JP2001081282A - Epoxy resin composition and flexible printed wiring board material containing the same - Google Patents

Epoxy resin composition and flexible printed wiring board material containing the same

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JP2001081282A
JP2001081282A JP26176199A JP26176199A JP2001081282A JP 2001081282 A JP2001081282 A JP 2001081282A JP 26176199 A JP26176199 A JP 26176199A JP 26176199 A JP26176199 A JP 26176199A JP 2001081282 A JP2001081282 A JP 2001081282A
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JP
Japan
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epoxy resin
resin composition
composition according
skeleton
type epoxy
Prior art date
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Pending
Application number
JP26176199A
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Japanese (ja)
Inventor
Toyofumi Asano
豊文 浅野
Tomoe Umeyama
智江 梅山
Masahiro Imaizumi
雅裕 今泉
Yoshihiro Kawada
義浩 川田
Haruki Niimoto
昭樹 新本
Takumi Kobayashi
小林  巧
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
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Publication date
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an epoxy resin composition that can give a flexible printed wiring board excellent in resistance to repeated flex, heat resistance, humidity resistance, and adhesion by mixing an epoxy resin with a curing agent and a phenolic-hydroxyl-containing polyamide/polybutadiene/acrylonitrile copolymer in a specified weight ratio. SOLUTION: This composition comprises (A) an epoxy resin, (B) a curing agent, and (C) a phenolic-hydroxyl-containing polyamide/polybutadiene/ acrylonitrile copolymer in a weight ratio C/(A+B+C) of 0.05-0.90. It is desirable that component C is the one obtained by reacting a dicarboxylic acid component containing a phenolic-hydroxyl-containing dicarboxylic acid with 3,4'- diaminodiphenyl ether, particularly, a copolymer represented by the formula. In the formula, x=3-7; y=1-4; z=5-15; 1+m=2-200; and m/(l+m)>=0.14. It is desirable that component A is a glycidyl ether type epoxy resin and that component B is a phenolic curing agent.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はフレキシブル印刷配
線板材料であるフレキシブル印刷配線用基板、カバーレ
イ材料及びボンディングシートに使用される、優れた耐
繰り返し屈曲性、接着性、耐熱性、耐湿性を有するエポ
キシ樹脂組成物及びそれを用いたフレキシブル印刷配線
用基板、カバーレイ材料及びボンディングシートに関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a flexible printed wiring board material, a flexible printed wiring board, a coverlay material and a bonding sheet, which have excellent repetitive bending resistance, adhesiveness, heat resistance and moisture resistance. The present invention relates to an epoxy resin composition having the same, a substrate for flexible printed wiring, a coverlay material, and a bonding sheet using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】 近年、エレクトロニクス分野の発展が
目覚ましく、特に通信用・民生用の電子機器の小型化、
軽量化、高密度化が進み、これらの性能に対する要求が
ますます高度なものとなっている。このような要求に対
して、フレキシブル印刷配線板は可撓性を有し、繰り返
し屈曲に耐える特性を有しているため狭い空間に立体的
高密度の実装が可能であり、電子機器への配線、ケーブ
ル、或いはコネクター機能を付与した複合部品としてそ
の用途が拡大しつつある。このフレキシブル印刷配線板
は、フレキシブル印刷配線用基板上に常法により回路を
作製したものであり、使用目的によっては、この回路の
上にカバーレイを被せて保護している。
2. Description of the Related Art In recent years, the development of the electronics field has been remarkable, and in particular, the miniaturization of communication and consumer electronic devices,
With the progress of weight reduction and high density, demands for these performances are becoming more and more advanced. In response to such demands, flexible printed wiring boards are flexible and have the property of withstanding repeated bending, so that they can be mounted three-dimensionally and with high density in a narrow space, and can be connected to electronic devices. Its use is expanding as a composite component having a cable or a connector function. This flexible printed wiring board is obtained by forming a circuit on a substrate for flexible printed wiring by a conventional method, and depending on the purpose of use, the circuit is covered with a coverlay to protect it.

【0003】 フレキシブル印刷配線用基板は高い耐熱
性と優れた電気・機械特性を備えている電気絶縁性の基
材フィルムと金属箔とを接着剤を介して積層一体化した
もので、このフレキシブル印刷配線用基板に要求される
特性としては、接着性、密着性、耐熱性、電気特性、加
工性等が挙げられる。
A flexible printed wiring board is formed by laminating and integrating an electrically insulating base film having high heat resistance and excellent electrical and mechanical properties with a metal foil via an adhesive. Characteristics required for the wiring substrate include adhesiveness, adhesion, heat resistance, electrical characteristics, workability, and the like.

【0004】 特に近年では、ICチップをフレキシブ
ル印刷配線板に直接搭載したCOF(Chip on
Flex)が実用化されたり、CSP(ChipSca
le Packaging)、MCM(Multi C
hip Module)のインターポーザとしてフレキ
シブル印刷配線基板が採用されるなど、半導体パッケー
ジ構成材料としてのフレキシブル印刷配線基板は耐熱
性、耐湿性の更なる向上を求められている。
In recent years, in particular, a COF (Chip on Chip) in which an IC chip is directly mounted on a flexible printed wiring board has been developed.
Flex) has been commercialized or CSP (ChipSca)
le Packaging, MCM (Multi C)
A flexible printed wiring board as a semiconductor package constituent material is required to further improve heat resistance and moisture resistance, for example, a flexible printed wiring board is adopted as an interposer of a hip module.

【0005】 カバーレイは、フレキシブル印刷配線板
の回路保護、屈曲性の向上等の為に設けるものである。
カバーレイ材料の種類には電気絶縁性の基材フィルムの
片面に接着剤を塗布したフィルムベースカバーレイ、接
着剤層が絶縁層を兼ねるドライフィルムタイプ、液状タ
イプ等がある。これらカバーレイに要求される特性は、
保存性、密着性、耐熱性、電気特性、加工性等が挙げら
れる。
The coverlay is provided for protecting a circuit of a flexible printed wiring board, improving flexibility, and the like.
Types of coverlay materials include a film-based coverlay in which an adhesive is applied to one side of an electrically insulating base film, a dry film type in which the adhesive layer also serves as an insulating layer, a liquid type, and the like. The characteristics required for these coverlays are:
Examples include storability, adhesion, heat resistance, electrical characteristics, workability, and the like.

【0006】 ボンディングシートは、離型材の片面に
接着剤を塗布したものと別の離型材とを貼り合わせたも
ので、フレキシブル印刷配線板とフレキシブル印刷配線
板とを貼り合わせて多層フレキシブル印刷配線板を製造
する場合やフレキシブル印刷配線板と補強板とを貼り合
わせる場合等の接着材料として使用される。このボンデ
ィングシートに要求される特性は保存性、密着性、耐熱
性、電気特性、加工性等が挙げられる
[0006] The bonding sheet is formed by laminating a release material having one surface coated with an adhesive and another release material. The bonding sheet is formed by laminating a flexible printed wiring board and a flexible printed wiring board to each other. Is used as an adhesive material for manufacturing flexible printed wiring boards and bonding reinforcing boards to flexible printed wiring boards. Properties required for this bonding sheet include storability, adhesion, heat resistance, electrical properties, workability, and the like.

【0007】 従来、これらの要求を満たすことのでき
る、フレキシブル印刷配線用基板、カバーレイ材料、ボ
ンディングシート等のフレキシブル印刷配線板材料に使
用される接着剤として、ナイロン/エポキシ樹脂系、ア
クリル/フェノール樹脂系、ポリエステル/エポキシ樹
脂系、ニトリルゴム(NBR)/エポキシ樹脂系等の接
着剤が提案されているが、繰り返し屈曲性を満足させる
ためガラス転移温度は低く設計されており耐熱性及び耐
湿性において満足なものでは無かった。
Conventionally, nylon / epoxy resin, acrylic / phenol, and the like have been used as adhesives used in flexible printed wiring board materials such as flexible printed wiring boards, coverlay materials, bonding sheets, etc., which can satisfy these requirements. Adhesives of resin type, polyester / epoxy resin type, nitrile rubber (NBR) / epoxy resin type, etc. have been proposed, but the glass transition temperature is designed to be low in order to satisfy the repeated bending property, and the heat resistance and moisture resistance Was not satisfactory.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】 本発明は、前記問題
点を解決することを目的として、繰り返し屈曲性に優れ
ると同時に耐熱性、耐湿性に優れたエポキシ樹脂組成物
及びそれを用いたフレキシブル印刷配線用基板、カバー
レイ材料及びボンディングシートを提供する。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems by providing an epoxy resin composition having excellent flexibility and heat resistance and moisture resistance at the same time, and flexible printing using the same. Provided are a wiring substrate, a coverlay material, and a bonding sheet.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】 本発明者らは前記した
課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の共重合
体を特定の割合で含有せしめることにより、上記性能を
同時に満足させるエポキシ樹脂組成物が得られることを
見出したものである。即ち、本発明は(1)エポキシ樹
脂(a)、硬化剤(b)、並びにフェノール性水酸基含
有ポリアミド−ポリブタジエン−アクリロニトリル共重
合体(c)を含有し、それらの配合重量比(重量比)が
(c)/{(a)+(b)+(c)}=0.05〜0.
90であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物、
(2)配合重量比が(c)/{(a)+(b)+
(c)}=0.30〜0.70である上記(1)に記載
のエポキシ樹脂組成物、(3)フェノール性水酸基含有
ポリアミド−ポリブタジエン−アクリロニトリル共重合
体(c)がフェノール性水酸基を有するジカルボン酸を
含有するジカルボン酸とジアミンを反応させ得られたも
のであって、該ジアミンとして3,4’−ジアミノジフ
ェニルエーテルを用いて得られたものである上記(1)
または(2)に記載のエポキシ樹脂組成物、(4)フェ
ノール性水酸基含有ポリアミド−ポリブタジエン−アク
リロニトリル共重合体(c)が下記式(化2)
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, by including a specific copolymer in a specific ratio, an epoxy resin which simultaneously satisfies the above-mentioned properties. It has been found that a resin composition can be obtained. That is, the present invention comprises (1) an epoxy resin (a), a curing agent (b), and a phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer (c), and their compounding weight ratio (weight ratio) is as follows. (C) / {(a) + (b) + (c)} = 0.05-0.
90, an epoxy resin composition,
(2) The compounding weight ratio is (c) / {(a) + (b) +
(C) The epoxy resin composition according to the above (1), wherein} = 0.30 to 0.70, (3) the phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer (c) has a phenolic hydroxyl group. The above-mentioned (1), which is obtained by reacting a dicarboxylic acid containing a dicarboxylic acid with a diamine and obtained by using 3,4′-diaminodiphenyl ether as the diamine.
Or the epoxy resin composition according to (2), and (4) a phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer (c) represented by the following formula (Formula 2)

【0010】[0010]

【化2】 Embedded image

【0011】(式中、x、y、z、l、m及びnは、そ
れぞれ平均重合度であって、x=3〜7、y=1〜4、
z=5〜15、l+m=2〜200の整数をそれぞれ示
し、m/(l+m)≧0.04である。)で示される共
重合体である上記(1)乃至(3)の何れか1項に記載
のエポキシ樹脂組成物、(5)エポキシ樹脂(a)がグ
リシジルエーテル型エポキシ樹脂である上記(1)乃至
(4)の何れか1項に記載のエポキシ樹脂組成物、
(6)グリシジルエーテル型エポキシ樹脂がビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂である上記(5)に記載のエポキ
シ樹脂組成物、(7)グリシジルエーテル型エポキシ樹
脂がビスフェノールF型エポキシ樹脂である上記(5)
に記載のエポキシ樹脂組成物、(8)グリシジルエーテ
ル型エポキシ樹脂がフェノールノボラック型エポキシ樹
脂である上記(5)に記載のエポキシ樹脂組成物、
(9)フェノールノボラック型エポキシ樹脂がフェノー
ル骨格中にメチル基を有するノボラック型エポキシ樹脂
である上記(8)に記載のエポキシ樹脂組成物、(1
0)グリシジルエーテル型エポキシ樹脂がフェノール骨
格とナフトール骨格を有するノボラック型エポキシ樹脂
である上記(5)に記載のエポキシ樹脂組成物、(1
1)フェノール骨格とナフトール骨格を有するノボラッ
ク型エポキシ樹脂がフェノール骨格中にメチル基を有す
るノボラック型エポキシ樹脂である上記(10)に記載
のエポキシ樹脂組成物、(12)グリシジルエーテル型
エポキシ樹脂がフェノール骨格とビフェニル骨格を有す
るノボラック型エポキシ樹脂である上記(5)に記載の
エポキシ樹脂組成物、(13)グリシジルエーテル型エ
ポキシ樹脂がトリフフェニルメタン骨格を有するノボラ
ック型エポキシ樹脂である上記(5)に記載のエポキシ
樹脂組成物、(14)グリシジルエーテル型エポキシ樹
脂がジシクロペンタジエン骨格を有するノボラック型エ
ポキシ樹脂である上記(5)に記載のエポキシ樹脂組成
物、(15)硬化剤(b)がフェノール系硬化剤である
上記(1)乃至(14)の何れか1項に記載のエポキシ
樹脂組成物、(16)硬化後のガラス転移点が80℃以
上である上記(1)乃至(15)の何れか1項に記載の
エポキシ樹脂組成物、(17)硬化後のガラス転移点が
120℃以上である上記(16)に記載のエポキシ樹脂
組成物、(18)上記(1)乃至(17)の何れか1項
に記載のエポキシ樹脂組成物を用いたフレキシブル印刷
配線用基板、(19)上記(1)乃至(17)の何れか
1項に記載のエポキシ樹脂組成物を用いたカバーレイフ
ィルム、(20)上記(1)乃至(17)の何れか1項
に記載のエポキシ樹脂組成物を用いたボンディングシー
ト、(21)上記(1)乃至(17)の何れか1項に記
載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物に関す
る。
(Where x, y, z, l, m and n are average degrees of polymerization, respectively; x = 3-7, y = 1-4,
z is an integer of 5 to 15 and l + m is an integer of 2 to 200, and m / (l + m) ≧ 0.04. The epoxy resin composition according to any one of the above (1) to (3), wherein the epoxy resin (a) is a glycidyl ether type epoxy resin. The epoxy resin composition according to any one of (1) to (4),
(6) The epoxy resin composition according to the above (5), wherein the glycidyl ether type epoxy resin is a bisphenol A type epoxy resin, and (7) the above (5), wherein the glycidyl ether type epoxy resin is a bisphenol F type epoxy resin.
(8) The epoxy resin composition according to (5), wherein the glycidyl ether type epoxy resin is a phenol novolak type epoxy resin.
(9) The epoxy resin composition according to the above (8), wherein the phenol novolak type epoxy resin is a novolak type epoxy resin having a methyl group in a phenol skeleton.
0) The epoxy resin composition according to the above (5), wherein the glycidyl ether type epoxy resin is a novolak type epoxy resin having a phenol skeleton and a naphthol skeleton.
1) The epoxy resin composition according to the above (10), wherein the novolak type epoxy resin having a phenol skeleton and a naphthol skeleton is a novolak type epoxy resin having a methyl group in the phenol skeleton, and (12) the glycidyl ether type epoxy resin is phenol. The epoxy resin composition according to the above (5), which is a novolak type epoxy resin having a skeleton and a biphenyl skeleton; and (13) the epoxy resin composition according to the above (5), wherein the glycidyl ether type epoxy resin is a novolak type epoxy resin having a trifphenylmethane skeleton. (14) The epoxy resin composition according to (5), wherein the glycidyl ether type epoxy resin is a novolak type epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton, and (15) the curing agent (b) is phenol. (1) to () 4) The epoxy resin composition according to any one of the above items (1) to (15), wherein the glass transition point after curing is 80 ° C. or higher. (17) The epoxy resin composition according to the above (16), wherein the glass transition point after curing is 120 ° C. or more, (18) the epoxy resin composition according to any one of the above (1) to (17). (19) A coverlay film using the epoxy resin composition according to any one of the above (1) to (17), (20) a coverlay film using the epoxy resin composition according to any one of the above (1) to (17). And (21) a cured sheet obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of (1) to (17). .

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】 以下本発明について詳細に説明
する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0013】 本発明で使用するエポキシ樹脂組成物は
エポキシ樹脂(a)、硬化剤(b)、並びにフェノール
性水酸基含有ポリアミド−ポリブタジエン−アクリロニ
トリル共重合体(c)を含有する。
The epoxy resin composition used in the present invention contains an epoxy resin (a), a curing agent (b), and a phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer (c).

【0014】 本発明で用いられるエポキシ樹脂(a)
は、例えばポリフェノール化合物のグリシジルエーテル
化物である多官能エポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂の
グリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂、脂
環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジル
エステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ
樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポ
キシ樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるもので
はない。ここで、多官能エポキシ樹脂とはグリシジル基
を2つ以上有するエポキシ樹脂のことである。
Epoxy resin (a) used in the present invention
Are, for example, a polyfunctional epoxy resin which is a glycidyl etherified product of a polyphenol compound, a polyfunctional epoxy resin which is a glycidyl etherified product of various novolak resins, an alicyclic epoxy resin, a heterocyclic epoxy resin, a glycidyl ester-based epoxy resin, and glycidylamine. Examples include, but are not limited to, epoxy resins and epoxy resins obtained by glycidylation of halogenated phenols. Here, the polyfunctional epoxy resin is an epoxy resin having two or more glycidyl groups.

【0015】 ポリフェノール類化合物のグリシジルエ
ーテル化物である多官能エポキシ樹脂としては、例えば
ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノール
S、4,4’−ビフェニルフェノール、テトラメチルビ
スフェノールA、ジメチルビスフェノールA、テトラメ
チルビスフェノールF、ジメチルビスフェノールF、テ
トラメチルビスフェノールS、ジメチルビスフェノール
S、テトラメチル−4,4’−ビフェノール、ジメチル
−4,4’−ビフェニルフェノール、1−(4−ヒドロ
キシフェニル)−2−[4−(1,1−ビス−(4−ヒ
ドロキシフェニル)エチル)フェニル]プロパン、2,
2’−メチレン−ビス(4−メチル−6−tert−ブ
チルフェノール)、4,4’−ブチリデン−ビス(3−
メチル−6−tert−ブチルフェノール)、トリスヒ
ドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキ
ノン、ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有する
フェノール類、1,1−ジ−4−ヒドロキシフェニルフ
ルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フ
ェノール化ポリブタジエン等のポリフェノール化合物の
グリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂が挙
げられる。
Examples of the polyfunctional epoxy resin which is a glycidyl etherified product of a polyphenol compound include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, 4,4′-biphenylphenol, tetramethylbisphenol A, dimethylbisphenol A, and tetramethylbisphenol F , Dimethylbisphenol F, tetramethylbisphenol S, dimethylbisphenol S, tetramethyl-4,4'-biphenol, dimethyl-4,4'-biphenylphenol, 1- (4-hydroxyphenyl) -2- [4- (1 , 1-bis- (4-hydroxyphenyl) ethyl) phenyl] propane, 2,
2′-methylene-bis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidene-bis (3-
Methyl-6-tert-butylphenol), trishydroxyphenylmethane, resorcinol, hydroquinone, pyrogallol, phenols having a diisopropylidene skeleton, phenols having a fluorene skeleton such as 1,1-di-4-hydroxyphenylfluorene, phenol And polyfunctional epoxy resins which are glycidyl etherified products of polyphenol compounds such as polybutadiene.

【0016】 各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテ
ル化物である多官能エポキシ樹脂としては、例えばフェ
ノール、クレゾール類、エチルフェノール類、ブチルフ
ェノール類、オクチルフェノール類、ビスフェノール
A、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ナフトール
類等の各種フェノールを原料とするノボラック樹脂、キ
シリレン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ジシクロ
ペンタジエン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ビフ
ェニル骨格含有フェノールノボラック樹脂、フルオレン
骨格含有フェノールノボラック樹脂、フラン骨格含有フ
ェノールノボラック樹脂等の各種ノボラック樹脂のグリ
シジルエーテル化物が挙げられる。
Examples of polyfunctional epoxy resins which are glycidyl etherified compounds of various novolak resins include various phenols such as phenol, cresols, ethylphenols, butylphenols, octylphenols, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, naphthols and the like. Glycidyl of various novolak resins such as novolak resin, phenol novolak resin containing xylylene skeleton, phenol novolak resin containing dicyclopentadiene skeleton, phenol novolak resin containing biphenyl skeleton, phenol novolak resin containing fluorene skeleton, and phenol novolak resin containing furan skeleton Etherified compounds.

【0017】 脂環式エポキシ樹脂としては、例えばシ
クロヘキサン等の脂肪族骨格を有する脂環式エポキシ樹
脂が挙げられ、脂肪族系エポキシ樹脂としては、例えば
1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、
ポリエチレングリコール、ペンタエリスリトール等の多
価アルコールのグリシジルエーテル類が挙げられる。
Examples of the alicyclic epoxy resin include an alicyclic epoxy resin having an aliphatic skeleton such as cyclohexane, and examples of the aliphatic epoxy resin include 1,4-butanediol and 1,6-hexane. Diol,
Glycidyl ethers of polyhydric alcohols such as polyethylene glycol and pentaerythritol are mentioned.

【0018】 複素環式エポキシ樹脂としては、例えば
イソシアヌル環、ヒダントイン環等の複素環を有する複
素環式エポキシ樹脂が挙げられ、グリシジルエステル系
エポキシ樹脂としては、例えばヘキサヒドロフタル酸ジ
グリシジルエステル等のカルボン酸類からなるエポキシ
樹脂が挙げられ、グリシジルアミン系エポキシ樹脂とし
ては、例えばアニリン、トルイジン等のアミン類をグリ
シジル化したエポキシ樹脂が挙げられる。
Examples of the heterocyclic epoxy resin include a heterocyclic epoxy resin having a heterocyclic ring such as an isocyanuric ring and a hydantoin ring, and examples of the glycidyl ester-based epoxy resin include diglycidyl hexahydrophthalate and the like. Examples of the epoxy resin include carboxylic acids. Examples of the glycidylamine-based epoxy resin include epoxy resins obtained by glycidylation of amines such as aniline and toluidine.

【0019】 ハロゲン化フェノール類をグリシジル化
したエポキシ樹脂としては、例えばブロム化ビスフェノ
ールA、ブロム化ビスフェノールF、ブロム化ビスフェ
ノールS、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化ク
レゾールノボラック、クロル化ビスフェノールS、クロ
ル化ビスフェノールA等のハロゲン化フェノール類をグ
リシジル化したエポキシ樹脂が挙げられる。
Examples of epoxy resins obtained by glycidylation of halogenated phenols include brominated bisphenol A, brominated bisphenol F, brominated bisphenol S, brominated phenol novolak, brominated cresol novolak, chlorinated bisphenol S, and chlorinated bisphenol. An epoxy resin obtained by glycidylation of a halogenated phenol such as A is exemplified.

【0020】 これらエポキシ樹脂のうち、どのエポキ
シ樹脂を用いるかは要求される特性によって適宜選択さ
れるが、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂が好まし
く、更に好ましくは、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂、フェノール骨格とナフトール骨格を有するノボ
ラック型エポキシ樹脂、フェノール骨格とビフェニル骨
格を有するノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメ
タン骨格を有するノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロ
ペンタジエン骨格を有するノボラック型エポキシ樹脂で
ある。フェノール骨格とナフトール骨格を有するノボラ
ック型エポキシ樹脂は、フェノール骨格中にメチル基を
有するものがより好ましく、例えばNC−7000(商
品名:日本化薬(株)製)、NC−7300(商品名:
日本化薬(株)製)として市販されている。フェノール
骨格とビフェニル骨格を有するノボラック型エポキシ樹
脂は、例えば、NC−3000P(商品名:日本化薬
(株)製)として市販されている。トリフェニルメタン
骨格を有するノボラック型エポキシ樹脂は、例えば、E
PPN−501H、EPPN−502H(商品名:日本
化薬(株)製)として市販されている。ジシクロペンタ
ジエン骨格を有するノボラック型エポキシ樹脂は、例え
ば、XD−1000(商品名:日本化薬(株)製)とし
て市販されている。更に、これらエポキシ樹脂は耐熱
性、難燃性付与等必要に応じ1種又は2種以上の混合物
として用いることが出来る。
[0020] Among these epoxy resins, which epoxy resin is used is appropriately selected depending on required characteristics, but a glycidyl ether type epoxy resin is preferable, and a bisphenol A type epoxy resin and a bisphenol F type epoxy resin are more preferable. Phenol novolak epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, novolak epoxy resin having phenol skeleton and naphthol skeleton, novolak epoxy resin having phenol skeleton and biphenyl skeleton, novolak epoxy resin having triphenylmethane skeleton, dicyclo It is a novolak type epoxy resin having a pentadiene skeleton. The novolak type epoxy resin having a phenol skeleton and a naphthol skeleton is more preferably a resin having a methyl group in the phenol skeleton. For example, NC-7000 (trade name: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and NC-7300 (trade name:
Nippon Kayaku Co., Ltd.). A novolak-type epoxy resin having a phenol skeleton and a biphenyl skeleton is commercially available, for example, as NC-3000P (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). Novolak-type epoxy resins having a triphenylmethane skeleton include, for example, E
It is commercially available as PPN-501H and EPPN-502H (trade name: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). A novolak type epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton is commercially available as, for example, XD-1000 (trade name: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). Further, these epoxy resins can be used as one kind or as a mixture of two or more kinds as required, for example, for imparting heat resistance and flame retardancy.

【0021】 本発明で用いられる硬化剤(b)として
は、例えば酸無水物、アミン類、フェノール類、イミダ
ゾール類、ジヒドラジン類、ルイス酸、ブレンステッド
酸塩類、ポリメルカプトン類、イソシアネート類、ブロ
ックイソシアネート類等が挙げられる。
The curing agent (b) used in the present invention includes, for example, acid anhydrides, amines, phenols, imidazoles, dihydrazines, Lewis acids, Bronsted acid salts, polymercaptons, isocyanates, And block isocyanates.

【0022】 用いうる酸無水物としては、例えばフタ
ル酸無水物、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無
水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレ
ングリコール無水トリメリット酸無水物、ビフェニルテ
トラカルボン酸無水物等の芳香族カルボン酸無水物、ア
ゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸等の脂肪族カル
ボン酸の無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサ
ヒドロフタル酸無水物、ナジック酸無水物、ヘット酸無
水物、ハイミック酸無水物等の脂環式カルボン酸無水物
が挙げられる。
Examples of the acid anhydride that can be used include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic anhydride, ethylene glycol trimellitic anhydride, and biphenyltetracarboxylic anhydride. Carboxylic acid anhydrides such as anhydrides, azelaic acid, sebacic acid, aliphatic carboxylic acid anhydrides such as dodecanedioic acid, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, and heptonic anhydride And alicyclic carboxylic acid anhydrides such as hymic acid anhydride.

【0023】 用いうるアミン類としては、例えばジア
ミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォ
ン、ジアミノジフェニルエーテル、p−フェニレンジア
ミン、m−フェニレンジアミン、o−フェニレンジアミ
ン、1,5−ジアミノナフタレン、m−キシリレンジア
ミン等の芳香族アミン、エチレンジアミン、ジエチレン
ジアミン、イソフォロンジアミン、ビス(4−アミノ−
3−メチルジシクロヘキシル)メタン、ポリエーテルジ
アミン等の脂肪族アミン、ジシアンジアミド、1−(o
−トリル)ビグアニド等のグアニジン類が挙げられる。
Examples of amines that can be used include diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, diaminodiphenylether, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, and m-xylylenediamine. Aromatic amine, ethylenediamine, diethylenediamine, isophoronediamine, bis (4-amino-
Aliphatic amines such as 3-methyldicyclohexyl) methane and polyetherdiamine, dicyandiamide, 1- (o
-Tolyl) guanidines such as biguanide;

【0024】 用いうるフェノール類としては、例えば
ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノール
S、4,4’−ビフェニルフェノール、テトラメチルビ
スフェノールA、ジメチルビスフェノールA、テトラメ
チルビスフェノールF、ジメチルビスフェノールF、テ
トラメチルビスフェノールS、ジメチルビスフェノール
S、テトラメチル−4,4’−ビフェノール、ジメチル
−4,4’−ビフェニルフェノール、1−(4−ヒドロ
キシフェニル)−2−[4−(1,1−ビス−(4−ヒ
ドロキシフェニル)エチル)フェニル]プロパン、2,
2’−メチレン−ビス(4−メチル−6−tert−ブ
チルフェノール)、4,4’−ブチリデン−ビス(3−
メチル−6−tert−ブチルフェノール)、トリスヒ
ドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキ
ノン、ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有する
フェノール類、1,1−ジ−4−ヒドロキシフェニルフ
ルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フ
ェノール化ポリブタジエン、フェノール、クレゾール
類、エチルフェノール類、ブチルフェノール類、オクチ
ルフェノール類、ビスフェノールA、ビスフェノール
F、ビスフェノールS、ナフトール類等の各種フェノー
ルを原料とするノボラック樹脂、キシリレン骨格含有フ
ェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含
有フェノールノボラック樹脂、ビフェニル骨格含有フェ
ノールノボラック樹脂、フルオレン骨格含有フェノール
ノボラック樹脂、フラン骨格含有フェノールノボラック
樹脂等の各種ノボラック樹脂、ブロム化ビスフェノール
A、ブロム化ビスフェノールF、ブロム化ビスフェノー
ルS、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾ
ールノボラック、クロル化ビスフェノールS、クロル化
ビスフェノールA等のハロゲン化フェノール類が挙げら
れる。
Examples of usable phenols include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, 4,4′-biphenylphenol, tetramethylbisphenol A, dimethylbisphenol A, tetramethylbisphenol F, dimethylbisphenol F, and tetramethylbisphenol S , Dimethylbisphenol S, tetramethyl-4,4'-biphenol, dimethyl-4,4'-biphenylphenol, 1- (4-hydroxyphenyl) -2- [4- (1,1-bis- (4-hydroxy Phenyl) ethyl) phenyl] propane, 2,
2′-methylene-bis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidene-bis (3-
Methyl-6-tert-butylphenol), trishydroxyphenylmethane, resorcinol, hydroquinone, pyrogallol, phenols having a diisopropylidene skeleton, phenols having a fluorene skeleton such as 1,1-di-4-hydroxyphenylfluorene, phenol Resins derived from various phenols such as polybutadiene, phenol, cresols, ethylphenols, butylphenols, octylphenols, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, and naphthols, phenol novolak resins containing a xylylene skeleton, dicyclopentadiene Phenol novolak resin containing skeleton, phenol novolak resin containing biphenyl skeleton, phenol novolak resin containing fluorene skeleton, fura Various novolak resins such as skeleton-containing phenol novolak resins, brominated bisphenol A, brominated bisphenol F, brominated bisphenol S, brominated phenol novolak, brominated cresol novolac, chlorinated bisphenol S, halogenated phenols such as chlorinated bisphenol A And the like.

【0025】 用いうるイミダゾール類としては、例え
ば2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾー
ル、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイ
ミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、
1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−ベンジ
ル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−
メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニル
イミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミ
ダゾール、2,4−ジアミノ−6(2’−メチルイミダ
ゾール(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジ
アミノ−6(2’−ウンデシルイミダゾール(1’))
エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2’
−エチル,4−メチルイミダゾール(1’))エチル−
s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2’−メチル
イミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン・イソ
シアヌル酸付加物、2-メチルイミダゾールイソシアヌ
ル酸の2:3付加物、2−フェニルイミダゾールイソシ
アヌル酸付加物、2−フェニル−3,5−ジヒドロキシ
メチルイミダゾール、2−フェニル−4−ヒドロキシメ
チル−5−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2
−フェニル−3,5−ジシアノエトキシメチルイミダゾ
ールの各種イミダゾール類、及び、それらイミダゾール
類とフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリ
ット酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、マ
レイン酸、蓚酸等の多価カルボン酸との塩類が挙げられ
る。
Examples of usable imidazoles include 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole,
1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-
Methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 2,4-diamino-6 (2′-methylimidazole (1 ′)) ethyl-s-triazine, 2,4- Diamino-6 (2'-undecylimidazole (1 '))
Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2 ′
-Ethyl, 4-methylimidazole (1 ')) ethyl-
s-Triazine, 2,4-diamino-6 (2′-methylimidazole (1 ′)) ethyl-s-triazine.isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole 2: 3 adduct of isocyanuric acid, 2-phenylimidazole Isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-3,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-hydroxymethyl-5-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2
Various imidazoles of -phenyl-3,5-dicyanoethoxymethylimidazole, and those imidazoles and phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalenedicarboxylic acid, maleic acid, oxalic acid, etc. And salts with polyvalent carboxylic acids.

【0026】 これら硬化剤のうち、どの硬化剤を用い
るかは接着剤に要求される特性によって適宜選択される
が、好ましくはフェノール類である。
[0026] Among these curing agents, which curing agent is used is appropriately selected according to the characteristics required for the adhesive, and is preferably a phenol.

【0027】 これら硬化剤(b)の使用量はエポキシ
樹脂(a)のエポキシ基に対する硬化剤の当量比におい
て通常0.3〜2.0の範囲で、好ましくは0.4〜
1.6の範囲で、更に好ましくは0.5〜1.3の範囲
で用いられる。上記硬化剤は2種以上を混合して用いる
こともできる。
The amount of the curing agent (b) used is generally in the range of 0.3 to 2.0, preferably 0.4 to 2.0, in terms of the equivalent ratio of the curing agent to the epoxy group of the epoxy resin (a).
It is used in the range of 1.6, more preferably in the range of 0.5 to 1.3. The above curing agents can be used as a mixture of two or more kinds.

【0028】 本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化後の
Tg(ガラス転移点)は耐熱性、耐湿性、耐プレッシャ
ークッカ性の観点から80℃以上であることが好まし
く、より好ましくは120℃以上である。この場合のT
gとはエポキシ樹脂組成物をフィルム状に成型・硬化し
たものを動的粘弾性法(DMA法)により測定したとき
のtanδの極大値の温度である。
The Tg (glass transition point) after curing of the epoxy resin composition of the present invention is preferably 80 ° C. or more, more preferably 120 ° C. or more, from the viewpoint of heat resistance, moisture resistance and pressure cooker resistance. is there. T in this case
g is the temperature of the maximum value of tan δ when the epoxy resin composition molded and cured into a film is measured by a dynamic viscoelasticity method (DMA method).

【0029】 本発明ではフェノール性水酸基含有ポリ
アミド−ポリブタジエン−アクリロニトリル共重合体
(c)を使用する。これは耐屈曲性、接着性を付与する
ために必要であり、添加により硬化物にフレキシビリテ
ィを付与すると同時に他のフレキシブル基板構成材料と
の接着強度を増すことが出来る。エポキシ樹脂組成物全
体中、エポキシ樹脂(a)、硬化剤(b)に対するフェ
ノール性水酸基含有ポリアミド−ポリブタジエン−アク
リロニトリル共重合体(c)の配合重量比は、重量比で
(c)/{(a)+(b)+(c)}=0.05〜0.
90であることが好ましく、更に好ましくは(c)/
{(a)+(b)+(c)}=0.30〜0.70であ
る。
In the present invention, a phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer (c) is used. This is necessary for imparting bending resistance and adhesiveness, and by adding the same, flexibility can be imparted to the cured product, and at the same time, the adhesive strength with other flexible substrate constituting materials can be increased. In the entire epoxy resin composition, the weight ratio of the phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer (c) to the epoxy resin (a) and the curing agent (b) was (c) / {(a ) + (B) + (c)} = 0.05-0.
90, more preferably (c) /
{(A) + (b) + (c)} = 0.30 to 0.70.

【0030】 本発明において用いるフェノール性水酸
基含有ポリアミド−ポリブタジエン−アクリロニトリル
共重合体(c)は、例えば次の方法で合成できる。即
ち、フェノール性水酸基を有するジカルボン酸を含有す
るジカルボン酸成分に対して過剰量のジアミンを加え、
これらを例えば、亜リン酸エステルとピリジン誘導体の
存在下で縮合剤を使用して、N−メチル−2−ピロリド
ンによって代表される有機溶媒中で窒素等の不活性雰囲
気下にて加熱攪拌、縮合反応を行って、フェノール性水
酸基を含有するポリアミドオリゴマーを生成させる。こ
の結果、得られた両末端がアミノ基となったフェノール
性水酸基含有ポリアミドオリゴマー溶液に、両末端にカ
ルボキシル基をもつポリブタジエン−アクリロニトリル
共重合体を添加し、重縮合することにより得ることがで
きる。また、このジカルボン酸をジアミンに対して過剰
にして、両末端がカルボン酸基となった該ポリアミドを
合成し、これに対して両末端がアミノ基のポリブタジエ
ン−アクリロニトリル共重合体を使用してブロック化す
ることもできる。更には、これらポリアミドまたはポリ
ブタジエン−アクリロニトリル共重合体の末端を変性し
て、ブロック化できる官能基にすることも可能である。
これ以外の官能基の組み合わせとして、ビニル基と−N
H基または−SH基との組み合わせ等が挙げられる。こ
の様に合成される該ブロック共重合体のポリアミド部分
にフェノール性水酸基を含有させるには、このジカルボ
ン酸またはジアミン中にフェノール性水酸基を含有した
ジカルボン酸またはフェノール性水酸基を含有したジア
ミンを含有させて上記の縮重合を行うことにより可能で
ある。
The phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer (c) used in the present invention can be synthesized, for example, by the following method. That is, an excess amount of diamine is added to a dicarboxylic acid component containing a dicarboxylic acid having a phenolic hydroxyl group,
These are heated and stirred, for example, in an organic solvent represented by N-methyl-2-pyrrolidone under an inert atmosphere such as nitrogen, using a condensing agent in the presence of a phosphite and a pyridine derivative. The reaction is performed to produce a polyamide oligomer containing a phenolic hydroxyl group. As a result, it can be obtained by adding a polybutadiene-acrylonitrile copolymer having a carboxyl group at both ends to the obtained phenolic hydroxyl group-containing polyamide oligomer solution having amino groups at both ends and subjecting the solution to polycondensation. Further, the dicarboxylic acid was added to the diamine in excess to synthesize the polyamide in which both ends became a carboxylic acid group, and the both ends were blocked using a polybutadiene-acrylonitrile copolymer having amino groups at both ends. It can also be converted. Furthermore, it is also possible to modify the terminal of these polyamide or polybutadiene-acrylonitrile copolymers into functional groups that can be blocked.
Other combinations of functional groups include vinyl groups and -N
Examples thereof include a combination with an H group or an -SH group. In order to contain a phenolic hydroxyl group in the polyamide portion of the block copolymer synthesized in this manner, a dicarboxylic acid containing a phenolic hydroxyl group or a diamine containing a phenolic hydroxyl group is contained in the dicarboxylic acid or diamine. This is possible by conducting the above-mentioned condensation polymerization.

【0031】 フェノール性水酸基含有ポリアミド−ポ
リブタジエン−アクリロニトリル共重合体(c)に用い
られるフェノール性水酸基を有するジカルボン酸として
は、例えば5−ヒドロキシイソフタル酸、4−ヒドロキ
シイソフタル酸、2−ヒドロキシフタル酸、3−ヒドロ
キシフタル酸、2−ヒドロキシテレフタル酸、フェノー
ル性水酸基を有しないジカルボン酸としては、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ジカルボキシルナフ
タレン、コハク酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン
酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、4,4′−
ジフェニルジカルボン酸、3,3′−メチレン二安息香
酸等が挙げられる。
The phenolic hydroxyl group-containing dicarboxylic acid used in the phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer (c) includes, for example, 5-hydroxyisophthalic acid, 4-hydroxyisophthalic acid, 2-hydroxyphthalic acid, 3-hydroxyphthalic acid, 2-hydroxyterephthalic acid, dicarboxylic acids having no phenolic hydroxyl group include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, dicarboxylnaphthalene, succinic acid, fumaric acid, glutaric acid, adipic acid, 3-cyclohexanedicarboxylic acid, 4,4'-
Examples include diphenyldicarboxylic acid and 3,3'-methylene dibenzoic acid.

【0032】 ジアミン成分としては、フェノール性水
酸基を含有するジアミンとして、3,3′−ジアミン−
4,4′−ジヒドロキシフェニルメタン、2,2−ビス
(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフロロ
プロパン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシ
フェニル)ジフロロメタン、3,4−ジアミノ−1,5
−ベンゼンジオール、3,3′−ジヒドロキシ−4,
4′−ジアミノビスフェニル、3,3′−ジアミノ−
4,4′−ジヒドロキシビフェニル、2,2−ビス(3
−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ケトン、2,2−
ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)スルフィ
ド、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニ
ル)エーテル、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロ
キシフェニル)スルホン、2,2−ビス(3−アミノ−
4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3
−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)プロパン、2,2
−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)メタン
等、フェノール性水酸基を含有しないジアミンとして、
3,3′−ジアミノジフェニルエーテル、3,4′−ジ
アミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノジフェ
ニルエーテル、ジアミノナフタレン、ピペラジン、ヘキ
サネチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、m−キ
シレンジアミン、4,4′−ジアミノジフェニルメタ
ン、4,4′−ジアミノベンゾフェノン、2,2′−ビ
ス(4−アミノフェニル)プロパン、3,3′−ジアミ
ノジフェニルスルホン、3,3′−ジアミノジフェニル
等が挙げられ、特に3,4′−ジアミノジフェニルエー
テルが好ましいが、本発明ではこれらに限定されるもの
ではない。
As the diamine component, as a diamine containing a phenolic hydroxyl group, 3,3′-diamine-
4,4'-dihydroxyphenylmethane, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) difluoromethane, 3,4-diamino -1,5
-Benzenediol, 3,3'-dihydroxy-4,
4'-diaminobisphenyl, 3,3'-diamino-
4,4'-dihydroxybiphenyl, 2,2-bis (3
-Amino-4-hydroxyphenyl) ketone, 2,2-
Bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) sulfide, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) ether, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) sulfone, 2,2 -Bis (3-amino-
4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3
-Hydroxy-4-aminophenyl) propane, 2,2
As a diamine containing no phenolic hydroxyl group, such as -bis (3-hydroxy-4-aminophenyl) methane,
3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, diaminonaphthalene, piperazine, hexanetylenediamine, tetramethylenediamine, m-xylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane , 4,4'-diaminobenzophenone, 2,2'-bis (4-aminophenyl) propane, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenyl and the like. Diaminodiphenyl ether is preferable, but the present invention is not limited to these.

【0033】 これらのうちで特に好ましいフェノール
性水酸基含有ポリアミド−ポリブタジエン−アクリロニ
トリル共重合体(c)は下記式(化3)
Of these, a particularly preferred phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer (c) is represented by the following formula (Formula 3)

【0034】[0034]

【化3】 Embedded image

【0035】(式中、x、y、z、l、m及びnは、そ
れぞれ平均重合度であって、x=3〜7、y=1〜4、
z=5〜15、l+m=2〜200の整数をそれぞれ示
し、m/(l+m)≧0.04である。)で示される共
重合体である。
(Where x, y, z, l, m and n are average degrees of polymerization, respectively; x = 3-7, y = 1-4,
z is an integer of 5 to 15 and l + m is an integer of 2 to 200, and m / (l + m) ≧ 0.04. ).

【0036】 また、両末端に種々の官能基を持つポリ
ブタジエン−アクリロニトリル共重合体は、Goodr
ich社からHycar CTBNとして市販されてお
り、これらを前記のフェノール性水酸基含有ポリアミド
とブロック化するために使用することができる。
A polybutadiene-acrylonitrile copolymer having various functional groups at both terminals is available from Goodr.
It is commercially available as Hycar CTBN from ich and can be used to block them with the phenolic hydroxyl-containing polyamides described above.

【0037】 本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要
に応じて硬化促進剤を含有させることもできる。この硬
化促進剤としては、例えばトリフェニルホスフィン等の
リン系化合物、例えば、トリエチルアミン、テトラエタ
ノールアミン、1,8−ジアザ−ビシクロ〔5.4.
0〕−7−ウンデセン(DBU)、N,N−ジメチルベ
ンジルアミン、1,1,3,3−テトラメチルグアニジ
ン、2−エチル−4−メチルイミダゾール、N−メチル
ピペラジン等の第3級アミン系化合物、例えば1,8−
ジアザ−ビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセニウム
テトラフェニルボレート等のホウ素系化合物が挙げられ
る。
The epoxy resin composition of the present invention may contain a curing accelerator, if necessary. Examples of the curing accelerator include phosphorus compounds such as triphenylphosphine, for example, triethylamine, tetraethanolamine, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.
0] -7-undecene (DBU), tertiary amines such as N, N-dimethylbenzylamine, 1,1,3,3-tetramethylguanidine, 2-ethyl-4-methylimidazole, N-methylpiperazine Compounds, for example 1,8-
And boron-based compounds such as diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecenium tetraphenylborate.

【0038】 本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要
に応じて、他の添加物を加えることができる。例えば天
然ワックス類、合成ワックス類および長鎖脂肪族酸の金
属塩類等の可塑剤、酸アミド類、エステル類、パラフィ
ン類などの離型剤、ニトリルゴム、ブタジエンゴム等の
応力緩和剤、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、酸
化錫、水酸化錫、酸化モリブデン、硼酸亜鉛、メタ硼酸
バリウム、赤燐、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシ
ウム、アルミン酸カルシウム等の無機難燃剤、テトラブ
ロモビスフェノールA、テトラブロモ無水フタル酸、ヘ
キサブロモベンゼン、ブロム化フェノールノボラック等
の臭素系難燃剤、シラン系カップリング剤、チタネート
系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等の
カップリング剤、溶融シリカ、結晶性シリカ、低α線シ
リカ、ガラスフレーク、ガラスビーズ、ガラスバルー
ン、タルク、アルミナ、ケイ酸カルシウム、水酸化アル
ミニウム、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、マグネシ
ア、窒化ケイ素、窒化ホウ素、フェライト、希土コバル
ト、金、銀、ニッケル、銅、鉛、鉄粉、酸化鉄、砂鉄等
の金属粉、黒鉛、カーボン、弁柄、黄鉛等の無機質充填
剤または導電性粒子等、染料や顔料等の着色剤、炭素繊
維、ガラス繊維、ボロン繊維、シリコンカーバイト繊
維、アルミナ繊維、シリカアルミナ繊維などの無機系繊
維、アラミド繊維、ポリエステル繊維、セルロース繊
維、炭素繊維などの有機系繊維、酸化安定剤、光安定
剤、耐湿性向上剤、チキソトロピー付与剤、希釈剤、消
泡剤、他の各種の樹脂、粘着付与剤、帯電防止剤、滑
剤、紫外線吸収剤等を配合することもできる。
[0038] Other additives can be added to the epoxy resin composition of the present invention as needed. For example, plasticizers such as natural waxes, synthetic waxes and metal salts of long-chain aliphatic acids, release agents such as acid amides, esters and paraffins, stress relievers such as nitrile rubber and butadiene rubber, and trioxide Inorganic flame retardants such as antimony, antimony pentoxide, tin oxide, tin hydroxide, molybdenum oxide, zinc borate, barium metaborate, red phosphorus, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium aluminate, tetrabromobisphenol A, tetrabromo anhydride Brominated flame retardants such as phthalic acid, hexabromobenzene, brominated phenol novolak, coupling agents such as silane coupling agents, titanate coupling agents, aluminum coupling agents, fused silica, crystalline silica, low α Linear silica, glass flake, glass beads, glass balloon, talc Metals such as alumina, calcium silicate, aluminum hydroxide, calcium carbonate, barium sulfate, magnesia, silicon nitride, boron nitride, ferrite, rare earth cobalt, gold, silver, nickel, copper, lead, iron powder, iron oxide, iron sand, etc. Inorganic fillers such as powder, graphite, carbon, red iron oxide, and graphite or conductive particles, coloring agents such as dyes and pigments, carbon fiber, glass fiber, boron fiber, silicon carbide fiber, alumina fiber, silica-alumina fiber Such as inorganic fibers, organic fibers such as aramid fibers, polyester fibers, cellulose fibers, and carbon fibers, oxidation stabilizers, light stabilizers, moisture resistance improvers, thixotropy-imparting agents, diluents, defoamers, and various other types. , A resin, a tackifier, an antistatic agent, a lubricant, an ultraviolet absorber, and the like.

【0039】 本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキ
シ樹脂(a)、硬化剤(b)およびフェノール性水酸基
含有ポリアミド−ポリブタジエン−アクリロニトリル共
重合体(c)、必要に応じ硬化促進剤、その他の添加剤
を混合して得ることができ、下記する接着剤として使用
する場合、上記各成分を所定の割合で溶媒中で均一に混
合させることによりワニスとする。この場合の溶媒とし
ては、例えばトルエン、エタノール、セロソルブ、テト
ラヒドロフラン、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチ
ルホルムアミド等の有機溶媒が挙げられる。
The epoxy resin composition of the present invention comprises an epoxy resin (a), a curing agent (b), a phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer (c), a curing accelerator if necessary, and other additives. When used as an adhesive described below, a varnish is obtained by uniformly mixing the above components at a predetermined ratio in a solvent. Examples of the solvent in this case include organic solvents such as toluene, ethanol, cellosolve, tetrahydrofuran, N-methyl-2-pyrrolidone, and dimethylformamide.

【0040】 本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化は、
主に加熱硬化により行うが、例えば室温前後での触媒や
酸素、湿気によって起こる常温硬化、紫外線照射で発生
する酸による触媒によって起こる光硬化等を併用するこ
とも可能である。
The curing of the epoxy resin composition of the present invention comprises:
It is mainly carried out by heat curing, but it is also possible to use, for example, room temperature curing caused by a catalyst or oxygen or moisture at around room temperature, or photocuring caused by a catalyst caused by an acid generated by ultraviolet irradiation.

【0041】 本発明のエポキシ樹脂組成物は、フレキ
シブル印刷配線用基板、カバーレイ材料、ボンディング
シート(以下、これらをあわせてフレキシブル印刷配線
板材料という)を構成する接着剤として好ましく使用で
きる。フレキシブル配線用基板の構成は、電気絶縁性フ
ィルム/接着剤/金属箔からなる3層構造であり、接着
剤の厚さは一般に10〜20μmであるが、使用状況等
により適宜決められる。カバーレイ材料の形態としては
基材フィルムの片面に接着剤を塗布したフィルムベース
カバーレイが主流である。フィルムベースカバーレイの
構成は、電気絶縁性フィルム/接着剤/離型材からなる
3層構造であり、接着剤の厚さは一般に15〜50μm
であるが、使用状況等により適宜決められる。この他、
カバーレイの形態としてはドライフィルムタイプ、液状
タイプ等がある。ドライフィルムタイプは離型材/接着
剤/離型材からなる3層構造であり、接着剤層が絶縁層
も兼ねる。接着剤の厚さは一般に25〜100μmであ
るが、使用状況等により適宜決められる。液状タイプは
コーティング、硬化により絶縁層を形成するものであ
る。ボンディングシートの構成は、離型材/熱硬化性接
着剤/離型材からなる3層構造であり、接着剤の厚さは
一般に15〜50μmであるが、使用状況等により適宜
決められる。
The epoxy resin composition of the present invention can be preferably used as an adhesive constituting a flexible printed wiring board, a cover lay material, and a bonding sheet (hereinafter, collectively referred to as a flexible printed wiring board material). The configuration of the flexible wiring substrate has a three-layer structure of an electrically insulating film / adhesive / metal foil, and the thickness of the adhesive is generally 10 to 20 μm, but is appropriately determined depending on the use conditions and the like. As a form of the coverlay material, a film base coverlay in which an adhesive is applied to one side of a base film is mainly used. The structure of the film base coverlay is a three-layer structure composed of an electrically insulating film / adhesive / release material, and the thickness of the adhesive is generally 15 to 50 μm.
However, it is determined as appropriate depending on the use situation and the like. In addition,
The form of the coverlay includes a dry film type, a liquid type and the like. The dry film type has a three-layer structure including a release material / adhesive / release material, and the adhesive layer also serves as an insulating layer. The thickness of the adhesive is generally 25 to 100 μm, but can be appropriately determined depending on the use conditions and the like. The liquid type forms an insulating layer by coating and curing. The configuration of the bonding sheet is a three-layer structure composed of a release material / a thermosetting adhesive / a release material, and the thickness of the adhesive is generally 15 to 50 μm, but is appropriately determined depending on the use conditions and the like.

【0042】 本発明で使用可能な電気絶縁性フィルム
としては、ポリイミドフィルム、PET(ポリエチレン
テレフタレート)フィルム、ポリエステルフィルム、ポ
リパラバン酸フィルム、ポリエーテルエーテルケトンフ
ィルム、ポリフェニレンスルファイドフィルム、アラミ
ドフィルム等が例示され、なかでも耐熱性、寸法安定
性、機械特性等からポリイミドフィルムが好ましい。フ
ィルムの厚さは通常12.5〜75μmの範囲である
が、必要に応じて適宜の厚さのものを使用すれば良い。
また、これらのフィルムの片面もしくは両面に、低温プ
ラズマ処理、コロナ放電処理、サンドブラスト処理等の
表面処理を施してもよい。
Examples of the electrically insulating film that can be used in the present invention include a polyimide film, a PET (polyethylene terephthalate) film, a polyester film, a polyparabanic acid film, a polyetheretherketone film, a polyphenylene sulfide film, and an aramid film. Among them, a polyimide film is preferred from the viewpoint of heat resistance, dimensional stability, mechanical properties and the like. The thickness of the film is usually in the range of 12.5 to 75 μm, but an appropriate thickness may be used as needed.
One or both surfaces of these films may be subjected to a surface treatment such as a low-temperature plasma treatment, a corona discharge treatment, and a sandblast treatment.

【0043】 本発明で使用可能な金属箔としては、電
解銅箔、圧延銅箔、アルミニウム箔、タングステン箔、
鉄箔等が例示され、一般的には、加工性、屈曲性、電気
伝導率等から電解銅箔及び圧延銅箔が用いられる。金属
箔の厚さは一般的に18〜70μmであるが、使用状況
等により適宜決められる。
The metal foil usable in the present invention includes an electrolytic copper foil, a rolled copper foil, an aluminum foil, a tungsten foil,
An iron foil or the like is exemplified, and generally, an electrolytic copper foil or a rolled copper foil is used in view of workability, flexibility, electric conductivity, and the like. The thickness of the metal foil is generally from 18 to 70 μm, but can be appropriately determined depending on the use conditions and the like.

【0044】 本発明で使用可能な離型材としては、ポ
リエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、TPX
フィルム、PEフィルム、シリコーン離型剤付きポリエ
チレンフィルム、ポリプロピレンフィルム及びPEフィ
ルム、ポリエチレン樹脂コート紙、ポリプロピレン樹脂
コート紙及びTPX樹脂コート紙等が挙げられ、離型材
の厚さは、フィルムベースのもので13〜75μm、紙
ベースのもので50〜200μmが好ましいが、必要に
応じて適宜の厚さのものが使用される。
The release material usable in the present invention includes polyethylene film, polypropylene film, TPX
Film, PE film, polyethylene film with silicone release agent, polypropylene film and PE film, polyethylene resin coated paper, polypropylene resin coated paper and TPX resin coated paper, etc., and the thickness of the release material is based on film. The thickness is preferably from 13 to 75 μm, and from 50 to 200 μm for a paper base, but an appropriate thickness may be used as necessary.

【0045】 以下、上記したフレキシブル印刷配線板
材料の製造方法について述べる。本発明のフレキシブル
印刷配線用基板の製造方法は、予め調製された本発明の
エポキシ樹脂組成物からなるワニス(接着剤)を、ロー
ルコーター、コンマコーター等を用いて前記電気絶縁性
フィルムに塗布する。これをインラインドライヤーに通
して40〜160℃で2〜20分間加熱処理し接着剤中
の溶剤を除去して接着剤層を形成する。この接着剤付き
離型材の接着剤塗布面と離型材とを加熱ロールにより圧
着させる。接着剤の塗布厚は、一般に乾燥状態で10〜
20μmであればよい。
Hereinafter, a method for producing the above-mentioned flexible printed wiring board material will be described. In the method for producing a substrate for flexible printed wiring of the present invention, a varnish (adhesive) made of the epoxy resin composition of the present invention prepared in advance is applied to the electrical insulating film using a roll coater, a comma coater or the like. . This is passed through an in-line dryer and heat-treated at 40 to 160 ° C. for 2 to 20 minutes to remove the solvent in the adhesive to form an adhesive layer. The adhesive-coated surface of the release material with adhesive and the release material are pressed by a heating roll. The coating thickness of the adhesive is generally 10 to 10 in a dry state.
What is necessary is just 20 micrometers.

【0046】 本発明のフィルムベースカバーレイの製
造方法は、予め調製された本発明のエポキシ樹脂組成物
からなるワニス(接着剤)をロールコーター、コンマコ
ーター等を用いて前記電気絶縁性フィルムに塗布する。
これをインラインドライヤーに通して40〜160℃で
2〜20分間加熱処理し接着剤中の溶剤を除去して接着
剤層を形成する。この接着剤付きフィルムの接着剤塗布
面と離型材とを加熱ロールにより圧着させる。接着剤の
塗布厚は、一般に乾燥状態で15〜50μmであればよ
い。
In the method for producing a film-based coverlay of the present invention, a varnish (adhesive) made of the epoxy resin composition of the present invention prepared in advance is applied to the electric insulating film using a roll coater, a comma coater or the like. I do.
This is passed through an in-line dryer and heat-treated at 40 to 160 ° C. for 2 to 20 minutes to remove the solvent in the adhesive to form an adhesive layer. The adhesive-coated surface of the film with the adhesive and the release material are pressed by a heating roll. The thickness of the applied adhesive may be generally 15 to 50 μm in a dry state.

【0047】 本発明のドライフィルムタイプのカバー
レイの製造方法は、予め調製された本発明のエポキシ樹
脂組成物からなるワニス(接着剤)を、ロールコータ
ー、コンマコーター等を用いて離型材に塗布する。これ
をインラインドライヤーに通して40〜160℃で2〜
20分間加熱処理し接着剤中の溶剤を除去して接着剤層
を形成する。この接着剤付き離型材の接着剤塗布面と離
型材とを加熱ロールにより圧着させる。接着剤の塗布厚
は、一般に乾燥状態で25〜100μmであればよい。
In the method for producing a dry film type coverlay of the present invention, a varnish (adhesive) made of the epoxy resin composition of the present invention prepared in advance is applied to a release material using a roll coater, a comma coater or the like. I do. Pass this through an in-line dryer at 40-160 ° C for 2-
Heat treatment is performed for 20 minutes to remove the solvent in the adhesive to form an adhesive layer. The adhesive-coated surface of the release material with adhesive and the release material are pressed by a heating roll. The thickness of the adhesive applied may be generally 25 to 100 μm in a dry state.

【0048】 本発明の液状タイプのカバーレイの製造
方法は、予め調製された本発明のエポキシ樹脂組成物か
らなるワニス(接着剤)をコーティング方法に適した粘
度に調整して得られる。
The method for producing a liquid type coverlay of the present invention is obtained by adjusting a varnish (adhesive) made of the epoxy resin composition of the present invention prepared in advance to a viscosity suitable for a coating method.

【0049】 本発明のボンディングシートの製造方法
は、予め調製された本発明のエポキシ樹脂組成物からな
るワニス(接着剤)を、ロールコーター、コンマコータ
ー等を用いて離型材に塗布する。これをインラインドラ
イヤーに通して40〜160℃で2〜20分間加熱処理
し接着剤中の溶剤を除去して接着剤層を形成する。この
接着剤付き離型材の接着剤塗布面と離型材とを加熱ロー
ルにより圧着させる。接着剤の塗布厚は、一般に乾燥状
態で15〜50μmであればよい。
In the method for producing a bonding sheet of the present invention, a varnish (adhesive) made of the epoxy resin composition of the present invention prepared in advance is applied to a release material using a roll coater, a comma coater or the like. This is passed through an in-line dryer and heat-treated at 40 to 160 ° C. for 2 to 20 minutes to remove the solvent in the adhesive to form an adhesive layer. The adhesive-coated surface of the release material with adhesive and the release material are pressed by a heating roll. The thickness of the applied adhesive may be generally 15 to 50 μm in a dry state.

【0050】[0050]

【実施例】 以下、更に実施例を以て本発明をより具体
的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。なお、実施例および比較例中、%および部は、特
記しない限り重量基準である。また、エポキシ当量、水
酸基当量の単位はg/eqである。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. In Examples and Comparative Examples,% and parts are by weight unless otherwise specified. The unit of epoxy equivalent and hydroxyl equivalent is g / eq.

【0051】合成例1 ポリアミドA(フェノール性水酸基含有芳香族ポリアミ
ド−ポリブタジエン/アクリロニトリルブロック共重合
体)の合成。イソフタル酸19.93g(120ミリモ
ル)、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル30.6
3g(153ミリモル)、5−ヒドロキシイソフタル酸
3.64g(20ミリモル)、塩化リチウム3.9g、
塩化カルシウム12.1g、N−メチル−2−ピロリド
ン240ml、ピリジン54mlを1リットルの4ツ口
丸底フラスコの中に入れ、攪拌溶解させた後、亜リン酸
トリフェニル74gを加えて、90℃で4時間反応させ
て、フェノール性水酸基含有芳香族ポリアミドオリゴマ
ー体を生成させた。これに両末端にカルボキシル基を持
つポリブタジエン/アクリロニトリル共重合体(Hyc
ar CTBN、BF Goodrich製。ポリブタ
ジエンアクリロニトリル部に含有するアクリロニトリル
成分が17モル%で、分子量が約3600)48gを2
40mlのN−メチル−2−ピロリドンに溶かした液を
加えて、更に4時間反応させた後、室温に冷却、この反
応液をメタノール20リットルに投入して本発明に使用
するポリブタジエン/アクリロニトリル共重合体部の含
有量が50wt%であり、フェノール性水酸基を約14
モル%含有する芳香族ポリアミド−ポリブタジエン/ア
クリロニトリルブロック共重合体を析出させた。この析
出ポリマーを更にメタノールで洗浄とメタノール還流し
て精製した。このポリマーの固有粘度は0.85dl/
g(ジメチルアセトアミド、30℃)であった。ポリマ
ー粉末を拡散反射法により赤外スペクトルを測定したと
ころ、1674cm-1にアミドカルボニル基を、285
6−2975cm-1にブタジエン部分のC−H結合に基
づく吸収を、2245cm-1にニトリル基に基づく吸収
を認めた。
Synthesis Example 1 Synthesis of polyamide A (phenolic hydroxyl group-containing aromatic polyamide-polybutadiene / acrylonitrile block copolymer). 19.93 g (120 mmol) of isophthalic acid, 3,4'-diaminodiphenyl ether 30.6
3 g (153 mmol), 3.64 g (20 mmol) of 5-hydroxyisophthalic acid, 3.9 g of lithium chloride,
12.1 g of calcium chloride, 240 ml of N-methyl-2-pyrrolidone and 54 ml of pyridine were placed in a 1-liter four-necked round-bottomed flask, stirred and dissolved, and 74 g of triphenyl phosphite was added thereto. For 4 hours to produce a phenolic hydroxyl group-containing aromatic polyamide oligomer. In addition, a polybutadiene / acrylonitrile copolymer having carboxyl groups at both ends (Hyc
ar CTBN, manufactured by BF Goodrich. The acrylonitrile component contained in the polybutadiene acrylonitrile part is 17 mol% and has a molecular weight of about 3600).
A solution dissolved in 40 ml of N-methyl-2-pyrrolidone was added, and the reaction was further carried out for 4 hours. After cooling to room temperature, the reaction solution was poured into 20 liters of methanol, and the polybutadiene / acrylonitrile copolymer used in the present invention was used. The content of the coalesced part is 50 wt%, and the phenolic hydroxyl group is reduced to about 14%.
An aromatic polyamide-polybutadiene / acrylonitrile block copolymer containing mol% was precipitated. The precipitated polymer was further purified by washing with methanol and refluxing methanol. The intrinsic viscosity of this polymer is 0.85 dl /
g (dimethylacetamide, 30 ° C.). When an infrared spectrum of the polymer powder was measured by a diffuse reflection method, an amide carbonyl group was found at 1,674 cm -1 .
The absorption based on C-H bonds of the butadiene part in 6-2975cm -1, revealed absorption based on nitrile group in 2245 cm -1.

【0052】実施例1 (フレキシブル印刷配線用基板の実施例)エポキシ樹脂
組成として(表1)の実施例1の欄に示す組成(重量
比)をN−メチル−2−ピロリドン(NMP)1重量部
に対しMEK(メチルエチルケトン)1重量部の混合溶
媒に溶解して50重量%の樹脂溶液を調製した。硬化剤
の配合量は当量比で1.0とした。次に厚さ25μmの
カプトンフィルム(商品名、東レ・デュポン社製、ポリ
イミドフィルム)上に、前記樹脂溶液をロールコーター
を用いて、乾燥後の厚さが18μmとなるように塗布
し、120℃、10分の乾燥条件で溶剤を除去した。接
着剤層は、カプトンフィルムを湾曲させても割れ、欠
け、剥がれを生じたりせず、十分な強度とフレキシビリ
ティを有していた。この半硬化状態の接着剤付きカプト
ンフィルムの接着剤面に厚さ35μmのBHN箔(商品
名;ジャパンエナジー社製圧延銅箔)の処理面を温度
100℃、線圧2kg/cmの条件で圧着した。これに
ついて160℃×2時間加熱処理を行い、接着剤を硬化
させてフレキシブル印刷配線用基板を得た。このように
して得られたフレキシブル印刷配線用基板を評価用のサ
ンプルとして、その物性を評価し結果を(表2)に示し
た。 (フィルムベースカバーレイの実施例)エポキシ樹脂組
成として(表1)の実施例1の欄に示す組成をN−メチ
ル−2−ピロリドン(NMP)1重量部に対しMEK1
重量部の混合溶媒に溶解して50重量%の樹脂溶液を調
製した。硬化剤の配合量は当量比で1.0とした。次に
厚さ25μmのカプトンフィルム(商品名、東レ・デュ
ポン社製、ポリイミドフィルム)上に前記樹脂溶液をロ
ールコーターを用いて、乾燥後の厚さが35μmとなる
ように塗布し、100℃、10分の乾燥条件で溶剤を除
去した。接着剤層は、カプトンフィルムを湾曲させても
割れ、欠け、剥がれを生じたりせず、十分な強度とフレ
キシビリティを有していた。この接着剤層付きカプトン
フィルムの接着剤面にシリコーン樹脂処理を行ったポリ
エチレンコート紙を熱圧着してフィルムベースカバーレ
イを得た。この様にして得られたフィルムベースカバー
レイについて評価用のサンプルを作成し、その物性を評
価し結果を(表3)に示した。 (ドライフィルムカバーレイの実施例)エポキシ樹脂組
成として(表1)の実施例1の欄に示す組成をN−メチ
ル−2−ピロリドン(NMP)1重量部に対しMEK1
重量部の混合溶媒に溶解して50重量%の樹脂溶液を調
製した。硬化剤の配合量は当量比で1.0とした。次に
前記接着剤溶液をシリコーン処理を行ったPETフィル
ム(厚さ25μm)上に、乾燥後の厚さが75μmとな
るようにロールコーターで塗布し、100℃、10分の
加熱乾燥条件で溶剤を除去し、接着剤を半硬化状態とし
た。この半硬化状態の接着剤付きPETフィルムの接着
剤面にシリコーン樹脂処理を行ったポリエチレンコート
紙(厚さ130μm)を熱圧着してドライフィルムカバ
ーレイを得た。このようにして得られたドライフィルム
カバーレイについて評価用のサンプルを作製し、その物
性を評価し結果を(表4)に示した。 (液状カバーレイの実施例)エポキシ樹脂組成として
(表1)の実施例1の欄に示す組成をN−メチル−2−
ピロリドン(NMP)1重量部に対しMEK1重量部の
混合溶媒に溶解して50重量%の樹脂溶液を調製した。
硬化剤の配合量は当量比で1.0とした。このようにし
て得られた液状カバーレイについて評価用のサンプルを
作製し、その物性を評価し結果を(表5)に示した。 (ボンディングシートの実施例)エポキシ樹脂組成とし
て(表1)の実施例1の欄に示す組成をN−メチル−2
−ピロリドン(NMP)1重量部に対しMEK1重量部
の混合溶媒に溶解して50重量%の樹脂溶液を調製し
た。硬化剤の配合量は当量比で1.0とした。次に前記
接着剤溶液をシリコーン処理を行ったPETフィルム
(厚さ25μm)上に、乾燥後の厚さが50μmとなる
ようにロールコーターで塗布し、100℃、10分の加
熱乾燥条件で溶剤を除去し、接着剤を半硬化状態とし
た。この半硬化状態の接着剤付きPETフィルムの接着
剤面にシリコーン樹脂処理を行ったポリエチレンコート
紙(厚さ130μm)を熱圧着してボンディングシート
を得た。このようにして得られたボンディングシートに
ついて評価用のサンプルを作製し、その物性を評価し結
果を(表6)に示した。
Example 1 (Example of a substrate for flexible printed wiring) The composition (weight ratio) shown in the column of Example 1 in (Table 1) was used as an epoxy resin composition, and 1 weight of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) was used. The resin was dissolved in a mixed solvent of 1 part by weight of MEK (methyl ethyl ketone) to prepare a 50% by weight resin solution. The compounding amount of the curing agent was 1.0 in equivalent ratio. Next, the above resin solution was applied on a 25 μm-thick Kapton film (trade name, manufactured by Du Pont-Toray Co., Ltd., polyimide film) using a roll coater so that the thickness after drying was 18 μm, and 120 ° C. The solvent was removed under a drying condition of 10 minutes. The adhesive layer did not crack, chip, or peel off even when the Kapton film was curved, and had sufficient strength and flexibility. The treated surface of 35 μm-thick BHN foil (trade name; rolled copper foil manufactured by Japan Energy Co., Ltd.)
Crimping was performed at 100 ° C. under a linear pressure of 2 kg / cm. This was subjected to a heat treatment at 160 ° C. for 2 hours, and the adhesive was cured to obtain a flexible printed wiring board. The thus obtained flexible printed wiring board was used as a sample for evaluation, and its physical properties were evaluated. The results are shown in Table 2. (Example of film base coverlay) The composition shown in the column of Example 1 in Table 1 as an epoxy resin composition was added to MEK1 based on 1 part by weight of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP).
It was dissolved in parts by weight of a mixed solvent to prepare a 50% by weight resin solution. The compounding amount of the curing agent was 1.0 in equivalent ratio. Next, the resin solution was applied on a 25 μm-thick Kapton film (trade name, manufactured by Du Pont-Toray Co., Ltd., polyimide film) using a roll coater so that the thickness after drying was 35 μm. The solvent was removed under drying conditions for 10 minutes. The adhesive layer did not crack, chip, or peel off even when the Kapton film was curved, and had sufficient strength and flexibility. A polyethylene-coated paper treated with a silicone resin was thermocompression-bonded to the adhesive surface of the Kapton film with the adhesive layer to obtain a film base coverlay. A sample for evaluation was prepared for the film base coverlay thus obtained, and its physical properties were evaluated. The results are shown in Table 3. (Example of Dry Film Coverlay) The composition shown in the column of Example 1 in Table 1 as an epoxy resin composition was added to MEK1 with respect to 1 part by weight of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP).
It was dissolved in parts by weight of a mixed solvent to prepare a 50% by weight resin solution. The compounding amount of the curing agent was 1.0 in equivalent ratio. Next, the adhesive solution was applied on a silicone-treated PET film (thickness: 25 μm) by a roll coater so that the thickness after drying was 75 μm, and the solvent was dried at 100 ° C. for 10 minutes. Was removed to leave the adhesive in a semi-cured state. A dry film coverlay was obtained by thermocompression-bonding a silicone-coated polyethylene-coated paper (thickness: 130 μm) to the adhesive surface of the PET film with adhesive in the semi-cured state. A sample for evaluation was prepared for the dry film coverlay thus obtained, and its physical properties were evaluated. The results are shown in Table 4 below. (Example of liquid coverlay) The composition shown in the column of Example 1 of (Table 1) as the epoxy resin composition was changed to N-methyl-2-.
It was dissolved in a mixed solvent of 1 part by weight of MEK with respect to 1 part by weight of pyrrolidone (NMP) to prepare a resin solution of 50% by weight.
The compounding amount of the curing agent was 1.0 in equivalent ratio. A sample for evaluation was prepared for the liquid coverlay thus obtained, and its physical properties were evaluated. The results are shown in (Table 5). (Example of bonding sheet) The composition shown in the column of Example 1 of (Table 1) was N-methyl-2 as the epoxy resin composition.
The resin was dissolved in a mixed solvent of 1 part by weight of MEK with respect to 1 part by weight of pyrrolidone (NMP) to prepare a 50% by weight resin solution. The compounding amount of the curing agent was 1.0 in equivalent ratio. Next, the adhesive solution was applied on a silicone-treated PET film (thickness: 25 μm) using a roll coater so that the thickness after drying became 50 μm, and the solvent was dried at 100 ° C. for 10 minutes. Was removed to leave the adhesive in a semi-cured state. A polyethylene-coated paper (thickness: 130 μm) treated with a silicone resin was thermocompression-bonded to the adhesive surface of the semi-cured PET film with an adhesive to obtain a bonding sheet. A sample for evaluation was prepared for the bonding sheet thus obtained, and its physical properties were evaluated. The results are shown in (Table 6).

【0053】実施例2〜10、比較例1、2 (フレキシブル印刷配線用基板の実施例)エポキシ樹脂
組成として(表1)の実施例2〜10及び比較例1、2
の各欄に示す組成を用いた以外は実施例1と同様に行い
フレキシブル印刷配線用基板を作成した。このフレキシ
ブル印刷配線用基板の物性の評価結果を(表2)に示し
た。 (フィルムベースカバーレイの実施例)エポキシ樹脂組
成として(表1)の実施例2〜10及び比較例1,2の
各欄に示す組成を用いた以外は実施例1と同様に行いフ
ィルムベースカバーレイを作成した。このフィルムベー
スカバーレイの物性の評価結果を(表3)に示した。 (ドライフィルムカバーレイの実施例)エポキシ樹脂組
成として(表1)の実施例2〜10及び比較例1,2の
各欄に示す組成を用いた以外は実施例1と同様に行いド
ライフィルムカバーレイを作成した。このドライフィル
ムカバーレイの物性の評価結果を(表4)に示した。 (液状カバーレイの実施例)エポキシ樹脂組成として
(表1)の実施例2〜10及び比較例1,2の各欄に示
す組成を用いた以外は実施例1と同様に行い液状カバー
レイを作成した。この液状カバーレイの物性の評価結果
を(表5)に示した。 (ボンディングシートの実施例) エポキシ樹脂組成と
して(表1)の実施例2〜10及び比較例1,2の各欄
に示す組成を用いた以外は実施例1と同様に行いボンデ
ィングシートを作成した。このボンディングシートの物
性の評価結果を(表6)に示した。
Examples 2 to 10 and Comparative Examples 1 and 2 (Examples of Flexible Printed Wiring Board) Examples 2 to 10 and Comparative Examples 1 and 2 of (Table 1) as epoxy resin compositions
In the same manner as in Example 1 except that the compositions shown in the respective columns were used, a flexible printed wiring board was prepared. The evaluation results of the physical properties of the substrate for flexible printed wiring are shown in (Table 2). (Example of film base coverlay) A film base cover was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compositions shown in Examples 2 to 10 of Table 1 and Comparative Examples 1 and 2 were used as the epoxy resin composition. Created a ray. The evaluation results of the physical properties of the film-based coverlay are shown in (Table 3). (Example of Dry Film Coverlay) Dry film cover was performed in the same manner as in Example 1 except that the compositions shown in Examples 2 to 10 of Table 1 and Comparative Examples 1 and 2 were used as the epoxy resin composition. Created a ray. The results of evaluation of the physical properties of this dry film coverlay are shown in (Table 4). (Example of Liquid Coverlay) A liquid coverlay was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compositions shown in Examples 2 to 10 of Table 1 and Comparative Examples 1 and 2 were used as the epoxy resin composition. Created. The evaluation results of the physical properties of this liquid coverlay are shown in (Table 5). (Example of bonding sheet) A bonding sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compositions shown in Examples 2 to 10 of Table 1 and Comparative Examples 1 and 2 were used as the epoxy resin composition. . The evaluation results of the physical properties of this bonding sheet are shown in (Table 6).

【0054】尚、実施例、比較例のおける評価用サンプ
ルの作成方法及び物性の評価方法は以下のとおり ・評価用サンプルの作成方法 (DMA測定用サンプル)離型剤を塗布したアルミニウ
ム板上に、実施例及び比較例で作製した樹脂溶液を乾燥
膜厚が80μm程度になるようにアプリケータで塗布し
た。これを120℃、10分の乾燥条件で溶剤を除去
し、その後160℃×2時間硬化した。アルミニウム板
から硬化塗膜を剥がし、5mm幅にカットしたものをD
MA測定用サンプルとした。 (フレキシブル印刷配線用基板)実施例及び比較例で作
製したフレキシブル印刷配線用基板をそのまま評価用サ
ンプルとした。なお評価項目は剥離強度、半田耐熱試
験、長期加熱後の剥離強度、プレッシャークッカ試験
(PCT)後の剥離強度とした。 (カバーレイ評価用フレキシブル印刷配線板)実施例1
で作製したフレキシブル印刷配線用基板にJIS C6
471に準拠した1mm幅の回路を定法(スクリーン印
刷→銅エッチング)により作成したものを、以下のカバ
ーレイ評価用フレキシブル印刷配線板として用いた。 (フィルムベースカバーレイ)フィルムベースカバーレ
イの離型材を剥がし、カバーレイ評価用フレキシブル印
刷配線板と160℃×5MPaの条件で30分間加熱圧
着したものを評価用サンプルとして用いた。なお評価項
目は半田耐熱試験、MIT耐折性試験、回路埋め込み性
とした。 (ドライフィルムカバーレイ)ドライフィルムカバーレ
イの離型材を片面剥がし、カバーレイ評価用フレキシブ
ル印刷配線板と160℃×5MPaの条件で30分間加
熱圧着し、最後に反対面の離型材を剥がしたものを評価
用サンプルとして用いた。なお評価項目は半田耐熱試
験、MIT耐折性試験、回路埋め込み性とした。 (液状カバーレイ)カバーレイ評価用フレキシブル印刷
配線板にアプリケータを用いて乾燥膜厚40μmとなる
ように液状カバーレイを塗布、100℃、10分乾燥し
た後、160℃で30分間加熱硬化したものを評価用サ
ンプルとして用いた。なお評価項目は半田耐熱試験、M
IT耐折性試験、回路埋め込み性とした。 (ボンディングシート)ボンディングシートの片側の離
型材を剥がし、厚さ35μmのBHN箔(前出)の光沢
面にボンディングシートの接着剤塗布面を仮止めする。
次にもう片側の離型材を剥がし、この接着剤塗布面に厚
さ25μmのカプトンフィルムをのせ、カプトンフィル
ム/ボンディングシート(離型材除去品)/BHN箔の
光沢面という構成で、160℃×5MPaの条件で30
分間加熱圧着したものを評価用サンプルとして用いた。
なお評価項目は剥離強度、半田耐熱試験、長期加熱後の
剥離強度、プレッシャークッカ試験(PCT)後の剥離
強度とした。
The methods for preparing evaluation samples and the methods for evaluating physical properties in Examples and Comparative Examples are as follows. Method for preparing evaluation samples (Sample for DMA measurement) On an aluminum plate coated with a mold release agent The resin solutions prepared in Examples and Comparative Examples were applied with an applicator so that the dry film thickness was about 80 μm. The solvent was removed under a drying condition of 120 ° C. for 10 minutes, and then cured at 160 ° C. for 2 hours. The cured coating film was peeled off from the aluminum plate and cut to a width of 5 mm.
A sample for MA measurement was used. (Flexible Printed Wiring Board) The flexible printed wiring boards produced in the examples and comparative examples were used as they were as samples for evaluation. The evaluation items were peel strength, solder heat resistance test, peel strength after long-term heating, and peel strength after pressure cooker test (PCT). (Flexible Printed Wiring Board for Coverlay Evaluation) Example 1
JIS C6 for flexible printed wiring board prepared in
A circuit having a width of 1 mm conforming to 471 was prepared by a standard method (screen printing → copper etching) and used as the following flexible printed wiring board for coverlay evaluation. (Film base cover lay) The release material of the film base cover lay was peeled off, and a flexible printed wiring board for cover lay evaluation was heat-pressed at 160 ° C. × 5 MPa for 30 minutes and used as a sample for evaluation. The evaluation items were a solder heat resistance test, an MIT bending resistance test, and a circuit embedding property. (Dry film cover lay) The release material of the dry film cover lay was peeled off on one side, and then heat-pressed with a flexible printed wiring board for cover lay evaluation at 160 ° C. × 5 MPa for 30 minutes. Finally, the release material on the opposite side was peeled off Was used as a sample for evaluation. The evaluation items were a solder heat resistance test, an MIT bending resistance test, and a circuit embedding property. (Liquid Coverlay) A liquid coverlay was applied to a flexible printed wiring board for coverlay evaluation using an applicator so as to have a dry film thickness of 40 μm, dried at 100 ° C. for 10 minutes, and then heated and cured at 160 ° C. for 30 minutes. These were used as evaluation samples. Evaluation items were solder heat test, M
IT bending resistance test, circuit embedding property. (Bonding Sheet) The release material on one side of the bonding sheet is peeled off, and the adhesive applied surface of the bonding sheet is temporarily fixed to the glossy surface of a 35 μm thick BHN foil (described above).
Next, the release material on the other side was peeled off, a 25 μm-thick Kapton film was placed on this adhesive-coated surface, and the composition was Kapton film / bonding sheet (product from which the release material had been removed) / the glossy surface of the BHN foil at 160 ° C. × 5 MPa. 30 under the condition
What was heated and pressed for one minute was used as a sample for evaluation.
The evaluation items were peel strength, solder heat resistance test, peel strength after long-term heating, and peel strength after pressure cooker test (PCT).

【0055】・評価用サンプルの物性評価方法 Tg(DMA法):前記DMA測定用サンプルを動的粘
弾性測定装置(セイコーインストゥルメンツ製:DMS
−100)にて測定した。測定温度範囲は20〜300
℃、測定条件は昇温2℃/分、測定周波数は10Hz、
測定モードはずりモードにて行い、tanδの極大値を
Tgとした。測定結果を(表1)に示した。 剥離強度:評価用サンプルを10mm幅にカットしたも
のをテンシロン試験機(東洋ボールドウィン製)を用い
て90゜方向に50mm/minで銅箔側から引き剥が
しその強度を測定した。 半田耐熱性試験:JIS C6471に準拠した。20
℃、60%RH、24時間調製を行ったサンプルを25
mm角にカットし、これを350℃半田浴上に30秒間
浮かべた後、外観を目視により検査した。この際膨れ、
剥がれ等の有無について確認した。 ○:膨れ、剥がれなし ×:膨れ、剥がれあり 長期加熱後の剥離強度:剥離強度測定用サンプルを15
0℃×240時間加熱処理した後、剥離強度を測定し
た。 プレッシャークッカ試験(PCT)後の剥離強度:剥離
強度評価用サンプルを121℃、2気圧で20時間処理
した後、剥離強度を測定した。 MIT耐折性試験:JIS P8115に準拠した。前
記評価用サンプルを10mm幅にカットしたサンプルに
ついてMIT試験機(安田精機製作所製)による屈曲試
験を行った。先端屈曲経0.38mmR、荷重0.5k
gの条件で屈曲試験を行いクラック、浮き、剥がれ等の
生じる回数を記録した。外観を目視により検査した。 回路埋め込み性:カバーレイ評価用回路を40倍実体顕
微鏡で観察し、銅回路のカバーレイの接着剤の回路中に
おける埋め込み性を見た。 ○:埋め込み不良なし ×:埋め込み不良あり。
Method for evaluating physical properties of evaluation sample Tg (DMA method): The DMA measurement sample was subjected to a dynamic viscoelasticity measurement apparatus (manufactured by Seiko Instruments: DMS).
-100). Measurement temperature range is 20 to 300
° C, the measurement conditions were 2 ° C / min in temperature, the measurement frequency was 10 Hz,
The measurement was performed in the shear mode, and the maximum value of tan δ was defined as Tg. The measurement results are shown in (Table 1). Peeling strength: A sample for evaluation cut into a width of 10 mm was peeled off from the copper foil side at 50 mm / min in a 90 ° direction using a Tensilon tester (manufactured by Toyo Baldwin), and the strength was measured. Solder heat resistance test: Based on JIS C6471. 20
25 ° C., 60% RH for 24 hours
After being cut into a square of mm and floating on a solder bath at 350 ° C. for 30 seconds, the appearance was visually inspected. At this time, swelling,
The presence or absence of peeling was confirmed. :: no swelling or peeling ×: swelling or peeling Peel strength after long-term heating: 15 samples for peel strength measurement
After the heat treatment at 0 ° C. × 240 hours, the peel strength was measured. Peel strength after pressure cooker test (PCT): A peel strength evaluation sample was treated at 121 ° C. and 2 atm for 20 hours, and then the peel strength was measured. MIT bending resistance test: Based on JIS P8115. A bending test was carried out on an MIT tester (manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho) for a sample obtained by cutting the evaluation sample to a width of 10 mm. Tip bending radius 0.38mmR, load 0.5k
The bending test was performed under the condition of g, and the number of times of occurrence of cracks, floating, peeling and the like was recorded. The appearance was visually inspected. Circuit embedding property: The coverlay evaluation circuit was observed with a 40 × stereo microscope, and the embedding property of the copper circuit coverlay adhesive in the circuit was observed. :: no embedding failure ×: embedding failure.

【0056】[0056]

【表1】 [Table 1]

【0057】[0057]

【表2】 [Table 2]

【0058】[0058]

【表3】 [Table 3]

【0059】[0059]

【表4】 [Table 4]

【0060】[0060]

【表5】 [Table 5]

【0061】[0061]

【表6】 [Table 6]

【0062】尚、表1において略号は下記のものを示
す。 エポキシ樹脂A:エポミックR−302(ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂;三井化学株式会社製;エポキシ当
量650) エポキシ樹脂B:エポトートYDF−2001(ビスフ
ェノールF型エポキシ樹脂;東都化成株式会社製;エポ
キシ当量470) エポキシ樹脂C:EOCN−1020(クレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂;日本化薬株式会社製;エポキシ
当量:195) エポキシ樹脂D:NC−7000(フェノール骨格とナ
フトール骨格を有するノボラック型エポキシ樹脂;日本
化薬株式会社製;エポキシ当量:235) エポキシ樹脂E:NC−3000P(フェノール骨格と
ビフェニル骨格を有するノボラック型エポキシ樹脂;日
本化薬株式会社製;エポキシ当量:285) エポキシ樹脂F:EPPN−502H(トリフェニルメ
タン骨格を有するノボラック型エポキシ樹脂;日本化薬
株式会社製;エポキシ当量:171) エポキシ樹脂G:XD−1000(ジシクロペンタジエ
ン骨格を有するノボラック型エポキシ樹脂;日本化薬株
式会社製;エポキシ当量:254) エポキシ樹脂H:BREN−S(臭素化フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂;日本化薬株式会社製;エポキシ
当量:280;Br含有量約35%) 硬化剤A:PN−80(フェノールノボラック樹脂;日
本化薬株式会社製;水酸基当量:105) 硬化剤B:カヤハードNHN(フェノール骨格とナフト
ール骨格を有するノボラック樹脂;日本化薬株式会社
製;水酸基当量:143) 硬化剤C:カヤハードTPM(トリフェニルメタン骨格
を有するノボラック型エポキシ樹脂;日本化薬株式会社
製;水酸基当量:97) 促進剤A:2MZ−A(イミダゾール系硬化促進剤;四
国化成製) 促進剤B:トリフェニルホスフィン NBR:ニポール1072(ニトリルゴム;アクリロニ
トリル含有率約27%,カルボキシル基含有率0.07
5%;日本ゼオン社製)
In Table 1, abbreviations indicate the following. Epoxy resin A: Epomic R-302 (bisphenol A type epoxy resin; manufactured by Mitsui Chemicals, Inc .; epoxy equivalent: 650) Epoxy resin B: Epototo YDF-2001 (bisphenol F type epoxy resin; manufactured by Toto Kasei Corporation; epoxy equivalent: 470) Epoxy resin C: EOCN-1020 (cresol novolak type epoxy resin; Nippon Kayaku Co., Ltd .; epoxy equivalent: 195) Epoxy resin D: NC-7000 (novolak type epoxy resin having a phenol skeleton and a naphthol skeleton; Nippon Kayaku Co., Ltd.) Epoxy resin E: NC-3000P (Novolak type epoxy resin having a phenol skeleton and a biphenyl skeleton; Nippon Kayaku Co., Ltd .; Epoxy equivalent: 285) Epoxy resin F: EPPN-502H (Triphe Novolak epoxy resin having a methane skeleton; Nippon Kayaku Co., Ltd .; Epoxy equivalent: 171) Epoxy resin G: XD-1000 (Novolak epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton; Nippon Kayaku Co., Ltd .; Epoxy equivalent: 254) Epoxy resin H: BREN-S (brominated phenol novolak type epoxy resin; Nippon Kayaku Co., Ltd .; epoxy equivalent: 280; Br content about 35%) Curing agent A: PN-80 (phenol novolak resin; Japan) Curing agent B: Kayahard NHN (novolak resin having a phenol skeleton and a naphthol skeleton; Nippon Kayaku Co., Ltd .; hydroxyl equivalent: 143) Curing agent C: Kayahard TPM (triphenylmethane) Novolac epoxy resin with skeleton; Nippon Kayaku Co., Ltd. Accelerator A: 2MZ-A (imidazole-based curing accelerator; manufactured by Shikoku Chemicals) Accelerator B: Triphenylphosphine NBR: Nipol 1072 (nitrile rubber; acrylonitrile content about 27%, carboxyl group-containing Rate 0.07
5%; manufactured by Zeon Corporation)

【0063】[0063]

【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂組成物は、優れた
接着性、半田耐熱性等を保持し、且つ長期間高温、高湿
条件下に曝した後でも諸物性が良好であり、本発明のエ
ポキシ樹脂組成物を使用したフレキシブル印刷配線板の
信頼性は極めて高いものとなる。
The epoxy resin composition of the present invention retains excellent adhesive properties, solder heat resistance, etc., and has good physical properties even after long-term exposure to high temperature and high humidity conditions. The reliability of a flexible printed wiring board using the epoxy resin composition of (1) becomes extremely high.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08L 77:06) (72)発明者 小林 巧 山口県厚狭郡山陽町大字郡1325 Fターム(参考) 4J002 AC073 AC112 AC113 CC032 CC082 CD011 CD021 CD041 CD051 CD061 CD071 CD111 CD121 CD131 CD171 CL073 EF126 EJ016 EJ036 EN036 EN076 EN096 ER026 EU116 EU186 EU196 FD142 FD146 FD150 GQ00 GQ01 5E314 AA32 AA38 CC15 FF06 GG01 GG08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C08L 77:06) (72) Inventor Takumi 1325 Oji-gun, Sanyo-cho, Asa-gun, Yamaguchi Prefecture F-term (Reference) 4J002 AC073 AC112 AC113 CC032 CC082 CD011 CD021 CD041 CD051 CD061 CD071 CD111 CD121 CD131 CD171 CL073 EF126 EJ016 EJ036 EN036 EN076 EN096 ER026 EU116 EU186 EU196 FD142 FD146 FD150 GQ00 GQ01 5E314 AA08 GG01 FF08

Claims (21)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】エポキシ樹脂(a)、硬化剤(b)、並び
にフェノール性水酸基含有ポリアミド−ポリブタジエン
−アクリロニトリル共重合体(c)を含有し、それらの
配合重量比(重量比)が(c)/{(a)+(b)+
(c)}=0.05〜0.90であることを特徴とする
エポキシ樹脂組成物。
An epoxy resin (a), a curing agent (b), and a phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer (c), and the compounding weight ratio (weight ratio) thereof is (c). / {(A) + (b) +
(C) An epoxy resin composition, wherein} = 0.05 to 0.90.
【請求項2】配合重量比が(c)/{(a)+(b)+
(c)}=0.30〜0.70である請求項1に記載の
エポキシ樹脂組成物。
2. The compounding weight ratio is (c) / {(a) + (b) +
(C) The epoxy resin composition according to claim 1, wherein} = 0.30 to 0.70.
【請求項3】フェノール性水酸基含有ポリアミド−ポリ
ブタジエン−アクリロニトリル共重合体(c)がフェノ
ール性水酸基を有するジカルボン酸を含有するジカルボ
ン酸とジアミンを反応させ得られたものであって、該ジ
アミンとして3,4’−ジアミノジフェニルエーテルを
用いて得られたものである請求項1または2に記載のエ
ポキシ樹脂組成物。
3. A phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer (c) obtained by reacting a dicarboxylic acid containing a dicarboxylic acid having a phenolic hydroxyl group with a diamine. 3. The epoxy resin composition according to claim 1, which is obtained using 4,4'-diaminodiphenyl ether.
【請求項4】フェノール性水酸基含有ポリアミド−ポリ
ブタジエン−アクリロニトリル共重合体(c)が下記式
(化1) 【化1】 (式中、x、y、z、l、m及びnは、それぞれ平均重
合度であって、x=3〜7、y=1〜4、z=5〜1
5、l+m=2〜200の整数をそれぞれ示し、m/
(l+m)≧0.04である。)で示される共重合体で
ある請求項1乃至3の何れか1項に記載のエポキシ樹脂
組成物。
4. A phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer (c) represented by the following formula (1): ## STR1 ## (Where x, y, z, l, m, and n are average polymerization degrees, respectively; x = 3-7, y = 1-4, z = 5-1)
5, l + m = integers of 2 to 200, and m /
(L + m) ≧ 0.04. The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 3, which is a copolymer represented by the following formula:
【請求項5】エポキシ樹脂(a)がグリシジルエーテル
型エポキシ樹脂である請求項1乃至4の何れか1項に記
載のエポキシ樹脂組成物。
5. The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the epoxy resin (a) is a glycidyl ether type epoxy resin.
【請求項6】グリシジルエーテル型エポキシ樹脂がビス
フェノールA型エポキシ樹脂である請求項5に記載のエ
ポキシ樹脂組成物。
6. The epoxy resin composition according to claim 5, wherein the glycidyl ether type epoxy resin is a bisphenol A type epoxy resin.
【請求項7】グリシジルエーテル型エポキシ樹脂がビス
フェノールF型エポキシ樹脂である請求項5に記載のエ
ポキシ樹脂組成物。
7. The epoxy resin composition according to claim 5, wherein the glycidyl ether type epoxy resin is a bisphenol F type epoxy resin.
【請求項8】グリシジルエーテル型エポキシ樹脂がフェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂である請求項5に記載
のエポキシ樹脂組成物。
8. The epoxy resin composition according to claim 5, wherein the glycidyl ether type epoxy resin is a phenol novolak type epoxy resin.
【請求項9】フェノールノボラック型エポキシ樹脂がフ
ェノール骨格中にメチル基を有するノボラック型エポキ
シ樹脂である請求項8に記載のエポキシ樹脂組成物。
9. The epoxy resin composition according to claim 8, wherein the phenol novolak epoxy resin is a novolak epoxy resin having a methyl group in a phenol skeleton.
【請求項10】グリシジルエーテル型エポキシ樹脂がフ
ェノール骨格とナフトール骨格を有するノボラック型エ
ポキシ樹脂である請求項5に記載のエポキシ樹脂組成
物。
10. The epoxy resin composition according to claim 5, wherein the glycidyl ether type epoxy resin is a novolak type epoxy resin having a phenol skeleton and a naphthol skeleton.
【請求項11】フェノール骨格とナフトール骨格を有す
るノボラック型エポキシ樹脂がフェノール骨格中にメチ
ル基を有するノボラック型エポキシ樹脂である請求項1
0に記載のエポキシ樹脂組成物。
11. The novolak epoxy resin having a phenol skeleton and a naphthol skeleton is a novolak epoxy resin having a methyl group in the phenol skeleton.
The epoxy resin composition according to 0.
【請求項12】グリシジルエーテル型エポキシ樹脂がフ
ェノール骨格とビフェニル骨格を有するノボラック型エ
ポキシ樹脂である請求項5に記載のエポキシ樹脂組成
物。
12. The epoxy resin composition according to claim 5, wherein the glycidyl ether type epoxy resin is a novolak type epoxy resin having a phenol skeleton and a biphenyl skeleton.
【請求項13】グリシジルエーテル型エポキシ樹脂がト
リフェニルメタン骨格を有するノボラック型エポキシ樹
脂である請求項5に記載のエポキシ樹脂組成物。
13. The epoxy resin composition according to claim 5, wherein the glycidyl ether type epoxy resin is a novolak type epoxy resin having a triphenylmethane skeleton.
【請求項14】グリシジルエーテル型エポキシ樹脂がジ
シクロペンタジエン骨格を有するノボラック型エポキシ
樹脂である請求項5に記載のエポキシ樹脂組成物。
14. The epoxy resin composition according to claim 5, wherein the glycidyl ether type epoxy resin is a novolak type epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton.
【請求項15】硬化剤(b)がフェノール系硬化剤であ
る請求項1乃至14の何れか1項に記載のエポキシ樹脂
組成物。
15. The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the curing agent (b) is a phenolic curing agent.
【請求項16】硬化後のガラス転移点が80℃以上であ
る請求項1乃至15の何れか1項に記載のエポキシ樹脂
組成物。
16. The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the glass transition point after curing is 80 ° C. or higher.
【請求項17】硬化後のガラス転移点が120℃以上で
ある請求項16に記載のエポキシ樹脂組成物。
17. The epoxy resin composition according to claim 16, wherein the glass transition point after curing is 120 ° C. or higher.
【請求項18】請求項1乃至17の何れか1項に記載の
エポキシ樹脂組成物を用いたフレキシブル印刷配線用基
板。
18. A flexible printed wiring board using the epoxy resin composition according to claim 1. Description:
【請求項19】請求項1乃至17の何れか1項に記載の
エポキシ樹脂組成物を用いたカバーレイフィルム。
19. A coverlay film using the epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 17.
【請求項20】請求項1乃至17の何れか1項に記載の
エポキシ樹脂組成物を用いたボンディングシート。
20. A bonding sheet using the epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 17.
【請求項21】請求項1乃至17の何れか1項に記載の
エポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物。
21. A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 17.
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