16〜5×1017atoms/cm3程度の濃度でp型を付与する
不純物元素としてボロン(B)を添加した。ボロン
(B)の添加はイオンドープ法で実施しても良いし、非
晶質シリコン膜を成膜するときに同時に添加しておくこ
ともできる。ここでのボロン(B)添加は必ずしも必要
でないが、ボロン(B)を添加した半導体層6010〜
6012はnチャネル型TFTのしきい値電圧を所定の
範囲内に収めるために形成することが好ましかった。
(図6(D))
Then, a resist mask 6009 is provided, and n
Island-shaped semiconductor layers 6005 to 6 forming a channel type TFT
1 × 10 for the purpose of controlling the threshold voltage over the entire surface of 007
Boron (B) was added as an impurity element imparting p-type at a concentration of about 16 to 5 × 10 17 atoms / cm 3 . Boron (B) may be added by an ion doping method, or may be added simultaneously with the formation of the amorphous silicon film. Although addition of boron (B) is not always necessary here, the semiconductor layer 6010 to which boron (B) is added is added.
6012 was preferably formed to keep the threshold voltage of the n-channel TFT within a predetermined range.
(FIG. 6 (D))

【0128】駆動回路のnチャネル型TFTのLDD領
域を形成するために、n型を付与する不純物元素を島状
半導体層6010、6011に選択的に添加する。その
ため、あらかじめレジストマスク6013〜6016を
形成した。n型を付与する不純物元素としては、リン
(P)や砒素(As)を用いれば良く、ここではリン
(P)を添加すべく、フォスフィン(PH3)を用いた
イオンドープ法を適用した。形成された不純物領域60
17、6018のリン(P)濃度は2×1016〜5×1
19atoms/cm3の範囲とすれば良い。本明細書中では、
ここで形成された不純物領域6017〜6019に含ま
れるn型を付与する不純物元素の濃度を(n -)と表
す。また、不純物領域6019は、画素の保持容量を形
成するための半導体層であり、この領域にも同じ濃度で
リン(P)を添加した。(図7(A))
LDD area of n-channel type TFT of drive circuit
In order to form the region, the impurity element imparting n-type
It is selectively added to the semiconductor layers 6010 and 6011. That
Therefore, the resist masks 6013 to 6016 are
Formed. As an impurity element imparting n-type, phosphorus
(P) or arsenic (As) may be used.
Phosphine (PH) to add (P)Three)
An ion doping method was applied. Impurity region 60 formed
The phosphorus (P) concentration of 17, 6018 is 2 × 1016~ 5 × 1
019atoms / cmThreeShould be within the range. In this specification,
Included in impurity regions 6017 to 6019 formed here
(N) -) And table
You. Further, the impurity region 6019 forms a storage capacitor of the pixel.
Semiconductor layer for forming the same concentration in this region.
Phosphorus (P) was added. (FIG. 7 (A))

【0129】次に、マスク層6008をフッ酸などによ
り除去して、図6(D)と図7(A)で添加した不純物
元素を活性化させる工程を行う。活性化は、窒素雰囲気
中で500〜600℃で1〜4時間の熱処理や、レーザ
ー活性化の方法により行うことができる。また、両者を
併用して行っても良い。本実施例では、レーザー活性化
の方法を用い、KrFエキシマレーザー光(波長248
nm)を用い、線状ビームを形成して、発振周波数5〜
50Hz、エネルギー密度100〜500mJ/cm2
として線状ビームのオーバーラップ割合を80〜98%
として走査して、島状半導体層が形成された基板全面を
処理した。尚、レーザー光の照射条件には何ら限定され
る事項はなく、実施者が適宣決定すれば良い。また連続
発光エキシマレーザーを用いて活性化を行っても良い。
Next, a step of removing the mask layer 6008 with hydrofluoric acid or the like to activate the impurity element added in FIGS. 6D and 7A is performed. The activation can be performed by a heat treatment at 500 to 600 ° C. for 1 to 4 hours in a nitrogen atmosphere or a laser activation method. Further, both may be performed in combination. In this embodiment, a KrF excimer laser beam (wavelength 248) is used by using a laser activation method.
nm) to form a linear beam and generate an oscillation frequency of 5 to 5 nm.
50 Hz, energy density 100 to 500 mJ / cm 2
The overlap ratio of the linear beam is 80 to 98%
To process the entire surface of the substrate on which the island-shaped semiconductor layer was formed. There are no particular restrictions on the laser light irradiation conditions, and the conditions may be determined appropriately by the practitioner. Activation may be performed using a continuous light excimer laser.

【0130】そして、ゲート絶縁膜6020をプラズマ
CVD法またはスパッタ法を用いて10〜150nmの
厚さでシリコンを含む絶縁膜で形成する。例えば、12
0nmの厚さで酸化窒化シリコン膜を形成する。ゲート
絶縁膜には、他のシリコンを含む絶縁膜を単層または積
層構造として用いても良い。(図7(B))
Then, a gate insulating film 6020 is formed of an insulating film containing silicon with a thickness of 10 to 150 nm by a plasma CVD method or a sputtering method. For example, 12
A silicon oxynitride film is formed with a thickness of 0 nm. As the gate insulating film, another insulating film containing silicon may be used as a single layer or a stacked structure. (FIG. 7 (B))

【0131】次に、ゲート電極を形成するために第1の
導電層を成膜する。この第1の導電層は単層で形成して
も良いが、必要に応じて二層あるいは三層といった積層
構造としても良い。本実施例では、導電性の窒化物金属
膜から成る導電層(A)6021と金属膜から成る導電
層(B)6022とを積層させた。導電層(B)602
2はタンタル(Ta)、チタン(Ti)、モリブデン
(Mo)、タングステン(W)から選ばれた元素、また
は前記元素を主成分とする合金か、前記元素を組み合わ
せた合金膜(代表的にはMo−W合金膜、Mo−Ta合
金膜)で形成すれば良く、導電層(A)6021は窒化
タンタル(TaN)、窒化タングステン(WN)、窒化
チタン(TiN)膜、窒化モリブデン(MoN)で形成
する。また、導電層(A)6021は代替材料として、
タングステンシリサイド、チタンシリサイド、モリブデ
ンシリサイドを適用しても良い。導電層(B)は低抵抗
化を図るために含有する不純物濃度を低減させると良
く、特に酸素濃度に関しては30ppm以下とすると良
かった。例えば、タングステン(W)は酸素濃度を30
ppm以下とすることで20μΩcm以下の比抵抗値を
実現することができた。
Next, a first conductive layer is formed to form a gate electrode. The first conductive layer may be formed as a single layer, or may be formed as a two-layer or three-layer structure as necessary. In this embodiment, a conductive layer (A) 6021 made of a conductive nitride metal film and a conductive layer (B) 6022 made of a metal film are stacked. Conductive layer (B) 602
2 is an element selected from tantalum (Ta), titanium (Ti), molybdenum (Mo), and tungsten (W), an alloy containing the above elements as a main component, or an alloy film combining the above elements (typically, The conductive layer (A) 6021 may be formed of tantalum nitride (TaN), tungsten nitride (WN), titanium nitride (TiN), or molybdenum nitride (MoN). Form. The conductive layer (A) 6021 is used as an alternative material.
Tungsten silicide, titanium silicide, or molybdenum silicide may be used. The conductive layer (B) may have a low impurity concentration in order to reduce the resistance, and it is particularly preferable that the oxygen concentration be 30 ppm or less. For example, tungsten (W) has an oxygen concentration of 30.
A specific resistance of 20 μΩcm or less could be realized by setting the content to ppm or less.

【0132】導電層(A)6021は10〜50nm
(好ましくは20〜30nm)とし、導電層(B)60
22は200〜400nm(好ましくは250〜350
nm)とすれば良い。本実施例では、導電層(A)60
21に30nmの厚さの窒化タンタル膜を、導電層
(B)6022には350nmのTa膜を用い、いずれ
もスパッタ法で形成した。このスパッタ法による成膜で
は、スパッタ用のガスのArに適量のXeやKrを加え
ておくと、形成する膜の内部応力を緩和して膜の剥離を
防止することができる。尚、図示しないが、導電層
(A)6021の下に2〜20nm程度の厚さでリン
(P)をドープしたシリコン膜を形成しておくことは有
効である。これにより、その上に形成される導電膜の密
着性向上と酸化防止を図ると同時に、導電層(A)また
は導電層(B)が微量に含有するアルカリ金属元素がゲ
ート絶縁膜6020に拡散するのを防ぐことができる。
(図7(C))
The conductive layer (A) 6021 has a thickness of 10 to 50 nm.
(Preferably 20 to 30 nm), and the conductive layer (B) 60
22 is 200 to 400 nm (preferably 250 to 350 nm)
nm). In this embodiment, the conductive layer (A) 60
A 21 nm-thick tantalum nitride film was used for 21, and a 350 nm-thick Ta film was used for the conductive layer (B) 6022, both of which were formed by sputtering. In the film formation by the sputtering method, if an appropriate amount of Xe or Kr is added to Ar of the gas for sputtering, the internal stress of the film to be formed can be relaxed and the film can be prevented from peeling. Although not shown, it is effective to form a silicon film doped with phosphorus (P) with a thickness of about 2 to 20 nm under the conductive layer (A) 6021. Thereby, the adhesion of the conductive film formed thereon is improved and oxidation is prevented, and at the same time, a small amount of the alkali metal element contained in the conductive layer (A) or the conductive layer (B) diffuses into the gate insulating film 6020. Can be prevented.
(FIG. 7 (C))

【0133】次に、レジストマスク6023〜6027
を形成し、導電層(A)6021と導電層(B)602
2とを一括でエッチングしてゲート電極6028〜60
31と容量配線6032を形成する。ゲート電極602
8〜6031と容量配線6032は、導電層(A)から
成る6028a〜6032aと、導電層(B)から成る
6028b〜6032bとが一体として形成されてい
る。この時、駆動回路に形成するゲート電極6029、
6030は不純物領域6017、6018の一部と、ゲ
ート絶縁膜6020を介して重なるように形成する。
(図7(D))
Next, resist masks 6023 to 6027
Are formed, and a conductive layer (A) 6021 and a conductive layer (B) 602 are formed.
2 and the gate electrodes 6028-60
31 and a capacitor wiring 6032 are formed. Gate electrode 602
8 to 6031 and the capacitor wiring 6032 are formed integrally with 6028a to 6032a made of a conductive layer (A) and 6028b to 6032b made of a conductive layer (B). At this time, a gate electrode 6029 formed in the driver circuit,
6030 is formed so as to overlap with part of the impurity regions 6017 and 6018 with the gate insulating film 6020 interposed therebetween.
(FIG. 7 (D))

【0134】次いで、駆動回路のpチャネル型TFTの
ソース領域およびドレイン領域を形成するために、p型
を付与する不純物元素を添加する工程を行う。ここで
は、ゲート電極6028をマスクとして、自己整合的に
不純物領域を形成する。このとき、nチャネル型TFT
が形成される領域はレジストマスク6033で被覆して
おく。そして、ジボラン(B26)を用いたイオンドー
プ法で不純物領域6034を形成した。この領域のボロ
ン(B)濃度は3×1020〜3×1021atoms/cm3とな
るようにする。本明細書中では、ここで形成された不純
物領域6034に含まれるp型を付与する不純物元素の
濃度を(p+)と表す。(図8(A))
Next, in order to form a source region and a drain region of the p-channel TFT of the driver circuit, a step of adding an impurity element imparting p-type is performed. Here, the impurity region is formed in a self-aligned manner using the gate electrode 6028 as a mask. At this time, the n-channel TFT
Are formed with a resist mask 6033. Then, an impurity region 6034 was formed by an ion doping method using diborane (B 2 H 6 ). The boron (B) concentration in this region is set to 3 × 10 20 to 3 × 10 21 atoms / cm 3 . In this specification, the concentration of the impurity element imparting p-type contained in the impurity region 6034 formed here is expressed as (p + ). (FIG. 8A)

【0135】次に、nチャネル型TFTにおいて、ソー
ス領域またはドレイン領域として機能する不純物領域の
形成を行った。レジストのマスク6035〜6037を
形成し、n型を付与する不純物元素が添加されて不純物
領域6038〜6042を形成した。これは、フォスフ
ィン(PH3)を用いたイオンドープ法で行い、この領
域のリン(P)濃度を1×1020〜1×1021atoms/c
m3とした。本明細書中では、ここで形成された不純物領
域6038〜6042に含まれるn型を付与する不純物
元素の濃度を(n+)と表す。(図8(B))
Next, in the n-channel TFT, an impurity region functioning as a source region or a drain region was formed. Resist masks 6035 to 6037 were formed, and impurity regions 6038 to 6042 were formed by adding an impurity element imparting n-type. This is performed by an ion doping method using phosphine (PH 3 ), and the phosphorus (P) concentration in this region is set to 1 × 10 20 to 1 × 10 21 atoms / c.
It was m 3. In this specification, the concentration of the impurity element imparting n-type contained in the impurity regions 6038 to 6042 formed here is expressed as (n + ). (FIG. 8 (B))

【0136】不純物領域6038〜6042には、既に
前工程で添加されたリン(P)またはボロン(B)が含
まれているが、それに比して十分に高い濃度でリン
(P)が添加されるので、前工程で添加されたリン
(P)またはボロン(B)の影響は考えなくても良い。
また、不純物領域6038に添加されたリン(P)濃度
は図8(A)で添加されたボロン(B)濃度の1/2〜
1/3なのでp型の導電性が確保され、TFTの特性に
何ら影響を与えることはなかった。
Although the impurity regions 6038 to 6042 contain phosphorus (P) or boron (B) already added in the previous step, phosphorus (P) is added at a sufficiently high concentration. Therefore, it is not necessary to consider the influence of phosphorus (P) or boron (B) added in the previous step.
Further, the concentration of phosphorus (P) added to impurity region 6038 is 1/2 to the concentration of boron (B) added in FIG.
Since it was 1/3, p-type conductivity was ensured and there was no effect on the characteristics of the TFT.

【0137】そして、画素部のnチャネル型TFTのL
DD領域を形成するためのn型を付与する不純物添加の
工程を行った。ここではゲート電極6031をマスクと
して自己整合的にn型を付与する不純物元素をイオンド
ープ法で添加した。添加するリン(P)の濃度は1×1
16〜5×1018atoms/cm3であり、図7(A)および
図8(A)と図8(B)で添加する不純物元素の濃度よ
りも低濃度で添加することで、実質的には不純物領域6
043、6044のみが形成される。本明細書中では、
この不純物領域6043、6044に含まれるn型を付
与する不純物元素の濃度を(n--)と表す。(図8
(C))
The L of the n-channel TFT in the pixel portion is
An n-type impurity-imparting process for forming a DD region was performed. Here, an impurity element imparting n-type in a self-aligned manner is added by an ion doping method using the gate electrode 6031 as a mask. The concentration of phosphorus (P) to be added is 1 × 1
0 16 to 5 × 10 18 atoms / cm 3, which is substantially lower than that of the impurity element added in FIGS. 7A, 8A, and 8B. Has an impurity region 6
Only 043 and 6044 are formed. In this specification,
The concentration of the impurity element imparting n-type contained in the impurity regions 6043 and 6044 is represented by (n ). (FIG. 8
(C))

【0138】その後、それぞれの濃度で添加されたn型
またはp型を付与する不純物元素を活性化するために熱
処理工程を行う。この工程はファーネスアニール法、レ
ーザーアニール法、またはラピッドサーマルアニール法
(RTA法)で行うことができる。ここではファーネス
アニール法で活性化工程を行った。熱処理は酸素濃度が
1ppm以下、好ましくは0.1ppm以下の窒素雰囲
気中で400〜800℃、代表的には500〜600℃
で行うものであり、本実施例では550℃で4時間の熱
処理を行った。また、基板6001に石英基板のような
耐熱性を有するものを使用した場合には、800℃で1
時間の熱処理としても良く、不純物元素の活性化と、該
不純物元素が添加された不純物領域とチャネル形成領域
との接合を良好に形成することができた。
Thereafter, a heat treatment step is performed to activate the n-type or p-type imparting impurity element added at each concentration. This step can be performed by a furnace annealing method, a laser annealing method, or a rapid thermal annealing method (RTA method). Here, the activation step was performed by the furnace annealing method. The heat treatment is performed in a nitrogen atmosphere having an oxygen concentration of 1 ppm or less, preferably 0.1 ppm or less, at 400 to 800 ° C, typically 500 to 600 ° C.
In this embodiment, the heat treatment was performed at 550 ° C. for 4 hours. When a substrate having heat resistance such as a quartz substrate is used as the substrate 6001,
The heat treatment may be performed for a long time, and the activation of the impurity element and the junction between the impurity region to which the impurity element is added and the channel formation region can be favorably formed.

【0139】この熱処理において、ゲート電極6028
〜6031と容量配線6032を形成する金属膜602
8b〜6032bは、表面から5〜80nmの厚さで導
電層(C)6028c〜6032cが形成される。例え
ば、導電層(B)6028b〜6032bがタングステ
ン(W)の場合には窒化タングステン(WN)が形成さ
れ、タンタル(Ta)の場合には窒化タンタル(Ta
N)を形成することができる。本願発明では、シリコン
(Si)膜とWN膜とW膜とを積層したもの、W膜とS
iを有するW膜とを積層したもの、W膜とSiを有する
W膜とSiとを積層したもの、Moを有するWの膜、ま
たはMoを有するTaの膜を用いてゲート電極としても
良い。また、導電層(C)6028c〜6032cは、
窒素またはアンモニアなどを用いた窒素を含むプラズマ
雰囲気にゲート電極6028〜6031を晒しても同様
に形成することができる。さらに、3〜100%の水素
を含む雰囲気中で、300〜450℃で1〜12時間の
熱処理を行い、島状半導体層を水素化する工程を行っ
た。この工程は熱的に励起された水素により半導体層の
ダングリングボンドを終端する工程である。水素化の他
の手段として、プラズマ水素化(プラズマにより励起さ
れた水素、プラズマ化した水素を用いる)を行っても良
い。
In this heat treatment, the gate electrode 6028
Film 602 forming the capacitor wiring 6032 and the capacitor wiring 6032
For 8b to 6032b, conductive layers (C) 6028c to 6032c are formed with a thickness of 5 to 80 nm from the surface. For example, when the conductive layers (B) 6028b to 6032b are tungsten (W), tungsten nitride (WN) is formed, and when the conductive layers (B) 6028b to 6032b are tantalum (Ta), tantalum nitride (Ta) is formed.
N) can be formed. In the present invention, a laminate of a silicon (Si) film, a WN film and a W film,
The gate electrode may be formed using a stacked film of a W film having i, a stacked film of a W film and a W film having Si, and Si, a W film having Mo, or a Ta film having Mo. The conductive layers (C) 6028c to 6032c are
The gate electrodes 6028 to 6031 can be similarly formed by exposing the gate electrodes 6028 to 6031 to a plasma atmosphere containing nitrogen using nitrogen or ammonia. Further, heat treatment was performed at 300 to 450 ° C. for 1 to 12 hours in an atmosphere containing 3 to 100% of hydrogen to hydrogenate the island-shaped semiconductor layer. In this step, dangling bonds in the semiconductor layer are terminated by thermally excited hydrogen. As another means of hydrogenation, plasma hydrogenation (using hydrogen excited by plasma or hydrogen converted into plasma) may be performed.

【0140】島状半導体層が、非晶質シリコン膜から触
媒元素を用いる結晶化の方法で作製された場合、島状半
導体層中には微量の触媒元素が残留した。勿論、そのよ
うな状態でもTFTを完成させることが可能であるが、
残留する触媒元素を少なくともチャネル形成領域から除
去する方がより好ましかった。この触媒元素を除去する
手段の一つにリン(P)によるゲッタリング作用を利用
する手段があった。ゲッタリングに必要なリン(P)の
濃度は図8(B)で形成した不純物領域(n+)と同程
度であり、ここで実施される活性化工程の熱処理によ
り、nチャネル型TFTおよびpチャネル型TFTのチ
ャネル形成領域から触媒元素をゲッタリングをすること
ができた。(図8(D))
When the island-like semiconductor layer was formed from an amorphous silicon film by a crystallization method using a catalyst element, a trace amount of the catalyst element remained in the island-like semiconductor layer. Of course, it is possible to complete the TFT in such a state,
It was more preferable to remove the remaining catalyst element from at least the channel formation region. One of the means for removing the catalytic element is a means utilizing the gettering action of phosphorus (P). The concentration of phosphorus (P) necessary for gettering is substantially the same as that of the impurity region (n + ) formed in FIG. 8B, and the heat treatment in the activation step performed here causes the n-channel TFT and the p-type. The catalyst element could be gettered from the channel forming region of the channel type TFT. (FIG. 8 (D))

【0141】活性化および水素化の工程が終了したら、
ゲート配線とする第2の導電膜を形成する。この第2の
導電膜は低抵抗材料であるアルミニウム(Al)や銅
(Cu)を主成分とする導電層(D)と、にチタン(T
i)やタンタル(Ta)、タングステン(W)、モリブ
デン(Mo)から成る導電層(E)とで形成すると良
い。本実施例では、チタン(Ti)を0.1〜2重量%
含むアルミニウム(Al)膜を導電層(D)6045と
し、チタン(Ti)膜を導電層(E)6046として形
成した。導電層(D)6045は200〜400nm
(好ましくは250〜350nm)とすれば良く、導電
層(E)6046は50〜200(好ましくは100〜
150nm)で形成すれば良い。(図9(A))
When the activation and hydrogenation steps are completed,
A second conductive film serving as a gate wiring is formed. This second conductive film is formed by adding a conductive layer (D) mainly composed of aluminum (Al) or copper (Cu), which is a low-resistance material, to titanium (T
i) or a conductive layer (E) made of tantalum (Ta), tungsten (W), or molybdenum (Mo). In this embodiment, titanium (Ti) is contained in an amount of 0.1 to 2% by weight.
The aluminum (Al) film containing the conductive film was formed as a conductive layer (D) 6045, and the titanium (Ti) film was formed as a conductive layer (E) 6046. The conductive layer (D) 6045 has a thickness of 200 to 400 nm.
(Preferably 250 to 350 nm), and the conductive layer (E) 6046 is 50 to 200 (preferably 100 to
150 nm). (FIG. 9A)

【0142】そして、ゲート電極に接続するゲート配線
を形成するために導電層(E)6046と導電層(D)
6045とをエッチング処理して、ゲート配線604
7、6048と容量配線6049を形成した。エッチン
グ処理は最初にSiCl4とCl2とBCl3との混合ガ
スを用いたドライエッチング法で導電層(E)の表面か
ら導電層(D)の途中まで除去し、その後リン酸系のエ
ッチング溶液によるウエットエッチングで導電層(D)
を除去することにより、下地との選択加工性を保ってゲ
ート配線を形成することができた。
Then, a conductive layer (E) 6046 and a conductive layer (D) are formed to form a gate wiring connected to the gate electrode.
6045 and the gate wiring 604
7, 6048 and a capacitor wiring 6049 were formed. In the etching treatment, first, a part of the conductive layer (D) is removed from the surface of the conductive layer (E) by a dry etching method using a mixed gas of SiCl 4 , Cl 2 and BCl 3, and then a phosphoric acid-based etching solution is used. Conductive layer (D) by wet etching
As a result, the gate wiring could be formed while maintaining the selectivity with the base.

【0143】第1の層間絶縁膜6050は500〜15
00nmの厚さで酸化シリコン膜または酸化窒化シリコ
ン膜で形成され、その後、それぞれの島状半導体層に形
成されたソース領域またはドレイン領域に達するコンタ
クトホールを形成し、ソース配線6051〜6054
と、ドレイン配線6055〜6058を形成する。図示
していないが、本実施例ではこの電極を、Ti膜を10
0nm、Tiを含むアルミニウム膜300nm、Ti膜
150nmをスパッタ法で連続して形成した3層構造の
積層膜とした。
The first interlayer insulating film 6050 is 500 to 15
A contact hole which is formed of a silicon oxide film or a silicon oxynitride film with a thickness of 00 nm and reaches a source region or a drain region formed in each of the island-shaped semiconductor layers is formed.
Then, drain wirings 6055 to 6058 are formed. Although not shown, in this embodiment, this electrode is
A three-layer laminated film in which 0 nm, an aluminum film containing Ti, 300 nm, and a Ti film, 150 nm, were continuously formed by a sputtering method.

【0144】次に、パッシベーション膜6059とし
て、窒化シリコン膜、酸化シリコン膜、または窒化酸化
シリコン膜を50〜500nm(代表的には100〜3
00nm)の厚さで形成する。この状態で水素化処理を
行うとTFTの特性向上に対して好ましい結果が得られ
た。例えば、3〜100%の水素を含む雰囲気中で、3
00〜450℃で1〜12時間の熱処理を行うと良く、
あるいはプラズマ水素化法を用いても同様の効果が得ら
れた。なお、ここで後に画素電極とドレイン配線を接続
するためのコンタクトホールを形成する位置において、
パッシベーション膜6059に開口部を形成しておいて
も良い。(図9(C))
Next, as the passivation film 6059, a silicon nitride film, a silicon oxide film, or a silicon nitride oxide film is 50 to 500 nm (typically, 100 to 3 nm).
(00 nm). When hydrogenation was performed in this state, favorable results were obtained with respect to the improvement of TFT characteristics. For example, in an atmosphere containing 3 to 100% hydrogen, 3
It is good to perform heat treatment at 00 to 450 ° C. for 1 to 12 hours,
Alternatively, the same effect was obtained by using the plasma hydrogenation method. Here, at a position where a contact hole for connecting the pixel electrode and the drain wiring is formed later,
An opening may be formed in the passivation film 6059. (FIG. 9 (C))

【0145】その後、有機樹脂からなる第2の層間絶縁
膜6060を1.0〜1.5μmの厚さに形成する。有
機樹脂としては、ポリイミド、アクリル、ポリアミド、
ポリイミドアミド、BCB(ベンゾシクロブテン)等を
使用することができる。ここでは、基板に塗布後、熱重
合するタイプのポリイミドを用い、300℃で焼成して
形成した。そして、第2の層間絶縁膜6060にドレイ
ン配線6058に達するコンタクトホールを形成し、画
素電極6061、6062を形成する。画素電極は、透
過型液晶表示装置とする場合には透明導電膜を用いれば
良く、反射型の液晶表示装置とする場合には金属膜を用
いれば良い。本実施例では透過型の液晶表示装置とする
ために、酸化インジウム・スズ(ITO)膜を100n
mの厚さにスパッタ法で形成した。(図10)
Thereafter, a second interlayer insulating film 6060 made of an organic resin is formed to a thickness of 1.0 to 1.5 μm. As the organic resin, polyimide, acrylic, polyamide,
Polyimide amide, BCB (benzocyclobutene) and the like can be used. Here, a polyimide of a type that is thermally polymerized after being applied to the substrate and baked at 300 ° C. is used. Then, a contact hole reaching the drain wiring 6058 is formed in the second interlayer insulating film 6060, and pixel electrodes 6061 and 6062 are formed. As the pixel electrode, a transparent conductive film may be used for a transmission type liquid crystal display device, and a metal film may be used for a reflection type liquid crystal display device. In this embodiment, in order to obtain a transmissive liquid crystal display device, an indium tin oxide (ITO) film has a thickness of 100 n.
m was formed by a sputtering method. (FIG. 10)

【0146】こうして同一基板上に、駆動回路のTFT
と画素部の画素TFTとを有した基板を完成させること
ができた。駆動回路にはpチャネル型TFT6101、
第1のnチャネル型TFT6102、第2のnチャネル
型TFT6103、画素部には画素TFT6104、保
持容量6105が形成した。本明細書では便宜上このよ
うな基板をアクティブマトリクス基板と呼ぶ。
Thus, the TFT of the driving circuit is formed on the same substrate.
And a substrate having pixel TFTs in the pixel portion. The driving circuit includes a p-channel TFT 6101,
A first n-channel TFT 6102, a second n-channel TFT 6103, a pixel TFT 6104 in the pixel portion, and a storage capacitor 6105 were formed. In this specification, such a substrate is referred to as an active matrix substrate for convenience.

【0147】駆動回路のpチャネル型TFT6101に
は、島状半導体層6004にチャネル形成領域610
6、ソース領域6107a、6107b、ドレイン領域
6108a,6108bを有している。第1のnチャネ
ル型TFT6102には、島状半導体層6005にチャ
ネル形成領域6109、ゲート電極6029と重なるL
DD領域6110(以降、このようなLDD領域をLov
と記す)、ソース領域6111、ドレイン領域6112
を有している。このLov領域のチャネル長方向の長さは
0.5〜3.0μm、好ましくは1.0〜1.5μmと
した。第2のnチャネル型TFT6103には、島状半
導体層6006にチャネル形成領域6113、LDD領
域6114,6115、ソース領域6116、ドレイン
領域6117を有している。このLDD領域はLov領域
とゲート電極6030と重ならないLDD領域(以降、
このようなLDD領域をLoffと記す)とが形成され、
このLoff領域のチャネル長方向の長さは0.3〜2.
0μm、好ましくは0.5〜1.5μmである。画素T
FT6104には、島状半導体層6007にチャネル形
成領域6118、6119、Loff領域6120〜61
23、ソースまたはドレイン領域6124〜6126を
有している。Loff領域のチャネル長方向の長さは0.
5〜3.0μm、好ましくは1.5〜2.5μmであ
る。さらに、容量配線6032、6049と、ゲート絶
縁膜と同じ材料から成る絶縁膜と、画素TFT6104
のドレイン領域6126に接続し、n型を付与する不純
物元素が添加された半導体層6127とから保持容量6
105が形成されている。図10では画素TFT610
4をダブルゲート構造としたが、シングルゲート構造で
も良いし、複数のゲート電極を設けたマルチゲート構造
としても差し支えない。
In the p-channel TFT 6101 of the driver circuit, a channel formation region 610 is formed in the island-shaped semiconductor layer 6004.
6, source regions 6107a and 6107b, and drain regions 6108a and 6108b. In the first n-channel TFT 6102, an L overlapping the channel formation region 6109 and the gate electrode 6029 in the island-shaped semiconductor layer 6005.
DD region 6110 (hereinafter, such an LDD region is referred to as Lov
, Source region 6111 and drain region 6112
have. The length of the Lov region in the channel length direction is 0.5 to 3.0 μm, preferably 1.0 to 1.5 μm. The second n-channel TFT 6103 includes a channel formation region 6113, LDD regions 6114 and 6115, a source region 6116, and a drain region 6117 in the island-shaped semiconductor layer 6006. This LDD region is an LDD region that does not overlap with the Lov region and the gate electrode 6030 (hereinafter referred to as an LDD region).
Such an LDD region is referred to as Loff).
The length of the Loff region in the channel length direction is 0.3 to 2.
0 μm, preferably 0.5 to 1.5 μm. Pixel T
In the FT 6104, channel formation regions 6118 and 6119 and Loff regions 6120 to 61 are formed in the island-shaped semiconductor layer 6007.
23, a source or drain region 6124-6126. The length of the Loff region in the channel length direction is 0.
It is 5-3.0 μm, preferably 1.5-2.5 μm. Further, the capacitor wirings 6032 and 6049, an insulating film made of the same material as the gate insulating film, and a pixel TFT 6104
From the semiconductor layer 6127 to which the impurity element imparting n-type is added.
105 is formed. In FIG. 10, the pixel TFT 610
4 has a double gate structure, but may have a single gate structure or a multi-gate structure provided with a plurality of gate electrodes.

【0148】以上の様に本実施例では、画素TFTおよ
び駆動回路が要求する仕様に応じて各回路を構成するT
FTの構造を最適化し、半導体表示装置の動作性能と信
頼性を向上させることを可能とすることができる。さら
にゲート電極を耐熱性を有する導電性材料で形成するこ
とによりLDD領域やソース領域およびドレイン領域の
活性化を容易とし、ゲート配線を低抵抗材料で形成する
ことにより、配線抵抗を十分低減できる。従って、画素
部のサイズ(画面サイズ)が4インチクラス以上の半導
体表示装置にも適用することができる。
As described above, in the present embodiment, the TFTs constituting each circuit according to the specifications required by the pixel TFT and the driving circuit.
By optimizing the structure of the FT, it is possible to improve the operation performance and reliability of the semiconductor display device. Further, the gate electrode is formed from a conductive material having heat resistance, thereby facilitating activation of the LDD region, the source region, and the drain region. By forming the gate wiring from a low-resistance material, the wiring resistance can be sufficiently reduced. Therefore, the present invention can be applied to a semiconductor display device having a pixel portion size (screen size) of 4 inches or more.

【0149】なお、本実施例においては透過型の液晶パ
ネルについて説明した。しかし、本願発明はこれに限定
されるわけではなく、反射型の液晶パネルにも用いるこ
とができる。
In this embodiment, the transmission type liquid crystal panel has been described. However, the present invention is not limited to this, and can be used for a reflective liquid crystal panel.

【0150】(実施例3)本願発明は様々な半導体表示
装置(アクティブマトリクス型液晶ディスプレイ)に用
いることができる。即ち、それら半導体表示装置を表示
媒体として組み込んだ電子機器全てに本願発明を実施で
きる。
Embodiment 3 The present invention can be used for various semiconductor display devices (active matrix type liquid crystal displays). That is, the present invention can be applied to all electronic devices incorporating such a semiconductor display device as a display medium.

【0151】その様な電子機器としては、ビデオカメ
ラ、デジタルカメラ、プロジェクター(リア型またはフ
ロント型)、ヘッドマウントディスプレイ(ゴーグル型
ディスプレイ)、ゲーム機、カーナビゲーション、パー
ソナルコンピュータ、携帯情報端末(モバイルコンピュ
ータ、携帯電話または電子書籍等)などが挙げられる。
それらの一例を図11、図12及び図13に示す。
Examples of such electronic devices include a video camera, a digital camera, a projector (rear or front type), a head mounted display (goggle type display), a game machine, a car navigation, a personal computer, and a portable information terminal (mobile computer). , A mobile phone or an electronic book).
Examples of these are shown in FIG. 11, FIG. 12, and FIG.

【0152】図11(A)はディスプレイであり、筐体
2001、支持台2002、表示部2003等を含む。
本願発明は表示部2003やその他の信号制御回路に適
用することができる。
FIG. 11A shows a display, which includes a housing 2001, a support base 2002, a display portion 2003, and the like.
The present invention can be applied to the display portion 2003 and other signal control circuits.

【0153】図11(B)はビデオカメラであり、本体
2101、表示部2102、音声入力部2103、操作
スイッチ2104、バッテリー2105、受像部210
6で構成される。本願発明を表示部2102、音声入力
部2103やその他の信号制御回路に適用することがで
きる。
FIG. 11B shows a video camera, which includes a main body 2101, a display section 2102, an audio input section 2103, operation switches 2104, a battery 2105, and an image receiving section 210.
6. The present invention can be applied to the display portion 2102, the audio input portion 2103, and other signal control circuits.

【0154】図11(C)は頭部取り付け型のディスプ
レイの一部(右片側)であり、本体2201、信号ケー
ブル2202、頭部固定バンド2203、表示部220
4、光学系2205、表示装置2206等を含む。本願
発明は表示装置2205やその他の信号制御回路に適用
できる。
FIG. 11C shows a part of the head-mounted display (one side on the right), and includes a main body 2201, a signal cable 2202, a head fixing band 2203, and a display section 220.
4, including an optical system 2205, a display device 2206, and the like. The present invention can be applied to the display device 2205 and other signal control circuits.

【0155】図11(D)はプログラムを記録した記録
媒体(以下、記録媒体と呼ぶ)を用いるプレーヤーであ
り、本体2301、表示部2302、スピーカ部230
3、記録媒体2304、操作スイッチ2305で構成さ
れる。なお、この装置は記録媒体としてDVD(Dig
ital Versatile Disc)、CD等を
用い、音楽鑑賞や映画鑑賞やゲームやインターネットを
行うことができる。本願発明は表示部2302やその他
の信号制御回路に適用することができる。
FIG. 11D shows a player using a recording medium (hereinafter, referred to as a recording medium) on which a program is recorded, and includes a main body 2301, a display section 2302, and a speaker section 230.
3, a recording medium 2304, and operation switches 2305. This apparatus uses a DVD (Dig) as a recording medium.
It is possible to enjoy listening to music, watching movies, playing games, and using the Internet using an IT (Versatile Disc), CD, or the like. The present invention can be applied to the display portion 2302 and other signal control circuits.

【0156】図11(E)はパーソナルコンピュータで
あり、本体2401、映像入力部2402、表示部24
03、キーボード2404で構成される。本願発明を映
像入力部2402、表示部2403やその他の信号制御
回路に適用することができる。
FIG. 11E shows a personal computer, which includes a main body 2401, a video input section 2402, and a display section 24.
03, a keyboard 2404. The present invention can be applied to the video input unit 2402, the display unit 2403, and other signal control circuits.

【0157】図11(F)はゴーグル型ディスプレイで
あり、本体2501、表示部2502、アーム部250
3で構成される。本願発明は表示部2502やその他の
信号制御回路に適用することができる。
FIG. 11F shows a goggle type display, which comprises a main body 2501, a display section 2502, and an arm section 250.
3 The present invention can be applied to the display portion 2502 and other signal control circuits.

【0158】図12(A)はフロント型プロジェクター
であり、光源光学系及び表示装置7601、スクリーン
7602で構成される。本願発明は表示装置に適用する
ことができる。
FIG. 12A shows a front type projector, which comprises a light source optical system, a display device 7601 and a screen 7602. The present invention can be applied to a display device.

【0159】図12(B)はリア型プロジェクターであ
り、本体7701、光源光学系及び表示装置7702、
ミラー7703、ミラー7704、スクリーン7705
で構成される。本願発明は表示装置に適用することがで
きる。
FIG. 12B shows a rear projector, in which a main body 7701, a light source optical system and a display device 7702,
Mirror 7703, mirror 7704, screen 7705
It consists of. The present invention can be applied to a display device.

【0160】なお、図12(C)は、図12(A)及び
図12(B)中における光源光学系及び表示装置760
1、7702の構造の一例を示した図である。光源光学
系及び表示装置7601、7702は、光源光学系78
01、ミラー7802、7804〜7806、ダイクロ
イックミラー7803、光学系7807、表示装置78
08、位相差板7809、投射光学系7810で構成さ
れる。投射光学系7810は、投射レンズを備えた複数
の光学レンズで構成される。この構成は、表示装置78
08を三つ使用しているため三板式と呼ばれている。ま
た、図12(C)中において矢印で示した光路に実施者
が適宜、光学レンズや、偏光機能を有するフィルムや、
位相差を調節するためのフィルム、IRフィルム等を設
けてもよい。
FIG. 12C shows the light source optical system and the display device 760 shown in FIGS. 12A and 12B.
1 is a diagram showing an example of the structure of 7702. FIG. The light source optical system and the display devices 7601 and 7702 are
01, mirrors 7802, 7804 to 7806, dichroic mirror 7803, optical system 7807, display device 78
08, a phase difference plate 7809, and a projection optical system 7810. The projection optical system 7810 includes a plurality of optical lenses provided with a projection lens. This configuration corresponds to the display 78
It is called a three-plate type because it uses three 08s. In addition, the practitioner may appropriately place an optical lens or a film having a polarizing function on the optical path indicated by the arrow in FIG.
A film for adjusting the phase difference, an IR film, or the like may be provided.

【0161】また、図12(D)は、図12(C)中に
おける光源光学系7801の構造の一例を示した図であ
る。本実施例では、光源光学系7801は、リフレクタ
ー7811、光源7812、レンズアレイ7813、7
814、偏光変換素子7815、集光レンズ7816で
構成される。なお、図12(D)に示した光源光学系は
一例であってこの構成に限定されない。例えば、光源光
学系に実施者が適宜、光学レンズや、偏光機能を有する
フィルムや、位相差を調節するフィルム、IRフィルム
等を設けてもよい。
FIG. 12D is a diagram showing an example of the structure of the light source optical system 7801 in FIG. 12C. In the present embodiment, the light source optical system 7801 includes a reflector 7811, a light source 7812, and lens arrays 7813 and 7813.
814, a polarization conversion element 7815, and a condenser lens 7816. Note that the light source optical system shown in FIG. 12D is an example and is not limited to this configuration. For example, a practitioner may appropriately provide an optical lens, a film having a polarizing function, a film for adjusting a phase difference, an IR film, or the like to the light source optical system.

【0162】図12(C)は三板式の例を示したが、図
13(A)は単板式の一例を示した図である。図13
(A)に示した光源光学系及び表示装置は、光源光学系
7901、表示装置7902、投射光学系7903、位
相差板7904で構成される。投射光学系7903は、
投射レンズを備えた複数の光学レンズで構成される。図
13(A)に示した光源光学系及び表示装置は図12
(A)及び図12(B)中における光源光学系及び表示
装置7601、7702に適用できる。また、光源光学
系7901は図12(D)に示した光源光学系を用いれ
ばよい。なお、表示装置7902にはカラーフィルター
(図示しない)が設けられており、表示映像をカラー化
している。
FIG. 12 (C) shows an example of a three-plate type, while FIG. 13 (A) shows an example of a single-plate type. FIG.
The light source optical system and the display device illustrated in FIG. 1A include a light source optical system 7901, a display device 7902, a projection optical system 7903, and a retardation plate 7904. The projection optical system 7903 is
It is composed of a plurality of optical lenses provided with a projection lens. The light source optical system and the display device shown in FIG.
12A and 12B can be applied to the light source optical system and the display devices 7601 and 7702. Further, as the light source optical system 7901, the light source optical system illustrated in FIG. Note that the display device 7902 is provided with a color filter (not shown) to colorize a display image.

【0163】また、図13(B)に示した光源光学系及
び表示装置は、図13(A)の応用例であり、カラーフ
ィルターを設ける代わりに、RGBの回転カラーフィル
ター円板7905を用いて表示映像をカラー化してい
る。図13(B)に示した光源光学系及び表示装置は図
12(A)及び図12(B)中における光源光学系及び
表示装置7601、7702に適用できる。
Further, the light source optical system and display device shown in FIG. 13B is an application example of FIG. 13A, and uses a rotating color filter disk 7905 of RGB instead of providing a color filter. The display image is colorized. The light source optical system and the display device illustrated in FIG. 13B can be applied to the light source optical system and the display devices 7601 and 7702 in FIGS. 12A and 12B.

【0164】また、図13(C)に示した光源光学系及
び表示装置は、カラーフィルターレス単板式と呼ばれて
いる。この方式は、表示装置7916にマイクロレンズ
アレイ7915を設け、ダイクロイックミラー(緑)7
912、ダイクロイックミラー(赤)7913、ダイク
ロイックミラー(青)7914を用いて表示映像をカラ
ー化している。投射光学系7917は、投射レンズを備
えた複数の光学レンズで構成される。図13(C)に示
した光源光学系及び表示装置は図12(A)及び図12
(B)中における光源光学系及び表示装置7601、7
702に適用できる。また、光源光学系7911として
は、光源の他に結合レンズ、コリメータレンズを用いた
光学系を用いればよい。
The light source optical system and the display device shown in FIG. 13C are called a color filterless single plate type. In this method, a microlens array 7915 is provided on a display device 7916, and a dichroic mirror (green) 7 is provided.
912, a dichroic mirror (red) 7913, and a dichroic mirror (blue) 7914 are used to colorize the display image. The projection optical system 7917 includes a plurality of optical lenses provided with a projection lens. The light source optical system and the display device shown in FIG.
(B) Light source optical system and display devices 7601 and 7 in FIG.
702. As the light source optical system 7911, an optical system using a coupling lens and a collimator lens in addition to the light source may be used.

【0165】以上の様に、本願発明の適用範囲は極めて
広く、あらゆる分野の電子機器に適用することが可能で
ある。また、本実施例の電子機器は実施例1、2、4の
どのような組み合わせからなる構成を用いても実現する
ことができる。
As described above, the applicable range of the present invention is extremely wide, and can be applied to electronic devices in various fields. Further, the electronic apparatus according to the present embodiment can be realized by using any combination of the first, second, and fourth embodiments.

【0166】(実施例4)上述の本願発明のアクティブ
マトリクス型液晶表示装置にはネマチック液晶以外にも
様々な液晶を用いることが可能である。例えば、1998,
SID, "Characteristics and Driving Scheme of Polyme
r-Stabilized Monostable FLCD Exhibiting Fast Respo
nse Time and High Contrast Ratio with Gray-Scale C
apability"by H. Furue et al.や、1997, SID DIGEST,
841, "A Full-Color Thresholdless Antiferroelectric
LCD Exhibiting Wide Viewing Angle with Fast Respo
nseTime" by T. Yoshida et al.や、1996, J. Mater. C
hem. 6(4), 671-673, "Thresholdless antiferroelectr
icity in liquid crystals and its application to di
splays" by S. Inui et al.や、米国特許第5594569 号
に開示された液晶を用いることが可能である。
(Embodiment 4) In the active matrix type liquid crystal display device of the present invention described above, it is possible to use various liquid crystals other than the nematic liquid crystal. For example, in 1998,
SID, "Characteristics and Driving Scheme of Polyme
r-Stabilized Monostable FLCD Exhibiting Fast Respo
nse Time and High Contrast Ratio with Gray-Scale C
apability "by H. Furue et al., 1997, SID DIGEST,
841, "A Full-Color Thresholdless Antiferroelectric
LCD Exhibiting Wide Viewing Angle with Fast Respo
nseTime "by T. Yoshida et al., 1996, J. Mater. C
hem. 6 (4), 671-673, "Thresholdless antiferroelectr
icity in liquid crystals and its application to di
It is possible to use the liquid crystals disclosed in splays "by S. Inui et al. and US Pat. No. 5,594,569.

【0167】等方相−コレステリック相−カイラルスメ
クティックC相転移系列を示す強誘電性液晶(FLC)
を用い、DC電圧を印加しながらコレステリック相−カ
イラルスメクティックC相転移をさせ、かつコーンエッ
ジをほぼラビング方向に一致させた単安定FLCの電気
光学特性を図14に示す。図14に示すような強誘電性
液晶による表示モードは「Half−V字スイッチング
モード」と呼ばれている。図14に示すグラフの縦軸は
透過率(任意単位)、横軸は印加電圧である。「Hal
f−V字スイッチングモード」については、寺田らの”
Half−V字スイッチングモードFLCD”、第46
回応用物理学関係連合講演会講演予稿集、1999年3
月、第1316頁、および吉原らの”強誘電性液晶によ
る時分割フルカラーLCD”、液晶第3巻第3号第19
0頁に詳しい。
Ferroelectric liquid crystal (FLC) showing an isotropic phase-cholesteric phase-chiral smectic C phase transition series
FIG. 14 shows the electro-optical characteristics of a monostable FLC in which the cholesteric phase-chiral smectic C phase transition is performed while applying a DC voltage and the cone edge is almost aligned with the rubbing direction. The display mode using the ferroelectric liquid crystal as shown in FIG. 14 is called “Half-V switching mode”. The vertical axis of the graph shown in FIG. 14 is the transmittance (arbitrary unit), and the horizontal axis is the applied voltage. "Hal
For the fV-shaped switching mode, see Terada et al.
Half-V switching mode FLCD ", 46th
Proceedings of the JSCE Lecture Meeting, March 1999
Moon, p. 1316, and Yoshihara et al., "Time-Division Full-Color LCD with Ferroelectric Liquid Crystal", Liquid Crystal Vol. 3, No. 19, 1992.
See page 0 for details.

【0168】図14に示されるように、このような強誘
電性混合液晶を用いると、低電圧駆動かつ階調表示が可
能となることがわかる。本願発明のアクティブマトリク
ス型液晶表示装置には、このような電気光学特性を示す
強誘電性液晶も用いることができる。
As shown in FIG. 14, it is understood that the use of such a ferroelectric mixed liquid crystal enables low-voltage driving and gradation display. A ferroelectric liquid crystal exhibiting such electro-optical characteristics can be used in the active matrix type liquid crystal display device of the present invention.

【0169】また、ある温度域において反強誘電相を示
す液晶を反強誘電性液晶(AFLC)という。反強誘電
性液晶を有する混合液晶には、電場に対して透過率が連
続的に変化する電気光学応答特性を示す、無しきい値反
強誘電性混合液晶と呼ばれるものがある。この無しきい
値反強誘電性混合液晶は、いわゆるV字型の電気光学応
答特性を示すものがあり、その駆動電圧が約±2.5V
程度(セル厚約1μm〜2μm)のものも見出されてい
る。
A liquid crystal exhibiting an antiferroelectric phase in a certain temperature range is called an antiferroelectric liquid crystal (AFLC). As a mixed liquid crystal having an antiferroelectric liquid crystal, there is a so-called thresholdless antiferroelectric mixed liquid crystal exhibiting an electro-optical response characteristic in which transmittance changes continuously with an electric field. This thresholdless antiferroelectric mixed liquid crystal has a so-called V-shaped electro-optical response characteristic, and its driving voltage is about ± 2.5 V.
Some (cell thicknesses of about 1 μm to 2 μm) have been found.

【0170】また、一般に、無しきい値反強誘電性混合
液晶は自発分極が大きく、液晶自体の誘電率が高い。こ
のため、無しきい値反強誘電性混合液晶をアクティブマ
トリクス型液晶表示装置に用いる場合には、画素に比較
的大きな保持容量が必要となってくる。よって、自発分
極が小さな無しきい値反強誘電性混合液晶を用いるのが
好ましい。
In general, a thresholdless antiferroelectric mixed liquid crystal has a large spontaneous polarization and a high dielectric constant of the liquid crystal itself. Therefore, when a thresholdless antiferroelectric mixed liquid crystal is used in an active matrix type liquid crystal display device, a relatively large storage capacitor is required for a pixel. Therefore, it is preferable to use a thresholdless antiferroelectric mixed liquid crystal having a small spontaneous polarization.

【0171】なお、このような無しきい値反強誘電性混
合液晶を本願発明のアクティブマトリクス型液晶表示装
置に用いることによって低電圧駆動が実現されるので、
低消費電力化が実現される。
By using such a thresholdless antiferroelectric mixed liquid crystal in the active matrix type liquid crystal display device of the present invention, low-voltage driving can be realized.
Low power consumption is realized.

【0172】[0172]

【発明の効果】本願発明は上記構成によって、交流化駆
動を行う際に、駆動回路の周波数を抑えつつ、観察者に
視認されていた画面上のチラツキ、縦縞及び横縞を防止
することが可能になる。そしてなおかつ交流化駆動によ
って液晶の劣化を抑えることができる。
According to the invention of the present application, it is possible to prevent flicker, vertical stripes and horizontal stripes on the screen visually recognized by the observer while performing the AC drive, while suppressing the frequency of the drive circuit. Become. Further, the deterioration of the liquid crystal can be suppressed by the AC driving.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 アクティブマトリクス型液晶表示装置の上面
図、及び画素の配置を示す図。
FIG. 1 is a top view of an active matrix liquid crystal display device and a diagram showing an arrangement of pixels.

【図2】 本願発明のフレーム反転駆動のタイミングチ
ャート図。
FIG. 2 is a timing chart of frame inversion driving according to the present invention.

【図3】 本願発明のフレーム反転駆動における画素の
極性パターンを示す図。
FIG. 3 is a diagram showing a polarity pattern of pixels in frame inversion driving according to the present invention.

【図4】 本願発明のソースライン反転駆動のタイミン
グチャート図。
FIG. 4 is a timing chart of source line inversion driving according to the present invention.

【図5】 本願発明のソースライン反転駆動における画
素の極性パターンを示す図。
FIG. 5 is a diagram showing a polarity pattern of a pixel in source line inversion driving according to the present invention.

【図6】 アクティブマトリクス型液晶表示装置の作製
行程を示す図。
FIG. 6 is a diagram showing a manufacturing process of an active matrix liquid crystal display device.

【図7】 アクティブマトリクス型液晶表示装置の作製
行程を示す図。
FIG. 7 is a diagram illustrating a manufacturing process of an active matrix liquid crystal display device.

【図8】 アクティブマトリクス型液晶表示装置の作製
行程を示す図。
FIG. 8 is a diagram illustrating a manufacturing process of an active matrix liquid crystal display device.

【図9】 アクティブマトリクス型液晶表示装置の作製
行程を示す図。
FIG. 9 is a diagram illustrating a manufacturing process of an active matrix liquid crystal display device.

【図10】 アクティブマトリクス型液晶表示装置の作
製行程を示す図。
FIG. 10 is a diagram illustrating a manufacturing process of an active matrix liquid crystal display device.

【図11】 本願発明を適用した電子機器の図。FIG. 11 is a diagram of an electronic device to which the present invention is applied.

【図12】 本願発明を適用したプロジェクターの図。FIG. 12 is a view of a projector to which the present invention is applied.

【図13】 本願発明を適用したプロジェクターの図。FIG. 13 is a view of a projector to which the present invention is applied.

【図14】 無しきい値反強誘電性混合液晶の印加電圧
に対する光透過率の特性を示す図。
FIG. 14 is a graph showing characteristics of light transmittance with respect to an applied voltage of a thresholdless antiferroelectric mixed liquid crystal.

【図15】 アクティブマトリクス型液晶表示装置の上
面図、及び画素の配置を示す図。
15A and 15B are a top view of an active matrix liquid crystal display device and a diagram showing an arrangement of pixels.

【図16】 交流化駆動における極性パターンを示す
図。
FIG. 16 is a diagram showing a polarity pattern in AC driving.

【図17】 従来のフレーム反転駆動のタイミングチャ
ート図。
FIG. 17 is a timing chart of a conventional frame inversion drive.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 ソース信号線駆動回路 102 ゲート信号線駆動回路 103 画素部 104 画素 105 画素TFT 106 画素電極 101 Source signal line driving circuit 102 Gate signal line driving circuit 103 Pixel section 104 Pixel 105 Pixel TFT 106 Pixel electrode

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H093 NA16 NA33 NC16 NC34 ND10 NF05 NF17 5C006 AA01 AA22 AC27 AC28 AC30 AF42 AF44 AF51 BA12 BB15 BC03 BC12 BF03 BF24 EA01 EC11 FA22 FA23 FA34 5C080 AA10 BB05 CC03 DD05 DD06 EE29 EE30 FF11 JJ02 JJ04 JJ05 JJ06 5C094 AA03 AA05 BA03 BA43 CA19 EA03 EA06 EA07 GA10 HA03 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H093 NA16 NA33 NC16 NC34 ND10 NF05 NF17 5C006 AA01 AA22 AC27 AC28 AC30 AF42 AF44 AF51 BA12 BB15 BC03 BC12 BF03 BF24 EA01 EC11 FA22 FA23 FA34 5C080 AA10 BB05 CC11 DD05EE06 JJ04 JJ05 JJ06 5C094 AA03 AA05 BA03 BA43 CA19 EA03 EA06 EA07 GA10 HA03

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数の画素TFT及び複数の画素電極を含
む複数の画素と、対向電極と、前記複数の画素電極と前
記対向電極の間に設けられた液晶とを有する半導体表示
装置の駆動方法において、 前記複数の画素TFTを介して、前記複数の画素電極に
映像信号が入力されており、 前記複数の画素電極に入力される映像信号は、1フレー
ム期間ごとに前記対向電極の電位を基準として極性が反
転しており、 1フレーム期間ごとにフレーム期間の長さが異なってい
ることを特徴とする半導体表示装置の駆動方法。
1. A method for driving a semiconductor display device comprising: a plurality of pixels including a plurality of pixel TFTs and a plurality of pixel electrodes; a counter electrode; and a liquid crystal provided between the plurality of pixel electrodes and the counter electrode. In the above, a video signal is input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of pixel TFTs, and a video signal input to the plurality of pixel electrodes is based on the potential of the counter electrode every frame period. Wherein the polarity is inverted, and the length of the frame period is different for each frame period.
【請求項2】複数の画素TFT及び複数の画素電極を含
む複数の画素と、複数のソース信号線と、複数のゲート
信号線と、対向電極と、前記複数の画素電極と前記対向
電極の間に設けられた液晶とを有する半導体表示装置の
駆動方法において、 前記複数のゲート信号線に入力される選択信号によっ
て、前記複数の画素TFTのスイッチングが制御され、 前記複数のソース信号線に入力される映像信号は、前記
複数の画素TFTを介して、前記複数の画素電極に入力
され、 前記複数の画素電極に入力される映像信号は、1フレー
ム期間ごとに前記対向電極の電位を基準として極性が反
転しており、 1フレーム期間ごとにフレーム期間の長さが異なってい
ることを特徴とする半導体表示装置の駆動方法。
2. A plurality of pixels including a plurality of pixel TFTs and a plurality of pixel electrodes, a plurality of source signal lines, a plurality of gate signal lines, a counter electrode, and a portion between the plurality of pixel electrodes and the counter electrode. In the method for driving a semiconductor display device having a liquid crystal provided in the semiconductor device, switching of the plurality of pixel TFTs is controlled by a selection signal input to the plurality of gate signal lines, and input to the plurality of source signal lines. The video signal is input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of pixel TFTs, and the video signal input to the plurality of pixel electrodes has a polarity based on the potential of the counter electrode every frame period. Wherein the length of the frame period is different for each frame period.
【請求項3】複数の画素TFT及び複数の画素電極を含
む複数の画素と、複数のソース信号線と、複数のゲート
信号線と、対向電極と、前記複数の画素電極と前記対向
電極の間に設けられた液晶とを有する半導体表示装置の
駆動方法において、 前記複数のゲート信号線に入力される選択信号によっ
て、前記複数の画素TFTのスイッチングが制御され、 前記複数のソース信号線に入力される映像信号は、前記
複数の画素TFTを介して前記複数の画素電極に入力さ
れ、 前記複数のソース信号線のそれぞれに入力される映像信
号の極性は、1フレーム期間中、前記対向電極の電位を
基準として常に同じ極性を有しており、 前記複数のソース信号線のうち隣接しているソース信号
線に入力される映像信号の極性は、前記対向電極の電位
を基準として互いに反転しており、 前記複数のソース信号線に入力される映像信号は、前記
対向電極の電位を基準として、1フレーム期間ごとに極
性が反転しており、 1フレーム期間ごとにフレーム期間の長さが異なってい
ることを特徴とする半導体表示装置の駆動方法。
3. A plurality of pixels including a plurality of pixel TFTs and a plurality of pixel electrodes, a plurality of source signal lines, a plurality of gate signal lines, a counter electrode, and a portion between the plurality of pixel electrodes and the counter electrode. In the method for driving a semiconductor display device having a liquid crystal provided in the semiconductor device, switching of the plurality of pixel TFTs is controlled by a selection signal input to the plurality of gate signal lines, and input to the plurality of source signal lines. The video signal is input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of pixel TFTs, and the polarity of the video signal input to each of the plurality of source signal lines is equal to the potential of the counter electrode during one frame period. The polarity of a video signal input to an adjacent source signal line among the plurality of source signal lines is always based on the potential of the counter electrode. The video signals input to the plurality of source signal lines have polarities inverted every frame period with reference to the potential of the counter electrode, A driving method for a semiconductor display device, wherein the lengths of the semiconductor display devices are different.
【請求項4】複数の画素TFT及び複数の画素電極を含
む複数の画素と、複数のソース信号線と、複数のゲート
信号線と、対向電極と、前記複数の画素電極と前記対向
電極の間に設けられた液晶とを有する半導体表示装置の
駆動方法において、 前記複数のゲート信号線に入力される選択信号によっ
て、前記複数の画素TFTのスイッチングが制御され、 前記複数のソース信号線に入力される映像信号は、前記
複数の画素TFTを介して前記複数の画素電極に入力さ
れ、 前記複数のソース信号線に入力される全ての映像信号の
極性は、1ライン期間中、前記対向電極の電位を基準と
して同じ極性を有しており、 隣接しているライン期間において、前記複数のソース信
号線に入力される映像信号の極性は、前記対向電極の電
位を基準として互いに反転しており、 前記複数のソース信号線に入力される映像信号は、前記
対向電極の電位を基準として、1フレーム期間ごとに極
性が反転しており、 1フレーム期間ごとにフレーム期間の長さが異なってい
ることを特徴とする半導体表示装置の駆動方法。
4. A plurality of pixels including a plurality of pixel TFTs and a plurality of pixel electrodes, a plurality of source signal lines, a plurality of gate signal lines, a counter electrode, and a portion between the plurality of pixel electrodes and the counter electrode. In the method for driving a semiconductor display device having a liquid crystal provided in the semiconductor device, switching of the plurality of pixel TFTs is controlled by a selection signal input to the plurality of gate signal lines, and input to the plurality of source signal lines. Video signals are input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of pixel TFTs, and the polarity of all video signals input to the plurality of source signal lines is the potential of the counter electrode during one line period. The polarities of the video signals input to the plurality of source signal lines in adjacent line periods are mutually the same with respect to the potential of the counter electrode. The polarity of the video signal input to the plurality of source signal lines is inverted every frame period with reference to the potential of the counter electrode, and the length of the frame period is changed every frame period. A method for driving a semiconductor display device, wherein
【請求項5】複数の画素TFT及び複数の画素電極を含
む複数の画素と、複数のソース信号線と、複数のゲート
信号線と、対向電極と、前記複数の画素電極と前記対向
電極の間に設けられた液晶とを有する半導体表示装置の
駆動方法において、 前記複数のゲート信号線に入力される選択信号によっ
て、前記複数の画素TFTのスイッチングが制御され、 前記複数のソース信号線に入力される映像信号は、前記
複数の画素TFTを介して前記複数の画素電極に入力さ
れ、 1フレーム期間中において、前記複数の画素電極に入力
される全ての映像信号は、前記対向電極の電位を基準と
して常に同じ極性を有しており、 前記複数の画素電極に入力される映像信号は、前記対向
電極の電位を基準として、1フレーム期間ごとに極性が
反転しており、 1フレーム期間ごとにフレーム期間の長さが異なってい
ることを特徴とする半導体表示装置の駆動方法。
5. A plurality of pixels including a plurality of pixel TFTs and a plurality of pixel electrodes, a plurality of source signal lines, a plurality of gate signal lines, a counter electrode, and a portion between the plurality of pixel electrodes and the counter electrode. In the method for driving a semiconductor display device having a liquid crystal provided in the semiconductor device, switching of the plurality of pixel TFTs is controlled by a selection signal input to the plurality of gate signal lines, and input to the plurality of source signal lines. Video signals are input to the plurality of pixel electrodes via the plurality of pixel TFTs. During one frame period, all video signals input to the plurality of pixel electrodes are based on the potential of the counter electrode. The video signal input to the plurality of pixel electrodes has a polarity that is inverted every frame period with reference to the potential of the counter electrode, A method for driving a semiconductor display device, wherein the length of a frame period is different for each frame period.
【請求項6】請求項1乃至請求項5のいずれか1項にお
いて、前記フレーム期間の長さは、1フレーム期間ごと
にランダムに異なっていることを特徴とする半導体表示
装置の駆動方法。
6. The driving method of a semiconductor display device according to claim 1, wherein the length of the frame period is randomly different for each frame period.
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